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【手続補正書】
【提出日】平成29年8月1日(2017.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンジンと、
力行時に前記エンジンの動力をアシストし、回生時に発電する電動発電機と、
前記エンジンの動力によって駆動され、圧油を吐出する油圧ポンプ装置と、
蓄電装置と、
前記力行時に前記蓄電装置からの直流電力を交流電力に変換して前記電動発電機に供給し、前記回生時に前記電動発電機で発電された交流電力を直流電力に変換して前記蓄電装置に供給する電力変換装置と、
前記蓄電装置の温度を調整する温度調整装置と、
前記蓄電装置の充放電履歴に応じて、前記蓄電装置の温度を上昇させるように前記温度調整装置を制御する第１の制御、前記電力変換装置から出力される電力を減少させるように前記電力変換装置を制御する第２の制御、前記油圧ポンプ装置の吐出流量を減少させるように前記油圧ポンプ装置を制御する第３の制御のうち少なくとも１つを実行する制御装置と、
を備えることを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【請求項２】
請求項１に記載のハイブリッド式建設機械であって、
前記充放電履歴は、過去一定期間に測定された前記蓄電装置の充放電電流のデータである
ことを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【請求項３】
請求項２に記載のハイブリッド式建設機械であって、
前記データは、
前記充放電電流の電流値を含み、
前記制御装置は、
前記充放電電流の電流値が第１の閾値Ld以上となる期間と前記充放電電流の電流値が第１の閾値より小さい第２の閾値Lc以下となる期間の総和と前記過去一定期間との比を示す充放電実施時間比率を計算し、
前記充放電実施時間比率に応じて、前記第１〜第３の制御のうち少なくとも１つを実行する
ことを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【請求項４】
請求項３に記載のハイブリッド式建設機械であって、
前記制御装置は、
前記充放電電流の電流値が前記第１の閾値Ld以上となる期間及び前記充放電電流の電流値が前記第２の閾値Lc以下となる期間に、各期間に属するタイミングが現時点に近いほど大きい重み付けを付与する
ことを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【請求項５】
請求項３に記載のハイブリッド式建設機械であって、
前記制御装置は、
前記充放電実施時間比率が第３の閾値Rt_temp以上の場合、前記蓄電装置の目標温度に前記充放電実施時間比率の増加に応じて増加する値を設定し、及び、前記蓄電装置の温度が前記目標温度になるように、前記温度調整装置を制御することにより、前記第１の制御を実行する
ことを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【請求項６】
請求項３に記載のハイブリッド式建設機械であって、
前記制御装置は、
前記充放電実施時間比率が第４の閾値Rt_bat以上の場合、前記蓄電装置の出力の低減率に前記充放電実施時間比率の増加に応じて増加する値を設定し、前記前記蓄電装置の出力の低減率に基づいて、前記電力変換装置から出力される電力の指令値を設定し、及び、前記電力変換装置から出力される電力が前記前記指令値になるように前記電力変換装置を制御することにより、前記第２の制御を実行する
ことを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【請求項７】
請求項３に記載のハイブリッド式建設機械であって、
前記制御装置は、
前記充放電実施時間比率が第５の閾値Rt_pause以上の場合、前記電力変換装置を休止させることにより、前記第２の制御を実行する
ことを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【請求項８】
請求項３に記載のハイブリッド式建設機械であって、
前記制御装置は、
前記充放電実施時間比率が第６の閾値Rt_pump以上の場合、前記油圧ポンプ装置の動力の低減率に前記充放電実施時間比率の増加に応じて増加する値を設定し、前記油圧ポンプ装置の動力の低減率に基づいて、前記油圧ポンプ装置の動力の指令値を設定し、及び、前記油圧ポンプ装置の動力が前記指令値になるように前記油圧ポンプ装置を制御することにより、前記第３の制御を実行する
ことを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【請求項９】
請求項２に記載のハイブリッド式建設機械であって、
前記データは、
前記充放電電流の電流値又は電力値を含み、
前記制御装置は、
前記充放電電流の電流値又は電力値の積算値を計算し、
前記積算値に応じて、前記第１〜第３の制御のうち少なくとも１つを実行する
ことを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【請求項１０】
請求項９に記載のハイブリッド式建設機械であって、
前記積算値は、
前記充放電電流の電流値又は電力値の絶対値又は二乗値の積算値である
ことを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【請求項１１】
請求項２に記載のハイブリッド式建設機械であって、
前記データは、
前記充放電電流の電流値又は電力値を含み、
前記制御装置は、
前記充放電電流の電流値又は電力値に基づいてフィードバック制御の出力値を算出し、
前記フィードバック制御の出力値に応じて、前記第１〜第３の制御のうち少なくとも１つを実行する
ことを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【請求項１２】
請求項１に記載のハイブリッド式建設機械であって、
前記制御装置は、
前記蓄電装置の温度が第１の温度以下の場合に、前記第１の制御を実行する
ことを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【請求項１３】
請求項１２に記載のハイブリッド式建設機械であって、
前記制御装置は、
前記蓄電装置の温度が前記第１の温度より大きい第２の温度以上の場合に、前記蓄電装置の温度を降下させるように前記温度調整装置を制御する第４の制御を実行する
ことを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【請求項１４】
請求項１に記載のハイブリッド式建設機械であって、
前記制御装置は、
前記第１〜第３の制御のうち、前記第１の制御を実行する
ことを特徴とするハイブリッド式建設機械。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月20日(2017.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
建物開口部に取付けられる窓枠と、閉鎖時に窓枠の上方領域に配置される外障子と、閉鎖時に窓枠の下方領域に配置される内障子とを備え、
