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【手続補正書】
【提出日】平成29年4月6日(2017.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転軸に対して傾いた第１ミラー面と第２ミラー面を備えた回転するミラーユニットと、
前記ミラーユニットを介して、対象物に向けて光束を出射する少なくとも１つの光源を含む投光系と、を有し、
前記光源から出射された光束は、前記ミラーユニットの前記第１ミラー面で反射した後、前記第２ミラー面へ向かって進行し、更に前記第２ミラー面で反射され、前記ミラーユニットの回転に応じて前記対象物に対して走査されつつ投光されるようになっており、
前記ミラーユニットは、複数対の前記第１ミラー面と前記第２ミラー面とを有し、各対における前記第１ミラー面と前記第２ミラー面との交差角が異なっていることを特徴とする走査光学系。
【請求項２】
前記光源と前記ミラーユニットとの間に、前記投光系から出射された光束の進行方向を変更する偏向素子を有する請求項１に記載の走査光学系。
【請求項３】
前記光源と前記ミラーユニットとの間に、前記投光系から出射された光束の進行方向を変更する偏向素子を有し、
前記第１ミラー面と前記第２ミラー面との交差角の副走査角の角度が連続している請求項１に記載の走査光学系。
【請求項４】
前記ミラーユニットは樹脂製である請求項１から３のいずれかに記載の走査光学系。
【請求項５】
前記ミラーユニットの前記第１ミラー面と前記第２ミラー面との交差角が90度以外のとき、下記の条件式を満足する請求項１から４のいずれかに記載の走査光学系。
|β|≦３０      （２）
但し、
β：前記第１ミラー面へ入射する光束の前記回転軸に直交する面に対する角度（°：入射角という）
【請求項６】
前記投光系を複数個有し、各投光系から出射された光束は、前記第１ミラー面へ入射する際の前記回転軸に直交する面に対する角度が異なる請求項１から５のいずれかに記載の走査光学系。
【請求項７】
前記ミラーユニットを介して走査され前記対象物に投光された光束の反射光を受光する受光系を有する請求項１から６のいずれかに記載の走査光学系。
【請求項８】
前記対象物からの反射光は、前記第２ミラー面に反射した後、前記第１ミラー面に反射して、前記受光系で受光される請求項７に記載の走査光学系。
【請求項９】
前記受光系は、少なくとも前記投光系の出射光束の長辺方向に視野分割するように複数の受光素子から構成される受光センサを備える請求項７または８に記載の走査光学系。
【請求項１０】
複数対の前記第１ミラー面と前記第２ミラー面とを有し、少なくとも一つの対における前記交差角は９０度以外であり、前記交差角が９０度から離れた対に対して投光する際の前記光源の発光タイミングを、前記交差角が９０度に近い対に対して投光する際の前記光源の発光タイミングより遅くする請求項１から９のいずれかに記載の走査光学系。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれかに記載の走査光学系を有することを特徴とするレーダー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の参考例による走査光学系は、
回転軸に対して傾いた第１ミラー面と第２ミラー面を備えた回転するミラーユニットと、
前記ミラーユニットを介して、対象物に向けて光束を出射する少なくとも１つの光源を含む投光系と、を有し、
前記光源から出射された光束は、前記ミラーユニットの前記第１ミラー面で反射した後、前記第２ミラー面へ向かって進行し、更に前記第２ミラー面で反射され、前記ミラーユニットの回転に応じて前記対象物に対して走査されつつ投光されるようになっており、
前記投光系から出射された光束は、前記対象物の測定範囲で走査角方向よりも副走査角方向に長く、下記条件式を満足することを特徴とする。
|θ１−９０|×|α|≦２２５・・・（１）
但し、
θ１：前記第１ミラー面と前記第２ミラー面との交差角（°）
α：回転角（°）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明による走査光学系は、
回転軸に対して傾いた第１ミラー面と第２ミラー面を備えた回転するミラーユニットと、
前記ミラーユニットを介して、対象物に向けて光束を出射する少なくとも１つの光源を含む投光系と、を有し、
前記光源から出射された光束は、前記ミラーユニットの前記第１ミラー面で反射した後、前記第２ミラー面へ向かって進行し、更に前記第２ミラー面で反射され、前記ミラーユニットの回転に応じて前記対象物に対して走査されつつ投光されるようになっており、
前記ミラーユニットは、複数対の前記第１ミラー面と前記第２ミラー面とを有し、各対における前記第１ミラー面と前記第２ミラー面との交差角が異なっていることを特徴とする。
本発明によるレーダーは、上述の走査光学系を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月18日(2016.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基板と、
前記導電性基板上に配置される第１電極層と、
前記第１電極層上に配置される第１半導体層、第２半導体層、及び前記第１半導体層と前記第２半導体層との間に位置する活性層を備える発光構造物と、
前記第２半導体層と電気的に接続された第２電極層と、
前記発光構造物をチップ（ｃｈｉｐ）単位に区画する境界に配置されるクラック防止層と、を含み、
前記第１電極層は、前記導電性基板と前記第１半導体層との間に配置される透明電極層と、前記透明電極層を上下に貫通する多数個の金属コンタクト部とを備えるオーミック層を含み、
前記クラック防止層は、前記発光構造物の下に配置され、前記発光構造物とオーミック接触をなす金属材質を含み、
前記クラック防止層は前記第１電極層と同一平面上に配置され、
前記クラック防止層は閉じた空間を形成することを特徴とする、発光素子。
【請求項２】
前記クラック防止層は前記発光構造物の周縁に配置される、請求項１に記載の発光素子。
【請求項３】
前記クラック防止層は、
Ａｕ、Ｂｅ及びＡｕ合金のうち少なくとも一つ以上を含む、請求項１又は２に記載の発光素子。
【請求項４】
前記金属コンタクト部はＡｕＢｅを含む、請求項１ないし３のいずれかに記載の発光素子。
【請求項５】
前記透明電極層の平面上の面積は、前記金属コンタクト部の平面上の面積よりも大きい、請求項１に記載の発光素子。
【請求項６】
前記金属コンタクト部の平面上の面積は、前記透明電極層の平面上の面積対比１０％〜２５％である、請求項１ないし５のいずれかに記載の発光素子。
【請求項７】
前記金属コンタクト部の一面は、前記第１半導体層と接する、請求項１ないし６のいずれかに記載の発光素子。
【請求項８】
互いに隣接する前記金属コンタクト部間の隔離距離は３５μｍ〜５０μｍである、請求項１ないし７のいずれかに記載の発光素子。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月18日(2017.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
方法であって、
基板、および、該基板の主面の一部分の上に載置されたＩＣダイを含む集積回路（ＩＣ）ダイアセンブリを設けること、
