Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月19日(2017.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
前記課題を解決するため、本発明による画像生成装置は、
複数の画像各々の間の相関度を算出する算出手段と、
前記算出手段の算出結果に基づいて、前記複数の画像を貼り合わせて生成するパノラマ画像を生成するための前記複数の画像間での位置合わせを行う順番を決定する順番決定手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画像各々の間の相関度を算出する算出手段と、
前記算出手段の算出結果に基づいて、前記複数の画像を貼り合わせて生成するパノラマ画像を生成するための前記複数の画像間での位置合わせを行う順番を決定する順番決定手段と、を有することを特徴とする画像生成装置。
【請求項２】
前記複数の画像の特徴量を算出する第二の算出手段をさらに有し、
前記順番決定手段は、前記算出手段と前記第二の算出手段との算出結果に基づいて前記順番を決定することを特徴とする請求項１に記載の画像生成装置。
【請求項３】
前記画像各々のシフト量を算出する演算手段と、
前記演算手段が算出したシフト量に基づいて前記画像各々を変形させ、変形後の画像を前記順番決定手段が決定した前記順番に応じて貼り合わせて前記パノラマ画像を生成する貼り合わせ手段と、をさらに有することを特徴とする請求項２に記載の画像生成装置。
【請求項４】
前記第二の算出手段は、複数の前記画像にまたがる構造物についての特徴量を算出することを特徴とする請求項２又は３に記載の画像生成装置。
【請求項５】
前記第二の算出手段は、複数の前記画像にまたがる構造物の画像端と交わる箇所の数を前記特徴量として算出することを特徴とする請求項２乃至４の何れか一項に記載の画像生成装置。
【請求項６】
前記第二の算出手段は、複数の前記画像にまたがる構造物の画像端と交わる個所の大きさを前記特徴量として算出することを特徴とする請求項２乃至５の何れか一項に記載の画像生成装置。
【請求項７】
前記第二の算出手段は、複数の前記画像にまたがる構造物の面積を前記特徴量として算出することを特徴とする請求項２乃至６の何れか一項に記載の画像生成装置。
【請求項８】
前記第二の算出手段は、前記画像内の構造物の鮮鋭度を前記特徴量として算出することを特徴とする請求項２乃至７の何れか一項に記載の画像生成装置。
【請求項９】
前記算出手段は、少なくとも二つ以上の前記画像間での位置合わせを行うことを特徴とする請求項２乃至８の何れか一項に記載の画像生成装置。
【請求項１０】
前記算出手段は、前記複数の画像間での位置合わせに際し、前記画像間において最も前記相関度の良くなる位置及び前記相関度を、位相限定相関関数を用いることで算出することを特徴とする請求項２乃至９の何れか一項に記載の画像生成装置。
【請求項１１】
前記算出手段は、ユーザーにより指定された前記画像間での位置合わせを行い、前記相関度を算出することを特徴とする請求項２乃至９の何れか一項に記載の画像生成装置。
【請求項１２】
前記算出手段は、複数の画像間での位置合わせに際し、少なくとも複数の画像同士の組み合わせの間で相関度の算出を行うことを特徴とする請求項２乃至９の何れか一項に記載の画像生成装置。
【請求項１３】
前記順番決定手段は、前記第二の算出手段が算出した複数種類の特徴量について、少なくとも一つの種類以上の特徴量を順不同で用いることを特徴とする請求項２乃至１２の何れか一項に記載の画像生成装置。
【請求項１４】
前記演算手段は、前記画像同士の位相限定相関関数を用いることで前記シフト量を演算することを特徴とする請求項３に記載の画像生成装置。
【請求項１５】
前記演算手段は、前記画像を小画像に分割してそれぞれの位置合わせを行うことを特徴とする請求項３に記載の画像生成装置。
【請求項１６】
前記演算手段は、前記分割した小画像の位置合わせの際に用いる前記シフト量を、位相限定相関関数を用いることで演算することを特徴とする請求項１５に記載の画像生成装置。
【請求項１７】
前記演算手段は、前記画像における一画像を小画像に分割してそれぞれの位置合わせを行った後、前記小画像各々についてのアフィン変換係数を取得することを特徴とする請求項３に記載の画像生成装置。
【請求項１８】
前記複数の画像を貼り合わせる貼り合わせ手段をさらに有し、
前記貼り合わせ手段は、前記画像各々の端部に対してアルファブレンディングを行うことで前記貼り合わせを行うことを特徴とする請求項１に記載の画像生成装置。
【請求項１９】
前記複数の画像を貼り合わせる貼り合わせ手段をさらに有し、
前記貼り合わせ手段は、前記画像の貼り合わせに際して、前記画像毎の輝度調整を行うことを特徴とする請求項１に記載の画像生成装置。
【請求項２０】
前記パノラマ画像は検査された被検眼の画像であることを特徴とする請求項１乃至１９の何れか一項に記載の画像生成装置。
【請求項２１】
前記被検眼の画像は、前記被検眼により生じた収差が補正された画像であることを特徴とする請求項２０に記載の画像生成装置。
【請求項２２】
請求項１乃至２１の何れか一項に記載の画像生成装置をコンピュータで実現させるためのプログラム。
【請求項２３】
複数の画像各々の間の相関度を算出する工程と、
算出された結果に基づいて、前記複数の画像を貼り合わせて生成するパノラマ画像を生成するための前記複数の画像間での位置合わせを行う順番を決定する工程と、を含むことを特徴とする画像生成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月5日(2017.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
処理対象の藻類を前記反応室に供給する供給プロセスと、
前記反応室の室内温度および室内圧力を高めて、当該反応室内に前記加圧熱水の状態と、前記飽和水蒸気の相および前記乾燥水蒸気の相の併存状態とを形成可能にする昇温昇圧プロセスと、
前記ソフト水熱プロセスと、
前記反応室の前記室内温度を所定の温度に下げると共に前記室内圧力を大気圧に戻す降温降圧プロセスと、
前記反応室から処理済の前記藻類を取り出す排出プロセスと、
を含み、
前記昇温昇圧プロセスおよび前記ソフト水熱プロセスでは、
前記藻類を直接に加熱すると共に前記反応室の外側から前記藻類を間接的に加熱し、前記藻類の含水分を蒸発させて前記反応室内の上部空間から残留空気を前記反応室外に排出させると共に、当該上部空間からの水蒸気の排出を制御して当該上部空間の圧力を制御する請求項１、３または４に記載の藻油抽出方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月24日(2016.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技装置を収納する略矩形の本体枠と、
