Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月25日(2017.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャビネット内の空気通路に前側熱交換器および後側熱交換器が配設され、両熱交換器で囲まれた空間内にファンが配設され、前記前側熱交換器で生じたドレン水を受ける前側ドレンパンが前側熱交換器の下方に配置され、前記後側熱交換器に生じたドレン水を受ける後側ドレンパンが後側熱交換器の下方に配置され、前記後側ドレンパンのドレン水を前記前側ドレンパンに導く導水路が空気通路の側方に設けられ、前記導水路の前端が前側ドレンパンの上方に位置する空気調和機の排水構造において、
前記導水路の前端には、空気通路側とは反対側の反空気通路側に向かって下方に傾斜する前方壁が設けられ、
該前方壁の下端には、下方に向かって延びる下方壁が設けられ、
前記前方壁および前記下方壁の後側には後方壁が設けられ、該後方壁は、空気通路側の端部が前記下方壁よりも空気通路側に位置し、反空気通路側の端部が前記下方壁よりも反空気通路側に位置し、上端が前記前方壁の下端よりも上に位置し、下端が前記前方壁の下端よりも下に位置することを特徴とする空気調和機の排水構造。
【請求項２】
前記後方壁は前方に向かって下方に傾斜していることを特徴とする請求項１に記載の空気調和機の排水構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る空気調和機では、キャビネット内の空気通路に前側熱交換器および後側熱交換器が配設され、両熱交換器で囲まれた空間内にファンが配設され、前記前側熱交換器で生じたドレン水を受ける前側ドレンパンが前側熱交換器の下方に配置され、前記後側熱交換器に生じたドレン水を受ける後側ドレンパンが後側熱交換器の下方に配置され、前記後側ドレンパンのドレン水を前記前側ドレンパンに導く導水路が空気通路の側方に設けられ、前記導水路の前端が前側ドレンパンの上方に位置する空気調和機の排水構造において、前記導水路の前端には、空気通路側とは反対側の反空気通路側に向かって下方に傾斜する前方壁が設けられ、該前方壁の下端には、下方に向かって延びる下方壁が設けられ、
前記前方壁および前記下方壁の後側には後方壁が設けられ、該後方壁は、空気通路側の端部が前記下方壁よりも空気通路側に位置し、反空気通路側の端部が前記下方壁よりも反空気通路側に位置し、上端が前記前方壁の下端よりも上に位置し、下端が前記前方壁の下端よりも下に位置することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
第３実施例の延長壁として、前方延長壁４０と後方延長壁４１とを一連の壁となるように組み合わせたものであってもよい。このとき、前方延長壁４０と後方延長壁４１との間を湾曲面として、滴下部３６の側方から後方を囲む一連の延長壁とする。なお、下方延長壁４２，４３は上記実施例と同様に設けられる。
＜付記＞
本発明に係る空気調和機では、キャビネット内の空気通路に前側熱交換器および後側熱交換器が配設され、両熱交換器で囲まれた空間内にファンが配設され、前側熱交換器で生じたドレン水を受ける前側ドレンパンが前側熱交換器の下方に配置され、後側熱交換器に生じたドレン水を受ける後側ドレンパンが後側熱交換器の下方に配置され、後側ドレンパンのドレン水を前側ドレンパンに導く導水路が空気通路の側方に設けられ、導水路の前端の滴下部が前側ドレンパンの上方に位置する。空気通路が負圧になったときに滴下部の近傍に生じる風の流れ方向において風を遮るように、複数の延長壁が滴下部の周囲に形成される。
複数の延長壁が滴下部の周囲を取り囲むことにより、滴下部の周囲を流れる風が遮られ、滴下部から滴下するドレン水が風によって流されることを阻止できる。
空気通路の側壁と前側ドレンパンとの間に隙間があり、隙間と滴下部との間に各延長壁が設けられるようにしてもよい。ファンの駆動により、滴下部の周囲では、隙間に向かう風が生じる。しかし、延長壁が隙間と滴下部との間にあるので、隙間に向かう風の流れが変わり、ドレン水が隙間に引き寄せられにくくなる。
複数の延長壁は、少なくとも滴下部よりも空気通路側および後側にそれぞれ位置するようにしてもよい。滴下部の空気通路側の延長壁として、導水路の空気通路側の側壁が前方に延長されることにより前方延長壁が形成され、滴下部の後側の延長壁として、導水路の前端から下方に向かって延びた後方延長壁が形成されるようにしてもよい。ドレン水は滴下部から各延長壁を伝って落下し、落下するドレン水を隙間から遠ざけることができる。これにより、ドレン水は風の影響を受けにくくなる。
導水路の空気通路側の側壁に、下方に向かって延びる少なくとも１つの下方延長壁が形成されるようにしてもよい。ドレン水が各延長壁を越えて回り込んできても、下方延長壁によってドレン水が空気通路側に向かうことを阻止できる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月10日(2017.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水を収容させるバッグと、
透水性を有する生地で形成された衣服本体と、
該衣服本体の表面に配設されていると共に、両端がそれぞれ前記バッグに接続されているパイプと、
該パイプの周壁に貫設された複数の小孔部と、
前記バッグが収容する水を、前記パイプの一端から他端に流通させると共に、流通する水の一部を前記小孔部から外部に滲出させるポンプと、
を具備することを特徴とする冷却衣服。
【請求項２】
前記バッグから水を吸引し、前記衣服本体の表面に向かうノズルから噴霧する噴霧器を、
更に具備することを特徴とする請求項１に記載の冷却衣服。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月15日(2016.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シロキサン結合及びウレタン結合を有することを特徴とする含フッ素塗膜。
【請求項２】
フルオロポリマー（Ａ）及びアクリルポリマー（Ｂ）を含む請求項１記載の含フッ素塗膜。
【請求項３】
フルオロポリマー（Ａ）とアクリルポリマー（Ｂ）との質量比（Ａ／Ｂ）が５０／５０〜９０／１０である請求項２記載の含フッ素塗膜。
【請求項４】
非反応性アニオン界面活性剤及び非反応性ノニオン界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種を含む請求項１、２又は３記載の含フッ素塗膜。
【請求項５】
活性水素を持たない造膜助剤を含む請求項１、２、３又は４記載の含フッ素塗膜。
【請求項６】
クリア塗膜である請求項１、２、３、４又は５記載の含フッ素塗膜。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月4日(2017.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
取り付けたメータを撮影する撮影手段と、
前記撮影手段の撮像データを画像処理することによって前記メータの特徴情報を抽出する抽出手段と、
