機器開発

電子機器開発

光

機器利用

計算科学

学術支援

分子科学研究所

技術課

Activity Report

2014

ISSN-0919-9233

CONTENTS

巻頭言 ……………………………………………………………

1

2014 年度ハイライト
機器開発 ………………………………………………………

2

電子機器開発………………………………………………

4…………………………………………………………………

6

光

8

機器利用

………………………………………………………

計算科学……………………………………………………… 10

学術支援 ……………………………………………………… 12

技術課活動報告…………………………………… 13

技術レポート ………………………………………… 16

分子科学研究所

技術課について分子科学研究所（愛知県岡崎市）は、昭和50年に創設され、同時に、技術分野での研究支援を目的として技官を組織した技術課が発足しました。技術課は所長直属の技術者組織であり、各個人のもつ高い専門的技術により支援しています。
技術課の役割は研究の動向により変化していくので、これからも幅広く柔軟に技術支援体制を構築していきます。
分子科学研究所長

技術課
技術職員計 33 名（平成 27 年 5 月時点）

機器開発技術班

電子機器開発技術班

光技術班

機器利用技術班

計算科学技術班

学術支援班

巻頭言

横山 利彦
よこやま

としひこ

[ 分子科学研究所 教授・物質分子科学研究領域研究主幹・機器センター長 ]平成 26 年 9 月から機器センター長を拝命しました。私が用者がいつ来ても仕様通り支障なく使えるように維持管理

分子研に着任したのは平成 12 年 1 月で、その後、平成 19

すること、あるいは、外部利用者の要望に応じた臨機応変

年 4 月〜 25 年 3 月までは分子スケールナノサイエンスセン

な対応をとることは非常に重要な業務に相違ありません。

ター長を務めていましたが、まとまった人数の技術職員のしかし、特に市販装置を整備することに自身の仕事の発展

方々が配属されている施設の長になったのは今回が初めてで、性を追求することはむしろ難しいかもしれません。現状でまだ機器センターの皆さんから現状を伺いつついろいろ考えは実施できない新しい測定技術の導入など、常に自分にているだけの段階ですが、この巻頭言を書く機会をいただきとって発展性のあるチャレンジングな仕事を 1 つ必ず持つましたので、現時点での雑感を綴ってみたく思います。

ことを期待します。そのためには、所属する施設外の教員

大学等から分子研に着任する教員は誰しもまず感じることと思いますが、分子研は技術職員が圧倒的に充実していとの一層の交流をもつことが望まれます。
次に、短期であっても外の機関に出られる体制を望みます。

ます。教授・准教授 30 数名に過ぎない組織において、同等

共同利用機器等の専門性はますます高度化され、所内の教員

数の技術職員を配置し、先端測定機器・汎用機器・寒剤供や他の技術職員が教えられることは限られます。自身の専門

給・大型計算機の維持管理、金属工作・電子回路製作、広報・分野を磨き、あるいは新たに取り組む業務の能力を高めるた

ネットワークの支援等、極めて多岐にわたる研究機関としめには、積極的に外に教えを乞うことが第 1 歩です。交流は、て不可欠な業務を滞りなく実行していることは、対外的に単に自身の専門技術知識を増やせるだけでなく、より多くの強く誇れることです。共同利用機関として、外部の利用者

他機関の方々と知り合うこと自体が自身の能力向上につながの方々に対しても十分な対応ができていて、特に、外部利ると信じます。また、外に出るということは外からも受け入用者が直接金属工作・電子回路製作を申請できたり、液体れるということであり、自身の技術を他機関の若い人にも積He をすぐに利用できる体制は他にはない素晴らしい対応と極的に伝授することも大切な仕事であり、かつ、自分の指導言えます。大学・研究機関における承継職員数の漸減の中、力を向上させるためにも必要でしょう。長期の出向は少し時

今後も、このような共同利用機関として所内外から重責を間がかかるかもしれませんが、不在中の業務代行などに対応期待される体制が続くことをまずは希望しております。

できるきちんとした体制づくりを期待します。短期の出向

さて、本稿は鈴井課長から執筆依頼をいただき、その内（出張）はすぐにでも積極的に推進すべきではないでしょうか。

容は特に「技術職員の在り方」についてというご指定でし

指導力というと、前号巻頭言でも山本装置開発室長がマた。大変難しい課題をいただき、筆が進みにくいのですが、

ネジメントの重要性について書かれていました。技術課で気にせず私見をつれづれに書いてみることにします。分子はこれまでほとんどマネジメント習得の機会がなかったよ

研では、准教授や助教の内部昇任が禁止されていて、事務うに聞いています。技術課には、きちんとした課長−班長

組織がありません。このため、日本の普通の民間企業では−係長−主任−係員の人事組織構造がありますが、失礼なごく当たり前である、若い人が承継職員として採用されそがら、この構造が必ずしも十分に機能していないようにものまま定年退職まで勤続することが、むしろ分子研では技見えます。ビジネス講習や討論などファカルティデベロッ

術職員に限られる特例的なことになっています。長ければプメントの機会を設けた方がいいかもしれません。また、40 年にもなる分子研勤務を大きな実りのあるものにする

このためにも出向は効果的で、特に若い世代の技術職員にためには、民間企業や大学・他の公的機関では普通の感覚接する機会が得にくい現状では、出向によるさまざまな世と思われる、長期勤続する承継職員が共通の認識のもと目代との交流もマネジメント習得にとって重要でしょう。

指すところをもつということが重要でしょう。

いろいろ面倒な話をしてしまったかもしれません。要

機器センター長になってすぐに配属の技術職員の方々

は、技術職員に限らず、勤労において一番大事なことは、に申し上げたところですが、常に自分自身にとって開発的振り返ったとき、長い間勤務して有意義だったといえるかな仕事を 1 つ以上持って、時間のあるときはその仕事をしどうかでしょう。技術課、技術職員の方々のますますのごてほしいということでした。担当している装置等を外部利活躍を期待いたします。

分子科学研究所技術課報告 20141

2014 年度ハイライト

機器開発
技術班

機器開発技術班は、「実験研究に必要な機器の設計・製作への迅速な対応」、「分子科学の新展開に必要な新しい装置および技術の開発」を主たる業務として技術支援を行っています。所内からの製作依頼の他、分子科学分野を中心とする所外研究者からの実験機器の試作開発依頼、ナノテクノロジープラット

担当施設：装置開発室

フォームを窓口とした、リソグラフィ技術によるマイクロデバイス製作依頼

http://edcweb.ims.ac.jp/

への対応など、全国の研究機関への幅広い技術支援を行っています。

製作依頼2014 年度の所内製作依頼は、昨年度より 50 件ほど多な製作課題も行っています。また施設利用などによる外い 305 件でした。スピーディーな対応が求められる部品部研究機関からの製作・利用については、昨年度の 2 倍の製作や装置部品の改良のほか、実験装置の構想段階から研24 件（施設利用 8 件、ナノテクノロジープラットフォー

究者と綿密な打ち合わせを行いながら長期にわたり設計・

ム利用 16 件）の依頼に対応しました。

試作を行うものや、技術開発や試行錯誤を伴う以下のよう
先端レーザー開発部門で進められている各種レーザー機器開発に協力しています。パルス幅可変レー
ザー筐体の詳細設計やレーザー結晶を接合するための装置の試作開発を行っています。
（水谷、近藤）レーザー開発研究機器の設計・製作
カーボンナノチューブを使った分光実験用の真空チャンバの製作を行いました。
ICF 305 をメインとするチャンバを手動で回転させるための機構を架台部分に盛り込んで設計しました。
（矢野）

カーボンナノチューブ気相分光用
真空装置
真空チャンバの ICF70 のビューポートから 272.5mm 離 れ た □ 1m の 加 工 面 を
CCD カメラで観察するのを目的にカメラスタンドとミラーユニットを製作しました。
ベーキング時の熱影響が懸念されたため、
ANSYS で伝熱解析を行いました。（矢野）

マイクロフォーカス加工観察ユニット
極低温環境において、有機 FET のチタン酸
ストロンチウム基板にひずみを印加する機構を備えたプローブの設計・製作を行いました。先端の曲げ機構部は着脱可能な構造にし、基板の交換を簡易に行うことができるよう工夫して設計を行いました。（近藤）
技術レポート P. 19 近藤

STO 基板曲げ歪測定用プローブ

有機結晶を成長させるために使 用 す る 反 応 槽（ 深 さ 3 m）と白金電極を、リソグラフィ・
成膜・エッチング技術を用いて、石英ガラス基板上に製作しました。
（高田、中野）深さ3mの反応槽部

石英製マイクロ電解セル
メンブレン部 放射光を用いた顕微 XAFS 測定
拡大で触媒粒子を探すための目印と2mm
技術レポート P.20 高田

して、厚さ 100nm の SiN（チッ化シリコン）メンブレン上に、
幅 5m, 間隔 100m の白金格子パターンをリソグラフィで製作しました。（高田）SiN メンブレンへの位置出し用格子パターンの製作
流路部に SiN メンブレンを張り合わせて使用するための、溝幅、深 さ と も に 50m の PDMS 製
マイクロ流路を製作。液導入部
は PDMS に張り合わせたガラス
基板上に PEEK 製通液チューブ
を接着しました。（中野、青山）

X 線吸収分光実験用マイクロ流路
既存の低温プローバーに組み込んで使用する MCBJ 装置の製作を行いました。既存ステージに重量制限があり簡素かつ振動に強い構造とするため、有限要素法解析ソフトを用いて構造設計を行って製作しました。（青山）

単分子電気伝導度測定装置

その他にも、技術レポート P.21（水谷）、P.23（矢野）、Ｐ .25（青山）のような技術支援・技術研鑽も行っています。

2

分子科学研究所技術課報告 2014

スタッフ Information
青山 正樹

AOYAMA, Masaki

水谷 伸雄

MIZUTANI, Nobuo

矢野 隆行

YANO, Takayuki

近藤 聖彦

KONDO, Takuhiko

高田 紀子

TAKADA, Noriko

中野 路子

NAKANO, Michiko

杉戸

正治* SUGITO, Shouji* 技術支援員

技術開発

精密加工

装置開発室では研究機器の製作依頼に対し常に新しい

超精密加工は国立天文台先端技術センター、名古屋大学

技術で対応できるよう、研究現場での需要を意識しながら、理学研究科装置開発室と共同で光学素子製作技術の確立を

以下の技術について高度化への取り組みを行っています。

テーマに取り組んできました。現在では、IPES 用楕円面

レーザーアブレーションによる微細加工

鏡や、コクーンミラーなどの製作依頼に応えられる成熟し機械加工では製作が難しい形状および材質に対応するた技術にまで成長しました。今後は精密加工に必須となる

ため、分光実験用ピコ秒レーザーを使った技術研鑽を機器

精密計測技術の高度化に取り組んでいきます。

センターと共同で行っています。切削反力を伴う機械加工

その他活動報告では難しい薄板の形状加工やスリット加工、小径パイプへ−受け入れ研修 / 中学生職場体験−の加工対応、またガラスや光学結晶材料への微細で熱影響【加工技術の効率化向上に関する研修】2014 年 9 月 8 日〜 9 月 12 日の少ない高品質な加工を目的として、アブレーション条件の基礎的検討を試みています。
リソグラフィ
装置開発室の新たな支援サービスの柱の一つとして、バイオセンサー基板やマイクロミキサーなどの試作開発に応えてきました。現在は所内の研究者の協力を仰ぎながら、
ウエットエッチングによる石英ガラスの微細加工や反応性

受講者：名古屋大学

工藤哲也、担当者：杉戸正治、青山正樹【リソグラフィによる微細加工を体験しよう】
2014 年 10 月 22 日、受講者：岡崎市立福岡中学校
担当者：高田紀子、中野路子−セミナー企画開催−【共同開発セミナー「超精密加工」】
2014 年 12 月 2 日 分子研研究棟 201 号室【微細加工に関する技術サロン会】
2015 年 3 月 19、20 日 分子研研究棟 201 号室

スパッタによる窒化ニオブ超伝導薄膜の製作について試作−技術発表−

検討を重ねています。マスクレス露光装置、3 次元光学プ（1）高田紀子「リソグラフィを中心とした微細加工支援の紹介」 第ロファイラーなどの設備が新たに導入され、対応可能な支援の幅も広がったことから、所内外からの製作依頼も増え

9 回自然科学研究機構技術研究会

2014 年 6 月 19 日、20 日（2）近藤聖彦「高磁場超伝導線材の引張歪印加機構プローブの開発」（口頭発表） 平成 26 年度北海道大学総合技術研究会

2014 年 9 月ています。

4 日、5 日デジタルエンジニアリング（3）高田紀子「窒化ニオブマイクロパターンをもつ高圧アンビルの構造解析や伝熱・磁場解析などの CAE 技術の適用による、機器設計作業の効率化や形状の最適化を推進しており、マイクロフォーカス加工観察用熱遮蔽板の伝熱解析や単分製作」 平成 26 年度北海道大学総合技術研究会

2014 年 9 月 4 日、5日（4）矢野隆行「分光実験用超短パルスレーザーを用いたレーザー加工の試み」 第 11 回放電加工ネットワーク勉強会 2014 年 11 月 6子電気伝導度測定装置の支柱構造の最適化に適用を試みま日、7 日した。今後は試作検討段階での３D モデリングおよび 3D（5）近藤聖彦「MgF 2 非球面レンズの製作 ( テスト加工 ) について」

ラピッドプロトタイプ、分子模型の３D モデルデータ作成

共同開発セミナー「超精密加工」2014 年 12 月 2 日（6）高田紀子「イメージリバーサルフォトレジストを用いた SiN メなど、さらにデジタルエンジニアリングの適用を模索してンブレンへのパターニング」 第 3 回微細加工に関する技術サロン会

いきます。

2015 年 3 月 19 日、20 日

分子科学研究所技術課報告 20143

2014 年度ハイライト

電子機器開発技術班
担当施設：装置開発室
http://edcweb.ims.ac.jp/

電子機器開発技術班の紹介
電子機器開発技術班は、分子科学研究所の研究施設・装置開発室にあって、所内外の分子科学分野の先駆的な研究に必要な実験装置の開発を行っています。

DDS と ARM マイコンを用いた TTL レベル
出力パルスジェネレータの開発
ステッピングモータの駆動パルス供給やディジタル回路の動作試験など、TTL（Transistor-Transistor Logic）レベル

私達は、基盤技術の育成および先端的な新しい回路技術のパルスジェネレータ（発生器）が必要な場面は多くありまの導入の両面から技術向上に努めています。近年では、大す。一方、市販装置では、TTL レベルのパルス以外にサイン

規模集積回路設計製作技術、機器組み込みマイコン応用技

波や三角波など多彩な波形を出力できるファンクションジェ

術、カスタム・ロジック IC 設計技術に重点を置いて取り組み、

ネレータという装置が使えますが、前述の用途に対してはその成果は本誌の技術レポートや技術研究会等で報告され価格面でも機能面でもやや大仰な感があります。かと言って、ています。

アナログタイマ IC を使ってパルス発生器を作ろうとすると、

2 チャンネル高速ディレイ・パルサーの製作
トリガー信号を受け任意周波数の安定性が低かったり、温度によって周波数が変動したり、微調整が難しいな
どの問題が生じます。

の遅延時間後にパルスを発

今回、レーザーセンター

生するディレイ・パルサーからの製作依頼を受けは、実験機器間の同期を取て、DDS（Direct Digital

るための信号発生器として

Synthesizer） と ARM マ

よく利用されます。製作しイコンで TTL レベルのパルスジェネレータを開発しました。

たパルサーは、FPGAを利用したディジタル方式のもので、遅DDS は市販のファンクションジェネレータでも用いられて延時間を計測する 32 ビットと出力パルス幅を決める 16 ビッ

いる IC で、アナログタイマ IC より周波数精度や安定性が格トの二つの同期式カウンタで構成されています。そして、これ段に高い発振を得られます。また、ARM マイコンで集中制らをできるだけ高速なクロックで動作させることで、高精度御することで装置全体をコンパクトにすると同時に、ロータ

かつ長時間の遅延に対応したものを実現しました。出力パルス

リーエンコーダとスイッチを組み合わせて、市販装置で用いのパラメータ等を設定するためのユーザー・インターフェース

られる快適な操作性の導入も図りました。

は、別途マイコンを搭載することで敢えてFPGAのリソースを使わないようにしました。ディレイ・パルサーの最終的な仕様
は、動作クロック:200MHz、遅延時間:40nS 〜 3S（5nS刻み）、
パ ル ス 幅：10nS 〜 300uS（5nS 刻み）、ジッター :5nS、
出力:TTLレベル、チャンネル
数:2です。 技術レポート P. 28 吉田

4分子科学研究所技術課報告 2014

技術レポート P.30 豊田

スタッフ Information
吉田 久史

YOSHIDA, Hisashi

内山 功一

UCHIYAMA, Koichi

豊田 朋範

TOYODA, Tomonori

回転セル制御装置の製作

る制御を行います。ステッ

生体分子情報研究部門からの製作依頼により、2012 年度

ピングモータを高速に駆動に製作した回転セル制御装置について改良型装置の新規製作するためには、脱調を起こ依頼がありました。制御対象である回転セルとは、光受容タ

さないよう徐々に速度を上ンパク質の赤外分光計測に用いる回転型のセルで、サンプル

げてから一定速度を保ち、を効率よく利用するために回転と上下動を組み合わせて動作

その後徐々に減速を行う必します。

要があります。このような制御を台形制御といいます。台形

以前製作した制御装置は、回転セルに取り付けられた 2 台制御を行うには、モーションコントロール IC などの専用素のステッピングモータを単純に速度制御して回し続ける回路

子を使う方法もありますが、今回は汎用の PIC マイコンでソでした。今回製作した物は、赤外光による励起を行った後ス

フトウェア的に制御を行っています。
技術レポート P.32 内山

テッピングモータを駆動して次のサンプル位置まで移動させ共同利用機関として2014 年度【後期】製作依頼実績
施設利用申請課題名

マイクロ波イメージング
他大学から製作の依頼を受け入れています。

申請機関名

核融合科学研究所

A/D 変換基板を用いた健康センサーシステムの開発 名古屋工業大学

マイクロ波イメージング

A/D 変換基板を用いた健康センサーシステムの開発

この課題は核融合科学研究所の長山好夫教授から申請さこの課題は、名古屋工業大学の増田秀樹教授から申請れたものです。
長山教授はマイクロ波を用いた2次元イメー

されたものです。増田研究室では、直接的かつ選択的なジングの研究を行っており、本装置は 16ch のイメージン

NO 検出を可能とする金属錯体の研究開発を行っており、

グ信号を順次切り替え、計測・解析システムに送信するア

本装置はAu電極に修飾したNOセンシング機能を有する

ナログマルチプレクサ（切替器）です。

金属錯体の応答変化を測定・記録するために用いられます。

回路はほぼXilinx社のFPGAであるSpartan6で構成さ開発した A/D 変換器は分解能 16bit、入力電圧範囲±れていて、外部トリガ入力により、Ch1 から Ch16 まで

2.5V、最大サンプリング周波数 470Hz などの基本性能

順次切り替えることを繰り返します。本装置の 16ch に同を有し、内部回路の機能選択は外部のマイコンなどからじサイン波を入力し、順次切り替えによりサイン波が正し

SPI通信で設定可能です。現在、基本的な性能の確認が完く繋がって出力されることが確認できました。現在、切り了し、SD カードへの記録や小型化、Au 電極との接続な替え周波数の向上や伝送経路の改良などを行っています。

どを設計・検討中です。

発表報告2014 年度の研究会発表は以下のとおりです。

第10回情報技術研究会（九州工業大学） 「ARM マイコンと高分解能 A/D 変換器を用いた汎用計測システムの開発」 豊田 朋範

分子科学研究所技術課報告 20145

2014 年度ハイライト

光技術班
担当施設：
極端紫外光研究施設（UVSOR）
http://www.uvsor.ims.ac.jp/

分子制御レーザー開発研究センター
http://groups.ims.ac.jp/organization/LC/

光技術班は極端紫外光研究施設（UVSOR）と分子制御《レーザー技術支援》

レーザー開発研究センターに所属する技術職員 8 名によっ分子制御レーザー開発研究センターに所属する技術職て構成されています。主な業務は放射光の供給支援、利用員はセンター所有の共通機器管理やセンターに関わる業務

支援、レーザー技術支援です。

全般を担当しながら、光分子科学研究領域や UVSOR の研《放射光供給支援》究グループに対してレーザー関連の技術支援を行っていま安定したシンクロトロン光を供給するための加速器の運転、管理、保守を主な業務としています。コヒーレント

す。また、凝縮系におけるコヒーレント制御を目指した計測システムをはじめ、各種開発業務も行っています。

シンクロトロン光発生・自由電子レーザー実験などの光源開発研究の技術支援も行っています。真空技術・制御技術・維持管理技術などが要求されます。

2014 年度活動報告
2014 年 6 月

機構技術研究会

6月

職場体験（豊田市上郷中学生 1 名）

7月

受け入れ研修（富山大学技術職員 2 名）

8月

加速器学会参加（青森市）

きるように維持、保守、改良、開発、技術支援を主な業務

9月

総合技術研究会参加（札幌市）

としています。共同利用ビームラインにおいては各担当者

10 月《放射光利用支援》
シンクロトロン光を利用し、質の高い観測実験に関与で職場体験（岡崎市福岡中学生 2 名）がユーザ実験の世話を行い、スムーズに実験が行われるよ11 月

うにサービスを提供しています。真空技術・制御技術・放2015 年 1 月

射光ビームライン光学技術・低温技術・機器設計技術など

3月

第 10 回情報技術研究会参加（飯塚市）

3月

技術課セミナー開催が必要とされます。

報 告

UVSOR シンポジウム 2014 参加
放射光学会参加（草津市）

職場体験受け入れ
自然放射線量測定結果

2014 年度は、6 月に豊田市上郷中学校から１名、10 月には岡崎市福岡中学校から２名の計 3 名の中学生を職場体験として受け入れました。6 月の職場体験では、ガラス板への金属蒸着による鏡の作成を体験しました。ガラス窓の付いた真空容器にガラス板をセットして、フランジを閉めた後に真空ポンプを作動させて真空にした状態で金属を抵抗加熱して蒸発させ、ガラス板の表面に金属膜が生成される過程を観察しました。10 月の職場体験では、放射線測定器を使用していろいろな場所の自然放射線量を測定しました。ばらつきを小さくするために 10 回測定して平均値を求めました。

6

分子科学研究所技術課報告 2014

測定した場所

測定値（Sv/h）

部屋の中央

0 . 036

エレベーターホール

0 . 057

階段の踊り場0 . 061

２階の渡り廊下0 . 031

アスファルトの上

0 . 051

調整池の水上0 . 020

スタッフ Information
堀米 利夫

HORIGOME, Toshio

蓮本 正美

HASUMOTO, Masami

山崎潤一郎

YAMAZAKI, Junichiro

酒井 雅弘

SAKAI, Masahiro

林

憲志

HAYASHI, Kenji

近藤 直範

KONDO, Naonori

手島 史綱

YESHIMA, Fumitsuna

岡野 泰彬

OKANO, Yasuaki

禿子

徹成* TOKUSHI, Tetsuzyou

林

健一 * HAYASHI, Kenichi

水口 あき * MINAGUCHI, Aki* 技術支援員

TOPICS2013 年度末〜 2014 年度春期に実施した電子蓄積リング高度化改造
2014 年 3 月に行われたビームライン BL5U の一新工事に伴い、当ライン
で長年自由電子レーザー開発用に併用されてきたヘリカルアンジュレータを更に輝度向上のために、磁気回路を光クライストロン型磁石配列から通常アンジュレータ型磁石配列に変更し、ビームライン BL5U 専用とし運用を開始した。本更新以外にも B4 〜 B5 セクションの加速機器改造も合わせて実施した。 技術レポート P. 34 山崎

