表面技術 1990〜1994
整理
タ イ ト ル著 者
巻 号 ページ発行年 記事の種類
分野−１
No.
4047 巻頭言：表面技術の拡大発展を期待して 二瓶公志
41
1
1 1990 1:巻頭言
電気ブリキライン全不溶性陽極化技術の
4048
齋藤隆穂
41
1
2 1990 3:解説
B02
開発と工業化
ポリパラキシリレン高分子薄膜の気相成 高井吉明.水谷昭
41
1
9 1990 3:解説
B094049
吉.家田正之長シリーズ／表面物性評価技術−薄膜の物
4050
若木守明
41
1
15 1990 9:シリーズ-2
A10
理的性質評価(５)−光学的性質の評価法
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態4051 の解析(５)−金属及び半導体／水溶液界 板谷謹悟
41
1
21 1990 9:シリーズ-2
B09
面の電気化学反応とIn-Situ.ＳＴＭ法
4052 シリーズ開始にあたって
伊藤 滋
41
1
26 1990 10:比べてみよう
4053 シリーズ／くらべてみよう物性値−融点
伊藤 滋
41
1
27 1990 10:比べてみよう A10
現場の知恵−亜鉛めっき黒色クロメート皮
4054
＊
41
1
28 1990 16.現場の知恵 B08
膜の乾燥法(２)
薬師寺正男.近藤喜4055 ガス軟窒化とレーザー焼入との複合処理 之.石井孝也.辻井
41
1
29 1990 5:原著論文
B06
弘和.池永 勝高周波スパッタリングによるチタン−ニッケ
4056
富岡秀徳.上田重朋 41
1
34 1990 5:原著論文
A01
ル合金皮膜の作製とその腐食挙動
スパッタリングによるＳｉＣ薄膜の特性に及 桑野三郎.大竹輝
4057
41
1
40 1990 5:原著論文
A01
ぼす窒素ガス添加の影響
徳.沖 猛雄逢坂哲彌.新井克
411
45 1990 5:原著論文
B034058 無電解Ｎｉ−Ｍｏ−Ｐ合金皮膜の構造
矢.増渕長則.澤井
無電解Ｎｉ−Ｍｏ−Ｐ合金皮膜の結晶化に 逢坂哲彌.増淵長
4059
41
1
49 1990 5:原著論文
B03
及ぼすＭｏ原子の影響
則.新井克矢.奥野
齋藤哲男.吉村俊
4060 無電解Ｎｉ−Ｃｏ−Ｂ合金皮膜の作製
411
53 1990 5:原著論文
B03
一.佐藤栄一アミノシラン処理ガラス上への無電解ニッ 浜谷健生.熊谷八百
4061
41
1
57 1990 5:原著論文
B03
ケル−パラジウムの吸着状態と触媒活性 三
溶融亜鉛めっき処理条件が高張力鋼の衝 千葉和茂.首藤治
4062
41
1
62 1990 5:原著論文
A03
撃特性に及ぼす影響
三.嵯峨卓郎
ピロリン酸浴からのＣｕ−Ｚｎ合金めっき過4063
藤原 裕.榎本英彦 41
1
67 1990 7.速報論文
B02
程の交流インピーダンス挙動
空気で中性化したセメント模擬溶液におけ山下嗣人.永田 誠 41
1
69 1990 7.速報論文
B094064
る鉄の腐食挙動4065 巻頭言：カナダを旅して
苗村 博
41
2
85 1990 1:巻頭言
溶剤洗浄の今後のあり方−フロン削減・
4066
竹内節三
41
2
86 1990 3:解説
C06
全廃の動向から
装飾用ニッケル−クロムめっきの耐食性 G.A.Dibari.R.A.Cove
4067
41
2
91 1990 3:解説
B02
−硫黄の影響を中心として
rt.A.T.Dill(訳)佐藤すきま腐食の防止に対する陰極防食法の4068
福沢秋刀.白水 司 412
99 1990 3:解説
B09
適用
4069 歯科材料の表面処理
坂 清子
41
2 107 1990 3:解説
A10
シリーズ／表面物性評価技術−薄膜の物
4070
柳沢雅広
41
2 113 1990 9:シリーズ-2
A10
理的性質評価(６)−薄膜の摩擦・磨耗特シリーズ／くらべてみよう物性値−融点
4071
伊藤 滋
41
2 118 1990 10:比べてみよう A10(酸化物)
現場の知恵−１ｍ全ネジボルトの回転
4072
原 健作
41
2 119 1990 16.現場の知恵 B02
めっき岩黒弘明.黒田 司.
4073 Ｏプラズマアッシングによるデバイス汚染
41
2 121 1990 5:原著論文
C04
平井 実
ペ−スト法によるＴｉ及びＴｉ合金のホウ化処 渋谷佳男.磯部賢4074
41
2 126 1990 5:原著論文
B08
理
二.佐藤憲治.若林
ＮａＯＨ水溶液中での電解着色ステンレス 袁 本鎮.興戸正純.
4075
41
2 131 1990 5:原著論文
B07
鋼の表面組成と耐食性
沖 猛雄
アルミナ表面へのスズ(II)とパラジウム(II) 岸 富也.高橋栄一.
4076
41
2 136 1990 5:原著論文
B03
イオンの吸着今井隆之
薗田 司.杉本 護.
4077 グルコン酸浴からの光沢スズめっき
41
2 140 1990 5:原著論文
B02
西羅正芳.縄舟秀美.水本省三微粒子への電気めっきに関する液抵抗に
4078
竹島鋭機
41
2 145 1990 5:原著論文
B02
よる考察
微粒子への電気めっきにおける最適電解4079
竹島鋭機.高津 清 41
2 151 1990 5:原著論文
B02
槽の構造決定水本省三.縄舟秀
ＥＤＴＡ錯体浴からの電気銅めっき及びそ4080
41
2 156 1990 5:原著論文
B02
美.小島環生.芳賀の皮膜物性
正記.園田 司トリフルオロ酢酸銅−添加剤−メタノール
4081
武井たつ子
41
2 161 1990 5:原著論文
B02
浴からの銅電析4082 無電解ニッケルめっきの初期析出過程

本間英夫.野口雅司

水本省三.縄舟秀4083 無電解銅めっき皮膜の熱膨張特性
美.薗田 司.荒木
種々の酸溶液中で生成したアルミニウム 小野幸子.川口朋4084
アノード酸化皮膜の電解着色
子.増子 昇化学除染法によるステンレス鋼からのＭｎ 引地貴義.下屋敷重
4085
の除染試験
広.竹内 純.鶴岡良4086 巻頭言：厚みのある表面
増子 昇4087 ステンレス鋼とは
今井八郎
4088 ステンレス鋼のパッシベ−ション
4089

滝沢貴久男

ステステンレス鋼の化学的な研磨法の現金子 智.佐藤義和
状−電解研磨と化学研磨

4090 ステンレス鋼の発色

出口武典

41

2

164 1990 5:原著論文

B03

41

2

169 1990 7.速報論文

B03

41

2

171 1990 7.速報論文

B07

41

2

173 1990 7.速報論文

B09

41
41

3
3

187 1990 1:巻頭言
188 1990 2:総説

A10

41

3

195 1990 3:解説

B09

41

3

203 1990 3:解説

C02

41

3

207 1990 3:解説

B09

4091 ステンレス鋼の塗装

水谷 滋

41

3

212 1990 3:解説

A05

4092 ステンレス鋼上の金めっき

岩城泰彦.山下嗣人

413

217 1990 3:解説

B02

4093 ステンレス鋼上のクロムめっき

大串徹太郎

41

3

221 1990 3:解説

B02

41

3

227 1990 3:解説

B06

41

3

235 1990 3:解説

B06

制御雰囲気のもとでの加熱処理によるス 八代利之.寺島慶4094
テンレス鋼の不働態化
一.山崎桓友八代利之.寺島慶4095 ステンレス鋼の表面改質のための熱処理
一.山崎桓友-1-キーワード
電気すずめっき，不溶性陽極シ
ステム，電気ブリキライン
ポリパラキシレン（PPX），高分子
薄膜，気相成長
光学特性，光解析，FT-IR，ラマン，固体表面STM,その場測定，電極表面

融点
亜鉛めっき，クロメート，乾燥方法
ガス軟窒化，レーザー焼き入れ，
複合熱処理
Ti-Ni合金，非晶質合金，ｒｆ−ス
パッタリング，腐食耐性
SiC，スパッタリング，窒素ガス添
加
無電解めっき，Ni-Mo-P合金皮膜，皮膜成長プロセス
無電解めっき，Ni-Mo-P合金皮膜，皮膜構造無電解めっき，Ni-Co-B合金，ヒ
ドラジン
無電解めっき，Niめっき，アミノシラン，パラジウム
溶融亜鉛めっき，高張力鋼，衝撃特性，シャルピー衝撃試験
Cu-Znめっき，ピロリン酸浴，交流インピーダンス
鉄，腐食，セメント溶液，インピー
ダンス解析
溶剤洗浄，フロン削減
Ni-Crめっき，装飾めっき，腐食，
硫黄
すきま腐食，カソード防食，再不動態化電位，ステンレス鋼
歯科材料，表面処理，接合
摩擦・摩耗特性，薄膜
融点
亜鉛めっき，回転めっき
酸素プラズマアッシング，デバイ
ス，汚染
ホウ化，チタン，チタン合金
着色，腐食挙動，表面皮膜，ステ
ンレス鋼
アルミナ，吸着，すず，パラジウ
ム
光沢めっき，すず，グルコン酸
浴，添加剤
電気めっき，微粒子，液抵抗，粒子分散
電気めっき，微粒子，液抵抗，沈降速度，粒子分散
電気銅めっき，EDTA，均一電着性，機械特性，結晶構造
トリフルオロ酢酸銅，電気銅めっき，メタノール浴
無電解Niめっき，初期析出過程，
触媒
無電解銅めっき，熱膨張，水素含量
アノード酸化皮膜，アルミニウ
ム，電解着色防染試験，放射性腐食生成物，ステンレス鋼，ナトリウム，Mｎ
ステンレス鋼，分類，表面処理
ステンレス鋼，不動態化，酸洗い，腐食ステンレス鋼，電解研磨，化学研
磨ステンレス鋼，着色，インコ法，
交番電流電解法
ステンレス鋼，塗装，塗膜剥離，クロメート
ステンレス鋼，金めっき
ステンレス鋼，クロムめっき，大気腐食，ガルバニック腐食
ステンレス鋼，加熱処理，制御雰
囲気，不動態化
ステンレス鋼，熱処理，酸化，窒化

表面技術 1990〜1994

4096 ステンレス鋼ほうろう

祖川 理.大角 務

ドライコーティングによるステンレス鋼の表
4097
伊藤 叡
面処理
角田達朗.早川 孝.
4098 酸化反応制御機能を有する触媒膜の作製
亀山哲也
シリーズ／表面物性評価技術−薄膜の物
理的性質評価(７)−機械的バルジ・テス
4099
中原昌平.沖中 裕ターによる薄膜のダクティリティ(柔軟性.延性)の測定について
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
4100
槙石規子
の解析(６)−Ｘ線マイクロアナリシス
融点(硼化物.炭化物.窒化物.珪化物，硫化
4101
伊藤 滋
物)
オゾン酸化処理によるポリプロピレンの塗4102
于 建.白石振作
装性の改良
微粒子電気めっきの電流効率に関する研 竹島鋭機.藤井孝
4103
浩.高津 清.坂倉究
4104 微粒子電気めっきの生産性の向上

竹島鋭機.坂倉 昭

岩井正雄.栗倉泰
弘.広瀬茂行.笹野
益生.眞嶋 宏ク−ロスタット法による無電解ニッケルめっ 松岡政夫.岩本和
4106
き速度のモニタリング
也.林 忠夫
チタン−ニッケル系非晶質合金皮膜の耐4107
富岡秀徳.上田重朋
食性に及ぼすクロム及びタングステン添加
アルミニウム基板上の非晶質チタン−ニッ
富岡秀徳.上田重朋
4108
ケル合金皮膜の耐食性
ニッケルめっきにおける塩化物イオンの役 安田光宏.大野 湶.
4109
割
春山志郎
還元剤添加示差原子吸光分析によるＣｒ
4110
吉村長蔵.藤野隆由(III).(IV)の定量とクロム分析への応用
Ａｌ−Ｍｎ合金板の陽極酸化皮膜のＸＭＡ 桜井定人.加藤久
4111
及びＥＳＣＡ測定
雄.酒井光生.西 保
小林秀彦.加藤巳
電気泳動電着法を利用した酸化イリジウ
4112
幸.下田宏之.三田
ム被覆チタン基体電極の作製
村孝.亀ヶ谷洋一
黒河圭子.小平隆
ＨＣＤ法によるＴｉＮコーティング鋼の硫酸水
4113
士.福島 誠.滝沢貴
溶液中での耐食性
久男.今井八郎
4114 巻頭言：技術と芸術
本間禎一
4105

異種水酸化物の凝集コロイドを利用する
無電解めっきについて

4115 電極表面の原子・分子の吸着とその挙動 伊藤正時
4116

走査型トンネル電子顕微鏡によるめっきの板谷謹悟
初期過程の観察413244 1990 3:解説

A10

41

3

249 1990 3:解説

A10

41

3

255 1990 3:解説

A10

41

3

260 1990 9:シリーズ-2

B03

41

3

267 1990 9:シリーズ-2

A10

41

3

272 1990 10:比べてみよう A10

413

273 1990 5:原著論文

A053

278 1990 5:原著論文

B023

284 1990 5:原著論文

B02

41

3

290 1990 5:原著論文

B03

41

3

295 1990 5:原著論文

B03

41

3

300 1990 5:原著論文

A01

41

3

306 1990 5:原著論文

A01

41

3

312 1990 5:原著論文

B03

41

3

318 1990 5:原著論文

B02

41

3

323 1990 13:研究ノート

B07

41

3

325 1990 7.速報論文

A06

電気泳動電着法，IrO2被覆，チタ
ン電極

41

3

327 1990 7.速報論文

A10

HCD，イオンプレーティング，腐食，TiN，ステンレス鋼

414337 1990 1:巻頭言

41

4

338 1990 3:解説

A10

41

4

344 1990 3:解説

B02

41

4

349 1990 3:解説

B03

4118 電析法によるＮｉ−Ｂ非晶質合金の作製

小野田元伸.土屋武司.小川勝明.渡辺41

4388 1990 5:原著論文

B02

41

4

392 1990 5:原著論文

B02

41

4

397 1990 5:原著論文

B02

41

4

442 1990 6:技術論文

B03

41

4

355 1990 3:解説

A10

41

4

361 1990 11:アカデミック研究会シリーズ A10414366 1990 11:アカデミック研究会シリーズ B09

水晶振動子による微量重量分析法−エレ
馬場宣良.益田秀樹
クトロクロミズムに対する応用
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
4125
荒木宏侑
の解析(７)−薄膜Ｘ線回析法
シリーズ／くらべてみよう物性値−沸点
4126
伊藤 滋
(単体)
クロム基板上に作製したチタン−ニッケル4127
富岡秀徳.上田重朋
非晶質合金皮膜の耐食性
反応性イオンプレーティングによるＴｉＮ薄 王 東冬.村田英昭.
4128
膜の配向性.モルフォロジー及びその特性 沖 猛雄
電気めっき複合粉末の作製及びそれを用
4129
竹島鋭機.藤井孝浩
いた複合材料の開発
無電解Ｎｉ−Ｐ−ＳｉＣ複合めっき皮膜の性 西羅正芳.杉本 護.
4130
質
鷹野 修
水本省三.縄舟秀
電位差滴定法による無電解銅めっき液中
4131
美.川崎元雄.木下のホルムアルデヒドの定量
朱美.荒木 建フッ化物添加アミンアルカリ性浴中でのア4132
野口駿雄.吉村長蔵
ルミニウムの陽極酸化
Ａｌ−Ｓｉ鋳造合金の硫酸溶液中におけるア 高橋英明.渡辺啓
4133
ノード酸化挙動
一.橋本定典.古市
パルス電解法で形成したＳＵＳ４３０とＳＵ 袁 本鎮.興戸正純.
4134
Ｓ３０４ステンレス鋼表面皮膜の構造と性 沖 猛雄
ＥＸＡＦＳのカ−ブフィッティング法による改佐藤 登.南 達郎
4135
質hopeite結晶の局部構造解析と構造決
無電解ニッケル−タングステン−ボロン合4136
青木公二.鷹野 修
金めっき皮膜の電気抵抗特性について
4137 巻頭言：トライプロセスとソフト化
沖 猛雄
ドライプロセスによる表面硬化技術とその
4138
沖 猛雄
動向
4139 低温プラズマ利用の先端技術
村山洋一
熱プラズマを利用した堆積技術の展開−
4140
明石和夫
高速ＣＶＤと溶射に重点をおいて固体表面上の薄膜の付着及び内部応力4141
金原 粲.馬場 茂
測定
スパッタイオンプレーティングによるＴｉＡｌＮ
4142
服部幸司.前原博志
膜の作製と応用
II−IV族結晶の腐食模様と極性方向の判
4143
岩永 浩
定法

EPMA，定量分析，定性分析，元素分布，状態分析
融点，化合物
オゾン酸化処理，ポリプロピレ
ン，塗装性微粒子めっき，電流効率，電流密度
微粒子めっき，セル電圧，SEM，
X線回折

41

渡辺 徹

4124

柔軟性，延性，無電解銅めっき，電解銅めっき

414117 無電解めっきの初期過程と構造

ヒスチジン添加ピロリン酸浴からのＣｕ−Ｚ4119
藤原 裕.榎本英彦
ｎ合金電析物の構造と形態
トリフルオロ酢酸ニッケル−ホウ酸−ホル4120 ムアミド溶液にチオ尿素を添加した浴から 武井たつ子
電析したニッケルのＸＰＳ解析
津山宏一.岡村寿
4121 結晶化ガラスへのＣｕめっき郎.中山 肇上殿明良.谷川庄一
4122 表面・界面プローブとしての低速陽電子郎
4123 微小くし形電極を用いる電気化学測定
森田雅夫

ステンレス鋼，ほうろう，セラミッ
クコーティングステンレス鋼，PVD，CVD，腐食耐性，装飾性モリブデン酸ビスマス，薄膜，安定化ジルコニア，触媒

無電解めっき，凝集コロイド，プラスティックの活性化，グラファイト
無電解Niめっき，クーロスタット法，モニタリング
Ti-Ni合金，Cr合金，W合金，非晶質合金，腐食耐性
Ti-Ni合金，非晶質合金，ｒｆ−ス
パッタリング，腐食耐性
ニッケルめっき，水素ガス量，塩
素イオン
原子吸光分析，Cr(Ⅲ)，Cr(Ⅳ)，
クロムめっき浴
Al-Mn合金，陽極酸化，XMA，ESCA

単結晶電極，赤外分光分析，ラマン分光分析
その場STM，電気めっき，UPD，
単結晶電析
無電解めっき，構造，非晶質，初期析出過程
Ni-B合金，電気めっき，非晶質，
構造
Cu-Zn合金めっき，ピロリン酸
浴，ヒスチジン，表面形態
XPS，ニッケルめっき，硫黄
無電解銅めっき，ほうろう配線，スルーホール
低速陽電子，表面，界面，薄膜
微小電極，くし形電極，IDA，ボル
タンメトリー
水晶振動子，微量重量分析，
QCM，エレクトロクロミズム

41

4

370 1990 9:シリーズ-2

A10

薄膜，X線回折，JCPDSカード

414

375 1990 10:比べてみよう A10414377 1990 5:原著論文

A01

41

4

382 1990 5:原著論文

A01

41

4

401 1990 5:原著論文

B02

41

4

407 1990 5:原著論文

B03

沸点，単体
Ti-Ni合金，非晶質合金，ｒｆ−ス
パッタリング，腐食耐性
TiN，反応性イオンプレーティン
グ，配向性，皮膜特性粒子，電気めっき，SEM，Cu-W
合金，焼結複合めっき，無電解めっき，NiP，Si-C，耐摩耗性

414412 1990 5:原著論文

B03

41

4

417 1990 5:原著論文

B07

41

4

423 1990 5:原著論文

B07

41

4

431 1990 5:原著論文

B09

41

4

437 1990 5:原著論文

B08
B03

41

4

446 1990 7.速報論文

415461 1990 1:巻頭言

41

5

462 1990 3:解説

A10

41

5

471 1990 3:解説

A10

41

5

477 1990 3:解説

B01

41

5

485 1990 3:解説

A10

41

5

490 1990 3:解説

A01

41

5

495 1990 3:解説

C04

-2-

電位差滴定法，無電解銅めっき，ホルムアルデヒド
アノード酸化，アルミニウム，アミンアルカリ浴，フッ化物
アノード酸化，アルミニウム合
金，ダイカスト
SUS430，SUS304，着色，表面皮膜，孔食Hopeite結晶，EXAFS，カーブ
フィッティング法，構造解析
無電解めっき，Ni-W-B合金，電気抵抗
表面硬化，ドライプロセス，PVD，
CVD，イオン注入
プラズマ，PVD，CVD
プラズマ，CVD，溶射，プラズマスプレー，表面改質
付着，内部応力，薄膜
TiAlN，反応性スパッタ，イオンプ
レーティング，耐酸化性
エッチング，極性，Ⅱ-Ⅵ族化合物，双晶表面技術 1990〜1994

シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
古主泰子の解析(８)−グロー放電分光分析法
シリーズ／くらべてみよう物性値−スパッ澤井秀夫
タ率
ＡｌＰ法によるＴｉＮ.ＺｒＮ及びＨｆＮ薄膜の形 水口 隆.黄 燕清.
4146
成とその特性古川哲也.辻 邦彦
反応性イオンプレーティング法によるＺｒＢ2 嶋影和宣.佐藤忠
4147
薄膜の合成
夫.戸田茂雄.菊池
反応性イオンプレーティングによる窒化ク
4148
王 東冬.沖 猛雄
ロム薄膜の諸特性
黒河圭子.小平隆
ＨＣＤ法によるＴｉＮコーティング鋼の耐孔4149
志.中山佳則.滝沢
食.耐すきま腐食性
貴久男.今井八郎
反応性二成分スパッタリングによる(Ｔｉ.Ａｌ)
4150
高谷松文.松永正久
Ｎ膜の作製
竹内学.三輪田和
4151 ＲｕＯ2−ＳｉＯ2スパッタ膜の電気的性質
雄.長坂秀雄粉末へのスパッタリング法によるアルミナ 竹島鋭機.五ﾉ井薫.
4152
粒子分散強化型複合材料の開発
藤井孝浩.坂倉 昭
プラズマＣＶＤにより作製した非晶質Ｃ膜
4153
杉村博之
の光学的性質佐藤忠夫.西野宇太
ＣＶＤ法による軟鋼板上へのＺｒＢ２及びＴｉ
4154
郎.宮川俊三.嶋影
Ｂ２−ＺｒＢ２皮膜の生成
和宣

41

5

502 1990 9:シリーズ-2

41

5

507 1990 10:比べてみよう A1041

5509 1990 5:原著論文

A01

41

5

514 1990 5:原著論文

B01

41

5

519 1990 5:原著論文

A01

41

5

524 1990 5:原著論文

A01

41

5

530 1990 5:原著論文

A01

41

5

534 1990 5:原著論文

A01

41

5

538 1990 5:原著論文

A01

41

5

545 1990 5:原著論文

B01

41

5

549 1990 5:原著論文

B01

41

5

555 1990 5:原著論文

B01

41

5

560 1990 5:原著論文

A08

41

5

566 1990 5:原著論文

A08

41

5

570 1990 7.速報論文

A08

41

5

572 1990 7.速報論文

A01

41

5

574 1990 7.速報論文

B09

41

5

576 1990 7.速報論文

A08

41

5

578 1990 7.速報論文

B01

41

5

580 1990 15:リポート

A10

41
41
41
41
41

6
6
6
6
6

593 1990 1:巻頭言
594 1990 2:総説
603 1990 3:解説
609 1990 3:解説
615 1990 3:解説

B05
B05
A01
B01

熱処理，表面改質，金型
熱処理，表面改質，金型
ＰＶＤ，イオンプレーティング，金型
ＣＶＤ，炭化，窒化，金型

416624 1990 3:解説

A10

セラミック鋳型，プラスティック成
形型

41

6

630 1990 3:解説

B02

4155

気相合成ダイヤモンドのカソードミネッセン 陳 家富.黄 燕清.
スによる評価西村一仁.細見 暁

4156

Ⅳａ族遷移金属への窒素イオン注入による表層薄膜組成と着色性

Ｍｏ.Ｎｂ.Ｖ及びＣｒを含む低炭素合金鋼の
4157
イオン窒化

寺島慶一.松坂菊生.峯岸知弘
浦尾亮一.中川清三.北川和成.稲見隆.諏訪正輝ＳＵＳ３０４基材上に被覆したＴｉＣ皮膜及び石田 章.武井 厚
Ｎｉ−ＴｉＣ複合皮膜の密着性
レーザー誘起放電ＰＶＤ法による硬質Ｃ膜 小椋茂樹.峰田進
4159の形成
栄.安永暢男
Ｃ2Ｈ2−Ｏ2系燃焼炎によるダイヤモンド 高谷松文.三浦 毅.
4160
合成における基板の影響
坂本幸弘
純クロムの電気化学的性質に及ぼす窒素 寺島慶一.松坂菊
4161
またはアルゴン注入の影響
生.峯岸知弘セラミックファイバ−製マイクロばねの引張 岩永 浩.岩崎 武.
4162
り試験法
元島栖二
日.華機能性ドライプロセンシングシンポ
4163
高井 治
ジュウム報告4164 巻頭言：協調と競合
田畑三郎
4165 金型の体質改善処理と表面改質処理
大和久重雄
4166 金型の熱処理と表面処理
山中久彦
4167 ＰＶＤによる金型の表面処理
山田保之
4168 ＣＶＤによる金型の表面処理
平原民雄
野口裕之.魏 杰.中4169 プラスチック用表面加飾成形型の開発
川威雄.宮本和彦.
柳沢 章.今井正人
4158

4170 湿式めっきによる金型の表面処理

岡田義夫

金型用アルミニウム合金の特性と硬質ア
臼井克夫
ルマイト処理4172 金型表面の電解加工仕上げ
桑原陽平
4173 めっき厚さ増加に伴う組成及び構造変化 渡辺 徹
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
4174
木曽義之
の解析(９)−ラザフォード後方散乱分析法
シリーズ／くらべてみよう物性値−分解温
4175
伊藤 滋
度
マイクロ波プラズマＣＶＤ法によるダイヤモ 陳 家富.黄 燕清.
4176
ンド合成における基板材質の影響
細見 暁.吉田勇夫
アルキルベンゼン蒸気吸着による微小面
4177
野中 昭
積の測定法
ＰＲ電析によるエレクトロミックなイリジウム 吉野隆子.新井賢
4178
酸化物薄膜の生成
二.馬場宣良Ｃｕ−Ｎｉ及びＣｕ−Ｎｉ−Ｍ系合金の内部ホ 藤田浩紀.高田保
4179
ウ化
夫.新井 透アルミニウムアノード酸化皮膜の電解着色 川口朋子.小野幸4180
挙動
子.佐藤敏彦.増子
ハライド系溶融塩法によるクロムめっき鋼4181
沖 猛雄.兼松秀行
上へのホウ化物皮膜形成
超微小硬度計による無電解Ｎｉ−Ｃｏ−Ｂ
4182
斉藤哲男.佐藤栄一
合金皮膜の硬さ
ＨＣｌ溶液中の交流エッチングで生ずるアル4183
菅沼栄一.丹野裕司
ミニウム上の皮膜の２重構造
アミノ基を有する高分子被覆剤を用いた無
4184
浜谷健生
電解Ｎｉめっき松岡政夫.前川 諭.
4185 無電解ニッケルめっき皮膜の水素透過性
岩倉千秋
4186 巻頭言：先進工業国としての今後のあり方 西田滋三
4187 立体配線基板特集によせて
沢山一平
高性能エンプラによる射出成形回路部品
4188
山崎 学
−PCK-Technoloygyを中心として
4171

A10

グロー放電分光分析，定量分
析，深さ方向元素分析
スパッタ率
アークイオンプレーティング（AIP），TiN，ZrN，HfN，薄膜
反応性イオンプレーティング，合成，ZrB2，B2H6，薄膜CrN，イオンプレーティング，形
態，配向性，硬さ

4144

4145

41

6

637 1990 3:解説

B02

41
41

6
6

646 1990 3:解説
652 1990 3:解説

C05
B02
A10

41

6

659 1990 9:シリーズ-2

41

6664 1990 10:比べてみよう A1041

6665 1990 5:原著論文

B01

41

6

670 1990 5:原著論文

A04

41

6

676 1990 5:原著論文

B09

41

6

684 1990 5:原著論文

B06

41

6

690 1990 5:原著論文

B07

41

6

695 1990 5:原著論文

A09

41

6

700 1990 5:原著論文

B02

41

6

702 1990 7.速報論文

C02

41

6

704 1990 7.速報論文

B02

41

6

706 1990 7.速報論文

B03

41
41

7
7

713 1990 1:巻頭言
714 1990 4:技術解説

A10

41

7

715 1990 3:解説

A10

4189 ２ショット法によるＭＩＤ

湯本哲男

41

7

721 1990 3:解説

A104190 へこみ配線法

岡田義夫.安藤 隆.
西城信吾

41

7

728 1990 3:解説

A10

4191 成形転写法によるＭＣＢ

大森和光

41

7

733 1990 3:解説

A10

4192 ＫＯＮＥＣプロセス

高松一也

41

7

741 1990 3:解説

A10

4193 金属・セラミック接合における課題

諸住正太郎

41

7

745 1990 3:解説

A10

-3-

腐食，イオンプレーティング，
HCD法，TiN，ステンレス鋼
TiN，AlN，反応性2成分スパッタ
リング，硬化，PVD
RuO2，ｒｆ−スパッタリング，薄膜
抵抗体，抵抗の温度係数（TCR）
粉末，スパッタリング，焼結，アルミナ，複合材料
プラズマ-ＣＶＤ，非晶質炭素膜，
屈折率，光学的バンドギャップ
ＣＶＤ，ZrB2,TiB2-ZrB2，複合膜
プラズマCVD，ダイヤモンド薄膜，カソードルミネッセンス，ラマ
ン分光分析
窒素イオン注入，遷移金属，窒化物，深さ方向元素分布，着色
イオン窒化，表面硬化，表面改質，低炭素合金鋼
イオンプレーティング，TiC，NiTiC，複合皮膜，密着性
CO2レーザー，レーザー誘起放電，硬質炭素膜
ダイヤモンド合成，燃焼炎法，硬質被覆
イオン注入，電気化学的特性，
CrN，照射損傷
引っ張り試験法，マイクロばね，
セラミックファイバー
ドライプロセシング，機能化，シンポジウム報告，日華

金型，めっき，無電解めっき，複合めっき
金型，硬質アルマイト，アルミニ
ウム合金
金型，電解加工
めっき，合金めっき，非晶質，膜構造
ＲＢＳ，表面分析
分解温度
プラズマＣＶＤ，ダイヤモンド，基板材質
表面積測定，吸着，アルキルベ
ンゼン蒸気
イリジウム酸化物薄膜，エレクト
ロクロミズム，ＰＲ電解
内部硼化，銅合金
アノード酸化皮膜，アルミニウ
ム，電解着色硼化，クロムめっき鋼，溶融塩，
不均化反応
無電解Ni-Co-B合金めっき，超微小硬度計，ダイナミック硬度
アルミニウム，交流エッチング，
皮膜，２層構造，SEM
無電解ニッケルめっき，被覆剤，
含アミノ基高分子，パラジウムイ
Ni-P合金，水素透過性，非晶質
構造
プリント基板，立体配線基板，
MCB
エンプラ，射出成形，回路基板，
無電解めっき，MCB
プリント基板，射出成形デバイ
ス，２ショット法，フルアディティブ
プリント基板，エンプラ，へこみ配線法，射出成形基板
射出成形，成形転写法，プリント
配線基板
プリント基板，立体配線基板，ス
クリーン印刷，KONECプロセス，
金属・セラミック接合，接合界面，
拡散接合，残留応力

表面技術 1990〜1994

シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
4194 の解析(１０)−フーリェ変換赤外分光法(Ｆ 大木貞嗣
Ｔ−ＩＲ)による表面状態の解析
シリーズ／くらべてみよう物性値−仕事関
澤井秀夫.高井 治4195
数伊藤 滋.宮崎邦彰.
ＨＩＰ法によるＦｅ.Ｎｉ基板上へＷ.Ｍｏ板の接4196
森 和美.小浦延幸.
合米田 登
電気化学的手法による電解脱脂中の表面 市野良一.興戸正
4197
変化測定
純.沖 猛雄アルミニウム合金ダイカストのアノード酸
4198
三田郁夫.福田一彦
化挙動に及ぶ合金元素の影響加藤 彰.高木章嘉.
アルミニウム合金の孔食に及ぼす有機系
4199
吉原佐知雄.糸井康
食品添加物の影響
彦.神戸 哲.佐藤栄
電解併用無電解銅めっき−プリント配線 本間英夫.藤波知
4200
板への応用
之.高木啓明トライポロジー系のスティックスリップに関
南 達郎.佐藤 登
4201
する表面解析
4202 巻頭言：豊かな生活を引き継ぐために
橋本功二
4203 光磁気メモリー用磁性薄膜の作製
前野仁典.小林政信
希土類−遷移金属アモルファス合金ス
4204
山本 寛
パッタ膜の垂直磁気異方性
アルミニウム電解コンデンサにおける長寿 神崎信義.島谷涼
4205
命化とバリヤー皮膜
一.高橋 寛.徳舛弘
アルミニウム陽極酸化皮膜多孔質構造を4206 ベ−スとするサブミクロン多孔質電導材料 益田秀樹.馬場宣良の作製−構造転写法による微細規則構造
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
4207
橋本 哲
の解析(１１)−２次イオン質量分析法(ＳＩＭ4208 シリーズ／くらべてみよう物性値−密度渡辺 徹
ＰＶＤ法による金属薄膜の結晶配向性とモ4209
王 東冬.沖 猛雄
ルフォロジー
マイクロ波プラズマＣＶＤ法によるダイヤモ 陳 家富.黄 燕清.
4210
ンド合成における反応ガスの影響
細見 暁.吉田勇夫
伊藤 滋.川瀬裕史.
(Ｋ+.Ｎａ+)−β−フェライト薄膜の感湿特4211
成木紳也.小浦延
性幸.米田 登連続焼鈍によるＴｉ添加鋼板のリン酸塩処 羽田隆司.増井 昇.
4212
理性
米野 実
片面表面処理鋼板における非処理面のリ 羽田隆司.内藤 茂.
4213
ン酸塩処理性安藤公一.米野 実
銅(II)−ＥＤＴＡ浴からのＣｕ電析の初期過4214
呉 文昌.千葉 淳
程に及ぼす超音波照射の影響
萩生田善明.高谷松
4215 電着によるＳｎボンドＣＢＮ砥石の製作
文.松永正久.安永
暢男
4216 巻頭言：精神的風土
福本幸男

A10

7

750 1990 9:シリーズ-2

41

7

756 1990 10:比べてみよう A10

仕事関数

41

7

757 1990 5:原著論文

B01

接合，CVD,HIP,W,Mo

41

7761 1990 5:原著論文

C06

41

7

766 1990 5:原著論文

B07

41

7

772 1990 5:原著論文

C07

41

7

777 1990 7.速報論文

B03

7779 1990 7.速報論文

A10

41
41

8
8

795 1990 1:巻頭言796 1990 3:解説

A10

41

8

803 1990 3:解説

A10

41

8

808 1990 3:解説

B07

41

8

813 1990 3:解説

B07

アノード酸化皮膜，多孔質材料，
マイクロファブリケーション

C07

SIMS,深さ方向分布，イオン像418

817 1990 9:シリーズ-2

8822 1990 10:比べてみよう A10

密度

41

8

823 1990 5:原著論文

A01

ＰＶＤ，金属薄膜，結晶配向性

418829 1990 5:原著論文

B01

ＣＶＤ，マイクロ波プラズマ，ダイ
ヤモンド

41

8

834 1990 5:原著論文

A05

湿度センサー，β−フェライト，薄膜，イオン交換

418

839 1990 5:原著論文

A05

41

8

844 1990 5:原著論文

A05

41

8

850 1990 7.速報論文

B02

41

8

852 1990 7.速報論文

B02

41

9

861 1990 1:巻頭言41

9862 1990 3:解説

B01

4218 ＥＣＲプラズマエッチングの現状

鈴木康浩.鵜飼勝三

419866 1990 3:解説

C04

4220 ＥＣＲスパッタの現状
4221 イオンビーム源としてＥＣＲ

高木憲一

光磁気メモリ，磁性薄膜，スパッタ膜
スパッタ膜，垂直磁気異方性，ア
モルファス合金，希土類−遷移
アノード酸化皮膜，アルミニウム
電解コンデンサ41

松尾誠太郎

赤堀 孝.尾崎成則.
中山 了
小野俊郎.五十嵐賢.片山祐三インピーダンス，電解脱脂，表面均一性，モニタリング
アルミニウム合金，ダイカスト，ア
ノード酸化，電流波形，硫酸
アルミニウム合金，孔食，有機イ
ンヒビター，光音響分光法，食品
添加物
無電解めっき，銅めっき，電解併用，プリント配線基板，機械的特トライボロジー，スティックスリッ
プ，表面解析，XPS

