表紙：励起子遷移を用いたオプトメカニクス

表紙中央図。

AlGaAs/GaAs カンチレバーではレーザ照射により電子 - 正孔対が誘起されるが、 内部電界により電子と正孔は空間的に分離し、 GaAs（下層：緑色）に圧電的な圧縮応力が生じる。この応力により曲げ効果が発生するため、これを用いてカンチレバーを駆動することができる。また、 その駆動効率は光吸収量に敏感であるため、 振動変位を介した高感度なスペクトロスコピーが実現する。 光照射により発生する応力は照射のタイミングに対して遅延して作用するため、レーザを連続的に照射した際にはカンチレバーの振動に対してフィードバック効果が生じる。この効果を用いてカンチレバーの振動増幅や、 熱ノイズの抑制が可能となる。

表紙上部の中央図と右図（上部左図は 32 ページを参照）。

上部中央図 : 連続光の照射による熱振動の増幅（左）と低減（右）。 照射エネルギーを励起子吸収エ
ネルギー (1.5152 eV) からわずかに離調することにより正または負のフィードバック効果が得られる。
上部右図：強度変調したレーザ光を照射した際のカンチレバーの周波数応答における照射エネルギー依存性（上）とフォトルミネッセンス励起 (PLE) スペクトル（下）。 PLE 強度が最大となる励起子吸収エ
ネルギー付近でカンチレバーの光駆動効率が最大となる。

ごあいさつ日頃より、 私ども NTT 物性科学基礎研究所の研究活動に多大なご支援・ご関心をお寄せ頂きまして、 誠にありがとうございます。

NTT 物性科学基礎研究所では、 10 ～ 20 年後を見据え、 速度・容量・サイズ・エネルギーなどの点で、 従来のネットワーク技術の壁を越えるような
新原理・新概念を創出することを目指して基礎研究を行っています。 そして、この新原理・新概念を創出する過程で見出した有望技術を新しい産業の種とすることにより、 中長期的な NTT 事業への貢献を行っています。これらのミッションを達成するた
め、物理、化学、生物、数学、電気電子、情報、医学などを専門とする幅広い分野の研究者が、 機能物質科学、 量子電子物性、 量子光物性に関する研究分野で研究を進めています。
研究を進める上では、 NTT グループ内での研究協力はもちろんのこと、 日本、 米国、 欧州、アジアの大学や研究機関と幅広く共同研究を行うことにより、『世界に開かれた研究所』としての役割を果たしています。 我々は、 若手研究者の育成も研究所としてのミッションの 1 つと考え、 世界中から一流教授・研究者を講師としてお招きして『BRL スクール』を隔年で開催しております。 2015 年 11 月には、“Nano and Optics”をテーマとしたスクールを当厚木 R&D センター内において実施し、 世界 11 カ
国の大学・研究機関から 30 名の博士課程の学生、 若手研究者が参加しました。この活動が、 若手研究者にとって研究活動への大きな刺激となり、 将来の研究者育成に貢献できることを期待しております。また、 スクールと並行して開催した、 ナノスケール構造における物理と応用に関する国際シンポジウム『ISNTT2015』にも、 多数の海外からの参加者を含め総勢 200 名近い第一線で活躍する研究者が集結し活発な討議が行われました。
以上のような活動を通じて、 NTT 事業への貢献のみならず、 学術的貢献も積極的に推進してゆく
所存でございます。 今後とも一層のご指導・ご鞭撻を賜りますようお願い申し上げます。

2016 年 7 月

NTT 物性科学基礎研究所
所長

寒川

哲臣

目

次

◆ 表紙
励起子遷移を用いたオプトメカニクス◆ ごあいさつ◆ 組織図

1◆ 所員一覧

2

Ⅰ

研究紹介◇ 各研究部の研究概要

18

機能物質科学研究部の研究紹介◆ c-BN 薄膜のイオンビームアシスト MBE 成長におけるイオン照射効果

20◆ III 族原料流量変調エピタキシにより成長したヒルロックフリー窒素極性21

GaN(0001) 薄膜◆ エッジマグネトプラズモンの寿命問題の解決

22◆ グラフェンへの歪み印加－グラフェンの歪みエンジニアリングに向けて

23◆ 通信波長帯光学利得材料の開発：Er-Sc シリケイト

24◆ As-grown Pr2CuO4 超伝導薄膜の合成

25◆ オンチップ型酸化グラフェンアプタセンサ：2 本鎖 DNA スペーサを用いた高感度化

26◆ 走査型イオンコンダクタンス顕微鏡によるアポトーシス初期過程の神経細胞のライブ

27

イメージング◆ ナノピラーアレイ上の神経細胞成長28

量子電子物性研究部の研究紹介◆ MoS2/SiO2/Si ヘテロ構造で構成されたトンネル・ダイオード

29～ MoS2 のバンドギャップ構造の分析～◆ シリコン可変障壁ポンプによる高速単正孔転送30◆ 単電子フィードバック制御によるシリコンナノトランジスタ中の熱ゆらぎの抑制

31◆ 半導体ヘテロ構造における励起子遷移を用いたオプトメカニクス

32◆ 光照射を用いた室温における機械振動モード間の結合制御

33◆ 不安定系との結合による量子ビットのコヒーレンス時間の改善

34◆ 超伝導フラックス量子ビットにおける量子ゼノン効果の観測

35◆ 電子スピン集団に直接結合した SQUID 磁束計による電子スピン共鳴36◆ 量子ホール効果領域におけるグラフェンp-n 接合のショットノイズ測定

37◆ ゲート制御による InAs/GaSb ヘテロ構造の半金属 -トポロジカル絶縁体転移38◆ エピタキシャルグラフェンにおけるランダウ準位の非局在状態幅測定39

量子光物性研究部の研究紹介◆ コヒーレントラマンビート分光による Y2SiO5 結晶中の 167Er3+ イオンの超微細構造

40

サブ準位間の位相緩和特性の解明◆ 相互位相変調を用いた決定論的な単一光子波長変換

41◆ 光円錐におけるエンタングルメントの類似構造

42◆ 全光都市間量子鍵配送

43◆ 不完全な光源を用いた量子鍵配送の有限長効果を取り入れた安全性解析

44◆ ファノ共鳴下におけるp 型シリコンのフォノン緩和定数の決定

45◆ コリニアな 2f-3f自己参照干渉計によるエルビウムドープファイバレーザの周波数安定化

46◆ 永久スピンらせん状態を用いた電子スピンの長距離輸送

47◆ 埋め込み量子井戸フォトニック結晶レーザの無閾値動作

48◆ ナノワットレベルで動作する波長サイズ全光ナノ共振器メモリ

49◆ ナノ共振器の双安定動作を用いた全光パケットスイッチ

50

ナノフォトニクスセンタの研究紹介

Ⅱ◆ SiOx スポットサイズ変換器を集積したオン Si メンブレン分布反射型レーザ

51◆ Si 基板上に MOVPE 成長した GaAs/Ge 構造の熱サイクルアニールによる転位低減

52

資料◇ 第 7 回 NTT 物性科学基礎研究所スクール

54◇ 国際シンポジウム ISNTT2015

55◇ BRL セミナー 講演一覧

56

◇ 表彰受賞者一覧

58◇ 報道一覧

60◇ 学術論文掲載件数と主な掲載先

62◇ 国際会議発表件数と主な発表先

63◇ 特許出願件数

63◇ 学術論文出版一覧

64◇ 国際会議招待講演一覧

71ＮＴＴ物性科学基礎研究所

組織図2016 年 3 月 31 日付

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

1

所員一覧
2016 年 3 月 31 日付(* は年度途中までの在籍者 )物性科学基礎研究所所長

寒川哲臣

量子・ナノデバイス研究統括担当

上席特別研究員

山口浩司

医療・運動生理学研究統括担当

上席特別研究員

塚田信吾

企画担当 主幹研究員

後藤秀樹

企画担当

＊

山本秀樹
総括担当 主幹研究員

谷保芳孝

研推担当 主幹研究員

齊藤志郎

研推担当 主任研究員

山口真澄

NTT リサーチプロフェッサー
都倉康弘
日比野浩樹

2

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

筑波大学
関西学院大学ＮＴＴ物性科学基礎研究所

機能物質科学研究部

部長

山本秀樹

補佐

上野祐子
古川一暁 *

薄膜材料研究グループ
熊倉一英

グループリーダ

佐藤寿志

赤坂哲也

舘野功太

廣木正伸

平間一行

江端一晃

西中淳一

低次元構造研究グループ
グループリーダ

山本秀樹
鈴木

哲

佐々木健一

尾身博雄
小野満恒二

Krockenberger, Yoshiharu

狩元慎一

関根佳明

髙村真琴

Wang, Shengnan

小川友以

Najar, Adel*

大伴真名歩

池田 愛

分子生体機能研究グループ
グループリーダ

中島

寛

住友弘二

塚田信吾

上野祐子

古川一暁

河西奈保子

樫村吉晃

田中あや

後藤東一郎

大嶋

手島哲彦

梓

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

3量子電子物性研究部

部長

藤原

聡

補佐

太田 剛
林

稔晶 *

唐沢

毅

山口 徹

林

稔晶

西口克彦

田中弘隆

登坂仁一郎

山端元音

ナノデバイス研究グループ
グループリーダ

藤原

聡

知田健作

Clement, Nicolas

複合ナノ構造物理研究グループ
グループリーダ

山口浩司

Mahboob, Imran

岡本

創

角柳孝輔

松崎雄一郎

畑中大樹

樋田 啓

太田竜一

量子固体物性研究グループ
グループリーダ

村木康二
蟹澤

聖

佐々木智

田村浩之

鈴木恭一

太田 剛

熊田倫雄

高瀬恵子

入江

秋保貴史

Rhone, Trevor David*

Couedo, Francois

4

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

宏ＮＴＴ物性科学基礎研究所

量子光物性研究部

部長

後藤秀樹

補佐

山下

眞

井桁和浩

量子光制御研究グループ
清水グループリーダ

薫

武居弘樹

山下

眞

向井哲哉

森越文明

稲葉謙介

松田信幸

稲垣卓弘

野田数人

理論量子物理研究グループ
グループリーダ

Munro, William John
玉木潔

Knee, George*

東浩司

Furrer, Fabian

Bäuml, Stefan

量子光デバイス研究グループ
グループリーダ

後藤秀樹
俵
石澤

毅彦
淳

小栗克弥

Zhang, Guoqiang

眞田治樹

加藤景子

増子拓紀

日達研一

今井弘光

国橋要司

フォトニックナノ構造研究グループ
グループリーダ

納富雅也
新家昭彦

横尾

倉持栄一

⻆倉久史

谷山秀昭

野崎謙悟

滝口雅人

小野真証

高田健太

Smith, Devin

Tian, Feng

Sergent, Sylvain

北

篤

翔太

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

5ナノフォトニクスセンタ

センタ長

納富雅也

フォトニックナノ構造研究チーム
新家昭彦

横尾

倉持栄一

⻆倉久史

谷山秀昭

野崎謙悟

滝口雅人

小野真証

高田健太

尾身博雄

俵

松田信幸

毅彦

舘野功太

篤

Zhang, Guoqiang

ナノ構造集積機能デバイス研究チーム

6

松尾慎治

山田浩治

硴塚孝明

長谷部浩一

武田浩司

西

英隆

岡崎功太

開

達郎

中尾

藤井拓郎

亮

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

ＮＴＴ物性科学基礎研究所

上席特別研究員
納富雅也

昭和 63 年東京大学大学院工学系研究科物理工学専攻修士課程修了。 同年、
日本電信電話株式会社に入社。 入社以来一貫して人工ナノ構造による物質の光学物性制御およびデバイス応用の研究を行う。 量子細線、 量子箱の研究を経て、 現在フォトニック結晶の研究に従事。 工学博士（東京大学）。 NTT 光エ
レクトロニクス研究所勤務。 平成 7～8 年リンシェピング大学（スウェーデン）客員研究員。 平成 11 年よりNTT 物性科学基礎研究所勤務。 平成 13 年より特別研究員、 平成 22 年より上席特別研究員。 同年、 文部科学省国立大学法人評価委員。 東京工業大学理学部物理学科連携客員教授を兼任。 現在、 ナノフォトニクスセンタ長／量子光物性研究部、フォトニックナノ構造研
究グループリーダ。 2006/2007 IEEE/LEOS Distinguished Lecturer Award、 平成 20 年度学術振興会賞、 平成 20 年度日本学士院学術奨励賞、 平成 22 年度文部科学大臣表彰科学技術賞（研究部門）の各賞を受賞。 平成 25 年 IEEE Fellow。 平成 27 年よりJST-CREST 代表研究者を務める。 応用物理学会、 APS、 IEEE、 OSA 会員。

山口 浩司
昭和 59 年大阪大学理学部物理学科卒業。 昭和 61 年同大学院理学研究科物理学専攻博士前期課程修了。 同年、 日本電信電話株式会社に入社。 入社以来、 電子線回折、 走査型トンネル顕微鏡などの手法により、 化合物半導体の表面物性を実験的に解明する研究に従事。 約 10 年前より半導体ヘテロ接合構造を用いた微小機械素子の研究に取り組んでいる。 平成 5 年工学博士。 平成

14 年より特別研究員。平成 23 年より上席特別研究員。平成 7～8 年ロンドン大学インペリアルカレッジ（イギリス）客員研究員。 平成 15 年 Paul Drude 研究所（ドイツ）客員研究員。 平成 18 年より東北大学理学部客員教授。 平成 20～21 年度応用物理学会理事・常務理事。 平成 23 年国際マイクロプロ
セス・ナノテクノロジー国際会議（MNC）組織委員長をはじめ、これまで 40 以上の学会・国際会議委員を務める。 現在、 量子・ナノデバイス研究統括担当／量子電子物性研究部、 複合ナノ構造物
理研究グループリーダ。 平成元年度、 平成 16 年度、 平成 22 年度応用物理学会論文賞、 MNC2008

Outstanding Paper Award、 SSDM2011 Paper Award、 平成 23 年度井上学術賞、 平成 25 年度文部科学大臣表彰の各賞を受賞。 平成 23 年 Institute of Physics (IOP) Fellowship（イギリス）、 平成 25 年
応用物理学会フェローシップ。 応用物理学会、日本物理学会、 IOP、アメリカ物理学会、 IEEE 会員。

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

7

村木

康二

平成元年東京大学工学部物理工学科卒業。 平成 6 年同大学院工学系研究科物理工学専攻博士課程修了。 同年、 日本電信電話株式会社に入社、 NTT 基礎研究所勤務。 平成 11 年よりNTT 物性科学基礎研究所。 入社以来、 高移動度
半導体へテロ構造の結晶成長とその量子電子物性の研究に従事。 平成 21 年より特別研究員。 平成 25 年より上席特別研究員。 平成 13～14 年マックスプラン
ク研究所シュトゥトガルト（ドイツ）客員研究員。 平成 22 年、 平成 28 年半導体強磁場国際会議プログ
ラム委員長、 平成 27 年二次元電子国際会議組織委員会副議長などを務める。 平成 20～27 年科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業 ERATO 核スピンエレクトロニクスプロジェクト物理研究・結晶成長グループリーダ。 現在、 量子電子物性研究部、 量子固体物性研究グループリーダ。 日本物理学会、 応用物理学会会員。

塚田信吾

平成 2 年富山医科薬科大学（現・富山大学）医学部卒業。同年、4 月医師免許取得。平成 15 年医学博士（筑波大学）。平成 15～17 年カリフォルニア大学サンディエゴ校（アメリカ）客員研究員。 平成 22 年より日本電信電話株式会社 NTT
物性科学基礎研究所、リサーチスペシャリスト。 平成 25 年、 同社に入社。 入社
以来一貫して、 脳神経細胞の情報伝達に関する機構解明・活動制御の研究に従事、 導電性高分子・繊維複合素材を核にしたウェアラブル型・埋め込み型生体電極の研究を行う。
平成 26 年より上席特別研究員。現在、機能物質科学研究部、分子生体機能研究グループ主幹研究員。

Society for Neuroscience、 日本生理学会、 応用物理学会、 日本神経科学会、 日本循環器学会、 日本整形外科学会会員。

8

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

ＮＴＴ物性科学基礎研究所

藤原聡

平成元年東京大学工学部物理工学科卒業。 平成 6 年同大学院工学系研究科
物理工学専攻博士課程修了。 同年、 日本電信電話株式会社に入社、 LSI 研究所勤務。 平成 8 年に NTT 基礎研究所、 平成 11 年よりNTT 物性科学基礎研究所。 入社以来、シリコンナノ構造の物性制御とそのデバイス応用、 単電子デバ
イスの研究に従事。平成 19 年より特別研究員。平成 27 年より上席特別研究員。
平成 15～16 年アメリカ国立標準技術研究所（アメリカ）客員研究員。 平成 22～23 年に応用物理学会
理事、 平成 25 年に北海道大学客員教授。 現在、 量子電子物性研究部長／量子電子物性研究部、ナノデバイス研究グループリーダ。 平成 10 年国際固体素子 ･ 材料コンファレンス SSDM'98 Young

Researcher Award、平成 11 年 SSDM'99 Paper Award、平成 15 年、18 年、ならびに 25 年日本応用物理学会 JJAP 論文賞、平成 18 年文部科学大臣表彰若手科学者賞の各賞を受賞。 平成 22～25 年度に内閣府／日本学術振興会の最先端・次世代研究開発支援プログラム（NEXT）研究代表者。 応用物理学会、 IEEE シニア会員。

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

9特別研究員熊田倫雄

平成 10 年東北大学理学部物理学科卒業。 平成 15 年同大学院理学研究科物理学専攻博士課程修了。 同年、日本電信電話株式会社に入社、 NTT 物性科学基礎研究所勤務。 入社以来、 半導体へテロ構造における量子電子物性の研究に従事。
平成 22 年より特別研究員。 平成 25～26 年サクレー原子力庁センター（フランス）客員研究員。 現在、量子電子物性研究部、量子固体物性研究グループ主任研究員。
平成 20 年日本物理学会若手奨励賞受賞、平成 24 年文部科学大臣表彰若手科学者賞の各賞を受賞。日
本物理学会会員。

西口 克彦
平成 10 年東京工業大学工学部電子物理工学科卒業。 平成 14 年同大学大学院
理工学研究科電子物理工学専攻博士課程終了。 同年、 日本電信電話株式会社に入社、 NTT 物性科学基礎研究所勤務。 入社以来、 低消費電力化・新機能化を目指したナノ構造のシリコン・デバイスの研究に従事。 平成 23 年より特別研究員。平成 20 年 9 月フランス国立科学研究センター（フランス）客員研究員。
平成 24～25 年デルフト工科大学（オランダ）客員研究員。 現在、 量子電子物性研究部、ナノデバイス
研究グループ主任研究員。 平成 12 年応用物理学会講演奨励賞、 International Conference on Physics

of Semiconductors 2000、IUAP Young Author Best Paper Award、 Materials Research Society 2000
Fall Meeting, Graduate Student Award Silver、 平成 25 年応用物理学会優秀論文賞、 平成 25 年度科
学技術分野の文部科学大臣表彰若手科学者賞の各賞を受賞。 応用物理学会会員。

齊藤志郎

平成 7 年東京大学工学部物理工学科卒業。 平成 12 年同大学院工学系研究科
物理工学専攻博士課程修了。 同年、 日本電信電話株式会社 NTT 物性科学基礎研究所、リサーチアソシエイト。 平成 15 年、 同社入社、 超伝導量子物理研
究グループ勤務。 入社以来、 超伝導を用いた量子情報処理を目指し、 超伝導
磁束量子ビットの研究に従事。 平成 24 年より特別研究員。 平成 17～18 年デル
フト工科大学（オランダ）客員研究員。 平成 24 年 5 月より東京理科大学客員准教授。 現在、 量子電子物性研究部、 複合ナノ構造物理研究グループ主幹研究員。 平成 16 年応用物理学会講演奨励賞を受賞。 日本物理学会、 応用物理学会会員。

10

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

ＮＴＴ物性科学基礎研究所

武居弘樹

平成 6 年大阪大学基礎工学部電気工学科卒業。 平成 8 年同大学院基礎工学研
究科物理系専攻博士前期課程修了。 同年、 日本電信電話株式会社に入社、

NTT アクセス網研究所（現アクセスサービスシステム研究所）に勤務し、 波長多重アクセスネットワークなどの研究に従事。 平成 14 年博士（工学）（大阪大学）。
平成 15 年より NTT 物性科学基礎研究所。 以来、 光通信波長帯における量子通信、 および非線形光学技術を用いた新しい計算機の研究に取り組んでいる。 平成 25 年より特別研究員。 平成 16～17 年スタンフォード大学客員研究員。 平成 26 年アメリカ国立標準技術研究所（アメリカ）客員研究員。 現在、 量子光物性研究部、 量子光制御研究グループ主幹研究員。 平成 20
年 ITU-T Kaleidoscope Academic Conference: Innovations in NGN - Future Network and Services,Best Paper Award (2nd place)、 平成 22 年度科学技術分野の文部科学大臣表彰若手科学者賞の各賞を受賞。 IEEE、 応用物理学会会員。

Imran Mahboob
平成 13 年シェフィールド大学（イギリス）にて理論物理学修士課程を修了。窒化物
半導体の電子物性に関する研究にて平成 16 年ワーウィック大学（イギリス）物理学
博士課程を修了。平成 17 年日本電信電話株式会社 NTT 物性科学基礎研究所、
リサーチアソシエイト。平成 20 年よりリサーチスペシャリスト。平成 24 年、同社に入社。
入社以来、デジタル信号処理への応用と非線形ダイナミクスの探索に向けた電気
機械共振器の研究に従事。平成 25 年より特別研究員。現在、量子電子物性研究部、複合ナノ構造物
理研究グループ主任研究員。平成 13 年 Clarke Prize in Physics、平成 15 年 Physics of Semiconductors

and Interfaces Conference にて Young Scientist Award の各賞を受賞。アメリカ物理学会会員。

眞田治樹

平成 17 年東北大学大学院工学研究科電子工学専攻博士後期課程修了。 同年、
日本電信電話株式会社に入社、 NTT 物性科学基礎研究所に勤務。 入社以来、半導体低次元構造における光・スピン物性、 およびその量子情報応用に関する研究に従事。平成 26 年より特別研究員。平成 27 年よりチャルマース工科大学（スウェーデン）客員研究員。 現在、 量子光物性研究部、 量子光デバイス研
究グループ主任研究員。 平成 17 年応用物理学会講演奨励賞、 平成 22 年 SSDM Paper Award、 平成

26 年度東北大学電気通信研究所第 4 回 RIEC Award の各賞を受賞。 応用物理学会会員。

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

11Yoshiharu KROCKENBERGER
平成 14 年ミュンヘン工科大学（ドイツ）より超伝導体のトンネル分光の研究において Diploma（修士号に相当）を取得。 その後、 マックスプランク固体物理学研究所シュツットガルト（ドイツ）にて強相関電子系である遷移金属酸化物の研究に従事し、 平成 18 年ダルムシュタット工科大学（ドイツ）にて同研究により博士号を取得。 同年、独立行政法人産業技術総合研究所強相関電子技術研究センター、リサーチサイエンティスト。 平成 20 年、 独立行政法人理化学研究所交差相関物性科学研究グループ、リサーチサイエンティスト。 平成 22 年、 日本電信電話株式会社に入社、 NTT 物性科学
基礎研究所に勤務。 入社以来、新超伝導物質および強相関電子系における競合秩序の研究に従事。
平成 26 年より特別研究員。 現在、 機能物質科学研究部、 低次元構造研究グループ主任研究員。
平成 25 年応用物理学会超伝導分科会研究奨励賞、 平成 28 年第 20 回超伝導科学技術賞の各賞を受賞。アメリカ物理学会会員、 日本 MRS 会員、 応用物理学会会員。

熊倉一英

平成 5 年北海道大学工学部電気工学科卒業。 平成 10 年同大学大学院工学研
究科電子情報工学専攻博士後期課程修了。 同年、日本電信電話株式会社に入社、 NTT 基礎研究所勤務。 平成 11 年よりNTT 物性科学基礎研究所。 入社以来、 窒化物半導体の結晶成長、 物性、 デバイス応用に関する研究に従事。 平
成 27 年より特別研究員。 平成 19～20 年ポールドルーデ研究所（ドイツ）客員研究員。 現在、 機能物質科学研究部、 薄膜材料研究グループリーダ。 第 8 回（2000 年春季）応用物
理学会応用物理学会講演奨励賞を受賞。 応用物理学会会員。

William J. MUNRO
平成元年ワイカト大学（ニュージーランド）理学部化学学科卒業、 平成 7 年同学物理学博士課程を修了。 平成 9～12 年クィーンズランド大学（オーストラリア）主任研究員、 平成 12～22 年ヒューレット・パッカード研究所ブリストル（イギリス）勤務、 平成 22 年日本電信電話株式会社 NTT 物性科学基礎研究所、リサーチ
スペシャリスト。 平成 26 年、 同社に入社。 入社以来、 量子理論の基礎概念から、 量子情報処理およびその実用化に至るまでの様々な量子物理学分野の研究に従事。 平成 27 年
より特別研究員。 平成 18～27 年国立情報学研究所、 平成 21～27 年リーズ大学（イギリス）、 平成

24～27 年クィーンズランド大学（オーストラリア）にて客員教授。 現在、 量子光物性研究部、 理論量子物理研究グループリーダ。 平成 21 年 Institute of Physics (IOP) Fellowship （イギリス）、平成 25 年
アメリカ物理学会フェロー、 米国光学会フェローの各賞を受賞。 The International Society for OpticalEngineering (SPIE) 会員。

12

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

ＮＴＴ物性科学基礎研究所

アドバイザリボード
氏名Prof. Gerhard Abstreiter

所属
Walter Schottky Institute, Technische Universität München,
Germany

Prof. John Clarke

University of California, Berkeley, U.S.A.

