Agilent ICP-MS ジャーナル

2020 年10 月 - 第 82 号

Agilent ICP-MS メソッドによる幅広い汚染物質の測定
1 ページ

Agilent ICP-MS メソッドによる幅広い汚染物質の測定

2-3 ページ

GC-ICP-QQQ メソッドによる、

III-V 族化合物半導体の製造に用いられるアルシンガス中の微量汚染物質の測定

4-5 ページ

乳児用米シリアル中の無機ヒ素に対して新たに承認された米国

ICP-MS は、多様なサンプル中の汚染物質を正確に測定できる分析法として幅広い業界で使用されています。今号の Agilent ICP-MS ジャーナルでは、まったく異 なる 2 つのICP-MS アプリケーションを通して、その優れた分析性能を具体的に紹介します。

米国 Consci 社のアプリケーションを取り上げた記事では、ガリウムヒ素をはじめとする化合物半導体の製造に用いられる前駆体であるアルシン（AsH3）中の微量の水素化物
ガス汚染物質を測定する新しい GC-ICP-QQQ メソッドについて説明します。

乳児用米シリアル中の無機ヒ素の分析法として FDA が新たに定めた HPLC と ICP-MS

を組み合わせたメソッドに関する記事では、食品中の汚染物質のモニタリングについて考察します。

先日、アジレント主催のオンラインウェビナーシリーズが日本の半導体業界の ICP-QQQ

ユーザーを対象に開催されました。一連のウェビナーでは、有機溶媒中の微量塩素の分

析や、ppq 濃度で含まれる粒径 15 nm までの鉄ナノ粒子の分析などのトピックが取り上げられました。

FDA の許容限度の測定をHPLC-ICP-MS がサポート

6 ページ

アジレント主催の半導体ユーザー

向けライブウェビナーで ICP-QQQ を用いた最新ソリューションを紹介

7 ページ

ICP メソッドのデータ品質向上に関するウェビナーシリーズの
要約記事

8 ページ

ICP-MS/MS を用いた硫黄分析に関する Spectroscopy 掲載記事、最新の Agilent ICP-MS 関連資料

図 1. Agilent 7900 ICP-MS と Agilent 1260 HPLC の組み合わせ：

アジレントが提供する統合スペシエーションシステムの例

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GC-ICP-QQQ メソッドによる、III-V 族化合物半導体の製造に用いられるアルシンガス中の微量汚染物質の測定

William M. Geiger1, Blake McElmurry1, Jesus Anguiano1, Mark Kelinske2. 1Consci, Ltd., Pasadena, Texas, USA, 2Agilent
Technologies Inc.
シリコン半導体を超える特性

現代のエレクトロニクスは、そのほとんどにシリコン（Si）半導体が使用されていますが、異なる特性を持つ代替材料を必要とする機器もあります。Si 半導体に代わる半導体の 1 つが、周期表の III 族元素と V 族元素を材料とする III-V 族化合物半導体です。一般に、これらの III-V 族化合

物は、Al、Ga、または In（III 族元素）と N、P、As、または Sb（V 族元素）で構成されます。代表的なものとして、ガリウムヒ素（GaAs）、アルミニ

ウムガリウムヒ素（AlGaAs）、窒化インジウムガリウムヒ素（InGaAsN）
があり、そのすべての製造に、前駆体としてアルシンガス（AsH3）が使用されています。

III-V 化合物 には、Si より「キャリア移動度」が 高 い、 つまり電荷 が 結

晶格子内 をより自由 に通過できるという特長 があります。この性質 により、消費電力と発熱を抑えながら性能およびチップ密度を高 めることができます。これは、マイクロエレクトロニクスにおいてきわめて重要な要

素です。その結果、III-V 族化合物半導体は、高電子移動度トランジスタ（HEMT）や 電界効果トランジスタ（FET）などの 機器 への 普及 が 進 ん

図 1.半導体材料とドーパントに応じて、多様な波長で発光する LED を製造できます。

半導体機器の電気的特性および光学的特性は、混合材料と意図的に添でいます。

加されるドーパント元素によって制御されます。ただし、不要な汚染物質が可能 なことです。これは、ますます成長するオプトエレクトロニクス分

プやキャリア移動度の変化、降伏電圧の低下などが引き起こされます。

ター、ディスプレイ、家電製品、照光式スイッチ、および赤外線リモコンにの汚染による影響は、III-V 族化合物半導体を使用して製造された機器のIII-V 族化合物半導体のもう 1 つの利点は、Si 半導体とは異なり、発光野に不可欠 な機能です。実際、発光ダイオード（LED）は、照明、モニ広く使用されています。この他、光通信の効率を高める垂直キャビティ面

