JP 2017-3989 A(57)【 要 約 】

2017.1.5（修正有）【課題】光硬化性に優れ、かつ、液晶汚染を抑制することができる液晶表示素子用シール剤、及び、該液晶表示素子用シール剤を用いてなる上下導通材料及び液晶表示素子を提供する。
【解決手段】硬化性樹脂と、光ラジカル重合開始剤とを含有する液晶表示素子用シール剤であって、光ラジカル重合開始剤は、特定の化学式で表される化合物を含有する液晶表示
素子用シール剤である。
【選択図】なし

(2)JP 2017-3989 A 2017.1.5【特許請求の範囲】【請求項１】
硬化性樹脂と、光ラジカル重合開始剤とを含有する液晶表示素子用シール剤であって、
前記光ラジカル重合開始剤は、下記式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする液晶表示素子用シール剤。
【化１】

式（１）中、Ｘは、水素、メチル基、又は、エチル基を表す。各Ｘは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【請求項２】
光ラジカル重合開始剤は、下記式（２）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子用シール剤。
【化２】【請求項３】
遮光剤を含有することを特徴とする請求項１又は２記載の液晶表示素子用シール剤。
【請求項４】
請求項１、２又は３記載の液晶表示素子用シール剤と、導電性微粒子とを含有することを特徴とする上下導通材料。
【請求項５】
請求項１、２若しくは３記載の液晶表示素子用シール剤又は請求項４記載の上下導通材料を有することを特徴とする液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】【技術分野】【０００１】
本発明は、光硬化性に優れ、かつ、液晶汚染を抑制することができる液晶表示素子用シー

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ル剤に関する。また、本発明は、該液晶表示素子用シール剤を用いてなる上下導通材料及び液晶表示素子に関する。
【背景技術】【０００２】
近年、液晶表示セル等の液晶表示素子の製造方法としては、タクトタイム短縮、使用液晶量の最適化といった観点から、特許文献１、特許文献２に開示されているような、硬化性
樹脂と光重合開始剤と熱硬化剤とを含有する光熱併用硬化型のシール剤を用いた滴下工法と呼ばれる液晶滴下方式が用いられている。
滴下工法では、まず、２枚の電極付き基板の一方に、ディスペンスにより長方形状のシー
ルパターンを形成する。次いで、シール剤が未硬化の状態で液晶の微小滴を基板のシール
枠内に滴下し、真空下で他方の基板を重ね合わせ、シール部に紫外線等の光を照射して仮硬化を行う。その後、加熱して本硬化を行い、液晶表示素子を作製する。現在この滴下工法が液晶表示素子の製造方法の主流となっている。
【０００３】
ところで、携帯電話、携帯ゲーム機等、各種液晶パネル付きモバイル機器が普及している
現代において、機器の小型化は最も求められている課題である。機器の小型化の手法としては、液晶表示部の狭額縁化が挙げられ、例えば、シール部の位置をブラックマトリック
ス下に配置することが行われている（以下、狭額縁設計ともいう）。
【０００４】
しかしながら、狭額縁設計ではシール剤がブラックマトリックスの直下に配置されるため、滴下工法を行うと、シール剤を光硬化させる際に照射した光が遮られ、シール剤の内部に光が到達し難く、従来のシール剤では硬化が不充分となる。このようにシール剤の硬化が不充分となると、未硬化のシール剤成分が液晶中に溶出して液晶汚染を発生させやすくなるという問題があった。
【先行技術文献】【特許文献】【０００５】【特許文献１】特開２００１−１３３７９４号公報【特許文献２】国際公開第０２／０９２７１８号【発明の概要】【発明が解決しようとする課題】【０００６】
本発明は、光硬化性に優れ、かつ、液晶汚染を抑制することができる液晶表示素子用シール剤を提供することを目的とする。また、本発明は、該液晶表示素子用シール剤を用いてなる上下導通材料及び液晶表示素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】【０００７】
本発明は、硬化性樹脂と、光ラジカル重合開始剤とを含有する液晶表示素子用シール剤であって、前記光ラジカル重合開始剤は、下記式（１）で表される化合物を含有する液晶表
示素子用シール剤である。
【０００８】

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JP 2017-3989 A 2017.1.5【化１】【０００９】
式（１）中、Ｘは、水素、メチル基、又は、エチル基を表す。各Ｘは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
以下に本発明を詳述する。
【００１０】
本発明者らは、驚くべきことに、特定の構造を有する化合物を光ラジカル重合開始剤として配合することにより、光硬化性に優れ、かつ、液晶汚染を抑制することができる液晶表
示素子用シール剤を得ることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１１】
本発明の液晶表示素子用シール剤は、光ラジカル重合開始剤を含有する。
上記光ラジカル重合開始剤は、上記式（１）で表される化合物を含有する。上記式（１）で表される化合物を光ラジカル重合開始剤として含有することにより、本発明の液晶表示素子用シール剤は、高感度で光硬化性（特に遮光部硬化性）に優れ、かつ、液晶汚染を抑制することができるものとなる。
【００１２】
上記光ラジカル重合開始剤は、上記式（１）で表される化合物として、下記式（２）で表される化合物を含有することが好ましい。下記式（２）で表される化合物を含有することにより、得られる液晶表示素子用シール剤が保存安定性により優れるものとなる。
【００１３】【化２】【００１４】
上記式（１）で表される化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ＰＢＧ−３０５（常州強力電子新材料社製）等が挙げられる。

