Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月13日(2017.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有し、画像表示機能が設けられた表示領域と、前記表示領域の外側にある第１周辺領域と、を有する第１基板を用意する工程と、
可撓性を有し、前記表示領域と対向する対向領域と、前記対向領域の外側にある第２周辺領域と、を有し、前記第１基板と対向する第２基板を用意する工程と、
前記第１周辺領域と前記第２周辺領域とを非接着状態で対向させ、前記表示領域と前記対向領域とを貼り合わせる工程と、
前記第１基板を、前記第１周辺領域で、前記第２基板とは反対の方向に屈曲させる第１基板屈曲工程と、
前記第２基板を、前記第２周辺領域で、前記第１基板の屈曲と同じ方向に屈曲させる第２基板屈曲工程と、
前記第１基板屈曲工程と前記第２基板屈曲工程との後に、屈曲した前記第１周辺領域と前記第２周辺領域とを貼り合わせる工程と、
を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置の製造方法において、
可撓性を有し、タッチ入力機能が設けられたタッチ入力領域と、前記タッチ入力領域の外側にある第３周辺領域と、を有する第３基板を用意する工程と、
前記第２周辺領域と前記第３周辺領域とを非接着状態で対向させ、前記対向領域と前記タッチ入力領域とを貼り合わせる工程と、
前記第３基板を、前記第３周辺領域で、前記第２基板の屈曲と同じ方向に屈曲させる第３基板屈曲工程と、
前記第３基板屈曲工程の後に、屈曲した前記第２周辺領域と前記第３周辺領域とを貼り合わせる工程と、
をさらに含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載された表示装置の製造方法において、
前記第３基板屈曲工程を、屈曲した前記第１周辺領域と前記第２周辺領域とを貼り合わせる工程の後に行うことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項４】
請求項２に記載された表示装置の製造方法において、
前記第３基板屈曲工程を、前記第２基板屈曲工程の後であって、屈曲した前記第１周辺領域と前記第２周辺領域とを貼り合わせる工程の前に行うことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項５】
請求項２から４のいずれか１項に記載された表示装置の製造方法において、
前記表示領域と前記対向領域とを貼り合わせる工程で、
前記第１基板と前記第２基板は、前記表示領域と前記対向領域とを囲む封止材と、前記封止材によって囲まれる領域に設けられる充填材と、によって貼り合わせることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項６】
請求項２から５のいずれか１項に記載された表示装置の製造方法において、
前記第１基板は、前記第１周辺領域に第１端子を有し、
前記第１端子に第１フレキシブル配線基板を接続する工程をさらに含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項７】
請求項２から６のいずれか１項に記載された表示装置の製造方法において、
前記第３基板は、前記第３周辺領域に第２端子を有し、
前記第２端子に第２フレキシブル配線基板を接続する工程をさらに含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載された表示装置の製造方法において、
前記第１基板屈曲工程で、前記第１基板の屈曲に沿った曲面を有するガイドを使用することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載された表示装置の製造方法において、
屈曲した前記第１周辺領域と前記第２周辺領域とを貼り合わせる工程の後に、
前記第２基板に、前記対向領域及び前記第２周辺領域に重なるように、保護フィルムを貼る工程をさらに含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１０】
表示領域と、前記表示領域の外側に位置し第１屈曲部を含む第１周辺領域とを備える第１基板と、
第２屈曲部を含み且つ前記第１周辺領域と対向する第２周辺領域を備え、前記第１基板と重なる第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に位置する第１充填材と、
前記第１周辺領域と前記第２周辺領域との間に位置し、前記第１周辺領域と前記第２周辺領域とを貼り合わせる第１接着剤と、
前記第１充填材と前記第１接着剤との間に位置し、前記表示領域を囲む封止剤と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載された表示装置において、
タッチ入力領域と、前記タッチ入力領域の外側に位置し第３屈曲部を含む第３周辺領域とを備える第３基板と、
前記第１基板と前記第３基板との間、又は前記第２基板と前記第３基板との間に位置する第２充填材と、
前記第１基板と前記第３基板との間、又は前記第２基板と前記第３基板との間に位置し、前記第１周辺領域と前記第３周辺領域、又は前記第２周辺領域と前記第３周辺領域とを貼り合わせる第２接着剤と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載された表示装置において、
前記第２充填材は、前記表示領域と平面的に見て重なる領域で、前記第１基板と前記第３基板、又は前記第２基板と前記第３基板を貼り合わせることを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載された表示装置において、
前記第１基板は、前記第１周辺領域に第１端子を有し、
前記第１端子には第１フレキシブル配線基板が接続し、
前記第３基板は、前記第３周辺領域に第２端子を有し、
前記第２端子には第２フレキシブル配線基板が接続し、
前記第１フレキシブル配線基板には、第１電子部品が配置され、
前記第２フレキシブル配線基板には、第２電子部品が配置され、
前記第１電子部品と前記第２電子部品とは、平面的に見て重なっていないことを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載された表示装置において
前記第２周辺領域は、前記第１端子と重なっていることを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
請求項１０から１２のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記第１基板は、前記第１周辺領域に第１端子を有し、
前記第１端子には第１フレキシブル配線基板が接続し、
前記第２周辺領域は、前記第１端子と重なっていることを特徴とする表示装置。
【請求項１６】