前記本体枠の前面を開閉する扉枠と、
を備える遊技機であって、
前記本体枠の一端に設けられ、前記扉枠を開閉可能に軸支する支持部と、
少なくとも遊技媒体を貯留可能な領域を有し、前記扉枠の略下端に位置する遊技媒体貯留部と、
を備え、
前記遊技媒体貯留部の底面は、
前記開放側の側端から所定位置に亘って略同一平面にて形成される第一底面部と、
前記所定位置から前記軸支側の側端に亘って形成される第二底面部と、を有し、
前記第二底面部は、前端と後端とが異なる高さとなるように形成され、いずれも前記第一底面部よりも高さ方向で上方に形成され、
前記遊技媒体貯留部は、前記扉枠の横幅寸法と略同一の横幅寸法とされる
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
しかしながら、遊技機の扉部を開閉する際に扉部が遊技機外の障害物に接触することなどによって、遊技機が損傷するおそれがあった。そこで、本願発明は、係る課題を解決すべき遊技機の提供を目的とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
前記目的を達成するために、遊技装置を収納する略矩形の本体枠と、前記本体枠の前面を開閉する扉枠と、を備える遊技機であって、前記本体枠の一端に設けられ、前記扉枠を開閉可能に軸支する支持部と、少なくとも遊技媒体を貯留可能な領域を有し、前記扉枠の略下端に位置する遊技媒体貯留部と、を備え、前記遊技媒体貯留部の底面は、前記開放側の側端から所定位置に亘って略同一平面にて形成される第一底面部と、前記所定位置から前記軸支側の側端に亘って形成される第二底面部と、を有し、前記第二底面部は、前端と後端とが異なる高さとなるように形成され、いずれも前記第一底面部よりも高さ方向で上方に形成され、前記遊技媒体貯留部は、前記扉枠の横幅寸法と略同一の横幅寸法とされることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明によれば、遊技機の扉部を開閉する際に扉部が遊技機外の障害物に接触することに基づく遊技機の損傷から免れ得ることができる遊技技機を提供可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月2日(2017.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
ポリフェニルスルホン中空糸膜は、耐薬品性、耐熱性、耐加水分解性、強度、伸びなどの点ですぐれているため、分離膜の素材として好適に用いられている。特許文献１〜２には、限外ろ過膜などとして好適に用いられるポリフェニルスルホン中空糸膜の製造方法が提案されているが、これらの方法ではいずれも親水性高分子を紡糸原液中に5％以上含有することとされており、得られる膜自体の構造中にも仕込み比率に応じた親水性高分子が残存する可能性があるため、本来のポリフェニルスルホン中空糸膜が有する高い耐薬品性を十分に発揮することが難しいものであった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る限外ろ過膜用中空糸膜の製造方法は、ポリフェニルスルホン樹脂および親水性高分子を溶解させた水溶性有機溶媒溶液よりなる紡糸原液を乾湿式紡糸することにより得られる中空糸膜において、親水性高分子が紡糸原液中4重量％以下の濃度となるよう添加された紡糸原液を用いているため、得られる中空糸膜は5％ NaClO水溶液に95℃で120時間浸せき後の引張破断応力の初期値に対する変化割合が85％以上であり、引張破断伸びの初期値に対する変化割合が45％以上というようにすぐれた耐薬品性を有するといったすぐれた効果を奏する。かかる中空糸膜は、浄水器などに用いられる限外ろ過膜として有効に用いられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
得られた中空糸膜のSEM写真は図１〜２に示され、純水透過係数は2ml/時間・cm2・0.1MPa、分画分子量は1,500、引張破断応力は8.0MPa、引張破断伸びは56％であった。また、中空糸膜を5％ NaClO水溶液に95℃、120時間浸せきさせた後の引張破断応力および引張破断伸びを測定し、これらの値の初期値に対する割合を耐薬品性の指標として算出したところ、引張破断応力は94％、引張破断伸び55％であった。なお、純水透過係数、分画分子量、引張破断応力(引張破断強度)および引張破断伸びは以下の方法によって測定された。
〔純水透過係数〕
図３に示される測定用モジュール１を用い、中空糸膜３の被処理液導入口５から25℃の純水を平均圧力0.1MPaで供給し、透過液流出口７より流出する純水透過量を測定し、純水透過係数(ml/時間・cm2・0.1MPa)を下記式により算出した。
純水透過係数＝透過量／中空糸内側表面積
〔分画分子量〕
図３に示される測定用モジュール１を用い、中空糸膜３の被処理液導入口５から25℃の分子量の異なるポリエチレングリコール水溶液(濃度0.25％(CF))を平均圧力0.1MPa、線速度0.15m/秒で供給し、透過液流出口７より流出するろ過液をサンプリングした。ろ過液を高速液体クロマトグラフィーにて測定し、ポリエチレングリコール濃度(CP)を求め、阻止率(＝1-(CP/CF))が90％となるポリエチレングリコールの分子量を算出した。
〔引張破断応力(引張破断強度)および引張破断伸び〕
中空糸膜を引張試験装置(島津製作所製オートグラフ)に設置し、引張速度20mm/分で引っ張り、下記式により引張破断強度を算出した。
引張破断強度＝破断時の強度／中空糸膜初期断面積
また、破断時の伸びを下記式により算出した。
破断時の伸び＝(破断時の中空糸膜長−初期中空糸膜長)×100／初期中空糸膜長
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
比較例
実施例において、紡糸原液としてポリフェニルスルホン樹脂(RADEL R-5000)17.8部、ポリビニルピロリドン(K-30G)14.9部、水3部およびN,N-ジメチルホルムアミド64.3部よりなるものを用い、外径約1000μm、内径約700μmの多孔質ポリフェニルスルホン樹脂中空糸膜を得た。得られた中空糸膜の純水透過係数は12ml/時間・cm2・0.1MPa、分画分子量は20,000、引張破断応力は8.1MPa、引張破断伸びは40％であった。また、中空糸膜を5％ NaClO水溶液に95℃、120時間浸せきさせた後の引張破断応力および引張破断伸びを測定し、これらの値の初期値に対する割合を算出したところ、引張破断応力は33％、引張破断伸び5％であった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
