還元加熱 (RH-SP) 法によるダイオキシン類汚染土壌処理
Reductive Heating Treatmentof Dioxins-contaminated Soil

23E
プロセス23ESプロセスMasahiro Ogura{
Yoshiaki MurakamiYorihisa Yasunaga

23Eプロセス23E

Takao Kawai ¡%23¡

ダイオキシン"#$の?@として:;-<でhi6=でありオンサイト6=な23の+4をめざしABCD@によりダイオキシン"#$のUVをおこなった
jkl#$パイロットmnによるUVのcdoFG1 100p3 100 pg-TEQ/g の#$をqrstuvCD<G500p600 w１JKで#$のダイオキシン"は 0 p0.029 pg-TEQ/g となり#$からのダイオキシン"LMxは99.9997 yz{となった|ガス}および~./のダイオキシン"をおこないS%

をvRるな)*を+Nした

A reductive heating treatment test using pilot scale equipment was carried out to establish an on-site
decontamination process for Dioxins in polluted soil at relatively low temperatures. The pilot-scale test
confirmed the reduction of Dioxins from the range of 1 100-3 100 pg-TEQ/g to the range of 0-0.029
pg-TEQ/g for contaminated soil, namely removal rate of 99.9997 y, at temps. from 500 w to 600 w within
one hour under an oxygen deficient atmosphere. Samples taken from the waste gas and water, and from theworking environment were analyzed and they proved adequately safe, meeting stringent Japanese regulations and standards.

Key Words
A B C D @
  # $ダイオキシン"  Na   Reductive Heating Process
Contaminated soil
Dioxins
Sodium dispersion oil
89では:;-<でオンサイト6=な

まえがき

POPsにするストック

POPs #$の>?@としてABCD@をE

が2004５にしにおいてもし-FG PCB #$１ のみならずHF

POPs のがされているPOPs のG PCB #$についてもIJKで)*に PCB を!である PCB およびダイオキシン"にLMできることを+NOPしてきた２ QRHホルム
ななどについてもをおこなFGダイオキシン"#$についてパイロットSう'(がありそのためには)*+,で-./TでのUVを,WするXをえたのでY01および-コストな23の+4が567であZにおけるダイオキシン"[\]^./への_`る

aの,b,VcdをOPする

された#$%&

36

ef./ソリューション2O

Vol. 2 No. 1

2005g8プロセス

@A,-をおこない=Cとする

１にプロセスのをすスクリーンなどをてはプロセスガス>5<Jのダイオキシン'はKLキルンにされガスによる!

MNOSP O３４ をもちいて)*+するNa

SP OのPQRを２にす<CF.の>5<"にて#500 $%600 $１%３&することにKL Na

MNKLナトリウムをSTUVにし,-てWX<にMさせたものをYし90 $60

でダイオキシン'を()*+する
.のはダイオキシン'の/01を2ぐために34し5+6 をえるのZ[+\]をおこないダイオキシン'を)*+する^_のKLナトリウムはJ`GにおいてCのプロセスガスにはダイオキシン'をえてC`させaアルカリとして,するま7の89:が;まれるため<をもちいた=ガス>

た,-<はオイルスクラバーで>5<としてbcd

5オイルスクラバーで>5した.?@AするKL Naを

j<'に 'されWX<やk<とlじ 'でありて=Bする に;まれるC

でDEされ<C

FGでは=ガス>5FHIした.?

MNはe2Oのfghi４'i３mnの<とloのfgができる:pである

45673
8.9-:;

,
12=>-<-

()*+3１Oによる

２SP プロセスのVol. 2 No. 12005q8,!"

-./0
#$%&'

5+プロセスの

rstuソリューションvw

37

01*+$#%&'!"#,-./23

()*+３

パイロットのフロー１の=>%E %E./ 12 RUN UX YW Z [ Z [ \ E   ]
UX YW
No.
#hhkg/hkg
1
2
3
45567
518
564
520
580

1
1
1
1
1

4.5
55
3.3
12.5

^

4259
99
90
56

_

185292495295
700
1 967

       

１パイロットのパイロットのフローを３にを

１にのは100 kg/hすである    を７mm にしとしたの を２にすを!め500"550 #まで$%し&'ガスにより()を*+',-に./した0
65"100 kg/hでを12し
おこなった



