124

PWR１次冷却材環境下で生成した600合金の皮膜構造解析
Structural Analysis of Surface Film on Alloy 600 Formed under Environment of PWR Primary Water＊
寺地 巧（Takumi Terachi）

戸塚＊信夫（Nobuo Totsuka）

山田 卓陽（Takuyo Yamada）＊ 中川 朋和（Tomokazu Nakagawa）＊＊†
出口 博史（Hiroshi Deguchi）

堀内††
正樹（Masaki Horiuchi）

押谷 正人（Masato Oshitani）††

要約 600合金のPWSCC感受性は溶存水素濃度に依存することが著者の一人などにより指摘されているが，その機構は十分に解明されていない．そこで，これを明らかにするために，Ｘ線回折装置，走査電子顕微鏡および透過型電子顕微鏡を用いて，PWR１次冷却材環境下で生成した皮膜の構造解析を実施した．特に精度の高い解析を行うため，薄膜Ｘ線回折測定にはSPring-８の放射光を利用した．
その結果，以下のことが明らかになった．①溶存水素を含まない環境では，皮膜はNiOを主体として形成する．②溶存水素濃度（DH）2.75ppm以上の環境では，比較的薄いスピネル酸化物から成る皮膜を生成する．③DH １ppmの皮膜では，表層に針状酸化物を形成する．DH１ppmの近傍にNiOとスピネル酸化物が安定に生成する境界があると考えられ，PWSCC感受性がピークとなるDH領域と一致していることから，NiO／スピネル酸化物の境界で生成する皮膜がSCC感受性に影響を及ぼしていることが示唆される．
キーワード

600合金，皮膜，XRD，TEM，水素濃度，PWR１次冷却材，SPring-８

Abstract
It has been shown by one of the present authors and so forth that PWSCC of alloy 600
relates to dissolved hydrogen concentration(DH) in water and oxide film structure. However, themechanism of PWSCC has not been clear yet. Therefore, in order to investigate relationship between them,structural analysis of the oxide film formed under the environment of PWR primary water was carried out
by using X-ray diffraction, the scanning electron microscope and the transmission electron microscope.
Especially, to perform accurate analysis, the synchrotron orbital radiation with SPring-8 was tried to use forthin film X-ray diffraction measurement.
From the results, observed are as follows: ①the oxide film is mainly composed of NiO, under thecondition without hydrogen. ②In the environment of DH 2.75ppm, the oxide film forms thin spinel
structures. ③On the other hand, needlelike oxides are formed at DH 1ppm. For this reason, around 1ppm
of DH there would be the boundary that stable NiO and spinel oxide generate, and it agrees with the peak
range of the PWSCC susceptibility on hydrogen. From this, it is suggested that the boundary of NiO /spinel oxide affects the SCC susceptibility.
Keywords

alloy 600, surface films, XRD, TEM, hydrogen content, PWR primary water, SPring-8

1． 緒言が発生しており，原子力発電所の安全運転を続ける
ためにも，そのメカニズム解明は急務とされている．

加圧水型軽水炉（pressurized water reactor, PWR）の600合金のPWSCCについては多くの研究が実施さ１次系構造材における重要な経年劣化事象の一つとれておりs〜¡1，いくつかのメカニズムが提案されてして，１次冷却材応力腐食割れ（primary water stress

いる．その中で，現在多くの支持を受けている仮説

corrosion cracking, PWSCC）が知られているa．特にの一つとして水素脆化説があるsf．この説は，材料

PWR１次系で接合部などに用いる重要な構造材であ中に吸収された水素がSCCを引き起こすと考えるもる600合金は，実機でもそのPWSCCによる損傷事例のであり，水素の供給源としては材料の腐食反応に＊ （株）原子力安全システム研究所 技術システム研究所＊＊（株）原子力安全システム研究所 技術システム研究所† 関西電力（株） 総合技術研究所†† 関電化工（株）

現在

関西電力
（株）

125

よって発生するものが有力と考えられる．つまりこに1000時間浸した．また，皮膜に与えるDHの影響をの仮説では，皮膜の生成反応が材料中への水素取込確認する目的で，DH量0, 1, 2.75, ４ppmの４種類につ量に影響すると考えられ，特にき裂の発生段階では，

