会

告第41回熊谷記念真空科学論文賞，第41回真空技術賞，第25回真空進歩賞，第 5 回真空会誌賞
候 補 業 績 募 集 要 項
一般社団法人日本真空学会
本賞は真空科学，真空技術およびその関連分野など（たとえば，表面・薄膜などの分野も含む）の発展に寄与するために，この分野で公表された顕著な業績を「表彰規程」（下記）にしたがって表彰するもので，第 6 回真空科学国際会議開催を記念する基金，熊谷記念基金及び寄付金をもって運用されています．なお，表彰対象となる論文は本誌掲載のものに限りますのでご注意ください．（受賞対象に関しましては，過去10年間の表彰業績一覧をご参照ください．）
論文賞・技術賞・進歩賞・会誌賞候補に推薦され，また応募された業績に対して審査を行いますので，自薦他薦とも下記要
領によりご応募下さい．
1.

提出書類候補業績名（論文の場合は論文名），公表年月日（論文の場合は「J. Vac. Soc. Jpn.」号，巻，頁）推薦理由
または応募理由（400字以内），および推薦者名または応募者名を明記した A4 判書きの書類（書式任意）2.

提出先一般社団法人日本真空学会事務局〒1050011 東京都港区芝公園 358 機械振興会館306号室

TEL : (03）34314395，Email: ofcvsj＠vacuumjp.org

3.

論文等の表彰対象本誌の Vol. 58, No. 4 から Vol. 59, No. 3（平成27年 4 月～平成28年 3 月）に掲載された論文

4.

提出期限平成28年 5 月27日（金）（厳守）

以上

表彰規程
第条

この規定は真空科学および真空技術の向上と発展に

第条

真空会誌賞の対象は，原則として表彰を行う年の 3寄与した顕著な業績に対して日本真空学会が行なう表彰に

月 ま で の 1 年 間 に 発 刊 さ れ た 「 JOURNAL

ついて定める．

VACUUM SOCIETY OF JAPAN」誌に掲載された原著論

第条

OFTHE

真空科学に関する表彰を「熊谷記念真空科学論文

文以外の記事で，会員にとって啓発的，教育的であり，真賞」，真空技術に関する表彰を「真空技術賞」，若手会員の空科学および真空技術の進歩向上を促すものとする．ただ業績を表彰するものを「真空進歩賞」，会員への啓蒙に関する表彰を「真空会誌賞」という．
第条

し数年にわたって継続発表されたものを含む．
第条

表彰は第 5 条，第 6 条，第 7 条，第 8 条に該当す

この表彰の基金は第 6 回真空科学国際会議記念基る業績をあげた個人または団体に対する賞状および副賞記金と寄附金をもって当てる．表彰に要する経費は基金の利念品贈呈をもって行なう．賞状は共同研究，共同開発の場息をもって当てることを原則とする．
第条

表彰への応募資格および被推薦資格は原則として本会会員による業績とする．
第条

合には関係者全員に贈り，団体の場合にはその代表者 1名に贈る．
第条

表彰件数は原則として毎年「熊谷記念真空科学論文

熊谷記念真空科学論文賞の対象は，原則として表彰賞」「真空技術賞」「真空進歩賞」および「真空会誌賞」各を行う年の 3 月までの 1 年間に発刊された「 JOURNAL1 件とし，該当するものの無い場合には取り止め，次年度OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN」誌に発表さに繰り越さない．

れた独創的な優秀論文とする．ただし数年にわたって継続発表されたものを含む．
第条

真空技術賞の対象は，表彰を行う年の 3 月までに公知となっている優れた製品，開発された新技術および技術論文などとする．ただし，技術論文は原則として表彰を行う年の 3 月までの 1 年間に発刊された「JOURNAL OF

第条
第条
第条

理事会は前条により提出された受賞業績候補について，審議のうえ，受賞業績ならびに受賞者を決定する．
第条

ものに限る．

附則

真空進歩賞は真空に関する学理および技術の進歩に1.

貢献する当該年度 4 月 1 日現在 39 歳以下の若手会員の業2.