請求項１０から１５のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記第１充填材は、前記表示領域と平面的に見て重なる領域で、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせることを特徴とする表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置の製造方法、及び表示装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、表示装置の製造方法、及び表示装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を鑑みて、本発明は、表示装置の小型化を実現しつつ、屈曲部分に発生するひずみを低減することが可能な表示装置の製造方法、及び表示装置を提供することを目的とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月13日(2017.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮想空間において移動対象を移動させるタッチパネルを備えた移動制御装置であって、
前記タッチパネルの接触位置に基づいて設定される始点の位置、前記タッチパネルの接触位置に基づいて設定される終点の位置、及び前記タッチパネルの接触位置に基づいて設定される軌跡を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された軌跡及び終点の位置と、前記仮想空間内の前記移動対象の位置と、に基づいて定まる前記仮想空間内の軌道上を移動するように、前記移動対象の移動を制御する移動制御手段と、
を含むことを特徴とする移動制御装置。
【請求項２】
前記移動制御手段は、前記取得手段により取得された終点の位置に対応する前記仮想空間内の位置を特定する手段を含み、当該特定された位置に向けて前記移動対象が移動するように、前記移動対象が移動するときの軌道を制御する、
ことを特徴とする請求項１に記載の移動制御装置。
【請求項３】
前記移動制御手段は、前記取得手段により取得された軌跡の曲がり具合に基づいて、前記移動対象が移動するときの軌道の曲がり具合を制御する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の移動制御装置。
【請求項４】
前記移動制御手段は、前記取得手段により取得された終点の位置に対応する前記仮想空間内の位置を特定する手段を含み、当該特定された位置に基づいて、前記移動対象が移動するときの移動速度を制御する、
ことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の移動制御装置。
【請求項５】
前記移動制御手段は、前記取得手段により取得された軌跡に基づいて、前記移動対象が移動するときの回転を制御する、
ことを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の移動制御装置。
【請求項６】
前記移動制御装置は、
前記取得手段により取得された始点の位置と終点の位置との間における位置変化速度を取得する手段を更に含み、
前記移動制御手段は、前記取得された位置変化速度に基づいて、前記移動対象が移動するときの移動速度を制御する、
ことを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の移動制御装置。
【請求項７】
前記移動制御装置は、
前記取得手段により取得された始点の位置と終点の位置との間における位置変化速度を取得する手段を更に含み、
前記移動制御手段は、前記取得された位置変化速度が基準速度以上である場合に、前記移動対象が移動するときの軌道を制御する、
ことを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の移動制御装置。
【請求項８】
請求項１〜７の何れかに記載の移動制御装置としてコンピュータを機能させるためのプログラム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年6月14日(2017.6.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
一実施形態では、上記のチップ廃棄ラックは識別子を備える。処理モジュール内に備えられる、上記の識別子を読み取るための識別デバイスにより、チップ廃棄ラックが装填またはアンロードの際に識別される。特定の一実施形態では、上記の識別子はバーコードまたはＲＦＩＤタグであり、上記の識別デバイスはバーコードリーダまたはＲＦＩＤリーダである。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月8日(2017.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を研磨する際に使用するコンディショナ装置であって、
研磨パッドの表面を調整するエンドエフェクタを受けるように構築されるコンディショナヘッドと、
前記コンディショナヘッドを支持するアームと、
前記アームを支持するベースであって、前記ベースは前記アーム及び前記コンディショナヘッドを前記研磨パッドの上方で横方向に移動させるために前記アームに接続されるアクチュエータを含む、ベースと、
前記ベースに固定されるダンパ質量を含むダンパシステムであって、前記ダンパ質量は前記ベースの上及び前記ベースの外縁部内に位置決めされ、前記ダンパシステムは前記アームの振動を低減するように構成される、ダンパシステムとを備える、装置。
【請求項２】
前記アクチュエータは前記研磨パッドの上方で前記アームを掃引するように構成されるロータリアクチュエータを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ダンパシステムは前記ロータリアクチュエータに固定され、前記ロータリアクチュエータとともに回転する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記ダンパ質量は少なくとも１つのダンパによって前記ベースに取り付けられる、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つのダンパは制振材料層を含む、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記ダンパ質量は複数のダンパによって前記ベースに取り付けられる、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記複数のダンパはダッシュポットを含む、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記複数のダンパは前記アームの主振動モードの軸に対して平行な主軸を規定するように配置される、請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記複数のダンパは前記アームの長手軸に対して平行な主軸を規定するように配置される、請求項６に記載の装置。
【請求項１０】
前記コンディショナヘッド内にあり、前記エンドエフェクタに接続され、前記エンドエフェクタの垂直位置を制御する垂直アクチュエータを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
研磨システムであって、
