8 Z dovajanjem energije ne moremo odcepiti osamljenega
kvarka od bariona. Namesto osamljenega kvarka dobimo
poleg bariona se mezon. Nakazana je reakcija, pri kateri
nastaneta iz protona in fotona, to je drobca energije
elektromagnetnega valovanja, zelo kratkozivi barion f>. + • innegativni pion: p + v➔f>. + • + n-Pri nobenem poskusu se niso opazili prostih
kvarkov, ceprav so jih vneto iskali. To uganko morda
pojasni posebnost zelo mocne sile. Ta sila naj ne bibila odvisna od razdalje med kvarkom in kvarkom. Za
odmik kvarka v protonu za 410 mm od tezisca protona
bi bilo treba dovesti ogromno energijo okoli 10 13
MeV ali 1 joule. Za odmik kvarka za polovico radija
protona bi bilo treba dovesti okoli 140 MeV energije. ·To pa bi zadostovalo za nastanek najlazjega hadrona- piona. Preden bi se tedaj kvark zaznavno odmaknil
od tezisca hadrona. bi na racun dovedene energije
nastala kvark in antikvark. Nastali kvark bi se vgradilv hadron, nastali antikvark pa bi se zdruzil v mezon skvarkom, ki smo ga zeleli iztrgati iz hadrona. Tako nakoncu ne bi imeli prostega kvarka, ampak mezon
poleg hadrona (sl. 8). V takem primeru kvarki ne bimogli nastopati kot prosti delci.

NOVA SINTEZA KRIPTONOVEGA DIFLUORIDA
A. SMALC IN J. SLIVNIKO kemiji zlahtnih plinov smo pisali ze svojt':as ( Proteus 33/1971 / 243). V t':lanku smo
poskusali prikazati dotedanje dosezke na tern
podrot':ju in njihov obseg, pri t':emer pa smo
obravnavali v glavnem le spojine ksenona, 0kemiji kriptona je bilo tedaj mogot':e zapisatile, da sta edini znani kriptonovi spojini kripto­nov difluorid in njegov adukt z antimonovim
pentafluoridom. Se danes je podrot':je kemije
kriptona v primerjavi s kemijo ksenona skoraj­da neraziskano. Vzrokov za to je vet':.
Obstoj kriptonovega difluorida sta prva dokazala
Turner in Pimentel leta 1963, ko sta obsevala fluor,porazdeljen v trdni zmesi argon�· in kriptona, z°
ultravijolicno svetlobo pri - 253 C. S to metodo pa
ni bilo mogoce dobiti kriptonovega difluorida v
mnozinah, ki bi zadoscale za obseznejse raziskave.
Kasneje je bilo razvitih nekaj metod za pripravo
vecjih mnozin kriptonovega difluorida, ki temeljijo
na dovajanju razmeroma visokih energij pri kar se danizkih temperaturah. Kriptonov difluorid je namrec
termodinamsko neobstojna spojina, zato ga ni
mogoce pripraviti s segrevanjem zmesi kriptona influora kot npr. ksenonove fluoride s segrevanjem
zmesi ksenona in fluora. Tako se je posrecilo
sintetizirati to spojino z obsevanjem plinaste zmesi°
kriptona in fluora pri temperaturah okrog - 193 C,npr. z zarki gama, z elektroni z energijo 1,5 MeV ali s
protoni z energijo 10 MeV, pa tudi, podobno kot se309

dobi ozon, z razelektrenjem v plinasti zmesi kriptona
in fluora pri nizkih temperaturah in znizanem tlaku.
Zadnja izmed nastetih metod se je izkazala kot
najuspesnejsa, saj je v primerjavi z ostalimi dalec
najcenejsa. V ilustracijo naj navedemo, da stanegram kriptonovega difluorida, dobljenega z obseva­njem v betatronu, okrog 1000 $. :Zal pa je dobitek
kriptonovega difluorida pri metodi z razelektrenjem
zelo majhen. Avtorji metode sicer navajajo, da se na
ta nacin dobi okrog 250 mg KrF 2 na uro, cesar pa
izkusnje drugih laboratorijev niso potrdile, saj so v
povprecju lahko pripravili le od 0,5 do 1 g spojine na
teden. Reakcijski produkt je razen tega nekoliko
oneciscen z drugimi fluoridi (iz elektrodnega mate­riala idr.), ki pospesujejo njegov razpad.
Spojine kriptona so bistveno manj obstojne kot
spojine ksenona. Od binarnih fluoridov so pri
ksenonu znani trije - XeF 2, XeF4 in XeF 6, ki so vsi,zlasti pa prvi, dokaj obstojni, medtem ko je odkriptonovih fluoridov znan le difluorid KrF 2 • V
nasprotju s ksenonovim difluoridom, ki je popolno­ma obstojna spojina in jo lahko hranimo v steklu pri
sobni temperaturi neomejeno dolgo - razen tega se
raztaplja v vodi, pri cemer vodna raztopina le po_casi
razpada - je kriptonov difluorid pri temperaturi nad°
- 20 C neobstojen (hitrost razpadanja pri sobni
temperaturi je nekaj odstotkov na uro). V
navzocnosti vlage hidrolizira. pri cemer nastaja
doslej neidentificirana spoji'na, ki po vsej verjetnosti
sestoji iz kriptona, kisika in fluora. Ta je zelo