請求項１または２記載の製造方法によって製造され、5％ NaClO水溶液に95℃で120時間浸せき後の引張破断応力の初期値に対する変化割合が85％以上であり、引張破断伸びの初期値に対する変化割合が45％以上である限外ろ過膜用中空糸膜。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月19日(2017.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の始動条件が成立したことに基づいて、遊技者にとって有利な特別遊技状態にするか否かを判定するための判定情報を取得する判定情報取得手段と、
前記判定情報取得手段により取得された判定情報に基づき、前記特別遊技状態にするか否かを判定する判定手段と、
前記特別遊技状態に制御する特別遊技状態制御手段と、
前記特別遊技状態の制御終了後に、第１の遊技状態または前記第１の遊技状態よりも有利な第２の遊技状態に制御可能な遊技状態制御手段と、
前記判定手段の判定結果を報知するための判定結果報知演出を行う演出制御手段と、
を備え、
前記演出制御手段は、
前記第２の遊技状態に制御される場合において、
前記特別遊技状態の制御中に、前記第２の遊技状態に制御されることを報知する第１の報知と、
前記特別遊技状態の制御終了後に、前記第２の遊技状態に制御されていることを報知する第２の報知と、を実行可能であり、
前記第１の報知を実行する割合と、前記第２の報知を実行する割合とが異なり、
前記第２の報知は、第１のタイミングで実行される場合と、該第１のタイミングよりも後の第２のタイミングで実行される場合とがある、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項１に記載の発明の遊技機は、所定の始動条件が成立したことに基づいて、遊技者にとって有利な特別遊技状態にするか否かを判定するための判定情報を取得する判定情報取得手段と、前記判定情報取得手段により取得された判定情報に基づき、前記特別遊技状態にするか否かを判定する判定手段と、前記特別遊技状態に制御する特別遊技状態制御手段と、前記特別遊技状態の制御終了後に、第１の遊技状態または前記第１の遊技状態よりも有利な第２の遊技状態に制御可能な遊技状態制御手段と、前記判定手段の判定結果を報知するための判定結果報知演出を行う演出制御手段と、を備え、前記演出制御手段は、前記第２の遊技状態に制御される場合において、前記特別遊技状態の制御中に、前記第２の遊技状態に制御されることを報知する第１の報知と、前記特別遊技状態の制御終了後に、前記第２の遊技状態に制御されていることを報知する第２の報知と、を実行可能であり、前記第１の報知を実行する割合と、前記第２の報知を実行する割合とが異なり、前記第２の報知は、第１のタイミングで実行される場合と、該第１のタイミングよりも後の第２のタイミングで実行される場合とがあることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月17日(2017.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球が流下する遊技領域を有する遊技盤と、
前記遊技領域の外縁部に沿って形成された遊技球誘導経路と、を備えた遊技機であって、
前記遊技球誘導経路は、遊技領域左側に位置する第１領域と、遊技領域右側に位置する第２領域に跨って形成されており、前記遊技球誘導経路の前記第２領域側に突出部を設け、該突出部から前記第１領域に向けて下降傾斜させたことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するため、請求項１の発明に係る遊技機は、遊技球が流下する遊技領域を有する遊技盤と、前記遊技領域の外縁部に沿って形成された遊技球誘導経路と、を備えた遊技機であって、前記遊技球誘導経路は、遊技領域左側に位置する第１領域と、遊技領域右側に位置する第２領域に跨って形成されており、前記遊技球誘導経路の前記第２領域側に突出部を設け、該突出部から前記第１領域に向けて下降傾斜させたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月17日(2017.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
始動領域を遊技媒体が通過したことにより、遊技者に有利な特別遊技を実行するか否かの特別遊技判定を行う特別遊技判定手段と、
前記特別遊技判定手段によって前記特別遊技を実行すると判定されると、前記特別遊技を実行する特別遊技制御手段と、
第１演出実行条件が成立することにより、演出表示手段における所定領域で前記特別遊技を行う可能性を報知可能な第１演出を実行する第１演出制御手段と、
前記演出表示手段における前記所定領域に重畳しない非重畳位置から該演出表示手段における前記所定領域の少なくとも一部に重畳する重畳位置に移動可能に設けられた可動手段と、
第２演出実行条件が成立することにより、前記可動手段を前記非重畳位置から前記重畳位置に移動させる第２演出を実行する第２演出制御手段と、を備え、
前記第１演出制御手段によって前記第１演出が実行されているときは、前記第２演出制御手段は前記第２演出の実行を制限することを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記第１演出は、
複数の選択肢を表示してから当該表示された複数の選択肢から一の選択肢を特定する演出であり、
前記複数の選択肢は、前記特別遊技を行う可能性を報知する選択肢を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１３−０９０７７９号公報
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
しかしながら、画像演出が役物演出で隠れてしまい、演出効果が低下するおそれがある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の遊技機は、始動領域を遊技媒体が通過したことにより、遊技者に有利な特別遊技を実行するか否かの特別遊技判定を行う特別遊技判定手段と、前記特別遊技判定手段によって前記特別遊技を実行すると判定されると、前記特別遊技を実行する特別遊技制御手段と、第１演出実行条件が成立することにより、演出表示手段における所定領域で前記特別遊技を行う可能性を報知可能な第１演出を実行する第１演出制御手段と、前記演出表示手段における前記所定領域に重畳しない非重畳位置から該演出表示手段における前記所定領域の少なくとも一部に重畳する重畳位置に移動可能に設けられた可動手段と、第２演出実行条件が成立することにより、前記可動手段を前記非重畳位置から前記重畳位置に移動させる第２演出を実行する第２演出制御手段と、を備え、前記第１演出制御手段によって前記第１演出が実行されているときは、前記第２演出制御手段は前記第２演出の実行を制限することを特徴とする。
