アニュアルレポート 2004
日本語訳版

ACCELERATION

AHEAD

東京エレクトロン株式会社

プロファイル

東京エレクトロン（TEL）は、1963 年の設立以来、半導体製造装置の世界のリーディングサプライヤーとして、コータ/デベロッ
パ、プラズマエッチング装置、熱処理成膜装置、枚葉 CVD 装置、洗浄装置、ウェーハプローバなど、幅広い製品分野の開発・製造・販売を行っています。
また、半導体製造装置の分野で蓄積した専門技術を生かして、フラットパネルディスプレイ（FPD）製造用のコータ/デベロッパおよびエッチング/アッシング装置の開発・製造・販売も行っています。
これらの半導体製造装置および FPD 製造装置の多くは、世界のリーディングシェアを獲得しています。
さらに、世界の優れた半導体製造装置、ブロードバンドに対応した SAN（Storage Area Network）関連製品、インターネットテク
ノロジー関連製品、電子部品などを日本国内で販売する専門商社としても確固たる地位を築いています。
東京エレクトロンは、アメリカ、ヨーロッパ、アジア 12 カ国に広がるグローバル拠点網を通じ、優れた製品とサービスをお客さまに提供するとともに、株主価値の最大化に取り組んでいます。

将来見通しに関する注意事項

目次
財務ハイライト
株主の皆様へ東京エレクトロンの事業概要
クローズアップ
環境・健康・安全に対する取り組み
知的財産報告書
コーポレート・ガバナンス

1
2
6
8
14
16
18

財務セクション
財務の概況
6 年間の主要財務データ
財務諸表
公認会計士の監査報告

20
27
28
37

このアニュアルレポートで述べられている東京エレクトロンの将来の業績予測、経営戦略、確信などは、現時点で入手可能な情報に鑑みてなされた当社の判断に基づくものであり、これらの将来見通しの記述には、既知または未知のリスク、および不確実性などの要因が内在しています。従いまして、実際の業績、成果はここに述べられている見通しとは大きく異なる可能性があることをご承知おきください。
東京エレクトロンの将来見通しに直接的・間接的に影響を与える要因としては次のようなものがあります。
●国内外の経済情勢、消費動向、為替相場の大幅な変動●半導体、ＦＰＤ市況の変化●半導体メーカー、ＦＰＤメーカー、電子機器メーカーなどの東京エレクトロンの顧客が生産または提供する製品とサービスに対する需要の変化●急速な技術革新、変化する顧客ニーズにタイムリーに対応する製品やサービスを東京エレク

TEL グローバルネットワーク
株主メモ

38
39

トロンが継続的に開発し提供していける能力
ただし、業績に影響を与えうる要因はこれらに限定されるものではありません。

財務ハイライト
東京エレクトロン株式会社及び連結子会社
2002 年 3 月期、2003 年 3 月期及び 2004 年 3 月期百万円（注 1）

千米ドル（注 1）

2004 年

2003 年

2002 年

2004 年¥529,654¥460,580¥417,825$5,013,762

営業利益（損失）

22,2801,119(18,310)

210,902

税金等調整前当期純利益（損失）14,936(23,010)(22,919)

141,382

当期純利益（損失）8,297(41,554)(19,938)

78,544¥0046.37¥ (238.57)¥ (113.85)

45.78

–

–

0.43

10.00

8.00

8.00

0.09

総資産

¥561,632¥524,901¥556,915$5,316,467

株主資本275,800

252,904

307,579

2,610,748

売上高

1 株当たり当期純利益（損失）（注 2）:
1 株当たり当期純利益（損失）
潜在株式調整後 1 株当たり当期純利益（注 3）
1 株当たり配当金

$0

00.44

注：1．米ドル表示は、円金額を期末日レートである 1 ドル =105.64 円で換算したものです。1 株当たりの数値については、円単位ならびにドル単位で表示しています。
2．1 株当たり当期純利益は期中平均株式数に基づき計算しています。
3．2002 年 3 月期及び 2003 年 3 月期は希薄化による影響はありません。

800

1,500

83

-416

-199

620

223

11

-183

1,211

358

5,297

4,606

4,178

7,239

8,000

198

当期純利益／1株当たり当期純利益(億円／円)

営業利益
(億円)
4,407

売上高
(億円)

400

353.76

600

1,200
6,000

300
200

400
900

113.53
200

4,000

46.37

600
0
300

-400

3月期

01

02

03

04

-200
-238.57

-600

-300
00

-100
-113.85

0
0

0

-200

2,000

100

00
3月期

01

02

03

04

00

01

02

03

-300
04

3月期

当期純利益
1株当たり当期純利益

Annual Report 20041

株主の皆様へ2004 年 3 月期は、東京エレクトロンにとって、半導体産業が長い調整期を脱し回復期に入った喜ばしい年となりました。PC や携帯電話の世代交代に伴う買い替え
需要をベースに、デジタルスチルカメラ、DVD レコーダー、薄型テレビに代表されるデジタル家電の普及が本格化し、関連デバイスの需要を押し上げました。また、
今や世界経済の成長に大きな影響を与えるアジアの成長が著しいなか、日本の半導体メーカーも自らが強みを持つ分野に経営資源を集中することにより勢いを増してきており、これらを背景にアジア地域を中心とした設備投資意欲が向上してきました。
このような状況のもと、東京エレクトロンの業績も下半期から力強い回復に転じ、当期の連結売上高は前年比 15 ％増の 5,297 億円を達成いたしました。また、連結
営業利益は前期の 11 億円から 223 億円へ、当期純利益については前期の純損失
416 億円から 83 億円の純利益への大幅増となり、1 株当たり当期純利益は46.37 円となりました。年間配当につきましては、10 円といたしました。

■ 業界におけるリーディングポジションを強化
半導体のアプリケーションがデジタル家電、モバイル機器に拡大するなか、半導代表取締役社長

佐藤

体に対する高集積化、高速化、低消費電力化といったニーズはますます高まってお潔り、当社のお客様である半導体メーカーでは、90 ナノメートルのデザインルールでの量産がいよいよ本格化しつつあります。このような環境のもと、東京エレクトロンは業界最高峰の技術開発力を背景に差別化された製品を開発し、サポートサービ
スとともにお客様の最先端デバイス製造に貢献しています。現在、多くの半導体メーカーでは新規の設備投資を 300mm ウェーハ対応装置で行う傾向が高まっております。我々はこの動きが強まるものと予測し、ここ数年、新型の 300mm 対応装置の開発・拡販に努めてまいりました。また、プロセステクノロジーセンター（山梨県韮崎市）を中心に世界の有力半導体メーカーと共同開発を推進し、最先端プロセスの実現に対して最適なソリューションをお客様に提供してまいりました。この結果、300mm 装置は我々の半導体製造装置部門売上の 50 ％以上を占めるようになり、2004 年 3 月期において、当社 300mm 製品の多くがナンバー 1 のマーケッ
トシェアを獲得しているということが、我々の調査で明らかになっています。
さらに、当社は北米地域における研究開発拠点としてニューヨーク州オールバニ
ーに TEL Technology Center, America, LLC を設立いたしました。ここでは、世界の最先端半導体メーカーが求める次世代プロセスおよび製造装置に関する様々な研究開発プロジェクトが半導体メーカー、他の装置メーカー、大学などをパート
ナーとして進行しております。

2

Tokyo Electron

www.tel.com

Strengthening our Leading
Position in the Industry
業界におけるリーディングポジションを強化

このような最先端の研究開発を通じて、今後も半導体製造装置のマルチプロダク
トサプライヤとしてテクノロジー・リーダーシップを発揮し、最先端技術に対する求心力を強化することで新製品を積極的に市場投入してまいります。
また、デジタル家電の代表的なアプリケーションとして液晶テレビ市場の成長が期待されています。東京エレクトロンが提供する FPD 製造装置は、液晶テレビに搭載される TFT-LCD パネルの製造に欠かせない装置です。パネルメーカー各社が大型のガラス基板を用いた製造設備の投資を増強しているなか、当社の装置に対する受注は過去最高レベルで継続しています。今後さらなるディスプレイ技術の進化が予想され、当分野においても我々はビジネスの拡大を見込んでおります。
また、東京エレクトロンデバイスがオペレーションを行う電子部品部門は、デジ
タル家電や携帯電話などに利用される高付加価値製品を技術サポートとともに提供する一方、長年培ってきたエンジニアリング能力を活用した設計受託業務、自社開発製品などのビジネス拡大にも努めています。
IT バブル崩壊後、通信・ネットワーク関連産業が伸び悩むなか、我々のコンピュータ・ネットワーク部門は売上増加を実現しています。これは当社が提供する機器の先進性に加えサポート力やシステム構築力といった技術力がお客様に認められ、当社の業界におけるポジションが高まっている結果と言えます。当分野は、日本のマクロ経済の回復と設備投資の増加に伴い、さらなるビジネスの拡大とサービス事
業による利益率の向上が期待できる分野と考えています。

■ 事業構造改革
東京エレクトロンは 2004 年 3 月期からの数年を次の大きな成長への準備期間として捉え、事業構造改革を全社的に推進しています。重点課題としては、IT バブル期に整えた過剰な生産設備や人員を現状のビジネス環境に適応させること、また、
最終アプリケーションが民生品に移行していくなかで求められるさらなるコスト削減と製造工期の短縮です。

Annual Report 20043

Building Higher Profitability
さらなる利益率の向上に向けて

昨年、当社は国内外の在庫に関して不要なものについては廃棄を行い、販売可能
なものは改造を加えた上で販売するなど、徹底的な削減に努めました。この結果、2004 年 3 月期後半からの生産増に伴う仕掛品の増加にもかかわらず、たな卸資産の圧縮を実現し、たな卸資産回転日数についても前年度末 89 日から 72 日へと短縮しました。人員については 2004 年 3 月期中に希望退職者を募り、グループ全体
で 1,000 人規模の人員を削減し、固定費の削減を行いました。
製造コスト削減と工期の短縮については、ビジネスユニット毎に目標を掲げて、調達体制、設計、製造、物流などを根本的に見直すとともに、一部の工場で導入している IT を活用した工期短縮システムを他工場へ展開することで着実に進行しています。特に工期の短縮は、大幅に生産台数が増えるなか、固定費を上げずに生産量を増やすことのできる原動力と認識してさらに進めていきます。
昨年度 1 年間、事業構造改革を推進してまいりましたが、まだ中間点を通過したに過ぎません。2005 年 3 月期は第二フェーズとして、さらにこれらの活動を強化することにより、サイクルが急激に変化するビジネス環境の中で世界最高のスピー
ド経営と低コストの実現にまい進していきます。