績を表彰するものとする．

受賞候補は会員より推薦された候補から，表彰審査会が選考を行い理事会に提案する．

THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN」誌に発表された第条

表彰は毎年真空に関する連合講演会会期中に会長が行なう．

この規程の改廃は理事会の決議による．

この規程は昭和51年 2 月21日より施行する．
こ の 規 程 は 平 成 24 年 1 月 18 日 開 催 の 理 事 会 で 改 定
し，平成24年 2 月28日より施行する．

過去10年間の表彰業績一覧
第回熊谷記念真空科学論文賞（平成年度）

第回真空技術賞（平成年度）

第回真空技術賞（平成年度）｢硬質 BN 膜の切削工具への応用」｢極高真空用残留ガス分析計の開発」
有 真空実験室）
渡辺文夫（

野間正男，小松永治（神港精機株式会社），所｢高濃度オゾンガス局所リアルタイム濃度測定法の開発」
佐藤陽亮（産業技術総合研究所，東京理科大学）郎（滋賀県立大学）
第回熊谷記念真空科学論文賞（平成年度）「テーパー管の通過確率の近似式」

第回真空進歩賞（平成年度）｢鏡面反射成分を考慮したオリフィス透過確率のモンテ

松田七美男（東京電機大学）
第回真空技術賞（平成年度）

カルロシミュレーション」「 3 次元立体アルミニウムマスクを用いたシリコン基板

真範（産業技術総合研究所）

第回熊谷記念真空科学論文賞（平成年度）｢熱尖端流によって駆動される真空ポンプ内の希薄気流の反応性イオンエッチング加工技術の開発」
勝又信行，石田正文（山梨県工業技術センター）
第回真空技術賞（平成年度）の数値解析」
杉元敏夫（滋賀県東北部工業技術センター），小川圭二，中川平三

第回真空進歩賞（平成年度）

城

イオンの観測」
立花隆行（立教大学先端科学計測研究センター）

該当なし

宏（京都大学工学研究科航空宇宙工学専攻）「半導体デバイス解析用局所プラズマ加工装置の開発」
新堀俊一郎，白山裕也，川上辰男，横須賀俊太郎，樫村

第回真空技術賞（平成年度）｢チタンの真空特性の研究と真空材料としての応用」

健太（株式会社三友製作所），綿谷松浦

藤泰久，徳本洋志（独立行政法人産業技術総合研究所）

満，栗巣普揮，山本節夫，木本剛，藤井寛朗，田中和彦（山口大学工学部）
石澤克修，野村健，村重信之（三愛プラント工業株式透，清水哲夫，内第回真空進歩賞（平成年度）「Pt 表面における分子反応の研究」
近藤剛弘（筑波大学）

