Proceedings of the 25th Linear Accelerator Meeting in Japan (July 12-14, 2000, Himeji, Japan)[13P-10]ADVANCED COPPER LINING FOR ACCELERATOR COMPONENTSH. Ino*), K. Tajiri, Z. Kabeya, T. NakamuraA), Y. Yamanaka A),
K. Yoshino B), F. Naito B), T. Kato B), E. Takasaki B), and Y. Yamazaki B)
Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Nagoya Aerospace Systems
10, Oye-cho, Minato-ku, Nagoya 455-8515 JapanA)
Asahi Kinzoku Kogyo Co. Ltd.
4851-4, Maki, Anpachi-cho, Anpachi-gun, 503-0125 JapanB)
KEK-High Energy Accelerator Research Organization
1-1, Oho, Tsukuba, 305-0801 Japan
Abstract
We developed a pure copper lining process for RF cavities using a new copper electroforming, a periodic reverse copperelectroforming (PR process ) with a low Cu-content acid copper sulfate bath which contains no organic additives. The PRprocess offers pure copper that contains impurities less than 35 ppm or so, and that has equivalent IACS（InternationalAnnealed Copper Standard）value to that of oxygen-free copper. The lining process can be applied to complex accelerator
components such as hollow coils for quadruple magnet. We produced the trial model of DTL (drift tube linac) by using thisnew electroformed copper lining process and achieved high vacuum and excellent Q value.

革新的銅電鋳法の開発と加速器コンポーネントへの応用
１． 緒言
高い導電率、低いガス放出率、高い放電開始電圧等の物性が要求される加速空洞材料として、常温では通常高純度の無酸素銅を使用する。そこで電子リニアックでは純度が 4 ナイン以上の無酸素銅材から空洞を切削により製作する。一方、陽子リニアックでは加速周波数が低いため、空洞サイズが銅の無垢材では構造上の強度不足をまねく程度に大きくなる。従って、空洞の構造強度を他材に持たせ、内面を銅ライニングした加速空洞が用いられる事が多い。
加速器に良く使われる銅のライニング方法の一つとしては電鋳法があり、文部省高エネルギー加速器研究機構（ＫＥＫ）が建設中の大型ハドロン計画（ＪＨＦ）用リニアックに向けて開発した本電鋳法は、無酸素銅と同等の高純度な銅ライニングが可能な革新的銅電鋳法である。
２． 革新的銅電鋳法
2.1 銅電鋳の概要
電鋳とは、溶液中からの金属イオンの析出（電析）により、下地上に厚い金属の層を形成させる製法で、複雑な構造体を製造できる有用な技術である。メッキ技術の応用とも云えるが、メッキが数十ミクロンの厚みで、素材の表面を保護したり機能を付与したりするのに対し、電鋳は厚みがミリメートルのオーダーである点、及び単なる被覆ではなく、それ自体で独立した構造体になりうる点でメッキとは大きく異なる。加速器コンポーネントに適用される電鋳は、銅電鋳である。