窓枠の上方領域において、左右の縦枠内周面間の寸法は、室内側端部から室外壁に至るまで外障子の見付け幅寸法より大きく、
窓枠の下方領域において、左右の縦枠は、窓の閉鎖時に内障子の縦框の室外側面に対向する部材が設けられている
ことを特徴とする上げ下げ窓。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本願の請求項１に係る発明は、建物開口部に取付けられる窓枠と、閉鎖時に窓枠の上方領域に配置される外障子と、閉鎖時に窓枠の下方領域に配置される内障子とを備え、窓枠の上方領域において、左右の縦枠内周面間の寸法は、室内側端部から室外壁に至るまで外障子の見付け幅寸法より大きく、窓枠の下方領域において、左右の縦枠は、窓の閉鎖時に内障子の縦框の室外側面に対向する部材が設けられていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月6日(2017.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
乗かご及びつり合い重りと、前記乗かごと前記つり合い重りを連結するロープと、昇降路の天井の上方に設けた機械室と、この機械室内に配置され、前記ロープを移動させる巻上機と、この巻上機を回転駆動するモータと、前記乗かごが所定階に着床したとき前記モータを制動するブレーキ装置と、前記巻上機に取り付けられ、前記ロープが掛け回されるメインシーブと、前記ロープが掛け回され、前記乗かごが前記つり合い重りから離隔するように前記ロープを反らせるそらせシーブと、前記ブレーキ装置が作動して前記モータを制動し、前記乗かごの戸が開いている状態で前記乗かごが移動したとき、前記ロープの移動を阻止するロープブレーキとを備えたエレベータ装置において、前記ロープブレーキを、前記昇降路の天井に取り付ける取り付け手段を備えたことを特徴としている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乗かご及びつり合い重りと、前記乗かごと前記つり合い重りを連結するロープと、昇降路の天井の上方に設けた機械室と、この機械室内に配置され、前記ロープを移動させる巻上機と、この巻上機を回転駆動するモータと、前記乗かごが所定階に着床したとき前記モータを制動するブレーキ装置と、前記巻上機に取り付けられ、前記ロープが掛け回されるメインシーブと、前記ロープが掛け回され、前記乗かごが前記つり合い重りから離隔するように前記ロープを反らせるそらせシーブと、前記ブレーキ装置が作動して前記モータを制動し、前記乗かごの戸が開いている状態で前記乗かごが移動したとき、前記ロープの移動を阻止するロープブレーキとを備えたエレベータ装置において、
前記ロープブレーキを、前記昇降路の天井に取り付ける取り付け手段を備えたことを特徴とするエレベータ装置。
【請求項２】
請求項１に記載のエレベータ装置において、
前記取り付け手段は、前記ロープブレーキを保持する保持ブラケットと、この保持ブラケットを前記昇降路の天井に固定するアンカーボルトとを含むことを特徴とするエレベータ装置。
【請求項３】
請求項２に記載のエレベータ装置において、
前記保持ブラケットは、前記ロープブレーキの一方の側部に取り付けられる第１保持ブラケットと、前記ロープブレーキの他方の側部に取り付けられる第２保持ブラケットとを含み、
前記アンカーボルトは、前記第１保持ブラケットを前記昇降路の天井に固定する第１アンカーボルトと、前記第２保持ブラケットを前記昇降路の天井に固定する第２アンカーボルトとを含むことを特徴とするエレベータ装置。
【請求項４】
請求項１に記載のエレベータ装置において、
前記取り付け手段は、前記ロープブレーキを保持する保持ブラケットと、この保持ブラケットが支持される支持ブラケットと、前記保持ブラケットを前記支持ブラケットに固定する固定部材と、前記支持ブラケットを前記昇降路の天井に固定するアンカーボルトとを含むことを特徴とするエレベータ装置。
【請求項５】
請求項４に記載のエレベータ装置において、
前記保持ブラケットは、前記ロープブレーキの一方の側部に取り付けられる第１保持ブラケットと、前記ロープブレーキの他方の側部に取り付けられる第２保持ブラケットとを含み、
前記固定部材は、前記第１保持ブラケットを前記支持ブラケットに固定する第１ボルト、この第１ボルトに螺合する第１ナットと、前記第２保持ブラケットを前記支持ブラケットに固定する第２ボルト、この第２ボルトに螺合する第２ナットとを含み、
前記アンカーボルトは、前記支持ブラケットの一方の側端部を前記昇降路の天井に固定する第１アンカーボルトと、前記支持ブラケットの他方の側端部を前記昇降路の天井に固定する第２アンカーボルトとを含むことを特徴とするエレベータ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月17日(2017.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
支持金具(2)は、図１に示すように、建物(B)の屋上の外縁部(B2)に前後方向に締付固定されるネジ式のＦ型クランプ(21)と、Ｆ型クランプ(21)の前アゴ部(211)に前方に張り出すように取り付けられた左右１対の支持プレート(22)とを備えている。
ガイドレール(1)は、その上端部が支持金具(2)の両支持プレート(22)間に挿入されて、同上端部のウェブ(12)部分と両支持プレート(22)とをボルト・ナットで結合することにより、支持金具(2)によって吊り下げ状に支持されている。
なお、支持金具の構造は、上記に限定されるものではなく、建物の構造や要求される支持強度等に応じて適宜のものを使用することが可能である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
各連結ボルト(5c)の頭部(56)と、左クランプ部材(5a)のクランプ部(52)の受け溝(522)底面との間には、圧縮コイルばね(5d)が介在されている。また、各圧縮コイルばね(5d)と、連結ボルト頭部(56)および受け溝(522)底面との間には、平ワッシャー等よりなる受けリング(58)がそれぞれ介在されている。
これらの圧縮コイルばね(5d)によって、上記弾性部材が構成されており、左右クランプ部材(5a)(5b)は、圧縮コイルばね(5d)の付勢力（ばね弾性力）によって、互いに接近する方向に付勢され、ひいては、両クランプ部材(5a)(5b)によってガイドレール(1)が弾性的に挟持される。
圧縮コイルばね(5d)の付勢力、すなわち、両クランプ部材(5a)(5b)によるガイドレール(1)の弾性挟持力は、連結ボルト(5c)のネジ孔(551)へのねじ込み量を増減して、圧縮コイルばね(5d)の圧縮量を増減させることにより、調整可能である。
なお、レールクランプの２つのクランプ部材は、図示のものと左右反対であって勿論よい。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月26日(2017.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を達成するため本発明のシート搬送装置は、シートに搬送力を付与する無端ベルトと、前記無端ベルトの外周部と当接する円筒状の回転部材と、を備え、前記無端ベルトの外周部は、前記無端ベルトの幅方向に延びる凸部を、前記無端ベルトの周方向に複数有し、前記回転部材は、前記幅方向に関して前記凸部と当接する長さが前記凸部の前記幅方向の長さよりも小さい当接部を有する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートに搬送力を付与する無端ベルトと、
