各 種 光 学 機 器 の 評 価に 最 適なデ ザインをご 提 案 し ま す

テストチャート
テストチャートは各種 光学 機 器の評 価や製 造 装置の 位置 決め精度をキャリブレーションするために用いられます。
チャートには透 過 型チャートと反 射 型チャートの2種 類 があり、素材も各種ガラス、フィルムをはじめ多様 性に富んでいます。
また、チャートのデ ザインは パターン設 計、光学 特 性、外形 形 状などお客 様のご用途に合わせた設 計 が 可能です。
複 雑な図 形 配置、ランダムな パターン配列、グラデーションパターンの形成 など、長年にわたって培われた高 度なデータ処 理 技 術を駆使してお客 様のご要望にお応えします。

透過型チャート

反射型チャート

テスト チ ャ ート の 種 類（ 基 材 材 質 に よる 分 類 ）
種別

透過型

反射型

基材

最大サイズ

最小線幅

ガラス

700×800mm

1 μm

PET

2450×1612mm20μm

ガラス508×600mm

5 μm

セラミック

100×100 mm

5 μm

PET2450×900mm

20μm

印画紙

711×813mm

3 0 μmエクアのチャートは透過型、反射型の選択が可能です。
透 過 型 チ ャ ート
透 過 型 ガ ラス チャ ート
透明ガラス基板にクロム薄膜を用いて高精度、高解像度のパターンを形成した製品です。光学デバイスの評価に用いられます。
パターン形 状は 解 像 度をチェックするために各 種 線 幅 、線 間のチャートを規則的に配列したもの、位置精度をチェックするためにドットパターンや十字マークをアレイ状に並べたもの等が代表的なものです。最小パターンは 1μmより製作可能です。
クロム薄膜の色はクロム単層の場合は銀色、酸化クロムの場合は金茶色または紺色になります。パターンは高精度レーザー描画装置により形成されます。

透 過 型 フィルム チャ ート
透 過型フィルムチャートはPET素材に黒色のパターンが描画されています。パターンのサイズは最小20μmより形成可能です。

エクアのフィルムチャートの特徴は大サイズ対応と精密な外形加工が可能なことです。最大サイズは2450×1612mmとなっています。精密な外形サイズか要望される場合、外形は精密金型による加工、切断装置による加工の2通りの方法で加工されご提供されます。

エ ク ア 標 準 チャ ート
N11T1-3535-M （白色ガラスチャート）
QZT23-2525-L （透過型ガラスチャート）
WTPET-A5-BM1 （白色PETチャート）

反 射 型 チ ャ ート
白 色 ガ ラス チャ ート
白色ガラスチャートは白色ガラス基板（ネオセラムN11、ネクストリーマ）上に金属膜でパターンを形成した製 品です。反 射光を用いて計 測 、位 置 決め、評価を行う場合に有効な製品です。基板は鏡面と非鏡面（艶消し）の2通りの選択が可能です。
基板の熱膨張係数は1.3×10 ー6となっており、石英ガラス基板にせまる位置決め精度を実現します。金属膜は主にクロム+酸化クロムの2層膜となっており、色は金茶色または紺色となります。
独自の製法によりチャートサイズは最 大 5 08×6 0 0 m m ま で の 製品 が製作可能です。高精度なフォトリソプロセスを採用することによりパターンの線幅は最小2μmまで対応しています。

PET-100100-BW（透過型PETチャート）

白 色 P E T チャ ート
白色のフレキシブルなPET素材の上に黒色のチャートパターンが高精度に描画されています。従 来品の紙ベースの印画 紙と比べ耐久性に優れています。
また微細パターンの形成が可能となっており解像度は最小20μmのラダーパターンを実現します。また温度湿度による寸法変化が少ないため位置決め精度にも優れています。
サイズは A 4 、A 3サイズなどに対応します。
PETの厚さは125μm、188μmなどより選択ができます。
撮影用のチャートとしてご使用になる場合はアルミ複合板に接着した製品をご提供しています。

印 画 紙 チャ ート
印画紙チャートは写真感光材料である白黒の印画紙を用いて製作された反射型テストチャートです。
各種スキャナのキャリブレーション用途、カメラ撮影の解像度チャート、ディストーションチャート等として用いられております。
印画紙チャートは温度23度、湿度50%に管理されたクリーンルーム内で高精度平行光光源露光機により描画されています。
独自技術による露光プロセスにより最高レベルのシャープなパターンエッジを再現しています。

TESTCHART

主な 製品と用途
解 像 力 チャ ート

ス テップタ ブ レット ( 階 段 チャ ート )様々な線幅、線間のラインがデザインされたチャートです。

透 過率の異なるベタパターンが連続的に配列されています。

撮影用レンズや光学系の解像度の評価に使用されます。

透 過 率 、段 数、配列はカスタムオー ダーにお応えします。
露光機の調整、感光性材料の特性評価に必要となります。
解像力チャートと組み合わせた製品もご提供しております。
また、グラデーション（連 続 調）の製品もラインアップして0.001おります。