発光レーザー（VCSEL）にも III-V 族化合物半導体が利用されています。

オプトエレクトロニクス機器の特性 は、半導体の組成により制御されます。例えば、LED の発光波長は、使用半導体材料の「バンドギャップ」（またはエネルギーギャップ）*で決まります。赤外から可視、紫外まで、さま

ざまな波長で発光するバンドギャップを持つ LED の製造には、3 元素または 4 元素が混合された III-V 族化合物が使用されています。また、光子エネルギー （光）を電子移動度に変換する逆プロセスは、太陽光発電（PV）を支える原理となっています。

* バンドギャップとは、「束縛」電子の最高エネルギー準位と「可動」電子の最低エネルギー準位の差です。電子は、これらの状態間で遷移するときに固有波長で発光します。

2が混入すると、材料の特性にも影響し、半導体材料のエネルギーギャッ

また、Si、P、S、Ge などの n 型の（負電荷を持つ）ドーパント元素由来

性能と信頼性にまでおよびます。こういった問題を防ぐために、アルシン前駆体中のシラン（SiH4）、ホスフィン（PH3）、硫化水素（H2S）、およびゲルマン（GeH4）不純物の濃度を測定することがきわめて重要になります。スチビン（SbH3）、セレン化水素（H2Se）、およびスタンナン（SnH4）の分析が必要になる場合もあります。

2020 年10 月 - 第 82 号

ゲルマン

シラン

2

H2S

28 -> 28
31 -> 47
32 -> 4874 -> 74x10 5

アルシン排気

ホスフィン

1

0

16

17

シランメソッド

19

18
RT(min)H₂S メソッド

ゲルマン/ホスフィン
メソッド

図 2.アルシンガス中の重要な汚染物質のクロマトグラムの重ね表示。GC-ICP-QQQ でマルチチューンプログラムにより溶出時間に従って条件を切り替えることで、すべての成分が 1 回の分析で測定されています。

ゲルマニウム汚染物質は特に懸念の対象であることから、アルシン中のGeH4 不純物については、1 桁以下の ppb レベルで測定する必要があります。
ガスクロマトグラフィー（GC）と ICP-MS を組み合わせた分析法が、および H2S の検出下限
表 1. GC-ICP-QQQ で測定されたアルシン中の SiH4、GeH4、PH3、リテンションタイ 24 ppb 標準ガスの
ム（秒）

面積

S/N

3 シグマ

DL、ppbv

SiH4

992

308146140

0.51

現在、アルシン中にサブ ppb レベルで存在する GeH4 を測定可能な唯一

GeH4

1037

438374

8000

0.01

実験方法

PH3

1057

60451

4700

0.02

H2S

1112

883099490

0.15の手法です。

アルシン 中 の 不 純 物 の 分 離 および 検 出 には、Agilent 7890B GC とAgilent 8900 トリプル四重極 ICP-MS （ICP-QQQ）を組み合わせたシス

テムを使用しました。Agilent GC-ICP-MS のインタフェースは、高流量

結論の溶出時間で排気し、ICP-MS トーチへのマトリックスの侵入を防ぐこと

る SiH4、PH3、H2S、および GeH4 を GC カラム 1 つ、かつ 1 回のDeans スイッチを使用して改良しました。この変更により、アルシンをそができました。
GC-ICP-QQQ の使用条件とデータ採取の条件については、

アプリケーションノート（1）をご覧ください。

結果と考察

図 2 に、SiH4、PH3、H2S、および GeH4 を 24 ppb（体積濃度）で含む

アルシン標準ガスのクロマトグラムの重ね表示を示します。各化合物を最適な条件下で測定するために、分析中にメソッド設定および取り込みパラ

メータを自動的に切り替えました。最適化されたマルチチューンメソッドにより達成した検出下限を表 1 に示します。

GC-ICP-QQQ を使用して、アルシン中にサブ ppbv レベルで含まれ注入で分離し、測定しました。

H2 および O2 セルガスを使用した MS/MS モードで 8900 ICP-QQQ を動作させることにより、すべての化合物について優れた検出下限を達成できました。また、マルチチューンメソッドを使用することで、信号を最大限に平均化し、1 回の注入ですべての汚染化合物を低い DL で測定することができました。

