機器分析センター年報
ANNUAL REPORT OF INSTRUMENTATION ANALYSIS CENTER
Tokyo University of Agriculture and Technology
No. １０(2001 年 4 月 - 2002 年 3 月)

東京農工大学機器分析センター
2002 年 12 月

目
I.

II.

次

巻頭言
年報第 10 号発行を記念して

4

年報第 10 号発行にあたり

5

センター長に就任して

6

利用機器一覧

7

III. 利用状況
複合型表面分析装置

10

電子顕微鏡

13

核磁気共鳴装置19

多目的画像処理装置

28

単結晶Ｘ線自動解析装置

35

イオン注入装置

38

電子スピン共鳴装置

41

固体 NMR 装置

45

高分解能質量分析装置

49

Ｘ線マイクロアナライザー及び付属のＸ線回折装置

51

引張り試験機55

材料強度総合評価試験装置

56

高速度撮影装置

61

液体窒素貯蔵タンク

64

IV. 東京農工大学機器分析センター運営委員

67

V. あとがき68利用方法等の問い合わせ先（Ⅲ．利用状況も参照）

共同利用機器名称

管理教官名 e-mail内線

透過型電子顕微鏡纐纈明伯

koukitu7036

走査型電子顕微鏡纐纈明伯

koukitu

7036

電子スピン共鳴装置

佐藤勝昭

satokats7120

単結晶Ｘ線自動解析装置

奥山健二

okuyamak 7028

核磁気共鳴装置(500 MHz)佐藤寿弥

h-sato7050

ﾌｰﾘｴ変換核磁気共鳴装置

佐藤寿弥

h-sato7050

複合型表面分析装置

上迫浩一

kamisako7133

多目的画像処理装置

吉澤徹

yoshi

7092

イオン注入装置

越田信義

koshida7128

固体NMR装置

朝倉哲郎

asakura7025

高分解能質量分析装置

細見正明

hosomi7070

Ｘ線マイクロアナライザー

亀山秀雄

tatkame7156

粉末Ｘ線回折装置(2検査）

亀山秀雄

tatkame7156

引張り試験機

臼井博明

usui

7055

材料強度総合評価試験装置

長谷川正hasegawa

7078

電子顕微鏡(200KV)

纐纈明伯koukitu

7036

高速度撮影装置

国枝正典

kunieda7100

液体窒素貯蔵タンク黒岩紘一kuroiwa

7118

1.巻頭言年報第 10 号発行を記念して
農学部長
笹尾 彰
平成３年に設置された機器分析センターも 11 年目を経過し、今回、年報第 10 号を発行されることになり喜ばしい限りです。現員は講師 1 名のみのスタッフで、併任の歴代センター長、機器管理教官、職員の皆さんの努力で今日まで円滑に運営されてきたことに敬意を表します。
設立以来、学内の大型機器の当センター機器室への移設、新規大型機器の導入を進めてこられ現在は 21 台の分析機器が導入されています。センターは研究のみならず、操作を通しての高度な教育の場としての役割も果たしてこられました。
研究に関しては、センターの機器を利用して発表された論文数が年々増加して、2000 年にはその数は 120 件を超えています。しかし、年報第9 号で前センター長がお書きになったように、すべての共同利用機器がセンター内に移設されているわけではなく、また、センターにはもうその余裕のないのが現状です。しかし、これからは先の COE にも見られる
ように、農工の枠を越えた研究プロジェクトが組まれ、大型機器の共同利用の必要性が益々高まってくるものと思われます。
過去の実績から見てもその利用度は残念ながら農学部関係は一部に限ら れ て い る よ う に 思 わ れ ま す 。 府 中 と 小 金 井 の 約 ５ k m の距離もその原因の一つでしょうが、府中キャンパスに機器分析センターの足場のないことが大きな原因のひとつと思われます。
今春に硬蛋白質利用研究施設に関連する概算要求で文科省研究振興局
学術機関課に出かけたところ、大学における教育研究支援体制についてということで旧来の シリーズ化 した組織を再編・統合することによる「総合分析実験センター」等の設置ということで資料に基づいてその構想の説明がありました。これによると、生命科学実験センター（遺伝子実験施設、動物実験施設）、分析実験センター（機器分析センター、実験実習機器センター）、アイソトープ総合センター（放射性同位元素等使用事業所）をまとめた「総合分析センター」構想です。農学部にはこれに関連する施設として農学部付属の硬蛋白質利用研究施設、家畜病院、大学共同施設の遺伝子実験施設があります。人員、面積、離れたキャン
パスなどの問題を抱える機器分析センターを含め、今後、本学の実験実
習施設の充実発展には統合・拡充を視野に入れ両学部に足場を置く、前述の「総合分析実験センター」のような形態を検討することの必要性に迫られているように思われます。

年報第 10 号発行にあたり
工学部長
松永 是

東京農工大学機器分析センターは、大学における教育・研究の多様化・高度化にともない、分析・計測機器などの大型共同利用機器を一ヶ所に集め有効利用することを目的に平成 3 年度に設置された。現在 21 台の分
析機器を有している。機器分析センターの機器を利用して発表した論文も平成 3 年度の 20 報から平成 12 年には 120 報と増加の一途をたどっている。機器分析センターの定員は、助教授（講師）1 名、技官 1 名であるが、併任の纐纈センター長と専任の野口講師で業務を行っている。この他、各分析機器を使用される先生方や NMR 室の技術補佐員の協力で機器の有効利用を計っている。日頃の関係者の努力には心から感謝したい。
東京農工大学は、科学技術系大学院基軸大学を目指している。それにふさわしい組織、キャンパスの整備を行っている。本学は、年間に出される論文数や科研費等外部資金は国立大学の中で常に上位を占めてきた。
また、民間企業や国公立研究機関と緊密な連携も行われ、特に民間との共同研究数はトップクラスといわれている。これらの日頃の努力が認められ、先日、21 世紀 COE の専攻でも、2 件の申請が採択された。今後
さらに、大学の教育研究が発展するためには、機器分析センターの役割はますます重要なものとなるだろう。
文部科学省では、機器分析センター、遺伝子実験施設、動物実験施設のような組織を総合分析実験センターとして再編、統合して、大学における教育･研究施設の充実を計っていく方針と伺っている。本学でも、機器分析センター、遺伝子実験施設を統合･拡充し、総合分析実験センターとして小金井、府中の両キャンパスでより有効に職員、学生の研究活動を支援する体制を取れることを願っている。

センター長に就任して機器分析センター長
教授 纐纈 明伯

発表論文数

平成 13 年 7 月より、機器分析センター長に就任いたしました。平成３年の機器分
析センターの設立以降、歴代の５代にわたるセンター長ならびにセンタースタッフのご努力により機器分析センターも益々充実し、設置された分析機器を用いて多くの研究成果が得られるようになりました（図１）。
しかしながら、センターの面積の都合上、現有の共同利用機器全てをセンター内に移設することができず、小金井キャンパス内に分散して設置されている状態にあり、機器分析センター設立の目的である「大学の教育・研究の多様化・高度化に伴い、分析、計測機器などの大型共同利用機器を一箇所に集結させて有効利用を図る」
こともまだ達成できておりません。また、今後、大型機器の購入に際しては、それを設置するためのスペースの確保が是非とも必要です。多数の機器をセンター内に設置し、広く希望者に利用していただくことが、大学にとって最善と考えられます。
また、設置から１１年が過ぎ、センター設立当初から所有していた装置に関してはその老朽化が問題となり始めております。設置後 10 年以上が経過し、分析装置としての能力が問題となりはじめていた核磁気共鳴装置、単結晶自動Ｘ線解析装置については、13 年度の学長裁量経費でそれらの一部の更新が認められ、平成 14 年３月に新しい装置の納入が行われました。しかしながら、これら以外にも老朽化により廃棄されたが更新されないままの装置や、材料科学分野、生命科学分野での研究に必須の装置でありながら現在本学で所有していない大型分析装置もあり、それらの装置に関しても早急に更新、導入できるよう努力したいと存じます。
設備の充実とともに、機器を有効に利用する教育・研究活動も重要であり、大学内で今、どの機器がどのように使われているかを知るために是非この機器分析セン
ター年報を活用して頂きたいと思います。現在、機器分析センターの一部の機器については利用者講習会等を開催しておりますが、機器の利用に関して何かご質問、ご意見等がございました
140
ら、些細なことでも結構
120ですので機器分析センタ
100
ーまでご連絡ください。
広く皆様に利用して頂け
80
る、利用しやすい東京農60
工大学機器分析センター
40を目指していきたいと存20じますので、教職員各位
01991 1992 1993 1994 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001のご協力をよろしくお願
発表年
いいたします。
機器分析センターの機器を利用して発表した論文数の推移

II. 利 用 機 器 一 覧◎機器分析センター内に設置されている機器
機

器

名（管理教官）

設

置

場

所

面積(ｍ2)

透過型電子顕微鏡

(纐纈)

○

機器室1A

22

走査型電子顕微鏡

(纐纈)

×

機器室1B

22

電子スピン共鳴装置

(佐藤勝)

×

機器室2

21

単結晶Ｘ線自動解析装置

(奥山)

○

機器室3

32

核磁気共鳴装置(500 MHz)
ﾌｰﾘｴ変換核磁気共鳴装置

(佐藤寿)
(佐藤寿)

○
○

機器室4
機器室5

32
43

複合型表面分析装置

(上迫)

○

機器室6

21

多目的画像処理装置

(吉澤)

○

機器室7

22

イオン注入装置
固体NMR装置
高分解能磁場型質量分析装置

(越田)
(朝倉)
(細見)

○
×
×

機器室8
機器室9
機器室10

41
22
22

◎機器分析センター内に設置されていない機器
機

器

名（管理教官）

設

置

場

所

面積(ｍ2)

Ｘ線マイクロアナライザー

(亀山)

○

中央棟5F XMA室66

粉末Ｘ線回折装置(2検査）
引張り試験機

(亀山)
(臼井)

×
○

中央棟5F XMA室
4号館2F 229号室

材料強度総合評価試験装置 (長谷川正)
電子顕微鏡(200KV)
(纐纈)

○
○

機械工場107号室
6号館109号室

66
36.5
33

高速度撮影装置○

9号館153号室

液体窒素貯蔵タンク
備考；平成13年9月現在

(国枝)

(黒岩)
×
工学部戸外
（○印は特別設備費、×印はその他で購入）

46.5-

東京農工大学 機器分析センター（工学部 5 号館 1 階西側）
機
機
器
器
室
室
８

試
準料
備
室

機
器
室
５

専 会
機
器 教任 議
室 官
室
９ 室

部

機
器
室
10

機
器
室
７

機 便
器
室 所
６

セ
ン
長タ
室ー

屋

機
器
室
４

機
器
室
1A

機
器
室
３

機
器
室
２

機
器
室
1B

内線電話

機器室 1A7943

機器室 1B

7944

機器室 2

7945

機器室 3

7946

機器室 4

7947

機器室 5

7189

機器室 6

7190

機器室 7

7950

機器室 8

7192

機器室 9

7191

機器室 10

7456

試料準備室

7948

会議室

7942

センター長室

7187

専任教官室

7188
TEL:
FAX:
E-mail:042-388-7188
042-388-2041
kiki@cc.tuat.ac.jp
knoguchi@cc.tuat.ac.jp

URL:

http://www.tuat.ac.jp/˜kikiIII.

利 用 状 況

複合型表面分析装置
１．機器の名称、購入年度、設置場所
本「複合型表面分析装置」は島津製作所製で、1986 年度に購入、設置された。
設置場所： 機器分析センター機器室 6 内線 7196

２．機器の構成および性能
本装置は、「Ｘ線光電子分析装置（ESCA850 形)」を本体として、これに「走査型オージェ電子分光装置（AES)」および「２次イオン質量分析装置（SIMS)」を組み合わせた装置として構成されており、仕様上はこれら３種類の分析が可能な構成となっている。しかし現在は、AES 及び SIMS は性能上の点から利用されておらず、ESCA（XPS）のみの利用となっている。

３．利用状況
今年度は 6 月、10〜12 月の利用率が高い状況（50％以上）であったが、それ以外の月の利用率は低く（50％以下)、利用し易い状況であった。
今年度利用日数： 89 日
利用研究室数 ： 7 研究室

４．会計報告平成 13 年度
収入
平成 12 年度繰越額
当初配分額
計
支出
消耗品費
修理費
計
収支（次年度繰越予定額）

1,229,239
222,000
1,451,239
172,725
175,577
348,302
1,102,937

５．利用方法、問い合わせ先
現在は、予約をすれば自由に利用できるようにしています。利用方法の概略は以下の通りです。
○原則として、講習を受講する。（既習熟者に指導を依頼）○使用予約をする（電話で可)。
○利用の基本時間帯を、9:00−15:00、15:00−21:00、21:00−9:00とする。（混んでいない場合は，連続使用可）○連続使用時間は原則として 2 日を限度とする。
問い合わせ先： 電気電子工学科
上迫浩一 （内線 7133）※利用予約は内線 7446 で受け付けています。

６．利用者委員会
装置の利用法などの運営は、利用者委員会（ESCA 運営委員会）で行われます。現在の委員（継続中）は次の通りです。
有機材料化学科： 尾崎弘行
化学システムエ学科： 石原篤
機械システムエ学科： 長谷川正，江口正夫
電気電子工学科： 上迫浩一，上野智雄，岩崎好孝
物理システムエ学科： 橋詰研一生物ｼｽﾃﾑ応用科学研究科 ： 堀尾正靱，永井正敏
当委員会では実務上、管理委員と経理委員を決めて、装置の管理・運営を行っています。
管理委員： 上迫浩一
経理委員： 永井正敏

７．研究成果（−部紹介）
1. T.Shirasawa, K.Kimura, K.Hayashi and K.Kamisako, ”Influence ofSubstrate Temperature on Microcrystallineof Silicon Films”,
Technical Digest of 12th International Photovoltaic Science andEngineering Conference (Korea, 2001) pp. 451-452.
2. Y. Yoshioka, A. Takeuchi, T. Ishitani and K. Kamisako, ”Structural
Change of Microcrystalline Silicon Films with Double Layer
Structure”, Technical Digest of 12th International Photovoltaic
Science and Engineering Conference (Korea, 2001) pp. 449-450.
3. T. Wake, Y. Fushimi, Y. Abe, H. Nagayoshi T. Saitoh and K.
Kamisako, ”Thermal Stability of SiO2 and SiNx:H/SiO 2 Passivation
Layers with High Temperature Steam Annealing”,
Technical

Digest of 12th International Photovoltaic Science and Engineering
Conference (Korea, 2001) pp. 159-160.