前記無端ベルトの外周部と当接する円筒状の回転部材と、
を備え、
前記無端ベルトの外周部は、
前記無端ベルトの幅方向に延びる凸部を、前記無端ベルトの周方向に複数有し、
前記回転部材は、前記幅方向に関して前記凸部と当接する長さが前記凸部の前記幅方向の長さよりも小さい当接部を有する、ことを特徴とするシート搬送装置。
【請求項２】
前記無端ベルトの内周部と接触する内周部回転部材と、
前記回転部材と前記内周部回転部材との少なくとも一方に駆動力を付与する駆動手段と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載のシート搬送装置。
【請求項３】
前記当接部は、前記回転部材の外周を形成していることを特徴とする請求項１又は２に記載のシート搬送装置。
【請求項４】
前記無端ベルトの外周部は、前記当接部よりも軟質の材料で形成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のシート搬送装置。
【請求項５】
前記回転部材と前記内周部回転部材とは、前記無端ベルトを挟んで対向する位置に配置されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のシート搬送装置。
【請求項６】
搬送部により搬送されたシートを積載するシート積載部と、
前記シート積載部に搬送されたシートを搬送するシート搬送装置と、
前記シート搬送装置に搬送されたシートの端部を規制するシート端規制部材と、を備え、
前記シート搬送装置は、請求項１から５のいずれか１項に記載のシート搬送装置であることを特徴とするシート集積装置。
【請求項７】
前記無端ベルトは、
前記シート積載部の上方に配置され、
シートの積載量に応じて歪曲変形する素材で形成されていることを特徴とする請求項６に記載のシート集積装置。
【請求項８】
前記無端ベルトは、
前記搬送部がシートを搬送する搬送方向の逆方向にシートを搬送することを特徴とする請求項６または７に記載のシート集積装置。
【請求項９】
シートに所定の処理を施すシート処理手段を備えることを特徴とする請求項６から８のいずれか１項に記載のシート集積装置。
【請求項１０】
前記シート処理装置は、シート束を綴じ処理する綴じ処理手段、シートにファイル穴を穿孔する穿孔手段、シートに捺印するスタンプ手段、シートを折り処理する折り処理手段、シートをトリミング処理する断裁手段、から選択される１つの手段であることを特徴とする請求項９に記載のシート集積装置。
【請求項１１】
シートに搬送力を付与する無端ベルトと、
前記無端ベルトの外周部と当接する円筒状の回転部材と、
を備え、
前記無端ベルトの外周部は、
前記無端ベルトの幅方向に延びる凸部を、前記無端ベルトの周方向に複数有し、
前記回転部材の外周部には、
前記凸部を変形させる当接部を備えることを特徴とするシート搬送装置。
【請求項１２】
シートに搬送力を付与する無端ベルトと、
前記無端ベルトの外周部と当接する円筒状の回転部材と、
を備え、
前記無端ベルトの外周部は、
前記無端ベルトの幅方向に延びる凸部を、前記無端ベルトの周方向に複数有し、
前記回転部材は、
前記無端ベルトの外周部と当接するとともに、前記幅方向において接触圧を異ならせる当接部を有する、ことを特徴とするシート搬送装置。
【請求項１３】
シートに搬送力を付与する無端ベルトと、
前記無端ベルトの外周部と当接する円筒状の回転部材と、
を備え、
前記無端ベルトの外周部は、
前記無端ベルトの幅方向に延びる凸部を、前記無端ベルトの周方向に複数有し、
前記回転部材は、
前記無端ベルトの外周部と当接するとともに、前記幅方向において前記凸部の変形量を異ならせる当接部を有する、ことを特徴とするシート搬送装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年9月20日(2017.9.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエステル調製物であって、
ａ）少なくとも１種のセルロースエステル、および
ｂ）式（Ｉ）の少なくとも１種のリン含有プロピオン酸誘導体
【化１】
2016160437.tif 000001
［式中、
Ｘが、酸素を表し、
Ｒが、水素を表し、
Ａが、酸素を表し、
Ｚが、酸素および硫黄の系列からの１個または複数のヘテロ原子によって中断されていてもいなくてもよい、１〜２０個の炭素原子の、飽和、直鎖状の、脂肪族ヒドロカルビル残基を表し、
そして
ｎが、１を表す］
を含むことを特徴とする、セルロースエステル調製物。
【請求項２】
式中、
Ｚが、１個または２個の酸素原子によって中断されていてもいなくてもよい、１〜６個の炭素原子の、飽和、直鎖状の、脂肪族ヒドロカルビル残基を表す、
請求項１に記載の式（Ｉ）の少なくとも１種のリン含有プロピオン酸誘導体を含むことを特徴とする、請求項１に記載のセルロースエステル調製物。
【請求項３】
請求項１に記載の式（Ｉ）の少なくとも１種のリン含有プロピオン酸誘導体、
［式中、
Ｘが酸素を表し、
Ｒが水素を表し、
Ａが酸素を表し、
ｎが１を表し、
そして
Ｚが、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ノニル、またはｎ−デシルを表す］
を含むことを特徴とする、請求項１または２に記載のセルロースエステル調製物。
【請求項４】
前記セルロースエステルａ）成分が、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネートまたはセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、カルボキシメチルセルロースアセテートおよびカルボキシメチルセルロースブチレートからなる群より選択される１種または複数のエステルを含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載のセルロースエステル調製物。
【請求項５】
セルロースエステルａ）の置換度が、アンヒドログルコース単位あたり１．０〜３．０個のアシル基であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載のセルロースエステル調製物。
【請求項６】
前記調製物が、１００重量部のセルロースエステルを基準にして、５〜６０重量部の、式（Ｉ）の少なくとも１種のリン含有プロピオン酸誘導体を含むことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載のセルロースエステル調製物。
【請求項７】
少なくとも１種の助剤または添加物質を含むことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のセルロースエステル調製物。
【請求項８】
