表面技術 2000〜2002
タ イ ト ル著

者

巻

号 ページ発行年 記事の種類

西暦2000年を迎えて
星野重夫｢表面処理における機能水の未来を探る｣ 奥野和義、鈴木厚の企画に当たって生
水の特性と活性水・機能水およびその利
久保田昌治
用技術

51

1

1 2000 巻頭言

51

1

2 200051

13 2000 解説

超臨海水による有害廃棄物処理

大信正紀、鈴木明

51

1

11 2000 解説

脱気水による配管防食と洗浄の強化

田井誠二

51

1

16 2000 解説

51

1

21 2000 解説

51

1

27 2000 解説

51

1

34 2000 解説

磁気処理水による防錆・赤水防止効果 鈴木雅史、吉村昇
トンネル顕微鏡による電極界面の局所表 澤口隆博、水谷文
面反応イメージング
雄
原子間力顕微鏡によるリン酸カルシウム
小沼一雄
塩結晶の成長・溶解過程その場観察

キーワード

Advanced Water,Active Water,Activated
Water,Functional Water,Strongly Electrolyzed Water，Supercritical Water,Oxidation,PCB Dioxin,Waste
Treatment
Deaerated Water,Corrosion and Protection,Ultrasonic
Cleaning
MagneticTreatment,Rust-Proofing
Electrochemical STM,In Situ Imaging,Interfacial
Structures,Surface Reaction
AFM,Growth Mechanism,Calcium Phosphate, In Situ
Observation
Scanning Probe Microscopy(SPM),Controlled
Environment,Scanning Tunneling Microscope(STM),
Atomic Force Microscope（AFM）
Scanning Electrochemical
Microscopy,Ultramicroelectrode,ElectrodeSurface,Biological Materials,Microfabrication
Near-Field Optical Microscope,Optical Fiber Probe,LB
Films,Organic EL Device,Fluorescence lmaging
Electrodeposition,Interfacial Phenomena,Metallic
Film,Oxide Film, Polymer Film
Two-Beam lnterferometry,Newton's Rings,MultipleBeam lnterferometry,Michelson lnterferometer

制御雰囲気下におけるプローブ顕微鏡

大田昌弘、粉川良平51

142 2000 解説

電気化学顕微鏡の基礎と応用

珠玖仁、大矢博昭、
末永智一

51

1

46 2000 解説

51

1

53 2000 解説

51

1

59 2000 解説

51

1

64 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

1

72 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

1

75 2000 研究論文

Jet Pretreatment,Adhesive Strength,SiC
Particle,Hook-shaped Segment,Surface Morphology

51

1

81 2000 研究論文

Monte Carlo Simulation,Electrodeposition,Film,Defect51

1

87 2000 研究論文

Vapor Deposition,Al-Cr Alloy Coating,Corrosion
Resistance,Crystal Structure,Corrosion Product51

1

94 2000 研究論文

Carbon,Na lmplantation,SIMS,RBS,Atomic Density

51

1

99 2000 速報論文

Electroless Plating,Formaldehyde,Lactic
Acid,Deposition Rate,Luster

近隣場光学顕微鏡による表面の解析とイ
村松宏、山本典孝
メージング
二液相界面電析法による薄膜の製造とそ
金児紘征の形態
光学顕微鏡の正しい使い方（３）−表面小松啓
マイクロポトグラフィーの測定
左利きと右利き
馬渕勝美
ＳｉＣ粒子混合電解液により噴流前処理
竹内宏充、恒川好した基材とＮｉ−Ｐめっき皮膜の密着強樹、奥宮正洋度
薄膜成長のモンテカルロシミュレーショ 金子豊、樋度保秋、ン‑表面構造と格子欠陥−
小原勝彦、村上透
加藤淳、川福純司、
蒸着Ａｌ−Ｃｒ合金めっき鋼板の耐食性
荒賀邦康、木原敦
ガラス状炭素へイオン注入したＮａの深 岩木正哉、寺島慶
さ分布と注入層の密度変化
一
ヒドラジンを還元剤とする無電解Ｎｉ 八重真治、伊藤潔、
めっき膜の光沢性の向上
山岸憲史、松田均-1-

表面技術 2000〜2002
杉村博之、判治貴
単分子膜リソグラフィと選択無電解めっ之、牛山和哉、高井きによる金微細構造の作製
治
1999年北海道夏期セミナー−環境・リサ
牧野英司
イクルと表面技術−
ようこそ東京理科大学町田キャンパスへ 小浦延幸

Organosilane Self-Assembled
Monolayer,Photolithography,Electroless Gold Plating

51

1

101 2000 速報論文

511

103 2000 支部だより

512

127 2000 巻頭言

51

2

128 2000 解説

512

134 2000 解説

512

141 2000 解説

51

2

147 2000 解説

512

155 2000 解説

512

161 2000 解説

512

167 2000 解説

512

175 2000 解説

512

181 2000 解説

走査型白色干渉法を用いた表面解析技術 松下宏

512

186 2000 ｼﾘｰｽﾞ

統計に見る日米研究環境事情

512

191 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

2

193 2000 研究論文

Electroless Nickel Plating,Optical Fiber,Dissolved
Oxygen,Catalytic Poisoner

512

199 2000 研究論文

Laser-Enhanced Electroless Plating,Nickel Line
Pattern,Polyimide,Alkaline Etching,Argon Laser

51

2

206 2000 研究論文

CO2 Laser Working,Aluminum.Transparent
Absorbent,Polysilazane

水の基礎化学片岡洋右

水質と金属の腐食
藤井哲雄
地球にやさしい機能水洗浄技術‐半導今岡孝之、山中弘
体・液晶パネル製造における適用を中心
次として
大気圧非平衡プラズマプロセシングの特小駒益弘
徴
導電セラミックスをトリガーとする大気 清川和利、杉山和
圧非平衡プラズマプロセシング
夫
熱プラズマを利用した材料プロセッシン
石垣隆正
グ
プラズマ容赦によるセラミックスを用い
佐々木光正
た表面改質
磁気記録メディアにおけるドライプロセ
本多直樹
ス技術による極薄表面の制御
宇宙環境における固体潤滑薄膜のトライ
西村允
ボ特性
本間敬之
小林健、石橋純一、
稲葉裕之、物部秀微小領域への無電解ニッケルめっき
二、大津元一、本間英夫
レーザ無電解ニッケルめっきによるポリ 牧野英司、高木修、
イミド基板上のマスクレスパターン形成 柴田隆行
西田典秀、國次真
透明膜の被覆によるアルミニウムのＣＯ 輔、金谷輝人、野上
２ レーザ加工性の向上
輝夫、大家利彦、米田理史-2-

Molecular Dynamics,Molecular lnteraction,Liquid
Water,Hydrogen Bond
Corrosion,Water Quality,Carbonate,Water Pollution
Ozone Dissolved Water,Hydrogen Dissolved Water.Wet
Cleaning Process
Atmospheric Pressure,Glow Discharge,Surface
Treatment,Deposition,Powder Treatment, Adhesion
Non-Equilibrium Plasma,AtmosphericPressure,Microwave Irradiation,Perovskite-Type
Thermal Plasma,RF induction Plasma,Materials
Processing,Powder Processing, Pulse-Modulated
Plasma Generation
Plasma Coating,Ceramic Coating,Powder
Manufacturing,Thick Coating
Sputtering,Magnetic Recording Media,Ultra-Thin
Film,Crystal Orientation,Small Grained Microstructure
Solid Lubricant,Bonded Film,Tribological
Property,Space,Solid Lubricant Film
Scanning White Light lnterferometry,FDA(Frequency
Domain Analysis）

表面技術 2000〜2002
赤沼正信、田中大
TiO２‑Ｎｉ複合粉末を用いたレーザアロ
之、佐藤貴紀、高橋
イングによるアルミニウムの表面改質
義美、池田正幸
山岸憲史、八重真
無電解めっきの活性化前処理により絶縁
治、西羅正芳、松田
性基板上に形成された触媒核の直接観察
均
第100回講演大会報告
久米道之
豊かな環境への表面技術
高谷松文｢切削工具における表面改質技術の現状｣ 野口裕臣、竹内貞の企画に当たって雄
イオン窒化における切削工具の現状
寺門一佳
ラジカル窒化処理を応用した切削工具の石井芳朗
現状
ダイヤモンドコーティングによる切削工
神田一隆
具の現状
ＰＶＤによるコーティング切削工具の現村上良彦
状‐エンドミル・ドリル・タップ
ＤＬＣコーティングによる切削工具の現熊谷泰
状
ナノインデンテーション法の装置と原理 大村孝仁
吉田豊信、大村孝仁金原粲、菊池直人、
多層構造薄膜のナノインデンテーション
草野英二

ＶＡＭＡＳにおける国際共同研究

耐摩耗性薄膜のナノインデンテーション 杉村博之、高井治
トリアジンジチオールを用いる"有機
森邦夫
めっき と応用技術
走査型レーザー顕微鏡を用いた表面性状
上野明の観測
射出成形とブロー成形
中村伸之
有機酸塩添加脂肪族モノアミン浴中での 志野元信、野口駿
アルミニウムの陽極酸化雄
酸性水溶液中における鋼の水素吸蔵量 秀島康文、斉藤明
電解コンデンサ用高純度アルミニウム箔
の直流エッチング挙動に及ぼす表面形態 大澤伸夫、福岡潔
の影響

51

2

210 2000 研究論文

Laser Alloy,Surface Modification,Aluminum,Composite
Powder,Uniform Structure512

215 2000 速報論文

Sensitization,Autocatalitic
Plating,Catalyzation,AFM,Mica

51
51

2
3

217 2000 講演会だより
225 2000 巻頭言

51

3

226 200051

3

227 2000 解説

513

232 2000 解説

51

3

238 2000 解説

513

243 2000 解説

51

3

250 2000 解説

51

3

255 2000 解説

51

3

262 2000 解説

51

3

266 2000 解説

51

3

270 2000 解説

51

3

276 2000 解説

51

3

284 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

3

291 2000 ｼﾘｰｽﾞ

513

295 2000 研究論文

513

301 2000 研究論文

Anodic Oxidation,Mono-Amine Baths Anodization of
AluminumHydrogen Content,Steel, HCI Solution, H 2SO4 Solution

513

307 2000 研究論文

DC Etching,Aluminum Foil,Graining,Replica,SEM-3-

Ion-Nitriding,Glow Discharge,CuttingTool
Plasma Nitriding,Radical,Cutting Tool ,Duplex
Coating,High Speed SteelDiamond,Diamond Coating,Cutting Tools,Twist
Drills,End Mills
Performance of PVD Coated Tools
Diamond-like Carbon,Tribology,Abrasive
Wear,Adhesion
Nanoindentatlon,Indentation
Apparatus,Hardness,Young's Modulus,Atomic ForceThin Film,Coating,Nanoindentation,Round-Robin
Test,Plastic Hardness,Elastic Modulus
Nanoindentation,Hardness,Multi-Layered Films
Hardness,Wear
Resistance,Nanoindentation,Amorphous
Polymerization,Coditions,Film
Structure,Adhesion,Release Mold,Corrosion Inhibition
Scanning Laser Microscope,Confocal
Microscope,Focal Depth,Surface Roughness表面技術 2000〜2002
安住和久、由桐拓
LiOHベースのジンケート溶液中における真、瀬尾眞浩、田代
アルミニウムの２回ジンケート前処理
雄彦、川島敏ワット浴からのαアルミナ粒子とＰＴＦ 林秀考、河原勲、田Ｅ粒子の同時共析里伊佐雄
菊池麻知子、山下
細菌および酵母の殺菌挙動に及ぼす酸化 嗣人、近藤康人、志電位の影響
水康彦、滝沢貴久
男、須斎嵩
ヨウ素含浸アルミニウム陽極酸化膜の抗 高谷松文、橋本和
菌性およびかび抵抗性
明、前嶋正受世界の表面技術をリードする協会に発展
白石振作することを願って｢夢を語る｣‑５０周年記念増刊号を編集
佐藤 祐一
して石川秀雄、和氣亮介、篠原稔雄、上野
産業界からの期待
和良、中村恒、石井博、里見多一
福室直樹、渡辺秀
人、本間敬之、高橋彰、伊崎昌伸、赤星
各世代からの期待
晴夫、高橋英明、馬場宣良、春山志郎、
川崎元雄
エレクトロニクスにおける表面処理−携淺富士夫
帯電話のなかは？
二瓶公志、海老名座談会(1)10年前の予測と今後の展望
延郎、塚田裕上野和良、小原勝彦、君塚亮一、中島座談会(2)ＬＳＩ微細銅配線技術の将来
弘、縄舟秀美、播直
規
徳光永輔、藤崎芳湿式と乾式、どっち？
久、國尾武光、鄒紅
正、恵下隆、木島健
ファインエレクトロフォーミング
小林道雄
表面が創るサイボーグテクノロジー

513

313 2000 研究論文

Aluminum,Plating,Double Zincate,LiOH

51

3

319 2000 ノート

Composite Plating,Surfactant,PTFE,α-Alumina

513

322 2000 速報論文

Electrochemical Sterilization,Oxidation
Potential,Sterilization Efficiency,Bacteria and Yeast513

324 2000 速報論文

Antimicrobial Property,Mold-Preventive
Property,Iodine,Aluminum Anodized Coating

51 50周年記

1 2000 巻頭言

51 50周年記

2 200051 50周年記

3 200051 50周年記

6 200051 50周年記

12 2000

51 50周年記

14 2000

51 50周年記

22 2000

51 50周年記

29 2000

51 50周年記
51 50周年記

33 2000
39-4-

表面技術 2000〜2002
インタービュー(1)サイボーグ材料への表面技術に思うこと：今、アクティブア 岡野光夫
ドヒージョンへの理解を！
インタービュー(2)硬組織サイボーグ材
料と表面技術：今、オッセオインテグ 宮入裕夫
レーションを考えよう！
電気めっき、アノード酸化、高温酸化、 遠藤一彦、大野弘
イオン工学技術、化学修飾/歯科材料
機
化成処理、高温処理/人工骨、人工関節 小久保正、金鉉敏
乾式表面処理、コーティング/血管カ
長岡昭二
テーテル
ポリマーブレンド、表面修飾、相分離/
石原一彦
小口径人工血管マイクロマシン加工技術/神経電極
木村元彦
薄膜、相分離、中空糸化、化学修飾/人
川上浩良
工肺
リソグラフィー技術/バイオセンサー、
鳥光慶一
DNAチップ、人工神経回路
化学修飾,コーティング/人工皮膚
黒柳能光
電解反応/導電性高分子アクチュエー
金藤敬一
タ、人工筋肉マイクロカプセル/薬物担体、薬物デバ
牧野公子
イス、人工細胞
表面処理工場におけるリサイクルの現状
馬飼野信一とこれからの課題
代替技術の現状と将来
上谷正明
表面技術で環境をきれいに−光触媒によ 吉原佐知雄、竹内る環境浄化−浩士
いろのみち
武井厚、大塚秀幸
金めっきの｢いろ｣淺富士夫
PVDによる眼鏡フレーム、時計などの｢い前原博志
ろ｣自動車の｢いろ｣松原千春
建材の｢いろ｣松田充弘
アルマイト建材の｢いろ｣平山良夫
表面技術協会の規模と輝度
竹内学
CVDによるコーティング切削工具の現状
長田晃−スローアウエーチップ

51 50周年記

40 2000

51 50周年記

46 2000

51 50周年記

51 2000

51 50周年記

54 2000

51 50周年記

57 2000

51 50周年記

59 2000

51 50周年記

61 2000

51 50周年記

63 2000

51 50周年記

65 2000

51 50周年記

68 2000

51 50周年記

71 2000

51 50周年記

74 2000

51 50周年記

77 2000

51 50周年記

84 2000

51 50周年記

92 2000

51 50周年記
51 50周年記

97 2000
98 2000

51 50周年記

98 2000

51 50周年記 99 2000
51 50周年記 100 2000
51 50周年記 100 2000
51
4 329 2000 巻頭言
51

4

-5-

330 2000 解説

CVD,Cutting Tools,TiCN,Al2O3

表面技術 2000〜2002
PBII（Plasma Based Ion Implantation)
鈴木泰雄の切削工具への応用
放電加工を用いた表面改質とその切削工 恒川好樹、毛利尚
具への応用
武
微粒子衝突表面創製技術による切削工具
加賀谷忠治
の寿命延長
電着法によるダイヤモンド、c‑BN切削工 西羅正芳、山岸憲
具史｢表面技術が関わる薄膜の応力｣の企画に瀬尾眞浩、石田章
当たって電析膜の応力津留豊

51

4336 2000 解説

51

4

342 2000 解説

51

4

348 2000 解説

51

4

354 2000 解説

51

4

359 2000 解説

51

4

360 2000 解説

PBII,PIII,PSII,Plasma,Ion Implantation,Cutting Tool
Electrical Discharge Machining,Hard Coating,Titanium
Carbide,Structure Control,Cutting Tool
Surface Origination,Fine Particle
Bombarding,Hardness,Residual Stress,Tool Life
Diamond,ｃ-BN,Electroplating,Graiding Tools

Internal Stress,Electrplating,In-situ ,Hydrogen,Cracks
Compressive Stress,Tensile Stress、Electrostriction,Anodic Oxide Film
Oxide Scale.Stress,Failure,Adherence,StressMeasurement
Film Stress, Stress Measurement, Dry-Process
Internal Stress, Multilayered Thin Film， Hardness，
Nanoindentation
Thin Films,Stress, Ion Energy, Hardness, Crystal
Orientation
Microtribology, Diamond, Cubic Boron Nitride, Atomic
Force Microscope
Scanning Tunneling Microscopy, Atomic ForceMicroscopy

アノード酸化皮膜の応力

瀬尾眞浩、上野馨

514

365 2000 解説

高温酸化皮膜の応力

谷口滋次

51

4

371 2000 解説

気相膜の応力測定法

生地文也
草野英二、菊池直
人、金原粲

51

4

375 2000 解説

51

4

380 2000 解説

市村博司

51

4

384 2000 解説

51

4

390 2000 解説

51

4

398 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

4

407 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

4

409 2000 研究論文

ICP-MS, EQCM, Pd Ad-atom Catalysts, Palladium
Deposition

514

414 2000 研究論文

Ag-Co Alloy, Electroplating, Surface Morphology,
Cresolsulfonic Acid, Silver Iodide

