Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月12日(2016.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
先ず、雄ロータ４及び雌ロータ５の回転に伴い、圧縮室の容積が増加し、圧縮機本体１は、吸込み口１３から圧縮室に空気（作動ガス）を吸込む（吸込み過程）。その後、回転の進行に伴い圧縮室の容積が減少し、圧縮機本体１は圧縮室内の空気を圧縮する（圧縮過程）。なお、圧縮過程において圧縮熱が発生するため、圧縮機本体１では、圧縮室や吸込み口１３に後述する油を噴射して空気を冷却するようになっている。また、ロータ４，５及びメインケーシング６等を冷却してそれらの熱変形を抑制する効果や、ロータ４，５の潤滑作用、ロータ４，５とメインケーシング６の間の隙間のシール作用も得られるようになっている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
図５を用いて、旋回流路１７の上面の外縁の位置変化に着目して説明する。図５で示すように、旋回流路１７の上面の外縁２３は、断面Ｔ１から断面Ｔ２へ移るときに曲線的に上昇し、断面Ｔ２から断面Ｔ３へ移るときに曲線的に下降して、断面Ｔ１と同じ位置まで戻る。断面Ｔ３から断面Ｔ４へ移るときにさらに曲線的に下降し、断面Ｔ４から断面Ｔ５へ移るときに曲線的に上昇する。断面Ｔ５から断面Ｔ６へ、さらに断面Ｔ７へ移るときに直線的に下降し、断面Ｔ７と断面Ｔ８の間では高さが変化しない。断面Ｔ８から断面Ｔ９へ移るときに直線的に下降し、断面Ｔ９と断面Ｔ１０の間では高さが変化しない。なお、変化の大きさが違うものの、旋回流路１７の上面の内縁２４の位置変化も概略同様である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
１…圧縮機本体、２…遠心分離機構（気液分離機構）、３…濾過分離機構、４…雄ロータ、５…雌ロータ、６…メインケーシング、７…吐出側ケーシング、１１，１２…ボア、１４…吐出室、１５…内壁部、１６…外壁部、１７…旋回流路、１８…流入通路、２３…外縁、２４…内縁
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月17日(2017.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記熱可塑性樹脂の融点は１８０℃以上、２８０℃以下が好ましい。
本発明において、島部は、海部の海成分に覆われており、通常のプレセットやファイナルセット等の後加工における乾熱処理でも問題のない良好な耐熱性を備えている。島成分の融点が低過すぎると、乾熱処理により、島部の融解が生じ易くなる傾向がある。また高過ぎると、海成分との複合紡糸が難しくなる傾向がある。よって、耐熱性、安定した製糸性や海部と島部との剥離を抑制し易い点から、上記の範囲が好ましい。より好ましい上記熱可塑性樹脂の融点は、２１０℃以上、２７０℃以下であり、さらに好ましくは２２０℃以上、２６５℃以下である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
このようにして得られた本発明の海島型複合繊維は、製糸安定性が良好で、耐熱性も良好なため、延伸工程、仮撚工程、製編織工程、精練工程、染色工程等の各工程でも、剥離しにくく、各工程での取り扱い性に優れる。特に、染色の際に、色斑が生じて染色性が悪化したり、白化現象が生じたりしないため、色斑がなく濃色に染色ができる。また、適宜、調整することにより、目的に応じて、良好な軽量性や撥水性を容易に得ることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
（８）染色性評価
得られた海島型複合繊維で作製した筒編地を、７０℃で２０分間の精練を行い、水洗、風乾し、分散染料（ダイアニックス（登録商標）  ブルー  ＡＣＥ）２．０％ｏ．ｗ．ｆ、浴比１：５０、１３０℃で１時間の高圧染色後、還元洗浄を常法で行い、下記の基準により評価した。
○：色斑や白化現象がない場合
△：色斑はあるが白化現象がない場合
×：白化現象がある場合
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月21日(2017.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
枠組足場の梁枠を支持する左右の梁枠支受アームと、左右の梁枠支受アームを相互連結する上下の連結部と、建枠の建地部分を仮設通路側から囲み且つ左右の梁枠支受アームを相互連結するアーム係留具とを有し、梁枠の荷重を建枠に伝達するように建枠の角部に配置される梁枠受け具において、
前記連結部は、左右の梁枠支受アームの上部を相互連結するとともに、建枠の腕木部分に支承される第１連結部と、第１連結部の下方で前記アームを相互連結するとともに、建枠の建地部分に支承される第２連結部とを有し、
前記第２連結部は、左右の梁枠支受アームの連結を解放し、建枠の建地部分及び腕木部分を前記アームの間の領域に挿入可能な下方解放領域を形成する連結解放手段を有することを特徴とする梁枠受け具。
【請求項２】
前記第１連結部は、円形断面の鋼材又は金属製棒材をＵ形に成形又は曲げ加工してなる連結材を有し、該連結材は、前記腕木部分に着座することを特徴とする請求項１に記載の梁枠受け具。
【請求項３】
前記連結材は、該連結材を介して前記梁枠の鉛直荷重を前記腕木部分に載荷するように左右の梁枠支受アームに固着されるとともに、前記建地部分を仮設通路側から受け入れる建地貫通域を形成するように梁枠支受アームの間で湾曲していることを特徴とする請求項２に記載の梁枠受け具。
【請求項４】
前記第２連結部は、片側の梁枠支受アームに回動可能に支持された可動支承板からなり、該可動支承板は、水平位置において左右のアームを架橋し、前記梁枠の荷重により前記建枠の建地部分に押圧され、該建地部分の水平反力により支承されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の梁枠受け具。
【請求項５】
前記第２連結部は、前記可動支承板を水平位置に保持する位置決め手段を有することを特徴とする請求項４に記載の梁枠受け具。
【請求項６】
前記係留具は、軸線方向に移動可能に各々の梁枠支受アームに挿通される左右のロッド部材と、左右のロッド部材を解放可能に架橋する架橋部材とから構成され、前記ロッド部材は、該ロッド部材が前記アームから脱落するのを防止する脱落防止手段を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の梁枠受け具。
【請求項７】