前記ＩＣダイ上に熱界面材料を投与すること、
ヒートスプレッダの一部分を前記熱界面材料と接触して位置づけること、
前記ヒートスプレッダの一部分を前記熱界面材料と接触して位置づけした後に、前記ヒートスプレッダの前記ＩＣダイアセンブリに面する一方の面と前記基板上の封止剤の主面の露出部分との間に接着剤を投与することを備え、前記接着剤を投与することは、前記接着剤が前記基板上の封止剤の前記主面と、前記ヒートスプレッダの前記一方の面の少なくとも一部分とに接触するように実行される、方法。
【請求項２】
前記接着剤を硬化させることをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ヒートスプレッダは、
前記熱界面材料に接触する台座と、
前記台座の外周の周りで前記ヒートスプレッダを貫通する少なくとも１つのベントとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ヒートスプレッダの前記熱界面材料と接触している前記一部分は下降部分であり、該下降部分は、前記ＩＣダイと前記基板との間に取り付けられているワイヤボンドの周縁の内部で前記ＩＣダイの上に位置づけられている、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
方法であって、
半導体ダイを基板に取り付けること、
前記半導体ダイと前記基板との間にワイヤボンドを形成すること、
前記ワイヤボンドを成形コンパウンドを用いて封止することであって、該成形コンパウンドは前記ワイヤボンドを含んでいない前記半導体ダイの上面を露出させるように構成される、封止すること、
封止した後、第１の接着剤を前記半導体ダイの前記上面の上に被着させること、
第１の接着剤を被着させた後、ヒートスプレッダの一部分を前記第１の接着剤に接触させること、
第２の接着剤を、該第２の接着剤が前記成形コンパウンドの第１の面と前記ヒートスプレッダの第１の面との間の間隙を充填するように投与することを備える、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月5日(2017.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
建物の基礎部と、床とに囲まれた床下空間部に収納された電子デバイスであって、
前記電子デバイスは、直列に接続された複数の電池セルと、制御装置と、を有し、
前記複数の電池セルはそれぞれ、
第１の電極と、
第２の電極と、
前記第１の電極と前記第２の電極との間に少なくとも電解液と、を有し、
前記制御装置は、前記第１の電極と前記第２の電極との間に、第１の方向に流れる第１の電流を供給する機能と、前記第１の電流を供給後に前記第１の方向とは逆方向に流れる第２の電流を供給する機能とを有し、
前記第１の電流によって、前記第１の電極表面に反応生成物が成長し、
前記第２の電流によって、前記反応生成物の少なくとも一部が溶解することを特徴とする電子デバイス。
【請求項２】
建物の基礎部と、床とに囲まれた床下空間部に収納された電子デバイスであって、
前記電子デバイスは、直列に接続された複数の電池セルと、制御装置と、を有し、
前記複数の電池セルはそれぞれ、
第１の電極と、
第２の電極と、
前記第１の電極と前記第２の電極との間に少なくとも電解液と、を有し、
前記制御装置は、前記第１の電極と前記第２の電極との間に、第１の方向に流れる第１の電流と、前記第１の方向とは逆方向に流れる第２の電流と、を交互に繰り返し供給する機能を有し、
前記第１の電流によって、前記第１の電極表面に反応生成物が成長し、
前記第２の電流によって、前記反応生成物の少なくとも一部が溶解することを特徴とする電子デバイス。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記第２の電流を供給する期間は、前記第２の電流を供給する期間よりも短いことを特徴とする電子デバイス。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前期第１の電極は、表面に保護膜を有し、
前記反応生成物は、前記保護膜で覆われていない領域から成長することを特徴とする電子デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月12日(2016.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラッシュ・メモリ・デバイスからのデータを処理する方法であって、
前記フラッシュ・メモリ・デバイスの１つまたは複数のページから複数のビットの１つまたは複数の読取値を入手するステップと、
特定のパターンが前記複数のビットから読み取られたときに、所与のデータ・パターンが前記複数のビットに書き込まれた確率に基づいて、前記複数のビットの前記１つまたは複数の読取値を非バイナリ対数尤度比に変換するステップと、
前記非バイナリ対数尤度比を使用して前記複数のビットを同時に復号するステップとを含み、前記ページが独立に符号化される、方法。
【請求項２】
前記非バイナリ対数尤度比が、対数尤度比、対数尤度比の近似値、およびビット判定の信頼性を測定する信頼性値のうちの１つまたは複数を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ページが、同一のバイナリ生成行列を使用して独立に符号化される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記複数のビットを同時に復号するステップが、単位ガロア体要素からなる非０要素を有する単一の非バイナリ・パリティ検査行列を使用する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記単一の非バイナリ・パリティ検査行列が、前記バイナリ生成行列に基づく、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記非バイナリ対数尤度比は、セル内相関を取り込むメモリ・セルベースのガロア体値を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記同時に復号するステップが、ガロア体非バイナリ・ワード線一致メッセージ・パッシング復号技法を含む、請求項１〜３の何れかに記載の方法。
【請求項８】
通常動作モードが所与のページについて前記複数のビットのうちの１つまたは複数を成功裏に復号しなかった場合に起動される、回復モードを含む、請求項１〜７の何れかに記載の方法。
【請求項９】
前記通常動作モードが、他のページとは独立に各ページを復号する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記複数のページが所与のワード線からである、請求項１〜９の何れかに記載の方法。
【請求項１１】
前記複数のページが異なるワード線からである、請求項１〜９の何れかに記載の方法。
【請求項１２】
前記特定のパターンが前記複数のビットから読み取られたときに前記所与のデータ・パターンが前記複数のビットに書き込まれた前記確率は、１つまたは複数のテーブルから入手される、請求項１〜１１の何れかに記載の方法。
【請求項１３】
