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【手続補正書】
【提出日】平成29年5月22日(2017.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動可能なステージを含むステージ装置であって、
前記ステージに推力を与えることにより前記ステージを所定方向に移動させる駆動部と、
前記ステージの前記所定方向の位置を計測する計測部と、
前記計測部により計測された位置と目標位置との偏差を低減するための第１信号と、前記推力に含まれる推力リップルによる前記ステージの前記所定方向の振動を低減するための第２信号と、を含む混合信号を前記駆動部に供給することにより前記ステージの前記所定方向の位置を制御する制御部と、
を含み、
前記制御部は、
前記第１信号と、振幅及び位相の少なくとも１つが互いに異なる複数の第３信号のうちの１つとを含む混合信号を前記駆動部に供給して前記ステージを駆動させたときの前記ステージの応答に関する情報を、前記計測部により計測された位置に基づいて、前記複数の第３信号についてそれぞれ取得する取得工程と、
前記取得工程で前記複数の第３信号についてそれぞれ取得された複数の情報に基づいて、前記推力リップルによる前記ステージの振動の振幅が許容範囲に収まるように前記第２信号を決定する決定工程と、
を行うことにより前記第２信号を生成することを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記複数の情報の各々は、前記ステージが前記所定方向に等速で移動している期間における前記ステージの位置プロファイルを含み、
前記制御部は、当該期間の前記位置プロファイルを用いて前記第２信号を決定する、ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記複数の情報の各々は、前記ステージが前記所定方向に等速で移動し且つ前記振動が一定になっている期間における前記ステージの位置プロファイルを含み、
前記制御部は、当該期間の前記位置プロファイルを用いて前記第２信号を決定する、ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記制御部は、
前記第２信号を入力とし、前記ステージの位置を出力とする関数を前記複数の情報を用いて決定し、
前記関数を用いて求められる前記ステージの振動の振幅が許容範囲に収まるように前記第２信号を決定する、ことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記関数を用いて求められる前記ステージの振動の振幅が前記関数を用いずに前記ステージを駆動する場合に比べて小さくなるように前記第２信号を決定する、ことを特徴とする請求項４に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記推力リップルによる前記ステージの振動の振幅が許容範囲に収まるように前記第２信号の振幅および位相を求めることにより前記第２信号を決定する、ことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記第１信号及び前記第３信号は、それぞれ、三角関数で表される信号であることを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項８】
基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を移動させるための請求項１乃至７のうちいずれか１項のステージ装置を含む、ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記複数の情報のうち１つの情報を、複数の基板の各々にパターンを形成する複数の処理の間において前記ステージを移動させるときに取得する、ことを特徴とする請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
請求項９に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンを形成された前記基板を加工する工程と、を含み、
前記加工した基板を用いて物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１１】
移動可能なステージと、前記ステージの所定方向の位置を計測する計測部と、前記ステージに推力を与えることにより前記ステージを前記所定方向に移動させる駆動部とを含み、前記ステージの前記計測部により計測された位置と目標位置との偏差を低減するための第１信号と、前記推力に含まれる推力リップルによる前記ステージの前記所定方向の振動を低減するための第２信号とを含む混合信号を前記駆動部に供給することにより前記ステージの前記所定方向の位置を制御するステージ装置において、前記第２信号を決定する決定方法であって、
前記第１信号と、振幅及び位相の少なくとも１つが互いに異なる複数の第３信号のうちの１つとを含む混合信号を前記駆動部に供給して前記ステージを駆動させたときの前記ステージの応答に関する情報を、前記計測部により計測された位置に基づいて、前記複数の第３信号についてそれぞれ取得する取得工程と、
前記取得工程で前記複数の第３信号についてそれぞれ取得された複数の情報に基づいて、前記推力リップルによる前記ステージの振動の振幅が許容範囲に収まるように前記第２信号を決定する決定工程と、
を含むことを特徴とする決定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのステージ装置は、移動可能なステージを含むステージ装置であって、前記ステージに推力を与えることにより前記ステージを所定方向に移動させる駆動部と、前記ステージの前記所定方向の位置を計測する計測部と、前記計測部により計測された位置と目標位置との偏差を低減するための第１信号と、前記推力に含まれる推力リップルによる前記ステージの前記所定方向の振動を低減するための第２信号と、を含む混合信号を前記駆動部に供給することにより前記ステージの前記所定方向の位置を制御する制御部と、を含み、前記制御部は、前記第１信号と、振幅及び位相の少なくとも１つが互いに異なる複数の第３信号のうちの１つとを含む混合信号を前記駆動部に供給して前記ステージを駆動させたときの前記ステージの応答に関する情報を、前記計測部により計測された位置に基づいて、前記複数の第３信号についてそれぞれ取得する取得工程と、前記取得工程で前記複数の第３信号についてそれぞれ取得された複数の情報に基づいて、前記推力リップルによる前記ステージの振動の振幅が許容範囲に収まるように前記第２信号を決定する決定工程と、を行うことにより前記第２信号を生成することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月9日(2017.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子文書の各ページについて、隣接するページと上下方向に連結して表示するか否か判断する判断手段と、