41

4217 ＥＣＲプラズマ技術の現状

4219 ＥＣＲスプラズマＣＶＤの現状

表面分析，FT-IR（フーリエ変換
赤外分光）

41

りん酸塩処理性，連続焼鈍，Ti添
加鋼板
りん酸塩処理性，非処理面，表面処理鋼板，酸化物層
電気めっき，核成長，超音波攪
拌，銅-EDTA
電析，分散めっき，すず，CBN砥
石電子サイクロトロン共鳴（ECR）プ
ラズマ，析出，エッチング
電子サイクロトロン共鳴（ECR）プ
ラズマ，反応性イオンビームエッ
チング，ULSI
電子サイクロトロン共鳴（ECR），
プラズマ，CVD
電子サイクロトロン共鳴（ECR），
プラズマ，スパッタ
電子サイクロトロン共鳴（ECR），
イオンビーム源

41

9871 1990 3:解説

B01

41

9

877 1990 3:解説

B01

41

9

882 1990 3:解説

B01

41

9

888 1990 3:解説

B02

亜鉛，電析，平衡電位419894 1990 9:シリーズ-2

B09

ラマン分光法，SERS，共鳴ラマン
効果，時間分解ラマン

41

9900 1990 9:シリーズ-2

A10

自動車，色彩，市場動向

419905 1990 10:比べてみよう A10

バンドギャップ

41

9907 1990 5:原著論文

B03

無電解銅めっき，化学平衡，混
合錯体

41

9

912 1990 5:原著論文

B03

無電解銅めっき，混成電位理論，EDTA-Cu(Ⅱ)錯体419917 1990 5:原著論文

B02

Cu-Znめっき，ピロリン酸浴，ヒス
チジン，交流インピーダンス

41

9

922 1990 5:原著論文

B02

光沢めっき，Sn-Pb合金めっき，グルコン酸浴，添加剤

419927 1990 5:原著論文

B08

りん酸塩処理，Ti添加鋼板

419931 1990 5:原著論文

B06

41

9

936 1990 7.速報論文

A09

41

9

938 1990 7.速報論文

B10

亜鉛イオン存在下における第２元素の電4222
福島久哲.秋山徹也
析挙動シリーズ／表面物性評価技術−表面状態4223 の解析(１２)−ラマン分光法による表面吸 大澤雅俊
着種の解析シリーズ／色−自動車の色彩と技術・市
4224
袴田浩司
場の変化
シリーズ／くらべてみよう物性値−バンド
4225
澤井秀夫
ギャップ(１)
水本省三.縄舟秀4226 無電解銅めっき浴における化学平衡
美.松本邦勝水本省三.縄舟秀
ＥＤＴＡを錯化剤とする無電解Ｃｕめっきに4227
美.松本邦勝.川崎
おける分極特性
元雄.木下朱美.荒
ピロリン酸浴からのＣｕ−Ｚｎ合金めっきに4228
藤原 裕.榎本英彦
おけるヒスチジンの作用機構
園田 司.杉本 護.
グルコン酸浴からの光沢スズ−鉛合金
4229
西羅正芳.縄舟秀
めっき美.水本省三鋼板のリン酸塩処理性に対するリン酸塩 羽田隆司.増井 昇.
4230
処理条件の影響安藤公一.米野 実
熱拡散表面処理における濃度−距離曲線 桑山健太.村田康4231の解析について浩.大西正巳Ｔｉ合金の引張り強度特性に及ぼすアルミ 武井 厚.石田 章.
4232
ナイジング処理の影響
小野寺秀博
コバルトナフタロシアニン薄膜のカソード・ 志村美知子.佐藤4233
エレクトロクロミズム
潔.出沼 剛.志村幸
孔食萌芽の生存時間に与える電位と塩化
坂入正敏.水流 徹
4234
物イオン濃度の影響
4235 巻頭言：創造とセレンディピティー
本間英夫
4236 プラズマ溶射の基礎−粉粒の加速と加熱 丸尾 大419940 1990 7.速報論文

B09

41
41

10
10

949 1990 1:巻頭言
951 1990 3:解説

A02

4237 溶射方式

北原 繁

41

10

957 1990 3:解説

A02

4238 粉末溶射材料
白井勝之
溶射皮膜の特性−機械的.化学的.物理的
4239
清水保雄
特性
4240 防錆.防食被覆
石川量大

41

10

962 1990 3:解説

A02

41

10

968 1990 3:解説

A02

41

10

974 1990 3:解説

A02

-4-

熱拡散，表面処理，相互拡散係数
Ti合金，拡散浸透法，アルミナイ
ジング，引っ張り強度，延性
コバルトナフタロシアニン，エレク
トロクロミズム，酸素還元
孔食，ワイブルプロット，電流振動
プラズマ溶射，加熱，加速
溶射方式，フレーム溶射，爆発
溶射，アーク溶射，プラズマ溶射
粉末溶射，溶射材料
溶射皮膜，機械特性，耐摩耗性，電気特性
溶射，防錆，防食，封孔

表面技術 1990〜1994

4241 耐摩耗性被覆

原田良夫

41

10

980 1990 3:解説

A02

4242 耐熱性.断熱性被覆

鈴木隆夫.竹田博光

4110984 1990 3:解説

A02

4243 高温耐食被覆

児島慶亨

41

10

988 1990 3:解説

A02

41

10

992 1990 3:解説

A02

41

10

996 1990 3:解説

A02

4244 傾斜機能材料
4245 発電用電極材料

斉藤 亨.北田三郎.
下田信之.古賀正実
知.滝川 浩
大野吉弘.加賀保男.門場昭彦.塚本
幸一.内山 太4246 電磁波反応皮膜

堀江 譲

41

10 1000 1990 3:解説

A02

4247 半導体材料

大森 明.朴 景采41

10 1004 1990 3:解説

A02

4248 光半導体布による微生物の殺菌

桜田 司

41

10 1008 1990 3:解説

A02

41

10 1012 1990 3:解説

A02

41

10 1017 1990 3:解説

A02

41

10 1020 1990 3:解説

A02

減圧プラズマ溶射によるアモルファス磁性
4249
寺本富彦.小野英彦
膜の生成4250 超伝導皮膜
北原 繁
大西正巳.桑山健
4251 拡散による表面処理と拡散係数
太.下崎敏唯.若松
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
4252
金野英隆
の解析(１３)−Ｘ線光電子分光法(ＸＰＳ)
4253 シリーズ／色−測色機器による色彩管理 森本晃夫
シリーズ／くらべてみよう物性値−バンド
4254
澤井秀夫
ギャップ(２)ＥＤＴＡ錯体浴からの無電解Ｃｕめっきの析 水本省三.縄舟秀
4255
出機構
美.松本邦勝.川崎
電析法によるＦｅ−Ｗ合金皮膜の非晶質 阮永 豊.小若正倫.
4256
機構の考察
姚 素薇
菅沼栄一.丹野裕
ＨＣｌ溶液中の交流エッチングで生ずるアル4257
司.伊藤 武.船越
ミニウム表面皮膜の検討
明.松木健三アルミニウム陽極酸化皮膜の青色電解着 石田慎一.伊藤征司
4258
色郎
福田芳雄.福島敏4259 屋内汚染物質の測定法の検討
郎.ﾀﾝ･ﾁｪﾝ･ﾐﾝ.吉原一紘.藤原 純
プリント配線板作製工程における銅めっき 吉原佐知雄.高橋亮
4260
過程の光音響的手法によるその場測定 二.佐藤栄一
4261 巻頭言：技術と環境
山田俊幸
4262 表面処理による耐摩耗性の改善
高谷松文
アルミニウムアノード酸化による硬質皮膜
4263
冨田節夫
の諸特性
硬質クロムｒめっきによる耐摩耗性皮膜の
4264
興水 勲
形成
コンポジットめっきによる耐摩耗性皮膜の
4265
黒澤一吉
形成

溶射，耐摩耗性被覆，高速ガス
炎溶射，減圧プラズマ溶射，WC
プラズマ溶射，ガスタービン，断熱被覆，ジルコニア，
高温腐食，プラズマ溶射，ガス
タービン
傾斜機能材料，減圧プラズマ溶
射
固体酸化物燃料電池，溶射層，ペロブスカイト酸化物，機能デバ
イス
プラズマ溶射，蛍光発光機能，X線クロミック機能
プラズマ溶射，TiO皮膜，電子伝導性，半導体，光電気化学的特微生物，光半導体，殺菌，TiO2，
低温溶射法
減圧プラズマ溶射，非晶質磁性膜，トルクセンサー
超伝導皮膜，Y-Ba-Cu酸化物，
溶射
拡散係数，表面処理，熱拡散処
理XPS，化学シフト，サテライトピー
ク，オージェパラメーター
色彩管理，測色機器，色差計

41

10 1026 1990 9:シリーズ-2

A10

41

10 1033 1990 9:シリーズ-2

A10

41

10 1038 1990 10:比べてみよう A10

41

10 1039 1990 5:原著論文

B03

41

10 1044 1990 5:原著論文

B02

41

10 1049 1990 5:原著論文

C03

アルミニウム，交流エッチング，
アノード皮膜，エッチ皮膜，

41

10 1054 1990 5:原著論文

B07

アルミニウム，アノード酸化皮膜，電解着色，青色着色41

10 1059 1990 5:原著論文

C07

屋内汚染物質，蓄積速度，風速，屋内腐食，測定法

41

10 1065 1990 7.速報論文

B02

銅めっき，光音響法，プリント配
線基板，その場測定

4141

11 1073 1990 1:巻頭言
11 1074 1990 3:解説

A10

41

11 1081 1990 3:解説

B07

41

11 1087 1990 3:解説

B02

41

11 1094 1990 3:解説

B02
B03

バンドギャップ
無電解銅めっき，EDTA-銅（Ⅱ）
錯体，析出機構
電気めっき，Fe-W，非晶質，メカ
ニズム

硬質皮膜，耐摩耗性
アノード酸化皮膜，硬質陽極酸化，絶縁破壊電圧，耐摩耗性
硬質クロムめっき，耐摩耗性，硬さ
コンポジットめっき，耐摩耗性，密着性
無電解ニッケルめっき，コンポ
ジットめっき，耐摩耗性
塗膜，硬度，耐摩耗性
溶射，耐摩耗性被覆，高速ガス
炎溶射，減圧プラズマ溶射，WC
イオン注入，TiN，PVD，イオンプ
レーティング，硬質皮膜

4266 無電解コンポジットめっきの耐摩耗性

豊田 稔

41

11 1101 1990 3:解説

4267 塗膜の硬度と耐摩耗性

田中正一

41

11 1105 1990 3:解説

A05

4268 溶射による耐摩耗性皮膜

工藤唯輔

41

11 1117 1990 3:解説

A02

4269 ＰＶＤによる耐摩耗性皮膜の形成

大石政治

41

11 1125 1990 3:解説

A01

41

11 1133 1990 3:解説

B01

CVD，硬質膜，切削工具41

11 1141 1990 9:シリーズ-2

A10

超音波スペクトロスコピー，材料
表面評価

41

11 1148 1990 9:シリーズ-2

B02

41

11 1150 1990 12:武井記念シリーズ A01

ＣＶＤコーティングによる硬質膜の形成とそ
佐々木恒の用途
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態4271 の解析(１４)−超音波スペクトロスコピーに 成田敏夫
よる材料表層の評価
4272 めっきによる黒色化
古賀孝昭
プラズマ・イオンプロセス技術と新素材−
4273
松原覚衛
新しいＦｅＳｉ2非晶質合金
シリーズ／くらべてみよう物性値−超伝導
4274
井手本康
(１)
アミノシラン処理ガラス上への無電解Ｎｉ
浜谷健生.熊谷八百4275
めっき−次亜リン酸ソーダによる前処理の 三
対極に金属モリブデンを使用した非水溶
4276
中村豊久
媒中からの硫化モリブデンの電析Ｌａ−Ｎｉ系合金スパッタ膜の構造水素吸蔵 釜崎清治.亀井 健.
4277
特性
那須勇樹
アルカリ溶液中におけるガリウム−ヒ素合 張 時性.沼田博雄.
4278
金電着
大野 湶.春山志郎
井上博之.山川宏4279 非シアン銀浴の可能性に関する研究
二.近藤哲也.正木
高分解能電子顕微鏡によるアルミアノード 小野幸子.市野瀬英4280 酸化皮膜の構造と電子線照射による結晶 喜.川口朋子.増子
化過程の観察昇
熱交換器用塗装アルミフィンの親水性と耐 広前義孝.倉田正
4281
食性裕.小林美智男.斉
大見裕司.小倉 健.
4282 Ｎｉ部分めっきのインライン同期化
山田信彦.山本 守.
竹中 修4283 乾式物理現象におけるＡｇ核の活性藤原真人.川尻和広
Ａｌ−Ｍｎ系合金の陽極酸化皮膜の遠赤外 前嶋正受.松尾 守.
4284
線放射特性
猿渡光一.石禾和夫
各種Ｃ化物及びダイヤモンドと溶融Ｃｕ− 島上誠司.福田洋
4285
Ｓｎ合金との濡れ性
一.久田栄一.沖 猛
戸嶋茂郎.水流 徹.
モデルセルを用いたメタノール溶液中での4286
春山志郎.中川善鉄の局部腐食の研究
隆.広瀬祐輔4287 巻頭言：４０周年記念号発刊にあたって
増子 昇
4288 創立４０周年に寄せて
淺原照三.川崎元雄
4270

めっき，黒色化
ｒｆ−プラズマ，クラスターイオン
ビーム，薄膜，非晶質合金
超伝導体，臨界温度
無電解めっき，ガラスビーズ，パラジウム，次亜リン酸
非水溶媒，硫化モリブデン，電析，DMF
La-Ni合金，スパッタ膜，水素吸蔵合金
電析，ガリウム-ヒ素合金，アルカリ溶液
銀めっき，置換析出，部分分極曲線，非シアン銀めっき浴
アルミニウム，アノード酸化皮膜，結晶化，電子照射，高分解
能TEM
アルミニウム，塗装，フィン，耐食
性，親水性

41

11 1157 1990 10:比べてみよう A10

41

11 1159 1990 5:原著論文

B03

41

11 1163 1990 5:原著論文

B02

41

11 1168 1990 5:原著論文

A01

41

11 1174 1990 5:原著論文

B02

41

11 1178 1990 5:原著論文

B02

41

11 1181 1990 5:原著論文

B07

41

11 1187 1990 5:原著論文

A05

41

11 1192 1990 6:技術論文

B02

41

11 1197 1990 13:研究ノート

A10

41

11 1200 1990 7.速報論文

B07

41

11 1202 1990 7.速報論文

B01

41

11 1204 1990 7.速報論文

C07

局部腐食，鉄，メタノール，モデ
ルセル

41
41

12 1215 1990 1:巻頭言
12 1216 1990 1:巻頭言

*
*

*
*

-5-

同期化，インラインめっき，部分
めっき，高速めっき，Niめっき
銀核，乾式物理現像
Al-Mn系合金，アノード酸化，多孔質構造，遠赤外線放射特性
濡れ性，炭化物，CVDダイヤモン
ド，溶融Cu-Sn合金

表面技術 1990〜1994

4289

座談会−(１)協会の創立から現在まで−
協会の歴史を語る

4290 座談会−(２)エレクトロニクスと表面処理

武井 武.今井 昇.
川崎元雄.岸 松平.
長坂秀雄.岸 富也.
尾形幹夫
二瓶公志.岡村寿郎.海老原延郎.後藤文男.澤井秀夫.
新藤芳雄

表面技術のパラダイム−今後の表面技術
村川享男
はいかにあるべきか
4292 表面科学における最近の進歩
本間禎一
兼松秀行.小岩一4293 表面技術協会に期待する郎.佐倉康男.佐藤登.松岡政夫
次世代技術課題検討委員会報告につい
増子 昇
4294
て
4295 (金属)表面技術協会の歩み−年表と解説 鈴木六郎
4296 表面技術協会の４０年を顧みる
今井 昇
4297 成膜技術−電気めっき−Ｃｕ.Ｎｉ.Ｃｒめっき 広瀬祐輔
成膜技術−電気めっき−Ｚｎ.Ｃｄ.Ｓｎ.Ｐｂ
安谷屋武志
4298
めっき
4299 成膜技術−電気めっき−貴金属めっき
斉藤いほえ4300 成膜技術−電気めっき−合金めっき
渡辺 徹4301 成膜技術−電気めっき−複合めっき
古川直治
4302 成膜技術−電気めっき−機能めっき尾形幹夫
4303 成膜技術−電気めっき−特殊めっき
山下嗣人
4304 成膜技術−電気めっき−非水.その他
武井たつ子
4305 無電解めっき−無電解銅めっき
松岡政夫
4291

4306 無電解めっき−Ｎｉ系及びＣｏ系めっき
澤井秀夫.小岩一郎
無電解めっき−貴金属及びその他のめっ
縄舟秀美
4307
き
4308 溶融めっき
杉本正威
4309 ＰＶＤ(物理的蒸着法)−真空蒸着
大工原茂樹
ＰＶＤ(物理的蒸着法)−イオンプレーティン
稲川幸之助
4310
グ
4311 ＰＶＤ(物理的蒸着法)−スパッタリング
細川直吉
4312 ＰＶＤ(物理的蒸着法)−金属ＭＢＥ
山本良一
4313 ＰＶＤ(物理的蒸着法)−半導体ＭＢＥ
吉田貞史
4314 ＣＶＤ(化学的蒸着法)−熱ＣＶＤ伊藤 滋
4315 ＣＶＤ(化学的蒸着法)−プラズマＣＶＤ
高井 治
4316 ＣＶＤ(化学的蒸着法)−光ＣＶＤ鹿田順生
4317 ＣＶＤ(化学的蒸着法)−ＭＯＣＶＤ
徳田博邦
4318 ＣＶＤ(化学的蒸着法)−プラズマ重合
山内 健.長田義仁
4319 溶射−ＲＦプラズマ溶射.
朝日直達
4320 溶射−減圧雰囲気プラズマ溶射
朝日直達
4321 溶射−超高速フレーム溶射
朝日直達
4322 溶射−一般溶射
朝日直達
陽極酸化.化成処理−陽極酸化−アルミニ
4323
平山良夫
ウム陽極酸化
陽極酸化.化成処理−陽極酸化−チタン.
4324
伊藤征司郎
その他陽極酸化4325 陽極酸化.化成処理−着色処理斉藤勝士
4326 陽極酸化.化成処理−化成処理
斉藤ともみ
4327 陽極酸化.化成処理−電解クロメート処理 近藤嘉一
4328 有機質被覆−粉体塗装
岩城拓也
4329 有機質被覆−電着塗装
土谷義治
有機質被覆−高密度エネルギービームに
後藤弘明
4330
よる有機皮膜の硬化システム
有機質被覆−重防食塗覆法(一般的ライ
4331
吉田耕太郎
ニングを含む)4332 表面改質−イオン注入
寺島慶一
4333 表面改質−ダイナミックミキシング
佐藤 守
4334 表面改質−レーザー佐藤卓蔵
4335 表面改質−表面硬化−窒化
浦尾亮一
4336 表面改質−表面硬化−浸炭
寺門一佳
表面改質−表面硬化−その他の表面硬
寺門一佳
4337
化
4338 表面改質−拡散浸透処理
武井 厚4339 エッチング−ウェットエッチング
加藤凡典
4340 エッチング−ドライエッチング
阿部東彦.米田昌弘
4341 研磨−機械的表面仕上げ
植木正義
4342 研磨−電解表面仕上げ
松本誠臣
表面処理材の耐食性.評価技術−表面処
今井八郎
4343
理材の耐食性
表面処理材の耐食性.評価技術−評価技
4344
福本幸男
術
4345 表面分析
前田重義
4346 ＦＡ化による表面処理技術の自動化
松村宗順
4347 トピックス−超伝導膜−湿式超伝導膜
小浦延幸
4348 トピックス−超伝導膜−乾式超伝導膜
蕗沢 朗
4349 トピックス−ダイヤモンド膜
佐藤洋一郎
4350 トピックス−選択透過膜
黒田孝一
4351 トピックス−機能分子による電極表面修飾 渡辺 正
4352 トピックス−ホットスタンピング
佐藤英明
4353 トピックス−表面析出
吉原一紘
トピックス−ゾル−ゲル法によるコーティン
和田健二
4354
グ
4355 トピックス−乾式着色処理柏木邦宏
4356 トピックス−生体材料(生体適合材料)
箕浦憲彦
4357 トピックス−超微粒子大野 悟
トピックス−表示材料−ルミネッセンス.エ4358
馬場宣良.吉野隆子
レクトロクロミック
トピックス−電極材料−表面処理に用いら4359
川嶋幸雄.大江一英
れるアノード材料
4360 トピックス−アート
黒田孝一

41

12 1218 1990 21:座談会

*

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41

12 1232 1990 21:座談会

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41

12 1244 1990 20:随想

*

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41

12 1250 1990 20:随想

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41

12 1255 1990 20:随想

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41
41
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41
41
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41
41
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41

12 1259 1990 20:随想
12 1260 1990 20:随想
12 1263 1990 20:随想
12 1265 1990 4:技術解説
12 1266 1990 4:技術解説
12 1268 1990 4:技術解説
12 1270 1990 4:技術解説
12 1272 1990 4:技術解説
12 1274 1990 4:技術解説
12 1276 1990 4:技術解説
12 1278 1990 4:技術解説
12 1280 1990 4:技術解説

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41

12 1282 1990 4:技術解説

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41
41
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41
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41
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41
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12 1283 1990 4:技術解説
12 1284 1990 4:技術解説
12 1286 1990 4:技術解説
12 1287 1990 4:技術解説
12 1287 1990 4:技術解説
12 1289 1990 4:技術解説
12 1289 1990 4:技術解説
12 1290 1990 4:技術解説
12 1291 1990 4:技術解説
12 1292 1990 4:技術解説
12 1293 1990 4:技術解説
12 1294 1990 4:技術解説
12 1295 1990 4:技術解説
12 1295 1990 4:技術解説
12 1295 1990 4:技術解説
12 1295 1990 4:技術解説

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銅，ニッケル，クロムめっき
亜鉛，カドミウム，すず，鉛めっき
貴金属めっき
合金めっき
複合めっき
機能めっき
特殊めっき
非水めっき
無電解めっき，銅めっき
無電解めっき，ニッケル，コバル
トめっき
無電解めっき，貴金属めっき
溶融めっき
ＰＶＤ，真空蒸着
ＰＶＤ，イオンプレーティング
ＰＶＤ，スパッタリング
ＰＶＤ，金属，MBA
ＰＶＤ，半導体，MBA熱，ＣＶＤ
プラズマ，ＣＶＤ
光，ＣＶＤ
MOCVD
プラズマ重合溶射，ｒｆプラズマ溶射
減圧，プラズマ溶射
超高速，プラズマ溶射
溶射41

12 1297 1990 4:技術解説*

陽極酸化，アルミニウム

41

12 1299 1990 4:技術解説*

陽極酸化，チタン

41
41
41
41
41

12 1300 1990 4:技術解説
12 1301 1990 4:技術解説
12 1302 1990 4:技術解説
12 1303 1990 4:技術解説
12 1305 1990 4:技術解説

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41

12 1306 1990 4:技術解説*

陽極酸化，着色処理
化成処理
電解クロメート処理
粉体塗装
電着塗装
エネルギービーム，有機皮膜，
硬化41

12 1307 1990 4:技術解説*

防食塗膜，ライニング

41
41
41
41
41
41
41
41
41
41
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12 1308 1990 4:技術解説
12 1309 1990 4:技術解説
12 1310 1990 4:技術解説
12 1311 1990 4:技術解説
12 1313 1990 4:技術解説
12 1313 1990 4:技術解説
12 1314 1990 4:技術解説
12 1315 1990 4:技術解説
12 1316 1990 4:技術解説
12 1318 1990 4:技術解説
12 1319 1990 4:技術解説

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表面改質，イオン注入
表面改質，ダイナミックミキシング
表面改質，レーザー
表面硬化，窒化
表面硬化，浸炭
表面硬化
表面改質，拡散浸透処理
湿式エッチング
乾式エッチング
研磨，機械的研磨，電解仕上げ41

12 1320 1990 4:技術解説*

表面処理剤，耐食性

41
41
41
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41
41
41
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41
41
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12 1321 1990 4:技術解説
12 1322 1990 4:技術解説
12 1324 1990 4:技術解説
12 1327 1990 4:技術解説
12 1328 1990 4:技術解説
12 1329 1990 4:技術解説
12 1329 1990 4:技術解説
12 1330 1990 4:技術解説
12 1330 1990 4:技術解説
12 1331 1990 4:技術解説
12 1331 1990 4:技術解説
12 1332 1990 4:技術解説
12 1332 1990 4:技術解説
12 1333 1990 4:技術解説

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評価技術
表面分析
FA化，表面処理技術，自動化
湿式，超伝導膜
乾式，超伝導膜
ダイヤモンド膜
選択透過膜
電極表面修飾，機能分子ホットスタンピング
表面析出
ゾルゲルコーティング
乾式着色
生体材料
超微粒子

41

12 1334 1990 4:技術解説*

表示材料，EL，EC41

12 1335 1990 4:技術解説*

電極材料，アノード材料

41

12 1335 1990 4:技術解説

*

アート

-6-

表面技術 1990〜1994

4361 トピックス−磁気メモリー4362 トピックス−電子材料
4363 トピックス−In-Situ-ＳＴＭ
4364 巻頭言：材料開発の社会性
4365 電磁波ノイズの影響と規制の現状
4366 ビルディングの電磁波シールド対策

後藤文男
山田啓作
板谷謹悟
山本維行
大津 陽
岩井善弘

41
41
41
42
42
42

12 1336 1990 4:技術解説
12 1336 1990 4:技術解説
12 1337 1990 4:技術解説
1
1 1991 1:巻頭言
1
2 1991 2:総説
1
13 1991 2:総説

*
*
*
その他
その他
その他

4367 導電性塗料による電磁波シールド

板野俊明

42

1

塗布,塗装

22 1991 3:解説

4368 真空蒸着による電磁波シールド

元木 詮

42

1

29 1991 3:解説

物理蒸着4369 無電解めっき法による電磁波シールド

中村憲二

42

1

33 1991 3:解説

無電解めっき片面無電解めっき法による電磁波シール
斉藤 誠
ド

42

1

39 1991 3:解説

無電解めっき4370

磁気メモリー
電子材料
ＳＴＭ，その場測定
リサイクル、環境
電磁波シールド、電磁遮蔽
電磁波シールド
電磁波シールド、電磁遮蔽、塗装、塗布、塗膜
電磁波シールド、電磁遮蔽、蒸着、アルミニウム
電磁波シールド、電磁遮蔽、無電解めっき、ニッケル、銅電磁波シールド、電磁遮蔽、無電解めっき、ニッケル、銅
電磁遮蔽、電磁波シールド、電磁鋼板、非晶質
電磁遮蔽、電磁波シールド、Fe、
電解鉄箔

4371 複合磁性材料による磁気シールド

岡本昌文

42

1

44 1991 3:解説

その他

4372 磁気シールド材としての電解鉄箔の用途

鴨井新生

42

1

50 1991 3:解説

その他

42

1

57 1991 3:解説

物理蒸着

42

1

62 1991 4:技術解説

その他

アトムプローブ電解イオン顕微鏡

421

68 1991 17:講座

化成処理

化成処理、クロメート処理

421

73 1991 17:講座

その他

改善（改良）、管理、環境

42

1

78 1991 10:比べてみよう その他

421

79 1991 5:原著論文

無電解めっき42

1

84 1991 5:原著論文

電気めっき

42

1

89 1991 5:原著論文

塗布,塗装

42

1

95 1991 5:原著論文

電気めっき

42

1

100 1991 5:原著論文

電気めっき

42

1

105 1991 5:原著論文

電気めっき

42

1

111 1991 5:原著論文

無電解めっき421

116 1991 5:原著論文

熱処理

42

1

122 1991 5:原著論文

無電解めっき透過電子顕微鏡、無電解めっき、ニッケル、リン、アモルファス

421

127 1991 7.速報論文

電気めっき

ジスプロシウム、鉄、有機電解、
パルス、アモルファス

421

129 1991 7.速報論文

無電解めっき光、音響分光法、無電解めっき、ニッケル、硼素

421

131 1991 7.速報論文

拡散皮膜

低温プラズマプロセスによるイオン導電性 小久見善八.内本喜4373
薄膜層の形成晴.竹原善一郎シリーズ／表面物性評価技術−表面状態4374
植森龍治.森川博文の解析(１５)−アトムブローブＦＩＭ
4375 シリーズ／色−化成処理による黒色化
小泉宗栄
シリーズ／めっき工場の経営管理技術(１) 佐藤光治.岡田義4376−人材育成の原点−先ずは納得と感動を 夫.小山 登.三好重4377 シリーズ／くらべてみよう物性値−超伝導 井手本康
Ｎｉ−Ｐ−ＳｉＣ.Ｎｉ−Ｐ−Diamond複合皮膜 恩田時伯.岡安憲
4378の無電解めっきに対するインピーダンス解 之.吉原佐知雄.佐ＳｉＣ複合めっきの磨耗特性におけるマト 西羅正芳.山岸憲
4379
リックスの効果
史.杉本 護
定電位分極下における塗装鋼板の劣化挙 蘇 建堂.興戸正純.
4380
動とインピーダンス特性
沖 猛雄
硫酸クロム(III)−カルボン酸塩浴からのＣｒ 森河 務.横井昌幸.
4381
江口晴一郎.福本幸−Ｃ合金めっき皮膜の作製
硫酸クロム(III)−シュウ酸アンモニウム浴 森河 務.横井昌幸.
4382
江口晴一郎.福本幸からの非晶質Ｃｒ−Ｃ皮膜の作製
亜鉛−ニッケル合金めっき皮膜の組成に 津留 豊.田代修一.
4383
及ぼす電極電位の影響
田中辰児.細川邦典
無電解銅めっき液の分極挙動と析出物の4384
老田昌弘.本城克彦
電子線解析
Ｖ.ＮｂまたはＣｒを含む溶融ホウ砂浴中へ
藤田浩紀.新井 透
4385の二回浸せきで鋼に形成された２層炭化清水健一.小林賢
高分解能透過電子顕微鏡によるＮｉ−Ｐ
4386
三.G.E.Thompsom.G
めっき膜の観察.C.Wood
松田好晴.藤井俊
4387 有機電解浴からのＤｙ−Ｆｅ電析挙動
茂.吉本信子.森田昌行.芳賀正記
入江晃士.竹林恭
無電解めっき過程のＰＡＳによるIn-Situ観4388
志.三浦育子.吉原測
佐知雄.佐藤栄一
滝沢貴久男.中山住
4389 クロム拡散被覆ステンレス鋼の耐孔食性 則.小平隆志.黒河圭子
アルミニウムアノード酸化皮膜の孔径とセ 小野幸子.馬場宣4390
ル径
良.増子 昇4391 巻頭言：表団協に思う
浦尾亮一
4392 溶融めっきの現状と動向
近藤隆明
4393 溶融亜鉛めっき鋼板
金丸辰也
4394 溶融Ｚｎ−Ａｌ合金めっき鋼板
保母芳彦
4395 溶融Ａｌめっき鋼板
橘高敏晴

42

1

133 1991 7.速報論文

アノード酸化

42
42
42
42
42

2
2
2
2
2

143 1991 1:巻頭言
144 1991 3:解説
152 1991 3:解説
160 1991 3:解説
169 1991 3:解説

その他
溶融めっき
溶融めっき
溶融めっき
溶融めっき

導電膜、プラズマ

超伝導体、臨界温度、酸化物
複合皮膜、無電解めっき、イン
ピーダンス解析、ニッケル、SiC
複合皮膜、SiC、磨耗
塗装鋼板、劣化挙動、インピーダ
ンス測定、塗装ふくれクロム、ESCA、カーボン、カルボン酸塩
クロム、カーボン、非晶質、結晶構造、析出機構
亜鉛、ニッケル、合金めっき、電流電位曲線
銅、分極曲線、電子線回折、混成電位論
炭化皮膜、バナジウム、ニオブ、
クロム、表面改質

ステンレス鋼、応力腐食割れ、塩化物、硫化マンガン、溶体化処
理
アルミニウム、陽極酸化法、孔径、セル径、電子顕微鏡
表団協セミナー
防錆鋼板
合金化反応、耐食性、溶接性
鋼板、大気暴露性、合金状態図
鋼板、マフラー、耐候性、耐熱性
ターンめっき、プレニッケルめっき、ガソリンタンク
鋼板、機械的性質、脆性、建材、工程
活性元素、高温酸化、酸化物
層、カソード皮膜

4396 ターンめっき鋼板

麻川健一.吉田 誠

422

178 1991 3:解説

溶融めっき

4397 構造物溶融亜鉛めっき

中村一郎

42

2

186 1991 3:解説

溶融めっき

42

2

193 1991 2:総説

電気めっき

42

2

200 1991 3:解説

溶融めっき

溶融塩めっき、アモルファス、非
水浴

42

2

206 1991 9:シリーズ-2

塗装

黒色化、電着塗装、静電塗装、
ロールコート塗装

422

208 1991 9:シリーズ-2

電気めっき

原価管理、治具、不良422

215 1991 9:シリーズ-2

その他

42

2

220 1991 10:比べてみよう その他

422

221 1991 6:技術論文

電解エッチング422

226 1991 5:原著論文

アノード酸化

リン酸塩溶液、酸化溶解特性、ｐＨ
等電点、染料、イオン透過

活性元素を用いた表面処理による合金の 金野英隆.古市隆三
4398
耐高温酸化性の向上郎
内田淳一.渋谷敦
4399 溶融塩電解法によるＡｌ−Ｍｎ合金めっき 義.津田哲明.山本
康博.瀬戸宏久
4400 シリーズ／色−塗装による黒色化

武田一宏

シリーズ／めっき工場の経営管理技術(２)
4401
秦 暢幸
−めっきの原価計算
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態4402
奥村次徳.塩島謙次の解析(１６)−走査型内部光電子放出顕シリーズ／くらべてみよう物性値−イオン
4403
伊藤 滋
半径(１)
アノード定電流電解エッチングによる粗面
4404
世利修美
化形態に及ぼすアルミニウム中の銅元素
箕輪恵美子.小林史
オキシンを含むリン酸塩溶液中でのアノー
4405
郎.伊藤雅彦.泉谷
ド酸化によるアルミニウムの防食効果
雅清
アノード酸化アルミナメンブレンの等電点
4406
黒田孝一
前後のイオン透過
エッチング開始直後のエッチピットの成長 大澤伸夫.福岡 潔.
4407
挙動
田部善一
メタンスルホン酸銀−ヨウ化カリウム浴か 近藤哲也.政木征4408
らの銀めっき史.井上博之.山川
アモルファスＷＯ3−ＴｉＯ3薄膜を用いたＥ 松岡秀樹.橋本 哲.
4409
Ｃ素子の寿命影近 博
不溶性アノードを用いたＦｅめっきにおける4410
松原茂雄.小見 崇
Ｆｅ3+の還元反応の高速化
松田好晴.今橋健
4411 有機電解液からのイットリウムの電析挙動 二.吉本信子.森田
昌行.芳賀正記

422

232 1991 5:原著論文

アノード酸化422

236 1991 5:原著論文

電解エッチング422

241 1991 5:原著論文

その他

42

2

246 1991 5:原著論文

化学蒸着

42

2

253 1991 5:原著論文

電気めっき

42

2

258 1991 7.速報論文

電気めっき

-7-

内部光電子、半導体界面、顕微鏡
イオン半径、配位数、低スピン状
態、高スピン状態
ＰＳ版用アルミ、Ｃｕ、分極曲線、
ピット

コンデンサ、Ａｌ、定電流電解、定電位電解
銀、電気めっき、非シアン浴、はんだ付け性、ＨＢＰＳＡ
アモルファス、エレクトロクロミズ
ム、発色特性、Ｘ線回折、ＳＥＭ
鉄、電気めっき、アニオン交換
膜、隔膜電解、高速化
電気めっき、非晶質、ニッケル、
モリブデン、熱処理

表面技術 1990〜1994

志村美知子.奥村次
コバルト・ナフタロシアニンのエレクトロクロ
徳.小沢欣一.志村
ミズムを利用した微量酸素の定量
幸雄
無電解Ｐｄ−Ｐ合金めっき皮膜のはんだ付 芳賀正記.内田 衛.
4413
け性及び接触抵抗
水本省三.縄舟秀美
巻頭言：特集「湿式法による磁気記録媒
4414
逢坂哲彌
体」に寄せて4412

422

260 1991 7.速報論文

電気めっき

エレクトロクロミズム、溶存酸素
計

42

2

262 1991 7.速報論文

無電解めっき次亜リン酸塩、還元剤、はんだ付
け性、接触抵抗、無電解めっき

423271 1991 1:巻頭言

その他

湿式法、小型薄膜ディスク
磁気ディスク、磁気ディスク媒体、薄膜ディスク、無電解めっき
コバルト、無電解めっき、めっき
速度、磁気特性コバルト、無電解めっき、垂直記
録媒体、合金電解析出、アルマイト、磁気記録
媒体、ポア径、充てん率
ニッケル、無電解めっき、非晶質
構造、非磁性皮膜、錯体
ハードディスク装置、無電解めっき、Ni、製造システム
ニッケル、無電解めっき、磁気ハードディスク、Aｌ、前処理

