J. Inst. Electrostat. Jpn.

静電気学会誌，36, 1 (2012) 2-7

無声放電のバリアに用いた多孔質陽極酸化アルミナの構造が NOx 処理に及ぼす影響
川崎 敏之*,1，山田 智士*，若松 翔平*，小石 貢司*，調 潤一*（2011 年 9 月 12 日受付；2011 年 10 月 27 日受理）

Influence of Structure of the Anodic Porous Alumina Barrieron NOx Treatment in a DBD Reactor
Toshiyuki KAWASAKI,*,1 Satoshi YAMADA,* Shohei WAKAMATSU,*
Kouji KOISHI* and Junichi SHIRABE*(Received September 12, 2011; Accepted October 27, 2011)

Porous ceramics in a DBD reactor are useful not only for catalyst support but also for particulate collection and gas
adsorption. They also play an important role in the DBD characteristics and plasma chemical reactions. In this study,
anodic porous alumina with many straight nanopores has been focused as the barrier of a DBD reactor. Its unique andcontrollable nanostructure is interesting in applying to the barrier, and also enables one to study the relationshipbetween the DBD and nanostructures systematically. In this paper, the influence of the barrier structure on the NOxtreatment was studied using the anodic porous alumina barriers. The relationship was observed between the NO
removal rate and discharge power which mainly depends on the change of relative dielectric constant εr with thebarrier structure. The unique change of the discharge power in film thickness between 16 and 33 µm was obtained
only using the pore-widening barrier. That had direct effects upon the NO removal rate. The NO2 adsorption on thebarrier was increased with increasing its thickness (≒pore depth). However, it seemed that little NO2 was adsorbed on
it in the case of the pore-widening barrier with thickness below 16 µm.

1.

はじめに

多孔質陽極酸化アルミナは，アルミニウム（Al）を酸性電

放電プラズマと様々な多孔質材料との併用に関する研究
1－3)解溶液中で陽極酸化することによって，自己組織化ボトムア．特に多孔質セラミックスをバリアなど

ップ的に形成される 10, 11)．多孔質陽極酸化アルミナの模式として組み合わせた無声放電（DBD）は，有害ガス処理装置

図を図 1 に示す．Al 基板上に形成される陽極酸化アルミナ等への応用が期待され，今まで多くの研究報告がなされてき層は，孔径がナノオーダーで高アスペクト比を有する直行細が行われている

4－8)

た．DBD 反応器の中にある多孔質セラミックスは，放電孔が配列したハニカム構造となる．

プラズマの発生に必要である場合が多く，さらには触媒担体，

多孔質陽極酸化アルミナに関しては多くの先行研究があ

粒子捕集，ガス吸着等としての役割も担っているため，放電る．直行細孔の径，深さ，及び間隔は，陽極酸化電圧・時間，

9)

特性やプラズマ化学反応に対して重要な影響を及ぼす ．し電解液種類・温度，および後処理により比較的自由にナノオ

かしながら，具体的にどのような影響を及ぼすのかは不明なーダーで制御可能である 12－14)．また，その規則的に配列され点が多い．これらを明らかにすることは，DBD 反応器の性能

た直行細孔を利用したマイクロ・ナノテクノロジーに関する向上のための重要な研究課題である．そこで，本研究では上

研究 15, 16)や触媒担体として利用する研究 17, 18)が行われている．

記課題を調べることを目的に，DBD のバリアとして多孔質陽キーワード：大気圧非熱平衡プラズマ，無声放電，NOx
処理，ポーラス材料，陽極酸化アルミナ，* 日本文理大学工学部機械電気工学科（870-0397 大分県
大分市一木 1727）
Department of Electrical and Electronic Engineering, Facultyof Engineering, Nippon Bunri University, 1727 Ichigi, Oita
870-0397, Japan
1
kawasaki@nbu.ac.jp

Straight
nanopore
Anodic porousalumina film

極酸化アルミナに着目した．

Al substrate

図 1 多孔質陽極酸化アルミナの模式図
Fig. 1 Schematic diagram of anodic porous alumina.

