第二回可視赤外線観測装置技術ワークショップ
２０１２年１２月１７日（月）１０：１０〜１０：４０

光学応用ＭＥＭＳの最近の研究動向

Recent Research Activities on
Optical MEMS (microelectromechanical systems)
年吉 洋

Hiroshi TOSHIYOSHI
東京大学 先端科学技術研究センター

Research Center for Advanced Science and Technology (RCAST)The University of Tokyo

東京大学 生産技術研究所
マイクロナノメカトロニクス国際研究センター

Center for International Research on Micronano Mechatronics
Institute of Industrial Science
The University of Tokyo
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Page 1

代表的なＭＥＭＳデバイスの例 その１
米国アナログデバイス社の加速度センサ

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Page 2

ゲーム機、ゴルフクラブに加速度センサ

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代表的なＭＥＭＳデバイスの例 その２

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http://www.dlp.com/

http://www.dlp.com/

http://www.dlp.com/

米国テキサスインスツルメンツ社のデジタルミラー・プロジェクタ

Page 4

画像プロジェクタ

家庭用・教室用ビデオプロジェクタ

携帯電話用
Pico-Projector

映画館
デジタル配信

7,'/3 http://www.dlp.com

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Page 5

１９７５年のマイクロミラー型ディスプレィ
R. N. Thomas, J. Guldberg, H. C. Nathanson, P. R. Malmberg, IEEE Trans. ED vo. 22, 1975
Westinghouse Research Labs & Philips

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Page 6

ファインマン教授の提案
１．虫ピンのアタマに、百科事典全巻を縮小映像記録できるか？
２．電子／イオンビームで読み書き？
３．電子顕微鏡をいま（当時１９５９年）より１００倍高倍率にできるか？
４．ＤＮＡのように分子を用いてデータを記録？
５．コンピュータを超小型化？
６．縮小して自分を再生産する自動機械？
７．原子で字を書く？
８．１インチの１／６４のモータを作る？

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Page 8ファインマン賞受賞のマイクロモータ（１９６０年）

http://archives.caltech.edu/photogallery/feynman-nanotech.html
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Page 9ホンモノのマイクロモーター（１９８９年）

厚さ２μｍ、直径１２０μｍのモータ
Y.Tai et al. Sensors & Actuators 1989

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13. マイクロ・ナノメカトロニクス 発展史マップ
マイクロ・ナノメカトロニクス技術クラスター、応用物理学会 集積化ＭＥＭＳ技術委員会

ＲＣＡ社
シャドーマスク(1951)

K. Petersen レビュー論文 “Siliconas a Mechanical Material” (1982)

ＬＩＧＡプロセス(1986)

ボッシュ社高アスペクト比
ドライエッチング特許(1996)

R. Feynman 講義“Plenty of Room at the Bottom” (1959)

1950

1960

1970

1/64インチモータがファインマン賞を受賞(1960)
マイクロマシニング分野

マイクロセンサ分野

テキサスインスツルメンツ社
ＤＭＤの原形(1983)

1960

ウェスティングハウス社
共振ゲートトランジスタ(1967)
ミシガン大学、東北大学
マイクロ ISFET(1973~4)
豊田中研
半導体圧力センサ･歪みゲージ(1963)1970

ナノインプリント・リソ(1996)

1990

2000

ウェスティングハウス社
プロジェクション型ディスプレー(1975)
各社インクジェットプリンタ(1990頃)

マイクロアクチュエータ分野

1950

1980ポリシリコン３次元構造(1996)

スタンフォード大学
集積化ガスクロマトグラフィ(1975)

ＳｉＴｉｍｅ社
シリコン共振子(2008)

ＳＯＮＹ
ＧｘＬ(2005)

1990

2000

2010

1986年 ヌシャテル大
サーボ型加速度センサ(1986)
アナログデバイス社
加速度センサ(1991)

μＴＡＳの概念 (1990)
ミシガン大学集積化
圧力センサ(1979)

Hiroshi Toshiyoshi © 2012,1960<hiro@iis.u-tokyo.ac.jp>, RCAST,
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1950
1970
1980

ルーセント
光クロスコネクト(1999)

スタンフォード大GLV (1994)

AT&T, ＵＣバークレー
マイクロギヤ(1987)

1980

テキサス･インスツルメンツ
ＤＭＤプロジェクタ(1996)

シリコンマイクの原形 (1996)

ＵＣバークレー静電マ
イクロモータ(1988)

2010

ミシガン大学
神経プローブ(1991)

1990

2000

電気泳動チップ (1993)
アナログデバイス社
ジャイロ(2002)

