The University of Tokyo Global COE Program : Global Center of Excellence for Mechanical Systems Innovation
東京大学グローバル COE プログラム 機械システム・イノベーション国際拠点

Newsletter
Global Center of Excellence for Mechanical Systems Innovation
contents

Conversation ／巻頭対談

01

Nanotechnology opens up new possibilities in 21st century hardware

Japan’s role in supporting nanotechnology

Sunao Ishihara & Kiyoshi Takamasu
ナノテクノロジーが 21 世紀のハードウエアを切り拓く
ナノテクを支える日本の役割

石原 直 & 高増 潔Young researchers shouldering the future ／未来を担う若手研究者

09

Structure formation dynamics of low molecular weight organic
semiconducting molecules during solution evaporation

塗布乾燥過程における低分子有機半導体の構造体形成と薄膜の電気特性10Prediction of fatigue crack location in aluminum die cast

アルミダイカスト材の疲労き裂位置の予測

Activity report ／活動報告

0811International Internship

国際インターンシップ

Domestic Internship
国内インターンシップ

12

GMSI Project-Based Learning (PBL)

プロジェクト・ベースド・ラーニング (PBL)13

The 3rd GMSI International Symposium

第 3 回 GMSI 国際シンポジウム

14

Activity Report for Second Half of 2010 Academic Year
(October 2010 to March 2011)
活動報告 下半期活動記録 (2010 年 10 月〜 2011 年 3 月 )

8

Vol.

March 2011

Conversation
Conversation

Nanotechnology opens up new possibilities in
21st century hardware
Japan’s role in supporting nanotechnology
Prof. Sunao Ishihara
Prof. Kiyoshi Takamasu
巻頭対談

ナノテクノロジーが 21世紀ハードウエアを切り拓く
ナノテクを支える日本の役割

石原 直 教授 大学院工学系研究科 機械工学専攻
高増 潔 教授 大学院工学系研究科 精密機械工学専攻

After the White House released the NNI (National Nanotechnology
Initiative) strategic plan in 2000, many countries including
Japan and Europe began investing a great deal of money innanotechnology R&D. Despite its superiority in nano-devices andnano-manufacturing, Japan's top position is being increasingly
challenged by other countries. How did this happen andwhat is Japan's role in promoting nanotechnology to create
new materials, devices and systems for the 21st century? Weinterviewed Professor Ishihara, who works in nano-mechanics
research, and Professor Takamasu, who is engaged in nanomeasurement research and asked about the current situation andfuture vision of nanotechnology.
2000 年の米・NNI（国家ナノテクノロジー推進戦略）政策に関するク
リントン大統領演説以降、欧米を中心にナノテクノロジーに莫大な予算が投入され、研究開発が活発化してきた。日本はナノ加工・ナノデバイスを得意とするにもかかわらず、徐々に追いつき追い越されつつあるのはなぜか。21 世紀のモノづくりを支えるナノテクにおける日本の役割とは？ ナノメカニクス研究の石原直教授と、モノづくりに欠かせないナノ計測に携わる高増潔教授に、ナノテクの現状と展望を伺った。

Sunao Ishihara
Professor Ishihara received BE, ME and PhD degrees in precision engineering from the
University of Tokyo in 1971, 1973 and 1992, respectively. He started working at theMusashino Electrical Communications Laboratories of Nippon Telegraph and Telephone
Public Corporation (currently Nippon Telegraph and Telephone Corporation, NTT) andengaged in research on lithography technology. In 1981-82, he spent one year at theMassachusetts Institute of Technology (MIT) as a visiting scientist. He also served as Directorof the NTT Fabrication Technology Research Laboratories, Director of NTT Engineering
Planning Laboratories, and Director-General of NTT Basic Research Laboratories where hedirected basic research on nano science and technology. After serving as manager/chiefengineer of the NTT Advanced Technology Corp., he was appointed as a professor at the
University of Tokyo in 2005. His research interests lie in nano-mechanics.
いしはら・すなお1973 年、東京大学大学院工学系研究科精密機械工学専攻修士課程修了。92 年、工学博士（東京大学）。日本電信電話公社 武蔵野電気通信研究所入社。81 年、マサチューセッツ工科大
学 客員研究員。日本電信電話株式会社 LSI 研究所 主幹研究員、同・加工技術研究部長、NTT
技術企画部長、物性科学基礎研究所長などを歴任、ナノテクノロジーの研究推進に携わる。
2003 年 NTT アドバンステクノロジー㈱ナノエレクトロニクス事業部長 / 技師長を経て、05
年より現職。研究分野はナノメカニクス（ナノ機械工学）。

Kiyoshi Takamasu
Professor Takamasu earned his Doctor of Precision Engineering degree at the Universityof Tokyo in 1982. That same year he became a lecturer in the Department of Precision
Engineering. In 1987 he was appointed as an associate professor in the Department ofPrecision Engineering at Tokyo Denki University after serving as a lecturer. He also worked
as a visiting researcher at the University of Warwick, England from 1990 to 1991. He wasappointed to an associate professorship in the Department of Precision Engineering at the
University of Tokyo in 1993 and he became a professor at the same university in 2001. His
research interests include precision measurement, intelligent nano-measurement, threedimensional measurement, and nanometer measurement.
たかます・きよし1982 年、東京大学大学院工学系研究科精密機械工学専攻博士課程修了。工学博士。同年より、東京大学工学部精密機械工学科助手。85 年、東京電機大学工学部精密機械工学科講師。87 年、同助教授、90 〜 91 年英国ウォーリック大学客員研究員。93 年、東京大学大学院工学系研究科精密機械工学専攻助教授、2001 年より、現職。研究分野は、精密測定学、知的ナノ計測、
三次元計測、ナノメートル計測など。

1

Conversation Sunao Ishihara & Kiyoshi Takamasu

Front line of nanotechnology research ─Manufacturing, measurement, and sensor development
ナノテクノロジー研究の最前線──
加工、計測、センサ開発
──先生方のご経歴を教えてください。

─ Please tell us about your research history.

高増──私は精密機械工学科出身ですが、学生時代から一Takamasu: I have been researching measurement since my postgraduate

貫して、測定・計測の研究に携わってきました。戦前はこyears, even though I studied in the Department of Precision Engineering.

の学科は造兵といって、兵器製造の研究をしていたんです

Before World War II, my department was called Zouhei , and used toね。その造兵の基盤技術の一つが測定です。つまり、計測

research arms production. One of the fundamental technologies of thisというのは東大でも歴史的に古い学問になります。

research was measurement. Therefore measurement has been studied

博士課程の後、東大で助手を 3 年ほどやって、その後、

for a long time at the University of Tokyo.

神田にある東京電機大学で 8 年ほど働きましたが、研究

After I earned my doctoral degree, I served as a lecturer for three years者になった理由はいい加減なもので、正直、社会に出てバat the University of Tokyo and worked for eight years at Tokyo Denki

リバリ働く気持ちがなかったからです（笑）。研究分野のUniversity. The reason why I chose to be an academic is not so altruistic.

選び方もひねくれていて、あまりみんながやらないような

I just did not feel like working hard at industrial companies (laughs) . I

ことをやりたかった。精密の花形といえば加工で、計測とalso wanted to work on a research field which is not preferred by many

いうのは、地味で目立たない分野なのです。もっとも、非people. The major area of precision engineering is manufacturing, and

常に重要な技術ではあるのですが。

comparatively speaking, measurement research is unglamorous and easily

具体的には、大きいものから小さいものまで広い範囲を対象として、計測のやり方や新しい計測技術を研究していoverlooked. However, it is still one of the most important techniques one
can research.

