チャンネル型微細溝を有した塑性加工金型用硬質厚膜の開発
地方独立行政法人 大阪府立産業技術総合研究所
金属表面処理科 研究員
小畠淳平
金属表面処理科 科長補佐
三浦健一
加工成形科
主任研究員 四宮徳章
金属表面処理科 科長
森河 務（平成 24 年度一般研究開発助成 AF-2012007）
キーワード：PVD, めっき, 塑性加工, 金型

1. 研究の背景と目的として (1)耐摩耗性の高い CrN 膜の成膜条件の探索, (2) 硬質Cr めっきに形成する微細溝の溝幅に関する検討, (3) チャンネ

近年, 金属材料部材の多様化・薄肉化・高強度化が進み, 塑ル型微細溝を有した CrN 厚膜の摩擦特性の評価, (4) チャンネ

性加工分野では難加工が急増している. その状況下でも, 品物

ル型微細溝を有した CrN 厚膜の金型性能の評価があり, 本報告の高精度化と高品質化, 生産性向上が求められており, 金型の書では, これら課題を解決するために実施した実験の結果と考使用環境は苛酷になってきている. 金型の耐久性向上として,察を報告する.

PVD 硬質膜コーティングの採用と潤滑油の併用が行われてきたが, 環境問題の観点から, 潤滑油の極圧添加剤の制限や使用量削減が強く求められており, 塑性加工分野では金型の耐久性向上だけでなく潤滑油の削減も重要な課題とされている.
このような背景から, 当研究所では, 金型の耐久性向上と潤チャンネル型微細溝ＰＶＤ硬質厚膜滑油の効率的な利用を両立させるために, PVD 硬質膜に独立したＣｒめっき
硬質Crめっき（エッチング）半球状の微細孔（約 4～5µm）を多数形成させて潤滑油の保持性基材（金型用鋼）を持つ膜の成膜技術を開発した 1). この微細孔硬質膜は, 摩擦摩耗試験や深絞り試験により、微細孔の無い通常の硬質膜に対する優位性を示すことが確認されている 2-4）. しかし, この膜は,

図 1 チャンネル型微細溝を有した PVD 硬質厚膜の概念図

微細孔を形成する際に使用する微粒子サイズの影響により, 形成できる PVD 硬質膜の膜厚は 3μm 程度であった. 塑性加工用金

2. 実験方法

型にコーティングされる PVD 硬質膜は, 耐久性とメンテナンス回数の低減の観点から, 10μm 以上の厚膜コーティングが採用されることが多く, 厚膜化ができない微細孔硬質膜技術の適用範囲は限られていた.

2.1 CrN 膜の成膜実験㈱神戸製鋼所製 UBMS202 に搭載されているファインカソード蒸発源を用いて, 調質した SKD11(60HRC; 30×60×t6mm,ラッピ

そこで, 本研究では, 保油効果を示す PVD 硬質膜の厚膜化技

ング加工)基板に, N2 雰囲気下での Cr ターゲットの真空アーク術を新たに開発することを目的とした. 具体的には, 基材に電放電により成膜を行った. 表 1 に CrN 膜の成膜条件を示す. な気めっき法により硬質 Cr めっきを施した後, エッチング溶液にお, 基板バイアス電圧を変化させる際には, N2 ガス圧力を 3.3浸漬して化学反応により微細で連続的な網目状の溝（以下, チPa に固定し, N2 ガス圧力を変化させる際には, 基板バイアス電ャンネル型と称す）を硬質 Cr めっきに形成する. その上にめっ圧を－50 V に固定して成膜を実施した.

きの微細溝形状を連続的に引き継ぐように PVD 硬質膜を厚く形成させることで, 保油効果を持つ形状を備えた PVD 硬質厚膜を

表 1 CrN 膜の成膜条件実現させる（図 1）. なお、本研究で扱う PVD 硬質膜については,ベース圧力

1×10-3 Pa

耐焼き付き性と膜の内部応力が小さく厚膜化がしやすいとされ基板バイアス電圧

0, -50, -100, -150, -200, -300 V

る CrN を採用した 5）.

