中長期的な価値創造ストーリー

Chapter 2

マテリアリティ (重要分野)
主な取り組みマテリアリティの特定
当社は、社会における課題や事業環境の把握、リスクと機会らを支えるガバナンス、コンプライアンス、リスクマネジメントおの検討、ステークホルダーの皆さまからのご意見やご要望の整

よび社員エンゲージメントなど「経営基盤」の充実を図っていき理をおこない、CEOおよびサステナビリティに関係する取締役・ます。

執行役員の承認のもと、マテリアリティを特定しています。

• 業界のリーディングカンパニーとして育んだ豊かな技術力を生かし、革新的な技術に基づく付加価値の高い next-generation productsをタイムリーかつ継続的に創出
製品競争力

付加価値の高いnext-generation productsの継続的な創出メーカーである当社の成長を牽引し、将来お客さまが必要とお客さまとの絶対的な信頼関係のもと半導体の技術革新を追製品競争力

絶対的な信頼関係
唯一無二の戦略的パートナー

経営効率向上の
追求

顧客対応力

生産性向上

る事業活動において経営効率を追求する「生産性向上」にそれ

顧客対応力

ぞれ取り組むとともに、利益に基づく強い財務基盤のもと、これ経営基盤

マテリアリティの特定プロセス※1
ステークホルダー
エンゲージメント※2

社会における課題

株主・投資家さま

マテリアリティの特定⚫異常気象や自然災害、人権問題や国家間紛争、サプライチェーンの停滞、サイバーアタックなど⚫中 長期的な成長の実現と企業価
値の向上⚫社 会における重要性と事業における重要性からマテリアリティを特定⚫デ ータ社会への移行が急速に進み、その根幹を支える半導体市場もさらに成長お客さま⚫ Best Productsと BestTechnical Service の提供
お取引先さま⚫半導体製造装置（WFE ※3）市場は今後より一層拡大⚫当社との協働による製品やサービスのさらなる付加価値の向上⚫地球環境保全の対応

社員

社会テーマにおけるリスクと機会⚫環境、人権、サプライチェーンマネ
ジメント、ガバナンス、コンプライ
アンス、テクノロジーの進化、情報
セキュリティにおけるリスクへの対応と事業機会の創出⚫夢と活力に満ち、社員がチャレンジ精神を発揮できる職場環境の創出
地域社会⚫地域の活性化や環境保全の推進、および納税⚫産 業や社会の課題解決や発展に貢献するソリューションの提供

ベーションの創出および価値創造に寄与• 生産性の向上を追求し継続的に経営効率を高める• サステナブルな生産消費
形 態を 推 進することで、産業や社会の発展に貢献
し、経済成長に寄与• 企業としての継続的な成長を根底で支える強靭で健全な経営基盤の構築• 経営の意思決定と監督機能を十分に働かせるべく、実効性の高いコーポレートガバナ
ンス体制の構築⚫ CEOおよびサステナビリティに関係する取締役・執行役員による話
し合いと承認• コンプライアンスおよびリスクマネジメントのさらなる強化
経営基盤• 半導体の技術革新への貢献や、製品や事業所、サプライチェーンにおける取り組みによる地球環境の保全• 持 続的な成長を実現する• 高い倫理観に基づく人権尊重の実践

特定した
マテリアリティ行政機関・各種団体• 業務システムの統合およびデータベース一元化などによりグループ全体で標準化や効率化、自動化を推進• 技術・市場動向の分析やお客さまの投資計画に基づく綿密な生産計画の立案、また安定的な部材調達の推進による製造オペレーションの最適化と平準化⚫各マテリアリティにおける年度目
標※1の決定と取り組む SDGs ※4の明確化

社会における重要性⚫コーポレートガバナンスのさらな
る強化

ビスの提供

• 多彩な製品ラインアップを有する半導体製造装置メーカーとして、お客さまの価値創 • 安 全・環境への配慮など
により、お 客さまのイノ造に寄与する最適なソリューションの提案• 業務効率化や品質を優先したオペレーションの実践に取り組み、経営効率を継続的に追求

マテリアリティの特定
生産性向上

事業環境

• お客さまにとって唯一無二の戦略的パートナーとなるべく、創業以来、重要な経営テー • 最適なソリューションの提案や付加価値の高いサーマとして取り組む顧客満足のさらなる向上• 最先端の AI やデジタル技術、ナレッジマネジメントツールなどを駆使した付加価値の高いサービスの提供により、さまざまな世代の装置の長期安定稼動をサポート

課題の認識

サービスを提供すること
で、サステナブルな社会の構築に寄与• お客さまのご要望を的確かつ迅速に把握し、先の世代を見据えた革新的な技術の提供を通じて、最先端の半導体デバイスとディスプレイの製造に貢献求するための「顧客対応力」、事業規模が飛躍的に拡大する中、研究開発、調達・製造、販売、据付・保守サービスなどのあらゆ• 技術革新の要請に応えるべく、お客さまと複数世代にわたる技術ロードマップを共創 • イノベーションの促進によし、また世界屈指のコンソーシアムやアカデミアとの協業により、最先端の研究開発を り革新的な技術を創出• 環 境 に 配 慮した 製 品 やグローバルに推進• データや AIを活用したデジタルトランスフォーメーションの推進による開発力および製品競争力の強化

