JP 3742417 B2 2006.2.1(12)特 許 公 報(19)日本国特許庁 (JP)(B2)(11)特許番号

特許第3742417号(P314241n(24)登録日(45) 発行日平成 1~2月 1 日 (2006.2.1)(2006．
01)(2006．
01)(2006．
01)

F1E02D 27/34E02D 17/18E02D 27/12NNN(51)Int.Cl.
E02D 27/34
E02D 17/18E02D 27/12平 成1
7年 11月18日 (2005.
11.
18)

請求項の数 4(21)出願番号(22)出願日(65)公開番号(43)公開日
審査請求日
早期審査対象出願（全 11頁）

73)特許権者 3
特願 2004‑
115608(P2004‑
115608) (01031392
平 成1
6年 4月9日 (2004.
4.
9)
独立行政法人土木研究所
特開 2005‑
299174(
P2005‑
299174A)
茨城県つくば市南原 1番 地 6
平 成1
7年 10月27日 (2005.
10.
27) (73)特許権者 000236610平 成1
6年 8月23日 (2004.
8.
23)
不動達設株式会社
大阪府大阪市中央区平野町四丁目 2番 16号(73)特許権者 598163695株式会社キタック
新潟県新潟市新光町 10番 地 2(73)特許権者 591054392
基礎地盤コンサルタンツ株式会社
東京都千代田区九段北 l丁目 11番 5号(74)代理人

100083806
弁理士三好秀和
最終頁に続く(54) ［発明の名称］改良柱体の造成方法(57)【 特 許 請 求 の 範 囲 】【請求項１】
地盤中に改良柱体の下端部を該地盤の支持層に達する位置まで造成すると共に、該地盤の上面と該改良柱体の杭頭の上面とを略面一になるように形成し、かつ、前記地盤の上面と前記改良柱体の杭頭の上面に盛土材を盛土して成る改良柱体の造成方法において、前記改良柱体の杭頭の上面の周縁に対する前記盛土材内のせん断角をθ、前記盛土材の内部摩擦角をφとした場合に、θ＝９０°−φの式を満たすように設定したことを特徴とする改良柱体の造成方法。
【請求項２】

10

請求項１記載の改良柱体の造成方法であって、前記盛土材内のせん断角θを６０°前後の範囲にしたことを特徴とする改良柱体の造成方法。
【請求項３】
地盤中に改良柱体の下端部を該地盤の支持層に達しない位置まで造成すると共に、該地盤の上面と該改良柱体の杭頭の上面とを略面一になるように形成し、かつ、前記地盤の上面と前記改良柱体の杭頭の上面に盛土材を盛土して成る改良柱体の造成方法において、
前記改良柱体の杭頭の上面の周縁に対する前記盛土材内せん断角をθ、前記盛土材の内部摩擦角をφとした場合に、θ＞９０°−φ20

(2)JP 3742417 B2 2006.2.1の式を満たすように設定したことを特徴とする改良柱体の造成方法。
【請求項４】
請求項３記載の改良柱体の造成方法であって、前記盛土材内のせん断角θを６０°以上の範囲にしたことを特徴とする改良柱体の造成方法。
【発明の詳細な説明】【技術分野】【０００１】
本発明は、例えば、軟弱地盤におけるソイルセメントコラム等の改良柱体の造成方法に関する。

10【背景技術】【０００２】
この種の改良柱体の造成方法による軟弱地盤改良の一例として、図７に示すものがある（例えば、特許文献１参照。）。この軟弱地盤改良では、図７に示すように、軟弱地盤１中に複数の杭５の各下端部５ａを該軟弱地盤１の下方の支持層２に達する位置まで造成する。さらに、軟弱地盤１の上面と複数の杭５の各杭頭の上面５ｂに砂を敷設してサンドマット３を形成すると共に、該サンドマット３上に沈下の虞の少ない良質な土砂等の盛土材４を盛土して成る。
【特許文献１】特開平１０−２９２３６０号公報【特許文献２】特開２００３−６４６５７号公報

20【発明の開示】【発明が解決しようとする課題】【０００３】
しかしながら、前記従来の軟弱地盤改良では、軟弱地盤１の各杭５，５間の未改良部分の沈下量が大きく、この未改良部分において盛土材４の沈下や破壊等が発生し易かった。
これに対処するには、杭５の本数を増やさなければならず、その分、工期が長くかかると共にコスト高になった。
【０００４】
そこで、本発明は、前記した課題を解決すべくなされたものであり、改良柱体の本数を減らしても地盤の各改良柱体間の未改良部分の沈下量を大幅に抑制することができる安価

