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【手続補正書】
【提出日】平成29年7月18日(2017.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
取得条件が成立したことに伴って、判定情報を取得する判定情報取得手段と、
所定の上限数を限度に、前記判定情報取得手段が取得した判定情報を記憶する記憶手段と、
開始条件が成立したことに伴い、前記記憶手段に記憶されている前記判定情報に基づいて、特別遊技を実行するか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段による判定が行われると、当該判定結果を報知するための報知演出を実行する演出制御手段と、を備え、
前記演出制御手段は、前記報知演出を、通常演出態様、および、前記通常演出態様よりも前記特別遊技を実行すると判定されたことを期待される期待度が高いことを示唆する特定演出態様、を含む複数の演出態様で実行可能であり、
前記特定演出態様は、少なくとも、第１特定演出態様と、当該第１特定演出態様と関連性を有し、当該第１特定演出態様で前記報知演出が行われているときに発展可能な第２特定演出態様と、前記第１特定演出態様および前記第２特定演出態様とは異なる第３特定演出態様と、を含み、
前記通常演出態様から前記第１特定演出態様への移行に際して特定演出開始前演出を行い、前記通常演出態様から前記第２特定演出態様への移行に際しても同一の前記特定演出開始前演出を行う
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、上記の背景を鑑みて、特定演出態様が発展して特別遊技を実行することを期待させる遊技機を提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の遊技機は、取得条件が成立したことに伴って、判定情報を取得する判定情報取得手段と、所定の上限数を限度に、前記判定情報取得手段が取得した判定情報を記憶する記憶手段と、開始条件が成立したことに伴い、前記記憶手段に記憶されている前記判定情報に基づいて、特別遊技を実行するか否かを判定する判定手段と、前記判定手段による判定が行われると、当該判定結果を報知するための報知演出を実行する演出制御手段と、を備え、前記演出制御手段は、前記報知演出を、通常演出態様、および、前記通常演出態様よりも前記特別遊技を実行すると判定されたことを期待される期待度が高いことを示唆する特定演出態様、を含む複数の演出態様で実行可能であり、前記特定演出態様は、少なくとも、第１特定演出態様と、当該第１特定演出態様と関連性を有し、当該第１特定演出態様で前記報知演出が行われているときに発展可能な第２特定演出態様と、前記第１特定演出態様および前記第２特定演出態様とは異なる第３特定演出態様と、を含み、前記通常演出態様から前記第１特定演出態様への移行に際して特定演出開始前演出を行い、前記通常演出態様から前記第２特定演出態様への移行に際しても同一の前記特定演出開始前演出を行うことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の遊技機によれば、特定演出態様が発展して特別遊技を実行することを期待させることができるようになる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月11日(2017.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
収穫後のイチゴ果実の加熱工程を伴う加工後に、イチゴ果実の軟化と退色のいずれも抑制するイチゴ果実の処理方法であって、収穫後のイチゴ果実に（a）酢酸製剤処理とカルシウム製剤処理を独立にかつ連続して行うか、又は同時に行い、その後、（b）油脂によるイチゴ果実表面の被覆処理を行い、さらに６０℃以上で加熱を行うことを含む処理方法。
【請求項２】
酢酸製剤処理を行った後に、カルシウム製剤処理を行い、さらにその後に油脂によるイチゴ果実表面の被覆処理を行う請求項１記載の処理方法。
【請求項３】
酢酸製剤の主要構成成分が、醸造酢であり、pHが３．０〜５．０である請求項１又は２に記載の処理方法。
【請求項４】
カルシウム製剤が酢酸カルシウム製剤である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の処理方法。
【請求項５】
油脂が、飽和脂肪酸の含有率が５０％以上の油脂である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の処理方法。
【請求項６】
油脂がカカオバターである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の処理方法。
【請求項７】
退色がイチゴ果実の赤色の退色である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の処理方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法により調製された、加熱工程を伴う加工後に、イチゴ果実の軟化と退色のいずれもが抑制される、イチゴ果実。
【請求項９】
請求項８記載のイチゴ果実を用い、加熱工程を伴う工程により調製した加工食品。
【請求項１０】
ゼリー食品である、請求項９記載の加工食品。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月4日(2017.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置であって、
植物の画像を捕捉しかつ植物を位置決めするように構成される三次元イメージャであって、第１のスペクトル領域と関連付けられた第１のチャネルと、第２のスペクトル領域と関連付けられた第２のチャネルとを少なくとも有するマルチスペクトルイメージャを備える三次元イメージャと、
前記第１のチャネルから得られる情報を前記第２のチャネルから得られる情報と比較すると共に、前記捕捉された植物画像及び前記比較に基づいて、必要な植物と不要な植物とを区別するように構成される画像プロセッサと、
前記不要な植物を損傷するに足るパワーを有するレーザビームを放射するように構成される少なくとも１つのレーザデバイスと、
少なくとも１つのレーザビームを前記不要な植物へと方向づけるように構成されるレーザビーム・コントローラと、
前記三次元イメージャ、前記レーザデバイスおよび前記レーザビーム・コントローラを支持するように構成されかつあるエリアに渡って動かされるように構成されるシャーシとを備える装置。
