2013・2014 年度
年次報告
知の拠点あいち
あいちシンクロトロン光センター

まえがき

本冊子では、2013 年度および 2014 年度に実施された成果公開実験の成果報告と、施設（光源、各ビームライン）の概要、利用実績、利用促進事業結果をまとめました。
あいちシンクロトロン光センターで、成果報告を課せられている測定実験にはふたつあります。ひとつは、公的機関（大学や公的試験研究機関）で実施された実験で、成果公開を条件に利用料金が安価に設定されているものです。成果公開は、機関の設立趣旨から当然のことかと思います（但し、特許申請などのため事前の公開を猶予すべきものは申し出により公開延期を認めています）。もうひとつは、文部科学省の「先端研究基盤共用・プラットフォーム形成事業」による成果公開無償利用（企業によるト
ライアルユースと産学連携無償利用）による実験です。
あいちシンクロトロン光センターは、2013 年 3 月 22 日（金）の開所式後、3 月 26 日（火）より供用を開始しました。当初より光源加速器のトップアップ運転（光の強度が一定）という高度な運転技術を駆使し、「光はいつも同じ」という特性を初め、利用者の多くの要望を反映した装置設計（ビームラ
インや測定器機の整備）と運営体制を敷きました。
計画段階で、企業利用は常に有償利用であるが成果は非公開、公的機関は常に成果公開であるが利用料は企業利用の 1/4 と決めていました。ところが、これでは企業利用の事例が取得できず、そのため新規企業の利用開拓に実例が示せないことに気が付き対策を考えていたところに、丁度、文部科学省の「先端研究基盤共用・プラットフォーム形成事業」が 2013 年度より始まることが分かり、その内の「成果公開無償利用」を軸に応募し採択されたため、あいちシンクロトロン光センターの供用開始に合わせて、企業利用の成果を公開できる手立てが得られました。
本報告書の内容や深度は様々です。供用開始直後なので、いろいろな使い方の模索や、ごく入り口の実験もあれば、最終チェックに用いられた実験もあります。この段階で成果報告書をまとめましたのは、
実に様々な段階の様々な分野で利用できることをお示ししたかったからです。本報告書から、新たな実験や更なる進化のための実験など、ヒントを得て頂ければ幸いでございます。
とりまとめの都合上、2013 年度と 2014 年度の成果のみを本冊子にまとめました。2015 年度の成果
報告の一部は、あいちシンクロトロン光センターのホームページ（http://www.astf-kha.jp/synchrotron/の Publication（成果報告書）からご覧頂くことができます。また、光源や各ビームラインの最新の状
況も同ホームページのユーザーガイドからご覧頂けますので、ご参照下さるようお願い申し上げます。
これらも次年度以降に冊子体として取りまとめる予定です。
引き続き、ご支援・ご利用をたまわりますようお願い申し上げます。

2016 年 2 月 1 日
あいちシンクロトロン光センター
所長

竹田美和

目次

ページ

まえがき
あいちシンクロトロン光センター

所長

竹田美和

1．あいちシンクロトロン光センター概要 ………………......…………

1

1.1 施設概要
1.2 光源加速器
1.3 ビームライン概要
2．ユーザー利用実績 ……………………………….……………….……

13

2.1 2013 年度利用実績
2.2 2014 年度利用実績
3．成果報告書 ……………………………….……………….…………….

15

3.1 2013 年度公共等利用
3.2 2013 年度成果公開無償利用事業
3.3 2014 年度公共等利用
3.4 2014 年度成果公開無償利用事業
3.5 外部発表リスト
4．利用促進……………………………….……………….……………... 313

4.1 放射線業務従事者教育訓練
4.2 シンクロトロン光利用者研究会

1．あいちシンクロトロン光センター概要
1.1 施設概要
光源加速器は，50 MeV 直線加速器，1.2 GeV ブースターシンクロトロン，1.2 GeV 蓄積リングから成る．5 T 超伝導偏向電磁石を 4 台導入することにより，最大 12 本のビームラインに硬 X 線を供給することが可能である．供用を開始した当初より，蓄積電流 300 mA のトップアップ運転を行っている．
トップアップ運転中の電流値の変化は，300 mA に対して約 0.1 %である．
供用開始当初より 2014 年度まで、ビームライン 6 本で運用を行ってきた。ビームラインは，硬 X 線
XAFSⅠ（BL5S1），粉末 X 線回折・XAFS（BL5S2），軟 X 線 XAFS・光電子分光Ⅰ（BL6N1），真空紫外分光（BL7U），薄膜表面回折（BL8S1），広角・小角 X 線散乱（BL8S3）である。
利用申し込みの募集は 2 か月ごとに行っている．1 週間のうち，月曜日はマシンスタディ，火曜日から金曜日までがユーザー利用日を基本としており，1 日の利用は，10:00～14:00，14:30～18:30 の 2 シ
フト（1 シフト 4 時間）で行っているが，利用申し込み数の増加に伴い，18:30～22:30 の延長シフトを行う場合もある．
供用開始から 2014 年度までに，157 の企業・機関が利用しており，2 か月ごとの募集や計測サポー
トの充実などの利便性を反映し、ビームライン全体の平均利用率（利用シフト数/最大利用可能シフト数）
は、2013 年度に 63.8%、2014 年度には 78.4%となった．特に，BL5S1 および BL5S2 については，2014
年度には利用率 100%に達した．
文部科学省の先端研究基盤共用・プラットフォーム事業を活用した成果公開無償利用制度や測定代行，利用相談，セミナー・研究会、企業直接訪問等を行い，新規ユーザーや新規課題の利用促進に関する取組を積極的に行っている．