ます。大きなものを大きな物差しで、あるいは電子顕微鏡

We are currently working on establishing new measurement methods orで見るような小さなものを小さな物差しで測ることはあtechniques for a wide variety of materials, ranging from large to small. It

る程度できていますが、難しいのが、大きなものを小さな

is relatively easy to measure large materials with a large scale, and small

目盛りで測るという方法。つまり、大きなものと小さなも

materials, which require an electron microscope to observe, with a smallのをつないでマルチスケールで計測するというのが難しい

scale. The diﬃculty is in measuring large materials with a small scale. It isんですね。たとえば、1ｍのモノを 1μｍ（マイクロメート

a challenge to correlate small and large domains and measure materials

ル）の尺度で測ろうと思うと、100 万分の 1 の精度、つまon multiple scales. For example if you measure 1m materials with a 1μm

り 10-6 となります。これを測ることはなんとか可能です。

scale, the degree of accuracy would be 1/1,000,000, or 10-6. This is possible.

ところが、対象物が 1 μｍの場合、10-6 の精度となると、However, if you want to measure 1μ m materials with a 10-6 degree of

1pm（ピコメートル）の目盛りで測る必要がある。これは、accuracy, a 1pm (pico meter) scale is necessary, which is very diﬃcult. The

非常に難しい。その原因は物差しとして使う光の特性にあ

diﬃculty is due to the wavelength of the light which is used as a ruler for

ります。光の波長というのは 1 μｍより少し短い程度な

the measurement. Because the wavelength of light is slightly shorter than

ので、ナノに対しては荒っぽい物差しになってしまうんで

1μ m, it is inaccurate as a ruler to measure nano-scale materials. We are

すね。そこを新しい計測方法で打開したいと考えています。

now trying to overcome this problem by establishing a new method.

ちなみに、うちの研究室で何か測ってくださいと言われ

By the way, even if you ask us to measure something in my laboratory,ても、残念ながらできません。というのも、あくまでも私

we cannot do it since we are focusing on finding and establishing theの研究室はモノを測定するのではなく、測定の仕方や新しprinciple or knowledge of new measurement methods. Recently, we have

い原理や知見を追究しているからです。最近では、フェム

been working on a new measurement technique that uses a very short

ト秒（10-15 秒）という非常に短いパルスレーザーを物差

femtosecond (10-15 s) pulsed laser. We are also engaged in establishing

しに使った、新しい計測技術の研究などにも取り組んでいnational measurement standards (for length, shape, etc.). It is very

ます。また、私どもは国の計測の標準（長さ、形など）を

important that we are not only measuring materials but also doing so in

手掛ける、数少ない研究室の一つでもあります。ただ測る

accordance with national standards.

だけでなく、それが国際標準に準じているということは、

Ishihara: After graduating from the same department as Prof. Takamasu

とても重要なことなのです。

(Precision Engineering), I worked at the research laboratory of NTT

石原──私は高増先生と同じ精密機械の修士課程を卒業しCorporation. I was assigned to NTT's Musashino Electrical Communications

た後、NTT 研究所に長く在籍していました。機械と電気

Laboratory and started research on semiconductor manufacturingの間の仕事をしたいと思って就職したのがきっかけです。

technology. Since then, I have been engaged in research and development

電電公社（現・NTT）武蔵野研究所に入り、2 年後には半of semiconductor fabrication technology, particularly X-ray lithography

導体関係の研究に携わるようになりました。以後 25 年間

systems, for 25 years. I was later appointed to the position of director-

にわたり、半導体製造技術、特に X 線露光装置を中心に

general of the NTT Basic Research Laboratories and started working

2Large-area thin ﬁlm surface measurement (right) using the mechano-opto-probe (left).
メカオプトプローブ（左）を用いた薄膜表面形状の広範囲計測例（右）on nano and quantum research. After working for NTT basic research,I decided to dedicate my experience to engineering education in
nanotechnology. I then moved to academia and launched the nanomechanics laboratory at the University of Tokyo in 2005.
─ Would you please tell us something about your studies?

Takamasu: One example is Proﬁle measurement of Large-Area Thin Film
Surfaces Using Mechano-Opto-Probe . This is a way of measuring theshape of an object on the nano-scale by observing the change in reﬂected
light when a transparent ﬁlm with many tiny pillars is brought into contact
Right: Measurement of semiconductor line width using STEM image
Left: Line width and shape detection
右：STEM 画像による半導体線幅の測定
左：線幅および形状検出with the object. For instance, it is diﬃcult to optically measure the surface
of a photoresist layer since the surface is too soft and too thin. The surface
of a photoresist layer can be measured by touching it with 100 tiny
pillars placed on a 10mm square film. 10mm is an enormous area when
considering the nano-realm. This is a new technology in which the surface
of a thin layer with an enormous area can be measured with high-speed

研究開発をしてきました。その後、本社勤務を経て、基礎and high-resolution.

研究所の所長となり、ナノや量子の研究を手掛けることに

We are also trying to measure pattern width with the image producedなります。4 年半ほど所長を務めた後、NTT で培ったナノby STEM (Scanning Transmission Electron Microscopy). We have thus far

テクの体系化に取り組み、さらに教育にも取り組もうと、

measured pattern width using a top view obtained using an electron2005 年に東大で、ナノメカニクスの研究室を立ち上げま

beam. We cleave the wafer and observe the cross-section and determine

した。

the pattern width by counting the silicon lattices. At the same time, weestimate measurement uncertainty and try to reduce them to less than──具体的にはどのような研究をされているのですか？

1nm. We not only measure, but also validate the mesurement methods,
which is a distinctive feature of our study.

高増──たとえば、「メカノオプトプローブを用いた薄膜

Ishihara: We are studying mechanical characteristics of nano-resonators

表面形状の広範囲計測」というのがあります。これは、透

for application to sensing devices. The essence of nanotechnology lies in

明の薄膜の上に光に反射するたくさんの突起をつけて、こmaking use of new physical properties, which appear in nanostructuresの突起でモノを触り、その形状変化を光で計測してナノの

due to their small sizes. Thus, I have focused on measuring of extremely

単位で形を計測するという方法です。たとえば、半導体のsmall physical quantities using nano-size mechanical structures. For

表面のフォトレジストなどは、柔らかく、薄膜なので光でexample, I found research reports that measured magnetic forces on

計測することが難しいのですが、このレジストを 10 ㎜四方、10 × 10 ＝ 100 個程度の突起が並んでいる計測器で一度に触って測るのです。10 ㎜といえば、ナノの領域では非常に大面積なんですね。大面積の半導体の表面を、高速に高分解能に測ることができる新しい技術です。

STEM（Scanning Transmission Electron Microscopes、
走査型透過電子顕微鏡）画像で半導体線幅を測定する研究にも取り組んでいます。これまで半導体の線幅は上から電子線で測っていましたが、これを縦にスパッと切って、その断面を STEM で見て、シリコンの格子を数えて線の幅を決めるのです。同時に、測定における不確かさを評価し、3Conversation Sunao Ishihara & Kiyoshi Takamasu

the order of one atto-Newton (approximately one electron spin) or
displacements on the order of one femto-meter (approximately one atomic
diameter), both in a high vacuum and low temperature environments.
In my laboratory, we are trying to make these ultimate measurement
technologies available in the atmosphere at room temperature, as should
be done in engineering.
To give more specific examples, we are trying to measure extremely
small masses or forces by observing such variation characteristics
as resonance frequency, amplitude, and sharpness of resonance(quality factor, or Q value). Ordinarily, resonators used in MEMS (Micro
Electromechanical Systems) vibrate at several hundred kilohertz. But on
the other hand, those used in NEMS (Nano Electromechanical Systems)
operate between several to a dozen megahertz, which are much higher
その不確かさを 1nm 以下に抑えることを目標にしていま

frequencies. For example, when a small particle attaches itself to a

す。単に測るだけでなく、その評価まで手掛けているのがresonator, the frequency and/or the Q value will change, from which

