MSTC
Manufacturing Science and Technology Center

財団法人 製造科学技術センタ−

Autumn2004.

通巻第64号 発行人 瀬戸屋英雄

告知板

Contents
■ 告知板

p.1

■ 理事長就任にあたって

p.2

理事長 庄山 悦彦■ プロジェクト紹介

p.3

ナノレベル電子セラミックス材料
低温成形・集積化技術プロジェクト
産総研 明渡 純●マルチメディア技術を活用した情報発信サービス開始
財団法人製造科学技術センターでは、財団のWebサイトで、人間協調・共存のためのロボット基盤技術の研究開発、ものづくり産業の高度化・標準化研究開発、ものづくり産業における環境対応等の製造科学技術に関する情報提供サービスを始めました。詳細は、本文 10 頁をご覧ください。

●FAOP、JIMTOF2004へ出展
FAオープン推進協議会（FAOP）
では、オープン化技術の普及推進のため、日本国際工作機械見本市（JIMTOF2004、2004／11／1〜8,東京・ビッグサイト）に出展し、ブロードバンド時代の新しいものづくりプロセスの実現を目指したリモート・ファクトリ・マネージメント（RFM）の実証実験を機械振興協会技術研究所と協力して実施します。
詳細は、本文 6 頁をご覧ください。

●IMSフォーラム2004（『大学における工学教育のパラダイムシフト』）■ 各事業報告● FAオープン推進協議会

p.6● FA国際標準化

p.7● IA懇談会

p.8● インバース・マニュファクチャリング p.9
フォーラム● 機械工業の安全化技術p.10● トピックス

p.10

IMS フォーラム 2004 が下記の日程で開催されます。
日 時：11 月 30 日（火） 午前 9 時 30 分開始（午前 9 時受付開始）
場 所：キャピトル東急ホテル（東京・永田町）
参加費：無料（同時通訳付き）
今年は現在非常に関心の高い教育問題を取り上げ、世界各国の代表的な企業及び大学から次世代の製造業を支える人材育成の取り組みを紹介する他、産業技術総合研究所吉川弘之理事長の特別講演をはじめ、文部科学省、経済同友会他、国内外の識者の方の講演を予定しています。
詳細につきましては、IMSのホームページ（http：//www.ims.mstc.or.jp）をご覧下さい。

事務局人事異動◎平成 16 年 9 月 30 日付
川原 哲也
新：富士電機システムズ（株）
旧：ロボット技術推進室 主席研究員

巻頭言

理事長就任にあたって争力の維持・強化を図っていくため、情報技術と製造技術の融合などによって製造技術のさらなる高度化、合理化を図り、また最新の技術にベースをおいた新産業や新製品の創出を行っていくことが必要です。国においても、新産業の創出や技術革新による産業競争力の強化のため、各種の研究開発予算の拡充のほか、研究開発投資減税や知的財産権の強化な財団法人製造科学技術センター 理 事 長
株式会社日立製作所 取締役 執行役社長

庄山悦彦

どの新しい政策が打ち出されています。民間企業においても自らの将来をかけて技術開発を進めていくことが必要不可欠です。
このような重要な時期に製造科学技術センターといたしましては、製造技術の発展にいこの度、亀井俊郎理事長の後任として理事長に就任いたしました。

ささかでも寄与できるよう、IT関連分野、インバースマニュファクチャリングを含む環境

わが国の経済は、国内における情報家電な関連分野、ロボット関連分野等の次の世代のどの好調と、輸出の伸びに支えられて、設備研究開発テーマを積極的に提案し、また実施投資が回復、企業収益は大幅に改善し長期に中のナショナルプロジェクトにつきましてはわたる不況がようやく底を打ったようです。

研究開発の目標達成のため、研究管理面で協しかし、中国経済の過熱、原油価格の上昇、そ力支援して参りたいと考えております。またれに伴う米国経済の先行きの不透明化等わがセンターの仕事の大きな柱でありますIMSセ

国経済に大きな影響を及ぼす要因もあり、こンターについては、10年間で計画されていたの好調がいつまで継続するかは予断を許しまIMS国際プログラムが今年度で終了しますが、せん。また、長期的にはわが国における少子参加国からの継続の要望が強く来年度からの高齢化はますます進行し、経済的基盤の地下第 2 フェーズの開始が提案されております。