いて各々皮膜生成処理をおこなった．

皮膜生成反応がPWSCC感受性に大きく寄与すると予
表１

想される．

試料の化学成分（wt％）

一方，PWSCC感受性に溶存水素濃度（DH）が影響

C

Si

Mn

P

S

Ni

Cr

Fe

Cu

1
するとの報告がある l¡0¡．具体的には，360℃では

0.030

0.35

0.36

0.009

0.001

74.85

16.16

8.64

0.01

DH 2.75 ppm，320℃ではDH１ppm付近にPWSCC感受性ピークがあるとしたもので，これについては
Ni/NiO境界の平衡水素分圧による影響と¡0，材料中への水素吸収反応の変化との考え方がある ¡1．そこで
PWSCCのメカニズムを解明するために，皮膜の構造が溶存水素濃度により，いかに変化するかを観察することにした．
既に共著の一部はPWR１次冷却材環境下で生成す2.2

薄膜X線回折薄膜X線回折には（財）高輝度光科学研究センターの
大型放射光施設SPring-８を利用し，産業界ビームラ
インBL16XUにおいて測定を実施した．測定条件の詳細を表２に示す．

る皮膜について，オージェ電子分光法（AES）およびX線光電子分光法（XPS）による分析結果を報告している¡1．その結果，DH １ppm以下の環境ではNiの表２ SPring-８X線回折装置の測定条件
ビームライン名称

BL16XU

放射光のエネルギー

15 keV（単色線）

入射４象限スリット

0.1×5.0mm

受光スリット（アナライザー結晶前）3.0×5.0mm

皮膜構造と溶存水素濃度の関係を明らかにすること

受光スリット（アナライザー結晶後）

3.0×5.0mm

であり，その方法としてX線回折装置（XRD）による

NaI
（Tl）
シンチレータ Hv

1.0 kV2θ範囲

15.4〜33.0 度（step 0.005 度）

入射角0.1, 0.2, 0.5, 1 度

1サンプルの測定時間

約４時間

多い皮膜を形成し，DH ２ppm，４ppmではCrおよびFeの割合が比較的多い皮膜を生成することが確認できた．600合金の皮膜については，他にも観察例があり，皮膜が層構造を形成するとの報告があるjk．しかし，皮膜の結晶構造や層構造および溶存水素の影
響について，明確に観察したものはない．
本研究の目的は，PWR１次冷却材環境で生成した結晶構造の解析および，透過電子顕微鏡（TEM）を用いた断面観察を実施した．特にＸ線解析装置には，大型放射光施設SPring-８を利用し，精度の高い解析を目標とした．

2． 実験の方法
2.1

供試材および皮膜処理

図２は今回使用したビームラインのＸ線回折装置
写真である．15keVに単色化した放射光を，左側から使用した供試材は，真空溶解材を熱間鍛造，熱間圧延，冷間圧延加工した後，ミル焼鈍（MA）処理として980℃で，30分保持後水冷したものである．試験
片の化学成分を表１に示す．試験片の作成には，放電加工機を使用し，40mm×８mm×２mmの短冊形状に加工した．なお，表面はエメリー紙で＃1200まで
湿式研磨後，バフ研磨により鏡面仕上げを行った．
皮膜処理にはオートクレーブを用い，PWR１次冷却材を模擬した環境 （B:500 ppm，Li:２ppm，320℃）

試料表面に対して極低角度で入射し，非常に薄い皮膜からの回折線を得た．回折線は，物質に固有のブラッグ条件を満たす２θ角度で強められ，散乱線を防止するスリットと分光結晶を介して，NaI（Tl）シンチレーション検出器で計測する．今回の測定は，４条件の入射角ωについて，２θ軸を走査することにより実施した．

126

図２ 使用したSPring-８ビームライン（BL16XU）のX線回折装置

2.3

TEMによる皮膜の断面観察

3． 実験の結果

皮膜の詳細構造を断面方向から直接観察するために，下に示す方法で試料を作成しTEM観察を実施し

3.1

SEM観察およびEDSによる組成分析
結果た ． 観 察 は（ 株 ）日 立 製 作 所 製 透 過 型 電 子 顕 微 鏡（HF3000）により，加速電圧300 kVにて行い，付属の皮膜の表面状態について観察したSEM写真を図４（株）ノーラン社製EDSを用い，皮膜の組成分析・元に示す．DH０ppmの皮膜では，表層に粒状物質と針素マッピングを実施した．

