J. Plasma Fusion Res. Vol.90, No.9 (2014)５
５２‐５６０講座 今日からはじめる磁場閉じ込めプラズマ実験

２．プラズマ容器を真空にひくよ！
2. Let’s Start to Pump Down a Vacuum Vessel !
岡本敦

OKAMOTO Atsushi
東北大学大学院工学研究科（原稿受付：２
０
１
４年５月７日）プラズマ実験のための真空容器について説明する．プラズマ生成用のガスを入れない状態で 10−6−10−4 Pa程度の圧力環境を構築し，プラズマ生成用のガスを注入することで 10−3−101 Pa 程度の圧力を維持する真空容器・真空排気システムを想定している．また，特徴的な寸法が 1 m 程度の真空容器を念頭に置いている．真空容器と真空ポンプおよびそれらを接続する排気マニフォールドの設計や選定に必要となる，排気速度やコンダクタ
ンスの概念，排気流量やガス注入量の概念について説明する．ポートやフランジの構造についても説明する．
Keywords:
vacuum, conductance, pumping speed, turbo molecular pump, oil rotary pump, valve, flange２．
１ はじめに文献［１］など真空工学の教科書を参照されたい．また，ハン磁場閉じ込め核融合を目的とした高温プラズマの維持でドブックとして文献［２］が市販されるようになった．各真は放射損失を抑えるため高真空を維持しなければならな

空機器メーカーの総合カタログも規格や仕様を調べるため

い．そもそも，プラズマ実験を始めるためには，実験室でに重宝する．最低でも一社の総合カタログは読破すること

プラズマを生成しなければならない．どのような生成・加をお勧めする．プラズマ・核融合学会誌では，講座「プラ熱法であれ，電子衝突電離でプラズマを生成するためにズマ実験入門」においてプラズマ実験に必要な真空工学には，電子が電離エネルギー以上にまで加速されるべく平均

ついて簡潔に纏められている［３］．また，講座「プラズマ装

自由行程が十分に長くなければならない．そのため，一般

置の真空工学・排気技術」では様々な装置における実例が的なプラズマ実験では真空環境を作り出すことが実験の第各章ごとにまとめられ，参考になる［４］．

一歩と言える．本章ではプラズマ実験に必要な真空環境の

２．
２ 真空排気システムの構成

作り方について解説する．
圧力が低い状態は高真空，さらに低い状態は超高真空とプラズマ実験用の真空容器は，概ね真空容器本体，排気呼ばれる．精密なビーム実験とは異なり，プラズマ実験でマニフォールド，真空排気装置（真空ポンプ），ガス注入機

は超高真空環境を要求しない．さらに放射損失を抑えて高器，バルブ，圧力測定機器（真空計）などから構成される．

温プラズマを維持するのでなければ，実験に必要な真空環
境は比較的容易に整備できる．プラズマ生成前のガスを入れない状態で 10−6−10−4 Pa（10−8−10−6 Torr）程度の圧力に到達するのが目安となろう．真空工学の観点からみたプラズマ実験の特色は，前述の圧力まで容器を減圧した後にガスを注入し 10−3−101 Pa（10−5−10−1 Torr) 程度の圧力を維持した環境でプラズマを生成することにある．容器の寸法や構成機器の性能等を検討する上で，この特色に留意しなければならない．このような真空環境で特徴的な大きさが 1 m のオーダーの真空容器を有する真空排気システ
ムを念頭に解説する．次節で真空排気システムの構成につ

図１

いて概論を述べた後，２．
３節以降で各々の構成機器について詳細を解説する．
本講座でカバーしきれない内容について参考文献をあげておく．プラズマ実験に限定されない真空技術については真空容器と真空排気システムの概念図．（a）
典型的な直線装置の例，（b）
典型的なトーラス装置の例．VV：真空容器，
GV：ゲートバルブ，TMP：ターボ分子ポンプ，FV：フォ
ア ラ イ ン バ ル ブ，LV：リ ー ク バ ル ブ，RP：油 回 転 ポ ンプ，PG：圧力ゲージ．（b）
ではガス注入弁より上流とター
ボ分子ポンプより下流を省略して示す．

Tohoku University, Sendai, MIYAGI 980−5879, Japanauthor’s e-mail: atsushi.okamoto @qse.tohoku.ac.jp

５５２!2014 The Japan Society of Plasma
Science and Nuclear Fusion ResearchLecture Note

2. Let's Start to Pump Down a Vacuum Vessel!

表１

これらの構成機器の典型的な接続を図１に示す．真空容器
本体は実験を行う上で最も重要かつ最も特殊な構成要素である．特殊というのは，実験の内容や目的に応じて適切な

代表的な材料の気体放出速度［２］．気体放出速度の単位は
Pa m3s−1m−2 である．明記なき場合には室温測定，大気圧からの排気１
０時間後の値．

材料
ステンレス鋼
銅（無酸素銅）
アルミ合金
アルミ合金
真鍮
ガラス
石英ガラス
バイトン
樹脂類

容器の形状や大きさが異なるため，一つとして同じ容器は存在しないということである．本章では真空環境を維持するための機器も含めた真空容器・真空排気システムの設計
および機器選定を説明する．一方，真空容器の詳細な形状や大きさはプラズマ生成・加熱手法の相違，計測手法の相違などに依るところも多い．プラズマ生成・加熱法や計測法に依存する各論は割愛する．
排気マニフォールドは真空容器本体と真空ポンプを接続

A. Okamoto

気体放出速度
4×10−82−4×10−8
0.9−3×10−7
0.9−2×10−6
4×10−5
0.8×10−6
5×10−93×10−4
1−10×10−4