Prof. Evelyn Hu

Harvard University, U.S.A.

Prof. Mats Jonson

University of Gothenburg, Sweden

Prof. Sir Peter Knight

Imperial College London, U.K.

Prof. Anthony J. Leggett

University of Illinois at Urbana-Champaign, U.S.A.

Prof. Allan H. MacDonald

The University of Texas at Austin, U.S.A.

Prof. Andreas Offenhäusser

Forschungszentrum Jülich, Germany

Prof. Halina Rubinsztein-Dunlop

The University of Queensland, Australia

Prof. Klaus von Klitzing

Max Planck Institute for Solid State Research, Germany

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

13海外研修生
氏名
Hadrien Duprez

所属
École Polytechnique de Montréal,
Canada期間
2014.5 ～ 2015.4

Sophia Chan

University of Edinburgh, U.K.

2014.6 ～ 2015.6

Aleksandra Krajewska

University of Edinburgh, U.K.

2014.7 ～ 2015.6

Todt Clemens

Aleix Llenas

Dorota Kowalczyk

Silviu Dinulescu

Akie Watanabe

Technical University Dresden,
Germany
Polytechnic University of
Catalonia Barcelona Tech, Spain
Gdansk University of Technology,
PolandUniversity Politehnica of
Bucharest, Romania
The University of British Columbia,
Canada2014.9 ～ 2015.8

2014.9 ～ 2015.8

2014.9 ～ 2015.8

2014.9 ～ 2015.8

2015.1 ～ 2015.8

Mats Powlowski

Corcodia University, Canada

2015.1 ～ 2015.7

Joo Whan Yoo

McGill University, Canada

2015.5 ～ 2016.3

Ziyan Xu

Andrew David Browning

The University of British Columbia,
CanadaThe University of British Columbia,
Canada2015.5 ～ 2015.12

2015.5 ～Samarth Desai

Padue University, U.S.A.

2015.5 ～ 2015.7

Samuele Grandi

Imperial College London, U.K.

2015.7 ～ 2015.10

Nathaniel Walmsley

University of Bath, U.K.

2015.7 ～ 2015.12

Victoria Hamilton

University of Bath, U.K.

2015.7 ～ 2015.12

ESPCI ParisTech
Corentin Deprez(École supérieure de physique etde chimie industrielles de la ville deParis), France

14

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

2015.7 ～ 2015.12

ＮＴＴ物性科学基礎研究所

ESPCI ParisTech
Marius Villiers(École supérieure de physique et dechimie industrielles de la ville de2015.7 ～ 2015.12

Paris), France
ESPCI ParisTech
Tom Darras(École supérieure de physique et dechimie industrielles de la ville de2015.7 ～ 2015.12

Paris), France
ESPCI ParisTech
Mathieu Durand(École supérieure de physique et dechimie industrielles de la ville de2015.7 ～ 2015.12

Paris), France
Isabel Gonzalvez

University of Edinburgh, U.K.

2015.9 ～Monika Theresa Schied

Ulm University, Germany

2015.9 ～Veronika Zagar

University of Ljubljana, Slovenia

2015.9 ～Carla Maria Palomares Garcia

Carlos III University of Madrid, Spain

2015.9 ～Giacomo Mariani

Politecnico di Milano, Italy

2015.9 ～Dominika Urszula Gnatek

Jagiellonian University, Poland

2015.9 ～Jun Ki Kim

Geogia Institute of Technology, U.S.A.

2015.9 ～Javier Cambiasso

Imperial College London, U.K.

2016.1 ～NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

15国内実習生
氏名

所属

期間

堀尾眞史

東京大学

2015.4.1 ～ 2016.3.31

吉成正人

東京理科大学2015.4.1 ～ 2016.3.31

生頼拓也

東京理科大学2015.4.1 ～ 2016.3.31

田中

亨

早稲田大学

2015.4.1 ～ 2016.3.31

遠藤傑

慶應義塾大学2015.4.1 ～ 2016.3.31

芦川耶眞登

東北大学

2015.4.1 ～ 2016.3.31

大杉廉人

東北大学

2015.4.1 ～ 2016.3.31

後藤貴大

東京電機大学2015.4.1 ～ 2016.3.31

原東京電機大学2015.4.1 ～ 2016.3.31

東京電機大学2015.4.1 ～ 2016.3.31

長谷川祐哉

東京電機大学2015.4.1 ～ 2016.3.31

常川雅人

東京工業大学2015.4.1 ～ 2016.3.31

生田拓也

大阪大学

2015.4.5 ～ 2015.12.26

千葉

永東京工業大学2015.4.1 ～ 2016.3.31

澤石諒

東北工業大学2015.5.20 ～ 2015.12.25

義積大輔

徳島大学

2015.8.17 ～ 2015.9.11

冨永隆宏

北海道大学

2015.8.10 ～ 2015.9.4

小川達也

弘前大学

2015.8.9 ～ 2015.9.29

金澤直輝

豊橋技術科学大学

2015.9.1 ～ 2016.3.31

中長岡科学技術大学

2015.10.9 ～ 2016.2.12

中村絃人

電気通信大学2015.10.1 ～ 2016.3.31

山口純平

北海道大学

2015.11.2 ～ 2016.3.23

濱田裕紀

東京大学

2015.11.4 ～ 2015.12.25

石井俊太郎

東京大学

2015.12.14 ～ 2016.3.31

斎藤駿

豊橋技術科学大学

2016.1.8 ～ 2016.2.25

Thomas Tiong

豊橋技術科学大学

2016.1.8 ～ 2016.2.25

Xinwei Liu

東京工業大学2016.1.18 ～ 2016.3.31

下條

一鳳

16

優

章圭

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

Ⅰ．研究紹介

各研究部の研究概要
機能物質科学研究部

山本秀樹

機能物質科学研究部（物質部）では、 原子・分子レベルで物質の構造を制御することにより、 新
しい物質や機能を創造し、 物質科学分野における学術貢献を行うとともに、 情報通信技術に大きな変革を与えることを目指しています。
この目標に向かって、 3 つの研究グループが、 広範囲な物質を対象として研究を進めています。
その範囲は、 GaAs や GaN をはじめとする化合物半導体から、 グラフェンなどの二次元構造物質、酸化物高温超伝導体、さらには、 神経細胞などの生体物質に至り、 高品質薄膜成長技術や物質の構造と物性を精密に測定する技術をベースに最先端の研究を推進しています。
この１年では、 窒化物半導体窒素極性や準安定相の薄膜の高品質化、これまで必須であった成長後の熱処理を必要としない超伝導薄膜を実現したほか、 グラフェンへの歪の印加と制御に成功し歪エンジニアリングの道を拓きました。また、 東レ株式会社と共同開発した機能素材“hitoe®”を活用し、 医療・リハビリ、 スポーツ、 作業者安全管理や極限状態など、 様々な場面での身心の生体信号計測の実証実験に成功しました。

量子電子物性研究部

藤原聡

量子電子物性研究部（物性部）では、 半導体、 超伝導体、 あるいは異種材料ハイブリッド系の新規物性を開拓し、 将来の ICT 社会に大きな変革をもたらす固体デバイスの創出を目指しています。
高品質薄膜結晶の成長技術やナノメータースケールの微細加工技術などベースとなる「ものづくり」
技術を軸として、 単電子、メカニクス、 量子、 電子相関、 スピンなどの新しい自由度に基づく物性の探索を行い、 それらを利用した低消費電力デバイス、 量子情報処理デバイス、 高感度センサな
どの革新・極限デバイスの開発に挑戦しています。
今年度は、 半導体中の励起子遷移を用いたオプトメカニクスの実現、 グラフェン p-n 接合を用いた
電子ビームスプリッタ動作に成功しました。また、 MoS2/SiO2/Si ヘテロ構造を用いたトンネルダイオー
ドの動作、 単電子フィードバック制御による電子数熱ゆらぎの抑制、 半導体ヘテロ構造における半金属 -トポロジカル絶縁体転移のゲート制御など新奇デバイスやその物性制御の実験を推進するとともに、量子ハイブリッド系を利用したダイヤモンド中電子スピンの長寿命化の理論検討などを進めました。

18

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

量子光物性研究部

後藤秀樹

量子光物性研究部（量光部）は光通信技術や光情報処理技術に大きなブレークスルーをもたらす
機能物質科学研究部

革新的基盤技術の提案、 ならびに、 量子光学・光物性分野における学術的貢献を目指して研究を進めています。
量光部のグループでは、 半導体量子ドットやナノワイヤなどのナノ構造における光物性研究、 極微
弱な光の量子状態制御と量子情報への応用、高強度極短パルス光による新物性探索、超音波やフォ
トニック結晶を応用した光物性制御などの研究がおこなわれています。
この 1 年で、 量子情報通信に関する成果として、 通信の担い手である単一光子の波長変換に関する新しい手法を構築しました。また、 量子暗号の通信距離を 2 倍に延ばす新方式を提案し、 誤り率

量子電子物性研究部の監視の必要のない、 簡便な量子暗号システムの実験にも成功しました。この他に、 スピントロニ
クス分野の成果として半導体中で電子スピンの長距離の移動を実現し、 スピン演算素子の実現に向けて進展が見られました。

量子光物性研究部

ナノフォトニクスセンタ

納富雅也

ナノフォトニクスセンタ (NPC) は、 ナノフォトニクス技術を駆使して、 様々な機能をもつ光デバイス
ナノフォトニクスセンタを大量・高密度に集積する大規模光集積技術の確立、 および光情報処理の消費エネルギーの極限的な低減を目指す革新研究を行うために、 2012 年 4 月に設立され、 現在、 物性科学基礎研究所および先端集積デバイス研究所の中でナノフォトニクスに関わる研究チームにより構成されています。
本年は、 ナノフォトニクス集積技術の成果として、フォトニック結晶共振器を用いて光メモリの消費電力を従来記録より一桁以上の削減に成功、 半導体ナノワイヤとシリコンフォトニック結晶を組み合わせた構造でレーザ発振を達成、フォトニック結晶ナノ共振器による無閾値レーザ発振の実証に成功
し、 スポットサイズ変換器を有するシリコン基板上薄膜型分布帰還レーザの発振、といった成果があがりました。

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

19c -BN 薄膜のイオンビームアシスト MBE 成長におけるイオン照射効果
平間一行

谷保芳孝

山本秀樹

熊倉一英

機能物質科学研究部
立方晶窒化ホウ素 (c-BN) は大きなバンドギャップエネルギー (6.3 eV) を有するため、 他の窒化物
半導体とのヘテロ接合による高耐圧電子デバイスや紫外発光デバイスへの応用が期待される。 BN で
は sp2 結合の六方晶構造 (h-BN) が安定相で、 準安定相である sp3 結合の c-BN の成長は一般に困難であるが、 我々は、 ボロンの供給と同時に、 加速した Ar+と N2+ を成長表面に照射することで、 ダイヤ
モンド上に c-BN 薄膜を MBE 成長できることを報告してきた [1]。 本研究では成長機構の解明やデバイス応用を行う上で重要な指針となる c-BN の成長相図を作成し、 BN の結晶構造を Ar+／ホウ素比(FAr+ /FB) によって制御できることを明らかにした。
BN 薄膜は、 MBE 装置を用いて、格子整合性の良いダイヤモンド (001) 基板上 (Δa/a=1.3%) に成長した。 ホウ素は EB 加熱により供給し、 窒素源として窒素ラジカル (N*) を供給した。 イオンの供給量
が c-BN 形成に及ぼす影響を明確にするため、 成長中に照射するイオン種を Ar+ のみとした。 V/III 比（窒素／ホウ素比 (FN*/FB)）は >1とした。 成長温度は 920℃である。
図 1 は、 Ar+ 照射を行わずに成長した BN 薄膜と、 Ar+ 照射 (FAr+ /FB>1) を行いながら成長した BN
薄膜の赤外 (IR) 吸収スペクトルである。 Ar+ 照射を行わない場合、 sp2 結合に由来する吸収ピークのみが観察され、 熱力学的に安定な sp2 結合の BN 薄膜が成長する。 一方、 Ar+ 照射を行いながら成長した場合、 sp3 結合の吸収ピークのみが観察され、 sp3 結合の c-BN 薄膜が成長する。 図 2 は、この

c-BN 薄膜の断面 TEM 観察像と制限視野電子線回折 (SAED) 像であり、 成長初期から c-BN(001) 薄膜がエピタキシャル成長していることがわかる。
図 3 は、 Ar+とホウ素の供給量を変化させて BN 薄膜を c-BN(001) テンプレート上に再成長した際の成長相図である。 c-BN 薄膜がエピタキシャル成長した条件はすべて FAr+ /FB>1 であり、 FAr+ /FB<1 の条件では、 c-BN テンプレート上であっても乱れた層状構造をもつ sp2 結合の乱層 BN(t-BN) が成長する。 FN* は図 3 に示したすべての成長条件で一定としており、 V/III 比 (FN*/FB)>1 である。したがって、

V/III 比 >1 であれば BN 薄膜の成長相は V/III 比には依存せず、 FAr+ /FB によって決まる。 図 3 の成長相図とこれまでに明らかになっている c-BN 薄膜の成長条件 [1] から、 c-BN 薄膜のエピタキシャル成長には、 V/III 比 >1 かつ成長温度 >750℃であることに加えて、 FAr+ /FB>1とする必要があることがわかった。
本研究は科研費の援助を受けて行われた。
[1] K. Hirama et al., Appl. Phys. Lett. 104, 092113 (2014).

図 1 BN 薄膜の FT-IR 吸収スペクトル。
20

図 2 c-BN(001) 薄膜の断面 TEM 像と SAED 像。

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

図 3 イオンビームアシスト MBE 成長
における BN 薄膜の成長相図。

III 族原料流量変調エピタキシにより成長した
ヒルロックフリー窒素極性 GaN(0001) 薄膜
Chia-Hung Lin 赤坂哲也 山本秀樹
機能物質科学研究部
窒化物半導体の窒素極性 (0001) 面では、 結晶表面からの窒素原子の再脱離が起きにくい。 そのた
機能物質科学研究部

め、特に窒素脱離が問題である InN や InGaN の結晶性向上が期待できる。ところが、窒素極性 (0001)
面成長では、 表面にヒルロックが多数形成されて平坦性が悪いのが大きな問題となっている。 本報告
では、 III 族原料の流量を周期的に変調する III 族原料流量変調エピタキシ（III 族原料 FME）を用いて、ヒルロックフリー GaN(0001) 薄膜が成長できることを報告する [1]。

III 族原料 FME では、 原料ガスの NH3 は連続的に供給する一方、 III 族原料のトリメチルガリウム、または、トリエチルガリウムの流量を変調する。すなわち、大流量の III 族原料 (21 µmol/min) を 1 秒間、
および、 小流量の III 族原料 (10 µmol/min) を t 秒間 (t: 0~10)、 交互に供給した。 小流量の III 族原料供給中には、 Ga の成長表面への吸着と再脱離がバランスしており、 GaN の成長もエッチングも起こらず、 Ga の表面拡散のみが促進される [1]。この交互供給を 900 サイクル繰り返し、 約 450 nm の厚さの GaN(0001) 薄膜を成長した。

GaN(0001) 薄膜の光学顕微鏡写真を図 1 に示す。 連続成長の場合、 数個のヒルロックがあるが［図 1(a)］、 III 族原料 FME ではヒルロックが全く見られず［図 1(b)］、 10 mm × 5 mm のサンプル全体にわたってもヒルロックフリーであった。ヒルロック密度の小流量供給時間 t に対する依存性を図 2 に示す。 t =1s でもヒルロックは大幅に減少しており、 t ≧ 5s でほぼヒルロックフリーとなった。ここで、 断面透過型電子顕微鏡の観察等からヒルロックの中心にはらせん転位が存在することが分かった。 すな
わち、 通常の連続的な成長では、ヒルロックはらせん転位を起源とする渦巻き状の螺旋成長により大きく発達していく。 一方、 III 族原料 FME では、 小流量の III 族原料を供給する間に Ga の表面拡散が促進されるので、ヒルロックを発達させる螺旋成長よりも平坦な表面を形成するステップフロー成長が支配的になる結果、ヒルロック形成が抑制されるものと考えられる。
[1] C. H. Lin, T. Akasaka, and H. Yamamoto, Jpn. J. Appl. Phys. 55, 04EJ01 (2016).

図 1 窒素極性 GaN(0001) 薄膜表面の光学顕微鏡写真。
(a) 連続成長および (b)III 族原料 FME (t =10s)。

図 2 ヒルロック密度の小流量供給時間 tに対する依存性。

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

21

エッジマグネトプラズモンの寿命問題の解決
佐々木健一 1
1

機能物質科学研究部

2

村上修一 2 都倉康弘 3,4
東京工業大学43

量子光物性研究部

筑波大学

二次元電子系を磁場中におくと、 そのエッジ（境界）にエネルギーギャップのないエッジマグネトプ
ラズモン (EMP) が現れる。これは、 エッジに沿って一方向に伝搬する、 電子と電磁場が結合した励起状態である。 80 年代から研究されている古いテーマであるが、 近年グラフェンなどの新奇な二次元電子系の登場により、 そこでの振る舞いが改めて注目されている [1]。 本研究では既存の理論をさらに発展させる新しいアイデアを提案した。

EMP の理論は、 Volkovらにより大きく発展した [2]。この理論では、 EMP の局在長や伝搬速度な
どの物理量が寿命の関数として求まるが、 肝心の寿命が決まらないという問題があった。 我々は、この問題が動的磁場の成分が無視されていたことに由来することを示し、 その効果を取り入れて解析を行うことで初めて寿命を決定し、 実験 [1]と誤差範囲での一致（図 1）をみたので報告した [3]。
問題を解決する際に、 従来の手法を適用することは困難であった。 動的磁場を含めると解くべき方
程式が数学者にすら解法が知られていないものとなってしまうためである。 そこで我々は、 問題を複雑にしているエッジを取り除いた仮想的な周期系を考察し、 そこに奇妙なプラズモンの状態があることを見いだし利用した。この状態は振動数が純虚数の、 緩和するだけの状態であり、 その寿命は正確に計算できた。 周期的な系にエッジの存在を摂動的に加えると、 振動数に実部が生じ、 EMP を再現するので、 過減衰する奇妙な状態は、 EMP の対応物である。 興味深いことに、 寿命に関するエッジの補正は無視できた。 本研究は、 従来見過ごされてきた EMP の磁気的側面についての知見を得ることができるだけでなく、 奇妙な状態の存在を用いた新しい物性予測を可能にする点でも重要である。
[1] H. Yan et al., Nano Lett. 12, 3766 (2012).
[2] V. A. Volkov and S. A. Mikhailov, Sov. Phys. JETP 67, 1639 (1988).
[3] K. Sasaki, S. Murakami, Y. Tokura, and H. Yamamoto, Phys. Rev. B 93, 125402 (2016).

図 1 EMP の寿命の実験結果 (Edge MP exp.) は理論結果 (Edge MP theory)と一致する。
EMP の寿命は電子寿命 (Bulk MP exp.) よりも強磁場で長く（スペクトル幅が細く）なる。
大まかな傾向を点線で示した。

22

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

グラフェンへの歪み印加 － グラフェンの歪みエンジニアリングに向けて髙村真琴 1 日比野浩樹 1,21

機能物質科学研究部

2

山本秀樹 1

関西学院大学

グラフェンの電子物性を歪みにより制御する、“歪みエンジニアリング”が理論提案され、 グラフェン
電子デバイスへの応用が期待されている。しかし実際に歪みを制御するのは容易ではない。 我々は、機能物質科学研究部

SU-8 レジストの熱収縮を利用することでグラフェンへの引張り歪みの印加と制御が可能であることを提案し、ラマン分光測定よりそれを実証した [1]。

SU-8 レジストは、 300℃以上で酸素や水素の解離が起き、 10 ～ 20% 収縮する。この現象を利用することでグラフェンへの引張り歪み印加が可能である。さらに、 サンプルの構造を工夫することで、歪みのデザインが可能になる。 たとえば、 基板に転写したグラフェンに対してはレジスト近傍への局所的な引張り歪みの印加が可能である。基板上のグラフェンの端部にレジストバーを配置したサンプル［図 1(a)］を加熱すると、 SU-8 の収縮によりレジスト間のギャップが拡がり［図 1(b)、 (c)］、 グラフェンのラマンピークが低波数側にシフトする。これはグラフェンに引張り歪みが印加されたことを示している。
ピーク位置の分布［図 1(c)］とそのシフト量［図 1(d)］から、レジスト端から 1 ～ 2 µm の範囲のグラフェ
ンにのみ約 0.2% の引張り歪みが印加されていることが明らかになった。また、レジストバー間にグラフェンを架橋させたサンプル［図 2(a)］では、 約 3 倍の大きさの引張り歪みが全体に印加されている［図 2(b)］。これは、 グラフェンと基板の相互作用がなくなるためである。 本方法を用いることで、 グ
ラフェンの電子物性制御が歪み印加により可能になると期待される。
[1] M. Takamura et al., Proc. 15th IEEE Int. Conf. on Nanotechnology, Rome, Italy, 33 (2015).

