TANIOBIS

om～タンタルとニオブ材料のご紹介～

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cタンタルとニオブについて
今日、タンタルとニオブは多岐にわたる分野で使用されています。
また、日々進歩する各製造技術分野からも注視される元素となっています。
タンタルは、高密度で熱伝導および導電性が高く、金属全種のなかで4番目に融点が高い特徴があります。
また、優れた誘電体皮膜を形成する特性を生かし、コンデンサー向けに多く実使用されています。
ニオブは延性があり、耐酸化、耐腐食に優れています。

これらの特性によってタンタルとニオブは、モノのインターネット（IoT）や人工知能（AI）、スマートファクトリー、電気自動車、そして車間通信といった最新技術の機能材料として実用および検討されています。

TANIOBIS 社について

06

当社の製品群について

08

ソリューションのご提案

09

持続可能な資源活用

12

生産プロセス13

製品のご紹介
酸化物

14

金属粉末

18

AMPERTEC® 塩化物

20

化合物22

合金用添加材23AMtrinsic® 3Dプリンター用金属粉末

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Photo by Luke Chesser on Unsplash

小型化に最適な材料－タンタル

Photo by Luke Chesser on Unsplash

電子機器のトレンドのひとつに小型化があります。
電子部品もより小型、多機能が要求さまた、当社が開発したタンタルのペースト技術は容積効率タンタルコンデンサーに用いられ、スマートフォンやパソコン等の製 品の小型化に貢献しいます。

れ、タンタルはこのトレンドで重要な役割を果たしています。
タンタル粉は、小型大容量のに優れ、超薄型コンデンサーなどへの応用が期待されてています。

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TANIOBIS 社について

TANIOBIS GmbH, Goslar
TANIOBIS Smelting GmbH & Co. KG, Laufenburg

タンタルとニオブのリ－ディングメーカー

TANIOBIS USA LLC, Needham, MA

当社はタンタルとニオブ材料メーカーで、60年以上の事業活動

TANIOBIS Co., Ltd., Map Ta Phut歴がございます。
コンデンサーやスパッタリングターゲット用の金属粉末をはじめ、光学産業用の高純度酸化物、水酸化物、塩タニオビス・ジャパン株式会社（水戸）化物、シュウ酸といった特殊化合物、ニッケルニオブ合金等をラタニオビス・ジャパン株式会社（東京）インアップしています。

Sales Office

当社は、IoT、車間通信、スマートファクトリー、3Dプリンター等のアプリケーションにソリューションを提案しています。

ドイツはGoslar工場とLaufenburg工場、日本は水戸工場、タイはMap Ta Phut工場の計4製造拠点がございます。

Manufacturing Site

バリューチェーンにおけるコア
コンピタンス採鉱

当社はタンタルとニオブを含む様々リサイクル高性能材料を製造する技術を開発し• スクラップ、スラグ等のな一次および二次原料から、• 選別、精錬、高純度化、• 形状制御工程• 金属粉、酸化物、化合物の生産二次原料リサイクルています。

精錬

最終製品

スパッタリングターゲット• コンデンサー、• 光学産業用材料• 合金用添加材• 最終製品（電子デバイス、タービン等）

ケミカルプラント
前処理工程

原料調達
• タンタル・ニオブ鉱石• スラグ• スクラップ製造

ケミカル工程 / メタル工程• 精錬設備で低品位原料の品位向上

選別工程

メタルプラント
前駆体・製品の析出• フッ化タンタル酸カリウム• 原料溶解• 溶媒抽出工程

K₂TaF₇• 五酸化タンタル Ta₂O₅• 五酸化ニオブ Nb₂O₅

金属への還元• ナトリウム還元• マグネシウム還元

粉末精製• 流動性の向上• 粒子形態の最適化• さらなる高純度化
（脱酸素）

品質保証
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ソリューションのご提案
Photo by NASA on Unsplash

