J. Inst. Electrostat. Jpn.

静電気学会誌，36, 3 (2012) 152-157

多孔板遮蔽構造を持つ軟Ｘ線イオナイザーの除電性能の評価
佐藤 朋且＊,1，鈴木 政典＊，水野 彰＊＊（2012 年 1 月 31 日受付；2012 年 4 月 13 日受理）

Evaluation of Charge Eliminating Performance of the Soft X-ray
Ionizer with the Shielding Structure Consisting of a Perforated Plate
Tomokatsu SATO,*,1 Masanori SUZUKI* and Akira MIZUNO**(Received January 31, 2012; Accepted April 13, 2012)

Recently, ionizers employing low energy X-rays of 3 to 9.5 keV have been used in semiconductor industries, LCD
manufacturing processes and pharmaceutical processes. However, when these ionizers are installed in manufacturing
equipment, the equipment must be covered with shielding panels to shield the soft X-ray. In addition, this equipment
requires safety measures to stop ionizers automatically when a worker entered a shielding area by any chance. For
those reasons, the X-ray ionizers have been inconvenient for practical use.Therefore we have been developing a soft
X-ray ionizer with shieldingstructure. In the previous paper, we reported the results of investigation on performance ofthe shielding structure consisting of small metal pipes. In this paper, we report the results of investigation on theinfluence of the supply air volume and air inlet position at the ion generating chamber with the shielding structure
consisting of a perforated plate, for optimizing charge eliminating performance of this ionizer.

1.

はじめにイプから成る遮蔽構造としたイオナイザーについて検討し，近年，半導体や液晶製造，また医薬品製造のクリーンルー

軟 X 線の漏洩線量率を 1 μSv/hr 以下にでき，かつ，正負の空ムにおいて，除電性能に優れ，無発塵であることから，エネ気イオンが十分に通過することを確認した．本報では，このルギーが 3-9.5 keV（ピーク 約 6 keV）の低エネルギーX 線

金属パイプによる遮蔽原理を応用し，金属パイプと同様の遮（軟 X 線）をイオン化源とするイオナイザーが利用されるよ蔽効果を有する，厚みを持った多孔板状の吹出部を設計し，うになった．しかし，生産ラインでこのイオナイザーを使用

このイオナイザーの除電性能を最適化することを目的としする場合には，軟 X 線を遮蔽するため生産装置を遮蔽板で区て，供給エアー量，イオン化チャンバー内の気流性状等が除画し，万一作業者が立ち入った場合でも軟 X 線照射が自動停電性能に与える影響を調査したので，その結果を報告する．

止するインターロック対策が必要で，取扱いが比較的不便であった．そこで，イオナイザー自体から発塵や軟 X 線の漏れ2.

が無く，遮蔽の必要が無いイオナイザーを考案した．このイ

図 2 に今回検討したイオナイザーの概略図を示す．このイオナイザーでは，チャンバー内で軟 X 線照射により正負の空オナイザーは，角筒状のチャンバー内を軟 X 線でイオン化し，気イオンを生成し，これらのイオンを取り出して除電に利用発生させた正負の空気イオンを除電箇所に吹付けるものでする．このため，正負の空気イオンは通過するが軟 X 線は遮ある．イオン化エアー吹出部は，小孔を配列した 1 枚の厚み1,2)遮蔽構造を持つ軟 X 線イオナイザーの概要

では，図 1 に示を持った多孔板状の構造で，この孔径および板厚によって空すように，イオン化したエアーの吹出部を，小孔径の金属パ気イオンは通すが，軟 X 線は遮蔽する構造になっている．多蔽するような構造体が必要となる．既報

孔板構造としたことで，金属パイプによる遮蔽構造と同様のキーワード： クリーンルーム，イオナイザー，除電性能
軟 X 線，遮蔽構造* 株式会社テクノ菱和（156-0052 東京都世田谷区経堂5-33-6）
Technical R&D Center, Techno Ryowa LTD., 33-6 Kyodo
5-Chome, Setagaya-ku, Tokyo 156-0052, Japan** 豊橋技術科学大学（441-8580 愛知県豊橋市天伯町雲雀ヶ丘 1-1）
Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka,
Tenpaku-cho, Toyohashi, Aichi 441-8580, Japan
1t_satou@techno-ryowa.co.jp

遮蔽効果を有しながら，構造がシンプルで製作が容易になり，製作コストの低減も実現している．このイオナイザーの主な特徴を以下に示す．
(1)イオナイザー自体が軟 X 線の遮蔽構造で，設置の際遮蔽の必要が無い．
(2)無発塵で，かつ，オゾンの発生が無い．
(3)軟 X 線ヘッドの交換だけで，他のメンテナンスは不要．

多孔板遮蔽構造を持つ軟 X 線イオナイザーの除電性能の評価（佐藤朋且ら）
3.