私たちの研究の特徴と言えます。

the particle can be instantly detected. This kind of nano-resonator has

石原──私の方は、ナノ構造の機械的特性を扱う研究、たthe potential to realize ultra-small and ultra-sensitive sensors like virus

とえばナノ振動子のセンシングデバイス応用の研究をして

detectors. As another application of mechanical resonator sensing,います。ナノテクの本質というのは、寸法が小さくなった

we tried to detect a very small amount of charge in an atmospheric

ことで発現する「新しい物理現象」を使うことにありま

environment. By detecting a slight imbalance between the vibrations in a

す。そこで、サイエンスの分野で研究されているナノサイ

ﬁnely tuned dual-beam resonator, we were able to detect only about 150

ズの機械構造体を使った極微物理量測定の研究に着目しま

electrons in air. Furthermore, we are studying fabrication technology to

した。たとえば、超高真空かつマイナス 270 度という極

manufacture three-dimensional nano-structures with an electron beam

低温で電子スピン 1 個が発生する磁力や、1 フェムトメー

and an ion beam. Now we can fabricate various kinds of structures; very

トル（原子核の大きさに相当）という長さを測るという研complicated ones, thinly pointed ones, or regularly patterned ones.

究です。私の研究室では、このような極限技術を工学らしく常温の大気中で実現しようとしています。
具体的にはナノサイズの振動子を使って、その共振の周There are a lot of unknowns in nanotechnology since it covers very basic
and emerging technologies, which makes it all the more exciting andintriguing for researchers.

波数、振動振幅、共振の鋭さ（クオリティファクター＝Ｑ値）の変化を観察して、とても小さい質量や力や変位を測ろうという研究です。通常、MEMS（Micro Electromechanical

Systems）で使う振動子は数百キロヘルツで振動させます
が、NEMS（Nano Electromechanical Systems）領域で扱
うナノ振動子は数メガから数十メガヘルツという、とてつもなく高い周波数で振動させることができます。たとえば、揺れているものに何かがくっつけば、周波数やＱ値が変わり、そこからごく小さな物理量の変化（質量や雰囲気）を瞬時に捉えることが可能になるのです。たとえば今話題のウィルスの検知に使うなど、超小型、超高感度の次世代セ

A SEM photograph of a vibrating tuning
fork resonator
共振特性測定用に作製した音叉型ナノ振動子。振動の様子が見える SEM 写真

ンサへの応用が考えられます。他にも振動子の共振を用いStrain-induced nanoresonator fabricatedby combined exposure of electron and ion
beams
電子ビーム・イオンビーム複合露光技術により作製した歪印加振動子た研究としては、2 本のビーム振動子を橋げたのようにつなげて、共振特性をぴったりと合せておいて、片方にだけわずかな電流を流し、その共振特性の変化から流れ込んだ
わずかな電子を検知するとか、グラフェン（単層のグラファ
イト、炭素原子が六角形格子状に並んだ物質）でナノ振動子をつくる研究なども手掛けています。
また、電子ビームとイオンビームを用いて、3 次元のナノ構造体をつくる技術も研究しています。非常に複雑な形状のものや、細く尖ったもの、規則正しく並んだようなものまで、さまざまなものをつくることが可能になってきました。ナノテクノロジーは最先端の分野なのでまだまだわ
からないこともありますが、未知だからこそ非常にエキサ
イティングで、面白い分野なんですね。

Self-detecting GaAs
nanoresonator, which
outputs vibrational
states as elec tricalsignals

Three dimensional nanostructure fabricated by Focused Ion
Beam Chemical Vapor Deposition (FIB-CVD)
集束イオンビームの高精度位置・時間制御による 3 次元ナノ構
造形成

自分の振動状態を電気信号で出力する自己検知型カンチレバー4

Japan has been a leader in the ﬁeld of nanotechnology, however,the U.S. is catching up with its substantial budget.
日本が牽引してきたナノテク研究、莫大な予算で追い越すアメリカ──ナノテクノロジー研究の歴史的経緯を教えてください。

─ Please tell us about the history of studies on nanotechnology.

石原──ナノテクノロジーの起源は、1959 年にアメリカ

Ishihara: The birth of nanotechnology is considered to be a talk given by

物理学会でのリチャード・ファインマンの講演に端を発す

Richard Feynman at the 1959 meeting of the American Physical Society,るとされ、やっと 60 歳を越えた技術ですが、本格的にブ

so the technology is now more than 60 years old. However, in the year

レイクしたのは 2000 年のことです。米国のクリントン元

2000, nanotechnology received worldwide attention when former U.S.

大統領が国家ナノテクノロジーイニシアティブについて演

president Clinton delivered a speech outlining the science and technology

説、ナノテク研究の予算を倍増すると宣言したのがきっか

policy that the U.S. would take the initiative to support nanotechnology

けです。このときのクリントン元大統領がナノテクを説明

by doubling the national budget for nanotechnology research. In thisする表現として使ったのが、「国会図書館の情報を角砂糖

speech, the former President said, Just imagine... shrinking all theの大きさのメモリに収容する」というものでした。これにinformation housed at the Library of Congress into a device the size of a

刺激されて欧州や日本も続き、我が国では、2001 年 9 月

sugar cube to explain the potential of nanotechnology. Inspired by hisに「ナノテクノロジー・材料分野の研究開発推進戦略」を

speech, European countries as well as Japan followed suit. In September,

策定したのです。当時私は NTT にいましたが、総合科学

2001, Japan worked out a Promotion Strategy for Nanotechnology and

技術会議の委員会メンバーとして、その戦略策定に関わる

Materials . At the time, I was with NTT and served as a member of the

こととなりました。

Council for Science and Technology Policy.

具体的には、ナノテクというのは、手段の技術体系なの

Nanotechnology is a group of technologies providing cutting-edge

で、その応用先として、国の科学技術基本計画における重ways of hardware innovation. The Promotion Strategy emphasizes a basic

点分野である IT、バイオ・ライフサイエンス、環境エネ

research on nanomaterials and infrastructure technology development,

ルギー分野に、ナノテクという強力な手段を供給するかたand provides powerful technologies to the fields of IT, life-science, and

ちでそれぞれの研究開発を推進していくという戦略が取ら

environmental science, which are specified as primary prioritized R&D

れました。つまり、ナノテクは、「テクノロジー・インフ

areas in the National Science and Technology Basic Plan. In other words,

ラストラクチャー」だということ。計測・測定、分析評価、

nanotechnology is a Technology Infrastructure for Innovation . It consists

モノづくり、数値制御、解析、シミュレーションなど、研of fundamental technologies such as metrology, characterization,

究の推進に欠かせない基盤技術なんですね。そして、機械

fabrication, numerical analysis, and simulation. Mechanical engineering

工学は、これらの先端ものつくり研究を支えるとても重要

has one of the most important roles to support hardware R&D for

な工学分野といえます。

innovation.

