装置開発室 Equipment Development Center

ISSN 1880-0440

AnnualReport 2020

Equipment Development Center
自然科学研究機構 分子科学研究所
National Institutes of Natural Sciences(NINS)
Institute for Molecular Science【ミッション】「研究者にとって一番身近な技術者集団となる」【ビジョン】
・ 学ぶ ・ 挑戦 ・ 貢献 ・ リーダーシップ【バリュー】
・ 自然科学に興味を持ち、科学的考え方と発想を身につけ、分子科学研究所の発展につながる次世代技術に挑戦します。
・ 研究機器の設計製作および関連する技術分野において、室員一人ひとりが主体的な心構えを持ち高度な技術力を身につけます。
・ 研究者と協働する意識を持ちディスカッションを重ね、要望に近づく装置つくりを目指し、所内の先駆的な研究を支援します。
・ 所外の大学 ・ 研究機関からの設計製作依頼に応え、自然科学研究に関する技術ネットワークを拡充し、分子科学研究に役立つ技術ノウハウを集約するハブとしての役割を担います。

アイコンについて本号では、「技術報告」「トピックス」「特集」に、上記ミッション ・ ステートメントのバリューに対応するアイコンを付加しました。バリューとアイコンの対応は以下のとおりです。
・ ・ ・ 学ぶ・ ・ ・ 挑戦・ ・ ・ 貢献・ ・ ・ リーダーシップ

序

文

昨年来、新型コロナウイルスの感染拡大で大変な状況が続いています。毎日ニュースやウェブを見ていると、科学的に正しいこと、 間違ったこと、 どちらとも言えないことが入り混じって、 情報の取捨選択の難しさが感じられると同時に、 正しいか正しくないかよりも、 得か損か、 自分の支持している人が話しているか嫌いな人が話しているかで情報を選ぶ方も多く見受けられ、 複雑な思いに駆られます。 また、 自分が感染している可能性をゼロと思い込み、 他人が熱を出したと聞くと、 まるでその人に非があるかのように振る舞う人もいるように思います。 ニュースでは、 無症状の感染者がたくさんいる、 とあれだけ報道して居るのに、 なぜ自分はそれに該当しないと思えるのでしょうか。 このように、 自分だけは大丈夫、 という意識は 「正常性バイアス」 と呼ばれており、 多くの人が知らず知らずのうちに思い込んでしまう心理的な落とし穴となっています。 我々科学者でもそうした正常性バイアスに囚われることはよくありますから、 まして一般の方はさらに頻繁にそうしたことがあるでしょう。 正常性バイアスは、 見方によっては我々の日常で必要以上の心配事を増やさないための防御機能なのでしょうが、 これが悪い方向に働くと差別や事故、 災害の拡大につながる危険な心理状態であるということが今回の感染拡大を見ていても言えるように思います。
新型コロナの流行に前後して、 働き方改革ということも盛んに言われるようになってきました。 長時間労働の是正や、 柔軟な働き方を目指した、 必要とされている改革であり、 分子研にもその波が来ています。 テレ
ワークをする機会も増えてきて、 これからますます多様なライフスタイルが可能になってくるでしょう。 このような機会が増えてくると、 気になることが２つあります。 ひとつは、 勤務時間が減ることで全体の生産量が下がらないか、 という心配で、 おそらくこのような心配がこれまで働き方の変革を妨げてきた主要因のひとつとも言えます。 海外諸国で、 今の日本人より遥かに強い競争心で働いている人たちと、 果たしてこの後ちゃんと渡り合っていけるのだろうか、 という心配と言っても良いでしょう。 欧米ではより少ない勤務時間で仕事ができていると言いますが、 朝来るのが早かったり、 狩猟民族としての？集中力の高さがあったりして、 果たして同じ議論をして良いものか不安になります。 一方でもう一つの心配は、 周りの人が自分と違う働き方をすることに対する不満によってモチベーションが下がる人が出てくるのでは無いかということです。 病気の治療や育児 /介護との両立をしている人に対して、 なんであの人だけ、 と思う人も出てくるのではないでしょうか。 こうした不平不満の前提として、 自分は常に正常な働き方をしている、 という 「正常性バイアス」 がここでもあります
ので、 本当は自分もいつ逆の立場になるか分からない、 ということが見えていれば、 そうした不平不満も制御出来ると思うのですが、 先に指摘したように、 日常で自分の持っている正常性バイアスに気付かない人の
何と多いことか。 働き方改革自体は必要なことであり、 長期的には子育て環境等の改善にも繋がり社会の持続性向上に寄与すると思うのですが、 我々は改革の途中で出てくるこうした不安に、 これから答えを見出しながら進んでいかなくてはいけません。 特に同じアジア人でも、 もっと合理的に仕事を取捨選択しているケースはたくさんありますから、 もう少し日本人も本来の仕事の目的 / 仕事のコアが何であったかを、 しっかり見極めて行動して行くことは必要でしょう。 また、 多様な働き方が生み出す多様なアイディアを稼ぎ力として活かせる
組織作りもしていかなくてはいけません。

序

文

折しも技術課では組織改編が計画されており、 ４月から技術推進部になることが決まりました。 組織の構造も変わり、 今までとは少し違う人事制度の下での活躍とメンバーの役割分担が求められているようです。 装置
開発室のメンバーには、 組織の仕組みが変わっても、 これまで通りお互いの立場を思いやりながらの業務遂行をぜひ続けて欲しいと願っています。
昨年は装置開発室に長年多大な貢献をされてきた青山さんが名城大学に異動されました。 新天地で、 後進の指導に当たられるとのことで、 ご活躍を期待したいと思います。 松尾さんには、 計算科学研究センター
から装置開発室へ異動して頂き、 戻ってきた３D プリンター技術と回路通信技術とをさらに発展させて頂くことになりました。 また、 技術支援員として菅沼さんに加わって頂きました。 高い技術力を発揮して頂いて、 金属加工メンバーは大変助かっています。 改修の完了した新しい共同研究棟と新たなメンバー構成で、 装置開発室は今年も色々なことにチャレンジして行きたいと思いますので、 ご指導ご鞭撻のほど、 よろしくお願いいたします。

2021 年 1 月
山本浩史

目

構成スタッフ次................................................................... 1

イベント in 2020................................................................ 2セクション報告................................................................. 4主要設備....................................................................... 8

研究会発表一覧................................................................. 9

利用者報告.................................................................... 10

申請課題一覧

.................................................................. 17

活動レポート.................................................................. 18

トピックス.................................................................... 30

特集

施設改修完了............................................................ 32

2020 年

製作品............................................................... 33

2020 年

工作依頼リスト....................................................... 37

構成スタッフ（前列左から）石川晶子、山本浩史、木村幸代、浦野宏子（後列左から）水谷伸雄、近藤聖彦、豊田朋範、澤田俊広、松尾純一、
菅沼光二、菊地拓郎、吉田久史、木村和典
装置開発室長（併任）山本浩史

YAMAMOTO, Hiroshi

協奏分子システム研究センター

青山正樹

AOYAMA, Masaki

技術専門員

近藤聖彦

KONDO, Takuhiko

技術班長

水谷伸雄

MIZUTANI, Nobuo

係長

高田紀子

TAKADA, Noriko

主任

木村幸代

KIMURA, Sachiyo

菊地拓郎

KIKUCHI, Takuro

豊田朋範

TOYODA, Tomonori

係長

松尾純一

MATSUO, Junichi

主任

木村和典

KIMURA, Kazunori

澤田俊広

SAWADA, Toshihiro

吉田久史

YOSHIDA, Hisashi

石川晶子

ISHIKAWA, Akiko

菅沼光二

SUGANUMA, Kouji

浦野宏子

URANO, Hiroko

教授

技術職員
機械グループ

電子回路グループ( ※ 2020 年 9 月まで )

技術支援員

事務支援員

－

1

－

( ※ 2020 年 11 月より )イベント

in 2020２月
14 日

出張 ( 産業技術総合研究所臨海副都心センター )( 青山、水谷、近藤、木村幸、菊地、豊田、木村和 )20 日～ 21 日

第 42 回生理学技術研究会・第 31 回生物学技術研究会( 岡崎コンファレンスセンター )( 豊田 )28 日

セミナー「公的研究機関・大学等における知的財産のチェックポイント」( 豊田・木村和 )（記事 30 ページ参照）

３月４日

第 21 回岐阜大学技術報告会 ( 岐阜大学 )( 豊田 ) ※報告書の公開により開催成立

５日～６日

技術研究会 2020 千葉大学 ( 千葉大学 )( 豊田、木村和 )※報告書の公開により開催成立

16 日～ 17 日

第 14 回情報技術研究会 ( 九州工業大学飯塚キャンパス )( 豊田、木村和 ) ※報告書の公開により開催成立

18 日～ 19 日実験・実習技術研究会 2020 鹿児島大学 ( 鹿児島大学 )( 豊田、木村和 ) ※報告書の公開により開催成立

23 日

日本化学会第 38 回化学技術有功賞受賞 ( 近藤 )26 日

開発打ち合わせ並びに施設見学 ( 大阪大学産業科学研究所 )( 菊地 )（記事 30 ページ参照）

８月
31 日～ 9 月２日

機器製作 ( 国立天文台先端技術センター )( 青山、菊地 )（記事 30 ページ参照）

９月
3日
～4日

FPGA トレーニングコース 2020( 豊田 )9日
～ 10 日2020 年度機器・分析技術研究会 ( 奈良先端科学技術大学院大学 )( 豊田、松尾 ) ※オンライン開催 (写真 1)

9日～ 11 日ナノテクノロジープラットフォーム令和 2 年度技術スタッフ交流プログラム( 物質・材料研究機構 )( 石川 )30 日

青山正樹氏 退職 ( 名城大学へ )(写真 2)

写真１：巡回する講師に質問しながら演習
課題を進める受講者－

2

写真 2：花束を抱えた青山氏を囲んで記念撮影

－

イベント

in 2020

10 月
6日
6日
～8日

出前授業 ( 岡崎市立南中学校 )( 豊田 )(写真 3)（記事 31 ページ参照）
ナノテクノロジープラットフォーム令和 2 年度
技術スタッフ交流プログラム( 名古屋大学先端技術共同研究施設 )( 石川 )写真 3：中学生にデモ機を披露しながら講演する豊田氏

11 月
1日

菅沼光二氏 技術支援員採用

4日～5日

岩手大学防災・地域創生シンポジウム ( 盛岡市 )( 豊田 )(写真 4)（記事 31 ページ参照）

19 日

出前授業 ( 岡崎市立甲山中学校 )( 豊田 )(写真 5)（記事 31 ページ参照）

19 日～ 20 日出張 ( 北海道大学 )( 近藤 )写真 4：事例紹介を担当した岩手大学の学生も交えての記念撮影に加わる豊田氏 ( 左から 2 人め )写真 5：マスク姿で熱心に講演する豊田氏

12 月
1日
～4日

ナノテクノロジープラットフォーム令和 2 年度技術スタッフ交流プログラム( 京都大学学際融合教育研究推進センター )( 石川 )（記事 31 ページ参照）

25 日

科学三昧 in 愛知 ( 岡崎コンファレンスセンター )( 豊田 )(写真 6)

写真 6：「( 肉眼では ) 見えない電光掲示板」も配置したブーズ

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3

－

セクション報告

メカトロニクス・セクション報告

近藤 聖彦

木村 幸代

メカトロニクス・セクションは、メカニカルエンジニアリング技術、フォトリソグラフィ技術、デジタルエンジニアリング技術を有する職員が所属している。 これらの技術を活用して、分子科学研究に必要とされる実験機器の設計製作、マイク
ロレベルの微細形状を有するデバイス製作、設計過程で重要となる構造、磁場等に関する解析をおこなっている。 さらに、このような技術支援は所内研究者に対してだけでなく、全国の大学および分子科学分野を中心とした研究機関の研究者を対象としている。 また、制定したミッションステートメントの達成を目指し、技術で貢献する技術者集団として活動をおこなっている。
1. 製作依頼件数
図 1 に 5 年間の製作依頼件数の推移を示す。 2020 年 1 月～ 12450400
月の所内製作依頼は 268 件で、コロナ禍の影響もあり、実験に使用
350
する部品加工の依頼が多く、例年の件数よりも増加した。 4 月から
300
250
3D プリンターを移管し 3D 造形の依頼受付けを開始した。 3D 造形
200
150
は、工作機械加工が困難である複雑な形状を有する部品が製作可
100
能、金属加工と比べて短納期、樹脂材料を使用すれば低価格で製500作可能等の長所があり、試作に適しているため利用者が多い。 ま
2016年
2017年
2018年
2019年
2020年
た、今年から民間企業と社会連携研究部門に対して装置開発室有
所内
3D造形
所外
償利用が始まり、数件の依頼を受けた。
図 1 ： 製作依頼件数の推移
依頼内容については、1 週間以内で完了する部品製作が 9 割程
度、設計製作、試作など開発要素が含まれ、完了までに 2 週間以上必要な依頼が 1 割程度であった。
分子研で培ってきた技術 （真空技術、光学技術、低温技術等） を有効に広く活用でき、さらに職員の技術向上をはかるため、所外の研究機関、大学から申請ができる制度 （ナノテクノロジープラットフォーム協力研究） を設けている。
ただし、所内外のエフォートの比重を考慮することが重要となり、事前に製作内容を確認し、分子科学分野の技術的貢献、装置開発室の技術向上等を十分に考え引き受けている。 2020 年の所外技術支援は 26 件であった。
その他、ナノテクノロジープラットフォーム施設利用にある 3 次元光学プロファイラーシステムは民間企業から利用申請がある。 分子科学分野と異なる企業の測定は、我々の測定経験がない内容が多く、測定機メーカーに測定方法を確認する等の仲介をおこない、利用者が迅速に測定できるように支援をおこなっている。
2. 主な製作依頼内容●メカニカルエンジニアリング
主な依頼は、（1） 部品製作：依頼者から提供される部品形状の手書き図面、
簡単な絵、要求される仕様を参考にして製作図面を作成した後に加工する内容、（2）装置製作：設計・開発要素を含み部品を組み合わせて製作をおこなう内容の 2 つに分類できる。
（1）は、放射光施設で使用する真空部品、極低温環境で使用する部品、金属めっきで製作したメタルマスク等、様々な部品製作があった。
図 2 に光電子分光実験で使用する FIB で穴加工した金めっき製スキマーを示す。 このような部品製作については、納期と依頼件数の状況を考慮しながら内作と外作を振り分けている。
（2） は、図 3 に示すようなモリブデン電極を成型するプレス機、真空環境で使用する可変スリット機構、炉心管を冷却する水冷ユニット、レーザ結晶の接合力を評価するユニット等、力学、熱学、真空、冷却、光学に関する高度な技術を必要とする設計製作依頼があった。 これらの依頼は、全般に制限された空間内で装置を組み込む設計が多く、設計の自由度が制限されるため、培ってきた経験が役立っている。
その他、新設したクリーンルームに使用している FFU （ファンフィルターユニット）を遠隔で起動、停止ができるように、スイッチ操作ボックスの試作を電子機器開発技術班と協力し進めている。
－