研磨パッドを支持する回転可能なプラテンと、
前記研磨パッドに接して基板を保持するキャリアヘッドと、
コンディショナ装置と
を備え、前記コンディショナ装置は、
前記研磨パッドの表面を調整するエンドエフェクタを受けるように構築されるコンディショナヘッドと、
前記コンディショナヘッドを支持するアームと、
前記アームを支持するベースであって、前記ベースは前記アーム及び前記コンディショナヘッドを前記研磨パッドの上方で横方向に移動させるために前記アームに接続されるアクチュエータを含む、ベースと、
前記ベースに固定されるダンパ質量を含むダンパシステムであって、前記ダンパ質量は前記ベースの上及び前記ベースの外縁部内に位置決めされ、前記ダンパシステムは前記アームの振動を低減するように構成される、ダンパシステムと
を含む、研磨システム。
【請求項１２】
前記プラテンは軸の周りを回転し、前記アクチュエータは前記コンディショナヘッドを前記軸に向かう方向と離れる方向に移動させるように構成されている、請求項１１に記載の研磨システム。
【請求項１３】
前記ダンパ質量は複数のダンパによって前記ベースに取り付けられる、請求項１１に記載の研磨システム。
【請求項１４】
前記複数のダンパは前記アームの主振動モードの軸に対して平行な主軸を規定するように配置される、請求項１３に記載の研磨システム。
【請求項１５】
前記複数のダンパは前記アームの長手軸に対して平行な主軸を規定するように配置される、請求項１３に記載の研磨システム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月7日(2017.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記ケース本体は、前記上面における前記テープカートリッジの挿入方向下流側の角部に形成された切欠部に対応する段差部を有する請求項１に記載のテープカートリッジ収納ケース。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月28日(2017.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
点眼薬剤成分と、補助成分とを含有し、
上記補助成分は、当該補助成分全質量に対する質量％で、リン酸化オリゴ糖カルシウム：１〜３０％、ラクトフェリン：０．０１〜１０％を含有すること
を特徴とする点眼薬液。
【請求項２】
上記補助成分は、当該点眼薬液全質量に対する質量％で０．１〜１００％含有すること
を特徴とする請求項１記載の点眼薬液。
【請求項３】
上記補助成分における上記リン酸化オリゴ糖カルシウムと、上記ラクトフェリンとは、互いに異なる容器に予め収容され、別々に点眼可能とされていること
を特徴とする請求項１又は２記載の点眼薬液。
【請求項４】
点鼻薬剤成分と、補助成分とを含有し、
上記補助成分は、当該補助成分全質量に対する質量％で、リン酸化オリゴ糖カルシウム：１〜３０％、ラクトフェリン：０．０１〜１０％を含有すること
を特徴とする点鼻薬液。
【請求項５】
上記補助成分は、当該点鼻薬液全質量に対する質量％で０．１〜１００％含有すること
を特徴とする請求項４記載の点鼻薬液。
【請求項６】
上記補助成分における上記リン酸化オリゴ糖カルシウムと、上記ラクトフェリンとは、互いに異なる容器に予め収容され、別々に点鼻可能とされていること
を特徴とする請求項４又は５記載の点鼻薬液。
【請求項７】
化粧用成分と、補助成分とを含有し、
上記補助成分は、当該補助成分全質量に対する質量％で、リン酸化オリゴ糖カルシウム：１〜３０％、ラクトフェリン：０．０１〜１０％を含有すること
を特徴とする化粧料。
【請求項８】
上記補助成分は、当該化粧料全質量に対する質量％で０．１〜１００％含有すること
を特徴とする請求項７記載の化粧料。
【請求項９】
上記補助成分における上記リン酸化オリゴ糖カルシウムと、上記ラクトフェリンとは、互いに異なる容器に予め収容され、別々に施術可能とされていること
を特徴とする請求項７又は８記載の化粧料。
【請求項１０】
薬剤成分と補助成分とを含有し、
上記補助成分は、当該補助成分全質量に対する質量％で、リン酸化オリゴ糖カルシウム：１〜３０％、ラクトフェリン：０．０１〜１０％を含有すること
を特徴とする錠剤。
【請求項１１】
上記薬剤成分を含む核剤の表面に上記補助成分が被覆されてなること
を特徴とする請求項１０記載の錠剤。
【請求項１２】
上記補助成分は、当該錠剤全質量に対する質量％で０．１〜１００％含有すること
を特徴とする請求項１０又は１１記載の錠剤。
【請求項１３】
共に粉体又は顆粒体からなる薬剤成分と、補助成分とを含有し、
上記補助成分は、当該補助成分全質量に対する質量％で、リン酸化オリゴ糖カルシウム：１〜３０％、ラクトフェリン：０．０１〜１０％を含有すること
を特徴とする粉体又は顆粒状薬剤。
【請求項１４】
上記補助成分は、当該粉体又は顆粒状薬剤全質量に対する質量％で０．１〜１００％含有すること
を特徴とする請求項１３記載の粉体又は顆粒状薬剤。
【請求項１５】
洗浄用成分と、補助成分とを含有し、
上記補助成分は、当該補助成分全質量に対する質量％で、リン酸化オリゴ糖カルシウム：１〜３０％、ラクトフェリン：０．０１〜１０％を含有すること
を特徴とする皮膚又は毛髪用洗浄剤組成物。
【請求項１６】
上記補助成分は、当該皮膚又は毛髪用洗浄剤組成物全質量に対する質量％で０．１〜１００％含有すること
を特徴とする請求項１５記載の皮膚又は毛髪用洗浄剤組成物。
【請求項１７】
毛髪処理成分と、補助成分とを含有し、
上記補助成分は、当該補助成分全質量に対する質量％で、リン酸化オリゴ糖カルシウム：１〜３０％、ラクトフェリン：０．０１〜１０％を含有すること
を特徴とする毛髪処理料。
【請求項１８】
上記補助成分は、当該毛髪処理料全質量に対する質量％で０．１〜１００％含有すること
を特徴とする請求項１７記載の毛髪処理料。
【請求項１９】
食用成分と、補助成分とを含有し、
上記補助成分は、当該補助成分全質量に対する質量％で、リン酸化オリゴ糖カルシウム：１〜３０％、ラクトフェリン：０．０１〜１０％を含有すること
を特徴とする食料組成物。
【請求項２０】
上記補助成分は、当該食料組成物全質量に対する質量％で０．１〜１００％含有すること
を特徴とする請求項１９記載の食料組成物。
【請求項２１】
飲料用成分と、補助成分とを含有し、
上記補助成分は、当該補助成分全質量に対する質量％で、リン酸化オリゴ糖カルシウム：１〜３０％、ラクトフェリン：０．０１〜１０％を含有すること
を特徴とする飲料組成物。
【請求項２２】
上記補助成分は、当該飲料組成物全質量に対する質量％で０．１〜１００％含有すること
を特徴とする請求項２１記載の飲料組成物。
【請求項２３】
調味料成分と、補助成分とを含有し、
上記補助成分は、当該補助成分全質量に対する質量％で、リン酸化オリゴ糖カルシウム：１〜３０％、ラクトフェリン：０．０１〜１０％を含有すること
を特徴とする調味料組成物。
【請求項２４】
上記補助成分は、当該調味料組成物全質量に対する質量％で０．１〜１００％含有すること
を特徴とする請求項２３記載の調味料組成物。
【請求項２５】
口腔内に含ませることにより口腔内の健康を増進する口腔ケア組成物において、
組成物全質量に対する質量％で、
