表面技術 1995〜1999
整理
タ イ ト ル
No.
5347 巻頭言：表面技術文化への期待
5348 血漿分離と膜
5349 固体表面の構造と反応性
ウェットプロセスから見ためっき皮膜の密
5350
着性

沖 猛雄
酒井清孝
内藤周弌

46
46
46

1
1
1

1 1995 1:巻頭言
2 1995 3:解説
7 1995 3:解説

その他

平松 実.日野 実

461

13 1995 3:解説

無電解めっき5351 合金めっき開発と用途展開

榎本英彦

46

1

19 1995 3:解説

電気めっき･電鋳5352 合金電気めっき鋼板の機能

渋谷敦義

46

1

24 1995 3:解説

電気めっき･電鋳461

28 1995 3:解説

シアン化物,めっき廃液,熱加水分解法,微生物処理461

33 1995 11:アカデミック研究会シリーズ 物理蒸着(PVD)

薄膜,密着性,測定法

461

37 1995 6:技術論文

電気めっき･電鋳EQCM,電気めっき膜厚モニター461

42 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳5353 高濃度シアン含有めっき廃液処理技術
5354

重ね蒸着膜の内部応力を用いた付着力
測定方法

5355 ＥＱＣＭのめっきモニターへの応用

著

者

小嶋隆司.中田 淳.
河野 誠.大西彬總.
横山一男
金原 燦.近藤市治.
神谷豊晴.竹中 修
小早川紘一.森下和晃.佐藤祐一.富士元英二

１−ヒドロキシエタン−１.１−ジホスホン酸
伊藤和生.久米道之
溶液からのＳｎ−Ｓｂ合金の電析河野 誠.永田 淳.
5357 めっき廃液の熱加水分解処理
小嶋隆司.大西彬總.横山一男5356

巻

号 ページ発行年 記事の種類

46

1

47 1995 5:原著論文

分野−１

キーワード
血漿分離,ろ過,血液ろ過,ろ過膜
表面,構造,触媒,反応
密着性,めっき皮膜,母材,界面,ウェットプロセス
合金めっき,Sn-Ni合金めっき,ZnNi合金めっき
電気めっき,自動車用合金めっき,Zn-Ni合金,Zn-Fe合金

電析,Sn-Sb合金,酸化HEDP溶液
熱加水分解法,シアン化物,硫化物
非シアン化銀電気めっき,アノード
溶解,添加剤,硫黄
非シアン化Ag-Znめっき浴,亜鉛イオン,分極,チオ硫酸
腐食抑制,鋼,1,4-ジ（チオシアナトメチル）ベンゼン,二相流体
IrO2/Ti電極,寿命,シリカゾル,寿命,酸素発生5358 光沢非シアン化銀めっきのアノード挙動

稽 永康.沖 猛雄

461

52 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳5359 光沢非シアン化銀めっきの電析挙動

稽 永康.沖 猛雄

46

1

58 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳461

64 1995 5:原著論文

461

70 1995 5:原著論文

461

75 1995 7.速報論文

化学蒸着(CVD)

CVDダイヤモンド,水添加,成長速度,膜厚,抵抗46

1

77 1995 8:Letters

熱処理(酸化･窒化･炭化)

鉄皮膜,電析,磁気特性,フラッシュ
焼鈍,結晶粒径サイズ

46

1

79 1995 8:Letters

無電解めっき無電解めっき酸性地熱水中の１.４−ジ(チオシアナトメチ 赤司澄夫.小泉達
5360
ル)ベンゼンによる鋼の腐食抑制
也.広渡和緒.松田
触媒塗布液へのシリカゾル添加によるチタ 虫明克彦.松坂菊
5361
生.増子 昇ン基体イリジウム電極の長寿命化
額賀栄二.秋葉幸
ＣＶＤダイヤモンド薄膜合成における水の5362
男.黒須楯生.飯田
添加効果
昌盛.広瀬洋一
吉村俊一.吉原佐知
フラッシュ焼鈍による鉄電析膜の磁気挙動
5363
雄.白樫高史.佐藤と物性栄一
青木公二.鷹野 修.
5364 無電解Ｎｉ−Ｐｔ−Ｐ合金めっきについて
金 東賢
無電解Ｎｉ−Ｃｏ−Ｆｅ−Ｐ合金系軟質磁性 金 東賢.青木公二.
5365
膜の作製
鷹野 修
5366 巻頭言：価値の容認
大坂敏明

46

1

81 1995 8:Letters46

2

87 1995 1:巻頭言5367 日本の省エネルギー対策について

川本武史

46

2

88 1995 2:総説

5368 表面技術とエコマテリアル化

原田幸明

46

2

91 1995 3:解説46

2

98 1995 3:解説

46

2

105 1995 3:解説

各種表面処理の省エネ・省資源−湿式星野芳明
めっきにおける省エネ・省資源
各種表面処理の省エネ・省資源−乾式
5370
池永 勝
めっきにおける省エネ・省資源
各種表面処理の省エネ・省資源−直接浸
5371
川村敏行
炭法と低歪焼入油槽
各種表面処理の省エネ・省資源−化成処
5372
西澤嘉彦
理における省エネ・省資源
各種表面処理の省エネ・省資源−溶射に 仲川政宏.佐々木光
5373
おける省エネ・省資源
正各種表面処理の省エネ・省資源−省エネ･5374
小林照二.五十嵐博
省資源と粉体塗装
部品加工プロセスの省エネ・省資源−半
5375
桐生草平
導体・液晶工場における排水回収再利用
部品加工プロセスの省エネ・省資源−雰
松井勝幸
5376
囲気熱処理における省エネルギー
5377 氷の空気搬送法による高密度熱輸送
梁取美智雄.岩淵邦
小特集／省エネ・省資源と表面処理 に
5378
寺門一佳
よせて
イオン窒化法によるニッケル合金の表面 真喜志隆.中田一
5379
硬化に及ぼす窒化条件の影響
博.松田福久5369

無電解めっき,Ni-Pt-P合金,析出
速度,組成,構造
無電解めっき,軟磁性膜,Ni-CoFe-P合金,保磁力
地球環境問題,長期エネルギー供給と需要の見通し,省エネル
エコマテリアル,環境問題,リサイ
クル,ライフサイクル分析
省エネルギー,省資源,湿式めっき,リサイクル
蒸着法,コーティング,耐摩耗性462

112 1995 3:解説

変成炉除去,浸炭,低歪み,省コス
熱処理(酸化･窒化･炭化)
ト

46

2

118 1995 3:解説

化成処理

46

2

124 1995 3:解説

46

2

132 1995 3:解説

46

2

138 1995 3:解説

りん酸処理,省エネルギー

溶射,省エネルギー,省資源,堆積
溶射
効率
パウダーコーティング,VOC,省資
塗布･塗装
源
再生利用,半導体製造工場,LCD
製造工場
省エネルギー,雰囲気制御,熱処
熱処理(酸化･窒化･炭化)理
氷,エネルギー輸送,空気搬送法

462

144 1995 3:解説

46

2

149 1995 3:解説

46

2

153 1995

462

155 1995 5:原著論文

熱処理(酸化･窒化･炭化)462

162 1995 5:原著論文

拡散皮膜

46

2

170 1995 5:原著論文

無電解めっき46

2

177 1995 5:原著論文

物理蒸着(PVD)

462

183 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳462

190 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳

46
46

3
3

203 1995 1:巻頭言
204 1995 2:総説?

5387 基板材料と表面処理技術−ポリイミド基板 小笠原修一

463

210 1995 3:解説

無電解めっき5388 電子部品の搭載方式と表面処理技術

高木 清

46

3

216 1995 3:解説?

5389 実装形態と接合技術

畑田賢造

46

3

223 1995 3:解説

5390 表面実装上の不具合と解析の実例

野末正仁.堀井宏
裕.渡部泰暁46

3

230 1995 3:解説

?

46
46
46
46

3
3
3
3

235 1995 トピックス
239 1995 トピックス
215 1995
244 1995 5:原著論文

無電解めっき?

電子部品技術,表面実装技術
ポリイミド,無電解めっき,電気めっき,密着性,応力LSI実装技術,多層配線板,ビルド
アッププロセス
実装技術,接合技術,集積技術
表面実装技術,窒素リフロー,
ウィッキング,ディウェッティング,
自動光学検査
めっき,電気抵抗,抵抗器
電子部品,電子機器

化成処理

無潤滑油,潤滑,無脱脂,プレス成

463

249 1995 9:シリーズ-2

5380

ＳＵＳ３１０Ｓステンレス鋼の機械的性質に 佐々木雅啓.井形直及ぼすアルミニウム拡散被覆の影響
弘

トリエタノールアミン浴からの無電解銅
5381
めっきに及ぼす添加剤の作用小谷野英勝.吉川明.加藤正義牧野英司.川勝由美
レーザプレーティングによるＡｕのライン状
5382
子.柴田隆行.池田パターンの形成正幸
非シアンＡｇめっき浴における電析物の表5383
稽 永康.沖 猛雄
面形態及び構造に対する亜鉛イオン添加
１−ヒドロキシエタン−１.１−ジホスホン酸5384
伊藤和生.久米道之
溶液からの電析したスズ−アンチモン合5385 巻頭言： 表協誌 のあゆみ
大野 湶
5386 エレクトロニクス実装技術の現状と今後の 二瓶公志

5391 金属皮膜固定抵抗器
進藤泰宏.岡田義夫
5392 小型電子機器の実装部品
奥田武文
5393 小特集／電子部品の表面実装 によせ 増田良一
5394 高潤滑防錆鋼板
山下正明
シリーズ／表面物性評価技術−表面状態5395 の解析(３５)−昇温脱離分析のシリコン表 籔本周邦
面評価への応用-1-

窒化,プラズマ窒化,表面硬化,ニッ
ケル,Ni合金
アルミニウム拡散皮膜,SUS310S
ステンレス鋼,Fe-Al金属間化合物,機械的特性
無電解銅めっき,銅−トリエタノー
ルアミン浴からのめっき
レーザープレーティング,金ライン状パターン,アルゴンレーザー,
ビームスキャン,析出速度
電析物の表面形態および構造,
亜鉛イオン,チオ硫酸
電析,Sn-Sb合金構造,アモルファス

シリコン,LSI,絶縁体,酸化,昇温脱離分析

表面技術 1995〜1999

非シアン化浴からのＡｇ−Ｌａ2Ｏ3分散めっ稽 永康.沖 猛雄
きろう接による窒化ケイ素セラミックス／活5397
王 立鐸.沖 猛雄
性金属Tiの接合界面の変化挙動
クロメート皮膜の高分子化に及ぼすシリカ 須田 新.川口 純.
5398
の影響
荻野陸雄
電位制御によるアルミニウム箔の交流エッ鐘 暉.沖 猛雄
5399
チングに及ぼす塩酸濃度と溶液温度の影
5396

5400

ガス吸着による多孔質アルミニウム陽極
酸化の異常細孔形の推定

野中 昭

酸性溶液中における無電解ニッケルめっ
5401
王 為.仲村太一
き皮膜の水素発生挙動
5402 巻頭言：表面技術について
今井八郎
小特集／電極表面修飾とその応用 によ
5403
湯浅 真
せて
(有機)導電材料−電解重合による電極表
5404
門間聰之.逢坂哲彌
面修飾(有機)導電材料−電子機能分子の表面修
5405
西原 寛
飾
電極触媒−貴金属関連化合物(Ｐｔなど)の5406 表面修飾−リン酸形燃料電池用電極触媒 真岡忠則.上野三司の開発動向
電極触媒−電極触媒としての大環状化合
5407
湯浅 真
物の表面修飾デバイス関連−分子配向膜を用いた電極
相樂隆正.中嶋直敏
5408
表面修飾

46

3

253 1995 5:原著論文

463

260 1995 5:原著論文

463

265 1995 5:原著論文

463

270 1995 5:原著論文

463

276 1995 13:研究ノート

463

278 1995 8:Letters

46

4

285 1995 1:巻頭言

46

4286 1995 2:総説

46

4287 1995 3:解説

46

4292 1995 3:解説

46

4297 1995 3:解説

46

4

303 1995 3:解説

46

4311 1995 3:解説

5409

デバイス関連−感光性タンパク質の電極
宮坂 力.小山行一
修飾とデバイスへの応用

464317 1995 3:解説

5410

センサ−−ハイドロゲルの相移転と電極
表面修飾

46

4

324 1995 3:解説

5411

センサ−−生体分子による電極表面の修 末永智一.河西奈保
飾子.内田 勇46

4

331 1995 3:解説

46

4

336 1995 9:シリーズ-2

渡辺正義

シリーズ／表面物性評価技術−表面状態5412 の解析(３６)−反射高速電子線回路(ＲＨＥ 坂本邦博
ＥＤ)とエピタキシャル成長
5413 シリーズ開始にあたって＊シリーズ／現場管理技術−湿式法(１)−5414
高木幹晴.鈴木征夫
亜鉛めっきの前処理
5415 シリース／くらべてみよう(１)−記録・記憶 松原 浩
ホウ素のプラズマ化学輸送を用いた窒化 瀧 優介.賀曽利裕.
5416
伊藤 滋.明石和夫
ホウ素薄膜の作製
置換スズめっき処理によるはんだめっきの
5417
小谷野英勝
改質
耐食性チタン合金Ｔｉ−0.5％Ｎｉ−0.05％Ｒ
5418 ｕ(ASTM-Grade13)の塩酸水溶液を用いた 滝 千博.作山秀夫
腐食面の観察電着ダイヤモンド砥石におけるニッケル膜 佐藤金司.横山俊
5419の単粒に対する保持力
雄.鈴木数夫
佐藤祐一.梁瀬正
レーザ照射によるパラジウムの無電解5420
和.吉田昌弘.西山
めっき
卓.小早川紘一.天人工唾液中複方ヨ−ドグリセリンによる歯 楠 文代.大江慶司.
5421
科用Ｎｉ−Ｃｒ合金からのＮｉイオンの溶出 石原正道.高村喜代
5422 巻頭言：表面技術が倖せ色に染まるとき 浦尾亮一
最近のアノード酸化皮膜の研究動向と応
5423
高橋英明
用

非シアン化浴,分散めっき,ランタ
ン酸化物,添加剤
活性金属接合,窒化ケイ素セラ
ミックス,Ti反応層,TiN,結合力
塗布型クロメート皮膜,シリカ,熱塗布･塗装
分析,質量分析
交流エッチング,アルミニウム箔,
化学エッチング･電解エッチング
電位制御,温度,HCl濃度
アルミニウム陽極酸化,孔形状,蒸アノード酸化
気吸着,吸着ヒステリシス,n-ブチ
ルベンゼン蒸気吸着
水素発生,酸性溶液,無電解Ni析
無電解めっき出,燐濃度
電気めっき･電鋳?

燃料電池,電極触媒,Pt合金,触媒
活性,,結晶構造
表面修飾,電極触媒,大環状化合物
配向,チオール,自己集合単層,脂質二分層
分子エレクトロニクス,タンパク質,
バクテリオロドプシン,光電変換,
イメージセンサイジング
ハイドロゲル,体積相転移,電極修
飾
機能性バイオセン
サー,？？？？？？？？(Redox
Euzymes),抗原−抗体,？？？
(Electrochemical Immunoassay)
物理蒸着(PVD)

46

4

341 1995 9:シリーズ-2

46

4

342 1995 9:シリーズ-2

46

4

348 1995 10:比べてみよう ?

464351 1995 5:原著論文

化学蒸着(CVD)

46

4

358 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳464365 1995 5:原著論文

464371 1995 5:原著論文

泳動電着

46

4

375 1995 8:Letters

無電解めっき
?

洗浄

46

4

377 1995 8:Letters5389 1995 1:巻頭言

46

5

390 1995 2:総説

アノード酸化伊藤利道.平木昭夫

465396 1995 3:解説

アノード酸化5425 バルブ金属のアノード酸化

清水健一.小林健三

46

5402 1995 3:解説

アノード酸化5426 マグネシウムの陽極酸化

高谷松文

46

5

410 1995 3:解説

アノード酸化

5427 陽極酸化皮膜の着色

黒田孝一

46

5

415 1995 3:解説

アノード酸化465

420 1995 トピックス

アノード酸化465425 1995 トピックス

アノード酸化465

428 1995 ?

?

46

5

46

5

46

5

46

5

46

5

46

5

46
46

5
6

陽極酸化アルミナを用いた高規則性メタル
益田秀樹
5428
ポ−ラスメンブレンの作製と応用
アルミニウム陽極酸化皮膜による連続触 亀山秀雄.村田 究.
5429
媒体の開発
寺井 聡.豊嶋勇作
小特集／アノード酸化−製法.機能及び
5430
堀口 誠
応用 によせてシリーズ／現場管理技術−湿式法(２)−
5431
青江徹博
亜鉛めっき浴の管理のポイント
シリーズ／くらべてみよう(２)−ＳＴＭとＡＦ
5432
堀口 誠
Ｍ
塗布型クロメートの耐食性に及ぼすシリカ 須田 新.川口 純.
5433
の添加効果
荻原陸雄
ＲＦプラズマで窒化したＴｉの特性と窒化層
南部俊和.竹本幹男
5434
の破壊強さ
白金電極上での次亜リン酸イオンの酸化5435
王 為.仲村太一
反応
負荷中に発生する弾性波の定量解析によ 小川真吾.深井利
5436 る気相蒸着Ｔｉ(Ｃ.Ｎ)膜の力学特性と内部 嗣.二木 崇.竹本幹応力男
5437 シリカを添加したクロメート皮膜の断面構 高橋 彰.仲澤真人
5438 巻頭言：協会財政の危機
橋本康彦
小特集／環境による構造物の劣化とそ
5439
茅根道生
の対策 によせて
5440 酸性雨による屋外構造物の被害状況
馬飼野信一
自動車工業における環境汚染対策(１)−
5441
上村純二
酸性雨による塗膜劣化とその対策
自動車工業における環境汚染対策(２)−
5442
坂内恒雄
融雪剤による錆劣化とその対策
5443 建築外装の劣化と維持保全
近藤照夫

RHEED,表面分析,エピタキシャル
成長,MBE？
アルカリ洗浄,自動フィードシステ
ム,前処理,亜鉛めっき
記録,記憶媒体,記録方式
窒化ホウ素膜,RFプラズマ,CVD,
プラブマ化学輸送,ボロンパウ
電気はんだめっき,置換すず,再生利用
腐食表面,Ti2Ni,チタン合金,微細構造,腐食速度465424 多孔質シリコンの陽極化成

電解重合法,機能性電極,イオンセンサー,高分子電池
電解重合,機能性電極,高分子電池,イオンセンサー
炭素膜,フラーレン,電解重合法,π−共役金属錯体

ダイヤモンド砥石,電着,単粒,研磨
力
レーザー照射無電解めっき,無電解Pdめっき,添加剤,トリウムイオン
歯科用Ni-Cr合金,ニッケル溶出,
人工ヨードグリセリン
アノード酸化皮膜,アルミニウム,
バルブ金属
多孔質シリコン,陽極酸化,可視光
発光
バブル金属,陽極酸化,イオン移動過程
マグネシウム,表面処理,陽極酸
化,皮膜組成陽極酸化皮膜,着色法,電解発色,
自然発色,干渉発色
陽極酸化アルミナ,メタルポーラス
メンブレン
触媒,陽極酸化,調整方法

光沢,トラブルシューティング,シア
ン化浴,ジンケート浴,亜鉛めっき
走査型トンネル顕微鏡,原子間力
435 1995 10:比べてみよう
顕微鏡
塗布型クロメート皮膜,シリカ,耐
437 1995 5:原著論文
塗布･塗装
食性,交流インピーダンス,光電子
アコースティクエミッション,薄膜,
熱処理(酸化･窒化･炭化)442 1995 5:原著論文
破壊強さ,窒化チタン,RFプラズマ
H2PO2-,陽極酸化,無電解めっき,
450 1995 5:原著論文
無電解めっき酸化機構
Ti(C,N),アコースティクエミッショ
456 1995 5:原著論文
物理蒸着(PVD)
ン,内部応力,ARE,？？？？？？
Source Inversion
464 1995 13:研究ノート 塗布･塗装
クロメート,シリカ,亜鉛めっき鋼板
475 1995 1:巻頭言429 1995 9:シリーズ-2

電気めっき･電鋳466476 1995 ?

?

環境,構造物劣化,維持管理

466477 1995 3:解説

?

46

6

481 1995 3:解説

塗布･塗装

酸性雨,被害,銅,亜鉛,コンクリート
酸性雨,エッチング,加水分
解,？？？？(Auxuary Cross-46

6

487 1995 3:解説

46

6496 1995 3:解説

-2-

自動車の錆劣化,融雪剤?

維持保全,建築外装,劣化

表面技術 1995〜1999

プラント材料の大気側腐食における最新
5444
中村寿和
の防食技術
5445 鉄筋コンクリート構造物の劣化及び補修 平松和嗣
鋼構造物の防食−実施例を中心とした表
5446
増田一広
面技術

46

6

498 1995 3:解説

46

6504 1995 3:解説

46

6509 1995 3:解説

腐食,腐食防食?

皮膜,腐食,構造,表面処理5447 塗膜劣化の評価技術の現状と問題点

山本 隆

46

6

515 1995 3:解説

塗布･塗装

5448 超厚膜塗装技術の現状と問題点

山崎 曜

46

6

522 1995 3:解説

塗布･塗装

5449 湖沼・土壌の酸性化とその対策

惚田晃夫

46

6

525 1995 トピックス

?

46

6

529 1995 トピックス

466

533 1995 2:総説

泳動電着

46

6

539 1995 9:シリーズ-2?

ＩＳＯ／ＴＣ35／ＳＣ14(構造物の防食塗装
中尾義一
システム)制定の経緯
小浦延幸.塚本桓
5451 泳動電着法による機能性材料の成膜化
世.荘司浩雅.根岸
5450

5452

シリーズ／現場管理技術−湿式法(３)−ク
青江徹博
ロメート処理の管理のポイント

5453 シリース／くらべてみよう(３)−金と銀
八木 裕
Ｔｉ合金上のＮｉめっき皮膜密着性に及ぼす 黒澤一吉.平井英
熱処理の効果次.松村由男.氏平
電子シャワ−法によるステンレス基板への 湯本久美.樋貝和
5455
Ｃｕの高密着性膜彦.有山 堯
クリプトンガスとｎ−ブチルベンゼン蒸気吸
野中 昭
5456
着による表面多孔性シリコンの孔径の決
紫外線処理による有機性汚濁指標として5457
渡辺秀人.本間英夫のＣＯＤ除去
無電解Ｎｉ−Ｆｅ系合金めっき浴中のＦｅ3+ 金 東賢.青木公二.
5458
イオンの抑制鷹野 修
テトラエトキシシランの加水分解物による 冨岡敏一.冨田勝
5459
己.岡 弘章.西野
抗菌剤表面被覆の耐熱性
電解ニッケルめっきに及ぼす磁場の影響 浜野 学.吉原佐知
5460−水晶振動子マイクロバランス法による検 雄.佐藤栄一.千葉
柏原 智.常光幸美.
5461 電析によるＰｔ／Ｃｏ多層膜の作製
林 安徳
縄舟秀美.久後行
エポキ樹脂のスルホン化を利用する導電5462
平.水本省三.清田
性皮膜の形成優.今成真明
5463 巻頭言：めっき業の新たな旅立ちにあたっ 久米道之
ＰＶＤ及びＣＶＤによる最近のセラミックス
5464
高井 治
コーティング
反応性スパッタリングによる酸化物薄膜の
畑 朋延
5465
作製
5454

5466

クリーン化技術による磁性金属薄膜のナノ高橋 研
構造制御−スパッタ磁気メディアを通して

劣化,補修,鉄筋コンクリート

46

6546 1995 10:比べてみよう ?

466547 1995 5:原著論文

熱処理

有機皮膜,電気化学技術,？？？
(Service Life),？？？(Field
Monitoring Method),？？？
(Anti-Corrosive Pigment)
エポキシ樹脂,ポリウレタン樹脂,
ガラスフレーク,ビニルエステル樹
脂,超厚膜塗装
酸性土壌,酸性湖沼,バクテリア,
アルミニウム
腐食防食,鋼構造物,防食塗装シ
ステム,腐食,塗装
泳動電着法,湿式法,皮膜,機能性材料,粒子
光沢クロメート,有色クロメート,黒色クロメート,緑色クロメート,亜鉛めっきトラブルシューティング
金,銀,貴金属
チタンの表面改質,ニッケル電気
めっき,真空熱処理

466553 1995 5:原著論文

物理蒸着(PVD)

46

6

558 1995 5:原著論文?

界面,ESCA,PVD,銅皮膜,密着性466563 1995 5:原著論文

46

6567 1995 5:原著論文

無電解めっき46

6573 1995 13:研究ノート

化成処理

46

6

576 1995 13:研究ノート

電気めっき･電鋳466578 1995 7.速報論文

電気めっき･電鋳電析,Pt/Co多層膜,TEM

多孔質シリコン,孔径評価,ブチル
ベンゼン蒸気吸着,クリプトン吸着
COD,紫外線,光照射,第一鉄イオン,第二鉄イオン,過酸化水素
無電解めっき,Ni-Fe合金,軟磁性
皮膜
抗菌材料,銀錯体,耐熱性,テトラエトキシシランニッケル,磁場,電析,水晶振動子
マイクロバランス

46

6

580 1995 8:Letters?

エポキシ樹脂,硫化,銅イオン吸着,導電性皮膜467585 1995 1:巻頭言

?

？

46

7

586 1995 2:総説

?

46

7

590 1995 トピックス

物理蒸着(PVD)

46

7

594 1995 トピックス

物理蒸着(PVD)

PVD,CVD,セラミックス皮膜
反応性スパッタリング,YSZ,ZrO2,
スパッタリング
ウルトラクリーンプロセス,記録メ
ディア,保磁力,メディアノイズ,粒間交換相互作用エレクトロルミネッセンス,有機
EL,ZnS:Mn,8-キノリールアルミニ
ウム,有機薄膜
低温エピタキシ,プラズマエピタキ
シ,光励起絵エピタキシシ,半導体
層機能ブロック

5467 エレクトロルミネンス(ＥＬ)−発光素子膜

竹内 学

46

7

603 1995 トピックス?

5468 半導体膜の低温成長

針生 尚

46

7

607 1995 トピックス

物理蒸着(PVD)

46

7

611 1995 トピックス

物理蒸着(PVD)

触媒膜,PVD,固体電解質

5470 位相差膜

角田達朗.早川 孝.
亀山哲也
多賀康訓

46

7

616 1995 トピックス

物理蒸着(PVD)

5471 透明バリヤー膜の形成技術

稲川幸之助

46

7

620 1995 トピックス

物理蒸着(PVD)

篠原譲司.国京利一

467624 1995 トピックス

物理蒸着(PVD)

石田 章.武井 厚.
宮崎修一
西村 允

46

7

628 1995 トピックス

物理蒸着(PVD)

46

7

632 1995 トピックス?
洗浄

光学位相差膜,？？？？？？？
透明バリヤー膜,酸素透過率,水
蒸気透過率,光透過率,ロールセンサー,薄膜センサー,ホットフィ
ルムセンサー,ストレインゲージ
マイクロマシン,Ti-Ni,スパッタリン
グ,形状記憶,超弾性
MoS2,DLC,固体潤滑,固体潤滑
亜鉛めっき,脱脂,組成制御,前処
理,めっき
ガス,爆発
磁気金属微粒子,低エネルギー
光電子放出,耐候性
アルミニウム拡散皮膜,SUS310S
ステンレス鋼,クラック発生,破壊

5469 触媒膜

5472 メカニカルセンサ−膜5473 形状記憶合金薄膜

5474 固体潤滑膜
シリーズ／現場管理技術−湿式法(４)−
5475
天田 徹
ニッケルめっきの前処理−電解洗浄のポ5476 シリーズ／くらべてみよう(４)−ガスの爆発 寺門一佳
磁気記録媒体用金属磁性粉の低エネル 渡辺春夫.佐藤文5477
ギー光電子放射測定法による耐候性の評 彦.今井 潤.森 誠
ＳＵＳ３１０Ｓステンレス鋼に処理したアルミ 佐々木雅啓.井形直5478
弘
ニウム拡散被覆層の破壊挙動
森河 務.横井昌幸.
カチオン交換膜を用いる電気Ｎｉ−Ｐ合金5479
中出卓男.福本幸
めっきプロセスの検討
男.岩倉千秋ポリビロール被覆半導体マイクロアレイ電 渋谷真生.西澤松
5480
極を用いた光機能デバイス
彦.末永智一.内田5481 Ｐｄ−Ａｇ合金の電析とその接点への応用 久米道之.沖 猛雄

467636 1995 9:シリーズ-2

46

7

641 1995 10:比べてみよう ?

46

7643 1995 5:原著論文

?

46

7

646 1995 5:原著論文

拡散皮膜

46

7

653 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳

Ni-P合金,電気めっき,カチオン交
換膜

46

7

659 1995 5:原著論文

467663 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳467667 1995 13:研究ノート

無電解めっきポリピロール,マイクロアレイ電極,
光メモリ,半導体電極
Pd-Ag合金めっき,接点めっき,接点抵抗
無電解スズめっき,添加剤効果,
析出速度

46

7

670 1995 7.速報論文

物理蒸着(PVD)

PTFE,ESEM,PVD

46

7672 1995 7.速報論文?

相制御,Ni,Y,金属間化合物,多孔
質

46

7

674 1995 7.速報論文

化学蒸着(CVD)

CVDダイヤモンド,SEM画像,二次電子放出,ESR信号,欠陥密度

自己触媒型無電解スズめっきの析出速度 千田厚生.上林義5482に及ぼす添加剤の効果
弘.高野良比古.森
ガラス上に形成したＰＴＦＥ皮膜上の水滴 斎藤博之.高井健
5483のＥＳＥＭによる観察
一.高沢寿佳Ｎｉ−Ｙ金属間化合物薄膜の相制御及び多 立岩健二.多田正5484
孔質化
行.伊藤靖彦秋葉幸男.広瀬洋
ＣＶＤダイヤモンド薄膜表面からの電子放5485
一.黒須楯生.飯田
出と欠陥密度との関係
昌盛.庄 善之.和泉
5486 巻頭言：智恵と工夫
山口重裕

46

8

681 1995 1:巻頭言?

5487 短時間微小重力環境を利用した材料合成 奥谷 猛

468682 1995 3:解説

その他

5488 Ｓｉ単結晶／ＳｉＯ2多層薄膜の合成

柴田典義.石川由加

468688 1995 3:解説

物理蒸着(PVD)

5489 表面吸着種の光化学

大橋勝文.川崎昌博

46

8692 1995 3:解説

化学蒸着(CVD)

ＳＴＭ／ＡＦＭによる半導体電極表面反応
魚崎浩平.鯉沼陸央
の追跡

46

8

697 1995 3:解説

5490

-3-

知恵,工夫
短時間微小重力,材料合成,CuInSe2,太陽電池
SOI,酸素注入,シリコン,薄膜
励起過程,有機金属化合物,半導体,光MOCVD,絶縁体
STM,AFM,半導体,電極反応

表面技術 1995〜1999

5491 固体高分子電解質への電極触媒の接合

竹中啓恭

シリーズ／現場管理技術−湿式法(５)−Ｎ
5492
遠藤豊春
ｉ−Ｃｒめっきのポイント
5493 シリーズ／くらべてみよう(５)−ＳＥＭとＴＥ 松原 浩
日野 実.栢野康彦.
高出力ＹＡＧレーザによる鋼の表面焼入れ
5494
西田典秀.平松 実.
に及ぼすアシストガスの影響
秋山光一
スパッタリング法によるＴａ2Ｏ5薄膜の諸特 福島 誠.滝沢貴久
5495
性に及ぼす成膜条件の影響
男.山下嗣人含ＣｕＡｌ合金の陽極酸化皮膜特性に及ぼ 前嶋正受.石禾和5496
す熱処理の影響
夫.猿渡光一.平田近藤市治.近藤憲
Ｔｉ接着層によるＰｔ膜／ＴｉＯ2間の密着性
5497
司.竹中 修.白井
向上及びＰｔ膜の抵抗特性への影響
誠.太田 実.金原エッチング液によるタングステンの溶解速
5498
岡田哲朗
度
電位制御によるアルミニウム箔の交流エッ 鐘暉.市野良一.興5499
チングに及ぼす周波数の影響
戸正純.沖 猛雄
5500 電子部品の水系洗浄における平衡濃度 竹内典子.西田秀來
常温型溶融塩浴からのＣｏ−Ｚｎ合金の電 小浦延幸.満田直
5501
析
樹.遠藤 巧.伊藤小島 仁.上田成行.
5502 ＨＣＤ−ＡＲＥ法によるＣｒＮx膜の作製
小笠原一秀.佐藤武
満.米田芳之シリカ粒子によるＣｒ(VI)の減圧下における5503
須田 新.荻野陸雄
還元挙動5504 巻頭言：第９２回講演大会を前にして
林 安徳

46

8

702 1995 3:解説

46

8707 1995 9:シリーズ-2

46

8713 1995 10:比べてみよう

電気めっき･電鋳

468715 1995 6:技術論文

熱処理

46

8

720 1995 6:技術論文

物理蒸着(PVD)

46

8724 1995 6:技術論文

熱処理

46

8

730 1995 5:原著論文

物理蒸着(PVD)

46

8735 1995 5:原著論文

化学エッチング･電解エッチング

固体高分子電解質,電極触媒,膜−電極複合物
亜鉛めっき,Ni-Crめっき,トラブル
シューティング
SEM,TEM,顕微鏡
YAGレーザ,レーザ表面処理,アシストガス,硬化
Ta2O5膜,スパッタリング,スパッタ
リング条件,析出速度,透過率
Al-Cu合金,熱処理,固溶金属間化合物,陽極酸化皮膜,硬さ
密着性,薄膜,チタン,白金,接着効
果

反応速度,タングステン溶解,アルカリエッチング溶液
ACエッチング,アルミニウム箔,電化学エッチング･電解エッチング
位制御,周波数
洗浄
水洗浄,平衡濃度,水系洗剤,蒸着
Co-Zn合金,電析,常温型溶融塩
電気めっき･電鋳沿

468739 1995 5:原著論文

468745 1995 5:原著論文

468752 1995 5:原著論文

468757 1995 7.速報論文

物理蒸着(PVD)

窒化クロム,HCD,反応性蒸着

468759 1995 7.速報論文

塗布･塗装

シリカ,クロム,塗布型クロムめっき,XPS,XANES

46

9769 1995 1:巻頭言
マイクロマシン,LIGA,リソグラフ,電気めっき,鋳型
表面実装技術,マイクロバンプ形
成,電気金めっき,無電解ニッケル
フォトリソグラフィ,フォトレジスト,
フォトファブリケーション
フォトリソグラフィ,フォトマスク,ウエットエッチング,ドライエッチング,
マイクロセンサ,マイクロアレイ電極,導電性高分子,酵素
プリントヘッド,ディスプレイデバイ
ス,スクリーンプリント,サンドブラ
薄膜,磁気記録ヘッド,微細加工技
ブラインドホール,スルーホール,
レーザー加工無電解Niめっき,ハードディスク下
地,溶液管理システム

5505 マイクロマシンとＬＩＧＡ

梅田 章

46

9

770 1995 3:解説

微細加工プロセス

5506 マイクロバンブ形成とめっき

渡辺秀人.本間英夫

469775 1995 3:解説

電気めっき･電鋳5507 フォトリソグラフィ(１)−レジスト材料

駒野博司

46

9

778 1995 3:解説

微細加工プロセス

5508 フォトリソグラフィ(２)−エッチング技術

佐野尚武

46

9

784 1995 3:解説?

