汚水等排出施設
水質汚濁防止法施行令別表第１に掲げる施設で、第２号～第５９号、第６１号～第６３号、第６３号の３、第６４号、第６５号～第６６号の２、第７１号の５及び第７１号の６に掲げる施設※1

色部分が有害物質を排出する汚水発生施設（排出水量に関係なく選任）※2

その他汚水発生施設は総排出水量が1日当たり1,000㎥以上の場合に選任

号
2

施

設

名5設

区

イ 原料処理施設
ロ 洗浄施設（洗びん施設を含む。）
ハ 湯煮施設水産食料品製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 水産動物原料処理施設
ロ 洗浄施設ハ 脱水施設ニ ろ過施設ホ 湯煮施設イ 原料処理施設
ロ 洗浄施設ハ 圧搾施設二 湯煮施設34

施畜産食料品製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

野菜又は果実を原料とする保存食料品製造業の用に供する施設であって、次に掲げる
もの
みそ、しょう油、食用アミノ酸、グルタミ
ン酸ソーダ、ソース又は食酢の製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 原料処理施設
ロ 洗浄施設ハ 湯煮施設ニ 濃縮施設ホ 精製施設
ヘ ろ過施設小麦粉製造業の用に供する洗浄施設
6

砂糖製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの
789

パン若しくは菓子の製造業又は製あん業の用に供する粗製あんの沈でんそう
米菓製造業又はこうじ製造業の用に供する
洗米機
飲料製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

10

動物系飼料又は有機質肥料の製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの
1112

イ 原料処理施設
ロ 洗浄施設（流送施設を含む。）
ハ ろ過施設ニ 分離施設ホ 精製施設動植物油脂製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 原料処理施設
ロ 洗浄施設（洗びん施設を含む。）
ハ 搾汁施設ニ ろ過施設ホ 湯煮施設ヘ 蒸りゅう施設
イ 原料処理施設
ロ 洗浄施設ハ 圧搾施設二 真空濃縮施設
ホ 水洗式脱臭施設
イ 原料処理施設ロ 洗浄施設
ハ 圧搾施設
二 分離施設分号13141516

施

設

名施

設

区

イースト製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 原料処理施設
ロ 洗浄施設ハ 分離施設でん粉又は化工でん粉の製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 原料浸せき施設
ロ 洗浄施設（流送施設を含む。）
ハ 分離施設二 渋だめ及びこれに類する施設
イ 原料処理施設
ロ ろ過施設ハ 精製施設ぶどう糖又は水あめの製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

分

麺類製造業の用に供する湯煮施設

豆腐又は煮豆の製造業の用に供する湯煮施
設
インスタントコーヒー製造業の用に供する
18
抽出施設
冷凍調理食品製造業の用に供する施設で18の2 あって、次に掲げるもの
17

たばこ製造業の用に供する施設であって、18の3 次に掲げるもの

紡績業又は繊維製品の製造業若しくは加工業の用に供する施設であって、次に掲げる
もの19

イ 原料処理施設
ロ 湯煮施設ハ 洗浄施設イ 水洗式脱臭施設
ロ 洗浄施設イ まゆ湯煮施設
ロ 副蚕処理施設
ハ 原料浸せき施設
二 精練機及び精錬そう
ホ シルケット機
へ 漂白機及び漂白そう
ト 染色施設チ 薬液浸透施設
リ のり抜き施設
上記の施設でトリクロロエチレン又はテトラクロロエ
チレンを使用する染色又は薬液浸透の用に供するものに限る。

20

洗毛業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 洗毛施設ロ 洗化炭施設21

化学繊維製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 湿式紡糸施設
ロ リンター又は未精錬繊維の薬液処理施設
ハ 原料回収施設

一般製材業又は木材チップ製造業の用に供21の2 する湿式バーカー
21の321の422

合板製造業の用に供する接着機洗浄施設
パーテイクルボード製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの
木材薬品処理業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 湿式バーカー
ロ 接着機洗浄施設
イ 湿式バーカー
ロ 薬液浸透施設
上記の施設で、六価クロム化合物又は砒素化合物を使用する木材の薬品処理の用に供するものに限る。