備考
SUS304［５］［６］A5052［７］A6063［８］
［９］
［１
０］
［２］
［１
１］
５時間後［２］する構成要素である．一般的に外部磁場を印加可能な実験装置では，磁場コイル間隔より真空ポンプの寸法が大きい
ことや，強磁場環境下では真空ポンプが運転できないことと材料の選択肢はステンレス鋼（SUS）かガラスが一般的などから，真空容器本体と真空ポンプを離して設置する．

である．代表的な材料の気体放出速度を表１に示す．ゴム

そのため，両者を接続する配管である排気マニフォールドや樹脂はガス放出が多く真空容器内で多用すべきではな

が必要となる．無磁場の実験装置ではターボ分子ポンプをい．金属であっても真鍮のように表面からのガス放出が多直接真空容器に設置することもある．またクライオポンプ

い材料もあり注意が必要である．また同じ材料でも表面処等のように真空容器に直接設置して使用するポンプもあ理でガス放出が異なってくる．清浄な表面からのガス放出

る．これらの場合には排気マニフォールドは不要である．

は SUS で 10−8−10−7 Pa m3s−1m−2 程度［２］となる．これはガス注入機器は実験に必要な動作ガスを真空容器内で所

表面積 1 m2（直径 0.3 m，長さ 1 m の円筒や１辺 0.4 m の立定の圧力に維持する構成要素である．動作ガスの圧力はガ方体に相当）の真空容器を排気速度 0.3 m3/s（300 l/s）で排ス注入量と排気速度のバランスで決まる．残留している不気すると，到達圧力は 10−7 Pa 程度であることを意味する．

純物ガスの密度を下げるために真空ポンプは最大の能力でしたがって実験の目的や内容から真空容器の寸法と実験前使用し，供給する動作ガスの量を制御ノブとして圧力を制

到達圧力が定まると，必要な真空ポンプの排気速度を見積御するのが一般的である．

もることができる．ただし，ポンプの機種選定前には後述
する排気経路のコンダクタンスと排気流量の検討が必要で真空容器および排気システムにはいくつかのバルブが設ある．

けられている．多くのバルブは全閉と全開のいずれかの状態で運用する．これらはガス供給や排気の機器を仕切る位コンダクタンスは管状容器内の気体の流れやすさを表す

置に設置され，複数系統の切り換え・連係動作を担う．流量である．図２のように圧力がそれぞれ $"，$#（"$"）の量を調節するために開度を連続に変えられるバルブも一部

大きな２つの容器を管状容器で接続した時に，管状容器をに用いることがある．

流れる気体の流量 "と管状容器のコンダクタンス !には

圧力測定機器は，実験前の真空容器の状況（残留ガス，，"#!$$#!$"%

漏れ）を監視するため，実験条件の一つである動作ガス圧（１）

力を測定するため，適切で安全なメンテナンス作業のための関係がある［１］．これは到達圧力を $"#!にできる理想に用いる．測定原理により測定可能な圧力範囲が異なるた的な真空ポンプを用いても実効排気速度がコンダクタンス

め，これらの目的に応じて数種類の真空計を組み合わせてで制約され，真空容器本体の圧力は $#までしか下がらない設置する．バルブで区切られた領域ごとに設置するだけでことを意味する．したがって排気マニフォールドのコンダなく，後述するコンダクタンスを考慮して，一つの真空容

クタンスが小さくならないように気をつけなければならな

器内でも複数の位置に真空計を設置することがある．

い．真空ポンプの排気速度 #はコンダクタンスと同一の次元をもつこと，直列要素 !"，!#の合成コンダクタンスは!
!#で与えられることから，排気マニフォー
!
!#"
!
!"""
"

２．
３ 真空容器の概念設計
プラズマ実験を開始するにあたって，まずは真空容器を

ルドのコンダクタンスはポンプの排気速度程度が目安であ

用意しなければならない．前述の通り実験の内容や目的にる．ターボ分子ポンプに接続される排気マニフォールド内

よって真空容器の形状や大きさは異なってくる．したがっ

部では気体分子の運動は分子流領域となっているとみなせて，真空容器の設計は実験者のひとつの腕の見せ所でもある．本節ではプラズマ生成と真空工学の観点から真空容器の概念設計について説明する．
まず真空容器の本体について，検討する．材料は１気圧程度の応力に耐えうること，緻密でガス透過性に乏しいことなど，真空容器として適するものを選択する．特に制約
図２がないのであれば，加工の容易さやコストなどを考慮する
５５３

コンダクタンス C と流量 Q の関係を示す概念図．

Journal of Plasma and Fusion Research Vol.90, No.9 September 2014

る．半径 #で長さ "の直管の分子流領域におけるコンダクを例として示す．図３（a）に示す形状の真空容器においてタンスは以下の式で与えられる［１］．

圧力を測定するとともに，真空容器を図３（b）のような圧

'&．
!##%
!! "
# "

力 &% の小部屋と小部屋をつなぐコンダクタンス !%の配管の集合とみなして圧力分布を計算した．計算は分子流を仮（２）定している．圧力分布の実測値と計算結果を図３（c）に比

"
ここで %
$
'$
'&
$'は速度の絶対値の平均である．速
#
!!
! '

較する．両者はよく一致するとともに，細長い真空容器内度に比例するため同じ温度では分子量が小さい気体ほどコで軸方向に圧力分布が形成されていることがわかる．このンダクタンスが大きい．例えば直径 0.1 m 長さ 1 m の場合，実験装置は直径が細い領域が石英管で構成され外側にアン