【請求項２】
前記三次元イメージャは、三角測量を用いて植物を位置決めする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記三次元イメージャは、少なくとも２つのカメラを含むステレオ・カメラ・システムを備える、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記三次元イメージャは、単ビームまたはマルチビーム・レーザ・スキャナおよび１つのカメラを含む走査システムを備える、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記三次元イメージャは、単ビームまたはマルチビーム・スキャナおよび１つのステレオカメラを含む走査システムを備え、前記ステレオカメラは、２つのカメラを含む、請求項２に記載の装置。
【請求項６】
前記三次元イメージャは、三次元構造式照明装置と、少なくとも１つのカメラとを備える、請求項２に記載の装置。
【請求項７】
前記三次元イメージャは、飛行時間測定システムを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記飛行時間測定システムは、フォトニック・ミキサ・デバイス・センサと変調光源とを備える、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記三次元イメージャは、撮像レンズと二次元センサアレイとを備える、請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記三次元イメージャは、１つまたは複数の走査ビームを有する光源と、集光光学系と、１つまたは複数の検出器とを備える、請求項７に記載の装置。
【請求項１１】
前記レーザデバイスは、半導体レーザのアレイを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記レーザデバイスは、約４３０ｎｍから約４７５ｎｍまで、または約６５０ｎｍから約６７５ｎｍまでの波長を有するレーザビームを放射するように構成された少なくとも１つの半導体レーザを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記レーザビーム・コントローラは、少なくとも１つのガルボミラーを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記少なくとも１つのガルボミラーは、二軸ＭＥＭＳガルボミラーを備える、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記シャーシにより支持される前記三次元イメージャ、前記レーザデバイスおよび前記レーザビーム・コントローラは、全三次元式の検出および調整を行なうことができる、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
切削手段を含む芝刈り機と、
請求項１に記載の装置と、
を備え、前記シャーシは、前記芝刈り機に機械的に結合されている、芝刈りシステム。
【請求項１７】
前記切削手段は、機械式または電気光学式である、請求項１６に記載の芝刈りシステム。
【請求項１８】
前記芝刈り機は、前記三次元イメージャ、前記画像プロセッサ、前記少なくとも１つのレーザデバイスおよび前記レーザビーム・コントローラのうちの少なくとも１つを駆動するパワーを発生する、請求項１６に記載の芝刈りシステム。
【請求項１９】
前記装置は芝刈り機であり、前記レーザビームは草木を刈ると共に不要な植物を損傷するように構成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項２０】
不要な植物を除去する方法であって、
第１のスペクトル領域と関連付けられた第１のチャネルと、第２のスペクトル領域と関連付けられた第２のチャネルとを少なくとも有するマルチスペクトルイメージャを備える三次元イメージャを用いて植物画像を捕捉することと、
前記第１のチャネルから得られる情報を前記第２のチャネルから得られる情報と比較することと、
前記植物画像及び前記比較に基づいて、必要な植物と不要な植物とを区別することと、
少なくとも１つのレーザデバイスからのレーザビームを前記不要な植物へと方向づけることと、
前記不要な植物を前記レーザビームで損傷することとを含む方法。
【請求項２１】
少なくとも１つのレーザビームを前記不要な植物へと方向づけるように構成されるレーザビーム・コントローラを提供することを更に含む、請求項２０に記載の不要な植物を除去する方法。
【請求項２２】
前記三次元イメージャ、前記少なくとも１つのレーザデバイスおよび前記レーザビーム・コントローラをシャーシ上へ搭載することを更に含む、請求項２１に記載の不要な植物を除去する方法。
【請求項２３】
農圃または芝地に渡って前記シャーシを移動させることを更に含む、請求項２２に記載の不要な植物を除去する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月28日(2016.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用者の臀部の水分を拭き取るための拭き取り装置であって、前記拭き取り装置は、
水分拭き取り材を保持可能なヘッドと、
前記ヘッドが設けられたアームと、
略水平方向を向いた軸線回りに前記アームを回転させるアーム回転駆動部と
を備え、
前記ヘッドは、前記軸線に対して直交する方向に形成されている、拭き取り装置。
【請求項２】
前記アームは、
前記軸線上に設けられた第１アーム部と、
前記第１アーム部の一部から、前記軸線に直交する方向に延びた第２アーム部と
を有し、
前記ヘッドは、前記第２アーム部に設けられている、請求項１に記載の拭き取り装置。
【請求項３】
前記第１アーム部および前記第２アーム部は、相互に一体成形されている、請求項２に記載の拭き取り装置。
【請求項４】
前記ヘッドの長手方向軸が、前記軸線に直交する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の拭き取り装置。
【請求項５】
前記アーム回転駆動部が前記アームを前記軸線回りで回転させることによって起き上がる前記ヘッドの起き上がり角度は、０°〜６０°である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の拭き取り装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月15日(2017.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