51

4

420 2000 研究論文

Ion Implantation, Cerium,Luminescence,Ion Beam
Excitation，α-Al203

多層膜の応力気相膜の特性と応力

超硬質膜の形成とマイクロトライボロ
三宅正二郎
ジー
ＳＴＭ、ＡＦＭを用いた電極表面反応の 楢原秀夫、魚崎浩
追跡平
鉛はんだと鉛フリーはんだ
田中浩和
ＩＣＰ−ＭＳ、ＣＶおよびＥＱＣＭ法を
有泉直子、柴田正用いた極微量Ｐdアドアトム触媒の析出実、古屋長一状態
五十嵐直行、近沢
Ag‑Co合金めっき浴の開発
正敏、渡辺徹
戸井田浩、寺島慶
イオンビーム励起によるCeイオン注入
一、青野佳子、岩木
α‑Al2O3の発光特性
正哉
青木繁、天谷賢治、
電気めっきの境界要素シミュレーション
高沢宏彰、宮坂松（LSI銅配線への応用）
甫

51

4

425 2000 研究論文

Electroplating Simulation， Boundary Element
Method， Silicon Wafer， Polarization Curve， Laplace
Equation, Electric Resistance of Thin Films,
Optimization of Current

海浜模擬環境における炭素鋼の鉄さび形 西村俊弥、片山秀成に与えるｐHの影響
樹、小玉俊明514431 2000 速報論文

Rust,pH,Marine-6-表面技術 2000〜2002
人間万事塞翁ヶ馬
光田好孝｢自動車における新意匠技術と表面技術｣
坂内恒雄の企画に当たって自動車における新意匠トレンドと最近の
山中雅彦
表面処理技術車体外板塗装の新意匠技術カラー
有馬正道、浜田孝
車体用内装新意匠塗料
飯塚和良

51

5

443 2000 巻頭言51

5444 2000 解説

51

5

445 2000 解説

51
51

5
5

451 2000 解説
457 2000 解説

Design Trend， New Color， Pearl， Surface
Treatment
Automotive,Color Design New-Tecknology
New Decorative Paints,Automobile Interior Parts
Wheel Color Design, Chromium Plating Shade,
MAZIORA， Hologram, Refrective and lnterference
Pigments

ロードホイールの新意匠塗料

百瀬信彦、松原千春

51

5462 2000 解説

シートクロスの表面加工技術

川畑孝志、榎崎樹
邦、田口貴規515467 2000 解説

51

5

473 2000 解説

51

5

479 2000 解説

51

5

484 2000 解説

Dendrite， Fractal， Method of Estimating Failure Time

51
51

5
5

490 2000 解説
495 2000 解説

51

5

500 2000 ｼﾘｰｽﾞ

Home Electric,Appliance,Accident,FireIon Migration,Soldering,Flux,Printed Circuit Boads
EPMA,AZ91D,Chemical Conversion,Chemical States
Analysis515

505 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

5

507 2000 研究論文

Barrier Discharge, Atmospheric Pressure, Glow，
Corona， Complexity

515

512 2000 研究論文

Hydrophobicity， Fluorine-polymer， Ion lmplantation,
Water-repellence

515

518 2000 研究論文

GDOES,TEM,Ni-P,Hard Disk

51

5

524 2000 研究論文

Polyphenol Polymers， Mild Steel， Corrosion
lnhibitor， Boiler Systems

プリント配線基板で発生するイオンマイ
津久井勤
グレーションと信頼性解析
イオンマイグレーションの歴史と発生要柳澤武
因マイグレーション成長メカニズムと寿命
藤城敏史
予測
家電機器の事故事例とマイグレーション 首藤克彦
イオンマイグレーション評価事例
野々垣光裕
EPMAによるAZ９１D化成処理皮膜の表面
志田あづさ
分析と構造状態解析への応用
接着力と接着強さ
佐野建志
福島和宏、一山正大気圧バリア放電におけるコロナ‑グ則、菊池直人、草野
ロー混在状態の定量評価
英二、南戸秀仁、金原粲
井上陽一、吉村保
イオン注入により改質したフッ素樹脂の廣、池田由紀子、河はっ水性に及ぼす粗さと表面組成の影響
野顕臣
清水健一、幅崎浩
Ｎｉ−P/Alハードディスク基板のＧＤＯ樹、
ＥＳによる分析および断面ＴＥＭによる
P.Skeldon,G.E.Thom
観察pson
湯浅真、所和彦、中アルカリ条件下ボイラー系での軟鋼の腐 川武司、関根功、今食に対するポリフェノール高分子の効果 浜敏信、柴田芳昭、
和気敏治

-7-

Print Technology,New Synthetic Fiber
Reliability Analysis， Ionic Migration， Printed Wiring
Boards， Insulation Deterioration
Ionic Migration, Groｗth Factor， Reaction Mechanisｍ， Printed Wiring Boards

表面技術 2000〜2002
中山佳則、数馬安
熱交換器用Ａｌ‑Cu接合部材の沖縄暴露
男、滝沢貴久男、押による耐食性評価
川渡、糸村昌祐
デジタル革命と表面処理
大高徹雄
固液界面の高純度ラマン分光

二又政之

赤外分光法による電極｜溶液界面の「そ
北村房男
の場」測定
岩崎弦、堀内勉、丹電気化学表面プラズモン共鳴法
羽修
スラブ光導波路分光法を用いた固液界面 松田直樹、高津章の高純度その場測定法
子、加藤健次「鉄鋼表面処理におけるミクロ解析技術
西村一実の応用
透過型電子顕微鏡による溶融亜鉛めっき 坂公恭、加藤丈晴、
鋼板の断面観察洪文熹
ミクロ解析によるＺｎ−Ｆｅ合金化反応
稲垣淳一の研究
電子線後方散乱回折および透過型電子顕微鏡によるＦｅ−Ｚｎ不均一反応拡散挙 足立吉隆
動の解析加藤千昭、筋田成Ｚｎ系表面処理鋼板の腐食挙動のミクロ子、前田千寿子、望解析
月一雄
亜鉛電析過程のin‑situ解析

黒崎将夫

アルミニウム陽極酸化皮膜の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察−試料作製法の紹 西脇哲津夫
介−
高誘電体と強誘電体
江口和弘
田代雄彦、渡辺大
浴安定性に優れたヒドラジンを還元剤と樹、稲葉裕之、本間
した無電解ニッケルめっき
英夫
亜鉛−ニッケル合金めっき浴からの共沈 林秀考、五藤佳子、
物の電解還元田里伊佐雄
無電解ＮｉＲｅＢＣ合金皮膜の結晶構造 金満、横島時彦、久に及ぼす共析元素の影響
保宮敬幸、逢坂哲

515

530 2000 資料

516

543 2000 巻頭言51

6

544 2000 解説

51

6

551 2000 解説

51

6

558 2000 解説

51

6

563 2000 解説

51

6

580 2000516

568 2000 解説

51

6

574 2000 解説

51

6

581 2000 解説

51

6587 2000 解説

51

6

593 2000 解説

51

6

598 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

6

604 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

6

606 2000 研究論文

516612 2000 研究論文

516617 2000 研究論文

-8-

Heat Exchanger， Al-Cu Corrosion, Outdoor Exposure
Test, Galvanic Corrosion
Surface Plasmon Polariton, Surface Enhanced Raman
Scattering, Single Molecule Detection, Scanning NearField Optical Microscope
Infrared Spectroscopy, Electrode, Electrolyte
lnterface, Adsorption
Surface Plasmon Resonance, Electrochemistry, Gold,
Methylene Blue, Fe(CN) 6
Slab Optical Waveguide, Absorption Spectra,
solid/Liquid lnterfaces,in Situ Observation
Galvannealed Steels,Transmission Electron
Microscopy,Focused Ion Beam Technique
Galvannealed Steel Sheet,Coating Microstructure,
Alloying Reaction，Intermetallic Compound
EBSD， TEM, Galvannealed Steel， Interface,
Crystallography, Epitaxy, CSL
Corrosion Mechanism, Corrosion Product, Zn Coating,Zn Alloy Coating，Zn Composite Coating, Chromate
Coating
Electrodeposition, Zn，in-situ Analysis， SPM， XRD，
Nucleation and Growth
Anodic Oxide Film, Transmission Electron
Microscopy，TEM， Ultra-Microtome， Ion-Milling
Hydrazine， Electroless Nickel Plating， Bath Stability,
Characteristics of Deposit
Coprecipitates，Potentiometric Titration， Alloy
Plating
Electroless Ni-Re-B-C Films， Heat-Treatment,
Crystalline Structure表面技術 2000〜2002
アルミニウムアノード酸化皮膜成長の 高島房生、三輪浩
In‑situ AFM観察−皮膜表面の平坦化機 二、坂入正敏、高橋構−
英明
アルミニウムのアルカリ性化学研磨液に
新藤恵美、吉田明、
おける浴組成と光沢度、表面構造との関
松本誠臣
係について
CDV法によりTiB2/TiN二層被覆したSKD６ 佐藤忠夫、掘米毅、
上田幹人
１鋼の溶融Alにおける耐侵食性樫村誠一、竹内学、
スパッタリング法により形成したSiO2−
岡野広明、本郷晃
GeO2膜の光学特性
史
真木純、伊崎輝明、
布田雅裕、大森隆
溶融スズ−亜鉛めっき鋼板の開発之、滝川和則、成田正幸
大学が変わりつつある
福島久哲「強誘電体薄膜メモリーの最近の動向」
井手本康
に寄せて
機能性材料としての強誘電体−基礎物性田畑仁、川合知二と物質設計−
強誘電体ゲートトランジスタの動作原理
徳光永輔、石原宏と開発動向
Pb系およびBi系強誘電体材料の薄膜化と
木島健
配向性制御
応力による格子歪みと強誘電性発現のメ
阿部和秀
カニズム
光電子分光法を用いた強誘電体薄膜表藤崎芳久
面、電極界面の評価技術
蓄積容量型強誘電体メモリーの量産化と中村孝
評価技術
シリコンウエハ表面の極微量分析

櫛部園美、籔本周
邦

演繹と帰納
来田勝継
MgAl204スピネル存在下におけるアルミ
大澤伸夫、福岡潔
ニウムの陽極酸化挙動
アルミニウム表面形態のEL特性に及ぼす 前野智和、谷川豪、
影響
森崎重喜

51

6

625 2000 研究論文

Aliminum,Anodic Oxide Film,In Situ AFM

51

6

633 2000 研究論文

Aluminum, Chemical Polishing， Alkaline Chemical
Polishing Solution， SEM， XPS

51

6

640 2000 研究論文

516646 2000 研究論文

516653 2000 技術論文

517663 2000 巻頭言51

7

695 2000517664 2000 解説

51

7

669 2000 解説

51

7

676 2000 解説

51

7

684 2000 解説

51

7

689 2000 解説

51

7

696 2000 解説

51

7

702 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

7

708 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

7

710 2000 研究論文

517714 2000 研究論文

-9-

TiB2/TiN, CVD Coating, Corrosion Resistivity, in
Melted Aluminum
Rf Magnetron Sputtering， SiO2-GeO2 Glass Film，
Refractive Index， Oxygen Annealing， Optical
Attenuation
Tank,Tin-Zinc Alloy,Hot-Dip,Environment.Lead-Free

Symmetry of Crystal， Physics of εr， Super
Luttice， Layered Ferroelectrics
Ferroelectric Memory， FerroelectTｒic-Gate
Transistor， MFS-FET， MFMIS-FET， SrBi2Ta209
PZT， Bi4Ti3012， Orientation Control， 02 NonStoichiometry
Lattice Misfit， Ferroelectric Properties， Barium
Titanate， Strontium Titanate， Sputtering，
XPS， Ferroelectric， Interface, Decomposed Phase，
Perovskite
Thin Film, Ferroelectric Memory， Low Deposition
Temperature， Low Operation Voltage
LSI, Impurity, Inductively Coupled Plasma Mass
Spectrometry, Graphite Furnace Atomic
Absorption,Spectroscopy， Ion ChromatographAnodic Film, Aluminum Foil， MgAl204 Spinel，γ'Al2O3, TEM
Aluminum, Anodic Oxidation, Barrier Film,
Electropolish Etching Electroluminescence表面技術 2000〜2002
電気ニッケルめっき浴のホウ酸の代替物 土井正、水元和成、
質の検討
茅島正資、田中慎
酢酸を緩衝剤とする光沢塩化亜鉛めっき
野口裕臣に及ぼす鉄不純物の影響
亜鉛めっきのホイスカー発生に及ぼす内 大河原薫、室井良
部応力と結晶構造の影響
一
日野実、平松実、辻
無電解Ni‑Pめっき皮膜の摩擦・摩耗特性
川正人、川本信、出に及ぼす雰囲気湿度の影響
水敬
アークイオンプレーティング法により作 石川宏美、筆谷秀
製した窒化ケイ素薄膜の特性
一、広橋光治
硫酸浴からのZn‑Ni合金めっき皮膜のク 日野実、平松実、厨ロメート処理に及ぼす界面活性剤の影響 子智和、金谷輝人
第１０２回講演大会を北の大地で
瀬尾眞浩

Nickel Plating， Boric Acid, pH Buffering Action, Citricacid, Hull cell test
Chloride Zinc Plating,lron lmpurities､ Acetic Acid,
Alternative to Borate, Brightness Range
Zinc Plating, Whisker， Cyanide Baths, Internal Stress,
Crystal Structure51

7718 2000 研究論文

517724 2000 研究論文

517729 2000 研究論文

517735 2000 研究論文

517740 2000 研究論文

517745 2000 ﾉｰﾄ

51

8753 2000 巻頭言51

8754 2000 総説

51

8760 2000 解説

Micromachining, Anisotropic Etching， Crystallographic
Orientation, MEMS, Micromachine
Si,in situ STM,Eching processes

51

8

767 2000 解説

Silicon,Etching,Anisotropy,TMAH

51

8773 2000 解説

51

8780 2000 解説

斧高一

51

8

785 2000 解説

建築設計からみた材料の新意匠トレンド 橋本功

518793 2000 総説

ステンレス鋼と意匠性
三井攻、池澤守
チタンと意匠性−チタン建材の需要と意
木村欽一
匠性−森本和成、山崎周人工緑青銅板一
建材用ガラスにおける新意匠技術と表面
大崎寿
処理

51

8

798 2000 解説

Single-Crystal Silicon, Anisotropic Etching，
Hemispherical Specimen
Silicon, Etching, Impurity, Etching Rate, Surface
Roughness
Dry Etching, Plasma Etching, Silicon Etching, PlasmaSurface lnteractions, Etching Reaction Mechanisms
Essential Quality, Sick House Syndrome, EcoMaterial, Recycle, Sustainable Design
Stainless,Steel,Design,Finishing51

8803 2000 解説

Titanium， Building Construction, Design

51

8807 2000 解説

51

8813 2000 解説

断面観察のための試料作製

畠山進一

51

8

821 2000 ｼﾘｰｽﾞ

左右脳と脳神経外科手術

中村正直、日野健、
塩川芳昭、齋藤勇

51

8825 2000 ｼﾘｰｽﾞ

シリコンエッチング技術

佐藤一雄

シリコンエッチングの原子レベル解析 板谷謹悟
ＴＭＡＨ水溶液によるＳｉ結晶異方性
田畑修
エッチング
シリコン半球による結晶異方性エッチン
式田光宏
グの加工特性評価
シリコン異方性エッチング加工特性に及田中浩、井上和之
ぼす微量不純物の影響
Ｓｉドライエッチング技術- 10 -

Electroless Ni-P Alloy Coating， Surrounding
Humidity，friction and wear Property
Thin Film, SiNx， Ion Plating， Scratch Test、
Adhesion
Electrodepositions, Zn-Ni Alloy Plating， Surfactants,
Chromating

Artificial Patina， Natural Patina， Colour Changes,
Roofing, Copper Sheet
Glass, Deposition Process， Sputtering, Optical
Coatings, Electrical Properties
Cutting without Damage, Mounting Without Gap.，
Revealing True Micro-Structure表面技術 2000〜2002
ビニルトリエトキシシランによる二酸化 佐貫須美子、西佳
炭素チタンの疎水化
彦、中原清、真嶋宏
昇温光電子放出によるさまざまな実用金
鴨沢勅郎、本間正
属表面の観察−光電子放出量の温度依存
和、百瀬義広性のXPS解析との対比
上田順弘、曽根匠、
粉末パック法によるニッケル合金のホウ
水越朋之、池永明、
化処理
川本信
超音波顕微鏡観察による防食塗膜の劣化 関山之郭、廣瀬徳
挙動の評価（第2報）：各種塗膜系の比 豊、関根功、棚木敏
較幸、湯浅真
３価クロム（Ⅲ）による亜鉛めっきの化 野口裕臣、吉野順
成処理とその耐食性子、松田喜樹接触電位による金属仕事関数の大気中連 中島嘉之、石地徹、
続測定
中野信夫、宇田応
凍結過程に促進される水溶液中の溶存酸素による亜硫酸水素イオンの酸化反応の 本田数博
研究
最近の自動車化成処理
里見多一
シリコンエッチング技術のアプリケー 江刺正喜、小野崇
ション人、田中秀治船橋博文、島岡敬
表面マイクロマシニング型センサ
一、藤塚徳夫、坂田二郎
シリコンエッチング技術を用いた半導体
中尾基
イメージセンサ

Hydrophobicity， TiO2， Vinyltriethoxysilane, Coupling
Treatment
Metal Surface Characterization, Temperature
Programmed Photoelectron Emission, XPS, Adsorbed
Oxygen51

8828 2000 研究論文

518836 2000 研究論文

518844 2000 研究論文

Boriding， Nickel Alloy， Powder-Pack Method，Friction

51

8

850 2000 研究論文

Protective Coating Films, Deterioration Behavior,
Scanning Acoustic Microscope（SAM）

51

8856 2000 研究論文

518861 2000 技術論文

518865 2000 ﾉｰﾄ

51

9873 2000 巻頭言51

9874 2000 総説

Silicon, Etching, RIE, Micromachining

51

9880 2000 解説

Surface Micromachining， Sacrificial Layer， Pressure,
Infrated， Sensor

51

9885 2000 解説

Si， Etching, pH-Imaging Sensor, Spatial Resolution

51

9892 2000 解説

Micromachine， MEMS， Electrostatic Actuator,
Optical Switch， Nano Technology

51

9899 2000 解説

Plasma, Etching, ECR, Gate, Selectivity

51

9905 2000 解説

Dry Etching， Inductive Coupled Plasma

プリント配線基板用水平連続めっき装置 高橋正明

519909 2000 解説

プリント配線板用垂直搬送式連続めっき
清水宏治
装置の現状

51

9

915 2000 解説

マイクロアクチュエータ

藤田博之

シリコンデバイスにおける多結晶シリコ
藤原伸夫
ンエッチング技術
笠井一夫、福本直ＩＣＰによるシリコンエッチング之、永田正義、宇山忠男- 11 -

Conversion coating, Zinc Plating, Salt Spray Test,
Corrosion Resistance, AES
Contact Potential Difference， ESA， Open Counter,
Work Function， Metal Surface
Acid Snow， HydrogensuIfite Ion， Sulfuric Ion,
Oxygen， Freezing Process