当社の製品群について

当社は、顧客のニーズに応えるソリューションを提供いたします。
当社の製品群は、コンデンサー用金属粉末、高純度金属粉末、高純度酸化物、合金用添加材、3Dプリンター用金属粉末、化合物・塩化物の6種類から成ります。

主要製品群

主な用途コンデンサー

コンデンサー用タンタル粉末• パソコン、タブレット端末、携帯端末、• 中容量粉末• 電気通信インフラ

金属粉末• ICチップ

• 焼結用

• 半導体

• 高耐圧粉末
高純度金属
粉末

合金用添加材

高純度酸化物

3Dプリンター用• スパッタリングターゲット用

テレビ• 五酸化ニオブ (Nb₂O₅)

ガスインフラ• 石油、高純度酸化物• 光学レンズ• 五酸化ニオブ• SAWフィルタ

AMtrinsic® タンタル・ニオブニオブ酸塩類等

ソリューション提案

タービン• 圧電セラミックス• 医療用および歯科用インプラント

金属粉末とその合金粉末• 超伝導化合物・塩化物• AMPERTEC® 塩化物• CVD 前駆体

• 化合物

圧電セラミックス用• フラッシュメモリ、DRAM• ジェットエンジンおよび産業用ガス• 五酸化タンタル

化学量論、相組成
ドーピングレベル• コネクテッドカー

合金用添加材• ニッケルニオブ合金 (40/60)のノウハウを活かし、それぞれのプロセスに適したソリューションをご提案します。

マーケット分野• 大容量粉末顧客とのコミュニケーションを通し、さまざまなニーズの具現化に努めています。事業活動にて蓄積した精製技術や粉体 形状制御技術等

加工性

機能性

マクロ、メソ、ミクロ
多孔的形状

化学純度、相純度

スパッタリングターゲット用金属粉末、単結晶用途酸化物、CVD用塩化物

コスト

コンデンサー用金属、スパッタリングターゲット用酸化物等• 航空宇宙エンジンシステム• 圧電素子湿式精錬

抽出、沈降、結晶化、ろ過

高温処理

不活性雰囲気、酸化雰囲気、還元雰囲気

機械処理

混合、粉砕、ふるい分け、造粒(1) CV refers to Capacitance and Voltage89

未来のモビリティ

2030年までに、完全自動運転の割合は40%に、車の全販売台数に占める電気自動車の割合は55%に達するといわれています。

自動車用電子技術は、車内のエンタテイメントからエアバッグ、アンチロック・ブレーキ・システム(ABS)や先進運転支援システム(ADAS)等多岐に渡ります。高耐圧コンデンサー用タンタル粉末は高信頼性、広温度帯域特性、低漏れ電流特性から信頼性が重要な自動車用途に適しています。

Photo by Maximalfocus on Unsplash1011

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持続可能な資源活用

生産プロセス

当社は2種類の資源調達を実施しています。
1つは一次原料である鉱石で、厳格な倫理基準に基づいた資源ソースから調達しています。
もう1つはスクラップやスラグといった二次原料の調達で、各産業にて排出されるスクラップ等からタンタル、ニオブを精製し再製品化する循環型資源活用を行っています。

当社は、タンタルやニオブに関する上流工程から下流に至る乾式・湿式のプロセスを有しており、優れた特性を持つタンタル・ニオブの材料を提供しています。

有価物リサイクル(direct and through the recycling market)

採鉱

原料

加工製品

顧客

紛争鉱物フリー精錬業者
当社は、OECDの定める「紛争地域および高リスク地域からの鉱物の責任あるサプライチェーンのためのデューディリジェンスガイダンス」に基づき、「責任ある、倫理に基づいた原料調達」
を行っており、監督業務・鉱山の選定・商業活動に関し下記組織のデューディリジェンスに則っています。

• international Tin Supply Chain initiative (iTSCi, 正会員)
• Responsible Minerals Initiative (RMI, 正会員)

• Responsible Supply Chain Management (RSCM)