前記架橋部材は、一方のロッド部材の外端部に連結された基端部と、前記梁枠受け具を前記建枠の角部に設置した後に他方のロッド部材の外端部に連結される先端部とを有し、前記ロッド部材及び架橋部材は、前記ロッド部材の外端部と前記架橋部材の先端部との連結により、建枠の建地部分を仮設通路側から囲むＵ形連結具として機能することを特徴とする請求項６に記載の梁枠受け具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、上層建枠の建込み後においても下層建枠の角部に設置することができる梁枠受け具を提供することにある。
本発明は又、係留具の構成部品等の落下、逸失又は紛失等を確実に防止することができる梁枠受け具を提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の好適な実施形態において、上記第１連結部は、円形断面の鋼材又は金属製棒材をＵ形に成形又は曲げ加工してなる連結材を有し、該連結材は、腕木部分に着座する。腕木部分に着座する連結材を円形断面の鋼製又は金属製棒材により形成することにより、床付き布枠を係止可能な腕木部分の領域が拡大するので、床付き布枠を比較的容易に腕木部分に敷設することができる。好ましくは、連結材は、連結材を介して梁枠の鉛直荷重を腕木部分に載荷するように左右の梁枠支受アームに固着される。更に好ましくは、連結材は、建地部分を仮設通路側から受け入れる建地貫通域を形成するように梁枠支受アームの間で湾曲する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
上記連結解放手段を備えた本発明の梁枠受け具によれば、上層建枠の建込み後に梁枠受け具を下層建枠の角部に設置することができる。
また、上記構成の連結材を備えた本発明の梁枠受け具によれば、床付き布枠を係止可能な腕木部分の領域を拡大し、床付き布枠を比較的容易に腕木部分に敷設可能にすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
更に、上記脱落防止手段を備えた本発明の梁枠受け具によれば、係留具の構成部品等の落下、逸失又は紛失等を確実に防止することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
本発明は、枠組足場の梁枠を支持する梁枠受け具に適用される。本発明の梁枠受け具によれば、上層建枠の建込み後においても梁枠受け具を下層建枠の角部に設置することができる。また、上記構成の連結材を備えた本発明の梁枠受け具によれば、床付き布枠を係止可能な腕木部分の領域を拡大し、床付き布枠を比較的容易に腕木部分に敷設可能にすることができる。更に、上記脱落防止手段を備えた本発明の梁枠受け具によれば、係留具の構成部品等の落下、逸失、紛失、損失等を確実に防止することができる。従って、本発明に係る梁枠受け具の実用的効果には、顕著なるものがある。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月28日(2016.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検査体に接触して検査を行う接触子を備える接触検査装置であって、
前記接触子は、
基体部分と、
被検査体と接触する先端部分と、
を備え、
前記先端部分は、可撓性を有する複数の端子を備え、
前記複数の端子は、当該端子が前記被検査体に押し付けられた状態で、前記接触子の軸線方向にかかる圧縮力を受けて前記軸線方向と交差する方向に撓むように構成され、
当該接触検査装置は、前記接触子の前記先端部分が前記被検査体に押し付けられた状態で、前記複数の端子がそれぞれ撓むことにより前記被検査体を押圧し、各端子と前記被検査体とが電気的に接続される、
ことを特徴とする接触検査装置。
【請求項２】
請求項１に記載の接触検査装置において、前記複数の端子は前記接触子の軸線方向において螺旋状に延びている、
ことを特徴とする接触検査装置。
【請求項３】
請求項１に記載の接触検査装置において、前記複数の端子は前記接触子の軸線方向において直線状に延びている、
ことを特徴とする接触検査装置。
【請求項４】
請求項１に記載の接触検査装置において、前記複数の端子は前記接触子の軸線方向においてＳ字状に延びている、
ことを特徴とする接触検査装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の接触検査装置において、前記複数の端子の先端側には前記被検査体と接触する際に前記端子の撓む方向を規定する案内面が設けられている、
ことを特徴とする接触検査装置。
【請求項６】
請求項２に記載の接触検査装置において、前記接触子の前記先端部分が前記被検査体に押し付けられた状態で前記螺旋状の端子は、前記軸線方向に撓み、当該軸線方向において隣り合う前記端子と接触する、
ことを特徴とする接触検査装置。
【請求項７】
請求項６に記載の接触検査装置において、前記複数の端子の先端側には前記被検査体と接触する際に前記端子の撓む方向を規定する案内面が設けられている、
ことを特徴とする接触検査装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の接触検査装置において、前記接触子の前記基体部分の径寸法は前記先端部分の径寸法よりも大きい、
ことを特徴とする接触検査装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の接触検査装置において、前記基体部分には前記軸線方向に沿って少なくとも一つのスリットが設けられている、
ことを特徴とする接触検査装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の接触検査装置において、前記スリットは前記軸線方向において螺旋状に設けられている、
ことを特徴とする接触検査装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の接触検査装置において、前記スリットは前記軸線方向において直線状に設けられている、
ことを特徴とする接触検査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月22日(2016.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィーに使用されるマスクブランク用基板の製造方法であって、
前記マスクブランク用基板の転写パターンが形成される側の主表面における０．１４ｍｍ×０．１ｍｍの領域を白色干渉計にて、ピクセル数６４０×４８０で測定して得られる空間周波数１×１０−２μｍ−１以上１μｍ−１以下におけるパワースペクトル密度が４×１０６ｎｍ４以下であり、前記主表面における１μｍ×１μｍの領域を原子間力顕微鏡で測定して得られる空間周波数１μｍ−１以上におけるパワースペクトル密度が１０ｎｍ４以下となるように表面加工し、
