京都大学大学院工学研究科電子工学専攻／附属光・電子理工学教育研究センター
フォトニック結晶面発光レーザー形成設備共同利用規程
令和５年１０月１２日
工学研究科長裁定制定（趣旨）
第１条 この規程は、京都大学大学院工学研究科電子工学専攻量子機能工学講座光量子電子工学分野、附属光・電子理工学教育研究センター高機能材料工学講座ナノプロセス工学分野及び先端スマートセンシング講座（以下「分野等」という。）が管理及び運用する設備の共同利用について必要な事項を定めるものとする。
（設備）
第２条 この規程において対象となる設備は、別表に掲げる設備（以下「設備」という。
）とする。
（管理責任者）
第３条 設備の適正な管理を行うため、設備ごとに管理責任者を置き、分野等の教員のうちから分野等の代表者が選任する。
（利用資格）
第４条 設備を利用できる者は、次の各号のいずれかに該当する者とする。
(1)京都大学（以下「本学」という。
）の教職員又は学生のうち、分野等に所属するものでフォトニック結晶面発光レーザーに関わる研究開発を目的に使用するもの(2)本学の教職員又は学生のうち、前号以外のものでフォトニック結晶面発光レーザーに関わる研究開発を目的に使用するもの(3)国、地方公共団体、国立大学法人若しくは大学共同利用機関法人、独立行政法人又は教育・研究を事業目的とする法人若しくは団体に所属する者でフォトニック結晶面発光レーザーに関わる研究開発を目的に使用するもの(4)企業等において研究開発に従事する者でフォトニック結晶面発光レーザーに関わる研究開発を目的に使用するもの(5)その他管理責任者が適当と認める者（利用日）
第５条 設備は、次の各号に掲げる日を除き、毎日利用できる。
(1) 日曜日及び土曜日(2) 国民の祝日に関する法律（昭和２３年法律第１７８号）に規定する休日(3) １２月２９日から翌年１月３日まで（前号に掲げる日を除く。
）(4) ６月１８日（創立記念日）(5) ８月第３週の月曜日、火曜日及び水曜日
２ 前項の規定にかかわらず、管理責任者が特に必要と認めるときは、前項各号に掲げる日の利用を許可し、又は利用可能な日であっても利用を禁止することがある。
（利用時間及び利用単位）
第６条 設備の利用時間は、午前１０時から午後６時までとする。
２ 設備の利用単位は、１時間とする。
３ 第１項の規定にかかわらず、管理責任者が特に必要と認めるときは、利用時間を延長し、又は短縮することがある。