また、
当社は紛争鉱物フリー精錬業者であり、すべての製造所においてRMAP(ResponsibleMinerals Assurance Process: 責任ある鉱物調達プロセス)の査定協定に準じた活動をしています。

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酸化物
当社では様々なアプリケーションに対応すべく、幅広いグレードの五酸化タンタルおよび五酸化二オブ製品を用意しています。
顧客とのコミュニケーションを通し、さまざまなニーズの具現化に努めています。

五酸化タンタル Ta₂O₅

純度

物理的特性

主な用途

ケミカリーピュア
グレード

99.9%

D10% < 1 μm
D50% < 2 μm
D90% < 100 μm•
•••

炭化物
触媒
耐火物
合金用添加物

セラミックグレード

99.9%

D10% < 0.5 μm
D50% < 2 μm
D90% < 5 μm

•••
•

炭化物
セラミックスエレクトロセラミックス
顔料

高純度光学グレード

99.98%HPO 400:
400 μm 以下品
HPO 600:
600 μm 以下品
HPO 1000:
1000 μm 以下品• 光学レンズ

D10% < 20 μm
D50% < 40 μm
D90% < 60 μm• 光学レンズ• スパッタリングターゲット

D10% 0.3 - 0.5 μm
D50% 1.0 - 2.0 μm
D90% 5.0 - 60 μm• 光学レンズ• スパッタリングターゲット• 単結晶

高純度光学グレード A

LTグレード99.99%

99.995%

Purity min.

Physical Characteristics

Main Application

ニオブ酸リチウムグレード (LN)

99.995%

D10% 1.0 - 1.5 μm
D50% 4.0 - 7.0 μm
D90% 20 - 100 μm• 単結晶• 高純度用

スパッタリングターゲット
グレード (SPT-A)

99.995%

D10% >15 µm
D50% 25 - 50 µm
D90% 40 - 70 µm• スパッタリングターゲット

水酸化ニオブ
当社の水酸化ニオブはニオブ化合物・触媒・エレクトロセラミクスの前駆体として使われています。
未焙焼粉、30-60%の含水で対象物との均一混合に適しています。

五酸化ニオブ Nb₂O₅

純度

合金製造用グレード99.0%

ケミカリーピュア
グレード

99.9%

D10% < 1 μm
D50% < 2 μm
D90% < 100 μm

•••
•

炭化物
触媒
耐火物
顔料

セラミックグレード

99.9%

D10% < 0.5 μm
D50% < 1 μm
D90% < 2 μm

•
••
•

炭化物
圧電フェライト積層セラミックコンデンサー (MLCC)
顔料

高純度光学グレード

99.98%HPO 400:
400 μm 以下品
HPO 600:
600 μm 以下品
HPO 1000:
1000 μm 以下品• 光学レンズ• コーティング

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物理的特性

五酸化ニオブ Nb₂O₅

主な用途• 合金用添加物• 超合金

水酸化ニオブNb(OH)₅

化学的特性

モイスト
（アモルファス構造）

五酸化ニオブ量30%以上
フッ素(F) 0.5%以下
強熱減量 70%以下
アンモニウム(NH₄) 3 - 5%ミルド

五酸化ニオブ量 60%以上
フッ化物(F) 0.5%以下
強熱減量 40%以下
アンモニウム(NH₄) 3 - 5%

クラッシュド

五酸化ニオブ量 60%以上
フッ化物(F) 0.5%以下
強熱減量 40%以下
アンモニウム(NH₄) 3 - 5%

物理的特性

用途
• 触媒やエレクトロセラミックス等に使 われる、
ニオブ化合物生産
用ニオブ前駆体D10% < 2 μm
D50% < 10 μm
D90% < 80 μm15