4－

図 2 ： 光電子分光用スキマー

図 3 ： モリブデン電極を成型する
専用プレス機セクション報告●フォトリソグラフィ
所内の製作依頼は、昨年と同様にスリット、ミラー等の光学素子があった。 ナノ
テクノロジープラットフォーム施設利用は、新規利用申請が増加し、利用者が例年より多くなった。 ナノテクノロジープラットフォーム協力研究は PDMS を用いたマイクロ流路デバイス製作の申請があり製作途中である。
施設改修がおこなわれ、共同研究棟 C 棟 （旧レーザーセンター棟） 1F にクリーンルームが新設された。 追加工事や装置運搬等の作業に多くの日程が必要になり、本格的な運用は 9 月頃からとなった。
図 4 ： 電子ビーム描画装置を装置移設後は、分散していたリソグラフィ関連装置が１カ所に集約され、サンプ利用するユーザーの様子
ルをクリーンルーム外に持ち運ぶ必要がなくなった。 また、利用頻度の多いユー
ザーが薬品や器具をクリーンルーム内外に運搬する回数を減らす対策として、貸出用ワゴンと棚、薬品冷蔵ショーケースを設置した。
局所排気装置は作業内容ごとに使い分けられるように 5 台設置している。 例えば、現像を行う場合は酸処理の飛沫などが混入して現像の条件に影響しないよう、酸処理用のドラフトではなく現像用ドラフトを使用する等、各々に役割があるた
め、詳細はスタッフに確認いただきたい。
一昨年に導入した電子ビーム描画装置は、作業効率を考慮した環境整備をおこないながら、装置利用の対応を始めている （図 4）。 サンプル依頼は、試作を繰り返しながら取り組んでいる段階である。
図 5 ： リアルタイムで確認できる差圧と維持管理において、前室はロボット掃除機を設置し清掃回数を増やす等の対
パーティクルカウンターのグラフ
策をおこない、室外からの埃や衣類から落ちた塵、髪の毛などをクリーンルーム内に持ち込まないための工夫をおこなっている。 また、電子機器開発技術班と協力し、パーティクルセンサーで検知した微粒子の数、クリーンルーム内外の差圧がリアルタイムで確認可能なシステムを構築した。 図 5 に示すように無人時に浮遊する 0.3µ ⅿの微粒子数のピークは、およそ 50 個未満であるが、使用したセンサーは１立方フィートあたりの数を表示するので、（個 /m3）の単位に換算する際は 33 倍程度に積算する必要がある。
その他、安全衛生に関して、新型コロナウイルス対策は、ウェア使用後に消毒をおこなって、感染予防に努めている。
ただし、9 月に実施された 3 機関合同の安全管理に係る特別相互巡視で、停電時の対応が指摘され、災害時等のルールを決める等の課題はあるが、今後は利用者数の増加が予想されるので、利用しやすく、合理的な運用を目指している。
●デジタルエンジニアリング
設計時に重要となる構造、熱解析、流体解析等については、ANSYS、磁場解
析は Femtet を使用している。 昨年度に導入した 5 軸加工機は 3 次元の複雑な動作になるため、制御するプログラム作成は難解になる。 これをサポートするのにCAM ソフト （hyperMill） を使用している。 工具とワークの自動干渉チェックをおこなえる等、優れたソフトである。 図 6 にテスト加工に使用したプログラミング作成時のモニタ画像を示す。
3． 共同研究棟 B 棟、 C 棟の完成
施設改修が完了し、B 棟 1F は工作機械の配置変え、配線の新設、工作機械の精度点検等、改修前の工作機械の撤去、移動よりも多くの作業があった。 また、クレーンとエアコンの配管が接触していた箇所が修繕されていない等、引き渡し後も色々と修繕がおこなわれた。 B 棟 2F は、実験棟 5 階の製図室と受付、旧化学試料棟の組立室と測定室に分散していた什器等の移動があり、移動後は荷解き等、整理整頓に多くの時間が必要であった。 C 棟１ F はクリーンルームとストックルー
ムが新設され、ストック部品等の移動があった。 C 棟 2F （203 室）は、機器センターの職員と同じフロアの新居室 （図 7） となり、実験棟 5 階の居室から移動をおこなった。 このように、メンバーの活動拠点が多くあるため、各箇所の様子をカメラで撮影し、1 つのモニタで視認が可能なシステムを構築した。

図 6 ： hyperMill の画面

図 7 ： C 棟 203 室の様子

4. その他＜受賞・研修＞(1) 日本化学会第 38 回化学技術有功賞受賞 （近藤）、(2) 国立天文台先端技術センター技術研修（菊地、青山）(3) ナノテクノロジープラットフォーム令和 2 年度技術スタッフ交流プログラム （菊地、石川）－5－セクション報告

エレクトロニクス・セクション報告豊田 朋範
1. エレクトロニクス ・ セクションの基本方針
エレクトロニクス・セクションでは、所内外からの工作依頼を受け、研究者と協力しながら分子科学の先端的な研究に必要な実験装置の設計・製作を行っている。
製作する電子回路はアナログ回路からディジタル回路およびそれらの複合回路まで、ソフトウェアはハードウェアに付随したハンドラープログラム
から実験に必要な計測・制御のためのアプリケーションに至るまで、広範な回路技術で支援を行っている。
研究者の要求に応えるために、技術職員は日頃から基盤となる回路技術の育成と共に最新デバイスや新しい回路技術の情報収集に心掛け、それらをいつでも応用できるように技術の習得に努めている。 特に 「エレクトロニクス技術の 3 本の柱」 として、FPGA に代表されるプログラマブルロジッ
クデバイスの製作技術、機器組み込み用マイコンの応用技術、アナログ回路製作技術に重点を置いて取り組んでいる ( 図 1)。

図 1 ： エレクトロニクス技術の 3 本の柱

2. 工作依頼件数の推移と状況
図 2 は 2004 年からの工作依頼件数の推移である。 2020
年は 89 件の受付を行い、過去最高だった 2018 年を大きく更新した。 施設改修の竣工とクリーンルームの集約に伴い、関連工作依頼を多数受注したことが大きな要因である。
内訳は、回路やプリント基板・ソフトウェアの設計・製作を伴うものが67件(75.3%)、故障・破損した機器の修理やケーブル製作など突発的・改修的なものが22件(24.7%)である。
近年の工作依頼は複合的な技術要素を要するものが殆どで、技術分野を明確に区分することは難しいため、このように分類した。
近年の特徴として、実験の進捗に応じて仕様を変更して
図 2 ： エレクトロニクス ・ セクションの複数回製作することや、1 件の工作依頼で複数台製作する
工作依頼件数の推移
ことが増加していることが挙げられる。
依 頼 元 を 所 内 と 所 外 で 分 類 す る と、 所 内 が 85 件
(95.5 ％ )、所外が 4 件 (4.5%) である。 2020 年は新型コロナウィルス対策による活動制限もあって所外の依頼件数は減少したが、エレクトロニクス・セクションにおける所外依頼は近年増加傾向が続いており、装置開発室の工作技術支援はエレクトロニクス分野においても一定の存在感を得ていると推察される。
3. 松尾純一氏の異動と 「見える化」 の推進 ( 関連記事 p26)
2020 年 4 月 1 日付で、松尾純一氏が計算科学技術班から異動された。 松尾氏は分子研着任以降 10 数年間培ったネットワーク技術をはじめ、エレクトロニクス分野の基本的な知見を有する。 松尾氏は着任間もなく多点観測カメラ
ネットワークを開発し、C 棟クリーンルームや B 棟工作工場に配置され、分散した作業環境でも職員の所在を把握する
ことが容易になった ( 図 3)。
奇しくも 2019 年末以降、新型コロナウィルスの感染拡大が懸念され、在宅勤務や時差出勤が進められることで、実験室や装置の近くに人がいない機会が急増している。 結果、万一の事故発生時に発見が遅れ、被害の拡大や事態の深刻化の恐れがある。
多点観測ネットワークは複数の地点を映像で同時に観測できるため、「見える化」 による事故の早期発見・被害の拡大防止に寄与できる。
松尾氏はこの他、山崎優一・東京工業大学准教授の協力研究課題である多重同時計測回路のアナログフロントエンド部を担当
いただいている。 アナログ回路構築と検証の過程を習得し、さらなる飛躍が期待される。
－

6－

図 3 ： 稼働中の多点観測カメラネットワーク

セクション報告

4. 工作伝票システムの更新 ( 関連記事 p28)
工作依頼の情報を集約・管理する工作伝票システムは、2004 年の稼働開始から15年以上が経過した。 この間、Webアプリケーショ
ンは飛躍的な進歩を遂げ、工作伝票システムのインターフェース
が陳腐化してきた。 また、データベースや Web アプリケーション開発が未経験の状態から構築したため、試行錯誤の痕跡が随所に残り、保守管理が困難な面があった。
附属 3 棟施設改修開始と時を同じくして、(1) インターフェースの改良 (2) サーバー内ファイルの整理・統合－の 2 点を柱とする、工作伝票システムの更新に着手した。 複数のページを遷移していた設計・製作時間や使用部品の入力は、工作依頼伝票を模した 1
ページに統合され、操作性と視認性が大幅に改善した ( 図 4)。 現
在も引き続き改良を進めている。
かつて Web を席巻した Flash Player(Adobe 社 ) が 2020 年 12 月
末でサポート終了を宣言されたように [1]、Web アプリケーションの進
図 4 ： 改良された工作伝票システムの歩や変遷は著しい。 一方、前掲の「見える化」 やクリーンルーム統
入力画面
合制御システムのように、Web アプリケーションとの連携が重要な開発が増加することが予想される。特定の技術分野にとらわれず、
図 1 の「3 本の柱」を中心に、広範にアンテナを巡らせて技術の研鑽と知識の獲得に努める所存である。
5. 研究会発表 ・ セミナー開催 ・ アウトリーチ活動
2020 年は 11 件 ( 共著含む ) の研究会発表を行った ( 関連記事p9)。 2020 年 9 月には、FPGA トレーニングコースを開催した。 新型コロナウィルス感染拡大防止が叫ばれる中、所外から 6 名、所内から 2 名が受講し、2 日間の全課程を無事修了した。
岩手大学と共同開発を進めている一斉警報通知防災システム
は、2019 年度自然科学研究機構産学連携支援事業に採択され( 課題名「『一斉警報通知防災システム』構想の実現に向けた社会実験」 研究代表者：繁政英治・分子研技術課長 )、LoRa 無線モジュール搭載のコア基板 ( 図 5) の開発と量産、全国一斉の試験電波放送を用いた実証試験 ( 岡崎市と盛岡市 ) の成功など、多数の成果を挙げた。 2020 年も岩手県の公立学校や企業において実証試験が続けられており、その成果は岩手日報で大きく報道された。開発したコア基板は、C棟に集約されたクリーンルームの風量・差圧を総合的に制御するクリーンルーム統合制御システムに適用し、クリーンルームの環境構築と運用に寄与している ( 関連記事
p24)。
この他、研究力強化戦略室と共同で赤外線 LED を用いた 「( 肉眼では ) 見えない電光掲示板」 を開発し ( 図 6)、2 件のアウトリーチ
出前授業で生徒に体験していただいた ( 関連記事 p31)。 「( 肉眼では ) 見えない電光掲示板」 は生徒の強い関心を集め、職場体験とは異なる、エレクトロニクス分野による新たなアウトリーチ活動の第一歩になりうると考えられる。

図 5 ： 2019 年度自然科学研究機構産学連携支援事業で開発したコア基板

6. 参考 ・ 引用文献
[1] た と え ば、Adobe 社 の 告 示 https://www.adobe.com/jp/
products/ﬂashplayer/end-of-life.html
図 6 ： 「( 肉眼では ) 見えない電光掲示板」の表示デモと、それに見入る中学生

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7

－

主要設備

メカトロニクス・セクション

測定機
種別
電子顕微鏡
測定顕微鏡
マイクロスコープ
非接触三次元測定装置
表面粗さ計
三次元光学プロファイラー
段差計

工作機械
種別
精密旋盤
普通旋盤

NC 旋盤
ボール盤

フライス盤

NC フライス盤
ワイヤ放電加工機
形彫放電加工機
切断機
抵抗溶接機
ノコ盤
コンターマシンシャーリングダイヤソー
カッティングマシン

形式
RBL-50 （理研製鋼）
LR-55A （ワシノ機械）
LEOG-80A （ワシノ機械）
LS 450 × 550 （大隅鐵工所）
TAL-460 （滝澤鉄工所）
SUPER QUICK TURN 100MY（Mazak）
TYPE DD-4300 （日立工機）
KID-420 （KIRA）
NRD-340 （KIRA）
KSAP （牧野フライス）
VHR-SD （静岡鐵工所）
RUM-5 （碌々産業）
BN5-85A6 （牧野フライス）
SBV400 （遠州工業）
AEV-74 （牧野フライス）
α -C400iB （FANUC）
A35R（Sodick）
ファインカット HS-100（平和テクニカ）
NRW-100A （日本アビオニクス）
HB-200 （フナソー）
VA-400 （AMADA）
SHS3 （コマツ産機）
VW-55 型 （LUXO）
UT-3 （三和ダイヤモンド工業）

設計・解析
種別
2D CAD
3D CAD
CAM
CAE

種別

形式
MS-A100 （ミカサ )スピンコーターMS-B100 （ミカサ )マスクアライナー
MA-10 （ミカサ）PDC-32G （HARRICK PLASMA）
プラズマクリーナー PDC-001-HP （HARRICK PLASMA）
PR200( ヤマト科学 )精密手動スクライバー
SC-100 （ムサシノ電子）
アリウムプロ UV-DI （ザルトリウス）
超純水製造装置
PURELAB Flex3(ELGA)
DL-1000( ナノシステムソリューションズ )マスクレス露光装置
クリーン恒温恒湿室 イエロー クラス 1000 （アイテックス）
小型 2 源 RF
デポダウン式 RSP-4-RF3x2( クライオバック )スパッタ装置
電子ビーム描画装置
ELS-G100( エリオニクス )

計測器

計測器

ディジタル
オシロスコープ
ミックスドシグナル
オシロスコープ
ロジックアナライザ
ネットワーク / スペクト
ラム / インピーダンス
アナライザ
データロガー
マルチメータ

形式
Advance CAD（伊藤忠テクノソリューションズ）
SolidWorks （ソリッドワークス）
hyperMill（Ai ソリューションズ）
ANSYS DesignSpace（アンシス ・ ジャパン）

フォトリソグラフィエレクトロニクス・セクション
種別

形式
VE-8800 （KEYENCE）
STM6 （オリンパス）
VHX-1000 （KEYENCE）
NH- ３SP （三鷹光器）
SURFTEST SV-400 （ミツトヨ）
ZYGO Nexview
KLA-Tencor P7

種別
エレクトロメータ
LCR メータ
ユニバーサルカウンタ
ファンクション
ジェネレータ

形式
6200A(LeCroy)
354(LeCroy)
TDS2014(Tektronix)
DS-5354(IWATSU)
DS-5624A(IWATSU)

パルスジェネレータ

MSO2024(Tektronix)

直流電源 ・ 電流モニタ

TLA5201(Tektronix)

加工機
種別
プリント基板加工機
卓上 NC フライス加工機
レーザーマーカー

4396B(Agilent)
GL900(GRAPHTEC)
2001(Keithley)

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8

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形式
6513(Keithley)
ZM2353(NF)
53132A(Agilent)
AFG3251(Tektronix)
Model8600(Tabor Electronics Ltd.)6243(ADCMT)

形式
A427(Accurate CNC)
KitMill SR200(ORIGINAL MIND)
LP-GS051-L(Panasonic)

研究会発表一覧

2020 年

研究会発表一覧

研究会等名称第21回岐阜大学技術報告会
2020年3月4日

技術研究会2020千葉大学
2020年3月5日～6日

発表項目

発表者氏名

BIN 電源アダプタの開発 - 専門分野の最適解で需要に応える -( 口頭発表 )

○豊田朋範
木村和典
千葉寿
古舘守通
藤崎聡美

分子科学研究所装置開発室におけるエレメカ連携とその効果 ( 口頭発表 )

○豊田朋範
木村和典

高電圧パルスジェネレータ用電源制御におけるトラブル事例 ( 口頭発表 )○木村和典

クリーンルーム統合制御システムの開発とインターフェース共通化の試み( 口頭発表 )

○豊田朋範
木村和典
千葉寿
古舘守通
藤崎聡美

任意次元画像処理ソフトウェアのためのファイルシステム操作と実装事例( 口頭発表 )○木村和典

学習・開発用途としての ARM マイコン基板開発とインターフェースの汎用化( 口頭発表 )