■さらなる利益率の向上に向けて
現在の東京エレクトロンにとって、事業構造改革の推進に加え、利益率を向上させることが経営の最重要課題と認識しています。
ここ数年、当社は半導体製造装置部門の売上高の約 10 ％にあたる開発費を投じて、高付加価値製品の開発に努めてきましたが、着実にその成果が現れ始めています。2 年ほど前から量産用装置として複数のお客様に採用されている新型熱処理成膜装置 TELFORMULATM は、熱処理炉の持つプロセス面での優位性と短いサイクル
タイムを両立し、ハイエンドの熱処理アプリケーションにおいて高い評価をいただ
いています。また、2004 年 3 月期から量産投入した新型コータ／デベロッパ
CLEAN TRACKTM LITHIUSTM は、装置内に組み込まれた計測機器とソフトウェア
技術によりプロセスの安定性を向上させる機能を装備し、今後本格化する 90 ナノメートル以降のデザインルールプロセスに対応しています。既に多くのお客様による評価が進み、2005 年 3 月期の出荷台数は従来の主要製品と同等になると予測しています。これらいずれの新規装置でも、従来装置に比べ高い付加価値をお客様に4Tokyo Electron

www.tel.com

提供することにより、収益性の向上に貢献しています。半導体メーカーからの要求は微細化以外にも広がり、新構造、新材料の採用など多様化していきます。ここに多くの新規参入機会が生まれることが予想されますので、今後も高付加価値製品を順次市場に投入していきたいと考えています。
また、サイクルの存在する半導体業界において安定的な収益を上げるビジネススタ
イルを確立するために、保守サービスおよび改造ビジネスの拡大も図っていきます。
300mm 対応装置の新規投資が増加する一方、従来の小口径対応装置の移設、改造に関するお客様からの要望も多くなってきています。当社としては、フィールドサポ
ートを行う東京エレクトロン FE にこれらのビジネスを一元化し、当ビジネスの売上を数年間で 5 割以上増加させることを計画しています。

■ 半導体の技術革新を加速させ、真にハイクオリティな企業を目指す
現在半導体のアプリケーションは、PC や携帯電話などに留まらず、フラッシュメ
モリなどのストレージ関連デバイスや自動車に搭載されるセンサーやマイクロコン
トローラなどへ拡大しつつあります。また、通信速度の向上と高性能のモバイル機
器の普及、テレビの地上波デジタル放送の本格化により、世界中で処理・蓄積される情報量も爆発的に増加し、半導体市場そのものがさらに拡大していくと予想されます。このような状況のなか、現在の半導体技術はその要求されるゴールに対してまだまだ初歩的なステージにあると言われていますが、いくつかの越えるべき技術的、経済的課題はあるものの、近い将来達成されるいくつかの技術革新により、半導体技術は今後も進化し続けていくものと信じています。東京エレクトロンは、これらの技術革新を推進する原動力となるべく、技術とサービスにおいて引き続き世界最高のクオリティを追求、提供してまいります。今後も、株主、顧客、従業員、
地域社会などあらゆるステークホルダーの満足度向上に貢献していく所存です。株
主の皆様におかれましては、当社の今後にご期待いただき、引き続きご支援を賜りますようお願い申し上げます。

2004 年 6 月
代表取締役社長
佐藤

Annual Report 2004

潔5

東京エレクトロンの事業概要

半導体製造装置
当部門では、自社開発による最先端の半導体製造装置を幅広く取り揃えるとともに、他社の優れた製品も提供しています。

●輸入販売製品●自社開発製品
コータ／デベロッパ

FIB System (FEI Company)

SOD コータFilm Metrology Tool

マスクコータ／デベロッパ(Rudolph Technologies, Inc.)

プラズマエッチング装置

Yield Management Software

熱処理成膜装置(Yield Dynamics, Inc.)

枚葉 CVD 装置

X-ray Diffraction Measurement Equipment

プラズマ処理装置(Bede Scientific Instruments Ltd.)

洗浄装置
スクラバーシステム
ウェーハプローバ
ダイシングフレームプローバ
Optical Digital Profilometry

2004年3月期

80.4%

半導体製造装置部門（FPD製造装置の売上含む）

コータ／デベロッパ
CLEAN TRACKTM LITHIUSTM

プラズマエッチング装置
TeliusTM

熱処理成膜装置
TELFORMULATM

枚葉 CVD 装置
TriasTM

キャリアレス洗浄装置
UW300Z

ウェーハプローバ
P-12XLn+

FPD（フラットパネルディスプレイ）製造装置
半導体製造装置事業で蓄積された技● FPD コータ／デベロッパ

術は、FPD 製造装置の開発・製造● FPD プラズマエッチング／アッシング装置に生かされ、強力な製品ラインナッ
プを作り上げています。

FPD コータ／デベロッパ
CL1300

6

Tokyo Electron

www.tel.com

FPD プラズマエッチング／アッシング装置
SE-1300

コンピュータ・ネットワーク
当部門では、ブロードバンド時代に●インターネットソリューション

●ビジネスネットワークソリューション

対応するストレージ製品やインター●ネットワークセキュリティソリューション

●エアロスペース製品

ネットテクノロジー関連製品など、● SAN ソリューション

世界の優れた商品を取り揃え、ユー
ザーニーズに応じた最適のシステム
ソリューションを提供しています。

Brocade Communications
Systems, Inc.
Fibre Channel Integrated
Fabric Switch

Extreme Networks, Inc.
Gigabit Ethernet Switch

F5 Networks, Inc.
Secure Remote Access Controller

2004年3月期
NeoScale Systems, Inc.
TimesTen Performance Software, Inc.
VERITAS Software Corporation
Z Microsystems Inc.

コンピュータ／ネットワーク

3.5%

コンピュータ・ネットワーク部門

Advanced Digital Information Corporation
Brocade Communications Systems, Inc.
DataPower Technology, Inc.
Emulex Corporation
Extreme Networks, Inc.
F5 Networks, Inc.
GoAhead Software Inc.
Hewlett-Packard Japan, Ltd.
（株）日立製作所
Isilon Systems, Inc.
Juniper Networks, Inc.
McDATA CorporationnCipher Corporation Ltd.

エアロスペース製品
BAE SYSTEMS
Conax Florida Corp.
Scot Inc.
H. Koch & Sons Corp.
Irvin Aerospace Inc.
ITT Aerospace Controls Corp.
Pacific Cast Technologies

電子部品
当部門では、世界のトップクラスの●半導体製品

各種電子部品を幅広く取り揃えると●ボード製品ともに、柔軟な技術サポートにより、●ソフトウエア●一般電子部品

ユーザーニーズに応じた総合的なソ
リューションを提供しています。子
会社の東京エレクトロンデバイス（株）が当ビジネスのオペレーションを行っています。

Fujitsu Ltd.

Xilinx, Inc.

Pixelworks, Inc.

2004年3月期

15.9%

電子部品部門Advanced Micro Devices, Inc.
Agilent Technologies, Inc.
Cavium Networks, Inc.
Conexant Systems, Inc.
コーセル（株）（株）デジタル
Emuzed, Inc.
Eudyna Devices Inc.
Freescale Semiconductor, Inc.
富士フイルムマイクロデバイス（株）
富士通（株）
富士通ディスプレイテクノロジーズ（株）
富士通メディアデバイス（株）
Infineon Technologies AG
Integrated Device Technology, Inc.

上記 3 部門の売上以外に「その他」の売上があります。2004 年 3 月期は全体の 0.2 ％でした。
本アニュアルレポートに記載された会社名および製品名は各社の商標または登録商標です。

Intel Corp. (Dialogic Product)Intersil Corp.
Kopin Corp.
Legerity, Inc.
Linear Technology Corp.
Metrowerks, Inc.
Microsoft Corp.
3M (Minnesota Mining andManufacturing Com.)
Motorola, Inc.
ON Semiconductor Corp.
PFU Ltd.
Phoenix Technologies Ltd.
Pixelworks, Inc.
Potentia Semiconductor Corp.

Ramtron International Corp.
SafeNet, Inc.
新光電気工業（株）
SiberCore Technologies Inc.
Silicon Integrated Systems Corp.
Texas Instruments Inc.
東京エレクトロンデバイス（株）
Tundra Semiconductor Corp.
VenturCom, Inc.
Winchester Electronics
Woodhead Industries, Inc.
Xicor, Inc.
Xilinx, Inc.
Zarlink Semiconductor Inc.
ZettaCom, Inc.