状物質が確認される．

TEM分析用試料の作成方法を図３に示す．試験片DH１ppmの皮膜は，針状の物質により構成されては１mm×１mm×0.3 mmの大きさにマイクロカッタ

おり，他の皮膜と表面状態が大きく異なることがわーにて切り出し，厚さを50μmまで研磨した．次にかる．

（株）日立製作所製集積イオンビーム加工装置（FIB：

DH 2.75 ppmと４ppmの皮膜では，粒状の物質が認

focused-ion beam）により，観察位置を厚さ0.1μｍにめられる．大きな析出物のEDSによる組成分析結果加工した．

を図４の下に示す．その結果，写真に示されたような１μm程度の粒状の析出物はCrを殆ど含まず，Ni：
Fe：Oの存在比が１：２：４程度であることがわか

Step1
0.3mm

試験片の切り出し(1mm×1mm×0.3mm)

る．これはスピネル酸化物の一つであるNiFe2O4と化学量論組成が同じであることから，主にNiFe2O4であると考えられる．

Step2 研磨

0.1μm

厚さ 0.3mm →50μm

Gaイオンビーム

Step3
ＦＩＢ微細加工厚さ 50μm→0.1μm

50μm

皮膜
母材

1mm

図３

TEM資料作成手順

127

Fe

(a)溶存水素濃度 0 ppm(b)溶存水素濃度(c)溶存水素濃度 2.75 ppm(d)溶存水素濃度 4 ppm

Cr

Cr
Ni

0%

O
50%

（c）の中に見られる大きな析出物のＥＤＳによる組成分析結果（組成比 ａ
ｔ. %）

図４

Fe
100%

0%

Ni

1 ppm

O
50%

（ｄ）の中に見られる大きな析出物のＥＤＳによる組成分析結果（組成比 ａｔ. %）SEMによる表面観察と大きな析出物のEDSによる組成分析の結果

100%

128

薄膜X線回折3.2.1

溶存水素濃度０ppm

NiO

MA６００

Normalized Intensity /arb.unit

3.2

DH０ppmで生成した皮膜の薄膜X線回折プロファ
イルを図５に示す．図５は上から0.1°，0.2°，0.5°，１°の入射角による測定結果を表しており，入射角が小さな場合ほど表層側からの回折線の影響を強く受けている．
入射角0.1度と0.2度のプロファイルではNiOのピークが見られ，入射角が大きくなるに従いNiOに変わっ

ω＝０１
. °

ω＝０２
. °

ω＝０５
. °

ω＝１°

てMA600すなわち母材のピークが確認された．この結果からDH０ppmではNiOを主体とした皮膜を形成すると考えられる．

１５.４

２０.４

２５.４

３０.４

２θ/ degree

図５

3.2.2

溶存水素濃度１ppm

溶存水素濃度０ppmで生成した皮膜の薄膜X線
回折プロファイル

Ni

SpinelMA６００を図６に示す．この皮膜では０ppmで見られたNiOのピークが確認されず，幅の広いピークが入射角0.1度のプロファイルで認められた．また，このピークの回折角はスピネル酸化物によるピーク位置に近いことが確認された．
破線で囲った範囲を拡大し，図６の右側に示す．
この領域ではMA600と重なり金属ニッケルが確認さNormalized Intensity /arb.unit

DH１ppmで生成した皮膜のX線回折プロファイル
ω＝０１
. °

ω＝０２
. °

ω＝０５
. °
ω＝１°

れた．なお，入射角0.1度でもMA600（母材）によるピークが見られるため，皮膜による回折線強度がDH０ppmのものと比較すると弱いことがわかる．

１５.４

２０.４

２５.４
２θ/ degree

図６

３０.４

２３

２３.５

２θ/ degree

溶存水素濃度１ppmで生成した皮膜の薄膜X線
回折プロファイル
左は測定した全域．右の図は金属ニッケルのピークを確認しやすくするために破線部分を拡大したもの

129

3.2.3

溶存水素濃度2.75ppm

NiSpinel

MA６００

DH 2.75 ppmで形成した皮膜の薄膜X線回折プロフ

ω＝０１
. °
Normalized Intensity /arb.unit

ァイルを図７（a）に示す．X線回折プロファイルから，表層にスピネル酸化物のピークが確認された．これ
らのピークはDH１ppmと異なり，明確なピークとして認められることから，結晶性の比較的よいスピネ
ル酸化物が形成していると考えられる．
入射角0.1度によるスピネル酸化物の（220）面による回折ピークを図７（b）に示す．ピークのフィッティングを行った結果，この回折ピークが３本で構成さ