○豊田朋範
千葉寿
木村和典
古舘守通
藤崎聡美

実験機器・教材開発における電気回路・機械設計の連携 ( 口頭発表 )○木村和典

自治体と共同で進める災害に強い街づくりへの社会貢献 〜既存の緊急告知
防災ラジオを活用した防災システムの展開〜 ( 口頭発表 )

○千葉寿
豊田朋範
木村和典
古舘守通
藤崎聡美

長距離無線モジュール (LoRa) を使った汎用通信システムの開発 ( 口頭発表 )

○古舘守通
豊田朋範
千葉寿
木村和典
藤崎聡美

プレゼンテーションを紐解く ～俯瞰する体験型セミナーの試み～ ( ポスター発表 )

○修行美恵
藤崎聡美
奥村由香
一條肇
豊田朋範

技術職員の「伝える技術」の向上のために ( ポスター発表 )

○奥村由香
修行美恵
藤崎聡美
一條肇
豊田朋範

第14回情報技術研究会
2020年3月16日～17日

実験・実習技術研究会2020
鹿児島大学
2020年3月18日～19日

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利用者報告雰囲気光電子分光用ノズルの開発
分子科学研究所 小板谷貴典
1. はじめに動作中の触媒の電子状態を測定することにより、 触媒表面の化学状態や吸着した反応中間体の検出が可能となる。 電子状態測定の最も一般的な実験手法として光電子分光法が挙げられるが、 電子分光器部を高真空に保つ必要があるため、気相雰囲気中に置かれた触媒の測定には電子分光器の真空度の悪化を抑制する工夫が必要となる。
固－気界面で起こる触媒反応のその場観測を実現するため、 高輝度放射光施設 SPring-8 BL07LSU において雰囲
気光電子分光装置の立ち上げおよび実験を行っている [1,2]。 図１に雰囲気光電子分光の概略図を示す。 測定試
料は気体を導入するガスセルの中に置かれ、 そこに窒化ケイ素窓を介して軟 X 線を照射し、 試料から放出された光電子を電子分光器で計測する。 電子分光器側の圧力悪化を抑制するため、 差動排気型の電子分光器を用い、 加
えて試料と電子分光器の間に開口径の小さなノズル （アパチャーノズル） を装着することにより、 ガスコンダクタンスを絞っている。従来は開口径 300µm のノズルを使用していたが、これだとガスセル内の圧力上限は 2000 Pa であった。
そこで、 今回開口径のより小さなノズルを新たに開発することにより、 さらに高圧の気相雰囲気下で光電子分光測定ができるように改良を行った。

図 1 ： 雰囲気光電子分光測定法の概略図、および従来使用していた
φ 300µm アパチャーノズルの写真
2. アパチャーノズルの開発開発を行ったアパチャーノズルの写真を図 2(a) に示す。 まず、電気鋳造にて銅製ノズルの作製を行った。 そして、機械研磨で形を整えた後、 大阪大学ナノテクノロジー設備供用拠点にて収束イオンビーム （FIB） 装置を用いて先端にφ 50µm の微細孔をあけた。 図 2(b) にノズル先端部の SEM 画像を示す。 FIB 加工後にノズル先端部を微細研磨し、 最後に化学的安定性を高めるためノズルに金メッキを施した。

図 2 ： (a) 今回作製した開口径φ 50µm アパチャーノズル写真、 (b) 開口部 SEM 画像、および (c) 光電子分光測定時の CCD 画像。
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利用者報告完成したノズルを電子分光器先端部に取り付け、雰囲気光電子分光測定を実施した （実際の測定時の試料およ（b）（c）
びアパチャーノズルの CCD 画像を図 2(c) に示す）。 新しく開発したノズルを用いることにより、 従来と比べて 5 倍の圧力 （10000 Pa） の窒素雰囲気下で光電子分光測定に成功した。
3. おわりに
新しくアパチャーノズルを開発することにより、 雰囲気光電子分光装置の高圧化に成功した。 現在の装置性能は同様の軟 X 線雰囲気光電子分光装置 （例えば文献 [3]） の中でもトップクラスであり、 今後改良した装置を用いることによって、 今まで測定ができなかった反応環境での触媒のその場分光研究が可能となった。
ノズルの作製には、 装置開発室の方々から多大なご支援 ・ ご協力をいただきました。 特に、 菊地拓郎氏には電気鋳造による成型から金メッキ加工の手配まで実際の作製業務をご担当していただきました。 また、 水谷伸雄氏には機械加工で先端の細孔を開ける試作品を作製して頂きました。 心より感謝申し上げます。 一方、 大阪大学ナノテ
クノロジー設備供用拠点の法澤公寛氏には FIB 加工を行っていただきました。この場をお借りして御礼申し上げます。
4. 参考 ・ 引用文献
[1] T. Koitaya et al., Top. Catal. 59, 526 (2016).
[2] T. Koitaya et al., ACS Catal. 9, 4539 (2019).
[3] S. Kaya, H. Ogasawara, L.-Å. Näslund, J.-O. Forsell, H. S. Casalongue, D. J. Miller, and A. Nilsson, Catal. Today
205, 101 (2013).

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利用者報告量子シミュレータのための大型対物レンズ用マウントおよびステージの製作
分子科学研究所 光分子科学第二領域 富田 隆文
1. はじめに
我々の研究室では、「量子シミュレーション」と呼ばれる実験を行っている。 世の中の物質は一般には、電子や原子・分子といった量子力学に従って運動する粒子が多数集まって相互作用する 「量子多体系」 と呼ばれる系であるが、その中には、解析的計算や従来のコンピュータによる数値計算でダイナミクスや基底状態のふるまいを計算することが困難なケースがしばしば存在する。 そこで、解きたい量子多体系の状況を、制御性が極めて高い別の量子系を用いて人工的に再現し、実験的に「シミュレート」することで明らかにしようという研究が「量子シミュレーション」である。 具体
的には、原子１つ１つをレーザー光を用いて真空チャンバー中の所望の位置に整列させ、それらの電子状態を制御
し、相互作用させ、その様子を観測する [1]。 ただし、人間のような大きなスケールの世界の住人が、桁違いに小さい対象である原子１個１個の量子的なふるまいを制御・観測するには、実験屋としての多少の工夫が必要である。
我々の行う実験では、レンズやミラー、音響光学素子といった光学機器を配置し、レーザー光の形状や強度、周波数を適切に制御し、原子へ照射することで、その状態を操作する。 そのためにカギとなる光学部品が、対物レンズである。
真空チャンバーの窓に近接して、開口数 (NA) の高い対物レンズを取り付け、レーザー光によりチャンバー内部に捕獲された単一原子からの微弱な蛍光を対物レンズを通して観測したり、逆にレーザー光を対物レンズを通して強く集光して単一原子に照射し、原子内部の電子状態を個別に制御する。 マクロな世界とミクロな世界を繋ぐ窓口である対物レ
ンズは、安定かつ十分な自由度を持って固定される必要がある。 本稿では、装置開発室の協力のもと製作した、対物レンズを保持するためのマウントおよびステージについて報告する。
2. 設計について
真空チャンバーに固定する対物レンズは、NA=0.75、作動距離 15mm の特注品 (Special Optics 社製 ) で、直径は74mm、質量約 1kg と通常の製品と比べ大型である。 レンズ群を固定しているハウジングは ULTEM2300 と呼ばれるガ
ラス強化ポリエーテルイミドのエンジニアリングプラスチックで、外壁にM73x0.75のネジが切られている。対物レンズは、
真空チャンバー上部にあるウインドウから 2mm の距離に保持され、ステージにはレンズ位置調整のための並進 XYZ
自由度と、光軸角度調整のためのθ x, θ y 自由度が必要である。
今回製作した対物レンズマウントおよびステージの 3D CAD 図と実際に真空チャンバーに取り付けられた状態の写真を示す ( 図 1)。 最下部にある円形の真空チャンバーのフランジに 4 本の支柱を立て、その上にステージを固定する。
対物レンズ ( 中央茶色 ) は Z 軸位置調整を兼ねた筒型のアダプターを介して上部の板状のステージと接続される。 材
質は、残留磁場により原子の共鳴周波数がシフトするのを避け、また温度変化による対物レンズ位置のドリフトを最小限にするため、非磁性でかつ熱膨張率の低い SUS316 を用いた。 将来レンズ位置の nm レベルの微調が必要となることを想定し、既成品のピエゾステージを追加でマウントできるようにしている。
通常、光学系の角度調整にはミラーマウントやゴニオステージ等が用いられるが、今回はチャンバー周囲の電極との干渉を抑える必要があるほか、ステージ中央を貫くように大型の対物レンズが存在するため、既製品の導入が難し
い。 このため、単純かつ小型な部品の挿入により角度調整ができる機構を設計した。 スリットを入れ、厚みを調整できるようにした 10mm 厚のステンレス板材を、チャンバーとマウントの間に４箇所、スペーサーとして挿入する。 ４つのス
ペーサーの厚みを独立に調整することより、対物レンズの角度を約 10µrad の精度で調整することができる。 簡素な機構ながらも、実際にこれを用いて原子からの蛍光画像に生じるコマ収差を取り除くことに成功している ( 図 2)。
XY 軸位置調整は、板材 2 枚を重ねる単純な機構とした。 板材の側面を光学部品用の調整ネジで押すことで、XY

図 1 ： 対物レンズマウントおよびステージの 3D CAD 図 (a) と真空チャンバーに取り付けられた様子 (b)
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利用者報告各軸方向に対物レンズをスライドさせる。 また、Z
軸位置調整は、対物レンズアダプター－ステージ間接続部に切ったネジの回転機構により実現されている。 対物レンズ本体は筒型のアダプターに固定され、アダプターは XY 並進用のステージ部に接続される。 接続部に切ったネジにより、ア
ダプター自体を回転させることで Z 軸方向の位置調整ができるようにした。

3. 製作についてステンレス部材の機械工作は全て装置開発室に依頼した。 筒型の対物レンズアダプターの内壁 図 2 ： スリット付きスペーサーの調整による、コマ収差の除去。色のには、特注品の対物レンズに合わせて M73x0.75 濃い点がレーザー光により配列された原子からの蛍光。(a) 調整前。のネジを切る必要がある。 緩みが無く、かつ強い 光軸角がずれていることにより各点の左側に筋のような光が見える。
締め付けによるエンジニアリングプラスチック製ハ (b) 調整後。左側に伸びていた筋が消え、原子からの蛍光を点としてウジング部の損傷や内部レンズの変形を抑えるた 撮影することができている。
め、程よい嵌め合いが求められる。 装置開発室の青山氏には、事前にテストパーツを製作していただき、嵌め合いの具合を検討したのち、実際に使用する本番パーツを製作していただいた。 本番パーツについても、最適な嵌め合いになるよう何度も微調整を繰り返し加工していただ
いた。 また、Z 軸方向の調整機構のために設けたネジ部については、可能な限り細かい調整ができるように、最終的に0.25mm という極めて短いピッチでの製作を引き受けていただいた。 部品点数は 30 点近くになったが、全てにおいて高い精度で工作をしていただいた。
4. おわりに
装置開発室の高い工作技術によって、安定かつ十分な自由度を持つ対物レンズマウントおよびステージを製作することができた。 装置開発室の青山氏には、設計の段階から親身に相談に乗っていただき、細かな寸法まで検討させていただいた。 また、実際に製作したステージを設置する我々の実験室に何度も足を運んでいただき、製作中の装置の使用用途や背景の共有をしたうえで、部品の微調整をしていただいた。 このような深いレベルでの相談をしながら装置開発ができる点は、分子科学研究所装置開発室の大きな魅力であると感じている。

5. 参考 ・ 引用文献
[1] A. Browaeys e t a l ., “Many-body physics with individually controlled Rydberg atoms” , Nature Physics 16, 132(2020).

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利用者報告円偏光光誘起力顕微鏡の実現に向けた AFM 用高速演算回路の製作
分子科学研究所 メゾスコピック計測研究センター 山西 絢介
1. はじめに
光誘起力顕微鏡は、金探針と試料に光を照射し、互いに生じる双極子間の相互作用力（双極子間力）を観測することで、試料の光学応答を観測する顕微鏡である。 [1] この顕微鏡は原理的に数ナノメートル以下の空間分解能が期待される。 一方で、光誘起力顕微鏡には、探針と試料に光を照射したときに生じる熱膨張による力が双極子間力の信号に混在してしまうという問題点がある。 双極子間力と熱膨張による力を分離するためには、高速で光強度の変調を行うヘテロダイン FM 法が必要である。 [2] 一方で、ヘテロダイン FM 法の実現には高速な探針の変位検出が必要不可欠である。 ヘテロダイン FM 法を実現するような高速で低ノイズな変位検出回路は、市販品としては存在していない。 そこで卓越した技術と豊富な経験を有する分子研装置開発室 （回路室） とともに、高速で低ノイズな変位検出回路の設計・製作を行った。

2. 電子回路及び電源回路の製作
変位検出回路を構成する演算回路と、演算回路の IC に必要な電源を供給する
電源回路の製作を依頼した。 演算回路は 4 分割フォトダイオードとそれに続く IV
変換回路からの信号を受け取る入力バッファ回路と、各バッファ回路からの出力の足し算引き算を行うメイン回路（図 1）、メイン回路からの十分な出力を得るための出力バッファ回路から構成されている。 入力バッファ回路は、探針の振動を検出する
ためのハイパスフィルタを通した回路と、4 分割フォトダイオードに対するレーザー
スポットの位置を調整するためのローパスフィルタを通した回路で構成されている。
メイン回路は高速で低ノイズな FET 型の IC を用いることで、帯域を 4MHz 程度にまで向上させることができた。
電源回路は、スイッチング電源を避けて一般的なトランスとレギュレータを用いた
DC 電源を実現することで、低ノイズな電源供給を実現した （図 2）。 この低ノイズな電源の供給により、高感度な探針の振動検出が可能になる。

3. 結果と考察開発した演算回路に交流電圧を印可し、その応答を観測した結果を図 3 にしめす。 この結果から、演算回路が低周波から 4MHz 程度にまで帯域が広がっている
ことがわかる。 そのため、高周波な探針の振動を検出することが可能になった。 これは以前の演算回路の帯域 80kHz より 50 倍広いものとなっている。 さらに図 4 には、実際に光テコ変位検出系を用いて、出力される信号の FFT スペクトルを示す。
この際、探針は励振されていないため、FFT スペクトルの示すものは変位検出系のノイズフロアである。 黄線で示すものが、以前の変位検出系を用いた場合で、赤線で示したものが、今回開発した変位検出系である。 このことから、おおよそ 1/2 倍のノイズ密度になっていることがわかる。 これによって、さらに高精度高感度で双極子間力の検出が可能になった。 また、参考に演算回路を介さない IV 変換器のみ
からの FFT スペクトルを青線として示す。 今後、IV 変換器や DC 電源の改良によって、さらに高感度な検出系の実現を目指す。

図 1 演算回路（メイン回路）

図 2 電源回路

図 3 新しい変検出系の帯域測定結果

4. 謝辞
検出回路系の作製を進めていくにあたり、分子研装置開発室の方々に多大なご協力をいただいたことを深く感謝いたします。 特に豊田朋範氏、菊地拓郎氏、青山
正樹氏、松尾純一氏の方々には大変お世話になり、ご親切にご対応いただいたことを心より感謝申し上げます。

5. 参考 ・ 引用文献
[1] I. Rajapaksa, K. Uenal, and H. K. Wickramasinghe, “Image force microscopy ofmolecular resonance: A microscope principle”, Appl. Phys. Lett. 97, 073121 (2010).
[2] J. Yamanishi, Y. Naitoh, Y. J. Li, and Y. Sugawara, “Heterodyne frequency
modulation in photoinduced force microscopy” , Phys. Rev. Appl. 9, 024031 (2018).
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図 4 変位検出系のノイズ測定結果