前記所与のデータ・パターンが、所与のメモリ・セルにおいて複数のビットを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記非バイナリ対数尤度比は、特定のパターンがセルから読み取られたと仮定して、以下のように計算される、即ち、
λ（ａｉｂｉ＝００｜００）＝ｌｏｇ［ｐ（００／００）］−Ｃ、λ（ａｉｂｉ＝０１｜００）＝ｌｏｇ［ｐ（０１／００）］−Ｃ；
λ（ａｉｂｉ＝１０｜００）＝ｌｏｇ［ｐ（１０／００）］−Ｃ、λ（ａｉｂｉ＝１１｜００）＝ｌｏｇ［ｐ（１１／００）］−Ｃ
である、請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記特定のパターンが前記複数のビットから読み取られたときに前記所与のデータ・パターンが前記複数のビットに書き込まれた前記確率は、１つまたは複数の基準セルに基づく、請求項１〜１３の何れかに記載の方法。
【請求項１６】
前記特定のパターンが前記複数のビットから読み取られたときに前記所与のデータ・パターンが前記複数のビットに書き込まれた前記確率は、１つまたは複数の以前に復号された判定に基づく、請求項１〜１３の何れかに記載の方法。
【請求項１７】
前記特定のパターンが前記複数のビットから読み取られたときに前記所与のデータ・パターンが前記複数のビットに書き込まれた前記確率は、前記フラッシュ・メモリ・デバイスの１つまたは複数の性能要因に基づく、請求項１〜１３の何れかに記載の方法。
【請求項１８】
通常モードでの個々のページのバイナリ復号と、回復モードでのワード線内の前記ページの前記非バイナリ同時復号とを実行するハイブリッド検出および復号システムによって、前記方法が実行される、請求項１〜１７の何れかに記載の方法。
【請求項１９】
前記非バイナリ対数尤度比は、固定された均一なＬＬＲマッピング及び固定された不均一なＬＬＲマッピングの１つまたは複数に基づいて計算される、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記非バイナリ対数尤度比は、軟判定、及び複数の基準電圧での複数の電圧読取り再試行を用いて入手される量子化された軟判定の１つまたは複数に基づいて計算される、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
フラッシュ・メモリ・デバイスからのデータを処理するための有形の機械可読な記録可能記憶媒体であって、１つまたは複数の処理デバイスにより実行された際に１つまたは複数のソフトウェア・プログラムが、請求項１〜２０の何れかに記載の方法のステップを実施する、有形の機械可読な記録可能記憶媒体。
【請求項２２】
特定のパターンがフラッシュ・メモリ・デバイスの１つまたは複数のページからの複数のビットから読み取られたときに所与のデータ・パターンが前記複数のビットに書き込まれた確率に基づいて、前記複数のビットの１つまたは複数の読取値を非バイナリ対数尤度比に変換するための信頼性ユニットと、
前記非バイナリ対数尤度比を使用して前記複数のビットを同時に復号するための非バイナリ復号器とを含み、前記ページが独立に符号化される、フラッシュ・メモリ・システム。
【請求項２３】
１つまたは複数のバイナリＬＬＲに基づいて１つまたは複数の回復されたページを生成するための、１つまたは複数のバイナリＬＤＰＣ復号器をさらに含む、請求項２２に記載のフラッシュ・メモリ・システム。
【請求項２４】
前記１つまたは複数のバイナリＬＤＰＣ復号器が、前記非バイナリ復号器と１つまたは複数のハードウェア要素を共有する、請求項２３に記載のフラッシュ・メモリ・システム。
【請求項２５】
前記非バイナリ復号器が、１つまたは複数の回復されたページを生成するためにワード線の複数のページを同時に処理する、請求項２２に記載のフラッシュ・メモリ・システム。
【請求項２６】
１つまたは複数の記号を生成するために１つまたは複数の非バイナリ符号を適用する１つまたは複数のバイナリ符号器をさらに含む、請求項２２〜２５の何れかに記載のフラッシュ・メモリ・システム。
【請求項２７】
お互いに１つまたは複数のハードウェア要素を共有する複数のバイナリ符号器をさらに含む、請求項２２〜２５の何れかに記載のフラッシュ・メモリ・システム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月13日(2017.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマローゲンを含む、学習記憶能力増強剤であって、健常な哺乳動物に対して投与されるように用いられ、健常な学習記憶能力を増強するための学習記憶能力増強剤。
【請求項２】
前記プラズマローゲンが、生体組織から抽出されたプラズマローゲンである、請求項１に記載の学習記憶能力増強剤。
【請求項３】
前記生体組織が、鳥類、哺乳類、魚類、又は貝類の組織である、請求項２に記載の学習記憶能力増強剤。
【請求項４】
前記プラズマローゲンが、エタノールアミンプラズマローゲン及びコリンプラズマローゲンを含む、請求項１〜３のいずれかに記載の学習記憶能力増強剤。
【請求項５】
前記プラズマローゲンに含有される（エタノールアミンプラズマローゲン：コリンプラズマローゲン）の質量比が、（１：５）〜（５：１）である、請求項４に記載の学習記憶能力増強剤。
【請求項６】
哺乳動物がヒトである、請求項１〜５のいずれかに記載の学習記憶能力増強剤。
【請求項７】
飲食品又は食品添加剤である、請求項１〜６のいずれかに記載の学習記憶能力増強剤。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月10日(2017.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
20〜39アミノ酸残基の長さを有するアミノ酸配列からなる合成ペプチドを含む、対象における筋肉再生、腱再生、又は動脈形成を促進するための医薬組成物であって、該アミノ酸配列が、配列番号:1の残基11〜30に少なくとも90%のアミノ酸配列同一性を有する少なくとも20個の連続的な残基を含む、前記医薬組成物。
【請求項２】
前記合成ペプチドの4個の連続的な残基が、配列番号:1の残基11〜14と同一である、請求項1記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記合成ペプチドが：筋肉細胞及び／又はサテライト細胞の増殖活性；腱幹細胞の増殖活性；及び／又は、動脈形成活性を有する、請求項1又は2記載の医薬組成物。
【請求項４】
20〜39アミノ酸残基の長さを有するアミノ酸配列からなる合成ペプチドを含む、対象における筋肉再生、腱再生、又は動脈形成を促進するための医薬組成物であって、該アミノ酸配列が、配列番号:1、配列番号:2、配列番号:3、配列番号:5、配列番号:6、配列番号:8、及び配列番号:9からなる群から選択される配列を少なくとも含む、前記医薬組成物。
【請求項５】
前記合成ペプチドの前記アミノ酸配列が、配列番号:3、配列番号:5、配列番号:6、配列番号:8、又は配列番号:9のアミノ酸配列を含む、請求項4記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記合成ペプチドの前記アミノ酸配列が、配列番号:3、配列番号:5、又は配列番号:6のアミノ酸配列を含む、請求項4記載の医薬組成物。
【請求項７】