4415 無電解めっき磁気記録媒体開発秘話

永尾守正

42

3

273 1991 3:解説

無電解めっき4416 無電解Ｃｏ長手記録媒体

鷹野 修

42

3

278 1991 3:解説

無電解めっき4417 無電解Ｃｏ合金めっき垂直磁気記録媒体

逢坂哲彌.本間敬之

423

283 1991 3:解説

無電解めっき423

291 1991 3:解説

アノード酸化423

297 1991 3:解説

無電解めっき

42

3

303 1991 3:解説

無電解めっき

423

323 1991 5:原著論文

無電解めっき

423

328 1991 5:原著論文

無電解めっき無電解めっき、ハードディスク

423

334 1991 5:原著論文

無電解めっき無電解めっき、Co、P、テクス
チャー処理、磁気特性、微細構
造

42

3

339 1991 5:原著論文

無電解めっき磁気記録、無電解めっき、媒体ノ
イズ

42

3

345 1991 5:原著論文

無電解めっき423

308 1991 3:解説

無電解めっき423

314 1991 9:シリーズ-2

その他

4418 アルマイト垂直磁気記録媒体

荒井賢一.姜 煕雨.
石山和志
沼沢 潔.武居義政.
渡辺賢治

ハードディスク基板の下地処理−無電解4419
ニッケル−リンめっき浴
めっきディスク製造システム−下地めっき
中山郁雄
4420
装置を中心に
磁気ディスク用無電解ニッケル−リン皮膜4421
米光 誠.池田 洋に及ぼす前処理の効果
無電解めっき小型磁気ディスクの高密度 長坂英昭.道盛 徹.
4422
化
竹野 博
逢坂哲彌.本間敬
テクスチャー処理基板上に成膜した無電 之.井上克己.浅井4423
解ＣｏＰ薄膜媒体の磁気特性と微細構造 弘紀.飯塚博夫.吉野 浩.後藤文男
松永俊樹.金子 衛.
めっき型磁気ディスクの微細構造と媒体ノ
4424
宮本幸博.田上 満.
イズ
冨田 猛
カ性アルカリ性無電解コバルト合金めっき 後藤文男.山本武4425
浴の吸収特性と皮膜磁性
彦.増田則男.逢坂
無電解めっき法にる金属被覆粉体の製造
4426
川上 浩.竹下淳一
技術の開発
シリーズ／めっき工場の経営管理技術(３)
4427
吉川弘二
−人手不足とその対策シリーズ／くらべてみよう物性値−イオン
4428
伊藤 滋
半径(２)

磁気特性、無電解めっき、コバル
ト、合金、薄膜媒体
無電解めっき、粉体、伝導体、顔料
人手不足、省力化、OJT、外国人
労働者
イオン半径、イオン価数、置換、機能性改善
アルミニウム、黒色化、電解着色法、有機染色、含浸
複合化、融合化、複合材料、機能材料
洗浄、環境、溶剤、界面活性剤、フロン
有機溶剤、フロン、塩素系洗浄剤、PAFT
水系洗浄剤、エマルジョン洗浄剤、酸性洗浄剤、アルカリ性洗浄
電解洗浄、陰極電解洗浄、PR電
解洗浄、電解酸洗い、水素ぜい
超音波洗浄、精密洗浄、ガラス、
超純水、周波数
溶剤洗浄、真空式洗浄法、溶剤
積層板、耐熱性、耐久性、ビニル
系樹脂

42

3

319 1991 10:比べてみよう その他

4429 シリーズ／色−陽極酸化による黒色化

平山良夫

42

3

320 1991 9:シリーズ-2

アノード酸化4430 巻頭言：技術の複合化と融合化

大久保敬吾

42

4

363 1991 1:巻頭言

その他

4431 脱脂洗浄の動向

辻 薦

42

4

364 1991 2:総説

洗浄4432 有機溶剤系洗浄剤

北村健郎

42

4

369 1991 3:解説

洗浄4433 水系洗浄剤

天田 徹

42

4

375 1991 3:解説

洗浄4434 電解洗浄技術

斎藤 斉

42

4

380 1991 3:解説

洗浄4435 超音波洗浄技術

佐藤昭八郎

42

4

384 1991 3:解説

洗浄

42

4

389 1991 3:解説

洗浄

42

4

394 1991 3:解説

その他

42

4

400 1991 9:シリーズ-2

表面分析

42

4

404 1991 9:シリーズ-2

電気めっき

42

4

410 1991 9:シリーズ-2

その他

42

4

411 1991 10:比べてみよう その他

424

413 1991 5:原著論文

塗装

42

4

419 1991 5:原著論文

電気めっき

42

4

425 1991 5:原著論文

無電解めっき424

431 1991 5:原著論文

アノード酸化424

437 1991 5:原著論文

電解エッチング424

441 1991 7.速報論文

電気めっき

42

5

463 1991 1:巻頭言

その他

42

5

464 1991 3:解説

その他

42

5

467 1991 3:解説

その他

42

5

473 1991 3:解説

化学蒸着

42

5

479 1991 3:解説

その他

レーザアプリケーション、超伝導

4436 真空式洗浄技術
野寺克巳
プラスチック.金属積層材における金属・樹
4437
松坂菊生
脂相互作用
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
金子礼三
4438
の解析(１７)−ＳＸＭによる表面・表層の評
シリーズ／めっき工場の経営管理技術(４)
4439
矢部 賢
−最近の東南アジアのめっき技術
シリーズ／色−ドライプロセスによる黒色
4440＊
化
シリーズ／くらべてみよう物性値−イオン
4441
伊藤 滋
半径(３)
定電流分極下における塗装鋼板の劣化挙 蘇 建堂.興戸正純.
4442
動とインピーダンス特性
沖 猛雄
竪型連続電気めっき層における１次電流 津田哲明.水本雅
4443
分布也.矢川敦久
無電解銅めっきの分極特性と析出物に対4444
老田昌弘.本城克彦
するジピリジルの影響
4445 Ａｌ／Ｔｉ二層めっき鋼板の陽極酸化特性

安江良彦.影近 博

直流エッチング時のエッチピットの成長挙 大澤伸夫.福岡 潔.
4446
動
田部善一
電解Ｎｉ−Ｍｏ非晶質合金皮膜の熱処理に4447
袁 宝林.小若正倫
よる結晶化に伴う物性の変化
4448 巻頭言：「ナノ」への誘い
河村敏孝
4449 超伝導薄膜に何が期待できか

岡部洋一

ＭＢＥ法による超伝導薄膜の作製とキャラ
鯉沼秀臣.永田裕俊
クタリゼーション
青木伸哉.山口太
4451 ＣＶＤ法による超伝導薄膜の作製
一.河野 宰レーザーブレーション法による超伝導薄膜 松本卓也.川合知4452
二.河合七雄の作製
スパッター法による酸化物超伝導薄膜の
4453
中村恵吉
作製
バイアス印加ＥＣＲプラズマ酸化法による4454
作田 健.小林 猛
超伝導薄膜の処理技術
熱プラズマフラッシュ蒸発法による超伝導
寺嶋和夫.吉田豊信
4455
薄膜の作製
熊谷俊弥.真部高
4456 塗布熱分解法による超伝導膜の作製
明.水田 進泳動電着法を応用した各種形状の各種基
小浦延幸.荘司浩雅
4457
材上への酸化物超伝導体の作製
4450

4458 溶射による高温超伝導薄膜の作製

真保幸雄

走査型トンネル顕微鏡
東南アジア、めっき技術、環境管
理、品質管理ドライプロセス、着色、イオンプ
レーティング、PVD
イオン半径
塗膜、インピーダンス特性、劣化
挙動、コール・コール線図
一次電流分布、連続めっき、竪型槽、電流密度分布
無電解めっき、銅、ジピリジル、
混成電位、電子線解析
陽極酸化、イオンプレーティン
グ、アルミニウム、チタン、鋼板
アルミニウム、エッチング、ピット
発生数、ピット成長速度、ピットサ
電気めっき、非晶質、ニッケル、
モリブデン、熱処理
超伝導、ナノ、素子技術
超伝導、エレクトロニクス、マイス
ナー効果
分子線エピタキシー、エピタキ
シャル膜、ＸＰＳ、ＲＨＥＥＤ
超伝導、Ｙ、Ｂｉ、線材、デバイス

425

486 1991 3:解説

その他

スパッタ蒸着、超伝導、Ｙ系超光
子膜

42

5

491 1991 3:解説

その他

ＥＣＲマイクロ波プラズマ、

425496 1991 3:解説

その他

蒸発、反応、堆積、酸化物超伝
導

42

5

500 1991 3:解説

塗布

Ｙ、Ｂｉ、塗布熱分解法、超伝導425508 1991 3:解説

泳動電着

42

5

514 1991 3:解説

溶射

-8-

電着機構、酸化物超伝導、各種
形状、各種素材
高温超伝導膜、ＹＢａ2Ｃｕ3Ｏ7-Ｘ
膜、溶射表面技術 1990〜1994

シリーズ／表面物性評価技術−表面状態藤川高志の解析(１８)−電子ＥＸＡＦＳ
シリーズ／めっき工場の経営管理技術(５)
4460
高木誠治
−めっきの自動化の考え方
4459

4461 ジリーズ／色−めっき金色化

小林道雄

4462 新たに制定された無電解Ｃｕめっき規格 豊永 実
4463 シリーズ／くらべてみよう物性値−格子常 渡辺 徹
反応性イオンプレーティングによる配向性 大竹輝徳.真野 毅.
4464
ＡｌＮ薄膜の形成
桑野三郎.沖 猛雄
低温ラミネ−ト可能なＰＶＣ被覆鋼板用ポ 林 芳夫.中本哲男.
4465
リエステル樹脂系接着剤の開発
神田勝美
金−銅.金−ヒ素合金皮膜の微細化につ 渡辺公秀.入江晃
4466
いて士.吉原佐知雄.佐Ｎｉ−金属Ｓｎ複合めっき皮膜の作製とその 伊藤昌伸.榎本英4467
はんだ付け性彦.小見 崇電析法によるＮｉ−Ｓ合金の析出過程と非4468
成田 彰.渡辺 徹
晶質の形成
ＨＣＤ法によるＴｉＮコーティング鋼の耐食性 滝沢貴久男.福島
4469に及ぼす成膜条件の影響
誠.今井八郎非晶質Ｎｉ−Ｃｏ−Ｂ合金皮膜の熱処理に4470
齋藤哲男.佐藤栄一
よる影響
クロムの多硫化ナトリウム中での腐食挙 下屋敷重広.高橋和4471
動雄.床井博見425

519 1991 9:シリーズ-2

電気めっき

ＥＸＡＦＳ、ＥＥＬＳ、表面構造解析

425524 1991 9:シリーズ-2

電気めっき

液管理、ＦＡ化、治具

425528 1991 9:シリーズ-2

電気めっき

42
42

5
5

531 1991 14:データ
無電解めっき534 1991 10:比べてみよう その他

425

535 1991 5:原著論文

イオン注入

42

5

541 1991 5:原著論文

電気めっき

42

5

548 1991 5:原著論文

電気めっき

微細化、Au、パルスめっき

425553 1991 5:原著論文

電気めっき

Ｎｉ、Sn、合金めっき、はんだ付け性、表面形態425559 1991 5:原著論文

電気めっき

非晶質、Ni、S、合金めっき、構造425564 1991 5:原著論文

その他

42

5

571 1991 7.速報論文

無電解めっき

425

573 1991 7.速報論文

その他

電気めっき、金、銅、合金めっき、
浴組成
規格、プリント基板、アディティブ
格子定数
窒化アルミニウム、C軸配向性、音響材料、イオンプレーティング
PVC被覆鋼板、ポリエステル、接着、密着性

イオンプレーティング、TiN、バイ
アス電圧、ステンレス鋼
非晶質、Ni、Co、B、合金、焼入
れCr、硫化皮膜、腐食

426607 1991 3:解説

その他

4480 ホログラム印刷
和田 隆
4481 光カ−ド・ＩＣカ−ド
倉持 渉.西川誠一
シリーズ／めっき工場の経営管理技術(６)
4482
石川進造
−都市型工場における技術開発

42
42

6
6

610 1991 3:解説
614 1991 3:解説

その他
その他

金属、リサイクル、合金化技術、表面処理技術印刷、コピー、半導体、表面処理
オフセット印刷機械、枚様印刷機、輪転印刷機
カラースキャナー、平面型スキャ
ナー、色補正、網点発生
表面処理、製版、オフセット、グラ
ビア
新聞、オフセット印刷、カラース
印刷インキ、印刷素材、固着、乾燥と硬化、樹脂
印刷技術、エッチング技術、フォ
トファブリケーション、精密電子部
品、金属処理ホログラム
カード、光記憶カード、ＩＣカード

42

6

619 1991 9:シリーズ-2

その他

都市工場、経営、技術開発

4483 ジリーズ／色−めっきによる金色化(２)426625 1991 9:シリーズ-2

電気めっき

42

6

626 1991 10:比べてみよう その他

426627 1991 5:原著論文

電気めっき

42

6

633 1991 5:原著論文

アノード酸化コバルト、アンモニア、アノード酸
化、酸化皮膜426639 1991 5:原著論文

電気めっき

Ｎｉ、Ｍｏ、合金、非晶質、腐食426645 1991 5:原著論文

アノード酸化

アルミニウム、アノード酸化、バリ
ヤー酸化

42

6

649 1991 5:原著論文

その他

木村達也

42

6

583 1991 1:巻頭言

その他

4473 小特集「印刷・コピー」に寄せて

4472 巻頭言：材料開発に思う

加藤凡典

42

6

584 1991 3:解説

その他

4474 オフセット印刷機械

縄田卓生

42

6

585 1991 3:解説

その他

4475 カラースキャナ−

宇佐見良徳

42

6

589 1991 3:解説

その他

4476 製版における表面処理

江頭靖郎

42

6

594 1991 3:解説

その他

4477 新聞印刷

柿崎謙介

42

6

599 1991 3:解説

その他

4478 インキと素材

佐野節也

42

6

603 1991 3:解説

その他

4479 エレクトロニクスへの応用

山村 康

小林道雄

4484 シリーズ／くらべてみよう物性値−電気伝 伊藤 滋
Ｚｎ−Ｎｉ合金電析挙動に及ぼすパルス電 西村一実.菊池郁
4485
解の効果
夫.小田島壽男
小林和夫.宮田雅
弱アルカリ溶液中におけるコバルトアノー
4486
之.若山宏明.宮林
ド酸化反応に及ぼすアンモニアの効果
毅.大塚俊明.日根
アンモニア・クエン酸塩浴による電析Ｎｉ− 袁 宝林.劉 克里.
4487
Ｍｏ非晶質合金の作製と耐食性
小若正倫
清水健一.小林賢
バリヤー形アノード酸化皮膜の成長に伴う
4488
三.G.E.Thompson.G.
アルミニウム表面の平滑化について
C.Wood１８−８ステンレス鋼の耐孔食性に及ぼす 滝沢貴久男.中山住4489
ＭｎＳ介在物と定電位電解処理の影響
則4490 巻頭言：自然との対話
小林賢三

42

7

661 1991 1:巻頭言

その他

4491 印刷技術の原理と動向

山岡亜夫

42

7

662 1991 2:総説

その他

4492 フルカラー複写機の原理と技術要素

高瀬克明

42

7

675 1991 2:総説

その他

4493 トナ−と素材−トナ−と紙の定着性

今田俊治

42

7

681 1991 3:解説

その他

4494 スクリーン印刷によるファインパタン形成植田豊一.池上 昭

427685 1991 3:解説

その他

4495 金属上への印刷技術

町井昭彦

42

7

691 1991 3:解説

その他

4496 パット印刷

清水久吾

42

7

697 1991 3:解説

その他

4497 ３次元立体成型品への加飾方法

樽谷隆至

42

7

703 1991 3:解説

その他

4498 バイオセンサ−

軽部征夫

42

7

710 1991 3:解説

その他

4499 マーキングフィァルムの印刷

橋本定明

42

7

715 1991 3:解説

その他

4500 電気通信用屋外設備の腐食と対策

高沢壽佳

42

7

719 1991 3:解説

その他

4501 シリーズ／色−塗装による金色化

吉原一郎

塗装

42

7

753 1991 7.速報論文

無電解めっき428765 1991 1:巻頭言

電気めっき

ステンレス鋼、孔食、介在物、活性態溶解、孔食電位
自然、対話
印刷、転写、製版、カラープルー
フ、インキ
フルカラー、電子写真、高画質、デジタル化、複写機
紙、トナー、複写、樹脂、顔料、ワックス
半田印刷、スクリーンマスク、ス
クリーン印刷、ファインパタン、厚膜印刷
金属、オフセット印刷、3ピース印
刷、2ピース印刷、UV印刷
印刷、パット印刷、シリコンゴ
ム、、マーキング処理、立体物
加飾、三次元立体、ホットスタン
プ、インモールド転写、サーモセンサー、バイオセンサー、酵素センサー
マーキングフィルム
腐食、防食、有機被覆、電気通信、腐食診断技術
塗装、金色、顔料、アルミナ粉
末、黄色顔料
比熱
無電解めっき、金、シアンフリー
浴、アスコルビン酸、錯化剤
無電解めっき、銅、均一析出性、アスペクト比、溶存酸素
ＰＳ版、平版印刷、電解鉄箔、鉄めっき
電気泳動電着、ジルコン、窒素、
酸洗い、回収紫外線光、無電解めっき、Ｎｉ、Ｓｉ
ウエハー
無電解めっき、銅、混成電位、添
加剤、析出速度
中小企業

42

8

766 1991 2:総説

電気めっき

電気めっき

42

7

726 1991 9:シリーズ-2

4502 シリーズ／くらべてみよう物性値−単体の 平山良夫
アスコルビン酸を還元剤とする無電解金 加藤 勝.新倉恵子.
4503
星野重孝.大野 湶
めっき浴の電気化学的挙動

427728 1991 10:比べてみよう その他

427

729 1991 5:原著論文

無電解めっき4504 無電解銅めっきの均一析出性427736 1991 5:原著論文

無電解めっき本間英夫.藤波知之

神田勝美.山根啓4505 電解鉄箔を支持体としたＰＳ版の特性
二.近藤嘉一テルミット法で合成したＺｒＮ微粉体の電気 小林秀彦.加藤巳
4506
泳動電着回収
幸.三田村孝Ｓｉウェハー上への無電解Ｎｉめっきにおけ4507
石川 豊.中道一郎
る紫外線照射効果
無電解銅めっき過程における析出速度の 松岡政夫.岩本和4508
変化
也.林 忠夫4509 巻頭言：中小企業生き残り作戦
笹野不二夫
小特集「電解用電極の進展と表面処理」
4510
虫明克彦
企画にあたって金色めっき、銅、亜鉛、すず、合
金めっき
電気抵抗率
パルスめっき、Ｚｎ、Ｎｉ、合金電
析、表面形態、

427740 1991 5:原著論文

その他

42

7

746 1991 5:原著論文

泳動電着

42

7

751 1991 7.速報論文

無電解めっき-9-

表面技術 1990〜1994

4511 表面処理プロセスにおける不溶性アノード 岸 富也
太田健一郎.鈴木匠.神谷信行
4513 フェライト電極の現状
大江一英
島宗孝之.中島保
4514 ＤＳＥ夫.中松秀司4515 白金被覆チタン電極
松澤繁光
4516 IVａ〜VIａ族遷移金属非酸化物のセラミッ 三田村孝.小林秀彦
4517 ガス拡散電極
古屋長一
溶射法で作製したマグネタイトコート電極 虫明克彦.井上英4518の性質
雄.玉田興史
ガラス被覆チタン基体を用いた酸素発生
4519
虫明克彦.増子 昇
用電極4512 鉛電極の特性とその応用

4520 ＦＡ化による表面処理技術の自動化

松村宗順

衛星搭載用マグネシウム合金の表面処理
4521
三野正人
技術
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態4522 の解析(１９)−昇温脱離法による吸着・脱 藤田大介
離過程の解明4523 シリーズ／くらべてみよう物性値−融解熱 平山良夫
小岩一郎.藤井浩
ＤＣ型カラープラズマディスプレーパネル
4524
三.小林広美.澤井
厚膜陰極へのめっき効果
秀夫.寺尾芳孝
佐藤祐一.藤橋勝
酸化Ｚｒ粉体上へのＰｄの無電解めっきと4525
治.齋藤学.関野修
めっき物の熱的挙動
二.小早川紘一.早
無電解銅めっきにおけるフェナントロリン
4526
老田昌弘.本城克彦
添加剤の作用機構
無電解Ｎｉ−Ｐ−ＰＴＦＥ複合めっき浴にお4527
老田昌弘.本城克彦
ける界面活性剤の作用
エッチングしたアルミニウム箔表面に生成4528
清水健一.小林賢三
するバリヤー型アノード酸化皮膜の構造
無電解ニッケルめっき過程における応力 入江晃士.竹林恭4529 割れの検出；光音響的手法によるアプ
志.三浦育子.吉原
ローチ
佐知雄.佐藤栄一
ＴｉＯ2粉末光触媒を用いる有機窒化合物 久米道之.小野さと
4530
の分解処理
み.大澤松夫
Ｈ2−Ｈ2Ｓ雰囲気中におけるアルミニウム 百瀬 治.吉田 薫.
4531
拡散被覆の高温硫化河上 護
4532 巻頭言：気になること

42

8

767 1991 3:解説

アノード析出

不溶性アノード、アノード、触媒428773 1991 3:解説

電気めっき

Ｐｄ、二酸化鉛電極、オゾン生成428778 1991 4:技術解説

電気めっき

フェライト

42

8

783 1991 4:技術解説

化成処理

ＤＳＥ、銅箔、アルミ箔

42
42
42

8
8
8

788 1991 4:技術解説
793 1991 3:解説
800 1991 3:解説

電気めっき
電気めっき
拡散皮膜

白金、チタン
Ｂ、Ｃ、Ｎ、分極曲線
ガス拡散電極、アノード、水素428848 1991 7.速報論文

溶射

Ｍｇ、溶射、アノード特性

428

850 1991 7.速報論文

塗布･塗装

42

8

805 1991 3:解説

電気めっき

42

8

811 1991 3:解説

電気めっき

42

8

815 1991 9:シリーズ-2

吸着

42

8

821 1991 10:比べてみよう 熱分解

融解熱

42

8

823 1991 5:原著論文

電気めっき

カラーＰＤＰ、水銀浸漬法、陰極
作製法

42

8

827 1991 5:原著論文

無電解めっきＺｒ、Ｐｄ、燃焼触媒

428833 1991 5:原著論文

無電解めっき428

833 1991 5:原著論文

無電解めっき428

844 1991 5:原著論文

アノード酸化428852 1991 7.速報論文

無電解めっき428854 1991 7.速報論文

その他

42

8

856 1991 7.速報論文

拡散皮膜

諏訪正輝

42

9

867 1991 1:巻頭言

その他

熱拡散法による合金めっき鋼板の製造方
4533
和気亮介
法の特性

42

9

868 1991 3:解説

熱処理

4534 金属超微粒子担持電極の接触特性

松田好晴.高須芳雄

429873 1991 3:解説

電析応用4535 耐熱めっきの構成と機能

小見 崇

42

9

881 1991 3:解説

その他

42

9

888 1991 3:解説

無電解めっき429896 1991 3:解説

その他

42

9

904 1991 9:シリーズ-2

その他

42

9

911 1991 9:シリーズ-2

その他

42

9

912 1991 10:比べてみよう その他

429913 1991 5:原著論文

電子部品への無電解ニッケル合金めっき
4536
澤井秀夫.逢坂哲彌の応用
高温超伝導酸化物の酸素ストイキオメト
4537
井手本康.笛木和雄
リー−超伝導体における酸素の問題
シリーズ／めっき工場の経営管理技術(７)4538 −めっき工場の排水・廃棄物処理におけ 石井 博
る取り組むべき問題
シリーズ／色−ドライプロセスによる金色4539＊
化シリーズ／くらべてみよう物性値−縦弾性
4540
平山良夫
率
グリオキシル酸を還元剤とする無電解銅 本間英夫.小松素4541
めっき明.藤波知之次亜リン酸を還元剤とする低温タイプの無 松岡政夫.小川哲
4542
電解ニッケルめっき浴の開発
司.岩倉千秋ダイナミックミキシング法により形成したＴｉ
4543
中島昌一.近崎充夫
Ｎ膜の構造と磨耗
菅沼啓一.丹野裕
アルミの交流エッチングにおけるポ−ラス
4544
司.梅津 勇.船越層の生成に及ぼす諸因子の影響
明.松木健三ＡＤＣ１２Ａｌダイカスト合金の硫酸溶液中に 渡辺啓一.高橋英4545 おける多孔質アノード酸化の生成挙動に 明.古市隆三郎.瀬及ぼす加熱処理の影響
尾真浩
アルミニウム複合酸化物皮膜の構造観察
4546
清水健一.小林賢三
手法に関する１考察
爆発溶射法によるＡｌ2Ｏ3−ＴｉＯ2セラミック 山田勝弘.中島弘
4547
ス皮膜の特性幸.森本純司.山口4548 巻頭言：ＣＶＤ技術への期待
瀬高信雄

無電解めっき化学吸着、物理吸着、昇温脱離法

無電解めっき、添加剤、作用機
構
界面活性剤、懸濁性測定、析出
速度、共析量測定、複合めっき
縦断面超薄切片、ＴＥＭ、超ミク
ロトーム
Ｎｉ、Ｂ、合金、クラック、応力
光触媒分解、酸化チタン、Ｎ置換
化合物
硫化量、アルミ拡散層、高温硫
化
材料、プロセス、先端技術、先端
材料、後端材料
熱拡散、合金めっき、電気めっき
金属超微粒子、電気触媒特性、メタノールの陽極酸化
合成材料、電着、トライボロ
ジー、熱応力、耐熱性
無電解めっき、ニッケル、合金、
サーマルヘッド、電子機器
酸素ストイキオメトリー、超伝導
酸化物、欠陥、酸素の拡散、Cu
排水、廃棄物、COD
金色化、イオンプレーティング、Ｔ
ｉＮ、膜特性
縦弾性率、ヤング率、フックの法
則、弾性変形
銅、無電解めっき、グリオキシル
酸、均一析出性、機械的性質
低温、Ｎｉ、Ｐ、合金、引張強さ、耐食性
ＴｉＮ、イオン注入、蒸着、反応性
蒸着、磨耗

42

9

918 1991 5:原著論文

無電解めっき429923 1991 5:原著論文

イオン注入

42

9

928 1991 5:原著論文

電解エッチング

アルミニウム、ＡＣエッチング、静電容量、アノード皮膜

429933 1991 5:原著論文

アノード酸化

アルミニウム、合金、アノード酸
化処理、ダイカスト

429

941 1991 6:技術論文

アノード酸化429945 1991 7.速報論文

溶射

42

10

963 1991 1:巻頭言

その他

4549 界面.接着.複合材料

中尾一宗

42

10

964 1991 2:総説

その他

4550 宇宙機器における複合材料

田中長博

42

10

976 1991 3:解説

その他

4551 航空機における複合材料の応用

南雲 隆

42

10

984 1991 3:解説

その他

4552 自動車部品と複合材料

蓮見 茂

42

10

991 1991 3:解説

その他

4553 スポ−ツ用品と複合材料

小塚興治

42

10

997 1991 3:解説

その他

4554 住宅資材と複合材料

阿部義孝

42

10 1004 1991 3:解説

その他

42
42

10 1011 1991 9:シリーズ-2
その他
10 1012 1991 10:比べてみよう その他

42

10 1013 1991 5:原著論文

電気めっき

42

10 1019 1991 5:原著論文

拡散皮膜4555 シリーズ／色−陽極酸化による金色化
岡 安夫.平山良夫
4556 シリーズ／くらべてみよう物性値−熱伝導 平山良夫
電析Ｎｉ−Ｐ合金めっきの熱処理による皮 来間清志.山田克4557
膜構造変化と硬さとの関係
美.佐藤馨.影近 博
ＶとＣｒまたはＮｂとＣｒを含む溶融ホウ砂浴
藤田浩紀.新井 透
4558
中で鋼に形成された複合炭化物

ガラスコート、触媒被覆、硫酸浴、シリサイド
ＦＡ化、通信手段、ＣＩＭ、ソフトウ
エア、ハードウエア
Ｍｇ、航空宇宙搭載器、イオンプ
レーティング- 10 -

アルミニウム、アノード酸化、ＴＥ
Ｍ、ＳＥＭ、電解セラミックコーティング、ガス爆発
溶射法、耐磨耗性、マイクロ硬度
ＣＶＤ
界面、接着、複合材料、ガラス繊
維強化プラスチックス、シランカッ
プリング
先端複合材料、炭素繊維強化プ
ラスチックス、繊維強化金属、ア
ラミド繊維強化プラスチックス
航空材、複合材料、材料開発、加工技術開発自動車、複合材料
複合材料、ガラス繊維強化プラ
スチックス、ゴルフクラブ、つり竿、テニスラケット
繊維強化プラスチックス、住宅資材、バスタブ、下水浄化槽、人造陽極酸化皮膜、電解発色、染色
熱伝導率
ニッケル、リン、電気めっき、硬度、結晶構造、熱処理
炭化物、複合炭化層、クロム、バ
ナジウム、ニオブ

表面技術 1990〜1994

4559 リン青銅スズめっき材の熱はく離について 深町一彦.川内 進
リン青銅スズめっき材のはく離に及ぼす合 深町一彦.小倉次
4560
金元素及び下地銅めっきの影響
夫.荒木田泰弘
秋山徹也.福島久
4561 クロムを含有する亜鉛合金の析出哲.浦川隆之単結晶銀上への鉛のUnderpotential吉原佐智雄.高橋亮
4562 Deposition過程のIn-Situ観察−光音響的 二.岡本三永子.佐手法によるアフムローチ
藤栄一4563 巻頭言：自動車と表面処理
長田征夫
無電解めっきの原理−析出機構を中心と
4564
松岡政夫
して
4565 無電解銅めっきの現状と将来

42

10 1026 1991 5:原著論文

電気めっき

42

10 1033 1991 5:原著論文

電気めっき

42

10 1039 1991 5:原著論文

電気めっき

42

10 1044 1991 5:原著論文

その他

42

11 1057 1991 1:巻頭言

その他

42

11 1058 1991 2:総説

無電解めっき藤波知之

42

11 1068 1991 3:解説

無電解めっき

4566 無電解金めっきの歴史と現状
沖中 裕
無電解ニッケル(Ｎｉ−Ｐ.Ｎｉ−Ｂ)めっきの現
田村忠義
4567
状と展開

42

11 1077 1991 3:解説

無電解めっき42

11 1087 1991 3:解説

無電解めっき4568 無電解パラジウムめっきの現状と将来

縄舟秀美

42

11 1093 1991 3:解説

無電解めっき4569 無電解白金めっき
4570 無電解複合めっきの現状と将来

高橋健二
松村宗順

42
42

11 1100 1991 3:解説
11 1104 1991 3:解説

無電解めっき無電解めっき4571 無電解めっき工程と設備の実際

矢部 賢

42

11 1110 1991 3:解説

無電解めっき4572 無電解めっきの廃液処理

加藤清治.藤田 繁

42

11 1118 1991 3:解説

無電解めっき4573 無電解ニッケルめっき廃液の処理
4574 無電解めっきの自動管理システム

木村輝三
吉田 正

42
42

11 1123 1991 3:解説
11 1129 1991 3:解説

無電解めっき無電解めっき4575 鉄族金属を含む合金の電析挙動

東 敬

42

11 1134 1991 12:武井記念シリーズ 電気めっき

42

11 1140 1991 10:比べてみよう その他

42

11 1141 1991 5:原著論文

無電解めっき42

11 1146 1991 5:原著論文

無電解めっき42

11 1152 1991 5:原著論文

その他

4576 シリーズ／くらべてみよう物性値−熱膨張 平山良夫
ＰＥＴ素地上の無電解Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき 松田 均.廣野 修.
4577
池内隆啓
膜の磁気特性に及ぼす前処理の影響
亜リン酸塩を還元剤とする無電解Ｐｄ−Ｐ 芳賀正記.内田 衛.
4578
水本省三.縄舟秀美
合金めっき及びその析出機構
滝沢貴久男.福島
ＴｉＮ被覆したステンレス鋼の硫酸水溶液
4579
誠.黒河圭子.岡田
中での耐食性英敏.今井八郎
ＳｉとＡｕＧｅＳｂ／Ｃｒ／ＮｉＣｒ／Ｎｉ層の接触 山崎 晃.名倉英明.
4580
抵抗
横沢真覩.上浦宏明
リードフレーム用Ｃｕ合金におけるマイグ 両角宏喜.加藤凡
4581
レーション性の評価
典.上田重朋4582

ジピリジル添加の無電解銅めっき低温浴の分極特性と析出物

老田昌弘.本城克彦

三浦育子.入江晃
紙上の無電解Ｎｉ−Ｂめっき皮膜のシール
士.小林美紀.斉藤
ド効果
哲男.佐藤栄一
高純度アルミニウムの陽極酸化皮膜の多 前嶋正受.石禾和4584
孔質層の観察夫.猿渡光一.平田4585 巻頭言：表面技術と表面科学雑感
西山諠行「小特集／ダイヤモンド薄膜の生膜技術・
4586
広瀬洋一.高井 治
評価及び応用」に寄せて
熱フィラメントＣＶＤ法及び電子衝撃ＣＶＤ
澤辺厚仁
4587
法によるダイヤモンド薄膜の作製
有磁場マイクロ波プラズマＣＶＤ法及びマ
鈴木準一.川原田
4588 イクロ波プラズマＣＶＤ法によるダイヤモン
洋.平木昭夫
ド薄膜の作製
直流プラズマＣＶＤ法によるダイヤモンド合4589
鈴木一博.犬塚直夫
成
4583

42

11 1158 1991 6:技術論文

物理蒸着

42

11 1163 1991 6:技術論文

その他

42

11 1169 1991 7.速報論文

無電解めっき42

11 1171 1991 7.速報論文

無電解めっき42

11 1173 1991 7.速報論文

アノード酸化12 1183 1991 1:巻頭言

その他

12 1184 1991 1:巻頭言

その他

ダイヤモンド、合成、評価42

12 1185 1991 3:解説

化学蒸着

熱フィラメントＣＶＤ、ＥＡＣＶＤ、ダイヤモンド薄膜42

12 1189 1991 3:解説

化学蒸着

ダイヤモンド薄膜、ＣＶＤ、ＥＣＲ

42

12 1196 1991 3:解説

化学蒸着

12 1199 1991 3:解説

化学蒸着

4591

アーク放電プラズマジェットＣＶＤ法による
吉川昌範
ダイヤモンド合成

42

12 1205 1991 3:解説

化学蒸着

4604

馬場宣良

多孔質Ａｌ陽極酸化皮膜を隔膜とする光励 魚崎浩平.岡崎賢太
起電子のベクトル輸送とエネルギー貯蔵 郎.上田譲司

光ディスクスンタンバ−の製造とその評価
川崎 実
技術
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態4606
木曽義之.広川 健の解析(２１)−粒子励起Ｘ線分析法(ＰＩＸＥ)Ｎイオン注入により生成するＴｉＮとＺｒＮのＸ 寺島慶一.松坂菊
4607
ＰＳによる解析生.峯岸知弘4605

ＥＭＩシールド、無電解めっき、Ｎ
ｉ、Ｂ、合金、活性化時間42424603 巻頭言：生物に学ぶ表面と表面皮膜

自動車、表面処理、リサイクル
無電解めっき、混成電位論、半反応、副反応、浴の安定性
銅、無電解めっき、均一析出性、高速化、ホルマリンフリー
金、無電解めっき
ニッケル、無電解めっき、特性の応用
無電解めっき、パラジウム、合金
皮膜、接触抵抗、はんだ付け性
白金、無電解めっき、ヒドラジン
無電解めっき、複合めっき
無電解めっき、工程のデザイン、前処理装置、浴管理、設備管理
銅、無電解めっき、廃水処理、ＣＯＤ除去、電気透析
ニッケル、無電解めっき、排水溶液管理、無電解めっき
共析、鉄族金属、亜鉛、モリブデ
ン、分極
膨張、熱膨張率、線膨張率
無電解めっき、アクチベータ処理、保磁力
無電解めっき、Ｐｄ、Ｐ、合金、亜リン酸塩、結晶構造
腐食、イオンプレーティング、ＨＣ
Ｄプロセス、窒化チタン、ステンレ
ス鋼
接触抵抗、Ｓｉ−ＡｕＧｅＳｂ、粉末
サイクルテスト
マイグレーション、銅、リードフ
レーム、デンドライト成長
銅、無電解めっき、ジピリジル、
混成電位、分極曲線、エチレンジ
アミンテトラ酢酸

42

ＤＣプラズマジェットＣＶＤ法によるダイヤモ 栗原和明.河原田元
ンド合成
信.佐々木謙一

4592 燃焼炎を用いたダイヤモンド合金
広瀬洋一
ラマン分光法によるダイヤモンド薄膜の評
吉川正信
価
ダイヤモンドコーティングの切削工具への
4594
菊池則文
応用
ＣＶＤダイヤモンド薄膜の電子デバイスへ 岡野 健.黒須楯生.
4595
の応用
飯田昌盛
ダイヤモンド薄膜のエレクトロニクスへの
4596
馬場和宏
応用
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
4597
青木貞雄
の解析(２０)−全反射蛍光Ｘ線分析法
シリーズ／くらべてみよう物性値−標準電
4598
虫明克彦
極電位(単体)ニッケル電析の配向性.モルフォロジーと 周 延伶.市野良一.
4599
界面インピーダンスに及ぼすクマリンの影 興戸正純.沖 猛雄
内山休男.羽板雅4600 ＴｉＮ及びＴｉＣコーティング膜の配向性
之.森 尚武.松竹寛
ＴｉＮ被覆したステンレス鋼の耐食性に及ぼ 滝沢貴久男.福島
4601
すＭｎＳ介在物の影響
誠.岡田英敏.今井
クロメート皮膜を構成するクロム化合物の 須田 新.荻野陸雄.
4602
熱的性質
田中成夫

