Alignment Station
アライメントステーション

Pre-exposure, high-speed grid distortion measurement for all wafers
Unprecedented accuracy with feedforward overlay correction
Litho Booster is an advanced Alignment Station that leverages proprietary
Nikon technologies developed for semiconductor lithography systems.
Absolute grid distortion values are measured quickly with ultra-highprecision for all wafers prior to exposure. Correction values are then fed
forward to the lithography system to greatly improve overlay accuracy
without reducing throughput, contributing to enhanced yield andoptimized equipment investments.
露光前の全ウェハでグリッド歪みを高速計測
フィードフォワードで高精度な重ね補正を実現

CLASS 1 LASER PRODUCT

クラス1レーザ製品

Grid Feedforward

Sample wafers

Wafer Process
Thermal oxidization
Annealing
Etching
Ion doping
Thermal diffusion
CVD/PVD
CMP ・・・

Litho Booster

All wafers

WARNING

Developer

CoaterLitho Boosterは、半導体露光装置の分野で培ったニコン独自の技術を活用した高機能アライメントステーションです。露光前の全てのウェハに対して、高速かつ高精度にグリッド歪みの絶対値を計測。補正値を露光装置にフィードフォワードすることで、スループットを落とさずに重ね合わせ精度を大幅に高め、お客様製品の歩留まりや設備投資効率の向上に寄与します。

Overlay Feedback

Scanner

Overlay
Metrology

TO ENSURE CORRECT USAGE, READ THE CORRESPONDING MANUALS CAREFULLY BEFORE USING YOUR EQUIPMENT.

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It shall not be exported without authorization from the appropriate governmental authorities.
Performance and equipment are subject to change without any notice or obligation on the part of the manufacturer.
Products and brand names are trademarks or registered trademarks of their respective companies. July 2024

https://www.nikon.com/business/semi/©2024 NIKON CORPORATION

Nikon Corporation

Nikon Precision Korea Ltd.

Nikon Singapore Pte. Ltd.

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Marketing Department2, Singal-ro 124beon-gil, Giheung-gu, Yongin-si,Gyeonggi-do, 16968 Korea
Tel: +82-31-288-5601

18 Tai Seng Street #04-08, 18 Tai Seng,Singapore 539775
Tel: +65-6559-3618*For NSR/Litho Booster

Nikon Precision (Shanghai) Co., Ltd.

1-5-20, Nishioi, Shinagawa-ku, Tokyo 140-8601, Japan
Tel: +81-3-6743-5533

Nikon Precision Inc.
1399 Shoreway Road, Belmont, CA 94002-4107,
U.S.A.
Tel: +1-(650)-508-4674
Robert-Bosch-Strasse 11, D-63225 Langen, Germany
Tel: +49-6103-973-0

ご注意21F, City Air Tower, 36, Teheran-ro 87gil,
Gangnam-gu, Seoul, 06164 Korea
Tel: +82-2-6288-1900

11-12F, Tower 5, Crystal Plaza No. 36, Ping Jia Qiao Road,Pudong New District, Shanghai 200126, China
Tel: +86-21-5899-0266

Nikon Precision Malaysia Sdn. Bhd.

*For AMI/OPTISTATION/N-SIS

Nikon Precision Europe GmbH

安全に関するご注意

Nikon Instruments Korea Co., Ltd.

No. 37-03-01, Ideal Golden Triangle, Jalan Dato’ Ismail Hashim,
11900 Bayan Lepas, Penang, Malaysia
Tel: +60-4-371-7830

Nikon Precision Taiwan Ltd.
3F.-1, NO.28, Taiyuan Street, Zhubei City,Hsinchu County 302, Taiwan, R.O.C.
Tel: +886-3-552-5888■ご使用の前に「使用説明書」
をよくお読みの上、正しくお使いください。

本製品および製品の技術（ソフトウェアを含む）
は「外国為替および外国貿易法」に定める規制貨物等（特定技術を含む）に該当します。
輸出する場合には政府許可取得等適正な手続きをお取りください。

・このカタログは2024年7月現在のものです。仕様と製品は、製造者側がなんら債務を被ることなく予告なしに変更されます。
・このカタログに掲載の会社名および商品名は各社の商標または登録商標です。

https://semi.nikon.com/©2024 NIKON CORPORATION

精機事業本部 商品戦略部

140-8601 東京都品川区西大井1-5-20 電話（03）6743-5533

株式会社ニコンテック 140-0012

東京都品川区勝島1-5-21 東神ビル

電話（03）5762-8911(2407)TISEMICONDUCTORSYSTEMS
2023 -2024

ArF Immersion Scanner
ArF液浸スキャナー

Streamlign platform

5x Reduction i-line Stepper
縮小投影倍率5倍 i線ステッパー

Supports a variety of devices such as power and communications
semiconductors and MEMS

ArF immersion scanner for critical layers that delivers
superior overlay accuracy and ultra-high throughput

The NSR-2205iL1 is an i-line stepper that will be utilized to manufacture a wide range ofdevices. It provides excellent affordability and will enable optimized production of various
semiconductor devices regardless of the wafer material. It is fully compatible with existing
Nikon i-line lithography systems and can be used to supplement or replace existing steppers
that no longer meet manufacturing requirements.

The NSR-S636E utilizes an enhanced inline Alignment Station (iAS), thathas been incorporated in previous models, enabling high-precision
measurement, and extensive wafer warpage and distortion correction
capabilities, all while maintaining maximum scanner throughput.
Through daily productivity optimization, the NSR-S636E boosts overall
output, achieving the highest level of productivity across the entire history
of Nikon semiconductor lithography systems.