さらに、当 GMSI の役割というのが、まさにこの国家戦

The role of GMSI overlaps with this national strategy. In the GMSI

略と重なっています。ナノとミクロの領域を拡張ナノ空間

program, we call the realms of nano and micro Extended Nano Space ,と名付け、この分野で分野横断によって、革新的な機械シ

and we are working to establish high-level science and technology by

ステムを創出しつつ、学問・技術の体系を構築するという

creating an interdisciplinary, revolutionary, and innovative mechanicalのがまさに GMSI の狙いですから。

system. This is the very aim of GMSI.

Promotion Strategy for Nanotechnology and Materials-Promotion strategy by the Council for Science and Technology Policy (CSTP)(September 2001)/(Edited)
ナノテクノロジー・材料分野の研究開発推進戦略−内閣府総合科学技術会議 分野別推進戦略（2001 年 9 月）

5Conversation Sunao Ishihara & Kiyoshi Takamasu

──ナノテクのブレイクから 10 年が経ちましたが、現状はどうなっているのでしょうか？

─ Ten years have passed since nanotechnology received public attention.

What is the current situation ?
石原──アメリカは産官学で強力な推進体制をつくり、しかも、ナノテクに資金を投入するための法律までつくっ

Ishihara: The U.S. has developed a strong system of collaboration amongて、どんどん国家予算を投入し、着々と研究開発の成果をindustry, government and academia, and has passed laws to provide

あげています。一方で、日本ではエレクトロニクスやフォ

financial resources for nanotechnology. With funding from the national

トニクス、バイオニクスの分野では研究開発が盛んに行わ

budget, they have steadily achieved results. In Japan, on the other hand,

れてきましたが、機械工学の分野での取り組みはやや少な

nanotechnology has been applied to a variety of ﬁelds such as electronics,

いと感じてきました。実は、機械工学のような方法や手段

photonics, and bionics, but I think less effort has been made in theの技術体系というのは目立ちにくいために一般の人にも学

field of mechanical engineering. Methods and technological activities

生にも行政にも理解されにくいという側面があります。こin nanotechnology, especially mechanical engineering, are somewhat

こを目立たせるべく戦略を立ててきたのですが、やはり目

less eye-catching so it's difficult for students, officials, and laypeopleに見える成果を求められるばかりに、来年度から始まる第to understand. We strategically tried to make nanotechnology more

4 期科学技術基本計画では、グリーンイノベーションとラ

prominent. However, the Fourth S&T Basic Plan, which begins this year, has

イフイノベーションの 2 本柱を成長戦略としていて、ナbeen set up to take only two objective strategies of green innovation

ノテクという言葉は消えてしまいました。

and life innovation . Unfortunately, the word nanotechnology has

高増──そもそも、「ナノテクノロジー」という言葉自体は、

vanished from this plan.

東京理科大学の谷口紀男元教授が 1974 年に提唱されたもTakamasu: The expression nanotechnology was ﬁrst suggested in 1974のですし、日本の得意分野だったわけで、憂慮すべきこと

by Japanese professor Norio Taniguchi of Tokyo University of Science. Itですよね。もともと、アメリカはナノサイエンス＆エンジ

has been a strong ﬁeld for Japan, so we should be concerned about the

ニアリングという言い方をしていたように、得意分野がサ

present situation. The U.S. has been using the expression Science andイエンスにあるとするなら、日本はもっとテクノロジーでEngineering , placing emphasis on science. Japan should compete in

勝負してもいいのではないかと思います。GMSI のコンセ

the field of technology, and we should introduce nanotechnology into

プトのように、機械工学の分野にナノテクノロジーを入れ

mechanical engineering, in line with the GMSI concept.

ていくという。

Ishihara: I agree. The field of nanotechnology, especially devices and石原──おっしゃる通り、ナノテク分野は日本の得意分野

materials, was once far more advanced than in the U.S. Before theで、とくにデバイスや材料の分野では、かつては、アメリ

announcement of the NNI, the U.S. National S&T Advisory committee

カをはるかに凌駕していました。クリントン演説の前の 3

dispatched inquiry commissions for nanotechnology to both Japan and

年間ほど、アメリカでは国の諮問委員会が調査団をつくっ

Europe. They visited universities such as The University of Tokyo, nationalて、日欧を調べ回ったんですね。東大などの大学やいくつ

laboratories, and some private research institutions. They realized that they

かの民間の研究所にも調査団が来ました。結果、ナノデバ

were far behind Japan in the fields of nano-devices and nano-materials,

イス、ナノマテリアルなどの分野で日本に遅れをとっていand they therefore allocated a large amount of money to nanotechnology

ることを知り、ナノテクに莫大な研究資金を投入し、十数

R&D. Ten years later, the U.S. is now the leader in nanotechnology applied

年たって、いまや多くの分野でナノテク研究をリードする

to many ﬁelds.

立場になってしまったのです。

Take Control of Innovative Technology and Win Global Competitions
革新技術を掌握し、グローバル競争に打ち勝つ──半導体ビジネスも、かつては日本が牽引していました─ Japan was once the leader in the semiconductor business.

ね。

Ishihara: They say that you can be in the leader in a specific industry
石原──産業 30 年論と言われますが、私はちょうど NTT

for only 30 years. I myself saw Japan's rise and fall in the semiconductor

研究所時代に半導体の盛衰を体験しました。最盛期のbusiness while I was working at the NTT Research Laboratory. In the latter1980 年代後半には、世界の半導体の 5 割を日本でつくっ

half of the 1980s, the most impressive period for Japan, we producedていて、シェアトップ 10 に日本の半導体メーカーが 6 社

more than 50% of the world's semiconductors, and six of the top tenも入っていました。90 年代に一気に落ちて、今では我がsemiconductor manufacturing companies were Japanese. However, in

国のシェアは 2 割くらいに落ちています。分社化したり、

the 1990s, Japan's share of the world market suddenly dropped. Now it

海外企業に製造委託したりして、国内で外売り用半導体を

is only at 20%. Nowadays, the business competence of semiconductor

大量生産している半導体メーカーは１社になってしまいそmanufacturing strongly depends on the investment capability to buy highうです。その原因は、半導体産業が典型的な装置産業になっ

performance equipment and machines for production. This is one of the6

てしまったからなんです。つまり、製造装置さえ揃えられれば、誰にでも最先端の半導体をつくることができるため、投資力のある台湾や韓国が資金力に任せて急成長したというわけです。
高増──ところがこの装置というのは、日本製なんですね。
現在はニコンとキヤノンが手掛けています。半導体を焼き付ける装置に加え、計測装置などを並べると、生産ラインをつくるのに何千億円もかかってしまうのですが、日本では、それだけの莫大な投資を決断できないために、追い抜
かれてしまった。
たとえば、コンピュータの組み立てや加工、射出成型などを手掛けるホンハイという台湾の企業があるのですが、

reasons that Taiwan and Korea, which have plenty of money to invest in

現在、売上高は約 8 兆円、社員が約 100 万人という巨大such equipment, have taken the lead.

企業です。ここが急成長した理由の一つが、Apple 社の要

Takamasu: The machines they use are made in Japan, and are currently

請を受けて、iPhone や iPad のボディを削ってつくるといmanufactured by Nikon and Canon. It takes hundreds of billions of yen to

う、通常だと考えられないような製造工程を一手に引き受

set up semiconductor production lines with production and measurement

けているからなのです。で、どうしたかというと、ホンハ

equipment. Japan wasn't able to invest that amount of money, and thisイは日本のファナックという会社の工作機械を 1 万台購

has resulted in these other countries taking the lead.