（b）

（c）

ω＝０２
. °

ω＝０５
. °

れていることが確認できた．これらはローレンツ関ω＝１°

数でよくフィッティングされ，鋭利なピークの２θ
２０.４

１５.４

回折角度は16.14度であった．JCPDSカードによると

２５.４

３０.４

２θ/ degree

NiFe2O4の２θ回折角度は16.12度，NiCr2O4は16.11度（a）

図７（c）は，入射角0.2度によるMA600と金属ニッケ
ルのピークである．この図からDH１ppmと同様に金属ニッケルが存在することが分かる．

Normalized
Intensity /arb.unit

鋭利なピークに非常に近いことが確認された．

Normalized
Intensity /arb.unit

であり，これらのスピネル酸化物による回折角度が

１５.５

１６

１６.５

１７

２３

２３.３５ ２３.７

２θ/ degree２θ/ degree

（b）

（c）

図７

溶存水素濃度2.75ppmで生成した皮膜の薄膜X
線回折プロファイル（a）は測定した全域．破線で囲んだスピネルのピー
クを（b），Niのピークを（c）に示す．

3.2.4

溶存水素濃度４ppm

Ni

Spinel

MA６００

ω＝０１
. °

イルを図８に示す．この皮膜ではDH 2.75 ppmと同様に，スピネル酸化物と金属ニッケルが確認された．
ただし，入射角0.2度のプロファイルではスピネル酸化物によるピークがDH 2.75 ppmの場合と比較して大きいため，DH 2.75 ppmより厚い皮膜が形成されていると考えられる．

Normalized Intensity /arb.unit

DH４ppmで形成した皮膜の薄膜X線回折プロファ

１５.４

ω＝０２
. °

ω＝０５
. °

ω＝１°
２０.４

２５.４
２θ/ degree

図８

３０.４

２３ ２３.５ ２４２θ/ degree

溶存水素濃度４ppmで生成した皮膜の薄膜X線
回折プロファイル
左は測定した全域．右の図はNiピークを確認しやすくするために拡大したもの．

130

3.3

TEMによる断面観察およびEDSによ
る組成分析

3.3.1

溶存水素濃度０ppm

膜厚約610nmＮｉＯ（外層）DH０ppmの環境で生成した皮膜の断面観察結果を
図９に示す．また，EDSによるマッピングデータと電子線回折の結果を図10に示す．皮膜の外層はEDSによる分析結果と電子線回折像からNiOであることが確認された．内層にはCr，Niを主体とした酸化物層

内層酸化物が存在し，膜厚は約610nmであった．

母材
Fe

A

Cr

B

Ni

C

O

0%

100%

50%
組成比 (at. %)図９

皮膜断面のTEM像（上）およびEDSによる分析結果（下）

NiO
（１１１）

回折リング

（２００）
（２２０）

（２２０）
回折スポット（０００）

電子線回折像 : NiOによる回折リングとスポットが確認される。

Fe

図10

Cr

Ni

O

溶存水素濃度０cc/kg H2Oで生成した皮膜のSTEM像（左上）とその電子回折図（右上）およびEDSによるマッピングデータ（下）

131

3.3.2

膜厚 約530nm

溶存水素濃度１ppm

DH１ppmで生成した皮膜断面観察の結果を図11に示す．また，EDSによるマッピングデータと電子線回折の結果を図12に示す．図11の断面観察から，針針状酸化物

状酸化物による層と，母材よりNiが濃化したNiリッチ層が確認された．なお，この針状酸化物は図12に示すように電子線回折によって，スピネル酸化物に極薄いCrリッチ層

近いパターンが得られた（下）．
Niリッチ層図12に示した酸素のマッピングデータから母材と皮膜の間に，特に酸素濃度が高い領域が存在するこ母材とが確認できる．この領域はCr濃度も同様に高いため，Niリッチ層の上に極薄いCrリッチ層が存在する