153(39)

実験装置および評価方法←Air

Perforated plate

軟 X 線の線量率を 1 μSv/hr 以下に遮蔽するための，多孔板

Ion generating chamberの孔径および板厚は，既報 1,2)の金属パイプによる遮蔽性能の検討結果を用いて以下のように設計した．図 3 の，軟 X 線管Soft X-ray
head

Ionized airflowを収めた遮蔽筒にパイプを打込んだ実験装置において，軟 X線源から照射された軟 X 線は，一部が打込んだパイプ内を透図 2 多孔板を用いた遮蔽構造を持つ軟 X 線イオナイザー過して，パイプの外部まで到達する．軟 X 線源から任意の距

Fig. 2 Soft X-ray ionizer with shielding structure consisting ofa perforated plate.

離における軟 X 線の線量率を，パイプ透過前の入射線量率
Iinlet ，パイプを透過して外部に到達した線量率を透過線量率

IX(Iinlet)=4.0×106e-0.0055X

X

Ioutlet とすると，透過率は P = Iotlet / Iinlet で表され，透過線量率

X-ray

Ioutlet が常に 1 μSv/h 以下となるような透過率のパイプを選定

Iinlettubeする．
軟 X 線源から任意の距離における入射線量率 Iinlet は，Shielding
Pipecylinder

既報 3)で求めた，軟 X 線源から任意の距離 X における空気中での軟 X 線線量率 IX の近似式 (1) を用いて計算する．

**I

P=Ioutlet / Iinlet

outlet =1μSv/hr

図 3 入射線量率 Iinlet と透過線量率 Ioutlet
IX=4.0×106e-0.0055X (X≦740mm) [μSv/h]Fig. 3 The dose rate at inlet and the dose rate at outlet.

(1)

1.5-6 0.0055x

P1 = 0.25×10 e-6 0.0055X

P1=Ioutlet / Iinlet= 1/IX =0.25×10 e
一方，既報

1.2-6P1 は以下の式 (2) のように求められる．

Penetration ratio [×10 ]また，透過線量率 Ioutlet が 1 μSv/hr となる透過率を P1 とすると，(X≦740 mm)

(2)

1,2)

では，4 種類の金属パイプ（パイプ a：内径 3 mm×長さ 10 mm，パイプ b：内径 3 mm × 長さ 20 mm，パイプ c：
内径 4 mm × 長さ 10 mm，
パイプ d：内径 4 mm × 長さ 20 mm）
について,軟 X 線源から任意の距離における透過率を求めており，これらをそれぞれ Pa ，Pb ，Pc ，Pd とすると，上記で求めた P1 と比較して，P1 > Pa-Pd となる金属パイプを選定す

0.9
P 1 (Ioutlet =1μSv/hr)
P a (φ3mm×10mm)
P b (φ3mm×20mm)

0.6

P c (φ4mm×10mm)
P d (φ4mm×20mm)
0.30050100150200250300350400

Distance from Soft X-ray tube X [mm]

図 4 P1(Ioutlet=1 μSv/hr)と Pa-Pd(金属パイプ透過率)の比較
Fig. 4 Comparison of P1 and Pa-Pd.

ることで，透過線量率が常に 1 μSv/h 以下となる．図 4 に P1と Pa-Pd の比較を示す．図 4 より，P1 > Pa-Pd となる金属パイ厚として置き換えると，多孔板からの透過線量率が 1 μSv/hr

プの内，なるべく内径が大きく，長さが短いものを選定する．

以下となる孔径と板厚が決定する．設計した多孔板の詳細を

これは，パイプ内を透過する際の，正負イオンの再結合によ

図 5 に，この多孔板を装着したイオナイザー実験装置の概略

る消耗を考慮した場合，漏れ線量率を抑える一方で，パイプを図 6 に示す．多孔板の孔は，軟 X 線照射部から水平距離での径はなるべく大きく，パイプの長さは短いものを選定する

