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【手続補正書】
【提出日】平成28年12月6日(2016.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
励起光を含む波長の光を出射する光源部と、
第１波長可変干渉フィルターと、
観察部と、
を含み、
前記第１波長可変干渉フィルターは、
第１反射膜と、
前記第１反射膜に対向する第２反射膜と、
前記第１反射膜と前記第２反射膜との間隔を変更可能なギャップ変更部と、
を含み、
前記光源部からの光に対し、前記第１反射膜は所定の角度で傾斜しており、
前記光源部からの光のうちの所定波長以外の光を第１方向に出射させ、
前記第１方向とは逆の方向である第２方向に前記第１反射膜に入射した光のうちの所定波長の光を前記第２方向に出射させ、
前記観察部は、前記第１波長可変フィルターから前記第２方向に出射された光を観察し、
前記所定波長の光は、前記間隔に対応していることを特徴とする蛍光観察装置。
【請求項２】
請求項１に記載の蛍光観察装置において、
前記光源部と前記第１波長可変干渉フィルターとの間に配置される第２波長可変干渉フィルターをさらに含み、
前記第２波長可変干渉フィルターは、
第３反射膜と、
前記第３反射膜に対向する第４反射膜と、
前記第３反射膜と前記第４反射膜との間隔を変更可能なギャップ変更部と、
を含むことを特徴とする蛍光観察装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の蛍光観察装置において、
前記第１波長可変干渉フィルターと前記観察部との間に配置される第３波長可変干渉フィルターをさらに含み、
前記第３波長可変干渉フィルターは、
第５反射膜と、
前記第５反射膜に対向する第６反射膜と、
前記第５反射膜と前記第６反射膜との間隔を変更可能なギャップ変更部と、
を含むことを特徴とする蛍光観察装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の蛍光観察装置において、
前記光源部と第１波長可変干渉フィルターとの間に配置され、光の偏光方向を直線偏光にする第１偏光光学素子をさらに含むことを特徴とする蛍光観察装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載の蛍光観察装置において、
前記第１波長可変干渉フィルターの前記第１方向の側に配置され、光の偏光方向を直線偏光にする第２偏光光学素子をさらに含むことを特徴とする蛍光観察装置。
【請求項６】
第１反射膜と、
前記第１反射膜に対向する第２反射膜と、
前記第１反射膜と前記第２反射膜との間隔を変更可能なギャップ変更部と、
を含み、
光源部からの光に対し、前記第１反射膜は所定の角度で傾斜しており、
前記光源部からの光のうちの所定波長以外の光を第１方向に出射させ、
前記第１方向とは逆の方向である第２方向に前記第１反射膜に入射した光のうちの所定波長の光を前記第２方向に出射させ、
前記所定波長の光は、前記間隔に対応していることを特徴とする光学部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一態様の蛍光観察装置は、励起光を含む波長の光を出射する光源部と、第１波長可変干渉フィルターと、観察部と、を含み、前記第１波長可変干渉フィルターは、第１反射膜と、前記第１反射膜に対向する第２反射膜と、前記第１反射膜と前記第２反射膜との間隔を変更可能なギャップ変更部と、を含み、前記光源部からの光に対し、前記第１反射膜は所定の角度で傾斜しており、前記光源部からの光のうちの所定波長以外の光を第１方向に出射させ、前記第１方向とは逆の方向である第２方向に前記第１反射膜に入射した光のうちの所定波長の光を前記第２方向に出射させ、前記観察部は、前記第１波長可変フィルターから前記第２方向に出射された光を観察し、前記所定波長の光は、前記間隔に対応していることを特徴とする。
上記の本発明に係る蛍光観察装置は、励起光を含む波長の光を出射する光源部と、互いに対向する一対の反射膜、及び、前記一対の反射膜のギャップ寸法を変更可能なギャップ変更部を有し、前記光源部の光出射方向に対して前記一対の反射膜が所定の角度で傾斜して配置され、前記光源部からの光のうち前記ギャップ寸法に応じた所定波長以外の光を第一方向に出射させ、前記第一方向から入射された光のうち前記ギャップ寸法に応じた前記所定波長の光を第二方向に出射させる第一波長可変干渉フィルターと、前記第一波長可変干渉フィルターから前記第二方向に出射された光を観察する観察部と、を具備していることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月7日(2016.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
出射光の波長の変更が可能な分光素子と、
前記出射光に露光されるグローバルシャッター方式の撮像素子と、
を含み、
前記撮像素子のスタンバイ期間に前記波長の変更が行われ、前記波長の変更に要する時間より前記スタンバイ時間が長いことを特徴とする光学モジュール。
【請求項２】
請求項１に記載の光学モジュールにおいて、
前記スタンバイ期間は、前記撮像素子に蓄積された電荷をリセットする期間であり、
前記撮像素子に電荷を蓄積させる第１の受光期間と、前記撮像素子に電荷を蓄積させる第２の受光期間と、の間に前記スタンバイ期間は配置されることを特徴とする光学モジュール。
【請求項３】
請求項２に記載の光学モジュールにおいて、
前記受光期間及び前記スタンバイ期間を設定する撮像素子制御手段と、
前記波長の変更を制御する分光制御手段と、
をさらに含むことを特徴とする光学モジュール。
【請求項４】
請求項１乃至４のいずれかに記載の光学モジュールにおいて、
前記スタンバイ期間が開始するとき、前記波長の変更は開始することを特徴とする光学モジュール。
【請求項５】
請求項３に記載の光学モジュールにおいて、
前記分光制御手段は、前記分光素子から出射される前記出射光の波長を順次切り替え、
前記撮像素子制御手段は、前記分光制御手段による前記波長の変更の際の波長変更量が、所定の量以下である前記分光素子の駆動に対応する複数の駆動時間の各々のうちの最長の駆動時間を前記スタンバイ期間の時間として設定することを特徴とする光学モジュール。
【請求項６】
請求項３または請求項５に記載の光学モジュールにおいて、
前記分光制御手段は、前記分光素子を制御して、前記出射光の波長を、第１波長から、前記第１波長よりも短い第２波長までの間の複数の波長に、大きい順又は小さい順に順次変更するステップ駆動を実施し、
前記撮像素子制御手段は、各ステップ駆動における前記駆動時間のうち、最長の駆動時間を前記スタンバイ期間の時間として設定することを特徴とする光学モジュール。
【請求項７】
請求項３、５及び６のいずれかに記載の光学モジュールにおいて、