30な改良柱体の造成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】【０００５】
請求項１の発明は、地盤中に改良柱体の下端部を該地盤の支持層に達する位置まで造成すると共に、該地盤の上面と該改良柱体の杭頭の上面とを略面一になるように形成し、かつ、前記地盤の上面と前記改良柱体の杭頭の上面に盛土材を盛土して成る改良柱体の造成方法において、前記改良柱体の杭頭の上面の周縁に対する前記盛土材内のせん断角をθ、前記盛土材の内部摩擦角をφとした場合に、θ＝９０°−φの式を満たすように設定したことを特徴とする。
【０００６】

40

請求項２の発明は、請求項１記載の改良柱体の造成方法であって、前記盛土材内のせん断角θを６０°前後の範囲にしたことを特徴とする。
【０００９】
請求項３の発明は、地盤中に改良柱体の下端部を該地盤の支持層に達しない位置まで造成すると共に、該地盤の上面と該改良柱体の杭頭の上面とを略面一になるように形成し、かつ、前記地盤の上面と前記改良柱体の杭頭の上面に盛土材を盛土して成る改良柱体の造成方法において、前記改良柱体の杭頭の上面の周縁に対する前記盛土材内せん断角をθ、前記盛土材の内部摩擦角をφとした場合に、θ＞９０°−φの式を満たすように設定したことを特徴とする。
【００１０】50

(3)JP 3742417 B2 2006.2.1

請求項４の発明は、請求項３記載の改良柱体の造成方法であって、前記盛土材内のせん断角θを６０°以上の範囲にしたことを特徴とする。
【発明の効果】【００１３】
以上説明したように、請求項１の発明によれば、改良柱体の下端部を地盤の支持層に達する位置まで造成する着底方式の改良柱体の造成方法において、改良柱体の杭頭の上面の周縁に対する盛土材内のせん断角をθ、盛土材の内部摩擦角をφとした場合に、θ＝９０°−φの式を満たすように設定したことにより、地盤の各改良柱体間の未改良部分の沈下量を抑制することができると共に、改良柱体の本数を減らすことができる。これにより、地盤の地盤改良を短期間かつ低コストで行うことができる。

10【００１４】
請求項２の発明によれば、着底方式の改良柱体の造成方法において、盛土材内のせん断角θを６０°前後の範囲にしたことにより、地盤の各改良柱体間の未改良部分の沈下量を抑制することができると共に、改良柱体の本数を減らすことができる。これにより、地盤の地盤改良を短期間かつ低コストで行うことができる。
【００１７】
請求項３の発明によれば、改良柱体の下端部を地盤の支持層に達しない位置まで造成するフローティング方式の改良柱体の造成方法において、改良柱体の杭頭の上面の周縁に対する盛土材内せん断角をθ、盛土材の内部摩擦角をφとした場合に、θ＞９０°−φの式を満たすように設定したことにより、地盤の各改良柱体間の未改良部分の沈下量を抑制す20ることができると共に、改良柱体の本数を減らすことができる。これにより、地盤の地盤改良を短期間かつ低コストで行うことができる。
【００１８】
請求項４の発明によれば、フローティング方式の改良柱体の造成方法において、盛土材内のせん断角θを６０°以上の範囲にしたことにより、地盤の各改良柱体間の未改良部分の沈下量を抑制することができると共に、改良柱体の本数を減らすことができる。これにより、地盤の地盤改良を短期間かつ低コストで行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】【００２１】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。

30【００２２】
図１は本発明の第１実施形態の改良柱体の造成方法により造成された地盤の断面図である。
【００２３】
図１に示すように、軟弱地盤（地盤）１０中にソイルセメントコラム（改良柱体）１５の下端部１５ｂを該軟弱地盤１０の下方の支持層１１に達する所定の位置まで造成してある。さらに、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａとを略面一になるように形成し、かつ、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメントコラ
ム１５の杭頭の上面１５ａに沈下の虞の少ない良質な土砂等の盛土材１２を盛土してある。