銀、単結晶、鉛、Ｉｎ−ｓｉｔｕ観測、
光音響

高純度アルミニウム、陽極処理、多孔質層、ツェナー現象、生成効
科学、技術、表面

4590

4593

銅、スズ、リン、層間拡散、熱はく
離、カーケンドルボイド
銅、スズ、リン、熱はく離、電気めっき
電気めっき、亜鉛合金、クロム、
鉄

42

12 1212 1991 3:解説

化学蒸着

42

12 1217 1991 3:解説

化学蒸着

42

12 1223 1991 3:解説

化学蒸着

42

12 1230 1991 3:解説

化学蒸着

42

12 1235 1991 3:解説

化学蒸着
その他

ダイヤモンド、ＣＶＤ、直流、薄膜、プラズマダイヤモンド薄膜、プラズマジェッ
ト、傾斜機能物質、熱プラズマ、
プラズマＣＶＤ
アーク放電、プラズマジェット、セ
パレートプラズマトーチ、ダイヤモ
ンド薄膜、成長過程
ダイヤモンド、薄膜、燃焼点、ＣＶ
ラマン、応力、ダイヤモンド、グラファイト、Ｃ−ＢＮ
ＣＶＤ、ダイヤモンド、コーティン
グ、切削工具半導体ダイヤモンド、ｐ-ｎ接合ダイオード、ＦＥＴ
ダイヤモンド薄膜、ヒートシンク、
多層配線基板、Ｘ線マスク
全反射、蛍光Ｘ線、侵入深さ、微
量元素分析

42

12 1240 1991 9:シリーズ-2

42

12 1243 1991 10:比べてみよう その他

42

12 1245 1991 5:原著論文

42

12 1250 1991 5:原著論文

42

12 1255 1991 5:原著論文

42

12 1262 1991 7.速報論文

43

1

1 1992 1:巻頭言43

1

2 1992 3:解説

43

1

7 1992 3:解説

43

1

14 1992 9:シリーズ/表面状態の解析 21 A10.その他

粒子励起Ｘ線分析法(PIXE)

43

1

19 1992 5:原著論文

窒素イオン注入,Ｔｉ窒化物,Ｚｒ窒化物,結合エネルギー,ケミカルシ- 11 -

標準電極電位

ニッケル、電気めっき、モルフォロ
ジー、配向性、インピーダンス
ＴｉＮコーティング、ＴｉＣコーティン
化学蒸着
グ、配向性、組成、パッキング密窒化チタン、腐食、ＭｎＳ、介在化学蒸着
物、ステンレス鋼
塗布型クロメート、熱分析、乾燥
化成処理
温度、クロム化合物
生物、表面、表面皮膜、エレクト
ロクロミズムアノード酸化膜,ミクロポア膜,酸B07.アノード酸化化アルミニウム,太陽光エネル
ギー変換,電子移動反応
製造工程,光ディスクスタンパー,
B02.電気めっき･電鋳
スタンパー評価技術
電気めっき

A10.その他,B02.電気めっき,電鋳,無電解めっき,B09.その他

A08.イオン注入

表面技術 1990〜1994

金属の電析に及ぼすジェット流の理論的 呉 文昌.千葉 淳.
考察中西和美
ＬａＮｉＸＭＹ合金膜の電気化学的水素吸蔵 釜崎清治.亀井 健.
4609
特性
那須勇樹
松田好晴.藤井俊有機電解液からまジスプロシウム−鉄電
4610
茂.吉本信子.森田析に関する研究昌行.芳賀正記
右田泰治.中島 清.
4611 シアン化銀浴からの銀めっきの硬度
齋藤昭夫
１３Ｍ及び１.５Ｍ硫酸溶液中のアルミニウ 福田 豊.福田芳雄.
4612
ムダイカスト合金ＡＤＣ１２のアノード酸化 福島敏郎
リン青銅スズめっき材の耐熱はく離性に及
4613
深町一彦
ぼす下地銅浴種の影響
日野 実.西田典秀.
4614 Ｚｎ−Ｎｉ合金めっき組成の傾斜化
平松 実.川崎仁士
塗布型クロメート皮膜の乾燥温度による質 須田 新.萩野陸雄.
4615
量変化
田中成夫
4616 随想−褒め方としかり方の原理(７：３の法 鈴木六郎
4617 巻頭言：環境・資源・表面処理
水本省三
4608

43

1

24 1992 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳43130 1992 5:原著論文

A01.物理蒸着

431

36 1992 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳431

41 1992 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳43148 1992 5:原著論文

43

1

55 1992 5:原著論文

431

61 1992 7.速報論文

43

1

43
43

1
2

4618 透明導電膜概論

高井 治

43

2

真空蒸着及びＲＦイオンプレーティングに
4619
よるＩＴＯ膜の作製

大工原茂樹

43

2

4620 スパッタリングによるＩＴＯ膜の作製

堀口青史

43

2

4621 ＩＴＯスパッタターゲットの製造方法とその名手達夫.岸 俊人

4324622 スパッタ法によるＩＴＯキャリア生成機構

中西功次

43

2

4623 スパッタ法による低抵抗ＩＴＯ膜の作製

樋口 靖

43

2

4624 ＬＣＤ用透明電膜

水野谷清

43

2

4625 アクティブマトリックス型ＬＣＤ

北原洋明

43

2

43

2

シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
野中寿夫の解析(２２)−超音波による材料物性評価
塩化第二鉄溶液による金属エッチングの 上田龍二.朝倉祝
4627
分極挙動
治.土岐荘太郎.杉反応性イオンプレーティング法によって作 石田 章.武井 厚.
4628
製したＮｉ−ＴｉＣ複合皮膜の耐酸化性
辻裕一郎.今井八郎
金属バナジウムへの窒素イオン注入によ 寺島慶一.松坂菊4629
生.峯岸知弘.関根
り生成する表面窒化薄膜層の特性
電析Ｎｉ−Ｂ非晶質合金の熱処理による構 小野田元伸.土屋武
4630
造及び硬さの変化
司.清水一夫.渡辺
含フッ化物アンモニウム塩混合アルカリ性
4631 浴によるアルミニウムの陽極酸化における 野口駿雄.吉村長蔵
炭酸誘導体・酸アミドの添加効果
4626

B02.電気めっき･電鋳 Ni-B,合金,電析,非晶質

2

43

2

43

2

138 1992 5:原著論文

432

144 1992 5:原著論文

シュウ酸浴中で生成したＡｌ陽極酸化多孔
益田秀樹.馬場宣良
質皮膜へのＣＶＤアルミナ層形成挙動

432

150 1992 5:原著論文

4633 Ｗのプラズマ浸炭

金山信幸.堀江 護.
田辺俊夫

43

2

154 1992 7.速報論文

4634 パルス電着した亜鉛−鉄合金の耐食性

近藤和夫

43

2

156 1992 7.速報論文

432

158 1992 7.速報論文

硝酸塩系溶融塩中におけるステンレス鋼
辻野文三.沖 猛雄の溶出挙動

牧野英司.矢島宇
アルミニウムのトンネルエッチングのその生.柴田隆行.池田場観察
正幸.丹野裕司.菅4653 巻頭言：総合科学としての表面改質技術 山川宏二4654 揮発性有機化合物(ＶＯＣ)排出規制の動 田辺幸男
4655 生産統計から観たＶＯＣ削減と塗料の展 上池 斉
4652

B02.電気めっき･電鋳 Zn-Ni電析,傾斜化組成,腐食塗布型クロメート,熱分析,乾燥温
度,SIMS,マススペクトル65 1992 20:随想
A10.その他
ほめ方、しかり方、７：３の法則
73 1992 1:巻頭言A10.その他
環境、資源、表面処理
透明導電膜,ＩＴＯ（酸化インジウ
74 1992 2:総説
A01.物理蒸着ム･スズ）,膜作製
ＩＴＯ膜,真空蒸着,ＲＦイオンプレー
82 1992 3:解説
A01.物理蒸着
ティング
ITO,マグネトロンスパッタリング,
87 1992 3:解説
A01.物理蒸着
ターゲット密度,LCD
92 1992 3:解説
A01.物理吸着
ITO,スパッタターゲット
ITO,酸化インジウム膜,伝導機
98 1992 3:解説
A01.物理吸着構,DCスパッタリング
ITO,DCマグネトロンスパッタリン
103 1992 3:解説
A01.物理吸着
グ,透明伝導膜,抵抗率107 1992 3:解説
A01.物理吸着
液晶ディスプレイ,透明電極,基板
アクティブマトリックス型LCD,酸
A01.物理吸着,C03.化学エッチング･電解エッチング
110 1992 3:解説
化インジウム−スズ,TFT／LCD,
スパッタリング,エッチング
材料物性評価,超音波計測,超音115 1992 9:シリーズ/表面状態の解析 22 A10.その他
波顕微鏡
塩化第二鉄,エッチング,電気化
C03.化学エッチング･電解エッチング
121 1992 5:原著論文
学,分極,腐食
イオンプレーティング,ニッケ
126 1992 5:原著論文
A01.物理吸着ル,TiC,複合皮膜,酸化イオン注入,VN,XPS,微小硬さ,水131 1992 5:原著論文
A08.イオン注入
素吸蔵

2

4651

銀の硬度変化,煮沸,ベーキング,
時効,Ｘ線回折パターン
アルミニウム,ダイカスト合金,ア
B07.アノード酸化
ノード酸化,硫酸
リン青銅,スズめっき,銅下地,熱剥B02.電気めっき･電鋳
離A05.塗布･塗装

43

入江晃士.小林美
走査型光音響分光法による無電解めっき
4635
紀.三浦育子.吉原過程のIn-Situ観測
佐知雄.佐藤栄一
１−ヒドロキシエタン−１.１−ジホスホン酸 高 学鋒.傳 燕雲.
4636
小若正倫
浴からのＣｏ−Ｗ合金の電析4637 巻頭言：研究に助成金を橋本康彦
高分解能電子顕微鏡によるアルミニウム
4638
小野幸子.増子 昇
アノード酸化皮膜の構造
4639 レーザーによるアルミニウムの表面合金 冨田正吾
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
4640 の解析(２３)−シンクロトロン放射光利用 若木政利
広域Ｘ線吸収微細構造(ＳＲ−ＥＸＡＦＳ)解増井寛二.野村 毅.
4641 電析Ｎｉ−Ｐ合金の析出機構について
権 植浩.張 道淵
交流界面インピーダンス法による無電解 周 延伶.市野良一.
4642
銅めっき浴中への添加剤の効果測定
興戸正純.沖 猛雄
ＡＣインピーダンス法を用いた酸性浴中の小浦延幸.関口 攻
4643
アルミニウムの化学エッチング機構の解析
ＸＰＳによる塗布型クロメートの乾燥温度 須田 新.荻野陸雄.
4644
による組成変化の解析
田中成夫.前田重義
リン青銅スズ.はんだめっき材の熱はく離に
4645
深町一彦.小倉次夫
及ぼすめっき条件の影響
アルミニウムの含Ｅｕ3+イオン水溶液での 水木一成.森崎重4646
交流陽極酸化中の桃色発光
喜.馬場宣良.多田
ゾル−ゲル法のよって生成したアルミナ層 吉野隆子.森 正澄.
4647 を誘導体に用いた分散型ＡＣＥＬ素子の作 森崎重喜.馬場宣製良.水木一成.多田
単一蒸発源のイオンプレーティングによっ 増井孝実.辻裕一
4648て作製したＮｉ−ＴｉＣ複合皮膜の組成変化 郎.石田 章.武井日野 実.西田典秀.
ＣＯ2レーザーによるＺｎ／Ｎｉ二層めっき皮4649
平松 実.米田理史.
膜の表層合金化処理
勝村宗英
津留 豊.中村吉博.
4650 ニッケル膜の残留応力測定に関する研究
細川邦典

Dy-Fe:Co電析,パルスめっき,有機電解液

63 1992 7.速報論文

43

4632

超音波,キャビテーション,ジェット流,電析
金属水素化物薄膜,La-Ni合金膜,
電気化学的水素吸蔵

アルミニウムのアノード酸化,アンモニウム塩アルカリ性溶液,フッ化物浴,炭酸浴,酸アミド浴
CVD,アルミニウムアノード酸
B01.化学蒸着,B07.アノード酸化 化,IR反応容器,アルミニウムトリ
イソプロポキシド
浸炭法,タングステン,グロー放電,
B06.熱処理
表面硬化,WC
亜鉛−鉄合金,パルス電析,モル
B02.電気めっき･電鋳
ホロジー,腐食
B07.アノード酸化

B03.無電解めっき

無電解めっき,光音響分光法,Ni‐B,in situ観察,STM

432

160 1992 7.速報論文

B02.電気めっき･電鋳 電析,Co‐W合金,錯化

433

169 1992 1:巻頭言A10.その他

433

170 1992 2:総説

B07.アノード酸化
A10.その他

助成金、大学
アルミニウム,アノード酸化皮膜,
格子像,結晶,高分解能TEM
レーザー,アルミニウム合金,合金
シンクロトロン放射光,EXAFS,SREXAFS,全反射EXAFS,表面
EXAFS

43

3

181 1992 3:解説

43

3

188 1992 9:シリーズ/表面状態の解析 23 A10.その他

43

3

195 1992 5:原著論文

433

200 1992 5:原著論文

433

205 1992 5:原著論文

433

211 1992 5:原著論文

433

216 1992 5:原著論文

433

221 1992 5:原著論文

433

225 1992 13:研究ノート

B05.熱分解,ゾル-ゲル法

ゾル−ゲル法,アルミニウム,分散
型ACEL

43

3

227 1992 7.速報論文

A01.物理蒸着

組成変化,Ni-TiC,複合皮膜,イオンプレーティング

433

229 1992 7.速報論文

A10.その他,B02:電気めっき･電鋳CO2レーザー,合金,めっき,Zn‐Ni

433

231 1992 7.速報論文

B02.電気めっき･電鋳

433

233 1992 7.速報論文

433

235 1992 7.速報論文

43
43
43

4
4
4

249 1992 1:巻頭言250 1992 2:総説
254 1992 3:解説

- 12 -

B02.電気めっき･電鋳 Ni-P合金,合金めっき,誘起共析

界面ACインピーダンス,混成電位,無電解めっき,添加剤
アルミニウム,化学エッチング,酸C03.化学エッチング･電解エッチング
性浴,ＡCインピーダンス
塗布型クロメート,熱分析,乾燥温
A05.塗布･塗装
度,X線光電子分光法（XPS)
リン青銅,スズめっき,はんだめっ
B02.電気めっき･電鋳き,熱剥離,めっき条件
エレクトロルミネッセンス,Eu3+付
B07.アノード酸化
加,アノードAl2O3膜
B03.無電解めっき

残留応力,ニッケル電析,ワット浴,
ひずみゲージ,銅素地基板
NaNO3-KNO3溶融塩,ステンレス
B09.その他,C07.その他 鋼,ガルバニックカップル法,腐食速度,着色(カラー化)
C03.化学エッチング･電解エッチング

A10.その他,B09.その他,(A05.塗布･塗装)

A05.塗布･塗装
A05.塗布･塗装

アルミニウム,トンネルエッチング,
その場観察(in situ観察）
表面改質技術,総合化学
VOC
塗料,VOC

表面技術 1990〜1994

対応塗料の最近の進歩−環境保全と電福島 豊
着塗料の動向対応塗料の最近の進歩−水系塗料の最
4657
根津嗣男
近の進歩
対応塗料の最近の進歩−ハイソリッド塗
塩見一喜
4658
料の新しい展開対応塗料の最近の進歩−粉体塗料の新
池田俊和
4659
しい展開
塗装処理工程の対応−自動車塗装処理
4660
田辺幸男
からの環境汚染に対する具体策
塗装処理工程の対応−製缶用塗料の地
4661
堀田久志
球環境保全対策
塗装設備での対応−最近の塗装設備と公
4662
庄司 麟
害対策
4663 塗装前処理としての塗布型クロメート
三代沢良明
ＢＣｌ2−ＮＨ3ガスを用いたプラズマＣＶＤ法 宮下文彬.野中弘
4664
樹.市井一男.藤村による鋼表面でのホウ素化合物の生成
千田厚生.中川卓
4665 無電解めっきによる鉛皮膜の形成
二.高野良比古.笠小林繁夫.旭野 肇.
4666 電析法によるＰｔ−Ｍｏ合金
津留壽昭.柳ヶ瀬勉
電流遮断法を応用したエチレングリコール 柚賀正光.赤沢 昇.
4667
中の水素化アモルファスシリコン陽極酸化 山崎 珠.大山昌憲
泳動電着法によるステンレス鋼板上への4668
南 直孝.小浦延幸
ＹＢＣＯ超伝導体の作製
金めっきのピンホ−ル発生に及ぼすニッケ 斎藤いほえ.吉田裕
4669
ル素材の応力の影響
道
減圧プラズマ溶射によるタングステン皮膜 金山信幸.堀江 譲.
4670のプラズマ浸炭田辺俊夫
下屋敷重広.山形保
クロムカ−バイト基ガス溶射皮膜の液体Ｎ
4671
男.伊藤守男.公文ａ中における自己融着機構
将人.福田祐治
森河 務.横井昌幸.
4672 クエン酸浴からの電気Ｎｉ−Ｐ合金めっき 城間成信.江口晴一
郎.香西英治ジピリジル添加浴における無電解銅の曲4673
老田昌弘.本城克彦
げ強度と色ＳＵＳ３１６鋼とテフロン球すきまのすきま 今井八郎.澤倉一
4674
腐食再不働態化電位
哉.増子 昇4675 巻頭言：研究と活性化
榎本英彦
電極溶液界面及び電解めっき過程のＳＴ 西谷龍介.粕谷厚4676
Ｍ観察生.仁科雄一郎
走査トンネル顕微鏡による無電解めっき薄 本間敬之.山崎琢
4677
膜析出過程のIn-Situ観察也.逢坂哲彌
4656

43

4

259 1992 3:解説

A06.泳動電着

電着塗料,自動車,環境保全

434267 1992 3:解説

A05.塗布･塗装

水系塗料,VOC,自動車用塗料,
ベースコート43

4273 1992 3:解説

A05.塗布･塗装

ハイソリッド塗料

434279 1992 3:解説

A05.塗布･塗装

VOC,粉体塗料

434285 1992 3:解説

43

4

299 1992 3:解説

VOC,自動車塗料処理
A05.塗料･塗布,A06.泳動電着

製缶用塗料,水系塗料,粉体塗料,
電着,ラミネート
公害対策,塗料ミスト、VOC

434306 1992 3:解説

A05.塗布･塗装

43

4

311 1992 3:解説

A05.塗布･塗装

434

319 1992 5:原著論文

434324 1992 5:原著論文

434

330 1992 5:原著論文

434335 1992 5:原著論文

434

340 1992 5:原著論文

434346 1992 13:研究ノート

434

349 1992 7.速報論文

434351 1992 7.速報論文

A02.溶射434353 1992 7.速報論文

B02.電気めっき･電鋳 Ni-P合金,電析,Ni-クエン酸浴

434355 1992 7.速報論文

B03.無電解めっき

前処理,塗装,耐食性,クロメート,シボロン化合物,鋼,プラズマ
B01.化学蒸着,B07.アノード酸化
CVD,BCl三-NH2ガス
B03.無電解めっき
Pt-Mo合金,電析,非晶質、DSC,ESCA
アノード酸化,αーSi:H,カレントイ
B01.化学蒸着,B07.アノード酸化
ンタラプター,容量,活性化エネル
超伝導、泳動電着法,ステンレス
A06.泳動電着
鋼
金メッキ,ピンホール,メッキ、応B02.電気めっき･電鋳力、ひずみ浸炭法,プラズマ溶射,タングステ
A02.溶射ン,表面硬化、WC
B02.電気めっき･電鋳

ガス溶射法,クロムカーバイト皮膜,自己融着435

388 1992 3:解説

4680 吸着物のＳＴＭ
関根 功.湯浅 真
ＱＣＭ法による有機及び無機電気活性薄
4681
直井勝彦
膜における物質移動の研究

435393 1992 3:解説

43

5

399 1992 3:解説

4682 センシング技術へのＳＡＷデバイスの応用 新井祐子

435404 1992 3:解説

4683 赤外分光法による電極表面のIn-Situ測定 大澤雅俊

435409 1992 3:解説

4684 ラマン分光法による電極表面反応の解析 佐々木芳朗
高感度反射赤外分光法による反応ガス存
近藤淳子.堂免一成
4685
在下での表面反応の観測

435414 1992 3:解説

曲げ強度,無電解銅めっき、ジビ
リジル、エチレンジアミンテトラ酢
ステンレス鋼，隙間腐食，再不動
B09.その他
体化電位，テフロン球
A10.その他
研究、活性化STM，in situ STM，電気めっB02.電気めっき･電鋳き，電析走査トンネル顕微鏡,in situ観察,B03.無電解めっき
無電解めっきSTM，AFM,Sｉ（１１１)A04.吸着,A10.その他 7*7,Si(001)-二*1、原子ステッ
プ、マイクロマイグレーション
STM，AFM,液晶、タンパク質、ス
A04.吸着,A10.その他
クリーニング効果
A04.吸着STM,吸着物,表面
QCM法,電解重合,ポリピロール、
B09.その他
ドーパント
弾性表面波デバイス(SAWデバイ
A10.その他ス)、センサー,周波数赤外分光法,電極表面現象、in
A04.吸着,B09.その他
situ測定A04.吸着,B09.その他 ラマン分光法,電極反応、SERS

435419 1992 3:解説

A04.吸着,B09.その他 赤外分光法,表面反応吸着分子434357 1992 7.速報論文

435371 1992 1:巻頭言43

5373 1992 3:解説

43

5

378 1992 3:解説

4678 半導体開発におけるＳＴＭ／ＡＦＭ

徳本洋志

43

5

383 1992 3:解説

4679 有機超薄膜のＳＴＭ／ＡＦＭ

原 正彦

4687 電極表面のエリプソメトリー

大塚俊明

43

5

429 1992 3:解説

4688 光音響分光法−固液界面への適用

吉原佐知雄

43

5

434 1992 3:解説

4689 電極表面の紫外可視反射分光法

相樂隆正

43

5

440 1992 3:解説

43

5

446 1992 3:解説

ｉｎ ｓｉｔｕエリプソメトリー、ＣＶＤプ
ロセス,薄膜
エリプリメトリー,電極、光学特
B02.電気めっき･電鋳,B07.アノード析出,B09.その他
性、表面皮膜光音響分光法,金属電極,半導体
B02.電気めっき･電鋳
電極、ｉｎ ｓｉｔｕ測定
紫外可視反射分光法,電位変調
紫外可視反射スペクトル(ＥＲス
A04.吸着ペクトル）、ＥＲボルタモグラム,電気化学的変調A04.吸着,B09.その他 電極,質量分析、ＤＥＭＳ

435451 1992 5:原著論文

B03.無電解めっき

ｉｎ ｓｉｔｕＸＲＤ,無電解銅析出,添
加剤効果、エアレーション効果

435457 1992 5:原著論文

A04.吸着in ｓｉｔｕ観察,ＩＲＲＡＳ,吸着、芳香族チオール,全電極

435462 1992 3:解説

B02.電気めっき･電鋳ミラージュ法,ＳＴＭ,銀,鉛、アン
ダーポテンシャル析出

435

467 1992 5:原著論文

435472 1992 5:原著論文

435478 1992 13:研究ノート

435481 1992 7.速報論文

4686 ＣＶＤプロセスのIn-Situエリプソメトリー

杉本克久

43

5

424 1992 3:解説

4690 電気化学質量分析法：ＤＥＭＳ法

延与三知夫
渡辺恭一.松田直In-SituＸＲＤ測定法によるＣｕの無電解析
4691
樹.仁科辰夫.末永
出過程の検討智一.内田 勇金電極上に吸着した芳香族チオールの高4692
佐々木健.石川達雄
感度反射吸収赤外分光法によるその場観吉原佐知雄.岡本三ミラージュ法及びＳＴＭによる銀上の鉛の4693
永子.遠藤浩二.佐ＵＰＤ現象のIn-Situ検出
藤栄一
ダイヤモンド成長過程を電気的にその場 広瀬洋一.亀田常4694
測定する方法男.飯嶋利彦.木村
4695

銀及び銅電極表面におけるメルカプトベン 大澤雅俊.松田直
ゾチアゾ−ルのIn-Situ吸着構造解析
樹.内田 勇銀めっきにおける微分容量の電析形態の 井上博之.山川宏
関係
二.近藤哲也.正木水晶マイクロバランス法による無電解銅 松岡政夫.村井淳
4697
めっきにおける局部反応の解析
一.岩倉千秋
界面活性剤をド−パントとした電解重合ポ 前田美知子.中村節
4698
リピロール膜のインピーダンス特性子
走査型振動電極法による亜鉛めっき電流 津留 豊.関谷雅紀.
4699
分布の測定
中村淳一.細川邦典
4700 巻頭言：新素材と希元素
野口駿雄
4701 自動車工業における表面処理技術の利用 新井 透
防錆鋼板−Ｚｎ−Ｆｅ合金めっき鋼板を中
4702
深田 新
心として
化成処理−耐スキャプ腐食性とリン酸塩
4703
河上 毅.金丸辰也
皮膜構造
4696

B01.化学蒸着

ダイヤモンド薄膜,ＣＶＤダイヤモ
ンド,ダイヤモンド成長,測定、燃メルカプトベンゾチアゾール,吸着
A04.吸着,B02.電気めっき･電鋳 構造,表面増強ラマン散乱,金属
めっき添加剤
銀メッキ、インヒビター,微分容量,
B02.電気めっき･電鋳
表面モルホロジー(表面形態）
無電解銅,アルカリ金属イオン,混B03.無電解めっき
成電位,分極曲線,ＱＣＭ法
電解重合、ポリピロール、イオン
B09.その他
移動，拡散、インピーダンススペ
電流分布，亜鉛めっき，参照電
B02.電気めっき･電鋳極，走査振動電極法
A10.その他
新素材、希元素
表面処理技術の利用、自動車工B01.化学蒸着

435483 1992 7.速報論文

435

485 1992 7.速報論文

43
43

6
6

507 1992 1:巻頭言
508 1992 2:総説

43

6516 1992 3:解説

A03.溶融めっき

耐食性,防錆鋼板

43

6

524 1992 3:解説

B08.化成処理

リン酸塩皮膜、リン酸塩処理、
フォスフォフィライト、スキップ腐- 13 -

A01.物理蒸着,A02溶射,A03溶融めっ き A, 05塗布･塗装,A06.泳動電着,A10.そ の他,B01.化学蒸着,B02.電気めっ き ･電鋳,B03.無電解めっ き B, 06.熱処理( 酸化･窒化･炭化) B, 07.ア ノード酸化,B08.化成処理,B09.そ の他,C04.

表面技術 1990〜1994

4704 車体防錆と塗装処理

久米政文

43

6

530 1992 3:解説

A05.塗布･塗装,A06.泳動電着,B08.化成処理

4705 自動車内装部品における表面技術

丸矢一夫

43

6

539 1992 3:解説

A05.塗布･塗装,A10.その他,

4706 機能部品の表面改質技術の現状

鮒谷清司

43

6

543 1992 3:解説

A02.溶射,A10.その他,B06.熱処理(酸化･窒化･炭化),B08.化成処理,B09.その他

4707 アルミニウムボデイの表面処理

松本 徹.西野俊哉

43

6

550 1992 3:解説

B08.化成処理

4708 自動車の塩害問題と防錆評価技術

竹内寿浩.渡邊弘
和.今中 正.白谷敏

436556 1992 3:解説

A02.溶射,A05.塗布･塗装,A06.泳動電着,A10.その他,

有機導電薄膜を用いたアルミニウム電解
工藤康夫
コンデンサ

43

6

562 1992 3:解説

B09.その他

シリーズ／表面物性評価技術−表面状態4710 の解析(２４)−走査電子顕微鏡の３次元表 大堀真敬
面形状測定器への応用

436567 1992 9:シリーズ-2

A10.その他

4711 ダイヤモンド膜合金の現況

436573 1992 12:武井記念シリーズ B01.化学蒸着

436579 1992 5:原著論文

436584 1992 5:原著論文

436589 1992 5:原著論文

436595 1992 5:原著論文

436

601 1992 5:原著論文

436607 1992 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳,B06.熱処理

Ｎｉ-Ａｌ合金、構造、硬度、複合物

436612 1992 13:研究ノート

B02.電気めっき･電鋳

ニッケル、磁場効果、初期電析、走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）

43

6

614 1992 7.速報論文

A10.その他,B02.電気めっき･電鋳

光熱分光法、熱波

436616 1992 7.速報論文

A01.物理吸着437623 1992 1:巻頭言A10.その他

437

624 1992 2:総説

A01.物理蒸着,A02.溶射,B01.化学蒸着

437630 1992 3:解説

A01物理蒸着

437635 1992 3:解説

A01.物理蒸着

437641 1992 3:解説

B01.化学蒸着

437650 1992 3:解説

A02溶射,

437

656 1992 3:解説

B03.無電解めっき

437667 1992 3:解説

B02.電気めっき

4709

瀬高信雄

ＴｉＮイオンプレーティング皮膜の配向性に 松竹寛康.馬場恒及ぼす基板の影響
明.羽板雅之反応性スパッタ蒸着による窒化チタン膜特 西村生哉.勇田敏
4713
性の窒素ガス分圧依存性夫.斎藤 剛千田厚生.高野良比
4714 無電解めっきによるアンチモン皮膜の形成
古.中川卓二ポイドフリー無電解銅めっきの前処理につ4715
藤波知之.本間英夫
いて交流界面インピーダンス法によるワット浴
周 延伶.市野良一.
4716 からのニッケルめっきに及ぼすかく拌と添興戸正純.沖 猛雄
加剤の影響に関する研究
複合電析膜加熱法によるＮｉ−Ａｌ合金膜の 伊崎昌伸.榎本英
4717
組織と硬度
彦.小見 崇.中山
竹林恭志.熊谷和
ニッケル初期電析に及ぼす磁場の影響；
4718
彦.吉原佐知雄.佐
走査型トンネル顕微鏡による観察
藤栄一.千葉 淳
高上僚一.古賀正太
4719 光熱硬化を用いた金属電析物の熱波像 郎.平田和洋.松永
守央.細川邦典
水素吸蔵合金を用いた水素透過膜電極
4720
釜崎清治.那須勇樹の試作と特性4721 巻頭言：３.５歳を迎える北海道支部
古市隆三郎
4712

4722 表面処理層の内部応力

田中啓介

イオンプレーティング法により形成された
4723
遠藤隆士
皮膜の内部応力スパッタリングにより形成された薄膜の内
4724
馬来国粥
部応力
4725 熱ＣＶＤ法により形成された硬質膜の内部 木幡 護
4726 溶射皮膜の内部応力

戸部省吾

4728 電気めっきにより形成された皮膜の内部
4729 塗膜の内部応力

佐藤忠明

43

7

671 1992 3:解説

A05.塗布･塗装

4730 公衆表示用電気泳動表示素子の開発

外山二郎

43

7

679 1992 3:解説

A06.泳動電着

437683 1992 3:解説

A10.その他

437

689 1992 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳,B09.その他

シリーズ／表面物性評価技術−表面状態4731 の解析(２５)−走査型電子顕微鏡によるシ 本間芳和
リコン表面の電子ステップ構造観察
牧野英司.矢崎 建.
レーザープレーティングによる金の微細パ
4732
石井 遊.柴田隆行.
ターンの形成池田正幸.天日勝也
無電解めっきによるインジウム皮膜の形 千田厚生.高野良比4733
成古.中川卓二アルミニウムめっき鋼板の耐食性・耐熱性
4734
影近 博.木部 洋
改善に及ぼすＴｉ中間層の効果
ｎ−ブチルベンゼン蒸気とクリプトンガス吸4735 着による多孔質アルミニウム陽極酸化皮 野中 昭
膜孔径の決定定電位電解法による硫酸塩浴からのＺｎ 田渕 誠.津留 豊.
4736−Ｃｏ合金電析
松永守央.細川邦典
4737

43

7

694 1992 5:原著論文

437700 1992 5:原著論文

437706 1992 5:原著論文

437712 1992 7.速報論文

プラス電荷を中和したアノード酸化アルミ
黒田孝一
ナメンブレンによるイオンの透過

437714 1992 7.速報論文

マイクロ波プラズマＣＶＤ法による遷移金
属基板へのダイヤモンド合成

437

716 1992 7.速報論文

437718 1992 7.速報論文

437

720 1992 7.速報論文

437722 1992 7.速報論文

高谷松文.金 曽孫.
鈴 裏司
入江晃士.小林美
アコースティックミッション法による無電解 紀.中澤育子.吉原
4739
佐知雄.斉藤哲男.
Ｎｉ−Ｂめっき皮膜の密着性の評価
佐藤栄一
電解析出法によるＡｌ・Ｙｂ混合酸化物皮膜 金野英隆.瀬川里
4740の形成
奈.佐伯 功.古市隆
グロー放電発光分光法による塗装鋼板表 松坂菊生.市島真4741
面の深さ方向元素迅速分析司.竹内 学.桝井正
4738

B03.無電解めっき

438733 1992 1:巻頭言4743 心臓代用弁材料の表面処理

勇田敏夫.菊田幸明

438734 1992 3:解説

4744 生体用金属材料の表面処理とその効果

塙 隆夫

43

8

739 1992 3:解説

43

8744 1992 3:解説

43

8

750 1992 3:解説

B02.電気めっき･電鋳,C03.化学エッチン グ･電解エッチン グ,A10.その他

A05.塗布･塗装,B02.電気めっき･電鋳,C01.機械研磨

山家智之.仁田新一

438755 1992 3:解説

4748 マイクバイオセンサ

末永智一

43

8

759 1992 3:解説

- 14 -

走査型電子顕微鏡、原子ステップ

無電解めっき、Ni−B、アコース
ティックエミッション、密着性

カソード析出、硝酸塩還元、酸化物被覆、活性元素、高温酸化
GDS、有機塗膜、亜鉛、プレー
A05.塗布･塗装
コート金属
日本経済､理工系大学､先の先をA10.その他
読む
心臓代用弁,パイロライトカーボ
C01.機械研磨,B01.化学蒸着,A01.物理蒸着
ン,生体適合性,生体適合材料
生体用金属材料,表面処理,生体適合性
表面改質,貴金属合金、歯科用
A10.その他
接着性レジン
炭酸ガスレーザー（CO2）,中空伝送路（中空動波路）,医療応用,
人工心臓,補助人工心臓,表面処理,血栓生成マイクロバイオセンサ,マイクロ電極,細胞内測定,マイクロマシン技
B02.電気めっき･電鋳,B09.その他

松本誠臣

4747 人工心臓の表面処理

水素透過電極、金属水素化物、
水素拡散
北海道支部､３．5歳､支部活動
内部応力,表面処理、X線回折,（表面）被覆イオンプレーティング、薄膜、内部応力
スパッタリング,内部応力,薄膜成
長
内部応力、硬質被覆、熱CVD
溶射皮膜、残留応力、X線回折、ラメラ構造､不均一ひずみ
内部応力、無電解めっき、ニッケ
ル、パラジウム,銅
内部応力、電気めっき
有機塗膜、内部応力,付着、熱収
縮力、ガラス転移温度
電気泳動表示素子、染料変色、パネル構造、非発光表示素子

レーザープレーティング,金,微細パターン,アルゴンイオンレー
ザー
無電解めっき、インジウム皮膜、
B03.無電解めっき
イリジウム合金皮膜、三塩化チタ
耐食性、高温酸化、アルミニウム
A01.物理蒸着
めっき銅版、チタン被覆、二層被アノード酸化アルミニウム、Ｋｒガ
A04.吸着,B07.アノード酸化 ス吸着、ｎ−ブチルベンゼン蒸気
吸着、傾斜法、表面細孔分析
Ｚｎ−Ｃｏ合金、定電位電解法、
B02.電気めっき
アノード溶解法、結晶構銅
多孔性アルミニウムメンブレン、
B07.アノード酸化イオン構造、電気透析、タンニン
酸、プラス電荷
ダイヤモンド合成、MWCVD、遷B01.化学蒸着
移金属基板

4742 巻頭言：先の先を広く読み取ろう

歯科用接着性レジンの貴金属合金の接着 大野弘機.松田浩
4745
を強固にするための金属表面改質法
一.日景 盛
医療分野に応用する炭酸ガスレーザー光
加藤祐次.宮城光信
4746
用細径伝送路の製作

3Ｄ表面粗さ、画像処理、ＳＥＭ,
測定

ダイヤモンド、ＣＶＤ,成長過程、
マイクロ波プラズマ
イオンプレーティング、ＴｉＮ皮膜、A01.物理吸着
配向性、ＸＰＳ,絶縁性基板
窒化チタン、ＴｉＮ,反応性スパッタ
A01.物理吸着
蒸着、微細(結晶）粒構造
無電解メｌッキ、アンチモン被膜、B03.無電解めっき
ＴｉＣｌ３
スルホール、無電解銅めっき、促
B03.無電解めっき
進（処理）、還元剤、ボイドフリー
界面ＡＣインピーダンス、モルホ
B02.電気めっき･電鋳 ロジー、添加剤、ニッケル電析，撹拌

岩松克茂.大塚邦顕.内藤 薫
金尾嘉徳

4727 無電解めっき皮膜の内部応力

自動車、防錆、電着塗装
自動車、内装（インテリア）、表面技術
自動車(機能)部品、表面改質、耐磨耗性、ハイブリッド処理
アルミニウム、表面処理、クロム酸クロメート(処理)、リン酸亜鉛
自動車腐食,防錆、プルービング
グランドテスト、融雪剤
アルミニウム電解コンデンサー、
ポリピロール、電気伝導性高分子(固体)電解質

