【手続補正書】
【提出日】平成28年11月29日(2016.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
セルの軸方向が上下方向となるようにハニカム成形体を配置し、マイクロ波を照射可能な乾燥炉の炉内部に前記ハニカム成形体を導入する導入工程と、
前記マイクロ波を反射する機能を具備し、前記ハニカム成形体の端面の面積に対する被覆率が１５％〜３０％の反射面を備えるマイクロ波反射材を用い、前記ハニカム成形体の上端面に相対するように前記マイクロ波反射材を配置する反射材配置工程と、
９１５ＭＨｚの周波数の前記マイクロ波を前記ハニカム成形体の上部から照射し、前記ハニカム成形体を乾燥させるマイクロ波乾燥工程と
を有するハニカム成形体のマイクロ波乾燥方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記マイクロ波反射材は、
金属材料を用いる請求項１〜４のいずれか一項に記載のハニカム成形体のマイクロ波乾燥方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
ハニカム成形体が含む水分量の増大と大型化により、マイクロ波のハニカム成形体の中央部への浸透が妨げられ、中央部の乾燥が進みづらくなった。ハニカム成形体は乾燥によって収縮するが、中央部の乾燥が遅れると、中央部は、外周部および端面部より圧力を受ける。隔壁の薄壁化によりハニカム成形体の強度は低下するため、ハニカム成形体の中央部は上記圧力によりセルが変形し易い。ハニカム成形体の中央部に生じたセル変形は、セルの方向に従ってハニカム成形体の端面部にまで伝播し、ハニカム構造体の機械的強度を大きく下げることになる。ハニカム成形体の中央部へのマイクロ波の浸透を改善するために、低い周波数のマイクロ波を用いることが出来る。例えば、２４５０ＭＨｚから９１５ＭＨｚに変更することにより、浸透性は改善される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
一方、従来の水分量の多いハニカム成形体を９１５ＭＨｚで乾燥すると、マイクロ波のハニカム成形体の中央部への浸透が過大となり、ハニカム成形体の中央部が過熱する現象が見られるようになった。中央部が過熱すると、中央部の乾燥収縮が先行して、外周部および端面部が中央部の引っ張られる結果、端面部にセル変形が発生するようになった。マイクロ波の周波数を９１５ＭＨｚにして幅広いハニカム成形体の乾燥に対応するためには、ハニカム成形体の種類に応じた対策が必要になった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
マイクロ波は乾燥炉内で反射して、ハニカム成形体の外周部および端面部から入射する。特許文献２に開示された「ハニカム成形体のマイクロ波乾燥方法」によれば、ハニカム成形体の乾燥過程における成形体内部の乾燥速度の差を低減し、セルの変形を抑制することが開示されている。具体的には、ハニカム成形体にマイクロ波を反射する筒状の遮蔽物の内部に載置することにより、ハニカム成形体の上下方向（端面方向）からの入射密度と、水平方向（側面方向）からの入射密度を制御するものであり、ハニカム成形体の上下方向の乾燥速度差を緩和し、ハニカム成形体の径方向の乾燥速度差を抑制することが可能となる。しかしながら、ハニカム成形体の上下方向のみからマイクロ波が入射されるため、後述する本願の従来技術同様、ハニカム成形体の成形体内部にセル変形が発生し、同技術は適用できない。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
［１］  セルの軸方向が上下方向となるようにハニカム成形体を配置し、マイクロ波を照射可能な乾燥炉の炉内部に前記ハニカム成形体を導入する導入工程と、前記マイクロ波を反射する機能を具備し、前記ハニカム成形体の端面の面積に対する被覆率が１５％〜３０％の反射面を備えるマイクロ波反射材を用い、前記ハニカム成形体の上端面に相対するように前記マイクロ波反射材を配置する反射材配置工程と、９１５ＭＨｚの周波数の前記マイクロ波を前記ハニカム成形体の上部から照射し、前記ハニカム成形体を乾燥させるマイクロ波乾燥工程とを有するハニカム成形体のマイクロ波乾燥方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
［５］  前記マイクロ波反射材は、金属材料を用いる前記［１］〜［４］のいずれかに記載のハニカム成形体のマイクロ波乾燥方法。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明のハニカム成形体のマイクロ波乾燥方法によれば、マイクロ波反射材をハニカム成形体の上端面に相対するように配置することで、成形体中央部と成形体端面及び側面間の温度差を小さくし、特に成形体中央部付近でのセルの変形等の形状不良の発生を抑えることができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
一方、反射材配置工程とは、炉内部に導入されたハニカム成形体１０に対し、ハニカム成形体１０の上部の端面１３（上端面）に相対するように、マイクロ波を反射する機能を具備するマイクロ波反射材２０を配置するものである。電磁波の一種であるマイクロ波は、金属材料に照射された場合、当該金属材料の内部に進入することができず、金属材料の表面で反射する性質を一般的に備えている。例えば、ステンレス、鋼板、アルミニウム、及びその他周知の金属材料を用い、本実施形態において使用するマイクロ波反射材２０を形成することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本実施形態の乾燥方法１において、使用するマイクロ波反射材２０の形状や厚さ等は特に限定されるものではないが、ハニカム成形体１０の上部の端面１３の面積Ｒ１に対するマイクロ波反射材２０の反射面２１の面積Ｒ２の被覆率Ｒ％（＝Ｒ２／Ｒ１×１００）が１５〜３０％の範囲、更に好ましくは、１９〜２９％の範囲のサイズで形成される必要がある。これにより、誘電乾燥の過程において、比較的周波数の低いマイクロ波（＝９１５ＭＨｚ）の端面１３に対する入射を、上記マイクロ波反射材２０によって確実に遮蔽することができる。更に、マイクロ波反射材２０の形状は、例えば、ハニカム成形体１０の端面１３の端面形状に沿った図１に示すような、円板形状に形成したものであっても、或いは平板矩形状のマイクロ波反射材２０ａであってもよい（図３参照）。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
断面円形状の貫通孔２３の孔径は、乾燥炉でマイクロ波発振器から発振されるマイクロ波の波長λに対し、３／４以下の大きさとなるように設定されている。孔径を波長λに対して３／４以下にすることにより、反射裏面２２側から照射されたマイクロ波Ｗは、当該貫通孔２３を通過することができなくなる。その結果、ハニカム成形体１０に入射するマイクロ波を、マイクロ波反射材２０を用いて遮蔽することができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
更に、実施例１，２は直径１７０ｍｍの円形状のマイクロ波反射材を使用し、ハニカム径が３８５ｍｍのハニカム成形体の端面の面積に対するマイクロ波反射材の反射面の面積の比率である被覆率Ｒを１９．５％とした。実施例４は、同じく直径１７０ｍｍの円板状のマイクロ波反射材を使用し、ハニカム径が３２０ｍｍのハニカム成形体に対する被覆率Ｒを２８．２％とした。同様に、比較例３は、直径１２０ｍｍの円形状のマイクロ波反射材を使用し、被覆率Ｒを９．７１％とし、比較例４は直径２２０ｍｍの円形状のマイクロ波反射材を試料し、被覆率Ｒを３２．７％とした。