Annual Report 2004

7

クローズアップ

Achievements
成果왘 かつて、低迷期を乗り越えるたびに新たな発展を遂げてきた半導体製造装置産業。史上最大と言われた半導体不況を乗り越え、産業全体が目覚しい回復を示す中、新たな市場の方向性と可能性が見えてきました。こうした状況の中、東京エレクトロンが従来から持つ強みと戦略的なマーケティング活動により、当社の実績は産業全体の回復を凌駕いたしました。

市場の回復を超える成長を達成+18.4%

暦年 2003 年における東京エレクトロンのウェーハプロセス用製造装置の売上は前年比で 18.4 ％の増加となり、世界市場の成長率
3.6 ％を大きく上回る結果となりました。2003 年の市場全体を見渡すと、年の後半からメモリおよび今後の市場ドライバーの一つとなるデジタル家電用の半導体投資が活発となりました。この分野における当社の圧倒的なテクノロジーリーダシップにより、市場回復の恩恵をフルに享受することができました。
暦年2003年 世界市場向けウェーハプロセス装置出荷額の伸び（十億米ドル）

15

+2.2%
11.8

10

5

12.0

+18.4%
1.7

0

東京エレクトロン
出典： Gartner Dataquest (2004年4月) GJ04312
装置本体売上のみ。サービス・パーツ売上は含まず。

暦年2002年

2.0

暦年2003年

トップ10
装置メーカー

1. 前年比成長率は Gartner Dataquest 社のデータに基づいています。
2. 当社のウエーハプロセス用製造装置売上とは、ウエーハプローバを除く半導体製造装置の売上です。

半導体製造装置部門の地域別売上高構成比

TEL Basic Data

100%
8.2

東京エレクトロンの基本データ
80%

22.6

8.7

20.4
29.1

8.0

欧州

11.9

北米

8.8

中国・東南アジア

11.1

6.6

60%

7.7

23.6

6.8
21.2

台湾

18.4
18.6

40%

20%

9.7

14.4
7.1

15.7

31.7

29.7

26.7

2001
3月期

2002

2003

33.3

日本

0%

8

FPD 製造装置売上を含む。

Tokyo Electron

www.tel.com

韓国

2004

ア
ジ
ア

大きく伸長した半導体製造装置
アジア向けの売上+79.6 %（日本）+16.6 %（アジア／パシフィック）

暦年2003年 日本およびアジア／パシフィック市場向け
ウェーハプロセス装置出荷額の伸び(十億米ドル)

60

+0.9%
日本
+46.2%

アジア／
パシフィック4.81 4.86

40
3.14

20

+79.6%
0.35+16.6%

2.15

0.70 0.82

0.62

0
東京
エレクトロン

トップ10
装置メーカー

東京エレクトロン

トップ10
装置メーカー
暦年2002年

出典：Gartner Dataquest (2004年4月) GJ04313
装置本体売上のみ。サービス・パーツ売上は含まず。

暦年2003年

前年比成長率は Gartner Dataquest 社のデータに基づいています。

東京エレクトロンの力強い回復を可能にした大きな要因の一つ
は、日本を含むアジア地域における当社の高いプレゼンスです。
21 世紀突入を境に、半導体メーカーの製造拠点が低コストでの生産を可能とするアジアへシフトしてきたことに加え、日本の半導体メーカーも製品戦略を見直すことにより再びその勢いを盛り返してきました。こうした市場の動きが、アジアにおいて強力な販売・サービス網を展開する当社への追い風となり、高いパフォーマンスを達成することにつながりました。暦年2003 年の日本におけるウェーハプロセス用製造装置市場の伸びは 32.0 ％、日本を除くアジア市場における伸び率は3.4 ％でしたが、当社の売上はこれら二地域における伸び率をはるかに上回りました。

300mm ウェーハ対応装置―
多くの装置セグメントで製品シェア No. 1
TEL 300mm装置

市場シェア
コータ／デベロッパ

売上高

2002年3月期

TEL 300mm装置

2004年3月期

層間絶縁膜
エッチング装置

熱処理成膜装置

洗浄装置
メタルCVD装置
0%

25%

No. 1

50%

ウェーハプローバ
75%

半導体チップの製造コストを下げるために、半導体メーカーの投資は従来の 200mm ウェーハ装置から 300mm ウェー
ハ装置へとシフトしつつあります。東京エレクトロンでは、市場の回復とともに到来する本格的な 300mm 時代を見据え、競争力のある 300mm 対応製品のラインナップ構築に注力してきました。当社の 300mm 装置全てにおいて、この 2 年間でシェアの向上を図った結果、多くのセグメントで
世界 No. 1 のシェアを達成しています。

100%

市場シェア

製品の市場シェアは、当社の調査によるものです。

新規受注構成比
200mm装置 Vs. 300mm装置
100%

80%

60%

55

52

45

48

2002

2003

40

200mm装置受注

60

300mm装置受注

83

40%

20%
17

0%
2001
3月期

2004

Annual Report 20049

Achievements
成果
バブルの崩壊以降、東京エレクトロンでは企業体質を改善するために、全グループを上げ왘 ITて様々な改革を推進してきました。製造リードタイムや開発期間の短縮など、あらゆるビジ
ネスサイクルを加速させ、市場ニーズの変化に素早く対応するとともに、効率的なオペレー
ションを追求しています。

たな卸資産回転日数を 39 日短縮–39日（2002 年 3 月期 Vs. 2004 年 3 月期)

東京エレクトロンでは、キャッシュ・フローの改善を目的として、在庫の削減を徹底的に実施してきました。在庫内容を十分に精査し健全化に努める一方、製品在庫を中心とした販売を強化したことにより、2002 年 3 月期末と比較すると、2004 年 3 月期末のたな卸資産が 222 億円圧縮されました。また、たな卸資産回転日数も 111 日から 72 日へと劇的に向上しました。製造サイクルタ
イム短縮プロジェクトも順調に進んでおり、当面の目標となる製造リードタイム「60 日」が十分達成可能な状況となっています。

たな卸資産及びたな卸資産回転率
（日）
111
89
72
（億円）

5,297

5,000

4,606
（億円）

4,178

1,500
1,274

2,500

1,118

1,052

1,000
500

たな卸資産
回転日数
連結売上高

0

0
2002
3月期

TEL Basic Data

2003

期末たな卸資産2004

販売費及び一般管理費と対売上高比率
(%)
32.1

東京エレクトロンの基本データ

28.9
22.3
(億円)

5,297

5,000

4,606
4,178
1,339

(億円)

2004 年 3 月期より、サービス子

1,500

会社におけるフィールドエンジニア

1,329
1,179

2,500

リングに関わる費用の一部を販売費

1,000
500

0

0
2002
3月期

10

Tokyo Electron

www.tel.com

2003

2004

及び一般管理費から売上原価に区分
販売費及び一般管理費の対売上高比率

変更しました。過年度との比較のた

連結売上高して計算した場合の対売上高比率は販売費及び一般管理費

25.0 ％になります。

めに販売費及び一般管理費に引き戻2004 年 3 月期に固定費を 140 億円圧縮

140 億円東京エレクトロンでは、この 3 年間、2000 年までの急激な市場拡大に対応して膨らんだ固定費の圧縮を実施してきました。2004
年 3 月期には、人件費、減価償却費、また「集中と選択」の考えに基づく研究開発費の削減を中心に、単年度で 140 億円の固定費削減に成功しました。すでに当社のコアではなくなった不採算ビジネスからの撤退に加え、国内および米国における製造拠点の整理統合を行いました。さらに、昨年度から「3 年間で製造コスト 30 ％削減」を目標にかかげ、製造プロセスの見直しと最適化を進めています。

生産性・効率性が 18.5 ％向上+18.5%（2001 年 3 月期第 3 四半期 Vs. 2004 年 3 月期第 4 四半期）

従業員数及び一人当たり連結売上高
（百万円）
59.7

50

45.8
（億円）

60

41.1

5,297

5,000

40

4,606
4,178
10,171

10,053
8,870
（人）

2,500

0
2002
3月期

2003

2004

従業員一人当たり
連結売上高

連結売上高

2004 年 3 月期の後半から半導体メーカーの設備投資意欲が急速に回復したことを受けて、製造装置メーカーとしても急激な生産増加局面を迎えることとなりました。これに対して東京エレクトロンでは、製造リードタイムの短縮、製品デ
ザイン・プロセスの見直しを実施し、人員増を伴わない生産能力増強に成功しました。過去最高の売上高を記録した
2001 年 3 月期、その第 3 四半期の連結売上高と、当第 4四半期の売上高はともに 1,800 億円台の同レベルとなりましたが、当期は 3 年前と比較して約 1,400 人少ない人員数で生産拡大を実現しました。これは 18.5 ％の生産性・効率性の向上を意味します。

従業員数

四半期ベースの営業利益率推移
(%)
30

20
12.2
8.3

10

5.1

2.6

1.5

3.4

0
0.5

-1.6

-10

-6.7

-20

-9.4

-15.2
-23.3

-30

2002
3月期

2003

Annual Report 2004

2004

11

The Challenge to Become a Highly Profitable Company
高利益企業へのチャレンジ왘 東京エレクトロンは、中長期的な経営目標をグローバルレベルでの高収益体質の構築においています。利益の源泉となる売上を拡大するための成長戦略と合わせて、利益を最大化するためのコスト圧縮戦略を進めることにより、市場環境の良い時期には最大のリターンを享受し、市場の調整期においても安定的なリターンを確保できる企業体質を目指します。

市場の変化に対応する成長戦略
東京エレクトロンの成長は、エレクトロニクス産業の進化や外部環境の変化に合わせて、自らが進化することによりもたらされてきました。現在当社を取り巻く環境には、さらなる変化が生じています。半導体市場のドライバーである PC やモバイル機器に加えて、新たな潮流 − デジタルコンシューマー製品の台頭です。
こうした市場変化を捉えた成長戦略を敷くことにより、東京エレクトロンは新たな進化を図っていきます。ライフタイムの短いデジ
タルコンシューマー向けの半導体チップ製造にはスケーラブルで短納期生産が可能な製造装置を、また PC やモバイル機器により快適な操作環境を提供する高性能・高スピードチップの製造には革新的なテクノロジーに基づくプロセス装置を…というように、多様化・高度化する顧客ニーズに応える新製品創出を加速していくことで収益拡大を実現します。

TEL 40年のイノベーション
（億円）
8,000

6,000

インターネットの普及

半導体用途の広がり

大型汎用コンピュータ

PC

携帯電話

デジタルコンシューマー製品
自動車他

TEL 連結売上高
グローバリゼーション

4,000
商社機能を有すると同時に自社製品の開発・製造メーカーとしての地位を築く
2,000

半導体の新しいアプリケーションの登場によりさらに成長

技術サポートを付加価値とする専門商社
0
FY 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 00 01 02 03 04

