

想像力を創造力に結びつけて環境ソリューションを

ÁÂU

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ÉÊ

Å

中

ÆÇ

村

崇

Takashi Nakamura

でもでもCreationがでありでは
の
では のというがされますもちろんはのっているので もなしがたい!"な#$ですから%いかに&するかの'()は*しすぎて+には,-の.はありませんただを/し0げるためには12Imaginationが3であるとはいえると4っています5に (を67に89をおこなっているは12がですは:の,りから;<=ては>?までです5に20@ABCDEはFにGHのIJKのようにLMNが5OされそこのPQをおこなえばRSするようなFTな (ではなくなりましたUげさにいえばVWXX
の#Yがトータルとして;<Z[にかかわるようになってきたわけです\]に^_なことやまたまったく`にaえないことでもUきく12をbかせてこれからのやMcdにどのようなefがあるかを12することがですその12は (をRSしようとするUきなモチベー
ションとなります
たとえばごみをgてるにあたってもただポイgてをおこなうのとhiして,jするのではそのBのにkえるefはプラスとマイナスでダブルでlいてきますこのようなことでもごみがどのようにmhされるかもしくはnopされるかをqし12するだけで#Yがrわりますをsくするのにこのようなことができたらと12することが
やtuLのvまりですwx
はyhからのz{|}|~がい9ほどのにりにくいわけですから12をbかせていないと (など.からなくなります
20にのリサイクルをどのようにおこなうかをvめましたそのときにまず4ったのがリサイクルやzm{をおこなうとiののエミッションがLMしその6のためにエネルギーをせざるをずいわゆる Trade off になることでしたそのときと%zをzでnop)できないかと12したことですもちろん}はダイオキシンの (などりませんでしたからFにdzのつエネルギーやNがのリサイクルにlにえない
かと4っていただけですそのBZ[のとしてはそのようなれにみました
これまではリサイクルといってもUKごみのzm{がであまりno (を.したでんでいませんでしたがこれからくのが OECD のような ¡L¢を0げようと£Yすると@¤|¥¦でエネルギーや§znoの¨©がªhでなくなる«¬がMじます5にno­
であるわがはこの®¯がですある.°ではUrな±²も³るかもしれませんがこのようなときほど ソリューションが´められますµ¶|にならずに12をbかせて·がかaOめる3がありますソリューションの¸さんも12をL¹されhºで|な9 を¢uするためのソリューションを»¨してくださいご¼½をお¾り¿しÀげます
Vol. 3 No. 120068

ソリューション

1有価金属回収技術
Precious Metal Recovery System01`ab`cde

H f g
h
i
Tomoharu Maeseto;Qjkl=01`ab
/mn01`beopqMitsushige Shimadaの0101としてセメンテーション１=を>?した'

01の@Aを%&し としてからのインジウム BCおよびとしてからのDEFGのBCをおこなったHIについてはJK

がL2とされるMNパネル;LCD=およびMNOPQRでのエッチングMからのインジウム
BCの２STのBCをおこないUい Vでインジウムをとして !"なことを@Wした
またDEFGBCについてはXYのZ[OPQRにおいてフィールドBCをおこない\]85 ^のGF"を@Wした
The precious metal recovery system/heavy metal removal system from waste water is developing by the
cementation technology. Indium recovery experiments from waste water have been carried out as aprecious metal recovery application. On the other hand, soluble copper removal treatments have been
experimented as a heavy metal removal application. Concerning the indium recovery application, an
indium recovery from a waste liquid crystal panel ;LCD= and from an etchant have been experimented. The high recovery ratio and recovery possibility as an indium alloy have been obtained.
Soluble copper removal experiments have been carried out in the domestic nonferrous metal products
factory using a waste water discharged from a copper products facility. 85 ^ of the average soluble
copper removal ratio has been obtained.

Key Words_   
セメンテーション'   イ ン ジ ウ ム
GPrecious metal
Recovery
Cementation
Waste water treatment
IndiumCopper

まえがき
のはしした
がおこなわれている

することが!"となる#$ゼ'()*+の,-み

は

として

ロエミッションを%&し

は

として

がおこなわれており'の.でも/としてではなくでのをできればそのは
2

として

より

/リサイクルをともなう'01を23するユーザの4が5くきかれるセメンテー

6789ソリューション0:

Vol. 3 No. 1;2006<8=ション１はスクラップをしてらでされているがされる

くかにはとしては678にしている1Zn
_[!の$%

アルミ1Alがある１より2p3pがしておりはかったではセメンテー

イオンが Cu もしくは In であれば FeZnAl の!

いずれでもbcがnoであるとできるIn をの"#$%&'$%()を*+しておAl をもちいてする^のを１にり,-./#0な"#$%であるインジウムすAl が Al3p イオンとなって_[!に_けmし

1Inの2345と678な'$%の9:であ_[!の In イオン1In3pが Al がった?を

1Cuの()2345について;<するIn

って In $%にbcされて Al :にlmするInはフラットパネルディスプレイ1FPDや=>?@がlmした Al をすることでlmしションとをさせたしい

るなどでされるABC?Dである ITO 1Indium

た In をさせるした In はリアクタを



Tin OxideのEFでありGHのIJKLのためするhによりリアクタからちmされのMNO

PQでリサイクル*+２３やRSTU

フィルタでされるのはこのようにについてのVWなどもおこなわれているIn は ITO

Al :にlmした In $%を-の$の

ターゲットなどリサイクルもXんでいるが,はでできることにある

リサイクルがおこなわれていないYZとして[\]^でのエッチング

からの In と[\１

パネルからの In の23をおこなった   

Electrode system_[!に`aするbc?dがeな$%イオン1イオンfghのiさな$%イオンはjな$%
イオン1イオンfghのkきな$%イオンによってbclmさせることがnoでCu イオン1Cu 
2pをqむ_[!に1Feをいれることでrstu_[!の Cu2p が Fe によりbcされ$がおこり$%イオンの|}bc?d% Cu としてlmするこのvwをセメンテーショ
ンという４５

E£/V

Mg p2e¤Mg¥2.37

Al3pp3e¤Al

¥1.66

2p

Zn p2e¤Zn¥0.76

Fe2pp2e¤Fe¥0.44

Cd p2e¤Cd¥0.40

In3pp3e¤In¥0.34

Co p2e¤Co¥0.28

Ni2pp2e¤Ni

¥0.25

2p

2p

2p

Sn p2e¤Sn¥0.14

Pb2pp2e¤Pb¥0.13

12H p2e¤H2

10.0

Cu2pp2e¤Cu

p0.34

zイオン1アコイAg pe¤Ag

p0.80

オンとして`aしている{には|}?dからbc

Pd2pp2e¤Pd

p0.92のno~がわかる１に$%イオンの|}b

Pt p2e¤Pt

p1.2

Au3pp3e¤Au

p1.45

2p

FepCu2p x CupFe2p$%イオンが_[!でyなpc?dをすにもちいることがnoな$%



p

2p
























１












セメンテーション¦での"#$%lm§E

Vol. 3 No. 1120068¡¢ソリューション;3

がされているリアクタへでりした２

でをしした In をさせによりリアクタへされた In はフィルタでしたをおこなうことで!

"#の In $%を&'させた

In B+,CD
OPB"#の In $%O P 9

A LCD 9A LCD からの In B*

750 mg/L
670 mg/L

13 L
14 L

24 kg
24 kg

100 R
98 R

 ()*と*/0 +,ともに-.な

ビーカ+,

ごとにサンプリングをおこない In $%を1
In $%の&'*が!

