SPH-2500T-Ⅱ

ロードロック式 スパッタ装置
Load Lock Type Sputtering Equipment

二種類の膜を両面に成膜可能なスパッタ装置
Sputtering equipment capable of forming two types of ﬁlms on both sides

優れたターゲット使用効率
Excellent target use eﬃciency

エロージョン深さ [ ㎜ ]7フェライトHY8G

6543210025

【概要】

5075

位置 [ ㎜ ]100125

本装置は水晶振動子のベース電極成膜を目的として開発したロードロック【特長】

1．外形：W1,100㎜×D2,500㎜×H1,205㎜

式スパッタ装置です。仕込室、成膜室の2室からなり、加熱から成膜、取出ま低背化を実現しています。

でを全自動で連動して行うことにより、「ベース電極成膜工程」のライン化が2．
ターゲット使用効率約40％。

可能となり生産性の向上と省力化に貢献します。両面同時成膜によりハイタ

3．
ラック＆ピニオン方式を採用し安定した搬送をクトで稼働できます。

実現しました。

[General Outline][Features]This equipment is a load lock type sputter equipment developed for the purpose of ﬁlm formation of

1. Outer dimensions: W1,100㎜ × D 2,500㎜ × H 1,205㎜, Lower heightbase electrode of quartz crystal. Consists of two chambers（a loading chamber and a ﬁlm forming

2. Use target eﬃciency: about 40%.

chamber）,and by performing fully automatic interlocking from heating to ﬁlm forming and taking out,

3. Adopted a rack and pinion system to achieve stable conveyance.

it becomes possible to make the line of "base electrode ﬁlm forming process" and improve productivity
and save labor. High tact operation is possible due to simultaneous ﬁlm formation on both sides.

【オプション】【用途・応用例】

DCボンバード機構（表面改質用）

各種電子部品への電極用金属膜の形成[Options][Applications]DC bombard mechanism (for surface modiﬁcation)

Formation of metal ﬁlms for electrodes on various electronic components

SPH-2500T-Ⅱ

ロードロック式 スパッタ装置
Load lock type sputtering equipment

二種類の膜を両面に成膜可能なスパッタ装置
Sputtering equipment capable of forming two types of ﬁlms on both sides

カソードの改良により装置構成 Outline

ターゲット使用効率が約40％になりました。

処理方式

ロードロック式、通過型

Processing Method

Load lock type, Passing type

排気ポンプ

油回転ポンプ＋ターボ分子ポンプ

Exhaust Pump

Rotary Pump + Turbo Molecular Pump *Option: Cryo pump compatible

設置寸法

W1,100㎜×D3,640㎜×H1,680㎜

Installation dimensions

W1,100㎜×D3,640㎜×H1,680㎜

装置重量1,900kg

Equipment Weight

1,900kg

Target use eﬃciency has been increased to about 40%
by improving the cathode.

※オプション：クライオポンプ対応可

電源容量AC200V〜220V（3φ） / 27kVA（78A）

Power Supply capacity

AC200V〜220V(3φ) / 27kVA(78A)カソード

5インチ×7インチCathode

5Inch×7inch 2sets(one of 2sets is high efficiency cathode)2対（うち１対が高使用効率カソード）

トレイサイズ

L350㎜×H139㎜

Tray Size

L350㎜×H139㎜

基板搬送方式

ラック＆ピニオン搬送

Tray Conveyance

Rack & Pinion

ストッカー

10トレイ収納Stocker

Stores 10 trays

性Uniformity

トレイ内

Improvement of the operability

警報発生時のトラブルシューティングを画面上に表示します。各トレイにレシピ設定が可能で10レイヤー／トレイまで成膜が可能です。
Displays troubleshooting on the screen when an alarm occurs.
Recipe can be set for each tray, and up to 10 layers / trays can bedeposited.

能 Performance

膜厚分布

操作性の向上±1.2% ／ トレイ間

ご質問・詳細につきましては、営業部までお気軽にお問合せください。

±1.5%※成膜有効範囲±50㎜

お問合せ先【営業部】

Inside trays ±1.2% / Between trays ±1.5%

本社・相模原工場* Effective range of film formation ± 50㎜〒252-0244 神奈川県相模原市中央区田名3062-10

TEL. 042-764-0370

ターゲット使用効率

40％

Target Use Eﬃciency

About 40%

サイクルタイム

3min／トレイCycle Time

3 min / tray * when forming films by Cr: 8nm, Ag: 45nm. First tray is excluded.

到達圧力

仕込／取出室Ultimate Pressure

SP室※Cr:8nm、Ag:45nm成膜時

1トレイ目除く

1.0×10 -3Pa以下

FAX. 042-764-0377

E-mail. sales-pamphlet@showashinku.co.jp

https://www.showashinku.co.jp/
昭和真空1.0×10 -3Pa以下

検索

LD / ULD chamber 10-3Pa or less
SP chamber 10-3Pa or less

排気時間

仕込／取出室Pumping Time

SP室

Inquiry [Sales Dept.]2.0×10 -2Pa迄

1.2×10 -2Pa迄

3分以内

10分以内

HQ and Sagamihara Plant
3062-10 Tana, Chuo-ku, Sagamihara-city, Kanagawa 252-0244 Japan
TEL:+81-42-764-0370

FAX：+81-42-764-0377

LD / ULD chamber within 3min until 2.0×10-2Pa
SP chamber within 10min until 1.2×10-2Pa

基板加熱温度150℃以上を確認

Substrate Heating Temperature

150℃ or higher

本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。

ラック＆ピニオン方式採用
Rack and pinion system adopted

This product may be applicable to export control products such as strategic raw materials
which are regulated by the Foreign Exchange and Foreign Trade Control Law. Accordingly
when you bring out the applicable products outside Japan, you should take a necessary
action such as application of an export permit to the Government of Japan.

Web site

製品情報ページ

真空中で特定の基板に薄膜を形成させる装置を主とした、真空蒸着装置やスパッタリング装置等の真空技術応用装置（真空装置）を製造販売しております。
※本仕様・外観については、改良のため予告なく変更になることがあります。あらかじめご了承下さい。
* For the improvement of the product, please understand in advance that the speciﬁcations and external views are subject to change without prior notice.

https://www.showashinku.co.jp/product/13-14802-JEZ2112