入した。つまり、モノづくりの核の部分は、いまだに日本

For example, there is a company called Hon Hai Precision Industry inの技術が支えているということ。残念ながら、1 万台もの

Taiwan. They assemble computers and deal with machining, processing,

機械を買うお金は日本の企業にはありません。

and injection molding. They presently employ about 1,000,000 people and石原──もうそうなると、モノづくりではなくて、製造受

their sales are about 8 trillion yen. They are a huge enterprise. One of the

託ですよね。しかも、大元の基盤技術は日本発のものが多reasons they have grown to such a size so rapidly is that they take orders

い。最近では、若い日本の優秀な技術者まで、台湾や韓国

from Apple and machine the bodies of the iPhone and iPad. They acceptの企業に引き抜かれるような時代になってしまったのは憂many orders from Apple because they are capable of doing such diﬃcult

慮すべきことです。

production processes. They bought 10,000 machine tools from a Japanese

高増──とはいえ、いまだに最初の試作品などは日本の優company called Fanuc. This means that Japan takes an important role

秀な中小企業が引き受けているんですね。最終的には中国

in the manufactuing industry, but unfortunately, no Japanese small orでつくるとしても、プロトタイプは日本でしかつくれない

medium enterprises have enough capital for the purchase of as many asというのは、日本が革新技術をもっているからこそ。おそ10,000 machine tools.

らく、石原先生のメカニクスとか私がやっている計測など、

Ishihara: What Hon Hai Precision Industry is doing is not manufacturing

基礎的なエンジニアリングというのは、日本の強みですよbut taking the orders of outsorced fabrications, and what s more, many ofね。

its fundamental technologies come from Japan. Recently, talented young石原──だからこそ、日本は先端技術で勝負するしかない、Japanese engineers have been recruited by companies in Taiwan andということでしょうね。これからは、「内創外製」という

Korea, which is a matter of considerable concern.

かたちになっていくという議論があります。つまり、永遠

Takamasu: Be that as it may, excellent Japanese small and mediumに最先端の技術開発をやり続けなければならないというこ

enterprises manufacture the first prototype models. Only Japaneseとです。苦しいことのようにも思いますが、ただ、先端をcompanies can manufacture prototypes, even though they are eventually

切り拓くというのは、実はとても楽しいことでもあります。

mass-produced in China, and that means Japan has more advanced

高増──同感です。一つ先を行く技術を使わなければ、本

technology. Fundamental engineering, such as the mechanics Prof.

当にいいモノはできないけれど、それをつくり出す喜びは

Ishihara is working on or the measurement research I am working on, is格別です。そのことを、これからの若い日本の研究者にぜ

probably the strongest advantage Japan has.

ひ知っていただきたいですね。

Ishihara: That is why, we must compete in cutting-edge technologies.
There is an opinion that Japan s way is innovative R&D at home andlarge-scale production abroad . In other words, we must continue tocreate and develop the most advanced technologies. It might be very
challenging but in fact, it can be also thrilling and worthwhile to take thelead in advanced technologies.
Takamasu: I feel the same way. We must utilize technology that is one stepahead in order to develop innovative products. It is a real delight to create,
and Japanese researchers of younger generations should realize the joy ofit.
Reported and written by: Madoka Tainaka
Photographs by: Yuki Akiyama
取材・文 = 田井中麻都佳

7Conversation Sunao Ishihara & Kiyoshi Takamasu

写真 = 秋山由樹

International Internship
国際インターンシップ

Research Assistant

Takuma Shiga

志賀 拓磨

I stayed at Prof. Gang Chen's laboratory of Massachusetts Instituteof Technology from November 1st, 2010 for three months. During thisinternational internship program, I was engaged in the analysis of phonon
conduction in thermoelectric materials from ﬁrst-principles using latticedynamics and perturbation theory. Prof. Chen's group was a huge groupconsisting of more than 30 people including M.Sc./Ph.D candidates andPost-Docs. Thus, the research progress was rapid, and new interesting
topics were presented almost every day.
To become a leader in any research ﬁeld, it is important to progress one's
own research and contribute to a new research topic, and this requires
strong communication skills. Before starting the internship, I thought I
knew the importance of the communication skills. However, I found that I
lack the skills as I faced many problems during my stay, and a three-monthCampus of Massachusetts Institute of Technology

stay was not enough to improve them. I really realized the importance ofcommunication skills, so I will participate in future international events to
私は GCOE の支援を受け、2010 年 11 月より 3 か月間、
マサチューセッツ工科大学機械工学専攻陳剛研究室にて国際インターンシップを経験した。陳剛研究室は熱電の分野

further develop these skills.
I would like to thank Prof. Gang Chen, Dr. Keivan Esfarjani, Associate Prof.
Junichiro Shiomi, and the GCOE oﬃce for their help and support.

において世界をリードしている研究室であり、滞在中は第一
原理的に格子力学と摂動論を用いて熱電変換材料中のフォノン伝導解析を行った。陳剛研究室は 30 名程度の修士課
程、博士課程の学生およびポスドクからなる非常に大きな研究室であるため、日々の研究の進度が速い。さらに人の入れ替わりも激しく最新の研究トピックも日々現れる状況である。陳剛研究室の中だけでなく、世界をリードする人材になるためには、このような移り変わりが激しい環境で自身の研究を進め、かつ最新の研究トピックにいかに貢献できるかが重要であり、その基盤となるのがコミュニケー
ションであると感じた。私も渡航以前にコミュニケーショ
ンの重要性については理解しているつもりであったが、滞在中の多くの場面において、それが大きく欠落していることに気づかされた。3 か月の間にコミュニケーション能力を向上させるには至らなかったが、その重要性を再認識することができた。コミュニケーション能力向上を目指して、今後は国際交流に積極的に参加し、苦手意識を克服したい。
最後に本渡航にあたり、受け入れていただいた陳剛教授、

Keivan Esfarjani 研究員、塩見淳一郎准教授、そしてサポートしていただいた GCOE 事務局に感謝の意を記す。

Massachusetts Institute of Technology

International Internship8Young researchers shouldering the future
未来を担う若手研究者

Research AssistantKeisuke Oku
奥 圭介

Structure formation dynamics of low molecularweight organic semiconducting molecules
during solution evaporation
塗布乾燥過程における低分子有機半導体の構造体形成と薄膜の電気特性
Organic light emitting diodes (OLEDs) have been attracting muchattention as new displays and room lighting devices because of their
physical ﬂexibility, high luminance and low energy consumption. Recently,

有機 EL は有機物特有のフレキシブルさや高輝度、省エ

wet coating is getting attention as the fabrication process of choice

ネルギーなどの利点をもち、近年大きな注目を集めている。

for organic thin films. However, the fabrication of organic thin films by

有機 EL に用いられる有機半導体は、Alq3 や NPD などに

the coating process is still challenging because the electric and optical

代表される低分子系と、ポリチオフェンなどの高分子系に

properties of the organic thin layers are often inferior to those obtained in

大きくわけられる。高分子系と比較して一般的に高性能で

a vacuum process. To solve this problem, understanding the ﬁlm formation

ある低分子系の有機半導体分子は、高コストな真空蒸着にkinetics during coating is indispensable.

よる製膜が主流である。製膜プロセスとして塗布乾燥法を

Figure 1 shows the effect of drying rate on the device's electrical

用いて蒸着膜と同程度の機能をもつ薄膜ができれば、フproperties. The drying rate in the drop casting was about ten times slower

レキシブルさや製造コスト、大面積化の点でのブレークス

than in the spin coating. We found that devices formed by drop casting

ルーが期待できる。

showed a lower threshold in electrical ﬁeld than that by the spin coating

塗布プロセスとして滴下乾燥とスピンコート法を選び、process for the rapid increase of current density. This is a typical eﬀect on

ある有機半導体分子のトルエン溶液から単層デバイスを作

device properties for the wet coating process. One of the objectives of our

製し電気特性を測定した (Fig. 1)。この結果から、乾燥速research is to clarify the relationship among the coating process, the ﬁlm

度によってデバイスの閾値電圧が変化することがわかった。

structure, and the device properties by understanding the dynamics of

このような塗布プロセスによる特性の差異が生じる原因を

ﬁlm formation during solvent evaporation.

