フォトポリマー懇話会 ニュースレター № 65

The Technical Association of Photopolymers,JapanŏŰįķĶ January 2014

SF（サイエンス・フィクション）がフィクションでなくなる日

千葉大学大学院融合科学研究科画像マテリアルコース

宮川
私は良く本を読む。とは言え、実用書ではなく小説を好み、それも特定のジャンルに拘る訳ではないのだ
が（雑読）、特に研究に行き詰まっている時には SF 小説を読む。勿論、直接研究に関わるわけではないのだ
が、凝り固まった自分の発想や着眼点を柔軟にすると言う用途に用いている。実際の原理や技術についてはともかく、小説家の想像する技術には目を見張るものが多い。また、昔読んだ小説に描かれている技術が、多く実現されていることに気付く。
最初にそんな考えに至ったのは、やはりHONDAのロ
ボット、ASIMO だろうか。発表当時はまだ難しいと言われていた二足歩行のロボットが、鉄腕アトムが発表されてから 50 年弱で出現した時は非常に驚いた。二足歩行型ではないが、これらの技術は福島の原発解体へ応用されていると聞く［朝日新聞デジタル 2013 年 6 月
17 日］。ロボットではないが、走行中に変形するバイクなども近未来的だ。BPG Werks 社で開発されている
UNO III（ウノ3 ） がそれだ。ガソリンエンジンではな
く電気式モーターが動力のこのバイクは、屋内等では普通のバイクの後輪のみで直立し（実際には後輪が 2輪ある）旋回性能などもあり、屋外走行時に前輪が出
現し通常の 2 輪バイクの形状となる。2012 年 4 月頃に販売されると言う話があったが、未だお目に掛かれていないのは残念である（試作車の映像はネットで見る事ができる）。
最近ではあまり聞かれなくなった言葉だが「ウェアラブル」デバイスも SF 的だ。大昔の特撮では、腕時計型の通信機で相手の映像が映るものがあるが（テレビ電話？）、ウエアラブルではなくとも今のスマート

准教授

信一

フォンはその頃から見れば充分 SF が実現したものと言えよう。2000年になるかならないかの頃に実際試着したことがあるが、単眼式 HMD（ヘッドマウントディ
スプレイ）もどんどん発達している。当時はモノクロ
で文字だけのデータディスプレイ（透過率 30% 程度、200万円）が、数年でカラー 800×600 ピクセル（透過率 3% 程度、20 万円）になったのも技術革新の速さに驚いた。この時は、向こう側は見える事は見えるがや
はり暗く、単眼故に片目で現実世界を片目でディスプ
レイをと言うことであったが（色味を見分けるためにはどうしても外光を減らすしかなかったらしい）、
今ではハーフミラーを使って透過率が上がった単眼
HMDが販売されている（ブラザー工業、AiR Scouter）。
とある画像関連の授業で、大学 1 ・ 2 年生に未来のディスプレイを訊ねると、コンタクトレンズの様に眼に直接載せるタイプのディスプレイや空間投影型のディスプレイを答えて来るが、その様な SF 映画やアニメでお馴染みのディスプレイの出現も近いと信じられる。
古くから SF 小説の近未来の街では、人が歩くと発電されるペーブメントが描かれていたりする。圧電素
子を使えば確かに可能かも知れないが、発電量等を考えると難しいのではないかと、その頃は思っていた。
しかし、2008 年には JR 東日本が「床発電システム」
として耐久性も高めたとレポートをしていて［http://
www.jreast.co.jp/development/theme/pdf/yukahatsuden.
pdf］、2012 年のロンドンオリンピックでは、Pavegen
社が「発電タイル」として歩くと LED が光るタイルを通路に敷設するまでに至っている。2020 年には東京でオリンピックが開催されることになったが、日本企

