The Technical Association of Photopolymers, Japan
フォトポリマー懇話会 ニュースレター № 104

News Letter
フォトポリマー懇話会

No.104

巻頭言

October 2023

変化を続けるフォトポリマー
富士フイルム株式会社

土 村
はじめに
フォトポリマーを始めとする機能材料の世界に足を踏み入れることになったきっかけがある。高校生の時に読んだブルーバックスの本「化学がつくる驚異の機能材料」である1)。偶然、書店で出会った本だったが、いつかそのような機能材料を開発したいと心に思った。大学では有機合成化学の研究室で新規反応開発に携わりながら、欲しい有機分子をいかに作るかを学んだ。
現在は、富士フイルムの有機合成化学研究所に所属している。写真フィルムの総需がピークの2000年に入社した。急速なデジタル化の進展により写真フィルムが激減するのを目の当たりにし、ビジネスや技術の移り変わりの激しさに衝撃を受けた。一方で、これまでに培った技術を活用し、変化を柔軟に受け入れながら、新しい事業領域へ挑み続けることの大切さを強く感じた。
縁があり、入社以来フォトポリマーの研究開発に携わっている。「欲しい分子を作る有機合成」と「機能を追求するフォトポリマー」を掛け合わせて、グラフィックス、ディスプレイ、半導体に関連する材料・製品開発に取り組んできた。このフォトポリマーの世界も技術の移り変わりが激しい。光源の進歩、新しいアプリケーションの登場、社会ニーズの変化に影響を受けながら、フォトポリマーの機能、用途は変化を続けている。フォトポリマーとの関わりを通して、筆者自身も大きく変化してきた。フォトポリマーの魅力が少しでも伝わる機会になればと思いつつ、フォトポリ
マーの研究開発を通して感じたことを雑多になるが紹
介したい。

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智 孝

フォトポリマーのインパクト
富士フイルムのフォトポリマーとの関わりは、1960
年代のオフセット印刷用 PS（Presensitized Plate）版に遡る。PS 版の研究開発を通して、当社のフォトポリ
マー技術が磨かれてきた。そのPS版は2000年頃を境に、生産性の向上、プロセス負荷低減に有利な CTP（Computer to Plate）方式に急速に移行していた。コン
ピュータ上のデジタルデータは、製版フィルムへの出力を経由せず、レーザー光で直接印刷版に出力し、現像、印刷工程を経て印刷物を作製できるようになった（図 1 ）。当社は、バイオレットレーザー（405 nm）に対応したラジカル重合型の CTP、赤外レーザー（830nm）に対応した酸架橋型、ラジカル重合型および熱的相変化型のCTPを上市した2)。筆者はその幾つかの材料開発に携わった。新光源や機器の登場、市場ニー
ズ、ビジネスを考慮しながら、製品コンセプトを設定
し、フォトポリマーのシステム、素材設計を研究所が一丸となってプロジェクト体制で取り組んだ。特に印象に残っていることは、フォトポリマーが持つインパクトである。一つの素材が、製品コンセプトはもちろんのこと、ビジネス戦略をも左右してしまうことがあった。また、開発した製品が私達の生活や社会を支えていることも実感した。製品化には数多くの修羅場もあったが、貴重な経験をさせてもらった。
CTP は現在、工程削減や環境配慮の社会要請に応えるべく、現像液などの薬品を使わない無処理 CTP シ
ステムの技術開発にシフトしている。そのフォトポリマーの開発も続いている。また、ケミストリーの学術的な理解や新しい研究領域への展開も進んでいる3)。

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図1

CTP の印刷プロセス

フォトポリマーを通して広がる世界
産業用インクジェット分野では 2000 年代半ばから、
速乾性、VOC （Volatile Organic Compounds） 抑制、基材選択性に有利な UV 硬化型インクジェットインクを利用するデジタル印刷方式に注目が集まっていた。また、光源も高圧水銀ランプやメタルハライドランプから省電力で発熱も少なく長寿命である LED が登場し、環境負荷低減の方向にシフトしつつあった。筆者は酸素阻害が無く、体積収縮の少ない光カチオン重合型イ
ンクの研究開発に携わった。当時、関連分野の大学の研究室への訪問や駐在などで先生方に技術指導をいた
だき、大変お世話になった。またフォトポリマーコン
ファレンスや講演会での発表を通して、企業の方々とも知り合いになった。産学連携や異分野交流のありがたみを実感した。そのような交流をより促進するためにもフォトポリマー懇話会の役割は重要である。余談だが、当時の研究をまとめて、社会人博士として学位も取得した。フォトポリマーとの関わりを通して人的交流や自身のキャリアが広がる経験をさせてもらった。