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JP 2017-3989 A 2017.1.5【００１５】
上記式（１）で表される化合物の含有量は、硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましい
下限が０．１重量部、好ましい上限が８重量部である。上記式（１）で表される化合物の含有量が０．１重量部以上であることにより、得られる液晶表示素子用シール剤が光硬化性により優れるものとなる。上記式（１）で表される化合物の含有量が８重量部以下であることにより、得られる液晶表示素子用シール剤が、接着性及び低液晶汚染性により優れるものとなる。上記式（１）で表される化合物の含有量のより好ましい下限は０．５重量
部、より好ましい上限は５重量部である。
また、本発明の液晶表示素子用シール剤１００重量部中における上記式（１）で表される化合物の含有量の好ましい下限は０．１重量部、好ましい上限が６重量部である。上記式（１）で表される化合物の含有量が０．１重量部以上であることにより、得られる液晶表
示素子用シール剤が光硬化性により優れるものとなる。上記式（１）で表される化合物の含有量が６重量部以下であることにより、得られる液晶表示素子用シール剤が、接着性及び低液晶汚染性により優れるものとなる。上記式（１）で表される化合物の含有量のより好ましい下限は０．４重量部、より好ましい上限は４重量部、更に好ましい下限は１重量部、更に好ましい上限は３重量部である。
【００１６】
本発明の液晶表示素子用シール剤は、硬化性樹脂を含有する。
上記硬化性樹脂は、（メタ）アクリル化合物を含有することが好ましい。
上記（メタ）アクリル化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られる（メタ）アクリル酸エステル化合物、（メタ）アク
リル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシ（メタ）アクリレー
ト、イソシアネート化合物に水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。なかでも、エポキシ（メタ）アクリレートが好ましい。また、上記（メタ）アクリル化合物は、反応性の高さから分子中に（メタ）アクリロイル基を２個以上有するものが好ましい。
なお、本明細書において、上記「（メタ）アクリル」とは、アクリル又はメタクリルを意味し、上記「（メタ）アクリル化合物」とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基（以下、併せて「（メタ）アクリロイル基」ともいう）を有する化合物を意味する。また、上記「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。更に、
上記「エポキシ（メタ）アクリレート」とは、エポキシ化合物中の全てのエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させた化合物のことを表す。
【００１７】
上記（メタ）アクリル酸エステル化合物のうち単官能のものとしては、例えば、メチル（
メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリ
レート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、イソデ
シル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）ア
クリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）ア
クリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ビシクロペンテニル（メタ）アクリレー
ト、ベンジル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エ
トキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレー
ト、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリ
コール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレ
ート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラ

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フルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（
メタ）アクリレート、イミド（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシ
エチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチル２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−（メタ）アクリロ
イロキシエチルホスフェート、グリシジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００１８】
また、上記（メタ）アクリル酸エステル化合物のうち２官能のものとしては、例えば、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオール
ジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テ
トラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリ
レート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチ
レンオキシド付加ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペン
タジエニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジ（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、カーボネートジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエステルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリカプロラクトンジオ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリブタジエンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００１９】
また、上記（メタ）アクリル酸エステル化合物のうち３官能以上のものとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加トリメチロールプロパ
ントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、グリセ
リントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加グリセリントリ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリロイル
オキシエチルフォスフェート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２０】
上記エポキシ（メタ）アクリレートとしては、例えば、エポキシ化合物と（メタ）アクリ
ル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得られるもの等が挙げられる。
【００２１】
上記エポキシ（メタ）アクリレートを合成するための原料となるエポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、ビスフェノールＳ型エポキシ化合物、２，２＇−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ化合物、水添ビスフェノール型エポキシ化合物、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型
エポキシ化合物、レゾルシノール型エポキシ化合物、ビフェニル型エポキシ化合物、スル
フィド型エポキシ化合物、ジフェニルエーテル型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、ナフタレン型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、オルトクレゾールノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型