明らかにすることが、本研究の大きな目的の一つである。

The most important issue regarding control of the film structure and塗布プロセスでの有機薄膜形成過程を制御するために最properties is clariﬁcation of the phase transition dynamics of solute fromも重要な事項は、塗布乾燥過程における溶質 ( 有機半導体

the solvated state to the precipitated state (solidification) during分子 ) の相変化ダイナミクスの理解である。乾燥過程では、

the solvent evaporation. In the drying process, both the condensation

濃度上昇だけでなく、溶媒蒸発潜熱による温度低下も起こ

of the solute and the temperature change due to evaporation influence

る。我々は、塗布乾燥過程の動的観察装置 (Fig. 2) をつく

the solubility of the solute. To observe the variation in temperature andり、温度と濃度、さらには相変化にともなう気液界面の揺

the concentration during the drying process, we developed an in situ

らぎ方の変化を測定することで、相変化ダイナミクスにアmeasurement system for the wet coating processes as shown in Fig.2.

プローチしている。この他にも、蛍光吸収スペクトル等のUsing this system, we succeeded in obtaining a variety of information on

光学的な情報や粘弾性等のマクロパラメータを組み合わせthe phase transition of solution.

ながら、現象の本質を理解することに励む毎日である。

Fig. 1 Eﬀect of coating process on the electrical properties Fig. 2 In situ measurement system of wet coating process

9Young researchers shouldering the future

Research AssistantSujit Bidahar

スジット ビダハル

Prediction of fatigue crack location in aluminum
die cast
アルミダイカスト材の疲労き裂位置の予測
The use of aluminum casting alloys is widespread in different ﬁelds ofapplications such as automobile, aerospace, etc. The fatigue performanceof these alloys is strongly inﬂuenced by the presence of gas pores which
are introduced during the casting process. Therefore, it is important toknow how the fatigue failure of the component is affected by the content
of the pores, their distribution and location, and the geometry of individual
gas pores.
The purpose of my research is to develop a prediction model for fatigue
crack initiation and to quantify the threshold values for the various
parameters. Since there are many parameters such as defect size, geometry,location, notch radius etc., which affect the fatigue life, it is necessary to
carry out a systematic study of each of these parameters regarding casting
defects and incorporate them into a single simple model.

Fig.1 Maximum principal stress distribution
obtained by image-based ﬁnite element analysis

It has been proposed that maximum principal stress can be used
to locate the fatigue crack initiation point. In the first step, interaction

アルミ鋳造合金の使用は、自動車や航空宇宙で適用されbetween a pair of ideal gas pores was studied using ﬁnite element analysis

るなど、さまざまな分野で普及している。これらの合金のcalculation and an empirical prediction model was developed to show the

疲労特性は、鋳造する過程で導入されたガス孔の位置に強variation of stress concentration factors with different sizes of pores, inter-く影響される。そのため、個々のガス孔の容積、分布、位pore distances and orientations of pores to loading direction. This model

置、および形状が、合金の構成要素の疲労破壊に与える影

was then applied to the multi-pore system and subsequently to actual gas

響を知ることが重要である。

pores in a die cast test piece. The complicated curvatures of the gas pores

本研究の目的は、疲労き裂発生の予測モデルを開発し、

were also studied.

さまざまなパラメータのしきい値を定量化することであFatigue tests were conducted on aluminum die cast test pieces

る。鋳造欠陥に関しては、欠陥の大きさ、形状、場所、ノッ

containing various level of porosity. Some X-ray CT images were obtained

チ半径など疲労寿命に影響を与える多くのパラメータが存

to get three-dimensional geometrical reconstruction of actual gas pores.

在するため、これらのパラメータの体系的な研究を実施し、The reconstructed model was then used in image-based finite element

単一の単純なモデルに組み込む必要がある。

analysis in meso scale to obtain the maximum principal stress (Fig.1),

最大主応力により疲労き裂発生の場所を見つけることがand the value obtained was compared to the one obtained by using

提案されており、この方法では、まず理想気体の孔のペア

the proposed empirical prediction model. There was a good agreementの間の相互作用を有限要素解析によって計算する。この方

between the results obtained by the finite element analysis and the法において、細孔のサイズの違いや間孔距離による応力集

proposed empirical prediction model (Fig.2), and this suggests the

中係数の変化と、荷重方向による孔の方向の変化を示すた

usefulness and effectiveness of the proposed method.

め、実験に基づく疲労き裂発生予測モデルを開発している。
このモデルはマルチ孔システムやダイカスト試験片の実際のガス細孔に適用されている。これに加えて、ガス孔の複雑な曲率についても研究を行っている。
さまざまなレベルの気孔率を含むアルミダイカスト鋳造
試験片についても疲労試験を実施した。実際の気孔の三次
元形状の再構成を取得するために X 線 CT 画像を取得し、最大主応力を求めるため、メゾスケール有限要素解析を使用した (Fig. 1)。この有限要素法による結果と、我々が提案した実験に基づく疲労き裂発生予測モデルによる結果はよく一致しており (Fig. 2)、提案するモデルが有用である
ことがわかった。

Fig.2 Variation of stress concentration factors withinter pore distance by prediction model

Young researchers shouldering the future

10

Domestic Internship
国内インターンシップ

Research Assistant

Daichi Wada

和田 大地

I stayed at Fujikura Ltd. for two weeks from the last week of October inthe framework of the GMSI domestic internship program. I collaborated
with Fujikura Ltd. on the topic of optic fiber sensors, and worked at the
Sakura plant in Sakura city, Chiba prefecture. There was a cafeteria andmany facilities for R&D and manufacturing of optic ﬁbers at their large sitemeasuring 515,000 square meters.
One of my goals in this internship was to see the manufacturing processof optic ﬁbers, which I always use for my own research. I always thoughtthat knowing the background of the components must make a diﬀerence
in my work. I found that it was true. I learned how to treat the ﬁbers, andI realized how much potential they have beyond my understanding andalso beyond my research area.
Having an experience of working in a company was another goal of thisFusion Splicer

internship. The most impressive thing I found there was a difference of
research motivation between a company and a university. I think that thisdiﬀerence can be understood only by experience in both domains.

2010 年 10 月末から 2 週間、GMSI プログラムの支援のDuring my stay, I was given a chance to make a new fiber sensor.

もと、国内インターンシップに参加した。以前光ファイバ

Through many trials, evaluations and discussions, I obtained a keen sense

センサの共同研究を行ったことのある株式会社フジクラに

of difference of the viewpoints we have, which might define industry

応募し、佐倉事業所にて業務を行った。佐倉事業所は千葉

and academia .

県佐倉市に位置し、51 万平方メートルにおよぶ広大な敷A lesson I learned through this internship was that there is a lot of

地には、食堂や光ファイバ関連の研究開発施設、製造施設

behind-the-scenes work going on in addition to your research, and anが建ち並ぶ。

experience to know it well or even taking a glance at it would help you to

インターンシップの目的の一つは、日頃研究で使用する
光ファイバの製造過程を見ることであった。普段研究でbecome a better engineer or researcher. I greatly appreciate all of those
who provided me with this precious opportunity.

