技術論文

二次加工による機能性ガスアトマイズ合金粉末の特性向上研究
Performance improvement of gas-atomized functional alloy powder by post-atomized processing
柳本勝＊

Katsu Yanagimoto

Synopsis: Powder metallurgy process combined with gas atomization is expected to improve the performance of many kindsof functional materials since gas atomized powder has the absolute advantage of higher cooling rate thanconventional melting and casting process. Some of the gas atomized functional powder, however, require more
performance improvement for the current market applications.
In this paper, two kinds of post-atomized processing were applied for performance improvement of gas-atomized
functional alloy powder. One is physical flattening processing for electromagnetic wave absorption powder using
an attrition mill, the other is chemical surface treating for hydrogen storage powder using acetic acid solution. Bothof post-atomized processing were found to be very effective for their drastic performance change and the key
parameters of these processing were clarified.

１．緒言
近年、携帯電話やノートパソコンをはじめとするIT機器の小型化や高度情報化、ハイブリッド車など環境関連製品の高性能化に伴い、それらに使用される機能材料についてもますますの高性能化が求められている。この要求に応えるべく多くの金属系機能材料が研究されているが、工業的にはコストパフォーマンスの向上が重要な課題となっており、材料開発に加えてプロセス開発を含めた総合的なアプ
ローチがなされている。
それら金属系機能材料のうち特に開発要求が高いものとして軟質磁性材料とエネルギー貯蔵材料があげられる。前者
は電子機器関連部品やセンサーなど、後者は携帯機器やハ
イブリッド車用電源、燃料電池用途などに広く利用されており、将来的にも大きな需要が見込めるキーマテリアルであるといえる。しかし、それらの機能材料は求められる特性が材料組成に非常に敏感であったり、金属間化合物などのように加工性に乏しい材料も多く、コストパフォーマン
ス向上のためには金属材料製造法として一般的に用いられている溶解・鋳造法以外の、それぞれの材料や要求特性に合った新しいプロセスの開発が求められている。
ガスアトマイズ粉末を用いる粉末冶金法（Fig.1）は、金
属溶湯を不活性ガスなどで噴霧・冷却して製造されたミクFig.1 Typical production process of P/M processedmaterial using gas atomization.

ロンオーダーの粉末を利用するプロセスである。

＊

研究・開発センター

機能材料グループ長, 工博

53

Sanyo Technical Report Vol.13 (2006) No.1

二次加工による機能性ガスアトマイズ合金粉末の特性向上研究

その粉末は従来の溶解・鋳造法によるバルク材に比べて機械特性と扁平挙動との関係や扁平粉末を使用した電磁波

100〜1000倍以上の速度で冷却されるため、組織も微細

吸収体の吸収特性との関係を検討することを目的とした。

で鋳造材にみられるようなマクロ偏析がほとんどなく、安定した材料物性や加工性が求められる金属系機能材料の製造方法として好ましいプロセスである。また粉末形状で使用するような機能材料については、アトマイズ時のガス種を変えることによる表面性状のコントロールや、表面処理をはじめとする二次加工によってさらなる機能性の向上が期待できる。
本報告では、軟質磁性材料の例として電磁波吸収体用粉末を、エネルギー貯蔵材料の例として水素吸蔵合金粉末を対象とし、ガスアトマイズ粉末に二次加工を施すことによる機能性向上について報告する。
Fig.2 Definition of μ"２．電磁波吸収体用粉末の開発
２−１

背景

情報機器や無線LANシステムの高速化、高容量通信化の要求が高まるに伴って、1GHz以上の高周波で動作する機器が増加すると共に電磁波による機器の誤作動や健康への悪影響などの電磁波障害が問題となっている 1)。電磁波障害を回避する方法として、電磁波シールドと電磁波吸収がある。前者は金属板など電磁波を反射して電磁波の侵入を防ぐものであるが、それ自身が二次的な電磁波発生源になる恐れがある。一方、後者は電磁波を熱エネルギーに変換して吸収するもので、反射による二次障害を防ぐ意味からも好ましい方法といえる2-4)。
電磁波吸収体はゴムや発泡体中に誘電体や磁性体を混合したもので、混合する吸収体用材料として軟磁性材料である
フェライトや誘電材料であるカーボン系材料が最も一般的である。しかし軟磁性材料としてのフェライトは飽和磁束密度が小さいためにGHz領域では充分な吸収特性が発揮できず、より飽和磁束密度が高い金属系材料を使用した吸収体が注目されている5,6)。さらに近年、金属系材料を扁平することによりスヌークの限界を越えた高周波領域で吸収特性が発揮できることが明らかになり、電磁波吸収体用金属系材料の市場が広がりつつある7)。
電磁波吸収材の吸収性能は複素透磁率であるμ"の大きさ
Fig.3 Experimental procedures.