Continuous Horizontal Transportation， High
Performance Through-Hole， Uniform Cu Plating，
Hangerless Racking， No-man Operation
Continuous Plating Equipment, Electroplating， Printed
Circuit Boards

表面技術 2000〜2002
ステンレス鋼酸化皮膜の深さ方向構造解
古主泰子
析アルミ配線から銅配線へ
佐藤一直
塩酸溶液中におけるアルミニウムの交流 菅沼栄一、丹野祐
エッチングで生ずるエッチ層の構造司、船越明
福島和宏、一山正大気圧空気バリア放電における駆動周波 則、菊池直人、草野とバリア層の静電容量の比の適正化
英二、南戸秀仁、金原粲
小浦延幸、江尻芳
銅電析に及ぼすゼラチンおよび塩化物イ
則、間宮基之、井手オンの影響Ⅱ本康、松本太中嶋淳一、土屋竜
冷却水系用リン酸亜鉛系防食剤の吸着挙 司、藤後直子、伊藤動賢一、市野良一、興戸正純
チタンの熱酸化により調製した酸化チタ
前田康久、岩崎尉ンの鉛イオンを含む硝酸水溶液中の光電浩、山本憲宏気化学応答
国立研の独立行政法人化
亀山哲也

51

9

921 2000 ｼﾘｰｽﾞ

Surface Analysis, Structural Analysis Stainless Steel51

9927 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

9929 2000 研究論文

Aluminum, AC Etching, Etched Layer Structure, Etch
Products, Etch Cell Size51

9934 2000 研究論文

Barrier Discharge，AtomosphericPressure,Glow,Corona,Treatment

51

9938 2000 研究論文

Copper, Electrodeposition, Gelatine, Chloride lon

51

9945 2000 研究論文

Corrosion lnhibitor, Polyphosphate Zinc, QCM, AFM
Observation, Adsorption

51

9951 2000 ﾉｰﾄ

TiO2， Photoanodic Oxidation， Pb2＋

51

10959 2000 巻頭言

伝統工芸品がおかれている社会情勢

黒田孝一

51

10

960 2000 総説

Traditional Arts, Japan Cloisonne, Gold Leaf
Electroforming

金属工芸品の開発

野口義男、川北勝
己、久保忠勝、上田稔、谷本正博、岩松
誠一郎

51

10

965 2000 解説

Metal Articles, Forging, Chasing， Cloisonne， Inlay，Plating， Sulfric Coloring

長野オリンピック冬季競技大会入賞メダ
衣畑良則
ルの製作

51

10

971 2000 解説

Medals, Cloisonne, Japanning, Traditional Handicraft

金属工芸における表面着色

今淵純子、横田勝

5110976 2000 解説

うるしと鉄

蜷川彰

51

10

983 2000 解説

七宝焼き

田中義身

51

10

988 2000 解説

京仏壇・京仏具への表面処理

高木栄次

51

10

994 2000 解説

イオン注入による漆表面処理

粟津薫、岩木正哉

51

10997 2000 解説

試料の取り扱いと表面汚濁
直接結合と陽極接合

伊藤嘉亮
牧野英司

51
51

10 1004 2000 ｼﾘｰｽﾞ
10 1009 2000 ｼﾘｰｽﾞ- 12 -

Surface Coloring， Metals, Arts and Crafts，Traditional Technique
Urushi， Urushiol, Iron, Metal
Traditional Technique, Enameling, Glaze, Cloisonne,
Champleve, Painting
Metal Articles, Buddhist Aｌtars, Surface Finishing,
Surface Coloring, Electroforming
Urushi Film, Light Resistance, Ion lmplantation, XPS,
TRIM
Sample handling, Contamination, Surface Analysis,

表面技術 2000〜2002
サファイア研磨基板上の無電解Ｎｉ‑Ｐ
有泉直子、柴田正
めっき膜の密着性に及ぼす触媒析出形態
実、古屋長一の影響
アルミニム三次電解着色皮膜への紫外線 山室正明、森崎重
照射の影響
喜若林信一、岩野恵
銀めっき皮膜の室温放置による再結晶化 子、中沢昌夫、小沼良雄、金子紀男
スタティックイオンビームミキシング処 伊藤由彦、伊藤明理による鋼材のトライボロジー特性の改 生、東博純、日置辰善
視
電気化学的インピーダンス法による
板垣昌幸、西山明Stargent浴中のクロム電析機構の解析 秀、寺島慶一
八重真治、中野久
ヒドラジンを還元剤とする無電解Ｎｉ
継、伊藤潔、山岸憲
めっき膜の光沢性と結晶配向性
史、松田均
Cr3C2‑NiCr溶射皮膜の改質とキャビテー 荻野邦彦、大森明、
ション損傷評価
原田良夫、足立慈
創立５０周年記念事業へのご協力のお礼
増子昇と報告
研究開発で思うこと
小池一幸
複合めっきの現状と将来

古川直治

51

10 1011 2000 研究論文

Adhesion, Catalyst, Electroless Ni-P Film, Sapphire51

10 1016 2000 研究論文

Aluminum, Three-Step Coloring， UV Exposure

51

10 1021 2000 研究論文

Silver Deposition， Selenocyanate, Recrystallization

51

10 1026 2000 研究論文

Titanium Nitride， Titanium Oxide, Coating, Ion Beam
Mixing，Tribology

51

10 1030 2000 研究論文

Electrochemical ｌmpedance Spectroscopy, Chromium,
Electrodeposition, Sargent Bath，Inductive Semicircle

51

10 1035 2000 速報論文

Pure Ni Film， Luster, Deposition Rate, Autocatalytic
Pｌating， X-ray Diffraction

51

10 1037 2000 速報論文

Cr3C2-NiCr, Plasma/HVOF Sprayed Coated, Heat
Treatment, Cavitation Erosion

51

10 1039 2000 報告

51

11 1055 2000 巻頭言

51

11 1056 2000 総説

Composite Coating, Codeposition, Functional Plating,Electrodeposition, Electroless Coating
Composite, Plating, Codeposition, Titration

複合めっきの粒子共析メカニズム
林秀考
銀超微粒子複合めっきによるスズ‑銀合
金皮膜の作製と鉛フリーはんだめっきへ 藤原裕、榎本英彦の応用
ＰＴＦＥ複合めっきの現状高木勉

51

11 1062 2000 解説

51

11 1069 2000 解説

51

11 1075 2000 解説

無電解複合めっきの実用化

51

11 1078 2000 ﾄﾋﾟｯｸｽ

51

11 1081 2000 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Automobile, Composite Plating, Aluminum Engine,
Surface Treatment

51

11 1085 2000 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Electroless Composite Plating, Wear Resistance51

11 1088 2000 ﾄﾋﾟｯｸｽ

51

11 1093 2000 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Electroless Ni-P-SiC, Composite, FIB
Composite Plating， Nickel Plating， PTFE, Water
Repellent, Decorative Properties

寺西晃

複合無電解Ｎｉ‐Ｐ合金めっきのアルミ
エンジンシリンダーへの普及の歩み〔高 野田浩、金沢正博
性能化と低コスト化〕
無電解ニッケル−ＰＴＦＥ複合めっきの
中尾英弘
耐摩耗性
無電解ニッケルコンポジットめっき
岩﨑誠
装飾性にも優れるはっ水性めっき法

吉川豊- 13 -Ag Nanoparticles, Composite Plating, Pb-Free
Soldering, Eutectic Structure
Electroless Nickel Plating， Polytetrafluoroethylene
Electroless Nickel Plating, Composite Plating, Fretting
Corrosion

表面技術 2000〜2002
無電解Ｎｉ−Ｐ／ＰＴＦＥ複合めっきの千葉格
自動液管理装置
高圧用電極箔のエッチング技術
名取敏雄
電解コンデンサ用高純度アルミニウム箔
菅沼栄一の交流エッチングによる拡面化
内秀則、ロバート
電極箔の電子顕微鏡評価
オルヴィット
電解エッチングに及ぼす箔材料の影響

大澤伸夫、福岡潔

エッチング形態のコンピュータシミュ 井手本康、小浦延
レーション
幸
インピーダンス解析によるエッチング挙 市野良一、興戸正動の評価
純
トライポッドポリシャーを使用したＳＥ
池田雅英
Ｍ、ＴＥＭ用試料の作製
リチウムイオン電池用電解液
松尾吉晃
ＵＬＳＩ配線形成を目的としたエチレン 縄舟秀美、北村浩
ジアミン錯体浴からのボイドフリー銅の 司、水本省三、内田電析
衛、岡田隆
湯浅真、諸岡正浩、冷却水系における軟鋼の腐食に対するポ 石田直美、河村奈
リアクリル酸/ポリアクリルアミド混合 緒、関根功、和気敏
冶、今浜敏信、村田
系の効果
浩陸、柴田芳昭
伊勢武一、佐々木
分散めっきによるＮｉ−ＡｇＢｒ感光性
昭仁、片桐洋、目黒
複合電極の作製眞作
椎崎伸二、西澤淳、
アルミニウムの陽極酸化皮膜へのシリカ
細田哲史、亀山秀被覆による触媒担体の調製
雄、永島郁男
外面スズ被覆銅管による熱交換器の耐食 福島誠、米﨑孝広、性向上
滝沢貴久男、須齋
マグネシウムのアノード酸化における電小野幸子、木島秀
圧‑電流特性に対する素地組成とアルミ夫、増子昇
ニウムイオン添加の効果

Automatic Solution Controller, Composite Plating,Electroless Plating， PTFE
Etching Aluminum Electrode Electrolytic Capacitor
Aluminum, AC Etching, Electrolytic Capacitor， Etched
Layer
Anodic Alumina Film, Composite Oxide Film, Aluminum
Electrolytic Capacitor
Etching, Aluminum Foil, Surface Defect, Impurities,
Dislocation
Computer Simulation, Aluminum, Etching, Anodic
Dissolution, Pit
Aluminum, Electrochemical Etching, AC Impedance，
Pit Morphology

51

11 1096 2000 ﾄﾋﾟｯｸｽ

51

11 1100 2000 解説

51

11 1106 2000 解説

51

11 1111 2000 解説

51

11 1117 2000 解説

51

11 1121 2000 解説

51

11 1130 2000 解説

51

11 1136 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

11 1141 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

11 1142 2000 研究論文

ULSI Metallization, Copper Electrodeposition,
Ethylenediamine Complex Bath， Void-free Copper

51

11 1148 2000 研究論文

Corrosion lnhibitor, Mixture System， Polyacrylicacid， Polyacrylamide， Mild Steel， Cooling Water
System51

11 1154 2000 研究論文

Dispersion Plating, Silver Bromide Photosensitive
Electrode．

51

11 1159 2000 研究論文

Anodic Oxidation, Plate Type Catalyst, Silica Sol，
Coating

51

11 1165 2000 ﾉｰﾄ

Heat Exchanger， Corrosion Resistance， Tin Coating,
Copper Tube51

11 1168 2000 速報論文

Magnesium, Anodizing, Aluminum Addition, Film
Structure， Substrate Composition
Tin-Nickeｌ Film, Therｍal Alloying, Substitution of
Chromium Plating, Decorative Plating， X-ray
Diffraction Analysis

熱過程による表面多層膜からのスズー
ニッケル合金膜生成

兼松秀行、小林達
正、沖猛雄

51

11 1170 2000 Letters

最近の電子セラミックス

野村武史

51

12 1181 2000 巻頭言- 14 -

Tripod Polisher， SEM， TEM， Wedge

表面技術 2000〜2002
射出成形における成形品表面不良現象の
横井秀俊
可視化解析
佐藤正博、横井秀半導体素子樹脂封止過程の可視化解析
俊
樹脂（ゴム）成形品断面における新形態観察法―Ｎ‑ＡＲＣ法とその関連分析技 加藤淳
術―
トライボロジー現象の可視化技術

平塚健一

プラズマＣＶＤによる微粒子成長と強結林康明
合微粒子プラズマの可視化
豊田直樹、高須賀
表面波とプラズマ密度の可視化
誠一
分光エリプソメトリーによる薄膜成長の白井肇｢その場｣観察
溶液中のイオンの測り方―イオンクロマ
小林靖之
トグラフィーとキャピラリー電気泳動―
ＺｎおよびＺｎ‑Ａｌめっき組織と食塩 田中順一、田村知
水中におけるその耐食性
憲、成田敏夫
溶解アルミニウムめっき鋼板の大気腐食 真木純、伊崎輝明、挙動
田野和広
縄舟秀美、芝一博、
メタンスルホン酸浴からのスズ−銀共晶
水本省三、武内孝
合金めっき夫、青木和博
はっ水性Ｍｅｔａｌ/Ｎｉ‑PTFE積層複合 伊部壽夫、清川肇、
めっき皮膜の電析と特性評価
米沢晋、高島正之
アークイオンプレーティング法により作 石川宏美、筆谷秀
製した窒化ケイ素薄膜の押込み硬さ一、広橋光治レーザ無電解ニッケルめっきによるマス 川口明廣、祖父江
クレス微細加工和冶、安井学飯村修志、小堀浩
酸化亜鉛担持活性炭の光触媒能の評価之、吉原左知雄
音響化学反応によるα−アルミナ表面上
本田数博
への銀微粒子の凝集
2000年北海道夏期セミナー｢２１世紀に牧野英司
翔ばたく腐食科学と表面技術｣
インターフィニッシュ２０００―ガル
ミッシュ―パルテンキルヘンの青い空清 野口裕臣
んだ水Injection Molding, Mold, Visualization, Surface Defect,
Molding Phenomenon
IC Encapsulation, Visualization， Thermosetting
Resin， Melt Flow， Viscosity

51

12 1182 2000 解説

51

12 1187 2000 解説

51

12 1194 2000 解説

51

12 1202 2000 解説

51

12 1208 2000 解説

51

12 1213 2000 解説

51

12 1217 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

12 1222 2000 ｼﾘｰｽﾞ

51

12 1224 2000 研究論文

Zn-Al Plated, Corrosion, Microstructure

51

12 1229 2000 研究論文

Aluminized Steel Sheets, Corrosion Resistance，Corrosion Product Outdoor Exposure

51

12 1234 2000 研究論文

Pb-free Solder Plating, Sn-Ag Eutectic Alloy，Methanesulfonate Bath,Crytal Structure, Whisker-free51

12 1239 2000 研究論文

Electroplating, Composite Film, Water Repellent

51

12 1245 2000 研究論文

51

12 1250 2000 速報論文

51

12 1252 2000 速報論文

Photocatalyst, Zinc Oxide, Activated Carbon

51

12 1254 2000 Letters

Sonochemical Reaction, Ag Fine Particle Aggtegate，
α-Al20351

12 1257 2000 支部だより

51

12 1259 2000 国際会議だより- 15 -

N-ARC Method， Morphology, Optical Microscopy，Resin， Rubber
Tribology, wear, SEM, In-situ Observation, Transfer
Particle
Plasma， CVD, Fine-Particle, Mie-Scattering,
Coulomb Crystal
Plasma Absorption Probe, Surface Wave Plasma，Pure SW Mode， PAP， SWP
Spectroscopic Ellipsometry， UV-visible, Infrared，
Plasma CVD, SiliconThin Film, Ion Plating, Silicon Nitride， Penetration
Hardness， Nanoindentation
Electroless Nickel Plating， Laser-Enhanced Plating，
Microscope, Thermal Diffusion

表面技術 2000〜2002
第１０１回講演大会（東京理科大学）だ 第１０１回講演大より
会・美術委員会
新しい世紀、次の世紀
岸富也

51

12 1263 2000 講演大会だより

52

1

1 2001 巻頭言

材料技術の未来と国家産業技術戦略

亀山哲也

52

1

2 2001 解説

宇宙機器の表面技術

高田幸路

52

1

7 2001 解説

ガスタービン用材料の耐熱コーティング

有川秀行、児島慶享52

1

11 2001 解説

明日を拓く電気自動車技術

大川正尋

52

1

16 2001 解説

ディーゼル車の排ガス対策技術−その最
中田輝男
前線

52

1

20 2001 解説

船底塗料の現状について

岸原雅人

52

1

25 2001 解説

デジタル時代のギガビットメモリー−製
岡本浩治
造技術−貴金属ＭＯＣＶＤプロセス

52

1

29 2001 解説

銅微細配線技術の課題

縄舟秀美

52

1

34 2001 解説

２１世紀の化学戦略と光触媒技術

矢嶋龍彦

52

1

39 2001 解説

表面技術の展望と方向性‑２１世紀の表面技術のキーワードはＳ.Ｕ.Ｒ.Ｆ.Ａ. 今井八郎
Ｃ.Ｅ.