する付加価値の高い next-generation productsを継続的に創出する「製品競争力」、唯一無二の戦略的パートナーとして、SDGs への取り組み• 社員の多様性を尊重し、個々の能力が最大限発揮できる、夢と活力に満ちた職場環境の構築

強固な経営基盤を構築• 人 権 尊 重 の 取り組 み や
環境への配慮、サプライチェーンにおける価値創造などを推進当社では、2030年までに世界が目指す共通目標である事業における重要性

SDGs に対する事業を通じた取り組みをマテリアリティごとに明確にし、グループ全体に展開しています。2022年3月期は※1 マテリアリティの特定プロセスの詳細は「東京エレクトロン サステナビリティレポート 2022」の「マテリアリティの特定」、年度目標の詳細は「サステナビリティ年度目標と実績」参照
www.tel.co.jp/sustainability/report/※2 P. 25 ステークホルダーエンゲージメント 参照※3 WFE: Wafer Fab Equipment。半導体製造工程には、ウェーハ状態で回路形成・検査をする前工程と、そのウェーハをチップごとに切断し、組み立て・検査をする後工程がある。半導体前工程製造装置は、この前工程で使用される製造装置のこと。また半導体前工程製造装置は、ウェーハレベルパッケージング用の装置を含む※4 SDGs: Sustainable Development Goals。持続可能な開発目標

13 東京エレクトロン 統合報告書 202217の目標に加え169のターゲット※5について再確認をおこないました。
※5 詳細は「東京エレクトロン サステナビリティレポート 2022」の「SDGs169のターゲット」参照
www.tel.co.jp/sustainability/report/

東京エレクトロン 統合報告書 2022

14

Chapter 2

中長期的な価値創造ストーリー

中期経営計画
前中期経営計画

新中期経営計画

前中期経営計画の振り返り

3. パートナー企業さまとの密なコミュニケーションと協業

当社は2022年に節目となる第60期を迎えさらなる成長を

コーポレートガバナンス

当社は、2019年5月に中期経営計画を策定し､ 2024年3

2021年には、WFE 市場が前年比約40％増加と大きく成長

目指すにあたり、新たなビジョンとともに新中期経営計画を

前述の主な取り組みの遂行においては、経営基盤として実月期までに売上高2兆円、営業利益率30% 以上、ROE30％以した一方、世界的な部材の調達不足が生じました。そのよう策定しました。これからも Best Products、Best Technical

効性の高いコーポレートガバナンスを確実に展開することが上という財務モデルを掲げ、その実現に取り組んできました。半な中、当社はパートナー企業さまへ継続的かつ定期的に情Serviceを常に追求し、短期および中長期的な利益の拡大と重要です。その一環として、当社は2022年6月にコーポレート

導体製造装置 (WFE) 市場が大きく拡大する中、当社の注力分

報提供をおこなうことにより、協力体制を構築して部材の調継続的な企業価値の向上を目指していきます。

オフィサー制度を導入しました。CEOを含むコーポレートオ

野における事業展開が順調に進捗したことで市場成長をアウト

達を円滑に進めることで生産量が増加し、業績は市場成長を

パフォームし、2022年3月期は売上高2兆38億円、営業利益率

大きく上回りました。

財務目標と主な取り組み

29.9%、ROE37.2%と過去最高の業績となり、目標とする財務モデルを2年前倒しで達成しました。この主な要因は以下のとお

時価総額
当社の時価総額は前述のような業績の向上を背景に、過去りです。

10年で10倍以上の増加となりました。

1. 成長投資の継続

フィサーは、執行側の最高意思決定機関として位置づけている
コーポレートオフィサーズ・ミーティングにおいて、CEOと同

2027年3月期までに売上高3兆円以上の規模で、営業利益

じ視座による意見交換や議論を展開し、重要な意思決定を迅

率35% 以上、ROE30％以上を達成するという財務目標を設速におこないます。また、コーポレートオフィサーが各責任部定しました。ワールドクラスの利益の創出を目指し、強靭な財門において重要決定事項を速やかに共有するとともに、より強務体質の構築に努めていきます。

い連携のもと機動的でダイナミックな業務執行を実現します。

当社は､ WFE 市場の調整期において売上高が減少した際研究開発や生産能力の増強など近年における当社の積極も、投資の手綱を緩めることなく継続的に増加させ、過去5的な成長投資に加え、優秀な人材の確保、お客さまやお取引

年間で約6,000億円の研究開発費を投入することにより、業先さまとの協業などバランスシート上には表現されない価値界をリードする技術革新の維持向上に努めてきました。このが株式市場に評価された結果、純資産と比較して時価総額が

