微細加工ナノプラットフォームコンソーシアム

Nanofabrication
Platform
Consortium

微細加工ナノプラットフォームコンソーシアム 代表機関 京都大学 事務局
The administrative office of the Nanofabrication Platform Consortium, Kyoto University〒606-8501 京都市左京区吉田本町 総合研究1号館・プロジェクトラボ 301号室
Research Bldg. No.1/Project Lab.301, Yoshida-Honmachi, Sakyo-ku, Kyoto 606-8501

Tel : 075-753-5656 Fax : 075-753-5658
Tel : +81-75-753-5656

Fax : +81-75-753-5658

微細加工ナノプラットフォーム
コンソーシアムWebサイト

微細加工ナノプラットフォーム
紹介ムービーE-mail : nanoplat@t.kyoto-u.ac.jp
URL : http://nsn.kyoto-u.ac.jp

facebook : https://www.facebook.com/NanofabricationPlatform

http://nsn.kyoto-u.ac.jp
2019/08

目 次

Contents

ナノテクノロジープラットフォーム事業 …………………………………………………………………………………………………… 01-02

Nanotechnology Platform Japan

微細加工ナノプラットフォームコンソーシアムの概要 …………………………………………………………………………… 01-02

Outline of the Nanofabrication Platform Consortium ………………………………………………………………………… 01-02

研究領域・各拠点分布図 …………………………………………………………………………………………………………………………… 01

Research Area / Location of Institutions ……………………………………………………………………………………………… 01

施設利用の形態／ご利用方法／成果の取り扱い／利用料のお支払いについて ……………………………… 03-04

Types of use / How to use / Publicizing results / Rates for support ……………………………………………… 03-04………………………………………………………………………………………………………… 01-02

実施機関

Participating Institutions■ 北海道大学■ Hokkaido University■ 東北大学■ Tohoku University■ 物質・材料研究機構■ National Institute for Materials Science (NIMS)■ 産業技術総合研究所■ The National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)■ 筑波大学■ University of Tsukuba■ 東京大学■ The University of Tokyo■ 早稲田大学■ Waseda University■ 東京工業大学■ Tokyo Institute of Technology■ 名古屋大学■ Nagoya University■ 豊田工業大学■ Toyota Technological Institute■ 京都大学■ Kyoto University■ 大阪大学■ Osaka University■ 香川大学■ Kagawa University■ 広島大学■ Hiroshima University■ 山口大学■ Yamaguchi University■ 北九州産業学術推進機構■ Kitakyushu Foundation for the Advancement of Industry, Science and Technology………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 05

創成研究機構／ナノテクノロジー連携研究推進室………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 07

ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 09

NIMS微細加工プラットフォーム………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 11

AISTナノプロセシング施設………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 13

筑波大学微細加工プラットフォーム………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 15

超微細リソグラフィー・ナノ計測拠点／大学院工学系研究科 システムデザイン研究センター 基盤デバイス研究部門………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 17

ナノ・ライフ創新研究機構／ナノテクノロジーリサーチセンター………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 19

科学技術創成研究院未来産業技術研究所………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 21

施設・機器共用推進室／ナノテクノロジープラットフォーム機構………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 23

研究設備共同活用センター／ナノテクノロジープラットフォーム部門………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 25

学際融合教育研究推進センター／ナノテクノロジーハブ拠点………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 27

ナノテクノロジー設備供用拠点………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 29

産学連携・知的財産センター／ナノテクノロジー支援室………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 31

ナノデバイス・バイオ融合科学研究所／微細加工支援室………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 33

大学研究推進機構／微細加工支援室………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 35

共同研究開発センター………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 05

Office for the promotion of nanotechnology collaborative research, Creative Research Institution………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 07

Nanofabrication Platform, Center for Integrated NanoTechnology Support (CINTS)………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 09

NIMS Nanofabrication Platform………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 11

AIST Nano Processing Facility………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 13

Nanofabrication Platform………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 15

Ultrafine Lithography and Analysis Center / System Design Center, School of Engineering………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 17

Research Organization for Nano & Life Innovation / Nanotechnology Research Center………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 19

Laboratory for Future Interdisciplinary Research of Science and Technology (FIRST), Institute of Innovative Research (IIR)………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 21

Technical Center of Nagoya University Equipment Sharing Promotion Office / Nano Technology Platform Consortium………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 23

Center for Sharing Research Facilities / Branch of Nanotechnology Platform TTI Nanofab Platform for Hybrid “Monozukuri”………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 25Center for the Promotion of Interdisciplinary Education and Research / Nanotechnology Hub………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 27

Nanotechnology Open Facilities………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 29Center for Industrial-Academic Partnership and Intellectual Property / Support Office for Nanotechnology………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 31

Research Institute for Nanodevice and Bio Systems / Nano Processing Support Office………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 33

Organization for Research Initiatives / Support Laboratory of Nano Fabrication………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………… 35

FAIS Semiconductor Centerナノプラットフォームについて About Nanotechnology Platform Japan
ナノテクノロジープラットフォーム事業

Nanotechnology Platform Japan

微細加工、微細構造解析、分子・物質合成の３つの技術分野をカバーします。
微細加工 FABRICATION
金属・半導体・セラミックスなどへのナノレベルの微細な構造の作り込
み、デバイス試作支援。

微細構造解析 CHARACTERIZATION［

16の支援機関］

分子・物質合成 SYNTHESIS

最先端の電子顕微鏡、
放 射 光、強 磁 場 NMRなどの微細な構造解析手法による解析支援。
［ 11の支援機関］

新 規 の 無 機・有 機
材料の合成を支援。
［

10の支援機関］

微細加工ナノプラットフォームコンソーシアムの概要

Outline of the Nanofabrication Platform Consortium

大学 や 研究機関 の 微細加工装置／技術 を自由に使うことができます。
・大学にある最先端のプロセス、評価装置を時間単位 で使うことができます。

例えば・・・

・デバイスに最適な 材料／構造／プロセスの選定から作製方法まで相談 できます。
・専任の技術スタッフが 装置の選定からオペレートまで丁寧に指導します。

加工プロセス
の一例

薄 膜 形成リソグラフィ

エッチング

ご利用できる装置はナノテクジャパンのイエローページ
https://www.nanonet.go.jp/yp/で検索できます。

バイオ＆ライフサイエンス
化学＆分子テクノロジー

Chemistry &Molecular-Scale Technology

ナノエレクトロニクス

京都大学 Kyoto University

Photonics

東北大学 Tohoku University
物質・材料研究機構

The Nanofabrication Platform Consortium (NFPC)
contributes to enhance your R&D capability in the nano- andmicro-scale regions to a world-class level, through the use ofleading-edge facilities of 16 shared open and geographically
distributed participating institutions, each with specific areasof technical excellence. The usage of the facilities areclassified into 5 categories as will be described later, thus
making it possible to realize area- and institution-independent research environments for any scientist and engineer.

This will contribute to the mobility of talented persons
and the internationalization of research environments.
Under the management of the administrative office inKyoto University, consortium participants strive to enhance
the supporting service in cooperation with each other.
Using the “one-stop service” , you can find the institution
to meet your requirements. The inquiry portal can be foundat http://nsn.kyoto-u.ac.jp/. The coordinator will help you to
contact the institution.

専属コーディネータが、最適な支援機関をご紹介します。
代表機関のコーディネータによる地域の連携および支援機関の連携

National Institute for Materials Science (NIMS)

大阪大学 Osaka University

Nanoelectronics

フォトニクス

評 価評 価北海道大学 Hokkaido University

代表機関 The administrative office
Bio- & Life Science

The Nanofabrication Platform Japan unifies select universities and national laboratories, providing the shared use of cutting-edge equipment to the public, thus strengthening the further development of nanotechnology in Japan. The research area
includes: 1) Nanostructural Characterization, 2) Nanofabrication and 3) Molecules and Materials Synthesis. Research subjects from academic topics to industry-related problems are supported by experienced scientists and engineers, and can beutilized without any investment in expensive equipment or time delay.

産業技術総合研究所

The National Institute of Advanced
Industrial Science and Technology (AIST)

広島大学 Hiroshima University

N&MEMS

Nano&Micro-EelectroMechanical Systems

山口大学 Yamaguchi University

筑波大学 University of Tsukuba

マテリアルサイエンス
Materials Science

東京大学 The University of Tokyo

環境技術

コーディネート
ユーザー

Environmental Technology

エネルギー関連技術

早稲田大学 Waseda University

Energy Technology

モデリング＆シミュレーション
Modeling & Simulation

ESH

Environmental,
Health and Safety

北九州産業学術推進機構

Kitakyushu Foundation for the Advancementof Industry, Science and Technology

1

東京工業大学

香川大学 Kagawa University

Tokyo Institute of Technology

名古屋大学

Nagoya University

ホームページに相談窓口があります

http://nsn.kyoto-u.ac.jp/

豊田工業大学

Toyota Technological InstituteNanofabrication Platform Consortium2

ご利用ガイド

Service Guide

施設利用の形態

Types of use

技術相談

技術補助

Technical consultation

Technical assistant

利用者の相談に専門家として応えます。

技術スタッフが補助し、操作方法を指導しながら、利用者が設備を操作します。

Users can consult with the scientists of theorganization.

Technicians help users with the project.
The users can operate equipment in thepresence of technicians.

Technical support

Joint research

An on-demand support program in which users ask theinstitution for processed products. The subsequentevaluation of products can be made at some institutions.

One-stop research support which is
conducted with users and institutions.
After the proposal of projects isapproved, results will be obtained
together.

技術代行

共同研究

技術スタッフが利用者に代行して設備を操作します。

利用者と実施機関が共同で実施する成果公開型の研究です。

機器利用

Shared-use

利用者が自ら設備を操作します。

Users who are skilled to use the equipment canoperate and get data by themselves. Someinstitutions have technical programs to train users.

How to use

ご利用方法
一般的な申し込みから支援の終了までのプロセスは、利用相談、お申込み、課題審査、契約、実施、利用報告書提出、利用料金お支払いとなります。課題の受付方法や、課題審査の方法とその基準も各実施機関で個別に定められており、詳しくはお電話またはメールにてお問い合わせください。

ご利用希望

利用相談

技術相談

利用申込み

装置利用

（実験・試作等)

報告書提出
料金支払

研究・開発
成果へ

・手続きは利用申請書の提出のみ。
・利用後は簡単な利用報告書（A4、1枚)のご提出をお願いしております。
・実施機関ごとに利用料金を設定しております。
・非公開利用をご希望の場合、実施機関とのご相談により可能です。

Request for
the useContact

Technical
Consultation

Submission
an Application
Form

Execution ofproject

Submission ofuser’s report
Charge to User

Apply touser’s R &D
result• Application form is simple• After the complete of your project, user’s report (Just 1 page summary ) will be required.
• The fees depend on each Participating Institution.
• If you don't want to open the results to the public, it may be acceptable . Please contact the institution.

成果の取り扱い

Publicizing results「ナノテクノロジープラットフォーム」
は文部科学省が国の事業として支援を行うものであるため、利用成果は公開が原則です。

Since the Nanotechnology Platform Japan is sponsored by the Ministry of Education, Culture, Sport, Science andTechnology (MEXT), all obtained results must be made open to the public. However, publicizing results can be delayed for a
maximum of two years in the case of scientific publications and patent application. Agreement on intellectual property such as
patents must be discussed between users and the institution.
Those who want not to open the results to the public for a longer period of time can apply to another system in the institution
other than the Nanotechnology Platform. ln this case, separate charges may apply. Please contact the institution for details.

ただし、特許出願や論文投稿などのため、成果の公開(利用報告書の公開)を２年程度延期することが可能です。
また、知的財産権については各実施機関との取り決めにより取り扱いを決めることができます。
成果の非公開を希望するユーザーは、本事業とは別に、各機関が独自に行う設備共用の申し込みをすることができます。
この場合の利用体系（課題採択、料金等）
はそれぞれの機関にお問い合わせください。

利用料のお支払いについて
本事業では、必要経費の一部を負担いただく意味で、利用形態ならびに利用時間に応じた利用料をお支払い頂きます。実施機
関毎に料金の設定がございますので、申し込み実施機関に事前にお問い合わせください。
成果非公開でのお申し込みの際は、各実施機関で料金体系が異なりますので、併せてご確認ください。

3

General procedures start from inquiries via the web-site, telephone, or e-mail. Your project will be executed after approvalby the institution. The user’s report must be submitted to the institution upon completion of the project (see below). The proposal
submission, approval process of the project, and judging criteria depend on the institution. Please contact the institution directly
by telephone or e-mail.