前記撮像素子制御手段は、前記分光制御手段による前記波長変更駆動を実施した際の駆動時間のうちの最長の駆動時間を前記スタンバイ期間の時間として設定することを特徴とする光学モジュール。
【請求項８】
請求項３、及び５乃至７のいずれかに記載の光学モジュールにおいて、
前記分光素子の前記出射光の波長の変動量が所定閾値以内となる安定化タイミングを検出する安定化検出部をさらに含み、
前記撮像素子制御手段は、前記安定化検出部によって検出された安定化タイミングで、前記撮像素子に前記出射光の受光による前記電荷の蓄積を開始させることを特徴とする光学モジュール。
【請求項９】
請求項１乃至９のいずれかに記載の光学モジュールと、
前記光学モジュールを制御する制御部と、
を含むことを特徴とする電子機器。
【請求項１０】
撮像素子のスタンバイ期間に分光素子の出射光の波長の変更が行われ、
前記波長の変更に要する時間より前記スタンバイ時間が長いことを特徴とする光学モジュールの駆動方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一態様の光学モジュールは、出射光の波長の変更が可能な分光素子と、前記出射光に露光されるグローバルシャッター方式の撮像素子と、を含み、前記撮像素子のスタンバイ期間に前記波長の変更が行われ、前記波長の変更に要する時間より前記スタンバイ時間が長いことを特徴とする。
上記の本発明に係る光学モジュールは、入射光から所定の波長の光を選択し、かつ出射する出射光の波長を変更可能な分光素子と、グローバルシャッター方式で、前記出射光の露光により電荷を蓄積し、蓄積された前記電荷に応じた検出信号を出力する撮像素子と、露光により前記撮像素子に前記電荷を蓄積させる受光期間と、前記撮像素子に蓄積された前記電荷をリセットするスタンバイ期間とを設定する撮像素子制御手段と、前記分光素子において、前記出射光の波長変更駆動を制御する分光制御手段と、を備え、前記撮像素子制御手段は、前記スタンバイ期間の長さを前記分光素子における前記出射光の波長変更に要する駆動時間以上に設定し、前記分光制御手段は、前記スタンバイ期間の開始時点で、前記分光素子における前記波長変更駆動を開始させることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月20日(2016.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータに、
描画する画面の描画命令を示す命令情報であって、画面の描画に必要な描画リソースを示す命令情報を取得する処理と、
複数の描画装置の各々から、該描画装置において展開されている描画リソースを示す展開情報を受信する処理と、
前記命令情報と前記展開情報とに基づき、前記複数の描画装置のうちから、該命令情報に係る画面を描画させる描画装置を決定する処理と、
を実行させるプログラム。
【請求項２】
前記決定する処理は、前記複数の描画装置のうち、前記命令情報により示される必要な描画リソースの少なくとも一部を展開している描画装置を、前記描画させる描画装置として決定する請求項１に記載のプログラム。
【請求項３】
前記描画する画面は、クライアント装置に提供する画面であり、
前記決定された描画装置は、前記命令情報に係る画面を描画して、前記クライアント装置に送信する請求項１または２に記載のプログラム。
【請求項４】
前記決定する処理は、前記クライアント装置の存在する位置に対応付けられた地域に存在する描画装置のうちから、前記描画させる描画装置を決定する請求項３に記載のプログラム。
【請求項５】
前記複数の描画装置の各々につき、接続端末数、平均伝送レート、ＧＰＵ稼働率、輻輳状況、及び前記クライアント装置との間の伝送路の長さの少なくともいずれかを評価する処理をさらに前記コンピュータに実行させ、
前記決定する処理は、前記評価する処理の評価結果、前記命令情報、及び前記展開情報に基づき、前記描画させる描画装置を決定する請求項３または４に記載のプログラム。
【請求項６】
前記決定された描画装置に前記命令情報を送信する処理をさらに前記コンピュータに実行させる請求項１乃至５のいずれか１項に記載のプログラム。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項８】
描画する画面の描画命令を示す命令情報であって、画面の描画に必要な描画リソースを示す命令情報を取得し、
複数の描画装置の各々から、該描画装置において展開されている描画リソースを示す展開情報を受信し、
前記命令情報と前記展開情報とに基づき、前記複数の描画装置のうちから、該命令情報に係る画面を描画させる描画装置を決定する描画装置決定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プログラム、記録媒体及び描画装置決定方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、プログラム、記録媒体及び描画装置決定方法に関し、特にサーバ側で描画した画面をクライアント端末に提供する技術に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであり、クライアント端末に送信する画面に係る描画処理の演算量を好適に低減するプログラム、記録媒体及び描画装置決定方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前述の目的を達成するために、本発明の一態様に係るプログラムは、コンピュータに、描画する画面の描画命令を示す命令情報であって、画面の描画に必要な描画リソースを示す命令情報を取得する処理と、複数の描画装置の各々から、該描画装置において展開されている描画リソースを示す展開情報を受信する処理と、命令情報と展開情報とに基づき、複数の描画装置のうちから、該命令情報に係る画面を描画させる描画装置を決定する処理と、を実行させる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
前述の目的を達成するために、本発明の一態様に係る描画装置決定方法は、描画する画面の描画命令を示す命令情報であって、画面の描画に必要な描画リソースを示す命令情報を取得し、複数の描画装置の各々から、該描画装置において展開されている描画リソースを示す展開情報を受信し、命令情報と展開情報とに基づき、複数の描画装置のうちから、該命令情報に係る画面を描画させる描画装置を決定する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月28日(2016.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円板形状の基板の製造方法であって、
ガラス繊維からなる複数のガラスクロスおよび前記複数のガラスクロスに含浸された樹脂材料からなる円板形状の基板用キャリアに設けられた基板保持孔に、円板形状の基板を保持させた状態で、前記円板形状の基板を上定盤と下定盤との間に保持させ、前記円板形状の基板の主表面を研削する研削処理又は前記主表面を研磨する研磨処理と、