より良いコネクティビティを目指してワイヤレスデータアクセスや高速情報処理化が進む中、電子機器も小型化、高速化、そして省エネ等が求められています。

当社は、タンタルとニオブの材料を通し、これらの電子機器の進化に貢献してまいります。

Photo16 by iStock17

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金属粉末
当社では電気自動車や車のイグニッション・エンジン操作機器、宇宙開発等に対応すべく、様々なタンタルとニオブの金属粉末を提供しています。

例えば、高耐圧コンデンサー用の金属粉末は、自動車や医療分野（植込み型除細動器ICDなど）等の高い信頼性が求められる用途で用いられています。
また、航空技術やエネルギー産業分野では、耐食性タービン翼のための合金用添加材として使用されています。更に、超薄型電子機器のためのタンタルペーストや3Dプリンター用のタンタルとニオブの金属粉末および合金粉末など、様々な用途の商品が含まれます。

タンタル金属タンタル

純度ナトリウム還元法によるコンデンサーグ
レード• タンタルコンデンサー

マグネシウム還元法によるコンデンサー
グレード• 大容量タンタルコンデンサー• 高耐圧タンタルコンデンサー• 医療用

焼結グレード• 加工品• ワイヤー

スパッタリングターゲットグレード• スパッタリングターゲット

AMPERTEC® 高純度タンタル粉末
タンタルペースト

主な用途

99.9%

高CV タンタルペースト

ニオブ

• 医療用
• 大容量タンタルコンデンサー

純度

主な用途

金属ニオブ

AMPERTEC® 高純度ニオブ粉末

99.9%

• 医療用

AMtrinsic® 球状粉末

Oxygen (ppm)

純度

主な用途

球状タンタル粉末< 400• 3D プリンター用金属粉末

球状ニオブ粉末< 600• 3D プリンター用金属粉末

1819

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AMPERTEC® 塩化物
五塩化タンタル(TaCl₅)、五塩化ニオブ(NbCl₅)

五塩化モリブデン(MoCl₅)

当社で製造している AMPERTEC® 五塩化タンタル(TaCl₅)および五塩化ニオブは(NbCl₅)は、タンタル・二オブの高反応性化合物です。

当社品は比較的粒子径が大きく、工程中の粉塵飛散が少ない、吸湿AMPERTEC®
五塩化モリブデンMoCl₅

純度

物理的特性

主な用途

MoCl₅99.9%

粒子直径 : 2 mm
以下性状: 黒色結晶
融点: 194 °C
かさ密度: 0.5-0.7 g/cm³• 触媒• CVD 前駆体

しにくい、充填性が向上するなどの利点があります。半導体グレード
AMPERTEC®塩化物は、市中品で最高純度の粉末です。

四塩化酸化タングステン
四塩化酸化タングステンは当社のAMPERTEC® 塩化物ラインナップとして新たに加わった製品です。
触媒やコーティングの用途に最適な粉末です。
純度が高く金属不純物が少ないため、AMPERTEC® 五塩化ニオブ
NbCl₅

純度

物理的特性

主な用途

ハイエストピュアリティグレード

99.93%• CVD 前駆体
• 各種合成ハイピュアリティグレード

99.995%

粒子直径: < 3 mm
以下性状: 黄色結晶
融点: 204 °C
かさ密度: 約 1.7 g/cm³

AMPERTEC® 五塩化タンタル
TaCl₅

純度

物理的特性

主な用途

ハイエストピュアリティグレード

99.93%• CVD 前駆体
• 各種合成ハイピュアリティグレード

99.995%

粒子直径: < 3 mm
以下性状: 白色結晶
融点: 216 °C
かさ密度: 1.9 - 2.4 g/cm³

半導体グレード

99.999%• 触媒• コーティング
• 積層セラミックコンデンサー(MLCC)

