SEC-S900C

AuSn蒸着装置
AuSn Vacuum Deposition Equipment

Au/Snの2元同時蒸着が可能な蒸着装置
Thick ﬁlms can be deposited by simultaneous Au/Sn dual source deposition.

【概要】

２元同時蒸着によりAu/Snの組成比管理及び膜厚管理が可能です。
また、基板冷却機構及び間欠成膜機能により低温成膜が可能です。
[General Outline]
The simultaneous deposition allows Au/Sn dual source to be compositionally controlled and the ﬁlm thickness
controlled. Low-temperature deposition is possible by substrate cooling mechanism and intermittent ﬁlm formation
function.

【用途】

・LDサブマウントのAu/Snはんだ層形成・LED薄膜サブマウントのAu/Snはんだ層形成[Applications]
・Au/Sn solder layer formation of LD submount・Au/Sn solder layer formation of LED thin ﬁlm submount

Au/Sn はんだ
Au/Sn solder

基板

Substrate

電極

ElectrodeSEC-S900C

AuSn蒸着装置
AuSn Vacuum Deposition Equipment

Au/Snの2元同時蒸着が可能な蒸着装置
Thick ﬁlms can be deposited by simultaneous Au/Sn dual source deposition.

特徴Features

成膜時熱電対温度測定
Thermocouple temperature measurement during deposition

1．低温成膜70

熱電対で成膜面をモニターし、成膜開始から終了までの温度監視が可能[Low temperature deposition]
Low-temperature deposition of micron-order thick ﬁlms at less than 100°C is60

温度 / Temperature [℃]

ミクロンオーダーの厚膜を100℃以下の低温成膜を実現

5040302010realized.
The deposition surface is monitored by thermocouples, enabling temperature

0monitoring from the start to the end of deposition.

350

7001050

1400時間 / Time [sec]【参考データ】
ドーム内□115基板の成膜面中央に熱電対を設置【Reference data】Thermocouples are installed in the center of the deposition surface of the □115 substrate in the dome.

2．2元同時蒸着

3．
イオンソース（オプション）

電子銃2元同時蒸着により、異成膜前のクリーニング処理…自然酸化膜の除去、有機種材料蒸着時の組成比及び膜物の除去、表面改質などにより密着性の改善が可能

厚管理が可能、同一材料蒸着

成膜中のアシスト蒸着…密着力の改善、応力コント時は成膜時間の短縮が可能。

ロール膜質コントロールなどに効果的ご質問・詳細につきましては、営業部までお気軽にお問合せください。

[2 source simultaneous deposition][Ion source (optional)]

Simultaneous deposition of two

Cleaning process before deposition

electron gun sources enables control of

Adhesion can be improved by removal of natural oxide ﬁlm, removal of

本社・相模原工場

composition ratio and ﬁlm thickness

organic matter, and surface modiﬁcation.

when depositing diﬀerent materials.

Assisted deposition during deposition〒252-0244 神奈川県相模原市中央区田名3062-10

When depositing the same material, theEﬀective in improving adhesion, controlling stress, and controlling ﬁlm

deposition time can be shortened.

quality, etc.

お問合せ先【営業部】

TEL. 042-764-0370
FAX. 042-764-0377

E-mail. sales-pamphlet@showashinku.co.jp

仕様

Speciﬁcations

到達圧力5.0×10-5Pa以下

Ultimate pressure

5.0×10 Pa or less

排気速度

5.0×10 Pa迄20分以内

Exhaust speed

Within 20 minutes up to 5.0×10-4Pa

蒸発源

電子銃270°偏向×2,電源10kW×1

Vapor source

Electron gun 270°deﬂection×2, Power supply 10kW×1

膜厚分布

バッチ内±3%以内

Film thickness distribution

Within ±3% of batch

排気系

RP/MBP/CRYO

Exhaust system

RP/MBP/CRYO真空槽

Φ900㎜×H1,290㎜ SUS304製

Vacuum chamber

Φ900㎜×H1,290㎜ SUS304

https://www.showashinku.co.jp/
昭和真空検索-5-4Inquiry [Sales Dept.]
HQ and Sagamihara Plant
3062-10 Tana, Chuo-ku, Sagamihara-city, Kanagawa 252-0244 Japan
TEL:+81-42-764-0370

FAX：+81-42-764-0377

本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。
This product may be applicable to export control products such as strategic raw materials
which are regulated by the Foreign Exchange and Foreign Trade Control Law. Accordingly
when you bring out the applicable products outside Japan, you should take a necessary

フットプリントW1,520mm×D1,240mm×H2,790mm

Footprint

W1,520mm×D1,240mm×H2,790mm

action such as application of an export permit to the Government of Japan.

Web site

製品情報ページ

真空中で特定の基板に薄膜を形成させ重量約3,000kgる装置を主とした、真空蒸着装置やスWeight

Approx.3,000kg

パッタリング装置等の真空技術応用装置（真空装置）を製造販売しております。

※本仕様・外観については、改良のため予告なく変更になることがあります。あらかじめご了承下さい。
* For the improvement of the product, please understand in advance that the speciﬁcations and external views are subject to change without prior notice.

https://www.showashinku.co.jp/product/11-16402-JEZ2408