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【手続補正書】
【提出日】平成29年10月23日(2017.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物半導体膜を有するトランジスタと、
第１の電極及び第２の電極を有する容量素子と、
前記トランジスタ上に設けられた無機絶縁膜と、上記無機絶縁膜上に接して設けられた有機絶縁膜と、前記有機絶縁膜上に設けられた発光素子と、を有し、
前記第１の電極は、前記無機絶縁膜に接して設けられた金属酸化物膜であり、
前記第２の電極は、前記無機絶縁膜上に設けられた、透光性を有する第１の導電膜であり、
前記発光素子が有する画素電極は、透光性を有する第２の導電膜であり、且つ前記無機絶縁膜及び前記有機絶縁膜に設けられた開口部において前記トランジスタと電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
酸化物半導体膜を有するトランジスタと、
第１の電極及び第２の電極を有する容量素子と、
前記トランジスタ上に設けられた無機絶縁膜と、上記無機絶縁膜上に接して設けられた有機絶縁膜と、前記有機絶縁膜上に設けられた発光素子と、を有し、
前記第１の電極は、前記無機絶縁膜に接して設けられた金属酸化物膜であり、
前記第２の電極は、前記無機絶縁膜上に設けられ、且つ前記トランジスタに電気的に接続された、透光性を有する第１の導電膜であり、
前記発光素子が有する画素電極は、透光性を有する第２の導電膜であり、且つ前記無機絶縁膜及び前記有機絶縁膜に設けられた開口部において前記トランジスタと電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
酸化物半導体膜を有するトランジスタと、
第１の電極及び第２の電極を有する容量素子と、
前記トランジスタ上に設けられた無機絶縁膜と、上記無機絶縁膜上に接して設けられた有機絶縁膜と、前記有機絶縁膜上に設けられた発光素子と、を有し、
前記第１の電極は、前記無機絶縁膜に接して設けられ、且つ前記トランジスタに電気的に接続された金属酸化物膜であり、
前記第２の電極は、前記無機絶縁膜上に設けられた、透光性を有する第１の導電膜であり、
前記発光素子が有する画素電極は、透光性を有する第２の導電膜であり、且つ前記無機絶縁膜及び前記有機絶縁膜に設けられた開口部において前記トランジスタと電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記無機絶縁膜は、前記酸化物半導体膜に接する酸化物絶縁膜と、
前記酸化物絶縁膜に接する窒化物絶縁膜と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記金属酸化物膜は、前記窒化物絶縁膜に接して設けられ、且つ前記酸化物半導体膜と同じ金属元素を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、
前記酸化物半導体膜と前記金属酸化物膜とは、同層に設けられた膜であることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記酸化物半導体膜及び前記金属酸化物膜は、Ｉｎ−Ｇａ酸化物、Ｉｎ−Ｚｎ酸化物、またはＩｎ−Ｍ−Ｚｎ酸化物（ＭはＡｌ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、またはＨｆ）を有することを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月7日(2017.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成装置本体に設けられた駆動源から駆動力を受けて回転駆動される駆動側カップリングと、
上記駆動側カップリングの回転中心軸上に設けられ画像形成装置本体に対して着脱可能な被駆動側カップリングと、
上記駆動側カップリングと上記被駆動側カップリングと噛み合い、上記被駆動側カップリングが上記画像形成装置本体から取り外されているとき上記駆動側カップリングまたは上記被駆動側カップリングのいずれかに保持される中間伝達部品とを備えた駆動伝達装置において、
上記駆動側カップリングおよび被駆動側カップリングのうち、上記中間伝達部品が保持される保持側カップリングは、駆動側の部材または被駆動側の部材に取り付けられる取り付け部と、上記駆動側カップリングの回転中心軸の軸方向で上記中間伝達部品と対向して、保持した中間伝達部品が、上記軸方向に移動して上記保持側カップリングの少なくとも上記軸方向一方側から抜けるのを防止する抜け止め手段とを備えたことを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項２】
請求項１に記載の駆動伝達装置において、
上記抜け止め手段は、上記保持側カップリングに形成された上記軸方向で上記中間伝達部品と対向する対向部と、上記保持側カップリングに取り付けられ、上記対向部とで上記中間伝達部品の一部を上記軸方向に挟む抜け止め部品とを備えたことを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項３】
請求項２に記載の駆動伝達装置において、
上記抜け止め部品は、上記保持側カップリングに設けられた回転方向に延びる嵌合突起と嵌合する嵌合溝を有し、該嵌合溝を嵌合突起に嵌め込んで、上記抜け止め部品が上記保持側カップリングに取り付けられることを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項４】
請求項３に記載の駆動伝達装置において、
上記保持側カップリングは、外歯を有し、上記取り付け部に嵌合突起が形成されたものであり、
上記中間伝達部品は、上記保持側カップリングの外歯と噛み合う内歯と、上記保持側カップリングの外歯と軸方向で対向する外歯対向部とを有し、
上記保持側カップリングの外歯を、上記軸方向で上記中間伝達部品と対向する対向部として用い、上記外歯と上記抜け止め部品とで上記外歯対向部を挟んで上記中間伝達部品が上記保持側カップリングから抜けるのを防止することを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項５】
請求項４に記載の駆動伝達装置において、
上記外歯対向部の上記抜け止め部品と対向する対向面および／または上記抜け止め部品の上記外歯対向部と対向する対向面を、凸曲面としたことを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項６】
請求項３乃至５いずれかに記載の駆動伝達装置において、
上記抜け止め部品は、上記軸方向に延び嵌合溝に連通して、上記嵌合突起を上記嵌合溝に案内する案内溝を有し、
上記嵌合溝は、案内溝から駆動伝達時の回転方向と逆方向に延びていることを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項７】
