株式会社パスカル総合カタログ

株式会社パスカル

会社概要
商号

株式会社パスカル
Pascal Co., Ltd.

設立

昭和61年7月(1986年)

 代表取締役社長

長沢 春男

資 本

3,680万円

金

所 在 地本 社：〒545-0011 大阪市阿倍野区昭和町1丁目16番4号
関 東：〒352-0001 埼玉県新座市東北2丁目30番26号(三上ビル3階B)
茨 城：〒311-0105 茨城県那珂市菅谷3015番地19
名古屋：〒457-0863 愛知県名古屋市南区豊2丁目14-6-618
 取引先銀行
三菱UFJ銀行 玉造支店・上六支店、りそな銀行
三井住友銀行 玉造支店

玉造支店、

会社沿革
1986年 7月

株式会社パスカル設立

1990年11月

バリアン社(現アジレント社)の真空機器部門代理店となる

1992年10月

スパッタ装置・プラズマCVD等真空システムの開発、販売

1993年 2月

東京営業所を開設(東京都品川区)

1993年 8月

レーザーアブレーション装置・MBE装置・ECR/CVD装置等
超高真空装置の開発、販売
ランプ加熱方式基板加熱装置

1995年 4月

東京営業所を関東営業所として移転（埼玉県志木市）
コンパクトレーザーMBE装置の開発、販売

1995年 7月

資本金を2,000万円に増資

2001年10月

関東営業所を移転（埼玉県新座市）

2002年10月

資本金を3,680万円に増資

2008年 2月

本社を移転（大阪市阿倍野区）
極低温関連装置の販売を開始

2010年 9月

飛行時間型原子散乱表面分析装置(TOFLAS-3000)の販売を開始

2012年11月

茨城事業所を開設（茨城県那珂市）

2018年12月

茨城事業所を移転（茨城県那珂市）

2021年 4月

関東営業所を移転（埼玉県新座市）

真空機器・装置、理化学機器・装置においてグローバルな視野を持ち、常に時代の最先端を見つめ、新しい技術と商品ニーズを先取りし、研究開発に有用な製品を提供し続けています。

営業取扱製品

真空成膜装置各種



真空装置コンポーネント

次世代型AI対応デジタルラボ



表面分析装置

アジレント(旧バリアン)社製真空機器製品

その他真空関連製品

Be製品



各種基板、ターゲット材料



超精密加工・研磨その他各種取扱い商品

エンジニアリングサービス

納入実績
 大学
⇒ 東京大学、京都大学、 大阪大学、東北大学、北海道大学、名古屋大学、九州大学、広島大学、東京工業大学他

 官公庁・公的法人⇒ 理化学研究所、物質・材料研究機構、産業技術総合研究所、日本原子力研究開発機構、高エネルギー加速器研究機構他

 民間企業⇒ TDK㈱、トヨタ自動車㈱、日本電信電話㈱、日本電子㈱、浜松ホトニクス㈱、パナソニック㈱、㈱日立製作所、三菱重工業㈱他

 海外⇒ ソウル大学校、中国科学院、スタンフォード大学、
マックスブランク研究所、 サムスン電子、ベル研究所他

真空成膜装置各種


レーザーMBE／PLD装置

コンパクトレーザーMBE装置
PAC-LMBE

モバイルコンビレーザーMBE装置
MC-LMBE

高速ガルバノ走査方式PLD装置

アブレーション高速切替/
専用ターゲットマニュピレーター/
レーザー光の小角度振り分けにより任意比率でのアブレーション切替可能/
有機化合物材料の赤外PLD



多元スパッタ装置

高速ガルバノ走査方式PLD装置

ターゲット1～3インチ/UHV＆HV/自動成膜対応可能

多元EB蒸着装置

3連/シングル/スイープ機能/TMによる蒸着制御可能

MBE装置

水冷可、Kセル/高温セル/低温セル/基板ホルダー表面1000℃保証
小型４元スパッタ装置

抵抗加熱蒸着装置

多元化可能/TMによる蒸着制御可能※レーザーMBE/PLD装置、スパッタ装置での受託成膜も承っております。

真空装置コンポーネント
RHEEDユニット
標
準 ： 差動排気 （～10mTorr）
オプション ： 2段差動RHEED （～1Torr）
スキャニングRHEEDRHEED画像処理システム



差動排気RHEED

基板加熱ユニット・半導体レーザー加熱 ： 1,000℃以上(10mmx10mm)

・赤外線ランプ加熱 ： 800℃以上(基板規格：1.5”，2.0”)
・レーザーアシスト加熱：基板表面にレーザー照射・加熱

RHEED像

 レーザーアシスト加熱の特長
・レーザー光照射と放射温度計測定の機能集約ユニット→高温加熱、反復温度変調加熱法、温度傾斜加熱法
・メンテナンスフリー空冷レーザー光源・取付け位置,方向が自在の為、増設容易

 応用例・蒸着加熱源

レーザーアシスト加熱ユニット

・成膜前の表面処理、成膜後のアニール、・フラッシュ(試料直接通電加熱の代替案)

レーザー光学系、光学系ボックス、レーザー架台ターゲット自公転ユニット
6ターゲットの選択、自転、揺動機能



コンビナトリアルマスクユニット

真空搬送システム

レーザー光学系

ロードロック室/トランスファーロッド/
真空スーツケース/真空カプセル/クラスターシステム

ロードロック室ユニット

真空装置コンポーネント
スパッタガン豊富なサイズ対応 (1“、1.5”、2”、2.5”、3”)