（左）図 1 (a) SiO2/Si 基板上のグラフェン模式図。 (b) 加熱前 と (c) 300℃で加熱後のグラフェンの光学顕微鏡像とラマンピーク位置のマッピング。 (d) 加熱前後のラマンスペクトル。
（右）図 2 (a) 架橋グラフェン模式図。 (b) 加熱前後のラマンスペクトル。シフト量は図 1(c) の約 3 倍。

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

23通信波長帯光学利得材料の開発：Er-Sc シリケイト
Adel Najar1 尾身博雄 1,3 俵 毅彦 2,31

機能物質科学研究部

2

量子光物性研究部

3

NTT ナノフォトニクスセンタ

光インターコネクションの実現には高効率で信頼性の高いデバイス、 たとえば光源、 変調器、 増幅器、 スイッチ、 検出器などが必要となる。 特に、 Si 基板上でオンチップ光源を実現するためには Si
系の光学利得結晶材料の開発が不可欠である。
私たちは、 通信波長帯の波長 1.5 µm で発光する Er3+ イオンを添加させる母結晶として一般によく知られている従来型の Y シリケイト結晶に替えて、 Er3+ イオンからの特異な光学特性が期待できる新しい母結晶として Sc シリケイト結晶に注目し、 ナノスケールの積層成長技術と高温熱処理を組み合わせる
ことにより、 SiO2/Si 基板上に Er-Sc シリケイト膜を形成することに挑戦した（図 1 左）。
成長した Er-Sc シリケイト膜のフォトルミネッセンス (PL) 測定から、 ① 900 から 1100oC の熱処理で発光波長が 1528 nm の ErxSc2-xSiO5 膜が形成されること、 ②それ以上の熱処理温度で発光波長が1537 nm の ErxSc2-xSi2O7 膜が形成されること、 ③ ErxSc2-xSi2O7 膜の PL 強度は ErxSc2-xSiO5 膜のものよりも約 5 倍強いこと、 ④ PL 励起 (PLE)と PL 測定（図 1 中と右）から ErxSc2-xSi2O7 膜での Er3+ イオンのエネルギーレベルが決定できること、 ⑤ ErxSc2-xSi2O7 膜からの PL スペクトルピークの半値幅は温度の上昇に伴い 1.1 から 2.3 nm へ変化することがわかった。
なお、この Er3+ イオンの PL ピークの狭線幅の起因は、 Sc シリケイト結晶の Sc3+ イオンは小さなイオ
ン半径 (0.745 Å) をもつため、その Sc 格子サイトを Er3+ イオンが置換した場合には Er3+ イオンはその周りにある Sc3+ イオンからの強い結晶場の影響を受け、 Er3+ イオンのエネルギーレベルが明瞭に分裂したためと考えることができる。 今後は、 ErxSc2-xSi2O7 膜の導波路型光増幅器構造を作製し、 高効率な光学利得結晶としての可能性を探索していく予定である。
[1] A. Najar, H. Omi, and T. Tawara, Opt. Express 23, 7021 (2015).

図 1 （左）作製した試料の膜構造。
（中）1250 ℃の熱処理で作製した試料からの PL 励起のカラーマップ。
（右）4K で測定した PL 励起と PL スペクトル。

24

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

As-grown Pr2CuO4 超伝導薄膜の合成
Yoshiharu Krockenberger1 堀尾眞史 1,2 池田 愛 1 入江 宏 3 藤森 淳 2 山本秀樹 11

機能物質科学研究部

2

東京大学

3

量子電子物性研究部

電子ドープ銅酸化物高温超伝導体の母物質 Pr2CuO4(PCO) は、 モット絶縁体で電子ドーピングをすることで超伝導が発現すると考えられてきた。 一方で、 電子ドープ銅酸化物は、 酸素が銅の周りに平
機能物質科学研究部

面四配位した CuO2 面の銅の上下頂点位置に不純物酸素を取り込みやすく、 それによって超伝導特性が著しく劣化することが知られている。したがって、 電子ドープ銅酸化物の超伝導発現には、 不純物
酸素を取り除くためのアニールが必須である。これまで、 我々は精密アニールにより、ノンドープの母物質でさえ超伝導が発現することを報告してきた [1]。 一方で、 ex situ での複雑なアニールプロセスを必要とするため、 物性測定には不向きである。 そこで、 アニールを必要とせずに母物質の超伝導が得られる成長条件の検討を行った。
本研究では、 分子線エピタキシ法により格子不整合が無視できる (110)GdScO3 基板上に PCO 薄膜
をコヒーレントに成長した。このようなコヒーレント成長では、 成長温度の高温化が可能なため、 実
効的に成長中の酸化力を緩和することが可能となる。 我々は、 成長温度、 酸化条件、 ならびに基板を系統的に変え最適な組み合わせを検討した。その結果を図 1 に示す。赤丸で示す条件、つまり(110)

GdScO3 基板上に高温でコヒーレント成長した PCO 薄膜のみが as-grown 状態で超伝導を示した。 図 2には、 その PCO 薄膜の抵抗率の温度依存性を示す。 高温域では抵抗率は温度とともに減少する金属的なふるまいを示し、 27 K で超伝導転移が観測された。さらに、 CuO2 面に対し垂直に磁場を印加した場合の CuO2 面内の抵抗率の温度依存性も併せて示している [2]。 本研究では、 成長条件を最適化することで、 PCO 薄膜を in situ で超伝導化できることを示した。これにより、 電子ドープ系銅酸化物の物性測定において、これまでボトルネックとなっていた表面のコンタミネーションを避けることができるため、 角度高分解光電子分光などの電子状態の測定において非常に有効である。
[1] Y. Krockenberger et al., Sci. Rep. 3, 2235 (2013).
[2] Y. Krockenberger, M. Horio, H. Irie, A. Fujimori, and H. Yamamoto, Appl. Phys. Express 8, 053101 (2015).

図1

種々の基板上に成長したPCO 薄膜の成長条件。

図 2 As-grown PCO 薄膜の抵抗率の温度依存性。

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

25

オンチップ型酸化グラフェンアプタセンサ：
2 本鎖 DNA スペーサを用いた高感度化
上野祐子

古川一暁

機能物質科学研究部
グラフェンおよび酸化グラフェン (GO) の表面では、 表面に近接した分子との相互作用に応じたエネ
ルギー移動反応が生じる。この反応を、 生体分子の反応と巧みに組み合わせることで、 生体分子の選択的な吸着などの現象を可視化可能である。 私たちは、 グラフェン／ GO 表面をアプタマという特殊な DNA で機能化した表面（生体分子インターフェース）を用いて、 タンパク質を選択的かつ高感度に検出する蛍光検出型のアプタセンサを実現した [1]。さらに、 グラフェン／ GO を表面に固定化するという特長を活かすことで、 マイクロ流路を搭載したオンチップ型アプタセンサへの展開をはかり、 複数タンパク質の同時検出や定量検出など、 分析化学的に意義高い応用が可能となった [2]。
アプタマの最も魅力的な特徴は、 その分子認識機能を損なうことなく、 自由自在な分子設計による機能化が可能という点である。 そこで、 グラフェン／ GO への蛍光分子の発光エネルギーの移動（蛍光共鳴エネルギー移動、 FRET）の効率が蛍光色素とグラフェンの間の距離に依存して大きく変化することを利用して、 アプタセンサの感度を飛躍的に向上させるプローブ分子の戦略的な設計を行った。
アプタマ配列と蛍光色素の間に 1 本鎖 DNA をスペーサとして導入した分子プローブ① [3] およびアプタ
マ配列とグラフェン／ GO 表面の間に 2 本鎖 DNA をスペーサとして導入した分子プローブ②を設計した［図 1（左）］[4]。 ①、 ②のどちらにおいても、 スペーサ長に応じてセンサの高感度化がはかれることを見い出した［図 1（右）］。 設計した分子プローブのうち、 最も高感度化効果が高かったプローブを用いて、 in vivo 凝固反応中の濃度レベル (1 nM) のトロンビン検出限界を達成した [3]。
[1] K. Furukawa et al., J. Mater. Chem. B, 1, 1119 (2013).
[2] Y. Ueno et al., Anal. Chim. Acta, 866, 1 (2015): Featured on cover.
[3] Y. Ueno et al., Chem. Commun., 49, 10346 (2013): Featured on cover.
[4] Y. Ueno et al., Anal. Sci., 31, 875 (2015): Hot Article Award.

図 1 （左）分子プローブ②の構成と（右）スペーサ長さによる高感度化効果の定量比較。

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NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

走査型イオンコンダクタンス顕微鏡によるアポトーシス初期過程の神経細胞のライブイメージング
田中あや

住友弘二

中島 寛

機能物質科学研究部
神経細胞が成長しネットワークを形成する過程で特有の形態変化を示すことが知られており、 生き
機能物質科学研究部

た細胞の経時的な形態変化を観察することは神経機能の理解に重要である。 本研究では、 神経ネッ
トワーク形成過程において、 ネットワークを構成する細胞数調整の役割を果たすアポトーシス（プログ
ラム細胞死の一種）に注目し、 アポトーシス初期過程の１細胞レベルの形態変化を走査型イオンコン
ダクタンス顕微鏡 (SICM) により観察することに成功した [1]。
実験には、ラットの大脳皮質から取り出した初代神経細胞をガラス基板上で培養し、 培養 8～10 日
後に SICM による形態観察を行った。 アポトーシス誘導試薬であるスタウロスポリン (STS) を観察溶液に添加し、 20 分毎にイメージングを行うことでアポトーシスによる神経細胞の形態変化を観察した。

SICM による観察を行った結果、 STS 添加後、 180 分後に明瞭な球状突起物が観察された［図 1(a)白矢印］。これらの構造は、アポトーシス初期過程で形成されるブレブと呼ばれる構造であると考えられる。 形態観察結果をもとに、 STS 添加前の細胞体積に対する相対的な体積変化を検討した結果［図 1(b)］、 STS 添加後 60～120 分で細胞体積の減少が起こり、 その後再び上昇することが示された。
以上から、アポトーシス初期過程では、 最初に細胞収縮が起こり、 その後ブレブ形成が起こる、という一連の形態変化を明らかにした。 今後は、 蛍光顕微鏡と組合せることで、 生きた神経細胞の分子レベルの変化を同時に観察し、 神経細胞の機能変化に伴う形態との相関性を解明することを目指す。
[1] A. Tanaka, R. Tanaka, N. Kasai, S. Tsukada, T. Okajima, and K. Sumitomo, J. Struct. Biol. 191, 32 (2015).

図 1 SICM によるアポトーシス初期過程での神経細胞の形態観察結果。 (a)STS 添加後の神経細胞の形態像、 (b) 神経細胞の相対的な体積変化（v0 は STS 添加前の細胞体積、 v は各時間での細胞体積）。

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ナノピラーアレイ上の神経細胞成長
河西奈保子

住友弘二

機能物質科学研究部
神経細胞の In vitro における培養は、 細胞間情報伝達機構の解明や神経回路の工学応用等を目的にして広く行われている。 我々は、 神経細胞との人工的なシナプスを形成するデバイスの実現をめざ
し、 様々な基板上で神経細胞の培養を行っている。 一方、 近年微細加工技術の発展からナノ構造物
上を用いた神経細胞のガイダンスも精力的に行われている。 本研究では、 神経細胞を成長させるための足場としてシリコン (a-Si) および金 (Au) のナノピラーアレイを作製し、 神経細胞の成長方向の制御するための基礎的な検討を行った [1]。

EBリソグラフィにより石 英 基 板に a-Si および Au のナノピラーアレイ（ピラー直 径：100 または
500 nm、 高さ：500 nm）を作製した。 その上にラットの大脳皮質由来の神経細胞を 7 日間、 5%CO2、飽和水蒸気下で培養した。 試料の観察には走査型電子顕微鏡または共焦点レーザ顕微鏡を用いた。
基板上に培養した神経細胞の神経突起は、 a-Si ピラー上に良好に成長することを確認した（図 1）。
神経突起の太さは直径 500 nm のピラー上のほうが直径 100 nm のピラー上よりも太く、 神経突起とピラーとの接着面積が骨格系タンパク質の発現に影響し神経突起の太さが変化することを示唆した。また、 神経細胞は Au ピラー基板上ではランダムに成長するのに比べ a-Si ピラーではピラーパターンに比較的沿って成長した［図 2(A)］。さらに、 神経突起の先端の位置は、 Auと比較すると a-Si では有意に多くの神経突起がピラー上に存在し、ピラー材料によって異なる親和性を示した［図 2(B)］。これは神経細胞の断面観察から細胞体が Au 上に良好な接着を示さなかった結果 [2]と一致した。これらの結果は、ピラー材料を最適化することで神経ガイダンスに適した環境を提供できる可能性を示すものである。
本研究の一部は科研費 15H03541 の助成を受けて行われた。
[1] N. Kasai, R. Lu, R. Filip, T. Goto, A. Tanaka, and K. Sumitomo, Electrochemistry. 84, 296-298 (2016).
[2] T. Goto, N. Kasai, R. Lu, R. Filip, and K. Sumitomo, J. Nanosci. Nanotechnol. 16, 3383 (2016).

図 1 異なるパターンの a-Si ピラー上に成長した神経突起。 スケール：2 µm。

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NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

図 2 a-Si および Au ピラー上に成長した神経細胞 (A)と神経突起の先端位置 (B)。 スケール：50 µm。

MoS2/SiO2/Si ヘテロ構造で構成されたトンネル・ダイオード～ MoS2 のバンドギャップ構造の分析～
西口克彦 1 Andres Castellanos-Gomez2 山口浩司 1 藤原 聡 1 Herre van der Zant2 Gary Steele21量子電子物性研究部

2

Delft University of Technology

多くの電子回路を構成する Siトランジスタは、 微細化によって性能が向上してきた。さらにサイズが数十～数 nm まで小さくなると、 新たな機能をもつことも可能となり、これまで我々は単一電子を操る素子 [1] や、 高感度センサ [2]、 発光素子 [3] を実現してきた。しかし、 いくら微細化が進んでも Siがもつ特性を大きく変えることはできないことから、 性能には自ずと限界が生じる。 翻って他の材料を見ると、 グラフェンや二次元層状物質などが次世代材料として注目を浴びている。しかし、 作製技術などの観点から、 現段階では発展途上の材料と言える。 そこで我々は、 Siと二次元層状物質を組み合わせることによって、 それぞれの特徴を生かした素子の実現を目指している。 今回は、 二次元層状物質の一つである二硫化モリブデン MoS2と Si を組み合わせたトンネル・ダイオードを紹介する [4]。
量子電子物性研究部

トンネル・ダイオードは Siトランジスタをベースとしており、 ゲート電極に数層で構成された MoS2 を用いる（図 1）。この MoS2 は、 粘着テープと透明ポリマーを用いた劈開法によって薄層化したもので、Si 上部に転写する。 Si および MoS2 は、 それぞれ p 型と n 型のトランジスタ特性を示し、 また Siと
MoS2 の間にはゲート酸化膜 SiO2 があるため、 p/ 絶縁層 /n ヘテロ接合が構成される（図 2）。 SiO2 は6 nmと薄いため、 Siと MoS2 の間に電圧を印可するとトンネル電流が流れ、 負性微分抵抗を示すピー
ク構造が確認できた（図 3）。これは高濃度にドープされた p-n 接合トンネル・ダイオードに類似したトンネル現象が起きていると考えている。 また、 4 つの電流ピークが現れており、 今回用いた MoS2 が膜厚の異なる 4 つの領域をもつことに起因している。ピークが現れる電圧は、 膜厚で変化する MoS2のエネルギー・バンド構造の情報を含んでおり、 今回ヘテロ接合のバンド構造の導出に成功した。 他の材料に対しても当該素子構造を用いることで、 様々な環境でバンド構造の情報が得られるだけでな
く、 新たな素子の実現が期待できる。
[1] K. Nishiguchi et al., Appl. Phys. Lett. 88, 183101 (2006).
[2] K. Nishiguchi et al., Jpn. J. Appl. Phys. 47, 8305 (2008).
[3] J. Noborisaka, K. Nishiguchi, and A. Fujiwara, Sci. Rep. 4, 6940 (2014).
[4] K. Nishiguchi et al., Appl. Phys. Lett. 107, 053101 (2015).

図 1 素子の写真。

図 2 素子の概念図

図 3 トンネル電流特性。

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シリコン可変障壁ポンプによる高速単正孔転送
山端元音

唐沢 毅

藤原 聡

量子電子物性研究部
単電子ポンプはクロック信号に同期して単電子を転送する素子であり、低消費電力素子、電流標準、単光子源などへの応用が期待されている。 特に、 電流標準応用においては高精度・高速動作が必要であるが、 実用的な性能（エラー率 10-8 以下、 GHz 動作）を満たす素子は実現されていない。 可変障壁ポンプは GHz 動作の単電子転送が可能であり[1]、 有望な素子である。 その精度を決める 1 つの要因として、 電荷の有効質量が挙げられる。 有効質量が重い正孔（電荷：e）を利用すると精度向上が期待されるが、これまで、 高速単正孔転送の報告は無い。 今回、シリコン可変障壁ポンプを用いた高速単正孔転送を達成した [2]。
図 1(a) に素子の概略図を示す。 Si 細線上に 2 層ゲートをもつ構造であり、 Sと D を p 型に高濃度ドープした。 上層ゲート UG に負電圧 VUG を印加し Si 細線中に正孔を生成し、 下層ゲート G1と G2 への正電圧印加により正孔ポテンシャル障壁を形成する。これにより、 G1-G2 間の Si 細線部が単正孔島となる。さらに、 G1 への高周波信号（周波数：f ）印加で、 正孔を S から D に転送する［図 1(b)］。

G1 直下の障壁が低い際、 島に正孔が注入される。 容量結合により障壁上昇と伴に島ポテンシャルも上昇するため、 正孔は S 側にエスケープするが、 障壁上昇率がエスケープ率よりも十分大きい場合、正孔は島に非平衡状態で捕獲される。 捕獲された正孔は D 側に放出される。 本素子の島は微細なので、 単正孔付加エネルギー Eadd が熱揺らぎよりも十分大きい。この場合、 島に 2 個正孔が存在時のエスケープ率が 1 個存在時よりも十分大きくなり、 単正孔を島に捕獲可能である。 1 周期に正孔を n個転送すると、 電流値は nefとなる。 n は VUG により島ポテンシャルを変化させることで調整できる。
図 1(c) に 1 GHz での電流測定結果（赤丸）を示す。 VUG を負側に増加させることで、 電流プラトーを観測した。 非平衡正孔捕獲の理論モデルによるフィット（青線）もデータと良く一致し、 非平衡正孔転送が生じていることが示された。このフィットから 17 K では転送エラー率が 10-3 程度であることが分かった。 理論的には、 9 K 程度になると 10-8 レベルの転送精度が期待される。 本成果は正確な単正孔操作とその計量標準応用へ向けた重要な進展である。
[1] A. Fujiwara, K. Nishiguchi, and Y. Ono, Appl. Phys. Lett. 92, 042102 (2008).
[2] G. Yamahata, T. Karasawa, and A. Fujiwara, Appl. Phys. Lett. 106, 023112 (2015).

図 1 (a) 素子の概略図。 (b) 正孔ポテンシャル図と単正孔転送機構。 (c) 高速単正孔転送のデータとフィット。

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NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

単電子フィードバック制御によるシリコンナノトランジスタ中の熱ゆらぎの抑制
知田健作

西口克彦

山端元音

田中弘隆

藤原 聡

量子電子物性研究部
フィードバック制御は制御対象を測定し、 その結果をもとに出力を制御し、 所望の状態を実現する制御手法である。 たとえば、 エアコンは部屋の温度を測定し、 その結果をもとに出力を制御し、 部
屋の温度を一定に保っている。もしエアコンが部屋の温度を正しく測定できなければ、 部屋の温度を一定に保つことはできない。
本研究では、 単電子を検出できるシリコンナノトランジスタを用いて単電子を制御対象としたフィード
バック制御を行った。シリコンナノトランジスタは電子浴、 単電子箱、 検出器によって構成され（図 1）、
検出器電流 Id を測定することで、電子箱内電子数 n を電子 1 個の精度で測定できる。 単電子は電子浴と単電子箱の間を熱によって絶えずランダムに運動（熱ゆらぎ）しており、 n は図 2(a) に示すように、あ量子電子物性研究部

る値 (n = 0) を中心にランダムに増減する [1]。 測定された n の値をもとに、 電子浴電位 Vres を制御しn を一定の値に保つこと、 すなわち、 熱による n のゆらぎを抑制することを試みた。 n が所望の数よりも多いときは Vres を正に変調して電子を供給し難く、所望の数よりも少ないときは Vres を負に変調して電子を供給し易くした。 その結果、フィードバック制御を行っていない場合［図 2(a)］に比べて、 熱による nのゆらぎを約 60% 低減（n の分散 σ の大きさを 1.5 から 0.5 に低減）することに成功した［図 2(b)］[2]。
本研究で実現された単電子のフィードバック制御は、 単電子ポンプのエラー訂正や電子デバイス中でのマクスウェルの悪魔の実現 [3] などへの要素技術として応用できる。
本研究の一部は最先端・次世代研究開発支援プログラムの助成を受けて行われた。
[1] K. Nishiguchi, Y. Ono, and A. Fujiwara, Nanotechnology 25, 275201 (2014).
[2] K. Chida et al., Appl. Phys. Lett. 107, 073110 (2015).
[3] J. V. Koski et al., Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 38, 13786 (2014); Phys. Rev. Lett. 115, 260602 (2015).

図 1 単電子フィードバック制御実験の模式図。 検出器電流 Id を用いて単電子箱内電子数 n を求め、 n に基づいて電子浴電位 Vres をフィードバック制御する。

図 2 フィードバック制御による熱ゆらぎの抑制。
(a) フィードバック制御なしのときに観測される熱ゆ
らぎ。 (b) フィードバック制御によって抑制された熱
ゆらぎ。

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半導体ヘテロ構造における励起子遷移を用いたオプトメカニクス
岡本 創 1
1

渡邉敬之 1,2

太田竜一 1量子電子物性研究部

2

小野満恒二 3 後藤秀樹 4 寒川哲臣 4 山口浩司 1,2

東北大学

3

機能物質科学研究部

4

量子光物性研究部

昨今、 光キャビティと機械共振器の結合系を取り扱うオプトメカニクスが注目されている [1]。 キャビ
ティにより生み出される放射圧や熱応力を用いて、 振動の増幅や熱ゆらぎの低減（振動モード冷却）など、 機械共振器の制御が可能となることが報告されている。しかしながら、 従来手法は高品質キャ
ビティの作製や光機械結合の調整など、 取り扱いの上で高度な技術を要するのが難点である。また、細線化ファイバによるアクセスが必要なため、とりわけ共振器アレイなど集積メカニカル素子への適用には不向きとされる。これに対して、 我々は半導体ヘテロ構造における励起子遷移を用いた、フリー
アクセス可能な機械共振器の振動制御手法を提案、 実証した [2]。 化合物半導体中で光励起された電子と正孔により生み出される圧電応力を用いることにより、 キャビティ不要で簡便なオプトメカニク
スを可能とした。
本研究では AlGaAsと GaAs の 2 層構造からなる片持ち梁を用いた［図 1(a)］。この梁では光励起により生じる電子－正孔対が内部電場により分離し［図 1(b)］、 長手方向に沿って圧電応力（圧縮）が生み出される。この応力は GaAs 層に生じるため、 梁が下向きにたわむ効果を与える［図 1(a)］。この効
果は光吸収量に依存し、 変形ポテンシャルを介して歪みにも影響を受ける。 よって、 歪みによる吸収変化が顕著となる励起子吸収近傍では梁の変位に依存した圧電応力が得られる。これが光照射に対して遅延して作用するため、 梁の振動に対して自己帰還が働く。 帰還の符号と利得は吸収スペクトルの勾配に依存するため［図 1(c)］、 励起子吸収からの僅かな離調により、 振動増幅とモード冷却の双方が達成される［図 1(d)、 (e)］。
[1] M. Aspelmeyer, T. J. Kippenberg, and F. Marquardt, Rev. Mod. Phys. 86, 1391 (2014).
[2] H. Okamoto et al., Nature Commun. 6, 8478 (2015).

