【手続補正書】
【提出日】平成29年9月1日(2017.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素樹脂を含む多孔質膜からなる第１の層と、多孔質膜からなる第２の層とを有する多孔質膜の製造方法であって、
前記第１の層形成用の多孔質膜と、前記第２の層形成用の多孔質膜とを積層して積層体を形成する工程と、
前記積層体の第１の層形成用の多孔質膜側の表面に、圧接部材の押圧面を加熱下で押し当てて、該積層体の各多孔質膜の積層面を熱圧着する工程と、
を有し、
前記圧接部材の押圧面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、該押圧面が圧接される前記第１の層形成用の多孔質膜の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）よりも小さく、かつ、
前記圧接部材の圧縮弾性率が前記第１の層形成用の多孔質膜の圧縮弾性率より大きい、ことを特徴とする多孔質膜の製造方法。
【請求項２】
前記積層体の第１の層形成用の多孔質膜側に配置される圧接部材を第１の圧接部材とし、該第１の圧接部材の押圧面に対向して、前記積層体の第２の層形成用の多孔質膜側に第２の圧接部材の押圧面を配置し、これらの押圧面によりニップ部を形成し、該ニップ部において前記熱圧着を行い、
前記第２の圧接部材の押圧面の算術表面粗さ（Ｒａ）は該第２の圧接部材の押圧面が圧接される前記第２の層形成用の多孔質膜の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）よりも小さく、かつ前記第２の圧接部材の圧縮弾性率は前記第２の層形成用の多孔質膜の圧縮弾性率よりも大きい、
請求項１に記載の多孔質膜の製造方法。
【請求項３】
前記第１の層が、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）延伸多孔質膜である請求項１に記載の多孔質膜の製造方法。
【請求項４】
前記第２の層が前記第１の層の支持体として機能する、請求項１から３のいずれか一項に記載の多孔質膜の製造方法。
【請求項５】
前記第２の層形成用の多孔質膜が不織布からなる請求項１から４のいずれか一項に記載の多孔質膜の製造方法。
【請求項６】
前記不織布が、ニードルパンチ法で繊維間が接合されている不織布である請求項５に記載の多孔質膜の製造方法。
【請求項７】
前記第１の層形成用の多孔質膜の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１．５μｍ以下である請求項１から６のいずれか一項に記載の多孔質膜の製造方法。
【請求項８】
前記第１の層形成用の多孔質膜の圧縮弾性率は２ＭＰａ以上である請求項１から７のいずれか一項に記載の多孔質膜の製造方法。
【請求項９】
前記第２の層形成用の多孔質膜の圧縮弾性率は２ＭＰａ以上である請求項２から８のいずれか一項に記載の多孔質膜の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明にかかる多孔質膜の製造方法は、フッ素樹脂を含む多孔質膜からなる第１の層と、多孔質膜からなる第２の層とを有する多孔質膜の製造方法であって、
前記第１の層形成用の多孔質膜と、前記第２の層形成用の多孔質膜とを積層して積層体を形成する工程と、
前記積層体の第１の層形成用の多孔質膜側の表面に、圧接部材の押圧面を加熱下で押し当てて、該積層体の各多孔質膜の積層面を熱圧着する工程と、
を有し、
前記圧接部材の押圧面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、該押圧面が圧接される前記第１の層形成用の多孔質膜の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）よりも小さく、かつ、
前記圧接部材の圧縮弾性率が前記第１の層形成用の多孔質膜の圧縮弾性率より大きい、
ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明者らは、上述したような熱圧ラミネート工程に用いる第１の圧接部材の押圧面の平滑性や圧接部材の強度に関して検討を重ねた。その結果、以下の式（１）及び（２）を満たす条件での熱圧ラミネートを行うことで、第１の層形成用の多孔質膜の表面の平滑性の劣化を抑制出来ることが分かった。すなわち、本発明においては、押圧面の平滑性が第１の多孔質膜の表面（露出面）よりも高く、かつ剛性が第１の層形成用の多孔質膜よりも高い圧接部材を用いている。その結果、熱圧ラミネート工程を経て得られる多孔質膜の第１の層の表面（露出面）に目的とする平滑性を制御性良く付与することが可能となる。