AFeと考えられる．

B

Cr

C

Ni

D

O
0%

100%

50%

組成比 (at. %)図11

皮膜断面のTEM像（上）およびEDSによる分析結果（下）

スピネル酸化物
（４００）
（１１１）
（３１１）
（２２２）

回折スポット

電子線回折像 : スピネル酸化物のスポットに近いが、完全には一致していない。

Fe

図12

Cr

Ni

O

溶存水素濃度１ppmのSTEM像（左上）とその電子回折図（右上）およびEDSによるマッピングデータ（下）

132

3.3.3

溶存水素濃度４ppm

膜厚 約130nm

DH４ppmで生成した皮膜の断面観察結果を図13に示す．表層はCr, Niを主成分としたスピネル酸化物にスピネル酸化物
極薄いCrリッチ層
Niリッチ層

覆われており，内層にNiリッチな層があることがわ
かる．また，皮膜厚さは約130nmであり，０ppmおよび１ppmで生成した皮膜と比べて薄い事が確認され母材た．
EDSによるマッピングデータと電子線回折の結果を図14に示す．Niのマッピングデータから，スピネ
ル酸化物とNiリッチ層の間にNiが少ない領域が見られる．この領域はCrと酸素が多い領域に一致しているため，薄いCrリッチな酸化物層が存在すると考え
られる．

A

Fe

B

Cr

C

Ni
0%

50%

100%

O

組成比 (at. %)図13

皮膜断面のTEM像（上）およびEDSによる分析結果（下）

スピネル酸化物
（111）
（220）
（311）
（222）
（400）
（311）
（422）
（000）
（111）fcc のスポット

電子線回折像 : スピネル酸化物によるリングとfccのスポットが確認される。

Fe

図14

Cr

Ni

O

溶存水素濃度４ppmで生成した皮膜のSTEM像（左上）とその電子回折図（右上）およびEDSによるマッピ
ングデータ（下）STEM像中央から左下にかけてコントラストがついている部分は，粒界を示している．

133

状酸化物によるものと推察される．また，図６では4． 考察

入射角0.1度でも母材の回折線が強く検出されており，

4.1

皮膜からのX線回折強度が非常に弱いことが確認され溶存水素濃度と皮膜構造の関係ている．このことから，DH１ppmでは緻密な均一結
320℃のPWR１次冷却材環境で生成したMA600の皮晶を構成していないと考えられる．

膜は，SPring-８での測定結果とTEMによる断面観察4.2から，図15に示す模式図で表すことができる．

皮膜構造と熱力学的に安定な物質

DH０ppmの環境では，NiOによる比較的厚い皮膜が形成されている．この環境において純Niは熱力学的にNiOとして安定であるため，Ni基合金である
MA600の表層に厚いNiOが生成していることは妥当と考えられる．また，NiOの層の下にCr含有量の多い内

ここで，前述した皮膜構造の妥当性について検討
する．
NiOとNiFe2O4の水素による還元は，次の化学式により表すことができる．

層があることがTEM分析により確認された．
溶存水素を含む環境では，皮膜の内側に金属ニッ

NiO + H2 = Ni + H2Oa

３NiFe2O4 +４H2 =３Ni +２Fe3O4 +４H2O

s

ケルが認められた．これはCrとFeの選択溶解により金属ニッケルが残存し，その結果母材の表層で濃化したと解釈できる．一方，溶出したCrとFeは表層で酸化物として再析出し，Crリッチ酸化物層とスピネ

この化学式に対する自由エネルギー変化（ΔG）はル酸化物を形成したと推察される．また，DH２ppm

5
容易に求まるため ¡3¡4¡，次式により平衡定数Kを算以上の皮膜はCrとNiの割合が高いことが確認されて出することが可能である．

い る た め ¡2， 析 出 し た ス ピ ネ ル 酸 化 物 の 多 く は
NiCr2O4である可能性が高い．ただし，SEM写真で見d

ΔG＝−RT lnK

られた１μm程度の大きな析出物は，EDSの組成分析
ただし，Rは気体定数（8.314 J・mol-１・K-１），ＴはからNiFe2O4であることが明らかである．
DH１ppmの皮膜ではSEM観察およびTEM観察か絶対温度である．一方，a式に対する平衡定数 Kはf

ら，針状酸化物が認められた．この針状酸化物によ式で表される．また，a式ではH 2以外の物質の活量

る電子線回折像（図12）からは，スピネル酸化物にが１と定義できるため，ヘンリー定数¡6を与えること近いパターンが得られたが，完全には一致しなかっで平衡電位に相当する水素分圧が容易に求まる．