5509 マイクロセンサ［マイクロアレイ電極］

西澤松彦.末永智一.内田 勇469789 1995 3:解説

5510 大面積デバイスにおける微細加工技術

澤井秀夫

46

9

794 1995 3:解説

5511 薄膜磁気ヘッドにおける微細加工技術

篠浦 治.小柳 勤

469798 1995 3:解説

微細加工プロセス46

9804 1995 3:解説

微細加工プロセス46

9809 1995 9:シリーズ-2

無電解めっき46

9815 1995 10:比べてみよう 電気めっき･電鋳

金めっき,シアン浴,非シアン浴

46

9817 1995 5:原著論文

物理蒸着(PVD)

チタニルフタロシアニン,光電導
性,真空蒸着,結晶構造469822 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳469829 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳469834 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳469840 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳有孔度,ニッケルめっき,パルス
めっき

46

9

846 1995 5:原著論文

アノード酸化

陽極酸化,断続電流,耐摩耗性,電流波形,硬さ469851 1995 5:原著論文

?

46

9

856 1995 13:研究ノート

アノード酸化469860 1995 7.速報論文

化学蒸着(CVD)

46

9862 1995 7.速報論文

?

46

9

864 1995 7.速報論文

電気めっき･電鋳
アノード酸化

5512 レーザによるプリント基板の微細加工技術 荒井邦夫
シリーズ／現場管理技術−湿式法(６)−斉藤昌弘.中山郁雄
無電解Ｎｉめっき液の管理技術
シリーズ／くらべてみよう(６)−金めっきシ
5514
浅富士夫
アン浴とシアンフリー浴
紺谷智則.浦尾亮
チタニルフタロシアニン蒸着膜の結晶性と
5515
一.村野井徹夫.菊光電導性に及ぼす基板温度の影響
間 勲.竹内 学
アルカリジンケート型浴からのＺｎ−Ｃｏ合5516
久米道之.沖 猛雄
金の電析
トリポリリン酸塩浴からのＣｕ−Ｓｎ合金の5517
久米道之.沖 猛雄
電析
エチレンジアミン錯体浴からの電析Ｃｕ皮 縄舟秀美.福田順
5518
膜の常温軟化に及ぼす包含物の影響
成.水本省三.芳賀
斉藤いほえ.吉田裕
鉄鋼上のニッケルめっきの有孔度と電流
5519
道.上野武司.水元波形
和成
前嶋正受.猿渡光
アルミニウム陽極酸化皮膜の耐摩耗性と5520
一.平田昌範.石禾
電解電流波形和夫.高谷松文岡原治男.上田楽
軟鋼及び純鉄の腐食に対するポリー４−
5521
治.香西道雄.松田
ビニルピリジン塩酸塩の抑制効果
好晴.計良善也.鎌
前嶋正受.猿渡光
5522 アルミニウム陽極酸化皮膜のソリ変形
一.石禾和夫.高谷
プラズマＣＶＤ法による粒子のＳｉＣ薄膜
英 敬信.上宮成之.
5523
コーティング
小島紀徳
Iｂ単結晶ダイヤモンド(１１１).(１００)面から 秋葉幸男.広瀬洋
5524
の電子放出
一.黒須楯生.飯田
50vol%−ＤＭＦ浴からのＣｒ−Ｎｉ合金皮膜 津留壽昭.高木 健.
5525の組成と析出電位の関係
小林繁夫
アノード酸化アルミナメンブレンの水和劣
5526
黒田孝一
化防止処理
5527 巻頭言：大学院教育における学協会の役 渡辺邦洋
5528 医療材料の表面処理筏 義人
岩崎泰彦.石原一5529 血液と接触する表面の新しい処理
彦.中林宣男5530 人工肺材料と表面処理
萩原和彦
5513

微細加工プロセス46

9866 1995 7.速報論文

1010873 1995 1:巻頭言874 1995 2:総説

?

？

46

10

880 1995 3:解説?

？
人工肺,ガス交換,生体適合性,？
人工関節,セラミックス皮膜,チタン
合金,生体適合性
歯科材料,歯,表面処理
眼科材料,表面処理,コンタクトレ
ンズ
人工心臓,血液ポンプ,生体適合性,セグメント化ポリウレタン
人工皮膚,？
血管カテーテル,表面処理,抗血栓性,易滑性
薬物の持続放出,拡散制御,溶解制御,浸透性4610887 1995 3:解説

?

46

10

893 1995 3:解説

物理蒸着(PVD)

5532 歯科材料における表面処理塙 隆夫.浅岡憲三
眼科材料と表面処理−コンタクトレンズを
栗秋政光
中心として

46

10

898 1995 3:解説

?

46

10

903 1995 3:解説?

5534 人工心臓と表面処理

井街 宏

46

10

907 1995 3:解説?

5535 新しい人工皮膚−体表面の再建

黒柳能光

46

10

912 1995 3:解説?

5536 血管カテ−テルの表面処理

長岡昭二

46

10

916 1995 3:解説?

5537 薬物の持続放出と表面処理

近藤 保

5533

ポリ−4−ビニルピリジン塩酸塩による抑制,軟鋼および純鉄の腐
食,塩酸
陽極酸化皮膜,ソリ変形,内部応力,多孔質層CVD,薄膜コーティング,プラズ
マ,SiC
Ibダイヤモンド,スクラッチ処理,欠陥電子放出,SEM画像
電析,Cr-Ni合金,50vol%-DMF浴,
組成分析
多孔質アルミナ膜,水和劣化,封
孔,りん酸

46
46

立石哲也.伊藤敦夫

5531 人工関節と表面処理

電析,Zn-Co合金,ジンケート浴,耐食性
Cu-Sn合金,トリポリリン酸塩浴,
ニッケルアレルギー,装飾めっき,
電析Cu,エチレンジアミン錯体浴,
包含物,室温軟化,結晶粒径

4610920 1995 3:解説?

ウ食予防膜形成ならびに魚鱗及び貝殻表 杉田利男.森主宣5538 面へのマイクロ刻印のためのマイクロ・ス 延.西川英一.渡部一史
パッタリング技術

46

10

924 1995 トピックス

物理蒸着(PVD)

スパッタリング,ウ蝕、予防,マイク
ロ刻印,魚鱗,貝殻5539 プラスチック人工筋肉

4610

929 1995 トピックス?

人工筋肉,導電性高分子,電気化
学,？

金藤敬一

-4-

表面技術 1995〜1999

小特集／生体の医用材料と表面処理＊によせてシリーズ／現場管理技術−湿式法(７)−
5541
相沢謙次
化成処理における管理のポイント
5542 シリーズ／くらべてみよう(７)−リンゴ
堀口 誠
マイクロ電極を用いる有機電解液中でのリ 王 献明.仁科辰夫.
5543
チウム析出・溶解挙動の評価
内田 勇
5540

5544

無電解ニッケルめっきによるアルミニウム
渡辺秀人.本間英夫
上へのマイクロバンブ形成

ＤＭＡＢを還元剤とする無電解ニッケル− 縄舟秀美.小橋康
ホウ素合金めっきの物質収支及び析出機 人.水本省三走査トンネル顕微鏡による銀電析過程の 中村高士.田辺正
5546
観察
幸.本間敬之.逢坂アルミニウム合金ダイカストＡＤＣ１２のパ
5547 ルスアノード酸化中におけるバリヤー層の 三田郁夫.重盛正樹
電気化学的性質
リンとリチウムを共添加したＺｎＳｅ薄膜の 村野井徹夫.石井伸
5548
アクセプター準位
直アルミニウム陽極酸化皮膜のリングオンデ 前嶋正受.猿渡光
5549
スク式磨耗試験機による磨耗面の観察
一.中川三紀夫.高アルミニウム陽極酸化皮膜のアプレッシブ 前嶋正受.猿渡光
5550
磨耗試験
一.石禾和夫.高谷
巻頭言：我が表面技術協会は今何色だと
渡辺 徹
5551
皆様は思いますか−未完の大器表面技5552 繊維の高機能化-序論
中島利誠
5553 消臭菌繊維と表面処理
白井汪芳5554 帯電防止のための繊維の表面改質
内田恵美子
5555 抗菌防臭加工繊維
奧 章祐
5545

46

10

933 1995

?

？

化成処理

リン酸塩処理4610934 1995 9:シリーズ-2

46

10939 1995 10:比べてみよう ?

46

10941 1995 5:原著論文

電析応用

46

10

946 1995 5:原著論文

無電解めっき46

10951 1995 5:原著論文

無電解めっき46

10956 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳

4610960 1995 5:原著論文

アノード酸化4610964 1995 13:研究ノート

物理蒸着(PVD)

46

10966 1995 13:研究ノート

アノード酸化4610

968 1995 13:研究ノート

アノード酸化4611

975 1995 1:巻頭言

46
46
46
46

11
11
11
11

976 1995 3:解説
977 1995 3:解説
983 1995 3:解説
988 1995 3:解説

?
?
?
?

46

11 1024 1995 9:シリーズ-2

46

11 1028 1995 10:比べてみよう 洗浄

繊維,高機能化
消臭繊維,抗菌繊維,？？？？
表面改質,帯電防止,繊維防臭,抗菌
化成処理,マイクロクリエーター,
顔料染色,プリンティング
エキシマレーザー,PET繊維,アラ
ミド繊維
低温プラズマ,スパッタエッチング,
表面改質,表面張力
化学処理,繊維表面,皮膜,染料移行,ポリエステル繊維
レーヨン,環境,酸性雨,分解変色顔料,マイクロカプセル,繊維
気相加工
硫酸銅めっき浴,レベリング,延展
性,空気撹拌,カソード撹拌
水,フッ酸,洗浄,LSI

46

11 1031 1995 6:技術論文

化成処理

金,シアン化物,紫外線,TiO2膜46

11 1035 1995 6:技術論文

無電解めっき

無電解銅めっき,？？？？

46

11 1039 1995 5:原著論文

物理蒸着(PVD)

5556 染色のための繊維の表面処理

小林文夫

46

11

993 1995 3:解説?

5557 エキシマレーザーによる繊維表面改質渡辺博佐.高田忠彦

46

11997 1995 3:解説?

46

11 1003 1995 3:解説

低温プラズマ及びスパッタエッチングによ 脇田登美司.解野誠5558
司る繊維の表面改質
染料移行昇華防止のための繊維表面の
5559
天野慈朗
化学処理
5560 環境対応型繊維竹内一郎.小関智樹
5561 温度変色繊維素材
島田雅人
5562 ＶＰ加工による形状記憶シャツ
伊藤 博
シリーズ／現場管理技術−湿式法(８)−
5563
森 義樹
硫酸銅めっきの管理のポイント
5564 シリーズ／くらべてみよう(８)−水とフッ酸 籔本周邦
紫外線照射併用電解法によるシアン含有 松本幸英.関本正
5565
水の処理方法生.吉田泰樹萩原 謙.渡辺城司.
5566 無電解銅めっきへの精密ろ過の応用
本間英夫
反応性ＤＣスパッタリングによるＴｉ−6Ａｌ−5567
園田 勉.加藤 誠
4Ｖ合金基板へのＴｉ／Ｏ傾斜皮膜の形成
Ａｒイオン照射したナイロン粘土複合材料 伊藤由彦.東 博純.
5568
伊藤 忠.野田正治の表面特性
ポリプロピレン表面の塗装のための表面 平山良司.前野又五
5569
処理方法
郎.橋本嗣夫
ＳＴＭによる亜鉛デンドライト電析初期過5570
田村早苗.小浦延幸
程の観察とそのコンピュ−タシミュレーショ
溶融Ｚｎ鋼ストリップへのロールコーティン 藤原俊朗.金丸辰
5571
也.中山元宏グ機構
アゾベンゼン修飾界面活性剤を用いた
ﾅﾋﾞ−ﾝ･K・ｼｭﾚｽﾀ.
5572
ニッケル／銅フタロシアニンの複合めっき 佐治哲夫
5573 巻頭言：北の大地では今
成田敏夫
表面処理の新しい展開−特殊な条件での
馬場宣良
5574
表面処理
5575 パルス電流による表面処理

松永守央

レーザを用いた表面処理−レーザプレー
牧野英司
ティングとレーザエッチング
5577 溶融塩浴からの金属ならびに合金の電析 小浦延幸
5576

5578 希土類金属の非水溶液からの電析

佐藤祐一？
マイクロ電極,有機電解液,リチウ
ム析出,溶解分解,力学パラメータ
表面実装技術,ニッケル置換めっき,直接ニッケルめっき,マイクロバ
ンプ形成
無電解めっき,Ni-B合金,重量収
支,析出機構
銀電析,走査トンネル顕微鏡,電位制御,シアン化物イオン
ADC12アルミニウム合金ダイカス
ト,パルス陽極酸化,イオン電流密度,チャージングプロパティ
アクセプター準位,ZnSe,共添加,リンとリチウム,DAP
陽極酸化皮膜,リングオンディス
ク,リングの粗さ,摩擦、摩耗
陽極酸化皮膜,アブレッシブ摩耗試験,湿式テスト,乾式テスト,？

気相エッチング46

11 1009 1995 3:解説

?

46
46
46

11 1013 1995 トピックス
11 1017 1995 トピックス
11 1019 1995 トピックス?
?
?
電気めっき･電鋳46

11 1044 1995 5:原著論文

イオン注入

46

11 1050 1995 5:原著論文?

46

11 1054 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳46

11 1060 1995 5:原著論文

溶融
?

46

11 1066 1995 8:Letters46

12 1073 1995 1:巻頭言

46

12 1074 1995 2:総説?

46

12 1079 1995 3:解説

電気めっき･電鋳46

12 1083 1995 3:解説?

46

12 1088 1995 3:解説

電気めっき･電鋳46

12 1094 1995 3:解説

電気めっき･電鋳反応性スパッタリング,Ti-O皮膜,
傾斜皮膜,生体適合性
イオン照射,ナイロン,粘土,複合材
料,トライポロジー
フッ素化処理,ポリプロピレン塗
装,表面処理,フッ素ガス
電気化学STM,亜鉛,デンドライト,
電析,コンピュータシミュレーショ
ロールコーティング,溶融亜鉛,鋼ストリップ,コンタクトアーク
複合めっき,ニッケル,銅フタロシア
ニン,アゾベンゼン,界面活性剤
総説,表面処理,特殊な条件
電気めっき,多層膜,ダブルパル
ス,薄膜レーザープレーティング,レーザーエッチング,マスクレスパター
金属,合金,電析,溶融塩
非水溶媒,電析,希土類金属,磁気的特性
磁場効果,表面処理
超音波,分析,電気化学反応,析出
皮膜
電解重合,表面処理
ハイドロキシアパタイト,めっき,放低温浴,クロム炭窒化物皮膜,膜厚,皮膜特性,皮膜応用
超音波効果,無電解Ni-Pめっき,
耐食性5579 表面処理における磁場の効果

千葉 淳

46

12 1100 1995 3:解説?

5580 表面技術における超音波の効果

山下嗣人

46

12 1105 1995 3:解説

?

46
46

12 1110 1995 3:解説
12 1115 1995 トピックス

?
?

46

12 1119 1995 6:技術論文

溶融46

12 1125 1995 5:原著論文

無電解めっき46

12 1130 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳

電析,有機溶媒,モリブデン,白金46

12 1130 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳Ni-Mo合金,共析機構,相構造

46

12 1139 1995 5:原著論文

溶融

La-Ni合金,水素吸蔵合金,合金皮膜,電解,溶融塩

46

12 1144 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳

金めっき皮膜,電析,カチオン高分
子添加物,レベリング,耐食性

46

12 1150 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳

金めっき皮膜,電析,有機添加物,
パルス電流めっき,耐食性

46

12 1157 1995 5:原著論文?

ニッケルパウダー,焼結,微細孔,
フィルタ

46

12 1162 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳

Nb-Sn合金,電析,常温型溶融46

12 1167 1995 5:原著論文

電気めっき･電鋳

溶融塩,Al-Ti合金,電気めっき

5581 表面処理における電解重合
5582 液中放電によるアバタイトの析出

直井勝彦.大浦 靖
伊部幸雄
杉本義彦.太田幸5583 低温溶融塩法によるクロム炭窒化物被覆
夫.新井 透超音波照射下で作製した無電解ニッケル 千葉 淳.倉光秀和.
5584
呉 文昌.小林勝義−リン皮膜とのその耐食性
津留壽昭.高木 健.
5585 有機溶媒浴からのモリブデンの電析
小林繁夫
秋山徹也.福島久
アンモニア性酒石酸浴からの電析Ｎｉ−Ｍ5586
哲.湯瀬文雄.津留
ｏ合金の構造と共析挙動
壽昭.友清芳二
溶融電解法によるニッケル上へのＬａＮｉ5 田村隆介.市野良
5587の生成
一.興戸正純.沖 猛
クエン酸系電析金めっき浴のカチオン性高 湯浅 真.大谷 豊.
5588 分子添加物の影響とその金めっき膜の耐 塘 健夫.関根 功.
食性.高分子添加物の構造と機能の相関 鑓田聡明
クエン酸系電析金めっき浴での有機添加 湯浅 真.塘 健夫.
5589 物及びパルスめっき法の相乗効果と金宮館康夫.大原 誠.
めっき膜耐食性−添加物構造と耐食性の 関根 功.葛島俊夫
ニッケル粉末の焼結による微細孔をもつ 木村彰夫.槙 寛.佐5590
藤 啓.菅沼栄一
多孔体の作製
常温型溶融塩浴からのＮｂ−Ｓｎ合金の電 小浦延幸.凌 国平.
5591
析
伊藤兵衛
内田淳一.瀬戸宏
5592 塩化物溶融塩浴からのＡｌ−Ｔｉ合金電析
久.渋谷敦義-5-

表面技術 1995〜19995593

溶融塩電気化学プロセスによるＳｉの注入 上田剛史.後藤琢
とシリサイドの形成
也.伊藤靖彦5594 塩化物浴からのＣｕ／Ｎｉ多層膜の電析

三宅猛司.久米道之

牧野英司.川勝由美
ポリアクリル酸によって感受性化したポリ
5595
子.柴田隆行.池田
イミド上の無電解Ｎｉレーザプレーティング正幸
山下嗣人.岩城泰5596 非水溶液からのＡｕ電析皮膜の特性
彦.荒巻芳幸中村博吉.王 叢笑.
リチウム負極のサイクル特性に及ぼす添
5597
三谷栄作.藤田利加材の影響
美.芳尾真幸アルミニウムのアルカリエッチングにおけ 前嶋正受.猿渡光
5598
る超音波の影響
一.石禾和夫.高谷
常温溶融塩浴からの非晶質Ｃｏ−Ｚｎ合金
5599
小浦延幸.遠藤 巧
電析
松田好晴.山谷 学.
有機溶媒からの電析によるイットリウム複5600
吉本信子.森田昌
合酸化物の作製行.石川正司.芳賀
周期的反転電流電解によるニッケルめっ
5601
津留 豊.玉井智和
き膜の内部応力の低減
5602 シリーズ／くらべてみよう(９)−ＣＶＤとＰＶ 佐々木恒
5603 ５０周年に向けて
岸 富也
5604 ステンレス鋼の局部腐食
5605

八代 仁.丹野和夫

塗覆装鋼板の動向とポリエステル樹脂フィ
神田勝美
ルム被覆化粧鋼板の開発

5606 ＰＶＤによる機能膜の創製

武井 厚

46

12 1173 1995 5:原著論文?

46

12 1180 1995 13:研究ノート

電気めっき･電鋳46

12 1182 1995 7.速報論文

無電解めっき46

12 1185 1995 13:研究ノート

電気めっき･電鋳46

12 1187 1995 7.速報論文?

46

12 1189 1995 7.速報論文

化学エッチング･電解エッチング

46

12 1191 1995 7.速報論文

電気めっき･電鋳46

12 1193 1995 8:Letters

電気めっき･電鋳46

12 1195 1995 8:Letters

電気めっき･電鋳4647

12 1197 1995 10:比べてみよう ?
1
1 1996 1:巻頭言
B09:その他

47

1

2 1996 3:解説

B09:その他

47

1

7 1996 4:技術解説

A:05塗布･塗装

47

1

12 1996 12:武井記念シリーズ A01: 物理蒸着
18 1996 9:シリーズ-2

5607

表面状態の解析(３７)−ラマン分光法によ吉川正信.石田英之
る表面・薄膜の構造評価

47

1

5608

表面状態の解析(３８)−非弾性電子トンネ
鎌田薩男
ル分光法(ＩＥＴＳ)による表面の状態分析

47

1

A10:その他

電気化学注入,シリサイド,？
定電流パルス,電析,Cu/Ni多層膜,塩化物浴レーザー無電解めっき,ポリイミド
皮膜,ポリアクリル酸,ニッケルライ
ン
非水溶液,金析出,硬さ,接触抵抗,
接続材料
リチウム有機電解物,交流イン
ピーダンス,リチウム電池
アルミニウム,アルカリエッチング,
超音波,エッチング重量,粗さ
アモルファス,Co-Zn合金,電析,常温溶融塩電解物
イットリウム酸化物,電析,DMF溶液,蛍光材料,複合皮膜
電気めっき,Ni析出,内部応力,ストレインゲージ,PRめっき
CVD,PVD
168 基礎ステンレス鋼、局部腐食、孔食、
隙間腐食
PCM、化粧鋼板、亜鉛めっき鋼
板、ポリエステルフィルム、塗覆物理蒸着、イオンプレーティン
グ、スパッタリング、複合皮膜、形状記憶合金薄膜
ラマン、表面構造、薄膜

非弾性電子トンネル分光法、接合、単分子層、トンネル電流、振動スペクトル
スズめっき、スズ･亜鉛めっき、は29 1996 9:シリーズ-2
B02:電気めっき･電鋳
んだめっき、不良対策
PVD、CVD、電気めっき、無電解
35 1996 10:比べてみよう A01: 物理蒸着
めっき、溶融めっき
超音波洗浄、共振気泡、不純物
37 1996 5:原著論文
C06:洗浄除去、粒子除去、振動数
抗菌物質、銀錯体、熱安定性、カ
B05:熱分解･ゾル-ゲル法
42 1996 5:原著論文
チオン、チオスルファト/銀比率
耐食性、アルミニウム‐マグネシ
46 1996 5:原著論文
B08:化成処理
ウム‐ケイ素 アルミニウム合金、
硫酸マグネシウム、転換被覆
チッピング、有限要素法、摩擦51 1996 5:原著論文
A:05塗布･塗装
力、チッピングクライマー、グラベ
ロメーター
24 1996 9:シリーズ-2

A10:その他

5609 スズ及びスズ−鉛合金めっきのポイント

藤村一正

47

1

5610 ドライプロセスとウェットプロセス

浅富士夫

47

1

超音波洗浄による異物除去メカニズム−
共振気泡による摩擦作用
抗菌成分としての銀錯体Ｒp［Ａｇq(Ｓ2Ｏ3)
5612
ｒ］(Ｒ=Ｎａ,Ｋ)の熱安定性

阿座上瑞美.菊池廣
冨岡敏一.富田勝
己.岡 弘章.西野

47

1

47

1

47

1

47

1

47

1

56 1996 5:原著論文

A:05塗布･塗装

鮮映性、電着塗装、親水性樹
脂、濡れ性、水素ガス気泡

471

62 1996 5:原著論文

C07:その他

溶接缶、溶接性、缶材料、接触抵抗、シーム溶接47

1

67 1996 5:原著論文

B07:アノード酸化

陽極酸化、ベンジルアミンアルカ
リ浴、有機アルカリ浴

47

1

47

1

47

1

47

1

5611

5613

硫酸マグネシウム溶液で処理されたＡｌ− 佐藤文博.浅川義Ｍｇ−Ｓｉ合金の耐食性
彦.坂田真理子

金丸辰也.山崎一
自動車外板でパネルのチッピングに及ぼ
正.新井勝利.山下
す要因の解析
行秀
筋田成子.浜原京
有機複合被覆鋼板の電着塗装後の鮮映
5615
子.向 亮一.望月一性に及ぼす濡れ性の影響
望.森戸延行
缶用表面処理鋼板の動的接触抵抗と溶 菊池利裕.望月一5616
接性雄.久々湊英雄
有機アルカリ性浴(ベンジルアミン−フッ化5617 物基液)中でのアルミニウムの陽極酸化に 野口駿雄.吉村長蔵
おける有機酸塩添加の効果
熱フィラメントＣＶＤ法による合成されたダ 石川 豊.吉見英人.
5618
イヤモンド薄膜への紫外線照射による酸 広瀬洋一
5614

5619

ＳＵＳ４４４鋼とテフロン球すきまのすきま
腐食再不働態化電位

今井八郎.長島英也.増子 昇スズめっきした無電解ニッケル−リン合金 園田 司.林 行信.
めっき皮膜の耐食性
松田好晴
清川 肇.高橋美香.
5621 電析Ｎｉ−Ｐ合金皮膜の形態
米沢 晋.堀田紀好.
清川 忠.高島正之
5622 協会事業への参加
高谷松文
5620

47

2

5623 いまトライポロジーが面白い

森 誠之

47

2

5624 超硬質膜トライポロジー

三宅正二郎

47

2

47

2

5625

レーザ表面改質によるトライポロジー特性
水谷嘉之.志村好男の改善

5626 塑性加工のトライポロジーと表面処理

中村安宏

47

2

5627 トライポコーティング
5628 固体潤滑膜
プラスチックの表面改質とトライポロジー
5629
特性

加藤康司
青木岩夫

47
47

2
2

広中清一郎

47

2

5630 磁気ディスク円板の表面潤滑制御

渡辺正博

47

2

5631 エンドコートとエピコート

増子 昇.津田哲明

47

2

現場管理技術−湿式法(１０)−金及び金5632
合金めっきの管理(１)5633 くらべてみよう(１１)−白金とパラジウム
5634 めっき鋼板打抜き品のエッジ仕上げ法
5635 電子シャワ−法によるＡＩＮ薄膜の作製

ダイヤモンド薄膜、グラファイト、
紫外線、酸化、エッチング
再不動態化電位､隙間腐食、
76 1996 7.速報論文
C07:その他
SUS444ステンレス鋼、テフロン
球隙間
耐食性、無電解ニッケルめっき、
78 1996 7.速報論文
B03:無電解めっき
スズめっき、熱拡散
ニッケル‐リン合金皮膜、析出形
80 1996 8:Letters
B02:電気めっき･電鋳 態、高電流密度、原子間力顕微
鏡
103 1996 1:巻頭言
B09:その他
166環境
トライホロジー、境界潤滑、潤滑
104 1996 3:解説
A10:その他剤、薄膜、表面処理
トライホロジー、超硬質膜、ダイ
109 1996 3:解説
B01:化学蒸着
ヤモンド、立方晶窒化ホウ素
表面改質、レーザーアイロング、
113 1996 3:解説
A10:その他
レーザークラッディング、トライホ
ロジー、耐摩耗性
冷間鍛造、リン酸処理、反応型
117 1996 3:解説
A10:その他
石けん
121 1996 3:解説
A10:その他
トライボコーティング、真空、潤滑124 1996 3:解説
A10:その他
固体潤滑処理、トータルコストダ
プラスチック、トライホロジー、表128 1996 3:解説
A10:その他
面改質、摩擦、摩耗
トライホロジー、潤滑剤、潤滑性
131 1996 3:解説
A10:その他制御、潤滑剤の吸着、磁気ディスク媒体
表面被覆、エピコート、エンドコー
136 1996 12:武井記念シリーズ B09:その他
ト、皮膜成長速度、速度制御限74 1996 7.速報論文

B01:化学蒸着

B02:電気めっき･電鋳 金、金合金めっき

古藤田哲哉

47

2

142 1996 9:シリーズ-2

八木 裕
五百井俊宏.高谷松
文.松永正久.冨田好之
石原正統.湯本久美.土谷敏雄.明石

472

146 1996 10:比べてみよう C07:その他

60白金、63パラジウム472

147 1996 6:技術論文

C01:機械研磨･研削

バレル処理、メカニカルプレー
ティング、バリ、めっき加工品

472

152 1996 5:原著論文

A01: 物理蒸着

窒化アルミニウム、配向、基板電圧、物理蒸着、表面弾性波-6-表面技術 1995〜1999

執行和浩.瀬尾真
ポ−ラスＳｉの微細構造と発光挙動に及ぼ 浩.安住和久.高橋
英明.Maher-ALすＨＦ濃度とＳｉ基板比抵抗の影響
DAN.William.H.SMY
高周波イオンプレーティングによるＡｕ・Ａｌ 上条幹人.有泉直
5637
合金薄膜の形成子.日原政彦.児嶋川口明廣.馬飼野信
5638 電気化学的測定による超音波洗浄の評価
一.山崎龍一.森 修
5636

5639

触媒材料としての陽極酸化アルミナ層の調整

村田 究.亀山秀雄

ステンレス鋼上に成膜された酸化物皮膜
李 鍾楽.増田正孝.
5640 の欠陥評価−電気化学的手法と光学的
林 安徳
手法の比較
クロメート皮膜中におけるシリカ粒子の防 須田 新.川口 純.
5641
食作用
荻野陸雄
はっ水性皮膜中における氷の付着力と表 斎藤博之.高井健
5642
面粗さに関する一検討
一.高沢寿佳陽極酸化処理したアルミニウム線のクリー 猿渡光一.前嶋正5643
ブ特性
受.平田昌範.岡田5644 講演大会をチャ−ミングにしようとしていま 美浦 隆
海老名延郎.古賀孝
めっき技術の新しい潮流−電気めっき及5645
昭.小林道雄.千田
び無電解めっきの新たな可能性を求めて
厚生.珍田 聡.芦田5646

溶融塩電解にるＶ酸化物エレクトロクロミッ
金子吉一
ク材料の開発5647 常温核融合研究と陰極表面修飾

國松敬二

5648 金及び金合金めっきの管理(２)5649 日本の温泉Ｔｉ−50ａｔ.％及び52ａｔ.％Ｎｉ合金薄膜の形
5650
状記憶特性に及ぼす熱サイクルの影響

古藤田哲哉
籔本周邦
佐藤守夫.石田 章.
武井 厚.宮崎修一
桑野三郎.伊藤芳
減圧プラズマ溶射によるＷＣ−Ｃｏ硬質皮
5651
典.大友勇人.広住
膜の形成条件俊次.村田省三
高分子・液晶複合体のモルフォロジーの5652
小野浩司.川月喜弘
観察及び制御技術
ギ酸を含む2価クロム電解浴からのクロム 平藤哲司.寺畠知5653
電析
道.渡辺英一郎.栗亜硫酸金錯体からの無電解金めっきのワ 阿部真二.西脇泰5654
イヤーボンディング性二.渡辺秀人.本間
粒状スズを下地にした缶用薄クロムめっき 和気亮介.吉原良
5655
鋼板の開発
一.兼田善弘小野幸子.斉藤 誠.
マグネシウムダイカストＡＺ９１Ｄの化成処
堀口 誠.寺島慶一.
5656 理により成長した表面皮膜の構造と生成
松坂菊生.志田あづ機構
さ.逢坂哲彌.増子
小野幸子.斉藤 誠.
マグネシウムダイカストＡＺ９１Ｄの陽極酸 堀口誠.寺島慶一.
5657
化により生成した皮膜の構造と成長機構 松坂菊生.志田あづ
さ.逢坂哲彌.増子
リン酸−酸化鉄−ＰＶＢ処理を施した耐候 増田一広.渡辺常5658
性鋼のさび安定化作用
安.伊藤陽一はっ水性表面への氷の付着に関する熱力 斎藤博之.高井健
5659
学からの一考察一.高沢寿佳.山内
5660 環境保全と表面処理
星野重夫

47

2

157 1996 5:原著論文

C03:化学エッチング･電解エッチング

47

2

163 1996 5:原著論文

A08:イオン注入472

168 1996 5:原著論文

C06:洗浄472

173 1996 5:原著論文

B07:アノード酸化472

178 1996 5:原著論文

A10:その他

472

183 1996 5:原著論文

A04:吸着472

189 1996 7.速報論文

C07:その他
B07:アノード酸化472

191 1996 7.速報論文

473

197 1996 1:巻頭言

47

3

198 1996 21:座談会

47

3

47

3

47
47

2
3

47

3

47

B09:その他

エレクトロクロミズム、バナジウム
酸化物ブロンズ、溶融塩電解、
塩基性度
常温核融合、表面修飾、過剰
218 1996 3:解説
C07:その他
熱、吸蔵率
B02:電気めっき･電鋳 金めっき、金合金めっき
223 1996 9:シリーズ-2
227 1996 10:比べてみよう
253定量分析、295pH、215水質
チタン‐ニッケル、形状記憶、ス
229 1996 5:原著論文
A10:その他
パッタリング、マイクロマシン、薄3

235 1996 5:原著論文

A10:その他

473

240 1996 5:原著論文

C07:その他

473

245 1996 5:原著論文

473

250 1996 5:原著論文

473

256 1996 5:原著論文

473

263 1996 5:原著論文

B08:化成処理

マグネシウムダイカスト、化成処
理、透過電子顕微鏡、皮膜構造

473

268 1996 5:原著論文

B07:アノード酸化

マグネシウムダイカスト、陽極処
理、透過電子顕微鏡、皮膜構造

47

3

47

3

47

4

耐候性鋼、さび安定表面処理、
消光さび層、流出さび
はっ水性、氷の付着、表面自由
279 1996 7.速報論文
A:05塗布･塗装
エネルギー
285 1996 1:巻頭言
B09:その他
166環境、282廃棄物
表面分析、オージェ電子分光
286 1996 2:総説
A10:その他
法、X線光電子分光法、インター
ネット、デーベース
走査電子顕微鏡、分析装置、エ292 1996 3:解説
B09:その他
ネルギー分散型X線分光、オー
ジェ電子分光法
自動車産業、表面分析、触媒、ト
297 1996 3:解説
C07:その他
ライホロジー、X線光電子分光法
301 1996 3:解説
B09:その他
表面分析、境界分析、鋼、金属エレクトロニクス産業、表面分
305 1996 3:解説
C07:その他
析、コンタミネーション
化合物半導体、光反射その場観309 1996 3:解説
C07:その他
察、有機金属気相エピタキシ、表面構造、走査型トンネル顕微鏡
313 1996 3:解説
A:05塗布･塗装
表面分析、塗料、塗装の局所分
B02:電気めっき･電鋳 ニッケル‐クロムめっき、シミ
320 1996 9:シリーズ-2
324 1996 10:比べてみよう C07:その他
219ステンレス鋼、190鋼板
焼鈍、脱スケール、ステンレス
C02:化学研磨･電解研磨
325 1996 6:技術論文
鋼、表面分析
鉄・窒化物、反応性イオンプレー
330 1996 5:原著論文
A10:その他
ティング、腐食抵抗、溶解反応、
塩化ナトリウム溶液
酸化インジウム‐スズ系導電粉、
338 1996 5:原著論文
A10:その他
溶解度、均質性、水酸化スズ膜、
AGA粉砕
イオン注入、窒素イオン、チタン
345 1996 5:原著論文
A08:イオン注入
合金、トライホロジー特性、チタン
窒化物
273 1996 5:原著論文

A:05塗布･塗装

45662 地方公設研究機関における表面分析

黒沢和芳.野口裕臣

4745663 自動車産業における表面分析

志智雄之

47

4

5664 金属産業における表面分析

名越正泰

47

4

5665 エレクトロニクス産業における表面分析

大村卓一

47

4

5666 半導体成長表面の表面分析

小林直樹

47

4

5667 塗料・塗装産業における表面局所分析
5668 Ｃｒめっきのシミの原因と対策
5669 炭素鋼とステンレス鋼
ＳＵＳ３０４鋼焼鈍材の脱スケール過程に5670
おける溶解挙動青柳昭光.石原真興
上谷正明
馬飼野信一
木谷 滋.林 美生.
小島寿男.日向寺幸

47
47
47

4
4
4

47

4

47

4

47

4

47

4

47

4

349 1996 5:原著論文

B03:無電解めっき

474356 1996 5:原著論文

B03:無電解めっき

リン酸−酸化鉄−ＰＶＢ系さび安定化処理 渡辺常安.桑辺行
法のさび非晶質化に及ぼすＰ,Ｃｕの影響 正.加藤忠一

474

360 1996 5:原著論文

A05:塗布･塗装

リン酸−酸化鉄−ＰＶＢ系さび安定化処理 渡辺常安.伊藤陽
5677 膜のイオン選択透過性と安定さび生成機 一.川端 昇.神田
三
構

47

4

366 1996 5:原著論文

A05:塗布･塗装

5676

WC-12％Cr硬質皮膜、減圧プラ
ズマ溶射、耐摩耗性

高分子液晶、モルフォロジー、表面張力
クロムめっき、電析、２価クロムイ
B02:電気めっき･電鋳
オン、ギ酸、硫酸クロム
無電解金めっき、ノンシアン浴、
B03:無電解めっき
金ワイヤーボンディング性
溶接缶、電解スズめっき、電解ク
B02:電気めっき･電鋳
ロムめっき、電析、溶接性