施設に設置されている各メータの特徴情報を少なくとも含むメータ管理情報を記憶する記憶手段と、
前記抽出手段により抽出されたメータの特徴情報と合致する特徴情報を含むメータ管理情報に対応するメータを特定する特定手段と、
前記特定手段により特定されたメータの識別情報を出力する出力手段と、
を有することを特徴とするメータ取付支援システム。
【請求項２】
前記抽出手段は、メータ値、メータ値を表示する表示部の桁数、又は前記表示部における小数点位置の少なくとも1つを特徴情報として前記撮像データから抽出することを特徴とする請求項１に記載のメータ取付支援システム。
【請求項３】
取り付けたメータを撮影する撮影手段から取得した撮像データを画像処理することによって前記メータの特徴情報を抽出する抽出手段と、
施設に設置されているメータの管理を行う管理装置から各メータの特徴情報を少なくとも含むメータ管理情報を取得する取得手段と、
前記抽出手段により抽出されたメータの特徴情報と合致する特徴情報を含むメータ管理情報に対応するメータを特定する特定手段と、
前記特定手段により特定されたメータの識別情報を出力する出力手段と、
を有することを特徴とするメータ取付支援装置。
【請求項４】
コンピュータを、
取り付けたメータを撮影する撮影手段から取得した撮像データを画像処理することによって前記メータの特徴情報を抽出する抽出手段、
施設に設置されているメータの管理を行う管理装置から各メータの特徴情報を少なくとも含むメータ管理情報を取得する取得手段、
前記抽出手段により抽出されたメータの特徴情報と合致する特徴情報を含むメータ管理情報に対応するメータを特定する特定手段、
前記特定手段により特定されたメータの識別情報を出力する出力手段と、
として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係るメータ取付支援システムは、取り付けたメータを撮影する撮影手段と、前記撮影手段の撮像データを画像処理することによって前記メータの特徴情報を抽出する抽出手段と、施設に設置されている各メータの特徴情報を少なくとも含むメータ管理情報を記憶する記憶手段と、前記抽出手段により抽出されたメータの特徴情報と合致する特徴情報を含むメータ管理情報に対応するメータを特定する特定手段と、前記特定手段により特定されたメータの識別情報を出力する出力手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係るメータ取付支援装置は、取り付けたメータを撮影する撮影手段から取得した撮像データを画像処理することによって前記メータの特徴情報を抽出する抽出手段と、施設に設置されているメータの管理を行う管理装置から各メータの特徴情報を少なくとも含むメータ管理情報を取得する取得手段と、前記抽出手段により抽出されたメータの特徴情報と合致する特徴情報を含むメータ管理情報に対応するメータを特定する特定手段と、前記特定手段により特定されたメータの識別情報を出力する出力手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に係るプログラムは、コンピュータを、取り付けたメータを撮影する撮影手段から取得した撮像データを画像処理することによって前記メータの特徴情報を抽出する抽出手段、施設に設置されているメータの管理を行う管理装置から各メータの特徴情報を少なくとも含むメータ管理情報を取得する取得手段、前記抽出手段により抽出されたメータの特徴情報と合致する特徴情報を含むメータ管理情報に対応するメータを特定する特定手段、前記特定手段により特定されたメータの識別情報を出力する出力手段、として機能させる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月4日(2017.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸線方向に延び、酸素イオン伝導性を有するＺｒＯ2を含む固体電解質体と、前記固体電解質体の一方の表面に設けられて被測定ガスと接する外側電極と、前記固体電解質体の他方の表面に設けられて基準ガスと接する内側電極と、を有すると共に、前記内側電極は、前記軸線方向の先端側に配置され、被測定ガス中の特定ガスを検知するために用いられる内側検知電極部と、前記内側検知電極部よりも後端側に配置されると共に、前記内側検知電極部に接続しつつ、外部出力するための接続端子が接触する内側リード部と、を含むガスセンサ素子において、
前記内側電極は、組成式：ＬａａＭｂＮｉｃＯｘ（ＭはＣｏとＦｅのうちの一種以上、ａ＋ｂ＋ｃ＝１、１．２５≦ｘ≦１．７５）で表されペロブスカイト型結晶構造を有するペロブスカイト相を主成分とする導電性酸化物層を含み、前記ａ，ｂ，ｃが、０．４５９≦ａ≦０．５３５、０．２００≦ｂ≦０．４７５、０．０２５≦ｃ≦０．３５０を満たし、
前記内側リード部は、前記導電性酸化物層と前記固体電解質体との間に、ランタンジルコネート層を有し、
前記内側検知電極部は、（ｉ）前記導電性酸化物層と前記固体電解質体との間にランタンジルコネート層が形成されていないか、又は、（ｉｉ）前記導電性酸化物層と前記固体電解質体との間に形成されたランタンジルコネート層が、前記内側リード部の前記ランタンジルコネート層よりも薄い、ことを特徴とするガスセンサ素子。
【請求項２】
請求項１に記載のガスセンサ素子であって、
前記内側検知電極部と前記固体電解質体との間に、希土類添加セリアが主成分として含まれてなる反応防止層を有する、ことを特徴とするガスセンサ素子。
【請求項３】
請求項２に記載のガスセンサ素子であって、
前記反応防止層は、前記ガスセンサ素子がガスセンサに組み込まれる際に前記ガスセンサ素子を保持する保持部材の位置よりも前記ガスセンサ素子の前記先端側の位置のみに設けられている、ことを特徴とするガスセンサ素子。
【請求項４】
請求項２又は３に記載のガスセンサ素子であって、
前記内側検知電極部は、前記反応防止層と前記導電性酸化物層の間に形成された中間導電層を有し、
前記導電性酸化物層は、希土類添加セリアを含まず、前記組成式で表されるペロブスカイト相で形成されており、
前記中間導電層は、前記組成式で表されるペロブスカイト相と、希土類添加セリアとを含む、ことを特徴とするガスセンサ素子。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のガスセンサ素子であって、
前記導電性酸化物層は、前記内側リード部を構成する第１導電性酸化物層と、前記内側検知電極部を構成する第２導電性酸化物層と、を含み、
前記第１導電性酸化物層と前記第２導電性酸化物層は、いずれも前記ペロブスカイト相と、希土類添加セリアとを含んでおり、
前記第２導電性酸化物層における希土類添加セリアの含有割合は、前記第１導電性酸化物層における希土類添加セリアの含有割合以上である、ことを特徴とするガスセンサ素子。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のガスセンサ素子と、前記ガスセンサ素子を保持する保持部材と、を備えることを特徴とするガスセンサ。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年12月5日(2016.12.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