"から In が()された(





)*であり23で()*に45する*が67
9が:なく;<したできる8+,では



した



In をしてその9から*を=することが>?であったことから()*に45する



*がえられるものと@えた    



 A LCD からの In B+,CD

A LCD #の In EF9をGしたCD400 mg/kgというCDがえられた２にB+,CDHをI







  す A LCD 9にJK In EF9 L400 mg/kgM をN








７

A LCD In B"からの In +,CD８

A LCD In B"からの In t SEM uv

９

A LCD In B"からの In tの EDS Gスペ
クトル

けてA LCD にEまれる In 9LMを=しされたOP9にOP#の In $%をNけてOP#のIn 9LMを=した
をB*とし

てQ=をおこなったCD２にIすように98 R
SのTい In B*がえられたただしこの In
B*はUVされたA LCD のサイズとB

にWXされるOPYB"の$%およびZ%の[\を]ける8B+,には１^10 RのOPYB"をもちいたがいずれもTい In B*がえられた A LCD In B"からの In +,CD７にA LCD In B"からの In +,CDをIす_`が In *でありa`には

"

１L がbcd１L とefしている/0をとった
これはa`に/0をとるとビーカ+,とg+,hiでCDにjがkじることからlmのCDがnoできるようにJKef/0をa`にpりqrsしたものであるいずれのCDも90 RS
のTい*がえられたされた In tのSEM uvを８にエネルギGwgxy X zGy{LEDSMのGスペクトルを９にIす８より;<しした In |bが}~してスポンジ
の In tとなっていることがわかる９より In tが In Gの|bであることがわかる
なおg+,hiの１ROPB"での In()*が90 Rでしているのはめたためでありを#でをすることでビーカ+,

のCDがえられるものと@えている
Vol. 3 No. 1L20068M

ソリューション5エッチングからの 

    

11に*+フロー

エッチングについてはができなかったため

にされているシュウグのをするために,-をす./の01(2345の6を7ポンプでパイロット8

エッチン

9へ:り;<*+=１パス*+>をおこなった?

３にすをしてをおこなった*+@と*+A@でサンプリングをおこない

In は 3. 1. 2 とのでおこなった

サンプルBの Cu CDをEFすることでGHI Cu  

のJK#をLAしたパイロット89にはフィルタ

を10にす LCD のに90

がMえNけられているがOではPQ6*+!の"い#がえられた In $もでRSするスラッジが Cu TUUV$として*+さLCD のとなスポンジ%の In &'の(

れていることからWXYAした Cu はフィルタで%)でえられたせずスラッジBにTUされてされるというZえのもとを[した   \]にサンプルをしてビーカを[して89を^_し89`abに+,-'.(

6=cd6G>にてIeをfgしたそのを
す



４に

でのは Fe hi"さ２mで[しおおむね89_jkをlmするがえられたn





に

５に6を*+してえられたを
')*(



 



10

シュウ


 

 

 

  

エッチング

 



 

!"#$%&'(

からの In 




３

シュウ

エッチング

４









シュウ
In CD
CD=wt > =mg/L>
シュウ エッチ
ング 



5

Sn CD
=mg/L>

340

35



11

Cu JK*+フロー,-

Cu JK*+=および`a>

v

w

*

GHI Cu JK#

+

x

y

z6GHI Cu

* + { D

Fe hi"さ



88 

95|120 mg/L

15.5|17.2 }

1.5 m

89_jk

84.6 
=95.8 >

100 mg/L

15|20 }
20|40 }

1.5 m
2.0 m



`

93.7|95.8

108 mg/L

20|21 }

2.0 m

５

Cu JK=6*+>


a



~



05u10u26|12u5

6



z6GHI Cu*+6GHI Cu

GHI Cu JK#

0.5|19 mg/L

0.2|3.8 mg/L

ave. 85.1 
81.0|95.7 

opqrソリューションstVol. 3 No. 1=2006u8>

すのCuはで85 Jし; LCD の_XとdeにXBYの In DEZをでありFe さ1.5 mをするがえられたでために"したCu を

90 UVのい In DE!する

Fe は#" Cu $の１%1.5&

でえられることをLW

した
f



Cu

についてはghのijBC

pH'５%７であったまた()*+,-によ\]^_においてフィールドをおこない る . / 0 の 1 2 で 3 4 し た SS

85 の Cu

Fe は 0.3 mol/L

kをLWした

17 mg/Lであったしたがって56の7が89:の;<の= Fe >?の34となるむす

lmのnopqのためリサイクルがrめられていび

るIn についてはsJtにuけてv+をwめており;<の@ABCDE89FGHBC

89

まずghでのsJtをおこなった:にxgyz

FGとしてセメンテーションをIJしたK<89F

gといった FPDFlat Panel Display^_のある

GのLMをNOし@ABCDE89として;<{|}gへの~vをりたい

からの In DE89をおこないHBC89として;<からのCu のをおこなったP;QRパネルLCDからの In DEでは

STされた; LCD から98 UVのい In "がえられることをLWしその In "Qから90
UVのい In DE

でXBYの In DEZがえられることをLWした
[

QR\]^_でのエッチング;Qからの In D
Eではシュウ`エッチング;<abQをcVol. 3 No. 120068
１lmと  Vol.113 No.12 1997
p.948951
２V7ほかディスプレイ Vol.8 No.8
2002p.8393３ディスプレイVol.8No.42002
p.3646
４BiswasA. K.DevenportW. G.: Pergamon Press
p.2722781976
５!\と;<89p.214218
1975M"ソリューションF

7

当社の膜処理技術
KOBELCO ECO-SOLUTION's Technical Innovation of
Membrane Technology
28
C|}2Megumi Manabeのlmはcnしいものがありもの2に!oWに34んできた+では^pとろ#の4qわせによりrsをt6しないでuvapのwxをyzとしたや-./では{a|}を2し~),ではなのみで RO をyzとする DT モジュールシステムを2したまた01
では２ RO で_したホウ

wxをyzとした

Recently, membrane treatment technology has been remarkably progressed. In line with this trend,
Kobelco eco-solution has earnestly worked on this technology, and developed many advanced products.
For example, by combining biological treatment system and membrane filtration, dissolved organic
matter has been successfully removed without the use of chemicals. Also membrane bioreactor has
been developed for sewage and industrial wastewater treatment, and DT module system that is one of
RO systems with simple pretreatment has been brought to the market of leached wastewater. In
addition, for purification of seawater, 2 steps RO treatment system is provided which can remove
Boron stably.

Key Words
!"ろ#$MF%
&'ろ#$UF%
( ) *$RO%
ろ#{a|}

Micro-filtration membrane
Ultra-filtration membrane
Reverse osmosis membrane
Membrane filtration
Membrane bio-reactorの

まえがき



わがのにおいてのへのとしてのとコストのからのがしてい?@のABCDECFろ#といったプロセスをひとつのプロセスでおこなうことのできるGしい+Hであるろ#は1991からIまった

る




においても!"ろ#$MF%&'ろ#JのKCLCMのNOプロジェクトPQ6R$UF%()*$RO%をもちいて+

G+システム2STU$MAC 21%で8VWな2),-./01

にXYし1993にが2Iされたまたなどさまざまなでの2に34み

1996にZでクリプトスポリジウムのB[\]が56

^しJの_`ab:のcWでろ#のを7ってきた89ではの<
8を=>するの:;する

がdeされた
fghiソリューションjVol. 3 No. 1$2006k8%

１

MFJUF QR

 

モジュールV

=dAPPPVDF
15 m2/モジュール
TUVWXYZ[/への\]!がく1008#のにも]wxである1

!をdする PVDF をもちいることで ナトリウムの .がwxでP{ができる1
P{によりijをできる1

72 m2/モジュール

をeにfgさせることによりいがえられる1これによりijができる1
またÖ9のstuへのijもwxである1

dAPPPVDF
25 m2/モジュール４モジュール
efgWXY !の CA をもちいることでP{を>|}~できる1

50 m2/モジュール
UF 

dACAhUVWXY

125 m /モジュール２モジュール

をすることをwxとした1このハイブ

ACT 21

リッドろ:システムはKL!のI¡より¢e-Waterを£でおいしい ~¤H!が¥い ¦の

さらに
 MAC 21


および

とおして

!の"#が$られ%&では10' m /d (の)*+0§¨©のªなどの=>をdする1,への-.の/き3アンモニア!やカビなどのには0«¬ろ:との< わせがdで!マンガンJが0じている1
23は19914から5まった MAC 21 に6789
 MAC 21ACT 21e-Water と1048#にわたろ:り !の CA を1
)のモジュールをすることでij
ができる1

2



Z

Ð

50 m2/モジュール

dAPVDF
MF  TUVWXY>

に;<んできた1の のにはバクテリアによる¢£ろ:との<わせがdである1    ­

システムの=>

23は19984に?１@AをB.してからCDにD
EをFやしている1GHのID!JKL!から
GHにおいてMNOPとなるである MF J

UF のQRを１にSす1

GHo®ではz:P{が)きく;れないため¯°が)きくなりコストで±であるとの²³が)´であったがµ4コストの­への°¶などによりGHの·¸

やなGH!JK¹!へのº»からopv!§¨¼の-.がTUVWXY MF はZ[/への\]!がくX^による_`でaれた`

Fえる½"にある1efgWXY MF は

bc!をdする1ehにモジュール23は1996¾19974に¿によるfgo
pv!§¨¼のをÀiy%ÁÂÃÄÅyÃ

をfgijしklによりmnopすることからqÆÇとのÈÉでDÊした1そのN¿のrのstuやろ:uのvがwxでyスペース\!