47

長岡 茂.好本昭洋.
岡崎直美.原田 孝.
真嶋 宏
伊藤由彦.伊東明
窒素イオン注入したＴｉ合金のトライポロ
5673
生.東 博純.日置辰
ジー特性
視田代雄彦.千葉国
無電解Ｎｉ−Ｐめっき膜のノジュ−ルの発5674
雄.福田 豊.中尾英
生要因
弘.渡辺 徹
芳賀正記.内田 衛.
トリメチルアミンボランを還元剤とする無電
5675
縄舟秀美.上浦有解パラジウムめっき皮膜の結晶構造
紀.水本省三260電気めっき、322無電解めっき、166環境

C07:その他

吉原一紘5672 Ｉｎ2Ｏ3−Ｓｎ系白色導電粉の調製

イオンプレーティング、金‐アルミ
ニウム合金、金‐アルミニウム合超音波洗浄、インピーダンス、音圧、電気透析
陽極酸化、ポアワイドニング、白金･アルミナ触媒、シクロヘキサ
ン脱水素化
皮膜の欠陥、液晶、臨界電流密度、ダイナミックスキャッタリン
グ、RFマグネトロンスパッタリング
シリカ、吸脱着、乾燥下のクロ
メート、クロムイオンインヒビター
はっ水性、濡れ性、水の付着特性、TFE
陽極酸化皮膜、膜厚、クリープ、
クラック
167技術

213 1996 3:解説

5661 表面分析の重要性−現状と将来

反応性イオンプレーティング法によるＦｅ窒5671
田口正美.山末 修
化鉄薄膜の作製とその耐食性評価

多孔性シリコン、電解エッチン
グ、フッ化水素溶液、微細構造，
発光挙動

-7-

ノジュール、錯化剤、基板の形
態、無電解ニッケルめっき
無電解めっき、鉛‐ホウ素合金、トリメチルアミンボラン、結晶構
造、熱的構造変化
耐候性鋼、さび安定化表面処
理、人工さび、さび安定化の機
構、アモルファスさび層
耐候性鋼、さび安定化表面処
理、イオン選択性、さび安定化の機構、アモルファスさび層

表面技術 1995〜1999

マイクロ波プラズマＭＯＣＶＤによる酸化シ 築田博行.伊藤 滋.
リコン薄膜の低温堆積明石和夫
平田昌範.前嶋正
アルミニウム陽極酸化皮膜の回転曲げ疲
5679
受.猿渡光一.重野労
博.高谷松文ＳＦ6プラズマを用いた平坦な表面の得ら
5680
峯田 貴.菅沼栄一
れるシリコンの高速等方性ドライエッチン
縄舟秀美.金井敏
熱硬化片ＰＰＥ樹脂の表面改質を利用す
5681
信.久後行平.水本るダイレクトプレーティング
省三.清田 優.新居
5678

5682 Ｚｎ−Ｎｉ−Ｆｅ合金析出の分極挙動

ﾏﾘ−.M.ﾕ−ﾅﾝ.沖猛雄

Ｚｎ−Ｎｉ−Ｆｅ合金の結晶構造に及ぼす鉄 沖 猛雄.ﾏﾘ−M.ﾕ
5683
共析の効果
−ﾅﾝ
5684 会員と協会
竹内 学
5685

ダイヤモンド薄膜のヘテロエピタキシャル 橘 武史.横田嘉宏.
成長
宮田浩一.小橋宏司

天然ダイヤモンドを上回る高品質ダイヤモ 竹内貞雄.川原田
ンドの合成
洋.村川正夫
新超硬材料としての炭化窒素薄膜合成−
5687
瀧 優介.高井 治
ダイヤモンドより硬い材料は可能か
植田英之.高橋喜代
家庭用ディジタルＶＴＲ(ＤＶＣ)用ＤＬＣ膜形
5688
司.村居幹夫.小田成蒸着テ−プのトライポロジー
桐優5689 フラーレンＣ６０薄膜の合成と応用
広中清一郎
オープンカウンターで観察できる固体表面5690
宇田応之.長島 聡の電子状態5691 治具の現場的改善事例(１)
青江徹博
5692 英語と西語(スペイン語)
長井順子
長岡 茂.好本昭洋.
Ｉｎ2Ｏ3−Ｓｎ系白色導電粉のカップリング
5693
岡崎直美.原田 孝.
剤処理真嶋 宏
Ｆｅ−Ｐ,Ｎｉ−Ｐめっき基板上へのダイヤモ 瀬川剛央.高谷松
5694
ンド合成
文.坂本幸弘
矢川敦久.木本雅
通電ロールへのめっき付着現象の電気化
5695
之.津田哲明.渋谷
学的シミュレーション
敦義.増子 昇
5686

5696

フッ化グラファイトの分散とニッケルとの電山口文雄.小浦延幸
解共析

5697 Ｎｉ−ＴｉＯ2共析とその共析機構

山口文雄.小浦延幸

47

5

47

5

47

5

47
47

5
5

マイクロ波プラズマCVD、ヘキサ
メチルジシロキサン、シリコン酸
陽極酸化皮膜、クラック、硬度、
376 1996 13:研究ノート B07:アノード酸化
曲げ応力‐応力繰り返し数曲線、回転曲げ疲労等方性ドライエッチング、シリコ
378 1996 8:Letters
C04:気相エッチング
ン、六フッ化イオウ、高速、表面ダイレクトプレーティング、PPE樹
380 1996 8:Letters
B03:無電解めっき
脂、表面改質、銅イオン吸着、導電性膜
亜鉛‐ニッケル‐鉄合金めっき、電382 1996 8:Letters
B02:電気めっき･電鋳 析、分極曲線、ニッケルイオン/
亜鉛イオンモル比
鉄共析、亜鉛‐ニッケル‐鉄電
384 1996 8:Letters
B02:電気めっき･電鋳
析、結晶背向、格子間隙395 1996 1:巻頭言協会、活性化
ダイヤモンド薄膜、ヘテロエピタ
396 1996 3:解説
B01:化学蒸着
キシイ、シリコン、白金、マイクロ波プラズマCVD
燃焼炎法、高品質ダイヤモンド、
402 1996 3:解説
B09:その他
自由励起子、カソードルミネッセ
窒化炭素、超硬材料、CVD、407 1996 3:解説
A01: 物理蒸着
PVD、薄膜トライホロジー、金属蒸着テー
414 1996 3:解説
B01:化学蒸着
プ、ダイヤモンド類似カーボン、
保護層、家庭用デジタルVCR
419 1996 3:解説
A01: 物理蒸着
フラーレン薄膜、摩擦、超伝導性
その場、電子計数、光電子放出
422 1996 9:シリーズ-2
C07:その他
数、固体表面、亀裂伝播
B02:電気めっき･電鋳 治具
427 1996 9:シリーズ-2
431 1996 10:比べてみよう
言語

47

5

433 1996 6:技術論文

A10:その他

475

438 1996 5:原著論文

B01:化学蒸着

475443 1996 5:原著論文

475448 1996 5:原著論文

475453 1996 5:原著論文

475456 1996 5:原著論文

47

5

47

4

47

4

47

4

47

4

47

4

47

4

47

5

47

5

47

5

47

5

森崎重喜.小川吉
バリヤー形アルミニウム陽極酸化皮膜中 寛.前野智和.米沢
5698
仲四郎.伊藤康雄.
のＢの濃度と分布
澤幡浩之
Ｆｅ−Ｎｉ合金電析膜の結晶構造と表面形 福室直樹.近沢正
5699
態
敏.渡辺 徹5700 科学技術創造立国への幕開け
和田健二

47

6

5701 環境に優しい自動車塗装の最近の動向

上田彬之

47

6

屋根材の動向と屋根用塗装覆装鋼板の
開発

神田勝美

47

6

William-H.SMYRL.
瀬尾真浩

47

6

47

6

47

6

47

6

5702

5703 腐食表面微小部の視覚化

不活性溶融金属を移送媒体とした拡散被
若松良徳
5704
覆法
フッ素系ガスによる薄膜堆積装置のクリー 毛利 勇.藤井 正.
5705
ニング
小林義幸.早川誠而
5706 電気二重層コンデンサ−の高性能化

石川正司.松田好晴

ひずみゲ−ジ法によるめっき膜内部応力
津留 豊の評価
5708 治具の現場的改善事例(２)青江徹博
5709 銅精錬と亜鉛精錬
土橋 誠
土橋 誠.吉原佐知
水晶振動子マイクロバランス法による亜鉛5710
雄.白樫高史.高橋
電析の研究
直樹.横田俊子
イオン窒化とスパッタリングを組合せたプ 洪 晟弾.寺門一佳.
5711
ラズマ浸硫窒化
横田仁志.浦尾亮一
日野 実.西田典秀.
5712 硫酸浴からのＺｎ−Ｃｏめっきの腐食挙動 平松 実.秋山光一.
川崎仁士
亜鉛合金の2回ジンケート前処理における 安住和久.瀬尾真
5713
電位と質量変化の追跡
浩.Leonard-NANIS
ＶＣで被覆した合金工具(ＳＫＤ11)及び析
棚木敏幸.湯浅 真.
5714 出硬化系ステンレス鋼(ＳＵＳ630)の食塩
関根 功
水中での腐食磨耗について
分散めっきにおける電析Ｃｕ−ＺｒＢ2複合
5715
伊勢武一.目黒真作
層中のＺｒＢ2含有量の制御
パルスマイクロ波プラズマＣＶＤによる微 坂本幸弘.牛久保浩5716
細ダイヤモンド膜の合成
司.高谷松文
Ｎｉ−Ｃｒ合金溶射皮膜の皮膜構造と熱伝 森本純司.山口昭
5717
導特性
雄.鈴木茂之アゾベンゼン修飾界面活性剤を用いた金 佐治哲夫.中根 章.
5718
属粒子への顔料の無電解めっき
劉 順林
5707

372 1996 13:研究ノート

B01:化学蒸着

B07:アノード酸化

即発ガンマ線、放射化分析法、バリアー型アルミナ皮膜、ホウ素濃度

鉄‐ニッケル電析、構造、相形態
図469 1996 1:巻頭言
166環境、123応用
自動車塗装、水性塗料、粉体塗
470 1996 3:解説
A05:塗布･塗装料、揮発性有機化合物、鉛フリー
屋根、ポリ塩化ビニル、リン片状475 1996 3:解説
A05:塗布･塗装
アルミ粉末、開発
微小部の視覚化、腐食、劣化破
482 1996 3:解説
C07:その他
損、局部箇所の特性づけ
金属接着、熱浸せき、拡散反応、
488 1996 3:解説
A09:拡散皮膜
拡散層、相制御
フッ素処理、環境保護、三フッ化
493 1996 3:解説
C06:洗浄塩素、フッ化水素、三フッ化窒素
電気二重層コンデンサー、低温
498 1996 3:解説
B01:化学蒸着
プラズマ、炭素電極、固体電解
応力、電気めっき、その場、スト
B02:電気めっき･電鋳
503 1996 9:シリーズ-2
レインゲージ
508 1996 9:シリーズ-2
B02:電気めっき･電鋳 治具
512 1996 10:比べてみよう B07:アノード酸化
1亜鉛、52銅水晶振動子マイクロバランス法、
B02:電気めっき･電鋳 ポリエチレングリコール、ゼラチ
513 1996 5:原著論文
ン、アモルファス、亜鉛
イオン窒化、スパッタリング、硫518 1996 5:原著論文
A10:その他
化モリブデン、硫化鉄、プラズマ
B02:電気めっき･電鋳

B02:電気めっき･電鋳

47

6

47
47

6
6

47

6

47

6

47

6

524 1996 5:原著論文

476529 1996 5:原著論文

476536 1996 5:原著論文

476543 1996 5:原著論文

476548 1996 7.速報論文

476550 1996 7.速報論文

47

6552 1996 8:Letters7557 1996 1:巻頭言

5720 溶剤型塗料による表面へのはっ水性付与 斎藤博之.高沢寿佳
5721 電着塗装法によるはっ水皮膜の作製
室井克美

47
47

7
7

558 1996 3:解説
562 1996 3:解説

5722 低温プラズマ処理による表面の疎水化

小駒益弘

47

7

566 1996 3:解説

5723 金属酸化物表面の疎水化技術

多賀康訓.大脇健史

477571 1996 3:解説

棚橋純一

ダイヤモンド、鉄‐リン、ニッケル‐
リン、CVD、マイクロ波プラズマ
数値解析、二次電流分布、通電
B02:電気めっき･電鋳 ロール、めっき付着現象、連続ス
トリップ電気めっき
フッ化グラファイトの分散、ニッケ
B02:電気めっき･電鋳 ル‐グラファイト複合皮膜、制御
因子、電気めっき
共析機構、ニッケル‐二酸化チタ
B02:電気めっき･電鋳ン、電析461 1996 7.速報論文

47

5719 表面処理と地球環境の調和

酸化インジウム系導電粉、導電性、カップリング剤、劣化防止-8-

亜鉛‐コバルト電気めっき、腐食
抵抗、表面分析、硫酸浴

アルミニウム合金、２回ジンケイ
ト処理、めっき
腐食摩耗、合金工具鋼、ステンレ
A03:溶融めっき
ス鋼、炭化バナジウム皮膜、ピンホール欠陥
分散めっき、ホウ化ジルコニウ
B02:電気めっき･電鋳ム、鋼マトリックス、電流密度、攪
ダイヤモンド、CVD、パルス、マイ
B01:化学蒸着
クロ波、核生成密度
ニッケル‐クロム合金皮膜、熱伝A02:溶射導性、フレーム溶射、プラズマ溶
微粒子、無電解めっき、フタロシ
B02:電気めっき･電鋳
アニン銅、アゾベンゼン、顔料
166機械的性質、282廃棄物、347リサイクル
A05:塗布･塗装
はっ水、塗料、接触角
B02:電気めっき･電鋳 はっ水、電析、テフロン
表面の疎水化処理、プラズマ、
B01:化学蒸着
大気圧、グロープラズマ粉体処理、管の表面処理
金属酸化物、薄膜、疎水性、表A08:イオン注入
面処理、イオン注入
B03:無電解めっき

表面技術 1995〜1999

5724

透明高はっ水性皮膜の低温形成−透明プ
穂積 篤.高井 治
ラスチック基板への応用

5725 化学吸着法による超はっ水表面の実現

高田祐助

5726 はっ水性粉末を用いた複合めっき
千葉 格.前田俊之
5727 家電製品用塗覆鋼板の動向
神田勝美
表面状態の解析(４１)−走査電子顕微鏡
5728
小倉一道
(ＳＥＭ)のテクニック
柳下芳輝.東橋鴻太5729 生産現場におけるろ過のポイント
郎.能津十三郎
5730 表面処理分野のシーズとニ−ズ
菅谷好倫
エチレングレコール溶液中におけるシリコ 柚賀正光.吉岡学
5731 ン陽極酸化膜のＸ線光電子分光法による 洋.竹内 舞.高橋三解析
男.大山昌憲田中大之.田中壽
マイクロ波プラズマＣＶＤ法による種々の晃.相馬英明.吉田5732 表面処理を施した炭素鋼基板でのダイヤ
真人.酒井 彰.斉藤
モンド膜合成英之.三澤俊平
安永龍哉.河田和
ダイナミックイオンミキシングによる炭素鋼
5733
久.杉崎康昭.池田の低温ホウ化処理
貢基.上窪文生
ダブルパルス法によるＣｕ／Ｃｏ多層膜の 松永守央.三角紳5734
電析
博.細川邦典
分散めっきによる電析Ａｇ−ＺｒＢ2複合層5735
伊勢武一.目黒真作のＺｒＢ2含有量
熱処理温度を変えたＰＡＮ系Ｃ／Ｃコンポ 村上和美.国枝義5736 ジット表面のＸ線回析及びサイクリックボ 彦.兼松秀行.沖 猛
ルタモグラム特性雄
マイクロ波ＣＶＤにより作製したダイヤモン 沖口圭子.杉村博
5737
ド膜のＡＦＭ観察之.坂本幸弘.高谷
5738 国際交流についての一考
逢坂哲彌
塗装材料の塗膜−プレコート材料の塗膜
西岡良二
5739
−(１)新機能プレコート塗膜
塗装材料の塗膜−プレコート材料の塗膜
山下正明
5740
−(２)潤滑防錆鋼板
5741 耐火塗料の現状と将来
永田順一郎
5742 抗菌・防カビ塗料の新展開
畑中昭良

47

7

575 1996 3:解説

47

7580 1996 3:解説

47
47

7
7

584 1996 3:解説
589 1996 3:解説

47

7594 1996 9:シリーズ-2

47

7

599 1996 9:シリーズ-2

C06:洗浄ろ材、ろ過、めっき

477605 1996 10:比べてみよう

商品開発

47

7

607 1996 5:原著論文

B07:アノード酸化陽極酸化膜、エチレングリコール
溶液、X線電子分光法

477611 1996 5:原著論文

B01:化学蒸着

ダイヤモンド、CVD、マイクロ波プ
ラズマ、炭素鋼、窒化チタン

47

7

47

7

47

7

47

7

47

7

47

8

47

8

47

8

47
47

8
8

ホウ素イオン注入、チタン析出、
ダイナミックイオンミキシング、硼
化処理、軟鋼
多層膜、銅‐コバルト合金、ダブ
623 1996 5:原著論文
B02:電気めっき･電鋳
ルパルス電流、薄膜
分散めっき、臭化ジルコニウム、
628 1996 5:原著論文
B02:電気めっき･電鋳
銀マトリックス、電流密度、回転
炭素繊維強化炭素複合材料、
633 1996 5:原著論文
B06:熱処理
PAN系繊維、黒鉛化、熱処理温
度、サイクリックボルタモグラム
ダイヤモンド、CVD、マイクロ波ブ
638 1996 7.速報論文
B01:化学蒸着
ラズマ、原子間力顕微鏡
645 1996 1:巻頭言
国際交流
プレコート鋼板、加工性、耐汚染
646 1996 3:解説
A05:塗布･塗装
制、硬度、耐熱性
プレス加工性、潤滑、オイルレス
651 1996 3:解説
A05:塗布･塗装
潤滑材、脱脂、耐食性
656 1996 3:解説
A05:塗布･塗装
耐火塗料
662 1996 3:解説
A05:塗布･塗装
抗菌、防カビ、塗料
低汚染型塗料、表面エネル
667 1996 3:解説
A05:塗布･塗装
ギー、ローリングアッブ、汚染物
スズ無添加防汚染塗料、防汚672 1996 3:解説
A05:塗布･塗装剤、低表面エネルギー、導電性
缶被覆、ラミネート、環境保護、
677 1996 3:解説
A05:塗布･塗装
製缶のシステム
B02:電気めっき･電鋳 めっきテスト法
682 1996 9:シリーズ-2
686 1996 10:比べてみよう A03:溶融めっき
344溶融めっき、341溶射、271塗
アークイオンプレーティング、チタ
689 1996 5:原著論文
A10:その他
ン・ハフニウム合金、反応確率、セラミックス膜
ハーフアロイ、亜鉛めっき鋼板、
696 1996 5:原著論文
A03:溶融めっき
成形性、亜鉛・鉄合金相、構造616 1996 5:原著論文

A08:イオン注入

B02:電気めっき･電鋳5743 低汚形塗料の新展開

中家俊和

47

8

5744 低汚塗料の現状と将来

尾野真史

47

8

5745 容器用塗膜の新展開−ラミネ−ト

宮澤哲夫.今津勝宏

47

8

47
47

8
8

47

8

47

8

47

8

701 1996 5:原著論文

478707 1996 5:原著論文

478714 1996 5:原著論文

478

720 1996 5:原著論文

478725 1996 13:研究ノート

5746 めっき管理ポイント−ベントカソードテスト 中村 元
5747 溶融亜鉛めっき.亜鉛溶射.ジンクリッチ塗 茅根道生
5748

ＡＩＰ法によるＴｉ−60ａｔ％Ｈｆ合金の窒化物 姜 求賢.内田裕久.
薄膜作製と反応性に関する研究
黄 燕清

ハーフアロイ化溶融亜鉛めっき鋼板のプレ 藤原俊明.山田正ス成形性人.田本仁一.金丸
小池一幸.篠原信
電気亜鉛めっき鋼板のはんだ付け特性に5750
幸.藤本準一.林 芳
及ぼす前めっきの影響
夫.神田勝美金属層挿入酸化物被覆ステンレス鋼の腐 李 鐘楽.増田正孝.
5751
食挙動
林 安徳
ホウフッ化物からの亜鉛−マンガン合金 浦川秀美.杉本芳
5752
電析挙動
春.秋山徹也.福島5749

透明プラスチック、はっ水性、デイップコーティング、高周波プラ
超はっ水、プラズマエッチング、
C07:その他
単分子層、化学吸着、透明性
B02:電気めっき･電鋳 複合めっき、フッ素樹脂、フッ化
A05:塗布･塗装
家電製品、塗覆装鋼板、動向、
走査電子顕微鏡、二次電子、反射電子、試料作成
B01:化学蒸着

電気亜鉛めっき鋼板、はんだ特性、前めっき、メニスコグラフ

47

9736 1996 3:解説

5758 めっき浴の自動液管理装置
吉川一紀
排水処理の現状と環境管理を考慮したこ
5759
斎藤光雄
れらの処理技術
小原勝彦.畑瀬 博.
5760 表面処理における電流分布解析の応用
櫻井達美

47

9

740 1996 3:解説

皮膜欠陥、不動態保持電流密度、RFマグネトロンスパッタリン
電析、亜鉛・マンガン合金、ホウ
B02:電気めっき･電鋳
フッ化物浴
プレート状触媒、触媒有効係数、
B07:アノード酸化
陽極酸化、白金/アルミナ触媒、細孔構造
無電解めっき、鉛・ホウ素合金、
B03:無電解めっき
トリメチルアミンボラン、物質収支、析出機構白金‐モリブデン‐ニッケル合金
B02:電気めっき･電鋳
皮膜、電析、X線回折、構造
固体表面
めっき設備、ランダム制御、生産
B02:電気めっき･電鋳品制御
B03:無電解めっき
液管理、補給機構、自動ドレン機

47

9745 1996 3:解説

B03:無電解めっき

4795761 プラスチック素材上へのめっきのポイント

佐藤一也

47

9

5762 鉄とアルミニウム

黒沢 進

47

9

47

9

47

9

47

9

5753

陽極酸化アルミナ層を担体とした白金／ア
村田 究.亀山秀雄
ルミナプレート状触媒の触媒有効係数

トリメチルアミノボランを還元剤とする無電 縄舟秀美.上浦有5754 解パラジウムめっきの物質収支及び析出 紀.水本省三.芳賀
正記.内田 衛機構
津留壽昭.小林繁
5755 電析法によるＰｔ−Ｍｏ−Ｎｉ合金めっき夫.山崎澄男.沢田5756 表面と技術
松木健三
5757 めっき設備の現状と将来

5763

中 稔晴

電子シャワ−法によるＩＴＯ薄膜の作製とＮ 小野住重和.井上琢
Ｏ2検知特性の評価
海.湯本久美スパッタリングによるＷＯ3膜の形成条件と桑野三郎.菅野高明
ＥＣ特性無電解析出法による高比抵抗ＮｉＰ皮膜の 初川拓郎.東川太5765
作製とその特性
一.逢坂哲彌.中尾
5764

47

8

729 1996 7.速報論文

47

9735 1996 1:巻頭言

5766

減圧プラズマ溶射したＣｏＮｉＣｒＡｌＹＴａ皮膜 野口邦広.西田 稔.
の微細構造に及ぼす熱処理の影響
千葉 昴.原田良夫

47

9

5767

レーザ弾性表面波の速度分散解析による 長 秀雄.小川真吾.
めっき層特性の非接触評価
二木 崇.竹本幹男

47

9

47

9

47

9

ファインセラミックスのフォトエッチングのた 牧野英司.柴田隆
めの高温リン酸エッチングの組成制御
行.野村慶一安住和久.藤重祐
アルミニウムの2回ジンケート前処理に及 介.瀬尾真
5769
浩,Leonard-NANIS.
ぼす溶液組成の影響
中尾英弘.田代雄彦
5768

A10:その他

排水、処理技術、リサイクル

電気めっき、表面処理、電流分
布、有限要素法、電気化学セル
プラスチック上へのめっき、ABS758 1996 9:シリーズ-2
B03:無電解めっき
樹脂、エッチング
765 1996 10:比べてみよう C07:その他
3アルミニウム、49鉄、347リサイ
電子シャワー、インジウム‐スズ
767 1996 5:原著論文
A10:その他
酸化物、ホイスカー、二酸化窒素
ガスセンサー、気相‐液相‐固相エレクトロクロミック、酸化タング
773 1996 5:原著論文
A10:その他
ステン、スパッタリング、光学的
無電解ニッケル‐リン、高比抵
779 1996 5:原著論文
B03:無電解めっき
抗、錯化剤
減圧プラズマ溶射、コバルト‐ニッ
ケル‐クロム‐アルミナ‐イットリウ
784 1996 5:原著論文
A02:溶射ム‐タンタル、時効処理、ガンマ
相、ベータ相電析銀、レーザー弾性表面波、790 1996 5:原著論文
B02:電気めっき･電鋳 ウェーブレット変換、群速度分
布、密着性
組成制御、りん酸、フォトエッチン
796 1996 5:原著論文
C07:その他
グ、ファインセラミックス
751 1996 3:解説

B02:電気めっき･電鋳802 1996 5:原著論文

B09:その他-9-アルミニウム、めっき、二回ジン
ケイト、添加効果表面技術 1995〜1999

5770

レーザによる工業用純チタンの表面硬化処理5771 電析法によるＰｔ−Ｍｏ−Ｃｏ合金めっき
5772 魅力ある学会にするためには
5773

溶接性と潤滑性に優れた薄クロムめっき
鋼板の開発

重松一典.中村 守
津留壽昭.小林繁夫.山崎澄男.沢田
榎本英彦
和気亮介.吉原良一.兼田善弘.溝口良平.岩本芳昭

479810 1996 7.速報論文

4710817 1996 1:巻頭言

チタニウム、表面処理、レーザー、窒化チタン、硬度
白金‐モリブデン‐コバルト合金、
B02:電気めっき･電鋳電析、X線回折、構造
学会、技術

47

10

818 1996 3:解説

B02:電気めっき･電鋳4795774 分子コート膜の開発と実用化

小川一文

47

10

5775 亜鉛合金めっきの稼動状況

小谷 勇.野口裕臣

47105776 In-Situ-ＸＲＤ

仁科辰夫

47

10

5777 Ｘ線光電子回折(ＸＰＥＤ)808 1996 13:研究ノート

C07:その他

溶接製缶、電解スズ板、クロム
めっき、溶接性、潤滑性

化学吸着、単分子膜、はっ水・はつ油性
亜鉛‐ニッケルめっき、亜鉛‐鉄
829 1996 3:解説
B02:電気めっき･電鋳 めっき、スズ‐亜鉛めっき、浴量、クロメート処理
電気化学、その場X線回折、表面834 1996 9:シリーズ-2
C07:その他
科学
X線光電子回折、表面、中間面、839 1996 9:シリーズ-2
C07:その他
薄膜、前方散乱ピーク
前処理、表面調製、エッチング、
845 1996 9:シリーズ-2
C06:洗浄めっき
100一次電池、276二次電池、エ
850 1996 10:比べてみよう
ネルギー密度はっ水性、イオン照射、吸着、有853 1996 5:原著論文
A02:溶射機モノマーガス、石英ガラス
823 1996 3:解説

A04:吸着

石井秀司

47

10

めっき前処理技術のポイント(その１ 前処
5778
矢部 賢
理洗浄から）

47

105779 電池のエネルギー密度

47

10

47

10

47

10

858 1996 5:原著論文

A10:その他

アルゴンイオン照射、密着、薄膜、チタン、シリコン

4710863 1996 5:原著論文

C07:その他

硬度、炭素鋼、多孔質繊維材
料、空孔率

47

10

868 1996 5:原著論文

B02:電気めっき･電鋳電析、亜鉛‐クロム合金、ポリエ
チレングリコール、加水分解

4710873 1996 5:原著論文

C07:その他

4710

880 1996 13:研究ノート

B03:無電解めっき

4710883 1996 7.速報論文

B02:電気めっき･電鋳 電析、レニウム、ホウフッ化浴

4710885 1996 7.速報論文

4710887 1996 8:Letters47

10889 1996 8:Letters

47
47

11
11

895 1996 1:巻頭言
896 1996 3:解説

CVS法、噴流式めっき装置、膜厚
分布、濃度分極、添加剤
窒化ホウ素、スパッタリング、R．
A10:その他
F誘導結合型プラズマ
フッ素処理、ポリプロピレン、ニッ
B02:電気めっき･電鋳
ケルめっき、フッ素、表面処理
情報
B03:無電解めっき
無電解めっき、導電性微粒子

4711

900 1996 3:解説

A01: 物理蒸着

釜崎清治

イオン照射及び有機モノマーガス吸着の 伊藤由彦.東 博純.
5780
併用による石英ガラスへのはっ水性付与 野田正治
近藤市治.近藤憲
低出力Ａｒイオン照射前処理によるＴｉ薄膜
5781
司.竹中 修.永田雅／Ｓｉ基板間の密着性の改善
彦.草野英二.金原
鉄系多孔質繊維焼結材料(炭素鋼)の硬さ
5782
福田勝己
評価
Ye-LIN.大貝 猛.秋5783 硫酸塲浴からのＺｎ−Ｃｒ合金の電析過程 山徹也.福島久哲.
山内祐樹
フェロキシル試験によるステンレス鋼の耐
5784
水谷 滋
銹性評価
気／液界面上に展開したステアリルアミン 益田秀樹.大森 隆.
5785
単分子膜上への鉛薄膜の無電解析出
張 甲丹
津留壽夫.小林繁
5786 ホウフッ化浴からのレニウム電析
夫.大貝 猛.秋山徹也.福島久哲
噴流式めっき装置によるめっき膜に対する 樋口和人.山田 浩.
5787
膜厚分布のＣＶＳ解析
宮城武史.斉藤雅之
Ｒ．Ｆ誘導結合型プラズマを用いたスパッタ 賀曽利裕.浅沼治
5788
朋.伊藤 滋.明石和
リングによる窒化ホウ素薄膜の作製
ポリプロピレンのフッ素ガス処理による低5789
橋本嗣夫.菊山裕久
温ニッケルめっき
5790 情報基地として表協
平山良夫
5791 無電解めっきによる微粒子の表面処理
竹下淳一
竹島鋭機.児島 薫.
5792 スパッタリングによる微粒子の表面処理
城倉貴史

B09:その他

5793 超はっ水性粉末の開発

渡辺信淳

47

11

905 1996 3:解説

C07:その他

5794 超微粒子による基金属薄膜形成

小田正明

47

11

910 1996 3:解説

A10:その他

5795 超微粒ダイヤモンド

牧田 寛

47

11

914 1996 3:解説

C07:その他
C06:洗浄

めっき前処理のポイント(その２ めっき素
5796
矢部 賢
材と活性化）
5797 北の国と南の国の色彩感覚
茅根道生
百瀬義広.室橋徹
プラズマを利用したフッ素ゴムのアルミニ
5798
晶.竹内基勝.佐久
ウムとの接着間隆昭.本橋嘉信
電析法によるＣｏＮｉＦｅ薄膜の作製とその 中村明義.高井まど
5799
磁気特性
か.林 勝義.逢坂哲
シランカップリング処理を施したシリカ粒子 田里伊佐雄.陳 慧
5800と亜鉛との分散めっき江.林 秀考
ワット浴からのシランカップリング処理を施 田里伊佐雄.陳 慧
5801
したシリカとニッケルとの分散めっき江.林 秀考ポ−ラスＳｉの発光特性及び微細構造に及 執行和浩.瀬尾真
5802
浩.安住和久.高橋
ぼす電解エッチング電流密度の影響
高温酸化により作製したＴｉＯ2皮膜の光ア
原 基.蓼沼賢太郎.
5803 ノード分極特性に及ぼす作製時における佐藤芳幸.中川時子
酸素分圧の効果
パルス電位法による溶融塩中のＴａ膜の 原 基.磯部光則.佐5804
電析とその耐食性
藤芳幸.中川時子
5805

Ｔｉ−Ｃ−Ｎ被覆鋼の転がり−すべり接触解析

5806 接触角の自動測定に関する研究

ステンレス鋼、耐銹性、フェロキ
シルテスト、大気暴露試験、孔食
単分子層、鉛薄膜、無電解析
出、ステアリルアミン

47

11

919 1996 9:シリーズ-2

47

11925 1996 10:比べてみよう

4711

927 1996 5:原著論文

C07:その他

4711

934 1996 5:原著論文

B02:電気めっき･電鋳

スパッタリング、複合粉末
濡れ現象、接触面、表面エネル
ギー、フッ化黒鉛、陽極効果
ガス蒸発法、分散した超微粒子、
マイクロディスペンサー描画装置
超微粒子、ダイヤモンド、コロイ
ド、精製
前処理、酸化膜の除去、エッチン
グ、活性化
色彩、波長、可視光
接着、フッ素ゴム、アルミニウム、プラズマ処理、X線光電子分光法
電析、コバルト‐ニッケル‐鉄皮膜、磁気特性
亜鉛‐シリカ分散めっき、シラン
カップリング剤、電位差滴定
ワット浴、シリカ粒子、溶液pH、
分散めっき、電位差滴定
多孔性シリコン、電気化学エッチ
ング、電流密度、微細構造、発光4711939 1996 5:原著論文

B03:無電解めっき

4711944 1996 5:原著論文

B03:無電解めっき

4711949 1996 5:原著論文

C03:化学エッチング･電解エッチング

47

11957 1996 5:原著論文

C07:その他

4711

963 1996 5:原著論文

B02:電気めっき･電鋳田村元紀.戸田正弘

4711969 1996 5:原著論文

C07:その他

平野健次.後藤健一

4711974 1996 5:原著論文

C07:その他

4711

979 1996 7.速報論文

B01:化学蒸着

マイクロ波プラズマCVD、ダイヤ
モンド膜、クロム、酸化膜

4711981 1996 7.速報論文

B02:電気めっき･電鋳

溶融塩、レーザー、表面改質、高温酸化、希土類

4711983 1996 7.速報論文

C02:化学研磨･電解研磨 電析、銅、リン酸、銅イオン

4711985 1996 8:Letters

斉藤英之.八木澄
マイクロ波プラズマＣＶＤ法による高温酸子.吉田真人.酒井5807 化クロム基板上でのダイヤモンド膜の合彰.三澤俊平.田中成
壽晃.相馬英明.田Ｎｉ−Ｙ合金層を被覆したＮｉの高温酸化に 佐藤芳幸.原 基.川5808
及ぼすレーザ表面処理の効果
嶋 旭.橋本功二
上野武司.齋藤いほ
りん酸による銅の電解研摩における銅イ
5809
え.吉田裕道.田村和オンの影響
男.松本誠臣
電解合成法によって作製されたイリジウム 吉野隆子.佐藤昌5810 水和酸化物薄膜とそのエレクトロクロミック 宏.大森 隆.益田秀特性樹.馬場宣良5811 表面の機能
山川宏二