が懸念されているところです。

センターでは第 2 フェーズへの移行に備え、製造科学技術センターの担当する製造業のこれまでの経験を踏まえてどのような形で技分野では、東アジア地域を中心として製造業術開発及び国際協力を進めていくかについてが急速な発展を遂げており、日本の製造業に検討を行っているところです。

とって強力なライバルに成長しつつあります。

わが国における製造科学技術発展のため、その中で中国をはじめとする新興工業国への会員企業各位の製造科学技術センターの活動製造拠点及び技術の移転が急速に進行しておに対する一層のご協力と経済産業省製造産業り国内における空洞化が懸念されているとこ

局をはじめとする行政御当局のご指導ご支援

ろです。製造業のこうした状況を打開していをお願い申し上げます。

くためには、長期的観点に立って製造業の競2

●プロジェクト紹介

ナノ結晶常温固化による革新的セラミックス集積化技術
ナノレベル電子セラミックス材料低温成形・集積化技術プロジェクト
プロジェクトリーダー
独立行政法人 産業技術総合研究所
先進製造プロセス研究部門
集積加工研究グループ グループ長

明 渡

ナノ電子セラＰＪのロゴマーク：

純 氏

粒子衝突、低温、積層化をイメージ
実施期間：平成 14 年〜 18 年

背景体

制

本プロジェクトでは、わが国で独自開発されたエア本プロジェクトは、経済産業省（METI）の「ナノテクロゾルデポジション法（AD法）をコア技術とし、プロセノロジープログラム」の1つとして、独立行政法人新エス温度の飛躍的な低減、材料組織の微細化、高密度化

ネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）が独立行政を図り、製造技術の視点から金属、ガラス、プラス

法人産業技術総合研究所（AIST）
及び製造科学技術セン

ティックス等とのナノレベルの複合化、部材レベルのター（MSTC）、民間企業 6 社（ブラザー工業、TOTO、集積化を達成、最終的な製品機能を飛躍的に向上でき富士通、NEC、SONY、NECトーキン）に委託して実施る革新的な電子セラミックス材料の低温集積技術を開しています。具体的には、産業技術総合研究所内にも発しています。この成果を応用して、わが国セラミッうけられた集中研究室に民間企業 6 社から研究員を派クス産業が情報・通信、エネルギー、環境の分野で将遣し、産総研と共同研究している大学（東京工業大学、来にわたり世界をリードする新製品を創出して国際競豊橋技術科学大学、東北大学、大阪大学）などと協力し争力を高めるとともに、新たな市場開拓を通じて社会て研究開発を進めています。

貢献を果たすことを目指します。
○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○内容［1］プロセス基礎開発−常温でセラミックス微粒子を固化−

常温衝撃固化現象を利用した金属基板上への大面積α−Ａｌ2Ｏ3膜の室温形成

ナノ結晶組織AD法は、セラミックス微粒子をガスと混合し、基板に吹きつけ、固体状態の粒子衝突だけで、緻密かつ強固な付着力を持つナノ結晶セラミックス膜を形成する技術です。従来薄膜技術の30倍以上の成膜速度が得られ、常温でセラミックス薄膜を形成できます。我々は、まず、この「常温衝撃固化現象」と呼ばれる新しいセラミックス成膜メカニズムの解明に取組んでいます。原料粒子

340nm

各事業報告●プロジェクト紹介

は、基板衝突時に10〜30nm前後の微結晶粒子に破砕・［2］デバイス応用開発

変形され緻密なナノ結晶組織が形成され、また、破砕−圧電応用デバイス−時に形成された新生面による活性効果が粒子間結合にMEMS光スキャナーやインクジェットヘッド、マイ対し支配的に働くことをつきとめました。また、上記

クロジャイロなど、圧電材料を利用したマイクロデバ成膜モデルに基づいて成膜条件を最適化し、世界で初イスへの適用を検討しています。

めてα−アルミナ微粒子を常温で固化することに成功、本開発では、例えば、Si微細加工で製作されたスキャバルク焼結体に等しい電気機械特性を実現できました。

ナー構造上に AD 法で圧電材料を高速成膜し、大気中また、このセラミックス厚膜の絶縁破壊強さは、150〜で、共振周波数 30kHz 以上の高速動作が可能な大振幅300kV/mm以上とバルク焼結体を一桁上回り、ポア（気共振型マイクロ光スキャナーの製作に成功しています。