前記研削処理又は研磨処理によって前記円板形状の基板用キャリアの主表面から露出したガラス繊維を、エッチング溶液によりエッチングするエッチング処理と、
を有する、円板形状の基板の製造方法。
【請求項２】
前記ガラス繊維はアルミニウムを成分として含み、
前記エッチング溶液はフッ酸を含み、
前記エッチング処理により生じたフッ化アルミン酸塩を除去する除去処理をさらに有する、請求項１に記載の円板形状の基板の製造方法。
【請求項３】
前記除去処理において、金属イオンを含む酸性の電解質溶液にフッ化アルミン酸塩を溶解させる、請求項２に記載の円板形状の基板の製造方法。
【請求項４】
前記電解質溶液は、硫酸アルミニウム水溶液又は硝酸アルミニウム水溶液である、請求項３に記載の円板形状の基板の製造方法。
【請求項５】
前記除去処理において、前記円板形状の基板用キャリアの表面を研磨することによりフッ化アルミン酸塩を除去する、請求項２に記載の円板形状の基板の製造方法。
【請求項６】
円板形状の基板の製造方法であって、
ガラス繊維からなる複数のガラスクロスおよび前記複数のガラスクロスに含浸された樹脂材料からなる円板形状の基板用キャリアに設けられた基板保持孔に、円板形状の基板の外周端面を保持させた状態で、前記円板形状の基板用キャリアおよび前記円板形状の基板を上定盤と下定盤との間に保持させ、前記円板形状の基板の主表面を研削する研削処理又は前記主表面を研磨する研磨処理と、
前記研削処理又は研磨処理を複数回行う毎に、前記研削処理又は研磨処理を複数回行うことによって前記円板形状の基板用キャリアの主表面から露出したガラス繊維を、エッチング溶液によりエッチングするエッチング処理と、を含む、円板形状の基板の製造方法。
【請求項７】
円板形状の基板の研削処理又は研磨処理に用いられるキャリアであって、
前記キャリアは、ガラス繊維からなる複数のガラスクロスおよび前記複数のガラスクロスに含浸された樹脂材料からなり、
前記キャリアには、前記円板形状の基板を保持する基板保持孔が設けられ、
前記キャリアの主表面には、前記キャリアの主表面において露出したガラス繊維がエッチングされてなる前記主表面の凹部が設けられている、ことを特徴とする研削又は研磨用キャリア。
【請求項８】
前記基板保持孔の内壁面には、前記キャリアの内壁面において露出したガラス繊維がエッチングされてなる前記内壁面の凹部が設けられている、請求項７に記載の研削又は研磨用キャリア。
【請求項９】
前記キャリアには、外周側の部分にギア部が形成され、
前記ギア部の外壁面には、前記キャリアの外壁面において露出したガラス繊維がエッチングされてなる前記外壁面の凹部が設けられている、請求項７又は８に記載の研削又は研磨用キャリア。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】円板形状の基板の製造方法、及び研削又は研磨用キャリア
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、円板形状の基板の製造方法、及び研削又は研磨用キャリアに関する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月17日(2016.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷装置と印刷制御装置との間で非同期の双方向通信を行う通信経路を確立し、
前記通信経路の確立後、前記印刷装置から印刷に関する設定値を要求する要求コマンドを前記印刷制御装置に前記通信経路を介してプッシュ送信し、
前記印刷制御装置で前記要求コマンドを受信し、
受信した前記要求コマンドに基づいて前記印刷装置に前記印刷に関する設定値を設定させる設定制御データを、前記通信経路を介してプッシュ送信し、
前記印刷装置で前記設定制御データを受信し、
受信した前記設定制御データに基づいて前記印刷装置で印刷に関する設定を行うことを特徴とする印刷制御システムの制御方法。
【請求項２】
前記印刷装置は、前記設定値に基づき印刷した結果を、前記通信経路を介して前記印刷制御装置にプッシュ送信する請求項１に記載の印刷制御システムの制御方法。
【請求項３】
前記要求コマンドは、前記印刷装置の識別情報を含み、
前記印刷制御装置は、前記識別情報と前記設定値を含む設定情報とを対応付けて記憶し、
前記印刷制御装置で前記要求コマンドを受信した場合、前記印刷制御装置は前記要求コマンドに含まれる前記識別情報に基づき前記識別情報と対応付けられた前記設定情報を取得し、取得した前記設定情報に基づいて前記設定制御データを生成する請求項１又は２に記載の印刷制御システムの制御方法。
【請求項４】
印刷を行う印刷部、印刷制御データに基づいて前記印刷部を制御する印刷制御部、非同期の双方向通信を行う通信経路を確立し、前記通信経路を介して印刷に関する設定値を要求する要求コマンドをプッシュ送信する通信制御部、及び前記プッシュ送信に応じて受信した設定制御データに基づいて設定処理を行う設定制御部を有する印刷装置と、
前記印刷装置から受信した前記要求コマンドに応じて前記設定制御データを生成する設定処理部、及び前記設定処理部で生成された前記設定制御データを、前記通信経路を介して前記印刷装置にプッシュ送信する接続部を有する印刷制御装置と、
を備えることを特徴とする印刷制御システム。
【請求項５】
前記要求コマンドは、前記印刷装置を識別する識別情報を含み、
前記印刷制御装置は、前記識別情報と、設定する設定値を含む設定情報とを対応付けて記憶する記憶部を有し、
前記印刷制御装置の前記設定処理部は、前記要求コマンドを受信した場合、前記要求コマンドに含まれる前識別情報に基づき前記識別情報と対応付けられた前記設定情報を取得し、取得した前記設定情報に基づいて前記設定制御データを生成する請求項４に記載の印刷制御システム。
【請求項６】
前記識別情報を有して前記識別情報と対応付けられた前記設定情報の内容の変更を指示する変更コマンドを生成する制御部、及び前記制御部で生成された前記変更コマンドを前記印刷制御装置に送信する通信接続部を有する管理装置を備える請求項５に記載の印刷制御システム。
【請求項７】
印刷を行う印刷部と、
印刷制御装置との間で非同期の双方向通信を行う通信経路を確立し、前記通信経路を介して前記印刷制御装置に対して、印刷に関する設定値を要求する要求コマンドをプッシュ送信する通信制御部と、
前記プッシュ送信に応じて前記通信制御部で受信した設定制御データに基づいて設定処理を行う設定制御部と、
前記設定値に基づいて前記印刷部を制御する印刷制御部、を備える印刷装置。
【請求項８】
前記通信制御部は、前記設定値に基づき印刷した結果を、前記通信経路を介して前記印刷制御装置にプッシュ送信する請求項７に記載の印刷装置。
【請求項９】