ａ）少なくとも１種のセルロースエステル、およびｂ）式（Ｉ）の少なくとも１種のリン含有プロピオン酸誘導体を共に混合することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載のセルロースエステル調製物を製造するためのプロセス。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の少なくとも１種のセルロースエステル調製物、ならびに少なくとも１種の有機溶媒を含む、溶液。
【請求項１０】
セルロースエステル調製物のための可塑化性能を有する難燃剤としての、請求項１に記載の式（Ｉ）のリン含有プロピオン酸誘導体の使用。
【請求項１１】
難燃化された成形物、シート、フィルム、コーティング、ペイント、または繊維の製造における、請求項１〜７のいずれか１項に記載のセルロースエステル調製物の使用。
【請求項１２】
難燃化された成形物、シート、フィルム、コーティング、ペイント、または繊維の製造における、請求項９に記載の溶液の使用。
【請求項１３】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のセルロースエステル調製物をベースとする、成形物、シート、フィルム、コーティング、ペイント、または繊維。
【請求項１４】
請求項９に記載の溶液をベースとする、成形物、シート、フィルム、コーティング、ペイント、または繊維。
【請求項１５】
住宅部品、スイッチ、プラグ、断熱材、敷居板、フットマット、トランクカーペット、シートカバーまたは車体部品の製造における請求項１３または１４に記載の成形物の使用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
そのようにして得られた押出し成形物品または射出成形物品、中実シート製品、発泡シート製品、シートフォーム、シート、フィルム、コーティング、ペイントおよび繊維は、電気および電子分野において、たとえば住宅部品、スイッチ、またはプラグにおいて、土木工学において、たとえば断熱材として、そして車両製造において、たとえばインテリアトリム、敷居板、フットマット、トランクカーペット、シートカバー、車体部品、スポイラー、またはエクステリアトリムストリップにおいて使用される。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月5日(2017.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニッケルを含む硫酸酸性溶液に硫化水素ガスを吹き込むことによって硫化反応を生じさせてニッケル硫化物を得るニッケル硫化物の製造方法であって、
複数の硫化反応槽を用い、
最初に硫化反応を生じさせる第１の硫化反応槽において、ニッケル濃度が０．５〜５．０ｇ／Ｌである前記硫酸酸性溶液に、種晶として粒径５〜２０μｍのニッケル硫化物を、該硫酸酸性溶液に含まれるニッケル量に対して４０〜５００質量％の割合の量で添加し、
前記第１の硫化反応槽に吹き込む硫化水素ガスの吹き込み量を０．３３〜０．８２Ｎｍ３／ｋｇ−Ｎｉに調整することによって、
粒径が１０〜６０μｍであるニッケル硫化物を回収する
ことを特徴とするニッケル硫化物の製造方法。
【請求項２】
前記第１の硫化反応槽において、前記種晶としての粒径５〜２０μｍのニッケル硫化物を、前記ニッケルを含む硫酸酸性溶液に含まれるニッケル量に対して１００〜１５０質量％の割合で添加し、
前記第１の硫化反応槽に吹き込む硫化水素ガスの吹き込み量を０．３３〜０．８２Ｎｍ３／ｋｇ−Ｎｉに調整することによって、
粒径が１５〜５５μｍであるニッケル硫化物を回収する
ことを特徴とする請求項１に記載のニッケル硫化物の製造方法。
【請求項３】
前記種晶として添加するニッケル硫化物として、前記硫化反応により得られたニッケル硫化物を繰り返して使用する
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のニッケル硫化物の製造方法。
【請求項４】
前記ニッケルを含む硫酸酸性溶液は、ニッケル酸化鉱石の湿式製錬方法において該ニッケル酸化鉱石に対して硫酸を用いた浸出処理を施して得られる浸出液である
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のニッケル硫化物の製造方法。
【請求項５】
ニッケル酸化鉱石に対して硫酸を用いてニッケルを浸出し、得られた浸出液からニッケルを含む硫化物を生成させるニッケル酸化鉱石の湿式製錬方法において、
複数の硫化反応槽を用い、最初に硫化反応を生じさせる第１の硫化反応槽において、ニッケル濃度が０．５〜５．０ｇ／Ｌである浸出液に、種晶として粒径５〜２０μｍのニッケル硫化物を、該浸出液に含まれるニッケル量に対して４０〜５００質量％の割合の量で添加し、該第１の硫化反応槽に吹き込む硫化水素ガスの吹き込み量を０．３３〜０．８２Ｎｍ３／ｋｇ−Ｎｉに調整することによって、粒径が１０〜６０μｍであるニッケル硫化物を回収する硫化工程を含む
ことを特徴とするニッケル酸化鉱石の湿式製錬方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月16日(2017.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。本実施形態では特に図示しないが各ループ軌道が密封容器により構成されており、錘として液体が用いられる。
上記第１の実施形態と同様に円板１の回転に伴い錘４として液体が移動することで円板１の回転モーメントが常時正の値に保たれることで回転が持続する。錘４として液体を用いた場合は、上述したように、液体の量を適切なものとしないと液体が軌道上に広範囲に広がって錘の移動量が減少するおそれがある点に注意を要する。また各素機３に液体と固体を併存させる構成や、素機３により錘４として個体の錘と液体の錘を使い分ける構成としてもよい。これらの構成には回転モーメントを時間的に平均化させる最適な組み合わせが見出される可能性があるからである。
本発明の加速錘利用の回転装置は大規模設計に適していると考えられる。第１及び第２の実施形態において、概算としてではあるが、例えば装置各部の寸法を相似比で２倍に拡大すれば、錘４の移動距離が２倍になり、かつ錘４の重量が８倍となるため合わせて１６倍の出力が得られることとなる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月26日(2017.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の（１）〜（３）からなる群より選択される１又は２以上のペプチドを有効成分とする筋萎縮抑制剤：
（１）配列番号１で表されるアミノ酸配列からなるペプチド、
（２）配列番号５で表されるアミノ酸配列からなるペプチド、
（３）配列番号１７で表されるアミノ酸配列からなるペプチドと、配列番号１８で表されるアミノ酸配列からなるペプチドと、配列番号１９で表されるアミノ酸配列からなるペプチドと、のペプチド混合物。
【請求項２】
廃用性筋萎縮又は加齢性筋萎縮の抑制に用いられる請求項１に記載の筋萎縮抑制剤。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の筋萎縮抑制剤と、薬学的に許容される担体とを含む、筋萎縮の予防又は治療用の医薬。
【請求項４】
以下の（１）〜（３）からなる群より選択される１又は２以上のペプチドを有効成分として含む筋萎縮抑制用飲食品：