前記判断手段で上下方向に連結して表示すると判断したページに関しては、ユーザによる上下方向の操作に応じて当該ページを表示するように制御し、前記判断手段で上下方向に連結して表示しないと判断したページに関しては、ユーザによる左右方向の操作に応じて当該ページを表示するように制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記判断手段で上下方向に連結して表示すると判断したページに関しては、前記ユーザによる上下方向のスクロール操作に応じて当該ページがスクロール表示されるように制御することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記判断手段で上下方向に連結して表示しないと判断したページに関しては、前記ユーザによる左右方向のスワイプ操作に応じて当該ページがめくり表示されるように制御することを特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記判断手段は、前記電子文書の各ページについて、前記隣接するページとの関連性に基づいて、前記隣接するページと上下方向に連結して表示するか否か判断することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記判断手段は、前記隣接するページに含まれる表形式のデータとの上下方向の関連性が高いページを、上下方向に連結して表示すると判断することを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記判断手段は、前記隣接するページが同じフォーム情報ファイルに基づいて生成されたページを、上下方向に連結して表示すると判断することを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記判断手段で上下方向に連結して表示すると判断したページに関しては、前記ユーザによる上下方向の操作に応じて、当該ページ間の空白を削除して表示するように制御することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記判断手段で上下方向に連結して表示すると判断したページに関しては、前記ユーザによる上下方向の操作に応じて当該ページを表示するように制御し、前記判断手段で上下方向に連結して表示しないと判断したページに関しては、前記ユーザによる左右方向の操作に応じて当該ページを表示するように制御するための閲覧プログラムを生成することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項９】
コンピュータを、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の情報処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【請求項１０】
電子文書の各ページについて、隣接するページと上下方向に連結して表示するか否か判断する判断工程と、
前記判断工程で上下方向に連結して表示すると判断したページに関しては、ユーザによる上下方向の操作に応じて当該ページを表示するように制御し、前記判断工程で上下方向に連結して表示しないと判断したページに関しては、ユーザによる左右方向の操作に応じて当該ページを表示するように制御する制御工程と、
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成する本発明の情報処理装置は以下に示す構成を備える。
電子文書の各ページについて、隣接するページと上下方向に連結して表示するか否か判断する判断手段と、前記判断手段で上下方向に連結して表示すると判断したページに関しては、ユーザによる上下方向の操作に応じて当該ページを表示するように制御し、前記判断手段で上下方向に連結して表示しないと判断したページに関しては、ユーザによる左右方向の操作に応じて当該ページを表示するように制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、情報処理装置、情報処理方法及びプログラムに関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理装置、情報処理方法及びプログラム
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月12日(2017.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
文書処理アプリケーションが動作する情報処理装置であって、
出力用紙に所定の後処理を行うための設定がされている場合に印刷装置で処理可能な出力用紙サイズの組み合わせを、前記情報処理装置が有するプリンタドライバから取得する取得手段と、
出力用紙に所定の後処理を行うための設定がされている場合に、文書情報を印刷すべき出力用紙サイズを自動で決定する指示がなされているかどうかを判断する第１の判断手段と、
前記第１の判断手段が自動で決定する指示がなされていると判断した場合、前記文書情報の原稿サイズに基づいて前記文書情報の各ページの出力用紙サイズを決定する決定手段と、
前記文書情報に対して前記決定手段で決定された出力用紙サイズが複数存在する場合、前記取得手段で取得した前記印刷装置で処理可能な出力用紙サイズの組み合わせに基づいて、当該決定された出力用紙サイズの組み合わせが、前記印刷装置で処理可能な組み合わせであるかどうかを判断する第２の判断手段と、
前記第２の判定手段が前記印刷装置で処理可能な組み合わせであると判断した場合は、前記決定手段で決定された出力用紙サイズを設定し、前記第２の判断手段が前記印刷装置で処理可能な組み合わせでないと判断した場合は、前記印刷装置で処理可能な出力用紙サイズの組み合わせに基づいて前記出力用紙サイズを調整する調整手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記調整手段が調整した出力用紙サイズの組み合わせをプレビューする表示制御手段を備えることを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項３】
出力用紙に所定の後処理を行うための前記設定を解除する指示を受け付ける受付手段を備え、
前記調整手段は、前記受付手段が前記所定の後処理を行うための設定を解除する指示を受け付けることに応じて、前記調整した出力用紙サイズを調整前の出力用紙サイズに戻すことを特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
各ページの文字方向と前記印刷装置が印刷する文字方向とが一致するかどうかを判断する第３の判断手段と、
前記各ページの文字方向と前記印刷装置が印刷する文字方向とが一致しないと判断した場合、前記各ページの文字方向と前記印刷装置が印刷する文字方向とが一致するようにページを回転して出力する設定を付加する付加手段と、
