Agilent ICP-MS ジャーナル
2008 年 1 月 - 第 33 号

本号の内容
2-3 GC-ICP-MS によるバイオガス中の揮発性シロキサン化合物
測定

4-5 ホウ素およびホウ素同位体比分析における洗浄液の比較
6

ICP-MS ChemStation ソフトウェアアップグレードのダウンロード方法

77500 ICP-MS 用新型トーチ、静音ボックスによるポンプノイズ低減、ユーザー様事例: 停電時における7500 の安定性

8Winter Plasma Conference 2008、
4500 サポート終了、展示会と国際会議、最新資料紹介

GC-ICP-MS によるバイオガスの分析
Steven Wilbur
Agilent Technologies, USA

はじめに
バイオガスとは、動物排泄物、家庭下
水スラッジ、都市埋め立てゴミなど、さまざまな生分解性物質の嫌気的発酵 図 1. 揮発性シロキサンを含むバイオガスの汚染を受ける前（左）と受けた後（右）のマイクロタービンから生じる、メタン、二酸化炭素、窒コンポーネントの様子 [1]素をなどを含むガスを指します。
1 体積分率) の GC/MS を用いて測定 S/N 比の 2 倍から算出した検出下限
されてきました。しかし、頑丈なレシ は、化合物換算で 1 pg 未満でした。
バイオガスは、メタンを 40 〜 75% プロエンジンから、排ガスのきれいな これをバイオガス中の濃度に変換する含むため、天然ガスの代替ガスとして、 マイクロタービン (図 1) へと、エン と、標準的な試料の捕集方法を用いた排水処理施設や埋立地での施設の暖 ジン技術が変化したのに伴い、シロキ 場合、検出下限は 0.03 〜 0.07 ppbv
房、発電、自動車燃料などに使用され サンの許容範囲が低下し、さらに感度 (100 万分の 1 体積分率) になります。
ています。しかし、廃棄物の副生成物 の良い分析方法が必要となってきま この値は、もっとも厳しいエンジン
であるバイオガスには、揮発性硫黄や した。
メーカーの要求値の 1/100 であり、ハロゲン含有化合物だけでなく、揮発GC/MS の検出下限の 1/500 以下の値
性シリコン化合物 (シロキサン) など シロキサン分析を行う場合の感度、使い です。
好ましくない成分が含まれている可能 やすさ、堅牢性について、GC-ICP-MS
性があります。
システムの評価を行いました。 Si 分 さらに、ICP-MS の感度は化合物の形
析は ICP-MS では困難とされています 態に依存しないため、一部の化合物の硫黄やハロゲン化合物は燃焼時に腐食 が、アジレントの GC インタフェース 標準試料が入手できなくても問題には性の酸を生成し、シロキサンは研磨性 では、ドライプラズマを使用すること なりません。1 種類の Si 標準化合物の二酸化シリコン (シリカ) を生成す で効率的なイオン化を実現し、酸素と のレスポンスに基づいて、他の Si 含
る恐れがあります。二酸化シリコンは、 窒素ベースの多原子イオン干渉を大幅 有化合物の正確な定量が可能です。
ボイラー、レシプロエンジン、タービ に 減 ら す こ と が で き ま す 。 さ ら に 、ンエンジンなどの処理装置内に堆積し 7500ce の水素反応モードを使用する 図 3 は、4.5 〜 90.45 ppb のドデカて、摩耗を早め、故障を引き起こす恐 ことで、Si に対する N のバックグラ メチルペンタシロキサンの検量線で、2
れがあるため、特に問題となります。 ウンドを減少させ、その結果、シロキ 優れた直線性 (r2 = 1.000) を示していこのため、バイオガスを高価な機械の サン分析において優れた感度を実現し ます。この検量線を用いて 4,520 ppb
燃料に使用する場合には、揮発性シロ ました。の標準を分析した場合、定量値はキサン濃度を注意深くモニタリング
4,244 ppb (回収率 94%) となり、検し、制御する必要があります。
Agilent 6890/7500ce GC-ICP-MS 量線の最高濃度の 50 倍まで直線性がシステムを用いて、メタノール溶液中 あることがわかりました。
揮発性シロキサンの分析の 8 種類のシロキサン、それぞれ約
従来、バイオガス中のシロキサンは検 45 ppb (µg/L) を分析しました。トー
出下限 0.02 〜 1 ppmv (100 万分の タルの分析時間は 10 分未満で (図 2)、

化合物

略語

分子式

分子量

沸点 (°C)

