名古屋工業大学
産 学 官 金 連 携 機 構

研

究

設

設 備 共 用 部 門

備

2024年度版

一覧

学外

はじめに名古屋工業大学 産学官金連携機構は、「渉外部門」、「事業創造・人財育成部門」、「設備共用部門」の 3 部門で構成され、民間企業との組織対組織の共創関係を強化・促進することを目指して活動しています。
設備共用部門では、豊富な研究設備を活用し、企業や研究機関等からの測定依頼をお受けしております。受託試験を通じて発生した更なるニーズ・新たなニーズへの対応は、ご要望に応じて学術指導・共同研究・受託研究に繋げてまいります。
是非、これらの設備や研究力をご活用いただき、皆様の研究開発にお役立て下さい。
…基本的に「学内利用のみ」とさせていただいております。
ご利用希望がございましたらご相談下さい。対応可能な場合もあります。
…マテリアル先端リサーチインフラ(ARIM）対象設備となっております。

顕微鏡・試料作製
透過電子顕微鏡(TEM; JEM-2100Plus)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・８透過電子顕微鏡(3D-TEM; JEM-z2500)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９透過電子顕微鏡(TEM; JEM-1400Plus)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０
透過電子顕微鏡(TEM; JEM-2100)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１１
原子分解能分析電子顕微鏡(FE-TEM; JEM-ARM200F)・・・・・・・・・・・・１２低加速電圧ショットキー電界放出形走査電子顕微鏡(L-FE-SEM; JSM-7800F)・・・１３電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM; JSM-7001F)・・・・・・・・・・・・・・・１４
走査電子顕微鏡(W-SEM; JSM-IT200LA)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１５
複合ビーム加工観察装置(FIB-SEM; JIB-4700F)・・・・・・・・・・・・・・・・１６
集束イオン/電子ビーム複合ビーム加工観察装置(FIB-SEM; JIB-4500)・・・・・・１７走査型プローブ顕微鏡(SPM; SPM-9700)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１８
ウルトラミクロトーム(Leica EM UC7, FC7)・・・・・・・・・・・・・・・・・・１９
凍結試料作製装置（JFT-Ⅱ EM-19500）
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２０冷却クロスセクションポリッシャ(CCP; IB19520CCP)・・・・・・・・・・・・・２１
ワイヤーソー(DWS3500P)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２２

オスミウムコーター(OPC60A)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２３
白色共焦点顕微鏡(OPTELICS HYBRID C3)
共焦点レーザー顕微鏡(LSM880)

・・・・・・・・・・・・・・・・２４

・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２５多光子励起レーザー走査型顕微鏡(FV1200MPE-M-MKM)

・・・・・・・・・・２６

表面分析・分光
顕微蛍光 X 線分析装置(XGT7200V)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２７電界放出形電子プローブマイクロアナライザー(FE-EPMA; JXA-8530F)・・・・・・２８電界放出形オージェ電子分光装置(FE-AES; JAMP-9500F)・・・・・・・・・・・・２９走査型デュアル X 線光電子分光分析装置(XPS; PHI Quantes)

・・・・・・・・３０

飛行時間型 2 次イオン質量分析装置(TOF-SIMS; PHI TRIFTVnanoTOF)

・・・３１

グロー放電発光表面分析装置(GD-Profiler2-MN)・・・・・・・・・・・・・・・・３２
ICP 発光分光分析装置(ICP; ICPE-9820)

・・・・・・・・・・・・・・・・・３３フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR; FT/IR-6300＋IRT-5000)・・・・・・・・・３４
レーザーラマン分光装置(NRS-5500)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３５
時間分解赤外分光装置(VERTEX80+HYPERION3000)・・・・・・・・・・・・・３６
3 次元顕微蛍光寿命イメージング装置(NF-3DFLIM-N03)・・・・・・・・・・・・３７
高感度近赤外型絶対 PL 量子収率測定装置(C13534-23)
ナノ秒時間分解分光測定装置(TSP-2000)

・・・・・・・・・・・３８

・・・・・・・・・・・・・・・・・３９

物理_物性・測定
薄膜結晶用 X 線回折装置(XRD; SmartLab)・・・・・・・・・・・・・・・・・・４０
粉末･多結晶用 X 線回折装置(XRD; SmartLabSE)・・・・・・・・・・・・・・・４１
単結晶 X 線構造解析装置(VariMax with RAPID)

・・・・・・・・・・・・・・４２

読取機能一体型 X 線ラウエカメラシステム(IP ラウエカメラ)

・・・・・・・・４３

X 線 CT 装置(inspeXio SMX-225CT)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４４

表面粗さ計(SURFCOM 1400G（高倍率）)・・・・・・・・・・・・・・・・・４５

物理特性測定システム(PPMS)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４６
磁気特性測定システム (SQUID)

・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４７

ホール効果測定システム(HMS-3000)
メスバウアー分光装置

・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４８

・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４９

電子スピン共鳴装置(ESR; JES-FA200)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５０
粘弾性測定装置(DMA; DMS6100)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５１応力制御式レオメーター(MCR-302)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５２ゼータ電位･粒子径測定装置(ゼータサイザーZS)・・・・・・・・・・・・・・・・５３

化学分析・熱分析
超伝導高分解能核磁気共鳴装置(NMR; ECZ700R)・・・・・・・・・・・・・・・・５４
超伝導高分解能核磁気共鳴装置(NMR; AV500 + CryoProbe) ・・・・・・・・・・５５
超伝導高分解能核磁気共鳴装置(NMR; AV400N)

・・・・・・・・・・・・・・５６

固体核磁気共鳴装置(NMR;ECA600II)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５７
パルス NMR 分光計(ミニスペック mq)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５８
マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間質量分析計(MALDI-TOFMS; JMS-S3000 SpiralTOF™-plus 2.0)・・・・・・・・・・・・６９
高速液体クロマトグラフ/イオンモビリティ搭載型四重極飛行時間型 MS(HPLC-IMS-QToFMS; SELECT SERIES Cyclic IMS)・・・・・・・・・・・・６０
液体クロマトグラフ高分解能飛行時間型 MS(LC-TOFMS; Synapt G2 HDMS)・・・６１
絶対分子量測定装置(ACQUITY/μDAWN)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・６２
全自動元素分析装置(vario EL cube)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・６３
酸素･窒素･水素分析装置(EMGA-930)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・６４
炭素･硫黄分析装置(CS844)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・６５
局所熱分析装置(Nano-TA, VESTA)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・６６

示差熱天秤(TG-DTA; 8101D)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・６７
示差熱天秤(TG-DTA;TG8120)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・６８
示差走査熱量計(DSC;DSC8230)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・６９
熱機械分析装置(TMA/SS7100C)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・７０
ダイナミック DSC 装置(DSC8000)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・７１

薄膜・成膜

マグネトロンスパッタリング装置(VTR-151M/SRF)
真空蒸着装置(VTR-060M/ERH)・・・・・・・・・・・・・７２

・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・７３

情報・通信
無響室・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・７４
電波暗室・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・７５
車載イーサネットパフォーマンステスター(Spirent Automotive C1)・・・・・・・７６
EMI レシーバー(N9048B PXE)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・７７
ネットワークアナライザ (E5080B＋周辺機器)・・・・・・・・・・・・・・・・・７８
光･電気通信波形解析システム(N4377A＋周辺機器)・・・・・・・・・・・・・・・７９
電気車載イーサネット評価システム(DSO404SA＋周辺機器)・・・・・・・・・・・８０
通信性能評価汎用機器(53210A＋周辺機器)・・・・・・・・・・・・・・・・・・８１
小型環境試験器(SH-642)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・８２
電波暗室(5 面電波暗室)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・８３
シールドルーム・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・８４
BCI/TWC/DPI イミュニティ試験システム・・・・・・・・・・・・・・・・・・・８５
エミッション試験システム・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・８６

ご依頼方法

はじめに

設備共用部門ホームページ
キーワード検索
名工大 受託試験

https://kiki.web.nitech.ac.jp/gakugai/

QRコード
検索

セミナー情報学外依頼方法依頼書等
料金表

ご依頼について・試験は受託のみとなり、原則として依頼者自身での装置操作はできません
・立会測定は可能です（電子顕微鏡類はWeb立会も可能）
・基本的には成果非公開ですが、一部は成果公開をお願いする場合がありますご依頼方法流れ
産学官金連携機構
設備共用部門ご依頼者様

1

お問い合わせ受託試験相談フォーム
https://kiki.web.nitech.ac.jp/inquiry/

よりお問い合わせください

事前打ち合わせ2

測定内容・日程調整、見積もり
ご依頼者様のご都合に合わせて（メール、対面、Microsoft Teams、Zoom等）にて実施させていただきます

3

利用申請

提出書類：受託試験依頼書（右項）
提出期限：測定日の2営業日前まで
送付先：kiki@adm.nitech.ac.jp
お急ぎの場合はご相談ください

承認手続き

4
試験実施

5

試験時の立ち会いが可能です
また、主要な電子顕微鏡はWeb上での立会が可能です6

結果通知
受託試験結果通知書の送付

7

受託試験料の納付

振込期限60日の請求書を郵送しますので銀行振込にて受託試験料を納付ください（前払いも可能です）

透過電子顕微鏡（TEM）
装置紹介
透過電子顕微鏡としては比較的低倍率の観察に適した対物絞りを有しており、転位の観察などに最適です。また HC（ハイコントラスト）仕様のため、透過電子顕微鏡特有の観察手法である暗視野像を得る際、他の TEMに比べコントラストのはっきりした明瞭な画像を得ることができる。オプションとして EDS と 3D トモグラフィ
ー機能も備えており、通常の観察と同時に組成分析を行うことや、微小組織の 3 次元像を構築することもできま
す。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子

加速電圧

80,100,120,160,200kV

型式

JEM-2100Plus

電子銃

LaB6 型オプション

EDS（日本電子製）
3D トモグラフィー

観察モード
分析機能

透過電子顕微鏡（TEM）
走査透過電子顕微鏡（STEM）
エネルギー分散型 X 線分光器（EDS）
強化仕様ベリリウム試料 2 軸傾斜ホルダー

試料ホルダー▼詳細は二次元コードからご覧ください（X 軸：±15 度、Y 軸：±25 度）
高傾斜試料台 （X 軸：±80 度）

分解能（200 ㎸）

倍率

TEM 粒子像：0.31nm
TEM 格子像：0.14nm
STEM 明視野像：2.0nm
TEM 像：×1,000～×800,000
STEM 像：×100～×2,000,000
明視野走査透過像

観察画像

暗視野走査透過像
電子線トモグラフィー

8

顕
微
鏡
・
試
料
作
製

透過電子顕微鏡（3D-TEM）
装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

JEM-z2500 は透過像（TEM）、走査透過像（STEM）、二次電子像、電子回折の観察ができます。そして走査像モードでは STEM-BF 像、STEMDF 像、二次電子像の同時観察が可能です。
その他、EDS 分析による元素マッピング、電子線
トモグラフィーによる三次元再構成もできます。
JEM-z2500 は蛍光板を直接見ないので、明るい部
屋で観察できます。

装置概要
メーカー
型式

装置性能および仕様
日本電子

電子銃

ショットキー電界放出形電子銃

JEM-z2500（後継機：JEM-

加速電圧80, 100, 200kV

2800）

透過像（格子像）：0.1 nm（加速電圧200 kV）
分解能

走査透過像：0.2 nm（加速電圧 200kV）
二次電子像（edge to edge）：0.5 nm▼詳細は二次元コードからご覧ください（加速電圧 200 kV）
倍率（24 インチ
ワイド LCD 上）