>ËDÌÍÎでÏシステムのD!をI²しさらをdする1に20034からはÐ

hUVWXY UF はz:P{を>|}~で!がくAÑÒÓにaれたポリフッビリニデンPVDFÔのWXYき)のモジュールをすることでij

でのDÌÍÎをおこなってきた1のがwxとなる1 fgopv!§¨¼の=> ハイブリッドろ:システムの=>ÏÕVはÖ9のv!§¨¼における SS のとする,は!のdAやための×Østu×ÙstuおよびÚろ:Êiの!マンガンJアンモニア!など

ダム

ÛÜとしてÝ]ehに MF をfgijしHÒをみさらにによるのがとなmnopをおこなうもので8­の=>をdする1なるの0もされる1ろ:のみではこÞGHプロセスのßàとyスペース

れらの!をできないが0GHと

á

Ý]eの

ろ:の<

などを

わせにより

Vol. 3 No. 120068

をしないで!

HâÒãä|}HRTがåæv!

§¨¼とÉç8­でdAoのみならずソリューション



9

１

./フロー

２

モジュールの@()
モ

s
Ð
 Ñ ?
pÒ3Ó
S¸

ジ

ュ

ー

(

ル

)

MNO%&'
PVDF
25 m2/モジュール
0.1 mも

0.1 m の MF でがするため SS２

DT モジュールÔÕのSRTをくることができるための!"による#$

が

$の#

のための:がなされ2]の ./のが=くなっている+さがで.

このような

２に%&'モジュールの()を*す+されるからのM-は2=>のとa>の 
,-./nの9から}~.

Cp]をむにある+やCの0と1)2コスト3で45であるとの

Cp]をするとしてQRは RO 

67であったが289:の;<や=>な./-?

./にし2 プレート & フレームOの RO

BCDのEFがGHI

モジュールシステムDT モジュールシステム

の@Aなどにより

なJKLとなりつつある+をEFした+1996に MNO

ることで-£-レベルの¤¥な./-がえられるこBCDのP

QRではSまたは PVDF T%&'の MF をとをH¦§¨で©6し21999にはH89でのj"U"する+VWXは2Yに MF ユニットををª«し2¬­2V

MN9Zし2[\による]/Iなを©した+

をおこな

bZとしてはcうもので2^_`:もaく2

0でのH®を¯ねながら DT モジュールシステムのP
１に DT モジュールシステムのM-./フローエネルギタイプである+ d`Oな¡./と¢gわせBCDのP

を*す+DT モジュールは2

な¡./のみで2

VWXは2Sの UF ユニットをeに9などにdえ2°±の BOD2COD2T-N2SS

Zする+BCfgをhiポンプでからを²³./できるである+からのM-モジュールへクロスフローでd`jkすることでは´µで¶·¸?

ろl./-がえられる+MNOにくらべ2^_`の SS ¹ºをa#させるIで»¼½¾./される+:も=く2cエネルギタイプではないが2ろlCのその­2¿カルシウムのスケールÀÁのIでmいのngにはoCをpする+PH ´µされ DT モジュールへjkされる+
のDT モジュールは2SとディスクとÂばれるプ

て

ラスチックTスペーサーを¢gわせたモジュール

わがqでは2hiORrstuvwVDでxえる
hiORrへのyzにともないゴミの#$やリサ

イクルのuvが{|となっている+また2}~.
10

された­2DT モジュール

２であり2１Ã RO および２Ã RO によるで-£-レベルの./-?と=いÄÅを©Æする+DT モジュールは2Ç-のÈÉがÊËÌiÍソリューションÎVol. 3 No. 12006Ï8３

'の*+,においても-./がくクローズ

のµ
モ

ジ

ュ

ー

ル





ド01234システム56や789(の:(;<UF  スパイラル¹ UF  ¶ x PVDF
·¸ 30 m2/モジュールろ@ § º\ろ»d RO



ろ


¶ x
@§

u¼½¹ RO¾¿©セルロース
クロスフローろ»s RO 



ろ


¶ x
@§

スパイラル¹ RO 
ポリアミドÀ
クロスフローろなどに=/をするシステムである 
>'?'<の@AとしてRO ABCDEAFGAがあるがわがHにおける'I,>'?'<9(のJはKLMNOのPQ'IR500 m3/d
STのUVW9(がXYであるためエネルギZ[\が]なくコンパクトで^_`がaQな RO 
Aのb,がcいd@efでは40 000 m3/d0gh
i4や50 000 m3/d0jkl4のXVW9(で RO 
Aがb,されmnしている

４

'

x

 ほうopqを



' x Á

Â

Å

Æ

pH
FGÇÈ
ナトリウム
º É 
Êoイオン
ほ う o
Ë Ì0 マンガン©カリウムZ[\4

.

Ã
0>

'
'
'40 Ä'4



Í
mg/L
mg/L
mg/L
mg/L
mg/L

0.4
Î1
8.2
37 700
10 3006 460
19 500
4.91

Î0.1
Î1
7.5
161
1.4
85
34
0.4

mg/L

3.9

0.7

rとしたs RO シ

ステムのt>'uに５mg/L vwまれるほうoを'xyzSTにするため{|は} RO の~にほうoのpqをrとした} RO をしたsRO システムでした^_をしたRO のはろとUF のわせがでありRO でのほうopqは85 をしたまたのは２f9することでした/をすることができる３に４に'xをす

む

す

び

{|がんできたについて した
くのをするスペーサーディスクのきにその¡にも¢'£T''の*+,

よりの

けにく

 ¤¥NT' "/_¦@§BCDEA

いための RO ではであったでの

0EDR4によるNT'の¨©/ªopqなど

をとすることをした

さまざまな'への=,をおこなってきた

まりや

システムはへのファウリングを!を"#まで$えることのできる%&'()であることのみならず

Vol. 3 No. 10200684

さらにの«¬に­み®¯ニーズに°えてい
く±8である²³ソリューション´

11

下部集水装置としての多孔板付き
A/W 有孔ブロックの基本性能
Basic Performance of A/W Underdrain Blockon Which Porous Plates are Installed~¤b4¥¦§~¤4'(¨©
ªAkira Ishiyama«~¤b4プロセス~¤4#¬­'(¨®
¯°
Yuuichi Nakajima

EFでは

をはじめ$%&'(WのろGHを

GHの*である$4;については
しT

ろ<={のVW

くKLしてきた-そのろ

vw<=pブロックA/W pブロックをOPQの

_やメカニカルジョイントによるなろGH9けとしてを6にした-±A/W pブロックのにけるIpをし ろを*とすることができた-bでは このIpき A/W
pブロックのb+6

G

*

を¡する-

A/W underdrain block is applied to filtration systems for treatment of city water and industrial water,
and tertiary treatment of sewage. The block, the key component of the filtration system, has such
advantages as backwash with water and/or air, uniform flow distribution, reduced headloss, easytransportation and simplified installation work owing to light material and mechanical joint. Recently,
for filtration systems for treatment of city water, porous plates installed on A/W underdrain block aredeveloped, on which filter media are directly settled. This paper introduces basic performance, design
criteria and installation method of A/W underdrain block on which porous plates are installed.