利用者報告「無機系キラル結晶微細デバイスの作製」
ー分子科学研究所でのデバイス作製の体験ー
大阪府立大学 大学院博士前期課程 2 年 塩田 航平

松島 陽介

1. はじめに分子科学研究所 ・ ナノテクノロジープラットフォームに整備されている電子線描画装置やマスクレス露光装置などの
精密微細加工装置を用いて、 キラル無機結晶を用いた微細デバイスの作製を進めている。 秋以降に行った 2 回の出張でのデバイス作製の体験を報告する。
2. 使用した装置とその感想●マスクレス露光装置 ( ナノシステムソリューションズ DL-1000/IMC)
所属する研究室ではフォトリソグラフィや電子線リソグラフィを用いて様々な微細パターンを作製して実験を進めている。 デバイス作製コストを下げるためにはフォトリソグラフィを多用したいが、 デバイス構造が多様で、 マスクパターンを確定させるまで試行錯誤を重ねている。 その間は電子ビーム描画装置を使ってのリソグラフィを多用することになる。
しかし、 電子ビームを使用してサブミリサイズ以上の大面積を描画するには時間がかかるデメリットがある。 その点、 マ
スクレス露光装置はその名の通りマスクを用いないため、 試作したいデザインをすぐに露光できる。 これによりデバイスの作製効率が格段に向上した。 電子線リソグラフィで 2 時間かかる露光が数秒で終わった際にはあまりの速さに驚きを隠せなかった。
そのうえ、 マスクレス露光装置はフォトリソグラフィでは困難なサブマイクロメートルサイズの描画が可能であるため、電子線描画装置とフォトリソグラフィ露光装置の中間的な装置と位置付けることができる。 ただ露光後の現像工程にノウハウがあるようで、 失敗すると露光したパターンが歪んでしまう。 特に高アスペクト比のパターンを露光する際はレジストが歪みやすく、 現像作業により一層の注意が必要であった。 大学ではマスクレス露光装置を利用する機会がなく、実験条件を詰めるに十分な時間が確保できなかったことも一因である。 経験を積んで、 今後さらに活用していきたい。
●電子ビーム描画装置 (ELIONIX ELS-G100)
集束イオンビーム (FIB) 加工装置を用いてあらかじめ微細加工した試料にサブマイクロメートル以下の誤差で電極などを取り付ける。 そのため電子線描画装置を用いて電極パターンを描く。 大学で用いている装置 (ELS-7500) よりも新しい機種 (ELS-G100) を利用することができた。 これまで ELS-G100 を使用したことがなく、 初回訪問時にはパターンを設計した CAD ファイルを様々な形式で持参した。 CAD ファイルを所定の形式に変換する作業に時間がかかると懸念していたが、 パターン設計のソフトウェア (WecaS) が同じものであったため、 円滑に移行することができた。
装置利用時に、 選択できる Field Size が異なっていることに気づいたのは初歩的なミスであった。 Field Size に合わ
せてパターンを設計することは日常的に行っている。 この点は事前に確認しておくべきであった。
実際の描画作業では、 ELS-G100 は ELS-7500 に比べて、 フォーカス ・ スティグマ調整や明るさ ・ コントラストの調整など多くの部分が自動化されていた。 また、 フィールドコレクションなどの調整時間も劇的に短く、 非常に使い心地がよかった。
描画ソフトウェアもその仕様が普段から使用しているものとほとんど同じであり、 特に戸惑うことなく作業を進めることができた。 そうはいっても、 事前にマニュアルをいただいていれば、 ファイル変換時の懸念や実際の操作における不安を解消した状態で訪問することができたのではないかと思う。 時間の限られた中での実験だったので、 この点は反省事項である。 個人的には、 大学で用いる装置と比較しながら装置利用することで、 装置自体のさらなる理解につながったと感じている。

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利用者報告●ターボ ・ スパッタコーター (Quorum Q300T D)
電極用の Au の成膜に使用した。 スパッタコーターを用いたリフトオフは日常的に行っており、 レジストなどは普段と同様のレシピにて実験を進めた。 パターンがマイクロメートルサイズまで細かくなるとうまくリフトオフしなかった。 時間が限られていたが、 条件出しを行うべきであったかもしれない。 次回訪問時に実験条件を詰めていく。
●小型 2 源 RF スパッタ装置 (Cryovac RSP-4-RF3 × 2)
電極には Pt や W 薄膜などを用いる。 膜厚は数 nm 程度であり、 その厚みが信号の大きさに直結するため、 精密制御が必要となる。 用いたスパッタ装置は低レートでの蒸着条件がわかっており、 その利用が必要不可欠である。 注
意すべき点として、 真空引きに要する時間が最低でも 6 時間ほどかかる事である。 実験計画を立てる際、 この待ち時間を念頭に置いておかなくてはならない。 また、 チャンバーのねじを締める際に装置特有の癖がある。 その癖を理解しきれておらず、 うまく真空が引けないことがあった。 今後使用する際には、 装置特有の癖にも留意していきたい。
以上の装置を用いて作製したデバイスの例を図 1(a)、 図 1(b) 、 図 1(c) に示す。

図 1 (a) ： FIB 加工用基板

図 1 (b) ： 高周波用平面導波路

図 1 (c) ： 偏極スピン検出用デバイス

3. クリーンルーム利用
訪問初日にクリーンルームの使用に関する各種の注意事項を説明していただいた。 実験器具の使用方法や洗浄方法などが細かく規定されていた。 大学との違いに多少のとまどいはあったが、大半の事はすぐに慣れることができた。
一方、 なかなか慣れなかったこととして、 廃液の処理がある。 大学での分類に比べて処理方法が細分化されており、 廃液タンクの数も多く、 目的のタンクを探すのに少し苦労した。 要望としては、 電子ビーム描画装置付近のドラフ
トの下に適切な種類の廃液タンクを置いていただけるとありがたい。 こぼれないように移動する手間が省けて作業効率の向上につながると思われる。
4. 今回の経験を受けて今回はコロナ禍の最中での訪問ということもあり、 特に事前に詳細な研究計画を立て、 事細かに相談させていただ
いた。 その結果、 分子科学研究所のスタッフの方々との連携がうまくいったと思う。 特に、 こちらの目的を明確に伝えることができ、 数多くのアドバイスをいただくことができた。 しかし、 時間的に厳しかったこともあり、 本来ならもっと試行
回数を増やすべきである条件出しの部分がおざなりになってしまった。 リフトオフに成功した基板もあったが、 失敗も多く、 デバイス作製の成功率としては満足いくものではない。 これらの反省を踏まえ、 次回以降訪問させていただく際
は 1 日程度の余裕を持った計画にて研究を進めていこうと思う。
5. 謝辞
昨年来のコロナ禍のため、 大学では春より数か月入構が制限された。 加えて、 制限明けの夏以降も、 大学のクリー
ンルームの空調故障や装置不良が重なり、 研究活動が大きく制限される 1 年となった。 そのような中、 分子科学研究所において様々な装置を利用させていただきデバイスを完成させることができた。 また、 装置開発室室長の山本浩史
先生には事前相談させていただき、 前もって準備を進めていただいた。 伺った際にはとても親切に対応いただいた。
木村幸代氏 ・ 石川晶子氏にはクリーンルーム内の設備を明瞭に説明していただいた。 この場を借りて厚く御礼申し上
げます。
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申請課題一覧

2020 年

施設利用申請課題一覧

申込者名

所属

研究課題

宇理須恒雄

( 株 )NANORUS

パッチクランプ増幅回路の計算機シミュレーション

宇理須恒雄( 株 )NANORUS

パッチクランプ増幅回路の計算機シミュレーション

宇理須恒雄( 株 )NANORUS

神経細胞機能超解像解析装置の開発

宇理須恒雄( 株 )NANORUS

培養型プレーナーパッチクランプ装置設計図の CAD によるトレース

宇理須恒雄( 株 )NANORUS

パッチクランプ増幅回路の Ltspice による計算機シミュレーションの指導2020 年

ナノテクノロジープラットフォーム施設利用申請課題一覧

申込者名

所属

研究課題

非公開

民間企業

非公開

民間企業

非公開

民間企業

非公開

民間企業

日野和之

愛知教育大学 教育学部

フラーレン誘導体 LB 薄膜の表面観察と評価

宇理須恒雄( 株 )NANORUS

神経細胞ネットワーク機能超解像解析装置の開発

非公開

民間企業

非公開

民間企業

非公開

民間企業

宇理須恒雄

( 株 )NANORUS

非公開

民間企業

日野和之

愛知教育大学 教育学部

非公開

民間企業

神永真帆

豊田工業高等専門学校

非公開

民間企業

非公開

民間企業

非公開

民間企業

2020 年
申込者名

神経細胞ネットワーク機能超解像解析装置の開発

フラーレン誘導体 LB 薄膜の表面観察と評価

がん細胞特異的結合分子探索効率を向上させるマイクロ流路
デバイスの開発

ナノテクノロジープラットフォーム協力研究申請課題一覧
所属

研究課題

山崎優一

東京工業大学 理学院

原子 ・ 分子クラスターの電子軌道可視化法の開発

山下翔平

高エネルギー加速器研究機構

物質構造科学研究所 PDMS 製マイクロ流路の作製

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活動レポート

オペランド ESR セルの製作 - ポリスチレン樹脂の加工
水谷 伸雄
1. はじめに新潟大学 古川氏の依頼によりオペランド ESR セルの製作を行った。 全長 100mm、 幅 3mm、 厚さ 1.7mm の一面に長さ 10mm、 幅 2mm、 深さ 1mm のポケット穴とそれにつながる幅 0.5mm 深さ、 0.5mm の溝が掘られている。
材質は、 ポリスチレン樹脂 （PS） である。 （図 1、 図 2）

図 1 ： オペランド ERS セル図面

2. 加工手順
汎用フライス盤と、 一般的な鉄鋼用のエンドミルを用いて加工したが、 この形状を直接マシンバイスに 1 本ずつ固定して加工するのは寸法精度も出しづらく、 かつ複数本の製作依頼でもあったため以下の手順で製作した。
＊土台となるアルミ板をマシンバイスに固定し、 表面を切削して基準面とする。 （図 3）＊両面テープで 1.7mm 厚の PS 板を貼付 （図 4、 図 5）
＊φ 1.0mm のエンドミルで外形とポケット穴加工 （図 6）＊φ 0.5mm のエンドミルで深さ 0.5mm の溝加工 （図 6）＊アルミ板からの剥離、 分割 （図 7 〜 9）

図 2 ： オペランド ERS セル部品

両面テープは、事務用品としてもよく使われる紙両面テープを使用した。 外形加工の際には、 素材厚さ 1.7mm に対し 1.55mm の深さまで加工し、 底面側を 0.15mm 程度残すことで隣り合うパーツと連結したままとし、 全体の接着面積を確保した。 これにより、 加工中に素材がずれたり剥離するのを防いだ。 加工後の各パーツは、 アルミ板からの剥離後、 板チョコを割る要領で分割した （図 7）。
図 3 ： 基準面の加工
アルミ板からの剥離には、 両面テープを溶剤で軟化させる方法もあるが、溶剤の処理や素材への影響、洗浄の時間なども必要になるため直接引き剥がすことにした。 初めは、カッターナイフの刃をくさびのように滑り込ませてみたが、素材に僅かな跡が残ったため竹串を使用した （図８、図９）。
竹串を両面テープと素材の間で転がすように移動することで、 傷付くことなく剥離できたが、 慌てると素材表面に細かいクラックが生じるので注意が必要だった。

図 4 ： 両面テープ貼付

図 5 ： ポリスチレン板貼付
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図 6 ： ポケット穴周辺

活動レポート

図 7 ： 分割前のセル

図 8 ： ナイフによる剥離

図 9 ： 竹串による剥離

3. ポリスチレン樹脂 （PS） とアクリル樹脂 （PMMA） の加工性について
私はこれまで、 透明樹脂の加工では、 アクリル樹脂 （PMMA） をよく使用したが、 PMMA は角が欠けやすい印象がある。 今回 PS を加工した際に、 細溝
加工、 段差部分ともに欠けが生じることもなく、 むしろ PMMA よりも加工性が良いような印象を持った。 そこで、 PS と PMMA について細溝加工による違いを試してみた。
加工条件 （乾式切削）＊溝寸法 ： 幅 0.5mm、 深さ 0.5mm、 長さ 120mm＊工具 ： 2 枚刃エンドミルφ 0.5mm （EDS0.5）＊回転数 ： 4000rpm＊送り速度 ： 150mm/min、 200mm/min、 300mm/min、 400mm/min

図 10 ： 溶けた PS 切粉

初めに、 送り速度 150mm/min で、 2 回ずつ溝加工をしたが PS,PMMA とも良好な切削状態だった。 この時の 1
刃当たりの切込量は約 0.019mm の計算になる。
次に、 送り速度 200mm/min にしたところ、 PS は 25mm 進んだ付近から切粉が軟化しはじめ、 40mm 付近から溶けた切粉が、 エンドミルにまとわりつくようになり、 溝の縁には溶けた切粉が残り （図 10） エンドミルに溶着した切粉は手では取り除けなかった （図 11）。 これに対し PMMA は、 加工の終わり頃に切粉の軟化は見られたものの切削に問題はなかった。 しかし、 送り速度を 300mm/min に上げたところ、 軟化した切粉が溝の縁やエンドミルの先に樹
氷のように成長して行き、 送り速度 400mm/min では、 もはや切粉と呼べる状態ではなかったがエンドミルは折れることなく最後まで進んだ （図 12、 図 13）。

図 11 ： 刃先に溶着した PS 切粉

図 12 ： 樹氷のような PMMA 切粉

図 13 ： 刃先に付着した PMMA 切粉

4. まとめPS 材によるオペランド ESR セルの製作に問題はなかった。 また、 PS と PMMA の加工性については、 PS 加工
時の印象とは違い PMMA の加工性の良さを再認識する結果となった。 理由としては、 PMMA が PS に比べ約 1.7倍の熱伝導率の良さと約 1.4 倍の強度の高さによるものかも知れない。 一方、 硬度も約 1.3 倍高いためこれが欠けやすさの一因と考えられる。
今回は、 紙両面テープを用いて材料の固定をしたため切削液を使用しなかったが、 切削液の使用や刃先の冷却方法を工夫すれば加工効率は向上すると考えられる。
PS は、 加工素材として入手できるサイズが少なく、 PS に限定した加工依頼もまれだが今後の参考として生かして
行きたい。

