SPE-2136A

プラズマクリーナー
Plasma Cleaner

デスカム・表面改質・アッシング処理
Descum / Surface Modiﬁcation / Ashing Treatment

φ６インチウェハー２枚同時処理のハイタクトモデル
High-tact model for simultaneous processingof two 6-inch wafers【概要】

本装置はφ4〜φ6インチウェハーに対しデスカム・表面改質・アッシング処理が可能です。また、自動搬送機
構を付属しておりウェハー割れ防止や、ウェハー移載にかかる作業時間コストの削減に貢献します。さらに、プロセス室はウェハー2枚同時処理により高いスループットを実現しています。
装置本体サイズがW1,400㎜×D2,000㎜とコンパクトな設計となっています。
[General Outline]
This equipment can descum, modiﬁcate the surface, and ash on φ4 to φ6inch wafers. In addition, it comes with an automatic transfer mechanism,
which contributes to preventing wafer cracking and reducing the work time
cost required for wafer transfer. Furthermore, the process room achieves
high throughput by processing two wafers at the same time.
The equipment body size is W1,400 mm x D2,000 mm, which is a compact
design.

【特長・オプション等】【用途・応用例】

1．C to C

各種ウェハー電子部品のレジスト除去

2．高スループット

後工程メッキ前の表面改質

3．分布：ウェハー内±10％以下（Si基板）

有機汚染除去4．2枚同時処理、低温処理

樹脂材料の表面改質

5．Arプラズマクリーニング（オプション）

SAWデバイスなどの極薄圧電ウェハー対応

6．イオナイザーによる静電対策（オプション）[Features/Options][Applications]

1.C to C

Resist removal of various wafer electronic components

2.High throughput

Surface modiﬁcation before post-process plating

3.Distribution: ± 10% or less in the wafer (Si substrate)

Organic pollutant removal

4.Simultaneous processing of 2 sheets, low temperature processing

Surface modiﬁcation of resin material

5.Ar plasma cleaning (optional)

For ultra-thin piezoelectric wafers such as SAW equipments

6.Anti-static measures by ionizer (optional)

SPE-2136A

プラズマクリーナー
Plasma Cleaner

デスカム・表面改質・アッシング処理
Descum / Surface Modiﬁcation / Ashing Treatment

仕様処理室内Speciﬁcations

装置構成⑴ 搬送ロボットを搭載した搬送エリアとアッシング室で構成

Equipment Conﬁguration⑴Consists of a transport area equipped with a transport robot and an ashing room

In processing room⑵ 真空槽材質は、脱脂処理を施したA5052製を採用⑵The vacuum tank material is made of A5052 that has been degreased.

排気系

ドライポンプPumping System

1 set of dry pump

性能Performance

1式
Φ4インチ2枚Φ6インチ2枚

2 wafers of 4 inch

⑴ 到達圧力：1Pa以下

2 wafers of 6 inch

⑴Reaching Pressure : 1Pa or less⑵ 排気時間：10Paまで18秒以内⑵Pumping Time : Within 18 seconds up to 10Pa

⑶ アッシング分布：±10％以内⑶Ashing Distribution : Within ± 10%⑷ サイクルタイム：45sec（18枚／カセット、φ4インチ基板）※参考値⑷Tact Time : 45sec (18 sheets/cassette, φ4 inch substrate) * Reference value

電源系⑴ RF電源：MAXPower Supply System⑴RF Power : MAX

Φ4、Φ6インチウェハー2枚同時処理対応
Supports simultaneous processing of two Φ4 and Φ6 inch wafers

1,000W（13.56MHz）

1,000W（13.56MHz）⑵ マッチングボックス：オートマッチング仕様⑵Matching Box : Auto matching speciﬁcations

ガス導入系

O2ガス用

マスフローコントローラー

1式

Gas Introduction System

1 set of mass ﬂow controller for O2 gas

制御系⑴ シーケンサーの使用により、全自動操作が可能

Control System⑴Fully automatic operation is possible by using a sequencer⑵ 基板処理枚数はタッチパネル上に常時表示し、エラー履歴を確認可能⑵The number of substrates processed is always displayed on the touch panel,and the error history can be checked.

⑶ レシピ管理、ログ取得を付属のパソコンにて行います

ご質問・詳細につきましては、営業部までお気軽にお問合せください。
お問合せ先【営業部】
本社・相模原工場〒252-0244 神奈川県相模原市中央区田名3062-10

TEL. 042-764-0370
FAX. 042-764-0377

E-mail. sales-pamphlet@showashinku.co.jp⑶Recipes management and log acquisition are performed on the attached personal computer.

https://www.showashinku.co.jp/

外形寸法

装置本体：W1,340㎜×D1,945㎜×H1,870㎜

昭和真空External Dimensions

Equipment Body : W1,340㎜×D1,945㎜×H1,870㎜

検索Inquiry [Sales Dep.]

装置重量：1,000Kg

HQ and Sagamihara Plant

Equipment Weight : 1,000Kg

3062-10 Tana, Chuo-ku, Sagamihara-city, Kanagawa 252-0244 Japan

ユーティリティー⑴ 電力：200V 3φ 50/60Hz

14.3KVA

Utility⑴Electric Power : 200V 3φ 50/60Hz

14.3KVA⑵ 冷却水：20〜25℃

0.36㎥/hr （6ℓ/min）⑵Cooling Water : 20〜25℃

0.36㎥/hr（6ℓ/min）

TEL:+81-42-764-0370

FAX：+81-42-764-0377

本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、⑶ 圧空：0.5MPa 20ℓ/min

必要な手続きをお取りください。

⑶Compressed Air : 0.5MPa

20ℓ/minThis product may be applicable to export control products such as strategic raw materials⑷ O2ガス：0.05MPa

プロセス用

which are regulated by the Foreign Exchange and Foreign Trade Control Law. Accordingly⑷O2 gas : 0.05MPa

For process⑸ N2ガス：0.3MPa⑸N2 gas : 0.3MPawhen you bring out the applicable products outside Japan, you should take a necessary
action such as application of an export permit to the Government of Japan.

60ℓ/min

60ℓ/min⑹ アース：A種アース⑹Earth : Class A earth

Web site

製品情報ページ

真空中で特定の基板に薄膜を形成させる装置を主とした、真空蒸着装置やスパッタリング装置等の真空技術応用装置（真空装置）を製造販売しております。

※本仕様・外観については、改良のため予告なく変更になることがあります。あらかじめご了承下さい。
* For the improvement of the product, please understand in advance that the speciﬁcations and external views are subject to change without prior notice.

https://www.showashinku.co.jp/product/15-14501-JEZ2102