フォトポリマーのモノづくりの醍醐味
デジタルカメラやスマートフォンに搭載されるイメー
ジセンサーや液晶ディスプレイにカラーフィルターが使われている。当社はカラーフィルター用のフォトポリマーの開発に一早く取り組んできた（図 2 ）。高感度な光ラジカル重合による画像形成技術に加え、微細パターニング技術に、極限まで微粒化した着色顔料
を均一に分散する技術を融合させた製品を開発している。筆者は光開始剤の開発に携わったが、記憶に残る仕事の一つになっている。当時、分子構造をゼロから設計し、自らの手で仮説検証、合成を繰り返した。分子構造のリファインが進むに連れて、日増しに性能が向上していき、フォトポリマーのものづくりの楽しさに魅了されてしまった。また、自身が設計した機能分子が実際に製品に導入され、世界に広がっていく機会を得ることができた。本当に感慨深かった。
現在、ディスプレイ、イメージングデバイスは、ウェ
アラブル機器、自動車、セキュリティなどその応用分野の拡大が益々期待されている。フォトポリマーの新たな利用も広がっている。
2

巻頭言

図2

イメージセンサー用カラーフィルター

進化を続けるフォトポリマー
スマートフォンやコンピュータの高性能化を支える半導体の集積回路を作製するために、フォトレジストが利用されている（図 3 ）。高速な演算や消費電力抑制のため、微細回路パターンが必要である。フォトレジ
ストは、露光光源の進歩と共に大きな進化を遂げている。筆者は、フォトレジスト並びに半導体周辺材料の研究開発、マネージメントに携わっている。最先端の半導体集積回路には、波長13.5 nm の軟 X 線領域の露
光光源を用いるEUVリソグラフィーを利用し、十数 nmの微細パターンを形成している。そのため EUV レジ
ストは、塗布、露光、後加熱、現像の各プロセスの非効率パスや Stochastics 欠陥を極限まで無くし、素材の機能を最大限に発揮させる精緻な設計が必要となっている。また、露光過程が従来の光化学ではなく放射線化学に基づいている点も開発を困難にしている要因である。材料科学の粋を集めたレジスト材料開発への挑戦が続いている4)。
半導体産業は、私たちの日常生活を便利にするデジタル社会の根幹を支えている。また、データセン
ター、電気自動車、さらには A I 技術や仮想空間向けに需要の拡大が期待されている。配線微細化、三次元集積化、新トランジスタ構造など半導体技術、材料の進化はこの先も続いていく。

図3

フォトレジストのパターン形成プロセス

おわりに筆者が関わってきた研究開発を例にしながら、フォ
トポリマーの移り変わりを紹介した。現在もフォトポ
リマーを取り巻く環境は変化し続けている。たとえば、環境負荷の低いサステナブルな材料など社会課題の解決に貢献する技術への取り組みや、マテリアルイ
ンフォマティクス、A I などの新しい手法の活用にも注目が集まっている。

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巻頭言／研究室紹介

一方で、コロナ以降急速に時代が変化している。
VUCAとも呼ばれ先の予測が困難になっており、将来を見越した技術開発は一段と難しくなっている。このような時代で新たな価値を創るには、自分起点のアー
ト思考的なアプローチも有効だろう5)。現状に留まっていることはリスクであり、自分の感性を信じて小さな一歩でも変化を続けていきたい。ワクワクする材料や技術が一つでも多く生まれ、フォトポリマーの世界がさらに広がってほしい。
昨年度よりフォトポリマー懇話会の企画委員を仰せつかった。技術と産業が密接に結びついているフォト
ポリマーの魅力や醍醐味を一人でも多くの方々に知ってもらえるように微力ながら貢献していきたい。最後に当社が展開している宣伝広告のスローガンで締めくくりたい。
「世界は、ひとつずつ変えることができる。」

参考文献
1 ) 東京都立大学工業化学科分子応用科学研究会編，化学がつくる驚異の機能材料 (1992).
2 ) 因埜紀文， 日本印刷学会誌， 60, 44 (2023).
3 ) B . Strehmel et al., NIR-Dyes for Photopolymers
and Laser Drying in the Graphic Industry, in Dyes
and Chromophores in Polymer Science , 227, p.213,
John Wiley & Sons, Inc. (2015).
4 ) 遠藤政孝， フォトレジストの最先端技術， シーエ
ムシー出版 (2022).
5 ) 末永幸歩， 13歳からのアート思考， ダイヤモンド
社 (2020).

