トピック

マイクロナノ2009 開催報告
総合イベント マイクロナノ2009を、７月29日からフォーラム、ファインMEMSやBEANSプロジェクト

31日の３日間、東京ビッグサイト東５ホールにて開の成果発表会、日独が連携してビジネスチャンスを催いたしました。30度を越える暑さの中、３日間合探る日独マイクロナノ・ビジネスフォーラム、計で12,247名のご来場をいただき、成功裏に閉幕す

MEMS実装にフォーカスしたMEMS実装・パッケーることができました。誠に有難うございました。

ジングフォーラム、出展社プレゼンテーション、MEMS協議会のアフィリエート大学や研究所が成果を発表する産学連携ワークショップ、です。いずれも多くの聴講者を集め、関心の高さを伺わせました。
MEMS協議会国際交流委員会事業の一つであり、今年で第15回となった国際シンポは、研究開発拠点の集約化とMEMSアプリケーションをテーマとして内外から10の講演を集めました。基調講演においては、LETI/MINATECやFraunhofer ENAS、米国のMIGから研究開発拠点の集約化に関する動向を知り、セマイクロナノ2009は、マイクロマシン／MEMS展

ッション１では、センサーネットワークや光MEMS、と国際シンポ等の同時開催プログラムを同期間・同エネルギー関連などMEMSアプリケーションの最新会場で開催することで、来場者や出展者に最先端情動向を紹介しました。セッション２では実現技術と報とビジネスチャンスをOne Stopで提供することをしての製造プロセスに着目し、ウエハーベンダー、狙いとしています。

製造装置ベンダー（接合装置）、材料ベンダーからの講演を集めました。

厳しい経済状況を反映して、マイクロマシン／
MEMS展は出展者数が昨年から３割減となりました

昨年度までとは異なり、聴講無料、展示会の期間（小間数：320、出展者数：252）。一方でナノインプ内開催、講演会の場所も別会場から展示会内としまリントやMEMSファウンドリの出展数増加があり、した。従来、国際シンポが維持してきたステータス来場者数も昨年から約１割減に止まるなど、現在のが低下して参加者数が減少するのではとの懸念もあ環境下では大健闘したと評価しています。マイクロりましたが、会場に設置した230の席は満席となり、マシンセンターとしては、これまでで最大の６小間有料（￥2,000）の講演資料集（MEMS協議会非会員にブースサイズを拡張し、MemsONEやMEMSモール、向け）が全配布部数の半数以上を占めるなど、参加ファンドリのプロモーション、国際標準化などの活者の広がりと関心の高さが伺われました。国際シン動内容を紹介し、また、来場者が目的に合致するブポの価値は、形式的な変更には影響されなかったとースを効率よく回れるようにコンシュルジェサービ捉えています。
来年も同時期（７月28日〜30日）に開催いたしまスも今回初めて試行しました。
同時開催プログラムは展示会場内の２つの特設会す。同時開催プログラムをさらに充実させ、ロボッ場にて合計８つのプログラムを用意しました。産業トMEMSにフォーカスした併設展示会も加えて、最化促進のために最先端情報を提供する国際マイクロも高い品質の最先端情報とビジネスチャンスを提供

マ シ ン ・ ナ ノ テ ク シ ン ポ ジ ウ ム （ 国 際 シ ン ポ ）、する名実ともに世界最大のマイクロ・ナノ技術に関MEMS協議会の情報発信の場としてのMEMS協議会する総合イベントとすべく、準備を進める予定です。

1

財団法人マイクロマシンセンター事業の動き

調査研究・標準化事業の動き
今回の参加者は28カ国 984名（事前登録）でした。

１．マイクロナノ2009

論文投稿数は1,307件でした。発表は一般口頭発表

MEMS協議会フォーラムにて、「国際会議に見る216件、ポスター発表384件で、採択率は45.9％でし

MEMS技術の動向と将来展望」と題して、国内外技た。投稿件数と採択件数の推移を図１に示します。

術動向調査委員会で調査しています国際学会MEMS

次に国別発表件数について図２に示します。米国の動向について委員長の庄子先生（早稲田大学）がが前回の56件から94件と1.7倍に激増し１位、日本は講演しました。標準化では、「MEMS国際標準化最新２位ですが、43件と米国の半分以下でした。３位に動向 −高まる重要性とビジネス活用 −」と題して、は伸張著しい台湾が入りました。次いでドイツ、ス大和田先生（帝京大学）が、また、「このように使イス、中国、オランダ、韓国と続きました。