１５０ｎｍ〜３６５ｎｍの波長領域の検査光又はＥＵＶ光を用いて、前記基板の主表面の欠陥検査を行うことを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項２】
前記主表面の１μｍ×１μｍの領域を原子間力顕微鏡で測定して得られる二乗平均平方根粗さ（Ｒｍｓ）が０．１３ｎｍ未満であることを特徴とする請求項１に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項３】
前記主表面の１μｍ×１μｍの領域を原子間力顕微鏡で測定して得られる空間周波数１μｍ−１以上１０μｍ−１以下におけるパワースペクトル密度が１ｎｍ４以上１０ｎｍ４以下であり、
１５０ｎｍ〜３６５ｎｍの波長領域の検査光を用いて、前記基板の主表面の欠陥検査を行うことを特徴とする請求項１又は２に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項４】
前記主表面の１μｍ×１μｍの領域を原子間力顕微鏡で測定して得られる空間周波数１０μｍ−１以上１００μｍ−１以下におけるパワースペクトル密度が５ｎｍ４以下であり、
ＥＵＶ光を用いて、前記基板の主表面の欠陥検査を行うことを特徴とする請求項１又は２に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項５】
前記基板が、ＥＵＶリソグラフィーに使用されるマスクブランク用基板であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のマスクブランク用基板の製造方法によって作製されたマスクブランク用基板の前記主表面上に、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した多層反射膜を形成することを特徴とする多層反射膜付き基板の製造方法。
【請求項７】
前記多層反射膜上に保護膜を形成することを特徴とする請求項６に記載の多層反射膜付き基板の製造方法。
【請求項８】
リソグラフィーに使用されるマスクブランク用基板の主表面上に、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した多層反射膜を有する多層反射膜付き基板の製造方法であって、
前記多層反射膜が形成されている側の前記多層反射膜付き基板表面における０．１４ｍｍ×０．１ｍｍの領域を白色干渉計にて、ピクセル数６４０×４８０で測定して得られる空間周波数１×１０−２μｍ−１以上１μｍ−１以下におけるパワースペクトル密度が４×１０７ｎｍ４以下であり、前記多層反射膜付き基板表面における１μｍ×１μｍの領域を原子間力顕微鏡で測定して得られる空間周波数１μｍ−１以上１００μｍ−１以下におけるパワースペクトル密度が２０ｎｍ４以下となるように成膜し、
１５０ｎｍ〜３６５ｎｍの波長領域の検査光又はＥＵＶ光を用いて、前記多層反射膜付き基板の表面の欠陥検査を行うことを特徴とする多層反射膜付き基板の製造方法。
【請求項９】
前記多層反射膜付き基板表面の１μｍ×１μｍの領域を原子間力顕微鏡で測定して得られる二乗平均平方根粗さ（Ｒｍｓ）が０．１３ｎｍ未満であることを特徴とする請求項８に記載の多層反射膜付き基板の製造方法。
【請求項１０】
前記多層反射膜上に保護膜を有することを特徴とする請求項８又は９に記載の多層反射膜付き基板の製造方法。
【請求項１１】
前記多層反射膜付き基板表面の１μｍ×１μｍの領域を原子間力顕微鏡で測定して得られる空間周波数１０μｍ−１以上１００μｍ−１以下におけるパワースペクトル密度が７．５ｎｍ４以下であり、
ＥＵＶ光を用いて、前記多層反射膜付き基板の表面の欠陥検査を行うことを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１項に記載の多層反射膜付き基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項６〜１１のいずれか１項に記載の多層反射膜付き基板の前記多層反射膜又は保護膜上に、転写パターンとなる吸収体膜を形成することを特徴とする反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項１３】
前記吸収体膜の表面の１μｍ×１μｍの領域を原子間力顕微鏡で測定して得られる空間周波数１μｍ−１以上１０μｍ−１以下におけるパワースペクトル密度が２０ｎｍ４以下であり、
１５０ｎｍ〜３６５ｎｍの波長領域の検査光を用いて、反射型マスクブランクの欠陥検査を行うことを特徴とする請求項１２に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項１４】
前記吸収体膜の表面の１μｍ×１μｍの領域を原子間力顕微鏡で測定して得られる空間周波数１０μｍ−１以上１００μｍ−１以下におけるパワースペクトル密度が５ｎｍ４以下であり、
ＥＵＶ光を用いて、反射型マスクブランクの欠陥検査を行うことを特徴とする請求項１２に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項１５】
前記吸収体膜の上にレジスト膜を形成することを特徴とする請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項１６】
請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の反射型マスクブランクの製造方法によって作製された反射型マスクブランクにおける前記吸収体膜をパターニングすることにより、吸収体パターンを、前記多層反射膜又は保護膜上に形成することを特徴とする反射型マスクの製造方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の反射型マスクの製造方法によって作製された反射型マスクを用いて、露光装置を使用したリソグラフィープロセスを行い、被転写体上に転写パターンを形成する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月29日(2016.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無端状のベルト部材と、前記ベルト部材を張架支持する複数の支持回転体と、前記複数の支持回転体における回転軸両端部に配置される軸端保持部材と、前記複数の支持回転体のうち第１支持回転体を支持し、かつ前記軸端保持部材に対して可動可能に設けられた可動支持部材と、前記複数の支持回転体のうちいずれか１つに駆動を伝達する駆動伝達手段と備え、前記支持回転体の軸線方向における前記駆動伝達手段と前記可動支持部材との位置を、前記軸端保持部材に対して同じ側にとったベルト装置において、