52

1

44 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

無電解めっき浴の再生とその意義

松井冨士夫

52

1

46 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

樹脂上装飾めっき用の前処理プロセス

岡田純、片山順一

52

1

48 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

エレクトロニクス分野への硫酸銅めっき 萩原秀樹、小林技術
健、君塚亮一521

50 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

ＩＴＯへのめっき技術

521

52 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

川島敏- 16 -

Nano Naterials,Multi Functional
Materials,Smart Materials,Enviromentally
Friendly Materials
Space Station,Chemical Film
Treatment,Phosphoric Anodize,Phosphate
Fluoride Coating
Gas Turbine,Coating,TBC,Plasma Spray,EB‑PVD
Electric Vehicle,Hybrid Vehiicle Clean,
Energy Vehicle
Diesel Engine,Exhaust
Emission,Combustion,Fuel Aftertreatment
Anti‑Fourling Paint,Ion exchang,Zinc‑Acrylic
Copolymer,Hydrolytic Polymer,Silicone
Elastomer
Precious Metal,MOCVD,Gigabit,DRAMLSI Interconnection,CopperDamascene,Copper
Plating Technologies,BreakthroughPhtocatalyst,Titania,Anatase,Semiconductor
Electrochemistry,Oxidation‑Reduction
Potential,Enviromental
Cleanup,Antimicrobe,Super
Hydrophilicity,Antifouling
Outlooks of surface Treatment,Sea andUniverse,Energy and Enviroment,Corrosion and
Cost
Electroless Plating Bath,Regeneration,Running
Cost
CRP Process,Electroless Copper
Plating,Decorative Plastic Plating,Low
Enviromental Pollution
Acid Copper plating,Build‑Up,Via‑
Filling,Damascene,Bumping
Flat Panel Display,Electroless Plating,Indium
Tin Oxide,ITO

表面技術 2000〜2002
佐野彰洋、小林金也、赤星晴夫、板ＬＳＩ銅めっき配線における埋め込み形
橋武之、端場登志
状シミュレーション
雄、深田晋一、宮崎博史
航空機のめっき技術
徳永俊ニ

52

1

54 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

52

1

56 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

平松実、福崎智司

52

1

58 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

トリエタノールアミンを用いた無電解銅 近藤宏司、重松浩
めっきの延性に及ぼす液温の影響
一、奥村望

52

1

60 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

無電解ニッケルめっき老化液処理の現況 堀川健、平沢泉

52

1

62 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

めっき皮膜の抗菌性

LSI,Copper Electroplating,Filling
Profile,Simulation,Additives
Aircraft,Plating Technology,Environment
Antibacterial Activity,Plated
Coating,Stainless Steel
TEA,Electroless,Copper,Temperature,MonteCalro Simulation,Elongation
Electroless Nickel Plating,Wastewater
Treatment,ISO,Reduction Crystallization,pH
Regulation
Hydrophobic Room Temperature Molten
Salt,Electrodeposition,Electroplating
Microfabrication,Electro Plating,Electroless
Plating
Electroless Nickel Plating,Laser
Irradiation,Hardness Change
Hard Coating,Hard Film,Research andDevelopment,Practical Application,PhysicalVapor Deposition
Raman Spectrum,Depth
Distribution,Tribology,Electrochemical
Property,Atomic Density

疎水性室温溶融塩中における金属電析と 片山靖、美浦隆、
めっきへの応用岸富也
三浦修平、本間英マイクロファブリケーションとめっき
夫
レーザー複合処理による無電解ニッケル 阿部芳彦、片山直
めっき皮膜の改質樹52164 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

52

1

66 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

52

1

68 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

硬質膜の実用化開発

52

1

70 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

52

1

72 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

52

1

74 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

PSII,DLC

52

1

76 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Shape Memory Thin Film,Microactuator,Carousel
Type Magnetron Sputtering Apparatus

52

1

78 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Laser CVD,Coating Photolysis process,Thin
Film

52

1

80 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Ion Beam Mixing,Dynamic Ion Mixing,TiAIN,Tio2

52

1

82 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Ion Plating,Au‑Cu Alloy,Pink Color Film52

1

84 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Aluminum,Anodizing,Laser
Irradiation,Microfabrication

稲川幸之助

イオン注入グラッシーカーボンの表面特岩木正哉
性プラズマソースイオン注入法によるダイ 馬場恒明、畑田留
ヤモンド状炭素膜の作製
理子
澤口孝宏、佐藤守
形状記憶合金スパッタ膜−最近の話題
夫、石田章
レーザー化学プロセシングによる機能膜 今井庸ニ、土屋哲の作製−レーザーＣＶＤ法及び塗布光分 男、渡邊昭雄、水解法−
田進
イオンビームアシスト法による機能性薄
鷹野一朗
膜の作製
高周波イオンプレーティングによる金−
上條幹人
銅合金薄膜の作製
アノード酸化・レーザー照射・電気化学
菊地竜也、坂入正的手法によるアルミニウムの表面マイク
敏、高橋英明ロテクノロジー- 17 -

表面技術 2000〜2002
52

1

86 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Anodization,Flat Panel Display,Liquid Crystal
Diplay,Thin Film Transistor,Field Emission
Display52

1

88 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Titanium,Photocatalyst,Anodized Film52

1

90 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Lithium Battery,Anode,Aluminum,Surface
Treatment

52

1

92 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

水素エネルギーシステムを支える水素吸
釜崎清治
蔵合金

52

1

94 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

金属基板上へのハイドロオキシアパタイ 野浪亨、長沼勝
ト粒子の圧入義、亀山哲也52

1

96 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

新規エマルジョンゾルーゲル法によるミ 土岐元幸、渕上智
クロ構造制御子

52

1

98 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

52

1

100 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

52

1

102 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

52

1

104 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

52

1

106 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

52

1

108 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

52

1

110 2001 研究論文

521

116 2001 研究論文

カソードルミネッセンス分光分析による 竹内貞雄、村川正
ダイヤモンド中の結晶欠陥の評価
夫

52

1

120 2001 研究論文

シリコンの固相接合とマイクロポンプ用 牧野英司、柴田隆‑方向弁の形成
行

52

1

125 2001 研究論文

平面ディスプレイに用いられる陽極酸化
水谷文一、宇恵誠
技術
光触媒活性を有する厚膜型チタン陽極酸
伊藤征司郎
化皮膜
馬飼野信一、曽我リチウム二次電池用Li‑Ai合金負極にお雅康、祖父江和
ける表面技術治、佐々木幸夫
ニッケル酸化物電極の調製

佐々木康、山下嗣人

液相析出法によるシリカ膜の作製
阪井康人
環境にやさしい半導体ならびに磁性体酸 伊崎昌伸、千金正
化物膜の作製技術也、石川正巳山本真由美、迫良自己析出型塗装法輔
バクテリアを利用した水系脱脂プロセス
近藤正、鈴木征夫の現状
中野博昭、福島久
電析亜鉛の結晶形態制御
哲
アークイオンプレーティング法によって 市村博司、石井芳形成した窒化物膜の硬度と密着性
朗
小浦延幸、鈴木靖
常温型溶融塩からのアモルファスZi‑Ni
庸、井手本康、松合金の電析
本太- 18 -

Nickel Oxide,Nickel Positive
Electrode,Electrochemical
Impregnation,Alkaline Storage Battery
Hydrogen Energy Systems,Hydrogen Storage
Alloys,Hydrogen Frontier Technology,World
Energy Network
Ti‑Alloy,Hydroxyapatite,Biomaterial,Implant
Sol‑Gel Method,Emulsion
method,Microstructure,Porous,Particle,Multi‑
Layer
LPD,Sio2,Plastics
Soft‑solution processing,Nitrate Reduction
Zinc Oxide,Magnetite
Waterborne Self‑Deposition Coating
Systems,Chemical Reaction,Edge Covering
Bioremediatioln,Oil‑Reducing
Bacteria,Microbe,Cleaner
Electrodeposited Zn,Morphology of Zn,Crystal
orientation,Zn Crystal,Burgers' Relationship
Hardness,Adhesion,Nitride Coating,Arc‑Ion
Plating
Amorphous Zn‑NiAlloy,Electrodeposition,Molten Salt
Homoepitaxial Diamond,Combustion Flame
Method,Crystal Defect,
Cathodoliminescence,Band A
Fusion Bonding Si Wafer,Surface
Morphology,Check Valve,Micropump表面技術 2000〜2002
逢坂哲彌、淺富士
高アスペクト比を有する電析Niマイクロ 夫、河南賢、横島
プローブの試作
時彦、門間聰之、
本間英夫
マンガン（Ⅱ)‑けい酸塩による亜鉛めっ 野口裕臣、吉野順
きのクロムフリー化成処理皮膜
子
ラジカル窒化基板へのダイヤモンド合成 坂本幸弘、高谷松と密着性
文
善林智範、吉原佐ボロンドーブｐ型ダイヤモンド上で発現
知雄、白樫高史、する光メモリー効果の発現機構に関する
橋本和仁、
検討
D.A.Tryk、藤島昭
藤原裕、榎本英接触浸漬法によるCu上へのZnの析出と彦、吉川純二、山Zn‑Cu金属間化合物層の形成
内英子
小浦延幸、對木洋
文、寺倉典宏、井泳動電着法を用いたバインダーフリー炭
手本康、松本太、
素材料膜の作製
宇井幸一、山田和夫、見立武仁アルミニウム合金表面への有機シラン単
蓬原正伸、杉村博
分子膜皮膜：エポキシ塗料プライマーへ
之、高井治
の応用
杉山和夫、斉藤紀
CH4‑H2プラズマＣＶＤ処理した金属酸化彦、細谷幸夫、矢物粉末の表面特性
嶋龍彦
大嶋克則、近藤哲
高密度光ディスクにおける反射層の検討
也
石崎博基、伊崎昌水溶液からの高抵抗Zno膜の電気化学的伸、石川正巳、伊成長
藤太一郎
電気化学反応を用いた酸化テルビウム膜 伊崎昌伸、千金正
也、石川正巳の作製
水溶液中のステンレス鋼のin‑situグ
安住和久、川口
ロー放電発光分析稔、瀬尾眞浩２１世紀最初の大会を日本工業大学で
三宅正二郎｢ショットピーニング法による表面改質技術｣
野口裕臣の企画に当たって521

130 2001 研究論文

Electrodeposition,Microprobe,Additive,ShapeCo
ntrol

52

1

135 2001 ﾉｰﾄ

Chromium‑free,Mn,Silicate,Conversion
Coating,Zinc Plating52

1

137 2001 速報論文

CVD,Diamond,Duplex Coating,Adhesion Strength52

1

139 2001 速報論文

Boron‑doped
Diamond,Copper,Electrodeposition,Photoelectro
cehemistry,Hydrogen Evolution521

141 2001 速報論文

Zn Deposition,Immersion Method,Underpotential
deposition,Zn‑Cu Intermetallic Phases

521

143 2001 速報論文

Electrophoretic Deposition,Carbon,Lithium
Batteries52

1

145 2001 速報論文

Organosilane,Paint primer,Aluminumu Alloy52

1

147 2001 速報論文

Titania,Silica,Plasma CVD,Photocatalyst

52

1

149 2001 速報論文

Optical Disc,Reflective Layer,Blue
Laser,Roughness,Carrier to Noise Ratio.

52

1

151 2001 Letters

Zno,Electrochmical Reaction,Electrical
Property,Aqueous Solution.

52

1

153 2001 Letters

Terbium Oxide,Electrocleposition,Nitrate
Reduction,Soft‑Solution Processing

52

1

155 2001 Letters

Glow Discharge,In‑Situ Spectroscopy

52

2

167 2001 巻頭言52

2

168 2001- 19 -

表面技術 2000〜2002
最近のショットピーニング技術

加賀谷忠治

Fine Particle Bombarding,Shot Peening,Surface
Condition,Residual Stress,Machining Accuracy
Hybrid Surface Modification,Vacuum Carburizing,Fine
Particle Bombarding,Fatigue,S-N Curve,Vacuum
Carburizing
Fine Particles,Collision,Burial,Soft Metals, PIP,Carbon
steel,Cast Iron,Friction and Wear
Cemented Carbide Shot,Compressive ResidualStress,Low Projection Speed,Cold Forging
Die,Reduction of Environmental Impact
Surface Modification Method,Peening,Treatment
Fine Particle Peening Surface Modification,Surface
Strength
Shot Peening,Bactericide,Silver,Copper,Mould

52

2

169 2001 総説

微粒子高速衝突による表面改質材の疲労
江上登
強度特性

52

2

173 2001 解説

微粒子高速衝突によって改質された金属
表面の摩擦磨耗特性

522

177 2001 解説

522

181 2001 解説

522

184 2001 解説

522

188 2001 解説

522

191 2001 解説

522

195 2001 ｼﾘｰｽﾞ

Global Warming,Energy Sypply,Cathode,Hydrogen
Production,Anode,Oxygen
Evolution,Catalyst,Methanation of Carbon Dioxide522

201 2001 解説

Physical Vapor Deposition,Coating,Wear Resistance52

2

206 2001 ｼﾘｰｽﾞ

522

212 2001 研究論文

522

217 2001 研究論文

Pulse Plating，Zinc，Chromiumu，Sulfate Bathｓ，DC-superimposition

522

222 2001 研究論文

Aluminum Electrode,Nickel Displacement
Plating,Electroless Nickel Plating,Dissolved Oxygen

522

228 2001 技術論文

Electropaint,Potentiometric Titration,AnionicResin,Cationic Resin
Electroless Ni-P-PTFE Composite
Coating,Surrounding Humidity,Friction and Wear
Property

杉下潤二

低速度投射ショットピーニングによる冷間鋳竹田仁、伊藤俊朗
造用金型の寿命改善
表面改質によるしゅう動抵抗低減技術
萩原秀実
浸炭、窒化処理とショットピーニングとの相
久保田晋堪
乗効果
ショットピーニング法による抗菌処理技術 片岡泰弘
橋本功ニ、山崎倫昭、目黒眞作,佐々木昭仁、片桐洋、熊グローバル二酸化炭素リサイクル
谷直和、泉屋宏一、
幅崎浩樹、秋山英二、川嶋朝日、浅見ドライプロセスによる機械的特性向上の現
池永勝
状と将来
低コヒーレンス光干渉による屈折率と厚さ 丸山英樹、春山正
同時測定-光ディスク評価への応用光
硫酸銅めっき浴中のCu＋イオンの挙動と 横井昌幸、中出卓
スライムフリーシステムの提案
男、森河務、湯屋進
大貝猛、秋山徹也、
パルス電解法による硫酸塩浴からのZn-Cr
福島久哲、奇俊舒、合金電析
齋藤将仁
無電解ニッケルめっきによるアルミニウム 稲葉裕之、三浦修
電極上へのバンプ形成
平、本間英夫
鈴木祥一郎、福井
電着樹脂液中に含まれる酸および塩基の
洋一、土家和代、尾定量分析におよぼす水-ＴＨＦ溶媒の影響
形幸生
日野実、平松実、辻
無電解Ｎｉ-Ｐ-PTFE複合めっき皮膜の摩擦
川正人、川本信、出磨耗特性に及ぼす雰囲気湿度の影響
水敬
バイオテクノロジーと表面技術
柏木邦宏

52

2

233 2001 ﾉｰﾄ

52

3

239 2001 巻頭言- 20 -

Low Coherence Interferometry，Refractive Index，Thickness，Optical Disk
Copper Plating，Cuprous Ion、Anode Slime、Cation
Exchang Membrane表面技術 2000〜2002
北九州エコタウン事業から資源循環型経済垣迫裕俊
社会を展望する

52

3

240 2001 解説

三菱電機におけるリサイクル対策

523

244 2001 解説

52

3

250 2001 解説

Recycling,Packaging,Metal Can,PET Bottle,LCA

52

3

255 2001 解説

Recycling,Environment,Dismantling,Waste

523

259 2001 解説

Industrial Paint Waste,Recycle,Reuse

523

263 2001 総説

松村恒男

容器包装業界におけるリサイクル技術と環堀口誠
境対応
開発から使用済みまでの一環した自動車リ
小早川祥一郎サイクルの取組み
塗装業界ならびに当社における廃棄物の角田哲夫
削減・再利用と商品の再資源化
基板の平滑化・平坦化加工技術-主として土肥俊郎
半導体基板の超精密ポリシング/CMP技術

Eco-Town,Zero-Emission,Upstream Flow ofMaterial,Downstream Flow of Material
Recycling,Home Appliances,PostUse,Shredding,Separation

Cu配線とCMPによるプラナリザーション

木下正治

52

3

269 2001 解説

φ３００シリコンウエハ加工用超加工機械の開発

田島琢士、渡部和523

274 2001 解説

ナノトポグラフィーの測定と標準化
吉瀬正典
ＥＳＣＡによる磁気テープ潤滑剤の存在状
吉川正弘
態解析
第２還元剤としてＤＭＡＢを用いた銅ファイ 田代雄彦、橋本幸
ンパターン上の選択的無電解ニッケルめっ 雄、本間英夫
橋本幸雄、福原芳
無電解ニッケルめっきの有孔度の低減と環晴、渡邊健治、田代
境を配慮した評価法
雄彦、本間英夫
鋼板へのラミネートにともなうニ軸配向ポリ
森田俊一、岩下寛
エステルフィルムの配向変化に及ぼすラミ之、田中厚夫
ネート条件の影響
環境を配慮した微量スケールでの無電解 石川薫、阿部治、三ニッケルめっきの評価法
浦修平、本間英夫
第102回講演大会報告
牧野英司
モノづくりと教育
松永守央｢センサ・アクチュエータ｣の企画に当たって 杉村博之

523

278 2001 解説

CMP,Planarization,High Precision Polishing,Silicon
Wafer,Device Wafer
CMP,Planarization,Cu Interconnection,CuQuinaldicAcid Complex, Polishing Slurry,Fuctional
Silicon Wafer,Duetile Mode Grinding,Ultra-precision
Machine,Giant Magnetic Element,Ultra HighResoulution Feed
Nanotopography,Shallow Trench,Isolation,CMP

52

3

284 2001 ｼﾘｰｽﾞ

Magnetic Tape,Lubricant,Distribution Analysis,ESCA

52

3

289 2001 研究論文

Reaction Mechanisim,Selective Depoition,Electroless
Nickel Plating,None Catalyst,DMAB

52

3

294 2001 技術論文

Porosity,Alternative Electro-graph Test,Palladium
Activation,Electroless Nickel

523

298 2001 技術論文

PET Laminated ECCS,Polyester Film,Biaxial
Orientation,Amorphous layer,Adhesive Property

52

3

303 2001 速報論文

Environmentally Friendly Process,Optical Fiber Small
Volume,Electroless Nickel Plating,Dissolved Oxygen

52
52
52

3
4
4

305 2001 講演会大会だより
311 2001 巻頭言
312 200152

4

313 2001 解説

Piezoelectricity,Ferroelectricity,Atomic ForceMicroscopy，Surface Potential,Near Field Optics

524

317 2001 解説

Actuater,Actin-Myosin,Chemo Mechanical52

4

324 2001 解説

Shape Memory Alloy,Thin
Film,Microactuator,Deposition,Micromachining

圧電薄膜センサ・アクチュエータ
ソフトアクチュエーター
形状記憶合金マイクロアクチュエータ

渡辺俊二
角五彰、杉本信、龔剣萍 、長田義仁
牧野英司、柴田隆
行- 21 -

表面技術 2000〜2002
Gas Sensor,Ultrafine Particle,Thin Film,Copper
Phthanlopcyanine,Metal Oxide
The Film,Layer-by-Layer,Chemical Sensor,QCM,Gas
SensorTeflon Capillary Tube,On-Line
Adsorption,Preconcentration,Natural Waters,Analysis
of Metals
Chemisorption,Temperature-Programmed Desorption
αFe2O3，Fe3O4，Transformation，Filamant，
Reducation Reaction
Embossing,Polyester Film,Film-LaminatedSteel,Differential Scanning Calorimeter,Degree ofSupercooling