前記通信制御部がプッシュ送信する前記要求コマンドは、前記印刷装置の識別情報を含む請求項７又は８に記載の印刷装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】印刷制御システムの制御方法、印刷制御システム、及び印刷装置
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月25日(2017.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
変換前文字列を、変換後文字列に変換するとともに、前記変換後文字列にツールチップまたはハイパーリンクを埋め込むインプットメソッド手段を提供することを特徴とする方法。
【請求項２】
変換前文字列を、変換後文字列に変換するとともに、前記変換後文字列にツールチップまたはハイパーリンクを埋め込むインプットメソッド手段を備えることを特徴とする装置。
【請求項３】
コンピュータを、
変換前文字列を、変換後文字列に変換するとともに、前記変換後文字列にツールチップまたはハイパーリンクを埋め込むインプットメソッド手段として機能させるための制御プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するため本発明の方法は、変換前文字列を、変換後文字列に変換するとともに、前記変換後文字列にツールチップまたはハイパーリンクを埋め込むインプットメソッド手段を提供することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
ところで、上記従来の入力支援方法は、変換後文字列にツールチップまたはハイパーリンクを埋め込むインプットメソッド手段を提供することができないと言った問題があった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで、本発明の目的は、変換後文字列にツールチップまたはハイパーリンクを埋め込むインプットメソッド手段を提供する方法、装置および制御プログラムを提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明によれば、方法、装置および制御プログラムは、変換後文字列にツールチップまたはハイパーリンクを埋め込むインプットメソッド手段を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月19日(2017.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記第２配線層は、前記第１絶縁層の上面に形成された金属バリア膜と前記金属バリア膜上に形成された金属膜とを含むシード層と、前記シード層上に形成された金属層とを有し、
前記第２配線層は、
前記金属膜及び前記金属層の側面が、前記粗化面よりも表面粗度の小さい平滑面に形成され、前記金属バリア膜の側面が、前記平滑面と面一となるように、又は前記平滑面よりも内側に後退するように形成された第１配線パターンを有することを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記第２配線層は、前記第１絶縁層の上面に形成された金属バリア膜と前記金属バリア膜上に形成された金属膜とを含むシード層と、前記シード層上に形成された金属層とを有し、
前記第２配線層は、前記金属膜の側面全面及び前記金属層の表面全面が前記粗化面に形成され、前記金属バリア膜の外縁部が前記金属膜及び前記金属層の側面よりも外側に突出された配線パターンのみを有することを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月3日(2017.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粘着剤層と、該粘着剤層の片側に配置された樹脂層と、樹脂層の前記粘着剤層とは反対側に配置された基材とを備え、
該粘着剤層側から、該粘着剤層を貫通するようにして切断溝を形成した際に、切断溝形成後、２５℃で１時間経過した後に切断溝が消失しない、
粘着シート。
【請求項２】
前記粘着剤層の厚みが、５０μｍ以下である、請求項１に記載の粘着シート。
【請求項３】
前記樹脂層の２５℃におけるナノインデンテーション法による弾性率が、１ＭＰａ以上である、請求項１または２に記載の粘着シート。
【請求項４】
加熱により粘着力が低下する、請求項１から３のいずれかに記載の粘着シート。
【請求項５】
前記粘着剤層が、熱膨張性微小球を含む、請求項４に記載の粘着シート。
【請求項６】
加熱前の粘着力（ａ１）と加熱した後の粘着力（ａ２）との比（ａ２／ａ１）が、０．０００１〜０．５である、請求項４または５に記載の粘着シート。
【請求項７】
加熱により前記熱膨張性微小球を膨張または発泡させた際の、前記粘着剤層の前記樹脂層とは反対側の面の表面粗さＲａが、３μｍ以上である、請求項５に記載の粘着シート。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載の粘着シート上に、電子部品材料を貼着した後、
該電子部品材料を切断加工することを含む、
電子部品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月18日(2017.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラジカル重合性化合物と、湿気硬化型ウレタン樹脂と、光ラジカル重合開始剤と、疎水性表面処理がなされている充填剤とを含有することを特徴とする光湿気硬化型樹脂組成物。
【請求項２】
ラジカル重合性化合物と湿気硬化型ウレタン樹脂との合計１００重量部に対して、湿気硬化型ウレタン樹脂の含有量が２０〜９０重量部であることを特徴とする請求項１記載の光湿気硬化型樹脂組成物。
【請求項３】
充填剤は、一次粒子径が１〜５０ｎｍであることを特徴とする請求項１又は２記載の光湿気硬化型樹脂組成物。
【請求項４】
充填剤は、無機充填剤を含有することを特徴とする請求項１、２又は３記載の光湿気硬化型樹脂組成物。
【請求項５】
充填剤は、シリカを含有することを特徴とする請求項４記載の光湿気硬化型樹脂組成物。
【請求項６】
ラジカル重合性化合物と湿気硬化型ウレタン樹脂との合計１００重量部に対して、充填剤の含有量が１〜２０重量部であることを特徴とする請求項１、２、３、４又は５記載の光湿気硬化型樹脂組成物。
【請求項７】
イソシアネート基、イソチオシアネート基、及び、カルボジイミド基からなる群より選択される少なくとも１種の基を有する化合物を含有することを特徴とする請求項１、２、３、４、５又は６記載の光湿気硬化型樹脂組成物。
【請求項８】
遮光剤を含有することを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の光湿気硬化型樹脂組成物。
【請求項９】
コーンプレート型粘度計を用いて２５℃、１ｒｐｍの条件で測定した粘度が５０〜５００Ｐａ・ｓであることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の光湿気硬化型樹脂組成物。