また、本発明の遊技機は、前記第１演出は、複数の選択肢を表示してから当該表示された複数の選択肢から一の選択肢を特定する演出であり、前記複数の選択肢は、前記特別遊技を行う可能性を報知する選択肢を含む、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月17日(2017.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
まず、上述したような光源２０１の回転調整によって、副走査方向における主走査ライン間の解像度（間隔）を所望の解像度に調整する。図６では、このような調整によって、レーザ光Ｌ1〜ＬNの結像位置Ｓ1〜ＳNの副走査方向の間隔がＡとなる。その結果、ＢＤ位置で、レーザ光Ｌ1〜ＬNは、主走査方向においてＳＬ１に対応する量だけ相互に位相がずれた状態で結像している。具体的には、ＢＤ位置に配置されたセンサＳＮ１によって、レーザ光Ｌ2は、レーザ光Ｌ1に対して時間（位相）ＴＰ２１だけ遅れて検出される。レーザ光Ｌ3は、センサＳＮ１によって、レーザ光Ｌ1に対して時間（位相）ＴＰ３１だけ遅れて検出される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
同様に、センサＳＮ３〜ＳＮ５によるレーザ光Ｌ1〜Ｌ3の検出結果に基づいて、レーザ光Ｌ1〜Ｌ3について、センサＳＮ２，ＳＮ３間の領域の通過時間ＴＰ１３，２３，３３と、センサＳＮ３，ＳＮ４間の領域の通過時間ＴＰ１４，２４，３４と、センサＳＮ４，ＳＮ５間の領域の通過時間ＴＰ１５，２５，３５とがそれぞれ測定される。このようなセンサＳＮ１〜ＳＮ５によるレーザ光Ｌ1〜ＬNの検出結果から測定される時間ＴＰ１２〜３５に基づいて、主走査方向の各領域においてレーザ光Ｌ1〜ＬNによって画素が形成される位置を特定できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
図７（Ａ）は、図６に示す、センサＳＮ１〜ＳＮ５を用いた時間ＴＰ１２〜３５の測定結果に基づいて、レーザ光Ｌ1〜Ｌ3によって画素が形成される位置（結像位置Ｓ1〜Ｓ3）を示している。なお、図７（Ａ）では、レーザ光Ｌ1が位置７０１〜７０５を通過する理想タイミングにおける、各レーザ光による画素の形成位置を示している。即ち、位置７０１〜７０５は、レーザ光Ｌ1〜Ｌ3によって画素が形成される位置についての理想位置に相当する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
（画素の書き出し位置の補正）
図７（Ｂ）は、ＢＤ位置（位置７０１）における主走査方向の画素の書き出し位置を補正した場合（即ち、レーザ光Ｌ1〜Ｌ3の位相を揃えた場合）に、レーザ光Ｌ1〜Ｌ3によって画素が形成される位置（結像位置Ｓ1〜Ｓ3）を示している。このような画素の書き出し位置の補正は、レーザ光Ｌ1〜Ｌ3に対応する発光素子１〜３の、画像データに基づく相対的なレーザ出射タイミングを制御することによって実現できる。具体的には、画像データに基づく発光素子２の点灯タイミングを、発光素子１の点灯タイミングに対して時間ＴＰ２１だけ遅延させる。同様に、画像データに基づく発光素子３の点灯タイミングを、発光素子２の点灯タイミングに対して時間ＴＰ３１だけ遅延させる。その結果、図７（Ｂ）に示すように、ＢＤ位置において、レーザ光Ｌ1〜Ｌ3の位相が揃った状態で各レーザ光によって画素が形成される。なお、Ｌ1〜Ｌ3以外のＬ4〜ＬNについても同様の制御により、ＢＤ位置において位相を揃えることが可能である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２２】
＜相対位置ずれによる位相ずれの補正の手順＞
図１４は、本実施形態に係る、画像形成装置１００で実行される、相対位置ずれによる位相ずれの補正（第１の補正）の手順を示すフローチャートである。図１４に示す各ステップの処理は、ＣＰＵ４０１が、メモリ４０６に格納された制御プログラムを読み出して実行することによって、画像形成装置１００上で実現される。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月26日(2017.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
請求項４に記載のバッテリ駆動式作業機において、
上記衝撃吸収部は、上記保護ブラケットにおける脆弱部分よりなる
ことを特徴とするバッテリ駆動式作業機。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月2日(2017.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に基板表面のＸＹ位置座標を検出する透明電極が設けられ、前記透明電極に対してタッチされた位置を静電容量結合により検出する静電容量結合方式タッチパネルを入力装置として備えた表示装置において、
前記表示装置上面にタッチパネル基板を貼り合わせた構造を備え、及び
タッチパネル基板の上面側、またはタッチパネルの上面側と下面側に波長４３０ｎｍ以上の可視光を透過させる光透過層を備え、
前記光透過層は、光波長４３０ｎｍ未満にバンドギャップを有する半導体化合物からなる光吸収、光散乱反射材を光学的に透明な樹脂中に含有させており、及び
前記光透過層は、光波長３８０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に吸光度極大を有する化合物からなる光吸収材、あるいは光波長３８０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に吸光度極大を有する分子構造体からなる材料を含んでいることを特徴とする静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置。
【請求項２】
前記タッチパネルは、
前記透明電極が、透明樹脂中に金属ナノワイヤが含有された導電膜より構成され、
前記導電膜の一部表面に積層して、前記透明樹脂の表面層から露出された前記金属ナノワイヤと接合され、前記タッチパネルの位置座標を出力するために、外部回路へ引き出す配線の接続電極を有することを特徴とする請求項１記載の静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置。
【請求項３】
前記タッチパネルは、
前記透明電極が透明樹脂中に金属ナノワイヤが含有された導電膜からなり、
前記金属ナノワイヤが断面直径１０〜１００ｎｍ、長さ１〜１００μｍの寸法であることを特徴とする請求項１、または請求項２に記載の静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置。