医薬として許容し得る担体を更に含む、請求項1〜6のいずれか1項記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記医薬として許容し得る担体が、アルギン酸、ゼラチン、コラーゲン、及びポリ(ラクチド-コ-グリコリド)からなる群から選択される高分子材料である、請求項7記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記高分子材料が、アルギン酸である、請求項8記載の医薬組成物。
【請求項１０】
持続放出形態で製剤化されている、請求項1〜9のいずれか1項記載の医薬組成物。
【請求項１１】
筋肉内注射用に製剤化されている、請求項1〜10のいずれか1項記載の医薬組成物。
【請求項１２】
対象における筋肉再生、腱再生、又は動脈形成を促進するための合成ペプチドであって、20〜39アミノ酸残基の長さを有するアミノ酸配列からなり、該アミノ酸配列が、配列番号:1の残基11〜30に少なくとも90%のアミノ酸配列同一性を有する少なくとも20個の連続的な残基を含む、前記合成ペプチド。
【請求項１３】
前記合成ペプチドの4個の連続的な残基が、配列番号:1の残基11〜14と同一である、請求項12記載の、対象における筋肉再生、腱再生、又は動脈形成を促進するための合成ペプチド。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月28日(2017.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶の表面又は内部に含まれる水酸化ナトリウムの濃度が、０．０１〜０．８重量％であり、かつ次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶の表面又は内部に含まれる水和水以外の含水率が、２．５重量％以下である次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶。
【請求項２】
塩素酸ナトリウムの含有量が、２００ｐｐｍ以下である、請求項１記載の次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶。
【請求項３】
結晶形態で輸送・販売される請求項１又は２に記載の次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶を水に溶解した次亜塩素酸ナトリウムの水溶液。
【請求項５】
次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶を水に溶解した次亜塩素酸ナトリウムの水溶液であって、
前記次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶は、塩素酸ナトリウムの含有量が、２００ｐｐｍ以下であり、前記次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶の表面又は内部に含まれる水和水以外の含水率が、２．５重量％以下である、次亜塩素酸ナトリウムの水溶液。
【請求項６】
前記次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶に含まれる塩化ナトリウムが、１．５重量％以下である請求項５に記載の次亜塩素酸ナトリウムの水溶液。
【請求項７】
前記次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶の表面又は内部に含まれる水酸化ナトリウムの濃度が、０．０１〜０．８重量％である請求項６に記載の次亜塩素酸ナトリウムの水溶液。
【請求項８】
有効塩素濃度が２０％以上、水酸化ナトリウム濃度が２．０〜５．０％に調整された次亜塩素酸ナトリウム水溶液を、冷却しながら晶析を行うことを特徴とする次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶の製造方法。
【請求項９】
水酸化ナトリウム水溶液と塩素ガスを反応させて母液を得る第１工程と、
前記母液から塩化ナトリウムを固液分離する第２工程と、
１５〜２５℃に設定した前記母液に種晶を添加する第３工程と、
０〜１２℃の冷却終了温度まで、１〜２０℃／時間の冷却速度で前記母液を冷却し、次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶を析出させる第４工程と、
次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶から次亜塩素酸ナトリウムを固液分離する第５工程とを備えており、
前記第２工程において水酸化ナトリウム水溶液を次亜塩素酸ナトリウム水溶液に添加することで、次亜塩素酸ナトリウム水溶液中の水酸化ナトリウムの濃度を２．０〜５．０％に調整する、次亜塩素酸ナトリウム５水和物結晶の製造方法。
【請求項１０】
第５工程において、２００Ｇ〜４００Ｇの遠心力で固液分離を行う請求項９に記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月6日(2016.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶中に酸素原子と水素原子とを含み、酸素濃度に対する水素濃度の比が０．５〜４．５である、窒化ガリウム結晶。
【請求項２】
水素濃度が１．０×１０17〜１．０×１０20ａｔｏｍｓ／ｃｍ3である、請求項１に記載の窒化ガリウム結晶。
【請求項３】
酸素濃度が１．０×１０17〜５．０×１０19ａｔｏｍｓ／ｃｍ3である、請求項１または２に記載の窒化ガリウム結晶。
【請求項４】
陽電子消滅法により測定されるＳパラメーターが０．４４８以上である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の窒化ガリウム結晶。
【請求項５】
陽電子拡散距離が１５〜５０ｎｍである、請求項４に記載の窒化ガリウム結晶。
【請求項６】
転位密度が５×１０5ｃｍ-2以下であり、積層欠陥密度が８×１０ｃｍ-1以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の窒化ガリウム結晶。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の窒化ガリウム結晶から形成される、窒化ガリウム基板。
【請求項８】
種結晶として、ライン状の開口部が形成されるように窒素面の一部を成長阻害部材で被覆したＣ面ＧａＮ基板を準備する準備工程と、
前記窒素面のうち前記開口部から、前記窒素面に対して垂直に立った板状の窒化ガリウム結晶をアモノサーマル法によって成長させる成長工程とを有する、窒化ガリウム結晶の製造方法。
【請求項９】
前記開口部の幅Ｗ1と、前記板状の窒化ガリウム結晶における、前記窒素面に対して平行な方向の最小幅Ｗ2とが、Ｗ2＞Ｗ1の関係を満たす、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記開口部の長さＬ1に対する、前記板状の窒化ガリウム結晶における、前記窒素面に対して平行な方向の最小長さＬ2の比が０．５以上である、請求項８または９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記開口部の長さＬ1に対する、前記板状の窒化ガリウム結晶における、前記窒素面に対して垂直な方向の最大高さＨの比が０．１以上である、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の窒化ガリウム結晶の製造方法。