A 01.物理蒸着,A 02.溶射,A 05.塗布･塗装,A 06.泳動電着,A 08.イオン注入,B 01.化学蒸着,B 02.電気めっき･電鋳,B 06.熱処理,B 07.ア ノード酸化,

A10.その他,B09.その他,C04.気相エッチング,C07.その他

表面技術 1990〜1994

4749 神経細胞の成長方向制御

川名明夫

43

8

764 1992 3:解説

A10.その他,,B06.熱処理,B07.アノード酸化,C07.その他

4750 歯科材料の表面とその評価

堀内 孝.橋本弘一

438769 1992 3:解説

A04.吸着,A05.塗布･塗装,B02.電気めっき,B06.熱処理,B08.化成処理,C01.機械研磨

4751 放射光による材料の評価分析技術

飯田厚夫

43

8

774 1992 3:解説

43

8779 1992 6:技術論文

細胞培養,成長方向制御,神経回
歯科材料,メタルボンドホーセレ
ン,表面処理,結合機構,接着機構
シンクロトロン放射,材料評価分
A10.その他
析,X線分析,X線分光,X線回折
Zアイアン,Zn-Fe系合金,熱処理,
C01.機械研磨,C07.その他
付着量

Ｚｎ−Ｆｅ系合金の投射によるメカニカルプ 逢坂智博.長野泰4752
レーティング久.渡辺正次中野信夫.石地 徹.
フッ化水素ガスセンサ用Ｐｔ−Ｏ薄膜電極4753
岡本昭夫.鈴木義の作製
彦.小川倉一ｱﾌﾞﾗｲﾃｨ・ｱﾌﾞﾘﾐﾃｨ.
4754 回転円筒電極による銅めっきの研究
松永守央.津留 豊.
細川邦典
アルミニウムのアノード酸化によるコバル 三田郁夫.小玉英4755
トブル−皮膜俊.山崎 猛陽極酸化多孔質アルミナを母型とする高 益田秀樹.西尾和4756
分子多孔性薄膜の作成
之.馬場宣良4757 巻頭言：公設試(Kohsetushi)の役割
久米道之

43

8

785 1992 5:原著論文

A01.物理蒸着

Pt-O薄膜,反応性スパッタ法,HF
ガスセンサー438

789 1992 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳銅電析,回転円筒電極,撹拌,モル
ホロジー,優先配向

438794 1992 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳,B07.アノード酸化

アルミニウム,アノード酸化,電析
コバルトブルー皮膜

438798 1992 7.速報論文

A05.塗布･塗装,B04.アノード析出

43

9805 1992 1:巻頭言A10.その他

4758 Ｂｉ系酸化物高温伝導材料

前田 弘

43

9

806 1992 3:解説

A01.物理蒸着,A02.溶射,A05.塗布･塗装,B01.化学蒸着,B05.熱分解･ｿﾞﾙｰｹﾞﾙ法,B06.熱処理,

4759 斜め蒸着媒体
篠原紘一
4760 ＳＴＭによる微小腐食量の定量化
升田博之
4761 シリコン気相成長に関するコンピュ−タ解 高田俊和

43
43
43

9
9
9

43

9

43

9

43

9

43

9

844 1992 5:原著論文

B08.化成処理

43

9852 1992 5:原著論文

A01.物理蒸着,A10.その他

439857 1992 5:原著論文

B03.無電解めっき

4762

投射メカニカルプレーティングの鉄核を有 逢坂智博.長野泰
する鉄−亜鉛系投射材料の寿命
久.渡辺正次4763 無電解ＮｉＣｒ合金めっき浴の検討

中山郁雄.府川 真.
本間敬之.逢坂哲彌

化学蒸着法によって形成したガスタービン4764
児島慶享.山口 静
翼用高温耐食性ＮｉＡｌコーティング
寺島慶一.西山文
金属クロムにイオン注入しされた窒素の深4765
隆.坂本浩基.広川
さ分布に及ぼす熱処理の影響
健.木曽義之.松坂
反応性イオンプレーティングによるＴｉ(Ｃ.Ｎ) 桑野三郎.真野 毅.
4766
複合皮膜の形成について
沖 猛雄
青木公二.福田元
4767 無電解Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ合金めっきの防食特性
保.鷹野 修電析法によるＮｉ−Ｃｏ−Ｂ非晶質合金の 小野田元伸.清水一
4768
作成及び物性夫.土屋武司.渡辺
金めっき膜にタイする素地ニッケル結晶面4769
平井和政.不破章雄の影響
日野 実.平松賢吾.
硫酸浴からのＺｎ−Ｃｏ合金めっきの組成
4770
西田典秀.平松 実.
と耐食性
川崎仁士
エチレンジアミン浴からのパラジウム−
松永守央.原利久.ｱ
4771 ニッケル合金めっきに関する研究(１)−定 ﾌﾞﾗｲﾃｨ.津留 豊.細川邦典
電位電解法による研究
4772 巻頭言：研究できる環境を近江俊樹
小特集／海洋構造物と表面技術 に寄
4773
伊藤 叡
せて
チタンクラッド鋼による海洋構造物の防食 田所 裕.本間宏二.
4774
長谷泰治
技術
4775 海洋構造物の防食ライニングの現状
若松富夫

公設試、役割
酸化物高温超伝導体,Ｂｉ-Ｓｒ-Ｃａ-Ｃｕ-Ｏ,高Ｔｃ
813 1992 3:解説
A01.物理蒸着
ＭＥテープ,ＥＢ析出，磁気記録
818 1992 11:アカデミック研究会シリーズ B02.電気めっき･電鋳,B09.その他 ＳＴＭ，腐食，電析，鋼823 1992 11:アカデミック研究会シリーズ A01.物理蒸着,A04.吸着 Ｓｉ結晶成長，分子軌道計算
Ｚアイアン、ローター方式実投射829 1992 6:技術論文
A10.その他機、メカニカルプレーティング，熱処理粉体，寿命
無電解めっき，Ｎｉ-Ｃｒ合金，Ｃｒ錯
835 1992 6:技術論文
B03.無電解めっき
体,比抵抗
ＮｉＡｌコーティング,高温耐食性,化839 1992 5:原著論文
B01.化学蒸着
学蒸着,ガスタービン
ＭｅＶ,イオン注入,Ｃｒ,,熱処理,深さ
分布
Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）、イオンプレーティン
グ，固溶体皮膜
無電解めっき、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ合
金，防食

43

9

862 1992 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Ｎｉ−Ｃｏ−Ｂ合金，電析,非晶質

439868 1992 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳

金めっき,素地ニッケル,成長面，
配向率

43

9

873 1992 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳Ｚｎ-Ｃｏ合金電析，耐食性，硫酸
溶液

43

9

878 1992 5:原著論文

4310899 1992 1:巻頭言

43

10

900 1992 1:巻頭言

43

10

901 1992 3:解説

43

10

907 1992 3:解説

パラジウムーニッケル合金、定電
B02.電気めっき･電鋳 位電析、エチレンジアミン，水素発生
A10.その他
海洋構造物、表面技術
小特集によせて、海洋構造物、
A05.塗布･塗装,A07.ライニング,A10.その他
表面技術
チタン、チタンクラッド鋼,飛沫部、
A05.塗布･塗装,A10.その他,B09.その他,C07.その他
メンテナンスフリー、景観
A07.ライニング
ライニング，鋼構造物，重防食，
塗装鋼板、溶融アルミニウムめっ
A03.溶融めっき,A05.塗布･塗装
き鋼板
重防食塗装、耐候性塗装、飛沫
A05.塗布･塗装,
帯、長橋梁
ステンレス鋼、電解処理、重クロ
B08.化成処理,B09その他
ム酸（塩）溶液、耐食性、海水
酸性雨、反応過程、長距離輸
C07.その他
送、モニタリングネットワーク、影塩化第二鉄、エッチング、スプC03.化学エッチング･電解エッチング
レー、物質移動、速度論

4776 塗装鋼板

福本博光

43

10

913 1992 3:解説

4777 海洋構造物の防食システム

藤田正敏

43

10

921 1992 3:解説

ステンレス鋼の海洋構造物に対する重ク4778
ロム酸塩系電解処理の適用

金子 智.佐藤義和

4310929 1992 3:解説

4779 酸性雨の生成.影響.監視及び対策

溝口次夫

43

10

937 1992 3:解説

43

10

946 1992 5:原著論文

4310952 1992 5:原著論文

A10.その他,B02.電気めっき･電鋳CO2レーザ、合金化、めっき、Zn
−Nｉ拡散

43

10

957 1992 5:原著論文

B01.化学蒸着

硬質膜、プラズマCVD,透明樹
脂、シリカ膜4310962 1992 5:原著論文

A02.溶射プラズマ溶射、耐食性、Al２O3−
TｉＯ2、Ｎｉ−Ｃｒ合金、ＰＴＦＥ樹脂

4310967 1992 5:原著論文

4310973 1992 5:原著論文

4310

978 1992 5:原著論文

4310983 1992 5:原著論文

4310987 1992 13:研究ノート

4310990 1992 7.速報論文

4310992 1992 7.速報論文
999 1992 1:巻頭言

塩化第二鉄溶液のスプレーエッチング速
4780
度の解析

上田龍二.朝倉祝治.田野崎芳夫.杉日野 実.西田典秀.
Ｚｎ／Ｎｉ二層めっき皮膜の表層合金化に
4781
平松 実.米田理史.
及ぼすＣＯ2レーザー処理の影響
勝村宗英
透明樹脂基板上へ形成したシリカ膜の密 篠田真人.西出利
4782
着性一.志智雄之.有田
食塩水中のＡｌ合金の耐食性に及ぼすフッ池田正樹.早川 林.
4783 素樹脂アンダ−コート材のＡｌ2Ｏ３−ＴｉＯ2
西野 敦
及びＮｉ−Ｃｒプラズマ溶射層の効果
無電解めっきによるカドミウムｄ皮膜の形 千田厚生.高野良比4784
成古.中川卓二電解併用無電解銅めっきの電流波形と均 本間英夫.加賀谷康
4785
一析出性
永
水本省三.縄舟秀
エチレンジアミン錯体浴からの銅電析及び4786
美.廣尾敬雄.張 蘊
皮膜特性
珊.芳賀正記銅(II)−ＥＤＴＡ溶液からの銅電析に及ぼす 呉 文昌.千葉 淳.
4787
静水圧の影響
中西和美
松永守央.原 利久.
エチレンジアミン浴からのパラジウム−
4788 ニッケル合金めっきに関する研究(２)−定 ｱﾌﾞﾗｲﾃｨ.津留 豊.
電流パルス電解法による研究
細川邦典
福島 誠.高沢貴久
4789 ＴｉＮ被覆ステンレス鋼の耐食性
男.岡田英敏.今井
アルミニウムの多孔質型／バリヤー型複4790
小野幸子.増子 昇合アノード酸化皮膜の超薄切片観察
巻頭言：表面技術とコンピュ−タシミュレー
4791
小浦延幸
ション

無電解めっき、カドミウム皮膜、
硫化カドミウム皮膜、三塩化チタ
無電解銅めっき、均一析出性、Ｐ
B02.電気めっき･電鋳,B03.無電解めっき
Ｒ電流
銅電析、エチレンジアミン錯体
B02.電気めっき･電鋳 浴、Ｚn−ホールめっき力、機械的性質、結晶構造
超音波、キャビテーション、静水
B02.電気めっき･電鋳
圧、電析B03.無電解めっき

B02.電気めっき･電鋳ARE法、ステンレス鋼、TiN、窒素
ガス流、耐食性
アルミニウム、アノード酸化皮
B07.アノード酸化膜、電解コンデンサー、TEM
表面技術、コンピューターシミュ
A10.その他,B02.電気めっき･電鋳
レーション、ＳＴＭ、ｉｎ ｓｉｔｕ観察
環境、マテリアルベースストラク
A05.塗布･塗装,A10.その他,C07.その他
チュア、マテリアルテクスチュア
建材、テクノロジーアート、干渉色、チタン、装飾表面処理
ステンレス鋼、表面処理、建材、腐食
チタン、建材、表面処理、アノード
酸化A01.物理蒸着

43114792 建物を演出する金属材料

樫野紀元

43

11 1000 1992 2:総説

4793 金属建材とアート

黒田孝一

43

11 1004 1992 2:総説

4794 ステンレス鋼建材とその表面処理

中田潮雄

43

11 1009 1992 3:解説

A01.物理蒸着,A05.熱分解,B01.化学蒸着,C01.機械研磨･研削,C02.化学研磨･電解研磨

4795 チタン建材とその表面処理

佐藤廣士

43

11 1014 1992 3:解説

A0 1 . 物理蒸着, A0 8 . イオン 注入, B0 1 . 化学蒸着, B0 6 . 熱処理(酸化･窒化･炭化), B0 7 . ア ノード酸化, B0 8 . 化成処理, C0 1 . 機械研磨･研削, C0 2 . 化学研磨･電解研磨, C0 3 . 化学エ ッチン グ･電解エ ッチン グ- 15 -

パラジウムーニッケル合金、定電
流パルス電析、エチレンジアミン

B02.電気めっき･電鋳,B07.アノード酸化,B08.化成処理,B09.その他

表面技術 1990〜1994

4796 アルミニウム建材の装飾的表面処理

山口 裕

4797 木目アルミニウム建材
川端 清4798 人工緑青銅板
玉野井英雄.杉山シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
4799 の解析(２６)−多重内部反射赤外吸収法 長沢佳克
(ＭＩＲ)によるシリコン表面の分析
高周波マグネトロンスパッタリング法を用4800
兼松秀行.沖 猛雄
いたＦｅ基板上への純Ｚｎ皮膜の結晶成長
高濃度シアン化銀浴からの厚付け銀めっ4801
齋藤明夫.右田泰治
き酢酸エステル／硫酸亜鉛水溶液界面に電 阪原 久.金児紘征.
4802
析した亜鉛葉の形態
泰松 斉
上田龍二.朝倉祝
塩化第二鉄溶液によるスプレーエッチング
4803
治.丁 志強.田野崎の電気化学的計測
芳夫.杉浦猛雄
吉原佐知雄.武田香
アルミニウムの電解エッチング過程の光音 里.佐藤栄一.米盛
4804
隆一.内山郁夫.佐響的手法による検討
伯俊一
4805

アルミニウムのアルカリ性浴陽極酸化にお吉村長蔵.吉田 正
ける塩素ならびに塩素酸イオンの影響

ＲＦスパッタリング法によるＴｉ−Ｎｉ水素吸
釜崎清治.岡島健一
蔵合金膜の作成
水素チャ−ジしたニッケル及び銅のはんだ
4807
新井 進
付け性
海外からのたより−アルゴンヌ国立研究
4808
高橋節子
所に派遣されて
4806

4809 巻頭言：表面改質とイオン

沖 猛雄

特集 イオンビームによる表面改質とパッ
4810
沖 猛雄
シベーション に寄せて
4811 表面改質と表面特性
本間禎一

43

11 1020 1992 3:解説

43
43

11 1031 1992 3:解説
11 1035 1992 3:解説

43

11 1040 1992 9:シリーズ-2

43

11 1047 1992 5:原著論文

43

11 1053 1992 5:原著論文

43

11 1059 1992 5:原著論文

43

11 1065 1992 5:原著論文

43

11 1070 1992 5:原著論文

43

11 1073 1992 5:原著論文

43

11 1077 1992 7.速報論文

43

11 1079 1992 7.速報論文

43

11 1081 1992 22:技術資料

43

12 1089 1992 1:巻頭言

43

12 1090 1992 22:技術資料

43

12 1091 1992 3:解説

4812 表面改質とイオンビーム技術

岩木正哉

43

12 1097 1992 3:解説

4813 金属窒化物層の組成及び耐食性

寺島慶一.松坂菊生

43

12 1103 1992 3:解説

43

12 1109 1992 3:解説

43

12 1114 1992 3:解説

43

12 1119 1992 3:解説

43

12 1126 1992 3:解説

杉山賢司.佐々木
金属イオン注入による鉄鋼材料の表面改
4814
純.林 和範.古市修
質
身.荒木 純.札軒富
イオン注入した金属表層の電気化学的性
4815
高橋勝緒
質−サイクリックボルタンレトリーによるそ4816

イオンビームスパッタ法薄膜によるパッシ
上條栄治
ベーション

ダナミックミキシングによる耐熱性傾斜組
児島慶享
成コーティング
イオン注入とイオンビームミキシングによ
4818
平野元久
る摩擦特性の改善
チタンの分極挙動に及ぼすＴａ.Ｎｉ複合イオ 杉崎康昭.安永龍
4819
ン注入の影響
弘.佐藤廣士鉄表層の電気化学的性質に及ぼすＯ注入 藤花隆宣.岡部芳4820
効果
雄.高橋勝緒.岩木Ａｌイオン注入したＮｉ基合金の高温酸化特 三尾 淳.棚木敏幸.
4821
性
岩木正哉
戴 義生.川口年安.
酸素イオン注入による重金属フッ化物ガラ
4822
鈴木巧一.鈴木すす
ス耐水性の改善む.山本 清寺島慶一.関根一
IVａ及びVａ族遷移金属の水素吸収に及ぼ
4823
夫.鈴木博則.峰岸
す窒素イオン注入の影響
知弘.松坂菊生
窒化チタン／窒化クロム多層膜の形成と 大谷三郎.高木俊4824
その耐孔食性宣.柳 千裕Ｔｉ蒸着膜に対するＡｒ+イオンビームアシス 鷹野一朗.松井和4825
ト効果
明.礒部昭二.野村
イオンビームスパッタ法で作成したアモル
黒澤 進.飛田修司.
4826 ファスＮｉ−Ｔａ−Ｐｔ膜の低濃度塩水電解で林 常昭の電極特性と膜質へのイオン照射効果
千田中哉.藤沼明
イオンビームミキシングによる歯科インプ子.松浦正道.石川4827 ラント用Ｔｉ−Ｎｉ形状記憶合金へのＴｉパッシ
仁.吉成正雄.住井
ベーション膜の作製
俊夫.井上 孝.下野
伊藤由彦.伊藤明
4828 イオン注入によるＡｌ合金の耐摩耗性改善
生.東 博純.日置辰
イオン注入したＡｌＮセラミックスの摺動摩 中島昌一.小室勝
4829
擦特性
博.近藤充夫Ｎイオン注入による切削工具材料の表層
4830
金沢憲一
改質
Ｈｅイオンビーム加工による表面粗さの改
4831
井上徳之.志真俊夫
善
西山文隆.吉田 智.
Ｃｒ板へのＭｅＶ窒素イオン多重注入(１)−坂本浩基.広川 健.
4832 改質層の結晶性に対する注入基板温度
木曽義之.寺島慶の影響
一.松坂菊生
西山文隆.吉田 智.
Ｃｒ板へのＭｅＶ窒素イオン多重注入(２)− 坂本浩基.広川 健.
4833
木曽義之.寺島慶
Ｎ濃度プロフィルに対する熱処理効果
一.松坂菊生ＩＢＥＤ法によるC−ＢＮ膜形成におけるＡｒ 田辺信夫.飯島康4834
イオンボンバードメントの効果
裕.高山輝之.岩木宮川草児.池山雅
窒素イオン注入によるＺｒＮ層の形成と熱 美.斎藤和雄.中尾
4835
節男.丹羽博昭.種処理効果
村誠太.宮川圭子
4817

A0 2 .溶射,A0 5 .塗布･塗装,B0 7 .アノード酸化,B0 8 .化成処理,C0 1 .機械研磨･研削,C0 3 .化学エッチング･電解エッチング

A 05.塗布･塗装,B 02.電気めっき･電鋳,B 07.ア ノード酸化,B 09.その他,C01.機械研磨･研削,C03.化学エ ッチ ング･電解エ ッチング,C06.洗浄

A02.溶射,A05.塗布･塗装,B02.電気めっき･電鋳,B06.熱処理(酸化･窒化･炭化),B08.化成処理,C01.機械研磨･研削

A10.その他

アルニミウム、アノード酸化、前処理、アノード酸化皮膜着色､立体的処理､局部的二重エッチング
アルミニウム、アノード酸化、建自然・人工緑青､色調制御､結晶
MIR,ATR,シリコン､シリコンの酸化物

スッパタリング､亜鉛皮膜､結晶配
向性、モルホロジー､吸着抑制
炭酸カリウム、厚付け銀めっき、B02.電気めっき･電鋳
シアン浴、配向性、水素化カリウ
金属葉、電析、界面成長、亜鉛､B02.電気めっき･電鋳
薄膜
塩化第二鉄、エッチング、スプC03.化学エッチング･電解エッチング レー、限界電流､電気化学的測定A01.物理蒸着

C03.化学エッチング･電解エッチング

アルミニウム､ＤＣ,光音響

アリカリ性浴アノード酸化、塩素
イオン､塩素酸イオン、アノード酸
化コーティング
ＲＦスパッタリング法、水素吸蔵
A01.物理蒸着
膜、Ｔｉ−Ｎｉ合金
電解水素チャージ、はんだ付性、
B09.その他
メニスコグラフ、ニッケル、銅コラム、海外からのたより、アルA10.その他
ゴンヌ国立研究所
イオンビーム、表面改質、パッシ
A10.その他,B09.その他
ベーション
特集によせて、イオンビーム、表A01.物理蒸着,A08.イオン注入,A10.その他
面改質、パッシベーション
表面改質、表面特性、ドライプロ
表面改質、表面処理、イオンビー
A01.物理蒸着,A08.イオン注入,A10.その他
ム、イオン注入、ミキシング
窒素イオン注入、鋼、金属窒化
A08.イオン注入
物、耐食性、ブリスター
B07.アノード酸化

A01.物理蒸着,A08.イオン注入,A10.その他,C01.機械研磨･研削,C02.化学研磨･電解研磨,C06.洗浄

A08.イオン注入

金属イオン注入、摩擦と摩耗、防食

イオン注入金属、電気化学的性
質、サイックリックボルタンメト
デュアルイオンビームスッパタリ
A01.物理蒸着,A08.イオン注入,A10.その他 ング、イオンビーム促進蒸着法、薄膜、表面改質
ダイナッミクイオンミキシング、傾A01.物理蒸着,A08.イオン注入,A10.その他
斜機能材、耐熱性コーティング
イオン注入、イオンビームミキシ
A01.物理蒸着,A08.イオン注入,A10.その他
ング、トライポロジー
イオン注入、Ｔａイオン、Ｎｉイオ
A08.イオン注入
ン、チタン、分極挙動
鉄表層、酸素イオン注入、電気
A08.イオン注入
化学的特性、微視的特徴
アルミニウム、イオン注入、Ｎｉ基
A08.イオン注入
合金、熱的酸化
A08.イオン注入43

12 1132 1992 3:解説

43

12 1139 1992 5:原著論文

43

12 1146 1992 5:原著論文

43

12 1151 1992 5:原著論文

43

12 1155 1992 5:原著論文

A08.イオン注入

フッ化物ガラス、耐水性、イオン注入

43

12 1159 1992 5:原著論文

A08.イオン注入,B09.拡散皮膜

イオン注入、遷移金属、水素吸
収、陰極水素チャージ、ＧＤＳ

43

12 1168 1992 5:原著論文

A01.物理蒸着,A08.イオン注入,A10.その他

43

12 1172 1992 5:原著論文

43

12 1178 1992 5:原著論文

43

12 1184 1992 5:原著論文

4343

窒素イオン、多層、イオンビーム
ミキシング、孔食、ステンレス鋼
イオンビーム、アシスト蒸着、付A01.物理蒸着,A08.イオン注入,A10.その他
着、Ｔｉ膜、ＡＣインピーダンス
イオンビームスパッタ法、イオン
A01.物理蒸着,A08.イオン注入,A10.その他 照射、イオン注入､非晶質Ｎｉ−Ｔ
ａ−Ｐｔ合金､薄膜
A01.物理蒸着,A08.イオン注入,A10.その他

歯科インプラント、イオン注入、Ti−Ni合金、パッシベーション膜

12 1190 1992 5:原著論文

A08.イオン注入

イオン注入、Al合金、硬さ、摩耗

12 1194 1992 5:原著論文

A01.物理蒸着,A08.イオン注入,A10.その他

43

12 1199 1992 5:原著論文

A08.イオン注入

43

12 1205 1992 5:原著論文

A10.その他

43

12 1209 1992 5:原著論文

A08.イオン注入

MeVイオン注入、基板温度、深さ
方向分析、ＲＤＳ

43

12 1216 1992 5:原著論文

A08.イオン注入

MeVイオン注入、クロム板熱処
理、深さ方向分析、ＲＢＳ

43

12 1223 1992 5:原著論文

A01.物理蒸着,A10.その他

Ｃ−ＢＮ，薄膜、イオンビーム、析
出ボンバードメント

43

12 1230 1992 5:原著論文

A08.イオン注入

窒素イオン注入、ＺｒＮ，共鳴核反応法、微小硬度- 16 -

ＡｌＮ，イオンビームスパッタリン
グ、イオン注入、摩耗Nイオン注入、切削工具、高速度
鋼、工具摩耗､超微小硬度計
イオンビーム加工､表面粗さ､ブロックゲ−ジ、Heイオン、表面処表面技術 1990〜1994

窒素イオン注入による固体表面の濡れ性 上出雅男.樋下田和の制御也
木内正人.茶谷原昭
義.堀野裕治.木野
窒化チタンイオン薄膜の耐エロージョン特4837
村淳.杢野由明.藤性井兼栄.長坂浩志.
土屋直樹.南 吉夫
三浦 毅.入江和隆.
デュアルイオンビームミキシング装置の開4838
湊喜久雄.越智尚発それを用いての炭素膜の作製
宏.山本普一4836

43

12 1235 1992 13:研究ノート

A08.イオン注入

窒素イオン、濡れ性、接触角4312 1237 1992 7.速報論文

A01.物理蒸着,A10.その他 プレーティング、ダイナッミクイオ

エロージョン、窒化チタン、イオン
ンビームミキシング
ダイナッミクイオンミキシング、
デュアルイオンビームミキシング
装置、ダイヤモンド様カーボン、
イオンビーム、イオンビーム応用
A01.物理蒸着,A08.イオン注入,A10.その他 技術、イオン注入、イオンビーム
ミキシング、特許

4312 1239 1992 7.速報論文

黒澤 進.寺門一佳.
松坂菊生

43

12 1241 1992 9:シリーズ-2

4840 巻頭言：1993年を迎えて塗装性からみたアルミニウムの表面と界4841
面
電気めっきの歴史一19世紀におけるイン
4842
ターナショナルな展開の例
Ｎｉ−ＴｉＯ2分散めっき皮膜の光電気化学
4843
的挙動

里見 豊

44

1

1 1993 1:巻頭言

前田重義

44

1

2 1993 3:解説

B08.

アルミニウム、表面、界面、塗装、化成処理44

1

7 1993 9:シリーズ-2

B02.

電気めっきの歴史、電鋳441

13 1993 5:原著論文

B02.

4844 チタンの高周波プラズマ窒化

前川英明.明石和夫

441

17 1993 5:原著論文

A10.

児嶋佳世子.斉藤いほえ.古澤寛子

441

22 1993 5:原著論文

B02.

44

1

28 1993 5:原著論文

A10.

44

1

33 1993 5:原著論文

A03.

44

1

39 1993 5:原著論文

B02.

44

1

44 1993 5:原著論文

B02.

44

1

50 1993 5:原著論文

B02.

44

1

55 1993 5:原著論文

B02.

44

1

60 1993 4:技術解説

B03.

44

1

65 1993 5:原著論文

B02.

ニッケル、磁場効果、初期電析、
光音響分光法441

67 1993 7.速報論文

B02.

Zr-Co電析、腐食抵抗、SO2ガス
テスト

44

1

69 1993 7.速報論文

B03.

樹脂粉末、金属被覆、前処理、
高速気流中衝撃

44
44

2
2

77 1993 1:巻頭言
78 1993 *

*

*

44

2

79 1993 3:解説

C06.

評価方法、洗浄力

442

85 1993 3:解説

C06.

92 1993 3:解説

C06.
C06.

4839

4845

特許情報よりみたイオンビーム応用に関する技術動向等速電気泳動法によるシアン化物めっき液の分析

Prof.Dr.Ch.J.RAUB(訳)村槇利弘
高橋忠昭.阿部一浩.吉原佐知雄.佐倉内利春.稲川幸之助
魏 大維.市野良一.
興戸正純.沖 猛雄
津留 豊.高松亮太.
細川邦典
伊崎昌伸.片山順
Ｎｉ−16mol％Ａｌ複合電析膜の組織に及ぼ4849
一.榎本英彦.小見
す加熱の影響崇.中山 豊4846 活性化反応性蒸発によるＺｒＣ膜の形成

溶融塩中のパルス法によるチタン薄膜の4847
電析とその特性
ワット浴からのニッケルめっきに及ぼすホ
4848
ウ酸の影響

4850

過剰電流密度で形成したニッケルめっきのはんだ付け性新井 進.竹本 正.
水谷正海.征矢 隆

井上博之.山川宏
二.正木征史本間英夫.高井英4852 無電解はんだめっきの皮膜特性
次.小林 健竹林恭志.熊谷和
ニッケル初期電析に及ぼす磁場の影響−
4853
彦.吉原佐知雄.佐光音響的手法による観察
藤栄一.千葉 淳
日野 実.平松賢吾.
Ｚｎ−Ｃｏ合金めっき皮膜の耐亜硫酸ガス
4854
平松 実.川崎仁士.
腐食特性
小谷 勇
樹脂粉体の金属披覆における高速気流中4855
中山鶴雄.山崎典宗
衝撃処理の効果
4856 巻頭言：貸借対照表を勉強中
佐藤敏彦
4857 小特集／環境保全と洗浄技術 に寄せて 佐藤敏彦
代替洗浄技術の評価項目と評価方法の
4858
松井茂雄
標準化
フロン・トリクロロエタン代替洗浄剤−新ナ
4859
鳥居迪明
フテン系炭化水素溶剤を中心に
4851 ヨウ化カリウム浴からの銀の電析機構

A01.物理蒸着,A08.イオン注入,A10.その他

4860 水を利用した超音波洗浄機

柴野佳英

44

2

アルカリを使用した洗浄技術一フロン・エ
4861
タン代替水系洗浄剤について
4862 代替フロンを使用した洗浄技術

河野武司

44

2

98 1993 3:解説

山辺正顕

44

2

102 1993 3:解説

C06.

4863 プリント配線板の無洗浄技術

山口政義

44

2

108 1993 3:解説

C06.

44

2

115 1993 3:解説

A03.

44

2

120 1993 9:シリーズ-2

44

2

125 1993 5:原著論文

A08.

44

2

131 1993 5:原著論文

A01.

44

2

136 1993 5:原著論文

A10.

4864 二層合金化溶融亜鉛めっき鋼板の開発 金丸辰也
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態4865 の解析(２７)−電子励起脱離法による固体 上田一之
表面の動的観察熊谷正夫.齋藤英
Ｎｉ.Ｃｕ基板に対するＣのＭｅＶ注入による 純.佐藤 学.樋下田4866
和也.本並義弘.吉表面硬化のメカニズム
田云一.佐藤 守
ＰＶＤ法によるＡｌ薄膜の結晶配向性とモル 長谷川恭孝.李 明
4867
フォロジー
勲.興戸正純.沖 猛
高谷松文.鈴裏 司.
4868 Ｐｂ−Ｓｎ−Ｃｕスバッタ膜の摩擦・摩耗
大川広衛
無電解Ｎｉ−Ｐ−ＰＴＦＥ複合めっき皮膜の 西羅正芳.山岸憲
4869
摩擦摩耗特性史.鷹野 修千田厚生.高野良比4870 無電解めっきによるビスマス皮膜の形成
古.中川卓二反復高電流瞬間通電によるアルミニウム
4871
吉村長蔵.覚野博司の酸性陽極酸化
有機アルカリ性浴(ヒドラジン−フッ化物基
野口駿雄.吉村長
4872 液)中でのアルミニウムの陽極酸化におけ蔵.谷川精志る有機酸塩添加の効果
クロムめっき初期の残留ひずみに及ぼす 津留 豊.河野 誠.
4873
下地金属の影響細川邦典
1.1.1−トリクロロエタンによるアルミニウム
安川三郎.安田守
4874 の溶解反応に対する有機試薬の阻害機
宏.渡部清一構
ホスホン酸系溶液中におけるＣｕの孔食に 山田 豊.世利修美.
4875
及ぼすｐＨの影響
田頭孝介.永田公二
吉村昭三.尾崎治
熱拡散法により作製したスズ−ニッケル合4876
一.縄舟秀美.水本
金皮膜の耐食性
省三.園田 司ニッケル−ダイヤモンド複合めっき皮膜の 高橋忠昭.蓬田秀
4877 腐食に伴うカラー変化−光音響的手法に 幸.吉村俊一.吉原よる評価
佐知雄.佐藤栄一4878 巻頭言：泥臭さとスマートさ
渋谷敦義

分散めっき膜、ニッケル、二酸化チタン、光電気化学
プラズマ窒化、チタン、表面硬化、熱窒化、バイアス電位
等速電気泳動法、金属シアン化物イオン、金めっき液、銀めっき液、銅めっき液
ZrC膜、カーバイドエミッター、活性化反応性蒸着
チタン薄膜、電析、溶融塩、パル
ス法、配向性、モルフォロジー
ホウ酸、ニッケル析出、ワット浴、
pH緩衝、生成膜抵抗
Ni-Al複合膜、加熱、相構造、
Ni3Al
はんだ付性、メニスコグラフ、ニッ
ケル電析、過剰電流密度、ニッケ
ル中の水素含有率
銀めっき、銀ーヨウ化カリウム
浴、HBPSA、回ディスク電極、非無電解はんだめっき､置換めっき､はんだ付性

新ナフテン系金属洗浄剤、プラス
チック、ブランケットロール、半導CFCｓ、エタン代替、超音波洗浄、キャピテーション、水
水系洗浄剤、アルカリ洗浄剤、環境安全性、操業安全性
CFC代替、HCFC,洗浄剤
無洗浄、フラックス残さ、清浄度、信頼性、PWB
電子励起脱離法、ESD,シリコン、
水素終端、水素吸着、マイクロチャンネルプレート、MCP,飛行時
MeVイオン注入、硬度、固溶度、
表面改質
PVD,アルミニウム膜、配向性、モルフォロジー、吸着インヒビション
スパッタリング、Pb-Sn-Cu合金、磨耗、摩擦係数442

140 1993 5:原著論文

B03.

44

2

145 1993 5:原著論文

B03.

44

2

151 1993 5:原著論文

B07.

44

2

156 1993 5:原著論文

B07.

44

2

161 1993 5:原著論文

B02.

44

2

167 1993 5:原著論文

C03.

44

2

172 1993 5:原著論文

B09.

44

2

176 1993 5:原著論文

A09.

スズーニッケル合金、腐食抵抗、
熱拡散処理

44

2

179 1993 7.速報論文

B02.

光音響法、複合めっき膜、ニッケ
ル、ダイヤモンド、腐食抵抗

443

185 1993 1:巻頭言- 17 -

複合コート、PTFE,摩擦、磨耗
無電解めっき、ビスマス、塩化ス
ズ（Ⅱ）
アルミニウム陽極酸化、高電流
密度、酸性浴、反復瞬間通電電
アルミニウム陽極酸化、ヒドラジ
ンアルカリ性浴、有機アルカリ性浴
電気めっき、サージェント浴、水素共析、内部応力、ひずみゲー
金属アルミニウム洗浄、1,1,1-ト
リクロロエタン、有機系腐食抑制
剤、腐食抑制機構
孔食、ｐH,腐食電位、皮膜破壊電位

表面技術 1990〜1994

44

3

186 1993 2:総説

A10.

新しいガラス、表面改質、薄膜

443

190 1993 3:解説

A01

光学薄膜、光学部品、真空蒸着

4881 ガラス表面のエッチング／リーチング処理 虎渓久良

443

195 1993 3:解説

C03

4882 自動車における機能性ガラス

川崎英二

44

3

199 1993 3:解説

B05

4883 フッ酸によるガラスの表面処理

保坂達哉.菊池典生

443

205 1993 3:解説

C03

4884 ガラスヘの着色
4885 装飾用エッチングガラス
無電解ニッケル−鉄合金めっきの浴条件
4886
と析出速度
窒素イオン注入した浸炭焼入れ鋼及び調4887
質鋼のすべり摩耗特性

森津幸和
石井克夫
堀口慎一.菅野正治.本間英夫
寺島慶一.香田浩
之.竹内栄一444433

209 1993 3:解説
214 1993 3:解説

B09
C03

44

3

217 1993 6:技術論文

B03.

44

3

221 1993 5:原著論文

A10.

ビニル系単量体による電解重合膜の成長 湯浅 真.杉本 卓.
機構と被覆金属の耐食性の相関
関根 功

44

3

230 1993 5:原著論文

B09

44

3

237 1993 5:原著論文

B03.

44

3

242 1993 5:原著論文

B02.

44

3

247 1993 5:原著論文

B02.

銀電析、セレンシアン酸塩、低シ
アン浴

44

3

254 1993 5:原著論文

B02.

銀電析、セレンシアン酸塩、ジェットめっき443

260 1993 5:原著論文

B02.