請求項３乃至６いずれかに記載の駆動伝達装置において、
上記嵌合突起は、上記軸方向に突出した凸状部を有し、
上記嵌合溝は、上記凸状部が嵌る凹状部を有することを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項８】
請求項３乃至７いずれかに記載の駆動伝達装置において、
上記嵌合突起の上記軸方向長さを、上記嵌合溝の上記軸方向長さよりも長くしたことを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項９】
請求項３乃至８いずれかに記載の駆動伝達装置において、
上記嵌合突起を、回転方向に等間隔で複数設けたことを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項１０】
請求項２乃至９いずれかに記載の駆動伝達装置において、
上記抜け止め部品は、上記中間伝達部品に対して、上記軸方向に所定の隙間を有して対向することを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項１１】
請求項１に記載の駆動伝達装置において、
上記抜け止め手段は、上記保持側カップリングの先端面の軸中心に形成されたネジ穴に嵌り込むネジ部材の鍔部と該保持側カップリングとで挟み込まれて保持され、上記中間伝達部品の内壁面に設けられ該中間伝達部品の中空内部を軸方向で仕切る仕切り板を、該先端面とで上記軸方向に挟む、抜け留め部品を備えたことを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の駆動伝達装置において、
上記被駆動側カップリングに設けられた被嵌合部と嵌合する回転中心軸の軸端部の嵌合形状は、軸方向から見た断面が非円形状であることを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の駆動伝達装置において、
上記抜け留め部品は軸方向に小口径部と大口径部とを有しており、
上記保持側カップリングの上記先端面の中央に、前記抜け留め部品の前記小口径部が嵌り込む穴を有することを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の駆動伝達装置において、
上記抜け留め部品の上記大口径部と上記保持側カップリングとの間の軸方向の距離及び該抜け留め部品の上記小口径部の径が、上記中間伝達部品が該保持側カップリングに対して傾いた際に、該小口径部と上記仕切り板とが接触しない距離及び径であることを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の駆動伝達装置において、
上記抜け留め部品に設けられた上記ネジ部材を通す貫通孔の径は、該ネジ部材の径よりも大きいことを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の駆動伝達装置において、
上記保持側カップリングは外歯を有し、上記中間伝達部品は該保持側カップリングの外歯と噛み合う内歯を有しており、
上記抜け留め部品の上記大口径部は、上記中間伝達部品が該保持側カップリングに対して傾斜しても該中間伝達部品の内歯の歯先部に接触しないことを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の駆動伝達装置において、
上記保持側カップリングは上記被駆動側カップリングであり、
上記駆動側カップリングと上記ネジ部材との間の軸方向の距離が、該駆動側カップリングと該ネジ部材とが接触しない長さであることを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項１８】
回転体と、該回転体に駆動源からの駆動力を伝達する駆動伝達手段とを備えた画像形成装置において、
上記駆動伝達手段として、請求項１乃至１７いずれかに記載の駆動伝達装置を用いたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月22日(2017.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上にゲート電極及びゲート絶縁膜を形成し、
ゲート絶縁膜上に第１の金属酸化物膜及び第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に、第１の厚さを有する領域、及び前記第１の厚さよりも厚い第２の厚さを有する領域を有する第１のマスクと、前記第１の厚さと同じ厚さを有する第２のマスクを形成し、
前記第１のマスク及び前記第２のマスクを用いて、前記第１の絶縁膜及び前記第１の金属酸化物膜をそれぞれエッチングして、第２の絶縁膜及び第３の絶縁膜、並びに第２の金属酸化物膜及び第３の金属酸化物膜を形成し、
前記第１のマスクを加工して、第３のマスクを形成すると共に前記第２のマスクを取り除いた後、前記第３のマスクを用いて前記第２の絶縁膜をエッチングして、前記第２の金属酸化物膜上に第４の絶縁膜を形成する共に前記第３の金属酸化物膜上の前記第３の絶縁膜を取り除き、
前記第２の金属酸化物膜、前記第３の金属酸化物膜、前記第４の絶縁膜、及びゲート絶縁膜上に、窒化物絶縁膜で形成される第５の絶縁膜を形成し、
前記第５の絶縁膜の一部をエッチングして、前記第５の絶縁膜に開口部を形成した後、前記第２の金属酸化物膜に接する一対の電極、及び前記第３の金属酸化物膜に接する配線を形成し、
前記第５の絶縁膜上に、前記一対の電極の一方に接続し、且つ前記第３の金属酸化物膜の一部と重なる、透光性を有する導電膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
絶縁表面上にゲート電極及びゲート絶縁膜を形成し、
ゲート絶縁膜上に第１の金属酸化物膜及び第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に、第１の厚さを有する領域、及び前記第１の厚さよりも厚い第２の厚さを有する領域を有する第１のマスクと、前記第１の厚さと同じ厚さを有する第２のマスクを形成し、
前記第１のマスク及び前記第２のマスクを用いて、前記第１の絶縁膜及び前記第１の金属酸化物膜をそれぞれエッチングして、第２の絶縁膜及び第３の絶縁膜、並びに第２の金属酸化物膜及び第３の金属酸化物膜を形成し、
前記第１のマスクを加工して、第３のマスクを形成すると共に前記第２のマスクを取り除いた後、前記第３のマスクを用いて前記第２の絶縁膜をエッチングして、前記第２の金属酸化物膜上に第４の絶縁膜を形成する共に、前記第３の金属酸化物膜上の前記第３の絶縁膜を取り除き、
前記第２の金属酸化物膜に接する一対の電極、及び前記第３の金属酸化物膜に接する配線を形成し、
前記一対の電極、前記第４の絶縁膜、前記第３の金属酸化物膜、及び前記配線上に、窒化物絶縁膜で形成される第５の絶縁膜を形成し、