フォトポリマー懇話会 ニュースレター № 65
業が威信をかけてどんな SF チックな技術を見せてくれるのかいまからわくわくしている。
SFの一つの醍醐味と言えば、スペースオペラと呼ばれるジャンルで、この時必要とされる舞台装置の一つが超光速宇宙船であろう。光速の壁を突破する方法はともかくとして、宇宙船の航行や戦闘時の敵位置予測（映画等の絵的にはビーム兵器を打ち合う様に描かれることが多いが、個人的には電子戦（情報戦）がメインと言う考えを推している）などには高速かつ大容量の演算装置が必要となる。この時描かれるコンピュー
タは、大抵、量子コンピュータである。21 世紀に入る
段階で、量子コンピュータは 100 年先、どんなに早く
とも 50 年は掛かると言われていたが、2011 年にカナ
ダの D-Wave 社が量子コンピュータを発表した。まだはっきりとは判っていないらしいが、量子効果を確認したことが Nature 誌にも掲載されている［Nature
Communications 4、 Article number: 2067、 2013 年 6 月；
インプレス日本語記事 ： http://internet.watch.impress.co.
jp/docs/news/20130701_605845.html］。
方式としては、量子ゲート方式ではなく量子アニーリング方式というものらしいが、少なくともまた１つ
フィクションではなくなったと考えられる。
さて、一方、フォトポリマーと言えば、これは非常に奥ゆかしい「材料」で、縁の下の力持ち的役割を果
たし、なかなか一般の人の目には止まらない。前述のコンピュータや様々なデバイスの中に密やかに活躍している。SF としてではないが、そんな中で注目した
いところは、エンターテイメントの世界でもフォトポ
リマーが活躍する可能性がある点である。
2012 年に公開された ParaNorman と言う映画は、人形を少しずつ動かしコマ撮りをして動画にすると言う
ストップモーションと呼ばれる方法で作製されたものである。これまでのストップモーションアニメでは幾つかの表情を持つ人形の首をすげ替えるだけであったが、この映画では 3D プリンタを利用して、いわゆる3 次元造形で表情の異なる沢山の顔を使って作製している（なんと顔だけで 4 万個！この映画ではフォトポリマー型ではなくパウダー型の様であるが［参考記事：http://gigazine.net/news/20120731-paranormanmaking/］）。最近、3D プリンタという語は一般にも定着し、フォトポリマー型の 3D プリンタも一昔前に比べれば非常にコンパクトかつ安価に提供されている。
デバイスの様なプロダクトの中だけでなく、エンター
テイメントの世界と言う新たな活躍の場が拡がったことはフォトポリマーの研究者にとって喜ばしい事だと思う。HMD の時と同様、画像関連の授業で様々な印刷技術を紹介した時にこの 3D プリンタの話も含めたら、未来の（夢の）技術として、「コンピュータ上で分子を構築し「プリント」ボタンをクリックするとその分子が合成されてインクジェットで出てくる」と言
う意見があり（理学部の学生）、はっとさせられた。
現実にはマイクロリアクターが存在し、特定の化合物は合成することができるが、それを任意の化合物に拡張し、「プリント」というお手軽さで合成出来れば確
かに素晴らしい（私の様な有機合成屋にとっては職を失いかねないが）。
SF の世界に良く出てくる単語として「ナノマシン」
も挙げられる。怪我に対しては止血や保護、細胞賦活などの効果があり短時間で完治させ、病気に対しては万能の薬の様に働く魔法の微少機械である。万能に関してはなかなか難しいかも知れない。しかし DDS など
は「機械」とまではいかないが、ある種のナノマシンの先駆けと呼べるかも知れない。ナノサイズまで小さくない「マイクロマシン」に関しては様々な研究・開発が行われている。流路などの構造はフォトポリマーの技術で作られているし、最近では動力に生体系分子（モータータンパク質）やバクテリアなどが用いられ、それらを活用させるための構造もフォトリソグラ
フィの技術で作られている。近年、非常に着目されている iPS 細胞も分化のメカニズムは未だ完全に解明されたわけではないらしいが、パターニングされた培地を用いると効果的であるらしい［日本印刷学会第 130回研究発表会 A-17、2013 年 11 月］。パターニングは
フォトポリマーのお家芸であり、工業だけでなくバイオ関連へも強力なツールとなり得る。
21 世紀も既に 14 年目を迎えることになった。残るフロンティアは、宇宙、深海、脳と言われている。「ナノ」のキーワードは少し古くなってきたが、これからは特に微細（高精細）は必要になるに違いない。フォトポリマーもそれに従って、「高分子」から小分子の自己組織化を伴う「超分子」へ定義が拡大されて行くかも知れない。縁の下の力持ち、「フォトポリマー」
は、眼に見えるところでは活躍しないかも知れないが、これらフロンティアを開拓する一つのツールとしてまだまだ発展していくことを期待したい。最後に、蛇足かも知れないが、SF 作家アーサー・C・クラークの「クラークの三法則」を噛み締めて、夢の技術を実現するために研究をしていきたいと思う。