図 1 (a) 片持ち梁と圧電効果の模式図。 (b) 梁のエネルギーバンドと電子と正孔の分離の様子。
(c) 励起子吸収近傍の発光励起スペクトル。 (d) モード温度 (Teff) の励起エネルギー依存性（縦軸は素子温度 T = 9.2 K で規格化、レーザ強度は 1.19 µW）。 点線は PLE スペクトルの勾配に依存した理論曲線。 (e) 励起エネルギー 1.516 eV における熱ノイズスペクトルのレーザ強度依存性。

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NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

光照射を用いた室温における機械振動モード間の結合制御
太田竜一 1 岡本 創 1
1

Rudolf Hey2 Klaus-Juergen Friedland2 山口浩司 1

量子電子物性研究部

2Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik

多数の連結された機械振動子は複数の機械振動モードを有しており、これら振動モード間での振動転送を制御することで機械論理回路や音響メタマテリアルが実現すると期待されている。 振動転送の制御にはモード間の結合制御が必要であり、 特にモード間の結合係数が各モードの減衰定数を上回る
強結合状態では、 系の応答速度が減衰定数ではなく結合係数により支配されるため高速な振動転送制御が可能となる [1]。 我々はこれまでに圧電効果を用いた電気的な手法により低温環境下で 2 つの機械振動子における強結合状態の創出とその結合制御に成功していた。しかし、これまでの電気的な手法ではモード間の結合係数が十分に大きくなく、 その利用範囲は減衰定数が大きく低下する低温環境に限られていた。 今回、 我々は光照射による熱膨張効果を用いることで結合係数が既存手法に比べ飛躍的に大きくなることを見出し、 その結果、 室温において 2 つの振動モード間での強結合状態
量子電子物性研究部とその結合制御に成功した [2]。
図 1(a) に 2 つの振動子の顕微鏡像、 図 1(b) にその振動モードを示す。 本構造は GaAsと AlAs の超格子構造を含む半導体薄膜基板に形成されており、 対称・反対称の 2 つの振動モードを有している。
本素子に波長 780 nm のレーザ光を照射すると GaAs 層で光吸収による熱膨張が起こり、 その結果内部応力が生じる。このレーザ光の強度を振動モード間の差周波で変調することにより2 つの振動モード
間で内部応力を介した動的な結合が生まれる。 図 1(c) に振動スペクトルのレーザ光変調周波数依存性、 図 1(d) にレーザ光変調振幅依存性を示す。 変調周波数がモード間の差周波となる付近で振動ス
ペクトルに明瞭なモード分裂が観測された。 結合係数はレーザの変調振幅を変えることで制御可能であり、 最大値として 2.57 kHz が得られた。 この値は室温における 2 つの振動モードの減衰定数（2.14 kHzと 1.59 kHz）を超えており、 振動モード間の強結合状態が室温において達成された。
本研究は科研費の援助を受けて行われた。
[1] H. Okamoto et al., Appl. Phys. Lett. 105, 083114 (2014).
[2] R. Ohta et al., Appl. Phys. Lett. 107, 091906 (2015).

図 1 (a) 2 つの機械振動子の顕微鏡像。 (b) 有限要素法で得られた結合モードの模式図。 上側は対称モード、下側は反対称モードを示す。 (c) 振動スペクトルのレーザ光変調周波数依存性。 点線は結合振動子モデルから求まる振動モードのピーク周波数を示す。 (d) 振動スペクトルのレーザ光変調振幅依存性。

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不安定系との結合による量子ビットのコヒーレンス時間の改善
Xiaobo Zhu1,* 角柳孝輔 1 樋田 啓 1 下岡孝明 2

松崎雄一郎 1
水落憲和 2 根本香絵 3
13

仙場浩一 4

William J. Munro5 山口浩司 1 齊藤志郎 1

量子電子物性研究部

国立情報学研究所

4

2

大阪大学

情報通信研究機構

5

量子光物性研究部

ダイヤモンドの単一の窒素空孔 (NV) 中心は、 量子メモリや高感度センサなどの応用が期待されているが [1]、 磁場ノイズによりコヒーレンス時間が短くなることが知られている。
我々は、 よりコヒーレンス時間の短い超伝導磁束量子ビットと結合させることで、 NV 中心のコヒー
レンス時間を一桁近く改善できるという現象を理論的に見出した [2]。 NV 中心の励起状態は、 磁束量子ビットと結合が可能なブライト状態と、 そのような結合ができないダーク状態の 2 つがエネルギー的に縮退している。 そのため、 NV 中心単独では、 低周波の磁場ノイズにより励起状態間のランダムな遷移が起きてしまい、コヒーレンス時間が短くなる。しかし磁束量子ビットと結合すると、この 2 つの励起状態の縮退が解ける。 その結果、 エネルギーギャップのために、 低周波の磁場ノイズによる励起状態間の遷移が抑制されて、 ダーク状態のコヒーレンス時間が改善される。 具体的には、 100 µsのコヒーレンス時間を持つ NV 中心に、 10 µs のコヒーレンス時間を持つ超伝導磁束量子ビットを、

10 kHz 程度の強度で結合させることで、 ダーク状態のコヒーレンス時間は 950 µsとなる（図 1）。この成果は、 NV 中心を用いた量子情報実現への全く新しいアプローチを与えるものである。
現所属 : * 中国科学院[1] C. Degen, Nature Nanotech. 3, 643 (2008).
[2] Y. Matsuzaki et al, Phys. Rev. Lett. 114, 120501 (2015).

図 1 NV 中心のデコヒーレンスを数値計算により解析した。 横軸は時間を、 縦軸は量子状態のコヒーレンス
を示している。 超伝導磁束量子ビットと結合することで、 NV 中心のコヒーレンス時間が一桁程度改善される。

34

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

超伝導フラックス量子ビットにおける量子ゼノン効果の観測
角柳孝輔 1 馬場達也 1,2
1

松崎雄一郎 1 中ノ勇人 1 齊藤志郎 1 仙場浩一 1,3量子電子物性研究部

2

東京理科大

3

情報通信研究機構

量子系を理想的に測定すると、 その状態は確率的にエネルギー固有状態に射影される。 状態が固有状態に近いほど、 測定によってその固有状態に射影される確率は高くなる。 そのため、 固有状態からわずかに時間発展した状態を測定すると、 ほとんど 1 の確率で元の状態に射影される。これは、量子系においては頻繁に測定することで時間発展を凍結できることを意味しており、 その状態の保持時間は測定頻度に依存する。この現象はゼノンのパラドックスのアナロジーから量子ゼノン効果と呼ばれており、 物理現象として興味深いだけでなく量子測定系の評価やデコヒーレンスに強いサブスペー
スの実現などへの応用が期待されている。
超伝導フラックス量子ビットは複数のジョセフソン接合を含む超伝導ループで構成されており、 特定のバイアス磁場下で数 GHz 程度のエネルギー差をもつ量子二準位系と見なすことができる。 我々はこ量子電子物性研究部の量子ビットに共鳴マイクロ波を照射しラビ振動を起こしながら、 繰り返し測定パルスを照射すること
でラビ振動を止めることを試みた。 量子ビットの測定には量子非破壊測定が可能なジョセフソン分岐読
み出しを用いた。
図 1(a) に読み出しパルスの強度を変えて、 射影が起きた場合と起きなかった場合での量子ビットの測定確率をプロットした。 射影が起きない場合には励起状態と基底状態の間のラビ振動による時間発展が見られるが、 射影が起きた場合にはラビ振動は凍結され励起状態を保つ様子が観測された。
図 1(b) に、 測定の繰り返し時間を変えた場合の結果をプロットした。 測定の繰り返し時間が短いほど状態の保持時間が長いことがわかる。この結果は量子ゼノン効果のモデルでよく説明できる。このよ
うにして我々は世界で初めて、超伝導量子ビットへの繰り返し射影測定による量子ゼノン効果を実証した [1]。
[1] K. Kakuyanagi et al., New J. Phys. 17, 063035 (2015).

図 1 (a) 射影パルスの有無と量子ビットの時間発展。 (b) 繰り返し時間を変えた際の保持時間の変化。

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

35電子スピン集団に直接結合した SQUID 磁束計による電子スピン共鳴
樋田 啓 1 松崎雄一郎 1

角柳孝輔 1 Xiaobo Zhu1,*

William J. Munro2 根本香絵 3 山口浩司 1 齊藤志郎 11量子電子物性研究部

2

量子光物性研究部

3

国立情報学研究所

電子スピン共鳴 (EPR) や核磁気共鳴等の磁気共鳴は、 材料の分析から医療応用に至るまで幅広い分野で使われる技術である。市販の EPR 分光装置では、検出には 1013 個程度の電子スピンが必要で、空間分解能も 0.1 mm 程度に制限されるが、 より高い感度と空間分解能をもつ EPR 分光の手法があれば、 量子情報処理等への応用可能性も広がる。
我々は、 超伝導量子干渉素子 (SQUID) による磁束計と電子スピン集団を含む試料を直接貼り合わ
せ結合することにより［図 1(a)、 (b)］、電子スピン偏極の検出ならびに EPR 分光を行った [1]。 SQUIDの臨界電流は、 ループを貫く磁束により変化するが、 その変化が急峻な点を動作点とし、 試料の磁化の変化による臨界電流の変化を測定した。
電子スピン偏極検出の実験は試料に印加する面内磁場と温度を変えることで行った。 図 1(c) にY2SiO5 結晶中エルビウム不純物の測定結果を示す。 磁場が大きな領域では電子スピンの熱ゆらぎがZeeman エネルギーにより抑制され、 電子スピン偏極率が上昇・飽和することが見て取れる。 EPR 分
光の実験は、試料に印加する面内磁場を固定し照射するマイクロ波の周波数を掃引することで行った。
図 1(d) に窒素不純物（P1 中心）を多く含む Ib 型ダイヤモンドの測定結果を示す。 印加磁場に比例して共鳴周波数が線形に増大するという、 通常の EPR 分光で得られるものと同等の結果が確認できた。
さらに、 14Nとの超微細相互作用を反映して、 93 MHz 程度分裂した 2 本の直線も得られた。
この手法で検出可能な電子スピン数は 106 個程度であり、市販の EPR 分光装置より7 桁程度小さい。
この値は、 超伝導磁束量子ビットの利用でさらに 3 桁程度の改善が見込まれ、 低温 ESR では最小の検出スピン数を報告する文献 [2]と同程度の感度が期待される。また、 検出体積は 10-10 cm3 (0.1 pL)程度であり、 文献 [2] に比べて 2 桁小さな値を達成した。
本研究は NICT、 新学術領域研究および科研費の援助を受けて行われた。
現所属 : * 中国科学院[1] H. Toida et al., Appl. Phys. Lett. 108, 052601 (2016).
[2] A. Bienfait et al., Nature Nanotech. 11, 253–257 (2016).

図 1 (a) 試料の光学顕微鏡写真、 (b) 試料の概略図、 (c) 電子スピン偏極検出の結果、 (d)ESR 分光の結果。
36

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

量子ホール効果領域におけるグラフェン p -n 接合のショットノイズ測定
熊田倫雄 1 Francois D. Parmentier31量子電子物性研究部

日比野浩樹 2 D. Christian Glattli3 Preden Roulleau32

機能物質科学研究部

3

CEA Saclay

グラフェンに垂直磁場を加えることにより現れる量子ホール状態では、 電流は試料端に沿って流れる。この電流チャンネルはエッジチャンネルと呼ばれ、 その伝搬方向は電荷キャリアが電子か正孔かで逆になる。 グラフェンでは p 領域と n 領域の間に空乏層がない特殊な p-n 接合が形成されるが、 そこでは電子と正孔のエッジチャンネルの混合が起こる［図 1(a)］。本研究では、ショット雑音測定により、この混合のメカニズムを調べ、 グラフェン p-n 接合が電子のビームスプリッタとして動作することを示した [1]。

SiC 上に成長されたグラフェンを用い、 4 K で実験を行った。 p-n 接合はグラフェンの半分を覆った
表面ゲートに電圧を印加することによって形成される。 バイアスを加えた電子と正孔のエッジチャンネ
ルを p-n 接合中で混合させ、さらに p-n 接合の出口で分岐させることによって発生するショット雑音を測量子電子物性研究部

定する。 バイアスを加えたチャンネルの混合によりp-n 接合中のエネルギー分布は非平衡となるが、ショット雑音の大きさはこのエネルギー分布を反映する。 今回の実験で、ショット雑音の大きさが p-n接合を長くしていくに従い小さくなっていく様子が観測された［図 1(b)］が、これはエネルギー分布が熱平衡状態へと徐々に緩和していることを示している。 p-n 接合の長さが緩和長 (16 µm) より十分短い
とき、 p-n 接合に入射された電荷キャリアはエネルギーを失うことなく、 その出口で電子または正孔のエッジチャンネルにランダムに分配されることになる。 その結果、 グラフェン p-n 接合は電荷のビーム
スプリッタとして動作すると考えられ、 それを複数組み合わせることにより電子の量子光学研究が可能になると期待される。
[1] N. Kumada, F. D. Parmentier, H. Hibino, D. C. Glattli, and P. Roulleau, Nature Commun. 6, 8068 (2015).

図 1 (a) グラフェン p-n 接合におけるエッジチャンネルの混合と分岐。 (b) p-n 接合の長さが異なる試料で測定したショット雑音のバイアス依存性。

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ゲート制御による InAs/GaSb ヘテロ構造の半金属 -トポロジカル絶縁体転移
鈴木恭一 1 小野満恒二 2 原田裕一 3 村木康二 11

量子電子物性研究部

2

機能物質科学研究部

3

九州大学

トポロジカル絶縁体 (TI) は従来の物質の分類に当てはめることのできない新しい物質の形態である。 その内部は絶縁であるが、 外界の絶縁状態とはトポロジーが異なり、 必然的に TI 内部と外界の境界に伝導チャネルが現れる。この伝導チャネルは散乱の抑制された特異な伝導を示すことが予測され、 新しい物性の発現が期待されている。 特に、 二次元 TI は無散逸な伝導が予測されることから、
省電力デバイスとしても期待されている。
これまで我々は、 一般的な半導体である InAsと GaSb を用いてそのヘテロ接合により人工的に二次元 TI を実現している [1]。 今回我々は、この InAs/GaSb ヘテロ接合構造の基板側と表面側両方にゲー
ト電極を付け、 外的な電圧制御による半金属 -TI の転移を実現した [2]。これまで知られていた TI の性質に新たな機能性が加わりTI の応用が促進される。
図 1 は InAs/GaSb ヘテロ接合構造のエネルギーバンドプロファイルで、 InAs の伝導帯と GaSb の価電子帯が界面をトンネリングすることで混成し、 外界とはトポロジーの異なるエネルギーギャップを形成する。 伝導帯と価電子帯のエネルギー的な重複は基板側と表面側のゲート電圧で制御される。 基
板側のゲート電圧を高くするとポテンシャルの傾きが増し、 エネルギー重複が小さくなる方向に働く。
エネルギー重複が大きい場合は GaSb の価電子帯の異方性が強く現れ図 2(a) のエネルギー分散関係で示したように半金属となり、 エネルギー重複が小さい場合は図 2(b) で示したように TIとなる。
本研究は科研費 (No. 26287068) の援助を受けて行われた。
[1] K. Suzuki, Y. Harada, K. Onomitsu, and K. Muraki, Phys. Rev. B 87, 235311 (2013).
[2] K. Suzuki, Y. Harada, K. Onomitsu, and K. Muraki, Phys. Rev. B 91, 245309 (2015).

図 1 InAs/GaSb ヘテロ接合構造のエネルギー
バンドプロファイル。

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図 2 エネルギー分散関係。 (a) 伝導帯と価電子帯のエネルギー重複が大きい場合は半金属、 (b)小さい場合はトポロジカル絶縁体となる。

エピタキシャルグラフェンにおけるランダウ準位の非局在状態幅測定
高瀬恵子 1 日比野浩樹 2 村木康二 11

量子電子物性研究部

2

機能物質科学研究部

グラフェンのゼロエネルギー・ランダウ準位では、 グラフェンの副格子の対称性に起因するカイラル
対称性のためにエネルギー幅が disorder の種類に依存し、 ripple のような特徴的なホッピングを引きおこす乱れのもとではエネルギー幅が非常に小さくなると理論的に予言されている。 我々は、 以前に

SiC 上グラフェンの素子中の界面準位密度を利用してグラフェンのランダウ準位のエネルギー分光が行えることを報告した [1]。 本研究では、 その方法を用いてグラフェンのゼロエネルギー・ランダウ準位の非局在状態のエネルギー幅を求め、 活性化エネルギーから求めたグラフェンのエネルギー幅と比較した。また、 温度依存性から量子ホール状態のスケーリング則に対応する指数を求めた [2]。
図 1(a) は、 グラフェンの縦抵抗のゲート電圧および磁場依存性である。 グラフェン素子のゲート絶縁膜および SiCとの界面に存在する界面準位［図 1(b)］のために、 縦抵抗ピークの軌跡はグラフェンの量子電子物性研究部

非等間隔なランダウ準位を反映して放物線状になる。この関係性を利用してグラフェンの N 次ランダウ
準位の非局在状態のエネルギー幅 ∆ EN を求めることが可能となり[1]、 その温度依存性を示すと
図 1(c)、 (d) のようになる。 ゼロエネルギー・ランダウ準位 (N = 0)と次のランダウ準位 (N = 1) の非局
在状態のエネルギー幅∆ E0, ∆ E1 が同程度であり、ともに温度のべき乗に比例しているのがわかる。このとき、 ∆ EN ∝ T ηにおける指数 η は N = 0 で 0.30 ～ 0.31, N = 1 で 0.32 ～ 0.35 であり、 一般的に報告されている量子ホールプラトー転移の指数と匹敵する値となった。また、 N = 0、 1ランダウ準位におけるエネルギー幅を活性化エネルギー測定により求めると、 N = 1 ランダウ準位に対してはよい一致を示すが、 N = 0 ランダウ準位では、 界面準位エネルギー分光で求めた値よりも 30 meV 程度大きい値となった。
このように二種類の異なるエネルギー幅測定を系統的に行うことにより、 我々の素子では、 特徴的なホッピングを起こす ripple のような乱れよりもランダムな disorder が顕著であることが分かった。
本研究の一部は科研費の援助を受けて行われた。
[1] K. Takase, S. Tanabe, S. Sasaki, H. Hibino, and K. Muraki, Phys. Rev. B 86, 165435 (2012).
[2] K. Takase, H. Hibino, and K. Muraki, Phys. Rev. B 92, 125407 (2015).

図 1 (a) 縦抵抗のゲート電圧 (Vg) および磁場 (B) 依存性。 (b) 界面準位を含んだグラフェンのエネルギーダイア
グラム。 N = 0ランダウ準位 (c)と N = 1ランダウ準位 (d) における∆ EN の温度依存性。

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コヒーレントラマンビート分光による Y2SiO5 結晶中の 167Er3+ イオンの超微細構造サブ準位間の位相緩和特性の解明
清水 薫

橋本大佑

量子光物性研究部
原子やイオンが有する準安定なΛ型 3 準位系では、 電磁波誘起透明化 (EIT) やコヒーレントポピュ
レーショントラッピング (CPT) のように、 3 準位間のコヒーレンス形成に基づく量子状態の光制御が可能である。これらは、 光と物質との間での量子情報の置き換えの手段、 つまり量子メモリの実現手段としても興味をもたれてきた。 Y2SiO5 結晶中に希薄ドープされた Pr3+ 等の希土類イオンは、 クライオス
タット温 度 (<4 K) まで 冷 却 す れ ば、 固 体 中でも準 安 定 な Λ 型 3 準 位 系を提 供しうる。 一 方、

Er3+:Y2SiO5 は光通信波長である 1.55 µm 帯に光学遷移を有し関心は高かったが、 適切なΛ型 3 準位系が同定されたのは最近である [1]。ここでは存在比 23% の 167Er3+ 同位体の超微細構造サブ準位群の中から基底 2 準位が選択される。 サブ準位の寿命 t1 は 1.5 K で 100 ms 程度であるが、メモリ寿命を左右する位相緩和時間 t2 は、 測定の困難さゆえ不明であり、さらなる研究の進展を阻んでいた。
通常、 t2 の値はラマンフォトンエコーや光補助スピンエコーにより測定できるが、 そのためには光学
遷移の位相コヒーレンス T2 か、 サブ準位寿命 t1 がある程度長いことが必要である。 Er3+:Y2SiO5 では
平均電子磁気モーメントが有限で、磁気的な揺らぎに敏感なため、上記の条件を充たせない。 一方、
コヒーレントラマンビートの過程は、 T2 や t1 の制約を受けないが、 光パルス幅を T2 以下にすることでスペクトルが拡がるため、 サブ準位の不均一広がりに伴う減衰と、 サブレベル位相緩和に起因する減衰とを区別するのが一般には難しい。
今回、 我々は濃度の違うEr3+:Y2SiO5 結晶に対して、コヒーレントラマンビート分光信号（図 1）の減衰レートを注意深く比較することにより、 初めて t2 の値を明らかにできた [2]。 温度 2.3 K のとき、 Er3+
イオン濃度が 0.005 at%（図 2）および 0.001 at% の場合、 t2 の値は 12 µs および 50 µs であった。これらは予想より長く、 同位体や濃度の制御により200 µs 以上に延ばすことも可能である。これより、 光遷移に共鳴する制御光を強くし、ラビ周波数を 2～3 MHz にすれば、 EIT や CPT は充分に実現可能であることが示唆された。
[1] E. Baldit et al., Phys. Rev. B 81, 144303 (2010).
[2] D. Hashimoto and K. Shimizu, J. Lumin. 171, 183 (2016).

図 1 （左）コヒーレントラマンビート分光の測定系。 図 2（右）サブ準位位相緩和レート (1/t2) の温度依存性。

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相互位相変調を用いた決定論的な単一光子波長変換
松田信幸
量子光物性研究部
単一光子の波長（周波数、 色）の変換は、 場面ごとに光子波長の切り替えが必要な量子ネットワー
クの構築に向けた要素技術である。 特に量子通信レートの低下を防ぐためには光子損失を伴わない波長変換技術が必要となる。 今回、 非線形光学効果の 1 つである相互位相変調 (XPM) を用い、 常に損失の生じない波長変換手法を構築した [1]。
本手法の模式図を図 1(a) に示す。 XPM により、 光波（制御光）の強度に比例した媒質の屈折率変化を通じ、他の光波（信号光）の位相シフトが生じる。 位相シフトが動的に生じるとき、信号光の波長（瞬時周波数）が変化する。このような波の位相の動的制御による周波数変換は、 音波のドップラー
効果やラジオ波の FM(PM) 変調などに類似する。 XPM は制御光強度の大小に関わらず必ず生じる現象のため、 信号光として単一光子を用いることで、 光子損失のない波長変換が容易に可能となる。
実験では、 制御光が発生する雑音光子を抑制しつつも大きな波長変換量を得ることのできる分散特性を有するフォトニック結晶ファイバ (PCF) を非線形媒質として用い、 通信波長帯において 3.2 nm(0.4 THz) 程度の波長変化を単一光子に付与することに成功した。 波長変換に伴う光子損失は実際に観測されなかった。これは XPM 過程そのものが無損失であることに加え、 XPM 以外の損失要因である PCF の石英コアにおける非線形吸収が、 実験波長帯において無視できるほど小さいこと [2] に起因する。さらに本手法を応用し、 2 光子の間の波長の相関［図 1(b)］や量子もつれといった量子的な性
質の変換に成功した。また、 波長の異なる 2 光子の波長を揃え、 光子間の非古典的な干渉を回復させることにも成功した。これら一連の結果は、 本手法が通信に加え、 計測や計算 [3] を含む広範な光
量子光物性研究部

量子情報技術へ応用可能であることを示している。
本研究は科研費の援助を受けて行われた。
[1] N. Matsuda, Sci. Adv. 2, e1501223 (2016).
[2] N. Matsuda et al., Nature Photon. 3, 95 (2009).
[3] J. Carolan et al., Science 349, 711 (2015).