ヘキサメチルジシロキサン

L2

C6 H18 O1 Si2

162.3899

ヘキサメチルシクロトリシロキサン

D3

C6 H18 O3 Si3

222.47134

オクタメチルトリシロキサン

L3

C8 H24 O2 Si3

236.54153

オクタメチルシクロテトラシロキサン

D4

C8 H24 O4 Si4

296.62175.8

デカメチルテトラシロキサン

L4

C10 H30 O3 Si14

310.69194デカメチルシクロペンタシロキサン

D5

C10 H30 O5 Si5370.78210

ドデカメチルペンタシロキサン

L5

C12 H36 O4 Si5

384.85232

ドデカメチルシクロヘキサシロキサン

D6

C12 H36 O6 Si6444.93245

表 1. バイオガス中に一般的に検出される揮発性シロキサン [2]2 Agilent ICP-MS ジャーナル 2008 1 - 33
年

月 第

号

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図 2.

GC-ICP-MS を用いて分析したメタノール中の 8 種類のシロキサン、それぞれ約 45 ppb (µg/L) のレスポンス

クロマトグラム濃度(µg/L)
図 3.

4.5 〜 90.45 ppb のドデカメチルペンタシロキサンの検量線

結論

謝辞および参考文献

排水処理施設や埋め立て地でのバイオガス使用において、揮発性シロキサン
は問題を起こす場合があります。そのため、バイオガス処理装置メーカーはガス中の Si 濃度をより厳しくモニターする必要に迫られています。現在使用されている手法では、信頼性の高い測定が不可能な場合があります。
GC-ICP-MS は、直線性、再現性、使いやすさの点で優れており、求められる検出下限値を簡単に達成できます。

1. Jeffery Pierce, SCS
Engineers 提供
2. Wheless, E. and Pierce J.,
Siloxanes in Landfill andDigester Gas Updatewww.agilent.com/chem/icpms

www.scsengineers.com/Papers/
Pierce_2004Siloxanes_Update_
Paper.pdf

Agilent ICP-MS ジャーナル 2008 年 1 月 - 第 33 号

3

Claire Wright, CSIRO Land and Water,
Center for Environmental Contamination
Research Urrbrae, South Australia

Fred Fryer

れてきましたが [1]、このようなネブライザ使用は追加費用がかかる場合があります。
ここでは、標準サンプル導入システムを利用した、ICP-MS による、ホウ素
同位体測定のメソッド構築について紹介します。

ホウ素の Memory 効果

Agilent Technologies, South Asia

7500ce ICP-MS を用いて、さまざまな洗浄溶液を比較しました (表 1)。装置条件は表 2 のとおりです。各洗浄Glenn Woods
Agilent Technologies, UK

はじめに
ホウ素は、植物の成長、再生、生存に必要な必須微量元素です。
同位体希釈質量分析 (IDMS) を用いて、土壌中ホウ素 ( 置換フラクション) の生体内利用または貯留不安定性を推定できます。この手法では、ある
一定期間、土壌溶液と土壌相のホウ素の安定同位体 (10B) の分布を測定します。放射性ホウ素同位体の半減期は1 秒未満のため、安定ホウ素同位体を選択します。ホウ素の IDMS 定量では、添加された濃縮 10B を含む、質量数 10 と 11 のホウ素同位体を正確に測定する必要があり、さまざまな干渉を除去または補正する必要があります。既知質量比率が認証されている標準試料を基準にすることでマスバイア
ス補正できます。しかし、11B/10B 比率の測定の誤差は、過去に導入したサンプル (残留したサンプル) によるホウ素の Memory や、12C のピークのテーリングによる 11B シグナルの上昇から生じている可能性もあります。
土壌中の炭素濃度は大きく異なる可能性があり、使用する洗浄液に炭素が含まれる可能性があるため、炭素シグナ
ルは大きく変動する恐れがあります。
ホウ素の保持 (Memory 効果) は主として、ICP-MS のサンプル導入部、つまりサンプルチューブ、ペリスタル
ティックポンプチューブ、スプレー
チャンバー、ネブライザ、トーチ、サンプルインタフェース等で生じます。
自給式または直接注入の方法を用いることでペリスタルティックポンプ
チューブ汚染を回避できますが、これらのシステムでは手動での操作や、ハードウェアの追加が必要です。直接
注入や PFA マイクロ同軸ネブライザなどの特殊ネブライザを使用すると、ホウ素の Memory が減ることが示さ