プラットフォームは、平面状の下側面１１４に対してほぼ平行である平面状の上側面１１３を含むことができる。マニホルド１３４は、平面状の上側面と平面状の下側面との間に配置され、これらに対してほぼ平行とすることができる。熱伝達構造体及びマニホルド１３４は、作動時に高圧コネクタ１４８から低圧コネクタまでマニホルド１３４にわたってクーラントを導くように構成することができる。高圧コネクタがマニホルド１３４に接続される位置は、低圧コネクタ１４９がマニホルド１３４に接続される位置と、マニホルド１３４の少なくとも大部分にわたって、反対側にあってもよい。このようにして、高圧コネクタ１４８から低圧コネクタ１４９に流れるクーラントは、マニホルド１３４の大部分を横断することができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年2月22日(2017.2.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００２】
ガスタービンにおいては、設計目標を満足するようにガスタービンの各段にて多くのシステム要件を満足すべきである。これらの設計目標として、限定されるものではないが、効率及び翼形部負荷能力の全体的向上を挙げることができる。従って、タービンノズル翼形部プロファイルは、特定の段において熱的及び機械的作動要件を達成する必要がある。例えば、最終段ノズルは、外径付近に損失が格段に高い領域を有することがある。これらの損失は、内向きの負圧側面に沿った半径方向流れ移動に関連付けることができる。このような半径方向流れ移動は、混合損失と相俟ってブレード列の効率を低下しかねない。従って、半径方向流れ移動を低減し、それに伴って全圧力損失を低下させれば、全体的な性能及び効率が改善されるはずである。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月29日(2017.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
既知の間隔を有する左右のカメラで同一空間を撮影したステレオ画像のデータを取得する画像取得部と、
前記ステレオ画像の一方に設定した参照ブロックに対し他方に設定した探索範囲内で類似度の高い領域を検出するブロックマッチングを行うことにより対応点を検出し、その視差に基づき対象物のカメラからの距離を含む位置の情報を生成し出力する位置情報生成部と、
を備え、
前記位置情報生成部は、一旦、取得した対象物の前記位置の概略値に基づき、前記探索範囲の開始位置および長さを調整して決定したうえで前記ブロックマッチングを行うことにより、同じ対象物の最終的な前記位置の情報を生成することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記位置情報生成部は、前記概略値を取得するために対象物の距離を見積もる距離概略値取得部を含むことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記距離概略値取得部は、前記最終的な位置の情報を生成する際の探索範囲より広い探索範囲で前記ステレオ画像に対しブロックマッチングを行うことにより被写体のカメラからの距離を取得して、当該距離を画像平面に画素値として表した奥行き画像を生成し、前記ステレオ画像の一方から検出した対象物の像の領域を当てはめることにより、前記対象物の距離を見積もることを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記距離概略値取得部は、前記最終的な位置の情報を生成する際の探索範囲より広い探索範囲で前記ステレオ画像に対しブロックマッチングを行うことにより被写体のカメラからの距離を取得して、当該距離を画像平面に画素値として表した奥行き画像を生成したうえ、それに基づき距離値のヒストグラムを生成し、しきい値以上の画素数を有する距離に基づき前記対象物の距離を見積もることを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記距離概略値取得部が行うブロックマッチングは、その結果を用いて探索範囲を調整して行うブロックマッチングと比較し、低解像度のステレオ画像を用いる、より簡易な類似度計算手法を用いる、低頻度で実施する、のうち少なくともいずれかであることを特徴とする請求項３または４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記位置情報生成部は、前記距離概略値取得部が行ったブロックマッチングにより生成した奥行き画像のうち、前記対象物の領域を、その結果を用いて探索範囲を調整して行ったブロックマッチングにより生成した奥行き画像のデータに置換することにより、最終的な位置の情報を生成することを特徴とする請求項３から５のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記位置情報生成部は、前記距離概略値取得部が行ったブロックマッチング時に、対応するブロックを決定した根拠となった類似度と、探索範囲を調整して行ったブロックマッチング時に、対応するブロックを決定した根拠となった類似度とを比較し、後者が大きければ奥行き画像のデータを置換することを特徴とする請求項６に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記距離概略値取得部は、実空間に仮想的な検知面を設定し、それをステレオ画像の一方の画像に投影してなる検知領域と、他方の画像において前記検知領域に対応する領域を、前記検知面のカメラからの距離に対応する視差分だけ視差を解消する方向に平行移動させた視差補正領域とを設定し、ステレオ画像のうち前記検知領域と前記視差補正領域内の画像をマッチングすることで、前記検知面の位置に対象物が存在するか否かをマッチング評価値の高い画素の数に基づき判定し、その判定結果に基づき前記対象物の距離を見積もることを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記距離概略値取得部は、カメラからの距離が既知の所定位置にユーザを移動させる指示を表示装置またはスピーカーから出力させ、当該所定位置にユーザが移動した時点を判定することにより、前記対象物の距離を見積もることを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記位置情報生成部は、異なる複数の前記位置の概略値に対し、それぞれに対応する位置および長さに探索範囲を調整して前記ブロックマッチングを行うことにより、検出された対応点に基づきカメラからの距離を取得して、当該距離を画像平面に画素値として表した複数の奥行き画像を生成し、それらを合成することにより、最終的な前記位置の情報を生成することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項１１】