図 1 (a) 波長変換の模式図。 (b)2 光子周波数相関の変換。
（左）変換前。
（右）光子 1 に波長シフトを付与した
結果、 2 光子の相関スペクトル全体をシフトさせることに成功した。

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光円錐におけるエンタングルメントの類似構造
森越文明
量子光物性研究部
相対論的時空においては光円錐の概念が本質的となり、いかなるものも光より速く動くことはできな
いため、 その軌跡は光円錐内に留まることになる。 本研究では、 古典的な相対論的時空における光円錐の構造に、 量子論におけるエンタングルメントと類似の構造があることを見出した。
（以下、 光速を 1とする単位系を用いる。）
光円錐には、 図 1 に示すように未来錐と過去錐が存在するが、 時刻 t ＝± 1 における断面は、 そ
れぞれ三次元空間における単位球となる。
（図 1 は空間二次元のため、 断面は二次元空間の単位円となっている。）それぞれの単位球を、 量子情報理論でキュービットを表す際に用いるブロッホ球と同一視すると、 未来と過去に一つずつ仮想のキュービットが対応することになる。 等速で運動する粒子の世界線を考えると、粒子の四次元時空における運動方向はブロッホ球面もしくは球内の点で表される。
つまり、光速で動く粒子の運動方向は球面上（円上）の点に対応し、光より遅い粒子の運動は球内（円内）の点で表される。
この対応を、 粒子の世界線と、 2 キュービット間のエンタングルした状態との対応と見ることができ、それによると、 光速の粒子には分離可能状態が、 静止粒子には最大にエンタングルした状態が、 そして光より遅い粒子には部分的にエンタングルした状態が対応する。さらに、 そのエンタングルメント
をコンカレンスと呼ばれる量で測ると、コンカレンス E と粒子の速度 v の間に、

E ＝ 1 － v2という関係が成り立つ [1]。 これにより、 相対論において動いている時計の遅れなどを表す因子
1 － v 2 を、 量子情報理論におけるエンタングルメントの概念を用いて理解する道が拓かれたことになる。
[1] F. Morikoshi, Prog. Theor. Exp. Phys. 123A04 (2015).

図 1 光円錐における世界線とエンタングルメントの対応（空間二次元の場合）。

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全光都市間量子鍵配送
東 浩司

玉木 潔

William J. Munro

量子光物性研究部
物理法則により、 究極的に安全な通信を可能にする量子鍵配送 (QKD) は、ファイバを通じた送受
信者間での光子の直接伝送に基づき、 100 km 程度の通信距離であれば海外では製品化され、 日本でも東京 QKD ネットワークに象徴されるように試験運用の段階にある。したがって、既存方式によって、市内間（100 km 程度）の拠点を量子暗号で結ぶことは現在でも実現可能といえる。しかし、ファイバ中の光損失により、 400 km 程度が既存方式の通信距離の限界だとされており、この通信圏外にある

QKD ネットワーク同士を結ぶためには、「量子中継」が必要とされてきた。 量子中継は、 任意の通信距離に対して効率的な QKD を可能にする。しかしながら、 量子中継は互いにファイバで結ばれた多数の中継ノードを利用し、 各々の中継ノードは、 現状では高難度な物質量子メモリや量子誤り訂正符号を必要としている。これらの要請は、 量子中継から通信距離限界をなくすためには必須だが、 たとえば主要都市（1000 km 程度）を結ぶ目的には、 量子中継は技術要求が高すぎる可能性があった。
本研究では、 量子中継で必要とされる物質量子メモリや量子誤り訂正符号を一切用いず、 光デバ
イスのみに基づく中間ノードたったひとつで、 通信速度を落とすことなく、 QKD の通信距離を 2 倍にする新方式「全光都市間量子鍵配送」（図 1）を提唱した [1]。 本方式は、 800 km 以下の通信距離であれば、（原子集団に基づく）量子中継よりも効率的に機能し得ることが示されており、 400 km 程度が限界だった既存の QKD の通信圏を、 800 km 程度まで拡大することを可能にする（図 2）。 また、 本
方式は、「全光量子中継」[2] 同様、 物質量子メモリを用いないため、 (a) 通信距離に依らず、 光デバ
イスの動作速度と同程度の通信速度を誇り、 (b) 原理検証段階にある物質と光のインターフェースを必
量子光物性研究部

要とせず、さらには (c) 原理的には常温で動作する。したがって、 本方式は、 800 km 圏内にある主要都市間を結ぶ、 費用対効果の優れた QKD バックボーンリンクとして機能する可能性がある。 また本方式が、 全光量子中継と組み合わされれば、 高速かつ費用対効果に優れた、 光デバイスのみに基づく「全光量子暗号ネットワーク」の地球規模での実現がシームレスなものになる。
[1] K. Azuma, K. Tamaki, and W. J. Munro, Nature Commun. 6, 10171 (2015).
[2] K. Azuma, K. Tamaki, and H.-K. Lo, Nature Commun. 6, 6787 (2015).

図 1 全光都市間量子鍵配送。 中間点 C は、送受信者 AB から受け取った光パルスに量子非破壊 (QND) 測定を施し、 光スイッチ (SW) を用いて到着した光子のみを対とし、 それらにベル測定 (BM) を施す。

図 2 全 光 都 市 間 量 子 鍵 配 送によって拡大可能な通信圏。

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

43不完全な光源を用いた量子鍵配送の有限長効果を取り入れた安全性解析
水谷明博 1Marcos Curty2 Charles Ci Wen Lim3 井元信之 1 玉木 潔 4
大阪大学

2

ジュネーブ大学

４

1
3

ヴィーゴ大学
量子光物性研究部

パスワードやクレジットカードなどの重要な情報を通信で送る際には、 暗号化が必須である。 多くの暗号化の方法の中で、 任意の盗聴に対して安全であることが証明されているのは、ワンタイムパッドと呼ばれる方法だけである。ワンタイムパッドは、暗号鍵と呼ばれるランダムなビット列を必要とするが、もしこの暗号鍵が盗聴者に漏れていないなら、ワンタイムパッドは安全である。したがって、 暗号鍵の安全な配布が重要であるが、 量子鍵配送は、 盗聴者が如何なる盗聴を行っても安全な鍵共有ができる方法として多くの注目を集めている。 ただ、このような高い安全性を確保するためには、 送受信者が用いる量子暗号装置が、 安全性理論によって与えられる条件を満たす必要がある。 残念なことに
既存の安全性理論によると、これらの条件は実際の装置が満たすのが非常に困難なものが多い。 実
際の量子暗号装置の安全性を保証するためには、条件を緩和した安全性理論を構築する必要がある。
以前我々は [1] において、 実際の位相変調器は厳密に所定の位相変調を施すことができない、という不完全性を安全性理論に取りいれたが、この理論では、 解析を簡単にするために送信者が送るパルスの数を無限としていた。 今回我々はこの理論を送信パルス数が有限の場合に拡張し、 実際の装置へ適用可能な理論にした [2]。 下の図 1 は安全性解析の結果の一例であり、 横軸は送受信者間の距離であり、 縦軸は 1 パルス当たり暗号鍵が生成できる割合（暗号鍵生成率）を表す。 実線は位相変調器にずれが一切ない場合を表し、 破線は 8.42°のずれがある場合を表す。さらに、 色はパルスの数を表しており、 右から無限、 1012、 1011、 1010、 109 の場合をそれぞれ表す。 実線と破線では、 暗号鍵生成率に殆ど差はないので、 位相変調器のずれの影響はほぼ無視できることを示している。さらに、 量子鍵配送装置は、 1 GHz 以上のクロックで動作するものが多いことを考えると、これらの結果
は量子鍵配送装置で安全な暗号鍵が生成できることを示す。 本研究は量子鍵配送装置の実際の安全性保障のための大きな一歩である。
本研究の一部は NICT の援助を受けて行われた。
[1] K. Tamaki et al., Phys. Rev. A 90, 052314 (2014).
[2] A. Mizutani et al., New J. Phys. 17, 093011 (2015).

図 1 通信距離 vs 1 パルス当たりの暗号鍵生成率。

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NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

ファノ共鳴下における p 型シリコンのフォノン緩和定数の決定
加藤景子

小栗克弥

眞田治樹

俵 毅彦

寒川哲臣

後藤秀樹

量子光物性研究部
電子デバイスの微細化が進むにつれ、デバイス内部で発生した熱がデバイスの性能向上を阻害するようになってきている。このため、さらなるデバイスの高性能化に向けては熱の制御が必要であり、熱の輸送を司る光学フォノンの緩和過程を解明するために緩和定数を決定することが重要である。従来、光学フォノンの緩和定数はラマン分光によって決定されていたが、不純物が添加された場合、特に p-type

Si では、ファノ共鳴によってフォノンの緩和定数を決定することが困難であることが知られている[1]。そこで本研究では時間分解分光計測によりファノ共鳴下の p-type Si のフォノンの緩和定数を決定した [2]。
パルス幅 10 fs、 中心波長 780 nm の Ti:sapphire レーザを光源とし、 p-type Si において時間分解反射率測定［図 1(a)］を行った。また、 同サンプルに対し、 連続レーザ光（波長 780 nm) を用いてラマン分光計測を行ったところ、ファノ共鳴による非対称なスペクトルが観測された［図 1(a) 挿入図］。 時
間分解分光計測とラマン分光計測によって得られたフォノンの緩和定数（以下、 Γcp ならびにΓRamanとする）を比較すると［図 1(b)］、 Γcp の温度依存性は非調和緩和モデル [3] に従ったが、 ΓRaman は異なることがわかった。 ΓRaman は、ファノ共鳴によってスペクトルが広がるため [1]、 非調和緩和モデルからずれたと考えられる。 一方、 スペクトルの広がりを生み出す連続状態の緩和過程とフォノンの緩和過程とは、 それぞれの寿命に大きな違いがあるため [4]、 時間分解分光計測では両者を分別して観測できる。 よって、 時間分解分光計測で得られたフォノンの寿命はファノ共鳴の影響を受けることがないため、 Γcp の温度依存性は非調和緩和モデルに従ったと考える。 本研究により、ファノ共鳴下におけるフォノンの緩和定数の決定において、 時間分解分光計測が有効であることが示された。
量子光物性研究部[1] F. Cerdeira, T. A. Fjeldly, and M. Cardona, Phys. Rev. B 8, 4734 (1973).
[2] K. Kato, K. Oguri, H. Sanada, T. Tawara, T. Sogawa, and H. Gotoh, AIP Advances 5, 097152 (2015).
[3] T. R. Hart, R. L. Aggarwal, and B. Lax, Phys. Rev. B 1, 638 (1970).
[4] C. Ott et al., Science 340, 716 (2013).

図 1 (a) p-type Si の過渡反射率。 挿入図は p-type Si のラマンスペクトル。 (b)フォノンの緩和
定数の温度依存性。 白丸はラマン計測、 黒丸は時間分解計測による結果を示す。 点線は非調和モデルによるフィット結果。

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コリニアな 2f -3f 自己参照干渉計によるエルビウムドープ
ファイバレーザの周波数安定化
日達研一 1 石澤 淳 1
1

忠永 修 2 西川 正 3 増子拓紀 1 寒川哲臣 1

量子光物性研究部

2

NTT 先端集積デバイス研究所3

後藤秀樹 1

東京電機大学

光周波数コムのキャリアエンベロープオフセット (CEO) 周波数安定化は、精密分光などにとって重要である。 周波数安定化のためには、 周波数帯域を広げたスーパーコンティニューム (SC) 光の生成が必要である。 2f-3f 自己参照干渉計 (SRI) は、 2/3 オクターブ帯域の SC 光しか広がらない光コムのCEO 周波数安定化に用いられる。このような光コムの周波数安定化のために、 私たちはデュアルピッ
チの (DP-) 周期的分極反転ニオブ酸リチウム (PPLN)リッジ導波路を用いたコリニアな 2f-3f SRI を構築
した [1]。

DP-PPLNリッジ導波路は、 600 nm 付近に 2 倍波・3 倍波を生成するような擬似位相整合条件を満たす 2 種類の異なるピッチ長 (Λ1, Λ2) をもつ［図 1(a)］。 導波路の前段領域では SC 光成分 1800 nm の

2 倍波 (900 nm) が発生し、 後段領域では 2 倍波 (900 nm)と SC 光成分 1800 nm の和周波により3 倍波(600 nm) が発生する。さらに、導波路後段領域では SC 光成分 1230 nm の 2 倍波 (615 nm) も発生する。
615 nm 付近の 2 倍波と 600 nm 付近の 3 倍波が波長領域でオーバラップすると CEO ビート信号を検出することができる。 図 1(b) は、 CEO ビート信号である。 CEO ビート信号の SN 比は 100 kHz 分解能帯
域幅で 52 dB であった。これは、 2 f-3 f SRI において最大の SN 比である。
さらに、 CEO 周波数の不確かさを評価するために、 周波数安定化のための in-loop 干渉計と、 実際の CEO 周波数の不確かさをモニターする out-of-loop 干渉計を作製し、 アラン分散を測定した。 実
験の結果、両者のアラン分散は 1 秒積算で 7×10-15(= 1.4 Hz) であった［図 1(c)］。さらに、ブレッドボー
ド上にポンプを置いたときの影響を調べた。 その結果、 振動を与えたにも関わらず、 両者のアラン分
散はほとんど変化しないことがわかった。これらのことは、 今回のコリニアな 2 f-3 f SRI を用いれば、外部環境の影響をほとんど受けずに CEO 周波数を安定化できることを示している。
本研究は科研費の援助を受けて行われた。
[1] K. Hitachi et al., Appl. Phys. Lett. 106, 231106 (2015).

図 1 (a) デュアルピッチ PPLN 導波路。 (b)CEO ビート信号。 (c)CEO 周波数のアラン分散。

46

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永久スピンらせん状態を用いた電子スピンの長距離輸送
国橋要司 1
1

眞田治樹 1 後藤秀樹 1 小野満恒二 2

量子光物性研究部

2

機能物質科学研究部

半導体中の電子スピンは電界効果型スピントランジスタや固体量子計算機の量子ゲートなどの次世
代の論理デバイスへの応用が期待されている。 電子スピンを固体素子中で活用するためには、 電界によるスピンの長距離輸送と歳差運動の制御技術とを確立する必要がある。このスピンの電気による制御にはスピン軌道相互作用に起因する有効磁場の利用が有効である。しかし、この有効磁場の向きは電子スピンの運動量に依存して変化するため、 電子のランダムな散乱によってスピン緩和が促進
され、 電子の長距離輸送が困難になる。 近年、 III-V 族半導体ヘテロ構造中では起源の異なる 2 種類のスピン軌道相互作用を等しくすることで、 有効磁場の方向が電子の運動量に依存しなくなり、 ス
ピン緩和が強く抑制される永久スピンらせん (Persistent Spin Helix: PSH) 状態の存在が報告されている。 本研究では、 GaAs 量子井戸中において PSH 状態を実現することで、ドリフト運動する電子スピンの輸送距離が増大することを実証した [1]。
試料は井戸幅 25 nm の Al0.3Ga0.7As/GaAs/Al0.3Ga0.7As 単一量子井戸構造を用いた。 エピウェハを半透明 Au ゲート電極付きの十字型のメサ構造にプロセスし（図 1 挿入図）、 温度 8 K における電子スピンの空間分布をポンプ・プローブ法による空間分解カー回転測定によって決定した。 図 1 に PSH 状態
において拡散およびドリフト運動する電子スピンの空間プロファイルを示す。 面内電界を印加することによって、 100 µm 以上にわたる電子スピンのドリフト輸送が観測された。また、 ゲート電圧の印加によって有効磁場の強さを変化させると、 それに伴ってドリフトスピンの歳差運動周期も変化することが量子光物性研究部

明らかになった［図 2(a)］。 スピンの減衰距離 lS（電子スピンの濃度が 1/e に減衰するまでの距離）のゲート電圧依存性を評価した結果、 PSH 状態近傍において、電子スピンの輸送距離が最も長くなった［図 2(b)］。この結果は、スピンドリフト拡散モデルに基づくシミュレーション結果ともよく一致しており、PSH 状態によるスピン緩和の抑制効果がスピン輸送距離の増大に寄与することを示している。 本研究において実証された PSH 状態を用いた電子スピンの長距離輸送およびドリフトスピンの電気による制御
は、 今後の電子スピンのデバイス応用に対する重要な知見を与える。
[1] Y. Kunihashi, H. Sanada, H. Gotoh, K. Onomitsu, M. Kohda, J. Nitta, and T. Sogawa, Nature Commun. 7, 10722(2016).

図 1 拡散およびドリフト運動する電子スピンの空間分布。挿入図は試料の概略図。

図 2 (a)[1-10] 方向にドリフトするスピンの空間分布のゲート電圧依存性。 (b) スピン減衰距離 lS のスピン回転長 LSO 依存性。 LSO はドリフトス
ピンが 1 回転するまでの距離でゲート電圧に反比例する。

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

47

埋め込み量子井戸フォトニック結晶レーザの無閾値動作

1

滝口雅人 1,2

谷山秀昭 1,2

⻆倉久史 1,2

Muhammad Danang Birowosuto1,2

倉持栄一 1,2

新家昭彦 1,2

佐藤具就 1,3

武田浩司 1,3

NTT ナノフォトニクスセンタ

2

量子光物性研究部

松尾慎治 1,3 納富雅也 1,2

3

NTT 先端集積デバイス研究所

フォトニック結晶 (PhC) 共振器は非常に小さなモード体積と高い Q 値をもち、 高速に変調できるレーザや LED に応用できるため、 チップ内光ネットワークにおける有望な光源の候補になっている。 そこで我々は、 PhC の内部に量子井戸 (MQW) を埋め込んだ高速で高効率な発光素子の研究を行ってきた［図 1(a)］。 一般的な MQW-PhC 素子は、 活性層が基板面内全体にあり、 キャリア拡散や PhC の穴界
面での表面再結合の影響が避けられないが、埋め込み MQW は、活性層が共振器内部にのみ存在し、キャリアの閉じ込めが強く、非発光表面再結合を非常に小さくできる。したがってこの素子を用いれば、非常に鮮明な自然放出光制御が可能となる [1]。このような素子は、 自然放出係数（β）を限りなく

1 に近づけることができ、 極限的に高効率である無閾値レーザ動作を可能にする。
本研究では [2]、 異なる格子定数の素子を用いて共振周波数をシフトさせ、 ゲインと共振波長の離調を変えながらレーザの β や理論的に予測されている無閾値動作に関して評価を行った。 図 1(b) は共鳴近傍条件 (1428 nm)と離調を取った時の (1415 nm) の L-L プロット、 発光寿命の結果である。 図のように、 L-L や誘導放出による発光高速化を確認し、レーザ発振の転移を確かめた。これらの結果から、 離調が少ない時は明瞭に自然放出光結合定数が大きくなり(β = 0.9)、 無閾値動作することが確認できた。 図 1(c) のように理論値ともよく一致する。
[1] M. Takiguchi et al., Appl. Phys. Lett. 103, 091113 (2013).
[2] M. Takiguchi et al., Opt. Express 24, 3441 (2016).

図 1 (a) 埋め込み量子井戸レーザの概念図。 (b)LL 特性。 (c) β の離調依存性と理論値との比較。

48

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

ナノワットレベルで動作する波長サイズ全光ナノ共振器メモリ
倉持栄一 1,2 野崎謙悟1,2 新家昭彦1,2 谷山秀昭 1,2 武田浩司 1,3 佐藤具就 1 松尾慎治1,3
納富雅也 1,2
1

NTT ナノフォトニクスセンタ

2

量子光物性研究部

3

NTT 先端集積デバイス研究所

ナノフォトニクスセンタでは超低消費電力大規模集積ナノフォトニクスチップの開発を進めている。
キーデバイスである光メモリは一定のビット容量を必要とするため特に低消費電力化する必要がある。
我々は波長サイズのフォトニック結晶 (Photonic Crystal, PhC) に埋込ヘテロ (Buried Heterostructure,BH) を組み合わせることでわずか 30 nW (30×10-9 W) の低動作パワーを達成済みである [1]。 今回よりコンパクトな L3 共 振 器と BH を組み 合わせ 多 穴 変 調により高 Q 値 化したナノ共 振 器 光メモリ[2]［図 1(a)］を用い 2 ポートフィルタ素子［図 1(b)］を構成することでさらに一桁の動作パワー低減を達成
した [3]。本共振器は BH 有り／無しの場合においてそれぞれ最高 4.5 万／ 21 万の共振器 Q 値を示し、後者は InP 系ナノ共振器における最高値であった。 Q 値 4.2 万および 1.3 万を示す多穴変調 BH-L3 共
振器 (L3M1, L3M3) において図 1(c) に示す双安定全光メモリ動作を行い、 既報の BH 共振器メモリ(MG1)[1] の動作と比較した［図 1(d)］。 MG1と同等の Q 値を有する L3M3 では共振器モード体積 (V )の減少に応じ、メモリ動作パワーが 10 nW まで低減された。 Q 値が高い L3M1 では従来比 1/13となる

2.3 nW のしきい動作パワーで図 1(e) に示す良好な“1”/“0”スイッチングコントラストで全光メモリ動
作が確認された。 同しきい値に相当する共振器内平均光子数はわずか 0.1 である。 本研究は超低消費電力 PhC 集積回路にむけた着実な前進であり、 基礎研究およびデバイス応用における多穴変調で高 Q 値化した L 型共振器の有用性を示したものである。
量子光物性研究部[1] K. Nozaki et al., Nat. Photon. 6, 248 (2012).
[2] E. Kuramochi et al., Nat. Photon. 8, 474 (2014).
[3] E. Kuramochi et al., Appl. Phys. Lett. 107, 221101 (2015).