ガスセンサ―高性能化の試み―

竹内学

52

4

329 2001 解説

交互多層膜と化学センサ

白鳥世明

52

4

333 2001 解説

テフロンキャラピラリーチューブ濃縮法を併渡辺邦洋
用する環境試料水の分析

524338 2001 解説

52

4

344 2001 ｼﾘｰｽﾞ

52

4

348 2001 研究論文

524352 2001 ﾉｰﾄ

52

4

354 2001 速報論文

52
52

5
5

365 2001 巻頭言366 2001 総説

Electro Plating,Electroless Plating,Electroless52

5

369 2001 解説

Lead-Free,Plating,Bump

52

5374 2001 解説

BGA,CSP,Flip-Chip,MCP,Jisso

525

379 2001 解説

E..L..Ni/Au,Solder Joint Strength52

5382 2001 解説

52

5

390 2001 解説

52

5

395 2001

温度傾斜プラズマ焼結（SPS）法による傾斜
大森守、平井敏雄
化プロセス

52

5

396 2001 解説

生活活性傾斜機能材料の設計

小久保正、金鉉敏52

5

401 2001 解説

傾斜ペロブスカイトの電気特性

田口秀樹

52

5

406 2001 解説

非シアン無電解金めっき技術の開発

井上隆史

52

5

410 2001 解説

固体表面の酸塩基特性の測定法
αFe2O3からFe3O4薄膜への相変態に及ぼすフィラメントの加熱効果

黒川秀樹
山﨑善裕、湯本久美森田俊一、岩下寛
結晶性樹脂フィルム被覆鋼板の表面エン之、田熊幸治、藤井
ボス加工
行治、武居芳樹
縄舟秀美、石川俊
樹脂の表面改質を利用するCdTe化合物半輔、水本省三、清田
導体薄膜の作製
優
技術の協調
大工原茂樹
エレクトロニクス実装とめっき技術
三浦修平、本間英
はんだの鉛フリー化に対応しためっき技術 新井進、金子紀男、の現状
篠原直行
BGA-CSPの表面処理技術
西邦彦
無電解ニッケル/金めっきのはんだボール
渡辺泰裕
接合強度
電子部品実装における金属/高分子材料
中塚康雄
界面制御技術アルカンを用いたフラックスレス基板間接
三宅敏広
続技術｢傾斜機能材料の新展開｣の企画に当たっ 吉原佐知雄- 22 -

CdTe Semiconductor,Polymide Resin,Surface
Modification,Direct Metallization

Polymer,Micro Interconnection,System inPackage,Adhesive Tape,Intergrated Circuit
Fluxless Soldering,Alkane,Volume Expansion
Energy,FPC Connection
Functionally Graded Material,Spark Plazma System，
Spark Plazuma Sintering，Temperature
Gradient,Structure Grandient
Bioactivity,Apatite,Graded structure,Simulated Body
Fluid,Titanium
Perovskite,Functionnally Graded Materials,MetalInsulator Transition,Electrical Resisitivity,Seebeck
CoefficientElectroless Gold Plating,Non-Cyanide
Bath,Thiourea,Hydroquinone

表面技術 2000〜2002
耐トラッキング性試験

浦辺修一

原賢治、河野俊輔、
中野博昭、大貝猛、
加来久幸、秋山徹也、福島久哲近藤康人、井関正
炭素繊維電極上の殺菌挙動に及ぼす電位
博、滝沢貴久男、須の影響
齋嵩
めっき槽地震災害対策のための液体振動 川口明廣、尾崎雅
模擬実験亮
柴田正実、古屋長有機電解液中でのマグネシウム酸化溶解一、堀内哲
関西表面技術フォーラム藤原裕
３次元イオン注入による表面改質
行村建
塩化物浴からのCo-P電析皮膜の磁気特性に及ぼすめっき因子の影響

525414 2001 ｼﾘｰｽﾞ

Tracking,Erosion,Electrical insulating
Material,Test,Evalution

52

5

418 2001 研究論文

Electrodeposited Co-P,Magnetic Properties,Coercive
Force,Residual Magnetization,Magnetic Domain
Structure52

5

424 2001 研究論文

Electrical Potential,Carbon Fiber Electrode Active
Chlorine52

5429 2001 速報論文

Sloshing,Plating Bath,Earthquake,Preventive Board52

5

431 2001 速報論文

Magnesium,Mg Surface,Non-Aqueous
Electrolyte,Water Addition

52
52

6
6

437 2001 巻頭言438 2001 総説

Plasma Based Ion Iｍplantation,PSII,PIII,PBII
Plasma Based Ion Implanetation，Vacuum
ArcDischarge，Thin Film，SurfaceModification，Ion
Beam
PBII，PIII,PSII,Plasma,Three-dimensional Ion
Implatation,Ion Implantation

新規プラズマイオン注入技術の開発

堀野裕治

52

6

442 2001 解説

３次元イオン注入・成膜装置の動向

鈴木泰雄

52

6

446 2001 解説

52

6

449 2001 解説

PSII,Ion Implantation,DLC,Coating,Inner Wall

526453 2001 ｼﾘｰｽﾞ

52

6

456 2001 研究論文

526462 2001 技術論文

Pinpoint Condensation,FT-IR,ATR
Chloride Zinc Plating,Organic
Additives,Crystrallographic orientation,Lattice
Constant
Nickel Plating,pH Buffer,Citric Acid,Nickel Citrate
Bath,Watts Baths

52

6467 2001 速報論文

PSII,DLC,TiC

52

6469 2001 速報論文

Magunesium Alloys,Conversion Treatment,Non
Chromium Solution,Film Structure527473 2001 巻頭言

PSⅡ法による表面改質と薄膜形成

馬場恒明、畑田留理子
栗原美穂

FT‐IRによる微小および微量分析
塩化物からの亜鉛電析物の配向性,格子定数,炭素含有量と皮膜硬さに及ぼす有機添 野口裕臣
加剤の影響
土井正、水元和成、
クレン酸を用いた電気ニッケルめっき浴
茅島正資、田中慎
プラズマソースイオン注入法によるＴｉへの 畑田留理子、馬場Ｃイオン注入とＤＬＣ膜作製
恒明、長田純夫
マグネシウム合金のノンクロム溶液による 島尻芳文、中田成、
化成皮膜処理
青野隆之
MEMSを活用したEMS企業
吉野寛治
チップレベルの三次元実装と表面技術

高橋健司

52

7

474 2001 総説

Siウエハの貫通電極形成技術

星野雅孝

52

7

479 2001 解説- 23 -

3D Chip Stacking,Semiconducter Packaging,Wafer
Process,Interconnection,National Project
Electronic System Intergration,Three-Dimensional
Packaging,Through via,Wafer Thinning,Flip Chip
Bonding,Under-fill,Thermal Management表面技術 2000〜2002
フッ化処理を用いた固相接合技術

高橋克弘

52

7

484 2001 解説

光回路実装における３次元実装技術

高原秀行

52

7

490 2001 解説

52

7

494 2001 解説

52

7

500 2001 解説

3次元実装技術と微細配線めっき技術の応 若林信一、堀内道
用夫、栗原孝
３次元実装を支える薄膜はく離強度解析・
岩﨑富生
評価技術
走査型電子顕微鏡におけるSTEM法の活藤谷洋
用上田順弘、曽根匠、
流動層法による高ケイ素ステンレス鋼のほ
出水敬、水越朋之、
う化処理
池永明、川本信
レーザスペック干渉法を用いた溶融Znめっ 谷善朗、萩原芳彦、
大谷眞一、千葉和
き処理鋼の縦弾性係数の計測
鋼板へのラミネートに伴うニ軸配向ポリエス 森田俊一、岩下寛
テルフィルムの配向変化に及ぼすラミネー 之、田中厚夫、毎田知正
トロール接触冷却長の影響
本協会のさらなる発展のために
伊藤滋

52

7

504 2001 ｼﾘｰｽﾞ

52

7

507 2001 研究論文

527513 2001 研究論文

527517 2001 技術論文

528

525 2001 巻頭言

長持ちする金型をつくるために

竹内榮一

52

8

526 2001 解説

表面硬化金型の特性評価

藤田浩紀

52

8

530 2001 解説

金型材料における最近の表面硬化処理

藤木栄

52

8

535 2001 解説

放電加工による金型の表面改質法

福澤康

52

8

540 2001 解説

52

8

544 2001 解説

52

8

548 2001 解説

52

8553 2001 解説

52
52

8
8

557 2001 ｼﾘｰｽﾞ
559 2001 ｼﾘｰｽﾞ

52

8

563 2001 研究論文

528568 2001 研究論文

微粒子による精密ショットピーニングでの表加藤修、中島一輝
面改質
DLC膜の特性と応用例
熊谷泰
ｱﾉｰﾄﾞ酸化/ﾚｰｻﾞｰ照射/Ni-P無電解めっき 坂入正敏、文聖模、によるプラスチック射出成形用金型の試作 高橋英明、嶋村清
測定値を比べる話（ISO17025）
中村進
ポリイミドフィルム表面のキャラクタリゼー 端洋志
CVDダイヤモンド膜合成のための超硬合金 亀岡誠司、本西英、
の表面改質
内田仁
焼結炎法による炭素膜合成における基板 貝沼数敏、坂本幸
回転とガス組成の影響
弘、高谷松文- 24 -

Solid State Bonding,Fluorinaiton,AtmosphericPressure discharge
OE-MCM,Flip-Chip Bonding,Reflection Mirror,Microlens,Optical I/O-Chip
Plating,Fine Pattern,Three Dimensional Assembly
Adhesion Strength,Electronic Package,Thin
Film,Molecular Dynamics Simulation
STEAM,Brightfield and Dark-field Imaging,High
Resolution EDX Mapping
Boriding,High-silicon Stainless Steel,Fluidized Bed
Method，Friction and Wear,High-Temperature
Microhardness
Laser Speckle Interferometry,Zn Coating,Young's
ModulusPET Laminated ECCS,Polyester Film,Biaxial
Orientation,Amorphous layer,Laminating process
Durable Die,TD Process(Toyota Difbusion
Process),Swaging Die,Warm Working Die,Thermal
Surface Hardening,Properties Carbide Coating
Surface Hardening,Dies steel,Nitriding,Diffusioncoating,PVD,CVD
Surface Modification,Electrical Discharge
Machining,Compressed Powder Electrode
Fine Particle Peening,Wonder Process
Craft,Nitriding,Physical Vapor Deposition,Hybrid
Treatment
DLC,Nano-indentation,Hardness,Forming Die
Anodizing,Laser Irradiation,Ni-P Electroless
Plating,Plastic Injection Mold,Aluminum Alloy
XPS,FT-IR,Copper Deposited Polyimide,Adhesiveness
CVD,Diamond Films,Cemented Carbides,Surface
Design,Plasma Treatment
Diamond,DLC,Substrate Revolution,Gas Composition

表面技術 2000〜2002
森田俊一、岩下寛之、田中厚夫、毎田知正
Ｎｉ-Ｐ無電解めっきにおけるＰｄに代わる活 津留豊、藤田由香
性化剤としての水酸化剤としての水酸化物 里、久米道之、大八
コロイドの応用木八七
吉本信子、柴田拓
リチウムイオン電池用有機電解液中でのア
生、石川正司、森田
ルミニウムの陽分極挙動
昌行
産学連携の強化による表面技術のさらなる瀬沼武秀
発展-第104回講演大会にあたってナノテクノロジーの海外動向
安田英典
材料ナノテクノロジーと表面技術
吉野潤
ECRスパッタ法によるナノ構造制御

ポリエステルフィルムのクロムめっき鋼板への密着性におよぼす湿熱処理の影響

下地触媒型無電解金めっき

廣野滋
加藤勝、佐藤潤、沖中裕、逢坂哲彌
宇野佳孝
中稔晴

有機・高分子材料の表面・微小部の分析
処理槽の考え方
無電解めっき-無電解ニッケルめっきVS無淺富士夫
電解銅めっき須齋嵩、金子実、浜PEFCの耐久性に及ぼすカーボン電極材料
田陽、近野義人、樂
の影響
間毅、志水康彦
高純度アルミニウム箔の塩酸溶液中にお 菅沼栄一、丹野裕
ける交流エッチングで生ずる生成物と拡面 司
ACMセンサから計測されたガルバニック電
押川渡、斉藤正敏
流のスケーリング性
中山佳則、相川一
インピーダンス法による粉体塗装鋼板の耐好、滝沢貴久男、山食性評価
下嗣人
三宅猛司、久米道
電析法により作製されたCu/Ni-P多層膜の之、山口浩一、箕浦
硬度と摩耗特性秀樹
小浦延幸、芝野憲
NbCl5-SnCl2-EMIC系常温型溶融浴からの 司、松本太、松澤秀
Nb3Sn超伝導合金の電析則、加藤智紀、井手本康、凌国平528572 2001 技術論文

PET Laminated ECCS,PET
Film,Annealng,Adhesion,Degradation

52

8

576 2001 技術論文

Electroless Plating ,Colloidal
Solution,Activation,Peeling,Strength,ABS Resin52

8581 2001 速報論文

Aluminum,Organic Electrolyte Solution,Lithium Ion
Battery,Lithium Salts,Anodic Behavior

52

9587 2001 巻頭言

52
52

9
9

588 2001 総説
593 2001 総説

52

9596 2001 解説

52

9600 2001 解説

52
52

9
9

607 2001 ｼﾘｰｽﾞ
614 2001 ｼﾘｰｽﾞ

52

9618 2001 ｼﾘｰｽﾞ

52

9620 2001 研究論文

529625 2001 研究論文

529630 2001 研究論文

529634 2001 研究論文

Powder Coatings,AC Impedance
Method,Resins,Pigments,Coating Film Surface

52

9639 2001 研究論文

Multilayered Cu/Ni-P Coating,Single BathTechnique,Hardness,Tribological Properties52

9645 2001 速報論文

Room Temperature Molten Salt,Nb3Sn
Superconductor,1-ethyl-3-methykimidazdium Cholride- 25 -

Nanotechnology,USA,EU,Nanoparticle
Nano-Technology,Surface Technology
ECR,Sputtering,CoCr,Carbon,Magnetic Recording
Media,Protective Film
Substrate-Catalyzed,Electroless Gold Plating,Cyanide
Bath,Non-Cyanide Bath,Porosity
μ-FT-IR,μ-LR,TOF-SIMS
Lining Material,Pinhole Test,Treatment Tank

Polymer Electrolyte,Carbon Support,Catalyst,DBP,Gas
Diffusion ElectrodeAC etching,Aluminum,Electrolytic Capacitor,SpecificSurface Area,Eching Products
Scaling,Fractal,Hurst Exponent,Galvanic
Current,Atomospheric Corrosion Monitor

表面技術 2000〜2002
アルミニウム合金上の無電解Ni-Pめっき皮 日野実、平松実、辻膜の密着性に及ぼすレーザ照射の影響
川正人、川本信大和弘之、吉原佐酸化チタン光触媒を用いたFe-Cr合金めっ知雄、白樫高史、及きの光カソード防食の検討
川渉、工藤南海夫
表面工学国際会議（FSE2001）
高井治
分子テンプレートを用いたメソポーラス薄膜 本間格、遠藤明、周作製プロセス豪慎

52

9647 2001 速報論文

529649 2001 速報論文

5210655 2001 巻頭言52

10656 2001 解説

52

10660 2001 解説

カーボンナノチューブ膜の作製とその電界
齋藤弥八
放出特性

52

10

664 2001 解説

生体適合型高分子リンカーを用いる機能性 大塚英典、長崎幸
高分子界面の構築
夫、片岡一則5210668 2001 解説

グロー放電発光分光分析法(GD-OES）の
国際標準化

柿田和俊

52

10

674 2001 ｼﾘｰｽﾞ

めっき分野のろ過(1)-ろ過装置とろ材

阿部裕士、渡辺正樹、松波茂彦52

10679 2001 ｼﾘｰｽﾞ

自動分析/管理装置の現状

川原徳重

52

10

683 2001 ｼﾘｰｽﾞ

52

10

687 2001 研究論文

5210693 2001 研究論文

5210698 2001 研究論文

5210702 2001 研究論文

5210708 2001 研究論文

ブロック・グラフト共重合体を用いたナノ構
造制御

五十野善信、高野敦志

高流動浴条件下でのZn-Fe合金電析に及安藤聡、鷺山勝
ぼすZnイオン濃度、ｐH、流速の影響
電位パルス電解法によるCu/Cu-Sn合金積 篠原直行、新井進、
金子紀男、若林信
層皮膜の作製西川英一、田家良
マイクロ･スパッタリングによるSUS３１６H鋼久、喜岡俊英、杉田
クリープ試験材の金属組織観察のための
利男、田中秀雄、阿研磨工程の簡略化
部富士雄、八木晃
イミダゾールを還元剤とするコハク酸イミド 縄舟秀美、城口慶
錯体浴からの銅素材上への直接無電解銀 子、水本省三、小橋めっき
康人、小幡恵吾
遠藤浩二、鈴木昇、
エポキシ樹脂被覆水晶振動子の湿度セン
星正人、塩屋靖、加サー特性と人体からの水分蒸発量測定（E)藤貞二、藤倉芳明
無電解めっきの活性化前処理により基板 八重真治、内野智に形成される吸着物の量および形態-セン 朗、関根雄介、岡本
シタイジング液のエージングの影響尚樹、山岸憲史、松YAG Laser, Electroless Ni-P Coating,Laser Surface
Modification, Adhesion, Aluminum Alloy
Photocathodic Anti-Corrosion, TiO2 Photocatalyst,
Fe-Cr Alloy Plating, QCM
Molecular Template,Nanostructured, Mesoporous
Silica Thin Films
Block Copolymer,Graft Copolymer, Microphase
Separated Structure, Ordered Structure,Anionic
Polymerization
Carbon Nanotube,Film,Field Emission, Electron
Source,Display
Heterobifunctional Poly（ethylene glycol),Block
Copolymer,Nano-Structure,Tissue
Engineering,Diagnostics
GD-OES,Traceability,Reference
Material,Standardization,Validation
Filtration,Plating,Filter,Filter Medium,Filter Aid
High Quality Plating, Rapid Change of Concentration,
Profitable Solution Controller,Mobile Analyzer
Electrodeposition,Zn-Fe Alloy,Co-Deposition,High
Electrolyte Flow
Potential Pulse Electrolysis, Multilayer, Copper-Tin
Alloy,Solder Plating
Micro-sputtering, SUS316 H Steel, Coarse Polishing
Process, Fine Polishing Process,Microstructural
Examination
Electroless Silver Plating,Cyanide Free,Copper
Substrate,Deposition Mechanism
Ventilated Chamber System,Skin,Ocular Surface,Blink