AMPERTEC®
四塩化酸化タングステン WOCl₄

純度

物理的特性

主な用途

WOCl₄

99.9%

粒子直径: 2 mm
以下性状: 橙色結晶
融点: 211 °C

•••
•

触媒
ゾルゲル
CVD 前駆体
各種合成• 触媒• コーティング
• 半導体

六塩化タングステン(WCl₆)
AMPERTEC® 六塩化タングステンは反応性が高く、触媒用等に使用されています。

AMPERTEC®
六塩化タングステンWCl₆

純度

物理的特性

主な用途

WCl₆99.9%

粒子直径: < 2 mm
以下性状: 黒 紫色結晶融点: 282 °C
かさ密度: 1.2 g/cm³• 触媒• CVD 前駆体
• 各種合成2021

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化合物

合金用添加材当社のシュウ酸ニオブアンモニウム(NAmOx)は水溶性で、大気中で不活性な白色の結晶化合物です。混合に有機溶剤を融点が高く、高い耐酸化性・耐食性を誇るニッケルニオブ合金は、高温部の部品へ使用される超合金の重要な構成元素必要とせず、触媒製造用添加剤等に適しています。

シュウ酸ニオブアンモニウム

化学的特性

溶解性

用途

NAmOx

ニオブ 19%以上
蓚酸イオン 50 - 65%
アンモニア 2%以上

60 - 230 g/l Nb₂O₅(=40 - 160 g/l Nbat 20 - 70 °C)••••

鉄鋼材料にニオブを含む超合金を添加することにより、機械のパフォーマンス、燃料燃焼、安全性を向上させ、設備保全に貢献します。材料の特性劣化を緩和し、熱応力における亀裂の形成を防ぎます。
その他合金添加用としてタンタル棒も触媒
フェライト
エレクトロセラミックス
顔料

シュウ酸ニオブアンモニウムの他、当社は水溶性のシュウ酸タンタルおよびシュウ酸二オブもラインアップしています。

これらの製品はモルレベルでの混合物に適しています。

水溶液化

化学的特性

主成分

濃度

用途

シュウ酸ニオブ

五酸化ニオブ 90 - 270 g/l
蓚酸イオン 150 - 400 g/l
塩素 50 mg/l 以下
フッ素 500mg/l以下

190 g/l 五酸化ニオブ

1.15 - 1.40 g/cm³

•
•
•
•

五酸化タンタル60 - 200 g/l
蓚酸イオン 30 - 320 g/l
塩素 50 mg/l 以下
フッ素 500mg/l以下

160 g/l 五酸化タンタル

シュウ酸タンタル

1.10 - 1.30 g/cm³です。
引張り応力や振動・衝撃のある環境下においてその効果を発揮します。

触媒
フェライト
エレクトロセラミックス
顔料• 触媒• エレクトロセラミックス

取り扱っています。

製品

純度

ニッケルニオブ合金

五酸化ニオブ
合金製造用グレード

99.0%

化学・物理的特性

主な用途

40/60
Nb-含有量 58 - 65%
50mm 以下の塊状合金用添加材

強熱減量: 0.2% 以下
タップ密度: 1.3 - 1.4 g/cm³

合金用添加材

ニッケルニオブ合金• 製造方法： 金属熱還元• 二オブ含有量： 58 - 65 wt%• 形状： 塊状

（平均: 5 x 50 mm)• サイズ• 梱包方法： 様々な梱包方法に対応いたします。

無機化合物である二オブ酸塩類は、二オブと他種金属の複合酸化物です。
この材料は圧電セラミックス等のエレクトロセラミック部品に使用されます。
当社ではニオブ酸塩類としてニオブ酸カリウム、ニオブ酸マグネシウムの他、ニオブ酸コバ
ルト、ニオブ酸リチウム、ニオブ酸ランタン等を生産しています。