図 1 (a) 多穴変調 BH-L3 設計［格子定数 (a): 426 nm、穴 A-D のシフト量 0.09a、 0.35a、 0.175a、 0.045a、
BH は InGaAsP］。 (b)BH-L3 光メモリの電子顕微鏡像。 (c) 双安定メモリ動作説明図。 (d) 光メモリ動作バイ
アスパワーと detuning 量 δ の関係。 (e)L3M1 における動作パワー 2.3 nW における光メモリ動作波形。

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

49

ナノ共振器の双安定動作を用いた全光パケットスイッチ
野崎謙悟 1,2

Amedee Lacraz2 新家昭彦 1,2 松尾慎治 1,3 佐藤具就 1,3 武田浩司 1,3
倉持栄一 1,2

1

NTT ナノフォトニクスセンタ

2

納富雅也 1,2量子光物性研究部

3

NTT 先端集積デバイス研究所

超小型の半導体光共振器では、 非常に低パワーの光入力に対して非線形屈折率変化が現れるため、 光スイッチや光メモリといった機能的なナノフォトニクス素子として利用できる。 我々は、 InPフォ
トニック結晶 (PhC) 導波路中に微小な InGaAsP 層を局所的に埋め込んだナノ構造［図 1(a)］を利用して， 光とキャリアを強く閉じ込める光ナノ共振器を作製した。これにより、 nW レベルの低パワー光入力でもキャリア非線形効果による光双安定現象が現れ［図 1(b)］、 光パルスの入射によってオン／オフの 2 状態を切り替えるメモリ素子として動作する。 本研究ではさらに、これを光パケットのスイッチ素子
としても利用できることを実証した [1]。
双安定状態を切り替えるための書き込み光パルス（100 ps 幅 , 13 fJ）、 バイアス光 (0.8 µW)、リセットパルス（50 ns 幅）に加えて、 光パケットデータ（10 Gbit/s, 1 ns 長 , NRZ 信号）を素子に入力した［図 1(c)］。 その結果、 バイアス光出力により双安定状態の切り替えが確認できるとともに、これに対応して、 光パケットデータのゲート動作が実現されていることがわかる［図 1(d)］。さらに、 1×2 ポート
出力型の構成も可能であり［図 2(a)］、 上記と同様に光双安定状態を切り替えることで光パケットデー
タの出力ポートをスイッチングする動作も実現した［図 2(b)］。このように低パワー動作可能な全光パ
ケットスイッチは、 光 - 電気信号変換が不要な高速光ルーティングチップの実現に向けて有望な素子と考えられる。
[1] K. Nozaki, A. Lacraz, A. Shinya, S. Matsuo, T. Sato, K. Takeda, E. Kuramochi, and M. Notomi, Opt. Express
23, 30379 (2015).

図 1 (a)フォトニック結晶ナノ共振器。 (b) 光入出力特性における双安定ヒステリシス。 (c) 光入力波形。 (d) 光パケットのゲートスイッ
チ動作における光出力波形。

50

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

図 2 (a)1×2 光出力型のナノ共振器構成。 (b) ポート切替スイッチ動
作における光出力波形。

SiOx スポットサイズ変換器を集積したオン Si メンブレン分布反射型レーザ
西 英隆 1,2

藤井拓郎 1,2

硴塚孝明 1,2
1

武田浩司 1,2

土澤 泰 1,2

NTT ナノフォトニクスセンタ

長谷部浩一 1,2

山本 剛 2 松尾慎治 1,2
2

NTT 先端集積デバイス研究所

我々は Si 基板上の小型・低消費電力レーザ技術の開発を進めており、これまでにオン Si メンブレン

Distributed-Feedback(DFB) レーザを作製し、 世界最小動作エネルギーコストである 171 fJ/bit を実現している [1]。 一方、 Siフォトニクス技術では低損失ファイバ結合を可能にするため、 Si テーパと低比屈折率差（低∆）SiOx 導波路から構成されるスポットサイズ変換器 (Spot-size Converter, SSC) を開発してきた [2]。 今回、 分布反射型 (Distributed-Reflector, DR) レーザ構造の導入によるさらなる低エネル
ギーコスト化、 および SiOx-SSC の集積を実現した。
図 1(a) に作製したデバイス構造を、図 1(b) に上面顕微鏡像を示す。レーザ部は、結合係数 1500 cm-1を有する InP（厚さ250 nm）埋込み DFB 活性領域（InGaAsP 系 6QW、 厚さ150 nm、 長さ50 µm、
幅 0.8 µm）、 後方の高反射率 Distributed Bragg Reflector (DBR) 領域、 および出力 InP 細線導波路から構成される DR レーザとなっており、 短共振器化による高変調効率化および片側出射化が可能となる。 出力 InP 細線導波路は横方向テーパ状に形成され、 SSC を介して∆ = ~3% の SiOx 導波路と接続される。
図 1(c) に作製したメンブレン DR レーザの電流－光出力 (I-L) 特性を示す。 SiOx 導波路出口前方に設置した PD によって受光した場合、 SiOx 導波路端面での反射によって大きなキンクが観測されたが、SiOx 導波路と高 NAファイバ（モード径 4.1 µm）との直接接続によって受光した場合、 端面反射が抑制され良好な I-L 特性が得られた。 閾値電流は 0.6 mA、 最大出力は約 0.7 mW であった。ファイバ結合損失は 2.7 dB が得られ、 従来に比べて損失を約 6 dB 改善した。また、 図 1(d)、 (e) に 25.8 Gbps

NRZ 信号による直接変調時のアイパターンを示す。 バイアス電流 (Ib) が 2.5 mA の際に、 エネルギー
コスト 132 fJ/bit を達成した。
[1] S. Matsuo et al., J. Lightwave Technol. 33, 1217 (2015).
[2] T. Tsuchizawa et al., J. Sel. Top. Quantum Electron. 17, 516 (2011).
ナノフォトニクスセンタ

図 1 (a)SiOx-SSC 集積型メンブレン DR レーザの断面構造。 (b) 作製したデバイスの上面顕微鏡像。
(c) I-L 特性。 (d) (e) Ib = 5.0 mA、 2.5 mA 時の 25.8 Gbps-NRZ 信号直接変調アイパターン。

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

51

Si 基板上に MOVPE 成長した GaAs/Ge 構造の熱サイクルアニールによる転位低減
中尾 亮 1,2

荒井昌和 1,2

1

NTT ナノフォトニクスセンタ

山本 剛 2 松尾慎治 1,2
2

NTT 先端集積デバイス研究所

Si 基板上に III-V 族化合物半導体を直接成長により形成することは、 30 年に渡り研究され続けている。 近年は、 III-V 族材料である GaAsと Si 基板の間に GaAsと格子定数が近い Ge バッファ層を導入
し、 GaAs 層の結晶性を向上させる研究が進められている [1]。 Ge バッファ層を作製する手法として、
モノゲルマン (GeH4) を用いて気相成長するものが広く用いられているが、 GeH4 は分解爆発性の材料でありIII-V 族材料の成長装置に適合しない問題があった [2]。 我々は GeH4 に変えて、 有機金属材料であるイソブチルゲルマン (iso-butyl germane, IBGe) を使用し、 GaAs 成長と同じ有機金属気相成長(Metal-Organic Vapor Phase Epitaxy, MOVPE) 装置にて Ge バッファ層および GaAs 層の一括成長を行った。 図 1(a) にこの試料の断面透過電子顕微鏡 (Transmission Electron Microscopy, TEM) 像を示す。 GaAs 層と Ge バッファの間には、 界面にて発生したと考えられる転位が形成されており、これが成長層表面へ伸びている様子が観察された。この試料に対し、成長後に熱サイクルアニール (Thermal

Cycle Annealing, TCA) を施すと、 界面での転位が低減し、 成長表面への転位の貫通が抑制されていることが わかる [3]。 また、 これらの試 料 上 部に InGaAs/GaAs からなる多 重 量 子 井 戸 (Multiple

Quantum Well, MQW) を成長し、この MQW からのフォトルミネッセンス (Photoluminescence, PL) を測定した（図 2）。 PL 強度は、 TCA を施すことによって 3 倍程度に増強されることが判明した。 一方で、同様の MQW を GaAs 基板上に作製したものに対して発光強度は 11% 程度であるため、さらなる結晶性の向上が求められる。これらの技術により結晶性がデバイス作製品質となれば、 半導体レーザをはじめとする半導体光デバイスを Si 基板上に直接集積することが可能となる。
[1] A. Lee et al., Opt. Express 20, 22181 (2012).
[2] M. E. Groenert et al., J. Appl. Phys. 93, 362 (2003).
[3] R. Nakao et al., in Electronic Materials Symposium 34, Th-2-3 (2015).

図 1 断面 TEM 像。 (a) 成長後および (b)TCA 後。

52

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

図 2 MQW からの PL スペクトル。

Ⅱ．資料

第 7 回 NTT 物性科学基礎研究所スクール
NTT 物性科学基礎研究所（物性研）では、 物性研究分野の若手研究者の育成と、 海外の若手研
究者へのビジビリティの向上を目的として、 2015 年 11 月 15 日から 11 月 17 日まで、 NTT 厚木研究開
発センタにて、 第 7 回 NTT 物性科学基礎研究所スクール（NTT-BRL スクール）を開催しました。 7 回目となる NTT-BRL スクールでは、 現在、 物性研が精力的に研究を進めている「Nano and Optics」をテーマに、 海外の著名な大学・研究機関の教授を招き、 11 ヶ国 30 名の学生（主に大学院博士課程学生）が参加しました。
初日には、 Gerhard Abstreiter 教授 (Walter Schottky Institute, Technische Universität München) による「半導体ヘテロ、 ナノ、 量子構造の物理と革新技術」に関する講義がありました。 Abstreiter 教授の講義では、 半導体の基礎から、 低次元構造の物理、 作製技術、 デバイス応用まで幅広く、ご紹介いただきました。 また、 寒川哲臣物性研所長による物性研の概要説明、 物性研若手研究者が研究設備を説明するラボツアーを実施し、 物性研の最近の成果を紹介しました。 2 日目には、 荒川泰彦
教授（東京大学）からは、「量子ドットフォトニクスの進展」の講義に加えて、 国際光学委員会会長として「国際光年」についてご紹介いただきました。また、 物性研の研究者による講義も実施し、 納富雅
也上席特別研究員は「ナノフォトニクス」について、 William J. Munro 特別研究員は「量子情報」について講義を行いました。 2 日目の午後には、 厚木研究開発センタから近い愛川町に藍染体験に出かけました。 参加者は、 日本の伝統的な文化に触れられて大変満足な様子でした。 3 日目午前には、

Tobias Kippenberg 教授 (École Polytechnique Fédérale de Lausanne) から「オプトメカニクス」に関する講義がありました。 午後には、 物性研が主催する国際会議 ISNTT 2015 にスクール学生も参加し、 夕
刻には合同ポスターセッションを開催しました。 学生が各自の大学での研究内容について発表し、 学
生同士、 講師の先生方、 NTT 研究者との間で、 活発な議論がなされました。 NTT-BRL スクールと

ISNTTとの合同懇親会では、 ポスターセッションで優れた発表を行った学生に贈られるベストポスター
賞の発表などで大いに盛り上がり、 世界各国の研究者との親睦を深めました。 NTT 物性研は、 今後もこのような交流の場を提供し、 材料・ナノ・量子分野の研究交流、 人材育成への積極的な取り組みを継続していきます。

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NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

国際シンポジウム ISNTT2015
NTT 物性科学基礎研究所（物性研）は、 2015 年 11 月 17 日から 20 日まで、 NTT 厚木研究開発センタにおいて国際シンポジウム「ナノスケールの輸送と技術」International Symposium on Nanoscale

Transport and Technology 2015（ISNTT2015）を開催しました。 世界 15 か国から 179 名の研究者が参集し、 量子・ナノデバイス、 量子物理に関する活発な議論がなされました。 物性研では、 ナノテクノ
ロジを駆使することにより、 半導体、 超伝導体、 新材料の電子物性・光物性の探索とそのデバイス応用を推進しています。 それぞれの研究分野の交流を深め、 様々な融合型デバイスや新しいアイデ
アの創出を促進することを目的に、 2009 年よりISNTT を隔年で開催しています。 ナノ構造の配列をイメージしたロゴを採用した今回のシンポジウムは、 藤原聡（量子物性研究部長）、 山口浩司（複合ナノ構造物理研究グループリーダ）、 村木康二（量子固体物性研究グループリーダ）を共同議長とし、 世界の第一線で活躍する研究者を招聘しました。

17 日、18 日、20 日のそれぞれの冒頭の基調講演として、Gerhard Abstreiter 教授 (Walter Schottky
Institute, Technische Universität München) が半導体ナノワイヤの応用について、Christian Glattli 教授(CEA Saclay) が半導体を用いた電子量子光学の最先端の実験について、Per Delsing 教授 (Chalmers
University of Technology) がハイブリッド超伝導量子デバイスについて講演を行いました。また、4 日間にわたる計 13 の口頭発表セッションにおいては、ナノデバイス、ナノフォトニクス、電子量子光学、ナノ
メカニクス、非平衡電子輸送、トポロジカル電子状態、スピントロニクス、単電子デバイス、半導体・量伝導量子ビットなどの最先端の分野において世界レベルで活躍する

17 名の招待講演を含む 46 件の口頭発表がなされました。また、 17 日、
18 日のポスターセッションは、前回に引き続き、NTT-BRL スクールとのジョイントで開催され、計 56 件の発表が行われました。 参加者は、シニア、若手、学生と幅広く、世代を超えた研究交流の場となり、様々な連携や人的交流につながる機会としても好評を得ることが出来ました。

資料

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

55

B R Lセ ミ ナ ー 講 演 一 覧

56

講演日

講演者名（所属）

講演タイトル4 月 20 日

桂川眞幸 教授（電気通信大学）

離散的なコヒーレントスペクトル群からなる光学過程の魅力的な特性

5 月 12 日

Dr. Erik Gauger(Heriot-Watt University, U.K.)

Superabsorption, dark-state protection andoptical ratchets: Harnessing collective effects
for enhanced light absorption with couplednanostructures

6月 5日

鈴木俊法 教授（京都大学）

真空紫外・Ｘ線極短パルスを用いた化学反応の研究

6 月 19 日

関 優也 氏（東京工業大学）

量子アニーリングの問題点とその解決に向けた試み

6 月 29 日

岡嶋孝治 教授（北海道大学）

細胞の物理学：プローブ顕微鏡による細胞力学
物性計測

7月 3日

Mr. Ryan Hamerly(Stanford University, U.S.A.)

Theory of Coherent Ising Machine: Pulse-shape
Dynamics in Synchronously Pumped OpticalParametric Oscillators

7 月 14 日

Prof. John Clarke(University of California,
Berkeley, U.S.A.)The Flux Qubit Revisited: Enhanced T1 and T2

7 月 23 日

Dr. Richard J. E. Taylor(University of Sheffield, U.K.)

Coherently Coupled 2D Photonic Crystal Surface
Emitting Laser Arrays

7 月 23 日

Dr. Stefan Heun(The National Enterprise fornanoscience andnanoTechnology, Italy)

2D Materials Research Activities at the NEST lab
in Pisa, Italy

7 月 23 日

Dr. Alberto Hernández-Mínguez(Paul Drude Institute for Solid
State Electronics, Germany)

High-frequency surface acoustic waves on gatedgraphene

7 月 23 日

Dr. Francois D. Parmentier(CEA Saclay, France)

Quantum Limit of Heat Flow Across a Single
Electronic Channel

7 月 24 日

Mr. Robinjeet Singh(Louisiana State University,
U.S.A.)

Quantum Back-action Limited OptomechanicalCavity Using Microresonator: Towards
Calibration of Quantum Noises for LIGO

7 月 28 日

神谷厚輝 博士（公益財団法人神奈川科学
技術アカデミー）

ボトムアップ手法による人工細胞システムの構築

7 月 31 日

Prof. Reinhold Koch
(Johannes Kepler University,
Austria)

Radio-Frequency Scanning Tunneling
Spectroscopy for Single-Molecule Spin
Resonance

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

8月 3日Dr. Andrey A. Shevyrin(Rzhanov Institute of
Semiconductor Physics, Russia)

Suspended nanostructures with twodimensional electron gas: electron transport andelectromechanical effects

8月 3日

Dr. Stefan Fölsch
(Paul Drude Institute for Solid
State Electronics, Germany)

Controlling the charge state and conductance of asingle molecule by electrostatic gating

8月 7日

Dr. Hans Hübl
(Walther-Meissner-Institute,
Germany)Hybrid Systems–Coupling spins, strings, andsuperconducting resonators

8月 7日

Dr. Aleksey Andreev(Hitachi Cambridge Laboratory,
U.K.)

Modelling of Si quantum bits and light emissionin Si/Ge

8 月 24 日

宮部俊吾 博士（理化学研究所）

Ultrafast probing of photoexcited molecular
dynamics; an investigation towards molecular
control

9 月 25 日

塚本史郎 教授（阿南工業高等専門学校）
日比野浩樹 教授
（関西学院大学）

原子スケールのグラフェン研究最前線

9 月 25 日

Dr. JT Janssen (T. J. B. M. Janssen)(National Physical Laboratory,
U.K.)

Quantum Electrical Metrology with Graphene

10 月 22 日

Dr. Benjamin Piot
(Grenoble High Magnetic Field
Laboratory, France)

Low dimensional electronic systems in highmagnetic fields: Recent experiments

10 月 22 日

Prof. Dominik Zumbuhl(University of Basel,
Switzerland)

Breaking the mK barrier in Nanoelectronics

12 月 16 日

Dr. Michael J. Burek( Harvard University, U.S.A.)

Free-standing nanomechanical and nanophotonic
structures in single-crystal diamond

12 月 18 日

Dr. Michal Karpinski(University of Oxford, U.K.)

Electro-optic spectral manipulation of pulsed
quantum light

2月 4日

赤塚友哉 特別研究員（理化学研究所）

光格子時計の高精度化と光ファイバリンクによる
時計周波数伝送3 月 22 日

伊藤友樹 氏（東北大学）Si ULSI プラットファーム混載発光素子に向けたカーボン媒介による自己組織化 Ge 量子ドットの形成

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

料

局所操作による多光子エンタングルメントの拡張、 融合、 変換と固体常磁性中心を用いた
量子情報処理資

8月 3日

田嶌俊之 博士（大阪大学）

57

社外表彰受賞者一覧
表彰名

受賞者名

受賞題目

年月日

手島哲彦
塚田信吾
第 62 回応用物理学会

河西奈保子

春季学術講演会

佐々木智

ポスター賞

田中あや

接着性細胞ハンドリングのための導電性シルクゲル薄膜

2015.4.1

中島 寛
住友弘二
第 45 回繊研合繊賞
ニューフロンティア
部門賞

日本電信電話株式会社
東レ株式会社
上野祐子

Analytical Sciences Hot
Article Award
応用物理学会
論文奨励賞

MNC 2014 Award for
Most Impressive
Presentation

MNC 2014 Award for
Most Impressive Poster

第 35 回表面科学学術
講演会

講演奨励賞

（新進研究者部門）
第 20 回超伝導
科学技術賞

古川一暁

Andrew Tin
日比野浩樹
畑中大樹

Imran Mahboob
小野満恒二
山口浩司

山崎謙治
山口浩司

女性躍進賞

58

On-chip FRET Graphene Oxide
Aptasensor: Quantitative Evaluationof Enhanced Sensitivity by Aptamer
with a Double-stranded DNA Spacer

2015.9.10

Mechanical random access memory
in a phonon circuit

2015.9.13

All-Mechanical Bistable Memory
In A Phonon Waveguide2015.11.11

Renovation of Three-Dimensional
Electron Beam Lithography System
for Improvement of Positioning
Accuracy and Reduction of
Turnaround Time2015.11.11

大伴真名歩
関根佳明

高配向ボトムアップ・グラフェンナノ

日比野浩樹

リボンのエッチングフリー転写

2016.2.8

山本秀樹
山本秀樹

Yoshiharu Krockenberger
内藤方夫
登坂仁一郎

研究奨励賞
電気化学会

2015.4.24

畑中大樹

応用物理学会 シリコン
テクノロジー分科会

機能素材「hitoe Ⓡ」の開発

河西奈保子

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

ノンドープ銅酸化物超伝導体の発見とその物性に関する先駆的研究

Electric tuning of direct-indirect
optical transitions in silicon
生体情報の検出と制御のための新規バイオインタフェースの構築

2016.3.3

2016.3.21

2016.3.30

社内表彰受賞者一覧
表彰名

受賞者名

先端技術総合研究所
所長表彰
研究開発賞

受賞題目

年月日

村木康二
鈴木恭一

半導体ヘテロ構造による非自明な熊田倫雄

電子状態の実現2015.12.17

小野満恒二
野崎謙悟

先端技術総合研究所

倉持栄一

所長表彰

新家昭彦

研究開発賞

松尾慎治

超低消費電力・多ビットフォトニッ
ク結晶光ＲＡＭの研究開発

2015.12.17

納富雅也
物性科学基礎研究所
所長表彰

業績賞

物性科学基礎研究所
所長表彰

業績賞

熊田倫雄
日比野弘樹
佐々木健一
東 浩司
玉木 潔

William J. Munro

グラフェンにおける電子励起・緩和
ダイナミクスの先駆的研究
量子中継および量子暗号に関する新概念の提唱2016.3.25

2016.3.25"Single-crystal cubic boron nitride
thin films grown by ion-beamassisted molecular beam epitaxy"
Applied Physics Letters 104,
092113 (2014).

2016.3.25"Cavity-less on-chip optomechanics
using excitonic transitions insemiconductor heterostructures"
Nature Communications 6, 8478
(2015).

2016.3.25

2016.3.25

納富雅也"Sub-femtojoule all-opticalswitching using a photonic-crystal
nanocavity"
Nature Photonics 4, 477 (2010).