煙道ガス（ＦＧ）から粒子を除去するように構成された粒子収集装置（２４）と、酸性液体を生成する海水煙道ガス脱硫装置（２８）と、触媒ユニット（８０）と、前記触媒ユニット（８０）に流体的に接続された海水エアレーション槽（５６）とを備える装置であって、
前記粒子収集装置（２４）で除去された粒子がダクト（８２）を通して前記触媒ユニット（８０）に供給され、
前記煙道ガス脱硫装置（２８）で生成した酸性液体の一部が流入口（５４ａ）を介して前記触媒ユニット（８０）に供給され、
前記触媒ユニット（８０）が、酸性液体と前記粒子収集装置（２４）から供給される粒子とを周期的に受け取って、前記粒子から前記酸性液体中に触媒剤を浸出させて触媒濃厚液体を生成するように構成されており、
前記海水エアレーション槽（５６）が、前記触媒ユニット（８０）からの前記触媒濃厚液体と前記海水煙道ガス脱硫装置（２８）から供給される分流海水とを受け取って、受け取った分流海水中の亜硫酸イオンを不活性の硫酸イオンへ酸化させる反応を触媒して、処理海水を生成するように構成されている、装置。
【請求項２】
前記触媒ユニット（８０）内に攪拌器が設けられており、前記攪拌器は前記酸性液体と前記粒子とを混合及び攪拌して、前記粒子からの前記触媒剤の浸出を促進させるように構成されている、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記触媒ユニット（８０）で受け取られて混合された前記酸性液体及び前記粒子は、約１分間から約２０分間までの期間、前記粒子からの前記触媒剤の浸出のために保持される、請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記粒子は塵芥を含む、請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記触媒剤は、鉄もしくはマンガン又はこれらの組み合わせを含む、請求項１記載の装置。
【請求項６】
前記海水煙道ガス脱硫装置（２８）から前記触媒ユニット（８０）に供給される前記酸性液体の割合が１０％以下である、請求項１記載の装置。
【請求項７】
さらに、前記海水エアレーション槽（５６）から供給される前記処理海水を受け取る中和槽（７０）が設けられており、前記中和槽（７０）は、当該中和槽（７０）へ供給される中和剤に前記処理海水を接触させてこれを中和し、中和海水を取得するように構成されている、請求項１記載の装置。
【請求項８】
前記処理海水の中和に用いられる前記中和剤は、石灰石もしくは新鮮海水又はこれらの組み合わせを含む、請求項１記載の装置。
【請求項９】
煙道ガス（ＦＧ）から粒子を除去するように構成された粒子収集装置（２４）と、酸性液体を生成する海水煙道ガス脱硫装置（２８）と、触媒ユニット（８０）と、前記触媒ユニット（８０）に流体的に接続された海水エアレーション槽（５６）とを設け、
前記粒子収集装置（２４）で除去された粒子を、ダクト（８２）を通して前記触媒ユニット（８０）に供給し、
前記煙道ガス脱硫装置（２８）で生成した酸性液体の一部を、流入口（５４ａ）を介して前記触媒ユニット（８０）に供給し、
前記触媒ユニット（８０）で、酸性液体と粒子収集装置（２４）から供給される粒子とを周期的に受け取って、前記粒子から前記酸性液体中に触媒剤を浸出させて触媒濃厚液体を生成させ、
前記海水エアレーション槽（５６）で、前記触媒ユニット（８０）からの前記触媒濃厚液体と海水煙道ガス脱硫装置（２８）から供給される分流海水とを受け取って、受け取った分流海水中の亜硫酸イオンを不活性の硫酸イオンにする反応を触媒して、処理海水を生成させる、
ことを特徴とする方法。
【請求項１０】
前記触媒ユニット（８０）内に攪拌器を設け、前記攪拌器により、前記酸性液体と前記粒子とを混合及び攪拌して、前記粒子からの前記触媒剤の浸出を促進させる、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記触媒ユニット（８０）で受け取られて混合された前記酸性液体と前記粒子とを、約１分間から約２０分間までの期間、前記粒子からの前記触媒剤の浸出のために保持する、請求項９記載の方法。
【請求項１２】
前記粒子は塵芥を含む、請求項９記載の方法。
【請求項１３】
前記触媒剤は、鉄もしくはマンガン又はこれらの組み合わせを含む、請求項９記載の方法。
【請求項１４】
前記海水煙道ガス脱硫装置（２８）から前記触媒ユニット（８０）に供給される前記酸性液体の割合が１０％以下である、請求項９記載の方法。
【請求項１５】
さらに中和槽（７０）を設け、前記中和槽（７０）により、前記海水エアレーション槽（５６）から供給される前記処理海水を受け取り、前記処理海水を中和するために、当該中和槽（７０）へ供給される中和剤に前記処理海水を接触させて中和海水を取得する、なお、前記中和剤は石灰石もしくは新鮮海水又はこれらの組み合わせを含む、請求項９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月7日(2017.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処方データに基づいて生成される調製用のデータ又は前記処方データそのものである、調製データに示された薬品情報に対応する薬剤を既定量の前記薬剤が収容された一又は複数の薬剤容器から輸液容器に注入する混注処理で使用される前記薬剤容器に前記薬剤が残存するか否かを判断する判断手段と、
前記混注処理の対象となる前記調製データの選択候補のうち前記判断手段により過去の前記混注処理で前記薬剤容器に残存すると判断された残存薬剤と同種の薬剤に対応する薬品情報を含む調製データを表示手段に表示させる表示制御手段と、
前記残存薬剤と同種の薬剤に対応する薬品情報を含む前記調製データが前記混注処理の対象として選択され且つ予め設定された使用条件を満たす場合に前記混注処理において前記残存薬剤を使用する残薬使用手段と、
を備える混注管理装置。
【請求項２】
前記使用条件が、前記残存薬剤について予め設定された使用期限が経過していないことを少なくとも含む請求項１に記載の混注管理装置。
【請求項３】
前記混注処理の実行後の前記薬剤容器内の前記残存薬剤の残量を検出する残量検出手段を備え、
前記使用条件が、前記調製データ及び前記薬剤容器の前記既定量に基づいて算出される前記薬剤容器内の前記残存薬剤の残量と前記残量検出手段により検出される前記薬剤容器内の前記残存薬剤の残量との差が予め設定された範囲内であることを含む請求項１又は２に記載の混注管理装置。