同軸線方向における前記駆動伝達手段の位置が、同軸線方向における前記軸端保持部材の位置と前記可動支持部材の位置との間であることを特徴とするベルト装置。
【請求項２】
請求項１に記載のベルト装置において、
前記駆動伝達手段と前記可動支持部材の前記支持回転体の軸線方向における位置が、前記軸端保持部材に対して外側に備えたことを特徴とするベルト装置。
【請求項３】
請求項１又は２のいずれかのベルト装置において、
前記可動支持部材は、前記複数の支持回転体のうち第２支持回転体の回転軸を支点として回動することを特徴とするベルト装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載のベルト装置において、
前記可動支持部材は、前記複数の支持回転体に対して脱着可能なことを特徴とするベルト装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載のベルト装置において、
前記可動支持部材は、前記第１支持回転体に対して、前記ベルト部材を張架する向きへの付勢力を与える付勢手段を備えることを特徴とするベルト装置。
【請求項６】
請求項１乃至５いずれか１項に記載のベルト装置において、
前記第１支持回転体は傾斜回転体であり、前記傾斜回転体の回転軸を傾斜させることで、前記ベルト部材がベルト幅方向へ移動するベルト寄りの範囲を所定の規制範囲内に規制するベルト寄り規制手段を有し、
前記ベルト寄り規制手段は、前記傾斜回転体の回転軸端部に設けられ、前記ベルト部材がベルト幅方向へ移動する力を受けて該傾斜回転体の回転軸に沿ってベルト幅方向一端側へ変位する軸方向変位部材と、該軸方向変位部材に対して該ベルト幅方向一端側から当接する固定部材とを備え、該軸方向変位部材及び該固定部材の少なくとも一方が他方に当接する当接面が傾斜面で構成されていて、該ベルト部材がベルト幅方向へ移動する力を受けて該軸方向変位部材が該傾斜面に沿って該固定部材に対して相対移動することにより前記傾斜回転体の前記回転軸端部が変位することで、該傾斜回転体の回転軸を傾斜させるものであり、前記傾斜回転体の傾斜に連動して前記可動支持部材が可動することを特徴とするベルト装置。
【請求項７】
画像又は画像が記録されるシート材を外周面上に担持する無端状のベルト部材を備えたベルト装置を用いて、該画像を該シート材上に形成する画像形成装置において、
前記ベルト装置として、請求項１乃至６のいずれか１項に記載のベルト装置を用いることを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
請求項７の画像形成装置において、
潜像担持体上に形成した画像を中間転写体に一次転写する一次転写手段と、前記中間転写体上に一次転写された画像を前記シート材に二次転写する二次転写手段とを有し、
前記二次転写手段は、前記ベルト部材の外周面上に担持されているシート材上に前記中間転写体上の画像を二次転写することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月14日(2016.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光源装置およびプロジェクタ装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明によれば、レーザ光源モジュールは、ヒートブロックを介して配管と熱的に接合される。すなわち、レーザ光源モジュールは、配管を流動する冷却冷媒と熱的に接触することになる。冷却冷媒が周囲の雰囲気温度よりも低い場合、レーザ光源モジュールとヒートブロックとの接合部は、レーザ光源モジュールの発熱によって温度が上昇するが、ヒートブロックにおいて接合部以外の部位の表面は熱の出入りが小さい。そのため、ヒートブロックにおいて接合部以外の部位の表面温度は冷却冷媒と同等の温度まで低下する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
冷却冷媒の温度が光源装置内の雰囲気温度よりも低い場合、ヒートブロックにおいて接合部以外の部位の表面温度は冷却冷媒と同等の温度まで低下し、当該表面温度が露点温度を下回るとヒートブロックの表面に結露が発生する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図１に示すように、レーザ光源装置９０（光源装置）は、複数のレーザ光源モジュール１０と、配管２０と、複数のヒートブロック３０と、保持部材４０と、容器５０とを備えている。配管２０は、冷却冷媒を流動させるための部材である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
複数のヒートブロック３０は、複数のレーザ光源モジュール１０を分けた各組と配管２０とをそれぞれ熱的に接合させるための部材である。複数のヒートブロック３０は、保持部材４０（より具体的には、保持部材４０の幅方向の中央部）の上面に互いに予め定められた間隙Ｇをあけて水平方向に直線状に配置され、配管２０は、複数のヒートブロック３０に挿通されている。各組に分けられた複数のレーザ光源モジュール１０は、各ヒートブロック３０の上面にそれぞれ接合されている。このように、複数のレーザ光源モジュール１０と配管２０とが熱的に接合されることで、レーザ光源モジュール１０は、配管２０の内部を流動する冷却冷媒によって冷却される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
次に、レーザ光源装置９０を備えるプロジェクタ装置９１について説明する。図２は、実施の形態１に係るプロジェクタ装置９１の構成を示す図である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
他方、配管２０は一般には熱伝導性および接合部の加工性の観点から、Ｃ１２２０を材料とする銅管などが使用されることが考えられる。このように配管２０とヒートブロック３０の材料が異なる場合においても、隣接して配置されるヒートブロック３０の間に間隙Ｇを設けることで、熱膨張寸法の差に起因する衝突を避けることが可能である。熱ひずみによる配管２０とヒートブロック３０の接合部に生じる応力発生を回避し、長期間の動作または非動作のサイクルにおいても接合部の剥離および接触不良を生じない信頼性の高い放熱構造を得ることが可能となり、レーザ光源モジュール１０の信頼性も向上するという効果が得られる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