1

1.2

光源加速器 （2016 年 1 月現在）

蓄積リング
・電子エネルギー

1.2 GeV・周長72.0 m

・蓄積電流

300 mA 以上

・エミッタンス

約 53 nm-rad

・RF 周波数

499.654 MHz・ハーモニック数120

ブースターシンクロトロン
・出射エネルギー

1.2 GeV・周長48.0 m・エミッタンス

約 200 nm-rad

・RF 加速周波数

499.65 MHz

・加速繰り返し

単発～1 Hz

直線加速器
・電子エネルギー

50 MeV・加速電荷量

1 nC

・パルス幅

< 1 nsec

・加速繰り返し

単発～1Hz・RF 周波数

2856 MHz

5T 超伝導偏向電磁石
・超伝導線材NbTi-Cu

・臨界温度

5.9 K

・冷凍機

2 段 4K-GM 冷凍機

・通電電流

約 100 A・電流密度（線材）

約 150 A/mm2

・ピーク磁束密度5.1 T

・放射光臨界エネルギー

4.8 keV (1.2 GeV)

アンジュレータ（Apple-II）
残留磁束密度

1.3 T

周期長

60 mm

周期数

33

最小ギャップ

24 mm

K 値（最大）Linear

3.4

Vertical

2.0

Helical1.7

蓄積電流値（22:00 までの運転例）

Brilliance (ph/s/mm 2/mrad2/0.1% b.w.)

50 MeV

1014

1013

1012
あいちSR超伝導偏向電磁石 300mA

1011

1010
101

あいちSR常伝導偏向電磁石 300mA

102

103
104
Photon energy (eV)105

偏向電磁石光ブリリアンス
Brilliance (ph/s/mrad2/mm2/0.1 % b.w.)

・入射エネルギー

1017
ヘリカルモード
1次光

16

3次光

1次光

5次光

10

1015

1014

1013
10

リニアモードスペクトル

100
Photon energy (eV)アンジュレータ光ブリリアンス

2

1000

1.3

ビームライン概要

2013-2014 年度共用ビームライン（2014 年度末状況）

3

BL5S1（硬 X 線 XAFSⅠ）● 光エネルギー：5～20 keV (波長：0.25～0.06 nm)● ビームサイズ：0.5×0.30 mm● 分解能(E/ΔE)：＞7000 @ 12 kev（計算値）● 光子数：1×1011 (photons/sec) @ 12 keV
硬 X 線領域の X 線吸収微細構造 (XAFS) 測定を行い，材料中の原子の結合状態や局所構造を解析する．エネルギー範囲としては，K 吸収端でチタン (Ti) ～ モリブデン (Mo)，LIII 吸収端でセシウム (Cs)
～ウラン(U) を対象とする．透過測定用イオンチェンバと蛍光測定用 19 素子ゲルマニウム検出器(CANBERRA)，転換電子収量法用の検出器を備える．Quick XAFS (QXAFS) による短時間測定および時分割測定を可能としている．支燃性・可燃性排ガスダクトを整備し，製造現場の実使用環境における 測定をサポートする．試料温度設定用のクライオスタットも整備する．自動試料交換装置の導入による自動測定も利用可能である．

BL5S1 測定系

XAFS スペクトルXANES スペクトル

Cu フォイルの K 吸収端分析（2016 年 1 月現在）

4

BL5S2（粉末 X 線回折・XAFS）● 光エネルギー：5～23 keV(波長：0.25～0.053 nm)● ビームサイズ：0.5×0.5 mm● 分解能(E/ΔE)：7000 @ 12 kev（計算値）● 光子数：1×1011 (photons/sec) @ 12 keV
粉末 X 線回折法により，物質の定性，定量，構造解析などを精度よく行う．検出器として半径 286 mmのデバイシェラーカメラに幅 200 mm×400 mm のイメージングプレート(IP)と二次元半導体検出器(PILATUS 100K)4 台を有し，高分解能測定と高速データ収集を可能とする．PILATUS 100K 用の固定
アームはカメラ長の変更(170～1000 mm)が可能である．SPring-8 産業利用推進室の協力を得て、
SPring-8 産業利用Ⅰビームラインの粉末回折装置と同等のセンタリングシステムおよび試料自動チェ
ンジャーを装備し，多数の測定試料の連続自動測定も可能とする．また，試料温度設定用に高低温窒素
ガス吹付装置(-130 ℃~550 ℃)を有する。支燃性・可燃性排ガスダクトを整備し，製造現場の実使用環
境における測定をサポートする．

粉末 X 線回折測定装置（四連装二次元半導体検出器システム）

Intensity

イメージングプレート（IP） 露光：600 sec

試料：CeO2 (NIST 674b)
波長：1 Å

2θ(deg)