Key Words¢$ 4 ;   
ろ

£
I
p


Underdrain system
FilterPorous plate

EFはこれまでまえがきろはをはじめ


いられてきたが
の
ら



に



くもち

のや

のさらにはののか

T+がVWというものである-これらのMNをXY
Z[\の]^_を`aとしてのろとしてもろの)*+

cdeのfghい./のさせるためにはろの340に12の56も789させる:*+がある-とくに$4;はろろSにおける;T+およびU<Sにおけるするとともには,いといえる-このような"OPQがRさく#さらには$

の%&'(!のみならずろGHの$4;をIJ

KLしてきた-そのMNはbijkによるメカニカルジョ

イントへのfgといったlでmn;を7oしてきたものが A/W pブロックであるA/W pブロックqrのsAtはsAirtのur

<=の>に?きく@Aする?BなCDを>たす

sWtはsWatertのurであり

vw

それぞれ

ものである-

xyの<=への1

vw

z{<=

12

|}ソリューション~

はもちろんVol. 3 No. 120068

A/W ブロックはzにしてもができることをするはさらにA/W ブロックのを

し

Gに{れ

X3なz|

ろ けにをえ}Gを%つ

にけるのaとなオリフィスをしているブロッ

それをけた!きA/W ブロック"とすることによりろ#$%き ブロックの



TUや
ブ

１に 

き A/W ブロックを２に それぞれ0す

A/W ブロックは1

2と342に53けされた6789になっており

その:;<=によりブnな)dがされる

はのなメカニカルジョイントでおこな
いA/W ブロックの,-./を,-のさにじてクはろ&'を()とすることを*+とした ~igポリエチレンlでありロのれは>にされるク

sポリエチレンsポリエチレンッ    き A/W ブロックはwH?@DVAのIJ;の２

の;にzえられるようし

TU@KのおよびにるM

ロック>にわたって?@AのBCDEの:FGをてあるまたHきく;にしてもX3な>dをしているまさせている?@ポンプをもちいずに,-IJの@K

で?@するLMろ,-への

も*+である１ブロックのNOPQは270 mmW
R382 mmHR1 248 mmL である1@Aの2のSは?

やTUのDVをWくおさえるため

Hきさをとっている1
した\]^があり

X3な

2と342のYにはZ[

オリフィスと２7のTUオリ

フィスによって_`しており

たみ



えけAにするsはX3¡んである
l¢£Gは¤のとおりである
１ブロックでのz;

0.25 Mpa ２¥G

0.01 ¦§３¨ げ  さ617©764 MPa

４ª«#Fの#に¬する­C®¯

さらにブロックのJaにはbさいYcであけられたdのBCオリk°±²³´0µ45¶

フィスがあり TUが>から:FにBCする·s

0.1s§

2

JのefgJにTUhがg¸

s

0.5s§

とくにTUは1
iされ « ¹ F マンガンºカリウム»¼E

:F3jを*+としている

ろ#$%&'を()とするは

kさ20 mm

1.1 mg/L½¾¿ÀのÁE

0.6 mg/L

aをmうようにけているのn:UÂいおよび

ÃÄなし

oは

そのÅ¹

>てÆÇÈ§のポリエチレンlでありA/W ブロック

pね400q500 m rsであり

tu

J

vをw

bxにyえることができる







１

A/W ブロック

Vol. 3 No. 12006É8

２き A/W ブロック

ÊËÌÍソリューションÎÏ13

"#$%&'(
)*+,$%&'(
)*+,$%&'( ) *$%&'(
) *１

A/W ブロックのLMN
 




















 











































 !
 













２













 !
 














A/W ブロックの@*+=の#K%&' および
A/W ブロックのとを１によりで0.3 m したことすのをしたことのリブをやしたことなどにより






がしているき  ブロックののがよい!"に#$の%&'はろ()*+にはきわめて,-である

とくに.#$の/0は*+1となるおそれがあるA/W ブロックは2345による%678によりあらゆる#$において9*:の%&'が;<される

２に9*=の%&'を

これは３にす

クは４して５m?の@AB@Cにて
14

-./01./023456

す６m>A/W ブロッ３@AB@C

DEFGソリューションHI

Vol. 3 No. 1>2006J8?

ブロックにボックス４を
て

をおこない



し

たとえば

ボックスでまれたのT では

のをにをしてPのストレーナQやRQなどのS
J

U0.6V0.7 m/min において500V

1 500 mmAq であるがA/W ブロックでは150V

200 mmAq WXであるしたブロックでは!のが"#$%す?@AきA/W ブロックについて

また'(の)*+

UXが0.6Y1.0 m3 /m2 /min では?@による,による-./によると0えられる12のろ3

KL Mが&ね100 mmAq WXにZまることがわかっ

4では5に6789を:せるためた?@Aきブロックでは6789が[\と;されが<する

るものの&ねであったこれは

=>

なるのでT

?@Aきブロックでは

89を:せなくてもさらに5に67が<したこれは ?@による-./によるものと0えられる がさい
をB7しながらも$くすることができる


がすぐれている`abcポリエチレンdでeく
13 kg WX

ろ3(CにDするE(CのFGHがIきいため

J

のKL

M

１ブロックfり?@Aきでも17 kg WXでありghがijであるブロックのklはmnされた
opをもちいたqなrAけstでuEにvをNさくすることができるA/W ブロックのぐことができるKL

Mを３にOす^を200 mm _の]さおよびろ3





がよい

x<がありyz

~Xもありをwy{|に}れる

%きのにDしては0.25 MPa_の~Xがある ができる
A/W ブロックはmn'(+,によりの5にが+bされ
は

の

な

あるい

がおこなえる した=のとしてストレーナや?R>などではGのがIきくデッドスペースがじろのがしたり

の-;によりエアバインディングがり

67をしたりする
A/W ブロックは

から

へは

オリフィスでと-をした ブロッ４

３ボックス

A/W ブロックのKL

Vol. 3 No. 120068

ク5のE(にけられた?のオリフィスかM¡¢£¤ソリューション¥¦15

らをにさせるのでデッドスペース

mmHI1 248 mmL である

やエア



バインディングはらずした

ができるきのは

さらに



ろJKのはろJLMにNきくOPをおよぼすがするためのがあるそこでXYでは A/Wのと A/W

ブロックとの!"を１ ２に#すA/Wブロックは

$が%&で'()がとくに*さく,が-.

/0が*さいブロックZにV

W[を\]に^り_むためにの+1234といっI チューブU`のaをbcとするとくに
eをおこなうは

のdfgの`では`jからしたはhAAによりiAれした56がある

ろQRSがにできるTUとするVWのにkらない34$がlえられるため

mnにをDoに^る I チューブTUが 

VWとされる

0.471.2 m/min892ろ:や;により<める=pqrs`:tは PVC>?には0.670.8 m/min である

する



 

SUS のいずれかを92

0.371.4 Nm/min >?には0.871.2 Nm/minである

uvにろJwSZoのGHとxyのz{を|べる トラフの@AするBの/0は1.5 m CDとする
 ブロックの ブロックの



A/W

 ブ ロ ッ ク の E F G H は 270 mW I 382

A/W

!"

ブロックはろJの6さにわせzcモ

ラテラル１}ごとにあらかじめ}~て

１

の!"





A/W





F

F

ディスクF
スリットF

`

:

t

{ポリエチレン

wSコンクリート
F

` PVC `

ブロック

ホイラーF

 ` F

ストレーナF


8mm=

5.9

1216

8/=
0.23

612

  !
8=

1.45

0.250.4

8りけ `=
0.250.4

0.2

hA[
  $
8¡=

3CD

3CD

25

35

h  e
'()
8mmAq=

1508きは250=700900

5001 000

7001 500

xyより
の  さ
8mm=

400
8きは¢10=

8001 200

300700

200500£$%&'()がとくに*さい+,-.
/0が*さい1234

¥¦$%&
$%&
+,§¨
K©がNとなる/0がNきい

+,-.
ª«し.い
/0がNきい
'()N

+,-.
¬­ ®¯あり
$°し
'()N

¤

p±qrhAe'()はhAA²0.6 m/min eの³を#す

16

ソリューション

Vol. 3 No. 1820068=

Vol. 3 No. 120068

ソリューション

17

ブロック

M

|

b

YZ[\}さく>H^_~C
rsがtuで>igになるC
ブロックの:;はであるC
z{にじて C

きわめてtudえ-けrs

n

もっともl

m

l

dえ-けeがgい30A,-きは250

_

j

_

j

k

cdえ-けefむbXの6)H^_`Q67aさ９m において

150+

1.45

531

O*O/m2

VTW

5.9

Nmm

XYZ[\mmAq 6]0.6 m/min X

PQ
RろSTにUするLM

L

メカニカルジョイントで=;させ>?@A@にモルタルをBくC6789でのブロックの:;8<,-きは1 00001

,-きは 0

60001,-きは.4

20001+13+#$%ポリエチレン

A/W

1 19001+

/mm

2





45より2/1までの#さmm

/mm

ろ

3

)kg/*

(



"





ブロックの

!