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フォトポリマー懇話会 ニュースレター № 65

【研究室紹介】東京大学生産技術研究所工藤研
物質・環境系部門 教授

研究室は東京大学生産技術研究所の物質・環境系部門に属しています。生産技術研究所は、東京大学で最大規模の附置研究所で、100 名を超える faculty member
がおり、応用物理、機械、精密機械、海洋工学、電気・電子、情報、化学、マテリアル当研、建築、土木といった工学部のほとんどの学部に対応する研究室をもつ、総合工学研究所を標榜する組織です。前身の第二工学部から数えると 65 年の歴史をもち、その場所
も西千葉、六本木（1962 年以降、現在新国立美術館のある場所）、そして現在の駒場 I I キャンパス（2000年以降）と変遷してきました。その歴史の中には、日本の宇宙工学の父と呼ばれる糸川英夫先生（はやぶさが探査を行った小惑星イトカワの名前の由来）による黎明期のロケット研究や、本多健一先生・藤島昭先生の光による水の分解研究（いわゆる本多－藤嶋効果）なども含まれています。駒場 I I キャンパスは、以前は東京大学宇宙航空研究所（現 JAXA・宇宙科学研究所）があったところで、大学 1、2 年生が所属する教養学部のある駒場 I キャンパスから 300 m 程離れた閑静な住宅街の中にあり、敷地内には生産技術研究所の他に先端科学技術研センターなどもあります。
そのような環境の中で、我々は有機／高分子合成化学ならびに機能材料に関わる研究を主に行っています。研究室のスタッフは、教授の他、赤川賢吾助教、
高山俊雄技術職員がおり、他に、派遣職員、大学院生、研究所研究生、他大学からの研究実習生（学部 4年生）を合わせて11名で成り立っています。研究室の大学院生は工学系研究科の化学生命工学専攻に所属しています。最近の研究対象としては、ペプチド不斉触媒、ペプチド／アミノ酸機能材料、構造秩序性ポリイ
ミドの精密合成と機能化、ポリベンズイミダゾールを基体とする燃料電池用電解質膜などが挙げられます。
本研究所の特徴は風通しのよさです。東京大学では、本郷キャンパスにある工学部の各学科にはそれぞれに別の建物が割り当てられているため、学科間の交流はさほど盛んではないというのが実情です。これに対し、本研究所では 1 つの大きな建物の中に先に述べた各分野の研究室があるため、他分野の教員と顔を合わせる機会も多く、そのようなことから分野を超えた共同研究や研究交流が盛んに行われています。筆者らも、以前有機 EL 材料や有機トランジスタ材料の開発を行っていたことがあり、その時は当研究室で合成した材料を電子デバイス系の研究室にお願いして素子の工藤 一秋

