透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査
A Systematic Survey of the Technical Development of Transmission Electron Microscopes

1

小島 建治 Kenji Kojima■ 要旨
電子顕微鏡は肉眼で見えない小さなものを拡大して観察が出来る機械である。電子の性質を利用して、物体を観察する方法は3通りあり、それぞれの方法により透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、走査プローブ顕微鏡と言われるが、本報告書では、透過型電子顕微鏡について技術発展の系統化を試みた。
19世紀の後半に光学顕微鏡の性能が限界まで到達し、この結果、疫病の原因となる病原菌が特定されて疾病に対して、充分の対応策が取れるようになった。しかし、20世紀の初頭のスペイン風邪等の原因となるウイルスの脅威を取り除くためにはウイルスを特定する必要があったが、ウイルスの大きさは光学顕微鏡で見える限界を越えていた。光学顕微鏡の限界をこえて像の観察が可能な顕微鏡として電子の波としての性質を利用する電子顕微鏡の開発が期待された。
最初の電子顕微鏡はドイツのルスカ等によって1932年に試作された。そしてその7年後の1939年にシーメンス
社で商用機が完成し、光学顕微鏡では見えない大きさのウイルスの観察に成功した。当時、電子線で生物を観察することは難しく、光学顕微鏡にかわって電子顕微鏡がなると予想するのは少数派であった。だが病気の原因であるウイルスの観察の成功により電子顕微鏡の有用性が一気に高まった。
日本の電子顕微鏡の開発は、海外からの機械の導入ではなく、書籍からの知識の導入や見聞による知見から独
自に装置を開発するところから始まった。当時は、電力網構築と安定供給が国家的な課題で、このため日本の留学生がドイツに派遣されていた。これらの帰国留学生が電子顕微鏡の開発の中心となり、1937年に日本の国家的な事業として開発が推進された。日本では戦後、すぐに国産の商用機が5社により供給された。日本国内の市場は大きくなかったが、電子顕微鏡に関連する研究者が多く、1950年代に250台を越える装置が稼動し、技術的なレベルがあがるとともに、装置も電子回折が出来るという特徴が評価されて1955年には海外への輸出が始まった。
また、この当時に装置は生物の組織や形状を観察するために必要な分解能が得られるまで進歩した。しかし日立と日本電子は、原子1個が見えるだけの分解能を持つ性能の電子顕微鏡を目指して技術開発を推進した。このような高分解能化により得られる電子顕微鏡像は結晶格子が見えることを必要とした金属や非金属等の材料の解析に有効であった。 1970年代に入り、生物学の中心がDNAの発見から分子生物学に移行し、電子顕微鏡の重要度が減少する一方で、材料の開発やデバイスの開発では電子顕微鏡の必要性が増してきたため、高分解能の装置の開発を推進した日本（日立と日本電子）の電子顕微鏡が世界の市場を押さえることが可能となった。
1970年代には先進国は高度大衆化社会になり、自動車や電気製品等の開発や量産化が加速されたが、これらの物品の品質向上には材料の品質向上が不可欠であった。このため物質評価技術として物理分析や化学分析が重要性を増した。このような背景から、既に電子顕微鏡の基本的な電子光学系のレンズやステージの技術が蓄積されていたこともあって、今まで透過型電子顕微鏡で利用していた電子線が試料に照射される時に発生する透過電子
以外の2次電子や特性X線を活用して分析機器として利用されるようになった。 1980年代には主力の装置は生物用と材料用に区分されるとともに、他の分析手法にない特徴を利用して、汎用に利用される機種以外に、超高真空電子顕微鏡、電子干渉型（ホログラフィー）電子顕微鏡、超高圧電子顕微鏡、極低温電子顕微鏡等が開発されている。
現在でも、日本の電子顕微鏡は世界のトップをはしっている。日立、日本電子の機器製造メーカーと共に、世界のトップの研究のツールとして電子顕微鏡を積極的に活用する大学と世界のトップを行く高機能、高品質の素材を供給する素材メーカー、高機能部品を供給する部品メーカー、半導体等のデバイスメーカー等で生まれるコ
ストパーフォーマンスのよい製品を供給する産業の恩恵も大きい。今後は、21世紀に実用化が期待されるナノテ
クノロジーやバイオテクノロジーの研究用に開発される電子顕微鏡の技術が次世代の汎用電子顕微鏡の技術となって社会に貢献することが期待される。

■ Abstract
The electron microscope is a equipment that enables small things that cannot be seen with the naked eye to be magnified andobserved. There are three main types of electron microscopes each named for the method it uses for observing objects using the properties of electrons. These are the transmission electron microscope, scanning electron microscope, and scanning probe microscope. In
this report, we focus on the transmission electron microscope and endeavor to present a systematic survey of its technical development.
The performance of optical microscopes reached their limit in the latter half of the 19th century enabling disease-causing bacteriathat play a role in epidemics to be identified and sufficient countermeasures to be taken. Then, in the early years of the 20th century,
the need arose to identify viruses to eliminate the threat caused by virus strains that give rise to devastating diseases such as the
Spanish flu, but the small size of viruses exceeded the limits of optical microscopes. The development of an electron microscope, which
could exploit the wave properties of electrons to enable objects that exceed the limits of optical microscope to be observed, was therefore anticipated.
The first electron microscope was built by the Ernst Ruska, a German physicist, in 1932. Seven years later, in 1939, a commercial version was completed by Siemens AG that was used to observe viruses that could not be seen with optical microscopes. Before this success, the observation of living organisms by electron beams was difficult, and only a small minority of people expected electron microscopes to become a substitute for optical microscopes. This successful observation of disease-causing viruses, however, immediately
raised the usefulness of electron microscopes.
The development of electron microscopes in Japan started not with the introduction of machines from overseas but rather with thedevelopment of original equipment based on knowledge obtained from books and publications or from actual experiences. At that time,
the construction of a power network and stable supply of power were national issues, and Japanese students were dispatched toGermany for this reason. On returning, however, these students came to focus their research efforts on the development of electron
microscopes, and in 1937, the development of electron microscopes began in Japan as a national project. Son after the war, domestically
produced commercial electron microscopes came to be supplied by five companies. While the commercial market in Japan was not verylarge at this time, there were many researchers whose work could benefit from electron microscopy. More than 250 units came into
operation in the 1950s, and their export to overseas markets began in 1955 as Japanese-manufactured electron microscopes came to berecognized for their high technical level and electron-diffraction capability. Progress was also made at this time in increasing resolution
so that electron-microscope equipment could observe the formation and shape of living organisms. Nevertheless, the aim of Hitachi and
JEOL was to develop technology that would raise the performance of an electron microscope to a level of resolution at which a single
atom could be observed. The images that could be obtained by an electron microscope with such high resolution would prove useful inanalyzing metallic and non-metallic materials, which was necessary to observe crystal lattices. On entering the 1970s, the focus of biology came to shift from the discovery of DNA to molecular biology, and the importance of electron microscopes in this field started to
decline. At the same time, the need for electron microscopes in the development of new materials and devices increased. As a result,electron microscopes from Japan (Hitachi and JEOL), which had promoted the development of high-resolution equipment, were able tooccupy a major portion of the world market.
In the 1970s, developed nations turned into mass consumption societies as the development and mass production of automobiles andelectrical appliances accelerated, and it came to be realized that improving the quality of these articles could not be achieved without
improving the quality of constituent materials. The importance of physical analysis and chemical analysis as material-evaluation technologies increased as a result. Against this background, and considering that the industry in Japan had already accumulated basic electron-microscope technologies involving the electron optical lens, stage, and other components, it was found that secondary electrons andcharacteristic X-rays could be used in addition to transmitted electrons that occur when irradiating a sample with an electron beam as
traditionally used in transmission electron microscopes. This capability meant that electron microscopes could also be used as analysis
equipment. In the 1980s, key equipment came to be divided into those for biological use and those for materials use, and in addition to
general-purpose equipment, there also came to be developed equipment with special features not found in other analysis techniques.
This equipment included ultra-high-vacuum electron microscopes, electron-interference (holographic) electron microscopes, ultra-highvoltage electron microscopes, and extremely-low-temperature electron microscopes.
Today, as well, electron microscopes manufactured in Japan occupy a leading position in the world. They provide great benefit not
only to Hitachi and JEOL as electron-microscope manufacturers but also to universities that actively use their electron microscopes asworld-leading research tools. And by enabling materials manufacturers to supply high-function, high-quality world-leading materials,
component manufacturers to supply high-function components, and semiconductor device manufacturers to supply products withexceptional cost performance, electron microscopes are benefiting industry in a big way. In the years to come, electron-microscope technology will be developed for research in such advanced fields as nanotechnology and biotechnology that are expected to reach a practical stage in the 21st century. We can expect this technology to become the basis for next-generation, general-purpose electron microscopes and to make a significant contribution to society.

■ Profile■ Contents

小島 建治 Kenji Kojima

1.はじめに .....................................................................3

国立科学博物館産業技術史資料情報センター主任調査員

2.現代科学の確立と透過型電子顕微鏡の発明 ...........4

昭和45年4月

日本電子株式会社入社。
開発事業部物理研究室配属：
レーザー応用機器の開発業務
昭和50年4月
電子光学事業部：
X線光電子分光装置のシステム担当
昭和55年10月 ESCAプロジェクト：
X線光電子分光装置の新製品開発
昭和58年4月
電子光学機器技術本部：
X線光電子分光装置の商品企画、市場開発
昭和61年10月 同じく：X線光電子分光装置の事業全般
平成2年4月開発企画管理室：全社の研究開発管理業務
平成4年10月
経営戦略室にて中長期計画策定等、
平成6年10月
新技術事業団（現科学技術振興機構）創造科学技術推進事業「高柳粒子表面プロジェクト」（ERATO高柳プロジェクト）出向 技術参事
平成12年1月
経営戦略室に復帰、技術戦略グループ
平成13年4月
日本分析機器工業会の技術委員会委員長
平成19年2月
定年退職
平成19年2月
日本電子株式会社嘱託

3.透過型電子顕微鏡の開発の黎明期 ........................124.透過型電子顕微鏡の性能向上と機能拡大―科学機器から分析機器へ....................................195.透過型電子顕微鏡の技術進歩と社会への貢献.....34
6.まとめと考察...........................................................39
付属資料 ......................................................................43

1 はじめに
我々の観察対象となる地上の物体をより詳細に、よこれらの電子顕微鏡は透過型電子顕微鏡が1933年にり細かい部分まで見たいという要求は、古くからあり、

ドイツで、走査型電子顕微鏡が1955年にイギリスで、物体を拡大した像をみる試みはギリシャローマ時代に走査プローブ顕微鏡が1981年にスイスで開発されてお遡る。顕微鏡は16世紀にその原型が出来、20世紀にはり、いずれも最初の発明は我が国ではない。しかし、いると、光の性質等が科学的に解明されて、理論的な

当初は最先端の科学研究用の機器であった電子顕微鏡

極限までの性能が引き出された。このような背景で、を量産化し、産業界で活用できる分析機器として確立

1897年に現代物理学の基本となる素粒子のひとつであすることでは我が国は大いなる貢献をしている。現在、

る電子が、J.J.トムソンにより発見され、これを端緒

全世界での透過型電子顕微鏡の1年の生産台数は約500として、1926年には現代物理学の基本となる量子力学

台で、日本製は平均60％〜70％の市場占有率をもってがディラックとシュレディンガーにより確立し、ダビいる。依然としてナノテク等の最先端の研究から、我ソンとジャーマーによる電子回折の実験で波としてのが国が強みとする製造業の材料開発、品質管理、そし一面を持つことが判明した。当時の光学顕微鏡では、て生物や医学の研究の場でも利用されている。市場規その理論的な限界を克服するために、含浸型のレンズ

模は小さいが、我が国のみならず現代の産業に不可欠や透明な物体を見るための位相差顕微鏡などが発明さの機器である。この電子顕微鏡について、第2章では、れていた。このような状況下で理論的に可視光よりも開発初期に既に現在に繋がるような、装置の開発、利はるかにに短い波長を持つ電子を使った顕微鏡の発明

用技術の開発、新しいアイディアがあったことを説明

は時代に適ったことであった。

し、第3章では日本での電子顕微鏡開発の黎明期につ

現在、電子顕微鏡は光学顕微鏡と相似形である透過

いて述べる。第4章で性能の向上と量産化に向けた技

型電子顕微鏡と線源をプローブとしテレビのブラウン術の推移と進展を述べて、主要関連技術についてまと管のように走査をして像を形成する走査型電子顕微鏡

めた。第5章では1980年代以降、特別な目的で製作さに分類できる。今回の調査では、透過型電子顕微鏡にれた一連の電子顕微鏡について成果を含めてまとめ

絞って系統化の調査を行う。

た。第6章で第5章までの内容を踏まえ、電子顕微鏡技
術発展の系統化調査のまとめと考察を行った。

図1.1

電子顕微鏡の種類

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

3

2 現代科学の確立と透過型電子顕微鏡の発明
2.1 光学顕微鏡から電子顕微鏡へ

観察対象であるために単に試料の調製に道具とノウハ
ウが必要であるという事情は現在まで続いている。

我々が肉眼で見える大きさには限りがある。そして生物試料の中で動物組織は当初、十分な薄片になる

我々の身の回りには肉眼で見るのが困難な動物や植物まで新鮮な材料を割くか押し潰すかしてから、これをが多数存在している。レンズを用いて我々が見ている

直接顕微鏡で調べていた。これに対して植物組織は細ものを拡大して観察することがいつから始まったのか

胞壁の性質から手作業で切片を作成することが出来に関する定説はないが、最初に用いられたのはローマた。その後、19世紀になって、クロム酸及びその塩をで、記録に残っている限りでは倍率は5倍である。現動物組織の保存液として用いるようになった。この液在のタイプの顕微鏡の発明は、1590年頃、オランダのに長時間浸すことにより切片が調整できるだけの硬さ

ヤンセン親子が2つの凸レンズを組み合わせて、物がを得ることができた。この試薬の導入により中枢神経

大きく見えること発見したことから始まったと言われの顕微鏡観察が系統的に行われるようになる。染料法ている。1662年に英国王立協会が創設され、ロバート

は1850年代に複数の学者によって独立に用いられ、ヘフックが初代の装置管理者に任ぜられてから顕微鏡に

マトキシレンやアニリン染料が使用された。染色法による観察が継続的に行われるようになり、1665年に出関しては最初は全体を染め出すだけであったが1870年版された「ミクログラフィア」に細胞の構造がはじめ

代は、種種の細胞や組織成分を染め分けられるようにて図に描かれた。そのときの顕微鏡の倍率は最高でもなり、近代細胞学が始まる。ちょうど、それと呼応し150倍ほどだったといわれている。フックがイギリスてパラフィンワックス、白蝋と油の混合物、ゴム等中の王立協会に紹介したオランダのレーウェンフック

に切片を埋め込み、これを切ることによって切片を作は、自ら磨いたレンズ一枚の顕微鏡で200倍以上の倍成する切片作製法が開発された（1）。

率を実現したが、使用した顕微鏡はプレパラートにレ

1880年代には油浸対物レンズが使用され始めて、光ンズがついたようなものだといわれている。レーウェ

学顕微鏡はその理論的な限界に到達する。光学顕微鏡

ンフックが単レンズを使用したのは、レンズそのもの

が次の進展をみるのはレーザーが発明されレーザー顕とレンズの材料であるガラスについての特性等が研究

微鏡が開発される1970年代になる。

されておらず、レンズは一枚だけでも歪んで見えたの

さて、1897年に英国でJ、J．トムソンの電子の発見がで、レンズを二枚合わせると像がよく見えなくなってあり、くしくも同じ年にドイツでブラウン管（CRT：

しまったからと言われている。レーウェンフックはこCathode Ray Tube）が発明された。1905年にはアイの顕微鏡で人の赤血球、精子、単細胞を発見した。こンシュタインの光量子説が発表された。1924年にド・のレーウェンフックの業績から200年が過ぎた1828年

ブローイ（de Brogile）により物質波の理論が提唱さに300倍が限度の単レンズ顕微鏡をつかってブラウン

れ、1927年G.P. トムソン、リートによる電子線回折のが現在「ブラウン運動」と呼ばれているランダムな熱実験が報告された。この実験は電子が波であることの運動を発見する。そして1932年には細胞の核が発見さ実証であり、電子の波長は可視光の波長よりはるかにれた。

短いから、光学顕微鏡に替わって電子顕微鏡が出来れレンズを複数くみあわせた現在のような顕微鏡が、ば高倍率の像が得られることになる。しかし当時の物発展するのは19世紀になってからである。単レンズの理学者が当初から着目したわけではなかった。電子の顕微鏡では細胞は見えても細胞の中の構造は見えない。

収束作用をもつレンズの実現について、中心となった

この細胞の中の構造を見るためにより高倍率の顕微鏡のは高圧のオッシロスコープの開発に携わった電気技への要望が高まり、ドイツのカール・ツァイスは、物師であった。

理学者のアッベやガラス職人のショットと協力して6〜700倍の倍率を持つ顕微鏡を開発した。そして19世紀末

2.2 陰極線管の研究とルスカの透過型電子顕微鏡には光学顕微鏡はほぼ限界まで性能が向上した。分解4能の向上により約1000倍の像が得られる顕微鏡の実現

1897年のJ.J.トムソン（J.J.Thomson）の電子の発見

は19世紀後半から医学や生物学の基礎となる細胞学のは陰極線管(放電管)に電場や磁場を印加して陰極線進歩に大きく貢献した。しかし、細胞のような生物が（電子線）の方向を曲げることにより、その性質を調べ

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March

る実験が基になっているが、電子が粒子であることが発見された以降も陰極線の性質の研究は続けられていた。1899年にビィーヒェルト（Wiechert）が陰極線管を長いコイル内部の一様な磁場の中に置くと、陰極の一点からさまざまな方向に放射された電子がすべて近軸領域に閉じ込められることやコイルの電流の調整に
より蛍光板に焦点を結ばせることが可能であることを見出した。しかし、この収束装置の収束作用はレンズ
作用ではなかった。ここで使用された磁場は一様な磁場で、レンズ作用を持つためには光軸からの距離と共に磁場が変化し、そのことによって磁場のもつ屈折力

