FMA25プログラム日本語版(2008/5/8 a)
5月28日(水)
開会挨拶

(座長)

基礎(I)
(28-B-1)

塩嵜 忠 (奈良先端大)10:25--10:30

上江洲 由晃(早稲田大学先進理工学部)

10:30--12:00

Brillouin Scattering Study of Dynamics of Polar Nano Regions inPb[(In1/2Nb1/2)0.66Ti0.34)]O3 Single Crystal(*Univ. of Tsukuba and **Indira Gandhi Centre for Atomic Research) V.
Sivasubramanian*,** and S. Kojima*(28-B-2)

ペロブスカイト型誘電体の立方晶に見出した結晶構造の特徴と寛容因子との関係(*広大院・理, **山梨大院・医工, ***理研/SPring-8, ****CREST/JST) 黒岩芳弘*,****, 加藤 淳一*, 寺戸 良博*, 森吉 千佳子*, 和田 智志**, 高田昌樹***,****(28-B-3)

Bi4-xSmxTi3O12混晶の相図(名工大工, 愛知淑徳大*) 岩田 真, 戸谷 彰宏, 青柳 倫太郎, 前田 雅輝, 石橋善弘*(28-B-4)高温におけるCaCu3Ti4O12の誘電挙動(北大理) 平松祥悟, 川谷恵一, 武貞正樹, 小野寺彰

(28-B-5)

BiFeO3-BaTiO3混晶の局所構造(原子力機構・放射光, 高輝度光科学研究センター*, 阪府大院工**) 米田 安宏, 吉井賢資, 小原 真司*, 喜多川 修次**, 森 茂生**

(28-B-6)

第一原理計算によるSnTiO3の強誘電性と圧電性の研究(広大院先端物質) 浦谷 佳孝, 獅子堂 達也, 小口 多美夫

強誘電体材料(I)(28-F-1)(座長)

塩嵜 忠 (奈良先端大)13:15--14:30

BaTiO3セラミックスナノクラスターの構造安定性と電子状態:理論的研究(村田製作所, JFCC*) 檜貝 信一, 本多 淳史, 景山 恵介, 鷹木 洋, 坂部 行雄, 森分
博紀*(28-F-2)

チタン酸バリウムセラミックスの誘電特性におけるドメイン サイズ効果(東工大) 保科 拓也, 滝沢 佳世, 李 建永, 掛本 博文, 鶴見 敬章(28-F-3)

インクジェット法によるチタン酸バリウム系セラミックスへのNi電極の作製(富山県工業技術センター*, 富山県立大**) 坂井 雄一*, 二口 友昭*, 安達 正利**

(28-F-4)

ナノシュウ酸塩を用いた高分散性チタン酸バリウムナノ粒子の合成とその誘電特性(山梨大院, *広島大院) 和田 智志, 近藤 修平, 森吉 千佳子*, 黒岩 芳弘*(28-F-5)

高酸素圧下で育成したBi0.5Na0.5TiO3単結晶の分極・圧電特性(東大先端研) 鈴木 宗泰, 山本 勝也, 野口 祐二, 宮山 勝

薄膜(I)

(座長)

舟窪 浩 (東京工業大学)

14:45--16:00

(28-T-1)

ガーネット型フェライト薄膜のマルチフェロ特性(東大院工) 山原 弘靖, 小出 卓史, 森原 遼, 関 宗俊, 田畑 仁

(28-T-2)

自己組織化を利用したBaTiO3-CeO2配向ナノコンポジット薄膜の作製とそのチューナブル特性(スイス連邦工科大学) 山田 智明, C. Sandu, M. Gureev, V. O. Sherman, A. Noeth,
A. K. Tagantsev, N. Setter(28-T-3)(Ba0.6,Sr0.4)TiO3/Au/Cr/(Ba0.6,Sr0.4)TiO3構造を用いたマイクロ波帯コプレーナ型チューナブルデバイス(*阪大院基礎工, **京都工繊大院工芸) 渡辺 茂幸*, 金島 岳*, 奥山 雅則*, 関晃輔**, 野田 実*,**(28-T-4)