Rates for support
The institution will charge users for a portion of expenditures, depending on the types of equipment used, period of duration,and institution. Please inquire with the institution in advance.
The rate for users who want not to open the results to the public varies greatly by institution. Please confirm on a case bycase basis.
Nanofabrication Platform Consortium

4

実施機関 Participating Institution

国立大学法人

国立大学法人 北海道大学 Hokkaido University

北海道大学

Hokkaido University

拠点連絡先

創成研究機構／ナノテクノロジー連携研究推進室〒001-0021 北海道札幌市北区北21条西10丁目■登録装置数：36

北海道大学創成研究機構
ナノテクノロジー連携研究推進室■特徴：電子線描画装置を中心としたナノ加工によるフォトニクスデバ
イス作製と多様な成膜装置群によるナノコーティング技術の提供

URL：http://www.cris.hokudai.ac.jp/cris/nanoplat/

Office for the promotion of nanotechnology
collaborative research, Creative Research Institution

TEL：011-706-9340
FAX：011-706-9376
E-mail：nanoplat@cris.hokudai.ac.jp

多種多様な材料で微細加工を実現。
加工だけではなく評価までのベストソリューションを提供します。
北海道大学では光・電子・スピンを制御する新規ナノデバ

たデバイスを評価するためのデジタル顕微鏡、
FE-SEM（プ

イス創製、
バイオテクノロジーや新規マテリアル開発といっローバーユニット付き）、
太陽光シミュレーターを装備した

たナノテクノロジーにより、先端研究を加速することが可能

太陽電池評価システムなどの評価装置群を整備しています。

な分野への微細加工支援を行います。

そして、これらの装置群を学内２カ所のクラス100～クラス

支援装置としては、最新鋭の加速電圧130kV超高速
スキャン電子線描画装置を含む4台のEB描画装置、
レー

10,000のクリーンルームに集約し、幅広いユーザーへの効率的な支援体制を取っています。

ザー直接描画装置、
両面マスクアライナーといった微細パ

また、これらの装置群に加え、本施設に関係する多くの研ターン形成装置群、
金属・磁性体・酸化物までを高精度に究者が持つ最先端の微細加工に関する知識と技術職員が成膜可能なヘリコンスパッタ装置、
蒸着装置、
原子層堆積

積み上げたノウハウを最大限に有効活用し、ユーザーの研装置、
イオンビームスパッタ装置、
パルスレーザー堆積装置

究、
技術・製品開発が加速されるようなデバイス創出へのなどの成膜装置群、加工素材と精度に合わせて選択できる

積極的なサポートを推進し、迅速な課題解決につながる技

反応性イオンエッチング装置、ICP高密度ドライエッチング

術相談サービスを提供します。

主な共用設備■主な装置：
・超高速スキャン電子ビーム描画装置（エリオニクス、
ELS-F130HM）
・超高精度ビーム描画装置（エリオニクス、ELS-F125）
・ICP高密度プラズマエッチング装置（サムコ、RIE-101iHs）
・シリコン深堀エッチング装置（SPPテクノロジーズ、APX Pegasus-Polestar）
・原子層堆積装置（ピコサン、SUNALE-R150）
・多元ヘリコンスパッタ装置（アルバック、QAM-4-ST）
・パルスレーザー堆積装置（パスカル、PAC-LMBE）

Address
03-305 in Sosei, Hokudai, N21W10
Kita-ku, Sapporo, 001-0021, Japan
URL : http://www.cris.hokudai.ac.jp/cris/nanoplat/
TEL : +81-11-706-9340
FAX : +81-11-706-9376
E-mail : nanoplat@cris.hokudai.ac.jp

Facilities■Number of Registered Equipment : 36
■Feature : Fabrication of photonics nanodevices by EB system andnano-coating technology by various film deposition systems■Facilities :・Ultra high speed scanning EB system (Elionix, ELS-F130HM)
・Ultra high precision EB system (Elionix, ELS-F125)
・ICP-RIE system (Samco, RIE-101iHs)
・Si Deep RIE system (SPT, APX Pegasus-Polestar)・Atomic Layer deposition system (Picosun, SUNALE-R150)
・Multi-Target Helicon Sputtering System (Ulvac, QAM-4-ST)・Pulse Laser Deposition system (Pascal, PAC-LMBE)

複雑な形状へも均一な多層成膜が可能装置、
イオンミリング装置などのエッチング装置群、作製しProvision of nano-processing technology for various materials.
We work with you to find the best solution for the fabrication and evaluation method
required for your research.
The nanofabrication platform in Hokkaido University
supports nanofabrication experiments, which can accelerateadvanced research, including biotechnology, new material
development and new nano-devices which control lights,
electrons, and spins.
We have nano-micro pattern formation devices including
most advanced high speed scan electron beam (EB) lithography system (130 kV), three other EB lithography systems,
laser lithography system, and mask aligner. In addition, thinmetal films, magnetic materials, and oxides can be depositedby helicon sputtering system, thermal evaporator, atomic
layer deposition, pulse laser deposition system and ion beam
sputtering. Furthermore, we have dry etching systems, such5

as reactive ion etching (RIE) equipment, ICP-RIE, and ion
milling equipment that can be used as a function of fabrication materials and accuracy etc., and evaluation systems
including digital microscope, FE-SEM (with prober unit),
and solar simulator.
These instruments are located in class 100 to 10,000
clean rooms for a variety of users.
In addition to fabrication equipment, we help users toaccelerate their research, development of new products, andtechniques, with the support of our researchers and technicalstaff, who have highly advanced knowledge regarding nanofabrication.

Al2O3
TiO2
SiO2
TiO2
Al2O3
超高速スキャン電子ビーム描画装置（エリオニクス製 ELS-F130HM）
Ultra high speed scanning EB system(Elionix, ELS-F130HM)

原子層堆積装置（ピコサン製

SUNALE）

Atomic Layer deposition system(Picosun, SUNALE-R150)

Nanofabrication Platform Consortium

6

実施機関 Participating Institution

国立大学法人

国立大学法人 東北大学 Tohoku University

東北大学

Tohoku University

拠点連絡先

ナノテク融合技術支援センター
微細加工プラットフォーム

主な共用設備〒980-0845 仙台市青葉区荒巻字青葉519-1176■登録装置数：83

東北大学西澤潤一記念研究センター内■特徴：MEMSを中心とした半導体試作開発ライン

戸津

健太郎

URL：http://cints-tohoku.jp/

Nanofabrication Platform,
Center for Integrated NanoTechnology Support (CINTS)

TEL：022-229-4113
E-mail：totsu@tohoku.ac.jp

東京駅から最短2時間20分でアクセス可能な国内最大級の共用設備「試作コインランドリ」
よい成果を持ち帰っていただけるよう、蓄積したノウハウをもとに全力で支援します！
小片から6インチ（一部8インチ）
ウェハまで対応するオー用しており、デバイスの原理検証のほか、製品開発にも適し

プンな共用設備で、必要な装置を必要な時にご利用可能ています。
電子顕微鏡や超音波顕微鏡、
X線CTなどの評価です。
東北大学に蓄積されたノウハウも利用できます。
デバ装置もご利用可能です。

イス／プロセス設計、測定、
装置操作指導など経験豊富な【試作デバイスの例】

スタッフが最大限支援します。
フォトマスクの作製からリソグ

加速度センサ、
圧力センサ、
力センサ、磁気センサ、
フォトダイ

ラフィ、
成膜、
エッチング
（ウェット、
ドライ）、
不純物導入、
そしオード、
放射線センサ、
ガスセンサ、
振動発電デバイス、
太陽電

て研磨、
接合、
めっきなどの幅広いプロセスに対応しており、池、
圧電デバイス、
水晶デバイス、
マイクロミラーデバイスなど。

実際の経験を有する人材の育成にも役立ちます。

単工程
（成膜、
エッチングなど）のみのご利用も大歓迎です。

東北大学西澤潤一記念研究センター（旧半導体研究2（ク所）の2階にある1,800m のスーパークリーンルーム
2

Address
Kentaro Totsu
Nishizawa Memorial Research Center, Tohoku University519-1176, Aramaki-Aza-Aoba, Aoba-ku, Sendai
980-0845, Japan
URL : http://cints-tohoku.jp/
TEL : +81-22-229-4113
E-mail : totsu@tohoku.ac.jp【利用のご案内】■主な装置：
・レーザ描画装置（Heidelberg Instruments, DWL2000CE）・両面アライナー（×2台）（Suss Microtec, MA6/BA6）
・電子線描画装置（エリオニクス, ELS-G125S）
・イオン注入装置（日新イオン機器, NH-20SR）
・CVD（×7台）（Applied Materials, P-5000 他）
・RIE（×8台）（ULVAC, NE-550 他）
・Si DRIE（×4台）（住友精密工業, MUC-21 他）（×7台）（芝浦メカトロニクス, i-Miller 他）
・スパッタFacilities■Number of Registered Equipment : 83
■Feature : Semiconductor fabrication facility for MEMS and othermicro-nano devices■Facilities :・Laser writer (Heidelberg Instruments, DWL2000CE)・Double-side aligner (×2) (Suss Microtec, MA6/BA6)
・EB writer (Elionix, ELS-G125S)
・Ion implanter (Nissin, NH-20SR)
・CVD (×7) (Applied Materials, P-5000 etc.)
・RIE (×8) (ULVAC, NE-550 etc.)
・Si DRIE (×4) (Sumitomo Precision Products, MUC-21 etc.)
・Sputter (×7) (Shibaura Mechatronics, i-Miller etc.)

技術代行は原則行っていません。
利用者の方に直接装

ラス1～1,000）のうち約1,200m を主に利用しています。

置を操作していただきますが、スタッフが喜んで支援します。

2008年までパワートランジスタを生産していたラインを活

ご相談、
見学等、
大歓迎ですので、気軽にお問合せください。

Hands-on-access fab., one of the largest open facilities in Japan, just only 2 h 20 min
from Tokyo Station, is making all efforts possible to support your success.
We offer you an open access fabrication facility for
MEMS and semiconductor research and development. The
fab can accept various wafer sizes, including chip size, 4”,
and 6” wafers. Users can utilize the fab and operate theequipment by themselves. Users can also access a great dealof know-how accumulated at Tohoku University. Our skillfulstaff readily support users to accelerate their device/process
design, evaluation, and operations of equipment. The fab can
be utilized for wide range of fabrication processes including
mask making, photolithography, deposition, etching (wet/dry), diffusion, implantation, polishing, bonding, electroplating. The open access system contributes to the developmentof human resources having practical experience.
The fab is located on the second floor super clean room
(1,800 m², class 1 to 1,000) of the Nishizawa Memorial
Research Center, Tohoku University. In 2010, we modified a7former production process line for power transistors to be an
open access fab. Therefore the fab is suitable for research aswell as product development. Evaluation tools, such as SEM
and X-ray CT are also available.
[Examples of prototyping]Accelerometer, pressure sensor, force sensor, magnetic
sensor, photo diode, radiation sensor, gas sensor, solarcell, piezoelectric device, energy harvesting device, quartz
device, micromirror devices, etc.
Single processes, such as deposition and etching are also
welcome.
[User guide]
The fab will not undertake contract development.
Users operate equipment by themselves with our support.
Consultation and fab tour are welcome. Please feel free tocontact us.

熱CVDによる低応力厚膜doped poly-Si
Thermal CVD for low-stress, thick-film doped
poly-Si

ケミカルドライエッチャー(CDE)によるSi DRIEスキャロップの平滑化
Chemical dry etcher (CDE) for smoothing Si DRIE scallop.