無声放電のバリアに用いた多孔質陽極酸化アルミナの構造が NOx 処理に及ぼす影響（川崎敏之ら）

200 nm(a)

200 nm3

200 nm(b)(c)

図 2 作製した陽極酸化アルミナの SEM 写真
Fig. 2 Typical SEM photographs of the anodic porous alumina (a) without aftertreatment (Average pore diameter : 11 nm), (b)with pore-widening treatment (Average pore diameter : 22 nm) and (c) with pore-sealing treatment.
一方，DBD と多孔質陽極酸化アルミナの併用に関する研究は極めて少ない 19－22)．他の材料にない特徴的な構造とその制御性を有する多孔質陽極酸化アルミナを DBD のバリアとして使用することは，他の材料では困難な検討を可能にする．

表1 本研究で使用した陽極酸化アルミナの膜厚Table 1 Film thickness of the anodic alumina barriers
prepared in this study.
Anodizing time [hour]

また，近年注目されているマイクロ・ナノ界面・空間でのプラズマ技術 23, 24)にも関連深い結果が得られると期待される．
本研究では今までも多孔質陽極酸化アルミナをバリアに用いた DBD に関する研究を進めてきた 25－27)．今回，バリアに用いた多孔質陽極酸化アルミナの構造（細孔の有無，膜厚Film
Thickness[m]（≒細孔深さ），細孔径）を，陽極酸化条件や化学的後処理によりマイクロ・ナノオーダーで制御し，それが NOx 処理に与える影響を調べた．

0.2

0.5

1.0

3.0

5.0

Without
aftertreatment(Pore  11 nm)

6

16

33

89

143

Pore-widening(Pore  22 nm)

6

16

34

89

144

Pore-sealing(Without pores)

6

16

34

87

144

封孔処理（沸騰蒸留水に30 min浸漬することによる孔内や表面への水和アルミニウム酸化物生成）により細孔を塞い

2.

実験装置および方法

だものも用意した．その SEM写真の図2(c)に示す．この処

2.1

バリアとしての陽極酸化アルミナ

理により，図2(a)，(b)で観察された直行細孔が，表面だけ

純度99.99%のAl基盤（20 mm × 60 mm，1.2 mm厚）を陽でなく深部にわたって塞がれているのがわかる．今回，表極酸化の材料として用いた．まず，Al基盤の陽極酸化面を，1に示すように，各陽極酸化時間において後処理が異なる360%過塩素酸/エタノール混合溶媒（体積比 1 : 4，初期温種類，計15種類の構造が異なる陽極酸化アルミナを用意し

度0ºC以下）中，定電流100 mA/cm3，3 minの条件で電解研た．本論文中で膜厚を示す場合は，各陽極酸化時間の代表磨した．その後，硫酸（濃度 1.0 M，温度 10ºC）中に浸として後処理なしの膜厚を用いるものとする． LCRメー

漬し，直流 24 V一定で陽極酸化を 0.2-5.0時間の範囲で行ター（HP，4261A）を用いて，陽極酸化アルミナの比誘電った．この条件下で膜厚（Sanko，EDY-1000により測定）率εr（測定周波数 1 kHz）を調べた．

は 6-143 µmの範囲で変化し，陽極酸化時間に関係なく平2.2

均孔径約 11 nmの細孔を有する多孔質陽極酸化アルミナ

表 1 に示した 15 種類の陽極酸化アルミナをそれぞれ片方が形成される．その表面，断面の代表的な SEM写真（Jeol，のバリアに用いた DBD 反応器で実験を行った．図 3 にそのJSM-7400Fにより観察）を 図2(a)に示す．陽極酸化後にポ反応器の模式図を示す．Al 基盤とそれに形成された陽極酸化

アーワイドニング処理（30 ºCの5 wt%リン酸に20 min浸漬

アルミナをそれぞれ高電圧側電極，バリアとした．もう一方することによる孔壁のエッチング）により孔径を拡大したのバリアには一般的なアルミナ（厚さ 1 mm）を用いて，そものも用意した．この処理により平均孔径は約 22 nmとなの片面に貼ったアルミニウムテープを接地電極とした．バリる．その表面，断面の代表的なSEM写真を図2(b)に示す．

