東北の雑草 1:2
1‑25(2001).
TohokuWeedJ
研究・技術情報

デントコーン栽培における異なる施肥法及び除草剤処理法に対する雑草の生育反応
井上博道＊，＊＊・伊藤豊彰＊・三枝正彦＊Growingr
eactionso
fweedstodi
fferentmethodso
fferti
lizerandh
er
bi
cidea
pplications.
)cu
ltiv
ation.
indentcom(ZeamaysL
HiromichiInoue*・**,ToyoakiIto*andMasahikoSaigusa*
要約：施肥法と除草剤処理を組み合わせることにより，除草剤使用量を減らしつつデントコーンの収量を維持できるか否かを検討した。（ 1) デントコーンの収量は除草剤全面散布に比べ無散布で低下したが，畦散布により収量の低下が軽減できた。 (2) 除草剤処理を減らすと雑草呈が増加した。除草剤を散布しない場合，被覆肥料の接触施肥では速効性肥料の全層施肥あるいは表面施肥に比べ畦での雑草が増加し，畦間の雑草が減少した。（ 3)被覆肥料の接触施肥と除草剤畦散布を組み合わせた場合，畦雑草の養分吸収を抑制し，除草剤無散布に比ベデントコーンの養分吸収量が増加した。しかしながら，除草剤畦散布では，畦間の雑草が防除できないことにより，デントコーン収量が全面散布より低下した。そのため，畦間の雑草防除対策（耕起栽培では中耕培土，不耕起栽培では被覆植物の利用など）ができれば，除草剤使用量の減少とデントコーンの乾物収量の低下抑制を調和的に達成できるものと考えられた。
キーワード：被覆肥料，接触施肥，除草剤，雑草防除，不耕起栽培使用量を削滅することも可能である。施肥法を利用したはじめにトウモロコシ栽培においては除草体系が確立しており，

omaso(1995) は種子直雑草防除の研究例は少ないが， T播種前の耕転と播種後の選択性除草剤の散布によって，下の深層にすじ状に施肥する深層バンド施肥により雑草ほぼ完全な雑草防除が可能である（戸澤 1981)。播種前バイオマスを減少させインゲンマメやイネの収量が増加に耕転を行わない不耕起栽培の場合，播種前の非選択性することを報告している。しかしながら，施肥法と除草除草剤と播種後の選択性除草剤の散布により，雑草防除剤処理を組み合わせた雑草防除に関する研究は見当たらが可能となる。しかしながら，農耕地が地域環境の汚染

ZeamaysL.
)のない。そこで本研究は，デントコーン (源とならないようにするためには，除草剤の特性や施用耕起および不耕起栽培における被覆肥料の全量基肥．接方法の改善により施用量を削減することが菫要と考えら

触施肥と速効性肥料の全層施肥あるいは表面施肥での雑れる。

草の生育反応を比較し，除草剤処理と組み合わせること近年，温度に依存して徐々に肥料成分が溶出するポリオレフィン系樹脂被覆肥料が開発されている（藤田により，除草剤使用量を減らしつつデントコーンの収量を維持することが可能か否かについて検討した。

1995)。この被覆肥料は，速効性肥料と比べ，種子と接S
hojiら 1992),触しても濃度障害を引き起こしにくく (材料と方法

作物の生育に合わせて肥料成分を溶出するため (Shoji

998年と 1999年に東北大学
デントコーンの栽培試験は 1ら 1991,1992)，肥料利用率が向上すること (Shojiら

農学部附属農場で行った。なお，耕起栽培を行った圃場1994) が報告されている。作物に効率良く肥料成分を供は前作として 4年間デントコーンの耕起栽培試験を行って給し雑草による肥料吸収を抑制できるとすれば，除草剤おり，不耕起栽培を行った圃場は栽培前 5年以上耕転な＊東北大・院農＊＊現在：九州大生物環境調節研究センター〒 812‑8581福岡市東区箱崎 6‑10‑1

BiotronInstitute,KyushuUniversity,6‑10‑1Hakozaki,Higashi‑ku,Fukuoka8
12‑8581,Japan22)
100
21号 (東北の雑草

第 1表

デントコーンの乾物収量

9年不耕起
9918年不耕起
9918年耕起
991

接触施肥

表面施肥

3ab.
2士 0.
4
19a.
9士 0.
8
19a.
3士 0.
9
14ab.
9士 0.
3
15b.
3士 0.
3
12C.
4士 0.
0
14b.
9士 0.
2
11d.
4士 1.
87e.
5士 0.
5

