平成26年5月9日一部更新<別表>平成２６年度 学生研修プログラム リスト
技術領 プログ
ラム番域号

機関名

研修期間
研究者氏名

1

微細加工による金属ナノ構
造作製とFIB・TEMによる構 北海道大学
造解析

2

竹口 雅樹
（物質・材料研
物質・材料研究機構、FIBによる試料作製とTEMに究機構）、
平成26年9月1日～9月5日
産業技術総合研究所
よる観察・分析の研修
秋永 広幸
(5日間)
（共同開催）（産業技術総合研究所）

微細構造
解析
・微細加工

微細構造解析

ホスト

テーマ

3

身の回りの社会基盤材料を東北大学
顕微鏡で観てみよう

4

走査型ヘリウムイオン顕微鏡(SHIM)および原子間力顕微鏡(AFM)によるナノスケー 物質・材料研究機構
ル表面観察およびナノ加工の基礎

5

走査型トンネル顕微鏡によ物質・材料研究機構
る原子分解能観察

6

固体ＮＭＲ

笹木 敬司
大塚 俊明

平成26年8月4日～9月5日(このうち7日間)

今野 豊彦

平成26年7月22日～7月25日
(4日間)

大西 桂子

平成26年8月18日～8月22日
(5日間)

鷺坂 恵介

平成26年8月27日～8月29日
(3日間)

受入可
能人数

対象要件

3名

研修概要
電子ビーム描画装置を用いた金属ナノ構造作製とFIBや電子顕微鏡（STEM等）を用いたナノ構造評価についての基礎的な実験を行うこと、またそれらを適用した先端研究内容についての講義学習を併せて行うことにより、加工技術と各種電子顕微鏡による分析手法についての基礎技術の習得を行う。

第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目
第６日目
第７日目

オリエンテーションおよびEBリソと評価技術に関する講義
電子ビーム描画 実習
スパッタリング成膜 実習
リフトオフによるナノ構造作製 実習
集束イオンビーム加工装置 実習
電子顕微鏡観察 実習
構造評価に関する実習と研修全体のまとめ

集束イオンビーム加工装置(FIB)と透過型電子顕微鏡(TEM)の基礎を学び、FIBによる試料作製とTEM操作を研修する。

第１日目

オリエンテーション(安全教育含む)、施設見学、FIBとTEMの基礎講義

第２日目

FIBの実習1

第３日目

FIBの実習2

第４日目

TEMの実習1

第５日目

TEMの実習2とまとめ2名程度

社会を支える材料がどのような構造をもっているのかを体験する。そのため、走査型電子顕微鏡を用いた観察から始まり、透過電子顕微鏡による原子レベルの解析までを体験する。
5名
走査型ヘリウムイオン顕微鏡（SHIM）と原子間力顕微鏡（AFM）の基礎を学び、操作を習得する。

産業技術総合研究所 林 繁信

平成26年7月22日～7月24日
(3日間)

2名
走査型トンネル顕微鏡(STM)の動作原理の学習と観察実習を行い、原子分解能表面観察技術を習得する。

3名

3名

固体ＮＭＲの基本原理・理論を解説、どのような知見が得られるか理解する。測定実習では、実際物理系もしくは化学系の の試料測定を通して、測定方法について理解する。
大学院生に限る。
走査プローブ顕微鏡（SPM）の歴史・発展の過程を理解する。また、SPMの原理を理解して、ナノ材料の形状、ナノ物性測定の基本技術を習得する。

789

走査型プローブ顕微鏡の歴史と最先端計測手法まで
産業技術総合研究所 井藤 浩志- UHV環境下での原子像から液中計測まで -平成26年7月14日～7月18日(5日間)

時間分解分光平成26年8月4日～8月7日(4日間)

産業技術総合研究所 古部 昭広

超伝導検出器による軟X線
松林 信行
領域の蛍光X線XAFS測定 産業技術総合研究所
志岐 成友の基礎

平成26年7月15日～7月17日
(3日間)