TEL Basic Data

2004 年 3 月期のテクノロジー・ハイライト

東京エレクトロンの基本データ○新型コータ／デベロッパ CLEAN TRACK LITHIUS の量産出荷スタート○液浸技術の実用化に向けて共同開発に参画○ MEMS 事業のマーケティングを開始○マスクコータ／デベロッパ CLEAN TRACK ACT M を
リリース

12

Tokyo Electron

www.tel.com

予測――半導体市場は今後 4 年間で 41 ％伸長（2003 年 Vs. 2007 年）
1990 年代後半における半導体市場の成長を牽引したのは、インターネットの普及に伴う PC 市場の拡大と携帯電話市場の爆発的な成長でした。今後の半導体市場は、PC や携帯電話に加えて、通信、デジタルコンシューマー製品、自動車などの新しいアプリケーション向けに力強く成長していくと予想されています。さらに注目すべきことは、半導体チップの出荷個数とメモリのビット成長率が、半導体出荷額の成長とは比べものにならないほど高くなるということです。

用途別半導体需要予測（十億米ドル）

250
191

200
150

218

207

235

166
141

100
50
0
2002

2003

2004

2005

2006

2007

予測
産業用その他
自動車
通信
PC・データプロセス
デジタルコンシューマー製品

出典： 電子情報技術産業協会（2004年5月）

目標――過去最高の営業利益率を超え、ワールドクラスの高利益率の実現を目指す

当社の営業利益率推移
(%)
25
20

16.7%

15
10

構造改革

5
0
-5

86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 00 01 02 03 04

半導製造装置市場
調整期

調整期

調整期

調整期

半導体関連産業は「シクリカル・グロース」という言葉で表されるように、アップ・ダウンを繰り返しながら成長していくビジネスです。今後半導体チップが使われる分野が拡大することによって、サイクルの振幅が狭くなっていくと予想されていますが、サイクル自体はなくならないと考えています。
こうした状況の中、東京エレクトロンが目指すのは、過去最高の営業利益率を塗り替え、さらにワールドクラスの高利益率を実現することです。このゴールに向けて以下の 3 点に注力します。
○研究開発を強化し、既存製品のさらなる差別化と新製品の市場投入を加速する。
○保守サービスビジネスを強化し、収益性を向上させる。
○引き続き構造改革を実施し、スリムになった企業体質を継続的に維持する。
現在継続中の構造改革を完遂することにより、当社はグロー
バルレベルでの高利益企業を目指します。

近年の新製品

2000

2002

2002

2004

2004

プラズマエッチング装置
Telius

熱処理成膜装置
TELFORMULA

プラズマ処理装置
Trias SPA

コータ／デベロッパ
CLEAN TRACKLITHIUS

マスクコータ／デベロッパ
CLEAN TRACK ACT M

Annual Report 200413

環境・健康・安全 に対する取り組み

環境負荷低減に向けて

この評価結果を新規開発装置へ生かすことにより、継続的に

東京エレクトロンは、地球環境を保全し、継続的に改善

環境性能を向上するように装置開発を進めています。下の表することが人類共通の最優先課題の一つであり、経営上最は新型熱処理成膜装置 TELFORMULA と従来型装置も配慮すべきことの一つであるとの認識に立ち、地球環境

ALPHA（α）-303i とを比較した LCA の実施例です。

との調和を保った繁栄を実現することを常に念頭に置き、ステークホルダーから総合的に信頼される企業の構築を目

鉛フリーはんだ導入推進

指して、以下の項目について環境保全活動を推進していまEU（欧州連合）では各種の指令に基づき、2006 年 6す。ここではその一部について、その成果もあわせてご説

月までに水銀、カドミウム、鉛など有害な物質の電気機器明します。

への使用が禁止されます。半導体製造装置はこれらの指令の対象外ですが、当社では汚染の未然防止に努めており、

ライフサイクル・アセスメント（LCA）の実施

自主的かつ計画的に鉛フリーの取り組みを進めています。

装置の原材料から製造、装置運搬、装置使用、廃棄までのそれぞれの工程における環境に対する影響を定量的に評

グリーン調達価するライフサイクル・アセスメントを実施しています。

当社は半導体製造装置および FPD 製造装置の生産におい主要機種にて LCA を実施し、新旧モデルを比較し、環境負て、原材料や部品を外部のサプライヤーから調達していま荷の総量が削減されていることが確認できました。また、す。よって原材料のグリーン調達に関しては、サプライヤー

装置使用時における ALPHA (α)-303i と TELFORMULA のエネルギー使用量比較（CO2 換算）

電力

N2

冷却水

排気

消耗品

ドライエア

プロセスガス

（T-CO2）
合計

ALPHA (α)-303i

463.1

215.6

43.5

44.1

1,217.4

8.7

1.6

1,994.1

TELFORMULA

259.5

96.9

72.2

40.6

36.5

33.4

2.3

541.4

1Q

2005年3月期
2Q
3Q

鉛フリー実施計画
欧州法規制による鉛使用の制限：発癌対策、土壌汚染対策―WEEE*1：2006/07、RoHS*2：2006/07 ― 電気・電子機器対象●特に電気・電子機器で鉛を多用―大手電機メーカーは2003年中に鉛フリー化をほぼ達成●TEL製品は対象外だが、鉛入部品調達は困難になると予想される
様々な鉛フリーはんだ：Sn-Ag-Cu、Sn-Zn-**、その他―多種類めっきにより、融点、接着性等への影響の可能性
鉛フリー部品への変更に伴う品質・信頼性等、要確認
東京エレクトロンの方針：2006年1月生産開始装置（300mm）から実施
目標

1Q

2003年3月期
2Q
3Q

4Q

鉛フリータスクチーム結成、活動開始
方針アナウンス（対取引先）
採用する技術と材料検討
取引先調査および協力／対応計画
OEMメーカーとの対応策
基板、モジュール単体評価
基板、モジュール組込み評価
生産準備
生産開始
＊1 WEEE：廃家電・電子機器に関する欧州指令＊2 RoHS：電気電子機器に含まれる特定有害物質の使用制限に関する欧州議会および理事会指令

14Tokyo Electron

www.tel.com

1Q

2004年3月期
2Q
3Q

4Q

4Q

2006年3月期
1Q

の環境負荷低減への協力が不可欠です。当社は「グリーン要と考えています。2004 年 3 月期の環境報告書は 2004

調達ガイドライン」を制定し、全国のサプライヤーに配布す

年秋頃発行予定です。

るとともに、グリーン調達の説明会を開催しています。また、サプライヤーの教育を目的としたトレーナー養育プログラム

安全と健康への取り組み

導入や教育の仕組み作りにも積極的に取り組んでおり、物品

お客様、従業員をはじめ当社に関わる全ての人々の「安の購入を通して環境負荷低減のために業界のリーダーとして全」と「健康」を第一に考え、1998 年に「東京エレクトの役割を果たしています。

ロングループの安全／健康に関する基本理念／方針」を定めました。この中では、各種業務の遂行において安全や健廃棄物削減、リサイクル

康に対する配慮を常に念頭において行動する責務が従業員

当社では国内製造系の事務所において 2005 年 3 月期まに課せられていることが明示されています。この理念／方でに排出される廃棄物を限りなくゼロにする、ゼロエミッ

針の実行のために、当社では出荷製品、各種組立・据付作ション化を目標に廃棄物削減、リサイクルを推進していま業についてのリスクアセスメントを推進しています。これす。具体的には事業所ごとに廃棄物の分別、廃液の処理設によりリスクの高いと判断された事項は、そのリスクの削備の導入、リサイクル業者の開拓、廃棄物が発生しない工減を計画的に実行しています。また、作業前には危険予知

程への改善などが挙げられます。これらの活動を推進したを行い、作業の中の危険を見つけ出し、事前に除去するよ

結果、リサイクル率は年々向上しており、資源の有効利用

う努めています。

が進んでいます。
環境報告書の発行
当社は 2000 年より環境報告書を発行しております。事
業活動に関わる全ての皆様へできるだけ多くの情報を発信
し、共有化を行ってコミュニケーションを深めることが重廃棄物総量推移とリサイクル率

(トン)

(%)

6,000

100
93.1

環境報告書
5,000

77.4

4,772
4,238

80

69.7

4,000

59.9
55.2
49.7

3,000
40.9

3,938

60

3,268

3,657
3,179

3,189

40

2,000
15.3

20

1,000

847

0

0
1997

1998

廃棄物総量

1999

2000

2001

2002

2003

2004

リサイクル率グリーン調達ガイドライン

Annual Report 200415

知的財産報告書

東京エレクトロンのコア技術は半導体および FPD 製造のライセンス関連活動の事業への貢献ためのプロセス技術およびメカトロニクス技術です。当社

当社は自社開発製品や開発技術について出願・権利化にはこれらの技術に集中して製品競争力強化のための技術開成功した知的財産権を競合他社にライセンスアウトするこ発を推進していますが、知的財産権による保護なくしては、とによって収益を上げるのではなく、製品や技術の差別化

独自で開発した技術および製品も自社のものと主張するこや競争優位性を確保するために有効活用しています。

とができません。我々は知的財産戦略が技術戦略および製技術がますます高度化、複雑化している半導体およびＦ

品戦略と三位一体となることによって初めて、期待した効ＰＤ製造装置分野においては、最先端技術を導入した新製

果を最大限に発揮することができると考えています。よっ

品を効率良く開発し早期に市場投入する必要があり、当社て、これを重要な戦略の一つとして位置づけ、他社の優秀は、自社保有であるか他社保有であるかにかかわらず、利な技術も有効活用し、自社製品の市場への早期投入のため用可能な知的財産権を有効に利用しています。

に、ライセンスインをより重視する知的財産活動を行っています。

知的財産の取得・管理、営業秘密管理、技術流出防止に関する方針
当社においては、「知的財産権に関する規程」にて知的財産権の取り扱いについて定めています。また、当社の知的財産の取得・管理手続きは、経済産業省の定める「知的財産の取得・管理指針」に定める内容とほぼ同レベルの内容となっています。
また、当社においては、「知的財産権に関する規程」に従って、発明・考案・創作者には、特許、実用新案、意匠等の出願・登録時の一時金、社内実施、ライセンス等の社外実施の実績に応じた補償金を支払うとともに、優秀発明賞、最多発明者賞などの発明報奨制度などを制定して、発明・考案・創作に対するインセンティブを与えています。
営業秘密等の管理については、「技術・営業情報管理規程」
および「技術・営業情報管理運用マニュアル」に基づいて厳密に管理しており、「営業秘密管理指針」および「技術流出防止指針」にて定められる内容とほぼ同レベルの管理内
容となっています。