【請求項１２】
前記開口部の長手方向が、前記Ｃ面ＧａＮ基板の＜１１−２０＞方向である、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記開口部の長手方向が、前記Ｃ面ＧａＮ基板の＜１０−１０＞方向である、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記Ｃ面ＧａＮ基板において、前記窒素面は、複数の前記開口部が互いに平行に形成されるように、前記成長阻害部材で部分的に被覆されている、請求項８〜１３のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１５】
前記成長工程において、複数の前記開口部のそれぞれから、前記板状の窒化ガリウム結晶を成長させる、請求項１４に記載の製造方法。
【請求項１６】
前記成長工程において、異なる前記開口部から成長する前記板状の窒化ガリウム結晶同士が、前記Ｃ面ＧａＮ基板の側面から成長する窒化ガリウム結晶を介して、互いに結合される、請求項１５に記載の製造方法。
【請求項１７】
前記成長工程において、塩素、臭素およびヨウ素から選ばれる少なくともひとつのハロゲン元素と、フッ素とを含む鉱化剤を用いる、請求項８〜１６のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１８】
請求項８〜１７のいずれか一項に記載の製造方法を用いて第一窒化ガリウム結晶を製造する第一ステップと、該第一ステップで製造した該第一窒化ガリウム結晶を種結晶に用いてアモノサーマル法で第二窒化ガリウム結晶を成長させる第二ステップと、を有する窒化ガリウム結晶の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月13日(2016.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２種以上のエポキシ樹脂と、活性エステル化合物と、硬化促進剤と、無機充填材とを含み、
前記２種以上のエポキシ樹脂のエポキシ当量と前記活性エステル化合物の活性エステル基当量との比が、１：０．８〜１：１．２であり、
前記２種以上のエポキシ樹脂のエポキシ当量の標準偏差σが、前記２種以上のエポキシ樹脂の下記式（１）で求められる平均エポキシ当量ｍの１／３以上である、エポキシ樹脂材料。
平均エポキシ当量ｍ＝（ｗ１＋ｗ２＋・・・＋ｗｎ）／（ｗ１／ｍ１＋ｗ２／ｍ２＋・・・＋ｗｎ／ｍｎ）      ・・・式（１）
ｍ１：１種類目のエポキシ樹脂のエポキシ当量
ｍ２：２種類目のエポキシ樹脂のエポキシ当量
ｍｎ：ｎ種類目のエポキシ樹脂のエポキシ当量
ｗ１：１種類目のエポキシ樹脂の固形分重量
ｗ２：２種類目のエポキシ樹脂の固形分重量
ｗｎ：ｎ種類目のエポキシ樹脂の固形分重量
【請求項２】
エポキシ樹脂材料中で、前記２種以上のエポキシ樹脂のうち、エポキシ当量が最も低いエポキシ樹脂が均一に分散している、請求項１に記載のエポキシ樹脂材料。
【請求項３】
前記２種以上のエポキシ樹脂のうち、エポキシ当量が最も低いエポキシ樹脂におけるエポキシ当量が１３０以下である、請求項１又は２に記載のエポキシ樹脂材料。
【請求項４】
前記２種以上のエポキシ樹脂のうち、エポキシ当量が最も低いエポキシ樹脂が、窒素原子を含むエポキシ樹脂である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のエポキシ樹脂材料。
【請求項５】
フィルム状に成形されたＢステージフィルムである、請求項１〜４のいずれか１項に記載のエポキシ樹脂材料。
【請求項６】
回路基板と、
前記回路基板上に配置された絶縁層とを備え、
前記絶縁層が、請求項１〜５のいずれか１項に記載のエポキシ樹脂材料を硬化させることにより形成されている、多層基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の広い局面によれば、２種以上のエポキシ樹脂と、活性エステル化合物と、硬化促進剤と、無機充填材とを含み、前記２種以上のエポキシ樹脂のエポキシ当量と前記活性エステル化合物の活性エステル基当量との比が、１：０．８〜１：１．２であり、前記２種以上のエポキシ樹脂のエポキシ当量の標準偏差σが、前記２種以上のエポキシ樹脂の下記式（１）で求められる平均エポキシ当量ｍの１／３以上である、エポキシ樹脂材料が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
平均エポキシ当量ｍ＝（ｗ１＋ｗ２＋・・・＋ｗｎ）／（ｗ１／ｍ１＋ｗ２／ｍ２＋・・・＋ｗｎ／ｍｎ）      ・・・式（１）
ｍ１：１種類目のエポキシ樹脂のエポキシ当量
ｍ２：２種類目のエポキシ樹脂のエポキシ当量
ｍｎ：ｎ種類目のエポキシ樹脂のエポキシ当量
ｗ１：１種類目のエポキシ樹脂の固形分重量
ｗ２：２種類目のエポキシ樹脂の固形分重量
ｗｎ：ｎ種類目のエポキシ樹脂の固形分重量
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明に係るエポキシ樹脂材料は、２種以上のエポキシ樹脂と活性エステル化合物と硬化促進剤と無機充填材とを含み、更に上記２種以上のエポキシ樹脂のエポキシ当量と上記活性エステル化合物の活性エステル基当量との比が、１：０．８〜１：１．２であるので、誘電正接が低い硬化物を得ることができ、更に上記２種以上のエポキシ樹脂のエポキシ当量の標準偏差σが、上記２種以上のエポキシ樹脂の上記式（１）で求められる平均エポキシ当量ｍの１／３以上であるので、デスミア処理によってスミアを効果的に除去することが可能になる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（エポキシ樹脂材料）
本発明に係るエポキシ樹脂材料は、２種以上のエポキシ樹脂と、活性エステル化合物と、硬化促進剤と、無機充填材とを含む。本発明に係るエポキシ樹脂材料では、上記２種以上のエポキシ樹脂のエポキシ当量と上記活性エステル化合物の活性エステル基当量との比は、１：０．８〜１：１．２である。本発明に係るエポキシ樹脂材料では、上記２種以上のエポキシ樹脂のエポキシ当量の標準偏差σが、下記式（１）で求められる平均エポキシ当量ｍの１／３以上である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
平均エポキシ当量ｍ＝（ｗ１＋ｗ２＋・・・＋ｗｎ）／（ｗ１／ｍ１＋ｗ２／ｍ２＋・・・＋ｗｎ／ｍｎ）      ・・・式（１）
ｍ１：１種類目のエポキシ樹脂のエポキシ当量
ｍ２：２種類目のエポキシ樹脂のエポキシ当量
ｍｎ：ｎ種類目のエポキシ樹脂のエポキシ当量
ｗ１：１種類目のエポキシ樹脂の固形分重量
ｗ２：２種類目のエポキシ樹脂の固形分重量
ｗｎ：ｎ種類目のエポキシ樹脂の固形分重量
ｎは、本発明に係るエポキシ樹脂材料に含まれるエポキシ樹脂の種類の数である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月9日(2017.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光素子、ディスプレイモジュール、照明モジュール、発光装置、表示装置、照明装置、及び電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極と、前記一対の電極に挟まれた有機化合物を含む層と、を有し、