室温の水素分子に対しては 0.3 m3/s（300 l /s）程度となる．

テナを巻いてヘリコン波プラズマを生成する．生成部のガ

まずはすべて直管とみなして，内径と長さの異なる直管のス圧力を比較的高圧に維持しつつ，それ以外の領域で中性直列接続として概算することを勧める．排気マニフォール

粒子の影響を抑制する，という機能がコンダクタンスの制

ドは太く，短くすべきであることが実感できるはずであ御で実現できている例でもある．この実験装置では，オリる．詳細には文献［２］に様々な形状に対するコンダクタン

フィスを設置することでプラズマ生成部のガス圧力に大きスの表式が記されているので参考にすることができる．

な影響を与えることなく下流のガス圧力を独立に制御する

同様に，真空容器の一端から動作ガスを供給し他端から試みも行われた［１３］．

排気する場合には，真空容器自体のコンダクタンスにより

排気流量［１］（排気量［２］ともいう）は単位時間に系から動作ガス圧力に勾配が生じることにも留意しなければなら排出できる分子数に相当し，真空ポンプの性能において排ない．両端に真空ポンプを有する直線装置［１２］の圧力分布

気速度とは異なる指標である．それぞれの次元を SI 単位系
における単位で表現すると，排気速度［m3s−1］に対し排気流量は［Pa m3s−1］となる．プラズマ実験のための真空の特徴は，（大気圧と比べると桁違いに低圧力であるものの）実験前到達圧力より数桁高い圧力を維持して実験を行うことにある．したがって実験中の主たる排気ガスはプラズマ生成に用いた動作ガスであり，圧力を一定に維持するためには注入した動作ガスと等量を排気しなければならない．
これは僅かな残留ガスを排気して超高真空を維持するビー
ムラインを用いた粒子ビーム実験などとは異なった特徴である．排気流量を確保するように真空ポンプの機種選定をすると，排気速度はマニフォールドのコンダクタンスで制限されるために見かけ上オーバースペックとなることもある．

２．
４ 真空ポンプの選定
真空ポンプの種類と適用圧力範囲を図４に示す．様々な種類のポンプが存在するが，冒頭に記したように本章の扱う 真 空 は，「プ ラ ズ マ 生 成 前 の ガ ス を 入 れ な い 状 態 で10−6 −10−4 Pa 程度」，「ガスを注入し 10−3 − 101 Pa 程度」
であるため，詳細についてはターボ分子ポンプとその補助ポンプとして用いられるロータリーポンプを中心に説明する．
高真空領域の真空ポンプの中ではターボ分子ポンプが取り扱いや総合的な性能の面で優れている．ターボ分子ポン

図３

直線装置 DT-ALPHA におけるガス圧力分布．（a）
装置概念
図．内径 d と長さ L の単位は m で示す．×は圧力 pn を計算した位置を，PGn は圧力ゲージで実測した位置を表す．
（b）
計算に用いた真空容器の構成．（c）
装置内ガス圧力の軸方向分布の実測（○）と計算（×）
の比較．

図４

５５４

真空ポンプの種類と適用圧力範囲．

Lecture Note

2. Let's Start to Pump Down a Vacuum Vessel!

A. Okamoto

プは高速で回転する翼と固定された翼の組み合わせで分子に排気口方向の運動量を与えることで排気する．回転数は20000−90000 rpm 程度である．気体分子同士が互いに衝突しない分子流領域での動作が原則である．ポンプの吸気口では十分に低圧力で分子流領域であっても後段に進むにつれて圧縮され圧力が上昇する．ターボ分子ポンプの排気口
圧力（背圧）は後述のようにロータリーポンプの排気速度が低下する領域にある可能性がある．その場合，結果的に十分な排気流量を得られないこともある．解決策として
ターボ分子ポンプとロータリーポンプの中間にメカニカル
図５ ロータリーポンプ の排気速度と圧 力．排 気 速 度 300 l /min，
到達圧力 0.1 Pa 相当の関係を概念的に示す．

ブースターポンプを設置することもある．また排気流量を確保するために後段の構造を改良した製品も存在する．これは実効的に（旧来の）ターボ分子ポンプとメカニカル

例えば図５に示すような特性の公称排気速度 ""300 l /min

ブースターポンプを組み合わせた製品ととらえることもで程度，到達圧力 0.1 Pa 程度のロータリーポンプについて考きる．近年市販されている吸気口径 100 mm 程度のターボ

えてみよう．まず大気圧からの排気に必要な時間を見積

分 子 ポ ン プ の 仕 様 を 表２に 示 す．排 気 速 度 0.3 m3/s

もってみる．大気圧下の排気流量は !"$""600 Pa m3/s

（300 l /s，市販品の仕様表では l /s 単位が慣用されている）

程度であり体積 #"0.07 m3（直径 0.3 m 長さ 1 m の円筒や程度の製品が１００万円程度の価格帯で販売されている．プ

１辺 0.4 m の立方体に相当）の容器を $"100 Pa 程度の圧力

ラズマ実験の用途では吸気圧力の下限（到達圧力）よりもまで排気するのに要する時間は%"80 s 程度となる．この圧

吸気圧力の上限と最大流量に着目したほうがよい．また従力領域では排気速度は圧力に依らないため，以下の簡単な

来は取り付け 方 向 が 指 定 さ れ る 製 品 も 多 く，排 気マニ

微分方程式の解として得られる．

フォールドを曲げて方向を合わせてきたが，近年では取り

#$
!$!
!%
%
"!$"．

付け方向が任意の製品が増え，最短のマニフォールドで設置できるようになった．

（３）

この先，圧力減少とともに排気速度も低下するが，ターボ

油回転ポンプ（ロータリーポンプ）は大気圧から排気が分子ポンプが動作可能な1 Pa程度までも実用上問題ない時

可能な真空ポンプであるため，真空容器の粗排気やターボ間で到達可能である．ターボ分子ポンプが起動してその補分子ポンプなどの補助ポンプとして，広く用いられてい助ポンプとして使用しても，プラズマ生成のガスを注入す