更新後のビームライン BL5U

加速器室監視ロボットに向けて加速器室監視ロボットはシンクロトロン室や電子蓄積リング内など人が運転中に入ることができない場所を監視し、加速器の運転を止めることなく異常発生の有無などを判断できるよ
うにするためのものである。このロボットは Wi-Fi 対応のネットワークカメラを搭載しており、12V のバッテリーで自走し、LabVIEW で作成したプログラムによってノート PC で遠隔操作することができる。 技術レポート P. 37 林
試験運転風景UVSOR の真空インターロックの現状と課題
今年度は新規に建設されたビームライン BL5U で PLC を用いた真空インターロックシステムを作成した。そして今は来年度に建設される BL1U の真空インターロックシステム作成の準備をしている。約 9 年間で作成した 6 本のビームラインのシステムのまとめと今後の課題について述べる。 技術レポート P.39 近藤

イオン・NEG ポンプの再活性化
イオンポンプと NEG ポンプを組み合わせた小型で高排気速度の NEXTorr ポンプをビームライン BL1B で使用していたが、正常に稼動していないようだったので詳しく調べた結果、コントローラーに設定不備と動作不良がある
ことが分かった。 技術レポート P. 41 手島

NEG ポンプの特徴と使用する時に注意すべきこと

技術レポート P.44 蓮本

平成 22 年度まで BL1B の分光器で使用していた NEG ポンプを、テスト用の真空容器に取り付けて調べて分かったことや、NEG ポンプの性能を十分に発揮するために知っておくべき特徴と使用時に注意すべきことが分かった。

分子科学研究所技術課報告 20147

2014 年度ハイライト

機器利用
技術班
担当施設：機器センター
http://ic.ims.ac.jp/

機器利用技術班の技術職員は機器センターに配属され、セ（２）磁気・物性

ESR、SQUID、単結晶 X 線回折装置、ンターの所有する装置の維持管理、利用者の受入・測定支援

粉末 X 線回折装置、15T 超伝導磁石付希釈冷凍機等の業務を行っています。機器利用技術班は平成 25 年度に

（３）
分子分光

低温技術班と合併されて、現在の機器利用技術班となりまし

ザー、高感度蛍光分光光度計、顕微ラマン分光装置、円二た。また、機器センターとは分子スケールナノサイエンスセ

色性分散計、可視紫外分光光度計、赤外分光計、各種小型ンターと分子制御レーザー開発研究センターの汎用機器が統機器合されて平成 19 年 4 月に発足した研究施設で、所全体にお（４）寒剤供給 液体ヘリウム供給装置、液体窒素供給装置

いて共通で利用する NMR や ESR 等の汎用測定装置を有して※最新情報は http://ic.ims.ac.jp/ をご覧ください。

ナノ秒およびピコ秒パルス光波長可変レー

います。更には、新たに低温冷媒の供給施設も加わり、充実

また、2007 年度よりスタートしたプロジェクト「大学した研究支援体制を構築することが出来ました。これらの設連携研究設備ネットワーク」の全国事務局としての業務も備、所内はもとより、所外からも「施設利用」「協力研究」

行っています。このプロジェクトは全国の大学の所有するの形で利用されています。装置によっては元素分析等の様に、各種汎用測定設備を相互に利用することで設備の有効活用

所内限定ですが依頼測定を受け付けている装置もあります。

を目指すものでコンピューターネットワークを利用した設機器センターの所有する設備は（1）化学分析、（2）磁気・

備の予約システムを構築しています。
さらに、機器センターでは、明大寺地区および山手地

物性、（3）分子分光、（4）寒剤供給、に大別出来、それぞれ以下の様な設備を備えています。

区において液体窒素・液体ヘリウムの供給を行っていま（１）化学分析 NMR（400、500（平成 26 年度末で廃止）、

す。両地区の寒剤供給体制は統合的に確立されており、非600、800、920MHz）、質量分析計（MALDI - TOF-MS）、

常に使いやすいものとなっているのが特徴です。明大寺地

有機微量元素分析装置、蛍光 X 線分析装置、熱分析装置

区においては、平成 25 年度の寒剤供給量は、液体ヘリウ

コラム

機器センターホームページ リニューアル

H26 年度より機器センターホームページ担当になりました。ちょうど分子研のホームページも一新された頃だったので、勉強も兼ねてデザインを一新することにしました。基調色は機器センターたより表紙にも使われている「緑」。統一性を持たせようと
分子研、UVSOR から拝借した CSS を読み解いて何とか雰囲気は似せました。10 年以上前からサークル等でホームページに関わることは度々ありますが、毎回、私自身の感性が古いなぁと感じます。今はフラットデザイン（グラデーションやドロップシャ
ドウなどの 3D 装飾を利用しないフラットなデザイン）が流行りらしいです。余計な装飾がないため、デザインの時代感を排除でき、表示速度も向上し、タブレットやスマートフォンとの相性も良いようです。Windows8 のタイル状のスタート画面もその実例ですが、個人的にはまだまだ馴染めないでいます。機器センターのホームページでもフラットデザインを取り入れようと試みましたが、良く分からなくなりました……。フラットデザインはさておき、内容的には分かりやすくなり一段落したはずでしたが、H27 年度よりナノプラット室が機器センターへ統合され、機器センター公開設備はすべてナノプラットを通じての利用となるので、内容的にも修正する必要がでてきました。分かりやすく見やすいホームページになるよう検討中です。

8

分子科学研究所技術課報告 2014（藤原 基靖）

スタッフ Information
高山 敬史

TAKAYAMA, Takashi

水川 哲徳

MIZUKAWA, Tetsunori

岡野 芳則

OKANO, Yoshinori

上田

UEDA, Tadashi

正

牧田 誠二

MAKITA, Seiji

藤原 基靖

FUJIWARA, Motoyasu

長尾 春代 *NAGAO, Haruyo* 技術支援員

ム 42,355 ℓ、液体窒素 23,336 ℓ、山手地区においては、
液体ヘリウム 14 , 072 ℓ、液体窒素 28 , 697 ℓをそれぞ徴となっています。
各職員の活動報告を掲載しましたので、詳細は別枠の報告書をご覧ください。

れ供給しています。
両地区ともに、寒剤の供給システムは完全に自動化されており、初心者でも簡単操作で取り扱う事が出来るのが特TOPICS

共同利用装置ピコ秒レーザーを用いた微細加工への取り組み （担当：上田 正）
機器センターでは、分光実験用光源としてピコ秒レーザーを所有しています。ピコ
秒レーザーは時間分解能とエネルギー分解能の両方において高い分解能が得られるという特徴を有し、その意味において優れた分光実験用光源です。また、極端に短いピ
コ秒のパルス幅であることは同時にピークパワーが極めて高く、近年、精密微細加工用のツールとして広く応用されるようになってきています。その極めて高いピークパ
ワーによって、多光子吸収で電子を励起させ分子レベルで結合を分解できるため、熱影響が少なくデブリが少ない精密な微細加工を実現することができます。そこで、当センターの分光実験用ピコ秒レーザーを用いて、レーザー微細加工機の開発に取り組んでいます。なお、本テーマは、装置開発室の提案によって、共同で加工機開発を進めています。

技術レポート P. 48 上田

液体ヘリウム容器の予冷検証実験 （担当：高山 敬史）
機器センターでは、液体ヘリウム製造装置を保有しており、寒剤の供給業務も担っております。室温状態に戻った液体ヘリウム
容器はそのままでは使用することができません。そのような容器に液体ヘリウムを充填する際は、液体窒素で予冷する方法・超低温の冷却窒素ガスで予冷する方法およびまったく予冷しない方法があます。それぞれの予冷方法で液体ヘリウムを充填した時に、使用する液体ヘリウムの総量・充填に要する時間・充填後に蒸発した液体ヘリウムの量などにどのような違いが生じるのか検証しました。今回、新たに冷却窒素ガスで予冷する方法を考案しましたので、その方法についても詳しく紹介します。

技術レポート P.51 高山

分子科学研究所技術課報告 20149

2014 年度ハイライト

計算科学
技術班
担当施設：計算科学研究センター
https://ccportal.ims.ac.jp/

計算科学技術班は、計算科学研究を支える HPC（High

岡崎情報ネットワーク管理室業務

Performance Computer）や研究活動に不可欠な ICT

自然科学研究機構岡崎キャンパス全体の情報ネットワー（Information and Communication Technology）機器

クインフラの運用管理を行っている当室において、SINETの運営およびソフトウェア開発を始めとして、システムのや民間プロバイダ等の外部ネットワークとの接続、Firewall

立案、調査、分析、研究に携わる情報工学系技術集団であを始めとしたセキュリティ管理や対策、情報通信サービス

り、現在 6 名の班員によって構成されています。主な業務などの整備およびコンテンツ提供環境の運用、ネットワー

を以下に示します。

ク網管理に関わるソフトウェア開発などを行っています。

計算科学研究センター業務

分子科学研究所ネットワーク業務

岡崎共通研究施設である本センターでは、分子科学に

分子科学研究所職員の情報通信に関する相談や調査のとどまらず、生理学、基礎生物学にも開かれた計算科学研窓口となり、情報通信サービスの運営管理を始めとして、究の共同利用に供している HPC の管理・運用を主軸としTV 会議やビデオ配信の様な応用技術への積極的な取り組て、ハードウェア環境およびオペレーションシステム、ミみなど、コンピュータと情報通信に関わる幅広い技術支援

ドルウェア等のソフトウェア環境における技術調査、アプを行っています。また共同利用研として重要なサービスでリケーションのプログラミング、チューニング、ライブラ

ある共同利用申請を Web で行うためのソフトウェア開発

リ、可視化、
通信ツール等のソフトウェア開発や支援を行っ

や、技術課の活動として技術職員の研鑽の場でもある技術ています。

研究会報告集のデータベース開発、所内情報提供サービスへの支援なども行っています。

スパコン節電対策

TOPICS

本年度のトピックは、3 つあります。1 番目は、節電対策です。本年度初頭に消費増税及び電気代値上げが行われ、その結果請求単価が 18.7% も高騰しました。本センターで運用しているスパコンを含めた年間電気代は昨年度実績で約 1 億円だったことから、今年度も同等に電気を利用すれば単純に 2000 万円増額されることになります。そこで昨年度から行っている消費電力削減対策の検討を今年度も引き続き強力に推進してきました。
そのうちの１つは、外気温が設定以上になると自動的に空調機の室外機に撒水を行うシステムの開発です。その状
況と効果について、本誌技術レポートをご覧ください。 技術レポート P.54 松尾
またサーバルームの湿度に着目し、節電効果の高い気化式加湿器の導入と高湿度の方が節電に有効である点について、今年度の総合技術研究会で報告していますので、こちらもご参照頂ければ幸いです。これ以外には、サーバルームの床下の冷気がサーバラックの底から大量に漏れていたことから、サーバ前面へ吹き上げる冷気量が減少していた点への対策としてサーバラック用底板を作成、設置しています。最後に、消費電力量を分析した結果、1 つ

10

分子科学研究所技術課報告 2014

スタッフ Information（前列左から）澤

昌孝

SAWA, Masataka

長屋 貴量

NAGAYA, Takakazu

水谷 文保

MIZUTANI, Fumiyasu

内藤 茂樹

NAITO, Shigeki

岩橋 建輔

IWAHASHI, Kensuke

松尾 純一

MATSUO, Junichiのサーバルームに設置している冷媒レヒート型空調機が、他方サーバルームに新導入したインバータ型に比べ、同
じ冷房能力で倍の電力を消費していることが判明したため、必要最少の 5 台の空調機を更新しました。上部集合写
真の背景の機器が更新後の空調機です。空調機更新前の時点で 9.4% の消費電力削減を達成したことから、今年度の増額は 7.5% 以下に抑えられそうです。今後は空調更新効果でさらに 10% 程度の削減を期待しています。

スパコンの更新
2 番目のトピックは、スパコンの更新です。2 セットあるクラスタのうちの 1 セットを、最新の CPU（Intel Xeon[Haswell]）を搭載したノードに入れ替えました。1 ノードあたりの理論演算性能比で 3.1 倍、クラスタ全体の理論演算性能比で 2.2 倍増強しました。CPU あたりの core
数は 1.8 倍に増えていますが、CPU 総数は 0.7 倍と減っており、TDP
が 1.1 倍に増加した点を考慮しても消費電力量削減が期待できそうです。この CPU から AVX2 命令が増え、積和演算レジスタが追加されています。これらの新機能を使わなければ、性能向上は見込めないことから、ライブラリの再構築等も行ってきています。

電子メールセキュリティ対策

サーバラック内のコンピュータだけを新しい物と入れ替えています。配線等はそのまま利用する予定でしたが、本体側の電源ケーブルのコネ
クタ規格が代わってしまったため、電源ケーブ
ルを全部張り替える作業が余分に発生しました。

最後のトピックは、セキュリティに関することです。今年も新たな脆弱性への対応に追われました。昨年度に引き続き、本年度も計算科学研究センターが運用するマシンで発生しましたが、本年度の原因は、運用を監視する
仮想マシンの設定ミスに起因する事象で、従来型のサーバを攻撃することでそのサーバを不正利用した事例でした。
しかし昨年度の原因は、電子メール等を利用しているPCクライアント側を攻撃して情報を入手することによりサーバを不正利用した事象で発生していました。この様な事例を再発させないためには、サーバ側の設定だけでなく、PC クライアント側の環境を見直すなどの対策について継続的な検討が必要です。その対策の 1 つとして、各自で対応すべき電子メールの取り扱いについて、本誌技術レポートをご覧ください。 技術レポート P.56 内藤2014 年度発表一覧 2014 年 9 月に開催された北海道大学総合技術研究会で以下の発表をしました。
水谷

文保

サーバルームへの気化式加湿器の導入

岩橋建輔

Selenium IDE を用いたウェブサイトの更新

澤昌孝

技術研究会講演の複数方式によるライブ配信

松尾純一

TWE-Lite DIP を使った環境測定ネットワークの構築

分子科学研究所技術課報告 201411

2014 年度ハイライト

学術支援班
スタッフ Information
内山 功一

UCHIYAMA, Koichi

賣市 幹大

URUICHI, Mikio

原田 美幸

HARADA, Miyuki

担当施設：研究所全般、広報室、研究室

学術支援班は 3 名の技術職員が日々研究所をソフト面よりサポートしています。

研究所共通業務
学術支援班二係はこれまで安全衛生管理室の技術職員 1
名が所属する部署でしたが、2014 年 3 月末日をもってそ広報室の技術職員が退官されたため空き部署となっておりました。

広く一般の方々に分子研の研究活動や役割を分かり易

この部署を同年 7 月から、研究所の特定部署に属さない共く伝えることの重要性が益々増加しています。このような通業務に従事する部署として再編しました。これまで共通

広報活動を進める組織として、分子研には広報室が設置さ業務は、技術課長がその都度技術課職員から人員を割いてれており、技術職員が 1 名配置されています。主な業務内行ってきましたが、専任職員を配置することにより所内の容は以下のとおりです。

さまざまな要望に迅速に対応できるようになりました。

情報発信：プレスリリース、分子研ホームページ運営、展示会出展等

業務内容は、研究所の職員が利用する大判プリンターなど共用機器や備品の管理、研究所主催イベントの人員配備、各種作成：出版物、ポスター・ホームページ等

研究室や実験室など建物の改修、メンテナンスに関する業

その他：見学対応、写真撮影等

務などを行っています。これらの業務を通して、研究所の前号にも書きましたが、2014 年 4 月に分子研 HP をリ

職員が快適に仕事できるよう環境整備を行っています。

ニューアルし 1 年ほどが経ちました。ブログタイプになっ研究室たため、更新は派遣職員にかなり任せられるようになり、

学術支援班では様々なテーマで各大学との共同研究・協管理は随分楽になりました。ただ情報発信の向上はまだま

力研究を行い、大学共同利用機関として分子研の果たすべだ発展途上で引き続きの課題となります。

き役割を担っております。分子研・研究室では赤外およびラマン分光装置、Ｘ線結晶構造解析、磁性測定など、一つの大学や研究室ではすべてを負担するのが困難な機器を相互に補完して利用に供することで多くの研究者達の物性解
明につながる研究をサポートしております。さらに平成
２４年度よりナノテクノロジープラットフォーム事業が始まり、上で挙げた装置以外も支援要素として機器センターから移行しております。機器センターとナノプラットの有機的な運用により、分野領域を超えて若い研究者達がそれまで触れたことのない測定機器や分析法に対する知見を広げる役も果たしております。それによって得られた成果は国内外での学会で発表されております。

12

分子科学研究所技術課報告 2014

平成26年度の技術課について
技術課長

鈴井

光一

技術課は技術業務の分野に応じて７つの技術班を設けています。本誌「かなえ」は平成 26 年度の各班の業務実施の状況や成果等を報告していますが、ここでは各技術班や研究施設ごとの技術レポートではなく、技術課として実施した主な活動を報告します。また、研究所の共通的な業務も技術職員が協力しながら担っており、その部分についても併せて紹介します。

各種技術研究会への参加

技術課セミナー

大学や研究機関の技術職員が主体となって企画し開催す

技術職員研修の一環で実施している「技術課セミナー」

る技術研究会・研修会は近年多くの大学および研究機関では、今年度は放射光利用技術をテーマとしました。２年前開催され、その内容は専門分野の学会とは違い、研究・教にも放射光ビームライン技術をテーマに開催しており、そ育支援の中での技術開発やその現場での技術諸課題に対すの際は光を特定の波長に切り出す分光技術に着目しました。

る解決策など、広い分野に渡って技術職員が活動している

今回は切り出した後の光をどのように使い試料を分析する

事が話し合われています。分子研でも同じように技術課がかという利用技術の方に焦点をあてることとしました。所

主催して開催する研究会として研究所創設の頃から実施し

外から 5 名、所内から 1 名の講師を招き、なるべく平易なてきた「技術研究会」があります。この研究会は現在、大解説で他の分野の技術職員にも理解できる内容での講演と学と研究機関が持ち回りで開催となっており、平成 26 年

なるようお願いしています。光技術班以外の班や所外から度は北海道大学主催で開催されました。その他に自然科学の参加も多く、有意義な交流が図れたのではないかと思い研究機構内で技術職員による研究会として法人化以降に実ます。

施している「機構技術研究会」があります。これら技術研

技術課セミナー「放射光利用技術最前線」

究会への参加状況について以下に示します。
機構技術研究会（岡崎コンファレンスセンター）

平成 26 年 6 月 19 日〜 20 日
■口頭発表 4 件
1. リソグラフィを中心とした微細加工支援の紹介
2. 分子研 750MeV 電子蓄積リングにおける現在までの高度化改造について
3. 岡崎 3 機関における情報セキュリティの強化
4. 分光実験用ピコ秒レーザーを用いたレーザー加工への取組み
北海道大学総合技術研究会（北海道大学）

平成 26 年 9 月 4 日〜 5 日■口頭発表 2 件
1. 高磁場超伝導線材の引張歪印加機構プローブの開発
2. 技術職員が携わる広報「高輝度放射光を用いた軟 X 線分光計測の最前線」
為則雄祐 副主席研究員（高輝度光科学研究センター SPring-8）「固体の発光・励起スペクトル測定とエリプソ測定 - 定量性を意識して -」福井一俊 教授（福井大学 工学研究科）「UVSOR BL5U におけるスピン分解 - 角度分解光電子分光」
田中清尚 准教授（分子科学研究所 極端紫外光研究施設）「DMD を用いたマスクレス露光技術とその応用」
足立純一 講師、田中宏和 技師（高エネルギー加速器研究機構）「X 線自由電子レーザー実験の X 線イメージング検出器」
初井宇記 チームリーダー（理化学研究所 SACLA）

分子科学研究所 2014 年度技術課セミナー

放射光利用技術
最前線
開催日
会 場

2015年

3月9日

月 13:30 〜

聴講料：無料

事前申込：不要

岡崎コンファレンスセンター小会議室（愛知県岡崎市明大寺町字伝馬８−１）

主催

分子科学研究所 技術課

講演内容「高輝度放射光を用いた軟 X 線分光計測の最前線」
為則 雄祐（高輝度光科学研究センター SPring-8）「固体の発光・励起スペクトル測定とエリプソ測定―定量性を意識して―」福井 一俊（福井大学）

会場案内
東岡崎駅

「X 線自由電子レーザー実験の X 線イメージング検出器」
初井 宇記（理化学研究所 SACLA）■お問い合せ／分子科学研究所 UVSOR

林 憲志

TEL: 0564-55-7401

E-mail: h-kenji@ims.ac.jp

六所神社
案内板

岡崎コンファレンス
センター（会場）

自然科学研究機構

分子科学研究所

至豊橋「PF リングにおける時間分解計測のための基盤整備―軟 X 線パルスセレクターの開発―」
足立 純一・田中 宏和（高エネルギー加速器研究機構 PF）

線
本
屋
古
名
鉄
名

UVSOR

「UVSOR BL5U におけるスピン分解 - 角度分解光電子分光」
田中 清尚（分子科学研究所 UVSOR）

至名古屋■ポスター発表 9 件
1. アウトリーチ活動における光速測定体験
2. 低真空電界放射分析走査電子顕微鏡の紹介―X 線分析装置を中心に―
3. サーバルームへの気化式加湿器の導入
4. 技術研究会講演の複数方式によるライブ配信
5. Selenium IDE を用いたウェブサイトの更新
6. 室温状態に戻った液体ヘリウム容器の予冷検証
7. Raspberry Pi による A-D 変換システム
8. TWE-Lite DIP を使った環境測定ネットワークの構築
9. 窒化ニオブマイクロパターンをもつ高圧アンビルの製作

開催日：平成 27 年 3 月 9 日（月）岡崎高

■名鉄名古屋本線東岡崎駅下車 、南（改札出て左側）に徒歩約 10 分、
または名鉄バス⑪番乗り場から竜美丘循環で岡崎高校前下車徒歩2 分
外来者用の駐車場がございませんので、公共交通機関をご利用ください。

https://www.ims.ac.jp/research/seminar/2015/01/22_3090.html

分子科学研究所技術課報告 201413

4 校程度まで受け入れ、研究所での体験学習を技術職員が

技術職員研修等

対応することにしています。平成 26 年度の状況を下記に

受入研修

示します。

全国の大学や研究機関の技術職員を受け入れ、技術課の職員と互いの技術向上および交流を目的として、平成 26

労働安全衛生

年度は 1 件の受入研修を実施しました。

法人化以降には研究所の安全衛生に関して実務を行う

受入研修については全国の大学・高専・大学共同利用機

ための安全衛生管理室が設置されています。そこには専任

関の技術職員に向けて、それぞれの専門技術について実施の教員と事務支援員が配置されていますが技術職員は所属しています。この研修は受入側の分子研技術課職員に対ししていません。しかし、安全衛生管理業務の実際の執行にても研修となるよう、相互の課題解決型の企画に重点を置