孔）がなくプラズマ耐蝕性や平滑性もバルク体より優れこの様な高速走査の小形光スキャナーは、各種センサることが確認されました。200mm四方の面積への均一や次世代表示デバイスのキーコンポーネントとして期な成膜にも成功しています。窯業プロセスに使用され待されています。

る安価な原料粒子を用いながら、ナノ結晶組織のセラまた、3次元プロジェクターやホログラムメモリーのミックス膜が形成でき、従来常識とされてきた1000℃実現を目指し、液晶にかわる高速応答の空間光変調素以上の焼結工程も必要なく、高温焼結されたバルク焼子の開発も進めています。プロセス温度の低温化と成結体と同等の硬さや緻密性を実現した点で、幅広い応膜速度に利点のある AD 法の特徴を生かし、圧電厚膜用が期待できる画期的なプロセスと言えます。と磁気光学材料とが集積化されたスマート構造のPZTMOSLM を試作しました。8V の駆動電圧で 20MHz の−プロセス技術の高度化−ピクセル反転に成功しています。

この様に AD 法では常温でバルク体の硬度や密度を持つセラミックス膜を形成できますが、電子デバイス−高周波応用デバイス−応用で重要な強誘電性や強磁性などの電気特性は、膜CPU の高速化、通信周波数の高周波化に伴なって、の微細構造に敏感なため十分な性能が得られません。

GHz 帯域の高周波デバイスでは、表面実装技術が限界

そこで、原料粒子の調整だけでなくレーザーやプラズを迎えています。これに対応するには、誘電体材料や磁マ、高エネルギービームなどのエネルギーで援用し、そ性材料、金属材料との高精度で微細な集積化が求めらの特性改善にも取組んでいます。

れ、さらなる小形、軽量、高機能化への要求が高まって

圧電駆動MEMS光スキャナー

AD法を用いた圧電駆動MOSLM

技術のポイント：
従来より厚いＳ
ｉ構造、
ＰＺＴ膜
で高剛性・高速応答を実現

Upper electrode

電圧印加前

Reflection mirror

電圧印加後v-MOSLMの断面図
磁気光学層
PZT cantilever

圧電膜

H
SGGG基板

H eff

初期状態

電圧印加

4●プロジェクト紹介

世界最高性能のＥＯ薄膜

ＥＯ変調素子Relative Change of Refractive Index

PZT系

透明PZT膜0.0030.002

rc (pm/V)
102

EO Effect
X60.001170−−0.001
Electric Field (kV/cm)
LiNbO3(conventional)

います。本開発では、チタン酸バリウム系強誘電体材料る超高速光変調素子の実現を目指しています。

を銅基板上にAD法を用いて成膜し、エンデベットキャAD法によりPLZT系電気光学材料を従来薄膜プロセパシター構造を形成しました。容量密度は競合技術であスより100℃程度低い温度で、ガラス基板上に成膜、電るセラミックス／ポリマーコンポジット膜の数十倍に相気光学定数（rc）：102pm ／ V の透明膜を形成すること2当する 3nF/mm 以上を実現しており、300℃以下のプに成功しました。これは、従来薄膜報告値の約2倍、単ロセス温度で形成したキャパシターとして世界最高性能

結晶ニオブ酸リチウム材の5〜6倍で、世界最高性能でです。この他、EMI 対策用電波吸収体やミリ波イメー

す。また、これを用いた光変調器も作製しています。

ジングセンサなどの開発も進めております。

今後このセラミックス膜を用いた低電圧駆動の高速光変調素子を開発し、ネットワーク機器の小型化、コ−光応用デバイス−ンピュータでの高速データ転送の実現など広い分野に大容量の情報処理に対する要求から超高速光集積回応用することを目指します。

