知的財産報告書
2017

1．コア技術と事業戦略

コニカミノルタ株式会社（以下当社）は、材料 / 光学 / 画像 / 微細加工といった「コア技術」を高度に融合して新しい価値を創造しています。2017 年度に発表した事業領域を「基盤」
「、成長」
「、新規」
中期経営計画「SHINKA 2019」※ 1 において、の 3 領域に特定し、高収益事業実現にむけ、上述の「コア技術」を活用し、さらにオープンイノベーションの相乗効果により、それぞれの領域にあった様々な施策を実行しています。中でも「新規」は、「コア技術」をさらに発展させ、IoT時代の社会に新たな価値を提供できる高収益の事業の創出に注力しています。
コア技術
 機能性有機材料合成
 機能性有機材料設計
 機能性微粒子形成
 製膜・コーティング

 画像処理 作像プロセス
 搬送
 精密プロセス

材料分野

画像分野

技術の融合

オープンイノベーション

資産Ｘ

光学分野

微細加工分野 光学設計 光計測

 精密成型 表面加工オフィスカラー A3MFP（複合機）

Ｘ

顧客基盤

LondonShanghaiTokyo

Silicon ValleySingapore

 エッジ IoT プラットフォーム「Workplace Hub」

テキスタイルプリンター

X 線画像診断システム

WCc
センサーボックス
起床

光源色計測機

基盤事業

デジタル印刷システム

有機 EL 照明

成長事業

• 高付加価値への集中• M&A の成果極大化• グローバルコスト構造改革• デジタル顧客価値の深耕と収益拡大• 事業単位での ROIC 管理

転倒

ケアサポートソリューション

新規事業• IoT 時代の高収益
ビジネスモデル確立• 経営基盤の構築※ 1 中期経営計画「SHINKA 2019」に関する当社サイト：
https://www.konicaminolta.jp/about/investors/management/midterm_plan_presentations/index.html© KONICA MINOLTA - 1 -2．事業を支える研究開発と知的財産

当社の事業別売上高比率（左下グラフ参照）に比べ、研究開発費用比率では「産業用材料・機器事業」、「その他」への比率が高くなっています（右下グラフ参照）。
これは「新規事業」「成長事業」を含むこれらの領域への研究開発投資を積極的に行っていることを表しています。
2016 年度事業別売上高比率
産業用材料・機器事業

その他

2016 年度事業別研究開発費用比率1%

産業用材料・機器事業

9%

16%

その他

18%

ヘルスケア事業

9%

研究開発
費用

売上高

9,626 億円

732 億円
情報機器事業

80%

情報機器事業59%

ヘルスケア事業7%

当社の特許出願も、研究開発投資活動を反映し、「新規事業」「成長事業」を含む「産業用材料・機器事業」、「その他」の領域における件数比率が高くなっています。（下グラフ参照）。
2016 年度日本特許出願公開件数比率
その他
産業用材料・機器事業

8%2016 年度外国特許出願公開件数比率
その他
産業用材料・機器事業

25%

29%
日本特許出願
公開件数

外国特許出願公開件数

2,639 件1,639 件

情報機器事業
ヘルスケア事業

8%

12%

59%

情報機器事業
ヘルスケア事業12%47%PCT 国際公開件数含む© KONICA MINOLTA - 2 -3．日本における知的財産活動

当社は、特許出願件数を絞る一方で、審査請求率及び登録査定率を増加させることで、知財ポートフォリオの筋肉質化を図り、知的財産への投資効果を高めています。
日本特許出願件数件

審査請求率

3500

80%

3000

70%

登録査定率
100%
90%

2500

80%

60%

減少

70%

増加

増加

60%

50%

2000

50%
40%

1500
2010

2011

2012

2013

2014

40%
2010

2011

出願年

2012

2013

2010

2011

2012

出願年

2013

2014

2015

2016

登録年

他社特許出願の審査過程において当社特許出願が先行技術として引用され或いは他社から閲覧された場合、この当社特許出願は、優れた価値のある特許出願であると考えられます。これらを指標化したものが、審査官引用比率※ 2 及び包袋閲覧率※ 3 です。近年、当社において、多くの優れた発明を出願した結果、これら指標は共に高い比率となっています。
審査官引用比率