は化学物質、放射線、高圧ガス、電気、機械といった数名いています。

の専門の技術職員が安全衛生管理室の兼任メンバーとして

所

属

氏

名古屋大学

名

工藤哲也

内

実務を行っています。平成 26 年度からは毎週の所内巡視

容

加工技術の効率化に関する研修に輪番制でほとんどの技術職員が携わることとしました。
これによって各技術職員が安全に対する知識および安全意

その他の研修識の向上が図られています。

平成 26 年度の技術課の職員は研修として、前述した研究会等以外に「東海・北陸地区国立大学法人等技術職員合研究環境の整備

同研修」にも参加しています。また、奨励研究（科研費）

技術課は分子科学研究に関する直接的支援や、研究施設の採択、所長奨励研究費（所内制度）による研究活動で必の管理・運用に関係した技術的支援を担う役割の他に、事要とされる専門技術について、他機関や民間が開催する講務方との協力体制で研究所の業務を行う事が多くあります。

習会等へ参加し、技術の研鑽に努めています。詳しくは本平成 26 年度も研究室・実験室の研究環境整備や、インフ誌の技術レポート等を参照して下さい。

ラの老朽化改善のための多くの改修工事が生じました。この様な整備事業には施設建築の事務部署が大きく関係しま

共通支援業務すが、技術課も研究所マネジメント業務の 1 つとして深く

中学生の職場体験学習

関わり取り組んでいます。

職場体験学習は

平成 26 年度は前年度末からの積み残しで 4 つの研究室

文部科学省でも学校の整備を年度当初から開始し各方面の調整を行い早期に実教育の活動として推験研究が開始できるようにと進めてきました。また、分子奨しており、分子研

研は 27 年度には創設 40 年目となります。創設当初の建も体験先の事業所と物群も、かなり老朽化が進んでいることから順次改修整備

して協力しています。

を行っていますが、実験室や研究室も研究活動を停止させ

毎年多くの岡崎市をないよう移転計画や移転先の準備など教員や事務職員と緊中心とした中学校から受入希望が寄せられ、技術課は年間密な連携で進めています。

表
日

程

受入学校

平成 26 年度職場体験受入状況
担当部門 / 施設内

6 / 10 〜 6/11

豊田市立上郷中学校

8/6〜8/7

岡崎市立竜海中学校

計算センター
機器センター

コンピュータネットワークを敷いてみよう。
光の実験と極低温の世界を体験。

10 / 8 〜 10 / 9岡崎市立東海中学校

装置開発室（電子回路）
計算センター

簡易デジタル・アンプ回路の製作と動作試験。
コンピュータネットワークを敷いてみよう。

10 / 22 〜 10 / 23

岡崎市立福岡中学校

装置開発室（機器開発）
UVSOR

リソグラフィーによる微細加工を体験しよう。
光を作る、自然界の放射線を測定する。

11 / 17 〜 11 / 18

岡崎市立美川中学校

技術課

いろいろな実験を体験してみよう。

14

分子科学研究所技術課報告 2014

光を作る、鏡を作る。
極低温実験ほか。

容

UVSOR
機器センターその他技術課に関すること施設）とまったく無関係に進めることはできません。技術

技術課の班は研究所の研究施設とほぼ一致するように有し各技術班をまとめて行くことが重要な役割の 1 つと感

構成しています。本誌の各技術班の紹介には研究施設とそじています。これを踏まえて平成 26 年度の中頃から各施の業務について詳しく記述されているのでご理解いただけ

設長と技術課長との会合を現在は不定期ですが持つことをると思います。その研究施設ごとの技術班（技術職員）を始めました。そこでは研究施設運営や技術課の運営、施設ひとまとめにしているのが技術課となりますが、研究支援

間の技術職員の関わりなど技術職員に関係した総合的な情としての定型業務、技術開発、課題解決といった技術職員

報交換が行われます。今後は、各技術班がさらに他の技術の業務は、所属する技術班つまり研究施設が主体となりま班との係わりを深めて相乗効果が生れる場面が出てくるかす。各技術職員は研究施設の方針や将来計画などに沿ってもしれませんので期待して頂きたいと思います。

課としてはこの研究施設ごとの状況をより深く施設間で共日々業務を遂行しますが、実務の上では他の技術班（研究コラム

視点を変える
昨年 11 月に埼玉の「ものつくり大学」で放電加工に関する研究会に出席した際に、「もしドラ」（※１）でブー
ムになったあの P.F. ドラッカーのマネジメント論に関する講演を聞く機会を得た。その講演ではマネジメントの具体的手法というよりはマネジメント論の基礎「人が幸せに生きられるような社会はどうあるべきか」というドラッカーの根源となる考え方が大半で、これにはいたく感銘した。
さて、ここでは講演でも話された「イノベーション」について紹介してみようと思う。
技術屋は「イノベーション」と聞くと生産や技術の革新として捉えがちだが、本来の意味
はもっと幅広く、新しい発想から社会的意義のある価値を創造することなのだ。ビジネス
本によく出る、エスキモーに冷蔵庫を販売する逸話がある。電器メーカーの営業が顧客であるアラスカのエスキモーに冷蔵庫を売ってこいと命令される。エスキモーは屋外に天然の冷蔵庫を持っているようなもので、そんなところで電気冷蔵庫など売れるわけがない、と営業マンは頭を抱えた。そう思い込むのも当然だ。しかし、顧客の状況をマーケティン
グしてみたら、何でもかんでも凍ってしまう極寒の地では食材を「適度な温度で保存できる箱」として冷蔵庫が機能する事を見出した。営業マンが早速セールスすると「これで真冬でもいつも通りの食生活がおくれる！」と、顧客も喜び爆発的に売れたという例である。冷蔵庫の機能を従来の概念から外れて新機軸を打ち出し新しい市場を開拓したこと、これもイノベーションだと言う。
ここでポイントの 1 つは既成概念から視点を少し変える、ということじゃないだろうか。本誌 2013 年版のこの紙面で、技術課には変革が必要と言った。まだ今でも言い続けているが、それには小さなイノベーショ
ンでも構わない、切り口を変えて新たな創造という意識が重要なのだ。私を含め技術課の皆さんも日々の技術
業務や自身の置かれている状況に少し見方を変えてみて、新しいアイデアでもってイノベーションを起こす気持ちを持って頂ければと思う。

※１

もしドラ：

「もしも高校野球の女子マネージャーがドラッカーの「マネジメント」を読んだら」という小説（2009）の略称。
ダメ野球部員の意識改革をして甲子園を目指すストーリー。日本でのドラッカーブームの火付け役となる。

分子科学研究所技術課報告 201415

技術レポート
機器開発技術班
チタン酸ストロンチウム基板曲げプローブの設計・製作

近藤

聖彦

17

SiN メンブレンへの位置出し用格子パターンの製作

高田

紀子

19

NMR プローブ用スリーブの製作

水谷

伸雄

21

走査トンネル顕微鏡（STM）用クロム探針の製作

矢野

隆行

23

メカトロニクスセクションにおける基盤技術について

青山

正樹

25

コラム

装置開発室に移動して

中野

27

路子

電子機器開発技術班
2 チャンネル高速ディレイ・パルサーの製作

吉田

久史

28

DDS と ARM マイコンを用いた TTL レベル出力パルスジェネレータの開発

豊田

朋範

30

回転セル制御装置の製作

内山

功一

32

2013 年度末〜 2014 年春期に実施した電子蓄積リング高度化
改造について
加速器室監視ロボットに向けて

山崎潤一郎

34

林

憲志

37

UVSOR の真空インターロックの現状と課題

近藤

直範

39

イオン・NEG ポンプの再活性化

手島

史綱

41

NEG ポンプの特徴と使用する時に注意すべきこと

蓮本

正美

44

第 28 回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウムへの発表参加報告 山崎 潤一郎
技術課を去る――柔軟性を忘れないで―― 堀米 利夫
光学キットの活用 岡野 泰彬

36
43
43

真空チャンバー内にあった粉末の元素分析

47

光技術班

コラム

酒井

雅弘

機器利用技術班
共同利用装置ピコ秒レーザーを用いた微細加工への取り組み

上田

正

48

液体ヘリウム容器の予冷検証実験

高山

敬史

51

コラム

機器センター（山手地区）の新体制について

牧田

53

誠二

53

山手地区液体窒素供給システムの不具合（雨天限定） 水川 哲徳「大学連携研究設備ネットワーク研究成果報告会」に参加

岡野

53

芳則

計算科学技術班
空調機室外機に散水する

松尾

純一

54

電子メールのセキュリティ

内藤

茂樹

56

コラム

ライブラリーアプリケーション

岩橋

学術ネットワーク更新と所内外ネットワーク通信量予測
今年度の活動

長屋

59

建輔
澤

59

昌孝

59

貴量

学術支援班
ラマン分光法による電子状態の研究
コラム

16

開放的なオフィス整備 内山 功一

分子科学研究所技術課報告 2014

売市

幹大

60
61

技術レポート 機器開発技術班

ࢳࢱࣥ㓟ࢫࢺࣟࣥࢳ࣒࢘ᇶᯈ᭤ࡆࣉ࣮ࣟࣈࡢタィ࣭〇సࢳࢱࣥ㓟ࢫࢺࣟࣥࢳ࣒࢘ᇶᯈ᭤ࡆࣉ࣮ࣟࣈࡢタィ࣭〇స

チタン酸ストロンチウム基板曲げプローブの
設計・製作
近藤

聖彦 機器開発技術二係

キーワード：有機 FET、曲げひずみ、極低温

1．はじめにる。これまで樹脂製の基板をひずませる装置はあったが、私たちの身の回りにあるデジタル回路のスイッチン

STO のような硬い基板にひずみを印加する機構を備えたグ素子などに使用される電界効果トランジスタ（Field

プローブはなく、これを開発する必要があったため、設計・

Eﬀect Transistor：FET) は図 1（a）に示すように、チャ製作を行った。

ネル（水路）上にソース（水源）とドレイン（排水口）がࢺ ࣟ ࣥ ࢳ ࢘あり、絶縁体の上にゲート（水門）がある構造となってい࣒ᇶᯈ᭤ࡆࣉ࣮ࣟࣈࡢタィ࣭〇స
る。このゲートに電圧を印加することで、図 1(b) に示す
ようにソースからドレインに電子が流れ、あたかも水門が開き水路に水が流れるような現象が起こる。これは、ゲー
トに電圧を印加することにより絶縁体が帯電し、チャネル
内の自由電子が界面に引き寄せられることで電子が移動し

図2

有機 FET の模式図᭤ࡆࣉ࣮ࣟࣈࡢタィ࣭〇స
やすくなるためである。

㟁Ꮚࡢ⛣ື᪉ྥ
D 㟁 ᅽ 2))図1

E 㟁 ᅽ 21

FET の概念図

このようにゲートを ON-OFF することで電子の流れを制御する仕組みを利用して、分子研の協奏分子システム研究センターでは図 2 に示すようなゲートにチタン酸ストロ

図3

PPMS の外観

2．STO 基板のたわみ量測定
有機 FET の STO 基板にひずみを印加するために、基板

ンチウム基板（以後、STO 基板と呼ぶ）、チャネルに有機を曲げる手法を採用した。STO基板（15×3×ｔ0. 3mm）

物、絶縁体にアルミナを使用した有機 FET を作製していの曲げ方法は、図 4 に示す曲げブロックの基板固定溝にる。この FET を極低温まで温度を下げた状態におき、ゲーSTO 基板を固定した後、曲げ発生軸を下方に移動させてトに電圧をかけると、絶縁物であった有機物が超伝導状態行った。使用した曲げ機構は、曲げブロック、リンクバー、に転移し、その内部で電気が流れることが世界で初めて明ガイドプレート、曲げ発生軸から構成されている。このらかとされた。また、同様のデバイスをフレキシブル基板

発生軸と曲げブロックは 2 本のリンクバーで連結している。

上に製作し、ひずみを与えることでも、電子の流れを制御

これらの接続にはヒンジピンを使用しており、このピンが、できることもわかった。このように、極低温下で基板にガイドプレートに設けた曲率ガイドに沿って移動するので、ひずみを印加したときの電気特性を測定するのに、図 3 に曲げブロックの板バネに曲げモーメントが作用し、板バネ

示す Quantum Design 社の物理特性測定装置（Physicalの曲がり方に応じて、STO 基板が下方凹形状に曲がる構

Properties Measurement System：PPMS）を使用す造となっている。このように基板に曲げ荷重が印加される分子科学研究所技術課報告 201417

技術レポート 機器開発技術班

す直動機構部から構成されている。曲げ機構部は図 9 に示

ことでひずみが発生する。
この機構を用いて STO 基板がどの程度曲がるかにつす曲げユニットが着脱できる構造とすることで、有機 FET

いて実測を行った。STO 基板のたわみ量測定には、図の交換作業並びに配線作業が容易に行えるように設計した。

5 に示す Z 軸方向の分解能 1nm の非接触 3 次元測定機

また、曲げユニットとプローブ本体の接続は市販されてい

NH-3SP を使用した。測定結果から最大 8m 程度のたわるソケットピンを利用した。このユニットの曲げ発生軸はみまで、STO 基板を曲げることが可能であることがわかっ

図 8(b) に示すアクチェエータ軸に固定したステンレス製

た。測定結果を図 6 に示す。このたわみ量は STO 基板のパイプに M2 ボルトで接続する。これにより、曲げ発生軸断面形状 0.3 × 3mm に 20N 程度の力を作用させたときはアクチェエータ軸の動きと連動する。使用したアクチェのひずみ量に相当する。

エータは分解能 20nm、最大移動速度 0.3mm/s、位置決め精度 0.01mm であるため、微小速度で移動量を制御することができる。
STO 基板の曲げ量を評価するのに、極低温環境において定評のあるひずみゲージを曲げブロックの板バネに接着して使用する。このひずみゲージの出力は微量であるので、製作したインスツルメンテーションアンプに接続し、増幅した出力値を PC モニタ上で確認できる設計となっている。

図4

曲げ機構

図7

図5

プローブの全体図

たわみ量測定の様子㒊D ᭤ࡆᶵᵓ㒊

図8
図6

たわみ量測定結果

3．STO 基板曲げプローブの設計
PPMS のボア内に挿入するため、プローブの外形状は
25mm 以下で設計する必要があった。また、PPMS の挿入口からプローブ先端までの長さは 0.9m 程度となるので、図 7 に示すように全長は 1.1 ｍ程度となった。
設計したプローブは図 8(a) に示す曲げ機構部と (b) に示

18

分子科学研究所技術課報告 2014E ┤ືᶵᵓ㒊

プローブの各部

図9

曲げユニット

4．おわりにPPMS に装着した状態で、有機 FET の STO 基板に曲げひずみを印加できるプローブの設計を行った。これにより、極低温下での基板にひずみを印加した時の電気特性を評価することができる。
現在は、部品加工が終了しており、今後組み立て作業を行う。組立て完了後、PPMS に装着して極低温下において動作試験を行う予定である。

技術レポート 機器開発技術班

SiN メンブレンへの位置出し用格子パターンの製作
高田

紀子 機器開発技術二係

㻿㼕㻺 䝯䞁䝤䝺䞁䜈䛾఩⨨ ฟ 䛧⏝ ᱁ Ꮚ 䝟䝍䞊䞁䛾〇 స 㻌
キーワード：SiN
メンブレン、リバーサルレジスト、リフトオフ
㻿㼕㻺 䝯䞁䝤䝺䞁䜈䛾఩
⨨ ฟ⨨
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䝟䝍䞊䞁䛾〇స㻌 స㻌㻿㼕㻺 䝯䞁䝤䝺䞁䜈䛾఩ฟ᱁䛧⏝Ꮚ 䝟䝍䞊䞁䛾〇
䛿䛨䜑䛻㻌

AͲA

はじめに

Sit0.625mm

10mm
A

䛿 䛨 䜑䛿
䛻ナノテクノロジープラットフォームを通して名古屋大㻌 䜑䛻㻌䛨SiN（チッ化シリコン）メンブレン上に、微細な白金格子

2mm

(a)

10mm

2mm

学から依頼を受けたもので、厚さ 100 nm と非常に薄いパターンをフォトリソグラフィで製作したので報告する。
SiN メンブレンチップの構造を図 1(a) に示す。チップA
SiN䝯䞁䝤䝺䞁 t100nm

全体の大きさは□ 10 mm、厚さ 0 . 625 mm で、中央部分に□ 2 mm の範囲で厚さ 100 nm の SiN メンブレンが保持されている。これは、放射光を用いた顕微 XAFS
（X-ray Absorption Fine Structure）測定で使用するも(b)

ので、SiN メンブレン上に分散させた触媒粒子を探すため〇 స ᕤの目印として、線幅⛬㻌5 m、間隔 100 m の格子パターン（図 1（b））を製作した。

〇 స ᕤ〇⛬స㻌 ᕤ ⛬ 㻌

製作工程
製作工程を図 2(a) に示す。まず始めに、メンブレン上にフォトレジストで格子パターンを製作し、その上に白金を成膜、最後レジストを除去することで白金のパターンを

図1(a) SiN メンブレンチップ（NTT AT）(b) □ 2 mm の SiN メンブレン上に製作した格子パターン

得るリフトオフ法を用いた。今回の製作の中で一番の問題

超音波洗浄を行うことができなかった。そこで、より緩や点は、メンブレンの厚さが薄いため壊れやすい点であった。

かな条件でのレジストの除去が期待できるイメージリバー

特に、レジストを除去する工程でこれまで超音波洗浄を

サルフォトレジスト（以下、リバーサルレジスト）を使用行ってきたが、メンブレンが破壊されるため、本製作ではして製作を試みた。

(a)

㻔㼍 㻕
(b)

㻌
㻌
㻌㻌
㻌 㻔㼎 㻕㻌㻌㻌
図 2 リフトオフの工程
㻌(a)
通常のフォトレジスト（ポジ型）を使用した場合(b) リバーサルレジストを使用した場合
䝸 䝞 䞊 䝃㻌 䝹 䝺 䝆 䝇 䝖 䛾 ᮲ ௳ ᳨ ウ 㻌
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䝸䝞
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分子科学研究所技術課報告 201419

技術レポート 機器開発技術班

リバーサルレジストの条件検討が影響すると考えられ、これら 2 つのパラメーターのバラ

リバーサルレジストは、断面形状が逆テーパーになるこンスが重要なようである。ベーク温度 120℃におけるレとから成膜材料がレジストパターンの側面に回り込みにくジストの断面形状を、SEM で観察した結果を図 5 に示す。

く、そのためリフトオフに適したレジストとして市販され露光量によってレジストパターンの寸法や形状が変わるこている（図 3）。製作工程は、「③パターンの露光」後、「④とが確認できる。露光量が高くなるほど角が丸くなっておベーク」と「⑤全面露光」の工程が追加される（図 2(b)）。

り、そのためリフトオフがしにくくなることが予想される。

ベークにより露光部のみが架橋されることから、次の「⑤全面露光」と「⑥現像」を経ることで、パターン形状でレ

SiN メンブレンチップへのパターニング

ジストが残るネガ型の構造が得られる。リバーサルレジス

SiN メンブレン上に製作した格子パターンの光学顕微鏡

トを使用するにあたってまずは、断面形状への影響が大き画像を図 6 に示す。超音波洗浄を行わずに、0.5 m 程度

いとされる「③パターンの露光」量と「④ベーク」の温度の寸法精度で格子パターンを製作することができた。

の検討をシリコン基板を用いて行った。それぞれの条件でレジストパターンを製作後、白金を成膜し、最後は 50℃

おわりに程度に加熱したレジストリムーバー液中で緩やかに振とう

今回の実験から、リバーサルレジストを使用することですることで、レジストの除去を試みた。加熱したレジスト

超音波洗浄を行わずにリフトオフを行うことができた。こリムーバー液に浸けてから 20 分後の顕微鏡画像を図 4 にのことから、壊れやすい基板上へのパターニングや、密着䝤 䝺 䞁 䝏まとめた。いくつかの条件できれいにリフトオフを行うこ䝑䝥䜈䛾䝟䝍䞊䝙䞁䜾㻌性の弱い成膜材料でのリフトオフへの応用が期待できる。

とができたが、その中でも特にレジストが除去されるまでの時間が短く、かつ寸法精度がよかった条件（パターンの2

露光量 20㻿mJ/cm℃）を、SiN㼕 㻺 䝯 䞁 䝤、ベークの温度䝺 䞁 䝏 䝑 䝥 䜈 䛾120䝟䝍䞊䝙䞁䜾㻌 メ謝辞
白金を成膜する際スパッタ装置を使用させていただいた、分子科学研究所 協奏分子システム研究センター

ンブレンへの製作に適用することとした。

㻿㼕㻺 䝯䞁䝤䝺䞁䝏䝑䝥䜈䛾䝟䝍䞊䝙䞁䜾㻌
リフトオフのしやすさには、パターンの露光量やベーク㻿㼕㻺 䝯䞁䝤䝺䞁䝏䝑䝥䜈䛾䝟䝍䞊䝙䞁䜾㻌

本浩史教授に紙面を借りてお礼申し上げます。

の温度によるレジストの架橋の程度、そして断面形状

㻌
㻌
㻌
㻌
㻌
図 3 ポジ型レジストとリバーサルレジストの断面形状の違いとリフトオフへの影響ᯝ
図4

リバーサルレジストの条件検討の結果

㻌
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図5 レジスト断面形状のSEM画像（ベーク温度120℃の時）
㻌
㻌㻌
䛚䜟䜚䛻㻌
〇స
㻌㻌
㻌㻌
図 6 SiN メンブレン上に製作した白金格子パターン䛚㻌 䜟 䜚 䛻 㻌

㻌

㻌
㻌
ㅰ㎡㻌
2014
20 䛚分子科学研究所技術課報告䜟䜚䛻㻌山

技術レポート 機器開発技術班

NMR プローブ用スリーブの製作
水谷伸雄 機器開発技術一係

キーワード：スリーブ、旋削加工、ビビリ

はじめに

スリーブは全長 540mm 外径 39.0mm 内径 38.0mm

物質分子科学研究領域 分子機能研究部門 西村勝之准教( 肉厚 0.5mm) で、幅 4mm のフランジ接合部分のみ外径

授は、機器センター所有で実験棟 119 号室に設置してあ39.7mm( 肉厚 0.85mm) とした。ちなみに、フランジ

る Bruker 社製 AVANCE600 分光器に山手地区で使用しは、外径 53.5mm 厚さ 4.5mm である。スリーブは、素ていた JEOL 社製 ECA600 分光器用固体 NMR H-X 二重材として真鍮パイプ（外径 40mm、内径 38mm、肉厚

共鳴 4mmMAS プローブが使用できるように改造を行っ1mm）が、依頼者より提供され内径はそのままで外径のみてきた。そのためにはプローブの外径を細くし全長を短く