40【００２４】
次に、この着底方式のソイルセメントコラム１５の造成方法による軟弱地盤１０の地盤改良の手順について説明する。
【００２５】
まず、軟弱地盤１０中にソイルセメントコラム１５をその下端部１５ｂが支持層１１に達する所定の位置まで造成する。この造成の際に、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａとが略面一になるように施工する。
【００２６】
次に、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａに沈下の虞の少ない良質な土砂等の盛土材１２を盛土する。この際、ソイルセメントコラム１50

(4)JP 3742417 B2 2006.2.1

５の杭頭の上面１５ａの周縁に対する盛土材１２内のせん断角をθ、盛土材１２の内部摩擦角をφとした場合に、(数 １ )
θ＝９０°−φ
上記の数１の式を満たすように設定する。
【００２７】
この時、軟弱地盤１０の各ソイルセメントコラム（改良柱体）１５，１５間の未改良部の沈下量Ｓｃ（ｍ）は、下記の数２の式によって求められる。
(数 ２ )
Ｓｃ＝Ｓ０ ・（ΔＰｃ／ΔＰ）

10

ここに、Ｓ０ ：無処理での沈下量（ｍ）、ΔＰｃ：未改良部に作用する盛土荷重（ｋＮ／ｍ２）、ΔＰ：全盛土荷重（ｋＮ／ｍ２）、である。

【００２８】
また、ΔＰ、ΔＰｃは、下記の数３、数４、数５の各式より求められる。
(数 ３ )
ΔＰ＝Ｖ・γ／（λ＋ｄ）

２

ここに、Ｖ：全盛土体積（ｍ３３）｛＝（λ＋ｄ）

２×Ｈ｝、γ：盛土の密度（ｋＮ／ｍ）、λ：改良柱体間の距離（ｍ）、ｄ：改良柱体の直径（ｍ）、Ｈ：盛土の高さ（ｍ）、である。
20

【数４】

△Pc=Ve・ ア（入＋d)2‑ 7[•d24【００２９】
ここに、Ｖｃ：未改良部に荷重を作用させる盛土体積（ｍ３）、である。

【００３０】
さらに、Ｖｃは、下記の数５の式より求められる。
【数５】

入［ (2+d)2 吋( 2 4）3‑d3｝
十（ 4‑7[） (g2；） （入＋~] tane

30Ve=

【００３１】
また、ソイルセメントコラム（改良柱体）１５の沈下量Ｓｐは、下記の数６の式によって求められる。
(数 ６ )
Ｓｐ＝（ΔＰｐ／Ｅ）・Ｌ
ここに、ΔＰｐ：改良柱体に作用する盛土荷重（ｋＮ／ｍ
数（ｋＮ／ｍ２２）、Ｅ：改良柱体の変形係）、Ｌ：改良柱体の長さ（ｍ）、である。

40【００３２】
また、改良柱体に作用する盛土荷重ΔＰｐは、下記の数７，数８、数９の各式より求められる。
(数 ７ )
Ｅ＝１００・ｑｕ(数 ８ )
ΔＰｐ＝Ｖｐ・γ／（ｄ／４）

２π(数 ９ )
Ｖｐ＝Ｖ−Ｖｃ
ここに、ｑｕ：改良柱体の一軸圧縮強さ（ｋＮ／ｍ２）、Ｖｐ：改良柱体に荷重を作用50(5)する盛土体積（ｍ３JP 3742417 B2 2006.2.1）、である。また、このとき常に、ΔＰｐ＜ｑｕである。

【００３３】
さらに、深層混合処理改良されたソイルセメントコラム（改良柱体）１５と各ソイルセ
メントコラム１５，１５間の未改良部分の不同沈下量ΔＳ（ｍ）は、ソイルセメントコラ
ム１５の杭頭の沈下量Ｓｐと各ソイルセメントコラム１５，１５間の未改良部分の沈下量
Ｓｃより下記の数１０の式によって求められる。
(数 １ ０ )ΔＳ＝Ｓｃ−Ｓｐ
このように、ソイルセメントコラム１５の下端部１５ｂを軟弱地盤１０の下方の支持層１１に達する所定の位置まで造成する着底方式の改良柱体の造成方法において、ソイルセ