（利用申請）第７条 設備を利用しようとする者は、当該設備を利用しようとする日（複数日に連続してまたがる場合はその最初の日）の６か月前から１４日前までに、本学の設備サポート拠点である「“桂結”－最先端研究機器の進化するネットワーク拠点」（以下「「桂結」」という。）におけるウェブシステムを通じて利用申請を行い、事前に承認を受けなければならない。
（利用承認）
第８条 管理責任者は、前条により利用申請があったときは、その承認又は不承認を決定し、その旨を申請者に通知するものとする。
２ 設備の利用承認を受けた者（以下「利用者」という。）は、利用日時を変更し、又は利用を取り止める場合には、承認を受けた利用予定日（複数日に連続してまたがる場合はその最初の日）から起算して１４日前までに管理責任者に申し出て、その承認を受けなければならない。
申出の期日を経過した場合は、設備の利用日時の変更又は利用の取止めを申し出ることができない。
（利用料）
第９条 利用者は、本学の指定する方法により、別表に定める利用料を納付するものとする。
２ 前項の規定にかかわらず、管理責任者が特別の理由があると認めるときは、利用料の全部又は一部を免除することができる。
３ 一旦納付された利用料は、返還しない。ただし、次の各号のいずれかに該当する場合は、利用料の全部又は一部を返還する。
(1) 前条第２項に定める利用日時の変更又は利用の取止めを承認した場合(2) 分野等の都合により承認を取り消し、又は設備の利用を停止させた場合（利用者の遵守事項）
第１０条 利用者は、設備の利用に関し、次の各号に掲げる事項を遵守しなければならない。
(1) 利用を承認された目的以外に利用しないこと。
(2) 設備を第三者に利用させないこと。
(3) 設備を初めて利用する場合は、管理責任者が実施する事前講習を受講すること（管理責任者が不要と認める場合を除く。）。
(4) 設備に特別の工作をし、又は現状を変更しないこと（管理責任者が認める場合を除く。
）。
(5) 分野等の施設、設備等の保全に努めること。
(6) その他管理責任者が指示する事項
２ 利用者は、設備に異常があるときは、速やかに管理責任者に報告し、その指示に従わなければならない。
（利用の停止）第１１条 管理責任者は、次の各号のいずれかに該当する場合は、第８条第１項における設備の利用の承認を取り消し、又は設備の利用を停止させることができる。
(1) 利用者が、この規程に違反し、又は違反するおそれがあると管理責任者が認めるとき。
(2) 利用者が、利用申請において虚偽の記載をしたとき。
(3) 利用者が、利用料を本学が指定する期日までに納付しないとき。
(4) 本学の管理上の事由により設備の利用に支障があると管理責任者が認めるとき。
２ 前項第１号から第３号までの事由により設備の利用の承認を取り消し、又は設備の利用を停止させたことにより利用者に損害を及ぼすことがあっても、本学はその責めを負わない。
（原状回復）
第１２条 利用者は、設備の利用を終えたとき（前条第１項の規定により利用承認を取り消し、又は利用を停止した場合を含む。）は、速やかに原状に回復するとともに、管理責任者の検査を受けなければならない。ただし、管理責任者が不要と認めたときは、この限りでない。
（損害賠償）
第１３条 利用者は、その責に帰すべき事由により分野等の施設、設備等を滅失又は毀損したときは、その損害を賠償しなければならない。
（免責）第１４条 分野等は、利用者に設備の利用機会を提供するものであって、有意な結果を保証するものではない。
（発明等の帰属）第１５条 利用者は、設備の利用の結果を用いたことによって京都大学発明規程（平成１６年達示第９６号）第２条第１号に定める発明等が生じた場合は、管理責任者に届け出るものとする。
２ 管理責任者は、発明等が生じた場合の当該発明等の知的財産権の取扱いについては、利用者と別途協議し、書面にて定めるものとする。
３ 前項の規定は、設備の利用の過程において作成された研究成果有体物の取扱いについて準用する。
（秘密保持）
第１６条 分野等に所属する教職員及び利用者は、次の各号のいずれかに該当するものを除き、設備の利用に関連して知り得た一切の情報を、相手方の書面による事前の同意なしに第三者に開示し、又は漏えいしてはならない。
(1) 既に公知となっている情報(2) 正当な権限を有する第三者から秘密保持義務を負うことなく適法に入手した情報(3) 相手方から当該情報を入手した時点で、既に自己が保有していた情報(4) 相手方から知り得た情報によらず、自己が独自に開発した情報(5) 相手方から当該情報を入手後、自己の責めによらずして公知となった情報(6) 裁判所、行政機関等の公的機関から法令に基づき開示を命ぜられた情報（事務）第１７条 設備の利用に関する事務は、桂地区（工学研究科）事務部において処理する。
（疑義等の解決）
第１８条 この規程に定めのない事項が生じた場合又は解釈に疑義が生じた場合は、その都度管理責任者及び利用者が協議の上、解決に努めるものとする。
（規程の変更）第１９条

工学研究科長は、以下の場合に利用者の同意を得ることなくこの規程を変更できるものとする。
(1) 規程の変更が、利用者の一般の利益に適合するとき。
(2) 規程の変更が、契約の目的に反せず、かつ、設備管理上の必要性その他の変更に係る事情に照らして合理的なものであるとき。
２ 前項による規程の変更にあたり、規程を変更する旨及び変更後の規程の内容並びにその効力発生日を、効力発生日までに「桂結」ホームページへの掲示又は電子メールによる通知その他の適切な方法により、利用者に周知するものとする。
（その他）
第２０条 この規程に定めるもののほか、設備の共同利用に関し必要な事項は、管理責任者が定める。