前記第５の絶縁膜の一部をエッチングして、前記第５の絶縁膜に開口部を形成した後、前記一対の電極の一方に接続し、且つ前記第３の金属酸化物膜の一部と重なる、透光性を有する導電膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第５の絶縁膜を形成した後、前記ゲート絶縁膜及び前記第５の絶縁膜に開口部を形成するとともに、前記ゲート電極の一部を露出させ、前記透光性を有する導電膜を形成するとともに、前記ゲート電極と接続し且つ前記第２の金属酸化物膜と重なる導電膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月7日(2017.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上にトランジスタ及び容量素子を有し、
前記トランジスタは、
ゲート電極と、
前記ゲート電極と重なる酸化物半導体膜と、
前記ゲート電極及び前記酸化物半導体膜の間のゲート絶縁膜と、
前記酸化物半導体膜と電気的に接続された第１の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜に接する領域を有する酸化物絶縁膜と、
前記酸化物絶縁膜上に位置し、開口部を有する金属酸化物膜と、
前記開口部を介して前記第１の導電膜に接する領域を有する第２の導電膜と、を有し、
前記第２の導電膜は、画素電極としての機能を有し、
前記容量素子は、
前記ゲート絶縁膜上の導電性を有する膜と、
前記第２の導電膜と、
前記導電性を有する膜と前記第２の導電膜の間に設けられた前記金属酸化物膜と、を有し、
前記導電性を有する膜は、前記金属酸化物膜と接する領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
絶縁表面上にトランジスタ及び容量素子を有し、
前記トランジスタは、
ゲート電極と、
前記ゲート電極と重なる酸化物半導体膜と、
前記ゲート電極及び前記酸化物半導体膜の間のゲート絶縁膜と、
前記酸化物半導体膜と電気的に接続された第１の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜に接する領域を有する酸化物絶縁膜と、
前記酸化物絶縁膜上に位置し、第１の開口部を有する金属酸化物膜と、
前記金属酸化膜上に位置し、第２の開口部を有する窒化物絶縁膜と、
前記第１の開口部及び前記第２の開口部を介して前記第１の導電膜に接する領域を有する第２の導電膜と、を有し、
前記第２の導電膜は、画素電極としての機能を有し、
前記容量素子は、
前記ゲート絶縁膜上の導電性を有する膜と、
前記第２の導電膜と、
前記導電性を有する膜と前記第２の導電膜の間に設けられた前記金属酸化物膜と、
前記導電性を有する膜と前記第２の導電膜の間に設けられた前記窒化物絶縁膜と、を有し、
前記導電性を有する膜は、前記金属酸化物膜と接する領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記導電性を有する膜は、前記酸化物半導体膜に含まれる金属元素を有することを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月20日(2017.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上の導電性を有する酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上に接する導電膜と、を有し、
前記導電膜は、Ｃｕ−Ｘ合金膜（Ｘは、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｔａ、またはＴｉ）と、前記Ｃｕ−Ｘ合金膜上に接するＣｕ膜とを含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記酸化物半導体膜の水素濃度は、８×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上であることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記酸化物半導体膜と、前記Ｃｕ−Ｘ合金膜との間に、Ｘを含む化合物を有する膜を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記Ｃｕ−Ｘ合金膜は、Ｃｕ−Ｍｎ合金膜であることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
絶縁表面上の導電性を有する酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上に接する導電膜と、
前記酸化物半導体膜上及び前記導電膜上に接する絶縁膜と、を有し、
前記導電膜は、第１のＣｕ−Ｘ合金膜（Ｘは、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｔａ、またはＴｉ）と、前記第１のＣｕ−Ｘ合金膜上に接するＣｕ膜と、前記Ｃｕ膜上に接する第２のＣｕ−Ｘ合金膜（Ｘは、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｔａ、またはＴｉ）を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記酸化物半導体膜の水素濃度は、８×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上であることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項５又は６において、
前記導電膜の外周に、Ｘを含む化合物を有する膜を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項５乃至７のいずれか一において、