10

メントコラム１５の杭頭の上面１５ａの周縁に対する盛土材１２内のせん断角をθ、盛土材１２の内部摩擦角をφとした場合に、前記数１のθ＝９０°−φの式を満たすように設定したことにより、軟弱地盤１０の各ソイルセメントコラム１５，１５間の未改良部分の沈下量Ｓｃを抑制することができると共に、ソイルセメントコラム１５の本数を減らすことができる。これにより、軟弱地盤１０の地盤改良を短期間かつ低コストで行うことができる。特に、盛土材１２内のせん断角θを６０°に設定すると、軟弱地盤１０の地盤改良をより効果的に行うことができる。
【００３４】
図２は本発明の第２実施形態の改良柱体の造成方法により造成された地盤の断面図である。

20【００３５】
図２に示すように、軟弱地盤（地盤）１０中にソイルセメントコラム（改良柱体）１５の下端部１５ｂを該軟弱地盤１０の下方の支持層１１に達する所定の位置まで造成してある。さらに、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａとを略面一になるように形成し、かつ、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメントコラ
ム１５の杭頭の上面１５ａに敷砂を敷設してサンドマット１３を形成すると共に、その表面をシート１４で覆って表層を強化した後で、沈下の虞の少ない良質な土砂等の盛土材１２を盛土してある。
【００３６】
次に、この着底方式のソイルセメントコラム１５の造成方法による軟弱地盤１０の地盤30

改良の手順について説明する。
【００３７】
まず、軟弱地盤１０の上面１０ａに敷砂を敷設してサンドマット１３を形成する。次に、軟弱地盤１０中にソイルセメントコラム１５をその下端部１５ｂが支持層１１に達する所定の位置まで造成する。この造成の際に、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａとが略面一になるように施工する。
【００３８】
次に、軟弱地盤１０の上面１０ａに敷設されたサンドマット１３上をシート１４で覆ってその表層を強化した後で、該シート１４上に沈下の虞の少ない良質な土砂等の盛土材１２を盛土する。この際、ソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａの周縁に対するサ40ンドマット（敷砂）１３内のせん断角をθ′及び盛土材１２内のせん断角をθ、盛土材１２の内部摩擦角をφとした場合に、(数 １ １ )θ′＜θ＝９０°−φ
上記の数１１の式を満たすように設定する。
【００３９】
このように、ソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａの周縁に対する敷砂１３内のせん断角をθ′及び盛土材１２内のせん断角をθ、盛土材１２の内部摩擦角をφとした場合に、上記の数１１のθ′＜θ＝９０°−φの式を満たすように設定したことにより、前記第１実施形態と同様に、軟弱地盤１０の各ソイルセメントコラム１５，１５間の未改50

(6)JP 3742417 B2 2006.2.1

良部分の沈下量Ｓｃをより一段と抑制することができると共に、ソイルセメントコラム１５の本数をより一段と減らすことができる。これにより、軟弱地盤１０の地盤改良を短期間かつ低コストで行うことができる。特に、盛土材１２内のせん断角θを５５°〜６０°の範囲に設定すると、軟弱地盤１０の地盤改良をより効果的に行うことができる。
【００４０】
図３は本発明の第３実施形態の改良柱体の造成方法により造成された地盤の断面図である。
【００４１】
前記第２実施形態ではサンドマット（敷砂）１３の表層をシート１４で覆うことにより強化したが、この第３実施形態の改良柱体の造成方法では、サンドマット（敷砂）１３の10表層（全層でも良い。原地盤を含んでも良い。）１３ａを、例えばセメントや生石灰等の図示しない固化材で固化した点のみが異なる。尚、前記第２実施形態と同一構成部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００４２】
この第３実施形態でも、ソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａの周縁に対する敷砂１３内のせん断角をθ′及び盛土材１２内のせん断角をθ、盛土材１２の内部摩擦角をφとした場合に、上記の数１１のθ′＜θ＝９０°−φの式を満たすように設定したことにより、前記第１実施形態と同様に、軟弱地盤１０の各ソイルセメントコラム１５，１５間の未改良部分の沈下量Ｓｃをより一段と抑制することができると共に、ソイルセメントコラム１５の本数をより一段と減らすことができる。これにより、軟弱地盤１０の地盤20改良を短期間かつ低コストで行うことができる。特に、盛土材１２内のせん断角θを５５°〜６０°の範囲に設定すると、軟弱地盤１０の地盤改良をより効果的に行うことができる。
【００４３】
図４は本発明の第４実施形態の改良柱体の造成方法により造成された地盤の断面図である。
【００４４】
図４に示すように、軟弱地盤（地盤）１０中にソイルセメントコラム（改良柱体）１５の下端部１５ｂを該軟弱地盤１０の下方の支持層１１に達しない所定の位置まで造成してある。さらに、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５30ａとを略面一になるように形成し、かつ、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメントコ
ラム１５の杭頭の上面１５ａに沈下の虞の少ない良質な土砂等の盛土材１２を盛土してある。
【００４５】
次に、このフローティング方式のソイルセメントコラム１５の造成方法による軟弱地盤１０の地盤改良の手順について説明する。
【００４６】
まず、軟弱地盤１０中にソイルセメントコラム１５をその下端部１５ｂが支持層１１に達しない所定の位置まで造成する。この造成の際に、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａとが略面一になるように施工する。