【請求項４】
前記透明基板表面に対して前記導電膜の透明樹脂が接合する構造を備え、
前記導電膜の表面層１０〜２００ｎｍ厚さに前記金属ナノワイヤを含有することを特徴とする請求項２または３に記載の静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置。
【請求項５】
前記金属ナノワイヤがＡｕ、Ｐｔを除いた金属からなることを特徴とする請求項２乃至４のいずれかの請求項に記載の静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置。
【請求項６】
前記表示装置は、対向配置される第１の透明基板および第２の透明基板により液晶層を挟持し、表示光源となるバックライトを備えていることを特徴とする請求項１記載の静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置。
【請求項７】
前記表示装置は、対向配置される第１基板および第２基板からなり、前記第１基板上に電極層間に有機エレクトロルミネッセンス層を形成した発光素子を備え、前記第２基板により密閉封止した有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする請求項１記載の静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置。
【請求項８】
前記導電膜の透明樹脂は感光性樹脂絶縁物からなることを特徴とする請求項２乃至４のいずれかの請求項に記載の静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置。
【請求項９】
前記光透過層は、波長４３０ｎｍ以上の光透過率が５０％以上となる光透過性を有していることを特徴とする請求項１記載の静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置。
【請求項１０】
前記光波長４３０ｎｍ未満にバンドギャップを有する半導体化合物微粒子は、ＳｉＣ微粒子を主体に、ＺｎＯ、ＷＯ３、ＴｉＯ２、ＳｒＴｉＯ３から選ばれた化合物微粒子を加えたものであることを特徴とする請求項１に記載の静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置。
【請求項１１】
前記光波長３８０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に吸光度極大を有する化合物は、ハロゲン化銅微粒子、または銀微粒子から選ばれ、あるいは前記光波長３８０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に吸光度極大を有する分子構造体からなる材料は、分子構造としてジフェニルエーテル骨格、またはビフェニル骨格を組み合わせた構造を有するポリイミド樹脂から選ばれることを特徴とする請求項１に記載の静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月10日(2017.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタル信号を送信する送信回路と、
前記送信回路が実装されたプリント配線板と、を備え、
前記プリント配線板は、
グランド導体と、
前記送信回路から送信されたデジタル信号を伝送する伝送線路と、
前記伝送線路に沿うように前記伝送線路と間隔をあけて配置され、前記伝送線路に沿う配線方向の一端部が前記グランド導体に接続され、前記配線方向の他端部が開放された、前記伝送線路と電磁的に結合する結合線路と、を有し、
前記結合線路の配線方向の中央部と、前記グランド導体とが接続部材で接続されていることを特徴とするプリント回路板。
【請求項２】
前記結合線路の電気長は、前記送信回路が送信するデジタル信号のデータレートに相当する周波数の１／２波長に対し±２０［％］の範囲であることを特徴とする請求項１に記載のプリント回路板。
【請求項３】
前記プリント配線板は、複数の導体層が絶縁体層を介して積層された多層基板であり、
前記結合線路は、前記複数の導体層のうちいずれかの導体層に配置され、
前記伝送線路は、前記結合線路が配置された導体層に、前記結合線路に隣接して配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプリント回路板。
【請求項４】
前記プリント配線板は、複数の導体層が絶縁体層を介して積層された多層基板であり、
前記結合線路は、前記複数の導体層のうちいずれかの導体層に配置され、
前記伝送線路は、前記結合線路が配置された導体層に隣接する導体層に、前記プリント配線板の面に垂直な方向から見て、前記結合線路に重なる位置に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプリント回路板。
【請求項５】
前記グランド導体は、前記複数の導体層のうち前記結合線路が配置された導体層とは異なる導体層に配置された異層グランドパターンを有することを特徴とする請求項３又は４に記載のプリント回路板。
【請求項６】
前記接続部材は、前記異層グランドパターンと前記結合線路の中央部とを接続するヴィア導体であることを特徴とする請求項５に記載のプリント回路板。
【請求項７】
前記グランド導体は、前記結合線路が配置された導体層に配置され、前記結合線路の一端部に繋がる同層グランドパターンを有し、
前記同層グランドパターンと前記異層グランドパターンとは複数のグランドヴィア導体で接続されていることを特徴とする請求項５又は６に記載のプリント回路板。
【請求項８】
前記グランド導体は、前記結合線路が配置された導体層に配置された同層グランドパターンを有することを特徴とする請求項３又は４に記載のプリント回路板。
【請求項９】
前記接続部材は、前記結合線路及び前記同層グランドパターンが配置された導体層に配置され、前記同層グランドパターンと前記結合線路の中央部とを繋ぐ導体パターンであることを特徴とする請求項８に記載のプリント回路板。
【請求項１０】
前記接続部材は、前記結合線路及び前記同層グランドパターンが配置された導体層に実装されたインダクタンス素子であることを特徴とする請求項８に記載のプリント回路板。
【請求項１１】
前記結合線路の一端部が、前記同層グランドパターンに繋がっていることを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか１項に記載のプリント回路板。
【請求項１２】
前記グランド導体は、前記複数の導体層のうち、前記結合線路及び前記同層グランドパターンが配置された導体層とは異なる導体層に配置された異層グランドパターンを有し、
前記同層グランドパターンと前記異層グランドパターンとは複数のグランドヴィア導体で接続されていることを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか１項に記載のプリント回路板。