処理温度

400 ℃

本技術を確立できれば, 3 次元ネットワーク状のチャンネル型

N2 ガス圧力

0.3, 0.7, 1.3, 2.3, 3.3 Pa

微細溝による高い保油性を有した硬質厚膜を形成することがで

アーク電流

70 A

き, 硬質膜の耐久向上に効果を発揮するだけでなく, 潤滑油の処理時間40 min

使用量と注油工程の低減化による成形プロセスの効率化も同時

基板回転数5 rpmに達成できる. 本技術を確立するにあたり取り組むべき課題

2.2 CrN 膜の特性評価
成膜条件を変えて形成した CrN 膜について, 硬さを超微小押潤滑剤

二硫化モリブデン粉末（0.3 g）

摩擦相手材

SKH51 ピン（直径 3 mm）し込み硬さ試験機（押し込み荷重 3 mN）で測定した. 膜の摩擦荷重

4 kg

摩耗特性評価については, Ball-on-plate 型の往復動摩擦試験機

摩擦半径5 mmを用いて, 摩擦相手材3/8インチAl2O3ボール, 垂直荷重0.98 N,回転速度

100 rpm

ストローク 6 mm, 往復周波数 2 Hz, 往復回数 10000 サイクル,温度約 25 ℃, 湿度約 50 %の条件で実施した. なお, 摩耗痕断面積は, 接触式表面粗さ計による計測と解析により求めた.

2.4.2 円筒深絞り試験
表 5 に示した材質・形状のダイならびにしわ抑え上に，ピンオンディスク試験と同様の 2 種の膜を形成した金型を用いて円2.3 硬質 Cr のめっきとエッチング

筒深絞り試験を行った．被加工材は公称板厚 1mm のステンレス

硬質 Cr の電気めっき形成および微細溝形成のためのエッチン鋼(SUS304-2B)板を用いた．ブランキングはレーザーカットにてグ処理は, オテック㈱に依頼した. 表 2 に電気めっきの条件を行い，ブランク径はφ80 mm とした．潤滑油としてフォーマ油示す. 調質した SKD11(60HRC; 30×60×t6mm,ラッピング加工)

MS70(動粘度 70 mm2/s [40 ℃])を用いた. 試験には 200 kN 自動基板上へ電気めっき法により硬質 Cr めっきを施した後, エッチ型万能深絞り試験機を用いて，しわ抑え力 5 kN 一定下, 成形速ング溶液に浸漬して化学反応により微細溝を形成した.

度 80 mm/min で行い, その際の深絞り最大荷重の変化を調べた．

表 2 硬質 Cr のめっき条件
クロム酸250 g/L

硫酸

2.5 g/L

電流密度20 A/dm2

浴温度50 ℃

表 5 円筒深絞り試験に用いた金型の形状と材質
パンチ

ダイ

しわ抑え

内径×肩 R

φ40×R8 mm

φ42.5×R8 mm

φ40 mm

材質

SKD11SKD11SKD113. 実験結果および考察
2.4 チャンネル型微細溝を有した CrN 厚膜の性能評価
2.4.1 ピンオンディスク試験

3.1 耐摩耗性を示す CrN 膜の成膜条件の探索と膜特性の評価

通常の微細溝を持たない CrN 厚膜（以下, CrN 厚膜と称す）,チ薄膜形成において成膜条件は膜の構造および諸特性に大きなャンネル型微細溝を有した CrN 厚膜（以下, 微細溝 CrN 厚膜と影響を与える. AIP 法においては基板バイアス電圧とガス圧力が称す）を用意し, ピンオンディスク試験により油潤滑下および膜の諸特性に大きな影響を与える 6, 7). 一方, 塑性加工金型用の固体潤滑下での摩擦特性を評価した. 表 3 に CrN 膜の成膜条件

コーティングにおいては, 膜の耐摩耗性が最も重要とされる.

を, 表 4 にピンオンディスク試験の条件を示す. なお, 油潤滑

そこで, 本研究においても, 基板バイアス電圧と N2 ガス圧力を下の試験は, 試験面に潤滑油を滴下し, 布で試験面全体に塗り変えて CrN 膜を形成し, それらの摩擦摩耗特性を調べることで,広げた状態で行った. 固体潤滑下の試験も同じ方法で行った.

耐摩耗性が最も優れている条件を探索した. なお, 耐摩耗性と関連が深いとされる膜の硬さについても試験を実施した.