リン酸化オリゴ糖カルシウム：１〜３０％、
ラクトフェリン：０．０１〜１０％、
マグネシウム化合物：マグネシウム換算値で１〜５％を含有すること
を特徴とする口腔ケア組成物。
【請求項２６】
口腔内に含ませることにより口腔内の健康を増進する口腔ケア組成物において、
組成物全質量に対する質量％で、
リン酸化オリゴ糖カルシウム：１〜３０％、
ラクトフェリン：０．０１〜１０％、
スクラロース：１〜５％を含有すること
を特徴とする口腔ケア組成物。
【請求項２７】
補助成分を含有し、
上記補助成分は、当該補助成分全質量に対する質量％で、リン酸化オリゴ糖カルシウム：１〜３０％、ラクトフェリン：０．０１〜１０％、ラクトパーオキシターゼ：１〜２０％を含有すること
を特徴とする歯痛緩和剤。
【請求項２８】
上記補助成分は、当該歯痛緩和剤全質量に対する質量％で０．１〜１００％含有すること
を特徴とする請求項２７記載の歯痛緩和剤。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月24日(2017.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネピカスタットまたはその薬学的に許容される塩を有効成分として含み、アルコールの乱用、依存又は離脱症の少なくとも一つに罹り又は罹る可能性のある患者の治療用医薬組成物。
【請求項２】
ネピカスタットがエタノールの渇望；自律神経系の活動高進；手の震え；不眠；吐き気；嘔吐；一過性の幻覚、幻触または幻聴；精神運動性激越；不安；及びてんかんの大発作からなる群から選択される少なくとも一つのアルコールの乱用、依存又は離脱症の症状を減少する、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項３】
ネピカスタットまたはその薬学的に許容される塩を１６０ｍｇ／日以下の治療的有効量にて含む、請求項１又は２のいずれか記載の医薬組成物。
【請求項４】
患者がコカイン乱用又は依存を併発している、請求項１〜３のいずれか記載の医薬組成物。
【請求項５】
さらに薬学的に許容される賦形剤を含む、請求項１〜４のいずれか記載の医薬組成物。
【請求項６】
賦形剤が経口投与に適した、請求項５記載の医薬組成物。
【請求項７】
賦形剤が固体である、請求項６記載の医薬組成物。
【請求項８】
組成物が錠剤、カプセル剤または軟質ゲルカプセル剤の形態である、請求項７記載の医薬組成物。
【請求項９】
賦形剤が液体である、請求項５記載の医薬組成物。
【請求項１０】
賦形剤が静脈内、筋肉内または皮下投与に適した、請求項９記載の医薬組成物。
【請求項１１】
賦形剤が経皮投与に適した、請求項１０記載の医薬組成物。
【請求項１２】
アルコールの乱用、依存又は離脱症の少なくとも一つに罹り又は罹る可能性のある患者の治療薬の製造における医薬組成物の使用であって、医薬組成物がネピカスタットまたはその薬学的に許容される塩を有効成分とし、治療がさらに、選択的セロトニン再取り込み阻害剤、セロトニン−ノルエピネフリン再取り込み阻害剤、ノルエピネフリン再取り込み阻害剤、ノルエピネフリン−ドーパミン再取り込み阻害剤、セロトニン５−ヒドロキシトリプタミン１Ａ受容体アンタゴニスト、ドーパミンβ−ヒドロキシラーゼ阻害剤、非典型的抗うつ剤／抗精神病薬、三環系抗うつ剤、抗けいれん剤、グルタミン酸アンタゴニスト，γ−アミノ酪酸（ＧＡＢＡ）アゴニスト、ＧＡＢＡ代謝酵素阻害剤、ＧＡＢＡ合成活性化剤、部分ドパミンＤ２アゴニスト、ドーパミン代謝酵素阻害剤、カテコール−Ｏ−メチル−トランスフェラーゼ阻害剤、オピオイド受容体アンタゴニスト、気分安定剤、直接的又は間接的ドーパミン受容体アゴニスト、５ＨＴ１受容体部分アゴニストおよびセロトニン５ＨＴ２受容体アンタゴニストからなる群から選択される少なくとも一つの他の薬剤の治療上の有効量を同時投与することを含む、使用。
【請求項１３】
治療が、注意欠陥・多動性障害ＩＶ評価尺度、ハミルトン鬱病評価尺度、ハミルトン不安評価尺度、ベック抑鬱評価尺度、神経精神科検査によるやる気スコア、及び認知機能検査スケールからなる群から選択される値の少なくとも一つを改善する、請求項４〜１１のいずれか記載の医薬組成物。
【請求項１４】
認知機能評価尺度が、ウェクスラー成人知能検査−改訂版、ウェクスラー記憶検査−改訂版、レイの聴覚性言語性記憶の検査（試行Ｉ−ＶＩＩ）、レイの視覚認知能力検査及びトレイルメイキングテスト（Ａ及びＢ部）からなる群から選択される、請求項１３記載の医薬組成物。
【請求項１５】
患者が遺伝子型アッセイを通じてドーパミンβ−ヒドロキシラーゼ活性Ｃ→Ｔ遺伝子型をもたないことが決定された患者である、請求項１〜１１、１３または１４のいずれか記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月29日(2016.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブレーキロータと、このブレーキロータに接触させる摩擦部材と、この摩擦部材を前記ブレーキロータに接触させる摩擦部材操作手段と、この摩擦部材操作手段を駆動する電動モータと、この電動モータを制御することによりブレーキ力を制御する制御装置とを備える電動ブレーキ装置を複数設けた電動ブレーキシステムにおいて、
前記各電動ブレーキ装置における前記電動モータおよび前記制御装置に電力を供給する主たる電源装置を設け、前記各電動ブレーキ装置に、前記主たる電源装置から供給される電力を蓄電しておき少なくとも前記電動ブレーキ装置の前記電動モータに補助的に用いる補助電源を設け、
前記各電動ブレーキ装置の前記制御装置は、
前記電源装置から前記電動ブレーキ装置への電力供給の異常の有無を判断する異常判断部と、
この異常判断部により、前記電源装置から前記電動ブレーキ装置への電力供給に異常有りと判断したとき、定められた条件に従って前記補助電源を用いて前記ブレーキ力を制御する冗長機能制御部と、
を有し、
この冗長機能制御部は、前記定められた条件として、少なくとも、前記異常判断部で電力供給に異常が無いと判断された全ての電動ブレーキ装置だけでは所望のブレーキ力が出せないという基本条件を満たすとき、前記補助電源を用いて前記ブレーキ力を制御することを特徴とする電動ブレーキシステム。
【請求項２】
請求項１に記載の電動ブレーキシステムにおいて、前記冗長機能制御部は、異常が無いと判断された全ての電動ブレーキ装置によって発生する前後方向の減速度が閾値以下となる前記基本条件を満たすことに加え、前記定められた条件として、前記電動ブレーキシステムを搭載した車両の旋回加速度が定められた値以下となるように、前記補助電源を用いる電動ブレーキシステム。
【請求項３】