以上のように、実施の形態１に係るレーザ光源装置９０およびプロジェクタ装置９１では、レーザ光源モジュール１０は、ヒートブロック３０を介して配管２０と熱的に接合される。すなわち、レーザ光源モジュール１０は、配管２０を流動する冷却冷媒と熱的に接触することになる。冷却冷媒が周囲の雰囲気温度よりも低い場合、レーザ光源モジュール１０とヒートブロック３０との接合部は、レーザ光源モジュール１０の発熱によって温度が上昇するが、ヒートブロック３０において接合部以外の部位の表面は熱の出入りが小さい。そのため、ヒートブロック３０において接合部以外の部位の表面温度は冷却冷媒と同等の温度まで低下する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
冷却冷媒の温度がレーザ光源装置９０の筐体９０ａ内の雰囲気温度よりも低い場合、ヒートブロック３０において接合部以外の部位の表面温度は冷却冷媒と同等の温度まで低下し、当該表面温度が露点温度を下回るとヒートブロック３０の表面に結露が発生する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
ヒートブロック３０の下側に、ヒートブロック３０の平面視輪郭よりも大きな平面視輪郭を有する開口部５０ａを備える容器５０が配置されるため、ヒートブロック３０の表面に結露し結露水が滴下した場合、容器５０で結露水を受けることが可能である。これにより、レーザ光源装置９０の筐体９０ａの内部において結露水に起因する不具合を防止できる。また、結露水を受けるための容器５０を備えることで結露対策を講じることができるため複雑な構造が不要となり、レーザ光源装置９０の製造コストを安価にすることができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
保持部材４０においてヒートブロック３０が配置される部位は、電気端子部１２がヒートブロック３０に対して常に上側に配置されるように傾斜している。そのため、ヒートブロック３０の表面に付着する水滴が重力方向に垂れ落ちる際に、電気端子部１２を通過経路としないことから、電気端子部１２での短絡を防止でき、レーザ光源装置９０Ａの安全性が高まる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
なお、排水パイプ５１を筐体９０ａの外部に配置された排水設備に接続してもよい。このような構成の場合、連続的な排水がなされることで排水保守が不要となり、レーザ光源装置９０Ｃのメンテナンス性を一層向上させることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月11日(2017.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、薄膜トランジスタを備える画素を複数配置した表示部と、
前記薄膜トランジスタの動作を制御するための信号が入力される複数の端子が配列された端子部と、を有する表示装置の製造方法であって、
前記基板上に第１絶縁膜を形成し、
前記第１絶縁膜上に前記薄膜トランジスタを形成し、
前記薄膜トランジスタの形成後に前記表示部と前記端子部とに第２絶縁膜を形成し、
前記第２絶縁膜に、前記薄膜トランジスタの少なくとも一部を露出させるコンタクトホールを形成するとともに、前記端子部において複数の開口部を形成し、
前記第２絶縁膜上に、前記薄膜トランジスタに前記コンタクトホールを介して接続される複数の信号線と、前記複数の信号線の形成と同時に、前記開口部を間に挟むように複数の端子配線を形成し、
前記複数の信号線及び前記複数の端子配線上に有機絶縁膜からなる第３絶縁膜を形成することを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記端子部において、前記第３絶縁膜を一部除去して前記複数の端子配線を露出させ、
前記複数の端子配線の前記露出された部分を覆う導電膜を形成することをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
基板上に、薄膜トランジスタを備える画素を複数配置した表示部と、
前記薄膜トランジスタの動作を制御するための信号が入力される複数の端子が配列された端子部と、を有する表示装置の製造方法であって、
前記基板上に第１絶縁膜を形成し、
前記第１絶縁膜上に前記薄膜トランジスタを形成し、
前記薄膜トランジスタの形成後に前記表示部と前記端子部とに第２絶縁膜を形成し、
前記第２絶縁膜に、前記薄膜トランジスタの少なくとも一部を露出させるコンタクトホールを形成するとともに、前記端子部において複数の開口部を形成し、
前記第２絶縁膜上に、前記薄膜トランジスタに前記コンタクトホールを介して接続される複数の信号線と、前記複数の信号線の形成と同時に、前記開口部を間に挟むように複数の端子配線を形成し、
前記複数の信号線上に有機絶縁膜からなる第３絶縁膜を形成し、
前記第３絶縁膜及び前記複数の端子配線上に、無機絶縁膜からなる第４絶縁膜を形成し、
前記端子部において、前記第４絶縁膜を一部除去して前記複数の端子配線を露出させ、
前記複数の端子配線の前記露出された部分を覆う導電膜を形成し、
前記導電膜上に、第５絶縁膜を形成することを含み、
前記第５絶縁膜を一部除去して前記導電膜を露出させることをさらに含むこと特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記導電膜を、透光性を有する導電膜を用いて形成することを特徴とする請求項２または３に記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記第３絶縁膜を、アクリルまたはポリイミドを用いて形成することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項６】
基板上に、薄膜トランジスタを備える画素を複数配置した表示部と、
前記薄膜トランジスタの動作を制御するための信号が入力される複数の端子が配列された端子部と、を有する表示装置であって、
前記基板上に配置された第１絶縁膜と、
前記第１絶縁膜上に配置された前記薄膜トランジスタと、
前記表示部及び前記端子部に配置され、前記複数の端子の間に配置される開口部を備える第２絶縁膜と、
前記第２絶縁膜上に配置され、前記薄膜トランジスタに接続される複数の信号線と、前記端子部に配置される複数の端子配線と、
前記複数の信号線及び前記複数の端子配線上に配置される有機絶縁膜からなる第３絶縁膜と、を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
前記複数の端子は、前記第３絶縁膜上に配置され、前記第３絶縁膜に形成された複数の貫通孔を介してそれぞれ前記複数の端子配線と接続されることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
基板上に、薄膜トランジスタを備える画素を複数配置した表示部と、
前記薄膜トランジスタの動作を制御するための信号が入力される複数の端子が配列された端子部と、を有する表示装置であって、