で決定される。μ"とはFig.2に示す通りμ'で表される磁場の変化に対して90°の位相差をもって追随する透磁率で、磁気損失の大きさを示す指標と定義され、μ"が大きいほど電磁波吸収特性は大きくなる。μ"の値や周波数特２−２性は金属粉末の体積率や粉末の形状（アスペクト比：粉末

Fig.3に実験手順を示す。供試材成分として代表的な軟磁の長軸長さ/粉末の厚さ）などの条件に左右されることが性材料3成分（Fe-3Si、 Fe-6Si、Fe-50Ni）と軟磁性ス。しかしそれらの報告は特定の合金を扁

テンレス成分（Fe-7Cr-1Si-1.6Al、以下SMSS）を選び、平化した後の吸収特性が議論されているものがほとんど30kg真空誘導溶解炉で溶解した後Arガスアトマイズによで、合金組成による扁平挙動の差異と吸収特性との関係にって粉末を作製した。また各合金成分の機械的特性測定について調査した報告はほとんどない。そこで本研究では４ついて、鋳造材の硬さ測定と引張試験により評価した。

種類の典型的な軟磁性材料合金粉末を扁平化して、合金の得られた粉末は106μmで分級した後、粉末2kgに対し直報告されている

8,9)

54

実験方法

Sanyo Technical Report Vol.13 (2006) No.1

二次加工による機能性ガスアトマイズ合金粉末の特性向上研究

径5mmの鋼球を90kg挿入したアトリッションミルにイオ

均粒径とアスペクト比の測定結果をFig.5に示す。最も大ン交換水を満たし、予備実験で求めた扁平化挙動が飽和す

きいアスペクト比が得られたFe-50Niは平均粒径も大きる条件（アジテータ回転数：300rpm、処理時間：18ks）

く、Fe-6Siはその逆の結果であった。一方、Fe-3Siとにて扁平化処理を実施した。

SMSSとを比較するとアスペクト比が大きいFe-3Siの方が扁平粉末の平均粒径はレーザー回折法で測定し、アスペク

SMSSより平均粒径が小さく、前述したアスペクト比と平ト比は粉末をSi樹脂で固定、研磨した後、顕微鏡観察によ均粒径との関係が逆転した。

って各粉末の断面長さと厚みの比の平均を算出して求めた。
電磁波吸収体は扁平粉末80mass%とSiゴム20mass%を２−３−２

混合し、343Kで1mmの厚さにシート状に圧延して作製し粉末扁平挙動に及ぼす合金の機械的性質の影響について、た。得られた吸収体シートを外径7mm/内径3mmのドーナ

合金硬さと扁平後のアスペクト比との関係をFig.6に、引ツ状に型抜きした試料について、ネットワークアナライザ

張試験時の伸びと扁平粉末の平均粒径との関係をFig.7にーでSパラメーター法によって130MHz〜13.4GHzの範示す。アスペクト比は合金硬さに反比例し、硬さの高い合囲の複素透磁率μ"を測定した。

金粉末ほどアスペクト比は小さくなる傾向がみられた。ま合金の機械的性質と扁平挙動についてた扁平後の平均粒径は合金の伸びと相関があり、引張試験
２−３

実験結果

２−３−１

時の伸びが大きくなるに従って平均粒径は急激に大きくな

扁平挙動

ることがわかった。

扁平後の各粉末の外観SEM写真をFig.4に、扁平粉末の平Fig.4 SEM micrograph of flattened powders.

55

Sanyo Technical Report Vol.13 (2006) No.1

二次加工による機能性ガスアトマイズ合金粉末の特性向上研究に示す。最大複素透磁率は粉末のアスペクト比が大きくなるほど高い値を示し（Fig.9）、最大の複素透磁率を示す周
波数は粉末の平均粒径が小さくなるに従って高周波側に変化することがわかった（Fig.10）。
Table1. Maximum μ and corresponding frequency
for EM absorption using each powder.