【請求項１３】
前記接続部材のリアクタンスが、３．２［Ω］以上１８．８［Ω］以下であることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のプリント回路板。
【請求項１４】
前記結合線路の電気長が、１５４［°］以上１７０［°］以下であることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載のプリント回路板。
【請求項１５】
前記送信回路が、前記デジタル信号として差動信号を送信するよう構成され、
前記プリント配線板は、前記伝送線路として、前記送信回路に接続された一対の差動伝送線路を有することを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載のプリント回路板。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のいずれか１項に記載のプリント回路板を備えた電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月14日(2017.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれがパターンの形成処理を基板に行う複数の形成部を含むリソグラフィ装置であって、
それぞれが１以上の基板を含む複数のロットのそれぞれに要求されるパターンの重ね合わせ特性の情報に基づいて前記複数のロットのそれぞれの基板に対して前記複数の形成部を割当て、該割当てに基づいて前記複数のロットのそれぞれの基板に対して前記複数の形成部に並行してパターンの形成処理を行わせる制御部を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２】
それぞれがパターンの形成処理を基板に行う複数の形成部を含むリソグラフィ装置であって、
それぞれが１以上の基板を含む複数のロットのそれぞれの基板の数の情報に基づいて前記複数のロットのそれぞれの基板に対して前記複数の形成部を割当て、該割当てに基づいて前記複数のロットのそれぞれの基板に対して前記複数の形成部に並行してパターンの形成処理を行わせる制御部を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項３】
それぞれがパターンの形成処理を基板に行う複数の形成部を含むリソグラフィ装置であって、
それぞれが１以上の基板を含む複数のロットのそれぞれのパターン形成に許容される時間の情報に基づいて前記複数のロットのそれぞれの基板に対して前記複数の形成部を割当て、該割当てに基づいて前記複数のロットのそれぞれの基板に対して前記複数の形成部に並行してパターンの形成処理を行わせる制御部を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項４】
それぞれがパターンの形成処理を基板に行う複数の形成部を含むリソグラフィ装置であって、
それぞれが１以上の基板を含む複数のロットのそれぞれのパターン形成の優先度の情報に基づいて前記複数のロットのそれぞれの基板に対して前記複数の形成部を割当て、該割当てに基づいて前記複数のロットのそれぞれの基板に対して前記複数の形成部に並行してパターンの形成処理を行わせる制御部を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項５】
それぞれがパターンの形成処理を基板に行う複数の形成部を含むリソグラフィ装置であって、
それぞれが１以上の基板を含む複数のロットのそれぞれのパターン形成に使用されるマスクの数の情報に基づいて前記複数のロットのそれぞれの基板に対して前記複数の形成部を割当て、該割当てに基づいて前記複数のロットのそれぞれの基板に対して前記複数の形成部に並行してパターンの形成処理を行わせる制御部を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記優先度の情報は、前記複数のロットのそれぞれのパターン形成を完了すべき時刻の情報を含むことを特徴とする請求項４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記制御部は、ロットの処理の割込みの要求があった場合、該割込みに係るロットの前記情報にも基づいて前記複数の形成部の割当てを再度行い、該再度の割当てに基づいて複数の基板に対して前記複数の形成部に並行してパターンの形成処理を行わせることを特徴とする請求項１ないし請求項６のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記重ね合わせ特性の情報は、前記形成部の光学系、前記基板を保持するステージの位置決めのための制御系、および、前記光学系又は前記ステージを支持する構造体のうち少なくとも一つの特性の情報を含むことを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記情報を、前記複数のロットのそれぞれに対応するレシピの情報から取得することを特徴とする請求項１ないし請求項８のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記複数の形成部のそれぞれに基板を搬送する搬送部を含み、該搬送部は、１つの前記形成部へ基板を搬送するための搬送経路を複数有することを特徴とする請求項１ないし請求項９のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記搬送経路が前記複数の形成部を囲むように配置されていることを特徴とする請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記複数の搬送経路が網目状に配置されていることを特徴とする請求項１ないし請求項７のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
請求項１ないし請求項１２のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンの形成を基板に行う工程と、
前記工程で前記パターンの形成を行われた基板を加工する工程と、
を含み、加工された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一側面は、それぞれがパターンの形成処理を基板に行う複数の形成部を含むリソグラフィ装置であって、それぞれが１以上の基板を含む複数のロットのそれぞれに要求されるパターンの重ね合わせ特性の情報に基づいて前記複数のロットのそれぞれの基板に対して前記複数の形成部を割当て、該割当てに基づいて前記複数のロットのそれぞれの基板に対して前記複数の形成部に並行してパターンの形成処理を行わせる制御部を含むことを特徴とするリソグラフィ装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