3

3

る．排気速度 0.006 m /s（300 l /min，20 m /h，市販品の仕る前の状態では特に問題は生じない．真空容器のガス放出

様表では l/min または m3/h 単位で表記されるものも多い）!"10−7 Pa m3/s は排気流量の限界に比べると非常に小さ程度の製品が３０万円程度の価格帯で販売されている．表２な値であるためである．

によるとターボ分子ポンプの背圧は100 Pa程度以下でなけ

一方で，背圧 100 Pa 程度のターボ分子ポンプの補助ポン

ればならない．一方で，ロータリーポンプの到達圧力はプとして用いた場合，排気速度は大気圧の場合とそれほど0.1 Pa 程度であるため，超高真空を維持する目的の排気シ変わらないものの，排気流量は３桁低下して 0.6 Pa m3/s

ステムではロータリーポンプの性能はそれほど重要視され（＝360 sccm）となる．sccm は１分間あたりの１気圧換算

ない．ところがプラズマ実験では大量の動作ガスを排気すした容積（standard cubic centimeters per minute）を表する必要があり，ロータリーポンプの選定に注意を要する．

単位である．実験時のガス注入量は 0.01−1 Pa m3/s の程度

ロータリーポンプの排気速度は大気圧に近い領域ではほぼが一般的であり，条件によってはガス注入量が排気流量を一定であるが，到達圧力に近い領域では圧力が下がるにつ超えてしまう可能性もあるため注意が必要となる．このよれて低下する（図５）．ターボ分子ポンプの補助ポンプとうな観点からロータリーポンプは排気速度に余裕があるもして用いると，この排気速度が低下した領域での動作を求のを選定したい．

められる．

ロータリーポンプの使用上の注意点として，油で真空容
表２ターボ分子ポンプの仕様。寸法と取り付け姿勢以外は窒素（N2）に対する値を示す．

型番

吸気口内径
（mm）

TURBOVAC361
MAG W300
HiPace400
ATH500M
TG350F
PT-300
FT-480W
TMP-303

１
０
０
１
０
０
１
０
０
１
０
０
１
０
０
１
０
０
１
１
４
１
０
０

排気速度
（m3/s）
0.35
0.3
0.36
0.3
0.33
0.3
0.35
0.32

吸気圧力範囲（Pa）
1×10−8 − 510−8− 2
5×10−8 − 10
1×10−6 − 100
1×10−6 −10−8− 0.13
10−7
− 76
10−8
−

５５５

最大流量
（Pa m3/s）
0.3
1
0.65
5
0.9
1.6
200

排気口圧力
（Pa）
#50
#800
#1100
#170
#260
#13
#440
#400

取り付け姿勢
任意

任意
任意

任意

Journal of Plasma and Fusion Research Vol.90, No.9 September 2014

器を汚染しないことに留意しなければならない．リークバ

ス放出の影響が無視できる状況では，供給ガスの流量を増

ルブとフォアラインバルブを図１（a）のように設置し，運やすのではなく，排気流量を制限して高圧力側へ実験領域

転停止時にはターボ分子ポンプとロータリーポンプの間をを拡張することもある．その場合には，排気マニフォール

閉じ，ロータリーポンプの吸い込み口は大気圧に戻しておドの途中にコンダクタンスを調整できるバルブを挿入してく．これにより油が逆流するトラブルを防ぐことができ

おく．バタフライバルブが一般的であるが，全開と全閉とる．良好な真空環境を得るためには，さらに運転中に油のの中間の状態を維持できるゲートバルブを用意してもよい．

分子がターボ分子ポンプや真空容器へ付着することを防止

パルス的にガス注入する機器も存在する．バルブ入口のすべきである．ロータリーポンプの到達圧力は油の蒸気圧

圧力（プレナム圧）が一定の場合，バルブが開いている状と近いため，ロータリーポンプの単独排気を長時間続ける

態の時間により注入される気体分子数が定まる．ガスパフと油分子が容器内に充満する．動作可能な圧力ではターボと称して大型磁場閉じ込め装置のガス供給に用いられるこ

分子ポンプを積極的に運転し，ロータリーポンプ吸気口圧とがある．小型装置では放電持続時間の短い運転が行われ力を高めるとともに油分子の真空容器への流入を防ぐべきることもあり，注入したガスが真空容器内で一様に分布すである．ロータリーポンプの代替として，潤滑以外には油るように留意して実験する必要がある．例えば 大半径を用いないドライポンプも検討の価値がある．到達圧力'!0.48 m，放電持続時間10 msの東北大学ヘリアック装置

1 Pa 程度であり，価格は同じ排気速度のロータリーポンプ［１４］では，放電開始前に（１）全ターボ分子ポンプ吸入口のの２‐３倍程度である．

ゲートバルブ閉鎖，（２）パルス的なガス注入，（３）暫く待つ，の手順で封じ切った真空容器内に一様にガスが充満す

２．
５ ガス注入機器の選定る状態を維持し，プラズマ生成を行った．放電終了後は（４）ゲートバルブを開放し，排気しながら次の放電開始に備え一般的なガス注入法として，ニードルバルブとマスフ
ローコントローラーが挙げられる．ニードルバルブは，コた．手順（２）のパルス幅を調整することで再現性のあるガ

ンダクタンスが小さく，かつ，コンダクタンスを微調整でス圧力制御を実現した．

きる機構を有 す るバ ル ブ で あ る．真 空 容 器 内 の 圧力が)""1 Pa 程度なのに対しバルブ入口の圧力は )#!105 Pa

２．
６ ポートの構造程度であるため，ニードルバルブのコンダクタンスを #前節まで周辺の真空機器について説明を行った．ここでとすると，式（１）において )"#!とみなされる状態にあ