PLD法によるNaNbO3-BaTiO3系固溶体薄膜の形成(龍谷大) 小田 真也, 和田 隆博(28-T-5)

高配向BST薄膜用Pt(100)/MgOバッファ層の開発(東工大, *パナソニック) 玉井 万尋, 松本 達郎, 村嶋 祐二*, 小牧 一樹*, 中川 茂樹

(座長)

圧電(I)
(28-P-1)

鶴見 敬章 (東京工業大学)

16:15--17:45(Bi1/2Na1/2)TiO3系非鉛強誘電体セラミックスのハイパワー特性(東理大理工) 晝間 裕二, 渡部 朋真, 永田 肇, 竹中 正

(28-P-2)(Li,Na)NbO3系非鉛圧電セラミックスの相転移温度に及ぼす分極処理電場の効果(名工大院工, *奈良先端大物質) 青柳 倫太郎, 武田 章宏, 岩田 真, 前田 雅輝,
西田 貴司*, 塩嵜 忠*(28-P-3)

BaTiO3-(Bi0.5Na0.5)TiO3系セラミックスの誘電及び圧電特性(産総研) 楠本 慶二(28-P-4)

強磁場法による非鉛(Sr,Ca)2NaNb5O15配向積層体の作製とその特性(太陽誘電, *長岡技科大) 清水 寛之, 土信田 豊, 田中 諭*, 植松 敬三*(28-P-5)

圧延法により作製されたc軸配向Bi層状構造強誘電体セラミックスの圧電特性(防大機能材料) 石井 啓介, 田代 新二郎(28-P-6)

Optimized Temperature for Enhanced Piezoelectric Properties of Textured
Bi0.5(Na0.75K0.25)0.5TiO3 Lead-free Ceramics(Korea Basic Science Institute and *Univ. of Ulsan) C.-W. Ahn, E.-D. Jeong, A.
Hussian*, J.-S. Lee*, H.- J. Lee* and I.-W. Kim*

5月29日(木)
強誘電体材料(II)(29-F-6)(座長)

山下 正文 (東京理科大学)

9:00--10:15

反射型SHG干渉顕微鏡によるSi基板接合LiNbO3擬似位相整合導波路の観察(*早大理工, **物材研) 真下 祐一*, 奥村 光平*, 栗村 直*,**, 中島 啓幾*,
上江洲 由晃*(29-F-7)

強誘電性液晶を用いたコプレーナ線路型マイクロ波ミリ波可変位相器の構造と実効誘電率(防大電気情報) 森武 洋, 尾崎 良太郎, 亀井 利久, 内海 要三

(29-F-8)

高分子安定化強誘電性液晶を用いた垂直配向面内スイッチングLCD(工学院大工) 朝永 豪, 千葉 広人, 齊藤 進, 高橋 泰樹(29-F-9)反強誘電性液晶相における螺旋構造(東理大基礎工) 古江 広和, 倉持 宏枝, 柿沼 大作(29-F-10)強誘電性液晶における自発分極の特徴的な圧力依存性(愛知学院大) 上原 宏行(座長)

薄膜(II)

野田 実 (京都工芸繊維大学)

10:30--12:00

2(29-T-6)

XRD 法による圧電マイクロカンチレバーの面内格子歪み評価(*ブルカーAXS, **東工大物創, ***AIST) 森岡 仁*,**, 斎藤 啓介*, 小林 健***,
黒澤 利行*, 舟窪 浩**(29-T-7)

ラマン分光法及びXRD分析による強誘電体薄膜の残留応力評価(*Jozef Stefan Inst., **静岡大, ***北見工大) 大野 智也*,***, B. Malic*, M.
Kosec*, 深澤 宏彰**, 脇谷 尚樹**, 鈴木 久男**, 松田 剛***(29-T-8)