【請求項４】
前記判断手段が、次の実行対象として選択された前記調製データに基づく前記混注処理の実行前に、当該調製データ及び前記薬剤容器の前記既定量に基づいて、当該調製データに基づく前記混注処理が行われた場合に前記薬剤容器に前記薬剤が残存するか否かを判断する請求項１〜３のいずれかに記載の混注管理装置。
【請求項５】
前記混注処理の実行後の前記薬剤容器内の前記残存薬剤の重量を検出する残量検出手段を備え、
前記判断手段が、前記残量検出手段により検出される前記薬剤容器内の前記残存薬剤の残量に基づいて前記薬剤容器に前記薬剤が残存するか否かを判断する請求項１〜３のいずれかに記載の混注管理装置。
【請求項６】
薬剤の種類ごとの前記既定量を示す既定量情報が記憶された既定量情報記憶手段を備え
、
前記判断手段が、前記調製データに基づく前記薬剤の払出量と前記既定量記憶手段に記憶された前記既定量情報とに基づいて前記薬剤容器に前記薬剤が残存するか否かを判断する請求項１〜５のいずれかに記載の混注管理装置。
【請求項７】
前記判断手段により前記薬剤容器に残存すると判断された前記残存薬剤の残量が記憶される残量記憶手段と、
前記調製データに基づく前記薬剤の払出量と前記残量記憶手段に記憶された前記残存薬剤の残量とに基づいて不足する前記薬剤の量又は前記薬剤容器の数を表示する不足量表示手段と、
を備える請求項１〜６のいずれかに記載の混注管理装置。
【請求項８】
前記残存薬剤が使用された後、前記調製データに基づく前記薬剤の払出量に応じて装填された前記薬剤容器のうち未使用の前記薬剤容器を予め定められた返却口から返却する返却処理手段を備える請求項１〜７のいずれかに記載の混注管理装置。
【請求項９】
前記表示制御手段が、前記残存薬剤が複数の薬剤又は溶媒の混合薬剤である場合には、前記混合薬剤と成分及び混合比率が同じ混合薬剤に対応する薬品情報を含む調製データを表示させるものである請求項１〜８のいずれかに記載の混注管理装置。
【請求項１０】
コンピュータに、処方データに基づいて生成される調製用のデータ又は前記処方データそのものである、調製データに示された薬品情報に対応する薬剤を既定量の前記薬剤が収容された一又は複数の薬剤容器から輸液容器に注入する混注処理で使用される前記薬剤容器に前記薬剤が残存するか否かを判断する判断ステップと、
前記混注処理の対象となる前記調製データの選択候補のうち前記判断ステップにより過去の前記混注処理で前記薬剤容器に残存すると判断された残存薬剤と同種の薬剤に対応する薬品情報を含む調製データを表示手段に表示させる表示制御ステップと、
前記残存薬剤と同種の薬剤に対応する薬品情報を含む前記調製データが前記混注処理の対象として選択され且つ予め設定された使用条件を満たす場合に前記混注処理において前記残存薬剤を使用する残薬使用ステップと、
を実行させるための混注管理プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月23日(2017.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力電流をモータ巻線に供給するＰＴＣ始動装置であって、
ハウジングと、
制御用ＰＴＣサーミスタと、
起動用ＰＴＣサーミスタと、
トライアック装置とを含み、
前記制御用ＰＴＣサーミスタ、前記起動用ＰＴＣサーミスタおよび前記トライアック装置が、前記ハウジング内に配置され、前記起動用ＰＴＣサーミスタが前記トライアック装置と直列に接続され、前記入力電流が前記起動用ＰＴＣサーミスタおよび前記トライアック装置を介して前記モータ巻線に流れ、前記制御用ＰＴＣサーミスタの第１の電極が前記トライアック装置のゲート（Ｇ）に接続され、前記制御用ＰＴＣサーミスタの第２の電極が前記起動用ＰＴＣサーミスタと前記トライアック装置とを電気的に接続する中間のノードに接続され、前記制御用ＰＴＣサーミスタが前記中間のノードから前記トライアック装置のゲートに制御電流を搬送するように動作可能であり、前記モータ巻線に供給される前記入力電流を制御する、ＴＣ始動装置。
【請求項２】
前記制御用ＰＴＣサーミスタの体積が１０ｍｍ３よりも小さい、請求項１に記載のＰＴＣ始動装置。
【請求項３】
前記制御用ＰＴＣサーミスタと前記起動用ＰＴＣサーミスタの間の距離が３ｍｍよりも小さい、請求項１に記載のＰＴＣ始動装置。
【請求項４】
前記制御用ＰＴＣサーミスタの抵抗値が、０．３０Ｗよりも低い安定的な電力で、２５℃よりも低いときに、３０００から６０００Ωであり、
請求項１に記載のＰＴＣ始動装置。
【請求項５】
前記制御用ＰＴＣサーミスタの抵抗値が、前記起動用ＰＴＣサーミスタの抵抗値よりも実質的に高い、請求項１に記載のＰＴＣ始動装置。
【請求項６】
前記起動用ＰＴＣサーミスタの抵抗値が、３Ｗよりも低い安定的な電力で、２５℃よりも低いときに、３．９から６８Ωである、請求項１に記載のＰＴＣ始動装置。
【請求項７】
前記制御用ＰＴＣサーミスタの体積が３０ｍｍ３よりも小さく、前記制御用ＰＴＣサーミスタと前記起動用ＰＴＣサーミスタの間の距離が５ｍｍよりも小さい、請求項１に記載のＰＴＣ始動装置。
【請求項８】
前記制御用ＰＴＣサーミスタの抵抗値が、０．３０Ｗよりも低い安定的な電力で、２５℃よりも低いときに、３０００から６０００Ωである、請求項２に記載のＰＴＣ始動装置。
【請求項９】
前記制御用ＰＴＣサーミスタの抵抗値が、０．３０Ｗよりも低い安定的な電力で、２５℃よりも低いときに、３０００から６０００Ωである、請求項３に記載のＰＴＣ始動装置。
【請求項１０】
入力電流をモータ巻線に供給する装置であって、
前記モータ巻線への前記入力電流の搬送を制御するためのトライアック（交流用三極管）と、
前記トライアックのゲートに結合され、前記トライアックを介して前記モータ巻線に流れる前記入力電流の大きさを制御する制御用ＰＴＣ（正温度係数）サーミスタと、
前記制御用ＰＴＣサーミスタと熱伝達関係にある起動用ＰＴＣサーミスタであって、前記起動用ＰＴＣサーミスタによって発生される熱が、前記制御用ＰＴＣサーミスタの温度を制御し、前記制御用ＰＴＣサーミスタの温度が前記トライアックを介して前記モータ巻線に流れる前記入力電流の大きさを制御する、装置。
【請求項１１】
前記起動用ＰＴＣサーミスタが前記制御用ＰＴＣサーミスタと直列に配置され、