47

12

991 1996 1:巻頭言

5812 エレクトロクロミック膜の構造と性能

高井 治

47

12

992 1996 3:解説

5813 酸化物超伝導薄膜の積層構造制御

池川純夫.元井雄一

4712997 1996 3:解説

5814 自己集合膜の構造と金属の腐食防止

荒牧國次

47

12 1002 1996 3:解説

- 10 -

光電気化学、酸化チタン、酸化物
皮膜、高温酸化、イオン欠陥
電析、溶融塩、タンタル膜、パル
ス電位
弾性‐塑性解析、チタン‐炭素‐窒
素皮膜の転がり接触、鋼、イオン
プレーティング
接触角、密着性濡れ、濡れ性、
画像処理

インジウム酸化物膜、エレクトロ
B02:電気めっき･電鋳 クロミズム、電析、コロイド状電解質
機能エレクトロクロミック膜、構造、性
B01:化学蒸着
能、析出法
高温超伝導体、積層構造、ジョセ
A10:その他
フソン接合、逐次析出、自己構成
自己集合単分子膜、アルカンチ
B09:その他
オール、化学修飾、保護膜、銅

表面技術 1995〜1999

5815 水素吸蔵合金薄膜の構造と特性

47

12 1008 1996 3:解説

ダイヤモンド薄膜の新しい機能とその可能5816
齋藤光以.澤辺厚仁
性−冷陰極を中心に

釜崎清治

47

12 1014 1996 3:解説

5817 不動態皮膜の構造制御と耐環境性

藤本慎司.柴田俊夫

47

12 1019 1996 3:解説

5818 電析金属多層膜の構造と特性

常光幸美.柏原 智.
林 安徳

47

12 1025 1996 3:解説

5819 形状記憶合金薄膜

石田 章.宮崎修一

47

12 1029 1996 3:解説

5820 水溶液電解法による酸化Ｚｎ膜の作製

伊崎昌伸

47

12 1031 1996 3:解説

アルミニウム陽極酸化皮膜を利用した干5821
渉色発色と皮膜構造制御
ＰＴＦＥのプラズマスパッタリングを利用し5822
た黒鉛表面のフッ素化

塚本由美子.海老原健
百瀬義広.桑島正樹.井上和浩.西田
伊藤秀章.杉山和
ＣＶＤダイヤモンド膜−窒化ケイ素基板の5823
義.岩原弘育.李 星
密着性に及ぼすＤＬＣ中間層の効果
洙.高井 治5824

Ａｌ−Ｎ膜の電気及び光学特性の制御方法 王 道元.永畑幸雄.
及び傾斜機能膜の形成
林 安徳

丸山耕一.沼田博
Ｆｅ基液体急冷非晶質合金薄帯上への無雄.大野 湶.佐藤
電解ＣｏＰ合金めっき膜の形成
駿
次亜リン酸塩を還元剤とする無電解パラ 縄舟秀美.松村智5826 ジウム−リン合金めっき皮膜の特性に及 美.水本省三.芳賀
ぼすリン共析の影響
正記.内田 衛5825

5827

酸性水溶液からのＣｕＩｎＳｅ2の電析と光電 市野良一.森 淳志.
気化学応答
興戸正純

バリヤー型アルミニウム陽極酸化皮膜へ前野智和.岩崎良5828 のＥｕイオンイオン注入とエレクトロルミネ
之.森崎重喜セッス
照沼百合子.本間正有機液体中で機械的に研磨された銅表面
5829
和.高橋健一郎.百の光電子放出特性
瀬義広
Ｔｂ2+及びＴｍ2+イオン注入したバリヤー 前野智和.伊藤 寿.
5830 型アルミニウム陽極酸化皮膜からのエレク 岩崎良之.森崎重
トロルミネセッス
喜.水木一成シアン化物からのβ -黄銅規則合金の電5831
藤原 裕.榎本英彦
析5832 石炭と石油−一次エネルギー源の現状 森田昌行
5833 新年にあたり
松本誠臣
5834 歯科材料の表面処理と新顕微鏡観察5835

12 1232 1996 3:解説

47

12 1034 1996 5:原著論文

47

12 1037 1996 5:原著論文

B01:化学蒸着

4712 1048 1996 5:原著論文

A10:その他

47

12 1054 1996 5:原著論文

47

12 1060 1996 5:原著論文

47

12 1065 1996 5:原著論文

47

12 1070 1996 5:原著論文

47

12 1075 1996 5:原著論文

47

光電子放出、摩耗、有機液体、
酸‐塩基相互作用、陽子親和力

アルミナバリヤー皮膜、エレクト
ロルミネセンス、テルビウム、ツリ
ウム、イオン注入
電析、シアン化物浴、β -黄銅、12 1084 1996 8:Letters
B02:電気めっき･電鋳超格子
12 1086 1996 10:比べてみよう
石炭、石油、エネルギー源
C07.その他(新技術を含む)
1
1 1997 1:巻頭言
生体材料、原子間力顕微鏡(AFM)、共焦点レーザー走査型
C07.その他(新技術を含む) 電子顕微鏡(CLSM)、レーザー顕1
2 1997 3:解説
微鏡、低真空SEM、その場観察、顕微鏡、歯、表面処理
ダイヤモンド薄膜、CVD、配向、
1
8 1997 3:解説
B01.化学蒸着(CVD)
合成、制御、表面形態、優先成
不均下反応、表面処理、ライニン
1
14 1997 12:武井記念シリーズ A07.ライニング
グ、表面硬化、Al、エッチング、アルマイト処理、
1
19 1997 9:シリーズ-2
B07.アノード酸化
カラー、表面処理、管理、封孔処
理･（題名が違う）
腐食、粒界腐食、応力腐食、すき1
23 1997 10:比べてみよう C03.化学エッチング･電解エッチング
ま腐食、接触腐食、
1

25 1997 6:技術論文

C01.機会研磨･研削

48

1

31 1997 5:原著論文

48

1

36 1997 5:原著論文

48

1

42 1997 5:原著論文

48

1

49 1997 5:原著論文

48

1

54 1997 5:原著論文

48

1

62 1997 5:原著論文

48

1

68 1997 5:原著論文

48

1

76 1997 5:原著論文

B07.アノード酸化

Al、アノード酸化、有機添加剤、添加剤、構造48

1

82 1997 5:原著論文

C01.機会研磨･研削

アルミナ、バレル研磨、研磨剤、表面粗さ、光沢48

1

87 1997 5:原著論文

A10.その他(新技術を含む)

粉体、導電性、Sn2O3-Sn、
In2O3-Sn、白色、ITO、ATO、

48

1

93 1997 5:原著論文

A10.その他(新技術を含む)

47
48

沖 猛雄

48

Ａｌ処理工程改善のポイント１．エッチング.
川合 慧
アルマイト

48

五百井俊宏.松永正5839 バレル研摩面の知的認識法
久.加藤和彦.小林
史明.冨田好之
武田利彦.茂呂義
アークイオンプレーティング法によるポリカ
5840
明.伊藤 滋.湯本久−ボネ−ト基板上へのＴｉＮの低温成膜
美.明石和夫
反応性イオンプレーティング法による金・ 上條幹人.有泉直
5841
窒化アルミニウム複合薄膜の形成
子.日原政彦.児嶋
スパッタ法でＡｌ−Ｍｇ合金基板上に成膜し山本兼司.中山武5842 たＡｌＮ薄膜の防食特性及び皮膜構造に与典.佐藤廣士
える成膜時のＡｒガス圧の影響
小池一幸.丹花通
超硬合金上へのＣＶＤダイヤモンドの被覆
5843
文.林田貴裕.篠原とその切削特性信幸
ダイナミックイオンミキシングによる炭素鋼 安永龍哉.河田和
5844
表面に低温合成した浸炭層，窒化層の構 久.池田貢基.上窪
次亜リン酸及びジメチルボランを還元剤と 矢島弘之.沼田博
5845
する鉄−ニッケル合金の無電解析出
雄.大野 湶
丸山完充.沼田博
5846 酸性浴からの電析コバルトの優先配向
雄.大野 湶.春山志
有機酸塩添加有機アルカリ性浴(１−アミ野口駿雄.下村教5847 ノー２−プロパンノール−フッ化物基液)中史.吉村長蔵でのＡｌの陽極酸化
アルミナ複合植物研磨材によるバレル研
5848
竹内茂夫
磨(第１報)−金属材料の研磨長岡 茂.好本昭洋.
5849 ＳｎＯ2−Ｓｂ系白色電導性微粉末の調整 岡崎直美.原田 孝.
真嶋 宏
長岡 茂.好本昭洋.
ＳｎＯ2−Ｓｂ系白色電導性微粉末の色調
5850
岡崎直美.原田 孝.
と分散性
真嶋宏

C01:機械研磨･研削

48

47

48

馬飼野信一

電気特性、光特性、アルミニウム‐窒化物膜、アルミニウム窒化物/アルミニウム/アルミニウム窒化物膜、アルミニウム‐アルミニウ
二層磁気材料、無電解めっき、
B03:無電解めっき
分極曲線、急冷非晶質基体、コ
バルト‐リン合金皮膜
無電解めっき、パラジウム‐リン
B03:無電解めっき
合金、リン共析、内部応力、吸蔵水素
銅‐インジウム‐セレン、化合物半B02:電気めっき･電鋳 導体、電析、光電気化学応答、
光起電力材料
アルミナバリヤー皮膜、エレクト
B07:アノード酸化
ロルミネセンス、ユウロピウム、イ
オン注入

A08:イオン注入

前田英明.斉藤丈
晴.草壁克己.諸岡5838 全面腐食と局部腐食

ダイヤモンド膜、ダイヤモンド状
炭素中間層、密着性、切削工具12 1082 1996 7.速報論文

485836 不均化反応の表面処理への応用
5837

47

亘理文夫

高配向ダイヤモンド膜の合成とその表面
形態制御

水素吸蔵合金、薄膜、アモルファ
ス、ニッケル‐水素電池
ダイヤモンド、負の電子親和力、
A10:その他
冷陰極
不動態、表面構造、腐食、耐環
C07:その他
境性、ステンレス鋼
電析、金属多層膜、巨大磁気抵
B02:電気めっき･電鋳
抗効果
スパッタリング、形状記憶合金、
A10:その他
チタン‐ニッケル、マイクロマシン
酸化亜鉛、カソード析出、水溶
B09:その他
液、光透明性、ウルツァイト構造
干渉色発色、陽極酸化皮膜、ア
B07:アノード酸化
ルミニウム、構造
黒鉛フッ素化、プラズマスパッタ
A10:その他
リング、テフロン、接触角、表面
A10:その他

48

イオンプレーティング、ポリカーボ
A01.物理蒸着(CVD) ネイト、TiN、内部応力、金色、耐摩耗、表面硬化処理、光沢
イオンプレーティング、AlN、複合
A01.物理蒸着(CVD)
皮膜、黒色、構造
スパッタリング、Al-Mg、Al、Mg、
A01.物理蒸着(CVD) AlN、耐食、構造、成膜、残留応力、超硬合金、CVD、ダイヤモンド、
B01.化学蒸着(CVD) 薄膜、物性、レーザ、表面硬化処
理、耐摩耗、構造、切削、イオンミキシング、侵炭、窒化、A01.物理蒸着(CVD)
構造、Ti、C、N、イオン注入、表
無電解めっき、Fe、Ni、次亜燐
B03.無電解めっき
酸、DMAB、Fe-Ni、パーマロイ、Co、電析、酸性浴、配向、垂直磁
B02.電気めっき･電鋳気メモリー、分極曲線、

5851

無電解ＮｉＢめっきによるマイクロパターン
ニング

高井まどか.武房さなえ.横島時彦.逢坂
哲彌

48

1

98 1997 7.速報論文

B03.無電解めっき

5852

蔵野理一.山田比路
活性炭のマイクロ波低温プラズマ処理とそ史.藤田繁則.矢島の表面特性
龍彦.杉山和夫

48

1

100 1997 7.速報論文

A10.その他(新技術を含む)- 11 -

バレル研磨、検査、表面粗さ、光沢生、テクスチャリング

粉体、導電性、Sn2O3-Sn、
In2O3-Sn、白色、ITO、ATO、分散性、
無電解めっき、マイクロパターニ
ング、Ni-B、Ni、B、次亜燐酸、DMAB、レジスト、チオジグリコー
ル、添加剤、異常析出
活性炭、プラズマ、マイクロ波、
比表面積、吸着

表面技術 1995〜1999

神月 靖.朽木純子.
大気中紫外線光電子計数法によるめっき手塚良磨.中野 正.
前処理プロセスの評価
角田光雄
斉藤明夫.右田泰5854 水溶液中における銀−シアン錯体の研究
治.山口昭浩.津留
5855 創立５０周年記念への準備について
青柿良一
5853

5856 鉄鋼のリサイクルと不純物元素

伊藤秀夫

表面処理金属材の母材再生技術 （1）真岡田裕二
空焼成による防錆鋼板再利用技術の開発
表面処理金属材の母材再生技術 （2）ア
5858
小森章夫
ルミニウム箔複合材の再生技術
表面処理金属材の母材再生技術 (３)鉄
武内美継
5859
鋼の回生・利用技術
表面処理非金属材の母材再生 (１)自動
5860
熊田正隆
車バンパーのリサイクル技術
表面処理浴の再生・リサイクル技術 １.電
星野芳明
5861
気めっき浴の再生技術
表面処理浴の再生・リサイクル技術 2.無
久保井義夫
5862
電解めっき浴の長寿命化技術

5857

5863 潤滑の常識と 非 常識(１)森 誠之

Ａｌ処理工程改善のポイント ２.水洗.カラー
5864
川合 慧
リング.封孔5865 Ｆ−１レースとＩＮＤＹレース
佐藤 登
坂上貴彦.小浦延
5866 鉛蓄電池用負極活物質の電解合成
幸.兼本隆二アンモニアーアルカリ性水溶液からのＣｄＴ 平藤哲司.中谷純
5867
ｅの電析
也.栗倉泰弘Ｎｉ表面調整処理によるカラー鋼板の塗膜 水野賢輔.川口 純.
5868
密着性向上メカニズム荻野陸雄
光沢Ｎｉ−Ｃｒめっき鋼板のＣＡＳＳ試験によ 藤田実.横山真一
5869
郎.松本誠臣る腐食特性についての解析
亜鉛−ニッケル合金めっき鋼板の腐食過5870
羽木秀樹.世継博幸
程アルミニウム合金上に生成したＤＬＣ膜の 出水 敬.曽根 匠.
5871
摩擦・磨耗特性足立和俊.横山雄二
シリコン系セラミックスと純金属との乾燥摩 出水 敬.石垣博行.
5872
擦−摩擦特性に対する温度の影響と金属 川本 信
桑野三郎.伊藤芳
減圧プラズマ溶射によるプレス用金型の5873
典.大友勇人.広住
表面改質
俊次.村田省三
圧縮試験におけるアルミニウム陽極酸化 前嶋正受.猿渡光
5874
皮膜の埋没
一.石禾和夫.高谷
熱処理に伴う無電解ニッケル−リン合金5875
園田 司.林 行信
めっき皮膜の変色防止
はっ水性表面への湿雪の付着に関する一 斎藤博之.高井健
5876
検討
一.高沢寿佳5877 高利率化と技術へ
山崎龍一

1

102 1997 8:Letters

B02.電気めっき･電鋳48

1

104 1997 8:Letters

B02.電気めっき･電鋳 Ag、CN、シアン、錯体

482

131 1997 1:巻頭言48

2

132 1997 3:解説

リサイクル

48

2

138 1997 3:解説

リサイクル

48

2

143 1997 3:解説

リサイクル

48

2

147 1997 3:解説

リサイクル

48

2

154 1997 3:解説

リサイクル

48

2

48

2

48

2
2
2

48

2

48

2

48

2

48

2

48

2

48

2

48

2

48

2

225 1997 5:原著論文

A02.溶射プラズマ、溶射、金型、表面改質、耐摩耗、

48

2

230 1997 5:原著論文

B07.アノード酸化

Al、アルミナイジング、硬さ、ク
ラック、圧縮試験、加工硬化

482

233 1997 5:原著論文

B03.無電解めっき

無電解めっき、膜、Ni、P、変色･

482

237 1997 5:原著論文

A05.塗布･塗装

はっ水性、塗膜、、湿雪、フッ化ビ
ニリデン、

48

3

241 1997 1:巻頭言48

35879 フッ素化合物の廃液処理

和田洋六

48

3

5880 表面処理工場の鉛含有系排水処理対策

斉藤光雄

48

3

5881 脱窒・脱リンについての排水処理

渡辺 敦

48

3

48

3

48

3

笹田 直

48

3

ダイヤモンド薄膜の合成・評価及びこれか
広瀬洋一
らの課題

48

3

48

3

5884 生体材料のトライポロジー
5885

5886 粉体への遷移金属の湿式コーティング

南橋啓司

走査トンネル顕微鏡によるＡｕめっき過程 澤口隆博.沖中 裕.
5887
板谷謹悟
の表面構造解析
5888 潤滑の常識と 非常識 (２)森 誠之
ゾル−ゲル法による機能性コーティング薄南 努.忠永清治
5889
膜の作製
5890 化学研磨のチェックポイント
西浜幸男

48

3

48

3

48

3

めっき、廃水、リサイクル、シア
B02.電気めっき･電鋳 ン、管理、無電解めっき、Cr、酸、
アルカリ、錯化剤、水洗、廃液、フッ素、ホウフッ化イオン、
246 1997 5:原著論文
C06.洗浄イオン交換、廃水、廃水、Pb、キレート樹脂、ろ過、B02.電気めっき･電鋳251 1997 5:原著論文
排水、排水、廃水、N、P、Zn、塩素酸化
257 1997 3:解説
B02.電気めっき･電鋳 法、吸着法、触媒法、ストリッピン
グ法、凝集沈澱法、MAP法
めっき液、フェントン法、廃液、廃261 1997 3:解説
B02.電気めっき･電鋳
水、錯体、EDTA、酸化分解法、めっき、廃水、排水、凝集分離、
B02.電気めっき･電鋳266 1997 3:解説
凝集沈澱、造粒、
生体材料、トライポロジー、磨271 1997 3:解説
磨耗
耗、摩擦、疲労強度、金属、磨耗
毒性、表面保護、金属酸化物
ダイヤモンド、合成、歴史、CVD、277 1997 3:解説
B01.化学蒸着(CVD)
評価、粉体、被服、表面改質、湿式法、
282 1997 3:解説
B08.化成処理
有機溶媒、コーティング、
STM、Au、電析、表面、解析、表
B02.電気めっき･電鋳286 1997 3:解説面、反応291 1997 10:比べてみよう 潤滑
潤滑、トライポロジー、摩耗、
ゾルーゲル、コーティング、機298 1997 12:武井記念シリーズ B05.熱分解･ゾルーゲル法
能、薄膜、耐食、はっ水、防水、
C02.化学研磨･電解研磨
304 1997 9:シリーズ-2
化学研磨、評価、光沢、ピット
光触媒、光電極、酸化チタン、太310 1997 10:比べてみよう 光触媒
陽電池、白金電極、光、Ti、イオン注入、炭素、XPS、ラマ
313 1997 5:原著論文
A08.イオン注入
ン分光、薄膜、構造、TiC、Ｘ線、
242 1997 3:解説

48

3

48

3

48

3

48

3

317 1997 5:原著論文

483324 1997 5:原著論文

土橋誠.吉原佐知雄.白樫高史.横田
俊子

48

3

330 1997 5:原著論文

5896

カソード分極に伴う50.9at％Ｎｉ−Ｔｉ合金へ 羽木秀樹.水野 誠.
の水素化物の形成
伊部壽夫

48

3

337 1997 5:原著論文

5897

上田順弘.佐藤幸
流動層によるオーステナイト系ステンレス 弘.浦谷文博.曽根
匠.池永 明.川本(ＳＵＳ304)鋼のホウ化処理
信

48

3

343 1997 5:原著論文

5891 光電極と光触媒

山口靖英

畑田瑠理子.馬場恒明
佐藤貴康.野内勇
直流バイアス電圧印可加高周波プラズマ
5893
雄.佐原正人.伊藤窒化による純鉄の表面改質
滋.明石和夫
5892 Ｔｉイオン注入による炭素薄膜の構造変化

5894

プリント回路基板表面のマイグレーション 鶴田加一.吉原佐知
に対する検討雄.白樫高史亜鉛電析皮膜の質量変化に及ぼす添加5895 剤の影響−水晶発振子マイクロバランス
測定による研究自動車、バンパー、リサイクル、

リサイクル、浴、めっき、再生、環
159 1997 3:解説
リサイクル
境、不純物、
無電解めっき、浴、長寿命、Ni、
165 1997 3:解説
B03.無電解めっき
P、透析、イオン交換、廃液、潤滑、トライポロジ、流体、粘度、
171 1997 3:解説
潤滑ベアリング、潤滑剤
Al、水洗、カラーリング、封孔、ア176 1997 9:シリーズ-2
B07.アノード酸化
ルマイト、エッチング、
C07.その他(新技術を含む)
181 1997 10:比べてみよう
カーレース、F-1、自動車、
電解重合、電池、Pb、蓄電池、
185 1997 5:原著論文
電解重合
C、電析
アンモニア、Cd、Te、半導体、電B02.電気めっき･電鋳190 1997 5:原著論文
析、化合物、構造、物性、Ni、鋼板、密着、塗膜、カラー、
195 1997 5:原著論文
A05.塗布･塗装
Ni、機構、溶融塩めっき、クロメー
光沢、Ni、Cr、電析、めっき、鋼B02.電気めっき･電鋳201 1997 5:原著論文
板、CASS、ピット、腐食、塗装、
Zn、Ni、鋼板、電析、腐食、XPS、
B02.電気めっき･電鋳206 1997 5:原著論文
耐食、塗装、
ダイヤモンド、Al、磨耗、摩擦、213 1997 5:原著論文
B01.化学蒸着(CVD)
DLC、CVD、高周波プラズマ、摺セラッミクス、磨耗、摩擦、金属、
219 1997 5:原著論文
磨耗
摺動、耐摩耗、潤滑、軸受、

48

小坂幸夫

錯体を含むめっき液のフェントン法による
横幕豊一
廃液処理
高効率凝集分離装置によるめっき排水処 松島豊彦.八町尚5883
理史.福永和久Fe、鉄鋼、リサイクル、不純物、鋼、製鋼、スクラップ
鋼、防錆、リサイクル、鋼板、スクラップ
Al、リサイクル、複合材、箔、スク
ラップ
鉄鋼、鋼、リサイクル、製鋼、不純物、スクラップ48

5878 めっき廃水の処理

5882

めっき、前処理、光電子、評価、
紫外線

48- 12 -

A01.物理蒸着(CVD)

プラズマ窒化、窒化、表面改質、Fe、ICP、高周波、Ｘ線

プリント回路、基板、マイグレー
ション、Ag、Cu、IC、LSI、反応、
オージェ、
Zn、電析、添加剤、光沢剤、水晶B02.電気めっき･電鋳 振動子、マイクロバランス、質量変化、ゼラチン、表面モーフォロ
スパッタリング、密着、プラズマ、
熱酸化、Si、Ti、N、LSI、AES、
A01.物理蒸着(CVD)
EPMA、ERDA、TEM、Ｘ線、マイイ
グレーション、ダマシン、配線
アークイオンプレーティング、
AIP、Cr、N、Cr-N、耐溶融、Al、A01.物理蒸着(CVD)
製膜、ヒートサイクル、結晶構
造、TEM、Ti、断面TEM
マイグレーション

表面技術 1995〜1999

志田あづさ.小野幸
マグネシウムダイカストＡＺ91Ｄの化成処子.齋藤 誠.鈴木正5898 理及び陽極酸化により生成した皮膜の組
教.堀口 誠.寺島慶成と形態
一.松坂菊生.増子
酸性果実缶での硝酸イオンによる脱スズ 大賀智也.大八木八5899
現象に及ぼす含硫化合物の影響
七.野口雅敏シールド型アークイオンプレーディングに 瀧 優介.北河敏久.
5900
高井 治
よる硬質窒化炭素薄膜の作製
山口靖英.山崎正
陽極酸化により作製された酸化亜鉛皮膜
5901
敏.吉原佐知雄.白の殺菌特性
樫高史
前嶋正受.猿渡光
モリブデン硫化物を含浸したアルミニウム
5902
一.中川三紀夫.石
陽極酸化皮膜の断面観察
禾和夫.高谷松文
5903 表面技術誌の在り方
山下嗣人
5904 「特集／無電解めっき」の企画に当たって 海老名延郎
5905 最近の無電解めっき技術

483

349 1997 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳

Nb、Sn、パルス、電析、溶融塩、
常温、超伝導、BPC、

48

3355 1997 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳Sn、鋼鈑、密着、塗膜、クロメート
処理、皮膜、Cr

48

3

362 1997 5:原著論文

B06.熱処理(窒化)シールド、窒化、炭素薄膜

483364 1997 7.速報論文

B07.アノード酸化

Zn、陽極酸化、酸化亜鉛、殺菌、皮膜、半導体、紫外線、黄色ブド
ウ状球菌、光触媒、

483366 1997 8:Letters

B07.アノード酸化

陽極酸化、モリブデン硫化物、断面構造、Mo、Al、EPMA

48
48

4
4

373 1997 1:巻頭言
374 1997

斎藤 囲

48

4

5906

無電解ニッケルめっき浴の機能分類と応
用

中岸 豊

48

4

5907

ノーホルマリン無電解銅めっきの多機能
化

藤波知之

48

4

5908 無電解金めっき浴の種類と応用

西山浩二.渡辺秀人

48

45909 無電解パラジウムめっきと応用

内田 衛

48

4

48

4

48

4

48

4

5910 無電解はんだめっき技術の開発と実用化 久保元伸.堀田輝幸
アルミニウム上への置換スズめっき−アル堀切靖晃
スタン６０プロセスの特性と応用
マグネシウム合金へのダイレクト無電解
5912
柴田光男
ニッケルめっきプロセス
濃黒色無電解ニッケルめっき−フォスブ
5913
新田昌弘.足立洋史
ラック・−
5911

48

4

5914 難めっき金属の前処理 (１)概論

矢部 賢

48

4

5915 水素−その状態と密度ー

釜崎清治

48

4

無電解ニッケルめっきによる異方性導電5916
微粒子の作製望月 勇.伊澤和彦.
渡辺城司.本間英夫

48

4

無電解めっき、分類、置換めっき、還元めっき、自己触媒、還元
無電解めっき、Ni、浴、機能、分
380 1997 3:解説
B03.無電解めっき
類、反応、Cu、無電解めっき、ホルマリン、反応、表面形態、応用、電磁波
387 1997 3:解説
B03.無電解めっき
シールド、スルーホールめっき、プリント配線、組成、Au、無電解めっき、浴、反応、分
393 1997 3:解説
B03.無電解めっき類、シアン、置換めっき、自己触媒、高速、ボンディング、
Pd、無電解めっき、応用、還元
400 1997 3:解説
B03.無電解めっき
めっき、特性、密着、反応、物性
Pb、Sn、無電解めっき、還元めっ405 1997 3:解説
B03.無電解めっき
き、はんだ、応用、物性、濡れ性、浴、接合、密着、
Al、Sn、無電解めっき、置換めっ
409 1997 3:解説
B03.無電解めっき
き、反応、物性、機能、無電解めっき、還元めっき、Mg、
413 1997 3:解説
B03.無電解めっき
Ni、クロメート処理、防錆、反応、
Ni、黒、無電解鍍金、フォスブラッ
417 1997 3:解説
B03.無電解めっき
ク、耐摩耗性、耐熱性、光吸収、
鍍金、前処理、難めっき、密着、
420 1997 9:シリーズ-2
前処理
構造、
水素、吸蔵、状態、水素エネル
426 1997 10:比べてみよう 水素
ギー、製造、輸送、貯蔵、利用、
Ni、無電解めっき、異方性、伝429 1997 5:原著論文
B03.無電解めっき
導、微粒子、粒子、作製、Ｘ線、ス
ビアホール、無電解めっき、Cu、
均一、プリント配線、エポキシ樹433 1997 5:原著論文
B03.無電解めっき
脂、グリオキシル酸、つきまわり
性、ストライク無電解めっき、Cu、TiN、Ti、N、密着、プラズマ、
LSI、ダマシン、マイグレーション、
439 1997 5:原著論文
B03.無電解めっき
バリヤ、マグネトロン、スパッタリ
ング、Ｘ線、水素、構造、TEM、断イオンプレーティング、アークイオ
ンプレーティング、Ti、Al、Cr、N、
446 1997 5:原著論文
A01.物理蒸着(CVD)
ヒートサイクル、硬さ、TEM、断面TEM、Ｘ線、クラック
Nb、Sn、パルス、電析、異常、溶454 1997 5:原著論文
B02.電気めっき･電鋳
融塩、合金、常温、分極曲線、Sn、クロメート処理、鋼鈑、密着、
460 1997 5:原著論文
B02.電気めっき･電鋳
塗膜、XPS、
Ni、P、Ni-P、レーザ、無電解めっ
466 1997 5:原著論文
B03.無電解めっき
き、トライポロジー、摩耗、摩擦、耐摩耗、鋼鈑、硬さ、
375 1997 3:解説

B03.無電解めっき

B03.無電解めっき

5917

阿部真二.藤波知微小ビアホ−ルへの無電解銅めっきの均之.青野隆之.本間
一析出性
英夫

48

4

5918

Ｃｕ／ＴｉN 薄膜間の付着力に対するＴｉ膜の効果

則武千景.石原康
生.近藤市治.近藤憲司.竹中 修.金原
粲

48

4

ＡｌＰ法によりＴｉ−6Ａｌ−4Ｖ基板上に形成し 山本兼司.湯瀬文
5919 たＣｒ−Ｎ膜の構造および耐溶融Ａｌ性に与 雄.中山武典.上窪文夫
える成膜時の窒素圧の影響

48

4

48

4

48

4

48

4

48

4

468 1997 7.速報論文

484

470 1997 7.速報論文

484472 1997 7.速報論文

484474 1997 8:Letters

パルス電析法による常温型溶融塩浴から凌 国平.小浦延幸のＮｂ−Ｓｎ合金の電析
低スズめっき鋼板の塗料密着性に及ぼす 大賀智也.前田重
5921
クロメート皮膜の影響
義.浅井恒敏日野 実.西田典秀.
レーザ照射した無電解Ｎｉ−Ｐめっき皮膜
5922
平松 実.辻川正人.
のトライポロジー特性
川本 信
縄舟秀美.上垣隆.
無電解ニッケル−銅−リン合金めっきの5923
水本省三.石川正析出機構巳.中村 恒上宮成之.畠山紀
無電解めっき法による白金／多孔質アル5924
子.梶原昌高.小島
ミナ複合膜の調整
紀徳.水元和成.土亜鉛電析皮膜の構造におよぼす各種添加 土橋 誠.吉原佐知
5925 剤の影響−透過型電子顕微鏡観察による 雄.白樫高史.横田検討
俊子
縄舟秀美.中尾誠一
ギ酸を還元剤とするエチレンジアミン錯体
5926
郎.水本省三.内田
浴からの無電解パラジウムめっき
衛.岡田 隆
逢坂哲彌.高井まど
5927 高比抵抗無電解Ｎｉ−Ｐ薄膜の熱安定性
か.東川太一.飯塚
5928 表協らしさ
光田章一「小特集／めっき.塗装材のはく離技術」の
5929
奥野和義
企画によせて5920

5930 最近のはく離技術
5931

榎本英彦

環境問題に対処した最近のペイントはく離
間宮富士雄
方式の動向

48

4

476 1997 8:Letters485

487 1997 1:巻頭言48

5

488 1997

48

5

48

5

5932 一般めっき皮膜のはく離

青江徹博

48

5

5933 機能めっき皮膜のはく離劑

岩沢裕之

48

5

亜鉛ダイカスト及び銅系合金素材上への
5934
西浜幸男
めっきはく離法と金属回収法

48

5

48

5

チタン系イオンプレーティング皮膜のはく
前田光秀
離
難めっき金属の前処理法 (２)亜鉛合金，
5936
矢部 賢
アルミニウム合金
5937 血液型と表面技術
黒沢 進
5935

48

5

48

5

Ni、Cu、P、Ni-Cu-P、合金、無電
解めっき、機構、反応、

Pt、アルミナ、複合めっき、無電解めっき、多孔質、水素透過、メンブレン、分離膜、耐硫黄
Zn、電析、添加剤、光沢、TEM、
B02.電気めっき･電鋳 断面TEM、ゼラチン、構造、ポリエチレングリコール
無電解めっき、還元めっき、エチ
B03.無電解めっき
レンジアミン、Pd、ギ酸、Ｘ線、浴、
Ni、P、Ni-P、無電解めっき、熱安
B03.無電解めっき
定性、比抵抗、
B03.無電解めっき

はくり、陽極酸化、めっき、塗膜、
電解はくり、
はくり、塗膜、ペイント、環境、代496 1997 3:解説
はくり
替塗装、レーザー、ブラスト、廃棄物、高圧水はくり、めっき、電解はくり、化学
501 1997 3:解説
はくり技術
はくり、リサイクル、機械はくり
はくり、めっき、皮膜、機能、プリ
507 1997 3:解説
はくり技術
ント配線、プラスティック
Ni、Cu、はくり、リサイクル、Cu、
513 1997 3:解説
はくり技術
ニッケル、めっき、電解はくり、プ
リント配線、
はくり、イオンプレーティング、Ti、
518 1997 3:解説
A01.物理蒸着(CVD)
TiN、TiC、過酸化水素、めっき、前処理、Zn、合金、脱522 1997 9:シリーズ-2
前処理,
脂、洗浄、ストライトめっき、
530 1997 10:比べてみよう A10.その他(新技術を含む) 血液、表面489 1997 3:解説

- 13 -

はくり技術

表面技術 1995〜1999

5938

高純度銅原料を用いた蒸着膜のエッチン
御田 護
グ及び特性

48

5

533 1997 5:原著論文

5939

高純度銅原料用いた銅蒸着膜のめっき特
御田 護
性

48

5

539 1997 5:原著論文

5940

湯本久美.今元 徹.
直流重畳パルスめっき法による結晶／非 木名瀬良紀.李 松
姫.石原正統.押木結晶Ｃｏ−Ｆｅ−Ｐ軟磁性多層膜の作製
満雅

48

5

544 1997 5:原著論文

5941

電析Ｆｅ−Ｗ合金めっき膜の切削刃物への応用

渡辺 徹.渡辺将志

485

549 1997 5:原著論文

5942

ＡＥ検出によるＺｎ−Ｎｉ合金めっき皮膜の引張破断強度評価

羽木秀樹

48

5

554 1997 5:原著論文

485559 1997 5:原著論文

48

5565 1997 5:原著論文

48

5567 1997 5:原著論文

48

6575 1997 1:巻頭言

正木征史.井上博
之.山川宏二伊藤 学.青野文昭.
高純度フッ化水素による水素吸蔵合金Ｌａ 小菅明良.平山良5944
司.菊山裕久.釜崎
Ｎｉ4.7Ａ10.3の表面改質と水素化特性
清治
大島龍司.飯塚完
偏光ラマン分光分析法による平板状ダイ
5945
司.鈴木敏正.平林
ヤモンドの評価
敬二.広瀬洋一5946 会員増強運動の推進と課題
山崎五郎
5943 非シアン浴からの光沢Ａｇめっき