電子顕微鏡１．運営方法電子顕微鏡は東京農工大学の全学共通設備の 1 つとして運営されており，その管理・運営は電子顕微鏡運営規定に従っており，工学部の以下の委員が当たっている。
斉藤 忠(電子情報工学科)
長谷川 禎告 (応用分子化学科)○ 長谷川 正(機械システム工学科)
養王田 正文 (生命工学科)(アイウエオ順)
但し，○委員長，取扱主任
なお，装置の維持・管理は取扱主任(長谷川)および機械システム工学科池田浩治が，実務は池田浩治、森田剛（機械システム工学科）が担当している。

２．設置場所○透過型電子顕微鏡
工学部６号館１０９室
機器分析センター 1A 室
○走査型電子顕微鏡
機器分析センター 1B 室

日立 H-700H
フィリップス CM300
フィリップス XL30

３．運営費
平成 13 年度当初予算は，8,489,080 円（内訳：前年度繰り越し金 6,085,080
円、学部内特殊装置維持費 2,404,000 円）であり，300kV 電子顕微鏡および既設の 200kV 電子顕微鏡の消耗品の購入，修理のため平成 13 年度支出
総額は 806,655 円、繰り越し残高 7,682,425 円となっている（平成１３年
２月１日現在）。電子顕微鏡の場合、不具合等発生の場合は仕様の特殊性に
より支出単価が極めて高額になる可能性があるため、支出軽減を目的として可能な限り管理委員会委員によるメンテナンスを実施している。なお、
予算不足の場合には，不足分を利用者負担によってまかなうこととしている。

４．装置の概略
装置としては，最高加速電圧 200kV(日立 H-700H)と 300kV(フィリップス CM300)の 2 台の透過型電子顕微鏡と最高加速電圧 30kV(フィリップスXL30)の走査型電子顕微鏡が設置されている。
主な仕様を以下に示す。
日立 H-700H
加速電圧 :75，100，150，175，200kV
倍率範囲 :1,000〜900,000 倍
分解能:0.14nm(格子像)，0.20nm(粒子像)
電子線回折 :200〜2,200mm(カメラ長さ)
フィリップス CM300
加速電圧 :50，75，100，150，200，250，300kV
倍率範囲 :50〜900,000 倍
分解能:0.14nm(格子像)，0.20nm(粒子像)
電子線回折 :18〜4,700mm
エネルギー分散型 X 線元素分析装置:検出可能元素；B(5)〜U(92)
定性分析，定量分析，X 線マッピング機能，線分析機能
フィリップス XL30
加速電圧 :0.2〜30kV
倍率範囲 :10〜400,000 倍
分解能:2nm
ステージ :X ・ Y;50×50mm，最大試料;200mmφ，Z;20mm
傾斜;-15°〜75°
エネルギー分散型 X 線元素分析装置:検出可能元素;Na(11)〜U(92)
定性分析，定量分析，X 線マッピング機能，線分析機能

５．利用方法と利用状況
日立 H-700H
原則的に，装置の使用を希望する職員・学生は，自由に使うことができる。
しかし，装置の操作には電子顕微鏡の原理と構造の理解ならびに多少の熟練を要するので，初めての使用者には取扱主任あるいは森田助手からの取扱説明・実地操作訓練を経た上で使用してもらっている。本装置は次に述べる透過型電子顕微鏡ほどの高真空度を要求しないこともあり、観察対象の制約が比較的緩く利用者は全科に渡っている。装置は平均して 1 日 8 時
間程度(装置の立ち上げ，調整を含む)稼動し、利用者で混み合う時期には使用が夜間に及ぶことが普通であり，使用までには 2 週間程待たなければならない事も多い。
フィリップス CM300
新型の装置であり，付属のマニュアルは英文で書かれておりかつ極めて大部なので，使い易い日本語版マニュアルを準備してある。なお，本装置は前記の装置にくらべて大幅にコンピュータ化されている。本装置は今後良好な状態で長期間に渡って利用していかねばならず，そのため学生諸君の単独使用は御遠慮願っている。是非ともという場合は，所属研究室の教官の監督・責任のもとで使用されたい。
また，前記の装置で電子顕微鏡の原理・構造・取扱の注意点を十分修得した上で使用されたい。また，最高加速電圧が 300kV と高いため，観察する物質・材料によっては気化・蒸発のため加速管と鏡体を汚染し装置が使用不可能に陥る恐れもある(加速管および鏡体のクリーニングは極めて困難であり，不可能に近い)。加速電圧を下げて使用する方法もあるので，観察物
質と加速電圧については事前に取扱主任あるいは森田助手まで相談されたい。
高分解能観察による格子像の撮影，ナノレベルの微小領域元素分析，STEM
像による面分析，線分析，点分析，元素マッピング等の多機能を有している。
フィリップス XL30
新型の装置であり，デジタル SEM である。CM300 同様に付属のマニュア
ルは英文で書かれてあるので，簡易日本語版マニュアルを準備してある。
また，本装置も上記 TEM と同様に，従来の SEM より大幅にコンピュータ
化されており，操作を簡略化しながら，多機能化，高機能化を実現した装置である。また，平成９年度にエネルギー分散型 X 線元素分析装置を追加した。検出可能元素は Na(11)〜U(92)で，定性分析，定量分析，X 線マッ
ピング，面分析，線分析，点分析が可能である。フィラメントに LaB6 を使用しているために高い真空度が要求されるが，低加速電圧でも十分な分解能を有するため，多種の物質・材料の観察が可能である。利用方法は予約制である。オペレータは利用者認定試験に合格した方に限る。問い合わ
せは取扱主任あるいは池田まで。

６．研究成果の例(判っているものの一部)
1. "Fabrication of Refractive Index Profiles in Poly(methyl
methacrylate) using Ultraviolet Rays Irradiation"， T. Kada T.
Hiramatsu, K. Ogino, L.-C. Xin, H. Machida, K. Kiso, and S.
Miyata, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 41(2A), 876-880 (2002)
2. "Desulfovibrio magneticus sp. nov., a Novel Sulfate-Reducing
Bacterium That Produces Intracellular Single-Domain-Sized
Magnetite Particles", Toshifumi Sakaguchi, Atsushi Arakaki, andTadashi Matsunaga, Int. J. Syst. Evol. Microbiol. 52, Pt1, 215-221(2002)
3. "Cadmium Recovery by a Sulfate-Reducing Magnetic Bacterium,
Desulfovibrio magneticus RS-1", Atsushi Arakaki, Haruko
Takeyama, Tsuyoshi Tanaka, Tadashi Matsunaga:. Appl. Biochem.
Biotechnol. Spring, 98-100 (2002)
4. "Preparation of Highly Dispersed Nano-scale Platinum Composite
Polymer Using Reactive Organoplatinum Complexes", Sanshiro
Komiya, Masaru Kuwahara, Naoko Awazu, Jyuichi Fukatani, and,
Masafumi Hirano, J. Mater. Sci. Lett. 20, 743-744 (2001).
5. "Uniform tensile elongation obtained from experiment and its
estimation using dislocation dynamics parameters", T.Hasegawa
and K.Okazaki,, Mater. Sci. Eng., A297(2001), 266.
6. "An interpretation of the true stress-true strain behavior for amechanically milled, superplastic Al-Mg-Cu alloy from adislocation dynamics viewpoint", T.Hasegawa and K.Okazaki,
Materials Sci.&Eng., A277(2000), 284-290.
7. "Deformation parameters governing tensile elongation for amechanically milled Al-1.1at%Mg-1.2at%Cu alloy tested in tension
at constant true strain rates", T.Hasegawa, T.Takahashi and
K.Okazaki, Acta meterialia, 48(2000), 1789-1796
8. "Low-Surface-Energy Fluoromethacrylate Block Copolymers withPatternable Elements", S. Yang, K. Ogino, J. Wang, S. Valiyaveettil,
C. K. Ober, Chem. Mater., 12(2000), 33-40
9. "Supercritical CO2 Processing for Submicron Imaging of
Fluoropolymers", N.Sundararajan, K. Ogino, S. Yang, J. Wang, S.
Valiyaveettil, C. K. Ober, S.K. Obendorf, R. D. Allen, Chem.Mater.,
12(2000), 41-48

10. "時効硬化型 Al-Cu、Al-Cu-Pb,B および Al-Cu-Si 合金の切り屑分断性から見た被削性", 八高隆雄，吉田真一郎、松岡秀明、長谷川正、日本機械学会論文集，66(2000),C 編,3772.
11. "Analysis of strain rate dependence of tensile elongation for amechanical milling Al-1.1Mg-1.2Cu Alloy tested at 748K from adislocation dynamics viewpoint",T.Hasegawa and K.Okazaki,
Master.Sci.and Eng.,A260(1999),294-300.
12. "Temperature Dependence of Temsile Elongation in a MechanicallyMilled,P/M Al-Mg-Cu Alloy",Tadashi Hasegawa and Kenji Okazaki,
Materials Science Forum,304-306(1999),249-254.
13. "Analysis of the temperature dependence of tensile elongation fora mechanically milled Al-1.1Mg-1.2Cu Alloy by a dislocation
dynamics Approach",T.Hasegawa,K.Okazaki,T.Yasuno and
T.Takahashi, Materials Sci.and Eng.,A265(1999),246-253.
14. "Nb と B の複合添加による 18%Ni マルエージ鋼の高靭性化"，安野拓也，栗林一彦，長谷川正，鉄と鋼(日本鉄鋼協会論文集)，
84(1998),817-822.
15. "Origin of superplastic elongation inh aluminum alloys producedbymechanicalmilling",T.Hasegawa,T.Yasuno,T.Nagai
andT.Takahashi, Acta materialia,46(1998),6001-6007.
16. "単結晶ダイヤモンド工具によるアルミニウム-SiC 粒子複合材料の被削性"，嶋貫宏泰，長谷川正，安野拓也 他，軽金属，46(1996),pp.632637
17. "Tellurite removal by marine photosynthetic bacteria" ，A.Yamada,N.Miyagisima and T.Matunaga, Journal of Marine
Biotechnology,5(1997),46-49.
18. "Effects of Addition of Alloying Elements on Superplastic Bhavior
in Mechanically Alloyed Aluminum Alloys"T.Hasegawa,T.Yasuno
et al.,Towards Innovation in Superplasticity 1., Materials Science
Forum,233-234(1997),pp.163-170
19. "水素脆性き裂進展特性に及ぼす温度の影響"，安野拓也，長谷川正 他，
鉄鋼の高強度化と信頼性向上 日本鉄鋼協会(1997),214-217
20. "18%Ni マルエージ鋼の未再結晶容態化処理による高靭性化に及ぼす B
添加量の影響"，安野拓也，長谷川正 他，鉄と鋼(日本鉄鋼協会論文集).,83(1997),pp.671-676.
21. "Microstructural Study of high Strain Rate Superplasticity inMechanically Alloyed Aluminum Alloys"，T.Hasegawa,T.Yasuno etal., Proc.Inter.Conf.on Thermomechanical Processing of Steels andOther Materials,TMS,(1997),pp.1961-1967.
22. "Stress-Strain Behavior and Continuous Observation ofDeformation in Superplastic MA Al Alloys"，T.Yasuno,T.Hasegawa
et al., Proc.Inter.Symp.on Microstructure, Mie Academic
Press,(1997),pp.133-140.
23. "静電噴霧法による石英ガラス基板上への酸化スズ超微粒子の析出", 松
嶋雄太, 畠山大祐, 山崎務, 前田和之, 鈴木健之, 日本セラミックス協会春季年会(2002)予稿集 p. 174.
24. "水面上プラズマによるチタン陽極酸化反応", 松嶋雄太, 松浦由香, 山
崎務, 前田和之, 鈴木健之, 日本セラミックス協会春季年会(2002)予稿集 p. 100.
25. 松嶋雄太, 畠山大祐, 山崎務, 前田和之, 鈴木健之, "酸化スズ微粒子合成における静電噴霧条件の粒径と堆積形態へ与える影響", 日本化学会
第 81 春季年会(2002)予稿集 p. 204 .
26. 松嶋雄太, 畠山大祐, 大宮綾稚, 山崎務, 前田和之, 鈴木健之, "静電噴霧法による酸化スズ微粒子膜の作製", 第 40 回セラミックス基礎科学討論会(2002)予稿集 pp. 380-381.

フーリエ変換ＮＭＲ装置(FT-NMR)
１．機器名及び設置場所
ALPHA500

工学部 5 号館（旧電子棟） 1 階

機器分析センター

機器室 4

EX400

〃

〃

〃

〃

5

AL300

〃

〃

〃

〃

5

ALPHA600

農学部連合大学院棟

3階

301 号室

２．機器の構成および性能＊平成 13 年度末で FX200 を廃棄し AL300 を設置した。
◎AL-300(JEOL)
・溶液 1D,2DNMR (観測核:1H,13C)各種測定モード
・ﾃﾞｰﾀ保存 外部保存 ; MO 光磁気 DISK(640MB)、ﾌﾛｯﾋﾟｰﾃﾞｨｽｸ
・溶液用検出器（プローブ）5mm-tunable
・ OS に Windows98 を使用しているため Windows パソコンに対応、・ pentiumⅢ搭載によりデータ処理が迅速◎ALPHA-500(JEOL)・溶液専用（観測核:1H,13C+多核種）1D,2D
・マグネット；磁場強度 11.74T（防振台付）
・検出器（プローブ）5mm-tunable,10mm-tunable,5mm-FG-narolac pulse
field gradient 法による高感度化（従来 4 回の積算が必要であった 1H-2D
測定が 1 回の積算で OK)・ H2O を検出しない、又 T1 ﾉｲｽﾞが検出されない DQFCOSY,HSQC,HMBC測定等の新機能を持っている。
・データ保存・転送・処理
内部保存
外部保存
外部保存
ALPHA500 HARD DISK(2GB) MO光磁気DISK(560MB) DAT 磁気テープ(4GB)lambda〃〃(128MB)転送 ;学内ネットワークによるパソコンへの転送(ftp)
lambda の X ウィンドウ端末にオンラインで NMR 装置の測定データを転送し、データ処理が可能◎EX-400(JEOL)
・’96.9 月から分光計、システム部、データ処理部を GX400 から EX400 に変更した。
・溶液 1D,2DNMR(観測核:1H,13C+多核種)各種測定モード
・溶液検出器（プローブ）5mm-tunable,10mm-tunable,5mm1H 専用・固体 NMR(観測核:13C+多核種)各種測定モード
・固体検出器（プローブ）CP 専用,CPMAS 用・データ保存・転送
内部保存 ; ﾊｰﾄﾞﾃﾞｨｽｸ、 外部保存 ; ﾌﾛｯﾋﾟｰﾃﾞｨｽｸ
転送 ; 学内ネットワークによるパソコンへの転送(ftp)
lambda の X ウィンドウ端末にオンラインで NMR 測定データを転送し、処理が可能

３．利用状況(H.12 年度研究室数)
FX-200
生 命 工 学

EX-400

ALPHA-50046

機能材料化学564

応用分子化学44

3

化学ｼｽﾃﾑ工学

1

1

1

大学院生物ｼｽﾃﾑ1

3

5

稼働状況(H.12 年度)
FX-200昼間
夜間

４．会計報告(H.12 年度)
配分額

107 日
207 日

EX-400

ALPHA-500

90 日
118 日

2,094,000.-

利用者負担2,208,000.-収入(合計)