Nanofabrication Platform Consortium

8

実施機関 Participating Institution

国立研究開発法人

国立研究開発法人 物質・材料研究機構
National Institute for Materials Science (NIMS)

物質・材料研究機構

National Institute for Materials Science (NIMS)

拠点連絡先〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1■登録装置数：32

NIMS微細加工プラットフォーム■特徴：多岐にわたる研究分野に対応した微細加工装置群

URL：http://www.nims.go.jp/nfp/

NIMS微細加工プラットフォーム

TEL：029-859-2797

NIMS Nanofabrication Platform

E-mail：NIF-office@nims.go.jp

多種多様な材料・目的に適応するオープンファシリティ。
先端設備だけでなく、専門スタッフの技術・知識も共用します！
NIMS微細加工プラットフォームは、最先端微細加工プ

材料等、様々な材料のナノからマイクロスケール、さらにはロセッシング装置およびナノスケール観察・測定評価装置

ミリスケールにわたる3次元的な微細加工を行える装置群が完備された450㎡のクリーンルームを中心として、微細を計30台以上整備しています。

加工を担う共用施設として2008年より運用しています。

さらに、同じ実験棟内に「NIMS微細構造解析プラット

これまで文部科学省ナノテクノロジー・ネットワーク事業をフォーム」「、NIMS分子・物質合成プラットフォーム」
が併通して、北海道から九州まで全国の研究者に対して、
電子

設されているため、
プラットフォーム間での隔たりなく“アン

材料・素子、
光学材料・素子、
ナノ・マイクロ構造作製、
環境・

ダーワンルーフ”で横断的な研究支援が受けられる環境をエネルギー、および医工連携・バイオ工学など多岐にわたる

提供しています。
研究交流、人材交流を行える場を提供す研究分野の支援を実施してきた実績を持っています。

るとともに、
自然科学から生命科学にわたる基礎基盤研究、

NIMS微細加工プラットフォームの特徴の一つは、多種

産学官連携の基礎・応用研究に対して共同研究、
技術代行、

多様な材料に対して一貫したプロセスで試料作製が行え

技術補助、
技術相談、
および機器利用を通じて積極的にることです。
半導体材料のみならず、
酸化物材料、
誘電体材

サポートいたします。

主な共用設備■主な装置：
・125kV & 100kV 電子ビーム描画装置（エリオニクス：ELS-F125, -7000改）
・高速マスクレス露光装置（ナノシステムソリューションズ：DL-1000/NC2P）
・薄膜形成装置群（アルバック：j-Sputter、芝浦メカトロニクス：i-miller、等）・ドライエッチング装置群（サムコ：RIE-101iPH、住友精密工業：SRE&APS、等）
・FE-SEM, AFMなど観察・評価装置群（日立ハイテク：S-4800、SII：L-trace2、等）

Address
NIMS Nanofabrication Platform,
1-2-1 Sengen, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, Japan
URL : http://www.nims.go.jp/nfp/
TEL : +81-29-859-2797
E-mail : NIF-office@nims.go.jp

Facilities■Number of Registered Equipment : 32
■Feature : Micro/Nano processing equipment for various research
field■Facilities :・125kV- & 100kV- EB Writer (Elionix: ELS-F125, -7000S)
・High-speed Maskless Lithography(Nanosystem Solutions: DL-1000/NC2P)
・Thin Filim Deposition Systems(ULVAC: j-Sputter, Shibaura: i-miller, etc.)
・Dry Etching Systems (Samco: RIE-101iPH, SPP: SRE&APS, etc.)
・FE-SEM, AFM, etc. (Hitachi-HighTech: S-4800, SII: L-trace2, etc.)

料、
磁性材料、
金属材料、
有機材料、
生体材料、
および複合

NIMS Open Facility for a wide variety of materials and purposes.
NIMS will provide not only advanced equipment but also
prominent skills and knowledge.
NIMS Nanofabrication Platform has been managed
since 2008 as an open facility with advanced nanofabrication processing systems. We can support R&D activities
to researchers in the various fields of electronics, optics,
nanostructures, environment and energy, bioengineering, etc.
Our clean room has over 30 pieces of equipment which
can perform fabrication on various materials (e.g. silicon,
compound semiconductors, oxide materials, dielectric materials, magnetic materials, metals, organic materials, biomaterials, and complex materials) with consistent processing.

9

In addition, we provide a valuable environment in which
you can receive different research support under one roof,
as the “NIMS Microstructural Characterization Platform”
and “NIMS Molecule & Material Synthesis Platform” arelocated in the same building.
Finally, NIMS Nanofabrication Platform positively supports basic research and applied development from physicalscience to biological science through various types of use,e.g. “Equipment use”, “Technical support”, “Full support”,
and “Collaborative research”.

人材育成支援の一環で行なっている大学院生教育プログラム。
微細加工・試料作製支援だけでなく、大学から民間企業まで幅広い人材育成を積極的に推進。
Educational program for graduate students.
We positively promote human resources development.

多種多様な材料に対して一貫したプロセス支援を可能とする30台以上の装置群。
ユーザーニーズに応じた各種利用形態で専門スタッフがサポート。
Over 30 pieces of equipment are available for various materials enable consistent processing.
Professional staff support researchers on a range of uses.

Nanofabrication Platform Consortium 10

実施機関 Participating Institution

国立研究開発法人

国立研究開発法人 産業技術総合研究所

The National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)

産業技術総合研究所

The National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)■登録装置数：53

産業技術総合研究所 TIA推進センター ナノプロセシング施設（NPF）■特徴：小片試料からウェハーまで扱える微細加工プロセス装置群

E-mail：tia-npf-ml@aist.go.jp

小片試料からウェハーまで、
マイクロ・ナノ加工プロセスに豊富な経験をもつスタッフが研究開発の初期段階から実用化段階に至るまで様々なステージで支援致します。
AISTナノプロセシング施設（NPF）
は、設備の共用体制をで様々なステージで支援が行えるよう、
小片試料から8イン構築する全国的なナノテクノロジープラットフォームの一翼

チウェハーまでの、様々なサイズの試料や材料に対応してとして、産学官からの多様な利用者による設備の共同利用支援を行っております。

を促進し、産業界や研究現場が抱える技術的課題の解決

特に、ウェハー試料に加え小片試料も露光することがでへのアプローチを提供するとともに、産学官連携や異分野

きるi-線ステッパーは、
本施設の特徴的な装置で、多くの融合を推進しています。

方々にご利用頂いています。
この他、8種類の材料ガスを備研究に必要な装置を持っていない、
或いは、
微細加工の

えた原子層堆積装置（ALD)、
高速電子線描画装置など豊分野に余り経験のない研究者や企業の方でも、マイクロ・ナ

富なプロセス装置群に加え、ナノプローバ、
SIMS、
XPS等

ノ加工プロセスに豊富な経験をもつスタッフが、高度な装の計測分析機器も保有しているため、NPFでは、試料の作置とその利用技術を用いて最先端の研究開発・技術開発

製から、計測評価まで、一貫して行うことが出来ます。

有しており、研究開発の初期段階から実用化段階に至るま〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1

TEL：029-861-3210

AIST Nano Processing Facility

NPFは、
プロセス装置、
計測分析装置等を90台以上保主な共用設備URL：https://ssl.open-innovation.jp/npf/

AISTナノプロセシング施設ができるようお手伝い致します。

拠点連絡先■主な装置：
・i線露光装置（ニコンテック、NSR-2205i12D）
・電子ビーム描画装置（エリオニクス、ELS-F130AN型）
・マスクレス露光装置（ナノシステムソリューションズ、DL-1000型）
・ナノプローバ（日立ハイテクノロジーズ、N-6000SS型）
・ICP反応性イオンエッチング装置（サムコ、RIE-400iPS型）
・原子層堆積装置（オックスフォード・インスツルメンツ、FlexAL型）
・スパッタ成膜装置（芝浦メカトロニクス、CFS-４EP-LL）
・集束イオンビーム加工観察装置（日立ハイテクノロジーズ、FB2100型）

Address

Facilities

Nano Processing Facility (NPF),TIA Central Office,
The National Institute of Advanced Industrial Science andTechnology
1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, Japan
URL : https://ssl.open-innovation.jp/npf/
TEL : +81-29-861-3210
E-mail : tia-npf-ml@aist.go.jp■Number of Registered Equipment : 53
■Feature : Microfabrication Process equipment for chip and wafer samples■Facilities :・i-line Stepper (NIKON TEC CORPORATION, NSR-2205i12D)・Electron Beam Writer (ELIONIX INC., ELS-F130AN)
・Maskless Optical Pattern Generator (Nanosystem Solutions, DL-1000)
・Nano-Prober(Hitachi High-Technologies Corporation, N-6000SS)
・ICP-Reactive Ion Etching Machine (Samco Inc., RIE-400iPS)
・Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition System(Oxford Instruments , FlexAL)・Sputtering Deposition System(SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION, CFS-4EP-LL )(sputtering, electron beam evaporation)
・Focused ion beam system(Hitachi High-Technologies Corporation, FB2100)

NPFは、
Si系デバイスに限らず、化合物半導体、酸化物、グラフェン、
バイオなど、
様々な分野の方にご利用頂いておりますので、
お気軽にお問い合わせ下さい。

Our experienced staff in micro and nano processes for chip and wafer samples will
support you from the initial stage of R & D to the practical application stage.
AIST Nano Processing Facility (NPF) promotes thejoint use of equipment by a variety of users from industry,
academia, and government, as part of the nationwide nanotechnology platform to build a system of shared equipment.
We provide an approach to resolve technical bottlenecks
which our R&D partners are facing, and promote industry-academia-government interdisciplinary collaboration as
well as the fusion of different research fields.
Even for researchers and companies who do not have theequipment required for research or who are not experienced
in the field of microfabrication, staff with abundant experience in micro / nano processing processes can use advanced
equipment and its application technology We will assist
you in the most advanced research and development and11

technology development.
In particular, the i-line stepper available for small-piece
samples and wafer samples, is a characteristic device of thisfacility and is used by many people. In addition to a widearray of process equipment, such as atomic layer deposition
system (ALD) equipped with eight kinds of precursor gases,
high-speed electron beam lithography equipment, it also has
measurement and analysis equipment such as Nanoprobersystem, SIMS, and XPS, enabling you to carry out sample
fabrication and evaluation in NPF.
NPF can be used not only for Si-based devices but also
for various fields such as compound semiconductors, oxides,
graphene, biotechnology, etc. Please feel free to contact us.

NPFセミナーの講義風景
Snapshot of NPF seminar

ナノプロセシング施設クリーンルーム NPF clean room

スピン発光素子 Spin light emitting diode

ヘテロ接合型太陽電池の試作チップ

マイクロ流路チップ

Test chip of heterojunction solar cell

Microchannel chipdiode

Nanofabrication Platform Consortium 12

実施機関 Participating Institution

国立大学法人

国立大学法人 筑波大学 University of Tsukuba

筑波大学

University of Tsukuba

拠点連絡先〒305-8573 茨城県つくば市天王台1-1-1■登録装置数：17

筑波大学 微細加工プラットフォーム■特徴： FIB-SEMを用いた高速加工と高分解観察

URL：http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/

筑波大学微細加工プラットフォーム

TEL：029-853-5804

Nanofabrication Platform

E-mail：staff@u-tsukuba-nanotech.jp

FIB-SEMによる高速加工と高分解観察を中心に、高度な技術支援と利用機会を提供します。
また、物質・材料研究機構および産業技術総合研究所とOne-Stopサービスを構築しています。
筑波大学では、ナノエレクトロニクス分野を中心とし細加工も相談に乗り、熟練した技術支援者が対応します。

て、デバイスシミュレーションによる材料およびデバイス

また、電子線描画装置、パターン投影リソグラフィシステ

設計、
それを具体化するマスク作製、機能膜の堆積、微細ム、
ウエハーダイシングマシン等では、初めての方でも安心

加工、試作したデバイスの特性評価が可能な、先端的なしてお使いいただけるよう、利用者講習会を定期的に開催

共用機器群を揃えています。特に、デバイスシミュレーショ

しています。
また、ご希望に応じて、機器利用の研修にも個ン（SILVACO, ATHENA/ATLAS）による3次元の高度別に対応可能です。
さらに、つくば地区の物質・材料研究

なデバイス設計および動作シミュレーションと、FIB-SEM

機構、産業技術総合研究所との連携を強化するため、技（Helios NanoLab 600i）
を用いた材料の高速加工と高術支援者によるプロセス技術情報の共有、セミナー等の分解観察が支援の目玉です。FIB-SEMでは、金属や半導共同開催など相補的かつ相乗的な連携構築に取り組み、体等の硬い材料の微細加工だけではなく、デバイスの動One-Stopサービスを提供しています。

主な共用設備

Address
University of Tsukuba
Nanofabrication Platform
1-1-1 Tennodai, Tsukuba, Ibaraki 305-8573, Japan
URL : http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/
TEL : +81-29-853-5804
E-mail : staff@u-tsukuba-nanotech.jp

作不良箇所の観察、有機物や生物等の柔らかい材料の微■主な装置：
・プロセス／デバイスシミュレーター
（SILVACO, ATHENA/ATLASその他）
・スパッタリング装置（芝浦メカトロニクス, CFS-4EP-LL/i-miller）
・電子線描画装置(ELIONIX社, ELS-7500EX）・パターン投影リソグラフィシステム
（Heidelberg instruments, μPG501）
・ウェーハダイシングマシン(DISCO, DAD322）
・FIB-SEM（FEI, Helios NanoLab600i）
・電界放出形走査電子顕微鏡（日立ハイテク, SU-8020）
・走査型プローブ顕微鏡（Bruker, Dimension Icon/Multimode8）

Facilities■Number of Registered Equipment : 17
■Feature : High speed processing and high resolution observation
using FIB-SEM■Facilities :・Process / device simulator(SILVACO, ATHENA, ATLAS, and others)・Sputtering equipment(Shibaura Mechatronics, CFS-4EP-LL/i-Miller)・Electron beam lithography equipment(ELIONIX, ELS-7500EX)
・Pattern projection lithography system(Heidelberg instruments, μPG501)
・Wafer dicing machine(DISCO, DAD322)
・FIB-SEM(FEI, Helios NanoLab600i)
・FE-SEM(Hitachi High-Tech, SU-8020)
・SPM(Bruker, Dimension Icon/Multimode8)

Nanotechnology apparatuses such as FIB-SEM with the capability to produce ultrathin samples for TEM and SEM imaging are available. One-stop service is offered incollaboration with NIMS and AIST in Tsukuba.
University of Tsukuba provides a wide variety of
nanotechnology apparatuses such as device simulator,
mask production by laser lithography or e-beam, thin-film
deposition chambers by e-beam evaporation or sputtering,
FIB-SEM, FE-SEM, and parameter analyzer for characterizations of device performance. In particular, SILVACO is
a 2D and 3D device simulator that performs DC, AC, andtransient analysis for silicon, binary, ternary, and quaternarymaterial-based devices, enabling the characterization andoptimization of semiconductor devices for a wide rangeof technologies. Another attractive apparatus is FIB-SEM(Helios NanoLab 600i). Highly valued SEM imaging, thecapability to produce ultra-thin samples for SEM/TEM,
and the most precise prototyping capabilities are available
regardless of hard or soft materials. We also provide training
opportunities for those who plan to use e-beam lithography,
wafer dicing machine, photolithography, etc. regularly. Onestop service is offered in collaboration with NIMS and AISTin Tsukuba.