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エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、ナフタレンフェノールノボラ
ック型エポキシ化合物、グリシジルアミン型エポキシ化合物、アルキルポリオール型エポキシ化合物、ゴム変性型エポキシ化合物、グリシジルエステル化合物等が挙げられる。
【００２２】
上記ビスフェノールＡ型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ｊＥＲ８２８ＥＬ、ｊＥＲ１００４（いずれも三菱化学社製）、エピクロン８５０ＣＲＰ（
ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記ビスフェノールＦ型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ｊＥＲ８０６、ｊＥＲ４００４（いずれも三菱化学社製）等が挙げられる。
上記ビスフェノールＳ型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＥＸＡ１５１４（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記２，２＇−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬社製）等が挙げられる。
上記水添ビスフェノール型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＥＸＡ７０１５（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ＥＰ−４０００Ｓ（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
上記レゾルシノール型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ＥＸ−２０１（ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
上記ビフェニル型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ｊＥＲ
ＹＸ−４０００Ｈ（三菱化学社製）等が挙げられる。
上記スルフィド型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ＹＳＬＶ−５０ＴＥ（新日鉄住金化学社製）等が挙げられる。
上記ジフェニルエーテル型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、
ＹＳＬＶ−８０ＤＥ（新日鉄住金化学社製）等が挙げられる。
上記ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ＥＰ−４０８８Ｓ（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
上記ナフタレン型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロ
ンＨＰ４０３２、エピクロンＥＸＡ−４７００（いずれもＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記フェノールノボラック型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＮ−７７０（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記オルトクレゾールノボラック型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、
例えば、エピクロンＮ−６７０−ＥＸＰ−Ｓ（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＨＰ７２００（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記ビフェニルノボラック型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬社製）等が挙げられる。
上記ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ＥＳＮ−１６５Ｓ（新日鉄住金化学社製）等が挙げられる。
上記グリシジルアミン型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ｊＥＲ６３０（三菱化学社製）、エピクロン４３０（ＤＩＣ社製）、ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ（三菱ガス化学社製）等が挙げられる。
上記アルキルポリオール型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、
ＺＸ−１５４２（新日鉄住金化学社製）、エピクロン７２６（ＤＩＣ社製）、エポライト
８０ＭＦＡ（共栄社化学社製）、デナコールＥＸ−６１１（ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
上記ゴム変性型エポキシ化合物のうち市販されているものとしては、例えば、ＹＲ−４５
０、ＹＲ−２０７（いずれも新日鉄住金化学社製）、エポリードＰＢ（ダイセル社製）等が挙げられる。
上記グリシジルエステル化合物のうち市販されているものとしては、例えば、デナコール

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ＥＸ−１４７（ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
上記エポキシ化合物のうちその他に市販されているものとしては、例えば、ＹＤＣ−１３
１２、ＹＳＬＶ−８０ＸＹ、ＹＳＬＶ−９０ＣＲ（いずれも新日鉄住金化学社製）、ＸＡ
Ｃ４１５１（旭化成社製）、ｊＥＲ１０３１、ｊＥＲ１０３２（いずれも三菱化学社製）、ＥＸＡ−７１２０（ＤＩＣ社製）、ＴＥＰＩＣ（日産化学社製）等が挙げられる。
【００２３】
上記エポキシ（メタ）アクリレートのうち市販されているものとしては、例えば、ＥＢＥ
ＣＲＹＬ８６０、ＥＢＥＣＲＹＬ３２００、ＥＢＥＣＲＹＬ３２０１、ＥＢＥＣＲＹＬ３
４１２、ＥＢＥＣＲＹＬ３６００、ＥＢＥＣＲＹＬ３７００、ＥＢＥＣＲＹＬ３７０１、
ＥＢＥＣＲＹＬ３７０２、ＥＢＥＣＲＹＬ３７０３、ＥＢＥＣＲＹＬ３８００、ＥＢＥＣ
ＲＹＬ６０４０、ＥＢＥＣＲＹＬＲＤＸ６３１８２（いずれもダイセル・オルネクス社製）、ＥＡ−１０１０、ＥＡ−１０２０、ＥＡ−５３２３、ＥＡ−５５２０、ＥＡ−ＣＨＤ、ＥＭＡ−１０２０（いずれも新中村化学工業社製）、エポキシエステルＭ−６００Ａ、エポキシエステル４０ＥＭ、エポキシエステル７０ＰＡ、エポキシエステル２００ＰＡ、エポキシエステル８０ＭＦＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、エポキシエステル３００２
Ａ、エポキシエステル１６００Ａ、エポキシエステル３０００Ｍ、エポキシエステル３０
００Ａ、エポキシエステル２００ＥＡ、エポキシエステル４００ＥＡ（いずれも共栄社化
学社製）、デナコールアクリレートＤＡ−１４１、デナコールアクリレートＤＡ−３１４、デナコールアクリレートＤＡ−９１１（いずれもナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
【００２４】
上記イソシアネート化合物に水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、２つのイソシアネート基を有するイソシアネート化合物１当量に対して水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体２当量を、触媒量のスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。
【００２５】
上記ウレタン（メタ）アクリレートの原料となるイソシアネート化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレン
ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソ
シアネート、ジフェニルメタン−４，４＇−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、水添ＭＤＩ、
ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネ
ート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、水添ＸＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシア
ネートフェニル）チオフォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，６，１１−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。
【００２６】
また、上記ウレタン（メタ）アクリレートの原料となるイソシアネート化合物としては、
例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリ
メチロールプロパン、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオ
ール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネート化合物との反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も使用することができる。
【００２７】
上記ウレタン（メタ）アクリレートの原料となる、水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロ
キシブチル（メタ）アクリレート等の市販品や、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、
ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ（メタ）アクリレートや、トリメチ
ロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノ（メタ）アクリレート又はジ（メタ）アクリレートや、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレー

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ト等のエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２８】
上記ウレタン（メタ）アクリレートのうち市販されているものとしては、例えば、Ｍ−１
１００、Ｍ−１２００、Ｍ−１２１０、Ｍ−１６００（いずれも東亞合成社製）、ＥＢＥ
ＣＲＹＬ２１０、ＥＢＥＣＲＹＬ２２０、ＥＢＥＣＲＹＬ２３０、ＥＢＥＣＲＹＬ２７０、ＥＢＥＣＲＹＬ１２９０、ＥＢＥＣＲＹＬ２２２０、ＥＢＥＣＲＹＬ４８２７、ＥＢＥ
ＣＲＹＬ４８４２、ＥＢＥＣＲＹＬ４８５８、ＥＢＥＣＲＹＬ５１２９、ＥＢＥＣＲＹＬ
６７００、ＥＢＥＣＲＹＬ８４０２、ＥＢＥＣＲＹＬ８８０３、ＥＢＥＣＲＹＬ８８０４、ＥＢＥＣＲＹＬ８８０７、ＥＢＥＣＲＹＬ９２６０（いずれもダイセル・オルネクス社
製）、アートレジンＵＮ−３３０、アートレジンＳＨ−５００Ｂ、アートレジンＵＮ−１
２００ＴＰＫ、アートレジンＵＮ−１２５５、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＢ、アート
レジンＵＮ−７１００、アートレジンＵＮ−９０００Ａ、アートレジンＵＮ−９０００Ｈ（いずれも根上工業社製）、Ｕ−２ＨＡ、Ｕ−２ＰＨＡ、Ｕ−３ＨＡ、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−
６Ｈ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１０Ｈ、Ｕ−１５ＨＡ、Ｕ−１０８、Ｕ−１０８
Ａ、Ｕ−１２２Ａ、Ｕ−１２２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ、Ｕ−３４０Ａ、Ｕ−３４０Ｐ、Ｕ−１
０８４Ａ、Ｕ−２０６１ＢＡ、ＵＡ−３４０Ｐ、ＵＡ−４０００、ＵＡ−４１００、ＵＡ−４２００、ＵＡ−４４００、ＵＡ−５２０１Ｐ、ＵＡ−７１００、ＵＡ−７２００、Ｕ
Ａ−Ｗ２Ａ（いずれも新中村化学工業社製）、ＡＨ−６００、ＡＩ−６００、ＡＴ−６０
０、ＵＡ−１０１Ｉ、ＵＡ−１０１Ｔ、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＵＡ−３０６
Ｔ（いずれも共栄社化学社製）等が挙げられる。
【００２９】
上記硬化性樹脂は、得られる液晶表示素子用シール剤の接着性を向上させることを目的として、更に、エポキシ化合物を含有することが好ましい。上記エポキシ化合物としては、
例えば、上記エポキシ（メタ）アクリレートを合成するための原料となるエポキシ化合物
や、部分（メタ）アクリル変性エポキシ化合物等が挙げられる。
なお、本明細書において上記部分（メタ）アクリル変性エポキシ化合物とは、１分子中にエポキシ基と（メタ）アクリロイル基とをそれぞれ１つ以上有する化合物を意味し、例えば、１分子中に２つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物の一部分のエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させることによって得ることができる。
【００３０】
本発明の液晶表示素子用シール剤が上記エポキシ化合物を含有する場合、（メタ）アクリ
ロイル基とエポキシ基との比が３０：７０〜９５：５になるように上記（メタ）アクリル
化合物と上記エポキシ化合物とを配合することが好ましい。（メタ）アクリロイル基の比率が３０％以上であることにより、得られる液晶表示素子用シール剤が低液晶汚染性により優れるものとなる。（メタ）アクリロイル基の比率が９５％以下であることにより、得られる液晶表示素子用シール剤が接着性により優れるものとなる。
【００３１】
上記硬化性樹脂は、液晶汚染を抑える点で、−ＯＨ基、−ＮＨ−基、−ＮＨ２基等の水素結合性のユニットを有するものが好ましい。
【００３２】
本発明の液晶表示素子用シール剤は、熱ラジカル重合開始剤を含有してもよい。
上記熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、アゾ化合物、有機過酸化物等からなるものが挙げられる。なかでも、高分子アゾ化合物からなる開始剤（以下、「高分子アゾ開始剤」ともいう）が好ましい。
なお、本明細書において高分子アゾ開始剤とは、アゾ基を有し、熱によって（メタ）アクリロイル基を硬化させることができるラジカルを生成する、数平均分子量が３００以上の化合物を意味する。
【００３３】
上記高分子アゾ開始剤の数平均分子量の好ましい下限は１０００、好ましい上限は３０万である。上記高分子アゾ開始剤の数平均分子量がこの範囲であることにより、液晶への悪