売上高

3兆円以上

大きく増加しました。

営業利益率35% 以上ROE

30% 以上ことにより、付加価値の高い最先端技術を有する新機能や新製品の開発および市場への投入が進み、新しいビジネスの獲得につながりました。また、継続的に設備投資をおこない、今後も株主価値および企業価値の向上を目指し、積極的な

した。

純資産

Technical Serviceを継続的に提供することです。2020年

さまや海外現地法人との密なコミュニケーションにより、営業時価総額 最高値更新
10兆7,563億円の信頼関係を強固なものにし、業績の向上に寄与しました。

もって、適切なバランスシート・マネジメントに努めることを基高め、キャッシュ・フローの拡大に努めることで、持続的な成長を目指し、ROE 向上など高い資本効率を追求します。

長投資を継続し、5年間で1兆円以上の研究開発費を80,000投入

60,0009兆9,436億円（2022年3月31日）

8,552億円帰属する当期純利益に対する配当性向50％を目処とします。

ン事業の強化

ただし、1株当たりの年間配当金は150円を下回らないこと

5,986億円(2012年3月31日)

20,000• 業界における持続可能なサプライチェーン構築に向け（2012年3月31日）

1兆3,470 億円(2022年3月31日)

当社の配当政策は、業績連動型を基本とし、親会社株主に• 業界最大の出荷実績を生かしたフィールドソリューショ• データ､ AIを活用した生産性および付加価値の向上
40,000

株主還元についての考え方※とします。また、自己株式の取得については、機動的に実施を検討することとしています。
※ ２期連続で当期利益を生まなかった場合は、配当金の見直しを検討て E-COMPASS ※1を推進• 2050年に向けた長期環境目標を改定し、温室効果ガ
ス排出量を実質ゼロにする「ネットゼロ」を宣言すると

財務モデル（～ 2024年3月期）

2022年
3月期
実績

1.5兆円 1.7兆円 2兆円

2兆38億円

15 東京エレクトロン 統合報告書 2022

軸として以下の取り組みを推進していきます。

サービスを提供

前中期経営計画に対する進捗>30%

的な株主還元に継続的に取り組み、中長期的な成長の視点を• 今後の成長機会を最大限取り込むために積極的な成しそのチャレンジ精神を十分に発揮することで、お客さまとROE「顧客対応力」「生産性向上」「経営基盤」のマテリアリティを（2022年1月4日）

100,000のエンジニアのスキルアップに努めることで、現地の対応力を強化しました。社員が環境の変化に柔軟かつ迅速に対応

資本政策と株主還元策本としています。具体的には、営業利益率と資産効率をさらに活動や装置の立ち上げ、サービスを滞りなく提供することができました。また、日本からの駐在者を増やすとともに、現地成長戦略などについての深い議論を実施する体制を整えます。

当社の資本政策は、成長投資に必要な資金を確保し、積極• 高 付加価値の最先端技術を有する製品と最良の技術

初頭からは、新型コロナウイルス感染症の蔓延によって渡航制限の影響を受けましたが、そのような状況においてもお客機能の強化を図り、より重要性の高い中長期的な経営課題と新中期経営計画の達成を目指すにあたり、「製品競争力」

120,000

当社の基本戦略は、付加価値の高い Best Productsと Best28%

財務目標（～2027年3月期）

資本効率についての考え方

時価総額と純資産の推移
時価総額

営業利益率 26.5%

行側に適切に権限委譲をすることで、取締役会における監督（億円）

2. 機動的な事業戦略の遂行

売上高

財務目標

成長投資を継続していきます。

生産能力を計画的に整えていたため、2021年においては当社が取り扱うすべての半導体製造装置のシェアが向上しま

本制度により、執行側の体制を強化し取締役会から業務執

>30%

29.9%
37.2%

0
2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022

ともに、目標達成に向けた活動を展開• 継続的な企業価値の向上に関する重要指標※2の明確化※1 P. 41 E-COMPASS参照※2 P. 17 継続的な企業価値の向上に関する重要指標 参照

東京エレクトロン 統合報告書 2022

16

中長期的な価値創造ストーリー

Chapter 2

継続的な企業価値の向上に関する重要指標
新中期経営計画において継続的な企業価値の向上に関する重要指標を明確にし、各指標における責任者のもと達成に向けた

対象分野

指標
• 常に最適で実効性の高い取締役会と攻めの経営執行体制を構築し、取締役会の実効性評価や機関投資家などからの意見を踏まえた課題に継続的に取り組むことで、中長期的な企業価値向上と持続的成長に向けた強固なガバナンスを実現

さまざまな活動を展開しています。
対象分野

財務

指標

達成時期

• 売上高: 3兆円以上

2027年3月期• 営業利益率: 35% 以上

2027年3月期• ROE: 30% 以上

2027年3月期

1. 実効性の高い取締役会を目指して• 監査役会設置会社: 社外取締役比率1/3（女性2名）、監査役を含めた自由
闊達な議論• オフサイトミーティング: 中長期的な戦略・課題などの議論（年2回）• CEO 報告: 取締役会で CEO 自ら重要な業務執行状況を報告（毎取締役会）
毎期• CEOミッション: 新中期経営計画達成に向けた CEOミッションの共有• 代表取締役評価クローズドセッション: 代表取締役を除く取締役・監査役によるセッション（年１回）