50 mm 離し，照射部に近いエリアに φ3 mm の孔を 20 mm ピ方が除電性能面で有利となるためである．選定した金属パイッチで 20 個（10 個 × 2 列），次いで φ4 mm の孔を 20 mm ピ

プの内径を多孔板の孔径に，金属パイプの長さを多孔板の板ッチで 18 個（9 個 × 2 列）配した．板厚を 20 mm，サイズを430 mm（W）× 130 mm（D）とし、この孔径と板厚により，透過する軟 X 線の線量率がどの位置においても 1 μSv/h 以下

Pipe
Ion generating chamber←Airとなる．この多孔板を吹出部とするイオン化チャンバーに軟Soft X-ray
head

X 線ヘッドを取付け，チャンバー内をイオン化する．コンプ

Ionized airflow

レッサーからのエアーをイオン化チャンバーに供給し，多孔板の孔からイオン化エアーを吹出す．イオン化チャンバーは，

図 1 パイプを用いた遮蔽構造を持つ軟 X 線イオナイザー

容積の違いによる影響を見るため高さのみ異なる，チャンバ

Fig. 1 Soft X-ray ionizer with shielding structure consisting ofーA（高さ 260 mm），チャンバーB（高さ 130 mm）の 2 種類

small metal pipes.

で評価を行った．供給エアー量はマスフローメーター（SMC154(40)

静電気学会誌

第 36 巻

第 3 号 (2012)

製 PF2A71）で計測した．除電性能は，帯電プレートモニタ

430
Air→ー（以下 CPM，Trek 製 Model 158）の金属プレート（152Ion generating chamber A(430×130×260H)

205

260H

mm×152 mm, 20 pF ± 2 pF）を吹出部下方に設置し，+1 kV もしくは－1 kV に帯電させ，その初期電位が吹出部からのイオン化エアーによって十分の一の +0.1kV もしくは－0.1kV まPerforated plate(430×130×20)

X-rayhead

φ3mm

φ4mmで減衰する時間（除電時間）を測定して評価した．除電時間110240プレートを正極性に帯電させた場合は，負イオンによる除電

20 pich370②①5050は短いほど，除電性能が優れていることを示す．また，金属③CPM plate(152×152)

性能を，負極性の場合は，正イオンによる除電性能を評価し(a) Chamber Aたことを示す．測定点は吹出部下方 50 mm の位置で，軟 X

430

線照射部から水平距離が ① 110 mm（φ3 mm の孔のエリア），Air→② 240 mm（φ3 mm と φ4 mm の孔の混在エリア），③ 370 mm

X-ray
head 40（φ4 mm の孔のエリア）の 3 箇所とし，CPM 金属プレート50の中心が ①-③ となるように設置した．

110

240

20 pich370②①なお，多孔板の遮蔽性能は，電離箱式サーベイメータ（ア130HPerforated plate(430×130×20)
φ3mm
φ4mm

③5095

Ion generating chamber B(430×130×130H)

CPM plate(152×152)

ロカ製 ICS-321R1）で軟 X 線の漏洩線量率を測定し，1 μSv/hr(b) Chamber B以下であることを確認した．遮蔽の基準値（漏れ線量率の許図 6 実験装置の概略（模式図）

容値）を 1 μSv/hr 以下とした理由は，X 線応用装置の筐体外Fig. 6側における許容値を，慣例的に安全上 1 μSv/hr 以下としていExperimental setup for evaluation of charge
eliminating performance.

ることに基づいている．
4.

実験結果および考察

4.1

供給エアー量が除電性能に与える影響

イオナイザーのイオン化チャンバーに供給するエアー量が除電性能に与える影響を検討するために，コンプレッサーからのエアー量を 100 L/min，200 L/min，300 L/min と変化させた時の除電時間を測定した．図 7 に結果を示す．容積（高さ）の異なるチャンバー A，B 共に供給エアー量が多い程，全体的に除電時間は短縮し，除電性能が向上した．これは，Voltage decay time(+1kV→+0.1kV)[s]30

100L/min(ChamberA)
200L/min(ChamberA)
300L/min(ChamberA)
100L/min(ChamberB)
200L/min(ChamberB)
300L/min(ChamberB)

252015105

①②

③050

100

150

200

250

300

350

400

Distance from X-ray source[mm]供給するエアー量が多い程，イオン化チャンバー内で軟 X 線によりイオン化されたエアーの吹出量そのものが増加する

図 7 供給エアー量が除電性能に与える影響ためと考えられる．一方，供給エアー量に依らず，測定点 ①，Fig. 7 Influence of the supply air volume on voltage decay time.