路への期待が高まっており、本開発では、これに用いアンテナ

LSI素子

キャパシタ
フィルタ
エアロゾル
デポジション膜

プリント基板（FR4）上にAD法で形成したキャパシタ

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各事業報告MSTC

Manufacturing Science and Technology Center

FAオープン推進協議会

日本国際工作機械見本市（JIMTOF2004）で実証実験
生産・製造におけるデータ交換・管理・制御などCIM／FA関連の情報プロ
遠隔監視

セスを IT 時代の新しいオープンシステ

FDML

ム環境及びオープンネットワーク環境に（フィールドデータマークアップ
ランゲージ）適用するための共通基盤技術の確立を目

各種ベンダAPリモート
メンテナンス

ファクトリデータセンタ（AQ Stage PF リモートエージェントサービス）

警報通知

指して活動しているFAオープン推進協インターネット議会（FAOP、www.mstc.or.jp/faop/index-j.html）
では、オープン化技術の普及

機械振興協会（東京、東久留米）推進のため、日本国際工作機械見本市

豊田工機（愛知、刈谷）

VPN装置

MSTC
東京ビッグサイト（東京、虎ノ門） （東京、有明）

VPN装置（JIMTOF2004、2004 ／ 11 ／ 1 〜 8、東VPN装置

PC

PC

ORiN to FDML
ソフトウェア京・ビッグサイト）に出展します。
展示内容は、昨年11月にシステムコ
ントロールフェア2003（SCF2003、2003

VPN装置

PC

データ閲覧
閲覧

PC

NC
工作機械／ 11 ／ 11 〜 14、東京・ビッグサイト）

マシニング
センタ

研削盤

ネットワーク対応機
ネットワーク非対応機

FDMLジェネレータ

にて実証実験を行った、ネットワークを活用したものづくり支援サービス専

平成 15 年度 FAOP-RFM 実験構成

門委員会による「ブロードバンド時代の新しいものづ

報の整理・加工を行い、適材適所に Web ブラウザで情くりプロセスの実現を目指したリモート・ファクト

報表示を行うことで、製造管理業務の効率化が図れるリ・マネージメント（RFM）構想」に基づく実験をさらことの実証実験を行います。に進化させた内容を予定しており、インターネット上

なお、昨年の実証実験の様子は当財団のホームペーに設置されたデータセンターに対して、各地にある工ジより映像でご覧いただけます。詳しくは、本号の「マ場の製造装置（主にマシニングセンター等の工作機械）

ルチメディア技術を活用した情報発信サービス開始」の状態に関する情報を送信し、データセンターにて情10 頁をご覧ください。

NewMA 研究会が活動開始
FA オープン推進協議会の「最適価値経営にもとづこれら二つの基軸の組み合わせの中に横たわる様々く新製造オートメーションの共通基盤技術調査研究会な課題を抽出し、その解決への方法論や詳細課題を検（NewMA 研究会）」が本年 9 月にスタートしました。

討してゆきます。

この研究会では、日本のものづくりはコンセプト力

今年度の活動は、産学からの課題を出し合い、専門と事業戦略構築能力が不足しているとの考えを念頭に家の意見を聞きながら来年度に向けて検討課題の絞りおき、今後のものづくり企業における全社的な経営価込みを行ってゆきます。

値にもとづく最適な製造方式の構築にかかわる、共通現時点の参加者は、主査に岩田一明氏（FAOP会長、的な基盤技術の探索と検討を目的としています。主な大阪大学名誉教授）、委員としてオムロン、NTT、東視点としては、二つの基軸を考えており、一つ目の軸

芝、松浦機械製作所、豊田工機、清水建設、和泉電気、は、共通基盤技術としての「インタフェース」と「イデンソー、ダイキン工業、松下電器産業、さらに学術ンフラストラクチャ」です。二つ目の軸は、求められ委員として小西和正氏（機械振興協会）、谷水義隆氏（大る方向として「情報通信化（IT）・ディジタル化」、「人阪府立大学）、寺本孝司氏（大阪大学）、日比野浩典氏間・機器調和化」、「経営統合最適化」及び「省エネル（機械振興協会）の 15 名となっています。

ギー化」です。

6

各事業報告MSTC

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FA国際標準化

国際会議開催8 月 30 日（月）から 9 月 2 日（木）までの 4 日間に渡り、国際標準化委員会の第 1 回が 9 月にずれ込んでの開催

ISO/TC184/SC5/WG5会議が三菱電機（株）名古屋工場となりました。近年の国際規格作成作業は、デジューで開催されました。折悪しく超大型の台風16号が近づル標準からデファクト標準へ、IT化へとの動向が著しく中での開会となりましたが、幸い海外からのメン