3名

1名

3名

研修スケジュール

大学院生に限る。
研修期間が変更となる可能性あり。

時間分解について基礎から応用まで習得するため、ナノ秒時間分解蛍光寿命の測定およびナノ秒およびフェムト秒の過渡吸収測定の説明を行い、時間分解分光技術の基礎的概念と蛍光寿命測定の技術を習得する。
XAFS、蛍光X線分析の基本原理、実験編（装置、検出器の基本原理と操作）、測定試料作成法について講義のあと、実際に装置を使って、模擬測定を行う。その後、サンプル測定データの整理、解析を通してXAFS法の基本の理解を目指す。

11

陽電子ビームを用いた欠陥
産業技術総合研究所 大島 永康
空隙分析法の基礎と応用
東京大学
粉末および単結晶のＸ線構工学系研究科 総合
造解析とＸ線光電子分光研究機構

沖津 康平
府川 和弘

平成26年7月～9月（このうち連続する3日間）

平成26年7月29日～8月1日
(4日間)

1名

研修期間は要相談とする。

4名

Ｘ線線量計を持っている XRD及びXPSについて基礎的な分析技術を習得するため、XRDおよびXPSを使用した実習を行方（Ｘ線作業従事者）に い、結晶構造解析技術および表面分析技術を習得する。
限る。

STM探針およびシリコン清浄表面の作製、超高真空の創製

第３日目

STMによるシリコン表面の観察実習

第１日目

講義と見学（ＮＭＲの基本原理と装置の概要）

第２日目

講義（固体ＮＭＲから得られる情報と測定技術）

第３日目

実習（固体ＮＭＲ測定）
イントロ・安全教育・施設見学
・施設紹介、利用ルール説明、安全教育などの簡単なガイダンス
・施設見学と走査プローブ顕微鏡（SPM）の基礎〒305-8568
・SPMの原理の説明・走査型トンネル顕微鏡（STM）探針の作成法
茨城県つくば市梅園1-1-1
超高真空下（UHV）でのシリコン表面の原子像(STM)観察（電子回折・STM原子 産業技術総合研究所
像の観察・比較）つくば中央第2事業所
原子間力顕微鏡（AFM）の動作原理、大気中でのAFM測定（実形状測定）
ナノ物性計測（弾性率、または、電気測定）
溶液中でのAFM計測（DNA観察など）〒305-8568
時間分解分光法についてのイントロ
茨城県つくば市梅園1-1-1
ナノ秒時間分解蛍光測定についての実習
産業技術総合研究所
ナノ秒およびフェムト秒の過渡吸収測定の説明
つくば中央第2事業所
全体のまとめ
安全教育講義：１）XAFS、蛍光X線分析の基本原理、２）実験編（装置、検出器の基本原〒305-8568
理と操作）、３）"測定試料作成法"時間分解分光法についてのイントロ
茨城県つくば市梅園1-1-1
施設の見学（高エネルギー加速器研究機構（Photon Factory））、実験準備、実習：超伝導検出器による蛍光X線測定(基本操作）(放射光の利用はできませ 産業技術総合研究所
つくば中央第2事業所
ん。）
講義：１）測定データの整理、解析、２）XAFSの解析法、３）実試料への応用、XAFS、XANESで何がわかるか？
陽電子ビーム計測法のイントロ（低速陽電子発生原理、陽電子消滅による材料 〒305-8568
分析理論）
茨城県つくば市梅園1-1-1
陽電子ビーム計測法についての実習（ビーム法による陽電子消滅分析）
産業技術総合研究所
つくば中央第2事業所
全体を通してのまとめ

第１日目

第３日目
第４日目
第５日目
第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第１日目

12

東京大学
初心者のためのTEM 基本
工学系研究科 総合操作研究機構

保志 一

平成26年8月4日～8月8日
(5日間)

第１日目
第２日目

TEM について基礎から応用まで習得するため、JEM-1400 を使用したTEM 操作実習を行い、TEM操作・観察の技術を習得する。

第３日目
第１日目
第２日目
第３日目
第４日目

1415電子顕微鏡の基礎と応用（初心者向け）

電子顕微鏡STEM及びEELS の基礎と応用（上級者向け）

名古屋大学

名古屋大学

分析電子顕微鏡による構造
京都大学
解析と化学分析

丹司 敬義

丹司 敬義

倉田 博基

平成26年8月5日～8月7日(3日間)

平成26年8月6日～8月8日(3日間)

平成26年8月4日～8月8日(このうち3日間)