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影響を防止しつつ、硬化性樹脂へより容易に混合することができる。上記高分子アゾ開始剤の数平均分子量のより好ましい下限は５０００、より好ましい上限は１０万であり、更に好ましい下限は１万、更に好ましい上限は９万である。
なお、本明細書において、上記数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定を行い、ポリスチレン換算により求められる値である。ＧＰＣによってポリスチレン換算による数平均分子量を測定する際のカラムとしては、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＬＦ−８０４（昭和電工社製）等が挙げられる。
【００３４】
上記高分子アゾ開始剤としては、例えば、アゾ基を介してポリアルキレンオキサイドやポ
リジメチルシロキサン等のユニットが複数結合した構造を有するものが挙げられる。
上記アゾ基を介してポリアルキレンオキサイド等のユニットが複数結合した構造を有する
高分子アゾ開始剤としては、ポリエチレンオキサイド構造を有するものが好ましい。このような高分子アゾ開始剤としては、例えば、４，４＇−アゾビス（４−シアノペンタン酸）とポリアルキレングリコールの重縮合物や、４，４＇−アゾビス（４−シアノペンタン酸）と末端アミノ基を有するポリジメチルシロキサンの重縮合物等が挙げられ、具体的には例えば、ＶＰＥ−０２０１、ＶＰＥ−０４０１、ＶＰＥ−０６０１、ＶＰＳ−０５０１、ＶＰＳ−１００１（いずれも和光純薬工業社製）等が挙げられる。
また、高分子ではないアゾ化合物の例としては、Ｖ−６５、Ｖ−５０１（いずれも和光純
薬工業社製）等が挙げられる。
【００３５】
上記有機過酸化物としては、例えば、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、パーオキシエステル、ジアシルパーオ
キサイド、パーオキシジカーボネート等が挙げられる。
【００３６】
上記熱ラジカル重合開始剤の含有量は、上記硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましい
下限が０．０５重量部、好ましい上限が１０重量部である。上記熱ラジカル重合開始剤の含有量がこの範囲であることにより、未反応の熱ラジカル重合開始剤による液晶汚染を抑制しつつ、得られる液晶表示素子用シール剤が熱硬化性により優れるものとなる。上記熱ラジカル重合開始剤の含有量のより好ましい下限は０．１重量部、より好ましい上限は５重量部である。
【００３７】
本発明の液晶表示素子用シール剤は、熱硬化剤を含有することが好ましい。
上記熱硬化剤としては、例えば、有機酸ヒドラジド、イミダゾール誘導体、アミン化合物、多価フェノール系化合物、酸無水物等が挙げられる。なかでも、有機酸ヒドラジドが好適に用いられる。
【００３８】
上記有機酸ヒドラジドとしては、例えば、セバシン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒド
ラジド、アジピン酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド等が挙げられる。
上記有機酸ヒドラジドのうち市販されているものとしては、例えば、ＳＤＨ、ＡＤＨ（いずれも大塚化学社製）、アミキュアＶＤＨ、アミキュアＶＤＨ−Ｊ、アミキュアＵＤＨ、アミキュアＵＤＨ−Ｊ（いずれも味の素ファインテクノ社製）等が挙げられる。
【００３９】
上記熱硬化剤の含有量は、上記硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましい下限が１重量部、好ましい上限が５０重量部である。上記熱硬化剤の含有量が１重量部以上であること
により、得られる液晶表示素子用シール剤が熱硬化性により優れるものとなる。上記熱硬化剤の含有量が５０重量部以下であることにより、得られる液晶表示素子用シール剤の粘度が高くなりすぎず、塗布性により優れるものとなる。上記熱硬化剤の含有量のより好ましい上限は３０重量部である。
【００４０】
本発明の液晶表示素子用シール剤は、粘度の向上、応力分散効果による接着性の改善、線

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膨張率の改善、硬化物の耐湿性の更なる向上等を目的として充填剤を含有することが好ましい。
【００４１】
上記充填剤としては、例えば、タルク、石綿、シリカ、珪藻土、スメクタイト、ベントナ
イト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、アルミナ、モンモリロナイト、酸化亜鉛、酸
化鉄、酸化マグネシウム、酸化錫、酸化チタン、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウ
ム、ガラスビーズ、窒化珪素、硫酸バリウム、石膏、珪酸カルシウム、セリサイト、活性白土、窒化アルミニウム等の無機充填剤や、ポリエステル微粒子、ポリウレタン微粒子、ビニル重合体微粒子、アクリル重合体微粒子等の有機充填剤が挙げられる。これらの充填剤は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４２】
本発明の液晶表示素子用シール剤１００重量部中における上記充填剤の含有量の好ましい
下限は１０重量部、好ましい上限は７０重量部である。上記充填剤の含有量が１０重量部以上であることにより、接着性の改善等の効果により優れるものとなる。上記充填剤の含有量が７０重量部以下であることにより、得られる液晶表示素子用シール剤の粘度が高くなり過ぎず、塗布性により優れるものとなる。上記充填剤の含有量のより好ましい下限は２０重量部、より好ましい上限は６０重量部である。
【００４３】
本発明の液晶表示素子用シール剤は、シランカップリング剤を含有することが好ましい。
上記シランカップリング剤は、主にシール剤と基板等とを良好に接着するための接着助剤としての役割を有する。
【００４４】
上記シランカップリング剤としては、基板等との接着性を向上させる効果に優れ、硬化性
樹脂と化学結合することにより液晶中への硬化性樹脂の流出を抑制することができることから、例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロ
ピルトリメトキシシラン等が好適に用いられる。これらのシランカップリング剤は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４５】
本発明の液晶表示素子用シール剤１００重量部中における上記シランカップリング剤の含有量の好ましい下限は０．１重量部、好ましい上限は１０重量部である。上記シランカッ
プリング剤の含有量がこの範囲であることにより、液晶汚染の発生を抑制しつつ、接着性を向上させる効果により優れるものとなる。上記シランカップリング剤の含有量のより好ましい下限は０．３重量部、より好ましい上限は５重量部である。
【００４６】
本発明の液晶表示素子用シール剤は、遮光剤を含有してもよい。上記遮光剤を含有することにより、本発明の液晶表示素子用シール剤は、遮光シール剤として好適に用いることができる。
【００４７】
上記遮光剤としては、例えば、酸化鉄、チタンブラック、アニリンブラック、シアニンブ
ラック、フラーレン、カーボンブラック、樹脂被覆型カーボンブラック等が挙げられる。
なかでも、チタンブラックが好ましい。
【００４８】
上記チタンブラックは、波長３００〜８００ｎｍの光に対する平均透過率と比較して、紫
外線領域付近、特に波長３７０〜４５０ｎｍの光に対する透過率が高くなる物質である。
即ち、上記チタンブラックは、可視光領域の波長の光を充分に遮蔽することで本発明の液晶表示素子用シール剤に遮光性を付与する一方、紫外線領域付近の波長の光は透過させる
性質を有する遮光剤である。本発明の液晶表示素子用シール剤に含有される遮光剤としては、絶縁性の高い物質が好ましく、絶縁性の高い遮光剤としてもチタンブラックが好適で
ある。