ゾウムシの写真
Photograph of a weevil species.

FIB-SEM装置

FIB-SEM

ゾウムシの麟のSEM像
SEM image of a scale of a weevil.

13

Nanofabrication Platform Consortium 14

実施機関 Participating Institution

国立大学法人

国立大学法人 東京大学 The University of Tokyo東京大学

The University of Tokyo

拠点連絡先〒113-0032 東京都文京区弥生2-11-16
東京大学武田先端知ビル 306号室

超微細リソグラフィー・ナノ計測拠点／

大学院工学系研究科 システムデザイン研究センター 基盤デバイス研究部門

システムデザイン研究センター 基盤デバイス研究部門
ナノテクノロジープラットフォーム 支援室
拠点マネージャ: 三田吉郎 准教授

Ultrafine Lithography and Analysis Center/
System Design Center, School of Engineering

URL：http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/
TEL：03-5841-1506
E-mail：nanotech@sogo.t.u-tokyo.ac.jp

都心の一等地に立つ連邦規格“クラス１”スーパークリーンルームと高速・大面積電子線描画装置をはじめとする一流の加工装置が今すぐあなたのものに！
東京大学では、2012年より微細加工プラットフォームの活動によって開発された「量産と研究と両方に使える」

拠点事業を大規模集積システム設計教育研究センター

電子線描画装置が支援の目玉です。
専任の支援員または（VDEC）
が受託し、全国共同利用拠点としての四半世紀の仲間の先輩から数回講習を受けた後、この恵まれた装置

経験をもとに拠点を運営、海外の有力拠点と対等以上に渡環境を「自分の家の庭のような」感覚で自由に利用できます。

り合える、
注意深く作り込まれた一流拠点の評判を内外か

上記「オープンポリシー」に賛同する企業・国研・大学のら得てきました。
令和の時代を迎え、VDECは工学系研究

年間1万数
339団体から750名を越す利用者が登録し、科に合流し、隣接する東京大学微細構造解析拠点や南関千回以上入室して利用されています。

東三拠点（東京工業大・早稲田大）
とも一層の連携を諮り、VDEC設立時からのミッションである大規模集積回路

試作支援と融合し、試作したVLSIを東大拠点で思利用者の立場に立った便利な利用環境を提供して参ります。 （VLSI）
都心の一等地、弥生式土器発掘ゆかりの文京区弥生のい通りに加工する「ポストプロセス集積MEMS」
機能を提供

一等地に立つ「東京大学武田先端知ビル」
内の
「連邦規格

しています。
先端研究から実用研究まで、新機能を高性能に

クラス1」を含む600平米のスーパークリーンルームと、私共表現できる開かれた東大拠点、気軽にお声がけください。

Address
Dr. Yoshio Mita, Platform Site Manager
System Design Center, Platform Device Research Division
Nanotechnology Platform Operation Bureau
School of Engineering, the University of Tokyo
Takeda Building 306, 2-11-16, Yayoi, Bunkyo-ku,
Tokyo 113-0032 Japan
URL: http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/
TEL: +81-3-5841-1506
E-Mail: nanotech@sogo.t.u-tokyo.ac.jp

主な共用設備■登録装置数：47■特徴：カケラから8インチの微細露光、
グレイスケール露光可能とする高速電子線描画装置とレーザー描画装置群■主な装置：
高速大面積電子線描画装置（2台）、レーザー描画装置（1台）
・超高速装置（アドバンテスト F5112+VD01、110nmノード機。
実力は50nm（写真）、
4インチウエーハ1時間程度の高速描画）
・超高解像度装置(アドバンテスト F7000S-VD02、十数nmノー
ド機）の2台ならびに、・レーザー描画装置（Heidelberg DWL66+、406nm機、グレイ
スケール描画機能有）による多用途微細描画か可能です。
・カケラ基板から8インチまで、柔軟な対応能力があります。
・深掘りエッチング装置（SPTS MUC-21 ASE-Pegasus）
を含
むICPエッチャー5台、
ステルスダイサー（DISCO DFL-7340）
ほか、MEMSに必須な装置は概ね揃っています。

Facilities■Number of Registered Equipment : 47
■Feature : Rapid and Precise Large Area EBeam Writers (2machines), Greyscale capable Laser Writer (1 machine)■Facilities :・Ultrarapid machine (Advantest F5112+VD01, 110nm-node, 50nm
capable (photo) machine. Nominal exposure time: 1hour / 4inch ),・Ultrafine machine (Advantest F7000S-VD02, 1-node machine), and・Laser writing machine (Heidelberg DWL66+, 406nm, grayscale
capability) can cover wide-range applications. Substrates from chipto 8-inch wafer can be accepted.
・Nearly all key machines for MEMS device are available such as
five ICP RIE machines such as Deep RIE (SPTS MUC-21 ASEPegasus), Stealth Dicer (DISCO DFL-7340).

Excellent MEMS and nanotechnology apparatuses such as ultrarapid EB writer
are waiting for you in a Class #1 super clean room in the center of Tokyo.
Since 2012, the University of Tokyo's MEXT Nanofab
Platform Team have been operated by VLSI Design and
Education Center (VDEC). Its careful operation based on
its quarter-century multi-use open research and innovation
platform experience have led the site to acquire a good reputation as a world-class nanofab site. To further extend theactivity for users in this new Reiwa Era, VDEC joins to the
Faculty of Engineering and strengthen cooperations together
with adjacent TEM/SEM and Material Analyses Center aswell as Nanofab sites in South-Kanto area (Tokyo Tech andWaseda).
The site is in Takeda Building at the University ofTokyo Asano Campus in Yayoi area, somewhere in that area
the ceramic vase that became the Merkmal of Yayoi-era(B.C.300-A.D.300) in Japanese History have been discov-

15

ered. The users can benefit the supercleanroom of 600m² inarea including the ‟Federal Class #1ˮ, as well as “Researchand Production” quality machines, such as high-throughput
EBeam writers. Due to the Team's competitive researchand development activities including collaborations withthe machine companies, the users can always benefit thelatest cutting-edge techniques. The users can easily learn theusage from full-time engineers “as if the UTokyo site wereits own homegroundˮ, and can keep such knowledge insidetheir research groups. This “Open Platform Policyˮ havebeen widely accepted by 339 independent research groupsof companies, inside and outside UTokyo public entities.
The room access count exceeds 15,000 / year by the over
750 subscribers.

高速・大面積描画装置と50nm×7mm孤立ライン
展開例
４インチウェーハ全面描画で数十分。
（ナノプラット
東大微細構造解析拠点にて撮影）

Ultra-rapid and large-area electron beam writing machine and 50 nm×7 mm
isolated exposure example. Exposure takes only several tens of minutes. (SEM
photograph taken in U. Tokyo Nanotech-plat Analysis Center)

シリコン深堀りエッチング装置と幅300nm、深さ10µm超の微細グレーチング
Silicon deep reactive ion etching machine and 300 nm-wide, over10 micron-deep, fine grating example.

Nanofabrication Platform Consortium 16

実施機関 Participating Institution

学校法人

学校法人 早稲田大学 Waseda University

早稲田大学

Waseda University

拠点連絡先〒162-0041 東京都新宿区早稲田鶴巻町513番地
早稲田大学研究開発センター 120-５号館

ナノ・ライフ創新研究機構／
ナノテクノロジーリサーチセンター

早稲田大学ナノテクノロジープラットフォーム事務局

Research Organization for Nano & Life Innovation/
Nanotechnology Research Center

URL：https://www.waseda.jp/inst/nanolife/project/nanotechnologyplatform/
TEL：03-5286-9067
E-mail：ntrc-office@list.waseda.jp

精密めっき技術による高アスペクト比構造体の作製や、成膜・フォトリソ・エッチングという従来プロセスに加えインプリント技術および直接接合技術による加工も積極的に行っています。
早稲田大学は平成13年から12年をかけてハイテクリ

これらの運用実績で培われたノウハウを「微細加工ナノサーチセンター、
COE、
ナノテクノロジーネットワーク（ナノプラットフォームコンソーシアム」
でフルに活用し、
「多様な

ネット）
、
低炭素ネットワーク（LCnet）
等の各種公的資金等素材に対応可能かつ基板サイズを選ばないナノマイクロを用いて微細加工のための施設・設備を整備し、「ナノテクノ

三次元加工技術」
を基軸として「電気化学反応を利用した

ロジーリサーチセンター」に集約してナノテクノロジー研究・

加工支援」
および
「グリーンプロセスを利用した加工とそれ教育の拠点化を進めてきました。

を応用したデバイス機能計測支援」
を行います。

また、その運営管理組織として「ナノ理工学研究機構

本拠点における特徴は「企業での豊富な研究開発実績（現:ナノ・ライフ創新研究機構）」を設立して、
ナノテクノロジーを持つ支援員が支援を行う」
ことであり、
これは他の支援分野における共用研究拠点として学内はもとより外部企業・実施機関にはない早稲田大学独自の基盤技術と体制です。

公的機関等に対して設備を解放するとともに本学の研究で皆様のご利用をお待ちしています。

Address120-5, Research and Development Center
513 Wasedatsurumaki-cho, Shinjuku-ku, Tokyo
162-0041, Japan
URL : https://www.waseda.jp/inst/nanolife/project/nanotechnologyplatform/
TEL : +81-3-5286-9067
E-mail : ntrc-office@list.waseda.jp

得られた知識をもとに技術支援を行ってきました。

主な共用設備■登録装置数：34■特徴：多様な素材に対応可能かつ基板サイズを選ばないナノ・
マイクロ三次元加工技術■主な装置：
・精密めっき装置（テクノコンサル社、
特注品）
・接合装置
SB6E）（ズースマイクロテック社、・アトミックレイヤデポジション（ALD）
装置（Picosun社、
SUNALE R-150）
・集束イオン/電子ビーム加工観察装置（日立ハイテク社NB5000）
・顕微ラマン分光装置（東京インスツルメンツ社、
nanofinder 30）
・グロー放電分光分析装置（堀場製作所、
GDOES）
・高耐圧プローバ（長瀬産業社、
特注品）
・高性能分光膜厚 測定装置
（堀場製作所、
UVISEL ER AGMS iHR320）

Facilities■Number of Registered Equipment : 34
■Feature : Nano/micro three-dimensional processing technology that
can handle various materials regardless of the substrate size
■Facilities :・Precision plating apparatus (TECHNO CONSUL, Custom order)・Bonder (Suss MicroTech, SB6E)
・ALD apparatus (Picosun, SUNALE R-150)
・FIB-SEM (Hitachi High-Technologies, NB5000)
・Laser Raman Microspectroscopy System(Tokyo instruments, nanofinder 30)
・Glow Discharge Optical Emission Spectrometer(HORIBA Scientific, GDOES)
・Probers station for high voltage (NAGASE, Custom order)・Spectroscopic ellipsometer(HORIBA Scientific, UVISEL ER AGMS iHR320)

We are actively fabricating high aspect ratio structures using plating technology,
and processing using imprint technology and direct bonding technology in addition
to the conventional processes.
Waseda University has equipped facilities and equipment
since 2001, and established “Nanotechnology ResearchCenter” to promote research and education in nanotechnology, by utilizing various public funds such as high-techresearch centers, COE, nanotechnology network (nanonet),
and the low-carbon network (LCnet).
In addition, Waseda University founded the “Institute of
Nanoscience & Nanotechnology(Research Organization for
Nano & Life Innovation)” for administration. It supports
private companies and public research organizations aswell as within the university, as an open infrastructure ofnanotechnology, based on the knowledge obtained throughstudies in the research center.