ア間距離は 1 mm 一定，電極面積は 10 mm × 20 mm である．

細孔の有無が NOx処理に与える影響を明確にするため，信号発生器（Iwatsu，SG-4105）と増幅器（Trek，20/20C）で無声放電型プラズマ反応器

4

静電気学会誌

第 36 巻発生させた100 Hz 正弦波交流高電圧により DBD を発生させ

第 1 号 (2012)

定値へのオゾンの干渉を回避するために取り付けた．

た．接地側に直列接続した 100 nF のコンデンサを用いてオシロスコープ（Lecroy, LT374M）に描いた V-Q リサージュ図3.

実験結果および検討

形の面積から放電電力を求めた．

3.1

NO 除去と放電電力

2.3

図5(a)，(b)にそれぞれ膜厚16 µm，143 µmの陽極酸化ア

ガス供給と分析系

図4にガス供給と分析に関する概略図を示す．処理ガス

ルミナをバリアに用いた場合の，後処理とNO除去率の関NO (100 ppm) / O2 (20%) / N2を流量1.0 L/min（フロート式

係を示す．図5 (a)の場合，同印加電圧値において同様な流量計で調整）で反応器へ供給した．ガス濃度については，

NO除去率を示していることから，後処理の影響は小さい

オゾン除去装置通過後，NOx濃度計（Test, 350XL）によりと思われる．一方，図5 (b)の場合では後処理が NO除去率

NO，NO2，O2濃度，ガスクロマトグラフ（Shimadzu, GC-8A）に影響を及ぼした．後処理なしのバリアに比べてポアーワ

によりN2O濃度を測定した．オゾン除去装置はNO2濃度測

イドニング処理したバリアでは NO除去率は減少，封孔処

Anodicalumina

理したバリアでは増加した．これは全ての印加電圧値におH.V.

いて同様な傾向を示した．よって，図5 (a)，(b)に示される結果より，膜厚16-143 µmの間で後処理とNO除去率の関係

Al substrate
Dry air

1.0 mmは変化していることがわかる．
図 6 に膜厚 16-143 µm の間における両者の関係を示す．印

10 mm

加電圧は 8.0 kVo-p の場合である．封孔処理したバリアを用い

100 nF

20 mm
Typical commercial alumina

た場合の NO 除去率が，後処理なしのバリアを用いた場合よ

図 3 陽極酸化アルミナをバリアにした無声放電型反応器
Fig. 3 DBD reactor using the anodic alumina barrier.

り高いという傾向は全ての膜厚において示された．一方，後処理なしとポアーワイドニング処理したバリアが示す NO
除去率の高低関係が，膜厚 16-33 µm の間で変化しているこ

DBD reactor using the anodic Gas flow
alumina barrierとがわかる．このことから，ポアーワイドニング処理が NO
除去率に与える影響は膜厚によって異なることがわかる．

Ozone removal
apparatus
NOx analyzer

ここで， NO 除去率に影響を与える放電電力について調べ

Flow controllers

た．図 7(a)，(b)にそれぞれ横軸を後処理，膜厚とした場合の放電電力を示す．図 7(a)は図 6 に示された各 NO 除去率が得

Gas cylinders

Gas chromatograph

N2

O2

NO

られた時の放電電力を示す．図 7(b)には参考として，電解研
磨のみ（陽極酸化なし）のものを使用した場合の放電電力を

Exhaust

膜厚 0 µm としてプロットした．図 7(a)より，膜厚 33 µm 以

図 4 ガス供給，分析系
Fig. 4 Gas supply and analysis system.