は3456しを)からのガス78を9:した;<は５=>;?し@ABのダイオキ
シンCDEFGHCのIJおよびKLMNOPを;?した



および

 および
38

２の１に=>をQRMNソリューションSTす%Eおよび()4Vol. 2 No. 1U2005V8W

２

の?@AB

1
DXNs

pg-TEQ/g
Upg/gW

RUN 2

RUN 3

RUN 4

RUN 5

1 300
U90 000W

1 300
U88 000W1 100
U75 000W

3 100
U220 000W

2 700
U190 000W

0U0.6W

0.00033
U3.6W

0UN.D.W

0.022
U7.2W

0.029
U12W

0U1.1W

0U1.1W

0U0.3W

0U7.9W

0U2.2W

0U0.5W

0U0.5W

0U0.5W

0.021
U8.5W

0UN.D.W

99.99999
U99.9987W

100
U99.9997W

99.9998
U99.9979W

99.9997
U99.9979W

RUN 1




DXNs

pg-TEQ/g
Upg/gWからの_-TEQ
100DXNs\]^ U_-/`;W U99.9994W
３

プロセスガスの
RUN 1

RUN 2

RUN 3

RUN 4

RUN 5

プロセス
プロセス
プロセス
プロセス
プロセス>ガス>ガス>ガス>ガス>ガスガ ス
ガ ス
ガ ス
ガ ス
ガ ス
ng-TEQ/m3N
Ung/m3N W

DXNs

４0.0310.014
0.045
0.00910.120.010
0.083
0.017
0.032 0.00014
U5.3W U1.1W U6.2W U0.68W U22W U0.83W U20W U1.4W U6.8W U0.43W>Mのダイオキシン
T

ダイオキシン

I

スクラバー
P Q M
Ud eW

pg-TEQ/L
Upg/LW

1.6
U2 100W

G

%
H
M

0.0015
U12W

３
４

の!

/abc$のおよびURUN 5Wのを４にすようには550
しはにされたに ダイオキシンであったがオイルスクラバーおよびG%H
では EF0.017 ng-TEQ/m3N となりIJ678 0.1

ダイオキシンを２に
の@ABCD>ガスについてはEF0.12 ng-TEQ/m3N!を３にす"#$のng-TEQ/m3N をKLした1のMは?@ABCDでNOしオイ%を&'するため の()を* RUN の+ルスクラバーにおいてPQ.RしG%Hをお,,-,の３.にわけて/0した1こなったPQMおよびG%HMのダイオキシ

1 10023 100 pg-TEQ/gに3し は０20.029ン;を４にすPQMでは1.6 pg-TEQ/L

pg-TEQ/g となり 456781 000 pg-TEQ/g に3であったがG%Hは0.0015 pg-TEQ/L とな

して9に:い;に<=できることを&'したりIJ67810 pg-TEQ/LをKたした５に>ガスのダイオキシン;を３にす?

すようにSの>M67TIについても678をKたVol. 2 No. 1U2005V8W

XY45ソリューションZ[39５ カドミウムおよびそのmg/L

0.01

0.1

シアン

mg/L

0.0051

mg/L

0.1

1

およびそのmg/L

0.1

0.1

クロム

mg/L

0.04

0.5

およびそのmg/L

0.0010.1

 mg/L

0.0005

0.005



mg/L

" # $#$されないこと

ポリ%ビフェニル

mg/L

0.00050.003

トリクロロエチレン

mg/L

0.03

0.3

テトラクロロエチレン

mg/L

0.010.1ジクロロメタン

mg/L

0.02

0.2

&%'

mg/L

0.0020.02

1, 2 -ジクロロエタン

mg/L

0.0040.04

1, 1 -ジクロロエチレン

mg/L

0.02

0.2

シス- 1, 2 -ジクロロチレン

mg/L

0.04

0.4

1, 1, 1-トリクロロエタン

mg/L

0.3

3

1, 1, 2-トリクロロエタン

mg/L

0.0060.06

1, 3 -ジクロロプロペン

mg/L

0.0020.02

チウラム

mg/L

0.0060.06

シマジン

mg/L

0.0030.03

チオベンカルブmg/L

0.02

0.2

ベンゼン

mg/L

0.01

0.1

セレンおよびそのmg/L

0.001

0.1

ほうおよびそのmg/L

0.1310()*+ふっおよびそのmg/L

0.33

8()*+

およびアルキルアルキル

およびその!のアンモニア,アンモニウム,-./おmg/L
よび./

イオン45pH

620

アンモニア01に0.4を2じたもの,-./01および./01の3100 mg/L

7.5

5.878.689:/;<=BOD

mg/L

5160 １>?@120

9:/;<=COD Mn

mg/L

1.1160 １>?@120

ノルマルヘキサンA$BC=DE

mg/L

40

1ソリューション

5Vol. 2 No. 120058Vのダイオキシン

５６>?@;3およびORUN 5Q/
;3<=Omg/LQ

WX/<=Omg/kgQRUN 1Y 5)