Page 112010

ＭＥＭＳ化の利点■Miniaturization

High Density Packaging
Improved Anti-Shock Tolerance
Improved Temperature Drift
Santec と東大生産研の共同研究 2004

■Mass Production

Batch Process
Reduced Parts #Minimum Alignment or Assembly
Santec と東大生産研の共同研究 2004

■Multi-Functional

Circuits, Sensors, and Actuators

東芝研究開発センターと東大生産研の共同研究 2005

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Page 12

K. Isamoto, Santec Corp.,

M. Tani, Stanley Elec. Co. 2006

K. Takahashi, IIS, Univ. of Tokyo 2005

T. Takahashi, IIS, Univ. of Tokyo 2006

ＭＥＭＳでしかできないこと＝機械的動作

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Page 13

日経ＢＰ ２０１１年予測
MEMS市場が新たな成長期に入った

http://techon.nikkeibp.co.jp/article/COLUMN/20110728/193734/?SS=imgview&FD=48575398•２００９年までは、インクジェット用プリンタ・ヘッドと画像プロジェク
タが市場を牽引•２０１０年のＭＥＭＳ市場は、７１億２８０万米ドル•その後、２ケタ成長して、２０１５年には１１３億米ドル•スマートフォン、タブレット端末のセンサが牽引役
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光とＭＥＭＳの整合性
小さな動きでも、大きな効果
ミラーの角度変化
ミラーの間隔変化
ミラー短冊の上下動→ 空間変調素子→ ファブリ・ペロ干渉計→ 回折強度Scanners

Fabry-Perot Interferometer

複合機能の融合
アラインメント・フリー

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Page 16量子光学
光子放出・吸収

電磁気学

偏光

吸収

波動光学

近接場光・プラズモン共鳴・メタマテリアル境界条件制御

波面制御
・散乱

干渉

回折結合

遮光

遅延

幾何光学

反射

全反射

屈折
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Telecom

Display

Telecom

CMOS-MEMS

Medical Endoscope

Light Modulation

CMOS-MEMS

Flexible MEMS

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Photonic Crystal
Page 18

ＶＯＡ用マイクロミラーの構造と駆動原理（静電）

Suspension

MirrorfA
ReleaseHoleLaqA’

Electrostatic Actuator PlateWa

B

g

B’
Substrate

Suspension

htwt
VAnchorPage 20

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可変ミラーによる光減衰量の制御
Insertion Loss - 0.8 dB

Optical Attenuation dB

0-10
Attenuation
range 40 dB

Resolution
0.1 dB-20-30-40

5-V Operation

012345

Driving Voltage V dc
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Page 22

光ファイバ通信におけるＭＥＭＳデバイスの役割
Optical Coupling
ReceiverTransmitter
MOD

VOA

LD l2

WL

MOD

VOA

LD l3

WL

MOD

VOA

LD l4

WL

MOD

VOA

LD lN

WL

MOD

VOA

Rerouting
MUX

WL

VOA

Fiber
Amp

Sw

Sw

DEMUX

LD l1

WF

VOA

PD l1

WF

VOA

PD l2

WF

VOA

PD l3

WF

VOAPD l4

WF

VOA

PD lN

VOA

Wavelength Tuning

Wavelength
Equalizer /DispersionCompensator

Intensity Modulation
Wavelength Equalizer

OADM /OXC
VOARx

Wavelength
Filtering /Tracking

Tx

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MEMS VOA
Variable Optical Attenuator

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Page 24

DRIE

Photoresist Shipley S-1818
30-mm-thick SOI

12-mm-thick BOX
500-mm-thick Silicon Substrate
100-nm-thick Aluminum
Passivation Photoresist
Shipley S-1818

2

Double Side Alignment

Aluminum Etch
DRIE
Passivation Photoresist-2
Negative-type TOK OMR-83

3

Passivation Photoresist-1
Positive-type Shipley S-1818
Diffusion Pump Oil as Adhesive Glue

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1-mm-thick Fused Quartz Substrate
As Back-up Plate
Page 25

4
HF

HF

HF

Metal Coating 50-nm-Au / 30-nm-Cr
Stencil Mask
(DRIE-processed Silicon Wafer)

5

Chip Release6

MirrorSupportingFrame

Chip Body
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これもＭＥＭＳマイクロ光スキャナ

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体の中を見る、光ファイバ内視鏡
マイクロミラーでプローブ光を走査■ Powering at 1.5 um■ OCT measurement at 1.3 um