②，③，つまりイオン化チャンバーの長手方向で除電時間に差が見られ，軟 X 線源に近い位置程除電性能が良い傾向，さらられる．なお，ここに示す結果は，負イオンによる除電性能にチャンバー A と B では，容積の小さい（高さの低い）チャを示しているが，正イオンによる場合も同様の傾向を示した．

ンバー B の方が除電性能が良い傾向が見られた．これらの傾4.2

向については，供給エアー量以外のパラメータの影響と考え

イオン化チャンバー内の軟 X 線強度とイオン化エアー量が除電性能に与える影響

前項 4.1 で見られた傾向も踏まえ，次に，各測定点でのイ20X-ray

オン化チャンバー内の軟 X 線の強度とイオン化エアー量（吹φ4mmφ3mm50＊＊

110

Measuring point ①240

出部から吹出すエアー量）が，除電性能に与える影響を調査
13020t430＊20 pich370②③した．なお，イオン化チャンバー内の測定点①，②，③の位置の軟 X 線の強度についても，前述の，式(1)を用いて線量率として算出した．測定点①，②，③の位置におけるイオン化

図 5 設計した多孔板の詳細（模式図）

エアー量は，図 8 に示すように，各測定点に CPM の金属プFig. 5 Detail of perforated plate.

レートを設置した時に，CPM 金属プレート面積分のエリアに多孔板遮蔽構造を持つ軟 X 線イオナイザーの除電性能の評価（佐藤朋且ら）の孔 8 個と φ4 mm の孔 8 個分，測定点③は，φ4 mm の孔 12個分から吹出される風量となる．イオン化チャンバー内の軟X 線強度と除電時間の関係を図 9 に，各測定点のイオン化エアー量と除電時間の関係を図 10 に示す．
図 9 に示すように，軟 X 線の線量率は，線源に近い程大きく，線源からの距離と共に急激に減衰し，軟 X 線線量率が最Voltage decay time(+1kV→+0.1kV)[s]定点①の場合は，φ3 mm の孔 14 個分，測定点②は，φ3 mm

152.5

Supply air : 300L/min

Decay time(ChamberA)
Decay time(ChamberB)
Dose rate

2.010
1.5

1.050.5①②③050大の測定点①で最も除電時間が短く，線量率の減衰に伴い除100

150200250

Dose rate [×106μSv/hr]

ある多孔板の孔から吹出される風量と定義して測定した．測155(41)

300

350

0.0400Distance from X-ray source[mm]

電時間が長くなった．線源からの距離によってイオン化チャ

図 9 チャンバー内の軟 X 線強度と除電時間の関係

ンバー内の軟 X 線強度が変化し，それによって生じるイオンFig. 9 Relationship between the dose rate and the voltage decayの密度も変化するため，除電性能に影響を及ぼしたと考えら

time.

れる．前項 4.1 で述べた，イオン化チャンバーの長手方向（測次に，図 10 に示す各測定点のイオン化エアー量は，チャンバーA，B とも，測定点①のエリアが最少，次いで測定点②のエリアが大きく，測定点③のエリアが最大となった．この相違は，測定点①が φ3 mm の孔，測定点②が φ3 mm と φ4mm の孔，測定点③が φ4 mm の孔のエリアにあるため，その孔の抵抗の影響を受けた結果と考えられる．除電時間との関

Voltage decay time(+1kV→+0.1kV)[s]のイオン化チャンバー内の軟 X 線強度が考えられる．

1510150

Ionized air volume(ChamberA)
Ionized air volume(ChamberB)
Decay time(ChamberA)
Decay time(ChamberB)

Supply air : 300L/min

10055000①(110mm)

係を見ると，イオン化エアー量が最少の測定点①で除電時間

Ionized air volume[L/min]

定点①，②，③）で除電性能に差が見られた原因として，こ②(240mm)③(370mm)

Measuring pointが最も短く，イオン化エアー量が最大の測定点③で除電時間

図 10 イオン化エアー量と除電時間の関係が最も長い結果となっている．これは，測定点①のイオン化Fig. 10 Relationship between the ionized air volume and theエアーが，測定点③のイオン化エアーよりも，イオンの密度voltage decay time.