4 Agilent ICP-MS ジャーナル 2008 1 - 33
年

月 第

号

液に対するホウ素のベースラインシグ
ナルを安定化させるために、10 分間
導入洗浄しました。洗浄に続いて、ホウ素標準 (10 µg/L と 100 µg/L) の
2% HNO3 溶液 (分解土壌サンプル中の予想されるホウ素濃度として ) を
10 分 間 導 入 し ま し た 。 時 間 分 析(TRA) を用いて、10B をモニタリング
しました。
溶液 1

硝酸 - サンプル分解物の化学的性質と同じ

溶液 2* マンニトール水溶液- 0.25% マンニトール

溶液 3* マンニトールのアンモニア溶液 - 0.25% マンニ
トールの 0.1M NH4OH
溶液

溶液 4

アンモニア - 0.1M

NH4OH
溶液 5

アジレント洗浄液

表 1. ホウ素 Memory を除去するために一般的に使用される洗浄液

ペリポンプ回転速度

0.25 rps

ペリスタルティック
ポンプチューブ

SolvaTM – 内径 0.89 mm(オレンジ/オレンジ)

ネブライザ

Glass Expansion 製
v-スプレータイプ

ネブライザガス流量

0.5 L/min

メークアップガス流量 0.7 L/min
スプレーチャンバー

石英製スコットタイプ

スプレーチャンバー
温度

2 °C

サンプリング深さ

8 mm

RF 出力

1550W

インタフェースコーン Ni
表 2. 7500ce ICP-MS 操作パラメータアルカリ性マンニトール (洗浄液 3)は、アンモニアまたはマンニトール単独の溶液と比べてバックグラウンドが高く、使用することができませんでした。アンモニア /マンニトール洗浄液
は、数年の分析で堆積したホウ素をア
ルカリ ethching により、ガラス表面
から取り除き、そのため、これが最善の洗浄液であると予想されましたが、
コンタミネーションによるバックグラ
ウンドが高く、使用不可能でした。しかし、安定化時間は 3 分未満で、洗浄時間が 5 分未満であることは、清浄なガラス器具を用いればこの溶液が効果を発揮することを示しています。
アジレントの洗浄液 (洗浄液 5) - アン
モニア、EDTA、Triton X100、H2O2の組み合わせでは、安定化時間と洗浄
時間 (元のベースラインに対して 3 分未満) が短く、最低のホウ素バックグ
ラウンド (< 5,000 cps) を示しました(図 1)。

* ホウ素は多糖類やアルコールと錯体を形成しやすいため、マンニトール (C6H8(OH)6) は、ホウ素の安定化のため溶媒によく添加されます。

洗浄液の検討結果
ベースラインレベルは硝酸 (洗浄液 1)とマンニトール (洗浄液 2) では高く、サンプル導入後のベースラインが安定するまでに 15 分以上必要でした。同様に、ホウ素サンプルのシグナルを安定させるために 5 分以上を要しました。全体として、これらのメソッドではサンプルあたり 25 分以上を要することになります。

10B レスポンス(x 1000)

ホウ素およびホウ素
同位体比分析における洗浄液の比較

時間 (秒)
図 1: アジレント洗浄液を用いた 10B のレスポンス

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11B 測定に対する炭素の影響

この研究では、ホウ素の分析への炭素干渉の影響についても考察しました。
10 µg/L のホウ素、ベリリウム、リチ
ウムと 1,000 mg/L のショ糖を含む溶液を 7500ce で分析しました。図 2に示すとおり、質量 11 (B) への質量
12 (C) のピークの重なりはありませんでした。

421 ppm
炭素10 ppbホウ素

炭素濃度を変化させ、ホウ素への影響を考察しました。異なる濃度のショ糖溶液 (1,000 mg/L ショ糖 = 421 ppm C)
で NIST CRM 951 ホウ酸 (11B = 80.1%
アバンダンス、10B = 19.9% アバンダンス ) を分析することで評価しました。
表 2 に示した結果から、最も低いホウ素濃度でも 11:10B 比率に炭素の影響がないことが分かります。
図 2: 拡大したマス軸のスケールは質量 7 〜 12 amu を示します。
注: ホウ素 (m/z 11) ピークと炭素ピーク (m/z 12) の重なりはありません
ホウ素 µg/L

