高専／高校セミコン

The 高専＠セミコンジャパンに参加して高知工業高等専門学校など、戸惑い、緊張、雰囲気に圧倒といった感想が多く聞かれました。
一方、セミコンを終えてからは「自分の研究内容を英語で簡単にまとめておくべきでした。また、分野に関わらず、基礎的な知識をしっかり固め電気情報工学科准教授

池上浩る必要があると感じました。自らの研究開発で世の中を変えてみたいと一層思うようになりました。」（専攻科１年池進一）

高知工業高等専門学校（高知高専）は、昨年度に引き続「英語圏の方が多くいたため、改めて英語力の必要性を感き本年度も、東京エレクトロン㈱の出展ブースの一画を提じ、自分の伝えたいことをきちんと伝えるためにも、もっ供頂いて、The 高専＠セミコンに出展させて頂きました。と英語のスキルを磨きたいと思いました。実際の社会や企昨年度は本研究室の専攻科生３名が参加しましたが、本年業の雰囲気に接してみて、今まで以上に何事にも意欲的、度は山口研究室、芝研究室、池上研究室の３研究室から専積極的に向上心を持って関わっていきたいと思いました。」（専攻科１年

攻科生５名と技術職員１名と、より多くの学生が参加しま藤岡奈緒）「他の高専や高校の方たちに質問してみて、改めてレベルした。
高知高専の展示場にご来場頂いた方々の中には、学生にの高さに気がつき、自分ももっと頑張らなくてはと思いま

対し、少し消極的な印象を持たれた方もいらっしゃったかした。」

もしれません。しかしながら、セミコンの初日より２日目、「相手に応じて空気を読む能力が必要だと思います。来場

２日目より３日目と日を追う毎にみるみると学生は成長し、者の方たちには、専門的知識の有無や時間的余裕の有無等、積極的に自身の研究内容を説明する姿をみる事ができるよ

さまざまな違いがあり、どなたに対しても同じような調子うになりました。

で説明を行うわけにはいかないと感じました。相手がどう福留誉司）

いう話を望んでいるかを見極めることができれば、より効学生からも初日では「ただただ戸惑いで、場違いではないかと思ってしまいました。
」（専攻科１年（専攻科１年

池

果的なアピールが行えたと思います。
」（専攻科２年進一）

渡邉優太）「初日はまわりの雰囲気に圧倒され、思うように説明した「将来はフラットパネルディスプレイや太陽電池などの電り、受け応えすることができませんでした。また、来場者子デバイス関係の開発者になりたいと思っています。参加の方からの質問で改めて気づかされることも多々ありましさせて頂いて、より一層意欲が湧いてきました。
」（専攻科２年た。来場者のみなさんは厳しい指摘というよりは、親切に谷真衣）と、皆それぞれが何かをつかんで、積極的な姿勢へと変化話を聞いてくださり、ありがたかったです。」（専攻科１年藤岡奈緒）「どんなものが見られるのか、どんなことが起こるのかとしていったことが伺えます。
高知高専の学生に対して、大人しく真面目で素直、こだ福留誉司）

わりが強く、オタクな感じの印象を持っているという話を「慣れない雰囲気ゆえの戸惑いが大きかったように思いまよく耳にします。この様な気質は、技術者として決してマワクワクしました。」（専攻科１年す。例年に比べ来場者が大幅に減ったそうですが、これだイナスになる要素ではありませんが、解釈の仕方によればけ巨大な規模の業界なのだと実感しました。」

少し閉鎖的とも捉えられる環境の中で過ごした影響がある渡邉優太）のではと考えます。学生自身は、きっかけさえ与えれば自「昨年度に引き続き２度目の参加ですが、会場の雰囲気に（専攻科２年

己を変え、積極性を身につける力を十分持っていると考えは圧倒されます。本年度は自分のテーマの発表なのでしっています。The 高専＠セミコンは、この様な環境で育ったかりと発表したいと思います。
」

学生にとって社会と触れ合う貴重な場であり、学生が大き（専攻科２年谷真衣）

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17専攻科１年

池進一

専攻科１年

藤岡奈緒

専攻科１年

福留誉司高専のカリキュラムを普通高校から大学に進学する場合と比較すると、高専の学生は１〜２年早い時期に学術的な専門科目を学ぶことになります。また、定められた実験・実習系の科目の単位を修得していることが進級の必須条件となるなど、ものづくり教育に力を入れていることも特徴です。
本校では、全学生の半数以上が学寮で生活をしており、原則１年生は全寮制です。１、２年生の低学年生は平日
専攻科２年