Tissue under Test
OCT Probe
O 1.3 Pm

Focal Lens
Beam Splitter
Collimator
Optical Fiber
MEMS Scanner
Power Supply(O 1.5 Pm)

Electrical Interconnection

Photovoltaic Cell
10 mW, O 1.5 Pm Æ max 10 V
OCT Probe(O 1.3 Pm)Hiroshi Toshiyoshi © 2012, <hiro@iis.u-tokyo.ac.jp>, RCAST, Univ. of Tokyo, http://toshi.iis.u-tokyo.ac.jp/

Page 29

原理は光の干渉
Modulation

1.5 PmOutside Body
WDM Filter

1.3 PmProbe

Inside Body (in vivo)

Connectors

Modulation

Single Mode Fiber

TissueProbe

MEMS
Scanner
Head

Endoscope
Disposable
Photo Detector

Back-scattered
Probe Signal

Reference
MirrorPhoto by C. Chong, Santec. Co. 2006

Photo by C. Chong, Santec. Co. 2006

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指紋の断面を光干渉で可視化
表皮汗腺M. Nakada, et al., "Optical Coherence Tomography based on Power-overfiber MEMS Scanner," APCOT 2008, Jun. 22-25 2008.

Scan Range（ｍｍ）

Resolution（μｍ）

Lateral１．６４０Depth

１〜２．５８2.3 mm

角質層

真皮2 mmHiroshi Toshiyoshi © 2012, <hiro@iis.u-tokyo.ac.jp>, RCAST, Univ. of Tokyo, http://toshi.iis.u-tokyo.ac.jp/

Page 31光源の波長走引にＭＥＭＳ光スキャナ

従来のポリゴンミラーをＭＥＭＳ化して高速化（140 kHz）

3cm

諫本圭史、戸塚弘毅、酒井 徹、鈴木卓也、両澤 淳、鄭 昌鎬、藤田博之、年吉 洋、「高速MEMSスキャナを用いたSS-OCT用高速波長走査型光源」
電気学会センサ・マイクロマシン部門主催 第27回「センサ・マイクロマシンと 応用システム」シンポジウム、平成22年10月14日（木）〜15日（金）、
くにびきメッセ（島根県松江市 島根県立産業交流会館）、C3-5（最優秀論文賞受賞)

Page 32

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ＭＥＭＳ光スキャナで光路長を制御→発振波長制御
External Cavity Laser
Scanner
OutputBeamExpander

Gain Chip

MEMS Scanner

Diffraction
Grating

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Page 33

波長走引の高速化

画像の高解像度化 動画像のフレームレートアップ

This research is supported by Optoelectronic Industry and Technology Development Association (OITDA), subsidized by JKA through its Promotion
funds from KEIRIN RACE.

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いろいろなＭＥＭＳ画像ディスプレィ
テキサスインスツルメンツ社
デジタルマイクロミラー

Silicon Light Machines
Grating Light Valve

Pixtronix
Digital Micro Shutter

Qualcomm
iMod

Microvision
Nomad

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光スキャナ１台で２次元光走査

Laser
LaserDiodeDiode

2D-Scanner2D-Scanner

Lens
Lens

MirrorMirrorHiroshi Toshiyoshi © 2012, <hiro@iis.u-tokyo.ac.jp>, RCAST, Univ. of Tokyo, http://toshi.iis.u-tokyo.ac.jp/

Page 40

圧電駆動型光スキャナ

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Page 41圧電駆動ユニモルフ・アクチュエータの原理
Upper Electrode

Bottom Electrode

Torsion Bar

PZTSubstrate
Torsion Bar

Applied Voltage with Resonant frequency

MirrorPZT

MirrorMirrortilt
tiltbybytwisted
twistedtorsion
torsionbar
bar

谷 雅直、赤松雅洋、安田喜昭、藤田博之、年吉 洋、「圧電ＭＥＭＳ光スキャナによる画像ディスプレィ」 レーザー研究、第36巻4号、pp. 183-189、2008.

Page 43

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ＰＺＴユニモルフ構造の応用（低速外側）
To Mirror

To SubstratePZT Actuator Group-B
PZT Actuator Group-A

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Page 44

ＶＧＡ（６４０ ４８０）デモ

Page 46

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３次元カラービットマップディスプレィ
レーザーブレイクダウン現象
YAG Laserf modLiquid Vessel

Modulator

1Water

Focal Depth Control
2D Beam Steering

WLaser Breakdown
PlasmaWfZ

fYPC Controller

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fX

Color LCD Panel

Page 48

レーザーブレイクダウン現象

180

Strong Electrostatic Field of Laser
Plasma Discharge

Quenched

100

120140160

Molecule in Liquid

Free electrons
in de-ionizedmolecule-1.50-1-0.5

00.5

11.5

20406080

FreeElectronFree electronsexcided by the laser
field.