が高いことを示している．このことから，各測定点における除電性能には，その測定点のイオン化エアー量よりも，そのイオン化チャンバー内の軟 X 線強度は等しいため，チャンバ測定点のイオン化チャンバー内の軟 X 線強度の相違によるーA と B の除電性能の差は，軟 X 線の強度以外の要因で生じイオン密度の相違が影響していると考えられる．一方，チャたイオン化チャンバー内のイオン密度の相違が影響したもンバーA と B の各測定点でのイオン化エアー量を比較すると，のと考えられる．

どの測定点においてもほぼ等しいにも拘らず，前項 4.1 でも4.3

述べたように，チャンバーA と B の除電性能は，容積の小さ

軟 X 線の強度分布以外で，イオン化チャンバー内のイオンい（高さの低い）チャンバーB の方が良い．同じ測定点では，密度に差が生じる要因としては，イオン化チャンバー内の気370流性状が考えられる．そこで，イオン化チャンバー内気流性240

チャンバー内気流性状が除電性能に与える影響状の影響を調べるため，イオン化チャンバーへのエアー導入

110

位置を変えて除電時間を測定した．エアー導入位置は，図 11に示すように，線源側からの導入位置を a（チャンバーA）
，b＊
X-ray
head

＊

φ3mm

＊
φ4mm

①②
CPM plate（152mm×152mm）（チャンバーB）として，それぞれの同一直線上の対面側を a’（チャンバーA），b’（チャンバーB）とした．各測定点での③Measuring point ① ： φ3mm×14
Measuring point ② ： φ3mm×8 ＋φ4mm×8
Measuring point ③ ： φ4mm×12

除電時間を図 12 に，この時の各測定点のイオン化エアー量の分布を図 13 に示す．
図 12 より，a’ と b’ からエアーを導入した場合には，元の導入位置の a と b からエアーを導入した場合と比べて，全て

図 8 各測定ポイントの孔の配置の測定点で除電時間が短縮した．一方，図 13 に示すように，

Fig. 8 Distribution of perforation at measuring point ①，②，③.

a’ と b’ からエアーを導入した場合の各測定点でのイオン化

第 36 巻エアー量は，前項 4.2 の図 10 で示した，元のエアー導入位置（a，b）でのイオン化エアー量とほぼ同じ分布となった．エ
アー導入位置を変えた場合でも，吹出部である多孔板の孔の抵抗によって，各測定点のイオン化エアー量の分布自体は変わらないが，エアー導入位置が変わったことでイオン化チャンバー内の気流性状が変化したため，各測定点のイオン化エアー中のイオン密度が高くなり，除電性能が向上したと考えられる．またこれは，前項 4.1 で見られた，容積の異なるチ

第 3 号 (2012)15

Ionized air volume(ChamberA)
Ionized air volume(ChamberB)
Decay time(ChamberA)
Decay time(ChamberB)

150
Air inlet : a' , b'

Supply air : 300L/min

10100

5500

Ionized air volume[L/min]

静電気学会誌

Voltage decay time(+1kV→+0.1kV)[s]156(42)0①(110mm)

ャンバーA と B の除電性能に差が現れる傾向の原因の一つで②(240mm)
Measuring point③(370mm)もあり，チャンバー容積の違い（高さの違い）でチャンバー

図 13 イオン化エアー量と除電時間の関係（a’，b’）

内の気流性状が異なり，各測定点のイオン化エアー中のイオ

Fig. 13 Relationship between the ionized air volume and thevoltage decay time (Air inlet a’，b’).

ン密度に差が生じたためと考えられる．
これらを確認するために，エアーの導入位置やチャンバー容積（高さ）を変えた場合のイオン化チャンバー内の気流性

a状について，気流シミュレーションを行った．計算対象のチャンバー形状，エアー導入位置，吹出部の多孔板の孔径，孔ピッチの条件は，除電性能測定に用いた実験装置と同様とした．また，エアー導入位置から 300 L/min で給気を与え，多孔板の孔から吹出した気流は自然流出するものとし，電界や温度については考慮しない．計算に用いたソフトは
SCRYU/Tetra（クレイドル社），メッシュシステムに非構造格(a) Inlet position at a (chamber A)子，計算方法に SIMPLE 法，乱流モデルに K-ε モデル，対象流体を非圧縮性流体として計算を行った．各パターンでのイb

オン化チャンバー内の気流性状の断面を図 14 に示す。元の導入位置である a（チャンバーA）と b（チャンバーB）から

a'a(b) Inlet position at b (chamber B)

Air inlet (Chamber A)

ba’b'
Air inlet (Chamber B)

X-raytube

図 11 チャンバーA，B におけるエアー導入位置
Fig. 11 Air inlet position of chamber A , B.