8�
42
37514
1211
10
96

Shematicen prikaz reaktorja za sintezo kriptonovega
difluorida
1 svetlobni izvor
2 jasek za svetlobni izvor
3 obrus
4 dovod hladilne vode5, 6, 7 hladilni plasc
8 odvod hladilne vode9 reakcijski prostor
10 evakuirani plasc
11 devarska posoda
12 hladilo (tekoci dusik)
13, 14 prikljucek z ventilom

311

Metoda se je izkazala za zelo uspesno, saj znasa
dobitek kriptonovega difluorida okrog 300 mg nauro, dobljeni produkt pa je zelo cist. Na ta nacin je
mogoce v razmeroma majhni in enostavni aparaturi
pripraviti po 10 g zelo cistega kriptonovega difluori­da naenkrat in to le v nekaj vec kot enem dnevu, scimer so dane moznosti za obseznejse raziskave na
tern podrocju. Tako smo lahko ze 14 dni po uspeli
sintezi kriptonovega difluorida izolirali novo spojino
KrF 2 .VF 5 , ki smo jo dobili z reakcijo med kriptonovim
difluoridom in vanadijevim pentafluoridom.
Ob prouce11anju fotosinteze kriptonovega difluo­rida pa nam je uspelo razviti se eno preparativno
metodo - fotosintezo dikisikovega difluorida O 2F 2. Fluor, ki smo ga bili uporabljali pri reakcijah,namrec ni bil povsem cist in je vseboval se nekaj
odstotkov kisika. Pri obsevanju takega fluora v
utekocinjenem stanju smo opazili, da se je ze ponekaj urah izlocila oranzna trdna snov, za katero smo
z analizo ugotovili, da je dikisikov difluorid. Tudi tospojino je bilo doslej mogoce pripravljati le v manjsih
mnozinah z razelektrenjem v plinasti zmesi fluora inkisika pri znizanem tlaku (5-12 mm Hg) in nizki°temperaturi ( - 183 C). S fotokemicno metodo pa
lahko v prej opisani aparaturi na enostaven nacin v
nekaj urah pripravimo do 20 g te spojine z obseva­njem utekocinjene zmesi fluora in kisika. Poseben
pomen te metode pa je v tern, da je uporabna tudi za
odstranjevanje kisika in kisikovega difluorida iz
elementarnega fluora. Tako kisik, kot kisikov difluo­rid- OF 2 namrec predstavljata glavni necistoci v
tehnicnem fluoru, dobljenem z elektrolizo, in ju je letezko odstraniti. Dosedanja metoda za ciscenje
fluora s frakcionirano destilacijo temelji na razliki vvreliscih fluora, kisika in kisikovega difluorida, ki paje, zlasti v primeru kisika in fluora, razmeroma°majhna (T,(F2 ) = -1ss·c; T,(O 2 ) = -183 C,°T,(OF 2) = -145 C). Zato so za tak nacin ciscenja
potrebne dokaj velike nizkotemperaturne destilacij­ske kolone, ki pa si jih sprico njihove zahtevne
izvedbe lahko privoscijo le redke raziskovalne
ustanove.
Pri metodi fotokemicnega ciscenja fluora, ki smo
jo razvili v nasem laboratoriju, lahko kisik in kisikov
difluoridzez
nekajurnim
obsevanjem
utekocinjenega fluora prevedemo v dikisikov difluo­rid. Ta je pri temperaturi- fs3• C trden in prakticno
nehlapen, tako da ocisceni fluor zlahka locimo odnjega z destilacijo pri tej temperaturi. Metoda jeenostavna, a ucinkovita in omogoca glede na
velikost za to potrebne aparature ciscenje razmero­ma velikih mnozin fluora. V ilustracijo naj navedemo,
da lahko v opisanem 100 ml reaktorju s stiriurnim
obsevanjem ocistimo priblizno 2,5 molov fluora (tj.
okrog 56 litrov pri normalnih pogojih) naenkrat. S
tern pa so dane moznosti za natancnejse raziskave
reakcij z elementarnim fluorom, kot so npr. kineticne
meritve in podobno.

■