請求項２に記載の電動ブレーキシステムにおいて、前記冗長機能制御部は、前記車両の操縦者によるブレーキ力の要求値が大きくなるほど前記前後方向の減速度の閾値が大きくなる相関に基づいて、前記前後方向の減速度の閾値を変更するものとした電動ブレーキシステム。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の電動ブレーキシステムにおいて、前記電動ブレーキシステムを搭載した車両の走行速度を推定する車速推定手段を設け、前記冗長機能制御部は、前記定められた条件として、前記基本条件を満たすことに加え、前記車速推定手段で推定した車速が定められた車速以上の条件を満たすとき前記補助電源を用いる電動ブレーキシステム。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の電動ブレーキシステムにおいて、電力供給に異常が有ると判断された電動ブレーキ装置の前記冗長機能制御部は、電力供給に異常が無い全ての電動ブレーキ装置のセンシング情報から、前記補助電源の電力を使用するか否かを決定する電動ブレーキシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記冗長機能制御部２７は、異常が無いと判断された全ての電動ブレーキ装置によって発生する前後方向の減速度が閾値以下となる前記基本条件を満たすことに加え、前記定められた条件として、前記電動ブレーキシステムを搭載した車両の旋回加速度が定められた値以下となるように、前記補助電源１８を用いるものとしても良い。
前記定められた値、前記閾値は、それぞれ試験やシミュレーション等の結果により定められる。
複数の車輪のうちいずれかの車輪に対応する電動ブレーキ装置への電力供給に異常有りと異常判断部２６が判断した状態で、ブレーキペダル１９が強く踏み込まれた場合など車両の操縦者による要求ブレーキ力が高くなると、その他の電動ブレーキ装置のみのブレーキ力だけでは不足する場合がある。このような場合に補助電源１８を用いることで、要求ブレーキ力に対応する所望のブレーキ力を得ることができる。この場合に車両の旋回加速度が定められた値以下となるときに補助電源１８を用いることが、車両姿勢の安定性を確保するうえで好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
その後、要求ブレーキ力が増加し、他の電動ブレーキ装置ＦＲ，ＲＬ，ＲＲのみではブレーキ力が不足すると判断されると、補助電源１８を用いて電動ブレーキ装置ＦＬを駆動する。その際、異常が発生している電動ブレーキ装置ＦＬは極力少ない電力で済むようなブレーキバランスとすることができる。その後、車両が停止した後は、補助電源１８の容量を温存するため電動ブレーキ装置ＦＬの駆動を停止し、他の電動ブレーキ装置ＲＬ，ＦＲ，ＲＲにて停車状態を維持する。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月13日(2017.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料給油装置（１０）であって、
燃料通路（１１Ｐ）を形成する通路形成部材（２０）と、
前記燃料通路（１１Ｐ）の周りにおいて前記通路形成部材（２０）と溶着され、前記燃料通路（１１Ｐ）に注入口を形成する注入口形成部材（４０）とを備え、
該注入口形成部材（４０）と前記通路形成部材（２０）の少なくとも一方は、
前記注入口形成部材（４０）と前記通路形成部材（２０）との溶着部位（Ｗｄ）に連続した部位に、他の部位より変形容易な衝撃吸収部位（４４）を備える、燃料給油装置。
【請求項２】
前記衝撃吸収部位（４４）は、屈曲形成されて可撓性を有する、請求項１に記載の燃料給油装置。
【請求項３】
前記屈曲形成された前記衝撃吸収部位（４４）の凹所には、弾性部材（４５）が装着されている、請求項２に記載の燃料給油装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の燃料給油装置であって、
前記通路形成部材（２０）は、前記燃料通路（１１Ｐ）の側の樹脂製の内層（２７）に樹脂製の外層（２８）を積層した積層構成とされ、
前記溶着部位（Ｗｄ）は、前記通路形成部材（２０）の前記内層（２７）に前記注入口形成部材（４０）を溶着する、燃料給油装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の燃料給油装置であって、
前記衝撃吸収部位（４４）は、前記溶着部位（Ｗｄ）の近傍の前記注入口形成部材（４０）、前記溶着部位（Ｗｄ）の近傍の前記通路形成部材（２０）、或いは、前記注入口形成部材（４０）から前記燃料通路（１１Ｐ）の側に連続した連続部位のいずれかに配設されている、燃料給油装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
リテーナ１３０は、樹脂内層２７と樹脂外層２８の上端を注入口形成部材４０のフランジ部４３に亘るまで覆うので、開口側内周壁にネジ部１３０ｎを備え、このネジ部１３０ｎに燃料キャップがネジ締め固定される。樹脂外層２８は、リテーナ１３０の組み付け後に、外部からの熱を受けてリテーナ１３０に熱溶着され、この溶着部位Ｗｄにて、燃料キャップの図示しないガスケットとの間のシール性と、機械的強度が確保されている。リテーナ１３０は、その下端を、樹脂内層２７の段差部２１ｂにおいて注入口形成部材４０のフランジ部４３を挟持して組み付けられ、注入口形成部材４０と一体となる。よって、図示しない給油ガンから注入口形成部材４０の支持部材４２やノズルガイド壁４８に加わった外力は、注入口形成部材４０のフランジ部４３を経てリテーナ１３０に伝達することから、こうした力の伝達の観点からは、リテーナ１３０は、注入口形成部材４０の一部部位と変わるものではない。その他の構成については、第６実施形態の燃料給油装置１０Ｅと変わるものではない。そして、この燃料給油装置１０Ｆにあっても、通路形成部材２０の樹脂内層２７とリテーナ１３０との溶着部位Ｗｄに連続する注入口形成部材４０の屈曲部４６による衝撃吸収機能により、注入口４１ａの側から加わる外力に対する溶着部位Ｗｄの耐性を高めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月2日(2017.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
＜描画部＞
描画部６０は、媒体１００の描画面にシアン、マゼンタ、イエロー、及びブラックの各色のインクを打滴して、媒体１００の描画面にカラー画像を描画する。描画部６０は、媒体１００を搬送する描画胴６１、描画胴６１によって搬送される媒体１００の描画面を押圧して、媒体１００の描画面の反対側の面を描画胴６１の外周面６１Ａに密着させる用紙押さえローラ６３、及び媒体１００にシアン、マゼンタ、イエロー、並びにブラックの各色のインクを打滴するインクジェットヘッド２１Ｃ，２１Ｍ，２１Ｙ，２１Ｋ、及びインラインセンサ６４を備えて構成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８０】
図１０に示すグラフは、インクジェットヘッド２１を、描画位置から鉛直上方向へ移動させ、描画位置の上方の停止位置で停止させ、停止位置から鉛直下方向へ移動させた際のインクジェットヘッド２１の内部流路の圧力を表している。なお、図１０に示したインクジェットヘッド２１の内部流路の圧力は、図６に示した供給側圧力センサ３２０の圧力測定値に基づく圧力変化の傾向を表したものである。なお、供給側圧力センサ３２０の圧力測定値に代わり、回収側圧力センサ３２２の圧力測定値を用いてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2016210116.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2016210116.tif 000002