図2.1

磁場型レンズの構造

ルスカ（E.Ruska）により1932年に特許化された。

が異なることが必要である。これは光軸に対して異な

しかし、この収束作用をもつレンズが光学的にどのる角度をもって動く電子がレンズの面を通過して同一ような特性を持つかについての研究はハンス・ブッシの点に向かうためにはレンズ面での磁場の強さは光軸ュにより行われた。ハンス・ブッシュは1908年コイルからの距離により異なることが必要だからである。

を備えた陰極線管の中で電子の収束実験を開始した。

磁界型レンズの原型となる装置はガボールによりは中断はあったもののこの問題に取りくみ1926年と1927

じめて作られた。ガボールは1900年にハンガリーで生

年に、軸対象電磁場中の電子の運動が幾何光学のアナ

まれベルリン工科大学に進学して高電圧研究所の一員

ロジーを使って説明できることを論文として発表しとなり、ドイツに新設されたばかりの高電圧高架線敷た。実験による実証が出来なかったが、このブッシュ設網を混乱させていた「高速の電気サージ」を観測での理論は電子光学機器の実用化に重要な役割を担うこきる装置の開発を担当していた。

とになる。このようにして、ルスカが電子顕微鏡を制

ガボールは磁場中での電子線のふるまいに関するこ

作する下地ができたことになる。

れまでのノウハウが理論的に説明できないことを指摘

ルスカが現在のプロトタイプとなる2段の磁界型レし、長いコイルで構成されていた磁場の発生装置を短ンズ系をもつ電子顕微鏡を開発できたのは、ベルリン

いコイルに取替えコイルの周りを鉄で囲むことによっ工科大学でマティウスがブッシュの論文とガボールのて電子線の偏向装置に乱れを与えていた外部の浮遊磁実験の食い違いを解明する必要性を感じ彼の研究室に場を遮蔽するというアイディアを考え出した。具合の若くて優秀なクノールをリーダーとする新しい研究チ

よいことに、コイルは陰極と電子光学系を操作する部

ームを作ったことによる。このチームの中でルスカは分との間に置くことができた。しかし、この装置は理電子光学の解明に取りくんだ。ルスカはブッシュやガ論的な裏づけに基づいて設計したものではなかった。

ボールが使用した気体放電管では安定した電子源にはガラス管に合う内径40ミリのコイルを取り付けただけなりえないことに気づき、放電管の陽極に小さな絞り

であり、コイルの外側を円柱状の鉄で覆い、両端に鉄穴を開けることによって、像の位置や大きさを正確にの平板を取り付けたが、光軸近傍には鉄をおかなかっ測定できるようにした。像観察用の蛍光板には帯電効た。性能のよい電子レンズを作る為には電磁石の励磁果を防ぐため金の膜で覆ったウランガラス板を用い、コイルで発生する磁場を狭い空間に押し込めて強磁場

外部から像を写真撮影することによって高い分解能でを発生することが必要である。このような目的のため像を観察できるようにした。さらに理論の検証が出来にヨークとポールピースを使用する。ポールピースはるように物体と像位置や、コイル(レンズ)の位置を真軟磁性材料の磁極で各レンズのポールピースの上極と空シールを滑らせることで高精度に調整できるように下極間に回転対称の強い磁場を発生させて電子線を集した。この実験装置を使用して、ブッシュの磁界型レ束させる。ヨークは励磁コイルを鉄などの強磁性体でンズ理論が測定誤差の範囲（5％）内で実験的に証明

包み、コイルで作られる磁束を有効に磁極片へ導く役された（2）。このことは幾何光学の理論が、電子線のレ目を果たす。ポールピースを変えることにより多様なンズ作用を説明するために使えるということである。

使途に対応が出来る。

つまり電子顕微鏡の基本的な設計に幾何光学の理論が現在の磁界型のレンズの原型となるのは、このガボールの考案した電子レンズの中にポールピースを入れ使えることを意味し、後に電子光学として理論的に体系化された（3）。

た構造を持ち、フォン・ポリエス（B.von Borreis）と透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

5

ルスカはまず、単一の磁界型レンズを使って、絞り(Abbe)の結像理論が電子顕微鏡に適用できることを示穴の8倍の拡大像を得る。そして1931年に初めて2段型したのはベルシュ（Boersch）で、1936年に実験によの電子顕微鏡を制作した。しかし、クノールのチーム

り確認された。このことにより、現在使われている暗は1932年に解散してしまい、ルスカは一人ベルリンに

視野像や制限視野回折が可能なことも示された。アッ

残って光学顕微鏡の分解能を越える75KV透過電子顕

ベの結像理論が適用できることがわかったため、ベル微鏡を設計製作した。この電子顕微鏡は最初に製作しシュは透過型電子顕微鏡の動作原理を電子（波動）光

たのと同じ2段型の透過電子顕微鏡で、1万倍の最高倍学で説明することが出来た。このことにより、分解能率（10nmの分解能に相当する）を持っていた。ルスがよく（つまり拡大率の大きい）電子顕微鏡像を得る

カは1933年の末に1万2千倍の倍率を得、カーボン・フ

ためにはレンズの収差を小さくすればよいことがわかァイバーを試料に用いて50nmの分解能を得た。

り、収差の小さいレンズの設計の可能性が開けた。丁度、同じ1936年にシェルツアは軸対称磁界型電子レン
ズでは、マイナスの球面収差をもつ凹レンズを作ることが出来ないことを証明する論文を著した。このこと
により、透過型電子顕微鏡の分解能は電子の大きさによりきまるのではなく電子光学(波動)理論から球面収差と電子の波長で決まることが明らかになった。
このことによって、電子顕微鏡の基本性能を決める
因子は、光学顕微鏡の基本性能を決める因子と同様であり、装置の基本構成も光学顕微鏡と相似形でいいこととなった。つまり、電子顕微鏡の基本性能である分解能は電子線を波と考えることにより、単色性と指向性で評価することが出来ることになる。電子線の線源の性質により、理論的な分解能の限界が決まり、電子
光学系の特性によって実際の分解能が決まることになる。このため電子顕微鏡の基本的な設計は理論的な予測に基づいて出来ることになった。
拡大像を見るための基本構成はこの時点で確立し、以後は性能の向上と機能の拡張が各社により図られることになる。第2-1表に基本要素の説明を、第2-3図に電子顕微鏡の基本構成を示した。

図2.2

ルスカの開発した電子顕微鏡の模式図

表2.1

電子顕微鏡の基本要素

一方で静電型電子顕微鏡は1930年、ベルリンにあったAEG（Allgemeine ElektrizitatsGesellschaft）社の研究所で研究がスタートしている。静電レンズは電子
レンズに電流を流す必要がない上、加速電圧が変動しても焦点距離が変動しないレンズが出来るため、当時は磁界型レンズより優れていると信じられていた。しかし、操作上の難しさが伴うため磁界型のレンズにその場を奪われた。しかしながら、この静電型電子顕微鏡の研究過程で得られた成果は後に、電子光学や球面収差補正などに対する基本的な理解をもたらすことになったと評価されている（4）。

6電子顕微鏡は図2.3で示す配置で各機能要素が配置

ルスカの電子顕微鏡は現在の電子顕微鏡の形式に似される。電子銃は高圧の負の電圧が印加されており、ていたが、電子顕微鏡の像の質を良くするには試行錯

電子線が放射される。電子線は印加された電圧に対応

誤が必要であった。光学顕微鏡で使われるアッベ

した速度で放射され、この印加電圧が電子線の波長に

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.Marchより病気の原因が病原菌であることが実証されて多数の病気が克服された。しかし、1918年のスペイン風邪と呼ばれるインフルエンザは5億人以上の感染者と2000万人以上の犠牲者を出したが、効果的な薬もなかった。インフルエンザの原因がウイルスであることは
まだ、わかっていなかった。ウイルスの大きさは20nm程度であるため、光学顕微鏡で見える大きさではない。ウイルスの存在がタバコモザイク病で確認されたのは1900年であり、単細胞の病原菌よりはるかに
小さいウイルスを見出すためにも電子顕微鏡が必要で
あった。
表2.2
図2.3

細菌とウイルスの大きさ

電子顕微鏡の基本構成図

換算できる。印加電圧が高い方が波長が短くなる。この放射される電子の方向は拡がりを持っているので拡散する。像を得るために必要な数の電子を試料に照射するために、電子銃から放射された電子を集めるのがコンデンサーレンズである。電子銃から放射される点の像を試料上に形成するのが、一番効率よく電子を集める（集束する）ことが出来る。コンデンサーレンズ

ハンガリーの物理学者マートン（Marton）はルス

で集束された電子線が試料に照射され、透過された電カの研究に刺激されて1934年に簡単な横型の電子顕微子は対物レンズにより拡大像を得る。対物レンズは像鏡を作製して、実際の生物試料で実験を行った。しかを大きく拡大するために試料のすぐ近くに配置されし、実際に「生」の試料に電子線をあてると焼け焦げる。像の分解能は球面収差により制限されるので、対てしまうことがわかった。ところが光学顕微鏡で生物物絞りにより電子線の開き角を制限していい像が得らを観察する時によく使われるオスニューム染色の技術れるようにする。対物レンズで出来た実像を観察可能を利用すると有機物は破壊されても骨組みの部分は保にするために投影レンズで更に拡大する。この投影像

たれ、モウセンゴケの葉の基本的な構造などが観察でをフィルムに記録する。

きることがわかった。この試料作りの経験からマート

2.3

透過型電子顕微鏡の生物試料への応用の試みと最初の商用電子顕微鏡

ンは、電子顕微鏡の実用化には、薄膜試料、高い加速
電圧、露出時間を短くする真空中での写真撮影にあると確信した。

電子顕微鏡で得られる像は光学顕微鏡と同様に観察

マートンは、試料室とカメラ室にエアーロック機構

対象となる物質の性質を反映したものであるが、像そをもつ縦型の80KV透過電子顕微鏡を開発した。こののものは白黒写真と同様に濃淡の模様であり、この模装置によってたくさんの試料を次々と観察したり真空様に何らかの意味を与えるのは、科学研究者である。

中で乾板に写真撮影することが可能になった。このこ

ルスカの開発した電子顕微鏡は1932年には光学顕微鏡とに刺激されて、物理学者の立場では、電子線コントの分解能をはるかに上回る値（カーボンファイバーのラストの理論の研究、企業家の立場では、エアーロッ

試料で50nm）を得たが、この電子顕微鏡をみた専門

ク機構のついた試料室や、複数枚の写真乾板を同時に家たちは性能のよさは認めたものの、実際の試料では入れられるカメラ室の開発を促した。

光学顕微鏡よりも微細な構造は見えないだろうと予想

ルスカは1937年になって、シーメンス社で、ボトした。これは、当時の事情による。当時の生物学は解ー・フォン・ポリエス等と電子顕微鏡の商用機の開発

剖学が中心であり、光学顕微鏡の主要な観察の対象がに着手した。電子顕微鏡の開発のために研究所を設立

生体の組織や細胞であったため、より高倍率の顕微鏡することはシーメンス社とカールイエーナ社の2社がのニーズが高く、電子顕微鏡の使用目的は生物試料の望んだが、ルスカは100KVの高圧電源の技術があるシ観察にあった。19世紀後半の光学顕微鏡の性能向上にーメンスを選択した。ルスカはそれまでの経験からプ

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

7

ロトタイプ機を2台作製した（5）。1台は装置開発用に、ものが見えるかの可能性も予想出来るようになった。

もう1台は応用研究用である。このため装置開発を応用研究と併行して行うことが出来たためお互いにフィ

2-5-1 ひとつの原子の観察が出来る分解能の電子顕微鏡

ードバックしあいながら研究を進めることが出来た。

顕微鏡は像を拡大する機械であるので、基本性能はそれまで使用していた輝度の低いガス放電管に代わり像の倍率（拡大率）である。倍率で表示した場合光学

熱電子銃を搭載した商用の電子顕微鏡は1939年に完成

顕微鏡の最大倍率は数100倍が限度であり、電子顕微した。

鏡の最大倍率が100万倍程度であるのは、顕微鏡の性

この2台のプロトタイプ機を基にしてシーメンス社

能が像の中に見える2つの線が分離して観察可能であ製の初の透過型電子顕微鏡が誕生した。倍率は3万倍、ることを表す「分解能」により制限されるからである。

保証分解能7nmであった。最初のユーザーはIGファルそしてこの分解能の限界は波長により決まる。光学顕

ベン社であった。

微鏡では波長の長い赤よりも波長の短い青の方が分解能が良い。同様に電子顕微鏡では分解能は電子の波長で決まるがその波長は電子が持つ速度で決まり、電子の速度は加速電圧で決まる。現在、使用されている電子顕微鏡は加速電圧が100KVから300KVであるが、この加速電圧での電子線の波長は0.0038nmであり、300KVでは0.00197nmである。倍率をあげるためには分解能を良くする必要があり加速電圧の高い電子顕微鏡が求められる。一方で原子の大きさは0.1nm程度なので、理論的には100KVの加速電圧で原子1個が見えることになる。この可能性が透過型電子顕微鏡開発のシーズとなった。既に現在の電子顕微鏡の最高の分解能は0.05nm程度である。
一方で、電子線が物質を透過する能力（透過能）は試料となる物質の密度に依存するが、100KV で約0．
1μmである。これよりも厚くなると電子がエネルギーを失ったり、進行する方向が変わったりして、透過

図2.4シーメンス社の最初の商用電子顕微鏡

型電子顕微鏡のいい像が取れないことになる。つまり、試料は0.1μよりも薄い必要があるということである。

2.4 ガボールの電子線ホログラフィー

この、0.1μm程度の試料を作成するための観察技術（試料前処理技術ともいう）も電子顕微鏡像を得るた

生物試料は光学顕微鏡の観察においてもコントラス

めの不可欠で重要な技術となっている。

トがつきにくかった事から干渉顕微鏡が開発された。
事情は電子顕微鏡においても同じであったため、ガボ
アーにより電子の持つ過干渉性を利用したホログラフ

2-5-2

電子線と物質との相互作用により得られる信号の利用

ィーの提案がされた。しかし、ガボアーの方式では参光学顕微鏡と電子顕微鏡の違いは電子線が試料に与照波と物質波を同じ光軸上に置いたためいい結果が得える影響である。電子線を試料である物質に照射するられなかった。外村等により、電子線バイプリズムをとそのまま透過してくる電子線の他にわずかではある

使用した電子線ホログラフィーの像が得られるまでにが様々な電子や電磁波が発生する。これを纏めると表は30年余の時間が必要であった。

2.3となる。図2.5に説明図を示した。試料中の原子により影響を受ける電子（非弾性散乱電子）は確率的に2.5 電子顕微鏡の原理と可能性発生するので試料の厚みが増して電子が試料中を通過する距離が長くなるほど増加するが大きくなる。この8

1940年の時点で電子顕微鏡の基本の動作原理は光学のため試料の厚み0.1μで、非弾性散乱電子は透過する電理論を使用することが出来ることが理論的、実験的にも子の強度に対して10分の1以下の量である。この10分示された。このことにより電子顕微鏡でどこまで小さなの1以下の信号の利用は1970年代以降、実用化される。

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March

表2.3

電子線が試料にあたった時に発生する信号

2.6 電子顕微鏡の設計理論と実現方法
図2.5に個々の電子レンズの設計までの手順を示した。設計の第一ステップは装置のコンセプトに基づいて全体の構成を決めることである。電子線を試料に照射して得られる信号は表2.3に示したように複数あり、これらの信号も情報として得ようとすると電子光学系のレンズ構成に工夫をすることが必要になる。例えば
コンデンサーレンズは1個でいいのか、2個にするのかというような検討である。全体の基本構成が決まると第2ステップである。第2ステップは目標とする基本性能を得られるように配置を決めることである。電子源
から放射された電子が印加された電圧により加速されコンデンサーレンズ、対物レンズ、投影レンズで構成される電子光学系の中を動いて記録面まで到達する行路を想定して設計を行う。これらの配置の設計は電子光学理論から導くことが出来る。第2ステップで決めた配置から各々のレンズが必要とする性能が導かれるので、第3ステップで実際の電子レンズの設計となる。この段階では現状の技術での実現可能性を探り実現可能なレンズの諸条件を決める。実現が困難であれば第2ス
テップに戻り再検討する。第4ステップは第3ステップで決められた仕様に基づいて各レンズの設計をする。

図2.6

電子レンズ設計までの手順

電子顕微鏡の設計で扱う基本的な要素の中で技術的に実現が困難であった主な項目を光学顕微鏡と対応させて表2.4に示した。
表2.4

図2.5

光学顕微鏡と電子顕微鏡の基本要素技術の比較

電子線照射による発生信号

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

9

2-6-1

分解能の限界を決める要素

光学顕微鏡では分解能を決めるのは光の波長である。光の波長を短くしていくと光を通す物質が存在しなくなる。光学顕微鏡の限界はレンズの材料で決められている。これに対して電子顕微鏡の波長は加速電圧である。電圧を昇圧すれば電子線の波長は短くなるの

図2.8

近軸範囲の概念図

で、技術的な問題として解決が可能である。
件を満たすように「対物絞り」を入れる。この「対物
2-6-2

高輝度線源

絞り」の穴径を理論的に得られる開き角の範囲内の電

なるべく小さな領域から方向の揃った電子が発生す

子しか通過できないように決める。(図2.6参照)

る電子線源を得ることも技術的な課題である。最初のしかし、理論から導かれた光学系を形成するレンズ

電子顕微鏡の開発で電子線源はガスの放電管ではなくとその配置を正確に実現することには技術的な困難がて抵抗加熱により熱したタングステンの線の尖らせたあった。実際に製作したレンズは軸対称にはならず、先端から電子を発生させる熱電子銃が用いられた。図