〔実施形態２〕
既に説明した図１−３を参照して実施形態２の説明を行う。実施形態１と共通する事項については説明を省略する。各ロットの属性は、実施形態１では、複数のロットそれぞれに属する基板の数を含むものとしたが、実施形態２では、複数のロットそれぞれに属する基板に形成されたパターンに対する重ね合わせの特性をさらに含む。各形成部１は、当該重ね合わせに影響する固有の特性を有する。当該特性は、例えば、光学系４の特性、ステージ５の位置決めのための制御系（計測器を含む）の特性、ならびに光学系４およびステージ５のうち少なくとも一方を支持する構造体の特性のうち少なくとも一つを含みうる。ここで、同一のロットに属する複数の基板をそれぞれ処理する複数の形成部（形成部群５０）は、当該特性が互いに同一または類似の形成部から構成されうる。当該複数の形成部（形成部群５０）は、主制御部４０により割り当てられる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月6日(2017.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板の表面に沿った方向における前記モールドと前記基板との位置を検出することで、前記モールドと前記基板との位置ずれの信号を出力する検出部と、
前記信号を増幅する増幅器と、
前記増幅器で増幅された前記信号に基づいて、前記モールドと前記基板との位置合わせを行う制御部と、を有し、
前記モールドと前記基板上のインプリント材とが接触した状態で前記モールドと前記基板とを相対的に１つの方向に連続的に移動させる場合に前記モールド及び前記基板の少なくとも一方に加わる前記方向の力は、当該移動を開始するときの前記基板の位置を始点として、前記モールドに対する前記基板の前記始点からの移動量が閾値を超えない第１領域では第１増加率で増加し、前記閾値を超える第２領域では前記第１増加率よりも小さい第２増加率で増加し、
前記制御部は、
前記モールドに対して前記基板を第１方向に前記閾値を超えて移動させる第１動作と、前記モールドに対して前記基板を前記第１方向とは逆の第２方向に前記閾値を超えない移動量だけ移動させる第２動作とによって前記位置合わせを行い、
前記第１動作では、前記増幅器のゲインを、前記第１領域において第１ゲインに設定し、前記第２領域の少なくとも一部において前記第１ゲインよりも小さい第２ゲインに設定することを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記第２動作では、前記増幅器のゲインを、前記第２ゲインよりも大きい第３ゲインに設定することを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記第３ゲインは、前記第１ゲインと同一であることを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記第１動作では、前記モールドに対する前記基板の移動量が前記閾値を超えるタイミングにおいて、前記増幅器のゲインを前記第１ゲインから前記第２ゲインに変更する請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記方向の力と前記増幅器に設定すべきゲインとの関係を示す情報に基づいて、前記第１ゲイン、前記第２ゲイン及び前記第３ゲインを決定することを特徴とする請求項２又は３に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記方向の力を検知する検知部を更に有することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記方向の力は、前記第１領域では線形的に増加し、前記第２領域では非線形的に増加することを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する加工工程と、を有し、
前記加工工程により加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのインプリント装置は、モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、前記基板の表面に沿った方向における前記モールドと前記基板との位置を検出することで、前記モールドと前記基板との位置ずれの信号を出力する検出部と、前記信号を増幅する増幅器と、前記増幅器で増幅された前記信号に基づいて、前記モールドと前記基板との位置合わせを行う制御部と、を有し、前記モールドと前記基板上のインプリント材とが接触した状態で前記モールドと前記基板とを相対的に１つの方向に連続的に移動させる場合に前記モールド及び前記基板の少なくとも一方に加わる前記方向の力は、当該移動を開始するときの前記基板の位置を始点として、前記モールドに対する前記基板の前記始点からの移動量が閾値を超えない第１領域では第１増加率で増加し、前記閾値を超える第２領域では前記第１増加率よりも小さい第２増加率で増加し、前記制御部は、前記モールドに対して前記基板を第１方向に前記閾値を超えて移動させる第１動作と、前記モールドに対して前記基板を前記第１方向とは逆の第２方向に前記閾値を超えない移動量だけ移動させる第２動作とによって前記位置合わせを行い、前記第１動作では、前記増幅器のゲインを、前記第１領域において第１ゲインに設定し、前記第２領域の少なくとも一部において前記第１ゲインよりも小さい第２ゲインに設定することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
インプリント装置１は、図１に示すように、照射部２と、モールド保持部３と、基板ステージ４と、樹脂供給部５（ディスペンサ）と、制御部６と、倍率補正部１８（形状補正部）と、アライメント検出部２２と、増幅器２７と、検知部５０とを有する。また、インプリント装置１は、基板ステージ４を載置するベース定盤２４と、モールド保持部３を固定するブリッジ定盤２５と、ベース定盤２４から延設され、ブリッジ定盤２５を支持するための支柱２６とを有する。更に、インプリント装置１は、モールド７を装置外部からインプリント装置１（モールド保持部３）へ搬送するモールド搬送機構と、基板１１を装置外部からインプリント装置１（基板ステージ４）へ搬送する基板搬送機構とを有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2016021441.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月11日(2017.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力データの周波数に発振回路の発振クロック信号の周波数を同期させる周波数同期ループ回路と、