く、それに伴って、ISO 内、ISO ／ IEC 間の作業の重バーの到着には何ら影響はなく、三菱電機並びに複、意見の対立が顕著になる傾向にあります。殊にCLPA（CC − Link 協会）関係者のご尽力で、つつがなMSTC が担当している TC184（産業オートメーション

く会議を終えることができました。

システムと統合）は対象領域が非常に広範囲に渡るた

今回の名古屋会議には、ニュージーランド、米国、英め、それは避けがたいものと思われます。国際標準化国、韓国、ドイツ、フランスの 6 ヶ国から 10 名が来日作業の全体を俯瞰して ISO、IEC の上層委員会で速やし、7 月に投票が成立したばかりの ISO/NWIP 15745-

かに作業の調整が行われることが理想的なのですが、4 Amd 1（オープンシステム・アプリケーション統合フ

作業項目の高度化、複雑化、作業数の増大もあって、難レームワーク第 4 部イーサネット準拠制御システム追しい状況です。TC184でも、この問題を解決すべく、組補-1PROFINET（欧州））に関する討議と、日本からISO織の再構築を検討したのですが、結局各SC間の意見が15745-5 としてNWIPを提出する予定のHDLC（ハイレ纏まらず、再編は見送られる結果となりました。

ベル・データリンク制御）準拠のドラフトに関する討議

6 月に工業標準調査会から「国際標準化基盤強化アが主に行われました。ISO 15745 の作業は 1998 年に第クションプラン」が発行されましたが、産業活性化の1回の会議が香港で開催されて以来6年の間に、当初アためには、日本発の国際標準提案を目指していくと同メリカから提案されていたCANベースの規格から、日時に、規格作成作業中に生じた重複や対立を、その調本側の提案で欧州、日本のデファクトを取り入れた整を行う過程で、如何にわが国産業界に有利に運ぶか4 規格へと発展し、年に 3 〜 5 回は欧州、米国、豪州、という戦略も見逃せません。現に作業中の規格に様々アジアの各地で開催され、毎回激論が戦わされてきまなコメントをつけたり、異議を唱えたりして進行を遅した。（これまでに日本では 2000 年春に京都、同年秋らせ、その間に自国に有利に市場を広げるという作戦に東京と2回開催されています。
）
国際会議の常として、を成功させてしまった事例が存在します。誠実、公正

英語が機関銃のように猛烈な勢いで連発され、その議をモットーとする日本人が最も苦手とする駆け引きも、論の中に入り込んで日本の主張を貫くのは至難の技で国際標準化の世界には必要とされるので、国としてのす。日本側委員の方々のご苦労には本当に頭が下がり戦術と戦略が欠かせません。民間主導、企業の積極的ます。

な関わりは以前から言われてきたことですが、まず、年度初めの 4 月から毎月国際会議が開催され、その間を縫って対応する国内委員会が開催されたため、FA官民一体となって基本方針を策定することが肝要だと思われます。

SC5/WG5 名古屋会議参加メンバー

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各事業報告

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IA懇談会

Manufacturing Science and Technology Center

マニュファクチャリング オープン フォーラム 2004 東京を開催
前号（第 63 号）
でもご案内しましたとおり、製造業に三田 NN ホール（東京・三田）にて開催します。

おける技術標準化団体が一堂に会し、各団体が掲げるソセミナー会場にて、各団体のソリューション展示もリューションについて「オープンと連携」をテーマに発行っております。二日目は、パネルディスカッション表を行い、将来にわたって強い日本の製造業を支援するです。

ためにはどのようなオープン環境及び連携が重要なのか

なお、申し込み方法は各団体から連絡があります。

を学術団体とともにディスカッションするフォーラム

当財団 FA オープン推進協議会のホームページにも掲を、本年（平成 16 年）
11 月 16 日（火）、17 日（水）の両日、載しています。

主催

IA（インダストリアル・オートメーション）懇談会（座長：東京大学大学院情報理工学系研究科助教授

新誠一、事務局：財団法人製造科学技術センター）

イベント
参加団体

CC-Link協会、FAオープン推進協議会、JAVAのIA応用及び組み込み応用研究会、日本電機工業会／ネットワーク推進特別委員会、製造業XML推進協議会、
ODVA日本ベンダー協議会、日本OPC協議会、ORiN協議会、PLCopen JAPAN、
日本プロフィバス協会、
PSLXコンソーシアム、
日本AS-i協会 （以上技術標準化団体）
計測自動制御学会・産業応用部門／計測・制御ネットワーク部会 （学術団体）