上の範囲における後処理と放電電力の関係は，NO 除去率の

100

90

8.5 kVo-p

9080

8.0 kVo-p

80

8.5 kVo-p

70

8.0 kVo-p

NO removal rate [%]NO removal rate [%]

100

70
60

7.0 kVo-p

50
40
30

6.0 kVo-p

Without

Pore-widening

Pore-sealing

8.8 kVo-p

60
50
40
30

7.0 kVo-p
6.0 kVo-p

Without

Pore-widening

Aftertreatment

Aftertreatment

（a）

（b）

Pore-sealing

図 5 後処理と NO 除去率の関係
Fig. 5 Influence of the pore-widening and pore-sealing treatment on NO removal rate using the anodic alumina barriers with athickness of (a) 16 µm and (b) 143 µm.

無声放電のバリアに用いた多孔質陽極酸化アルミナの構造が NOx 処理に及ぼす影響（川崎敏之ら）

NO removal rate [%]

95

6 m
16 m
33 m
89 m
143 m0.20

Discharge power [W]

100

5

90
85
80
75

0.19
0.18
0.17

6 m
16 m
33 m
89 m
143 m

0.16

70
65

Without

Pore-widening

0.15

Pore-sealing

Without

Aftertreatmentある．これは，図 7(b)からわかるように，ポアーワイドニン
グ処理したバリアが示す放電電力が，他と比べ膜厚 16-33µm の間で特に著しく変化することに起因していると考えら

0.20

Discharge power [W]間で後処理との関係が著しく変化する点においても同様で

Pore-sealing(a)

図 6 後処理・膜厚と NO 除去率の関係
Fig. 6 Influence of aftertreatments on the NO removal rate at
a voltage of 8.0 kVo-p.
場合と同様であることがわかる．さらに，膜厚 16-33 µm のPore-widening
Aftertreatment

Only electropolishing
Without aftertreatment
Pore-widening
Pore-sealing

0.19
0.18
0.17
0.16

れる．その結果，膜厚 33 µm 以上では明確であった後処理による放電電力の違いが，膜厚 16 µm 以下になると後処理に関

0.15

係なく，ほぼ同程度の放電電力を示すようになる．このよう

0

25

50

な放電電力の変化が，図 6 に示す NO 除去率特性と深い関係にあると考えられる．
一般的に無声放電等のように電極間に誘電体材料が挿入されている場合，その材料の εr や tanのような電気的特8 に示す．全ての膜厚において，εr は封孔処理，後処理なし，ポアーワイドニング処理の順で大きい．これは封孔処理で空気層が減り εr は増加，ポアーワイドニング処理では逆に空気層が増え εr は減少したと思われる．また膜厚の減少にともなって εr は全体的に減少し，特に膜厚 33 µm より薄くなると減少率は増加する傾向にあった．その中でも封孔処理したバリアの εr は他と比べ著しく減少した．そのなったと考えられる．しかしながら，図 7(b)に示した，ポアーワイドニング処理したバリアを用いた場合の膜厚18Pore-sealing

16
14
12
10
Without aftertreatment

8

Pore-widening

6
4
0

25

50

75

100

125

150

Film thickness [m]

結果，膜厚 16 µm 以下になると後処理による εr は差は小さ
くなり，図 7(b)に示したように放電電力への影響も小さく

150

20

Relative dielectric constant r

陽極酸化アルミナ全ての εr について調べた．その結果を図125

図 7 後処理・膜厚と放電電力の関係
Fig. 7 Discharge power characteristics versus (a) aftertreatmentand (b) film thickness at a voltage of 8.0 kVo-p.

28)．そこで今回は，本実験で使用した

100

(b)

性は放電電力に影響を与える．特に εr は先行研究でも多く取り上げられている

75

Film thickness [m]

図 8 陽極酸化アルミナの比誘電率 εrFig. 8 εr of the anodic alumina barriers prepared in this study
at a measuring frequency of 1.0 kHz.