前記第１のＣｕ−Ｘ合金膜及び前記第２のＣｕ−Ｘ合金膜は、Ｃｕ−Ｍｎ合金膜であることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月5日(2017.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本明細書でいうアルキル基は、直鎖状、分枝状、環状のいずれであってもよく、より好ましくは炭素数１〜６であり、具体例としてメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、イソプロピル基を挙げることができる。アリール基は、単環でも融合環でもよく、具体例としてフェニル基、ナフチル基を挙げることができる。アルコキシ基は、直鎖状、分枝状、環状のいずれであってもよく、より好ましくは炭素数１〜６であり、具体例としてメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、イソプロポキシ基を挙げることができる。ジアルキルアミノ基の２つのアルキル基は、互いに同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。ジアルキルアミノ基の２つのアルキル基は、各々独立に直鎖状、分枝状、環状のいずれであってもよく、より好ましくは炭素数１〜６であり、具体例としてメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、イソプロピル基を挙げることができる。ジアルキルアミノ基の２つのアルキル基は互いに結合してアミノ基の窒素原子とともに環状構造を形成していてもよい。置換基として採用しうるアリール基は、単環でも融合環でもよく、具体例としてフェニル基、ナフチル基を挙げることができる。ヘテロアリール基も、単環でも融合環でもよく、具体例としてピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、トリアジル基、トリアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基を挙げることができる。これらのヘテロアリール基は、ヘテロ原子を介して結合する基であっても、ヘテロアリール環を構成する炭素原子を介して結合する基であってもよい。ジアリールアミノ基の２つのアリール基は、単環でも融合環でもよく、具体例としてフェニル基、ナフチル基を挙げることができる。ジアリールアミノ基の２つのアリール基は互いに結合してアミノ基の窒素原子とともに環状構造を形成していてもよい。例えば、９−カルバゾリル基を挙げることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２６８】
【化２０４】
2015179817.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月1日(2017.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上にゲート電極及びゲート絶縁膜を形成し、
ゲート絶縁膜上に第１の金属酸化物膜及び第１の導電膜を形成し、
前記第１の導電膜上に、第１の厚さを有する領域、及び第１の厚さよりも厚い第２の厚さを有する領域を有する第１のマスクと、前記第１の厚さと同じ厚さを有する第２のマスクを形成し、
前記第１のマスク及び前記第２のマスクを用いて、前記第１の導電膜及び前記第１の金属酸化物膜をそれぞれエッチングして、第２の導電膜及び第３の導電膜、並びに第２の金属酸化物膜及び第３の金属酸化物膜を形成し、
前記第１のマスクを加工して第３のマスクを形成すると共に、前記第２のマスクを取り除いた後、前記第３のマスクを用いて前記第２の導電膜をエッチングして、前記第２の金属酸化物膜上に、ソース電極及びドレイン電極として機能する第４の導電膜及び第５の導電膜を形成すると共に、前記第３の導電膜を取り除き、
前記第２の金属酸化物膜、前記第４の導電膜、及び前記第５の導電膜上に、第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜及び前記第３の金属酸化物膜上に、第２の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜の一部をエッチングして、前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜に開口部を形成した後、前記第５の導電膜に接する、画素電極として機能する第６の導電膜、及び前記第３の金属酸化物膜に接する、容量線として機能する第７の導電膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
絶縁表面上にゲート電極及びゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に第１の金属酸化物膜及び第１の導電膜を形成し、
前記第１の導電膜上に、第１の厚さを有する領域、及び第１の厚さよりも厚い第２の厚さを有する領域を有する第１のマスクと、前記第１の厚さと同じ厚さを有する第２のマスクをそれぞれ形成し、
前記第１のマスク及び前記第２のマスクを用いて、前記第１の導電膜及び前記第１の金属酸化物膜をそれぞれエッチングして、第２の導電膜及び第３の導電膜、並びに第２の金属酸化物膜及び第３の金属酸化物膜を形成し、
前記第１のマスクを加工して第３のマスクを形成すると共に、前記第２のマスクを加工して第４のマスクを形成し、
前記第３のマスクを用いて前記第２の導電膜をエッチングして、前記第２の金属酸化物膜上に、ソース電極及びドレイン電極として機能する第４の導電膜及び第５の導電膜を形成すると共に、前記第４のマスクを用いて前記第３の導電膜をエッチングして、前記第３の金属酸化物膜上に、容量線として機能する第６の導電膜を形成し、
前記第２の金属酸化物膜、前記第４の導電膜、及び前記第５の導電膜上に、第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜及び前記第３の金属酸化物膜上に、第２の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜の一部をエッチングして、前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜に開口部を形成した後、前記第５の導電膜に接する、画素電極として機能する第７の導電膜、及び前記第６の導電膜に接する、容量線として機能する第８の導電膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
絶縁表面上にゲート電極及びゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に第１の金属酸化物膜及び第１の導電膜を形成し、
前記第１の導電膜上に、第１の厚さを有する領域、及び第１の厚さよりも厚い第２の厚さを有する領域を有する第１のマスクを形成し、
前記第１のマスクを用いて、前記第１の導電膜及び前記第１の金属酸化物膜をそれぞれエッチングして、第２の導電膜及び第２の金属酸化物膜を形成し、
前記第１のマスクを加工して第２のマスクを形成した後、前記第２のマスクを用いて前記第２の導電膜をエッチングして、前記第２の金属酸化物膜上に、ソース電極及びドレイン電極として機能する第３の導電膜及び第４の導電膜を形成し、
前記第２の金属酸化物膜、前記第３の導電膜、及び前記第４の導電膜上に、前記第２の金属酸化物膜の一部を露出する第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜及び露出された前記第２の金属酸化物膜上に、第２の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜の一部をエッチングして、前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜に開口部を形成した後、前記第３の導電膜に接し、且つ信号線として機能する第５の導電膜を形成するとともに、コモン電極として機能する第６の導電膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月6日(2017.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