詳細情報

1. W. M. Geiger et al. Agilent publication, 5994-2213EN
警告：アルシンをはじめとする水素化物ガスは、毒性があり危険です。
取り扱う際は、適切なすべての安全手順に従ってください。

3

2020 年10 月 - 第 82 号

乳児用米シリアル中の無機ヒ素に対して新たに承認された
米国 FDA の許容限度の測定を HPLC-ICP-MS がサポート
Jenny Nelson1,2, 1University of California, Davis, USA, 2Agilent Technologies, Inc.
乳児用米製品メーカー向けガイダンス

総 As とスペシエーション測定の無機ヒ素（iAs）に関する業界向 けガイダンスを完成させました（1）。

ルについて、総 As 含有量を分析することを勧告しています。総 As 含有れたのは 2016 年 4 月であり、業界には十分な準備期間が与えられまし

置限界への適合性を評価する必要があります。FDA の元素分析マニュア

2020 年 8 月に、米国食品医薬品局（FDA）は、乳児用米シリアル中iAs 濃度 100 µg/kg（ppb）という新しい「対策レベル」が最初に公表さ

FDA は、食品メーカーに対し、米を原材料とするすべての乳児用シリア

量が 100 ppb を超えるサンプルは、さらに無機 As を分析し、iAs の処た。この限度は、乳児の健康に対する iAs のリスク評価にもとづき、現行

ル （EAM）：セクション 4.11（2）では、HPLC-ICP-MS を使用して、乳るレベルを考慮して定められています。

推奨されています。

の医薬品適正製造基準（cGMP）への準拠 に取り組 む業界 が達成し得米に含まれるヒ素

ヒ素（As）は、曝露レベルが低くても、ヒトに対する毒性や発がん性があ

児用米シリアル中の iAs を As(III) と As(V) の合計として測定することが食品メーカーは、このメソッドを原材料中の総 As および iAs の検査にも役立てることができ、iAs が検出された原材料を置き換えることで、最終製品の食用としての安全性を確保できます。iAs 含有量が 100 ppb を超ることがわかっています（1）。As には、環境で自然発生するものもあれ

える乳児用米シリアル製品は、食品医薬品化粧品法の第 402 条 (a)(1)

精製、木材防腐剤、農薬などが環境汚染源となっています。

ります（1）。

由来のヒ素の蓄積効率が特に高くなります。また、乳幼児 は 成人よりも実績ある Agilent HPLC-ICP-MS メソッド

ば、人間活動の結果として存在するものもあり、採鉱、鉱石の精錬およびイネは生育環境が水田であることから、ヒ素化合物を吸収しやすく、環境

体重に対する食品の消費量が多いため、As への曝露リスクがより高く、乳児が摂取する飲食物が限定的であることも、高い曝露リスクに寄与しています。

の規定により偽和物が混入されているものと見なされ、調査の対象にな

アジレントは長年にわたり、第一線で活躍する多くの外部研究グループの協力のもと、食品および飲料中の iAs を測定するための堅牢性と信頼性に優 れたソリューションを提供してきました。FDA の新たな処置限界と、食品汚染物質に対する人々の懸念を背景に、今後、食品中の iAs のルー重視すべき無機ヒ素

チンモニタリングに対する必要性が高まることが予測されます。

種である亜ヒ酸塩（As III）とヒ酸塩（As V）は、モノメチルアルソン酸と統合されたソフトウェアコントロールにより、Agilent HPLC システムとAs の 毒性 は、 その 化学形態と酸化状態 によって変化します。無機 As（MMA）やジメチルアルシン酸（DMA）などのメチル化有機種よりも高い毒性を有し、As(III) が最も高い毒性を示します。FDA が米シリアル中の iAs に対して定めた対策レベルの狙いは、最も毒性の高い As 形態への乳児の食物曝露を低減することにあります。

Agilent ICP-MS および ICP-QQQ 機器は、最適化されたインタフェース

シームレスに連携します。この連結 システムは、設定や操作を ICP-MS

MassHunter ソフトウェアから直接行えるため、シンプルな自動分析が実現します。

Agilent HPLC-ICP-MS システムを使用したある調査では、EAM 4.11

メソッドを適用して、31 種類 の 乳児用米 シリアル 中 の、As(III) およびAs(V) を含 む 4 種類 の As 種 を測定しました（3、4）。アニオン交換