う：MEMS材料評価の国際標準規格」と題して、高件数100

島先生（熊本大学）が講演しました。

9490

マイクロマシン／MEMS展では、これまでに提案・80成立したMEMSの用語と定義、MEMS薄膜材料の引Transducers05（韓国）Transducers07（仏）Transducers09（米）70

張試験法、引張試験の60ための標準試験片、50

MEMS薄膜材料疲労試40験法の他、現在審議中30の国際規格案、現在開20発中の国際規格案の内1043

24110USA

容を紹介する展示を行本日いました。

88ス
ツ
湾
台 ドイ スイ

図２２．上期国内外技術動向調査

66

ダ
国
中 ラン
オ

国
韓

55543321ンンス
ア ギー
ダ ール UKイリン ーデ
ナペルトラカ ガポス ベス
フ ウェーンス
オシ口頭発表国別発表件数

国内外技術動向調査の上期調査として図３に小分類項目別の発表件数を示します。基礎Transducers 2009（The 15 International Conference on

分野ではActuatorsが一番多く、Packaging Technologies

thSolid-State Sensors, Actuators and Microsystems）の調が昨年から大幅に増えました。応用分野では、Mechanical査を実施しました。Transducersはマイクロセンサ、マSensor が昨年より大幅に件数を増やしトップでした。

イクロアクチュエータに関する最先端の研究開発事例

Fluidic 、Biomedical Systems が次に続きました。

が発表される国際会議で、1981年にボストン（米）でChemical / Bio Sensor は昨年より半減しました。

第１回が開催されて以来隔年に開催されています。

件数

今回の Transducers 2009 は15回目の開催にあたり、デ40ンバー（米）にて６月21〜25日に開催されました。

35

Transducers07（仏）Transducers09（米）373230投稿数

件数

採択数

採択率

採択率

26

26 25

2560.0%

1800

2421

1997年

図１

1999年

2001年

2003年

2005年

2007年

2009年

0.0%

8523Others2
Optical431

上記分類に該当しないもの

04

Power-MEMS

10.0%
200

5

Fluidic

20.0%

4RF-MEMS

401

600

18 18

117

Biomedical Systems

358

439

524

8

Chemical/Bio Sensor

634
464

0

119

10

Radiation/Material
Substance Sensor

30.0%

639

600
400

5854

826

12

10

40.0%

40.8%

19
1716

14

15

OtHers

960

1000
800

1035

45.9%

50.0%

Mechanical Sensor

1200

1307

17

Material

48.3%

47.0%

1919

20

Actuators

1400

1554Design and Modeling

50.6%

Packaging Technologies

53.1%

56.0%

Fabrication
Technologies(Silicon)
Fabrication
Technologies(non-1600

1-1 1-2 1-3 1-4 1-5 1-6 1-7 2-1 2-2 2-3 2-4 2-5 2-6 2-7 2-8 2-9 3-1

Transducersにおける投稿数と採択数の推移

図３2

小分類項目別の発表件数

MEMS協議会（MEMS Industry Forum）の動き
セッション２では「国際競争に勝つ研究開発・製造インフラの充実」として、ナノテクアリーナを活用するMEMS版「知と経験の集積拠点」構想の提案、MEMS開発のためのインフラ整備活動であるファンド
リーネットワーク、MemsONE、MEMSPediaの紹介、さらには、MEMS産業拡大の原動力となるマイクロナノ人材育成への取組みを紹介しました。
セッション３では「MEMS産業・研究開発拠点の形成への期待」として、東北地域、関西地域、九州地域のMEMS産業基盤強化に繋がる活動状況について紹介しました。
フォーラム会場は満席で、MEMS産業への関心の高さが伺われました。