2名

電子顕微鏡（TEM）初心者を対象とする。

3名

TEM経験者で、STEMとEELSに関して更に高度な技術習得を希望する方を対象とする。

3名

大学院生に限る。

透過電子顕微鏡と電子エネルギー損失分光に関する初等的な講義と実習を通じて分析電子顕微鏡の技術を取得する。

1 / 3 ページ〒305-8565
茨城県つくば市東1-1-1
産業技術総合研究所
つくば中央第5事業所

電子顕微鏡講習会 （STEM及びEELS の基礎と応用）

第２日目
第３日目

電子顕微鏡実技講習と質疑応答※受講者の希望（STEM及びEELS）にできるだけ沿うように配慮して行う。

第１日目

分析電子顕微鏡についてのイントロ・施設見学

第２日目（走査）透過電子顕微鏡についての講義と実習

第３日目

電子エネルギー損失分光法についての講義と実習

第１日目
第２日目

電子顕微鏡について応用まで習得する。電子顕微鏡講習会にて講義を受け、2日目、3日目には高分解能電子顕微鏡（TEM）による実技（STEMとEELS）を行い、技術を習得する。

〒305-0047
茨城県つくば市千現1-2-1
物質・材料研究機構 界面制御実験棟

第１日目

第４日目
第５日目

13

〒305-0047
茨城県つくば市千現1-2-1
物質・材料研究機構
材料信頼性実験棟ほか

第３日目

第１日目

第３日目

電子顕微鏡について基礎から応用まで習得する。電子顕微鏡講習会にて講義を受け、2日目には高分解能電子顕微鏡（TEM）による実技を行い、技術を習得する。

〒980-8577
仙台市青葉区片平 2-1-1
東北大学金属材料研究所〒113-8656
Ｘ線粉末構造解析の実習
東京都文京区弥生2-11-16
Ｘ線単結晶構造解析の実習（自動測定の間に原理を解説）
東京大学工学部9号館330,331,333号
Ｘ線光電子分光分析の実習（自動測定の間に原理を解説）
室
終夜測定された単結晶および光電子スペクトルの解析
TEMの基礎（講義）TEM でどんなデータ（情報）が得られるか、TEM操作のための簡単なTEM の原〒113-8656
理と構造、試料作製法
東京都文京区弥生二丁目11-16
ネガティブ染色法と基本操作実習（試料交換から観察まで）
東京大学大学院工学系研究科
基本操作実習総合研究機構電子線の発生、照射系軸合わせ、結像系軸合わせ
制限視野電子回折と明暗視野像法
操作実習（復習）とまとめ
電子顕微鏡講習会〒464-8603
電子顕微鏡概論、反応科学超高圧電子顕微鏡、TEM結像理論 、S/TEM によ 愛知県名古屋市千種区不老町
る分析、超高圧電子顕微鏡施設見学
名古屋大学エコトピア科学研究所
電子顕微鏡実技講習
超高圧電子顕微鏡施設（実技）ES総合館ホール（講義）
参加者の研究テーマ等とのディスカッション

第２日目

3名

〒305-8568
茨城県つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所 つくば中央第２事
業所２－１２棟 ナノプロセシング施設

第２日目

第３日目

10

〒305-0047
茨城県つくば市千現1-2-1
物質・材料研究機構
精密計測実験棟

第２日目
第３日目
第４日目
第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目
第１日目

第２日目

陽電子ビームを用いた欠陥空隙分析法の基礎と応用について、低速陽電子発生原理、陽電子消滅による材料分析理論、ビーム法による陽電子消滅分析について講義および実習を行う。

〒001-0021
北海道札幌市北区北２１条西１０丁目
北海道大学 創成科学研究機構

電子顕微鏡による構造解析についてのイントロ・施設見学
走査型電子顕微鏡を用いた実習
走査型電子顕微鏡を用いた実習
集束イオンビーム装置等を用いた局所サンプリング体験
透過電子顕微鏡による微細構造観察とまとめ
SHIMおよびAFMのイントロ・安全教育・施設見学、基礎講義
SHIMによる観察の実習
SHIMによる加工の実習
SHIMにより加工したAFM探針を用いたAFM観察の実習
AFM像の解析の実習
STMについての講義・安全教育・施設見学