ショ糖 mg/L

11/10B100

4.4 ± 0.02

1010

4.4 ± 0.07

10

100

4.3 ± 0.04

10

500

4.4 ± 0.03

10

1000

4.4 ± 0.02

11B シグナルへの 12C のピークテーリ

ングの干渉はありませんでした。

* ただし、極微量（ 0.01 μ g/L）のホウ素分析（例：半導体分野における分析等）の場合、洗浄液に含有するホウ素汚染が Memory 原因になる場合があります。

0

4.4 ± 0.004

100

10

4.4 ± 0.03

参考文献

100

100

4.4 ± 0.02

100

500

4.4 ± 0.02

100

1000

4.4 ± 0.01

1. Ana Claudia S. Bellato; Amauri
A. Menegario; Maria Fernanda
Gine, Boron isotope dilution incellular fractions of coffee leaves
evaluated by ICP-MS with direct
injection nebulization, J. Braz.
Chem. Soc. vol.14 no.2 Sao PauloMar./Apr. 2003.

結論
ICP-MS によるホウ素測定の Memory
効果除去についての最も効率的な洗浄液として、EDTA、過酸化水素、界面活性剤を含むアルカリ性洗浄液の効果が高いことがわかりました。
ベースラインが低く、安定している
ため、ホウ素の定量下限 (1 µg/L 未満) は低くなり、サンプル安定化時間(4 分未満)、サンプル分析後の洗浄時
間 (3 分未満) とも短いため、迅速な測定が可能です。
*

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クは、以下のサイトから可能です。

www.agilent.com/chem/icpms
メモリ効果と炭素の干渉の両方を排除することで、同位体希釈 ICP-MS による簡単で正確なホウ素定量が可能に
なります。

100

表 2. ホウ素同位体比率への炭素の影響•ICP-MS ユーザフォーラムへのリンにアクセスしてください•Additional Information の下の User
Forum リンクをクリックします•ICP-MS User Forum 内の Agilent
ICP-MS User Resources をクリックします。

• ファイル “Rinsing Protocol for
Rapid Measurement of ‘Sticky’
Analytes by 7500 Series ICP-MS”
を開いてください

詳細情報
アジレントの洗浄液 (洗浄液 5) の詳
細は、Agilent ICP-MS ユーザフォー
ラム (英語のみ) をご覧ください。
フォーラムには、アジレントのウェブ
サイトからログインしてください。未登録の場合には登録が必要です。初回のログイン時のみ、お使いの装置のシ
リアル番号の入力が必要です。

Agilent ICP-MS ジャーナル 2008 年 1 月 - 第 33 号

5

4. 「 ICP-MS ChemStation 」 を ク
ICP-MS ChemStation のためにも、最新バージョンへの更新をお勧めします。
リックします。

ソフトウェア
アップグレードのダウンロード方法
山田知行
化学分析事業部

Agilent Technologies

7500 シリーズ ChemStation ソフト
ウェアを最大限に活用するために、最新バージョンの ICP-MS ChemStation
ソフトウェアをお使いください。
Windows 2000 用、XP 用のそれぞれについて、最新ソフトウェアのアップ
デート情報をお知らせします。

現在、B.0x.0x 版をお使いのユーザ様
は、Agilent ICP-MS ウェブサイトから、B.03.04 (Windows 2000 ユーザ
様 )、 B.03.07 (Windows XP ユーザ様) へのアップグレード版を無料でダ
ウンロードできます (下記の方法を参照してください)。

5. ChemStation バージョンの関連

1. 以下のウェブサイトをご覧ください
www.agilent.com/chem/icpms

以前の Windows NT 版 ChemStation
ソフトウェアレビジョン (レビジョン
A) をご使用の 7500 ユーザ様の場合
は、 G3149B をご購入いただくと、
B.03.07 (OS は含まず) へのアップグ
レードができます。

2. ページの中央列にある「 ICP-MS
ソフトウェア」を選択します。

3. 「 ICP-MS ChemStation アップ
デートおよびダウンロード」を選択しまず、ChemStation ソフトウェアの ます。
「 ヘ ル プ 」 メ ニ ュ ー を ク リ ッ ク し 、 (このページにアクセスするには、ア「バージョン情報」を選択すると、現 ジレントのサイトにログインする必要
在のソフトウェアの製品番号とバー があります。初めてログインする場合は登録する必要があります。ログイン
ジョンを確認することができます。
後、装置付属の「Software
前のバージョンからの各種の改良を反 Certificate & Registration Packet」
映し、また、今後の効果的なサポート (黄色の封筒形状) に示された 10 桁の登録番号を入力します)。