EBガン

3kWシングルタイプ/3連タイプ
スイープタイプ可

マグネトロンスパッタガン

Kセル

2～25cc コンベンショナルKセル
10cc 高温Kセル
2～25cc 低温セル



エバポレーター

3連EBガン

UHV対応/ロッドシフター/フラックス制御

活性原子ビーム / ラジカルビーム源

構成：ガス導入口
RF放電によるラジカル形成分解室
基板への照射を行う噴出口

オゾナイザー，高純度オゾン発生装置



磁気結合型回転導入機

エバポレーター

ICF34ノーマルトルク/ICF34高トルク/ICF70高トルク/ICF70デュアル/ICF70中/ICF114中空Kセル

 基板マニピュレーター
【成膜装置用】トップエントリータイプ（3～5軸）/サイドエントリータイプ（3～5軸）【分析装置用】槽内設置型多軸タイプ（最大6軸）※特注受け賜わります。

※ 真空装置はじめコンポーネントは、お客様のニーズに合わせて設計段階から自社で行っております。
お気軽にご相談下さい！

回転導入機

次世代型AI対応デジタルラボ
 クラスターシステム～AIとロボット技術の融合～
 AIとコンピューターでのロボット制御により、自動搬送・成膜・評価・最適化を実現
 ロボット制御により、PLD・スパッタ・各種評価装置へのアクセスが可能
 容易なシステム拡張により、複数台の成膜装置・評価装置への接続が可能
電気抵抗値
評価装置

成膜・評価・最適化サイクルの自動化を実現！

スパッタ装置

ロボット

スパッタ装置ロードロック室【イメージ図】※東京工業大学の一杉太郎教授、清水亮太准教授と共同開発しました。

表面分析装置 飛行時間型原子散乱表面分析装置
 極角スキャン 簡易SIMS
20000

18000

Intensity(counts)

Ar(0)3kV>LiMn2O4
Vs=650V

7Li

16000
14000
12000

10000
8000
6000

6Li

4000

2000

Mn
CH3 Na

H

0500

700

900

1100

1300

1500

1700

Flight Time(10ns unit) 測定結果と計算による比較（ZnOウルツ構造の極性判別）

 絶縁体の表面分析も可能
 表面下数層の構造解析
 試料表面の元素同定

結晶方位C面[0001]

計算

実測

C軸[0001] 結晶表面の極性判別

極薄膜の構造分析も可能-C面[000-1]C軸[0001]

SiC、GaN、AlN、etc…

弊社は、大阪府立大学のシーズに基づき同大学から通常実施権が許諾されています。
2011年４月 第23回 中小企業優秀新技術・新製品賞 一般部門“優良賞”を受賞。

※デモ分析も承ります！

アジレント(旧バリアン)社製真空機器


各種真空ポンプ

ロータリーポンプ

ドライスクロールポンプ

ターボ分子ポンプ

イオンポンプ

ディフュージョンポンプ

高真空排気システム TPS Flexy

真空ゲージ

ピラニゲージキャパシタンスゲージ

ヌードイオンゲージ

ピラニ/インバーテッド
マグネトロンゲージ

ピラニ/BAゲージ

XGS-600

ピラニ/キャパシタンスゲージ

リークディテクター

バルブ

真空シール材
トールシール

バリアブルリークバルブ

VACSEAL(SPI社製)その他真空関連製品
ゲートバルブ

超高真空ゲートバルブ

ビューポート

ガラス、石英、合成石英、サファイア、
CaF2、MgF2、BaF2、ZnSe、Ge、LiF、他

真空配管

ICF・NWフランジ、銅ガスケット、各種真空部品



電流導入端子ＭＡＲＵＷＡ社製及び、各社製品を取り扱っております。

LEBOW社製極薄フォイル

Zrフォイル

張力フォイルNiメッシュ

TiフォイルParyleneフォイル

Be製品
Be窓

Beミラー
Be窓



Be研磨



BeターゲットBe精密加工Be微細加工※Beに関する事なら何でもお問合せ下さい。

Be窓水冷タイプ

Beミラー

Be研磨

Beターゲット

各種基板、ターゲット材
各種基板：結晶基板、金属基板、 セラミクス基板、エピ基板など
ターゲット材料：化合物、金属、タブレット等
高純度・高融点マテリアル：6～7Nの高純度金属、高純度度化合物

超精密加工・研磨
セラミクス及び金属の精密加工
セラミクス及び金属の、微細、プレート、長尺物、球面など様々な加工を賜ります。
面粗さ・形状精度・サイズなどのご要望に応え試作加工から量産加工まで、実績サイズ：3mm～最大2500mmサイズまでの加工実績があります。

その他各種取扱い商品
各種セラミクス製品

高純度アルミナ製品



メタライズ製品

エンジニアリングサービス


既存真空装置改造
排気能力増強/基板加熱能力増強/チャンバー改造/搬送方式改造/架台耐震改造など
増設
チャンバー増設/蒸発源増設/搬送システム増設/グローブボックスへの真空システム増設など


移設



役務

真空エンジニアリング全般


レーザーMBE/PLD装置受託成膜



TOFLAS-3000依頼測定

商号

株式会社パスカル
Pascal Co., Ltd.

所在地
本 社：〒545-0011 大阪市阿倍野区昭和町1丁目16番4号
TEL (06)6626-1321／FAX (06)6626-1323
関 東：〒352-0001 埼玉県新座市東北2丁目30番26号(三上ビル3階B)
TEL (048)476-8741／FAX (048)476-8713
茨 城：〒311-0105 茨城県那珂市菅谷3015番地19
TEL (029)270-7891／FAX (029)270-8510
名古屋：〒457-0863 愛知県名古屋市南区豊2丁目14-6-618
TEL (090)3922-3363／FAX (06)6626-1323
URL ⇒ http://www.pascal-co-ltd.co.jp

E-mail ⇒ pascal@pascal-co-ltd.co.jp