4,302,000.-

人件費

1,573,000.-

消耗品(測定用物品)

111,000.-

保守費(修理、冷媒)

2,125,000.-

その他(図書、節約、備品、通信他)
支出(合計)

493,000.4,302,000.-

195 日
235 日

５．運営委員名
委員長 多田 全宏（応用生物科学）
工学部

農学部

室長

佐藤 壽彌

ＢＡＳＥ

室長

多田 全宏

応用生物科学科委員

市原 祥次

有機材料化学科

委員

川合 伸也

〃

〃

朝倉 哲朗

生命工学科

〃

千葉 一裕

〃

〃

米澤 宣行

有機材料化学科

〃

夏目 雅裕

〃

〃

下村 常夫

事務部

〃

芳賀 尚樹

〃

青木 教明

〃

〃

環境資源科学科

６．利用方法(AL300,EX400,ALPHA500)
NMR 室で依頼測定及び測定方法の講習を行っている。(特に 4 月は、新しく利用する人のために基本の操作の講習を行っている。)
NMR で使わない時間について利用時間の予約を設け、自由に利用している。
1)予約日について
集合場所 ： 機器分析センター機器室５
集合日時 ： １週間毎の月曜日、午前１０時より予約会議（月曜日が休日の場合は火曜日）
予約期間 ： 予約日から１週間先の１週間（例）予約日
予約期間
H.14. 9. 2
H.14. 9. 9- 9.15
9. 9
9.16- 9.22
9.17
9.23- 9.29
2)予約方法について
予約希望者が予約日に集まり話し合いで使用日時を決め予約表に記入する。
・予約日の取り消しについて
3 日前まで…無料
当日〜2 日前…代わりの使用希望者が無い時は有料
3)利用料金(H.9.9.1 から下記の表のとおり改訂)
時間貸し
AL300
EX400
ALPHA500
平日

9:00〜13:00

2000 円

2500 円

3500 円〃

13:00〜17:00

2000 円

2500 円

3500 円〃

17:00〜翌朝 9:00

2000 円

2500 円

3500 円休日

9:00〜翌朝 9:00

2000 円

2500 円

3500 円

1 時間

600 円

700 円

900 円

依頼測定(1H,13C の 1D のみ)

AL300

1 件あたり（積算 30 分まで）

2000 円

2500 円

3500 円30 分以上の積算は 1 時間毎に800 円

1000 円

1250 円

一晩積算（16 時間）

3000 円

4000 円

5000 円

EX400

ALPHA500

4)問い合わせ先
AL300,EX400,ALPHA500
工学部 NMR 連絡用 E-mail:nmr@cc.tuat.ac.jp
機器分析ｾﾝﾀｰ
野口 内線 7188 E-mail: knoguchi@cc.tuat.ac.jp
工学部 NMR 室
滝沢 内線 7189 又は 7948 又は 7947
E-mail:takizawa@cc.tuat.jp
核磁気共鳴装置室内における基本的注意事項
・室内に鉄製の物品（はさみ、スパナ、ガスボンベ、台車など）を持ち込まない。
・マグネットに接近すると、磁気カード、機械式時計などが損傷する可能性がある。
・心臓ペースメーカー使用者は立ち入り禁止。
・マグネットは防振台上に設置されているため、マグネットを強く押すと揺れ動
き、液体ヘリウムが噴出する可能性があるので、決してマグネットを強く押さないこと。
・室内は飲食禁止、土足禁止、禁煙とする。
・室を離れるときは、施錠する。
核磁気共鳴装置(ALPHA600)室内における追加すべき注意事項として・サンプル出し入れの際には付設の木製階段を使用することになり、天井の蛍光灯に頭をぶつけやすいので、十分気をつけること。
・室を離れるときは、施錠する。また 17:00-9:00 は正面玄関も必ず施錠する。
農学部ＮＭＲ問い合わせ先 内線 3863(北野)、ＮＭＲ室 内線 5795
◎ALPHA-600(JEOL)
H.10 年度から ALPHA-600(JEOL)は、故障していたが、H.11 年度 12 月から使用可能になった。
・システム JEOL ALPHA 600

・オートチューン多核 5mm プローブ（1H, 13C, 15O, 17O など、但し 19F は除く）
・近日中に FG システム、および高感度ナノプローブが導入される予定。
・ Win 98 対応の Alice データ処理システムも近日中が導入され、ネットワーク
上でのデータ処理が可能。
・マグネットは磁場シールドタイプであるため、外部への漏洩は 400 メガヘルツのマグネット相当まで低下している。また、フルオートチューンプローブ
を導 入しているため、多核切り替え測定が容易。
・本システムの使用方法
・本学関係者は毎週行われる予約会議にて、使用時間帯を予約し、年度末に研究室毎の使用料金の移し換えを行う。
・予約会議
毎週月曜日午後１時より連合農学研究科管理棟３F 301 号室にて研究室ごとに代表者が集まり、３日後の木曜日から次週の水曜日までの予約をする。なお、
予約会議後、当該週の空き時間は随時電話にて予約を受け付ける。
（内線 3863、
北野まで）。
・使用料金
基本 的 には ２ 時間 単位 (9:00-11:00, 11:00-13:00, 13:00-15:00, 15:0017:00,17:00-19:00, 19:00-21:00)で各々 1500 円、深夜時間は 12 時間を単位(21:00-9:00)として 3000 円とする。なお深夜時間を予約した場合、その直前の２時間(19:00-21:00)は優先して予約できる。例えばこの場合使用料金は
14 時間で 1500 円+3000 円=4500 円となる。
・将来、使用料金は使用状況等により変更する場合がある。
・使用者
使用者によって引き起こされた装置の故障に関する責任は、使用者の所属する研究室で負い、万一の場合には修理費について応分の負担をすること。従って、操作法の未熟な者が単独で使用することは絶対に避けること。
ALPHA series の操作に熟達してない研究室で、取り扱い説明を必要とする場
合は、予め、農学部応用生物科学科 生物有機化学研究室（内線 3863 北野助手）まで連絡し、取り扱い説明を受ける。
その他、担当学生にて不明の点は千葉先生（内線 5700）まで連絡のこと。
・ NMR 管理者の使用時間について
毎週月曜日 13:00 から翌火曜日の 13:00 までは液体窒素、液体ヘリウムの補充、分解能調整、メンテナンス、管理者のトレーニング等にあてるため、一般の使用はできない。
・装置の停止、始動、プローブの交換等が必要になった際には、必ずＮＭＲ担当
者に連絡し、指示を受ける。操作を誤ると、致命的な故障が発生する場合がある。

７．研究成果の紹介
1. M. Yoshizawa, M. Hirao, K. I-Akita, and H. Ohno, "Ion conduction inzwitterionic-type molten salts and their polymers",J. Mater.Chem., 11,1057-1062 (2001).
2. H. Ohno, "Molten salt type polymer electrolytes", Electrochimica Acta,
46, 1407-1411 (2001).
3. N. Nakamura, Y. Nakamura, R. Tanimura, N.Y. Kawahara, H. Ohno,
Deligeer, and S. Suzuki, "Electron transfer reaction of poly(ethyleneoxide)-modified
azurininpoly(ethyleneoxide)
oligomers",
Electrochimica Acta, 46, 1605-1608 (2001).
4. M. Yoshizawa and H. Ohno, "Synthesis of molten salt-type polymer
brush and effect of brush structure on the ionic conductivity",
Electrochimica Acta, 46, 1723-1728 (2001).
5. M. Yoshizawa, W. Ogihara, and H. Ohno, "Design of new ionic liquid by
neutralization of imidazole derivatives with imide-type acids",
Electrochem. and Solid State Lett, 4, E25-E27 (2001)
6. H. Ohno and N. Nishimura, "Ion conductive characteristics of DNA film
containing ionic liquids", J. Electrochemical Soc., 148, E168-E170(2001).
7. Sadao WAKAMURA, Norio ARAKAKI, Masanobu YAMAMOTO,
Syuntaro HIRADATE, Hiroe YASUI, Tetsuya YASUDA, and Tetsu
ANDO, “Posticlure: a Novel trans-Epoxide as a sex Pheromone
Component of the Tussock Moth, Orgyia postica (Walker)”, Tetrahedron
Lett., 42 (4): 687-689 (2001).
8. Hiroyuki YAMAZAWA, Naoto NAKAJIMA, Sadao WAKAMURA, Norio
ARAKAKI, Masanobu YAMAMOTO, and Tetsu ANDO, “Synthesis andCharacterization of Diepoxyalkenes Derived from (3Z,6Z,9Z)-Trienes,
Lymantriid Sex Pheromones and Their Candidates”, J. Chem. Ecol., 27(11): 2153-2167 (2001).

9. Maeyama Katsuya, Kobayashi Masato, Yonezawa Noriyuki,"NICKEL/ZINC-MEDIATED
ALKYLCARBON-OXYGEN
BOND
CLEAVAGE OF ALKYL ARYL ETHERS", Synth. Commun., 31, 869-875,
2001.
10. 亀田 朝美, 西森 裕樹，小村 聡宏，小池 政行，日野 哲男，上橋 崇志，前山 勝也，米澤 宣行, "トリフルオロメタンスルホン酸存在下でのメトキシ酢
酸と芳香族化合物の反応 −ジアリールメタンおよびアントラセン誘導体生
成反応の挙動と経路の解明−", 日本化学会誌, 211-218，2002.
11. 日野哲男，浪江勤，中村博之，米澤宣行，"フッ素含有異種多官能性芳香族化
合 物 の合 成 ： 4- ハロ -3- ト リ フ ルオ ロ メ チ ルベ ン ゾ ニ ト リル 類 のSandmeyer 合成", 日本化学会誌, 219-222，2002.
12. 鈴木康之，李 軍，前川康成，吉田 勝，前山勝也，米澤宣行，"親水性ポリ
エチレンテレフタレート膜表面の親水的環境下での疎水化", 日本化学会誌,
255-259，2002.
13. 増渕泰之，萩原時男，池谷洋一，河田盛寿，米澤宣行，"ヘキサフルオロプロ
ピレンオキシドと環状エーテルとの反応による環状エーテル重合体の合成"，
日本化学会誌, 365-369，2002.
14. Maeyama Katsuya, Kobayashi Masato, Kato Hiroshi, Yonezawa
Noriyuki,"NICKELNICKEL/ZINC-MEDIATEDSYNTHESISOFAROMATIC NITRILES FROM AROMATIC OXIME ETHERS”, Synth.
Commun., 32, 2519-2525, 2002.
15. Yonezawa Noriyuki, Nakamura Hiroyuki, Maeyama Katsuya,“Synthesis
of Sequentially Controlled Isomeric Wholly Aromatic Polyketones
Composed of 2-Trifluoromethylbiphenylene and 2,2'-Dimethoxybiphenylene Units", Reactive & Functional Polym., 52, 19-30, 2002.
16. Atsushi Fukuoka, Sumiko Fukagawa, Masafumi Hirano, Nobuaki Koga,
and Sanshiro Komiya, “Enhancement of CO Insertion into Pd-C Bond
on Pd-Co Heterodinuclear Complex”, Organometallics, 20, 2065-2075(2001).
17. Sanshiro Komiya, Masaru Kuwahara, Naoko Awazu, Jyuichi Fukatani,and Masafumi Hirano,“Preparation of Highly Dispersed Nano-scale
Platinum Composite Polymer Using Reactive Organoplatinum
Complexes”, J. Mater. Sci. Lett. 20, 743-744 (2001).
18. Susumu Kanaya, Nobuyuki Komine, Masafumi Hirano, and Sanshiro
Komiya, “Preferential Bond Activation of sp3 C-H over sp2 C-H in a,b-

Unsaturated Carboxylic Acids by Ruthenium Complex”, Chem. Lett.,
1284-1285, (2001).
19. Masafumi Hirano, Kohtaro Osakada, Hiroyuki Nohira, and Akira
Miyashita, “Crystal and Solution Structures of Photochromic
Spirobenzothiopyran. First Full Characterization of the Meta-stable
Colored Species”, J. Org. Chem., 67, 533-540 (2002).
20. H.Taguchi, K. Ghoroku, M. Tadaki, A. Tsubouchi, and T. Takeda,“Copper(I) tert-Butoxide-Promoted 1,4 Csp2-to-O Silyl Migration:
Stereospecific Allylation of (Z)-γ-Trimethylsilyl Allylic Alcohols”, Org.
Lett., 3,3811-3814 (2001).
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Cyclopropanes by the Reductive Coupling of 1,3-Dilalides Promoted by
Titanocene(II) Species”, Chem. Lett., 290-291,(2002).
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23. Iwadate M., Asakura T., Dobovskii P. V., Yamada H., Akasaka K. &Williamson M. P. “Pressure-dependent changes in the structure of themelittin a-helix determined by NMR.”, Journal of Biomolecular NMR 19,
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N-methacryloyl-g-Amino Acid Primers to Collagen Analyzed by 13C
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25. Asakura T., Ashida J. & Yamane T. “ Structure of Bombyx mori Silk
Fibroin before Spinning in Silkworm.”, Advances in the NMR
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26. Demura M., Noda M., Kajimoto T., Uchiyama T., Umemoto K., Wong
C.-H. & Asakura T., “Solution structure of sialyl Lewis X mimics
studied by two-dimensional NMR.”, J. Mol. Structure, 602-603,215222(2002).
27. Sato Hisaya, Ogino Kenji, Hirai Hidenori, Preparation of holetransporting
polymersbycondensation
polymerizationoftriphenylamine
derivatives”,
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Effect of ethyl acetate on thesoap-free emulsion copolymerization of 4-vinylpyridine and styrene:
Aspects of mechanixm (I) , J. Appl. Polym. Sci., 82, 2679-2691 (2001).
33. H. M. Ni, G. H. Ma, M. Nagai, S. Omi, “Effect of ethyl acetate on thesoap-free emulsion copolymerization of 4-vinylpyridine and styrene:
Aspects of mechanixm (II)”, J. Appl. Polym. Sci., 82, 2692-2708 (2001).
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phase, monomer phase and the irinterface”, Macromolecules, 34,
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A Kinetic Investigation of
Thermally Initiated Emulsion Copolymerization of Styrene andMethylmethacrylate without Conventional Initiators”, J. Appl. Polym.
Sci., 84, 454-467 (2002).
36. Y. Z. Du, G. H. Ma, M. Nagai, S. Omi, “Morphological Studies in
Thermally Initiated Emulsion (Co)Polymerization without Conventional
Initiators.”, J. Appl. Polym. Sci. 84, 1737-1748 (2002).

多目的画像処理装置
1.