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活動レポート

ピペッティングロボットの試作経過報告（第 2 報）近藤 聖彦
装置開発室のメンバー数名で試作をおこなった内容を昨年の annual report で報
告 （第 1 報） をおこなった。 本報告はその後におこなった内容になる。
図 1 に示す A タイプの把持力が小さかったので、 図 2 に示すようなモータの回転軸に歯車を固定した B タイプの把持力に期待したが、 ロードセルで測定し A タ
イプ程度かそれより小さい把持力であることがわかった。 このように既成品では把持力が満たないことがわかったので、 図 3 に示す小型の X 軸ステージを利用してロボットグリッパー C を 3D プリンタで製作した部品と組み合わせて、 小型の万力のような構造を製作した。 このステージのハンドルに継手を介してトルクレンチを接続し、 ロードセルを把持してトルクと把持力を測定した。 この測定値からピペットが滑ることなくピペットコントローラに挿入できる把持力は 54N 以上であることがわかった。
それから、 ピペットの電動挿入について検討をおこなった。 ロボットグリッパー Cの把持力調整にステッピングモータ、ピペット挿入に市販の X 軸ステージを使用し、
図 4 に示す電動挿入装置を製作した。 ステッピングモータのパルス数で把持力の決定、 X 軸ステージの移動量でピペット挿入位置の決定をおこなっている。 ピペッ
トコントローラの挿入口中心とピペットの中心位置を一致させるために、 ピペットコン
トローラを上下移動機構、 ロボットグリッパー C を左右移動機構に固定し、 中心位
置を上下左右に調整できる構造としたので、 比較的容易にピペットが電動挿入できることがわかり、自動挿入の見通しを立てることができた。また、この装置製作から、ロボットアームに要求される剛性、 位置決め精度、 力学的条件の知識を得たので、ロボットアームを選定するための判断基準の目安がわかるようになった。
そこで、 ピペット挿入に必要な剛性、 耐久性を満足するロボットアームをレンタルし、 昨年度に挑戦できなかった① 「ロボットアームを使用し、 ピペットコントロー
ラにピペットを挿入すること」 並びに② 「ピペットに溶液を自動分注 （吸引 ・ 排出）
し、 指定した溶液量を容器に取り分けること」 を課題とした。
課題①について、 ピペット挿入用ロボットアームは 6 自由度で高精度位置決めが可能な製品とピペットを把持するためのロボットグリッパーをレンタルして挿入テストを実施した。
ピペットを挿入するノーズピース （ピペットコントローラの先端） はロボットアームの稼働範囲内に設置するため、 ロボットアームと同一のテーブル上に固定した。 この際、 ノーズピースの内部にピペットを保持するための柔軟性樹脂で製作されたピペットアダプターを装着した。 ロボットアームの制御は教示ペンダントのグラフィカル
ユーザインタフェース （GUI） でプログラムを実行しておこなうこともできるが、ティー
チング機能を備えているので、 ノーズピースまでの軌跡をティーチングして挿入実
験をおこなった。 この機能は便利で、 XYZ 座標値の入力等が必要なく、 自動で移動プログラムが作成されるため、 短時間で挿入可能なことを確認できた。 図 5にロボットアームがピペットアダプターを装着したノーズピースにピペットを挿入している様子を示す。
課題②について、 出力信号端子付きの電子天びんの計量皿に溶液入り容器を設置し、 吸引量を電子天びんの数値で判断する方法を試みた。 最初に電子天びんの出力特性を知るため、変換ケーブルを使用して PC と接続し確認をおこなった。
特性を理解してから、 PC を使用することなく、 マイコンで電子天びんの数値判断ができるようにした。 また、 市販のピペットコントローラを参考にして、 溶液の分注がおこなえる専用のコントローラを自作した。 これらを組み合わせて、 電子天びんの計量皿に設置した溶液入りの容器にロボットアームでピペットを挿入し、 指定した容量だけ手動で吸引できることを確認した。
今後はロボットアームの制御盤から出力される信号を利用して、 ピペット挿入から溶液の自動分注ができるシステムを構築する予定である。

図 1 ： ロボットグリッパー A

図 2 ： ロボットグリッパー B

図 3 ： ロボットグリッパー C

図 4 ： 電動挿入装置の外観

図 5 ： ピペット挿入時の様子
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活動レポート

スパッタで製作したアルミミラーの膜厚による反射率の測定
木村 幸代
1. はじめに所内から、アルミニウムをガラスに成膜したミラーの製作依頼がありました。 このミラーは波長 405nm と 532nm のレーザーを用いてタンパク質の動きを解析する実験に用いるものです。 アルミ平面ミラーは光学部品として販売されていますが、今回製作したものは成膜後、エッチングしてアルミニウムの無い部分を作る必要がありました。
2. 白く光沢感のないミラー膜の厚さは光が透過しなければ良く、アルミニウムはおよそ 100nm でほぼ透過しないと聞いていましたので、ガラス基板にスパッタで 200nm の厚さに成膜しました。 しかしこのサンプルの表面は白っぽく、一般的なミラーと比較して光沢感のない様子になりました（図 1a,c）。
その様になるのは不純物による密度の減少や、表面の荒れなどが原因と一般的に言われますが、アルミ薄膜に関して調査し、光沢には膜の作製時間が影響し、時間を短くすると光沢のある薄膜が成膜できたという情報を得ました [1]。
そこで新たに作製時間の少ない 20、50、100nm の厚さでテストピースを製作し、白くなったミラーと比較して光沢が得られるか試してみることにしました（図 2）。 その結果、3 種ともに目視では光沢感を得ることができ（図 1b）、透過率と使用波長での反射率がどのくらいか、機器センターの紫外・可視・近赤外分光光度計を用いて測定しました。

図 1 ： 光沢感の比較

図 2 ： 製作したテストピース

3. 膜厚による透過率と反射率
波長 405nm から 532nm の範囲での膜厚 20、50、100、200nm の透過率を示します（表 1）。 20nm では 7 ～ 10% 程度、50nm、100nm では 1.3 ～ 1.7 ％程度、200nm では 0.02 ％程度の透過率になりました。 続いて 50、100、200nm で反射率を比較したところ（表 2）、波長 405nm 付近で 50nm が最も高い 96.7 ％になりました。 50 ～ 200nm の範囲では膜厚に関して透過率と反射率は相反する関係となり、双方のバランスをみて、今回の場合は 50nm が高い反射率を得るのに最適な厚さと考えました。 ただし測定した反射率の値は測定器のベースラインを 100 ％とした時の相対値であるので、実際に利用できるか判断するには、今まで問題なく利用できていたミラーとの比較が必要になります。
表 1 ： アルミミラーの膜厚別透過率

表 2 ： アルミミラーの膜厚別反射率

4． まとめ膜厚 200nm のアルミ平面ミラーを製作した際、表面が白く光沢感が無くなりました。 膜の作製時間が光沢に影響する情報［1］をもとに、20、50、100nm のテストピースを製作して透過率を比較したところ、50、100、200nm では透過率が 2 ％以下となり、50、100、200nm での反射率は 50nm が最も高い値で、光沢感を得ることもできました。
5. 参考文献［1］ 吉村幸雄、中村俊一、松田豪彦，「スパッタ法によるアルミ薄膜の制御技術」，P24-25，鹿児島県工業技術セン
ター研究成果発表会予稿集，2008
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活動レポート

極小径穴の分光用ノズルの製作
菊地 拓郎
1. はじめに電鋳技術の製作をはじめてから、所内での工作依頼はメタルマスクのような薄膜の製作を行っていた。 今回、初めて立体形状の製品を製作したので、その加工工程を紹介する。
2. 母型の作製
電鋳で製品を造る場合、最終形状と逆の形状をした母型が必要である。 過去に装置開発室で取り組んでいた分子線スキマーの電鋳加工で製作していた母型を参考に、今回の依頼に合わせたサイズの母型を SUS304 の丸棒から旋盤加工で作り上げていった（図１ a）。
この時、加工面は可能な限り鏡面であることが望ましい。 表面粗さは、電鋳後の離型の作業性に影響を与える。 また、めっき面以外の部分へのめっき析出を防ぐため、電子工作でよく使われる絶縁
テープでマスキングを施してある（図１ b）。

ab

図 1 母型製作

3. めっき液の調整
電鋳に使用する金属は、ニッケル、銅、鉄などが挙げられる。 今回の依頼品は、直進する光電子の分光に使用されるため、光電子が磁場の影響を極力受けないようにする必要がある。 したがって、非磁性である銅めっきが適している。
銅めっきのなかでも、硫酸銅めっきは組成が単純で、管理も比較的容易である（表1）。 加えて、厚めっきも可能なため、電鋳にも向いている。
めっき金属は、ファラデーの電気分解の法則に則って析出するため、被めっき物の表面積（dm2 ※）、電流値（A）および時間（sec）の積で計算される。 また、めっき液の液温も析出金属の硬度や光沢、内部応力に影響を与える重要な要素である。 一般的に電流密度が小さく、かつ液温が高いと内部応力の小さいめっきになる。 今回は、150µm の膜厚を狙ってめっきを行うため、事前に条件を振り分け、実際の膜厚を測定し、狙いの膜厚になるよう調整を行った （表 2）。
めっき技術については、Annual Report(2019) や技術課活動報告かなえ （2019） など、過去の記事でも紹介しているので参考にして頂きたい。
表 ： 1 めっき液組成

表 ： 2 めっき条件

4. 穴開け
母型から取り外した電鋳品は、カラーコーンのような円錐形状であるが、先端に孔は空いていない （図 2）。 また、断面からも見て取れるように先端は狙いの膜厚よりも厚くめっきされている （図 3）。 これは、先端形状やカド部に電流が集中し、より多くの金属イオンが析出するめっきの性質によるものである。
先端の穴は、φ 0.05mm(50µm) 程度の貫通孔を要求されている。
まずは、φ 50µm の小径ドリルを使用して、手加工での穴開けを試みた。 しかし、このままでは厚すぎて加工が困難なため、先端の厚さが 50µm 程度になるまでやすり掛けをしていった。 小径ドリルを使用した結果、穴を開けることは出来たが、バリが残ってしまう状態になった（図 4）。
図 2 ： 電鋳品
図 3 ： 電鋳品の断面
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活動レポート
他に方法が無いか調べたところ、FIB( 集束イオンビーム ) を用いた微細加工方法があることがわかった。 しかし、分子研では保有していない装置であった。 そこで、ナノテクノロジープラットフォームを経由して、大阪大学産業科学研
究所ナノテクノロジー設備供用拠点の FIB 装置をお借りして、加工することとなった （図 5）。 加工方法は、Ga+ ガリウム
イオンを線源としたイオンビームで、空けたい穴の円周上に外堀を掘るように照射していった。 最終的には、きれいな穴がくり抜かれて仕上がった（図 6）。

図 4 ： 小径ドリルで開けた穴

図 5 ： 集束イオンビーム装置（大阪大学産業科学研究所）

図 6 ： FIB で加工した穴 (50um)

先端の穴開け加工は出来たが、依頼者の実験はノズル先端と試料との距離および、光線の入射角が重要で、”肩”を落とさなければならなかった。
最後は顕微鏡を覗きながら、優しくやすり掛けするという何ともアナログな手法で仕上げることになった（図 7）。
5. さらに表面処理
実はこれで完成ではなく、実験の使用環境が反応性ガスで満たされているため、銅素地のままだと腐食してしまう恐れがあり、銅が腐食されないために貴金属である金めっきも施してほしいという依頼であった。 しかし、銅素地に直接金めっきをすると、金が銅に拡散して金表面が損なわれる現象が起きる。 それを防ぐため、通常はニッケルめっきの上に金めっきをする。 しかし、前述のとおり非磁性の条件では磁性体であるニッケルめっきを使うことが出来なかった。 そこで、非磁性の貴金属であるロジウムめっきの上に金めっきを施すことで要求を満たした（図 8）。
6. まとめ
大きさ 10mm 程度の小さな部品であるが、機械加工、めっき、ナノテクノロジーと複数の加工技術を駆使して作り上げたものとなった。 今後も依頼者の要求に応えられる、付加価値の高いものを作っていけるように技術を磨いていきたい。

※ めっき分野で面積は、平方デシメートルが使われる。 1dm2 = 100cm2

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図 7 先端の肩を落とす

図 8 完成した分光用ノズル

活動レポート

クリーンルーム統合制御システムの開発-FFU 制御ユニットとトラブル対策 豊田 朋範
1. はじめに2020 年 3 月に附属 3 棟の施設改修が竣工し、各所に分散していたクリーンルームは C 棟 ( 旧レーザーセンター棟 )1階に集約された。 一方、クリーンルームは外気を給気ファンで取り込み、16 台のファンユニット (FFU) で送風し、循環させることでクリーン度を維持する構成であるが、風量調整・管理の機構は自ら構築する必要があった。
筆者は、昨年の活動レポートで報告した一斉警報通知システム [1][2][3][4] を FFU 制御に適用し、将来的にクリーンルー
ムの風量を自動制御するクリーンルーム統合制御システムへと拡張する計画を立案し、開発に着手した。
2.C 棟クリーンルームの仕組みとクリーンルーム統合制御システムの概要
クリーンルームにおける風の流れを図 1に示す。
まず、給気ファンからフィルターを通して外気を取り込む (A)。 取り込んだ外気
は、FFU からフィルターを通して大室に向けて送風する (B)。 風は大室 (147m2) を通り (C)、通路と天井を通過して (D)、イエ
ローランプがある小室に入る。 空調機からの風も加わって小室 (80m2) を通過した
後 (E)、廊下を通って (F)FFU に戻り、再びフィルターを通して送風される。 これを繰り返すことで、クリーン度を構築・維持する。
給気ファンからの外気取り込みや FFU
における風量調整など、クリーン度を構築・維持し、将来的に自動制御や LAN 接続が可能な制御システムを立案した ( 図2)。 クリーンルームの 4 月稼働開始が求図 1 ： クリーンルームにおける風の流れ
められたことから、今年度は FFU 制御ユニットの開発と配置・稼働から着手し、他のユニットの配置や LAN 接続は順次行うことにした。
3. コア基板を用いた FFU 制御ユニットの開発
16 台の FFU は、外部から 0 ～ 5V の制
御電圧を入力することで回転数、すなわ
ち風量の調整が可能である。 また、接点
図 2 ： クリーンルーム統合制御システムのイメージ出力を持ち、停止・異常発生と運転中を検出できる。 一方、FFU が設置された空間は、カラー鋼板で囲まれているために、Wi-Fi や携帯電話は使用不能であるが、LoRa は通信可能であることを確認した。 これらのことから、(1)0 ～ 5V の制御電圧を
LoRa 経由で設定する (2)FFU の接点出力を取り込み、停止／運転中や異常停止を検出する (3) 保守管理用に小型のディスプレイを搭載す
る－を柱とする FFU 制御ユニットを構築した ( 図 3)。
FFU の制御電圧は、16bit D/A コンバータ AD5683RARMZ(Analog
Devices社)と、オペアンプAD8638ARZ(Analog Devices社)、3.3V→5V
図 3 ： 開発した FFU 制御ユニット
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活動レポートの DC-DC コンバータ CRE1S0305S3C(Murata Power Solutions 社 ) で生成する。 D/A コンバータは SPI で制御し、16bitデータで 0 ～ 2.5V を出力する。 これをオペアンプで 2 倍増幅し、0 ～ 5V とする。 FFU の接点出力の検出は、GPIO を用いたシンプルな接点入力モジュールで ARM マイコンに取り込む。 制御電圧や 16bit データの値、FFU の運転状況
は、I2C で制御する 0.96 インチ 128 ｘ 64 ドット OLED モジュール ( 秋月電子通商 ) で表示する。 これら 3 種類のモジュー
ルを、前回報告したコア基板 [4] の Pmod コネクタに接続し、AC200V → DC9V の絶縁型 AC-DC コンバータ IRM-029(Mean Well 社 ) で電源を供給するユニットとして集約したものが、図 3 の FFU 制御ユニットである。 FFU 制御ユニットは図 2 のマスターユニットを介して 16 台すべて、あるいは個別に風量を調整できる。
4.FFU 制御ユニットの運用トラブルと対策
FFU 制御ユニットの開発は、FFU の実機と同じサンプル機で試験を行った。 大きな問題もなく、16 台分を製作・配置して運用を開始した
ところ、FFU の接点出力を異常 (ON) と誤認して停止するトラブルが頻発した。 検証したところ、コア基板やモジュール、FFU の接点出力と接続するケーブルに異常はなく、クリーンルームに設置された FFU で稼働した時のみ発生することが分かった。
検討を重ねた結果、(1) ケーブルが長く、ARM マイコンのプルアッ
プ抵抗が大きいことで、入力インピーダンスが高く、ノイズを拾いやすい状況 ( 図 4) (2)FFU と制御電圧モジュールの間でグラウンドのループが構築されていたことで、アンテナとなってノイズを拾いやすい状況－の 2 点が重なって発生したと推察した。
FFU 制御ユニットの設置場所は変更できないため、ケーブルを短くすることは出来ない。 そのため、プルアップ抵抗をマイコン内蔵から外付けにして、値を小さくすることでFFUの接点から見た入力インピー
ダンスを小さくし ( 図 5)、制御電圧モジュールの D/A コンバータのアナ
ログとディジタルの GND を切断することでグラウンドループを切断した。 これにより FFU 接点の誤認は大きく減少したが、散発的に発生したため、マイコンで接点入力を調べる時間間隔を 10ms から 100ms に広げ、10 回連続して同一の状態であれば、接点の状態が変化したと認識するようにして解決した。