また計算をする際に仮定した光学軸上に複数のレンズ

2.6に熱電子銃の構造を示した。

を正確に配置することも機械的な精度だけでは困難である。この結果、実際の装置では電子は焦点に厳密には収束しないことになった。
2-6-4

レンズの性能と収差

電子顕微鏡で使用する磁場型レンズは、出来るだけ強い磁場を得るために必要な構造となっている。近軸
範囲は仮想的な光学軸に対して1μよりも小さい円内である。磁場型レンズでは磁場をこの程度の狭い範囲に集中させる必要がある。このため、まず磁力を発生
図2.7

熱電子銃の構造

電子顕微鏡の光源は点光源であり、光源から放射さするコイルを鉄で囲んで外部の磁場の影響を取り除き、コイルの内部にポールピースと呼ばれる磁極片を入れた構造となっている。

れる電子の方向が一定の方向であることが要求される。このため、電子が発生するフィラメント（マイナスの電極）とプラスの電極の間に穴の開いた第3の電極（これをウェネルトという）を入れる。このウェネ
ルトに適当な電位を持たせて、電子銃から放射された電子が一定の方向を向くようする。
2-6-3

光学系

収差がない像とは、光源の形状と強度分布が像として再現できることである。しかし、このような条件は

図2.9

磁場型レンズの構造

光源から出る光が光軸に対してある開き角を持つ範囲のなかである。このことを近軸近似が成り立つといい、この範囲であれば無収差光学系が実現できる。

10

この基本的な構造はルスカが最初の電子顕微鏡を開発したときに考案された。しかし、この磁場型レンズ

この無収差光学系が実現できる開き角は波長によりの軸対象性は決してよくなかった。これはコイルの巻決まり、波長が短くなればなるほど開き角は小さくな

き方、磁極片の加工精度と材料の品質、更に、磁場レる。電子顕微鏡が光学顕微鏡よりもはるかに短い波長ンズとして取り付けるときの精度等に限界があったたであるということはこの開き角が狭いことである。設めである。

計理論から得られる分解能はこの近軸内を通過する電電子顕微鏡が開発された当初から、装置の最高分解能

子にあてはまる。このため、無収差光学系が出来る条は理論で予測されるものよりも悪いのは電子レンズの収国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March

差にあるといわれるのは、一度レンズを製作すると調整

参考文献

により収差をとることが出来なかったからである。

（1）A.. Huges（西村顕治訳） 細胞学の歴史 p28

収差はレンズの焦点に像がうまく結ばない現象であるがこの原因は主に3通りある。第1は球面収差である。
これは光学レンズが球面形状のため、中心から離れた（1959）日本語訳は1999年（2）T.Mulvey（外村物理学の第20章

点を通る光が焦点位置の像を結ばず、焦点位置で像が（3）例えば裏点にならずに円になるものである。電子線でも同様に（4）T.Mulvey（外村

レンズの中心から離れた位置に入射する電子は焦点面を通らない。色収差は波長が違うと焦点距離も異なる
ために起こるもので、電子顕微鏡では電子線の波長の拡がりや揺らぎから色収差が発生する。印加電圧が電p307（1996）（日本語訳は2000）

克己：ナノ電子光学：

物理学の第20章（5）T.Mulvey（外村物理学の第20章（6）上田良二

彰訳）電子線装置：20世紀の彰訳）電子線装置：20世紀のp314（1996）（日本語訳は2000）
彰訳）電子線装置：20世紀のp312（1996）（日本語訳は2000）

電子顕微鏡

p23（1982）共立出版

子の波長に相当するので、高圧電源の安定度を1万分の一以下に押さえることが必要になる。最後は非点収差で。この収差はレンズが軸対称になっていないことから起こる。この中で、電子顕微鏡では特に球面収差が問題であり、この球面収差を極力、小さくすることが分解能を上げるためには重要である。球面収差係数
は焦点距離を短くすることにより小さくなるが（6）、焦点距離を小さくすることはレンズを試料に近づけることである。試料にレンズのポールピースを近づけられるかは製造上の課題であり、また試料を観察するための操作性にも影響する。このためレンズ設計は電子顕微鏡の重要な課題の1つである。

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

11

3 透過型電子顕微鏡の開発の黎明期
表3.1

電子顕微鏡の開発の初期の歴史

日本の電子顕微鏡の開発はルスカがドイツのシーメいる研究者もいるが、本研究の重要性に鑑みこの際広ンス社で最初の商用機といえる電子顕微鏡が完成した

く専門研究者を集めて研究事項を分担し、その研究成

1937年に遅れること2年、1939年には早くも京都帝国

果を総合し、可及的速やかにその研究を完成して各方大学と大阪帝国大学で国産の電子顕微鏡の試作に成功

面の自然科学の進歩に寄与することを目指す』。

している。この年に日本学術振興会第10常置委員会のこのために、まず、電子顕微鏡の設計に関する基礎もとに第37小委員会が設置されて、その後は産学官各的研究を第1段階として遂行し、その後にこれを利用界から参加した委員により電子顕微鏡の研究・開発がする方面における専門家の協力を得て総合的研究を行進められた。1941年に太平洋戦争が勃発したが、研究って、本研究の目的達成をはかる方針が示されている。

は継続された。複数のメーカーによる商用機の開発はそして、この目的のための最初の研究テーマ（事項）

終戦後の1947年頃となる。戦時下といえども、このよとしてうな委員会が存在し、その間にも電子顕微鏡の研究開

1．高電圧陰極線放射管の設計に関する研究

発が進められていたことは電子顕微鏡の重要性が当時

2．陰極電圧の安定法に関する研究認識されていたからである。この第37委員会は1947年

3．電子レンズの設計に関する研究に解散し、その役割は文部省電子顕微鏡総合研究委員

4．試料と試料支持膜に関する研究会に引き継がれた。その後、この委員会は1952年に高5．特殊用途（冶金学研究用、真空管用熱陰極研究用

性能電子顕微鏡総合研究委員会と超薄切片総合研究委

等）の電子顕微鏡の研究

員会に改組され、翌1953年に電子顕微鏡学会（1949年が挙げられ、期間は第1期が3年で研究費は8万円が予に設立）に引き継がれて現在に至っている。

定されている。この小委員会の委員は10名が任命された。メンバーを第3.2表に示す。

3.1 我が国の電子顕微鏡開発（産学官の連携）

表3.2

発足当時の学術審議会第37委員会

我が国が国策として電子顕微鏡の開発を始めたのは1939年5月に日本学術振興会の基に「電子顕微鏡の総合研究に関する第37小委員会」が新設された時からである（1）。設置の趣旨は次のように述べる。
『電子幾何光学の最近の進歩により、従来の光学顕
微鏡をはるかにしのぐ倍率を持つ電子顕微鏡の実現が確実視されること、このような超高倍率の顕微鏡は細菌学コロイド化学等においては勿論のこと、自然科学のその他の部門において研究の新たな領域を展開する

12

◎は委員長

ことが可能となり、科学の進歩に寄与することが大き後にこの委員会は委員長の瀬籐教授の名前を付けていと期待できるが、このような高倍率の電子顕微鏡の「瀬籐委員会」と呼ばれるようになるが、この10名の設計製作にあたっては種種の技術的困難を克服すると中で、浅尾の専門は光電子管を含む電子管であり、笠ともに性能の向上と応用の方面を開拓し拡大すること井、多田はオッシロスコープの、鈴木、山下は強電のが肝要である。我が国においても既に研究に着手して専門家であった。また委員長の瀬籐氏も理化学研究所

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.Marchでアルマイトの研究と実用化で実績を挙げた工学者である。この中で、開発の中心の一人は笠井である。笠井は電気試験所の技師であったが電子顕微鏡を開発するために日立製作所に移り、後の日立製作所の電子顕微鏡の事業の礎となった。
電子顕微鏡の開発は大学と企業の両方で行われた。
商品化を目指した企業での開発について次節で述べる
が、東京帝国大学と大阪帝国大学で透過型電子顕微鏡の開発が試みられた。東京帝国大学では谷助教授が中心となって1942年に静電レンズ型電子顕微鏡が開発された（2）。この装置の製作は陸軍の工場で行われた。大阪帝国大学では菅田助教授が磁場型の電子顕微鏡の開発を行った（3）。この開発は学振37委員会が組織された
1939年に開始された。

図3.2

大阪帝国大学製の磁場型電子顕微鏡（5）3.2 電機メーカーでの商用機の開発と市場導入
電子顕微鏡の試作は戦争中においても続けられた。
電子顕微鏡を開発していた企業は日立製作所、東芝、島津製作所である。
日立製作所の試作1号機HU-1は横型の磁場型電子顕微鏡で1941年に日立製作所の研究室で稼動した。但し、横型の電子顕微鏡は機械振動に弱いため、1941年8月に縦型のHU-2型の開発を開始し1942年の6月に2台完成した。このうちの一台は新設された中央研究所に設置され、後の1台は1943年に名古屋大学に納入された（6）。
（名古屋大学の歴史では1942年に榊教授が日本で始めて電子顕微鏡を設置したと記述してある。
）
東芝も1940年に磁場型の試作機を完成し、1941年には静電型の試作機を完成させて写真撮影に成功している。
当時は磁場型に対して静電型の優れている点として
1）焦点距離は電源の電圧変動に影響されない
2）電源、構造などの製作が簡単であるため。安価で
図3.1 東京帝国大学製の電界型電子顕微鏡（4）加速電圧：50KV、倍率：×15,000倍ある。
の2点が挙げられていた。これは磁場型レンズでは電透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

13

図3.3

日本で最初の試作された電子顕微鏡（6）日立製作所製HU-1型

図3.5

東芝製の電界型電子顕微鏡（8）技術を活用する必要があり、当時の電子顕微鏡の開発には数名から10名程度のチームを当てることが必要で
あった。
図3.4

最初に実用となった電子顕微鏡（7）日立製作所製HU-2型

方式の選択で明暗戦争が終わり、海外の透過型電子顕微鏡の開発の状

子銃に印加する高圧電源と磁場型レンズに供給する電

況の見聞が伝えられるようにはなったものの、しばら

源が別系統であるのに対して、静電レンズ型では同一くの間は他国の状況に影響されずに国内の企業間でのの電源を使用できるため電圧の変動がキャンセルでき

開発競争が繰り広げられた。1948年当時、日本での電たからである。高圧電源の変動はすなわち波長の変動

子顕微鏡の需要はないに等しかったが、電子顕微鏡のである。焦点距離は波長に依存するため磁場型ではそ

開発は商品化に向けて日立、島津、東芝、日本電子光の影響が顕著に現れる。

学(現日本電子)、電子科学の5社が手がけ、日本電気で東芝はこの利点を重要として静電型の電子顕微鏡を

は研究開発を行っていた。透過型電子顕微鏡の基本理開発した。1943年には磁界型1台、静電型6台の試作電論は確立していたため、開発の努力はその時の時点で子顕微鏡が作られ、EUL-1が商業用として試作されて最適な方法を選んで装置を開発するところにあった。

いた。東芝の2号機は京都大学の化学研究室に寄付さ

現実に実用的な電子顕微鏡を開発するために解決すべれた。

きことはたくさんあった。例えば産学官が結集した学

島津製作所は試作機を1943年に稼動させている。日

術審議会の第37委員会の1948年9月の小委員会での発立が陰極線オシロスコープの技術をベースにしたのに

表状況は以下のようである（10）。

対して、東芝はブラウン管の技術、島津は医療用のレ

島津製作所

ントゲン装置の技術がベースとなった。

（9）

このように戦時中の継続した開発により戦争が終わ

14

3-2-1

（1）小型横置式電子顕微鏡の試作を発表（2）高周波60KV、近代電子顕微鏡完成

った1945年の時点で、電子顕微鏡の商用機を開発する（3）80KV高周波電源の開発

だけの技術の蓄積はかなり出来ていたといえる。しか（4）超高圧電子顕微鏡の試作準備中

し、透過型電子顕微鏡を装置として纏めるには様々な（5）小型電界型の試作

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March

東大

谷教授、京大小林助教授との共同設計による。

鏡の成功が磁場型のレンズであったとしても、磁場型

日立製作所中央研究所には電界型に比べて技術的な困難があった。日立、島（1）磁界型電子顕微鏡の試作は完了

津は磁場型を選択し、東芝は電界型を選択した。日本（2）近代型電子顕微鏡の試作

電子は電界型の試作がうまくいかなかったために、磁（3）小型電子顕微鏡の試作

場型に変えた。最後の3つ目の選択は高圧電源の方式（4）電源関係の試作である。昇圧の方法として低周波方式と高周波方式が東芝マツダ研究所あった。加速電圧が高くなるにつれて高周波方式が有（1）電界型電子顕微鏡の性能向上利となった。尚、高圧電源の詳細については第4章で（2）小型電界型の試作詳説する。

（3）高周波電源A型試作（4）高周波電源B型試作
日本電気中央研究所

3-2-2

パイオニアたちの苦闘

日本における、商用機の開発が本格化した時点で、（1）磁界型電子顕微鏡の試作完了

透過型電子顕微鏡の基本性能を得るための設計理論は（2）高周波電源は一応完成し，その取りまとめに努既に確立していたが電子レンズの設計は各社が取り組

力中

まねばならない課題であった。

この時点で日本電子はこの委員会に参加していなかった。日本電子は唯一の後発メーカーであった。
多数の開発課題の中で事業の発展を左右する選択は主に3点である。第1は装置を横にするか縦にするかということである。この選択は横型では機械振動が大きいために現在の正立型の装置に落ち着いた。但し、電子線源（電子銃）を上に置き、電子線を地面に向かって照射する現在の方式となるには少し時間が掛かった。2つ目の選択は電子レンズを磁場型とするか電界型とするかの選択であった。ルスカの透過型電子顕微

図3.7

磁場型レンズの設計手順

図3.8に磁場型レンズの設計手順を示す。前にも述べたように磁場型レンズでは強い磁場をえるためにポールピースを挿入する。このポールピースの幾何学的な形状でレンズの性能が決まる。これは幾何学的な形状から磁場の分布が決まり、この磁場分布から通過する
電子の飛跡（電子軌道）が決まるので、複数の電子軌
道を求めて焦点距離を導くことにより、磁場型レンズの性能を予測することになる。しかし、電子顕微鏡のバイブルとされるアルデンヌの教科書には電子レンズの設計法までの記述がなく、日本電子の伊藤によれば、
RCAのツボルキンの教科書にレンズの設計法があり参考としたとのことである（12）。特にポールピースの形状から磁場型レンズの性能を一義的に決める方法はな
く、様々な形状のポールピースに関して実際にポールピースを試作して実験で確かめる必要があった（13）。また装置の開発は、装置の機械設計では機械的な振動を軽減する構造と電子線が大気中では利用できないために真空中で電子レンズ等の各要素を配列することなどであり、電気系においては高圧の安定化電源を設計す
図3.6

日本電子の前身の電子科学が最初に製造した
磁場型電子顕微鏡（DA-1型）（11）ること等であった。このような状況の中で、1949年にツボルキンが設計したRCAの電子顕微鏡が科学研究費

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

15

により2台輸入され、各社がこの装置を検討すること

べたが、電子顕微鏡の当初の目的であった光学顕微鏡

で国産の製品開発に刺激を与えた。もっとも、湿気ので見えない細胞内の微細構造や、ウイルスを観察するために電気系がうまく作動せず、まともに動かなかっという目的と共に、鉄鋼やアルミ等の材料を観察する。戦後、文献のみを通じて外国の進という目的での使用も増加したが、これに対応するにたこともあった（15）

歩を追わざるを得なかった状況に対して、1950年のパは生物系とは違う電子顕微鏡が必要となった。

リでの国際会議から直接参加が可能となり、付設の展電子顕微鏡で生物系の試料を観察するためには、電示会で国際水準の装置がどんなものなのかを実際に見子線による損傷を防ぐことが重要であるが、このためることにより。次の目標が明確になった。

には、電子が対象となる試料を短時間で通過すること

当時、ヨーロッパではドイツのシーメンスに続いて、が必要である。これは電子線が試料を通過中に試料をオランダのフィリップスが独自の製品で参入し、アメ加熱し、損傷を与えるからである。これを防ぐ方法は

リカでは電界型レンズのGEとRCAが商用機を発売し2つあり、一つは電子線を高速にすることで試料の通ていた。

過時間を短縮することでありあり、もう一つは試料を当時の磁場型レンズを使用する電子顕微鏡は最初に薄くすることで電子の通過時間を短くすることであ商用機を販売したシーメンスがリードしていた。日本

る。電子線を高速にすることは電子顕微鏡の加速電圧のメーカーは電子顕微鏡の基本構成を決める電子光学

を高圧にすることであり、最初は50KVであったもの

系でシーメンスに追随せざるを得なかった。図3.9にが、1955年の時点では100KVになった。またミクロト

当初の電子顕微鏡の電子光学系との対比を示した。シーム等の超薄切片をつくる装置が開発され生物系試料

ーメンスの電子顕微鏡には電子光学系で2つの工夫がの観察に応用された。この他の方法として試料を低温あった。一つは電子銃から放射された電子を試料面上にする方法も追求された。

に照射するコンデンサーレンズを2個にしたことであ一方で、材料系の試料では生物系の試料に比べて密る。これはレンズを2個にすることにより高倍率で明度が大きいために、電子の加速電圧を上げることが必るさを高め、直接倍率を5万倍から10万倍に引き上げ要となる。また材料系の試料は加熱により変態を起こられたことである。特にダブルコンデンサーレンズはす、結晶相転移が起こる、転位面が成長するというよ

試料にあたる電子ビーム径（ビームの大きさ）を1μ

うな現象が起こるが、これらの現象は試料を直接的に程度に微小化できたことが利点となり、この方式は以加熱しない限り観察できない。しかし、電子顕微鏡の後、電子顕微鏡のレンズの集束系の標準となる。もう中で加熱をすることは加熱により表面からガスが発生