ラマン分光法よる水素還元処理をしたチタン酸鉛薄膜の構造欠陥評価(防衛大*, 高知工大**, CNRS/F. Rabelais大***, 北陸先端大****, 東工大*****)
西田 謙*, 武内 広也**, 石本 義明**, 坂井 穣***, 伊藤 暢晃****, 碇山理究*****, 加茂 嵩史*****, 藤澤 隆志*****, 舟窪 浩*****, 河東田 隆**, 山本(29-T-9)単結晶Pt薄膜上へ作製したPbTiO3ナノ島及び薄膜の強誘電特性(兵庫県大工) 藤沢 浩訓, 久米 正義, 清王 義弘, 清水 勝

(29-T-10)

ナノインプリント技術による誘電体膜の転写とその応用(*産総研, **JST-CREST) 一木 正聡*,**, 古江 治美*, 高橋 正春*, 前田 龍太郎*

(29-T-11)

新規Sol-Gelプロセスによりα-Al2O3(012)上に作製したエピタキシャルPLZT膜における電気光学効果(奈良先端大物質) 越前 正洋, 藤井 剛, 西田 貴司, 武田 博明, 内山 潔, 塩嵜 忠

(座長)

圧電(II)(29-P-7)

竹中 正 (東京理科大学)

13:15--14:30(K0.5Na0.5)NbO3粉末の水熱合成(瀋陽化工学院, *富山県立大) 張 帆, 韓 露, 白 杉, 唐木 智明*, 安達 正利*(29-P-8)

超音波アシスト水熱合成法を用いたKNbO3の作製(東大新領域) 石河 睦生, 門田 洋一, 滝口 哲史, 保坂 寛, 森田 剛

(29-P-9)クエン酸塩前駆体法を用いたKNbO3圧電セラミックスの合成(名工大院物質工) 柿本 健一, 伊藤 健史, 大里 齋

(29-P-10)

A Shear-mode Ultrasonic Motor Utilizing Lead-free Ceramic(Tokyo Inst. of Tech.) E. Li, H. Kakemoto and T. Tsurumi(29-P-11)

Piezoelectric and Dielectric Properties of0.95(K0.5Na0.5)NbO3-0.05Li(Sb1-xNbx)O3 Ceramics as a Function of Nb(Semyung Univ.) D. Kim, I. Lee, Y. Lee, S. Lee and J. Yoo

マルチフェロ(I)(座長)

島川 祐一 (京都大学)

14:45--16:00

(29-L-1)

HoFe2O4およびR1-xR'xFe2O4の磁性と誘電性(R,R :希土類)(原子力機構, *岡山大, **大阪府立大) 吉井 賢資, 米田 安宏, 真栄田 大介*, 道内尊正*, 小松 拓磨*, 池田 直*, 松尾 祥史**, 森 茂生**

(29-L-2)三角格子系誘電体LuFeCuO4における酸素アニール処理効果(阪府大院理, *東大先端研, **阪府大院工, ***原研, ****岡山大理) 松尾 祥史,鈴木 宗泰*, 野口 祐二*, 吉村 武**, 藤村 紀文**, 吉井 賢資***, 池田 直****, 森茂生**(29-L-3)鉄複合酸化物YFe2O4-δにおける電荷秩序構造と構造変化(阪府大, *原子力機構・放射光, **岡山大学) 篠原 聡, 松尾 祥史, 吉井 賢資*, 池田直**, 森 茂生

(29-L-4)

MOCVD法によるエピタキシャルBiFeO3-BiCoO3膜の作製とその結晶構造の膜厚依存性(東工大, *東理大, **防衛大, ***産総研, ****京都大, *****ブルカーAXS) 安井伸太郎, 永沼 博*, 岡村 総一郎*, 西田 謙**, 山本 孝**, 飯島 高志***, 東正樹****, 森岡 仁*, *****, 斎藤 啓介*****, 舟窪 浩