作製と評価を行ってもらっていました。
現在、当研究室ではペプチドやアミノ酸の可能性に注目した研究を柱の 1 つにしており、本稿では、もっぱらこれについてご紹介をさせていただきます。タン
パク質は生体内で、触媒作用や構造体形成、シグナル伝達などをはじめとする多様な働きをもち、そのいずれもが極めて素晴らしい効率で行われています。そのような機能を人工分子で実現することは有機化学者にとって大きな目標になっています。私たちは、タンパ
ク質がアミノ酸で構成されていることに着目し、合成
化学的に得られるペプチドや修飾アミノ酸を用いて、タンパク質を単に模倣するというよりもその構造や機能を要素分解して再構築するというアプローチで、機能性分子の開発を目指しています。
今最も力を入れているのは、酵素に倣ったペプチド触媒の開発です。酵素の機能を人工のペプチドで実現
しようというものです。酵素の機能を合成ペプチドで模倣しようという考え方自体の歴史は古く、1950 年代
からそのようなアプローチに基づく研究が行われてきました。例えば、セリンプロテアーゼの三つ組アミノ酸（セリン、ヒスチジン、アスパラギン酸）を含むペプチドが種々合成され、触媒能が検討されています。
しかしながら、ヘリックスやターンなどの二次構造を人工ペプチドに作り込めるようになった近年ですらも、エステル結合を（酵素よりもかなりゆっくりと）切るのがせいぜいで、酵素のようにアミド結合を切断できるペプチド触媒は全く得られていません。これはひとえに、ペプチド分子がタンパク質に比べて特定の三次元構造をとりにくく、触媒作用に必要な“活性部位の適切な空間配置”が実現できていないためと考えられます。我々のグループは、そのような難度の高い系を追求するのではなく、アミノ酸のひとつであるプ
ロリンが単独でも不斉触媒能を示すという事実に基づき、末端にプロリンをもつペプチドを触媒として用いるという手法をとっています。酵素が水中で高効率・高選択的に反応を触媒するのに対し、プロリン単独ではさすがに酵素と同じというわけには行かず、特に水中では著しく選択性が低下するという問題を抱えていました。我々は、 ペプチド触媒を用いることでそのような問題が解決できることを見出しました。ポイント
は、酵素の構造をおおざっぱにまねた、というところにあります。酵素は一般に、外側に親水性残基、内側に疎水性残基をもつ両親媒性の球状ポリペプチドであフォトポリマー懇話会 ニュースレター № 65
り、反応は内部の疎水性部分で起こることが知られています。この事実に鑑み、両親媒性樹脂である部分架橋ポリスチレン -graft- ポリエチレングリコールに合成ペプチドを結合させたものを触媒として用いたとこ
ろ、見事に水系の溶媒中で高い選択性で反応が進行しました。当初はわずか 3 残基からなるペプチドを触媒にしていましたが、今では、ヘリックスやターンといった二次構造を持たせた10残基前後のペプチドを用いることで、プロリンだけでは到底実現できないような色々な反応を触媒することが見出され、さらには立体選択的反応だけでなく、低分子触媒では実現の困難な位置選択的反応までも可能となっています。現在までのところ、光機能性を持つペプチド触媒は扱っておりませんが、今後の方向性としては、ペプチド主鎖もしくは側鎖にアゾベンゼンなどフォトクロミック部位を導入することにより、触媒の選択性の光制御なども視野に入れています。また、アミン触媒においても、活性種であるエナミンからの光電子移動をキーステッ
プとする反応が知られていることから、その点でも光が関与した触媒への発展性があると考えています。
触媒以外のペプチド・アミノ酸機能材料の開発でフォトポリマーに関連したものとしては、天然に存在するアミノ酸の一つであるシステインを多官能性分子と見なし、その誘導体を用いてのフォトパターニングとそれに続く銀マイクロパターンの形成を行う、という研究を挙げることができます。
すなわち、システインのカルボキシ基を塩基性条件で重合可能なトリエトキシシリル基に誘導、アミノ
基は Fmoc 基で保護することで溶解性を付与するとともに、脱保護時には銀あるいは銀イオンに対する配位性部位となるようにし、そしてチオール基はその還元能により銀イオンを銀に還元して析出させるとともに生成したジスルフィドにも銀／銀イオンへの配位能を持たせる、という仕掛けです。光塩基発生剤の存在下
フォトパターニングを行い、有機溶媒での現像、アミノ基の脱保護に続いてアンモニア性硝酸銀水溶液中で処理すると、銀鏡反応と同じ原理でシステイン誘導体が残っている部分にのみ銀が析出します。生じた銀パターンが導電性を示すことが確認されました（図 1 ）。
本手法はエッチングが要らず、また手順の煩雑な SAM
作製などを伴わないことから、簡便な配線形成手法と考えられます。
今後は、ペプチド分子集合体の光による集合形態の制御や超分子構造を利用した電子やホールの伝達シス
テムの構築も視野に入れてさらに研究を進めてまいりたいと考えています。

図 1．システイン誘導体を用いた銀マイクロパターン形成

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【新技術紹介】富士フイルムの半導体用フォトレジスト
富士フイルム株式会社 R&D 統括本部
エレクトロニクスマテリアルズ研究所
研究マネージャー樽谷 晋司