表3CrN 厚膜の成膜条件および本条件で形成した膜の膜厚-3図 2 に基板バイアス電圧を変えて作製した CrN 膜の(a)硬さ,ベース圧力1×10 Pa(b)摩耗痕断面積, (c) 図 2(b)の－50～－300 V の範囲を拡大

基板バイアス電圧50 Vした図を, 図3 にN2 ガス圧力を変えて作製したCrN 膜の(a)硬さ

処理温度

400 ℃と(b)摩耗痕断面積を示す. 0 V の膜では, 硬さは約 5 GPa と低N2 ガス圧力

3.3 Paい値であったのに対し, 基板バイアス電圧を印加した全て膜は,アーク電流70 A硬さが 18 GPa 前後の高い硬さを示した. 摩耗痕断面積も基板バ処理時間

140 min

イアス電圧の印加により大幅に減少し, 耐摩耗性が大きく改善

基板回転数5 rpm

された.しかしながら, 同程度の硬さを持つ－50～－300 V の膜

膜厚10 μmにおいても, 摩耗痕断面積は異なっており, －50 V が最も優れ

表 4 油潤滑および固体潤滑下のピンオンディスク試験条件
潤滑油流動パラフィン（1 mL）

摩擦相手材

SKH51 ピン（直径 3 mm）

荷重15 kg

摩擦半径5 mm

回転速度100 rpm

た耐摩耗性を示した. 次に, N2 ガス圧力を変えて作製した膜は,圧力の上昇に伴い硬さが減少する傾向があるものの, 全ての膜で 19GPa 前後の高い硬さを示した. 摩耗痕断面積は圧力の上昇に伴い減少し, 3.3 Pa が最も優れた耐摩耗性を示した. これら実験結果から, 本研究で形成する CrN 膜の成膜条件について,耐摩耗性の観点から, 基板バイアス電圧は－50 V, N2 ガス圧力は

3.3 Pa とした. なお, 硬さと摩耗痕断面積の関係について, 基

3.2 硬質 Cr めっきに形成する微細溝の溝幅に関する検討

板バイアス電圧を変えた膜では, 硬さの減少と共に摩耗痕断面CrN 厚膜（膜厚 10 µm）にチャンネル型微細溝を形成するため積は増加し, N2 ガス圧力を変えた膜では, 硬さの減少に伴い摩に, 下地である硬質 Cr めっきにエッチングによって形成する溝耗痕断面積は減少しており, 逆の傾向が見られる. この違いに幅の検討を行った.

ついては, 膜の摩耗現象が, 膜の硬さのみ依存するものではな

図 4 に(a)溝幅約 0.5 µm の硬質 Cr めっきと(b) それを下地とく, 膜の残留応力, 表面粗さ, 成長形態, 結晶構造の配向性等した CrN 厚膜, (c) 溝幅約 5.5 µm の硬質 Cr めっきと(d) それの影響も受けているからだと思われる.

を下地とした CrN 厚膜の表面 SEM 像を示す. 溝幅約 0.5 µm の場
合, CrN 厚膜表面に微細溝の痕跡が確認できたものの, 溝は完全に閉口していた. 一方, 溝幅約 5.5 µm では, 開口したチャンネル型微細溝が形成されていた.

図 2 基板バイアス電圧を変えて作製した CrN 膜の(a)硬さ,(b)摩耗痕断面積, (c)図(b)－50～－300 V の範囲の拡大図

図 4 (a)溝幅約 0.5 µm の硬質 Cr めっきと(b) それを下地とし
図3 N2 ガス圧力を変えて作製したCrN 膜の(a)硬さと(b)摩耗痕

た CrN 厚膜, (c) 溝幅約約 5.5 µm の硬質 Cr めっきと(d) それ断面積を下地とした CrN 厚膜の表面 SEM 像

図 5 に(a)チャンネル型微細溝を有した CrN 厚膜の断面の SEM
像と(b)EDX による窒素のマッピング画像を示す. 断面試料は,3.3 チャンネル型微細溝を有した CrN 厚膜の性能評価
3.3.1 ピンオンディスク試験による摩擦特性の評価

Ar ビームによるクロスセクションポリッシャーにより作製した.

チャンネル型微細溝の保油・保剤効果を確認するために, CrN断面観察の結果, 下地の硬質 Cr めっきに形成された微細溝が厚膜と微細溝 CrN 厚膜を用意し, 油潤滑下および固体潤滑下でCrN 厚膜の表面まで連続的に継承されていることが分かった.のピンオンディスク試験を実施した. 図 6 に各膜の表面 SEM 像

また, CrN 厚膜に形成される微細溝の特徴として, 膜厚が 5 µmを示す.

前後で一度溝幅が収縮し, その後再び拡大している形態となっ

図 7 に試験面に流動パラフィンを薄く塗布した状態で実施していた. なお, 下地の硬質 Cr めっきの溝内にも CrN が入り込んたピンオンディスク試験の結果を示す. CrN 厚膜では 100 秒付近でおり, 溝内部を被覆していることも確認できた. 最終的にで急激に摩擦係数が増加したため, この時点で試験を中断した.