図 4 ： FFU 接点誤認の原因

図 5 ： FFU 接点誤認の対策

5. 今後の計画並びに謝辞
クリーンルームにおける風量調整・管理は、クリーンルームのクリーン度を維持するインフラと言える。 風量調整・管理は 24 時間連続で行う必要があるが、開発時と大きく異なる環境、特にノイズに対して堅牢な設計が求められることが分かった。 2020 年 12 月現在で図 2 のユニットはほぼ全て配置完了し、LoRa 通信による自動制御や LAN 接続を開発する段階であり、来年以降、進捗などを報告する予定である。
コア基板の開発・製造並びに本システムの開発・拡張は、2019 年度自然科学研究機構産学連携支援事業 ( 課題名：「一斉警報通知システム」構想の実現に向けた社会実験」 ) 並びに 2019 年度～ 2020 年度川合所長奨励研究費の助成を受けて行われた。 本システム並びにコア基板は、千葉寿・技術専門員、古館守道・技術専門職員、藤崎聡美・
技術専門職員 ( 以上、岩手大学 )、木村和典氏 ( 分子研 ) との共同開発の成果であり、ユニットの配置・試験には近藤
聖彦氏、木村幸代氏、石川晶子氏 ( 以上、分子研 ) に協力いただいた。 各位に深い感謝の意を表する。
6. 特許情報、 参考 ・ 引用文献
[1] 特願 2019-214632 「通知システム、通知システムにおける制御装置、及び通知システムにおける制御方法」 千葉寿、豊田朋範、古舘守通、藤崎聡美[2] 特願 2018-156982 「緊急防災ドッキングステーション」 千葉寿、豊田朋範、古舘守通、藤崎聡美[3] 特開 2018-026807 特願 2017-137745 基礎出願番号：特願 2016-147674 「警報連動型防災システム」 千葉寿、
豊田朋範、古舘守通、藤崎聡美[4] 豊田朋範 「一斉警報通知システムの開発」 装置開発室 Annual Report 2019 p28 ～ 29

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活動レポート

多地点同時観測システムの開発
松尾 純一

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1. はじめに
近年流行している COVID-19 の影響を受けリモート作業や無人運転化が進む状況に対応するため、 人や機器の状態を遠隔地から観測できるシステムの開発を行った。 主な対象は以下とした。
人の所在と状況 （リソース管理、 安全管理）
クリーンルームの清浄度 （大気圧に対する差圧、 パーティクル量）▲▲▲▲

2. システム概要
観測端末には Raspberry Pi を用い、 接続したカメラやセンサーからの情報を Raspberry Pi の中で処理した後、Ethernet 経由でテキスト、 グラフとして参照出来るようにした。 また、 それらの URL をまとめて表示する Web ページ
を各端末が内蔵することでサーバを介することなく多数の情報を一画面で参照できるようにしている。 現在表示させている情報は下記の通り。
カメラによる現場画像
BLE(Bluetooth Low Energy) Beacon を元に特定した人の所在位置
自作差圧計の差圧と室温の時系列グラフ
パーティクルセンサからのパーティクルカウント値の時系列グラフ

図 1 ： システム構成図

カメラ画像は raspistill コマンドにより任意の時間間隔 ( 現在は 1 秒間隔 ) で RAM ディスクに画像を書き出すようにしている。 その後、 ImageMagic を用いてタイムスタンプを付与し、 居室の画像はプライバシーに配慮しモザイク処
理を施している。基本的に撮影した画像は上書きされるが、実験の記録などの用途を鑑み Network File System (NFS)や Server Message Block (SMB) といったプロトコルを使用し Network Attached Storage(NAS) に画像を蓄積できる機能を持たせている。
差圧やパーティクル量などのデータの蓄積とグラフ化の処理には Round Robin Database Tool (RRDtool) を用いている。 データの用途や特性に合わせて 1 ～数十秒程度の間隔で記録し、 1 分毎にグラフを出力するようにしている。
所在位置は BLE Beacon の電波がどの観測端末のあたりで強いかを計測することで場所を特定している。
Bluetooth の 信 号 を Python モ ジ ュ ー ル の bluepy を 使 用 し て 取 得 し、 Bluetooth Device Address(BD_ADDR) とReceived Signal Strength Indicator(RSSI) を 10 秒ごとに記録し、 複数回分のデータを元に対象と場所を決定する。
Raspberry Pi には長期安定運用を考え、 WDT(Watchdog timer) の設定、 SD カードの劣化を防ぐためにログやテンポラリ領域の RAM ディスク化や、 ログ記録先の syslog サーバ化といった対策を行っている。 また、 増設時や設定変更時には設定ファイルを Raspberry Pi 同士で同期し、 プログラム側も設定ファイルの再読み込み処理を行うように
している。
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活動レポート
Web ページ上の画像の更新は画面全体ではなく、 JavaScript を使用し画像のみリロードを行うようにしている。 こうすることにより読み込み途中における画像の抜け ( 図 2) が無くなり、 読み込みエラー時にも代替画像を表示させることができる。 また、 Web 画面の更新処理全体の停止 ( 図 3) を防ぐことが出来る。

図 2 ： 読み込み中における画像抜け

図 3 ： 読み込みエラーにより停止した画面

3. 結果とまとめ観測端末に Raspberry Pi を用いたことで標準機能として SPI,I2C,UART,Ethernet,Bluetooth といった様々なインター
フェースが使用できるため接続するセンサーを選びやすくなっている。 また、 表示画面の構成が自由に変更できる
ため用途に応じた画面を用意するなど柔軟な運用が出来ている。
基本的にサーバが不要なシステム構成となっており、 観測端末からの情報を Raspberry Pi 内で処理させ Web ブラ
ウザに観測端末からの情報収集を任せることで、 １端末の障害時にもそれ以外の部分に影響を与えることが無い。 また、 中継分のタイムラグが無いため遅延時間は有線接続時で 1 ～ 2 秒 ( 図 4) とリアルタイムな表示となっている。 この遅延発生原因は撮影を実行してからファイルへの書き出しが完了するまでの遅延が約 0.76 秒 （図 5） と Web ブラ
ウザが画像をリロードするタイミングによる遅延 0 ～１秒 ( 現在リロード間隔が 1 秒 ) が含まれる。 現在、 14 台の観測
端末の画像と 2 つのグラフを 1 画面に表示させて複数個所から観測しているが、 端末が接続されているネットワーク
が貧弱 （Wi-Fi の電波強度不足） な個所を除きほぼ 1 秒間隔で画像の更新ができている。
室員が不在となる夜間や休日の記録用に別建てサーバにてカメラ画像を収集 ・ 記録する仕組みを作成した。 すべての画像を保存するのではなく、 前回からの差分量を ImageMagic で算出し多い場合のみ保存するようにしている（図 6）。
現在の問題点は観測端末がオリジナル情報を持っているため、 故障時にデータが消失する恐れがあることだ。 自動的にバックアップを取得しデータの保護と復旧処理を簡便化するような仕組みを考えていきたい。

図 5 ： 撮影から記録完了までの時間

図 4 ： 撮影から表示までの遅延時間

元画像 1

元画像 2
図 6 ： カメラ画像の差分処理
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差分画像

活動レポート

工作伝票管理システムの改良
木村 和典
1. はじめに
装置開発室では、 例年 300 件程度の工作依頼に対応している。 これらは依頼者や担当者により記載される工作伝票をもとに、 内製した伝票 ・ ストックルーム管理システムに登録される。 半期ごとの移算報告は、 このシステムに登録された部材使用額や外注立替額、 ストック使用額などを研究グループ ・ 工作分類ごとに集計して行われる。 本システムは 15 年以上に亘って使用されているが、 開発者の異動などにより、 近年は不具合が生じたときに最低限のメンテナンスを行うのみであった。
2019 年度には OS サポート終了に伴いサーバー機を更新し、 また本年度より 3D プリンターが装置開発室に移管された。 これに伴い同システムの拡張が必要となったため、拡張作業及び細かな不具合の修正を並行して改良を行った。 ここでは古くなっていた同システムの状況および筆者が行った改良作業の一部について紹介する。
2. 工作伝票管理システム概要
伝票システムは Web ブラウザから使用する Web アプリケーションであり、 サーバー側のプログラムは VBScript を使用した Active Server Pages( 以後 「Classic ASP」 )[1] である。 これを用いたシステムの形態はさまざまなものが考えられるが、 本システムにおいては一つの Classic ASP ファイルが一つのページを担当する形で記述される。 この動作環境の都合上、 サーバー側の OS が Microsoft Windows に限定される。 またデータベース管理システムには一時期
Microsoft Access を使用していたが、 現在は Microsoft SQL Server を使用している。
本システムの利用には簡易ながら認証が必要であり、 装置開発室外からはアクセスできない。 ログイン後、 以下のような機能が利用できる。
・ 工作伝票の新規登録、 更新
・ 各工作依頼の作業データ登録 ( 作業時間、 外注料金、 部材使用料など )・ 工作依頼の検索、 リスト表示 ( 依頼者の所属研究部門、 品名、 依頼年月日、 工作分類などの条件指定可 )・ 研究グループデータの管理
・ 研究グループごとの移算集計表示
3.API 方式の導入
従来の工作伝票編集フローの例を図 1 に示す。 主な編集対象は作業時間や部材使用額、 外注立替額であり、①の画面で確認できる。 これを編集する場合は②に遷移し、 登録 ・ 削除 ・ 更新いずれかを選択する。 すると対応したページ③に遷移し、 確定 ・ 送信すると④の結果表示画面に推移して完了となる。 このように、 伝票編集を行うには複数のページを行き来する必要があった。 図 1 の例は作業時間登録であるが、 これと同様の処理が部材使用額、 外注立替額で、 また削除 ・ 更
新でもそれぞれ存在する。 このようなものが組み合わさり、 編集処理だけでおおむね 40
近い ASP ファイルが用意されていた。
そ こ で、 登 録 ・ 削 除 ・ 編 集 機 能 を Web
API (Application Program Interface) として切
図 1 ： 従来の伝票編集の例 ( 作業時間データの新規登録 )り出し、 登録したいデータを送信すると処理
結 果 を JSON(JavaScript Object Notation) で返すようにした。 JSON は JavaScript 上で容易に処理できるデータ構造であり、 代表的な Web ブラウザの殆どがこれを処理できる。
JavaScript はクライアント側で、 ボタン押下時の処理やページ内要素の変更などを容易に行える。
これにより、 ページを切り替えることなく伝
図 2 ： API 方式で作り直した伝票編集の例 ( 作業時間データの新規登録 )票の各要素の編集を行えるようになった。
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28

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活動レポート
4. 一画面で完結する伝票編集画面の構築
装置開発室の工作伝票は紙で用意されており、依頼者 ・ 作業者が記入したものを事務担当者もしくは作業者がシステムに入力する。 そのため、 入力
画面は紙の伝票を模したものであると入力時に確認がしやすい。
そ こ で、 伝 票 編 集 画 面 を 再 構 築 し た。 図 3 に完成形を示す。 各要素を表形式でまとめ、 Classic
ASP ファイルに直書きされていたレイアウト ・ スタイ
ル指定は CSS ファイルに書き出した。
また編集する対象が 4 要素 ( 工作依頼の基本デー
タに加え先に API 化した 3 要素 ) であるが、 ボタン
一つで編集を完了できるようにしたいとの要望が寄せられた。 これは JavaScript の機能である Promise[2]を用いて実現された。 ボタンの押下をトリガに各 APIにデータを送信 ・ 応答を受信する Promise オブジェ
クトが生成され、 並行して処理が行われる。 その後
すべての API から応答があったことを確かめ、 結果を表示して更新完了とする形で実装した。 以上より、一画面完結型の伝票編集画面へと改良された。
5. コンテンツの整理管理を開始した時点で本システムは、 大量のファイルが単一ディレクトリに配置される形で構成されていた。 しかし開発当初の資料とソースコードを確認したところ、 それぞれ 20 ファイル以上ある JavaScript
や CSS は使用されておらず、 200 ファイル以上ある
ASP ファイルの大半はテスト用であった。
そこで上記の改修と並行してコンテンツの整理を行った。 完了後のページ遷移 ・ API 呼出しフローを
図 4 に示す。12 の API( 図中の緑 ) と 11 のページ ( 図中の黄 ) にまとまった。
また画像ファイルが 680 ほどあったが、 うち 20 ほどは使われていないアイコンなどで、 他は工作依頼の資料であった。 資料は重要ではあるがシステムとは別に管理されるべきであるため、 工作依頼ごとに集約するよう変更した。

図 3 ： 一画面完結になった伝票編集画面

図 4 ： 整理後の伝票システムのページ遷移 ・ API 呼出しフロー(API のうち右下 3 つは編集要素ごとに設けたため実際は 9 つ )6. おわりに
装置開発室で使用している工作伝票システムとその改良作業から 3 点を紹介した。 一連の作業で不要なコンテンツを整理したことで機能が明確になった。 またレイアウト ・ 動作 ・ データベース処理の担当を明確に分けたことで、主にデータベースとのやり取りを担当する Classic ASP 部分のメンテナンスも容易となった。
本システムで使用されている Classic ASP はいわゆる 「枯れた」 技術であり、 安定して動作する。 殆どメンテナン
スされないまま 10 年以上に亘って運用されるなど、 システム開発 ・ 維持が本業ではない筆者らの環境では一定の効果を上げてきた。 もちろん問題なく動作しているシステムであれば積極的に置き換えるべきではないが、 紹介した以外にも本システムは多数の不具合を抱えている。 利便性と作業コストを考慮しつつ、 必要であれば別の開発言語で再構成することも検討したい。
7. 参考 ・ 引用文献
[1] Microsoft Developer Network (MSDN) , “Active Server Pages”
https://docs.microsoft.com/en-us/previous-versions/oﬃce/developer/server-technologies/aa286483(v=msdn.10)[2] Mozilla Developer Network (MDN), “JavaScript :: Standard Built-In Object :: Promise”
https://developer.mozilla.org/en-US/docs/Web/JavaScript/Reference/Global_Objects/Promise
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トピックス

知的財産に関するセミナー開催報告豊田 朋範2020 年 2 月 28 日に、BS 国際特許事務所の阿部伸一所長・弁理士を招聘して知的財産に関するセミナー 「公的研究機関・大学等における知的財産のチェックポイント」 ( 図 1) を開催し、所内外から 16 名が受講した。
阿部弁理士の講演では、特許など知的財産の基本事項から、「知らなかったでは済まされない」 特許侵害の注意点などを、ワークショップ形式も交えて分かりやすく解説され、受講者は熱心に受講した。 筆者らは複数の特許を出願しているが、公的機関における知的財産
は、業務成果を正当に保護し、安全に活用するためのものであるという立脚点を堅持し、開発中の防災システムの展開に生かしていく所存である。
本セミナーは2019年度自然科学研究機構産学連携支援事業「「一斉警報通知システム」
構想の実現に向けた社会実験」 の助成を受けて行われたものである。 困難な情勢の中、本講演を快諾いただいた阿部伸一弁理士に厚く御礼申し上げます。
図 1 ： セミナーのポスター( 岩手大学 ・ 藤崎聡美氏作成 )大阪大学産業科学研究所出張報告菊地 拓郎
2020 年 3 月 26 日、大阪大学ナノテクノロジー設備供用拠点の法澤公寛氏を訪ねた。 目的は、FIB( 集束イオンビーム ) 装置を用いて、電鋳製のノズル先端にφ 50µm の小径孔加工をするためである。 分子研では保有していない設備であったため、実際の加工の様子を見ることで微細加工技術への理解を深めることができた。
また、産業科学研究所が保有するクリーンルーム施設および種々のナノ加工装置を見学した。