２

20001

60001

43







YZ[\}さく>H^_~C
jk_にれているC
rsがvwであるC
ブロックの:;にがあるC

vw(xyz{

opqる

もっともl

bc

20A

750

0.64

510

4

DにE;せてFGしたのちA@にHしモルタルと1VI@にモルタルJK

1 07501   

41

'

165

1.46

490

6

'

&

&

&

'

'

'

!heがi#になる

30A&

1 25001

20001

60001

&

    ブ ロ ッ ク総説

エステプロセス

General Introduction of S-TE PROCESSsteu89stu8

v

w x y
z
Susumu Hasegawa
{|}~9~ののであるのとして

エステプロセスはする!"#$%&'に!$(と)すを*+するという,で-めての./0のプロセス,7の8

メーカであるオンデオ9デグレモン/がエステプロセス の5:"を;めて<=するなど,>にも?@されたでですでに101%2の34を5している6またある6
エステプロセスはKLするという

を
の

ディスチャージもEPで!$のABするCDによりEFしのM"をうまく

それをGHのO1によってはゼロ

かした:N>なでQRSTをUVのWA%&にできる6XYではのバイオマス`abcdにeをf+することにより

gh

でIJ

Z[\]

^_\]

ijのklがmないabcdとしてnoしている6
We have developed a novel activated sludgeASprocess, in which no excess sludge is generated.
It is comprises the conventional AS process with thermophilic aerobic sludge digester in which excess
sludge are solubilized by thermophilic enzyme, so we call hereafter the digester S-TE reactor. The
sludge generated from the AS step is solubilized by thermophilic bacteriae.g. Bacillus sp.in S-TE
reactor, and returned to an aeration tank, in which complete mineralization is carried out by mesophilic
bacteria. The S-TE reactor is operated at 60-65 p with hydrauric retention time of 1-2 days. Special
isolated bacteria is initially inoculated to the S-TE reactor, but no additional inoculation seem to beneeded since these bacteria can form spores and survive even under mesophilic condition. No excess
sludge was generated when 3-fold amounts of the excess sludge is subjected to the S-TE reactor.
According to our estimates, total operation costs for the S-TE PROCESS is reduced to 30-50 q of
those of conventional dewatering process. Recently a food waste methane fermentation plant combinedwith S-TE process has been operating, and producing valiant methane gas without excess sludge.

Key Wordsr! " # $   EF

バチルス ステアロ
サーモフィラスVol. 3 No. 120068

Thermophilic bacteria
Sludge reduction
Solubilization
Bacillus stearothermophilus

ソリューション

19

５
４@のレセルシステム

まえがき

にくもちいられているがした


が

して

が

としてされることが!の"#な$%とされている&
の'
わが-の６などがされている&Jでは@が'した
とするをSTしたt(uvwについて
そのvwの

(は)*+１,トンともいわれ.(の+20 /を0めており!

となるの¡を¢にMからc£¤¥までを.¦する&エステプロセスののロンドン1+による234の56 や789を

'§{でをhuして¨©する}:;することが<=になってきているなかでそのと¦ªすると{«¬}との­®をもたれること

>?が#きな@A$%となっている&2001)があり¯°した&:かに±のには{¡² }

BCD@AEFGHIJがKLされ３RReuse,を³い´µとするvwがごまんとあるがc¶に·

Reduce, RecycleのMNにしたがいのO¸されているvwは¹ºない&»てが{«¬}とい9PQなどRSTのUVみもWXYにおこなわれてうわけではないが¼くのいるが"Z[の$%ST\:;]^_`の$¡をよくしないでもちいているため³い´%がaされておりbcYにはdefgµのj¾がえられていないようである&たとえば

あるいはhiしてjSTするkがlmとなって@のも¿Àを*Áえるとj¾がÂtする&

いる&しかしながら!efgなどをしない9n

そこでまずhuについてその¡CoにやさしいpqYかつrsなt(uvwをよくできるようにÃÄする&Reduceがxまれている& の１

½{¡²

}のykでz){t(uのIJはをX|

ÅがÆをÆべるとÆÇÈÉをÊËするÌ

さないようにすることである}とのコンセプトかÍでいろいろなÎÏが?Ðされhu?Ñ

(を#~にtするプロセスのらの'

がなされている&から'
uして

の

uされÒにÓÔされていくするをhうなÕÖな¨u×ØはÙち½わせていないためそがsに?できるEにしれらを?することになる&すなわちあるÚのhuをのにして?することにより'(をtするkでをhuす３
るkとしてオゾン２ Y,-./01#%&2345

6789





は

１にÛすようなÜEをhu

するÎÏを?ÐしてÜEをhuする&さらにÝのがそれらをより?ÑuするÎÏを?Ð








%&)*(







%&+($%&'(

20








,-

ÜEの






!"#
 















１

はÅ*のよ  ./:01#01#:;-#?ÞßCoソリューションvà

Vol. 3 No. 12006á8

EFGHIJK

1234567;

89:

<=>!?@AB9:CD 
!"#$%&' ()"$*+,-./0

２

9:@A

BCの6

しににまれ

とえばたんぱくをするはまずプロされるたテアーゼによりアミノにされさらにするがあるはアミノ
をする#$により!"されていくに%&はリパーゼにより%&とグリセロールにされ%&はさらに-

や -

により'(

はた

されていく

また)

とえばアミラーゼによりされグルコースは
*+に,り-./0においては1
)にまで



１

SPT2-1 uのCw

Tw

w

BのT

¤C

¦

¡w

の§

¥

¥

オキシダーゼ

¥

(

¥

カタラーゼ

¥

グラム¢£

¥



に¨するo -.hw.

mnoの©ª5575 km pH の©ª5.58.5«¬­(がないの®

¯°は2030

とtする- v w B Cをx yしてz { S-TE XSludgeされる のsolubilization by thermophilic enzymeY CとyすY

コンポスト23445などを67とし8として6した 37 kの[n/0で>=した>=?

)9:を;として<=した>=?から9:を@A

からも6をDみたがいずれのコロニーVWにもするBCの6をDみた
Gす

２に6EのFを>=?のHIをJK9:をLむMNOPQにRSしコロニーをTUさせコロニーVWに9:@A

IXハローYがZめられたものを9:@A

BCとして6した@A

IはMN[の\]9:が^_になるため`aにZbできる

またMN

9:の@A

IはZめられなかった のSPT2-1 uは Bacillus stearothermophilus に|される}~wのないpなBCでから6されたものである
１にまとめる

SPT2-1 uのBCwを

このBCは-.w/08Xhw.

[の\]9:が^_ することは9:の@A が

wBCであるため./08でも

cに9:をdeさせるだけではなくfghりAかし

6070 kでrsにしな9:@AていることをGしているをtして9:をAする

ijは65 kをlmnoとしプロテアーゼ

Xno

uを9:@AもdeすることなくVol. 3 No. 1X20068Y

 をrsに

また(XYTUをしおり(になるとのストレスおよびアミラーゼをpqしてrsにtする SPT2-1-vCX9:@A

できるYのwの,Yにされてソリューション

することができる21

３はによるの７ であるが
は



される&'はGH

からなるIDJでフにされ50 ではロックをKLしているがこのIDJは50 M

せずかつも50 ではでNOにPするまたQRのS;TDやU;となる

TDもによりVWがXれVJがFするY!"#から$%かれた&

Z[に を\]するだけで Gい^_は'を()*に+った S-TE ,でし

20=30 `Mの SS がされる８ ことになるを-び!"#へ./01するというきわ

しかしによるはここまででabな

めて23なフローである4４ このようにプロVcを7するは(にdすことによりefはセスが25されるのは これら6を7する

できてもすることはNOではない

エステプロセス は

ghでをiむIDJがされると

SPT2-1 8ならではの9:であるがにアタックされやすいjkになり

(の9:



S-TE を;<させるためにはを60=65 に>?する@AがあるBC;D!"#からEF

３

によるの9lをm\させる9Zを;みFす

によるの















４
22







エステプロセスとはtno/pソリューションqr

Vol. 3 No. 142006s8

の

トクレーブDEしてFGHIJ３K@ALした"
をしていても#をもちいたSPT2-1 をMNしたOPは?