を備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記調整手段が調整した出力用紙サイズの組合わせをテンプレートとして登録する登録手段を備えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記文書情報は、ドキュメント、章、ページを含み、所定の後処理を行うための設定の有効または無効の設定、前記文書情報を印刷すべき出力用紙サイズを自動で決定するための指示が付加されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
文書処理アプリケーションが動作する情報処理装置の制御方法であって、
出力用紙に所定の後処理を行うための設定がされている場合に印刷装置で処理可能な出力用紙サイズの組み合わせを、前記情報処理装置が有するプリンタドライバから取得する取得工程と、
出力用紙に所定の後処理を行うための設定がされている場合に、文書情報を印刷すべき出力用紙サイズを自動で決定する指示がなされているかどうかを判断する第１の判断工程と、
前記第１の判断工程で自動で決定する指示がなされていると判断された場合、前記文書情報の原稿サイズに基づいて前記文書情報の各ページの出力用紙サイズを決定する決定工程と、
前記文書情報に対して前記決定工程で決定された出力用紙サイズが複数存在する場合、前記取得工程で取得した前記印刷装置で処理可能な出力用紙サイズの組み合わせに基づいて、当該決定された出力用紙サイズの組み合わせが、前記印刷装置で処理可能な組み合わせであるかどうかを判断する第２の判断工程と、
前記第２の判定工程で前記印刷装置で処理可能な組み合わせであると判断した場合は、前記決定工程で決定された出力用紙サイズを設定し、前記第２の判断工程で前記印刷装置で処理可能な組み合わせでないと判断した場合は、前記印刷装置で処理可能な出力用紙サイズの組み合わせに基づいて前記出力用紙サイズを調整する調整工程と、
を備えることを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項８】
請求項７に記載の情報処理装置の制御方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成する本発明の情報処理装置は以下に示す構成を備える。
文書処理アプリケーションが動作する情報処理装置であって、出力用紙に所定の後処理を行うための設定がされている場合に印刷装置で処理可能な出力用紙サイズの組み合わせを、前記情報処理装置が有するプリンタドライバから取得する取得手段と、出力用紙に所定の後処理を行うための設定がされている場合に、文書情報を印刷すべき出力用紙サイズを自動で決定する指示がなされているかどうかを判断する第１の判断手段と、前記第１の判断手段が自動で決定する指示がなされていると判断した場合、前記文書情報の原稿サイズに基づいて前記文書情報の各ページの出力用紙サイズを決定する決定手段と、前記文書情報に対して前記決定手段で決定された出力用紙サイズが複数存在する場合、前記取得手段で取得した前記印刷装置で処理可能な出力用紙サイズの組み合わせに基づいて、当該決定された出力用紙サイズの組み合わせが、前記印刷装置で処理可能な組み合わせであるかどうかを判断する第２の判断手段と、前記第２の判定手段が前記印刷装置で処理可能な組み合わせであると判断した場合は、前記決定手段で決定された出力用紙サイズを設定し、前記第２の判断手段が前記印刷装置で処理可能な組み合わせでないと判断した場合は、前記印刷装置で処理可能な出力用紙サイズの組み合わせに基づいて前記出力用紙サイズを調整する調整手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月21日(2016.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
次いで、図４に示すように、上記した図２（ｂ）の工程と同様に、図２（ｃ）の構造体の両面側に、第２配線層２２に到達する第２ビアホールＶＨ２が配置された第２層間絶縁層３２をそれぞれ形成する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
異方性ドライエッチングを採用することにより、金属めっき層２４ｂの細りを微小に抑えることができると共に、シード層２４ａが金属めっき層２４ｂの下端から内側にサイドエッチングすることがない。その結果、シード層２４ａの幅は金属めっき層２４ｂの幅と同一又はそれより広くなる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月8日(2017.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上のインプリント材をモールドで成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
吐出口から前記インプリント材を吐出するディスペンサと、
前記インプリント材に溶解して前記インプリント材の粘度を低下させるガスを前記吐出口に供給するガス供給部と、を有し、
前記ガス供給部が前記ガスを前記吐出口に供給することにより、前記吐出口の周りのインプリント材に前記ガスを溶解させ、前記吐出口の周りのインプリント材の粘度を低下させることを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記ガス供給部によって供給された前記ガスを回収する第１回収部を有することを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記ディスペンサは、前記ガス供給部によって前記ガスが供給されている間、前記インプリント材を吐出することを特徴とする請求項１又は２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記ガス供給部によって前記ガスが供給されている間に前記ディスペンサから吐出された前記インプリント材を受ける受部を有することを特徴とする請求項３に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記ガス供給部によって前記ガスが供給されている間に前記ディスペンサから吐出された前記インプリント材を回収する第２回収部を有することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記ガス供給部によって供給された前記ガスが前記吐出口が面する空間の外に漏洩することを低減する障壁を有することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記障壁は、前記ディスペンサ側に突き出して前記ディスペンサの周囲を取り囲む部分を含むことを特徴とする請求項６に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記基板を保持して移動する基板ステージを更に有し、