17

The know-how obtained through operational achievements to date will be leveraged for utilization in the
Nanofabrication Platform Consortium. We will execute“support of nanofabrication using electrochemical reactions”
and “support of nanofabrication using green processes anddevice characterization” with a focus on nano-fabrication forvarious materials and substrate sizes.
One feature of our research center is the support ofresearch by staff members with extensive experience inresearch and development in private companies, which is
unique to Waseda University.
FIB-SEM装置および作製した流体デバイスの溝
FIB apparatus combined with SEM and fabricated channels in a fluidic device.

単原子層堆積装置および被覆試料の断面像
Atomic layer deposition apparatus and cross-sectional view of a sample
deposited by the apparatus.

Nanofabrication Platform Consortium 18

実施機関 Participating Institution

国立大学法人

国立大学法人 東京工業大学 Tokyo Institute of Technology

東京工業大学Tokyo Institute of Technology
科学技術創成研究院
未来産業技術研究所

Laboratory for Future Interdisciplinary Research of Scienceand Technology (FIRST), Institute of Innovative Research (IIR)

拠点連絡先〒152-8552 東京都目黒区大岡山2-12-1-S9-2■登録装置数：28

東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所
事業責任者：宮本恭幸■特徴：高い重ね合わせ精度(σ<3nm)を持つ日本電子製電子ビーム露光装置JBX-6300

URL：http://www.pe.titech.ac.jp/qnerc/nano_support/
index-j.html
TEL：03-5734-2572
E-mail：miya@ee.e.titech.ac.jp

経験豊富なアドバイザーの助言の元、最高の重ね合わせ精度を維持している電子ビーム露光装置をはじめとする化合物半導体光・電子デバイス用に揃えた様々な装置が利用できます。
東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究

また、化合物半導体を中心として光・電子デバイス作製の所において支援する研究領域は、
トップダウン式のナノ構造ための広いノウハウを持ち、デバイス物理まで踏み込んだ構築の基盤装置である電子ビーム露光を中心とした微細アドバイスが可能です。

構造構築技術です。
20nmクラスの微細パターン形成技術を基盤として、利用者の必要に応じて半導体／金属／絶縁体などのデバ

利用申請者のアイデアに基づいた研究を行うために、
知的財産権が申込者に帰属できる技術代行を主とした利用形態としています。

イス構造に重要な薄膜への転写までを含む３次元ナノ

また、重ね合わせ露光を含む高度な電子ビーム露光技術

構造を構築する総合的な技術を提供します。
重ね合わせての広がりのために、
産総研と協力して関東圏で毎年開催す電子ビーム露光を行った場合には、構築可能な構造は非常る電子ビーム露光スクールや、
電子ビーム露光装置を持っに幅広くなります。
有機金属気相成長装置による化合物

た主要大学、研究機関のそれぞれの露光装置を高い活用

半導体結晶等、微細構造を生かしたデバイス構築・観測が度にする体制構築を目指した支援である出張技術指導・出来る装置群も共用設備として提供しています。

出張スクール等も開催します。

主な共用設備■主な装置：
・マスクレス露光装置（大日本科研 MX-1204）
・コンタクト光学露光装置（Suss MA-8）
・ロードロックチャンバ付き６連子銃蒸着器（エイコー 特注）
・有機金属気相成長装置（日本酸素 HR3246）（サムコ RIE-10NR）
・リアクテブイオンエッチング装置
・走 査型電子顕微鏡（日立製作所 S-5200）
・F（JEOL JIB-4501 等）
 IB-SEMデュアルビーム加工観察装置

Address

Facilities

Yasuyuki Miyamoto, Program Manager
FIRST, IIR Tokyo Tech,■Number of Registered Equipment : 28

2-12-1-S9-2, Ookayama, Meguro-ku, Tokyo
152-8552, Japan
URL : http://www.pe.titech.ac.jp/qnerc/nano_support/index-j.html
TEL : +81-3-5734-2572
E-mail : miya@ee.e.titech.ac.jp■Feature : Electron Beam Lithography System, JEOL JBX-6300 withhighest overlay accuracy (σ<3nm)■Facilities :・Maskless Exposure System (Jpn. Sci. Eng., MX-1204)
・Contact Aligner (Suss MA-8)
・E-gun Evaporator with load-lock chamber (Eiko,Custom order)・Metalorganic vapor phase epitaxy equipment(Taiyo Nippon Sanso HR-3246)
・Reactive Ion Etcher (Samco, RIE-10NR)
・Scanning Electron Microscope (Hitachi, S-5200)
・Multi-beam FIB/SEM system (JEOL, JIB-4501etc.)

With the advice of experienced advisors, equipment designed for optical andelectronic compound semiconductor devices including electron beam lithographysystems maintained the highest overlay accuracy are available.
The supported area by the Laboratory for FutureInterdisciplinary Research of Science and Technology(FIRST), Institute of Innovative Research (IIR), Tokyo
Institute of Technology is top-down nano-fabrication technology, mainly based on electron beam lithography.
Based on the technology to realize 20-nm-class fine patterns, we provide 3-dimensional nano-structure fabrication
technologies including pattern transfer to many kinds ofthin-films such as semiconductors, metals or insulators. Our
highly accurate overlay patterning technology of electron
beam lithography enables users to realize a wide variety
of fabricated structures. Other equipment for fabricationand observation of micro- or nano-structure, such as ametalorganic vapor phase epitaxy system for compound

19

semiconductor film epitaxy and are also opened for users as
shared equipment.
We can also provide advice regarding device physics
knowledge, based on long experience of research in opticaland electron devices, especially for compound semiconductors.
The major style for our support is technologicalsurrogate, in which the intellectual property right remains
entirely with the applicant. To familiarize the technology byelectron beam lithography with overlay exposure, we holdan intensive electron beam lithography course. In the Kanto
district, we have course every year with AIST. In other areas,
we co-organize courses using electron beam lithographysystems with other major universities/institutes.

日本電子製 電子ビーム露光装置 JBX-6300の外観図
加速電圧は50/100keV、実測位置合わせ誤差はσ<3nm以下。
Electron Beam Lithography System JEOL JBX-6300.
Acceleration voltage is 50/100 keV. Measured overlay accuracy σ is <3 nm.

幅6μmのバイレイヤーのグラフェン上に周期200nmでアンチドット構造を作製した例
ナノテクノロジーネットワークプロジェクトでの技術代行による支援。
このあとFET化され、SdH振動測定等を行った。
Anti-dot structure with 200-nm-period in 6-μm-wide bi-layer graphene.
Support by technological surrogate in Nanotechnology Network
Project. The structure was processed into FET and Shubnikov-de
Haas oscillations were measured.

Nanofabrication Platform Consortium 20

実施機関 Participating Institution

国立大学法人

国立大学法人 名古屋大学 Nagoya University

名古屋大学

Nagoya University

拠点連絡先

施設・機器共用推進室／
ナノテクノロジープラットフォーム機構

中部地区最大規模の最先端装置群を利用し，薄膜形成・プラズマ表面処理から
ナノ構造・ナノデバイス作製まで総合的に支援します。
名古屋大学は、
ナノテクノロジーに関連する広範な技術様な装置群の利用とノウハウの提供によって、新規ナノ材料、

領域およびそれらに必要となる各種材料群（半導体材料、

ナノプロセス、
ナノデバイスの研究開発を幅広く支援します。

磁性体材料、誘電体材料、セラミックス系材料、有機系材料

本事業では、
下記の技術および支援を行います。

など）
に対して、
最先端の薄膜形成技術、リソグラフィー技○ナノスケール／マイクロスケール微細パターン形成技術

術、
プラズマエッチング技術を保有しており、ナノ材料形成、○ナノ配線・ナノ電極形成技術

ナノ構造形成、
ナノデバイス形成などさまざまな支援を行う○ナノドット・ナノ構造等の配列技術

ことができます。

○プラズマを用いた各種材料のエッチングおよび

具体的には、
クリーンルーム等の施設におけるスパッタリ■登録装置数：67

名古屋大学未来材料・システム研究所：
微細加工プラットフォーム事務局■特徴：薄膜形成からナノデバイス作製まで

TEL：052-789-3639
E-mail：info@nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp○各種電子・光デバイス構造作製技術

フィや電子線リソグラフィによる微細加工、
イオン注入や反○MEMS・NEMS構造作製技術

応性エッチング装置によるナノプロセス、
光電子分光、
原子間○各種材料（半導体材料、
磁性材料、
金属材料、
有機材料、

Address
Nanofabrication Platform OfficeInstitute of Materials and Systems for Sustainability, Nagoya
University
Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya, 464-8603 Japan
URL : http://nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp/
TEL : +81-52-789-3639
E-mail : info@nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp

21

Facilities■Number of Registered Equipment : 67
■Feature : From film deposition through nano-device fabrication■Facilities :・Electron Beam Lithography System (JEOL, JBX-6300FS)
・Femtosecond Laser Microprocessing and Analysis System(Kisoh, UFL-Hybrid)・3-sources Magnetron Sputtering System (Shimazu, HSR-522)
・Ion Implantation System (Nissin, NH-20SR-WMH)
・Inductive Coupled Plasma Etching System (ULVAC, CE-300I)・3-dimentional Laser Lithography System(Nanoscribe, Photonic Professional)

無機材料など）の薄膜形成技術

Comprehensive technical support from film deposition and plasma
treatment through nano-structure and nano-device fabrications usinglargest scale advanced facilities in Chubu area
Nagoya University has many advanced facilities to prepare and process various electronic materials, i.e. semiconductor, magnetic, dielectric, ceramic and organic materials,
and also has the technical know-how to develop new kind of
devices using such materials.
The university offers a wide range of support fornano-technology research and development, such as
nano-material and thin film processing using magnetron
sputtering and molecular beam epitaxy, nano-structure
patterning using electron beam and photo lithography, micro
and nano-device processing and material analysis using■主な装置：
・電子線露光装置（日本電子，
JBX-6300FS）・フェムト秒レーザ加工分析システム（輝創，
UFL-Hybrid）
・3元マグネトロンスパッタ装置（島津製作所，
HSR-522）・イオン注入装置（日新電機，
NH-20SR-WMH）・ICPエッチング装置（アルバック，
CE-300I）・3次元レーザ・リソグラフィシステム
（Nanoscribe，Photonic Professional）

表面処理技術

ングや分子線エピタキシーによる薄膜の形成、
フォトリソグラ

力顕微鏡、
薄膜X線回折による表面分析や構造解析など、
多〒464-8603 名古屋市千種区不老町

URL：http://nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp/

Technical Center of Nagoya University Equipment Sharing
Promotion Office/ Nano Technology Platform Consortium

主な共用設備

X-ray photoelectron spectrometer, scanning electron microscope, X-ray diffractometer, and atomic force microscope.
Typical support provided at our facilities is as follows:-nano-scale and/or micro-scale lithography and patterning-nano-interconnection and nano-electrode processing-nano-dot and nano-structure alignment-plasma etching and surface treatment-electronic and photonic device processing-MEMS and NEMS technology-thin film preparation of semiconductor, magnetic, metallic,ceramic and organic materials.