渡邉優太

専攻科２年

谷真衣の19：00〜21：00及 び21：30〜 消 灯 ま で学習コアタイムとなっています。コア

く成長するきっかけになると感じています。この様な機会タイムには高学年指導生や宿直教員による巡回指導や点呼を与えて下さった方々に深く感謝いたします。

が行われるなど、しっかりと日課を管理し、落ち着いた環私が、一身上の都合で地元の高知に U ターンすることに境で学習習慣を身につけるように努めています。コアタイ

なり、株式会社東芝（プロセス技術開発）から、高知高専

ムの時間は、私語は禁止で、漫画を読んだりゲームをしたり、に教員として赴任してから５年が経過しました。実は赴任携帯電話を触ったりすることも許されておらず、発見次第前は、あまり高専のことを知りませんでした。この文章を漫画やゲーム機は没収されます。学生の中には要領良く隠読んで下さっている方々の中でも、高専のことを詳しくごれて禁止事項を行っている者もおりますが、何を行ってい存じでない方も多いことでしょう。ここでは、高知高専のるにせよ、このコアタイムの存在が、学生自身が自己と向学生を育てている環境とシステムについてご紹介したいとき合い、考え、学習し、そして成長していくための貴重な思います。

時間になっているのではと感じています。

高専は、中学校を卒業してから入学する本科５年間と大高知高専は、高知市から東に約10 km の南国市に位置し、学の３、４年生に相当する専攻科の２年間で構成されてい高知龍馬空港と高知大学の農学部に隣接しています。太平ます。高知高専の電気情報工学科は今年入学する学生が49洋までは徒歩で約10分、最も近いコンビニエンスストアま期生にあたり、機械・電気工学専攻へ入学する学生が11期

では自転車で約10分、最も近いスーパーまでは自転車で20生となります。本科は比較的長い歴史を持ち地域や産業界〜30分かかります。買い出しや遊びに行くときはこの程度でも知られていますが、専攻科は設立されてからの期間がの距離であれば平気で移動しますが、平日は殆どの寮生が約10年とまだまだ短いため、実態を知らない方も多いよう寮と学校の往復で生活をしています。この様な立地条件もです。

少なからず学生の人間形成に影響を与えているのではと感

本科のカリキュラムは一般科目と専門科目で構成され、学年が上にいくにつれて専門科目の比重が大きくなります。
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じます。
近年、全国的に専攻科の人気が高まりつつあり、本校で高専／高校セミコンも学業成績が上位の学生が専攻科へ進学します。学費が大は優れた転写特性が報告されていますが、半導体や金属薄学と比較して安価であるという経済的な魅力もありますが、膜ではレーザーアブレーションにより転写薄膜が飛散、凝本科５年から始めた卒業研究を、専攻科でも続けられるこ集し転写先基板で良好なパターン特性が得られないことがとも大きな理由のようです。

問題となっています。

卒業研究の内容は、学術的な研究のみでなく、ものづく

そこで我々は、転写先となる透明基板をターゲット薄膜りの楽しさを伝える教育研究分野や学校の中で実際に使わ上部に近接して設置し、透明基板を介してターゲット薄膜れる様々なシステム開発など多岐にわたり、学生が自分のにレーザーを照射することで薄膜を飛散させることなく転興味の持てる研究室とテーマを選択します。年度により変写を行う近接レーザー蒸着法を提案してきました。

化しますが、専攻科を修了した学生は概ね約半数が就職し、本方式を用いれば、厚さ数十 nm の Si 薄膜を飛散、凝集残りの半数が大学院へと進学します。大学院への進学を希させることなく転写が可能で、また転写と同時に Si 薄膜が望する学生にとっては、専攻科での研究活動を通して大学多結晶化することも確認されました。の先生方や学生と交流し、興味ある専攻や研究室をよく考えてから希望する進学先が選べるのも魅力です。

現在は Si 薄膜で検討を行っていますが、いわゆるパルスレーザー蒸着法で成膜されている様々な化合物系の薄膜の専攻科の学生は熱意を持って自身の研究に取組む学生が多いように感じています。本年度の The 高専＠セミコンに参加した学生でも、渡辺、池、谷の３名は専攻科在学中に国内学会のみならず国際会議での発表も経験しており、学パターニングが容易に行える方法であると予想され、今後は様々な用途への活用を行いたいと考えています。

「背面水中レーザーアブレーション法」
機械・電気工学専攻１年

生達が将来の目標を持ち、今やるべき自身の研究にしっかりと取組んでいる姿がうかがえ、本学の学生でありながら頼もしく感じています。

福留誉司

レーザー加工技術は優れた微細加工特性を有し、半導体デバイス製造技術においてもリダンダンシー技術におけるThe 高専＠セミコンがこの様な学生が社会と触れ合う貴ヒューズ切断、LED 基板のチップ分割、ULSI 基板のレー重な場であるだけでなく、様々な方々に高専の学生を知っザースクライブ等の分野で用いられています。しかしながて頂くきっかけになればと考えています。

