主催︓公益社団法⼈ ⽇本顕微鏡学会

第 32 回(2022 年度) 電⼦顕微鏡⼤学 開講のお知らせ
1. 開催概要
電⼦顕微鏡⼤学は、電⼦顕微鏡や付随する分析機器の動作の基礎理論から、測定・解析時に知っておかなければならない事項などを、それぞれの⼿法を専⾨とする講師陣が丁寧に解説する、基礎を中⼼とした講義です。主に材料系の初級~中級の電⼦顕微鏡ユーザーを主な対象としています。1991 年に第⼀回を開催して以降、年１回計 30 回を対⾯での座学形式で開催し、⼆⽇間で⼗数コマの講義だけでなく、基礎を網羅した充実したテキストや、講義後の Q&A 集の作成など、改良を重ねて多くの⽅々に受講していただき、好評を得てきました。さらに前回 2021 年(第 31 回)からはオンラインでのオンデマンド配信を試⾏しており、地域や時間に縛られない受講が可能になっています。もちろん、Q&A 集の作成などの個々の疑問に対する対応といった、それまでの特⻑も継続して実施しています。
電⼦顕微鏡の操作は慣れたものの基礎を深めたい⽅、顕微鏡本体の機能に加えて分析など⼿法の基礎を広く学びたい⽅に最適です。多くの⽅のご参加をお待ちしています。

２. 開催要領・受講料等
2.1. 開催⽅法
・講義はオンラインでのオンデマンドビデオ配信形式で実施します。
・講義配信期間は 2022 年 11 ⽉上旬の⼆週間(11/4-11/17)を予定しています。
・配信終了後(11/28)に、オンラインパネルディスカッション(ライブ)を開催予定です。
・講義終了後に受講者からの質問を募り、講師からの回答を集めた Q&A 集を作成して配布します。
・テキストは講義配信前に冊⼦体(A4 版、約 300 ページ)を送付します。Q&A 集は電⼦ファイル(PDF)で年度末までに配布します。
2.2. 定員・120 名（定員に達した時点で締め切ります）
2.3. 参加申込⽅法
・⽇本顕微鏡学会ホームページの「電⼦顕微鏡⼤学」ページ(https://microscopy.or.jp/univ/)
よりお申込みください。下記期間に参加申込みのためのページを開設します。
・申込み期間は、2022 年 8 ⽉ 1 ⽇(⽉) 〜10 ⽉ 3 ⽇(⽉)の予定です。
なお、講義資料発送等の都合のため、締め切り後の申込みは受付けられません。
2.4. 受講料(⽇本顕微鏡学会会員の受講料は不課税、その他は税込となります)
⼀般︓・会員・賛助会員(各団体 5 名まで)・連携学協会会員︓ 15,000 円
・⾮会員︓

26,000 円

学⽣︓・学⽣会員・連携学協会会員︓3,000 円
・⾮会員︓

6,000 円▶⾮会員の場合，申込みと同時に⽇本顕微鏡学会への⼊会⼿続きをいただいた場合は，今年度末までの会員資格と，会員資格での受講として扱います。⼊会⼿続きは下記をご覧ください。
⼊会・年会費案内 – 公益社団法⼈ ⽇本顕微鏡学会
2.5. 振込⽅法
申込み完了後に、登録したメールアドレスに「受講申込み完了通知」が届きます。メールが届きましたら、申込締切⽇(2022 年 10 ⽉ 3 ⽇)までに、メール記載の銀⾏⼝座に受講料をお振込みください (恐れ⼊りますが、振込⼿数料はご負担願います)。 受講費の請求書と領収書はウェブページ上で発⾏します。

3. その他
・前回(2021, 第 31 回)の講師リストと講義概要を次ページに添付します。今回も同様の予定です。

4. 問合せ先・申込みに関するお問い合わせ︓
電⼦顕微鏡⼤学ヘルプデスク
FAX︓03-5227-8632

E-mail︓ jsm-denken@bunken.co.jp

・講習の内容等に関するお問い合わせ︓
第 32 回(2022 年度)電⼦顕微鏡⼤学実⾏委員⻑ 原 徹(物質・材料研究機構)
E-mail: jsm-denken-daigaku@ml.nims.go.jp

講義概要（2021 年度第 31 回実績。第 32 回も同様の予定）
1. 透過電⼦顕微鏡のハードウェア 講師︓近藤⾏⼈（⽇本電⼦）
本講義では、電⼦顕微鏡のハードウェアの構成要素である電⼦銃、照射レンズ系、結像レンズ系、偏向系/⾛査系、試料ホルダー、記録系、排気系、分析装置、収差補正系の動作原理とそれぞれの構成要素の種類と性能を説明します。本講義を通して受講者が⾃分の観察試料に対して、どのような装置が適切であるかの指針となることを期待いたします。

2. 電⼦回折法 -電⼦回折の原理と電⼦回折図形から得られる構造情報- 講師︓津⽥健治（東北⼤学）
電⼦回折の知識は電⼦顕微鏡像の正しい理解のために不可⽋です。また、電⼦回折図形からは結晶学的情報が得られます。本講では、結晶学の基本的事項から始めて、逆格⼦と運動学回折（⼀回散乱）理論についてなるべくやさしく説明します。これらは電⼦回折図形解釈の基礎となるものです。さらに動⼒学的回折（多重散乱）、収束電⼦回折および得られる構造情報についても述べます。