5947 自動車と環境−表面技術の役割

佐藤 登

48

6

5948 ガソリン車とエミッション盛業と触媒技術

松澤繁光

48

6

5949 ディ−ゼル車の排気浄化触媒と表面技術 御園生誠

48

65950 自動車材料のリサイクル

草川紀久

48

6

自動車用塗膜の酸性雨及び紫外線劣化
5951
対策における表面技術

田海俊弥

48

6

5952

自動車用エンジン部品の表面技術と環境
小野田元伸
技術

48

6

5953

インターネットで表面技術情報を活用する
神長京子
ための手法

48

6

井手本康.小浦延幸

48

6

5955

電顕画像デ−タベースえみりあ(ＥＭＩＬＩＡ)
谷山 明.進藤大輔
の紹介

48

6

5956

金材技研におけるネットワークの構築と運山崎政義.山内 泰
用4865954 表面技術関連のホームページの紹介

エッチング、蒸着、めっき、Cu、薄B02.電気めっき･電鋳 膜、プリント基板、プリント配線、Ｘ線、蒸着、薄膜、エッチング、プリント
配線、プリンと基板、微細パター
B02.電気めっき･電鋳ン、電析、めっき、ポリイミド、Cu、
異常析出、
Co、Fe、P、Co-Fe-P、多層膜、アモルファス、結晶、磁性、パル
B02.電気めっき･電鋳ス、磁気ヘッド、パーマロイ、磁気記録、磁歪、表面、TEM、
電析、めっき、耐摩耗、Fe、W、
B02.電気めっき･電鋳 Fe-W、合金、熱処理、アモルファ
ス、硬さ、応用、刃物、Zn、Ni、Zn-Ni、合金、皮膜、引っ
ぱり強度、アコースティックエミッ
B02.電気めっき･電鋳ション、物性、電析、表面、耐食、鋼鈑、Cu、Ni、塑性変形、割れ、Ag、光沢、シアン、非シアン、浴、
B02.電気めっき･電鋳
電気接点、分極曲線、こはく酸、
フッ化水素、水素、吸蔵、表面改質、水素化、La、Ni、Al、水素吸吸着
蔵合金、合金、フッ化処理、HF、
XPS、SEM、PCT
偏光ラマン分光、ラマン、ダイヤ
B01.化学蒸着(CVD) モンド、Si、エピタキシャル、CVD、平板ダイヤ、配向、

自動車、環境、表面技術、エネル
ギー、リサイクル、防食、触媒、排ガス、酸性雨、電池、自動車、エミッション、触媒、排気583 1997 3:解説
触媒
ガス、環境、Pd、貴金属、自動車、触媒、排気ガス、表面技
588 1997 3:解説
触媒術、環境、ヂーゼル、NOX、貴金
属触媒、自動車、リサイクル、タイヤ、プラ
592 1997 3:解説
リサイクル
スティック、シュレッターダスト、金自動車、塗膜、酸性雨、紫外線、
598 1997 3:解説
A05.塗布･塗装
表面技術、環境、防食、腐食、エッチング、コーティング
環境、自動車、表面技術、燃費、
604 1997 3:解説
環境
ピストンリング、ピストン、シリン
ダ、洗浄、
インターネット、表面技術、パソコ
610 1997 3:解説
インターネット
ン、情報、ホームページ、電子
メール、WWW、
インターネット、表面技術、ホー615 1997 3:解説
インターネット
ムページ、WWW、E-メール、検索、表面分析、
データベース、画像処理、電子顕
微鏡、写真、EMILIA、インター
618 1997 3:解説
データベースネット、WWW、イメージングプレー
ト、えみりあインターネット、ネットワーク、コン
623 1997 3:解説
インターネット
ピュータ、WWW、金属材料技術研究所
インターネット、文献検索、629 1997 3:解説
インターネット
WWW、用語、
インターネット、イントラネット、
635 1997 10:比べてみよう インターネット
WWW、情報、ネットワーク、LAN、
前処理、電析、難めっき、脱脂、洗浄、Mg、アルカリ脱脂、酸浸
637 1997 3:解説
B02.電気めっき･電鋳
漬、活性化、表面調質、無電解
めっき、後処理、クロメート処理
Ag、シアン、非シアン、光沢、電鉐、皮膜、特性、コハク酸、電気
B02.電気めっき･電鋳643 1997 5:原著論文
接点、均一電着、つきまわり、硬さ、はんだ着け、接触抵抗、表面
576 1997 3:解説

C07.その他(新技術を含む)

5957 インターネットを利用した文献検索井上泰志.高井 治

4865958 インターネットとイントラネット

杉本則彦

48

6

5959

難めっき金属の前処理 (３)マグネシウム
矢部 賢
合金

48

6

5960

非シアン浴から得られた光沢銀電析物の 正木征史.井上博
皮膜特性
之.山川宏二

48

6

48

6

649 1997 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳486653 1997 5:原著論文

B01.化学蒸着(CVD)48

6

658 1997 5:原著論文

48

6660 1997 5:原著論文

48

6662 1997 5:原著論文

48

6664 1997 8:Letters48

7

671 1997 1:巻頭言48

7672 1997 3:解説

密着性5969 スパッタ法による磁性膜の付着力,密着性 星 陽一

48

7

678 1997 3:解説

密着性･高分子薄膜及び高分子への蒸着における鈴木一博
付着力,密着性48

7682 1997 3:解説

密着性

Win-MAW-SOE.大クエン酸を含有する硫酸塩浴からの亜鉛
貝 猛.秋山徹也.福電析の臨界電流密度
島久哲
密着性に優れたダイヤモンド被覆工具に 木山信道.坂本幸
5962
よるＡｌ-18Ｍmass％Ｓｉ合金の切削特性
弘.高谷松文硝酸ニッケル水溶液から析出されたオキ5963
佐々木康.山下嗣人
シ水酸化ニッケルの電極特性
59615964 ＰＲ電解法によるビアフィリングの形成

藤波知之.小林 健.
真庭朝夫.本間英夫

シリコン含浸ＳｉＣに形成された酸化皮膜の 二川正敏.小貫
沸騰濃硫酸環境下における耐食性
薫.R.W.Steinbrech
好永俊宏.森下正
5966 フォトクロミック性白色顔料の調整
育.長岡 茂5967 インキュベ−タとしての大学の役割
今井八郎
5965

5968 超硬質膜の付着力・密着性

5970

村川正夫.竹内貞雄- 14 -

電析、クエン酸、臨界電流密度、浴、Zn、鋼鈑、反応、

密着、ダイヤモンド、工具、切削、プラズマ、CVD、皮膜、WC-Co、Ni、電極、オキシ水酸化、硝酸
B02.電気めっき･電鋳
ニッケル、電池、電解含浸、多孔PR電解、ビアホール、電析、プリB02.電気めっき･電鋳 ンと配線、Cu、エポキシ樹脂、無電解、パルス、
耐食、炭化ケイ素、酸化皮膜、耐食
Si、含浸、SiC、曲げ強度、

A05.塗布･塗装

フォトクロミック、白、顔料、合成、密着、付着、超硬質膜、ダイヤモ
ンド、c-BN、CLC、CVD、工具、耐熱性、スクラッチ試験、界面自由エネルギー
密着性、付着、スパッタリング、
磁性膜、ハードディスク、磁気ディスク、シミュレーション、微細構造、硬さ、摩擦、密着性、付着力、高分子、蒸着、放電処理、エッチング、プラズマ、

表面技術 1995〜19995971

湿式成膜における密着性確保の指針と実 平松 実.日野 実.
際
小見 崇

48

7

5972

半導体,超伝導薄膜の付着力,密着性−基 鈴木敏正.櫻井 伸.
板の重要性飯塚完司

48

75973 ガラスへのコーティングの密着性

鈴木すすむ

48

7

5974 光学薄膜の密着性

栗山桂司

48

7

5975 ＬＥＥＤとＲＨＥＥＤ

日比野浩樹

48

7

5976 難めっき金属の前処理 (４)ステンレス鋼

矢部 賢

48

7

48

7

48

7

48

7

48

7

48

7

48
48

8
8

＜塗料メーカ−の対応＞ 防食塗料の無飯田真司
溶剤化とその応用

48

8＜塗料メーカ−の対応＞ 環境対応にお
朝倉光彦
5985
ける水性塗料の進歩

48

8

5986

＜塗料メーカ−の対応＞ 粉体塗料の開倉内健生
発とその応用

48

8

5987

＜機器メーカ−の対応＞ 普及型溶剤回
杉本 久
収装置

48

8

5988

＜機器メーカ−の対応＞ 屋外塗装に適
杉本 久
する静電塗装機の開発

48

8

5977

ヘキサヒドロオクソ白金酸塩を用いたアル鎗田聡明.来田勝継
カリ白金電鋳浴

今田康夫.百武秀ＲＦスパッタリングによるＴｉＣ−ＴｉＮ複合皮治.本多文洋.中島
膜の作製とそのトライポロジー特性耕一
平藤哲司.稲嶺正アンモニア-アルカリ性水溶液からのＣｄＴ
5979
一.二井一志.栗倉
ｅ電析に及ぼす電解液組成の影響
泰弘
5978

5980

自動車用エアコンの臭気抑制−表面処理 金子秀昭.竹中 修.
皮膜臭とその抑制
水野博好

アルミナ複合植物研磨材によるバレル研
5981 磨(第２報) −アルミナ系複合セラミックス 竹内茂夫の研磨5982 表面技術における志向性
大野 湶
5983 環境問題への塗料業界の取り組み
増田 平
5984

密着性、付着、湿式製膜、めっき、評価、前処理、鋼鈑、セラッミ
クス、後処理、スクラッチ試験、プラスチック、セラミックス、
密着性、付着、半導体、超伝導
692 1997 3:解説
密着性
体、MBE、GaAs、YBCo、素地、エピタキシャル、顕微ラマン、
密着性、ガラス、コーティング、付
着、引っぱり試験、CVD、スパッタ
698 1997 3:解説
密着性
リング、イオン注入、イオンビー
ム照射、前処理、密着、薄膜、光学、テープテスト、
703 1997 3:解説
密着性
ガラス、Si、PMMA、プラスティっクス、前処理、洗浄
LEED、RHEED、表面分析、反射710 1997 10:比べてみよう 表面分析
電子線回折、反射高速電線線回前処理、めっき、電析、難めっき、
713 1997 9:シリーズ-2
前処理
ステンレス、酸浸析、脱脂、無電
解めっき、
電析、電鋳、アルカリ性、浴、Pt、
719 1997 5:原著論文
B02.電気めっき･電鋳 硬さ、耐摩耗性、装飾、ガラス工業、Ｘ線、光沢
スパッタリング、Ti、C、N、TiC723 1997 5:原著論文
A01.物理蒸着(CVD) TiN、トライポロジー耐摩耗、複合、MRスパッタリング、組成、硬電析、浴、水溶液、Cd、Te、
728 1997 5:原著論文
B02.電気めっき･電鋳 CdTe、太陽電池、半導体、めっき、Ｘ線、結晶
防臭、自動車、表面処理、臭、ク
733 1997 5:原著論文
防臭ロメート処理、酸洗浄、塗布、塗装、エアコン、親水性、臭気、アルミナ、研磨、バレル、複合、
740 1997 5:原著論文
C01.機会研磨･研削 植物、セラミックス、耐摩耗、耐熱、粉体、研磨剤、バレル研磨、
751 1997 1:巻頭言
752 1997 3:解説
環境
環境、塗料、業界、対策、VOC
塗料、環境、防食、溶剤、VOC、
755 1997 3:解説
A05.塗布･塗装作業、水性、粉体塗料、静電塗
装、テープ、フイルム
塗料、水性塗料、環境、VOC、防760 1997 3:解説
A05.塗布･塗装
食
粉体、塗料、開発、応用、コー
765 1997 3:解説
A05.塗布･塗装
ティング、VOC、環境、ポリエステ
ル、静電塗装、流動浸漬法、溶剤、塗料、塗装、回収、装置、
771 1997 3:解説
A05.塗布･塗装
蒸留法、環境、有機溶剤、蒸留
塗装、静電塗装、装置、屋外、塗776 1997 3:解説
A05.塗布･塗装
料ミスト、評価、構造物、ポリエス
テル、
スプレー、塗装、環境、装置、
781 1997 3:解説
A05.塗布･塗装
VOC、エアースプレー、静電スプ
687 1997 3:解説

密着性

A05.塗布･塗装＜機器メーカ−の対応＞ スプレー塗装
森田信義
機の低圧化
＜ユーザーザイドの対応＞ ＪＨにおける5990 省工程塗装への取り組み−鉄道路橋を対 藤原 博
象として−5991 無機塗料の適用
田中 一
5992 アルゼンチンと韓国
高井 治

48

8

48

8

789 1997 3:解説

48
48

8
8

795 1997 3:解説
A05.塗布･塗装
801 1997 10:比べてみよう

5993 亜鉛系合金めっきの管理のポイント

48

8

803 1997 9:シリーズ-2

48

8811 1997 5:原著論文

48

8815 1997 5:原著論文

48

8820 1997 5:原著論文

48

8826 1997 5:原著論文

48

8732 1997 7.速報論文

489839 1997 1:巻頭言48

9840 1997

5989

青江徹博

フッ素樹脂塗装鋼板の加工法に及ぼすポ5994 リフッ化ビニリデン樹脂(ＰＶＤＦ)の結晶構 川西勝次
造の影響
塗装アルミニウムい板のシリコーン系シー 宇野清文.伊藤研
5995
リング材による汚染状態の解析
策.北野博巳.吉岡
中田毅.和田一郎.
Ａｌ単結晶表面上へのジンケート処理と無5996
今井八郎.池島賢
電解Ｎｉ-Ｐめっき司.井上晃一郎.渡5997

カソード分極に伴う50.9at％Ｎｉ-Ｐ合金の水素脆性化

羽木秀樹.水野 誠.
伊部壽夫

森本純司.山口昭
電解アーク加熱処理した自熔合金溶射皮
雄.富江通雄.楠原
膜の特性
孝良
5999 逆さに見れば
高井 治「小特集／金属建材における表面処理」の
6000
渡辺豊文
企画に当たって
5998

6001 住宅建材の耐久性と必要性能

石本徳三郎

48

9

841 1997 3:解説

6002 屋外建材の塗装

佐藤忠明

48

9

847 1997 3:解説

6003 住宅用建材

増原憲一

48

9

853 1997 3:解説

6004 スチールハウス用形鋼の耐久性

竹本好文

48

9

859 1997 3:解説

住宅内部の腐食環境と亜鉛系めっき鋼板
藤田 栄
6005
の耐食性

48

9

865 1997 3:解説

6006 電気めっきにおける膜厚シミュレーション

小林和幸.川向博史

48

9873 1997 3:解説

薄膜プロセスにおけるスパッタ成膜シミュ
6007
レーション

多賀康訓

48

9

879 1997 3:解説

6008 溶射のシミュレーション

黒田聖治

48

9

885 1997 3:解説

6009 光学薄膜の分光特性シミュレーション

栗山桂司

48

9

890 1997 3:解説

- 15 -

塗装、耐食、長寿命、再塗装、橋梁、防食、省行程、品質管理、塗料、塗装、無機、環境、環境
アルゼンチン、韓国、Zn、合金、めっき、電析、管理、
B02.電気めっき･電鋳 Ni、Zn-Ni、Fe、Zn-Fe、Sn、ZnSn、Co、Zn-Co、浴、耐食、フッ素樹脂、鋼鈑、ポリフッ化ビニ
A05.塗布･塗装
リデン樹脂、結晶構造、加工性、PVDV、塗装、
塗装、Al、シリコーン、汚染、板、A05.塗布･塗装
暴露試験、Al、単結晶、ジンケート処理、無B02.電気めっき･電鋳 電解めっき、Ni、P、Ni-P、構造、
ハードディスク、結晶面、カソード分極、水素脆化、合金、水性脆化
Ni-Ti、Ti、Ni、めっき、電析、水素、機械的性質、
アーク、溶射、電解アーク、合A02.溶射金、皮膜、特性、鋼、Fe、フレー
ム溶射、腐食、試験、構造、

建材、耐久性、外装、防水、強度、断熱、斜音、防火、耐候、外屋外、建材、塗装、防錆、塗料、
A05.塗布･塗装
電着塗料、粉体塗料、住宅、建材、鋼鈑、塩水憤霧、環C07.その他(新技術を含む)
境、溶融めっき、ステンス、暴露
スチールハウス、鋼鈑、耐久性、
C07.その他(新技術を含む)
建材、耐食、加速試験、形鋼、腐腐食、環境、建材、ない層、鋼
めっき
鈑、耐食、Zn、防錆、ACM型腐食
電析、メッキ、膜厚、シミュレー
B02.電気めっき･電鋳ション、理論、ハルセル試験、スパッタリング、、膜厚、シミュ
A01.物理蒸着(CVD) レーション、モンテカルロシミュ
レーション、
溶斜、HVOF、プラズマ溶斜、皮A02.溶射膜、残留応力、機構、シミュレー
ション、ガス炎溶斜工学、分光、薄膜、シミュレーショ
C07.その他(新技術を含む)
ン、計算、反射、フィルター、干C07.その他(新技術を含む)

表面技術 1995〜1999

神谷豊晴.重松浩
一.近藤市治.金原
境界要素法による腐食・防食のシミュレー
6011
宮坂松甫.青木 繁
ション

6010 有限要素法による表面密着性解析

48

9

48

9

6012 半導体の表面研磨(ＭＣＰとＣＭＰ)

江口和弘

48

9

6013 スルホ−ルめっきのポイント

内藤 薫

48

9

有限要素法、薄膜、表面、密着、解析、応力、剥離、破壊、界面応
境界要素法、腐食、防食、シミュ
900 1997 3:解説
腐食,防食,
レーション、
半導体、研磨、LSI、機械研磨、
906 1997 10:比べてみよう C01.機会研磨･研削 化学研磨、微細加工、イオンエッ
チング、光沢、基板
スルーホールめっき、無電解めっき、サブストラクティブ、脱マスト、908 1997 9:シリーズ-2
B03.無電解めっき
ソフトエッチング、活性化処理、触媒、プレディッピング、前処理、
イオンミキシング、インピーダン
913 1997 5:原著論文
A01.物理蒸着(CVD) ス、Ti、Al、N、ダイナミックイオン
ミキシング、AFM、電気化学特Cr、めっき、腐食、機構、酸素処
919 1997 3:解説
B02.電気めっき･電鋳 理、電析、腐食試験、耐食性、封孔処理、クラック、割れ、
デンドリマー、センサー、表面修
C07.その他(新技術を含む) 飾、コバルトポルフィリン、電極、
924 1997 5:原著論文
酸素、Co、O、
溶融塩めっき、鋼鈑、組織、構929 1997 5:原著論文
溶融塩めっき造、Zn、Al、Zn-Al、合金、鋼、めっき
895 1997 3:解説

C07.その他(新技術を含む)

レーザアロイング

6014

ダイナミックイオンミキシング法によるＴｉ1- 神谷 誠.中村 勲.
XＡｌｘＮ膜の電気化学インピダンス特性
鷹野一朗.沢田芳夫

48

9

6015

酸素処理水中におけるクロムめっきの腐
食機構

48

9

48

9

48

9

48

9

937 1997 13:研究ノート

48

9939 1997 7.速報論文

48

9941 1997 7.速報論文

4810947 1997 1:巻頭言

岡田亮二.沢口啓二

デンドリマー側鎖を有するコバルトポル
湯浅 真.星 周.関6016 フィリンを表面装飾した電極系の酸素セン
根 功
サーとしての検討
田中順一.益田雄
二段階溶融Ｚｎ-Ａｌめっき鋼のめっき層組
6017
策.武市知明.阪口
織とその形成挙動
貢.成田敏夫
重松一典.中村 守.
シリコンを用いたレーザアロイングによる 山田康雄.斉藤尚
6018
文.馬渕 守.中西
工業用純チタンの表面改質
勝.下島康嗣清川 肇.池田隆一.
6019 はっ水性Ｎi-Ｐ合金複合めっき皮膜の電析 鄭容宝.米沢 晋.高島正之
森本純司.山口昭
ごみ焼却炉環境における溶射皮膜の耐高6020
雄.山田勝弘.清水
温腐食性重雄
公設試における表面技術研究開発強化の
6021
久米道之
ために
6022 素材合金と表面処理

海老原健

48

6023 Ａｌ建材の表面処理の現状と課題

川端 清

48

6024 自動車車体用Ａｌ合金の表面処理技術

石井 均

48

6025 アルミニウム飲料缶の表面処理

堀口 誠

48

6026 ＰＳ版の表面処理

高田輝雄

48

神崎信義

48

6027

アルミニウム電解コンデンサの表面処理の現状と課題6028

ハードディスク(ＨＤ)基板の表面処理の現斉藤昌弘.山中郁雄
状と課題

48

6029

陽極酸化アルミナ細孔配列の長距離秩序
益田秀樹
化

48

6030

誘電体と固体電解質層の電解同時形成処理

直井勝彦.武田政幸

48

亀山秀雄

48

6031 アルマイト触媒体
6032 XANSとEXAFS

佐藤 登

48

6033 ＩＣリードフレーム外装はんだめっき

大平武征

48

縄舟秀美.池田一
スルホコハク酸錯体からのスズ−亜鉛合輝.水本省三.竹内
金めっき
孝夫.青木和博
田中順一.益田雄
6035 Ｆｅ-Ｚｎ合金層とＺｎ-Ａｌ融液との反応
策.桝本亮治.大笹憲一.成田敏夫
安住和久.藤重祐
Ａｌ合金のジンケート前処理におよぼす表 介.瀬尾真浩.佐伯6036
功.Leonard.NANIS.
面調整の効果
中尾英弘.田代雄彦
室温近傍における再生Ｐｂの酸化挙動に6037
田口正美.平沢今吉
及ぼす不純物の影響
アルカリ白金電鋳浴の白金めっきチタン電6038
鎗田聡明.澤田松範
極への応用
6034

6039

ＡｌＰ法で形成したＴｉＡｌＮ膜による耐熱チタ 山本兼司.佐藤俊
ン合金の耐酸化性の改善
樹.大山英人6040 超ローカルなはなし
高橋英明「小特集／マルチメディア時代における真桜井武広
空装置と薄膜応用」の企画に当たってI．半導体の最新動向と真空装置−半導体
前田和夫
6042
と真空装置
6041

Si、レーザ、レーザアロイング、
Ti、表面改質、表面硬化、ケイ化物、耐摩耗

はっ水性、複合めっき、電析、皮B02.電気めっき･電鋳 膜、Ni-P、Ni、P、PTFE、分散めっき、微粒子、焼却炉、環境、溶射、皮膜、耐A02.溶射食、高温腐食、爆発溶射、NiCr、Ni、Cr、合金、ボイラー、

合金、Al、表面改質、調質、組成、強度、陽極酸化
建材、陽極酸化、Al、カラー、構
10 956 1997 3:解説
B07.アノード酸化造、耐候性、塗装、封孔、化成皮膜、着色、環境
自動車、表面処理、合金、Al、リ
10 961 1997 3:解説
B08.化成処理
ン酸処理、化成処理、P、Zn、フッ素、F、塗装、密着、クリオライト、缶、表面処理、Al、化成処理、
ADI缶、脱脂、エッチング、クロ
10 966 1997 3:解説
B08.化成処理
メート処理、リン酸クロメート処
理、塗装、密着
PS版、表面処理、Al、光感光性、10 971 1997 3:解説
PS版
リソグラフ、陽極酸化、印刷、Al、コンデンサ、箔、表面処理、
C03.化学エッチング･電解エッチング
10 976 1997 3:解説
電解コンデンサ、エッチング、陽極酸化、皮膜、
ハードディスク、Al、基板、表面処
10 982 1997 3:解説
B03.無電解めっき
理、Ni-P、無電解めっき、ジン
ケート処理、硬さ、
アノード酸化、Al、細孔、長距離
10 986 1997 3:解説
B07.アノード酸化
秩序、アルミナ、
陽極酸化、誘電体、固体電解
10 990 1997 3:解説
B07.アノード酸化
質、ポリピロール、アルミナ、コン
デンサ、周波数特性、
陽極酸化、Al、アルマイト、触媒、
10 994 1997 3:解説
B07.アノード酸化
細孔、排ガス、
XANES、EXAFS、表面分析、装10 998 1997 10:比べてみよう 表面分析
置、原理、
IC、LSI、リードフレーム、はんだ、
B02.電気めっき･電鋳10 1000 1997 9:シリーズ-2
めっき、Pb、Sn、Pb-Sn、
10

948 1997 3:解説

合金

48

10 1007 1997 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳Sn、Zn、Sn-Zn、合金、めっき、電析、スルホコハク酸、浴、

48

10 1012 1997 5:原著論文

A03.溶融めっき

溶誘めっき、Fe、Zn、Al、Fe-Zn、
Zn-Al、合金、反応、構造、

48

10 1019 1997 5:原著論文

B03.無電解めっき

Al、合金、シンケート処理、前処理、XPS、構造、Al-Mg、反応48

10 1025 1997 5:原著論文

酸化48

10 1032 1997 5:原著論文

48

10 1035 1997 7.速報論文

48

11 1041 1997 1:巻頭言48

11 1042 199748

11 1043 1997 3:解説

6043

I．半導体の最新動向と真空装置−ＵＬＳＩ
上野和良
配線技術の動向48

11 1050 1997 3:解説

6044

I．半導体の最新動向と真空装置−高誘電川原孝昭
率薄膜成膜技術

48

11 1054 1997 3:解説

- 16 -

Pb、再生、不純物、酸化、挙動、環境、回収、Pt、Ti、電鋳、アルカリ、電極、
B02.電気めっき･電鋳
めっき、電析、
アークイオンプレーティング、
A01.物理蒸着(CVD) AIP、TiAlN、Ti、合金、耐酸化、酸化皮膜、耐摩耗、耐熱、

半導体、真空、装置、LSI、微細加工
微細加工、配線、LSI、ULSI、ダマシン、多層、めっき、スパッタリ
微細加工
ング、CVD、PVD、Ti、TIN、Cu、
デュアルダマシン、マイグレー
ション、アスペクト、
誘電、薄膜、比誘電率、SiO2、B01.化学蒸着(CVD) Si3N4、キャパシタ、リソグラ
フィー、CVD、BST、半導体
A01.物理蒸着(CVD)表面技術 1995〜1999

II．ディスク・ヘッド技術の最新動向と真空田上勝通
技術−磁気ディスク・ヘッド技術の動向
太田 淳.五十嵐日
II．ディスク・ヘッド技術の最新動向と真空
6046
出明.吉瀬寿彦.長技術−光ディスク・ＤＶＤ量産装置
沢昭治
II．ディスク・ヘッド技術の最新動向と真空
6047 技術−超高密度薄膜磁気記録媒体−次 高橋 研
世代ハードディスクと真空成膜装置
6045

6048

II．ディスク・ヘッド技術の最新動向と真空恒川孝二
技術−ＧＭＲ膜と成膜装置

48

11 1059 1997 3:解説

A10.その他(新技術を含む)

磁気ディスク、ヘッド、メモリー、
MRヘッド、長手記録、SN比、

48

11 1065 1997 3:解説

A10.その他(新技術を含む)

光ディスク、磁気ディスク、スパッタリング、装置、製膜

48

磁気メモリー、記録密度、ハード
ディスク、、真空装置、構造、ス
パッタリング、磁気、薄膜、GMR、薄膜、成膜、装置、磁気A10.その他(新技術を含む) ヘッド、磁気抵抗効果、比抵抗、11 1076 1997 3:解説
磁場中成膜、ハードディスク
CVD、薄膜、半導体、表面改質、
11 1082 1997 3:解説
B01.化学蒸着(CVD) アモルファスシリコン、シリコン、
SiN、Si、CVD、cat-CVD、GaAs
半導体、真空技術、ULSI、誘電率、磁気ディスク、ヘッド、光ディ
A10.その他(新技術を含む) スク、記録密度、記録媒体、
11 1088 1997 18:用語
DVD、装置、薄膜、GMR、成膜、CVD、表面改質、cat-CVD
ページ1091、和田和六は和田洋
六･表面処理、排水、環境、水、
11 1091 1997 3:解説
排水シアン、沈殿分離、浮上分離、酸、アルカリ、固液分離、スラッ
11 1097 1997 10:比べてみよう 摩擦,摩耗
摩擦、摩耗、潤滑、
Ni-B、Ni、B、無電解めっき、めっ11 1099 1997 5:原著論文
B03.無電解めっき
き、錯化剤、構造、耐摩耗性、DMAB、Ｘ線、アモルファス、
電析、めっき、浴、膜、構造、アル11 1105 1997 5:原著論文
B02.電気めっき･電鋳 カリ、Pt、Sn、構造、硬さ、Ｘ線、合金、Pt-Sn、耐熱性、耐食性
電析、めっき、Cu、機械的性質、
11 1109 1997 5:原著論文
B02.電気めっき･電鋳 不純物、表面形態、結晶構造、Ｘ線、配向、結晶粒径、Ni、電析、めっき、残留応力、Zn、
11 1115 1997 5:原著論文
B02.電気めっき･電鋳 表面形態、反応、結晶構造、浴、
電流電位
分散めっき、複合めっき、電析、
めっき、分散粒子、粉体、ゼータ
11 1119 1997 5:原著論文
B02.電気めっき･電鋳
電位、共析、疎水性、CF、親水性、界面活性剤、
Zn、Fe、Ni、Co、浴、電析、めっ11 1124 1997 5:原著論文
B02.電気めっき･電鋳 き、合金、チオシアン酸、硫酸塩
浴、Zn-Fe、Zn-Ni、Zn-Co、
赤外線半導体レーザ、分子線、
11 1131 1997 13:研究ノート A10.その他(新技術を含む) 超音波分子線、ビーム、エピタキ
シャル、Fe、カルボニル錯体、回EQCM、QCM、Au、Pd、析出、サ
B02.電気めっき･電鋳11 1134 1997 7.速報論文
イクリックボルタンメトリー、反酸化、構造、皮膜、内部酸化、
11 1136 1997 8:Letters
酸化
Fe-Al、合金、Fe、H2-H2O-Ar、
12 1141 1997 1:巻頭言48

12 1142 1997

48
48

III．マルチメディアデバイス最前線−ｃａｔ6049 ＣＶＤ法を用いた薄膜堆積と半導体表面 和泉 亮.松村英樹
改質486050 用語解説

桜井武広

48

6051 表面処理排水の環境対策

和田和六

48

6052 摩擦と摩耗

森 誠之.七尾英孝

48

金 満.東川太一.飯6053 無電解ＮｉＢめっきにおける錯化剤の影響
塚 淳.逢坂哲彌

486054

アルカリ性白金−スズ合金浴からの析出鎗田聡明.来田勝継
物の特性

48

6055

銅電析皮膜の表面形態と機械的性質にお横田俊子
よぼす不純物の影響

48

6056

Ｎｉめっき膜の残留おりに及ぼす亜鉛イオンの影響

津留 豊.徳田朋稔

48

山口文雄.小浦延幸.根岸秀之48

矢野正明.WinMAW-SOE.大貝猛.秋山徹也.福島

486057 分散粒子ゼータ電位と共析

6058

硫酸塩浴からの亜鉛−鉄属金属合金電析に及ぼすチオシアン酸イオンの影響

赤外半導体レーザーを用いた超音速分子6059 線中のＦｅカルボニル錯体の回転・並進状 本田数博
態の評価
ＥＱＣＭ法による金電極上のパラジウムの 有泉直子.柴田正6060
析出状態の評価
実.古屋長一Ｈ2-Ｈ2Ｏ-Ａｒ混合ガス中で酸化したＦｅ- 田中成穂.渡辺 徹.
6061
1.26および2.12mass％Ａｌ合金の組成変化 寺島慶一.山崎桓友
6062 東北地域における表面技術
松永利昭「特集／エネルギー分野を支える表面技
6063
釜崎清治
術」の企画に当たって
水素エネルギーの活用−水素吸蔵合金6064の役割と表面技術−

天野宗幸

48
48
48

11 1070 1997 3:解説

A10.その他(新技術を含む)

48

12 1143 1997 3:解説

水素48

12 1148 1997 3:解説

電池

水素、H、水素吸蔵、エネル
ギー、合金、表面技術、水素化、
ラーベース合金、ミッシュメタル、
水素圧力、水素電池、水素自動車、貯蔵、輸送、ヒートポンプ
水素、Ｈ、電気自動車、ハイブリ
ド、リチュウムイオン電池、リチュ
ウム電池、
燃料電池、電気自動車、水素、
太陽電池、表面技術、クリーンエ
ネルギー、環境、Si、SiO2、構造、アモルファス、テクスチャリン
キャパシタ、電気二重層、表面技
術、電源、電池、比表面積、活性炭繊維、水素電池、電池、表面技術、Ni、
アルカリ二次電池、放電曲線、水素吸蔵合金、Ｘ線
リチュウム、電池、表面技術、表面改質、Li、アモルファス、炭素
負極、添加剤、
リチュウム電池、表面技術、ポリマー、表面改質、Li、性極、エネ
ルギー貯蔵、二次電池、有機いおう正極、ポリマー正極
電池、自動車、表面技術、電気
自動車、Ni、Li、Na、水素化物、
インターカレーション、STM、
AFM、イオン電池、セパレータ
電池、燃料電池、表面技術、固体電解質、メタノール
燃料電池、溶融炭素塩型燃料電
池、電池、表面技術、電極、セパ
レータ、電解質、原理、無電解
水素吸蔵、フッ化水素、表面改質、LaNi4.7Al0.3、La、Ni、HF、希土類、XPS、合金、

高性能リチウムイオン電池の電池自動車
6065 およびハイブリット型電気自動車への適用 堀江英明
研究6066 燃料電池搭載電気自動車
木村良雄

48

12 1153 1997 3:解説

電池

6067 太陽電池を支える表面技術48

12 1158 1997 3:解説

電池

6068 電気二重層キャパシタを支える表面技術 吉田昭彦

48

12 1163 1997 3:解説

キャパシタ

6069 ニッケル・水素電池と表面技術

神田 基

48

12 1169 1997 3:解説

電池

6070

リチウム電池と表面技術−負極と表面改
森田昌行
質−

48

12 1176 1997 3:解説

電池

6071

リチウム電池と表面技術−ポリマー(有機直井勝彦.森 満博
イオウ系)正極の表面改質−48

12 1183 1997 3:解説

電池

佐藤 登

48

12 1189 1997 3:解説

電池

高分子電解質燃料電池(ＰＥＦＣ)と表面技
松沢繁光
術

48

12 1196 1997 3:解説

電池

48

12 1201 1997 3:解説

電池

48

12 1207 1997 5:原著論文

水素吸蔵

48

12 1212 1997 5:原著論文

水素吸蔵

ふっかすいそ、HF、表面改質、水素吸蔵、合金、水素化、脱水素、CO、

48

12 1218 1997 5:原著論文

電極

電極、表面改質、表面修飾、Fe、Co、金属ポリフィリン、高分子配位子、酸素還元、触媒、6072 電気自動車用電池と表面技術
6073

6074 溶融炭酸塩型燃料電池と表面技術

中野昭一.酒井総一

小浦延幸

無水フッ化水素で表面改質したＬａＮｉ4.7Ａｌ 伊藤 学.青野文昭.
6075 0.3の水素吸蔵特性に及ぼす大気保存の 小菅明良.平山良
影響
司.菊山裕久.釜崎
青野文昭.伊藤 学.
無水フッ化水素で表面改質したＬａＮｉ5-xＡ
中澤 亨.小菅明良.
6076 ｌx(X=0,0.3)の水素化・脱水素化特性に及内田裕久.平山良
ぼすＣＯの影響司.菊山裕久.釜崎
多量化コバルトボルフィリン／高分子配位 湯浅 真.鳥居広康.
6077 子系を表面修飾した電極による酸素還粂内友一.五喜田将
元：分子構造と酸素還元電位電極触媒活 紀.関根 功- 17 -