元素分析

その他の機能遠隔観察

試料サイズ等
分析不可

9

透過像

：×500 ～×20,000,000

走査透過像：×100 ～×20,000,000
二次電子像：×100 ～×20,000,000
エネルギー分散型 X 線分光法（EDS）（検出元素 B～U）
電子線回折を用いた結晶方位解析
電子線トモグラフィー
Microsoft Teams 等の Web 会議システムを用いた遠隔の立ち会い測定が可能
3mmΦ のグリッドに試料を載せて高真空中で観察する。
水分やガスを多く含むもの、磁性材料

透過電子顕微鏡
（TEM）
装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

生物分野からポリマー、ナノテクノロジー、最先端材料まで幅広い分野で透過電子顕微鏡観察が可能で
す。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子

加速電圧

40, 60, 80, 100 kV （10～120 kV）

型式

JEM-1400Plus

分解能

粒子像：0.38 nm，格子像：0.2 nm

倍率MAG モード ×200 ～×1,200,000
LOW MAG モード ×10 ～×1,000
3mmΦ のグリッドに試料を載せて高真空▼詳細は二次元コードからご覧ください

試料サイズ

中で観察する。電子線が透過できる厚さであることが必要。

分析不可

水分やガスを多く含むもの、磁性材料

10透過電子顕微鏡
（TEM）
装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

各機能が PC で一元管理されたハイコストパフォーマンスの 200kV 汎用型の電子顕微鏡です。EDS もついて
います。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子

加速電圧

80～200kV

型式

JEM-2100

電子銃

LaB₆型

観察モード

透過電子顕微鏡

分析機能

エネルギー分散型 X 線分光器(EDS)

試料ホルダー

2 軸傾斜ホルダー

倍率×1,500～1,200,000▼詳細は二次元コードからご覧ください11原子分解能分析電子顕微鏡(FE-TEM)
装置紹介
収差補正器を用いて 0.1 nm 以下の電子線プローブを作ることができます。それを用いて原子分解能での走査
透過電子顕微鏡（STEM）像を得ることができます。また、STEM と EDS や EELS を組み合わせることで元素マッピングを原子分解能で行うことができます。その他、通常の高分解能 TEM 像や電子回折図形をデジタルデータで撮影することができます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子

加速電圧

80 or 200 kV

型式JEM-ARM200F

電子銃

冷陰極型フィールドエミッション
透過電子顕微鏡（TEM）

観察モード▼詳細は二次元コードからご覧ください

走査透過電子顕微鏡（STEM）
電子回折（ED）
エネルギーフィルター（EFTEM）

分析機能

エネルギー分散型 X 線分光器（EDS）
電子エネルギー損失分光器（EELS）
CCD カメラ①：中低倍および電子回折用

記録装置

CCD カメラ②：高分解能用
CCD カメラ③：エネルギーフィルター像の撮影用
一軸傾斜ホルダー,
二軸傾斜ホルダー,
分析用 Be 二軸傾斜ホルダー,

試料ホルダー

加熱二軸傾斜ホルダー,
液体窒素二軸傾斜冷却ホルダー,
界面接合ホルダー,
3 グリッド装着試料ホルダー

遠隔観察

Microsoft Teams 等の Web 会議システムを用いた遠隔立ち合い測定が可能。

12

顕
微
鏡
・
試
料
作
製

低加速電圧ショットキー電界放出形
走査電子顕微鏡（L-FE-SEM）
装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

JSM-7800F は EDS、カソードルミネッセンス検出器
付きの低加速電圧形 FE-SEM です。加速電圧を数 kv 以
下にすることにより、絶縁体、電子ビームで損傷しやす
い材料、高加速電圧では観察しにくい微細構造の観察が
できます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子

加速電圧

0.01～30kV

型式

JSM-7800F

照射電流数 pA～200nA

EDS（オックスフォード製）

電子検出器

下部、反射電子、上部、上部 2 次電子

CL（ガタン MonoCL4Elite）

照射電流子)pA～200nA数

冷却ステージ

減速法対応

対応(試料印加電圧最高 2kv)

倍率×25～×1,000,000

分解能

0.8nm(15kv)、1.2nm(1kv 減速法)

EDS 分析

分析元素 Be～、SiL 線マッピング可能

オプション▼詳細は二次元コードからご覧ください
CL 測定

遠隔観察

13

全光及び分光画像、スペクトル測定、PMT及び CCD、検出波長 200～1600nm
Microsoft Teams 等の Web 会議システムを用いた遠隔立ち合い測定が可能。

電界放出形走査電子顕微鏡（FE-SEM）
装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

JSM-7001F は、EDS および EBSD 検出器付きのショットキー電界放出形走査顕微鏡です。SEM による形態観察の他、オプションで EDS による元素分析や
EBSD による結晶方位解析・結晶粒径評価等を行うことができます。また、対物レンズはアウトレンズ型でレンズ磁場の影響を全く受けないため、磁性材料の観察や分析も可能です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子

加速電圧

0.5～30kV

型式

JSM-7001F

電子検出器

二次電子、反射電子

オプション

EDS（Thermo Fishier 製）

照射電流

子)
～200nA製）
EBSD（AMETEK 製）

倍率

×10～×1,000,000

分解能

1.2nm(30kv)、3.0nm(1kv)

EBSD 測定

最大速度 1000 point/s▼詳細は二次元コードからご覧ください

遠隔観察

Microsoft Teams 等の Web 会議システムを用いた遠隔立ち合い測定が可能。

14

走査電子顕微鏡（W-SEM）
装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

多機能汎用 SEM です。EDS による元素分析が可能です。低真空モードにより絶縁物観察が前処理なしで
行えます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子

型式

JSM-IT200LA

電子銃

W フィラメント（完全自動ガンアライメ
ント）
高真空モード 3 nm(30 kV),

分解能

8 nm(3 kV), 15 nm(1 kV)
低真空モード 4 nm(30 kV BED)

▼詳細は二次元コードからご覧ください
倍率

画像モード

× 5 ～× 300,000（画像サイズ 128 mm
× 96 mm にて）二次電子像、反射電子像（組成像、凹凸像、立体像）

低真空圧力

10 ～ 100 Pa

加速電圧0.5 kV ～ 30 kV
スペクトル収集・点分析、定性分析・定量

EDS 機能分析、元素マッピング、プローブトラッキ
ング

遠隔観察

試料サイズ
分析不可

15

Microsoft Teams 等の Web 会議システムを用いた遠隔の立ち会い測定が可能
試料台：直径 10 mm，直径 32 mm
高さ：30 mm まで
水分やガスを多く含むもの、磁性材料

複合ビーム加工観察装置（FIB-SEM）
装置紹介
FIB 機能と SEM 機能を同時に備えた複合ビーム加工観察装置です。SEM はハイブリッドコニカル対物レンズを搭載した低加速電圧型 FE-SEM で、高分解能観察が可能です。FIB は断面加工・TEM 試料作製・ビットマップ加工等が行えます。また、SEM 観察と FIB 加工を繰り返して行うことで SEM・EDS・EBSD の 3 次元構造解析が可能です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子

SEM（電子ビーム）

型式

JIB-4700F

加速電圧0.1kV～30.0kV

EDS（日本電子製）

倍率×10～1,000,000 (LDF モード搭載)

EBSD（AMETEK 製）

像分解能

1.2nm (15kV, GB) 、1.6nm (1kV, GB)

Omni Probe：
試料室内ﾅﾉﾏﾆﾋﾟｭﾚｰﾀｰビーム電流

TAP,PETJ,LIF,LDE1H,LDE2H
1pA～300nA

オプション（ｵｯｸｽﾌｫｰﾄﾞ-ｲﾝｽﾂｩﾙﾒﾝﾂ製）

遠隔観察

FIB（収束イオンビーム）
加速電圧1kV～30.0kV

STEM（DEBEN 製）

倍率

×50～×1,000,000

大気非暴露ﾄﾗﾝｽﾌｧｰｼｽﾃﾑ

像分解能

4nm (30kV)

Microsoft Teams の Web 会

ビーム電流時)TAP,PETJ,LIF,LDE1H,LDE2H
1pA～90nA、13 段階議システムを用いた遠隔立ち

加工形状

矩形、線、点、円、ビットマップ

合い測定が可能EDS▼詳細は二次元コードからご覧ください

検出可能元素

B～U

有効検出面積30mm2

Mn 分解能129eV 以下

EBSD
検出器

Orion

最大取込速度

3000 point/s

データ取得

APEX

ソフト

16

顕
微
鏡
・
試
料
作
製

集束イオン/電子ビーム複合ビーム加工観察装置（FIB-SEM）
装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

1 台で FIB 加工から SEM 観察まで可能な複合ビーム
加工観察装置です。FIB での加工状況が SEM 画像でリ
アルタイムにモニターすることができます。無人断面試料作製が可能な自動加工レシピと試料保護膜作製用ガス
インジェクションシステムを搭載しています。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子

FIB

集束イオンビーム型式

JIB-4500

イオン源

Ga 液体金属イオン源

加速電圧

1～30kV

倍率×3(視野探し)、×100～×300,000

像分解能

5nm(30kV 時)

ビーム電流0.5pA～30nA(30kV 時)

SEM

電子ビーム

加速電圧

0.3～30kV

倍率×5×300,000

像分解能

2.5nm(30kV 時)

ビーム電流

1pA～1uA▼詳細は二次元コードからご覧ください17

走査型プローブ顕微鏡
（SPM）
装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

試料表面を微小なプローブ（探針）で走査し、試料の三次元形状や局所的物性を高倍率で観察する顕微鏡で
す。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

島津製作所

型式

SPM-9700

観察モード

コンタクトモード、ダイナミックモード、
位相モード、水平力モード、フォースモジ
ュレーションモード、磁気力モード▼詳細は二次元コードからご覧ください

分解能

XY：0.2 nm、Z：0.01 nm

最大走査範囲30 μm□ x 5 μm

試料最大形状φ24 mm x 8 mm

分析対象

薄板状試料

18

ウルトラミクロトーム

装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

透過型電子顕微鏡（TEM）観察で必要な高品質な超薄切片（厚さ約 100 nm），走査型電子顕微鏡（SEM）あるいは原子間力顕微鏡（AFM）観察で必要な高い面精度の断面を作製できます。
室温で軟らかい試料は凍結させて切削することもできます（凍結切片作製可能）。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

ライカマイクロシステムズ

型式

Leica EM UC7, FC7

実体顕微鏡

×9.6～×77

M80 倍率
切削ウィンドウ

0.2-14 mm

電動切削時の0.05-100 mm/s

切削スピード▼詳細は二次元コードからご覧ください

電動切削時の送

0-15000 nm

り（切片厚さ）
電動切削時の10, 30, 50mm/s

戻り速度

19

ステップコント

0.1 ～15 μm

ロール
切削制御温度-140℃～室温

凍結試料作製装置

装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

凍結試料作製装置は、軟試料，含水試料を凍結した
まま高真空中でフリーズ・フラクチャー法やフリー
ズ・エッチング法などにより試料本来の形態を保持し、蒸着により超微粒子のレプリカ膜を得て、電子線顕微鏡観察に適した試料を作製するための装置です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子