Avalanche
discharge

Energydissipated byheat conduction

P. K. Kennedy, D. X. Hammer, and B. A. Rockwell, “Laser-induced breakdown in aqueous media,” Prog.
Quant. Electr., vol. 21, no. 3, 1997, pp. 155-248.
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３次元リサジュー図形

５ｃｍ

YAG Laser 4 mJ / 20 ns @ 1.064 um, pulse 500 Hz ~ 5 kHz
Scanner 40 ~ 50 Hz
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レーザーブレイクダウン現象のパワー閾値
液体いろいろPropanol
Glycerol
ErF3
CoClCuBr
HCl223130
29

CuBrPhenol
CuI
CuCl

ErF3
H282O Deionized
1,25

27
26

Laser current, A

Breakdown Power of laser pulse, MWatt

1,524

23
220,75Yt
Fe powderDiamond micro-powder

CoCl2

Ag micro-powder
18 Cu micro-powder
tap water

Minatec-230

17160,25

15
0,000010,0001

ZnBr
ZnCl
ZnF

TlI
ZnF
CuCl2

MnCl20,001

0,01

Minatec-230

TlCl

ZnCl

25200,519

ZnI

ZnBr

Minatec-230

1,021

AgCl
TlCl

AgCl

CuI filtered
HN03
CuCl ZnBr
CCl4
ZnCl
filtereZnFd
AgClCuCl2

ZnO
MnCl2
Pump oil
I+Propanol+H2O
MnClTiO2
Glycerol+tap water
LanH2OCH3(COO)3Acetone
Br
HCl
TlI
AgCl
in 3min
Cu
CoCl2
CuCl
tap
Br water filteredfilteredCuCl
in 15sec
Minatec-230
CuIKI+I2

0,1

110

100 % (saturated)
1000

Concentration, %Hiroshi Toshiyoshi © 2012, <hiro@iis.u-tokyo.ac.jp>, RCAST, Univ. of Tokyo, http://toshi.iis.u-tokyo.ac.jp/

Page 52

高反射率の誘電体多層膜ミラーをＭＥＭＳに搭載
1.9 mmDielectric Layer
Mirror

2.9 mm

1.0 mmElectrostatic MEMS
Scanner Platform

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Page 541

従来の電磁駆動光スキャナと大きさ比較

70 mm

40 mm

Chip 7 mm x 5 mm
Mirror 2 mm x 3 mm

Mirror 15 mm x 10 mm

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Page 55

お手頃なＭＥＭＳ光スキャナがあれば…（１）Gyro

ScannerHiroshi Toshiyoshi © 2012, <hiro@iis.u-tokyo.ac.jp>, RCAST, Univ. of Tokyo, http://toshi.iis.u-tokyo.ac.jp/

Page 57

お手頃なＭＥＭＳ光スキャナがあれば…（２）Hiroshi Toshiyoshi © 2012, <hiro@iis.u-tokyo.ac.jp>, RCAST, Univ. of Tokyo, http://toshi.iis.u-tokyo.ac.jp/

Page 58

コモディティ技術から差別化アプリケーションへ
コモディティ化（しそうな）
デバイス
トランジスタ光スキャナ
共振子
加速度センサ
圧力センサ
接点スイッチ

差別化アプリケーション

むかし ＞＞＞＞＞ いま

アナログ増幅、論理素子、メモリ、ＶＬＳＩ

バーコードリーダ、光スイッチ、ディスプレィ、
レーザ距離計、ピコ・プロジェクタ、ヘッドアップ･ディスプレィ
バンドパスフィルタ、クロック周波数、質量計、ジャイロ

エアバッグ、転覆センサ、ＨＤＤ落下、ゲーム機、チルトセンサ、万歩計、エクササイズ携帯
産業計測、エンジン制御、呼気センサ、血圧計、ＴＰＳ、気圧計、高度計、…、マイクロフォン
リレー、ＲＦ−ＭＥＭＳ、ＬＳＩパワーゲート、どこでもスイッチ

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まとめ1. 情報を作る

いろいろ使える光ＭＥＭＳ技術• 画像計測• 内視鏡• レーザーレンジファインダ• 光ファイバ型センサネット

2. 情報を送る• 光ファイバ通信

3. 情報を見せる• 画像プロジェクタ• どこででもディスプレィ
あとは想像力次第

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Page 60