表面技術 1995〜1999

松本泰道.中西千夕
電解法によりアルマイト上に固定したＴｉＯ2起.石川善恵.鯉沼の光触媒活性陸央.八代伸光
メソフェーズ系カーボン薄膜電極の作成と6079
李 栖宗.内田 勇
リチウム脱挿入挙動
杉山和夫.栗原香
6080 ペロブスカイト型酸化物のＮＯx検知特性 暁.田中伸一.七海昌昭.浅野洋一.大カーボンプラスチック上における臭素の電 山下嗣人.阿部 聡.
6081
極反応
宮川博司
臭化物イオンを含む臭化亜鉛水溶液中に山下嗣人.杉森庸一
6082 おける亜鉛の腐食に及ぼす非イオン界面郎
活性剤の影響Ａｌ,Ｃｏ粉末とのボールミルによる水素吸蔵 釜崎清治.金山琢6083
合金ＬａＮｉ5の表面改質
也.見崎吉成.山田
アルカリ前処理したＡＢ5型水素吸蔵合金 釜崎清治.木原 勝.
6084のＮｉ-ＭＨ電池負極特性
見崎吉成.山田正昭
6085 第95回講演大会報告
千葉和茂
6086 年頭所感･
本間英夫［小特集/･湿式法による化合物薄膜の作
佐藤祐一
6087
製・構造と物性］の企画に当たって･
ソフト溶液電気化学プロセス（SSEP）によ
松本泰道
6088
る機能性酸化物膜の作製
6089 電着法による化合物半導体薄膜の作製 高橋 誠.魚崎浩平
電解法による二次電池用Ｎi(OH)2電極の 桑島三郎.中村敏
6090
昭.鶴田慎司
作製
電解法によるECD用イリジウム酸化物薄
6091
吉野隆子
膜の作製
電解法による高温超伝導酸化物薄膜の作 根岸秀之.井手本
6092
康.小浦延幸製
液相析出法（LPD法:Liquid Phase6093
出来成人.青井芳史
Deposition)による機能性薄膜材料の合成
液相析出法（LPD法:Liquid Phase
阪井康人
6094
Deposition)による電子材料の作製
6095 チタンのアノード酸化物薄膜の構造と物性 安住和久
6096 表面処理排水のリサイクル
和田洋六6097 工学系学協会*
6098 新シリーズ掲載開始にあたって鈴木峰晴
6099 自動車用塗膜の劣化とESRによる解析
辻田隆広.岡本信吾
6100 分析受託機関の紹介
鈴木峰晴
多孔質シリコン層中の化学結合に及ぼす6101
福田芳雄.古屋一夫
室温エージングの影響
佐藤祐一.本田 智.
イリジウムめっきチタン電極の電気化学的 女部田千穂.小早川
6102
紘一.橋本一朗.牛挙動
久栄作
6103 Pbフリーはんだ用Sn-Ag合金めっき･
新井 進.渡辺 徹･
ピロリン酸浴からのPd-Sn合金めっきにお 野呂美智雄.藤原
6104
けるジエチレントリアミン五酢酸の影響
裕.榎本英彦.小見
ヨウ化カリウム浴からの銀めっきの電流効 正木征史.吉本雅
6105
率に及ぼすＩ2の影響
一.井上博之.本間
アルカリ性白金ー亜鉛合金浴からの析出6106
鎗田聡明.来田勝継
物の特性
窒化ケイ素微粒子上への窒化ケイ素超微 英 敬信.上宮成之.
6107
粒子コーティング
小島紀徳
陰極にダイヤモンドを用いた直流プラズマ 廣澤さくら.阿部匡
6108
CVD法によるダイヤモンド薄膜の合成
朗.山中 博.広瀬洋
Hotはお好き？-1997年北海道夏期セミ
6109
遠藤一彦
ナー報告-･
6110 第97回講演大会
小林賢三
航空宇宙工業における表面技術の企画に
6111
野口裕臣
当たって
6078

6112 航空宇宙工業における表面技術の特異性 高田幸路
航空宇宙産業がリードする表面技術ー電
6113
鋳,ケミカルミーリング.洗浄ー6114 航空機製造における陽極酸化処理
6115 航空機における接着前処理技術
6116 航空機の新機体外装塗装システム
6117 ジェットエンジンにおける表面処理

田尻桂介.神畠尚文.梶間一広
宮崎洋輔
菅原憲明
徳永俊二
吉川英視

6118 航空機降着装置の表面処理

48

12 1225 1997 5:原著論文

触媒48

12 1227 1997 5:原著論文

電極48

12 1229 1997 5:原著論文

センサー

48

12 1231 1997 5:原著論文

電極48

12 1233 1997 8:Letters

腐食48

12 1235 1997 8:Letters

水素吸蔵

Al、Co、水素吸蔵、合金、表面改質、ボールミル、LaNi5、La、Ni、
水素吸蔵、前処理、アルカリ、電池、AB5型、Ni-MH、Ni

48

12 1237 1997 8:Letters

水素吸蔵

12 1239 1997
1
1 1998 1:巻頭言

経済

49

1

2 1998 23:小特集

B04.アノード析出49

1

3 1998 3:解説

49

1

7 1998 3:解説

49

1

15 1998 3:解説

49

1

20 1998 3:解説

49

1

25 1998 3:解説

49

1

30 1998 3:解説

B08.化成処理

LPD,薄膜,機能材料,水溶液

B08.化成処理

LPD,Si,LCD

アノード酸化

ソフト溶液,電気化学的プロセス,
機能性酸化物B02.電気めっき･電鋳 電着,半導体,薄膜
電気化学的注入,Ni,二次電地,水B02.電気めっき･電鋳素Ir,エレクトロクロミズム,電析,酸化B04.アノード析出
還元電解,電析,薄膜,高温Tc,超電導
B02.電気めっき･電鋳体
B04.アノード析出49

1

35 1998 3:解説

49
49
49
49
49
49

1
1
1
1
1
1

39 1998 3:解説
B07.アノード酸化
44 1998 9:シリーズ-2
C06.洗浄51 1998 10:比べてみよう
53 1998 9:シリーズ-2
54 1998 9:シリーズ-2
A05.塗布･塗装
59 1998 9:シリーズ-2

Ti,陽極酸化皮膜,腐食,応用
イオン交換,オゾン,UV,活性炭

49

163 1998 5:原著論文

C03.化学エッチング･電解エッチング

ポーラス,Si,化学結合,PL49

168 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Ir,電析,過電圧

49

1

73 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 鉛フリー,電析,Sn,Ag,ハンダ付け49

1

78 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Pb,Sn,合金,ピロリン酸塩

塗膜,劣化,ESR,ラジカル

49

1

84 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Ag,ヨウ化カリウム,電流効率49188 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Pt,Zn,合金,アルカリ49

1

92 1998 7.速報論文

A01.物理蒸着(PVD) コーティング,Si,Ni,CVD

49

1

94 1998 7.速報論文

A01.物理蒸着(PVD)49

196 1998 編集委員会から

49

2

119 1998 1:巻頭言49

2

120 1998 23:小特集

49

2

49

2

49
49
49
49

2
2
2
2
2

松尾和広

49
49

2

49
49

2
2

6122 亜硫酸金アンモニウム浴からの電析物

49

2

49

2

鎗田聡明

腐食、界面活性剤、Br、Zn、水溶
液、

48
49

ヘリコプターブレードプロテクターのニッケ
6119
吉野一彦
ル電鋳
6120 硫酸酸洗と塩酸酸洗
渡辺豊文
6121 ワイヤボンディング界面の分析事例
土師 宏
プラズマソースイオン注入による3次元立 馬場恒明.畑田留理
6123
体物へのイオン注入子
スパッタリングによるＺｎＳ:ＴｂＳ3薄膜の形
6124
桑野三郎.伊藤芳典
成条件とＥＬ特性
6125 アルカリ脱脂液での脱脂過程の解析
須山 聰
酸化物薄膜表面の水に対するぬれ性と摩6126
大脇健史.多賀康訓
擦係数
液体急冷非晶質薄帯上に析出した無電解 丸山耕一.沼田博
6127
ＣｏＦｅ系合金めっき膜の析出挙動と性状 雄.大野 湶.佐藤
正木征史.吉本雅
非シアン銀めっきの密着性に及ぼす電極6128
一.田中恵美子.井
近傍ｐＨ変化の影響
上博之.本間英夫
アルミニウム陽極酸化皮膜中の水素の濃 森崎重喜.前野智
6129
度と分析
和.山室正明6130 [表面]の語史
寺島慶一[小特集1.環境規制と代替技術]の企画に
6131
小林道雄
当たって
6132 3価の装飾クロムめっき
松浦大規
6133 クロメート代替処理法の動向
青江徹博

電解、アルマイト、光触媒、TiO2、Ti、XPS、チタニルアンモニ
ウム
電極、カーボン薄膜、Li、メン
フェーズ、サイクリックボルタモグ
センサー、ペロブスカイト、酸化物、NOX、希土類、酸化物半導体、電極、カーボンブラック、電極反
応、Br、平衡論

ダイアモンド,薄膜,プラズマ,カソード

高力アルミ合金,疲労破壊,超高力鋼,水素脆性
電鋳,ケミカルミーリング,洗浄コン
B02.電気めっき･電鋳127 1998 3:解説
トロール
133 1998 3:解説
B07.アノード酸化
航空機,陽極処理
C03.化学エッチング･電解エッチング 表面調整,接着,航空機,信頼性
138 1998 3:解説
143 1998 3:解説
A05.塗布･塗装
航空機,外装,塗装
149 1998 3:解説
B02.電気めっき･電鋳 ジェットエンジン,修理,熱溶射
超高張力鋼,水素脆性,チキンワ
B02.電気めっき･電鋳154 1998 3:解説
イヤークラック
硬質ニッケルめっき,内部応力,金161 1998 3:解説
B02.電気めっき･電鋳型
C03.化学エッチング･電解エッチング
164 1998 10:比べてみよう
硫酸,塩酸
166 1998 9:シリーズ-2
ワイヤボンディング,TEM,AES,界亜硫酸金,アンモニウム,バンプ,シB02.電気めっき･電鋳173 1998 6:技術論文
アンフリー,硬さ,光沢121 1998 2:総説

B07.アノード酸化

176 1998 5:原著論文

A08.イオン注入

PSII,イオン注入,プラズマ,3D

49

2

180 1998 5:原著論文

A01.物理蒸着(PVD) スパッタリング,EL,薄膜,発光492

185 1998 5:原著論文

C06.洗浄49

2

191 1998 5:原著論文

A04.吸着492

195 1998 5:原著論文

B03.無電解めっき

492

201 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Ag,ヨウ化カリウム,密着性492

205 1998 5:原著論文

B07.アノード酸化493

213 1998 1:巻頭言49

3

214 1998 23:小特集

49
49

3
3

215 1998 3:解説
221 1998 3:解説

- 18 -

脱脂速度,油滴径,分散
酸化物薄膜,濡れ性,親水性,摩擦係数
無電解めっき,Co,Fe,非晶質,析出
挙動,磁気特性

陽極酸化皮膜,水素含有量,即発
γ線分析,Al表面
環境

B02.電気めっき･電鋳 Cr,装飾めっき,代替技術
B08.化成処理
非クロメート,クロム酸塩、代替、

表面技術 1995〜1999

6134 非シアン浴からのスズー銀合金めっき

新井 進

6135 Ｐｂフリーはんだめっきの現状
小谷野英勝
6136 シリコンウエーハのウェット洗浄技術
泉妻宏治
シリコン基板表面状態とゲート酸化膜の信 小澤良夫.福元正6137
頼性
人.水津康正6138 半導体製造におけるシリコンウエハ乾燥 伴 功二.佐藤一直
化学増幅型レジストへの基板表面状態.雰
遠藤政孝
6139
囲気の影響
Al-Si-Cu/Ti/TiN/Ti積層配線の結晶配向6140
吉田友幸.大脇健史
性と信頼性に及ぼす下地絶縁膜吸湿の影[小特集2／表面技術と半導体プロセス]の
6141
有門経敏
企画に当たって6142 用語解説
有門経敏
めっき設備の腐食損傷事例とその対策
中村太一.松井冨士
6143（1）
夫.中山郁雄試料加熱法による触媒のＳＥＭ観察にお
6144
吉田公一
ける帯電防止某分析屋の午後ーＳＩＭＳ（シムス）分析.Ａ
6145 ＥＳ（オージェ）分析そしてＥＰＭＡ（イーＭＳ
ピーエムエー）分析ー
モード変換型マイクロ波プラズマＭＯＣＶＤ 小松洋介.伊藤 滋.
6146
法による（111）配向ＺｒＯ2膜の低温堆積 明石和夫
高井まどか.近藤
電析法による高比抵抗Ｎｉ−Ｆｅ系軟磁性6147
祥.目羅史明.加世
薄膜の作製
田学.逢坂哲彌
亜硫酸金塩を用いた自触媒型無電解金
6148
鎗田聡明
めっき浴
シリカの濃度傾斜をもつ酸素発生用電極
6149 触媒皮膜−酸化イリジウムーコロイド状シ 虫明克彦.松坂菊生
リカ/チタン基体系−
鉄ータングステン系合金めっき膜の非晶 李 明.森満正嗣.松6150
質化に及ぼすコバルトおよびニッケルの影 永守央
紫外線遮へい用アナターゼ型ＴｉＯ2微粒子 好永俊宏.森下正
6151の調整
育.好本昭洋.真嶋
三尾 惇.内田聡.仁6152 Ａｌイオン注入したＴｉＮ膜の高温酸化
平宣弘.山田 仁.狩野 茂.岩木正哉
正木征史.近藤哲
6153 非シアン浴中における銀陽極の溶解挙動
也.井上博之.本間Ｄｕａｌ Ｂａｔｈ法により作製したＣｕ/Ｎｉ多層6154
三宅猛司.久米道之
膜の機械的特性6155 卒業生諸君,そして職場の上司の方々へ 佐藤祐一
6156 溶融塩の精製法と取り扱い技術

佐藤 譲

伊藤靖彦．野平俊之6158 耐火金属の溶融塩からの電析
沼田博雄
アルミニウムスクラップの再生を目指した 石川達雄．上田幹
6159
溶融塩電解
人
塩化物溶融塩浴からの非晶質Ａｌ−Ｍｎ合 内田淳一．平山克
6160
金めっき
郎
原子炉の使用済み核燃料の乾式再処理
6161 技術−溶融塩電解精製法を用いた核分 藤田玲子
裂生成物の分離−
常温溶融塩からの電析−とくにＡｌコーティ
6162
高橋節子
ングを中心として−
小浦延幸．井手本
6163 常温型溶融塩からの合金電析
康．松本 哲
仲村太一．松井冨6164 めっき設備の腐食損傷例とその対策（２）士夫．中山郁雄
亜鉛系めっき鋼板上に生成する腐食生成
6165
橋本 哲
物の構造解析
6166 ＧａＡｓとＳｉ
吉田直人
表面制御された超はっ水性皮膜のマイク
穂積 篤．高井 治
6167
ロ波プラズマＣＶＤ法による作製
自動車用エアコンの臭気抑制−微生物に 水野博好．竹中
6168
起因する腐敗臭とその抑制−
修．内山一寿．金子
高谷泰之．富田友ＷＣ系サーメット溶射皮膜の分極特性に
6169
樹．谷 和美．稲葉
及ぼすクロムの効果
光晴．原田良夫
多孔質シリコン細孔中に析出した無電解Ｃ 細倉 匡．丸山耕6170
ｏ系めっき合金の形状および磁気特性
一．大野 湶．入戸
日野 実．西田典
硫酸浴からのＺｎ−Ｃｏ−シリカ複合めっき
6171
秀．平松 実．久我に及ぼす界面活性剤の影響
久徳．金谷照人
純チタンを被覆したＴｉ−4.5Ａｌ−3Ｖ−２Ｆｅ 野浪 亨．園田6172 −2Ｍｏ基板へのハイドロキシアパタイト粒 勉．長沼勝義．神谷子の圧入
晶．亀山哲也．許6173 第９６回講演大会報告
沼田博雄
6174 「．．．で．なんなんだい」．．．「へっ！？」 伊藤 滋
「小特集１．抗菌性表面処理技術の最新
6175
小林道雄
動向」の企画に当たって家電製品および生活関連資材における抗
6176
冨岡敏一
菌処理の現状6177 抗菌性金属表面処理
小林道雄
6178 低温溶射法による光触媒殺菌
桜田 司
環境マネジメントに関する国際規格−
6179
桑山広司
ISO14000シリ−ズについて−
電機．電子業界における認証取得の現状
6180
水野 繕
と動向
ＩＳＯ 14001自動車業界における認証取
6181
保科和宏
得の現状と動向
上谷正明．川西秀明．清川卓二．桑山
6182 テ−マ／ＩＳＯ 14000シリ−ズ認証取得
広司．保科和宏．水野 繕．山崎龍一
6157 溶融塩電気化学プロセスによる表面改質493

230 1998 3:解説

49
49

3
3

235 1998 3:解説
242 1998 3:解説

49

3

248 1998 3:解説

49

3

253 1998 3:解説

49

3

260 1998 3:解説

49

3

266 1998 3:解説

鉛フリー、はんだ,Sn,Ag,合金,非シアン、状態図、バンプ、
B02.電気めっき･電鋳 鉛フリー,Sn,合金,Ag,Bi,Zn
C06.洗浄Si,湿式洗浄,微粒子,汚染,オゾン
Si,予備酸化,ゲート,絶縁破壊,
B07.アノード酸化
キャリヤー
C06.洗浄乾燥,半導体,製造技術
化学増幅,レジスト,基板,雰囲気,
A05.塗布･塗装
アンモニア
Al,配線,エレクトロマイグレーショ
A04.吸着ン,吸着,テキスチャー
B02.電気めっき･電鋳493272 1998 23:小特集

49

3273 1998 18:用語

49

3

274 1998 9:シリーズ-2

49

3

280 1998 9:シリーズ-2

49

3

285 1998 10:比べてみよう

493

287 1998 5:原著論文

A01.物理蒸着(PVD)

モード変換,マイクロ波プラズ
マ,MOCVD,Zr,配向膜493292 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳

電析,Ni,Fe,比抵抗,軟磁性,有機
添加剤

49

3

297 1998 5:原著論文

B03.無電解めっき

無電解めっき,亜硫酸塩,チオシア
ン酸塩,ヨウ化物49

3

302 1998 5:原著論文

B05.熱分解･ゾルーゲル法

Ir,シリカ,傾斜材料,電極触媒,寿
命

49

3

305 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Fe,W,合金,電析膜,非晶質

493311 1998 5:原著論文

B05.熱分解･ゾルーゲル法

493

316 1998 5:原著論文

B06.熱処理(酸化･窒化･炭化) Al,イオン注入,Ti,N,高温酸化493

320 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 非シアン浴,Ag,アノード溶解

493

323 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳

腐食,防食,設備
B06.熱処理(酸化･窒化･炭化) SEM,触媒,帯電,加熱

SIMS,AES,EPMA

Ti,メタチタン酸,UVA,UV遮断

機械的性質,Cu,Ni,多層膜,ジュア
ル浴

49

4

329 1998 1:巻頭言49

4

331 1998 3:解説

49

4

336 1998 3:解説

49

4341 1998 3:解説

49

4347 1998 3:解説

49

4352 1998 3:解説

B02.電気めっき･電鋳 溶融塩,電析,非晶質,合金めっき

494356 1998 3:解説

B09.その他(新技術を含む)

494

361 1998 3:解説

B02.電気めっき･電鋳 溶融塩,Al,電析

49

4366 1998 3:解説

B02.電気めっき･電鋳 電析,合金,常温型溶融塩

494371 1998 9:シリーズ-2

A10.その他(新技術を含む)

B02.電気めっき･電鋳 Zn,鋼鈑,腐食生成物,表面分析

溶融塩,ハロゲン化物,精製,取り扱い法
表面改質,溶融塩,電気化学的プ
B02.電気めっき･電鋳
ロセス,注入,薄膜
B02.電気めっき･電鋳 電析,溶融塩,耐火金属
スクラップ,Al,溶融塩,電解精製,バB02.電気めっき･電鋳
イポーラー
B02.電気めっき･電鋳

燃料再利用,熱化学プロセス,溶融塩,超ウラン元素,核分裂生成物

腐食,環境,事例49

4

378 1998 9:シリーズ-2

49

4

383 1998 10:比べてみよう

494385 1998 5:原著論文

B01.化学蒸着(CVD) 超撥水性,マイクロ波,CVD,AFM

49

4391 1998 5:原著論文

A04.吸着エアコン,臭気,親水性494396 1998 5:原著論文

A02.溶射W,Co,Cr,Ni,分極,溶射494401 1998 5:原著論文

B03.無電解めっき

ポーラスシリコン,無電解めっき,
垂直磁化

49

4

407 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳電析,Zn,Co,Si,コンポジット,界面
活性剤

49

4

412 1998 7.速報論文

A10.その他(新技術を含む)

超塑性,Ti,水酸アパタイト

49
49

4
5

414 1998 講演会便り
425 1998 1:巻頭言49

5426 1998 3:解説

49

5427 1998 3:解説

49
49

5
5

433 1998 3:解説
439 1998 3:解説

49

5445 1998 3:解説

49

5452 1998 3:解説

49

5457 1998 3:解説

49

5

464 1998 21:座談会- 19 -

Ga,As,Si

抗菌材料,家電製品,表面処理,抗菌処理
B02.電気めっき･電鋳 抗菌材料,コンポジット,Ni
A02.溶射バイオケミストリー,光半導体,殺A05.塗布･塗装

地球サミット,環境マネージメント
環境マネージメント,認証取得,効
果的導入,サポート
ISO14001,自動車,環境マネージ
メント
ISO1400,認証

表面技術 1995〜1999

6183 無電解ニッケルめっきの長寿命化

久保井義夫

高分解能ＳＥＭによる薄膜表面構造の最
6184
多持隆一郎
適な撮影法
6185 アルミニウムとチタン
海老原健
マイクロ波プラズマＣＶＤ法による傾斜機 穂積 篤．梶田
6186
能皮膜の作製−酸化シリコン皮膜の表面 厳．高井治
ＳＵＳ304鋼材のめっき層及ぼす形成に溶 田中順一．大笹憲
6187
一．成田敏夫融Ａｌ−Ｓｉめっき浴中のＳｉ濃度の影響
亜鉛めっきのホイスカ−発生と浴中化学 大河原薫．室井良
6188
種の関係
一
溶融塩電析によるＮｉシリサイド膜の作製と 原 基．本間 明．
6189
その高温耐食性･佐藤芳幸
水晶振動子マイクロバランス（ＱＣＭ）法を 鶴田加一．野中重6190 用いたＡｇおよびＣｕのマイグ−ション過程 嗣．手塚秀夫．吉原の検討
佐知雄．白樫高史
横田俊子．金児絃
Ｓｎ不純物を含む銅電析皮膜のＴＥＭなら6191
征．半沢規子．土橋
びにＥＳＣＡ観察
誠．青木善平
山口文雄．小浦延6192 分散Ｔｉ０2粒子の粒径とその共析
幸．根岸秀之．井手
本健
6193 機能と見映えと
澤田 献
小特集１．「ガスと表面処理−ドライプロセ
6194
大工原茂樹
スを中心として」の企画に当たって6195 表面処理に利用するガス松本 功6196 スパッタリングプロセスとガス
清田哲司
6197 ＣＶＤとガス
牛川治憲

49

5

475 1998 9:シリーズ-2

B03.無電解めっき

無電解めっき,イオン交換膜,電解透析,Ni,P

C07.その他(新技術を含む)

SEM,冷輻射,低加速電圧

495482 1998 9:シリーズ-2

49

5

487 1998 10:比べてみよう

495

489 1998 5:原著論文

B01.化学蒸着(CVD)495

496 1998 5:原著論文

A03.溶融めっき

495502 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Zn,ホイスカー,シアン浴,化学種,C495507 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 電析,溶融塩,Ni,Si

49

5514 1998 5:原著論文

C07.その他(新技術を含む)

495

519 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 TEM,ESCA,Cu,Sn,不純物

495525 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 共析,粒子径,Ti,ζ電位496535 1998 1:巻頭言49

6

536 1998 23:小特集

49
49
49

6
6
6

537 1998 3:解説
542 1998 3:解説
547 1998 3:解説

Al,Ti
傾斜機能皮膜,Si,撥水性,プラズ
マCVD
Al,Si,合金,ステンレス鋼,ホットディップ

マイグレーション,Si,Cu,QCM

A01.物理蒸着(PVD) 安全性,データ,ガス,取り扱い法
A01.物理蒸着(PVD) スパッタリング,不純物,薄膜,Al
B01.化学蒸着(CVD) CVD,DRAM,薄膜,理論回路
反応ガス,ドライエッチング,イオン
C04.気相エッチング
エッチング,フルオロカーボン
B01.化学蒸着(CVD) 半導体,環境リスク,メンテナンス,

6198 ドライエッチングとガス

塚田 勉

49

6

552 1998 3:解説

6199 ガス利用装置の保守管理と適正処理
6200 小特集２．「溶射技術」の企画に当たって6201 溶射技術の最新動向
6202 高速フレ−ム溶射法の最新技術
6203 プラズマ溶射法の最新技術

柳田一志
岡田亮二
原田良夫
清水保雄．榊 和彦
沖 幸男

49
49
49
49
49

6
6
6
6
6

559 1998 3:解説
564 1998 23:小特集
565 1998 2:総説
572 1998 3:解説
578 1998 3:解説

6204 プラスチック溶射技術

佐々木光正

49

6

586 1998 3:解説

6205 溶射皮膜の評価技術

菅 泰雄

49

6

592 1998 3:解説

49

6597 1998 9:シリーズ-2

49

6603 1998 9:シリーズ-2

49

6609 1998 10:比べてみよう

496613 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳

熱処理,耐食性,無電解めっき,Ni,Sn49

6

618 1998 5:原著論文

B03.無電解めっき

Co,Fe,合金,非晶質,リボン,分極,
電極触媒,DMAB

49

6625 1998 5:原著論文

B03.無電解めっき

ダイレクト銅めっき,Pd,Sn,触媒,ABS,TEM

49

6

632 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳496637 1998 5:原著論文

C03.化学エッチング･電解エッチング

49

6643 1998 5:原著論文

C03.化学エッチング･電解エッチング

Al,交流,エッチング,硫酸,キャパシ
タ

49

6

649 1998 5:原著論文

B07.アノード酸化

Al,陽極酸化,アルカリ浴,アミン

49

6655 1998 7.速報論文

B01.化学蒸着(CVD)

ダイアモンド,薄膜,プラズマ,低温
カソード

49

6

657 1998 7.速報論文

C07.その他(新技術を含む)

レーサー,表面改質,YAG,Al,Ni,P49

6659 1998 7.速報論文

A05.塗布･塗装

粉体コーティング,内部応力,顔料,
加速試験,ウェザリング

49

6

661 1998 7.速報論文

B02.電気めっき･電鋳 Ni,P,耐食性,高速電着

49

6663 1998 7.速報論文

B02.電気めっき･電鋳

49
49

6
7

665 1998 22:技術資料
671 1998 1:巻頭言49

7

672 1998 23:小特集

49

7673 1998 18:用語

49

7676 1998 2:総説

生体材料,表面修飾,生体適合性

6206 バフ研磨のポイント
片鎌利男
ニッケル金属水素化物電池材料の表面と
6207
佐藤 登
構造解析
6208 オリンピックとワ−ルドカップ
小林道雄
無電解ニッケル−リン合金めっき皮膜の6209
園田 司．林 行信
耐食性に及ぼす上層スズめっきの影響
丸山耕一．増田美非晶質薄帯上への無電解Ｃｏ−Ｆｅ合金析
6210
枝子．沼田博雄．佐出の電気化学的特性
藤 駿．大野 湶
小野幸子．逢坂哲
Ｐｂ／Ｓｎ混合触媒を利用した銅のダイレク6211
彌．内藤和久．中岸
トプレ−ティング導体化過程の解析
豊
光沢Ｎｉ−Ｃｒめっき鋼板の屋外暴露試験に 藤田 実．横山真一
6212
よる腐食特性についての統計的評価郎．松本誠臣
高温リン酸によるファインセラミックスの牧野英司．柴田隆
6213
フォトエッチングのためのポリイミドレジスト 行．山田礼彦
菅沼栄一．丹野裕
塩酸／硫酸混合溶液中におけるアルミニ6214
司．中野正博．梅津ウムの交流エッチング
勇
アルミニウムの有機アルカリ性浴陽極酸 野口駿雄．佐野明
6215
化皮膜に及ぼす浴温度および浴電圧の影 寿
ダイヤモンド陰極を低温にした直流放電プ 阿部匡朗．廣澤さく6216 ラズマＣＶＤ法によるダイヤモンド薄膜の ら．山中 博．広瀬合成
洋一
日野 実．西田典
ＹＡＧレ−ザによるアルミニウム合金上の6217
秀．平松 実．辻川
無電解Ｎｉ-Ｐめっき皮膜の硬化処理
正人．川本 信風戸 健．山下嗣
粉体塗装膜の内部応力に及ぼす顔料の6218
人．中山佳則．数馬
影響
安男．滝沢貴久男
高速電析による耐食性ニッケル−リン合 小竹英次．山下嗣
6219
金薄膜の作製人
飲料環境中におけるニッケルめっきステン 福島 誠．滝沢貴久
6220
レス鋼製スプリングの腐食挙動
男
6221 第９７回講演大会報告
清水健一
6222 公設試験研究機関の役割
棚木敏幸「小特集／生体材料と細胞．組織の界面」
6223
遠藤一彦
の企画に当たって
生体材料と細胞．組織に関する基礎知識 遠藤一彦．安彦善
6224
（用語集）
裕
6225 生体材料の表面処理
遠藤一彦．大野弘
井上 孝．吉成正
歯科インプラントと生体骨組織との界面−
6226
雄．鮎川保則．田中
表面構造の影響−
輝男．下野正基
歯科インプラントと生体軟組織（上皮．結6227
安彦善裕．賀来 亨
合組織）との界面−粘膜貫通部の特殊性
高橋和人．岸 好6228 微少循環と歯科インプラント周囲組織
彰．松尾雅斗6229 歯質象牙質と接着性レジンの接着界面
鈴木一臣．矢谷博
6230 人工関節と骨との界面

大西啓靖

伊藤悦子．岡野光
6231 人工血管血液接触面の構造とその特性
夫
6232 ドライプロセスにおけるプラズマの役割と 堤井信力
フェライトめっきによる酸化物磁性膜の作 阿部正紀．北本仁
6233
製とその応用孝6234 薄膜磁気ヘッド用軟磁性めっき膜の動向 篠浦 治．逢坂哲彌

A02.溶射A02.溶射A02.溶射溶射,プラズマ,HVOF,機能皮膜
HVOF,最新技術,ガンデザイン,応プラズマ溶射,表面改質
低融点プラスチック,溶射,耐食性,
A02.溶射
耐水性,複合皮膜
溶射,評価,密着性,機械的性質,非A02.溶射破壊試験法
C01.機械研磨･研削 バフ,コンパウンド
Ni,H,二次電池,表面分析,構造解C07.その他(新技術を含む)
析,表面改質

光沢めっき,Ni,Cr,屋外暴露試験,
統計的評価
フォトエッチング,ファインセラミッ
クス,ポリイミド,リン酸

腐食,スプリング,ステンレス
鋼,Ni,S497

682 1998 3:解説

歯科インプラント,骨界面,表面形
態

49

7

690 1998 3:解説

歯科インプラント,界面,軟組織,上皮,結合組織497696 1998 3:解説

49

7

702 1998 3:解説

49

7

708 1998 3:解説

歯科インプラント,血管,SEM
歯,接着,歯質
界面,人工骨,関節,多孔体,ヒドロ
キシアパタイト,骨セメント
人工血管,生体材料,ブロック共重合,ミクロドメイン構造
A01.物理蒸着(PVD) プラズマプロセス,制御

49

7715 1998 3:解説

49

7

722 1998 3:解説

49

7

728 1998 3:解説

B04.アノード析出

49

7

734 1998 3:解説

B02.電気めっき･電鋳 薄膜磁気ヘッド,電気めっき,軟磁- 20 -

フェライト,めっき,酸化膜,磁性膜

表面技術 1995〜1999

セラミックス及びプラスチック表面の金属
神戸徳蔵
化技術
クロムめっきにおける大気濃縮装置導入
6236
柘植良男
のポイント
ラマン分光法によるダイヤモンド状炭素膜 吉川正信．岩上景
6237
の構造評価
子
6238 ダイヤモンドとＤＬＣ
広瀬洋一
縄舟秀美．池田一
L-酒石酸錯体浴からのスズ−銀合金めっ 輝．北村浩司．水本
6239
省三．武内孝夫．青き木和博
ポーラログラフィー法によるＣｏ−Ｗ合金 李 明．盛満正
6240の誘起共析機構の解析
嗣．松永守央藤田直幸．
接触めっき法によるＦｅ−Ｂ二次系アモル P.B.LIM．牧野栄6241
治．井上光輝．荒井
ファス合金薄膜の作製と磁気特性
賢一．藤井壽崇セラミックスのフォトエッチングのための環 牧野英司．柴田隆
6242
化ポリブタジエンレジスト膜の形成条件
行．山田礼彦ホローカソード放電を利用したＣｒ−Ｍｏ鋼6243
浦尾亮一．洪 晟弾のプラズマ浸硫窒化
Ｎｉ−ＴｉＯ2分散めっき表面の光触媒による 山口文雄．小浦延
6244
殺菌性
幸
堤 宏守．竹岡健
ジスルフィド結合を有するポリアミドの銅防6245
治．鬼村謙二郎．大食剤への応用
石 勉
重松一典．斉藤尚
アルミナイジングによるＡＺ91Ｄマグネシウ 文．馬渕 守．中西6246
勝．下島康嗣．山田
ム合金の表面硬化処理
康雄．中村 守有泉直子．清水良
無電解Ｎｉ-Ｐめっき初期析出過程に及ぼ6247
恵．柴田正実．古屋すパラジウム触媒の分散効果
長一
縄舟秀美．上垣
無電解銅−ニッケル二元合金めっき及び6248
隆．水本省三．石川
その電気抵抗特性
正巳．中村 恒6249 セミナ−活動の活性化
堀口 誠
6250 エンジンに用いられる表面処理技術
坂内恒雄「小特集／身近な自動車部品への表面処
6251
坂内恒雄
理技術の適用」の企画に当たって
菅原博好．竹中6252 自動車用エアコンの表面処理
修．金子秀明6253 塗装の艶出しとタイヤの洗浄艶出し
若生英樹．西田秀渡辺健太郎．山中6254 ウインドガラスのはっ水処理
雅彦
6255 半導体技術からみた実装技術
畑田賢造
システムサイドから見た実装技術−電子
大塚寛治
6256
装置の可能性を広げる実装技術−
6235

6257 話題商品にみる表面実装技術

青木正光

立体的なマイクロマシンを作る−高アスペ藤田博之
クト比マイクロ構造製作法
電析法による軟Ｘ線縮小投影リソグラフィ
6259
村上勝彦
−用反射マスクの作製
幅崎浩樹．清水健
アルミニウム合金のアノ−ド酸化：合金元
一．P.SKeldon．
6260 素の合金／被膜界面への濃縮と皮膜中でE.Thompson．
の移動性
G.C.Wood
6261 めっき用電源管理のポイント
荒井 亨
表面増強ラマン分光法による吸着インヒビ
6262
荒牧国次
タ−の構造解析6263 液晶ディスプレイとプラズマディスプレイ 堀 浩雄
高温濃厚LiBr水溶液中における炭素鋼と 馬渕勝美．菊池智6264
子．高橋英明ロウ材との異種金属間腐食
硝酸処理によるベルト研磨ステンレス鋼の
6265
木谷 滋
耐食性改善
マイクロアクチュエ−タ形成のための形状 牧野英司．柴田隆
6266
記憶合金圧延シ−ト材の電解フォトエッチ 行．David M.ALLEN
無電解プロセスによるグルコ−スのアンペ 松原 浩．近藤哲
6267
也．程内和範．山田
ロメトリックセンサ−の作製
金属の析出反応での電気化学的インピ− 板垣昌幸．渡辺邦
6268
ダンスで観察される誘導体挙動の理論的 洋．小浦延幸
フタロシアニン粒子分散型太陽電池のＮＯ ルディオノ．金子冨6269
2ガス吸着効果
士男．竹内 学
静電噴霧法（ＥＳＤ）を用いた複合酸化物 山田耕太．佐藤修
6270 薄膜の作製とリチウムイオン二次電池用 彰．藤野威男．西澤
電極材料への応用
松彦．山田 勇
有機溶媒を添加した常温型溶融塩浴から 小浦延幸．遠藤
6271の非晶質Ｃｏ−Ｚｎ合金の電析
巧．井手本康表面処理によるステンレス鋼の表面電荷 福崎智司．浦野博
6272の変動：表面水酸基の役割
水．平松 実6273 表面処理技術に係わる業界の発展のため 久保光康
6274 研磨技術とトライボロジ−
梅原徳次
6275 砥粒加工技術の最新動向
谷 泰弘･
6258