１．第15回国際マイクロマシン・ナノテクシンポジウム〜MEMS World〜の開催
今年の総合イベント「マイクロナノ2009」第20回マイクロマシン／MEMS展同時開催プログラムのひとつとして、2009年７月29日（水）にマイクロマシ
ン展 特 設 会 場 に て 、「第15回国際マイクロマシン・ナノテクシンポジウム〜MEMS World〜」を開催しました。
今年のシンポジウムでは、研究開発拠点の集約化とMEMSアプリケーションをテーマとして、基調講演では、LETI/MINATECやFraunhofer ENAS、米国のMIGから研究開発拠点の集約化に関する動向を知り、セッショ
ン１では、センサーネットワークや光MEMS、エネルギー関連などMEMSアプリケーションの最新動向を紹介しました。セッション２では実現技術としての製造プロセスに着目し、ウエハーベンダー、製造装置ベンダー（接合装置）、材料ベンダーからの講演を集めました。
昨年度までとは異なり、聴講無料、展示会の期間
内開催、講演会の場所も別会場から展示会内としました。会場に設置した230の席は満席となり活発な質疑応答がなされました。来年度に向けては、「マイクロナノ2010」全体の中での位置づけや国際シンポに参加して欲しいターゲット（マネジメント層なのか現場技術者なのかなど）を明確にして、さらに質の高い、ニーズにマッチしたプログラムとすべく準備したいと考えています。

３．第18回マイクロナノ先端技術交流会の開催
第18回マイクロナノ先端技術交流会が、６月24日（水）に、東京工業大学大学院総合理工学研究科 黒澤実准教授、東京大学大学院工学系研究科 須賀唯知教授を講師にお迎えし、MMCテクノサロンで開催されました。
黒澤准教授からは、「弾性表面波リニアモータ」と題して、古くからのMEMSデバイスである弾性表面波素子を用いたリニアモータについて、その研究の取り掛かりとなった超音波モータから現在に至るまでが紹介されるとともに、高速高精度なマイクロリニアモータとしての今後の展開が紹介されました。
また、須賀教授からは、「低温ウエハ接合」と題して、プラズマやイオン照射を用いたウエハの低温接合とその3D実装・MEMSパッケージへの適用の可能性について、接合の種類・手法、特に、真空中や大気中での接合、ナノ接合層を用いた接合、それらの接合メカニズム等について紹介されました。

２．MEMS協議会フォーラムの開催
７月31日（金）には、MEMS協議会の諸活動の情報発信・意見交換の場であるMEMS協議会フォーラムを第20回マイクロマ
シン／MEMS展特設会場において開催しました。
今年のフォーラムは、「MEMS産業の発展と裾野拡大に向けて：MEMS協議会からの情報発信」のサブタイトルのもとに、セッション１では、マイクロマシンセンター・MEMS協議会の委員会調査報告として、MEMS国際会議における技術動向、MEMSアプリケーションとMEMS分野に参入している関連企業の動向をまとめた産業動向、およびMEMS分野の国際標準化活動について紹介しました。

東京工業大学

黒澤准教授

東京大学

須賀教授

参加者はMEMS協議会メンバー、一般参加者、及びBEANSプロジェクト関係者を含む19名で、先端技術情報の紹介と活発な質疑が行われ、講演終了後、講師の須賀教授、黒澤准教授を囲んだ技術相談・交流会
がマイクロマシンセンター会議室で行われ、和やかなうちに閉会いたしました。

3

MEMSシステム開発センターの動き発表会及び展示の終始熱気に包まれた会場の雰囲
気からは、本プロジェクトの成果に対する関心が極めて高く、成果を製品化に活用した事例、新たな協力関係が多く生み出されることが期待されます。
これまでのプロジェクトの取り組み、成果発表会
予稿集、NEDO成果報告書等に関する情報をマイク
ロマシンセンターホームページの「FineMEMSプロ
ジェクト」サイトに掲載しました。是非、ご活用ください。

