第3部

新技術・材料・プロセスに挑む装置・部材メーカー

 CMPスラリー

16 年度は 4％増

セリアスラリーが高成長2015 年度（16 年 3 月期）の半導体用膜）や STI（素子分離）、ポリシリコン研

リー生産の拡大が酸化膜系スラリーのCMP スラリーの市場規模は前年度比

磨用の酸化膜系スラリーに分類される。 需要を押し上げた。メタル膜スラリー

7％増の 1024 億円となり、1000 億円

15 年度の市場規模はそれぞれ、メタルはロジックの BEOL（配線工程）への依台を突破したと見られる。日系メーカ

膜スラリーが同 2％増の 615 億円、酸存度が高い分、15 年後半に行った主要ーが多く円安による為替影響はあるも化膜系スラリーが同 15％増の 399 億

ロジックファンドリーの生産調整などのの、FinFET や 3D-NAND など CMP 工円となり、酸化膜系スラリーが市場をが響いた。

程数が増加する 3 次元トランジスタの牽引した。

酸化膜スラリーのなかでは、15 年度量産拡大が寄与したと見られる。引きなお、メタル膜スラリーの内訳は Cu

はセリアスラリーが非常に高い伸びを続き、こうした先端デバイスが需要拡

バルクが同 4％減の 185 億円、Cu バリ示した。セリアスラリーはもともとSTI大の牽引役になると見られ、16 年度はアが同4％増の220億円、Wが同5％増工程を中心に需要を伸ばしてきたが、同 4％増の 1065 億円前後の市場規模の 210 億円。酸化膜系スラリーの内訳

15 年度から大きく 3D-NAND が貢献しが期待できそうだ。

は、ILD が同 3％増の 139 億円、セリアてきた。3D-NAND はメモリーセルをが同23％増の195億円、ポリが同25％多段積層するために、大きくの CMP 工増の 65 億円。

程を踏む必要がある。ここではより高▼ 酸化膜系スラリーが貢献

15 年度は、相対的に酸化膜系スラCMP スラリーは、用途別に Cu バル

いスループットが求められることから、

ク／バリア研磨用とW（タングステン）リーの貢献度の方が高い構図となった。 研磨レートが高いセリアスラリーが好研磨用のメタル膜スラリー、ILD（酸化具体的には、DRAM や NAND などメモ

メタル膜スラリー各社の取り組み
Cu

社名
旭硝子

○キャボット○○トッパン TDK ／ BASF

○

○

JSR

エアープロダクツ○○○

富士フイルム／プラナー

○

○

フジミ

○
○

○：量産出荷、▲：評価・開発・検討中
社名

○

キャボット
37%

▲

○

○

日立化成

その他
21%

▲

○

ニッタ・ハース／ダウケミカル

CMPスラリーの市場シェア

W

バルク バリア

まれる傾向が強いという。同分野に強○

○

○

▲

○

日立化成
11%

酸化膜系スラリー各社の取り組み

旭硝子

キャボット
JSR

エアープロダクツ

セリア

ポリ○

○

○

○

○

○

▲

○

ニッタ・ハース／ダウケミカル

○

▲

日立化成

○○

BASF ／エボニック
フジミ○▲（電子デバイス産業新聞調べ）

CMPスラリーの市場規模億円

1,200
1000
800

764868960

1,024 1,065

W
Cuバリア

200

○：量産出荷、▲評価・開発・検討中（電子デバイス産業新聞調べ）

0Poly
ILD

400
○

内製その他
セリア

600

▲

○

富士フイルム
11%

フジミ
11%

○

ILD

15年度
1,024億円

ニッタ／ダウ
9%

Cuバルク
12年度

1314

1516（予）（電子デバイス産業新聞調べ）

61

第4部

工場ルポ

工場ルポ／半導体工場分布図・ディレクトリー

太陽誘電モバイルテクノロジー

高周波フィルターの旗艦工場
さらなる能力増強を検討

スマートフォン（スマホ）の LTE 化や行役員は、「（新拠点確保のために）当したものの、無事に移管を終えること多バンド化などを受け、需要が拡大す時は何カ所も回った。しかし、我々にができた。今は、積極的な増産体制にるFBAR（BAW）やSAWなどの高周波フとって日本にある多くの半導体工場は転じることができるようになっている。

ィルター。スマホが台数ベースで成長大きすぎた。そういった意味で、この鈍化するなかで、高周波フィルターは青梅工場はサイズ的にちょうど良かっ

1 台あたりの搭載員数増加に伴い、今た」と、自社が目指す生産ボリュームとでも品薄な状態が続いている。主要供合致したこと、加えてもともと半導体ーやデュプレクサーを生産する。FBRA