52

10713 2001 速報論文
Autocatalytic Plating, Sensitization,Activation, Sn, Pd- 26 -

表面技術 2000〜2002
第１０３回講演大会報告渡部修一
２００１年北海道夏期セミナー
佐々木健
電鋳・金型の表面処理部会-講演および見
井坂悟志
学会報告
温故知新
阿部芳彦
電鋳技術の基本と応用製品
川崎実
光ディスク原盤の高速電鋳
山原利行
マイクロマシニングとしてのニッケル電鋳技 安井学、平林康男、
術の応用
藤田博之
回析による構造解析結果の正しい記述の 橋本功二、浅見勝
ために彦
関東化成工業（株）本社工場
野村広正
斜入謝X線散漫散乱法による基板表面形 上田和浩、平野辰
状評価巳、宇佐美勝久

52
52

10
10

715 2001 講演会大会だより
719 2001 支部だより

52

10

720 2001 部会/例会報告

52
52
52

11
11
11

725 2001 巻頭言
726 2001 総説
730 2001 解説

52

11734 2001 解説

52

11

738 2001 解説

52

11740 2001 ｼﾘｰｽﾞ

52

11

742 2001 ｼﾘｰｽﾞ

52

11

746 2001 ｼﾘｰｽﾞ

バレル研磨機の新技術と効果的な使い方 渡辺昌知

5211750 2001 ｼﾘｰｽﾞ

リン酸亜鉛皮膜のホパイトとフォスフォフィ 中山隆臣
電析法により作製したCu/Ni-P多層膜の構 三宅猛司、久米道
造と硬度に及ぼす熱処理の影響
之、箕浦秀樹酸化パナジウム/金イオン複合電析PPTA 平山智之、矢野潤、
大浦博樹、山崎澄
膜の作製とそのエレクトロミック特性
イミダゾールを還元剤とする中性コハク酸 縄舟秀美、城口慶
イミド錯体浴からの無電解ニッケル-リン合 子、水本省三、小橋康人、小幡恵吾
金めっき素材への無電解銀めっき
邑瀬邦明、古田成
ＴｉＮ薄膜の酸化溶解による銅の置換析出
生、平藤哲司、粟倉挙動泰弘
萩原謙、川崎淳一、Ｃｏ（Ⅱ）錯塩を還元剤とする無電解めっき
大金政信、泊慶明、の長寿命化と光学用途に関する検討
本間英夫
山下秀一、田中浩、
KOH水溶液を用いた電圧印加によるｎ-Si
阿部吉次、山内毅、（110）の等方性エッチング
竹中修、井上和之
アルカリ溶液中における亜リン酸イオンの
自動酸化反応と無電解Niめっき老化液処 岩井正雄
理への適用

52

11

754 2001 ｼﾘｰｽﾞ

52

11

757 2001 研究論文

5211762 2001 研究論文

5211768 2001 研究論文

Electroless Silver Plating, Cyanide Free, Ni-P
Substrate, Deposition Mechanism

52

11

773 2001 研究論文

ULSI, Displacement Reaction, Copper Plating,Potential-pH Diagram, Titanium Nitride

52

11778 2001 技術論文

Electroless Silver Plating, CO(II） Complex Salt, BathLife, Auto Catalytic Reaction

52

11

783 2001 技術論文

Silicon, Etching, Isotropy, Anisotropy, Anodic
Oxidation

52

11

787 2001 速報論文

E1ectroless Plating Bath, Autoxidation， Phosphite
1on, Recycling System

めっき分野のろ過(2)-循環ろ過とその応用

阿部裕士、渡辺正樹、松波茂彦- 27 -

Foundation, Products, E1ectrofoｍing
Electroforｍing, Optical Disk, Staｍper
Niicroｍachining, Nickel ElectroFoｍing, LIGA-Like
Process, Silicon-Mold
Crystal Plane, Diffraction, Reflection, Preferred
Orientation
Grazing lncidence,Diffuse Scattering, Roughness,
Correlation Length, Surface Fractal Dimention
Continuous Circulating Filtration,Filter
Application,Acitvated Carbon Treatment,Filter
Installation,Environmental Management System
Tumblling Barrel,Vibratory Barrel, Centrifugal Disc
Barrel, Centrifugal Barrel, Dry Barrel
Electrodeposition, Cu/Ni-P Multilayer, Annealing,
Hardness
V20x/Au-PPTA Composite Film, Electrochromic
Properties, Self-supporting Film

表面技術 2000〜2002
Al粉末とTi粉末を用いた鋼のアルミナイジ
ング

西田典秀、李英起、
國次真輔、村上浩二、金谷輝人
小浦延幸、松本太、
田代洋介、二村昌
樹、井手本康
逢坂哲彌

52

11

789 2001 速報論文

Aluminum Powder， Titanium Powder， Aluminizing,
Steel

52

11

791 2001 速報論文

Electroplating, Aluminum, Room Temperature Molten
Salt，lEthyl-3-Methylimidazolium Chloride

52

12

797 2001 巻頭言52

12798 200152

12

799 2001 解説

イオン注入とその応用技術による表面処理 鷹野一朗

5212805 2001 解説

プラズマCVD法による金型の表面処理

河田一喜

52

12

810 2001 解説

透明ガスバリアー膜の形成とその特性

稲川幸之助

52

12

815 2001 解説

52

12

821 2001 解説

52

12

827 2001 解説

AlCl3-EMIC系常温型溶融塩からのアルミニウムの配向電析

表面処理技術の新分野開拓
特集｢ドライプロセスによる表面処理｣の企
柏木邦宏
画に当たってプラズマ窒化およびプラズマ浸炭による表
浦尾亮一
面処理

銅ECDの下地用バリア膜/銅シード膜の真関口敦
空一貫形成プロセス蒲生西谷美香、高気相成長によるダイヤモンド単結晶表面の見知秀、中川清晴、
調整
竹内貞雄、安藤寿
アークジェットCVDによるｃBN膜の合成

松本精一郎

ナノメートルスケールでの薄膜･表面の機梅村茂
械的特性の評価
メゾ空間プラズマの材料表面処理への利用-プラズマチップ（集積プラズマプロセス 寺嶋和夫
デバイス装置）を例にして大気圧マイクロプラズマジェットの微細加工 一木隆範、田浦了、
への応用
堀池靖浩

52

12

833 2001 解説

52

12837 2001 解説

52

12

841 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

52

12843 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

高分子材料のプラズマ表面処理

葛谷昌之

52

12

845 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

斜め蒸着による薄膜の形態制御

鈴木基史、多賀康
訓5212847 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

高周波熱プラズマ溶射による傾斜組織アパ
稲垣雅彦
タイト皮膜の形成

5212849 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

複合硬化処理5212851 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

市村博司- 28 -

Plasma Nitriding,Plasma Carburizing, IonNnitriding,Ion-Carburizing,Surface Hardening
Ion Implantation, Ion Beam Modification, Surface
Treatment
PCVD, Die,（Ti, Al) N, DLC, Tribology
Transparent Barrier Coating, Ultra-Barrier Coating,
Dry Prosess, Alumina Coating, Diamondlike Carbon
Copper, Barrier, Chemical Vapor Deposition, Insitsu, Electrochemical Deposition
Diamond, Plasma CVD, Surface, Homoepitaxy, AFM
cBN Films, Arc Jet CVD, Fluorine, Cubic Boron
Nitride, c-BN
Thin Film, Surface,Friction, Wear, Atomic ForceMicroscopy
Nano-Space Plasma, Mezzo-Space Plasma, Surface
Treatment, Plasma CVD, Plasma Chip
Microplasma Jet, Atmospheric Pressure, High-speed
Etching
Organic Polymers, Plasma Surface Treatment,
Polymer Radicals, Plasma Polymerlzatlon, Electron
Spin ResonanceOblique Deposition,Thin Film Morphology,
Nanostructured Materials
Thermal Plasma Spraying, Hydroxyapatite, Composite
Coating, Bond Strength
Plasuma Nitriding, Dry Coating, Duplex, Adhesion,
Hardness

表面技術 2000〜2002
PETボトルへのDLCコーティング
白倉昌
CVDダイヤモンド膜の断続的衝撃による損 亀岡誠司、本西英、
傷過程
内田仁
ＡＩＰ法によるステンレス鋼窒化膜の結晶構 加藤淳、佐藤俊樹、山本兼司
造と機械的特性バイアス印加を併用した熱フィラメントＣＶＤ
竹内貞雄、小田澄法による多層ダイヤモンド膜の合成と機械
嗣、村川正夫的特性評価
窒素イオンビーム照射したＤＬＣ膜の機械 渡部修一、斉藤喬
的特性
士、三宅正二郎
マグネトロンスパッタリングで形成したダイ 三宅正二郎、斉藤
ヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜による耐 喬士、渡部修一、林
熱性高分子材料の摩擦低減
栄一、中丸隆イオンプレーティング法により形成したTi- 佐藤裕、渡邊久、大Si-Nナノ複合皮膜の硬さと微細組織
谷三郎
杉村博之、田島信
アークイオンプレーティングによって作製し宏、河田一喜、高井
た非晶質窒化炭素薄膜の耐摩耗性
治
松谷貴臣、浅沼達
イオンビーム誘起CVDによる有機ケイ素を哉、劉昌、木内正用いたアモルファス炭化ケイ素薄膜の作製
人、竹内孝江穂積篤、稲垣裕宣、
真空紫外光照射によるポリスチレンフィル 魚江康輔、杉村博
ムの親水化
之、高井治、横川善之、亀山哲也
これからの表面技術協会
瀬尾眞浩

52

12

853 2001 ﾄﾋﾟｯｸｽ

52

12855 2001 研究論文

5212860 2001 研究論文

5212866 2001 研究論文

5212872 2001 研究論文

5212878 2001 研究論文

5212883 2001 研究論文

5212887 2001 研究論文

5212891 2001 速報論文

5212893 2001 速報論文

53

1

1 2002 巻頭言

最近の無電解めっき技術

斎藤囲

53

1

2 2002 総説

無電解ニッケルめっき-機能分類と応用

岡博幸

53

1

7 2002 解説

無電解銅めっき-浴の種類と応用

藤波知之

53

1

15 2002 解説

無電解金めっき浴の機能分類と応用

渡辺秀人

53

1

22 2002 解説

53

1

28 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

53

1

31 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

53

1

34 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Ni-P-B無電解めっき
仙波裕隆
ヒドラジンを還元剤とした黒色無電解ニッケ 田代雄彦、本間英
ルめっき夫
清水茂樹、大久保
置換型無電解銀めっき
和博- 29 -

DLC,PET,Plastic,Bottle,Barrier
CVD, Diamond Films, Interrupted Cutting, Impact,
Cracks, Delamination
Arc lon Plating, Stainless Steel, Nitrogen, Crystal
Structure, Mechanical Property
Diamond Film, Multi-Laye,Bias Treatment,Mechanical
PropertiesDLC Films, Ion-Beam lrradiation, Frictional Durability,
Micro-Wear
Diammond Like Carbon(DLC), Friction, Liquid Crystal
Polymer(LCP),Polyphenylene Sulfide（PPS),Polyether
Sulfone（PES）
Silicon Nitrid,Titanium Nitride,Nanocomposite
Films,Hardness, Microstructure
Arc Ion Plating, Carbon Nitride, Diamond Like Carbon,
Tribology
Ion Beam, Chemical Vapor
Deposition,Organosilicon,Hexamethyldisilane,a-SiC： H
Film
Hydrophilization Vacuum Ultra-violet Light,
Polystyrene
Electroless Nickel,Electroless Copper, ElectrolessGold, Electroless Silver
Electroless Nickel Plating,Properties,Functional Film
Electroless Copper Plating, EMI Shielding,Printed
Wiring Board,ULSI,Formalin-Free
Electroless Gold Plating, Cyanide Bath, Non-cyanide
Bath, Solder Joint, Wire Bording
Electroless Nickel Plating, Electroless Boron Plating
Hydrazine, Electroless Pure Nickel,Dendrite Structure,
Black Nickl
Immerion Silver Plating, Migration, Rust Preventing
Agent, Shelf Life

表面技術 2000〜2002
Electrochromic Window, Thermochromic Window,
Smart Window, W03, V02, ITO
Buffing Process,Buffing Compounds,Hand Operated
Machines, Automatic Machines

スマートウインドウ-賢い窓ガラス-

重里有三

53

1

38 2002 解説

バフ研磨の工具と装置

安部賢一

53

1

41 2002 ｼﾘｰｽﾞ

アリとシロアリ海老原健
カソード分極にともなうTi-２２V-4Al合金へ 羽木秀樹、上田和の水素の侵入良、伊部壽夫53

1

47 2002 ｼﾘｰｽﾞ

53

1

49 2002 研究論文

パラジウムめっき膜の水素分析

531

54 2002 研究論文

531

59 2002 研究論文

LSI Wiring, Copper Electrodeposition, Pre-adsorptionof Additive, Storage Theory， Insoluble Anode53

1

65 2002 研究論文

Ni-B Electroless Plating, Stabilizer, Tartratecomplex,Sodium Borohydride53

1

71 2002 研究論文

Hydrazine, Smooth Surface,Pure Nickel,Electroless
Plating,Capping Metal Formation

53

1

78 2002 技術論文

Electroless Plating, Colloidal Solution,Vapor
Deposition,Peeling Strength,ABS Resin

53

2

95 2002 巻頭言53

2

96 2002 解説

532

104 2002 解説

532

110 2002 解説

532

116 2002 解説

53
53
53

2
2
2

120 2002 ｼﾘｰｽﾞ
124 2002 ｼﾘｰｽﾞ
126 2002 ｼﾘｰｽﾞ

532

129 2002 研究論文

Carbon Steel,Zn-Al Coating Layer, Hot
Dipping,Microstructure,Alloy Layer

532

134 2002 研究論文

Aluminum, Anodizing, Diluted KOH Solution, Anodic
Oxide Film, Film Breakdown

羽木秀樹、東昌幸

縄舟秀美、粟野まい
添加剤の予備吸着を利用する銅電析プロ
こ、赤松謙祐、水本セスによるULSI微細配線の形成
省三、内田衛、細田
酒石酸塩およびグリシンを錯化剤とした
小野恭史、山下義
NiCl2-NaBH4系無電解ニッケルめっき司、安田守宏ヒドラジンを還元剤とした無電解ニッケル 田代雄彦、山本誠
めっき膜の平滑化とキャップメタルへの応 二、渡辺大樹、本間英夫、川島敏用津留豊、持永光爾、Ｎｉ-Ｐ無電解めっきにおけるＰｄに代わる活久米道之、大八木
性化剤としての蒸着亜鉛の応用
八七
表面技術協会の現状と今後の課題
山下嗣人
電子部品の腐食性ガス試験の現状-一般
原口智、井田貞夫
環境模擬試験方法の研究半導体部品の外装リードめっき皮膜評価

清水禎之

プリント基板におけるめっき膜への要求品
中山肇
質とその評価方法
篠浦治、小柳勤、中薄膜磁気ヘッドにおける表面技術(平成13 川善朗、木村富士
年度技術賞 受賞技術）巳、上島聡史、井上聡
中稔晴
水切り乾燥装置
ワット浴とスルファミン酸浴
岩城泰彦
ヱビナ電化工業株式会社
豊田稔
田中順一、小野圭
溶融Zn-6mass%Al浴に浸漬した炭素鋼の介、林重成、大笹憲
界面反応挙動に及ぼす炭素濃度の影響
一、成田敏夫
低濃度KOH溶液中におけるアルミニウムア 島田英樹、坂入正
ノード酸化皮膜の生成挙動
敏、高橋英明- 30 -

Diffusion Coefficient,βTitanium Alloy, Concentration,
Cathodic Polarization, Eyeglasses
Palladium Electroplating,Hydrogen Analysis,Hydrogen,
Concentration,X-ray Diffraction

Corrosive Gas Test, ISO, IEC, JIS, Mixed Gas Test,
Ozone, Impedance Measurement
Coat Evaluation, Electroplating, Pb Free, Solder
Wettability, Corrosion Resistance
Plating,Printed Wiring Substrate,Fine Pattern,Throughhole,Terminal
Magnetic Recording Head, Thin Film,
Electrodeposition, NiFe, Cu
Drier,Heat Loss,Quantity of Heat

表面技術 2000〜2002
ボアーフィリング法によるアルミニウムア
ノード酸化皮膜のブレークダウン電位上昇
次亜リン酸ニッケルを使用した無電解ニッ
ケルめっき浴のリサイクルシステム

島田英樹、坂入正敏、高橋英明
堀川健、三田宗雄、
笹岡正伸、中尾英小浦延幸、松本太、
猿渡秀郷、北原しの高配向アルミニウムの直流エッチングによぶ、井手本康、山崎り形成されるトンネルの入口形態の考察
崇、古川雅一、内秀則
ポリピロール電極でのアニオンのドーピン 前田康久、市川雅
グ・脱ドーピングにともなう電気化学ペル
章
第１０４回講演大会報告
福島久哲
第１０５回講演大会と若き日の思い出
浦尾亮一
マグネシウムの表面酸化現象とアノード酸
小野幸子
化皮膜の成長マグネシウムの材料特性と技術
久保田耕平
マグネシウム合金の表面処理の問題点

芹田一夫

Aluminum,Anodic Oxide Film, Film Breakdown,Pore
Filling
Electroless Nickel Plating,Nickel
Hypophosphite,recycling process,Electrodialysis,pH532

142 2002 研究論文

532

149 2002 技術論文

532

154 2002 速報論文

D.C Etching,Highly Ordered Alunminum, Electrolytic
Capacitor

532

156 2002 速報論文

Polypyrrole,Anion Doping, Electrochemical PeltierHeat, Entropy Change

53
53

2
3

158 2002 講演会大会だより
165 2002 巻頭言53

3

166 2002 総説

533

172 2002 解説

533

176 2002 解説

Magnesium,Oxide Film,Anodizing,Growth Mechanism, Ｔ
EM
Magnesium,Casting,Magnesium Alloys
Magnesium Alloy,Conversion Treatment,Corrosion
Resistance,Adhesion

森田良治、大下賢
一郎
マグネシウム合金上無電解ニッケルめっき 岩沢裕之
マグネシウム合金用塗料と塗装
稲葉哲也

53

3

182 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Surface Treatment,Magnesium Alloy, Chrome Free

53
53

3
3

185 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ
188 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

めっき処理、化学処理におけるＦＲＰ槽

村上雄一

53

3

191 2002 ｼﾘｰｽﾞ

Magnesium Alloy, Electroless Nickel Plating
Magnesiurm, Paint, Painting
Plating Tank, Corrosion Proof, ERP(Fiber Reinforced
Plastics）