排気系

完全自動排気、ターボ分子ポンプ仕様

型式

JFD-Ⅱ（EM-19500）

到達真空度

5E-5 Pa 以下

温度コントロー

+ 40℃～-170℃、自動制御、デジタル表

ル

示

試料回転

モータ駆動

試料傾斜

0～90°

ナイフ移動

マイクロメータ二段方式

観察ルーペ

×10 切替方式

蒸着

マテリアル送出方式、2 極切換方式

マテリアル

Pt-C、C

試料交換

ロードロック方式

ナイフ交換

ロードロック方式

マテリアル交換

ロードロック方式

分析対象

軟試料，含水試料▼詳細は二次元コードからご覧ください20

冷却クロスセクションポリッシャー
（CCP）
装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

SEM や EPMA での観察・分析の前処理として最適な断面作製装置です。ブロードな Ar＋イオンビームを使い断面作
製を行います。
この装置では断面ミリング・平面ミリング・イオンビー
ムスパッタコーティングが可能です。
試料を液体窒素冷却する事によりイオンビームによる熱ダメージを軽減させる事ができます（-120～０℃まで調整可能、断面ミリングのみ）。また、加工の様子をモニターで確認できるため、従来多かった削り残し・削りすぎの失敗を防げます。さらに、大気非曝露機構により、加工から観察までを大気非曝露環境下で行うことが可能です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子株式会社

■共通部分

型式

IB-19520CCP

イオン加速電圧2kV～8kV■断面ミリング

ミリングスピード

500um/h 以上(8kV)

・広域ミリング

使用ガス

アルゴン

・カーボンコーティング■断面ミリング・日本電子製 SEM,EPMA の冷却温度設定範囲-120℃～0℃

試料スイング±30°自動スイング機能

広域断面ミリング

8mm

最大加工
最大搭載試料サイズ
幅:8mm（幅 x 長さ x 厚さ）11mm × 8mm × 3mm

その他

大気非曝露機構、間欠モード

オプション

互換ホルダー■平面ミリング
・大型試料用平面ミリング・カーボンコーティング▼詳細は二次元コードからご覧ください

25mm × 15mm × 10mm
※広域加工ホルダー使用時■平面ミリング21

傾斜0～90 度

試料回転数3±2rpm 固定

最大搭載試料サイズ

40mm (直径)×15mm (厚さ)

その他

冷却および大気非曝露は不可

ワイヤーソー

装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

超小型高剛性ダイヤモンドワイヤーソーです。10mのつなぎ目のないワイヤーを巻き取りドラムで往復させながら切断します。
湿式カットはもちろん、乾式カットでも熱の影響を最小限にとどめることができるので、酸化しやすい試
料、水や油で変性してしまう試料の切断も可能です。
層構造の断面・クラックの生じやすい試料も加工可能です。#800 レベルのフラットな断面出しが可能で、CP の前処理装置としても最適です。
デジタルマイクロスコープ搭載で、数十 µm の局所切断が可能となります。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

メイワフォーシス

型式

DWS3500P

オプション

日本電子製クロスセクション

ワイヤー間隔

ポリッシャー専用ホルダー取

サイズ

付け可

試料サイズ

30×30×10mm 以下推奨

試料台

セラミックΦ30mm プレート

ワイヤー種類

ワイヤー径：標準Φ300μm
ダイヤモンド粒形：標準 60μm
60mm

複合材料や軟性材料などの多様な試料に
試料状態▼詳細は二次元コードからご覧ください

対応可能。超鋼材料などの硬い試料は要相談

22

オスミウムコーター

装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

「直流グロー放電による負グロー相領域内でのプラズ
マ製膜法」を用いた、主に走査電子顕微鏡試料用の導電性薄膜作製装置です。
試料に導電性を持たせるために通常用いられる金や白
金や白金パラジウム合金などのコーティングでは、高倍率の観察では金属粒子が目立つようになりますが、上記の製膜法では非晶質のオスミウム薄膜が形成されるので、高倍率(10 万倍以上)の観察でもオスミウム粒子が見えません。
また、回り込みが良いため、凹凸の大きい試料でもチャージアップしにくいという特長もあります。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

フィルジェン

製膜速度

数 nm/数秒

型式

OPC60A

生成膜厚3nm～数 100nm

最大試料サイズ

直径 36mm▼詳細は二次元コードからご覧ください23

高さ 14mm

白色共焦点顕微鏡

装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

キセノン光源白色光（RGB 分離）を使用しております。高速サンプルレートが可能です。
反射分光測定による 1μm～nｍの膜厚測定、高温環境下での表面形状測定ができます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

レーザーテック

型式

OPTELICSHYBRID

波長種類
C3

測定種類
測定可能膜厚▼詳細は二次元コードからご覧ください

試料室環境

白色光源および 6 波長選択機能
高さ測定、線幅測定、表面粗さ測定（JI
S、ISO 対応）、３D 表示
1μm～nｍの透明膜の膜厚測定
室温～1000℃の高温加熱ステージ（真空、不活性ガス、大気中での測定）
100×100mm 以下

試料サイズ

高温加熱ステージの場合、5mmΦ×1mm
（h）以下

24

共焦点レーザー顕微鏡

装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

高解像度の蛍光イメージ画像や三次元情報の取得、および経時観察によるダイナミクス評価が可能です。観察対象は、材料および生体細胞などとなります。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

CarlZeiss

型式

LSM880▼詳細は二次元コードからご覧ください

顕微鏡
搭載レーザー

Diode (405nm), Ar (458/488/514nm),
HeNe (543, 633nm)

対物レンズ

10, 20, 40 倍, 63 倍(油浸)インキュベート

有（CO2 インキュベーター付属）機能状態

固体（湿潤も OK）

物質

生体細胞・組織、セラミックス、有機物

サイズ

25

倒立型

一般的な倒立型顕微鏡にのるサイズ（数cm 程度）

多光子励起レーザー走査型顕微鏡

装置紹介
顕
微
鏡
・
試
料
作
製

2 光子励起現象を利用して蛍光観察する装置です。
通常の蛍光観察に比べて、標本に与えるダメージが小さく、より深部の観察が可能です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

オリンパス

型式

FV1200MPE-M-MKM▼詳細は二次元コードからご覧ください

検出器
レーザー

正立型, 落射・透過蛍光検出器
MaiTai，Ti:sapphire レーザー，波長690-1040 nm

画素数

64×64~4096×4096pixel

スキャン速度

2～200 µs

次元

XYZT

分析対象

組織・細胞・固体26

顕微蛍光 X 線分析装置

装置紹介
蛍光 X 線分析と透過 X 線の同時観察が可能です。
世界最小 10μｍおよび 1.2mm プローブ搭載しております。
点およびマッピング測定に対応可能、真空環境下および大気環境下での測定可能です。
表
面
分
析
・
分
光

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

堀場製作所

測定原理

エネルギー分散型蛍光 X 線分析装置

型式

XGT7200V

X 線照射径φ10μm および 1.2mm

測定対象元素

Na～U

試料室環境

大気・真空

試料台サイズ100mm 四方状態

固体、粉末、液体状試料▼詳細は二次元コードからご覧ください27

切りかえ可能電界放出形電子プローブマイクロアナライザー（FE-EPMA）
装置紹介
電子プローブマイクロアナライザ（FE-EPMA）は固体
表面に電子線を照射し、二次電子や反射電子などによる像観察と同時に、試料から発生する特性 X 線を検出して、構成元素とその量を測定することができます。
金属、半導体、セラミックス、鉱物などの定量分析、
定性分析、さらに線分析、面分析、相分析ができます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子

型式

JXA-8530F

オプション

EDS（Thermo Fishier 製）▼詳細は二次元コードからご覧ください

分析元素範囲X 線分光範囲

WDS:B～U

EDS:B～U

WDS 分光範囲:0.087～9.3nm
EDS エネルギー範囲:20KeV

分光器

TAP,PETJ,LIF,LDE1H,LDE2H

加速電圧1～30kV

照射電流範囲10-12～5×10-7A

二次電子分解能3nm(WD:11mm,30kV)

分析条件最小40nm(10kV,1×10-8A)

プローブ径

100nm(10kV,1×10-7A)

走査倍率×40～×300,000(WD:11mm)

遠隔観察

Microsoft Teams 等の Web 会議システムを用いた遠隔立ち合い測定が可能。

28

表
面
分
析
・
分
光

電界放出形オージェ電子分光装置（FE-AES）
装置紹介
電界放出形オージェ電子分光装置(AES;JAMP-9500F)
は、試料に電子線を照射し、試料から発生するオージェ
電子のエネルギーを測定することで、表面から数 nm の深さの組成およびその化学状態を分析する表面分析装置です。AES の分析領域は、電子線のプローブ径で決まる
ため、高い空間分解能が得られるのが特徴です。静電半球型アナライザーを用い、マルチチャンネル多重検出器とオージェ分析用に最適化した入射レンズにより、高感
度 ・ 高エネルギー分解能のスペクトルが得られます。

表
面
分
析
・
分
光

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子

分析元素範囲Li～U

型式

JAMP-9500F

最小プローブ径8nm（25 kV、1 nA）

深さ方向分析

分光器

静電半球形アナライザー(HAS)

オージェ像元素マッピング

エネルギー分解0.05～0.6 %ラインプロファイル

能（ΔE/E）
検出器

チャンネルトロン（7ch.）による多重検出

イオン銃（エッチング、中

加速電圧

0.5～30 kV

和）

照射プローブ電

10-11～2×10-7 A

流
イオン銃

加速電圧

(中和機能組込)

イオン電流量：3 kV で二次電子分解能3nm（25 kV、10 pA）

倍率×25～×500,000

試料室到達圧力

5×10-8 Pa 以下

オプション▼詳細は二次元コードからご覧ください：0.01～4 kV
2 μA 以上

スペクトル、深さ方向分析、オージェ像元
データ収集

素マッピング、ラインプロファイル、二次
電子像

データ処理

遠隔観察

29

定性・定量分析、微分・平滑化、画像処理、ピーク分離
Microsoft Teams 等の Web 会議システムを用いた遠隔立ち合い測定が可能

走査型デュアル X 線光電子分光分析装置
(XPS)
装置紹介
Cr Kα線(5415eV)と従来の Al Kα線(1487eV)の 2 線源を搭載した X 線光電子分光分析装置(HAXPES,XPS)です。X 線を走査することができるため、化学結合状態の面分析や多点同時分析が可能です。Ar イオン銃とアルゴンガスクラスターイオン銃（Ar-GCIB）を装備しており、スパッタリングによる深さ方向分析では高い深さ分解能な測定が行えます。また Ar-GCIB では、

表
面
分
析
・
分
光

有機物の低損傷スパッタリングが可能です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

アルバック・ファイ

型式

PHI Quantes
トランスファーベッセル(1inch サンプルホルダー)
処理室用補助チャンバー

オプション

X 線源
検出器
エネルギー分解能(試料破断装置，赤外線加熱ヒーター装備)Al Kα線(1487eV)：ビーム径 7.5μm～200μm
Cr Kα線(5415eV)：ビーム径 14μm～200μm
静電半球形エネルギーアナライザー
マルチチャンネルディテクタ（32ch）
Al Kα線：最高 0.48eV（Ag 3d5/2 の FWHM）
Cr Kα線：最高 0.85eV（Ag 3d5/2 の FWHM）
Al Kα線：3,000,000cps（Ag 3d5/2，FWHM

最大感度

1.3eV 以下） Cr Kα線：10,000cps（Ag
3d5/2，FWHM 1.3eV 以下）

アルゴンクラスターイオン銃（Ar-GCIB）

最小分析径

Al Kα線：7.5μm 以下

試料ステージ加熱・冷却機構

X 線スキャン範囲

Cr Kα線：14μm以下
最大1.4mm×1.4mm（連続可変）▼詳細は二次元コードからご覧ください

最小分析径

Al Kα線：7.5μm 以下
Cr Kα線：14μm 以下

イオン銃加速電圧

0.1～5kV

イオン銃

最大 5mm×5mm（連続可変）クラスター範囲
帯電中和

低加速イオン+電子

二次電子像観察SXI（両線源とも可能）

ステージ

5 軸（X,Y,Z,T,R）

ナビゲーション

イントロ写真，SXI

30

飛行時間型 2 次イオン質量分析装置（TOF-SIMS）
装置紹介
飛行時間型 2 次イオン質量分析装置(TOF-SIMS)では、表面と吸着する原子状及び分子状の物質を静的に表面から引き離し、その分子量を同定します。
Ar クラスタービームを用いることにより有機物の深さ
方向分析が可能となります。
表
面
分
析
・
分
光