旋削加工した後、側面に直径 20mm の穴と M2 ねじ用のする等の改造の必要があり、その他の構成部品についても

皿ザグリ加工を行った。フランジのハンダ付け作業は、プ製作し直さなければならなかった。装置開発室では、これ

ローブ本体との整合性を確認しながら西村准教授が行った。

1

ら改造に必要な部品の製作を行ってきたが、今回は、外装スリーブの製作について紹介する。

冶具の製作
全 長 540mm の ス リ ー ブ を 加 工 す る た め に、 全 長

スリーブとフランジ
図１、図２に製作した 2 組のスリーブとフランジを示す。

765mm 直径 40mm のアルミ合金製の冶具を製作した
（図３）。

図1

スリーブ（540 × 39.0 × 0.5t）

図3

加工冶具全景図2

スリーブとフランジ（53.5 × 4.5t）

図4冶具先端部分

分子科学研究所技術課報告 201421

技術レポート 機器開発技術班

図の左奥の部分を旋盤に固定し、真鍮パイプをはめ込
むために右手前から 615 mm の所まで直径 38mm の段（図７）フライス盤で 20mm の穴あけと M2 ねじ用ザグ
リ穴の割振り加工をして完成した。

付加工を行った。なお、先端部分には、はめ込んだ真鍮パあらかじめ長めのパイプを用意し、あえて端部の肉厚をイプを固定するためのねじ加工が施してあり、真鍮製の残しておいたのは、切削により肉厚が薄くなったときにパ押しねじによって軸方向に圧縮力を加え固定される。図イプを固定するためのねじの締付け圧力で端部がつぶれて４は、冶具先端部分と真鍮パイプを固定する際のアルミしまう事を防ぐためでありフランジ接合部分の肉厚を厚め製サポートリングと押しねじを示す（奥の部品は、パイに残したのもこのためである。

プ端面や穴あけ加工用の冶具）。幅 10mm のアルミ製サ
ポートリングは、片側 5mm を真鍮パイプ内径に隙間無くはめ込む事でパイプ切削時に端面がつぶれたり変形したりするのを防いだ。サポートリングの外径は真鍮パイプ切
削時に共に直径 39.7mm まで削った（図５）。サポート
リングを挿入した側がフランジの接合部分になり、その後、幅 4mm のフランジ接合部分を残し、それ以外は、直径  39.0mm( 肉厚 0.5mm) まで削り込んだ。
図6

図5

ビビリ痕とうねり模様

サポートリングの挿入

スリーブ加工真 鍮 パ イ プ は、 長 さ 1000mm の 素 材 か ら、 真 円

図7

全長 540 mm で突っ切り仕上げとする

度、直進性共にできるだけ良好な部分を仕上げ寸法より30mm 長い 570mm に切り出して使用したが、それでもおわりにアルミ合金製冶具とのはめ合いでは場所により僅かな隙間今回製作したスリーブの長さは、装置開発室の所有するができ回転させると振れとなって現れた。はじめに、フラ旋盤では加工限界に相当し、パイプを着脱する際には芯押ンジ接合部分を直径 39.7mm で切削した時もフランジ台を外す必要があった（図８）。また、長年の使用による接合部分以外の場所では大きく削られる部分と全く削られ

主軸ベアリングの傷みにより、切削時には細かい振動が発ない部分ができた。２回目の切削は、切込み量を 0.2mm

生する。この振動もビビリ痕やうねり模様の一因と考えらとしたが不均一な切削状態と材料が細長いこともあり切削れる。老朽化による振動の発生や精度低下は避けられない

面にはビビリ痕とうねり模様が残った。ちなみに、図 6 にが、今後も加工方法や冶具等を工夫して製作依頼に対応し示すようにアルミ合金製冶具製作時はスリーブ製作時に比て行きたい。

べ主軸回転数が速く切込量も多かったためビビリ痕やうね
り模様がより顕著に現れていた。このため、３回目のスリーブ切削時は、切込み量 0.1mm、送り速度 0.14mm/
rev、回転数 155rpm で行ったが、完全にビビリを無くす事はできず切削中は手でパイプの振動を押えていなければならなかった。仕上げ切削となる４回目は、切込み量
0.05mm、送り速度 0.07mm/rev、回転数 118rpm で行ったが、パイプの中央付近では振動を押える必要があった。直径を仕上げた後に全長 540 mm の位置で突っ切り

22

分子科学研究所技術課報告 2014

図8

作業風景

技術レポート 機器開発技術班

走査トンネル顕微鏡 (STM) 用クロム探針の製作
矢野隆行 機器開発技術一係

キーワード：測定 , 顕微鏡 , 材料㉮ᰝࢺࣥࢿࣝ㢧ᚤ㙾 670 ⏝ࢡ࣒ࣟ᥈㔪ࡢ〇స㉮ᰝࢺࣥࢿࣝ㢧ᚤ㙾 6702mol/l⏝ࢡ࣒ࣟ᥈㔪ࡢ〇స
の水酸化ナトリウム水溶液を使用して、電極のはじめに

本課題は、物質分子科学研究領域電子構造部門の研究グ

陽極側にこの Cr の角材を陰極側に SUS304 のリング電極

ループから依頼のあったもので、このグループが走査トンを使用した。水酸化ナトリウム水溶液面から Cr 材の先端

ネル顕微鏡（以下、STM）で観察する際使用しているタンが 2mm 浸るようにした後、電圧を 10V かけ、電流値がグステン針の代わりにクロムの針を用いて測定したいとの1mA になるまで Cr 材を溶液中に沈める。電流値が 1mA要望があり製作したものである。

になったところで Cr 材を引き上げ、水、エタノールの順
で 2 回洗浄を行った。

探針についてSTM についてここで詳しく説明しないが、簡単に言えば、先端の尖った探針を使用することで物質の表面構造を非接製作した探針製作した Cr 製探針の先端形状と拡大を図 2 に示す。

触で観察するものである。さらにこの探針を強磁性体や反強磁性体にすることで、物質表面構造と共にスピンの方向も測定できることがわかっている。この探針は、それぞれの薄膜をコーティングすることで実現しているようである
が、今回純度 99.99% 以上の Cr 材から直接探針を製作することになった。
材料としてのクロムは、流通量も少なく、入手できる形
状やサイズも多くはないので、板材（1 × 20 × 20mm）

図2製作した Cr 探針

Ver. 1

か ら 1mm ず つ ワ イ ヤ 放 電 加 工 機 で 切 り 出 し、 □ 1 ×
20mm の角材にして、依頼者に提供した。

写真のように先端が尖らず、比較的円弧の大きい先端形状になってしまった。これでは、STM の探針としては使探針の製作方法

用できないため、改良を行った。

図１に探針製作の模式図を示す。

対策としては、製作工程の水酸化ナトリウム溶液に浸す前の段階に着目した。□ 1 × 20mm の角材になっている Cr を形彫放電加工機の電極成形モードを使用して、
 0.8 × 20mm の丸棒に成形し、その後前述した探針の製作工程を施して試作した。
角材を円柱状にしたことで、水酸化ナトリウム溶液に浸した後の形状が鋭利な先端となった。先端形状を図 3 に示す。さらにその先端を拡大したものを図 4 に示す。
図 4 の中央部に細長い針形状を確認できた。さらに拡大して観察したところ、70 × 300nm 程度の針形状をしているようなので、探針に利用できると考えられる。

図1

探針製作の模式図

分子科学研究所技術課報告 201423

技術レポート 機器開発技術班

Cr 材切断時における問題

切断方向によって折れやすさに差があった。

この探針を角柱に切断する手段として、ワイヤ放電加工

今回の材料組織観察から黒く線状に見るものが結晶粒機による切断を選択した。しかし、依頼者から提供してい界で欠損と考えるのであれば、サンプル１はその密度が粗ただいた時期によって、加工途中で Cr 材が折れてしまうであり、サンプル２は密であることがわかる。サンプル 2

ことがあった。結晶の方位等が関係することも考慮したが、で製作した Cr 角材に加工中、折れが多かったことを考え

Cr の精製法が粉末冶金法だと考えられるので、判断基準

ると、この結晶粒界が原因の一端であると考えられる。その一つとして、ロットの異なる Cr 材の材料組織観察を行のため、できれば加工前に端材で材料組織観察を行ってかうことにした。

ら、切断加工に移行することが望ましい。

今 回 腐 食 液 に は、STM 探 針 を 製 作 す る 時 に 用 い た
2 mol/l の水酸化ナトリウム溶液を使用した。したがってまとめ

試料製作方法も探針を製作したときの方法を応用している。

今回、コーティングではなく純度 99.99% 以上の Cr か電極の陽極側には 1 × 3 × 3 mm のクロムを、陰極側にはら STM 用の探針を製作した。最後に示したナノオーダー

SUS304 材のリングを使用した。電極には、初めの 30 秒

レベルの針形状は、Cr 材から角材を切り出す時の方向には、電圧 6V、電流 0.5A を印加し、その後 30 秒間、電よって出現する方向に違いがある可能性があることまでは

圧 1V、電流 0.005A を印加した。

確認した。しかし現在のところその要因について追究してロットの異なる 2 種類の Cr 材の腐食前の状態と腐食後の状態を図 5、6 に示す。

いないため、これについては今後の課題である。現在、この探針を利用した研究は中断されているが、今後同じような工作依頼があった場合の貴重な経験となった。

結果と考察
図 5 のサンプル 1 は最初に支給され材料で比較的折れな
かったものであり、図 6 のサンプル 2 は 2 度目に支給された材料で折れが多かったものである。どちらのサンプルも
図 5 サンプル 1（1000 倍）（左：処理前 右：処理後）

図3試作した Cr 探針 Ver.2


図 6 サンプル 2（1000 倍）（左：処理前 右：処理後）

図424Cr 探針 Ver.2 拡大

分子科学研究所技術課報告 2014

技術レポート 機器開発技術班

メカトロニクスセクションにおける基盤技術について青山

正樹 機器開発技術班

キーワード：マイクロ加工、微細加工

はじめに

リアクターは、NC フライス盤による機械加工で、脆性破装置開発室メカトロニクスセクションでは、研究所創壊を生じないような工具回転数や送り速度など、加工条設当時から数多くの装置製作に携わることにより、特徴的

件を模索し、耐熱ガラスに溝幅 100m の Y 字型流路の加な基盤技術が蓄積されてきた。極端紫外光施設で利用され工を実現した。
（b）のハステロイ製マイクロミキサーは、る超高真空容器、分光器および真空装置内でのマニュピュ専用のマイクロ加工用の加工装置を自作して製作効率をレーション機構など、超高真空機器の製作に関連した技術、高めた。（c）の分子線速度選別ディスクは、 70m ワイ

低温装置の製作に必要となるロウ付け、TIG 溶接、電子ビー

ヤーによる放電加工で製作した。放電加工はアーク放電にム溶接などの接合技術、分子線スキマーの製作に代表されより材料を溶融させながら加工するため、細かな形状部でるような高度な機械工作技術などが、研究者の要求に応えは熱歪による変形が生じる。各部の熱影響が同じ条件になる形で蓄積されてきた。近年では、ナノテクノロジーや微るように加工経路および加工プログラム、また固定ジグな細加工技術などの未成熟な技術分野や、設計作業の効率化

どの工夫により高精度な製作を実現している。（４）の高のための解析技術などに重点技術を向けて、メカトロニク

圧実験用セルの微細配線溝は、フェムト秒レーザーによりスセクションの新たな基盤技術の構築に向けて取り組みを加工した。セル素材のインコネル材に適切な条件でビーム行っている。

照射を行うことで、熱影響の少ないアブレーション加工を実現した。レーザー加工装置は装置開発室では保有していマイクロ加工および超精密加工技術についてないが、所内からの微細加工の要求が多くあったため、企マイクロ加工は、「一般的な工作機械による微細形状の業のオープンラボを利用し加工を試みてきた。現在は、所

加工技術」と位置付けて、おもにサブミリサイズの形状が内で保有している分光実験用で使用するピコ秒レーザーを、必要とされる工作技術の高度化を行ってきた。このサイズ

レーザー加工装置として加工用に光学配置し、金属板だけの加工は、半導体プロセスでは加工領域が大きく効率が悪でなく、ガラスなどの透明材料に対する微細加工も試みてい。一方、機械加工では工作機械の限界能力に近く簡単でいる。

はない。我々はこれまで蓄積してきた工作技術に、加工条

超精密加工は、数 nm の駆動分解能をもつ超精密加工機

件や工程、さらに加工環境などに注意を払うことでこれらと単結晶ダイヤモンド工具を使って、形状および表面精度の製作要求に応えてきた。図 1（a）のガラス製マイクロをナノレベルで加工することが可能である。図 2（a）は

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(a) ガラス製マイクロリアクター(b) ハステロイ製マイクロミキサー
図1(c) 分子線速度選別ディスク(d) 高圧実験用セルへの微細溝加工

マイクロ加工による製作例

分子科学研究所技術課報告 201425

技術レポート 機器開発技術班

理化学研究所が所有している超精密加工機を利用して製作

め、有限要素法解析を取り入れることを推進している。図した。高さ 200m の微小なピラミッド状の突起構造のバ3(a) は単分子電気伝導度測定装置の設計では重量制限がイオセンサー基板用の金型である。
（b）は現在試作してあったため、より軽く剛性が高い支柱構造設計の検討に適いる MgF2 の非球面レンズで、クラックのない平滑な加用した。(b) の超伝導電子銃用フォトカソードプラグの設工表面を得られる条件を模索検討している。（c）はアル

計では、弾性並行ヒンジ構造によるサンプル保持機構を適

ミ製の IPES 用楕円面鏡で、表面粗さ Ra5.8nm の鏡面が用し、構造解析により板バネ構造部の最適形状を検討した。

得られている。このようなナノレベルの平滑性を必要とす(c) のマイクロフォーカス加工観察ユニットでは、観察用る加工を通じて、素材特性や加工時の切削力や振動およびCCD カメラへのベーキング時の熱影響が懸念されたため、発熱などの加工精度への影響など精密加工技術に関する貴伝熱解析を実施した。また (d) のマイクロ流路ミキサーで重なノウハウが蓄積された。

は、3 方向からの溶液の混合シミュレーションなどに適用した。

リソグラフィ技術について
機械工作技術を基軸としたマイクロ加工を進めていく

おわりに過程で、より微細形状が必要な製作要求を受け、重点技術「新規な装置の開発」、「部品類の迅速な製作」という装をリソグラフィにも向けてきた。図 2（a）に示す PDMS

置開発室の二つの役割に加えて、研究現場の需要に応じたマイクロ流路ミキサーは、タンパク質の構造変化を調べる「新しい製作技術・支援技術への対応」も重要と考えている。

ために 2 液の瞬間的な混合に使用される。SU- ８レジスト

また新しい技術だけでなく、これまで蓄積してきた基盤技の流路パターンに PDMS をモールディングし、酸素プラ術の伝承も必要であり、限られた人数での厳しい状況ではズマ処理により PDMS とガラスを接着して流路を形成さあるが、研究現場の声を聞き入れながらより充実した支援

せた。(b) の高周波共鳴高圧実験用アンビルは、高圧環境体制を確立していければと思っている。

下における金属試料の特性実験のために使用される。アル

装置開発室では、製作の端緒から完成までを一貫して一ミナ製のアンビル上には窒化ニオブを成膜し、リフトオフ

人の技術職員が携わることにしている。これは、設計 - 製

によりミアンダパターンを製作した。(c) の有機結晶作製

作 - 組立調整 - 測定さらには研究者と装置を用いて性能テ

用石英ガラス電解セルは、深さ 3 m の電解槽をウェットストまでを一人の技術職員が担当することにより、全体をエッチングによって製作し、スパッタリングとリフトオフ

正しく見通せる能力を養い、総合力のある技術者となるこによって白金電極をパターニングした。その他にも、顕微とが大切との考えからである。効率的な仕事の進め方では

XAFS 測定用 SiN メンブレン上への白金格子パターン、特ないが、そのことが他機関では見られない総合的な高い技

殊な顕微鏡下で細胞を観察するために使用されるガラス製

術力を有する工作室として認知されているものと自負してウェルなど、さまざまな研究分野からの製作依頼があり、いる。

着実に装置開発室の新しい基盤技術の一つとなっている。

現在、施設利用や製作依頼を申し込まれた方に対して、完了後に利用者アンケートをお送りしている。是非忌憚の解析技術についてないご意見を頂くとともに、今後ともご理解とご協力をお実験装置の設計作業の効率化および最適化を図るた(a) ホットエンボス用精密金型(b)MgF2 非球面レンズ
図226

分子科学研究所技術課報告 2014

願いしたい。

超精密加工による製作例(c)IPES 用楕円面

(a)PDMS マイクロ流路ミキサー(b) 高周波共鳴高圧実験用アンビルセル
図3(a) 単分子電気伝導度測定装置

リソグラフィによる実験機器の製作例(b) 超伝導電子銃用
フォトカソードプラグ
図4コラム(c) 有機結晶作製用電解セル(c) マイクロフォーカス加工
観察ユニット(d) マイクロ流路ミキサー

解析事例

装置開発室に移動して機器開発技術二班

中野路子

7 月に機器センターから装置開発室に異動しました。分子研に就職以来ずっと NMR とともに過ごしてきましたが、自分の成長を求めて異動を希望し、今回新しいことにチャレンジする機会をいただきました。
山手にいた私にとって明大寺は会議に来るだけの場所でしたが、毎日を明大寺で過ごしてみて初めて、秋の紅葉が赤や黄色のグラデーションでとても美しいことを発見しました。うれしくなって晴れた日に散歩をしてしまったほどです。
仕事としては、リソグラフィによる微細加工を担当させていただくことになり、実践の依頼製作の中でリソグラフィの技術を教えていただいています。最初はクリーンウェアを着てクリーンルーム、しかもイエローの空間に居ることに、少々の閉塞感を感じましたが、いつのまにかそんなことも忘れていました。リソグラフィの実験に必要な繊細さが私には少々足りないことを感じつつも、出来上がった数㎛のパターンは美しく、私に達成感を与えてくれます。同じ目線で製作品の完成を喜んだり、失敗の原因を考えたりできる人がいることも、今楽しいと感じるところです。
またリソグラフィだけでなく、CAD に始まり機械工作や真空技術など、先輩方の技術を少しずつ教えていただける予定なので、皆さんからそれぞれの技術を少しずつおすそ分けしていただければなと思っています。装置開発室全体でも技術の共有・伝承が増えることで、機械工作技術とリソグラフィ技術を組み合わせて、より多様な研究者の要望に応えることができ、それは他の工作室にはない装置開発室の強みになるのではないかと思います。依頼製作に必要な治具や装置があると、「作っときました」とか「じゃあ作りましょう」と言われることにまだ驚きを隠せませんが、ものづくりの楽しさと可能性も感じています。私のメモリーはすでに容量オーバーと表示がでていますが、あれもこれもやってみたいと気軽に言えるのは新人の特権だと思いますので、新人らしく皆様に迷惑もかけつつ、いろいろ教わって成長していきたいと思います。初めてのことばかりで１つ１つを自分のものにするには相当時間がかかりそうですが、しばらくは修業期間ということで、温かく見守っていただければ幸いです。

分子科学研究所技術課報告 201427

技術レポート 電子機器開発技術班

2 チャンネル高速ディレイ・パルサーの製作
吉田久史 電子機器開発技術班

キーワード：高電圧・高速半導体スイッチ、モノステーブル・マルチバイブレータ、時定数

はじめに高電圧スイッチング素子とパルス発生器の仕様

外部信号に同期した遅延パルスを発生するディレイ・パ

製作したディレイ・パルサーのブロック図を図 1 に示

ルサーは、レーザーを用いた実験装置など外部機器との同す。回路は LCD 表示器とスイッチからなるユーザー・イ

期化のためによく利用されている。ディレイ・パルサーに

ンターフェース、それらの制御と FPGA 内のモジュール求められる性能は、遅延時間の設定範囲と共にトリガー信とのデータ通信を行うマイコン、そして外部水晶クロック号と出力パルス間のジッターが評価されることがある。ディ（48MHz）で動作する FPGA（Spartan-3）で構成されてジタル回路方式によるディレイ・パルサーの場合、原理いる。ディレイ・パルスを生成するためのハードウェアは的にはシステム・クロックの 1 サイクル分のジッターが

全て FPGA 内に製作し、遅延時間とパルス幅の設定および発生する。従って、高精度化するためにはより高い周波

スタート信号をマイコンから与えれば、後は外部トリガー

数のクロックでシステムを動作させる必要がある。近年、信号に同期した遅延パルスを FPGA が出力し続ける。また、

FPGA に代表される LSI の高集積化に伴い、素子の動作周

ブロック図は 1 チャンネル分の回路だけが描かれているが、波数も向上している。ここでは、ザイリンクス社の FPGA

2 チャンネル化に際して二重化したモジュールと信号名を（Spartan-3）を用いてシステム・クロック 200MHz で動

赤い文字で表記した。

作する 2 チャンネルの高速ディレイ・パルサーを製作したので報告する。

ディレイ・パルサーの回路構成は、遅延時間（32 ビット）と出力パルス幅（16 ビット）を計測する 2 つのプリセッタブル・ダウンカウンタを中心に、カウンタへのプリ

図128

分子科学研究所技術課報告 2014

2 チャンネル高速ディレイ・パルサーのブロック図

セット・データをシリアル−パラレル変換し保持するための 2 つのシフトレジスタ、クロックを逓倍しシステム・ク
ロックを生成するためのディジタル・クロック・マネージャ(DCM)、そして 2 つのダウンカウンタをトリガー信号に同期して順番に動作させるためのフリップフロップとゲー
ト回路による制御回路から成っている。

高速動作の検証
FPGA ボードはオンボードに XC3S400-4TQG144 を搭載したヒューマンデータ社の XCM-008-400 を使用した。主な仕様は、システム・ゲート数：400K、CLB：896、ユー
ザ IO：97 とザイリンクス社の FPGA 中でも比較的小規模

図2

ディレイ・パルサーの入出力波形なデバイスである。また、システム・クロックを分数値 M/
D（M=[2...32], D=[1...32]）で逓倍する周波数合成や入力クロックの位相をある割合でシフトさせるなどの高度なクロック制御機能を提供する DCM を内蔵し、今回このモジュールを利用してシステムの動作クロックを生成した。
デバイスのデータシートによれば、CLB のフリップフロッ
プの最大動作周波数は 630MHz となっている。しかしながら、実際の回路は複数の CLB を組み合わせて使うことになり、配線間の信号伝搬遅延などで動作周波数は低下する。

図3

本器の操作パネル

図4

本器の回路基板

本器では 32 ビットのプリセッタブル・ダウンカウンタが一番多くの CLB を利用し、このカウンタの動作周波数が最も重要となるので、このモジュールから設計・シミュレーショ
ン検証・動作試験を開始した。DCM の動作周波数の制限か
ら、試験したクロックの最大値は 240MHz（M=5,D=1）である。結果的に、32 ビットのプリセッタブル・ダウンカ
ウンタは 240MHz のクロックで動作することを確認した。
次に、1 チャンネルのディレイ・パルサー回路を、そして最後に 2 チャンネル化のための回路を増設するというように段階的に回路規模を大きくしつつテストを行った。
最 終 的 に、2 チ ャ ン ネ ル の デ ィ レ イ・ パ ル サ ー はおわりに200MHz のクロックで動作することを確認した。図 2 は、