機器の名称，購入年度，設置場所
多目的画像処理室 (昭和 59 年)(機器分析センター

機器室 7)

2. 機器の構成および性能
2.1 多目的画像処理室概要
昭和 59 年度に設置された本システムは，画像入力部・処理部・ディスプレイ
部から構成されている．画像処理部は CPU として，かつてのスーパーミニコン(Data General MV4000)を備えていたが，性能的に陳腐化し，またハードディ
スクに故障が生じてしまった．CPU 自体が現在の一般的な計算機やパソコンレベルと比較して性能的にはあまりに劣るものとなってしまったために，このシス
テムはすでに廃棄に至っている．
以上のような理由により数年前より予算の許す範囲で，以下に記すようなシス
テムへと変更をはかっている．これは，共同利用という立場から維持管理がしや
すく，誰もが安直に使用することが出来ると共に，従来に劣らぬ優れた特徴をもつシステム構成を目指した．この結果，簡易な操作が可能となっているが，すでに更新した 2 世代目の装置のいくつかが陳腐化し始めている．
最近では，各研究室ごとに CCD カメラや高性能コンピュータを所有しているために，適切な時期をもって現有のシステムは役割を果させて終了させる予定である．
現在は，各利用者が所有しているコンピュータなどを処理装置として使えば，画像処理室付属のデジタルカメラや顕微鏡などから入力を行うこともできる．また，一昨年，導入空気除振台を利用して画像処理室で簡単な実験を伴った画像検出ができるようになったほか，コンピュータ等で構築した 3 次元モデルを実際に模型として加工できることも可能になっている．
なお，特殊画像計測装置として赤外線画像をとらえるサーマルカメラも利用可
能である．
2.2 画像処理システム
機器分析センターの設置とともに 6 号館(旧 I 棟)3 階から機器分析センター機器室 7 へと移転した．さらに，機器室 7 はセンターの南側から，従来，工作室として利用されてきた北側の部屋へと引っ越しを行った．

維持費がつかなくなるという問題や前述のように共同での利用勝手から，小型のシステムとせざるをえないと考え，平成 5 年度に維持費を中心としてコンピ
ュータ部の更新をはかった．さらに，平成 6 年度に画像入力部に共同利用という立場から研究室レベルで簡単に導入できるＣＣＤカメラではなく，10 ビットの階調と 10 万画素(1000×1018)の性能を持つデジタルカメラの導入を行った．
これによって高品位な画像の取り込みが可能となっている．さらに，平成 8 年
度は画像入力用として簡易なカラーデジタルカメラ，8mm ビデオおよび長動作
距離の対物レンズ付きビデオ・マイクロスコープ・ユニット，データ処理のためのソフトウエアの導入・バージョンアップおよびデータ表示のための立体モデリ
ング加工装置の導入を行い小規模ながらシステムの向上をはかった
さらに，平成 9 年度は画像処理室でも簡易な実験を行うことが出来るように
空気除振台を導入している．また，北側に引っ越しに伴い以前から部屋に設置してあるドラフトチャンバーの使用も行っているために，画像処理室としての機能は縮小しつつある．
コンピュータ部に関しては，画像取り込み部との関連と初心者にも容易に使いこなせるという理由からマッキントッシュを導入している．これは，現在ワーク
ステーションが各研究室に設置されているような状況となっているため，小型ではあるが特徴あるシステムを構築することを考えた結果である．これによって誰でも簡単に画像取り込み部からの画像データを得られる．このコンピュータもすでに陳腐化してきたため，本年度は最低限のコンピュータに関しての入れ替えを行った．しかしながら，今後，新規更新を計画しており，年次予算の繰り越し，積み立てを行ってきた．
なお，ソフトウエアに関しては次に記すような初等的なものの用意はできたが，特殊用途に関しては利用者が購入あるいは開発を行う必要がある．周辺機器については，利用者の所持するコンピュータと対応できれば，それとの組み合わせによる利用も可能である．
2.3 特殊画像計測装置(サーマル・ビデオ・システム)
概要
物体から放射される赤外線を計測することにより，非接触で物体表面温度を測定する装置で，赤外線カメラヘッドとイメージプロセッサの二つの主要ユニット
より，構成されている．カメラヘッドからの熱像信号をディジタル信号に変換し，フレームメモリーに記憶した後，信号処理してカラーモニターに熱画像を表示する装置である．内蔵するマイクロコンピュータの働きにより，各種モードの熱像
表示，温度表示，時刻表示，メッセージ表示等々を行うことが出来る．

利用する場合は，新井研究室(内線 7158)まで連絡頂きたい．利用者が準備するものとして，最低限アルゴンガスが必要です．
利用状況としては，データ収録装置が故障のため使用不可になっているが，機器の陳腐化が激しいため修理の予定は無い．カメラ自身は温度計測のモニターとして使用可能であるが，上記の理由により使用頻度は極めて低い．
表１

画像処理システム

コンピュータ部
コンピュータプリンタ
ソフトウエアApple Quadra800(RAM16MB，HDD230MB)
PowerPC603e
PowerPC G3 DT233
SONY GDM-2036S(20inch)
OKI
800PS II LT(マイクロライン・レーザプリンタ)
Photoshop 4.01J
PageMaker6.0J
Quick BASIC
Mac Draw Pro(Claris Draw)
ThinkC/C++(Symantec C/C++)
Microsoft Office

画像読みとり部
浜松ホトニクスC4742-01(1000×1018 画素 10bit 出力 デジタルカメラ)
IQ-D100(フレームグラバ)
オリンパス
C-800L(カラーデジタルカメラ)
ソニー
ユーマチック・ビデオ
シャープ
ハンディーカム・ビデオ
ニコン
顕微鏡
ミツトヨ
ビデオ・マイクロスコープ
表示部
ローランド
研究支援備品MODEL A MDX-3(3D プロッタ)

ユニフェイズ中央精機
表２

サーマル・ビデオ・システム

TVS-4100
測定範囲
分解能
フレーム数
走査線数
検知器冷却剤

He-Ne レーザ(7mW)
空気除振台(アビオニクス株式会社)-20℃〜950℃
0.5℃〜1.3℃
約 20 フレーム/秒
60 本
アルゴンガス (純度 99.98％以上)(機動に必要なガス圧:最低 70kg/cm2)

３．利用状況
使用状況は年間 120 日程度となっている．さらに，現在の状況では機器室 7のみですべての実験をまかなうことが出来ないので，周辺機器の貸し出し等で120 日程度使用されている．

４．会計報告コンピュータ関連機器

１、３４６、５６９円

5．利用方法，問い合わせ先
5.1 利用方法
利用者が各自でオペレートする事を原則とする．
サーマル・ビデオ・システムの利用の際には最低限アルゴンガスを準備すること．
5.2 問い合わせ先
機械システム工学科
吉沢 徹 （内線 7092）
機械システム工学科
大谷 幸利（内線 7103）
ただし，サーマル・ビデオ・システムに関しては
機械システム工学科
新井 紀夫（内線 7158）

６．研究成果6.1 測定，利用対象となる試料名，研究例

画像処理一般．画像のコンピュータへの取り込み．
最近の研究例として各種画像計測への応用が主である．モアレ画像の処理，格子パターン像解析，干渉縞の解析，三次元形状計測，熱画像の解析，偏光解析，
光硬化性樹脂による立体モデリング，顕微鏡画像を用いた粒子形状計測の研究などがある．一昨年からの除振台設置に伴いマイクロマシンなどの画像解析にも利用されている．また，ドラフトチャンバーを利用した試料の試作等にも利用されている．
6.2 研究論文
1. 吉澤徹（共著）：３次元画像用語事典(新技術コミュニケーションズ，2000)
2. 殿岡雅仁,山本将之,大谷幸利,吉澤徹,石原満宏,中里康生,佐々木博美：格子パ
ターン投影法を用いた位相およびコントラスト検出による表面形状計測,精密工学会誌，66，01（2000）pp.132-133.
3. 小田功，大谷幸利，リレン・リュウ，吉澤徹：Cu:KNSBN 結晶のフォトリ
フラクティブ二光波混合によるパターンマッチング， 光学，29，1（2000）
pp.33-38.
4. M.Shribak, Y.Otani, T.Yoshizawa: Autocollimation polarimeter formeasuring two-dimensional distribution of birefringence, Optics &Spectroscopy,89, 1, (2000) pp.155-159.
5. Y. Otani, N. Dushkina, T. Kanno, T. Yoshizawa: Disk inspection systemby two dimensional birefringence distribution measurement, Proc.SPIE
Vol.4081(2000) pp.17-20.
6. T. Yoshizawa, T. Yamaguchi, M. Yamamoto, Y. Otani: Three
dimensional profilometry using moire pattern projection, Proc.SPIE
Vol.4101(2000) pp.185-192.
7. H. Kowa, K. Muraki, Y. Otani, N. Umeda, T. Yoshizawa: High-orderbirefringence measurement using spectroscopic polarized light,
Proc.SPIE Vol.4133 (2000) pp.134-137.
8. L. Jin, Y.Kodera, Y.Otani, T.Yoshizawa: Shadow moire profilometry
using the phase-shifting method, Optical Engineering, 39 (2000)
pp.2119-2123.
9. T. Yoshizawa, T. Shinoda, Y. Otani: Uni-axis range finder using
contrast detection of a projected pattern SPIE Proc., Vol.4190 (2000)
pp.115-122
10. T. Yoshizawa, D. Hayashi, Y.Otani: Optical driving of a miniaturemachine composed of temperature-sensitive ferrite and shape memory

alloy, Proc.SPIE Vol.4190 (2000) pp.212-219.
11. L. Jin, Y.Otani, T.Yoshizawa : Shadow moire profilometry by thefrequency sweeping, Proc.SPIE Vol.4221(2000) pp.438-441.
12. Y.Otani, K.Ishizaka, T.Kanno, T.Yoshizawa : Microscopic measurement
system for two dimensional birefringence distribution, Photonics 2000
(2000)pp.557-559.
13. 吉澤徹・山本将之：パターン投影法による反射物体の三次元形状計測,画像ラボ,No.4 (2000) pp.9-12.
14. 吉澤徹：光によるヒトの３次元形状計測,計測と制御,Vol.39 No.4 (2000)
pp.267-272.
15. 大谷幸利・吉澤 徹：位相シフト干渉法による高精度表面形状計測,O plus E,
Vol.22 No.5 (2000) pp.590-596.
16. 吉澤徹：３次元画像計測と産業応用,映像情報インダストリアル,Vol.32 No.13(2000) pp.19-23.
17. 吉澤徹：オプトメカトロニクス技術と産業,光アライアンス,Vol.11 No.11(2000) pp.44-46.
18. 吉澤徹：オプトメカトロニクス国際会議に出席して,光技術コンタクト,Vol.38
No.11 (2000) pp.54-56.
19. 大谷幸利，吉澤徹：低コヒーレンス干渉計を用いた偏光情報測定，光学 ，29，
10（2000）pp.602-607.
20. 大谷幸利：ディスクの表面および内部状態の光学的測定法，プラスチック成型加工学会 第 51 回講演会(2000)pp．41-48.
21. 殿岡雅仁・山本将之・大谷幸利・吉澤徹・石原満宏・中里康生・佐々木博美：
格子パターン投影法を用いた位相およびコントラスト検出による表面形状計
測 精密工学会誌，66，01（2000）pp.132-133
22. 高瀬海，大谷幸利，吉澤徹：光ファイバーを用いたストレインゲージの開発（第３報）-曲面反射ミラーによる光強度変化を利用したひずみ計測，精密工学会春季学術講演会 (2000)p.493.
23. 篠田兼崇，大谷幸利，吉澤徹：ユニアクシスレンジファインダ（第１報）投影パターンのコントラスト検出，精密工学会春季学術講演会 (2000)p.495.
24. 山谷謙，山本将之，藤田宏夫，勝呂彰，大谷幸利，吉澤徹，諸川滋：ストラ
イプ型液晶格子を用いた格子パターン投影法（第 3 報）-格子作成結果と計
測例-，精密工学会春季学術講演会 (2000)p.542.
25. 金蓮花，大谷幸利，吉澤徹：格子周波数走査によるモアレ計測（第１法），
精密精密工学会春季学術講演会 (2000)p.548.

26. 山口高功，山本將之，大谷幸利，吉澤徹：モアレパターン投影方式３次元形
状計測，精密工学会春季学術講演会 (2000)p.551.
27. 池田充宏，大谷幸利，吉澤徹：液面基準斜入射干渉計（第１法），精密工学会春季学術講演会 (2000)p.595.
28. 大谷幸利， N.Dushkina，吉澤徹，管野敏之：複屈折計測によるディスク基板検査，第 47 回応用物理学関連連合関係講演会 (2000)p.1172.
29. 高和宏行，村木可苗，大谷幸利，梅田倫弘，吉澤徹：偏光の分光干渉を利用した高次複屈折の計測，光計測シンポジウム 2000 （2000）pp.66-68.
30. 大谷幸利， N.Dushkina，吉澤 徹，管野 敏之：ディスク基板検査のための複屈折分布計測システム，光計測シンポジウム 2000 （2000）pp.69-72.
31. 高和宏行，若山俊隆，大谷幸利，梅田倫弘，吉澤徹：偏光の分光干渉を利用した高次複屈折の計測（第 2 報），Proc. Optics Japan 2000（2000）
pp.207-208

7.