包袋閲覧率

12%

8%
7%

10%

6%
8%

5%
4%

6%

3%

4%

2%
2%

1%
0%

0%

当社

Ａ社

B社

C社

D社

当社

Ａ社

B社

C社

D社

※ 2 他社の特許出願において、特許庁の審査官が拒絶理由に引用した当社の特許出願件数を総出願件数で割って算出した指標。市販の検索システムを活用し当社にて算出 ( 表中 A 社～ D 社は同業他社）。
※ 3 他社が、審査の過程で包袋（出願以後の特許庁と出願人とのやりとりを保存したもの）を閲覧した当社の特許出願件数を総出願件数で割って算出した指標。市販の検索システムを活用し当社にて算出 ( 表中 A 社～ D 社は同業他社）。
© KONICA MINOLTA - 3 -4．グローバルな知的財産活動

売上の 80％が海外となっている当社にとっては海外の知的財産が非常に重要となっています。下のグラフに示すとおり、日本特許出願件数を絞る一方で、外国特許出願を行った日本特許出願の割合（グローバル出願比率）を増加させており、当社のビジネスのグローバル化に対応しています。
2016 年度売上高地域別比率
中国・アジア・その他

23%

件

日本

20%

日本特許出願件数

グローバル出願比率
50%

4500
4000

40%

3500

売上高

3000

9,626 億円

250030%

減少

増加

2000

欧州

31%

米国

26%

20%

1500
2007 2008 2009 2010 2011 2012 2013 20142007 2008 2009 2010 2011 2012 2013 2014

出願年

出願年

当社のグローバルな知的財産活動の結果、2016 年度日米中の特許保有状況は以下の通りとなっています。

日本
保有件数
特許取得件数米国

中国

13,1 6 8 件

7,055 件

1,388 件

1,380 件
（日本企業中 22 位※ 4）537 件( 日本企業中 19 位※ 5)201 件※ 4 特許庁発行の「特許行政年次報告書 2017 年度版」の情報に基づく特許取得数の順位です。
※ 5 Intellectual Property Owners Association (Top 300 Patent Owners) の情報から順位を推定しています。

© KONICA MINOLTA - 4 -5．知的財産活動を支える体制

当社の知的財産活動の中核組織は知的財産部であり、当社事業の知的財産活動をすべて管轄しています。また、知的財産部は以下の機能を有する組織形態を取っています。近年は IoT の重要度が世界的にまた当社にとっても増しており、組織横断的な IoT プロジェクトチームを作って IoT 分野における知的財産対応を推進しています。
情報機器事業

産業用材料・機器事業

ヘルスケア事業その他

各事業知財活動
知的財産部

戦略、発明発掘

出願権利化
IoT-PT

他社特許権への対応

企画、管理

当社では、知的財産部員の活動拠点を国内外の開発拠点に設け、開発者と密接にコミュニケーションを行える環境作りを行っています。
日本の活動拠点

海外の活動拠点
米国（サンマテオ）

伊丹
神戸

高槻

堺

八王子
日野瑞穂・三河大阪狭山

中国（北京）

知的財産部の最大拠点は、グループ最大規模の研究開発棟（SKT 棟※ 6、東京八王子）にあり、開発と密接にコミニュケーションが取れる体制を敷いています。

※ 6 SKT 棟を紹介する当社サイト：https://www.konicaminolta.jp/about/release/2014/1014_02_01.html© KONICA MINOLTA - 5 -6．事業における知的財産活動の事例

当社は、癌細胞に発現するたんぱく質を蛍光ナノ粒子を用いて正確に検出する技術「HSTT(High Sensitive Tissue Testing)」を開発しました。

抗体

蛍光ナノ粒子

従来新技術

DAB 法

HSTT

抗原

がんを定量的に解析可能に！

特定のタンパク質その他のタンパク質

視覚的にがんの種類を診断

がん細胞のタンパク質の数や位置まで解析可能

当社はこの HSTT 技術を利用した個別化医療、創薬支援事業※ 7 を、「新規事業」として、本格的に事業参入を図っており、2017 年には製薬大国アメリカで事業を開始する予定です※ 7 。この事業参入を知的財産面から強力にサポートするため、米国特許出願を積極的に進め、2016 年度末の時点で約 100 件の特許出願を行っています。