本 器 の 主 な 仕 様 は、 動 作 ク ロ ッ ク : 200MHz、 遅 延

市販のファンクション・ジェネレータが出力する 1KHz の

時 間 :40 nS 〜 3 S（5nS 刻 み ）、 パ ル ス 幅：10nS 〜

矩形波を本器の外部トリガー入力に加え、2 つのチャンネ

300uS（5nS 刻み）、ジッター :5nS、出力 :TTL レベル、チャルの遅延時間を 0.99997mS、パルス幅を 25nS に設定

ンネル数 : 2 である。開発途中では様々なトラブルが発生

し動作させた時の入出力応答波形である。両出力とも同じし、その都度回路構成の見直しを余儀なくされた。ページ

設定値で動作しているため、2 つの出力パルスはちょうど数の都合により割愛するが、最も苦労した点は 2 つのカウ

重なり合って観測されている。また、オシロのトリガー位

ンタを順序立て繰り返し動作させる制御回路であり、この置は出力パルスの立ち上がりに設定されていて、立ち下が部分の回路構成とタイミング設計には試行錯誤を重ねた。

り位置に観測される上段の波形は外部トリガー信号の 1 周FPGA においては使用するリソースの規模で配線ルートが期分遅れたパルスの立ち上がり部分である。この波形の制限され、システムの動作速度に影響を与える。今後は開幅から本器のジッターは約 5nS となる。これはシステム・発ツールを上手く利用することで、この辺りのタイミング

クロック（200MHz）の 1 周期分に相当する。本器の回設計をもう少し効率的に行えるようにしたいと考えている。

路基板を図 3 に操作パネルの様子を図 4 に示す。

分子科学研究所技術課報告 201429

技術レポート 電子機器開発技術班

DDS と ARM マイコンを用いた TTL レベル
出力パルスジェネレータの開発
豊田朋範 電子機器開発技術係

キーワード：パルスジェネレータ、ARM マイコン、DDS、SPI

なく、ARM マイコンを用いた。これにより、ロータリー

序論
ステッピングモータドライバの駆動や同期信号の発生、エンコーダや液晶ディスプレイなど周辺装置の接続が容易

ディジタル回路の動作試験などでしばしば TTL レベルの発になり、操作性においてもより使いやすいものを製作でき

振器を必要とする。市販のファンクションジェネレータでた。

は「SYNC」と表記された出力端子から取り出せるが、必要な機能に対して価格やサイズの面でやや大仰な感が否め

装置の構成と動作ない。一方、安価で済ませようとして、有名なタイマ IC

装置のブロック図を図 1 に、製作した DDS 発振器回路である NE555 で TTL レベル発振器を構成すると、周波数基板を図 2 に示す。今回は DDS に Analog Devices 社のを抵抗とコンデンサで決定するため周波数の温度依存性がAD9834BRUZ（図 3 左）を用いた。

高くて安定性が低い、周波数可変にするために抵抗をボ

AD9834BRUZ の出力周波数の分解能は、28bit のレ

リュームにすると、一般的なボリュームでは回転量と周波

ジスタ値と動作クロックの周波数で決まる。動作クロッ

数の変化量がリニアでない、回転量と抵抗値がリニアなボ

ク の 最 大 値 は 50MHz で、 そ の 時 の 分 解 能 は 0 . 2 Hz とリュームは高価であるなどの問題点がある。

なる。今回は 1 MHz 水晶発振器を用いたので、分解能は今回、研究グループから、ステッピングモータドライ

1MHz/2 28 ＝ 0.003725Hz となる。

バ駆動用に周波数範囲 5 Hz 〜 2 kHz、分解能 1 Hz という

出力周波数の温度依存性はほぼ水晶発振器の温度依存仕様の TTL レベル出力パルスジェネレータの製作依頼が性である。本装置の周波数安定性は± 0. 0001%、出力あった。周波数の高い安定性並びに操作量に対してリニア

誤差は +0.075%（いずれも 2kHz 出力時）である。

な周波数変化量を実現するために、DDS(Direct Digital

AD9834BRUZ の出力は最大 600mVp-p の差動出力

Synthesizer)方式のICを用いてTTLレベル出力パルスジェのサイン波か三角波 ( レジスタ設定で切り替え可能 ) なの

ネレータを開発した。

で、差動アンプ AD 8130ARZ で 6 倍に増幅した後コンパ

DDS の制御は過去にも報告したが（2010 年）、今回はCPLD（Complex Programmable Logic Device）ではレータ AD8611ARZ で TTL レベルの矩形波に変換して
出力する。

図2
図1

30

開発した TTL レベル出力パルス

分子科学研究所技術課報告 2014

開発した TTL レベル出力パルスジェネレータのDDS 発振器回路基板

DDS の 制 御 は NXP 社 の ARM マ イ コ ン
LPC1114FBD48/302 を 搭 載 し た
aitendo 社のモジュール M-LPC1114F-C（ 図 3 右 ） を 用 い た。M-LPC 1114F-C は
DDS の制御の他、液晶ディスプレイの表示、
ロータリーエンコーダとカーソルスイッチ
並びに出力 ONOFF スイッチの処理、カーソルの移動、カーソルがある桁における周波数値の増減などを行う。

図 3 DDS IC AD9834BRUZ（左）とARM マイコンモジュール M-LPC1114F-C（右）AC 電源の位相制御

コーダを組み合わせることで、市販機器でよく使われている操作方法と同等の機能を実現した。なお、この操作は出ARM マイコンを用いた操作性の向上については、過去

力の ONOFF に依存しない。

にも報告した（2013 年）。今回は複数の操作機構を組み合わせることで、さらなる操作性の向上を図った。

総論と考察

電源投入時の液晶ディスプレイとスイッチ類を図 4 に示す。この時、カーソルは 1 の位の下にある。

DDS を ARM マイコンで制御することで、TTL レベル出

左右のカーソルスイッチを 1 回押すごとに、カーソルは力パルスジェネレータを開発した。ロータリーエンコーダ

左右に 1 つ移動する。カーソルが 1000 の位にある時に左や複数のスイッチを用いることで、直感的で分かりやすく、

カーソルスイッチを押すと、カーソルは 1 の位に移動する。

操作量と周波数値の変化量が直線で微妙な調整がしやすい

逆に、カーソルが 1 の位にある時に右カーソルスイッチを

インターフェースを構築できた。ARM マイコンに処理を押すと、カーソルは 1000 の位に移動する。

集約することで、回路規模を小型化し、バッテリー駆動もロータリーエンコーダを回すと、カーソルがある桁で可能な低消費電力を実現した。

周波数値が回転方向に応じて増減する。たとえば、周波本装置は斬新ではないものの、一般的な実験現場や電子

数 値 が 1000Hz、 カ ー ソ ル 位 置 が 1 の 位 と す る。 ロ ー回路の動作試験に耐えうる性能を有しつつ、手軽に使えてタリーエンコーダを時計回りに回転すると、1001Hz,

場所を取らない、痒いところに手が届くタイプの装置であ1002Hz, ……と増加する。反時計回りに回転すると、る。近年の市販機器は機能を詰め込む傾向が強いが、実験

999Hz, 998Hz, ……と減少する（図 5-1）。

現場に求められる装置は必要な機能を素早く使えるタイプ

次に、周波数値が 1010Hz、カーソル位置が 100 の位

ではなかろうか？

求められる機能を最適な方法で実現すとする。ロータリーエンコーダを時計回りに回転すると、るために、技術者は様々な技術分野に手を伸ばし、開拓を1110Hz, 1210Hz, ……と増加する。反時計回りに回転進める必要性があると考える。

すると、910Hz, 810Hz, ……と減少する（図 5-2）。
このように、左右のカーソルスイッチとロータリーエン

図4

図 5-1

図 5-2

スイッチ類と液晶ディスプレイ

周波数値の調整例 1 1000Hz, カーソル位置は 1 の位

周波数値の調整例 2

101 ０Hz, カーソル位置は 100 の位

分子科学研究所技術課報告 201431

技術レポート 電子機器開発技術班

回転セル制御装置の製作
内山

功一 電子機器開発技術係

キーワード：赤外分光計測、PIC マイコン、シーケンス制御、台形制御

はじめに昨年度、生体分子情報研究部門の古谷グループからの依頼により製作した回転セル制御装置の改良版を、新規に製作してほしいと依頼があった。
（写真 1） 回転セルとは、光受容タンパク質の赤外分光計測に用いる回転型のセルである。この回転セルはサンプルを効率的に利用するため、回転動作だけではなく上下動を組み合わせて動作する。
（写真 2） 以前に製作した制御装置は、2 軸のパルスモータを定速で回転させるだけの単純制御を行う回路であった。
今回製作した装置は、光励起を行う際の外部トリガ入力によりステッピングモータを駆動させ、次のサンプル位置で

写真 1

回転セル制御装置（改良版）

停止するシーケンス制御を行う物である。

制御装置について
回転セル制御装置のブロック図を図 1 に示す。制御装置
は、操作部、表示器、メインコントローラ、ドライバコン
トローラ× 2、モータドライバ× 2、電源× 2 で構成されている。本装置の動作は、手動モード、自動モード、テス
トモードの 3 通りである。手動モードは、回転、上下動そ
れぞれに用意した正転、逆転スイッチを入れることでモータの粗動、微調整を行う。この操作は、操作スイッチを 1

写真 2

回転セル本体回ずつ入れることでモータが 1 ステップずつ進み、スイッ
チを入れ続けることで高速回転する。自動モードは、外部

始、停止信号の外部入力も備えている。表示部は、4 桁入力により、シーケンスの開始、停止を行い、各シーケンの 7 セグメント LED によりシーケンス回数を表示するよ

スは光励起用のレーザーを打ち込むシャッターからのトリ

うになっている。電源は制御系の +5V とモータ駆動用のガ入力により動作する。テストモードは各モータの移動量+24V の 2 種類あり、共にスイッチング電源モジュール

調整、確認のためのモードで、操作部により設定した時間を使用している。モータドライバはオリエンタルモータ

間隔でテスト動作を行う。

製の CRD5107HPB を使用しており、ステッピングモー

次に制御装置各部を説明する。操作部は各モータの 1

タはハーモニックギアにより回転数が 1:100 になっていシーケンス毎の移動量（最大 9999 ステップ、1 ステップる。メインコントローラは操作部からの入力と表示器へ

0. 0072°）とテストモードの時間間隔（1 〜 99 秒）をの出力、ドライバコントローラとの通信を行うため I/O

設定するサムプッシュスイッチ、手動モードの操作用スポートが豊富な PIC16 F877 を使用した。ドライバコン

イッチ、シーケンス開始・テストモード開始・停止スイッ

トローラは、回転と上下動を独立制御するためにそれぞれ

チとなっている。また PC からのリモート制御用に、開PIC16F628 を 1 台ずつ用意した。メインコントローラ

32

分子科学研究所技術課報告 2014

とドライバコントローラは、シリアル通信を用いて動作制

最後に御を行う。設定ステップ数が多い場合は短時間で移動が完

2014 年 7 月 1 日をもちまして、電子機器開発技術班か了するように台形制御を行うが、この制御を PIC のプログ

ら学術支援班第 2 係へ異動となりました。居室も 26 年間

ラムにより実装している。また、手動モードの 1 ステップ

お世話になった装置開発棟から離れ、研究棟 1 階に移動い

移動と、粗動の制御もプログラムで実装している。測定終

たしました。業務内容はこれまでの回路製作とは異なり、了時には、総移動距離（シーケンス回数×設定ステップ数）

施設整備や共通設備の管理などの研究支援を行っておりまを逆回転して原点復帰を行うようになっている。

す。施設整備業務は実験室や居室などの改修工事、空調機修理や雨漏り補修などの営繕作業を施設課や業者などとや性能についてりとりしながら日々進めております。まだまだ覚えること

完 成 し た 制 御 装 置 の 回 転 動 作 は、 動 作 周 波 数 2KHzが多いですが、気持ちを新たに日々の業務に励んで参りま〜 3KHz、設定 500 ステップ時の動作時間 250msec、す。今後とも、ご指導のほどよろしくお願い申し上げます。

2000 ステップ時で約 690msec であった。上下動については、動作周波数 4 KHz 〜 16.6KHz、設定 2000 ス
テップ時の動作時間 500msec、9999 ステップ時で約640msec である。当初、回転セルの重量からくる負荷の方が重く、上下動の動作速度が遅くなると見込んでいたが、結果として回転動作の方が遅くなった。この原因は、セルを水冷するための機構からくる負荷が想定以上だったことに加え、PIC のプログラムで作り出す台形制御の勾配に限界があったためだと考えられる。回転制御について上下動と同程度の速度を出すことができなかったが、外部トリガの間隔はシャッター開閉の時間調整で行うため装置の性能として問題はなかった。

図1

ブロック図

分子科学研究所技術課報告 201433

技術レポート 光技術班

2013 年度末〜 2014 年春期に実施した
電子蓄積リング高度化改造について
山崎

潤一郎

極端紫外光技術二係

キーワード：高調波 Cavity、アンジュレータ、パルス六極電磁石、FEL

ンの進捗状況についても述べる。

はじめに
分子研 UVSOR 施設の光源加速器はこれまで、低エミッタンス化改造やアンジュレータ増設など様々な高度化改造を実施し、2013 年初頭に UVSOR Ⅱから UVSOR Ⅲと改名され順調に稼働を継続している。2013 年度 3 月には2014 年 3 月に実施した電子蓄積リング S 5
長直線部の改造について
2013年3月〜同年4月にB4 〜 B5の長直線部において、

円偏光アンジュレータの高度化およびこれに伴う光源リン

FEL 開発用に併用されてきたヘリカルアンジュレータを現グ S5 直線部の改造を行った。FEL 開発用に併用されてき在の光クライストロン型磁石配列から通常アンジュレータ

た円偏光アンジュレータの磁石配列を、光クライストロン型磁石配列に変更した。これに伴い並行してビームライン型磁石配列から通常アンジュレータ型磁石配列に変更した。

BL5U も一新した。

本報告ではこれら高度化改造について述べる。また光源グ

新 BL5U ビームラインにおいては、下限 13.3eV とす

ループで現在設計・整備を進めている BL1U ビームライ

るエネルギー範囲で水平直線偏光のアンジュレータ基本波

改造前（写真左上）と改造後（写真中上）の電子蓄積リング S5 長直線部とS5 長直線部に設置したパルス六極電磁石入射システム（写真中下、写真右下）

34

分子科学研究所技術課報告 2014

を、下限を 27.7eV とするエネルギー範囲で垂直直線偏排気能力の観点からこの方式を廃止し、新規真空槽には光のアンジュレータ基本波を、また、下限を 21.2eV とNEG ポンプおよび SIP をそれぞれを 2 台ずつ配備し排気系するエネルギー範囲で左右円偏光のアンジュレータ基本の見直しを行った。またトップアップ運転時における蓄積波が要求されるため、磁極間隙最小値を 24mm にする必ビーム振動を抑制するために、2012 年にパルス六極電磁要があり、旧真空槽では 30mm が限界で対応不可のため

石入射システムを構築し、ビーム入射可能なことを確認し新規に製作した。また旧真空槽は NEG モジュール内蔵型

たが、S5 直線部にも同システムを構築した。近日中にビーの Ante-chamber 方式で NEG のみで排気を行っていたが、ム入射試験を行う予定である。

変更前（写真左）と変更後（写真右）の磁気回路

磁気回路変更が完了した円偏光アンジュレータ（写真上）

BL1U 整備計画について

磁気回路変更前と変更後の輝度

更新前（写真上）と更新後（写真下）のビームライン BL 5U

系配置案を上図に示す。FEL 実験においてはこれまでに

当ビームラインにおいては概ね設計を完了させた。建設

199.8 nmn での発振を達成しているが、更なる短波長発は 2015 年度から行う予定である。当ラインでは FEL 実

振も計画している。また 800 nm 〜 500 nm の領域を連験の他に、光渦関連、レーザーコンプトンガンマ線、レー続でカバー可能なワイドバンドミラーの開発も並行して行

ザースライス・CHG・CSR、CHG-CSR 利用、円偏光照

う予定である。次号にてビームライン建設の報告を行う予射および運転用ビーム診断など様々な用途を予定してお定である。

り、FEL 下流側にはビームラインを展開する計画で、光学分子科学研究所技術課報告 201435

技術レポート 光技術班

ビームライン展開用光学系配置案

ビームライン BL1U 概念図

乾燥させ、再度冷却水を通水したところ真空度悪化を抑える

2014 年 4 月に発生した高調波 Cavity の
真空リーク事故についてことが出来たため、この状態で枯らし運転を続行し、今日現2014 年春期の shutdown 作業完了後、ビームによる電子蓄積リングの枯らし運転中に突然高調波 Cavity の真空度悪在まで共同利用に影響することなく運転可能な状態を維持している。これと並行して、水冷電極の予備を現在準備中である。

化が発生し、枯らし運転が不能に陥ったため、B7 〜 B8 直線

真空リーク事故後の高調波 Cavity の真空度推移を図 1 に部を大気開放し、高調波 Cavity 内部を調査した結果、水冷電示す。2014 年 12 月末現在で OFF ビーム時で 5 × 10 -7

極から僅かに冷却水漏水が確認された。応急処置として冷却

Pa、ON ビーム時で 3 × 10 -7 Pa（何れも多バンチ時）で、

水 channel に超高真空対応のリキッドシール剤を圧縮空気でリーク事故前の真空度には回復していない。水冷電極の交循環させて、余分なシール剤を圧縮空気で押し出した後十分換に関しては、2014 年度末までに決断する予定である。

高調波 Cavity の設置位置

コラム

図1

高調波 Cavity 断面図

第 28 回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウムへの参加発表報告山崎潤一郎

毎年 1 月に開催される日本放射光学会年会に今年も発表参加しました。2000 年より
本年会・シンポジウムでの発表を開始し、今年度で 14 回目の発表となりました。今回は2013 年度末から 2014 年春期に実施した円偏光アンジュレータ磁気回路変更およびそれに伴う電子蓄積リング一部改造、高調波 Cavity の真空リーク事故についてポスター発表を行いました。一方、Spring-8、佐賀 LS、PF、あいちシンクロトロン光センター等からの発表も数多くあり、他施設の動向を把握ことが出来ました。また放射光における産業利用の現状と展望に関する講演も行われ、放射光の必要性が再認識できた企画でした。
本年会・シンポジウムへの参加は UVSOR での加速器運転で発生したトラブルの解決方
法や加速器への新技術導入のヒントが数多くあり、毎年欠かせない学会となっています（立命館大学びわこ・くさつキャンパスにて開催）。

36

分子科学研究所技術課報告 2014

真空リーク事故後の高調波
Cavity 真空度の推移

技術レポート 光技術班

加速器室監視ロボットに向けて林

憲志 極端紫外光技術二係
キーワード：ロボティクス、LabVIEW、加速器室監視

ネットポートのみを備えていますがケーブルを引っ張っ

はじめに
２０１４年度所長奨励研究費でナショナルインスツルメて動くのでは実用性はゼロなので、これを Wi-Fi 化します。

ンツ社のロボティクススターターキット（以下、そのハーDaNI 自身は 12V バッテリーで動作しますが、イーサネッ

ドウエア部分の名称である DaNIと呼びます）を購入

トアダプタやネットワークカメラはＡＣアダプタからの電し、加速器室監視自走車のための技術検討をしております

源を必要としますので、これらを当面電池駆動に改造しまので、報告します。このキットは sbRIO と呼ばれるスタした。またカメラを高い位置にマウントするために追加のンドアロンでも実行可能なプロセッサボードにフレームとフレームキットを購入するなど、現実的なところでまずク

車輪動力を加えたもの（自走３輪車）で、プログラミング

リアすべきことが多くありました。組みあがった改造後のソフトウエアLabVIEWのRoboticsオプションの評価キッ

DaNI を図２に示します。

トとなっています（図１）。

図1

DaNI 外観

動機と目的
今回の最終的な目標は、カメラを装備した自走車で（シンクロトロン室や電子蓄積リング内など）人が運転中に入図2

DaNI 改造後ることができない場所を監視し、異常発生の有無などを加使用するプログラミング言語 LabVIEW は、UVSOR の速器運転を止めることなく判断できるようにするための技

分光器制御で最も多く使用されているものです。プログ

術要件を確認することです。後述するように本当の意味でラミングのコードに相当する部分はダイアグラムと呼ばれ、の実用性を持たせることには課題があるので、当面は試験

機能ブロック間をワイヤーでつなぐ形で視覚的に分かりや走行を行うことを目標に進めました。

すくプログラミングを行えることが特徴となっています。
今回使用しているダイアグラムの例を図３に示します。

方法

今回遠隔操作に使用するノートＰＣの画面は最もシン

まず、目となるカメラですが、通常のネットワークカ

プルな構成になっており、何も表示のない LabVIEW のメラ（Wi-Fi 対応）を使用しました。DaNI は有線イーサウィンドウとネットワークカメラの画像ウィンドウから構

分子科学研究所技術課報告 201437

技術レポート 光技術班

成されています（図４）。LabVIEW はノートＰＣのキー

ビューモニターのような機能が備えられるとよいなと思っ

ボード入力を監視しており、たとえばを押すと左にています。本当は、腕のようなものを備えてスイッチ（電曲がるといった形で動作します。画像は LabVIEW を介さ

源ボタンや、リセットスイッチ等）を押せるようにできるずネットワークカメラのアプリ（Ｗｅｂ経由）で取得してとさらに実用性が高くなるのですが、このような質量の軽おります。最後に、試験走行を電子蓄積リング内で行ったい車体ではある程度の慣性力を働かせることは難しいと考時の様子を図５に示します。まだテスト運転に成功した段

えられ、これは将来的な課題としたいと思っております。

A

階で、これから拡張していきたいと思っております。

図3

LabVIEW ダイアグラム例

図5

蓄積リング内での試験運転風景

今後
上述の課題をクリアし、実用性を持たせるための道筋をつけるところまで進めたいと思っております。そうした中で、実際にやってみると本来課題としていたこと以外に色々と考えなければならないことが出てくるのが、難しくもあり面白くもあるところかと思っています。
なお、もともとはスターターキットは LabVIEW（のロボティクスオプション）の習熟のためのものですので、希望される方に試用していただくことで、そうした本来の目的のために役立てていただくこともできるかと思います。
所内の皆様でご興味を持たれましたらお気軽に声をかけていただければ幸いです。
図４．操作画面（上：通常 下：カメラ全画面表示）

謝辞
課題

本件は以前、高エネルギー加速器研究機構 (KEK) の帯名

動き回って映像を送るという所定の動作はするように氏が（ハードウエアは違いますが）同様な目的のものを学（とりあえず）できました。考えられる問題の内、特にス会でデモンストレーションされていたのを目にした記憶がイッチが入っているだけで電源がどんどん消耗していくよ

きっかけになって始めております。この場を借りて感謝申うでは（普段は放っておいて）必要な時に走らせることはし上げたいと思います。

できません。運転中人が入れない場所に普段から待機させておく必要があるからです。これが実用性を持たせるための最大の課題と思っています。また、カメラのみを頼りにして込み入った場所を縫って動くためには車のアラウンド