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JP 2017-3989 A 2017.1.5【００４９】
上記チタンブラックは、表面処理されていないものでも充分な効果を発揮するが、表面がカップリング剤等の有機成分で処理されているものや、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲ
ルマニウム、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等の無機成分で被覆されているもの等、表面処理されたチタンブラックを用いることもできる。なかでも、有機成分で処理されているものは、より絶縁性を向上できる点で好ましい。
また、遮光剤として上記チタンブラックを含有する本発明の液晶表示素子用シール剤を用いて製造した液晶表示素子は、充分な遮光性を有するため、光の漏れ出しがなく高いコン
トラストを有し、優れた画像表示品質を有する液晶表示素子を実現することができる。
【００５０】
上記チタンブラックのうち市販されているものとしては、例えば、１２Ｓ、１３Ｍ、１３
Ｍ−Ｃ、１３Ｒ−Ｎ、１４Ｍ−Ｃ（いずれも三菱マテリアル社製）、ティラックＤ（赤穂化成社製）等が挙げられる。
【００５１】
２
２
上記チタンブラックの比表面積の好ましい下限は１３ｍ ／ｇ、好ましい上限は３０ｍ２２／ｇであり、より好ましい下限は１５ｍ ／ｇ、より好ましい上限は２５ｍ ／ｇである。
また、上記チタンブラックの体積抵抗の好ましい下限は０．５Ω・ｃｍ、好ましい上限は
３Ω・ｃｍであり、より好ましい下限は１Ω・ｃｍ、より好ましい上限は２．５Ω・ｃｍである。
【００５２】
上記遮光剤の一次粒子径は、液晶表示素子の基板間の距離以下であれば特に限定されないが、好ましい下限は１ｎｍ、好ましい上限は５０００ｎｍである。上記遮光剤の一次粒子径がこの範囲であることにより、得られる液晶表示素子用シール剤の塗布性等を悪化させることなく遮光性により優れるものとすることができる。上記遮光剤の一次粒子径のより好ましい下限は５ｎｍ、より好ましい上限は２００ｎｍ、更に好ましい下限は１０ｎｍ、更に好ましい上限は１００ｎｍである。
なお、上記遮光剤の一次粒子径は、ＮＩＣＯＭＰ ３８０ＺＬＳ（ＰＡＲＴＩＣＬＥ Ｓ
ＩＺＩＮＧ ＳＹＳＴＥＭＳ社製）を用いて、上記遮光剤を溶媒（水、有機溶媒等）に分散させて測定することができる。
【００５３】
本発明の液晶表示素子用シール剤１００重量部中における上記遮光剤の含有量の好ましい
下限は５重量部、好ましい上限は８０重量部である。上記遮光剤の含有量が５重量部以上であることにより、得られる液晶表示素子用シール剤が遮光性により優れるものとなる。
上記遮光剤の含有量が８０重量部以下であることにより、得られる液晶表示素子用シール剤が、基板に対する密着性、硬化後の強度、及び、描画性により優れるものとなる。上記
遮光剤の含有量のより好ましい下限は１０重量部、より好ましい上限は７０重量部であり、更に好ましい下限は３０重量部、更に好ましい上限は６０重量部である。
【００５４】
本発明の液晶表示素子用シール剤を製造する方法としては、例えば、ホモディスパー、ホモミキサー、万能ミキサー、プラネタリーミキサー、ニーダー、３本ロール等の混合機を用いて、硬化性樹脂と、光ラジカル重合開始剤と、必要に応じて添加するシランカップリ
ング剤等の添加剤とを混合する方法等が挙げられる。
【００５５】
本発明の液晶表示素子用シール剤は、Ｅ型粘度計を用いて２５℃、１ｒｐｍの条件で測定した粘度の好ましい下限が１０万ｍＰａ・ｓ、好ましい上限が６０万ｍＰａ・ｓである。
上記粘度がこの範囲であることにより、得られる液晶表示素子用シール剤が塗布性に優れるものとなる。上記粘度のより好ましい下限は１５万ｍＰａ・ｓ、より好ましい上限は４５万ｍＰａ・ｓである。
【００５６】