露光：54 sec×3

Intensity

四連装 PILATUS 100K

2θ(deg)

粉末 X 線回折測定とリートベルト解析（RIETAN-FP）（2016 年 1 月現在）

5

BL6N1（軟 X 線 XAFS・光電子分光Ⅰ）● 光エネルギー：1.75～6 keV(波長：0.7～0.2 nm)● ビームサイズ：2.0×1.0 mm● 分解能(E/ΔE)：＞2000 @ 3 keV （計算値）● 光子数：1.5×1010 (photons/sec) @ 3 keV
軟Ｘ線領域の X 線吸収微細構造分光（XAFS）測定を行い，材料中の原子の結合状態や局所構造を 解
析する．現在，測定可能なエネルギー領域はＫ吸収端で Si～Cr である．本ビームラインはそれぞれ大気圧下と超高真空下で実験が可能な，2 つの測定システムを有する．前者では，He 雰囲気下でシリコン半導体検出器による蛍光収量 XAFS と試料電流法による電子収量 XAFS の同時測定が可能で，液状試料など製造現場や材料の実使用時に近い環境での測定ができる．また後者では，トランスファーベッセ
ルや静電半球型光電子分光器（SPECS PHOIBOS 150）により，大気非曝露での XAFS 測定や，ラボ
X 線源よりも高い励起エネルギーによる XPS 測定が可能である．

BL6N1 外観

軟 X 線 XAFS スペクトル

Si K 端X 線光電子分光スペクトルSi 1s（2016 年 1 月現在）

6

BL7U（真空紫外分光）● 光エネルギー：0.03～0.85 keV，(波長：40～1.5 nm)● ビームサイズ：0.04×0.1 mm● 分解能(E/ΔE)：＞5000 @ 200 eV （計算値）● 光子数：2×1012 (photons/sec) @ 100 eV
真空紫外から軟 X 線領域で吸収分光および内殻・価電子帯の光電子分光を用いて，無機・有機材料，
特に燃料電池や磁性材料の化学状態・電子状態の分析を行い，磁性体・超伝導体(薄膜)材料などの原 子間結合の様式および伝導・磁気状態を詳細に解析する．エネルギー範囲としては，K 端でリチウム～ネオン L～M 端でウランまでをカバーする．高分解能の静電半球型光電子分光装置(MB SCIENTIFICAB)と 2 次元位置検出器を備え，電子エネルギーと試料からの電子放出角度(および電子放出位置)を 2
次元マッピングできる．さらに，試料搬入系（試料バンク，準備槽）の工夫により，多数試料の多様な分析を迅速に行うことを可能とする．

BL7U エンドステーション

BL7U フラックス

HOP（高配向熱分解黒鉛）の分析結果

CK端（2016 年 1 月現在）

7

BL8S1（薄膜 X 線回折）
● 光エネルギー：9.16，14.37 keV(波長：0.13～0.09 nm)※現在固定エネルギー運用中：9.16keV● ビームサイズ：0.8 mm×2.0 mm● 分解能(E/ΔE)：＞2000 @ 12 kev（計算値）● 光子数：1×1011(photons/sec) @ 12 keV

有機・無機多層膜の X 線反射率測定や X 線 CTR 散乱測定を迅速・簡便かつ精度よく行えるよう整備されたビームライン．BL8S1 は一結晶分光器を導入するため，回折装置は 2θ 光学台に設置される．
分光結晶に Si（111）を使用した場合、利用可能なエネルギー範囲は 9.15 keV～14.4 keV となる．回折装置はリガク製 SmartLab：放射光仕様の改造機が整備されている．検出器としてシンチレーションカ
ウンタの他に二次元半導体検出器(PILATUS100K)を備え，装置入射部には入射ビーム平行性向上のため二結晶または四結晶分光器が設置可能となっている．表面すれすれ入射条件を利用した薄膜評価や半導体薄膜の結晶性評価，構造変化の解析，応力測定，照射実験が可能である．

分光器

検出器

SmartLab

BL8S1 測定系外観
X 線望遠鏡用多層膜ミラーの反射率測定（2016 年 1 月現在）

8

BL8S3（広角・小角 X 線散乱）
● 光エネルギー：8.2 & 13.5 keV (波長：0.15 & 0.09 nm)● ビームサイズ：0.67×0.14 mm（計算値）● 分解能(E/ΔE)：＞2000 @ 8.2 keV（計算値）● 光子数：7.7×1010 (photons/sec) @ 8.2 keV
X 線小角散乱法により，分子薄膜や繊維など，主に有機・高分子材料の構造を解析する．数 Å から約200 nm までの範囲の構造の測定が可能。自動読取イメージングプレート検出器（R- AXIS

Ⅳ++）と二次元半導体検出器 (PILATUS 100K)を備え，高精度静的測定と時分割測定を可能とする．さらにフ ラットパネル検出器を併設することで小角と高角の同時測定を可能とする．他，Be 窓 X 線イメージイン
テンシファイア付き CCD 検出器（V7739P/ION），サンプルチェンジャーを備える．カメラ長は最大 4m とし，試 料位置に自由度を持たせることでユーザー持ち込みの大型な試料環境装置にも対応する．

