Polishing

日本語（Japanese）/ 英語（English）

COMPOL
ExoticMaterial Polish

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■COMPOL■COMPOLCOMPOLは、LiTaO3、LiNbO3、サファイア等の電子材料基盤、金COMPOL is a colloidal silica slurry developed especially for

属材料及びセラミックスのポリシング専用に開発された高純度コロイ

polishing metals, ceramics and electronic substrates such as LiTaO3,

ダルシリカスラリーです。粒子の均一性、分散性に優れ、高能率でダメージフリーの研磨面が得られます。

LiNbO3 and sapphire. With excellent particle uniformity anddispersal, it delivers high-removal rate, damage free polishing. Even
when used at high dilutions, COMPOL delivers excellent processing
eﬃciency and long slurry life.

COMPOLの代表的物性
製品名

Type

項目 ltem
SiO 2量Content of SiO 2 (%)
PH
比重 Specific gravity
平均粒子径Average particle size (nm)標準入数Standard Net weight

Typical Physical Properties of COMPOL
2050

80

120

40

40

40

40

9.2
1.30

10.2
1.30

10.2
1.30

9.2
1.30

15.0

40.0

72.0

82.5

20kg

20kg

20kg, 260kg

20kg

用途:サファイア､CaF 2､BGO､LiTaO 3､LiNbO 3その他の酸化物結晶
applications:sapphire, CaF 2, BGO, LiTaO 3, LiNbO 3 and other oxide crystals

製品名Type

項目 ltem
SiO 2量Content of SiO 2 (%)
PH
比重 Specific gravity
平均粒子径Average particle size (nm)標準入数Standard Net weight

EX-340350

469.5
1.385

9.3
1.340

32.5

39.0

20kg

20kg

用途:サファイア､CaF 2､BGO､LiTaO 3､LiNbO 3その他の酸化物結晶
applications:sapphire, CaF 2, BGO, LiTaO 3, LiNbO 3 and other oxide crystals

H23.06 ver1.3

本社：〒452-8502 愛知県清須市西枇杷島町地領2-1-1
TEL(052)855-2773
1-1, Chiryo-2, Nishibiwajima-cho, Kiyosu, Aichi, 452-8502 Japan

Polishing

日本語（Japanese）/ 英語（English）

FZ

Fujimi Glass Polish

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■FZ

■FZ

FZ-05、及びFZ-02は酸化ジルコニウム（ZrO 2）の超微粒子からなり、モリブデン、タングステン、クロミウム、チタニウム、ニッケルなどの特殊合金の研磨に最適です。
FZ使用時に硬質ウレタンパッドや研磨用ピッチを用いますと、金属特有の深みのあるスクラッチフリーの光沢面が得られます。又、光学レンズのファイナルポリシングにFZ-02を使用しますと、スクラッチフリーでしかも「荒れ」のないレンズ面や「ウェーブ」を取り除いた鮮やかな干渉縞が得られます。

FZ-05 and FZ-02 are composed of ultra-ﬁne zirconium oxide
particles, and are optimum for polishing special metals such as
molybdenum, tangsten, chromium, titanium and nickel, and theiralloys. When FZ is used with a hard urethane pad and polishingpitch, it provides the deep, scratch free luster unique to metals.
FZ-02 can also be used for ﬁnal polishing of optical lenses for scrtach
free, bump free lens, and clear interference image free of waves.

FZの代表的物性

Typical Physical Properties of FZ
製品名Type

項目 ltem
平均粒子径･SEM
Average particle size(μm)
pH
化学成分(ZrO 2)
Chemical Composition(ZrO 2)

FZ02

FZ05

0.2

0.5

5.5

7.0

98.0％

98.0％

CLEALITE
Metal Ultra
Super Polish

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■CLEALITE■CLEALITE

CLEALITEは銅、アルミニウム、ステンレス、チタニウムなど各種一般金属向け鏡面仕上げ材です。“2340”は特殊組成液とともにメカノケミカルポリシング作用にて、10nm（Rmax）の表面粗さとスクラッチフリーの表面に仕上げることが可能なポリシングスラリーです。
“Ｓ”は分散性の良いシリカパウダーをベースに、選択加工を抑制する組成液をバランス良く配合した金属材料専用のファイナルポリシングス
ラリーとして開発され、使用方法及び使用条件は“2340”と全く同じです。“2340”に比べ加工時間の短縮と鏡面精度の向上が可能です。

CLEALITE is a polishing slurry for all kinds of metals, includingaluminum, stainless steel and titanium to produce mirror ﬁnish. The
2340 type has special additives that delivers scratch free surface
with surface roughness of 10nm (Rmax). The S type is based on
colloidal silica slurry balanced with special additives to control
selective processing, and has been speciﬁcally developed as ﬁnal
polishing slurry for metals. The polishing method and conditions aresame for both 2340 type and S type, but S type provides higher
removal rate and better surface performance.

CLEALITEの代表的物性
製品名

Typical Physical Properties of CLEALITE
Type2340

S

平均粒子径･SEM
Average particle size(nm)

15.0

72.0

pH
比重10.0
1.210

8.8
1.200

項目 ltemSpecific gravity

H23.06 ver1.3

本社：〒452-8502 愛知県清須市西枇杷島町地領2-1-1
TEL(052)855-2773
1-1, Chiryo-2, Nishibiwajima-cho, Kiyosu, Aichi, 452-8502 Japan