16-33 µm における放電電力の著しい変化を，εr だけでは説3.2

明することは困難である．構造が放電の発生に直接的に関予備実験より NO 濃度の減少は NO2 への酸化が支配的で，

NO2 のバリアへの吸着与している可能性もあるが現状では明らかでない．これにNO2 の一部はバリアに吸着することがわかっている．また今関しては別途詳細に調べる必要がある．

回の実験範囲では N2O は検出されなかった．ここでは，バ

6

静電気学会誌

第 36 巻

第 1 号 (2012)
1.04

Normalized NOx concentration

Normalized NOx concentration

1.02
1
0.98
0.96
0.94
Without aftertreatment
Pore-widening
Pore-sealing

0.92
0.9
30

40

50

60

70

80

90

100

1.02
1
0.98
0.96
0 m
6 m
16 m
33 m
89 m
143 m

0.94
0.92
0.9
30

40

NO removal rate [%]

60

70

80

90

100

NO removal rate [%](a)

図 10 膜厚が NO2 吸着に及ぼす影響
Fig. 10 Relationship between the normalized NOx concentrationand the NO removal rate using the pore-widening barriers.

1.02

Normalized NOx concentration50

1

NOx は発生する傾向にあり，陽極酸化アルミナによって発生0.98を抑制できることがわかる．パックドベッド型反応器の電極0.96を誘電体で覆うと NOx の発生が抑制されるとの報告がある
29, 30)．反応器構造は異なるが，これとの関連性については今

0.94

0.9
30

後詳細な検討が必要である．膜厚が厚いほど吸着量は増加す

Without aftertreatment
Pore-widening
Pore-sealing

0.92
40

50

60

70

る傾向にあり，膜厚 143 µm まで吸着に関与していることが
80

90

100

NO removal rate [%](b)
図 9 後処理が NO2 吸着に及ぼす影響
Fig. 9 Relationship between the normalized NOx concentrationand the NO removal rate using the barriers with a thickness of (a)16 µm and (b) 143 µm.
リアの構造と NO2 吸着との関係を調べた．
図 9(a)，(b)にそれぞれ膜厚 16 µm，143 µm の陽極酸化アル

わかる．一方，今回の実験条件においては，膜厚 16 µm 以下
これのバリアへの NO2 の吸着は極めて少ないことがわかる．
には吸着した NOx のプラズマによる脱着 31)が関与している可能性もある．今後，比表面積と吸着量を調べるなどして詳細に検討する必要がある．このバリアが有する直行細孔構造と制御性を利用して，どの程度の深さまでプラズマが影響を及ぼしているのか，脱着等と関連させて調べることが可能と思われる．これはプラズマ内に設置する多孔質材料や触媒担体構造の最適化において非常に重要である．

ミナをバリアに用いた場合の，NO 除去率と正規化 NOx（NO＋NO2）濃度（NOx 初期濃度を 1 として正規化）の関係を示

4.

す．図中の波線は正規化 NOx 濃度 1 を示し，それを超えれ

無声放電のバリアに用いる多孔質陽極酸化アルミナのば NOx 発生，
下回れば NO2 吸着を意味する．
図 9 (a)の場合，構造が NOx処理に与える影響を調べた結果，次のことがNOx 濃度の増減が若干あるものの，全てがほぼ波線に沿って明らかとなった．

いることから NO2 の吸着は極めて少ないと考えられる．一方，(1)

バリアの構造変化にともなう εr の変化が放電電力と NO
除去率と深い関係にあった．

図 9 (b)では後処理の影響が明確に示された．封孔処理したバリアは細孔が塞がれているため NO2 の吸着はほとんど起こ

まとめ

(2)

膜厚 16-33 µm のポアーワイドニング処理したバリアをらない．一方，後処理なし，ポアーワイドニング処理のバリ用いた場合の放電電力は，他のバリアとは異なる特異

アには NO2 が吸着し，それは孔径にも影響受けることがわかな変化を示した．構造が放電発生に直接的に関与してる．孔径による比表面積の変化が NO2 吸着に影響を与えていいる可能性が示唆された．
(3)

陽極酸化アルミナによって NOx の発生を抑制できた．

図 10 にポアーワイドニング処理したバリアの膜厚（≒細(4)封孔処理したバリアへの NO2 吸着は極めて少ない．

孔深さ）が吸着に及ぼす影響を示す．陽極酸化アルミナの影(5)