一つは電子顕微鏡像を得るための結像系で2段レンズ

して真空が劣化する等の装置によくない影響を与える系に変わり中間レンズを入れて3段レンズ法式にした

ため、積極的に取り上げられなかった。このような状ことである。このことにより倍率を広範囲に変えるこ況下で1954年にロンドンで開催された第3回の国際電とが可能となり、拡大した像の一部を制限して電子回子顕微鏡学会で発表された電子顕微鏡の内部で試料を折像を得ることもできるようになった。（電子回折に加熱する・冷却する装置は日本の技術として国際的なついては4章で詳述する）

評価を得ることができた（14）。
しかし、当時の装置は相変わらず不安定で外部の磁場や振動に弱く、顕微鏡写真が取れる時間は深夜しかなく、レンズの焦点合わせや軸の調整には多くの時間を費やした。湿度の高い梅雨の時期には高圧電源が漏洩電流のために安定しなかった。装置の納入時の据付調整は1名では出来ず、必要に応じて3名であたるような状況であった（15）。

図3.8

16

電子顕微鏡のレンズ構成

3.3 世界一を目指して海外進出

ルスカが最初の顕微鏡を製作したときに2台の顕微

日立、島津、日本電子の3社で、1955年に国内の設鏡を製作し、1台は装置の性能や機能を確立するため

置台数は250台に達した。この中で例えば昭和24年かに使用し、もう1台は電子顕微鏡の像をとるための試ら25年にかけて開発し島津製作所が発売した小型の料の作成技術を確立するために利用したことは前に述SM-C2型では対物レンズと投影レンズが1本の純鉄の国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March筒の上下にはめ込まれ、後からの芯出し作業が不要の
操作性がよい機構であって、納入台数が計75台を数えた（16）。
戦後の数年間でこれだけの市場が出来た要因として2つの点が挙げられる。一つは当時の文部省の科学予算の重点配分により。毎年電子顕微鏡数台の購入の予算が組まれたことであり、もう一つは電子顕微鏡の研究者が海外と遜色のない数の500名（当時の電子顕微鏡学学会の会員数）もいたことである（17）。
しかし、1955年の時点で国内4社が持続して事業を進められるほどの需要は国内になかった。また技術的に海外の製品よりも卓越しているとはいえなかったので、「狭い市場の中で共倒れになる」ことの危惧をもった人もあった （18）。海外勢に対抗するために提携や分業も考えられており水面下ではいろいろと動きがあったが実現にはいたらなかった。このため、日本のメ

図3.9シーメンスの電子顕微鏡ElmiskapⅠ（21）ーカーは大学との連携はあったものの、独自に開発を進めた。

でき、−180℃まで冷却できることであった。競合す1950年代における海外市場での主要メーカーはアメるシーメンスのElmiskop Ⅰの分解能1nmに対して日リカのRCA、西ドイツのシーメンス、オランダのフ本電子のJEM-5型の保証分解能は1.5nmであった。フィリップスであったが、そのほかにも、西ドイツのランスでの購入条件は（1）
外国の模倣でないこと、（2）

AEG、イギリスのメトロポリタン・ビーカーズ、フ性能が高いこと、（3）アフターサービスが行き届いてランスのOPL、スイスのトリューブ・トイバー。アメいることの3条件であったという（21）。

リカのGEが電子顕微鏡を製作していた。この中で、この輸出を機に日本の日立と日本電子は世界に出て最初に商用機を開発したシーメンスが技術的にも市場行く橋頭堡が築けたことになる。そして、電子顕微鏡をリードした。特に1956年にシーメンスが販売を始めのニーズは生物の構造や形状の観察と共に金属等の結たElmiskop Ⅰの性能は、当時としては最高の分解能

晶構造や転位の観察などの材料の評価に拡大すること1nmを保証していた。この分解能は生物等の形状を観になる。

察するのには充分な分解能であり、全世界に売れた。
更に1957年に、この装置を使用してイギリスのメンタ

参考文献

ー（J. Menter）らが、酸化モリブデン結晶で当時の（1） 学術振興第14号

最高分解能を記録した0.69nmの格子像の撮影に成功し（2） 朝倉健太郎、安達公一「電子顕微鏡をつくった

たが、この成功は電子顕微鏡で原子そのものの像が見える可能性を身近にした。この装置は日本の顕微鏡開発に当たる技術者にも大きな衝撃を与えた。この装置

p35（1939）

人びと」p136（1989）（3） 朝倉健太郎、安達公一「電子顕微鏡をつくった人びと」p134（1989）

はその後の電子顕微鏡の原型といえるものであったか（4） 写真東京大学工学部

朝倉健太郎氏らである （19）。そしてこれを期に装置は発展期を迎え（5） 朝倉健太郎、安達公一「電子顕微鏡をつくった

ることになる。日立の技術者はこの装置のキャッチア

人びと」p134（1989）

ップに懸命になる。彼らが技術的に追いついたと思え（6） 日立ハイテクノロジーズ提供

たのは2年後である。

（20）

このような状況で日立製作所は1955年にHU―9型をアメリカのUCLAへの輸出に成功し、日本電子は1956
年にフランスのCNRSへの輸出に成功して海外進出への第1歩を築くことが出来た。日立の装置は電子顕微
鏡像と同時に同じ視野の電子回折像が得られることが評価され、日本電子の装置の特徴は試料が1000℃加熱（7） 日立ハイテクノロジーズ提供（8） 朝倉健太郎、安達公一「電子顕微鏡をつくった人びと」p（9） 真壁英樹「島津分析機器：ひとものがたり」p16（2006）（10）風戸健二「よぉーし電子顕微鏡で行くぞ（上）」p154（1997）

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

17

（11）日本電子提供（12）伊藤一男：私信（13）伊藤一男、次男「電子顕微鏡学会誌第1巻1号p47（1949）（14）外村彰編「電子顕微鏡技術」p22（1989）（15）日本電子35年史p48（1986）（16）真壁英樹「島津分析機器：ひとものがたり」p36（2006）（17）日本電子35年史 p42（1986）（18）風戸健二「よぉーし電子顕微鏡で行くぞ（上）」（1997）（19）Tom. Mulvey

Advances in Imaging andElectron Physics Vol96 p30（1996）（20）外村彰編「電子顕微鏡技術」p22（1989）（21）Tom. Mulvey

Advances in Imaging andElectron Physics Vol96 p30（1996）（22）風戸健二「よぉーし電子顕微鏡で行くぞ（上）」p257（1997）18

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March4 透過型電子顕微鏡の性能向上と機能拡大―科学機器から分析機器へ
透過型電子顕微鏡の開発にはウイルスのように光学ためには複数の機種を揃えることが必要となった。

顕微鏡で見えない生物や細胞の微細な形状を観察する

しかし、装置の調整には、時間と人を必要とし、納という誰にでも明快なニーズがあったが、一方で電子入した先でも一枚の意味のある電子顕微鏡像の写真を回折現象を利用して物質の解明をしたいというニーズ得るためには熟練した専任のオペレーターの助けが不も平行して存在した。結晶は原子が規則正しく配列し可欠等の事情は変わらなかった。

ているので、各原子から散乱された電子は互いに干渉

オペレータには、装置の保守、電子顕微鏡の像とし。この回折線からて意味があるかどうかの判断、いい像を得るための試

回折像が出来るが、この回折像は結晶の構造を反映す料の作成が要求された。近隣の鉄道の列車の通過に伴る。同様な情報はX線でも得られるが、X線では試料

う、磁場の乱れや、建屋の振動の影響等を避けるため、中のどの場所の情報がわからないのに対して、電子回像の写真をとるのが深夜になることが日常であった（1）。

折像は電子顕微鏡像との対応がつけられるので、場所装置はこのような状況であったが、電子顕微鏡へのニが特定できる利点があった。1956年（昭和31年）にメーズは強かった。

して特定の方向に回折線をつくる（1）

ンターが結晶の格子構造の観察に成功し、同時期にボ

しかし、これだけのニーズにも関わらず、市場の拡ルマンがステンレスの転位の観察に成功し、鉄を初め大は10社が商売をするには不足であった。このようなとする金属の性質を研究するとニーズも増大した。生状況から、1950年に世界で10社以上あった電子顕微鏡

物系の電子顕微鏡では既に試料を充分薄くする技術がメーカーは島津が1965年にRCAが1969年に撤退し、確立していたので加速電圧をあげるよりも、観察が容日本の日立製作所、日本電子、明石製作所、オランダ易にできることが求められたのに対して、材料系の電のフィリップス、ドイツのシーメンス、カールツァイ

子顕微鏡では厚みのある試料の測定への要求や高分解スに絞られた。

能化への要求もあってより高圧の電子顕微鏡が必要と

1960年代の分解能は生物試料の形状をみるためにはなった。このため、500KVから3MVの加速電圧の電子

充分なものがあった。しかし、高品質の材料の開発に顕微鏡が開発された。また、市場のニーズに対応するは更に分解能が必要であった。ここで更に電子顕微鏡

表4.1
1951年
1953年
1954年
1955年
1958年
1961年

1964年

1966年
1967年
1968年
1969年
1970年

1951年から1970年までの透過型電子顕微鏡の販売開始時期

日立製作所： HS−2［50KV 普及型］
日本電子： JEM−4A［50KV 電子回折］日立製作所： HU−9［100kV 3nm］
明石製作所： SUM−80［80KV 5nm］
日立製作所： 300KV バンデグラフ型
島津製作所： 200KV 5nm
日立製作所： 無電撃電子銃ダブルコンデンサー
日本電子： 100KV 1nm 10万倍
日立製作所： 50KV 全電子レンズの永久磁石励磁
島津製作所： 300KV 2nm
日本電子： JEM−6A 100KV 0.8nm
明石製作所： TRS−6A 50KV 1.5nm 高性能高圧安定化回路採用
日立製作所： HU-11A
125KV 試料観察多様化、試料傾斜TV式
日本電子： JEM−7 電磁軸合わせと非点補正
日立製作所： HU-500［500KV］10段分割加速管、CW昇圧
島津製作所： 500KV 0.69nm
日立製作所： HU-200 汎用機最高加速電圧
日本電子： JEM-1000 1000KV
日本電子： JEM-200
日本電子： JEM-100B 100KV 0.2nm 分子像 撮影
日立製作所： HU-1000 30段分割加速管
日立製作所： HU-12 125KV 0.3nm 倍率ズーム方式
日立製作所： HU-3000 3000KV
明石製作所： S-500 100KV 0.3nm Sゾーンレンズ

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

19

の性能をあげるための開発、つまり高分解能化を志向

能と同様に対物レンズの性能と電子線の波長で決まするか否が分岐点となった。ここまで技術開発をリーる、近接した2つの点物体を見分けられる限界を示す

ドしてきた電子顕微鏡のトップメーカー、シーメンス

値「点分解能」で示された。格子分解能は電子顕微鏡

は高分解能化への投資をせず市場から撤退していっ像として得られた結晶格子像で得られる格子縞の間隔た。1960年代から1970年代にかけての電子顕微鏡の分を分解能の指標とするものである。

解能の向上を目指した性能の競争では、日本の日立製

前述したように1956年に発売されたシーメンスの作所と日本電子が競い、世界をリードすることになる。

Elmiskop Ⅰの保証分解能は1nmであったが、1958年

この競争で装置の性能だけでなく安定性や操作性が優には日立の菰田、塩田等がHU-11型機で塩化白金カリ

れた電子顕微鏡が提供できるようになった日立と日本の0.69nmの撮影に成功して当時の世界一となる。その電子が競争で優位に立ちそれ以後、電子顕微鏡の供給後1961年にマックスプランク研究所（MPI）のダウエ

は日立と日本電子の2つのメーカーとオランダのフィ

ルが、シーメンスの装置でトレモナイトで0.32nmの格

リップス社の3社に絞られた。

子分解能の撮影成功を発表した。1965年4月には日本
電子の渡辺、日立の菰田がそれぞれの会社の電子顕微鏡で0.181nmの銅の200面を撮影し、7月に0.143nm、10月に0.127nmの分解能に達した。

図4.1

加速電圧の高圧化

図4.2

高分解能競争の軌跡（2）1960年代の後半（昭和40年代前半）には生物系の電図4.2に実際に得られた電子顕微鏡像で到達した分子顕微鏡の加速電圧は100KV、材料系は200KV以上と解能競争の時間推移を示した。1960年代になり、競争の市場の評価が固まりつつあり、装置の標準的な基本は格子分解能で行われたことがわかる。また、グラフ

構成も固まりつつあったので、各要素技術の性能向上

から70年代から分解能の向上のテンポが変わったのや付加機能の開発が活発になり、装置の性能、機能のは、それまでは機械振動や磁場の影響等の装置上の問向上が進むこととなった。

題が分解能向上を妨げていたが、一応、これらの問題が一段落し、70年代以降は電子光学系や磁場レンズと理論分解能への到達を目指した
分解能向上への挑戦

いう、電子光学に関する課題の克服に重点が推移した

1nmという物質の形状を観察するには充分な分解能

1968年に日本電子が0.2nmの点分解能を保証した装に到達すると、次の目標は物質を構成する原子1個が置を開発販売し、以後日立と日本電子が世界をリード

見える分解能となった。目安としては原子1個が判別することになった。

4.1

できる分解能として0.1nm程度が必要と考えられた。
このような状況から分解能の指標としても今までの「点分解能」に対して結晶の格子間隔を指標とする「格子分解能」が使用されるようになった。それまで
電子顕微鏡の性能を示す分解能は、光学顕微鏡の分解20

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.Marchとの解釈ができる（3）。

電子顕微鏡の像の観察だけであれば、電子光学系を構成するレンズは少ない数のほうが軸の調整等がし易くなり、像を得るために装置の調整をしながら使用するには都合がいい。しかし、電子顕微鏡を材料組成の評価に使用するためには電子線と物質の相互作用で起こる、回折や電子線のエネルギー損失、発生する蛍光X線等、利用することが求められる。このため、試料上の対象となる位置を探し、その位置で観察をするには、低倍率の像から高倍率の像まで倍率を変えて実施できるよう、性能向上と同時に操作性の改善が求められた。このために構成されたレンズ系は標準的なもの
図4.3 世界をリードする先駆けとなった
点分解能0.2nmの電子顕微鏡JEM-100B（4）でコンデンサーレンズが2個構成、結像レンズ系が3個の構成となった。1970年代にはこの電子光学系の設計

4-1-1

電子光学系の改良、に際してコンピュータによる電子軌道の計算が出来る

分解能の良い像を得るために試料に照射する電子線ようになり、レンズ系の設計、ポールピースの設計等

は一定の方向に動く必要がある。電子線源から出てくがコンピュータシュミレーションを援用して実施される電子の軌道は方向がそろっていない。電子線源を原るようになった。図4.4に商用機の保証分解能の推移点として仮想的に直線を定めて（これを光軸という）を示した。この図は電子顕微鏡が市販されてから25年

この軸上の試料の位置に電子線が集まるようにする必間（1938〜1963年の推移を示した。

要がある。このためのレンズとして磁界型レンズが使用される。この磁界型レンズは像のゆがみ等を小さくするために磁場の回転対称性を良くし、焦点距離の短いレンズにするために強い磁界を集中させる必要性か
ら、励磁コイルを軟鉄の磁気ヨークで囲い、ギャップ部に銃鉄製のポールピースをはめ込みその先端部に強い磁界を集中させる。この磁界レンズでは電子は軸に対する方向を変えると共に軸の垂直面で回転をする。
このような像の回転をなくすためにダブルギャップレ
ンズが金谷、レンツ（Lenz）等により考案され（5）使用されている。この磁界レンズを組み合わせて電子光学系が構成される。
電子光学系の役目は電子線源（電子銃）から出た電子を試料上に集束するためのコンデンサーレンズ系と、試料上の像を拡大して投影する結像レンズ系から構成される。コンデンサーレンズ系では電子銃から出た電子線のクロスオーバーを第1コンデンサーレンズで〜

図4.4

商用機の高分解能化の推移

1/10 に縮小し、縮小したビーム像を第2コンデンサー
レンズ（倍率は〜1倍）で対物レンズの物面に移送するレンズである。ここでクロスオーバーとは電子線が電子レンズによって収束されたとき、電子線の断面が最小になる位置（点）のことである。結像レンズ系は対物レンズ・中間レンズ・投影レンズから構成される。
各レンズの励磁電流を調整することにより、各種の収差を抑え、像回転を除くなどして、低倍（〜50倍）から高倍（〜150万倍）までの像が得られる。第一中間レ
ンズの焦点を変えることで回折図形が得られる。

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

21

図4.5

1950年代の銅フタロシアニンの原子像（5）

図4.8

4-1-2

1980年代の銅フタロシアニンの原子像（6）電子線源の高輝度化、（熱電子銃から電界放出型電子銃へ）基本性能の最高倍率は直線状に電子線源と複数の電子レンズ、試料を最適な間隔で配置する位置を設計することで決まる。この設計をするための前提は、電子
図4.6

1960年代の銅フタロシアニンの原子像（6）線源が点光源であり、単波長であることである。しかし、実際の電子線源は点ではなく大きさを持ち、波長もある一定の幅をもつ。電子線源の大きさは球面収差となって像がぼける原因となり、波長の拡がりは色収差となって像がぼける原因となる。電子レンズ系の開発が一段落すると、分解能を向上させるために電子線源を改良する開発が加速した。電子は空気中では分子と衝突を繰り返して消失してしまうので、真空中に2枚の電極を置いてその間に電圧をかけて金属中から放出させる。しかし、これだけではたくさんの電子は出てこないので、金属を加熱することにより電子を放出
しやくし、放出した電子を一定方向に運動するように、

図4.7

1970年代の銅フタロシアニンの原子像（6）電極に穴をあけてその間を通る構造にする。これを熱電子銃といい、この原型は最初の電子顕微鏡でルスカ

22

図4.5から図4.8に銅フタロシアニンの原子像を示した。

により使用された。1970年になりシカゴ大学のクリュ

この一連の図から電子顕微鏡の分解能のちょっとした向ー教授が、この熱電子銃よりも輝度が高く、波長の拡上による違いが、結晶格子像では違いが顕著にでることががりも小さい電界放出型の電子銃（以後FE電子銃）