例えば、Li イオン電池の表面近傍の Li や他の不純物の吸着状態を観測するなどに利用できます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

アルバック・ファイ

型式

PHI TRIFTV nanoTOF

1 次イオン銃

Bi3++
Ar ガスクラスター銃(GCIB)：有機物用

スパッタ銃

Cs イオン銃
Ar/酸素ガスイオン銃

質量分析▼詳細は二次元コードからご覧ください
質量分解能
試料導入
試料サイズ
状態
真空

31

飛行時間型質量分析計
無機材料：9000M/Δm 以上
有機材料(PET)：9000M/Δm 以上
トランスファーベッセルの使用可
10mm×10mm 程度（その他のサイズも可能．要相談）
ウェハ状，パウダー状
試料は事前に 10-5 Pa に到達するまで真空引きが必要

グロー放電発光表面分析装置

装置紹介
めっき・熱処理などの表面処理、スパッタ・蒸着などの成膜といった技術は、鉄鋼・非鉄・自動車・半導体・エレクトロニクス・ナノテクノロジーなど様々な分野で活用される要素技術です。
その研究開発や生産技術応用などの場面で、深さ方向元素分析：rf-GD-OES を活用することで、表面処理・成膜で形成された皮膜の評価・解析を迅速に行う

表
面
分
析
・
分
光

ことができます。（堀場製作所 HP より）

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

堀場製作所

分析可能元素H～U

型式

GD-Profiler2-MN

検出下限

10ppm

深さ分解能

数 nm

分析対象

平板

▼詳細は二次元コードからご覧ください

32

ICP 発光分光分析装置

装置紹介
ICP 発光分光分析装置（ICP）は高温プラズマ中に試料を噴霧し、生成する解離原子およびイオンの発光スペク
トルから、元素の種類とその量を測定します。
多元素同時測定ができるマルチチャンネル型で、ppbppm の幅広い濃度範囲の多元素を一斉に測定できます。
表
面
分
析
・
分
光

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

島津製作所

最大高周波出力

1.6kW

型式

ICPE-9820

波長範囲
分光器

エシェル分光器

オートサンプラ

波長範囲

167-800nm

横方向観測ユニット

検出器

半導体面検出器(CCD)

フッ酸試料導入システム

分解能≦0.005nm@200nm

観測方向

軸・横方向観測

プラズマトーチ

ミニトーチ

ネブライザー

同軸形

試料噴霧室

サイクロンチャンバー

オプション▼詳細は二次元コードからご覧ください

波長自動選択機能
ソフトウェア

共存元素情報自動作成
定性分析
時)
定量分析（全波長域データ保存可能）

分析対象

33

定時)時)定時)
50～170eV(回折格子
JS50XL)JS50XL)
酸性水溶液（フッ酸使用の場合は要相談）フーリエ変換赤外分光光度計（FT-IR）
装置紹介＜ATR 測定＞赤外光の吸収が大きな試料で透過測定が困難な場合に用います。試料（固体，粉体あるいは液体）を屈折率の大きな、赤外光透明な媒体（ZnSe と Geを常備）に密着させ、媒体中を赤外光に全反射させて測定します。＜顕微測定＞[ 650-6,000 cm-1]透過、反射、ATR、RAS 測定が可能です。 倍率×16 倍の光学顕微鏡で試料を観察しながらマッピング測定、ライン測
定、多点測定ができます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本分光

測定可能波数

型式

FT/IR-6300， IRT-5000

領域

400-7,800 cm-1

・ATR アクセサリ（ZnSe, Ge）
・窒素置換可能な温度可変ステージ
アタッチメント▼詳細は二次元コードからご覧ください

レーザーラマン分光装置と共用のステージです。FTIR 測定時における可変温度範囲
は 270K～900K です
透過測定：面積 5×5μm 以上、厚み 0.1～10μm
反射法：面積 10×10μm 以上、厚み 0.1
～5μm

分析対象

ATR：面積 10×10μm 以上、厚み 0.1～数μm(もぐりこみ深さ)
RAS 法：面積 50×50μm 以上、厚み数
10Å～0.1μm
温度可変ステージ利用の場合、直径1.8cm, 高さ 3mm 以下

34

表
面
分
析
・
分
光

レーザーラマン分光装置

装置紹介
多くの装置に搭載されている 532 nm の励起レーザーに加えて、蛍光性試料も測定できるように長波長のレーザーを備えたラマン分光光度計です。本装置の顕微鏡は明視野観
察と暗視野観察を組み合わせた特殊な照明系を採用しており、測定位置の探索が容易に行えるよう工夫されていま
表
面
分
析
・
分
光

す。偏光測定や温度可変測定のためのアタッチメントも備えています。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本分光

測定可能波数

型式

NRS-5500

領域
レーザー波長50～8000cm-1

532nm，633nm，785nm
5 倍，20 倍，50 倍，100 倍

対物レンズ▼詳細は二次元コードからご覧ください※50 倍と 100 倍は MIX 観察（明視野・暗視野の同時観察）に対応
・アンチストークス用レーザーフィルタ

アタッチメント・窒素置換可能な温度可変ステージ(温度可変範囲 180K～900K）（フーリエ変換赤外分光光度計と共用）
固体、液体
表面の傾斜が急・凹凸が激しい試料、容器

分析対象内の試料等を測定したい場合は、レンズと試料が接触しない距離を考慮する必要があります。温度可変ステージ利用の場合、直径 1.8cm, 高さ 3mm 以下

35

時間分解赤外分光装置

装置紹介
ナノ秒パルスレーザーや急速溶液交換装置などを利用して、サンプルの光反応や溶液反応などに伴う赤外吸収
スペクトルの変化を時間分解計測する装置です。フィル
ム状の試料や液膜、全反射減衰光学系（ATR)、赤外顕微鏡による計測が可能です。

装置概要

装置性能および仕様
4000-8000 cm-1 程度

メーカー

Bruker

観測領域

型式

VERTEX80HYPERION3000（波数）

LS-2134UT-10, LT-2214U

測定温度範囲10℃から 70℃程度（LOTIS TII）

赤外窓板サイズΦ25mm（厚さ 2mm 程度）

オプション

表
面
分
析
・
分
光

ナノ秒パルスレーザー（Nd:YAG）532,
励起光

355 nm および OPO による波長可変（450 nm～600 nm 程度）▼詳細は二次元コードからご覧くださいサンプル

内径 25mm

ホルダー

HARRICK 社製 TFC-M25-3

状態

液体、固体

物質

タンパク質、高分子、錯体など

濃度観測する赤外線の吸収が 2 O.D.程度以下

36

3 次元顕微蛍光寿命イメージング装置

装置紹介
顕微鏡と蛍光寿命装置を組み合わせたことで３次元の顕微蛍光寿命イメージングが可能です。

表
面
分
析
・
分
光

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

東京インスツルメンツ

顕微鏡

型式

NF-3DFLIM-N03

分光器・光学系

励起波長：375-633＋750-850nm
検出波長：400nm～1050nm
分光器：焦点距離 52cm

▼詳細は二次元コードからご覧ください

レーザースキャ

XY:＞80μm、分解能 20nm(ステアリング

ニングユニットミラー)
Z:100μm、分解能 2nm(ピエゾステージ)

CCD 検出器
LD 励起 YVO4

CW グリーンレーザー

レーザー
フェムト秒チタ

750-850nm,

ンサファイヤレ

700mW/100fs/80MHz@800nm

ーザー
分析対象

37

液体、固体試料での評価が可能

高感度近赤外型
絶対 PL 量子収率測定装置
装置紹介
発光スペクトル、PL 励起スペクトルなどが測定できます。
また、フォトルミネッセンス法を用いて発光量子収率の絶対値を瞬時に測定することができます。
近赤外計測ユニット、高出力キセノンランプユニッ
ト、フィルタユニットを追加しており、近赤外域(1650nm)までの測定および低量子収率の評価も可能

表
面
分
析
・
分
光

です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

浜松ホトニクス

PL 計測波長範囲

300 nm ～ 1650 nm

型式C13534-23

励起波長250 nm ～ 850 nm(Xe150W)
励起波長(高出力

375, 400, 475, 525 ± 50 nm

Xe ランプ)▼詳細は二次元コードからご覧ください

測定温度

室温、77 K(溶液試料のみ)

状態

液体、固体粉末、フィルム

物質

有機物、錯体、高分子

38

ナノ秒時間分解分光測定装置

装置紹介
光励起後のりん光物質等の 100 ナノ秒以上から 1秒程度の長寿命な化学種の時間分解発光スペクトル及び過渡吸収スペクトルの測定が可能です。

表
面
分
析
・
分
光

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

ユニソク

測定波長範囲300nm～1600nm

型式

TSP-2000

励起光源

355nm または 532nm

測定可能温度特殊測定▼詳細は二次元コードからご覧ください

室温（固体）－80℃から 50℃（溶液試料のみ）
一重項酸素の発光寿命測定
発光寿命測定の場合
10mm の枝管付き蛍光測定用セル内のレ状態

ーザー照射位置にあれば測定可能
過渡吸収測定の場合溶液状態で、紫外可視吸収スペクトルの情
報が必要

物質

39

有機物、錯体、高分子

薄膜結晶用 X 線回折装置
（XRD）
装置紹介
多彩な薄膜評価手法の利用が可能な X 線回折装置。試料を水平保持のまま設置ができます。
一般的な粉末試料では集中法、反りや歪みのある試料
では測定面の位置ずれの影響を受けにくくするため平行ビーム法を用います。
Out-of-Plane 測定、In-Plane 測定による結晶構造の評価や反射率測定、ロッキングカーブ測定による膜厚や配向状態の評価を行うことができます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

リガク

X 線発生装置

回転対陰極式

型式

SmartLab

最大定格出力9kW

カウンターモノクロメータ

定格電圧20~45kV

1 次元検出器（D/texUltra）

定格電流10~200mA

5 軸ゴニオメータ

ターゲット

Cu

オプション

入射光学系

▼詳細は二次元コードからご覧ください

入射光学系

受光光学系
ゴニオメータ

物
理
物
性
・
測
定

集中法/平行法、Ge(220) 2 結晶モノクロ
メータ, Ge(220) 4 結晶モノクロメータ
ソーラースリット、グラファイトモノクロ
メータ、Ge 2 結晶アナライザー
シンチレーションカウンタ、一次元検出器(D/teX Ultra)
試料水平保持方式
2θ－θ測定、ロッキングカーブ測定、測定の種類

in plane 測定、逆格子空間マッピング、
極点測定、反射率測定

温度

常温のみ

状態

薄膜、多結晶、粉末、単結晶

物質

金属、無機化合物、有機物、高分子

最大試料サイズ

直径 150mmx21mmt 以内

40

粉末･多結晶用 X 線回折装置
（XRD）
装置紹介
一般的な粉末 X 線回折装置。試料を水平保持のまま設置ができます。
高分解能・高速 1 次元Ｘ線検出器 D/teX Ultra 250
は、高速集中法測定に対応しています。バックグラウン
ドレベルを抑えた測定が可能で、強度積算効果により微量成分の検出も容易です。
またモノクロメータを装着しているためバックグランドの原因となる蛍光 X 線を軽減させることができます。