前記制御用ＰＴＣサーミスタの温度が、前記起動用ＰＴＣサーミスタを介して前記トライアックのゲートに入力される制御電流の大きさを制御する、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記起動用ＰＴＣサーミスタが前記トライアックと直列に配置される、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記トライアックおよび前記起動用ＰＴＣサーミスタを流れる直流回路の経路が、モータの前記モータ巻線を制御する、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記モータ巻線が前記モータの２次巻線であり、前記２次巻線が前記モータの起動期間中に活性化にされる、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記起動用ＰＴＣサーミスタによって発生された熱の前記制御用ＰＴＣヒータへの伝達は、前記直列回路の経路の各抵抗を増大させる、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記直列回路の経路の前記増加した抵抗は、前記トライアックおよび前記２次巻線を通過する電流量を実質的に減少させる、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記制御用ＰＴＣサーミスタおよび前記起動用ＰＴＣサーミスタが暗色の材料によってコーティングされ、前記起動用ＰＴＣサーミスタによって発生された熱の前記制御用ＰＴＣサーミスタへの伝達を容易にする、請求項１０に記載の装置。
【請求項１８】
ＰＴＣ始動装置はさらに、
前記ハウジング内に配置された経路であって、当該経路は、前記起動用ＰＴＣサーミスタから前記制御用ＰＴＣサーミスタへの熱の流れを容易にし、当該熱は、前記制御用ＰＴＣサーミスタに抵抗を増加させ、かつ前記トライアック装置のゲートに入力される制御電流の大きさを減少させ、減少された制御電流の大きさは、前記トライアック装置に前記モータ巻線への前記入力電流の大きさを減少させる、請求項１に記載のＰＴＣ始動装置。
【請求項１９】
前記経路は、前記起動用ＰＴＣサーミスタと前記制御用ＰＴＣサーミスタとの間に配置された窓を通過し、前記起動用ＰＴＣサーミスタを流れる入力電流は、前記起動用ＰＴＣサーミスタに熱を生じさせる、請求項１８に記載のＰＴＣ始動装置。
【請求項２０】
前記起動用ＰＴＣサーミスタから前記制御用ＰＴＣサーミスタへの熱の搬送は、前記制御用ＰＴＣサーミスタの抵抗を増加させ、前記起動用ＰＴＣサーミスタの増加された抵抗は、前記制御用ＰＴＣサーミスタを介して前記トライアックのゲートに搬送される制御電流の大きさを減少させ、前記制御電流の減少された大きさは、前記トライアックを介して前記モータ巻線に供給される入力電流の大きさを減少させる、請求項１１に記載の装置。
【請求項２１】
前記制御用ＰＴＣサーミスタの第１のノードは、前記トライアックのゲートノードに電気的に結合され、前記制御用ＰＴＣサーミスタの第２のノードは、前記トライアックを前記起動用ＰＴＣサーミスタに結合する中間のノードに電気的に結合される、請求項１９に記載のＰＴＣ始動装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月1日(2017.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板乃至第３の基板を有し、
前記第１の基板は、有機樹脂を有し、
前記第２の基板は、有機樹脂を有し、
前記第３の基板は、高分子材料を有し、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に、表示素子が挟まれ、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に、駆動回路として機能するトランジスタが挟まれ、
前記第１の基板は、前記第２の基板と重なった状態で、前記第１の基板の一部が前記第１の基板の他部と向かい合うように折り曲げられ、
前記折り曲げられた第１の基板の内側に、前記第３の基板が配置されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
第１の基板乃至第３の基板を有し、
前記第１の基板は、有機樹脂を有し、
前記第２の基板は、有機樹脂を有し、
前記第３の基板は、高分子材料を有し、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に、表示素子が挟まれ、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に、駆動回路として機能するトランジスタが挟まれ、
前記第１の基板は、前記第２の基板と重なった状態で、前記第１の基板の一部が前記第１の基板の他部と向かい合うように折り曲げられ、
前記折り曲げられた第１の基板の内側に、前記第３の基板が配置され、
前記折り曲げられた領域の曲率半径は、前記第３の基板の厚みより大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
第１の基板乃至第３の基板を有し、
前記第１の基板は、有機樹脂を有し、
前記第２の基板は、有機樹脂を有し、
前記第３の基板は、高分子材料を有し、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に、表示素子が挟まれ、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に、駆動回路として機能するトランジスタが挟まれ、
前記第１の基板は、前記第２の基板と重なった状態で、前記第１の基板の一部と前記第１の基板の他部と向かい合うように折り曲げられ、
前記折り曲げられた第１の基板の内側に、前記第３の基板が配置され、
前記向かい合った第１の基板の間の距離は、前記第３の基板の厚みより大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
第１の有機樹脂と第２の有機樹脂との間に、表示素子が挟まれ、
前記第１の有機樹脂と前記第２の有機樹脂との間に、駆動回路として機能するトランジスタが挟まれ、
前記第１の有機樹脂は、前記第２の有機樹脂と重なった状態で、前記第１の有機樹脂の一部が前記第１の有機樹脂の他部と向かい合うように折り曲げられ、
前記折り曲げられた第１の有機樹脂の内側に、高分子材料が配置されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
第１の有機樹脂と第２の有機樹脂との間に、表示素子が挟まれ、
前記第１の有機樹脂と前記第２の有機樹脂との間に、駆動回路として機能するトランジスタが挟まれ、
前記第１の有機樹脂は、前記第２の有機樹脂と重なった状態で、前記第１の有機樹脂の一部が前記第１の有機樹脂の他部と向かい合うように折り曲げられ、