酸洗浄、ベーキング、表面処理、熱処理、遅れ破壊

44
44

4
4

269 1993 1:巻頭言
270 1993 14:データ**

4879 機能性ガラスと表面技術
4880 光学部品への薄膜形成

4888

河原秀夫
大工原茂樹.世田博
国.大本 稔

斎藤哲男.入江晃
士.佐藤栄一.戸室
康二.桑名朗久
ｱﾌﾞﾗｲﾃｨ・ｱﾌﾞﾘﾐﾃｨ.
エチレンジアミン浴からのパラジウム−
4890 ニッケル合金めっきに関する研究(３)−非 松永守央.津留 豊.
対称交流電解法による研究
細川邦典
若林信一.竹内昌
高速低シアン銀めっき浴の電気化学的挙
4891
子.中沢昌夫.金子動
紀男.根津弘幸
若林信一.竹内昌
4892 高速低シアン銀めっき浴の析出膜特性
子.中沢昌夫.金子紀男.根津弘幸
石島健治.上野晴スプリング用素材の表面処理工程におけ
4893
巳.村上晴久.中嶋
る水素量と遅れ破壊との関係
和夫.秋沢 勝.佐藤
4894 巻頭言：ＭＥＴＥＣ ９３へのお誘い
武井 厚
4895 ［I］大学・高専・高等学校・中学校など＊
4889

めっき法による高性能電磁波シールド紙の作製

エッチング、溶出、反射防止、中性溶液
窓ガラス、自動車、ガラスの安全性、快適性
ガラス、ノングレア、フラットパネ
ルディスプレー、化学処理、フッ着色、ガラス
エッチング、ガラス
ニッケル−鉄合金めっき、安定性、錯化剤、還元剤
窒素イオン注入、浸炭鋼、焼入鋼、耐磨耗、窒化鉄
電解重合、電解重合膜、成長機構、被覆金属、腐食抵抗、ビニル
系単量体
電磁波シールド、無電解Ni-B
めっき、ろ紙、活性化処理、電解
銅めっき
パラジウム-ニッケル合金、非対称交流めっき、クラックフリー、平滑、光沢大学、高専、研究者、研究開発
国公立試験研究機関、研究者、研究開発動向技術事務所、研究者、研究開発
企業、研究者、研究開発動向
スプレー、ブース、ろ過、逆洗、脱液、回収
塑性加工、プレス、深絞り板金加工、表面処理、カラーステンレ
ス、カラーチタン
脱脂、水洗、超振動4896 ［II］国公立研究機関

＊

44

4

282 1993 14:データ*

4897 ［III］技術事務所
4898 ［IV］企業
4899 駒沢工業(株)4900 (株)三進製作所

＊
＊
＊
＊

44
44
44
44

4
4
4
4

288 1993 14:データ
288 1993 14:データ
307 1993 14:データ
308 1993 14:データ

*
*
C06.
B02.

4901 (株)東陽理化学研究所

＊

44

4

309 1993 14:データ

C07.

4902 日本テクノ(株)4903 (株)ハイテクノ

＊
＊

44
44

4
4

310 1993 14:データ
311 1993 14:データ

C06.
*

4904 メルテックス(株)

＊

44

4

312 1993 14:データ

B03.

4905 (株)山本鍍金試験器

＊

44

4

313 1993 14:データ

B02.B03.

4906 吉野電化工業(株)

＊

44

4

314 1993 14:データ

B02.B03.

44

4

315 1993 5:原著論文

B06.

チタン合金、窒化、時効処理

444320 1993 5:原著論文

B06.

アルミニウム、イオン窒化、グ
ロー放電

44

4

326 1993 5:原著論文

B03.

微細構造、電気抵抗、無電解
ニッケル、アニオン種、ｐH

444330 1993 5:原著論文

B02.

金めっき、非対称正弦波、ピン
ホール、有孔度Ｔｉ−15Ｍｏ−5Ｚｒ−3Ａｌ合金の表面改質一 百瀬 治.源馬国恭.
溶体化過程におけるイオン窒化
岸 和弘.河上 護
アルミニウムのイオン窒化挙動に及ぼす 大刀川英男.新井
4908
窒化条件の影響透無電解Ｎｉ皮膜の微細構造及び電気抵抗
4909 に及ぼすニッケル塩水溶液のアニオン種 元根正晴
及びｐＨの影響
斎藤いほえ.吉田裕
4910 非対称正弦波による金の電析道.上野武司.鵜澤幹夫
4907

無電解複合ニッケルめっき、PTFE,潤滑性、離型性、非粘着性ろ過器、高温めっき、耐熱性、耐薬品性
硬質クロムめっき、亜鉛合金めっき、電磁波シールドめっき、プラ
スチックめっき

ニッケル電析、過剰電流密度、硬度、優先配向、水素含有率
水素透過電流、ジンケート浴、塩
化亜鉛−塩化アンモニウム浴、
硫酸亜鉛浴

4911 過剰電流密度で電析したニッケル皮膜

新井 進

44

4

336 1993 5:原著論文

B02.

4912 亜鉛めっきにおける鋼への水素侵入

斉藤明夫.ｱﾌｨﾌｲ・ｾ
ｲﾄﾞ

44

4

341 1993 5:原著論文

B02.

44

4

347 1993 5:原著論文

C07.

没食子酸、軟鋼、中性溶液、腐
食抑制剤

44

4

353 1993 5:原著論文

C07.

カルシウム硬度、孔食、腐食電
位、皮膜破壊電位

444357 1993 5:原著論文

B02.

複合めっき、分散粒子、拡散層、
電解槽

44

4

360 1993 5:原著論文

B02.

クロムめっき、水素発生、内部応力、ニッケル基板、電極電位444363 1993 7.速報論文

B03.

ニッケル、無電解めっき、磁場効
果、光音響分光法

444

365 1993 7.速報論文

B03.

44

4

367 1993 7.速報論文

B03.

44

5

393 1993 1:巻頭言

*

44

5

394 1993 9:シリーズ-2

B02.B07.

445402 1993 3:解説

B02.

44

5

407 1993 6:技術論文

A10.

44

5

413 1993 5:原著論文

A10.

柴田芳昭.城元孝
中性水溶液での没食子酸による軟鋼の腐之.湯浅 真.関根
食抑制
功.今濱敏信.和気
ホスホン酸系溶液中における鋼の孔食に 山田 豊.世利修美.
4914
及ぼすＣａ濃度の影響と孔食のモニタリン 田頭孝介.永田公二
近藤一雄.津留 豊.
硫酸亜鉛浴からのアルミナ複合めっきに4915
松野儀三.細川邦おける拡散層の平均厚み
典.山田隆裕クロムめっき膜の残留ひずみに及ぼすニッ 津留 豊.河野 誠.
4916
ケル基板と水素共析反応の影響細川邦典
竹林恭志.金野雄
無電解ニッケルめっきに及ぼす磁場の影
4917
祐.吉村俊一.吉原
響−光音響的手法による観察
佐知雄.佐藤栄一
軟磁性無電解ＣｏＰ薄膜の磁気特性と微 松原 浩.鶴−弘.山4918
細微細構造に及ぼす電解の影響
田明文
近藤宏司.小島克
ＴＥＡ無電解銅めっきにおける加速剤−水4919
明.石田信正.入江
酸基効果
正浩
4920 巻頭言：国際交流
後藤安邦
電流波形制御の理論と電気めっき及び陽
4921
馬場宣良
極酸化処理への応用
井上博之.山川宏
4922 非シアン銀めっき浴の開発
二.正木征史メカニカルプレーティング用投射材料の粉 逢坂智博.長野泰
4923
化特性
久.渡部正次内山休男.羽坂雅
ＴｉＮコーティング膜の構造に及ぼす熱処理
4924
之.小林和夫.松竹の影響
寛康.馬場恒明
4913- 18 -

無電解めっき、電解、CoP合金、
磁気特性、微細構造
無電解銅めっき、トりエタノール
アミン、加速剤、加速、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン
電流波形、パルス、PRめっき、陽極酸化、着色非シアン銀めっき浴、ヨウ化カリ
ウム浴、HBPSA
粉化特性、磁選分離、粒径分
布、析出物の密度
TiNコーティング、RF−イオンのレーティング、構造、熱処理、配向

表面技術 1990〜19944925

無電解ＮｉＲｅＰ合金皮膜の電気抵抗特性 川口 純.府川 真.
と構造に及ぼす熱処理効果
石井賢哉.逢坂哲彌

次亜リン酸塩を還元剤とするエチレンジア 水木省三.縄舟秀4926 ミン錯体浴からの無電解Ｐｄ−Ｐ合金めっ 美.西川憲以.芳賀
正記.内田 衛きの物質収支及び析出機構
電析法による非晶質Ｆｅ−Ｃｒ−Ｎｉ−Ｐ合金 李 明.傳 燕雲.小4927
膜の作製とその分極挙動
若正倫
ＴｉＮで被覆した軟綱の食塩水中での腐食 棚木敏幸.湯浅 真.
4928
摩耗について関根 功
常温型溶融塩浴を用いるＣｕ(I)イオンから 小浦延幸.岩井正
4929のＣｕの電析
行.上田耕一郎.鈴1.1.1−トリクロロエタンによるアルミニウム 安田守宏.渡部清4930 溶解の抑制剤に対する誘導期テストとスク 一.石井将和.安川三郎
ラッチテストとの相関分析
電析非晶質Ｎｉ−Ｃｒ−Ｐ合金皮膜の耐食 傳 燕雲.李 明.小
4931
性
若正倫
セラミック上へのＺｒ及びＺｒ合金皮膜の電 河瀬 誠.多田正行.
4932
解形成
伊藤靖彦
アルミニウム基板上への無電解Ｎｉめっき
4933
石川 豊.中道一郎
における紫外線照射の効果
4934 巻頭言：改善をサルから学ぶ
末武 博

44

5

418 1993 5:原著論文

B03.

無電解、NiRePめっき、電気抵抗特性、アモリファス膜、膜構造、結晶化プロセス445425 1993 5:原著論文

B03.

無電解めっき、Pd-P合金、次亜リン酸塩、物質収支、析出機構

44

5

430 1993 5:原著論文

B02.

44

5

434 1993 5:原著論文

A10.

44

5

439 1993 5:原著論文

A03.

44

5

446 1993 5:原著論文

C06.

44

5

450 1993 7.速報論文

B02.

44

5

452 1993 7.速報論文

B02.

44

5

454 1993 7.速報論文

B03.

44

6

465 1993 1:巻頭言*4935 光露光微細加工技術の現状と将来

堀内敏行

44

6

466 1993 2:総説

C07.

4936 ポジ型フォトレジストの高解像度の動向

浅海慎五.逢坂哲彌

電析、アモルファス、Fe-Cr-Ni-P
合金、分極挙動
イオンプレーティング、TiN,軟鋼、
腐食磨耗、ガルバニック腐食
銅、電析、銅（Ⅰ）イオン、常温型
溶融
金属アルミニウムの洗浄、1,1,1トリクロロエタン、有機系腐食抑制剤、相関分析
アモルファス、Ni-Cr-P,耐食性、
Zrフィルム、Zr-Al合金皮膜、溶融塩化物、セラミック上への電析
UV光、無電解めっき、ニッケル、
アルミニウム基板
LSI,光露光微細加工技術、光露
光加工技術
ポジ型フォトレジスト、高解像、ノボラック樹脂、ナフトキノンジアジ
ド、サブミクロン
レジスト、リソグラフィー、LSI
レジスト、化学増幅、酸触媒反応
フォトレジスト、バンプ、めっき、ス
トレートバンプ、TAB
遷移金属酸化物、表面改質、リソグラフィー、無機電子線レジス
FAB-SIMS,FAB,中和器、絶縁体の分析
ブリーディング、混合材料、連続投射、熱処理ダイヤモンド膜、マイクロ波プラ
ズマＣＶＤ、光学特性、透過率、

446473 1993 3:解説

C07.

4937 微細加工用多層レジスト技術の現状と将 生津英夫
4938 化学増幅型レジストの現状と将来
上野 巧

44
44

6
6

478 1993 3:解説
485 1993 3:解説

C07.
C07.

4939 バンプめっき用フォトレジストの現状

446490 1993 3:解説

C07.

44

6

495 1993 3:解説

A10.

44

6

501 1993 9:シリーズ-2

44

6507 1993 6:技術論文

A10.

44

6

513 1993 5:原著論文

B01.

44

6

518 1993 5:原著論文

B03.

無電解めっき、スズ、再生

446525 1993 5:原著論文

B02.

電析、Fe-Cr-Ni-P合金、アモル
ファス

44

6

530 1993 5:原著論文

B02.

電析、Ni-Mo-W合金、アモルファ
ス三元系合金、腐食抵抗

446537 1993 5:原著論文

B07.

44

6

542 1993 5:原著論文

B07.

駒野博司

遷移金属酸化物薄膜の表面改質と半導4940
馬場 守.池田俊夫
体リソグラフィへの応用
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
4941
長井一敏
の解析(２８)−高速原子衝撃二次イオン質
Ｆｅ−Ｚｎ系投射材料によるメカニカルプ
逢坂智博.長野泰4942
レーティングに関する二，三の実験
久.渡辺正次マイクロ波プラズマＣＶＤにより作製したダ4943
坂本幸弘.高谷松文
イヤモンド膜の光学特性
無電解スズめっきに関する研究−ＳｎＣｌ2
4944
小谷野英勝
−ＫＯＨ系無電解スズめっきの再生と管理
電析法による非晶質Ｆｅ−Ｎｉ−Ｐ合金の作
李 明.小若正倫
4945
製
松本雄行.湯浅 真.
電析Ｎｉ−Ｍｏ−Ｗ三元系非晶質合金めっ4946
関根 功.吉岡 修.
き膜の作製と耐食性
珍田 聡
有機アルカリ性浴(プロピレンジアミン−
4947 フッ化物基液)中でのアルミニウムの陽極 野口駿雄.吉村長蔵
酸化における有機酸塩の効果
ＡＤＣ１２アルミニウムダイカスト合金の硫 高橋英明.志賀康
4948 酸溶液中におけるアノード酸化−皮膜生 太.渡辺啓一.瀬尾成挙動に及ぼす合金成分及び試料調整 真浩
選択酸化により作製したケイフッ化鉄薄膜 林原光男.小柳阿佐
4949
の熱電特性
子.下屋敷重広4950 巻頭言：環境への優しさを考えた研究と教 白石振作

446549 1993 7.速報論文

A01.

ケイ化鉄、熱電特性

447557 1993 1:巻頭言**
プリント配線板、銅めっき薄板、
表面実装、回路の組み立て、電プリント配線板、サブトラクティブ
法、アディティブ法、マルチワイ
プリント配線板、電析前処理、ブラックオキサイド処理、デスミア処4951 プリント配線板の現状と将来

青木正光

44

7

558 1993 2:総説*

4952 プリント配線板の製造法

上山宏治

44

7

566 1993 3:解説

*

44

7

573 1993 3:解説

B08.

44

7

578 1993 3:解説

B03.

44

7

583 1993 3:解説

B02.

プリント配線板におけるめっきの前処理− 崎迫 均.木村昌志.
4953
ブラックオキサイド処理.デスミア処理
森川佳彦
プリント配線板におけるめっき技術−無電
4954
奥野和義
解めっき
プリント配線板におけるめっき技術−電気
4955
筑間光晴
銅めっき
プリント配線板におけるめっき技術−はん4956
三浦武之.清田 優
だめっき

44

7

589 1993 3:解説

B02.

4957 プリント配線板におけるエッチング技術

林 俊男

44

7

594 1993 3:解説

C02.

無電解めっきを使用しないスルーホール
めっき法

豊永 実

44

7

599 1993 3:解説

B03.

44
44

7
7

605 1993 3:解説
609 1993 3:解説

B03.
B02.B03.

4958

有機アルカリ性浴、アルミニウムの陽極酸化、プロピレンジアミン
浴
アノード酸化、アルミニウムダイ
カスト合金、高周波誘導プラズマ
発光分析、アノード酸化皮膜

プリント配線板、無電解めっき
ピロリン酸銅、硫酸銅、PWB
スズー鉛、電気めっき、プリント
配線板
エッチングマシン、エッチャント、
エッチファクター、エッチレート
プリント配線板、ダイレクトプレー
ティング、導電性ポリマー、PｄS
無電解めっきスズー鉛、置換めっき、SMT
プリント配線基板、PLT,EQM
ダイヤモンドホイール、電析、微粒ダイヤモンド
セルフクリーニングホーロー、
MnO2,比表面積、触媒特性
銅、電析、ゼラチン、塩化物イオン
超音波効果、銅、電析、流れ、静水圧
金めっき、バンプ形成、不均化反電気化学的窒化、溶融塩、硝酸イオン、亜硝酸イオン、窒化物イ4959 表面実装への対応一無電解はんだめっき 三浦武之.古平 滋
4960 プリント配線板における最近のめっき装置 岳村伸敏
微粒電池ダイヤモンド砥石の作製及び研 鈴木数夫.佐藤金4961
削性能
司.横山俊雄ＭｎＯ2を含むセルフクリーニングホーロー 池田正樹.木村邦
4962の触媒特性に及ぼす水ガラスの添加効果 夫.渡辺善博.西野
小浦延幸.渡辺邦
4963 銅電析に及ぼすゼラチン及びＣｌ−の影響
洋.山岸 武銅電析皮膜の性質に及ぼす超音波照射 千葉 淳.呉 文呂.
4964
の影響
中西和美
4965 亜硫酸金錯体からの金めっき
加賀谷康永.本間英電気化学プロセスによるチタンの表面窒 後藤琢也.多田正
4966
化
行.伊藤靖彦4967 巻頭言：学会におけるセミナ−の役割
山下嗣人

44

7

643 1993 7.速報論文

B09.

44

8

653 1993 1:巻頭言*4968 腐食研究の課題と新しい測定法

448654 1993 11:アカデミック研究会シリーズ B09.

448660 1993 11:アカデミック研究会シリーズ B09.

448667 1993 6:技術論文

A05.

プレス成形性、引張強度、伸び、ガラス転移温度、摩擦係数

448672 1993 5:原著論文

B09.

Y2O3,Y2O3:Eu(Ⅲ)、パルス電解法、有機電解質、蛍光

水流 徹

走査型振動電極による局部腐食のIn-Situ
石川雄一
測定鈴木幸子.尾形浩
潤滑樹脂被覆鋼板のプレス成形性に及ぼ
4970
行.奥埜計造.成瀬
すベ−ス樹脂物性の影響
義弘.大和康二
松田好晴.今橋健
電解法による有機電解液からのＹ2０3膜
4971
二.吉本信子.森田及びＹ2０3：Ｅｕ(Ⅲ)膜の生成
昌行.芳賀正記
4969

44

7

615 1993 6:技術論文

B02.

44

7

621 1993 5:原著論文

A05.

44

7

626 1993 5:原著論文

B02.

44

7

631 1993 5:原著論文

B02.

44

7

638 1993 5:原著論文

B02.

- 19 -

腐食、その場測定、水晶振動子
マイクロバランス、ケルビン法、インピーダンス、腐食モニタリング
振動電極、局部腐食、その場観
測、孔食、隙間腐食

表面技術 1990〜1994

プラズマ及びアーク溶射アルミニウム層の 池田正樹.鶴田邦
灯油燃焼特性に及ぼす効果
弘.西野 敦Ｃ3Ｈ8−Ｈ2混合ガスによるＴｉ−6Ａｌ−4Ｖ 金山信幸.掘江 譲.
4973
田辺俊夫
合金のプラズマ浸炭
エチレンジアミン錯体浴からの電析銅皮膜 水本省三.縄舟秀
4974
の室温軟化
美.廣尾敬雄.芳賀
4972

4975

酸性溶液中における無電解Ｃｏ−Ｂ合金
皮膜の水素発生反応

江面郁子.斎藤哲
男.佐藤栄一森本純司.山口昭
超高圧電子ビームによる金属溶射皮膜の雄.富江通雄.阿部改質
信行.荒田吉明
クロメート処理皮膜のＥＰＭＡによる状態 林 洋樹.瀬上康司.
4977
分析
小泉宗栄
Ｔｉイオン注入による単結晶ＳｉＯ2上への高 馬場恒明.畑田留理
4978
子
密着性銀皮膜の作製
4979 巻頭言：産学交流を考える吉田 誠
アークイオンプレーティング膜の特性と工 河野通廣.池永 勝.
4980
業的応用
市村博司
水溶液中における不均一金属表面の電
4981
金児紘征
位・電流分布4976

4982

陰イオン固定化材としての層状複水酸化
成田栄一
物の化学

カソード電流印加による電解コンデンサ用
世利修美
アルミニウム電極箔の溶解挙動に及ぼすフーリエ変換赤外全反射(FTIR.ATR)法に 水本省三.縄丹秀
4984
よる無電解Ｎｉ−Ｐ合金めっき浴のIn-Situ 美.西川憲以.小橋
元根正晴.西村増還元剤浸透法による無電解ニッケル皮膜
4985
雄.水畑 穰.小黒啓
析出速度に及ぼす浴条件の影響
介.竹中啓示恭湯浅 真.松本雄行.
有機酸系無電解はんだめっき浴での添加 増田昭裕.粂内友
4986
一.杉山 卓.関根
物の影響−錯化剤についての検討
功.吉岡 修.珍田
有機ホスホン酸浴からのＦｅ−Ｎｉ−Ｗ合金
4987
李 明.小若正倫
めっき膜の構造と特性
ホスホン酸系溶液中における銅の孔食に 山田 豊.世利修美.
4988
及ぼすＣｌ-の影響
田頭孝介.永田公二4989 巻頭言：表面技術と深い技術
沖 猛堆
4990 磁気記録媒体の現状と将来 に寄せて 山崎陽太郎
4983

44

8

678 1993 5:原著論文

A02.

44

8

683 1993 5:原著論文

A10.

44

8

687 1993 5:原著論文

B02.

44

8

692 1993 5:原著論文

B03.

44

8

695 1993 7.速報論文

A02.

8

697 1993 5:原著論文

B08.

EPMA,クロメート皮膜、状態分析

448699 1993 5:原著論文

A08.

銀、チタン、イオンプレーティン
グ、密着、SiO2

449707 1993 1:巻頭言

*

44

9

708 1993 3:解説

A10.

44

9

715 1993 3:解説

B09.

44

9

722 1993 3:解説

B09.

44

9

729 1993 6:技術論文

C05.

9

732 1993 5:原著論文

B03.

44

9

737 1993 5:原著論文

B03.

無電解ニッケル膜、めっき速度、
浴条件、浸透、速度パラメーター

44

9742 1993 5:原著論文

B03.

はんだめっき、置換めっき、有機
酸系浴、添加剤、錯化剤

449748 1993 5:原著論文

B02.

44

9

753 1993 5:原著論文

B09.

44
44

10
10

765 1993 1:巻頭言766 1993

*
*

44

10

767 1993 3:解説

B03.

4992 スバッタ法による高密度磁気記録媒体

白 忠烈.谷 典明

4410774 1993 3:解説

A01.

4993 光磁気ディスク用スバッタ装置

高城信二

44

10

780 1993 3:解説

A01.

4994 Ｃｏ−Ｃｒ磁気記録媒体の組成分離構造

前田 安

44

10

785 1993 3:解説

A01.

4995 ディスク用カ−ボン保護膜のトライポロジ

山本尚之

44

10

790 1993 3:解説

B01.

4996 自動車用表面処理鋼板と界面制御技術

佐藤 登

44

10

795 1993 3:解説

A03.

44

10

800 1993 9:シリーズ-2

A08.

シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
4997
澤田嗣郎
の解析(２９)−光熱変換分光法
日野 実.平松 実.
レーザフラッシュ法によるＺｎめっき皮膜の4998
秋山光一.大森蕃
エネルギー吸収率測定
三.川崎仁士
マイクロ波プラズマＣＶＤによるダイヤモン
4999
坂本幸弘.高谷松文
ド合成における遷移金属の影響
プフズマ重合により作製したへキサメチル
馬場恒明.畑田瑠理
5000 ジシロキサン及びビニルメトキシシラン重子
合膜の特性
青木公二.鷹野 修.
5001 無電解Ｎｉ−Ｓｎ−Ｂ合金めっきについて
佐々木由紀

44

10

807 1993 5:原著論文

B02.

44

10

811 1993 5:原著論文

B01.

44

10

817 1993 5:原著論文

B09.

44

10

821 1993 5:原著論文

B03.

5002 無電解銅めっきの精密ろ過効果

小林 健.本間英夫

4410826 1993 5:原著論文

B03.

5003 ガラスと無電解ニッケルめっきの密着性

堀田敏一.鈴木佳司.渡辺幹男.本間44

10831 1993 5:原著論文

B03.

44

10

836 1993 5:原著論文

A02.

44

10

841 1993 5:原著論文

B05.

44

10

848 1993 5:原著論文

B09.

44

10

853 1993 5:原著論文

B06.

44

10

856 1993 7.速報論文

B02.

44

10

858 1993 7.速報論文

B02.

44

11

865 1993 1:巻頭言*

5011 マグネシウムの材料特性

小島 陽

44

11

866 1993 2:総説*

5012 マグネシウムの表面処理

高谷松文

44

11

874 1993 2:総説

B07.B08.

11

883 1993 2:総説*

5014 ダイカスト用マグネシウム合金

KemelNISANCIOGLU44
and-OttoLUNDER(訳)小野幸
44
牧野邦彦

11

890 1993 3:解説*

5015 ＳＥＭで見たマグネシウムの表面処理

斎藤 誠

44

11

895 1993 3:解説

B07.B08.

細田 耕

44

11

899 1993 3:解説

*

5016

マグネシウム−アルミニウム鋳造合金の耐食性改良

北米と日本におけるマグネシウムの普及と用途展開の相違

イオンプレーティング、コーティン
グ、腐食、耐磨耗性
腐食モニタリング、ガルバニ腐
食、電位-電流分布
層状複水酸化物、ハイドロタルサ
イト類似化合物、インターカレー
ション、固定化、アニオン
アルミニウム、電解コンデン
サー、局部アルカリ化
FTIR ATR、無電解めっき浴、NiPめっき、その場モニタリング

44

逢坂哲彌

5013

フレーム溶射、電子ビーム、マイクロビッカース硬度

444991 めっき垂直記録媒体の高記録密度化

プラズマ溶射で形成したＡ１2０3・ＴｉＯ2及5004 びＡｌ2Ｏ3−ＴｉＯ2系溶射層の表面特性と遠 池田正樹.西野 敦
赤外線放射特性
塗布型クロメートの乾燥温度による皮膜構 須田 新.荻野陸雄.
5005
造変化
宮脇 憲.前田重義
活性金属ろう接によるジルコエアの変質層
5006
王 立鐸.沖 猛堆におけるジルコニウムと酸素の挙動
前嶋正受.猿渡光
浸炭焼入れ法によるチタン合金の表面硬5007
一.平田昌範.石禾
化
和夫.伊藤六郎
電析によるＮｉ−Ｍｎ／ＳｉＣ複合合金膜の 戸嶋茂郎.武田恭5008
匡.大瀧礼美.山口
作製
電析法による非晶質Ｃｒ−Ｎｉ合金皮膜の 小林繁夫.津留壽
5009
昭.柳ケ瀬勉作製
5010 巻頭言：柔らかい考え方
松田好晴

プラズマ溶射、アーク溶射、灯油粒子、気化速度、燃焼
浸炭、チタン合金、グロー放電、
表面硬度、チタンカーバイド
銅電析、エチレンジアミン浴、結晶構造、再結晶
無電解Co-Bめっき、カソード分
極曲線、交換電流密度、ターフェル直線の傾き- 20 -

Fe-Ni-W合金、電析、アモルファ
ス、硬度
孔食、SO42-,Cl-,皮膜破壊電位、ATMP+BTA溶液**
無電解めっき、垂直記録、磁気ディスク媒体、磁気特性、記録再スパッタ法、記録媒体、高密度記
録、保磁力、低ノイズ
光磁気ディスク、MO、DCリアク
ティブスパッタ、同時スパッタ
Co-Cr、磁気薄膜、磁気記録媒体、組成分離、組成微細構造
トライボロジ、薄膜ディスク、カーボン、保護膜
めっき鋼鈑、電気めっき表面処
理、化成処理、クレーター、界面
光音響分光法、光熱偏向法
亜鉛電析、レーザーフラッシュ法、表面形態、エネルギー吸収率
ダイヤモンド、マイクロ波プラズ
マ、CVD、遷移金属、触媒
プラズマ重合、ヘキサメチルジシ
ロキサン、ビニルメトキシシラン、
腐食抵抗
無電解めっき、Ni-Sn-B合金
無電解銅めっき、連続精密ろ過、
異常析出、長寿命化
ガラス、無電解ニッケルめっき、初期皮膜形成、密着強度
プラズマ溶射、遠赤外線放射
塗布型クロメート、乾燥温度、重合、脱酸素反応
ジルコニア、活性金属ろう接、変質層、結合状態
チタン合金、耐磨耗性、表面硬度、浸炭、酸化Ni-Mn/SiC、電析、複合合金、硬度
Cr-Ni合金、アモルファス、異常共析
マグネシウム、機械的特性、マグ
ネシウム合金表面処理、ダイキャスト、塗装、腐食抵抗
Mg-Al合金、ダイキャスト、腐食
抵抗、電気化学的挙動、表面酸
化皮膜
マグネシウムダイキャスト
マグネシウム､化成処理､表面形
態､SEM
マグネシウムダイキャスト

表面技術 1990〜1994

5017 マグネシウム−その誕生とおいたち一4411903 1993 3:解説*

陽極酸化及びクロメート処理マグネシウム 佐藤文博.浅川義5018
合金の耐食性彦.中山武典

寺島慶一

44

11

912 1993 3:解説

B07.

5019 マグネシウム合金の低公害性前処理

4411915 1993 3:解説

B08.

44

11

917 1993 3:解説

B02.B07.

4411

919 1993 3:解説

B02.

44

11

922 1993 3:解説

A05.B02.B07.B08.

傍田 保.川崎 功

マグネシウム合金の陽極酸化処理とめっ
5020
平井英次
き処理
5021 マグネシウム合金上のめっきあれこれ舶田清孝5022 マグネシウムダイカストの表面処理法

土橋 誠.鈴木光夫

5023 マグネシウムダイカストの粉体塗装
尾崎 正
超薄切片法によるマグネシウム陽極酸化5024
小野幸子.増子 昇
皮膜の断面微細構造5025

自動車用マグネシウムホイ−ルの表面処
井藤忠男.森田 彰
理日野 実.西田典秀.
ＹＡＧレーザー照射によるＺｎ／Ｎｉ二層めっ平松 実.秋山光一.
き皮膜表層合金化の最適条件
勝村宗英
硬質皮膜特性のチャ−ジ間の違いを評価 中沢洋二.佐藤仁
5027
するスクラッチ試験と残留応力測定に関す 志.浅見克敏.杉山
中田一博.眞喜志
5028 イオン窒化法による銅合金の表面硬化
隆.塔本健次.松田
鈴木芳博.高橋昭
触媒プロセスによる銅上への無電解ニッ
5029
雄.赤星晴夫.和嶋ケルめっき膜の析出機構
元世.奈良原俊和
無電解Ｎ−Ｐｄ−Ｐ合金めっき皮膜の電気 青木公二.鷹野 修.
5030
接点特性につて
中田達也
無電解Ｎｉ−Ｂ−Graphite複合めっき皮膜 西羅正芳.山岸憲
5031
史.鷹野 修の作製とその特性
千田厚生.森田一
5032 無電解めっきによるスズ皮膜の形成
弘.高野良比古5026

5033

部分スズめっき鋼板上への金属クロム析
森田順一.吉田光男
出挙動の検討Ｚｎ−Ｎｉ−ＳｉＯ2分散めっき鋼板の共析挙 高橋 彰.三吉康彦.
動羽田隆司
通常濃度のシアン化銀浴からの厚付け銀5035
斉藤明夫.右田泰治
めっき
光沢ニッケルめっき膜表面の酸化膜特性 中岡康幸.庄野友5036とはんだぬれ性に及ぼす洗浄工程の影響 陵.小林 実.柴田俊
食塩水中におけるＴｉＮ被覆軟鋼と無被覆 棚木敏幸.湯浅 真.
5037
軟鋼の腐食摩耗について
関根 功
ＳＵＳ３０４ステンレス鋼のＨＣｌ／エタノー
5038 ル及びＮａＣｌ／エタノール水溶液中におけ 樋渡洋一郎
る孔食特性
立方晶窒化ホウ素表面での燃焼炎法によ 今林義考.斎藤秀
5039
るダイヤモンドエピタキシー
俊.浦尾亮一小林美紀.千葉和
置換金めっき過程への水晶振動子マイク 則.中澤育子.吉村
5040
俊一.吉原佐知雄.
ロバランス法の適用
佐藤栄一.陶村 貴
阿部一浩.小林達
Ｗ／０エマルジョンの相変化の光音響的5041
朗.佐藤正寿.吉原
手法による評価
佐知雄.佐藤栄一
5034

5042 ニッケル−リン合金の電析反応過程

山下嗣人.林 武志

4411925 1993 3:解説

A06.

44

11

927 1993 3:解説

B07.

44

11

930 1993 3:解説

A05.

44

11

933 1993 6:技術論文

B09.

44

11

938 1993 6:技術論文

A01.

44

11

944 1993 5:原著論文

A10.

44

11

950 1993 5:原著論文

B03.

44

11

957 1993 5:原著論文

B03.

44

11

961 1993 5:原著論文

B03.

44

11

966 1993 5:原著論文

B03.

44

11

972 1993 5:原著論文

B02.

無電解めっき、Ni-Pd-P合金、電気接点特性
複合めっき、無電解ニッケルめっき、摩擦、摺動特性
無電解めっき、スズ皮膜、三酸化チタン、炭酸ナトリウム
電気スズめっき、カソード皮膜、カソード分極、定電位分極、水素
過電圧
電気めっき、Zn,Ni,SiO2,共析、複合
厚付け銀めっき、電気めっき、配向性、炭酸カリウム、水酸化カリ
ニッケルめっき表面、洗浄工程、酸化皮膜、はんだぬれ性
イオンプレーティング、TiN、軟鋼、腐食摩擦、ガルバニック腐食

11977 1993 5:原著論文

B02.

983 1993 5:原著論文

B02.

44

11

988 1993 5:原著論文

B02.

44

11

993 1993 5:原著論文

A10.

44

11

998 1993 5:原著論文

44

11 1004 1993 7.速報論文

A10.

ダイヤモンド、立方晶BN、エピタ
キシー、燃焼炎法

44

11 1006 1993 7.速報論文

B03.

水晶振動子マイクロバランス法、
置換めっき、金44

11 1008 1993 7.速報論文

44

11 1010 1993 7.速報論文

B02.

孔食、アノード分極、電位走査速度

W/エマルション、光音響的手法、
相変化

12 1019 1993 1:巻頭言

*

5044

エレクトロニクス部品材料における表面処
二瓶公志
理技術の展開と今後の課題

44

12 1020 1993 2:総説*

44

12 1028 1993 3:解説

B02.

44

12 1038 1993 3:解説

B02.

電極反応、Ni-P析出、アモルファ
ス、回転電極法
エレクトロニクス部品と材料、情報通信技術の動向、通信処理技
術の動向、電子デバイスの動向、エレクトロニクス表面処理
LSIウェハー上のめっき、金バン
プ、はんだバンプ
リードフレーム、プラスチックパッ
ケージ
エポキシ封止剤、接着力、耐湿性、耐はんだリフロー性、表面44

12 1044 1993 3:解説

A10.

半導体パッケージアウターリードへの基板 西村晴矢.前嶋義5048
久.太田篤住実装用はんだめっき

44

12 1049 1993 3:解説

B02.

5049

ス−パーソルダ−によるプリコートソルダ
小菅 泉
リング．

44

12 1057 1993 3:解説

A10.

5050

ソルダ・インジェクション法による高密度基
塚田 裕
板バンプの作製44

12 1063 1993 3:解説

A10.

下条武美.安藤和臣

44

12 1068 1993 3:解説

B02.

5052 超純水の製造技術と表面洗浄

今岡孝之

44

12 1074 1993 3:解説

C06.

5053 特集／電子部品の表面処理 に寄せて

八木 裕

44

12 1078 1993 *企画趣旨*

無電解銅めっき浴におけるＰｄ(II)及びＳｎ
5054(Ⅳ)イオンの作用機構

松岡政夫.吉田泰
樹.岩倉千秋44

12 1079 1993 5:原著論文

B03.

44

12 1084 1993 5:原著論文

B03.

44

12 1089 1993 5:原著論文

B03.

44

12 1094 1993 5:原著論文*

ラビング、ポリイミド、XPS、表面電位、光電子放出44

12 1099 1993 5:原著論文

B03.

無電解めっき、磁気記録媒体、
結晶配向性、二層膜

44

12 1104 1993 5:原著論文

C01.