40【００４７】
次に、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａに沈下の虞の少ない良質な土砂等の盛土材１２を盛土する。この時、ソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａの周縁に対する盛土材１２内のせん断角をθ、盛土材１２の内部摩擦角をφとした場合に、(数 １ ２ )θ＞９０°−φ
上記の数１２の式を満たすように設定する。
【００４８】
このように、ソイルセメントコラム１５の下端部１５ｂを軟弱地盤１０の下方の支持層

50

(7)

JP 3742417 B2 2006.2.1

１１に達しない所定の位置まで造成するフローティング方式の改良柱体の造成方法において、ソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａの周縁に対する盛土材１２内のせん断角をθ、盛土材１２の内部摩擦角をφとした場合に、上記数１２のθ＞９０°−φの式を満たすように設定したことにより、軟弱地盤１０の各ソイルセメントコラム１５，１５間の未改良部分の沈下量Ｓｃを抑制することができると共に、ソイルセメントコラム１５の本数を減らすことができる。これにより、軟弱地盤１０の地盤改良を短期間かつ低コストで行うことができる。特に、盛土材１２内のせん断角θを８２°〜８４°に設定すると、軟弱地盤１０の地盤改良をより効果的に行うことができる。
【００４９】
図５は本発明の第５実施形態の改良柱体の造成方法により造成された地盤の断面図であ10る。
【００５０】
図５に示すように、軟弱地盤（地盤）１０中にソイルセメントコラム（改良柱体）１５の下端部１５ｂを該軟弱地盤１０の下方の支持層１１に達しない所定の所定の位置まで造成してある。さらに、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａとを略面一になるように形成し、かつ、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメ
ントコラム１５の杭頭の上面１５ａに敷砂を敷設してサンドマット１３を形成すると共に、その表面をシート１４で覆って表層を強化した後で、沈下の虞の少ない良質な土砂等の盛土材１２を盛土してある。
【００５１】

20

次に、このフローティング方式のソイルセメントコラム１５の造成方法による軟弱地盤１０の地盤改良の手順について説明する。
【００５２】
まず、軟弱地盤１０の上面１０ａに敷砂を敷設してサンドマット１３を形成する。次に、軟弱地盤１０中にソイルセメントコラム１５をその下端部１５ｂが支持層１１に達しない所定の位置まで造成する。この造成の際に、軟弱地盤１０の上面１０ａとソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａとが略面一になるように施工する。
【００５３】
次に、軟弱地盤１０の上面１０ａに敷設されたサンドマット１３上をシート１４で覆ってその表層を強化した後で、該シート１４上に沈下の虞の少ない良質な土砂等の盛土材１30２を盛土する。この際、ソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａの周縁に対するサンドマット（敷砂）１３内のせん断角をθ′及び盛土材１２内のせん断角をθ、盛土材１２の内部摩擦角をφとした場合に、(数 １ ３ )θ′＜θ＞９０°−φ
上記の数１３の式を満たすように設定する。
【００５４】
このように、ソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａの周縁に対する敷砂１３内のせん断角をθ′及び盛土材１２内のせん断角をθ、盛土材１２の内部摩擦角をφとした場合に、上記の数１３のθ′＜θ＞９０°−φの式を満たすように設定したことにより、40

前記第４実施形態と同様に、軟弱地盤１０の各ソイルセメントコラム１５，１５間の未改良部分の沈下量Ｓｃをより一段と抑制することができると共に、ソイルセメントコラム１５の本数をより一段と減らすことができる。これにより、軟弱地盤１０の地盤改良を短期間かつ低コストで行うことができる。特に、盛土材１２内のせん断角θを７５°〜８２°の範囲に設定すると、軟弱地盤１０の地盤改良をより効果的に行うことができる。
【００５５】
図６は本発明の第６実施形態の改良柱体の造成方法により造成された地盤の断面図である。
【００５６】
前記第５実施形態ではサンドマット（敷砂）１３の表層をシート１４で覆うことにより50