再び真空容器本体に着目し，詳細設計，組み立て，および，

る．したがってコンダクタンスを微調整することで，ガス実験の効率化の観点から，ポートの構造について考える．

流量 & を制御することができる．副尺つきマイクロメー

ほとんどのプラズマ生成手法では，真空容器にポートを設

ターヘッドを手動で調整する製品が市販されており，簡便

けて，ポートを通じてプラズマ生成用の機器を設置する必かつある程度の実用性を有する．原理上，ガス流量の再現要がある．例外はガラス製チャンバーと高周波電力による性はマイクロメーターヘッドの調整精度だけでなくバルブ

プラズマ生成の組み合わせのみだろう．またプラズマ計測

入口圧力にも依存することに留意しなければならない．

のためにも（ガラス製チャンバーと分光計測の組み合わせ

マスフローコントローラーは，電気的に制御可能なコンを除いて）ポートが必要となる．様々なポートの構造につダクタンス調整機構とガス流量計を有し，かつ，流量計かいて図６に示す．ポートの仕様は，図６（a）に示される開口らフィードバックすることで一定流量を維持できる機器で部大きさ !，フランジまでの距離 "，開口部形状 #，フラある．したがって，入口圧力がある程度の範囲で変動してンジ規格 $，フランジ法線ベクトル %，でほぼ決まる．

も，真空容器へ供給するガス流量を一定に保つことができ当該ポートの使用目的や取り付け機器が明確であれば，る．コンダクタンス調整のアクチュエータにはピエゾ素

開口部大きさはあまり悩むことなく決められる．流通して子・ソレノイド・熱膨張素子などが用いられる．微量流量

いるほとんどの真空フランジの規格は形状が円形のため開（最大流量 1 sccm など）の制御にはピエゾ素子が用いられ口部の形状も円が一般的である．しかし特殊なフランジをる．ソレノイドを利用した本体価格１０万円程度から入手用いることを前提にすれば，レーストラック形状（図６

できる製品もある．流量は sccm 単位で表示している製品（b）），長方形（図６（c）），平行四辺形等の開口部も選択肢も多い．100 sccm＝0.17 Pa m3/s である．マスフローコンとしてあり得る．なるべく大きなポートを確保したい一方

トローラーを用いる場合，実験で必要とする動作圧力の範で磁場コイルの陰に隠れるのを避けるために，これらの特囲と真空排気システムの排気速度を基に，注入ガス流量の殊な形状のフランジが用いられる．

範囲を定める．最大流量 &!100 sccm のマスフローコント

フランジまでの距離には２通りの考え方がある．一つはローラーと，排気マニフォールドも考慮した実効排気速度

図６（d）のように距離をなるべく短くして真空容器表面に($!150 l/s のターボ分子ポンプ（と十分な排気速度の補助

フランジが設置される構造である．フランジ面からプラズ

ポンプ）の組み合わせで最大 1 Pa 程度の動作圧力が達成でマまでの距離が短く，計測の立体角を広くとることができ

きる．マスフローコントローラーはダイナミックレンジがる．また磁場コイル内部で真空容器が自由に移動できるた

２桁程度のため，より広い圧力領域で実験を行いたい場合

め装置組み立ての順序の自由度が増す利点もある．磁場コには同一ガスに対して最大流量の異なる複数のマスフロー

イル内径と真空容器外径が近接する場合，真空容器表面にコントローラーを用意する必要がある．真空容器からのガ

フランジを設置してもフランジ締結のボルトの頭が磁場コ
５５６Lecture Note

2. Let's Start to Pump Down a Vacuum Vessel!

A. Okamoto

図６ （a）
円筒型真空容器の側面に配置されたポートの概念図．A，B ，C ，F ，N はポートの構造を特徴づける寸法，形状等．詳細は本文にて．（b）
レーストラック型ポートの例．（c）
長方型ポートの例．（d）
短いポートと磁場コイルの関係．（e）
長いポートと磁場コイルの関係．（f）
接線ポートが確保できない例．（g），（h）
接線ポートの例．
表３イルに干渉する可能性があり注意が必要である．また，磁場コイルの間隔が狭い場合には組み立ては可能でもその後のポート開閉作業が困難な場合もある．

主要な ICF フランジの寸法概略．明記なき寸法は mm 単位．
メーカーにより 0.1−1 mm 程度異なることがある．

呼称

もう一つは図６（e）のように距離を長く枝管のように伸

別称

外径 厚さ

ICF34 DN16CF 34
ICF70 DN40CF 70
ICF114 DN63CF 114
ICF152 DN100CF 152
ICF203 DN160CF 203
ICF253 DN200CF 253

ばした先にフランジを設置する構造である．この場合，磁場コイルの外側でポートの開閉作業を行えるだけの距離をとる．磁場コイル内径を最大限に利用した大口径の真空容器が設置可能で，また，コイル間隔を狭くして磁場強度を上げることができる．これらの特徴は磁場コイルのコスト

7.5
12.7
17.5
20
22
25

標準管 ガスケット
外径
内径
19.1
16
42.7
39
63.5
64
101.6
102
153
153
203
203

ボルト本数
−径×長さ
6-M4×20
6-M6×35
8-M8×45
16-M8×50
20-M8×55
24-M8×60

パフォーマンスの面で魅力的である．しかし，装置の組み立て順序や大気開放の作業手順と関連付けて検討する必要的である．表３に ICF フランジのうち比較的小型でよく用がある．

いられるサイズを示す．日本ではフランジ外径の呼び寸法

フランジ面の法線ベクトルがトーラス装置のトロイダルに基づく呼称が一般的であるが，輸入製品など接続可能な方向と一致するポート（いわゆる接線ポート）を設ける場

管の外径の呼び寸法に基づく別称を用いることもある．

合にも，ポートの構造は設計時の重要な検討事項となる．

図７（a）に ICF フランジの断面を示す．両側のフランジが磁場コイルの寸法によっては図６（f）のように半径方向を同じ形状のナイフエッジを有し，ガスケットをナイフエッ