用いる製品の背景（この場合は光ファイバの製造過程）を知っているか知らないかでは、何らかの違いがあると考え
ていたからだ。インターンシップに参加し、実際にその通りだったと実感した。光ファイバの取り扱いにおける注意を学んだだけでなく、自身の理解や研究分野にとどまらない光ファイバ応用の可能性についても発見することができた。
企業での仕事の実体験を積むことも、インターンシップの目的であった。最も印象的だったのは、研究に対する動機が企業と大学では大いに異なっていたことだ。それは大学・企業双方での経験を経て、ようやく理解できたと思う。
株式会社フジクラのご厚意で新しいファイバセンサの製作に挑戦させていただいたが、数多くの試行、評価や討論を経て、我々の足場となる考え方とは異なる事を実感した。
その違いこそ、産学を銘々に定義づけるものかもしれない。
インターンシップを通じて学んだことは、毎日の研究の
舞台裏にある物事について体験する、あるいは目を向けるだけでも、工学研究者として涵養されるところがあるということだ。このような貴重な機会を与えてくださった
皆様に、大いに感謝申し上げたい。

11

Domestic Internship

Optics and Electronics Laboratory

GMSI Project-Based Learning (PBL)
プロジェクト・ベースド・ラーニング (PBL)

Research AssistantToki Saito

斎藤 季

2010 年度 GMSI 教育プログラム「機械システム・イノ

The GMSI Project-Based Learning (PBL) curriculum was designed to teachベーション I」の一環として PBL が開催された。本講義のPh.D. candidates how to define and solve problems in interdisciplinary

目的は、専門分野の異なるメンバーでチームを構成し、企

research using examples provided by companies, and the students were

業から与えられた課題に対して各自の研究背景を生かした

expected to cultivate their leadership though team management. This

問題解決を行うことを通して、プロジェクトの提案と進め

year, the students were divided into 6 teams so that the specialties of方を学ぶことである。今年度は第 2 回にあたり、受講生

the team members were different, and each team was provided withは 6 チームにわかれて 10 月から 2 月までの約 5 か月間、

a topic from a company. All teams spent 5 months from October to

各自課題に取り組んだ。2010 年 2 月 23 日には東京大学

tackle the problems. On February 23rd, 2011, final presentations were

浅野キャンパス武田ホールにて最終報告会が開催され、各given by all teams at Takeda Hall of the University of Tokyo. Each team

チームが 15 分間のプレゼンテーションを行った。この報

gave a 15-minute presentation, and they were evaluated by companies,

告に対して、出席した企業の方、教員、学生が投票によりprofessors and students. Fortunately, the team I belonged to was awarded

評価し、優秀チームには賞が贈られた。強豪がひしめく中、

the best PBL award.

私が所属したチーム 3 は最優秀賞を得るという幸運に恵There are two things I learned through PBL. First, we have to clearly

まれた。

recognize what we are able to do, what we want to do, and when it should

今回この PBL に参加させていただいて、チームでプロ

be done. When a problem occurs, the members should discuss it and solve

ジェクトを行う場合において必要だと強く感じたことは二it quickly. Second, we have to share the purpose and shouldn't hesitate to

つある。一つは、我々にはどういうことができるのか、そexpress an opinion when we discuss.

していつまでに何をしたいのかということをチーム内で明During the PBL work I experienced the diﬃculty of collaboration among

確に把握し、問題が起きた場合は議論を盛んに行い、そのpeople in diﬀerent research areas, but now I feel I can make the best use of

場で打開策を検討することである。もう一つは、よいもの

this experience when I will be in a similar situation in the future.

をつくりたいという共通認識のもとで議論は遠慮せず行わ

I would like to express my appreciation to my team members, companies,

れなければならないということである。今回の経験は今後

professors and the GMSI oﬃce. Thanks to their support, I enjoyed the PBLのあらゆる活動において非常に役立つと考えている。最後

work and ﬁnished with good results.

に、私の所属したチームのメンバーに感謝したいと思う。

Team 3 members

GMSI PBL

12The 3rd GMSI International Symposium
第 3 回 GMSI 国際シンポジウム

Research Assistant

Shinatora Cho

張 科寅

The GMSI International Symposium is an annual joint symposium
hosted by GMSI. This international symposium consists of lectures given byprominent researchers from various countries and poster presentations by
the GMSI Research Assistants. This year, the 3rd GMSI symposium was heldfrom March 3rd to March 4th at Tetsumon Memorial Hall in Hongo Campusof the University of Tokyo. The scope of the symposium was Designing
the Future by Multiscale Engineering , with an emphasis on cutting-edge
research presentations.
In the symposium, 17 lectures were organized for 3 themes: Recent
Development in Extended Nano Space Engineering & Science, Nano/Micro
Element Technology for Mechanical System Innovation, and Analysis
Student poster session& Synthesis for Innovation Mechanical Systems with Applications. In
addition, a panel discussion was held by the lecturers to discuss the future
prospects of Multiscale Engineering. Researchers and GMSI Research

GMSI International Symposium は GMSI が毎年主催する国際シンポジウムであり、各国の著名な研究者によるAssistants from various fields participated in the symposium and had
fruitful discussion.

講演や GMSI 所属の RA による研究報告がなされる。今In the poster session, 66 posters in total were presented by the PhD

年度はその第 3 回目にあたり、 Designing the Future bycandidates from 6 different departments. The researchers, visitors, andMultiscale Engineering と題し、最先端の研究発表に重presenters had vigorous discussions, and at the end of the symposium

点をおき、2011 年 3 月 3 日、4 日に東京大学本郷キャン

awards were given to the ﬁve best poster presenters, as selected by a vote

パス鉄門記念講堂にて開催された。

of all participants.

シンポジウムでは、Recent Development in Extended

I had the opportunity to join the Research Assistant committee for

Nano Space Engineering & Science, Nano/Micro Element

organizing the symposium. It was an excellent experience to learn how

Technology for Mechanical System Innovation, Analysis

to organize a symposium and make it productive for all participants.

& Synthesis for Innovation Mechanical Systems with

Moreover, I was deeply impressed by the enthusiasm and leadership ofApplications の三つのテーマについて、海外および GMSI

other committee members and other Research Assistant volunteers.

の研究者計 17 名が講演を行い、さまざまな分野の専門家
や RA を交えた議論が行われた。
また、博士課程 RA の研究紹介を目的としたポスター
セッションも設けられ、計 66 件のポスターが発表された。
講演者や一般参加者も交えて自由かつ活発な議論が交わされ、最後に参加者全員による投票によって優秀ポスター賞が選定された。
シンポジウムの最後には、講演者によるパネルディス
カッションが行われ、Multiscale Engineering の展望やそれに応じた人材育成などに関して、充実した議論が行われた。
筆者は RA 企画運営委員の一員として、シンポジウム運営に携わったが、参加者全員にとって、有意義なシンポジ
ウムとなるための仕組みづくりの面白さや大変さを学ぶ、
いい機会となった。また、他の RA 企画運営委員や RA ボ
ランティアの熱意と、その意識の高さに深く感銘を受けた。

13

The 3rd GMSI International Symposium

Panel discussion

Activity Report for Second Half of 2010 Academic Year (October to March 2010-2011)
活動報告