前記複数の位置の概略値は前景および背景の位置に対応し、背景に対するブロックマッチングは、前景に対するブロックマッチングと比較し、低解像度のステレオ画像を用いる、より簡易な類似度計算手法を用いる、低頻度で実施する、のうち少なくともいずれかであることを特徴とする請求項１０に記載の情報処理装置。
【請求項１２】
各位置の概略値に対応するブロックマッチング時に、対応するブロックを決定した根拠となった類似度を互いに比較し、類似度が大きい方のブロックマッチングにより生成された奥行き画像のデータを採用することにより奥行き画像を合成することを特徴とする請求項１０または１１に記載の情報処理装置。
【請求項１３】
前記位置の情報に基づき所定の情報処理を行い出力データを生成する出力情報生成部をさらに備えたことを特徴とする請求項１から１２のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項１４】
既知の間隔を有する左右のカメラで同一空間を撮影したステレオ画像のデータを撮像装置から取得するステップと、
前記ステレオ画像の一方に設定した参照ブロックに対し他方に設定した探索範囲内で類似度の高い領域を検出するブロックマッチングを行うことにより対応点を検出し、その視差に基づき対象物のカメラからの距離を含む位置の情報を生成し出力するステップと、
を含み、
前記位置の情報を生成するステップは、一旦、取得した対象物の前記位置の概略値に基づき、前記探索範囲の開始位置および長さを調整して決定したうえで前記ブロックマッチングを行うことにより、同じ対象物の最終的な前記位置の情報を生成することを特徴とする情報処理装置による情報処理方法。
【請求項１５】
既知の間隔を有する左右のカメラで同一空間を撮影したステレオ画像のデータを取得する機能と、
前記ステレオ画像の一方に設定した参照ブロックに対し他方に設定した探索範囲内で類似度の高い領域を検出するブロックマッチングを行うことにより対応点を検出し、その視差に基づき対象物のカメラからの距離を含む位置の情報を生成し出力する機能と、
をコンピュータに実現させ、
前記位置の情報を生成する機能は、一旦、取得した対象物の前記位置の概略値に基づき、前記探索範囲の開始位置および長さを調整して決定したうえでブロックマッチングを行うことにより、同じ対象物の最終的な前記位置の情報を生成することを特徴とするコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月3日(2017.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
第１導電型のドリフト層（１１）と、
前記ドリフト層の表層部に形成された第２導電型のベース層（１２）と、
前記ドリフト層のうちの前記ベース層側と反対側に形成された第２導電型のコレクタ層（２１）および第１導電型のカソード層（２２）と、を有する半導体基板（１０）を備え、
前記半導体基板のうちのＩＧＢＴ素子として動作する領域をＩＧＢＴ領域（１ａ）とすると共にダイオード素子として動作する領域をダイオード領域（１ｂ）として、前記ＩＧＢＴ領域と前記ダイオード領域とが交互に繰り返し形成されており、
前記ＩＧＢＴ領域と前記ダイオード領域とは、前記コレクタ層と前記カソード層との境界によって区画され、
前記コレクタ層と前記カソード層とが前記半導体基板の一面の一方向に沿って延設され、該一方向に対して直交する方向に交互に繰り返し形成されており、
前記コレクタ層を第１コレクタ層として、前記半導体基板のうちの前記第１コレクタ層および前記カソード層が形成された側の面に、前記第１コレクタ層よりも第２導電型不純物濃度が高くされた第２コレクタ層が備えられている半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明では、第１導電型のドリフト層（１１）と、ドリフト層の表層部に形成された第２導電型のベース層（１２）と、ドリフト層のうちのベース層側と反対側に形成された第２導電型のコレクタ層（２１）および第１導電型のカソード層（２２）と、を有する半導体基板（１０）を備え、半導体基板のうちのＩＧＢＴ素子として動作する領域をＩＧＢＴ領域（１ａ）とすると共にダイオード素子として動作する領域をダイオード領域（１ｂ）として、ＩＧＢＴ領域とダイオード領域とが交互に繰り返し形成されており、ＩＧＢＴ領域とダイオード領域とは、コレクタ層とカソード層との境界によって区画され、コレクタ層とカソード層とが半導体基板の一面の一方向に沿って延設され、該一方向に対して直交する方向に交互に繰り返し形成されており、前記コレクタ層を第１コレクタ層として、半導体基板のうちの第１コレクタ層およびカソード層が形成された側の面に、第１コレクタ層よりも第２導電型不純物濃度が高くされた第２コレクタ層が備えられている。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月22日(2017.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の解剖学的管腔網を通る経路を計画するためのシステムであって、前記システムは、
ＣＴ画像を分析および処理するように構成されたコンピュータプログラムを格納するメモリと、
前記コンピュータプログラムを実行するように構成されたプロセッサと、
前記コンピュータプログラムのユーザインタフェースを表示するように構成された表示装置であって、前記ユーザインタフェースは、
標的を含むＣＴ画像を表示する気道ファインダーウィンドウであって、前記ＣＴ画像は、ユーザが前記解剖学的管腔網の気道を特定するのを支援するために所定の回転軸の周りで回転可能である、気道ファインダーウィンドウ
を備える、表示装置と、
を備える、システム。
【請求項２】
前記所定の軸は、前記標的から前記解剖学的管腔網の公知の気道まで画定された軸である、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記所定の軸は、前記標的から前記解剖学的管腔網内の気管の一部まで画定された軸である、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記所定の軸は、前記標的から中間地点までの経路によって画定された軸である、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記所定の軸は、第１の中間地点から第２の中間地点までの経路によって画定された軸である、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記ユーザインタフェースは、前記ＣＴ画像の最初の回転の向きに対する前記ＣＴ画像の前記所定の軸の周りでの回転量を特定するように構成された回転インタフェースをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記プロセッサは、新しい中間地点についての位置を特定するユーザからの入力を受け取り、前記新しい中間地点を特定された位置に生成し、かつ前記ユーザインタフェース上での表示のために前記新しい中間地点を出力するように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記プロセッサは、前記標的および前の中間地点のうちの少なくとも１つから前記新しい中間地点までの経路を生成し、かつ前記ユーザインタフェース上での表示のために前記経路を出力するように構成されている、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記プロセッサは、前記新しい中間地点が前記解剖学的管腔網の公知の気道内に位置している場合、前記新しい中間地点から前記解剖学的管腔網の入口点までの経路を自動的に完成させ、かつ前記ユーザインタフェース上での表示のために自動的に完成された経路を出力するように構成されている、請求項７に記載のシステム。