0.001

ポジタイプ

0.001

ステップタブレット

0.001

ネガタイプ

キャリブ レ ー ション チャ ート
ドットパターン、クロスマーク、ライン＆スペースなどが格子状に配列されたもので、装置・機器の位置精度校正用に用いられます。

グラデーションチャート

カ ラ ー チャ ート
カラーパッチを配列したチャートです。スキャナー、CCDなどのカラー再現性評価に用いられます。
エクアでは透過型ガラスチャートと組み合わせた製品もご提供しております。

ドットパターン

チェッカーパターン

図 面からデータを作成、お客様のイメージや構想の実 現をサポートします。

フ ォト マ ス ク
フォトマスクとは、電子回路、表示デバイス、光学部品、精密機器などのパターンをウェハ、ガラス基板、プリント基板、金属板などに露光する際に使用される原版のことです。
エクアがご提供するフォトマスクは、主にレーザーを光源とした最新の装置により描画されております。
エレクトロニクス、光学部品、スケール、ディスプレイなどの分野において、長年に渡る経験豊富な精密フォトリソグラフィー技術、またエクア独自の図形処理技術により、お客様の多様なニーズにお応えします。
フォトマスクの主な パターン

5μm , 10μmパターン

1μm曲線

φ2μmドット種類と構造
フォトマスクにはガラスマスクとフィルムマスクがあり、さらにガラスマスクはクロムマスクとエマルジョンマスクの2種類があります。

基材の種類

ガラス 基 板のクロム 膜について■ガラス基 板ソーダライムと合成石英の主な違いは、熱膨張率と透過率です。
熱膨張係数と透過率は以下の通りです。
基材材質

熱膨張係数

透 過 率

合成石英

0.5×10 ー6（0.05μm /℃ /100 mm）

90%/200 nm以上

ソーダライム8.0×10 ー6（ 0.8μm/℃/100 mm）■フィルム基 板

PET

クロムマスクの構造

熱膨張係数

湿度膨張係数

10×10 ー611×10 ー6
透 過 率

90%/200 nm以上

酸化クロム
クロム

83%/380 nm以上

フィルムは熱膨張に加えて、湿度の影響においても伸縮します。
基材材質

ガラス基板上のクロム薄膜は2層構造になっており、1層目がピュアクロム、2層目が 酸化クロムです。厚さはそれぞれ約700Å、300Åで合計1000Åです。
酸化クロムは反射防止の目的で付けられており金茶色を呈しています。これらガラス基板上のクロム膜の有無をフォトエッチングプロセスにて形成しパターンが出来上がります。

ガラス

フィルムマスクの 銀 塩について
フィルムマスクはポリエステル基材の上に塗布された乳剤層中のハロゲン化銀が現像処理により黒色の金属銀に変化することによりパターンを形成したものです。
表面はゼラチン質であるためデリケートで傷がつきやすいですが、コスト的にはガラス素材のマスクよりもリーズナブルです。
フィルムマスクの構造

銀塩
ゼラチン
PET

PHOTOM ASK

主な 製品と用途
高 精 度 フォトマ ス ク
最小線幅 1μmからの高精度クロム直描マスクです。
精密フォトリソプロセス用としてはもちろん、解像力チャートなど直描製品として用いられます。
最 大フォトマスク

9×9inch

最大描画範囲

210×210mm

最小 線 幅1μm

最 大マスク厚12mm

マスク基 板石英、ソーダライム

大 型 フォトマ ス ク
各種フォトエッチング用大型マスクをご提供しております。
クロム及びエマルジョンマスクが可能です。
最 大フォトマスク

711×813mm

最大描画範囲681×783mm

最小 線 幅5μm

最 大マスク厚12mm

マスク基 板石英、ソーダライム＊これ以上のサイズにつきましては別途お打ち合わせが必要となります。

フィルムマ ス ク
各種金属のフォトエッチング等に用いられる、コストパフォーマンスの良いフィルムマスクです。
パターンサイズ1000mm超が可能です。
最大描画範囲

2450×1612mm

最小 線 幅20μm

フォトマスク製 造 の 流 れ
お客様
CA D デ ー タ作 成
マスク 製 造 ライン
出荷検査
お客様

ＣＡＤ

製造工程

イメージを現実化する

最新の設備と安心かつ安全な生産体制

エクアは、お客様の簡単なラフスケッチからでもCADデータを作成し、ご要望のパターンを作成します。様々なアプリケーションに対応しておりますので是非お問い合わせください。

フォトマスクは24時間の生産体制を整え、ベストリードタイムでお届けします。設備も常に最新のものを取りそろえ、品質に関しましては、様々な分野のお客様のご要望にお応えいたします。

最先端の加工技術を利用した各種部品をご提供しています。

光学部品

電子部品

各種ガラス基板（石英、ソーダライム、白板等）の上にクロム、エクアでは各種ガラス基板やシリコンウエハ上に様々な金属酸化クロムなどの金属薄膜による高精度なパターンを形成します。エクアではフォトマスク描画装置によりパターンを直接膜による多層パターンを形成した製品をご提供しております。
独自の図形データ生成技術、高精度マスク描画装置や半導体描画することにより最小1μmからの高精度で微細なパターンを形成した製品をご提供しております。また、フォトマスクを用ステッパーの利用、フォトエッチング、リフトオフ、メッキ、サンドブラストなど最先端の加工技術を利用して最適のプロ原版とした量産製品にも対応しております。ガラス基板はダイシング装置により任意のサイズに高い精度で切断され製品となります。