16

Tokyo Electron

www.tel.com

なお、半導体製造拠点および FPD 製造拠点のグローバルても重視しています。

化に伴い、当社では外国における知的財産権の出願につい

年度別特許出願件数

出願件数
（海外）

出願件数
（国内）

500

1,000

400

800

300

600

200

400

100

200

0

0
1998

1999

2000

2001

2002

2003

2004

米国
韓国
国内

台湾
ヨーロッパ
中国

主要各国における知的財産権保有件数（2004 年 3 月 31 日現在）
日本

米国

韓国

台湾

中国

ドイツ

フランス

その他

合計

2,453

1,875

772

969

19

103

57

350

6,598

64

0

2

40

6

0

0

0

112

意匠

156

62

99

59

41

27

44

165

653

商標

196

25

37

65

21

16

15

274

649

合計

2,869

1,962

910

1,133

87

146

116

789

8,012

特許
実用新案

日本の特許庁調査によると、2001 年の特許についてのPatent）の保有率（自社米国特許件数に占める Elite

審査請求に対する登録率は、当社は 73.9 ％であり、第 10Patent の割合）のランキングにおいて世界第１位となり位にランクされました。

ました。これは、優れた特許を効率良く出願権利化していまた、米国の知的財産調査会社である CHI Research

ることの表れであり、国際的な競争力強化に繋がっている

Inc.社の調査によると、当社は米国特許について、1996と考えています。

年から 2000 年の 5 年間に、関連技術に関する特許引例として挙げられた頻度の高かった上位 5 ％の特許（Elite

Annual Report 2004

17

コーポレート・ガバナンス

コーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方
経営のグローバル化が進行する状況において、株主をはじめとするすべてのステークホルダー（利害関係者）にとっての企業価値の向上を重視した経営を推進するために、

なお、コーポレート・ガバナンス体制の模式図は以下のとおりです。
コーポレート・ガバナンス体制

企業倫理と遵法を徹底するとともに、内部統制システムお株主総会

よびリスク管理システムの整備・強化を推進し、加えて経営の透明性・客観性を確保することを基本的な方針・目的

指名委員会
報酬委員会
倫理担当取締役

取締役会

監査役会

会計監査人

としています。
改善状況確認指示

コーポレート・ガバナンスに関する施策の実施状況

社長

当社は、従来から取締役会と執行機関との機能を分離し監査＋改善報告
改善指示ていますが、取締役会と執行機関の役割をより明確化する

監査ために、2003 年 4 月より執行役員制を導入し、よりスピ
執行役員ーディーに事業の戦略立案・実行が可能な体制としました。
報告

取締役会の機能は、株主利益を代表し企業価値を最大化す

改善指示
監査

るために、①経営の基本方針の決定、②執行部の立案するリスク管理担当部

事業の基本戦略の審議・決定、③グループ経営の監督・評価等を中心とすると明確化しています。

報告

モニタ

収益部門

■報酬委員会および指名委員会
取締役社長の報酬を決定する報酬委員会と、取締役社長

監査

内部監査部門
（監査室）
モニタ

内部牽制

報告

事務部門

監査

を除く取締役 3 名により構成され、株主総会で選任される取締役候補者の選定および取締役会で選任される取締役社
長候補者の選定等を行う指名委員会をそれぞれ取締役会のなかに設置し、当社独自の体制により、充実したガバナン
ス向上を目指しています。

■内部統制システムおよびリスク管理体制の整備の状況
当社は、高い水準での企業倫理を保持するとともに法律、
国際的なルールを遵守して行動することを第一義と考えて■その他の取り組み

おり、倫理担当取締役を任命するとともに倫理基準を制定

株主重視の経営のもと、株主に対する透明性が重要であるとの視点に立ち、代表取締役 2 名の個別報酬を株主総会の招集通知にて開示しています。

し、企業倫理の徹底に取り組んでいます。
また、内部統制システムおよびリスク管理体制の整備の重要性を再認識し、監査室にこうした観点に立った内部監

2002 年 6 月開催の定時株主総会において、経営環境の査機能を充実させていくとともに、総務部内にビジネスリ

変化に迅速に対応し、経営責任をより一層明確に示す体制と

スク、オペレーションリスクなどの危機管理対策を遂行すするため、取締役の任期を 2 年から 1 年に変更しました。

る部署を設置し、それぞれのリスクに対する必要な社内規
程類の整備および教育・啓蒙活動などを実施しています。

18

Tokyo Electron

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取締役・監査役及び執行役員（2004 年 6 月 22 日現在）

取締役・監査役取締役
東 哲郎 1

近藤俊之

株式会社エスアールエル取締役議長

取締役会長

常石

哲男 2

取締役副会長

監査役
糸山 武敏

佐藤

常勤監査役

潔

代表取締役社長

田中

原

常勤監査役

護

代表取締役

石橋

木村

寛介

1 3

取締役

健吾 2

富司雄

常勤監査役

前田

黒岩

健生

博

三井安田法律事務所

弁護士

東京エレクトロン AT 株式会社取締役会長
東

哲郎

常石

哲男

久保寺

東京エレクトロン AT 株式会社取締役

株式会社東京放送代表取締役会長（注）
1. 報酬委員会委員
2. 指名委員会委員
3. 倫理委員会取締役

阪本

古垣

砂原
執行役員

正男 2
幸雄 1

甚三郎

FE 部門統轄
兼 東京エレクトロン FE 株式会社 代表取締役社長

中嶋敏

製造部門統轄圭一

韓国営業推進本部長
兼 東京エレクトロンコリア株式会社
代表取締役社長

山口千明

アジア営業推進本部長

田原好文

技術・開発部門統轄 技術・開発（真空）担当
兼 東京エレクトロン AT 株式会社 常務執行役員

七澤豊

人事部・財務部担当
兼 人事部長原田芳輝

総務部・経理部・オーダープロセス部・法務部・大阪支社管理部担当
佐藤

佐藤

潔

原

護

潔

社長

児玉

孝雄

護

小野里

管理部門統轄充

久我宣之

FPD 事業部

天野

副事業部長（管理担当）

勝之

伊東

石川

晃
高司

エッチングシステム BU ジェネラルマネージャー

栗木

隆一

鷲野

溝口

竹中

信
国内営業推進本部統轄

康幸

サーマルプロセスシステム BU ジェネラルマネージャー
兼 東京エレクトロン AT 株式会社代表取締役副社長

常務執行役員 事業企画部門統轄
兼 テストシステム BU ジェネラルマネージャー

常務執行役員清

欧米営業推進本部長

陽一

マーケティング担当
兼 マーケティング部長

富田博

MEMS 事業担当

常務執行役員 FPD 部門統轄
兼 FPD 事業部長

小松原

春原

IT センター長

伊藤

専務執行役員孝弘

国内営業推進本部長
兼 大阪支社長・九州支社長

コンピュータ・ネットワーク事業部長
兼 コンピュータ・ネットワーク部長

クリーントラック BU ジェネラルマネージャー

原

小松

飽本

正巳

技術・開発（常圧）担当
兼 東京エレクトロン九州株式会社 常務執行役員

憲治

洗浄システム BU ジェネラルマネージャー

博司（注）BU はビジネスユニットの略称です。

枚葉成膜 BU ジェネラルマネージャー

Annual Report 200419

財務の概況

ータ・ネットワーク部門および電子部品部門もそれぞれ堅

売上および利益調に推移しました。

事業環境

地域別では、国内売上高が前期比 27.2 ％増加の 2,423

当期 2004 年 3 月期の世界経済は、イラク情勢の緊迫化

億円、海外売上高が 6.4 ％増加の 2,873 億円となりましや期初における SARS の流行などの不安要因がありました

た。連結売上高に占める海外売上高の比率は前期のが、米国では減税の効果などにより好調な景気が持続しまし58.6 ％から 54.2 ％に減少しました。

た。アジアでは中国が継続的に成長し、台湾や韓国においてまた、当期の連結受注高は、前期比 42.5 ％上昇しも回復基調となりました。日本においては、円高などの影響

6,536 億円となり、期末の受注残高は前期比 82.3 ％増加があったものの企業収益の改善が見られ、製造業を中心に設の 2,747 億円となりました。

備投資や輸出が堅調に推移し、緩やかに回復しました。
当社の参画しているエレクトロニクス業界においては、

部門別営業概況
半導体製造装置部門

PC やカメラ付き携帯電話の新機種への買い替え需要に加え、DVD レコーダー、デジタルカメラ、薄型テレビに代表

IT バブルの崩壊を契機として、世界のエレクトロニクス

されるデジタル家電の市場が拡大し、活況を呈しました。

産業、とりわけ半導体関連産業は約 2 年間にわたり、厳し

これを背景に、半導体産業においては日本を含むアジアにい事業環境が継続しましたが、2003 年に入ってから PC

拠点を置く多くの半導体メーカーの設備稼働率が上昇し、やカメラ付き携帯電話の買い替え需要が高まったことや、特に当会計年度後半以降、製造能力の増強が図られました。

デジタル家電関連の市場が立ち上がってきたことにより、関連デバイスを製造する半導体メーカーの設備投資意欲が売上の状況

急回復しました。特にデジタルカメラで使用されるイメー

2004 年 3 月期の連結売上高は、こうした環境のもと、ジセンサーや FPD の駆動用 IC などでは日本に強みがあり、

2003 年 3 月期比 15.0 ％増加の 5,297 億円となりまし

春以降、国内の半導体メーカーからの受注が増加しました。

た。主力の半導体製造装置部門の売上高が、主に日本を含

その後、メモリや PC 関連デバイスの需要増を受けて、ア

むアジアの半導体メーカーおよび FPD（フラット・パネ

ジアの半導体メーカーを中心とした設備投資が拡大しましル・ディスプレイ）メーカー向けに伸長したことにより、た。

前期比 16.7 ％増加の 4,257 億円となりました。コンピュ

単位：百万円（売上高に占める割合）

売上高

単位：千米ドル

2004 年

2003 年

2002 年

2004 年¥529,654 (100.0)¥460,580 (100.0)¥417,825 (100.0)$5,013,762

売上原価

389,499(73.5)