前記受部は、前記基板ステージに設けられていることを特徴とする請求項４に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記ガス供給部は、前記ディスペンサの周囲を取り囲むように設けられ、
前記第１回収部は、前記ガス供給部の周囲を取り囲むように設けられていることを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
前記ガス供給部及び前記第１回収部は、前記吐出口に対向するように設けられていることを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
前記ガス供給部は、前記吐出口に向けて前記ガスを吹き付けることを特徴とする請求項１０に記載のインプリント装置。
【請求項１２】
前記ガスは、液体の状態において前記インプリント材の粘度よりも低い粘度を有することを特徴とする請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１３】
前記ガスは、２０℃、１気圧の環境における前記インプリント材への溶解度が０．２モル／リットル以上であることを特徴とする請求項１乃至１２のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１４】
前記ガスは、ペンタフルオロプロパンを含むことを特徴とする請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１５】
前記ガス供給部は、前記吐出口が面する空間に前記ガスを供給することを特徴とする請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１６】
前記インプリント材による前記吐出口の詰まりを検出したときに、前記ガス供給部が前記ガスを前記吐出口に供給することを特徴とする請求項１乃至１５のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１７】
吐出口からインプリント材を吐出するディスペンサを備えたインプリント装置におけるインプリント方法であって、
前記インプリント材による前記吐出口の詰まりを除去する第１工程と、
前記第１工程で前記詰まりが除去された前記ディスペンサを用いて基板上に前記インプリント材を供給し、前記基板上の前記インプリント材をモールドで成形して前記基板上にパターンを形成する第２工程と、を有し、
前記第１工程では、前記インプリント材に溶解して前記インプリント材の粘度を低下させるガスの雰囲気下に前記吐出口を置くことで前記インプリント材による前記吐出口の詰まりを除去することを特徴とするインプリント方法。
【請求項１８】
前記第１工程では、前記吐出口に面する空間に前記ガスを供給し、
前記第２工程では、前記空間への前記ガスの供給を停止することを特徴とする請求項１７に記載のインプリント方法。
【請求項１９】
前記第１工程では、前記ガスの雰囲気下で前記吐出口から前記インプリント材を吐出することで前記インプリント材による前記吐出口の詰まりを除去することを特徴とする請求項１７又は１８に記載のインプリント方法。
【請求項２０】
請求項１乃至１６のうちいずれか１項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を含み、処理された前記基板から物品を得ることを特徴とする物品の製造方法。
【請求項２１】
インプリント材を吐出する吐出口にガスを供給する供給装置であって、
インプリント材に溶解してインプリント材の粘度を低下させるガスを前記吐出口に供給する供給口を有し、
前記供給口から前記吐出口に前記ガスを供給することにより、前記吐出口内のインプリント材に前記ガスを溶解させ、前記吐出口内のインプリント材の粘度を低下させる、
ことを特徴とする供給装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インプリント装置、インプリント方法、物品の製造方法及び供給装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、インプリント装置、インプリント方法、物品の製造方法及び供給装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのインプリント装置は、基板上のインプリント材をモールドで成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、吐出口から前記インプリント材を吐出するディスペンサと、前記インプリント材に溶解して前記インプリント材の粘度を低下させるガスを前記吐出口に供給するガス供給部と、を有し、前記ガス供給部が前記ガスを前記吐出口に供給することにより、前記吐出口の周りのインプリント材に前記ガスを溶解させ、前記吐出口の周りのインプリント材の粘度を低下させることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月8日(2017.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に載置されたリード線を該基板に半田付けする半田処理装置であって、
半田の供給経路である供給孔を有する略筒形状で、前記供給された半田を溶融させる半田鏝部と、前記半田鏝部へ向けて冷却媒体を噴射し、前記溶融した半田の冷却固化を促進する噴射部とを備え、
前記リード線を前記基板に半田付けする際に、前記半田鏝部の先端部が前記リード線を前記基板に向けて押さえるようにした状態で、前記噴射部から前記半田鏝部へ向けて噴射された冷却媒体が前記溶融した半田へ直接当たらないように、前記噴射の方向及び前記半田鏝部の形状の少なくとも一方が設定され、前記溶融した半田の冷却固化を促進させて、前記リード線の前記基板からの浮き上がりを抑制することを特徴とする半田処理装置。
【請求項２】
前記半田鏝部は、前記略筒形状の外周面から外方に突出した突出部を有しており、
前記噴射部は、前記突出部へ向けて前記冷却媒体を噴射する請求項１に記載の半田処理装置。
【請求項３】
前記突出部がフランジ形状である請求項２に記載の半田処理装置。
【請求項４】
前記先端部は、前記基板と対向する対向面と、この対向面から前記基板側へ突出した第１突部とを有し、
第１突部が前記基板に近接又は接触した状態において、
前記第１突部より前記供給孔寄りの領域において前記対向面と前記基板との間にスペースが形成され、
前記スペースに前記溶融した半田が流れ込むようにして、該溶融した半田の表面張力による盛り上がりを前記対向面によって抑える請求項１から請求項３の何れかに記載の半田処理装置。
【請求項５】
前記先端部は、前記対向面から前記基板側へ突出した第２突部をさらに有し、
第１突部と第２突部の間に、前記スペースを形成する請求項４に記載の半田処理装置。
【請求項６】
第１突部が前記基板へ接触するようにした請求項４または請求項５に記載の半田処理装置。
【請求項７】
第１突部および第２突部が前記基板へ接触するようにした請求項５に記載の半田処理装置。