(8)JP 3742417 B2 2006.2.1

強化したが、この第６実施形態の改良柱体の造成方法では、サンドマット（敷砂）１３の表層（全層でも良い。原地盤を含んでも良い。）１３ａを、例えばセメントや生石灰等の図示しない固化材で固化した点のみが異なる。尚、前記第５実施形態と同一構成部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００５７】
この第６実施形態でも、ソイルセメントコラム１５の杭頭の上面１５ａの周縁に対する敷砂１３内のせん断角をθ′及び盛土材１２内のせん断角をθ、盛土材１２の内部摩擦角をφとした場合に、上記の数１３のθ′＜θ＞９０°−φの式を満たすように設定したことにより、前記第４実施形態と同様に、軟弱地盤１０の各ソイルセメントコラム１５，１５間の未改良部分の沈下量Ｓｃをより一段と抑制することができると共に、ソイルセメン10

トコラム１５の本数をより一段と減らすことができる。これにより、軟弱地盤１０の地盤改良を短期間かつ低コストで行うことができる。特に、盛土材１２内のせん断角θを７５°〜８２°の範囲に設定すると、軟弱地盤１０の地盤改良をより効果的に行うことができる。
【００５８】
尚、前記各実施形態によれば、ソイルセメントコラムで改良柱体を構成したが、ソイルセメントコラム以外の改良柱体に前記各実施形態を適用できることは勿論である。
【図面の簡単な説明】【００５９】【図１】本発明の第１実施形態の改良柱体の造成方法により造成された地盤の断面図であ20る。
【図２】本発明の第２実施形態の改良柱体の造成方法により造成された地盤の断面図である。
【図３】本発明の第３実施形態の改良柱体の造成方法により造成された地盤の断面図である。
【図４】本発明の第４実施形態の改良柱体の造成方法により造成された地盤の断面図である。
【図５】本発明の第５実施形態の改良柱体の造成方法により造成された地盤の断面図である。
【図６】本発明の第６実施形態の改良柱体の造成方法により造成された地盤の断面図であ30る。
【図７】従来の軟弱地盤の改良構造を示す断面図である。
【符号の説明】【００６０】
１０軟弱地盤（地盤）

１０ａ上面

１１支持層

１２盛土材

１３サンドマット（敷砂）

１４シート

１５ソイルセメントコラム（改良柱体）

１５ａ

杭頭の上面

１５ｂ下端部

40

(9)
【図１】

JP 3742417 B2 2006.2.1

【図２】

12ー

115a、
IO
¥

15a、

．
︑

＼，

10a15a13

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6a0,'＼ー

15a‑ 〜10←1015151515~ー

1, ¥f,

1
115b15b

【図３】

15b

【図４】

一12I
八10a＼゜I

15a15a'¥，＜＼10a15a一1010←15151515~11115b15b15b15b

一(10)【図５】

JP 3742417 B2 2006.2.1【図６】1210a15a1[。
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15b15b【図７】

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(11)JP 3742417 B2 2006.2.1

フロントページの続き(72)発明者 三木 博史
茨城県つくば市南原１番地６ 独立行政法人土木研究所内(72)発明者 小橋 秀俊
茨城県つくば市南原１番地６ 独立行政法人土木研究所内(72)発明者 古本 一司
茨城県つくば市南原１番地６ 独立行政法人土木研究所内(72)発明者 大野 真希
茨城県つくば市南原１番地６ 独立行政法人土木研究所内(72)発明者 野津 光夫
東京都台東区台東１丁目２番１号 不動建設株式会社内(72)発明者 大谷 政敬
新潟県新潟市新光町１０番地２ 株式会社キタック内(72)発明者 阪上 最一
東京都千代田区九段北１丁目１１番５号 基礎地盤コンサルタンツ株式会社内審査官 高橋 三成(56)参考文献 特開平１０−２９２３６０（ＪＰ，Ａ）
特開２００３−０６４６５７（ＪＰ，Ａ）
特開平０９−１５８１６３（ＪＰ，Ａ）(58)調査した分野(Int.Cl.，ＤＢ名)
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