装置概要
物
理
物
性
・
測
定

装置性能および仕様

メーカー

リガク

X 線発生装置

封入管式

型式

SmartLabSE

最大定格出力3kW

カウンターモノクロメータ

定格電圧20~60kV

1 次元検出器

定格電流2~60mA（D/texUltra250）

ターゲット

Cu

入射光学系

集中法

オプション

▼詳細は二次元コードからご覧ください

入射光学系

ソーラースリット、グラファイトモノクロ
メータ

受光光学系

1 次元検出器

ゴニオメータ

試料水平保持方式

測定の種類

2θ－θ測定

温度

常温のみ

状態

多結晶、粉末物質

金属、無機化合物、有機物、高分子

4141D/tex Ultra250

単結晶 X 線構造解析装置
（XRD）
装置紹介
化学的または生物学的物質が単結晶に結晶化すると
き、X 線回折の技術を使用してそれらの三次元を決定することができます。 この手法は、他の方法ではアプロー
チできない方法で分子寸法の正確な測定を提供し、絶対構造を明確に決定する唯一の方法です。 頻繁に使用されるのは、天然物または合成化学実験の生成物の識別です。 ただし、詳細な分子構造、分子間相互作用、絶対配置も調べることができます。（リガク HP 引用）

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

リガク

ターゲット

Cu、Mo どちらかを選択

型式

VariMax with RAPID

対象

有機・無機化合物単結晶

サイズ0.05 ～ 1mm 角形状

板状結晶が望ましい

対象

有機・無機化合物単結晶

物
理
物
性
・
測
定

▼詳細は二次元コードからご覧ください42

読取機能一体型
X 線ラウエカメラシステム
装置紹介
ラウエパターンの記録・読み出しが全自動で可能です。イメージングプレート方式を採用し、単結晶の切断治具が付帯しております。

装置概要
物
理
物
性
・
測
定

装置性能および仕様

メーカー

X 線サイエンス

品名

1.5Kw

標準型 X 線発生装置

型式

IP ラウエカメラ

標準型式

IPX-YGRIP 読取り機能付きラウエカメラを搭載可能。防 X 線ケースは暗箱。装置外周面の概要

漏洩 X 線量は 0.2μSV/h 未満で自然計数▼詳細は二次元コードからご覧ください

値と変わらない。
最大電圧

50kv

最大電流

30mA

X 線管球

W(タングステン)

安全機構

FS 機構、シグナルタワー

寸法

約 W620mm×D660mm×H1120mm

状態

固体

物質

金属

43
43

型式

IPX-X(W)X 線 CT 装置

装置紹介
対象物に様々な方向から X 線を照射して得られたデータをコンピュータで処理することにより、三次元画像を作成します。本装置により、金属や樹脂製品、あるいは生体硬組織の内部構造を、非破壊で三次元的に評価できます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

島津製作所

X 線源

密封型 135W

型式

inspeXio SMX-225CT

最大管電圧

225kV

最大管電流

1000μA

X 線検出器

イメージインテンシファイア

搭載可能試料

最大 φ300mm×H300mm 最大 9kg▼詳細は二次元コードからご覧ください

物
理
物
性
・
測
定

サイズ
CT データ10sec～30min

収集時間

44

表面粗さ計装置紹介
触針を試料表面に落とし横方向に移動させ、試料表面の形状にそった触針の上下動を増幅することで、形状プ
ロファイルが得られます。

装置概要
物
理

メーカー

物
性
・
測
定

型式

装置性能および仕様
東京精密

縦方向分解能0.1nm

SURFCOM 1400G（高倍

触針測定力

0.2mN

率）

出力

CSV

縦方向分解能0.1nm

分析対象▼詳細は二次元コードからご覧ください

45
45

状態基板上の堆積膜など多様な試料に対応可能。

物理特性測定システム（PPMS）
装置紹介
多種多様な物理特性（熱特性、機械特性、磁気特性、
電気特性、表面特性）を自動で測定するシステムです。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本カンタム・デザイン

温度範囲

1.9 K～400 K

型式

PPMS-9磁場範囲

9 T, 14 T, 16 T

物理
（横磁場 7T）

物
性
・
測
定

緩和法、試料サイズ：1～500 mg、分解
比熱測定

能：10 nJ/K@2 K
測定精度：±5%（2~300 K）▼詳細は二次元コードからご覧ください
熱輸送測定
（TTO)

同時に試料の熱伝導率、ゼーベック係数、
電気抵抗の測定および熱電性能指数（メリット係数）を算出

電気輸送特性4 端子法の電気抵抗や数 MΩの試料でホー（ETO)

ル効果測定を行うことが可能
抵抗測定のための 4 つの電極（I+、I-、
V+、V-）が 3 チャンネル用意されてお直流抵抗（DC)り、3 チャンネルそれぞれで 4 端子法での抵抗測定が可能・抵抗測定範囲：10μΩ～5MΩ
・電流範囲：2nA～8mA

46磁気特性測定システム（SQUID）
装置紹介
SQUID（超伝導量子干渉素子）を使用することにより超高感度の測定を可能とした磁気特性測定システム
です。

装置概要
物
理
物
性
・
測
定

装置性能および仕様

メーカー

日本カンタム・デザイン

温度範囲：1.8 K ～ 400 K

型式

PPMS-9F

冷却速度：30 K/min

超低磁場(ULF)
オプション

高温測定（Oven）

温度制御

10 K/min
温度安定度：± 0.5%交流磁化測定（AC）

温度精度：± 1% または ±0.5 K 以下

電気輸送特性（ETO)

温度分解能：±0.05K
試料空間：φ9mm
磁場範囲：±70,000 Oe（±7 T)
磁場制御▼詳細は二次元コードからご覧ください

磁場均一度：4 cm の範囲で 0.01%
磁場可変速度：4 ～ 700 Oe/sec
残留磁場：5 Oe 未満
最大レンジ：
2emu (DC）, 100emu（VSM)
感度：VSM
1×10-8emu（2500 Oe 以下において）

測定感度

8×10-8emu（2500 Oe 超において）
DC モード
5×10-8emu（2500 Oe 以下において）
6×10-7emu（2500 Oe 超において）
振幅

47
47

0.1 ～ 8 mm（peak to peak）

ホール効果測定システム

装置紹介
室温と 77K においてホール効果を測定することができ、薄膜の pｎ判定、キャリア濃度、移動度、導電率の測定が可能です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

Ecopia

測定温度

室温、又は 77K（液体窒素）

型式

HMS-3000

磁場

0.55T

測定温度

室温、77K (溶液試料のみ)

ホール起電力1μV – 2000mV

測定可能な移動1 ~ 107cm2/Vs

度
最大サンプル

6mm×6mm▼詳細は二次元コードからご覧ください

物
理
物
性
・
測
定

サイズ
対象試料

半導体

48

メスバウアー分光装置

装置紹介
原子核によるガンマ線の共鳴吸収スペクトル（メスバウアースペクトル）を通じて原子核を取り巻く電子の局所状態に関する情報を得ることができ、固体試料中の局所的な結晶構造や原子価や磁性などを探る上で、ユニークな測定手段となります。

装置概要
物
理
物
性
・
測
定

装置性能および仕様
WissEl 社、ラボラトリ・イ
クイップメント社、メーカー

Montana Instruments 社、

測定可能原子核57

温度範囲

5 ～ 300 K

日本カンタムデザイン社、他（複合システム）
型式

MVT-1000､MCA3200-M、
CryoAdvance-50、他▼詳細は二次元コードからご覧ください

49
49

Fe、119Sn

電子スピン共鳴装置
（ESR）
装置紹介
ESR 装置本体と高感度・高安定性でコンピュータ制御系を装備しています。データの取得から複雑なデータ解析までをサポートしており、容易な測定操作が可能で、基礎研究からルーチン計測まで幅広い分野で、ハイレベ
ルな応用研究の完全な実施を可能にした ESR 装置です。また「高温キャビティ」を装備することにより、 現在保有している液体ヘリウム、液体窒素の装置と合わ
せ、低温から高温までの一貫した測定ができ、材料の特性評価が可能となっています。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

日本電子

周波数(GHz)8.75~9.65

型式

JES-FA200

マイクロ波出力

0.1mＷ～200mW

キャビティ

TE001 円筒型

物
理
物
性
・
測
定

モード
感度
▼詳細は二次元コードからご覧ください

7×109 (spins/0.1mT)(100kHz 変調)
磁場可変範囲-100~1300mT-170~200℃(ES-DVT4)、50~400℃

測定温度範囲(ES-Z06011T)、77K、極低温は機器取扱責任者にご相談ください。

50

粘弾性測定装置（DMA）
装置紹介
ソフトマテリアルを含む固体試料に曲げや引張り等の周期的な微小変形を与え、それに対応するひずみ量や応力、位相遅れを測定します。
これらの結果から、試料の貯蔵弾性率、損失弾性率、損失正接などの動的粘弾性特性が求められます。

装置概要
物
理
物
性
・
測
定

装置性能および仕様

メーカー

SII ナノテクノロジー

測定温度範囲-150～600℃

型式

DMS6100

周波数範囲

0.01～200Hz

変形モード

曲げ、引張り状態

固体

物質

高分子物質、有機材料▼詳細は二次元コードからご覧ください※圧縮は治具がありません

フィルムあるいは板状(厚み 0.1～3mm、形状

長さ 30mm 以上、幅 5～10mm)

5151

応力制御式レオメーター

装置紹介
応力制御式レオメーターです。低粘度流体からスラリー、ポリマー溶融樹脂などの高粘度流体の粘度や弾性を測定できます。
また、様々なオプションを備えており、磁気粘弾性の測定、顕微鏡による拡大観察＋粘弾性の同時測定、偏光
イメージング＋粘弾性の同時測定、フィルム状溶融樹脂の伸張粘度計測、ねじり変形計測など、様々な測定が可
能です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

Anton Paar AG

型式

MCR-302▼詳細は二次元コードからご覧ください

最小トルク

物
理

0.5nN･m（振動）1.0nN･m（定常回転）

最大トルク

200 mN･m

偏向角0.05 mrad

最小角速度

1e-9 rad/s

最大角速度

314 rad/s

最小角周波数1e-7 rad/s

最大角周波数628 rad/s

ノーマル

0.005N ～ 50N

物
性
・
測
定

フォース範囲ペルチェ(水冷)：-20 ～ 180℃
測定温度

ペルチェ(空冷)： +5 ～ 200℃
対流式オーブン：-150～450℃

分析対象不可腐食性物質，毒物

52

ゼータ電位・粒子径測定装置

装置紹介
水、有機溶媒に分散した粒子の粒子径、表面電位(ゼータ電位)を測定できます。粒子径は、動的光散乱法、ゼータ電位は、光散乱電気泳動法を用いて算出されます。また、静的光散乱法を利用して分子量を測定することも可能です。