（１）配列番号１で表されるアミノ酸配列からなるペプチド、
（２）配列番号５で表されるアミノ酸配列からなるペプチド、
（３）配列番号１７で表されるアミノ酸配列からなるペプチドと、配列番号１８で表されるアミノ酸配列からなるペプチドと、配列番号１９で表されるアミノ酸配列からなるペプチドと、のペプチド混合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】筋萎縮抑制剤及び筋萎縮抑制用飲食品
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月3日(2017.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リバースロールコーター方式を用いて離型紙上に塗工して樹脂フィルムを製造する方法において、以下の（１）、（２）を必須成分とする熱硬化性樹脂組成物を、明細書中で定義するＢ／Ｃ比が０．５〜０．９となるように離型紙上に塗工して、樹脂厚みがＡμｍである樹脂フィルムを製造する樹脂フィルムの製造方法。
（１）樹脂フィルムの樹脂厚みＡμｍに対して、体積平均粒径が０．８Ａμｍ以下である熱可塑性樹脂からなる第１の粒子を２０〜５０質量％含む。
（２）樹脂フィルムの樹脂厚みＡμｍに対して、体積平均粒径がＡ〜１．８Ａμｍであり、かつ２Ａμｍを超える粗大粒子の含有量が２質量％以下である第２の粒子を１〜５質量％含む。
【請求項２】
樹脂フィルムの樹脂厚みＡμｍが５０μｍ以下であることを特徴とする、請求項１に記載の樹脂フィルムの製造方法。
【請求項３】
樹脂フィルムに用いられる熱硬化性樹脂組成物の８０℃における貯蔵弾性率Ｇ’が、１０〜２００Ｐａであることを特徴とする、請求項１または２に記載の樹脂フィルムの製造方法。
【請求項４】
１０〜１００ｇ／ｍ２の目付で以下の（１）、（２）の樹脂成分を含み、樹脂フィルムの幅が３０ｃｍ以上であって、該樹脂フィルムの樹脂被覆率が８５％以上であり、かつ、スジ状の欠点が該樹脂フィルムの幅方向１ｍ、および長手方向１００ｍあたり５本以下である熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂フィルム。
（１）樹脂フィルムの樹脂厚みＡμｍに対して、体積平均粒径が０．８Ａμｍ以下である熱可塑性樹脂からなる第１の粒子を２０〜５０質量％含む。
（２）樹脂フィルムの樹脂厚みＡμｍに対して、体積平均粒径がＡ〜１．８Ａμｍであり、かつ２Ａμｍを超える粗大粒子の含有量が２質量％以下である第２の粒子を１〜５質量％含む。
【請求項５】
樹脂フィルムに用いられる熱硬化性樹脂組成物の８０℃における貯蔵弾性率Ｇ’が、１０〜２００Ｐａであることを特徴とする、請求項４に記載の樹脂フィルム。
【請求項６】
シート状に引き揃えた炭素繊維に熱硬化性樹脂組成物を含浸して得られる一次プリプレグの両面に、請求項４または５に記載の樹脂フィルムの熱硬化性樹脂組成物がさらに貼着されてなる二次プリプレグ。
【請求項７】
請求項６に記載の二次プリプレグが複数枚積層され、加熱硬化されてなる炭素繊維強化複合材料。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月25日(2016.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パッドを備えた配線部材と、
前記配線部材の上に、前記パッドの外周縁上を覆うように配置された保護絶縁層と、
前記パッドを露出するように前記保護絶縁層に開口されたホールと、
前記ホールの開口端側に配置され、前記保護絶縁層の表面の高さよりも低い段差面と、前記段差面を囲う外周側面とから形成される段差部と、
前記パッドの上から前記ホールの側面及び前記段差部の段差面に形成されたシード層と、
前記シード層の上に設けられ、電解めっき層から形成されたはんだバンプと
を有することを特徴とする配線基板。
【請求項２】
前記ホールの段差部上の前記シード層の上面は、前記保護絶縁層の上面の高さ位置よりも下に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項３】
前記保護絶縁層はポジ型の感光性樹脂から形成され、前記シード層は銅から形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の配線基板。
【請求項４】
前記パッドと前記シード層との間に形成された中間金属層を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の配線基板。
【請求項５】
パッドを備えた配線部材と、
前記配線部材の上に、前記パッドの外周縁上を覆うように配置された保護絶縁層と、
前記パッドを露出するように前記保護絶縁層に開口されたホールと、
前記ホールの開口端側に配置され、前記保護絶縁層の表面の高さよりも低い段差面と、前記段差面を囲う外周側面とから形成される段差部と、
前記パッドの上から前記ホールの側面及び前記段差部の段差面に形成されたシード層と、
前記シード層の上に設けられ、電解めっき層から形成されたはんだバンプと、
前記はんだバンプに電極が接続された半導体素子と
を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
パッドを備えた配線部材を用意する工程と、
前記パッドを露出するように開口されたホールを備え、前記パッドの外周縁上を覆う保護絶縁層を前記配線部材の上に形成する工程であって、前記ホールの開口端側に、前記保護絶縁層の表面の高さよりも低い段差面と、前記段差面を囲う外周側面とから形成される段差部が配置され、
前記ホールの内面に前記段差部に沿ってシード層を形成する共に、前記保護絶縁層の上に前記シード層を形成する工程と、
前記ホールの段差部上の前記シード層の側面が露出するようにして、前記ホールの上に開口部が配置されためっきレジスト層を前記シード層の上に形成する工程と、
前記シード層をめっき給電経路に利用する電解めっきにより、前記めっきレジスト層の開口部にはんだ層を形成する工程と、
前記めっきレジスト層を除去する工程と、
前記はんだ層をマスクにして前記シード層をウェットエッチングにより除去する工程と  を有することを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項７】
前記シード層を形成する工程において、
前記シード層の厚みは、前記ホールの段差部の深さよりも薄く設定されることを特徴とする請求項６に記載の配線基板の製造方法。
【請求項８】
前記めっきレジスト層を形成する工程において、
前記ホールの段差部上の前記シード層の側面の位置に、前記めっきレジスト層の開口部の側面を配置することを特徴とする請求項６又は７に記載の配線基板の製造方法。
【請求項９】
前記ホールを備えた保護絶縁層を形成する工程は、
前記配線部材の上に、ポジ型の感光性樹脂層を形成する工程と、
ハーフトーンマスクを使用するフォトリソグラフィにより、前記感光性樹脂層に、前記開口端に段差部を有するホールを形成する工程とを含むことを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載の配線基板の製造方法。
【請求項１０】
