ナノ・マイクロマテリアル分析研究室 利⽤細則別表

令和４年３⽉１⽇

施⾏

1. ⼯学部⾃主事業 / 北海道⼤学オープンファシリティ事業

No

学内者

学外者(⼤学・公的機関)

メーカー

型式

OP-No.

1-01 電界放射⾛査電⼦顕微鏡(FE-SEM)

⽇本電⼦

JSM-6500F

AP-100243\1,400-1-02 環境セル対応電⼦顕微鏡システム(TEM)

⽇本電⼦

JEM2010

AP-100244\1,3001-03 電⼦プローブマイクロアナライザ(FE-EPMA)

⽇本電⼦

JXA-8530F

AP-100245\2,5001-04 複合ビーム加⼯観察装置(FIB-SEM)

⽇本電⼦

JIB-4600F/HKD

AP-100246
AP-100247

1-05

設備

複合ビーム加⼯観察装置(FIB-SEM)
EDS・EBSDオプション

1-06 粒⼦径分布測定装置

⽇本電⼦

JED-2300(EDS)/
IB-Z10053T3DEBS(EBSD)

利⽤料

技術代⾏料利⽤料

学外者(⼀般)

技術代⾏料

利⽤料

\4,900--\5,000-\10,700\2,700-

\400

技術代⾏料

\6,400--\6,500--\13,900-\6,600-\8,600--\1,100-\1,500-マイクロトラック・ベル

MT3300EXⅡ

AP-100267\800\8,800\1,600\10,400\2,100\10,900

1-07 透過型電⼦顕微鏡(TEM)

⽇本電⼦

JEM-2010

AP-100268\1,000\9,000\2,100\10,900\2,700\11,500

1-08 エネルギー分散型蛍光X線分析装置(XRF)

⽇本電⼦

JSX-3100R II

AP-100269\1,300\9,300\2,200\11,000\2,800\11,600

1-09 クロスセクションポリッシャ(CP)⽇本電⼦

SM-09010

AP-100270\600\8,600\1,500\10,300\2,000\10,800

1-10 イオンスライサ(薄膜試料作製装置)

⽇本電⼦

EM-09100IS

AP-100271\600\8,600\700\9,500\800\9,600⽇本電⼦

JSM-7200F

登録中\2,100\10,100\6,500\15,200\8,400\17,200

⽇本フィジテックGENTLE MILL IV-8

登録中

\2,500\10,500----

1-11 電界放出形⾛査電⼦顕微鏡(FE-SEM：JSM-7200F)
1-12 ナノ構造前処理装置ジェントルミル

項⽬

学内者

学外者(⼤学・公的機関)

学外者(⼀般)

基本料 /初回講習料\32,000\35,200\35,200

技術相談料\10,000\11,000\14,300＊

XRF フィルム (単価：円/ 1試料)

\360

\396

\396

＊

TEM グリッドメッシュCu(単価：円/ 1枚)\410\451\451＊

TEM グリッドメッシュMo (単価：円/ 1枚)\2,260\2,486\2,486(1)

当施設を使⽤しようとする者は，別に定める申請書により管理責任者に申請し，その承認を受けなければならない。

(2)

オープンファシリティ登録装置については、当施設内規に加え、国⽴⼤学法⼈北海道⼤学オープンファシリティ使⽤規程 (海⼤達第231号)に準ずる。

(3)

基本料/ 初回講習料・利⽤料・技術代⾏料は、上表に掲げる基本料/初回講習料の額と、各利⽤区分の額に利⽤する時間数を乗じた額とを合算した額とする。

(4)

設備利⽤：利⽤対象者が本学において⾃ら設備の操作等を⾏う。

(5)

技術代⾏(材料分析・加⼯料・機器分析受託サービス料等)：利⽤対象者からの委託に基づき，(6)

技術相談：利⽤対象者からの相談に対し，⽀援員が技術的な助⾔等を⾏う。

(7)＊については、⼯学部⾃主事業でのみ取り扱う。

本学において本事業の実施に係る⽀援業務に携わる職員（以下この条において「⽀援員」という。）が設備を操作して各種加⼯及び解析を⾏う。

2. ⽂部科学省事業 ナノテクノロジープラットフォーム事業/マテリアル先端リサーチインフラ事業

No.

メーカー

型式

OP-No.

2-01 電界放射⾛査電⼦顕微鏡(FE-SEM)

⽇本電⼦

JSM-6500F

AP-200034

2-02 環境セル対応電⼦顕微鏡システム(TEM)

⽇本電⼦

JEM20102-03 電⼦プローブマイクロアナライザ(FE-EPMA)

⽇本電⼦

2-04 複合ビーム加⼯観察装置(FIB-SEM)

⽇本電⼦

2-05

設備

複合ビーム加⼯観察装置(FIB-SEM)
EDS・EBSDオプション

⽇本電⼦

学内者

学外者(⼤学・公的機関)

技術補助料

技術代⾏料

\1,200\5,200\9,200AP-200043\1,100\5,100JXA-8530F

AP-200045\2,100JIB-4600F/HKD

AP-200046
AP-200047

JED-2300(EDS)/
IB-Z10053T3DEBS(EBSD)

利⽤料

学外者(⼀般)

技術補助料

技術代⾏料

技術補助料

技術代⾏料

\1,600\6,000\10,400\4,000\8,400\12,800\9,100\1,500\5,900\10,300\4,100\8,500\12,900\6,100\10,100\3,100\7,500\11,900\8,800\13,200\17,600\2,300\6,300\10,300\2,900\7,300\11,700\5,400\9,800\14,200

\400

\500

\900\400

\500

\900

\400

\500

\900

項⽬

利⽤料

利⽤料

学内者

学外者(⼤学・公的機関)

学外者(⼀般)

基本料 / 初回講習料\32,000\35,200\35,200

技術⽀援料(通常)\4,000\4,400\4,400

技術⽀援料(⾼度)\8,000\8,800\8,800

技術相談料\10,000\11,000\11,000(1)

当施設を使⽤しようとする者は，別に定める申請書により管理責任者に申請し，その承認を受けなければならない。

(2)

本事業については、当施設内規に加え、国⽴⼤学法⼈北海道⼤学ナノテクノロジープラットフォーム事業による設備利⽤規程 (海⼤達第53号)に準ずる。

(3)

本事業については、施設の利⽤申請に加え、⽀援課題申請書および報告書の提出が必要となる。

(4)

基本料・利⽤料・技術補助料・技術代⾏料は、上表に掲げる基本料/初回講習料の額と、各利⽤区分の額に利⽤する時間数を乗じた額とを合算した額とする。

(5)

設備利⽤：利⽤対象者が本学において⾃ら設備の操作等を⾏う。

(6)

技術補助：利⽤対象者が本学において本事業の実施に係る⽀援業務に携わる職員（以下この条において「⽀援員」という。）の⽴会いの下，⽀援員の技術的な補助を受けつつ，⾃ら設備の操作等を⾏う。

(7)

技術代⾏：利⽤対象者からの委託に基づき，⽀援員が設備を操作して各種加⼯及び解析を⾏う。

(8)

技術⽀援(通常)：技術代⾏による利⽤に先⽴ち，⽀援員が試料の調整⼜は最適化の作業を⾏う。

(9)

技術⽀援(⾼度)：⾼度な知識及び経験を必要とされる作業，複数の技術を組み合わせる作業その他の難易度の⾼い作業を伴う場合。

(10)

技術相談：利⽤対象者からの相談に対し，⽀援員が技術的な助⾔等を⾏う。