コーポレートガバナンス• 5年間で1兆円以上の研究開発費の投入による付加価値の高い next-generation
2027年3月期
products の継続的な創出

研究開発

事業所

環境

物流

製品

• CO2総排出量: 70% 削減 (2019年3月期比)

2031年3月期• 再生可能エネルギー使用比率: 100%

2031年3月期• 各事業所におけるエネルギー使用量 (原単位): 前期比1% 削減

毎期• 各事業所における水使用量 (原単位): 各基準期水準を維持

毎期

2. 業務執行を支えるオペレーティングリズム• コーポレートオフィサーズ・ミーティング: 執行側の最高意思決定機関（月1回）• CSS（Corporate Senior Staff）: 全社業務執行のグローバル横串の連携（年４回）• 四半期レビュー会議: 新中期経営計画の進捗をモニタリング（年４回）• 強固な経営基盤を支える実効性の高いリスクマネジメント体制の構築とさらなる改善•「Safety,Quality and Compliance. Our top priority. It’s our pride.」の標語を掲げ、リスクマネジメントおよびコンプライアンス遵守を強化
本社コンプライアンス専任部署やチーフ・コンプライアンス・オフィサー、リージョナル・コンプライアンス・コントローラーを設置するとともに外部機関によるアセスメントの実施や教育を展開• 執行側の最高意思決定機関であるコーポレートオフィサーズ・ミーティング、お 毎期
よび取締役会への報告 ( 年２回)を通じて監督・モニタリングを実施• 当社グループ全体において適切な対策を確実に実施するため、リスクマネジメ
ント委員会を中心に事業を遂行する上で想定されるリスク (2023年3月期は13項目のリスク)を特定し、各社の活動に展開• 安全・コンプライアンス・リスクマネジメントに関する啓発活動を継続的に実施し、全役員・全社員一人ひとりの意識、および自律的かつ具体的な取り組みを
人事評価に反映• モーダルシフトおよび共同配送のさらなる推進による物流全体 (自社配送分) の2027年3月期
CO2排出量: 10% 削減• 製品の梱包材の木材使用量: 50% 削減（半導体製造装置の梱包）

2024年3月期• ウェーハ1枚当たりの CO2排出量: 30% 削減 (2019年3月期比)

2031年3月期

リスクマネジメント• エンゲージメント・サーベイのスコア: さらなる改善 (前回比)、またはベンチマー
毎回
クをアウトパフォーム
エンゲージメント• 社員の定着率※ 日本: 99％、海外: 業界平均以上※ 定年などによる退職は除く

社員

キャリア

ライフ・

• 有給休暇取得率 日本: ①80% / ②90%、海外: 前期実績と同等以上

バランス
ダイバーシティ &インクルージョン

毎期• 一 人ひとりが上長や周囲のサポートを実感し、自分の将来 (キャリアパス) をイ
メージしながらやりたいことにチャレンジし成長することで、会社の成長や社会の2027年3月期
ために価値創出できる環境を構築( 詳細は P. 47 社員は価値創出の源泉 参照)

ワーク・

日本 : ①2027年3月期
/②2031年3月期
海外 : 毎期• 女性管理職比率 日本: 5%、グローバル: 8%達成時期

半導体製造装置事業の特徴
半導体の技術革新が製造装置市場の成長を牽引する中、最先端の技術とそれを支えるサービスの提供が不可欠になっています。当社では、以下の半導体製造装置メーカーに求められる要件を踏まえ、新中期経営計画における取り組みを推進していきます。

2027年3月期• サプライチェーンサステナビリティアセスメントの実施率
資材系: 調達額の85％以上
サプライチェーンマネジメント

物流系: 通関関連業者100％

資材系: 調達額の85％以上

17 東京エレクトロン 統合報告書 2022

半導体製造装置メーカーに求められる要件

人材系: 派遣会社および請負会社 (構内請負) 100％
• サプライチェーン BCPアセスメントの実施率

安全

半導体の技術革新が製造装置市場の成長を牽引

毎期• TCIR ※ 0.10以下（業界グローバル1位)※ TCIR: Total Case Incident Rate。 労働時間20万時間当たりの人身事故発生率