HPLC でイソクラティック法により 4 種類の As 種を分離し、ICP-MS で分離ピークを検出しました。その結果を図 1 に示します。

42020 年10 月 - 第 82 号

表 1. 乳児用米のマーケットバスケットサンプル 6 種類中の As 種を HPLC-ICP-MS により2 回ずつ測定した定量結果（単位：μg/kg（ppb））
（6）
乳児用米

シリアルサンプル

図 1. Agilent HPLC-ICP-MS システムで測定した 5 種類の米シリアル中の As クロマトグラムの重ね表示（4）

DMA

MMA

無機ヒ素

濃度（ppb）

A_1

11.4

ND

63.3

A_2

11.2

ND

62.3

B_1

12.5

ND

53.6

B_2

14.9

ND

56.4

C_1

33.9

ND

106.4

C_2

36.0

ND

113.5

D_1

15.4

ND

102.6

D_2

15.1

ND

103.6

E_1

41.9

2.2

87.9

E_2

39.0

2.3

82.1

F_1

46.4

8.7

89.4

F_2

46.7

9.0

90.4

iAs に対する

FDA の処置限界
合格

合格

不合格

不合格

合格

合格

ND = 不検出

結論

Agilent HPLC-ICP-MS メソッドを使用することで、米および米を原材料とする乳児用シリアル中の iAs のルーチンモニタリングが可能 になります。これにより、食品メーカーは、規制項目への適合性を確保することが
できます。

参考文献

1. US FDA, Guidance for Industry: Action Level for
図 2. HPLC-ICP-MS による As(III) および As(V) の検量線

Inorganic Arsenic in Rice Cereals for Infants, accessed
Sept. 2020

HPLC-ICP-MS メソッドの 優 れ た 感 度（LOD お よ び LOQ）と 精 度

2. US FDA EAM 4.11 Arsenic Speciation in Rice and Rice

別の調査では、Agilent HPLC-ICP-MS システムを使用して、乳児用米シ

3. R. Juskelis, W. Li, J. Nelson, J. C. Cappozzo, J. Agric.

した（5、6）。サンプル前処理時に As(III) を H2O2 を用いて As(V) に酸

4. R. Juskelis, J. Cappozzo, J. Nelson, Agilent publication,（%RSD）により、すべてのヒ素種を低濃度で検出することができました。

リアル中の iAs を測定するための高速スクリーニングメソッドを開発しま化することにより、分離を高速化できました。その後、総 iAs （As(III) とAs(V) の合計）を As(V) として定量しました。これにより、完全なスペシ

Products Using HPLC-ICP-MS, accessed Sept. 2020
Food Chem. 2013, 61, 45, 10670–10676
5991-2568EN

エーション分析が 2 分未満で完了しました。これは EAM 4.11 メソッド

5. P. J. Gray, C. K. Tanabe, S. E. Ebeler, J. Nelson, J. Anal.

メソッドよりも低い LOD および LOQ が得られました。表 2 に示す結果か

6. C. K. Tanabe, S. E. Ebeler, J. Nelson, Agilent publication,の 10 倍のスピードです。高速 HPLC-ICP-MS メソッドでは、EAM 4.11

ら、測定したサンプルのうち 2 つのサンプルの iAs の含有量が FDA の新

しい対策レベル 100 ppb を超えていることがわかります。

At.Spectrom., 2017, 32, 1031-1034
5991-9488EN

5

2020 年10 月 - 第 82 号

アジレント主催の半導体ユーザー向けライブウェビナーで
ICP-QQQ を用いた最新ソリューションを紹介
Masahiko Endo, Agilent Technologies, Inc.
はじめに

現在、新型コロナウイルスの影響により通常の日常とはかけ離れた状況にありますが、主要な半導体メーカーおよびサプライヤの業界エキスパー

トとアジレントとの密接な協力関係は、変 わりなく継続しています。大きな成功を収 めた前回のライブセミナー （Agilent ICP-MS ジャーナル 第78 号（1）の会議レポートを参照）に続き、先日、アジレント主催の半導体ユーザー向けライブオンラインセミナーが日本で開催されました。

2020 年の会議は、半導体業界におけるトリプル四重極 ICP-MS の新たなアプリケーションとメソッドをテーマに、9 月および 10 月の 2 日間にわたって行われました。

株式会社イアスの代表取締役である川端克彦氏を講師として迎え、招待講演を行いました。川端氏には、Si ウエハの統合 VPD 分析についてお話いただき、半導体プロセス試薬中の微量金属不純物の ICP-MS 分析に役立つオンライン自動標準添加装置をご紹介いただきました。また、イアス社が提供する、半導体ガス分析および半導体試薬中のナノ粒子分析のためのソリューションについて説明していただきました。