第１日目第２日目

大学院生に限る。

研修場所〒464-8603
愛知県名古屋市千種区不老町
名古屋大学エコトピア科学研究所
超高圧電子顕微鏡施設（講義・実技）〒611-0011
京都府宇治市五ヶ庄
京都大学 化学研究所

技術領 プログ
ラム番域号

微細構造解析

微細加工

分子・物質
合成

ホスト

テーマ
機関名

研修期間
研究者氏名

16

透過電子顕微鏡法による材
大阪大学
料微細構造解析

17

分子線エピタキシー法によ 日本原子力研究開発
高橋 正光る試料作製とその評価
機構

平成26年7月15日～9月19日(このうち7日間)

18高温高圧を利用した新規物 日本原子力研究開発
齋藤 寛之
質合成機構

平成26年8月18日～9月19日(このうち5日間)

19

Ni酸化反応の光電子分光
観察

平成26年7月7日～9月12日(このうち4～5日間)

20

九州大学
透過電子顕微鏡による微細超顕微解析研究セン
構造解析法
ター

友清 芳二

平成26年7月28日～8月1日
(5日間)

21

Siメンブレン構造体の製作

戸津 健太郎

平成26年7月1日～9月19日(このうち5日間)

22

FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構を用いたTEM試料作製実習

津谷 大樹

平成26年8月18日～8月22日(このうち4～5日間)

23

抵抗変化メモリ動作の電気
秋永 広幸
特性評価と金属フィラメント 産業技術総合研究所
秦 信宏
形成過程の液中SPM観察

平成26年8月4日～8月8日
(5日間)

24

抵抗変化メモリの作製と電
秋永 広幸
産業技術総合研究所
気特性評価
秦 信宏

平成26年8月4日～8月8日
(5日間)

25

電子ビームリソグラフィ

宮本 恭幸

平成26年9月3日～5日
(3日間)

26

巨大磁気抵抗効果を利用し名古屋大学
た磁気センサの試作

岩田 聡

平成26年7月28日～7月30日
(3日間)

27

MEMS技術を用いたマイクロ流路の作製

京都大学ナノテクノロ
ジーハブ拠点、香川大学ナノテクノロ
ジー支援室(共同開催)

松嶋 朝明（京都大学）、 平成26年9月10日～9月12日
鈴木 孝明
(3日間)
（香川大学）

28

マスクレスフォトリソグラ
フィーによるフォトマスク作
製大阪大学

谷口 正輝、
法澤 公寛

平成26年7月頃(4日間程度)29

SiMOSトランジスタ・IC作製
広島大学
実習

横山 新

平成26年8月4日～8月9日
(6日間)

30

自己組織化現象を利用したナノ構造の作製とイメージン 千歳科学技術大学
グ

オラフ カート 平成26年9月8日～9月11日
ハウス
(4日間)

31

機器分析による有機物の構 東北大学
造解析
理学研究科

權 垠相

平成26年8月27日～8月29日
(3日間)

32

ナノバイオ材料評価の基礎 物質・材料研究機構

箕輪 貴司

平成26年8月25日～8月29日
(5日間)

