第 43 回熊谷記念真空科学論文賞，第 43 回真空技術賞，第 27 回真空進歩賞，第 7 回真空会誌賞
候 補 業 績 募 集 要 項
公益社団法人日本表面真空学会

本賞は真空科学，真空技術およびその関連分野など（たとえば，表面・薄膜などの分野も含む）の発展に寄与するために，この分野で公表された顕著な業績を「表彰規程」（下記）にしたがって表彰する
もので，第 6 回真空科学国際会議開催を記念する基金，熊谷記念基金及び寄付金をもって運用されています．なお，表彰対象となる論文は本誌掲載のものに限りますのでご注意ください．（受賞対象に関しましては，過去 10 年間の表彰業績一覧をご参照ください．）
論文賞・技術賞・進歩賞・会誌賞候補に推薦され，また応募された業績に対して審査を行いますので，自薦他薦とも下記要領によりご応募ください．
なお，募集開始が遅くなりましたことをお詫び申し上げます．
1．提出書類：候補業績名（論文の場合は論文名），公表年月日（論文の場合は誌名（J. Vac. Soc. Jpn
あるいは Vac. Surf. Sci.），巻，号，頁）推薦理由または応募理由（400 字以内），および推薦者名または応募者名を明記した A4 判書きの書類（書式任意）
2．提出先：公益社団法人日本表面真空学会事務局〒113-0033 東京都文京区本郷 5-25-16 石川ビル 5 階
TEL: 03-6801-6264 E-mail: office＠jvss.jp
3．論文等の表彰対象：J. Vac. Soc. Jpn 誌の Vol.60, No.4～12（平成 29 年 4～12 月）あるいは Vac.
Surf. Sci.誌の Vol.61, No.1～3（平成 30 年 1～3 月）に掲載された論文
4．提出期限：平成 30 年 6 月 29 日（金）（厳守）以 上表彰規程（一般社団法人日本真空学会）
第 1 条 この規定は真空科学および真空技術の向上と発展に寄与した顕著な業績に対して日本真空学会が行なう表彰について定める．
第 2 条 真空科学に関する表彰を「熊谷記念真空科学論文賞」，真空技術に関する表彰を「真空技術賞」，若手会員の業績を表彰するものを「真空進歩賞」，会員への啓蒙に関する表彰を「真空会誌賞」という．
第 3 条 この表彰の基金は第 6 回真空科学国際会議記念基金と寄附金をもって当てる．表彰に要する経費は基金の利息をもって当てることを原則とする．
第 4 条 表彰への応募資格および被推薦資格は原則として本会会員による業績とする．
第 5 条 熊谷記念真空科学論文賞の対象は，原則として表彰を行う年の 3 月までの 1 年間に発刊された｢JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN｣誌に発表された独創的な優秀論文とする．ただし数年にわたって継続発表されたものを含む．
第 6 条 真空技術賞の対象は，表彰を行う年の 3 月までに公知となっている優れた製品，開発された新技術および技術論文などとする．ただし，技術論文は原則として表彰を行う年の 3 月までの 1 年間に発刊された｢JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN｣誌に発表されたものに限る．
第 7 条 真空進歩賞は真空に関する学理および技術の進歩に貢献する当該年度 4 月 1 日現在 39 歳以下の若手会員の業績を表彰するものとする．
第 8 条 真空会誌賞の対象は，原則として表彰を行う年の 3 月までの 1 年間に発刊された｢JOURNAL OF
THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN｣誌に掲載された原著論文以外の記事で，会員にとって啓発的，教育的であり，真空科学および真空技術の進歩向上を促すものとする．ただし数年にわたって継続発表されたものを含む．