【請求項１０】
チクソトロピックインデックスが１．３〜５．０であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８又は９記載の光湿気硬化型樹脂組成物。
【請求項１１】
硬化物の２５℃における引張弾性率が０．５〜６ｋｇｆ／ｃｍ２であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０記載の光湿気硬化型樹脂組成物。
【請求項１２】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０又は１１記載の光湿気硬化型樹脂組成物を用いてなることを特徴とする電子部品用接着剤。
【請求項１３】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０又は１１記載の光湿気硬化型樹脂組成物を用いてなることを特徴とする表示素子用接着剤。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年6月27日(2017.6.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｒ−Ｏ−ポリ−Ｒ’構造を有し、ポリがポリ（アルキレンオキシド）、ポリ（オキシエチル化ポリオール）、ポリビニルアルコール、ポリ（アクリロイルモルホリン）、または前記ポリマーのモノマーからなるランダムコポリマー、ブロックコポリマーもしくはターポリマーを示し、Ｒがアルキル又はアリール基を示し、Ｒ’が−Ｏ−ＣＯ2Ｒ3（ここでＲ3はＨ、アルキル基又はＮ−スクシニミジル基）または−Ｏ−（ＣＨ2）n−ＣＯ2Ｒ3（ここでｎは１〜６、Ｒ3はＨ、アルキル基又はＮ−スクシニミジル基）である、ポリマー誘導体と、
Ｒ−Ｏ−ポリ−Ｏ−Ｒ構造を有し、ポリがポリ（アルキレンオキシド）、ポリ（オキシエチル化ポリオール）、ポリビニルアルコール、ポリ（アクリロイルモルホリン）、または前記ポリマーのモノマーからなるランダムコポリマー、ブロックコポリマーもしくはターポリマーを示し、Ｒがアルキル又はアリール基を示すポリマー誘導体と、
の混合物を含むことを特徴とするポリマー組成物。
【請求項２】
前記ポリが、ポリエチレングリコールであることを特徴とする請求項１に記載のポリマー組成物。
【請求項３】
前記Ｒが、メチル基であることを特徴とする請求項１または２に記載のポリマー組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
式−ＣＨ2ＣＨ2−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−ＣＨ2ＣＨ2−（式中、ｎは約８〜４０００である）を有するＰＥＧは、本発明の実施における有用なポリマーの１つである。ＰＥＧ以外の他の二官能価で水溶性の非ペプチドポリマーもまた本発明に有用である。これらの他のポリマーには、ポリ（ビニルアルコール）（「ＰＶＡ」）；他のポリ（アルキレンオキシド（ポリ（プロピレングリコール）（「ＰＰＧ」）など）；およびポリ（オキシエチル化ポリオール（ポリ（オキシエチル化グリセロール）、ポリ（オキシエチル化ソルビトール）、およびポリ（オキシエチル化グルコース）など）が含まれる。ポリマーは、ホモポリマーまたはランダムもしくはブロックコポリマーおよび上記ポリマーのモノマーを基本単位とする直鎖もしくは分岐ターポリマーであり得る。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月7日(2017.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原料金属塊を溶融し溶湯を生成する溶融工程と、
前記溶湯に酸素ガスを吹き込んでスラグを形成する過酸化工程と、
前記溶湯の液面に浮上した前記スラグと前記溶湯とを分離する分離工程と、
前記スラグと分離された前記溶湯にアルゴンガスを吹き込んで前記溶湯中のガス成分を脱気する脱気工程と、
脱気された前記溶湯を鋳造して鋳込み合金を形成する鋳込み工程と、
前記鋳込み合金を真空中で溶融して溶融合金とする工程と、
前記溶融合金を流下させ、流下する前記溶融合金に不活性ガスを吹き付けて合金粉末を形成する粉末化工程と、を備えた合金粉末の製造方法において、
前記合金粉末は、元素周期表の第３族から第１６族までに含まれる原子番号１３から原子番号７９の元素群から選択され、Ｆｅ原子に対する原子半径の比率が０．８３以上１．１７以下である少なくとも４種の元素と、Ｆｅとの５種の元素を含有し、
不可避的不純物として、Ｐを０．００５ｗｔ％以下、Ｓｉを０．０４０ｗｔ％以下、Ｓを０．００２ｗｔ％以下、Ｓｎを０．００５ｗｔ％以下、Ｓｂを０．００２ｗｔ％以下、Ａｓを０．００５ｗｔ％以下、Ｍｎを０．０５０ｗｔ％以下、Ｏを０．００１ｗｔ％以下、Ｎを０．００２ｗｔ％以下の原子濃度の範囲で含有することを特徴とする合金粉末の製造方法。
【請求項２】
前記不可避的不純物として、Ｐを０．００２ｗｔ％以上０．００５ｗｔ％以下、Ｓｉを０．０１０ｗｔ％以上０．０４０ｗｔ％以下、Ｓを０．００１ｗｔ％以上０．００２ｗｔ％以下、Ｓｎを０．００２ｗｔ％以上０．００５ｗｔ％以下、Ｓｂを０．００１ｗｔ％以上０．００２ｗｔ％以下、Ａｓを０．００１ｗｔ％以上０．００５ｗｔ％以下、Ｍｎを０．０２０ｗｔ％以上０．０５０ｗｔ％以下、Ｏを０．０００３ｗｔ％以上０．００１ｗｔ％以下、Ｎを０．００１ｗｔ％以上０．００２ｗｔ％以下の原子濃度の範囲で含有することを特徴とする請求項１に記載の合金粉末の製造方法。
【請求項３】
前記不可避的不純物として、Ｐを０．００２ｗｔ％以下、Ｓｉを０．００５ｗｔ％以下、Ｓを０．００１ｗｔ％以下、Ｓｎを０．００２ｗｔ％以下、Ｓｂを０．００１ｗｔ％以下、Ａｓを０．００１ｗｔ％以下、Ｍｎを０．００５ｗｔ％以下、Ｏを０．０００３ｗｔ％以下、Ｎを０．００１ｗｔ％以下の原子濃度の範囲で含有することを特徴とする請求項１に記載の合金粉末の製造方法。
【請求項４】
前記少なくとも４種の元素が、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｅ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕからなる群より選択されることを特徴とする請求項１に記載の合金粉末の製造方法。
【請求項５】
前記粉末化工程は、前記合金を真空炉内で溶融し、前記真空炉を構成する材料は、ＳｉＯ2、グラファイト、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2、ＴｉＣ、ＺｒＣ、ＨｆＣ、ＮｂＣ、ＴａＣの少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項１に記載の合金粉末の製造方法。
【請求項６】