【請求項１０】
患者の解剖学的管腔網を通る経路を計画するための方法であって、前記方法は、
回転軸を定める工程と、
ＣＴ画像を前記回転軸の周りで回転させる工程と、
回転されるＣＴ画像の気道内の新しい中間地点についての位置を示すユーザからの入力を受け取る工程と、
新しい中間地点を特定された気道内に設定する工程と、
前記新しい中間地点までの新しい経路を生成する工程と、
を備える、方法。
【請求項１１】
前記回転軸を定める工程は、標的から前記解剖学的管腔網の公知の気道までの回転軸を定めることを含み、前記新しい経路を生成する工程は、前記標的から前記新しい中間地点までの新しい経路を生成することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記回転軸を定める工程は、標的から前記解剖学的管腔網内の気管の一部までの回転軸を定めることを含み、前記新しい経路を生成する工程は、前記標的から前記新しい中間地点までの新しい経路を生成することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記回転軸を定める工程は、標的から中間地点までの経路に沿って前記回転軸を定めることを含み、前記新しい経路を生成する工程は、前記中間地点から前記新しい中間地点までの新しい経路を生成することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記回転軸を定める工程は、第１の中間地点から第２の中間地点までの経路に沿って前記回転軸を定めることを含み、前記新しい経路を生成する工程は、前記第２の中間地点から前記新しい中間地点までの新しい経路を生成することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記新しい中間地点が前記解剖学的管腔網の公知の気道内に配置されている場合、前記新しい中間地点から前記解剖学的管腔網の入口開口部までの経路を自動的に完成させる工程
をさらに備える、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
プロセッサによって実行されるときに、ユーザインタフェースに、
回転軸を定める工程と、
ＣＴ画像を前記回転軸の周りで回転させる工程と、
回転されるＣＴ画像の気道内の新しい中間地点についての位置を示すユーザからの入力を受け取る工程と、
新しい中間地点を特定された気道内に設定する工程と、
前記新しい中間地点までの新しい経路を生成する工程と、
を行わせるプログラムが記憶された非一時的コンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１７】
前記回転軸を定める工程は、標的から前記解剖学的管腔網の公知の気道までの回転軸を定めることを含み、前記新しい経路を生成する工程は、前記標的から前記新しい中間地点までの新しい経路を生成することを含む、請求項１６に記載の非一時的コンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１８】
前記回転軸を定める工程は、標的から中間地点までの経路に沿って前記回転軸を定めることを含み、前記新しい経路を生成する工程は、前記中間地点から前記新しい中間地点までの新しい経路を生成することを含む、請求項１６に記載の非一時的コンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１９】
前記回転軸を定める工程は、第１の中間地点から第２の中間地点までの経路に沿って前記回転軸を定めることを含み、前記新しい経路を生成する工程は、前記第２の中間地点から前記新しい中間地点までの新しい経路を生成することを含む、請求項１６に記載の非一時的コンピュータ可読記憶媒体。
【請求項２０】
前記プログラムは、前記プロセッサによって実行されるときに、前記ユーザインタフェースに、
前記新しい中間地点が、前記解剖学的管腔網の公知の気道内に配置されている場合、前記新しい中間地点から前記解剖学的管腔網の入口開口部までの経路を自動的に完成させる工程
をさらに行わせる、請求項１６に記載の非一時的コンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月27日(2017.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロ波アブレーション装置をエネルギー源に接続するよう構成されたケーブルアセンブリと、
前記ケーブルアセンブリに電気的に連通する給電路と、
前記給電路の外部導体上に配置されたバランと、
前記バラン上に配置され、前記バランの温度を検知する温度センサと、
を備えるマイクロ波アブレーション装置。
【請求項２】
前記バランが、前記バランを前記外部導体に電気的に接続するバラン短絡部を含む、請求項１に記載の前記マイクロ波アブレーション装置。
【請求項３】
前記温度センサが前記バラン短絡部と物理的に接触している、請求項２に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項４】
前記バランが前記バラン短絡部と接触している誘電体を含む、請求項２に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項５】
前記バラン短絡部と誘電体とが熱収縮材によって前記給電路の適所に固定されている、請求項４に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項６】
熱収縮材と前記バランとの間に配置された導電インクを更に備える、請求項４に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項７】
前記誘電体の一部が、前記熱収縮材の最も先端の部分を超えて先端に延びる、請求項５に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項８】
前記温度センサが、前記熱収縮材によって前記バラン短絡部と接触するように保持されている、請求項５に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項９】
前記温度センサのワイヤが、第２の熱収縮材によって前記給電路に固定されている、請求項８に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項１０】