毎期

2027年3月期

中長期視点での研究開発と、それを支える

強固な経営・財務基盤

お客さまとの確固たる信頼関係

技術革新を実現する

最高性能の
装置の開発

エレクトロニクスやメカニクス、
プロセス、ソフトウエアなど

さまざまな領域の専門性

サステナブルな
サプライチェーンの構築

付加価値の高い
技術サービスの提供

環境負荷低減への対応

東京エレクトロン 統合報告書 202218

中長期的な価値創造ストーリー

Chapter 2

当社の強みと成長の原動力

半導体製造装置事業の展望

当社は、「業界のリーディングカンパニーとして育んだ豊か

めています。こうした原動力により創出される強みを事業活動

データ社会への移行が急速に進む中、その根幹を支える半ルを超え、現在の市場の倍以上に成長すると予想されています。

な技術力」や、「確かな技術サービスに基づくお客さまからのに生かすことで、中長期的な利益の拡大と継続的な企業価値

導体は、さらに重要性を増しています。2021年に半導体市場

これに伴い、2021年の WFE 市場は約900億米ドルとなり、今絶対的な信頼」、また「環境変化に柔軟かつ迅速に対応できるの向上に努めていきます。

は初めて5,000億米ドルを超えましたが、2030年には1兆米ド

後もさらに成長していくと見込まれています。

社員とそのチャレンジ精神」をさらなる成長の原動力として定
半導体市場

強み

Only
one

WFE 市場(兆米ドル)
1.4

半導体の微細加工に必要な成膜、塗布・現像、エッチング、洗浄という連続した4つのキープロセスに製品をもつ世界で唯一のメーカー>1兆米ドル

1,200
成膜

塗布・現像

エッチング

洗浄
1,000

半導体の進化に必要な EUV ※1露光用の塗布・現像装置のシェアが100%
0.8※1 EUV: Extreme Ultraviolet。極端紫外放射 (極紫外放射)。波長1nm～100nmの範囲の紫外放射 (紫外線)
のこと

塗布・現像

No.1/
No.2

※2 当社推定 (2021年)※3 各セグメントにおける当社の製品群 : 拡散炉は熱処理成膜、バッチ成膜は ALD (Atomic Layer Deposition)、メ
タル成膜は枚葉成膜、洗浄は 枚葉洗浄とバッチ洗浄をそれぞれ含む

1位

1位

2位

EUV露光

5,559億米ドル

1位

拡散炉※3 バッチ成膜※3 メタル成膜※3 塗布・現像

2位

1位

プラズマ ガスケミカル
エッチング エッチング

2位

洗浄※3

1位

プローバ

0.4

400

0.2

200

0

No.1

世界装置出荷台数 (累計) 業界最大の

No. 1

約 82,000 台※4600(2021年)

1990
販売した装置が新たな事業機会となり、価値を生むフィールドソリューションのビジネ
スモデルを構築

900

800

0.6

当社の製品群は各セグメントで強いポジ
ションにあり、いずれも市場シェア※21位
もしくは2位を獲得

1,400

1.2

1.0

100％

（億米ドル）

2000

2010

2020

2030

Source: 1990-2021 (WSTS)、2022-2030 (IBS, May 2022)

0

1990

2000

2010

2020

2030

Source: TechInsights Manufacturing Analysis Inc. (VLSI) (1990~2021)

年間約 6,000 台ずつ増加※4 2022年3月31日現在

半導体デバイステクノロジーの進化と事業機会
半導体市場や WFE 市場のさらなる成長を支えるのは、半導体デバイスにおける技術革新です。ロジック / ファウンドリ、

成長の原動力業界のリーディングカンパニーとして育んだ豊かな技術力

NAND、DRAM の各アプリケーションにおいては、さらなる微化への要請が今後も高まることが予想されます。
当社は、幅広い製品ラインアップを生かし、競争優位性の高いデバイス製造に貢献します。

細化、高積層化による製造コストの低減や低消費電力化、高速• お客さまとの共同開発や世界屈指のコンソーシアムとの協業による革新的かつ多様な技術• 強固な経営・財務基盤のもと、最先端技術の創出を目指した積極的な研究開発投資

半導体デバイスと当社の製品ラインアップ• データや AI を活用したデジタルトランスフォーメーションによる製品開発

ロジック
NAND

DRAM

3Dシステムインテグレーション

確かな技術サービスに基づくお客さまからの絶対的な信頼• お客さまと技術ロードマップを共創し、圧倒的な付加価値をもつ次世代製品をいち早く市場に投入• お客さまの唯一無二の戦略的パートナーになるため、顧客満足度の向上と信頼関係の構築に尽力• お客さまの高度化・多様化する技術ニーズに対し、長年の実績に基づく付加価値の高い技術サービスをタイムリーに提供

ウェーハボンディング /デボンディング

熱処理成膜

環境変化に柔軟かつ迅速に対応できる社員とそのチャレンジ精神• 社員のやる気を重視した経営を推進し、人材開発の強化とともに社員エンゲージメントの向上に注力• 価値観や社員一人ひとりの心構えを行動規範としてまとめた「TEL Values」の実践• 定期的なグローバル・エンゲージメント・サーベイの実施による課題の把握と施策の実行

19 東京エレクトロン 統合報告書 2022

ウェーハプローバ

ALD枚葉成膜

コータ / デベロッパ(塗布・現像)