【請求項８】
第１突部が前記基板に近接した状態において、第１突部が前記リード線を前記基板へ向けて押さえるようにした請求項４または請求項５に記載の半田処理装置。
【請求項９】
第１突部及び第２突部が前記基板に近接した状態において、第１突部および第２突部が前記リード線を前記基板へ向けて押さえるようにした請求項５に記載の半田処理装置。
【請求項１０】
第１突部が前記基板に近接又は接触した状態において、第１突部が、前記溶融した半田の前記スペースからのはみ出しを抑える形状である請求項４に記載の半田処理装置。
【請求項１１】
第１突部が前記基板に近接又は接触した状態において、第１突部が前記スペースの全周を囲むように設けられている請求項１０に記載の半田処理装置。
【請求項１２】
前記スペースの体積に応じて、前記半田の供給量が設定されている請求項４から請求項９の何れかに記載の半田処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月9日(2017.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の第１の面と前記第１の面の反対側の面である第２の面とを貫通させる貫通基板の形成方法であって、
ドライエッチングを用いて、前記基板の前記第１の面側から、側面に保護膜が形成された第１の溝を形成する、第１の工程と、
ドライエッチングを用いて、前記第２の面側から、前記第１の溝と連通する第２の溝を形成する、第２の工程と、を含み、
前記第２の工程は、前記第１の溝の側面に前記保護膜が形成された状態で行われることを特徴とする貫通基板の形成方法。
【請求項２】
前記第１の工程は、前記基板をエッチングして溝を形成する溝形成ステップと、前記溝の側面に前記保護膜を形成しながら溝の深さを調整して、前記溝を前記第１の溝として形成する深さ調整ステップとを含む、請求項１に記載の貫通基板の形成方法。
【請求項３】
前記深さ調整ステップでは、前記第１の面上へ保護膜を成膜することと、前記ドライエッチングのエッチング方向と交わる方向に形成された保護膜をエッチングすることと、前記基板をエッチングすることとを順番に繰り返す、請求項２に記載の貫通基板の形成方法。
【請求項４】
前記第１の工程は、前記深さ調整ステップの後に、前記保護膜の状態を調整する保護膜調整ステップをさらに含む、請求項２または３に記載の貫通基板の形成方法。
【請求項５】
前記保護膜調整ステップは、前記第１の面上へ保護膜を成膜することを含む、請求項４に記載の貫通基板の形成方法。
【請求項６】
前記保護膜調整ステップは、前記ドライエッチングのエッチング方向と交わる方向に形成された保護膜をエッチングすることをさらに含む、請求項５に記載の貫通基板の形成方法。
【請求項７】
前記保護膜調整ステップは、前記保護膜を成膜することと、前記保護膜をエッチングすることとを交互に繰り返す、請求項６に記載の貫通基板の形成方法。
【請求項８】
前記保護膜調整ステップは、前記保護膜を成膜することを最後に行う、請求項７に記載の貫通基板の形成方法。
【請求項９】
前記保護膜調整ステップは、前記保護膜をエッチングすることを最後に行う、請求項７に記載の貫通基板の形成方法。
【請求項１０】
前記保護膜調整ステップで成膜する保護膜の厚みは、前記深さ調整ステップで成膜する保護膜の厚みよりも厚い、請求項５ないし９のいずれか１項に記載の貫通基板の形成方法。
【請求項１１】
前記基板がシリコン単結晶基板である請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の貫通基板の形成方法。
【請求項１２】
前記基板は、液体吐出ヘッド用の基板である、請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の貫通基板の形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明による貫通基板の形成方法は、
基板の第１の面と前記第１の面の反対側の面である第２の面とを貫通させる貫通基板の形成方法であって、ドライエッチングを用いて、前記基板の前記第１の面側から、側面に保護膜が形成された第１の溝を形成する第１の工程と、ドライエッチングを用いて、前記第２の面側から、前記第１の溝と連通する第２の溝を形成する、第２の工程と、を含み、前記第２の工程は、前記第１の溝の側面に前記保護膜が形成された状態で行われることを特徴とする貫通基板の形成方法である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年7月21日(2017.7.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シャフトの端面上に配置される磁石の磁界内に配置される磁界感応要素を含むセンサデバイスであって、
前記磁界感応要素は、０°〜３６０°の範囲内の前記磁界の配向角度を一義的に測定するように構成され、
前記シャフトは、車両の車輪軸のシャフトである、
センサデバイス。
【請求項２】
パルスエッジの、配向角度への対応付けを記憶するメモリと、
検知された前記配向角度、およびパルスエッジの、配向角度への記憶された前記対応付けに応じて、立ち上がりパルスエッジおよび立ち下がりパルスエッジを有するパルスのパターンを含む信号を生成するように構成される電子回路と、
をさらに含む、請求項１に記載のセンサデバイス。
【請求項３】
前記電子回路が、検知された前記配向角度に応じて、０°〜３６０°の範囲内の前記シャフトの回転角度、および／または前記シャフトの角速度を表現する追加信号を生成するようにさらに構成される、請求項２に記載のセンサデバイス。
【請求項４】
前記追加信号が前記シャフトの１旋回当たり既定の数の周期を有する、請求項３に記載のセンサデバイス。
【請求項５】
車両の伝動装置のシャフトと、
前記シャフトの端面上に配置される磁石と、
前記磁石の磁界内に配置される磁界感応要素と、
を含む変速のためのシステムであって、
前記磁界感応要素は、０°〜３６０°の範囲内の前記磁界の配向角度を一義的に測定するように構成される、システム。
【請求項６】
前記磁石が、
直径方向に磁性を帯びた磁石ピル、
前記シャフトの軸に対して半径方向に広がる扁平要素、および
磁気双極子を形成する円盤状要素であって、前記円盤の一方の半分はＮ磁極を形成し、前記円盤の他方の半分はＳ磁極を形成する、円盤状要素、
を含む群から選択される、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記磁界感応要素が前記シャフトの軸方向延長線に配置され、前記磁石に対して間隙によってオフセットされ、
前記磁石が前記シャフトの軸上に配置される、
請求項５に記載のシステム。
【請求項８】
パルスエッジの、配向角度への対応付けを記憶するメモリと、
検知された前記配向角度、およびパルスエッジの、配向角度への記憶された前記対応付けに応じて、立ち上がりパルスエッジおよび立ち下がりパルスエッジを有するパルスのパターンを含む信号を生成するように構成される電子回路と、