FIB （集束イオンビーム）装置

産業科学ナノテクノロジーセンター

加工の様子

国立天文台出張報告菊地 拓郎
2020年8月31日～ 9月2日の3日間にわたり、国立天文台先端技術センターの三ツ井健司氏を装置開発室メンバー
2 名（青山、菊地）で訪ねた。 目的は、軸外し放物面ミラーを超精密加工機で製作するためである。 分子研の NC 旋盤
で前加工をした素材を持ち込み、精密 NC 旋盤で仕上げ加工を行った。
また、センター内にある大型 5 軸加工機 D500 や種々の加工機、台内の施設などを見学した。

精密 NC 旋盤での加工の様子

加工前と加工後－30－

トピックス

出前授業と教材開発豊田 朋範
筆者は、2020 年 10 月 6 日に岡崎市立南中学校、2020 年 11 月 19 日に岡崎市立
甲山中学校で、「世界は光に満ちている―光の不思議と謎に触れてみよう―」 なる
題目で出前授業を担当した。
中学 1 年生を対象としたこれらの出前授業では、光の性質、特に反射や屈折が虹や陽炎など様々な自然現象として見られることなどを紹介するとともに、戦略室の片柳英樹助手の依頼で開発した、16 × 16 個の赤外 LED を用いた「見えない電光掲示板」 を展示した ( 図 1)。 肉眼では見えないが、書画カメラやスマートフォンのカメラを通すと文字やイメージが見えることで、生徒の関心は高く、出前授業後のアンケートでも 「自宅でリモコンの赤外光を観測した」 という報告が多数寄せられた。 片柳助手からは、学校現場における理科教育の苦心と技術協力への期待が 図 1 ： 「見えない電光掲示板」の表示例
話され、「見えない電光掲示板」のプログラミング対応など、アウトリーチ活動に引き 赤外 LED を検出できるカメラではこのように見える
続き協力する所存である。 本授業に協力いただいた岡崎市立南中学校の蜂須賀教諭、岡崎市立甲山中学校の今井教諭に御礼申し上げます。

岩手大学防災・地域創生シンポジウム
豊田 朋範2020 年 11 月 4 日に、岩手大学が主催し、分子科学研究所、国立大学協会、岩手県、盛岡市、大船渡市が共催、大槌町、山田町が後援する岩手大学防災・地域創
生シンポジウムが開催され、筆者が参加した ( 写真 1)。
本シンポジウムでは、小沢喜仁・福島大学特任教授・福島県イノベーション・コー
スト構想推進機構理事と、眞瀬智彦・岩手医科大学教授・災害時地域医療支援教育センター長が特別講演を行い、痛苦の経験を活かして大規模災害に備え、地域に貢献する構想や活動が紹介された。 岩手大学の事例紹介では、筆者が岩手大学の技術職員と共同開発を進める一斉警報通知防災システムが紹介され、パネル
ディスカッションでは他のパネリストから実現に向けた期待が寄せられた。
本シンポジウムは昨今の情勢を受けて会場の受け入れ人数を 50 人に限定した 写真 1 ： シンポジウム会場前の案内表示
が、オンライン聴講者 80 名あまりのうち、愛知県からは 17 名と 20% を超える聴講者があったと報告を受け、関心の高さと広報活動の重要性を感じた。
本シンポジウム参加にご理解ご協力いただいた繁政技術課長、分子研内外の広報活動に尽力いただいた原田美幸
技術係長・URA に厚く御礼申し上げます。

ナノテクノロジープラットフォーム技術スタッフ交流プログラムへの参加
グレースケール露光による PDMS 製マイクロバルブ／ポンプの作製
石川 晶子
2020年12月1日～ 4日の日程で、京都大学で開催された表題の研修に参加した。
研修内容は、フォトリソによって PDMS 製マイクロバルブの組み込まれたマイクロ流体
デバイスを作製するというもので、Si ウエハ上にフォトレジストモールドを 2 種類作製
し、それぞれのモールドを型に PDMS に写し取り、それらを合体してガラス上に貼り合わせることでデバイスを完成させ、バルブ開閉により液体の流れる経路を選択できることを確認した。 （図）以前より興味のあったグレースケール露光を含んだフォトリソの工程を学ぶことができたのはもちろん、日々の業務に関しても参考になることも多く、有意義な体験と
なった。

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31

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図 ： 動作確認中のPDMS 製マイクロバルブ／ポンプ特集

施設改修を終えて近藤 聖彦
2019 年に開始された施設改修が 2020 年 3 月末に完了した。 共同研
究棟 B 棟、 C 棟 1 階 (101 室、 105 室 ) の施設改修を担当した。 改修のコンセプトは (1) セキュリティ強化、(2) 効率、(3) 環境、（4） 省エネルギー、（5） 他部署との連携、 であった。
(1) は定時になると外部から入室する際は Identiﬁcation Card が必要になる。 (2) は①改修前、 機械と電気関係のストック部品を別部屋で在庫していたが、 C 棟 1 階 101 室に統合した。 ②リソグラフィで使用する装置は
旧化学試料棟と実験棟 218 室に分散していたが、C 棟 1 階 105 室（通称：クリーンルーム） に集約した。 ③ B 棟 2 階の受付に職員在席システムと安全監視カメラの映像モニタを設置し、 職員の所在をすぐに判断できるようにした。 ④クリーンルームにパスボックスを設置し、 器具の受け渡しを便利にした。 ⑤回路室と製図室の隔壁に扉を設置し、 隣室へのアクセスを容易にした。 ⑥溶接後のリークチェックを別室でおこなっていたが、 同室でおこなえるようにした。 ⑦分散していた 3D プリンタ関係の装置を集結した。 ⑧旧装置開発棟 1 階の組立室の入退出は工場内を通過する必要があり、 真空部品を扱う際は、 切削油の蒸気が混じった空気に部品が触れないように配慮する必要があったが、 直接組立室にアクセスできる出入口を新設した。 (3) は、 ①回路基板加工機等の音が発生する装置を専用室に集結し、 騒音対策をおこなった。 ②クリーンルームに酸処理用の専用室を設置した。 （4） は、 照明が LED になった。 （5） は C 棟 2 階 203 室
がワンフロアになり、 機器センターの職員と同室になったことでコミュニケー
ションの機会が増えた。
その他、 B 棟 1 階は①安全対策として使用しなくなった工作機械を整理することで、 通路の拡大をおこなった。 ②一般利用の工作機械を集結し一般利用エリアを設けた。 B 棟 2 階は①耐震壁以外の壁を撤去しワンフロアにすることで、 視認性を向上させ職員の所在をわかりやすくした。
②気軽に技術相談できるスペースを設置した。 C 棟クリーンルームは①面積を拡大し、 作業スペースを確保した。 ② C 棟クリーンルーム内外の差圧とクリーンルーム内の清浄度が監視できるようにした。 ③ FFU を水平一方向流方式で設置し粉塵が舞うことを抑制した。 ④電子ビーム描画装置
を独立基礎に設置し振動を抑制する工夫をおこなった。 改修前から構想していた多くの事を実現できたので、 利便性等が向上したことを実感している。

C 棟 101 室ストックルームの様子

在席システムと安全モニタの様子

新設した組立室の出入口

一般利用の工作機械配置の様子

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32

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2020 年
19J06

製作品

Mo 電極製作用パンチプレス

20A06

光電子分光用スキマー

モリブデン電極は消耗品で、以前は手作業で切り抜いていたが、整った形状品を製作することが難しかった。 市販のプレス機を改造して研究室が使用する形状の型を抜けるようにした。

めっき技術を使用して製作したスキマー。 先端に FIB 加工をおこない微小な穴をあけることに成功した。母形状は内作、金めっきは外注でおこなった。

20D01

20E02

ユニバーサルジョイント

アレイ検出器用治工具

市販品がないため、溶接技術を使用し小型形状のユニバーサルジョイントの製作をおこなった。 部品が小さいため、高度な溶接技術を必要とする。

極端紫外光研究施設で使用する検出器の外形状は外注加工しアレイを固定する部品製作をおこなった。

20G06

20J10

OFET ゲート電極用メタルマスク

AFM に設置して使用するアルミ製板。 3D プリンタで試作し形状を確認後に金属加工をおこなった。

有機電界効果トランジスタのゲート電極を製作するためのメタルマスク。 マイクロ構造を有するため、フォトリソグ
ラフィ技術とめっき技術を使用して製作をおこなった。

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サンプルステージ33－

2020 年
19F01

製作品

無人航空機の誘導制御機構● USB 接続でコンピュータから値を受信し無人航空機の 4 軸 ( 移動 + 水平回転 ) を制御する回路一式●制御出力電圧 0~5V/16bit、通常送信レート 100[Hz]@4ch 同時出力、チャンネル間遅延 75[us]20A01

超音波肉厚測定装置● Time-Digital 変換 IC : 分解能 55pS, 測定範囲 :250nS ～ 8mS, 最大 5 stop signals●超音波探触子を用いた銅配管等の肉厚測定装置
20C02

クリーンルーム統合制御システム ( 第１期 )( 関連記事 p24)

● C 棟 1 階に集約されたクリーンルームの風量を 16bit で制御可能。
● LoRa 無線モジュールと Pmod 規格コネクタ搭載のコア基板により、ハードウェア構成を効率化。
●視認性が高い有機 EL ディスプレイと、FFU のステータスに連動する 2 色 LED により、保守性を向上。
20D03

多点同時定点観測ネットワーク ( 関連記事 p26)

●多地点のカメラ画像を Ethernet 経由で収集し 1 画面で表示するシステム●観測端末は RaspberryPi に RaspberryPi 用カメラモジュールを 3D プリンタにて造形したカメラステーで固定

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34

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2020 年
20E02

製作品

AFM プリアンプ用電源●レギュレータ方式により、AFM 演算回路とプリアンプに、低ノイズの直流電源を供給する。
●±15V、±200mA(最大)と±2.7V、±1.5A(最大)を供給可能。プリアンプ用電源は最大±5Vまで調整可能。
20G01

抵抗セル

●直径 10mm 厚さ 1 ～ 1.5mm の計測機校正用の円盤型抵抗、抵抗値は 100 Ω、10k Ω、1M Ωの三種類●光造形方式の 3D プリンタにて造形した外装 ( 上下共に 0.5mm 厚 ) にリードを付けたチップ抵抗を埋め込んだ
20G04

AFM 演算回路 ( 関連記事 p14)

● 4 象限フォトダイオードの信号をアナログ的に 3 種類 ((P1+P2)-(P3+P4)、(P1+P3)-(P2+P4)、(P1+P2+P3+P4)) 行う。
●周波数 3MHz(typ) 程度までフラットな周波数特性を実現。
20H01

差圧センサ計測ユニット ( 関連記事 p26)

●回路工作室で製作したコア基板（ARM マイコン）に有機 EL 液晶と差圧センサを組み合わせて製作● SPI プロトコルを用いた外部通信機能により多地点同時定点観測ネットワーク端末と連携可能
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35

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2020 年
20H01

対称ナノ構造

20 ㎜角のシリコン基板上にレジストを塗布し、設計
線幅 140nm のエックス字型微細構造を一定のピッチで 150µm × 150µm 範囲に描画した。
ピッチは 3 種類あり、ピッチにより線幅が異ならない
よう露光量を調整している。

20K01

φ 1 インチダブルスリット

φ 25.4 ×ｔ 0.7( ｍｍ ) の石英基板上にＣｒでパターニングすることでスリット構造を製作した。 Ｃｒ厚さ
は 200 ｎｍ程度、スリット幅は 100µ ｍ、スリット間隔は500µ ｍと 1000µ ｍの 2 種を製作した。 図はレジストを塗布した状態。

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36

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製作品

2020 年

工作依頼リスト

機械グループ (255 件 )伝票番号 品名
20A01
MAS調整ネジ固定具一式
20A02
ヒンジ穴追加加工
20A03
超音波肉厚測定装置の製作
20A04
ライトガイド固定用ジグ
20A05
試験管設置台
20A06
光電子分光用スキマー ［写真］
20A07
フォトダイオードソケット追加工
20A08
Pt0.6㎜穴加工
20A09
5mm×5mmピンホール板
20A10
ロッド用ホーク溝拡張
20A11
自作プローブ用ベアリングガス用柱など
20A12
TOP MAS柱など
20A13
KS3マウント
20A14
AOM6ベース
20A15
スピンコーターヘッド
20A16
穴修正アダプター
20A17
トランスファーチューブ用延長管
20A18
フォトダイオードソケットの製作
20A19
トランスファーチューブ1.2m延長管
20B01
試験管カット
20B02
電解研磨用カバー
20B03
アルミブレッドボード追加工
20B04
赤外光検出器固定台
20B05
段付き端子
20B06
固定金具
20B08
レンズホルダー高さ調整ブロック
20B09
カンチレバーホルダー修正加工
20B10
超高真空AFM装置用ミラーホルダ
20B11
スピンコーターの部品（真空チャック）
20B12
スペーサー
20B13
カンチレバーホルダー
20B14
光ファイバーアダプター（改）20B15
TCケーブルアダプター
20B16
ガラスエポキシ丸棒の加工
20B17
SABホルダー
20B18
Cu製研磨板20B19
コネクタレセプタクル固定ねじ
20C01
BL7U用クライオスタット固定金具
20C02
サンプルホルダー修正加工
20C03
カンチレバーベース
20C04
アウター電極はんだ付け
20C05
サンプルホルダ水冷管溶接修理
20C06
オートマイクロ先端ユニット
20C07
電鋳スキマー製作用母型
20C08
ESRスペーサー追加工
20C09
ESRスペーサー調整リング
20C10
光学実験用遮光カバー
20C11
TCコネクタ修正加工
20C12
対物レンズマウント用スプリングスペーサー
20C13
アルミフレーム加工

20C14
20C15
20C16
20C17
20C18
20C19
20C20
20C21
20C22
20C23
20C24
20C25
20C26
20C27
20C28
20C29
20C30
20C31
20C32
20C33
20C34
20C35
20C36
20C37
20C38
20C39
20C40
20C41
20C42
20D01
20D02
20D03
20D04
20D05
20D06
20D07
20D08
20D09
20D10
20D11
20D14
20D15
20D16
20E01
20E02
20E04
20E05
20E06
20E07
20E08
20E09
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37

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角度デバイススクリーン
センターディスク押さえ
ネジ加工
キャパシターアダプター
BL5U用パネルプレート
AOV用スパッタサンプルホルダーφ10用
蒸着用ホルダー追加工
蒸着用EBガンの修理
APM光学遅延増加装置一式
対物レンズマウント追加工
顕微鏡ターレット入射ポート追加工
光学レール追加工
MMtランスファー固定スリーブ
アウター電極接合
TCアダプター押さえジグ
端子アダプタースペーサー追加工
AOVスパッタ用バッキングプレート
VTパイプ用留めネジ
カーテンレール切断（暗室用）
ヒーター配線アダプタ/ネジ
M4低頭ネジ修正加工
光電子顕微鏡用校正Auパターン
カメラの配線確認調整
AOV用スパッタホルダ
上側対物レンズマウント一式
スリット調整板
カーテンレール穴あけ
スライド式シールド板
ユニバーサルジョイント ［写真］
4㎜プローブ用アダプタ追加工
調整ネジ追加工
BNCパネル
電解研磨針保持装置
SABアダプタ
パネルプレート
EBガン絶縁カバー
MAS柱
ヒーターホルダー
遮光版取手取り付け穴加工
BNCパネル追加加工
アレイ検出器用ジグ製作（技術相談）
アインチェルレンズ
スイッチボックス加工
アレイ検出器用治工具 ［写真］
ローレットネジ修正加工
テフロンアダプター
簡易対物用マウント
Auターゲット
spm用軸外し放物面ミラー
PDケース