前記発振クロック信号を入力して前記入力データの位相に同期する移送同期クロック信号を出力する位相同期ループ回路と、
前記周波数同期ループ回路による周波数引き込み後の前記位相同期ループ回路による位相引き込み動作中に又は位相引き込み完了後に、前記入力データと前記位相同期クロック信号の位相差に基づいて補正値を演算し、前記周波数同期ループ回路よりも小さなループ利得をもって、前記補正値で前記発振回路の発振周波数を補正可能とするドリフト補正回路と、を有するＣＤＲ回路。
【請求項２】
請求項１において、前記ドリフト補正回路は前記位相同期ループ回路で検出された位相誤差に基づいて周波数補正値を演算し、前記周波数同期ループ回路よりも小さなループ利得をもって、前記補正値を前記周波数同期ループ回路の周波数制御データに加算する、ＣＤＲ回路。
【請求項３】
請求項２において、前記周波数同期ループ回路は入力データの特定の固定パターンに対して周波数引き込み動作を行い、
前記位相同期ループ回路は入力データの任意パターンに対して位相引き込みを行う、ＣＤＲ回路。
【請求項４】
請求項２において、前記周波数同期ループ回路における周波数引き込み完了の通知に応答して前記位相同期ループ回路に位相引き込み動作の開始を指示し、位相引き込みの完了通知に応答して前記ドリフト補正回路に前記周波数補正値の演算を指示し、演算された前記補正値が所定値に達したとき、前記周波数同期ループ回路よりも小さなループ利得をもって、前記補正値を前記周波数同期ループ回路の周波数制御データに加算して、前記位相同期ループ回路に再度位相引き込み動作の開始を指示する、制御を司る制御部を有するＣＤＲ回路。
【請求項５】
入力データの周波数に発振回路の発振クロック信号の周波数を同期させる周波数同期ループ回路と、
前記発振クロック信号を入力して前記入力データの位相に同期する位相同期クロック信号を出力する位相同期ループ回路と、を有し、
前記周波数同期ループ回路は、周波数引き込み後における前記位相同期ループ回路の位相引き込み動作に並行して又は当該位相引き込み動作の完了後に、ループ利得が小さく切替えられた状態で周波数引き込み動作を行う、ＣＤＲ回路。
【請求項６】
請求項５において、前記周波数同期ループ回路はループ利得を可変に切替え可能な可変利得回路を有する、ＣＤＲ回路。
【請求項７】
請求項５において、前記周波数同期ループ回路は入力データの任意パターンに対して周波数引き込み動作を行い、
前記位相同期ループ回路は入力データの任意パターンに対して位相同期を行う、ＣＤＲ回路。
【請求項８】
請求項６において、前記周波数同期ループ回路における周波数引き込み完了の通知に応答して前記位相同期ループ回路に位相引き込み動作の開始を指示すると共に、位相引き込みの完了通知に応答して前記周波数同期ループ回路のループ利得を小さく切替えて周波数引き込み動作の開始を指示し、周波数引き込み完了後に再度位相同期ループ回路に位相引き込み動作の開始を指示する、制御を行う制御部を有するＣＤＲ回路。
【請求項９】
外部インタフェース回路と、前記外部インタフェース回路に供給されたデータを処理する処理回路とを含み、前記外部インタフェース回路は前記データを入力する回路として請求項１記載のＣＤＲ回路を備えた、半導体装置。
【請求項１０】
請求項９において、前記処理回路は、前記ＣＤＲ回路に供給された画像データを入力し、入力した画像データに応ずる階調電圧を表示タイミングに同期して画素単位で出力する、半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月15日(2017.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷条件が入力される入力部と、
画像情報を印刷画像に変換する変換部と、
入力された前記印刷条件に基づいて構成された前記印刷画像の選択候補を選択可能に表
示する表示部と、を備え、
前記印刷条件として入力された前記印刷画像の印刷に供することができる印刷コストに
基づいて前記選択候補が変更されることを特徴とする印刷画像処理装置。
【請求項２】
前記印刷条件には、前記印刷画像の印刷に使用することができるインクの属性情報が含
まれることを特徴とする請求項１に記載の印刷画像処理装置。
【請求項３】
前記印刷条件には、前記印刷画像の印刷に使用することができる印刷装置の属性情報が
含まれることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の印刷画像処理
装置。
【請求項４】
前記印刷条件には、前記印刷画像の画質の低下を許容する画質許容情報が含まれること
を特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の印刷画像処理装置。
【請求項５】
前記画質許容情報には、前記印刷画像の階調性、粒状性、濃度の少なくとも１つの情報
が含まれることを特徴とする請求項４に記載の印刷画像処理装置。
【請求項６】
入力された前記印刷条件に応じて、前記画像情報を複数の水準の前記印刷画像に変換す
る複数の変換テーブルを予め備えることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか
一項に記載の印刷画像処理装置。
【請求項７】
前記入力部には、表示条件が入力され、
前記表示条件には、前記表示部に前記印刷画像の選択候補を選択可能に表示する順番を
指定する情報が含まれることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載
の印刷画像処理装置。
【請求項８】
ネットワークを介して印刷装置に接続される印刷画像処理装置を有し、
前記印刷画像処理装置は、
印刷条件が入力される入力部と、
画像情報を印刷画像に変換する変換部と、
入力された前記印刷条件に基づいて構成された前記印刷画像の選択候補を選択可能に表
示する表示部と、を備え、
前記印刷条件として入力された前記印刷画像の印刷に供することができる印刷コストに
基づいて前記選択候補が変更されることを特徴とする印刷画像処理システム。
【請求項９】
画像情報を印刷画像に変換して印刷する際の印刷画像選択画面の表示方法であって、
印刷条件として入力された前記印刷画像の印刷に供することができる印刷コストに基づ
いて構成された前記印刷画像の選択候補を選択可能に表示することを特徴とする印刷画像
選択画面の表示方法。
【請求項１０】
前記印刷条件には、前記印刷画像の印刷に使用することができるインクの属性情報、前
記印刷画像の印刷に使用することができる印刷装置の属性情報、前記印刷画像の画質の低
下を許容する画質許容情報の少なくとも１つが含まれることを特徴とする請求項９に記載
の印刷画像選択画面の表示方法。