ChemStation

オンラインでダウンロード可能なアップグレードの一覧を表 1 に示します。

なお、旧 7500 に付属の PC によっては、アップグレードに対する必要要件を満たしていない場合があります。
ウェブサイトの「インストール前の注意」を参照してご確認ください。新しい PC が必要な場合は、 ICP-MS 用
PC のセット (G3150A #321) を用意しています。

更新前

更新後

オペレーティングシステム/
インタフェース

概要

B.01.00

B0.030.06

Windows XP SP2 / LAN

B.03.04 の機能の他に

製品番号

G1834B

パッチファイルをダウンロードするには、該当する ChemStation アップ
デートをクリックします。

– B.03.05• ヘリウムモード用の半定量係数• CETAC EXR-8 オートサンプラの制御

G1834B

B.01.00

B0.030.04– B.030.03

Windows 2000 SP4• 新チューニングウィンドウ/ LAN または GP-IB• システムワイドパラメータ機能• 3 つのガスモード用オートチューン• プレランモニター• バッチビュー• オフラインデータ採取編集• 先行リンス機能• 15 チャンネル可能な感度チューン• 新しい検量線編集画面• ファイルの圧縮および展開ツール• 自己診断G1834A

A.01.00

A.02.02– A.02.01

Windows NT4 SP6a

• マルチチューン/ GP-IB

表 1: Windows XP、2000、NT オペレーティングシステム用にオンラインでダウンロード可能な Agilent 7500 ICP-MS ChemStation アップグレード一覧

6 Agilent ICP-MS ジャーナル 2008 1 - 33
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位置合わせが簡単な
ポンプノイズを低減する ユーザ様事例:
電圧降下や停電からの7500 ICP-MS 用トーチ 静音ボックス
回復Paul McMahon
山田知行
Technical Marketing Engineer,
化学分析事業部、Agilent Technologies

化学分析事業部、Agilent Technologies「静音ボックス II 」を使うと、 7500
ICP-MS の真空ポンプの騒音を低減することができます。

「Agilent 7500c の稼働中に、ラボの電圧が低下しました。照明は暗くなり、多くの機器やコンピュータがシャット
ダウンしました。しかし、 Agilent
7500c は 稼 働 し 続 け ま し た 。」 と 、
TestAmeria 社 ( 米 国 ) の Ernie
Walton 氏は述べています。ラボでの電圧低下は滅多にないことですが、7500 の堅牢性により、TestAmerica
社では分析を中断せずに続けることができました。

図 1. 新しい標準トーチ、2.5 mm 径、(製品番号: G3270-67002)

7500 ICP-MS 用石英製トーチの設計が変更され、最適な位置合わせが容易になりました。
従来のトーチとトーチスタンドでも、x 軸と y 軸の精密な位置合わせが可能
図 1. 7500 ICP-MS に設置された静音ボックス IIでしたが、新しいトーチとトーチスタ
ンドでは突起を追加することで、新 し い 静 音 ボ ッ ク ス (製 品 番 号 :z 軸も再現性よく位置合わせできま
G3199B) は、Agilent 7500 ICP-MS
す。新しいトーチは高マトリクス導入に使用される E2M18 を含む、 BOC
キット (HMI) にも適合します。
Edwards ポンプに対応します。
新 し い ト ー チ ス タ ン ド (製 品 番 号 :G3270-60501) のご注文は担当営業までお願いします。
注: 新トーチは、従来のトーチスタン
ドのままでもご使用いただけます。
新しい内径 2.5 mm トーチ (製品番号:
G3270-67002) は、 Agilent 7500 シ
リーズで使用できます。G1833-65423の代替品としてご注文ください。

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米国と英国のユーザ様で、電圧降下や停電に対する 7500 ICP-MS の信頼性と利便性を確認できる事例がありました。
一時的な電圧降下や停電により、他の機器はダウンしても、7500 はラボの生産性低下を最小限に抑えました。

静音ボックスの特徴:• ポンプからの騒音の低減 : 発泡材断熱材を使用したキャビネットによる吸音• ロック付きキャスターにより移動が簡単• アクセスが簡単 : カバーの取り外しには工具不要• 保守が簡単: 内蔵の「持ち上げ/傾斜」
レバーで本体を傾けてオイルを排出します• 安定した温度 : 2 つのファンによりカバー内部の温度を維持します