参加費

事前申込：無料
当日：5,000円

セミナー、パネルディスカッションのスケジュール
第一日目（11月16日）
大ホール会場

時 間

会議室ABC

10：00〜10：25

開催挨拶

IA懇談会座長：新 誠一

10：30〜11：15

F-1：「FL-netの現状と今後の動向」
N-1：「JavaによるオープンIAアプリケーションとその連携」
日本電機工業会／ネットワーク推進特別委員会
JAVAのIA応用及び組み込み応用研究会

11：30〜12：15

N-2：「UML／XMLによるフレキシブルなエンジニ
F-2：「CC-Linkの普及活動と今後の技術動向」
CC-Link協会
アリング環境の実現に向けて」
FAオープン推進協議会（昼食）
13：15〜14：00

F-3：「CIPプロトコルによるオープンネットワークとプラン N-3：
「ロボット／FAネットワークミドルウェア」
ト情報化の提案〜DeviceNet・EtherNet/IP〜」
ORiN協議会
ODVA日本ベンダー協議会

14：15〜15：00「APSによる生産システムの革新」
F-4：「PROFIBUS・PROFINETが広げる工場ネッ N-4：
PSLXコンソーシアム
トワークの世界」
日本プロフィバス協会

15：15〜16：00

F-5：「XMLスキーマによるシーケンス表記の標準化」 N-5：
「XML技術による製造関連情報の統合化」
PLCopen Japan
製造業XML推進協議会

16：15〜17：00

N-6：「OPCの目指す真のオープン性と標準化」
F-6：「AS-iの省線化とAS-i Safetyの安全」
日本OPC協議会
日本AS-i協会

第二日目（11月17日）
時 間
10：00〜12：00

ディスカッションテーマ

司 会

D-1：製造現場を抱えるユーザ（製造の生産技術・生産管理・品質管理・保全管理 高野 正利の仕事関係者）にとっての「オープンと連携」（トヨタ自動車）（昼食）
13：00〜14：30
14：45〜16：15

D-2：フィールド系（計測・制御ネットワーク及びインタフェース）における「オープンと連携」

島貫D-3：情報管理系における「オープンと連携」

鮫嶋 茂稔（日立製作所）洋（東芝）

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各事業報告MSTC

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インバース・マニュファクチャリングフォーラム

活動状況
インバース・マニュファクチャリングフォーラムで演題で講演して頂き、委員の間で質疑を行いました。

は、製品ライフサイクル全体を通じて、資源やエネル

お二人のお話の内容は、それぞれ、「中国として、再生ギーの消費を少なくするなど、環境負荷を最小にしよ

資源は欲しいが、廃棄物を押しつけられるのは困るのうと調査研究を進めています。今年度は、いくつかので、日本やアメリカからの輸入廃棄物が中国の基準に委員会活動を進めていますが、ここでは、「グローバル合わないのなら、受け入れない。中国では、再生品が循環システム調査委員会」の活動をご紹介します。

新品として売られることがあり、日本にも入ってきて情報通信やロジスティックスの発展により、わが国います。金属加工特区を作って、ODAでキルン等の処の企業にも、事業活動がグローバルになり、製品の特理設備を設置したが、人の育成が追いつかなかった。

性に合わせて、適地で生産、適地で処理するという考認可取り消しの可能性もある。設備だけではなく技術え方が浸透してきています。また、日本の生産拠点がや人の援助も必要である。
」というのと、「JEITAでは、中国に移ってしまい、リユース、リサイクル可能な廃2000年から数回にわたって中国のリサイクル状況の調棄物が利用されないままになっている事もあります。

査を行っている。電気製品のリユースでは、新品同様

昨年度は、アジア各国での廃棄物処理の現状を調査しからキズだらけの廃品に近い物まで 7 段階に分けられて、キャパシティの大きな中国との間で、PCの中古利て再利用されている。原料の需要が旺盛で、業者は港用や、廃棄物処理を相互に分担する簡単なモデルシスで買い付けたスクラップを分別、リサイクル処理してテムを作って、コスト、環境負荷などの点から評価しいる。現場では手作業も多く、労働環境は良いとは言ました。今年は引き続き、両国にとって多くのメリッえない。日本の資本や技術へのニーズも高く現場レベトが得られるモデルシステムを提案、評価することをルでの協力も必要である。」というものでした。