塩（しお）と塩（えん）

坂内恒雄

53

3

197 2002 ｼﾘｰｽﾞ

パラジウムめっき膜中の水素の拡散係数

羽木秀樹、東昌幸

53

3

199 2002 研究論文

Diffusion Coefficient,Hydrogen, PalladiumElectroplating,Trapping Effect, Electrochemical
Stripping Method

53

3

203 2002 研究論文

Electroless Nickel Plating, Wastewater, Ni2＋
Recovery, Nickel Powder, Specific Surface Area

533

208 2002 研究論文

Shape Memory Alloy, Pulse Voltage, Electrochemical
Etching, Micromachining

533

214 2002 研究論文

Fine Particle Bombarding, Shot Peening, Fatigue,
Residual Stress53

3

219 2002 速報論文

Low-temperature Precycling, Lithium Metal Anode,
CCD Microscope, Organic Electrolyte Solution,
Rechargeable Battery

マグネシウム合金の化成処理

無電解ニッケルめっき老化液処理への還元晶析法の適用-反応挙動に対する種晶 堀川健、平沢泉
比表面積の影響パルス電解エッチングによるＮｉＴｉ形状記憶 峯田貴、三井俊明、
合金シートの微細加工
渡部善幸、小林誠
米倉大介、小茂鳥
微粒子ショットピーニング処理を施した鋼の潤、清水真佐男、清疲労特性におよぼす投射条件の影響
水博美
石川正司、吉本信二次電池用リチウム金属負極表面のその子、田坂優子、森田
場観察-低温前処理の影響昌行- 31 -

表面技術 2000〜2002
材料開発に大切なこと

渡部修一

53

4

223 2002 巻頭言ＬＳＩの新境地を開くスーパーコネクト

桜井貴康

53

4

224 2002 総説

534

228 2002 解説

53

4

233 2002 解説

53

4

239 2002 ｼﾘｰｽﾞ

53

4

243 2002 ｼﾘｰｽﾞ

炭くらべ
杉山和夫
欠陥生成を取り入れた薄膜成長のﾒﾝﾃｶﾙﾛ 金子豊、樋渡保秋、ｼﾐｭﾚｰｼｮﾝ-孔埋め込みへの応用
小原勝彦、村上透
ガラス基板上への無電解NiPめっきの初期 山本誠二、田代雄
析出挙動彦、本間英夫
6-ジブチルアミノ-1,3,5-ﾄﾘｱｼﾞﾝ-2,4-ｼﾞﾁｵｰ 鈴木一孝、森邦夫、
ﾙ真空蒸着膜構造に及ぼすCr酸化表面の 平原英俊、清水健

534

248 2002 ｼﾘｰｽﾞ

53

4

250 2002 研究論文

534

256 2002 研究論文

534

262 2002 研究論文

Ti-Niスパッタ膜の超弾性534267 2002 研究論文

ウエーハレベル３次元集積化技術

栗野浩之、小柳光正若林猛

10μｍレベルのめっき配線技術
バレルめっき装置(1)-バレルめっきにおけ星野芳明
る一時電流分布-

めっき工業における不溶性陽極の応用とそ 松井冨士夫、鈴木の可能(1)-不溶性陽極の基礎祥一郎

佐藤守夫、石田章

佐貫須美子、西佳
TiO2の効果的な疎水化付与に必要なVTES彦、好永俊宏、真嶋
およびVTMSの適正オリゴマーの生成条件
宏サバイバルゲーム
岡村寿郎

53

4

273 2002 研究論文

535287 2002 巻頭言電着塗装の歴史と原理

村上良一

53

5

288 2002 総説

自動車の電着塗装

杉崎勝久

53

5

293 2002 解説

電着型ﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄを用いた回路形成技術

池田武史

53

5

299 2002 解説

電着塗装の膜厚分布シミュレーション

小原勝彦

53

5

303 2002 解説

高機能性電解活性型コーティング材料-カ
坂本裕之
チオン電着塗料およびエレクトロコーティン
カチオン電着塗料の鉛フリー化技術
平木忠義

53

5

308 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

535

314 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

電着塗装における均一塗装性向上技術

御堂河内奨

53

5

317 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

装飾電着塗装の最近の動向

西村茂文、太田智535

321 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ- 32 -

Superconnect, Interconnect, System-on-a-Chip,
System-in-a-Package,3-Dimensional Assembly
Three Dimensional Integration Technology, LSI,
Packaging, Semiconductor, SOC
Wafer Level CSP, Electroplating, Encapsulation
Barrel Plating, Primary Current Distribution Chip,
Electronics
Cathode, Cathode Reactions, Anode, Anode
Reactions, Insoluble Anodes, Oxygen Evolution
Reaction，Counter ElectrodeMonte Carlo Simulation, Via Filling, Cu
Interconnection, Void Formation
Electroless Nickel Plating, Glass Substrate,
Complexing Agent, Initial Deposition Rate
Triazine Thiol， Chromium, Vapor Deposition
Superelasticity, Sputtering, TiNi， Shape Memory
Alloy, Stress-Strain Curve
Vinyltriethoxysilane, Vinyltrimethoxysilane, 0ligoｍer
Formation， Hydrophobicity, TiO2， Coupling Treatｍ
ent
Coating, Anion Electro-Deposition, Cation ElectroDeposition, Electro-Chemical Reaction
Electrodeposition, Automobile， Paint, Coating, Primer
Photoresist, Electrodeposition， Positive, Print Circuit
Booard， Through HoleElectrodeposition Coating, Thickness Distribution，Current Distribution， Numerical Analysis，Finite
Element Method
Electrocoat, Electrolyzed Activate， Environment，
Heat-resisting Property， Insulating Property
Lead-Free, Anti-Corrosion, Cationic-Electrocoatings
Film Thickness Uniformity, Electrocoating, Throwing
Power
Electrodeposition Coating, Decorative Film，UV Curing表面技術 2000〜2002
めっき工業における不溶性陽極の応用とそ
松井冨士夫、鈴木の可能性(2)-めっきプロセスでの不溶性陽
祥一郎
極の利用
清川メッキ工業株式会社
海老名延郎
亜鉛、アルミニウム、マグネシウムとその合 笠原暢順、土橋誠
クエン酸を用いた電気ニッケルめっきの皮 土井正、水元和成、
膜特性
青沼昌幸、田中慎
アルカリ洗浄におけるオゾン改質アルミナ 福崎智司、浦野博
表面からの牛血清アルブミンの脱着速度 水、小池国彦、高橋
和宏、永田員也論
半澤規子、友成健
種々の雰囲気下で熱処理したＰｔ/Ｔｉ/ＳｉＯ ニ、井上眞一、山岸
2/Ａｌ2Ｏ3多層膜の組織と抵抗温度係数
喜代志、青木善平、
後藤芳彦
日野実、平松実、辻
無電解Ｎｉ-Ｐ-ＳｉＣ/ＰＴＦＥ多層めっき皮膜
川正人、川本信、出の摩擦摩耗特性
水敬
ステンレス波箔への高活性ＴｉＯ2光触媒の 田村元紀、加藤敏
成膜朗
大学改革と産官学交流
松岡政夫

Cathode, Cathode Reactions, anode, Anode
Reactions, Insoluble Anodes, Oxygen Evolution
Reation,Electroplating， Counter Electrode53

5

325 2002 ｼﾘｰｽﾞ

53
53

5
5

330 2002 ｼﾘｰｽﾞ
333 2002 ｼﾘｰｽﾞ

53

5

335 2002 研究論文

Nickel Plating, Citric Acid, Nickel Citrate Bath, Watts
Bath, Film Propeties

53

5

341 2002 研究論文

Kinetics of Desorption, Ozone Treatment, Surface
Charge, Alumina， Bovine Serum Albumin

53

5

346 2002 研究論文

Pt/Ti/SiO2/Al203 Multilayer Film,Microstructure,TiO 2
Precipitate,TCR

53

5354 2002 ﾉｰﾄ

535357 2002 速報論文

536363 2002 巻頭言Electroless Ni-P-SiC,Electroless Ni-PPTFE,Multilayer,Composit Coating,Friction and Wear
Properties
Surface Morphology, TiO 2 Film, Ion Plating,
Photocatalytic Activity, Corrugated Foil
Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｕｎｉｏｎ，Ｓｔｒａｔｅgy for
Environment,Alternative to Hexavalent
Chromium,Trivalent Chromium Film,End of Life
Hexavalent Chroｍe Free,Surface Treatmenｔ,
Conversrion Coating,Aluminum Alloy,Galvanized Steel
Trivalant Chromium,Anticorrosive,Galvanized
Steel,Humidity
Hexavalent Chromium Free， Trivalent Chromate，
Zinc Electoplating

6価クロムフリー対応の表面処理技術-背景と対応の状況

野口裕臣

53

6

364 2002 総説

6価クロムフリー表面処理技術

軽部健志、迫良輔

53

6368 2002 解説

3価クロム型無機防錆皮膜形成剤

福岡貴之

53

6

372 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Znめっき用3価クロムクロメート

長谷川史

53

6

376 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

ＬＳＩ銅配線とウエットプロセス

大崎明彦、伴功ニ、
千葉原宏幸

53

6

380 2002 解説

LSI， Copper， Interconnection， Electroplating， CMP

53

6

386 2002 ｼﾘｰｽﾞ

Barrel Plaing， Current Density， Chip， Electronics

53

6

391 2002 ｼﾘｰｽﾞ

バレルめっき装置（２）-瞬時最大電流密度
星野芳明と平均電流密度ブリキとトタン
野田和彦
佐貫須美子、西佳
乾式カップリング処理に用いるＶＴＥＳおよ彦、好永俊宏、真嶋
びＶＴＭＳ溶液のオリゴマー生成
宏電析Ｚｎ-Ｆｅ-Ｃｒ合金皮膜の合金相と表面 安藤聡、名越正泰、
の化学状態
鷺山勝

53

6

393 2002 研究論文

536400 2002 研究論文

- 33 -

Vinyltriethoxysilane， Vinyltrimethoxysilane， Oligomer
Formation， Gel Permeation Chromatography， Carl−
Fisher Method
Electrodeposition Zn-Fe-Cr Alloy， X-ray Diffraction，
XPS

表面技術 2000〜2002
水酸化ナトリウム中でのマグネシウムのア 小野幸子、木島秀
ノード酸化挙動とアルミニウムの効果
夫、増子曻
坪田敏樹、河原崇
浩、伊田進太郎、平シランカップリング剤を利用したダイヤモン
林修、永岡昭二、永ド粉末の表面改質
山賛平、永田正典、
松本泰道
穂積篤、桝田智子、
魚江康輔、横川善
ポリマー基板への酸化シリコン薄膜の光化之、杉村博之、林和
学的低温形成幸、高井治、亀山哲也
ものづくり再生に向けて
久米道之
自動車部品におけるﾌﾟﾗｽﾁｯｸ上へのめっき
日高勝司
技術
ﾘｻｲｸﾙ性を考慮したﾌﾟﾗｽﾁｯｸ上へのめっき 鈴木裕泰、林伸冶
塗装を前処理としたﾌﾟﾙｽﾁｯｸ上へのめっき 鈴木滋
樹脂上装飾めっき用新前処理ﾌﾟﾛｾｽ｢ﾀﾞｲﾚ中村昌博
ｸﾄﾌﾟﾚｰﾃｨﾝｸﾞ｣鉛ﾌﾘｰ実装技術
酒見省二、岩淵浩
ﾊﾞﾚﾙめっき装置(3)-ﾊﾞﾚﾙ内のめっき液
星野芳明
ﾌﾟﾚｺｰﾄ鋼板とﾎﾟｽﾄｺｰﾄ鋼板
野村広正
銅めっきに対する磁場効果の空間ﾊﾟﾜｰｽﾍﾟ 森本良一、走出真、
ｸﾄﾙによる検討
永井寛、青柿良一
田代雄彦、山本誠
不導体および導体における無電解ＮｉＰめっ二、橋本幸雄、川島きの初期析出形態
敏、本間英夫
鋼構造物のガス溶断部における溶融亜鉛
宮田満、西村健
めっき割れ
林利江、福島和宏、
ポリイミド・ターゲットのスパッタリングによる 菊池直人、草野英
薄膜作製
二、南戸秀仁、金原粲
宮田義一、稲木倫
3.7から4.1mol Dm-3の塩化鉄（Ⅲ）溶液中
道、朝倉祝治、田中
における回転鋼電極のエッチング反応機構
聡、上田龍二536406 2002 研究論文

Magnesium， AZ Alloy， Anodic Films， Film
Structure， XPS

536

413 2002 研究論文

Diamond， Surface Modification， Surface Reforming，ChemicalModification， Organic‐inorganic Hybrid
Material

53

6

419 2002 速報論文

PMMA， Vacuum Ultraviolet Light， Silicon Oxide，
Hydrophilicity

53

7

425 2002 巻頭言53

7426 2002 総説

537

430 2002 解説

53

7

435 2002 解説

53

7

440 2002 解説

Decorative， Plating， Pre-treatment Process

53
53
53

7
7
7

443 2002 解説
446 2002 ｼﾘｰｽﾞ
449 2002 ｼﾘｰｽﾞ

Lead−Free，Jisso lC-Package， Lead
Barrel, Plating， Plating Solution Chip，Electronics

537453 2002 研究論文

537459 2002 研究論文

537466 2002 研究論文

Hot−Dip Galvanizing， Liquid Metal Embrittlement537471 2002 研究論文

Polyimide， Sputtering， Thin Films， Wear， Dielectric
Constant

53

7

475 2002 研究論文

Etching， Ferric Chloride， Steel， Corrosion，Reaction Mechanisln- 34 -

Plating on Plastics， Automobile Parts， Decorative，Corrosion Resistannce
Recycling， ASR， Nickel Sulfamate， Heat Cycle
Paint， The Anchor Effect， Deocrative Plastic
Plating， EMPP

Electroplating，Electroless Plating，Magnetic Fileld，
Spatial Power Spectrum
Initial Deposition Morphology， FE−SEM， Electroless
Nickel−Plating， Phosphorus Content，Nonconductor
and Conductor

表面技術 2000〜2002
電着塗装の膜厚分布シミュレーション

小原勝彦、谷下澤清隆

第106回講演大会を震災復興なった神戸で 縄舟秀美
エキシマ光による表面処理
川崎実
誘電体バリア放電エキシマランプの原理と
菅原寛、竹元史敏
用途例
細管エキシマランプ
光行陽一郎

Electrodeposition Coating， Thickness Distribution，Current Distribution， Numerical Calculation， Finite
Element Method

53

7

480 2002 技術論文

53
53

8
8

489 2002 巻頭言490 2002 総説

Surface,Finishing,Exｃimer,Light538497 2002 解説

Excimer,Dielectric Barrier Discharge,UV/O3 Cleaning

53

8502 2002 解説

Excimer Lamp, Vacuum Ultra-Violet,RF Discharge
Excimer,Excimer Lamp, VUV, Surface Modification
Cleanig
Excimer Lamp, UV Ｉrradiation Unit,Large
Sabstrate,Contact Angle
Energy Filtering, Omega-Filter,Elemental
Analysis,Elemental Mapping,Convergent Beam
Electron Diffraction
Degreasing,Electrolytic Degreasing,Ultrasonic
Cleaning,Acid Pickling

エキシマランプによる光表面改質

中村勝、加藤千尋

538507 2002 解説

高出力エキシマランプ搭載ＵＶ照射装置

吉川和彦、田内亮
彦538511 2002 解説

電子顕微鏡法の最前線〜『顕微法』と『分光法』

友清芳ニ、渡辺万三志

538515 2002 解説

めっき前処理としての洗浄方法と装置

稲熊康詞

53

8

520 2002 ｼﾘｰｽﾞ

53
53

8
8

524 2002 ｼﾘｰｽﾞ
529 2002 ｼﾘｰｽﾞ

53

8

530 2002 研究論文

538535 2002 研究論文

538544 2002 研究論文

538550 2002 研究論文

538555 2002 速報論文

Epoxy,Weatherability,Tracking
Resistance,Degradation,Potentiometic Titration

53

8

557 2002 速報論文

Quantum,Efficiency,Photothermal Method, Tio 2
Photoelectrode,Supporting Electrolyte

538559 2002 速報論文

Electroless Copper Plating,Fe(Ⅱ）Complex,Reducing
Agent

53

9

565 2002 巻頭言

桑名商事
濃度と活量

吉原佐知雄
平藤哲司
坪田敏樹、伊田進
過酸化ベンゾイルを含むアセトニトリルおよ太郎、平林修、永岡びベンゾニトリル溶液中におけるダイヤモン
昭二、永田正典、松ド表面のＣＮ基修飾
本泰道
邑瀬邦明、本田崇、
ジエチレントリアミンを含む塩基性水溶液か
平藤哲司、栗倉泰らのＣｄＴｅ薄膜の電折
弘
塩化鉄（Ⅲ）系溶液でエッチング中のアン 宮田義一、朝倉祝
バー合金の腐食電位と表面粗さの関係
治、田中聡、上田龍外部ヒータを併用した鋼のプラズマ窒化処 竹内博次、須摩浩
理之、浦尾亮一エポキシ系電気絶縁材料の耐候性および 渡辺修一、長谷川
耐トラッキング性の電位差滴定法を用いた 有里、吉原佐知雄、評価
白樫高史
種々の支持電解質水溶液中での二酸化チ 前田康久、工藤洋
タン光電極反応の量子効率平
曽根倫成、小早川
鉄（Ⅱ）錯体を還元剤とする銅の無電解
紘一、斉藤誠、佐藤
めっき
祐一
産学官連携について思うこと
小泉宗栄- 35 -

Diamond, Surface Modification,Surface
Reforming,Chemical Modefication,Organic-inorganic
Hybrid Meterial
Cadmium Telluride,Compound Semiconductor,Underpotential Deposition,Potential-pH Diagram,Deposition
Mechanism
Etching,Ferric Chloride,Invar,Corrosion
Potential,Roughness
Plasma, Nitriding,External Electric Heater,Surface
Roughness,NH3 Gas,Nitrides of Iron

表面技術 2000〜2002
燃料電池の研究開発動向

本間琢也

Fuel Cells,Thermodynamic Efficiency,Recycle ofResources,Hydrogen Delivery Infrastructure,Gasoline
Reforming Process
PEFC System,Atandarization,International
Code,Establishing Platforms
Polymer Electrolyte,Small Fuel Cell,Secondary
Battery,Energy Source

539566 2002 総説

53

9571 2002 解説

53

9576 2002 解説

53

9583 2002 解説

53

9

53

9

586 2002 武井記念講演会ｼﾘｰｽﾞ Automobile,Surface Treated Steel Sheet,AntiWastewater Treatment Facilities,Plating,Effluent
593 2002 ｼﾘｰｽﾞ
Standards,Maintenance53

