有機ＥＬ討論会 第21回例会 開催プログラム
2015/10/20
日時2015年11月12日（木）, 13日（金）会場

九州大学伊都キャンパス 椎木講堂

住所〒819-0395 福岡市西区元岡744番地

交通

福岡空港から地下鉄姪浜行き「九大学研都市駅」下車, 昭和バス「伊都キャンパス」行き「九大ビッグオレンジ前」下車

11月12日(木） 公開シンポジウム 13：00～20：00
12:00 ～ 13:00

開場・受付(記念展示・企業展示見学)

13:00 ～ 13:05

公開シンポジウム開会の辞 （占部 哲夫（産業技術総合研究所））

L1：特別講演Ⅰ

座長：占部 哲夫（産業技術総合研究所）

L1-1

13:05 ～ 14:05 Organic light-emitting diodes – prospects and challenges

Ching W. Tang

HKUST/ University of Rochester
Professor

L1-2

14:05 ～ 15:05 有機ELの科学30年の歩み：有機EL実用化推進の追い風を受けて

筒井 哲夫

九州大学 名誉教授

休憩(記念展示・企業展示見学) (25分）

15:05 ～ 15:30
L2：特別講演Ⅱ

座長：茨木 伸樹（次世代化学材料評価技術研究組合）

L2-1

無限の分子デザインが切り拓く有機EL発光材料ー過去・現在・そして未来への挑
15:30 ～ 16:30
戦ー安達 千波矢九州大学 教授

L2-2

16:30 ～ 17:30 有機EL照明の進化と今後

辻村 隆俊

コニカミノルタ（株） OLED事業部長

17:30 ～ 17:35
17:35 ～ 18:00

公開シンポジウム閉会の辞 内藤 裕義 (大阪府立大学 大学院工学研究科)
休憩(記念展示・企業展示見学) (25分）

18:00 ～ 20:00

交流会 司会 ： 内藤 裕義 (大阪府立大学 大学院工学研究科)【記念展示～有機ELのあゆみ～】について
設立10周年を記念して, 様々な企業・個人にご協力頂き, 特別企画として有機ELの歴史的変換を実機と共にたどる展示を企画しております。
【出展企業について】
有機ＥＬに関連する幅広い製品, 部品および技術について, 出展企業のご協力のもとブース展示を行います。是非とも有機ELの研究開発にお役立てください。
・シュレーディンガー（株）, サイバネットシステム（株）, 理研計器（株）, コニカミノルタ（株）センシング事業本部, （株）東レリサーチセンター, （株）住化分析センター,（株）東陽テクニカ, （株）Kyulux, （株）ブライト（順不同）＊休憩時間, 開場・受付の時間をご利用になり, 是非ご見学下さい。
11月13日(金） 9：00～18：00
開場・受付