向いたポートから斜めに管を延長してもトロイダルプラズ

ジで圧縮する．通常フランジが SUS 製で，ガスケットは無マの接線方向に視線を確保できないことがある．そこで真酸素銅製のものを用いる．ガスケットの外側側面がフラン

空容器本体の設計時に図６（g），（h）のように接線ポートをジの縁に押し当てられガスケットに働く圧縮応力でナイフ用意することになる．磁場コイルと真空容器の設置順序もエッジ斜面とガスケットが密着し封止される仕組みであ含めた装置の組み立てが可能な構造のポートを用意しなける．そのためナイフエッジが ICF フランジの要であり，損ればならない．

傷させてはならない．大型のフランジは比較的重量がある
ので着脱時に互いにぶつけないように注意しなければなら２．
７ 真空フランジの規格と構造ない．ナイフエッジ面を表に向けて置いてあるフランジの真空排気時の到達圧力を重視する装置では金属ガスケッ

上に工具を置くのも厳禁である．締結にあたって円周方向トを利用する規格のフランジを採用する．ICF 規格が一般に均等に圧縮するため，図７（b）に示すような離れた位置
５５７

Journal of Plasma and Fusion Research Vol.90, No.9 September 2014のボルトを順番に締める，いわゆる対角締めを行う．ICFの耐熱は高々２００℃程度なので，真空容器のベーキング処

フランジは締結トルク管理が必要，コストが高い等が難点

理，プラズマやプラズマ加熱源からの熱負荷に注意する．

にも思える．しかし，トルク管理に関してはトルクレンチ

またマイクロ波を利用する装置では O リングフランジからを使わずに手の感覚で締めても円周方向に均等に，かつ，の漏えいに留意する．

少しずつ締結トルクを増していけば，リークなく締結でき

主にガス注入系統など小口径配管の接続にはスウェージ

る．また，小型の装置では構造上そもそもトルクレンチがロック社のSwagelok!チューブ継手［１５］や同等品がしばし使えないポートもある．ICF ガスケットは金属製で１回のば用いられる．図８（b）のように内面にテーパーのついた

みの使用とされているため維持管理にコストがかかるが O

受けに対してパイプを突き当て，二種類のフェルールと袋リングでは得られない到達圧力のためと思えばさほど高価ナットで締める．容易に確実に漏れない接続ができ，特にではない．ICF ガスケットはサイズにもよるが１枚数百円

初回締め付けのトルク管理がナットの回転角度で判断できから数千円程度である．近年 IPD と呼ばれる種類のガスる特徴を有する．大気圧を超えるガスボンベ‐マスフロー

ケットが入手できるようになった．図７（c）のように従来コントローラー間の配管だけでなく，マスフローコントの ICF ガスケットに比べて厚く内径が大きい．ナイフエッ

ローラー‐真空容器間のいわゆる真空領域の配管継ぎ手とジの稜線に触れずに斜面による圧縮を利用するため数回のしても有用である．主に SUS 管の接続に用いるが，ナイロ着脱に耐えられる．またポートの有効径をガスケット内径

ンチューブを絶縁や取り回しの都合で利用することもできで制約されることがないため外径の大きな機器の導入に便る．詳細はスウェージロック社の製品カタログを参照され利である．ICF フランジは締結ねじ穴とパイプの隙間が狭たい．

いため，工具がその隙間に接触しないように注意して作業

ターボ分子ポンプとロータリーポンプの間など，大気圧する必要がある．例えばスパナでは図７（d）のようにボルから１Pa 程度までの領域の配管には，KF フランジ（NW

トに嵌め込む時には接触しないが回転するうちに接触する場合もある．
その他の円形フランジとして，O リングを用いたフランジが JIS 規格で定められていた．同程度の外径の管に対して ICF フランジと比較すると，フランジ外径が大きく，ボルトの本数が少ない．図８（a）のようにフランジの構造が対称ではなく，O リング溝を有する（VG）フランジと平面（VF）フランジの対で締結する．両者は外見で区別できな
いため，交換部品の手配には注意を要する．
特殊形状のフランジでは O リングによる真空封止が便利である．開口部に見合った適当な大きさの規格 O リングを選定し，片方のフランジにその O リングに適合する溝を加工すればよい．ポート側に溝を設けると，ガラスや石英板で封止して観測窓とすることもできる（図９）．O リング

図７

ICF フランジの構造と締結時の注意．（a）
ICF ガスケット使
用時のフランジ断面図．ボルト穴を除き回転対称な構造のため，一点鎖線で表した中心線より右半分のみを示す．
（b）
ボルト締結の順序．（c）
IPD ガスケット使用時の断面図．（d）
工具がパイプに干渉する例．

５５８

図８

その他のフランジの構造．ボルト穴等を除き回転対称な構造のため，断面図は一点鎖線で表した中心線より右半分のみを示す．（a）
典型的な O リングフランジの断面図．（b）
Swagelok!チューブ継手の断面図．（c）
KF フランジの二分割クランプ．（d）
KF フランジの断面図．

図９

特殊形状（長方形）フランジの例．（a）
東北大学ヘリアックの水平ポートと溝に取り付けた O リング．（b）石英板を用いた観測窓の取り付け．石英板と固定枠の間には石英板損傷防止のためテフロンシート（白色）を挟んでいる．

Lecture Note

2. Let's Start to Pump Down a Vacuum Vessel!

A. Okamoto

フランジとも呼ばれる，ISO 2861-1）規格が多用される．手のフランジの開閉程度かもしれない．しかし普段何気なく締め可能な二分割クランプ（図８（c））を用いるため，ク利用している真空容器や真空排気システムにも様々な工夫