内側管状部材及び外側管状部材を更に備え、前記給電路、前記内側管状部材、及び前記外側管状部材が円柱状に配置されている、請求項１に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項１１】
前記給電路と前記内側管状部材との間、及び前記内側管状部材と前記外側管状部材との間に、前記アブレーション装置を通って流体が流れることを可能にするための間隙を更に備える、請求項１０に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項１２】
前記給電路に接続された先端の放射部であって、その一部が前記内側管状部材を超えて延びる放射部を更に備える、請求項１０に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項１３】
前記内側管状部材の基端部が流体出口に接続し、前記外側管状部材の基端部が流体入口に接続し、通電されると流体が前記アブレーション装置を流れ冷却する、請求項１１に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項１４】
前記流体入口と流体連通した第１チャンバと、前記流体出口と流体連通した第２チャンバとを備えるハブを更に備える、請求項１３に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項１５】
前記第１チャンバ及び前記第２チャンバがハブ分割器によって分割されている、請求項１４に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項１６】
前記内側管状部材が前記ハブ分割器によって前記ハブの中で固定されている、請求項１５に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項１７】
前記ハブ分割器が弾性材料で形成され、前記内側管状部材の前記基端部、すなわち前記内側管状部材の先端部分よりも大きい径を有する前記基端部に、前記ハブ分割器を固定する実質上の金属性剛体リングを更に備えている、請求項１６に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【請求項１８】
前記ハブと、前記内側管状部材及び前記外側管状部材と、前記給電路と、遷移部とが、ハンドル本体の中に固定されており、それらの配列が１つ以上の位置合わせピンによって維持されている、請求項１４に記載のマイクロ波アブレーション装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月24日(2017.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔料分散物を製造するための連続プロセスであって、この連続プロセスが、
溶媒不在下で、スクリュー押出機の供給区画に顔料を制御された速度で連続的に供給することと；
溶媒不在下で、前記スクリュー押出機の前記供給区画に、固体形態の界面活性剤を制御された速度で連続的に供給することと；
前記供給区画の下流で、水を約４０ｇ／分から約８０ｇ／分の速度で連続的に供給し、前記顔料および前記界面活性剤を乳化させ、顔料中に水が含まれる分散物を作成することと；
すでに供給した水よりも下流でさらなる水を約６５ｇ／分から約９０ｇ／分の速度で連続的に供給し、前記顔料中に水が含まれる分散物を転相させて、該顔料中に水が含まれる分散物の固形分未満の固形分を有する、水中に顔料が含まれる分散物を作成することと；
前記スクリュー押出機内で、前記水中に顔料が含まれる分散物を連続的に均質化し、均質な水系顔料分散物を作ることと；
前記スクリュー押出機の出口区画から、前記均質な水系顔料分散物を集めることと、
を含む、連続プロセス。
【請求項２】
前記供給区画が、前記顔料用の第１の供給ラインと、前記界面活性剤用の第２の供給ラインとを含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記スクリュー押出機に供給された前記水と前記さらなる水が脱イオン水である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記スクリュー押出機が、ふるいと自動ふるい変更器とを備え、前記均質な水系顔料分散物が前記スクリュー押出機を出るときに前記ふるいを通過する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
前記顔料と前記界面活性剤が、前記供給区画に供給されるとき、それぞれ固体形態である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】
前記界面活性剤が粉末形態である、請求項５に記載のプロセス。
【請求項７】
前記スクリュー押出機が区画に分けられている、請求項１に記載のプロセス。
【請求項８】
それぞれの区画が、独立して、約２５℃〜約１１０℃の温度に加熱される、請求項７に記載のプロセス。
【請求項９】
前記スクリュー押出機が１３の区画を含む、請求項７に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記さらなる水を供給することが、２回の別個の供給に分けられており、一方の供給が他方の供給より下流であり、該下流の方の第２回目の水の供給によって、前記水中に顔料が含まれる分散物が生成される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１１】
溶媒不在下で、スクリュー押出機の供給区画に、着色剤を制御された速度で連続的に供給することと；
溶媒不在下で、前記スクリュー押出機の前記供給区画に、固体形態の界面活性剤を制御された速度で連続的に供給し、プレ分散物を作成することと；
前記スクリュー押出機内で、前記プレ分散物に水溶液を乳化させ、着色剤中に水が含まれる分散物を作成することと；
前記着色剤中に水が含まれる分散物を転相させ、前記スクリュー押出機内で、水中に着色剤が含まれる分散物を、該水中に着色剤が含まれる分散物が前記着色剤中に水が含まれる分散物の固体分未満の固体分を有するように、作成することと；
前記スクリュー押出機内で、前記水中に着色剤が含まれる分散物を均質化し、均質な着色剤分散物を作ることと；
前記スクリュー押出機の出口部分から、前記均質な着色剤分散物を集めることと、
を含む、方法。
【請求項１２】
前記均質な着色剤分散物が、前記スクリュー押出機から出るときに濾過される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記界面活性剤と前記着色剤とが、前記供給区画に供給されるとき、それぞれ固体形態である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記界面活性剤の前記固体形態が粉末形態である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記供給区画が、前記着色剤用の第１の供給ラインと、前記界面活性剤用の第２の供給ラインとを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記スクリュー押出機が区画に分けられ、それぞれの区画が、独立して、約２５℃〜約１１０℃の温度に加熱または冷却される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記スクリュー押出機が、マルチスクリュー押出機である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