円形断面を有する３次元マイクロ流体ネットワーク

Si基板上に形成したひずみ
Ge/SiGe微細柱状構造

Three dimensional microfluidic
network with circular crosssection

Strained-Ge/SiGe micro
pillar structure formed on Si
substrate

Si製無痛針アレイ

GMR素子を利用したマイクロ磁気センサ

クリーンルーム（微細加工室） Clean room for lithography

Micromachined microneedle
array for transdermal drugdelivery system

Micro magnetic sensor using
GMR effect

Nanofabrication Platform Consortium 22

実施機関 Participating Institution

学校法人トヨタ学園

学校法人トヨタ学園 豊田工業大学 Toyota Technological Institute豊田工業大学

Toyota Technological Institute

研究設備共同活用センター／
ナノテクノロジープラットフォーム部門

拠点連絡先〒468-8511 名古屋市天白区久方2-12-1■登録装置数：34

豊田工業大学研究支援部 研究協力グループ：南澤■特徴：シリコンと各種物質のナノ微細加工のハイブリッド

URL：http://www.toyota-ti.ac.jp/
kenkyu/nanoplatform/index.html
TEL：052-809-1725

Center for Sharing Research Facilities/
Branch of Nanotechnology Platform
TTI Nanofab Platform for Hybrid “Monozukuri”

E-mail：nanoplatform_office@toyota-ti.ac.jp

シリコン系のラインを軸に、
Ⅲ-Ⅴ族、
カーボン、
磁気材料も含めた加工に対応可能です。
実習・講習会、
企業向け支援に実績があります。
提供でき、学内研究者が支援に協力します。

きます。
この基礎技術に加え、様々なナノ構造や素子の研究

本事業には34台の装置が登録されていますが、そのを進める研究室群が連携して、教育・研究および研究支援

他の装置もご利用いただけます。
太陽電池、ナノ構造素子、活動を進めており、
シリコン系に留まらず、
Ⅲ-Ⅴ族半導体・

MEMSなどに関して高度な研究者と設備を擁しており、
関

カーボン・磁気材料・有機物など多様なナノ構造の試作に連技術を提供できます。
プローブ顕微鏡やＸ線回折装置な関する支援を行います。

ど、解析や評価も一か所で迅速に対応できます。

共用クリーンルームは、
企業で実務経験のある専任の学外研究者向きの「半導体プロセス実習・講習会」
を継続

技術職員2名と準専任の支援職員１名が管理と支援を開催し（2019年で第33回）、
X線解析や振動分光の講習会行っており、
高度な技術指導や代行に対応できます。
支援も開いてきました。
また、
名古屋大学と地域連携します。

Our supporting region includes processing not only Si but also III-V, carbon,
magnetic, and organic materials realizing their hybrid structures. The high-levelresearchers and facilities for solar cells, nano-devices, MEMS can serve related
technology. The technical staffs can support the entrusted processing. The
workshops and supports for companies are active.
The clean room is open to outside researchers as well as
members. The lineup of Si micromachining facilities (3-4inch) can be used for realizing a variety of devices. Basedon this technique, the laboratories studying nano-structures
or nano-devices collaborate for supporting the relating study
and research. Our supporting region includes processing not
only Si but also III-V, carbon, magnetic, and organic materials realizing their hybrid structures.
The facilities are well-maintained by three experienced
technical staffs. The operation can be taught, or processing
can be entrusted as a service. Laboratory team members
have the know-how and fabrication/analysis facilities, and23

our team members collaborate to give support.
In addition to 34 machines registered, many other facilities can be used. Although our institute is small, the highlevel researchers and facilities for solar cells, nano-structures/devices, MEMS can serve related technology. Analysis andevaluation of samples are possible at one place using nanoprobe microscopes and X-ray analysis machines.
The workshop on semiconductor processing is open
annually (33rd workshop at 2019), and ones on X-ray analysis or vibration spectra are also open. The location is near
Nagoya University and offers collaboration covering the
Chubu area.

2-12-1 Hisakata, Tenpaku-ku, Nagoya, 468-8511, Japan
URL : http://www.toyota-ti.ac.jp/
kenkyu/nanoplatform/index.html
TEL : +81-52-809-1725
E-mail : nanoplatform_office@toyota-ti.ac.jp■Number of Registered Equipment : 34
■Feature : Hybrid micro/nano-fabrication facilities for Si and other
different materials■Facilities :・Atomic layer deposition system (Ultratech/Cambridge Nano Tech, Fiji F200)
・Ion implanter (VARIAN, 200CF4)
・Electron-beam drawer (CRESTEC Inc., CABL-8200TFE)
・Mask aligner (SUSS MicroTec, MA6)
・Maskless pattern generator (Japan Science Engineering Co.,Ltd., MX-1204)
・Deep reactive ion etcher(Sumitomo precision products Co., Ltd., Multiplex-ASE-SRE-SE)・Raman spectrometer (Renishaw plc., inVia Reflex)・Absolute PL quantum yield spectrometer(Hamamatsu Photonics K.K., C9920-02G)

シリコン垂直エッチングと平滑な壁面
0.8 [μm]

5.1⇐
壁面スキャロップの凹凸を少なくしてエッチングした上に、高温酸化と酸化膜エッチン
グで平滑にした格子断面形状
The Si grating with the smooth sidewall
obtained by the combination of the dryetching recipe giving the low scalloping
and the subsequent oxidation and oxide
wet-etching.

20

一連の標準装置を備え、多様な構造や素子試作が実施でFacilities

Minamizawa
Research Supporting Group, Toyota Technological Institute

担当の研究室群には、ナノ構造の加工・評価用の設備群が■主な装置：（Ultratech/Cambridge Nano Tech、Fiji F200）・原子層堆積装置
・イオン打ち込み装置（VARIAN、200CF4）・電子ビーム描画装置（クレステック、
CABL-8200TFE）
・マスクアライナ装置（ズース・マイクロテック、
MA6）
・マスクレス露光装置（大日本科研、
MX-1204）
・Deep Reactive Ion Etching装置（住友精密工業、
Multiplex-ASE-SRE-SE）・ラマン分光装置（レニショー、
inVia Reflex）
・絶対ＰＬ量子収率測定装置（浜松ホトニクス、C9920-02G）

Address

太陽電池、
ナノ構造素子、
MEMS 関係の研究者を備え、技術指導や代行に対応できます。
共用クリーンルームにはシリコン系（3～4インチ対応）の主な共用設備⇒Deep reactive ion etching装置
Deep reactive ion etcher

新プロセス：曲面への微細パターン形成

10μm

φ25mm

凸レンズ曲面（高低差600μm）に形成したピッチ
4μmの格子。
4µm-pitch line-and-space pattern on the convex
lens surface (height difference of 600 µm).

マスクアライナ装置 Mask aligner

Nanofabrication Platform Consortium 24

実施機関 Participating Institution

国立大学法人

国立大学法人 京都大学 Kyoto University

京都大学

Kyoto University

拠点連絡先〒606-8501 京都市左京区吉田本町
工学部物理系校舎327号室

学際融合教育研究推進センター／
ナノテクノロジーハブ拠点

京都大学ナノテクノロジーハブ拠点
URL：http://www.mnhub.cpier.kyoto-u.ac.jp/

Center for the Promotion ofInterdisciplinary Education and Research/
Nanotechnology Hub

TEL：075-753-5231
E-mail：kyodai-hub@saci.kyoto-u.ac.jp

100台超のツール群とエキスパート技術集団が、
ナノテクノロジーからライフサイエンスまで、
あなたのアイデアをカタチにします。Nanohub for Your Ideas！
京都大学ナノテクノロジーハブ拠点は100台超の最新鋭
微細加工装置群と14名の専門技術員を擁する微細加工プ
ラットフォームを駆使して、内外の研究者の皆様にシンセシ
ス知を創出・蓄積・活用・継続するためのアンダーワンルーフ型研究開発環境と人的交流環境を提供します。

２．開かれた施設として運用
当ハブ拠点は京都大学の特定の学部、研究科に属する
ものではなく、本部組織に属し学内外の研究機関、企業の研究者の支援を行うための施設です。
簡単な利用手続きによりどなたでも利用いただけます。

１．
	多 種多様な基板・薄膜材料をウエハレベルで加工・評価することができるナノ・マイクロ試作ラインを提供

３．装置ごとに利用時間に応じた料金を設定
各装置には１時間当たりの料金が設定されています。

リソグラフィー装置…マスク作製、
露光、
レジスト現像ナノ材料加工・創製装置…各種ドライエッチング、
薄膜作製
ナノ材料分析・評価装置…SEM、AFM、
蛍光顕微鏡、
電気特性

４．利用者自らが装置を操作し実験各装置に精通した技術員による支援を受けながら利用できます。
５．技術相談、技術代行サービスも提供
技術員が加工、評価に関する技術相談を承ります。
必要に応じ技術代行も承ります。

主な共用設備■登録装置数：85■特徴：ナノ・マイクロレベルのリソグラフィ、成膜、加工、評価が可
能な装置■主な装置：（アドバンテスト、
F7000S-KYT01）
・大面積超高速電子線描画装置
・高速マスクレス露光装置（ナノシステムソリューションズ、D-light DL-1000GS/KCH）・深堀りドライエッチング装置（サムコ、
RIE-800iPB-KU）
・磁気中性線放電ドライエッチング装置（アルバック、NLD-570）・レーザダイシング装置（東京精密工業、
Mahoh Dicer ML200）
・超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡（日立ハイテクノロジー、SU-8000）・走査型プローブ顕微鏡（JPKインスツルメントAG、
NanoWizard Ⅲ NW3-XS-O）

Address

Facilities

Nanotechnology Hub, Kyoto University■Number of Registered Equipment : 85

Room 327, Faculty of Engineering,Engineering Science Depts Bldg.,
Yoshida-honmachi, Sakyo, Kyoto 606-8501, Japan
URL : http://www.mnhub.cpier.kyoto-u.ac.jp/
TEL : +81-75-753-5231
E-mail : kyodai-hub@saci.kyoto-u.ac.jp■Feature : Processing equipment in Nano and /or Micro meter order
for lithography, deposition and evaluation■Facilities :・Large Area and Ultra High Speed Electron Beam Lithography(Advantest Corporation, F7000S-KYT01)
・High Speed Maskless Lithography(NanoSystem Solutions, Inc., D-light DL-1000GS/KCH)
・Reactive Ion Deep Silicon Etcher (Samco Inc., RIE-800iPB-KU)
・Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma Dry Etcher(ULVAC Inc.,NLD-570)
・Laser Stealth Dicer (Heidelberg Instruments KK, Mahoh Dicer ML200)
・Ultra-High Resolution Field Emission SEM(Hitachi High-Technologies Corporation, SU-8000)
・Bioscience Atomic Force Microscope(JPK Instruments AG, NanoWizard Ⅲ NW3-XS-O)

Expert engineers and over 100 machines in Nanohub
realize your ideas in the field of nanotechnology and/or life science.

25

2. Open-door policy
The nano/micro fabrication platform was established tosupport every industry-academic-government researcher orengineer by a simple application procedure.

500nm
大面積電子線描画装置で描画したレジストのSEM写真

3. Clear charge system
Using fees per an hour are clearly indicated for individual equipment on our homepage for easy estimation of thecharge being billed.

m

SEM image of resist pattern drawn by Large Area
and Ultra High Speed EB Lithography System(L/S=18nm/36nm).

m

1. Materials, substrate size and processing equipment
The nano/micro fabrication line can handle various kindsof substrate and thin-film materials as well as conventional
silicon, and can process 4 and/or 6 inch wafers to get trial
fabrication data by using the equipment groups of nanolithography, nano-material processing and analyses.
Nano lithography equipment: photo mask fabrication,
exposure and resist developing.
Nano material processing and deposition equipment:
various kinds of dry etching, thin film deposition, and wafer
dicing.

Nano material analytical and evaluation equipment:
SEMs, AFMs, fluorescence microscopes and probers withelectrical measuring equipment.

4. Equipment operation
Users can operate their request equipment by themselveswith the support by platform staffs, so that users can optimize
their experimental schedule depending on their progress.
5. Other technical services
Technological consultation and proxy service by theplatform staff are available.

25

Nanotechnology Hub in Kyoto University offers theunder-one-roof type nano/micro fabrication environment
to build up knowledge for generating new ideas and technology network for worldwide researchers and engineers.
More than eighty kinds of forefront equipment for nano/micro fabrication and characterization are offered to users,
and ten dedicated and highly skilled technical engineers
provide technical instruction, advice of process conditions
and advanced technological issues.

イエロールームの装置群右手前からレーザー直接描画装置、高速マスクレス描画装置、正面奥にステッパー。

マイクロ流路デバイスの写真

From front right, laser pattern generator, high speed maskless LED lithography, and i-line stepper.