イックカップリングとも呼ばれる．図８（d）のようにフラが施され，その結果として現在の実験環境が整っているはンジ面は平面で溝の代わりに O リングが負圧に吸い込まれずである．本章を読み終えたら実験室で装置を眺め直してないようにセンターリングを有する．比較的安価で組み立いただければ幸いである．
実験装置をゼロから立ち上げる機会が与えられた運の良てや分解も容易なため，グロー放電等ロータリーポンプのい読者には，本章の内容が真空容器の設計や機器の選定のみで実験可能な装置にも用いられる．

参考になれば幸いである．あとは各機器を組み立てていけ

２．
８ 設計上の留意点

ば，プラズマ実験のための真空環境が手に入るはずであ

ポート構造と真空フランジが定まると真空容器の詳細なる．しかし，その前に，紙面の都合で本章では扱わなかっ設計図を描くことができる．実験に使用する磁場コイルやた内容を列挙する．
!圧力測定機器の特徴と選定について

コイル支持構造物を考慮しながら，架台に対する真空容器の支持方法や，容器内外に機器を設置するための構造も検

ピラニーゲージとイオンゲージがあれば，とりあえ討しておく必要がある．精度を要する場合には平面の出てず圧力は測定できる．正しく測ることも良好な真空いるジグを溶接，そうでなければナットを溶接してもらう環境を得るために重要である．
!壁コンディショニングについてと便利である．
磁場の立ち上がり時に発生する誘導電流や高周波電磁場

真空容器壁のガス放出は表面の状態で大きく異ななどに起因するノイズを避けるために，真空容器の電気的る．特に水分子の除去にベーキングが有効である．

接地箇所を制限する場合もある．真空容器の支持方法を検またグロー放電等でプラズマを生成して表面を洗浄討する時に，絶縁して支持する設計にすると，その後のノする方法もある．
!漏れ探しについて

イズ対策が容易である．
真空容器が冷却配管を有する場合には，その取り回しも表面のガス放出で説明がつかない圧力の時間変化は検討しておく．真空容器壁の冷却の他，高熱流束に曝され微小な漏れ（リーク）による．ヘリウムやエタノー

るターゲットやアンテナ，マイクロ波透過窓などを冷却す

ルなどで漏れ探しをする．調べる順序や応答時間にる場合もある．磁場コイルの内側と真空容器の間隔が狭く注意することが重要である．
!高圧ガスの取り扱いについて

硬く曲げにくい水冷チューブの設置に苦労することもある．
図面が完成したら機械加工の業者に製作を依頼すること

たとえ不燃性であっても高圧ボンベの取扱いには注になるだろう．価格は数十万円から数百万円までその真空意が必要である．
!排気ガスの取り扱いについて

容器に何を求めるかで大きく変わるだろう．真空部品の製作を初めて取引する業者には打ち合わせの時に確認したほ

良好な真空環境を求めるならばロータリーポンプかうが良い事項がある．溶接と表面処理についてである．

ら排気される油蒸気が実験室に充満しないように対リーク無き真空容器の到達圧力は表面のガス放出と排気策を行いたい．もちろん毒性・可燃性気体の排気は速度のバランスで決まるため，到達圧力をどれだけ下げら

適切に行わなければならない．
!真空ポンプ運転のための電気配線についてれるかは，ミクロな表面積をどれだけ小さくできるかにかかっているといってもよい．ポート等の真空容器の溶接は特に大型のロータリーポンプは大電力機器であると「内側から」が基本である．溶接トーチの寸法や形状によっ

ともに定常運転が要求される．確実な配線でトラブては内側溶接を実施するために対向するポートが要求され

ルなき実験を目指したい．

ることもある．また，製作後の脱脂や電解研磨などの表面

いくつかの項目は以降の章で取り上げられるであろう．ま処理も依頼しておく．小さな部品と異なり研究室に納品さた文献［１‐４］も参照されたい．これらの内容もマスターしれた後で大きな真空容器の表面を洗浄するのは困難であ

たら，いよいよ真空排気開始である．そして望み通りの真る．電解研磨を行えばミクロな凹凸が減少し表面積が小さ

空環境が得られたら，次はプラズマ生成だ！次章へつづく．

くなる．

謝
２．
９ さあ真空容器を排気しよう―その前に―

辞

本章で用いた図の一部は JSPS 科研費２２７４０３５７，２４２４６１５２

本章ではプラズマ実験のための真空容器・真空排気シスの助成を受けたものです．

テムについて解説した．実験系の研究室に配属された学生

参考文献

であれば修了までにぜひとも身につけてほしい事項を中心に記述したつもりである．

［１］堀越源一：真空技術［第３版］（東京大学出版会，１９９４）．
［２］株式会社アルバック編，新版 真空ハンドブック（オー
ム社，２
０
０
２）
．
［３］赤石憲也：プラズマ・核融合学会誌 69, 452(1993).
［４］日野友明他：プラズマ・核融合学会誌 71, 575 (1995).

真空容器を設計製作する期間にその研究グループに所属
できれば運が良い．多くの研究グループでは，すでに整備された実験装置があり，本章で述べた内容のうち日頃の研究に直結するのはポンプやバルブの操作と大気開放作業時
５５９

Journal of Plasma and Fusion Research Vol.90, No.9 September 2014［５］Y. Koyatsu et al., Vacuum 47, 709 (1996).
［６］F. Watanabe et al., J. Vac. Sci. Technol. A13, 140 (1995).
［７］S. Inayoshi et al., J. Vac. Soc. Jpn. 41, 574 (1998).
［８］M. Suemitsu et al., J. Vac. Sci. Technol. A5, 37 (1986).
［９］J. Blears et al., Adv. Vac. Sci. Technol., ed. E. Thomas (Pergamon, 1960) Vol. 2, P. 473.