326,540(70.9)

302,270(72.3)

3,687,037

売上総利益

140,155(26.5)

134,040(29.1)

115,555(27.7)

1,326,725

販売費及び一般管理費

117,875(22.3)

132,921(28.9)

133,865(32.0)

1,115,823

営業利益（損失）

22,280

(4.2)

1,119

(0.2)

(18,310)–

210,902

その他収益（費用）(7,344)–(24,129)–(4,609)–(69,520)

税金等調整前当期純利益（損失）14,936(2.8)(23,010)–(22,919)–

141,382

法人税等

6,124

(1.2)

18,532(4.0)(2,990)–57,962

515

(0.1)

12

(0.0)

8

(0.0)

4,876

8,297

(1.6)

(41,554)–(19,938)–

78,544

少数株主利益
当期純利益（損失）20Tokyo Electron

www.tel.com

この結果、2004 年 3 月期の半導体製造装置部門の連結の販売を拡大しました。ウェーハ口径別では日本を含むア

受注高は 5,498 億円と、前期に比べ 51.3 ％増加しました。

ジアの半導体メーカーを中心に 300mm ウェーハ対応工場

当部門の連結売上高は 4,257 億円と、前期比 16.7 ％の増への投資が増えつつあり、装置本体の売上に占める 300mm

加となりました。当部門の連結売上高に占める割合は、前装置の比率としては 60 ％程度まで上昇しました。

期の 79.2 ％から 80.4 ％へと増加しました。また、薄型テレビ市場の長期的な成長を見込み、国内外のパネルメー

コンピュータ・ネットワーク部門

カーが新工場を建設するなど設備投資を増やした結果、当SAN（Storage Area Network ：外部記憶装置間およ部門の売上高に含まれる FPD 製造装置の売上高も前期と比

び記憶装置とコンピュータの間を結ぶ高速なネットワーク）

べ増加しました。

ソリューション、ネットワークソリューション、およびブ

売上高の地域別動向としては、デジタル家電用半導体デロードバンドソリューションを提供するコンピュータ・ネ

バイス向けに投資が活発であった日本は前期比 45.7 ％増

ットワーク部門の売上は、前期比 7.3 ％増加の 184 億円

加の 1,419 億円、半導体メモリや FPD 向け投資が増加しとなりました。

た韓国は前期比 7.2 ％増加の 614 億円と、いずれも大幅

当部門の売上高の 37 ％を占める SAN 関連製品では、に増加しました。前期まで投資が低調であった台湾におい

Brocade 社のファイバーチャネルファブリックスイッチやても投資が再開され、前期比 49.9 ％増加の 1,005 億円とEmulex 社のファイバーチャネル・ホストバスアダプタがなりました。一方、米国への売上は主要半導体メーカーの順調に売上を伸ばしました。また、ストレージセキュリテ

設備投資意欲が継続して低調であったことにより、前期比

ィの重要性に着目して取り扱いを開始した NeoScale

31.9 ％減少の 506 億円となりました。

Systems 社のバックアップデータ暗号化製品は、データ
今後は、オープン系テープオートメーション市場で世界

CVD 装置、ウェーハプローバ、洗浄装置、FPD 製造装置

No.1 のマーケットシェアを有する ADIC 社（Advancedなど全ての主要製品において売上が増加しました。新製品

Digital Information Corp.）のテープライブラリーの販売

では、新型の熱処理成膜装置「TELFORMULA」、次世代対も開始し、データの保管・管理まで視野に入れたソリュー

応のコータ／デベロッパ装置「CLEAN TRACK LITHIUS」

ションを提供していきます。

国内及び海外売上高(単位：億円)半導体製造装置部門 地域別売上高(単位：億円)

8,000

4,257

3,647

3,257

6,190

3,551

5,297

半導体製造装置部門売上高(単位：億円)
4,606

4,178

タ／デベロッパ、エッチング装置、熱処理成膜装置、枚葉

7,239

漏洩防止のソリューションとして採用され始めています。

4,407

装置別動向としては、装置市場全体の拡大に伴い、コー

1,500

6,000

1,419

4,246

7,000
6,000
5,000

3月期

日本
海外

1,005

206
199

04

201
176

01

573
614

743

1,000

中国

東南アジア

0

0
00

506

280
339

03

2,423

1,905

02

0

2,000

670

974

2,873

2,701

2,313

3,000
500

2,993
1,840

2,000

1,865

4,000

2,567

1,000
4,000

00

01

02

03

04

日本

北米

欧州

韓国

台湾

3月期

2003

2004

日本の売上には他社製輸入品の売上が含まれています。

Annual Report 200421

ネットワーク関連製品では、当部門の主力製品の一つで電子部品部門の売上高の 88 ％を占める「半導体製品」

ある F5 Networks 社が SSL-VPN（Secure Sockets

においては、薄型テレビなど民生機器向けに用途を拡大し

Layer-Virtual Private Network）製品をラインナップにているザイリンクス社の PLD（プログラマブルロジックデ追加したことにより、売上を拡大しました。

バイス）や、主に携帯端末の電源用に使用されるリニアテ

自社開発の高精細映像・音声配信システム Ruff

クノロジー社の汎用アナログ IC など高付加価値商品の拡販

Systems は、HDTV（High Definition Television ：ハに努めました。また、2002 年に取扱いを開始したテキサ

イビジョン）カメラに比べて安価な HDV（Highス・インスツルメンツ社の商品が半導体試験装置や ATM

Definition Video）規格準拠のビデオカメラ映像を、インなどの産業機器向けに伸長したことなどから、「半導体製品」

ターネットプロトコルで伝送可能な「Ruff Systemsの売上高は前期比 8.5 ％の増加となりました。

HDV 版」を新たに追加しました。ブロードバンドネットワ「ボード製品」については、PC マザーボード、VME ボークを利用したハイビジョン映像の伝送を可能にしたことードなど産業機器向け販売が好調であり、「ソフトウェア」

で、今後プロフェッショナルユースからコンシューマーユ

については、組み込みシステム機器向け OS の拡販に努めースまで、HDTV コンテンツの普及に貢献できる可能性がた結果、売上が増加しました。
「一般電子部品」については、あると考えています。

パネル PC、スイッチング電源など民生機器への拡販に努めましたが、売上高は微減となりました。

電子部品部門また、当部門はカスタム IC、ボード、ソフトウェアの設

当期は、技術サポートを要する高付加価値商品の販売に計受託業務と自社製品の開発にも積極的に取り組んでいま注力するとともに、取扱商品の拡大、新規商品の採用促進す。設計受託業務については、受注拡大に対応するため、に努めました。2003 年 10 月には、長岡市と岡山市に営2004 年 1 月中国上海市に設計開発を行う子会社を設立し業拠点を開設するなど、顧客ニーズに沿った営業展開も行ました。自社製品の開発については、液晶プロジェクター、

いました。この結果、「半導体製品」、「ボード製品」、「ソフプラズマテレビなどの映像機器向け高精度同期部分離 LSI

トウェア」、「一般電子部品」を取扱う電子部品部門の当期の開発やデジタルカメラ、携帯電話などに広く採用されて連結売上高は、前年比 8.9 ％増加の 842 億円となりました。

いる SD メモリカードのホストコントローラの開発など、

892

737

774

842

200

721

電子部品部門売上高(単位：億円)

184

172

170

141

124

コンピュータ・ネットワーク部門売上高(単位：億円)

00

01

02

03

04

1,000

800
150
600
100
400
50
200

0

0
00

01

02

03

04

3月期

22

Tokyo Electron

3月期

www.tel.com

市場ニーズをいち早く取り入れた LSI の開発を行いました。

心として、前期比 11.9 ％減少の 441 億円を計上しました。

今後も、顧客ニーズの把握に努め、カスタム IC、専用 IC、これらの結果、営業利益は前期の 11 億円から 212 億円増

アナログ IC などの高付加価値商品の技術サポートを徹底加し、223 億円となりました。

し、設計受託業務と自社製品の開発をより一層推進していきます。

その他収益（費用）および当期純利益

売上総利益、販売費および一般管理費、営業利益

73 億円の損失となりました。これは主に、事業構造改革

その他費用純額は、損失額が前期より 168 億円減少し、売上原価は前期比 19.3 ％増加の 3,895 億円、売上総利の取り組みとして前期に 206 億円計上した特別損失が益は前期比 4.6 ％増加の 1,402 億円となりました。この181 億円減少したことによるものです。この結果、税金等

結果、売上総利益率は前期比 2.6 ポイント減少し 26.5 ％調整前当期純利益は前期から 379 億円増加し、149 億円となりました。

となりました。

売上総利益率については、コストダウンおよび工場稼働

当期純利益は、499 億円増加し 83 億円、1 株当たり当率の改善が進んだものの、一部サービス子会社とのフィー期純利益は 46.37 円（前期１株当たり当期純損失

ルドエンジニアリングに関わる契約形態の変更による影響

238.57 円）となりました。配当金は前期比 2 円増加のもあり、若干の減少となりました。

10 円、配当性向は、単独ベースで 47.4 ％となりました。

販売費および一般管理費は前期比 11.3 ％減少の 1,179億円となり、売上高に対する比率は前期の 28.9 ％から
22.3 ％となりました。販売費および一般管理費の主な減
少要因は、開発案件の選択と集中および開発期間の短縮化による研究開発費の減少と、前述の一部サービス子会社とのフィールドエンジニアリングに関わる契約形態の変更に伴う減少です。なお、研究開発費としては、新製品および
65 ナノメートル以降のプロセス技術・装置開発などを中