この実施の形態３では、次に、ステップＳＣ６でのタッチ検出結果に応じて、第２のベースライン値の更新停止期間を設定する（ステップＳＣ８）。例えば、タッチ開始時である場合に（ステップＳＣ７）、Ｘセンサ群とＹセンサ群の中でタッチ閾値を越えているものの数に応じて、更新停止期間とする秒数を決定する（ステップＳＣ８）。Ｘセンサ群とＹセンサ群が共に１個なら３０秒、Ｘセンサ群、Ｙセンサ群どちらか片側が２個で他方が２個以下なら１５秒、それ以外（３個以上）なら０秒（停止期間を設けない）とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月27日(2017.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の課題は、コードシンボルによる情報伝達機能を有しつつ、簡易な構成により、コードシンボルに対応する情報を伝達できるようにすることである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明のコードシンボル表示装置は、コードシンボルを表示手段に表示させる表示制御手段と、前記コードシンボルに対応する情報を、前記表示手段を用いた可視光通信により送信させる通信制御手段と、を備える。
本発明の情報処理装置は、表示手段に表示されたコードシンボルを読取手段により読み取らせる第１制御手段と、前記表示手段から可視光通信により送信される前記コードシンボルに対応する情報を通信手段により受信させる第２制御手段と、前記読取手段により読み取られた前記コードシンボルの情報と前記通信手段により受信された前記コードシンボルに対応する情報とを照合する照合手段と、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、コードシンボルによる情報伝達機能を有しつつ、簡易な構成により、コードシンボルに対応する情報を伝達することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コードシンボルを表示手段に表示させる表示制御手段と、
前記コードシンボルに対応する情報を、前記表示手段を用いた可視光通信により送信させる通信制御手段と、
を備えるコードシンボル表示装置。
【請求項２】
前記通信制御手段は、前記表示手段に前記コードシンボルが表示されているタイミングで可視光通信により前記コードシンボルに対応する情報を送信させる請求項１に記載のコードシンボル表示装置。
【請求項３】
前記表示手段は、バックライトを含み、前記通信制御手段は、前記バックライトの点灯と消灯とを切り替えることで可視光通信により前記コードシンボルに対応する情報を送信させる請求項１又は２に記載のコードシンボル表示装置。
【請求項４】
前記通信制御手段は、前記表示手段に表示される画像の少なくとも一部の表示と非表示とを切り替えることで可視光通信により前記コードシンボルに対応する情報を送信させる請求項１又は２に記載のコードシンボル表示装置。
【請求項５】
前記コードシンボルに対応する情報は、前記コードシンボルの情報と同じ情報を含む請求項１〜４のいずれか一項に記載のコードシンボル表示装置。
【請求項６】
前記コードシンボルに対応する情報は、前記コードシンボルの情報と異なる情報を含む請求項１〜５のいずれか一項に記載のコードシンボル表示装置。
【請求項７】
前記コードシンボルに対応する情報は、前記コードシンボルの読み取りを補助するための補助情報を含む請求項６に記載のコードシンボル表示装置。
【請求項８】
表示手段に表示されたコードシンボルを読取手段により読み取らせる第１制御手段と、
前記表示手段から可視光通信により送信される前記コードシンボルに対応する情報を通信手段により受信させる第２制御手段と、
前記読取手段により読み取られた前記コードシンボルの情報と前記通信手段により受信された前記コードシンボルに対応する情報とを照合する照合手段と、
を備える情報処理装置。
【請求項９】
前記コードシンボルに対応する情報は、前記コードシンボルの読み取りを補助するための補助情報を含み、
前記照合手段は、前記コードシンボルに対応する情報に含まれる前記補助情報に基づいて前記コードシンボルの情報を照合する請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
コンピュータを、
コードシンボルを表示手段に表示させる表示制御手段、
前記コードシンボルに対応する情報を、前記表示手段を用いた可視光通信により送信させる通信制御手段、
として機能させるためのプログラム。
【請求項１１】
コンピュータを、
表示手段に表示されたコードシンボルを読取手段により読み取らせる第１制御手段、
前記表示手段から可視光通信により送信される前記コードシンボルに対応する情報を通信手段により受信させる第２制御手段、
前記読取手段により読み取られた前記コードシンボルの情報と前記通信手段により受信された前記コードシンボルに対応する情報とを照合する照合手段、
として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月12日(2016.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
当該金型を識別するための識別データが記録されたＱＲコード（登録商標）が所定の位置に設けられた金型と、
前記ＱＲコード（登録商標）及び前記金型の不具合箇所を撮像可能な撮像部と、前記金型の不具合データを入力可能な第１の入力部と、前記撮像部により撮像されたＱＲコード（登録商標）に応じた前記識別データを認識する認識部と、前記認識部により認識された識別データ、前記撮像部により撮像された不具合箇所の撮像データ及び前記第１の入力部により入力された不具合データを送信する送信部とを備えた電子機器と、
前記電子機器より送信された識別データ、撮像データ及び不具合データを入力する第２の入力部と、前記第２の入力部により入力した識別データ、撮像データ及び不具合データに基づき、金型毎に前記撮像データ及び不具合データを蓄積するデータベースと、金型毎に前記蓄積した撮像データ及び不具合データを時系列にまとめた所定の不具合シートを生成する生成部とを具備するデータサーバと
を具備する金型電子カルテシステム。
【請求項２】
請求項１に記載の金型電子カルテシステムであって、
前記金型の前記ＱＲコード（登録商標）は切削加工により刻まれる
金型電子カルテシステム。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の金型電子カルテシステムであって、