前記折り曲げられた第１の有機樹脂の内側に、高分子材料が配置され、
前記折り曲げられた領域の曲率半径は、前記高分子材料の厚みより大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
第１の有機樹脂と第２の有機樹脂との間に、表示素子が挟まれ、
前記第１の有機樹脂と前記第２の有機樹脂との間に、駆動回路として機能するトランジスタが挟まれ、
前記第１の有機樹脂は、前記第２の有機樹脂と重なった状態で、前記第１の有機樹脂の一部が前記第１の有機樹脂の他部と向かい合うように折り曲げられ、
前記折り曲げられた第１の有機樹脂の内側に、高分子材料が配置され、
前記向かい合った第１の有機樹脂の間の距離は、前記高分子材料の厚みより大きいことを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月11日(2017.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像素子からの出力信号から特定の被写体を検出する被写体検出手段と、
前記撮像素子からの出力信号における焦点検出エリアを設定する設定手段と、
前記焦点検出エリアの前記出力信号に応じて合焦状態を調節する焦点調節手段と、
前記焦点検出エリアの位置の指示を受け付ける受付手段と、を有し、
画像のアスペクト比が互いに異なる第１の撮像モード及び第２の撮像モードを備えた撮像装置であって、
前記設定手段は、前記第１の撮像モードにおいて前記受付手段によって前記焦点検出エリアの指示を受け付けた後に前記第２の撮像モードが開始された場合、前記第２の撮像モードとなった後に前記被写体検出手段により特定の被写体が検出されるまで、前記第１の撮像モードにおいて設定された焦点検出エリアの位置に基づいて前記第２の撮像モードにおける焦点検出エリアを設定することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記設定手段は、前記第１の撮像モードにおいて前記受付手段によって前記焦点検出エリアの指示を受け付けた後に前記第２の撮像モードが開始された場合、前記第２の撮像モードとなった後に前記被写体検出手段により特定の被写体が検出されるまで、前記第１の撮像モードにおいて設定された焦点検出エリアの位置を維持することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記第１の撮像モードは、静止画撮像モードであり、前記第２の撮像モードは、動画撮像モードであることを特徴とする請求項１又は２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記第１の撮像モードは、撮影を待機する撮像モードであり、前記第２の撮像モードは、動画を記録する撮像モードであることを特徴とする請求項１又は２に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記設定手段は、前記第１の撮像モードにおいて設定された焦点検出エリアが前記第２の撮像モードが開始された後の画角内に収まらない場合、前記第１の撮像モードにおいて設定された焦点検出エリアを前記画角内に移動させることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記被写体検出手段は、特定の被写体の信頼性と、閾値とを比較して、閾値よりも信頼性が高い場合に、特定の被写体が検出できたと判定し、
前記第２の撮像モードの前記閾値は、前記第１の撮像モードの閾値よりも大きいことを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記受付手段は、タッチパネルであることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記特定の被写体は、顔であることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記設定手段は、前記第２の撮像モードが停止される前に前記受付手段によって前記焦点検出エリアの指示を受け付けた後に前記第１の撮像モードとなった場合、前記第１の撮像モードとなった後に前記被写体検出手段により特定の被写体が検出されるまで、前記第２の撮像モードにおいて設定された焦点検出エリアの位置を維持することを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
撮像素子からの出力信号から特定の被写体を検出する被写体検出工程と、
前記撮像素子からの出力信号における焦点検出エリアを設定する設定工程と、
前記焦点検出エリアの前記出力信号に応じて合焦状態を調節する焦点調節工程と、
前記焦点検出エリアの位置の指示を受け付ける受付工程と、を有し、
画像のアスペクト比が互いに異なる第１の撮像モード及び第２の撮像モードを備えた撮像方法であって、
前記設定工程では、前記第１の撮像モードにおいて前記受付工程で前記焦点検出エリアの指示を受け付けた後に前記第２の撮像モードが開始された場合、前記第２の撮像モードとなった後に前記被写体検出工程により特定の被写体が検出されるまで、前記第１の撮像モードにおいて設定された焦点検出エリアの位置に基づいて前記第２の撮像モードにおける焦点検出エリアを設定することを特徴とする撮像方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の撮像装置は、撮像素子からの出力信号から特定の被写体を検出する被写体検出手段と、前記撮像素子からの出力信号における焦点検出エリアを設定する設定手段と、前記焦点検出エリアの前記出力信号に応じて合焦状態を調節する焦点調節手段と、前記焦点検出エリアの位置の指示を受け付ける受付手段と、を有し、画像のアスペクト比が互いに異なる第１の撮像モード及び第２の撮像モードを備えた撮像装置であって、前記設定手段は、前記第１の撮像モードにおいて前記受付手段によって前記焦点検出エリアの指示を受け付けた後に前記第２の撮像モードが開始された場合、前記第２の撮像モードとなった後に前記被写体検出手段により特定の被写体が検出されるまで、前記第１の撮像モードにおいて設定された焦点検出エリアの位置に基づいて前記第２の撮像モードにおける焦点検出エリアを設定することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月7日(2017.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示パネルと、部材と、第１の固定部と、第２の固定部と、巻き取り部と、を有し、