(29-L-5)

BaTiO3-CoFe2O4エピタキシャル成長マルチフェロイック
ハイブリッド薄膜における強誘電特性の磁場依存性(静岡大学, *東工大) 澤村 茂輝, 脇谷 尚樹, 坂元 尚紀, 篠崎 和夫*, 鈴木 久男

(座長)

招待講演
(29-I-1)

清水 勝 (兵庫県立大学)

16:15--17:00

Nanoscale Ferroelectrics : Thin Films and Superlattices(Univ. of Geneva) J.-M. Triscone

(座長)

特別講演
(29-S-1)

塩嵜 忠 (奈良先端大)17:00--18:00

ＰＺＴから三成分系へ(早稲田大学) 一ノ瀬 昇

5月30日(金) パラレルセッション 201号室マイクロ波(I)(30-M-1)(座長)

田村 博 (村田製作所)

9:00--10:15

超高周波誘電体フォルステライト生成過程の品質係数への影響(名工大) 安藤 汀, 大里 齊, 籠宮 功, 角岡 勉

(30-M-2)

Ca(Ta2-xNbx)O6セラミックスのマイクロ波誘電特性(名城大理工) 菅 章紀, 小川 宏隆(30-M-3)

THz-TDS法を用いたTiO2(rutil)のTHz帯における誘電特性の測定と格子振動モードの解析(村田製作所) 松本 直樹, 景山 恵介, 鷹木 洋, 坂部 行雄(30-M-4)

PZT厚膜装荷CPWの試作とその評価(八戸工大, *AIST) 柴田 幸司, 飯島 高志*, 増田 陽一郎(30-M-5)

Characterization of Embedded Capacitors in the Multilayer Printed Circuit Board(Kwangwoon Univ.) H.-W. You, S.-H. Kim and J.-H. Kohマルチフェロ(II)(座長)

大里 齊 (名古屋工業大学)

10:30--12:00

(30-L-6)

Nb and La Co-doped Multiferroic Bismuth Ferrite Thin Films on LaNiO3/Si and IrO2/Si
Substrates(Univ. of Wollongong
Kimura*(30-L-7)

and *NIMS) Z. X. Cheng, X. L. Wang, K. Ozawa* and H.

軟X線分光によるマルチフェロイックBiFeO3へのMn置換効果(*U.C.Berkeley, **東京理科大学, ***名古屋大学) 樋口 透*,**, 服部 武志**, 坂本渉***, 伊藤 直之***, 志村 哲生***, 余語 利信***, Y.-S. Liu*, P.-A. Glans*, J.
Guo*(30-L-8)

Co添加によるBiFeO3薄膜の自発磁化の発現および抗電界の低減(東理大, *東工大, **防衛大, ***産総研, ****京大化研, *****埼玉大学) 永沼 博,
三浦 淳, 岡村 総一郎, 安井 伸太郎*, 舟窪 浩*, 西田 謙**, 飯島 高志***, 東正樹****, 神島 謙二*****, 柿崎 浩一*****, 平塚 信之*****(30-L-9)

Nd,Mn同時置換によるBiFeO3キャパシタのリーク電流抑制および強誘電特性の評価(金沢大院自然, *石川高専) 川江 健, 津田 尚, 久米田 稔, 森本 章治, 山田 悟*(30-G-1)(ゲスト講演30分) An In-Situ Study of the Structure and Electrical Properties of BiFeO3at High Pressure(Univ. of Manchester and *CCLRC Daresbury Laboratory) M. Thrall, R. Freer, R. J.
Cernik, R.L.Jones*, J. Griffiths, M. Morlidge* and D. Taylor*,

強誘電体材料(III)(30-F-11)(座長)

小島 誠治 (筑波大学)