癌細胞の特定タンパク質の数・位置見える化 個別の患者に応じた投薬有効性
 創薬の成功率向上

ProcessInput
蛍光ナノ粒子(PID: Phosphor Integrated Dots)• 高輝度• 高耐久性Output

患者の層別化投薬

そのほかの治療

薬効 （＋）
副作用（ − ）薬効 （ − ） 薬効 （ − ） 薬効 （＋）
副作用（＋） 副作用（ − ） 副作用（＋）

提供価値「患者の生存率・生活の質向上」「医療費負担軽減」の両方に貢献※ 7 個別化医療、創薬支援事業に関する当社関連サイト（特集１参照）：
https://www.konicaminolta.jp/about/investors/ir_library/br/br2017_2nd/special.html© KONICA MINOLTA - 6 -7．表彰等2016 年度地方発明表彰（公益社団法人発明協会主催）において、当社の特許第5,024,192 号の発明が発明協会東京優秀賞を受賞しました。当社のプロダクションプリンタのフラッグシップ機 bizhub PRESS C1100/C1085 はその画質と信頼性の高さにおいてお客様に好評を得ていますが、本発明は画質及びその信頼性の向上に貢献しています。
2016 年度発明協会東京優秀賞受賞
発明の名称：トナー帯電量測定を実装した画像形成装置
発明者：宮坂裕、田村暢康、小林一敏

デジタル印刷機等に利用される電子写真方式のカラー作像装置において、装置内で各色のトナー帯電量 Q/M を簡便かつ高精度に実測する方法を提供するもので、帯電量の算出に必要なトナー付着量の検出に濃度センサーを活用することにより、製品への実装を可能とした。得られた帯電量測定値を作像プロセス条件の調整等に利用することにより，画質や色再現の安定性を向上し，プリンターの信頼性を高めた発明。

中間転写ベルト

現像バイアス電源
現像電流検知手段③パッチ像転写転写高圧電源

現像ローラー②現像電流検知
現像器

感光体
露光装置
①パッチ露光1 次転写ローラー
帯電器
クリーナー

帯電高圧電源④パッチ濃度検知→トナー付着量に換算

光学濃度センサー
現像電流値∝（トナー電荷量）⑤トナー帯電量∝
トナー付着量2016 年 11 月 10 日、パテントリザルト社が公表した「全業種 特許資産規模ランキング」（2015 年度登録）※ 8 にて当社が第 6 位になったと日本経済新聞に掲載されました。

順位

前年
順位

11

三菱電機

135,429.2

3,394

2

2

トヨタ自動車131,974.7

4,325

3

3

パナソニック

127,267.8

3,398

44

キヤノン

95,795.4

3,699

5

10

本田技研工業86,187.7

1,940

6

15

コニカミノルタ

73,190.2

1,608

企業名

特許資産規模(pt）

特許件数

記事では、2015 年度の15 位から大きく順位を上げた企業として紹介されています。
当社の特許登録件数は、2015 年度は 1,608 件で順 位 は 13 位、2016 年
度 登 録 件 数 は 1,380 件で順位は 22 位（Ｐ 4 参照）ですが、特許資産規模ランキングでは 6 位となっています。

※ 8 「全業種 特許資産規模ランキング」記事。パテントリザルト社サイト：
https://www.patentresult.co.jp/news/2016/11/all.html© KONICA MINOLTA - 7 -8．ブランド価値の維持・向上

当社は、製品デザインをブランド価値の維持・向上につながる重要な要素であると捉えており、積極的に製品デザインの向上・洗練に努めています。その活動の結果、以下の 3 製品群について「公益財団法人日本デザイン振興会主催2016 年度グッドデザイン賞」を受賞しました。
また、これら製品を含めデザインの保護にあたっては、ブランド価値の向上及び模倣品対策の観点から、日本や海外において意匠の出願・権利化を行っており、2016 年度末におけるワールドワイドでの意匠権保有件数は、約 340 件となっています。

bizhub PRO 1100

ナッセンジャー SP-1

色彩輝度計「CS-150/CS-160」
輝度計「LS-150 /LS-160」

本報告書に含まれている当社の将来にかかわる事項の記述は、現時点の事業環境に基づく予想であり、今後の事業環境の変化により変更する可能性がございます。

* KONICA MINOLTA ロゴ、シンボルマーク、Giving Shape to Ideas、bizhub、WCc、Workplace Hub、ナッセンジャー
は当社の登録商標または商標です。その他のブランド名及び製品名は各社の登録商標または商標です。

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知的財産部