名古屋工業大学 受託試験料金
マテリアル先端リサーチインフラ(ARIM)の共用設備（2024年4月）
受託試験料金は、(装置使用料×装置使用時間＋技術料×技術時間＋指導料×指導時間)×割引・割増率＋オプション料 で計算されます。
装置使用時間は装置を使用している時間、技術時間は試料調製・測定(放置測定を除く)・作業レベルの簡単な解析・データ整理等の時間です。
指導時間は材料学的な知見等を要する解析や試験結果をもとにした改善案の提案等の指導の時間です。
一般指導料は専門家であれば一般的に知っているレベル、高度指導料は担当教員が特に知見を有しており他の専門家では指導が難しいレベルのものです。
（アカデミア割）論文や学会等での発表を目的とした大学・国立研究開発法人等の利用で、発表の際、謝辞等に担当者名や本学名を記載頂ける場合、0.5倍の料金となります。
（データ提供の非承諾）測定データおよび試料データの二次利用について許諾頂けない場合、2倍の料金となります。
（報告書提出の非承諾）成果の報告書を提出頂けない場合、1.25倍の料金となります。報告書は文部科学省のHPで公開される予定です。
オプション料は特別に測定で必要となる消耗品の実費です。
料金はすべて消費税を含んだ金額です。
ご依頼方法は https://kiki.web.nitech.ac.jp/gakugai/ から御覧ください。
ARIMを利用した研究成果の論文等を執筆する場合、謝辞に課題番号の記載をお願いいたします。

【お見積例①】
原子分解能TEM観察の依頼、測定データのお返しのみ、謝辞記載への同意あり、データ提供あり、報告書提出ありの場合
使用装置：原子分解能分析電子顕微鏡群
装置使用料：12,760円×7時間×アカデミア0.5
技術料：3,520円×8時間×アカデミア0.5
一般指導料：11,440円×0時間
高度指導料：17,160円×0時間
オプション料：0円
合計：58,740円（税込）(設備ID) 装置名【お見積例②】
メスバウアー分光の依頼、高度なデータ解析あり、成果は全て非公開の場合
使用装置：メスバウアー分光装置
装置使用料及び技術料：35,200円×1スペクトル×データ提供なし2×報告書提出なし1.25
一般指導料：11,440円×0時間×データ提供なし2×報告書提出なし1.25
高度指導料：17,160円×1時間×データ提供なし2×報告書提出なし1.25
オプション料：0円
合計：130,900円（税込）

メーカー・型番

性能・機能

受託試験料金（税込）(NI-001)
原子分解能分析電子顕微鏡群

冷陰極電界放出形電子銃、加速電圧：80～200kV
日本電子社製 JEM-ARM200F 搭載分析装置：エネルギー分散形X線分析装置（EDS）、電子
外線エネルギー損失分光器（EELS）、デジタルCCDカメラシステ
ム

装置使用料：12,760円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間(NI-002)
特型走査電子顕微鏡装置

日本電子社製 JSM-5600＋特型試料ステージ

ピエゾ駆動探針装備、電気・機械特性測定、その場抵抗加熱装置使用料：2,640円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間(NI-003)
白色共焦点顕微鏡

レーザーテック
OPTELICS HYBRID C3

装置使用料：2,200円/時間
白色光源および6波長選択機能
技 術 料：3,520円/時間
高さ測定、線幅測定、表面粗さ測定（JIS、ISO対応）、３D表示 一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間(NI-004)
メスバウアー分光装置群

WissEl 社, ラボラトリ・イクイッ
プメント社，Montana
測定可能原子核：57Fe 核，119Sn 核
Instruments 社，日本カンタム 透過法，内部転換電子検出法
デザイン社，他（複合システ
低温測定 (5～300 K)
ム）(NI-005)
X線光電子分光装置

アルバック・ファイ
PHI Quantes

装置使用料：10,868円/時間
デュアルソースX線源：Al Kα、Cr Kα
技 術 料：3,520円/時間
機能：ガスクラスターイオンビーム、中和銃、アルゴンスパッタ、
一般指導料：11,440円/時間
試料加熱室、トランスファーベッセル
高度指導料：17,160円/時間(NI-006)
UV/VIS/NIR分光光度計

日本分光製 Ｖ570

波長範囲190nm～2500nm、測光範囲-2～3Abs
付属品：絶対反射率測定装置 ＡＲＮ475
１回反射測定装置 ＳＬＭ468
積分球装置 ＩＳＮ470
フィルムホルダ ＦＬＨ466
その他：透過測定には液体N2、液体Heクライオスタットを使用可能