バッチ洗浄
プラズマ
エッチング

ガスケミカル
エッチング

枚葉洗浄

東京エレクトロン 統合報告書 2022

20

Chapter 2

中長期的な価値創造ストーリー

NAND

ロジック /ファウンドリ

お客さまとの協働による複数世代にわたる開発

パターニングが複雑化し、ユニットプロセス間の相互最適化

3D NANDの積層化がさらに進み、今後300層、500層と積微細化の技術的な難易度が増す中、最先端のメモリおよびロの必要性がますます増大しています。今後、さらなる微細化の実層数が増加します。これに伴い、高アスペクト比 の深い穴や

ジック / ファウンドリにおいては、量産世代である N世代の評価※5

現に向けて高 NA EUV リソグラフィ技術の量産への適用が進溝の加工を実現するエッチング、高生産性の犠牲膜除去、3次に加え、N+1から N+4の開発が同時に進められています。半むと見込まれます。また、
この高NA EUVによる微細化のみなら元構造における原子レベルの成膜技術などが必要となります。

導体メーカーとこのような開発・評価を継続するためには、高いず、さまざまな新規技術や構造が導入されていきます。トランジ

また、積層数の増加に伴うチップ製造コストの増加を抑制する

技術開発力とエンジニアリングにおけるリソース、そして強い財スタ構造においても新しい3次元型の構造 (FinFET 、GAA 、ための工程統合が求められます。当社は、これらの技術要求に務基盤が求められます。

CFET ※4) へ移行していくことが予想されます。当社の前工程向応えるべく、エッチング装置や ALD 成膜装置のさらなる高性能

※1

※2

※3

化に努めています。

担いながら長期の技術ロードマップを共創し、4世代先までの技現に貢献します。

※5 アスペクト比 : ウェーハ上に形成されたパターンの深さと幅の比術の開発と評価をおこなっています。お客さまが製造工程で実際

GAA

CFET

デモ評価 (お客さま)
量産

N+2

N+3

に使用しているウェーハを用いて評価をおこなうことで、装置性※1 高 NA EUV: 次世代 EUVを指し、NA (Numerical Aperture。開口数) を上げることにより解像できる線幅を短くする露光技術※2 FinFET: Fin Field Effect Transistor。Fin (ヒレ) 状の3次元構造のプロセス技術※3 GAA: Gate All Around。FinFETの次世代技術※4 CFET: Complementary Field Effect Transistor。新構造のトランジスタ

FinFET

デモ評価 (当社)

N+1

当社は、お客さまである半導体メーカーとそれぞれの役割をけ装置やウェーハボンディング装置がこのような技術革新の実

ロジック

4世代先までの開発と評価

能およびプロセスパフォーマンスを早期に実証しています。この

N+4

ような取り組みにより、高い付加価値をもつ製品を確実に創出
NAND (1tier)

NAND (2tier)

し、新たなビジネス機会の獲得に努めています。

開発体制のさらなる強化
最先端の半導体デバイスにおける4世代先までの開発と評価を進めるため、当社は開発体制をさらに強化しています。
DRAM

3Dシステムインテグレーション

これまで、TEL デジタル デザイン スクエアと宮城技術革新セ配線による遅延の抑制技術、2次元 (2D) の微細化をさらに

半導体デバイスの性能向上へ向けて、ウェーハボンディング

ンターを立ち上げていますが、今後山梨、熊本、宮城の3つの事進めるための技術などが求められます。DRAMにおけるこの技術を用いた3次元でのシステムインテグレーションが進展して業所で、2023年から2025年の間に新たな開発棟を稼動させ技術には、当社の成膜、エッチング、洗浄装置が多く採用されています。CMOS イメージセンサーにおいては量産適用が進んいますが、さらなる微細化を実現するために、新たな製品やソでおり、同技術を用いた3D NANDでのメモリセルと駆動回路

リューションを継続的に提供していきます。今後は2次元の微細の貼り合わせや、ロジックにおける裏面配線の開発も加速して化が進み、さらに3次元 (3D) 構造を採用した3D DRAM へ移います。また先端実装技術として、Chipletと呼ばれる個片化

行していくと予想されます。3D DRAMにおいては、NANDがされたチップをボンディングする技術が注目されており、デバイ

2Dから3Dに移行した際と同じように、リソグラフィによる2次スの高速化と低消費電力化、そして低コスト化が期待されてい元的な微細化に代わり、縦方向への積層化がスケーリングを牽ます。当社は前工程で培った技術と経験を生かし、ウェーハボン

引します。このため、特に、成膜、エッチングのプロセスにおけ

ディング装置やレーザトリミング装置の提供により、最先端デバる重要性が増すことが見込まれます。

イスやシステムレベルでの性能進化に貢献します。

DRAM

21 東京エレクトロン 統合報告書 2022

3D DRAMロジック

TELデジタル デザイン スクエア
(2020年11月開設)

宮城技術革新センター(2021年10月稼動開始)

熊本 新開発棟(2024年秋竣工予定)

宮城 新開発棟(2025年春竣工予定)