2号

施設

名施設

区

パルプ、紙又は紙加工品の製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 原料浸せき施設
ロ 湿式バーカー
ハ 砕木機
二 蒸解施設ホ 蒸解廃液濃縮施設
へ チップ洗浄施設及びパルプ洗浄施設
ト 漂白施設チ 抄紙施設（抄造施設を含む。）
リ セロハン製膜施設
ヌ 湿式繊維板成型施設
ル 廃ガス洗浄施設

新聞業、出版業、印刷業又は製版業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 自動式フイルム現像洗浄施設
ロ 自動式感光膜付印刷現像洗浄施設

23分

上記の施設で、トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを使用する自動式のフイルムの現像洗浄又は自動式の感光膜付印刷版の現像洗浄の用に供するものに限る。

23の2

化学肥料製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

2425

イ ろ過施設ロ 分離施設ハ 水洗式破砕施設
二 廃ガス洗浄施設
ホ 湿式集じん施設
上記の施設で、ふつ素若しくはその化合物を含有する物質、ほう素若しくはその化合物又はアンモニア、アンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物を原料として使用する化学肥料の製造の用に供するものに限る。
水銀電解法によるか性ソーダ又はか性カリ イ 塩水精製施設の製造業の用に供する施設であって、次に ロ 電解施設
掲げるもの
無機顔料製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

26

27

イ 洗浄施設ロ ろ過施設ハ カドミウム系無機顔料製造施設のうち、遠心分離機
ニ 群青製造施設のうち、水洗式分別施設
ホ 廃ガス洗浄施設
上記の施設で、カドミウム若しくはその化合物、鉛若しくはその化合物又は水銀若しくはその化合物を含有する無機顔料の製造の用に供するものに限る。
前２号に掲げる事業以外の無機化学工業製 イ ろ過施設
品製造業の用に供する施設であって、次に ロ 遠心分離機
掲げるもの
ハ 硫酸製造施設のうち、亜硫酸ガス冷却洗浄施設
ニ 活性炭又は二硫化炭素の製造施設のうち、洗浄施設
ホ 無水けい酸製造施設のうち、塩酸回収施設
へ 青酸製造施設のうち、反応施設
ト よう素製造施設のうち、吸着施設及び沈でん施設
チ 海水マグネシア製造施設のうち、沈でん施設
リ バリウム化合物製造施設のうち、水洗式分別施設
ヌ 廃ガス洗浄施設
ル 湿式集じん施設
上記の施設で、水質汚濁防止法施行令第二条各号に掲げる物質（以下「有害物質」という。）又はこれらを含有する物質を原料又は触媒として使用する無機化学工業製品の製造の用に供するもの及び黄燐の製造の用に供するものに限る。

3号

施設

名

カーバイド法アセチレン誘導品製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

282930施設

区分

イ 湿式アセチレンガス発生施設
ロ 酢酸エステル製造施設のうち、洗浄施設及び蒸りゅう施設
ハ ポリビニルアルコール製造施設のうち、メチルアルコール蒸りゅう施設
ニ アクリル酸エステル製造施設のうち、蒸りゅう施設
ホ 塩化ビニルモノマー洗浄施設
へ クロロプレンモノマー洗浄施設

上記の施設で、塩化ビニルモノマーの製造の用に供するものに限る。
コールタール製品製造業の用に供する施設 イ ベンゼン類硫酸洗浄施設
であって、次に掲げるもの
ロ 静置分離器
ハ タール酸ソーダ硫酸分解施設
発酵工業（第５号、第１０号及び第１３号 イ 原料処理施設に掲げる事業を除く。）の用に供する施設 ロ 蒸りゅう施設であって、次に掲げるもの
ハ 遠心分離機
ニ ろ過施設
メタン誘導品製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