１．ファインMEMSプロジェクト成果発表会とMEMSPedia普及活動
マイクロナノ2009イベントの一環としてNEDO委
託・助成「高集積・複合MEMS製造技術開発事業（ファインMEMSプロジェクト）」の成果発表会（主催：独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構、後援：経済産業省）が７月31日（金）に東京ビッグサイト東５ホール内特設会場にて開催されました。オープニングでは、（独）新エネルギー・産業技術総合開発機構 機械システム技術開発部岡野部長から主催者挨拶、続いて経済産業省製造産業局産業機械課 是永基樹課長補佐から来賓挨拶が行われました。また、本プロジェクトのプロジェクトリーダである東京大学大学院情報理工学系研究科長の下山勲教授によるプロジェクト成果の概要が紹介のあと、委託事業の全９テーマ、助成事業の全８テーマの研究開発成果について各テーマの開発担当者から詳細に報告され、活発な討論が行われました。昨年の中間成果発表会と同様に、200人ほどが入る会場がほぼ満席となり、さらに発表会予稿集も準備した400部が無くなるほどの盛況ぶりでした。
同様に、展示会場内「NEDOファインMEMSプロジェクト」ブースへの来訪者も多く、成果発表会の成果詳細等を議論する場として、こちらも大いに盛り上がりを見せていました。マイクロマシンセンタ
ーからは、MEMSPediaとして６月に一般公開した知識データベースとMEMS等価回路ジェネレータを、NEDOブースとマイクロマシンセンターブースの両方で、パネルとPCによるデモンストレーションを行い、多くの来訪者から好評と更なる内容の充実・拡張を期待するご意見を頂きました。

「FineMEMSプロジェクト」サイト

２．イノベーションアリーナN-MEMS
経済産業省によるつくば産総研におけるナノテクノロジーに関する研究開発拠点機能を強化する政策が実行段階に入っています。
強化項目には、ナノエレクトロニクスやパワーエレクトロニクスなどに加えN-MEMSも含まれてます。
特にMEMSの強化の方向性として研究・開発に加え、試作拠点としての機能も視野に入れ、マイクロマシンセンターはその具体化に積極的に参画しています。
積層集積化、大口径化と低環境負荷に視点を置いた最先端技術に加え、量産に移行できる試作ラインの重要性を踏まえ、検討中です。今後も、進展を見ながらご紹介していきまので、ご期待下さい。

成果発表会風景と「MEMSPedia」デモ風景

4

普及広報事業の動き
業、参加方法についてパネルでご説明するとともに、パソコンを設置して「MEMSモール」を体験していただきました。ブース訪問者のうち、特にビジネスチャンスを求めて来られた方々に、「MEMSマーケットの全体像を把握できた。」と好評で、MEMSモールへの出店を希望される方もおられました。
（４）MEMSファンドリーブース
マイクロマシンセンターのファンドリーサービス
産業委員会メンバーから構成される「MEMSファン
ドリーネットワーク」とWeb上ファンドリー利用受付サイトの「MEMStation」について、パネル展示とパソコン体験コーナーを設けてご紹介しました。多くの来訪者から更なる内容の充実・拡張を期待するご意見をいただきました。

１．第20回マイクロマシン／MEMS展出展報告
マイクロマシンセンターでは、総合イベント・マイクロナノ2009の第20回マイクロマシン／MEMS展にブース出展し、連日多数の皆様方のご訪問をいただきました。以下、その出展内容についてご報告します。
（１）20周年特別企画ブース
マイクロマシン／MEMS展の20周年を記念して、本展示会が第１回「産業用マイクロマシン展」から世界有数の総合イベント「マイクロナノ2009」にまで成長してきた歴史を振り返る年表「20年の歩み」を作成し、大型パネルでご案内いたしました。また、今回初めて「MMCコンシェルジュ」を試験的に実施しました。これは、展示会場内で目的の製品・技術をご案内するサービスで、実際に皆様方にご活用いただくことができました。

MEMSモールブース

MEMSファンドリーブース

２．MEMSモール参加費規定改訂
20周年特別企画ブース

マイクロマシンセンターでは、MEMSに関連する製品や技術をWeb上で紹介するMEMSモールをホームページ上に開設しております。本モールは、ここにアクセスすればMEMS産業全体の情報を入手できるMEMSビジネスポータルサイト化を目指すものです。
今回、一般の企業でマイクロマシン／MEMS展に出展されない方々にもさらに参加いただきやすくするため、2009年度中は参加費を割り引きし一律参加費（５万円）で募集することにいたしました。