鏡面研磨、InP,InSb,表面粗さ

5051 コネクター材料の表面処理

田畑晴夫

銅表面処理、無電解ニッケル
めっき、プリント配線板、密着

11445047 樹脂封止半導体の接着性と信頼性

スクラッチ試験、残留応力、硬質
皮膜、チャージ
窒化、プラズマ窒化、イオン窒化、表面硬化、銅合金

44

巻頭言：表面技術協会誌の役割とこれか
逢坂哲彌
らの課題

半導体への表面処理一金.はんだバンプ
大塚寛治−
プラスチックパッケージ用リードフレームの
加藤凡典
5046
表面処理

YAGレーザー、合金化、Zn-Ni合
金皮膜

44

5043

5045

マグネシウム､歴史､発見､マグネ
シウム工業
マグネシウム合金､ダイキャスト､
腐食挙動､表面処理
マグネシウム合金､リン酸亜鉛皮
膜処理、クロム非含有
マグネシウム合金､陽極酸化処
理､耐摩耗性マグネシウム､電気めっき
化成処理､陽極酸化､めっき､マグ
ネシウム
マグネシウムダイキャスト、粉体
マグネシウム､陽極酸化皮膜､多孔質層､ウルトラマイクロトーム、
マグネシウム合金、自動車用ホ
イール、ダイキャスト、表面処理、腐食抵抗

無電解ニッケルによるアルミニウム上への
本間英夫.小林 健
直接回路形成無電解ニッケル系合金めっき皮膜の電気 青木公二.鷹野 修.
5056
接点特性
高須一郎
百瀬義広.荻野雅
ラビングによるポリイミド薄膜の化学構造.
5057
彦.北村輝夫.横倉
帯電性.光電子放射特性の変化
久男.沼田俊一
無電解コバルト合金二層膜の結晶配向制 本間敏之.黒川義5058
御昭.山本真由美.逢Ｂｒを含まない研磨割によるＩｎＰ及びＩｎＳｂ 森沢祐二.菊間 勲.
5059
の鏡面研磨
高山直紀.竹内 学
5055- 21 -

スーパーソルダー、プリント配線
板、プレコートソルダリング、ファ
インピッチ
フリップチップ実装、表面ラミナー
配線
金めっき、はんだめっき、パラジ
ウムめっき
超純水製造、表面洗浄、シリコン
ウェハー
無電解銅めっき、延性、内部応力、拡散性水素、メチレングリ
コールアニオン
無電解ニッケルめっき、置換反応、密着強度、バンプ形成
電気接点特性、無電解ニッケル
合金めっき

表面技術 1990〜1994

5060

スパック法による酸化ＴａＯ薄膜の形成とそれによるＭＯＳ基板のプラズマ損傷

5061 ＣｏＦｅ電着薄膜の磁気特性

増井寛二.野村 毅.
権 植浩

44

12 1108 1993 5:原著論文

A10.

篠浦 治.上島聡史

44

12 1114 1993 5:原著論文

B02.

44

12 1119 1993 5:原著論文

B02.

44

12 1123 1993 5:原著論文

A01.

44

12 1128 1993 5:原著論文

B02.

プリント配線基板用Ｃｕ箔作製工程におけ 飯村修志.前田重5062
る添加剤の効果
之.吉原佐知雄.佐ＰＶＤＦ／ＩｎＳｅ及びＰ(ＶＤＦ・ＴＦＥ)／ＩｎＳｅ 中西和美.橘高秀
5063
吉.弘永万一接合系の電気特性
常光幸美.柏原 智.
5064 電析による磁性Ｃｏ／Ｐｔ多層膜の作製
林 安徳
無電解ＣｏＢ薄膜の軟磁気特性と微細構 高井まどか.影山謙5065
造介.本間敬之.逢板
塩酸溶液中の矩形波パルス電流エッチン 菅沼栄一.丹野裕
5066
グで生ずるアルミニウムのビット形態と表 司.伊藤 武.船越
化学析出法により作製したルテニウム化 山賀賢史.吉野隆5067
合物薄膜のエレクトロクロミック特性子.馬場宣良電析パラジウム−ニッケル−ホウ素合金 水木省三.縄丹秀
5068の皮膜性状に及ぼすリン共析の影響
美.岡田 隆.芳賀正
パラジウムめっきリードフレームの熱処理 珍田 聡.吉岡 修.
5069
後の特性
小泉良一
久保元伸.上玉利
5070 無電解はんだめっきによる表面実装
徹.掘田輝幸.木曽雅之.内田廣記.大5071

アルミニウム陽極酸化時の高電圧領域に
立花和弘.松木健三
おける挙動

湯浅 真.斉藤正巳.
有機酸系無電解はんだめっき浴での添加粂内友一.松本雄
5072 物の影響(２)−界面活性剤及び酸化防止
行.関根 功.珍田剤の検討
聡.吉岡 修亜リン酸塩を還元剤とする無電解Ｐｄ−Ｐ 芳賀正記.内田 衛.
5073
合金めっき皮膜のはんだ付け性及び接触 水木省三.縄舟秀美
イリジウム電析に及ばす有機化合物の影 斎藤由美子.来田勝
5074
響継
低リン含有の無電解ニッケル−リン合金 青木公二.鷹野 修.
5075
めっき皮膜の電気接点特性田中正昭
非晶質銅フタロシアニン蒸著膜のガスセン 笹原正光.和田達
5076
サヘの応用
明.舛井正義竹内 学.舛井正義.
5077 青色発光有機薄膜ＥＬ素子
和田達明.裵 玖植.
安西光利
磁界変調光磁気ディスクＵＶ樹脂膜の潤
5078
川崎 実
滑性の検討
金の電析反応過程に及ぼすクエン酸塩カ 山下嗣人.高橋正5079
チオンの影響樹.岩城泰彦
野沢文恵.藤井浩
液晶高分子薄膜のＬＣＤ用配向膜への応
5080
之.中島 靖.生方雅
用一新規ラビングレス配向方法の試み
美.村上幹男
銅フタロシアニン蒸着膜のエレクトロクロミ 加藤浩司.金子冨士
5081
ズムの構造依存性
男.舛井正義吉村俊一.吉原佐知
Ｎｉ／Ｆｅの多層電析膜からのＮｉ−Ｆｅ合金
5082
雄.白樫高史.佐藤層の作製
栄一
5083 巻頭言：表面技術のイメージ
鷹野 修
5084 生産現場から見た表面制御技術の重要 小池淳義
5085 ウェ−ハ表面の金属汚染評価技術
味岡恒夫
5086 シリコンの自然酸化膜
服部健雄
原子間力顕微鏡によるシリコン表面のラフ
5087
鈴木峰晴
ネス評価
5088 シリコン結晶の清浄表面構造
高柳邦夫

44

12 1134 1993 5:原著論文

B03.

44

12 1138 1993 5:原著論文

C03.

44

12 1143 1993 5:原著論文

B09.

44

12 1149 1993 5:原著論文

B02.

44

12 1154 1993 4:技術解説

B02.

44

12 1158 1993 4:技術解説

B03.

置換めっき型、はんだめっき、表面実装

4412 1164 1993 5:原著論文

B07.

アノード酸化、アルミニウム、サイ
クリックボルタモグラム、インピー
ダンス、ポテンショスタット

44

12 1166 1993 5:原著論文

B03.

はんだめっき、置換めっき、有機
酸系浴、界面活性剤、酸化防止剤

44

12 1170 1993 5:原著論文

B03.

44

12 1173 1993 7.速報論文

B02.

44

12 1175 1993 7.速報論文

B03.

44

12 1177 1993 7.速報論文

A01.

44

12 1179 1993 7.速報論文

A01.

44

12 1181 1993 7.速報論文

A10.

44

12 1183 1993 7.速報論文

B02.

44

12 1185 1993 7.速報論文*

液晶高分子、配向膜、液晶表示

44

12 1187 1993 7.速報論文

A01.

銅フタロシアニンの構造、蒸着膜、エレクトロクロミズム、ボルタ

44

12 1189 1993 7.速報論文

E02.

NiFe,熱処理、多層膜、磁気特性

45
45
45
45

1
1
1
1

45

1

45

1
1

5089 金属表面のＣｒ2０3及びＮｉＦ2不動態処理

大見忠弘

45

5090 薬品の高純度化

米沢 勗

45

1

5091 半導体材料ガスの高純度化

池田拓也

45

1

45

1

45

1

45

1

小特集／ＬＳＩ製造における表面制御技
籔本周邦術 によせてアルミニウムのトンネルエッチングのその 牧野英司.柴田隆
5093
場観察法
行.池田正幸.菅沼
5092

5094 ＰＣＭの機能拡大について

河合宏紀

5095 ＣＶＤによる素材加工法(ＣＶＩ)
杉山幸三
単色陽電子ビームによる表面層欠陥の評
5096
藤浪真紀
価
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態 相馬英明.田中壽5097 の解析(３０)−レーザ照射によるＴｉの着色 晃.田頭孝介.山口
皮膜形成
栄.内見寿雄アルミニウム陽極酸化多孔質皮膜へのＮｉ 益田秀樹.西澤 徹.
5098
無電解析出
馬場宣良
5099

銀／ニッケルめっき間の耐熱密着性に及珍田 聡.吉岡 修
ぼすＣｕストライクめっきの効果

ニッケルめっき膜の結晶配向性とその残 津留 豊.井元宏幸.
留ひずみに及ぼすホウ酸及び溶液ｐＨの 高松亮太.細川邦典
部分スズめっき鋼板上へのクロムめっき技
5101
森田順一.吉田光男
術
ポリ塩化ビニル被覆鋼板用の低温硬化可 林芳 夫.中本哲男.
5102
能な裏面塗料の開発
小池一幸.神田勝美
中田正隆.大沢正
ＮａＨＳ及びＮａ2Ｓ水溶液によるＡｕ−Ａｇ
5103
人.鹿園直建.本間
合金の腐食
久英.塚本師子
ＰＶＤ法によって.ＴｉＮあるいはＴｉＣを被覆し5104
伊藤 亨.肥田 昭
た超硬合金における破壊靭性の比較
プラズマ浸炭窒化したチタン上でのダイヤ 佐藤貴康.根岸 学.
5105
モンド合成
明石和夫
5100

スパッタリング、プラズマ損傷、酸化タンタル薄膜、MOS構造ダイ
オード、フラットバンド電位
軟磁性特性、電析CoFe膜、高飽和磁束密度、磁気異方性
銅箔、添加剤、PAS,ゼラチン、チオ尿素
PVDF,P(VDF・TFE),PVDF/InSe
接合、InSe
電析、反射電子顕微鏡、コバルト／白金多層膜、磁性人工超格子
軟磁性薄膜、無電解めっき、微細構造
アルミニウム、パルス電流エッチ
ング、表面皮膜
エレクトロクロミック、ルテニウム
化合物薄膜、化学析出
電析、Pd-Ni-P合金、リン共析、
内部応力、耐食性
パラジウムめっき、熱処理、はんだ付性、ワイヤボンディング性、

無電解Pd-Pめっき、亜リン酸塩、
はんだ付け性、接触抵抗
イリジウム析出、有機化合物、電流−電位曲線
電気接点特性、無電解ニッケル−リン合金、低リン含有膜
非晶質銅フタロシアニン、蒸着
膜、ガスセンサー
有機EL素子、トリフェニルジアミン誘導体
潤滑性の検討、UV樹脂膜、光磁気ディスク、磁界変調
電極反応、金電析、クエン酸カチオン、電析金の構造

1 1994 巻頭言(エッセイ) *2 1994 技術解説
洗浄
自然酸化膜.表面調整.汚染その他(新技術を含む) 金属汚染.分析.ＬＳＩ製造
6 1994 技術解説
12 1994 解説
洗浄
Ｓｉ.自然酸化膜
表面粗さ.Ｓｉ.原子間力顕微鏡.酸
17 1994 解説
洗浄
化物表面
22 1994 解説
洗浄
Ｓｉ結晶.清浄表面.表面構造
Cr2O3.不働態.NiF2.耐食性.非触熱処理(酸化･窒化･炭化)26 1994 解説媒性.耐プラズマ.in-situ装置洗浄
32 1994 技術解説
洗浄清浄分析.清浄実験室.化学的精内面処理.アルミニウム酸化膜.
その他(新技術を含む)
38 1994 技術解説
フッ素樹脂膜.モノシラン除去
43 1994 随想*

Ａｌ.トンネルエッチング.In-situ観察
プレコート金属.基本機能.環境保49 1994 解説
塗布,塗装
護.生活環境改善
55 1994 武井記念シリーズ 化学蒸着(CVD)
ＣＶＤ．ＣＶＩ.パルスＣＶＩ.ＳｉＣ
ポジトロンビーム.空孔型欠陥.Ｓｉ.
その他(新技術を含む)
62 1994
ＳｉＯ２.イオン充填
44 1994 解説

化学エッチング･電解エッチング

45

1

45

1

45

1

67 1994 原著論文(研究,研究論文) 熱処理(酸化･窒化･炭化)451

73 1994 原著論文(研究,研究論文) 無電解めっき

451

78 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳45

1

82 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳45

1

88 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳45

1

93 1994 原著論文(研究,研究論文) 塗布,塗装

45

1

98 1994 原著論文(研究,研究論文) その他(新技術を含む)

45

1

103 1994 研究ノート

451

106 1994 速報論文シリーズ(歴史,データ,資料,現場管理技術,表面分析のケーススタディ)- 22 -

Ｔｉ.レーザ.着色.表面硬化.耐摩耗性Ａｌ.アノード酸化.多孔質.Ｎｉ.無電解めっき.触媒.蓚酸
Ｃｕ.ストライクめっき（フラッシュめっき）.Ａｇ.電気めっき.密着性.熱処理.ＡＥＳ
Ｎｉ.電気めっき.ｐＨ.ほう酸.内部ひずみ.ひずみ計
Ｓｎ.Ｃｒ.部分めっき.電流密度.酸
化物膜.塗料剥離
ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）.鋼板.エ
ポキシウレタン塗料.メラミン.架橋
Ａｕ．Ａｇ．合金.腐食.ＮａＨＳ.Ｎａ2
Ｓ.Ａｇ２Ｓ

破壊靭性.固溶炭素.ＴｉＮ.ＴｉＣ.ＰＶ
Ｄ
ダイヤモンド.プラズマ.浸炭窒化.
熱分解･ゾル-ゲル法
ＴｉＣＮ

物理蒸着(PVD)

表面技術 1990〜1994

本間英夫.斎藤彰
典.小林 健ＳＴＭによるポリアニリンの電気化学的重 遠藤浩二.高田昌
5107
合過程の その場 観察
弥.吉原佐知雄.佐和田建二.外村毅.
5108 アルミニウムの交流電解皮膜の積層構造
堤 正幸
アルミニウム箔の化学エッチングモフォロ 松原 浩.内 秀則.
5109
ジーの観察
山田明文
5110 巻頭言：第８９回講演大会を横浜に迎えて 佐藤祐一
生体膜表面における化学識別−化学受容5111
柏柳 誠.栗原堅三
膜を例として5106 自己触媒型無電解はんだめっき

5112 ＮＭＲによりダンパク質の表面環境を探る 神藤平三郎
5113

細胞特異性材料による表面修飾と細胞機
小林 明.赤池敏宏
能抑制5114 イオンビーム照射とバイオ表面の改質

岩木正哉

マメ科植物の根の生育表面の電位測定で5115
高村 勉.渡辺由美
さぐる
表面増強赤外吸収分光法による皮膚表面5116
西川雄司.大澤雅俊の計測5117 小特集／バイオ表面をみる によせて
楠 文代
5118 溶射法の進歩
蓮井 淳
高速電流反転電解による脱脂.活性化及
5119
大久保敬吾
び研磨方法の開発
5120 多層プリント配線板用内層銅箔処理

中祖昭士

熱拡散法により作製した光沢スズ−ニッケ
5121
薗田 司.松田好晴
ル合金皮膜の構造と物性
無電解めっき法によるＮｉ−Ｆｅ−Ｐ合金系 金 東賢.松田 均.
5122
磁性膜の作製条件について
青木公二.鷹野 修
定電位法による電解コンデンサ用Ａｌ箔の 日比野淳.興戸正5123
エッチング特性純.沖 猛雄ＣｏＢ軟磁性膜の磁場中熱処理による透 逢坂哲彌.高井まど
5124
磁率の制御
か.影山謙介電析パラジウム−ニッケル−リン合金の 水本省三.縄舟秀
5125
結晶構造と皮膜特性美.岡田 隆.芳賀正
イオンプレーティング法によるＴｉＮ皮膜の5126
大中年樹.広橋光治
スクラッチ試験における密着性の評価
5127 巻頭言：協会とバブル
小林賢三

1

108 1994 速報論文

451

110 1994 速報論文

451

112 1994 速報論文

451

114 1994 速報論文

452

135 1994 巻頭言(エッセイ)452

136 1994 総説

452

143 1994 解説

452

152 1994 解説

452

160 1994 解説

452

167 1994 解説

452

172 1994 解説

45
45

2
2

173 1994
180 1994 解説

溶射

45

2

185 1994 解説

化学研磨･電解研磨 反転電流.脱脂.活性化.電解研磨

45

2

45

2

45

2

45

2

45

2

45

2

45

2

45

3

無電解めっきにおい識別.応答経路.非受容機構.嗅覚タンパク質表面.水和水.ＮＭＲ.核その他(新技術を含む)
オーバーハウザー効果
肝細胞.アシアロ糖タンパク質.分
吸着化
イオンビーム照射.バイオ.表面改
イオン注入
質.生適合性
植物根表面.負電極電位.プロトン
その他(新技術を含む)
イオンポンプ.豆.発芽.側根表面増強赤外吸収分光法.Ａｇ膜.
その他(新技術を含む)
ＦＴ−ＩＲ.高分子膜.皮膚表面その他(新技術を含む)

黒沢 進

45

3

5129 亜鉛系電気めっき鋼板の解析技術

名越正泰.近藤隆明

45

35130 缶用鋼板の表面解析

堀口 誠

45

3

5131 塗装鋼板の表面分析

山辺秀敏

45

3

5132 プレコート鋼板の表面性状と塗装性能

小川 進.石原真興

4535133 自動車の化成処理と構造解析

佐藤 登

45

3

45

3

45

3

272 1994 随想

453

273 1994 解説

45

3

45

3

その他(新技術を含む

その他(新技術を含む) 強誘電性液晶.分子設計

Rietveld法.結晶構造.粉末法Ｘ線
回折
無電解めっき.Ｓｎ.Ｐｂ.合金薄膜.Ｔ
283 1994 技術論文
無電解めっきｉＣｌ3.Ｎａ2ＣＯ3
表面硬化.浸炭.グロー放電（プラ290 1994 原著論文(研究,研究論文) 熱処理(酸化･窒化･炭化)ズマ）.自溶合金.溶射
ひっかき試験.アコースティックエ
296 1994 原著論文(研究,研究論文) 物理蒸着(PVD)
ミッション（ＡＥ）.密着性.セラミック
コーティング
Ｚｎ.Ｃｒ.合金めっき.電気めっき.結301 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳晶構造.熱処理.結晶化
電気亜鉛めっき鋼板.後加熱処
307 1994 原著論文(研究,研究論文) 塗布,塗装
理.はんだ付け性.耐食性
278 1994シリーズ(歴史,データ,資料,現場管理技術,表面分析のケーススタディ)

その他(新技術を含む)

5139 Ｎｉ基自溶合金溶射皮膜のプラズマ浸炭

金山信幸.堀江 譲

45

3

セラミックス皮膜のスクラッチ試験時に発5140
生するＡＥ信号の特性評価

石川宏美.大中年樹.広瀬光治

45

3

45

3

45

3

45

3

313 1994 原著論文(研究,研究論文) アノード酸化

金山信幸.堀江 譲

453318 1994 研究ノート

多量化コバルトポルフィリン／高分子配位 湯浅 真.鳥居広康.
子系を表面修飾した電極による酸化還元 粂内友一.関根 功

453

321 1994 速報論文

高橋 彰.三吉康彦.
羽田隆司
電気亜鉛めっき鋼板のはんだ付け性に及 小池一幸.藤本準
5142
ぼす後処理の影響
一.神田勝美有機アルカリ性浴(コリン−フッ化物基液)5143 中でのアルミニウムの陽極酸化における 野口駿雄.吉村長蔵
有機酸塩添加の効果
5141 電析Ｚｎ−7wt％Ｃｒ合金めっき皮膜の構造

5144 焼結クロムのプラズマ浸炭
5145

プラズマ浸炭による再溶融処理したＮｉ基
自溶溶射皮膜の改質
5147 巻頭言：表面技術史と産業史の研究を

金山信幸.堀江 譲

453323 1994 速報論文

寺島慶一

45

4

331 1994 巻頭言(エッセイ)

5148 セラミックスの表面処理

松原秀彰.柴田典義

454332 1994 総説

5149 セラミックスセンサ−

臼井俊雄

45

4

337 1994 解説

5146

5150 バイオセラミックス

亀山哲也

45

4

343 1994 解説

5151 セラミックスパッケージと表面処理技術

若林信一

45

4

351 1994 技術解説

5152 表面実装部品と表面処理

上原孝行

45

4

359 1994 技術解説

454

365 1994 技術解説

454

372 1994 技術解説

セラミックス粉末・繊維への超微粒子コー
5153
山田幸良
ティング
セラミックス工具及び機械部品の表面処
5154
八木 優
理

溶射.表面改質

プリント配線基板.内層銅配線.酸化銅処理.化学還元
光沢めっき.Ｔｉ.Ｎｉ.合金.結晶構造.
197 1994 原著論文(研究,研究論文) 拡散皮膜
接触抵抗
無電解めっき.合金めっき.Ｎｉ．Ｆ
202 1994 原著論文(研究,研究論文) 無電解めっき
ｅ．軟磁性薄膜.浴安定性
Ａｌ.定電位電解.電解エッチング.
207 1994 原著論文(研究,研究論文) 化学エッチング･電解エッチング
ピット形態
軟磁性薄膜.Ｃｏ．Ｂ.合金.透磁率.
213 1994 原著論文(研究,研究論文) 熱処理(酸化･窒化･炭化)
磁場中熱処理電気めっき.Ｐｄ．Ｎｉ．Ｐ.合金めっ218 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳き.結晶構造.硬さ.接触電気抵抗
ＴｉＮ.ひっかき試験.密着性.臨界荷233 1994 原著論文(研究,研究論文) 物理蒸着(PVD)
重.摩擦力
233 1994 巻頭言(エッセイ)
表面分析.溶融亜鉛めっき鋼板.
234 1994 技術解説
溶融めっき
金属間化合物.微細構造解析
電気亜鉛めっき鋼板.Ｚｎ.亜鉛基
239 1994 技術解説
電気めっき･電鋳合金.表面分析.解析技術.
表面解析.鋼板.缶体.表面分析.顕244 1994 技術解説
電解加工
微鏡観察
250 1994 技術解説
塗布,塗装
表面分析.塗装鋼板.密着性
プレコート鋼板.高機能.結晶化.メ
254 1994 技術解説
塗布,塗装
ラミン.フッ素樹脂
リン酸亜鉛処理.hopite結晶.電子259 1994 技術解説
化成処理
線共鳴吸収スペクトル（ＥＳＲ）.
レーザラマンスペクトル（ＬＲＳ）.Ｅ
化学複合被覆.表面分析.家電製
266 1994 技術解説
化成処理
品.建材.クロメート処理
192 1994 解説

5128 溶融亜鉛めっき鋼板の表面分析

家電製品または建材の化成処理と表面解
鈴木正教.小泉宗栄
5134
析
小特集／表面処理鋼板の解析技術 に
5135
近藤隆明
よせて
5136 強誘電性液晶の開発と応用
石原重喜
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
5137
秋葉悦男
の解析(３１)−Rietveldによる結晶構造解
無電解めっきによるスズ−鉛合金皮膜の 千田厚生.高野良比5138
形成
古.森田一弘

無電解めっき.Ｐｂ.Ｓｎ.合金.自己触媒.表面状態
ポリアニリン.In-situＳＴＭ.電解重電解加工
合アノード酸化膜.交流電解.積層構
アノード酸化造.水和処理.密着性
Ａｌ.化学エッチング.表面状態.微化学エッチング･電解エッチング
細構造.ＴＥＭ45- 23 -

有機アルカリ浴.Ａｌ.陽極酸化.塩
化物浴.フッ化物浴

浸炭.グロー放電（プラズマ）.焼結
クロム.表面硬化.炭化クロム
多量化コバルトポルフィリン.高分
その他(新技術を含む) 子配位子.多分子錯体.修飾電極.
酸素還元触媒
表面硬化.浸炭.グロー放電（プラ
熱処理(酸化･窒化･炭化)ズマ）.自溶合金.溶射
熱処理(酸化･窒化･炭化)表面処理.セラミックス.機能性セラミックス.構造用セラミックス.コー
ティング
セラミックスセンサー.半導体センその他(新技術を含む サー.湿度センサー.ジルコニア酸
素センサー.pn-ヘテロ接触セン
人工骨.ハイドロアパタイト.コー
その他(新技術を含む
ティング.癌治療.多孔質セラミック
セラミックパッケージ.電気めっき.
無電解めっき無電解めっき.薄膜.機能性
表面実装部品.表面処理.はんだ
電気めっき･電鋳
付け.
超微粒子.コーティング.プラズマ.
その他(新技術を含む)
粉体.繊維
ＣＶＤ.コーティング.ダイアモンド.
化学蒸着(CVD)
切削性.イオン注入
気相エッチング表面技術 1990〜1994

5155 小特集／セラミックスと表面処理 によせ 澁木邦夫454

376 1994 随想

5156 バルブ金属のアノード酸化と皮膜構造

454377 1994 解説

アノード酸化

バルブ金属.アノード酸化.酸化皮
膜.膜構造

45

4

383 1994 技術論文

熱処理(酸化･窒化･炭化)ＹＡＧレーザ.レーザ硬化.炭素鋼.
表面レーザ処理45

4388 1994 技術論文

化学エッチング･電解エッチング

454

394 1994 原著論文(研究,研究論文) 物理蒸着(PVD)45

4400 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳454406 1994 原著論文(研究,研究論文) 洗浄

454411 1994 原著論文(研究,研究論文) 無電解めっき

454416 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳454422 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳454428 1994 研究ノート

瀬尾真浩

日野 実.栢野康彦.
高出力ＹＡＣレーザによる炭素鋼の表面硬安岡ｱﾝﾅ桂子.平松
化処理
実.秋山光一Ａｌ−Ｆｅ合金のＮａＯＨ溶解挙動に及ぼす
5158
世利修美
溶液温度の影響
窒化チタンの半導体特性とアノード溶解反
5159
田口正美
応
5157

5160

狭幅長尺めっきセルにおけるめっき液供
森田順一.吉田光男
給口形状のめっき電流分布に及ぼす影響

1.1.1−トリクロロエタンによるアルミニウム 安田守宏.渡部清
5161 の溶解反応に対する有機試薬の抑制効 一.安川真巳.安川三郎
果に関する統計解析
無電解Ｃｏ合金皮膜の磁気特性に及ぼす 斎藤哲男.山口ひと
5162
熱処理の影響み.佐藤栄一.吉原
高光沢非シアン化銀めっきに及ぼす添加5163
稽 永康.沖 猛雄
剤の影響
溶融塩電析によるチタン薄膜の形成及び 魏 大維.興戸正純.
5164
添加元素の効果沖 猛雄
ウェット−ドライプロセスの組合せによって 笠原和男.武井 厚.
5165
山下嗣人
Ｎｉ−Ａｌ複合被覆したＴｉＡｌの高温酸化
高井まどか.中村明
5166 高飽和磁化軟磁性用ＦｅＰ電析浴の開発
義.浅富士夫.逢坂
明治・大正.昭和前期刊行表面処理関係
5167
寺島慶一
図書目録
5168 巻頭言：協会とエンジニアリング
松坂菊生

Ｃｏ.無電解めっき.合金めっき.Ｎ.
熱処理.磁気特性.結晶構造.ＳＥ
Ａｇ.光沢めっき.電気めっき.非シ
アン浴.添加剤
溶融塩.Ｔｉ.電解析出.配向性.モル
フォロジー.耐食性
金属間化合物.ＴｉＡｌ.Ｎｉ.電気めっ
き.Ａｌ.拡散浸透法.高温酸化.耐酸

4431 1994 Letters

電気めっき･電鋳電解析出.軟磁性特性.ＦｅＰ

454433 1994 資料

その他(新技術を含む)

図書目録.表面処理.明治.昭和.大
正

45

5

449 1994 巻頭言(エッセイ)

伊藤栄子

45

5

450 1994 総説

5170 メタライジングフィルム

西川忠寛.秋山良治

455456 1994 技術解説

455

464 1994 技術解説

有機フィルムのエレクトロニクスへの利用
三宅 明−磁気記録(テ−プ.フロッピーディスク)

Ａｌ.洗浄1,1,1-トリクロルエタン．
有機インヒビター.変化解析

455169 有機高分子材料とフィルム

5171

拡散皮膜

化学エッチング.ＮａＯＨ.浴温.Ａｌ.Ｆ
ｅ.合金
ＴｉＮ.半導体特性.溶解反応.硫酸.
光電分極.光電位Ｓｎ.電気めっき.アノードロール.不溶性電極.ラプラス方程式.ガウス-シーデル法有機高分子.フィルム.表面.からみあい
スパッタリング.無電解めっき.電物理蒸着(PVD)
気めっき.コンデンサー
磁気記録.ビデオテープ.フロッ
その他(新技術を含む) ピーディスク.ポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）フィルム
化学蒸着(CVD)
透明導電性フィルム.ＩＴＯ
プラスチックフィルム.食品保存.
塗布,塗装
コーティング.ラミネート.ガスバリ
写真フィルム.セルローストリアセ
テート（ＴＡＣ）.ポリエチレンテレフ
塗布,塗装
タレート（ＰＥＴ）.下塗り.透明バッ
ク層.耐傷性.ハレーション防止
塗布,塗装印刷技術.プラスチックフィルム.イ
その他(新技術を含む)

5172 透明電導性フィルム

岡庭 宏

45

5

470 1994 技術解説

5173 食品保存のための有機フィルム

葛良忠彦

45

5

477 1994 技術解説

5174 写真用フィルムの表面機能付与

品川幸雄

45

5

484 1994 技術解説

45
45

5
5

491 1994 技術解説
455 1994 随想

455

498 1994 解説

無電解めっき455503 1994 技術論文

塗布,塗装

45

5

509 1994 技術論文

塗布,塗装

45

5

515 1994 原著論文(研究,研究論文) アノード酸化455519 1994 原著論文(研究,研究論文) 無電解めっき

455524 1994 原著論文(研究,研究論文) 無電解めっき

455529 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳455535 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳455539 1994 原著論文(研究,研究論文) 洗浄

Ａｌ.洗浄.1,1,1-トリクロルエタン.有機インヒビター.相関分析

455543 1994 原著論文(研究,研究論文) 無電解めっき

Ｎｉ．Ｐ.無電解めっき.錯化剤.リン
濃度.物理的性質

455547 1994 速報論文

化学蒸着(CVD)

ＳｎＯ２.薄膜.光ＣＶＤ.ＣＶＤ

45

5

549 1994 Letters

無電解めっき

5175 プラスチックフィルムと印刷技術
鈴木 侃
5176 小特集／有機フィルムと表面処理 によ 大工原茂樹
酸化亜鉛薄膜を中間層に用いる新無電解 吉識 肇.橋本和仁.
5177
めっき法
藤嶋 昭
河崎智恵香子.高尾
耐指紋処理鋼板の高温塗膜密着性に及5178
研治.戸塚信夫.森
ぼす鋼板表面及び試験環境の影響
戸延行.本庄 徹.大河崎智恵香子.高尾
耐指紋処理鋼板の高温塗膜密着性に及5179
研治.戸塚信夫.森ぼす電気亜鉛めっき層中の不純物の影響
戸延行.本庄 徹.大アルミニウムの硫酸浴陽極酸化における 吉村長蔵.牧之瀬浩
5180
増粘剤添加の影響
二無電解Ｎｉ−Ｓ−Ｐ合金めっき皮膜−電極 青木公二.福田元5181
保.金 東賢.鷹野
材料の作製
無電解Ｎｉ−Ｓ−Ｐ合金めっき皮膜−電極 青木公二.福田元5182
特性
保.金 東賢.鷹野
硫酸亜鉛浴からのアルミナ複合めっきに 津留 豊.近藤一雄.
5183
おける溶液ｐＨの影響
細川邦典.山田隆裕
ダイヤモンド砥粒を含むＮｉ電着膜の密着 横山俊雄.佐藤金
5184
性司.鈴木数夫
1.1.1−トリクロロエタンによるアルミニウム 安田守宏.渡部修
5185 の溶解反応に対する有機試薬の抑制効 一.安川真巳.安川三郎
果に関する相関分析
初川拓朗.逢坂哲
無電解Ｎｉ−Ｐ皮膜物性に与える錯化剤の5186
彌.千葉国雄.福田影響
豊.中尾英弘朴 正一.石田 正.
酸素・オゾン−テトラメチルＳｎ系光ＣＶＤ
5187
木村三郎.田村繁によるＳｎＯ2膜の低温化合成
治.三原敏行.田畑
無電解銅めっきにおける２.９−ジメチル−
5188
老田昌弘.本城克彦
１.１０−フェナントロリン添加剤の挙動
名倉英明.藤原誠
5189 Ｓｉ結晶中の加工歪みとデバイス特性
司.山田博之.横沢
幕末・明治期刊行図書にみる電気めっき 寺島慶一.海老名延5190
受容の一断面郎
5191 巻頭言：協会の健全な発展のために
松本誠臣
高エネルギー密度二次電池の現状と表面
5192
逢坂哲彌
処理技術

ＺｎＯ.無電解めっき.密着性.ファインパターン
塗膜密着性.クロメート皮膜.Ｚｎ.
電気めっき鋼板.プリント配線基板
塗膜密着性.クロメート皮膜.Ｚｎ.
電気めっき鋼板.プリント配線基板
硫酸イオン.輸率.生成皮膜効率.
増粘剤
無電解めっき.Ｎｉ.Ｓ.Ｐ.合金めっき.
電極材料
無電解めっき.Ｎｉ.Ｓ.Ｐ.合金めっき.
電極特性
複合めっき.アルミナ.硫酸亜鉛浴.
ｐＨ.Ｚｎ（ＯＨ）2
複合めっき.Ｎｉ.ダイアモンド砥粒.
密着性.電気めっき

Ｃｕ.無電解めっき.添加剤.フェナ
ントロリン.分光分析
降伏特性.研磨.研磨ひずみ層.シ
リコン結晶（Ｓｉ）

45

5551 1994 資料

機械研磨･研削

455554 1994 資料

その他(新技術を含む) 歴史.幕末.明治.図書.電気めっき

456567 1994 巻頭言(エッセイ456568 1994 総説

表面処理技術.二次電池.高エネ
ルギー密度
燃料電池.電極触媒.Ｐｔ.合金.腐その他(新技術を含む)
食.結晶構造水素吸蔵合金.金属水素化物.水その他(新技術を含む)
素電池.Ｎｉ−ＭＨ電池.表面修飾
その他(新技術を含む) Ｌｉ二次電池.陽極保護膜
電池セパレータ.グラフト重合.ア
その他(新技術を含む)
ルカリ二次電池.スルフォン化
半導体電極.表面状態.光起電力.
その他(新技術を含む)
超微粒金属.光触媒反応
コンデンサー.電気二重層.界面.
その他(新技術を含む)
活性炭.有機電解質
その他(新技術を含む)

5193 燃料電池の電極触媒における表面技術

渡辺政廣

45

6

574 1994 解説

5194 ニッケル−水素二次電池と表面処理

境 哲男

45

6

581 1994 解説

5195 リチウム二次電池における表面処理

山木準一

45

6

587 1994 解説

5196 電池セパレータの表面改質

海谷英男

45

6

593 1994 解説

5197 湿式太陽電池と表面処理

八重真治.中戸義禮

456599 1994 解説

5198 電気二重層コンデンサにおける表面技術 森本 剛

456605 1994 解説

5199 小特集／電池における表面技術 によせ 森田昌行
反応性ＤＣスパッタリングによるＴｉ−6Ａｌ−
5200 4Ｖ合金へのＴｉＯ被覆に及ぼす酸素流量 園田 勉.加藤 誠
の影響

45

6

612 1994 随想

45

6

613 1994 原著論文(研究,研究論文) 物理蒸着(PVD)- 24 -

反応性直流スパッタリング.Ｔｉ-Ｏ
被覆．Ｔｉ−６Ａｌ−４Ｖ合金.（生体適合性）

表面技術 1990〜1994

5201

Ｔｉ−Ｃ−Ｎ皮膜の摩擦特性とサイドトリ
マーの適用

田村元紀.安藤文
和.西田耕三.岩崎
好孝.小寺孝正

パルス電着したＺｎ−Ｎｉ合金めっき鋼板の高橋 彰.三吉康彦
構造と耐食性山崎澄男.古賀一
フレキシブルなＷＯ3／ＰＰＴＡ複合電析膜
5203
成.中曽修一.大浦の試作とそのエレクトロミック特性
博昭.津留寿昭.高ＰＶＤ法により作製したマグネシウム薄膜 李 明勲.小塚 巧.
5204の結晶配向性とモルフォロジー及びの耐 沖 猛雄
電析非晶質Ｎｉ−Ｍｏ−Ｐ合金膜の作製と 姚 素薇.曽 躍.郭5205
鶴桐.小若正倫
腐食挙動
炭酸ガスレーザによる表面処理助剤とし 志村洋文.鈴木正5206てのＢＮの利用
弘.深見 肇.廣實常電気めっきで得られるＮｉ−Ｐ合金めっきの
5207
津留 豊
歪みとリン含有量の関係
アルミニウム陽極酸化皮膜中のホウ素の 森崎重喜.小川吉
5208
分布寛.長瀬裕和酸系電析めっき浴でのポリエチレンイミン 湯浅 真.大谷 豊.
5209
誘導体添加物の影響とその金膜の耐食性 関根 功.鑓田聡明
5210 巻頭言：表面改質の多様性を求めて
山川宏二
5202