ニオブ酸塩類化

化学的特性

物理的特性

用途

ニオブ酸カリウム

カリウム 21.0 - 22.8%
ニオブ 49.7 - 52.3%
強熱減量 0.5% 以下

表面積 (BET)2 - 4 m²/g

• PZT(チタン酸ジルコニウム鉛）への添加• 圧電セラミックス

ニオブ酸マグネシウム

マグネシウム 7.7 - 8.3%
ニオブ 59.9 - 61.1%
強熱減量 0.2% 以下

D10% < 2 μm
D50% < 10 μm
D90% < 80 μm• PMN（ニオブ酸マグネシウム鉛）の前駆体• 圧電セラミックス

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AMtrinsic®
3Dプリンター用金属粉末

AMtrinsic® 球状粉末の粒径は、レーザービーム溶解方式(LBM)には10-63µm、電子ビーム溶解方式(EBM)には63-105µm、となっています。

また、御要望に合わせて調整が可能です。

当社のタンタル・ニオブ粉末製造技術を生かし、アトマイズ法によるAMtrinsic®3Dプリンター用金属粉末を開発いたしました。
優れた流動性、高いタップ密度、サテライトのないきれいな粉末球状、そしてシャープな粒径分布がその特徴です。

AMtrinsic® 球状粉末

酸素(ppm)*流動度(s)*

タップ密度(g/cm3)*

主な用途

タンタル粉末(Ta)< 400< 12 (0.1 inch)< 3 (0.2 inch)

10 - 11• 医療インプラント• デザイン自由度が要求される高耐食性用途• 化学処理工程における高耐食と耐熱用途

ニオブ粉末(Nb)< 400< 20 (0.1 inch)< 5 (0.2 inch)>4.5• 高耐食と耐熱用途• 超伝導用途

チタン・ニオブ・タンタル粉末(Ti/Nb/Ta)< 3000< 33 (0.1inch)< 6 (0.2inch)

2.5 - 4.5

• 次世代のカスタムメイド医療インプラントチタンニオブ (Ti42Nb)
粉末

>3000

< 18 (0.1 inch)< 7 (0.2 inch)

2.5 - 4.5

• 高弾性率と高強度を必要とする材料用途

タンタル・タングステン粉末(Ta/W)< 800< 10 (0.1 inch)< 3 (0.2 inch)

10 - 12• 耐熱・耐食部品（例：航空宇宙用途）

ニオブ・タンタル・タング
ステン・ジルコニム粉末(Nb/Ta/W/Zr) (FS85)< 500< 12 (0.1 inch)< 3 (0.2 inch)>6• 耐熱、高強度、高クリープ特性材料(例:航空宇宙用途)

ニオブ・ハフニウム・チタン粉末(Nb/Hf/Ti) (C103)< 350< 15 (0.1 inch)>5• 耐熱、高強度合金（航空宇宙用途）< 6 (0.2 inch)• 形状記憶合金• 医療用途

チタン・タンタル粉末(Ti/Ta)

開発中ハイエントロピー合金
粉末

ご要望による組成のカスタマイズに対応• 高耐食と耐熱用途* 粒径 63 μm以下品での代表値です。
ご要望に応じ、他の合金も対応可能です。

• 低酸素• 高タップ密度• サテライトレス• 高流動性3D プリンターや金属粉末射出成形（メタルインジェクションモールディング）
用に最適

AMtrinsic® 球状タンタル粉末

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医療機器用3Dプリンター用金属粉末

歯科、整形外科、インプラント等の医療分野においては、個々人に最適な医療製品を提供することが求められており、3Dプリンター技術が普及すると言われています。当社の AMtrinsic® タンタル・ニオブ球状粉末は3Dプリンター技術に適しており、優れた機械特性や生体適合性をもつ医療製品の造形に貢献します。

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ヨーロッパ

アメリカ

アジア

TANIOBIS GmbHIm Schleeke 78 - 91
38642 Goslar
Germany
Phone: +49 (0) 5321 751-0

TANIOBIS USA LLC
144 Gould Street, Suite 207
Needham, MA 02494
United States
Phone: +1 617 991 0574

タニオビス・ジャパン株式会社〒105-0001
東京都港区虎ノ門二丁目10番４号
オークラプレステージタワー14F
Phone: +81 3 6433 6800

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