パワー半導体、通信用半導体、MEMS など、さまざまなデバイスに対応
NSR-2205iL1は、多様な半導体デバイスに対応可能なi線ステッパーです。コストパフォーマンスに優れ、ウェハ素材を選ばず、さまざまな半導体デバイスの効率的な生産に貢献します。ニコンの既存のi線露光装置との互換性が高く、置き換えにも最適です。

重ね合わせ精度とスループットを高レベルで両立した
クリティカルレイヤー向け ArF 液浸スキャナー

クラス1レーザ製品

CLASS 1 LASER PRODUCTArF Immersion Scanner
ArF液浸スキャナー

NSR-S636Eは、従来機から搭載している高機能アライメントステーション「inline Alignment Station（iAS）」をさらに改良。高いスループットを維持しつつ、ウェハの反りや歪みをより高精度に計測・補正することを可能にしました。
さらにダウンタイムの低減などにより、総合的な生産性を改善。ニコンの半導体露光装置の中で最高水準の生産性を実現しました。

ArF Immersion Scanner
ArF液浸スキャナー

ArF ScannerArFスキャナー

KrF Scanner
KrFスキャナー

CLASS 1 LASER PRODUCTResolution

解像度

NANAExposure light source

露光光源≦ 350 nm*10.45
i-line (365 nm wavelength)

Reduction ratio

縮小倍率

Maximum exposure field

最大露光範囲22 mm × 22 mm

Overlay

重ね合わせ精度≦ 70 nm*1 (SMO*2)

1:5*1 When option is applied
オプション適用時*2 Single Machine Overlay: machine-to-self overlay accuracy

クラス1レーザ製品

同一号機間の重ね合わせ精度

i-line Stepper
i線ステッパー

Streamlign platform

Streamlign platform

Streamlign platform

Streamlign platform

Improved overlay
accuracy andthroughput for highvolume cutting-edgesemiconductor
manufacturing

ArF immersion
scanner for middle
critical layers that isideal for cutting-edge
semiconductor
manufacturing

Features industryproven Streamlign
platform accuracy andproductivity

High throughput andaccuracy with
Streamlign platform
efficiency

重ね合わせ精度・スループットを向上させた
最先端プロセス量産用
ArF 液浸スキャナー

ミドルクリティカル
レイヤー向け先端半導体製造に最適なArF 液浸スキャナー

液浸装置で実績のある
Streamlign Platform
を搭載
重ね合わせ精度と生産性をさらに向上させた
ArF スキャナー

生産性と精度を大幅に向上した Streamlign
Platform を採用

CLASS 1 LASER PRODUCT

クラス1レーザ製品

CLASS 1 LASER PRODUCT

クラス1レーザ製品

CLASS 1 LASER PRODUCTクラス1レーザ製品

CLASS 1 LASER PRODUCTHigh overlay accuracy
and high throughput
with Skyhook
Technology and higher
speed wafer stage
スカイフック構造とウェハステージ高速化により、高い重ね合わせ精度と高スループットを実現

クラス1レーザ製品

CLASS 1 LASER PRODUCT

クラス1レーザ製品

Wafer Inspection System
ウェハ外観検査装置

Automatic Macro Inspection System
自動マクロ検査装置

OPTISTATION-

AMI-5700

3200/3100/3000
Delivers high throughput
and exceptional detection
sensitivity

Simple and speedy manual
visual inspection of 300 mmwafers

高スループットと卓越した検出感度を共に実現

簡単かつ迅速な300 mm ウェハの目視検査が可能

PerformanceResolution

解像度

NANAExposure
light source

露光光源≦ 38 nm≦ 65 nm≦ 110 nm≦ 280 nm

1.350.92

0.82

0.62

ArF excimer laser (193 nm wavelength)

Reduction ratio 縮小倍率

1:4Maximum
最大露光範囲exposure fieldOverlay

重ね合わせ精度

Throughput

スループット

KrF excimer laseri-line(248 nm wavelength) (365 nm wavelength)

26 mm × 33 mm≦ 2.1 nm (MMO*1)≦ 2.5 nm (MMO*1)≧ 280 wafers/hour≧ 275 wafers/hour≧ 280 wafers/hour(96 shots)(96 shots)(96 shots)*1 Mix and Match Overlay: machine-to-machine overlay accuracy*2 Single Machine Overlay: machine-to-self overlay accuracy≦ 5 nm (MMO*1)

Illumination System for Image Sensor Inspection
イメージセンサー検査用照明装置

N-SIS9/8

Provides high-power, extremely uniform illumination over a large inspection
field, enabling high-speed illuminance and spectral settings including RGB
広い照野を高照度で均一に照明し、照度や RGB などの分光の設定を高速に実現≦ 6 nm (MMO*1)≦ 25 nm (SMO*2)≧ 200 wafers/hour≧ 230 wafers/hour (96 shots)

同一機種間の重ね合わせ精度（例 NSR-S636E#1 to S636E#2）
同一号機間の重ね合わせ精度（例 NSR-SF155#1 to SF155#1）(300 mm wafer,76 shots), compatible
with 200 mm wafer

N-SIS9N-SIS8

Built-in tester head typeProber mounted type

Typeタイプ

Illumination field size

照野サイズ

80 mm × 100 mm

120 mm × 120 mm

Illumination uniformity

照明一様性

Less than ±2.0 %Less than ±1.5 %テスターヘッド内蔵タイプ

プローバー搭載タイプ