装置概要
物
理
物
性
・
測
定

装置性能および仕様

メーカー

Malvern

測定範囲

0.0003 µm – 10 µm

型式

ゼータサイザーZS

測定温度範囲

0-90℃

光源

He-Ne レーザー 633 nm

分析対象▼詳細は二次元コードからご覧ください

試料溶液

有機化合物、無機化合物、高分子、界面活性剤分子など粒子径 60 µL、ゼータ電位 1 mL
測定する粒子径に大きく依存する。(参考濃度

リゾチーム 0.1 mg/mL ～ 40 wt/vol%)53
53

超伝導高分解能

核磁気共鳴装置（NMR・700MHz）
装置紹介
核磁気共鳴装置（NMR）の最も得意とするところは原子核同士のつながりが分かる点にあります。結合による相互作用はスピン結合定数に現れ、空間的な相互作用はNOE(核オーバーハウザー効果)として現れます。現在では様々なパルスシーケンスが開発され、ユーザーは原理を意識することなく簡便に構造解析に利用できます。
本装置は本学最大磁場強度を持つ NMR です。NMR は超電導磁石の静磁場強度が高いほど、横軸の分解能が上がります。そのため、タンパク、糖鎖、核酸など、類似した構造が連鎖して狭い範囲にシグナルが密集している
ようなサンプルの測定・構造解析に適しています。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

JEOL RESONANCE

磁石

超電導磁石（16.45 テスラ）

型式

ECZ700R

観測周波数

プロトン：700MHz

プローブ

5mm ノーマルプローブ

測定方式

パルス波フーリエ方式

1310mm ノーマルプローブ

感度（ C）

400

10mm 低周波核専用プローブ

測定温度範囲-80～120℃

測定可能核種1

使用可能な NMR 管

Φ5mm, 長さ 180mm 以上

適切な試料溶液高40mm

サンプルチェンジャー

24 本▼詳細は二次元コードからご覧ください

化
学
分
析
・
熱
分
析

H, 13C, その他

54超伝導高分解能

核磁気共鳴装置（NMR・500MHz）
装置紹介
核磁気共鳴装置（NMR）の最も得意とするところは原子核同士のつながりが分かる点にあります。結合による相互作用はスピン結合定数に現れ、空間的な相互作用はNOE(核オーバーハウザー効果)として現れます。現在では様々のパルスシーケンスが開発され、ユーザーは原理を意識することなく簡便に構造解析に利用できます。
本装置は 1H, 13C 測定専用です。CryoProbe は検出器
を液体ヘリウム温度に冷却してノイズを低減することにより、検出感度が非常に高く、短時間での測定や低濃度サンプルの測定も可能です。
ECZ700R と比較すると、AV500+CryoProbe は 5 倍以上の感度となります。S/N 比は積算回数の 1/2 乗に比例することから、同じ S/N 比 のスペクトルを得るために必要な積算回数は 1/25 でよいことになり、通常、長時間を要する 13C 測定が数分～数時間で測定でき、劇的に測定時間を短縮することが可能です。
化
学
分
析
・
熱
分
析

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

Bruker磁石

超電導磁石（11.74 テスラ）

型式

AV500 + CryoProbe

観測周波数

プロトン：500MHz

プローブ

DCH プローブ

測定方式

パルス波フーリエ方式

感度（13C）

2500

測定温度範囲室温～50℃

測定可能核種1

使用可能な NMR 管

Φ5mm, 長さ 180mm 以上

適切な試料溶液高40mm

サンプルチェンジャー

60 本▼詳細は二次元コードからご覧ください55

H, 13C超伝導高分解能

核磁気共鳴装置（NMR・400MHz）
装置紹介
核磁気共鳴装置（NMR）の最も得意とするところは原子核同士のつながりが分かる点にあります。結合による相互作用はスピン結合定数に現れ、空間的な相互作用はNOE(核オーバーハウザー効果)として現れます。現在では様々なパルスシーケンスが開発され、ユーザーは原理を意識することなく簡便に構造解析に利用できます。本
装置は低分子の通常測定に十分な性能を有している汎用
機です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

Bruker磁石

超電導磁石（9.39 テスラ）

型式

AV400N

観測周波数

プロトン：400MHz

測定方式

パルス波フーリエ方式
1

感度▼詳細は二次元コードからご覧ください

H：300 (0.1% EB)

13

C：190

測定温度範囲

室温のみ

測定可能核種

1

化
学
分
析
・
熱
分
析

H, 19F, 31P（運用上の制限）

Φ5mm※長い試料管(コック付きなどの特使用可能な NMR 管殊管)でスピナーの上部から 10cm
以上の長さがあるものは、サンプルチェンジャーでの投入はできな
いので NMR 室にご相談ください

適切な試料溶液高40mm

サンプルチェンジャー

60 本

56

固体核磁気共鳴装置
（NMR）
装置紹介
固体 NMR の特徴として「試料の形状を問わず基本
的にそのまま測定できる」という点が挙げられます。
従って多くの場合、特別な前処理などは必要ありません。また、本装置で可能な測定法は固体・液体試料問
わず非常に多岐に渡り、溶液 NMR で主に用いられる構造解析だけでなく分子運動性についても詳細に調べることができます。さらに、「拡散プローブ」を用いれば分子や原子・イオンなどの拡散移動性も調べることができます。例えば、電池用材料中のイオンの拡散係数、ゲル・高分子材料中の溶媒・気体分子の拡散係数が測定できます。
本装置は分光器及び超伝導磁石、コンピュータ、各種検出器などから構成されています。 目的に合わせて検出器を選択し、超伝導磁石に装着して測定を行います。

化
学
分
析
・
熱
分
析

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

JEOL RESONANCE

磁石

超電導磁石（14.1 テスラ）

型式

ECA600II

観測周波数

プロトン：600MHz

測定方式

パルス波フーリエ方式

3.2mmMAS プローブ
▼詳細は二次元コードからご覧ください
8mmMAS プローブ

1mmMAS プローブ

57

最高 MAS 速度：20,000Hz
温度可変範囲：室温～60 度
最高 MAS 速度：8,000Hz
温度可変範囲：室温～100 度
最高 MAS 速度：70,000Hz
温度可変範囲：室温～30 度

FGMAS プローブ

観測可能核種：1H, 13C, 79Br

（3.2mm）

温度可変範囲：室温～40 度

拡散プローブ

温度可変範囲：-60～120 度

広幅プローブ

温度可変範囲：室温～120 度

パルス NMR 分光計

装置紹介
水素核（プロトン）パルス NMR 装置では、ラジオ波の照射により反転した核スピンが時間とともに緩和する
際の自由誘導減衰（FID）から、試料中のプロトンのダイナミックス（動的性質）に関する知見を得ます。例えば、FID シグナルの減衰は固体物質と液体物質で大きく異なりますので、試料中の固体成分と液体成分の組成を決定することができます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

ブルカー・バイオスピン

測定温度範囲-100～200℃

型式

ミニスペック mq

観測周波数

20MHz

温度安定性

標準温度 40℃で±0.01℃

状態

固体・液体
9mmφ x 10mm 程度▼詳細は二次元コードからご覧ください

大きさ

化
学
分
析
・
熱
分
析

（内径 9mmφの試料管の先端 10mm ほどに試料を入れて測定）

58

マトリックス支援レーザー脱離イオン化
飛行時間質量分析計（MALDI-TOFMS）
装置紹介
本装置は、試料プレート上に滴下され乾固した試料を分析する装置です。試料分子を主としてマトリック
ス支援レーザー脱離イオン化（MALDI）によりイオン化し、飛行時間型質量分析計によって分析するものです。行路長 17m のスパイラル型イオン光学系により、分子量を高い質量分解能で分析することができます。また、MS/MS 分析や、質量イメージング分析も
可能です。

装置概要
メーカー
型式

化
学
分
析
・
熱
分
析

装置性能および仕様
日本電子
JMS-S3000 SpiralTOF-plus
2.0▼詳細は二次元コードからご覧ください

イオン化方法（MALDI）

質量分析計

飛行時間型（TOF）

イオン光学系

スパイラル型

飛行距離

17 m

質量分解能
質量精度
感度
測定モード

59

マトリックス支援レーザー脱離イオン化

60000 以上（FWHM,
ACTH fragment1～17 m/z : 2093）
1 ppm 以内（平均誤差）（内部標準法）
500 amol AngiotensinII（m/z : 1046）,
s/n>50正イオン分析モード、負イオン分析モード

高速液体クロマトグラフ/イオンモビリティ
搭載型四重極飛行時間型 MS
装置紹介
本装置は、液体または溶液状態の試料を分析する装置です。試料分子をエレクトロスプレーイオン化法（ESI）などによりイオン化し、飛行時間型質量分析計
によって分析することで、試料の分子量や化学構造に関する情報を得ることができます。イオンの質量を小数点
以下 3 桁まで求めることができる（いわゆるミリマスが得られる）ため、イオンの元素組成を推定することができます。また、イオンモビリティ（IM）分析も可能です。IM は、分子イオンの構造（衝突断面積）や価数によって分離する機能です。

装置概要
メーカー
型式

装置性能および仕様
Waters
SELECT SERIES Cyclic IMS

エレクトロスプレーイオン化法（ESI）
イオン化方法ACQUITY UPLC

ナノフローESI
質量分析計▼詳細は二次元コードからご覧ください

大気圧化学イオン化法（APCI）

四重極型・飛行時間型（TOF）

TOF イオン光学系

リフレクトロン型

質量分解能80000 以上（FWHM, m/z : 785）

質量精度

化
学
分
析
・
熱
分
析

ハイブリッド MS/MS

内部キャリブレーション試薬使用で500 ppb RMS 以内
50 pg/μl ロイシンエンケファリン溶液

感度（0.1 %ギ酸含有 50 %アセトニトリル
水溶液、m/z : 556）を 5μl/分導入、
150000 カウント毎秒以上

測定モード

正イオン分析モード、負イオン分析モ
ード

送液方法

4 液の低圧グラジエント方式

流量範囲0.01～2.00 ml/min

60液体クロマトグラフ高分解能飛行時間型 MS（LC-TOFMS）
装置紹介
本装置は、液体または溶液状態の試料を分析する装置です。試料分子をエレクトロスプレーイオン化法（ESI）などによりイオン化し、飛行時間型質量分析計
によって分析するもので、試料の分子量や化学構造に関する情報を得ることができます。イオンの質量を小数点
以下 3 桁まで求めることができる（いわゆるミリマスが得られる）ため、イオンの元素組成を推定することができます。また、イオンモビリティ（IM）による分離を行うことも可能です。

装置概要
メーカー
型式

装置性能および仕様
WatersSynapt G2 HDMS

エレクトロスプレーイオン化法（ESI）
イオン化方法Acquity

ナノフローESI
質量分析計

化
学
分
析
・
熱
分
析

▼詳細は二次元コードからご覧ください

大気圧固体試料イオン化法（ASAP）

四重極型・飛行時間型（TOF）
ハイブリッド MS/MSTOF イオン光学系

リフレクトロン型

質量分解能40000 以上（FWHM, m/z : 1431）

質量精度

1 ppm 以内

プローブ径

50 pg/μl ロイシンエンケファリン溶液（0.1 %ギ酸含有 50 %アセトニトリル

感度水溶液、m/z : 556）、1700 カウント
毎秒

測定モード

送液方法
流量範囲

61

正イオン分析モード、負イオン分析モード
高圧混合（4 溶媒～2 溶媒選択グラジエント）
0.01～2.00 ml/min

絶対分子量測定装置

装置紹介
液体クロマトグラフ：
高分子をカラムによりサイズ分別分する装置で相対分子量を求めることができます。従来より高速、溶媒置換が容易である特長です。
光散乱装置：
高分子の分子量を直接測定する絶対測定法であり、構造の影響やカラムの吸着の影響を受けることなく、正確な分子量を測定可能です。