31

イ メチルアルコール又は四塩化炭素の製造施設のうち、蒸りゅう施設
ロ ホルムアルデヒド製造施設のうち、精製施設
ハ フロンガス製造施設のうち、洗浄施設及びろ過施設
上記の施設で、トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを原料として使用するフロンガスの製造の用に供するものに限る。

有機顔料又は合成染料の製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ ろ過施設ロ 顔料又は染色レーキの製造施設のうち、水洗施設
ハ 遠心分離機
ニ 廃ガス洗浄施設
上記の施設で、トリクロロエチレン若しくはテトラクロロエチレンを原料として使用する有機顔料又は合成染料の製造の用に供するもの又は銅フタロシアニン系顔料の製造の用に供するものに限る。

合成樹脂製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 縮合反応施設
ロ 水洗施設ハ 遠心分離機
ニ 静置分離器
ホ 弗素樹脂製造施設のうち、ガス冷却洗浄施設及び蒸りゅう施設
へ ポリプロピレン製造施設のうち、溶剤蒸りゅう施設
ト 中圧法又は低圧法によるポリエチレン製造施設のうち、溶剤回収施設
チ ポリブテンの酸又はアルカリによる処理施設
リ 廃ガス洗浄施設
ヌ 湿式集じん施設

3233

上記の施設で、塩化ビニルモノマーを原料として使用する合成樹脂の製造の用に供するもの、トリクロロエチレン若しくはテトラクロロエチレンを溶剤として使用するふつ素樹脂の製造の用に供するもの、一・四―ジオキサンを溶剤として使用する合成樹脂の製造の用に供するもの又はポリエチレンテレフタレートの製造の用に供するものに限る。

4号

施設

名設区

分

合成ゴム製造業の用に供する施設であって、次に掲げるものイ ろ過施設
ロ 脱水施設ハ 水洗施設ニ ラテックス濃縮施設
ホ スチレン・ブタジエンゴム、ニトリル・ブタジエン
ゴム又はポリブタジエンゴムの製造施設のうち、静置分離器
上記の施設で、テトラクロロエチレンを含有する物質若しくは二―クロロエチルビニルエーテルを原料として使用する合成ゴムの製造の用に供するもの又はニトリル・ブタジエンゴムの製造の用に供するものに限る。

有機ゴム薬品製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 蒸りゅう施設
ロ 分離施設ハ 廃ガス洗浄施設
上記の施設で、二―クロロエチルビニルエーテルの製造の用に供するものに限る。

合成洗剤製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 廃酸分離施設
ロ 廃ガス洗浄施設
ハ 湿式集じん施設

343536

施

イ 洗浄施設前６号に掲げる事業以外の石油化学工業（石油又は石油副生ガス中に含まれる炭化 ロ 分離施設
水素の分解、分離その他の化学的処理によ ハ ろ過施設り製造される炭化水素又は炭化水素誘導品 ニ アクリロニトリル製造施設のうち、急冷施設及び蒸りゅの製造業をいい、第５１号に掲げる事業を う施設
ホ アセトアルデヒド、アセトン、カプロラクタム、テレフ除く。）の用に供する施設であって、次に タル酸又はトリレンジアミンの製造施設のうち、蒸りゅう施掲げるもの
設
へ アルキルベンゼン製造施設のうち、酸又はアルカリによる処理施設
ト イソプロピルアルコール製造施設のうち、蒸りゅう施設
及び硫酸濃縮施設
チ エチレンオキサイド又はエチレングリコールの製造施設のうち、蒸りゅう施設及び濃縮施設
リ 二ーエチルヘキシルアルコール又はイソブチルアルコー
ルの製造施設のうち、縮合反応施設及び蒸りゅう施設
ヌ シクロヘキサノン製造施設のうち、酸又はアルカリによる処理施設
ル トリレンジイソシアネート又は無水フタル酸の製造施設のうち、ガス冷却洗浄施設
オ ノルマルパラフィン製造施設のうち、酸又はアルカリによる処理施設及びメチルアルコール蒸りゅう施設
ワ プロピレンオキサイド又はプロピレングリコールのけん化器
カ メチルエチルケトン製造施設のうち、水蒸気凝縮施設
ヨ メチルメタアクリレートモノマー製造施設のうち、反応施設及びメチルアルコール回収施設
タ 廃ガス洗浄施設