目指しています。
本年度の活動の第一弾として、中国の廃棄物処理事情に詳しい方からお話を伺いました。
7 月 20 日（火）に、スワグエコロジーネットワークス

NHK スペシャルでも、「日本のゴミ大陸へ渡る−中国式リサイクル錬金術−」として 7 月 25 日（日）午後 9 時から 1 時間弱の放送がありました。

（株）社長の山口昌彦さんに「中国における電子機器リ両国にメリットのあるしくみを実現するには、技術イサイクル・リユースの実情報告」、8月23日（月）には、援助だけでなく、携わる人間の信頼関係をはじめとす（社）
電子情報技術産業協会（JEITA）のITリサイクル専る相互理解も重要だということも、これまでの議論の門委員会委員長の柄崎晃一さんに、「中国における電子なかで指摘されています。

電気製品の3R（Reduce, Reuse, Recycle）事情」、という

9

中国への廃棄物の移送は国民的関心事項であり、

各事業報告MSTC

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機械工業の安全化技術

活動状況
この事業は、新製造技術に関する調査研究の一つともに現状における問題点や課題を抽出し、あるべき安して平成15年度から17年度までの3カ年計画で取り組全確保対策の方向付けと普及のための方策を明らかにんでいます。

することにしています。

わが国製造業は、近年ユーザニーズの多様化による平成 15 年度においては、国際安全規格の体系とし短納期化・多種変量生産の進展、グローバル化によるて、（1）国際安全規格を理解する上で重要な用語の定国際分業化、環境問題への対応等大きく変化し、また、義、階層化構造からなる国際安全規格の構成（タイプ製造現場においても、生産効率を優先することから、

A：基本安全規格、タイプ B：グループ安全規格、タイ

事故につながり社会問題化していますが、安全の確保

プC：個別機械に関する安全規格）を解説するとともには企業の競争力に直結する重要課題となりつつありま

リスクアセスメントの評価方法を例示。
（2）
機械のユー

す。

ザ企業における安全対策の取り組み実態と課題。につ一方、国際的には、ISO において、リスクアセスメいてまとめました。

ントをベースとした安全規格 ISO12100、ISO14121 等

平成 16 年度においては、（1）機械メーカにおける安が制定され、わが国においてもそれを積極的に採り入全な機械を創出するための取り組み実態 と問題点と課れた JIS の制定手続きが進められています。

題の抽出。
（2）
業種横断的（機械共通）
な安全対策のあり

このような背景のもと、機械のユーザ及びメーカに方。についての調査研究に取り組んでいます。

おける安全確保への取り組み実態を明らかにするととMSTC

Manufacturing Science and Technology Center

トピックス

マルチメディア技術を活用した情報発信サービス開始
財団法人製造科学技術センターでは、財団のWebサてゆく予定です。

イトで、人間協調・共存のためのロボット基盤技術のなお、動作環境に制限がありますので、ホームペー研究開発、ものづくり産業の高度化・標準化研究開発、ジに記載のサービスを利用するために必要なパソコン

ものづくり産業における環境対応等の製造科学技術に等の動作環境をご覧ください。

関する情報提供サービスを始めました。このサービス
では、映像コンテンツの再利用性を飛躍的に高める映像ナレッジマネジメントシステムを使用し、映像／音声／テキストデータの統合活用という、新たなマルチメディア環境を提供することが可能となっています。
利用方法は、当財団のホームページ（www.mstc.or.jp）の「動画による情報提供サービス」より画面の指示に従いログインするとコンテンツを表示したトップ画面が表示されます。この画面でご覧になりたい映像をクリックすると、ストリーミングによる映像配信が始まります。
登録しているコンテンツが少ないため、映像ナレッ
ジマネジメントシステムを十分に活用するところまで至っていませんが、これからコンテンツの充実を図っ10財団法人 製造科学技術センタ−
丸ノ内線霞ヶ関
日比谷線
霞ヶ関● 本部千代田線霞ヶ関〒105-0002 東京都港区愛宕1-2-2 第9森ビル 7F
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財務省

・地下鉄虎ノ門駅4番出口より徒歩7分
・地下鉄神谷町駅3番出口より徒歩7分
・地下鉄内幸町駅A3番出口より徒歩10分
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2004.10.13