（２）MemsONEブース
本ブースでは、昨年の展示会よりも規模を倍増して、ビデオ放映、パネル展示、パソコンデモ、パンフレット配布、MemsONEの無償貸出し等のサービスを行うとともに、商談コーナーを設置して大々的にPRを展開しました。おかげさまで来場の方々の関心は高く、現在、無償貸出ししたMemsONEのライセンス発行手続きが進んでおります。貸出しはもちろん機能制限無しのフルセットでのご提供です。お貸ししたソフトをまだ評価いただいていない方は、ぜひインストールしてライセンスをご請求ください。

マイクロマシン／MEMS展出展
（当年度）

出展
一般企業

５万円

MEMS協議会正メンバー

無料
無料
無料

同アソシエート（企業）

出展せず５万円（改訂*）同上（中小ベンチャー）
MEMSモール参加料金（税抜き）

無料
無料
５万円

なお、年度途中参加の場合の参加費は掲載開始から年度末までの掲載月数で按分致します。
＊マイクロマシン／MEMS展に出展されない一般企業の2010年度以降の参加費は、従来どおり10万円／１年間とします。

MemsONEブース（３）MEMSモールブース
本ブースでは、MEMSに関する製品や技術をWeb上で紹介する「MEMSモール」の詳細内容や参加企

5

技術研究組合BEANS研究所事業の動き「BEANSプロジェクト」成果・トピックス
BEANSプロジェクトでは５つのセンター（LifeBEANSセンター、Life BEANSセンター九州、3D（２）第３回BEANSプロジェクトセミナー
７月30日（木）13:10-17:00に特設会場Ｂにて開催

BEANSセンター、3D BEANSセンター滋賀、Macro

されました。NEDOの上原明理事、プロジェクトリ

BEANSセンター）およびBEANS研究所本部において、ーダーの遊佐厚所長の挨拶に続き、招待講演としてそれぞれバイオ融合プロセス技術、有機材料融合プ

東北大学江刺正喜教授から「MEMSの展望とBEANS

ロセス技術、３次元ナノ構造形成プロセス技術、宇プロジェクトへの期待」、日経マイクロデバイスの三宙適用３次元ナノ構造形成プロセス技術、マイク宅常之副編集長から「MEMS市場・技術最新動向」

ロ・ナノ構造大面積・連続製造プロセス技術の研究の御講演を頂きました。その後、サブプロジェクト開発および異分野融合型次世代デバイス製造技術知リーダーの東京大学の藤田博之教授より「BEANSプ識データベースの整備を進めています。これまでにロジェクトの構想と意義」について紹介頂き、続いTransducers2009をはじめとして国内外の学会に研究て各センター長など主要研究員（竹内昌治准教授、成果を22件発表するとともに、５件の特許出願を完

安達千波矢教授、杉山正和准教授、寒川誠二教授、了しています。また、その成果を広報普及するため、木股雅章教授、伊藤寿浩グループ長）がそれぞれ中

７月29日〜31日に開催されましたマイクロナノ2009

心課題に絞り込んでプロジェクトの成果について分では第20回マイクロマシン／MEMS展で出展するとかりやすく紹介しました。休憩時間のない長時間のともに第3回BEANSプロジェクトセミナーを開催し連続講演でしたが、200人収容の会場は超満員で立ちました。さらに、記者発表等を行い、新聞や雑誌等見での聴講者も多くおられました。に掲載されるとともにテレビ放映もされました。こ
こでは、「BEANSプロジェクト」成果・トピックスとして、マイクロナノ2009の内容および記者発表内容に関して報告します。