ら、大気中でレーザー加工を行うと、加工領域に加工屑が付着し、また生産性の高いナノ秒以上のパルス幅を持った

最後に、この誌面をお借りして、今回のセミコンジャパ

レーザーで加工を行うと照射領域周辺に熱ストレスによるンで本研究室が展示・説明させて頂いた内容を紹介したい

損傷が生じることが問題となる場合があります。本研究室と思います。

ではこれらの問題を解決するための１つのアプローチとし本研究室では、レーザープロセス技術、半導体デバイス、て、水中レーザー加工技術の開発を行ってきました。昨年

原子間力顕微鏡の３つのテーマを柱とした研究を行ってい

度の The 高専＠セミコンでは、加工屑の付着を抑制し、低ます。本年度の本研究室には本科生３名と専攻科生２名が損傷で微細な加工が高速で行える高速水中レーザー加工技在籍していますが、基本的に１人が１テーマ以上を担当し術に関する展示説明を行いました（SEAJ Journal 2009年１

１年間で成果を出すことを目標に日々の研究に取組んでい月号に掲載）。本年度は、この水中レーザー加工技術の応用ます。本年度はナノ粒子の生成、レーザー誘起プラズマの分野を開拓する目的で、太陽電池のセル分割技術への適用挙動観察、近接レーザー蒸着法、Si 薄膜の直接プリント技術、を目指し、ガラス基板上の Si 薄膜のアブレーション技術の背面水中レーザーアブレーション法、多結晶 Si 薄膜の局所検討を行ってきました。通常のナノ秒クラスのパルス幅の欠陥評価に取組んできました。The 高専＠セミコンでは、レーザーで Si 薄膜の除去を行うと、加工領域に残渣が付着セミコン開催までに成果が得られた、近接レーザー蒸着法、し電気的なアイソレーションが確保できないことが問題とSi 薄膜の直接プリント技術、背面水中レーザーアブレーショなります。また、加工領域周辺の熱損傷や加工屑付着が特ン法、多結晶 Si 薄膜の局所欠陥評価について展示説明致し性を悪化させる可能性も示唆されます。我々は、ガラス基ました。

板側からレーザーを照射することで薄膜の除去特性が向上し、薄膜側の面に流水を供給することで加工屑を除去でき「近接レーザー蒸着法」
機械・電気工学専攻２年

ることを見出しました。今後は、加工領域周辺の熱損傷や谷

真衣

レーザー蒸着法はマスクレスでマイクロメートルサイズ分割セル間の電気的アイソレーションを確認していく予定です。のパターニングと成膜が同時に可能であることから、様々な膜の転写が試みられています。しかしながら、有機膜でSEAJ Journal 2010. 3 No. 125

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「Si 薄膜の直接プリント技術」
電気工学科「多結晶 Si 薄膜局所欠陥評価」
５年

清岡雅弘

池上浩

TFT はチャネル材料に薄膜 Si を用いており、一般的に私達は、電流検出型原子間力顕微鏡（C-AFM）及び表面薄膜 Si のパターニングにはフォトリソグラフィー工程や電位顕微鏡（KFM）を用いて、低温多結晶 Si 膜中に存在エッチング工程を必要とし、製造コストや環境への負荷がする欠陥を局所的に観察する手法の確立に取組んでいます。

大きくなることが問題となっています。Si や金属薄膜のパ原子間力顕微鏡のカンチレバーから多結晶 Si 薄膜にキャターニング方法としてインクジェットプリント方式、レーリアを注入しつつ電流像と表面電位像を測定した結果、多ザー転写法など様々な方式が提案されていますが、パター

結晶 Si 膜中の孤立欠陥にキャリアが捕獲される事で表面電ン形状や処理速度、Si 膜中への不純物混入などの問題があ位が上昇し、電気伝導度が局所的に低下することを見出しります。我々は、パターニングを行う薄膜 Si を機械的に脆ました。本手法を用いて多結晶 Si 薄膜の水素終端過程を観弱な層の上に形成し、レーザー照射を行うことで脆弱層の測した結果、結晶粒界近傍で水素終端され難い領域が存在強度と密着性を向上させ、テープを貼り付けた後、レーザーすることが確認されました。また、電流を流すことによる未照射領域をテープ剥離することで薄膜 Si のパターニングキャリアの捕獲、再放出の挙動も観察可能であることを見を行うことに成功しました。今後は、テープ剥離する際に出しました。今後は、キャリアの移動度と局所欠陥の関係や、生じる Si 薄膜のバリの低減や、膜中不純物濃度を評価して太陽電池薄膜材料の局所欠陥と光電変換効率の関係などをいきたいと考えています。

調べていきたいと考えています。

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