13:15--14:30

希土類(La,Nd,Sm)置換Bi4Ti3O12の合成と誘電的・磁気的性質(北大院工, *北見工大) 清野 肇, 中野 準也, 執行 達弘, 高橋 順一, 伊藤 英信*(30-F-12)

スラリー法によるPZT厚膜の作製と物性評価(中部大工) 竹田 智哉, 水谷 光孝, 高橋 誠, 佐藤 昭次, 加藤 政則, 脇田 紘一(30-F-13)

Relaxor Behavior of Sr1-xBaxBi2Nb2O9 Ceramics(Shanghai Institute of Ceramics) C. Feng and S. Huang(30-F-14)

Fabrication of (Ba0.6,Sr0.4)TiO3 Thick Films by Aerosol Deposition Method forApplications to Embedded Multi-layered Capacitor Structures(AIST) D. Popovici, H. Tsuda and J Akedo(30-F-15)

Low-temperature Crystallization of PbZr0.3Ti0.7O3 Films Induced by High
Oxygen-pressure Annealing(*Chinese Acad. of Sci. and **Kyungpook Nat'l Univ.) X. D. Zhang*,**, X. J.
Meng*, J. L. Sun*, T. Lin*, J. H. Ma*, J. H. Chu* and J. Dho**

マイクロ波(II)(30-M-6)(座長)

Robert Freer (University ofManchester)

Influence of CuO Additions and Sintering Temperature on the Microwave Dielectric Propertiesof Ca0.95Zn0.05La4Ti5O17 Ceramics(Lunghwa Univ. of Sci. and Tech.) Y.-C. Chen, J.-M. Tsai and S.-C. Wang

(30-M-7)

14:45--15:45

Microwave Dielectric Properties of Ca0.8Sr0.2TiO3-Li0.5Sm0.5TiO3 Ceramics(Toyama Pref. Univ.) K. Yan, T. Karaki and M. Adachi(30-M-8)

Influences of the Film Thickness and Sc-doping on the Strain and Dielectric Response ofEpitaxial (Ba,Sr)TiO3 Thin Films for Voltage Tunable Device Applications(Fujitsu and *Seoul National Univ.) J. D. Baniecki, M. Ishii, K. Kurihara, K.
Yamanaka, W.-Y. Park* and C.-S. Hwang*(30-M-9)

Investigation on the Properties of ZnBO Added BST Thick Film Interdigital Capacitors on theAlumina Substrates(Kwangwoon Univ.) S.-H. Moon and J.-H. Koh

5月30日(金) パラレルセッション 202号室
圧電(III)(30-P-12)(座長)

長 康雄 (東北大学)

9:00--10:15

圧電型マイクロジェットポンプの作製と基礎特性(立命館大) 田中 克彦,(30-P-13)

坂本 竜平, V. T. Dau, D. V. Dao, 杉山 進

MEMSベース圧電マイクロカンチレバーを用いたマイクロ電位センサ(産業技術総合研究所, *HST) 小林 健, 小山 昌二*, 高橋 正春, 前田 龍太郎, 伊藤寿浩

(30-P-14)

AD法による積層圧電素子の作製(富士フイルム) 三好 哲

(30-P-15)

エアロゾルデポジション法により作製した 高周波超音波プローブの基礎特性(AIST) 遠藤 聡人, 明渡 純

(30-P-16)

圧電バイモルフ素子の発電特性(太平洋セメント, *山形大工) 江里口 玲, 小川 彰一, 長岡 真二, 富川 義朗*

圧電(IV)(30-P-17)

(座長)

山下 洋八
(東芝リサーチコンサルティング

10:30--12:00

圧電効果等による複素共振電流の解析(電通大量子物質, *杏林大医) 高木 康成, 竹内 義雄*(30-P-18)

負性容量回路を利用した圧電体の振動制御(井元製作所, *小林理研, **関西大工) 宝田 隼, 井元 健二, 山本 健, 伊達 宗宏*,
深田 栄一* ,田實 佳郎**