前記有機化合物を含む層は、少なくとも発光層を有し、
前記発光層は、下記式（Ｇ１）で表される有機化合物を含む発光素子。
【化１】
2014208621.tif 000001
（但し、式中Ａはジベンゾフラニル基またはジベンゾチオフェニル基を表し、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素、炭素数１乃至６のアルキル基、フェニル基のいずれか一を表す。なお、Ｒ１及びＲ２が共にフェニル基である場合、それらが結合し、スピロフルオレン骨格を形成しても良い。）
【請求項２】
一対の電極と、前記一対の電極に挟まれた有機化合物を含む層と、を有し、
前記有機化合物を含む層は、少なくとも発光層を有し、
前記発光層は、下記式（Ｇ２）で表される有機化合物を含む発光素子。
【化２】
2014208621.tif 000002
（但し、式中Ａはジベンゾフラニル基またはジベンゾチオフェニル基を表し、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素、炭素数１乃至６のアルキル基、フェニル基のいずれか一を表す。なお、Ｒ１及びＲ２が共にフェニル基である場合、それらが結合し、スピロフルオレン骨格を形成しても良い。）
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記Ａは下記式（Ａ−１）乃至（Ａ−４）のいずれか一で表される発光素子。
【化３】
2014208621.tif 000003
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記Ｒ１及び前記Ｒ２がそれぞれ独立に下記式（Ｒ−１）乃至（Ｒ−１２）のいずれか一で表される発光素子。
【化４】
2014208621.tif 000004
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記Ｒ１及び前記Ｒ２が共にメチル基である発光素子。
【請求項６】
一対の電極と、前記一対の電極に挟まれた有機化合物を含む層と、を有し、
前記有機化合物を含む層は、少なくとも発光層を有し、
前記発光層は、下記式（１００）で表される有機化合物を含む発光素子。
【化５】
2014208621.tif 000005
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の発光素子を有するディスプレイモジュール。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の発光素子を有する照明モジュール。
【請求項９】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の発光素子と、前記発光素子を制御する手段を備えた発光装置。
【請求項１０】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の発光素子を表示部に有し、前記発光素子を制御する手段を備えた表示装置。
【請求項１１】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の発光素子を照明部に有し、前記発光素子を制御する手段を備えた照明装置。
【請求項１２】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の発光素子を有する電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月1日(2017.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
示差走査熱量計を用いて測定した結晶化熱量が１０Ｊ／ｇ以上の熱可塑性樹脂シート層の少なくとも一方の面に、ポリフェニレンサルファイド繊維を含み且つ示差走査熱量計を用いて測定した結晶化熱量が１０Ｊ／ｇ以上の湿式不織布層が、接着剤を介さずに積層されている積層体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【特許文献１】特開昭５５−３５４５９号公報
【特許文献２】特開昭６３−２３７９４９号公報
【特許文献３】特開平８−１９７６９０号公報
【特許文献４】特開２０１２−２４５７２８号公報
【特許文献５】特開平４−２２８６９６号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
かかる課題を解決すべく鋭意検討の結果、示差走査熱量計を用いて測定した結晶化熱量が１０Ｊ／ｇ以上の熱可塑性樹脂シート層の少なくとも一方の面に、ポリフェニレンサルファイド繊維を含み且つ示差走査熱量計を用いて測定した結晶化熱量が１０Ｊ／ｇ以上の湿式不織布層が、接着剤を介さずに積層されている積層体が、前記の課題を解決できることを見出した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
以下に、本発明の実施の形態を説明するが、本発明は下記実施形態に限定されるものでないことは言うまでもない。
すなわち、本発明は示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて測定した結晶化熱量が１０Ｊ／ｇ以上の熱可塑性樹脂シート層の少なくとも一方の面に、示差走査熱量計を用いて測定した結晶化熱量が１０Ｊ／ｇ以上のポリフェニレンサルファイド繊維の湿式不織布層が、接着剤を介さずに積層されている積層体からなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
得られたＰＰＳ樹脂組成物を１８０℃で２時間、減圧下で乾燥した後、平均粒径０．１μｍのシリカ微粉末を０．５質量％混合し、３１０℃の温度でガット状に溶融押出して、さらに該ガットをチップ状に切断した。該チップを減圧下で１８０℃の温度で３時間乾燥した後、エクストルダーのホッパに投入し、３２０℃で溶融し、Ｔ型口金からシート状に押出し、表面温度３０℃に保った金属ドラム上で冷却固化して厚さ５０μｍの未延伸ＰＰＳフィルムを得た。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月15日(2017.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属ナノワイヤを含む透明導電パターンが形成された基板を製造するための透明導電パターン形成用基板であって、表面にＴｇが２００℃以下の非晶性の熱可塑性樹脂またはＴｇが２００℃以下の硬化性樹脂プレポリマーで光照射により三次元架橋構造となる硬化性樹脂よりなる透明樹脂層が形成されていることを特徴とする透明導電パターン形成用基板。
【請求項２】
前記透明樹脂層が環状ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、アクリル樹脂のいずれかにより構成されている請求項１に記載の透明導電パターン形成用基板。
【請求項３】
上記基板がガラス、ポリイミド、結晶性を有し融点が２００℃以上の熱可塑性樹脂またはＴｇが２００℃以上の熱硬化性樹脂により構成されている請求項１または請求項２に記載の透明導電パターン形成用基板。
【請求項４】