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１５】
2016210116.tif 000003
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１８】
2016210116.tif 000004
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１９】
2016210116.tif 000005
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２０】
2016210116.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月25日(2017.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｉｎと、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ及びＬｕからなる群から選ばれる一以上の元素と、Ａｌ及びＧａからなる群から選ばれる一以上の元素とを含む酸化物薄膜。
【請求項２】
前記酸化物薄膜が、Ｓｎ及びＧｅから選択される一以上の元素を含む請求項1記載の酸化物薄膜。
【請求項３】
Ｙ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ及びＧｄからなる群から選ばれる一以上の元素を含む請求項１又は２記載の酸化物薄膜。
【請求項４】
キャリア濃度が１０１８／ｃｍ３以下である請求項１〜３のいずれか記載の酸化物薄膜。
【請求項５】
ファセット状の結晶を含む請求項１〜４のいずれか記載の酸化物薄膜。
【請求項６】
膜厚が１０〜３００ｎｍである請求項１〜５のいずれか記載の酸化物薄膜。
【請求項７】
Ｉｎと、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ及びＬｕからなる群から選ばれる一以上の元素Ａと、Ａｌ及びＧａからなる群から選ばれる一以上の元素Ｂとを含む酸化物焼結体を用いて得られるスパッタリングターゲットを用いて成膜する工程を含む酸化物薄膜の製造方法。
【請求項８】
前記酸化物焼結体が、前記Ｓｎ及びＧｅから選択される一以上の元素を含む請求項７記載の酸化物薄膜の製造方法。
【請求項９】
前記酸化物焼結体が、Ｙ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ及びＧｄからなる群から選ばれる一以上の元素Ａを含む請求項７又は８記載の酸化物薄膜の製造方法。
【請求項１０】
前記酸化物焼結体が、Ｉｎ２Ｏ３で構成されるビックスバイト相を含み、前記ビックスバイト相に、前記元素Ａ及びＢのいずれか、又は両方が固溶置換している請求項７〜９のいずれか記載の酸化物薄膜の製造方法。
【請求項１１】
前記酸化物焼結体中に存在するインジウム、元素Ａ及び元素Ｂの原子比（Ａ＋Ｂ）／（Ｉｎ＋Ａ＋Ｂ）が０．０１〜０．５０である請求項７〜１０のいずれか記載の酸化物薄膜の製造方法。
【請求項１２】
前記酸化物焼結体の電気抵抗率が１ｍΩｃｍ以上、１０００ｍΩｃｍ以下である請求項７〜１１のいずれか記載の酸化物薄膜の製造方法。
【請求項１３】
前記酸化物焼結体がＡ３Ｂ５Ｏ１２相（ＡはＳｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ及びＬｕからなる群から選ばれる一以上の元素であり、ＢはＡｌ及びＧａからなる群から選ばれる一以上の元素である。）を含み、前記酸化物焼結体中の前記Ａ３Ｂ５Ｏ１２相の結晶の最大粒径が２０μｍ以下である請求項７〜１２のいずれかに記載の酸化物薄膜の製造方法。
【請求項１４】
前記成膜された酸化物薄膜を、１０℃／ｍｉｎ以下の速度で昇温する工程を含む請求項７〜１３のいずれか記載の酸化物薄膜の製造方法。
【請求項１５】
前記成膜された酸化物薄膜を、２５０〜４５０℃の温度で０．５〜１０時間の範囲でアニールする工程を含む請求項７〜１４のいずれか記載の酸化物薄膜の製造方法。
【請求項１６】
Ｉｎと、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ及びＬｕからなる群から選ばれる一以上の元素と、Ａｌ及びＧａからなる群から選ばれる一以上の元素とを含む酸化物薄膜を用いる薄膜トランジスタ。
【請求項１７】
移動度が、５ｃｍ２／Ｖｓ以上である請求項１６記載の薄膜トランジスタ。
【請求項１８】
Ｏｎ／Ｏｆｆ比が１×１０６以上である請求項１６又は１７記載の薄膜トランジスタ。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月9日(2016.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
注出筒及び該注出筒を囲繞する外筒を備えた注出容器に内容物を詰め替えるための詰め替え用パウチ容器であって、
重ね合わされた一対の側壁フィルムが接合されて、上部シール部、一対の側部シール部、及び内部に流路を有するノズル形成部が形成されており、
前記ノズル形成部は、前記上部シール部に形成された上部窪み部と一方の前記側部シール部に形成された側部窪み部との間に前記流路を有し、切断案内線に沿って切断することにより、先端部に注出口を有するノズルが形成されるようになされており、
前記ノズルは、前記上部シール部側に直線状の外縁部を有しており、
前記側部窪み部の最深部と前記ノズルの先端部の前記側部シール部側の端部を結ぶ第１の直線と、前記直線状の外縁部と平行な第２の直線とのなす角度θ１が３０度以下であり、
前記ノズルは、前記側部シール部側の外縁部における、前記側部窪み部の最深部と前記ノズルの先端部の前記側部シール部側の端部との間に、前記第１の直線より外側に張り出した突出部を有しており、
前記注出容器は、前記注出筒の周方向の一部に切り離し部を有しており、
前記詰め替え用パウチ容器における、前記上部窪み部の最深部と前記側部窪み部の最深部との間の距離ｄ１が、前記注出容器における、前記切り離し部の正面に位置する外筒の上縁部Ｐ１と該注出筒における前記切り離し部に対向する部位の上縁部Ｐ２との間の直線距離ｄ３の８０％以上１２０％以下であり、前記上部窪み部の最深部と前記突出部との間の最大距離ｄ２が、前記注出容器の前記直線距離ｄ３の１００％以上１２０％以下である、詰め替え用パウチ容器。
【請求項２】
前記突出部は、その外縁部の一部が、前記側部窪み部の下方に位置する前記側部シール部の外縁部の延長線上に位置している、請求項１に記載の詰め替え用パウチ容器。
【請求項３】
注出筒を備えた注出容器に内容物を詰め替えるための詰め替え用パウチ容器であって、
重ね合わされた一対の側壁フィルムが接合されて、上部シール部、一対の側部シール部、及び内部に流路を有するノズル形成部が形成されており、
前記ノズル形成部は、前記上部シール部に形成された上部窪み部と一方の前記側部シール部に形成された側部窪み部との間に前記流路を有し、切断案内線に沿って切断することにより、先端部に注出口を有するノズルが形成されるようになされており、
