京都大学学際融合教育研究推進センターナノテクノロジーハブ拠点の利用に係る負担金に関する内規（平成２３年３月２３日拠点マネージャー裁定制定）
（趣旨）
第１条

この内規は、京都大学学際融合教育研究推進センターナノテクノロジーハブ拠点

利用内規（平成２３年３月２３日拠点マネージャー裁定。以下「利用内規」という。
）第１１条第２項の規定に基づき、装置等の利用負担金及び実験室等（サテライトラボ（専有部分）及びセミナー室を除く。以下同じ。）の基本料金及び技術代行等における技術料（以下「利用負担金等」という。
）並びにサテライトラボ（専有部分）及びセミナー室の利用料金の額等に関し必要な事項を定める。
（利用に係る負担金の額）
第２条

装置等を利用する者は、当該装置等の利用負担金及び当該装置等の利用に係る基本料金の合計額を負担するものとする。
２ 技術代行及び技術補助並びに事前講習（以下「技術代行等」という。）を利用する者は、当該技術代行等において使用する装置等の利用負担金及び技術料の合計額を負担するものとする。
３ サテライトラボ（専有部分）又はセミナー室を利用する者は、その利用料金を負担するものとする。
（利用負担金の額）
第３条 装置等の利用負担金の額は、別表第１に定める額とする。
２ 前項の規定にかかわらず、利用内規第２条第２項の規定による利用の場合は、別表第１に定める額を２倍した額を装置等の利用負担金とする。
（利用負担金の上限）
第４条

利用を許可されたテーマごとに利用者が負担する装置等の利用負担金の累積額が、別表第２左欄に定める利用者の種別に応じて同表右欄に定める額（以下「負担上限額」という。
）を超えた場合、当該利用を許可された期間中は、当該利用者に対し、当該超えた額の負担は求めないものとする。
２

利用者は、利用を許可されたテーマごとに負担上限額をあらかじめ納付しておくことにより、当該利用を許可された期間中は、装置等の利用負担金を都度納付することなく、当該テーマにおいて装置等を利用することができる。この場合において、当該テーマの使用実績に応じた利用負担金の累積額が負担上限額を下回っても、一旦納付された負担上限額との差額は返還しない。
（基本料金の額）

第５条 装置等利用に係る基本料金の額は、別表第３に定める額とする。
（技術代行等における技術料の額）

第６条 技術代行等における技術料の額は、別表第４に定める額とする。
（サテライトラボ及びセミナー室の利用料金の額）
第７条 サテライトラボ（専有部分）又はセミナー室を利用する場合の利用料金の額は、別表第５に定める額とする。
（利用負担金等の割引）
第８条 利用内規第５条第１号及び第２号に掲げる者（以下「１号利用者」という。
）については、利用負担金等の額を、別表第１、第３及び第４に定める額の半額とする。ただし、技術料の額を別表第４に定める額の半額とするのは、事前講習及び利用内規別表第１の微細構造解析装置群（以下「微細構造解析装置群」という。
）利用者の技術補助の技術料の場合に限る。
２

利用内規第５条第３号に掲げる者のうち、文部科学省マテリアル先端リサーチインフ
ラ事業に則って研究成果を公開することについてあらかじめハブ拠点と合意した者（以下「成果公開利用者」という。
）であって、その所属する機関が中小企業基本法（昭和３８年法律第１５４号）第２条における中小企業者であるもの（以下「２号利用者」という。）
については、利用負担金等の額を、別表第１、第３及び第４に定める額の半額とする。ただし、技術料の額を別表第４に定める額の半額とするのは、事前講習の技術料の場合に限る。

３ 利用内規第５条第３号に掲げる者のうち、成果公開利用者であって、その所属する機関が中小企業基本法第２条における中小企業者ではない企業であるもの（以下「３号利用者」という。
）については、利用負担金等の額を、別表第１、第３及び第４に定める額の７割に相当する額とする。ただし、技術料の額を別表第４に定める額の７割とするのは、事前講習の技術料の場合に限る。
４ 利用内規第５条第３号に掲げる者のうち、成果公開利用者であって、学術研究を目的とする機関と共同で研究を実施するもの（以下「４号利用者」という。
）については、利用負担金等の額を、別表第１、第３及び第４に定める額の半額とする。ただし、技術料の額を別表第４に定める額の半額とするのは、事前講習の技術料の場合に限る。
５

利用内規第５条第３号に掲げる者のうち、学術研究を目的とする機関と共同で研究を実施するものであって、成果公開利用者でないもの（以下「５号利用者」という。）については、利用負担金等の額を、別表第１、第３及び第４に定める額の８割に相当する額とする。ただし、技術料の額を別表第４に定める額の８割に相当する額とするのは、事前講習の技術料の場合に限る。