基板表面に形成され、Ｔｇが２００℃以下の非晶性の熱可塑性樹脂または、光焼成前には三次元架橋していない硬化性樹脂プレポリマーが光照射により三次元架橋された硬化性樹脂よりなる透明樹脂層と、
前記透明樹脂層上に所定のパターン形状で堆積され、かつ外周で接合された交差部を有する金属ナノワイヤを含む透明導電パターンと、
を備える透明導電パターン形成基板。
【請求項５】
前記透明樹脂層が環状ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、アクリル樹脂のいずれかにより構成されている請求項４に記載の透明導電パターン形成基板。
【請求項６】
上記基板がガラス、ポリイミド、結晶性を有し融点が２００℃以上の熱可塑性樹脂またはＴｇが２００℃以上の熱硬化性樹脂により構成されている請求項４または請求項５に記載の透明導電パターン形成基板。
【請求項７】
基板表面にＴｇが２００℃以下の非晶性の熱可塑性樹脂または光焼成前には三次元架橋していない硬化性樹脂プレポリマーよりなる透明樹脂層を形成し、
前記透明樹脂層上に金属ナノワイヤを所定のパターン形状に堆積し、
前記堆積された金属ナノワイヤに、パルス幅が２０マイクロ秒から５０ミリ秒であるパルス光を照射して前記金属ナノワイヤの外周交差部を接合することを特徴とする透明導電パターン形成基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月31日(2017.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
［破壊形態］
接合強度測定後に、接合部分であった領域を目視にて観察し、破壊がインサート金属部材と樹脂部材との界面のみで生じたか（界面剥離、×で表示）、インサート金属部材にわずかでも樹脂が付着していたか（凝集破壊、◎で表示）を評価した。結果を表１〜表４に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月7日(2017.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
建築構造体の床部材間に架け渡される枠体を備えた乗客コンベアにおいて、
前記建築構造体の天井部材に対して、前記枠体を吊り下げるための吊り下げ部材を設けた
ことを特徴とする乗客コンベア。
【請求項２】
前記枠体は、前記建築構造体の床部材に対して当該枠体を支持させるためのアングルを有する
請求項１に記載の乗客コンベア。
【請求項３】
前記枠体は、Ｌ型鋼を用いたトラス構造として構成され
前記吊り下げ部材は、前記Ｌ型鋼の一片に嵌合するフック部材を用いて構成された
請求項１または２に記載の乗客コンベア。
【請求項４】
前記フック部材は、トラス構造を有する前記枠体の上部主弦材に対して掛止される
請求項３記載の乗客コンベア。
【請求項５】
前記吊り下げ部材は、ワイヤーロープを用いて構成された
請求項１〜４の何れか１項に記載の乗客コンベア。
【請求項６】
前記枠体は、前記建築構造体における下階の床部材に支持される下階枠部と、当該下階枠部と平行をなして当該建築構造体における上階の床部材に支持される上階枠部と、当該下階枠部と上階枠部との間に設けられた中間枠部とで構成され、
前記吊り下げ部材は、前記下階枠部および前記上階枠部において、前記枠体を吊り下げる
請求項１〜５の何れか１項に記載の乗客コンベア。
【請求項７】
前記枠体は、前記建築構造体に架け渡された状態で互いに平行に保持される複数の平行部と、当該平行部と平行部との間に設けられ当該平行部に対して傾斜して設けられた傾斜部とを備え、
前記吊り下げ部材は、前記平行部における前記傾斜部との境界側において、前記枠体を吊り下げる
請求項１〜６の何れか１項に記載の乗客コンベア。
【請求項８】
前記枠体は、それぞれが前記建築構造体における下階の床部材と上階の床部材との間に架け渡されると共に、互いに間隔を空けて対向配置された一対の側枠部分を有し、
前記吊り下げ部材は、前記一対の側枠部分をそれぞれ吊り下げる
請求項１〜７の何れか１項に記載の乗客コンベア。
【請求項９】
前記吊り下げ部材は、前記一対の側枠部分の対向する位置において、当該側枠部分をそれぞれ吊り下げる
請求項８に記載の乗客コンベア。
【請求項１０】
建築構造体の床部材間に枠体を架け渡した乗客コンベアの設置構造において、
前記建築構造体の天井部材に対して、前記枠体が吊り下げ部材によって吊り下げられた
ことを特徴とする乗客コンベアの設置構造。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月23日(2017.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乗りかごに接続される調速機ロープと、
前記調速機ロープが巻き掛けられ、前記調速機ロープの循環速度から前記乗りかごの速度を検出して前記調速機ロープを把持して前記乗りかごを非常停止させる調速機と、
前記調速機の下方に設けられ、前記調速機ロープの張力を一定に保つテンションウエイトと、
前記テンションウエイトの上下方向への移動をガイドする複数のガイドレールと、
前記テンションウエイトに設けられた、前記ガイドレールを押圧する押圧部と、
前記押圧部が前記ガイドレールを押圧する押圧力を調節する押圧力調整部と、を備え、  前記押圧力調整部は、前記調速機により前記乗りかごが非常停止されて、前記テンションウエイトが上方向に移動する場合に、前記押圧部の前記ガイドレールを押圧する押圧力を強める
エレベータ。
【請求項２】
前記押圧力調整部は、前記調速機ロープが経時で伸びて、前記テンションウエイトが下方向に移動する場合に、前記押圧部の前記ガイドレールを押圧する押圧力を弱める
請求項１に記載のエレベータ。
【請求項３】
前記押圧力調整部は、前記調速機ロープが経時で縮み、前記テンションウエイトが上方向に移動する場合に、前記押圧部の前記ガイドレールを押圧する押圧力を一定に保つ
請求項２に記載のエレベータ。
【請求項４】
前記押圧力調整部は、各ガイドレールを押圧する前記押圧部の押圧力を等しくする
請求項１〜３のいずれか一項に記載のエレベータ。
【請求項５】
前記押圧力調整部は、前記押圧部を前記ガイドレールに対して垂直な方向へ移動させる移動機構を備える
請求項１〜３のいずれか一項に記載のエレベータ。
【請求項６】
前記押圧部の前記ガイドレールを押圧する押圧力を規制する規制部を備える
請求項１に記載のエレベータ。
【請求項７】
前記押圧部は前記ガイドレールと係合して、前記テンションウエイトの移動をガイドする
請求項１に記載のエレベータ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月28日(2017.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芯材または表皮材の一方に接着剤塗布層が設けられていると共に、芯材と表皮材とが、接着剤塗布層を介して重ね合わせた状態で固定されている車両用内装部品において、
前記接着剤塗布層を有する前記芯材または表皮材の角部およびその近傍に対して、部分的に接着剤が塗布されない接着剤未塗布部が、前記角部を挟んだ両面に及ぶように形成されていることを特徴とする車両用内装部品。
【請求項２】
請求項１に記載の車両用内装部品であって、
前記芯材が、前記接着剤未塗布部の位置に、空気孔を有していることを特徴とする車両用内装部品。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の車両用内装部品であって、