【研究室紹介】京都大学

大学院工学研究科

高分子化学専攻

高分子機能学分野
教授

当研究室は、京都大学大学院工学研究科高分子化学専攻に属している。高分子化学専攻は、桂キャンパスにある基幹講座と吉田キャンパス・宇治キャンパスにある協力講座から構成されており、基幹講座は大きく分けると合成系（高分子合成講座）と物性系（高分子物性講座）に分類される。当研究室は後者の物性系に属しており、高分子機能学分野として高分子の光・電子物性および機能を研究対象としている。つまり、「高分子・光・電子」の三つをキーワードに研究を進
めている。

3

大北 英生

当研究室の主な研究内容と研究アプローチは左図のようにまとめられる。上述したように「高分子・光・電子」がキーワードであり、高分子の中でも共役高分子を主に扱い、光あるいは電子にかかわる物性や機能を研究している。つまり、研究軸は大きく分けると二通りある。一つは、図中の上向き矢印に相当するもの
で、高分子の光・電子機能の発現を目指した研究である。具体的には、高分子太陽電池やペロブスカイト太
陽電池、高分子 LED などのトピックスを扱っている。
もう一つは、図中の下向き矢印に相当するものであり、光をツールとして用いて高分子の光・電子物性を探究している。具体的には、超短パルスレーザを用いた分光測定を駆使して、励起子や電荷キャリアの物性やダイナミクスを測定し、輻射・無輻射遷移や一重項
分裂、あるいは電荷輸送・再結合機構などを議論している。これら二つの研究アプローチは、相対する逆向きのベクトルの研究を表しているのではなく、図のよ
うに円環をなすように両輪として研究を展開している。機能発現を目指すには、素過程を理解するために
光・電子物性の解明が必要になることもあれば、高分子の光・電子物性を探究するうちに新しい機能と結びつくこともしばしばみられる。
現在の研究室のメンバー構成は、学部 4 回生が 5 名、研究生 1 名、修士課程は 1 回生が 4 名、2 回生が 5 名

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であり、例年各学年 4 － 5 名が配属されている。博士後期課程学生は現在 3 名であり、学生の合計は 18 名である。スタッフは、教員が助教の Kim 先生と私の 2
名、プロジェクト研究員が 2 名、秘書 1 名の計 5 名である。学生とスタッフをあわせれば 20 数名程度のメンバーで構成されている。下の写真は、2023 年 4 月
現在の研究室メンバーを撮影したものである。

研究室紹介

コロナ禍のため研究室行事の中でも飲食をともなう
ものは、大学の規制方針のため実施できない期間が長く続いたが、今年の 5 月に新型コロナウイルス感染症
が 5 類感染症に移行したことにより、大学の規制も緩和され、食事をともなうミニパーティーやバーベ
キューなどを大学構内で楽しむこともようやくできるようになった。

部を変換して励起パルスとしている。
実験室の一番奥隅に見えるのがナノ秒の Nd:YAG
レーザであり、OPA を実装することにより紫外から近赤外域の波長に変換して励起光源として用いて、サブマイクロ秒からミリ秒程度の時間域での過渡吸収測定を行っている。プローブ光には安定なタングステン
ランプを用いて、試料の前後に分光器を配置すること
で迷光を極力排除し、単波長ごとの過渡吸収減衰の測定を行っている。検出信号は電気的なバンドパスフィ
ルターにより観測帯域を限定した上でアンプによる増幅を行い、ノイズに埋もれた微弱な信号を検出している。これにより、10-5 から 10-6 レベルのきわめて小さ
な吸光度変化を測定することが可能である。その結果、膜厚（光路長）が 100 nm 程度しかない薄膜試料についてもμ J cm -2という微弱な励起光強度での高感度測定を実現している。
これらのフェムト秒レーザを用いたポンプ＆プロー
ブシステムとサブナノ秒レーザの高感度過渡吸収シス
テムを併用すれば、サプピコ秒からミリ秒の広い時間帯域にわたるさまざまな現象を実時間でとらえることができるので、分子の時間スケールで何が起こっているのかを明らかにするうえでの非常に強力なツールであり、研究室での主要装置として活躍している。
最後に、上記の過渡吸収測定装置群を用いて高分子
太陽電池の発電素過程を観測した研究事例を紹介する。