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分子科学研究所技術課報告 2014

技術レポート 光技術班

UVSOR の真空インターロックの現状と課題
近藤

直範 極端紫外光技術二係

キーワード：真空計、接点、フロントエンドバルブ

はじめに

UVSOR ࡢ┿✵࢖ࣥࢱ࣮ࣟࢵࢡࡢ⌧≧࡜ㄢ㢟
今年度は新規に建設されたビームライン（BL）5Uで

PLC を用いた真空インターロックシステムを作成した。そして今は来年度に建設される BL1 U の真空インターロッ
クシステム作成の準備をしている。約 9 年間で作成した 6本のビームラインのシステムを簡単にまとめ、今後の課題について述べる。
UVSOR では設立当初から各ビームラインに共通の真空
インターロックシステムが設置されていた。これはストレージリングとビームラインを繋ぐ部分（基幹部、出射部）

図1にあるフロントエンドバルブ（および、このバルブと連動

BL 5 U の真空インターロックシステム

するビームシャッター）と出射部の次に配置されているミい（あるいは小さい）ときに開閉する接点を持っている。

ラー（前置鏡）チャンバーの下流に設置されているビーム

この接点を利用してインターロックを作成した。この方式

ラインバルブの 2 つの圧空作動式ゲートバルブ（ニューマは PLC に読み取る情報（PLC への入力）が少なくすむた

ティックバルブ）を制御するシステムである。これより下め、PLC 用ユニットの数も減らせるので費用を抑えること

流にあるバルブはビームライン各々でインターロックを整ができる。シーケンスのプログラム作成も比較的容易にな備していた。新規に真空インターロックを整備する際はる。ただ、真空計の接点とバルブのステータスのログの記

ビームラインバルブ以下を対象とした。フロントエンドバ

録は容易にできるが、圧力値のログを取ることはできない。

ルブは加速器の制御室で監視・制御できる仕様になってい次に作成したのは BL7U のシステムです。ここで使わるので、ビームラインのインターロックには含めなかった。

れている真空計は測定した圧力値を BCD で出力する。そ図 1 に BL 5U の真空インターロックシステムの写真を示のため、PLC に圧力値を読み込むことが可能で、ここでは読み取った圧力値とバルブのステータスを PC に出力しロす。表 1 に真空インターロックシステムの比較を示す。
最初に作成したのは BL3 U です。使用した真空計は圧グを記録している。しかし、真空計から PLC への配線増力のセットポイントを設定でき、設定値が測定値より大きえるので作業増加する（圧力値を読み込むためには真空計

表1ࣅ࣮࣒ࣛ࢖ࣥ

真空インターロックシステムの比較౑⏝㛤ጞᖺ┿✵ィࡢㄞࡳྲྀࡾ

ࢫࢸ࣮ࢱࢫࣟࢢࡢグ㘓

BL2B

2014 ᖺ

᥋Ⅼ

࡞ࡋ

BL3U

2005 ᖺ

᥋Ⅼ

࡞ࡋ

BL4U

2012 ᖺ

᥋Ⅼ

࡞ࡋ

BL5U

2014 ᖺ

᥋Ⅼ

࡞ࡋ

BL6U

2009 ᖺ

㟁ᅽ㸦ᅽຊ࡟ኚ᥮㸧Ѝ

࡞ࡋ

᥋Ⅼ
BL7U

2007 ᖺ

BCD ฟຊ㸦ᅽຊ㸧࠶ࡾ

分子科学研究所技術課報告 201439

技術レポート 光技術班

1 台につき PLC の入力端子への配線が 15 本必要）。また、

ペースのことなどを考えると、今後はまとめるようにした

BCD で圧力値を出力している真空計が少なく、真空計を方が良いのではないかと考えている。そして加速器制御室

他の機種への変更することが困難になる。

でフロントエンドバルブの監視・操作をできる新たにシス

BL6U では電圧を出力しそれを計算式で圧力に変換できテムを製作するようにしたい。

る真空計を使用した。これならば配線作業も少ない。しかこれに関連して、設立当初から使用されている真空イ

し、出力電圧が振動するため正確な圧力を読み取れなかっンターロックシステムの更新も課題である。従来のシステ

た（桁が一致する程度）。RS-232C で圧力値を読み取る

ムは加速器制御室でフロントエンドバルブの監視・操作をことも可能だが、PLC に読み込むためにはユニットが複数できるが、バルブのステータスを監視できていないビーム

台必要になり、それに伴いユニットベースを増設するなどラインもある。また、ステータスは PC などで読み取って改造も必要となり費用がかさむ。よって、BL3 U のシステいるわけではなく、ランプが点灯するだけでログを取ってムと同様に真空計の接点を利用することにした。

いるわけではない（ランプの状況をビデオカメラで録画

これ以後製作したシステムは全て接点を利用して動作している場合もある。図 2 参照）。ビームラインに設置さしている。接点を利用すれば特殊な PLC ユニットを用いれているバルブの制御装置も 2 つのバルブを制御するのにる必要もなくまた台数も少なくすむ。また、真空計を他のラックを 1 台使っていて場所を必要としている。加えて、機種に変更した場合にも比較的対応しやすいという利点も出射部の真空計、イオンポンプのコントローラーはストある。

レージリングの中心（放射線防護壁の内側）にあり、トラ

そして現在は来年度使用開始予定の BL1 U のシステム

ブルが発生した場合は加速器の運転を停止する必要がある。

の作成準備をしている。BL1U の出射部は従来型のインであるので、真空インターロックを更新あわせてこれらのターロックシステムが撤去されているので、フロントエン

真空機器をリングの外側へ移設する作業も必要になる。

ドバルブ（とビームシャッター）もシステムに組み込むこ

出射部の真空インターロックを更新するのであれば、それより下流もこのシステムに組み込むことも検討しなけれとにする。
今後同様のシステムを作成する場合、出射部のインターロックとの兼ね合いが課題になる。BL1 U の作成依頼以前ばならない。全てを行うとなると作業量と費用が多くなる
ので、どのように進めていくのか検討が必要である。

にもシステムにフロントエンドバルブを組み入れて欲しい（ビームラインに関わる全てのバルブの制御をできるようにしてほしい）という要望はあったのだが、加速器制御室
で監視・制御できる仕様を壊さないという観点から組み込まなかった。しかし、使用者の利便性やビームラインのス

図 2 フロントエンドバルブのステータス表示器
中央の赤、緑のランプが点灯しているユニット。
上段のランプがバルブステータスで緑が閉、赤が開、無点灯はステータスが読み取れていない。
下段はインターロックのステータスで赤点灯はエラー。

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分子科学研究所技術課報告 2014

技術レポート 光技術班

イオン・NEG ポンプの再活性化
手島史綱

極端紫外光技術二係

キーワード：イオンポンプ、NEG、ゲッター、真空度、NEXTorr

平成 25 年 5 月に計算科学技術班から光技術班に異動

真空にすることができる。ということだったようで、こし、その年の 10 月から極端紫外光研究施設（UVSOR）の NEXTorr のみが設置されている。停電などにより、電におけるビームライン（赤外・テラヘルツ利用）BL1B と気が途絶えると遮蔽バルブは真空度を保持するためにバBL 6B を担当することになった。引継ぎがあまりできていルブを閉じる。その際、NEXTorr が設置されている区間

ない状態からのスタートということもあり、取扱が分からは袋小路になるが、NEXTorr がポンプとして真空度を維ない機器や自分が管理すべき機器が分からない状態であっ持するはずである。ところが、停電明けに真空計を見るとた。計画停電前に出射部の遮蔽バルブが閉じた時、遮蔽バ

10 - 5 Pa 代と真空度が悪くなっている（停電前は 10 -8 Pa

ルブ下流（フロントエンド部分）の真空度が悪いという状代）。このままでは、遮蔽バルブを開けて放射光リング接態となった。その部分には、小型で高排気が売りのイオン・続すれば、リングに悪影響を与えることになる。急遽、排NEG ポンプ（商品名：NEXTorr。以下 NEXTorr とする）

気セットを接続して粗引きを開始したが、10 - 6 Pa 前半がが設置されているが、どうもうまく稼動していないようで精一杯であった。また、NEXTorr のコントローラーに真ある。このポンプを正常に稼動させるまでを報告する。

空計があり真空度を表示できるが表示できていない。エ
ラーは出ていないがポンプとしても動いていないため、はじめにNEXTorr のマニュアルを探し操作方法などを確認するこ

写真 1 の真ん中にある赤い箱が NEXTorr D100-5 で

とにした。

3

ある。約 80cm の超小型のイオン・NEG ポンプである。
同様の排気速度のイオンポンプと比較し 10 倍から 50 倍NEXTorr とはも小型であるのが売りである。私が担当する 1 年以上前

NEXTorr は、「NEG とイオンポンプの技術を相補的にに導入設置されているものである。この NEXTorr が排気組み合わせた設計となっており、小型のイオンポンプが対象としている空間は、BL1B 遮蔽バルブと赤外を透過

NEG によって排気されなかった不活性ガスを取り除いてさせるダイヤモンド窓との間であり空間的に非常に小さいる間、ゲッターカートリッジが主な UHV ポンプとしてい。設置時には、小型で高排気の NEXTorr なら十分超高働きます」と宣伝文句にあるのですが、初心者の自分には意味が分からなかった。
簡単に言えば、いくつかの技術を組み合わせて、
小型ながら高排気なポンプである。ということでしょうか。ならば、この狭い空間を超高真空にするにはもってこいのポンプである。
まず、NEG（Non-Evaporable Getter Pump：
非 蒸 発 型 ゲ ッ タ ー ポ ン プ ） と は 何 で し ょ う か。
NEG と同じようなものにチタンゲッターポンプがある。このポンプは、化学的に活性なチタンのフィ
ラメントを加熱し、気体中に昇華させることによって、ポンプ内壁面に気体となったチタンの蒸着膜

写真 1

BL1B の NEXTorr D100 - 5をつくり化学的に吸着させるゲッター作用（水素、分子科学研究所技術課報告 201441

技術レポート 光技術班

酸素、一酸化炭素もしくはその他の活性ガスを化学的に吸イオンポンプが吸着してしまうからである。マニュアルの着する現象）を利用したポンプであり蒸発型のゲッターポ

手順にしたがい、イオンポンプを停止させ、NEG のモーンプである。NEG は、予め吸着のためのゲッター面が用意

ドを「Timed Activation」にして NEG をスイッチオンにされており、チタンゲッターポンプのようにチタン蒸着膜する。NEG に電圧がかけられ加熱されていきガス放出がが不要で、蒸着膜による真空槽内の汚染、蒸着膜の剥離及始まる。真空計をみていると、みるみる真空度が下がってび絶縁抵抗などの問題を起こす心配がない。しかし、不活

いき 10 -3 Pa まで下がる。60 分経過すると NEG 素子の過性ガスをまったく排気しないこと。水素を吸着するとわず

熱が終了し、放出されたガスは排気セットによって外部にかであるがメタンガスを放出するという欠点がある。

排気されるため、徐々に真空度は回復していく。再活性化
は、利用者が居ない週に行わないといけない。また、その他の作業などを考慮して、２度（６ヶ月くらいの期間をおいて）再活性化を行った。1 度目は、普通に再活性化を１回行い、しばらくして NEG を OFF、イオンポンプを ONにした。状況は再活性化の前と変わらなかった。半年ほど
おいて、2 度目を行った。知識が足りない自分は、ガス放出が十分でないから状況が変わらないと考え、再活性化の

図1

NEXTorr D100 寸法

回数を増やした（合計 2 回）。それでも、状況は変わらなかった。根本的に自分の作業方法が間違っているかもしれないと考え、別のビームラインで既に NEXTorr を使用している方（千葉大学の Rasika さん）が見えたので、その方に相談した。Rasika さんの説明では、私が 2 度目にした再活性化はやってはいけないとのことだった。何回も行うと NEG の寿命が悪くなるとのことだ。Rasika さんと一緒に、再度、排気セットを接続して 10 -6 Pa 代の高真空状態にして、再活性化を行った。再活性化後、十分日数を取って NEG の温度を下げ、NEG を OFF にしてイオンポンプ

写真 2

コントローラー NIOPS-02

を ON にした。それでもやはり状況は変わらなかった。しかし、コントローラーの表示状況をみて、設定がおかしい

イオンポンプは、NEG で排気できない不活性ガス（窒のでは？と Rasika さんの指摘があり、設定を確認するこ素やヘリウムなど）を排気できる。このため、他の放射光とにした。ところが、コントローラーのボタンをマニュア施設でも NEG とイオンポンプを同一ライン上に設置してルどおりに操作しても設定モードにならない。しまいには、

超高真空を実現している。NEXTorr は、1 台に NEG とイ

イオンポンプが OFF にできない状態になった。これはおオンポンプを組み込むことにより、小型ながら超高真空をかしいということで、Rasika さんが直接製造元 ( イタリア )維持できるようにした機器である。

の Saes getter 社の技術者とやりとりをして状況確認をしていただいた。その結果、コントローラーの設定値がおか

再活性化作業と思わぬ原因

しいということが分かった。とりあえず、イオンポンプ起NEG は、先に述べたゲッター作用によって、ガスを吸動の電圧が低いということなので、電圧を上げてみる。す着していくため、いずれ飽和状態になる。そうした場合はるとどうだろう、イオンポンプが動き出し、コントローラー

NEG 素子を再活性化すれば、排気能力が回復する。再活にも真空度が表示されるようになってきた。ただ、ボタン

性化は、NEG に 9V-5A（45W）を 60 分間かけて NEGがおかしいので、しばらく電圧ボタンが入りっぱなしにな

素子に吸着した気体分子を放出させる。このとき、放出さり、電圧がどこまで上がったのかがはっきり確認が取れな

れるガスは、排気セットなど使用して外部に排気する。こい状況にはなったが、イオンポンプは動き出し排気を行っのことによって、NEG 素子は全容量を使用できるようにていた。最終的には 7 × 10 -8 Pa くらいまでになった。結なる。

果として、イオンポンプの起動電圧が低いためにポンプが再活性化においては、イオンポンプを停止させておく

動いていなかったということであり、コントローラーの設必要がある。なぜなら、NEG から放出された気体分子を定不備（コントローラのボタンもおかしい）であった。メー42

分子科学研究所技術課報告 2014

カーに問い合わせると、このモデルのコントローラーは初

さいごに期不良が多々あるとのことで、上位機種のコントローラー

今回は、NEXTorr を利用している Rasika さんに助けてへの交換を勧められた。ただし、保証期間が大幅に過ぎていただき大変助かった。この場を借りてお礼申し上げる。

いるので、新規購入ということになった。なんともお粗末

やはり、ちゃんと英語マニュアルを理解できるようにしてな結果である。コントローラー設定を変更してから、遮蔽おかないといけないこと。ポンプなど個々の製品の原理、バルブを閉じて袋小路にしても、超高真空状態を維持でき特徴などを理解しておくことが重要であると再認識した。

ている。コントローラー購入は納期などのこともあり（年度内納品が間に合わない）、来年度早々に購入して置き換えを行う予定である。

コラム

技術課を去る――柔軟性を忘れないで――

光技術班

堀米

利夫

研究所の組織はその時々に応じて変化を続けております。その陰にある技術課は創設以来（約 40 年間）、その組織形態は大きく変わることなく現在に至っています。技術職員が研究に寄与できる支援形態や求められる人材も創設期とは変わってきているように思われる。次期技術課を背負う人達による、研究現場に技術を提供しやすい支援組織や技術職員の能力が十分発揮できる組織を再構築する意欲が必要な時期ではないでしょうか？

組織は知らず知らずのうちに硬直化し、中で働く技術職員もいつの間にか柔軟性を欠くような状況になっていないでしょうか？
技術課の組織・技術職員は常に柔軟性を持ち続けて、『技術』を追求して欲しいと願う。最後に、長い間ありがとうございました。

コラム

キット製品の活用

光技術班

岡野

泰彬

光分子科学の分野など、レーザーを使った研究では目的に合った実験系を研究者自らが光学素子やメカニクスを用いて組み上げます。構築した実験系は研究者の経験や個性が表れる部分であり、実験の鍵となる部分でもあります。新しい実験系を組み上げる
ときは、これまでの経験に加え、論文や既存の装置などを参考にしますが、新しい技術を短時間で導入したい場合には、光学機器メーカーで用意されているキットやシステムを活用するのも一つの選択肢になります。
近年では、総合光学機器メーカーだけでなく、レーザーメーカーや新興の商社からも先端研究で用いられている技術が素子やモジュール、キットなど様々な形態で販売されています。
このようなキットは、単に導入コストの削減だけでなく、基本原理を効率よく学ぶ教材として、また、より高度なシステムへ発展させるベースとして活用できます。製品によっては、ユーザー側にも内部に改良を加える余地があるため、目的に応じて有効に活用したいものです。
レーザーセンターでも来年度にかけて、この様なキットを活用したフェムト秒ファイバーレーザーの製作を予定しています。基本構成にキットを活用して技術導入を図るとともに、安定性やポータビリティを考慮してメカニクスや筐体を設計することで、レー
ザー励起電子銃開発研究への光源提供や汎用のパルス光源として計測機器開発での活用を計画しています。

分子科学研究所技術課報告 201443

技術レポート 光技術班

NEG ポンプの特徴と使用する時に注意すべきこと
蓮本正美

極端紫外光技術二係

キーワード：ゲッター材、活性化、残留気体、不活性気体、イオンポンプ

UVSOR では NEG ポンプを多数使用しているが、自分自身は NEG ポンプがどのような特性を持っているのかを良く知らずに、チタン・ゲッターポンプの代わりとして、
平成 14 年から平成 22 年までビームライン BL1B の瀬谷・
波岡型分光器で使用していた。その後に分光器を撤去する
際に取り外して保管していた NEG ポンプをテスト用の真空容器に取り付けて調べた内容を報告します。

はじめに
写真 1 は今回のテストに使用した真空容器で、ICF203、
ICF 114、ICF70 のフランジが付いたポートがあり、真空容器本体の容量は約 20 ℓ、電解研磨などの表面処理はしていない。ターボ分子ポンプ（TMP）を ICF152 のポートに、NEG ポンプ（NEG）を ICF203 のポートに、小型のイオンポンプ（IP）を ICF70 のポートに、それぞれバルブを介してして接続して、真空容器を排気するポンプを

写真 1

テストに使用した真空容器

選べるようにした。また、残留ガスの圧力を測定するた
めに SPECTRA 社の四重極質量分析計 MONITOR（MAS）〜 200℃で 12 時間ベーキングした後、ターボ分子ポンプを取り付け、全圧力を測定するために、日本真空社の真のみで 2 × 10 - 7 Pa まで圧力が下がるのを確認した。

空計 AXTRAN を取り付けている。NEG ポンプは、Saese
Getters 社の NEG ポンプで型番は、GP-200-MK4-707、

NEG ポンプとはゲッター材 ST707 (Zr-V-Fe 合金 ) を使用したカートリッ

NEG ポ ン プ と は、 非 蒸 発 型 ゲ ッ タ ー ポ ン プ（Non

ジを取り付けている。カタログに記載されている排気速度

Evapolable Getter Pump）で化学的に活性なゲッター

は、単管を取り付けずに真空容器に直接取り付けた場合

材（Zr-V-Fe 合金）を利用して表面吸着および内部への拡に、H 2 に対して 500 ℓ /sec、CO に対して 190 ℓ /sec

散によって H 2、O 2、N 2、CO などの活性な気体を排気であるが、ICF203 の短管に取り付けているので実質的なするポンプであり、ゲッター材をひだ状に折り曲げてカー

排気速度は 50％程度に低下すると思われる。ターボ分子

トリッジの表面積を大きくすることによって排気スピー

ポンプは Oerlikon Leybold Vacuum 社の TURBOVAC

ドを大きくしている。ゲッター材には ST101、ST707、1000C で、排気速度は H 2 に対して 970 ℓ /sec、N 2 にST172、ST185 などがあり、活性化の温度や総排気量な対して 1100 ℓ /sec であるが、ICF152 の短管を介しどの違いはあるが、基本的な性能はあまり変わらないので、て接続しているので実質的な排気スピードは 30％程度

今回は ST707 のカートリッジを付けた NEG ポンプを使まで低下すると思われる。イオンポンプは日本真空社の用 し た。NEG ポ ン プ は H 2、O 2、N 2、CO な ど の 活 性

PST- 05C で、排気速度は、N 2 に対して 10 ℓ /sec であな気体を排気できるが、CH 4 に対する排気スピードはかる。真空容器をターボ分子ポンプで排気しながら 150℃

なり小さいので、CH 4 はあまり排気することはできない。

44

分子科学研究所技術課報告 2014

さらに He、Ne、Ar などの不活性な気体は全く排気する

加熱を停止した時の温度は 445℃であった。

ことができない。また、活性化後のゲッター表面での吸着

カートリッジの温度上昇に伴って H 2 の圧力は上昇し、可能な気体の量は決まっており、再活性化が必要になるま

15 分 後 に 4 × 10 - 3 Pa ま で 上 昇 し た 後 は、8 × 10 -4 程での時間は、真空容器内の圧力に比例して変わり、典型的度の圧力でゆっくり変動した。加熱停止後 35 分で 3 ×

な残留気体 (H 2 と N 2 の合計が 90％以上、その他の気体

10 - 7 Pa まで回復した。その他の気体の圧力は、加熱開始

が 10％以下 ) で室温の場合は、圧力が 1 × 10 -8 Pa での連から停止時までゆっくりと上昇し、加熱停止後ゆっくり-7

続使用で約 5 万時間、1 × 10 Pa では約 5 千時間、1 ×-6-5と下降した。これは NEG ポンプを取り付けた短管の温度

10 Pa では約 500 時間である。室温で 1 × 10 Pa 以上

変化に対応しており、加熱を停止した時の短管の温度はの圧力では、再活性化までの時間が短かくなり実用的では75℃まで上がっていた。H 2 以外の気体はゲッター材からない。これらのことはカタログには明記されていないのでではなく、熱せられた短管の壁より放出されたものと考え注意が必要である。ゲッター材を常に 280℃の温度に加られる。活性化中に放出される気体の 99％以上は H 2 で熱しておき、ゲッター材の表面に吸着した気体の内部へのあった。

拡散スピードを上げることで、1 × 10 -5 Pa 以上の圧力でも連続的に排気することも可能であるが、カートリッジの残留気体の圧力

寿命が短くなるので、このような使い方はお勧めしません。

図 2 は真空容器をターボ分子ポンプのみで排気している

ST101 および ST707 のゲッター材は大気暴露を 30 回繰

時の残留気体の圧力を示したものである。H 2、H 2 O、N 2、り返すと排気スピードは 40％まで低下するので注意が必CO 2 が残留気体全体の 99％以上を占めており、Ar はわず要である。乾燥窒素で大気圧にして、その雰囲気を保った

かに残っているのが分かる程度である。図 3 は NEG ポン

状態にすれば、30 回繰り返しても排気スピードは 80％

プのみで排気している時の残留気体の圧力を示したものでを維持することはできるが、乾燥窒素の雰囲気を保ったまある。H 2、H 2 O、N 2、CO 2 に加えて CH 4 と Ar が残ってまにしておくのは難しいので、頻繁に大気圧にするのであいるのがはっはりと分かり、NEG ポンプは Ar などの不活ればバルブを付けて NEG ポンプを真空に保ったままにし性な気体や CH 4 は排気されていないことが確認できる。