今後の計画
これまで多くの成果を挙げてはきたが，装置全体が陳腐化してしまっている。
そのために今年度末には今後の存続と更新に関して検討を行う予定である。

単結晶Ｘ線自動解析装置
１．機器の設置場所、構成及び性能機器の設置場所
機器分析センター機器室３
機器の構成及び性能(1)単結晶自動Ｘ線構造解析装置(ultraX18 + AFC5R)
本装置は単結晶試料からのＸ線回折強度を自動測定し、このデータをもに結晶構造の解析を行なう。分子量が 1500 程度までの化合物なら本システ
ムで解析可能である。
Ｘ線発生部 回転対陰極型（対陰極 Cu）最大定格出力 60kV 300mA
Ｘ線検出器 シンチレーションカウンター電子計算機 Silicon Graphics IRIS INDIGO ENTRY（主記憶容量 16MB、磁気ディスク 425MB+2GB）
吹き付け型低温装置を取り付ければ低温条件下での測定も可能です。
(2)Ｘ線自動粉末回折装置
粉末状、フィルム状試料からの回折Ｘ線を自動測定する。小角散乱装置は通常の透過法のほか反射法での測定も可能である。
Ｘ線検出器 シンチレーションカウンター
Ｘ線発生部 封入管型（対陰極 Cu） 最大定格出力 40kV 50mA
Ｘ線検出器 シンチレーションカウンター
粉末回折用ゴニオメーター、反射法小角散乱用ゴニオメータ

２．利用状況
主な利用研究室は 6 研究室。ultraX18 は修理の時以外は、ほぼ 24 時間連続稼働。RAD-C もほぼ毎日稼働している。

３．平成 13 年度会計報告
収入2,300,351
支出864,780
前年度繰越
1,972,351
備品代
315,000
配分額
328,000
消耗品
549,780
次年度繰越
1,435,571
平成１３年度教育基盤設備充実経費により、Ｘ線発生装置は ultraX18 に

更新でき、真空系等のトラブルは心配なくなりました。平成１３、平成１
４年に３度にわたり制御用ＰＣが故障しましたが、メーカーの厚意により、中古品に替えてもらっています。単結晶構造解析用ワーステーションのハードディスクドライブは故障していましたが、２GB のハードディスクド
ライブを増設しました。

４．問い合わせ先

生命工学科 生体物性学

奥山健二 内線 7028
e-mail : okuyamak★東京農工大学放射線障害予防規則により、Ｘ線装置を利用する職員、学生は作業従事者として登録が必要です。未登録者の使用は出来ませんのでご注意下さい。

５．利用者委員会メンバー
大野、中村（暢）、野間、小宮、平野，重原、宮田、磯、佐藤（勝）、森下、越田、黒岩、上野、鈴木（健）、長谷川（禎）、渡辺、臼井、須田、野口、神鳥、奥山の各研究室が現在の利用研究室です。
装置を利用すれば自動的に利用者委員会のメンバーになります。

６．成果（わかっているものの一部）
1. Y.Hasegawa, R.Matsuda, M.Kisa and M.Iso, Intercalation of N,Ndimethyl-1-phenylethylamine into α-Zirconium phosphate., J.
Incl. Phenom. 42, 33-38 (2002).
2. K. Okuyama, R. Somashekar, K Noguchi and S. Ichimura,
Molecular and Crystal Structure of Silk I: Analysis Based on AlaGly and (Ala-Gly)2-Ser-Gly Peptide Sequence, Biopolymers, 59,
310-319 (2001).
3. C. Hongo, V. Nagarajan, K. Noguchi, S. Kamitori, K. Okuyama, Y.
Tanaka and N. Nishino, Crystal Structure Analysis of a CollagenModel Peptide, (Pro-Pro-Gly)9 at 1.0Å Resolution, Polymer J., 33,
812-818 (2001).
4. 奥山健二、コラーゲンの三重らせん構造、理学電機ジャーナル 32(1),12-23, 2001.
5. K. Okuyama, Structural Study of Collagen Based on Single Crystal
Analyses of Model Peptides, Peptide Science 2000, 263-264, Ed. By

T. Shioiri, The Japanese Peptide Society (2001).

イオン注入装置
１．機器の設置場所
機器分析センター：機器室８

２．構成および性能
本装置は，イオンソース部，質量分析部，加速・走査系，試料室からなる，汎用形の中電流イオン注入装置です。主な性能は下記の通りです。
(1)注入エネルギー(2)注入可能イオン

３０〜２００ keV
約３０種（常備しているのは B，P，Si, Ar，(3)最大ビーム電流

Ｂ+：〜１００μA（２００ keV 時）
Ｐ+：〜３００μA（２００ keV 時）±１０％/ｈ以下
Ｍ／ΔＭ≧１００（半値幅）φ４インチシリコンウエハおよび任意形状
０〜１０度
試料室：５ｘ１０-7 Torr 以下N）(4)ビーム電流安定度(5)イオン質量分解能(6)基板サイズ(7)イオン注入角度(8)到達真空度

３．利用状況
平成４年３月設置，同年５月利用者委員会発足，同年８月一般利用開始。その後順調に稼働中。平成 13 年度には真空排気系を中心に中規模のオーバーホールと機器整備を行い，装置性能を維持した。利用件数は 125件。

４．会計報告――――――――――――――――――――――――――――
配分額（含,前年度繰り越し） ４，３５１,６０７――――――――――――――――――――――――――――
支出
備 品
８６７,８２５
消耗品
３１４,８９５
保守費，他
１,３１６,０７０

計
２,４９８,７９０――――――――――――――――――――――――――――
次年度繰り越し
１,８５２,８１７――――――――――――――――――――――――――――

５．利用方法，問い合わせ先
予約制で利用できます。ただし，オペレーターは講習を受けた方に限ります。講習は随時実施しています。
問い合わせ先： 越田信義（内線 7128）
須田良幸（内線 7129）
予約の申込先： 遠藤欣樹（内線 7468）

６．利用者委員会メンバー
装置の円滑な運用のため，次のメンバーによる利用者委員会が設置されています。
有機材料化学科臼井博明
機械ｼｽﾃﾑ工学科
梅田倫弘
電気電子工学科黒岩紘一，斉藤 忠，須田良幸，上迫浩一，
越田信義(世話人)

７．おもな関連発表論文
1. N. Asamura, T. Shinohara, Y. Tojo, N. Koshida, and H. Shinoda,
Necessary Spatial Resolution for Realistic Tactile Feeling Display,
Proc. 2001 IEEE Int. Conf. on Robotics and Automation (IEEE,
2001) pp.1851-1856.
2. A. Kojima, X. Sheng, and N. Koshida, Analyses of Ballistic ElectronTransport in Nanocrystalline Porous Silicon, Mat. Res. Soc. Proc.
638, F.3.3.1-6 (2001).
3. T. Komoda, T. Ichihara, Y. Honda, K. Aizawa, and N. Koshida,
Ballistic Electron Surface-Emitting Cold Cathode by Porous
Polycrystalline Silicon Film Formed on Glass Substrare (Invited),
Mat. Res. Soc. Proc. 638, F.4.1.1-12 (2001).
4. Y. Nakajima, A. Kojima, and N. Koshida, A Novel Solid-State
Light-Emitting Device Based on Ballistic Electron Excitation, Mat.

Res. Soc. Proc. 638, F.4.2.1-6 (2001).
5. Y. Toriumi, M. Takahashi, and N. Koshida, A Significant Change in
Refractive Index of Nanocrystalline Porous Silicon Induced by
Carrier Injection, Mat. Res. Soc. Proc. 638, F.8.3.1-6 (2001).
6. N. Koshida, J. Kadokura, M. Takahashi, and K. Imai, Stabilizationof Porous Silicon Electroluminescence by Surface Capping with
Silicon Dioxide Films, Mat. Res. Soc. Proc. 638, F.13.3.1-6 (2001).
7. T. Komoda, Y. Honda, T. Hatai, Y. Watabe, T. Ichihara, K.Aizawa,
and N. Koshida, Fabrication of ballistic electron surface-emitting
display on glass substrates (Invited), Society of Information
Display, Digest of Technical Papers 32, San Jose, 2001 (SID, San
Jose, 2001) pp.188-191.
8. Y.Suda and H.Koyama, Electron resonant tunneling with a highpeak-to-valley ratio at room temperature in Si1-xGex/Si triple
barrier diodes, Appl. Phys. Lett. 79, 2273-2275 (2001).
9. Y. Suda, N. Hosoya, and D. Shiratori, New Si atomic-layercontrolled growth technique with thermally-cracked hydride
molecule, J. Cryst. Growth 237–239, 1404–1409 (2002).
10. T. Ichihara, Y. Honda, K. Aizawa, T. Komoda, and N. Koshida,
Development of ballistic electron cold cathode by a lowtemperature processing of polycrystalline silicon films, J. Cryst.
Growth 237–239, 1915–1919 (2002).
11. N. Koshida, A. Kojima, T. Migita, and Y. Nakajima,
Multifunctional properties of nanocrystalline porous silicon as aquantum-confined material (Invited), Mater. Sci. & Eng. C 724,
285-289 (2002).

電子スピン共鳴装置
１．設置場所、構成及び性能
設置場所：機器分析センター機器室２
機器の構成：ESR スペクトロメータ及び若干の付属設備から構成される。
詳細は以下のとおり①ＥＳＲスペクトロメータ
機種 ＪＥＳ−ＲＥ２Ｘ （日本電子）：本機は、Ｘバンド（９．４ＧＨｚ）の標準的なＥＳＲスペクトロメータで、磁界は最大１．３Ｔまで印加できる。感度は１×１０１４ スピン／Ｔ。温度可変、光照射可能。ＯＤＭＲ（光検出磁気共鳴）測定可能。
②附属設備：(1)温度可変装置ＥＳ−ＤＶＴ２（−１７０゜Ｃ〜＋１９０゜Ｃ）(2)液体ヘリウム温度可変装置ＥＳ−ＬＴＲ５Ｘ（２．７Ｋ〜３００Ｋ）(3)試料角度回転装置ＥＳ−ＵＣＲ３Ｘ（０゜〜３６０゜：読みとり精度
１゜）(4)固体試料光照射用レンズ ＥＳ−ＵＶＬＳ(5)データ収集用コンピュータ ＥＳＰＯＮ ＰＣ３８６Ｍ−ＳＴＤ(6)光検出磁気共鳴装置ＯＤＭＲ(7)液体試料測定用石英セル

２．利用状況
利用者希望者からのお申し出があれば、お使いいただけるようマシンタ
イムの配分をします。今年度は代表者（佐藤勝昭）のほか、佐藤壽弥研究室、細見研究室、大野・中村研究室などが利用しています。これまでに測定した対象は、半導体中の遷移金属、希土類イオンのＥＳＲスペクトルによる同定、半導体の格子欠陥の光ＥＳＲによる検出、ラジカル種の ESR による同定、ダングリングボンドの同定などです。
ＯＤＭＲ（光検出磁気共鳴）の測定ができるように、pin ダイオードによるマイクロ波の断続ができるよう装置を整備し、液体ヘリウムをポンピ
ングして２ＫでのＯＤＭＲ測定ができるように整備してあります。

また、液体試料測定用セルも使えますので、化学系研究室の方もどんどんご利用ください。

３．会計報告本装置は、科研費の設備として本学に設置されたいきさつのもので利用料金を設定していません。液体ヘリウムなど消耗品については利用者負担とします。

４．利用方法・問い合わせ先
利用方法：本装置にはオペレータがいませんので、最初、佐藤研究室の学生が説明しますが、測定は利用者ご自身で行って下さい。データはチャー
ト紙に出力されます。3.5 インチフロッピーに出力することも可能です。g値の決定や、スペクトルの積分によるＥＳＲ信号強度の測定も可能ですが、スピン密度の計算などは、標準試料を必要としますので、しかるべきもの
を各自ご用意下さい。液体窒素、液体ヘリウムなどの手配、費用負担についてはご相談下さい。また、第１項に述べた以外の装置を必要とされる場
合利用者自身でご用意下さい。
問い合わせ：詳細は佐藤勝昭教授（内線 7120）または石橋隆幸助手（内線7432）、大学院博士前期課程 1 年次学生湯浅秀樹君（内線 7432）にご相談下さい。

５． 利用者委員会
上迫 浩一 Ｅ須田 良幸 Ｅ
越田 信義 Ｅ
鮫島 俊之 Ｅ
細見 正明 Ｆ
小宮三四郎 Ｆ
加部 利明 Ｋ佐藤中村
永井

アモルファスシリコン系合金薄膜の欠陥密度の評価
多孔質シリコン薄膜の物性評価
多孔質シリコンの評価
多結晶シリコン薄膜の物性評価
沈水植物からのポリフェノール
有機金属錯体の電子状態および構造の解析
35S トレーサー法によりチタニア担体上での硫黄挙動の解析
壽弥 BASE 分子半導体のドーピング効果
暢文 Ｌ
電子伝達タンパク質アズリンの電気化学的挙動
正敏 BASE 固体触媒上に吸着した NO2 や O2-の挙動 Cu2+，VO2+酸化物表面の吸着水

６． その他、成果など
1. K. Sato, G.A. Medvedkin T. Ishibashi, T. Nishi, R. Misawa, K.
Yonemitsu, and K. Hirose: Magnetization Effect in Mn-CdGeP2
Quaternary System; J. Magn. Soc. Jpn. 25 [4-2] (2001) 735-738.
2. K. Sato, G.A. Medvedkin, T. Nishi, Y. Hasegawa, R. Misawa, K.
Hirose and T. Ishibashi: Ferromagnetic phenomenon revealed in
the chalcopyrite semiconductor CdGeP2: Mn; J. Appl. Phys. 88(2001) 7027-7029
3. G.A. Medvedkin, K. Hirose, T. Ishibashi, T. Nishi, K. Sato and V.G.
Voevodin: New magnetic materials in ZnGeP2-Mn chalcopyrite
system; J. Cryst. Growth 236 (2002) 609-612.
4. G.A. Medvedkin, T. Nishi, Y. Katsumata, K. Sato and H. Miyake:
Study of Point Defect in CuGaSe2 Single Crystals by Means ofElectron Paramagnetic Resonance and Photoluminescence; Sol.
Energy Mat. Sol. Cells 2001 (in press).
5. G. A. Medvedkin, E. I. Terukov, Y. Hasegawa, K. Hirose, K. Sato:
Microdefects and point defects optically detected in Cu(In,Ga)Se2
thin film solar cells exposed to the damp and heating; Sol. Energy
Mat. Sol. Cells 2001 (in press).
（国際会議発表）
6. G. A. Medvedkin, K. Hayata, Y. Hasegawa, T. Nishi, T. Ishibashi, K.
Sato: Photoluminescence and magneto-optical characterization of
a novel diamond-like ferromagnetic semiconductor CdMnGeP2.,
17-19 Oct. 2000, St Petersburg, Russia.
7. G.A. Medvedkin, T. Nishi, Y. Katsumata, K. Sato and H. Miyake:
Study of Point Defect in CuGaSe2 Single Crystals by Means ofElectron Paramagnetic Resonance and Photoluminescence; Proc.
12th Int. Photovoltaic Sci. Eng. Conf., June 11-16, 2001, Cheju,
Korea.
8. G. A. Medvedkin, E. I. Terukov, Y. Hasegawa, K. Hirose, K. Sato:
Microdefects and point defects optically detected in Cu(In,Ga)Se2
thin film solar cells exposed to the damp and heating; Proc. 12th Int.