をさらに含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項９】
前記電子回路が、検知された前記配向角度に応じて、０°〜３６０°の範囲内の前記シャフトの回転角度、または前記シャフトの角速度を表現する追加信号を生成するようにさらに構成される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記追加信号が前記シャフトの１旋回当たり既定の数の周期を有する、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
ハウジングであって、前記シャフトの少なくとも部分は前記ハウジング内で回転し、前記磁界感応要素は前記ハウジングに取り付けられる、ハウジングをさらに含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項１２】
車両の車輪軸のシャフトと、
前記シャフトの端面上に配置される磁石と、
前記磁石の磁界内に配置される磁界感応要素と、
を含むシステムであって、
前記磁界感応要素は、０°〜３６０°の範囲内の前記磁界の配向角度を一義的に検知するように構成される、システム。
【請求項１３】
前記磁石が、
直径方向に磁性を帯びた磁石ピル、
前記シャフトの軸に対して半径方向に広がる扁平要素、および
磁気双極子を形成する円盤状要素であって、前記円盤の一方の半分はＮ磁極を形成し、前記円盤の他方の半分はＳ磁極を形成する、円盤状要素、
を含む群から選択される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記磁界感応要素が前記シャフトの軸方向延長線に配置され、前記磁石に対して間隙によってオフセットされ、
前記磁石が前記シャフトの軸上に配置される、
請求項１２に記載のシステム。
【請求項１５】
−  パルスエッジの、配向角度への対応付けを記憶するメモリと、
−  検知された前記配向角度、およびパルスエッジの、配向角度への記憶された前記対応付けに応じて、立ち上がりパルスエッジおよび立ち下がりパルスエッジを有するパルスのパターンを含む信号を生成するように構成される電子回路と、
をさらに含む、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１６】
前記電子回路が、検知された前記配向角度に応じて、０°〜３６０°の範囲内の前記シャフトの回転角度、または前記シャフトの角速度を表現する追加信号を生成するようにさらに構成される、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記シャフトの前記端面が前記車輪軸の車輪軸受と反対側にあり、
前記シャフトが前記端面と前記車輪軸受との間の車軸支持体に回転自在に接続される、請求項１２に記載のシステム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
例示されている実施形態では、磁石の磁界内に配置される磁界感応要素が利用される。磁石はシャフトの端面上に配置される。磁界感応要素は、０°〜３６０°の範囲内の磁界の配向角度を検知するように構成される。この角度から、磁界の配向角度を一義的に測定することが可能になり得る。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月13日(2017.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線基板と、
前記配線基板に搭載された制御ＩＣと、を有し、
前記配線基板は、ループ状の第１配線経路および第２配線経路と、第１モーターに接続される第１接続端子および第２接続端子と、第２モーターに接続される第３接続端子および第４接続端子とを有し、
前記制御ＩＣは、前記第１モーターおよび前記第２モーターのいずれか一方に駆動信号を出力する第１出力端子および第２出力端子と、前記第１モーターおよび前記第２モーターのいずれか他方に駆動信号を出力する第３出力端子および第４出力端子とを有し、
前記第１出力端子および前記第２出力端子は、前記第３出力端子と前記第４出力端子との間に配置され、
前記第１配線経路には、前記第１出力端子および前記第３出力端子の各出力端子と、前記第１接続端子および前記第３接続端子の各接続端子とが、経路に沿う方向において交互に接続され、
前記第２配線経路には、前記第２出力端子および前記第４出力端子の各出力端子と、前記第２接続端子および前記第４接続端子の各接続端子とが、経路に沿う方向において交互に接続されている
ことを特徴とする回路モジュール。
【請求項２】
請求項１に記載の回路モジュールにおいて、
前記第１モーターは、基本時計の表示用モーターであり、
前記第２モーターは、基本時計とは別の表示用モーターである
ことを特徴とする回路モジュール。
【請求項３】
請求項１に記載の回路モジュールにおいて、
前記第１モーターは、基本時計とは別の表示用モーターであり、
前記第２モーターは、基本時計の表示用モーターである
ことを特徴とする回路モジュール。
【請求項４】
配線基板と、前記配線基板に搭載された制御ＩＣと、を有し、
前記制御ＩＣは、第１モーターおよび第２モーターのいずれか一方に駆動信号を出力する第１出力端子および第２出力端子と、前記第１モーターおよび前記第２モーターのいずれか他方に駆動信号を出力する第３出力端子および第４出力端子とを有し、
前記配線基板は、
ループ状の第１配線経路および第２配線経路と、
前記第１モーターに接続される第１接続端子および第２接続端子と、
前記第２モーターに接続される第３接続端子および第４接続端子と、
前記第１出力端子および前記第１配線経路を接続する第１出力配線と、
前記第２出力端子および前記第２配線経路を接続する第２出力配線と、
前記第３出力端子および前記第１配線経路を接続する第３出力配線と、
前記第４出力端子および前記第２配線経路を接続する第４出力配線と、
前記第１接続端子および前記第１配線経路を接続する第１接続配線と、
前記第２接続端子および前記第２配線経路を接続する第２接続配線と、
前記第３接続端子および前記第１配線経路を接続する第３接続配線と、
前記第４接続端子および前記第２配線経路を接続する第４接続配線と、を有し、
前記第１配線経路は、前記第１出力配線および前記第１接続配線間を連結する第１連結配線部と、前記第１接続配線および前記第３出力配線間を連結する第２連結配線部と、前記第３出力配線および前記第３接続配線間を連結する第３連結配線部と、前記第３接続配線および前記第１出力配線間を連結する第４連結配線部と、を備えてループ状に形成され、
前記第２配線経路は、前記第２出力配線および前記第２接続配線間を連結する第５連結配線部と、前記第２接続配線および前記第４出力配線間を連結する第６連結配線部と、前記第４出力配線および前記第４接続配線間を連結する第７連結配線部と、前記第４接続配線および前記第２出力配線間を連結する第８連結配線部と、を備えてループ状に形成され、