装置概要

装置性能および仕様

液体クロマトグラフ

液体クロマトグラフ部

メーカー

Waters

示差屈折率計液体クロマトグラフ部
検出器

型式

ACQUITY

測定分子量範囲

200Da～400kDa

カラム温度

通常使用 40℃

光散乱装置
メーカー

WYATT

光散乱装置

型式

多角度光散乱検出器 μDAWN

検出器数
分子量測定範囲▼詳細は二次元コードからご覧ください

化
学
分
析
・
熱
分
析

3（3 角度）タンパク質；200～10MDa，

直鎖状高分子；200～1MDa

回転半径測定範

10～50nm囲
使用可能溶媒HPLC で使用可能な溶媒（高速液体クロマ
トグラフに用いる溶媒）62

全自動元素分析装置

装置紹介
本装置は、物質中の炭素、水素、窒素および硫黄の元素量を測定するための装置です。医薬品のような 1 mg
以下のミクロサンプルから、土壌などのセミマクロサン
プルまでを測定することが出来ます。有機化合物の純度の評価に必須の測定法であり、医薬品・合成物・高分子材料などの有機化合物や有機金属化合物の元素分析に用いられます。また、合成物だけでなく天然ゴム・化石燃
料・土壌・植物・食品などの天然物の元素組成を確認するためにも利用されます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

Elementar

型式

vario EL cube

サンプル重量

有機物～50 mg, 土壌～1 g
約 1 mg 程度から測定可能
C ～40 mg

測定範囲
化
学
分
析
・
熱
分
析

H ～3 mg
N ～15 mg

▼詳細は二次元コードからご覧ください

分析時間
精度
検量線

S ～6 mg4 元素で約 10 分
C,H,N,S≦0.1%abs. (C,H,N,S: 2 mg スルファニ
ル酸)
多点方式（4 点より検量線作成可能）
状態：固体、液体

分析対象

物質：有機化合物全般、土壌、植物体、化石燃料

63

酸素・窒素・水素分析装置

装置紹介
鉄鋼、新素材、触媒など世界最先端技術の技術開発
や品質管理に欠かせない高精度でスピーディな元素分
析を実現するツールです。（堀場製作所 HP より）

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

堀場製作所

酸素

0～5％

型式

EMGA-930

窒素

0～3％

水素

0～0.25％試料重量

1.0±0.1g

感度(最小読0.0000001%(m/m)▼詳細は二次元コードからご覧ください

化
学
分
析
・
熱
分
析

取)：酸素、窒素
測定時間

試料投入後 135 秒以内に結果表示

自動化機構

オートクリーナ、るつぼローダ

キャリアガス

ヘリウム

分析対象

粉末

64

炭素・硫黄分析装置

装置紹介
ワイドレンジタイプの炭素・硫黄分析装置です。金属、鉱石、セラミックス等、無機物全般の炭素及び硫黄を燃焼法によって測定します。（LECO ジャパン
HP より）

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

LECO

炭素・硫黄

0.6 μg～60 mg （0.6 ppm～6.0％/1g）

型式

CS844

試料重量

1.0±0.1g

分析精度0.0003mg（0.3ppm）または RSD 0.5%

：標準偏差（s）
化
学
分
析
・
熱
分
析

▼詳細は二次元コードからご覧ください

65

測定時間

測定者による試料投入後 130 秒以内に結
果表示

自動化機構

オートクリーナ、るつぼローダ

キャリアガス

酸素

分析対象

粉末

局所熱分析装置

装置紹介
先端 30 ナノメーター径のシリコン製プローブを試料に接触させた後、プローブを高速で昇温します。昇温によって加熱された試料は膨張、軟化等の現象を示します。軟化はガラス転移や融解に起因するため、約
100 nm 領域における熱分析が可能となります。その他、転移温度マッピング、AFM 像、粘弾性特性測定が可能な局所熱分析システムです。

装置概要
メーカー

装置性能および仕様
日本サーマル・コンサルティ

XY ステージ範囲

12mm×12mm

ング

Z ステージ範囲

10 mm

型式

VESTA

Z ピエゾ範囲

15μm

オプション

Nano-TA2

プローブ温度範

室温～400℃囲
昇温速度

0.6～600,000℃/分

空間分解能

100nm 以下

（Nano-TA）
分析対象

ポリマー（ブレンド，コンポジット）

化
学
分
析
・
熱
分
析

▼詳細は二次元コードからご覧ください66

示差熱天秤
（TG-DTA）
装置紹介
TG（熱天秤、Thermo-Gravimetry）は、試料を一定速度で加熱、冷却しながら、その重量を連続的に測定する技術です。試料の重量変化と温度の関係から、分解、酸化、還元、昇華、吸着、脱着などの反応に関する情報が得られます。 DTA（示差熱分析、Differential
Thermal Analysis）は、試料と基準物質を同一の熱的条
件で加熱、冷却し、両者の間に生じる温度差を精密に測定する技術です。通常 TG と DTA は一体となっており、TG-DTA 装置と呼ばれます。

装置概要

化
学
分
析
・
熱
分
析

装置性能および仕様

メーカー

リガク

ホルダの型

ツインホルダ型式

TG8101D

測定温度範囲室温～1300℃

測定雰囲気

大気、不活性ガス

試料量

最大 500mg

TG レンジ±0.1～±250mg/フルスケール

分解能

1μg

DTA レンジ±1.5～±1000μV / フルスケール

加熱炉

抵抗炉

状態

液体、固体

▼詳細は二次元コードからご覧ください

物質
分析不可

67

有機物、錯体、高分子、セラミックス、無機物、金属、一般薬品、合成繊維
爆発性物質、発火性物質

示差熱天秤
（TG-DTA）
装置紹介
TG（熱天秤、Thermo-Gravimetry）は、試料を一定速度で加熱、冷却しながら、その重量を連続的に測定する技術です。試料の重量変化と温度の関係から、分解、酸化、還元、昇華、吸着、脱着などの反応に関する情報が得られます。DTA（示差熱分析、Differential
Thermal Analysis）は、試料と基準物質を同一の熱的条
件で加熱、冷却し、両者の間に生じる温度差を精密に測定する技術です。通常 TG と DTA は一体となっており、TG-DTA 装置と呼ばれます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

リガク

ホルダの型

ツインホルダ型式

TG8120

測定温度範囲室温～1300℃

測定雰囲気

大気、不活性ガス

試料量

最大 500mg

TG レンジ±0.1～±250mg/フルスケール

分解能

0.1μg

DTA レンジ±1.5～±1000μV / フルスケール

加熱炉

抵抗炉

状態

液体、固体

▼詳細は二次元コードからご覧ください

物質
分析不可

化
学
分
析
・
熱
分
析

有機物、錯体、高分子、セラミックス、無機物、金属、一般薬品、合成繊維
爆発性物質、発火性物質

68

示差走査熱量計（DSC）
装置紹介
DSC と DTA は基本的には同様の測定方法です。ただし、DTA は試料内の熱伝達関数が関係するため、反応熱
量の定量的評価ができません。それに対して DSC では、試料と基準物質を熱的に分離し別々にエネルギー入力を与えることにより、両者の温度を等しく保つために必要なエネルギー入力の差を測定します。この方法では
熱エネルギーを電気のジュール熱で与えるので、反応熱を定量的に測定できます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

リガク

型式

DSC8230

測定方法

熱流速形
室温～725℃（窒素雰囲気下）

測定温度範囲－150～200℃（冷却アタッチメント付加
時）

化
学
分
析
・
熱
分
析

▼詳細は二次元コードからご覧ください

DSC レンジ±0.1～±100mW /フルスケール

加熱炉

抵抗炉

状態

液体、固体

物質
分析不可

69

有機物、錯体、高分子、セラミックス、無機物、金属、一般薬品、合成繊維
爆発性物質、発火性物質

熱機械分析装置
(TMA)
装置紹介
熱膨張率、熱収縮率、軟化点などの熱的性質、応力－
ひずみ曲線、応力緩和、クリープなどの力学的性質の測定が可能です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

SII ナノテクノロジー

測定温度範囲-150～600℃

型式

TMA/SS7100C

ひずみ検出感度0.01μm

荷重範囲

±5.8N

最大試料形状チャック間距離 25mm

状態

固体

物質

高分子物質、有機材料

形状フィルムあるいは板状▼詳細は二次元コードからご覧ください

化
学
分
析
・
熱
分
析

70

ダイナミック DSC 装置

装置紹介
入力補償型の示差走査熱量測定（DSC）装置で、材料の融点や軟化点（ガラス転移点）などを測定します。
温度変化速度を大きくしたり、転移温度や一定温度下での吸・発熱量を正確に測ることも可能です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

パーキンエルマー

測定原理

入力補償型

型式

DSC8000

測定範囲－170℃～750 ℃

熱量正確度±0.2 %

コントロール

750 ℃/min

最高昇降温速度
化
学
分
析
・
熱
分
析

▼詳細は二次元コードからご覧ください

71

状態

固体・液体

マグネトロンスパッタリング装置

装置紹介
電子材料、半導体デバイス等の基礎研究に用いる装置
で、金属、絶縁体、半導体等色々な薄膜を成膜することができます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

アルバック

カソード

2 インチ 3 元

型式

VTR-151M/SRF

基板推奨サイズΦ2 インチ

基板加熱

Max350 度

基板電極間距離50mm～90mm

RF 電源

0~300W

ガスライン

アルゴン、酸素、パージ用窒素▼詳細は二次元コードからご覧ください

現在、ITO、TiO2、ZnO を共用ターゲッ
分析対象トとして揃えています。共用ターゲット以
外の材料は相談に応じて、利用者に購入していただき使用可能です。
薄
膜
・
成
膜

72

真空蒸着装置

装置紹介
抵抗加熱により、金属、絶縁物、半導体材料を成膜することができます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

アルバック

蒸着電極構成2 点式

型式

VTR-060M/ERH

基板サイズ

最大 200mm
真空蒸着装置は真空中で材料を加熱し、蒸発させることで蒸発原子を基板上に薄膜を形成させます。ボートを加熱させることで▼詳細は二次元コードからご覧ください
分析対象

蒸着源を蒸発させるので、低融点な材料（Al や Ag なのどの金属材料）を作製する
ことに適しています。また、膜厚計を付属しているので、ナノメートルオーダーで膜厚を制御することが可能です。

薄
膜
・
成
膜

73

無響室

装置紹介
吸音材を部屋の全面に配置した無響室です。高い遮音性により、外部からの騒音および室内の反射音の影響を受けずに測定サンプルから発生する音を測定できます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

―

内寸

390cm×420cm×高さ 260cm

型式―

搬入路(扉)

120cm×197cm

電源

アース極付 100V コンセント 2 口×4 箇所

コネクタ

BNC コネクタ×6 口▼詳細は二次元コードからご覧ください

貸出

貸し出しは部屋のみとなります。
騒音計等は常備しておりません。

情
報
・
通
信

74

電波暗室

装置紹介
電波吸音材を部屋の壁面・天井に配置した電波暗室です。外部からの電波および室内の反射電波の影響を受けずに測定サンプルから発生する電波を測定できます。
未来通信研究センターの中型電波暗室もご検討くださ
い。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

―

内寸

220cm×590cm×高さ 195cm

型式―

搬入路(扉)

70cm×200cm

貸出▼詳細は二次元コードからご覧ください

情
報
・
通
信

75

貸し出しは部屋のみとなります。
測定器は各自でご用意ください。

車載イーサネットパフォーマンステスター

装置紹介
IEEE 802.1AVB/TSN に対応した車載イーサネットパ
フォーマンステスターです。負荷試験による限界性能の評価や、パケットエラー率、伝送遅延、優先制御測定、
時刻同期精度などの測定が可能です。