CrN 厚膜表面に形成される溝幅は, 下地の硬質 Cr めっきの溝幅

一方, 微細溝 CrN 厚膜は, 終始安定して低い摩擦係数を維持しより約 1 µm 程度縮小していた.

た. 両試験の違いについて, CrN 厚膜は油を保持できることが出来ず摺動部で油切れを起こし, 焼き付きが発生したことで, 急激に摩擦係数が増加したと思われる. 一方, 微細溝 CrN 厚膜では, チャンネル型微細溝の保油効果により, 油切れを起こすことなく, 安定した摩擦挙動を示したと思われる.
図 8 に試験面に二硫化モリブデン粉末を塗布した状態で実施したピンオンディスク試験の結果を示す. CrN 厚膜では, 800 秒付近から摩擦係数が増大し, その後は高い摩擦係数を維持した.
一方, 微細溝 CrN 厚膜は, 終始低い摩擦係数を維持した. CrN 厚膜では, 試験の進行に伴い摺動面の粉末が減少してゆき, 800 秒付近から部分的な焼き付きが発生し始めたことで, 摩擦係数が増大したと思われる. 一方, 微細溝 CrN 厚膜では, チャンネル型微細溝に保持された粉末が, 摺動面に供給され続けることで,安定した摩擦挙動を示したと思われる.
これらピンオンディスク試験結果から, チャンネル型微細溝は優れた保油・保剤効果を発揮し, 摩擦挙動を安定させ耐焼き付き性を大幅に改善できることが確認できた.

図 5 (a)チャンネル型微細溝を有した CrN 厚膜の断面の SEM 像と(b)EDX による窒素のマッピング画像
表 6 に溝幅約約 5.5 µm の硬質 Cr めっきおよびそれを下地とした CrN 厚膜における溝が占める面積率を示す. なお, 面積率の算出には画像解析ソフト（Image J）を用いた.硬質 Cr めっきにおける面積率に比べ, CrN 厚膜における面積率は減少した. これは, 図５で示したように, CrN 膜の堆積過程に伴う溝幅の縮小と部分的な溝の閉口によるものと思われる.
表 6 溝幅約 5.5 µm の硬質 Cr めっきおよびそれを下地とした CrN 厚膜における溝が占める面積率
硬質 Cr めっきCrN 厚膜

15.1

7.8

溝が占める面積率(%)

以上, 断面観察結果から, 硬質 Cr めっきに形成された微細溝は, CrN の成膜により溝内が CrN で覆われ溝幅が減少するが, 溝形状は上層の CrN 膜にそのまま継承され, CrN 厚膜の表面にまで達していることが分かった。

図 6 (a) CrN 厚膜および(b)微細溝 CrN 厚膜の表面 SEM 像

金型は, 試験毎に加工材の両面に潤滑油を塗布した試験（図 9）で使用した金型を利用している. CrN 厚膜では, 4 試験で最大荷重の大幅な増加が起こり, 6 試験で割れにより成形が不能となり, 成形できた品物は 5 個であった. 一方, 微細溝 CrN 厚膜では, 20 試験まで低い最大荷重を維持しながら安定して成形できており, その後は最大荷重が徐々に増加するものの, 26 個の品物を成形することができた.

図 7 油潤滑下での各 CrN 厚膜のピンオンディスク試験結果

図 9 試験毎に加工材の両面に潤滑油を塗布した試験における各 CrN 厚膜処理金型による深絞り最大荷重の変化

図 8 固体潤滑下での各 CrN 厚膜のピンオンディスク試験
3.3.2 円筒深絞り試験による金型性能の評価
基礎的実験で保油効果を確認できたチャンネル型微細溝について, 塑性加工における金型性能を, オーステナイト系ステンレス鋼(SUS304-2B)の円筒深絞り試験により評価した.
図 9 に CrN 厚膜と微細溝 CrN 厚膜の深絞り最大荷重の変化を示す. なお, 本試験では, 試験毎に加工材の両面に潤滑油を塗布した. 両厚膜とも深絞り成形を重ねるにつれ, 最大荷重が

図 10 試験開始後は注油を行わずに試験した際の徐々に減少する傾向が見られた. これは, 膜表面の微小な突起

各 CrN 厚膜処理金型による深絞り最大荷重の変化物（マクロパーティクル等）が試験を重ねるごとに除去・平滑化される“なじみ”によるものと思われる. CrN 厚膜では, 最初から 10 試験までは成形中に割れが発生し, 成形が安定するまでに 20 試験を要した. 一方, 微細溝を有する CrN 厚膜は, 終始安定して成形ができた. また, 最大荷重について, 微細溝 CrN厚膜は, 通常の CrN 厚膜に比べ, 最大荷重が低く, 30～40 試験の平均最大荷重で比較した場合, 微細溝を形成することにより最大荷重が約 7 %低減することが分かった.
図 10 に試験開始前に金型へ潤滑油を塗布し, 試験開始後は金型と加工材への注油を一切行わずに試験した際の各 CrN 厚膜処理金型による深絞り最大荷重の変化を, 図 11 に各 CrN 厚膜処理金型によって成形した成形品を示す. なお, 本試験で使用した