１．マイクロナノ2009
会場風景（開会の挨拶：遊佐（１）第20回マイクロマシン／MEMS展
各センターの研究開発成果をポスターおよび現物厚PL）

２．記者発表内容のデモ展示等で紹介しました。説明の難しい中性粒
子ビームエッチングや超臨界製膜技術に関しては模

（１）
「光る耳！
？〜体内で光る血糖値センサの開発」

型を作って原理・法則を「見える化」して分かりや６月19日にLife BEANSセンターから記者発表が行すく説明しました。また、有機デバイスを搭載した

われ、マスコミ12社が参加しました。NHKとフジテ

機能スーツや機能性繊維を織って作ったタッチセン

レビジョンではTV取材も同時に行い、その夜のニュ

サ布のデモによりBEANS技術の展開イメージを分かースやインターネットで配信されました。

りやすく紹介しました。さらに、通路に面する側に血糖値に応じて光の強度を変化させるハイドロゲ

はBEANS本部の全体紹介、内側にはプロジェクトにルを微細加工し、直径100ミクロン程度に揃ったビー

参画する研究員全員のプロフィールを中心に九州、ズを作製することに成功し、さらに、これらのビー滋賀、つくば、駒場にある各センターの位置づけをズをマウスの耳に埋め込み、写真のように蛍光を観紹介しました。シンボルの豆とグリーンの色調でゾ察することが可能になりました。また、周辺のブドーニングされたブースは連日超満員で、熱心な質疑

ウ糖の濃度に応じて変化するビーズの輝度を体外か応答が行われました。

ら計測することもでき、将来の体内埋め込み型血糖値センサにつながる技術といえます。

BEANSブース外観

埋め込まれた蛍光ゲルビーズにより光るマウスの耳機能スーツデモ

6

BEANSプロジェクトのセンター紹介（前篇）
１．Life BEANSセンター（東大）

２．３D BEANSセンター（東大）

健康・医療・環境分野で、将来必要とされているMEMSデバイスとして、常時健康管理のための体内埋め込みデバイス、超高感度オンサイト予防・診断
デバイス、環境改善および保全のためのオンサイト環境制御デバイス、環境エネルギー有効活用のためのエネルギーハーベスティングデバイスなどが挙げられています。
これには、従来のMEMSで用いられていた材料に、バイオ・有機材料（生体分子、細胞、組織、微生物や合成有機分子）が持っている魅力的な機能を融合させるプロセスが必要不可欠となります。
そこで、本センターには、MEMS分野で活躍されているメンバーに加え、医療系企業からの研究員、再生医療、タンパク質などのバイオ分野で活躍されてきた研究員、大学病院のドクターらが集合し、日夜、異分野融合のため、熱く研究に取り組んでいます。
そのかいもあり、BEANSが始まってまだ１年足らずですが、細胞人形や蛍光ゲルビーズなど、報道メディアに取り上げられるほどに、魅力的な研究成果が続々と生まれてきています。研究設備の充実も継続的に図られており、これまで以上に魅力的な成果の種となる研究が着々と進んでいます。
10月からは更にメンバーが増える予定となっています。今後、ますますパワーアップしていくLifeBEANSセンターにご期待ください。

3D BEANSセンターは７企業、４大学、１研究機関で構成されており、他のセンターと比べましても企業出身者が多いことが特徴であるといえます。半数以上を占める企業出身者は今まで慣れ親しんだ企
業での環境、文化とはかけ離れた生活を強いられましたので、1年間をかけて徐々に大学側の文化や風土に慣れてきたというのが本音かもしれません。またBEANSプロジェクト発足年度である昨年度は、クリーンルームの施工などの実験室整備や装置立ち上げなど、研究とは程遠い業務が多く、本来の業務である研究になかなか手がつけられないという場面が多々見受けられましたが、今ではそれも一段落し自前で加工をおこなう設備環境が整いました。現在は遅ればせながら、一歩ずつではありますが着実に成果が出ておりますので今後の活躍にご期待ください。
また3D BEANSセンターは研究分野が半導体プロセスとして根幹をなすエッチング、製膜などの研究を行っているためか、他のセンターからのニーズが高く、共同研究テーマが既に生まれており、今後も更に増えていくものと考えられます。低損傷ドライエッチング技術や超臨界製膜技術はLife BEANS九州の有機製膜技術との融合がすでに開始されております。低損傷ドライエッチング技術をLife BEANS九州の有機製膜技術に応用することでこれまでにはない３次元構造が形成されることがわかっており、新たなプロセスができる可能性が見えてきました。研究を加速すべく有機膜をエッチングするための専用の装置を近々Life BEANS九州に設置する予定であり、装置立ち上げのため3Dの研究員が九州に赴くことになっております。また超臨界製膜技術でもLife
BEANS九州の持つ特異な有機膜を製膜するための研究が着々と進行しております。更には居室が同室であるLife BEANS東大とは今まで研究以外の分野では連携しておりましたが、今年度に入り共同研究テーマが提案されるなど、BEANSの目指すべき姿である異分野融合が着実に進んでおり、3D BEANSセンタ
ー東大は今後も異分野融合の架け橋となるべく邁進していきたいと思います。