前記シード層をウェットエッチングにより除去する工程の後に、
前記はんだ層を加熱処理によってリフローさせてはんだバンプを得る工程を有することを特徴とする請求項６乃至９のいずれか一項に記載の配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
以下の開示の一観点によれば、パッドを備えた配線部材と、前記配線部材の上に、前記パッドの外周縁上を覆うように配置された保護絶縁層と、前記パッドを露出するように前記保護絶縁層に開口されたホールと、前記ホールの開口端側に配置され、前記保護絶縁層の表面の高さよりも低い段差面と、前記段差面を囲う外周側面とから形成される段差部と、前記パッドの上から前記ホールの側面及び前記段差部の段差面に形成されたシード層と、前記シード層の上に設けられ、電解めっき層から形成されたはんだバンプとを有する配線基板が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、その開示の他の観点によれば、パッドを備えた配線部材を用意する工程と、前記パッドを露出するように開口されたホールを備え、前記パッドの外周縁上を覆う保護絶縁層を前記配線部材の上に形成する工程であって、前記ホールの開口端側に、前記保護絶縁層の表面の高さよりも低い段差面と、前記段差面を囲う外周側面とから形成される段差部が配置され、前記ホールの内面に前記段差部に沿ってシード層を形成する共に、前記保護絶縁層の上に前記シード層を形成する工程と、前記ホールの段差部上の前記シード層の側面が露出するようにして、前記ホールの上に開口部が配置されためっきレジスト層を前記シード層の上に形成する工程と、前記シード層をめっき給電経路に利用する電解めっきにより、前記めっきレジスト層の開口部にはんだ層を形成する工程と、前記めっきレジスト層を除去する工程と、前記はんだ層をマスクにして前記シード層をウェットエッチングにより除去する工程とを有する配線基板の製造方法が提供される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
１…配線基板、２…半導体装置、５…配線部材、１０…絶縁層、２０ａ…感光性樹脂層、２０…保護絶縁層、２２…ホール、３０…ハーフトーンマスク、３０ａ…透過部、３０ｂ…半透過部、３０ｃ…遮光部、４０…中間金属層、５０…シード層、６０…めっきレジスト層、６０ａ…開口部、７０…はんだ層、Ｃ…凹部、Ｐ…パッド、ＳＢ…はんだバンプ、Ｓ，Ｓｘ…段差部、Ｓ１，Ｓｙ…段差面、Ｓ２，Ｓｚ…外周側面。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月17日(2017.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の楽音発生装置は、音高指定操作により指定された少なくとも３つの初期音高に基づいて初回和音を判定する初回和音判定手段と、前記初回和音判定手段により判定された初回和音からスケールを判定するスケール判定手段と、前記少なくとも３つの初期音高を指定する音高指定操作に続く音高指定操作により順次指定される複数の音高と、前記スケール判定手段により判定されたスケールとに基づいて、当該スケール上の和音を順次導出して発音する和音発音手段とを具備することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の電子楽器は、前記音高指定操作を行う演奏入力操作子と、本発明による楽音発生装置と、前記楽音発生装置の和音発音手段によって導出された音に基づき楽音を生成して出力する楽音出力部とを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の楽音発生方法は、楽音発生装置が、音高指定操作により指定された少なくとも３つの初期音高に基づいて初回和音を判定し、前記判定された初回和音からスケールを判定し、前記少なくとも３つの初期音高を指定する音高指定操作に続く音高指定操作により順次指定される複数の音高と、前記判定されたスケールとに基づいて、当該スケール上の和音を順次導出して発音することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明のプログラムは、コンピュータに、音高指定操作により指定された少なくとも３つの初期音高に基づいて初回和音を判定するステップ、前記判定された初回和音からスケールを判定するステップと、前記少なくとも３つの初期音高を指定する音高指定操作に続く音高指定操作により順次指定される複数の音高と、前記判定されたスケールとに基づいて、当該スケール上の和音を順次導出して発音するステップと、を実行させることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
音高指定操作により指定された少なくとも３つの初期音高に基づいて初回和音を判定する初回和音判定手段と、
前記初回和音判定手段により判定された初回和音からスケールを判定するスケール判定手段と、
前記少なくとも３つの初期音高を指定する音高指定操作に続く音高指定操作により順次指定される複数の音高と、前記スケール判定手段により判定されたスケールとに基づいて、当該スケール上の和音を順次導出して発音する和音発音手段と
を具備することを特徴とする楽音発生装置
【請求項２】
前記和音発音手段は、前記少なくとも３つの初期音高を指定する音高指定操作に続き、１音１音が順次指定される音高指定操作が行われた場合に、順次指定される音高と、前記スケール判定手段により判定されたスケールとに基づいて、当該スケール上の和音を順次導出して発音することを特徴とする請求項１に記載の楽音発生装置。
【請求項３】
前記和音発音手段は、前記少なくとも３つの初期音高のうちの１つの音高を起点として高音側又は低音側へ一音一音を区切らず順番に指定するグリッサンド操作が行われた場合に、前記グリッサンド操作により指定される音高を構成音に含み、かつ、前記初回和音判定手段により判定された初回和音の構成音の数と同じ数の構成音からなり、かつ、前記スケール判定手段により判定されたスケール上の和音を発音することを特徴とする請求項２に記載の楽音発生装置。
【請求項４】
前記和音発音手段は、前記初回和音判定手段により判定された初回和音の和音構成音及び最低音から転回形の種類を判別する方法、または前記グリッサンド操作により最初に指定された音高を最低音とする前記初回和音の転回形の種類を判別する方法のいずれかによって転回形の種類を判別し、前記グリッサンド操作で指定された音高を最低音とする前記判別された種類の転回形の和音を構成する前記スケール上の音高を導出することにより、当該和音を発音させることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の楽音発生装置。
【請求項５】
前記和音発音手段は、前記グリッサンド操作により最初に指定された音高が、前記初回和音の何れの種類の構成音であるかを判別し、前記最初に指定された音高に続いて前記グリッサンド操作で指定される音高が前記判別された種類の構成音である和音とするために、当該和音の他の種類の構成音として前記スケール上の音高を導出することにより、当該和音を発音させることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の楽音発生装置。