前記水溶液が水である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
前記さらなる水を供給することが、２回の別個の供給に分けられており、一方の供給が他方の供給より下流であり、該下流の方の第２回目の水の供給によって、前記水中に着色剤が含まれる分散物が生成される、請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
請求項１に記載の前記連続プロセスによって作られた水系顔料分散物であって、前記水系顔料分散物中の顔料の平均粒径が約１３８ｎｍである、水系顔料分散物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月23日(2017.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製造部品上の点を固定する固定具要素の空間位置を決定するコンピュータ実装方法であって、
部品の型および製造部品の制限容積を検索することであって、前記部品の型および前記制限容積は、前記部品の境界および前記部品の前記境界の周囲に規定される領域を個々に規定する前記部品の幾何学表現を備える、検索することと、
基板に取り付けられる複数の固定具要素が接触する前記部品の前記境界上の位置を特定することであって、各特定される位置は、少なくとも１つの固定具要素によって到達可能であり、かつその固定具要素が製造器具の前記部品への接近を妨げない状態にある、特定することと、
複数の潜在的な構成を、前記潜在的な構成のそれぞれに備えられる前記特定される位置で前記部品と接触する選ばれた複数の前記固定具要素によって取り付けられる場合、前記部品の全体の形態クロージャを示すと評価することと、
を備え、
前記評価することは、
前記部品の前記境界上の前記位置ごとに、各固定具要素と、前記基板に取り付けられる場合、前記制限容積との間の交差、および前記固定具要素自体の間の交差を評価することと、
１つ以上の固定具要素が前記制限容積またはお互いと交差するのを見つけると、前記交差する固定具要素が到達できない前記位置の固定具要素を特定することと、
さらなる検討から、到達不可能な前記位置を除外することと、
前記部品の型および前記制限容積を備えるバイナリ空間分割木を構築することと、
光線を前記バイナリ空間分割木の垂線内で前記部品の前記境界上の前記位置それぞれへ放出することと、
前記光線と前記部品の型との間の各交差を、前記光線を放出した前記位置の前記制限容積を伴う１つ以上の前記固定具要素の前記交差の見本として規定することと、
を備える、
方法。
【請求項２】
前記部品の前記境界上の前記位置ごとに、前記固定具要素それぞれと、前記基板に取り付けられる場合、前記製造器具の前記部品への前記接近それぞれにおける前記制限容積の掃引との間の交差を評価することと、
１つ以上の前記固定具要素が少なくとも１つの前記製造器具の接近と交差するのを見つけると、前記製造器具と交差する固定具要素の間に妨げをもたらす前記位置の固定具要素を特定することと、
さらなる検討から、前記製造器具の妨げの起因となる前記位置を除外することと、
をさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記制限容積を、前記製造器具による機械加工の結果として、前記部品から除外される材料の幾何学表現を備える除外容積として規定することと、
ゼロ容積を備えるように制限容積を規定することであって、これにより前記部品の全体の形態クロージャが前記部品の前記境界に純粋に基づいて評価される、規定することと、
をさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
レンチ座標系内であり、かつ前記部品の前記境界上の前記特定される位置に対応する候補固定可能位置を規定することであって、各候補固定可能位置は、前記レンチ座標系の起点と相対的な位置およびユニット内部表面の垂線の両方を備える、規定することと、
前記ユニット内部表面の垂線に沿って各候補固定可能位置の前記位置からの点接触力を与えることと、
前記点接触力のそれぞれに沿って加わる力をレンチにマップすることであって、各レンチは、前記加わる力および前記点接触力の前記位置に前記加わる力の外積を備える、マップすることと、
前記レンチのそれぞれを二元にマップすることであって、各二元は点空間を備える、マップすることと、
前記レンチのそれぞれを前記レンチがマップされる前記二元によってソートし、かつ各二元の前記点空間の最も遠い点を極限点として保持することと、
複数の前記レンチの前記二元に保持される前記極限点に対応するベクトル列を備えるレンチ行列を構築することと、
前記レンチ行列を除く前記二元からの複数の前記極限点を、前記極限点の組み合わせに備えられる前記レンチとマップされる前記点接触力の前記位置に備えられる前記候補固定可能位置を備える潜在的な構成として結合することと、
前記レンチ行列内に備えられる前記ベクトル列の線形独立性を解決することによって、前記極限点の前記組み合わせから暗黙で定義される凸包内の起点の包含をテストし、かつ前記凸包内の前記起点が暗黙に包含されると前記潜在的な構成の前記形態クロージャを確立することと、
をさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
各レンチをプリュッカー座標によってすべての可能な
【数１】
2014180746.tif 000001
と同形のレンチのユークリッド空間内で規定することと、
前記二元のそれぞれを相互に直交する６個の半空間の交差によって形成される空間として規定することと、
各レンチのプリュッカー座標を前記二元のうちの１つへ前記レンチのマッピングとしてハッシュすることと、
をさらに備える、請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月24日(2017.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製造される部品の固定具レイアウトを総合的に行うコンピュータ実装システムであって、
少なくとも１つのコンピュータプロセッサ及び関連メモリと、
基板に取り付けられるよう構成される複数の固定具要素が接触する前記部品の境界上の複数の位置を備える潜在的な構成と、
基底ベクトルおよび前記基底ベクトルのそれぞれに沿う無衝突の距離を備える前記位置のそれぞれの周囲に無衝突領域を決定する決定モジュールと、
前記部品の前記境界の周囲に規定される領域の幾何学表現を備える部品包絡線を規定する部品規定モジュールと、
前記基板に取り付けられる際、前記部品包絡線への妨げを回避するために、前記固定具要素のそれぞれが必要とする部品クリアランスを特定する部品特定モジュールと、