前記金型を使って生産する生産装置より生産データ及び前記データサーバより不具合データを入力し、前記生産データと前記不具合データとの相関性より前記金型の不具合を予測する
金型電子カルテシステム。
【請求項４】
請求項３に記載の金型電子カルテシステムであって、
前記電子機器は、前記金型の保管場所データの入力及び前記保管場所データの送信が可能であり、
前記データサーバは、前記保管場所データの受信及び蓄積が可能であり、
前記データサーバより前記保管場所データを入力し、前記金型の保管場所を把握可能に構成されたクライアント端末を更に具備する金型電子カルテシステム。
【請求項５】
当該生産財を識別するための識別データが記録されたＱＲコード（登録商標）が所定の位置に設けられた生産財と、
前記ＱＲコード（登録商標）を撮像可能な撮像部と、前記生産財に関する所定のデータを入力可能な第１の入力部と、前記撮像部により撮像されたＱＲコード（登録商標）に応じた前記識別データを認識する認識部と、前記認識部により認識された識別データ及び前記第１の入力部により入力された所定のデータを送信する送信部とを備えた電子機器と、
前記電子機器より送信された前記識別データ及び前記所定のデータを入力する第２の入力部と、前記第２の入力部により入力した前記識別データ及び前記所定のデータに基づき、生産財毎に前記所定のデータを蓄積するデータベースと、生産財毎に前記所定のデータを時系列にまとめた所定のデータシートを生成する生成部とを具備するデータサーバと
を具備する生産財電子カルテシステム。
【請求項６】
請求項５に記載の生産財電子カルテシステムであって、
前記生産財は、金型、金型管理棚、生産設備、治工具管理棚のうち少なくとの１つである生産財電子カルテシステム。
【請求項７】
当該金型を識別するための識別データが記録されたＱＲコード（登録商標）が所定の位置に設けられた金型。
【請求項８】
請求項７に記載の金型であって、
前記ＱＲコード（登録商標）とともに、当該金型の個体認識を可能とする所定のデータが刻印された板部材が所定の位置に設けられた金型。
【請求項９】
請求項７に記載の金型であって、
前記ＱＲコード（登録商標）は切削加工により刻まれた金型。
【請求項１０】
請求項９に記載の金型であって、
当該金型が、金型を構成する金型部品である金型。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】金型電子カルテシステム、生産財電子カルテシステム及び金型
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月28日(2016.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る防水型機器は、電池から電源が供給される基板を収容する保護カバーと、保護カバーと密閉され、電池を収容する収容部を有する機器本体と、保護カバーと機器本体との間の収容空間に収容され、電池の下面を支持し、保護カバーと機器本体とが積層された積層方向に弾性力を備えた電池ホルダと、を有することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電池から電源が供給される基板を収容する保護カバーと、
前記保護カバーと密閉され、前記電池を収容する収容部を有する機器本体と、
前記保護カバーと前記機器本体との間の収容空間に収容され、前記電池の下面を支持し、前記保護カバーと前記機器本体とが積層された積層方向に弾性力を備えた電池ホルダと、を有する
ことを特徴とする防水型機器。
【請求項２】
前記電池ホルダは、
前記電池が載置される載置部と、
前記載置部を支持し、前記保護カバーに載置された足部と、を有し、
前記足部は、
前記載置部から湾曲しつつ延び、弾性力を備えた湾曲部と、
前記湾曲部から延び、前記載置部を支持する支持部と、
前記支持部の下端に設けられた脚部と、を有する
ことを特徴とする請求項１記載の防水型機器。
【請求項３】
前記脚部には、ガイド穴が設けられており、
前記保護カバーは、
前記ガイド穴の内部に移動可能に挿入されるピンを有し、
前記足部は、
前記電池が前記機器本体に押圧されるとき、前記ピンに沿って移動しつつ、前記湾曲部が撓む
ことを特徴とする請求項２記載の防水型機器。
【請求項４】
前記機器本体は、
前記基板に設けられたスイッチの上方の位置に設けられたスイッチ開口部と、
前記スイッチ開口部を塞ぎつつ前記スイッチを覆う弾性体からなるスイッチカバーと、を有し、
前記スイッチは、前記スイッチカバーを介した状態で押下されることを可能とする
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の防水型機器。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月15日(2017.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される化合物（Ａ）を含有する電池用添加剤（Ｂ）。
【化１】
2015179588.tif 000001
［式中R１は分岐鎖を有する炭素数６〜４０の脂肪族炭化水素基であり同一であっても異
なっていてもよい。Ｒ２は炭素数２〜４のアルキレン基であり同一であっても異なっていてもよい。ｊは２〜４０の整数である。Ｘは（ｍ＋ｎ）価の有機基、珪素原子、リン原子、アルカリ金属原子およびＰ＝Ｏ基からなる群より選ばれる１種であり、Ｙは炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基および水素原子からなる群より選ばれる１種である。Ｘが有機基の場合ｍは１〜４の整数であり、ｎは０〜３の整数であり、ｍ＋ｎは１〜４の整数である。Ｘが珪素原子の場合ｍは１〜４の整数であり、ｎは０〜３の整数であり、ｍ＋ｎは４である。Ｘがリン原子およびＰ＝Ｏ基の場合ｍは１〜３の整数であり、ｎは０〜２の整数であり、ｍ＋ｎは３である。Ｘがアルカリ金属の場合ｍは１、ｎは０である。］
【請求項２】
一般式（１）において、R１が、α炭素が２級または３級である炭素数６〜４０の１価
の脂肪族炭化水素基である請求項１に記載の電池用添加剤（Ｂ）。
【請求項３】
一般式（１）においてＸがカルボニル基である請求項１または２に記載の電池用添加剤（Ｂ）。
【請求項４】
一般式（１）においてｍが１、ｎが１、Ｘが炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基である２価の炭化水素基である請求項１または２に記載の電池用添加剤（Ｂ）。
【請求項５】
一般式（１）においてＸが下記一般式（２）で表される請求項１または２に記載の電池用添加剤（Ｂ）。
【化２】
2015179588.tif 000002
［式中、Ｒ３はポリイソシアネート化合物からイソシアネート基を除いた残基である。ｋは１〜４の整数である。］