9598 2002 ｼﾘｰｽﾞ

53

9

600 2002 研究論文

539606 2002 研究論文

539612 2002 研究論文

539618 2002 研究論文

539625 2002 研究論文

5310639 2002 巻頭言53

10640 200253

10

641 2002 解説

めっき廃液およびめっきスクラップからの貴 奥田晃彦、塩田重
金属リサイクル雄

5310647 2002 解説

めっきにおける工程内リサイクル5310652 2002 解説

53

10

659 2002 解説

定置用固体高分子形燃料電池システムの大村俊哉
普及に向けた日本ガス協会の取組み
小型および超小型燃料電池の研究開発動梅田実、内田勇向
イオンプレーティング法による厚膜化の現小野田元伸
状とピストンリングへの応用
最近の自動車用鋼板の進歩
武智弘
めっき排水処理設備(1)-排水規制と排水処 阿部裕士、今井孝
理設備の導入の考え方治ドイツ（フランクフルト）ビール〜WEIZENと蓬原正伸
PILSNER
カラムスイッチング高速液体クロマトグラ
栗原美穂、端洋志、
フィーによる銅電解液中のにかわ分析加藤貞二
斉藤喬士、三宅正
金属添加DLC膜のスクラッチ特性
二郎、渡辺修一
小浦延幸､松本太、
高配向アルミニウムへの直流エッチングに
猿渡秀郷、北原しのよって形成されるトンネルの形態観察及びぶ、山崎崇、井手本
その評価〜溶液組成依存性について〜
康、古川雅一、内秀
FeとFe-Al合金の接触腐食およびアノード 田口正美、若狭智溶解明
ビスマス系酸化物超伝導薄膜のイオンビー
貝瀬正次､井上廉
ム改質
経済停滞の時代に思うこと
尾形幸生
ビスマス系酸化物超伝導薄膜のイオンビー
貝瀬正次､井上廉
ム改質
貴金属の溶媒抽出

芝田隼次

斎藤囲

有機フォトクロミック化合物を用いた金属イ
鈴木隆之
オン吸脱着の光制御- 36 -Ion Plating,Film Thickening,PVD

Glue, Copper Electrolyte Solutions,SEC,ColumnSwitching
Metal Contained DLC Films,Nano-Indentation,Critical
Loads,AE Scratching Test,Titanium Contained DLC
D,C.Etching, Highly Ordered Aluminum,Electrolytic
Capacitor
Iron,Iron-Aluminum Alloy,Anodic Dissolution,Galvanic
Corrosion,Dissolution Mechanism
Bi-Sr-Ca-Cu-O,Thin Film,Ion Irradiation,Ion Beam
Modification

Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ，Precious
Metal,Extractant,Separation Process
Recycling,Precious Metal,Plating Wastewater,Plating
Scrap
In-line Recycling,Electroplating Process,Theory of
Rinsing,Recycle of Chromic Acid,Electrolytic Recycleof Metals
Metal Ions,Adsorption,Photochromism表面技術 2000〜2002
建材用塗覆装鋼板の今後の課題

神田勝美

めっき排水処理設備（２）-排水処理設備と 阿部裕士、今井孝
維持管理の概要治
燃料電池
藤田洋司
昇温光電子放出法（ＴＰＰＥ）によるさまざま 百瀬義広、鴨沢勅
な実用金属の表面解析-ＴＰＰＥ特性値と表 郎、本間正和、竹内
面前処理法法との関係学
小浦延幸、府野真
泳動電着法を用いたリチウム二次電池用 也、對木洋文、井出
炭素負極の作製
本康、宇井幸一、松本太
佐貫須美子、宮野アルキルトリメトキシシランによるＴｉＯ２の疎真英、好永俊宏、真水化
嶋宏
稲澤信二、真嶋正利、小山恵司、谷佳Ｔｉ（Ⅲ）イオンを還元剤とする無電解ニッケ
枝、中山茂吉、中尾
ルめっき浴の開発
誠一郎、金東腎、小幡恵吾
電析ニッケル皮膜と無電解ニッケル皮膜の千葉淳、呉文昌
表面形態に及ぼす振動の影響
置換銀めっきへの超音波照射の効果
小野恭史、安田守大学の地域交流活動-開かれた大学とは 北本仁孝
ＤＬＣ膜とは-ＤＬＣ膜を整理する
斎藤秀俊
ＤＬＣ膜の特徴と工業的応用
池永勝、池永薫
高分子材料へのフレキシブルＤＬＣ膜の開 中東孝浩
仲川政宏、鈴木秀Me-DLC皮膜の開発
明Al合金上へのDLC膜の効果
川名淳雄

Construction,Material,PCM,Roof Material,Sizing
Material,Trend of Development
Wastewater,Treatment Facilities,Plating,MaintenanceManagement53

10664 2002 解説

53

10

668 2002 ｼﾘｰｽﾞ

53

10

673 2002 ｼﾘｰｽﾞ

53

10675 2002 研究論文

Surface Analysis, Temperature Programmed
Photoelectron Emission(TPPE),PhotoelectricThreshold,Argon Plasma Treatment,XPS

53

10683 2002 研究論文

Electrophoretic Deposition,Carbon,Li-ion Secondary
Battery53

10688 2002 研究論文

Hydrophobic TiO2,Powder,Coupling
Treatment,Alkyltrimethoxysilane,Oligomer Formation

53

10

694 2002 技術論文

Titanium,Redox,Nickel Electroless Plating,Pure Nickel

53

10698 2002 letters

Nickel Plating,Vibration,Sonication

53
53
53
53
53

10
11
11
11
11

700 2002 ﾉｰﾄ
705 2002 巻頭言706 2002 総説
711 2002 解説
715 2002 解説

Silver Immersion plating,Ultrasonic Irradiation

53

11

721 2002 解説

53

11725 2002 解説

DLC,Amorphous,Hydrogen,Thin Film,Dryprocess
DLC,Duplex Treatment,Application
DLC,Flexible DLC,Polymer
Me-DLC,UBM,Wear Resistance,friction
Coefficient,Hardness
DLC,Al-Si Sintered Alloy,Brittle Fracture,Radical
Daimond-Like Carbon,Tribology,Cuttiing
Tools,Moldes,Selective Etching

DLC膜の応用

門谷透

53

11

729 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

パルスDCプラズマCVD法によるDLC膜の
特性と応用

河田一喜

53

11

732 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

DLC,PECVD,Pulsed DC,Tribology

近藤剛史、寺島千
ダイヤモンド電極を用いた新規電気化学セ晶、本多謙介、藤嶋
ンサー
昭

53

11

734 2002 解説

Boron-doped Diamond,Electroanalysis,Surface
Modification

表面処理装置の電気設備の考え方

5311739 2002 ｼﾘｰｽﾞ

Plating Equipment,Save Energy,Rectifier,Harmonics
Current,Electrical Facilitied

森本國三- 37 -

表面技術 2000〜2002
松田五明、淺富士
ニッケル電極抑制機能に及ぼすプロパキ
夫、河南賢、小林洋
ルアルコールの拡散速度、被覆率および還介、横島時彦、逢坂
元速度の影響哲彌
マイクロパターン上へのニッケルめっきにお松田五明、淺富士
けるプロパギルアルコールの形状制御機
夫、逢坂哲彌
能のシミュレーション
小浦延幸、松澤秀
Ｌｉ2ＣＯ3-Ｎａ2ＣＯ3系高温溶融塩中でのＦｅ則、野木淳志、井手およびＦｅ−Ｎｉ基板の腐食挙動
本康、松木太舟木義行、伊藤恭工具綱の光輝プラズマ窒化
ニ、藤岡幹雄、浦尾

5311744 2002 研究論文

Electrodeposition,Additive,Polarization,Simulation

53

11

751 2002 研究論文

Electrodeposition,Additive,Shape Control,Simulation

53

11

759 2002 研究論文

Molten Carbonate Fuel Cell,Corrosion,GD-OES,Ｆe-Ni
Alloy

53

11

765 2002 研究論文

5311771 2002 研究論文

5311775 2002 速報論文

5311

777 2002 速報論文

5312

787 2002 巻頭言53

12788 2002 総説

経済産業省および産総研におけるナノテク
佐藤眞士
ノロジー

53

12

793 2002 総説

ナノ構造・機能デバイス形成のための電解・無電解プロセス53

12

801 2002 解説

53

12806 2002 解説

ジンケート浴からの亜鉛めっきにおける発津留豊、織田怜美
生水素ガス量のその浮力による評価
高出力ＹＡＧレーザ重ね溶接性に及ぼす電 日野実、平松実、高気Ｚｎめっき鋼板のめっき膜厚の影響
山真巳、片山聖二
アノード酸化ポーラスアルミナの酸溶解特 阿相英孝、田辺久
性に対する熱処理の効果
美子、小野幸子
ナノテクノロジーと表面技術
高井治
文部科学省および物質・材料研究機構に古屋一夫
おけるナノテクノロジー関連プログラム

D.C.Glow Discharge,Nitrogen,Hydrogen,Plasma
Nitriding,Iron Nitride Layer
Zinc Electroplating,Zincate Bath,Hydrogen
Evolution,Hydrogen Gas Quanity,Buoyancy,Hydrogen
Overpotential
YAG Laser Lap Weldability,Zinc Electroplated Steel
Sheet,Zero Gap
Anodic Porous Alumina,Heat
Treatment,Solubility,Pore-Filling
Nanotechnology,MEXT,NIMS,Support Program

センサとナノテクノロジー

竹内学

53

12

812 2002 解説

超微細化に向けたＵＬＳＩ薄膜技術

財満鎭明、安田幸酒井伊都子、大岩
徳久、関根誠犬飼潤治、板谷謹
悟

53

12818 2002 解説

National
R&D,Nanotechnology,Atomtechnology,Nanoscale,METI
Projects
Electrochemical Deposition,Electroless
Deposition,Nano-fabrication
Nanotechnology,IT/Electronics,
Environment/Energy,Simulation
Gas Sensors,Magnetic Sensors,Pressure
Sensors,Nanofilms,NanoparticlessThin Film,ULSI,Gate Oxide,SiGe,Contact

5312823 2002 解説

ULSI,Dry Etching,Packaging

5312

828 2002 解説

53

12835 2002 解説

材料ナノテクノロジー

ドライエッチング技術の現状と将来
Ｃｕ電極表面の電気化学ＳＴＭによる研究
機能性表面のナノスケール解析における電子顕微鏡の役割

本間敬之、本間英夫
児玉英世、林原光
男、小園裕三小野幸子- 38 -

Cu Single-Crystal Electrode,Electorochemical
STM,Solid/Liquid Interfaces
Nano-Technology,Functional
Surface,Electronmicroscopy,Surface Analysis

表面技術 2000〜2002
鈴木明、遠藤徳明、
ナノテクノロジーをサポートするＳＩＭ像の応柴田昌照、釜崎清
用治、市ノ川竹男
山内毅、寺亮之介、
透明ＥＬディスプレイとALD薄膜形成技術
服部有、伊藤信衛
ナノスケール磁性層を有する塗布型磁気 江尻清美、斉藤真
記録媒体
二、都丸美喜男
電析法によるCo/Pdﾅﾉ多層膜作製のオー 大塚秀幸、佐藤祐
トメーション化一
高橋和生、三田村
プラズマCVDと溶媒処理を用いたフルオロ
崇司、斧高一、節原
カーボン系多孔質構造Low-K薄膜の作成
裕一
パルス変調プラズマCVDを用いた配向性ポ
堀勝、後藤俊夫
リシリコン薄膜形成
アーク放電によるカーボンナノホーンの簡
滝川浩史
易合成
有機色素表面へのシリカ超薄膜形成と高竹田篤、墻内千尋
純度化
宮内昭浩、桑原孝
ナノインプリント技術-ナノスケールパターン介、長谷川満、三輪の簡易転写技術崇夫
陽極酸化プロセスによる高規則性ナノホー
益田秀樹
ルアレー構造の形成と機能的応用
非水溶媒からのナノ粒子分散めっき

平藤哲司

ハードディスクの保護膜−作製技術,評価
技術−
ヨウ化水素によるITOのエッチング
マイクロドリルの表面改質

藤巻成彦、小角雄一
貞本満
木幡護
吉武秀哉、石原達
己、芳尾真幸リチウムイオン電池黒鉛負極界面の制御

ナノクリスタルシリコンを用いた弾道電子面
放出型電子源（BSD）フラットパネルディス 菰田卓哉
プレイへの応用
液晶ディスプレイにおけるナノテクノロジー
熊野厚司−液晶の新規配向制御技術−

53

12

839 2002 解説

FIB(Focused Ion Boam System),SIM(Scanning Ion
Microscope Channelling)53

12843 2002 解説

Electroluminescence,EL Displays,ALD,ATO,Thin Film

53

12

847 2002 解説

53

12852 2002 解説

53

12857 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

53

12

860 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

53

12

863 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

53

12

865 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

53

12

868 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

5312

871 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

53

12875 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

53

12

878 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

53
53

12
12

881 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ
884 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Anodic Porous Alumina,Anodization,Nanohole
Arrays,Functional Devices
Composite Coating, Non-Aqueous
Electrodeposition,Aluminum deposition
Magnetic Recording Media,Carbon
Overcoat,DLC,Sputtering,Plasma CVD
Hydorogen Iodide,ITO,Dry Etching
Micro Drills,PVD,DLC

53

12887 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Lithium Ion,Battery,Graphite,SEI

53

12890 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Nano-Crystalline Sillicon,Ballistic Electron,Cold
Cathode,FPD

53

12894 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

LCD,Rubbing,LC Alignment,Photo-Alignment,PhotoDimerization- 39 -

Particulate Media,Ultra-Thin Magnetic Layer,Fine
Particles,Fine Dispersion
Electroplating,Co/Pd Multilayered Films,NanoOrdered Film Thickness,Automatic Plating
Machine,Perpendicular Magnetic Anisortropy
Fluorocarbon,Porous Film,Low-K,Plasma CVD,Wet
Process
Plasma PE CVD,Pulse-Modulation,Poly-Si,Crystalline
Orientation,Subsurface
Carbon Nanohorn,Simple Preparation,Open Air, Cavity
Arc JetSilica Nanometer Film,Organic
Pigments,Plasma,Hydrophobic,Hydrophilic,Hydrolysis
Nanoimprint,Nanoprint,Bio-Chip,Soft Lithography

表面技術 2000〜2002
志田あづさ、蓬原正伸、杉村博之、高井治
上野武夫、矢口紀FIBを用いたナノテク材料のピンポイント解 恵、今野充、橋本隆
析仁、小池英巳、大西毅
ナノ多孔質材料を用いたマイクロセンサ
上野祐子
触媒表面のプローグ顕微鏡による観察
小宮山政晴
近接場光学顕微鏡によるDNA観察とマイカ
村松宏、金種珉
表面の処理
松田直樹、吉田貴
スラブ光導波路分光法を用いた固液界面 充、浅野肇、ホセにおけるタンパクの吸着現象のその場測定 サントス、礽志美、
高津章子、加藤健
蒲生西谷美香、中アルコール中でのカーボナノチューブの液 川清晴、張亜非、太相合成
田慶新、蒲生秀典、
安藤寿浩
大上悟、中野博昭、
第４級アンモニウム塩を含む非懸濁溶液か 小林繁夫、秋山徹らのZn-AL2O3分散めっき也、福島久哲、奥村和生
エチレングリコール-水混合溶液中でAL-N 水谷文一、竹内佐ｄ合金薄膜上に形成した陽極酸化膜の電 千江、鷹羽寛、宇恵
気的特性
誠、杉山淑
自己組織化リン酸ジルコニウム薄膜の防食への応用

フッ化炭素プラズマ処理シリコン含有ダイ
ヤモンドライクカーボン膜の機械特性

金鍾得、三宅正二郎、伴雅人

三宅正二郎、関根幸男、渡部修一、山本尚之
Logistic関数によるオージェデプスプロファ 荻原俊弥、鈴木峰
イルの解析
晴
深さ分解能関数を用いたSIMS深さ方向分 髙野明雄、本間芳
布の評価
和、鈴木峰晴低エネルギービーム照射による磁気記録
用磁性膜の表面改質5312897 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Zirconium Phosphonate,Aluminum,Anticorrosion,SelfAssembled Monolayer

53

12

899 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Nano-materials,Pin-point Characterization,FIB
Milling,Transmission Electron Microscope

53
53

12
12

902 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ
906 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

53

12

909 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

53

12

912 2002 ﾄﾋﾟｯｸｽ

Slab Optical Waveguide Spectroscopy,Absorption
Spectra,In Situ,Protein,Solid/Liquid Interfaces

53

12

915 2002 研究論文

Carbon Nanotube,Liquid Phase Synthesis,Fe
Catalyst,Alcohol

53

12

920 2002 研究論文

Electrolytic production,Zn-Al2O3 Composite,Hydrogen
Evolution,Zn Deposition

5312

926 2002 研究論文

Anodization,Aluminum Alloy,Electrical
Property,FTIR,Flat Panel Display

μ-TAS,PorousMaterials､GasSensors
Scanning Probe Microscopy.Catalysis,Catalyst
Near-field Optical Microscopy,DNA,Mica,Surface
Modification,AFM

53

12933 2002 研究論文

Diamond Like Carbon Films,Surface Modification,CF 4
Plasma,Ions Implantation,Nanoindentation
Hardness,Si-Containing DLC,Electron Beam Excited
Plasma(EBEP)CVD

53

12

939 2002 研究論文

Magnetic Film,Nanoindentation Hardness,Ion Beam
Irradiation,Plasma Irradiation,Corrosion Resistance53

12945 2002 ノート

Auger Depth Profile,Interface
Analysis,LogisticFunction

5312

949 2002 ノート

Depth Resolution,Delta Dope,MRI Model,SIMS- 40 -

表面技術 2000〜2002
杉村博之、斎藤永
フェニルアセチレンと水素終端化シリコンと宏、角谷愉貴、林和の表面化学反応による有機単分子膜形成
幸、高井治
自動多層めっき装置の開発とそれによるナ 大塚秀幸、淺富士ノオーダーＣｏ/Ｐｄ多層膜の作製とその磁 夫、小早川紘一、佐気特性（英）
藤祐一
第１０５回講演大会報告53

12

951 2002 速報論文

Self-Assembled Monolayer,Silicon,π‐Conjugation

53

12

953 2002 速報論文

Electroplating、Co/Pd Multilayered Films,NanoOredered Film Thickness,Automatic Plating
Machine,Perpendicular Magnetic Anisotropy

53

12955 2002 講演会大会だより- 41 -