レイアウト （カメラ長：4 m）

レイアウト（カメラ長：0.3 m）

小角散乱測定例
SiO2 粉末（100 nm）分散液
X 線波長：1.5 Å
カメラ長：4 m

広角散乱測定例
Si 粉末（NIST 640C）
X 線波長：0.92 Å
カメラ長：278 mm

強度プロファイル

強度プロファイル

（2016 年 1 月現在）

9

□2016 年 1 月現在の共用ビームライン2015 年度から 2 本のビームライン，軟 X 線 XAFS・光電子分光Ⅱ（BL1N2）および名古屋大学による単結晶 X 線回折（BL2S1）の供用を開始した．さらに，供用可能なシフト数を大幅に超える利用申請がある硬 X 線 XAFSⅠの問題解消のための新規ビームライン硬 X 線 XAFSⅡ（仮称）（BL11S2），および企業専用ビームライン（BL2S3）が建設中である．

広角・小角 X 線散乱
BL8S3
真空紫外分光BL7U

2016 年度
供用開始予定硬 X 線 XAFS Ⅱ（仮称）
BL11S2

薄膜 X 線回析BL8S1

アンジュレータ
軟 X 線 XAFS
光電子分光 Ⅰ
BL6N1
粉末 X 線回折
XAFS
BL5S2

軟 X 線 XAFS
光電子分光 Ⅱ
BL1N2
硬 X 線 XAFS Ⅰ
BL5S1
単結晶 X 線回折
（名古屋大学）
BL2S1

企業専用
（建設中）

（2016 年 1 月現在）

10

BL1N2（軟 X 線 XAFS・光電子分光Ⅱ）● 光エネルギー ：500~2000 eV (波長：2.5～0.6 nm)● ビームサイズ ：2×1 mm● 分解能(E/ΔE) ：＞2000 @ 1000 eV（計算値）● 光子数：1×10 11 (photons/sec) @ 1000 eV
軟 X 線領域の吸収端近傍の X 線吸収微細構造分光測定（XAFS）を行い，材料中の原子の結合状態や局所構造を解析する．エネルギー範囲としては 1～2keV の光が利用でき，K 吸収端でナトリウム～
シリコン，L 吸収端で亜鉛～臭素を対象とした，全電子収量法及び窓無し SDD による蛍光収量法を用いた XAFS 測定が可能である．さらに，静電半球型光電子アナライザ（SCIENTA R3000）も備えており，内殻の占有準位の光電子分光測定も可能である．測定チャンバにはロードロック及びサンプル
バンクを備え，複数試料を導入することが可能である．また，トランスファーベッセルを装備しており，製造現場や実使用環境から大気非曝露で試料を導入することができる．なお，トランスファーベ
ッセルとサンプルホルダーは BL6N1，BL7U と共通型であるため，大気非曝露での相互利用が可能である．炭素～シリコンの XAFS 測定を可能とするため，2016 年内に回折格子増設する．
全電子収量法部分蛍光収量法

BL1N2 外観XANES スペクトル（2016 年 1 月現在）

11

BL2S1（単結晶 X 線回折）
● 光エネルギー ：7~17 keV (波長：0.18～0.07 nm)● ビームサイズ ：0.2×0.2 mm● 分解能(E/ΔE) ：＞2000 @ 12 keV（計算値）● 光子数：1.9×10 10 (photons/sec) @ 11.1 keV
湾曲平板の垂直方向の集光ミラー（Pt コート）と，水平分散の非対称結晶三角分光器のビームライン
で，Ge(111)と Ge(110)の分光結晶を交換して使い分けることで 7 ～ 17 keV (0.18～0.07 nm) の広い範囲を使用することが出来る．単結晶Ｘ線回折装置は 2θ 光学台上に設置され，2θ の回転範囲は 12.5
～33.5 度である．試料結晶ゴニオは XYZ ステージ付き高精度高速回 転軸ゴニオで，先端部は凍結タ
ンパク質結晶用のクライオピンがそのまま磁石でマウント出来る標準的な構造である．検出器は二次元検出器(ADSC Q315r または PILATUS 1M) を備え，カメラ長（試料結晶：検出器距離）は 90～342 mm
で可変である．

BL2S1 外観単結晶 X 線回折装置

測定・解析例蛋白質（ソーマチン）の電子密度分布（2016 年 1 月現在）

12

2．利用実績
2.1

2013 年度利用実績

利用者別利用状況○産業利用（大企業、中小企業、産学共同）
は、全体の 70%を占めた。
○大企業の利用は、47％を占め、中小企業の利用も産業利用コーディネータの活動により徐々に増加し、9％に達した。
○大学の利用は、25％を占めており、名古屋大学を始め 16 大学が利用した。

地域別企業利用状況○愛知県内の企業の利用件数は、全体の 52%を占めており、愛知県を含めた中部地域では、63％と最も多くなっている。次いで、関東地域 20％、近畿地域 16％となっており、全国から利用いただいた。