下半期活動記録（2010 年 10 月〜 2011 年 3 月）

● International Symposium
2011.03.03-2011.03.04 The 3rd GMSI International
Symposium● Open Seminars
2010.09.22 The 64th GMSI Open Seminar
Lecturer: Masako Yudasaka (Nanotube ResearchCenter, National Institute of Advanced Industrial
Science and Technology (AIST) / Dr.)
Moderator: Shigeo Maruyama (Department of
Mechanical Engineering / Professor)
Title: Potential Application of Carbon Nanohorns for
Drug Delivery Systems
2010.10.01 The 65th GMSI Open Seminar
Lecturer: Velayutham Murugesan (Department ofChemistry, Anna University / Professor)
Moderator: Tatsuya Okubo (Department of Chemical
System Engineering / Professor)
Title: Catalysis by Porous Materials for Fine Chemicals
Production
2010.10.19 The 66th GMSI Open Seminar
Lecturer: Jirí Cejka (J. Heyrovský Institute of Physical
Chemistry, Academy of Sciences of the Czech
Republic / Senior Research Fellow)
Moderator: Tatsuya Okubo (Department of Chemical
System Engineering / Professor)
Title: Challenges in Zeolite Synthesis, Adsorption and
Catalysis
2010.10.05 The 67th GMSI Open Seminar
Lecturer: Kostas Kostarelos (Nanotube ResearchCenter, AIST & Nanomedicine Lab, Centre forDrug Delivery Research, The School of Pharmacy,
University of London, JSPS Invitation Fellow /Professor)
Moderator: Shigeo Maruyama (Department of
Mechanical Engineering / Professor)
Title: Engineering the Pharmacology and Toxicology
of Nanomaterials: The Case of Carbon Nanotubes
2010.11.15 The 68th GMSI Open Seminar
Lecturer: Suk Bong Hong (Department of Chemical
Engineering, School of Environmental Science andEngineering, Pohang University of Science andTechnology (POSTECH) / Professor)
Moderator: Tatsuya Okubo (Department of Chemical
System Engineering / Professor)
Title: Zeolite Syntheses via a Charge Density
Mismatch Approach2010.10.19 The 69th GMSI Open Seminar
Lecturer: Hui Gu (State Key Laborator y of
H i g h Pe r fo r m a n ce Ce ra m i c s a n d S u p e r f i n e
Microstructures, Shanghai Institute of Ceramics,
Chinese Academy of Sciences / Professor)
Moderator: Yuichi Ikuhara (Engineering ResearchInstitute / Professor)
Title: Evolution of Intergranular Film to Initiate Grain
Growth in Ceramics

2010.11.01 The 70th GMSI Open Seminar
Lecturer: Jin Zhang (Center for Nanochemistry,
College of Chemistry and Molecular Engineering,
Peking University / Professor)
Moderator: Shigeo Maruyama (Department of
Mechanical Engineering / Professor)
Title: Controlled CVD Growth and Fabrication ofSingle-Walled Carbon Nanotubes Array on Surface
2010.11.17 The 71st GMSI Open Seminar
Lecturer: David Tucker (U.S. Department of Energy,
National Energy Technology Laboratory (NETL) / Dr.)
Moderator: Naoki Shikazono (Institute of Industrial
Science / Professor)
Title: Hybrid SOFC/Turbine Integration and Controls
Research at NETL
2010.12.09 The 72nd GMSI Open Seminar
Lecturer: Klaus Van Benthem (University of California,
Davis / Professor)
Moderator: Yuichi Ikuhara (Engineering ResearchInstitute / Professor)
Title: Imaging Nanofunctionality: Field Assisted
Sintering and Dielectric Breakdown in the TEM
2011.01.18 The 73rd GMSI Open Seminar
Le c t u re r : M a t t h e w P. Ca r t m e l l ( M e c h a n i c a lEngineering, University of Glasgow / Professor)
Moderator: Shigehiko Kaneko (Department of
Mechanical Engineering / Professor)
Title: Space Tethers and Space Webs 1996-20112011.02.24 The 76th GMSI Open Seminar
Lecturer: Ze Zhang (Department of Materials Scienceand Engineering, Centre of Electron Microscopy,
Zhejiang University / Professor)
Moderator: Yuichi Ikuhara (Engineering ResearchInstitute / Professor)
Title: Strain Induced Large Plasticity of Nanowires
from Intrinsic Brittle Materials● Evening Seminars
2010.09.30 The 19th GCOE Evening Seminar
Lecturer: Taketoshi Machida (GE Oil & Gas / Asia
Paciﬁc North Pole Leader)
Moderator: Shigehiko Kaneko (Department of
Mechanical Engineering / Professor)
Title: Working for GE. Introduction to GE Energy / Oil& Gas business2010.10.21 The 20th GCOE Evening Seminar
Lecturer: Hitoshi Kunitaka (Space Transportation,
ISAS (Inst. of Space and Astronautical Science) Japan
Aerospace Exploration Agency (JAXA) / Professor)
Moderator: Nobuo Takeda (Department of Advanced
Energy / Professor)
Title: Powered Flight of Hayabusa Asteroid Explorer
by Ion Engines

2010.11.12 The 21st GCOE Evening Seminar
Lecturer: Masaaki Maruyama (Freelance, Editor)
M oderator : Toyohisa Fujita (D epar tment of
Geosystem Engineering / Professor)
Title: Introduction to Making Advanced Business2010.12.20 The 22nd GCOE Evening Seminar
Lecturer: Felix Moesner (Science & Technology Ofﬁce
Tokyo, Embassy of Switzerland / Head)Moderator: Toshiro Higuchi (Department of Precision
Engineering / Professor)
Title: R&D and Educational Collaboration Activities
Between Switzerland and Japan2010.12.20 The 22nd GCOE Evening Seminar
Lecturer: Wendelin J. Stark (Chairman of the Microand Nanoscience Platform, Chairman of the Institutefor Chemical and Bioengineering, Head of the
Functional Material Laboratory, ETH / JSPS Fellow,
Professor)
Moderator: Toshiro Higuchi (Department of Precision
Engineering / Professor)
Title: Industrial and Medical Applications ofNanotechnology - Linking Mechanics to Chemistry
and Biology
2011.01.14 The 23rd GCOE Evening Seminar
Lecturer: Yoshikazu Goto (Office for UniversityIndustry Collaboration, Osaka University / Deputy
Head, Professor)
Moderator: Toshihiko Koseki (Depar tment ofMaterials Engineering / Professor)
Title: Creation of New Industries and Required Talent
toward Globalization and Sustainable Society● Workshop Series
2010.09.12-2010.09.19
The First GSISH - GMSI Summer School
2010.11.30-2010.12.2
The Third Asian Pacific Workshop on Structural
Health Monitoring (APWSHM)
2011.01.31-2011.02.01
The 3rd Aerospace Innovation Workshop
2011.02.14-2011.02.19
2011 GMSI International Workshop on Micro-scaleMultiphase Flow Heat Transfer
2011.03.06-2011.03.13
2011 GMSI International Workshop on Synthesis andModelling of Nanoscale Materials
2011.03.24-2011.03.30
2011 GMSI International Workshop on BiomicroNanoﬂuidics

vol.8 2011 年 3 月発行 editor・Madoka Tainaka 田井中麻都佳 design・Mayumi Sawachi 澤地真由美 printing・Sokosha Printing 壮光舎印刷

14

Global Center of Excellence for Mechanical Systems Innovation
The University of Tokyo
7-3-1 Hongo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8656, JAPAN TEL/FAX: +81-3-5841-7437
E-mail: gmsi-oﬃce@mechasys.jp http://www.mechasys.jp/
東京大学グローバル COE プログラム「機械システム・イノベーション国際拠点」〒113-8656 東京都文京区本郷 7-3-1 TEL/FAX: 03-5841-7437
E-mail: gmsi-oﬃce@mechasys.jp http://www.mechasys.jp/