保田 英洋

日本原子力研究開発
寺岡 有殿機構東北大学

東京工業大学

平成26年7月～9月（このうち5日間）

受入可
能人数

対象要件

研修概要

研修スケジュール

研修場所

第１日目 透過電子顕微鏡法についてのイントロ・安全教育・施設見学〒567-0047
第２日目 透過電子顕微鏡法についての講義
茨木市美穂ヶ丘7-1
第３～４日目 透過電子顕微鏡法についての実習
大阪大学
第５日目 データの解析法
第１日目
分子線エピタキシー（MBE）法による半導体ナノ構造の成長から構造・物性評価まで習得するた
分子線エピタキシーについてのイントロ・安全教育
2名ずつ2回など、複数回〒679-5148
第２～５日目 分子線エピタキシーによる製膜法の実習
4名 に分けて実施することも め、MBE装置を使用した製膜・Ｘ線回折による構造評価・光励起発光分光による物性評価を実習す
兵庫県佐用郡佐用町光都1-1-1
第６日目 製膜試料の構造および光物性の評価る。
可能。
SPring-8 BL11XU
第７日目 実習内容についてのまとめ
第１日目 高温高圧合成についてのイントロ・安全教育
新規物質合成のための強力な手法の一つである高温高圧合成について、実習を通じて基礎的な〒679-5148
第２～３日目 マルチアンビルプレスを使用した高温高圧合成の実習技術を習得する。
2名程度
兵庫県佐用郡佐用町1-1-1
第４日目 微小部X線回折装置と走査型電子顕微鏡を使用した合成試料の分析
SPring-8 放射光物性研究棟
第５日目 放射光その場観察についての講義・施設見学、実習のまとめ
7月23日以降は放射光 Ni単結晶の酸素分子による酸化について吸着反応から極薄膜形成まで観察するため、SPring-8
第１日目 放射光についてのイントロ・安全教育・施設見学〒679-5148
1回に が使えないため、光電子 の機構専用ビームラインBL23SUの表面化学実験ステーションを使用した実習を行い、超高真空技 第２日目 光電子分光などについての講義
兵庫県佐用郡佐用町光都1丁目１‐１つき3名 分光実験は実験室X線 術・表面分析技術（光電子分光、低エネルギー電子回折）などを習得する。
第３～４日目 Ni酸化についての実習
SPring-8 BL23SU源を用いて行う。
第５日目 データ解析方法の講義
初心者を対象に、透過電子顕微鏡を使いこなすために必要な装置の基礎知識と操作法、電子回電子顕微鏡の原理から最新の分析電子顕微鏡法まで（講義）、施設見学（九州
第１日目
折の基礎と解析法を習得する。
大学超顕微解析研究センター）〒819-0395
講義、実習（200kV の透過電子顕微鏡を使用）、演習を行う。
第２日目 電子顕微鏡の操作原理（講義）、電顕の簡単な操作（実習）
初心者を対象とする(大福岡市西区元岡744
第３日目 電顕の操作と像観察（実習）、電顕像のコントラスト（講義）2～4名 学院進学予定の学部生
電顕の操作と電子回折（実習）、電顕実習（参加者が観察を希望する試料があ 九州大学を歓迎)。
第４日目
超顕微解析研究センター CE21棟
れば対応します）、電子回折（講義）
電顕像の解釈、電子回折図形の解析（参加者の研究テーマに関する相談に応
第５日目
じます）、まとめSi基板上にパターニングした熱酸化膜をマスクとして、KOH溶液によりSi結晶異方性エッチングを行 第１日目 ガイダンス、安全教育、マスク設計〒980-0845
研修期間は参加者の希 う。あらかじめボロン拡散により高濃度のP+層を形成しておき、エッチストップによって厚さ3μ m程
第２日目 熱酸化、酸化膜エッチング、ボロン拡散、マスク作製
宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉5195名程度 望に合わせることとす
第３日目 酸化膜パターニング、Si結晶異方性エッチング度のメンブレン構造体を形成する。真空中でガラス基板と陽極接合し、大気中におけるメンブレン
1176
る。
第４日目 Si結晶異方性エッチング、酸化膜エッチングの変形を確認する。
東北大学西澤潤一記念研究センター
第５日目 陽極接合〒305-0047
第１日目
FIB-SEMダブルビーム装置の仕組みや特徴を理解し、各種調整方法や実際の加工方法についてオリエンテーションおよび試料の前準備