Photo of body on a chip device.
(fabricated by Dr. Hirai group of Kyoto University)

Nanofabrication Platform Consortium 26

実施機関 Participating Institution

国立大学法人

国立大学法人 大阪大学 Osaka University

大阪大学

Osaka University

拠点連絡先〒567-0047 大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1■登録装置数：18

大阪大学■特徴：リソグラフィーとドライエッチングによるナノ加工技術、FIBによる直接ナノ加工技術

産業科学研究所内

URL：http://nanoplatform.osaka-u.ac.jp/fab/

ナノテクノロジー設備供用拠点

TEL：06-6879-4654

Nanotechnology Open Facilities

E-mail：info-nanoplat@sanken.osaka-u.ac.jp

ヘリウム／ネオンイオン顕微鏡を機器利用可能
レジストプロセスを経ずにナノメートルの加工が直接可能
大阪大学ナノテクノロジー設備供用拠点では、
当拠点

ンソーシアムと連携・協力することで、地域企業や学外の研内に設置する微細構造解析プラットフォームおよび分子・究機関との有機的な連携等を深めつつ、基礎基盤技術を物質合成プラットフォームと密に連携し、産業／研究イノ

確立し、新産業創出の礎を築くことを目指しています。

ベーションの基盤技術となる各種量子ビームを用いたナノ当学が持つ“智”と当拠点利用者との融合をはかるだけでファブリケーション技術の開発や次世代の露光技術である

なく、３つのプラットフォームを通して外に開かれたオール

EUVリソグラフィー実現の鍵となるレジスト開発と評価、有ジャパン体制のゲートウェイとなることで、単なる設備・施機／無機／酸化物等の各種素材からなる極微デバイス作

設の共用のみを行うのではなく、
ナノテクノロジー関連の人

製・評価や特異的なナノ構造体の作製等に貢献しています。

材育成やイノベーションの核となる知見・技術を創出するプ

さらに、学内の産学連携本部や学外の商工会議所、
全国

ラットフォームの“供用”拠点として総合的な研究支援を行

16の機関から構成される微細加工ナノプラットフォームコ

主な共用設備■主な装置：
・超高精細電子線リソグラフィー装置（エリオニクス、
ELS-100T）
・マスクレス露光装置（ピーエムティー、
PLS-1010）
・深掘りエッチング装置（サムコ、
RIE-400iPB）
・リアクティブイオンエッチング装置（サムコ、
RIE-10NR）・ナノインプリント装置（Obducat、
Eitre 3）
・DC/RFスパッタ装置（キヤノンアネルバ、EB1100）（ツァイス、
NVison）
・SEM付FIB装置
・ヘリウムイオン顕微鏡（ツァイス、
ORION NanoFab）

AddressThe Institute of Scientific and Industrial Research (ISIR),
Osaka University
8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan
URL : http://nanoplatform.osaka-u.ac.jp/fab/
TEL : +81-6-6879-4654
E-mail : info-nanoplat@sanken.osaka-u.ac.jp

います。

Facilities■Number of Registered Equipment : 18
■Feature : Nanofabrication technology by lithography and dry
etching, direct nanofabrication technology by FIB■Facilities :・Ultra high definition electron beam lithography system(Elionix, ELS-100T)・Maskless photolithography system (PMT, PLS-1010)
・Deep etching system (Samco, RIE-400iPB)・Reactive ion etching system (Samco, RIE-10NR)
・Nanoimprint system (Obducat, Eitre 3)
・DC/RF sputtering system (CANON ANELVA, EB1100)
・Focused ion beam system with SEM (Zeiss, NVison)・Helium ion microscope (Zeiss, NVison)

Equipment available for Helium / Neon ion microscope
Direct processing of nanofabrication without resist process
Nanotechnology Open Facilities (NOF) at Osaka
University is managed in close collaboration with theMicrostructural Analysis Platform, Nanofabrication
Platform, and Molecule & Material Synthesis Platform.
NOF contributes to the development of nanofabrication
technology using various quantum beams, and nanofabrication is the basic technology of industrial research innovation.
Additionally, NOF contributes to the development andevaluation of resistant materials for EUV lithography, andto the processing and evaluation of nanoscale devices andstructures made of organic, inorganic, and oxide materials.
NOF collaborates with Osaka University Officefor University-Industry Collaboration, the Chamber of27

Commerce and Industry, and Nanofabrication Platform
Consortium consisting of 16 organizations in Japan, andtherefore strengthens organic cooperation with local companies and off-campus research organizations, striving toestablish basic technology and create the foundation for new
industry.
NOF tries to integrate our users with the knowledgeof our university, and NOF as the gateway of an all-Japanframework for open use through our three Platforms not
only provides equipment and facilities, but also assists
research overall as the open facility for human resource
development in nanotechnology, and the creation of knowledge and technology as the core of innovation.

ヘリウムイオン顕微鏡でガラス基板上のAu薄膜に加工した漢字

ヘリウムイオン顕微鏡

Characters Fabricated on Au/glass substrate by Helium Ion Microscope

Helium Ion Microscope

Nanofabrication Platform Consortium 28

実施機関 Participating Institution

国立大学法人

国立大学法人 香川大学 Kagawa University

香川大学

Kagawa University

拠点連絡先

産学連携・知的財産センター／
ナノテクノロジー支援室

主な共用設備〒761-0301 香川県高松市林町 2217-16■登録装置数：15

香川大学 産学連携・知的財産センター
ナノテクノロジー支援室■特徴：4インチウェハサイズまでのナノマイクロファブリケーションと評価技術

URL：http://www.kagawa-u.ac.jp/nanoplatform/

Center for Industrial-Academic Partnershipand Intellectual Property /Support Office for Nanotechnology

TEL：087-887-1873
E-mail：nanoplatform@ao.kagawa-u.ac.jp

4インチサイズのナノマイクロプロセス・評価が可能な、四国唯一のナノプラ支援機関
シリコン・樹脂などの様々な材料を用いた任意の不定形

1.様々な材料を不定形対応するナノマイクロ試作ラインから４インチ基板までの微細加工を行う前・後工程の一連○ナノマイクロリソグラフィ装置の製造装置群と、
その評価装置を揃えています。
また、装置○ナノマイクロ成膜／エッチング装置

操作・補助を行う専門技術補助員を配し、
さらに、
本学教員

○ナノマイクロ材料分析／評価装置

を含む研究者群により、最新のナノマイクロ加工技術・集積※当該支援リスト外の装置も相談可（電子・光・バイオ応用関化技術を提供し、先端デバイス開発・評価を様々な形態で支援する能力を有しています。
四国地方で唯一の装置群は、その使いやすさから四国地方を中心とした多数の企業・学術研究機関の利用実績があります。
初めての利用希望においては、
本学職員による無料相談を受けることができます。

連の装置もあります。
）

2.ご希望の利用方法を提供
装 置の利用法は、各装置に精通した技術補助員による支援のもとで、①利用者自身での装置操作、②技術代行、③共同研究の形式を選択できます。

Address■主な装置：
・電子線描画装置（エリオニクス社製 ELS-7500EX）
・マスクレス露光装置（大日本科研社製 MX-1204）（ハシノテック社製 10W-IBS）・デュアルイオンビームスパッタ装置
・イオンシャワー（エリオニクス社製 EIS-200ER）・真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製 VPC-1100）
・ダイシングマシン（ＤＩＳＣＯ社製 DAD3220）
・白色干渉式三次元形状測定器（ブルカー・エイエックスエス社製 NT9100ⅠA）
・走査電子顕微鏡（ＥＤＳ付き）（ＪＥＯＬ社製 JSM-6060-EDS）

Facilities

Support Office for Nanotechnology,
Center for Industrial-Academic Partnership and Intellectual
Property,Kagawa University
2217-16, Hayashi-cho, Takamatsu, Kagawa,
761-0301, Japan
URL : http://www.kagawa-u.ac.jp/nanoplatform/
TEL : +81-87-887-1873
E-mail : nanoplatform@ao.kagawa-u.ac.jp

3.研究開発力・技術力で支援■Number of Registered Equipment : 15
■Feature : nano/micro-fabrication and evaluation devices for
4-inch wafer■Facilities :・Electron Beam Lithography System(Elionix,ELS-7500EX)・Maskless Lithography System(Jpn.Sci.Eng.,MX-1204)
・Dual Ion Beam Sputtering System(Hashino-tech,10W-IBS)・ECR Ion Etching System(Elionix,EIS-200ER)・Vacuum Coating Equipment (Ulvac,VPC-1100)
・Dicing Saw(Disco,DAD3220)
・Optical 3D Profiling System(Bruker,NT9100ⅠA)
・Scanning Electron Microscope(with EDS) (JEOL,JSM-6060-EDS)多 岐にわたる多くの実績、技術を有する本学研究者群が加工、評価に関する技術相談を承ります。

Only nanofabrication platform in Shikoku region,
enabling 4-inch size nano/micro process and evaluation
A series of nano/micro-fabrication and evaluation equipment are arranged for 4-inch wafer and various materials
such as silicon and resins. State-of-the-art nano/microfabrication and integration technologies are offered to the user
by skilled professional assistants and the researcher group.
Users are supported to develop and evaluate devices invarious service forms. Many users in enterprises and science
research laboratories are using the only series of equipment
offered in the Shikoku region. First-time users can receive
free consultation from the staff.

Optical and biotechnological equipment outside thesupport list can be used.

1. 	Nano/micro processing/evaluating line for arbitrary
shapes and various materials

The researcher group, which has a vast amount of
information on research results and technologies, receives
technological consultation concerning the fabrication andevaluation of the devices from users.

*Nano/micro-lithography equipment*Nano/micro-deposition/etching equipment*Nano/micro-material analysis/evaluation equipment29

2. Various utility forms
Users choose a utility form of the equipment with thesupport of skilled professional assistants.
1) Device operation by user
2) Technological proxy service
3) Joint research
3. Support by high R&D and technological capabilities

電子線描画装置：
スポットビームφ2nm により10nmラインパターン
を超微細描画できます。継ぎ精度40nm の高精度つなぎが可能です。試料サイズは6inchまで対応可能です。
Electron Beam Lithography System:high precision drawing is possible in a 10nm
line pattern by a 2nm diameter spotbeam.
A highly accurate stitching accuracy of 40nm is
possible. The size of the sample corresponds
to 6 inch.

クリーンルーム：
単一装置のみの利用から、複数装置の組み合わせ利用まで、幅広く対応します。
研究・開発の進捗状況に応じて、適宜、利用形態を変更することも可能です。
Users can choose utility form from the spot use of single equipment to
combination use for two or more types of equipment.

加工例：シリコンナノパターン
Si nano-pattern

Nanofabrication Platform Consortium 30

実施機関 Participating Institution

国立大学法人

国立大学法人 広島大学 Hiroshima University

広島大学

Hiroshima University

拠点連絡先

ナノデバイス・バイオ融合科学研究所／
微細加工支援室

主な共用設備〒739-8527 東広島市鏡山一丁目四番二号■登録装置数：33

広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所■特徴：CMOSデバイス作製技術■主な装置：
・超高精度電子線描画装置（エリオニクス，
ELS-G100）
・マスクレス露光装置（ナノシステムソリューションズ，
DL-1000）
・深掘りエッチャー（住友精密工業，
Si深掘用，
MUC-21）・イオン注入装置（アルバック，IM-200M）
・スパッタ装置（エイコー，
Al用）
・酸化，
ＣＶＤ炉
（東京エレクトロン，
370MI-MINI）
・2次イオン質量分析器（アルバックファイ，
SIMS6650）
・RBS測定装置（日新ハイボルテージ，
AN-2000H）

URL：http://www.nanofab.hiroshima-u.ac.jp/

Research Institute for Nanodevice and Bio Systems/
Nano Processing Support Office

TEL ：082-424-6265
FAX：082-424-3499
E-mail：nanofab@ml.hiroshima-u.ac.jp

高品質なデバイスづくりを可能にするクラス10スーパークリーンルームと、柔軟に運用可能な豊富な装置群
クラス10のケミカルフィルター設置スーパークリーンルー

Address
推進し高度で多様な支援を提供します。

ムと電子線描画を用いた超微細シリコンデバイス試作技術

これまでの支援成果例として、（1）
プリンタ用LEDアレーをベースとする加工技術支援を行います。
平成14年以来のの低コスト製造法（エピフィルムボンディング法）の実用化

支援実績と多数の受賞成果を誇っています。
また物理分野（2007年内閣総理大臣表彰「ものづくり大賞」優秀賞をの博士研究員を再教育し半導体分野に多数輩出しました。

沖デジタル社が受賞）、（ 2）
シランプラズマ中のダスト微

本施設では２インチシリコンウェハを用いて、30nm

粒子抑制法（2006年日本エアロゾル学会論文賞受賞）、の超微細加工が可能です。平成25年度には最小線幅（3）量子ドット型太陽電池の試作、（ 4）ノロウィルスセン

６nmの電子線描画装置を導入しました。
また、
世界最薄

サー用の微細流路形成などの支援実績があります。

（1.2nm)SiO2膜を持つシリコントランジスタの開発に

また、
トランジスタの設計・試作測定やマイクロ流路など成功しています。
シリコン以外の材料に対しても可能な限りの講習を毎年行っています。
さらに、
高校、
高専、
大学生対象

対応します。
N&MEMS技術、バイオ関連デバイスに関して、に太陽電池の試作実習を行っています。

Facilities■Number of Registered Equipment : 33

Research Institute for Nanodevice and Bio Systems,
Hiroshima University■Feature : CMOS device processing technology■Facilities :・High resolution EB lithography (ELIONIX, ELS-G100)
・Maskless lithography machine(Nanosystem Solutions D-Light DL-1000)
・Deep dry etcher (Sumitomo Precision Products, MUC-21)
・Ion implantation machine (ULVAC, IM-200M)
・Sputtering machine for metallization (Eiko)・Oxidation furnaces and low-pressure CVD reactors(Tokyo Electron, 370MI-MINI)・Secondary ion mass spectrometry (SIMS) machine(ULVAC-PHI, SIMS6650)
・RBS measurement system (Nissin High Voltage, AN-2000H )1-4-2 Kagamiyama, Higashihiroshima, 739-8527, Japan
URL : http://www.nanofab.hiroshima-u.ac.jp/
TEL : +81-82-424-6265
FAX : +81-82-424-3499
E-mail : nanofab@ml.hiroshima-u.ac.jp

本学先端物質科学研究科などと連携して異分野融合を

The class 10 super-clean-rooms for realizing high-quality micro-, nanodevices and,many equipment with greater flexibility for realizing your projects
We support nanofabrication based on ultra-small Si
devices using electron beam (EB) lithography and a class 10
super clean room with chemical filters. We have supported
nanotechnology from 2002 and are proud of many awarded
results. Moreover, we re-educated many postdoctoral
researchers who graduated in the field of physics, and got
them engaged in the semiconductor field.
In our institute it is possible to produce 30 nm nanodevices using a 2 inch Si wafer. A new EB lithographymachine with minimum line width of 6 nm was introduced
in 2013. We have succeeded in developing a world-record
thinnest 1.2 nm SiO2 Si transistor. We also support nonsilicon materials as much as possible, and provide high level
and interdisciplinary support on N&MEMS and bio related
devices in our Graduate School of Advanced Sciences of31

Matter (AdSM).
Successful results obtained with our support include: (1)low-cost fabrication technology of LED array (epitaxial film
bonding method) for commercial printer from OKI Digital
Imaging Corporation who received the Prime Minister'sAward, Japan Prize for Creativity in 2007; (2) method tosuppress particle generation in silane plasma; (3) fabrication
method for quantum dot solar cells; and (4) fabrication of
fluidic channel for Norovirus sensor.
A practical semiconductor technology course is held
every year. This course covers the subjects of “design andfabrication of MOS technology” and “fabrication of micro
fluid channel”. A solar cell fabrication program is also held
for high school, technical junior college, and university
students.