37

上記の施設で、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、アクリロニトリル、テレフタル酸（カドミウム化合物を触媒として使用して製造するものに限る。）、メチルメタア
クリレートモノマー、ウレタン原料（硝酸化合物を原料として使用して製造するものに限る。）、高級アルコール（一分子を構成する炭素の原子の数が六個以上のアルコールをいい、ほう素化合物を触媒として使用して製造するものに限る。）、キシレン（ほう素化合物を触媒として使用し、又はふつ素化合物を溶剤として使用して製造するものに限る。）、アルキルベンゼン（ふつ素化合物を触媒として使用して製造するものに限る。）若しくはエチレンオキサイドの製造の用に供するもの又はエチレンオキサイドを原料として使用する石油化学製品の製造の用に供するものに限る。

38

石けん製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 原料精製施設
ロ 塩折施設

5号

施設

名

施設

区

分

界面活性剤製造業の用に供する反応施設
38の2 （一・四-ジオキサンが発生するものに限り、洗浄装置を有しないものを除く。）

39
40

硬化油製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 脱酸施設ロ 脱臭施設脂肪酸製造業の用に供する蒸りゅう施設
香料製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

41

イ 洗浄施設ロ 抽出施設

上記の施設で、トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを使用する抽出の用に供するものに限る。

42

ゼラチン又はにかわの製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

43

写真感光材料製造業の用に供する感光剤洗浄施設

44

天然樹脂製品製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

45

木材化学工業の用に供するフルフラール蒸りゅう施設
第２８号から前号までに掲げる事業以外の有機化学工業製品製造業の用に供する施設
であって、次に掲げるもの

46

イ 原料処理施設
ロ 石灰づけ施設
ハ 洗浄施設イ 原料処理施設
ロ 脱水施設イ 水洗施設ロ ろ過施設ハ ヒドラジン製造施設のうち、濃縮施設
ニ 廃ガス洗浄施設
上記の施設で、有害物質若しくはこれらを含有する物質を原料若しくは触媒として使用し、又はトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン若しくは一・四―ジオキサンを溶剤として使用する有機化学工業製品の製造の用に供するものに限る。

医薬品製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

47

火薬製造業の用に供する洗浄施設
48

イ 動物原料処理施設
ロ ろ過施設ハ 分離施設ニ 混合施設（第２条各号に掲げる物質を含有する物を混合するものに限る。以下同じ。）
ホ 廃ガス洗浄施設
上記の施設で、水銀若しくはその化合物、鉛若しくはその化合物若しくは砒素若しくはその化合物若しくはこれらを含有する物質を原料若しくは触媒として使用し、又はトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン若しくは一・四―ジオキサンを溶剤として使用する医薬品の製造の用に供するものに限る。
左記の施設で、ほう素若しくはその化合物、ふつ素若
しくはその化合物又はアンモニア、アンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物を原料として使用する火薬の製造の用に供するものに限る。

49

農薬製造業の用に供する混合施設

50

水質汚濁防止法施行令第２条各号に掲げる 左記の施設で、トリクロロエチレン、テトラクロロエ物質を含有する試薬の製造業の用に供する チレン又は一・四―ジオキサンの試薬の製造の用に供試薬製造施設するものに限る。

6号

施設

名

石油精製業（潤滑油再生業を含む。）の用に供する施設であって、次に掲げるもの
51

施設

区

分

イ 脱塩施設ロ 原油常圧蒸りゅう施設
ハ 脱硫施設ニ 揮発油、灯油又は軽油の洗浄施設
ホ 潤滑油洗浄施設
上記の施設で、トリクロロエチレンを使用する潤滑油の洗浄の用に供するものに限る。