にできなければのをす@A"#を25Q30 RしたSTMNしな

ることはできないSPT2-1 はグラムでいOPはほとんどされなかった またにをするためをしながらをSPT2-1 のえることができるすなわち

てもUVに?@A"#の をWべたところ

のようにをするそのものが

となり!よく"#をできる
１はSPT2-1 の$%

の&'みを(

をFGHIした&'みについ01を>したにもかかわらず15Q20 Rの!がえられたこのXYよりSPT2-1が)"#を*む+,-&に./したものである0

Zにをしていることが[\された

1が23しないにもかかわらず45なハローが]^なみの_`Ga

されたことからSTP2-1 が"#

をにしていたことがわかる

SPT2-1をbc-でしたOPの_`Gaは]^なみでそのde５にSPT2-1 による"#のを6す

は20Q30faであるしたがってghのi"#jのようにkl

ここで78に9した"#は:;の1によるmに

をnoするために"#をpqするrsはなの<=を>するため?@AB121 Cで10 オー

くStuでのがである

v1のghwklはxaがFいほどGくなる
yzklにおいてもUVでこれが{|}~に01がされているEでもあるSPT2-1
がするもv1でSPT2-1 の
xaB65 CL{でFiを6すしかしにxaがするとiもし50 C
ではiするしたがってこのがghのxa
B15Q35 CLでされるDEにされてもiするためi"#に<=をぼすこ
とはない




の

:;のようにSPT2-1 は Bacillus にされをするが S-TE mからしてDEにpqされたOP]は?する

 !"#$%&'

１

５

SPT2-1 &'みによる"#のがSはをでしてするは¡され¢£"#とともに¤び S-TE mに¥¦されるS-TE mでFxに§された

SPT 2-1 による?@A"#のVol. 3 No. 1B2006¨8L©ª«¬ソリューション­®

23

:


$)./1 
0 $23456
789:4;<
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

0

=>:



FGHIJ
KLMN



"#$%&'()*+"#$,-

６

SPT2-1 &のHF













!

７ *+,-.による S-TE )

はびしてし５なるしたがって

で

な

と

S-TE をすれば

KにまでSIAするS-TE )においてDEにするなLKをTUするとS-TE はVWAしのをえないりのはない

たHI:の30X50 YをSIAすることができる６

したがってZの:[A>?VWA\にくらべ]!

７は"#$%げ SPT2-1 &をして'３^[に_`されるVWAHI:のabcが30X50("#'の S-TE )の*+,-.DGGEYdeされることになるすなわち]^[への-.!/0を1すS-TE )には23456

_`abのfgがZhにくらべiないといえる

も7む!の89:を1すバンドが;められるがエステプロセスの９

<=に SPT2-1 &のバンドが<;されている
9:>?@ABCDE!のFG

プロセスjkのlmからnopqをrnして

SPT2-1 &はHIJKをLAしてエネルギをえるMNOPQでHIJKをDEによりRLAJ
24

 ゼロディスチャージのecAsをtめるとuvのようにwされる
xQはyz９!

{|}~ソリューション!
Vol. 3 No. 120068!

 




X

りをsFaに_`くことによりZ[#の'をにtbすることができる)%&#のu-についてもvwに!えることができ

ここでるがxyにがされてした%&#S-TE

L/dはあるOPz{|}#mにu-されるが|}#のu-~にもがあるためu-~をえたL/d 

 S-TEをしたの S-TEをしたの BOD  %&#は|}#にはまれずDE2mにさ

kgSS/kgBODれる)BODがにするとするとはと!えられることから

 エステプロセスのエステプロセス のの

と

の
の}がにされcdによっ    てはゼロディスチャージも~である)LMでのfWげが~

ここで "はされた#$が%&される

S-TE のと}にな'を(す)

により１NでfWげが~である)*よりは S-TE

での



なQR

と+,  の-にすることがのにhをもちいるためQRが.かる)

である)]の2

/012をもちいた345および416をもちらべDE£が 1¤2 S 1¤3 に¥できる) ９

いた78テストでえられた9:を;に *  の との<=を８に>?しするD.¡¢にくkl¦§¨なtb©Eた)@AはほぼBC<=にあり*  の "がほS-TE

のªPを60S65 «に¬bし­®cdに¬つVa¯°なtb©Eは±²である

ぼ１であることがわかる)このことはされ

た#$が2DEFでほぼGHに%&されていることを(Iしている)
JKS-TE

でのDELMを１NOPでQRすると"は0.3S0.35であるためゼロディスチャー
ジをTUするには+,  を３VW
でQRすればよいことがわかる) のX#$がHてY2Z[#\]であるとするとY2Z[#\]のXZ[#の^とDE2および_`きによるXZ[#のF
abしがバランスしてXZ[#' 

８

DEとの<=がになるcdではe*がUりfつ) gh



kl










ここで
 DE2mのZ[#もnoした_`  ^Z[#にpするRq Y2Z[#mのX#の'










はij９












Z[#mのX#の'  XZ[#のはrXであるが*によVol. 3 No. 1 2006¤8





９

   エステプロセスの¸¹{³´,µソリューション¶·25

はまた

な

や

を



で9.:ijHklMに`Zする
mとしない
としたプロセス

リンは45できないためリン45がなn^はopqrをするこのことはsに9.:にリンをtuvとしてw_しているn^はエステプロセス はをせず
にする   に$しいプロセスである

エステプロセスはz9への%をhSに1998%&の'()*

+w_eをxなくできることを(yする!な"#をするため,-.するため,-において/01したり

{から2001{にかけて|>z9})~JSと2してしまうものには3.で45するな

をど%に67をする

ま8

している２Oとして[しており[Oはそのまをに JSをけているまた~b9へ

9.:の;<&=

より>?@ABCDとして:EにFGくHをI2の%についても

センター

して9.:にJKするため>L9.:のJARUS|>~b9よりH

;<が&=するただしS-TE MにおいてもN

eOとしてOがPQするためRの#SI2TにくらべるとJL;<は 1U2 VWですむ
X;<&=にともなうYZ[\の&=;<&=に]^うYZの@_がになる`aS-TE MbZガスをcdとYZefgのhS>

をけている

は

の9.メーカであるデグ

レモンをはじめ¡¢

9.メーカ２にも£¤しておりすでにフランスにおいて
50 000¥¦§のz9.nに¨©１ªOが[している３


２

z9.n

    








 



!"#$%"&




O

'(

23






4
5

)*+,-+.,/012


!"
6

78 
 $9:#&
;<=>?
@AB

３
26

に®ばたくエステプロセス«¬ソリューション

­Vol. 3 No. 12006U8

２にエステプロセスのをまとめるやに

がまれるにおいての!"]^でする_`のabBに$8なエ
ステプロセスをcdすることをefしgh

をくをおこなっているがそれ<*+,

!"@A#としてセットでi%いただ

ではゼロディスチャージのをおこなっている

いたRSフローを10にjす

エステプロセス はそれでもを

k700 kgBOD/d から2 400 kgBOD/d の+,OXに!"プロセス#として$%な&'である

lし600 m3 の PABIO mをRけ+,OXnのoが()の*+,!"あるいはメタン-&'と.

p_`b715 kgDS/d をqrghさせるた/せることにより0)&'を1ぐ()2のメニューめ 155 m3 の S-TE mをRAした PABIO mでのとしてランクアップされる

BOD st9は90 uvRSrwとしては98.4

  

uとx=な!"?yがえられておりきゼ



しない

とのせ
と34と5PABIO MOVER はの*い

6789#および*い34:;89#がえられる*+,<の=>?