Photovoltaic Sci. Eng. Conf., June 11-16, 2001, Cheju, Korea.
9. K. Sato, G.A. Medvedkin and T. Ishibashi: Room temperature
ferromagnetism in novel magnetic semiconductor based on the
II-IV-V2 chalcopyrite compounds; 13th Int. Conf. Crystal Growth/
11th Int. Colloq. Vapor Growth and Epitaxy (ICCG13/ICVGE11),
Kyoto, July 30 to August 4, 2001, Abstract 31p-S11-01, p.72..
（口頭発表）
10. 佐藤勝昭、G.A.Medvedkin, 石橋隆幸、細羽誠、三谷誠二、高梨弘毅：
磁性半導体 Zn1-xMnxGeP2 の作製と評価(II), 第６２回応用物理学会学術講演会, 2001.9.11-14 (愛知工業大学)
11. 佐藤勝昭、石橋隆幸、G.A.Medvedkin：（シンポジウム）三元多元化
合物における材料設計と結晶成長の新たな展開「II-IV-V 2 カルコパイ
ライト系磁性半導体」, 第６２回応用物理学会学術講演, 2001.9.11-14(愛知工業大学)
12. 青木岐夫、中村暢文、大野弘幸、山口和也、鈴木晋一郎：ポリエチレン
修飾シュードアズリンとメルカプトプロピオン酸修飾金電極間の相互作用，日本化学会第８１春季年会，2002.3.26-29（早稲田大学）
13. 大脇さおり、中村有子、中村暢文、大野弘幸、山口和也、鈴木晋一郎：
アズリン及びシュードアズリン間の電子移動反応，日本化学会第８１春
季年会，2002.3.26-29（早稲田大学）

固体 NMR 装置
１．機器の名称、購入年度、設置場所
機器の名称：固体 NMR 装置
購入年度：平成 9 年度
設置場所：機器室 9２．機器の構成および性能
機器の構成
分光計：JNM-CMX400 型（日本電子）
チャネル数：3（1:X, 2:H, 3:Y)（X, Y チャネルは 15N〜31P 共鳴周
波数対応）
マグネット：超電導マグネット（JMT)
磁場強度：9.4T
ボア経：89mm
プローブ
7.5 mm CP/MAS プローブ
4 mm HXY 三核 CP/MAS プローブ
5 mm HXY 三核 CP/MAS プローブ
4 mm チューナブル広幅プローブ
10 mm チューナブル広幅プローブ
データシステム
AD 変換器：12bit/2MHz
ホストコンピュータ(Sun SPARC Station)(17inch CRT, 48 MB メモリ, 1GB ディスク, 1/4 磁気テープ, FPD)
コンプレッサシンクロスコープ
機器の性能
１．パルスプログラミング
分光計には共通性の高い RF チャネル構成となっており、UNIX 上でのパルスプログラミングとコンパイルが可能
２．サンプルスピニング
コンプレッサの圧縮空気は、プレドライ、スパートライプロセス

を経て、MAS 用エアレギュレータへと導入される。エアレギュレー
タのバルブコントロールはコンピュータから行い、フィードバック制御機構によりスピニングスピードは数 kHz±2Hz にコントロール可能。
３．三重共鳴プローブとして広帯域三重共鳴プローブ、および高出力 1H デカッ
プリングを組み合わせることで、13C, 15N, 1H あるいは 13C, 31P, 1H な
どの三重共鳴スペクトルが得られる。
４．チューナブル広幅プローブにより重水素核の四極子相互作用スペ
クトルが観測でき、分子運動などの知見が得られる。その他、化学シ
フト異方性、双極子相互作用の固体試料特有の NMR パラメータが得られる。
さらに、１１年度に、応力下で NMR 測定可能な付属装置を設置しました。

３．利用状況
平成 10 年 2 月に設置され、朝倉哲郎教官の管理のもとにあり、現在、装置のメンテナンス等は朝倉研究室で行っている。高性能の固体 NMR 装置であり、操作については熟練を要する。学内からの測定希望に対しては、
現在、依頼測定を受けて対応している。また、センター内にある他の NMR
装置とも共通性が高いので、核磁気共鳴利用者委員会との連絡を取りながら運営をはかる予定。

４．会計報告生物系特定産業技術研究推進機構（生研機構）による基礎技術推進事
業（平成 9 年度〜13 年度、代表 朝倉哲郎）の平成 9 年度受託研究費により設置された。

５．利用方法、問い合わせ先
利用希望者は、現在のところ依頼測定（有料）として受け付けている。
試料の測定条件等を予め連絡いただき、相談の上、測定方法、利用時間を打ち合わせします。
問い合わせ先：朝倉哲郎（研究室内線 7025, e-mail: asakura）

６．利用者委員会（委員長および委員）
平成１３年度 委員長：朝倉哲郎
委員：亀田恒徳、野口恵一

７．その他（研究成果等）
機器に関連した研究成果（研究論文等）のリスト
1. Asakura, T., Yamane, T., Nakazawa, Y., Kameda, T. & Ando, K.
Structure of Bombyx mori silk fibroin before spinning in solid state
studied with wide angle X-ray scattering and 13C CP/MAS NMR.
Biopolymers 58, 521-525(2001)
2. Asakura, T., Ashida, J., Yamane, T., Kameda, T., Nakazawa, Y.,
Ohgo, K. & Komatsu, K.A repeated b-turn structure in poly(AlaGly) as a model for silk I of Bombyx mori silk fibroin studied with
two-dimensional spin-diffusion NMR under off magic angle
spinning and rotational echo double resonance. J. Mol. Biol. 306,
291-305.(2001)
3. Asakura , 絹と繊維化前の構造と巧みな繊維化のメカニズム, ブレイン
テクノニュース, 83, 12-14 (2001).
4. Ito, T., Yamaguchi, Y., Watanabe, H. & Asakura, T. Structural
Analysis of Oriented Poly(e-Caprolactone) Including CaCO3
Particles with 13C Solid-State NMR. Journal of Applied Polymer
Science 80, 2376-2382.(2001)
5. Hori, Y., Demura, M., Iwadate, M., Ulrich, A. S., Niidome, T.,
Aoyagi, H. & Asakura, T. Interaction of mastoparan withmembranes studied by 1H-NMR spectroscopy in detergent
micelles and by solid-state 2H-NMR and 15N-NMR spectroscopy inoriented lipid bilayers. Eur. J. Biochem. 268, 302-309.(2001)
6. T. Asakura and J.Ashida , NMR , 高分子 Vol. 50, 8,549-552 (2001)
7. Shiroishi, H., Sadohara, H., Asakura, T. & Kaneko, M.
Characteristics of photoluminescence from ruthenium polypyridyl
complexes incorporated into silk. Journal of Photochemistry andPhotobiology A:Chemistry 143, 147-151.(2001)
8. Zhao, C. & Asakura, T. Structure of Silk studied with NMR.
Progress in NMR Spedtroscopy (Emsley, Ed.), 39, 301-352
Elsevier, Oxford. (2001).

9. Yao, J., Masuda, H., Zhao, C. & Asakura, T. Artificial Spinning andCharacterization of Silk Fiber from Bombyx mori Silk Fibroin in
Hexafluoroacetone Hydrate. Macromolecules, 35,6-9 (2001)
10. Kameda, T. & Asakura, T. Dynamics of Silk Fibroin Studied with
Nuclear Magnetic Resonance Spectroscopy. Annual Reports on
NMR Spectroscopy (Webb, G. A. & Ando, I., Eds.), 46,102-149
Academic press, London. (2001).
11. Kameda, T., Kobayashi, M., Yao, J. & Asakura, T. Change in the
Structure of Poly(tetramethylene succinate) under Tensile Stress
Monitored with Solid State 13C NMR. Polymer, 43,1447-1451(2002)
12. Asakura, T., Sugino, R., Yao, J., Takashima, H. & Kishore, R.
Comparative Structure Analysis of Tyrosine and Valine Residues
in unprocessed Silk Fibroin ( Silk I) and in the processed Silk Fibre(Silk II) from Bombyx mori using Solid State 13C, 15N and 2H NMR.
Biochemistry, 41,4415-4424(2002)
13. Nakazawa, Y. & Asakura, T. High Resolution 13C CP/MAS NMR
Study on Structure and Structural Transition of Antheraea pernyi
Silk Fibroin containing Poly(L-alanine) and Gly rich Regions.
Macromolecules, 35,2393-2400(2002)
14. Kameda, T., Nakazawa, Y., Kazuhara, J., Yamane, T. & Asakura, T.
Determination of Intermolecular Distance for A Model Peptide ofBombyx mori Silk Fibroin, GAGAG, with Rotational Echo Double
Resonance. Biopolymers, 64,80-85(2002)高分解磁場型質量分析装置
１．機器の名称、購入年度、設置場所
機器の名称：高分解磁場型質量分析器
購入年度：平成 10 年度
設置場所：機器室 10２．機器の構成及び性能
機器の構成
質量分析計：MStation JMS-700 (日本電子)
試料導入系： キャピラリーカラム GC/MS イオンターフェイス
直接試料導入部とダイレクトプローブ(水冷付き)
標準試料導入部CI ガス反応導入部とガス制御部
FAB ガス制御部
イオン源：
EI/CI 共用イオン源
主スリット(入射スリット)
分析部：
QQHQC 型イオン光学系
アルファスリット
コレクタスリット(出射スリット)
イオン検出部：高感度イオン検出器付き電子倍増管
排気系：
自動排気システムと電源機器の性能
イオン化法：EI イオン化法
CI イオン化法(イソブタン)
FAB イオン化法(Xe ガス)
分解能：
R≧60000
質量範囲：〜24000(加速電圧 1kv)
磁場スキャンスピード：0.1sec 単位設定可
SIM スイッチングスピード
加速電圧：0.05sec/ch
磁場スイッチング：0.1sec/ch

３．使用状況
土壌、水など環境試料中のダイオキシン類(PCDD/Fs、コプラナー PCB)の分析を行っている。

４．会計報告昨年度の会計報告は以下の通りです。
収入
特殊装置維持費
2,900,000
支出
年間保守契約
2,900,000
繰越0５．利用方法、問い合わせ先学内からの測定希望に対しては、現在のところ、依頼測定を予定しているので、ご相談下さい。
問い合わせ：細見正明教授 (内線 7070)、中井智司助手 (内線 7855)

６．利用者委員会
細見正明、亀山秀雄、秋澤淳、神谷秀博

７．研究成果1. 舟川将史、高田誠、新居田真美、細見正明：PCB 安定器からの PCB 揮
発と室内汚染、環境化学、12(3)、615-620（2002）
2. 野村祐吾、李炳大、中井智司、細見正明：モデル物質として 4−モノク
ロロビフェニル(MCB)を用いたメカノケミカル法によるダイオキシン類
分解経路の追求、化学工学論文集、28(5), 565-568 (2002)
3. Hosomi M., Nakai S. and Lee B.-D. (2002) Remediation of PCBand dioxin-contaminated soil and bottom sediment, In Proceedingof International Seminar, Jan. 2002, Kyoto. Japan
4. 舟川将史、高田誠、新居田真美、細見正明：PCB 安定器からの PCB 揮
発と室内汚染、化学工学会第 35 回秋季大会（2002）

１.

利用方法
中央棟５階ＸＭＡ室に設置してあり，習熟者は予約（室内の予定表に記入）により自由に使用できます．利用者，管理者間の電話連絡を密接に行い，常にベス
トコンディションでご利用いただきたいと思っておりますのでご協力ください．
ただし，ＸＭＡ室（Ｘ線回折及びＸ線マイクロアナライザー）での機器の使用に際して ① 消耗品は受益者負担とする.② 重大な過失による故障は，使用者の所属研究室が責任を持つ.の２点を原則とし，別表のような使用料をお支払い頂
いております．
使 用 料 金 表（1997 年度改定）
Ｘ線回折（RAD-IIC, SG-9）
３００円／１時間（出力用紙

１０円/１枚）Ｘ線マイクロアナライザー
５００円／１時間. 但し，６時間以上連続使用の場合は３，０００円／１日.
（用紙，消耗品など別途請求）

なお，初めて当装置をご使用になる方は「東京農工大学放射線傷害予防に関する実施細則」に基づき，「エックス線装置取扱従事者」の登録が必要となります．
＊応用化学科 システム化学工学コース
亀山研究室
亀山秀雄 または 桜井 誠 （内線 ７０６６）

２．機器の構成及び性能
１） Ｘ線マイクロアナライザ−機種日本電子 ＪＸＡ−８９００Ｒ
購 入 年 月
１９９４年（平成 ６年） ３月
基本的機能
0.2〜40KeV の電子線を平滑な試料表面に当て，発生する特性Ｘ線の波長から成分元素を識別する（定性または半定量測定）．条件が満たされれば，特性Ｘ線の強度から濃度を求めることもできる（定量測定）．但し，この場合は一般に補正が必要． 走査電顕としての機能もあり２次電子像（SEM），
反射電子像（BSE），吸収電子像が観測出来る．
５
９２
検出可能元素Ｂ（ホウ素）〜 Ｕ（ウラン）加 速 電 圧
0.2〜40KV, 通常は 10〜30 KV
取り出し角
40 度
検出方式
波長分散型（ＷＤＳ）＋エネルギー分散型（ＥＤＳ）
分光器
３ 台，内 １ 台は軽元素用
二次電子像分解能 6 nm
測定モ−ド
電子線走査又は試料台移動により点分析，線分析，面分析が可．
出 力 装 置
昇華型ｶﾗｰﾌﾟﾘﾝﾀｰ，ｲﾝｸｼﾞｪｯﾄ型ｶﾗｰﾌﾟﾘﾝﾀｰ
3.5 ｲﾝﾁ光磁気ﾃﾞｨｽｸ，3.5 ｲﾝﾁﾌﾛｯﾋﾟｰﾃﾞｨｽｸ
ﾜｰｸｽﾃｰｼｮﾝ
HP Apollo 9000 ｼﾘｰｽﾞ 700:（19 ｲﾝﾁｶﾗｰﾓﾆﾀｰ,HP-UX）
ｲﾝﾀｰﾌｪｰｽ
HP-HIL,RS232C,SCSI,HP-IB,ETHERNET,CENTRONICS
試料サイズ
試料そのものは 1 mmφ程度以上あればよい．
マウント
25 mmφ（厚み 10 mm 前後）の台に取り付ける．
形状
原則として平滑な平面が必要．
導電性
試料自身に導電性のない場合は事前に薄いカ−ボン蒸着，金蒸着などを行う．
種 類
測定対象としては，金属やセラミックス等が好適．有機物類
はカ−ボン蒸着をしても，極めて微弱な電子線を用いて SEM
像を撮る場合を除き，強い電子線による分解が起こり装置内部を汚染する可能性が強いので，通常は不適当．
２） Ｘ線回折装置① Ｘ線回折装置 RAD-IIC（理学電機）'88.03 月末購入。Ｃu 2KW 管球装着中．
コンピュータ制御システムを変更：rint2000 システム導入('95.10)② Ｘ線回折装置 SG-9（理学電機）'72.12 月末購入．Ｃu 1.5KW 管球装着中．
３） 付属品類
試料の作製・観察 関係

①
②
③
④

機 器 名

メ−カ−

規

格，性

能

など

真空蒸着装置
光学顕微鏡
カッタ−
研磨機

ＪＥＯＬ
ニコンＳ型
Buehler
Buehler

JEE-400
最高倍率 40×15,カメラ付き,露出計なし
ISOMET2000
研磨紙，研磨材は使用者持ち

Ｘ線回折 関係
機 器 名

メ−カ−

⑤
⑥
⑦
⑧
⑨
⑩

ラウエカメラデバイカメラ
連続高温カメラ
円筒カメラ
コンパレ−タ
試料高温装置

理学電機
理学電機
理学電機
理学電機
理学電機
理学電機

⑪

試料低温装置

理学電機

規

格，性

能

など

Max. Temp. 真空中 1350 ℃
フィルム読み取り用簡易型
Max. Temp. 真空中 : 1400 ℃
Ｈe ガス中 : 1200 ℃
室温 〜 −190 ℃