参加人数および技術習
茨城県つくば市千現1-2-1
第２日目 FIB-SEMの操作原理および基本的な加工方法
得状況に応じて研修期 学んだ後、TEM試料作製の技術を習得する。
1～2名
物質・材料研究機構
第３日目 TEM試料作製の実演と技術習得（１）間が変更となる可能性
微細加工プラットフォーム クリーン第４日目 TEM試料作製の実演と技術習得（２）あり。
ルーム
第５日目 TEM試料作製の実演と技術習得（３），まとめ〒305-8568
フラッシュメモリの後継候補として現在研究開発が盛んに行われている抵抗変化メモリに関して、第１日目 抵抗変化メモリについてのイントロ・安全教育・施設見学
茨城県つくば市梅園1-1-1
その動作原理の理解は喫緊の課題となっています。本研修では、この挑戦的課題に取り組みま
第２～３日目 Pt-Ag対向電極作製についての実習
産業技術総合研究所 つくば中央第２2名す。まず、Pt-Ag対向電極の作製を行い、液中における走査型プローブ顕微鏡（SPM）観察にて、事業所２－１２棟 ナノプロセシング施
第４日目 フィラメント形成過程の液中SPM観察についての実習
Ag樹フィラメント成長消滅過程の観察を試みます。この研修では、フォトリソグラフィーとリフトオフ
設
第５日目 作製結果についてのまとめによる電極作製技術、及び（液中）SPM観察の基礎技術を習得することが出来ます。
〒305-8568
電子機器の高度化に欠かせない存在となっているのが、不揮発性メモリです。本研修プログラムで 第１日目 抵抗変化メモリについてのイントロ、安全講習
は、最近、最も注目を集めている酸化物を用いた抵抗変化型の不揮発性メモリの作製を行いま
抵抗変化メモリの作製(リソグラフィ, エッチング, 成膜、リフトオフによる電極形 茨城県つくば市梅園1-1-1
産業技術総合研究所 つくば中央第２す。微細加工(リソグラフィ,エッチング, 成膜)を用いて抵抗変化メモリの単一セルを作製し、そのメモ 第２～３日目 成)
2名
事業所２－１２棟 ナノプロセシング施
リ素子を走査型電子顕微鏡(SEM）にて形状観察するとともに、デイバスパラメータアナライザを用
第４日目
抵抗変化メモリの電気特性の測定
設
いて電気的特性の観点から評価します。
第５日目 作製結果についてのまとめ
微細パターン形成の強力なツールである電子線リソグラフィについてその基礎を修得するため、座（午前）座学
第１日目
学、パターンファイル形成、レジスト塗布、位置合わせを含んだ露光、走査型電子顕微鏡(SEM)に（午後）レジスト塗布、アライメントマーク描画
よる観察・評価等を行う。
〒152-8552（午前）露光用パターンのファイル作製実習
4名
目黒区大岡山2-12-1
第２日目（午後）午前のパターン描画、SEMによる観察・計測
量子ナノエレクトロニクス研究センター（午前）アライメントマークのリフトオフ、アライメント露光１
第３日目（午後）アライメント露光２、SEMによる観察・計測
磁性薄膜のスパッタ成膜と磁気特性の評価、微細加工について基本的な技術を学ぶため、多元ス
磁性薄膜、巨大磁気抵抗効果、金属薄膜の微細加工についてのイントロ・安全
第１日目〒464-8603
パッタ装置を用いて巨大磁気抵抗効果を示す磁性多層膜を作成する。さらにレーザ描画装置と教育・施設見学
名古屋市千種区不老町
ECRエッチング装置を用いて、磁気抵抗型の磁気センサを試作する｡
3名 大学院生に限る。
第２日目 巨大磁気抵抗薄膜のスパッタリング成膜と、磁力計による磁気特性の評価
名古屋大学エコトピア科学研究所
レーザ描画装置を利用したパターンの描画とECRエッチング装置による加工、 先端技術共同研究施設
第３日目
センサ特性の評価
京都大学ナノテクノロジーハブ拠点保有の装置を用い微細加工技術を応用したマイクロ流路を作
１）安全講習、２）マイクロ流体の特徴に関する講義、３）実習の説明
製しその特性評価を行う。
第１日目 ４）マイクロ流路の設計とパターンデータの作成、レーザー描画装置を用いた〒606-8501
学部4年生および大学院
フォトマスク作製
5名
京都市左京区吉田本町
生に限る。