2.2 従来の銅電鋳法
直流電流による通常の銅電析物は、成長とともに急速に結晶が粗大化して表面が粗くなり、気泡を巻き込んで多孔性になるなど緻密でなくなる。従来は、析出する金属結晶を微細化させる効果のある有機物（光沢剤）を電鋳液中に添加して電析物表面を平滑化させ、数ミリオーダーの電鋳層を形成させていた。しかし、この光沢剤の影響で電析物は、高温下でアウトガスとなる不純物（酸素、水素、炭素等）を含み、一般に硬くてもろくなり、また強度や伸びを一定値に制御するのが困難となる。従って、光沢剤法によって得られる銅電鋳は、厳密な強度要求のある部品や加工工程、また使用時に高温下に曝される部品には適用できない。
この光沢剤添加式銅電鋳法は高速電鋳に向く事から、我々は電子リニアックの加速管組立用として、空洞外面に施工している。しかし、ＫＥＫ／陽子シンクロトロン入射器のＤＴＬタンク及びドリフトチューブのような、運転負荷や電場が高くなる加速器の内表面へ適用するには、より高性能な銅電鋳のニーズがあった。
2.3 革新的銅電鋳法
従来のピロリン酸銅浴や光沢硫酸銅浴のように、添加剤を使用して平滑で緻密な電鋳面を得ていた方法に対し、我々は、電鋳時に印加する電圧（電流）の極性を周期的に反転（例えば正電圧印加 20 秒、負電圧印加 4 秒の交番電界）することによって、光沢剤を含まない酸性硫酸銅低濃度浴（硫酸銅 138〜148 g/l、硫酸 135〜145 g/l) から、*) H. Ino, 052-611-8180, hiroshi_ino@mx.nasw.mhi.co.jp−308−厚い緻密な銅電鋳層を得ることに成功した。正電圧印加
時に電析した銅の一部は、反転時に陽イオンとなって浴中へ溶解するが、この電析―溶解の繰り返しによって結晶の粗大化が防止され、微細な針状結晶又は柱状結晶の銅電鋳層が形成される。交番電界を用いることから本法はＰＲ（Periodic Reverse）法と呼ばれる。ＰＲ法によって得られる銅電鋳は、添加物が無いため無酸素銅並みに高純度であり、電子ビーム溶接やろう付けの施工も可能である。この銅電鋳は構造材として求められる優れた機械的性質（引張強さ 19.1〜30.9 ㎏/ｍ㎡、伸び 37.2〜61.5％）を有しており、電鋳液中の塩素イオン濃度を調整して電析物の結晶構造を制御することにより、所望の強度と伸びを得ることができる１）。
本電鋳法は、主に構造強度が要求されるＨ−Ⅱロケッ
トエンジン燃焼室の冷却溝形成に適用されてきた。しかし我々は更に、もう一つの優れた性質である無酸素銅並みの高純度という点に着目し、本電析物の不純物ガス放出が少ない事、高い導電率を持つ事、放電開始電圧が高い事を各試験により確認し、本電鋳法を加速器の主要構成部品に適用することに成功した。
３． 銅電鋳層のキャラクタリゼーション
3.1 導電率
銅電鋳方式として一般的な２方式（ピロリン酸銅浴、光沢硫酸銅浴）と本ＰＲ銅電鋳とで、試験片を作製し、導電率を比較測定した。導電率の測定には、IACS（International Annealed Copper Standard）の認定を受けた「基準軟銅」で較正した導電率計を使用した。これはプローブ先端のコイルに交流（100kHz）を流し、試験片側の渦電流で誘起される電圧を測定する方式である。無酸素銅材の導電率を示す際に良く用いられる IACS 値は、軟銅（ρ=1.72×10-6Ωcm）の導電率を 100%IACS として表わしたもので、加速器コンポーネントに使用される各材料メーカーの無酸素銅 class 1 は、通常、102 のカタログ値を載せている。
表１に測定結果を示す。不純物含有量が少ないＰＲ銅電鋳の試験片は 101.9 と高い値を示し、無酸素銅と同等な IACS 値を有することが示された。次に高い値を示したのがピロリン酸銅浴、次いで光沢硫酸銅浴の順である
が、電鋳法によりかなりの差があることが分かった。
表１ 電鋳銅の導電率測定結果
材料
製造元
IACS値
IACS基準軟銅−100.7
無酸素銅（FOFC）
古河電工
102.0
ＰＲ銅電鋳
旭金属工業
101.9
光沢硫酸銅電鋳
三菱重工業
76.8
ピロリン酸銅電鋳野村鍍金
80.1
3.2 実大空洞試験
ＰＲ銅電鋳のＪＨＦ／ＤＴＬへの適用性を見るために、ポート部を省略した実機大タンク（電鋳後寸法：内径φ560×Ｌ3,321mm）と端板を製作し、それぞれ内面0.5mm 厚の銅電鋳と電解研磨を実施後、Q 値測定および真空特性試験を行った。タンク素材は炭素鋼鍛造品（SF440A）であるが、電鋳時の欠陥となる ひけ巣 やブローホールを避けるため中空鍛造を行い、且つタンク内面に溶接ビードが極力でない設計とした。
電解研磨後タンクと端板を組み立て、Q 値測定を行った結果、
TM010 モードで計算値の約98%Q 値が得られた。
（更にその後製作したＪＨＦ／ＤＴＬホットモデルでは、ドリフトチューブやチューナー等を取付けた場合でも約95%の Q 値が得られた。
）
また真空排気試験では、残留ガスに重い成分は無く、主ピークは水であり、初回排気のみでガス放出率は 4×10–7 Pa･m3 ･sec-1･m-2 に達し、リニアックに要求される10-5Pa 台の真空度は十分に達成しうる見通しを得た。
3.3 放電特性試験
材料の加速器への適合性を調べる方法の１つとして、真空中での絶縁破壊特性を、表１に示した 3 種の銅電鋳法でそれぞれ作製した電極を用いて比較測定を行った。
電極は同形状の無酸素銅材の上に、それぞれ、0.5mm 厚の銅電鋳層を形成させたものである。
コンディショニングを模擬して、電界を徐々に上げながら、300MV/m 程度まで 500 回の繰り返し絶縁破壊試験を行った結果、初期の絶縁耐力がＰＲ法では他の約 2 倍であること、XPS（X-ray Photoelectron Spectroscopy）表面分析で、ＰＲ法でのみ絶縁破壊前の銅のピークが顕著であること等が確認された。この結果は、ＰＲ法による空洞では、コンディショニング時間を短縮できる事を予測させるものであり、事実、その後のＪＨＦ／ＤＴＬホットモデルでは極めて短時間（約半日）でフルパワー投入が可能となった。
詳しくは、本研究会 13P-22「電鋳法により形成した無酸素銅電極の放電特性」にて報告する。
４．加速器コンポーネントへの応用
ＰＲ法による銅電鋳は、ＫＥＫ／ＪＨＦリニアックでは、ＤＴＬ（Drift Tube Linac）とＳＤＴＬ（Separated DTL）の加速空洞タンク内面、及び加速電極であるドリフトチューブ（ＤＴ）表面の銅電鋳に適用されている。また、ＤＴＬのＤＴに内蔵される四重極電磁石用コイルの冷却溝形成にも適用されており、現在量産中である。
各製品の製造技術については、本研究会 13B-03「大型ハドロン計画におけるＰＲ銅電鋳法適用技術」にて詳しく報告する。
4.1 加速空洞
ＤＴＬのタンクは、内径 560mm、長さ 3.3m の鍛造鋼製で、大小様々な寸法のポートが 50 個所程度あり、その内、ステンレス鋼製フランジが付く大型ポートが 7 個所と、複雑な形状をしている。ポートも含めたタンク内表面全体には、厚さ 0.5mm 以上の銅電鋳層を形成することが必要とされる。また、この電鋳層は、ピットやボイド、割れ等の欠陥が無く、下地である鍛造鋼やステンレス鋼との密着性が強く、表面が鏡面状に平滑でなければならない。この仕様を満たすために、タンク内表面に、ＰＲ法で厚さ 1mm 以上の銅電鋳を施し、機械加工で所定の厚さまで切削した後、電解研磨を行って鏡面状の最終表面を得ている。
電界研磨処理を施した表面は、安定で緻密な酸化物層（高周波による誘導電流が流れるスキンデプスより十分に薄い）に覆われるため変色も無く、十分な水洗と乾燥のみで高真空域に達することが、実大タンクモデルおよびホットモデルで実証された。
4.2 ドリフトチューブ
ＤＴは外径 140mm、の円筒の中心に、陽子ビームの通るφ20mm 前後の穴があいたものをステムと呼ばれるφ34mm の支持棒でＤＴＬタンク上端より吊るす構造を持つ。今回の工事ではこのＤＴを約 150 個（円筒長さが 50〜165mm の間で全部異なる）製造する。全部品がステンレス鋼の溶接組立でできており、ビーム穴の内面を除いては、タンクと同様、厚さ 0.5mm 以上の銅電鋳層を表面に形成させる必要がある。
ＤＴは高電界がかかる加速用電極であるため、放電を起こさないよう滑らかなＲ仕上げをして、且つタンク以上に平滑な鏡面に仕上げなければならない。従って、1mm 以上の銅電鋳を施し、機械加工で所定の寸法まで切削されたＤＴは、機械研磨の後電解研磨を行う。電解研磨には、この際に銅電鋳層に埋め込まれた砥粒や、機械加工時の加工変質層を除去する効果もある。図１にタンクにＤＴを取付けたＤＴＬホットモデルの写真を示す。