３．利用状況
本年度は中央棟２階から中央棟５階に引っ越した．技術の継承がうまく伝わっていないのか装置損傷を伴うようなトラブルが多発している．随時講習会を開くので是非参加して下さい．
１）Ｘ線マイクロアナライザー：
全てワークステーションから操作を行なうため初めての方でも，測定原理の勉
強，及び講習会を経て，比較的容易に操作できる．
合金，セラミックス，触媒，高温超伝導体等の組成分析に利用されている．
コンピュータを経由せずに，直接各自の手で行うのは試料調製，試料の装置への出し入れのみであるにもかかわらず，事故が多い．
・せっかく試料のカーボン蒸着を行っても，試料台との間の導通か確保されていないために，きれいな画像が得られないばかりか，鏡塔内を汚染したり，フィラ
メントの寿命を縮めたりしている．
・試料ホルダーの挿入，取り出し時に試料室のシャッターの引き出し，固定を十分に確認しないために試料ホルダーによりシャッターの O リングを傷つけて真空漏れを起こす事故が数回あった．
しっかり原理を勉強された上で，慎重に取り扱われることを希望します．
２）真 空 蒸 着 装 置：
カ−ボン蒸着が主．他の試験的な蒸着に使用される場合もある．
３）Ｘ 線 回 折 装 置：
汎用機器のため，使用頻度はかなり高い（特に RADII-C,(X 化））．

SG-9 は利用希望研究室が特別に整備を行い，継続的に使用している．
４）2001 年度ＸＲＤ，ＥＰＭＡ費用収支内訳 (2001.8.27)１）2001 年度収支
収入
5,891,763 円
2000 年度からの繰り越しおよび本年度維持費
支出合計
1,520,437 円
残高
4,371,326 円
２）支出内訳(a) XRD 関連費用
64,448 円
備品，修理等
47,250 円
消耗品
17,198 円(b) EPMA 関連費用
1,073,289 円
備品，修理等
644,637 円
消耗品
428,652 円(c)保守管理，データ整理，講習会，謝金など 382,700 円
３）本年度一般利用料（保守管理，講習会利用を除く）
2001 年度会計に組み込み分(a) ＸＲＤ利用料合計
286,700 円(b) ＥＰＭＡ利用料合計
175,270 円
合計
461,970 円
共 同 利 用 機 器 利 用 の 手 引
責 任 者

連 絡 者

亀山秀雄
桜井誠
（内線 7248）

期日・時間

機器

費用負担

室内予約表に記入（通常は先着順）
Ｘ線回折¥300/hr
Ｘ線ﾏｲｸﾛｱﾅﾗｲｻﾞｰ¥500/hr
１日当たり 6hr 以上は¥3,000／day

解析装置付万能引張り試験機
１．機器の名称、購入年度、設置場所
名称：引張試験機（テンシロン）、 購入年度：平成６年度（更新）、
設置場所：４号館１階 １１５号室
２．機器の構成および性能
本試験機は、繊維・フィルム材料の力学的諸特性（引張り・圧縮・曲げにおける弾性率や強度など）を測定することができる。最大荷重容量 5 kN（ロードセル 5 kN, 100 N, 10 N）、精度 1%、ストローク 690 mm、速度 0.5〜1000
mm/min。
３．利用状況
主たる利用学科 有機材料化学科
年間使用時間
２１ ５時
間
利用研究室数７研究室
年間実使用人数
５８ 名
年間利用日数
６４ 日
一日平均稼動時間 ３.４ 時間
上記は有機材料化学科の学生実験での利用も含む。有機材料化学実験Ⅳ（３年生）の物性実験では高分子の力学的性質についての学習で利用している。
この他に研究用途として、高分子材料の力学的特性の解明や分子配向制御の目的での利用がある。
４．会計報告平成１３年度 消耗品費

学生実験費及び利用者負担

５．利用方法、問い合わせ先
機器の利用は下記の管理者に連絡、申し込みの上で利用して下さい。なお、
利用料金は原則として消耗品などを利用者負担して頂きます。
管理者： 有機材料化学科 臼井博明 （４号館２階 ２４１号室
内線
電話７０５５）
６．運営委員名（利用者委員会メンバー）
臼井 博明、 齋藤 拓、 渡邊 敏行（有機材料化学科）
７．その他
４号館改修後、２階

２１０号室から１階

１１５号室へ移動した。

材料強度総合評価試験装置
１．装置概要本試験装置は高温雰囲気中および広範囲負荷速度で各種材料の機械的性質を評価できるもので，一軸負荷試験システムと繰返し負荷試験システムから構成され，平成５年度の特別設備費により設置されたものである。

２．設置場所
工学部附属機械工場

１０７号室

３．装置の性能
一軸負荷試験システム
引張荷重：１kN〜５０kN （約 0.1〜５トン重）最大変位：３５mm
最大引張速度：６m／s
加熱温度：最高温度【大気中】 1273Ｋ（1000℃）
制御装置・コンピュータシステム：
主制御盤はＣＰＵ制御のサーボコントローラで大型ディスプレイを装備している。コンピュータを切り離した場合，この制御盤のみでも試験を実行し計測データを表示することができる。インターフェイスユニットボックスを介して外部コンピュータに接続されており，それによる試験ソフトウェアの実行・計測データの保存・管理および解析が可能である。接続コンピュータには，高速引張試験実行ソフトウェアと解析ソフトウェアが装備されている。
繰返し負荷試験システム
負荷荷重：５kN〜１００kN （約 0.5〜１０トン重）最大変位：±５０mm
繰返し速度：0.001〜120Hz
加振波形：各種波形を設定可能
加熱温度：最高温度【真空中】 1873Ｋ（1600℃）
真空度：〜１０−４Ｐａ（〜１０−６Torr）
制御装置・コンピュータシステム：

主制御盤はＣＰＵを搭載しており，サーボアンプ，発振器，計測アンプ，
フィードバックアンプ，デジタルピークモニタ，ディスプレイ，キーボードを装備している。コンピュータを切り離した場合，この制御盤のみでも試験を実行し計測データを表示することができる。インターフェイスユニットボックスを介して外部コンピュータに接続されており，それによる試験ソフト
ウェアの実行・計測データの保存・管理および解析が可能である。接続コン
ピュータには，低サイクル疲労試験，破壊靭性試験，引張・圧縮試験，ホットプレス試験の実行および解析のためのソフトウェアを装備している。

４．利用状況
一軸負荷試験システム
１６時間／週繰返し負荷試験システム
１２時間／週
１２〜２月 ３０時間／週

５．運営費
平成１３年度当初予算は学部内特殊装置維持費 1664 千円であった。主として試験機の周辺機器および消耗品の購入に当てている。予算不足のため，不足分を利用者負担により充当している。

６．利用方法，問い合わせ先
予約制で自由に使用できる。ただし，本装置の利用は使用経験者に限定しており，未経験者には随時説明することとしている。使用問い合わせは，工学部機械シ ス テ ム 工 学 科 シ ス テ ム 基 礎 解 析 講 座 長谷川 正 教授（内線７０７８、
hasegawa@cc.tuat.ac.jp ） ま た は 高 橋 徹 助 教 授 （ 内 線 ７ ０ ７ ９ 、
takahas@cc.tuat.ac.jp）まで。

７．利用者委員会委員
Ｍ科：長谷川（委員長），澤田，山本，西脇，長岐，國枝，高橋，桑原，池田，
笹原，佐久間
なお，装置の維持・管理は利用者委員会委員長（機械システム工学科 長谷川 正教授）および機械システム工学科 高橋 徹 助教授が，実務は高橋 徹 助教授が担当している。

８．研究成果の例
1. T. Hasegawa, T. Yasuno and T. Takahashi, Effects of Addition of
Alloying Elements on Superplastic Behavior in Mechanically Alloyed
Aluminum Alloys, Towards Innovation in Superplasticity 1, Materials
Science Forum, 233-234(1997), pp.163-170
2. 安野拓也，長谷川正，栗林一彦，水素脆性き裂進展特性に及ぼす温度の影響
鉄鋼の高強度化と信頼性向上，日本鉄鋼協会(1997)，pp.214-217
3. 安野拓也，鈴木理，栗林一彦，堀内良，18％Ni マルエージ鋼の未再結晶溶体化処理による高靭性化に及ぼすＢ添加量の影響，鉄と鋼（日本鉄鋼協会論文集），83(1997)，pp.671-676
4. T. Hasegawa, T. Yasuno and T. Takahashi, Microstructural Study ofHigh Strain Rate Superplasticity in Mechanically Alloyed AluminumAlloys, Proc. Inter. Conf. On Thermomechanical Processing of Steels
and Other Materials, TMS, (1997), pp.1961-1967
5. T. Yasuno, T. Hasegawa and T. Takahashi, Stress-Strain Behavior andContinuous Observation of Deformation in Superplastic MA Al Alloys,
Proc. Inter. Symp. on Microstructure, Micromechanics and Processingof Superplastic Material, Mie Academic Press, (1997), pp.133-140
6. 安野拓也，栗林一彦，長谷川正，Nb とＢの複合添加による 18％Ni マルエ
ージ鋼の高靭性化，鉄と鋼（日本鉄鋼協会論文集），84(1998)，pp.817-822
7. T. Hasegawa, T. Yasuno, T. Nagai and T. Takahashi, Origin ofSuperplastic Elongation in Aluminium Alloys produced by MechanicalMilling, Acta materialia, 46(1998), pp, 6001-6007
8. T. Hasegawa and K. Okazaki, Analysis of Strain Rate Dependence ofTensile Elongation for a Mechanical Milling Al-1.1Mg-1.2Cu Alloy
tested at 748K from a Dislocation Dynamics Viewpoint, Mater. Sci. andEng., A260(1999), pp.294-300
9. T. Hasegawa and K. Okazaki, Temperature Dependence of Tensile
Elongation in a Mechanically Milled, P/M Al-Mg-Cu Alloy, Materials
Science Forum, 304-306(1999), pp.249-254
10. T. Hasegawa, K. Okazaki, T. Yasuno and T. Takahashi, Analysis of theTemperature Dependence of Tensile Elongation for a MechanicallyMilled Al-1.1Mg-1.2Cu Alloy by a Dislocation Dynamics Approach,Mater. Sci. and Eng., A265(1999), pp.246-253
11. T. Takahashi, T. Sujino, Y. Abe, T. Hasegawa, Chemical Composition
Effects on the Creep Strength of γ-base Titanium Aluminides Alloyedwith Vanadium “Gamma Titanium Aluminide 1999”, TMS, (1999),
pp.733-740
12.桑原利彦，池田聡，十字形試験片を用いた 2 軸引張試験による冷間圧延鋼板の等塑性仕事面の測定と定式，塑性と加工，40 (1999)，145-149
13. T. Hasegawa, T. Takahashi, K. Okazaki, Deformation Parameters
Governing Tensile Elongation for a Mechanically Milled Al-1.1at.% Mg1.2at.%Cu Alloy Tested at Constant True Strain Rates, Acta Materialia,
48(2000), pp.1789-1796
14. 桑原利彦，栗田圭一，6000 系アルミニウム合金板の 2 軸引張塑性変形特性の測定と降伏条件式の検証，軽金属，50 (2000) 1，2-6
15. T. Kuwabara, M. Kuroda, V. Tvergaard, and K. Nomura, Use of Abrupt
Strain Path Change for Determining Subsequent Yield Surface:
Experimental Study with Metal Sheets, Acta Materialia, 48 (2000) 9,
pp.2071-2079
16. T. Takahashi, and T. Hasegawa, Compression Behavior in L12 Modified
Titanium Trialuminides Alloyed with Chromium and Iron, Mat. Res. Soc.
Symp. Proc., vol. 646 (2001), N3.10.1-6, "High-Temperature OrderedIntermetallic Alloys Ⅸ"
17. T. Takahashi, K. Asano, D. Ashida, T. Murakoshi, and T. Hasegawa,
Effect of Vanadium Alloying on the Microstructure and Mechanical
Property of γ-based Titanium Aluminide Intermetallics THERMEC'2000 - Proc. Int. Conf. on Processing and Manufacturing of Advanced
Materials CDROM Section E3, Vol. 117/3 “Special Issue: Journal of
Materials Processing Technology, Elsevier Science, UK”, (2001).
18. 桑原利彦，山田修也，飯塚栄治，比良隆明， 2 軸引張試験による各種鋼板の塑性変形特性の測定と解析，鉄と鋼，87 (2001) 4, 198-204.
19. T. Kuwabara, A. Van Bael, E. Iizuka, Measurement and Analysis of
Yield Locus and Work Hardening Characteristics of Steel Sheets withDifferent R-values, Acta Materialia, 50 (2002) 14, 3717-3729
20. 桑原利彦，池田聡，平面ひずみ引張を受ける鋼板の加工硬化特性の測定と解
析，鉄と鋼，88 (2002) 6, 334-339

21. T. Takahashi, K. Tominaga, Y. Tsuchida, S. Motizuki, F. Kawai, and T.
Hasegawa, Mechanical Properties of L12 Modified Titanium Trialuminides
Alloyed with Chromium, Iron and Vanadium, Materials Science andEngineering, A329-331 (2002), 474-480高速度撮影装置
１．装置の概要
本装置は英国 Hadland Photonics 社製の Imacon790 型で，その構成と仕様は次のとおりです．
内訳：
イメコン 790-S20UV カメラ本体
1/4T1×104 FPS フレーミングプラグイン
2/5T2×105 FPS フレーミングプラグイン
2/7T2×107 FPS フレーミングプラグイン
FS 1〜10ns/mm ストリークプラグイン
MS/CV 10〜100ns/mm ストリークプラグイン
クｵーツレンズ 60mmUV f2.0
80/40 イメージインテンシファイヤ
仕様：
記録範囲（プラグイン選択による）フレーミング 1 万コマ／秒〜2 千万コマ／秒
ストリーク
100μs/mm〜1ns/mm
フォトカソード分光特性 S20UVＵＶクォーツレンズ付き
蛍光面の大きさφ90
ポラロイド撮影装置付き
チャンネルプレート型インテンシファイヤ付き
使用電源 100VAC 50/60Hz, 消費電力 50W
大きさ
84cm×38cm×250cm，重量（本体） 31kg
以上のほかに，有志研究室からの拠出・拠金により次の周辺機器・アダプタを備えました．
電動シャッタ
トリガ用ディレイジェネレータ
国産レンズ用マウントアダプタ
レンズ
ニッコール 85mm F1.4S
マイクロニッコール 105mm F2.8S

２．利用方法
利用希望の方は，利用者委員会委員にご連絡ください．委員は次のとおりです．
国枝正典（委員長，機械システム，内線 7100）

高橋雄造（電子情報，内線 7127）
亀田正治（機械システム，内線 7075）
利用のルールは当分のあいだ以下のとおりとし，問題のある場合はその都度協議することとしています．
1) イメージ管・イメージインテンシファイアに過度に強い光を入れて焼かないように，使用に当たっては十分な対策を施し，かつ細心の注意を払う．
2) 使用者（使用研究室）は，本装置を使って行なう１研究テーマにつき５万円を拠出する．
3) １研究テーマの開始から終了までの期間は最大１年間とする．
4) 工学部経理に本装置設置のための予算差引口座を設け，使用者はこの口座に予算を移し替えるものとする．
本装置には運営費が配分されませんので，実際の運営はすべて拠金や現物・労力の拠出によって行なっております．ご協力をお願いします．