前記基板上に配置された第１絶縁膜と、
前記第１絶縁膜上に配置された前記薄膜トランジスタと、
前記表示部及び前記端子部に配置され、前記複数の端子の間に配置される開口部を備える第２絶縁膜と、
前記第２絶縁膜上に配置され、前記薄膜トランジスタに接続される複数の信号線と、前記端子部に配置される複数の端子配線と、
前記複数の信号線上に配置される有機絶縁膜からなる第３絶縁膜と、
前記第３絶縁膜及び前記複数の端子配線上に配置される無機絶縁膜からなり、前記複数の端子配線の一部を露出させる複数の貫通孔を備える第４絶縁膜と、
前記第４絶縁膜上に配置され、前記複数の貫通孔を介してそれぞれ前記複数の端子配線に接続される前記複数の端子と、
前記複数の端子上に、前記複数の端子の一部を露出させて配置される第５絶縁膜と、を備えること特徴とする表示装置。
【請求項９】
前記複数の端子は、透光性を有する導電膜を用いて形成されることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第３絶縁膜は、アクリルまたはポリイミドを用いて形成されることを特徴とする請求項６乃至９のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記第３絶縁膜は、前記開口部に重畳するように形成されることを特徴とする請求項６乃至９のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記第４絶縁膜及び前記第５絶縁膜は、前記開口部に重畳するように形成されることを特徴とする請求項８又は９に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月10日(2017.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の軸を中心とした筒形状の固定部と、
前レンズ群を保持し、前記軸を中心として前記固定部の物体側に取り付けられる前枠部と、
後レンズ群を保持し、前記軸を中心として前記固定部の像側に取り付けられる後枠部と、
可動レンズ群を保持し、前記軸を中心として前記固定部の内側に配置される可動部と、
前記固定部に配置されたコイルと、前記可動部に配置され前記軸に直交する方向に磁気分極された磁石と、によって、前記可動部を前記固定部に対して、前記軸方向に相対移動させることが可能なボイスコイルモータと、
を備え、
前記前枠部を前記軸方向に投影した部分に前記可動部の少なくとも一部が含まれ、
前記前枠部の少なくとも一部は、前記可動部の内周側に挿入される
ことを特徴とする光学ユニット。
【請求項２】
前記前枠部を前記軸方向に投影した部分に前記磁石の少なくとも一部が含まれる
請求項１に記載の光学ユニット。
【請求項３】
前記前枠部を前記軸方向に投影した部分に前記コイルの少なくとも一部が含まれる
請求項２に記載の光学ユニット。
【請求項４】
前記前枠部を前記軸方向に投影した部分に前記コイルの全てが含まれる
請求項３に記載の光学ユニット。
【請求項５】
前記後枠部の少なくとも一部は、前記可動部の内周側に挿入される
請求項１乃至４のいずれか１つに記載の光学ユニット。
【請求項６】
前記磁石は、前記軸に対して対称に複数配置される
請求項１乃至５のいずれか１つに記載の光学ユニット。
【請求項７】
前記磁石は、前記軸方向に隣り合う第１磁石の組と第２磁石の組を有し、
前記第１磁石の組は同一の磁気分極方向を有し、前記第２磁石の組は同一の磁気分極方向を有し、
隣り合う前記第１磁石の磁気分極方向と前記第２磁石の磁気分極方向は、互いに反対方向であって、
前記コイルは、前記第１磁石の組に対向する第１コイルと、前記第２磁石の組に対向する第２コイルと、を有し、
前記第１コイルと前記第２コイルは、巻き方向が反転している
請求項６に記載の光学ユニット。
【請求項８】
隣り合う前記第１磁石と前記第２磁石は、前記軸方向に離間している
請求項７に記載の光学ユニット。
【請求項９】
前記軸から前記磁石の径方向における外側の面までの距離は、前記軸から前記固定部の内周面までの距離より長い
請求項１乃至８のいずれか１つに記載の前記光学ユニット。
【請求項１０】
前記可動部は、前記磁石が配置される段差部を有し、
前記固定部は、前記磁石の径方向の外側の面が配置される肉抜き部を有する
請求項９に記載の光学ユニット。
【請求項１１】
前記コイルの軸方向の幅は、前記磁石の軸方向の幅より長い
請求項１乃至１０のいずれか１つに記載の前記光学ユニット。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか１つに記載の前記光学ユニット
を備えることを特徴とする内視鏡。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月30日(2017.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撹拌軸部と、
可撓性を有する撹拌シート部と、
を有し、
前記撹拌軸部は、前記撹拌シート部を支持する複数の支持部を有し、
前記撹拌シート部は、
前記支持部に支持される複数の被支持部と、
前記被支持部に対して前記撹拌軸部の回転方向の上流側に突き出る第一撹拌部と、
前記被支持部に対して前記第一撹拌部と反対側に突き出る第二撹拌部と、
を有し、
前記第二撹拌部は、前記複数の被支持部間に設けられる切り欠き部を有することを特徴とする撹拌部材。
【請求項２】
前記切り欠き部は前記複数の被支持部間の中央に設けられたことを特徴とする請求項１に記載の撹拌部材。
【請求項３】
前記切り欠き部の前記撹拌軸部の回転軸方向の幅は、前記撹拌軸部の回転軸方向に沿って隣設される前記被支持部間の離間幅の１／２以下に設定されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の撹拌部材。
【請求項４】
前記第二撹拌部の先端部からの前記切り欠き部の深さは、前記第二撹拌部の先端部から前記被支持部までの離間距離よりも大きいことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の撹拌部材。
【請求項５】
前記被支持部は貫通穴で構成され、
前記支持部は、前記貫通穴に挿通可能で前記撹拌軸部の回転方向の下流に向かって先端部が伸びるフック部で構成されたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の撹拌部材。
【請求項６】
前記フック部は、前記撹拌軸部側の根元部よりも幅が広い引っ掛け部を有することを特徴とする請求項５に記載の撹拌部材。
【請求項７】
前記フック部の先端部は先鋭部からなることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の撹拌部材。
【請求項８】