前記ノズルは、前記上部シール部側に直線状の外縁部を有しており、
前記側部窪み部の最深部と前記ノズルの先端部の前記側部シール部側の端部を結ぶ第１の直線と、前記直線状の外縁部と平行な第２の直線とのなす角度θ１が３０度以下であり、
前記ノズルは、前記側部シール部側の外縁部における、前記側部窪み部の最深部と前記ノズルの先端部の前記側部シール部側の端部との間に、前記第１の直線より外側に張り出した突出部を有しており、
前記突出部は、その外縁部の一部が、前記側部窪み部の下方に位置する前記側部シール部の外縁部の延長線上に位置している、詰め替え用パウチ容器。
【請求項４】
前記突出部は、その突出方向の先端部分に直線状の直線部分を有している、請求項１〜３の何れか１項に記載の詰め替え用パウチ容器。
【請求項５】
前記直線部分は、前記ノズルが前記上部シール部側に有する前記直線状の外縁部と略平行に延びている、請求項４に記載の詰め替え用パウチ容器。
【請求項６】
前記突出部は、前記第１の直線から前記側部シール部の外縁部までの距離が最大となる部位と前記ノズルの先端部の該側部シール部側の端部との間に、前記側部窪み部の下方に位置する側部シール部の外縁部の延長線に沿って延びる部分を有している、請求項１〜３の何れか１項に記載の詰め替え用パウチ容器。
【請求項７】
前記突出部は、前記第１の直線から前記側部シール部の外縁部までの距離の最大値が１ｍｍ以上５ｍｍ以下である、請求項１〜６の何れか１項に記載の詰め替え用パウチ容器。
【請求項８】
前記側部窪み部の下方に位置する側部シール部の外縁部と平行な第３の直線と、前記第２の直線とのなす角度θ２が５５度以下である、請求項１〜７の何れか１項に記載の詰め替え用パウチ容器。
【請求項９】
前記突出部は、前記側部窪み部の最深部側から前記ノズルの先端部の前記側部シール部側の端部側に向かうに連れて、前記第１の直線から前記側部シール部の外縁部までの距離が、漸増した後、漸減する形状を有している、請求項１〜８の何れか１項に記載の詰め替え用パウチ容器。
【請求項１０】
前記突出部は、前記第１の直線から前記側部シール部の外縁部までの距離が最大となる部位を、前記側部窪み部の最深部と前記ノズルの先端部の前記側部シール部側の端部との中間点よりも該端部側に有している、請求項１〜９の何れか１項に記載の詰め替え用パウチ容器。
【請求項１１】
前記流路に位置する一対の側壁フィルムの少なくとも一方に、該一対の側壁フィルムが互いに離れる方向に膨らんだ凸部と、該一対の側壁フィルムが互いに近づく方向に凹んだ凹部とを有する、請求項１〜１０の何れか１項に記載の詰め替え用パウチ容器。
【請求項１２】
前記上部窪み部及び前記側部窪み部に、着色を有する、請求項１〜１１の何れか１項に記載の詰め替え用パウチ容器。
【請求項１３】
注出筒及び該注出筒を囲繞する外筒を備え、該注出筒の周方向の一部に切り離し部を有する注出容器と、該注出容器に内容物を詰め替えるための詰め替え用パウチ容器とからなる容器セットであって、
前記詰め替え用パウチ容器が、請求項１〜１２の何れか１項に記載の詰め替え用パウチ容器である、容器セット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また、突出部７５は、第１の直線Ｌ１から側部シール部の外縁部までの距離ｄの最大値が、１ｍｍ以上５ｍｍ以下、特に２ｍｍ以上４ｍｍ以下であることが好ましい。
また、上部窪み部３１の最深部３２と側部窪み部４１の最深部４２との間の距離ｄ１（図４参照）は、注出容器の部位Ｐ１と部位Ｐ２との間の直線距離ｄ３（図４参照）の８０％以上１２０％以下であることが好ましく、より好ましくは９０％以上１１０％以下である。
また、上部窪み部３１の最深部３２と突出部７５との間の最大距離ｄ２は、注出容器の部位Ｐ１と部位Ｐ２との間の直線距離ｄ３の９０％以上１２０％以下であることが好ましく、より好ましくは１００％以上１１０％以下である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月13日(2017.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワイヤーソーによる脆性材料切断時に用いる水性加工液であって、
水および水溶性高分子を配合してなり、
前記水溶性高分子の質量平均分子量が５×１０３以上、６×１０５以下であり、
当該水性加工液の２５℃における粘度が１．５ｍＰａ・ｓ以上、１５ｍＰａ・ｓ以下である
ことを特徴とする水性加工液（ただし、ポリビニルピロリドン、およびビニルピロリドンを含む共重合物から選ばれる少なくとも一種類以上の水溶性高分子を含まない）。
【請求項２】
請求項１に記載の水性加工液において、
前記水溶性高分子が、ポリ（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリル酸の金属塩、（メタ）アクリル酸／マレイン酸共重合体あるいはその金属塩、（メタ）アクリル酸／スルホン酸共重合体あるいはその金属塩、ポリビニルアルコール、エチレン性不飽和モノマ−と酢酸ビニルとの共重合体をケン化したもの、および変性澱粉から選ばれる少なくともいずれかである
ことを特徴とする水性加工液。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の水性加工液において、
前記ワイヤーソーが固定砥粒ワイヤーソーである
ことを特徴とする水性加工液。
【請求項４】
請求項３に記載の水性加工液において、
前記固定砥粒ワイヤーソーにおけるワイヤー線径がφ０．２ｍｍ以下である
ことを特徴とする水性加工液。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の水性加工液において、
前記水の配合量が、当該水性加工液全量を基準として６０質量％以上９９質量％以下である
ことを特徴とする水性加工液。
【請求項６】
請求項５に記載の水性加工液において、
前記水の配合量が、当該水性加工液全量を基準として８９．５質量％以上９９質量％以下である
ことを特徴とする水性加工液。
【請求項７】
請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載の水性加工液において、
前記水溶性高分子の配合量が当該加工液全量基準で０．５質量％以上、４０質量％以下である
ことを特徴とする水性加工液。
【請求項８】
請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の水性加工液において、
さらに、防錆剤、摩擦調整剤、消泡剤、金属不活性化剤、殺菌剤（防腐剤）、およびｐＨ調整剤のうち少なくともいずれか１種を配合してなる
ことを特徴とする水性加工液。
【請求項９】
請求項１から請求項８までのいずれか１項に記載の水性加工液において、
前記脆性材料がシリコンインゴットである
ことを特徴とする水性加工液。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
前記課題を解決すべく、本発明は、以下のような水性加工液を提供するものである。
（１）ワイヤーソーによる脆性材料切断時に用いる水性加工液であって、水溶性高分子を配合してなり、前記水溶性高分子の質量平均分子量が３×１０３以上、６×１０５以下であり、当該水性加工液の２５℃における粘度が１．５ｍＰａ・ｓ以上、１５ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする水性加工液。