Fig.5 Aspect ratio and average particle size offlattened powders.

Fig.6 Effect of hardness on aspect ratio of flattened
powder.
Fig.8 EM absorbing curves using flattened powders.

Fig.7 Effect of maximum elongation on average
particle size of flattened powder.
２−３−３

電磁波吸収特性（複素透磁率）

Fig.8に複素透磁率の周波数特性グラフを、グラフから読Fig.9 Relationship between powder aspect ratio andmaximum μ

み取った最大複素透磁率とその時の吸収周波数をTable1

56

Sanyo Technical Report Vol.13 (2006) No.1

二次加工による機能性ガスアトマイズ合金粉末の特性向上研究

Fig.11 Relationship between alloy hardness andmaximum μ

Fig.10 Relationship between average particle sizeand frequency of maximum μ .
２−４考察

アトリッションミルを用いた処理によって素材粉末は鋼球
ボールによる繰返し衝突エネルギーを受け、粉末の厚みを減少させながら扁平化する。その間粉末は徐々に加工硬化するが、本実験においては粉末の扁平挙動が飽和するまで加工することにより、鋼球ボールから受ける衝突エネルギ
ーと扁平粉末の変形抵抗がバランスしている状態であると思われる。硬い合金は軟らかい合金に比べてより小さな加工でそのバランスに到達し、また伸びも小さいために扁平後のアスペクト比は小さくなる。また伸びの大きい合金は
繰返し加工によっても扁平粉末が分断されにくいため扁平後の平均粒径が大きくなるものと思われる。
Fig.9、10に示した通り、粉末形状（アスペクト比、平均粒径）と電磁波吸収特性（複素透磁率、最大吸収周波数）

Fig.12 Relationship between maximum elongationand frequency of maximum μとは各々リニアな関係であるため、この相関を利用してFig.6, 7の縦軸を該当する吸収特性に置き換え、電磁波吸収特性と合金の機械的性質との関係としてみることができ

３．水素吸蔵合金粉末の開発

る（Fig.11、12）。

３−１電磁波吸収体の設計では、目的とする吸収周波数で最大のMmNi5を基本組成（Mmは各種希土類元素を含む金属）と吸収特性を得ることが非常に重要である。しかしこれまでする水素吸蔵（以下MH）合金粉末は充放電可能な二次電は吸収体用材料の選択については明確な指標がなく、経験池であるニッケル水素電池の負極材として広く使用されて則に基づく部分も多くみられた。本実験結果から、目的といる。この合金は従来から電池に使用した際の寿命や放電する周波数で最大の吸収特性を得るためには、その周波数

容量の改善を目的とした多くの組成改良が加えられ、現在

背景

ではMm-Ni-Co-Mn-Al系合金粉末が広く用いられているに対応した硬さの軟磁性合金のうち、最大の伸びを示すも

10,11)のを選択するのが最善であり、設計材料選択の指標が不明。このMH粉末は鋳造材を不活性ガス中で粉砕して製確であった電磁波吸収体用粉末について、合金の機械的特造する方法が一般的であるが、水素吸蔵特性は微小な成分性をベースにした設計が可能になることがわかった。

変化に左右されるため鋳造材を1300K以上の高温で長時間熱処理を施すなどの均質化プロセスが不可欠である。このMH粉末を不活性ガスアトマイズ法で製造することによってより均質性に優れ、高い性能が安定して発揮でき、さらに熱処理の低温短縮化や粉砕工程の省略によってコスト
パフォーマンスを大きく向上できる12-14)。しかしガスアト
マイズMH粉末は一般的なガスアトマイズ粉末と同様の球

57

Sanyo Technical Report Vol.13 (2006) No.1

二次加工による機能性ガスアトマイズ合金粉末の特性向上研究

形状であり（Fig.13）、電池電極中での導電性はMH粉末合したHC(High Conductivity)電極は、MH粉末の放電能同士の点接触によるため、面接触もみられる異形状の鋳造力を理想的な条件で測定することを目的とした電極で、粉砕粉末に比べて電極導電性が悪く、電極としての特性が「MH粉末：50mass%、Ni粉末：42mass%、PTFE