(30-P-19)

キラル高分子繊維の圧電運動制御(関西大工) 本田 雅大, 澤野 道也, 上中 康弘, 森井 克典, 田實 佳郎(30-P-20)

スパークプラズマ焼結によるBaTiO3セラミックスの作製と評価(湘南工大工) 眞岩 宏司(30-P-21)P-E曲線および変位特性からみたリラクサ圧電単結晶板での巨大k31(静岡理工科大) 小川 敏夫(30-P-22)

Characteristics of a Thin Type Ultrasonic Motor and a Driving Method using a Microcontroller(Changwon Nat'l Univ.) S. Jeong and T. Park

薄膜(III)(座長)

岡村 総一郎 (東京理科大学)

13:15--14:30

(30-T-12)

チタン酸ストロンチウム薄膜の酸素感受性(太陽誘電, *静岡大学, **東工大) 原 亨, 石黒 隆, 脇谷 尚樹*, 篠崎 和夫**

(30-T-13)

化学修飾溶液と1回焼成によるBaTiO3薄膜の作製(産総研) 田中 清高, 鈴木 一行, 加藤 一実(30-T-14)

アルミナセラミック基板上への(Ba,Sr)TiO3薄膜の作製と電気的特性(*横浜電子精工, **奈良先端大物質) 野坂 隆*,**, 水谷 陽司*,
パックディソンクラーム ガン*, 越前 正洋**, 西田 貴司**, 武田 博明**, 内山 潔**,

(30-T-15)

rf対向ターゲットスパッタ法による低損失(Ba0.4,Sr0.6)TiO3薄膜の作製(PED Co., *東工大) 村嶋 祐二, 玉井 万壽, 中川 茂樹*, 小牧 一樹(30-T-16)

Preparation of c-axis oriented BaTiO3 Films on Si Substrate with MgO Buffer Layer by RF
Magnetron Sputtering(Tatung Univ.) W.-C. Shih, Y.-S. Liang and M.-S. Wu

薄膜(IV)(30-T-17)(座長)

加藤 一実 (産業技術総合研究所)

14:45--16:00

チタン酸ビスマス薄膜の強誘電特性に及ぼす焼成雰囲気の影響(芝浦工大工) 山口 正樹, 大場 友裕, 上村 武史(30-T-18)

Sr1-x(Bi2, Eux)Ta2O9薄膜の分極特性および蛍光特性におけるEu/Sr比の効果(金工大OEDS研究開発センタ、*金工大工) 會澤 康治, 大谷 佑介*(30-T-19)

HDD型強誘電体記録デバイスにおける高速記録再生(東北大通研) 平永 良臣, 夘田 知也, 栗橋 悠一, 長 康雄

(30-T-20)

2.45GHzマイクロ波照射によるPZT薄膜の結晶化(*東北大工, **東北大環境科学) 王 占杰*, 大塚 優華*, 曹 自平**, 吉川 昇**,粉川 博之*, 谷口 尚司**

(30-T-21)

チタン・ニオブ系酸化物ナノシートを用いた誘電体ナノ薄膜の作製(*物材機構, **JST-CREST, ***東工大) 長田 実*,**, 高梨 元気*, 赤塚 公章*,
海老名 保男*,**, 舟窪 浩***, 高田和典*,**, 佐々木 高義*,**基礎(II)(30-B-7)(座長)

岩田 真 (名古屋工業大学)

16:15--17:30

パルス光を用いた単一結晶による自己励起型位相共役光多重発生(東理大理工) 宮尾 浩, 涌井 美帆子, 山下 正文(30-B-8)(Pb,La)(Zr1-x,Tix)O3(x=0.1-0.9)膜の電気光学特性及び圧電特性(東理大, *産総研, **東工大) 島 宏美, 飯島 高志*, 舟窪 浩**, 永沼 博, 岡村総一郎(30-B-9)サブミクロン散乱体フリー四ほう酸リチウム単結晶の育成と紫外線透過率(山口大工, *九大工) 小松 隆一, 城 勇介, 藤原 千典, 藤野 茂*(30-B-10)