【請求項６】
前記スケール判定手段は、前記初回和音判定手段により判定された初回和音の構成音の数に基づいて前記和音発音手段にて発音される和音の構成音数を決定する発音数決定手段を備えることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の楽音発生装置。
【請求項７】
前記スケールが判定された後に行われるグリッサンド操作は、一音を順次指定することにより複数の音高を順次指定するものであり、
前記和音発音手段は、前記グリッサンド操作で指定された一音に基づいて、発音すべき和音を導出して発音することを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の楽音発生装置。
【請求項８】
前記請求項１から７のいずれかに記載の楽音発生装置と、
前記音高指定操作を行う演奏入力操作子と、
前記和音発音手段によって導出された音に基づき楽音を生成して出力する楽音出力部とを備える電子楽器。
【請求項９】
楽音発生装置が、
音高指定操作により指定された少なくとも３つの初期音高に基づいて初回和音を判定し、
前記判定された初回和音からスケールを判定し、
前記少なくとも３つの初期音高を指定する音高指定操作に続く音高指定操作により順次指定される複数の音高と、前記判定されたスケールとに基づいて、当該スケール上の和音を順次導出して発音する、楽音発生方法。
【請求項１０】
コンピュータに、
音高指定操作により指定された少なくとも３つの初期音高に基づいて初回和音を判定するステップ、
前記判定された初回和音からスケールを判定するステップと、
前記少なくとも３つの初期音高を指定する音高指定操作に続く音高指定操作により順次指定される複数の音高と、前記判定されたスケールとに基づいて、当該スケール上の和音を順次導出して発音するステップと、
を実行させるプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月16日(2017.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも赤色、緑色および青色を一組とするレーザ光を走査して立体視が可能な画像を投影する投影装置であって、
前記レーザ光を出射する光源部と、
前記レーザ光により投影領域を２次元状に走査する走査部と、
前記走査部により走査されたレーザ光が入射する複数のマイクロレンズで構成され、当該マイクロレンズへの入射位置に応じて前記レーザ光の出射角度を変化させて、投影される画像に応じて当該マイクロレンズの表面上の各点から位置と向きとが制御された光線の場が出射している状態を作り出すマイクロレンズアレイと、
前記光源部から出射されたレーザ光をコリメート光として前記走査部に入射させる投射レンズと、
前記走査部により走査されたレーザ光が入射し、当該レーザ光を、入射角度に応じた位置を通る集束光に変換して前記マイクロレンズアレイに入射させる第２の投射レンズと、を有し、
前記第２の投射レンズと前記マイクロレンズアレイは、前記第２の投射レンズの後側焦点面と前記マイクロレンズアレイの前側焦点面とが略重なる間隔で配置される
ことを特徴とする投影装置。
【請求項２】
前記第２の投射レンズと前記マイクロレンズアレイの間で前記レーザ光が集束する仮想的な投影面上における当該レーザ光による像の位置を、投影される画像の奥行き位置が知覚されるように制御する制御部をさらに有する、請求項１に記載の投影装置。
【請求項３】
前記走査部は、前記レーザ光を反射させて前記投影領域上を走査するＭＥＭＳミラーであり、
前記ＭＥＭＳミラーは、前記第２の投射レンズの前側焦点位置の近傍に前記第２の投射レンズから離れて配置される、請求項１または２に記載の投影装置。
【請求項４】
前記光源部は、複数のファイバの出射端部から前記レーザ光を複数組出射し、
前記走査部は、異なる組の同色のレーザ光による走査像同士が互いに重ならないように前記複数組のレーザ光により前記投影領域を２次元状に走査する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の投影装置。
【請求項５】
前記光源部は、
赤色レーザ光を発光する複数の第１のレーザ素子と、
前記複数の第１のレーザ素子が発光した赤色レーザ光をそれぞれ導波する複数の第１のファイバと、
緑色レーザ光を発光する複数の第２のレーザ素子と、
前記複数の第２のレーザ素子が発光した緑色レーザ光をそれぞれ導波する複数の第２のファイバと、
青色レーザ光を発光する複数の第３のレーザ素子と、
前記複数の第３のレーザ素子が発光した青色レーザ光をそれぞれ導波する複数の第３のファイバと、
前記複数の第１、第２および第３のファイバの出射端部を固定してファイババンドルを形成するファイババンドルコンバイナと、を有し、
前記複数の第１、第２および第３のファイバは、前記出射端部から前記複数組のレーザ光を出射する、請求項４に記載の投影装置。
【請求項６】
前記走査部は、異なる組の同色のレーザ光による走査像同士が互いに重ならない範囲の走査角で、前記投影領域を構成する各部分領域を、前記複数組のレーザ光のうち当該部分領域に対応するレーザ光により走査する、請求項４または５に記載の投影装置。
【請求項７】
前記光源部は、各組のレーザ光による走査線が互いにずれるように間隔を空けて前記複数組のレーザ光を出射し、
前記走査部は、前記複数組のレーザ光により前記投影領域の全体を同時に走査する、請求項４または５に記載の投影装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月14日(2017.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１乃至第４の副画素を有し、
前記第１乃至第３の副画素は、赤、緑、又は青のいずれか一の光の透過を制御する機能を有し、
前記第４の副画素は、白色の光の透過を制御する機能を有し、
前記第４の副画素の開口部の面積は、前記第１乃至第３の副画素の開口部の面積よりも小さく、
前記第１乃至第４の副画素は、トランジスタ及び容量素子をそれぞれ有し、
前記トランジスタは、酸化物半導体を含む半導体膜を有し、
前記容量素子は、第１の電極及び第２の電極を有し、
前記第１の電極は、金属酸化物を含み、
前記第１の電極は、前記トランジスタ上に設けられた窒化物絶縁膜に接する領域を有し、
前記第２の電極は、前記窒化物絶縁膜上に設けられ、且つ前記トランジスタに電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
第１乃至第４の副画素を有し、
前記第１乃至第３の副画素は、赤、緑、又は青のいずれか一の光の透過を制御する機能を有し、
前記第４の副画素は、白色の光の透過を制御する機能を有し、
前記第４の副画素の開口部の面積は、前記第１乃至第３の副画素の開口部の面積よりも小さく、
前記第１乃至第４の副画素は、トランジスタ及び容量素子をそれぞれ有し、
前記トランジスタは、酸化物半導体を含む半導体膜を有し、
前記容量素子は、第１の電極及び第２の電極を有し、
前記第１の電極は、金属酸化物を含み、
前記第１の電極は、前記トランジスタ上に設けられた窒化物絶縁膜に接する領域を有し、
前記第２の電極は、前記窒化物絶縁膜上に設けられ、且つ前記トランジスタに電気的に接続されており、