Life BEANSセンターで行われている研究開発（１）ナノ界面融合プロセス技術
生体適合性、特異的分子認識能、高効率多段階反応能、高効率エネルギーハーベスティングなどの機能活用のため、材料の配向や選択的配置、固定化、高密度被覆を実現する界面制御プロセスを開発する。
また、生体適合性の高いハイドロゲルや人工脂質２重膜などの長期間安定形成プロセスを研究開発する。
（２）バイオ・有機材料を構造化することで高次の機能を発現するプロセスを確立する。自己組織化能を利用した細胞の３次元へテロ組織化プロセスなどのプロセス技術の再現性、均一性への技術指針を得る。

7その他

平 マ
成 イ
二 ク
十 ロ
一 ナ
年 ノ十 第月 六
二 十
十 九六 号
日発
行

賛助会員・組合員等の活動紹介

株式会社 進映社
1．株式会社 進映社の事業概要
株式会社進映社は1963年よりフォトマスク専業メーカーとして46年間企業理念「各ユーザーの要望に100%すぐ応える」の下にマスク製造を行い、大学研究機関、企業開発研究機関及びエレクトロニクス企業をお得意先として、微力ながら産業界に貢献してまいりました。
2009年３月に（財）マイクロマシンセンターの賛助会員に加入し、2009年７月にはマイクロマシン／MEMS展にMEMS用超精密フォトマスクを展示致しました。
オンリーワン商品を目指して常に開発を続けています。

平成
二十一
年
十月
二十二日
印
刷印
刷所

2．取扱製品・2 、4 、5 、6 、7 、8 、9 から、最大サイズ２m×2.5mの超精密フォトマスク製造
・MEMS、薄膜IC、原版IC、MPU、パッケージ基板及び電子部品超精密フォトマスク
・プリント基板用フォトマスク、リードフレーム
・薄型テレビ等FPD用フォトマスク

タカラ
印
刷
紙工株
式会社

3．フォトマスク技術
弊社は各種サイズのフォトマスクの製作に必要な描画機10数台ならびに検査、修正装置を保有しており、最近、従来から保有する「VIOLD」に加え、米Applied Materials（Etec Systemsを買収）のレーザー描画装置「CORE」をはじめとするハイレゾリューションクロムマスク製造ラインを相模原事業所（神奈川県相模原市）に導入しました。COREはArイオンレーザー（波長363.8nm）を搭載。最小0.6μmラインが描画でき、線幅精度も±0.05μmまで作製致します。
MEMS向けでは線幅3μm以上のフォトマスクは既存の「VIOLD」、それ以下のハイレゾリューションマスクは「CORE」で描画、これにより半導体用レチクルを用いてきたMEMS業界にリーズナブルなフォトマスクを提供して参りますのでMEMSデバイスの開発、生産にご活用戴きたいと考えております。

【お知らせ】
このたび、財団法人マイクロマシンセンター及び技術研究組合BEANS研究所の理事長につきましては、「野間口 有」（三菱電機株式会社取締役）から、「作田 久男」（オムロン株式会社代表取締役社長）に交代いたしました。今後ともよろしくお願い申し上げます。
なお、新任挨拶は、新年の挨拶と併せまして、新年号において掲載させて頂きますのでよろしくお願い致します。

発 行
財団法人 マイクロマシンセンター

技術研究組合BEANS研究所

発行人 青柳 桂一〒１０１-００２６ 東京都千代田区神田佐久間河岸６７ MBR９９ビル６階
TEL.０３-５８３５-１８７０ FAX.０３-５８３５-１８７３
wwwホームページ：http://www.mmc.or.jp/

発行人 青柳 桂一〒１０１-００２６ 東京都千代田区神田佐久間河岸６７ MBR９９ビル６階
TEL.０３-５８３５-１８７０ FAX.０３-５８３５-１８７３
wwwホームページ：http://www.beanspj.org/lab/
無断転載を禁じます。