６ 利用内規別表第１の微細加工装置群（以下「微細加工装置群」という。
）を利用するために、ハブ拠点で準備した標準試料を用いて事前講習を受講する場合の利用負担金の額
は、別表第１に定める額（前各項に掲げる者については、前各項の規定により別表第１に定める額から割り引いた後の額）及び別表第４に定めた事前講習の半額とする。

（データ登録者に対する利用負担金等の特別割引）
第９条

前条にかかわらず、京都大学学際融合教育研究推進センターナノテクノロジーハ

ブ拠点データ登録内規（令和５年３月１７日拠点マネージャー裁定。
）第２条第２号のハ
ブ拠点の装置を利用し、かつ当該装置から取得したデータの登録を申請するものの利用負担金等の額は、次の各号のとおりとする。
(1) １号利用者は、別表第１、第３及び第４に定める額の３割５分とする。ただし、技術料の額を別表第４に定める額の３割５分とするのは、事前講習及び微細構造解析装置群利用者の技術補助の技術料の場合に限る。
(2) ２号利用者は、別表第１、第３及び第４に定める額の３割５分とする。ただし、技術料の額を別表第４に定める額の３割５分とするのは、事前講習の技術料の場合に限る。
(3) ３号利用者は、別表第１、第３及び第４に定める額の５割６分に相当する額とする。
ただし、技術料の額を別表第４に定める額の５割６分に相当する額とするのは、事前講習の技術料の場合に限る。
(4) ４号利用者は、別表第１、第３及び第４に定める額の３割５分とする。ただし、技術料の額を別表第４に定める額の３割５分とするのは、事前講習の技術料の場合に限る。
２

前項の規定により割引後の料金に１０円未満の端数が出た場合は、１円単位で四捨五入した額とする。
（キャンセル料の額）

第１０条 装置等の利用中止に係るキャンセル料の額は、別表第６に定める額とする。
（新規利用者及び紹介者の利用負担金）
第１１条 第３条、第４条、第８条及び第９条の規定にかかわらず、新規利用者及び紹介者の装置等（微細加工装置群の装置等に限る。
）の利用負担金に関し必要な事項は、別に定める。
（内規の変更）第１２条 拠点マネージャーは、次の各号に掲げる場合には、利用内規第７条第７項に定める利用責任者（以下「利用責任者」という。
）の同意を得ることなくこの内規を変更できるものとする。
(1) この内規の変更が、利用責任者の一般の利益に適合するとき。
(2) この内規の変更が、利用内規第２条の目的及びハブ拠点の利用目的に反せず、かつ、ハブ拠点管理上の必要性その他の変更に係る事情に照らして合理的なものであるとき。
２

前項による内規の変更にあたっては、内規を変更する旨及び変更後の内規の内容並びに変更の効力発生日を、当該効力発生日までに相当な期間をおいてハブ拠点ホームページに掲示し、又は利用責任者に電子メールで通知するものとする。
（その他）

第１３条

この内規に定めるもののほか、利用負担金等及びキャンセル料に関し必要な事

項は、京都大学学際融合教育研究推進センターナノテクノロジーハブ拠点要項（平成３０年７月３１日ナノテクノロジーハブ拠点ユニット長裁定）第３第１項に規定する運営責任者が定める。

附 則
この内規は、平成２３年４月１日から施行する。
附 則
この内規は、平成２３年１０月１日から施行する。
附則

この内規は、平成２４年１２月１日から施行する。
附則

この内規は、平成２４年１２月１６日から施行する。
附則

この内規は、平成２５年１０月１日から施行する。
附則この内規は、平成２６年４月１日から施行する。
附 則
この内規は、平成２６年８月１日から施行する。
附 則
この内規は、平成２９年４月１日から施行する。
附 則
この内規は、平成３０年４月１日から施行する。
附 則
１ この内規は、令和元年１０月１日から施行する。
２

第５条第１項に係る別表第２の規定については、この規程の施行の日の前に利用を許可された期間が終了する場合は、なお従前の例による。また、利用を許可された期間が施行日前後にまたがる場合は、別表第２に定める金額の１１０分の１００に相当する額を基準とし、施行日前の利用については、利用負担金の合計金額の１０８分の１００に相当する金額を、施行日以後の利用については、利用負担金の合計金額の１１０分の１００に相当する金額をそれぞれ算出し、その累積額が、基準を超えた場合、当該利用を許可された期間中は、当該利用者に対し、それ以降の負担は求めないこととする。
附則