セスをご提案いたします。又、フォトマスク製造装置を用いて基板上に直接パターンニングすることにより超高精度な加工を可能にしております。

クロスパターン、光学スリットなどの標準的なパターンだけでなく穴あけ加工、金属部品との接着、サンドブラスト加工、多層膜パターンニングなど複合 的な加工技 術を用いた製品にC r、A l 、T i 、I TO など多様な 金 属 薄 膜を用いた電子 回 路 をガラス、セラミックス、シリコン基板などの上に形成いたします。

対応しています。

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フォトエッチン グーpグ ラ デ ー ションパ タ ーン
グラデーションパターンを用いて光の透 過率を滑らかに変化させることができます。調光用パターンなどとして用いられます。
透 過率はリニアな変化だけでなく、正弦波、放物線など種々の曲線に対応しており、基板はガラス、PE T等のほか紙媒体も使用可能です。

フォトエッチングでは最初に基板上に必要とされる金属などをスパッタリング、蒸着などの方法で所 定の厚さに成 膜し、フォトレジストをコートします。その後、フォトマスクと露光装置を用いてレジストの露光現像工程を行いエッチングにより目的のパターン形状を形成します。

リフトオ フリフトオフではフォトエッチングの技 術を用いて最 終形 状と逆のパターンを他の金 属 膜 、レジスト像などで 形成します。
その後、スパッタリング装置や蒸着装置を用いて最終パターン
形 成 部 分 に 金 属 の成 膜 を行 います。最 初 の 金 属 膜 ないしレジストを剥離することにより目的の金属によるパターンが出来上がります。
Au（5μm）
Ti（1000Å）
SiO2（1μm）
Siウエハー（0.625mm）
54.7

放射状に透過率を変化させたパターン。

CuNiAuメッキ（5μm）
φ0.3mm

Ti+Cu
ガラス

0.2mm

0.2mm

リニアな透過率の変化。
傾斜は任意に設定できます。
SI ウエハーの配線パターン（上図は段差上のパターンニング）

ガラスに貫通配線パターン

Auメッキバンプ
5μm

正弦波形 状に透 過率を変化させたパターン。周 期は任 意に設 定できます。

回転 方向に透 過率を変化させたパターン。ガラス 基 板の 場 合、基 板を円 形 に加 工したり、中心に穴を設けることが可能です。

カバーレイ
NiAuフラッシュメッキ
Cu（3μm）
ポリイミドフィルム（25μm）

PI フィルム上のプローブパターン

ガラス加工金属部品

ガ ラス の エッチン グ 加 工レーザー加 工エクアではフォトエッチング技術を利用して製作されるガラスエッチング加工品をご提供しております。マイクロ流路や各種スペーサー用途など高精度な形状を得ることができます。
また、クロムなどのパターン付きガラスの製作も可能です。

レーザー加工 装置はYAGレーザーを光学系を通して光束を微 小に絞り対 象 金 属を溶 融 蒸 散させることにより、目的 の開 口 部 を形 成させます。 微 細 加 工と対 象 金 属の多 様 性 が特 徴です。フィルター、マスク、光学スリットなどに用いられ、開口径10μm以下の加工が可能となっています。
S U Sをはじめアルミ、タングステン、モリブデン、チタンなどに対応しています。

溝幅、深さの厳密なコントロールが可能です。

電鋳加工製品
電鋳加工とはニッケルの電解メッキ技術を利用して精密なニッケル金属膜パターンニンフラットな底形状を持つ凸型凹型加工が可能です。

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露光
フォトマスク

グをおこなうものです。主に

サ ンド ブ ラスト加 工
ガラス基 板をサンドブラスト処理により加工します。
ザグリ、貫通穴などの加工や表裏異なるパターンの加工に対応しております。

ニッケルの電解メッキの工程

レジスト

蒸着用マスク、印刷用マスク、母型

各種精密治具、光学部品などサンドブラストの工程

レジスト像の用途に使用されます。

露光
フォトマスク
レジスト
ガラス
現像

エクア で は 高 精 度 フォトマ

電解メッキ

スクやレーザー直 描 装 置を用いた電鋳製品をご提供して母型と剥離おります。

ブラスト
レジストの無いところの面があれる
レジスト剥離フォトエッチン グ
フォトエッチングによる金属板の加工は複雑で微 細な形 状

金属エッチングの工程
レジスト
金属板を低コスト、短納期で製作でガ ラス の 機 械 加 工
N C 加工 装置、ダイシング 装置を用いた 加工による高 精度、複雑な形状の製品をご提供いたしております。

きる加工技術です。
SUS、Al、Ti、Cu、インバーなど多 様 な 金 属に対 応しております。

レジスト
露光
フォトマスクフォトマスク

現像

エッチング

貫通穴加工

特 殊 な外形 形 状への加 工、ガラスへの微小穴あけ加工を行います。

レジスト剥離