わかる。尚、銅フタロシアニンの格子間隔は1.25nmである。

を電子顕微鏡に搭載してトリウム原子の観察に成功し

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.Marchた。熱電子銃はフィラメントが2800℃に加熱されるのる。このFE電子銃の普及の前に当初から使用されたに対して電界放出銃ではフィラメントの加熱温度はタングステンに代わり6硼化ランタンを使用したLaB6

400℃と低いため熱揺らぎが小さくより単色に近い電電子銃が使用可能となった。このLaB6電子銃はタング

子線が得られる。しかしFE電子銃は超高真空下で動ステンに比べて輝度が高く電流が多く取れるために、作をさせることが必要なために汎用の電子顕微鏡に搭

試料の面上でより狭い領域での観察を可能にした。

載されるまでにそれから20年を要した。当時、超高真尚、現在でもこれらの3種の電子銃が実際に使用され空を生成するための真空ポンプでは電子顕微鏡の鏡筒ている。

に取り付けられる真空ポンプが出来なかったためであ
表4.2

電子銃の性質の比較表

4.2 分析機能の付加
電子線を試料に照射すると試料を透過する電子の他に、照射した電子が試料から反射する反射電子、試料中の電子が透過する電子に励起されて発生する2次電子、照射された電子と試料中の原子がもつ電子との相互作用により、発生するオージェ電子、蛍光X線、カソードルミネッセンス光等がある。電子銃の輝度があがると試料上で大きな電流がとれるようになるために電子線が試料に照射された時に発生するこれらの電子

図4.9

電子線照射により発生する信号や光を利用して像の観察だけでなく元素分析等が利用可能となる。
電子銃の輝度があがることにより電子顕微鏡が発明されてからの10年間に提案されていた走査電子顕微鏡法や、電子線損失エネルギー分光（EELS）、蛍光X線を用いた元素分析等が透過型電子顕微鏡に付加されるようになった。しかしこれらの機能を生かすためには試料面上で電子があたる領域を絞りこむことが大切になる。分析機能ではどの場所を分析するかが重要なので、試料に照射される電子線の径はなるべく小さいほうがよい。このため効率よく電子線を絞るための電子光学系の開発や試料を傾斜させたり、加熱や冷却をする機能も汎用の装置に取り込まれるようになった。

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

23

表4.3
1975年
1976年
1978年
1979年
1980年
1981年
1981年
1982年
1982年
1983年
1983年
1983年
1983年
1984年
1984年
1985年
1986年
1986年
1986年

4-2-1

1975年から1986年までの透過型電子顕微鏡の販売開始時期

日立製作所：
日立製作所：
日本電子：

H-500 125KV スポットスキャンTEM付属
H-700 200KV 6段加速
JEM−100CX 100KV クリーンバキューム（フィリップス：EM−400 100KV 0.5nm PROMベースデジタル制御）
日本電子：
JEM−200CX 200KV 装置の高さ 2.64m
日立製作所： 100KV トータル分析電顕、LAB6電子銃、マイコン搭載
明石製作所： LEM-2000 電子顕微鏡と光学顕微鏡を一体化
日立製作所： （H-1250S）［1250KV 0.16nm］
日本電子：
JEM-1200EX［120KV 3郡6段結像レンズ系採用］
日本電子：（JEM-ARM1000）［1000KV 原子直視超高圧電子顕微鏡］
日立製作所： H-800 [5段結像レンズ系、像無回転拡大］
日立製作所： 走査透過電子顕微鏡（H-1250ST）［1250KV 電界放出型電子銃搭載可能］
日立製作所： H-600FE）［100KV 電界放出型電子銃使用］
明石製作所： EM-002A［画期的な低収差対物レンズ］
フィリップス： EM 420 STEM［120KV,総合分析電子顕微鏡］
日本電子：
JEM-2000FX［200KV、極微少プローブ照射系採用］
日本電子：
JEM-4000EX［400KV］、
日立製作所： H-7000［像無回転拡大と像任意回転］
日本電子：
JEM-2000FXV 超高真空電子顕微鏡
日本電子：
JEM-2000FXV 超伝導レンズ採用
明石製作所： EM-002B［200KV、分析TEM］

電子線回折

電子顕微鏡の開発には光学顕微鏡で見えない小さい物体の像を観察することがモチベーションとして働いていたが、一方で電子線が波として持つ2つの性質−
回折と干渉―を生かした使用法も開発された。この2つの特徴のうち干渉を利用した電子線ホログラフィー
はガボールにより1947年に提唱されたが、実際に原子像が得られたのは1985年になってからであった（7）。回折に関しても、電子線回折が結晶の構造の解析に利用

図4.10

電子回折像の結像の原理図

することがやはり電子顕微鏡開発の当初から試みられた。結晶を試料とした場合、試料を透過した電子線は

図4.10電子回折像の結像の原理を示した。結晶中に透過波と回折波に分かれる。透過波は平面波と考えら入射した電子線は、規則正しく並ぶ原子の配列によっれるのに対して回折波は試料を原点とした球面波と考て回折現象をおこし、多数の波に別れて出てくるが、えられる。このため回折波だけ、あるいは透過波だけ

この多数の波を電子レンズで集めて結像し、結晶中ので像を形成するためには、試料の向きを調整したり制

原子配列の様子を像として直接観察する。図4.11に単限視野絞りの位置の調整をしたりすること等が必要と結晶の電子回折像の予想図を示した。

なる。しかし、電子線回折は結晶学や、金属材料の強度等の性質を左右する金属の転位に関する研究等に必要なことから、透過型電子顕微鏡の重要な付加機能であった。金属の転位の研究では金属内部での転位をそのままの状態で観察するためには一定の厚みが必要であったために、加速電圧の高い電子顕微鏡が必要であった。金属の透過率は電子線の速さ（加速電圧）に依存し、速いほど（加速電圧が高い）厚い試料を観察可能となる。そこで電子顕微鏡の加速電圧は200KV,
300KVとより高圧となり、電子回折機能が容易に使えるように電子光学系にも工夫が加えられた。

24

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March

図4.11

単結晶の電子回折像の例（予想図）

4-2-2

電子線エネルギー損失分光法（EELS）

効果を利用したために集光効率が悪かったためである。

電子線が試料を透過する時に、入射電子線の一部は平らな結晶ではX線が集光できないため、結晶を凹面

非弾性散乱されてエネルギーを失う。電子線エネルギ

型にして利用するが、結晶は曲げることが難しいので、ー損失スペクトルは、この電子線のエネルギー分布を僅かな湾曲を持たせることしか出来ない。集光の条件

測定し、物質の結合状態や組成を分析する方法である。

を満たす配置では試料から空間の全領域に向かって発

この方法は現在では微細な構造をもつ半導体の構造等

生するX線のごく一部しか集光できないからである。

の観察と分析に利用されている。電子顕微鏡で使用し1960年代になり、Ge結晶を利用したγ線検出器をXている磁場型レンズはレンズの拡大率(縮小率)が限ら線検出器として利用することが、試みられた結果、れるため、レンズを2段にして2枚のレンズを使うといGeはエネルギーバンドの幅がX線の検出には適さない

う光学系の改良により入射する電子線の照射プローブ

ことがわかり、代わりにSi結晶にLiをドープしたX線系が絞れるようになった。このため、微細化が進む半検出器が開発され走査型顕微鏡に取り付けられて使用

導体デバイスの分析手段として使用されるようになっされ始めた。この検出器はX線の持つエネルギーに対た。装置は試料の下側の鏡体の下部に取り付けられ、応してエレクトロンホールペアを生成し、このエレク

90度の磁場型セクターと4極子レンズにより構成されトロンホールペア数を計数することにより分光する

る。図4-12図に電子線損失エネルギー分光器を装着し（EDS：Energy Dispersive Spectroscopy）。干渉現象

た走査型透過電子顕微鏡の構成を示す。電子線プローを利用する湾曲結晶に比べると、X線の励起現象を利ブから照射された電子は試料中で試料中の原子と相互用するため分解能が悪いが、1970年代に発達したデジ作用をしてエネルギーを失って放射される。この電子

タルエレクトロニクスを巧みに利用することにより、をレンズで集めてEELS分光器に導入する。EELS分光

欠点を補って主流の方法となった。この検出器とその器を走査してEELSスペクトルが得られる。この装置

後のデータ処理システムは電子顕微鏡メーカーでは自では通常の電子線と異なり電子線を走査することによ

作できなかった。そのため、この検出器を装着した電りSTEM像を得、EELSスペクトルのピークの一つを子顕微鏡は電子顕微鏡本体を制御するためのコンピュ選んで分光器を固定し電子線を走査して元素マッピン

ータシステムとEDSシステムのコンピュータが2台並グ像を得る。これらの情報から試料中のある位置にあべられた。この状態が解消され、透過型電子顕微鏡のる元素の種類がわかり、試料中の元素の分布がわかる。

コンピュータシステムが統一したシステムとして商品化されたのは1998年であり、最初に電子顕微鏡の付加機能として個別に取り付けられてから20年近くが経っていた。
この分析機能により、透過型電子顕微鏡は材料開発からデバイスの開発で活用されるようになった。酸化
亜鉛と銀の多層膜の評価をした例を図4.13に示した。
この像から均一の膜がついているかがわかり、EDSス
ペクトルから元素の種類が確認でき、回折パターンか
ら結晶性の評価が出来る。

図4.12

4-2-3

走査型透過電子顕微鏡の構成（9）蛍光X線スペクトル

電子顕微鏡によって蛍光X線スペクトルを得る方法
は、キャスタンにより1950年走査型電子顕微鏡タイプの電子顕微鏡で実現され（金属中の結晶粒の界面に偏析する不純物元素の検出、岩石の組成比の決定等の目的で使用された。しかし、蛍光エックス線のスペクトルを得るためには電子線の強度がつよいことが必要であったため、長い間専用の電子顕微鏡（電子線マイクロアナライザー）が使用された。これはX線の分光を
X線の波としての性質を利用する湾曲結晶による干渉

図4.13

元素分析の例

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

25

イメージングプレートの特徴は感度の直線性が優れ

4.3 3次元情報を持つ画像の獲得への挑戦ていることで記録できる面積は約80×100mmでダイ
ナミックレンジ5〜6桁と、共に大きい。露光されたイ

透過型の電子顕微鏡で得られる顕微鏡像を記録する

メージングプレートにHe-Neレーザを照射し、輝尽性技術は重要な技術である。顕微鏡が開発された当時か

発光体（Eu）から発光する青色光を光電子増倍管でら1990年の前半までの50年間、透過電子顕微鏡の像は電気信号に変えて記録された画像を読み出す。光電子

影絵のように2次元の像ですますことが出来た。しか増倍管1本では5桁のダイナミックレンジしかカバーでし、半導体の微細化により、電子回路が立体化すると、きないので、最新の読み出し機では半導体検出器と組穴径に対して深さが大きい（アスペクト比が大きい）

み合わせて6桁をカバーできる。つまり大きいダイナ構造をもった形状の観察や、生物分野ではたんぱく質

ミックレンジを有効に活用できるかどうかは、信号のの立体構造が観察の対象となることなどにより、立体読み出し機の性能に依存している。また位置分解能的な3次元の像を得ることが必要になった。このため（画素サイズ）も読み出し機の性能によって15〜50μ試料を傾斜して複数の顕微鏡像をコンピュータで画像

mと変わる。階調は最大20ビット。大きな面積を必要処理をすることにより3次元像を得ることが行われるとする低倍のTEM像や大きなダイナミックレンジをようになった。

持つ回折図形の記録に有利であるがその後に登場する
CCDに比べると、オフライン利用に限定されるため、

4-3-1

記録媒体の進歩

現在では補助的に利用されている。

ルスカは透過した電子が結像する面に帯電防止をし

このX線ラジオグラフィー用のイメージングプレー

た蛍光板を置いて、この蛍光を写真撮影する方法が使トを透過型電子顕微鏡の記録に利用する試みは、日本用された。この方法は1980年までは大多数の電子顕微

電子の及川等と富士フィルムとで透過型電子顕微鏡に鏡で使用された。光学顕微鏡ではつまみを調節するこ

適した形に改良され1990年に実用化された（10）。

とにより、焦点のあった像を得ることが容易であるが、しかし、普及が進むまえにCCD検出器が登場する。

電子顕微鏡ではこの焦点の合う像を捉えることが難し

CCD検出器は電子線やX線の2次元のデジタル強度記録

い。このため撮影の条件を変えて多数の写真を撮影し、媒体として利用される高感度の光電変換用の半導体素これらの写真から最適なものを選んでいた。また現像

子で、光を照射して半導体表面の空乏領域（ポテンシの方法も工夫をしてコントラストがつくようにし、焼ャル井戸）に電荷を蓄積し、表面を通して隣接する井付けの手加減をしていい像の写真を得るようなことが戸にこの電荷を伝達し、電気信号として外部に取り出必要であった。

すものである。電子線の検出には、蛍光材料、YAG結

記録媒体としての写真は分解能が高い反面、感度が晶等によって電子の強度を光に変換してからCCDに露低く、ダイナミックレンジが小さい、コンピュータで光する。イメージングプレートに比べると、ダイナミ

画像処理をするためにはデジタル化が必要等の欠点がックレンジは4桁、階調は16ビットと小さいが、オンラある。このような写真の欠点を解消する記録媒体としインで利用できることがイメージングプレートにない

X線ラジオ

最大の利点である。主に高分解能像取得のためのスログラフィー用にイメージングプレートが開発された。

ースキャンCCDカメラとして利用される。高分解能像

イメージングプレートはX 線、電子線、中性子線に撮影では、写真フィルムの画素サイズ（〜3ミクロン）

よる励起で蛍光を発する現象を利用した積分型の二次とCCDカメラ（〜13.5ミクロン）の画素サイズが違う

元検出器で、輝尽性発光体（Eu）の微結晶をプラスことから、撮影時の倍率が異なってくる。写真フィル

チックフィルムに塗布したものである。

ムの場合では30〜40万倍での撮影が、CCD カメラの場て1983年に富士フィルムで宮原等により（10）

図4.14にイメージングプレートの構造を示した。

合は 60〜100万倍での撮影となる。特にこのCCDとビ
デオカメラをくみあわせることにより、取りあえずビ
デオカメラに電子顕微鏡像の変化を記録しておいて、後で最適な像を探すことが出来るようになった。
4-3-2

コンピュータに支援された画像形成技術

CCDの利用により像のデジタル化が容易になってコ
図4.14

26

イメージプレートの構造

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March

ンピュータによる像の事後処理が可能となった。1996

年にはシミュレーション技術を利用して得られた画像

観察や、結晶格子を見ない場合には図で示した3番目から収差を取り除くようなことも可能となった。

の手順は省略する。このように自動化の対象となる項
目はたくさんあり、これらの手順で観察対象を除くとほとんどの項目が自動化されているが1980年当時では
これらはオペレーターが操作をするものであった。
1980代の初頭に発売されたIntel社の8008や8086に代表されるCPUチップが実用化され装置に組み込むことが可能な価格で入手できるようになり、装置に組み込
むだけの信頼性もあったので、透過型電子顕微鏡に組

図4.15

画像処理・解析のプロセス

3次元の画像を得ようとすると試料を傾斜させて電み込まれることになった。最初の自動化の項目はオペ
レーターの作業の軽減とともに、工場での装置の調整作業や、納入時間の短縮等メーカーにも利点があった。

子線が試料に対して異なる角度で入試した像を得る必要がある。このためには、試料ステージは試料を傾斜したときに視野が移動しない、傾斜した状態で試料を移動したときにフォーカスが変わらない、試料を回転したときに視野が移動しないといった機能を持つことが必要である。このような機能を持つ試料ステージをユーセントリックゴニオメーターというが、このようなステージではnmレベルの高度な精度での試料移動、
試料傾斜技術を必要とする。このユーセントリックゴ
ニオメーターが実用化され、試料の傾斜角度を変えて撮影した多数の電子顕微鏡像を数学的に解析すること
により3次元画像が得られるようになった。

4.4 自動化への挑戦−コンピュータ技術がキーとなる

図4.17

国産初のマイコン搭載電子顕微鏡H-600型（11）1970年代に電子回路はトランジスターからIC化が進
んだが、透過型電子顕微鏡への適用は一部に留まって

4-4-1

電子光学系の制御いた。電子顕微鏡で結晶の格子像や電子回折像を観察最初にマイクロコンピュータが導入された機種が市するときの操作の手順を図4.16に示した。生物試料の場に導入されたのは1981年である。最初の導入機種では複雑な電磁レンズと偏向コイルに流す電流量や電圧値の制御を行うシステムが開発された。透過型電子顕微鏡に使用される磁場型のレンズでは、励磁するコイ
ルに流す電流量と得られる磁場の強度は比例しない。
このために、例えば倍率を変えた時の電子光学系を制御するため複数のレンズや偏向コイル間の連動する変化を電気系回路だけで対応すると大量の抵抗やコンデ
ンサーやリレーを用いた回路を構成する必要があった。これがマイクロコンピュータを用いることにより、複数のレンズや偏向コイル間の連動比の値をメモリー上に持ち、例えば、対物レンズの電流値を変えて倍率を変更するときに、関連する偏向コイルの変化量をメモリーから読んでコンピュータで設定することが可能となった。その結果、大量の電気回路を削減すること

図4.16

高分解能像観察の手順が可能となっただけでなく、透過型電子顕微鏡の欠点

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

27

であった対物レンズの励磁を変えると像が回転してしまう性質（入射電子の軌道にたいし、電磁コイルの力が垂直方向に働き、その結果入射電子が円運動を起すため。）を補正することが可能となった。