前記表示パネルは、折り曲げない状態で画像を表示する第１の状態と、折り曲げた状態で画像を表示する第２の状態と、を選択することができる機能を有し、
前記表示パネルは、前記第１の固定部及び前記第２の固定部に固定され、
前記部材の一端は、前記第１の固定部に固定され、
前記部材の他端は、前記巻き取り部と接続され、
前記巻き取り部は、前記部材の他端から前記部材を巻き取ることができる機能を有し、
前記部材が巻き取られることによって、前記表示パネルが折り曲げられ、
巻き取られた前記部材を前記巻き取り部から引き出すことによって、前記表示パネルを広げることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
表示パネルと、部材と、第１の固定部と、第２の固定部と、巻き取り部と、を有し、
前記表示パネルは、折り曲げない状態で画像を表示する第１の状態と、３つに折り曲げた状態で画像を表示する第２の状態と、を選択することができる機能を有し、
前記表示パネルは、前記第１の固定部及び前記第２の固定部に固定され、
前記部材の一端は、前記第１の固定部に固定され、
前記部材の他端は、前記巻き取り部と接続され、
前記巻き取り部は、前記部材の他端から前記部材を巻き取ることができる機能を有し、
前記部材が巻き取られることによって、前記表示パネルが折り曲げられ、
巻き取られた前記部材を前記巻き取り部から引き出すことによって、前記表示パネルを広げることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記部材は、タッチパネルとしての機能を有することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記部材は、前記表示パネルを保護する機能を有することを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月4日(2017.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配電網（１０）のための故障位置特定システム（１８）であって、
電流および電圧を感知する、前記配電網（１０）上に配置された少なくとも１つのセンサと、
故障位置評価装置（１９）と、
を備え、
前記故障位置評価装置（１９）が、
前記配電網（１０）内で可能な電力流路（ＰＰＦＰ）を１つずつ選択するためのＰＰＦＰ選択ユニット（１９２）と、
選択されたそれぞれの前記ＰＰＦＰ内の線路区間を１つずつ選択するための線路区間選択ユニット（１９３）と、
選択された前記ＰＰＦＰに基づいて、選択された線路区間の各々を対応する等価故障モデル（６１−６８）に分類するための線路区間分類ユニット（１９４）と、
前記対応する等価故障モデル（６１−６８）に基づいて前記選択された線路区間の各々の想定故障点の故障距離「Ｄ」および故障抵抗「ＲF」を計算するための故障位置パラメータ計算ユニット（１９５）と、
ＲF≧０、０≦Ｄ≦ＤTである場合に、ここで「ＤT」は前記対応する線路区間の合計長である、故障位置候補として前記想定故障点を記録するための故障位置候補記録ユニット（１９６）と、
を備える、
故障位置特定システム（１８）。
【請求項２】
前記対応する線路区間が少なくとも２つのＰＰＦＰに属する場合に前記故障距離「Ｄ」は少なくとも２つの計算された故障距離「Ｄ」の平均値である、請求項１に記載の故障位置特定システム（１８）。
【請求項３】
前記等価故障モデル（６１−６８）は少なくとも１つのセンサ点、故障点、故障抵抗、および異なる線路区間に対応する線路インピーダンスを備える、請求項１に記載の故障位置特定システム（１８）。
【請求項４】
前記故障距離「Ｄ」および故障抵抗「ＲF」はオームの法則の式、前記少なくとも１つのセンサからの前記感知された電流および電圧、および前記対応する等価故障モデル（６１−６８）における所定のパラメータに基づいて計算される、請求項３に記載の故障位置特定システム（１８）。
【請求項５】
前記少なくとも１つのセンサは前記配電網（１０）を前記少なくとも２つの領域に均等に分割する、請求項１に記載の故障位置特定システム（１８）。
【請求項６】
配電網（１０）のための故障位置特定方法（２０）であって、
少なくとも１つのセンサを用いて、前記配電網（１０）の少なくとも１つの位置における電流および電圧を感知するステップと、
前記配電網（１０）内で可能な電力流路（ＰＰＦＰ）を１つずつ選択するステップと、
選択されたぞれぞれの前記ＰＰＦＰ内で、線路区間を１つずつ選択するステップと、
選択された前記ＰＰＦＰに基づいて、選択された線路区間の各々を対応する等価故障モデル（６１−６８）に分類するステップと、
前記対応する等価故障モデル（６１−６８）に基づいて前記選択された線路区間の各々の想定故障点の故障距離「Ｄ」および故障抵抗「ＲF」を計算するステップと、
ＲF≧０および０≦Ｄ≦ＤTである場合に、ここで「ＤT」は前記対応する線路区間の合計長である、故障位置候補として前記想定故障ポイントを記録するステップと、
を含む、故障位置特定方法（２０）。
【請求項７】
前記対応する線路区間が少なくとも２つのＰＰＦＰに属する場合に前記故障距離「Ｄ」は少なくとも２つの計算された故障距離「Ｄ」の平均値である、請求項６に記載の故障位置特定方法（２０）。
【請求項８】
前記等価故障モデル（６１−６８）は少なくとも１つのセンサ点、故障点、故障抵抗、および異なる線路区間に対応する線路インピーダンスを備える、請求項６に記載の故障位置特定方法（２０）。
【請求項９】
前記故障距離「Ｄ」および故障抵抗「ＲF」はオームの法則の式、前記感知された電流および電圧、および対応する等価故障モデル（６１−６８）における所定のパラメータに基づいて計算される、請求項８に記載の故障位置特定方法（２０）。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの位置は前記配電網（１０）を前記少なくとも２つの領域に均等に分割する、請求項６に記載の故障位置特定方法（２０）。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月11日(2017.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光素子
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
制御パルス信号を供給することができる駆動回路と、
前記制御パルス信号が供給され、定電流パルスを供給することができる定電流電源と、
前記定電流パルスが供給される発光パネルと、を有し、