３．活動報告本装置を用いた研究から，次のような分野の研究が行なわれました．
−沿面放電の進展−電磁リレーのチャッタリングと火花ノイズ−放電加工プロセスの観察−振動圧力場中における２個の気泡の挙動−気泡を含む高粘度液体中における圧力波の伝播挙動の観察

４．研究成果平成１３年度に発表された研究成果は以下のとおりです。
Kameda, M. and Shirota, M. (2001),"Hydrodynamic interaction of a pair of bubbles inacoustic fields”, Proceedings of the 4 th International Conference on Multiphase Flow,
Paper No. 454 (CD-ROM).
５．会計報告本装置には運営費が配分されていません．前回の年報発行以後の活動は，すべて現物・労力の拠出によって行なわれましたので，支出金額もゼロです。

６．更新への努力
本装置は設置から２５年近くを過ぎて，故障が起き易く，撮影の安定性も悪化しています．より高性能の新鋭機種も市販されていますので，近い将来の更新が望まれます。

液体窒素貯蔵タンク
１．利用方法1) 利用者は容器を用意し、それをタンクの設置場所(小金井キャンパス正門西)に運び、利用者自ら汲み取る。
2) 供給日：月曜日〜金曜日のウィークデー
3) 供 給 時間 ： 汲 み 取 り 時 の ロ ス を 減らすために、出来るだけ午前中に集中して汲み出して下さい。
4) 汲み取りは、貯蔵タンク付属のコック(印あり)を回して行い、終了後はそれをしっかり締める。
5) 汲 み 取り 量 の 計 測 は 、 容 器 の 満 タンを確認して行う。汲み取り前の残量が無視出来れば容器の表示量で汲み取り量とする。（ただし、若干の残量があった方が、汲み取り時のロスが少なくて済み、省エネルギーになりますので御協力お願いします。）
6) 汲み取り量はタンクの所に備えてある帳簿に各研究室毎に記入する。
（年度末に集計して各教官の校費から落とされます。）
２．性能諸元昭和５２年春に液体窒素タンクを工学部内に設置し、同年６月に全学的に供給を開始した。
タンクの性能諸元：
日本酸素(株)製 ＣＥ-３型 容量２５００ l
３．成果概要年度
購 入 量 (k l)
購入単価 (円/ l)
購入金額(千円)
経 定期検査(千円)
中間検査(千円)
工事(千円)
費 雑費＊ (千円)
計
(千円)
使用研究室･他使 用 量 (kl)
有効使用率 (%)
＊＊
( /l)

Ｓ６１
54.6
45.0
2,454.8
75.0
41.0
13.9
10.0
2,594.7
47
15.6
28.6
167

Ｓ６２
61.0
44.1
2,693.1
75.0
41.0
10.0
2,819.1
49
20.6
33.7
138

Ｓ６３
62.3
44.0
2,739.7
75.0
41.0
111.0
10.0
2,976.7
55
18.1
29.1
165

Ｈ１
67.9
45.3
3,076.5
77.3
42.2
77.3
3,273.2
53
20.7
30.4
159

Ｈ２
69.8
45.3
3,164.4
77.3
42.2
10.0
3,293.9
55
21.4
30.7
154

Ｈ３
81.2
48.4
3,928.6
77.3
42.2
4,048.0
56
26.5
32.7
153

Ｈ４
75.2
48.4
3,638.5
77.3
42.2
30.9
3,788.9
60
26.1
34.8
146

Ｈ５
74.8
48.4
3,620.3
77.3
46.4
10.0
3,754.0
62
30.5
40.8
124

年
度
Ｈ６
Ｈ７
Ｈ８
Ｈ９
Ｈ１０
Ｈ１１
購 入 量 (k l)
85.4
87.1
114.7
130.1
120.8
110.0
購入単価 (円/ l)
48.4
47.4
37.1
37.8
37.8
39.9
購入金額(千円) 4,132.6 4,124.5 4,379.5 4,920.5 4,568.0 4,389.6
経 定期検査(千円)
77.3
77.3
78.8
中間検査(千円)
46.4
46.4
工事
(千円)
1,462.0
241.5
費 雑費＊ (千円)
15.5
49.4
26.7
115.5
計
( 千 円 ) 4,256.2 5,710.1 4,395.0 4,969.8 4,836.1 4,583.8
使用研究室･他
63
64
60
66
66
64
使 用 量 (kl)
27.2
40.8
57.1
65.7
65.0
57.9
有効使用率 (%)
31.9
46.9
49.8
50.4
53.8
52.6
＊＊
157
140
77
75.7
74.4
79.2
( /l)
*） フレキシブル管の購入、修理代など**) Ｈ８より計算方法変更。使用容器の容量によって実質単価は異なる。

Ｈ１２
122.1
40.95
5,001.5
78.8
31.5
5,111.8
66
67.1
55.0
76.1

Ｈ１３
104.3
40.95
4,271.0
78.8
147.0
4,496.7
72
56.8
54.5
79.1

４．利用者委員会からのお知らせ
タンクの施錠管理およびタンクの維持管理を当番制でお願いしている。当番の教官が利用者委員会を構成している。また保安管理責任者の教官が１名いる。当番は、
1) 年度毎に５研究室にお願いしている。
2) 週交代で順次担当していただいている。
3) 当番の作業内容はタンクの所に掲示されているが、
a) タンクの内圧を３kg/cm ２ 以下に保つ。タンク内圧が上昇したらバルブＢ-１を開いてガスを放出する。
b) 液 面 お よ び タ ン ク 内 圧 を Ｃ Ｅ 日 常 巡 回 点 検 記 録 表 に 記 入 す る 。 併 せ て 、 ガ ス 洩 れ 、弁の異常等の有無も記入する。
c) 窒 素 は 、 業 者 が 毎 週 火 曜 日 と 金 曜 日 の 午 前 中 に 補 給 し て く れ る 。 満 タ ン で １ ６ 目 盛り。次の補給日までにタンクが空になる恐れがあるときは、契約第三係に連絡する。
利用者委員会から利用者の皆様へのお願い：汲み取りに伴う液体窒素のロスを少なくするために、
1) 出来るだけ午前中に集中して汲み出して下さい。
2) 容器の底に若干の液体窒素を残し、容器を冷えた状態にしたまま汲み取って下さい。
４.１

利用者委員会（当番）

年 度
利用者
委員会
(当番)
保安管理
年 度
利用者
委員会
(当番)
保安管理

Ｓ６２
佐藤(T)
金子(C)
鶴淵(P)
黒岩(D)
河野(B)
小林(D)

Ｓ６３
東 (F)
加部(K)
高橋(P)
難波(E)
河野(B)
小林(D)

Ｈ１
宮田(B)
鈴木(B)
長谷川(M)
垂井(A)
河野(A)
小林(D)

Ｈ２
東 (B)
加部(B)
高橋(A)
難波(A)
河野(A)
小林(A)

Ｈ３
平林(B)
田中(B)
國眼(B)
小宮(B)
江村(A)
小林(A)

Ｈ４
尾見(B)
纐纈(B)
鶴淵(A)
小林(A)
須田(A)
小林(A)

Ｈ５
朝倉(B)
佐藤(B)
臼井(B)
越田(A)
上迫(A)
小林(A)

Ｈ６
重原(B)
小宮(B)
長谷川(M)
蟻川(A)
黒岩(A)
小林(A)

Ｈ７
松岡(L)
松永(L)
福岡(C)
加部(C)
佐藤(A)
小林(A)

Ｈ８
Ｈ９
大野(L)
武田(C)
加藤(C)
小山(C)
望月(M)
鶴淵(A)
森下(A)
上迫(A)
永
井 宮
田
黒岩(A)
黒岩(A)

Ｈ１０
小関(L)
小宮(C)
臼井(C)
田中(C)
須田(E)
黒岩(E)

Ｈ１１
秋山雅(C)
西尾(C)
重原(C)
上野(E)
尾
見
黒岩(E)

Ｈ１２
松岡(L)
松永(L)
纐纈(F)
秋山(G)
佐藤(P)
黒岩(E)

Ｈ１３
大野(L)
平野(F)
佐藤(G)
池田(M)
森下(P)
黒岩(E)

Ｈ１４
太田(L)
尾崎(G)
亀山(K)
越田(E)
荻
野
黒岩(E)

４.２ 年度決算について
容量Ｌ( l)の容器に１回汲み取った場合、Ｖ( l)＝Ｌ(汲取量)＋５(固定ロス量)＋Ｌ

2/3(容器冷却時ロス量)を計算上消費した量(計算使用量)とします。各研究室には、液体窒素総経費を各研究室の１
年間のＶの総量に応じて比例配分した額を負担して頂きます。従って、使用容器の容量によって、実質単価は異なることになります。参考資料として、平成１３年度液体窒素教官別使
用量及び負担額を次ページに掲げます。
今後とも、経済的で安全な液体窒素の供給体制を維持すべく御協力をお願いします。
４.３

問い合わせ先電気電子工学科黒岩紘一

内線: ７１１８
e-mail: kuroiwa@cc.tuat.ac.jp

平成１３年度
工学部 生命工学科

応用分子化学科

有機材料化学科

化学ｼｽﾃﾑ工学科

機械ｼｽﾃﾑ工学科

物理ｼｽﾃﾑ工学科

電気電子工学科

工学研究科
機器分析センター

放射線研究室農学部 生物生産学科
応用生物科学科
生物ｼｽﾃﾑ応用科学研究科（学長）
計

液体窒素教官別使用量及び負担額

松岡英明
朝倉哲郎
小関良宏
奥山健二
神鳥成弘
美宅茂樹
太田善浩
早出広司
養王田正文
松永 是
大野弘幸
纐纈明伯
武田 猛
鈴木健之
前田和之
小山 昇
小宮三四郎
NMR 300MHz(小宮)
平野雅文
重原淳孝
米澤宣行
市原祥次
齋藤 拓
秋山三郎
尾崎弘行
臼井博明
堀江一之
渡邊敏行
村瀬繁満
亀山秀雄
加部利明
松岡正邦
細見正明
長谷川正
高橋 徹
池田浩治
村田 章
Ｍ共通
佐藤勝昭
森下義隆
鶴淵誠二
鵜飼正敏
谷 俊朗
Ｐ共通
鮫島俊之
上迫浩一
飯村靖文
越田信義
須田良幸
黒岩紘一
上野智雄
直井勝彦
NMR FX-200(佐藤 壽 )NMR EX-400(佐藤 壽 )NMR 500MHz(佐藤 壽 )電子顕微鏡(長谷川 正)
CMX400(朝倉)放射線研究室
園芸学
平澤 正
川合伸也
佐藤壽彌
荻野賢司
尾見信三
永井正敏
堀尾正靱
神谷秀博
中田宗隆
高柳正夫
岡崎正規
諸星紀幸
宮田清藏

715
266.4
1,085
120
25
56
490
12
300
595
5,690
230
470
105
2
200
2,170
2,510
1,720
1,195
900
650
70
1,305
1,596
2,230
650
280
40
350
232
120
160
60
25
560
48.5
55
5,955
9,220
150
30
410
200
220
880
255
2,010
100
506
1,000
290
30
850
2,250
5
50
5
15
40
90
400
885
160
770
575
75
830
360
15
892
30
56,841

1,848
566
2,525
236
52
161
962
52
447
1,212
9,183
595
923
271
9
393
3,560
3,788
2,797
2,183
1,768
1,159
137
2,111
2,967
4,380
1,277
550
65
905
563
310
414
155
45
1,100
337
142
8,037
11,681
295
45
843
405
432
1,424
659
3,664
196
1,101
1,757
576
45
1,166
3,086
13
69
13
39
79
233
879
1,748
414
1,699
940
194
1,630
707
39
1,955
59
96,28886,310 円
26,443
117,931
11,0072,438
7,532
44,947
2,406
20,85456,587
428,876
27,764
43,112
12,675401
18,346
166,277
176,925
130,645
101,966
82,55554,133
6,421
98,608
139,475
204,554
59,62325,684
3,023
42,25026,301
14,486
19,3147,243
2,115
51,36815,7296,639
375,323545,532
13,7592,086
39,34818,92520,18066,51130,782
171,133
9,173
51,42982,06526,891
2,086
54,441
144,107
604
3,202
604
1,811
3,669
10,864
41,03981,614
19,31479,32643,911
9,054
76,13533,022
1,811
91,281
2,752
4,496,747

IV. 機器分析センター運営委員
1.

2.

機器分析センター所属教職員

センター長（併）纐纈明伯（内線 7036）(H13.7.1〜）

専任教官

野口

恵一

（内線 7188）

技術補佐員

滝沢

淳子

（内線 7189、7948、7947）

研究支援推進員吉池

瑞穂（内線 7188）（H13.6.15〜）

機器分析センター運営委員会委員（平成 14 年 12 月現在）

農

工

学

学

部
瀬戸

昌之

（H14.4.1〜H16.3.31）

蜷木秀信（H14.4.1〜H16.3.31）

夏目雅裕（H14.4.1〜H16.3.31）

武田庄平（H14.4.1〜H16.3.31）

中村暢文（H14.4.1〜H16.3.31）

米澤宣行（H14.4.1〜H16.3.31）

梅田

倫弘（H14.4.1〜H16.3.31）

黒岩紘一

（H14.4.1〜H16.3.31）

部

大学院生物システム応用科学研究科
永井正敏（H14.4.1〜H16.3.31）

V.

あ

と が き

機器分析センターの年報 No.10 ができあがりました。関係の諸先生方のご協力のもとに、この年報が発行できましたことをこの場をかりてお礼申し上げます。
年報 No.10 の発行にあたり、農学部長笹尾先生、工学部長松永先生に巻頭言のご執筆をお願いいたしました。お忙しいところありがとうございました。
平成 13 年度は、核磁気共鳴装置とＸ線回折装置(機器室 3 に設置)について、学長裁量経費でその一部更新が認められました。これにより、溶液 NMR 装置 FX-200
は廃棄され、機器室 5 に新たに AL-300(日本電子)が設置されました。また、単結晶
自動Ｘ線解析装置(機器室 3)のＸ線発生部は RU-200(最大定格出力 12kW)からultraX-18(最大定格出力 18kW、理学電機)に更新されました。
本年度も利用しやすい機器分析センターを目指し、機器の利用環境の整備を進め、本学の教育研究の発展に寄与することができるよう努力していきたいと思います。
今後とも、皆様のご協力をよろしくお願いいたします。

2002 年 12 月
機器分析センター

平成 14 年 12 月 24 日
編集兼発行所

発行

東京農工大学機器分析センター〒184-8588 東京都小金井市中町 2-24-16
TEL(042)388-7188 FAX(042)388-2041

印

刷

所

（有）ありすみ印刷〒184-0012

東京都小金井市中町 4-14-15

TEL(042)385-0104

FAX(042)384-5985

野口恵一