劣るといった欠点があった。

（Polytetrafluoroethylene）：8mass%」の構成比である。
や導電材を使用しないLC(Low Conductivity)電極は放電特アルカリ・酸処理などの表面処理 17,18)が検討されている性に及ぼす粉末の導電性の影響を調査することを目的としが、表面処理時の挙動や表面処理後の粉末性状について報た電極で、「MH粉末：92mass%、PTFE：8mass%」の告された報告は少なく、特にガスアトマイズ粉末の接触抵構成比で、市販の電池電極に近い条件のものである。MH

抗を改善することを目的とした表面処理に関する報告例は粉末/MH+Ni粉末はバインダーであるPTFE粉末と混合後、ない。本研究ではガスアトマイズで作製したMH粉末に酸

Niメッシュを配置したダイセット中に充填し、196MPa

による表面処理を行い、処理前後の粉末表面性状観察や電（2000kgf/cm2）の圧力でφ20mmのコイン状に成形し極にした際の放電特性の測定結果について報告する。

た。負極に対して充分な容量を持つNi電極を正極として使

粉末導電性の改善を目的として、化学・電気めっき

15,16)

用し、電解液は6NのKOH溶液を使用した。放電容量は、各電極を50mA/gで28.8ks充電し、200mA/gで放電させた後、さらに50mA/gで放電した。各放電は正極と負極の電位差が0.6Vに達したところで終了し、200mA/gでの放電容量（C200）と50mA/gでの放電容量（C50）の合計をトータル放電容量として算出した。
TEM試料は収束イオンビーム加工（FIB）によって粉末か
ら表面部位を切り出して作製し、電解放射型透過電子顕微鏡（FE-TEM）を用いて表面処理前後の粉末表面性状観察を行った。さらにX線回折（XRD）と試料振動型磁力計（VSM）を用いて表面処理による物性変化を測定した。
３−３

実験結果

３−３−１

表面処理挙動Fig.14に表面処理時の処理液のpH変化を示す。温度を室温に保ちながら施した塩酸処理では、処理液のpHは緩急

Fig.13 SEM micrograph of gas atomized MH powder.

の変化を伴いながら連続的に増加し、1ks後にはpH6.5に到達した。一方、酢酸処理では室温に保ちながら処理を施
３−２

実験方法

した0.6ksの間はわずかなpH上昇がみられただけであっM m 1.0N i 3.6C o 0.6M n 0.6A l 0.2（ M m 組 成 ： 3 3 m a s s % L a ,た。その後加熱することによって処理液温度が368Kに達48%Ce, 5%Pr, 14%Nd）を狙い組成とするMH合金をした処理終了時のpHは4.2であった。

2kg真空誘導溶解炉で溶解後、ArガスアトマイズによってFig.15に表面処理後の処理液に含まれる溶出元素の分析

MH粉末を作製し、180μmのふるいで分級して供試材粉

結果を示す。処理時間0.6ks時の加熱前の酢酸処理液に溶末（平均粒径：59μm）とした。供試材粉末はAr雰囲気

出した元素の比率はMH粉末の合金元素比率にほぼ合致し

中、1073Kで36ks熱処理した後、酸による表面処理を行ているのに対し、処理終了後の塩酸処理液や加熱酢酸処理なった。

液ではNiに対してMm成分の溶出比率が大きくなっている

表面処理液として塩酸（0.27mol/l）、酢酸（3.4mol/l）

ことがわかった。

の２種類を用いた。MH粉末を粉末と同重量の処理液中に投入し、塩酸処理については処理温度を室温に保った状態
でpHが6.5になるまで行なった。また弱酸である酢酸処理については室温で0.6ks保持した後、反応促進を目的とした加熱処理を施し、処理液温度が368Kを越えたところで処理終了とした。各処理後の溶液中に含まれる溶出元素はICPにより分析した。
電極放電特性はテフロンのオープン型セルを用いて２条件の負極を用いて測定した。導電性向上のためにNi粉末を混58

Sanyo Technical Report Vol.13 (2006) No.1

二次加工による機能性ガスアトマイズ合金粉末の特性向上研究

Table2. Discharge capacity before/after surface
modification.