アジレントの ICP-MS アプリケーションケミストスペシャリストである島村佳典は、半導体アプリケーションにおける単一粒子分析について取り上げました。これは、半導体分野のお客様にとって関心の高いトピックです。半導体製造プロセスで使用される薬液中の金属不純物 に対する管理が年々厳しくなる中、金属ナノ粒子測定のニーズが高まっています。こういった状況を踏まえ、島村は、最も重要な汚染元素の 1 つである鉄に注目し、これまで ICP-MS では測定不可能だった、ppq 濃度で存在する
わずか 15 nm の Fe3O4 を検出することのできる ICP-QQQ メソッドを紹介しました。

アジレントのシニア ICP-MS アプリケーションケミストである溝渕勝男は、

ICP-QQQ による有機マトリックス中の Cl 測定の原理と最適化について説明しました。従来、ICP-MS では非常に困難とされてきた有機溶媒中の塩素分析が、ICP-MS/MS を使用することで低濃度でも行えるようになります。

ICP-QQQ ユーザーイベントのプログラム内容2020 年 Agilent ICP-QQQ 半導体セミナーのセッションは、2 日間にわたり以下の日程で行われました。

1 日目
•

•

半導体分野 におけるオンライン ICP-MS 分析（株式会社 イアスによる招待講演）

Single Particle ICP-MS による Fe ナノ粒子の分析

2 日目
•

•

6

ICP-QQQ を用いた有機溶媒中の塩素分析と反応機構の考察

アジレント無機分析装置をはじめ半導体関連ソリューションのご紹介

アジレントの原子吸光製品スペシャリストである宮下和彦 は、半導体業

界向 けにアジレントが提供している幅広い原子吸光分析およびクロマト

グラフィーソリューションを紹介しました。原子吸光から ICP-OES および

ICP-MS（2）まで、豊富な無機アナライザの応用例と、Agilent GC/MS

および LC TOF を使用した半導体関連分析について説明しました。

参考文献

1. Agilent ICP-MS Journal issue 78, 2019, Agilent publication
5994-1490EN
2. Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor
Manufacturing, 5991-9495EN

2020 年10 月 - 第 82 号

ICP メソッドのデータ品質向上に関するウェビナーシリーズの要約記事

Ed McCurdy and Ross Ashdown, Agilent Technologies, Inc.
先日、アジレントは ICP のデータ品質の向上をテーマとしたウェビナーをイベント 2. 第 2 部のウェビナーの要約記事では、ICP 装置の設定およオンデマンドで視聴いただいた皆様に感謝いたします。ライブ放送は、従めて解決する方法について取り上げています。通常、規制メソッドおよび開催しました。そのライブ放送に参加いただいた皆様、またウェビナーをび最適化と新しいソフトウェアツールにより、多くのエラー原因を突き止来のウェビナーを上回る参加者数を記録し、Q&A セッションでも非常にルーチンメソッドには、既知のエラーを捕捉するための品質管理（QC）に回答できなかったため、補足として Q&A 要約を作成し、参加いただいメソッド開発時に使用した CRM や標準溶液と異 なる場合 は、このアプ

記事を読むツールを使用することで、装置の状態やサンプルに関する洞察が得られ活発な質疑応答が行われました。残念ながら、その場ではすべての質問

た皆様に配信しています。

チェックが組み込まれています。ただし、ルーチン分析で扱うサンプルが、ローチが必ずしも機能するとは限りません。

IntelliQuant や Neb Alert をはじめとするアジレントの 新しいスマート

各 ウェビ ナ ー の 主 な 対 象 分 野 を 取 り 上 げ た 一 連 の 要 約 記 事 をます。サンプルが通常とは 異 なっていたり一定でない場合 も、結果の精に、内容を紹介します。

することの重要性について説明します。さらに、ヘリウムコリジョンリアク

Spectroscopy で誰でも無料でご覧いただけるようになりました。以下

度を確保できます。また、プラズマの堅牢化のために ICP-MS を最適化

ションセルモードを使用して多原子干渉を抑制する方法を、実際の分析

例を用いて解説します。

イベント 3. ウェビナーシリーズの 最後 の 記事では、ICP メソッドを新しいアプリケーション分野やサンプルに拡張することが、 なぜ、それまで 起 きていなかった 新 たなエラーや 干渉 につながるのかを示します。