メタンとのせ|E}~ !" において|EリサイクルV#!"@Aである

BCDEおよびFGHI%*JKLEなどをDMするHNにおいてOPにともなうQR

ロがz{されている

!"RがされI|E}~
イクル9の20 uvがについてはリサ

められているリサイク

STU?VWの+,OXをYZするにあたり

ルのVとしてメタン-はにエネルギ

()の PABIO MOVER を[\するとともに

がyであることからをめているが-n

のgBの!"がになっているのように
２6として%できるN/はないが

エステプロセス の

·¬¸

!"b
Tkg-DS/dW

N»
H)
MT¼W
ST¼W
T¼WN
NT¼W
KK
AT¼W
AMT¼W
LP
T¼WM
H½

22
330
5 000
100
72
715
450
10
140
400
1 100
540



abB9

·¬
¹K

70¾80
80
70¾80
90
100
100
100
100
100
100
¿À
Á80¾90

2001
2002

2003

2004
2005

I

º

 
| E
B C
F >
B C
| E
| E
| E
| E
F >
| E
ÂP0

&':Ã¸のÄÅÆHN２Ç T20032004¹KW
!"N１ÇT2005¹KÄフランスW













!"RSをRAするのがであるそこでメタン-を¡¢なくするためメタン-gBの!"にエステプロセスを£%したシステ
ムをefしi%いただいているシステムの¤¥フローおよび¦§を11にjす
５t/dT

960 uWのゴミを180 m3 のgBm

でメタン-ししたメタンガスを%して60
kW のF¨およびボイラでエネルギを©ªしているメタン-nのgBは
され

!"RSから

!"RSに«¬ªされる１t/d の_`

は80 m の S-TE mで­B!"して!"
3に®¯することによりabBしている°RSにおいてもきゼロをz{している








ではそのようなはごくられておりnに



















10

gh<*+,

!"@AVol. 3 No. 1T2006±8W²³´µソリューション&¶

27

789:
;< = >?;@A?







$%&'








!
34



11

ÍÎGHへの12

む

す



"#

()*+,./012

34

びでされるあらゆるは によってされるといってもではないそうでなければそのがどんどんされてがそのでめくされることになる
からされる!"#についても$じで%&におこなえば'(が)*である+,-.+,に/0が12されてきたように"#+,においても/0が32さ
れていくことを45する

１6789:;ロンドン<=>?@AのBCにDうEF
GHのIJKL のMNOPについていんだすとVol.10No.9Q19956p.38R42
２6H. Yasui, M. Shibata: An Innovative Approach to Reduce
Excess Sludge Production in the Activated Sludge Process,Wat. Sci. Tech., Vol.30, No.9Q19946, p11R20

28



./56B

３6STUV;ミルWXYZを[む"#\]Pの^_`a+,Vol.28No.8Q19996p.562R565
４6bcdefghijklmnopq;rs
tをu2した !"#v\wxy"#0にzする^_
`aY^_{|}Vol.39Q20026p.43R54
５6~89 kjklmnopq;をu2した !"#v\シス
テムにzする^_`aY^_{|}Vol.39Q20026

p.31R41６6o;ry をu2した !"#がしないxy"#プロセス`aVol.21No.6Q19986p.360R366
７6 ¡¢;£¤`a ハンドブック¥１¦
Q19916p.36R51
８6§¨d©ª«; !"#の¬­®Pに¯ぼす°rおよび±²³´のµ¶"·^_Vol.12
No.2Q19896p.40R49
９6¸¹º»¼F½¾¿パンテツクÀÁÂ;­yrÃÄによるº"#の\ÅPにzするÆ$^_
ÇÈ@Q¥１Ç6É13Ê12Ë

¾¿`aソリューション+Ç

Vol. 3 No. 1Q2006Ì86

POPs 汚染物処理技術としての｢RH-SP 法｣
RH-SP Process: Decontamination Processof Earthy Materials Polluted with POPs;m
プロセス;

プロセスYutaka Ishii
M
Masahiro Ogura

;

が

m




プロセス;

4Takao Kawai;

してきたRH-SP はRH
とナトリウムSP をわせたものでありPCBダイオキシン!"#$に%&される POPs'()

*+,-に*+された./*012や34の5-などを67とした89:;である<
プロセスは=>?@をABCDにEFなGHIとは8JKにプロセスガスIをEFLMNにOPできるとともにスクラバーQRCD?@ABによりSTUV?@にWXして"YへのQR
IがZ[に\なくCD]^も 600 _`aのbエネルギーcCD;でありdRをはじめとする
efへのghijがZ[にMさいのがklである<mをuに

nはdcopqrをもちいたopst

nしたものでありこれまでのopのstvw POPs ,-に*+された./のみならず*034や125-にもmCDのxBがyzであることを{した<m;はいずれのop
でもefへのij6|の})が~されCDの~)にえて)も~されておりB:レベルにある<The "RH-SP Process" developed by Kobelco-Eco Solutions is a combined process of Reductive Heating
ProcessRHand Sodium Dispersion ProcessSPto decontaminate soil, sludge, and sediments ofriver and bay area contaminated with "POPsPersistent Organic Pollutants" such as PCB, Dioxins,
and Organic Chlorinate Agricultural Chemicals. Since the indirect heating process is applied, process
gas volume does not depend on heat supply but is able to reduce to a minimum, and as the oil scrubbing
system is also applied as exhaust gas treatment, the exhaust gas volume of this process is very small
compared with a secondary combustion method. Also as contaminated materials are treated below 600 _ inoxygen deficient atmosphere, this process is also a lower energy consumption system and the detrimental impact to the environment is very small. This report mainly describes the results of our experiments
using a large pilot scale plant, showing that the RH-SP Process is also applicable to sludge, sediments
in river or bay area as well as POPs contaminated soil. Since we have confirmed through our experiments that the RH-SP Process has scarce detrimental impact to the environment, the RH-SP Process
has already achieved a practical use level in terms of safety as well as treatment reliability.

Key Words    ナトリウムPOPs'()*+,-* + . /
PCB
ダイオキシン !"#$
Vol. 3 No. 120068

Reductive heating process
Sodium dispersion oil
Persistent organic pollutants
Contaminated soil
Polychlorinated biphenyl
Dioxins
Organic chlorinate agricultural chemicals

ソリューション29`aoスクラバーでjkする

まえがき
PCBダイオキシンDDT などの


なお*プロセスはOPをbしているPOPsにために56なz{Pとはにプロセスよるはやへのがされこれ

ガスをめることができることからガス

2004! 5 "にはを56-にできるためCのにされる

らのがめられている#$%&ストックホルム%&が'(し)*でもが+,されているがPOPs そのものに-らkがとなるプロセスガスnjoはyに

をUず./012などの34なも56となっ¡し¢ を£えた¤¥で SP Qをもちいてバッているチで@kする

POPs の78の9*としては:;にSP QではガスnjoにST Na UVWを¦Oし90 でk§¨をできること<=なプロセスであること>?

おこない POPs をU©する

や@ABの'がないことCガスや

セスガスnjoとして«¬bするDEの'がFないことなどがGげられる

U¡により@kを:­®¯°DEとして341)

これらの%HをIたす78としてJKはLMN

ªみoはプロ
Dアルカリは

にUする

OPRHQRとLSTナトリウムUVWSPからU±した²Uはoスクラバーで³´U

QRとをXみYわせたプロセスLRH-SP QR±µ¶して·¸しU¡により¹ºを:­をZ'し*78の(を[\してきた®»で«¬bする*]ではパイロット^_`aによる POPs ./2などへの*Qの3bをcdに[\をお   ¼½に¾bしたはバッチµ¿v9À

こなってきたefを]gする¼½トリータビリティb50 kg バッチとは`a500 kg/d wx`a5 t /d wx`

RH-SP Qのプロセスhを１にiすaである それぞれのÁÂを１ ４にiす

RH-SP プロセスはMNOPRHQによるなお5 t /d wx`aはÃB1516!

