Other
thanthe DGA Resins the TK221 doesn’tallowAc/
ランタニド分離に頻繁に用いられる
10M 硝酸でfor Ac elution in 10M HNO3, a step frequently used
は Ac が溶出しないため、TK221 レジンではより高濃度
for Ac/Lanthanide separation. For TK221 higher（12M）の硝酸が必要になります。
concentrations (12M) are required.
HNO3

主なアプリケーション
Mainapplications:

•

●

●

••

●

ランタニドの分離と濃縮に…
Separation and concentration（例：caおよび nca
Lu-177）of lanthanides(e.g.
ca and nca
アクチニドの分離に…
Lu-177)
アクチニウムの分離に…

Separation of actinides
Separation of actinium

TK225 レジンTK225 Resin

TK225 レジンは、ジグリコールアミドとイオン液体のThe
TK225 Resin is based on a mixture of a混合物をベースにした製品です。放射線分解に対する安定
diglocylamide and an ionic liquid. The organic phase
Ac elution study on 1mL TK221 cartridge (100 – 200μm),
Ac 溶出試験：1 ｍ L TK221 カートリッジ
is 性を高めるために、芳香族基を含む不活性支持体に有機相
impregnated onto an inert support containing
0.05M（100HNO3.～
DatacourtesyofN.
Vajda
etal.
200 μ m）、0.05M 硝酸を含侵させています。
aromatic groups for increased stability against（データ提供：N. Vajda 氏ら）
除染を目的に、酸性溶液、特に高濃度の硝酸溶液から放TK221 does not allow, contrary to the DGA Resins, radiolysis.
射性ランタニドを除去するために主に用いられます。
TK221
レジンはDGA
レジンと異なって、Acが希硝酸
for Acelutionin diluteHNO.
3
The main application of the TK225 Resin is the
次のグラフは、硝酸および塩酸中での様々な元素に対すで溶出しません。
removal of radiolanthanides from acidic solutions,る選択性を示しています。これらのグラフで示された
Dｗ
particularly
from solutions of elevated HNO3
値はすべて、ICP-MSによる測定によって得られたものでconcentration,for decontamination
purposes.
す。

The following graphs show the selectivity of theTK225 Resin for a wide range of elements in HNO3and HCl. All DW shown in these graphs were obtained
through ICP-MS measurements.

Ac elution study on 1mL TK221 cartridge (100 – 200μm),ｍ courtesy
L TK221ofカートリッジ
0.05MAc
HCl溶出試験：1elution. Data
N. Vajda et al.
（100 ～ 200 μ m）、0.05M 塩酸（データ提供：N. Vajda 氏ら）

The fact that TK221 retains Ac from dilute HNO3Acelutionを保持し、希塩酸で溶出するという事実にand 希硝酸で
allows its
in dilute HCl might open thepossibilityof convertingAc solutions
dilute
よると、TK221
レジンを用いることでAc from溶液を希硝酸HNO
to dilute HCl using TK221.
から希塩酸に置き換えできる可能性が出てきます。
3試験した元素の中、Ca のみが高濃度の硝酸でしっかり

TK221 レジンは、より狭い溶出に対応できる粒形 50

DW values of selectedelements
on TK225 in HNO3と保持されます。Srと Pb
も、程度は低いものの、このよIt should be noted that TK221 is now also available
μ m も入手可能です。
～ 100in 50– 100μm
particle size now, which will allow for
narrower elution.

硝酸において TK225 レジンに選択された元素の Dw 値うな条件下で保持されます。

Out of the tested elements only Ca is quite strongly
retained at elevated HNO3 concentrations. Sr and
全体的に、Lu-177 精製と似たような分離技法が使用でOverall,a separation method similar to Lu-177 Pb, too are retained under these conditions to a
きる可能性があります。まず、高濃度硝酸（または塩酸）
purification seems possible: Ac retention from lesser extent though.
においてHNOAc を保持し、不純物除去のため希硝酸で洗浄、, (or HCl) rinse with dilute HNO3 toelevated3
レジンの硝酸濃度を下げて、その後塩酸で溶出するという
removeimpurities and lower HNO3 concentration
on手順です。さらに、小さい陰イオン交換レジンカートリッthe resin, followed by elution in dilute HCl. Ideallytheジ（1mL
final productshould be loaded through a small
A8 カートリッジ）を使用して、最終生成物からanion exchange resin cartridge (e.g. 1 mL A8) to
微量の硝酸塩を除去するのが理想的です。
removelast traces of nitrate.
Additionalon the AcAc
separation
on TK221
TK221work
レジンを使用した分離の追加研究は現在進Resiniscurrentlyon-going.
行中です。

硝酸において TK225 レジンに選択された元素の Dw 値

DW values of selected elements on TK225 in HNO32323

ランタニド、特に重ランタニドである Y と Sc は、高濃特に、重ランタニドは広範囲の塩酸濃度にわたってよく度の硝酸でしっかりと保持されます。重ランタニドの場合、保持され、高濃度の塩酸で最もよく保持されました。Y、低濃度の硝酸でさえ非常に大きい Dw 値を維持します。

Sc や軽ランタニドも高濃度の塩酸でよく保持されます。

硝酸において TK225 レジンに選択された元素の Dw 値

塩酸において TK225 レジンに選択された元素の Dw 値

TK225 レジンは通常、高濃度の硝酸で Zr、Hf、Th 等

Sb、Sn、Zr、U 等の高原子価の元素は高濃度の塩酸での第 4 族元素をしっかりと保持します。

よく保持されますが、低濃度の塩酸ではほとんど保持されません。TK225 レジンは、主に放射性ランタニド、特にLu-177、Yb-175、Tb-161 のような重ランタニドを酸性廃液から除去するために使用されます。
重 ラ ン タ ニ ド の 溶 出 は ほ と ん ど 不 可 能 に 近 い た め、
TK225 レジンは主に酸性廃液や廃液の除染に適しています。

主なアプリケーション
塩酸において TK225 レジンに選択された元素の Dw 値

高濃度の塩酸では、Ca と Zn に対する保持率が高くなっています。その他の元素は保持されないか、非常に弱く保持されます。

塩酸において TK225 レジンに選択された元素の Dw 値

24●	酸性廃液からのランタニドの除去に…