接触施肥

全層施肥

接触施肥

表面施肥

全面散布

7a.
8士 0.
1
10a.
4士 1.
1
114.7±0.6a

畦散布

1a.
0士 0.
2
13a.
0士 1.
98ab.
0士 0.
41

無散布5a.
8士 1.
010a.
7士 1.
93b.
1士 0.
31a―1, 士の後は標準誤差。同じ記号は 5％水準で有意差がないことを示す。
単位は Mgh

どの除草作業は行わず，休閑地であった。供試土壌は非3日の黄熟期に行った。デント
9年は 9月 1998日に 1月1ァロフェン質黒ボク士で，栽培前の時点では雑草の種類mc2m を畦，残り 5c0コーン収穫後，株を中心とした幅 2および量に大きな変異がない場所で栽培試験を行った。

を畦間として畦方向に 1m 幅で雑草の地上部をプロット

9年には同99， 12を
53
8年にはパイオニア 399
供試品種は 10℃ごとに採取した。採取したデントコーンと雑草は， 76を使用した。
2G3品種の販売停止によりパイオニア 3で通風乾燥し，秤量後粉砕して，硫酸ー過酸化水素分解

施肥処理として被覆肥料である被覆燐硝安加里の接触) により湿式灰化した。その後，窒素089法（水野ら 1mバンド状）と速効性肥料である燐硝安施肥（施肥幅 5cは水蒸気蒸留法，加里の全層施肥（耕起栽培）あるいは表面施肥（不耕起

原子吸光光度法により分析した。

リン酸はモリプデン青法，カリウムは栽培）を設け，ともに全量基肥とした。被覆燐硝安加里) によngisetdolp‑tilps圃場試験は 3反復の分割実験法 (0日タイプを 1:2になるように混合し0日タイプと 7は4り行い，統計処理は施肥法と除草剤処理法の 2要因につ5℃ 水 中 で 肥 料 成 分 を0日タイプとは 2て用いた。なお 4いて二元配置分散分析後，除草剤処理間あるいは施肥処0B間必要とするものである。施肥0％溶出するのに 48gでk05, K心 1g
k05s102,Pgk05a当たり成分で N1量は h理間で有意差がみられたものについてチューキー法により処理内の検定を行った。

ある。施肥処理のそれぞれには除草剤処理として播種後のアトラジン＋アラクロールの全面散布，畦散布，無散, 不耕起で
m06.
mX 388.
布の 3処理を，耕起では一区画 2mとし 3反復で設けた。除雌剤の全07.
mX 288.
は一区画 2面散布は慣行的な除草体系である。なお，畦はデント結果および考察. デントコ＿ンの乾物収量
1第 l表にデントコーンの乾物収量を示した。
耕起栽培：除草剤無散布では全面散布に比べ，デントm とした。除
c0コーンの根量が多い株を中心とした幅 2コーンの乾物収量が低下した。畦散布と全面散布を比較

九アラ
a.hi.
agk57.
草剤施用量は全面散布でアトラジン 0

すると，全層施肥区では全面散布に比べ畦散布で収量の炉であり，畦散布の除草剤施用量は.hi.
agk51.
クロール 2低下がみられたが，接触施肥区では収量の低下はみられ8％に相当する。播種前の雑草防除は全面散布処理の 2なかった。施肥処理間の乾物収量を比較すると，接触施耕起栽培では耕転により，不耕起栽培では除草剤（グリ肥区で全層施肥区に比べ乾物収量が高い傾向がみられた。

) 散布により行った。なお，
1・
a.hi.
ag
k50.
フォサート， 28年 の 接 触 施 肥 区 で は 除 草 剤 の 全 面 散
99不耕起栽培： 1

本栽培ではホールクロップサイレージを想定しているの布は無散布に比べ収量が 5％水準で有意に高いが，それで，デントコーンの地上部は全部刈り取り，残演はほぼ999以外の除草剤処理間に有意な収量差はなかった。 1