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本発明の液晶表示素子用シール剤に、導電性微粒子を配合することにより、上下導通材料を製造することができる。このような本発明の液晶表示素子用シール剤と導電性微粒子とを含有する上下導通材料もまた、本発明の１つである。
【００５７】
上記導電性微粒子としては、金属ボール、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したもの等を用いることができる。なかでも、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したものは、樹脂微粒子の優れた弾性により、透明基板等を損傷することなく導電接続が可能であることから好適である。
【００５８】
本発明の液晶表示素子用シール剤、又は、本発明の上下導通材料を有する液晶表示素子もまた、本発明の１つである。
【００５９】
本発明の液晶表示素子を製造する方法としては、液晶滴下工法が好適に用いられる。具体的には例えば、ＩＴＯ薄膜等の電極付きのガラス基板やポリエチレンテレフタレート基板
等の２枚の基板の一方に、本発明の液晶表示素子用シール剤等を、スクリーン印刷、ディスペンサー塗布等により塗布して枠状のシールパターンを形成する工程、本発明の液晶表
示素子用シール剤等が未硬化の状態で液晶の微小滴を基板のシールパターンの枠内に滴下塗布し、真空下で別の基板を重ね合わせる工程、及び、本発明の液晶表示素子用シール剤
等のシールパターン部分に紫外線等の光を照射してシール剤を仮硬化させる工程、及び、
仮硬化させたシール剤を加熱して本硬化させる工程を有する方法等が挙げられる。
【発明の効果】【００６０】
本発明によれば、光硬化性に優れ、かつ、液晶汚染を抑制することができる液晶表示素子
用シール剤を提供することができる。また、本発明によれば、該液晶表示素子用シール剤
を用いてなる上下導通材料及び液晶表示素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】【００６１】【図１】遮光部硬化性の評価方法を説明する模式図である。
【発明を実施するための形態】【００６２】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。
【００６３】（実施例１〜４、比較例１〜３）
表１に記載された配合比に従い、各材料を、遊星式撹拌機（シンキー社製、「あわとり練太郎」）を用いて混合した後、更に３本ロールを用いて混合することにより実施例１〜４、比較例１〜３の各液晶表示素子用シール剤を調製した。
【００６４】＜評価＞
実施例及び比較例で得られた各液晶表示素子用シール剤について以下の評価を行った。結果を表１に示した。
【００６５】（光硬化性）
実施例及び比較例で得られた各液晶表示素子用シール剤１００重量部にスペーサ微粒子（
積水化学工業社製、「ミクロパールＳＩ−Ｈ０５０」）１重量部を分散させたものをガラ
ス基板上に塗布し、その基板に同サイズのガラス基板を重ね合わせ、次に、メタルハライ
２
ドランプを用いて波長３８０ｎｍの光を照射量が１０００ｍＪ／ｃｍ となるように照射し、光硬化性試験片を作製した。光照射はカットフィルタ無しの場合と３８０ｎｍ以下カットフィルタ有りの場合の２パターンを行い、それぞれについて３枚の試験片を作製した。赤外分光装置（ＢＩＯＲＡＤ社製、「ＦＴＳ３０００」）を用い、８１５〜８００ｃｍ