第 9 条 表彰は第 5 条，第 6 条，第 7 条，第 8 条に該当する業績をあげた個人または団体に対する賞状および副賞記念品贈呈をもって行なう．賞状は共同研究，共同開発の場合には関係者全員に贈り，団体の場合にはその代表者 1 名に贈る．
第 10 条 表彰件数は原則として毎年「熊谷記念真空科学論文賞」「真空技術賞」「真空進歩賞」および「真空会誌賞」各 1 件とし，該当するものの無い場合には取り止め，次年度に繰り越さない．
第 11 条 表彰は毎年真空に関する連合講演会会期中に会長が行なう．
第 12 条 受賞候補は会員より推薦された候補から，表彰審査会が選考を行い理事会に提案する．
第 13 条 理事会は前条により提出された受賞業績候補について，審議のうえ，受賞業績ならびに受賞者を決定する．
第 14 条 この規程の改廃は理事会の決議による．
附則
1．この規程は昭和 51 年 2 月 21 日より施行する．
2．この規程は平成 24 年 1 月 18 日開催の理事会で改定し，平成 24 年 2 月 28 日より施行する．

過去 10 年間の表彰業績一覧
第 33 回熊谷記念真空科学論文賞（平成 20 年度）｢ラジカル窒化シリコン酸窒化膜における窒素プロファイルの X 線光電子分光分析による評価｣
河瀬和雅（三菱電機)，梅田浩司，井上真雄（ルネサステクノロジ)，諏訪智之，寺本章伸，服部健雄，大見忠弘（東北大学）
第 33 回真空技術賞（平成 20 年度）｢マイクロ/ナノイオンビームの生成技術｣
成沢 忠（高知工科大学），根引拓也（高知工科大学）
第 17 回真空進歩賞（平成 20 年度）｢高速陽子の散乱を用いたイオン結晶表面の構造解析」
深澤優子（大阪教育大学教育学部）
第 17 回真空進歩賞（平成 20 年度）｢ネオン固体表面上からイオン衝撃脱離するクラスターイオンの観測｣立花隆行（立教大学先端科学計測研究センター）
第 34 回真空技術賞（平成 21 年度）｢硬質 BN 膜の切削工具への応用」
野間正男，小松永治（神港精機株式会社），所 敏夫（滋賀県東北部工業技術センター），小川圭二，中川平三郎（滋賀県立大学）
第 35 回熊谷記念真空科学論文賞（平成 22 年度）｢テーパー管の通過確率の近似式｣
松田七美男（東京電機大学）
第 35 回真空技術賞（平成 22 年度）｢3 次元立体アルミニウムマスクを用いたシリコン基板の反応性イオンエッチング加工技術の開発｣
勝又信行，石田正文（山梨県工業技術センター）
第 35 回真空技術賞（平成 22 年度）｢半導体デバイス解析用局所プラズマ加工装置の開発｣
新堀俊一郎，白山裕也，川上辰男，横須賀俊太郎，樫村健太（株式会社三友製作所），綿谷 透，清水哲夫，内藤泰久，徳本洋志（独立行政法人産業技術総合研究所）
第 19 回真空進歩賞（平成 22 年度）｢Pt 表面における分子反応の研究」
近藤剛弘（筑波大学）
第 36 回真空技術賞（平成 23 年度）｢小型高性能力覚センサを用いたロールツーロールスパッタ装置用張力計測システム｣
近藤真也，玉置 肇（株式会社アサヒ電子研究所），小川倉一（小川創造技術研究所）
第 36 回真空技術賞（平成 23 年度）｢極高真空測定子（Bent Belt-Beam Gauge Head）の開発｣
渡辺文夫（有限会社真空実験室）

第 20 回真空進歩賞（平成 23 年度）｢隔膜真空計を用いた圧力測定のための熱遷移補正｣
吉田 肇（独立行政法人産業技術総合研究所）
第 37 回真空技術賞（平成 24 年度）｢環境制御型透過電子顕微鏡の開発とその応用｣
矢口紀恵，長久保康平，松本弘昭，柿林博司（株式会社日立ハイテクノロジーズ），上野武夫（山梨大学燃料電池ナノ材料研究センター）
第 21 回真空進歩賞（平成 24 年度）｢Ag(111)表面上の水素分子のオルソ・パラ転換におけるファン・デル・ワールス力の影響｣
國貞雄治（大阪大学大学院工学研究科）