残らず，栽培後には雑草残演のみが地表に存在した。

年の乾物収量では接触施肥区および表面施肥区ともに，7日に9年は 5月 1999日に， 18年は 5月 199
播種は， 1行った。施肥及び播種の手順としては，自作の作溝機を全面散布と畦散布，全面散布と無散布，畦散布と無散布の間にそれぞれ 5％水準で有意差がみられた。

mの溝をm幅で深さ 3c連結した歩行用の耕転機により 5c施肥処理間の乾物収量を比較すると，接触施肥区で表作り，接触施肥区では溝に施肥し肥料の上に直接播種し，9年
99面施肥区に比べ乾物収量が高い傾向がみられ， 1耕起栽培の全層施肥区では地表面に均ーに施肥後ロータの畦散布および無散布では表面施肥区に比べ接触施肥区で混合したのち，覆土，鎮圧を行っmc0リーにより深さ 1の乾物収量が 5％水準で有意に高かった。

た。不耕起栽培の表面施肥区では溝に施肥し，覆土，鎮以上の結果より，除草剤の全面散布に比べ無散布では圧を行ったのち，試験区の全面に表面施肥した。栽植密デントコーンの乾物収量が大きく低下するが，畦散布に899m とした。播種後の除草剤散布は， 1c8mX 1c2度は 7より収量の低下が軽滅できた。また，被覆肥料の接触施6日に背負い式の動力
9年は 5月 2998日に， 1年は 5月 2肥では速効性肥料の表面施肥あるいは全層施肥に比べ，噴霧機で行った。除草剤畦散布処理では，小型噴霧機にデントコーンの乾物収量が同等かもしくは高いことが明8年は 999より一定量を畦に均ーに散布した。収穫は， 1らかとなった。

井上ら：施肥，除草剤に対する雑草反応

23

除草剤 ・施肥
接触
全面散布
全層

接触
無散布

II

6040
第 1図20゜•

全層204060100120被 度 (%)

生育中 期におけるデントコーンと雑草の 被土 (1997年，耕起）．＇ デン トコー ン

臨

メヒシバ

口

ィヌビユ四ハコベ

口

区ッュクサ

巨ヒエ臨

その他

レッ ドト ップ

802. 雑草種と雑草乾物重ロ

裸地率

は栽培前の除草剤処理による雑草の枯死体が比較的多く，栽培試験区の主要雑草は，耕起栽培と不耕起栽培，施それに被覆されることにより雑草の発生が抑えられたこ

肥及び除草剤処理，および年次で大きな違いはなかった。とが原因として考え られる。 1999年は前年の雑草によ試験地での前年 (1997年）におけるデントコーン生育る種子散布量が増加 したことが考えられ，雑草量が大幅

中期におけるデ ン トコー ンと 雑草の被度を第 1図に示しに増加し 5Mgha‑1以上であ った。

た。雑草種としては，メヒシバ (DigitariaciliarisKoeler),除草剤処理間で雑 草量 を比較すると， 1
998年は除草ツユクサ (CommelinacommunisL.），イヌビュ (Amaranthus

剤処理間に有意差はなかっ たが，接触施肥区では除草剤

lividusL.
)，イ ヌ ビ エ (Echinochloacrus‑galliP.Beauv.
) であの全面散布に 比べ無散布で雑草が増加す る傾向がみられ，り， この他にハコ ベ (StellariamediaVillars)，レッドトッ

また畦散布により雑草の増加が抑制される傾向がみられ

プ(AgrostisalbaL.
)．タニソバ (PersicarianepalensisH.Gross)
,

た。 1
99
9年での全体の雑草量では除草剤 使用量が増加

工ゾノギシギ シ (RumexobtusifoliusL.），オオアレチノギクするほど雑草が減少し，接触施肥区の全面散布と畦散布，(ConyzasumatrensisWalker.
)．シロザ (ChenopodiumalbumL.
)

畦散布と無散布の間にそれぞれ 5％水準で有意差がみらなどがみられた 。除草剤を慣行のように全面散布すると，れた 。 また雑草量は表面施肥区の全面散布と畦散布の間ほぼ雑草の発生が抑制できたが，除草剤無散布では上記に 5％水準で有意差がみられたが，畦 散布と無散布 の間の雑草が多く発生し，メヒシバとツユクサで雑草の被度には有意差がなかった 。 このことから表面施肥区では接の半分近くを占めた 。