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の電池用添加剤（Ｂ）を含有する電極。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の電池用添加剤（Ｂ）を含有する電解液。
【請求項８】
請求項６に記載の電極を有するリチウムイオン電池。
【請求項９】
請求項７に記載の電解液を有するリチウムイオン電池。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月22日(2016.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１２のいずれかに記載のコネクタであって、
前記保持部材は、前記嵌合方向と前記ピッチ方向の双方と直交する所定方向において前記第１整列部材と前記第２整列部材の位置決めを行う所定方向位置決め部を有している
コネクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月16日(2017.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに交差する方向である第１検出軸および第２検出軸を有する慣性センサーの前記第１検出軸の出力信号である第１出力信号に基づいて衝撃入力の有無を検出する第１検出部と、
前記第２検出軸の出力信号である第２出力信号に基づいて衝撃入力の有無を検出する第２検出部と、
前記第１検出部と前記第２検出部の両方が、衝撃入力があったと検出した場合に、衝撃入力されたと判定する衝撃検出判定部と、
を含む、衝撃検出回路。
【請求項２】
請求項１に記載の衝撃検出回路において、
前記第１検出部は、前記第１検出軸の正向きと負向きの少なくとも一方で、前記第１出力信号が、第１基準値を上回った後に前記第１基準値を下回った場合に、衝撃入力があったと検出し、
前記第２検出部は、前記第２検出軸の正向きと負向きの少なくとも一方で、前記第２出力信号が、第２基準値を上回った後に前記第２基準値を下回った場合に、衝撃入力があったと検出する、衝撃検出回路。
【請求項３】
請求項２に記載の衝撃検出回路において、
前記第１検出部は、前記第１検出軸の正向きと負向きの両方で、前記第１出力信号が、前記第１基準値を上回った後に前記第１基準値を下回った場合に、衝撃入力があったと検出し、
前記第２検出部は、前記第２検出軸の正向きと負向きの両方で、前記第２出力信号が、前記第２基準値を上回った後に前記第２基準値を下回った場合に、衝撃入力があったと検出する、衝撃検出回路。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の衝撃検出回路において、
前記第１基準値と、前記第２基準値とを、それぞれ独立して設定可能に構成されている、衝撃検出回路。
【請求項５】
請求項２ないし４のいずれか１項に記載の衝撃検出回路において、
前記衝撃検出判定部は、
前記第１検出部と前記第２検出部の両方が、検出期間内に衝撃入力があったと検出した場合に、衝撃入力されたと判定する、衝撃検出回路。
【請求項６】
請求項５に記載の衝撃検出回路において、
前記検出期間は、前記第１出力信号が前記第１基準値を上回ったタイミング、あるいは前記第２出力信号が前記第２基準値を上回ったタイミングから開始する、衝撃検出回路。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の衝撃検出回路において、
前記第１検出部は、ハイパスフィルター処理後の前記第１出力信号に基づいて、衝撃入力の有無を検出し、
前記第２検出部は、ハイパスフィルター処理後の前記第２出力信号に基づいて、衝撃入力の有無を検出する、衝撃検出回路。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の衝撃検出回路と、
前記慣性センサーと、
を含む、物理量検出装置。
【請求項９】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の衝撃検出回路を含む、電子機器。
【請求項１０】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の衝撃検出回路を含む、移動体。
【請求項１１】
互いに交差する方向である第１検出軸および第２検出軸を有する慣性センサーの前記第１検出軸の出力信号である第１出力信号に基づいて衝撃入力の有無を検出する第１検出工程と、
前記第２検出軸の出力信号である第２出力信号に基づいて衝撃入力の有無を検出する第２検出工程と、
前記第１検出工程と前記第２検出工程の両方において衝撃入力があったと検出した場合に、衝撃入力されたと判定する衝撃検出判定工程と、
を含む、衝撃検出方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
第１検出部１０は、慣性センサー１００の第１出力信号（Ｘ軸方向の出力信号）に基づいて衝撃入力の有無を検出する。第２検出部２０は、慣性センサー１００の第２出力信号（Ｙ軸方向の出力信号）に基づいて衝撃入力の有無を検出する。第３検出部３０は、慣性センサー１００の第３出力信号（Ｚ軸方向の出力信号）に基づいて衝撃入力の有無を検出する。なお、上述の第１検出部１０、第２検出部２０及び第３検出部３０と慣性センサー１００の検出軸との対応関係は一例であり、任意に組み合わせることができる。また、以下では、主として、検出軸のうちＸ軸とＹ軸を用いてタップ入力されたか否かを判定する例について説明する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
Ｘ軸正向き衝撃検出部１１（Ｙ軸正向き衝撃検出部２１、Ｚ軸正向き衝撃検出部３１）の出力信号は、ＡＮＤ回路１３（ＡＮＤ回路２３、ＡＮＤ回路３３）でイネーブル信号ＸＨＥ（イネーブル信号ＹＨＥ、イネーブル信号ＺＨＥ）との論理積がとられる。Ｘ軸負向き衝撃検出部１２（Ｙ軸負向き衝撃検出部２２、Ｚ軸負向き衝撃検出部３２）の出力信号は、ＡＮＤ回路１４（ＡＮＤ回路２４、ＡＮＤ回路３４）でイネーブル信号ＸＬＥ（イネーブル信号ＹＬＥ、イネーブル信号ＺＬＥ）との論理積がとられる。例えば、検出軸のうちＸ軸とＹ軸を用いてタップ入力されたか否かを判定する場合には、イネーブル信号ＺＨＥ及びイネーブル信号ＺＬＥはハイレベルであり、イネーブル信号ＸＨＥ、イネーブル信号ＸＬＥ、イネーブル信号ＹＨＥ及びイネーブル信号ＹＬＥはローレベルである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