利用企業の業種分野別利用状況○利用企業の業種は、輸送用機械器具の利用が最も多く、34%を占めている。次いで、化学（18%）、セラミックス・窯業・土石（15%）、
電気機器（15%）の順で利用が多くなっており、幅広い産業分野に活用された。

13

2.2

2014 年度利用実績

利用者別利用状況○産業利用は、全体の 66%（大企業 50%、中小企業 8%、産学共同利用 8%）を占めている。
○産業利用の比率は、他施設と比べて高い割合となっている。

地域別企業利用状況○県内企業の利用件数は、全体の 53%を占め、愛知県を含めた中部地域の利用は 66%となっている。
○一方、関東地域は 21%、近畿地域は 11%となっており、全国規模で利用されている。

利用企業の業種分野別利用状況○利用企業の業種は、輸送用機器が最も多い
41%を占めている。
○セラミック・窯業・土石（15%）、電気機器・
電子部品（14%）、化学（12%)など幅広い産
業分野に活用されている。

14

3.5

外部発表リスト

論文発表 2013~2014
主著者

所属

論文誌情報

発表年
号
ページ

タイトル

ビームライン

MahiroShirotori

School of Materials Science,
Japan Advanced Institute of
Science and Technology

Catalysis Science &Technology

20144971-978

One-pot synthesis of furfuralderivatives from
pentoses using solid acid and basecatalysts

BL5S1

HayamiTakedanDepartment of Environmental
and Materials Engineering,
Nagoya Institute of Technology

CERAMICSINTERNATIONAL

2014
40
6503-6507

The coloring of geopolymers by theaddition of copper compounds

BL5S1

大野勝也

イビデン株式会社

環境技術学会誌

2014
43357-365

活性汚泥由来微生物の生成物によるテ
トラクロロエチレンの分解

BL6N1

SatoshiHorikeDepartment of Synthetic
Chemistry and Biological
Chemistry, Graduate School ofEngineering, Kyoto University

ChemComm

Order-to-disorder structuraltransformation
2014of a coordination polymer and its
5010241-10243 influenceon proton conduction

2014
232
89-98

Selective hydrogenation of biomassderived 5-hydroxymethylfurfural(HMF)
to 2,5-dimethylfuran (DMF) underatmospheric hydrogenpressure overcarbon supported PdAu bimetallic
catalystShun

BL5S1

Local Structure and La L1 and L3‑Edge
XANES Spectra of Lanthanum
Complex Oxides

BL5S1

Shun
Nishimura

School of Materials Science,
Japan Advanced Institute of
Science and Technology

Hiroyuki
AsakuraSynchrotron Radiation Research
Inorganic ChemistryCenter, Nagoya University

2014
536048−6053

Hiroyuki
AsakuraSynchrotron Radiation Research
J. Phys. Chem. C.
Center, Nagoya University

Local Structure of Pr, Nd, and Sm
2014
Complex Oxides and Their X-ray
118
Absorption Near Edge Structure
20881-20888
SpectraTetsuya
YamadaResearch Center for Materials
Science $ Development ofChemistry
Nagoya University CREST

2014
2
5183-5188

Catalysis Today

J. Mater. Chem. C

309

BL5S1

The solid-state electrochemical
reduction process of magnetite in Li
batteries: in situ magnetic
measurements toward electrochemicalmagnets