マイカ,金属化,アルミナ,ゾルゲル,
紙,Cu

49

7

740 1998 12:武井記念シリーズ B03.無電解めっき

497744 1998 9:シリーズ-2

B02.電気めっき･電鋳 Cr,回収,大気エバポレーター

49

7

750 1998 9:シリーズ-2

B01.化学蒸着(CVD)49

7

757 1998 10:比べてみよう

497759 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳

鉛フリーはんだ,Sn,Ag,合金,酒石
酸

49

7

764 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳Co,W,合金,誘起析出,ポーラログ
ラフィー

49

7

769 1998 5:原著論文

B03.無電解めっき

接触めっき,Fe,B,磁気特性,非晶
質

49

7

775 1998 5:原著論文

A05.塗布･塗装

49

7

781 1998 5:原著論文

49

7788 1998 7.速報論文

B02.電気めっき･電鋳 光触媒,Co,Ni,Ti,殺菌性49

7790 1998 7.速報論文

A04.吸着ポリアミド,ジスルフィド,Cu,腐食抑
制剤

49

7

792 1998 7.速報論文

A09.拡散皮膜

Mg,Al,表面硬化497794 1998 7.速報論文

B03.無電解めっき

Ni,P,無電解めっき,Pd,初期析
出,EQCM49

7796 1998 8:Letters

B03.無電解めっき

無電解めっき,Cu,Ni,合金,比抵
抗,TCR

49
49

8
8

803 1998 1:巻頭言
804 1998 3:解説

B06.熱処理(酸化･窒化･炭化) エンジン,電気めっき,化成皮

498804 1998 23:小特集

アモルファス,ラマン分光法,C,ダイ
ヤモンド状炭素(DLC)
ダイヤモンド,DLC

フォトエッチング,ファインセラミッ
クス,環状ポリブタジエン,リン酸
イオン窒化,ホローカソー
A01.物理蒸着(PVD)
ド,Mo,Fe,S,プラズマ硫化498812 1998 3:解説

B08.化成処理

エアコン,悪臭,親水性,防錆性

498817 1998 3:解説

A05.塗布･塗装

自動車ボディー,タイヤ,つや出し,撥水性,ガラス,ゾルゲル,Si49

8823 1998 24.トピックス

B05.熱分解･ゾルーゲル法

498826 1998 3:解説

C07.その他(新技術を含む)

49

8831 1998 3:解説

C07.その他(新技術を含む)

アセンブリー,パッケージン
パッケージング,チップワーヤリン
グ
表面実装,電子部品,PWB,パッ
C07.その他(新技術を含む)
ケージング
マイクロマシン,3D,半導
B02.電気めっき･電鋳体,LIGA,HARMS
Ni,電気めっき,マスク,紫外線,リソ
B02.電気めっき･電鋳
グラフィー

49

8

837 1998 3:解説

49

8844 1998 3:解説

49

8849 1998 3:解説

49

8854 1998 3:解説

49

8860 1998 9:シリーズ-2

49

8

866 1998 9:シリーズ-2

49

8

872 1998 10:比べてみよう

498875 1998 6:技術論文

498881 1998 6:技術論文

B08.化成処理

49

8887 1998 5:原著論文

C03.化学エッチング･電解エッチング

49

8

894 1998 5:原著論文

B03.無電解めっき

498900 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 EIS,電析,誘導性挙動498905 1998 5:原著論文

A04.吸着太陽電池,銅フタロシアニン,NO,
吸着

49

8

911 1998 7.速報論文

A06.泳動電着

ESD,薄膜,金属酸化物,電池カ
ソード

49

8

913 1998 7.速報論文

B02.電気めっき･電鋳 アモルファス,Co,Zn,電析,溶融塩

49

8915 1998 8:Letters

A04.吸着

49
49
49

9
9
9

921 1998 1:巻頭言
922 1998 2:総説
928 1998 3:解説

B07.アノード酸化

陽極酸化,Al,界面濃縮,イオン移動A04.吸着電源,効率,省エネルギー
表面増強ラマン分光法,腐食抑制剤,Cu,Ag
LCD,PDP
LiBr,炭素鋼,フラックス,高温,腐食
ステンレス鋼,耐食性,鉱油,ベルト
研磨,硝酸
硫酸,メタノール,マイクロアクチュ
エータ
グルコース分析,無電解めっき,Cu,Ni

ステンレス鋼,OH基,ポテンシオメ
トリー,水蒸気吸着

C01.機械研磨･研削 トライボロジー,機械研磨,CMP
C01.機械研磨･研削 品質,制御性,,生産性
軟粉末,超微粒子,化学機械研磨,
C01.機械研磨･研削
ラッピングディスク
化学機械研磨,シリコンウエ
C01.機械研磨･研削
ファー,平坦性,微少あらさ

6276 最近の砥粒材料と研磨

川田研治

49

9

933 1998 3:解説

6277 化学機械研磨

桝村 寿

49

9

938 1998 トピックス

49

9943 1998 23:小特集

49

9944 1998 3:解説

A04.吸着撥水性,光制御,超撥水表面49

9950 1998 3:解説

A05.塗布･塗装

CRT,反射防止膜,防汚層

499956 1998 3:解説

A05.塗布･塗装

無機層,有機層,複合層

499963 1998 9:シリーズ-2

C07.その他(新技術を含む)

3D表面トポグラ
フィー,SEM,SPM,Cu,電析

6278 小特集２．化学的な表面制御 企画にあ

森 誠之
佐々木 洋．庄司三6279 超はっ水表面のはっ水性の光制御
良6280 テレビ表面の改質
近藤洋文
多賀谷英幸．堀 卓
界面制御による有機−無機機能性複合材
6281
也．桑原恒男！門料の創製
川淳一．千葉耕司
めっき表面の形状測定−ミクロ表面形態
6282
森河 務．横井昌幸
を測定する- 21 -

表面技術 1995〜1999

6283 水性塗料と溶剤塗料
和田英男
6284 マグネシウム合金への電気めっき
尾形幹夫
硬質材料の金属に対する摩擦．摩耗特性 出水 敬．曽根6285
−硬質特性と焼結材料の比較−
匠．石垣博行．川本
中出卓男．佐藤幸
３価クロムめっき浴からのＣｒ−Ｐ−Ｃ合金
6286
弘．森河 務．横井
めっき昌幸
大気加熱処理による電析Ｃｒ皮膜の耐孔
6287
山崎 修
食性向上効果
山崎澄男．上野正フレキシブルなバナジウム酸化物／ＰＰＴ
浩．島田勝晴．添嶋
6288 Ａ複合電析膜の作製とそのエレクトロクロ
康廣．大浦博樹．津
ミック特性
留寿昭
ＲＦスパッタリングによるＺｎＯ透明導電薄 辻 隆志．小嶋裕6289
膜特性へのＡｒ圧力と･基盤温度の影響
之．広橋光治ニッケル酸化膜の摩擦によるエキソ電子 橋本顕宣．井上和6290
放出とエタノ−ルの分解反応との関連
浩．百瀬義広パラジウム薄膜パタ−ンのレ−ザ描画に牧野英司．柴田隆
6291 おける基板材料および酢酸パラジウム塗行．早川洋平布膜厚の影響
硫酸浴中で直流及び交流にてＡｌをアノ−
川合 慧．山室正6292 ド電解し．Ｓｎを電解析出した２重皮膜の明．和田健二研究−皮膜の微細構造．化学的及び光学
ＴｉＡｌの高温酸化に及ぼす微量ＮＣｌ蒸気を
6293
原 基．北川善朗
含む酸素中での予備酸化の効果
関東支部と電鋳・金型の表面処理研究部
6294
中澤洋二
会共催による講演会および見学会報告6295 公設試が生き残る道
馬飼野信一［小特集/湿式エッチングとその応用］企画
6296
海老名延郎
によせて

49
49

9
9

969 1998 10:比べてみよう A05.塗布･塗装
塗料,溶剤
971 1998 6:技術論文
B02.電気めっき･電鋳 Mg,電析
摩擦,磨耗,セラミックス,コーティン
B06.熱処理(酸化･窒化･炭化)974 1998 5:原著論文
グ

49

9

49

9

980 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳499985 1998 5:原著論文

B06.熱処理(酸化･窒化･炭化) ベーキング,耐ピット性,Cr49

9990 1998 5:原著論文

B04.アノード析出

V,PPTA,エレクトロクロミック,機械
的性質

49

9

996 1998 5:原著論文

A01.物理蒸着(PVD)

Zn,RFスパッタリング,抵抗,密着性,スペクトル49

9 1003 1998 5:原著論文

C07.その他(新技術を含む)

Ni,摩擦,XPS,表面電位499 1010 1998 5:原著論文

A05.塗布･塗装

レーサパターンニング,Pd,薄膜,ガラス,ポリイミド

49

9 1016 1998 5:原著論文

B07.アノード酸化

陽極酸化,電解着色,干渉色

49

9 1021 1998 7.速報論文

B06.熱処理(酸化･窒化･炭化)

Ti,Al,金属間化合物,高温酸化,予
備酸化,食塩Cr,P,C,合金,カチオン交換膜,非晶質

49

9 1023 1998 支部便り

49

10 1029 1998 1:巻頭言

49

10 1030 1998 23:小特集

49

10 1031 1998 2:総説

C03.化学エッチング･電解エッチング

49

10 1038 1998 3:解説

C03.化学エッチング･電解エッチング

49

10 1044 1998 3:解説

C03.化学エッチング･電解エッチング

フォトエッチング,フォトレジスト,
アートワーク,半エッチング
エッチング,フォトレジスト,エッチン
グ速度
エンプラ,プラスチック,エッチング

49

10 1052 1998 3:解説

C03.化学エッチング･電解エッチング

ネームプレート,マスキング

津久井 豊

49

10 1057 1998 3:解説

C03.化学エッチング･電解エッチング

6302 走査型プローブ顕微鏡を用いた微細加工 杉村博之

49

10 1061 1998 3:解説

49

10 1067 1998 3:解説

49

10 1073 1998 3:解説

49

10 1078 1998 3:解説

A01.物理蒸着(PVD)

49
49
49

ガス,磁性薄膜,ターゲット,反跳粒
子,イオンビーム
B02.電気めっき･電鋳 Cr,膜電解,不純物
10 1083 1998 9:シリーズ-2
10 1087 1998 9:シリーズ-2
A03.溶融めっき
Sn,TFS,めっき鋼板,表面分析,密10 1093 1998 10:比べてみよう A04.吸着
ガラス,親水化,撥水化

49

10 1095 1998 5:原著論文

A01.物理蒸着(PVD) Fe,N,窒化,電子シャワー

49

10 1100 1998 5:原著論文

A02.溶射49

10 1105 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 鋼ボルト,溶融塩,合金層,Zn,Al49

10 1111 1998 5:原著論文

C07.その他(新技術を含む)

Ti,化学センサ49

10 1116 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳

電気めっき,原子構造,EXAFS,小
角X線散乱

49

10 1123 1998 5:原著論文

C07.その他(新技術を含む)

Ir,Ti,寿命,シリカゾル,加速試験

49

10 1128 1998 13:研究ノート

B02.電気めっき･電鋳6297 湿式エッチングの基礎と応用

加藤凡典

高密度プリント配線板におけるエッチング
豊永 実
技術の動向
6299 各種プラスチックのエッチング技術
佐藤一也
ネ−ムプレ−ト作製プロセスー湿式エッチ
6300
上原洋一
ングの利用を含めて
6298

6301 各種めっき金属皮膜のエッチング

酸化物巨大磁気抵抗薄膜の作製とその応 中野耕太郎.山崎陽
6303
用
太郎
･透過電子顕微鏡による材料表面の高温
6304
上野武夫
高分解能観察スパッタ法による磁性膜作製におけるｶﾞｽ
6305
中川茂樹.直江正彦
種の検討
6306 工業用クロムめっきの液管理とその効果 阿部 弘
6307 表面処理鋼鈑の表面分析
前田重義
6308 ガラスの表面処理ー親水化とはっ水化ー 奥野和義
李 松姫.高野昌樹.
電子シャワー法によるＦｅ4Ｎ膜の作製およ6309
鈴木理之.湯本久
び鉄の窒化
美.石原正統ＺｒＯ2ーＮｉＣｒＡＩＹプラズマ溶射皮膜の熱溶 園家啓嗣.北原 繁.
6310
射皮膜の熱応力によるき裂の特性･
戸部省吾
溶融Ｚｎ−Ａｌボルトめっき材のめっき層の 田中順一.阪口 貢.
6311
改善
成田敏夫
モハッメド ラフィッ
交流型酸化チタン硬膜化学センサーへの6312
クル イスラム.熊沢
電極材料効果紀之.竹内 学
篠田弘造.松原英一
水溶液中のＭｏ錯体構造とＭｏ合金めっき 郎.早稲田嘉夫.植6313
川英治.邑瀬邦明.
機構
平藤哲司.栗倉泰弘
チタン基体ＳｉＯ2ーＩｒＯ2系酸素発生電極 山下智司.小川功
6314
の寿命評価
史.虫明克彦.増子
周期的逆電解による酸化イリジウム系ア 孟 恵民.盛満正嗣.
6315
ノードの異常劣化
松永守央
電気銅めっきによる超微細パターンの作 石橋純一.高田祐6316
一.本間英夫製
6317 熱電極上への亜鉛の電析
劉 暉.興戸正純
6318 雑感（産学官連携について）
浅井利彦
6319 表面処理による黒色化技術
榎本英彦
6320 黒色クロムめっきの原理と応用
山本良雄
6321 黒色スズ系合金めっきの原理と応用
丸田正敏
亜鉛および亜鉛系合金めっきの黒色化処
6322
青江徹博
理
6323 黒色スズーニッケルー銅合金めっき
西村敏行［小特集2.ＵＬＳＩ微細Ｃｕ配線技術の新し
石田 章
6324
い展開］の企画に当たって微細Ｃｕ配線プロセスにおける成膜技術の
6325
上野和良
現状と課題
6326 銅微細配線システム
谷口和広
6327 湿式銅めっき法によるＵＬＳＩ配線技術の課 縄舟秀美
低温ロングスローススパッタリングを用い
高桑一雄
6328
た新Ｃｕ成膜プロセスの展開
6329 ＣＶＤ-Ｃｕ膜の高速成膜
小林明子
プリント回路上のイオンマイグレーションの
6330
吉原佐知雄
ＱＣＭによる評価
6331 ワインの赤と白
海老名延郎
斉藤英之.八木澄
マイクロ波プラズマＣＶＤ法による表面酸子.酒井 彰.三沢俊6332 化処理したクロム基板上でのダイヤモンド
平.田中壽晃.相馬の合成
英明.田中大之鉄族金属共存下におけるＺｎの中野博昭.秋山徹
6333
Underpotential Deposition也.福島久哲49

10 1131 1998 7.速報論文

49
49
49
49
49

10 1133 1998 7.速報論文
11 1139 1998 1:巻頭言
11 1140 1998 2:総説
11 1147 1998 3:解説
11 1153 1998 3:解説

49

11 1158 1998 3:解説

49

11 1164 1998 3:解説

49

11 1170 1998 23:小特集

電鋳,金型

エッチング,剥離,素地金属,めっき,
腐食
走査プローブ顕微鏡,自己組織
C07.その他(新技術を含む)化,オルガノシラン,ナノファブリ
磁気記録,MRヘッド,ペロブスカイ
A01.物理蒸着(PVD)
ト,マグネタイトC07.その他(新技術を含む)

TEM,高温,Si,C,結晶

Zr,Y,プラズマスプレイ,熱膨張率

Ir,アノード,PR電解,異常劣化,逆電解
ダマシンプロセス,Cu,電析,微細B02.電気めっき･電鋳パターン
B02.電気めっき･電鋳 Zn,電析,熱電極,結晶配向
B08.化成処理
電気めっき,化成皮膜,陽極酸化,
B02.電気めっき･電鋳 黒色クロムめっき,原理,応用
B02.電気めっき･電鋳 黒色合金めっき,Sn,Ni,Co
黒色クロメート,モリブデン酸塩,自B08.化成処理
動車部品
B02.電気めっき･電鋳 Ti,Ni,合金めっき,着色

電析,Cu,LSI,配線49

11 1171 1998 3:解説

C07.その他(新技術を含む)

49
49

11 1176 1998 3:解説
11 1180 1998 3:解説

B02.電気めっき･電鋳 トータルアプローチシステム
B02.電気めっき･電鋳 ULSI配線,Cu,電気めっき

49

11 1185 1998 3:解説

A01.物理蒸着(CVD) LTS,Cu,配線49

11 1192 1998 3:解説

49

A01.物理蒸着(CVD) CVD,Cu,析出速度
イオンマイグレーショ
C07.その他(新技術を含む)
11 1196 1998 9:シリーズ-2
ン,QCM,Ag,Cu,インヒビター
11 1201 1998 10:比べてみよう
ワイン

49

11 1203 1998 5:原著論文

C07.その他(新技術を含む)

マイクロ波プラズマ,CVD,ダイアモ
ンド,Cr,酸化皮膜

49

11 1209 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳アンダーポテンシアル,電析,Fe,Zn49- 22 -

表面技術 1995〜1999

EMIC系常温型溶融塩浴からの非晶質Co- 小浦延幸.松本 哲.
Zn合金の電析
井手本 康
レーザー照射および局部Ｎｉめっきによるア 坂入正敏.若林 潤.
6335 ルミニウム表面のパターンニング−・.･
高橋英明.阿部芳レーザー照射によるアノード酸化皮膜の 彦.片山直樹
レーザー照射および局部Ｎｉめっきによるア 坂入正敏.若林 潤.
6336 ルミニウム表面のパターンニング−・.･
高橋英明.阿部芳レーザー照射部における局部Ｎｉめっきと 彦.片山直樹
6337 溶融塩電析によるＭｏシリサイドの生成
原 基.土田知行
無電解めっき法による半導体複合めっき 岩岸哲也.八重真
6338
治.松田 均膜の作製とその光電気化学特性
ステンレス鋼表面に吸着したタンパク質の 福崎智司.浦野博
6339
形態の研究
水.平松 実6340 本質の追究
竹中 修
本間荘一.吉岡潤一
6341 ウェーハーバンプ形成技術
郎.蛭田陽一6342 鉛フリ−はんだ接合に対応するめっき技 縄舟秀美
6334

6343 半導体実装における新しい表面処理技術 若林信一

49

11 1215 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 ＥＭＩＣ、溶融塩浴、非晶質、電析49

11 1220 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳

Al,アノード酸化皮膜,レーザ,Ni,パターンニング49

11 1227 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳

Al,アノード酸化皮膜,レーザ,Ni,パターンニング

B02.電気めっき･電鋳 電気めっき,溶融塩,Ni,Si,Mo
無電解めっき,半導体,微粒子,複合皮膜,光電気化学
ステンレススティール,蛋白質,吸A04.吸着
着,ポテンシオメトリー,静電相互

49

11 1233 1998 7.速報論文

49

11 1235 1998 7.速報論文

49

11 1237 1998 8:Letters49

12 1243 1998 1:巻頭言

B09.その他(新技術を含む)

49

12 1244 1998 3:解説

C07.その他(新技術を含む)

12 1272 1998 24.トピックス

バンプ,フリップチップ,電気めっき,
はんだ付け,レジスト
B02.電気めっき･電鋳 鉛フリーはんだ,Sn,地球環境,
パッケージング,バンプ,ビルトアッ
B09.その他(新技術を含む)
プPCB,
B03.無電解めっき
EMIシールド,Cu,無電解めっき,Ni
3D配線,MID,無電解めっき,イン
B03.無電解めっき
ジェクションモールド
B02.電気めっき･電鋳 電気めっき,PCB,Cu,箔

49

12 1277 1998 6:技術論文

B02.電気めっき･電鋳 複眼レンズ金型,光沢めっき

49

12 1283 1998 6:技術論文

B02.電気めっき･電鋳Pd,Ni,スルファミン酸浴,リードフ
レーム,クラック49

12 1291 1998 6:技術論文

C07.その他(新技術を含む)

無電解めっき,Au,Ni,BGAテープ
キャリヤー

12 1298 1998 6:技術論文

B03.無電解めっき

無電解めっき,Au,非シアン浴,チオ
尿素,ハイドロキノン

12 1305 1998 5:原著論文

B03.無電解めっき

49

12 1251 1998 3:解説

49

12 1257 1998 24.トピックス

6344 無電解めっきによる電磁波シ−ルド

中村憲二

49

12 1262 1998 24.トピックス

6345 立体配線技術−ＭＩＤのめっき技術

駒木根力夫

49

12 1266 1998 24.トピックス

6346 電解銅箔技術
光沢めっき法による複眼レンズ金型製造
6347の検討
パラジウムめっきリ−ドフレ−ムの曲げ特6348
性に及ぼす下地ニッケルめっきの析出条
ＢＧＡパッケ−ジようテ−プ基板における6349 無電解金めっき厚さとワイヤボンディング性およびはんだボ−ル接合性

高橋直臣
川崎 実．浅沼豊
人．鈴木哲也
珍田 聡．秋野久
則．米川琢哉49

珍田 聡．宮本宣明．吉岡 修

B03.無電解めっき

井上隆史．安藤節
チオ尿素−ヒドロキノン２元還元剤系を用 夫．牛尾二郎．奥平
6350 いた極めて安定な非シアン無電解金めっ 弘明．竹原裕子．太 49
き浴
田敏彦．山本 弘･．横野 中ポリイミドフイルム上へのレーザ−照射無 永峰 聡．小早川紘
6351
49
電解金めっき一．佐藤祐一5,5-ジメチルヒダントインを用いたアルカリ 伊勢立彦．湯浅
496352
真．関根 巧．新藤系Ｓｎ−Ａｇ合金めっき浴の検討
クエン酸アンモニウム−ヨウ化カリウム浴 藤原 裕．楢原泰栄
6353 からのＳｎ−Ａｇ合金めっきにおけるアノー 子．江本英彦．船田 49
ドの挙動
清孝．小見 崇縄舟秀美．中尾誠
ギ酸を還元剤とするモノアミノジカルボン
6354
一郎．水本省三．内 49
酸錯体浴からの無電解パラジウムめっき
田 衛．岡田 隆
次亜リン酸塩を還元剤とする無電解銅
水口泰一．小林6355
49
めっきによる導体層−絶縁樹脂層の密着 健．藤波知之．本間
小林 健．川崎淳
電気銅めっきを用いた各種波形制御によ6356
一．石橋純一．田中 49
るビアフィリング健太郎．本間英夫
横島時彦．湯浅寛
無電解ＮｉＢめっきを用いたマイクロパター
6357
49
子．金 満．逢坂
ニングにおける錯化剤の影響
哲彌
藤田直幸．パン．ボ
マイクロ磁気デバイスへの応用を目的とし イ．リム．伊藤昌
496358
伸．井上光輝．荒井
たＦｅ−Ｂアモルファス電析膜の作製
賢一．藤井壽崇
常光幸美．柏原
6359 電析磁性ナノ構造の機能性
49
智．林 安徳野中重嗣．中村
水晶振動子マイクロバランス法を用いたは6360
誠．鶴田加一．吉原 49
んだのイオンマイグレーション過程の検討
佐知雄．白樫高史
無電解ＣｏＮｉＰ傾斜機能磁性薄膜の断面 喜多洋介．本間敬
6361
49
構造解析
之．逢坂哲彌
縄舟秀美．中尾誠
6362 無電解銅めっき法によるＵＬＳＩ配線の形成 一郎．水本省三．村 49
上義樹．橋本 伸
新年にあたって−５０周年記念事業を新し
6363
白石 振作
50
い技術開発につなげるために−清水 健一・幅崎
バルブ金属表面に生成するアノード酸化 浩樹・P.Skeldon･
50
6364
G.E.Thompson･
皮膜の構造と性質
G.C.Wood
液晶ディスプレイ向けアルミニウム配線の 荒井俊明・廣升泰
6365
50
アノード酸化信・飯寄英保バルブメタルの金属間化合物のアノード酸 佐々木克孝・尾関6366
50
化とコンデンサへの応用
雅彦
6367 アノード酸化皮膜を用いる厚膜ＥＬ素子
50
高橋 恒
趙 志宏・草刈真
6368 めっき膜の抗菌作用とその応用
50
一・坂上吉一・逢坂
506369 原子間力顕微鏡の利用法
杉村博之
50
6370 表面アラサ,表面あらさ,表面粗さ
庄司典明
三磁極マグネトロンスバッタリング法によ 山下昌三・松原秀
506371
樹・深海龍夫るＮi-Ｃr合金薄膜の作製
ＴiＮ-Ｔi（Ｃ,Ｎ）-結合膜-α-ＡI2Ｏ3膜被覆 石井敏夫・島 順
6372
50
切削工具のマイクロ組織と切削特性
彦・植田広志・権田
ＡIＰ法により作製したＴiＮ,ＣrＮ,Ｃr2Ｎおよ山本兼司・佐藤俊
6373 びＡIＴiＮ膜の熱膨張率および二軸弾性率50
樹・岩村栄治の温度依存性二川正敏・Ｒof Ｗ・
Ｓi-ＳiＣセラミックスに生成した二層構造シ
6374
50Ｓteinbrech・涌井
リカ皮膜におよぼす熱処理の影響
隆・倉部 誠無電解Ｐd-Ｎｉ合金比率におよぼす浴組織 渡辺秀人・渡辺健
6375
50
の影響
治・本間英夫
ヒダントインおよびヒダントイン誘導体を用 朝川隆信・鎗田聡
6376
50
いた非シアン系銀めっき浴
明

12 1310 1998 5:原著論文

レーザめっき,無電解めっき,Au,ポリイミドフィルム,シアンフリー浴
鉛フリーはんだ,Sn,Ag,合金めっ
B02.電気めっき･電鋳き,アルカリ浴

12 1316 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳

合金めっき,Sn,Ag,アノード材料,ヨ
ウ化物,鉛フリーはんだ

12 1322 1998 5:原著論文

B03.無電解めっき

無電解めっき,ゼロエミッション,硬さ,はんだ付け性,錯化剤

12 1327 1998 5:原著論文

B03.無電解めっき

12 1332 1998 5:原著論文

次亜リン酸塩,無電解めっき,Cu,
密着性,ビルトアップPCB
ビアフィリング,電流波形,無電解
B02.電気めっき･電鋳 めっき,電気めっき,プラナリゼー
ション
無電解めっき,マイクロパターンニ
ング,DMAB,錯化剤

12 1336 1998 5:原著論文

B03.無電解めっき

12 1343 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 アモルファス,Fe,B,ESCA

12 1351 1998 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳

磁性皮膜,ナノ構造,多層膜,巨大
磁気抵抗

12 1356 1998 7.速報論文

C07.その他(新技術を含む)

マイグレーション,水晶振動子,Pb,Sn12 1358 1998 7.速報論文

B03.無電解めっき

傾斜材料,磁気特性,Co,Ni,P

12 1360 1998 7.速報論文

B03.無電解めっき

ULSI,Cu,ﾀﾞﾏｼﾝ,無電解めっき

B07.アノード酸化バルブ金属,酸化皮膜,構造1

1 1999 1:巻頭言

1

2 1999 3:解説

1

10 1999 3:解説

B07.アノード酸化1

16 1999 3:解説

B07.アノード酸化

液晶,ディスプレイ,アノード酸化
バルブメタル,金属間化合物,コン
デンサ
アノード酸化,EL,厚膜

121 1999 3:解説

B07.アノード酸化125 1999 3:解説

B02.電気めっき･電鋳 めっき膜,抗菌11C07.その他(新技術を含む) 原子間力顕微鏡
31 1999 9:シリーズ-2
38 1999 10:比べてみよう C07.その他(新技術を含む) 粗さ

1

41 1999 6:技術論文

A01.物理蒸着(CVD) スパッタリング,Ni,Cr,薄膜1

47 1999 5:原著論文

C01.機械研磨･研削 Ti,Ni,アルミナ,切削加工

152 1999 5:原著論文

A01.物理蒸着(CVD) TiN,CrN,熱膨張,弾性率

158 1999 5:原著論文

B06.熱処理(酸化･窒化･炭化) Si,熱処理,セラミックス

1

63 1999 5:原著論文

B03.無電解めっき

Pd,Ni,合金1

68 1999 5:原著論文

B03.無電解めっき

銀めっき,添加剤- 23 -

表面技術 1995〜1999

日野 実・西田典
秀・平松 実・牧野
一貫・金谷照人
界面活性剤によるＰＴＦＥ粒子表面改質の 田里伊佐雄・林 秀
6378
Ｃu-ＰＴＦＥ分散めっきに及ぼす効果
孝・浮田茂幸佐貫須美子・本吉
ビニルトリエトキシシランによる酸化チタン
6379
史武・長岡 茂・真のカップリング処理
嶋 宏
酸化チタン膜の光触媒反応に及ぼす酸素 井上陽一・池田由6380
イオン注入の影響
紀子・吉村保廣超音速分子線を用いたＡrＦエキシマレ−
6381
本田数博
ザ−誘起ＣＶＤ法による金属光沢薄膜の
Ｃr2Ｏ3含浸によるＺrＯ2溶射皮膜の改質と 荻野邦彦・大森
6382
損傷特性
明・森本純司
粗化処理無しの平滑銅−エポキシ絶縁樹 小林 健・望月6383
脂間の密着性勇・高橋秀臣・本間
6384 日米Ｊoint Ｆorumに参加して
奥野和義
6385 Ａsian Ｆinish 98 表協視察団に参加して 吉原佐知雄
6386 環境対策にこそ公的資金を野口裕臣「小特集・．めっきの基本組成の役割」の
6387
奥野和義
企画に当たって6388 無電解銅めっき
藤波知之
6389 電気銅めっき
西浜幸男
6390 無電解ニッケルめっき
田代雄彦
6391 電気ニッケルめっき
村上 透
6392 クロムめっき
渡邊和夫
6393 スズ,はんだおよび鉛フリ−合金めっき
辻 清貴
6394 ゾル−ゲル法のやさしい概要とその用途 土岐元幸
6395 プラスチック眼鏡のハ−ドコ−ト膜中島幹人
6396 液晶パネル中の機能性絶縁膜
吉田宣昭
6397 ゾル−ゲル法による金属材料への耐食性 平井伸治
6398 準結晶とアモルファス
葵 安邦
ＡｌＰ法で形成したＴiＮ膜の純アルミ溶湯と 山本兼司・安永龍
6399
の反応性
哉・佐藤俊樹高周波誘導型高密度プラズマを用いた純 山田仁子・伊藤
6400
鉄の窒化
滋・明石和夫
鉛蓄電池における負極の異常成長と充放 田口正美・渡邊満
6401
電特性に及ぼすリグニンの影響
生
ニッケルめっき膜の引張応力に及ぼすクロ6402
津留 豊・大野倫子
ム（・）イオンの影響
6403 スルファミン酸塩浴からのＣu/Ｎi多層膜の 三宅猛司・久米道
塩酸溶液中の三角波パルス電流エッチン 菅沼栄一・丹野祐
6404
グで生ずるアルミニュウムのピット形態と 司・伊藤 武・中野
複合サイクル腐食試験における有機複合 筋田成子・望月一
6405
被覆鋼板の耐食性機構
雄・森戸延行
凍結時に促進されるシアン化物イオンによ
6406
本田数博
るヘキサシアノ鉄（Ⅲ）酸イオンの還元反
無電解めっき法におけるセンシタイジング 曽我倫明・内野智
6407 液の長寿命化−溶存酸素制御と安定化 朗・山岸憲史・八重剤添加の効果−真治・松田 均6408 第38回講演大会報告
松永利昭
1998年北海道夏期セミナ−と北海道支部
6409
遠藤一彦
設立10周年記念式典に参加して6410 表面技術の進歩と協会誌
瀬尾眞浩
6411 光触媒の固定化法
吉本哲夫
6412 光触媒の超親水性−理論と応用
下吹越光秀
6413 照明製品の防汚コ−ト石崎有義
光触媒皮膜による抗菌作用とその効果−
6414
山口靖英
酸化チタンと酸化亜鉛被膜−
6415 光触媒膜の大気浄化材料への応用
竹内浩士
6416 光学顕微鏡の正しい使い方-20の常識− 小松 啓
6417 氷温とパ−シャル
武田宏治
アモルファスシリコン薄膜トランジスタのオ 鷲塚 諫・藪田哲
6418
フ電流特性に及ぼすプラズマ処理の効果 史・岡本昌也
電流遮断法による単結晶シリコン陽極酸 柚賀正光・竹内
6419
化の解析
学・大山昌憲上田順弘・曽根6420 流動層中でのニッケルのホウ化処理
匠・水越朋之・池永明・川本 信赤沼正信・田中大ＴiＯ2粉末を用いたレ−ザアロイングによ6421
之・高橋義美・柴田
るアルミニュウムの表面改質
隆行・牧野英司・池無電解ＮiＢめっきにおける複合錯化剤の 金 満・飯塚 淳・
6422
影響
久保宮敬幸・逢坂鵜川孝行・大浦公
白金上の水素吸着過程に対する磁気効
6423
志・森 香代・吉原果の検討
佐知雄・白樫高史
6424 実績評価のあり方
大坂 敏明
6425 無電解黒色めっき
伊藤 英彌6426 アルミニウム陽極酸化皮膜の黒染め処理 坂口 雅章
6427 銅および銅合金の黒色化処理
小嶋隆司
6428 新シリーズ掲載開始にあたって伊藤 輝明
6429 新電気化学入門
馬場 宣良
6430 Ｘ線回折法による薄膜材料の評価･
飛田 一郎
6431 天然歯と歯科インプラント
遠藤 一彦
ダイアモンド膜の耐摩耗性に及ぼす圧縮 竹内 貞雄、村川
6432
応力の効果
正夫
ニッケル−リン合金めっき膜の内部ひずみ 都留 豊、持永 光
6433に及ぼす亜鉛イオンの影響爾
金 満、飯塚 淳、
無電解ＮｉＢ被膜の結晶構造に及ぼす共析6434
久保宮敬幸、逢坂元素の影響
哲彌
渡辺 恵司、坂入
ゾル・ゲルコーティング−Ｚｒ酸化物に覆わ
6435
正敏、高橋 英明、れたアルミニウムのアノード酸化
平井 伸治、山口
6377

硫酸浴からのＺn-Ｎi合金めっきに及ぼす界面活性剤の影響

50

1

72 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Zn,Ni,界面活性剤

50

1

78 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 界面活性剤,PTFE,Cu50

1

84 1999 5:原著論文

A10.その他(新技術を含む)

TiO2,カップリング

50

1

90 1999 5:原著論文

A10.その他(新技術を含む)

TiO2,光触媒,イオン注入

50

1

95 1999 13:研究ノート

A01.物理蒸着(CVD) エキシマレーザ,薄膜50

199 1999 7.速報論文

A02.溶射Cr2O3,ZrO2,

50

1

101 1999 8:Letters

A10.その他(新技術を含む)

密着性,Cu,エポキシ樹脂

50
50
50

1
1
2

103 1999 19:寄稿
103 1999 19:寄稿
127 1999 1:巻頭言50

2

128 1999 23:小特集

50
50
50
50
50
50
50
50
50
50
50

2
2
2
2
2
2
2
2
2
2
2

129 1999 3:解説
B03.無電解めっき
Cu
135 1999 3:解説
B02.電気めっき･電鋳 Cu
140 1999 3:解説
B03.無電解めっき
Ni
146 1999 3:解説
B02.電気めっき･電鋳 Ni
B02.電気めっき･電鋳 Cr
149 1999 3:解説
155 1999 3:解説
B02.電気めっき･電鋳 Sn,Pb
B09.その他(新技術を含む) ゾルーゲル
161 1999 2:総説
167 1999 3:解説
A01.物理蒸着(CVD) プラスチック,ハードコート
B09.その他(新技術を含む) 液晶,絶縁膜
171 1999 3:解説
B05.熱分解･ゾルーゲル法 ゾルゲル,金属
175 1999 3:解説
182 1999 10:比べてみよう
準検証,アモルファス

50

2

185 1999 5:原著論文

A10.その他(新技術を含む)