4-4-3

グラフィカルユーザーインターフェイスとネットワーク化

マイクロコンピュータを内蔵することにより電子顕微鏡を外部のコンピュータからシリアル通信で制御することが可能となった。しかし透過型電子顕微鏡にエ
ネルギー分散型X線分析装置を取り付ける場合には相互間での連携制御は可能となったものの、画像は写真撮影であったためにコンピュータシステムの外にあり、元素分析機能を付加するために取り付けるエネル
ギー分散型X線分析装置は独自のグラフィカルユーザーインターフェイスをもっていてそのデータを透過型
電子顕微鏡のシステムに取り込むことは出来なかった。透過型電子顕微鏡が文字通りの分析・計測機器といえるようになったのは、内蔵のコンピュータが16ビットとなり、画像がCCDでデジタルに記録されるようになってからである。
1990年代の半ばに、パーソナル・コンピュータ（PC）

図4.18

初期のCPU制御のシステム構成にグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）が搭載されると、透過型電子顕微鏡の操作をGUIからす

4-4-2

試料交換、装置制御ることが一般的となった。まず、電子顕微鏡画像は高8ビットのマイクロコンピュータはすぐ16ビットコ

精細度のCCDカメラで取り込まれて、PC上に表示さンピュータとなり電子光学系、ステージ制御系、写真れるとともにPCに内蔵するハードディスクなどに画像

撮影ユニットなどを連携させて制御することが可能とファイリングされるようになり、エネルギー分散型X

なり、より複雑な機能の実現が可能となった。しかし、線分析装置のシステムが統合された。またインターネ

ステージのコンピュータ制御を実現するためには試料ットに代表されるネットワーク技術の発展により、多ステージの改良等が必要であり、電子顕微鏡の画像の量のデータの伝送が可能となったため透過型電子顕微

記録が写真フィルムからCCDに代替されることも必要

鏡を遠隔地から操作を行い、同時に遠隔地での像観察であった。このようなハードウエアの改良により、現を行うことが可能となった。透過型電子顕微鏡の自動在ではかなり複雑な操作が自動化されている。

化は、本体制御CPUの高機能化、高精細度CCDの供給、その代表的な機能は2つあり、ひとつは電子線損傷低PCの性能アップ、画像のディジタル圧縮技術の発展、減システム（MDS：Minimum Dose System）でありネットワーク・インフラの整備など総合的な技術発展

もう一つは画像計測機能（IMS：Image Measurementの結果可能となってきたといえる。現在では、高価なSystem）である。MDSは特に、生物試料などの観察

研究用の超高圧電子顕微鏡を複数の遠隔地から、共有

時に、長時間、電子線を試料に照射すると試料が電子して利用するシステムが実用化されて世界で数システ

線損傷を受けてしまうことを回避する機能である。写ムが稼動している。また超高電圧の透過電子顕微鏡は、真撮影するばあいにあらかじめ、その撮影視野を決め操作をする人が万が一の漏洩X線による被爆を受けなておき、その視野の外周で像のフォーカスや非点の調いよう安全面から、顕微鏡の鏡筒から離れた場所で操節を行う（その間電子線損傷は、視野内では起こらな

作をするようになっているが、これも通信を用いて外い）。その後電子ビームが元の視野位置に戻ると同時に、部制御することによって実現した。

写真撮影用のシャッターが開き、一定時間の画像撮影が行われてシャッターが閉まる機能をもつ。一方IMS

4.5 外部から取りこまれた重要要素技術

は画像中の任意点間の長さや、角度等を計算するシス
テムで、電子線の位置の制御値と倍率の関係から試料上の実距離を計算、表示する機能である。

透過型電子顕微鏡は3万個程度の部品から構成されている。このため必要な性能と機能を得るために外部の技術を活用して装置作りが行われた。電子顕微鏡の開発を始めたときにはまだ、出現していなかった多く

28

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March

の技術が現在の電子顕微鏡に取り込まれている。

して電圧をかけるのが難しかったとのことである。実際に透過型電子顕微鏡の高圧電源の品質が安定したの

4-5-1

高圧安定化技術は1970年代に入って真空管から半導体の整流器が使用

透過型電子顕微鏡では電子の波としての性質を利用できるようになってからである。透過型電子顕微鏡でする。電子の波としての基本的な性質である波長は電は観察をする試料に対して電子線源をマイナスの高圧圧に依存する。このため透過型電子顕微鏡では高圧電にする。電子線を放出するためには電子銃を加熱する源の安定性が性能に影響を与える。電圧の変動は色収ことが必要であり、この加熱のための電源も高圧下に差として電子顕微鏡像の質を劣化させる。このため、ある。これらの電源筐体は絶縁油を満たしたタンクの透過型電子顕微鏡の高圧安定化の技術は重要な技術の中に収納された。このタンクの設計についても最初は一つである。

試行錯誤であったと聞く。これは絶縁耐圧の値通りに

この高電圧を得る方法は2つあり、高圧トランスを用製作をしても、沿面放電等で漏洩電流が流れて高圧がいた低周波昇圧法とコックロフトとウォルトンにより掛からないことも多かったからである。沿面放電はタ考案された（1932年）整流管とコンデンサーを組み合

ンク内、コネクターとケーブル、電子銃の内部の3箇

わせて高圧を得る方法で高周波昇圧法を言われている。

所で発生する。タンクとケーブルに関しては1960年代に問題は片付いた。1970年代になって絶縁油中のPCBが有害物質で使用禁止となり、タンク内の絶縁はSF6ガスとなったがこの代替はスムーズであった。1970年
代に透過型電子顕微鏡の加速電圧が200KV，300KVと高くなるにつれて電子銃内での沿面放電が課題として残った。この問題は電子銃を支える絶縁碍子の品質の安定を図ることで解決に向かった。

図4.20

1MeV 電子顕微鏡の高圧電源（12）超高圧の電子顕微鏡等では安定性を得るために市販の標準製品とは異なる技術が開発され使用されている。電子加速管・電子銃、電子銃制御用電源、高電圧発生装置を分離し、別々のタンク内に隔離・収納して、
図4.19

低周波昇圧法と高周波昇圧法の概念図

直流と交流を完全に分離することにより極めて安定な高圧電源となっている。図4.20に電子線ホログラフィ

図4.19に概念図を示す。上が低周波昇圧法である。

ー用の超高圧電子顕微鏡の構成を示した。

トランスにより昇圧する方法である。この方法は昇圧
はし易いが、高圧の部分が大気中に出やすいために湿

4-5-2

高真空技術

気に弱かった。また大容量のコンデンサーを使用する

真空にはどの程度、真空中に気体分子が残っていることが危険を伴った。これに対して高周波法は、安定かという量的な基準と、どのような気体分子が含まれ透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

29

ているかという質的な問題が存在する。表4.4に透過型

わり、観察室で異なる要求がある。電子銃周りでは真電子顕微鏡で使用される真空ポンプの種類を示した。

空度の量と質が要求される。これは油拡散ポンプでは

表4.4

真空ポンプの種類

真空中の炭化水素の分子が多く、これが碍子等の汚染に繋がり、電圧の安定度に影響する可能性があるからである。試料室では通常の真空度は10−5Pa程度であるが、この程度の真空であると真空中の原子や分子は1分間に100回程度、試料表面に衝突する。つまり、試料表面で付着、脱離あるいは拡散を繰り返す。この炭化水素分子が電子ビームにより重合、堆積して試料面で黒色の膜を作る。これをコンタミ膜というが、この膜は像の観察の妨害になるだけでなく分析の妨害になることのほうが深刻である。1980年代になってイオン
ポンプやターボ分子ポンプがコモディティー化し、電子顕微鏡にこれらのポンプを利用したオイルフリーの真空系が組み込まれるようになった。図4.21には透過型電子顕微鏡の排気システムの典型例を示した。

真空ポンプには大気から真空にすることが得意なポンプとある程度の真空になってから更に真空をよくすることに優れたポンプの2種類がある。大気から真空カメラがある観察室は写真フィルムが水分子を放出をつくるのは回転ポンプとソープションポンプであするので真空度は悪い。このため試料室との間に絞りる。目的とする真空度を得るためには通常回転ポンプを入れて差動排気システムを形成する。また、現在でで一定の真空にしてから、油拡散ポンプやイオンポン

はレンズや偏向コイルがガスの放出源なので、ライナプを使用する。ターボポンプは大気から目的とする真ーチュ−ブを入れて真空外に出すような対策が採られ空度まで1台で到達することが可能であるが、通常はている。

回転ポンプで一定の真空度にしてから使う。

また、電子顕微鏡のオペレーションでは焼きだし

透過電子顕微鏡の真空排気システムは、電子銃室、（ベーキング）を行う。これは電界放出型電子銃室、鏡筒、試料室、カメラ室の排気をする。標準的構成で鏡筒内壁や試料ステージを真空状態で加熱し吸蔵されは、電子銃室、鏡筒は油回転ポンプと油拡散ポンプ―ているガスを強制的に脱ガスし、その後のガス放出を

イオンポンプの系、カメラ室は油回転ポンプ―油拡散少なくさせるためである。電界放出型電子銃の場合はポンプの系が採用されている。電子銃が電界放出型の電子銃の安定な作動、長寿命、放電損傷の減少などの場合、電子銃室は独立なイオンポンプが配置され高真

目的で〜300℃の高温で40時間以上の焼き出しを行う。

空が得られるようになっている。

鏡筒等の場合はOリングを使っているので、高温での透過型電子顕微鏡では真空に対して電子銃、試料ま30

図4.21 透過型電子顕微鏡のオイルフリーの真空排気系
A：イオンポンプ、B：油拡散ポンプ、C：油回転ポンプ

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March

焼き出しはできないので60℃程度で3日間くらいの焼きだしを行うのが普通である。

め、1980年代にこの問題の解決の必要性が高まった。

ターボポンプやイオンポンプは10 Paの真空度を生この低振動は地面から来るが、振動の様子は設置場所成する能力を持つしか、通常の電子顕微鏡で使用しての地盤の構造や、設置する建物の場所に依存する。こいる材料では材料からの放出ガスによりこのような超のため、装置を納入する前に予め、設置室の振動の状

高真空を得られないので、超高真空の電子顕微鏡では

況と電磁場の測定を行って、性能にどの程度影響する

内部構造を工夫し、超高真空用の材料を使用して製作かを予測し、目標とする性能が得ることが困難な場合されている。

には、床そのものを耐震台とすることで地面から伝わ−8る振動を防止している。
4-5-3

外部環境制御技術

電子顕微鏡は1nmの長さを1cm程度に拡大する機械−光学顕微鏡で使用する技術の4.6 観察技術転用から独自の方法へである。1nmの大きさの1000倍が1μmで更に1000倍が1mmである。つまり長さを10万倍から100万倍の大きさ

顕微鏡の像がよく見えるためには、試料から透過すにする。しかし、装置という観点から見ると、装置のる電子が試料の場所により100％透過する場合とまっ1nmの変位が電子顕微鏡像では肉眼で見えるだけの動

たく透過しない場合があることが望ましい。このよう

きとしてわかることである。このため、電子顕微鏡のな透過量の差を「コントラスト」がどの程度あるかと開発当時から、装置を置いた部屋の環境が電子顕微鏡

いうように表現する。電子顕微鏡が対象とする試料はの観察の精度を左右した。このような像を劣化する外金属試料から生物試料まで、コントラストがつきにく

部環境として、電磁場の影響と機械振動の影響がある。

い試料である。特に金属や半導体等の固体の試料では電磁場の影響は電子線の軌跡の変化となり、仮想し電子線との相互作用が大きいために明瞭に観察できるた光軸からのずれとなり、分解能の劣化となる。電子

厚さは加速電圧200KVで50nm以下であり、高分解能顕微鏡では電子線源から像を記録する媒体まで1本の観察や精度の高い組成分析を行う場合には10nm以下

直線を仮想し、その線の近傍で結像条件等を決めていの均一な薄膜が必要である。

る。このため、装置中の電子レンズや絞り等はこの直電子顕微鏡の試料としては鉄のような金属から生物

線に対して円対称であることが求められる。しかし、試料まであり、これらの薄膜の作成法は試料の性質や磁場型レンズのポールピース等の個々の部品の誤差や顕微鏡観察の目的により種種の方法がある。これらを材質の不均一性、複数の電子レンズを配置したときの整理すると図4.22のように分類できる。この薄膜化さ軸上からのずれ等が、性能の劣化をもたらす。また、れた試料は支持膜の上に載せられて電子顕微鏡の中に外部の電磁場については、地磁気のような静磁場の影導入される。支持膜は光学顕微鏡で使用するスライド

響は電子線が100KVと高圧のため、無視できるが、近ガラスの役目をする。膜の材質としては、電子顕微鏡

くを走る電車や、高圧線のような変化する電場の影響が開発されていた当時はコロジオンが使用されていたは無視出来ない。このため、夜中の終電後にしか、最が、電子線照射を受けると変形するので、1980年代に高分解能の像が取れない時期が長く続いた。また、装は使用されなくなり、現在ではカーボンやグラファイ

置による性能の違いも大きかった。このような状況は

ト等が使用されている。このカーボンを0.01〜0.1μm

均一で品質が安定した非磁性の鉄が入手可能となり、程度の径の孔径をもつ膜として金属メッシュの上に張機械の加工精度が上がってくるに従い解消されてさってマイクログリッドを作成する。支持膜は観察する

れ、1980年代には電子顕微鏡の品質も安定した。

試料により材質や孔径等を選んで使用する。

これに対して機械振動については、装置そのものが直立型で塔のような形状であるため装置の構造による振動防止が課題であったが1970年代に解消に向かった。一方、外部の床から伝わる振動は現在に至るまで
性能に悪影響を与えている。機械振動については開発の当初は高周波の振動が主に影響を与えたため、振動防止用の細工を電子顕微鏡本体に施した。これらの対策が功をそうすると、次には低周波の振動による性能の劣化が問題となった。高分解能化に伴い加速電圧が

図4.22

電子顕微鏡観察のための試料作成法

高くなるにつれて、装置は大型化し重量も増加したた

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査31図4.22に掲げた試料作成法の概要について表4.6に示した。試料の作成法の原型は1930年代にドイツで考案されたものが多いといわれる。その中で日本の技術として寄与しているものに集束イオンビーム法（FIB）がある。
この方法は特に半導体やセラミックス等の試料の作成に使用される。この方法なしには半導体の断面の観察は難しいと言われている。
表4.5

観察法の種類と概要
図4.23

イオンビーム法

図4.23に示したイオンビーム法はガリウムイオンを
数 kV〜40kV で加速し集束させて試料に照射し、二次イオン像（SEM 像が見られる装置もある）で局所領域を観察しながら、試料を薄片化加工する。ガリウ
ムイオンによる試料表面の損傷がさけられないので、
低加速のイオンミリングで表面の損傷部分を削り取る処理が行われることがある
一方、生物試料でもコントラストがつきにくい試料であることは金属試料と同様であるが、金属試料と異なり、試料の損傷が起こる。この試料損傷は、電子線が試料を透過する時に、試料中に電子を発生させ（これを2次電子と呼ぶ）この電子により試料の損傷が起こると考えられるので、試料を薄くすることで、この損傷を防げることが予想された。このため試料を薄く切るためのミクロトームが開発された。ダイヤモンド
ナイフを用いて、試料を数10nm〜100nmの厚さに連続的に切ることができる

図4.24

ミクロトーム法

また、直接試料を観察せずにレプリカを作成して形状を見る方法も利用される。
物体の表面に薄いプラスチックまたは無機材料の被膜を形成し、その後表面から取り去ることによって、表32

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March

面の凹凸を転写、複製したもの。回折格子の表面処理

参考文献

や試料表面の凹凸を観察するために利用される。

（1） 日本電子

日本電子35年史p99（1986）（2） 外村彰

電子顕微鏡技術p29（1989）（3） 外村彰

電子顕微鏡技術p29（1989）（4） 日本電子提供（5） 日本学術振興会第132委員会編

電子・イオンビ

ームハンドブック第2版p63（1986）（6） K.Ito Development of the Electron Microscope inJapan :Transaactions of the Research Society ofJapan p12
図4.25

レプリカ法

（7） T.Mulvey（外村彰訳）電子線装置：20世紀の物理学の第20章

p324（1996）（日本語訳は2000）（8） 外村彰

電子顕微鏡技術p91（1989）（9） 日立ハイテクノロジーズ提供（10）及川哲夫、森信文

電子顕微鏡Vol26No1. p89（1991）（11）日立ハイテクノロジーズ提供（12）日立ハイテクノロジーズ提供

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

33

5 透過型電子顕微鏡の技術進歩と社会への貢献かの判断は電子顕微鏡像だけでは困難であったからで

5.1 透過型電子顕微鏡技術の特徴ある。なぜなら、電子顕微鏡の像のコントラストは試料内の物質の分布をそのまま反映しているとは限らな透過型電子顕微鏡の性能向上と機能拡張は透過型電いからで、このため電子顕微鏡像と電子回折像が同時

子顕微鏡が発明されてから70年近く経った今でも続いに得られる装置が必要であった（1）。この電子顕微鏡でている。この70年間の装置の進歩により、「電子顕微は原子の像を得るためにテレビカメラが使われた。こ鏡の像」を得ることは容易になった。しかし、得られれは観察中に原子が動くと画像には像のボケとして現た像が何を示しているのかを見出すことは、依然としれるためである。連続的に動画として像を得る技術はて科学知識と経験をもつ科学者や技術者にゆだねられこれを期に研究用の装置に使用されている。

ている。また装置の性能向上に伴い、設置室の機械振動や、磁場強度等、電子顕微鏡の設置条件がますます

5-2-2

超高真空電子顕微鏡

厳しくなっている。このため、超高分解能の性能を有最初の超高真空電子顕微鏡は東工大の八木、高柳等する装置を使用するためには建屋から建設することもが日本電子の協力を得て開発をしたものである。表日常的に行われている。