研究室の中でも分光測定に関する実験室の様子を少し紹介する。上の写真は、短パルスレーザを用いた時間分解測定を行う実験室の様子である。手前にある二台のレーザはフェムト秒のチタンサファイアレーザであり、ポンプ＆プローブ法によりサブピコ秒から数ナ
ノ秒の時間域の過渡吸収スペクトルを測定できる。電気的な遅延回路と組み合わせれば、十ナノ秒以降の遅い時間帯域も観測可能である。第二次高調波発生（SHG）素子や光学パラメトリックアンプ（OPA）装置を用いることで測定対象の吸収波長にレーザ光の一高分子太陽電池の素過程は、上図に示すように、励起子生成は電子遷移のフェムト秒のタイムスケールで起こり、電極に電荷キャリアが回収されるまでにマイクロ秒程度を要する。つまり、光吸収から光電流が発生するまでには、フェムト秒からマイクロ秒の 109 秒の時間帯域にわたる励起子発生、励起子拡散、電荷移
動・電荷解離、電荷回収などの素過程を経ている。このような高速かつ広帯域の現象を観測するのは容易ではないが、上述したフェムト秒レーザを用いたポンプ＆プローブシステムとサブナノ秒レーザの高感度過渡
吸収システムを併用すれば、これらの素過程をすべて

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フォトポリマー懇話会 ニュースレター № 104
実時間で追跡することが可能である。
また、高分子太陽電池のような薄膜素子の素過程を評価するうえでは、上述した微弱な励起光条件下での高感度測定が非常に重要である。薄膜試料でも励起光強度を高めれば、過渡種の生成による吸光度変化は増大するが、高励起光条件では励起子や電荷キャリアが高密度に生成するため、二光子イオン化や二分子再結合など、太陽光照射下では起こりえないような多体反応が支配的となる。これらは実際のデバイスに見られる素過程とは関係のない現象であるので、高励起光条
件では実デバイスの素過程を議論することができない。したがって、高分子太陽電池のような薄膜素子の素過程を、短パルスレーザを用いて観測するには、上述のような高感度な検出系を構築することが不可欠で
ある。

5

研究室紹介
左図にドナーである非晶性共役高分子の P3HT とア
クセプターであるフラーレン誘導体 PCBM のブレンド膜からなる太陽電池のフェムト秒過渡吸収測定の結果を示す。この材料の組み合わせの素子の変換効率は低いが、その原因がこの過渡吸収スペクトルから分かる。図中の破線は P3HT ニート膜の過渡吸収スペクトルであるので、P3HT の一重項励起子の吸収に帰属できる。一方、実線は P3HT/PCBM ブレンド膜の過渡吸収スペクトルであり、励起直後の 0 ps において既に励起子に吸収帯は半減し、代わりに 800 nm と1600 nm
付近に P3HT の正孔ポーラロンの吸収が、1030 nm 付
近に PCBM アニオンの吸収が観測されており、レーザ
パルスの 100 fs 以内に電荷が生成していることが分かる。その後、0.2 ps には励起子の吸収は消失し、電荷の吸収のみになることから、1 ps 以内にほぼ 100％が電荷に変換したことを示している。しかし、これら電荷の吸収帯はその後減少し、3 ns 後の長時間域には 3割程度しか残っていない。この電荷の減衰ダイナミク
スは、励起光強度に依存しないことから 1 次反応であることが分かるので、生成した電荷は対再結合で失活しているといえる。したがって、この系では電荷生成
効率は良いが、その後の電荷解離効率が低く、大半が対再結合により失活していることが低い変換効率の主な原因であることが分かる。このようにレーザ分光法を駆使することにより、分子の時間スケールで何が起こっているのかを追跡できるので、分子レベルで光・電子物性や機能を理解することができる。このようなアプローチで、われわれの研究室では高分子系の光・電子物性ならびに機能を探究している。