前記合金は、前記５種の元素をそれぞれ５ａｔ％以上３０ａｔ％以下の原子濃度の範囲で含有することを特徴とする請求項１に記載の合金粉末の製造方法。
【請求項７】
前記合金は、前記５種の元素のうち少なくとも４種の元素の原子濃度の差が３ａｔ％未満の範囲にあることを特徴とする請求項６に記載の合金粉末の製造方法。
【請求項８】
前記合金は、Ａｌ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｆｅ及びＮｉのうちの少なくとも４種の元素を、１５ａｔ％以上２３．７５ａｔ％以下の原子濃度の範囲で含有し、他の１種の元素を、５ａｔ％以上３０ａｔ％以下の原子濃度の範囲で含有することを特徴とする請求項１に記載の合金粉末の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月7日(2017.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
元素周期表の第３族から第１６族までに含まれる原子番号１３から原子番号７９の元素群から選択され、Ｆｅ原子に対する原子半径の比率が０．８３以上１．１７以下である少なくとも４種の元素と、Ｆｅとの５種の元素を含有し、
前記５種の元素が固溶した柱状晶を主晶とし、
不可避的不純物として、Ｐを０．００５ｗｔ％以下、Ｓｉを０．０４０ｗｔ％以下、Ｓを０．００２ｗｔ％以下、Ｓｎを０．００５ｗｔ％以下、Ｓｂを０．００２ｗｔ％以下、Ａｓを０．００５ｗｔ％以下、Ｍｎを０．０５０ｗｔ％以下、Ｏを０．００１ｗｔ％以下、Ｎを０．００２ｗｔ％以下の原子濃度の範囲で含有することを特徴とする合金構造体。
【請求項２】
前記不可避的不純物として、Ｐを０．００２ｗｔ％以上０．００５ｗｔ％以下、Ｓｉを０．０１０ｗｔ％以上０．０４０ｗｔ％以下、Ｓを０．００１ｗｔ％以上０．００２ｗｔ％以下、Ｓｎを０．００２ｗｔ％以上０．００５ｗｔ％以下、Ｓｂを０．００１ｗｔ％以上０．００２ｗｔ％以下、Ａｓを０．００１ｗｔ％以上０．００５ｗｔ％以下、Ｍｎを０．０２０ｗｔ％以上０．０５０ｗｔ％以下、Ｏを０．０００３ｗｔ％以上０．００１ｗｔ％以下、Ｎを０．００１ｗｔ％以上０．００２ｗｔ％以下の原子濃度の範囲で含有することを特徴とする請求項１に記載の合金構造体。
【請求項３】
前記不可避的不純物として、Ｐを０．００２ｗｔ％以下、Ｓｉを０．００５ｗｔ％以下、Ｓを０．００１ｗｔ％以下、Ｓｎを０．００２ｗｔ％以下、Ｓｂを０．００１ｗｔ％以下、Ａｓを０．００１ｗｔ％以下、Ｍｎを０．００５ｗｔ％以下、Ｏを０．０００３ｗｔ％以下、Ｎを０．００１ｗｔ％以下の原子濃度の範囲で含有することを特徴とする請求項１に記載の合金構造体。
【請求項４】
前記少なくとも４種の元素が、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｅ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕからなる群より選択されることを特徴とする請求項１に記載の合金構造体。
【請求項５】
前記主晶が、面心立方格子又は体心立方格子の結晶構造を有することを特徴とする請求項１に記載の合金構造体。
【請求項６】
層状の凝固組織が積層されてなり、前記柱状晶の成長方向が前記凝固組織の積層方向に配向していることを特徴とする請求項１に記載の合金構造体。
【請求項７】
前記柱状晶の平均結晶粒径が、１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の合金構造体。
【請求項８】
前記５種の元素をそれぞれ５ａｔ％以上３０ａｔ％以下の原子濃度の範囲で含有することを特徴とする請求項１に記載の合金構造体。
【請求項９】
前記５種の元素のうち少なくとも４種の元素の原子濃度の差が３ａｔ％未満の範囲にあることを特徴とする請求項８に記載の合金構造体。
【請求項１０】
前記５種の元素のうちの少なくとも４種の元素を、１５ａｔ％以上２３．７５ａｔ％以下の原子濃度の範囲で含有し、他の１種の元素を、５ａｔ％以上３０ａｔ％以下の原子濃度の範囲で含有することを特徴とする請求項１に記載の合金構造体。
【請求項１１】
直径または高さの少なくとも一方が７０ｍｍを超えることを特徴とする請求項１に記載の合金構造体。
【請求項１２】
体積が５４９５ｍｍ３を超えることを特徴とする請求項１に記載の合金構造体。
【請求項１３】
元素組成の分布が均一であることを特徴とする請求項１に記載の合金構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月22日(2017.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原料のプロテオグリカンを、アルカリ金属イオン型である強酸性陽イオン交換樹脂にて処理することにより得られる、高保水性プロテオグリカン。
【請求項２】
原料のプロテオグリカンを、アルカリ金属イオン型である強酸性陽イオン交換樹脂により処理することを特徴とする、高保水性プロテオグリカンの製造法。
【請求項３】
請求項１に記載の前記高保水性プロテオグリカンを０．０１質量％以上含有することを特徴とする化粧料。
【請求項４】
含有金属として、５重量％以上のナトリウムもしくはカリウムと、１重量％以下のカルシウムをそれぞれ乾燥重量として含むことを特徴とするプロテオグリカン。
【請求項５】
含有金属として、ナトリウムとカリウムを合計で５重量％以上と、１重量％以下のカルシウムをそれぞれ乾燥重量として含むことを特徴とするプロテオグリカン。
【請求項６】
請求項５もしくは６に記載のプロテオグリカンを０．０１質量％以上含有することを特徴とする化粧料。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月19日(2017.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カテキンを含有する液体に紅茶抽出物と苦渋味改善成分を添加するか、または紅茶抽出物を含有する液体にカテキンと苦渋味改善成分を添加することと、該液体のｐＨを５．７〜６．３に調整することとを含むカテキン含有飲料の製造方法であって、
該飲料中の該苦渋味改善成分の含量が０．２７５〜０．３７５質量％であり、
該飲料中の該カテキンの含量がＸ、該紅茶抽出物の含量がＹのとき、
１９０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｘ＞１５０ｍｇ／１００ｍＬ、
３０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｙ≧５ｍｇ／１００ｍＬ、且つ
Ｘ＋Ｙ＞１７５ｍｇ／１００ｍＬ
である、方法。
【請求項２】
カテキンを含有する液体に紅茶抽出物と苦渋味改善成分を添加するか、または紅茶抽出物を含有する液体にカテキンと苦渋味改善成分を添加することと、該液体のｐＨを５．７〜６．３に調整することとを含むカテキン含有飲料の製造方法であって、