自動車用タイヤ若しくは自動車用チューブの製造業、ゴムホース製造業、工業用ゴム
51の2 製品製造業（防振ゴム製造業を除く。）、
更生タイヤ製造業又はゴム板製造業の用に供する直接加硫施設
医療用若しくは衛生用のゴム製品製造業、ゴム手袋製造業、糸ゴム製造業又はゴムバ
51の3ンド製造業の用に供するラテックス成形型
洗浄施設
皮革製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの
52

ガラス又はガラス製品の製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 研摩洗浄施設
ロ 廃ガス洗浄施設
上記の施設で、硫化カドミウム、炭酸カドミウム、酸化鉛、ほう素若しくはその化合物若しくはふつ素化合物を原料として使用するガラス若しくはガラス製品の製造の用に供するもの又はトリクロロエチレン若しく
はふつ素若しくはその化合物を使用する研摩洗浄の用に供するものに限る。

53

54

セメント製品製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

55

生コンクリート製造業の用に供するバッ
チャープラント56

有機質砂かべ材製造業の用に供する混合施設

57

イ 洗浄施設ロ 石灰づけ施設
ハ タンニンづけ施設
ニ クロム浴施設
ホ 染色施設イ 抄造施設ロ 成型機
ハ 水養生施設（蒸気養生施設を含む。）

人造黒鉛電極製造業の用に供する成型施設
窯業原料（うわ薬原料を含む。）の精製業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

58

イ 水洗式破砕施設
ロ 水洗式分別施設
ハ 酸処理施設
ニ 脱水施設
上記の施設で、ほう素化合物を原料として使用するうわ薬原料の精製の用に供するものに限る。

5961

砕石業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

イ 水洗式破砕施設
ロ 水洗式分別施設

鉄鋼業の用に供する施設であって、次に掲
げるもの

イ タール及びガス液分離施設
ロ ガス冷却洗浄施設
ハ 圧延施設ニ 焼入れ施設
ホ 湿式集じん施設

上記の施設で、コークスの製造又は転炉ガスの冷却洗浄の用に供するものに限る。

7号

施設

名

非鉄金属製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの

62

63

施設

区

分

イ 還元そうロ 電解施設（溶融塩電解施設を除く。）
ハ 焼入れ施設
ニ 水銀精製施設
ホ 廃ガス洗浄施設
ヘ 湿式集じん施設

上記の施設で、銅、鉛若しくは亜鉛の第一次製錬若し
くは鉛若しくは亜鉛の第二次製錬、水銀の精製又はふつ素化合物を原料として使用するウランの酸化物の製造の用に供するものに限る。
金属製品製造業又は機械器具製造業（武器 イ 焼入れ施設製造業を含む。）の用に供する施設であっ ロ 電解式洗浄施設て、次に掲げるもの
ハ カドミウム電極又は鉛電極の化成施設
ニ 水銀精製施設
ホ 廃ガス洗浄施設
上記の施設で、液体浸炭による焼入れ、シアン化合物若しくは六価クロム化合物を使用する電解式洗浄、カドミウム電極若しくは鉛電極の化成又は水銀の精製の用に供するものに限る。

63の3

石炭を燃料とする火力発電所のうち、廃ガ
ス洗浄施設

ガス供給業又はコークス製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの
64

イ タール及びガス液分離施設
ロ ガス冷却洗浄施設（脱硫化水素施設を含む。）
上記の施設で、コークス炉ガス又はコークスの製造の用に供するものに限る。

酸又はアルカリによる表面処理施設

左記の施設で、クロム酸、ほう素若しくはその化合物、ふつ素若しくはその化合物又はアンモニア、アンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物による表面処理の用に供するものに限る。

電気めっき施設

左記の施設で、カドミウム化合物、シアン化合物、六価クロム化合物、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、ほう素化合物、ふつ素化合物又はアンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物を使用する電気めつきの用に供するものに限る。

65

66

エチレンオキサイド又は一・四―ジオキサンの混合施設（前各号に該当するものを除66の2 く。）
トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
71の5 ン又はジクロロメタンによる洗浄施設（前各号に該当するものを除く。）

トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
ン又はジクロロメタンの蒸留施設（前各号
71の6 に該当するものを除く。）

8