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新製品 ・ 新技術紹介【新製品・新技術紹介】

脱炭素の新提案：日本固有で豊富にあるスギの新しい活用法「改質リグニン」
株式会社リグノマテリア「改質リグニン」は、日本固有の樹木「スギ」から作るバイオ由来の新素材です。物質名は「グリコール
リグニン」といいます。「熱に強い」「加工しやすい」「粘り強い」「酸化を防ぐ」「環境にやさしい」という理想的な性質を持ち、さまざまな製品の素材として利用できます。
この改質リグニンはスギの中に約 3 割含有するリグ
ニンという成分から生成抽出されます。リグニンは陸上植物の細胞壁の主成分で細胞壁を固くしっかりした構造とするため生み出されたもので、それぞれの植物
毎に異なった種類のリグニンを持っています。
リグニン誘導品は機械的強度に優れ高耐熱性などの高いポテンシャルを有しますが、現在はパルプ工業の副産物（廃棄物）からの抽出物しか製造されておらず、さまざまな変性を受け、活性も失われ、多様な木種を含むため品質のコントロールが難しく、安定した品質の求められる高性能素材としての工業材料化は困難とされてきました。
リグニンは全ての陸上植物に含まれ植物細胞壁を構成する一つの成分の総称です。それぞれの植物は異なったリグニンを持っており、今回私どもが事業化する「改質リグニン」は、日本にしかない日本固有の樹木である「スギ」のリグニンを天然物由来品もあるポリエチレングリコール（PEG）により抽出し誘導体化を同時実現したものです。
内閣府 SIP（戦略的イノベーション創造プログラム）
が 2014 年に国家プロジェクトとして研究開始され、その成果から改質リグニンが創出されました。このス
ギリグニンの抽出に当たっては、木材成分の物性維持に効果的な PEG を使用しスギ材を少量の酸で反応抽
出され PEG で改質されたリグニンは加工性に優れる
物質に変化することを発見し、効率的な分離精製技術も開発されました。PEG 付加することでスギリグニン
は熱特性に優れた工業材料に変貌したのです。
国立研究開発法人森林研究・整備機構 森林総合研究所（略称：森林総研）の山田竜彦先生が中心となり、同所内（茨城県つくば市）にベンチプラントを設置し研究を続けてきました。

日本が資源国となりうる可能性を秘めている改質リグニンは森林総合研究所さまで開発されたMade in Japan の技術であり、その原料は日本にしか
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見正 大祐

存在しない杉材を使用する。日本の杉材は循環社会を形成するに十分豊富に存在している。
下図に示すように国内の木材供給の約半分強が杉材といわれており、また建材などに使用できないバイオマス発電などのチップになる C 材、D 材が有用材の半分を占めている。

林野庁さまからの資料抜粋
一方で改質リグニンは先ず間伐材などの未利用材を原料とすることを想定しており、その数量は年間 800
万トンにも上る。この未利用材を原料として改質リグ
ニンを製造すれば単純計算にして国内で年間 400 万ト
ンもの改質リグニンを製造できる。この数量は日本国
内のプラスチック使用量 1000 万トン（プラスチック
循環利用協会推定：2017年）の約半数を賄える計算になる。このことは通常のプラスチック原料であるナフ
サをほぼ全量輸入に頼る現状を考えると、国内需要のみならず新規バイオプラスチック原料として国外に輸出できる可能性が十分にある。

その資源の源流は？
日本にのみ存在する杉の木材が、現時点では理想的である。これは杉が単一単属の木材であり、針葉樹であることも含めて、木材中に含まれるリグニン骨格に関して極めて単一と呼べる程に揃っており、また抽出できる改質リグニンの品質安定性において有利である
ことに起因する。以下にリグニン骨格の違いと、杉な
どの針葉樹が優位な点を比較する。

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新製品 ・ 新技術紹介
課題としてはこれまで研究され完成の域に達している石油化学とは異なり、今後継続的な基礎研究と技術開発が必要となってくる。これらの項目に対してもリ
グノマテリアが現在は先導して実施している。