5.1に超高真空電子顕微鏡の開発経過を示す。

このように簡便に使用できる機械ではないにも関わ

表5.1

超高真空電子顕微鏡の開発経過

らず、電子顕微鏡が21世紀の科学技術の発展に不可欠であるのは、原子や分子を直接観察したり分析したりできる能力と共に、観察する対象がひとつ見つかれば、その対象物に関する知見が得られるという他の機器にない特徴があるからである。
これに対して汎用に利用されている分析機器では、試料として最低10mg程度の量が必要である。未知の物質についてこれだけの純粋の量を集めることは困難なことである。極微量分析で検出可能な最小の量は原子・分子の数にすると10 9個程度であり、表面分析で観測できる極表面でも10 8個程度の数の原子や分子が検出するために必要である。

1970年代に超高真空が作れる真空ポンプが低コスト

このような特徴から多様なニーズにこたえるためにで使用できるようになり、物質の表面研究が盛んにな

は最先端の技術を要求される特殊用途の電子顕微鏡のった。産業界でも、製膜技術や表面処理技術の進歩に開発が求められた。日立、日本電子の2社は、これら

より装置の軽薄短小が進んだ。このことが基礎的な物の電子顕微鏡の開発にも精力的に取り組んだ。ここで質表面の理解の必要性を高めた。表面の基礎的な研究開発された技術が将来、主力の電子顕微鏡の機種に利では試料の表面が吸着分子等で汚れないことが必要で用されるかどうかは現在わからないが、これらの電子ある。通常の電子顕微鏡で使用する真空は10−5パスカ

顕微鏡を使って社会的に有用な結果が得られている。

ル（P）程度である。この真空度では真空中に多数の気体の分子が存在しており、この分子が試料の表面に5.2 科学技術への貢献

衝突して試料の表面に吸着すると数秒で試料の表面が覆われてしまうことになる。このため、電子顕微鏡の5-2-1

テレビ像が取れる電子顕微鏡による原子1個観察をする間、試料の表面を清浄に保とうとすると試の観察料の表面が観察中に真空中の分子が付着しないです

透過型電子顕微鏡により、世界的に重要な結果が得

34

む、10−8P程度の真空度を持つ真空が必要となる。

られた最初の成果は橋本初次郎等による原子像の観察

物質の表層部や複数の物質の結合部である表面や界である。電子顕微鏡で原子が直視できるかどうかは、

面は原子の並びがそこで途切れ、物質の内部（バルク）

当時の論争となっていたが、これは原子が直視できるとは原子配列が変化するため物質の内部とは異なる性

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March質を示す。微細化が進む半導体エレクトロニクスの発展にはこのような特殊な構造・物性の研究領域である
表面や界面の科学・物理の発展が必要である。情報技術のニーズに応じてハードディスク等の大容量化、高速化の実現に向けて電子デバイスのダウンサイジングが進んでいるが、サイズの縮小化に伴い物質を構成す
る表面や界面を構成する原子の占める割合は増加する
ため、その物性に及ぼす効果はますます重要となっている。
この超高真空電子顕微鏡により、得られた成果で顕著なものはシリコンの表面の構造が明らかになったこ
図5.2とである。シリコンは酸素に酸化されて表面にシリコ

電子顕微鏡の像をもとに解析されたシリコン表面のモデル（3）ン酸化膜を生成する。当時は半導体デバイスの微細化が進展し材料としてのシリコンと他の金属との界面や

5-2-3

電子干渉型（ホログラフィー）電子顕微鏡

酸化膜の特性を知ることが重要であった。このための波の性質である干渉性を利用して電子線ホログラフ

基礎的な知見としてシリコンの表面の原子の配列と結ィーを実現する提案は1947年にガボアーによって行わ晶構造の違いを知ることが必要であった。そのためにれたことは2章で述べたが、その後の経過を表5.2に示す。

はシリコンの清浄な表面を観察することが必要であっ

表5.2

電子干渉型電子顕微鏡の開発経過たが、シリコンは酸化されやすく、表面にすぐ酸化膜が出来た。このため電子顕微鏡を超高真空にして観察することが重要であった。この超高真空電子顕微鏡で得られた結果からシリコン表面では表面再構成が起こることが判明した。
図5.1に電子顕微鏡で得られたシリコン表面の透過
電子回折像である。この像をフーリエ変換することにより表面の構造を推定する。この像から、一義的に構造は決まらないので、モデルを作って正しいかどうかの確認をする。図5.2に像から解析して得られたシリコン表面の構造を示した。この解析結果が正しいことの証明は走査型トンネル顕微鏡の観察から示された。

その後、1955年にメーレンシュタットが電子線バイ

図5.2の上の図で下の段がシリコンの内部の構造であプリズムを考案した。電子線バイプリズムは図5.2に示り、その上の2層が表面の構造である。

すように平行平板のアース電極の中央に細いフィラメ
ントをはり，そこにプラスの電位を与えたものである。

図5.1 超高真空電子顕微鏡で得られたシリコン表面の像（2）図5.3

電子線バイプリズム（4）透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査35

この電子線バイプリズムを用いて1968年に外村等ははじめて電子線ホログラフィー像を確認した。しかし、

5.3 産業活動への貢献

可干渉性のよい光源の必要性を感じて電界放射型の電子銃の開発に取り組み、1978年に干渉縞3000本の電子産業界への貢献に一番近い位置にいるのが超高圧電銃を開発、研究が本格的になる。1982年にのこの装置

子顕微鏡である。超高圧電子顕微鏡の推移を表5.3にを用いて超伝導体中に現れる磁束の最小単位である磁

示す。
表5.3

束量子の観察に世界で初めて成功した。この顕微鏡は超高圧電子顕微鏡の推移分解能も得られやすく、1MVの超高圧電子干渉型電子顕微鏡で現在、最高の分解能49.8pmを記録している。

透過型電子顕微鏡が市場にはじめて出たときから高圧にすることは誰もが考えたことである。加速電圧で波長が決まり、それに付随する性質が決まるとなれば、加速電圧が高く、試料の損傷も少なくなる高圧の電子顕微鏡が望まれるのは当然である。しかし、高圧にすればそれだけ、大きくなるので、1968年に国産の1000KVの超高圧電子顕微鏡が日本電子と日立で相次いで開発されて以来、通常、世界で稼動している約50
図5.4 電子干渉型電子顕微鏡（日立製作所製）（5）台の超高圧電子顕微鏡は1000KV（1MV）である。図5.7に最初の国産の超高圧電子顕微鏡を示す。

図5.6

最初の超高圧電子顕微鏡（日本電子製）（7）現在、稼動している超高圧電子顕微鏡の中で最高の高圧の顕微鏡は3MVであり大阪大学に設置されてお図5.5

電子顕微鏡で得られる現在の最高格子分解能（6）り、インターネット回線で海外の研究室から操作ができるようなシステム構成となっている。図5.7に示した。この高圧電源については第4章で説明した。超高36

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March表5.4

圧の電子顕微鏡は高さが10Mにもなり、機械振動等の極低温電子顕微鏡の開発の推移

防止から地面を数メートル掘り下げて防振台を設置しその上に電子顕微鏡を設置する。このため装置を設置する場合には建屋から建設する。超高圧の電子顕微鏡
では顕微鏡から漏洩する可能性のあるX線等に配慮して、遠隔の操作等が出来る様になっている。
藤吉等はこの極低温電子顕微鏡で膜蛋白の構造解析を行っている。膜蛋白の解析では現在世界で5つの蛋
白質の構造が解析されているが、このうちの4つが藤吉のグループで行われたものである。図5.9はその1つで、水だけを透過する蛋白質の構造を電子顕微鏡の像から解析した結果を示したものである。

図5.7

阪大に設置されている超高圧電子顕微鏡（8）（日立製作所製）
図5.8

極低温電子顕微鏡（日本電子製）（9）5.4 社会生活への貢献
ウイルスの存在の確認が電子顕微鏡の開発を促進したのち、生物の観察は主に形状が中心であった。しかし1959年のワトソン、クリックのDNAの発見により、生物学の主流は分子生物学に移った。これに対応して電子顕微鏡の使い方も今までの使い方が減少し、原子・分子を基にした分子生物学にもとづいた電子顕微鏡の活用が増加している。この中で生物試料を極低温に冷やすと損傷が少なくなることを利用する極低温電子顕微鏡の製作を日本電子が行い、京都大学の藤吉を中心に開発されている。
極低温電子顕微鏡の開発の経過を表5.4に示す。

図5.9

極低温顕微鏡で得られた像から解析された
水チャンネルの構造（10）透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

37

参考文献
（1） 橋本初次郎 物理学会年会講演予稿集
Vol37 No2 p41（1982）（2） 高柳邦夫氏提供（3） 高柳邦夫氏提供（4） 日立製作所提供（5） 日立ハイテクノロジーズ提供（6） 日立ハイテクノロジーズ提供（7） 日本電子提供（8） 日立ハイテクノロジーズ提供（9） 日本電子提供（10）Y.Fujiyoshi et ai : Current Opinion in Structural
Biology, 12.p509 (2002)

38

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March6 まとめと考察
18世紀の後半に病気の原因である細菌が光学顕微鏡

金属の性質を研究する物理学者や冶金の研究者が多くで確認されたものの、19世紀の前半に流行したインフいた。これは1928年に電子線回折に関する実験に成功

ルエンザの病原であるウイルスを光学顕微鏡で見るこして世界的に認められた菊池正士以来、電子回折の研とは出来なかった。光学顕微鏡で光の波長（0.5μ）

究者が多かったことと、第2次世界大戦での敗戦の一より小さなウイルスを見ることが不可能であることは因が劣悪な品質にあったという反省から高品質の材料

既に理論的にも解明されていた。一方、物理学の世界を開発しようという機運が高かったためである。生物

でも1920年代に量子力学が確立し電子に波としての性の像を観察するのと違い電子回折像を得るためには試質があることがわかった。このような背景のもと、透料を傾斜させ、加熱する試料ステージや電子回折像を過型電子顕微鏡の開発がドイツで始まり、ルスカによ取るためのレンズも組みこむ必要があった。

り試作機が1932年に完成した。しかしウイルスはおろ

1950年の半ばにシーメンスが分解能1nmを保証する

か、生物をみることも出来なかった。ところが光学顕装置の販売を始めた。この分解能はウイルス等の生物微鏡で使われる観察技術を利用して生物の観察が可能の形状の観察には充分の性能であった。しかし、結晶

なことがわかり、商用機の開発が開始された。最初のの原子の並び方（格子像）を観察するためには不十分

商用機の開発でルスカは同時に2台の装置を平行してであった。このシーメンスの装置は1nmの分解能を保開発した。一台は開発の目標とする性能が得られるこ証するために試料にあたる電子線を細く絞ることが出とを検証するためで、もう1台は観察の対象となる試

来る電子光学系（ダブルコンデンサーレンズ方式）等料がみえるための観察技術を開発することに当てられの新しい技術を採用していた。この装置で採用された

た。この2台同時の開発はまことに当を得ている策で新しい技術はその後の電子顕微鏡の基本となるものであった。

あり、当時の日本の電子顕微鏡の技術開発にあたる関

日本では電子顕微鏡の試作機が開発されてから5年

係者に刺激を与えた。しかし、努力をすれば、最高の後の1937年に学術振興会に委員会が設置され、産学官分解能の像をえるだけの力量が日本の企業にもついての連携による開発が始まった。

いて、この分解能にわずか2年で追いついた。

1940年代の前半は第2次世界大戦があったが、電子

日立と日本電子は海外進出にも取り組み、海外の展

顕微鏡の開発は続行された。しかし、戦後になって海示会にも電子顕微鏡の装置を持ち込んで実際に装置を外の情報が得られると既にドイツではシーメンス、米動かしてPRをした。当時の装置はシーメンス製とい国ではRCAを筆頭に電子顕微鏡を市販していた。こえ、顕微鏡の像をとるためには電子顕微鏡の動作原理の時点において日本が電子顕微鏡の自主開発を続行しが理解できるオペレーターを必要とし、装置を常時、たのは、技術導入や最新の電子顕微鏡を輸入すること稼動させるためにはやはり技術者を常駐させておくこが困難だったことも一因である。1940年から50年代前とが必要であった。このため、展示会で装置を動かす

半の電子顕微鏡の開発では現在から見ると電子顕微鏡

デモンストレーションは効果があった。日本の装置がの重要な要素技術（高圧安定化電源技術、真空技術等）

輸出に成功したのは電子回折像が顕微鏡像と交互に取も確立しておらず、このため様々な方法が試みられた。

れるという特徴が認められたことが大きく、日本電子

この中で、電子顕微鏡の性能を決めるレンズに磁場型の装置が売れたフランスはヨーロッパで電子顕微鏡をのレンズを選択した企業が生き残った。戦後すぐ、日開発していない国であり、原子力の利用に積極的な国本にはRCAの電子顕微鏡が輸入されたが、日本の湿であったため、高性能の金属の開発を必要としていた気のため高圧電源が昇圧できない、試料の交換のためことが背景にあった。

大気にすると電子顕微鏡の観察が可能な真空になるま

1960年代になると電子顕微鏡を製造していた電機メでに一日以上かかる等、で使うのは大変だったこともーカーは、電子顕微鏡よりも大きな市場が期待できるあり、各社の開発意欲は衰えなかった。当時の大学で機器を優先することになり、より高分解能の電子顕微は戦後まもなくということもあって、装置等の研究設鏡の開発に資金をつぎ込むか否かの判断に迫られた。

備がなく、購入する資金もなかったため、大学と企業

このため、最初に電子顕微鏡の装置を販売したシーメが共同で開発に当たることが多かった。電子顕微鏡でンスや米国の主力メーカーのRCAは電子顕微鏡の市

像をみたい生物学者とともに電子回折像をとることで場から撤退し、しばらくしてオランダのフィリップス

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

39

と日本の日立、日本電子の3社が市場の9割を占めるようになった。装置の製造では磁界型レンズに使う磁性

90年代になって、電界放出型電子銃が標準搭載され材料を初めとして高品質の材料の入手が可能となり、るようになり、装置の操作も、コンピュータから制御

電子回路も真空管から半導体に代替されて、装置の安できる装置が登場した。半導体の断面構造の観察等で定性が増し、稼働率が向上した。分解能の競争ととも試料の作成に使用するフォーカスドイオン照射装置がに超高圧の電子顕微鏡の開発競争も行われた。このな

試料作成のために開発された。フィリップス社からはかで、500KVの電子顕微鏡の開発でつまずいた島津製

元素分析装置等を一体化して、1箇所からすべて操作（1）。1000KVの電子顕微鏡がができ、オペレーターの負担を軽減できる装置が登場

稼動を始める一方、分解能が原子1個を見える領域ました。90年代の後半に6極子レンズを組み合わせて球で達した。

面収差が取り除けることが可能であることが示され、作所が市場から撤退した

しかし1000KV の電子顕微鏡は3階建ての建物が必要

この無収差光学系により、分解能が一段と向上した。

であり、普通の建物に入る高圧の電子顕微鏡として

しかし、この技術が汎用機に入るのは2000年代になっ1970年代に入り、汎用型を目指した200KVの装置の開てからである。

発が進んだ。200KVの装置は性能の向上や機能の拡張

以上、透過型電子顕微鏡の開発から商品化そしてそが求められたのに対して、100KVの電子顕微鏡は生物の後の展開についてまとめた。これをもとにして、試料に使用されることが多く、操作性の向上が要求さ1930年から始まり現在に至る透過型電子顕微鏡の歴史れた。70年代には半導体からICへの代替が始まり、マを技術の系統化という観点から考察した。

イクロコンピュータが登場したが、このマイクロコン

電子顕微鏡が世間に認められたのはルスカ等の開発

ピュータを利用して磁場レンズの強度を自動的に制御の成功と生物試料の観察である。従来、無理ではないすることが可能となり、操作性が改善される。これをかと思われていた生物試料の観察が可能なことを装置きっかけに装置の操作性が段々と改善されていった。

の完成とほぼ時を同じくして示すことが出来たのは最1970年代の最後になって電子顕微鏡の開発以来使用し初の開発時に装置を2台試作したことである。1台を装ていたタングステンフィラメントによる熱電子銃に代置の性能と機能の開発にあて、1台を観察技術の開発

わり、ランタンヘキサボライト結晶を使用したラブロに当てることが出来たため、試料を観察するために必ク（LaB6）電子銃が開発される。この電子銃はタング

要な機能を開発中に組み込むことが出来た。もし1台ステンよりに輝度が10倍とれたので、試料から出てくの試作のみであると、目標の仕様を得るための装置をる蛍光X線の強度が強まり、容易に検出可能となった。

開発できても、観察したい試料がすぐに観察できるこ

80年代に入ると生物系の試料と高分子の試料は40の導入、真空系の改良等の要素技術が一新された。

とは出来ないことが多いからである。

100KV、金属や半導体の試料では200KVから更に、

このルスカの成功を受けて、日本でも開発が開始さ300K,400KVの電子顕微鏡で観察されるようになった。

れ、世界に誇れる現在の電子顕微鏡となった要因につ特に半導体の試料では断面の形状の観察と膜の構造のいて、当初の開発の中に2つの成功につながる要因があ

評価に元素分析の機能が必要であった。このため、分った。第1は技術導入をしないで日本独自の開発をした

析電子顕微鏡というタイプの装置が現れた。分析用にことである。通常、新しい装置の開発では、基本的なは試料にあたる電子線を細く絞れたほうがいいため、仕様を実現するための物理法則がわかっていることだ

電子光学系の改良が進み、より高輝度の電子銃としてけでなく、設計をして実際のものとして実現するため電界放射型電子銃が開発された。真空ポンプもイオンの設計理論や、それに基づく計算手法が必要である。

ポンプが標準に搭載されるようになった。大学の最先

電子顕微鏡の開発では日本が開発を開始した時期に既端の研究用に超高真空電子顕微鏡と極低温電子顕微鏡に基本的な仕様を実現するための物理的法則がわかっが開発された。装置の制御のためのコンピュータの利ていたため、試行錯誤をする必要がなかったことと技用は進んだものの、分析電子顕微鏡を構成する重要な術導入をせずに自主開発としたために、結果として設要素である元素分析装置部分が3社とも自社開発でき計に関しては初めから基礎を積み上げることが出来た