ておくのが望ましい。

ゲッター材の活性化
ゲッター材を活性化する前に NEG ポンプを含めて真空容器を 12 時間ベーキングして、脱ガスを十分に行った後にゲッター材の活性化を行った。ST 707、ST172、
ST185 の活性化の推奨温度と時間は、450℃で 45 分間
であり、ST101 は 700℃で 45 分間である。図 1 は活性化中の真空容器内の典型的な残留気体、H 2、H 2 O、N 2、
CO 2 の各圧力の変化を示したものである。加熱を開始してから 15 分でカートリッジの温度は、430℃に達した後

図2

ターボ分子ポンプのみで排気に一旦 415℃まで低下した後、ゆっくり上昇し 80 分後に

図1

活性化中の残留気体の圧力

図3

NEG ポンプのみで排気

分子科学研究所技術課報告 201445

技術レポート 光技術班

NEG ポンプとイオンポンプの併用
図 4 は NEG ポンプでは Ar や CH4 を排気できないという欠点を補うために、小さなイオンポンプと併用して排気した時の残留気体の圧力を示したものである。イオンポンプの排気速度は 10 ℓ /sec と非常に小さいけれども、NEG
ポンプのみで排気している時に比べて、CH 4 と Ar の圧力は５分の１程度まで改善されている。排気速度が 50 ℓ /sec
程度のイオンポンプを使えば、ターボ分子ポンプで排気している時と同じレベルまで CH 4 と Ar の圧力を下げることが可能である。しかしイオンポンプは立ち上げ時に大量の気体を放出するために、NEG ポンプと併用する時は、イオ

図4

NEG ポンプとイオンポンプを併用して排気ンポンプのベーキングおよび NEG ポンプの活性化のタイ
ミングに注意が必要である。イオンポンプのベーキングが短管の断面積に比例して小さくなってしまう。ICF152 の不十分な状態でイオンポンプを立ち上げると、イオンポン

短管を取り付けた場合の排気速度は、約 30 パーセントに-3プの電源を ON にした直後に真空容器の圧力は 10 Pa 台4低下する。連続使用する圧力が低くなるほど再活性化ままで上昇し、10- Pa 台まで下がるのに数分間から十数分での間隔が長くなるので 10 - 7 Pa 以下の圧力で使用すれば、間かかることがある。NEG ポンプは 1 × 10 -3 Pa の圧力に性能を十分生かすことができるが、10 - 5 Pa 以上の圧力で30 分間程度さらされると再活性化が必要になるほどゲッの連続使用には適さない。CH 4 と Ar などの不活性な気体

ター材の表面に気体を吸着してしまうために、イオンポンは排気できないが、小型のイオンポンプと併用すればその-3プの立ち上げ時に NEG ポンプのカートリッジが 10 Pa か
-4欠点を補える。また、イオンポンプをメインのポンプとしら 10 Pa の圧力にさらされる時間を出来る限り短くするている場合でも、イオンポンプの排気速度と同程度かそれことが重要である。そのためにイオンポンプは 150℃か以上の排気速度の NEG ポンプを追加すれば、到達圧力を

ら 200℃の温度で 12 時間以上のベーキングを行い、温度より下げることができる上に、停電時に真空容器内の圧力が室温まで下がってからイオンポンプの電源を ON にして、上昇を小さくすることが可能である。ゲッター材のカート

真空容器の圧力がイオンポンプの電源を ON にする前の圧リッジを大気に何度もさらすと排気速度が低下するので、力以下になり、イオンポンプからの気体の放出が十分に少なるべく真空に保ったままにしておくのが望ましい。

なくなるまで待った後に、イオンポンプの電源を一旦 OFFにして、NEG ポンプの活性化を行い、再びイオンポンプの電源を ON にすることで、イオンポンプの立ち上げ時にNEG ポンプが吸着する気体の量を減らすことができる。しかし、このような手順を踏むのは、面倒であり時間もかかるので、やはり真空容器と NEG ボンプの間にバルブを取り付けて、NEG ポンプがイオンポンプ立ち上げ時に放出す
る気体を吸着しないようにしておけば、イオンポンプの立ち上げも楽になる。また、真空容器を大気圧にしても NEG
ポンプを真空に保っていれば、再活性化を行う必要もなく、

写真 2

NEG ポンプの一例

ゲッター材の寿命を長くすることもできるので、可能ならばこのようにすることを、お勧めします。

おわりに今 回 の テ ス ト に 使 用 し た 真 空 容 器 は、NEG ポ ン プ

NEG ポンプの長所と短所(500 ℓ /sec) とイオンポンプ (10 ℓ /sec) で排気した場

NEG ポンプは、排気速度が 50 ℓ /sec から 3500 ℓ

合、NEG ポンプを活性化した 24 時間後には全圧が 1.5/sec ま で、 フ ラ ン ジ は 排 気 速 度 に 応 じ て ICF70 か ら

× 10 - 7 Pa、7 日後には 3.3 × 10 - 8 Pa の真空に到達した。

ICF 253 まで、全部で 10 種類程あり、写真 2 はその一部

排気速度が 100 ℓ /sec 以上のイオンポンプと 1000 ℓ /である。カタログに記載されている排気速度は、真空容器

sec 以上の NEG ポンプを使用すれば、10 - 9 Pa 台の真空に直接取り付けた場合であり、短管を付けた場合は、そのに到達することができると思う。

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分子科学研究所技術課報告 2014

技術レポート 光技術班

真空チャンバー内にあった粉末の元素分析

コラム

極端紫外光技術二係

酒井雅弘

UVSOR 加速器グループより、「ストレージリングの加速空洞チャンバーで電極を出し入れしているフランジのガ
スケット表面の変色及び、内部に落ちていた粉末の分析ができないか？」との相談を受け、平成 25 年度末に導入された低真空分析走査電子顕微鏡を用いて特性 X 線分析（元素分析）を行った。本コラムでは、粉末の分析結果の一部を示す。
図 1 は分析領域の二次電子（SE）像、図 2 は同じ領域の特性 X 線スペクトル、図 3-A, B, C, D, E, F は同じ領域の C,
O, Zn. Cl, Fe, Cr の元素マップである。
粉末試料は、カーボン両面テープ上に固定して観察・分析を行った。カーボン両面テープの接着面には Al, Si が含有されており、特性 X 線スペクトルに表れている。Cl が観測されているが、Na が観測されていないので直接試料を素手で触るなど汗由来の Cl ではない。図 1 〜図３より
1. 粉末の粒径は 10 μ m 程度
2. 次の３つの粒子が存在すると予想される
I. C と O から構成されメタルを含まないもの
II. Zn, Cl から構成されるもの
III. Fe, Cr, Ni から構成されるものの結果を得た。
この結果を加速器グループに伝えると伴に、粒子Ⅱ及び粒子Ⅲの生成原因を以下のように考察した。
図１

《粒子Ⅱ》

粉末の二次電子像

・電極が Zn メッキされいて、何らかの原因でメッキがはがれ Cl と結合してチャンバー内に存在し、粉として落下した ( 実際にメッキされていたかは不明 )・Cl の起源は不明《粒子Ⅲ》・稼働部にステンレスが使われていて摩耗した粉が落ちた
図2
(A)

(B)

(C)

(D)

(E)

図１と同領域における特性 X 線スペクトル(F)

図 3 図１と同両機の元素マップ(A)C マップ , (B) O マップ , (C)Zn マップ , (D)Cl マップ , (E)Fe マップ , (F)Cr マップ

分子科学研究所技術課報告 201447

技術レポート 機器利用技術班

共同利用装置ピコ秒レーザーを用いた微細加工への取り組み
上田正

機器利用技術二係

キーワード：ピコ秒レーザー、微細加工、多光子吸収、熱影響、アパーチャー

はじめに
機器センターでは、分光実験用光源としてピコ秒レー
ザーを所有している。超短パルスレーザーでは、不確定性
原理によってパルスの時間幅と波長幅（バンド幅）を同時に狭くすることは相反するが、ピコ秒のレーザーはその両者、つまり時間分解能とエネルギー分解能の両方において高い分解能を得ることができ、その意味において優れた分
光実験用光源であると言える。またピコ秒レーザーは、極端に短いパルス幅であることと同時にピークパワーが極め

図2

パワースペクトル（メインカーブ）て高いため、精密微細加工に広く応用されるようになって

Amplifier of Superfluorescence）によって、原理的にきている。ピークパワーが極めて高いことで、多光子吸収は 250 nm 〜 10m の範囲で波長が可変できるレーザー

によって電子を励起させ分子レベルで結合を分解できるた光を発生させることができる。制御用 PC から波長を入力

め、熱影響が少なくデブリが少ない精密な微細加工が実現することで、任意の 2 波長のレーザー光を出力できるため、できる。そこで、当センターの分光実験用ピコ秒レーザー

ポンプ・プローブ実験、高速時間分解実験等の分光実験がを用いて、レーザー微細加工機の開発に取り組んでいる。

可能である。今回のレーザー微細加工機では、出力の大きなお、本テーマは、装置開発室の提案によって、共同で加いアンプのアウトプット（波長 790 nm、出力 1.5 W）

工機開発を進めている。

を利用している。
ピコ秒レーザーの詳細については、機器センターホーム

ピコ秒レーザーの紹介

ページ、或いは冊子「機器センターたより」をご参照頂け

レーザーシステム全体の写真とブロック図を図 1 に、パ

れば幸いである。

ワースペクトル（メインカーブ）を図 2 に示す。本シス
テムは、パルス幅 2 〜 3 ps、繰り返し周波数 1KHz のチ

レーザー微細加工機の概要

タンサファイアベースのアンプシステムで、2 台の波長可レーザー微細加工機の写真と概略図を図 3 に示す。レー

変装置：TOPAS（Travelling-wave Optical Parametric

ザー光を一旦上に跳ね上げ、上から打ち下ろしてレンズで

図148

分子科学研究所技術課報告 2014

ピコ秒レーザーシステムの写真とブロック図集光し、水平に設置した試料を加工する。加工精度の向上の板を用いて、穴加工を行った。式（1）から、スポットのため、試料の固定には吸着ステージを使用し、加工によっ

径は約 3.6 m と計算できるが、実際に加工してみると穴て試料が歪むことがないようにした。また試料の両側から

径 20 m が限界であった。その大きな原因は、熱影響に不活性ガスを吹き付けて、加工時のデブリや酸化も抑える

よって加工面が溶けテーパー状に拡がってしまうためであことができる。試料ステージには、XYZ の自動ステージ

る。レーザー出力を瞬時（1 秒以下）に貫通穴が加工できを取り付け、PC で制御も可能である。上部には CCD カる程度（100 mW 以下）に落としても、レーザーのエネ

メラを設置し、試料の加工状態をリアルタイムで観察する

ルギーが過剰で熱影響を生じてしまう。単にこれ以上レーこともできる。

ザー出力を落とせば、加工に時間を要してしまうか、貫通穴が開けられない。そこで、余剰エネルギーをカットしビー
ム中心のピークパワー部分のみを試料に照射すればよいと考え、集光レンズの手前にアパーチャー（径 300 m）
を設置してみた。しかしながら、このことは入射ビーム径を細くすることとなり、式（1）に従えばスポット径を逆に大きくしてしまう。加工結果を図 4 に示す。式（1）に反し、非常にきれいな小径穴加工を行うことができた。現状では、およそ 9 m の貫通穴を 0.2 秒以下で開けることに成功している。これは、熱影響を大幅に取り除けたことやレンズの収差の影響を抑えることができたためであると考えている。なお、後日調査を行ったところ、アパーチャーを入れることは他の研究グループでも行われていることが判明した。考え方が間違っていなかったことは良いが、情報収集の必要性を痛感している。
被削材

図3

SUS 304、ｔ 10m

レーザー加工機の写真と概略図

加工例
微細加工を行うために、ビームのスポット径はできる限
り小さくする必要がある。ビームの集光にはレンズを用いるが、ふつう、回折限界によって波長より小さく絞ることはできず、一般に、平行ビームをレンズで集光した場合に得られるスポット径 D 0 (m) は、波長を  (m)、レンズの焦点距離を f (m)、入射ビームの直径を D(m) とすると、
D0 = 4  f /  D（1）で計算できる。従って、波長を短く、焦点距離を短く、入図4

貫通穴加工【金属材料】

射のビーム径を大きくすれば、より小さく集光できるハズ
であるが、実機では単純ではない。波長変換によって短波応用例として、レーザー描画にも取り組んでいる。試料長化は可能であるが、出力が大幅に減少してしまう。焦点

ステージをプログラミング制御すれば可能である。図 5 に距離の短い対物レンズを使用する例もあるが、高価であり分子科学研究所のロゴマークをレーザー描画した例を示す。

操作性も悪い。また入射ビーム径を大きくすることも簡単

その他、透明材料への加工も試みている。例えば、アであるが、その分集光レンズの収差の影響が大きくなる。

クリル樹脂や石英ガラスでは、波長 780 nm の光は「透そのため、今回波長は 790 nm に固定し、集光レンズに過」してしまうハズであるが、本ピコ秒レーザーを照射すは比較的安価な非球面レンズ（焦点距離 18 mm）を使用、ることによって貫通穴を開けることに成功した。穴加工の入射ビーム径は直径約 5 mm に細くコリメートして加工

SEM 写真を図 6 に示す。これは、ピークパワーが極めて評価を行った。

高いピコ秒レーザーパルスによって非線形吸収が誘導され、加工材料には厚み 10 m のステンレス製（SUS304）

加工が可能となったと考えられる。従って、超短パルスレー

分子科学研究所技術課報告 201449

ザーで加工を行う場合、基本的に加工対象を光が透過しての可能性も実験によって試していきたい。レーザー波長のしまうかどうかは関係無く、レーザーの波長には依存しな短波長化によるスポット径の更なる縮小化も検討すべき課いと考えている。

題である。まだまだ試作機のレベルであるが、一日も早く
レーザー加工機として所内外の研究者に利用して頂けるよう努めていきたい。
最後に、本レーザー微細加工機開発は、加工の技術・知識を有する装置開発室の青山班長、矢野主任、中野技術職
員と施設の枠を越え共同で取り組んでいるものであり、大峯所長奨励研究費の支援を頂いて進めていることを申し添える。

図5

レーザー描画【分子研ロゴ】

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図6

貫通穴加工【透明材料】

おわりにアパーチャーの設置は、入射ビーム径を細くし理論的にはスポット径を大きくしてしまうことになるが、実験によって微細加工精度が向上することがわかった。実機では、単純な式では図れない場合があることを痛感している。それでもまだ熱影響は大きく、更に微細化できる可能性があると考えている。引き続き、アパーチャーの大きさや設置する位置について検討していく。加えて、材料に対する加工に適当なレーザーエネルギー値も調査する。また、透明材料にも加工できることが分ったことで応用範囲も拡がった。レーザー描画だけでなく、内部加工やレーザー接合等

50

分子科学研究所技術課報告 2014

技術レポート 機器利用技術班

液体ヘリウム容器の予冷検証実験
高山敬史

機器利用技術班

キーワード：LHe 容器、予冷、超低温、冷却用窒素ガス

はじめに
室温状態に戻った液体ヘリウム容器に液体ヘリウムを充填する際に、液体窒素で予冷する方法・超低温の冷却窒素ガスで予冷する方法およびまったく予冷しない方法がある。それぞれの予冷方法で液体ヘリウムを充填した時に、使用する液体ヘリウムの総量・充填に要する時間・充填後に蒸発した液体ヘリウムの量などにどのような違いが生じるかを検証したので報告する。
今回、新たに冷却窒素ガスで予冷する方法を考案したので、その方法についても詳しく紹介する。
写真 1

予冷②検証実験の様子

超低温の冷却窒素ガスによる予冷方法
図 1 のように株式会社ジェック東理社から市販されてい実 験 段 階 の 当 初、 デ ジ タ ル 指 示 調 節 計 の 温 度 指 示 をるクライオトロール（液化窒素電動ポンプ）を使用して液-180℃に設定してクライオトロールの制御を行ってみたが、体窒素を液体ヘリウム容器内へ移送する。ただ移送するだ

設定温度が低過ぎたらしく液体ヘリウム容器の内部には、ほけでは、液体ヘリウム容器内に液体窒素が溜まってしまう

んのわずかな液体窒素が液面の高さ数ミリほど溜まっていた。

ため、株式会社チノーのデジタル指示調節計 DB600 を用

そこで、設定温度を -170℃に上げてからトランスファーのいて液体ヘリウム容器の内底部に設置した測温抵抗体の温テストを繰り返し行ったところ、液体窒素の貯留が完全にな度指示により、クライオトロールの ON/OFF 制御を行いくなり、温度設定はこの値のまま進めることにした。

液体窒素が容器内に貯留しないよう特殊な環境下でのトラ
ンスファー実証を行った（写真 1）。

上記の様に、トランスファーした液体窒素が蒸発して気化した超低温の冷却ガスを液体ヘリウム容器の予冷に使用することで、液体窒素をそのまま充填する従来の予冷方法と比較して、液体ヘリウムの充填開始前に予冷で溜めた液体窒素を抜き取る手間が省けて、作業効率の改善にもつながる。更に、液体窒素を抜き取る際によく問題となっていた、液体窒素の不完全な抜き取り作業に起因する不純物の残留も無くなり、液体ヘリウム容器の真空ガス置換も手軽に行うことができる。
しかし、液体窒素を直接充填する予冷方法と異なり、冷却ガスによる予冷方法となるため、液体よりも熱容量の小
さいガスを使用して、本来の目的である液体ヘリウム容器の予冷が完全に行えるのかという不安もあった。
次の章では、それぞれ異なった予冷方法による検証結果

図1

液体窒素トランスファー概略図

を比較して掲載する。

分子科学研究所技術課報告 201451

異なる予冷方法での液体ヘリウム充填の検証結果
今回、以下 3 通りの方法で室温状態に戻ったヘリウム容器に液体ヘリウムを充填して、充填に使用した液体ヘリウ
ムの量・予冷に使用した液体窒素の量・充填後に液体ヘリウムが蒸発した量などを比較した。
予冷方法は、従来の液体窒素で予冷する方法（方法①）・

今回新たに考案した超低温の冷却窒素ガスで予冷する方法（方法②）およびまったく予冷しない方法（方法③）の 3

グラフ 1

各種予冷方法における液体ヘリウム液面の変化通りである。各種予冷方法の違いによりどのような事象がおわりに見られるのか比較した結果を表 1 およびグラフ 1 に記載する。

今回、新たに考案した冷却窒素ガスで予冷する方法でもまず、従来の予冷方法である方法①を基準値と考え、新予冷を保持する時間を充分に取れば、従来の液体窒素を溜たに考案した予冷方法の方法②と比較する。方法②はガスめる予冷方法と比べても見劣りしない良好な結果を得るこの比熱を利用してヘリウム容器内部を冷却するためか、予とができた。冷却ガスで予冷するために、使用する液体窒冷で使用する液体窒素の使用量が多い。ガス置換にかかる素の消費は多少多くなるが、液体を溜めないので、溜まっ

真空引きに要した時間は、方法①とほぼ同じであった。充た液を抜き取る必要もなく、更に抜き取った液体が不完全填時に使用した液体ヘリウムの量は貯槽の液面計指示によで不純物を残したまま液体ヘリウムを充填してしまうことるもので、若干、計測誤差があるため今回は参考程度とすもない。この予冷方法により、総合的にみて比較的簡単にる。検証結果から、やはり予冷方法①が 1 日経過した後の効率よく予冷を行うことが可能となった。このシステムを

蒸発量が最も少ない。それに比べて、まったく予冷しない

利用することで、超電導マグネットを用いた低温実験装置

方法③は、2 日経過した後でもなお蒸発量が多いことが分の予冷にも応用できると考えられる。特に、超電導マグネッ

かる。当初、予冷方法②において、予冷時間を短時間（約トは液体ヘリウム中の残留不純物に気を使う必要があるた

0 .5 日）で検証を行ってみたが、結果が予想よりも芳しく

め、この予冷システムは大いに有効である。

なかったため予冷時間を長時間（約 1 日）に変更して、再今後の課題として、同じヘリウム容器を使用した場合、度検証を行った。結果は良好で、方法①と比較して遜色のそれぞれの予冷方法の違いによりどのような検証結果が得ないデータが得られた。充填時間においては、予冷方法③られるのか、容器の個体差を考慮したうえで引き続き考察に関してヘリウム容器内部を初期冷却する時間を要したた

したいと考える。

め、最も時間を必要とした。なお、今回の検証で使用した
液体ヘリウム容器はすべて異なる固体を使用したため、同じ予冷方法においては個体差の影響を理解するうえで、複数回同じ実験を行っている。
表1

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52

各種予冷方法における現象の比較

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分子科学研究所技術課報告 2014

技術レポート 機器利用技術班

コラム

機器センター（山手地区）の新体制について

機器利用技術一係

牧田誠二

平成 26 年 6 月より技術支援員として長尾春代氏を新たに採用しました。民間の分析会社に勤められた経験を活かし、主に核磁気共鳴（NMR）装置、熱分析装置を担当しています。
山手地区では合成を行っている研究室が多く、そのニーズに応えるため、化学分析を主体とした汎用的な装置（NMR、質量分析、
元素分析など）を揃えています。従来はそれぞれの装置に 1 名の技術職員が担当していましたが、より効率的な運用を行うため、担当以外の装置への理解を深める取り組みを行っています。
一方、装置の状況においては、平成 7 年度に導入した NMR（JEOL JNM-LA 500）は老朽化がすすんだため、本年度末にて運用を停止しました。汎用的に利用する NMR としては JEOL JNM-ECA600、JNM-ECS 400 の 2 台体制となりますが、これら 2 台は同じ Software（Delta 5. 0. 3）を使用しているため、利用しやすい環境が整っています。また、本装置用として①5mm C5FH プローブ（1H/ 19F の同時照射の測定）② 10mmT 10L プローブ（低周波核種の測定）を所有していましたが、新たに JNM-ECA 600 用として 10mmT10L プローブを導入しました。従来の物と比較し、より高感度の測定が期待できます。
その他のプローブについては所内利用者や施設利用者の必要性を考慮し今後、検討していく予定です。

コラム

山手地区液体窒素供給システムの不具合（雨天限定）

機器利用技術二係

水川哲徳

昨年 3 月頃、雨の日限定で液体窒素供給システムに不具合が頻発した。このシステムは液体窒素汲み出しが完了すると電子ブザーが鳴り、容器をロードセルから取り除くと重量表示（充填容量表示）がゼロに戻り、リセットされブザーが止まる設定になっている。しかし、雨天で多湿の時に汲み出すと、終了後、容器をロードセルから取り除いても充填用量表示がゼロに戻らずブザーが止まらないことがあった。この場合、その都度、手動で強制的にリセットをかけてブザーを止めていた。他方、天候の回復に伴い液体窒素供給システムの動作は正常に戻り、天気の良い時には、上記の不具合は再現しない。メーカーに点検を依頼したところ、ロードセル内部にホコリが堆積していたものの四隅にあるセンサーは全て正常であった。内部清掃、較正のみしてもらい、しばらく様子を見ることにした。
その結果、その後 9 ヶ月経過するが雨天時（多湿時）の不具合は再現していない。ホコリ + 湿気 + 冷気の組み合わせで不具合が発生するものと考えられる。内部清掃したことにより問題が解決したと判断された。