図 11 各 CrN 厚膜処理金型によって成形した成形品

謝辞

これら筒深絞り試験により, チャンネル型微細溝を有した CrN厚膜は, 通常の CrN 厚膜と比較して, 最大荷重の低下・成形の安定性向上・耐焼き付き性の向上を示し, 優れた金型性能を示

本研究開発は，公益財団法人天田財団平成 24 年度一般研究開発すことを確認できた. その理由として, 微細溝を有する CrN 厚助成により行われたものであり，ここに深く感謝の意を表しま

膜では, 微細溝内に浸潤した潤滑油が, 3 次元的なネットワークす.

を通じて金型の広い範囲に拡散して保持されているためと考え参考文献られる. 保持された潤滑油は, 加工時に金型表面にかかる圧力によって, 加工面上に自己拡散することで, 焼き付きを防止していると考えられる.

1)

三浦 健一, 石神 逸男, 星野 英光, 榮川 元雄, 大森 直之, 畠中 喜代治: 皮膜の形成方法および皮膜被付与物,

4. 結論

特許第 3504930 号 (2003).
2)

三浦 健一, 森河 務, 出水 敬, 白川 信彦, 横井 昌幸:

長期耐久性と潤滑油低減を両立する塑性加工金型の開発を目

微細孔硬質膜形成のためのパルス電析法微粒子作製技術的として, チャンネル型微細溝を有する PVD 硬質厚膜の開発にの開発, 公益財団法人天田財団, 研究概要報告書 第24回
(2001) 66.

取り組んだ.
PVD 硬質膜の下地に, エッチングによって微細溝を形成した

3)

白川 信彦, 三浦 健一, 出水 敬, 大西 潔, 辻村 映規,

硬質 Cr めっきを採用し, その微細溝幅を最適化することで, 10

原一也: 微細孔を有する高潤滑性硬質膜の深絞り金型へµm の膜厚を持つ CrN 厚膜にチャンネル型微細溝を形成することの適用と評価, 第 56 回塑性加工連合講演会講演論文集に成功した. また, CrN 厚膜についても, 幅広い成膜条件の探索(2005) 307.

を行い, 耐摩耗性に優れた成膜条件を見出した. 本研究で開発

4)

三浦 健一, 森河 務, 横井 昌幸: 微細孔 PVD 硬質膜形

したチャンネル型微細溝を有した CrN 厚膜は, 油潤滑下および成のための硫酸銅めっき浴中での電析と溶解による Cu 微固体潤滑下におけるピンオンディスク試験において, 通常の粒子形成, 表面技術 63 (2012) 259.

CrN 厚膜に比べ優れた耐焼き付き性を発揮した. さらに, 試作5)

小畠 淳平, 三浦 健一: 塑性加工金型用硬質膜, 科学と6)

榮川 元雄, 三浦 健一, 横井 昌幸, 石神 逸男：アークイ

金型による SUS304-2B 材の円筒深絞り試験では, 最大荷重の低下と耐焼き付き性の向上を達成した. 本研究結果から, 保油効工業 88 (2014) 283.

果を持つチャンネル型微細溝は, 硬質膜の耐摩耗性向上に効果

オンプレーティング法によるクロム窒化物皮膜の摩擦・摩を発揮するだけでなく, 潤滑油使用量と注油工程の低減化に対耗特性に及ぼす表面粗さの影響, 表面技術 57 (2006)しても効果を発揮することが明らかとなった. なお, 本開発技283.

術で扱った硬質クロムめっき処理と PVD 硬質膜処理は, 塑性加7)

山本 兼司, 湯瀬 文雄, 中山 武典, 上窪 文夫: AIP 法に工分野で広く普及している表面処理技術であり, 既存工程を複より Ti-6Al-4V 基板上に形成した Cr-N 膜の構造および耐合化するだけで実用化できる利点もある. 今後は, 本開発技術

溶融 Al 性に与える成膜時の窒素圧の影響, 表面技術 48の塑性加工用金型への実用化を行いつつ, 機械・輸送機等の摺(1997) 446.

動部品への適用など幅広い展開を図っていきたい.