SEC-S1300i

耐プラズマ膜用蒸着装置
Vacuum Deposition Equipment for Plasma-resistant Films

耐腐食性の高いY₂O₃厚膜を成膜、シールド膜の形成が可能
Thick Y₂ O₃ ﬁlm with high corrosion resistance can be deposited and shield ﬁlm can be formed.

【概要】

本装置は耐プラズマ膜（Y₂O₃膜）の厚膜成膜が可能です。
充填密度の高い緻密で強固かつ耐腐食性の高いY₂O₃膜を形成することで、高密度フッ素系ガスプラズマからアルミナや石英などの部品を保護します。
[General Outline]
This system is capable of thick ﬁlm deposition of plasma resistant ﬁlm (Y₂O₃ ﬁlm).
By forming a dense, strong, corrosion-resistant Y₂O₃ ﬁlm with high packing density, protects
components such as alumina and quartz from high-density ﬂuorine gas plasma.

【用途】

・半導体向けドライエッチャー・CVD装置の内部部品へシールド膜コーティング[Applications]・Dry Etcher for Semiconductors
・Shield coating on internal parts of CVD equipments

SEC-S1300i

耐プラズマ膜用蒸着装置
Vacuum Deposition Equipment for Plasma-resistant Films

耐腐食性の高いY₂O₃厚膜を成膜、シールド膜の形成が可能
Thick Y₂O₃ ﬁlm with high corrosion resistance can be deposited and shield ﬁlm can be formed.

特徴Features

1．厚膜成膜

2．RFイオンソース

厚膜（25μm程度）の成膜が可能です。

IAD（Ion Assisted Deposition）膜質向上…充填密度の高い緻密な膜が成電子銃2源同時蒸着による異種材料成膜（Y₂O₃、Al₂O₃等）の組膜でき、耐環境性・屈折率の向上や酸化促進に効果的成比管理や同一材料成膜時間を50%短縮できます。

成膜前のクリーニング処理…自然酸化膜の除去、有機物の除去、表面改質な高付加価値な膜を高品質に成膜可能です。

どに効果的[Thick ﬁlm deposition][RF Ion Source]

Thick ﬁlms (about 25 μm) can be deposited.

IAD(Ion Assisted Deposition) Improved ﬁlm quality

Composition ratio control of diﬀerent material deposition (Y₂O₃, Al₂O₃, etc.) byDense ﬁlms with high packing density can be deposited, and are eﬀective in improving environmental

electron gun 2-source simultaneous deposition, and deposition time of the same

resistance and refractive index and promoting oxidation.

material can be reduced by 50%.

Cleaning process before deposition

High value-added ﬁlms can be deposited with high quality.

Eﬀective for removal of natural oxide ﬁlm, removal of organic matter, surface modiﬁcation, etc.

3．
イオンプレーティング（オプション）
オプションでイオンプレーティングに対応。
密着性・耐久性の高い成膜が可能です。
[Ion plating (optional)]
Ion plating is available as an option for high adhesion and

ご質問・詳細につきましては、営業部までお気軽にお問合せください。

high durability deposition.

お問合せ先【営業部】
本社・相模原工場〒252-0244 神奈川県相模原市中央区田名3062-10

TEL. 042-764-0370
FAX. 042-764-0377

仕様

E-mail. sales-pamphlet@showashinku.co.jp

Speciﬁcations

https://www.showashinku.co.jp/

到達圧力7.0×10-5Pa以下

Ultimate pressure

7.0×10 Pa or less

排気速度

大気圧より1.3×10 迄15分以内

Exhaust speed

Within 15 minutes to 1.3 × 10-3 from atmospheric pressure

蒸発源

電子銃270°偏向×2、電源10kW

Vapor source

Electron guns 270°deﬂection × 2, power supply 10kW

膜厚分布

基板面内±5％以内

Film thickness distribution

Within ±5％ of the substrate surface

排気系

DP+MBP+RP（マイスナートラップ）

Exhaust system

DP+MBP+RP (Meissner Trap)

昭和真空-5

検索-3

Inquiry [Sales Dept.]
HQ and Sagamihara Plant
3062-10 Tana, Chuo-ku, Sagamihara-city, Kanagawa 252-0244 Japan
TEL:+81-42-764-0370

FAX：+81-42-764-0377

本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。
This product may be applicable to export control products such as strategic raw materials
which are regulated by the Foreign Exchange and Foreign Trade Control Law. Accordingly

真空槽

Φ1,300×H1,450㎜

SUS304製

Vacuum chamber

Φ1,300×H1,450㎜フットプリント

W4,500㎜×D3,900㎜×H2,720㎜

Footprint

W4,500㎜×D3,900㎜×H2,720㎜

when you bring out the applicable products outside Japan, you should take a necessary
action such as application of an export permit to the Government of Japan.

SUS304Web site

製品情報ページ

真空中で特定の基板に薄膜を形成させ重量約4,500kgる装置を主とした、真空蒸着装置やスWeight

Approx. 4,500kg

パッタリング装置等の真空技術応用装置（真空装置）を製造販売しております。

※本仕様・外観については、改良のため予告なく変更になることがあります。あらかじめご了承下さい。
* For the improvement of the product, please understand in advance that the speciﬁcations and external views are subject to change without prior notice.

https://www.showashinku.co.jp/product/11-16501-JEZ2303