物性科学基礎研究所

山口真澄

スポーツ脳科学実験棟の施設整備

所長表彰 功労賞

木村聡貴

への貢献

平間一行
物性科学基礎研究所
所長表彰

論文賞

谷保芳孝
狩元慎一

Yoshiharu Krockenberger
山本秀樹
岡本 創

物性科学基礎研究所
所長表彰

論文賞

太田竜一
小野満恒二
後藤秀樹
山口浩司

物性科学基礎研究所
所長表彰 環境貢献論
文賞

物性科学基礎研究所
所長表彰 奨励賞

物性科学基礎研究所
所長表彰 特別賞

谷山秀昭

田中あや
松崎雄一郎
上島弘史
伊藤博之
山口真澄

神経細胞および人工細胞の機能と構造制御に関する研究
超伝導ハイブリッド量子系に関する理論研究の推進物性研でのセキュアなネットワーク
環境構築2016.3.25
2016.3.25
2016.3.25
料所長表彰 奨励賞

新家昭彦

資

物性科学基礎研究所

野崎謙吾

2016.3.25

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

59

報道一覧
掲載月日

掲載紙

4 月 16 日

日刊工業新聞4 月 20 日

日経産業新聞4 月 20 日

電経新聞

見出し
量子インターネット実現に一歩光だけで長距離通信

NTT など新理論
暗号通信構築しやすくNTT など 記憶素子 不要に
NTT 全光量子中継方式を理論的に提唱
トロント大学と共同で新たな発見、 未来像に光NTT、トロント大 全光量子中継方式を理論提唱
4 月 24 日

科学新聞

光送受信装置のみで長距離通信
物質量子メモリ必須説を否定

4 月 30 日

日刊工業新聞

未来照らす光技術
長距離通信

今年「国際光年」、 国連が制定可能性秘める光子

NTT 量子暗号最長記録更新
5 月 19 日

日刊工業新聞340km 鍵配送実験に成功
検出器高性能化、 雑音 100 分の１

60

6月 3日

日経産業新聞

7月 2日

日経産業新聞7 月 10 日

日刊工業新聞7 月 15 日

日経産業新聞7 月 20 日

通信興業新聞9月 7日

日刊工業新聞9 月 14 日

通信興業新聞9 月 15 日

日経産業新聞9 月 15 日

日刊工業新聞9 月 16 日

日経産業新聞分子検出、 冷却の負担減
産総研など 必要電力 25 分の 1 に
量子暗号通信、 8 月から実証実験
国内勢、 実用化急ぐ 東芝など最初の顧客探し
量子情報処理多彩にNTT など 再構成可能な光集積回路開発
光回路

数秒で 1000 通り

NTT など 電流で光子の通路変更
NTT が共同研究 新しい光集積回路を実現
多彩な光量子実験に適用

NTT など原理実証 「ビームスプリッター」動作
電子の量子光学研究が加速

NTT が成功 ビームスプリッタ動作を実証
単一電子、 ２方向に伝搬NTT など グラフェン活用 量子回路の素子に伝送の誤り率監視不要

NTT 東大 量子暗号実験に成功
新量子暗号の実証成功

NTTと東大 盗聴自体を防止

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

世界初、 誤り率監視が不要

9 月 28 日

通信興業新聞NTTと東大の共同研究グループ
従来の方式とは異なった 量子暗号実験に成功

10 月 7 日

日刊工業新聞10 月 20 日

日経産業新聞10 月 20 日

日刊工業新聞10 月 26 日

通信工業新聞北大など生成法
半導体スピン効率最大化

密度１万倍以上にNTT など 質量センサー、 高感度にメカニカル振動子の熱ノイズ レーザー照射で半減NTT など 冷却法開発
NTT レーザ光照射だけで冷却メカニカル振動子

熱ノイズ低減の新手法

NTTと東北大の研究チーム
11 月 13 日

科学新聞

光照射だけでメカニカル振動子の熱ノイズを低減
レーザ冷却手法開発実証

12 月 17 日

日刊工業新聞12 月 18 日

日経産業新聞1 月 11 日

通信興業新聞量子暗号通信 「全光」で距離２倍

NTT「800km 圏都市間」実現へ
NTT、 通信距離２倍
傍受が困難な量子暗号

NTT 通信距離２倍に拡大
量子暗号の新方式提唱

NTT チームが新方式提唱
1 月 15 日

科学新聞

主要都市間で量子暗号通信実現の可能性
高難度な量子中継なしで通信距離２倍

NTT、 特殊 DNA 分子使うチップ
2 月 25 日

日経産業新聞特定のたんぱく簡単に量測定
病気の指標、 素早く

3 月 14 日

日経産業新聞3 月 28 日

日経産業新聞3 月 28 日

日刊工業新聞

4月 4日

通信工業新聞

4月 8日

科学新聞

電子スピン 長距離輸送に成功

NTT 東北大 演算素子の実現に貢献
電子スピン 電場で制御

NTT など 演算用の半導体に光の粒の波長変換

NTT「量子暗号通信」実現に道
損失なく光子波長変換

NTT が新手法 光ファイバー制御
NTT 単一光子 波長変換で新手法
量子情報ネットワーク実現向け料

日刊工業新聞資3月 9日「量子情報通信に必須」単一光子波長変換

NTT が新手法実証 光ファイバで無損失に制御

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

61学術論文掲載件数と主な掲載先
2015 年度に国内外の学術論文誌（英文）に掲載された学術論文の件数は、 物性科学基礎研究所
全体で 98 件です。また、 以下に研究組織別の件数、 主な掲載先と件数を記します。

雑誌名IF2014

件数

Physical Review A

2.808

10

Applied Physics Letters

3.302

9

Physical Review B

3.736

7

Japanese Journal of Applied Physics

1.127

7

Nature Communications

11.4706

Physical Review Letters

7.512

5

New Journal of Physics

3.558

5

IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics

2.828

4

Applied Physics Express

2.365

4

Optics Express

3.488

3

Journal of Applied Physics

2.183

3

Physical Review Applied―

3

Nano Letters13.592

2

ACS Nano

12.881

2

Scientific Reports

5.578

2

Journal of Crystal Growth

1.698

2

Journal of Physical Society of Japan

1.585

2

AIP Advances

1.524

2

Science33.6111Nature Photonics

32.386

1

Nature Physics

20.147

1

Chemistry of Materials

8.354

1

Nanotechnology

3.821

1

Science Advances―

1

Optica―1*IF2014：インパクトファクター 2014 研究所全体では、 1 論文あたりの平均 IF は 4.847 です。

62

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

国際会議発表件数と主な発表先
2015 年度に国際会議の発表件数は物性科学基礎研究所全体で 212 件です。また、 以下に研究組
織別の件数、 主な発表先と発表件数を記します。

国際会議名

件数

21st International Conference on Electronic Properties of Two-Dimensional Systems /17th International Conference on Modulated Semiconductor Structures (Joint Conference
EP2DS-21/MSS17)

26

International Symposium on Nanoscale Transport and Technology (ISNTT2015)25

The Conference on Lasers and Electro-Optics (CLEO/QELS 2015)132015 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2015)

8

APS March Meeting 20167

5th International Conference on Quantum Cryptography (QCrypt2015)

6

28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2015)

5

International Workshop : Quantum Nanostructures and Electron-Nuclear Spin Interactions

4

Silicon Quantum Electronics Workshop 2015

4

特許出願件数2015 年度に出願した特許の件数は物性科学基礎研究所全体で 34 件です。また、 以下に研究組織別の件数を記します。

資料

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

63学術論文出版一覧
H. Ago, Y. Ohta, H. Hibino, D. Yoshimura, R. Takizawa, Y. Uchida, M. Tsuji, T. Okajima, H. Mitani, and S.
(1) Mizuno, "Growth Dynamics of Single-layer Graphene on Epitaxial Cu Surfaces", Chem. Mat. 27, 53775385 (2015).
(2)
(3)
(4)
(5)

H. Akazawa and Y. Ueno, "Control of Surface Wettability of Hydroxyapatite Thin Films by Way of
Crystal Imperfections", Appl. Phys. Express 8, 107001 (2015).
R. Asaoka, H. Tsuchiura, M. Yamashita, and Y. Toga, "Dynamical Instability in the S=1 Bose-Hubbard
Model", Phys. Rev. A 93, 013628 (2016).
K. Azuma, K. Tamaki, and W. J. Munro, "All-photonic Intercity Quantum Key Distribution", Nat.
Commun. 6, 10171 (2015).
K. Azuma, K. Tamaki, and H. K. Lo, "All-photonic Quantum Repeaters", Nat. Commun. 6, 6787 (2015).
H. Cai, Y. Matsuzaki, K. Kakuyanagi, H. Toida, X. Zhu, N. Mizuochi, K. Nemoto, K. Semba, W. J.

(6)

Munro, S. Saito, and H. Yamaguchi, "Analysis of the Spectroscopy of a Hybrid System Composed of aSuperconducting Flux Qubit and Diamond NV Centers", J. Phys.: Condes. Matter 27, 345702 (2015).

(7)

P. A. Carles, K. Nishiguchi, and A. Fujiwara, "Deviation from the Law of Energy Equipartition in a
Small Dynamic-random-access Memory", Jpn. J. Appl. Phys. 54, 06FG03 (2015).
J. Carolan, C. Harrold, C. Sparrow, E. Martin-Lopez, N. J. Russell, J. W. Silverstone, P. J. Shadbolt, N.

(8)

Matsuda, M. Oguma, M. Itoh, G. D. Marshall, M. G. Thompson, J. C. F. Matthews, T. Hashimoto, J. L.
O'Brien, and A. Laing, "Universal Linear Optics", Science 349, 711-716 (2015).

(9)J. C. H. Chen, Y. Sato, R. Kosaka, M. Hashisaka, K. Muraki, and T. Fujisawa, "Enhanced Electron-phonon
Coupling for a Semiconductor Charge Qubit in a Surface Phonon Cavity", Sci. Rep. 5, 15176 (2015).
K. Chida, K. Nishiguchi, G. Yamahata, H. Tanaka, and A. Fujiwara, "Thermal-noise Suppression in(10) Nano-scale Si Field-effect Transistors by Feedback Control Based on Single-electron Detection", Appl.
Phys. Lett. 107, 073110 (2015).
(11)
(12)

S. Endo, Y. Matsuzaki, W. J. Munro, T. Koike, and S. Saito, "Spin Amplification in an Inhomogeneous
System", J. Phys. Soc. Jpn. 84, 103001 (2015).
R. Forbes, Y. Kashimura, and K. Sumitomo, "Hermetically Sealed Microwell with a Lipid Bilayer
Created Using a Self-assembled Monolayer", Appl. Phys. Express 8, 117201 (2015).
T. Fujii, T. Sato, K. Takeda, K. Hasebe, T. Kakitsuka, and S. Matsuo, "Epitaxial Growth of InP to Bury

(13) Directly Bonded Thin Active Layer on SiO2/Si Substrate for Fabricating Distributed Feedback Lasers on
Silicon", IET Optoelectron. 9, 151-157 (2015).
M. Godonoga, T. Y. Lin, A. Oshima, K. Sumitomo, M. S. L. Tang, Y. W. Cheung, A. B. Kinghorn, R. M.
(14) Dirkzwager, C. S. Zhou, A. Kuzuya, J. A. Tanner, and J. G. Heddle, "A DNA Aptamer Recognising a
Malaria Protein Biomarker Can Function as Part of a DNA Origami Assembly", Sci. Rep. 6, 21266 (2016).
T. Goto, N. Kasai, R. Lu, R. Filip, and K. Sumitomo, "Scanning Electron Microscopy Observation of(15) Interface Between Single Neurons, and Conductive Surfaces", J. Nanosci. Nanotechnol. 16, 3383-3387(2016).

64

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

(16)
(17)
(18)

J. Govenius, Y. Matsuzaki, I. G. Savenko, and M. Mottonen, "Parity Measurement of Remote Qubits
Using Dispersive Coupling and Photodetection", Phys. Rev. A 92, 042305 (2015).
D. Hashimoto and K. Shimizu, "Coherent Raman Beat Analysis of the Hyperfine Sublevel Coherence
Properties of 167Er3+ Ions Doped in an Y2SiO5 Crystal", J. Lumines. 171, 183-190 (2016).
D. Hatanaka, A. Dodel, I. Mahboob, K. Onomitsu, and H. Yamaguchi, "Phonon Propagation Dynamics
in Band-engineered One Dimensional Phononic Crystal Waveguides", New J. Phys. 17, 113032 (2015).
M. Hattori, H. Ikenoue, D. Nakamura, F. Kazuaki, M. Takamura, H. Hibino, and T. Okada, "Direct(19) Growth of Graphene on SiC(0001) by KrF-excimer-laser Irradiation", Appl. Phys. Lett. 108, 093107(2016).
M. Hiroki, K. Kumakura, and H. Yamamoto, "Enhancement of Performance of AlGaN/GaN High(20) electron-mobility Transistors by Transfer from Sapphire to a Copper Plate", Jpn. J. Appl. Phys. 55,
05FH07 (2016).
K. Hitachi, A. Ishizawa, O. Tadanaga, T. Nishikawa, H. Mashiko, T. Sogawa, and H. Gotoh, "Frequency(21) Stabilization of an Er-doped Fiber Laser with a Collinear 2f-to-3f Self-referencing Interferometer", Appl.
Phys. Lett. 106, 231106 (2015).
(22)

M. Hori, M. Uematsu, A. Fujiwara, and Y. Ono, "Electrical Activation and Electron Spin Resonance
Measurements of Arsenic Implanted in Silicon", Appl. Phys. Lett. 106, 142105 (2015).
A. Iagallo, S. Tanabe, S. Roddaro, M. Takamura, Y. Sekine, H. Hibino, V. Miseikis, C. Coletti, V. Piazza,(23) F. Beltram, and S. Heun, "Bilayer-induced Asymmetric Quantum Hall Effect in Epitaxial Graphene",
Semicond. Sci. Technol. 30, 055007 (2015).
(24)
(25)

T. Ikuta and H. Takesue, "Enhanced Violation of the Collins-Gisin-Linden-Massar-Popescu Inequality
with Optimized Time-bin-entangled Ququarts", Phys. Rev. A 93, 022307 (2016).
D. Imanaka, S. Sharmin, M. Hashisaka, K. Muraki, and T. Fujisawa, "Exchange-induced Spin Blockade
in a Two-electron Double Quantum Dot", Phys. Rev. Lett. 115, 176802 (2015).
M. Jo, T. Uchida, A. Tsurumaki-Fukuchi, M. Arita, A. Fujiwara, Y. Ono, K. Nishiguchi, H. Inokawa,(26) and Y. Takahashi, "Fabrication and Single-electron-transfer Operation of a Triple-dot Single-electronTransistor", J. Appl. Phys. 118, 214305 (2015).
(27)

K. Kakuyanagi, T. Baba, Y. Matsuzaki, H. Nakano, S. Saito, and K. Semba, "Observation of Quantum
Zeno Effect in a Superconducting Flux Qubit", New J. Phys. 17, 063035 (2015).
M. Kasu, K. Hirama, K. Harada, and T. Oishi, "Study on Capacitance-voltage Characteristics of(28) Diamond Field-effect Transistors with NO2 Hole Doping and Al2O3 Gate Insulator Layer", Jpn. J. Appl.
Phys. 55, 041301 (2016).
K. Kato, K. Oguri, H. Sanada, T. Tawara, T. Sogawa, and H. Gotoh, "Determination of Phonon Decay(29) Rate in P-Type Silicon Under Fano Resonance by Measurement of Coherent Phonons", AIP Adv. 5,
資097152 (2015).

(31)

K. Kato, F. Furrer, and M. Murao, "Information-Theoretical Analysis of Topological Entanglement

料

(30)

Entropy and Multipartite Correlations", Phys. Rev. A 93, 022317 (2016).
G. C. Knee and W. J. Munro, "Optimal Trotterization in Universal Quantum Simulators Under Faulty
Control", Phys. Rev. A 91, 052327 (2015).

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

65

(32)

G. C. Knee and W. J. Munro, "Fisher Information Versus Signal-to-noise Ratio for a Split Detector",Phys. Rev. A 92, 012130 (2015).
Y. Kobayashi, S. Sasaki, S. Mori, H. Hibino, Z. Liu, K. Watanabe, T. Taniguchi, K. Suenaga, Y. Maniwa,(33) and Y. Miyata, "Growth and Optical Properties of High-quality Monolayer WS2 on Graphite", ACS Nano
9, 4056-4063 (2015).
(34)
(35)
(36)
(37)

Y. Kondo, Y. Matsuzaki, K. Matsushima, and J. G. Filgueiras , "Using the Quantum Zeno Effect for
Suppression of Decoherence", New J. Phys. 18, 013033 (2016).
Y. Krockenberger, M. Horio, H. Irie, A. Fujimori, and H. Yamamoto, "As-grown Superconducting
Pr2CuO4 Under Thermodynamic Constraints", Appl. Phys. Express 8, 053101 (2015).
N. Kumada, F. D. Parmentier, H. Hibino, D. C. Glattli, and P. Roulleau, "Shot Noise Generated byGraphene P-N Junctions in the Quantum Hall Effect Regime", Nat. Commun. 6, 8068 (2015).
Y. Kunihashi, H. Sanada, H. Gotoh, K. Onomitsu, M. Kohda, J. Nitta, and T. Sogawa, "Drift Transportof Helical Spin Coherence with Tailored Spin-orbit Interactions", Nat. Commun. 7, 10722 (2016).
E. Kuramochi, K. Nozaki, A. Shinya, H. Taniyama, K. Takeda, T. Sato, S. Matsuo, and M. Notomi,(38) "Ultralow Bias Power All-optical Photonic Crystal Memory Realized with Systematically Tuned L3
Nanocavity", Appl. Phys. Lett. 107, 221101 (2015).
(39)

C.H. Lin, T. Akasaka, and H. Yamamoto, "N-Face GaN(000-1) Films with Hillock-free Smooth Surfaces
Grown by Group-III-source Flow-rate Modulation Epitaxy", Jpn. J. Appl. Phys. 55, 04EJ01 (2016).
I. Mahboob, N. Perrissin, K. Nishiguchi, D. Hatanaka, Y. Okazaki, A. Fujiwara, and H. Yamaguchi,(40) "Dispersive and Dissipative Coupling in a Micromechanical Resonator Embedded with a
Nanomechanical Resonator", Nano Lett. 15, 2312-2317 (2015).
(41)

T. Makimoto, K. Kumakura, M. Maeda, H. Yamamoto, and Y. Horikoshi, "A New AlON Buffer Layer
for RF-MBE Growth of AlN on a Sapphire Substrate", J. Cryst. Growth 425, 138-140 (2015).
S. Mamyouda, H. Ito, Y. Shibata, S. Kashiwaya, M. Yamaguchi, T. Akazaki, H. Tamura, Y. Ootuka, and S.

(42) Nomura, "Circularly Polarized Near-field Optical Mapping of Spin-resolved Quantum Hall Chiral Edge
States", Nano Lett. 15, 2417-2421 (2015).
J. Martinez-Blanco, C. Nacci, S. C. Erwin, K. Kanisawa, E. Locane, M. Thomas, F. von Oppen, P. W.
(43) Brouwer, and S. Folsch, "Gating a Single-molecule Transistor with Individual Atoms", Nat. Phys. 11,
640-644 (2015).
(44)
(45)
(46)

J. Martinez-Blanco, S. C. Erwin, K. Kanisawa, and S. Folsch, "Energy Splitting of Image States Inducedby the Surface Potential Corrugation of InAs(111) A", Phys. Rev. B 92, 115444 (2015).
N. Matsuda, "Deterministic Reshapin of Single Photon Spectra Using Cross-phase Modulation", Sci.
Adv. 2, e1501223 (2016).
Y. Matsuzaki and H. Tanaka, "Quantum Zeno Effect in an Unstable System with NMR", J. Phys. Soc.
Jpn. 85, 014001 (2016).
Y. Matsuzaki, X. Zhu, K. Kakuyanagi, H. Toida, T. Shimooka, N. Mizuochi, K. Nemoto, K. Semba, W. J.

(47)

Munro, H. Yamaguchi, and S. Saito, "Improving the Lifetime of the Nitrogen-vacancy-center Ensemble
Coupled with a Superconducting Flux Qubit by Applying Magnetic Fields", Phys. Rev. A 91, 042329(2015).

66

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

Y. Matsuzaki, X. Zhu, K. Kakuyanagi, H. Toida, T. Shimo-Oka, N. Mizuochi, K. Nemoto, K. Semba,(48) W. J. Munro, H. Yamaguchi, and S. Saito , "Improving the Coherence Time of a Quantum System Via a
Coupling to a Short-lived System", Phys. Rev. Lett. 114, 120501 (2015).
(49)
(50)

A. Mizutani, N. Imoto, and K. Tamaki, "Robustness of the Round-Robin Differential-phase-shift
Quantum-key-distribution Protocol Against Source Flaws", Phys. Rev. A 92, 060303 (2015).
A. Mizutani, M. Curty, C. C. W. Lim, N. Imoto, and K. Tamaki, "Finite-key Security Analysis of
Quantum Key Distribution with Imperfect Light Sources", New J. Phys. 17, 093011 (2015).

(51) F. Morikoshi, "An Entanglement Analogue in Light Cones", Prog. Theor. Exp. Phys. 123A04 (2015).
S. S. Mou, H. Irie, Y. Asano, K. Akahane, H. Nakajima, H. Kumano, M. Sasaki, A. Murayama, and(52) I. Suemune, "Time-resolved Measurements of Cooper-pair Radiative Recombination in InAs Quantum
Dots", J. Appl. Phys. 118, 073102 (2015).
S. S. Mou, H. Irie, Y. Asano, K. Akahane, H. Nakajima, H. Kumano, M. Sasaki, A. Murayama, and(53) I. Suemune, "Optical Observation of Superconducting Density of States in Luminescence Spectra of
InAs Quantum Dots", Phys. Rev. B 92, 035308 (2015).
(54)
(55)

W. J. Munro, K. Azuma, K. Tamaki, and K. Nemoto, "Inside Quantum Repeaters", IEEE J. Sel. Top.
Quantum Electron. 21, 6400813 (2015).
M. Naito, K. Uehara, R. Takeda, Y. Taniyasu, and H. Yamamoto, "Growth of Iron Nitride Thin Films by
Molecular Beam Epitaxy", J. Cryst. Growth 415, 36-40 (2015).
M. Naito, Y. Krockenberger, A. Ikeda, and H. Yamamoto, "Reassessment of the Electronic State,(56) Magnetism, and Superconductivity in High-Tc cuprates with the Nd2CuO4 structure", Physica C 523, 28(2016).
R. Nakao, M. Arai, W. Kobayashi, T. Yamamoto, and S. Matsuo, "1.3-μm InGaAs MQW Metamorphic(57) Laser Diode Fabricated With Lattice Relaxation Control Based on In Situ Curvature Measurement",
IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 21, 1501407 (2015).
(58)
(59)

R. Namiki and K. Azuma, "Quantum Benchmark Via an Uncertainty Product of Canonical Variables",Phys. Rev. Lett. 114, 140503 (2015).
H. Nishi, K. Takeda, T. Tsuchizawa, T. Fujii, S. Matsuo, K. Yamada, and T. Yamamoto, "Monolithic
Integration of InP Wire and SiOx Waveguides on Si Platform", IEEE Photonics J. 7, 4900308 (2015).
K. Nishiguchi, A. Castellanos-Gomez, H. Yamaguchi, A. Fujiwara, H. S. J. van der Zant, and G. A.

(60) Steele, "Observing the Semiconducting Band-gap Alignment of MoS2 Layers of Different Atomic
Thicknesses Using a MoS2/SiO2/Si Heterojunction Tunnel Diode", Appl. Phys. Lett. 107, 053101 (2015).
K. Noda, K. Inaba, and M. Yamashita, "Magnetism in the Three-Dimensional Layered Lieb Lattice:(61) Enhanced Transition Temperature via Flat-band and Van Hove Singularities", Phys. Rev. A 91, 063610(2015).
資

S. Nomura, S. Mamyouda, H. Ito, Y. Shibata, T. Ohira, L. Yoshikawa, Y. Ootuka, S. Kashiwaya, M.
Yamaguchi, H. Tamura, and T. Akazaki, "Circularly Polarized Near-field Scanning Optical Microscope

料

(62)

for Investigations of Edge States of a Two-dimensional Electron System", Appl. Phys. A-Mater. Sci.
Process. 121, 1341-1345 (2015).

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

67

K. Nozaki, A. Lacraz, A. Shinya, S. Matsuo, T. Sato, K. Takeda, E. Kuramochi, and M. Notomi, "All(63) optical Switching for 10-Gb/s Packet Data by Using an Ultralow-power Optical Bistability of Photoniccrystal Nanocavities", Opt. Express 23, 30379-30392 (2015).
R. Ohsugi, Y. Kunihashi, H. Sanada, M. Kohda, H. Gotoh, T. Sogawa, and J. Nitta, "Bias Dependence of(64) Spin Injection/transport Properties of a Perpendicularly magnetized FePt/MgO/GaAs Structure", Appl.
Phys. Express 9, 043002 (2016).
(65)

R. Ohta, H. Okamoto, R. Hey, K. J. Friedland, and H. Yamaguchi, "Optically Induced Strong Intermodal
Coupling in Mechanical Resonators at Room Temperature", Appl. Phys. Lett. 107, 091906 (2015).
H. Okamoto, T. Watanabe, R. Ohta, K. Onomitsu, H. Gotoh, T. Sogawa, and H. Yamaguchi, "Cavity-(66) less On-chip Optomechanics Using Excitonic Transitions in Semiconductor Heterostructures", Nat.
Commun. 6, 8478 (2015).
(67)

Y. Pan, J. S. Yang, S. C. Erwin, K. Kanisawa, and S. Folsch, "Reconfigurable Quantum-dot Molecules
Created by Atom Manipulation", Phys. Rev. Lett. 115, 076803 (2015).
V. T. Renard, B. A. Piot, X. Waintal, G. Fleury, D. Cooper, Y. Niida, D. Tregurtha, A. Fujiwara, Y.