前記芯材が、前記接着剤未塗布部に、滑り性向上のための微細凹凸部を有していることを特徴とする車両用内装部品。
【請求項４】
芯材または表皮材の一方に接着剤を塗布すると共に、芯材の表面に、加熱された表皮材を重ね合わせて真空吸着することにより、芯材に表皮材を貼着する車両用内装部品製造方法において、
前記接着剤が塗布された前記芯材または表皮材の角部およびその近傍に、部分的に接着剤が塗布されない接着剤未塗布部を、前記角部を挟んだ両面に及ぶように形成して、接着剤未塗布部で前記芯材と表皮材とが接着されないようにすることで、接着剤未塗布部における表皮材の局部的な伸びを緩和し、表皮材の局部的な伸びによる破れを防止することを特徴とする車両用内装部品製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の車両用内装部品製造方法であって、
前記芯材の前記接着剤未塗布部の位置に空気孔を設けて、芯材と表皮材との貼着時に前記接着剤未塗布部内に封じ込められる空気が空気孔から抜けられるようにすることを特徴とする車両用内装部品製造方法。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載の車両用内装部品製造方法であって、
前記芯材の前記接着剤未塗布部に微細凹凸部を設けて、前記芯材の前記接着剤未塗布部に対する前記表皮材の滑り性を向上させることを特徴とする車両用内装部品製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、
芯材または表皮材の一方に接着剤塗布層が設けられていると共に、芯材と表皮材とが、接着剤塗布層を介して重ね合わせた状態で固定されている車両用内装部品において、
前記接着剤塗布層を有する前記芯材または表皮材の角部およびその近傍に対して、部分的に接着剤が塗布されない接着剤未塗布部が、前記角部を挟んだ両面に及ぶように形成されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月3日(2017.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも内面フィルム及び外面フィルムから成る積層フィルムに、文字及び／又は図柄が、印刷及び外面フィルム側に張出した凸部により形成されて成る装飾積層フィルムにおいて、
前記積層フィルムが、内面フィルムがポリエチレン又はポリプロピレンから成り、外面フィルムが延伸ナイロン又は延伸ポリエチレンテレフタレートから成り、内面フィルムと外面フィルムの間にアルミ蒸着延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム又はアルミ蒸着延伸ナイロンフィルムを有し、
前記文字及び／又は図柄の少なくとも一部が、金属光沢を有すると共に、色相、明度，彩度，或いは光沢度の少なくとも一つが前記文字及び／又は図柄を除く領域と異なり、
前記文字及び／又は図柄の少なくとも一部に沿って凸部が形成されていることを特徴とする装飾積層フィルム。
【請求項２】
前記文字及び／又は図柄の金属光沢が、前記外面フィルムに形成された蒸着層に由来する請求項１記載の装飾積層フィルム。
【請求項３】
前記文字及び／又は図柄と、これを除く領域が、明暗差を有し、前記凸部が相対的に明るい部分に形成されている請求項１又は２記載の装飾積層フィルム。
【請求項４】
前記凸部の形成箇所に一方向から光を照射した場合に影となる部分に、影を強調する印刷が施されている請求項１又は２記載の装飾積層フィルム。
【請求項５】
前記凸部の表面粗度が、該凸部の周囲の表面粗度よりも高く、これらの間に光沢度の差がある請求項１〜４の何れかに記載の装飾積層フィルム。
【請求項６】
前記凸部が、前記文字及び／又は図柄の輪郭に沿って形成されている請求項１〜４の何れかに記載の装飾積層フィルム。
【請求項７】
前記凸部で区画された文字及び／又は図柄の少なくとも一部の内側領域の表面粗度が、該文字及び／又は図柄を除く領域の表面粗度よりも高く、これらの間に光沢度の差がある請求項６記載の装飾積層フィルム。
【請求項８】
前記凸部が、０．１〜０．３５ｍｍの範囲の成形高さ、５ｍｍ以下の成形幅を有する請求項１〜７の何れかに記載の装飾積層フィルム。
【請求項９】
前記凸部が、冷間、温間、或いは熱間で積層フィルムを圧縮成形することにより、外面フィルム側に張出させて形成したものである請求項１〜８の何れかに記載の装飾積層フィルム。
【請求項１０】
前記凸部のエッジ内側近傍において、前記内面フィルムの伸びが大きく、前記外面フィルムの伸びが小さい請求項１〜９の何れかに記載の装飾積層フィルム。
【請求項１１】
請求項１〜１０記載の装飾積層フィルムを有する袋状容器。
【請求項１２】
請求項１〜１０記載の装飾積層フィルムから成るシール材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明によれば、少なくとも内面フィルム及び外面フィルムから成る積層フィルムに、文字及び／又は図柄が、印刷及び外面フィルム側に張出した凸部により形成されて成る装飾積層フィルムにおいて、前記積層フィルムが、内面フィルムがポリエチレン又はポリプロピレンから成り、外面フィルムが延伸ナイロン又は延伸ポリエチレンテレフタレートから成り、内面フィルムと外面フィルムの間にアルミ蒸着延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム又はアルミ蒸着延伸ナイロンフィルムを有し、前記文字及び／又は図柄の少なくとも一部が、金属光沢を有すると共に、色相、明度，彩度，或いは光沢度の少なくとも一つが前記文字及び／又は図柄を除く領域と異なり、前記文字及び／又は図柄の少なくとも一部に沿って凸部が形成されていることを特徴とする装飾積層フィルムが提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の装飾積層フィルムにおいては
１．前記文字及び／又は図柄の金属光沢が、前記外面フィルムに形成された蒸着層に由来すること、
２．前記文字及び／又は図柄と、これを除く領域が、明暗差を有し、前記凸部が相対的に明るい部分に形成されていること、
３．前記凸部の形成箇所に一方向から光を照射した場合に影となる部分に、影を強調する印刷が施されていること、
４．前記凸部の表面粗度が、該凸部の周囲の表面粗度よりも高く、これらの間に光沢度の差があること、
５．前記凸部が、前記文字及び／又は図柄の輪郭に沿って形成されていること、
６．前記凸部で区画された文字及び／又は図柄の少なくとも一部の内側領域の表面粗度が、該文字及び／又は図柄を除く領域の表面粗度よりも高く、これらの間に光沢度の差があること、
７．前記凸部が、０．１〜０．３５ｍｍの範囲の成形高さ、５ｍｍ以下の成形幅を有すること、
８．前記凸部が、冷間、温間、或いは熱間で積層フィルムを圧縮成形することにより、外面フィルム側に張出させて形成したものであること、
９．前記凸部のエッジ内側近傍において、内面フィルムの伸びが大きく、前記外面フィルムの伸びが小さいこと、
が好適である。
本発明によればまた上記装飾積層フィルムを有する袋状容器が提供される。
本発明によれば更にまた上記装飾積層フィルムから成るシール材が提供される。
以下、「文字及び／又は図柄」を総称して「模様」又は「印刷デザイン」ということがある。