チタン酸バリウムーニオブ酸カリウム系圧電セラミックスの作製とその圧電特性(山梨大クリスタル科学センタ, *TDK, **山梨大院, ***広島大院) 熊田 伸弘, 新田桃世, 田中 大介*, 和田 智志**, 森吉 千佳子***, 黒岩 芳弘***(30-B-11)

The Magnetic Properties of the Optical Quantum Transition Line Shapes and Line Widths ofElectron- piezoelectric Phonon Interacting Materials under Circularly Oscillating Field(*Kyungpook Nat'l Univ. and ** Donga Univ.) S. H. Lee*, J. Y. Choi*, T. K. Kim*,S. C. Park*, J. Y. Sug * and G. Sa-gong**

チュートリアル
(30-TU-1)(座長)

奥山 雅則 (大阪大学)

17:30--18:30

マルティフェロイク材料の基礎と応用(東大工) 田畑 仁

5月31日(土)薄膜(V)(31-T-22)(座長)

藤森 敬和 (ローム)

9:00--10:15

ECR酸素プラズマ照射がGeNx/Ge界面特性に及ぼす影響(諏訪東京理科大, *山梨大, **弘前大) 王谷 洋平, 福田 幸夫, 佐藤 哲也*, 中川
清和*, 豊田 宏**, 小野 俊郎**

(31-T-23)

MFIS集積体における微構造制御したHfO2絶縁層の構造及び特性への影響(産総研) 鈴木 一行, 田中 清高, 加藤 一実(31-T-24)

分極機能型薄膜トランジスタの提案とその基礎特性(阪府大工) 藤村 紀文, 福島 匡泰, 吉村 武

(31-T-25)界面伝導型抵抗変化素子を用いたメモリ(松下電産) 田中 浩之, 金子 幸広, 加藤 剛久(31-T-26)

Fabrication and Electrical Characteristics of Metal-Ferroelectric-Semiconductor Field EffectTransistor Based on PVDF
(Univ. of Seoul) J.-H. Kim and B.-E. Park

圧電(V)(31-P-23)(座長)山本 孝 (防衛大学校)

10:30--11:45

MPB近傍のPMN-PTセラミックスの圧電・誘電応答への圧力効果(岐阜大工, *東芝, **名工大, ***愛知淑徳大) 安田 直彦, 小澤 晃一, Md.M.
Rahaman, 大和 英弘, 山下 洋八*, 岩田 真**, 石橋 善弘***(31-P-24)

BiCoO3-BiFeO3系におけるMPB組成の決定(京大化研, *東工大) 東 正樹, 岡 研吾, 島川 祐一, 舟窪 浩*(31-P-25)

PZTの添加CuO、Cu2Oと拡散Cuの効果(TDK) 坂本 典正, 家住 久美子, 山崎 純一, 七尾 勝

(31-P-26)

環境低負荷型(1-x)(Bi1-yLay)(Zn0.5-ZMgZTi0.5)O3-xPbTiO3系圧電セラミックスの開発(兵庫県大院工) 足立 渉, 小舟 正文, 北田 和也, 嶺重 温, 矢澤 哲夫(31-P-27)

Influence of MnO2 Additive on the Microstructure and Piezoelectric Properties of(K0.5Na0.5)NbO3 Ceramics(Univ. of Ulsan, *KRICT, **Ulsan Ind. Promotion Technopark and ***Samjeon Co.
Ltd.) S.-Y. Cho, Y. P. Ok, S. I. Seok*, W.-P. Tai**, Y. H. Jeong*** and J.-S. Lee

閉会挨拶塩嵜 忠 (奈良先端大)11:45--11:55