【手続補正書】
【提出日】平成29年11月8日(2017.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマを用いて導電性のワークの一部に成膜又はエッチングを行うプラズマ装置であって、
第１窪み部と前記第１窪み部の周囲に配置された第１平面部とを備える第１の型と、前記第１の型に対向して配置された第２の型と、を有する真空容器と、
前記第１の型の前記第１平面部と前記第２の型との間に配置され、前記ワークの被処理対象部分を前記第１窪み部内の空間に向けるとともに前記ワークを前記第１平面部から離間させた状態で前記ワークに接触する絶縁部材と、
前記ワークに電力を印加する電力印加部と、を備え、
前記ワークと前記絶縁部材との接触点と、前記第１平面部と、の距離は、前記ワークと前記第１窪み部の底部との距離よりも小さい、
プラズマ装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ装置であって、
前記第１窪み部と前記第１平面部との接続箇所から前記接触点までの前記第１平面部に沿った距離は、０よりも大きい、プラズマ装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のプラズマ装置であって、
前記接触点と前記第１平面部との距離は、前記ワークと前記第１平面部との間に形成されるシースの距離よりも短い、プラズマ装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載のプラズマ装置であって、
前記接触点と前記第１平面部との距離は２．０ｍｍ以下である、プラズマ装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載のプラズマ装置であって、
前記ワークは、被処理対象物と、前記被処理対象物の非被処理対象部分を覆うマスキング部材と、を備え、
前記第１窪み部と前記第１平面部との接続箇所は、前記被処理対象部分の端部から前記絶縁部材側へ離れて位置している、プラズマ装置。
【請求項６】
請求項５に記載のプラズマ装置であって、
前記マスキング部材は、前記被処理対象部分側の端部に前記第１窪み部側に向けて傾斜した傾斜面を有する、プラズマ装置。
【請求項７】
請求項６に記載のプラズマ装置であって、
前記被処理対象物と接触する前記マスキング部材の接触面と、前記傾斜面とのなす角は、３０°以下である、プラズマ装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載のプラズマ装置であって、
前記第２の型は、第２窪み部と前記第２窪み部の周囲に配置された第２平面部とを有し、
前記第１窪み部内に配置された第１の電極と、
前記第２窪み部内に配置された第２の電極と、
前記第１の電極及び前記第２の電極に高周波電力を印加する高周波電力印加部と、を備え、
前記ワークは、前記第１窪み部内の空間と前記第２窪み部内の空間とを分離する、
プラズマ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
特許文献１記載の装置では、バイアス電源からホルダへ繋がる電圧線と絶縁部材とが接触する箇所において電界が集中するため、その箇所にプラズマが侵入すると、異常放電が発生する場合があった。また、プラズマを用いてエッチングを行う場合においても同様に異常放電が発生する場合があった。そのため、プラズマを用いて成膜又はエッチングを行う装置において、このような異常放電の発生を抑制可能な技術が望まれていた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
（１）本発明の一形態によれば、プラズマを用いて導電性のワークの一部に成膜又はエッチングを行うプラズマ装置が提供される。このプラズマ装置は、第１窪み部と前記第１窪み部の周囲に配置された第１平面部とを備える第１の型と、前記第１の型に対向して配置された第２の型と、を有する真空容器と；前記第１の型の前記第１平面部と前記第２の型との間に配置され、前記ワークの被処理対象部分を前記第１窪み部内の空間に向けるとともに前記ワークを前記第１平面部から離間させた状態で前記ワークに接触する絶縁部材と；前記ワークに電力を印加する電力印加部と、を備え；前記ワークと前記絶縁部材との接触点と、前記第１平面部と、の距離は、前記ワークと前記第１窪み部の底部との距離よりも小さい。このようなプラズマ装置であれば、ワークと接触する絶縁部材は第１平面部と第２の型との間に配置され、ワークと絶縁部材との接触点と、第１平面部と、の距離は、ワークと第１窪み部の底部との距離よりも小さいため、ワークと第１平面部とで形成される空間に第１窪み部からプラズマが侵入することが抑制される。そのため、ワークと絶縁部材との接触点におけるプラズマの量が低減されるので、異常放電の発生を抑制することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、上述したプラズマ装置以外の種々の形態で実現することも可能である。例えば、プラズマを用いて導電性のワークの一部に成膜又はエッチングを行う方法や、プラズマ装置の制御方法及び制御装置、それらの装置又は方法の機能を実現するためのコンピュータプログラム、そのコンピュータプログラムを記録した記録媒体等の形態で実現することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
真空容器１００は、分割可能な金属製の容器である。真空容器１００は、第１の型１１０と、第１の型１１０に対向して配置された第２の型１２０と、を備える。第１の型１１０は、第１窪み部１１４と第１窪み部１１４の周囲に配置された第１平面部１１１とを備える。第１窪み部１１４はワークＷから離間する方向に窪んでおり、本実施形態ではワークＷの上面側の被処理対象部分１０Ａから見て上方（＋Ｙ方向）に窪んでいる。また、第１窪み部１１４は、側部１１２と底部１１３とを備える。本実施形態では、第１窪み部１１４と第１平面部１１１との接続箇所は、被処理対象部分１０Ａの端部と、同一のＹＺ平面上に位置している。第２の型１２０は、ワークＷの下面側の被処理対象部分１０Ａから見て下方（−Ｙ方向）に窪んだ第２窪み部１２４と、第２窪み部１２４の周囲に配置された第２平面部１２１と、を備える。第２窪み部１２４は、側部１２２と底部１２３とを備える。第２平面部１２１は、第１の型１１０の第１平面部１１１に対応する部分に配置されている。本実施形態では、第２窪み部１２４と第２平面部１２１との接続箇所は、被処理対象部分１０Ａの端部と、同一のＹＺ平面上に位置している。本実施形態において、第１平面部１１１及び第２平面部１２１は、ＸＺ平面と平行である。第１の型１１０及び第２の型１２０は、真空容器１００内にガス供給装置８０からガスを供給するための供給口８１と、真空容器１００内を排気装置９０によって排気するための排気口９１と、を備える。供給口８１及び排気口９１には、開閉可能な弁が設けられている。また、第２の型１２０は、ワークＷに電圧を印加するための電力導入部７１を備える。第２の型１２０と電力導入部７１との間は、絶縁部材３５によって電気的に絶縁されている。本実施形態において、真空容器１００は、アース電位を有している。真空容器１００内において、ワークＷは、第１平面部１１１から離間され、かつ、ワークＷの被処理対象部分１０Ａは真空容器１００が閉じた状態において第１窪み部１１４内の空間に向けられている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
電力印加部７０は、プラズマを発生させるための装置である。電力印加部７０は、ワークＷに電力を印加する。電力印加部７０は、真空容器１００内に供給された原料ガス又はエッチングガスをプラズマ化するための電場を生成する。本実施形態では、電力導入部７１と被処理対象物１０及びマスキング部材２０は陰極であり、第１の型１１０、第２の型１２０及びパレット１３０は陽極である。本実施形態では、電力印加部７０は、下側マスキング部材２２を通じて被処理対象物１０にバイアス電圧を印加する。電力印加部７０は、例えば、電力導入部７１に−３０００Ｖの電圧を印加することができる。なお、本実施形態では、真空容器１００及びパレット１３０はアース（０Ｖ）に接続されている。