附 則
この規程は、令和５年１０月１２日から施行する。

別表（第２条、第９条関係）（上段）利用料単価（単位：円）
設備名称

利用単位

第４条第１号

第４条第２号

第４条第３号

第４条第４号に掲げる者に掲げる者に掲げる者に掲げる者

025,400

36,30036,3000

58,40083,50083,5000

7,400

10,60010,600023,20033,10033,100023,00032,80032,8000108,600

155,100

155,100

037,10053,00053,0000165,200

235,900

235,900

0

42,00060,00060,0000184,700

263,800

263,800

0

8,200

11,70011,700049,40070,60070,60008,200

11,70011,700049,40070,60070,6000

8,000

11,50011,500048,70069,60069,60008,100

11,50011,500048,80069,70069,7000

10,00014,30014,300056,60080,90080,900

0

2,800

4,000

4,000

0

7,000

10,00010,000

1 時間あたり

0

6,800

9,700

9,700

(株)日立ハイテクノロジー １回あたり
ズ製 S-4800EDX(初回利用時)022,000

31,40031,400半導体結晶成長装置
大陽日酸(株)製 HR-3216
プラズマ CVD 装置
サムコ(株)製 PD-220

1 時間あたり（下段）事前講習料（単位：円）

１回あたり(初回利用時)
1 時間あたり１回あたり(初回利用時)電子ビーム露光装置

1 時間あたり日本電子(株)製 JBX-6300

１回あたり

等

(初回利用時)電子ビーム露光装置

1 時間あたり日本電子(株)製 JBX-

１回あたり9400#1 等(初回利用時)電子ビーム露光装置

1 時間あたり日本電子(株)製 JBX-

１回あたり

9400#2 等(初回利用時)プラズマエッチング装置
サムコ(株)製 RIE-41iPK

1 時間あたり１回あたり(初回利用時)プラズマエッチング装置

1 時間あたり

サムコ(株)製 ICP-

１回あたり110iPKU(初回利用時)プラズマエッチング装置
サムコ(株)製 RIE-200ku
プラズマエッチング装置
サムコ(株)製 RIE-200kuS

1 時間あたり１回あたり(初回利用時)
1 時間あたり１回あたり(初回利用時)プラズマエッチング装置

1 時間あたり

サムコ(株)製 RIE-

１回あたり400iPNK(初回利用時)反応性イオンエッチング装 1 時間あたり
置

１回あたり

サムコ(株)製 RIE-10NR-KU (初回利用時)
走査型電子顕微鏡（上段）利用料単価（単位：円）
設備名称

利用単位

走査型電子顕微鏡

1 時間あたり(株)日立ハイテク製

１回あたり

Regulus8220(初回利用時)

光露光装置（下段）事前講習料（単位：円）
第４条第１号

第４条第２号

第４条第３号

第４条第４号に掲げる者に掲げる者に掲げる者に掲げる者

0

7,500

10,70010,700023,400

33,40033,400

1 時間あたり

06,600

9,400

9,400

(株)ナノシステムソリュー １回あたり
ションズ製 DL-1000KIR(初回利用時)019,600

27,90027,900光露光装置

1 時間あたり02,900

4,100

4,100

ネオアーク(株)製 DDB-

１回あたり

701-DL4-FBT 等(初回利用時)012,200

17,40017,4000

7,300

10,40010,400022,10031,60031,600

1 時間あたり

05,500

7,900

7,900

(株)サンバック製 多元同 １回あたり
時電子ビーム蒸着装置(初回利用時)018,700

26,60026,600

メッキ装置

1 時間あたり08,50012,10012,100ョンズ製 大面積フォトニ １回あたり
ック結晶レーザー用厚膜電 (初回利用時)

023,300

33,30033,300

0

4,200

6,000

6,000

0

7,400

10,60010,600

0

4,100

5,900

5,900

0

7,300

10,40010,400

0

6,500

9,300

9,300

09,80013,90013,900

0

2,200

3,200

3,2000

6,400

9,200

9,200

0

7,400

10,50010,500022,40032,00032,000電子ビーム蒸着装置(株)サンバック製 ED-1500
電子ビーム蒸着装置

1 時間あたり１回あたり(初回利用時)(株)日立パワーソリューシ

極形成装置
研削・研磨装置

1 時間あたり

スピードファム(株)製

１回あたり

FAM-12BS#1(初回利用時)

研削・研磨装置

1 時間あたり

スピードファム(株)製

１回あたり

FAM-12BS#2(初回利用時)ダイシング装置

1 時間あたり(株)ディスコ製 純水リサ
イクルユニット付きダイシ
ング装置

１回あたり
(初回利用時)スクライブ装置

1 時間あたり

ダイトロンテクノロジー

１回あたり(株)製 DPS-301R-KU(初回利用時)フリップチップボンディン 1 時間あたり
グ装置
１回あたり
ハイソル(株)製(初回利用時)MODEL4200-KU

（上段）利用料単価（単位：円）
設備名称

利用単位

（下段）事前講習料（単位：円）
第４条第１号

第４条第２号

第４条第３号

第４条第４号に掲げる者に掲げる者に掲げる者に掲げる者

フリップチップボンディン 1 時間あたり

07,900

11,200

11,200023,300

33,30033,300グ装置

１回あたり

ハイソル(株)製 KMP400(初回利用時)

ワイヤボンディング装置

1 時間あたり

01,100

1,600

1,600

米国ウエスト・ボンド社製 １回あたり
モデル 7476D(初回利用時)

0

4,900

7,000

7,000

1 時間あたり

02,200

3,100

3,100

米国ウエスト・ボンド社製 １回あたり
モデル 4KE(初回利用時)06,000

8,600

8,600

封止装置

1 時間あたり

03,100

4,400

4,400

(株)ハイマックス製 イン

１回あたりバータ式溶接機(初回利用時)06,900

9,900

9,900

ワイヤボンディング装置

１．上記表中上段の利用料単価は、利用単位あたりの設備利用に係る金額（消費税相当額を含む。
）であり、これに利用単位数を乗じた金額に下段の事前講習料を加えた金額を利用料とする。
２．１時間未満の設備利用及び１時間を超える設備利用に係る１時間未満の端数については、それぞれ１時間の設備利用として、利用料を算出するものとする。
３．第４条第５号に掲げる者の利用料単価及び事前講習料は、当該者の所属、身分等を勘案のうえ、管理責任者が指示するものとする。