この内規は、令和２年４月１日から施行する。
附則この内規は、令和４年７月１日から施行する。
附

則

この内規は、令和５年４月１日から施行する。
附則

この内規は、令和５年７月１日から施行する。

別表第１

装置等の利用負担金
装置等
装置群

機器名
高速高精度電子ビーム描画装置
レーザー直接描画装置
高速マスクレス露光装置
レジスト塗布装置
レジスト現像装置
スプレーコータ
ウエハスピン洗浄装置
厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
両面マスクアライナー
露光装置（ステッパー）
A ナノリソグラフィー装置 ICP質量分析装置
紫外線露光装置
超微細インクジェット描画装置
有機現像液型レジスト現像装置
近接効果補正システム
超臨界洗浄乾燥装置
高圧ジェットリフトオフ装置
移動マスク紫外線露光装置
両面マスクアライナ露光装置
両面マスク露光＆ボンドアライメント装置
大面積超高精度電子線描画装置
真空蒸着装置多元スパッタ装置（仕様Ａ）
多元スパッタ装置（仕様Ｂ）
電子線蒸着装置
プラズマCVD装置
熱酸化炉
電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
ドライエッチング装置
深堀りドライエッチング装置
磁気中性線放電ドライエッチング装置
シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
基板接合装置集束イオンビーム/走査電子顕微鏡
赤外フェムト秒レーザ加工装置
レーザアニール装置
レーザダイシング装置
真空マウンター
紫外線照射装置
エキスパンド装置
ダイシングソー
B ナノ材料加工・創製装置
ウェッジワイヤボンダ
ボールワイヤボンダ
ダイボンダ
ナノインプリントシステム
赤外透過評価検査／非接触厚み測定機
電子線蒸着装置（２）高性能マッフル炉
UVオゾンクリーナー・キュア装置
アクアプラズマクリ－ナー
誘導結合プラズマ反応性イオンエッチング装置
赤外線ランプ加熱装置
原子層堆積装置
UVナノインプリント装置
熱インプリント装置
パリレン成膜装置
ICP-RIE装置
簡易RIE装置
ウエハ接合装置
ナノインプリント装置
ダイシング装置
超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
分析走査電子顕微鏡
X線回折装置触針式段差計１
触針式段差計２
マイクロシステムアナライザ
高速液中原子間力顕微鏡
走査型プローブ顕微鏡システム
光ピンセット
共焦点レーザー走査型顕微鏡
全反射励起蛍光イメージングシステム
長時間撮影蛍光イメージングシステム
3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
ゼータ電位・粒径測定システム
分光エリプソメーター
ダイナミック光散乱光度計
C ナノ材料分析・評価装置 パワーデバイスアナライザ（プローバ）
インピーダンスアナライザ（真空プローバ）
光ヘテロダイン微小振動測定装置
超微小材料機械変形評価装置
卓上顕微鏡(SEM)
セルテストシステム
高周波伝送特性測定装置（RFプローブキット）（ネットワークアナライザ）（半導体パラメータアナライザ）
強誘電体特性評価システム
接触式シート抵抗測定器
ウェハプロファイラ
光干渉膜厚計
極低温高分解能透過電子顕微鏡
球面収差補正透過電子顕微鏡
モノクロメータ搭載低加速原子分解能分析電子顕微鏡
D ナノ微細構造解析
精密イオン研磨装置
ミクロトームデュアルビーム走査電子顕微鏡
イオンスライサー
備

利用料(一時間当たり)
90,520円
24,570円
13,970円
2,710円
2,710円3,450円
5,040円
5,330円
9,760円
36,210円
8,410円
1,510円
3,690円
3,620円
3,140円
2,070円
6,850円
14,780円
2,320円
15,490円
119,480円
2,130円
13,840円
13,170円
10,860円
21,980円
3,210円
12,410円
3,100円
18,050円
18,100円
14,490円
7,310円
14,070円
44,330円
12,160円
11,530円
23,220円
1,810円
800円
420円
2,100円
910円
930円
840円
3,690円
3,480円
1,390円
150円
1,910円
3,100円
19,530円
1,170円
18,570円
14,170円
9,000円
1,230円
1,720円
1,110円
15,610円
610円
1,970円
16,530円
23,020円
9,310円
1,580円
1,580円
9,700円
8,790円
8,000円
6,710円
8,560円
7,000円
5,320円
3,440円
3,680円
5,670円
4,890円
2,740円2,160円
1,130円
8,460円
3,620円
3,620円
1,340円
3,590円
1,200円
490円
1,220円
1,200円
2,460円
1,060円
18,620円
840円
22,560円
17,100円
25,670円
1,550円
1,550円
33,230円
3,900円設置場所
イエロールーム
イエロールーム
イエロールーム
イエロールーム
イエロールーム
イエロールーム
イエロールーム
イエロールーム
桂クリーンルーム
イエロールーム
加工評価室BF
イエロールーム
イエロールーム
イエロールーム
サテライトラボ
イエロールーム
イエロールーム
桂クリーンルーム
桂クリーンルーム
イエロールーム
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室クリーンルーム1
クリーンルーム1
クリーンルーム2
クリーンルーム2
クリーンルーム2
クリーンルーム1
クリーンルーム1
クリーンルーム1
クリーンルーム2
イエロールーム
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室BF
加工・評価室BF
加工・評価室BF
桂クリーンルーム
イエロールーム
桂クリーンルーム
イエロールーム
クリーンルーム２
クリーンルーム2
クリーンルーム1
加工・評価室クリーンルーム1
イエロールーム
イエロールーム
桂化学処理室桂クリーンルーム
桂クリーンルーム
桂クリーンルーム
桂クリーンルーム
桂化学処理室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室クリーンルーム2
加工・評価室
iCeMS研究棟顕微鏡室
加工・評価室BF
iCeMS研究棟顕微鏡室
加工・評価室BF
iCeMS研究棟顕微鏡室
iCeMS研究棟顕微鏡室
加工・評価室
加工・評価室BF
クリーンルーム２
加工・評価室BF
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室BF
加工・評価室BF
クリーンルーム1
加工・評価室BF
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室
加工・評価室クリーンルーム2
桂化学処理室極低温電子顕微鏡棟９－１室
極低温電子顕微鏡棟９－２室
超高分解能分光型電子顕微鏡棟3号室
超高分解能分光型電子顕微鏡棟6号室
極低温電子顕微鏡棟９－２室
超高分解能分光型電子顕微鏡棟6号室
超高分解能分光型電子顕微鏡棟6号室