前記被支持部は貫通穴で構成され、
前記支持部は、前記貫通穴に挿通した後、先端部が拡径されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の撹拌部材。
【請求項９】
撹拌軸部と、
可撓性を有する撹拌シート部と、
を有し、
前記撹拌シート部の固定部が前記撹拌軸部に固定され、
前記撹拌シート部は、
前記固定部に対して前記撹拌軸部の回転方向の上流側に突き出され、現像剤容器の開口を封止する封止部材を兼ねる第一撹拌部と、
前記固定部に対して前記第一撹拌部と反対側に突き出る第二撹拌部と、
を有することを特徴とする撹拌部材。
【請求項１０】
前記撹拌シート部の固定部が前記撹拌軸部に接着または両面テープにより貼着されたことを特徴とする請求項９に記載の撹拌部材。
【請求項１１】
前記第二撹拌部の回転方向の長さは、前記第一撹拌部の回転方向の長さよりも短いことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の撹拌部材。
【請求項１２】
前記第一撹拌部と前記第二撹拌部とが一体的に構成されたことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の撹拌部材。
【請求項１３】
現像剤を収納する現像剤容器と、
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の撹拌部材と、
を有することを特徴とする現像剤収納ユニット。
【請求項１４】
請求項１３に記載の現像剤収納ユニットと、
潜像を現像剤を用いて現像するための現像剤担持体と、
を有し、
前記撹拌部材により前記現像剤容器に収納された現像剤を撹拌し、前記現像剤担持体に現像剤を供給することを特徴とする現像装置。
【請求項１５】
前記現像剤容器に収納された現像剤を前記現像剤担持体に供給する現像剤の供給回転体を有し、
前記撹拌軸部の回転中心が前記現像剤の供給回転体の重力方向と反対側の投影領域内に配置されたことを特徴とする請求項１４に記載の現像装置。
【請求項１６】
請求項１４または請求項１５に記載の現像装置と、
静電潜像を担持する像担持体と、
を有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項１７】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の撹拌部材、請求項１３に記載の現像剤収納ユニット、請求項１４または請求項１５に記載の現像装置、請求項１６に記載のプロセスカートリッジのいずれか１つを有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撹拌部材、現像剤収納ユニット、現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、撹拌部材、現像剤収納ユニット、現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は前記課題を解決するものであり、その目的とするところは、良好な現像剤の撹拌循環を実現した撹拌部材を提供するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記目的を達成するための本発明に係る撹拌部材の代表的な構成は、撹拌軸部と、可撓性を有する撹拌シート部と、を有し、前記撹拌軸部は、前記撹拌シート部を支持する複数の支持部を有し、前記撹拌シート部は、前記支持部に支持される複数の被支持部と、前記被支持部に対して前記撹拌軸部の回転方向の上流側に突き出る第一撹拌部と、前記被支持部に対して前記第一撹拌部と反対側に突き出る第二撹拌部と、を有し、前記第二撹拌部は、前記複数の被支持部間に設けられる切り欠き部を有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記構成によれば、良好な現像剤の循環を実現した撹拌部材を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月8日(2017.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に設けた開口を開閉する第１シャッタ幕を駆動する第１駆動レバーと、
前記開口を開閉する第２シャッタ幕を駆動する第２駆動レバーと、
前記第１駆動レバーを前記開口に対して第１方向へ駆動し、前記第２駆動レバーを前記第１方向へ駆動し、前記第１駆動レバーが前記第１方向へ駆動された状態を保持した後に、前記第１駆動レバーの保持を解除する駆動部と、
前記駆動部が駆動した前記第２駆動レバーが駆動された状態を保持した後、前記第２駆動レバーの保持を解除する保持部と
を備えるシャッタユニット。
【請求項２】
前記保持部は、前記第２駆動レバーが前記第１方向へ駆動された状態を電磁石の磁力により保持する請求項１に記載のシャッタユニット。
【請求項３】
前記第１駆動レバーの保持が解除された後に前記第１駆動レバーを前記第１方向と反対の第２方向へ駆動する第１ばねと、
前記第２駆動レバーの保持が解除された後に前記第２駆動レバーを前記第２方向へ駆動する第２ばねとを備える
請求項１または請求項２に記載のシャッタユニット。
【請求項４】
前記保持部は、前記駆動部が前記第１駆動レバーを解除した第１タイミングと異なる第２タイミングに前記第２駆動レバーを解除する請求項３に記載のシャッタユニット。
【請求項５】
外部から指定された指定タイミングよりも早い開始タイミングに前記駆動部を駆動し始め、前記指定タイミングに前記第１駆動レバーを開放する制御部を更に備える請求項３または４に記載のシャッタユニット。
【請求項６】
前記保持部は、前記駆動部が前記第１駆動レバーを開放する第１タイミングを予測して、当該第１タイミングまでに外部から指定された露光時間が得られるように決定された第２タイミングに前記第２駆動レバーを開放する請求項５に記載のシャッタユニット。
【請求項７】
前記開始タイミングを前記第２タイミングよりも時間的に早くして、前記第２タイミングに前記第２駆動レバーを開放する請求項６に記載のシャッタユニット。
【請求項８】
請求項１から７までのいずれか一項に記載のシャッタユニットを備えた撮像装置。
【請求項９】
基板に設けた開口を開閉するシャッタ幕を駆動する駆動レバーと、
前記駆動レバーを前記開口に対して第１方向へ駆動し、前記駆動レバーが前記第１方向へ駆動された状態を保持した後に、前記駆動レバーの保持を解除する駆動部と、
外部から指定された指定タイミングよりも早い開始タイミングに前記駆動部を駆動し始め、前記指定タイミングに前記駆動レバーの保持を解除する制御部と
を備えるシャッタユニット。
【請求項１０】
前記駆動部は、前記駆動レバーを駆動する駆動カムを有し、