50

2

191 1999 5:原著論文

B06.熱処理(酸化･窒化･炭化) プラズマ,Fe50

2

196 1999 5:原著論文

B09.その他(新技術を含む)

50

2

202 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Ni,Cr,引っ張り応力502

208 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Cu,Ni,多層膜502

212 1999 5:原著論文

C03.化学エッチング･電解エッチング

パルス,エッチング,Al,ピット

50

2

218 1999 5:原著論文

B09.その他(新技術を含む)

有機被膜,腐食試験

502

225 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 シアン化物,Fe50

2231 1999 7.速報論文

B03.無電解めっき

溶存酸素,安定化剤

502

233 1999 22:技術資料

502

236 1999 22:技術資料

50
50
50
50

3
3
3
3

241 1999 1:巻頭言
242 1999 3:解説
247 1999 3:解説
251 1999 3:解説

B09.その他(新技術を含む)
B09.その他(新技術を含む)

A05.塗布･塗装

光触媒
光触媒,親水性
照明器具,防汚503

256 1999 3:解説

B09.その他(新技術を含む)

光触媒,TiO2,ZnO2,抗菌

50
50
50

3
3
3

A10.その他(新技術を含む) 光触媒,大気浄化
260 1999 3:解説
265 1999 9:シリーズ-2
光学顕微鏡
271 1999 10:比べてみよう
アモルファス,プラズマ,シリコント
273 1999 5:原著論文
A01.物理蒸着(CVD)
ランジスタ

環境
B02.電気めっき･電鋳TiN,AlPb,リグニン,蓄電池

50

3

50

3

278 1999 5:原著論文

B07.アノード酸化50

3282 1999 5:原著論文

B06.熱処理(酸化･窒化･炭化) Ni,ホウ化処理503289 1999 5:原著論文

A10.その他(新技術を含む)

TiO2,レーザ,Al50

3

294 1999 5:原著論文

B03.無電解めっき

Ni,B,錯化剤

A04.吸着Pt,水素吸蔵,磁気効果

電流遮断芳,単結晶,Si503301 1999 13:研究ノート

50
50
50
50
50
50
50
50

4
4
4
4
4
4
4
4

307 1999 1:巻頭言308 1999 3:解説
B03.無電解めっき
無電解、黒色、めっき
315 1999 3:解説
B07.アノード酸化
Ａｌ、陽極酸化,黒染め
322 1999 3:解説
B08.化成処理
銅,銅合金,黒染め
C07.その他(新技術を含む)
326 1999 9:シリーズ-2
C07.その他(新技術を含む) 電気化学
327 1999 17:講座
C07.その他(新技術を含む) X線回折,薄膜
333 1999 9:シリーズ-2
338 1999 10:比べてみよう C07.その他(新技術を含む) インプラント

50

4341 1999 5:原著論文

A10.その他(新技術を含む)

50

4347 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 ニッケル,リン,亜鉛イオン

504353 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 ニッケル,ホウ素,結晶構造504359 1999 5:原著論文

B07.アノード酸化- 24 -

ダイアモンド,耐摩耗生,応力

ゾルーゲル,ジルコニウム,アルミ
ニウム,アノード酸化表面技術 1995〜1999

邑藤 邦明、中谷アンモニア−アルカリ性水溶液からのＣｄＴ
巌、平藤 哲司、粟ｅ電析におよぼすアンモニア濃度の影響
倉 泰弘
縄舟 秀美、中尾誠
中性無電解銅めっきによるＵＬＳＩ銅配線の6437
一郎、水本 省三、形成
村上 義樹、橋本
無電解めっきの活性化前処理におけるＳｎ 山岸 憲史、曽我6438 およびＰｄの吸着量とＣｏ−Ｐめっき皮膜の 倫明、西羅 正芳、
八重 真治、松田
表面形態
斉藤 英之、八木マイクロ波プラズマＣＶＤ法によるクロム
澄子、酒井 彰、三6439 めっき鉄鋼基板上でのダイヤモンド薄膜の 澤 俊平、田中 壽
合成晃、相馬 英明、田中 大之、田村 元
堤 宏守、前田 祐
6440 リポ酸誘導体の銅防食剤への応用
一、鬼村謙二郎、大石 勉
6441 表面技術の多様性
古賀 孝昭『小特集／めっき析出過程の基礎解析』の
6442
本間敬之
企画にあたって6443 めっき析出過程の基礎解析手法
本間 敬之
透過型電子顕微鏡によるめっき膜中の混 中原 昌平、沖中6444
入不純物の観察裕
光音響分光法および水晶振動子マイクロ
6445
吉原佐知雄
バランス法を用いた解析
デンドライト電析における結晶成長過程の
6446
井出本 康
シミュレーション
6447 電解槽の電流分布シミュレーション
小原 勝彦
6448 磁場・重力場の影響を考慮した析出機構 青柿 良一6449 新電気化学入門−２
馬場 宣良
6450 塗膜表面の状態分析へのＦＴ−ＩＲの活用 加川 邦博
自動車のボディーカラー−ソリッドとメタ
6451
坂内 恒雄
リック＆パール−
福室 直樹、近沢
6452 Ｃｏ−Ｎｉ合金電析膜の微細構造
正敏、渡辺 徹福室 直樹、近沢
6453 Ｃｏ−Ｆｅ合金電析膜の微細構造
正敏、渡辺 徹フッ化物水溶液中においてＳＵＳ３０４ステ 柴田 俊夫、山崎
6454 ンレス鋼に生成した不働態皮膜の耐硫酸 修、松浦 修、藤本
腐食性慎司
６−ジアリルアミノ-1,3,5−トリアジン−2,4 森 邦夫、佐々木八6455 ジチオールの有機めっきに及ぼすＮａＮＯ2 重子、平原 英俊、の促進作用
大石 好行、田中
広瀬 洋一、梶ｶ谷
平板状ダイヤモンド結晶における生成条
6456
洋史、大島 龍司、
件の検討
飯塚 完司
内田 衛、岡田
ギ酸を還元剤とする無電解パラジウム6457
隆、縄舟 秀美、中
めっきの析出機構
尾誠一郎、水本 省
Ｃｒ2Ｏ3封孔によるＡｌ2Ｏ3溶射皮膜の改善 荻野 邦彦、大森
6458
と損傷特性
明、森本 純司
山本 渡、今林 亜
夫、大川戸照男、安6459 高速めっきに対応したハルセルの特性
沢 友義、斉藤いほ
え、田村 和男
6460 21世紀の表面技術のために
縄舟秀美「小特集・．気相合成ダイヤモンド薄膜の
6461
広瀬洋一
最近の動向」の企画にあたって
純酸素中でのグラファイトレ−ザ−アブレ
6462 −ションによるダイヤモンド薄膜の水素フ 吉本 護・菱谷佳子
リ−気相合成6463 ダイヤモンドの電気化学反応への応用
八木 一三、藤嶋
ダイヤモンド表面からの電子放出−ディス 伊藤 利道、八田
6464
プレイへの応用を目指して−
章光、平木 昭夫
6465 ダイヤモンド表面弾性波フィルタ
鹿田 真一
圧力センサー−半導体ダイヤモンド薄膜 北畠 真、出口 正
6466の歪み抵抗効果−洋
6467 環境を考慮した最近の食品容器の動向 沖 慶雄
6468 金属容器における表面処理吉田 昌之
6469 ガラス容器における表面処理佐々木光雄
食品包装用プラスチックフィルム・シート・
高橋 亨
6470
容器に関する最近の表面処理
6471 新電気化学入門(No.3)
馬場 宣良6472 ＧＤ−ＯＥＳによる金属表面薄膜の分析
清水 健一
6473 クロメート皮膜
伊崎 輝明
屋敷 貴司、岡本
建材用酸洗仕上げ純チタン板の光沢度に6474
明夫、木田 貴之、及ぼす焼鈍条件の影響
大山 英人
フェノールスルフォン酸浴からのＳｎめっき平野 茂、大八木八6475 に及ぼすＳｎイオン濃度と流速および電流
七
密度の影響
柳 むつみ、軽部
6476 自己析出皮膜の析出機構
健司、須田 新多層膜干渉を利用したアルミのウム陽極 塚本由美子、海老6477
酸化皮膜の発色機構
原 健
日野 実、平松
レーザ照射したアルミニウム合金上の無6478
実、出水 敬、辻川
電解Ｎｉ−Ｐめっき皮膜トライボロジー特性
正人、川本 信
杉村 博之、穂積
親水／疎水基板へのメゾポーラスシリカ
6479
篤、牛山 和哉、高膜の成長
井 治、興戸 正純
6480 思考停止症
滝沢喜久男
機能性プラズマポリマー膜の合成の試み
6481
稲垣 訓宏
と応用
6482 プラズマ重合による金属の防食
入山 裕
6436

50

4

367 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Cd-Te,アンモニア,電析

504374 1999 5:原著論文

B03.無電解めっき

無電解,銅めっき,配線

50

4378 1999 7.速報論文

B03.無電解めっき

無電解めっき,スズ,パラジウム,表
面形態

50

4

380 1999 7.速報論文

B01.化学蒸着(CVD)

プラズマCVD,ダイアモンド,クロム
めっき

50

4

382 1999 7.速報論文

B08.化成処理

防食剤,銅

50

5

393 1999 1:巻頭言50

5394 1999 3:解説

50

5395 1999 3:解説

B02.電気めっき･電鋳 めっき,解析50

5400 1999 3:解説

B02.電気めっき･電鋳 TEM,不純物,めっき膜

水晶振動子,光音響分光法

505408 1999 24.トピックス

C07.その他(新技術を含む)

50

5412 1999 24.トピックス

B02.電気めっき･電鋳 デンドライト,結晶成長

50
50
50
50

5
5
5
5

416 1999 24.トピックス
421 1999 24.トピックス
425 1999 17:講座
431 1999 9:シリーズ-2

C07.その他(新技術を含む)

50

5437 1999 10:比べてみよう A05.塗布･塗装

50

5441 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Co,Ni,合金,微細構造50

5448 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Co,Fe,合金,微細構造505453 1999 5:原著論文

B08.化成処理50

5460 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 有機めっき,NaNO2

505467 1999 7.速報論文

A01.物理蒸着(CVD) ダイヤモンド,結晶成長505469 1999 7.速報論文

B03.無電解めっき

ギ酸,パラジウム,無電解めっき

505471 1999 7.速報論文

A02.溶射クロム,アルミナ,溶射,封孔

505473 1999 7.速報論文

B02.電気めっき･電鋳 高速めっき,ハルセル

506497 1999 1:巻頭言50

6

480 1999 23:小特集

50

6481 1999 3:解説

B01.化学蒸着(CVD) レーザ,ダイヤモンド,薄膜

電流分布B02.電気めっき･電鋳 磁場,析出機構
A10.その他(新技術を含む) 電気化学
A05.塗布･塗装
塗膜,FT-IR50

6486 1999 3:解説

C07.その他(新技術を含む)

50

6494 1999 3:解説

B09.その他(新技術を含む)

自動車,塗装SUS304,不働態皮膜,フッ化物

50

6500 1999 3:解説

ダイヤモンド,電気化学
ダイヤモンド,ディスプレイ,電子放出
B09.その他(新技術を含む) ダイヤモンド,弾性波,フィルタ50

6505 1999 3:解説

B09.その他(新技術を含む)

ダイヤモンド,センサー,歪み抵抗

50
50
50

6
6
6

511 1999 2:総説
516 1999 3:解説
521 1999 3:解説

B09.その他(新技術を含む)
A10.その他(新技術を含む)
A10.その他(新技術を含む)

環境,食品
容器,表面処理
ガラス,表面処理50

6526 1999 3:解説

A10.その他(新技術を含む)

包装,プラスチック,フィルム

50
50
50

6
6
6

B09.その他(新技術を含む) 電気化学
532 1999 9:シリーズ-2
A10.その他(新技術を含む) GD,OES,薄膜
538 1999 9:シリーズ-2
545 1999 10:比べてみよう B08.化成処理
クロメート

50

6

547 1999 6:技術論文

B06.熱処理(酸化･窒化･炭化) 酸洗い,チタン,焼鈍50

6553 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Snめっき,フェノールスルフォン酸

50

6559 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 析出機構

50

6

565 1999 5:原著論文

B07.アノード酸化

多層膜,陽極酸化,アルミニウム

50

6571 1999 8:Letters

B03.無電解めっき

レーザ,アルミニウム,無電解めっき,トライボロジー

50

6

574 1999 7.速報論文

A04.吸着親水,疎水,ポーラスシリカ

50

7581 1999 1:巻頭言50

7582 1999 2:総説

B01.化学蒸着(CVD) プラズマ,ポリマー

507589 1999 3:解説

A10.その他(新技術を含む)- 25 -

プラズマ,重合,防食

表面技術 1995〜1999

飯島 正行、浮島
禎之、佐藤 昌敏、
6483 ポリイミド蒸着重合膜
飯田 敬子、高橋
善和、佐々木重邦、
松浦 敏、山本二三
6484 化学センサ用プラズマポリマー膜
杉本 岩雄
6485 新電気化学入門(No.4)
馬場 宣良
集束イオンビーム(FIB)装置による部位指 富田 雅人、飯塚6486
俊生
定ＴＥＭ用試料作製
赤外線イメージング用デバイス−光電変
6487
瀬山 倫子
換素子の違いによる比較
反射型カラーＬＣＤ用反射板の凹凸形状 鷲塚 諫、津田 和
6488
設計
彦、枡川 正也
縄舟 秀美、北村ＵＬＳＩ銅配線の形成を目的としたエチレン
6489
浩司、水本 省三、
ジアミン錯体浴からの銅電析
内田 衛、岡田 隆
原 基、北川 善
ＴｉＡｌ金属間化合物の高温酸化に及ぼす
6490
朗、佐藤 芳幸、川レーザ表面処理の効果
嶋 朝日
電解フォトエッチングによる金属基板上の 牧野 英司、山下泰
6491
微細パターン形成二郎、柴田 隆行
電解コンデンサ用アルミニウム箔の直流 大澤 伸夫、福岡6492
エッチング挙動に及ぼす結晶性酸化物の 潔
重松 一典、中村
シリコンを用いたレーザアロイングによるＡ 守、山田 康雄、斉6493
藤 尚文、馬渕Ｚ９１Ｄマグネシウム合金の表面処理
守、中西 勝、下島
三上 俊秀、石川
ダイヤモンドを陰極とした直流プラズマＣＶ
6494
豊、山中 博、広瀬Ｄ法によるダイヤモンド薄膜の高速合成
洋一
穂積 篤、牛山 和
疎水／親水マイクロ領域からなる不均一
6495
哉、杉村 博之、高表面の微小水滴
井 治
6496 第９９回講演大会報告
山下 嗣人（社）表面技術協会創立５０周年記念 第
6497
久米 道之
１００回講演大会への誘い
6498 表面技術とイオン交換
和田 洋六
6499 イオン交換体の設計と輸送現象
須藤 雅夫
6500 電気再生式純水装置
原田 克範
6501 ニッケルめっきの透析膜処理
久保井義夫
6502 新イオン交換膜による酸回収寺田 一郎
6503 イオン交換樹脂による酸と金属の分離
阿部 裕士
6504 電解透析方によるめっき液のリサイクル 高橋 昇
Ａｌアノード酸化とレーザ照射を利用した金 菊地 竜也、渚 松
6505 属微細構造の作製−新ＬＩＧＡプロセスを 竹、加藤 善大、坂目指してー
入 正敏、高橋 英
マイクロ電極システムを用いた生体材料
6506
末永 智一
の局所機能探索と応用
ＨＦＣ系冷媒を用いた冷凍冷蔵庫回路の 志水 康彦、滝沢貴
6507
評価
久男
6508 新電気化学入門(No.5)
馬場 宣良
ミクロ構造解析の再検証−主としてウルト
6509
朝倉健太郎
ラミクロトームによる電顕試料の観察例−
6510 銀塩カメラとデジタルカメラ
大工原茂樹
活性化反応蒸着法による窒化インジウム 南 千洋、鈴木 理
6511
薄膜のエレクトロクロミック特性に及ぼす 之、湯本 久美
上条 幹人、勝又
高周波イオンプレーティングによる金−銅6512
信行、日原 政彦、
合金薄膜の形成
児嶋 弘直
ニッケルめっき膜の引っ張り応力に及ぼす 津留 豊、占部 俊
6513
溶液内アルミニウムイオンの影響
二、田渕 誠関根 功、小村
冷却水系での軟鋼の腐食に対するアクリ
亮、湯浅 真、和気6514 ル酸／カフェ酸アミド系二元共重合体およ敏治、村田 浩陸、びその類縁体の効果
染谷新太郎、宇田
6515 景観と色彩篠原 稔雄
大型・超高精細液晶パネルと透明導電膜
6516
北原 洋明
プロセスの新しい役割
6517 透明導電膜の構造制御
宋 豊根、重里 有
高橋誠一郎、久保6518 ＩＴＯターゲットのノジュール生成機構
田高史
酒見 俊之、牛神
6519 イオンプレーティングによるＩＴＯ成膜技術
善博、粟井 清50

7596 1999 3:解説

A01.物理蒸着(CVD) ポリイミド,蒸着膜

50
50

7
7

602 1999 3:解説
608 1999 9:シリーズ-2

A10.その他(新技術を含む)
A10.その他(新技術を含む)

化学センサ,プラズマ
電気化学

50

7

613 1999 9:シリーズ-2

C07.その他(新技術を含む)

FIB,TEM50

7618 1999 10:比べてみよう C07.その他(新技術を含む) 光電変換素子,赤外線50

7621 1999 5:原著論文

C07.その他(新技術を含む)

50

7625 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 ULSI,エチレンジアミン錯体,Cu

50

7630 1999 5:原著論文

A10.その他(新技術を含む)

Ti,Al,高温酸化,レーザ

50

7637 1999 5:原著論文

C03.化学エッチング･電解エッチング

フォトエッチング,微細パターン

50

7643 1999 5:原著論文

C03.化学エッチング･電解エッチング

電解コンデンサ,Al,エッチング,酸
化物

50

7

648 1999 7.速報論文

A10.その他(新技術を含む)

レーザ,マグネシウム合金

507650 1999 7.速報論文

B01.化学蒸着(CVD) ダイヤモンド,CVD,薄膜

507652 1999 7.速報論文

B09.その他(新技術を含む)

LCD

疎水,親水,不均一表面507654 1999 22:技術資料

50

8661 1999 1:巻頭言

50
50
50
50
50
50
50

8
8
8
8
8
8
8

662 1999 2:総説
670 1999 3:解説
674 1999 3:解説
678 1999 3:解説
683 1999 3:解説
687 1999 3:解説
692 1999 3:解説

B09.その他(新技術を含む)
B09.その他(新技術を含む)
A10.その他(新技術を含む)
A10.その他(新技術を含む)

C06.洗浄

イオン交換
イオン交換
純水装置
Ｎｉ、透析膜イオン交換膜、酸回収

C07.その他(新技術を含む)
B09.その他(新技術を含む)

電解透析、リサイクル50

8697 1999 3:解説

C03.化学エッチング･電解エッチング

アノード酸化，ＬＩＧＡ、レーザ

50

8705 1999 3:解説

C07.その他(新技術を含む)

マイクロ電極、生体材料

第99回

50

8

710 1999 3:解説

C07.その他(新技術を含む)

ＨＦＣ、冷蔵庫

50

8

716 1999 9:シリーズ-2

C07.その他(新技術を含む)

電気化学

50

8

722 1999 9:シリーズ-2

C07.その他(新技術を含む)

ミクロトーム、電子顕微鏡

50

8

50

8

729 1999 10:比べてみよう C07.その他(新技術を含む) カメラ
ＣＶＤ、窒化インジウム、エレクト
733 1999 5:原著論文
B01.化学蒸着(CVD)
ロクロミズム、酸素

50

8738 1999 5:原著論文

A01.物理蒸着(CVD)

イオンプレーティング、金、銅、合
金

50

8

745 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳

引っ張り応力、ニッケルめっき、
アルミニウムイオン

50

8751 1999 5:原著論文

A04.吸着軟鋼、腐食、アクリル酸、カフェ酸
アミド

50

9

763 1999 1:巻頭言C01.機械研磨･研削

50

9764 1999 2:総説

C07.その他(新技術を含む)

50

9770 1999 3:解説

B01.化学蒸着(CVD) 透明導電膜、構造制御

509776 1999 3:解説

B01.化学蒸着(CVD) ＩＴＯ、ノジュール50

9782 1999 3:解説

A01.物理蒸着(PVD) イオンプレーティング、ＩＴＯ

6520 ＩＴＯドライエッチングとパターンニング技術 伴 厚志

50

9786 1999 3:解説

C04.気相エッチング

6521 原子レベルで制御された電極反応
板谷 謹悟
6522 新電気化学入門(6)馬場 宣良
光学顕微鏡の正しい使い方(2)−表面マイ
6523
小松 啓
クロトポグラフィーの観察−6524 化学電池と物理電池
宇井 幸一
6525 アルカリ浸漬脱脂での脱脂要因と効果
須山 總
電解コンデンサ用アルミニウム箔の交流 大沢 伸夫、福岡6526
エッチング時の初期ピット形成に及ぼすＴｉ 潔
電解コンデンサ用高純度アルミニウム箔 大沢 伸夫、本居6527のピット形成に及ぼす電解液浸漬時間の 徹也、福岡 潔
菊地 竜也、坂入
アルミニウムアノード酸化／レーザ照射／6528
正敏、高橋 英明、
電気めっきを用いた微細回路板の作製
阿部 芳彦、片山
界面活性剤を添加したＺｎ−Ｎｉ合金めっき 日野 実、平松
6529
皮膜の組成分布実、山脇 巧、金谷
有機溶媒電解液中でのマグネシウムの電 吉本 信子、石川6530
気化学的挙動正司、森田 昌行
6531 表面技術協会の魅力とは
海老名延郎
6532 半導体製造プロセスにおけるクリーン化技 大見 忠弘
若山 恵英、小林
6533 クリーンルーム空気質の制御技術
貞雄
6534 ウエハ洗浄技術
菅野 至

50
50

9
9

791 1999 3:解説
796 1999 9:シリーズ-2

C07.その他(新技術を含む)
A10.その他(新技術を含む)

ドライエッチング、ＩＴＯ、パターン
ニング
電極反応
電気化学

B09.その他(新技術を含む)

マイクロトポグラフィー

液晶、透明導電膜509801 1999 9:シリーズ-2

50
50

9
9

50

9

50

9

809 1999 10:比べてみよう C07.その他(新技術を含む) 電池
813 1999 5:原著論文
C06.洗浄アルカリ、脱脂
電解コンデンサ、アルミニウム、
C03.化学エッチング･電解エッチング
819 1999 5:原著論文
チタンエッチング
電解コンデンサ、アルミニウム、
C03.化学エッチング･電解エッチング
824 1999 5:原著論文
ピット

50

9

829 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 アノード酸化、レーザ、微細回路

50

9836 1999 13:研究ノート

B02.電気めっき･電鋳 界面活性剤、Ｚｎ，Ｎｉ、合金めっき

509839 1999 7.速報論文

A10.その他(新技術を含む)

50
50

10
10

847 1999 1:巻頭言
848 1999 1:巻頭言

C06.洗浄半導体、クリーン化

50

10855 1999 3:解説

C07.その他(新技術を含む)

クリ−ンルーム

50

10861 1999 3:解説

C06.洗浄ウエハ- 26 -

有機溶媒、マグネシウム

表面技術 1995〜1999

ウェットプロセスで用いられている高性能 板野 充司、毛塚
6535
薬液
建彦
6536 超純水技術（製造・分析技術と機能水）
森田博司
6537 ウェーハー表面の欠陥検査システム
服部 寿
6538 化学汚染の評価分析技術
竹田 菊男
6539 新電気化学入門(No.7、最終回)
馬場 宣良
6540 半導体プロセス評価に対する表面分析技 黒川 博志
6541 ＴｉＣ，ＴｉＮ，ｃ−ＢＮ
伊藤 滋
金野 英隆、伊藤
混合原子価モリブデンオキシ水酸化物皮6542
隆史、尾谷 賢、笹膜の電析とそのキャラクタリゼーション
木 圭子
飯塚 淳、中本 剛
Ｐｄ／Ｓｎ混合触媒を用いた銅ダイレクトプ 輔、内藤 和久、本6543
レーティングにおける導体化過程の解析 間 敬之、中尾 英
弘、奥野 和義、逢縄舟 秀美、池田
メタンスルホン酸浴からのスズ−銅合金 一輝、芝 一博、水6544
本 省三、武内 孝
めっき夫、青木 和博
縄舟 秀美、城口
２−アミノエタンチオールを還元剤とする 慶子、谷久保正人、6545
水本 省三、小橋
無電解銀めっき康人、武内 孝夫
金有機化合物のレーザ熱分解によるグ
牧野 英司、中村
6546
レーズドアルミナ基板上の配線パターン形 晃久、柴田 隆久
溶射アルミナ皮膜における耐はく離性の6547
伊藤 亨、肥田 昭
非破壊的評価西田 典秀、国次
アルミニウム合金のＣＯ2レーザ溶融性に6548
真輔、金谷 輝人、及ぼすポリシラザン被服の影響
大塚 利彦、米田
福島 誠、植木6549 熱交換器用銅合金の腐食挙動
裕、滝沢貴久男、須斎 嵩、山下 嗣人
6550 アトムレベルでの表面技術
板谷 謹悟
6551 マイクロファブリケーション
牧野 英司
6552 厚膜レジストＳＵ−８によるＬＩＧＡライクプ 川畑 達央
6553 ダイヤモンド薄膜のマイクロマシンニング

柴田 隆行

6554 光造形によるマイクロファブリケーション 山口 勝美、中本
薄膜形成装置の開発動向（エピタキシャル
土居 陽
6555
装置など）
6556 ドライプロセス技術と地球環境
和佐 清孝
6557 化学反応制御のための表面と表面技術 西山 誼行
レーザ照射型チャンネルフロー電極法に
板垣 昌幸
6558
よる水溶液中の鉄電極表面反応の解析
高温酸化によりＴｉ窒化物上に作製したＴｉＯ 原 基、三好 徹
6559
2皮膜の光アノード分極特性治
真山 恵次、阿部
めっきで形成した銅バンプとはんだとの接
6560
吉次、米山 孝夫、合部の高温耐久性
井上 和之
電気化学的に合成したNi(OH)2膜および 牛戸 美樹、瀬尾
6561
NiOOH膜の選択的イオン透過性
眞浩
銀の無電解銀めっき反応における磁場効 米持 真一、岩坂
6562
果
奉倫、青柿 良一
プラズマソースイオン注入法によるＴｉＯ2薄 畑田瑠璃子、馬場
6563
恒明、
膜の作製
山田 耕太、長谷川
静電噴霧法を用いたＴａ2Ｏ5薄膜作製にお6564
淳一、佐藤 修彰、けるＣＯ2レーザによる熱処理の効果
藤野 威男
6565 魅力ある表面技術協会への期待
美浦 隆
6566 「特集／環境と表面技術」企画に当たって 土橋 誠
6567 欧州（ドイツ）における環境規制の動向
福田 勲6568 日本における環境規制の動向
矢部 賢
6569 無廃水処理エコプレーティング
久米 道之
6570 環境カウンセラー登録制度とその活動状 波村 多門
環境先進国ドイツにおけるスラッジ処理及
6571
松尾 隆
び排ガス処理6572 鉛フリーはんだ開発の現状
菅沼 克昭
橋本 和仁、野口
6573 光触媒反応を利用する環境浄化
寛、渡部 俊也
6574 労働災害における眼表面の傷害
仁木 高志
6575 自動車分野の環境に対応する表面処理 別所 毅
電子機器・ＯＡ機器のリサイクル化−ク6576 ローズドループリサイクルシステムによる 小渋 弘明
ゼロ・エミッションへの挑戦
6577 インドの電気めっきと廃水処理の現状
笠原 暢順
堀川 健、三田
無電解ニッケルめっき浴用次亜リン酸ニッ
6578
宗雄、中尾 英弘、
ケルの製造
笹岡 正伸
逆洗を伴うクロスフロー精密ろ過による重 和田 泰一、松本6579
金属水酸化物の分離
幹治
小林 健吾、文村
6580 クローズド型水系洗浄システム
邦浩
逆浸透膜法とイオン交換法による表面処 和田 洋六、黒田6581
理廃水のリサイクル康弘
福田 光修、平川
6582 鉛フリーはんだ用Ｓｎ−Ｃｕ合金めっき
康一、松本 泰道
鉛浴浸漬による溶融亜鉛めっきドロスから 沖 猛雄、兼松
6583の亜鉛の分離回収
秀行、市野 良一
硝酸イオン除去に及ぼす銅−白金触媒の 柴田 正実、高山
6584
表面組成の影響
綾子、古屋 長一
鉛フリーはんだにおけるイオンマイグレー 中村 誠、田中
6585 ションの水晶振動子マイクロバランス法に 浩和、吉原佐知雄、
よるin situ評価
白樫 高史

50

10

867 1999 3:解説

50
50
50
50
50
50

10
10
10
10
10
10

873 1999 3:解説
C06.洗浄超純水
C07.その他(新技術を含む) ウェーハ、検査879 1999 3:解説
C07.その他(新技術を含む) 化学汚染
887 1999 3:解説
C07.その他(新技術を含む) 電気化学
894 1999 9:シリーズ-2
C07.その他(新技術を含む) 半導体
901 1999 9:シリーズ-2
907 1999 10:比べてみよう
ＴｉＣ，ＴｉＮ，ｃ−ＢＮ50

10909 1999 4:技術解説

B02.電気めっき･電鋳 混合原子価、モリブデン

50

10915 1999 5:原著論文

B03.無電解めっき

5010923 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 スズ、銅、合金めっき

5010928 1999 5:原著論文

B03.無電解めっき

5010933 1999 5:原著論文

C07.その他(新技術を含む)

金、レーザ、アルミナ

50

10939 1999 13:研究ノート

A02.溶射溶射、アルミナ、はく離性50

10941 1999 7.速報論文

C07.その他(新技術を含む)

アルミニウム、レーザ、ＣＯ2

50

10943 1999 7.速報論文

A10.その他(新技術を含む)

銅合金

50
50
50

11
11
11

949 1999 1:巻頭言
950 1999 2:総説
956 1999 3:解説

B09.その他(新技術を含む)
C07.その他(新技術を含む)

50

11961 1999 3:解説

C05.電解加工

C07.その他(新技術を含む)

ウェットプロセス

Ｐｄ，Ｓｎ，触媒、銅無電解めっき、銀5011968 1999 3:解説

レジスト、ＬＩＧＡ
ダイヤモンド薄膜、マイクロマシ
ンニング
C07.その他(新技術を含む) 光造形、マイクロファブリケーショ

50

11

975 1999 3:解説

C07.その他(新技術を含む)

50
50

11
11

979 1999 3:解説
A01.物理蒸着(PVD) ドライプロセス、環境
984 1999 12:武井記念シリーズ B01.化学蒸着(CVD) 化学反応

5011991 1999 9:シリーズ-2

C07.その他(新技術を含む)

レーザ、鉄

50

11

997 1999 5:原著論文

B06.熱処理(酸化･窒化･炭化)

高温酸化、ＴｉＮ、ＴｉＯ2、アノード
分極50

11 1005 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 銅バンプ、はんだ、

50

11 1010 1999 5:原著論文

B09.その他(新技術を含む)

Ｎｉ、イオン透過性50

11 1015 1999 5:原著論文

B03.無電解めっき

銀、無電解めっき、磁場効果50

11 1019 1999 7.速報論文

A08.イオン注入

イオン注入、ＴｉＯ2

50

11 1021 1999 8:Letters

A10.その他(新技術を含む)

Ｔａ2Ｏ5、ＣＯ2レーザ、熱処理

50
50
50
50
50
50

12 1027 1999 巻頭言12 1028 1999
12 1029 1999 3:解説
12 1037 1999 3:解説
12 1045 1999 3:解説
12 1052 1999 3:解説

50

12 1058 1999 3:解説

50

12 1063 1999 3:解説

B02.電気めっき･電鋳 鉛、はんだ
A10.その他(新技術を含む)

50

12 1071 1999 3:解説

50
50

12 1078 1999 3:解説
12 1085 1999 3:解説

50

12 1091 1999 3:解説

B02.電気めっき･電鋳

環境規制
廃水処理、エコプレーティング
スラッジ、排ガス
触媒、環境
労働災害
自動車
A10.その他(新技術を含む)

クローズドシステム、ゼロエミッ
ション50

12 1096 1999 19:寄稿

50

12 1103 1999 6:技術論文

B03.無電解めっき

次亜リン酸、ニッケル、無電解
めっき

50

12 1108 1999 6:技術論文

A10.その他(新技術を含む)

精密ろ過、重金属

50

12 1113 1999 6:技術論文

C06.洗浄クローズドシステム、洗浄50

12 1118 1999 5:原著論文

C06.洗浄イオン交換、リサイクル50

12 1125 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Ｓｎ，Ｃｕ、合金めっき

50

12 1130 1999 5:原著論文

A10.その他(新技術を含む)

溶融亜鉛、回収50

12 1137 1999 5:原著論文

A10.その他(新技術を含む)

硝酸イオン、Ｃｕ，Ｐｔ、触媒50

12 1142 1999 5:原著論文

A10.その他(新技術を含む)

水晶振動子、マイクロバランス、はんだ- 27 -

廃水処理

表面技術 1995〜1999
湯浅 真、押部哲治、石井 辰宏、冷却水系での腐食抑制剤としてのカルボ 鈴木 篤、相沢
6586 キシル基を有する高分子系の効果：分子 匡、矢島 秀治、秋
構造と腐食抑制能の相関
山 一成、関根功、今浜 敏信、和気 敏治、村田 浩
中出 卓男、森河
３価Ｃｒめっき浴からのＣｒ−Ｐ−Ｃ合金めっ6587
務、佐藤 幸弘、横き皮膜の耐食性
井 昌幸
飯村 修志、千葉
陰極析出酸化亜鉛皮膜の電解条件による
6588
暁生、吉原佐知雄、
光触媒機能への影響
白樫 高史、伊崎
電気透析によるスルファミン酸銅／スル
矢嶋 恭子、久米6589 ファミン酸ニッケル合金多層膜めっき水洗
道之水からのニッケル、銅および水の回収
小早川絃一、数野
無電解めっきにより析出させたＰｄ粒子の 敦史、千葉 史、米6590 メタン燃焼触媒活性に対するリン含有量 倉喜一郎、佐藤 祐の影響
一、福原 長寿、五十嵐 哲
森河 務、中出6591 電気Ｎｉ−Ｗ合金めっきの超寿命化
卓男、佐藤 幸弘、
横井 昌幸、石田伊藤征司郎、倉木
光触媒活性を有するチタン陽極酸化皮膜
6592
淳、多田 弘明、岩材の作製
崎 光伸
藤原 裕、槍木
Ａｇナノ粒子懸濁ピロリン酸浴からのＳｎ−
6593
洋介、榎本 英彦、Ａｇ合金めっき楢原泰栄子、船田

50

12 1147 1999 5:原著論文

A04.吸着50

12 1153 1999 5:原著論文

B02.電気めっき･電鋳 Ｃｒ，Ｐ，Ｃ，耐食性、合金めっき

50

12 1158 1999 5:原著論文

A10.その他(新技術を含む)

光触媒、酸化亜鉛、被膜50

12 1162 1999 5:原著論文

C07.その他(新技術を含む)

Ｃｕ，Ｎｉ、多層膜、電気透析

50

12 1167 1999 7.速報論文

B03.無電解めっき

Ｐｄ，リン酸、燃焼触媒

50

12 1171 1999 7.速報論文

B02.電気めっき･電鋳 Ｎｉ，Ｗ、合金めっき

50

12 1171 1999 8:Letters

B07.アノード酸化50

12 1173 1999 8:Letters

B02.電気めっき･電鋳 Ａｇ，Ｓｎ，ピロリン酸、ナノ粒子- 28 -

腐食抑制剤、分子構造

Ｔｉ、陽極酸化、光触媒