［１０］A. Schram, Le Vide 103, 55 (1963).
［１１］W. Beckmann, Vacuum 13, 349 (1963).
［１２］A. Okamoto et al., Plasma Fusion Res. 3, 059 (2008).
［１３］A. Okamoto et al., Plasma Fusion Res. 7, 2401018 (2012).
［１４］T. Zama et al., Jpn. J. Appl. Phys. 32, L349 (1993).
［１５］http:// www.swagelok.com/"!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!

コラム１

小リークと見て侮る勿れ"!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!

"!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!
真空を扱ったことのある人が「真空に関する苦労や失放電容器内にダストが発生する実験装置では，バルブ

敗で一番に挙げられるものは？」と尋ねられて真っ先にのシートリークも無視できないリーク要因です．これは思い浮かぶのが，真空リークに関することではないでダストがバルブシート O リングに乗ってしまうことで発しょうか．ここでは私が核融合科学研究所の LHD にお生するリークです．放電容器と計測・加熱機器の間のいて実際に見てきた真空リーク例を紹介します．

ゲートバルブにおいて発生してしまったことがありま

真空リークと一言で言ってもそのリーク量は大小さます．この場合，機器側を真空に保っておけば放電容器内

ざまです．超高真空状態でみつかる微小リークもあれに影響を及ぼすことはないのですが，機器側を大気開放ば，粗引きポンプを使っても排気できないようなものますることができません．バルブを二重にする，ダストがであります．大きなリークで代表的なものは，フランジ

溜まりやすい容器下側のバルブのメンテナンスを強化す

締めのケアレスミスです．例えば，片側がタップ付きフるなどの対策で回避することになりますが，重要なのはランジでボルト穴が貫通していない場合，使用するボル

こういうリークも起こり得ると知っておくことです．状トの首下長さが長過ぎてボルトの先端がボルト穴の一番

況によっては外からのヘリウムリーク試験でわからない

底に当たってしまい，フランジを完全に締めることがでこともあり，リーク箇所の特定に時間がかかってしまう

きなかったケースがあります．用意してきたボルトのこともあり得るからです．

１，２本が５mm 長いだけで大きなリークとなってしまいますので，全てのボルトの確認が必要です．

LHD では，リーク試験のために平均して２週間程度時
間を取っています．最初の５日間で大きなリークを探し

フランジ締めの基礎を過信したために発生してしまっ

た後，週末にベーキングをして圧力を下げ，次の５日間たリークがあります．あるメーカーの 窓 フランジは，フラで詳細なリーク試験を行うというものです．これまででンジのボルト締めを行う際に，対角線上での締め付け順

最も苦労したのは，ヘリウムをかけてからリーク反応を序で行うのではなく，円周方向での締め付け順序で行う

確認するまでに２時間以上かかるリークでした．リーク

ことを求めています．これは，窓材の曲げ強度が小さいのあった装置は細長いプローブ型の装置で，先端が窓にため，対角線上での締め付け順序で行ってフランジを反なっており，この窓のロウ付け部分でリークが発生してらせると，リークや窓割れが発生するからです．このこいました．大気側でヘリウムをかける場所からこの窓まとは窓の取扱説明書にも書かれているのですが，それをで５m ほどあり，しかもヘリウムの通り道には光ファイ

読まずに対角線上での締め付け順序でボルト締めを行っ

バ等が設置してあったため，ヘリウムがリーク箇所までてしまったため，同一メーカーの窓において数件リーク到達するのに時間がかかる構造となっていました．このを発生させてしまったことがあります．先ほど述べたボ

リーク箇所を特定するのに約１か月かかりました．

ルトが長すぎるために発生したリークでは，放電容器を

以上３つの真空リーク例と LHD リーク試験の苦労話

大気開放せずに数本のボルトを交換することで，真空排を紹介させていただきました．このコラムが皆さまの気を継続することができたのですが，この窓リークの場

リーク対策の一助になっていただけたら幸いと思います．

合は放電容器を大気開放せざるを得ませんでした．

（鈴木直之

核融合科学研究所技術部）"!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!
５６０

2. Let's Start to Pump Down a Vacuum Vessel!

しげる

稲 垣

滋

九州大学応用力学研究所教授．学生時代から磁場閉じ込めプラズマの実験に従事．最近実験室が手狭になってきた事を悩んでいます．少し前から owncloud を試しています．容量を気にせずにすむのでなかなか快適です．

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すず

き

なお

ゆき

鈴 木 直 之核融合科学研究所技術部装置技術課．LHD
実験開始当初より，LHD 真空容器の真空管
理，真空排気装置運転保守整備など真空に関わる業務に従事．最近は，真空ポンプから排出される排気ガスの処理に関連する業務も行っています．真空は核融合装置だけではなく，様々な分野での実験や製造，測定等に応用されていますので，知識やノウハウを得ることは必ずどこかで役に立つと思います．私も本講座をきっかけとして今一度学習してみようと思います．

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がき

もと

あつし

岡 本

おか

敦

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いな!!!!!!!!!!!!

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A. Okamoto

東北大学大学院工学研究科量子エネルギー工学専攻助教．中性粒子や高エネルギーイ
オンが共存するプラズマの実験研究に従事．
大学院生（HYPER-I），ポスドク（MAP-II），
現職（DT-ALPHA）と様々な装置で実験を行うも，全て直線型なのは愚直な性格によるものか．磁力線が曲がれば柔軟な発想が得られるかも，とトーラス装置の実験や解析にも興味を持ち始めている．

!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!

Lecture Note!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!

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