IntelliQuant スクリーニングは、混合サンプルバッチ中の予測外のマトリックス成分を同定し、補正するうえで役立ちます。

ICP-MS メソッドを新しいサンプルに使用する場合は、クオリファイア同位体を使用して結果を確認することで、信頼性を高めることができます。

また、新しいハーフマス補正アプローチにより、As および Se に対する二価イオンの干渉を解消できます。さらに、トリプル四重極 ICP-MS では、ICP-MS の能力が拡張され、より複雑なサンプルや、これまで測定が困難だった硫黄、塩素、フッ素などの元素を分析できるようになります。

ICP-MS/MS の優 れたアバンダンス感度により、いかに隣接する質量数イベント 1. 第 1 部のウェビナーの要約記事では、ICP-OES および ICP-のオーバーラップを解決し、元素の微量分析を行えるのかも示します。

す。サンプル前処理からマトリックス抑制およびスペクトルのオーバーラッ

公開中のウェブキャストにアクセスする

特に、バックグラウンド補正のアプローチが ICP-OES のデータ品質の向視聴いただけます。

MS メソッドで生じるエラーや干渉の主 な原因 について取り上 げていま

プまで、エラーを突き止めて解決する方法について説明します。

上にいかに役立つのかを解説します。また、HCl を使用して、Ag や Hgなど、ICP-MS の一般的 な分析成分を安定化させる方法を紹介します。

以下のリンクから、3 部構成のウェビナーシリーズをすべてオンデマンドで

ICP メソッドのエラーと干渉に関するウェビナーシリーズ

もう 1 つ役立つヒントとして、内部標準の信号をモニターすることにより、

マトリックス抑制を突き止める方法も示します。

7

ICP-MS/MS を用いた硫黄分析に関する Spectroscopy 掲載記事

Spectroscopy の最新特別号「ICP-OES and ICP-MS Techniques

for Today� s Spectroscopists」が 2020 年 9 月に公開されました。

この特別号には、アジレントの ICP-MS スペシャリストである Ed

McCurdy、Glenn Woods、Bastian Georg、および杉山 尚樹の 共著 による 論文「Accurate, Low-Level Sulfur Analysis by

ICP-MS Using MS/MS with Oxygen Reaction Cell Gas（MS/MS モードおよび酸素リアクションセルガスを用いた ICP-MS による正確な微量硫黄分析）」が掲載されています。

この記事では、幅広いアプリケーションにおける硫黄の正確な微量分析の必要性と、シングル四重極 ICP-MS でこの元素を容易に測定できない理由を論じています。また、ICP-MS では従来不可能だった低濃度の硫黄を、ICP-MS/MS によりいかに正確に測定できるのかを説明しています。

このメソッドでは、MS/MS で酸素リアクションガスを使用してSO+ プロダクトイオンを生成することにより、他の元素（31P など）から干渉を受けることなく 32S16O+ プロダクトイオンを測定できます。

また、同位体比分析への MS/MS の適用についても探究しています。硫黄の他の同位体による同位体相互のオーバーラップを回避するためには、セル前のマスフィルタを 1 u の質量分解能で動作させる必要があります。

その理由を示すデータ例が掲載されています。例えば、34S16O+ にオーバーラップする可能性のあるプロダクト

イオン 32S18O+ は、MS/MS を使用して、34S の測定時にセルから 32S イオンを排除することにより回避できます。

オンライン論文へのアクセスはこちら：https://www.spectroscopyonline.com/view/accurate-low-level-sulfur-analysis-by-icp-ms-using-ms-ms-with-oxygen-reaction-cell-gas

特別号全文の PDF のダウンロードはこちら：https://cdn.sanity.io/files/0vv8moc6/spectroscopy/ceb

db01a7c434e23e03df6b00fd1ce73e0db6ab6.pdf

最新の Agilent ICP-MS 関連資料•

アプリケーションノート：Characterization of Rare Earth Elements used for Radiolabeling

Applications by ICP-QQQ: Analysis of gadolinium (III) oxide and terbium using ICP-MS/MS
with oxygen cell gas, 5994-2389EN•

アプリケーションノート：Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by

GC-ICP-QQQ: Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using a single column,
single injection volume, and multi-tune method, 5994-2213EN

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アジレント・テクノロジー株式会社© Agilent Technologies, Inc. 2020
Printed in Japan, October 15, 2020
5994-2433JAJP
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