英 国 国 立 歴 史 博 物 館 の Teresa
Jeffries 博士も、7500 の耐久性に感心された一人です。「昨晩、停電が発生しました。その時に分析を行っていた担当者は、すべての装置がシャットダウンしたことにかなりショックを受けており、始業時に予想される混乱状
態について心配していました。ところが、驚いたことに、 Agilent 7500cs
は自動的に真空排気を開始し、スタンバイ状態で自動復帰していました。そして、朝から通常どおり分析でき、回復のための調整などは一切不要だったのです。」

7500 シリーズは、停電後も効率的に装置が復帰できるように設計されています。すべての Agilent ICP-MS は、
衝撃、振動、異常な電源状態に関する試験を含む、厳しい品質管理試験に従って開発されています。さらに、自動回復機能により、電源供給遮断時に
詳細は、ホームページをご覧ください。 はスタンバイモード (真空状態) に自
www.agilent.com/chem/jp
動的に戻ります。これにより、分析開
始までの準備時間は最小限に抑えられます。

Agilent ICP-MS ジャーナル 2008 年 1 月 - 第 33 号

7

Winter Plasma Conference 2008
Don Potter
ワールドワイド ICP-MS マーケティングマネージャ、
化学分析事業部、Agilent Technologies

新しい Agilent ICP-MS
ユーザの皆さまへ
Agilent ICP-MS を導入いただいた皆様のユーザフォーラムへのご参加を心から歓迎致します。 Agilent ICP-MS
ユーザフォーラム (英語版) は、Webをベースとした交流の場で、7500 に関する情報を交換できます。
このフォーラムにアクセスするには、
アジレントのウェブサイトでログイン
してください。未登録の場合には登録を行ってください。初回のログイン時には、お使いの装置のシリアル番号の入 力 が 必 要 で す 。 ICP-MS ユ ー ザフォーラムへのリンクは、以下のサイトから可能です。

www.agilent.com/chem/icpms
Agilent ICP-MS ユーザミーティング

4500 シリーズの公式サポート終了

1 月 7 〜 12 日に、米国カルフォルニ
ア 州 で 開 催 さ れ た 第 15 回 WinterPlasma Conference には、世界中か Agilent 4500 シリーズ ICP-MS の公式サポート期間は 2007 年 10 月 31 日をら多くの分析化学者が参加しました。 もって終了となりました。詳細は、アジレントの販売代理店または営業担当に
今年の会議では、メタロミクスとプロ お問い合わせください。www.agilent.com/chem/jp
テオミクスに関するセッションも目立
ち、この分野で多くの研究活動が行われていることがうかがえました。

展示会と国際会議

Agilent 半導体セミナー
例年通り、会期中に会場内で行われた 2008 年 6 月 3 日（東京）、5 日（大阪）
Agilent ICP-MS ユーザミーティング 2008 分析展には、180 名以上のユーザ様にご参加 2008 年 9 月 3 日 〜 5 日、幕張メッセ
い た だ き ま し た 。 司 会 者 の Chris http://www.jaimashow.jp
Scanlon は新たな趣向の「元素ビンゴ」 2008 Asia Pacific Winter Conference( 番 号 の 代 わ り に 元 素 記 号 を ビ ン ゴ 2008 年 11 月 16 日 〜 21 日、つくば市
カードに使用したもの ) で会場を盛り http://envsun.chem.chuo-u.ac.jp/plasma/2008apwc.htm
上げました。参加された方にも楽しんでいただけたようです。

ICP-MS 関連資料

次回の Winter Conference は、2008 最新の資料の閲覧、ダウンロードは、www.agilent.com/chem/jp の「ライブ
年 11 月 16 〜 21 日、日本のつくば市 ラリ」から検索してください。
と、2009 年 2 月 17 〜 20 日、オース• アプリケーションノート: ORS 搭載 7500ce ICP-MS によるバイオディーゼルのトリアの Graz です。皆様とお会いで直接元素分析、5989-7649EN (英語版)
きることを楽しみにしています。
• ユーザ様事例:サノフィ・アベンティス、臨床サンプル中オキサリプラチンのハイスループット分析、5989-7077EN (英語版)
表紙写真:「分光学的手法による極微量元素分析法の開発とその普及」により、日本分析化学会から技術功績表彰を受けたアジレントの高橋純一博士 (写真左)。
本誌に記載の情報は予告なく変更される場合があります。また、発行時点で終了しているキャンペーン、イベントなどが含まれる場合があります。

© Agilent Technologies, Inc. 2008
Printed in Japan、February 25, 2008
5989-7727JAJP

Agilent ICP-MS ジャーナル編集者

Karen Morton、Agilent Technologies
e-mail: editor@agilent.com