衝撃検出回路１は、第１検出部１０の基準値と、第２検出部２０の基準値と、第３検出部３０の基準値とを、それぞれ独立して設定可能に構成されていてもよい。本実施形態においては、衝撃検出回路１は、レジスター５０を含んで構成されている。レジスター５０は、Ｘ軸正向き衝撃検出部１１の基準値を設定する基準値信号ＸＨＴＨ、Ｘ軸負向き衝撃検出部１２の基準値を設定する基準値信号ＸＬＴＨ、Ｙ軸正向き衝撃検出部２１の基準値を設定する基準値信号ＹＨＴＨ、Ｙ軸負向き衝撃検出部２２の基準値を設定する基準値信号ＹＬＴＨ、Ｚ軸正向き衝撃検出部３１の基準値を設定する基準値信号ＺＨＴＨ、及び、Ｚ軸負向き衝撃検出部３２の基準値を設定する基準値信号ＺＬＴＨを出力する。また、レジスター５０は、イネーブル信号ＸＨＥ、イネーブル信号ＸＬＥ、イネーブル信号ＹＨＥ、イネーブル信号ＹＬＥ、イネーブル信号ＺＨＥ及びイネーブル信号ＺＬＥを出力してもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
４．移動体
図８は、本実施形態に係る移動体４００の一例を示す図（上面図）である。なお、上述された各実施形態と同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月15日(2017.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
表示面に近接する被検知体を検知する赤外線検知ユニットが左右両端に設けられた表示パネルを有しており、前記赤外線検知ユニットは、赤外線受光素子とそれよりも数が多い赤外線発光素子を備えているとともに、前記赤外線発光素子が前記表示面の中心部の法線方向に向くように傾けて設置されている表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そして、図９のＬＣＤの静電容量型近接センサ２６は、例えば以下のように動作する。まず、導体線２６ｂに人の指等の外部の導電体が近接すると、導体線２６ｂと外部の導電体との間に静電的な容量結合が発生する。このとき、導体線２６ｂに新たな電気的容量が付加されるために、給電部２６ａに接続された外部の制御ＩＣ，ＬＳＩ等へ導体線２６ｂから反射してくる電流値（電荷量）が変化する。その変化した電流値を電圧値の変化として制御ＩＣ，ＬＳＩ等によって検知することによって、外部の導電体の近接を検知することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、上記の問題点に鑑みて完成されたものであり、その目的は、周囲の電子部品、回路配線等にＥＭＩを生じさせたり、逆に周囲の電子部品、回路配線等からＥＭＩを受けることのない近接センサを用いた表示装置とすること、また、表示パネルの中央部等に近接した、赤外線検知ユニット設置位置から横方向に離れた人の手等を、良好に検知することができる近接センサを用いた表示装置とすることである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の表示装置は、表示面に近接する被検知体を検知する赤外線検知ユニットが左右両端に設けられた表示パネルを有しており、前記赤外線検知ユニットは、赤外線受光素子とそれよりも数が多い赤外線発光素子を備えているとともに、前記赤外線発光素子が前記表示面の中心部の法線方向に向くように傾けて設置されている構成である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の表示装置は、表示面に近接する被検知体を検知する赤外線検知ユニットが左右両端に設けられた表示パネルを有しており、赤外線検知ユニットは、赤外線受光素子とそれよりも数が多い赤外線発光素子を備えているとともに、赤外線発光素子が表示面の中心部の法線方向に向くように傾けて設置されていることから、周囲の電子部品、回路配線等にＥＭＩを生じさせたり、逆に周囲の電子部品、回路配線等からＥＭＩを受けることがなく、また表示パネルの表示面の中央部等に近接した、赤外線検知ユニット設置位置から横方向に離れた人の手等の被検知体を、良好に検知することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明のＬＣＤは、透過型ＬＣＤである場合、視認者側と反対側に、液晶表示パネル２に画像を形成するための透過光を、液晶表示パネル２の反表示面２ｂ側から入射するバックライト４が設けられている。また本発明のＬＣＤは、反射型ＬＣＤである場合、バックライト４は設けられていなくてもよい。このバックライト４には２つの方式がある。１つの方式は、発光素子としてのＬＥＤ（Light  Emitting  Diode）素子が液晶表示パネル２の画面の端に配置されているエッジライト方式である。このエッジライト方式においては、液晶表示パネル２の画面の端に配置されたＬＥＤ素子からの光を導光板によって画面全体に導いて均一に分散させる。エッジライト方式は、最大６０インチ程度までの画面において良好な光学的均一性を保持することができ、５〜１０ｍｍ程度の厚さのバックライト４が実現できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
バックライト４は、アルミニウム等から成る金属枠体４ａに嵌めこまれている。金属枠体４ａはフレーム３に嵌め込み、ネジ止め等の手段で固定され、保護部材５は枠体３にネジ止め等の手段で固定される。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月9日(2017.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は以下の構成によって把握される。
（１）本発明の投影装置は、
投影面に画像を投影する投影部と、
前記投影部を収納し、第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、を有する筐体と、
前記筐体外の前記第１の面側に設けられる偏心部材と、
を備え、
前記第２の面を載置面側として前記筐体を載置する際、前記偏心部材を回転させることで、前記偏心部材の一部が、前記筐体の前記第２の面から突出して前記第２の面の傾きの調整を行える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影面に画像を投影する投影部と、
前記投影部を収納し、第１の面と、前記第１の面に隣接する第２の面と、を有する筐体と、
前記筐体外の前記第１の面側に設けられる偏心部材と、
を備え、
前記第２の面を載置面側として前記筐体を載置する際、前記偏心部材を回転させることで、前記偏心部材の一部が、前記筐体の前記第２の面から突出して前記第２の面の傾きの調整を行えることを特徴とする投影装置。
【請求項２】
前記偏心部材は、前記筐体の前記投影面側に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の投影装置。
【請求項３】
前記偏心部材は、外周面が凸状の曲面であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の投影装置。
【請求項４】
不使用時には、前記偏心部材は、前記筐体の前記第２の面から突出しないことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の投影装置。