触施肥 区に 比べ，畦の雑草には効果がみられたが全雑草

第 2図に収穫期における雑草の乾物重を示した 。
耕起栽培： 除草剤全面散布に比べ，除草剤無散布では全量 に対する抑制効果は少な いと考えられる 。畦の雑草量を比較すると，全面散布と畦散布では 0.
070.
21Mgha―l体の雑草量が 5％水準で有意に増加し，特に接触施肥区に対し，無散布では接触施肥区および表面施肥区でそれでは，畦における雑草の割合が高か った。接触施肥区でぞれ 3.
5,l.
6Mgha→であり，除草剤処理により畦の雑草は有意差はないものの除草剤畦散布により畦での雑草量量が減少する ことが明 らかである。

が大幅に減少し．全体（畦＋畦間）量も滅少した 。それ

施肥処理間で全体の雑草量を比較すると，有意差はなに対し，全層施肥区では畦での雑草は少なくなる傾向がいものの除草剤の畦散布では接触施肥区が表面施肥区にみられたが． 全体量は減少しなか った。
不耕起栽培： 年次間の全体の雑草乾物重で 比較すると，比べ雑草量が減少する傾向がみられた。 1999年の畦の1998年は栽培初年目でデ ン トコー ン収穫期に 0.
6Mgha―I

雑草量をみると， 除草剤無散布では接触施肥区は表面施肥区に比べ，畦の雑草は 5％水準で有意に増加したが畦以下と雑草が少なか った。 これは ，デン トコ ーン栽培前間での雑草は減少した 。 これは耕起栽培の接触施肥で全は 5年以上除草処理をしていなか ったので，春の雑草に層施肥 に比べ，畦の 雑草は増加するが畦間での 雑草は減覆われていたことにより夏のデントコーン栽培期間 中に少した結果（井上ら 2000) と一致した 。接触施肥では 5繁茂する雑草 の種子が相対的に少なか ったこと，あるいcm 幅のすじ状に 肥料が施用される のに対し，表面 施肥東北の雑草

24乾物重 (Mgha1)

2「￨ェ￨ ￨ n,.
.
.
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3.
.
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.
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l5卜

1号 (2001)

A06￨

C6nIIII0.
4I0.
2t‑A

呂

8A4＾

2無散布

1998年

1998年

耕起

第 2図
一畦不耕起

1999年

収穫期における畦および全体の雑草乾物重巳コ 畦間

同じ記号は 5％水準で有意差がないことを示す。

では全面に均ーに肥料が施用される 。そのため接触施肥さか ったので， 1
998年の耕起と 1
999年の不耕起におけでは表面施肥よ り施肥部にあたる畦の雑草量が増加し，る雑草の養分吸収量について検討する。全体 の雑草の窒非施肥部の畦間では雑草量が少なくな ったのであろ う。

素， リン酸，カリウム吸収量は，耕起，不耕起とも 全面以上をまとめると，収穫期における全体の雑草量は除散布に比べ無散布で大幅に有意に増加した 。 しかしなが草剤全面散布より無散布で増加した 。除草剤畦散布ではら除草剤畦散布を行うと，耕起，不耕起とも同施肥処理

畦の雑草量を減らし，無散布よりも全体の雑草量が減少

区の無散布に比べ畦での雑草に よる養分吸収を有意に抑した 。 また接触施肥では表面施肥に比べ畦の雑草は増加

998年の耕起全層施肥区の窒素及びカリウムを除き，え， 1するが，畦間の雑草が減少することにより全体の雑草量全体の吸収量が減少する傾向がみ られた。 また接触施肥は減少した。 したが って接触施肥と畦散布を組み合わせ

区では表面施肥区（不耕起）ある いは全層 施肥（耕起）ることによりさらに 雑草量を減らすことが可能であ った。に比較して畦間雑草の姜分吸収量が少なくなることに

3. 収穫期におけるデン トコ ーンと雑草の養分吸収量

よって，全体の吸収量が少なくなる傾向がみられた 。除雑草量が増加すると，雑草が土壌および肥料由来の蓑

1999年）は草剤無散 布の場合，畦雑 草の義分吸 収量 (分を吸収することにより作物と毅分に対する競合が起こ

接触施肥区で表面施肥区に比べ 5％水準で有意に増加しり，作物の蓑分吸収量が低下す ることが考えられる。第た。 しかしながら除草剤の畦散布により畦雑草の養分吸

3図に収穫期におけるデントコーンの挫分吸収量を示した 。

収量が全面散布と同程度にまで減少し，施肥処理の 差はデン トコー ンの窒素吸収量についてみると，不耕起栽

998年， 1999年とも除草剤の全面散布に比 べ，培では 1なくな った。
全面散布に比べ除草剤無散布で乾物収量が低下した の無散布では窒素吸収量が 5％水準で有意に低下した 。デは，雑草量および雑草による養分吸収量が増加したこと