ず、分析装置のみを既納装置にも取り付けられるポテことである。このため、その後の海外トップメーカー

ンシャルをもつ海外メーカーへの依存となったためとの競争で、差を付けられなかったことが挙げられる。

に、統一的なシステムを構築することが出来なかった。

第2の要因は、日本の開発が当初から学術審議会の37委

80年代にはまた60年代に納入された超高圧電子顕微鏡

員会を中心にして行われ大学の学者と企業の技術者のの後継機の開発では、回路のIC化とコンピュータ制御

連携があり、しかもそれぞれの役割分担が出来たこと

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.Marchである。このため、大学に電子顕微鏡の設計理論や計

えられ、日立と日本電子の躍進が始まる。この要因は算の知識とノウハウが蓄積され、この蓄積が日立や日本文で述べたように、第1は分解能の開発競争でトッ

本電子のその後の躍進を推進することとなった。

プにたったことと、第2は生物系の試料を観察する市

電子顕微鏡が開発されてからの20年は日本の電子顕場と共に材料系の試料を観察する市場が拡大したが、微鏡は世界の技術を追いつくのがやっとだったが1970

材料系の市場では像の観察だけでなく、結晶構造や元年代に転機が来る。この要因は2つ考えられる。一つ素の分析等が必要で、これらの機能を付加した分析用は電子顕微鏡を開発製造するメーカーの特徴にある。

電子顕微鏡で日本のメーカーが優位に立てたことであ電子顕微鏡の開発企業はドイツのシーメンス、米国のる。

RCA,GE

日本でも、日立、東芝、島津、等ほとんど

透過型電子顕微鏡が開発から今まで70年近く、基礎

電機機器メーカーであったが、これは電子顕微鏡のキ科学の研究に使用されているのは、20世紀の初頭に確ー技術が当初は高圧安定化電源であり、この技術を外立した量子力学に基づく原子、分子に基づく物質理解

部から調達することが難しかったことによる。市場競が根底にあるからである。特に固体の性質が変化する

争が始まってからの20年で世界市場ではメーカーが絞といわれる、10nm程度以下の物質（例えば超微粒子）

られ、日本でも市場から撤退するメーカーはあったもの性質を解明するために、既存の分析機器では少なくのの、日立と日本電子が海外のトップ企業と技術的にとも1mg程度の純粋な物質を用意する必要があるのに肩を並べるところまで来た。丁度その時期に、先進国

対して、電子顕微鏡では研究対象とする物質が一つ見に高度大衆化社会が到来して家庭電気製品の市場が急つかれば観察や分析ができ、原子や分子の像やその配拡大し、半導体産業が勃興した。既に、電子顕微鏡の列が直接観察できるという他の分析機器には無い2つ

分解能は生物試料の形状を見るのには充分であったこの特徴があるからである。21世紀入っても電子顕微鏡ともあり、原子1個を見るというニーズは科学的なもは実用化かが期待されるナノテクノロジーの研究開発のに留まると判断した多くの電機メーカーは電子顕微に不可欠の分析評価用装置として位置づけられてい鏡の市場よりもより大きな市場である産業用機器や家る。今後も日本の優位を維持するために、ナノテクテ

庭用電気製品等の開発に注力するため、電子顕微鏡のクノロジーを初めとする基礎的な研究で求められる装市場から撤退した。第2の要因は技術的に優れた素材

置を産学の連携により積極的に開発することが必要でや部品の調達に関することである。透過型電子顕微鏡ある。このような開発を通して汎用の次世代機種の技は汎用のものでも部品点数が数万点に及ぶ。これらの術となりうる新技術をいち早く習得することが可能とすべてを一メーカーで内製することは出来ないので、なり日本の競争優位を保つことになると思える。

この中で多数の部品を外部から調達する必要がある。
電子顕微鏡に必要な均一性等の高品質を要する構造材

参考文献

料や線材、高性能の電子部品の調達が国内で出来たこ（1） 真壁英樹「島津分析機器とが品質だけでなくコスト面でも日本の電子顕微鏡をひと・物がたり」p41

島津アドコム（2006）

世界的な競争力ある製品にした。このような背景に支

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査41

謝辞「電子顕微鏡技術発展の系統化調査」を実施するにあたり下記の方々に資料の提供やインタビュー等でご協力頂いたので、ここに深く感謝を申し上げます。
東京大学

朝倉健太朗氏東京工業大学

高柳邦夫氏

名古屋大学

西川輝昭氏

日立ハイテクノロジーズ

柿林博司氏

日本電子

伊藤一男、及川哲夫、新井善博、新川隆朗氏

この調査を進めるにあたり、ここのエピソードとは別に電子顕微鏡の歴史に関して参考とした書誌を参考文献として下記に列挙する。

20世紀の物理学編集委員会編
オリジナルは20世紀の物理学：日本版

丸善（1999）第20章

L M Broun A. Pais, Sir B. Pippard Twentieth Century Physics（1995）

Tom. Mulvey Advances in Imaging and Electron Physics Vol96（1996）
朝倉健太郎、安達公一

電子顕微鏡をつくった人々

加藤勝美

講談社（1991）

日立の頭脳

日立計測器事業部
外村彰

日立電子顕微鏡の半世紀

電子顕微鏡技術風戸健二

非売品（1997）

丸善（1989）

非売品（1986）「島津分析機器

日本分析機器工業会
上田良治編

ひと・物がたり」工業会40周年記念誌

島津アドコム（2006）

非売品（2001）

実験物理学講座23「電子顕微鏡」

添付資料
1．技術の系統化図
2．年表
3．用語集

登録候補一覧

42

医学出版センター（1989）

よぉーし電子顕微鏡で行くぞ（上）近代文芸社（1997）

日本電子35年史
真壁英樹

電子線装置

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March

共立出版（1982）

系統化図表に関する説明
系統化図表は「主力装置の機種の推移」を中心とした図表と基本性能である分解能を中心にまとめた図表の他、「装置の進歩」を主とした図表、「観察装置からの分析装置」への変化を主とした図表、「光学顕微鏡から電子顕微鏡へ」の推移を示した図表を示した。現在の透過型電子顕微鏡は最高の加速度が100KVの生物用と200KV以上の分析用の2機種に大別されるが、技術的に最先端をいく顕微鏡として超高圧電子顕微鏡、超高真空電子顕微鏡、極低温電子顕微鏡がある。この5種類を中心に纏めたものが「主力装置の推移」の図表である。電子顕微鏡の技術発
展の中の機種とはなっていない。歴史的な評価はまだ出来ないので、これは「装置の進歩」として図表化した。
電子顕微鏡は第1に目に見えるものを拡大してみる観察装置であるが、原子や分子を識別する分析装置として活用されている。この様な観点で図表化したものが「観察装置から分析装置へ」である。

付属資料1

系統化図表

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

43

付属資料1

44

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March

系統化図表

付属資料2

光学顕微鏡から電子顕微鏡へ

付属資料3

光観察装置から分析装置へ

付属資料4

装置の進歩

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

45

付属資料546

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March

透過型電子顕微鏡の年表

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

47

48

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March

付属資料3

関連用語集

球面収差
物面の光軸上の点から光軸と傾いて出射した電子線がレンズの周辺部を通ると、理想的な像面で光軸上に来ず、
光軸からずれた位置（電子顕微鏡の場合は少し手前（レンズ側））に来るために、円状のぼけた像を作る収差。対物レンズの収差のうちで最も重要な収差。
色収差
入射電子線や試料を透過した電子線のエネルギー（波長）が様々な要因で拡がり（幅）を持つと、レンズでの屈折角度が波長によって異なるため、結像の際、像がぼけること。電子線のエネルギーの拡がりは、加速電圧の不安定、電子銃からの放出電子の初速度のばらつき、ベルシュ効果や、レンズコイルの励磁電流の変動による焦点距離の変動などで起きる。
対物レンズ
試料を出射した電子で結像するための初段のレンズ。結像レンズ系の中で最も重要なレンズであり、対物レンズの性能が像の質（分解能、コントラストなど）を、ほぼ決める。良い対物レンズとは球面収差係数と色収差係数が小さいレンズである。これらの値を小さくするにはポールピースの穴径を小さくすることと、上極と下極の距離を短くすることが必要である。両極の間には通常サイドエントリータイプの試料ホルダが入るので、距離を短くするには限度がある。トップエントリータイプのホルダに対しては上極の穴径が下極の穴径より大きい非対称なポールピースが使われる。
中間レンズ
対物レンズと投影レンズの間にあるレンズ。励磁電流を調整して中間レンズの焦点距離を変えて、対物レンズによって作られる回折図形またはTEM像に焦点を合わせて、それらを拡大し投影レンズの物面にそれらの像を作る。
通常、中間レンズは3段構成で、1段目は主に焦点合わせに、2段目は像の拡大に、3段目は主に無回転像を作るために使われる。中間レンズの倍率は〜0.5〜100倍。倍率100倍のときの内訳は1段目4〜5倍、2段目〜10倍、3段目2〜3倍
像回転
透過電子顕微鏡で像の倍率を変えると像が回転する現象を指す。像が回転すると観察したい場所が動き観察に不便なので、これを防ぐために、像の回転が打ち消されるように励磁の方向が逆の二つのレンズを組み合わせるかあるいは最小になるようにレンズ設計がされている。
球面収差補正装置
負の球面収差係数を作り出し、磁界軸対称レンズである対物レンズ、コンデンサーレンズの正の球面収差係数を打ち消す装置。1）極性が反対の2個の六極子とそれらを繋ぐトランスファーレンズから成り、六極子で負の球面収差係数を作り出す。第一の六極子で作られる不用な3回対称のビームの歪みは第二の六極子によって取り除かれる。2）八極子と四極子の組み合わせた素子を3対用意し、第一の素子でX方向に負の球面収差を発生させ、第二の素子でY方向に、第三の素子でそれらの中間方向に負の球面収差を発生させる。対物レンズの球面収差の補正により高いTEM像分解能、コンデンサーレンズの球面収差の補正により、より小さく高強度のプローブが得られ、より高分解能のHAADF像、一原子列からの元素分析ができる。
結像レンズ系
対物/中間/投影レンズを指す。各レンズの励磁電流を調整することにより、各種の収差を抑え、像回転を除くな
どして、低倍（〜50倍）から高倍（〜150万倍）までの像が得られる。第一中間レンズの焦点を変えることで回折図形が得られる。

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

49

回折限界
光学系に収差が無い場合の集光限界。電子波には回折現象があるので、収差がない光学系においても、物体の一点から出射した電子波は像面で無限小の一点には集まらず、有限の大きさ（エアリーディスク）までにしか集光できない。エアリーディスクの大きさは電子線の開き角に依存し、開き角を大きくとるとエアリーディスクは小さくなるが、透過型電子顕微鏡で実現できる開き角は<10-2radである。この集光限界のために理想レンズでも点分解能は無限に小さくはならない。
位相版
波の位相に変化を与える板。吸収の少ないカーボン薄膜を、その内部ポテンシャルによって1/4波長だけ位相を変えるような厚さに調整し、透過波以外の散乱波に入れ、透過波と干渉させて物体の位相変化を強度の変化にして可視化する（ゼルニケ位相コントラスト）電子顕微鏡が作られている。とくに小さい空間周波数の領域（実空間では長距離の領域）の干渉性が改善されるので、生体などの試料に高いコントラストを与えるのに有効。空間分
解能は0.5nm程度。
透過能
電子線が物質を透過する能力のこと。100kVの電子線は約100nmの透過能がある。加速電圧が高くなると透過能は増すが、相対論効果によって飽和する。1000kVでは100kVの3.3倍くらいの透過能になる。透過能は吸収係数の逆数で表わされる。透過電子顕微鏡の場合、対物絞りに入らない電子は吸収されたとみなされる。高角に散乱される弾性散乱も吸収とみなされる。非弾性散乱のうち、プラズモン散乱は、エネルギー変化は大きいが（〜15eV）、
10-3radくらいに散乱され絞りの中に入ることが多いので、吸収とはみなさないこともある。熱散漫散乱は、エネ
ルギー変化は小さいが（0.1eV）、高角に散乱されるので吸収となる。これらの平均自由行程は数100nmで弾性散乱の平均自由行程の10倍程度である。内殻電子励起は、エネルギー変化は数10eV以上と大きいが、散乱断面積がさらに小さい（平均自由行程が大きい）
電子の波長
電子の波長はド ・ ブロイの与えた運動量と波長の関係を用いて計算される。電子顕微鏡で使われている加速電圧に対する電子の波長は次のとおりである。100kVで0.0037nm、200kVで0.00251nm、300kVで0.00197nm、400kV
で0.00164nm、1000kVで0.00087nm
試料ドリフトゴニオメータ、試料ホルダなどの熱的、機械的安定度に起因する試料移動（量）。高分解能観察や微小領域の分析に重要な因子である。〜1nm/minに抑えられている
蛍光板
TEM像、回折図形等を可視化するための道具。電子の衝突により塗布された蛍光物質が励起され、放出された可視光が電子の強度に対応した明暗を作る。蛍光物質としては、マトリックスのZnS（硫化亜鉛）にCu（銅）、Al（アルミニウム）、Eu（ユウロピウム）などが添加されたものが用いられている。発光率が高く残光が〜100msのものが選ばれる。蛍光板はビームのシャッターをかねており、像等は蛍光板を跳ね上げて撮影する
イメージングプレート
X線、電子線、中性子線による励起で蛍光を発する現象を利用した積分型の二次元検出器。輝尽性発光体（Eu）の微結晶をプラスチックフィルムに塗布したものである。感度の直線性が優れている。記録できる面積は約80×100mmでダイナミックレンジ5〜6桁と、共に大きい。露光されたイメージングプレートにHe-Neレーザを照射し、発光する青色光を光電子増倍管で電気信号に変えて記録された画像を読み出す。光電子増倍管1本では5桁のダイ
ナミックレンジしかカバーできないので、最新の読み出し機では半導体検出器と組み合わせて6桁をカバーしている。大きいダイナミックレンジを有効に活用できるかどうかは、信号の読み出し機の性能に依存している。また

50

国立科学博物館技術の系統化調査報告 Vol.11 2008.March位置分解能（画素サイズ）も読み出し機の性能によって15〜50μmと変わる。階調は最大20ビット。大きな面積を必要とする低倍のTEM像や大きなダイナミックレンジを持つ回折図形の記録に有利である。CCDに比べると、
オフライン利用に限定されるのが不利な点である。
CCD（シーシーディー）
電子線やX線の2次元のデジタル強度記録媒体として利用される高感度の光電変換用の半導体素子。光を照射して半導体表面の空乏領域（ポテンシャル井戸）に電荷を蓄積し、表面を通して隣接する井戸にこの電荷を伝達し、電気信号として外部に取り出す。電子線の検出には、蛍光材料、YAG結晶等によって電子の強度を光に変換してからCCDに露光する。CCDには暗電流があるので、それを抑えるために冷却して使用する（ペルチェ冷却でー
30℃）。空間分解能（画素サイズ）14ミクロン(光用には7ミクロンもある)で〜3cm平方のCCD（2Kx2K）が一般的。
イメージングプレートに比べると、ダイナミックレンジは4桁、階調は16ビットと小さいが、オンラインで利用できることがイメージングプレートにない最大の利点である。高分解能像取得のためのスロースキャンCCDカメラ
やWDSの分光用の検出器に用いられる。さらに大きな面積のCCD（4Kx4K）の使用へと移行しつつある
イオンスパッタリング
イオン化して加速した原子や分子を固体表面に衝突させることにより、固体表面から固体材料が飛び出してくる現象のこと。成膜(固体表面上への薄膜の形成)や、試料加工に用いられる。成膜の際には、容器中に正負の電極を置いて電界をかけ、陰極側の金属を陽極側に飛散させて、基板に付着させる
イオンミリング
電解研磨法や化学研磨法などで試料作製が行えない場合に使われる試料作製法。特に断面観察用の試料作製に用いられる。2〜10kVで加速したアルゴンイオンビームで入射角 10°以下のすれすれ入射で試料を照射し、表面原子を削り薄膜化する。イオンビームによる試料損傷がさけられないのが欠点。市販の装置では倍率数十倍の光学顕微鏡または CCD カメラで試料の状態を観察できるようになっている
化学研磨
半導体や無機化合物の試料作製に使われる方法。強酸や強アルカリを基本にした研磨液に試料を浸して試料表面を平滑に保ちながら薄膜化する。機械的なひずみを与えずに試料作製ができるのが利点。普通は選択的な溶解（エッチング）が起きないような研磨液が使われるが、半導体多層膜の特定の層を観察するときには、その層を残してほかの層を溶かすような溶液が使われる。
機械研磨
試料の物理的研磨。耐水ペーパを使った手作業での研磨（→〜100ミクロン）、回転研磨器を使ったダイヤモンド
粉やコランダムによる研磨（→〜数10ミクロン）、ディンプルグラインダを使ったコランダム粉による研磨（→＜
10ミクロン）、トライポットポリッシャを使ったダイヤモンド粉による研磨（→＜10ミクロン）などがある

透過型電子顕微鏡技術発展の系統化調査

51

本報告書は平成19年度科学研究費補助金特定領域研究『日本の技術革新−経験蓄積と知識基盤化−』
計画研究「産業技術史資料に基づいた日本の技術革新に関する研究」（17074009）の研究成果である。

国立科学博物館
技術の系統化調査報告 第11集
平成20（2008）
年3月19日■編集

独立行政法人

国立科学博物館

産業技術史資料情報センター（担当：コーディネイト・エディット 永田 宇征、エディット 大倉敏彦・久保田稔男）■発行

独立行政法人〒110-8718

国立科学博物館
東京都台東区上野公園 7-20

TEL：03-3822-0111■デザイン・印刷株式会社ジェイ・スパーク