ることを計画しています。山梨では成膜およびガスケミカルエッ
チング装置の開発やコーポレート開発を、熊本ではコータ / デベロッパおよび洗浄装置の開発を、宮城ではエッチング装置の開発をそれぞれ担う予定です。

山梨 新開発棟(2023年春竣工予定)

3D NAND

東京エレクトロン 統合報告書 2022

22

中長期的な価値創造ストーリー

Chapter 2

価値創造モデル
当社が有する資本を最大限に生かし、研究開発、調達・製造、販売、据付・保守サービスの事業活動におけるバリューチェーンの展開を通じて、産業や社会の課題解決と発展に貢献する新たな価値を継続的に提供していきます。

INPUT (投入資本) 2022年3月期

OUTCOME (創出価値) 2022年3月期

財務資本

財務資本

13,470億円
自己資本比率 70.5％
総資産18,944億円

売上高

純資産

営業利益率
当期純利益
ROE

製造拠点 合計

年間配当総額成長の原動力製造資本

9 ( 国内6、海外3)

業界のリーディングカンパニーとして育んだ 豊かな技術力
確かな技術サービスに基づく お客さまからの絶対的な信頼

財務資本20,038億円
29.9％
4,370億円
37.2％
2,193億円 (配当性向50％)

製造資本

IMPACT (産業や社会への影響)⚫ 創 出した利益のステークホルダーへの還元⚫ 強固な財務基盤の構築による積極的な成長投資の継続

製造資本

82,000⚫ お客さまの製品の製造における生産性の向上に貢献 (稼動率や歩留まり)生産能力の増強と生産の平準化

最先端技術を備えた高品質、高信頼性の製品⚫ 半導体・FPD 市場の成長に寄与

製造オペレーションにおける長年培ったノウハウや実績

安全第一のオペレーション (TCIR)

新工場建屋や設備など製造に関する設備投資

環境変化に柔軟かつ迅速に対応できる 社員とそのチャレンジ精神0.30

適正化および効率化された生産体制
装置の納期と据付スケジュールの遵守

知的資本
研究開発拠点 合計
研究開発投資12 ( 国内6、海外6)
1,582億円

半導体・フラットパネルディスプレイ (FPD) の製造プロセスにおける幅広い知見と技術力

据付・保守
サービス

研究開発

装置の安定稼動を支援す
る、付加価値の高いサービスを迅速かつ的確に提供

研究開発力を継続的に強化し、革新的な独自技
術をタイムリーに創出

知的資本

お客さまのご要望や技術動向

デジタルトランスフォーメーションを推進するための体制やノウハウ

人的資本

エンジニア比率

革新的で付加価値の高い独自技術
半導体製造装置シェア
特許保有件数1 位または2位の製品ラインアップとそれを生かした提案

19,572件

15,634名
67.1％

人的資本

販売

調達・製造

お客さまの唯一無二の戦
略的パートナーとして、最適なソリューションを提案

持 続 可 能 な サプ ライ
チェーンのもと、高品質な製品をより効率的に
製造

定着率

※

96％

⚫ 夢と活力に満ち、社員が存分に能力を発揮できる職場環境の創出※ 離職率のデータを用いて算出

価値創出の源泉である社員の成長意欲の向上とチャレンジ精神の発揮

女性管理職比率5.5％

TEL UNIVERSITYによる人材開発

顧客満足度調査「大変満足」・「満足」回答割合※

100％※ 回答いただいたすべてのお客さまのスコア平均値を設問ごとに算出

155件⚫ 地域社会の活性化や持続的な発展に貢献

長年の実績に基づくお客さまとの信頼関係

TEL FOR GOODプログラム数

地域社会における事業活動の基盤

半導体製造装置・FPD 製造装置

自然資本

23 東京エレクトロン 統合報告書 2022

100,265kL
1,417千ｍ
3

フィールドソリューション

⚫ お 客さまの価値創造や継続的な成長に貢献⚫ サプライチェーン全体における健全性の維持や競争力の強化

サプライチェーンサステナビリティアセスメント改善率 	％		(2021年3月期比)OUTPUT

社会関係資本31.5

社会関係資本

お取引先さまとの強固な協業関係⚫ ステークホルダーへの提供価値の向上

エンゲージメントの高い社員によるステークホルダーとの信頼関係の構築

社会関係資本水使用量⚫ 知的財産を尊重したフェアで健全な市場の
構築に寄与

人的資本

グローバルに活躍できる人材

エネルギー使用量⚫ 半導体・FPD の技術革新を通じて産業や社会のさらなる発展に貢献

高効率かつ高品質なサービス

AI やナレッジマネジメントにより蓄積された装置関連データ

従業員数

知的資本

ビ ジョン の 実 現 と 基 本 理 念 の 実 践台
累計出荷台数 	約(年間出荷台数 約6,000台)