Voltage decay time(+1kV→+0.1kV)[s]15：a(Chamber A)(c) Inlet position at a’ (chamber A)：b(Chamber B)：a'(Chamber A)：b'(Chamber B)

10S upply air : 300L/minb’5①②③(d) Inlet position at b’ (chamber B)

050100150200250300350400

Distance from X-ray source[mm]

図 12 エアー導入位置が除電性能に与える影響

図 14 イオン化チャンバー内の気流パターン

Fig. 12 Influence of air inlet position on voltage decay time.

Fig. 14 Air flow pattern in the ion generating chamber.

多孔板遮蔽構造を持つ軟 X 線イオナイザーの除電性能の評価（佐藤朋且ら）

157(43)

エアーを導入した場合は，線源側の軟 X 線強度の強いエリア

5.

でイオン化された気流が，反対側の軟 X 線強度の弱いエリア

多孔板を用いた遮蔽構造の軟 X 線イオナイザーの除電性に向って流れ，吹出部に向かって下降し，イオン化チャンバ能を最適化することを目的として，諸因子が除電性能へ与えー外へ搬送される動きとなっている．この経路を辿る間に生る影響を調査した．その結果を以下に示す．

成したイオンの再結合が促進し，イオン密度が低下している

まとめ①イオナイザーに供給するエアー量が多い程，全体的な除ことが考えられる．一方 a’（チャンバーA）と b’（チャンバ

電性能は向上する．

ーB）からエアーを導入した場合は，軟 X 線強度の強いエリ②イオナイザーからのイオン化エアー量の分布は，軟 X 線アに向かって気流が流れ，線源近傍の最も軟 X 線強度の強い遮蔽用の多孔板の孔の抵抗で決定され，供給エアーの導エリアでイオン化され，直後に吹出部に到達している．イオ

入位置やイオン化チャンバー形状によらない．

ン化されてから吹出部に到達するまでの経路が短いため，イ③除電性能は主としてイオン化エアー中のイオン密度にオン密度が高い状態のままチャンバー外に搬送されている

よって決まり，そのイオン密度は，イオン化チャンバーことが考えられる．供給エアーの導入位置によってイオン密内の軟 X 線強度とイオン化チャンバー内の気流性状の度（除電性能）に差が生じるのは，こうした気流性状の影響影響を受ける．と考えられる（図 14-(a)，(b)と(c)，(d)の比較）．次に，容積④イオン化チャンバー内の軟 X 線強度やイオン化チャンの異なる（高さの異なる）
チャンバーA と B について見ると，バー内の気流性状を制御し，イオン密度を高くすること

元の導入位置 a ，b からエアーを導入した場合，容積が小さで除電性能を向上できる．

いチャンバーB は，チャンバーA よりも高さが低く，エアー
参考文献

導入位置と線源との距離がチャンバーA より短い．従って，b から導入したエアーは，a から導入したエアーよりも軟 X

1)鈴木政典，佐藤朋且，松橋秀明，水野 彰：遮蔽構造を線強度のより強い位置を通過するため，イオン密度が高くな持つ軟 X 線イオナイザーの遮蔽性能の評価. 静電気学会

る．一方，対面側の a’、b’から導入したエアーは，どちらも誌，31 (2007) 31

線源近傍でイオン化された直後に吹出部に到達し，チャンバ

2)

佐藤朋且，鈴木政典，松橋秀明：遮蔽構造を持つ軟エッー外までのイオン化エアーが辿る経路に差が無い．従って，

クス線イオナイザーの開発（その 2）. 第 24 回空気清浄

イオン化エアーのイオン密度にも差が無く，除電性能がほぼとコンタミネーションコントロール研究大会予稿集，p.

等しくなる.チャンバーの容積，すなわちチャンバーの高さ

210, 日本空気清浄協会 (2006)

によってもイオン密度（除電性能）に差が生じるのはこのためと考えられる（図14-(a)と(b)の比較，
図 14-(c)と(d)の比較）．

3)

佐藤朋且，鈴木政典：遮蔽構造を有する軟 X 線イオナイ
ザーの開発．第 15 回 EOS/ESD/EMC シンポジウム予稿集，p.171, 日本電子部品信頼性センター (2005)