式（１）について、Ｒａ（ＲＳ１）とＲａ（ＰＭ１）の差は特に限定されることはないが、０．１μｍ以上であることが好ましい。式（２）について、Ｅ（ＲＳ１）とＥ（ＰＭ１）の差は特に限定されることはないが、１００MPa以上であることが好ましい。
（i）Ｒａ（ＲＳ１）＜Ｒａ（ＰＭ１）（式１）
Ｒａ（ＲＳ１）：第１の圧接部材の押圧面の算術平均粗さ
Ｒａ（ＰＭ１）：第１の圧接部材の押圧面が圧接される第１の層形成用の多孔質膜の表面（露出面）の算術平均粗さ
（ii）Ｅ（ＲＳ１）＞Ｅ（ＰＭ１）（式２）
Ｅ（ＲＳ１）：第１の圧接部材の圧縮弾性率
Ｅ（ＰＭ１）：第１の層形成用の多孔質膜の圧縮弾性率
なお、表面の平滑性は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２０１１で規定される算術平均粗さＲａで評価することができ、Ｒａが小さい程、平滑性が高いことを示す。また、圧縮弾性率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１８１：２０１１で規定される値である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
第２の層の表面（露出面）の算術平均粗さ（Ｒａ）は５０μｍ以下であることが好ましい。なお、この露出面の算術平均粗さ（Ｒａ）の下限値は特に限定されないが、０．５μｍ程度に設定することができる。
第２の層の厚さは、３００μｍ以下であることが好ましい。なお、この厚さの下限値は特に限定されないが、１０μｍ程度に設定することができる。また、第２の層の厚さを、第１の層よりも大きくすることが好ましい。
第２の層の平均繊維径は０．１μｍ以上１５．０μｍ以下であることが好ましい。この平均繊維径は、０．１μｍ以上１０．０μｍ以下であることがより好ましい。また、第２の層の耐水圧は、第１の層よりも低いことが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明においては、熱圧ラミネート後に第１の層の表面となる多孔質膜の表面よりも高い平滑性の押圧面を有し、この多孔質膜よりも小さい圧縮弾性率を有し、かつ剛性の高い第１の圧接部材が用いられる。このことにより、熱圧ラミネート時における多孔質膜の表面における平滑性の低下を防止することができ、また、場合によっては平滑性の向上を図ることができる。その結果、熱圧ラミネートにより得られる多孔質膜を拭き取り部材として用いた場合における被清掃面からの付着物の拭き取ムラを無くすことが可能となる。
更に、第１の圧接部材と対向する位置に第２の圧接部材を配置して、これらの部材間にニップ部を形成し、このニップ部において上記の熱圧着工程を行うことができる。この第２の圧接部材は、熱圧ラミネート前の積層体に含まれる第２の層形成用の多孔質膜側に設けられ、その押圧面は第２の層形成用の多孔質膜の露出面に圧接される。この第２の圧接部材の圧縮弾性率及びその押圧面の算術平均粗さは、第２の層形成用の多孔質膜に対して以下の式（３）及び（４）で規定される関係を満たすように設定されることが好ましい。
式（３）について、Ｒａ（ＲＳ２）とＲａ（ＰＭ２）の差は特に限定されることはないが、０．１μｍ以上であることが好ましい。式（４）について、Ｅ（ＲＳ2）とＥ（ＰＭ2）の差は特に限定されることはないが、１００MPa以上であることが好ましい。
（i）Ｒａ（ＲＳ２）＜Ｒａ（ＰＭ２）（式３）
Ｒａ（ＲＳ２）：第２の圧接部材の押圧面の算術平均粗さ
Ｒａ（ＰＭ２）：第２の圧接部材の押圧面が圧接される第２の層形成用の多孔質膜の表面（露出面）の算術平均粗さ
（ii）Ｅ（ＲＳ２）＞Ｅ（ＰＭ２）（式４）
Ｅ（ＲＳ２）：第２の圧接部材の圧縮弾性率
Ｅ（ＰＭ２）：第２の層形成用の多孔質膜の圧縮弾性率
なお、この第２の圧接部材の有する第２の層形成用の多孔質膜への押圧面の算術平均粗さ（Ｒａ）は１．５μｍより小さいことが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
【表３】
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