2020 年

20E10
20E11
20E12
20F01
20F02
20F03
20F04
20F05
20F06
20F07
20F08
20F09
20F10
20F11
20F12
20F13
20F14
20F15
20F16
20F17
20F18
20F19
20F20
20G01
20G02
20G03
20G04
20G05
20G06
20G07
20G08
20G09
20G10
20G11
20G12
20G13
20G14
20G15
20G16
20G17
20G18
20G19
20G20
20G21
20G22
20G23
20G24
20G25
20G26
20G27
20G28

スペーサー
BaF2非球面レンズ製作（技術相談）
アクリルパーティション
アルミ棒加工JEOLプローブ用設置アダプタ
GaAs微小トランジスタ用位置決めステージ
AOVスパッタ用サンプルホルダー
ステージ支持用ロッド
FMP固定用45度マウント
ステンレスるつぼ
サーミキュライト加工治具
せん断テストジグ
金属探針ホルダー
電解研磨電極マイクロメータマウントオリジナルスピニングモジュール
３Fブレッドボード
LMR100用マウント
メタルマスクモジュール取り付けプレート
ガラスビーカーのカット
ギア変換アダプタ―
固定ねじアダプター
AOVスパッタ用バッキングプレート
カメラ取り付け台
電解研磨ホルダー追加工
カンチレバーホルダー試作
プローブ柱パイプ固定ねじ
OFETゲート電極用メタルマスク ［写真］
IRヒーターの修理
スパッタ用サンプルホルダー
高さ調整用シム板（C2700）
アクリル遮蔽板追加工
AOVスパッタホルダ
AOVスパッタホルダーリング
角度デバイススクリーン
分光用ノズルの改良
スピニングモジュール用ジグ
冷却ユニット修理
真空スリットICF70
πロメーター取り付け台
グリア細胞培養用セラミックス基板
銅支柱修正加工
固定フォーク
放射温度計固定具一式
オサエ板（タングステン）
ステンレス台座
3DCAD操作説明
Shaft Anchor
プローブ固定用治具追加工
SUS O-ring銀めっき

20G29
20H01
20H02
20H03
20H04
20H05
20H06
20H07
20H08
20H09
20H10
20H11
20H12
20H13
20H14
20H15
20H16
20H17
20I01
20I02
20I03
20I04
20I05
20I06
20I07
20I08
20I09
20I10
20I11
20I12
20I13
20I14
20I15
20J01
20J02
20J03
20J04
20J05
20J06
20J07
20J08
20J09
20J10
20J11
20J12
20J13
20J14
20J15
20J16
20J17
20J18
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38

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工作依頼リスト

SUSガスケット穴開け
ヘッド固定板SLMベースプレート
ドライブガスパネル
トランスファチューブ部品
VUU capillaryホルダー
マウント設置プレート
光ファイバーアダプターⅡ
ゴニオアダプタ
MAS軸ブッシュ
熱電対固定用治具
治具一式
オペランドESRセル
支柱溶接ICF70
ステンレス台座S
カンチレバー抑え
ニップル溶接（ICF70）
Wrist action shaker
IRMS加電圧ホルダー
X型固定プレートCD分散計用マウント
レンズ固定治具加工
ブレッドボード
プリズムミラーマウント
アダプタ
部品追加工①
部品追加工②
光ファイバー末端アダプター
集光固定板３
治具ロッド
部品追加工
アダプター・ベースマウント
クライオスタット現場溶接修理
カンチレバーホルダー改造
サンプルホルダー
真空容器フタ
真空ライン
SEM使用
探針ホルダー
カンチレバーホルダー改造Ⅱ
ネジ柱
SampleBase
サンプルステージ ［写真］
PEEKネジ穴の補修
部品追加工
SAB高さ調整アダプタ
レンズユニット、ヒートシンク製作
ミラーホルダー追加工
アイソレータ台
部品追加工
サンプル押えプレート

2020 年

20K01
20K02
20K03
20K04
20K05
20K06
20K07
20K08
20K09
20K10
20K11
20K12
20K13
20K14
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20K19
20K20
20K21
20K22
20K23
20K24
20K25
20L01
20L02
20L03
20L04
20L05
20L06
20L07
20L08
20L09
20L10
20L11
20L12
20L13
20L14
20L15
20L16
20L17
20L18
20L19
20L20
20L21
20L22
20L23
20L24
20L25

工作依頼リスト導配管アダプター
シリンジアダプター
SQUID用トランスファーチューブアダプタ
モーターマウント
コールドカソードピラニゲージ溶接
トランスファーロッドストッパー
自作プローブ用トッププレート
培養型プレーナーパッチクランプ装置製図
蒸着用サンプルホルダーリング
電気化学セル
A-1用ホルダー
VUV5000用ポール
キャピラリー先端
クライオミニ延長棒
非球面 CaF2 レンズ
スクロールポンプのねじ穴加工
電池セル
ESR 用トランスファーチューブフィルタ
サンプル押さえ 2 種
石英管アダプタ
PPMS 縦磁場プローブ
サンプル押さえ改良版
パイプ （段付）
光ファイバーアダプター
TOF 装置用電子レンズ
絶縁スペーサー
自作プローブ用 VT/ ベアリングガスライン柱
電気化学エッチング用電極
ステンレスるつぼ
パイプ柱追加工
パイプ柱
Cu 棒
サンプル押さえ 4
SEM 使用
鋳込み型治具
ホルダー追加工SEM 用ホルダ
ICF70 ウルトラトール付き
マイクロメータ加工
電池セル
Wien filter
電池セル
サンプルホルダー
ペリスコープベース
ピエゾ用スペーサー
BBO ベース
追加工
石英管切断
Pt 線はんだ付け
電池セル

－

20L26
20L27

39

－

Pb コリメータ架台
ステージ制御ユニット

2020 年

工作依頼リスト

ディジタルエンジニアリンググループ (129 件 )伝票番号 品名
20A01
パワーメーターホルダー(ゲージ)
20A02
ロボットクリップ
20A03
パワーメーターホルダ （サーマル）
20B01
ブレード金具 （テスト）20B02
FFU 回路基板
20B03
FFU 回路固定版
20C01
Y19L01 試作部品
20C02
Y19L01-0 試作
20C03
パンチプレス機用受け皿
20C04
TC アダプター治具
20C05
ピペット挿入テスト部品
20C06
BNC おさえ20C07
自作 4.0mm プローブ用 To アダプタ試作
20C08
自作 4.0mm プローブ用ドライブガスアダプター試作
20C09
FFU 回路固定板
20D01
スペーサ―
20D02
外枠
20D03
フランジ固定アダプタ v2
20D04
3D-F-Ver2 外枠
20D05
FFU プレート v3
20D06
3D.P-BL5U 外枠と蓋
20D07
軸接手
20E01
BL5U- 外枠
20E02
スロープ
20E03
FFU プレート v3
20E04
アレイ検出器用半球ジグ
20F01
PDMS型
20F02
検証ーFブレード台
20F03
フランジカバー
20F04
自作プローブ用エアーアダプタ
20F05
フランジカバー 253- 扉付用
20F06
レンチアタッチメント
20F07
ギア ・ L 字マウント
20F08
金ベースプレート ・ ブレード台
20F09
保護カバー ・ 蓋
20F10ギア ・ モーターマウント
20F11
トレイ
20F12
固定台 mini2
20G01
固定台 mini ２-2
20G02
ロゴ入りトレイ
20G03
ICF70 固定治具
20G04
モーターマウント等
20G05
トレイ 100-logo2
20G06
固定台 ICF70 ( 改 )20G07
固定台 ICF70 ( 改 )ver2
20G08
15 ㎜厚ギア
20G09
固定台 ICF70 -2
20G10
スピロサルフラワー
20G11
シャッターパーツ
20G12
4 点曲げ治具
－

20G13
20H01
20H02
20H03
20H04
20H05
20H06
20H07
20H08
20H09
20H10
20H11
20H12
20H13
20H14
20H15
20H16
20I01
20I02
20I03
20I04
20I05
20I06
20I07
20I08
20I09
20I10
20I11
20I12
20I13
20I14
20I15
20I16
20I17
20I18
20I19
20I20
20J01
20J02
20J03
20J04
20J05
20J06
20J07
20J08
20J09
20J10
20J11
20J12
20J13
20J14
40

－

切り替え部品
回転止め
トランスファーチューブ固定 3
熱電対固定台Base 治具GaAs チップ吸着ピンセットホルダー
H 型セル立て
シャッターパーツ
吸着ピンセットホルダ v2
吸着ピンセットホルダ v3
熱電対固定台 ver1_2
スイッチ基板
スパッタ用カンチレバー固定具
固定アダプタ
試作作業台
カバー試作スイッチ固定治具２
冷却ガイド試作
反射板
試作カバー ver5
切り替え部品２
冷却ガイド試作２
固定板
ピペット配管絞り
集光固定板
ブレッドボード試作
RAISE3DPro2 修理
光学ボード試作
キーボックス固定具
集光固定板 ・ プリズムミラーマウント
試作カバー
BNCm ミニパネル
カーボンナノベルト模型
サンプルベース試作
サンプルステージ試作
集光定板５ 試作
フランジ固定アダプタ
サンプルステージ１v9 試作
サンプルステージ２v6 試作
レーザーマーカー台
真空チャンバー模型
FFU プレート
Ver.2-30R-D.P-BL5U- 外枠
サーボマウントFFU スイッチ切り替え部品
ビーカーカバー ( 中心空洞 12mm と 2mm)
カバー 2 種と作業台
カバー v8 と作業台 v5
カンチレバーホルダー
FFU 切り替え部品 v4
FFU 切り替え部品 v5

2020 年

20J15
20J16
20J17
20J18
20J19
20K01
20K02
20K03
20K04
20K05
20K06
20K07
20K08
20K09
20K10
20K11
20K12
20L01
20L02
20L03
20L04
20L05
20L06
20L07
20L08
20L09
20L10
20L11

工作依頼リストホースアダプタ
水分子模型
BNC パネルビーカーカバー２
シールド、 マウント
サポート部品LUCK 用 BNC パネル
ピペットアダプタ用スペーサ
ネームプレート
FFU プレート
レンチアタッチメント
レンチアタッチメント v3
COTCOF 模型
高谷実験用サンプルホルダ―
作業台 _2_rev2
カバー等
水分子マグネット
cavity100
カバー２種
マイクロ波実験装置部品
支持材試作３
自作スピニングモジュール用ガスアダプター
３DIV ケース試作
ステッピングモータ用マウント及びギア
スイッチプレート
ストックルーム表示プレート
自作スピニングモジュール用ガスアダプター改良版
アダプター

－

41

－

2020 年

工作依頼リスト

電子回路グループ (89 件 )伝票番号 品名
20A01
超音波肉厚測定装置の製作 ［写真］
20A02
マスクレス露光装置用PCの自動バックアップシステム
20A03
BL6B温調用ケーブル
20B01
Pmod対応ディスプレイモジュール
20B02
Pmod対応気圧センサモジュール
20B03
VCOコントロール用アンプ
20B04
Pmod対応圧力計等接点入力モジュール
20B05
VCOコントロール用アンプ
20B06
Pmod対応差圧計モジュール
20C01
オージェ電子分光(AES)用MHVケーブル
20C02
クリーンルーム統合制御システム(第1期) ［写真］
20C03
Pmod対応EEPROMモジュール
20C04
AFM演算回路(シミュレーション)
20C05
Pmod対応LED・接点・スイッチモジュール
20C06
ピエゾ用BNC変換ケーブル
20C07
インターロック変換ケーブル
20C08
カメラ用Cat6 LANケーブル
20D01
FFU制御ユニット改修(第1次)
20D02
クリーンルームインバータ制御用Pmodモジュール
20D03
多点同時定点観測カメラネットワーク ［写真］
20D04
クリーンルーム緊急警報システム
20D05
Pmod対応OLEDモジュール
20D06
Pmod対応リアルタイムクロックモジュール
20D07
FFU制御ユニット改修(第2次)
20D08
AOMドライバー
20D09±15V電源ユニット
20D10
FFU制御ユニット緊急改修
20D11
高電圧パルサー用ローパスフィルター
20E01
定点観測カメラネットワーク
20E02
AFMプリアンプ用電源 ［写真］
20E03
AFM用プリアンプ回路解析
20E04
HVアンプシミュレーション
20E05
機械工作工場用AC200Vケーブル(プラグ付き)
20E06
ドラフト用インバータ監視ユニット
20F01
遠隔地への音声通知装置
20F02
Pmod対応OLEDモジュール
20F03
装置開発室伝票システム改修
20F04
AFM用PD基板
20F05
高速切断機電源ケーブル換装
20F06
クリーンルーム用機器電源ケーブル
20F07
5軸加工機用電源ボックス
20F08
ESR用マイクロ波発振器修理
20G01
抵抗セル ［写真］
20G02
FFU 制御ユニット緊急改修 ( 第 2 回 )20G03
多点観測カメラシステム
20G04
AFM 演算回路 ［写真］
20G05
クリーンルーム統合制御システムマスターユニット改修 ( 第 1 次 )20G06
AFMPreAmp 用電源
20G07
ヘルムホルツコイル用電流検出器
20G08
カメラ用ケーブル製作
－

20G09
20G10
20H01
20H02
20H03
20H04
20H05
20I01
20I02
20I03
20I04
20I05
20I06
20I07
20I08
20J01
20J02
20J03
20J04
20J05
20J06
20J07
20J08
20J09
20J10
20J11
20J12
20J13
20J14
20J15
20K01
20K02
20K03
20L01
20L02
20L03
20L04
20L05
20L06

42

－

He ガスフローシステム配線追加 ・ 修正
パッチクランプ回路シミュレーション
差圧センサ計測ユニット ［写真］
DAQ パネル加工
ESR 用ブリッジ修理
電流検出用 BNC-SHV ケーブル
放電状態監視用ケーブル
AFM 演算回路改良
フィラメント加熱用電源ケーブル端子接続
レーザーダイオード端子修理
多地点カメラ画面改修
差圧センサ計測ユニット (2 台目 )AFM 演算回路用入力バッファ ( ハイパス ・ ローパス )パーティクルカウンターモニタリングシステム
音声通知システムのスピーカー増設
赤外 LED 電光掲示板
HV アンプシミュレーション 2
ElectronBombardment 加熱用 SHV/BNC ケーブル
チラー故障箇所修理
イオンカレント測定用ケーブル
多地点カメラ 休日画像保存改修
BNC-SHV ケーブル
高周波 HV アンプ ( シミュレーション )プリンター修理
イオンポンプコントローラの修理
温度調整器
ネットワーク対応磁気計測ユニット
BIN 電源アダプタ
QMS の端子修理
イオンポンプ用の高電圧ケーブル
表面実装アッテネータ
クリーンルーム磁場計測ユニット
ピペットコントローラ自動制御用システム開発
多重同時計測回路 (CPLD 部 )多重同時計測回路 ( アナログフロントエンド部 )AFM 電源 Ver2
AFM 演算回路 V2
モータードライバー修理
N 型 -N 型ケーブル

2020 年

工作依頼リスト

リソグラフィグループ (14 件 )伝票番号 品名
20B01
ナノ構造
20D01
Pt 電極を用いた反応槽
20D02
アルミミラー
20E01
Beamer 演習
20F01
ナノ構造
20H01
対称ナノ構造 ［写真］
20H02
1µ ｍピッチナノ長方形
20I01
EB リソ大阪府立大戸川 G 対応
20K01
Φ１インチダブルスリット ［写真］
20K02
PDMS のレーザーカット
20K03
PDMS 樹脂を用いた µ 流路
20K04
ナノ構造の断面解析
20L01
ＰＤＭＳ製マイクロ流路
20L02
アルミミラーの反射率測定

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43

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装置開発室Annual Report 20202021 年 3 月発行
編集・発行所 自然科学研究機構 分子科学研究所 装置開発室
444-8585 岡崎市明大寺町西郷中 38
ISSN 1880-0440