レジスト原盤（鋳型）作製／PDMSプレート作製、マスクアライナーを用いSU-8 京都大学ナノテクノロジーハブ実験室
第２日目の鋳型作製（フォトリソグラフィ）、PDMSによるマイクロ流路プレート作製第３日目 マイクロ流路組立・評価／まとめ
学部4年生および大学院 デバイス作製の基礎となるマスクレス露光技術を習得する。LED描画装置でパターンを描画したあ〒567-0047
第１日目 フォトマスク作製についての概要説明生に限る。各日の研修 と、金属を蒸着してリフトオフによりフォトマスクを作製する。
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
第２日目 LEDリソグラフィー
2名
内容・順番などは都合に大阪大学ナノテクノロジー設備供用拠第３日目 RFスパッタ装置またはEB蒸着装置による金属蒸着より変更の可能性あり。
点（産業科学研究所内）
第４日目 作製したフォトマスクを使用してマスクアライナーで露光第１日目 安全講習およびトランジスタ回路を各自設計
NMOSトランジスタをベースとしたICの試作実習を通じて、プロセス基礎技術とトランジスタ・回路の基本技術全体を学ぶ。イオン注入、酸化、リソグラフィー、エッチングなど基本技術を学ぶ。作製す
分離領域形成および閾値制御チャネルインプラ、チャネルストップインプラ（リソ
第２日目
る回路は、時間短縮のためCMOSではなく、Alゲート、E(エンハスメント型)－NMOSインバータを基グラフィー、エッチング、イオン注入）〒739-8527
本とするリングオシレータ、SRAMなど。最小加工寸法も、時間短縮のためマスクレス露光を用いた
第３日目 ゲートリソ、ソース・ドレインインプラ、ゲート酸化膜、コンタクト孔形成
東広島市鏡山一丁目四番二号
5名
3ミクロンとする。
第４日目 Alゲート・配線、裏面電極形成（スパッタ、リソ、エッチング、アニール）
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科
第２～４日目の実習中のプロセス待ち時間に作製プロセスに関する講義を実施
学研究所クリーンルーム
トランジスタ特性および回路特性測定（ID-VD, Ig-ID,gm, 論理回路動作、リングオ
第５日目
シレータ発振波形観測など）
第６日目 特性評価（続）およびまとめ
第１日目 自己組織化現象についての講義、機能性材料の構造作成実習
自己組織化現象を利用したメゾスコピック構造（サブマイクロンのドット、ライン、多孔質構造）の作〒066-8655
第２日目 電子顕微鏡についての講義、測定ガイダンス、実習
成方法について基礎から応用まで習得するため、原料調製から自己組織化構造の作製まで行う。
6名
北海道千歳市美々758番地65
第３日目 原子間力顕微鏡についての講義、測定ガイダンス、実習
また、基板に構築したメゾスコピック構造を様々なイメージング法（電顕、蛍光顕微鏡、原子間力顕
千歳科学技術大学
第４日目 実習まとめ微鏡など）を用いて多角的解析を行う。
〒980-8578
第１日目
機器分析を用いた有機化合物の構造解析について基礎的な知識を習得するため、各種大型分析（午前）機器分析についての講義・安全教育・施設見学
機器分析による有機物
宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉6-3（午後）質量分析法の実習
4名 の構造解析について未 装置を使用した有機物の構造解析の実習を行う。
東北大学大学院理学研究科
第２日目 核磁気共鳴（NMR）分光分析法の実習経験者が望ましい。
巨大分子解析研究センター
第３日目 X線結晶構造解析の実習・まとめ
第１日目 ナノバイオについてのイントロと培養細胞の準備
ナノバイオ関連材料評価について基礎から習得するため、ナノ粒子と培養細胞を用いて粒径評〒305-0047
第２日目 ナノ材料の準備と培養細胞の取扱い
価、セルアッセイ、遺伝子解析などを行い、技術を習得しあわせて基礎知識を学ぶ。さらにLMDな
茨城県つくば市千現1-2-1
1名
第３日目 ナノ材料の細胞を用いた評価
どの顕微鏡を体験する。
物質・材料研究機構
第４日目 遺伝子解析、顕微鏡実習
ナノテクノロジー融合ステーション
第５日目 遺伝子解析および全体についてのまとめ
3名

