Atomic Layer Deposition Equipment

複雑な形状の基板への成膜に最適です
低温成膜で樹脂基板にも対応
ガスバリア性に優れた薄膜が得られます

ALD Series

原子層堆積装置

複雑な形状の基板への成膜に最適
Conformal coating on complex-shaped objects

ALD equipment
Optimum to form a ﬁlm on the complex-shape substrate
Low temperature ﬁlm formation supports even resin substrates
Provides a thin ﬁlm with excellent gas barrier characteristics

【概要】

ALD
（Atomic Layer Deposition）
法は従来のCVD、PVDに比べ「ピンホールフリー」、「 段差被覆性」、「 精密な膜厚制御性」、「膜厚バラツキが小さい」といった優位性が有ります。
また、プラズマを使用するPE-ALDでは低温成膜が可能となり、プラスチックのように熱的に脆い材料にも適用可能です。
■対応膜種：SiO₂ / TiO₂ / Al₂O₃[General outline]

Atomic Layer Deposition (ALD) has several advantages, “pin hole free”, “conformalcoating", “precise thickness control”, and “small thickness variation”, overconventional CVD and PVD. And plasma enhanced ALD (PE-ALD) enables low
temperature deposition over thermally fragile materials such as plastic.
■Films available: SiO₂, TiO₂ and Al₂O₃【主な用途・応用例】

・高曲率レンズへの光学コーティング【特徴】

１．単原子層ずつ成膜するため、膜厚制御性に優れている

２．高アスペクト比の基板に対しても付き回りよく成膜することが可能
３．低温成膜が可能（RT〜120℃）
４．基板面内分布に優れている

５．φ８インチ基板24枚一括処理
６．基板回転機構[Features]

1. ALD enables Precise thickness control
2. Excellent step coverage
3. Low temperature coating(RT~120℃）
4. Uniform ﬁlm thickness across the substrates
5. 24slices of 8inch substrate per batch
6. Substrate rotation during process

仕様Speciﬁcations

・絶縁目的の誘電体コーティング

排気ポンプ

TMP＋DRP

Exhaust Pump

TMP＋DRP・複雑な形状の基板への成膜

設置寸法

W3,200㎜×D3,200㎜×H2,600㎜

Installation Dimensions

W3,200㎜×D3,200㎜×H2,600㎜

・各種デバイスのガス透過バリア[Main uses and application examples]

・Optical coating on high curvature lens・Dielectric coatings for insulation purpose

・Gas permeation barrier for various devices

・Conformal coating on complex-shape objects

重量1,200kg

Weight1,200kg

仕様：電源容量AC200V（3Φ）／39.5kVA（114A）

Power Supply Capacity

AC200V(3Φ) / 39.5kVA(114A)

ALD Series

原子層堆積装置
Atomic Layer Deposition Equipment

複雑な形状の基板への成膜に最適
Conformal coating on complex-shaped objects

ALDの原理Principle of the ALD

プリカーサA導入

パージ

プリカーサB導入（酸化剤等）

成膜原料の吸着

余分な分子をパージ（H₂O, O₃及び酸素ラジカル 等）

Introduce pre-cursor APurge

Adsorption of ﬁlm formation materials

Purge

反応性ガス→反応

Purge extra molecules

水蒸気透過率（WVTR）

パージ

Introduce pre-cursor B Oxidizers, etc

余分な分子をパージ

Reactive gas Reaction(H₂O, O₃ or O radical etc)

Purge extra molecules

Water vapor transmission rate（WVTR）■試料：２軸延伸PETフィルム（東レ㈱製ルミラーT60、厚さ100μm)

7■成膜：スパッタおよびPE-ALDで各種薄膜を25nm成膜

6水蒸気透過率︵■測定：MOCON社製PERMATRAN W3/33を用いて水蒸気透過率を測定

・ day︶
g/m2■Sample：Biaxially oriented PET ﬁlm

6.04

ご質問・詳細につきましては、営業部までお気軽にお問合せください。

5

お問合せ先【営業部】
4

本社・相模原工場

3〒252-0244 神奈川県相模原市中央区田名3062-102.76

TEL. 042-764-0370

2（TORAY Lumirror T60、thickness100μm)■Film formation：Forming various 25nm ﬁlm using
sputtering or PE-ALD■Measurement：Measure water vapor transmission
rate (WVTR) using PERMATRAN W3/33 made in

FAX. 042-764-0377
10

MOCON company

0.76

E-mail. sales-pamphlet@showashinku.co.jp

0.47
0.05

PETSputter
SiO2

Sputter
SiN

ALD-AI203 ALD-AI203（H2O） （Plasma）

https://www.showashinku.co.jp/
昭和真空検索Inquiry [Sales Dep.]
HQ and Sagamihara Plant

ステップカバレッジ

Step coverage

ResistSiO₂
PR patterning

Si3062-10 Tana, Chuo-ku, Sagamihara-city, Kanagawa 252-0244 Japan
TEL:+81-42-764-0370

FAX：+81-42-764-0377

本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、RIE + Ashing

ALD Deposition

必要な手続きをお取りください。
This product may be applicable to export control products such as strategic raw materials
which are regulated by the Foreign Exchange and Foreign Trade Control Law. Accordingly

サブミクロンパターンへのコンフォーマルな成膜

when you bring out the applicable products outside Japan, you should take a necessary
action such as application of an export permit to the Government of Japan.

Conformal ﬁlm formation to a submicron patternWeb site

製品情報ページ

真空中で特定の基板に薄膜を形成させ新しい成膜方法をお考えのお客様は、ぜひ当社へご相談ください！
※本仕様・外観については、改良のため予告なく変更になることがあります。あらかじめご了承ください。
If you are looking for new ﬁlm coating technology, Please ask our company！

る装置を主とした、真空蒸着装置やスパッタリング装置等の真空技術応用装置（真空装置）を製造販売しております。

https://www.showashinku.co.jp/product/* For the improvement of the product, please understand in advance that the speciﬁcations and external views are subject to change without prior notice.

19-14002-JEZ2408