8

10

8

38

441

501

538

529

371

223

11

-183

（円）

1,500

14

配当金及び配当性向(単位：円／％)

研究開発費(単位：億円)
1,211

358

営業利益
(単位：億円)

40

600

（％）

50
47.4

1,200

40
30

900

400

30.2
30
20

600

20
300

21.6

200
10

10

0
-300
3月期

01

02

03

04

0

0

0
00

00
3月期

01

02

03

04

00

01

02

03

04

3月期

配当金
配当性向（単独）
2002 年 3 月期及び 2003 年 3 月期の配当
性向は単独ベースで当期純損失を計上したため掲載しておりません。

Annual Report 2004

23

総資産は、前期末から 367 億円増加の 5,616 億円とな

財政状態およびキャッシュ・フロー

りました。

財政状態

流動負債は、前期末に比べ 192 億円減少の 1,415 億円

2004 年 3 月期末の流動資産は、前期末から 465 億円となりました。これは主に、生産増加に伴う仕入の増加に増加し 4,030 億円となりました。主な内容としては、売より買掛金が増加したものの、コマーシャル・ペーパー上増加に伴い受取手形および売掛金が前期末から 633 億円

350 億円の償還および第 2 回転換社債が満期を迎えたこと増加し、現金および預金は運転資金の増加により 103 億円

によるものであります。

減少しました。また、たな卸資産は増産基調のなか工場の長期負債は、第 10 回無担保社債 200 億円および第 11

仕掛品が増加しましたが、製商品の販売促進に取り組んだ

回無担保社債 300 億円を発行したことなどにより、前期末

結果、全体では前期末から 66 億円減少し、1,052 億円とに比べ 327 億円増加の 1,404 億円となりました。

なりました。未収金を除く受取手形および売掛金の回転日

株主資本については、転換社債の株式への転換と当期純数（期末時点の売上高と売掛金で計算）は売掛金の回収期利益による剰余金の増加により、前期比 229 億円増加の間が比較的長い地域向けの売上が増加したことに伴い前期

2,758 億円となり、株主資本比率は、前期の 48.2 ％から末の 135 日から 159 日となりましたが、たな卸資産回転

49.1 ％に上昇しました。株主資本利益率（ROE）は

日数は前期の 89 日から 72 日に改善しました。

3.1 ％になりました。

有形固定資産は、前期末から 108 億円減少の 1,088 億キャッシュ･フロー

円となりました。なお、当期の設備投資額は評価用機械装

営業活動によるキャッシュ・フローは、前期の 214 億円

置の取得と IT 関連投資を中心として、110 億円となりまのプラスに対し、79 億円のプラスと減少しました。当期した。
投資その他の資産は、前期末から 10 億円増加の 499 億の主な内訳は、税金等調整前当期純利益 149 億円、減価償円となりました。これは主に、株価上昇による有価証券評

却費 250 億円および仕入債務の増加 292 億円がそれぞれ価額の増加によるものであります。

キャッシュ・フローのプラス要因となった一方、売上増加

500

デット・エクイティ・レシオ
(単位：倍)
2,615

1,957

2,439

3,098

2,287

110

124

309

運転資本及び流動比率(単位：億円／倍)
494

190

設備投資額
(単位：億円)

3,500

5

1.0

4

0.8

3

0.6

2

0.4

1

0.2

0

0

3,000
400
2,500
300

3.2

0.62
2.8

2,000
1,500

200

2.6
2.3

2.2

0.60

0.51
0.46

0.45

1,000
100
500
0

0
00

01

02

03

04

00

3月期

01

02

3月期

運転資本
流動比率

24

Tokyo Electron

www.tel.com

03

04

00

01

02

03

04

3月期

デット・エクイティ・レシオ ＝
有利子負債 ÷ 期末株主資本

に伴う売上債権の増加により 618 億円がマイナス要因とな

債 200 億円および第 11 回無担保社債 300 億円の発行にったことによります。

よる調達などの結果、前期のマイナス 99 億円から当期は投資活動によるキャッシュ･フローには、前期のマイナス

マイナス 103 億円となりました。

73 億円に対してマイナス 85 億円となりました。研究開発

現金および現金同等物の期末残高は、前期末の 530 億円

用機械装置の取得による 75 億円がその主な内容です。

から 103 億円減少の 427 億円となりました。

財務活動によるキャッシュ･フローは、コマーシャル・ペーパーおよび第 8 回無担保社債の償還、借入金の返済、配当金の支払などの支出がありましたが、第 10 回無担保社

単位：百万円（総資産に占める割合）

資産合計

単位：千米ドル

2004 年

2003 年

2004 年¥561,632 (100.0)¥524,901 (100.0)$5,316,467

現金及び預金42,650(7.6)

52,982(10.1)

403,727

受取手形及び売掛金

245,554(43.7)

182,218(34.7)

2,324,439

たな卸資産

105,187(18.7)

111,810(21.3)

995,712

投資その他の資産

49,869(8.9)

48,851(9.3)

472,064

有形固定資産108,789(19.4)

119,611(22.8)

1,029,805

負債合計

281,885(50.2)

268,402(51.1)

2,668,356

短期借入金

6,815

(1.2)

8,729

(1.7)

64,514

支払手形及び買掛金

78,009(13.9)

48,279(9.2)

738,440

未払法人税等

3,273

(0.6)

3,645

(0.7)

30,983

長期借入金及び社債

98,476(17.5)

70,230(13.4)

932,181

株主資本275,800(49.1)

252,904(48.2)

2,610,748

333

01

64

00

-142

837

25
20.4

393

4,000

100

ネット・キャッシュ・フロー
(単位：億円)

2,758

2,529

3,076

2,736

3,333

株主資本及び株主資本利益率 (ROE)(単位：億円／％)

株主資本比率(単位：％)

02

03

04

1,000

20

3,000

800

80

15
2,000
10

60

55.2

54.8

1,000
49.1

40

7.5

600

5
400

0

48.2

45.7

3.1

0
-5

200

-10

20

-6.2

0
-15
-14.8

0
00
3月期

01

02

03

04

00

01

02

03

3月期

株主資本
株主資本利益比率

-20
04

-200
3月期

ネット・キャッシュ・フロー ＝
当期純利益 ＋ 減価償却費

Annual Report 200425

カーを含む、世界中の主要な大手半導体メーカーとの取引事業等のリスク
当社の経営成績、株価および財務状況等に影響を及ぼす
可能性のあるリスクは以下のようなものがあります。

拡大に成功してきました。大手半導体メーカーの大規模設
備投資のタイミングによっては売上高が特定の顧客に一時的に集中することがあり、販売競争の激化によって当社業績に悪影響を及ぼす可能性があります。

（1）外国為替変動による影響
当社は、事業の積極的な海外展開に成功したことにより、海外への売上高比率が高くなっています。当社の輸出は為（5）品質に関する影響

替リスクを回避するために円建て取引にて行うことを原則

当社は、優れた最先端技術を新製品に搭載し早期に市場としていますが、一部外貨建て輸出も存在し、その場合にへ投入すると同時に、ISO9001 の認証取得を含む品質保は受注時の先物為替予約等によって為替リスクヘッジに努

証体制の確立、およびレベルの高いサービス体制の確立にめています。しかしながら、急激な為替変動によって価格も努め、それらの結果、当社の製品を多くの顧客に採用しの変動が生じ為替リスクとなることがあり、当社の業績にてもらうことができました。しかしながら、当社の製品が間接的に悪影響を及ぼす可能性があります。

最先端技術製品である等の原因によって、未知の分野の開発技術も多く存在し、予期せぬ不具合品が発生する等により当社業績に悪影響を及ぼす可能性があります。

（2）研究開発による影響
当社は、微細加工技術、真空技術、プラズマ技術、熱処理
技術、塗布・現像技術、洗浄技術、ウェーハ搬送技術、クリ（6）知的財産権に関する影響ーン化技術等の最先端技術について積極的な研究開発投資お

当社は、製品の差別化と競争力強化のために、最先端技術

よび研究開発活動を継続的に実施することにより、最先端の早期開発のための研究開発戦略を事業戦略および知的財産戦

技術を創造するとともに、当該技術を搭載した新製品を早期略と三位一体で推進することにより、多くの独自技術の専有市場投入することによって、当社が参入する各製品分野にお化を可能とし、各製品分野における高い市場シェアと利益率いて高い市場シェアと利益率の獲得に成功してきました。し

の獲得に成功してきました。しかしながら、当社の製品は多かしながら、新製品投入タイミングのずれ等の影響により当くの最先端技術が統合・最適化された製品であることもあ

社業績に悪影響を及ぼす可能性があります。

り、第三者の技術や知的財産権を回避する場合等があるため、当社業績に悪影響を及ぼす可能性があります。

（3）半導体市場変動による影響
当社は、技術革新が激しく自らの強みを発揮できる半導（7）その他リスク体製造装置等のハイテク分野に資源を集中させることによ

当社は、新たな高成長・高収益事業の創出、既存事業にり、高い利益率を獲得してきました。半導体市場は技術のおけるさらなる高収益の追求、市場規模縮小時においても変化により大幅に成長する反面、需給バランスが崩れるこ利益を生み出すことのできる体質への改善に積極的に取りとによって市場規模が一時的に縮小することがあるため、組むとともに、リスク管理体制の再整備にも取り組んでき

当社はこのような局面においても利益を生み出せるようにました。しかしながら、当社が事業を遂行する限りにおい

構造改革にも積極的に取り組んできました。しかしながら、ては、同業他社および他業種企業と同様に、世界および各

予期せぬ市場規模の大幅な縮小によって、受注取消、過剰地域における経済環境、自然災害、戦争、テロ、感染症等

設備・人員、在庫増加等の発生により当社業績およびキャの不可抗力、金融・株式市場、政府等による規制、仕入先

ッシュ・フローに悪影響を及ぼす可能性があります。

の供給体制、商品・不動産市況、国内外での人材確保、標準規格化競争、重要人材の喪失等の影響を受け、場合によ（4）特定顧客への取引集中による影響
当社は、優れた最先端技術を搭載した製品および顧客満
足度の高いサービス体制を通じて、国内の大手半導体メー