給メーカーである太陽誘電㈱（東京都工場として機能していたことから、クはシリコンウエハー、SAW フィルター

台 東 区 6-16-20、Tel.03-3832-0101）

リーンルーム環境が非常に素晴らしかは LT（タンタル酸リチウム）ウエハー

では、2014 年 4 月から稼働を開始したったことを取得理由に挙げている。

を用いており、それぞれ生産プロセス

太陽誘電モバイルテクノロジー㈱本社（東京都青梅市）を中心に、積極的な生産能力の増強を進めることで、需要増に応えている。

▼ 14 年に開設
太陽誘電モバイルテクノロジー本社▼ 製造装置も一部内製化
青梅工場では FBAR ／ SAW フィルタも異なる。SAWで現在需要が伸びてい▼ 青梅に機能を集約る、温度補償機能付きの TC-SAW の場

青梅工場は既存の須坂工場に比べて、 合は、サファイアウエハー上に LT ウエハーを貼り合わせる構造を取る。

クリーンルーム面積で約 2 倍の規模を誇り、将来的な能力増強余地も高い。

SAW フィルターは非常に半導体製さらに効率的な生産体制を構築すべく、 造プロセスと近いかたちで生産が行わ
須坂工場から青梅への生産移管と機能は高周波フィルターの旗艦工場。もと集約を決断。14年度から

もとは日立製作所の半導体工場として15 年度上期にかけて、製機能していたものを取得し、14 年 7 月

造装置およびプロセス移には本社を青梅に移転した。太陽誘電

管、顧客からの認定取得の高周波フィルター事業は、富士通㈱が行われた。

が長野県の須坂工場（長野県須坂市）

しかし、当時は「中華圏で製造を開始した SAW フィルター事

スマホの高周波フィルタ業に端を発する。その後、10 年に太陽ー需要が一気に拡大したれており、大きくはスパッタリング→（営業誘電モバイルテクノロジーが設立され、 時期とぶつかった」
この事業を譲り受けた。

本部 民生・通信市場担当

従来の生産体制は須坂工場での一貫の渡邊敏幸執行役員）と生産だったが、11 年には、新たに開設

語るように、最も需給がした所沢工場（埼玉県入間市）でパッケタイトになった時期でもージ工程を担う 2 拠点体制とした。しあり、能力を維持しながかし、将来的な需要増を見据えると既ら生産拠点を移転するこ存の生産体制では増強余地が乏しく、とは非常に困難を極めた。

新拠点を確保する必要があった。日立

移管スケジュールを調整製作所の青梅工場を取得するに至った

しながら顧客からの出荷理由として、複合デバイス事業本部 通要請に対応したため、当信デバイス事業部長を務める伊形理執初の計画よりやや遅れは

太陽誘電モバイルテクノロジー 工場外観

工場内には内製装置も数多く並ぶ

123半導体工場ハンドブック 2017

半導体工場分布図・北海道・北東北■ 北海道 ■【函館市】
△ ㈱ジェイデバイス 函館地区
【三笠市】
△ 北海道オリジン㈱【千歳市】△ ㈱デンソー北海道▲ ミツミ電機㈱ 千歳事業所【恵庭市】▲ 京セミ㈱ 恵庭事業所

北海道■ 青森県 ■

【五所川原市】▲ 富士電機津軽セミコンダクタ㈱【北津軽郡鶴田町】△ ハイコンポーネンツ青森㈱

青森県

秋田
県岩手
県

■ 秋田県 ■【秋田市】
△ マイクロン秋田㈱【由利本荘市】▲ ㈱秋田新電元 飛鳥工場
△ ㈱秋田新電元 大浦工場
【大仙市】
△ セイコーインスツル㈱ 秋田事業所

◎▲△
◇一貫工場
前工程工場
後工程工場
研究所・研究開発工場
デザインセンター
☆ 計画中
※ その他

140

■ 岩手県 ■【北上市】
△ ㈱ジェイデバイス 北上地区
▲ ㈱ジャパンセミコンダクター 岩手事業所△ ㈱ミスズ工業 岩手工場
【奥州市】
△ ㈱ミズサワセミコンダクタ【胆沢郡金ケ崎町】▲ ㈱デンソー岩手

書 名 ..................半導体工場ハンドブック 2017
体裁・頁数 ...........A4 変形判 オフセット刷り 164 頁
定 価 ..................10,000 円＋税

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