な磁極に巻く際の曲げＲ制限等で、実際には余りコイル部の体積を減らせないため、ＤＴ小型化のためにはＲ部の無いコイルのニーズがあった。そこでロストワックス法を用いた銅電鋳により、中空溝を形成し、銅ブロック材からコイルを削り出しで製作した。図２に電鋳コイル（通称 栄コイル ）の外観を示す。接続端子をロウ付けするため、本コイルの銅電鋳層（1mm 厚）はロウ付け温度でも熱的に安定で、変形しない事が要求される。従って、銅電鋳は必然的にＰＲ法となる。

図２ 栄コイルの概観
本コイルの製造法は概略次のとおりである。コイル母材となる無酸素銅ブロックに、四重極電磁石の 1 ブロッ
ク毎、冷却溝となる貫通穴と溝を機械加工で螺旋上に連結させる。この溝内部にワックスを充填し、表面に金属粉をすり込んで導電性を与えた後、銅電鋳を施し、溝の蓋とする。温度を上げてワックスを抜けば銅ブロック内にコイルの中空部が形成されていることになる。後は冷却穴に沿って、不要な部分を削り出すと共にワイヤーカット等でコイル状に切り離していけば完成する。２）
４． 結言
熱負荷のかかる、複雑な銅構造体を形成する手法として適用されていたＰＲ銅電鋳法は、無酸素銅並みの高純度な銅電鋳層を作る手段でもあった。この点に着目した
我々は、前述したような基礎データを得るための特性試
験を経て、本電鋳法を高電界及び高真空環境下の加速器コンポーネントへ適用する事とした。その第１歩がＫＥ
Ｋ／ＪＨＦリニアックである。本電鋳法による電析物の優れた特性は、加速器本機のみならず、加速器周辺製品への幅広い適用が期待される。
参考文献

図１ 加速空洞とＤＴ（ホットモデル）[1] K.Tajiri et al., Controllable Copper Electroforming for
Mechanical Properties from Acid Copper Sulfate Bath, Abstracts

4.3 四重極電磁石用銅電鋳コイル
ＤＴの内部には、強力な四重極電磁石が封入されており、小型ではあるが約 1,000A の励磁電流を要する。従ってコイルにはホローコンダクターを使用したいが、小さof the 195th Meeting of the Electrochemical Society, (1999)
No.102[2] K.Tajiri et al., Coil, New Application of Electroforming,
AESF/SFSJ Advanced Surface Technology Forum, (1998) p.145