大学院生に限る。
研修期間は調整中。

透過電子顕微鏡法について基礎から応用まで習得するため、講義と透過電子顕微鏡装置を使用した操作実習を行い、データの解析法を習得する。

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技術領 プログ
ラム番域号

33
分子・物質合成

ホストテーマ機関名
ナノバイオデバイスによる分子・細胞計測の基礎

名古屋大学

研修期間
研究者氏名
馬場 嘉信

平成26年7月30日～8月1日
(3日間)

受入可
能人数

対象要件

研修概要

1名

ナノ・マイクロデバイスを使ったバイオ分析の基本技術を習得する。デバイスのデザインと作製技術、DNAの分離分析、細胞のイメージング実験などの実習を行い、ナノバイオ研究の基礎知識と実験操作を学ぶ。

気相合成法によるナノ粒子の合成、分子合成用マイクロラボの作製、カーボンナノファイバーの室温合成、生体分子の合成と構造解析、メスバウアー分光法、について基礎から応用まで習得するため、講義と実習を行い、技術を習得する。（各研修課題は1日で実施、特定の課題について実施することも可能）

研修スケジュール

第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目
第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第１日目
第２日目
第３日目
第４日目
第５日目

ナノバイオデバイスについての基礎講義、デバイスのデザインと作製技術についての実習
DNAの分離分析についての実習
細胞のイメージング実験についての実習、ナノバイオデバイスについてのまとめ
気相合成法によるナノ粒子の合成についての講義と実習
分子合成用マイクロラボの作製についての講義と実習
カーボンナノファイバーの室温合成についての講義と実習
生体分子の合成と構造解析についての講義と実習
メスバウアー分光法についての講義と実習
分子研の全体紹介・オリエンテーション
実習
実習
実習発表会
パルスレーザーMBE装置/RFスパッタ装置・成膜技術についての講義・施設見パルスレーザーMBE装置/RFスパッタ装置の実習
パルスレーザーMBE装置/RFスパッタ装置の実習
パルスレーザーMBE /RFスパッタ装置で作成した膜の評価
まとめ

第１日目

CNTについての基礎学習

第２日目

CNT可溶化についての実習

第３日目

可溶化CNTの構造解(分光測定)などについての実習とまとめ

第１日目
第２日目
第３日目

34

分子・物質合成と評価

名古屋工業大学

増田 秀樹
種村 眞幸
江龍 修
壬生 攻
小澤 智宏
日原 岳彦

35

分子科学研究所
夏の体験入学（全27テー
マ）

自然科学研究機構
分子科学研究所

横山 利彦 他

平成26年8月4日～8月7日
(4日間)

20名
程度

36

パルスレーザーMBE法およ 大阪大学
びRFスパッタ法による薄膜 ナノテクノロジー設備
形成および評価
供用拠点

田中 秀和
北島 彰
樋口 宏二

平成26年6月30日～7月11日、8月18日～8月22日、9月1日～9月5日(このうち5日間)

1回につき2名

37

九州大学
分子・物質合成プラットフォーム

中嶋 直敏

平成26年7月2日～7月4日、7月9日～7月11日、7月16日～7月18日、7月30日～8月1日（このうち3日間）

成果発表会

カーボンナノチューブの可溶化とナノ構造解析

物質・材料研究機構

野田 哲二

平成26年8月6日～9月30日(このうち3日～5日間)

3名

平成26年9月29日

分子科学研究所のWeb 分子科学研究所全教授・准教授が様々な分子科学研究のテーマに基づいて実験あるいは理論計
サイトから「夏の体験入 算を実習し、実験方法・解析方法等を習得する。各研究テーマおよび詳細は「夏の体験入学」の学」の申込みも行うこと。 Webサイト （http://www.ims.ac.jp/taiken/）を参照。Web申込期間：5月19日（月）～6月13日（金）本研修では、パルスレーザーMBE装置/RFスパッタ装置による薄膜形成とその膜の評価を行う。

2名

参加者
全員

カーボンナノチューブ（CNT）の可溶化と構造解析について、基礎から応用まで習得するため、実際に数種のCNTに対して、数種の可溶化剤を用いて可溶化を行い、得られたCNT溶液の解析技術を習得する。

参加者全員が研修成果をプレゼンテーションで報告する(15分～20分程度。※参加人数により調整)。
研修修了者に修了証を交付する。学生、研究者、技術者との交流会を実施する。

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成果発表会

研修場所

〒464-8603
名古屋市千種区不老町
名古屋大学 大学院工学研究科〒466-8555
愛知県名古屋市昭和区御器所町
名古屋工業大学〒444-8585
愛知県岡崎市 明大寺町字西郷中38
または 明大寺町字東山5-1〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘8－1
大阪大学
産業科学研究所〒819-0395
福岡市西区元岡744番地
九州大学伊都キャンパス
ウエスト3号館〒102-8666
東京都千代田区四番町5-3
サイエンスプラザ