第 21 回真空進歩賞（平成 24 年度）｢Formation of WO3 Reduction Coloring Thin Film Using a Combination Sputtering Method Featuring
Radio－Frequency Oxygen Plasma Irradiation｣
野口大輔（都城工業高等専門学校物質工学科）
第 1 回真空会誌賞（平成 24 年度）｢物理的蒸着法による薄膜のナノ形態制御｣
鈴木基史（京都大学大学院工学研究科）
第 38 回真空技術賞（平成 25 年度）｢活性酸素を利用した医療用滅菌器およびそのモニター開発｣
吉野 潔，松本裕之，岩崎達行，木下 忍（岩崎電気株式会社），野田和俊（産業技術総合研究所），
岩森 暁（東海大工学部）
第 22 回真空進歩賞（平成 25 年度）｢ルチルチタニア表面上の水の吸着及び解離に関する密度汎関数解析｣
Susan Meãnez ASPERA（大阪大学大学院工学研究科）
第 2 回真空会誌賞（平成 25 年度）｢真空・薄膜徒然草 1－20｣
金原 粲（東京大学名誉教授）
第 39 回熊谷記念真空科学論文賞（平成 26 年度）｢真空容器の排気過程に関する新しい物理的描像の提唱｣
杉本敏樹（京都大学大学院理学研究科），武安光太郎，福谷克之（東京大学生産技術研究所）
第 39 回真空技術賞（平成 26 年度）｢マイクロコイル真空計およびマイクロハクマク真空計の開発｣
岡野夕紀子，田尻修一（株式会社岡野製作所），岡本昭夫（大阪府立産業技術総合研究所），小川倉一（小川創造技術研究所），美馬宏司（大阪市立大学）
第 23 回真空進歩賞（平成 26 年度）｢圧力－吸着状態密度変換式による水排気曲線の解析｣
武安光太郎（東京大学生産技術研究所）
第 3 回真空会誌賞（平成 26 年度）｢表面分析の基礎(1)から(6)｣吉原一紘（オミクロンナノテクノロジージャパン株式会社）
第 40 回真空技術賞（平成 27 年度）｢大気圧走査電子顕微鏡の開発｣
大南祐介（株式会社日立ハイテクノロジーズ）
第 24 回真空進歩賞（平成 27 年度）｢プラズマプロセスにおける異常放電検出システムの開発｣
笠嶋悠司（国立研究開発法人産業技術総合研究所）
第 4 回真空会誌賞（平成 27 年度）｢[随想]うたかたの記(1)から(7)｣｢[講座]電子ストレージリング真空系ハードウェア(1)から(2)－うたかたの記番外編－｣
小林正典（高エネルギー加速器研究機構名誉教授）
第 4 回真空会誌賞（平成 27 年度）｢[解説]スピン偏極低エネルギー電子顕微鏡｣
越川孝範，鈴木雅彦（大阪電気通信大学），安江常夫（大阪電気通信大学），E. Bauer（アリゾナ州立大学），中西 彊，金 秀光（名古屋大学），竹田美和（あいちシンクロトロン光センター）

第 41 回真空技術賞（平成 28 年度）｢Direct Simulation Monte Carlo 法のターボ分子ポンプへの適用｣
筒井慎吾，二木敬一（株式会社島津製作所）
第 25 回真空進歩賞（平成 28 年度）｢コンパクト反応性イオンエッチング炉の開発｣
本村大成（国立研究開発法人産業技術総合研究所）
第 5 回真空会誌賞（平成 28 年度）｢[講座]測定学から見た真空計測の基礎(1)－(4)｣吉田 肇（国立研究開発法人産業技術総合研究所）
第 42 回真空技術賞（平成 29 年度）｢極高真空冷陰極電界放出電子銃の開発｣
糟谷圭吾，大嶋 卓，片桐創一，川﨑 猛（株式会社日立製作所）
第 42 回真空技術賞（平成 29 年度）｢大電流電子・陽電子加速器用超高真空システムの開発｣
末次祐介，柴田 恭，石橋拓弥，白井 満，照井真司，金澤健一，久松広美（大学共同利用機関法人
高エネルギー加速器研究機構）
第 6 回真空会誌賞（平成 29 年度）｢[解説]フィールドエミッタアレイの新しい応用技術～耐熱・耐放射線素子や光源応用に向けて～J.
Vac. Soc. Jpn., 60 巻 2 号（2017）55-63.｣
後藤康仁（国立大学法人京都大学）