た．これは各々の針状酸化物が格子の歪みを持つためと推定される．この場合，X線回折法では明確なピークとして現れず，幅が広いピークとなるため，X線［H2O］
K=［Ni］
［NiO］
［H2］

f

回折法で見られた幅が広いピーク（図６）はこの針

約610nm

NiFe2O4
NiOリッチスピネル酸化物

針状酸化物

Crリッチ酸化物層
Niリッチ層母材(MA600)
0

1

2.75

4 (ppm)

溶存水素濃度図15

MA600の溶存水素環境（320℃）における皮膜と溶存水素濃度の関係

134

この理論式に基づいて計算した，NiOおよび

5． まとめNiFe2O4がNiに還元される平衡溶存水素濃度を，図16に示す．また，今回皮膜分析を行った環境と表層のPWR１次冷却材の環境で生成する600合金の皮膜と溶存水素濃度の関係について，SEM/EDS, TEM/EDS,

主な生成物も図中に書き加えた．
600合金について，熱力学的に安定な物質を検討す

XRDにより分析を実施した結果，以下の知見を得た．

る場合，Ni/NiO境界について取り上げられることが多い．ただし，本研究でも分かるようにNi安定領域でも実際の皮膜表層はスピネル酸化物を形成している．これは，材料中にFe, Crが存在するためであり，

a DH０ppmの環境ではNiOを主体とした皮膜を生成する．
s DH１ppmの環境ではNiOではなく，針状酸化物を主体とした皮膜を形成する．

これらを無視することはできない．
実験結果では320℃，DH 2.75 ppmの環境において

d DH 2.75 ppmと４ppmの環境ではスピネル酸化物

スピネル酸化物が表層に確認された．この領域はによる薄い皮膜を形成し，皮膜と母材の間には金Ni/NiO境界のみに着目するとNi安定領域に入るが，属ニッケルが濃化した領域が存在する．

図16に示したとおりFeが存在する環境ではスピネル

f DH１ppmの領域はNiO／スピネル酸化物の境界付

酸化物として安定化する領域である．つまり，この近と考えられ，緻密な均一結晶による皮膜を構成DH濃度では600合金表面に充分なFe, Crが存在するとしないと推定される．この環境はPWSCC感受性

考えられる．言い換えれば，溶存水素の作用により，のピーク領域であるため¡1，皮膜の安定性がSCC

Fe, Crが母材表層へ移動したと理解できる．

感受性に影響を及ぼしていることが示唆される．

DH１ppmの環境では針状酸化物が確認されている．
この領域はNiOとスピネル酸化物の境界に位置してい謝辞

ると予想され，そのために安定な粒状の結晶を生成
本研究の実験手法について有益なご指導を下さっし得なかったと考えられる．
DH１ppm の領域にはPWSCC感受性のピークが報告

た，（財）高輝度光科学研究センターの菊田 惺志

副されており¡1，この領域とNiO／スピネル酸化物の境

所長 以下（財）高輝度光科学研究センターの皆様に心界が一致しているため，SCC感受性と何らかの関連より感謝致します．
更に，本研究の実施にあたり多大な協力を頂いた性があることが伺える．

（財）電力中央研究所の山本 融 博士と（株）テクノ・サ
NiO

針状酸化物

ービスの野口 真一 氏および（株）原子力安全システム

スピネル酸化物研究所の金島 慶在氏，千葉 吾郎氏，福村 卓也氏，西３４０

川 嘉人氏に深く感謝いたします．

温度（℃）

３３０

文献

３２０
３１０

a H. Coriou, L. Grall, M. Pelras and S. Vettier, Third

３００

Metallurgy Conference on Corrosion, Saclay, North
Holland Publishing Co., Amsterdam, 161(1959).

２９０

s 戸塚信夫,「加圧水型原子炉一次冷却材中でのニッ

２８０ケル基合金の応力腐食割れに関する研究」, 博士学
０

図16

１

２

３

４

５

６

７

位論文, 東北大学工学研究科, 1998年.

溶存水素濃度（ppm）

d L. E. Thomas, S. M. Bruemmer, "High-Resolution

Ni/NiO境界およびNi/NiF2O4境界の電位に相当する溶存水素濃度

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Corrosion Cracking of Alloy 600 in High-Temperature
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135

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j C. Soustelle, M. Foucault, P. Combrade, "PWSCC OF
ALLOY 600: A PARAMETRIC STUDY OF
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