BL5S1

BL5S1

口頭・ポスター発表 2013~2014

主発表者

所属

発表先

発表年

タイトル

ビームライン

竹田美和

あいちSR

名古屋大学経済学部Open College

2013

あいちシンクロトロン光センター―その稼働と利用事例―

竹田美和

あいちSR

繊維学会東海支部、知の拠点あいち

2013

あいちシンクロトロン光センター―その仕様と利用支援体制―

竹田美和

あいちSR

地域計測分析機器情報提供システム

2013

あいちシンクロトロン光センター―計測分析
機器の観点から―

竹田美和

あいちSR

第16回XAFS討論会、東京大学

2013

あいちシンクロトロン光センターとその利用
事例

竹田美和

あいちSR

TECH Biz EXPO 2013

2013

あいちシンクロトロン光センター―機能と利
用事例―

竹田美和

あいちSR

豊田工業大学・局所構造制御研究センター・
最終年度シンポジウム、豊田工業大学

2013

あいちシンクロトロン光センターの概要と局
所構造評価

岡部孝之

日本毛織 株式会社
衣料繊維事業本部

平成25年度繊維学会秋季大会

2013 改質羊毛への銀付着とその抗菌効果

木下武治

ニチバン株式会社

接着学会若手フォーラム2013

天然ゴムの結晶性に及ぼす粘着付与樹脂
の影響調査

BL8S1

重本明彦

和歌山県工業技術セ
表面処理協会 第129回講演大会
ンター

2013

各種成膜法により形成したDLC膜の特性（1）～公設試連携DLCランドロビンテスト：XPS・
分光測色による表面の評価～

BL7U

塚田千恵

名古屋大学大学院
工学研究科

第9回顕微ナノ材料科学研究会放射光表面科学研究会合同シンポジウム

2013

液中プラズマ法で作製したAuナノ粒子と生体分子の吸着反応伊藤孝寛

名古屋大学大学院
工学研究科

物性研究所短期研究会
真空紫外・軟X線放射光物性研究の将来

2013 あいちシンクロトロン光センターBL7Uの現状 BL7U 光源伊藤孝寛

名古屋大学大学院
工学研究科

テクノフェア名大2013
工学が挑む新時代の科学・技術

次世代モノづくりのための先端計測分析施
2013 設「あいちシンクロトロン光センター」の運用
がスタート

竹田美和

あいちSR

名古屋大学経済学部Open College

2014

あいちシンクロトロン光センター―支援体制と利用事例―

竹田美和

あいちSR

平成25年度 光プラットフォーム報告会、
TPK品川カンファレンスセンター

2014

あいちシンクロトロン光センターの施設紹介
および産業利用の取り組み状況

竹田美和

あいちSR

March 12 at SOLEIL, March 14 at ESRF

2014 Aichi Synchrotron Radiation Center

竹田美和

あいちSR

第10会放射光表面科学研究会・第13回顕微
ナノ材料科学研究会
あいち産業科学技術総合センター

2014

竹田美和

あいちSR

December 12 at SLS, 15 at BESSY II, 17 at
ANKA2014 Aichi Synchrotron Radiation Center伊藤孝寛

名古屋大学大学院
工学研究科

第3回名古屋大学シンクロトロン光研究セン
ターシンポジウム

2014 あいちシンクロトロン光センターBL7Uの現状 BL7U 光源伊藤孝寛

名古屋大学大学院
工学研究科

第27回日本放射光学会年会・放射光科学合
同シンポジウム

野内三夫

あいちSR

第27回日本放射光学会年会・放射光科学合
同シンポジウム

岡部孝之

日本毛織 株式会社
衣料繊維事業本部

BL6N1

あいちシンクロトロン光センターの機能と利用制度

あいちSR 真空紫外分光ビームラインBL7Uの現状

BL7U 光源2014

あいちSR 真空紫外分光ビームラインの炭素汚染への取り組み

BL7U 光源平成26年度繊維学会秋季大会

2014

羊毛繊維への銀ナノ粒子の結合状態と抗菌
効果の関係

BL6N1

T.Kinoshita ニチバン

5th WCARP-V （日本接着学会）

2014

Influence of tackfier resin on
crystallization of Natural rubber

BL8S3

竹田美和

あいちSR

日本放射光学会年会・放射光科学合同シン
ポジウム

2014

産業利用を主目的とする放射光施設の整備・運用とその利用状況

竹田美和

あいちSR

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム

2014 あいちシンクロトロン光センターの現状

310

山田哲也

名古屋大学大学院
理学研究科
名古屋大学プレスリリース
物質科学国際研究センター

マグネタイトの二次電池特性と電気化学磁2014 石の開発 －クリーンな磁気スイッチング材料の開発に期待－

BL5S1

野本豊和

あいちSR

XAFS討論会

2014

シリコンK吸収端XAFS測定における散乱X線の影響と低減方法の検討

BL6N1

根岸良太

大阪大学

応用物理学会秋季2014

還元・構造修復に伴う酸化グラフェン薄膜のキャリア伝導機構変化

BL7U

野本豊和

あいちSR

放射光学会年会

2015.１ 軟X線XAFSビームラインBL6N1における深さ分
月
解測定

渡辺義夫

あいちSR

あいち産業科学技術総合センター 産業技術セ
ンター

2014

311

あいちシンクロトロン光センターの中小企業における活用事例

BL6N1

4．利用促進
4.1

放射線業務従事者教育訓練

放射線障害防止法では、放射線取扱事業者に対し、放射線業務従事者への新規教育と年１回の再教育を義務付けています。科学技術交流財団では、2012 年 10 月より、あいちシンクロトロン光センターを利用される方を対象に同法に対応した、放射線業務従事者教育訓練講習会を定期的に開催しています。
【講習内容】（１） 放射線の人体に与える影響