ン トコー ンの リン酸吸収量についてみると，不耕起栽培から，デントコー ンと雑草の蓑水分あるいは空間的な競998年， 1999年とも施肥処理間に 5％水準で有意差
では 1合が大きな要因として考えられる。被毅肥料の接触施肥がみられ，接触施肥区で全層施肥区あるいは表面施肥区と除草剤畦散布を組み合わせた場合，畦雑草の差分吸収より吸収量が多か った。 これは黒ボク土ではリンの固定を抑制 しつつ効率的に肥料姜分を供給することにより，が強く起こり，全層施肥あるいは表面施肥より局所施肥

除草剤全面散布には及ばないものの無散布に比ベデントの方が肥料リ ンの 吸収効率が高く，また速効性肥料に比コーンの乾物収量が増加した。除草剤はその使用に伴うベ，肥料成分を徐々に溶出する被榎肥料の方がリン固定化石燃料の消費により環境に負荷を与えるだけでなく ，を受けにくか ったことが原因と考えられる 。デントコー特に土壌に吸着されにくい薬剤もしくは土壌条件では土ンのカリウム吸収量は，窒素とほぽ同様の傾向を示した 。

996)
壌処理剤の使用は溶脱による地下水汚染（平田 1

除草剤処理では全面散布より無散布でカリウム吸収量がも懸念される 。 したが って環境負荷軽減の観点から除草低くなるものの，畦散布では無散布より吸収量が多い傾剤の使用量を極力少なくすることが重要と考えられる 。

向がみられた 。

本研究では少量の除草剤の畦施用と被覆肥料 を用 いた接第 3図に収穫期における雑草の授分吸収量を示した。
1998年の 不耕起では雑草発生 量が少 なく，デントコー触施肥を組み合わせることによ って，雑草との養分競合ンの乾物収量および養分吸収量に対する雑草の影響は小が可能であることが明らかとな った。 しかしながら接触を抑制し，デントコーン ヘの蓑分供給効率を裔めること

25井上ら：施肥，除草剤に対する雑草反応

デントコーン (kgha―I)

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150~ erga[1t,81998年 耕 起aBC吋ー／

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1999年 不 耕 起

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接触表面接触表面接触表面
50~.

／

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除草剤全面散布

畦散布

無散布

畦散布

全面散布

全面散布

無散布

第 3図

畦散布

~

Io

無散布

カリウム

リン酸窒素

゜r100

収穫期におけるデントコーンと雑草の養分吸収量0, デントコーン； ▲,雑草（畦） ；△,雑草（全体）。同じ記号は 5％水準で有意差がないことを示す。
施肥と除草剤の畦散布を組み合わせても，畦間における井上博道・伊藤豊彰・三枝正彦 2000. 肥効調節型肥料を雑草は防除できず，除草剤全面散布に匹敵する除草効果用いたデントコーンの全量基肥．接触施肥栽培におは達成できなかった。耕起栽培であれば，中耕培土によける雑草の生育反応．士肥誌 71:345‑
349.

る畦間雑草の防除が可能であるが，不耕起栽培では，特水野直治・南松雄 1980．硫酸一過酸化水素による農作に上壌侵食防止を目的にしている場合には，士壌を撹乱

物中 N,K, Mg, Ca,Fe, Mn定量のための迅速前処する中耕培土は導入しにくい。その場合，被覆植物の利理法．士肥誌 51:418‑
420.

用，すなわち地上部が大きくならない被覆作物をデント

Shoji,S.andA.T.Gandez
a1
992.Controlledreleasefertilizers.

コーン栽培前に植え，畦間を覆うことにより他の雑草のK
onnoPrintingCo.
,Ltd.
,Sendai,Japan.
Shoji,S.
,A.T.GandezaandK.Kimu
ra1
991.S
imu
lationof

発生を抑える等の，畦間での雑草発生抑制技術が必要となると考えられる。これらの対策をあわせることが可能であれば，この新しい接触施肥と除草剤畦散布の雑草防除法は，除草剤の使用量の減少とデントコーン乾物収量の低下抑制を比較的長い期間にわたって調和的に達成できるものと考えられる。
引用文献
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seo
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ncoat<;
dfertilizersforincr
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(200
1年 2月 7日受理）