該飲料中の該苦渋味改善成分の含量が０．１５〜０．２２５質量％であり、
該飲料中の該カテキンの含量がＸ、該紅茶抽出物の含量がＹのとき、
１６０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｘ＞１３０ｍｇ／１００ｍＬ、
３０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｙ≧２．５ｍｇ／１００ｍＬ、且つ
Ｘ＋Ｙ＞１５０ｍｇ／１００ｍＬ
であるか、又は
１６０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｘ＞１４０ｍｇ／１００ｍＬ、
３０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｙ≧２．５ｍｇ／１００ｍＬ、且つ
Ｘ＋Ｙ＞１４０ｍｇ／１００ｍＬ
である、方法。
【請求項３】
カテキンを含有する液体に紅茶抽出物を添加するか、または紅茶抽出物を含有する液体にカテキンを添加することを含む飲料の微生物汚染防止方法であって、
該飲料のｐＨが５．７〜６．３であり、
該飲料は、０．２７５〜０．３７５質量％の苦渋味改善成分を含み、
該飲料中の該カテキンの含量がＸ、該紅茶抽出物の含量がＹのとき、
１９０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｘ＞１５０ｍｇ／１００ｍＬ、
３０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｙ≧５ｍｇ／１００ｍＬ、且つ
Ｘ＋Ｙ＞１７５ｍｇ／１００ｍＬ
である、方法。
【請求項４】
カテキンを含有する液体に紅茶抽出物を添加するか、または紅茶抽出物を含有する液体にカテキンを添加することを含む飲料の微生物汚染防止方法であって、
該飲料のｐＨが５．７〜６．３であり、
該飲料は、０．１５〜０．２２５質量％の苦渋味改善成分を含み、
該飲料中の該カテキンの含量がＸ、該紅茶抽出物の含量がＹのとき、
１６０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｘ＞１３０ｍｇ／１００ｍＬ、
３０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｙ≧２．５ｍｇ／１００ｍＬ、且つ
Ｘ＋Ｙ＞１５０ｍｇ／１００ｍＬ
であるか、又は
１６０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｘ＞１４０ｍｇ／１００ｍＬ、
３０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｙ≧２．５ｍｇ／１００ｍＬ、且つ
Ｘ＋Ｙ＞１４０ｍｇ／１００ｍＬ
である、方法。
【請求項５】
前記紅茶抽出物が、紅茶の茶葉または茎の水または熱水抽出物である、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記苦渋味改善成分がシクロデキストリンである、請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
カテキンおよび紅茶抽出物を含有する飲料であって、
該飲料のｐＨが５．７〜６．３であり、
該飲料は、０．２７５〜０．３７５質量％の苦渋味改善成分を含み、
該飲料中の該カテキンの含量がＸ、該紅茶抽出物の含量がＹのとき、
１９０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｘ＞１５０ｍｇ／１００ｍＬ、
３０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｙ≧５ｍｇ／１００ｍＬ、且つ
Ｘ＋Ｙ＞１７５ｍｇ／１００ｍＬ
である、飲料。
【請求項８】
カテキンおよび紅茶抽出物を含有する飲料であって、
該飲料のｐＨが５．７〜６．３であり、
該飲料は、０．１５〜０．２２５質量％の苦渋味改善成分を含み、
該飲料中の該カテキンの含量がＸ、該紅茶抽出物の含量がＹのとき、
１６０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｘ＞１３０ｍｇ／１００ｍＬ、
３０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｙ≧２．５ｍｇ／１００ｍＬ、且つ
Ｘ＋Ｙ＞１５０ｍｇ／１００ｍＬ
であるか、又は
１６０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｘ＞１４０ｍｇ／１００ｍＬ、
３０ｍｇ／１００ｍＬ≧Ｙ≧２．５ｍｇ／１００ｍＬ、且つ
Ｘ＋Ｙ＞１４０ｍｇ／１００ｍＬ
である、飲料。
【請求項９】
前記紅茶抽出物が、紅茶の茶葉または茎の水または熱水抽出物である、請求項７または８記載の飲料。
【請求項１０】
前記苦渋味改善成分がシクロデキストリンである、請求項７〜９のいずれか１項記載の飲料。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月3日(2017.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動取引装置であって、
装置前面の側に配置された顧客操作部であって、顧客による入力を受け付ける顧客向けタッチパネルを有する顧客操作部と、
装置背面の側に配置された作業員向け表示部であって、作業員に対する作業員向け情報を表示する作業員向け表示部と、
前記装置前面への顧客の接近を検知する顧客検知部と、
前記顧客向けタッチパネルの入力検知状態を検査する際に、前記顧客検知部による顧客の接近が未検出な状態で、前記顧客向けタッチパネルの同一座標領域における複数回の入力が検知される異常入力が発生した場合に、前記顧客向けタッチパネルの前記異常入力に関する情報を前記作業員向け表示部で表示させる制御部と、
を備えることを特徴とする自動取引装置。
【請求項２】
請求項１に記載の自動取引装置であって、
前記制御部は、前記異常入力に関する情報として、前記顧客向けタッチパネルの汚れの清掃を促す情報もしくは故障の点検を促す情報を前記作業員向け表示部で表示させることを特徴とする自動取引装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の自動取引装置であって、
前記制御部は、前記自動取引装置のリセットの処理中のいずれかのタイミングで前記顧客向けタッチパネルの前記入力検知状態の検査を行なうことを特徴とする自動取引装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の自動取引装置であって、
前記制御部は、前記顧客向けタッチパネルの前記入力検知状態の検査において前記異常入力が発生した場合には、前記異常入力が発生した前記顧客向けタッチパネル上の座標領域をログとして保存することを特徴とする自動取引装置。
【請求項５】
請求項４に記載の自動取引装置であって、