出張報告「大学連携研究設備ネットワーク研究成果報告会」に参加

機器利用技術二係

岡野芳則

平成 27 年 3 月 6 日、千葉大学で開催された「大学連携研究設備ネットワー
ク研究成果報告会」に聴講参加しました。設備ネットワークからは参画国立大学に対して毎年予算を配分しており、登録設備を利用した共同研究や設備の利用講習会等に利用していただいています。今回の報告会は千葉大学が中心になり東関東地域、西関東・甲斐地域の大学を交えての成果報告会との事です。今年で 4 回目を迎え、今回は「固体材料の観察と物性評価」というテーマで 6 つの発表がありました。固体 NMR、TEM、SEM 等を利用した研究の紹介で、磁気細菌や光触媒の話など聞いているだけでも非常に面白い発表でした。千葉大
学は民間からの利用も多く発表のうち 2 件は民間からの発表でした。懇親会では各大学の機器分析センターが連携して民間利用等に対処している様子等がうかがえ非常に有意義なひとときを過ごしました。

分子科学研究所技術課報告 201453

技術レポート 計算科学技術班

空調機室外機に散水する
松尾

純一 計算科学技術二係

キーワード：環境データ、空調、省エネ、自動散水

最近、空調の室外機に水を主な機器の消費電力量割合

で命令を伝える部分には、ZigBee の無線通信機能が内蔵

かけると空調の消費電力が下されていて電池で長時間動作が可能なマイコンモジュールがるという話を聞きます。私

TWE-Lite DIP を採用し、気温等を考えて散水実行を判断の所属する計算科学研究セするためのサーバには Linux が動作する格安のシングルコンターでは電気代が年間 1 億

ンピュータである RaspberryPI を使っています。

円ほどかかっており、そのう

送信側は RaspberryPI と TWE-Lite DIP をシリアル通信

ち約 2 割を空調機が消費してで接続し、受信側は散水タイマのボタンをハックする形でいます（右円グラフ）。もし、

TWE-Lite DIP の GPIO と接続。外気温や平均気温等を元

その 1％でも削減が出来ればに散水するかどうかを RaspberryPI で計算し、散水する

年間 20 万円もの電気代節約となるので試してみることに場合には命令が無線マイコンモジュールを通じて伝え散水しました。今回は、市販されている空調機用の散水システ

タイマを遠隔操作するようになっています。

ムを購入するのではなく、ホームセンター等で部品を買い集めて散水器を自作しています。また、せっかくなので日頃の技術を生かしてサーバから散水の制御が出来るように↓⥺㏻ಙ

してみました。
使用した主な部材は下記の通りです。散水部分には庭やベランダ等に設置する加圧ポンプのいらないミスト散水器
を、水道の開閉には設定した時間になると自動的に水を出してくれる散水タイマを使いました。また、屋外まで無線

送信側（RaspberryPI+ TWE-Lite DIP）

受信側
（TWE-Lite DIP+ 散水タイマ）

制御機器の制作が完了した後、次ページの写真のように設置を行いました。散水タイマの先にスプレー式散水器を接続、室外機 1 モジュールに付きスプレーは３個付けました。
次ページに散水装置の稼働前後のデータをグラフ化したものを示します。散水装置設置前後で平均気温がだいた
い同じようになるような範囲で比較してみたところ、消費
ミスト散水器散水タイマー

電力は約 22 [kW] 減っていました。12％の節電となったようです。
そうは言っても、水道代が削減できた電気料金や構築費
用より高ければ意味がありませんので計算してみました。
まずは、かかった水道代を求めます。散水量は 76[ml/min] のノズルを 24 個使いましたので、76[ml/min] ×

54

無線マイコンモジュール

シングルボードコンピュータ

24[ 個 ] × 60[min]=109.44[l]。1 日平均 12 時間程度

(TWE-Lite DIP)

(RaspberryPI)

散水しましたので 1 ヶ月（30 日）分ですと 109 .44[l]分子科学研究所技術課報告 2014

7 月 8 月の空調消費電力量と外気温

× 12[hour] × 30[day]= 39398.4 [l]。 水 道 料 金

整えなくてはなりませんので試していません。写真の様子の 単 価 は 200 [ 円 /m3 ] 位 で す の で、1 月 の 水 道 代 はは半年間散水を行った後のものです。今のところフィンが39398.4[l]/ 0.001[m 3/l] × 200[ 円 /m3]=7,880詰まるほど堆積したという様子は見られませんが数年後は円です。

どうなっているか分かりません。ですので、これから散水

次 に 削 減 で き た 電 気 代 を 求 め ま す。 使 用 電 力 がを行おうという方は自己責任で行って下さい。

22[kW] 減ったので、１ヶ月分の電力量は 22[kW] ×
24[hour] × 30[day]=15,840 [kWh]、電気料金の単価が 19[ 円 /kWh] 位ですので、15,840[kWh] × 19[ 円 /kWh]=300,960 円。
1 月に 30 万円近い電気代の削減が出来たようです。構
築費用は 10 万円もかかっていませんし、水道代も 1 万円
程度ですのでなかなかの効果です。
ただし問題も発生しました。電気ポットに付着するカル
キのように室外機に水をかけ続けていると右の写真のように空調室外機のフィン上に白い物質が堆積してしまいました。これは、雨が大地を流れている間に溶け込んだ様々な物質（スケール）が浮き出た物で、このような事を行うと必ず問題となるものだそうです。スケールが堆積すること
でフィンが目詰まりを引き起こすので出来るだけそれらを含まない水を使いたいところです。調べてみたところ、ス
ケールの中でもこういった場合によく問題となる物質はカルシウムとシリカとのこと。カルシウムであれば濾過器を今後の展開としては、現在この散水を行っているのはリ

使えば簡単に減らせるのですが、シリカとなると元はケイヒート式（再加熱型）と呼ばれるタイプの空調機で、別に素（ガラスの主成分）ですので化学的に反応しづらく、高インバータ式のものもあるのでそちらでの効果や、こうい

価な浄化装置でなくては除去することは難しいということ

う用途に適した水の濾過器や浄化装置といったものが無いです。全く別の案として、雨水を集めて使えばスケールはか、カルシウム分だけでも除去出来れば堆積量が減るのか問題にならないと言う話が有るのですが、それ用の設備を等を確認していきたいと考えています。

分子科学研究所技術課報告 201455

技術レポート 計算科学技術班

電子メールのセキュリティ
内藤茂樹 計算科学技術三係

キーワード：セキュリティ、メール、電子署名

日々電子メール（以下、メールとします。）を使っていクしてウェブページを開くと、該当銀行の口座名や暗証番

ると、フィッシングメールやウィルス等の様々なセキュリ

号を入力する画面が表示されるという仕組みになります。

ティ上の問題に遭遇します。多くはアンチウィルスソフト

勿論そのウェブページは犯罪者が用意したページであり、やスパム・フィルターが防いでくれますが、中にはすり

入力情報は犯罪者の手に渡って近いうちには口座の残金が抜けてくるものがあります。そういったすり抜けてきた

0 になるでしょう。このような本文に表示された URL と実

フィッシングメールやウィルスに引っかからないようにす際にリンクされた URL が違うというのは、ウェブページ

るには、受信したメールを注意深く取り扱うしかありませを記述するための HTML を使えば簡単に行え、多くのメー

ん。

ルソフトは HTML で書かれたメールをウェブと同じように表示します。でも本文のURLにカーソルを合わせばメー

フィッシングメール
フィッシングメールとは受信者を偽のウェブサイトに誘導するなどして、クレジットカードの番号や個人情報をルの画面の下端に実際にリンクされている URL が表示されますので、本当にメールを送ってきたところかどうかを確認することが可能です。

騙し取ろうとするものです。図 1 はフィッシングメールのもっとも、どの銀行もメールで口座番号や暗証番号を例です。銀行を名乗っていますが、差出人のメールアドレ

尋ねることは行っていません。ですから、このようなメー

スは該当銀行のものではありません。本文中の URL は該

ルは初めから読まずに削除するのが一番の対策です。クレ

当銀行のものが書かれていますが、そこにカーソルを当て

ジットカード会社も同様ですし、サーバの管理者がパスると実際のリンク先の URL が表示されます。表示されたワードを尋ねることもありません。

URL は図 2 のものです。実際にリンクされている URL は
該当銀行のものではありません。うっかりリンクをクリッ

フィルターをすり抜けるメール
フィッシングメールの多くはスパムです。そして本文に表示される URL と実際にリンクされている URL が違う等の特徴から、フィルタリングすることが可能ではないかと思わるかもしれません。世の中にスパムが出始めた頃は可能でした。しかし近年は巧妙化しており一筋縄ではいかなくなっています。詳しいことは省略しますが、電子メールの規約では本文に使える文字は 7bit コードと呼ばれるものと定められています。しかしそれ以外の文字で書いた文章をメールで送れないわけではありません。

図 1 フィッシングメールサンプル ̲ 本文

MIME(Multipurpose Internet Mail Extension) という規格が定められており、これに従えば 7 bit コード以外の文字で書かれた文章もメールで送ることができます。どのような仕組みかというと、ある計算方式によって一度7bit コードの文字に変換し、メールを受信したメールソ

図 2 フィッシングメールサンプル ̲URL

56

分子科学研究所技術課報告 2014

フトで再度本来の文字に変換します。岡崎 3 機関でも使用しているスパム・フィルター等はメールの配信経路上に設示していることになります。つまり封筒と便箋の関係にあ置されていますので、元の文字ではなく MIME で変換されるエンベロープの情報とヘッダーの情報が一致していればている文字で書かれたメールをチェックすることになりま問題が無いことになります。では実際にどうなっているかす。図 3 は MIME で変換されたメールの例です。赤線を引というと、図 4 を参照してください。 MAIL FROM

いた部分で「charset="utf-8"」というのが本来の文字の

RCPT TO

規格であり、「Content-Tranfer-Encoding: base64」とエンベロープには正しいアドレスが記入されています。そいうのが MIME で変換してありますという表示になります。

して中程の「PCFETONUWV 〜」で始まる意味不明な文章がますが、ここにも

MIME で変換されたものになります。このような状態ですの例ではわざと出鱈目なアドレスが記入されています。実ので、本来の文章がフィッシングメールなのかどうかを配際にこの状態でメールを送信してメールソフトで受信した

信経路の途中で判別することが難しくなっています。

メールのヘッダーが図 5 になります。エンベロープに記入

DATA

と

が封筒に対応するエンベロープになります。

以下が便箋に対応するメールの本体となり
From

と

To

が書かれてます。こされた情報ではなく、メール本体に記入された出鱈目なア
ドレスが表示されているのが判ります。このように、便箋に出鱈目を書いても封書の宛名さえ正しければ郵便が届くのと同様に、エンベロープさえ正しければ、メール本体のヘッダー情報が出鱈目でもメールは届きます。そしてメー
ルソフトが表示する差出人はエンベロープではなくヘッ
ダーの情報になります。スパムメールなどで自分自身が出したように偽装されるのはこのようなカラクリです。

電子署名
メールソフトに表示される差出人は偽装することが可能なため、本当にその人が出したメールかどうかの判断には使えません。そこで誰が出したメールかを保証する手段として電子署名が用いられています。メールで
図 3 MIME サンプル

差出人（From）は信用できるか
スパムやフィッシングメールを避けるために良く言われるのが差出人を確認するというのもです。たとえば銀行
から送られてきたメールなら、その差出人が該当銀行のものになっているかどうかを確認するということです。これが成り立つためにはメールの差出人の情報が正しいという前提が成り立つ必要があります。それを考察してみます。
メールの差出人及び宛先には、実は 2 種類あります。一つはエンベロープ From/To

つがヘッダー From/Toと言われるもの、もう一と呼ばれるものです。郵便に

図 4 メールの送信喩えると、エンベロープは封筒の差出人と宛名に、ヘッ
ダーが封筒の中の便箋に書かれた差出人と宛名になります。
メールの配信システムは、エンベロープを見てメールを配
信し、To に書かれたアドレスのメールサーバまで配送します。そして PC 等に入っているメールソフトは、メールサーバからメールをダウンロードしてヘッダーに書かれた
From なり To なりを表示します。郵便に喩えると、メー
ルソフトは封筒から取り出された便箋に書かれた内容を表

図 5 受信したメール

分子科学研究所技術課報告 201457

使われる電子署名の方式としては S/MIME（Secure /Multipurpose Internet Mail Extensions）とPGP（Pretty
Good Privacy）が一般的です。S/MIME は認証局から発行された証明書を用いる方法で、主に企業や団体が使用しています。S/MIME は多くのメールソフトに標準で搭載されているため、S/MIME で電子署名されたメールを確認するために特別なことをする必要はありません。電子署名されたメールを受け取ると、そのメールが電子署

図 6 Thunderbird での電子署名の例

名されていることを示すアイコンが表示されます。図 6 はThunderbird と言うメールソフトでの例です。赤い封印を施した封筒のアイコンが表示されます。このアイコンをクリックすると図 7 のように確認画面が開き、差出人と内容が改変されていないことを確認できます。また PGP で電子署名した場合も同じアイコンが表示され、クリック
すると図 8 の確認画面が開き差出人を確認できます。なお
図 8 の Enigmail とは Thunderbird 用の PGP アドオンで、Thunderbird に Enigmail アドオンを入れて、PGP ソフト
である GnuPG を別途インストールすれば PGP を使うことができます。S/MIME を利用するためには認証局に証明書を発行して貰わなければなりませんが、PGP は必要なソフトをインストールして秘密鍵 / 公開鍵のペアを作成し、メールを送る相手に公開鍵を渡せばすぐに使えます。ただしメールを送る相手も PGP が使える環境である必要があります。

図 7 S ／ MIME による電子署名

このような電子署名を用いれば差出人を信用すること（及び文書が改竄されていないことの確認）が可能になります。

最後にメールは手軽にできる情報交換の手段であり、今では業務に欠かせないものとなっています。その一方で悪意あるメールが氾濫しているのも事実です。多くはセキュリティ・
ソフトやフィルタリング装置等で排除できますが、それも万能ではありません。最終的な安全の確認はメールの受信者自身で行う必要があります。犯罪者の罠にはまらないよう、注意しながら快適にメールを御利用頂ければと思います。

58

分子科学研究所技術課報告 2014

図 8 PGP による電子署名

技術レポート 計算科学技術班

コラム

ライブラリーアプリケーション

計算科学技術二係

岩橋建輔

計算科学研究センターでは利用者が科学技術計算プログラムを使って直ぐに計算できるようにライブラリーアプリケーショ
ンとして 19 種のアプリケーションがインストールされています。その中でもよく利用されているものは、Gaussian、Namd、
Amber、Gamess、NTchem、Gromacs です。ライブラリーアプリケーションを使うジョブは全 CPU 時間のうちクラスター機
では 33 %、大規模共有メモリー機では 50% を占めています。
利用者の方に安心して使って頂くために、各アプリケーションが「正常に動作」
しなければなりません。いくつかのアプリケーショ
ンでは開発元から実行ファイルが配布されており、最低限の検証で済むものもあります。多くのアプリケーションでは、ソースコー
ドとレファレンスの計算結果のみが配布されているので、自分でコンパイルして実行ファイルを作らなければなりません。計算結果がレファレンスとほぼ同じであることを確認する必要がありますが、多くの場合一致しません。その場合、異なるコンパイラー
を使う、並列化をしない、最適化をしない、高速な算術ライブラリーを使わない、などの試行錯誤を行います。結果が合うようになったら可能な限り高速に計算できる条件を見つけてインストールしています。しかし、元々の不具合で結果が合わない場合もあり「結果不正も仕様」と割り切らなければならない場合もありますが、この判断が非常に難しいです。

コラム

学術ネットワーク更新と所内外ネットワーク通信量予測

計算科学技術三係

澤昌孝

岡崎 3 機関ネットワーク（ORION）の所外への通信は、学術ネットワーク（SINET 4）を利用しているが、SINET 4 は平成 27
年度末に終了となり次の SINET5 の利用を予定している。SINET 5 に接続する回線によって費用が掛かるため、SINET 5 使用期間中（6 年間）のネットワーク通信量予測が必要となる。2012 年度から運用している現行 ORION になってから約 2 年半間の内外間通信量を集計した結果、平均は 1Gbps 未満ではあるが、ピーク値で初年 1Gbps、次年 2Gbps、最近は 3 Gbps 近くの通信がでることがあり順調に増加している。集計結果のピーク値で線形近似曲線を引くと、SINET5終了時には約5 Gbpsになり、現行ペースで増加した場合は 10Gbps 回線で足りる。
しかし、SINET を提供している国立情報学研究所（NII）開催のオープンフォーラム等でクラウドについての講演が多くされており、クラウド利用等によって現行以上のペースで通信量増加する可能性が高い。現行以上のペース増加を想定して近似指数曲線で予測を出すと、2 年目で流出ピーク値が、5 年目で流入ピーク値が 10Gbps を超える結果となる。
幸い、NINET5 期間中に回線増加の機会を設けると NII より案内があるので、SINET 5 開始時は 10Gbps で接続し、ネットワー
ク使用量状況をみて途中で回線を追加することで対応できると考える。

コラム

今年度の活動

計算科学技術二係

長屋

貴量

自分は研究所全体のネットワークの管理運用を行っています。今年度も脆弱性の問題で悩まされた一年でした。
研究室・施設の Web サイトを公開するために用いられる Linux 系 Web サーバーについて、4 月中旬に HeartBleed、9 月下旬に Shellshock、10 月中旬に POODLE と、名前が付くような重篤な脆弱性が次々と発見・公表されました。これら問題が発見される度、各 Web サーバー管理者に対して、問題となったプログラムの更新版を適用し設定状況を確認するよう依頼を出すと同時に、脆弱性を突く疑わしい通信が検知されていないのか、ファイヤーウォールのログを注視する事態となりました。
Web サーバーで標準的に搭載されるソフト以外では、Web サイトのコンテンツを管理するソフトである Drupal でも脆弱性が見つかりました。この Drupal は自分がよく用いている事もありアップデート公開時にたまたま速やかに対応していましたが、もし更新対応が数時間遅れていれば、手の打ちようがない状況であった事が後でわかりました。問題になる前に対応を完了させていたことは、偶然の幸運でした。
サーバーではなく一般の PC でも、岡崎 3 機関で共通して調達しているアンチウィルスソフトで脆弱性が見つかっています。
今年度はこのように脆弱性がいくつも見つかり対応に追われていましたが、来年度はこの数が減ってほしいと切に願っています。

分子科学研究所技術課報告 201459

技術レポート 学術支援班

ラマン分光法による電子状態の研究
売市

幹大 学術支援係

キーワード：分光法、電荷移動塩、相転移、電子状態

2014 年分子科学討論会。石川ら、2015 年化学会春季年

はじめに
様々なテーマで他大学との協力研究を行った。ラマン分会）。

光法およびＸ線結晶構造解析を用いて電荷移動塩の電子状態を明らかにした。それらの成果は国内の学会で発表され、あるものは論文誌に掲載された。

ナノテクノロジープラットフォーム
ナノプラットの立ち上げに伴い、FT 赤外と顕微ラマン
分光装置を支援要素として担当している。ラマン分光器のビフェロセン-TCNQ系電荷移動塩の電子状態

利用者数は順調に増加しており、平日のみの稼動というこ

持田（神戸大）らはジネオペンチルビフェロセンとともあって、希望日時が重なる場合もあり申し訳なく感じ

Cl1 -TCNQ の錯体を合成し、Ｘ線結晶構造解析より成分ているほどである。FT 赤外についても民間からの利用の比が２：７であることを突き止めた。この塩の電荷移動度

問い合わせがあり、遠赤外までの測定が可能というこの装とラマン測定により Cl1 -TCNQ の価数や状態を見積もり、置の特徴を活かせるようサンプル作成法について検討を進

1)磁性の挙動との整合性を明らかにした。

めている。両装置とも利用者自身による測定であるが、マニュアルを作成したことで誤操作による不具合が防がれて

非局在型一重項ビラジカルの強い分子間相互作用の実験的解明いる。

久保（阪大）らはこれまでにフェナレニルという不対電子とπ共役系を融合させることで高い非局在化能を有する
安定な一重項ビラジカル種の研究を行ってきた。その中でも結晶中でπ−π一次元鎖を形成した化合物は分子間の不対電子環相互作用の働いていることが構造解析の結果予測された。電子スペクトルの測定を共同研究で行い、溶液中よりも大幅な低エネルギー領域に吸収を与えることを明らかにした。またπ共役系の長さを変えた類縁体と比較する
ことで固体中の分子集合体としての長波長シフトとビラジ
カル性の関係が明らかになった。またこの化合物の電荷移
動錯体の絶縁化の機構を明らかにした。
■ 参考文献TTF類縁体の振動スペクトル
TTF の類縁体およびそれらのラジカル塩について分子振動に関する情報を得るためラマンスペクトルを測定した。
この結果に対し中野、石川（京大）らのグループが振動解
析に基づき振動スペクトルの帰属を行った。スペクトルの温度依存性と合わせることでそれぞれのドナーの電荷分離の状態と相転移の関係について明らかにした 2 )（石川ら、60

分子科学研究所技術課報告 2014

1 ) T. Mochida et al., Chem. Commun., 5 0 , 1 3 3 7 0(2014)
2) M. Ishikawa et al., Eur. J. Inorg. Chem., 3941 (2014)

技術レポート 学術支援班

コラム

開放的なオフィス整備

学術支援二係

内山功一

世の中には、オープンオフィスという考え方があります。オープンソース方式で開発されたオフィス統合環境のソフトウェア群に、オープンオフィスソフトウェアがあります。今回はそちらの話では無く、開かれた広い空間にスタッフが一堂に会するオフィ
スルームスタイルを指すオープンオフィスについてお話いたします。
分子科学研究所では 2013 年 4 月に、新しく協奏分子システム研究センター（CIMoS）を発足しました。このセンターには、生命科学、物質科学、理論・計算科学などの異なる学問分野の研究者が所属し、それぞれの研究者が分野の垣根を越えて日々研究を行っています。このセンターの拠点整備を行う際、センター長が打ち出したプランが廊下と隣接する部屋の壁を取り払い一つの大きな居室空間とするオープンオフィス構想でした。このプランを実現するために教員や事務方と何度も打ち合わせを行い、限られた財源の中でより快適なオフィス空間になるようアイデアを盛り込んでいきました。従来型の個別に区切られた居室スペースに比べてそれぞれの研究者が交流しやすく、知的好奇心を喚起してその相互作用が生まれるような空間になったと思います。
同様な事例として、装置開発室の居室が今までメカトロニクスセクション、
エレクトロニクスセクションとそれぞれ別であったものを、隣接する 3 室の壁を取り除きオープンオフィスとして改修を行いました。また、ガラスパーティ
ションを多用してオープンオフィスのような開放感のある室内改修事例も今年だけで 3 件ありました。
大企業で取り入れられている開放的なオフィス作りの流れが、少しずつではありますが分子研にも到来しているようです。

分子科学研究所技術課報告 201461

分子科学研究所技術課
Activity Report 2014
発行年月

平成 27 年 5 月

発大学共同利用機関法人 自然科学研究機構

行

分子科学研究所

技術課〒 444 - 8585
愛知県岡崎市明大寺町字西郷中 38
デザイン

原

印

株式会社コームラ

刷

田

美

幸

本誌記載記事の無断転載を禁じます分子科学研究所
技術課
Activity Report 2014

自然科学研究機構

http://www.tech.ims.ac.jp/

No.30

大学共同利用機関法人

分子科学研究所 技術課 Activity Report 2014〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中 38 番地