（２）上述の（１）に記載の水性加工液において、前記ワイヤーソーが固定砥粒ワイヤーソーであることを特徴とする水性加工液。
（３）上述の（２）に記載の水性加工液において、前記固定砥粒ワイヤーソーにおけるワイヤー線径がφ０．２ｍｍ以下であることを特徴とする水性加工液。
（４）上述の（１）から（３）までのいずれか１つに記載の水性加工液において、前記水溶性高分子の配合量が当該加工液全量基準で０．５質量％以上、４０質量％以下であることを特徴とする水性加工液。
（５）上述の（１）から（４）までのいずれか１つに記載の水性加工液において、さらに、防錆剤、摩擦調整剤、消泡剤、金属不活性化剤、殺菌剤（防腐剤）、およびｐＨ調整剤のうち少なくともいずれか１種を配合してなることを特徴とする水性加工液。
（６）上述の（１）から（５）までのいずれか１つに記載の水性加工液において、前記脆性材料がシリコンインゴットであることを特徴とする水性加工液。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本加工液の、２５℃における粘度は、１．５ｍＰａ・ｓ以上、１５ｍＰａ・ｓ以下であり、好ましくは２ｍＰａ・ｓ以上、１０ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは３ｍＰａ・ｓ以上、８ｍＰａ・ｓ以下である。この粘度が１．５ｍＰａ・ｓ未満であると、ワイヤー付着性が低下して貧潤滑となり切断精度が低下する。一方、この粘度が高すぎると、切断中のワイヤー表面の油膜が厚くなり、砥粒のワークへの食いつきが悪くなる。その結果、ワイヤー撓みが大きくなり切断精度が低下する。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月22日(2017.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
一方、図８は、連動アーム７と連動リンク８の連結において、連動アーム７側には長穴を設けずに、連動リンク８側の軸部材１０に対して、いずれの方向にも遊びが生じない正円穴１１を設けている場合に生じる可能性がある格納状態の不都合の一例を示すものである。この例では、加工精度や組み立て精度の関係で、各連動アーム７と連動リンク８の回動支点の位置が平行四辺形からずれていることにより、格納状態において、上部横桟部材１ｕｌ側のリンク構造と上部横桟部材１ｕｒ側のリンク構造の形状にずれが生じると、支柱部材２の上端に設けた支点部材４の当接部材５と、夫々の当接部材５が当接する隣接の支柱部材２とが同時に接触せずに、当接部材５と隣接の支柱部材２との間に隙間Ｓが生じる場合がある。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月21日(2016.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
本実施形態の冷却装置５０では、フィン５２を長尺な波板状としているが、本発明はこの構成に限定されない。例えば、フィン５２をジグザグ板状や、矩形波板状としてもよい。なお、第２実施形態のフィン５２の形状については、後述する第３、第５、第６実施形態に記載の各フィンに適用してもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
フィン８２の突出部８６の外径は、フィン８３の突出部８７の外径よりも大きくされている。また、フィン８３の突出部８７の外径は、フィン８４の突出部８８の外径よりも大きくされている。そして、フィン８４の突出部８８の外径は、フィン８５の突出部８９の外径よりも大きくされている。すなわち、供給口２６Ａに近い領域に配置されるフィンほど突出部の外径が大きくされている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
また、本実施形態では、図２２に示されるように、フィン１０２にプレス加工によって突出部１０４を形成しているが、本発明はこの構成に限定されない。例えば、図２４に示されるように、フィン１２２に打抜き（パンチング）加工によって貫通孔の縁部に円錐筒状の立ち上がり部分である突出部１２４を形成してもよい。この突出部１２４の内部が構成する被挿入部１２４Ｂには、フィン並列方向の他方（図２４では右方）に隣接するフィン１２２の突出部１２４の先端部１２４Ａが挿入されている。ここで、第２変形例のフィン１２２では、突出部１２４を加工する際に下穴を必要としないため、加工工数を減らすことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2015159254.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月21日(2016.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体の間葉系組織又は培養間葉系細胞から分離されたＳＳＥＡ−３陽性の多能性幹細胞を含む、脳梗塞を治療するための細胞製剤。
【請求項２】
脳梗塞後の後遺症を予防及び／又は治療するための、請求項１に記載の細胞製剤。
【請求項３】
外部ストレス刺激によりＳＳＥＡ−３陽性の多能性幹細胞が濃縮された細胞画分を含む、請求項１又は２に記載の細胞製剤。
【請求項４】
前記多能性幹細胞が、ＣＤ１０５陽性である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の細胞製剤。
【請求項５】
前記多能性幹細胞が、ＣＤ１１７陰性及びＣＤ１４６陰性である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の細胞製剤。
【請求項６】
前記多能性幹細胞が、ＣＤ１１７陰性、ＣＤ１４６陰性、ＮＧ２陰性、ＣＤ３４陰性、ｖＷＦ陰性、及びＣＤ２７１陰性である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の細胞製剤。
【請求項７】
前記多能性幹細胞が、ＣＤ３４陰性、ＣＤ１１７陰性、ＣＤ１４６陰性、ＣＤ２７１陰性、ＮＧ２陰性、ｖＷＦ陰性、Ｓｏｘ１０陰性、Ｓｎａｉ１陰性、Ｓｌｕｇ陰性、Ｔｙｒｐ１陰性、及びＤｃｔ陰性である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の細胞製剤。
【請求項８】
前記多能性幹細胞が、以下の性質の全てを有する多能性幹細胞である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の細胞製剤：
（ｉ）テロメラーゼ活性が低いか又は無い；
（ｉｉ）三胚葉のいずれの胚葉の細胞に分化する能力を持つ；
（ｉｉｉ）腫瘍性増殖を示さない；及び
（ｉｖ）セルフリニューアル能を持つ。
【請求項９】
前記多能性幹細胞が、神経細胞、グリア細胞、血管内皮細胞、及び／又はミクログリアからなる群から選択される１つ以上の細胞に分化する能力を有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の細胞製剤。