1 ．はじめに
富士フイルムにおける半導体製造用フォトレジストの歴史は長いが、本格的に研究開発をスタートしたのは、当時の半導体材料研究所（現エレクトロニクスマ
テリアルズ研究所）が設立した 2003 年である。本研究所は、静岡県榛原郡吉田町に研究拠点を構えており、ここには平版印刷用フォトレジストの研究拠点もある。平版印刷用と半導体製造用では適用する光源が異なるが、感度を向上させるための感光成分の設計指針や、解像力を高めるためにレジスト材料そのものに起因する「ボケ」を制御する思想は同一である。しかも、これらの思想は銀塩写真フイルムの設計思想と同一で、富士フイルムの文化がフォトレジスト開発にも深い部分で脈々と受け継がれてきている。
一方、業界の動向に目を向けると、2003 年から現在に至るまで、半導体用リソグラフィーの先端プロセスにとって正に激動の時期だった。2003 年は ArF（波長 193 nm）ドライ露光プロセス最終世代とも言える
90 nm node の開発が既に終盤を迎え、続く2005年には、次世代の露光技術として期待されていた F2（波長157 nm）や EUV（波長 13.5 nm）の露光装置の遅れにより、ArF 液浸露光プロセスを導入する検討がスタートした。この技術は 32 nm node の世代まで適用されている。2007 年には 14 nm node まで ArF 液浸露光プロセスを適用させるために、一度にパターニングするピッチを緩和させ、複数回に分けてパターンを形成するダブ
ルパターニングプロセスの開発が開始された。現在、
10 nm node 世代への適用が検討されているが、光源開発が加速されれば、EUV の適用も視野に入れられている。EUV で は、10 nm node か ら 5 nm node 以 下 ま で の適用が目標である。後述するが、EUV のパターニング
技術のバックアップとして、電子線の直描技術（Multi
Electron Beam, MEB）や、自己組織化技術（Directed
Self Assembly, DSA）、ナノインプリント（Nano Inprint
Lithography, NIL）等も精力的に検討されており、どの技術が本命であるかの見極めも極めて重要である。
半導体デバイスの開発は、その集積回路上のトラン
ジスタの個数が 18 ヶ月毎に二倍になるというムーアの法則にほぼ従ってきた。集積回路自体の面積はほぼ不変なので、当然ながらトランジスタの大きさ自体を小さくしていく必要があり、そのためには配線幅やゲート長を小さくする、即ち光リソグラフィーで形成されるレジストパターン寸法を小さくする必要がある。レジストパターン寸法を小さくするには、レジス
ト自体に高解像力が求められるため、レジスト材料起因の「ボケ」を極限まで小さくしていく材料設計が求められる。この設計指針は富士フイルムの基盤技術の延長線上にあり、単純な解像力の評価で十分なため、自社内での検証のみで開発を進めることができた。しかし、前述したとおり、ArF 液浸露光プロセス以降、
これまでの半導体リソグラフィーで未経験の大きな技
術革新が必要で、材料メーカーのみならず、装置メー
カーや当社の顧客である半導体メーカーでさえも、量産に最適なプロセスが何かを見極めることが困難だった。そこで、当社は材料メーカーの立場から、液浸露
光プロセスとダブルパターニングプロセスの量産に向けたソリューションを提案し、装置メーカーや半導体メーカーと協働してそのソリューションの検証を進めた。その例として、当社が開発した ArF 液浸トップ
コートレスプロセス用レジストと、ArF 液浸ネガ現像
プロセス及びレジストを紹介する。
2 ．ArF 液浸トップコートレスプロセス用レジスト
液浸露光技術は、レジスト膜と露光機の対物レンズの間に屈折率が空気よりも高い水を充填させることにより、大きな瞳のレンズの適用を可能にし、光学的な解像力を高める技術である。レジスト膜上に水が存在することで、水へのレジスト成分の溶出によるレンズ
汚染、レジスト膜中への水の染み込みによるレジスト
中の異常化学反応が、開発当初からリスクとして挙げられた。また、水を保持した対物レンズがレジスト膜上をスキャンしていく露光方式がとられるため、水への空気の巻き込みや、レジスト膜上への水残りもリスクとして挙がった。即ち、液浸露光プロセスにおける大きな課題は、レジスト膜からの化学物質溶出と、レジスト膜の滑水性であると言える。対策として、レジスト膜と水の間に遮断膜（トップコート）を設ける検討が進められていたが、富士フイルムはトップコート
レスプロセスを提唱した。これは、トップコートを用いない液浸露光プロセスのことを指し、当然薬液コストを抑えることができるため半導体製造コストに貢献できる。また、トップコート由来のプロセス上のリス
ク、例えば露光中のトップコート剥がれによる露光装
置汚染、トップコート塗布の欠陥等を防止できるた