前記制御部は、前記駆動カムのカムプロファイルに基づいて前記開始タイミングを決定する請求項９に記載のシャッタユニット。
【請求項１１】
撮像素子を電気的にリセットする電子シャッタを備える請求項９または１０に記載のシャッタユニット。
【請求項１２】
請求項９から１１のいずれか一項に記載のシャッタユニットを備える撮像装置。
【請求項１３】
被写体光束の光路中に進入した第１位置と前記光路から退避した第２位置との間で移動するミラーを更に備え、
前記開始タイミングが、前記ミラーの前記第２位置への移動が完了するタイミングよりも先になり、前記指定タイミングが、前記ミラーの第２位置への移動が完了するタイミングの後になる請求項１２に記載の撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明の第一態様においては、基板に設けた開口を開閉する第１シャッタ幕を駆動する第１駆動レバーと、開口を開閉する第２シャッタ幕を駆動する第２駆動レバーと、第１駆動レバーを開口に対して第１方向へ駆動し、第２駆動レバーを第１方向へ駆動し、第１駆動レバーが第１方向へ駆動された状態を保持した後に、第１駆動レバーの保持を解除する駆動部と、駆動部が駆動した第２駆動レバーが駆動された状態を保持した後、第２駆動レバーの保持を解除する保持部とを備えるシャッタユニットが提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の第二態様においては、上記のシャッタユニットを備えた撮像装置が提供される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の第三態様においては、基板に設けた開口を開閉するシャッタ幕を駆動する駆動レバーと、駆動レバーを開口に対して第１方向へ駆動し、駆動レバーが第１方向へ駆動された状態を保持した後に、駆動レバーの保持を解除する駆動部と、外部から指定された指定タイミングよりも早い開始タイミングに駆動部を駆動し始め、指定タイミングに駆動レバーの保持を解除する制御部とを備えるシャッタユニットが提供される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の第四態様においては、上記のシャッタユニットを備える撮像装置が提供される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】シャッタユニットおよび撮像装置
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月11日(2017.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示パネルを構成する基板を洗浄するための液晶表示装置の製造装置であって、
アクアナイフ部と、洗浄液シャワー部と、純水シャワー部と、被洗浄物を前記アクアナイフ部から前記洗浄液シャワー部、更に前記純水シャワー部へ搬送する搬送機構部とを有し、
前記洗浄液シャワー部において噴射される洗浄液の流量分布は、単独ピークを有することを特徴とする製造装置。
【請求項２】
請求項１記載の製造装置において、
前記単独ピークの位置は、前記流量分布の中央部であることを特徴とする製造装置。
【請求項３】
請求項１記載の製造装置において、
前記洗浄液シャワー部に配置されたノズルは、扇型フラットタイプのノズルであることを特徴とする製造装置。
【請求項４】
請求項３記載の製造装置において、
前記ノズルは、前記洗浄液シャワー部に配置され、前記搬送機構部による前記被洗浄物の搬送方向に対して交差する方向に沿って延伸する洗浄液用ノズル部に複数設けられていることを特徴とする製造装置。
【請求項５】
請求項４記載の製造装置において、
前記洗浄液用ノズル部は、前記被洗浄物の搬送方向に対して交差する方向に沿って並列に複数段配置されていることを特徴とする製造装置。
【請求項６】
請求項１記載の製造装置において、
前記洗浄液シャワー部での洗浄対象は、紫外線照射により生じた光配向膜内の不純物であることを特徴とする製造装置。
【請求項７】
請求項６記載の製造装置において、
前記アクアナイフ部は、前記被洗浄物の表面に液皮膜を形成するものであることを特徴とする製造装置。
【請求項８】
請求項７記載の製造装置において、
前記液皮膜は、純水皮膜であることを特徴とする製造装置。
【請求項９】
請求項１記載の製造装置において、
前記純水シャワー部に配置されたノズルは、フルコーンタイプのノズルであることを特徴とする製造装置。
【請求項１０】
基板間に液晶層が挟持された表示パネルを備えた液晶表示装置の製造方法であって、
第１基板を準備する第１工程と、
前記第１基板を、単独ピークを有する流量分布の洗浄液シャワーで洗浄する第２工程と、を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記単独ピークは、前記流量分布の中央部に位置することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記洗浄液シャワーは、扇型フラットタイプのノズルを用いて噴射されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１０記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第１工程で準備された前記第１基板の表面には紫外線照射された光配向膜が形成されており、洗浄の対象が前記光配向膜内の不純物であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１０記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第２工程は、前記第１基板を洗浄液シャワーで洗浄する前に液皮膜を形成する工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記液皮膜は純水皮膜であり、アクアナイフにより形成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１３記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記液晶層は、洗浄された前記光配向膜を有する前記第１基板と、配向膜が形成された第２基板との間に挟持されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１０記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第１基板はカラーフィルタを含み、前記第２基板は薄膜トランジスタを含み、前記第２基板に形成された前記配向膜は光配向膜であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。