30 分（２） 放射性同位元素等又は放射線発生装置の安全取扱い

4 時間（３） 放射性同位元素及び放射線発生装置による放射線障害の防止に関する法令（４） 放射線障害予防規程

1 時間

30 分

【会場】
あいちシンクロトロン光センター 2 階会議室

2012 年度から開始した放射線業務従事者教育訓練講習会の開催日および受講人数の一覧を以下にまとめる。
平成 24（2012）年度

放射線業務従事者教育訓練講習会

受講実績

新規教育

再教育

合計

1

2012 年 10 月 23 日

-

18

18

2

2012 年 11 月 29 日

4

-

4

3

2012 年 12 月 20 日

11

5

16

4

2013 年 1 月 17 日

7

1

8

5

2013 年 1 月 29 日

-

4

4

6

2013 年 2 月 4 日

3

4

7

7

2013 年 2 月 21 日

10

3

13

8

2013 年 3 月 14 日

4

4

8

9

2013 年 3 月 15 日

9

0

9

10

2013 年 3 月 21 日

6

7

13

54（名）

46（名）

100（名）

合計313

平成 25（2013）年度

放射線業務従事者教育訓練講習会

受講実績

新規教育

再教育

合計

1

2013 年 4 月 12 日

5

-

5

2

2013 年 4 月 25 日

-

3

3

3

2013 年 5 月 10 日

6

5

11

4

2013 年 5 月 23 日

9

1

10

5

2013 年 6 月 14 日

9

3

12

6

2013 年 6 月 27 日

14

4

18

7

2013 年 7 月 12 日

11

6

17

8

2013 年 7 月 25 日

5

1

6

9

2013 年 8 月 9 日

4

1

5

10

2013 年 8 月 22 日

3

1

4

11

2013 年 9 月 13 日

5

4

9

12

2013 年 9 月 26 日

7

4

11

13

2013 年 10 月 11 日

3

2

5

14

2013 年 10 月 24 日

2

1

3

15

2013 年 11 月 8 日

3

-

3

16

2013 年 11 月 28 日

5

1

6

17

2013 年 12 月 13 日

2

1

3

18

2013 年 12 月 26 日

-

-

0

19

2014 年 1 月 10 日

3

1

4

20

2014 年 1 月 23 日

-

5

5

21

2014 年 2 月 14 日

6

3

9

22

2014 年 2 月 27 日

4

6

10

23

2014 年 3 月 14 日

5

5

10

24

2014 年 3 月 27 日

9

3

12

61（名）

181（名）

合計

120（名）

314

平成 26（2014）年度

放射線業務従事者教育訓練講習会

受講実績

新規教育

再教育

合計

1

2014 年 4 月 11 日

8

12

20

2

2014 年 4 月 24 日

3

6

9

3

2014 年 5 月 9 日

4

4

8

4

2014 年 5 月 22 日

11

12

23

5

2014 年 6 月 13 日

10

9

19

6

2014 年 6 月 26 日

5

4

9

7

2014 年 7 月 10 日

2

-

2

8

2014 年 7 月 24 日

3

1

4

9

2014 年 8 月 8 日

4

8

12

10

2014 年 8 月 28 日

9

4

13

11

2014 年 9 月 12 日

5

8

13

12

2014 年 9 月 25 日

13

5

18

13

2014 年 10 月 10 日

7

-

7

14

2014 年 10 月 23 日

4

1

5

15

2014 年 11 月 14 日

7

2

9

16

2014 年 11 月 27 日

7

5

12

17

2014 年 12 月 12 日

10

1

11

18

2015 年 12 月 25 日

2

1

3

19

2015 年 1 月 9 日

1

3

4

20

2015 年 1 月 22 日

8

3

11

21

2015 年 2 月 13 日

5

9

14

22

2015 年 2 月 26 日

7

4

11

23

2015 年 3 月 13 日

11

8

19

24

2015 年 3 月 26 日

4

2

6

合計

150（名）

315

112（名）

262（名）

316

4.2

シンクロトロン光利用者研究会□2013 年度シンクロトロン光利用者研究会開催リスト
XAFS グループ
第1回

内容

開催日

会場

「XAFS 概論」

6月3日

あいち SR センタ
ー 会議室

8月7日

知の拠点あいち
あいち産科技セン タ ー 1F 講 習会室10 月 21 日

あいち SR センタ
ー 会議室

11 月 5 日

あいち SR センタ
ー 会議室

12 月 2 日

あいち SR センタ

名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 田渕雅夫
「Athena による XAFS データ処理」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 朝倉博行
「XAFS 測定の実際」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 朝倉博行
「Artemis による EXAFS データ処理」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 朝倉博行
「軟 X 線 XAFS データ解析」
あいちシンクロトロン光センター 野本豊和
第2回

「XAFS 概論」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 田渕雅夫
「XAFS 測定について」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 朝倉博行
「Athena による XAFS データ処理」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 朝倉博行
「Athena の様々な機能」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 朝倉博行

第3回

「XAFS 概論」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 田渕雅夫
「硬 X 線 XAFS の測定方法と利用事例について」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター朝倉博行「軟 X 線 XAFS の測定方法と利用事例について」
あいち SR センター 野本豊和

第4回

「解析実習」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 朝倉博行

第5回

「XAFS 概論」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 田渕雅夫

ー 会議室

「REX2000 を利用した XAFS 解析実習」
株式会社リガク 田口 武慶
第6回

11 月 21 日「解析実習」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 朝倉博行

第7回

ー 会議室
2月6日

「実地研修」
あいち SR センター 野本豊和

317

あいち SR センタ
AichiSR BL6N1

光電子分光グループ
第1回

内容

開催日

会場

「実地研修」

3 月 14 日

AichiSR BL7U

内容

開催日

会場

「実地研修」

3 月 14 日

AichiSR BL8S3

内容

開催日

会場

「Rietveld 解析入門」物質・材料研究機構 泉富士夫

8月6日

あいち SR セン
ター 会議室12 月 4 日

あいち SR セン
ター 会議室2 月 28 日

AichiSR BL8S1

開催日

会場

8月5日

知の拠点あいち
あいち産科技センター 1F 講習
会室

名大シンクロトロン光研究センター
伊藤孝寛 中村永研
あいち SR センター

杉山陽栄

小角散乱グループ
第1回

あいち SR センター
加藤一徳 佐久間靖博 酒井久資
X 線回折散乱グループ
第1回「粉末回折法概論」 名古屋工業大学 准教授 井田隆「RIETAN-FP 用 GUI について」
フィゾニット坪田雅己「解析実習」
第2回