事業活動を展開する地域における雇用機会の創出と国・地方自治体への納税

自然資本

自然資本

ウェーハ1枚当たりの CO2排出量⚫ 環境に配慮した製品や事業活動、
お取引先さまとの協働による地球環境の保全に貢献

10.7％削減 (2019年3月期比)
再生可能エネルギー使用量
230,218MWh
売上高当たりの事業所エネルギー使用量 26％削減 (2021年3月期比)廃棄物リサイクル率
98.1％⚫ お客さまにおける環境負荷の低い半導体・
FPD の製造や事業活動に貢献

東京エレクトロン 統合報告書 2022

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Chapter 2

中長期的な価値創造ストーリー

ステークホルダーエンゲージメント

ステークホルダーとの関係性⚫お客さまは、当社が提供する半導体および FPD 製造装

ステークホルダーとのエンゲージメントの機会を積極的に設け、相互コミュニケーションを推進することにより、要請を的確に把握

置を購入するとともに、それら装置のメンテナンスなどにし、事業活動に反映しています。当社を取り巻くすべてのステークホルダーとの確固たる信頼関係の構築に努め、期待に一つひと必要なサービスを利用

つ応えていくことで、社会における役割と責任を果たしていきます。

⚫当社は製品やサービスを提供するのみならず、次世代のデバイスおよびプロセスの開発に向けて、お客さまと複ステークホルダーとの関係性

数世代にわたる技術ロードマップを共創し、共同で技術開発を実施⚫社員は、個々の能力やノウハウを生かし、またトレーニ
ングなどによりスキルアップを図ることで、企業価値の

ステークホルダーへの提供価値向上に寄与⚫最先端技術を備え、世界一の性能をもつ Best Products⚫当社では社員のやる気を重視した経営のもとエンゲー⚫付加価値の高い Best Technical Service

ジメントの向上を推進

社員

ステークホルダーへの提供価値

お客さま⚫夢と活力に満ち、社員がチャレンジ精神を発揮できる⚫安全と品質を重視し、環境に配慮した製品やサービス⚫多様なアプリケーションニーズに応えるソリューション

職場環境⚫キャリア形成やスキルアップの機会⚫公正な人事評価と成果に見合った報酬⚫社員集会⚫グローバル・エンゲージメント・サーベイ⚫技術交流会⚫個別ワークショップ⚫顧客満足度調査⚫共同開発ステークホルダーとの関係性⚫株主・投資家さまは、当社の事業展開を財務面から

ステークホルダーとの関係性

支えるとともに、議決権の行使などを通じて会社経⚫お取引先さまは、当社の装置製造に必要な資材および人材、通関営に関与

やロジスティクスなどの役務を提供⚫当社は、お取引先さまと協働で製品・サービスの改善や品質向上に取り組むとともに、労働、環境、安全衛生、倫理などに配慮した

お取引先さまサステナブルなサプライチェーンを構築
ステークホルダーへの提供価値⚫サプライチェーン全体における健全性の維持や競争力の強化⚫当社との協働による製品やサービスのさらなる付加価値の向上⚫生産動向説明会⚫決算説明会 /中期経営計画説明会 /IR Day⚫ TEL パートナーズデイ⚫サステナビリティアセスメント(E-COMPASS 含む)⚫ STQA※ 監査※ STQA: Supplier Total Quality Assessment

ステークホルダーとの関係性

めるとともに、事業活動の結果もたらされた収益に応ステークホルダーへの提供価値⚫人材育成と雇用機会の提供⚫地域における環境保全の推進⚫納税による財務的な貢献

25 東京エレクトロン 統合報告書 2022

⚫事業活動により創出した利益の還元⚫中長期的な成長の実現と企業価値の向上※IR ロードショー : 株主・投資家さまを直接訪問する
IR 活動⚫ TEL FOR GOOD
(社会貢献活動)

じて納税

ともに、建設的な対話を通して株主・投資家さまからいただいたフィードバックを経営に生かし、企業

ステークホルダーへの提供価値⚫株主総会における事業機会会の創出や地場産業の育成、環境保全の取り組みを進⚫当社は、経営ビジョンや成長シナリオを共有すると価値の向上を図る⚫ IR カンファレンス /IR ロードショー※ /個別 IR 取材⚫半導体およびフラットパネルディスプレイ (FPD) の製造装置市場⚫当社は事業活動を展開する地域とともに発展。雇用機

株主・
投資家さま

地域社会

⚫政府・行政機関との協働⚫事業所見学会⚫国 際的なイニシアティブとの連携⚫環境報告会⚫業界団体活動

ステークホルダーとの関係性

行政機関・
各種団体

⚫当社が事業活動を展開する市場において、関連性の高い国際機関や業界団体、イニシアティブおよび NGOな
どと協働することにより、社会の要請を的確に捉え、産業や社会が抱える課題の解決と、さらなる発展に貢献
ステークホルダーへの提供価値⚫産業や社会の課題解決や発展に貢献するソリューション
⚫環境や人権などに配慮した製品やサービス、およびビジネスモデル⚫法令や条例、業界行動規範などに合致した事業活動

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