膜厚 143 m まで NO2 吸着に関与している．

響を明確にするため，電解研磨のみ（陽極酸化なし）のもの(6)

膜厚 16 µm 以下の多孔質陽極酸化アルミナへの NO2 のると思われる．

を使用した場合を膜厚 0 µm として示した．膜厚 0 µm では

吸着は極めて少ない．

無声放電のバリアに用いた多孔質陽極酸化アルミナの構造が NOx 処理に及ぼす影響（川崎敏之ら）
陽極酸化アルミナの直行細孔と制御性を利用した実験は，他の材料では困難な検討を可能にしプラズマ反応器の発展への貢献が期待できる．
参考文献
1) B.R. Locke, A. Ichihashi, H.H. Kim and A. Mizuno :Diesel engine exhaust treatment with a pulsed streamer
corona reactor equipped with reticulated vitreous carbon
electrodes. IEEE Trans. Ind. Appl., 37 (2001) 715
2) T.V. Rakhimova, O.V. Braginsky, A.S. Kovalev, D.V.
Lopaev, Y.A. Mankelevich, E.M. Malykhin, A.T. Rakhimov, A.N. Vasilieva, S.M. Zyryanov and M.R. Baklanov :Recombination of O and H atoms on the surface of nanoporous dielectrics. IEEE Trans. Plasma Sci., 37 (2009) 1697
3) M. Okubo, T. Kuroki, S. Kawasaki, K. Yoshida and T.
Yamamoto : Continuous regeneration of ceramic particulate filter in stationary diesel engine by nonthermal - plasma- induced ozone injection. IEEE Trans. Ind. Appl., 45(2009) 1568
4) S. Ibuka, Y. Liu, M. Okada, T. Nakamura, A. Kamal, T.
Murakami, H. Sehata, K. Yasuoka and S. Ishii : Opticalinvestigation of fast pulsed discharge on surface of
ceramics for environmental applications. Jpn. J. Appl.
Phys., 40 (2001) 1122
5) K. Hensel, S. Katsura and A. Mizuno : DC microdischarges inside porous ceramics. IEEE Trans. Plasma Sci., 33(2005) 574
6) N. Harada, T. Moriya, T. Matsuyama, H. Yamamoto and S.
Hosokawa : A novel design of electrodes system for gas
treatment integrating ceramic filter and SPCP (surface
corona discharge induced plasma chemical process)method. J. Electrostat., 65 (2007) 37
7) M.S. Cha, Y.H. Song, J.O. Lee and S.J. Kim : NOx and sootreduction using dielectric barrier discharge and NH3 selective
catalytic reduction in diesel exhaust. Int. J. Plasma Environ.
Sci. Technol., 1 (2007) 28
8) Y. Yamagata, K. Niho, T. Jono, Y. Kawagashira and K.
Muraoka : Simultaneous decomposition of diesel particulatematerial and NOx using dielectric barrier discharge, J. Adv.
Oxid. Technol., 9 (2007) 134
9) 尾形 敦 : 有害大気汚染物質の処理技術— 固体表面がかかわる低温プラズマ反応. 静電気学会誌, 24 (2000) 29
10) O. Jessensky, F. Muller and U. Gosele : Self-organized formation of hexagonal pore arrays in anodic alumina, Appl. Phys.
Lett., 72 (1998) 1173
11) 小野幸子 : アノード酸化により生成する多孔質皮膜の構造と成長機構－アルミニウムおよびマグネシウムについて. 表面科学, 19 (1998) 790
12) H. Masuda and K. Fukuda : Ordered metal nanohole arrays
made by a two-step replication of honeycomb structures ofanodic alumina. Science, 268 (1995) 1466
13) H. Masuda, K. Yada and A. Osaka : Self-ordering of cellconfiguration of anodic porous alumina with large-size poresin phosphoric acid solution. Jpn. J. Appl. Phys., 37 (1998)
L1340
14) H. Asoh, K. Nishio, M. Nakao, A. Yokoo, T. Tamamura and H.
Masuda : Fabrication of ideally ordered anodic porousalumina with 63 nm hole periodicity using sulfuric acid. J. Vac.