26

Tokyo Electron

www.tel.comっては当社業績に悪影響を及ぼすことが想定されます。

ġ˒ා‫৽͈ۼ‬ါ़ྩΟȜΗġ൐‫΀ނ‬τ·Πυϋ‫ڼ‬৆ٛ২‫͍ݞ‬Ⴒࠫঊٛ২ġĲĺĺĺාĴ࠮‫̥ͣܢ‬ĳııĵාĴ࠮‫ܢ‬ġġġ̭͈඾ུࢊๅͺΣνͺστεȜΠ͉Ȃ٬‫͈ٸ‬උ৪̫࢜ͅै଼̯̹ͦ‫ࢊם‬ๅͺΣνͺστεȜΠཱུͬ࿫̱̹͈̜̳́ͤ͘͜ȃਲ̞̱̀͘Ȃ̷़͈ྩ੨ນ໐໦͉Ȃ඾ུ́࢖ນ़̯̞ͦ̀ͥྩ
੨ນͬ͂͜ͅै଼̯̤̳̦ͦ̀ͤ͘Ȃນাષ̷͉ͦ͂։̈́ͥ‫ؿ‬ਫ਼̦̜̳ͤ͘ȃġġġġ ġ ୷ༀΡσġ ġ ĳııĵාຐྔ‫׫‬ġ ġ ĳııĵාġ ġ ġ ĳııĴාġ ġ ġ ġ ĳııĳාġ ġ ġ ġ ĳııĲාġ ġ ġ ĳıııාġ ġ ġ Ĳĺĺĺාคષࣞ ........................................................................ ġ ĥġ5,013,762Į ġ ¥ġ529,654Į ġ ġ ¥ġĵķıĭĶĹıĮġġ ġ ¥ġĵĲĸĭĹĳĶĮġġ ġ ¥ġĸĳĴĭĹĹıĮ ġ ġ ¥ġĵĵıĭĸĳĺĮ ġ ġ ¥ġĴĲĴĭĹĳıĮġ ġ ġ ฼൵ఘୋ௮௡౾Ĳ ....................................................

4,030,173Į

425,747ĮĴķĵĭķĹĺĮġ

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27

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28

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29

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൚‫ܢ‬੗၌‫ף‬Ȫఅ৐ȫ .................................................................. ġ ¥ġ

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ĺĮĲĮĸĴĭĳĵĹĮġ ġ ġ ‫ ࣞॼྎܢ‬...........................................................................

ĸĹĭıĳĴĮġ

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၌‫઼ף‬ဒ߄ġġ ġ ġ ‫ܢ‬ਉॼࣞ ...........................................................................

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ĮĮ

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ĸĹĭĶĵĵĮġ ġ ġ ‫৽ڼ‬෻൚߄ .......................................................................

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37

TEL グローバルネットワーク（2004 年 6 月 22 日現在）

国内

アメリカ

アジア

東京エレクトロン株式会社・本社

TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC.

TOKYO ELECTRON KOREA LIMITED〒 107-8481 東京都港区赤坂 5-3-6 TBS
放送センター
Tel: 03-5561-7000
Fax: 03-5561-7400
URL: http://www.tel.com

2400 Grove Blvd., Austin, Texas 78741 U.S.A.

325-230 Dongchun-Dong, Yongin City,
Kyonggi-do, 449-120 Korea
Branch Offices
Cheonan, Cheongju, Gumi, Icheon, Kiheung,
Pucheon

支社･事業所･営業所
府中テクノロジーセンター、大阪支社、九州支社
山梨事業所、名古屋営業所

TOKYO ELECTRON AMERICA, INC.
2400 Grove Blvd., Austin, Texas 78741 U.S.A.
Branch Offices
Albuquerque, Boise, Burlington, Colorado Springs,
Dallas, Fishkill, Los Angeles, Manassas,
Marlborough, Phoenix, Portland, Richmond, Santa
ClaraTOKYO ELECTRON TAIWAN LIMITED
7FI, No.18, Pu-Ding Rd., Hsin-chu City,
Taiwan 300, R.O.C.

東京エレクトロン AT 株式会社
本社・宮城事業所〒 981-0203 宮城県宮城郡松島町根廻字猫迫 1-1
藤井事業所〒 407-8511 山梨県韮崎市藤井町北下条 2381-1
穂坂事業所〒 407-0192 山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢 650
東北事業所〒 023-1101 岩手県江刺市岩谷堂字松長根 52
関西テクノロジーセンター〒 660-0891 兵庫県尼崎市扶桑町 1-8TOKYO ELECTRON MASSACHUSETTS, LLC

TOKYO ELECTRON (SHANGHAI) LIMITED

123 Brimbal Ave., Beverly,
Massachusetts 01915 U.S.A.
Branch Offices
Austin, Burlington, Dallas, Fishkill, Portland,
Santa Clara

No.555 Gaosi Rd., Zhangjiang Hi-Tech Park,
Shanghai 201203 China
Branch Offices
Beijing, Suzhou, Tianjin

TEL TECHNOLOGY CENTER,
AMERICA, LLC
NanoFab300 South 255 Fuller Rd., Albany,
New York 12203 U.S.A.

東京エレクトロン九州株式会社

SUPERCRITICAL SYSTEMS, INC.

本社・佐賀事業所〒 841-0074 佐賀県鳥栖市西新町 1375-41

2120 West Guadalupe Rd., Gilbert,
Arizona 85233 U.S.A.

熊本事業所〒 869-1197 熊本県菊池郡菊陽町津久礼 2655

TIMBRE TECHNOLOGIES, INC.

大津事業所
〒 869-1232 熊本県菊池郡大津町高尾野 272-4

2953 Bunker Hill Lane, Suite 301 Santa Clara,
California 95054 U.S.A.

合志事業所〒 861-1116 熊本県菊池郡合志町福原 1-1

ヨーロッパ

東京エレクトロンソフトウェア・
テクノロジーズ株式会社
本社〒 183-8705 東京都府中市住吉町 2-30-7
札幌テクノロジーセンター

TOKYO ELECTRON EUROPE LIMITED
Pioneer, Crawley Business Quarter, Fleming Way,
Crawley, West Sussex RH10 9QL, England, U.K.

山梨ステーション（穂坂）TOKYO ELECTRON ITALIA S.p.A.

九州ステーション（合志）Centro Direzionale Colleoni, Via Cardano 2,
20041 Agrate Brianza, Milan, Italy
Branch Offices
Avezzano, Catania

東京エレクトロン FE 株式会社〒 183-8705 東京都府中市住吉町 2-30-7
FE ステーション・事務所
府中 大阪 宮城 岩手 鶴岡 会津若松 水戸 韮崎
富山 桑名 津 東広島 菊陽 大津 合志 長崎
大分 佐賀 福山事務所 西条事務所

東京エレクトロンデバイス株式会社

TOKYO ELECTRON DEUTSCHLAND GmbH
Carl-Zeiss-Ring 5, 85737, Ismaning, Germany
Branch Offices
Alsdorf, Dresden〒 224-0045 神奈川県横浜市都筑区東方町 1

TOKYO ELECTRON NEDERLAND B.V.

支社
北関東支社：長岡サテライト、東京サテライト
大阪支社：京都サテライト、岡山サテライト

Kerkenbos 1015, Unit C,
6546BB Nijmegen, The Netherlands

営業所・オフィス
仙台 水戸 立川
横浜オフィスTOKYO ELECTRON IRELAND LIMITED
横浜

松本

名古屋

福岡

IRE-TEX Building, Collinstown, Leixlip,
Co. Kildare, Ireland

東京エレクトロン BP 株式会社TOKYO ELECTRON ISRAEL LIMITED〒 183-8705 東京都府中市住吉町 2-30-7

5 Habarzel St., Gat 2000 Industrial Zone,
Kiryat Gat, Israel
Branch OfficeMigdal HaEmek

ロジスティックセンター成田
ロジスティックセンター横浜

東京エレクトロンエージェンシー株式会社〒 183-8705 東京都府中市住吉町 2-30-7

38

Tokyo Electron

www.tel.com

TOKYO ELECTRON FRANCE S.A.R.L.
Batiment Alicante 1, Chemin de la Dhuy,
38240 Meylan, France
Branch Offices
Paris, Rousset

TOKYO ELECTRON (SHANGHAI)
LOGISTIC CENTER LIMITED
Level 1, No.126 Hedan Rd., Waigaoqiao FTZ,
Pudong, Shanghai 201206 China株主メモ（2004 年 3 月 31 日現在）

社名：
東京エレクトロン株式会社

上場証券取引所：
東京証券取引所市場第一部（＃ 8035）

設立：
1963 年 11 月 11 日

名義書換代理人：
東京都港区芝三丁目 33 番 1 号
中央三井信託銀行株式会社

定時株主総会：
毎年 6 月株式の状況：
1 単元の株式の数
授権株式数
発行済株式総数
株主数（郵便物送付先・電話照会先）〒 168-0063 東京都杉並区和泉二丁目 8 番 4 号
中央三井信託銀行株式会社証券代行部
証券代行事務センター
電話： 03-3323-7111

100 株
300,000,000 株
180,610,911 株
60,873 名

お問い合わせ先：
東京エレクトロン株式会社 広報・ IR 室
〒 107-8481 東京都港区赤坂五丁目 3 番 6 号
TBS 放送センター
電話： 03-5561-7003
Fax ： 03-5561-7400
E-mail ： ir@corp.tel.co.jp
http://www.tel.com

所有者別状況：その他の法人
15,512,619株(8.59%)

金融機関・証券会社
73,220,703株(40.54%)

個人その他
25,273,684株(13.99%)

外国法人等
66,603,905株(36.88%)株価推移：（円）
12,000（暦年）

10,000

8,000

6,000

4,000

2,000

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2Q

3Q

2001年

4Q

1Q

2Q

3Q

2002年

4Q

1Q

2Q

3Q

2003年

4Q

1Q
2004年

Annual Report 2004

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