リングオシレータ

マスクレス露光装置、酸化炉、
イオン注入装置等を使用して作製したCMOSインバータ

CMOSインバータ

500μm

pMOSFETnMOSFETAl electrodeAl gateelectrode

Al gateelectrode

SiO2

SiO2
n+

CMOS inverter, which isfabricated by maskless
lithography, thermal oxidation
and Ion implantation.

n+p-type Si substratep+n-wellAl electrode

p+

SiO2

Al electrode

マスクレス露光装置（ナノシステムソリューションズ，DL-1000）

CMOS トランジスタの断面構造

Maskless lithography system(Nanosystem Solutions D-Light DL-1000)

Cross-sectional structure of CMOS transistor

Nanofabrication Platform Consortium 32

実施機関 Participating Institution

国立大学法人

国立大学法人 山口大学 Yamaguchi University

山口大学

拠点連絡先

Yamaguchi University
大学研究推進機構／
微細加工支援室〒755-8611 山口県宇部市常盤台2-16-1■登録装置数：13

山口大学 大学研究推進機構 微細加工支援室
技術支援員：木村隆幸■特徴：昇温脱離ガス分析装置（ダイナミック型）
など、
ユニークな
装置を活用した支援

URL：http://www.nanotech.sangaku.yamaguchi-u.ac.jp/
TEL：0836-85-9993
E-mail：nanotech@yamaguchi-u.ac.jp

Organization for Research Initiatives/
Support Laboratory of Nano Fabrication

微細加工と真空技術でアイデアをかたちに〜極高真空技術で支えられた高度な微細加工技術で、ユーザーの期待に最大限応えます〜

Address

本学では平成23年度までの文部科学省ナノテクノロの下で高品質な多層膜材料の作製とデバイス試作のためジーネットワークプロジェクトに引き続き、
新たに微細加工の微細加工を可能にする装置類を備えています。
シリコン系

Technical Advisor: Takayuki Kimura
Support Laboratory of Nano-Fabrication,
Organization for Research Initiatives,
Yamaguchi University

支援室を設置し、
ナノテクノロジープラットフォームプロジェ

以外に超伝導材料、
誘電体材料、磁性体材料を対象として

2-16-1 Tokiwadai, Ube-shi, Yamaguchi 755-8611, Japan

クトにて微細加工分野で支援を進めています。
通常のデバ

微細加工技術、
性能評価技術の支援が可能です。

イス開発支援、
プロセス開発支援に加え、微細加工機器のさらに、微細加工機器の運転に欠かせない高品質真空を

キーテクノロジーである高品質真空技術に関連する支援を実現するための真空材料や真空部品の開発に必要な高感

特徴としています。
技術代行も行っており、丁寧な支援を心度ガス測定を超高・極高真空ガス分析装置群により支援し掛けています。

ています。
また、レジスト開発支援について多くの実績を持っ

電子線描画装置、
マスクアライナー、
各種スパッタ装置
等一連の微細加工機器をクリーンルーム内に設置し、デバ
イス開発、プロセス開発の支援に利用することができます。

主な共用設備URL : http://www.nanotech.sangaku.yamaguchi-u.ac.jp/
TEL : +81-836-85-9993
E-mail : nanotech@yamaguchi-u.ac.jp■主な装置：
・電子線描画装置(50kV)（エリオニクス ELS-7500EX）（エイコー・エンジニアリング ES-350W）
・UHV10元スパッタ装置
・深堀りエッチング装置（サムコ RIE-400iPB）
・走査型電子顕微鏡(SEM)（日立ハイテクノロジーズ S-4700）
・エリプソメーター【分光型】（J. A. Woollam M-2000D）・昇温脱離ガス分析装置【ダイナミック型】（日本電子（特別仕様））
・昇温脱離ガス分析装置【高感度型】（山口大学自作）・ガス放出速度測定装置（山口大学自作）

Facilities■Number of Registered Equipment : 13
■Feature : Support using unique apparatuses such as dynamic thermal
desorption spectroscopy, etc.
■Facilities :・Electron beam lithography system(50kV)(Elionix ELS-7500EX)・Ultra high-vacuum multi-target sputtering system(Eiko Engineering
ES-350W)
・Deep reactive ion etching systems(Samco RIE-400iPB)・Field emission-scanning electron microscope (FE-SEM)(Hitachi
High-Technologies S-4700)
・Ellipsometer(J. A. Woollam M-2000D)・Dynamic thermal desorption spectroscopy(JEOL Specially customized)
・Thermal desorption spectroscopy(Homemade)・Outgassing rate measuring system(Homemade)

ています。
是非、
微細加工、
薄膜形成等の材料作製、
真空技術分野での技術支援サービスをご利用ください。

また、
UHV10元スパッタ装置を用いた高清浄な真空環境

Realize your ideas with our nanofabrication and vacuum technologies—Sophisticated nanofabrication technology supported by extremely high vacuum technology
maximizes customer satisfaction—
Yamaguchi University supports your research anddevelopment of nanodevices and nanofabrication processes
for both academic and industrial users. Our specific focus
is providing technical support for extremely high vacuum
technology applications, applying our research strengths.
Technical support is available and staffs offer polite assistance.
・Device design and nanofabrication process for superconductivity materials, magnetic materials, and dielectricmaterials are available.
・P rocess design for nanofabrication is supported byequipment such as an electron beam lithography system,

mask aligner, and sputtering system, which are located ina clean room. Our platform has strong experience in resist
development support.
・High performance equipment is provided such as an ultrahigh vacuum multi-target sputtering system, which enables
the making of high-quality, multi-layered thin films in ahighly clean environment.
・Highly sensitive outgassing rate measuring systems areprovided to develop materials and components for highvacuum.
Our experts will support your innovation in the nanotechnology field.

UHV多元スパッタ薄膜形成装置（5元×2チャンバー）Ultra high-vacuum multi-target sputtering system(5 targets × 2 chambers)
電子線描画装置（加速電圧：50 kV ）Electron beam lithography system (acceleration voltage : 50 kV)

Evaluation of Lithographic Characteristics of Branched Electron BeamResistOptical microscope image of fabricated device.

33

Nanofabrication Platform Consortium 34

実施機関 Participating Institution

公益財団法人公益財団法人 北九州産業学術推進機構
Kitakyushu Foundation for the Advancement of Industry, Science and Technology

北九州産業学術推進機構

拠点連絡先

Kitakyushu Foundation for the Advancement of Industry, Science and Technology〒808-0135 北九州市若松区ひびきの1-5■登録装置数：29

共同研究開発センター■特徴：レジストの塗布と現像を自動で行う装置と組立工程を有する。

URL：http://www.ksrp.or.jp/fais/mic/nano/index.html

共同研究開発センター

TEL：093-695-3600

FAIS Semiconductor Center

E-mail：nano01@hibikino.ne.jp

設計、製作「CMOS一貫プロセス（1μm）」、組立、評価が可能なIC製作と、その微細加工設備を応用し、Si材料を主体とした三次元構造体や、水晶、石英、サファイヤ基板などを使ったMEMS
デバイスの製作が可能です。
路を付加することを可能にします。
開発した統合デバイスは、の研究開発用の各種微細加工設備を有し、広く企業・大学・研

半導体産業の既存のインフラと容易に結合可能となります。

究機関等に開放しています。
これらの設備や技術は、バイオ＆北九州産業学術推進機構が所在する北九州学術研究

ライフサイエンス、
環境技術分野の研究のみならず、
医療系な

都市は、
大学と企業が共存し、研究者育成から各種新技術

どの異分野間研究にも活用することが期待されています。

の研究・開発を行っている拠点です。
生まれた技術の事業

本拠点の大きな特徴は、特性のとれた「CMOS一貫プロ
セス
（1μm）
」
を保有していることです。
現在このCMOS ICとMEMSを統合することにチャレンジしています。
これは、物理・化学量を取扱うMEMSデバイスに簡単なアンプや制御回■主な装置：
・コーター/ディベロッパ
（リソテック、
CB-50）
・ステッパ（Ultratech、
1500MVS）
・両面マスクアライナ（SUSS Micro Tec AG、
SUSS MA6/BA6(MO)）
・ダイシングソー（DISCO、
DAD322）・ボンディング装置（ハイソル、
MODEL 7200CR）（エポキシダイ）
ボンディング装置（ハイソル、
MODEL 747677E）
・（ワイヤー）

Address

Facilities■Number of Registered Equipment : 29

Semiconductor Center

共同研究開発センターは、
CMOS IC・MEMS関連デバイス

主な共用設備

1-5 Hibikino, Wakamatsu-ku, Kitakyushu-shi, Fukuoka
808-0135, Japan
URL : http://www.ksrp.or.jp/fais/mic/nano/index.html
TEL : +81-93-695-3600
E-mail : nano01@hibikino.ne.jp

化に関する様々な支援も得やすいという絶好の事業開発環境にあります。

■Feature : We have an apparatus that automatically performs resist
application and development, and assembly process equipment.
■Facilities :・Coater/Developer (Litho Tech, CB-50)
・Stepper (Ultratech, 1500MVS)
・Double-sided Mask aligner(SUSS Micro Tec AG, SUSS MA6/BA6(MO))
・Dicing Saw (DISCO, DAD322)
・(Epoxy Die) Bonder (HiSOL, MODEL 7200CR)
・(Wire) Bonder (HiSOL, MODEL 747677E)

新しい微細加工デバイスの研究開発から事業化までの様々なメリットを是非ご活用ください。
Micro optical thrombus sensor

コーター/ディベロッパ
Coater/Developer

IC fabrication that has Design, Production(CMOS full process (1μm)), Assembly and
Evaluation can be made. In the nanofabrication apparatuses of the Production, it ispossible to manufacture three-dimensional structures mainly made of Si, and MEMS
devices using crystallized quartz, quartz, sapphire substrate and so on.
The Semiconductor Center has various nanofabrication
apparatuses for research and development of CMOS IC’s andMEMS devices, and is widely open to companies, universities and research institutes. These utilization of such apparatuses and technologies are expected to be used not only inbio and life sciences and environmental technology research,
but also in interdisciplinary research such as medical fields.
The major feature of our Center is that we have a“CMOS full process (1μm)”, that has the correct electricalcharacteristics. We are currently challenging to integrate thisCMOS IC and MEMS device. This makes it possible to add
simple amplifiers and control circuits to MEMS devices thatmeasure physical and chemical quantities. The Integrated
Devices developed can be easily combined with the existing

35

infrastructure of the semiconductor industry.
The Kitakyushu Science and Research Park where theKitakyushu Foundation for the Advancement of Industry,
Science and Technology is located, is a site where universities and companies coexist. Here is a base that conducts
research and development of various new technologies,
including the development of researchers. Therefore, it is in
the excellent business development environment where it iseasy to obtain various support for commercialization of theborn technology.
Please take advantage of the various benefits fromresearch and development of new nanofabrication devices tocommercialization.

名称：CB-50、
リソテック
CB-50、Litho Tech

仕様：処理対象：2”Φ,3”Φ,4”Φ
処理枚数：1枚(連続25枚可)
処理方法：レシピ入力方式
プライマリー処理可能
エッジリンス：バックリンス可能

Nanofabrication Platform Consortium 36