(68) Hirayama, and K. Takashina, "Valley Polarization Assisted Spin Polarization in Two Dimensions", Nat.
Commun. 6, 7230 (2015).
(69)

T. D. Rhone, L. Tiemann, and K. Muraki, "NMR Probing of Spin and Charge Order near Odd-integer
Filling in the Second Landau Level", Phys. Rev. B 92, 041301 (2015).
S. Sasaki, K. Tateno, G. Q. Zhang, H. Pigot, Y. Harada, S. Saito, A. Fujiwara, T. Sogawa, and K. Muraki,(70) "Self-aligned Gate-all-around InAs/InP Core-shell Nanowire Field-effect Transistors", Jpn. J. Appl.
Phys. 54, 04DN04 (2015).
(71)

K. Sasaki, S. Murakami, and Y. Tokura, "Determination of Intrinsic Lifetime of Edge Magnetoplasmons",
Phys. Rev. B 93, 125402 (2016).
T. Sato, K. Takeda, A. Shinya, M. Notomi, K. Hasebe, T. Kakitsuka, and S. Matsuo, "Photonic Crystal(72) Lasers for Chip-to-chip and On-chip Optical Interconnects", IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 21,
4900410 (2015).
T. Satoh, Y. Matsuzaki, K. Kakuyanagi, W. J. Munro, K. Semba, H. Yamaguchi, and S. Saito, "Scalable(73) Quantum Computation Architecture Using Always-on Ising Interactions Via Quantum Feedforward",
Phys. Rev. A 91, 052329 (2015).
(74)

B. Scharfenberger, H. Kosaka, W. J. Munro, and K. Nemoto, "Absorption-based Quantum
Communication with NV Centres", New J. Phys. 17, 103012 (2015).
R. Shaikhaidarov, V. N. Antonov, A. Casey, A. Kalaboukhov, S. Kubatkin, Y. Harada, K. Onomitsu,(75)

A. Tzalenchuk, and A. Sobolev, "Detection of Coherent Terahertz Radiation from a High-temperature
Superconductor Josephson Junction by a Semiconductor Quantum-dot Detector", Phys. Rev. Appl. 5,024010 (2016).

(76)
(77)

68

H. Shibata, K. Shimizu, H. Takesue, and Y. Tokura, "Ultimate Low System Dark-count Rate forSuperconducting Nanowire Single-photon Detector", Opt. Lett. 40, 3428-3431 (2015).
K. Shimizu and Y. Tokura, "Identifying a Correlated Spin Fluctuation in an Entangled Spin Chain
Subject to a Quantum Phase Transition", Phys. Rev. E 92, 062143 (2015).

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

(78)
(79)
(80)
(81)
(82)
(83)

S. Souma, A. Sawada, H. Chen, Y. Sekine, M. Eto, and T. Koga, "Spin Blocker Using the Interband
Rashba Effect in Symmetric Double Quantum Wells", Phys. Rev. Appl. 4, 034010 (2015).
H. Sumikura, E. Kuramochi, H. Taniyama, and M. Notomi, "Enhanced Electron-hole Droplet Emission
from Surface-oxidized Silicon Photonic Crystal Nanocavities", Opt. Express 24, 1072-1081 (2016).
K. Suzuki, Y. Harada, K. Onomitsu, and K. Muraki, "Gate-controlled Semimetal-topological Insulator
Transition in an InAs/GaSb Heterostructure", Phys. Rev. B 91, 245309 (2015).
S. Suzuki and H. Hibino, "Large Optical Anisotropy for Terahertz Light of Stacked Graphene Ribbons
with Slight Asymmetry", J. Appl. Phys. 117, 174302 (2015).
S. Suzuki, M. Takamura, and H. Yamamoto, "Transmission, Reflection, and Absorption Spectroscopy ofGraphene Microribbons in the Terahertz Region", Jpn. J. Appl. Phys. 55, 06GF08 (2016).
K. Takase, H. Hibino, and K. Muraki, "Probing the Extended-state Width of Disorder-broadened Landau
Levels in Epitaxial Graphene", Phys. Rev. B 92, 125407 (2015).
H. Takesue, S. D. Dyer, M. J. Stevens, V. Verma, R. P. Mirin, and S. W. Nam, "Quantum Teleportation(84) over 100 km of Fiber Using Highly Efficient Superconducting Nanowire Single-photon Detectors",
Optica 2, 832-835 (2015).
(85)
(86)

H. Takesue, T. Sasaki, K. Tamaki, and M. Koashi, "Experimental Quantum Key Distribution without
Monitoring Signal Disturbance", Nat. Photonics 9, 827-831 (2015).
H. Takesue, E. Diamanti, R. Thew, and Z. L. Yuan, "Introduction to the Issue on Quantum
Communication and Cryptography", IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 21, 0200402 (2015).
M. Takiguchi, H. Taniyama, H. Sumikura, M. D. Birowosuto, E. Kuramochi, A. Shinya, T. Sato, K.

(87) Takeda, S. Matsuo, and M. Notomi, "Systematic Study of Thresholdless Oscillation in High-beta Buried
Multiple-quantum-well Photonic Crystal Nanocavity Lasers", Opt. Express 24, 3441-3450 (2016).
T. Tanaka, P. Knott, Y. Matsuzaki, S. Dooley, H. Yamaguchi, W. J. Munro, and S. Saito, "Proposed(88) Robust Entanglement-based Magnetic Field Sensor Beyond the Standard Quantum Limit", Phys. Rev.
Lett. 115, 170801 (2015).
A. Tanaka, R. Tanaka, N. Kasai, S. Tsukada, T. Okajima, and K. Sumitomo, "Time-lapse Imaging of(89) Morphological Changes in a Single Neuron During the Early Stages of Apoptosis Using Scanning Ion
Conductance Microscopy", J. Struct. Biol. 191, 32-38 (2015).
A. Tanaka, H. Nakashima, Y. Kashimura, and K. Sumitomo, "Electrostatically Induced Planar Lipid(90) Membrane Formation on a Cationic Hydrogel Array by the Fusion of Small Negatively Charged
Unilamellar Vesicles", Colloid Surf. A-Physicochem. Eng. Asp. 477, 63-69 (2015).
H. Toida, Y. Matsuzaki, K. Kakuyanagi, X. Zhu, W. J. Munro, K. Nemoto, H. Yamaguchi, and S. Saito,(91) "Electron Paramagnetic Resonance Spectroscopy Using a Direct Current-SQUID Magnetometer Directly
Coupled to an Electron Spin Ensemble", Appl. Phys. Lett. 108, 052601 (2016).
資

T. Uchida, M. Jo, A. Tsurumaki-Fukuchi, M. Arita, A. Fujiwara, and Y. Takahashi, "Fabrication and料(92) Evaluation of Series-triple Quantum Dots by Thermal Oxidation of Silicon Nanowire", AIP Adv. 5,117144 (2015).

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

69

Y. Ueno, K. Furukawa, A. Tin, and H. Hibino, "On-chip FRET Graphene Oxide Aptasensor: Quantitative(93) Evaluation of Enhanced Sensitivity by Aptamer with a Double-stranded DNA Spacer", Anal. Sci. 31,
875-879 (2015).
(94)
(95)

S. Wang, Y. Sekine, S. Suzuki, F. Maeda, and H. Hibino, "Photocurrent Generation of a Single-gate
Graphene P-N Junction Fabricated by Interfacial Modification", Nanotechnology 26, 385203 (2015).
K. Washio, R. Nakazawa, M. Hashisaka, K. Muraki, Y. Tokura, and T. Fujisawa, "Long-lived Binary
Tunneling Spectrum in the Quantum Hall Tomonaga-Luttinger Liquid", Phys. Rev. B 93, 075304 (2016).
K. Yamazaki and H. Yamaguchi, "Renovation of Three-dimensional Electron Beam Lithography for(96) Improvement of Positioning Accuracy and Reduction of Turnaround Time", Jpn. J. Appl. Phys. 54,
06FD02 (2015).
(97)

N. Zen, H. Shibata, Y. Mawatari, M. Koike, and M. Ohkubo, "Biomolecular Ion Detection Using Hightemperature Superconducting MgB2 Strips", Appl. Phys. Lett. 106, 222601 (2015).
G. Zhang, C. Rainville, A. Salmon, M. Takiguchi, K. Tateno, and H. Gotoh, "Bridging the Gap between(98) the Nanometer-scale Bottom-up and Micrometer-scale Top-down Approaches for Site-defined InP/InAs
Nanowires", ACS Nano 9, 10580-10589 (2015).

70

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

国際会議招待講演一覧
Ⅰ.

機能物質科学研究部
H. Hibino, S. Wang, C. M. Orofeo, and S. Suzuki, "Synthesis and Functionalization of Two-Dimensional(1)

Materials: Graphene, Hexagonal Boron Nitride, and Transition Metal Dichalcogenides", The 22ndInternational Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices -TFT Technologies and FPD
Materials- (AM-FPD '15), Kyoto, Japan (July 2015).

(2)
(3)
(4)

Y. Ueno and K. Furukawa, "On-Chip Graphene FRET Biosensor for Protein Detection", The FifteenthInternational Symposium on Electroanalytical Chemistry (15th ISEAC), Changchun, China (Aug. 2015).
Y. Taniyasu, "Progress in AIN-Based Deep UV Emitters and Lasers", 2015 IEEE Photonics Conference(IPC), Reston, U.S.A. (Oct. 2015).
K. Furukawa, "Controlling Self-Spreading of Lipid Bilayer on Patterned Surface", Tethered Membrane2015 Conference (TethMem 2015), Singapore, Singapore (Nov. 2015).
Y. Ueno, K. Furukawa, T. Teshima, M. Takamura, and H. Hibino, "Fabrication of Patterned Graphene(5) Electrode by a Transfer Process Assisted by a Parylene Thin Film", The International Chemical Congressof Pacific Basin Societies 2015 (Pacifichem 2015), Honolulu, U.S.A. (Dec. 2015).
(6)

N. Kasai and K. Sumitomo, "Neuronal Guidance Using Nanopillars", 9th International Symposium on
Nanomedicine (ISNM 2015), Tsu, Japan (Dec. 2015).
Y. Krockenberger, N. Breznay, N. Nair, H. Irie, R. McDonald, J. Analytis, and H. Yamamoto, "Snatching(7) the Cuprates' Fermi Pockets", International USMM & CMSI Workshop: Frontiers of Materials andCorrelated Electron Science-from Bulk to Thin Films and Interfaces, Tokyo, Japan (Jan. 2016).

Ⅱ.
(1)

量子電子物性研究部
A. Fujiwara, "Silicon Single-Electron Devices for Ultimate Electronics", DC & Quantum Metrology
Meeting, Bern, Switzerland (May 2015).
I. Mahboob and H. Yamaguchi, "An Electromechanical Van der Pol Resonator", 3rd International(2) Conference on Phononic Crystals/Metamaterials, Phonon Transport and Phonon Coupling (Phononics
2015), Paris, France (May 2015).
(3)

K. Muraki, "Probing and Controlling Disorder Effects for the Studies of Fractional Quantum Hall
effects", Quantum transport on 2D systems Session Workshop II (W2), Luchon, France (May 2015).
K. Nishiguchi, "What happens in a Small Transistor with Single-Electron Resolution?", The 5th(4) International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies(EM-NANO 2015), Niigata, Japan (June 2015).
資J. Noborisaka, K. Nishiguchi, and A. Fujiwara, "Gate Tuning of Direct Optical Transitions in Silicon",(5) 2015 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices,料

Jeju, Korea (June 2015).
N. Clement, G. Larrieu, K. Nishiguchi, and A. Fujiwara, "Ultra-Low Noise Nanoscale Transistors for(6) Metrology of Noise, Energy Harvesting and Biosensing Applications", International Conference on Noiseand Fluctuation (ICNF), Xi'an, China (June 2015).

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

71

D. Hatanaka, I. Mahboob, K. Onomitsu, and H. Yamaguchi, "Phononic Crystal Waveguides with
(7) Dynamic Control",19th International Conference on Electron Dynamics in Semiconductors,
Optoelectronics and Nanostructures (EDISON-19), Salamanca, Spain (June 2015).
(8)

A. Fujiwara, G. Yamahata, J. Noborisaka, and K. Nishiguchi, "Nanoscale Silicon MOSFET for Metrology
and Valleytronics Applications", 2015 UK-Japan Si Nano2 Symposium, Southampton, U.K. (July 2015).
I. Mahboob, H. Okamoto, and H. Yamaguchi, "Correlated Phonon Pair Generation in an Electromechanical(9) Resonator",17th International Conference on Modulated Semiconductor Structures (MSS-17), Sendai,
Japan (July 2015).
S. Foelsch, J. Martinez-Blanco, J. Yang, K. Kanisawa, and S. C. Erwin, "Quantum Dots with Single(10) Atom Precision", 17th International Conference on Modulated Semiconductor Structures (MSS-17),
Sendai, Japan (July 2015).
(11)

Y. Matsuzaki, "Quantum Sensing Basics", Diamond Quantum Sensing Workshop 2015, Takamatsu, Japan(Aug. 2015).
H. Yamaguchi, D. Hatanaka, I. Mahboob, and H. Okamoto, "III-V Semiconductor Micro/Nanomechanical(12) Resonators", 5th International Workshop on Epitaxial Growth and Fundamental Properties of
Semiconductor Nanostructures (SemiconNano 2015), Hsinchu, Taiwan (Sep. 2015).
A. Fujiwara, G. Yamahata, and K. Nishiguchi, "Gigahertz Single-Electron Pump Towards a(13) Representation of the New Ampere", 2015 International Conference on Solid State Devices andMaterials, Sapporo, Japan (Sep. 2015).
(14)

I. Mahboob and H. Yamaguchi, "Phonon Dynamics in Electromechanical Resonators", 2015 IEEE
International Ultrasonics Symposium (2015 IUS), Taipei, Taiwan (Oct. 2015).
H. Yamaguchi, D. Hatanaka, I. Mahboob, and H. Okamoto, "Phonon Confinement, Transport, and(15) Piezoelectric Manipulation in Semiconductor Micromechanical Structures", Material Research Society(MRS) 2015 Fall meeting, Boston, U.S.A. (Nov. 2015).
K. Muraki, T. D. Rhone, K. Yonaga, and N. Shibata, "NMR Probing of Charge-Density-Wave States in(16) the Third Landau Level", International Workshop on Emergent Phenomena in Quantum Hall Systems,
Mumbai, India (Jan. 2016).
(17)

Ⅲ.
(1)

H. Yamaguchi, "Mechanical Systems Hybridized with Semiconductor Quantum Structures", Gordon
Research Conference (GRC) - Mechanical Systems in the Quantum Regime -, Ventura, U.S.A. (Mar. 2016).

量子光物性研究部
W. J. Munro and K. Nemoto, "Quantum Repeaters: Form the First Generation to the Third?", 1stWorkshop on Quantum Repeaters and Quantum Networks, Pacific Grove, U.S.A. (May 2015).
K. Oguri, H. Mashiko, T. Yamaguchi, K. Kato, A. Suda, and H. Gotoh "Dynamical Core-Level Spectroscopy(2) Based on Attosecond High-Order Harmonic Pulse Sources", The 6th Shanghai-Tokyo Advanced Research
Symposium on Ultrafast Intense Laser Science(STAR6), Hangzhou, China (May 2015).
H. Takesue, T. Inagaki, K. Inoue, and Y. Yamamoto, "Time-Division-Multiplexed Degenerate Optical(3) Parametric Oscillator for Coherent Ising machine", IEEE Photonics Society Summer Topical Meeting on
Nonlinear-Optical Signal Processing (NOSP), Nassau, Bahamas (July 2015).

72

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

K. Oguri, T. Tsunoi, K. Kato, H. Nakano, T. Nishikawa, K. Tateno, T. Sogawa, and H. Gotoh, "High(4)Order Harmonic Source Based Femtosecond Core-Levelphotoelectron Spectroscopy for Carrier Transport
Dynamics on Semiconductor Surface", The International Conference on Advanced Laser Technologies(ALT 15), Faro, Portugal (Sep. 2015).
H. Sanada, Y. Kunihashi, H. Gotoh, K. Onomitsu, M. Kohda, J. Nitta, and T. Sogawa, "Transport of(5) Electron Spin Coherence in Persistent Spin Helix Condition", 12th Sweden-Japan QNANO Workshop,
Hindas, Sweden (Sep. 2015).
(6)(7)

K. Azuma, "All-Photonic Quantum Internet", Physical Science Symposium-2015-Boston, Boston, U.S.A.
(Sep. 2015).
K. Tamaki, "Security of Quantum Key Distribution with Imperfect Light Sources", Physical Science
Symposium-2015-Boston, Boston, U.S.A. (Sep. 2015).
K. Tamaki, "Security of Quantum Key Distribution with Imperfect Light Sources", 3rd the European(8) Telecommunications Standards Institute/Institute for Quantum Computing Workshop on Quantum-Safe
Cryptography (ETSI/IQC), Seoul, Korea (Oct. 2015).
Y. Kunihashi, H. Sanada, H. Gotoh, K. Onomitsu, and T. Sogawa, "Electrical Control of Drifting Spin
(9) Coherence", International Workshop : Quantum Nanostructures and Electron-Nuclear Spin Interactions,Sendai, Japan (Oct. 2015).
H. Mashiko, K. Oguri, T. Yamaguchi, A. Suda, and H. Gotoh, "Characterizing Ultrafast Dipole Dynamics(10) with Isolated Attosecond Pulse", Sino-German Symposium on Attosecond Photonics 2015 (SGSAP-2015),
Shanghai, China (Nov. 2015).
(11)

H. Takesue, "Towards Large Scale Coherent Ising Machine", US-Japan Workshop; New-Generation
Computers: Quantum Annealing and Coherent Computing, Stanford, U.S.A. (Dec. 2015).
W. J. Munro, Y. Matsuzaki, K. Kakuyanagi, K. Nemoto, and S. Saito, "Hybridization, a Nice Tool for(12) Quantum Engineering", ARC Centre of Excellence for Engineered Quantum Systems Annual Workshop
2015 (EQuS), Benowa QLD, Australia (Dec. 2015).
W. J. Munro, Y. Matsuzaki, S. Dooley, E. Yukawa, K. Kakuyanagi, H. Toida, K. Semba, H. Yamaguchi,(13)

K. Nemoto, and S. Saito, "Quantum Engineering Using Hybridization: When 1+1 > 2", RIKEN Center
for Emergent Matter Science International Symposium on Dynamics in Artificial Quantum Systems(DAQS 2016), Tokyo, Japan (Jan. 2016).

(14)
(15)

W. J. Munro, K. Azuma and K. Nemoto, "Towards Quantum Networking for QKD", UK-Japan Quantum
Technology Workshop, Tokyo, Japan (Mar. 2016).
N. Matsuda, "Spectral Engineering of Single Photon Wave Packets Using Cross Phase Modulation",Spectral and Spatial Engineering of Quantum Light (SSEQL), Warsaw, Poland (Mar. 2016).

Ⅳ. ナノフォトニクスセンタ
E. Kuramochi and M. Notomi, "All-Optical Memories on a Photonic Crystal Chip", SPIE Optics +

資

(1)

料

Optoelectronics 2015, Praha, Chech (Apr. 2015).
M. Notomi, A. Yokoo, M. D. Birowosuto, M. Takiguchi, K. Tateno, G. Zhang, and(2) E. Kuramochi, "Hybrid Nanohpotonics Systems Combined with Functional Nanomaterials", The 20th
Opto Electronics and Communications Conference (OECC), Shanghai, China (June 2015).

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

73

(3)

S. Matsuo, K. Takeda, T. Fujii, and T. Satou," Photonic Crystal Lasers on Si ", The European Conferenceon Lasers and Electro-Optics (CLEO 2015), Munchen, Germany (June 2015).
S. Matsuo, T. Fujii, and K. Takeda, "Low-Operating-Energy Membrane-Buried Heterostructure Lasers(4) on SiO2/Si Substrate", The 20th Opto Electronics and Communications Conference (OECC), Shanghai,
China (June 2015).
(5)

A. Shinya and M. Notomi, "Nanophotonics Technology Toward Optical Logic Circuits", 15th
International Forum on MPSoC for Software-defined Hardware, Ventura, U.S.A. (July 2015).
M. Notomi, A. Yokoo, M. D. Birowosuto, M. Takiguchi, K. Tateno, G. Zhang, and(6) E. Kuramochi, "III-V Nanowire-Induced Nanocavity in Si Photonic Crystals", 17th International
Conference on Modulated Semiconductor Structures (MSS-17), Sendai, Japan (July 2015).
S. Matsuo, T. Fujii, K. Takeda, H. Nishi, K. Hasebe, and T. Kakitsuka, "On-Silicon Integration of(7) Compact and Energy-Efficient DFB Laser with 40-Gbit/s Direct Modulation", 2015 IEEE International
Conference on Group IV Photonics (IEEE), Vancouver, Canada (Aug. 2015).
(8)
(9)
(10)

M. Notomi, "Ultralow-Power Integrated Photonic Crystal Devices", European Conference on OpticalCommunication (ECOC), Valencia, Spain (Sep. 2015).
S. Matsuo, T. Fujii, and K. Takeda, "Directly Modulated Membrane Lasers on Si ", The 76th JSAP
Autumn Meeting, 2015, Nagoya, Japan (Sep. 2015).
A. Yokoo, "Nano-Fabrication for Photonic Crystal Functional Device - a Route for Functional Photonic
Integration -", International Symposium on Frontier Applied Physics 2015, Bandung, Indonesia (Oct. 2015).
K. Nozaki, S. Matsuo, T. Fujii, K. Takeda, E. Kuramochi, and M. Notomi, "Photonic Crystal(11) Photodetector-Modulator Integration for Ultra-Compact Wavelength Converter", 2015 IEEE Photonics
Conference (IPC), Reston, U.S.A. (Oct. 2015).
M. Notomi, A. Yokoo, M. D. Birowosuto, M. Takiguchi, M. Ono, K. Tateno, G. Zhang, and E.
(12) Kuramochi, "Hybrid Nanophotonics Systems Based on Sub-Wavelength Nanowires", NANOWIRES
2015, Barcelona, Spain (Oct. 2015).
K. Takeda, T. Fujii, A. Shinya, E. Kuramochi, M. Notomi, K. Hasebe, T. Kakitsuka, and S. Matsuo,(13) "Photonic-Crystal Lasers on Silicon for Chip-Scale Optical Interconnects", SPIE Photonics West 2015,
San Francisco, U.S.A. (Feb. 2016).
A. Shinya, K. Nozaki, E. Kuramochi, K. Takeda, T. Kakitsuka, H. Taniyama, T. Fujii, K. Hasebe, S.
(14) Mastuo, and M. Notomi, "Integrated Nanophotonics for fJ/Bit on-Chip Optical Communications",
Design, Automation and Test in Europe (DATE), Dresden, Germany (Mar. 2016).
(15)
(16)

74

M. Notomi, "Enhanced Light-Matter Coupling in Nanoemitters and Nanolasers in Nanophotonic
Systems", Physics of Light-Matter Coupling in Nanostructures (PLMCN 17), Nara, Japan (Mar. 2016).
S. Matsuo, "Ultra-Low Threshold Semiconductor Lasers", Optical Fiber Communication Conference andExhibition 2015 (OFC), Anaheim, U.S.A. (Mar. 2016).

NTT 物性科学基礎研究所の研究活動 Vol.26（2015 年度）

編集 “NTT 物性科学基礎研究所の研究活動”編集委員会
発行

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