前記第１出力配線および前記第２出力配線は、前記第３出力配線および前記第４出力配線間に配置されている
ことを特徴とする回路モジュール。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の回路モジュールを備え、
前記第１配線経路の２箇所および前記第２配線経路の２箇所が切断されて、前記第１出力端子および前記第２出力端子が、前記第１接続端子および前記第２接続端子と前記第３接続端子および前記第４接続端子とのいずれか一方に接続し、前記第３出力端子および前記第４出力端子が、前記第１接続端子および前記第２接続端子と前記第３接続端子および前記第４接続端子とのいずれか他方に接続している
ことを特徴とする時計用ムーブメント。
【請求項６】
請求項５に記載の時計用ムーブメントは、
クロノグラフ時計用のムーブメントである
ことを特徴とする時計用ムーブメント。
【請求項７】
請求項５または請求項６に記載の時計用ムーブメントを備えた
ことを特徴とする電子時計。
【請求項８】
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の回路モジュールに対して、
前記第１配線経路の２箇所および前記第２配線経路の２箇所を切断することで、前記第１出力端子および前記第２出力端子を、前記第１接続端子および前記第２接続端子と前記第３接続端子および前記第４接続端子とのいずれか一方に接続し、前記第３出力端子および前記第４出力端子を、前記第１接続端子および前記第２接続端子と前記第３接続端子および前記第４接続端子とのいずれか他方に接続する
ことを特徴とする回路モジュールの配線方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月13日(2017.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転可能な像担持体と、
前記像担持体に接触して回転可能に設けられ、前記像担持体を帯電する帯電部材と、
前記像担持体に接触して回転可能に設けられ、前記像担持体上に現像剤を供給する現像剤担持体であって、前記像担持体上に形成された現像剤像が記録材上に転写された後に前記像担持体上に残留した現像剤を回収する現像剤担持体と、
を有し、
前記像担持体と前記帯電部材とは、前記像担持体と前記帯電部材とが接する当接部で、同じ方向に動き、
前記像担持体と前記現像剤担持体とは、前記像担持体と前記現像剤担持体とが接する当接部で、同じ方向に動き、
前記帯電部材の外径をＨｃとし、
前記像担持体の周速に対する前記帯電部材の周速の割合をＲｃとし、
前記現像剤担持体の外径をＨｄとし、
前記像担持体の周速に対する前記現像剤担持体の周速の割合をＲｄとした場合、
Ｈｃ／Ｒｃ≧Ｈｄ／Ｒｄ
を満たすことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
３（Ｈｄ／Ｒｄ）≧Ｈｃ／Ｒｃ≧Ｈｄ／Ｒｄであることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
Ｈｃ／Ｒｃ＝Ｈｄ／Ｒｄであることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記現像剤担持体の周速と前記像担持体の周速が異なることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記帯電部材の周速と前記像担持体の周速が異なることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記帯電部材の周速が、前記像担持体の周速よりも速いことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記現像剤担持体と、前記現像剤担持体へ供給される現像剤及び前記現像剤担持体が回収した現像剤を収容する現像剤収容部と、を備える現像装置を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記帯電部材により帯電された前記像担持体を露光し前記像担持体上に静電潜像を形成する露光手段と、
前記現像剤担持体により前記静電潜像へ現像剤が供給されることにより前記像担持体上に形成された現像剤像を記録材上に転写する転写部材と、
を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記像担持体の回転方向における前記帯電部材と前記転写部材の間に、前記像担持体上の電荷を除去する除電部材を有することを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
現像剤は一成分現像剤であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記現像剤担持体から前記像担持体へ現像剤が供給されるように現像剤に電荷を付与する電荷付与部材を有することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１２】
現像剤は磁性トナーであることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するため本発明に係る画像形成装置は、
回転可能な像担持体と、
前記像担持体に接触して回転可能に設けられ、前記像担持体を帯電する帯電部材と、
前記像担持体に接触して回転可能に設けられ、前記像担持体上に現像剤を供給する現像剤担持体であって、前記像担持体上に形成された現像剤像が記録材上に転写された後に前記像担持体上に残留した現像剤を回収する現像剤担持体と、
を有し、
前記像担持体と前記帯電部材とは、前記像担持体と前記帯電部材とが接する当接部で、同じ方向に動き、
前記像担持体と前記現像剤担持体とは、前記像担持体と前記現像剤担持体とが接する当接部で、同じ方向に動き、
前記帯電部材の外径をＨｃとし、
前記像担持体の周速に対する前記帯電部材の周速の割合をＲｃとし、
前記現像剤担持体の外径をＨｄとし、
前記像担持体の周速に対する前記現像剤担持体の周速の割合をＲｄとした場合、
Ｈｃ／Ｒｃ≧Ｈｄ／Ｒｄ
を満たすことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月7日(2017.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
図４の（ｂ）に示すように、低次の活性種は、マスク１０６を多くエッチングし得るが、開口ＯＰの深部まで到達して配線層１０２上に保護膜１１０を形成することができる。したがって、工程Ｓ２によれば、配線層１０２のエッチングを抑制することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2016004983.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月24日(2017.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置の製造方法において、