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JP 2017-3989 A 2017.1.5−１のピーク面積をアクリロイル基由来のピーク面積とし、アクリロイル基由来のピーク
面積の光照射前後での変化量を測定することで光硬化性の評価を行った。アクリロイル基−１由来のピーク面積は、８４５〜８２０ｃｍのピーク面積をリファレンスピーク面積として導出した。光照射後にアクリロイル基由来のピーク面積が９０％以上減少した場合を「◎」、光照射後にアクリロイル基由来のピーク面積が８０％以上９０％未満減少した場
合を「○」、光照射後にアクリロイル基由来のピーク面積が７０％以上８０％未満減少した場合を「△」、光照射後のアクリロイル基由来のピーク面積の減少が７０％未満であった場合を「×」として光硬化性を評価した。
なお、アクリロイル基由来のピーク面積の光照射前後での変化量は、３枚の試験片から得られた平均値を取った。
【００６６】（液晶表示素子の表示性能）
実施例及び比較例で得られた各液晶表示素子用シール剤１００重量部にスペーサ微粒子（
積水化学工業社製、「ミクロパールＳＩ−Ｈ０５０」）１重量部を分散させた後、２枚のラビング済み配向膜及び透明電極付き基板の一方に、線幅が１ｍｍの枠状になるようにディスペンサーで塗布した。
続いて液晶（チッソ社製、「ＪＣ−５００４ＬＡ」）の微小滴を透明電極付き基板のシール剤の枠内全面に滴下塗布し、すぐにもう一方の透明電極付き基板を貼り合わせ、シール剤部分にメタルハライドランプを用いて波長３８０ｎｍの光を照射量が１０００ｍＪ／ｃ
２ｍ となるように照射してシール剤を硬化させ、更に、１２０℃で１時間加熱して液晶表示素子を得た。光照射はカットフィルタ無しの場合と３８０ｎｍ以下カットフィルタ有りの場合の２パターンを行い、それぞれについて３枚の液晶表示素子を作製した。
得られた液晶表示素子について、６０℃で１０００時間電圧印加状態とした後のシール剤
付近の液晶汚染を目視によって確認した。
液晶汚染は、３枚の液晶表示素子の色むらにより判断しており、色むらの程度に応じて、全ての液晶表示素子について色むらが全くなかった場合を「◎」、少なくとも１枚の液晶表示素子に色むらが微かにあった場合を「○」、少なくとも１枚の液晶表示素子に色むらが少しあった場合を「△」、少なくとも１枚の液晶表示素子に色むらがかなりあった場合を「×」として液晶表示素子の表示性能を評価した。
なお、評価が「◎」、「○」の液晶表示素子は実用に全く問題のないレベルである。
【００６７】（遮光部硬化性）
実施例及び比較例で得られた各液晶表示素子用シール剤の遮光部硬化性を、以下に示すよ
うに各測定点のアクリロイル基の転化率を測定することにより評価した。図１は、遮光部硬化性の評価方法を説明する模式図である。
コーニング社製のガラス（長さ３０ｍｍ、幅３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）の片面の半分をクロム蒸着した基板１と、片面の全体をクロム蒸着した基板２とをそれぞれ準備した（図１（ａ））。基板１のクロム蒸着した面側の中央部に、実施例及び比較例で得られた各液晶表示素子用シール剤に５μｍのポリマービーズを１重量％添加した組成物をそれぞれ２０ｍｇ塗布し、基板１の各組成物を塗布した面側と、基板２のクロム蒸着した面側とを重ね合わせてから充分に押しつぶした（図１（ｂ））。
次に、重ね合わせた基板に、基板１面側からメタルハライドランプを用いて１００ｍＷ／
２ｃｍ の紫外線を３０秒照射した。カッターを用いて基板１、２を剥がし、顕微ＩＲ法によって紫外線直接照射部（場所Ａ）、紫外線直接照射部の際から遮光部側へ２５μｍ離れた点（場所Ｂ）、及び、紫外線直接照射部の際から遮光部側へ５０μｍ離れた点（場所Ｃ）上のシール剤（図１（ｃ））について、赤外分光装置（ＢＩＯＲＡＤ社製、「ＦＴＳ３−１０００」）を用いてアクリロイル基由来のピークを確認した。８１５〜８００ｃｍの−１
ピーク面積をアクリロイル基由来のピーク面積とし、８４５〜８２０ｃｍのピーク面積をリファレンスピーク面積として、下記式によりアクリロイル基の転化率を算出した。
アクリロイル基の転化率が７５％以上であった場合を「◎」、６０％以上７５％未満であ

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った場合を「○」、５０％以上６０％未満であった場合を「△」、５０％未満であった場合を「×」として遮光部硬化性を評価した。
アクリロイル基の転化率（％）＝１００×（１−（紫外線照射後のアクリロイル基由来のピーク面積／紫外線照射後のリファレンスピーク面積）／（紫外線未照射でのアクリロイ
ル基由来のピーク面積／紫外線未照射でのリファレンスピーク面積））【００６８】

(16)JP 2017-3989 A 2017.1.5【表１】【産業上の利用可能性】【００６９】
本発明によれば、光硬化性に優れ、かつ、液晶汚染を抑制することができる液晶表示素子

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用シール剤を提供することができる。また、本発明によれば、該液晶表示素子用シール剤
を用いてなる上下導通材料及び液晶表示素子を提供することができる。
【符号の説明】【００７０】
１
片面半分をクロム蒸着した基板
１１ クロム蒸着部
２
片面全体をクロム蒸着した基板
２１ クロム蒸着部
３
場所Ａ
４
場所Ｂ
５
場所Ｃ

【図１】

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フロントページの続き(51)Int.Cl.

ＦＩ

テーマコード（参考）Ｃ０８Ｆ

Ｆターム(参考) 4H017 AA04

AA24

2/44

Ｃ０８Ｇ

59/20

Ｃ０８Ｆ

299/00Ｃ

AA27 AA31

AC03

AC07

AC08

AD06

AE05

4J011 PA86 PB39

PC02

PC08

QB20

SA61

UA01

VA01

WA06

4J036 AD08 DC35

EA04

FA05

FA13

JA07

4J127 AA03 BB031 BB111 BB221 BC021 BD181 BE341 BE34Y BF301 BF30Y
BG051 BG05Y BG101 BG10Y BG121 BG12Y BG171 BG17Y DA52
FA30

FA41

EA13