前記第１の電極は、前記第１の電極上の配線に電気的に接続されており、
前記トランジスタのソース電極またはドレイン電極と、前記配線とは、同一の層上に位置することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記酸化物半導体及び前記金属酸化物は、Ｉｎ、Ｇａ、及びＺｎを含むことを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月10日(2017.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上のトランジスタと、
前記トランジスタと接する無機絶縁膜と、
前記無機絶縁膜と接する有機絶縁膜と、
前記トランジスタと電気的に接続する容量素子と、
前記有機絶縁膜上に設けられ、且つ前記トランジスタと電気的に接続する画素電極と、を有し、
前記トランジスタは、前記基板上のゲート電極と、
前記ゲート電極と重なる酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜の一方の面に接するゲート絶縁膜と、
前記酸化物半導体膜に接する一対の導電膜と、を有し、
前記容量素子は、前記ゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記無機絶縁膜と、
前記無機絶縁膜上の第１の透光性を有する導電膜と、を有し、
前記画素電極は、第２の透光性を有する導電膜を有し、且つ前記一対の導電膜の一方及び前記第１の透光性を有する導電膜と接することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
基板上のトランジスタと、
前記トランジスタと接する無機絶縁膜と、
前記無機絶縁膜と接する有機絶縁膜と、
前記トランジスタと電気的に接続する容量素子と、
前記有機絶縁膜上に設けられ、且つ前記トランジスタと電気的に接続する画素電極と、を有し、
前記トランジスタは、前記基板上のゲート電極と、
前記ゲート電極と重なる酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜の一方の面に接するゲート絶縁膜と、
前記酸化物半導体膜に接する一対の導電膜と、を有し、
前記容量素子は、前記ゲート絶縁膜上であって、且つ前記一対の導電膜の一方と接する金属酸化物膜と、
前記無機絶縁膜と、
前記無機絶縁膜上の第１の透光性を有する導電膜と、を有し、
前記画素電極は、第２の透光性を有する導電膜を有し、且つ前記一対の導電膜の一方と接することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記無機絶縁膜は、前記酸化物半導体膜の他方の面に接する酸化物絶縁膜と、
前記酸化物絶縁膜に接する窒化物絶縁膜と、
を有すること特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記金属酸化物膜は、前記窒化物絶縁膜に接して設けられ、且つ前記酸化物半導体膜と同じ金属元素を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記酸化物半導体膜は、Ｉｎ−Ｇａ酸化物、Ｉｎ−Ｚｎ酸化物、またはＩｎ−Ｍ−Ｚｎ酸化物（Ｍは、Ａｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、ＳｎまたはＨｆ）を有することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記酸化物半導体膜は、第１の膜及び第２の膜を含む多層構造であり、
前記第１の膜は、前記第２の膜と金属元素の原子数比が異なることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月17日(2017.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１乃至第４の副画素を有する第１の画素、及び前記第１の画素の次行に設けられる第１乃至第４の副画素を有する第２の画素を有し、
前記第１の画素が有する前記第１乃至第３の副画素を選択するための信号を与える第１の配線と、
前記第１の画素が有する前記第４の副画素を選択するための第２の配線と、を有し、
前記第２の配線は、前記第２の画素が有する前記第４の副画素を選択するための配線であることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
第１乃至第４の副画素を有する第１の画素、及び前記第１の画素の次行に設けられる第１乃至第４の副画素を有する第２の画素を有し、
前記第１の画素が有する前記第１乃至第３の副画素を選択するための信号を与える第１の配線と、
前記第１の画素が有する前記第４の副画素を選択するための第２の配線と、
前記第２の画素が有する前記第１乃至第３の副画素を選択するための第３の配線と、を有し、
前記第２の配線は、前記第２の画素が有する前記第４の副画素を選択するための配線であることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記第１の画素及び前記第２の画素が有する前記第１乃至第４の副画素の各々は、
基板上のトランジスタと、
前記トランジスタと接する無機絶縁膜と、
前記無機絶縁膜と接する有機絶縁膜と、
前記トランジスタと電気的に接続する容量素子と、
前記有機絶縁膜上に設けられ、且つ前記トランジスタと電気的に接続する画素電極と、を有し、
前記トランジスタは、前記基板上のゲート電極と、
前記ゲート電極と重なる酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜の一方の面に接するゲート絶縁膜と、
前記酸化物半導体膜に接する一対の導電膜と、を有し、
前記容量素子は、前記ゲート絶縁膜上であって、且つ前記一対の導電膜の一方と接する金属酸化物膜と、
前記無機絶縁膜と、
前記無機絶縁膜上の第１の透光性を有する導電膜と、を有し、
前記画素電極は、第２の透光性を有する導電膜を有し、且つ前記一対の導電膜の一方と接することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記無機絶縁膜は、前記酸化物半導体膜の他方の面に接する酸化物絶縁膜と、
前記酸化物絶縁膜に接する窒化物絶縁膜と、
を有すること特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記金属酸化物膜は、前記窒化物絶縁膜に接して設けられ、且つ前記酸化物半導体膜と同じ金属元素を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、
前記酸化物半導体膜は、Ｉｎ−Ｇａ酸化物、Ｉｎ−Ｚｎ酸化物、またはＩｎ−Ｍ−Ｚｎ酸化物（ＭはＡｌ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｓｎ、またはＨｆ）を有することを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記酸化物半導体膜は、第１の膜及び第２の膜を含む多層構造であり、
前記第１の膜は、前記第２の膜と金属元素の原子数比が異なることを特徴とする表示装置。