8:45 ～ 9:00
表彰式
9:00 ～ 9:10
S1： 材料Ⅰ

司会：中 茂樹 (富山大学 大学院理工学研究部)
有機EL討論会講演奨励賞
座長：中野谷 一（九州大学 最先端有機光エレクトロニクス研究センター）

S1-1

9:10 ～ 9:30

凝集誘起発光特性を備えた熱活性遅延蛍光デンドリマーの開発と応用

S1-2

9:30 ～ 9:50

樹状高分子を用いた単一成分塗布型熱活性化遅延蛍光材料

S1-3

9:50 ～ 10:10

逆項間交差を利用した新規高効率緑色, 青色, および塗布型有機EL材料の設計と素子化

S1-4

10:10 ～ 10:30 熱活性化遅延蛍光と円偏光発光を示すキラルなドナー‐アクセプター型分子10:30 ～ 10:50

S2： 材料Ⅱ／解析松岡 健一

九州大学 先導物質化学研究所

アルブレヒト 建 東京工業大学 資源化学研究所
梶 弘典

京都大学 化学研究所

今川 拓郎

東京農工大学 大学院工学府

休憩(記念展示・企業展示見学) （20分）
座長：熊 均（出光興産株式会社 電子材料部）

S2-1

10:50 ～ 11:10 ホスト材料による非放射失活抑制効果と残光性有機ELへの応用

嘉部 量太

九州大学 最先端有機光エレクトロニ
クス研究センター

S2-2

11:10 ～ 11:30 TADF分子の励起状態ダイナミクス：電荷共鳴状態の分子構造条件

細貝 拓也

産業技術総合研究所 分析計測標準研究部門

S2-3

11:30 ～ 11:50

佐藤 徹

京都大学大学院 工学研究科

S2-4

11:50 ～ 12:10 塗布型ホール注入材のキャリア伝導とキャリア密度の関係

遠藤 歳幸日産化学工業（株）

S2-5

12:10 ～ 12:30 分子配向の直接的簡易評価法の開発と成膜条件依存性の分析

酒井 義也

山形大学 工学部

12:30 ～ 13:40

高次三重項状態の関与する発光: ビスアントラセン誘導体の高次三重項状態からの無輻射遷移の抑制

昼食 （70分）

S3： 劣化・寿命評価／デバイス

座長：八尋 正幸（九州先端科学技術研究所）

S3-1

13:40 ～ 14:00 有機EL素子におけるキャリア移動度評価法の, 非破壊劣化解析への適用

奥本 肇

産業技術総合研究所 機能化学研究部門

S3-2

14:00 ～ 14:20 フレキシブル有機ELの接着材端部からの水蒸気侵入と劣化機構

大図 佳子

次世代化学材料評価技術研究組合

S3-3

14:20 ～ 14:40 APIMSを用いた超高感度同時多成分ガス透過性試験装置の開発

溝上 員章（株）日本エイピーアイ

S3-4

14:40 ～ 15:00 インパルス応答によるTADF素子の発光タイムパターン解析

森 竜雄

愛知工業大学 工学部

S3-515:00 ～ 15:20

藤本 弘

有機光エレクトロニクス実用化開発センター

自己クローニング法によって製作されたフォトニック結晶を用いた光取出し効率の向上

休憩(記念展示・企業展示見学) （20分）

15:20 ～ 15:40
S4： ショート口頭発表

座長：横山 大輔 （山形大学 大学院理工学研究科）

S4-1

Stretched-exponential Decay関数を用いた劣化カーブ解析と有機EL素子の寿命
15:40 ～ 15:43
予測

杉本 和則

次世代化学材料評価技術研究組合

S4-2

15:43 ～ 15:46 異なる正孔輸送層を有する有機発光ダイオードへの正孔注入

佐藤 朱里

大阪府立大学 大学院

S4-3

15:46 ～ 15:49

パーコレーション補正ランダムウォークモデルを用いたアモルファス膜中のキャリア移動度の計算

梅田 時由

シャープ（株）
材料･エネルギー技術研究所

S4-4

15:49 ～ 15:52

カルバゾールジシアノベンゼン系TADF材料の 発光特性における高次の三重項励起状態の影響

長谷山 翔太大阪府立大学 大学院工学研究科

S4-515:52 ～ 15:55 逆構造有機発光ダイオードの電子注入機構

高田 誠

大阪府立大学 大学院工学研究科

S4-615:55 ～ 15:58 大電流密度下での有機EL素子駆動に及ぼすジュール熱の影響

吉田 巧

九州大学 大学院工学府

S4-7

15:58 ～ 16:01 軟X線吸収分光（XAS）による分子配向評価と深さ方向分析法の開発

髙橋 永次（株）住化分析センター

S4-8

16:01 ～ 16:04 有機EL薄膜の割れ限界歪の評価事例と発光パネルの温度分布解析事例

岡本 丈司

津山工業高等専門学校 電子制御工学科

S4-916:04 ～ 16:07 ITO代替透明電極を用いた有機EL素子の寿命特性

結城 敏尚

山形大学 有機エレクトロニクスイノ
ベーションセンター

田中 慶佑

大阪大学 大学院工学研究科

S4-11 16:10 ～ 16:13 高感度水蒸気バリア性評価のための標準試料開発および特性

上東 篤史

次世代化学材料評価技術研究組合

S4-12 16:13 ～ 16:16 パルスによるLECの高速駆動

伊藤 瞭太

早稲田大学 先進理工学研究科

S4-10 16:07 ～ 16:10

アルミキノリノール錯体を用いた有機EL素子における 劣化過程の解析とその磁場特性

16:16 ～ 16:25

閉会の辞：内藤 裕義 (大阪府立大学 大学院工学研究科)

16:30 ～ 18:00

ポスター討論 （S1～S4）【講演形式について】 本討論会における各講演発表は, 下記①～②のいずれかの講演形式で行います。
①一般口頭発表（講演：15分，質疑：5分）とポスター討論（90分）②ショート口頭発表（3分：質疑なし）とポスター討論（90分）【ポスター討論について】 講演者と参加者の討論を促すため, 一般講演における口頭発表者が講演会終了後に参加者と討論する場（ポスター討論）を設けます。余裕のある時間とリラックスした雰囲気の中で行われる活発な討論に是非ご参加ください。
【講演奨励賞対象者について】 一般口頭発表とショート口頭発表における35歳以下の発表者が講演奨励賞の対象になります。