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め、量産時のプロセス安定性にも貢献できると考えた。レジスト表面を疎水化すれば、溶出と滑水性の課
題を解決できると考えられる。しかし、単純にレジスト材料を疎水化し、レジスト膜全体を疎水化することで表面の疎水化を図ると、リソグラフィー性能やパターン欠陥性能への影響が懸念される。このため、当社では表面偏在性が高い、疎水的な添加剤を開発した。この添加剤はスピンコートでの塗膜形成時に表層
1～3 nm 程度に局在化する（図 1 a）。この添加剤を用いることで、主な溶出成分である光酸発生剤の溶出量を1/2 ～1/3まで低減することができた。滑水性はレジ
スト表面の水に対する前進接触角及び後退接触角で表すことができ、低前進接触角かつ高後退接触角であることが望ましい。液浸第一世代の量産材料では 97°の
前進接触角、70°の後退接触角だったが、露光装置の進化に従い高後退接触角の要求が強まり、第三～第四世代では 95°の前進接触角、78°の後退接触角を達成している。一見順風満帆のように見える液浸レジストの開発だが、1 点だけ難しかった点が欠陥である。欠陥には様々なタイプがあるが、ここでの課題は Blob
欠陥と呼ばれるものであり、現像・リンス過程で生じる大きさ数μm～数十μm の円形の欠陥である。この欠陥はレジスト表面のリンス効率が低下すると発生しやすい傾向があり、リンス効率は表面の親水性を高めることで改善される。即ち、液浸露光プロセス適性と、リンス効率はトレードオフの関係と言える。このトレードオフを脱却するために、富士フイルムではアルカリ現像時に疎水性から親水性に変化する極性変換型添加剤の開発に成功した（図 1 b）。リンス効率の指標となる物性は後退接触角で、この値が低いほど効率が高い。現状の量産向け材料では、現像前の後退接触
角は 78°、現像後では 40°以下となり、Blob 欠陥も問題ないレベルであることが確認された。

図 1．液浸添加剤を適用したレジスト膜断面と、親疎水変換型添加剤のイメージ図

図 2．NTI レジストにおける、ネガ画像形成の原理

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【会告 1 】
第31回国際フォトポリマーコンファレンス
マイクロリソグラフィー、ナノテクノロジーとフォトテクノロジー －材料とプロセスの最前線－
主催  フォトポリマー学会
共催 フォトポリマー懇話会 後援 千葉大学
協賛 応用物理学会、日本化学会、高分子学会
第 31 回国際フォトポリマーコンファレンスが 7 月
8 日（火）～11 日（金）に千葉大学けやき会館（千葉大学西千葉キャンパス：千葉市稲毛区弥生町 1-33、JR
西千葉駅下車徒歩 6 分、または京成電鉄みどり台駅下車徒歩 6 分）で開催されます。
国内外の研究者、技術者によるフォトポリマーに関する科学と技術の研究成果の発表が行われ、多くの基調講演も予定されています。
今年は以下の構成により行われます。
A . 英語シンポジウム
A1. Next Generation Lithographyand Nanotechnology
A2. Directed Self Assembly (DSA)
A3. Nanobiotechnology
A4. Advanced Materials for Molecular Device andTechnology
A5. 193 nm and Immersion Lithography/ Double
Patterning/ Multi Patterning
A6. EB Lithography
A7. Nanoimprint Lithography
A8. EUV Lithography
A9. Computational/Analysisfor LithographyProcesses
A10. Chemistry, forAdvancedPhotopolymer Science
A11. Photofunctional Materials for Electronic Devices
A12. General Scopes of Photopolymer Science andTechnology
P Panel Symposium “Advanced Patterning
Materials and Processes (EUV, EB, DSA, Double/
Multi Patterning, Nano-imprint etc.)”
B . 日本語シンポジウム
B1. ポリイミド及び高温耐熱樹脂－機能化と応用
B2. プラズマ光化学と高分子
B3. 光機能性デバイス材料
B4. 一般講演（1） 光物質科学の基礎（光物理過程、光化学反応など）（2） 光機能素子材料（分子メモリー、情報記録材
料、液晶など）（3） 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング（4） フォトファプリケーション（光成形プロセス、
リソグラフィ）（5） 装置（光源、照射装置、計測、プロセスなど）
昨年の講演数は英語シンポジウム 87 件、日本語シ
ンポジウム 49 件で、コンファレンス全体の講演数136
件と、例年同様多くの講演がありました。今年は質、量ともにさらに充実したコンファレンスになると思われます。フォトポリマーに関心をお持ちの方々は是非参加してください。
コンファレンスの概要、講演申込、参加登録については「第31回国際フォトポリマーコンファレンス講演募集」のブロシュア、または、ホームページ（http://
www.photopolymer.org/）をご覧いただくか事務局（下記）へお問い合わせください。
  （講演申込締切日）           2 月14日（金）  （講演論文提出期日）         4 月 1 日 （火）  （参加申込予約締切日）       5 月31日 （土）参加登録には予約申込による方法と当日登録による方法がありますが、できるだけ予約申込により参加登録をお済ませください。締切日を過ぎると当日登録扱
いになり参加登録費が高くなります。
第 31 回国際フォトポリマーコンファレンス事務局〒263-8522 千葉市稲毛区弥生町 1-33
千葉大学共生応用科学専攻 唐津 孝
TEL ： 043-290-3366
FAX ： 043-290-3401
E-mail ： karatsu@faculty.chiba-u.jp
またコンファレンス期間中、展示会を併設します。
展示会出展企業を募集いたします。
上記事務局にお申し込みまたはお問い合わせ下さい。