具体的な応用用途

改質リグニンの特徴とは？
1 ) 生分解性を有する
リグニンはこれまでも環境に膨大な量が排出されているものの、環境問題とならないのはリグニンが生分解性を有しているからと考えられる。土中分解性に関してはすでに確認されている。（白色腐朽菌による分解）また海洋分解性に関しては最新の研究では、どうやら分解するバクテリアが存在すると報告されている。
2 ) SDGs にマッチしており、 時代が求めているものを提供できる
現在の時点で少なくとも SDGs で掲げられている目標に対して改質リグニン（グリコールリグニン）は
7 つの項目についてインパクトを持つ。
3 ) 脱炭素のマテリアルであり、カーボンニュート
ラルを推進できるバイオマス由来のマテリアルであるので素材としてはカーボンネガティブ。加工のエネルギー源をバイオマス発電で賄えばニュートラル以下を維持できる。ク
リーンな原材料でクリーンエネルギーを用いれば、政府の掲げる 2050 年カーボンニュートラル社会構築の大きな柱にもなりえる。
また下の表に示すように、改質リグニンは木材由来の高分子のままとして抽出、製品となるために石油由来のプラスチックと比較しても、高分子化するエネル
ギーや工程が不要である。これによってエネルギー消費量に関しても大きく削減することができる。

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リグノマテリアでは木材の全活用を想定しており、リグニン成分だけにはとどまらず副産パルプや副産ヘ
ミセルロースといった成分についても製品化を目指して研究を進めている（下図参照）。これにより工場全体でゼロエミッションを達成することが可能である。
環境に優しい製品を生み出す工場として製品だけではなく、製造現場においても地球環境に優しい工場を目指す。

以下、具体的な用途について追加記載する。
1 ) 高性能新規絶縁材
これまでは薄層の絶縁材が限界であったが、改質リ
グニンを添加した新規電着塗工により耐電圧を上げた厚膜の絶縁材を塗工できる。これによりさらに小さ
く、高電圧を必要とする高性能モーターや 5G などに代表される高周波通信機器にも対応できる革新的な絶縁材となりえる。
2 ) 抗酸化剤
改質リグニンは天然のポリフェノール構造（ベンゼン環構造を含む）であり、ゆえに抗酸化効果を示す。
特に改質リグニンは既存のリグニン製品と異なり、温和な条件での抽出を行うため化学的活性を維持するので、極めて高い抗酸化効果が最新の研究で判明した（現在特許出願中）。
この抗酸化効果を利用して食品添加の酸化防止剤や化粧品用途への展開を考えており、現在も化粧品原料
メーカーなどと共に開発を進めている。
3 ) 光触媒
有機物として可視光領域において光触媒効果を示す
ことが最新の研究で明らかになった（現在特許出願準備中）。酸化チタンといった Made in Japan の技術である光触媒と複合化することで、さらなる高性能な光触媒が日本発の技術として可能になる。

フォトポリマー懇話会 ニュースレター № 1044 ) エンジニアリングプラスチックの改質添加剤
改質リグニンは親水性の PEG で改質を行っているため、通常では考えられないほどさまざまな樹脂とのハイブリッド化が可能である。
5 ) マイクロビーズ
近年、頻繁に取り上げられるようになったマイクロ
プラスチック問題にも、改質リグニンは一つの解決策と回答を与えることができる。すでにあるメーカーから改質リグニンを用いたマイクロビーズ製造の基本特許が出願されており、これを利用して改質リグニンのマイクロビーズを製造することが可能である。改質リ
グニンは土中分解性と海洋分解性があると見込まれるので、新規の環境に優しいマイクロビーズを市場に展

新製品 ・ 新技術紹介／報告
開することが可能と見られる。
最終的な目標は、商用設備を日本全国各所に建設することです。これにより日本の森林資源を効率的にフル活用することが可能となり、石油由来の製品を代替する製品を世に送り出し、脱プラスチックの一助となることが可能になると思っています。工場は森林資源が隣接する中山間地域に建設し、地域経済の活性化を図ります。さらにバイオマス発電所等と連携を深める
ことで、カーボンニュートラルのさらに上をいくカー
ボンマイナスによる地球環境の改善を目指します。ベ
ンチプラント、実証設備、そして第１号社会実装設備
も茨城県内に設置する予定です。