5211 プリント配線板技術の現状と将来

中井 通.國嶋真文

45

6

45

6

45

6

45

6

45

6

45

6

45

6

45

6

45

6

45

7

45

7

サイドトリマー.イオンプレーティン
グ.工具寿命.Ｔｉ−Ｃ−Ｎ被覆.剪
断．硬度.耐候性
パルス.電気めっき.Ｚｎ.Ｎｉ.合金
625 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳
めっき.結晶構造.腐食
ＷＯ3.ポリパラフェニレンテレフタ
630 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳
ルアミド（ＰＰＴＡ）.複合電着.エレ
クトロクロミック特性.機械的特性
ＰＶＤ.Ｍｇ.結晶配向.表面状態.耐636 1994 原著論文(研究,研究論文) 物理蒸着(PVD)
食性
Ｎｉ.Ｍｏ.Ｐ.電気めっき.合金めっき.
647 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳
非晶質.腐食
ＢＮ.レーザ光吸収剤.レーザ焼き
648 1994 原著論文(研究,研究論文) 熱処理(酸化･窒化･炭化)
なまし.レーザクラッド
Ｎｉ.Ｐ.皮膜.電気めっき.合金めっ653 1994 速報論文
電気めっき･電鋳き.内部ひずみ.ひずみ計.Ｐ含有
Ｂ含有量.即発ガンマ線分析（ＰＧ
655 1994 速報論文
アノード酸化Ａ）.アノード酸化皮膜.Ａｌ
Ａｕ.電気めっき.ポリエチレンイミ
657 1994 Letters
電気めっき･電鋳ン誘導体.レべリング.耐食性
667 1994 巻頭言(エッセイ)
プリント配線板.電子部品.高集積その他(新技術を含む)
668 1994 解説
回路.無電解めっき
プレコート鋼板.耐食性.成型性.塗673 1994 解説
電気めっき･電鋳
装容易性
プラスチック.表面改質.金属化.ト678 1994 解説
電気めっき･電鋳
リクロロエタンエッチング.加飾
表面増強赤外分光法（ＳＥＩＲＡ
物理蒸着(PVD)
686 1994
Ｓ）.ＦＴ−ＩＲ.固液界面.高分子表
Ｐｄ.下地めっき.Ｎｉ.パルスめっき.Ｆ
691 1994 技術論文
電気めっき･電鋳ｅ合金材.耐食性
密着性.薄膜.スパッタリング.イオ
695 1994 原著論文(研究,研究論文) 物理蒸着(PVD)
ンボンバード.Ｔｉ.Ｓｉ.Ａｒ
イオンプレーティング.ＴｉＣ.ＴｉＮ.積
700 1994 原著論文(研究,研究論文) 物理蒸着(PVD)
層皮膜活性金属.ろう付け.Ｔｉ箔.ジルコニ
705 1994 原著論文(研究,研究論文) その他(新技術を含む)
ア.接合力.ＴｉＯ層ダイアモンド状炭素（ＤＬＣ）.溶存710 1994 原著論文(研究,研究論文) 化学蒸着(CVD)
酸素.カソード分極
Ｎｉ.Ｃｏ.Ｂ.合金めっき.電気めっき.
714 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳
非晶質.多層膜.軟磁性619 1994 原著論文(研究,研究論文) 物理蒸着(PVD)

5212 自動車用鋼板の表面処理技術動向

森田順一

45

7

5213 自動車用プラスチックの表面処理技術

奥本忠興

45

7

45

7

45

7

45

7

45

7

45

7

45

7

45

7

45

7

720 1994 原著論文(研究,研究論文) 無電解めっき

457726 1994 原著論文(研究,研究論文) 化学エッチング･電解エッチング

45

7

731 1994 原著論文(研究,研究論文) アノード酸化457735 1994 原著論文(研究,研究論文) 洗浄

超音波.分解.ジクロロメタン

45

7

739 1994 速報論文

拡散皮膜

溶射.Ｎｉ.Ｃｒ.合金被覆.ホウ化層.
微少硬度

45

7

741 1994 速報論文

物理蒸着(PVD)

ＴｉＮ.イオンビーム.厚膜.無欠陥被
覆

45

7

743 1994 速報論文

化学蒸着(CVD)

45

7745 1994 Letters

洗浄

45

8

751 1994 巻頭言(エッセイ)458752 1994 総説

その他(新技術を含む)

45
45

8
8

757 1994 解説
763 1994 解説

その他(新技術を含む) 密着性.破壊強度.ひずみ.粘度.はその他(新技術を含む) 量子化学.密着性.高分子.金属界

45

8769 1994 解説

その他(新技術を含む)

シリーズ／表面物性評価技術−表面状態 安宅憲一.西川雄の解析(３２)−表面増強赤外分光法による 司.大澤雅俊
パラジウムめっき鉄合金材の耐食性に及 珍田 聡.吉岡 修.
5215
ぼす下地ニッケルめっき析出時のパルス 小泉良一
近藤市治.近藤憲
5216 Ｔｉ薄膜／Ｓｉ基板の界面構造と密着性
司.竹中 修.金原
反応性イオンプレーティングによる積層皮 桑野三郎.真野 毅.
5217
膜の形成とその評価
沖 猛雄
ろう接によるジルコニア・金属の接合強度
5218
王 立鐸.沖 猛雄に及ぼす活性金属Ｔｉ及びその反応層の影
陰分極法によるＤＬＣ膜の欠陥面積の決 田中慎一.斎藤英5219
定樹.森河和雄.棚木
電析めっき法によるＮｉ−Ｃｏ−Ｂ非晶質軟 小野寺元伸.清水一
5220
夫.土屋武司.渡辺
磁性多層膜の作製
田代雄彦.千葉国
アルミニウム上への無電解Ｎｉめっきの前5221
雄.福田 豊.中尾英
処理と初期析出の関係
弘.本間英夫
界面インピーダンス法による電解コンデン 日比野淳.興戸正5222
サ用Ａｌ箔のエッチング特性の検討
純.沖 猛雄Ａｌの硫酸浴陽極酸化における超音波照射5223
吉村長蔵.三村雅勇の効果
千葉 淳.古郡貴志.
5224 ジクロロメタンの超音波分解
呉 文昌
電解浸硼処理によるＮｉ−Ｃｒ合金溶射皮 森本純司.山口昭
5225
膜の改質
雄.亀川美幸木内正人.茶谷原昭
ダイナミックミキシング法による窒化チタン
5226
義.嶋岡智司.長坂
厚膜の形成
浩志.土屋直樹
成長中の半導体ダイヤモンド薄膜の伝導 秋葉幸雄.広瀬洋
5227
タイプのその場測定
一.黒須楯生.飯田
インピーダンス測定による金属洗浄過程 馬飼野信一.川口明
5228のIn-Situモニタリング
廣.山崎龍一.森 修
5229 巻頭言：協会と産学協同
五十嵐英郷
表面・界面制御技術から見た有機皮膜の
5230
村川享男
密着性
5231 高分子のレオロジーと接着五十嵐高5232 高分子・金属接着界面の量子化学
前田重義
金属と高分子材料接着系における密着性5233
磯山永三.田中克美
評価方法5234 小特集／有機皮膜の密着性 によせて 小泉宗栄
クロム酸溶液中でのクロム電着に対する5235
文 慶萬.沖 猛雄
分極挙動
イオンプレーティング法により作製した窒 森谷 茂.菅沼栄一.
5236
化チタン皮膜の高温特性
佐藤 昇
5214

5237 無電解ニッケルめっき廃液の酸化処理

王 存.日根文男

日野 実.西田典秀.
Ｚｎ／Ｎｉ二層めっき皮膜の耐食性に及ぼ
5238
平松 実.秋山光一.
すＹＡＧレーザ処理の影響
川崎仁士.勝村宗英
スパッタリングによる半導体ＴｉＯ2薄膜の 桑野三郎.伊藤芳5239
形成とＮＯガス感知特性の評価
典.畠山義則.田中
小浦延幸.加藤俊
5240 常温形溶融塩浴からのＮｂ−Ａｌ合金電析
雄.湯本英一郎
熱酸化皮膜に覆われたアルミニウムのア
高橋英明.大楽 貢.
5241 ノード酸化−アノード酸化皮膜の成長挙
瀬尾真浩
動に及ぼすアノード酸化温度の影響
ポリエステル樹脂系接着剤を塗布したポリ 林芳夫.藤井行治.
5242 塩化ビニル被覆鋼板の交流インピーダン 小池一幸.神田勝
ス法による耐久性評価
美.松田好晴交流インピーダンス法によるポリ塩化ビニ 林芳夫.藤井行治.
5243 ル被覆鋼板の耐食性に及ぼす下地鋼板 小池一幸.神田勝の影響の測定美.松田好晴5244 飲料缶用材料の塗膜下腐食挙動

森田順一.吉田光男

縄舟秀美.水本省
ＦＴＩＲ.ＡＴＲ法による無電解パラジウム−リ
三.小橋康人.杉本
ン合金めっき浴中の浴成分のモニタリング
直己.芳賀正記
高周波グロー放電発光分光法によるＡｌ上5246
林 孝行.鈴木良一
樹脂被覆材の分析

5245

シリーズ(歴史,データ,資料,現場管理技術,表面分析のケーススタディ)

ダブルジンケート法.初期析出過程.Ｎｉ.無電解めっき
交流インピーダンス.Ａｌ.電解エッ
チング.ピット形状
Ａｌ.アノード酸化.超音波効果.硫
酸浴.

半導体ダイアモンド.電子親和力.In-situ測定.伝導タイプ
洗浄.In-situ測定.インピーダンス.
油.電気抵抗表面汚染.アンカー効果.密着力.
低凝集力層（ＷＢＬ）
表面分析.密着性.金属.有機高分
子.被覆

45

8

778 1994 随想

458

779 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳458786 1994 原著論文(研究,研究論文) 物理蒸着(PVD)458791 1994 原著論文(研究,研究論文) 無電解めっき

458796 1994 原著論文(研究,研究論文) 拡散皮膜

458800 1994 原著論文(研究,研究論文) 物理蒸着(PVD)458805 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳

458810 1994 原著論文(研究,研究論文) アノード酸化

Ａｌ.加熱酸化膜.アノード酸化膜.
バリアー酸化膜

458818 1994 原著論文(研究,研究論文) 塗布,塗装

ポリ塩化ビニル.鋼板.耐食性.交流インピーダンス

45

8824 1994 原著論文(研究,研究論文) 塗布,塗装

ポリ塩化ビニル.鋼板.耐食性.交流インピーダンス

45

8

830 1994 原著論文(研究,研究論文) 塗布,塗装

458835 1994 研究ノート

無電解めっき458838 1994 速報論文

ライニング

- 25 -

三価クロムイオン.六価クロムイオン.電気めっき.カソード分極曲線
ＴｉＮ.イオンプレーティング.ＴｉＯ２
層.放物線速度定数
無電解めっき液.廃液処理.酸化.
触媒過程
耐食性.ＹＡＧレーザ.合金化.Ｚｎ−Ｎｉ合金薄膜.電気めっき
スパッタリング.ＴｉＯ2.半導体薄膜.
ＮＯ.感度
Ｎｂ.Ａｌ.合金めっき.電気めっき.常温溶融塩

塗膜下腐食.塗膜はく離.ティンフ
リー鋼板.すずめっき鋼板.カソー
フーリエ変換赤外全反射（ＦＴＩＲＡＴＲ）法.無電解めっき浴.･Ｐｄ.Ｐ.
合金めっき.モニタリング
グロー放電発光分光（ＨＦ-ＧＤＦ）
分析.樹脂被覆.スパッタリング

表面技術 1990〜1994

柴田俊夫.藤本慎司.大谷 豊.渡邊正則.平尾亨三.奥本賢.芝池博之酸系電析金めっき浴での有機添加物及び 湯浅 真.塘 健夫.
5248 パルスめっき法の相乗効果とその金めっ 宮館康夫.大谷三
き膜の耐食性郎.関根 功.葛島俊
熱拡散法により作製したスズ−ニッケル合5249
園田 司.松田好晴
金皮膜の耐食性に及ぼす熱処理の影響
5250 巻頭言：第９０回講演大会を迎えて
瀬尾真浩
5251 水質保全対策の実施状況
柏葉清志
分離・回収技術−イオン交換樹脂による
5252
福田 正
排水及び金属の回収
分離・回収技術−イオン交換膜を用いた
奥野和義.久保井義5253 電気透析法による無電解ニッケルめっき
夫
液の廃液減少化方法
分離・回収技術−膜分離技術による環境5254
川島敏行.多田直樹
対策事例
5255 分離・回収技術−油分離とリサイクル
星野芳明
分離・回収技術−水系脱脂剤を用いた洗
5256
鈴木征夫
浄と管理
Frank海外における環境規制とその対応技術− ALTMAYER.CEF(訳5257)小坂幸夫.上谷正
米国における規制の状況
明.横井池加子
海外における環境規制とその対応技術−
5258
村槙利弘
ドイツにおける環境規制−特に排水規制
5247

クロムイオン注入によるAlloy６９０の高温
高圧水中での溶解抑制

458840 1994 速報論文

イオン注入

イオン注入.高温水.６９０合金.不働態.ＸＰＳ458842 1994 Letters

電気めっき･電鋳

Ａｕ.電気めっき.有機添加剤.パル
スめっき.耐食性

458844 1994 Letters

拡散皮膜

Ｓｎ.Ｎｉ.合金.熱拡散法.耐食性

45
45

9
9

851 1994 巻頭言(エッセイ)
その他(新技術を含む) 水質.環境基準.排水基準.水質保852 1994 総説

459860 1994 技術解説

電気めっき･電鋳回収.イオン交換樹脂.廃水

459865 1994 技術解説

無電解めっきイオン交換膜.電気透析.Ｎｉ.無電
解めっき

45

9

869 1994 技術解説

その他(新技術を含む)

459875 1994 技術解説

洗浄

45

9

881 1994 技術解説

洗浄

45

9

887 1994 解説

その他(新技術を含む)

459893 1994 解説

その他(新技術を含む) 廃水.環境規制.ドイツ
その他(新技術を含む)

有機蒸気分離.浄化システム.工場廃水.再利用.膜分離
油分離.水系脱脂洗浄剤.リサイク
洗浄剤.洗浄システム.非フロン洗
浄.水系脱脂液ＵＳ規制.環境保護.廃水浄化.有
害化学物質

廃水.環境規制.ＮＩＥＳ.タイ.マレー
シア.インドネシア.フィリッピン
金属アレルギー.アレルゲン.Ｎｉ.Ｃ
その他(新技術を含む)
ｕ−Ｓｎ合金.表面

5259 東南アジアにおける環境規則

豊永 実

45

9

898 1994 解説

5260 金属アレルギーと表面処理

小林道雄

45

9

907 1994 解説

45

9

914 1994 座談会

459892 1994 随想

45

9923 1994 技術論文

459929 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳Ａｇ.光沢めっき.非シアン.電気
めっき.めっき浴.カソード分極.Ｎａ459934 1994 原著論文(研究,研究論文) その他(新技術を含む)

油/水（Ｗ／Ｏ）エマルジョン.光音
響分光法（ＰＡＳ）.相状態変化

459938 1994 原著論文(研究,研究論文) 化学蒸着(CVD)459942 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳459948 1994 原著論文(研究,研究論文) イオン注入

459954 1994 速報論文

物理蒸着(PVD)

イオンビーム.透明.電気伝導.ＴｉＮ459956 1994 Letters

その他(新技術を含む)

In-situＸ線回折（ＸＲＤ）.低入射
角ＸＲＤ.重水素吸蔵.Ｐｄカソード

45

9958 1994 Letters

電気めっき･電鋳

光沢Ｎｉめっき.Ｎｉ-Ｃｒ二層めっき.
電気めっき.ＣＡＳＳ試験.孔食数.
孔食深さ.対数平均モデル

石井 博.小坂幸夫.
座談会−テ−マ／表面処理業界と環境保5261
古賀孝昭.斉藤光
全−環境保全のあるべき姿を語る
雄.矢部 賢.山崎龍5262 小特集／表面処理業界と環境保全 によ 古賀孝昭
千田厚生.高野良比
無電解めっきによるインジウム−アンチモ5263
古.上林義広.森田
ン合金薄膜の形成
一弘
高光沢非シアン化銀めっき浴の分極挙動
5264
稽 永康.沖 猛雄に及ぼすチオ硫酸ナトリウム添加の影響
佐藤正壽.阿部一
Ｗ／Ｏエマルジョンの状態変化の光音響 浩.小林達朗.吉原
5265
佐知雄.佐藤栄一.
的手法による評価
白樫高史
柴田隆行.三上 強.
5266 薄膜の非破壊的付着強度評価法
尾関和秀.牧野英司.池田正幸ステンレス鋼基板電着ダイヤモンド砥石の 佐藤金司.鈴木数5267 作製と研削性能に及ぼす砥粒分布密度の 夫.横山俊雄.加川影響
穂積
多重エネルギーＢ+イオン注入によるＴｉＣ
5268
田村元紀.大谷三郎−Ｎ膜の結晶構造変化
ダイナミックミキシング法による透光性ＴｉＮ 木内正人.茶谷原昭5269
超薄膜の形成義
電気化学計測法と組合せたIn-Situ薄膜Ｘ
松崎 晃.仁科辰夫.
5270 線回析法−パラジウムカソード内への重内田 勇
水素吸蔵過程への適用
5271

ＣＡＳＳ試験によって生じた光沢Ｎｉ−Ｃｒ
めっき鋼板における孔食数の分布

藤田 実.横山真一郎.松本誠臣5272 巻頭言：転機を迎えた表協セミナ−

海老名延郎

45

10

967 1994 巻頭言(エッセイ)

5273 腐食測定法の現状と将来

柴田俊夫

45

10

968 1994 総説

5274 直流分極法と交流インピーダンス法

馬飼野信一

45

10

973 1994 解説

5275 電気化学的ノイズ解析

橘 孝二

45

10

979 1994 解説

呉 徹.杉本克久

4510985 1994 解説

升田博之

45

10

992 1994 解説

アコースティック・エミッション−原波形とモ
竹本幹男−メントテンソル解析

45

10997 1994 解説

45

10 1003 1994 解説

45

10 1009 1994 解説

5276

新しいエリプソメトリー−分光エリプソメト
リーと赤外エリプソメトリー

5277 走査プローブ顕微鏡
5278

5279 水晶振動微量天秤法(ＱＣＭ)

瀬尾真浩

カレントインタラプタ法による塗膜下腐食
田辺弘往
測定
フィ−ルド用交流インピーダンス測定装置 松岡和巳.本間宏
5281
による鋼構造物塗装の劣化診断
二.高岡正樹.中沢
5282 小特集／腐食測定法の現状と将来 によ 馬飼野信一
チャ−ジ間のＴｉＮ及びＴｉＣ皮膜特性評価 中沢洋二.浅見克
5283−Ｘ線法による残留応力測定の有効性
敏.佐藤仁志
横山一男.金野英
モリブデンオキシ水酸化物を利用したアル5284
隆.馬場優子.古市
ミニウムアノード酸化皮膜の物性の向上
隆三郎
光沢非シアン化銀めっきに及ぼすｐＨ及び5285
稽 永康.沖 猛雄
温度の影響
5280

5286

酸性溶液中における金属Ｃｏと無電解Ｃｏ 江面郁子.斎藤哲−Ｂ合金めっきの耐食性評価
男.佐藤栄一無電解Ｐｄ−Ｐ合金めっき浴における分極 縄舟秀美.水本省
特性
三.西川憲以.芳賀
電気Ｚｎめっき鋼板のはんだ付け性に及ぼ 小池一幸.藤本準
5288
すめっき液添加剤の影響
一.矢崎勝仁.神田

5287

その他(新技術を含む) 日本.海外.廃水処理.リサイクル

無電解めっき無電解めっき.Ｉｎ．Ｓｂ.合金めっき.
ＴｉＣｌ3

密着性.密着力測定法.ダイアモン
ド薄膜.熱フィラメントＣＶＤ.アコー
スティックエミッション（ＡＥ）
ダイアモンドホイール.電着ホイー
ル.ステンレスホイール基盤.砥石.
砥粒分布
イオン注入.Ｂ.結晶構造.ＴｉＣＮ被覆.微少硬度腐食測定法.電気化学的方法.化
学的方法.物理的方法.走査プ
腐食.分極法.交流インピーダンス
その他(新技術を含む)
法.分極抵抗電気化学的ノイズ.孔食.周波数
その他(新技術を含む) 分析（ＦＦＴ）.腐食モニタリング.不働態破壊
分光エリプソメトリー.赤外線エリ
その他(新技術を含む)
プソメトリー.薄膜
走査トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）.原その他(新技術を含む) 子間力顕微鏡（ＡＦＭ）.水溶液雰
囲気.原子.ナノプロセス
原波形.モーメントテンソ
その他(新技術を含む)
ル.Clnvers̲Problem.反射パター
水晶振動微量天秤法（ＱＣＭ）.金その他(新技術を含む) 属薄膜.微量腐食.大気腐食.水溶液腐食
カレントインタラプタ.有機被膜.下
塗布,塗装
層腐食
その他(新技術を含む)

45

10 1015 1994 解説

45

10

塗布,塗装

45

10 1021 1994 技術論文

物理蒸着(PVD)

45

10 1026 1994 技術論文

アノード酸化45

10 1029 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳45

10 1036 1994 原著論文(研究,研究論文) 無電解めっき

45

10 1042 1994 原著論文(研究,研究論文) 無電解めっき

45

10 1047 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳

劣化.診断.塗膜.鋼構造物.

978 1994 随想- 26 -

硬質膜.残留応力.チャージ.Ｘ線法.ひっかき試験
カソード析出.モリブデンオキシ水
酸化物膜.酸化物被覆.Ａｌ.陽極酸
化.硬質陽極酸化処理
Ａｇ.光沢めっき.非シアン.電気
めっき.めっき浴.ｐＨ.浴温
Ｃｏ.Ｂ.無電解めっき.合金めっき.
分極挙動.Ｘ線光電子分光（ＸＰ
Ｓ）スペクトル.アノード溶解機構.
Ｐｄ.Ｐ.合金めっき.無電解めっき.
分極.混成電位理論
電気亜鉛めっき鋼板.めっき浴添
加物.ハンダ付け性

表面技術 1990〜1994

プレコート鋼板の耐汚染性に及ぼす樹脂 重国智文.大岸英
物性の影響
夫.成瀬義弘.森戸
電位制御によるアルミニウム箔の交流エッ 鐘 暉.興戸正純.沖
5290
チング特性
猛雄
津留壽昭.小林繁
5291 超音波照射下におけるＰｔ−Ｍｏ合金電着夫.山崎澄男.柳ヶ瀬
津留壽昭.白水 森.
電析Ｐｔ−Ｍｏ合金皮膜の透過電子顕微鏡
5292
小林繁夫.山崎澄による観察
男.柳ヶ瀬勉
5289

5293

アルミニウム多孔質アノード酸化皮膜の水
小野幸子.増子 昇
和封孔に対する皮膜含有アニオンの効果

5295 巻頭言：地球環境と資源のこと

釜崎清治.池渕 博.
田辺良美
児玉俊一

5296 無機分離膜への期待木村尚史

5294 鉄／金ｕ電着膜界面への転位の導入

45
45
45

ポリエステル.メラミン橋かけ密度.
耐汚染性
交流エッチング.Ａｌはく.電位規制.
10 1059 1994 原著論文(研究,研究論文) 化学エッチング･電解エッチング
ピット形状
超音波照射.Ｐｔ.Ｍｏ.合金めっき.
10 1066 1994 研究ノート
電気めっき･電鋳電気めっき
10 1053 1994 原著論文(研究,研究論文) 塗布,塗装

45

10 1068 1994 速報論文

電気めっき･電鋳45

10 1070 1994 速報論文

アノード酸化45

10 1072 1994 Letters

電気めっき･電鋳45

11 1079 1994 巻頭言(エッセイ)45

11 1080 1994 解説

電気めっき.Ｐｔ.Ｍｏ.合金めっき.透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）.微結晶
Ａｌ.アノード酸化膜.封孔処理.水
和処理.透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）.
皮膜含有アニオン
電気めっき.二層めっき.Ｆｅ.Ａｕ.エ
ピタキシアル成長.界面.転位
分離膜.無機メンブラン.セラミック

5297

高温超伝導体物質開発における最近の進上原政智.秋光 純
展455298 ＴｉＮ.(Ｔｉ.Ａｌ)Ｎ.ＣｒＮ膜の高温酸化

市村博司

45

5299 合金めっきの機能化と材料設計

小見 崇

45

ブリッジマン法による金属単結晶の作製と渡辺 徹.中田 毅
表面処理研究への応用シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
5301 の解析(３３)−紫外光電子分光法(ＵＰＳ). 真田則明.福田安生
逆光電子分光法(ＩＰＥＳ)
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態
5302 の解析(３４)−高分解電子エネルギー損 大島忠平
失分光法
5300

5303

窒素中での銀／ニッケルめっき間の銅スト
珍田 聡.吉岡 修
ライクめっきの熱拡散挙動

ニッケルめっきのはんだ付け性に及ぼす
呉 文昌.千葉 淳
酸化皮膜の影響Ａｒプラズマによるダイヤモンドのプラズマ 祖父江和治.光田好5305
ＣＶＤ
孝.増子 昇.今井八
マイクロ波プラズマＣＶＤによるニッケル多5306
坂本幸弘.高谷松文
結晶へのダイヤモンド合成
熱拡散法により作製したスズ−ニッケル合5307
園田 司.松田好晴
金皮膜の分極特性に及ぼす熱処理の影
クロムめっき浴からの窒化クロムの誘起共
5308
森河 務.横井昌幸
析
無電解ＮｉＲｅＰ合金薄膜抵抗体へのパル5309
川口 純.逢坂哲彌
ス加熱法の適用
ホウ酸硫酸混合電解液を用いるアルミニ
5310
森崎重喜.長瀬裕和
ウムの陽極酸化とホウ素含有量
エポキシ樹脂塗装ＡＺ９１Ｄマグネシウム
5311
佐藤文博.浅川義彦
合金の腐食挙動
軟鋼の腐食に対するポリビニルピリジン塩 岡原治男.香西道
5312
酸塩の抑制効果
雄.松田好晴5313 巻頭言：会誌編集委員会から
内田 勇
5304

5314 薄膜技術と表面技術

45
45
45
45
45
45
45
45
45
45
45
45
45
45

逢坂哲彌.黒川義昭

45

5315

新しい電気・電子.磁気特性の発現を探る
小浦延幸.根岸秀之−湿式法による酸化物超伝導膜の作製

45

5316

新しい電気・電子.磁気特性の発現を探る
松本泰道−電解による複合酸化物薄膜の作製

45

5317

新しい電気・電子.磁気特性の発現を探る
志村美知子−有機機能性分子の薄膜化技術

45

5318

新しい電気・電子.磁気特性の発現を探る
篠原正典.井上直久−半導体超薄膜と量子井戸

45

新しい電気・電子.磁気特性の発現を探る
釜崎清治−水素吸蔵合金薄膜
新しい電気・電子.磁気特性の発現を探る
5320
金子正彦
−高密度光磁気記録用薄膜
5319

5321 薄くて強い膜−ダイヤモンド膜の作製

明石和夫

薄くて強い膜−プラズマＣＶＤ法によるアモ
5322
鎌田喜一郎
ルファス炭化・窒化物膜
薄くて強い膜−ドライプロセスによる新表
5323
木部 洋
面処理鋼板の開発
薄くて強い膜−亜鉛系めっき鋼板の防食
5324
加藤忠一
コーティング
薄くて強い膜−ゾル−ゲル法によるステン
和泉圭二
5325
レス鋼へのコーティング
5326 ウェットプロセスによる材料形成技術

松村宗順

基礎・新技術−表面実装及び相互接続を
縄舟秀美.城戸靖彦
5327
目的としたプリント配線板の表面処理
5328 基礎・新技術−超格子薄膜の作製の可能 渡辺 徹
5329 分散めっきにおける共析機構林 秀考5330 特集／薄膜技術の現状と展開によせて 吉原佐智男
ＮｄＤｙＦｅＣｏ光磁気ディスク媒体における5331
小川 渉.川崎 実
高感度記録膜の開発
中島宏幸.桝井正
反応性スパッタ法により作製した銅酸化物
5332
義.金子富士男.和薄膜の電気的性質
田達明.竹内 学
アークイオンプレーティング(ＡＩＰ)法による
姜 求賢.醍醐幸雄.
5333 Ｔｉ−Ｚｒ系合金の炭化物及び窒化物の薄内田裕之.黄 燕清
膜作製

45
45
45
45
45
45
45
45
45
45
45
45
45

その他(新技術を含む) メンブラン,ガス分離.モレキュラー

シーブメンブラン
高温超電導体.Ｈｇ基超電導体.Ｃ
ｕ−ＣＯ3系.無限層構造.高圧合イオンプレーティング.被覆.酸化.
11 1090 1994 解説
物理蒸着(PVD)
拡散.活性化エネルギー
合金めっき.設計された合金めっ
11 1096 1994 解説
電気めっき･電鋳き.準安定合金.安定度.合金析出
機構.クラスター化学
単結晶.ブリッジマン法.表面処理.
その他(新技術を含む)
11 1100 1994 解説
Ｃｕ.Ａｌ
紫外光電子分光法（ＵＰＳ）.逆光
その他(新技術を含む) 電子分光法（ＩＰＥＳ）.不働態化.Ｃ11 1106 1994
６０高分解電子エネルギー損失分光
その他(新技術を含む) 法（ＨＲＥＥＬＳ）.表面フォノン.ポラ
11 1111 1994
リトン.双極子散乱.衝突散乱
Ｃｕ.フラッシュめっき.拡散.熱処理.
11 1117 1994 技術論文
電気めっき･電鋳Ａｇ.Ｎｉ.合金めっき.オージェ分光
分析法（ＡＥＳ）
はんだ付け性.ＮｉＯ膜.カソード還11 1121 1994 技術論文
電気めっき･電鋳元ダイアモンド合成.Ａｒプラズマ.プ
11 1126 1994 原著論文(研究,研究論文) 化学蒸着(CVD)
ラズマＣＶＤ.プラズマガス.原子状ダイアモンド合成.マイクロ波プラ
11 1130 1994 原著論文(研究,研究論文) 化学蒸着(CVD)
ズマ.Ｎｉ.単結晶
11 1084 1994 解説

その他(新技術を含む)シリーズ(歴史,データ,資料,現場管理技術,表面分析のケーススタディ)シリーズ(歴史,データ,資料,現場管理技術,表面分析のケーススタディ)

11 1136 1994 原著論文(研究,研究論文) 拡散皮膜

Ｓｎ.Ｎｉ.合金化.熱拡散.分極特性

Ｃｒ.電気めっき.Ｎ.ＣｒＮ.化学状態.
11 1141 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳
Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）
Ｎｉ．Ｒｅ．Ｐ.合金めっき.無電解
11 1146 1994 原著論文(研究,研究論文) 無電解めっき
めっき.電気抵抗.非晶質膜.パル
Ａｌ.アノード酸化.即発ガンマ線ス
11 1152 1994 原著論文(研究,研究論文) アノード酸化
ペクトル分析（ＰＧＡ）.Ｂ含有量
Ｍｇ.エポキシ樹脂.被覆.腐食挙11 1158 1994 原著論文(研究,研究論文) 塗布,塗装
動
腐食抑制効果.ポリビニルピリジ
その他(新技術を含む)
11 1164 1994 速報論文
ン塩酸塩.軟鋼.腐食.塩酸
12 1171 1994 巻頭言(エッセイ)
表面処理技術.薄膜.湿式製膜法.
その他(新技術を含む)
12 1172 1994 総説
乾式製膜法
酸化物.超電導体.薄膜.湿式製膜
12 1179 1994 解説
塗布,塗装法.電気泳動電着.塗布熱分解.ゾ
ル-ゲル法
電気化学的合成.酸化物薄膜.ペ12 1184 1994 解説
アノード析出ロブスカイト.
分子薄膜.フタロシアニン.分子配その他(新技術を含む) 向.ラングミュアー（ＬＢ）法.分子線12 1189 1994 解説
エピタキシー（ＭＢＥ）法.蒸着重量子井戸.共鳴トンネル構造.界その他(新技術を含む) 面平坦性.有機金属気相成長法
12 1194 1994 解説（ＭＯＶＰＥ）法.分子線エピタキ
水素吸蔵合金.金属水素化物.薄12 1198 1994 解説
物理蒸着(PVD)
膜
光磁気ディスク.磁性多相膜.磁性その他(新技術を含む)
12 1203 1994 解説
薄膜ダイアモンド.薄膜.析出.プラズマ.
12 1208 1994 解説
化学蒸着(CVD)
多結晶
プラズマＣＶＤ.薄膜.Ｓｉ３Ｎ4−Ｓｉ
12 1215 1994 解説
化学蒸着(CVD)
Ｃ膜.ダイアモンド状炭素（ＤＬＣ）
表面処理鋼板.ＰＶＤ.ＣＶＤ.金属
12 1220 1994 解説
化学蒸着(CVD)
皮膜.セラミック皮膜
亜鉛めっき鋼板.クロメート皮膜.
12 1226 1994 解説
化成処理
樹脂膜.耐食性.塗料密着性
ゾルゲル法.ステンレス鋼.コー
熱分解･ゾル-ゲル法
12 1230 1994 解説
ティング法.耐熱性.耐酸性.撥水
湿式製膜法.機能材料.防食.機械12 1235 1994 解説
電気めっき･電鋳
特性.電気特性.物理特性
Ｐｄ.無電解めっき.プリント配線板.
12 1240 1994 解説
無電解めっき
表面実装.相互接続
12 1244 1994 解説
電気めっき･電鋳超格子.多層めっき.製作方法.薄12 1250 1994 解説
電気めっき･電鋳
分散めっき.共析.ＣｕＳＯ4系
12 1254 1994 随想
光磁気ディスク.磁界変調法.内部
12 1255 1994 技術論文
物理蒸着(PVD)
ひずみ

45

12 1260 1994 原著論文(研究,研究論文) 物理蒸着(PVD)

反応性スパッタリング.Ｃｕ２Ｏ.Ｃｕ
Ｏ.薄膜.電気抵抗.光導電性

4512 1270 1994 原著論文(研究,研究論文) 物理蒸着(PVD)

アークイオンプレーティング（ＡＩＰ）.Ｔｉ−Ｚｒ合金.被覆.硬質窒化物.硬質炭化物.セラミック- 27 -

表面技術 1990〜1994

5334

高周波プラズマＣＶＤ法によって形成され並木恒久.平川叙夫
た酸化ケイ素膜のガス透過性

マイクロ波プラズマＣＶＤによるダイヤモン
坂本幸弘.高谷松文
ドの低温合成百瀬義広.菅原郁
Ｃ環式化合物プラズマ重合膜による膨張
5336
夫.岩波和英.西田
黒鉛上のカソード反応の抑制
達也.藤田 淳
無電解Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金めっき皮膜の腐食 青木公二.金 東賢.
5337
特性
鷹野 修
近藤市治.近藤憲
Ｔｉ接着層によるＰｔ／ＴｉＯ2間の密着性向
5338
司.竹中 修.白井上とその影響誠.太田 実.金原
Ａｕ単結晶薄膜上へのＦｅ電析膜のエピタ 釜崎清治.池渕 博.
5339
キシャル成長と界面転位の導入
田辺良美
伊勢昌伸.榎本英5340 電析Ｆｅ−Ｃ合金膜の相変態と硬化変化 彦.中永 陽.寺田茂
巨.山内英子.小見Ｔｉ−Ｎｉ形状記憶合金薄膜の変態温度に 佐藤守夫.石田 章.
5341
及ぼす熱サイクルの効果
武井 厚.宮崎修一
上宮成之.梶原昌5342 ＣＶＤ法によるパラジウム複合膜の作製
高.古関美保.小島
5343 二液相界面における金薄膜の製造
三井俊明.金児紘征
無電解Ｃｏ−Ｐめっきへの電解の併用によ松原 浩.山田明文
5344
る磁気特性の変化
吉村俊一.吉原佐知
定電位パルス電解によるニッケル薄膜の5345
雄.白樫高史.佐藤作製
栄一
原田 寛.平田 章.
5346 ＴｉＡｌＮ／Ｔｉ薄膜の作製方法
小柳 剛
5335

45
45
45
45

プラズマＣＶＤ.ＳｉＯx.ポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）.ヘキサメチ
ルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）.ガス
ダイアモンド.ＣＶＤ.マイクロ波プ
12 1276 1994 原著論文(研究,研究論文) 化学蒸着(CVD)
ラズマ.低温成長
プラズマ重合.炭素環状化合物.カ12 1282 1994 原著論文(研究,研究論文) その他(新技術を含む) ソード分極.膨張黒鉛.Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）
耐食性.Ｎｉ．Ｆｅ．Ｂ.合金めっき.無12 1287 1994 原著論文(研究,研究論文) 無電解めっき
電解めっき.5％ＮａＣｌ

12 1276 1994 原著論文(研究,研究論文) 化学蒸着(CVD)45

12 1292 1994 原著論文(研究,研究論文) 熱処理(酸化･窒化･炭化)

密着性.薄膜.Ｔｉ．Ｐｔ.にかわ効果(Glue-effect）

45

12 1297 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳Ｆｅ.電気めっき.エピタキシアル成
長.二層膜.界面転位

45

12 1302 1994 原著論文(研究,研究論文) 電気めっき･電鋳Ｆｅ．Ｃ．合金めっき.マルテンサイ
ト.加熱.析出硬化45

12 1308 1994 速報論文

Ｔｉ−Ｎｉ.形状記憶合金.スパッタリ
ング.マイクロマシン

物理蒸着(PVD)

45

12 1310 1994 速報論文

化学蒸着(CVD)

Ｐｄ.複合膜.Ｈ2.製膜.ＣＶＤ

45

12 1312 1994 速報論文

電気めっき･電鋳45

12 1314 1994 速報論文

無電解めっき電気めっき.界面現象.金属薄膜.
Ｃｏ．Ｐ.合金めっき.無電解めっき.
電解.磁気特性45

12 1316 1994 Letters

電気めっき･電鋳

電気めっき.定電位パルス電解.Ｎ
ｉ.薄膜.表面形状

45

12 1318 1994 Letters

物理蒸着(PVD)

ＴｉＮ.ＴｉＡｌＮ.硬質皮膜.マグネトロ
ンスパッタリング.Ｔｉ．下地層- 28 -