のjklmおよびSTナトリウムUVWSP

Äª¯°ÅÆÇÄª¯°ÈのÉÊË^¯°ÌÍ78

QによるCガスnjoのjklmからpBされる

Z'ÎÏÐÑ°でZ'ÒÓÔしたものである

POPs にされた./q01やrsの2

とサンプリングおよびtu.などをMNOPvにwxyにz{し¼Õを 20 mm Öに×Øし¼½¼Õとしたcの POPs は|}~350600 でバッチ`aのÙYはµ¿v»へを`ÚのMNOPによりするされたはプロセスガスcにまれるためCガス１30

wx`aのし|}~でOPした
ÙYはあらかじめOPvをÛまでÜÛしておRHàSP QのプロセスのhÝÞソリューション7]

Vol. 3 No. 12006ß8
と

がjkあることがlmされた

を１にす 



ダイオキシン

opq#$データブックr4 s として2005

について ダイオキシン

よりにしたのることを!"として()をし#$の%&

'

ト



コンクリー

2 L のwxyz{を|してそのと*せて+,の-./345#$67をもちいた89}

コンクリート~などをむ ダイオキシン および890をおこなった
1はその2としてされたもので

3

tにuvされているはダイオキシンの15
を1は nWXにおける_`ダイオキシンkPCBの.をもちいて#$をした

5 t/d

ダイオキシン9ダイオキシン

57 000 pg-TEQ/g

PCB 

の#$をしたにもちいた-

; 3 400 mg/kg:;は 1 967 kg であったダイオキシンの<=>を#$した

は 99.9997 ?@Aがえられ

70 pg-TEQ/g となりGHIをたしたPCB についキシン9BCDガスEのダイオ
3
Nは0.00014F0.017ng-TEQ / m でG ダイオキシン





ダイオキシン9

B;はB0.0005 mg/L

PCB <=>も 99.7 ?であった   

2 L w x y z { に よ り PCB      9

YW()Z[\が]^なダイオキシン

19F26 mg/kgs を#$した_`#$()としてPCB 9

abcdのダイオキシ

: 360 kg をもちいて#$した
いIをし

１

#$_`

ダイオキシン9#$の PCB Bではいずれも 0.0001 mg/ Lとなった

は 1.6 pg-TEQ / g とefにg

50 kg バッチSにより PCB を 40 kg #ダイオキシンの<=>も 99.96F

99.998 ?をしたことから

は 0.0066 mg/ kg @J#$Eのは#$ 14 pg-TEQ/g @JとなったまたンWX_`をもちいて'をおこなったEのダイオキシン9は

sとなり

KLMNOPQRSTUVWX

15;10 mg/kgては

HI@JであったPCB B;0.0024 mg/ L の#$h>をAげるiP$した #$の PCB は 0.0038 mg/kg

2

!

:

8 9
ダイオキシン
ダイオキシン    WX_`

ダイオキシン
PCB 
コンクリート }~

PCB


BHC


PCB


 S  

5 t/d
345

5 t/d
345

2L
バッチ5

2L
バッチ5

50 kg
バッチ5

-  : ;

1 967 kg

360 kg0.75 kg

0.4 kg

40 kg

600 kg

80 kg

1 519 kg

65F100 kg /h

40 kg /h0.25 kg

0.1 kg

40 kg

20 kg/h

10 kg/h

50F100 kg/h





3 400

1.8F24

26



53



57 000

130

0.02F2.2

1 200



4.3F8.5



BHC 0.4F2 354
エンドリン 0.18
DDT 0.067

# $ 








32

PCB  ;
mg/kgs

ダイオキシン ;1 100F3 100 4 400F9 500
pg-TEQ /gs
そのの POPs ;mg /kgs
PCB  ;
mg/kgs
ダイオキシン ;pg-TEQ/gs
そのの POPs ;mg/kg)

500kg/d345
5 t/d
345





10

0.0014F0.0066

0.0038

0.0004



0F0.029

0.13F1.6

70

0.39F14

0.93

¡10

0.24





BHC ¡3.1¢10£4
エンドリン B
DDT ¡ 4¢10£5









ソリューションB

Vol. 3 No. 120068s

ダイオキシンは 0.93 pg-TEQ/g となった
ではPCB のは 0.0001mg/ L-

ガスの PCB はg/mで 0.53

TEQ/m をしび§をもちいたを¨£に©ªした

PCB の

キシンの

およびダイオであることを!"した«e POPs ]¬に%Vさ

これまでのの

ダイオキシンは 0.038ng3
N

すPOPs %V]の'()*としてのYZ[\ Na ¡¢£'(c7RH-SP c;について¤¥¦すがえられた
3
N

む

を

%&

れたRSのみならず­®や¯°の±¬にも5'(cのlbが²³であることをした
5プロセスは´µ[\¶·を¸bしこのは PCB #$%&'()*+,を-ける'(に¹º01172に)*+,を34

な»¼\oとは½¾にプロセスガスoをtyできした5は6PCB '()*ガイドブック78ることから'(ガスoを¹º¿ÀpにÁÂできるこ

9:;< に=>されている

と および  によりÄÅÆÇÈがÉºとなることからために./したもので
6;01172

?@ABCDEFGの?@BHIJ

KLMNOPCとして?@Q$のRSをもちいてBHC および PCB TU%VRSをWXしYZ[\'(により%V]を^_したのRSの$`abc
dをおこなったのeについて BHC TU%VRSを 4.3f8.5 mg/kg
gh 600 kg のiにjして RH-SP '(を./した
BHC はvwrs¤ÃへのÎÏもËÌにÀさいのがQÐであるしたがってtuもÀ¥でkむまたÃ'(エネルギー'()*であり'(Ñ 600 Ò

のrsにÓしい'(シス5©にÔべたように«e%VR

Sや±¬のに$`な'()*として)*+,をえてきた
5)*はいずれのでもvwrsへの~jÕのÖ×が!"され'(の!.に[えてØÙ

RSのeにかかわらずlm

も!Úされており.bレベルにあるといえるさらに)*にÛきをかけに'(できることを.nした
PCB %VRS 80 kg をもちいて'(をおこなった'(kRSからの PCB oは 0.0005

mg/ L7

pq;

でRSrsを

tuのvwrsxyの

たした

BHC およびPCB '(./zともに BHC  PCB 
ダイオキシンは{(|}あるいは5によるvwrsへの~は"められなかった
BHC および PCB '(kみRSととをgしてをおこなった
のにはられず

gも]

いずれの

'(kみRSがとして$`abできることを.nした



Êへの

いずれの'(kみRSからも

されず

をし

ÃoがËÌにÍなくテムとなっており

BHC %VRS'(については ?@Q$のRS 3にWXしまたÃ'(はスクラバー¶·を¸bすること rs011626POPs %VRS)*W<のrとして

_にtされた$

%VRSの RH-SP プロセスによる
をおこなった
1 519 kg のiをもちいて'(した'(k

みRSからのoは BHC が0.0006 mg/ L
DDT が 0.0004 mg/ L となり 7BHC : 0.0025 mg/ L
たした

Vol. 3 No. 1720068;rs{(|}

DDT  : 0.0125 mg/ L; をÜÝのごºÞにおßえできるようにしていくàáである
１;®âãäåPCB ダイオキシン%VRSæ'()*とPç rsHシンポジウム6リサイ
クルthと¡X)*< 9 6RS%VのとRSへの¡)*のlb<i 72004; p.42 49
２;À    ®âãäåYZ[\7RH SP;cによるダイオキシン%VRS'(rsソリューション)© Vol.2 No.172005;
p.36 42３;À  ®âãä 1 ®ågY
Z[\cによる±¬ダイオキシンの'(ヘドロ No.9672006; p.58 62
４;R¶u ¯° ¯)*WPàå¯°における±¬ダイオキシン¡ '()*データブック72005;
５;À  ®âãäåYZ[\cによる  PCB%VRS'( 15]HLM
72004; p.1328 1330
６;
c BC]'(PCDEå]'(c'(にづく PCB '()*ガイドブック78
9:;72005; p.584 585
７;©720062 7 25;
８;rså©i72005211 4 ;å60116
2 POPs %VRS)*W<j)*の+,æについてrsソリューション)©

33