装置概要
メーカー
型式

装置性能および仕様
スパイレントインターフェース

100BASE-T1×4 ポート

コミュニケーションズ

遅延評価における時

10 ナノ秒以下

Spirent Automotive C1

間分解能（ハードウェアタイムスタンプ）
IEEE 802.3/Ethernet、IPv4/v6、対応プロトコル▼詳細は二次元コードからご覧ください

TCP/UDP、IGMP、SIP、
IGMPv1/v2/v3、MLDv1/v2、IEEE
1588v2、HTTP 他

対応する IEEE

IEEE 802.1Q、IEEE 802.1AS、

802.1AVB/TSN 規格

IEEE 802.1CB 他

エミュレーション

試験設定

1 ポートで複数のトーカノードまたは
リスナノードをエミュレーション可能
統合的な GUI（Windows）による設
定が可能

情
報
・
通
信

76

EMI レシーバー

装置紹介
CISPR 16-1-1:2019 に完全準拠した EMI レシーバーである。各種の車載機器、情報通信機器のＥＭＩ（電磁エミッション）測定が可能です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

キーサイト・テクノロジー

周波数レンジ

1 Hz～26.5 GHz

型番(形式)

N9048B PXE

動作周波数レンジ

100kHz～26.5GHz のプリアンプを内蔵

CISPR 準拠の 200 Hz, 9 kHz, 120
分解能帯域幅▼詳細は二次元コードからご覧ください

kHz, 1 MHz のほか、1 Hz ～ 3 MHz(10% ステップ), 4, 5, 6, 8 MHz にも対応

タイムドメイン搭載

スキャン機能

情
報
・
通
信

77

リアルタイム搭載．最大 350MHz でギャップなし

スキャン機能の信号捕捉／解析

最大入力信号レベル+30 dBmネットワークアナライザ

装置紹介
高周波回路網の通過、および反射電力の周波数特性を（S パラメータ等により）測定するネットワークアナラ
イザおよび、電子校正モジュールからなるハードウェアに加え、UTP（シールド無し対線）や STP（シールド付き対線）等のケーブルを含むリンクセグメントの評価を行うソフトウェア、および車載イーサネットのコンプラ
イアンス・ソフトウェアを含むシステム構成です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

キーサイト・テクノロジー

ネットワーク型式

E5080B、周辺機器

アナライザ▼詳細は二次元コードからご覧ください

周波数 100kHz～44GHz、４ポート

主なソフト

100/1000BASE-T1（および OPEN

ウェア構成

Alliance SIG TC9）リンク、ケーブル評価

備考

ソフト
電子校正モジュール（40GHz-2 ポート）
付属

情
報
・
通
信

78

光・電気通信波形解析システム

装置紹介生成された光信号の波形解析、各種イコライジングやフィルタリングの適応や DSP による波形再生、さらにTDECQ (Transmitter and dispersion eye closure for
PAM-4)測定を含む高度な波形解析が可能です。その他、光部品の豊富な静特性、動特性も可能です。
【電気特性】
生成された電気信号の波形解析、特に TDECQ を含む高度なアイパターン評価が可能です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

キーサイト・テクノロジー

型式

N4377A、周辺機器

光検出器 40GHz@850/1310/1550nm
光検出装置

バイアスティー 40MHz ~ 50GHz
光パワーメータ、光減衰器、精密電流／電圧源
Sparklinghtwave （周波数応答特性測定▼詳細は二次元コードからご覧ください

主なソフトウェ

ツール、光部品測定ツール）、アドバンス

ア構成

ド・アイ解析ツール（PAM-4 の TDECQ
測定等）ソフト・送信機（信号発生器）と受信器（光の場
合は O/E 変換器）は別途ご用意ください。本解析装置の利用目的によっては、無償で利用できますのでご相談ください。
・光通信の場合、別途共用装置であるネッ

備考

トワークアナライザを用いると O/E コン
バータ等での影響を除去した正確な S21
パラメータが取得できます。

情
報
・
通
信

79

・光通信の場合、Sample Tx として 25
Gbaud 対応 VCSEL x1, 50 Gbaud 対応
VCSEL x1 の利用可能（ご相談ください）

電気車載イーサネット評価システム

装置紹介
本装置は 100/1000BASE-T1 コンプライアンステス
トに関する必要な機器とソフトにより構成されています（構成詳細参照）。送信機（Tx）、および受信機（Rx）試験における各種波形解析ソフトに加え、デバッ
グツールとしてオシロスコープのデータを周波数軸、時間軸、信号パワーの 3 軸でノイズの中の信号を分離し可視化できる Noise Visualizer も実装されています。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

キーサイト・テクノロジー

型式

DSO404SA、周辺機器

オシロスコープ(4GHz)、パルス発生器
主なハードウェ(330 MHz)／任意波形発生(500 MHz)、ア構成

メディコン、高周波プローブ、汎用テスト
フィクスチャー

▼詳細は二次元コードからご覧ください

主なソフトウェ
ア構成

100/1000BASE-T1 規格適合試験、PAMN 解析、シグナルインテグリティ、ジッタ
解析、Tx/Rx 試験、Noise Visualizer
テストフィクスチャーは原則持参で測定願

備考います。ただし、構成詳細に記載のテスト
フィクスチャーは使用可能です。

情
報
・
通
信

80

通信性能評価汎用機器

装置紹介
RF カウンタ、オシロスコープ、DC 電源、マルチメー
タなどの汎用の装置で、各種計測システムの補助的な装置としてご利用ください。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

キーサイト・テクノロジー

型式

53210A、周辺機器

RF カウンタ（350MHz）、オシロスコー
主なハードウェア構成

プ（４ch、350MHz）、DC 電源（3 出力）、マルチメータ（5･1/2 桁）、データロガー（3ch、450ch/秒）、通信インタ
ーフェース（GPIB）、熱電対（J タイプ）

▼詳細は二次元コードからご覧ください

主なソフトウェ

Software Bundle for 3000 X-Series

ア構成（オシロスコープ用）

備考

情
報
・
通
信

81

単品のご利用にも対応します。ご相談ください。

小型環境試験器

装置紹介－45～150℃の範囲で環境試験を行うための高温恒湿槽。上記試験を決められた温度で試験できるよう、ソフト連携も可能です。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

エスペック

温湿度範囲

－40～＋150℃ / 30～95%rh

型式

SH-642内寸

W400×H400×D400

ケーブル孔

左右にΦ25 の孔を各１・プログラムパターンのコピーやサンプリン
グデータ出力を USB メモリーで行えます。

▼詳細は二次元コードからご覧ください

USB メモリーポートを標準装備し、PC を使用せずに、装置間のプログラムパターンをコ
ピーすることができます。装置に保存した温湿度データを USB メモリーに出力することもできます。
備考

Web ブラウザーで遠隔モニター・操作：装置の Ethernet ポートに接続することで、PC やタブレットのブラウザーから、モニタリングが可能です。プログラムパターンの編
集、運転パターンを選択、運転開始／終了することができます。E-mail 通知：

万が
情
報
・
通
信

一、装置の異常で警報が発生した場合、登録先に E-mail で警報内容を送信します。プロ
グラム運転の終了も通知可能です。

82

電波暗室

装置紹介
電波吸収材を部屋の壁面・天井に配置した電波暗室です。外部からの電波および室内の反射電波の影響を受けずに測定サンプルから発生する電波を測定できます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

リケン環境システム

シールド外寸法

W6.1×L6.2

型式

5 面電波暗室

有効寸法

W5.79×L5.84
金属床床2 重床構造(H=130mm)
耐荷重:400kg/㎡▼詳細は二次元コードからご覧ください

情
報
・
通
信

83

シールド扉寸法

W1.5×H2.0m

対応試験規格CISPR25,ISO11452-2 他

シールドルーム

装置紹介
外部からの電波の影響を受けずに測定サンプルから発生する電波を測定できます。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

リケン環境システム

シールド外寸法

W4.3×L6.3

型式

シールドルーム

有効寸法

W4.0×L6.0
金属床

床2 重床構造(H=100mm)
床耐荷重:400kg/m2▼詳細は二次元コードからご覧ください

シールド扉寸法

W1.5×H2.0m

対応試験

ESD 他

情
報
・
通
信

84

BCI/TWC/DPI イミュニティ試験システム

装置紹介
本装置は、電波暗室内で IEC62134-4 に準拠した
DPI(Direct Power Injection)法試験、および
ISO11452-4 に準拠した BCI 法試験と TWC 法試験を実施するためのシステム機器(構成詳細参照)です。高速通信システムのイミュニティ試験として、車載部品試験または車両試験の事前段階の IC または車載部品の RF 注入試験の試験装置にご利用ください。なお本装置は、中型
電波暗室の同時利用が必要となります。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

ノイズ研究所

DPI(Direct Power

対応規格：IEC62132-4

型式

SYS-N2817-01、-02

Injection)試験

設備能力：100kHz-1GHz

BCI(Bulk Current

対応規格：ISO11452-4

Injection)試験

設備能力：10kHz-1GHz

TWC(Tubular Wave

対応規格：ISO11452-4

Coupler)試験

設備能力：150MHz-3GHz▼詳細は二次元コードからご覧ください

信号発生器(構成詳細を参照)

設備能力：4kHz-6GHz
160MHz 幅 AWGN※、印可可能※AWGN(相加性白色ガウシアン雑音)

設備能力：
イミュニティ用アンプ(構成詳細を参照)
情
報
・
通
信

85

9kHz-250MHz 100Wmin
80MHz-200MHz 100Wmin
200MHz-1000MH 150Wmin
700MHz-6GHz 40Wminエミッション試験システム

装置紹介
本装置は、電波暗室内で CISPR25 に準拠した放射エミッション試験、および伝導エミッション試験を実施するためのシステム機器(構成詳細参照)です。高速通信シ
ステムのエミッション試験として、車両試験の事前段階のエミッション試験の試験装置としてご利用ください。
なお本装置は、EMI レシーバー、中型電波暗室の同時利用が必要となります。

装置概要

装置性能および仕様

メーカー

東陽テクニカ

型式

TS9949-NITX

放射エミッション試験

対応規格：CISPR25
設備能力：30Hz-6GHz

伝導エミッション試験

対応規格：CISPR25
設備能力：電圧 100kHz-150MHz、
電流 20Hz-1GHz▼詳細は二次元コードからご覧ください

EMI レシーバー(別設対応規格：CISPR16-1-1備)試験

設備能力：1Hz-26.5GHz

情
報
・
通
信

86

名古屋工業大学 構内図
18号館

産学官金連携機構 総合受付
22号館・2号館

設備共用部門 測定室

名古屋工業大学 産学官金連携機構 設備共用部門〒466-8555
名古屋市昭和区御器所町
電話 ： 0 5 2 - 7 3 5 - 5 6 2 7
FAX ： 0 5 2 - 7 3 5 - 5 5 4 2https://kiki.web.nitech.ac.jp/

周辺マップ

交通アクセス

名古屋工業大学産学官金連携機構設備共用部門
研究設備一覧 2024年度学外版
発行
日
編 集 兼 発 行

2024年9月1日
国立大学法人 名古屋工業大学 産学官金連携機構〒466-8555 愛知県名古屋市昭和区御器所町
052-735-5627

デ ザ イ ン企 画 ・ 編 集
校正装置仕様情報編集アドバイス

山崎 陽子
（技術部）
山本 義哉，森 敦子（設備共用部門）宮本 朋子（設備共用部門）
各装置担当教員および技術職員
永田 謙二（設備共用部門）© 2024 Nagoya Institute of Technology. All rights reserved.
無断で複製，転載することを禁じます。

名古屋工業大学 産学官金連携機構 設備共用部門〒466-8555 名古屋市昭和区御器所町
電話 ：052-735-5627
FAX ：052-735-5542

https://kiki.web.nitech.ac.jp/