会社）
森本高志，部坂正樹（新光産業株式会社）

第回真空技術賞（平成年度）

宗山悦博，竹田将利，國重敦弘，中川浜三，白水啓太，「小型高性能力覚センサを用いたロールツーロールスパ

二井裕之（株式会社 UBE 科学分析センター）

ッタ装置用張力計測システム」

第回真空技術賞（平成年度）｢大口径・長尺アルミナセラミックダクトの製作」
壁谷善三郎（三菱重工業株式会社）

近藤真也，玉置肇（株式会社アサヒ電子研究所），小川倉一（小川創造技術研究所）
第回真空技術賞（平成年度）

金正倫計（原子力開発研究機構）「極高真空測定子（Bent Belt-Beam Gauge Head）の開齊藤芳男（高エネルギー加速器研究機構）

発」

荻原徳男（原子力開発研究機構）

渡辺文夫（有限会社真空実験室）

第回真空進歩賞（平成年度）｢リアルタイム光電子分光観察を用いた表面研究」
小川修一（東北大学多元物質科学研究所）
第回熊谷記念真空科学論文賞（平成年度）

第回真空進歩賞（平成年度）「隔膜真空計を用いた圧力測定のための熱遷移補正」
吉田肇（独立行政法人産業技術総合研究所）

第回真空技術賞（平成年度）「ラジカル窒化シリコン酸窒化膜における窒素プロファ｢環境制御型透過電子顕微鏡の開発とその応用」

イルの X 線光電子分光分析による評価」

矢口紀恵，長久保康平，松本弘昭，柿林博司（株式会社河瀬和雅（三菱電機)・梅田浩司・井上真雄（ルネサス

日立ハイテクノロジーズ），上野武夫（山梨大学燃料電テクノロジ)・諏訪智之・寺本章伸・服部健雄・大見忠

池ナノ材料研究センター）

弘（東北大学）
第回真空技術賞（平成年度）「マイクロ/ナノイオンビームの生成技術」
成沢忠（高知工科大学），根引拓也（高知工科大学）

第回真空進歩賞（平成年度）

第回真空進歩賞（平成年度）｢Ag (111)表面上の水素分子のオルソ・パラ転換におけるファン・デル・ワールス力の影響」
國貞雄治（大阪大学大学院工学研究科）
第回真空進歩賞（平成年度）「高速陽子の散乱を用いたイオン結晶表面の構造解析」｢Formation of WO3 Reduction Coloring Thin Film Using

深澤優子（大阪教育大学教育学部）

a Combination Sputtering Method Featuring Radio―

第回真空進歩賞（平成年度）「ネオン固体表面上からイオン衝撃脱離するクラスター

Frequency Oxygen Plasma Irradiation」

野口大輔（都城工業高等専門学校物質工学科）

第回真空会誌賞（平成年度）

第回真空進歩賞（平成年度）｢物理的蒸着法による薄膜のナノ形態制御」
鈴木基史（京都大学大学院工学研究科）「圧力―吸着状態密度変換式による水排気曲線の解析」
武安光太郎（東京大学生産技術研究所）

第回真空技術賞（平成年度）

第回真空会誌賞（平成年度）「活性酸素を利用した医療用滅菌器およびそのモニター から」「表面分析の基礎

開発」

吉原一紘（オミクロンナノテクノロジージャパン株式会

吉野潔，松本裕之，岩崎達行，木下忍（岩崎電気株式会社），野田和俊（産業技術総合研究所），岩森暁（東海大工学部）
第回真空進歩賞（平成年度）「ルチルチタニア表面上の水の吸着及び解離に関する密社）

真空技術賞（平成27年度）
第回熊谷記念真空科学論文賞（平成年度）「大気圧走査電子顕微鏡の開発」
大南祐介（株式会社日立ハイテクノロジーズ）
第回真空進歩賞（平成年度）

度汎関数解析」「プラズマプロセスにおける異常放電検出システムの開Susan Me ãnez ASPERA（大阪大学大学院工学研究科）発」

第回真空会誌賞（平成年度）「真空・薄膜徒然草 120」
金原粲（東京大学名誉教授）

第回熊谷記念真空科学論文賞（平成年度）

笠嶋悠司（国立研究開発法人産業技術総合研究所）
第回真空会誌賞（平成年度）
」
「［随想］うたかたの記「［講座］電子ストレージリング真空系ハードウェア

「真空容器の排気過程に関する新しい物理的描像の提唱」

 ―うたかたの記 番外編―」
杉本敏樹（京都大学大学院理学研究科），武安光太郎，

小林正典（高エネルギー加速器研究機構名誉教授）

福谷克之（東京大学生産技術研究所）
第回真空技術賞（平成年度）

第回真空会誌賞（平成年度）「［解説］スピン偏極低エネルギー電子顕微鏡」「マイクロコイル真空計およびマイクロハクマク真空計

越川孝範，鈴木雅彦（大阪電気通信大学），安江常夫の開発」（大阪電気通信大学）， E. Bauer（アリゾナ州立大学），岡野夕紀子，田尻修一（株式会社岡野製作所），岡本昭

中西夫（大阪府立産業技術総合研究所），小川倉一（小川創シンクロトロン光センター）

造技術研究所），美馬宏司（大阪市立大学）

彊，金秀光（名古屋大学），竹田美和（あいち