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フォトポリマー懇話会 ニュースレター № 65

【会告 2 】
【第 202 回講演会】【平成 26 年度総会ご案内】

日時： 1 月 23 日（木）13 時～17 時
会場 : 森戸記念館（東京理科大学）
第一会議室 新宿区神楽坂 4-2-2
テーマ：『フォトポリマーと光源：マッチングと新しい選択』プログラム：
1 ） UV 硬化における UV-LED の活用とエキシマ
ランプによる接着性の改善
浜松ホトニクス㈱ 杉本晴彦氏
2 ） 高効率 UV 硬化システム：ハイブリッド UV-LED
硬化の活用技術岩崎電気㈱ 木下忍氏
3 ） UV-LED を用いたワイドフォーマット
インクジェットシステムの開発
富士フイルム㈱ 佐藤武彦氏
4 ） LED-UV プリンタとデジタル加飾技術への応用㈱ミマキエンジニアリング 大西勝氏
参加費：会員： 1 社 2 名まで無料（要、会員証呈示）
非会員：3,000 円、学生：2,000 円（いずれも予稿集代を含む）
申込方法：
ホームページ (http://www.tapj.jp) のメールフォーム
にて送信、又は氏名・所属・連絡先を明記の上 FAX
にて事務局（043-290-3460）まで。
定員：95 名（定員になり次第締め切ります。）

下記の通り平成 26 年度フォトポリマー懇話会総会を開催します。ご出席いただきたくお願いいたします。
フォトポリマー懇話会会長 鴨志田 洋一
日時： 4 月 17 日（木）13 時から
会場：森戸記念館 第一フォーラム
議事：
1 ．平成 25 年度事業報告承認の件
2 ．平成 25 年度収支決算ならびに年度末貸借対照表承認の件
3 ． 平成 26 年度事業計画および予算案承認の件
4 ． その他【第 203 回講演会】
日時： 4 月 17 日（木）13 時 30 分から
会場：森戸記念館
テーマ：『 3D イノベーション』
参加費：会員： 1 社 2 名まで無料（要、会員証呈示）
非会員：3,000 円、学生：2,000 円（いずれも予稿集代を含む）
申込方法：
ホームページ (http://www.tapj.jp) のメールフォーム
にて送信、又は氏名・所属・連絡先を明記の上 FAX
にて事務局（043-290-3460）まで。
定員：95 名（定員になり次第締め切ります）【編集後記】
ながらくこのニュースレターの編集委員長をさせていただいた坪井當昌（Masayoshi Tsuboi）は、本号をもって引退することにいたしました。長い間ありがとうございました。次号66号からは小関健一氏に編集委員長として辣腕を振るっていただく予定です。今後も変わらぬ御購読とご支援をお願い申し上げます。
なお、編集委員は委員長のもと、山岡亞夫氏、角岡
正弘氏、中村賢一郎氏、水谷一良氏がつとめさせていただきます。

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