3. 明視野・暗視野法 ―回折コントラスト法― 講師︓荒河⼀渡（島根⼤学）
⽐較的厚い試料を⽐較的低い倍率および分解能で広いエリアにわたって観察する場合には、回折コントラストを利⽤した明視野法・暗視野法が威⼒を発揮します。この⼿法は、試料に埋め込まれた析出物や⽋陥等の微細構造のみを浮き上がらせて結像する⽅法です。本講では、この⽅法の基本原理および実際の適⽤の仕⽅とその例を解説します。

4. ⾼分解能電⼦顕微鏡法の基礎 -位相コントラスト法- 講師︓今野豊彦 （東北⼤学）
電⼦顕微鏡の分解能を原⼦間隔程度まで上げるためには (i)回折された波の⼲渉効果を⽤いる、(ii)電⼦ビームを収束する、のいずれかの⼿段をとる必要があります。本講義では、前者、すなわち従来から知られている⾼分解能電⼦顕微鏡（high-resolution TEM）法の基礎を解説します。幾何光学と波動光学を概観したうえで、波の⼲渉により得られたコントラストの意味とその限界に触れたいと思います。

5. ⾛査透過電⼦顕微鏡法(STEM)⼊⾨ 講師︓⽊本浩司（物質・材料研究機構）
⾛査透過電⼦顕微鏡法（Scanning Transmission Electron Microscopy, STEM）では，プローブを⾛査しながら透過電⼦を検出器で捉えることにより，明視野像や環状明視野像などさまざまな画像が観察できます。本講義では，STEM 像の観察原理の概要や軸調整のポイント，観察例などを説明します。

6. 電⼦線ホログラフィー 講師︓原⽥ 研（理化学研究所）
電⼦線ホログラフィーは、電⼦線の波としての性質、すなわち電⼦波の位相を積極的に利⽤する計測⼿法です。そのため、「モノ」を⾒るだけでなく電磁場などの「物理現象」そのものを計測対象とすることができます。利⽤される機会はまだ多くないと思いますので、本稿では、電⼦の波としての振る舞いや、計測⼿法の原理など、基礎を中⼼に紹介します。

7. 電⼦顕微鏡における EDS 元素分析法－正しく EDS 分析を⾏うための原理・基礎－

講師︓森⽥正樹（⽇本電⼦）

EDS（エネルギー分散型 X 線分光法）は SEM や TEM でも利⽤できる元素分析法です。組織と対応した局所領域の元素分析が簡単にできる⼀⽅、正しく分析するためには留意すべき点が多くあります。本講では、正しく EDS 分析を⾏うために、X 線発⽣・検出・解析のそれぞれについて原理・基礎について解説します。

8. 電⼦エネルギー損失分光の基本的な考え⽅－分光測定とはどういうことか－

講師︓武藤俊介（名古屋⼤学）

本講義では⼀般の分析電⼦顕微鏡に関する教科書や成書・解説に書かれていることの他に，そもそも「EELS 測定」を考えるうえで基本となる考え⽅の⼀端を提⽰します．すなわち個別の必要情報に紐づけされたスペクトル測定のノウハウではなく，場合に応じた適切な測定法をその場で結果を⾒て⾃ら考えながらフィードバックして，臨機応変に測定機器のパラメータを調節できることを⽬指します．

9. ⾛査電⼦顕微鏡の基本と応⽤ ―多様な機能をどう使うか―

講師︓佐藤 馨（JFE テクノリサーチ）

⾛査電⼦顕微鏡は、透過電⼦顕微鏡と⽐較して試料調製と操作が平易であることから表⾯観察の道具として普及しています．X 線分析装置を付加すれば元素分析 ができ、電⼦後⽅散乱図形測定装置の装着により結晶⽅位解析と相の同定も可能です。講義では装置のハードウェアを簡単に説明し、⼆次電⼦と反射電⼦の特徴 とそれらの利⽤法を実例に基づき紹介します．さらに、低加速電圧や複数像検出器の活⽤など最新の話題にも触れます．

10. SEM で電⼦線回折パターンを⾒る – EBSD 法の原理と基礎 –講師︓鈴⽊清⼀（TSL ソリューションズ）

EBSD 法は、SEM 中で得た電⼦線回折パターンから結晶⽅位を求め、結晶⽅位に基づいた材料組織解析を⾏う⼿法として発展してきました。本講座では、その EBSD パターンの発⽣原理や特徴の理解を深め、適切な材料組織解析へ繋げるために必要な基礎的な考え⽅等を⾝に着けていただくことを⽬指して解説します。また今⽇では EBSD パターンのシミュレーション技法も進歩してきており、これと組合せ EBSD パターンそのものを利⽤した解析事例も紹介します。

11. 試料作製法 講師︓⾕⼭ 明（⽇本製鉄）電⼦顕微鏡の⾼機能，⾼性能化に伴い，最近では⽐較的簡単な操作で⾼いレベルの観察が可能となっていますが，電⼦顕微鏡の能⼒を最⼤限に引き出して材料情報を得るためには，⽬的に応じた良好な観察試料が準備されていることが重要です。本講義では，⾦属，半導体，セラミック材料の内部組織評価を⽬的とした試料作製法として，集束イオンビーム加⼯（FIB）やその周辺技術を中⼼に，試料作製の基本原理と良好な試料を作製する上での注意点などを紹介します。