Fig.14 Curves of pH change during surface
modification.
３−３−３

TEMによる粉末表面観察

Fig.16〜18に処理前後の粉末表面TEM写真と表面層のEDS分析結果を示す。表面処理前の粉末の最表面には厚さ約20nmの濃いコントラスト層が観察されたが、これは熱処理などの粉末ハンドリング時に形成されたMm酸化物層と思われる。一方、表面処理後の粉末表面には共に厚さ約100nmのNiリッチ表面層が観察された。表面層のコント
ラストは塩酸処理と酢酸処理とで大きく異なっており、塩酸処理の表面層は薄いコントラストで電子線回折パターン
もハローパターンを示すのに対し、酢酸処理の表面層では明瞭なコントラストの微結晶が観察され、リング状の回折バターンが得られた。

Fig.15 Elemental analysis of solutions used for acidsurface modification.

３−３−２

放電容量

Table2に表面処理前後のMH粉末を使用した各電極の放電容量を示す。表面処理前の粉末を用いたHC電極の放電容量は213mAh/gで、ジーベルツ式水素ガス吸収特性測定
装置で測定した供試材MH粉末の水素吸蔵量から予測される理論放電容量（340mAh/g）の63%であった。一方、表面処理後の粉末を用いたHC電極では塩酸、酢酸加熱処
理共に理論値に近い放電容量を示した。

Fig.16 TEM micrograph of powder surface before
acid treatment.

導電剤を使用しないLC電極では表面処理前の粉末放電容量は理論値の15%（52mAh/g）と非常に小さい値であった。HC電極で高い値を示した塩酸処理粉末も62mAh/gと未処理粉末に対してわずか10mAh/gの改善しかみられな
かった。一方、酢酸加熱処理後の粉末を用いたLC電極の放電容量は他に比べて4〜5倍の高い値（254mAh/g）を示し塩酸処理と比べても粉末の放電特性が大幅に改善され
ていた。

59

Sanyo Technical Report Vol.13 (2006) No.1

二次加工による機能性ガスアトマイズ合金粉末の特性向上研究

Fig.17 TEM micrograph of powder surface afterhydrochloric acid treatment.

Fig.19 X-ray diffraction patterns of surface modified
powders after (a) hydrochloric acid treatmentand (b) acetic acid treatment.

Fig.18 TEM micrograph of powder surface after
acetic acid treatment.
３−３−４

XRD、VSM測定結果

Fig.19に表面処理粉末のX線回折パターンを、Fig.20にFig.20 Saturation magnetization measured with VSM.

VSM測定結果を示す。塩酸処理粉末ではMH合金のピークだけが観察されたのに対し、酢酸処理粉末ではNiのピークも観察された。またVSMで測定した酢酸処理粉末の磁化

３−４は3.53emu/gと表面処理前（0.35emu/g）、塩酸処理

考察

薄い酸化物層で覆われている表面処理前の粉末はこの表面（0.38emu/g）粉末の10倍の磁性を示し、共にTEM観察

層が充放電時の水素吸蔵放出のバリアとなるためにHC電でみられた表面Ni微結晶層の存在を裏付ける結果を示した。

極においても放電特性が低くなったものと思われる。この表面層は表面酸処理によって除去され、代わりにNiリッチな表面層が形成される。Niリッチ層の形態は塩酸処理と酢
酸加熱処理とで大きく異なっている。TEM観察や電子線回折結果から、塩酸処理後のNiリッチ層はMH合金相から
主にMm成分が溶出することで形成される規則構造をもたない海綿状の残存層であると思われる。一方酢酸加熱処理によるNiリッチ層は、処理初期に一旦均一に溶出した合金
元素のうち、その後の加熱処理によってNiが優先的に表面に再析出することによって形成された、Niめっき的な組織

60

Sanyo Technical Report Vol.13 (2006) No.1

二次加工による機能性ガスアトマイズ合金粉末の特性向上研究である。塩酸処理による海綿状のNiリッチ層は空気中で容礼申し上げます。また、本研究を共に精力的に行なってい易に酸化されるため粉末表面の導電性向上には寄与しない

ただいた多くの共同研究者の方々にも深謝いたします。

が、酢酸加熱処理による緻密なNiリッチ層はNiメタルとし

参考文献ての特性を有しており、粉末表面の導電性向上や水素放出時の触媒活性の役割を果たすことによってLC電極でも放01) H. Ohta and K. Arai : Materia Japan, 42(2003)178-181.

電容量を大幅に改善することに寄与したものと思われる。

02) Y. Hashimoto : Materia Japan, 42(2003)182-187.
03) S. Yoshida, H. Ono, S. Ando, S. Ohnuma, M. Yamaguchi and Y.
Shimada : Materia Japan, 42(2003)193-197.