考１．上記表中の利用料は、１時間当たりの機器利用に係る金額（消費税相当額を含む。）であり、これに当該機器利用時間数を乗じた金額を利用負担金とする。
２．１時間未満の機器利用及び１時間を超える機器利用に係る１時間未満の端数については、それぞれ１時間の機器利用として、利用負担金を算出するものとする。
３．複数の機器を利用する場合については、各機器の利用料を合算した金額を利用負担金とする。
４．上記装置等を利用する場合は、利用負担金のほかに、別表第３の基本料金を負担しなければならない。

別表第２ 利用負担金の上限額
利用者種別

利用料（１テーマ当たり）

第８条第１項の１号利用者又は同条第４項の４号利用者であって、データ登録者であるもの

４００万円

第８条第１項の１号利用者又は同条第４項の４号利用者であって、データ登録者でないもの

６００万円

上記以外の者

１，７００万円

備 考
１ 上記表中の利用料は、１テーマ当たりの利用に係る上限額（消費税相当額を含む。）である。
別表第３ 装置等利用に係る基本料金
利用料（１時間当たり）
１，５００円備 考
１ 上記表中の利用料は、１時間当たりの装置等利用に係る金額（消費税相当額を含む。
）であり、これに利用時間数を乗じた金額を基本料金とする。

別表第４ 技術代行等における技術料
区分

１時間当たり技術補助８，８００円

技術代行８，８００円

事前講習

８，８００円備考
１ 上記表中の料金は、１時間の技術代行等に係る金額（消費税相当額を含む。
）であり、これに利用時間数を乗じた金額を技術料とする。
２ １時間未満の技術代行等及び１時間を超える技術代行等に係る１時間未満の端数については、それぞれ１時間の技術代行等として、算出するものとする。
３ 技術代行の技術料には装置等利用の代行料金だけではなく、事前技術検討、事後データ処理又はまたは事後技術検討等の料金も含む。
別表第５ サテライトラボ（専有部分）
・セミナー室の利用料金
利用料
実 験 室 等
１日当たり１時間当たりサテライトラボ（専有部分）
セミナー室

１６８円

２１円

備 考
１ 上記表中の料金は、実験室等の床面積１平方メートルあたりの１日又は１時間の利用にかかる金額（消費税相当額を含む。
）であり、これに当該実験室等の床面積及び利用日数又は利用時間数を乗じた金額とする。
２ １時間未満の実験室等利用及び１時間を超える実験室等利用に係る１時間未満の端数については、それぞれ１時間の実験室等利用として、利用料金を算出するものとする。
３ 複数の実験室等を利用する場合については、各実験室等の利用料を合算した金額を利用料金とする。
別表第６ 装置等の利用中止に伴うキャンセル料区分
キャンセル料装置利用日の６営業日前から２２営業日前まで 利用負担金の額の２５％
装置利用日の４営業日前から５営業日前まで
利用負担金の額の５０％
装置利用日当日から３営業日前まで
利用負担金の額の１００％
備 考
１ 利用負担金の額とは、利用を許可された装置等の利用負担金の額であり、第３条、第５条、第７条、第８条及び第９条に基づき算出した額とする。
２ 営業日とは、利用内規第３条に規定する利用日とする。
３ キャンセル料に円未満の端数が出た場合は、その端数を切り上げるものとする。