7

Sci. Technol. B, 19 (2001) 569
15) K. Nishio, K. Iwata and H. Masuda : Fabrication of
nanoporous WO3 membranes and their electrochromic properties. Electrochem. Solid-State Lett., 6 (2003) H21
16) F. Matsumoto, K. Nishio and H. Masuda : Flow-through-type
DNA array based on ideally ordered anodic porous alumina
substrate. Adv. Mater., 16 (2004) 2105
17) Y. Guo, M. Sakurai, H. Kameyama, I. Kamiya, A. Matsuyama
and Y. Kudoh : The effect of SO2 and H2O on the SCR-C3H6
of NO over a transition metals supported mesh-type alumite
catalyst. J. Chem. Eng. Jpn., 37 (2004) 895
18) L. Wang, V.D. Vien, K. Suzuki, M. Sakurai and H. Kameyama : Preparation of anodised aluminium catalysts by anelectrolysis supporting method for voc catalytic combustion. J.
Chem. Eng. Jpn., 38 (2005) 106
19) T. Mizushima, K. Matsumoto, J. Sugoh, H. Ohkita and N.
Kakuta : Tubular membrane-like catalyst for reactor with
dielectric-barrier-discharge plasma and its performance inammonia synthesis. Appl. Catal. A: General, 265 (2004) 53
20) J.H. Cho, K.W. Lee, S.J. Park and J.G. Eden : Coplanar ac
discharges between cylindrical electrodes with a nanoporousalumina dielectric: Modular dielectric barrier plasma devices.
IEEE Trans. Plasma Sci., 33 (2005) 378
21) S.J. Park, K.S. Kim and J.G. Eden : Nanoporous alumina as adielectric for microcavity plasma devices: Multilayer
Al/A12O3 structures. Appl. Phys. Lett., 86 (2005) 221501
22) Y. Iwasaki, J. Liu, J. Zhang, T. Kitajima, M. Sakurai and H.
Kameyama : Hydrogen production from ethanol using aplasma reactor with an alumite catalyst electrode. J. Chem.
Eng. Jpn., 39 (2005) 216
23) 寺嶋和夫, 苫居高明, 金載浩 : マイクロ，ナノ領域でのプラズマの生成法. 静電気学会誌, 29 (2005) 150
24) K. Shimizu, M. Kanamori and M. Blajan : Application of
atmospheric microplasma for indoor air treatment. Int. J.
Plasma Environ. Sci. Technol., 4 (2010) 45
25) T. Kawasaki : Manufacturing of anodic porous alumina forbarriers in a dielectric barrier discharge reactor, J. Electrostat.,
66 (2008) 395
26) T. Kawasaki, Y. Yusuke and T. Yamauchi : Multilayer dielectric barrier discharge using only anodic porous alumina as
barriers in atmospheric-pressure air. IEEE Trans. Plasma Sci.,
36 (2008) 1324
27) T. Kawasaki : Basic characteristics of dielectric barrier discharge reactor using anodic porous alumina for NOx removal. J.
Surface Finish. Soc. Jpn., 60 (2009) 174
28) A. Mizuno and H. Ito : Basic performance of an electrostatically augmented filter consisting of a packed ferroelectricpellet layer. J. Electrostat., 25 (1990) 97
29) 尾形 敦, 宮前景子, 水野光一, 櫛山 暁, 手塚 還 :ベンゼンのプラズマ分解反応に与えるリアクタの影響.
静電気学会誌, 24 (2000) 108
30) T. Yamamoto, M. Okubo, K. Hayakawa and K. Kitaura : Towards ideal NOx control technology using a plasma - chemical
hybrid process. IEEE Trans. Ind. Appl., 37 (2001)1492
31) M. Okubo, G. Tanioka, T. Kuroki and T. Yamamoto : NOconcentration using adsorption and nonthermal plasma
desorption. IEEE Trans. Ind. Appl., 38 (2002)1196