４．結言04) Y. Kotsuka : OHM, 2002-12(2002)30-33.

ガスアトマイズ粉末を用いた粉末冶金法は、従来の溶解・

05) M . Y a m a s h i t a a n d K . Y a m a m o t o : I n d u s t r i a l M a t e r i a l s ,鋳造法に対して材料凝固時の冷却速度が速く均質性に優れ

48(2000)34-38.

るという優位性がある。また、機能材料の用途として粉末

06) Y. Awakura and N. Ono : Industrial Materials, 48(2000)43-46.

形状で使用する場合も多く、そのような用途では粉砕工程

07) A. Hosoe, K. Nitta, S. Inazawa, K. Yamada, T. Yoshizaka and K.

の省略によるコストメリットに加え、均質性に優れたガス

Ikeda : SEI Technical Review, 160(2002)1-5.

アトマイズ粉末を二次加工することによってさらにその機

08) Y. Hashimoto : Ceramics, 35(2000)857-862.

能性能を改善することが可能である。

09) Y. Aikawa and K. Yanagimoto : Sanyo Technical Report,

本報告では将来のキーマテリアルとして需要が見込める軟9(2002)59-63.

磁性材料とエネルギー貯蔵材料に関して、電磁波吸収体用

10) T. Sakai and H. Ishikawa, Materia Jpn. 36 (1997) 20.

粉末と水素吸蔵合金粉末を対象とし、ガスアトマイズ粉末

11) N. Kuriyama, T. Sakai, H. Tanaka, H. T. Takeshita and I. Uehara,を用いて機械加工処理、表面化学処理といった二次加工に

2nd Int. Conf. Processing Mater. Prop. (2000) 913.

よる特性改善をはかり、以下の知見を得た。

12) H. Kaminaka, Y. Shida and K. Koushiro, Materia Jpn. 36 (1997)
104.

４−１
(1)

電磁波吸収体用粉末の開発

13) I. E. Anderson, J. Ting, V. K. Pecharsky, C. Witham and R. C.

ガスアトマイズ粉末をアトリッションミルで扁平しBowman, Adv. Powder Metall. Part. Mater. 1997 (1) (1997) 5-た粉末を用いた電磁波吸収体用は優れた吸収特性を示し

31.

た。
(2)

14) M. L. Anderson and I. E. Anderson, J. Alloys Comp. 313 (2000)

吸収特性は扁平粉末のアスペクト比と平均粒径によ47.

って変化し、また粉末の扁平挙動は硬さや引張り時の伸び15) T. Sakai, H. Ishikawa, K. Oguro, C. Iwakura and H. Yoneyama, J.

といった合金の機械的特性と相関がみられた。
(3)

Electrochem. Soc. 134 (1987) 558.

これまで明確な指標がなかった目標吸収周波数につ

16) T. Ibe, Y. Matsumura, T. Ueno, H. Kiyokawa, S. Yonezawa andいて、合金硬さを指標として設計できることがわかった。

M. Takashima, J. Chemical Soc. Jpn. 7 (2001) 387.
17) M. Ikoma, K. Komori, S. Kaida and C. Iwamoto, J. Alloys Comp.

４−２
(1)

水素吸蔵合金の開発

284 (1999) 92.

酢酸加熱表面処理によってガスアトマイズMH合金粉18) T. Tamura, T. Kuriiwa, H. Takamura, H. Nakamura and M.

末の導電性が大幅に改善され、厳しい電極条件でも優れた

Okada, J. Jpn. Soc. Powder and Powder Metall. 46 (1999)

放電特性を示した。

131.

(2)

同処理により熱処理粉末の表面酸化膜は除去され、新たに形成されたNiリッチの微結晶表面層が導電性改善に■著者寄与していた。
(3)

塩酸表面処理によってもNiリッチ層が形成されるが、母相からMm元素が溶出したことによる海綿状組織であり容易に酸化されるため、導電性の改善には寄与しなかった。
謝辞
本研究論文は筆者が富山大学工学部物質生命システム工学

柳本勝

科真島一彦教授の指導のもとで作成し、2005年9月に富山大学に提出した博士論文から抜粋して日本語に翻訳したものです。真島先生のご指導に対し、改めまして心から御61

Sanyo Technical Report Vol.13 (2006) No.1