前記制御部は、前記顧客向けタッチパネルの入力検知状態の検査において、前記ログに基づいて前記顧客向けタッチパネルの汚れの清掃と故障の点検のいずれが必要かを判断し、判断結果に応じて前記顧客向けタッチパネルの汚れの清掃を促す情報もしくは故障の点検を促す情報を前記作業員向け表示部で表示させることを特徴とする自動取引装置。
【請求項６】
請求項４に記載の自動取引装置であって、
前記制御部は、前記顧客向けタッチパネルの保守処理において、前記ログに基づいて前記顧客向けタッチパネルの汚れの清掃と故障の点検のいずれが必要かを判断し、判断結果に応じて前記顧客向けタッチパネルの汚れの清掃を促す情報もしくは故障の点検を促す情報を前記作業員向け表示部で表示させることを特徴とする自動取引装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の自動取引装置であって、
前記顧客操作部は、前記顧客向けタッチパネルの下面に配置された顧客向け表示部を含み、
前記制御部は、前記顧客向けタッチパネルの清掃もしくは点検の領域の表示要求があった場合に、前記顧客向けタッチパネルの前記同一座標領域を示す画面を前記顧客向け表示部に表示させることを特徴とする自動取引装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の自動取引装置であって、
前記制御部は、明細票印字要求が有った場合に、前記顧客向けタッチパネルの汚れの清掃を促す情報もしくは故障の点検を促す情報を少なくとも記載した明細票を、前記自動取引装置に備える明細票印字部で印字させることを特徴とする自動取引装置。
【請求項９】
自動取引装置の制御方法であって、
前記自動取引装置は、
装置前面の側に配置された顧客操作部であって、顧客による入力を受け付ける顧客向けタッチパネルを有する顧客操作部と、
装置背面の側に配置された作業員向け表示部であって、作業員に対する作業員向け情報を表示する作業員向け表示部と、
前記装置前面への顧客の接近を検知する顧客検知部と、
を備え、
前記顧客向けタッチパネルの入力検知状態を検査する際に、前記顧客検知部による顧客の接近が未検出な状態で、前記顧客向けタッチパネルの同一座標領域における複数回の入力が検知される異常入力が発生した場合に、前記顧客向けタッチパネルの前記異常入力に関する情報を前記作業員向け表示部で表示させる
ことを特徴とする自動取引装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
ステップＳ１４６あるいはステップＳ１５６において、作業員スイッチ４０がＯＦＦとなったことを確認した場合には、制御部６０は、ステップＳ１６０において、顧客操作部１０のＴＰ制御部１２に対して自動キャンセル機能を有効化するコマンドを送信することにより、自動キャンセル機能を有効化する。そして、制御部６０は、ステップＳ１６２において、作業員操作部２０の作業員向け表示部２３に表示されている画面（「清掃要通知画面」（図８）、「点検要通知画面」（図１０）、「異常なし通知画面」(図示省略)）の「完了」ボタンＢｅを押下したかチェックする。「リセット」ボタンＢｓの押下を確認した場合には、制御部６０は、ステップＳ１０４に戻って、再度、顧客向けタッチパネル１１の入力検知状態を検査の処理フローが実行される。これにより、例えば、顧客向けタッチパネル１１の清掃の完了後に、再度、顧客向けタッチパネル１１の入力検知状態の検査を行なって、清掃によって異常入力が解消されたか否かを確認することができる。これに対して、「完了」ボタンＢｅの押下を確認した場合には、制御部６０は、入力検知状態を検査の処理フローを終了し、他のリセット処理に含まれる処理が残されている場合には、その処理を実行した後、作業員操作部２０の作業員向け表示部２３に図３に示した作業員処理メニュー画面ＰＳＭを表示させる。なお、「完了」ボタンＢｅの押下および「リセット」ボタンＢｓの押下に伴って、清掃あるいは点検の履歴が統計ログファイル６１に保存される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
次に、制御部６０は、ステップＳ２３２において、作業員が装置前面側へ移動して作業員スイッチ４０を押下して作業員スイッチ４０がＯＮとなったか否かをチェックする。作業員スイッチがＯＮでない場合には、制御部６０は、さらに、ステップＳ２３４において、作業員が点検要通知画面ＰＬＲＱＩ（図１６参照）の「印字」ボタンＢｐを押下したか否かチェックする。作業員が「印字」ボタンＢｐを押下した場合には、制御部６０は、ステップＳ２３６において、点検要であることを示す点検要通知の印字を明細票印字部５０で実行させ、点検要通知が印字された明細票を出力させる。図１７は、点検要通知が印字された明細票ＰＳＩの一例を示す説明図である。明細票ＰＳＩには、顧客操作部１０の顧客向けタッチパネル１１に故障の可能性があり、点検を促すメッセージ、及び、必要に応じて交換を促すメッセージが印字されるとともに、顧客向けタッチパネル１１の寿命、稼働時間および清掃履歴が印字される。稼働時間、寿命および清掃履歴は統計ログファイル６１に保存されており、これを参照することにより印字が可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月20日(2017.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二次元コードが印刷された印刷面を有するネイル貼付用識別シール。
【請求項２】
二次元コードが印刷された印刷面の反対面に粘着層を有する請求項１記載の識別シール。
【請求項３】
二次元コードが含む情報が公開された情報である請求項１または２記載の識別シール。
【請求項４】
二次元コードが含む情報が個人情報である請求項１または２記載の識別シール。
【請求項５】
二次元コードが含む情報が企業情報である請求項１または２記載の識別シール。
【請求項６】
二次元コードの印刷部分が耐水性である請求項１〜５のいずれか１項に記載の識別シール。
【請求項７】
二次元コードの印刷部分が耐摩耗性である請求項１〜６のいずれか１項に記載の識別シール。
【請求項８】
印刷面が光透過性保護フィルム層で覆われている請求項１〜７のいずれか１項に記載の識別シール。
【請求項９】
光透過性保護フィルム層がクリアコート液の塗布乾燥層である請求項８に記載の識別シール。
【請求項１０】
光透過性保護フィルム層が透明フィルムの貼付層である請求項８に記載の識別シール。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の識別シールがジェル片に貼付されている識別ジェルシール。
【請求項１２】
ジェル片が粘着層を有する請求項１１記載の識別ジェルシール。
【請求項１３】
識別シールが粘着層の反対面に貼付されている請求項１２記載の識別ジェルシール。
【請求項１４】
識別シールが粘着層面に貼付されている請求項１２記載の識別ジェルシール。