製造設備に特有であり、かつ前記部品を固定するよう構成可能な多数の固定具要素を備えるカタログと、
少なくとも一次元の候補固定具要素における前記部品クリアランスを超える前記カタログに記載される各候補固定具要素をフィルタリングし、かつさらなる検討から前記フィルタリングされた候補固定具要素を除外するフィルタモジュールと、
前記カタログに記載され、かつフィルタリングされない前記候補固定具要素ごとに、前記部品と前記基板との間の変換を前記少なくとも１つのコンピュータプロセッサを用いて算出し、かつ前記部品を前記基板に前記変換によって配列する変換算出モジュールと、
前記カタログに記載され、かつフィルタリングされない前記候補固定具要素と、それらの候補フィルタ要素の前記基板への付着点との両方を除去し、固定具要素が別の残る固定具要素と重なり合う状況になり、前記候補固定具要素および重複を除去した後に残る付着点が固定具レイアウトを備える除去モジュールと、
を備え、
前記基板上の前記付着点の配置によって規定される基底ベクトルＸおよび基底ベクトルＹと、前記位置の接触点における平面が規定され、これにより前記基底ベクトルＸは前記候補固定具要素のアクセスベクトルを備え、ｓは前記基板上の前記付着点の空間を備え、
形態クロージャ点（ｘ，ｙ）が前記基板上へ突出する前記位置の点を備えることに伴い、以下の式、
【数１】
2014180747.tif 000001
によって変換を決定し、ｏｆｆｓｅｔは前記部品を前記基底ベクトルＹに沿ってシフトする距離を備え、
部品の安定性を保証する最適化構成固定具レイアウトモデルを提供する、
コンピュータ実装システム。
【請求項２】
前記部品の前記境界を規定する前記部品の型にアクセスするアクセスモジュールと、
前記位置および組立ベクトルのそれぞれとで規定される平面の前記部品の前記型を調整し、前記平面の下から取り出される前記部品の立体レンダリングを維持する調整モジュールと、
前記基板の表面上に規定される平面上へ突出する前記部品の前記立体レンダリングの外面形状を抽出する抽出モジュールと、
前記部品クリアランスを、レイトレーシングによって前記外面形状からアクセス方向に沿って決定するクリアランス決定モジュールと、
をさらに備える、請求項１に記載のコンピュータ実装システム。
【請求項３】
前記基板に取り付けられ、かつ前記潜在的な構成に備えられる前記複数の前記位置で前記部品と接触する場合、前記複数の固定具要素によって固定される際、部品全体の前記潜在的な構成の形態クロージャを評価する評価モジュールと、
前記形態クロージャが存在しない場合、前記潜在的な構成を不適格と見なす欠格モジュールと、
をさらに備える、請求項１に記載のコンピュータ実装システム。
【請求項４】
前記変換算出モジュールは、前記カタログに記載され、かつフィルタリングされない前記候補固定具要素ごとに、前記部品と、前記位置のうちの１つと接触する前記候補固定具要素の面を位置づける前記基板との間の変換、および前記基板上の付着点と接触する前記候補固定具要素の搭載機構を算出する、請求項１に記載のコンピュータ実装システム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月9日(2017.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の材料から作られる第１の要素と、
前記第１の要素に適用されるシーラントと、
前記シーラントに結合され、前記第１の材料とは異なる第２の材料から作られる隔離シートと、
前記隔離シートに結合され、前記第２の材料から作られる第２の要素を含む、
ハイブリッド構造。
【請求項２】
前記第１の材料は、前記第２の材料の電極電位とは異なる電極電位を有する
請求項１に記載の構造。
【請求項３】
前記第１の材料は、炭素繊維材料を含み、
前記第２の材料は、金属材料を含む
請求項２に記載の構造。
【請求項４】
第３の材料から作られ、前記第１の要素に結合される隔離層をさらに含み、
前記シーラントは、前記隔離層に適用される
請求項２または３に記載の構造。
【請求項５】
前記第３の材料は、繊維ガラス材料を含む
請求項４に記載の構造。
【請求項６】
前記シーラントは、ポリサルファイド材料を含む
請求項５に記載の構造。
【請求項７】
少なくとも一つの掘削孔は前記第１の要素と前記隔離シートに形成されており、前記第２の要素は、前記少なくとも一つの掘削孔の留め具により前記隔離シートと結合されている、
請求項１から６のいずれか一項に記載の構造。
【請求項８】
ハイブリッド構造を形成する方法であって、
第１の材料から作られる第１の要素にシーラントを適用することと、
前記シーラントに隔離シートを結合することであって、前記シーラントは前記隔離シートが前記第１の要素と隔離されるように、厚みを有するとともに前記第１の要素の表面領域を覆う、結合することと、
前記隔離シート、前記シーラント及び前記第１の要素のうちの少なくとも１つに、少なくとも１つの掘削孔を形成することと、
前記少なくとも１つの掘削孔で留め具により前記隔離シートに第２の要素を結合することとを含み、
前記ハイブリッド構造内におけるガルバニ電池の形成を防ぐことを容易にするために、前記第２の要素及び前記隔離シートの両者は、前記第１の材料とは異なる第２の材料から作られる、方法。
【請求項９】
第１の電極電位を有するように前記第１の材料を選択することと、
前記第１の電極電位とは異なる第２の電極電位を有するように前記第２の材料を選択することとをさらに含む
請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１の要素の表面に隔離層を結合することと、
前記隔離層に前記シーラントを適用することとをさらに含む
請求項８又は９に記載の方法。
【請求項１１】
前記シーラントに前記隔離シートを結合することは、
前記隔離シート及び前記第１の要素の間の過剰な前記シーラントの除去を容易にするために、圧力を前記隔離シートに適用することを含む
請求項８から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの掘削孔を形成することは、
所定の方位において前記第２の要素を前記隔離シートに位置合わせすることと、
前記第２の要素の中に画定される孔のうちの少なくとも一つ及び穿設用治具を伴って、前記隔離シートの上の掘削孔位置を決定することと、
前記孔位置において、前記隔離シート、前記シーラント、及び前記第１の要素を通る、掘削孔を形成すること、をさらに含む
請求項８から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記掘削孔が形成される際に、前記隔離シートに対する前記第２の要素の位置合わせを実質的に維持することをさらに含む
請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記隔離シートに前記第２の要素を結合することは、
前記第２の要素が前記第１の要素から分離されたままになるように、前記第２の要素を前記隔離シートに位置合わせすることを含む、請求項８から１３のいずれか一項に記載の方法。