名古屋工業大学 准教授 井田隆「あいちシンクロトロン光センター BL8S1 の現状」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 岡本渉「粉末回折法概論」

日亜化学工業 川村朋晃

「X 線反射率による薄膜積層構造の測定と表面散乱によるナノ構造の解析」
第3回

株式会社リガク 表和彦「実地研修」
名古屋大学シンクロトロン光研究センター
桜井郁也 岡本渉
あいち SR センター

吉村倫拓

その他
内容
入門講習

「あいちシンクロトロン光センターの紹介と利用事例」

会

あいち SR センター

東博純

AichiSR 実験ホール見学
シンクロトロン光実験デモンストレーション（XAFS・XRD）

318

□2014 年度シンクロトロン光利用者研究会開催リスト
XAFS グループ
第1回

内容

開催日

会場

「実地研修」

5 月 29 日

AichiSR BL5S1

5 月 30 日

AichiSR BL6N1

6月2日

知の拠点あいち
あいち産業科学技術総合センター 講習会室

9 月 16 日

あいち SR センタ
ー 支援室会議室
あいち SR センタ
ー 小会議室名古屋大学シンクロトロン光研究センター
朝倉博行 森本浩行
第2回「実地研修」
あいち SR センター 野本豊和

第3回

「XAFS 概論」

名古屋大学 田渕雅夫

「硬 X 線 XAFS の典型的な測定例と測定手法」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 朝倉博行
「硬 X 線ビームライン BL5S1 の測定例と現状」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 森本浩行
「軟 X 線ビームライン BL6N1 の測定例と現状状」
あいち SR センター 野本豊和
「真空紫外分光ビームライン BL7U の測定例と現状」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 中村永研
第4回

「解析実習」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 朝倉博行

第5回

9 月 29 日「解析実習」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 朝倉博行

第6回

3 月 16 日

あいち SR センタ
ー 小会議室

内容

開催日

会場

「実地研修」
名古屋大学シンクロトロン光研究センター
伊藤孝寛 中村永研
あいち SR センター
鎌田雅夫 杉山陽栄「実地研修」
名古屋大学シンクロトロン光研究センター
伊藤孝寛 中村永研
あいち SR センター
鎌田雅夫 杉山陽栄「実地研修」
名古屋大学シンクロトロン光研究センター
伊藤孝寛 中村永研
あいち SR センター
鎌田雅夫 杉山陽栄

6 月 19 日

AichiSR BL7U

6 月 25 日

AichiSR BL7U

1 月 29-30 日
2 月 24 日

AichiSR BL7U

「解析実習」
名古屋大学 シンクロトロン光研究センター 朝倉博行

光電子分光グループ
第1回

第2回

第3回

319

小角散乱グループ
第1回

内容

開催日

会場

「実地研修」
あいち SR センター
加藤一徳 佐久間靖博 酒井久資

5 月 27 日

AichiSR BL8S3

内容

開催日

会場

「実地研修」
あいち SR センター 中西裕紀 佐久間靖博「RIETAN-FP によるリートベルト解析の勘所」
名古屋工業大学 教授 泉富士夫
「粉末回折法概論」
名古屋工業大学 教授 井田隆「解析実習」
名古屋工業大学 教授 井田隆「実地研修」
あいち SR センター 吉村倫拓 酒井久資
「シンクロトロン光を利用した粉末 X 線回折」
名古屋工業大学 井田隆「RIETAN-FP と周辺ソフトを活用したシンクロトロン
光粉末 X 線回折データの解析」
名古屋工業大学 泉富士夫
あいち産科技センター高度分析機器・AichiSR 見学会

5 月 29 日

AichiSR BL5S2

7月7日

あいち SR センタ
ー 会議室

12 月 18-19 日

AichiSR BL8S1

3月5日

あいち SR センタ
ー 会議室

内容
第 10 回放射光表面科学研究部会
第 13 回顕微ナノ材料科学研究会

開催日
7 月 31 日－8
月1日「あいちシンクロトロン光センターの紹介と利用事例について」
あいち SR センター 東博純「あいち産業科学技術総合センターの高度計測分析機器との連携について」 あいち産科技センター 中尾俊章
「あいちシンクロトロン光センターのビームラインの現状について」
AichiSR 各ビームライン担当者
AichiSR ビームラインの見学（6 本分）

8月6日

会場
知の拠点あいち あいち産業
科学技術総合センター 講習会室
あいち産業科
学技術総合センター１階講習会室

X 線回折散乱グループ
第1回
第2回

第3回
第4回

1 月 29-30 日

その他
合同シン
ポジウム
（協賛）

入門講習
会

320

著作権法に基づき、本書のいかなる形式の複製、転記も当センターの事前の許可が必要です。

あいちシンクロトロン光センター

2013・2014 年度 年次報告2016 年 3 月発行

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あいちシンクロトロン光センター〒489-0965 愛知県瀬戸市南山口町 250 番 3
tel：0561-76-8331
fax：0561-21-1652
mail：riyou@astf.or.jp