;3ABRUN 1Y 5)カドミウムおよびそのZ[\]0.001]0.0010.01]0.5]0.5^_クロムおよびそのZ[\]0.01]0.010.05]7.2]6.7

`およびそのZ[\]0.0005]0.0005

0.0005]0.05Y0.29]0.05

セレンおよびそのZ[\]0.01]0.010.01]0.05]0.05

aおよびそのZ[\]0.01]0.010.01]10]10bcおよびそのZ[\]0.01]0.01

0.01

0.12Y0.14

0.24Y0.35

しなであることを７

したSP !'( のダイオキシン
す５に

RUN 5 におけるダイオキシンをのダイオキシン

にし

では0.001 となりからのダイオキシン
は99.9997 となった
スガスには0.0022 がイオキシンのプロセW

プロセスガス,-.

X

ダイオキ pg-TEQ/g
シ ンOng/gQSP !)
.

dアルカリ

0.019
0.012 30 pg-TEQ/L
O0.25Q O0.12Q O2.2 ng/LQ

まれ!によるダ"#は99.997 であった

よび H 155678919:
すHRGC/HRMS !による$%"&の'( )>?@/<='(を６にはすべて;3ABCDであった

 ガスの 

*+およびプロセスガス,-.においてクRUN 1 から 5 をEしてオイルスクラバーF5.

ロロベンゼン などの/01"は23されなかったのGHはおこなわずRUN 1 から 5 IJ)にプロ    セスガス,-.の SP !を１KLMした4の H 155678918:;3<=おVol. 2 No. 1O2005P8Q

'(を７にす

RS56ソリューションTU

SP !

Nガス,-.のダイ
41

８0DXNs

123456000Æ
AU:;<,=@

プロセス
ガス@

DE*F
GHIJÄ Å @0.13
7.3>16
0.096>0.12

0.11
0.1
0.065

0.067
0.086
0.066

Ç
0.066
0.066

pg-TEQ/m３
pg-TEQ/m３
pg-TEQ/m３

VW.99.9997 XYがえられた

オキシンは0.019 pg-TEQ/g は0.012


pg-TEQ/gであり
TEQ/g であった
あり

の３ng-Z[\]U!ガスは0.00014>0.017 ng-TEQ/m となり^_0.1 ng-TEQ/m3N であっ3N

アルカリは30 pg-TEQ/L での100 pg-TEQ/L であったた`のではのは２t

Uのab56からcdeのabをfたすことをghしたであったため!ガス"#のダイオキシンは$かったが%&には'(&によりがなおijkは12lよりmnMしたopq15)*するためSP +によるダイオキシン,-.

rAダイオキシン#stugvwxyのqは/くなる

6のz{をまとめたものであるまたi|}は1 

2lの~りまとめは-ではなくのに0 123456を ８に7す89の:;<,=03

では7.3>16 pg-TEQ/m であり

?,はレベル３であったプロセスガス@は0Aでも0.1 pg-TEQ/m でありBC12であっ3

た DE*FGHIJにおいても0.086 pg-TEQ/m3を7しBC12であった

む

すび

DE*F+によるパイロットKLのダイオキシン
89をMしの56をえた
N

1 100>3 100 pg-TEQ/g のダイオキシン89

をOPQ65>100 kg/hR500>600
S&T１&TのDE*Fにより
Uのダイオキシン０>0.029 pg-TEQ/g

42

おいて~りまとめたものである*bDE*F+de Na ,+による PCB 89tu12センターtuニュースNo.6p.25
282003
２ DE*F+による/ PCB
8915  ¡¢£¤¥¦§¨E18p.132813302004
３ ©
ª «¬©­PCB tuガ
イドブック p.321p.3403431999
４ B®¯°±²³±´µde Na¶·¸による¹º!»89ダイオキシンの,-¼½s¾¿ÀVol.37No.62000

１

ÁÂ12ソリューションtj

Vol. 2 No. 12005Ã8