装置使用料：2,200円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間(NI-007)
単結晶X線構造解析装置群（株）リガク社製 Mercury

Mo線源、出力 18ｋW、測定温度：-80℃～室温装置使用料：3,960円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間(NI-008)
単結晶X線構造解析装置群（株）リガク社製
VariMax with DW RAPID

装置使用料：5,280円/時間
Cu線源とMo線源に対応、出力：1.2 kW、湾曲型人工多層膜集
技 術 料：3,520円/時間
光ミラー装備一般指導料：11,440円/時間
測定温度：-180℃～室温
高度指導料：17,160円/時間(NI-009)
電子スピン共鳴装置

日本電子（株）製 JES-RE1X

周波数：8800～9600MHz（Xバンド）、
出力：0．1μW～200mW可変装置使用料：2,200円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間(NI-010)
表面増強赤外分光装置

日本分光 FT-IR4200ST

測定範囲：4,000〜1,000 cm–1in situ測定（電気化学）

装置使用料：1,760円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間-1-装置使用料及び技術料：35,200円/スペクトル
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間
低温測定：8,580円/L

質量分解能無機材料：9,000M/Δ以上

装置使用料：10,120円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間(NI-011)
飛行時間型二次イオン質量分析装置

アルバック・ファイ
PHI TRIFTV nano TOF(NI-012)
顕微蛍光X線分析装置

堀場製作所
XGT-7200VNM

エネルギー分散型蛍光X線分析
測定対象元素：Na～U

装置使用料：2,200円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間(NI-013)高精度ガス/蒸気吸着量測定装置

日本ベル株式会社製
BELSORP-max

細孔分布：直径0.35～500nm、最小比表面積：0.01ｍ2/ｇ（Ｎ2）

装置使用料：1,760円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間(NI-014)高周波透磁率測定装置

凌和電子（株）社製
PMF-3000

1MHz～3GHzの広帯域透磁率測定
試料サイズ5～6(W)×5(L)×1mm(t)装置使用料：2,200円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間(NI-015)振動試料型磁束計

東英工業（株）社製 VSM-5

最大印加磁場 1.5T

装置使用料：2,640円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間

質量分解能有機材料：9,000M/Δ以上 (PET（m/z104）にて)(NI-017)
特型、分解能：原子分解能、CNF探針装備
精密形状測定・局所磁気測定・局所電気特性評価 日本電子社製 JSPM-5200TM
測定モード：形状、電気特性、磁気特性測定
装置

装置使用料：2,640円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間(NI-018)
磁気特性測定装置

日本カンタムデザイン（株）社
製 MPMS3

最大印可磁場 7 T
感度(VSM) 1x10^-8 emu
交流磁化測定装置使用料：1,760円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間(NI-019)
走査電子顕微鏡装置

日立ハイテク S-4700

冷陰極電界放出形電子銃、加速電圧：～20kV
搭載分析装置：エネルギー分散形X線分析装置（EDS）

装置使用料：2,640円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間(NI-020)
ICP発光分光分析装置

島津サイエンス ICPE-9820

マルチチャンネル型、波長範囲167～800 nm
フッ酸試料導入オプション

装置使用料：2,640円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間（NI-101)
プラズマ・ガス凝縮クラスター堆積装置

日本ビーテック 特別仕様

クラスターサイズ 直径3～15nm
直流マグネトロンスパッタリング方式

装置使用料：4,400円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間（NI-102)
スパッタリング蒸着装置

アルバック社製 SPC-2000HC 13.56MHz 200W

（NI-103)
真空蒸着装置

シンク社製 SK-80K

マイカ基板サイズ:15×15mm(標準)、マイカ厚み:0.1～0.15mm、金膜厚：100〜150nm

装置使用料：1,760円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間（NI-104)
中規模カーボンナノファイバー室温合成装置

自作

カーボンナノファイバー室温合成速度：10 nm/min以上
試料サイズ：１インチ程度以下

装置使用料：2,200円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間（NI-105)
特型表面ナノ構造形成装置

ULVAC社製 特型

標準２インチ基板、超斜め入射イオンビームによるマスクレスの表面ナノ構造・ナノドット形成可能、組成制御可能、高分子材料の加工可能

装置使用料：2,200円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間（NI-106)
グラフェン・カーボンナノチューブ合成装置

自作特型

ＣＶＤによるグラフェン、単層CNTの合成

装置使用料：1,760円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間-2-装置使用料：2,200円/時間
技 術 料：3,520円/時間
一般指導料：11,440円/時間
高度指導料：17,160円/時間