基板の上にパッシベーション膜を形成する工程と、前記パッシベーション膜に第１の溝及び第２の溝を形成する工程と、前記第１の溝及び前記第２の溝を形成した前記パッシベーション膜の上に塗布によって膜を形成する工程と、を有し、
前記基板は、
第１の素子領域と、前記第１の素子領域に対して第１の方向に隣接した第２の素子領域と、前記第１の素子領域に対して前記第１の方向とは異なる第２の方向に隣接した第３の素子領域と、前記第２の素子領域に対して前記第２の方向に隣接した第４の素子領域と、を含む複数の素子領域と、
前記第１の素子領域及び前記第２の素子領域を含む第１の素子領域の行と、前記第３の素子領域及び前記第４の素子領域を含む第２の素子領域の行との間で前記第１の方向に延びる第１のスクライブ領域を含むスクライブ領域と、を有し、
前記第１の溝が、前記第１の素子領域の行と、前記第１のスクライブ領域との間で、前記第１の素子領域の行に沿って前記第１の方向に連続して延び、
前記第２の溝が、前記第２の素子領域の行と、前記第１のスクライブ領域との間で、前記第２の素子領域の行に沿って前記第１の方向に連続して延びることを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記製造方法は、前記塗布によって膜を形成する工程の前に、前記パッシベーション膜に第３の溝及び第４の溝を形成する工程をさらに含み、
前記スクライブ領域は、前記第１の素子領域及び前記第３の素子領域を含む第１の素子領域の列と、前記第２の素子領域及び前記第４の素子領域を含む第２の素子領域の列との間で前記第２の方向に延びる第２のスクライブ領域をさらに含み、
前記第３の溝が、前記第１の素子領域の列と、前記第２のスクライブ領域との間で、前記第１の素子領域の列に沿って前記第２の方向に連続して延び、
前記第４の溝が、前記第２の素子領域の列と、前記第２のスクライブ領域との間で、前記第２の素子領域の列に沿って前記第２の方向に連続して延びることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記パッシベーション膜のうち、前記第１の溝と前記第２の溝と前記第３の溝と前記第４の溝とに囲まれた部分の一部、又はすべてが取り除かれていることを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記パッシベーション膜のうち、前記第１の溝と前記第２の溝と前記第３の溝と前記第４の溝とによって分割された複数の区画の角の一部又はすべてが面取りされていることを特徴とする請求項２又は３に記載の製造方法。
【請求項５】
前記複数の区画のうち、前記第１の素子領域を覆う区画と、前記第２の素子領域を覆う区画と、前記第３の素子領域を覆う区画と、前記第４の素子領域を覆う区画との角の一部又はすべてが面取りされていることを特徴とする請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
前記複数の区画のうち、前記第１の溝及び前記第２の溝にはさまれた区画と、前記第３の溝及び第４の溝にはさまれた区画との一部又はすべての角が面取りされていることを特徴とする請求項４に記載の製造方法。
【請求項７】
前記塗布によって膜を形成する工程の後に、前記基板を前記スクライブ領域において切断する工程を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
前記半導体装置は、固体撮像装置であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
基板と、前記基板の上に配されたパッシベーション膜と、を含む構造体であって、
前記基板は、
第１の素子領域と、前記第１の素子領域に対して第１の方向に隣接した第２の素子領域と、前記第１の素子領域に対して前記第１の方向とは異なる第２の方向に隣接した第３の素子領域と、前記第２の素子領域に対して前記第２の方向に隣接した第４の素子領域と、を含む複数の素子領域と、
前記第１の素子領域及び前記第２の素子領域を含む第１の素子領域の行と、前記第３の素子領域及び前記第４の素子領域を含む第２の素子領域の行との間で前記第１の方向に延びる第１のスクライブ領域を含むスクライブ領域と、を有し、
前記パッシベーション膜は、前記第１の素子領域の行と、前記第１のスクライブ領域との間で、前記第１の素子領域の行に沿って前記第１の方向に連続して延びる第１の溝と、前記第２の素子領域の行と、前記第１のスクライブ領域との間で、前記第２の素子領域の行に沿って前記第１の方向に連続して延びる第２の溝と、を有することを特徴とする構造体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題に鑑みて、本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法は、基板の上にパッシベーション膜を形成する工程と、前記パッシベーション膜に第１の溝及び第２の溝を形成する工程と、前記第１の溝及び前記第２の溝を形成した前記パッシベーション膜の上に塗布によって膜を形成する工程と、を有し、前記基板は、第１の素子領域と、前記第１の素子領域に対して第１の方向に隣接した第２の素子領域と、前記第１の素子領域に対して前記第１の方向とは異なる第２の方向に隣接した第３の素子領域と、前記第２の素子領域に対して前記第２の方向に隣接した第４の素子領域と、を含む複数の素子領域と、前記第１の素子領域及び前記第２の素子領域を含む第１の素子領域の行と、前記第３の素子領域及び前記第４の素子領域を含む第２の素子領域の行との間で前記第１の方向に延びる第１のスクライブ領域を含むスクライブ領域と、を有し、前記第１の溝が、前記第１の素子領域の行と、前記第１のスクライブ領域との間で、前記第１の素子領域の行に沿って前記第１の方向に連続して延び、前記第２の溝が、前記第２の素子領域の行と、前記第１のスクライブ領域との間で、前記第２の素子領域の行に沿って前記第１の方向に連続して延びることを特徴とする。また本発明の実施形態に係る構造体は、基板と前記基板の上に配されたパッシベーション膜と、を含む構造体であって、前記基板は、第１の素子領域と、前記第１の素子領域に対して第１の方向に隣接した第２の素子領域と、前記第１の素子領域に対して前記第１の方向とは異なる第２の方向に隣接した第３の素子領域と、前記第２の素子領域に対して前記第２の方向に隣接した第４の素子領域と、を含む複数の素子領域と、前記第１の素子領域及び前記第２の素子領域を含む第１の素子領域の行と、前記第３の素子領域及び前記第４の素子領域を含む第２の素子領域の行との間で前記第１の方向に延びる第１のスクライブ領域を含むスクライブ領域と、を有し、前記パッシベーション膜は、前記第１の素子領域の行と、前記第１のスクライブ領域との間で、前記第１の素子領域の行に沿って前記第１の方向に連続して延びる第１の溝と、前記第２の素子領域の行と前記第１のスクライブ領域との間で、前記第２の素子領域の行に沿って前記第１の方向に連続して延びる第２の溝と、を有することを特徴とする。