【報告】

第40回国際フォトポリマーコンファレンスの報告
フォトポリマー学会

フォトポリマー学会の主催で、第40回国際フォトポ
リマーコンファレンス（リソグラフィ、ナノテクノロ
ジーとフォトテクノロジー －材料とプロセスの最前線－）は、 6 月 27 日（火）～6 月 30 日（金）に昨年に引き続き対面およびオンラインのハイブリッドにて開催された。今年度の参加者は海外からも含めて約245名と盛況であり、この内の約 8 割が対面での参加であった。
コンファレンスの講演は以下の英語シンポジウム、
日本語シンポジウムにより行われた。
A. 英語シンポジウム
A0. Plenary Lecture “Semiconductor Industry Exceeds$1 Trillion as Third Super Cycle Arrives”
A1. Next Generation Lithography, EB Lithography andNanotechnology
A2. Nanobiotechnology
A3. Directed Self Assembly (DSA)
A4. Computational/ Analytical Approach for Lithography
Processes
A5. EUV Lithography
A6. Nanoimprint
A7. 193 nm Lithography Extension and EUV HVM Readiness
A8. Photopolymers in 3-D Printing/ Additive Manufacturing
A9. 2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics &Photonics
A10. Strategies and Materials for Advanced Packaging,
Next Generation MEMS, Flexible Devices
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会長

渡邊 健夫

A11. Chemistry for Advanced Photopolymer Science
A12. Organic and Hybrid Materials for Photovoltaic andOptoelectronic Devices
A13. Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials
and Processes
A14. General Scopes of Photopolymer Science and Technology
P. Panel Symposium “Advanced NIL application ～ AR/MR
glass, Meta lens, Meta surface ～”B. 日本語シンポジウム
B1. ポリイミド及び高温耐熱樹脂－機能化と応用－
B2. プラズマ光化学と高分子表面機能化
B3. 一般講演、レジスト除去、エッチング、洗浄技術
発表件数は英語シンポジウム107件、日本語シンポ
ジウム22件の計129件と多くの講演があった。各講
演、パネルシンポジウムでは質疑応答がチャットなどで行われ、通常の対面の学会に劣らない活発な議論が行われた。
コンファレンスのジャーナルのインパクトファク
ターも高い値を得ており、コンファレンスの意義は益々重要になってきている。来年度以降も一層充実した学会となるように、組織委員の一員として努力していく所存である。
第41回 国 際 フ ォ ト ポ リ マ ー コ ン フ ァ レ ン ス は、
2024年 6 月 25 日（火）～ 6 月 28 日（金）に千葉市・幕張メッセ国際会議場で開催される（詳細は決定次第、
学 会 ホ ー ム ペ ー ジ（https://www.spst-photopolymer.
org/conference/）に掲載）。

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会告会告第 255 回講演会

第256回講演会（有機エレ材研合同講演会）

日時：2023 年 10月27日 （金）13 時 00 分～17 時 00 分
会場：オンライン開催 (Zoom)
タイトル：『持続可能な未来を創る最新技
術動向』
プログラム：
1 ）ヘテロ環の光反応を利用した海洋
生分解性プラスチックの開発
江南大学 金子達雄 氏2 ）石油資源からの脱却：日本のスギを原料とした新しい化学産業の創出
リグノマテリア㈱ 見正大祐 氏3 ）動的共有結合化学に基づく力学機能性
ポリマーの設計
東京工業大学 大塚英幸 氏4 ）SDGs の観点から考える結合交換性架橋
ポリマー（ビトリマー）の可能性
名古屋工業大学 林 幹大 氏
参加費：会員：無料（人数制限なし）
非会員：3,000 円、学生：2,000 円
申込方法：
10 月19日（木）までに当会ホームページ(http://www.tapj.jp) のメールフォームにて送信してください。
なお、テキストはダウンロード方式とします。

日時：2023 年 12月18日 （月）13 時 00 分～17 時 00 分
会場：オンライン開催 (Zoom)
タイトル：『ニューロモルフィックデバイ
スの進展』
参加費：会員：無料（人数制限なし）
非会員：3,000 円、学生：2,000 円
申込方法：
12 月11 日（月）までに当会ホームページ(http://www.tapj.jp) のメールフォームにて送信してください。
なお、テキストはダウンロード方式とします。

第 257 回講演会
日時：2024年 1 月18日（木）13 時 00 分～17 時 00 分
会場：オンライン開催（Zoom）
タイトル：『高分子の光分解』
参加費：会員：無料（人数制限なし）
非会員：3,000 円、学生：2,000 円
申込方法：
1 月11日（木）までに当会ホームページ(http://www.tapj.jp) のメールフォームにて送信してください。
なお、テキストはダウンロード方式とします。

■編集者 小関健一
2023 年10月 1 日発行■発行人 高原 茂■発行所 フォトポリマー懇話会事務局 〒162-8601 東京都新宿区神楽坂 1-3
東京理科大学 理学部第二部化学科内
URL ： http://www.tapj.jp/

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