前記駆動回路は、スタート信号を供給することができるスタートスイッチ回路と、パルス間隔変調信号を供給することができるパルス間隔変調回路と、前記スタート信号及び前記パルス間隔変調信号が供給され、前記制御パルス信号を供給することができるマイコンと、を有する、発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月26日(2017.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】正極活物質、二次電池、および電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｌｉ２Ｍｎ１−ＸＡＸＯ３で表される材料を用いた正極活物質であって、
Ａは、Ｇａ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｃｕ、またはＰであり、
Ｘが０より大きく、かつ１より小さいことを特徴とする正極活物質。
【請求項２】
ＬｉＹＭｎ１−ＸＡＸＯ３で表される材料を用いた正極活物質であって、
Ａは、Ｇａ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｃｕ、またはＰであり、
Ｘが０より大きく、かつ１より小さく、
Ｙが０以上、２以下であることを特徴とする正極活物質。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、Ｘが０．１であることを特徴とする正極活物質。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、前記正極活物質を用いた二次電池。
【請求項５】
請求項４において、前記二次電池を有する電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月26日(2017.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置及びその作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート絶縁膜と、
酸化物半導体膜と、
保護膜と、
を有し、
前記酸化物半導体膜は、前記ゲート絶縁膜及び前記保護膜の間に設けられ、
前記ゲート絶縁膜または前記保護膜のうち少なくとも一方は、電子スピン共鳴スペクトルで得られるスピン密度が１×１０１７ｓｐｉｎｓ／ｃｍ３以上１×１０１８ｓｐｉｎｓ／ｃｍ３未満であることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記スピン密度は、窒素酸化物に起因することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記窒素酸化物は、一酸化窒素または二酸化窒素であることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
ゲート絶縁膜と、
酸化物半導体膜と、
保護膜と、
を有し、
前記酸化物半導体膜は、前記ゲート絶縁膜及び前記保護膜の間に設けられ、
前記ゲート絶縁膜または前記保護膜のうち少なくとも一方は、
水素濃度は、１×１０２１ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上３×１０２１ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下であり、
窒素濃度は、１×１０２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上４×１０２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下であり、
炭素濃度は、ＳＩＭＳ分析の検出下限以上６×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下であり、
フッ素濃度は、７×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上２×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下であることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記酸化物半導体膜は、インジウム、ガリウム、及び亜鉛を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記酸化物半導体膜は、インジウム、錫、及び亜鉛を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
ゲート絶縁膜と、
酸化物半導体膜と、
保護膜と、
を有し、
前記酸化物半導体膜は、前記ゲート絶縁膜及び前記保護膜の間に設けられた半導体装置の作製方法であって、
前記ゲート絶縁膜または前記保護膜のうち少なくとも一方を、シリコンを含む堆積性気体、窒素、及びアンモニアを用いてプラズマＣＶＤ法で形成する際、アンモニアに対する窒素の流量比を５以上５０以下とすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月8日(2017.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】信号処理回路
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のバイアス発生回路と、電位保持回路と、増幅回路と、を有し、
前記電位保持回路は、スイッチと、容量素子と、を有し、
前記スイッチは、チャネル形成領域に酸化物半導体を含むトランジスタを有し、
前記電位保持回路は、第１の電位を保持する機能を有し、
前記第１のバイアス発生回路は、前記第１の電位を用いて第２の電位を生成する機能を有し、
前記第２の電位に入力信号の電位が加わることで生成される第３の電位と、前記第２の電位とが、前記増幅回路に供給される信号処理回路。
【請求項２】
第１のバイアス発生回路と、第２のバイアス発生回路と、電位保持回路と、増幅回路と、電源スイッチと、を有し、
前記電位保持回路は、スイッチと、容量素子と、を有し、
前記スイッチは、チャネル形成領域に酸化物半導体を含むトランジスタを有し、
前記電源スイッチは、前記第２のバイアス発生回路への電力の供給を制御する機能を有し、
前記第２のバイアス発生回路は、第１の電位を生成する機能を有し、
前記電位保持回路は、前記第１の電位を保持する機能を有し、
前記第１のバイアス発生回路は、前記第１の電位を用いて第２の電位を生成する機能を有し、
前記第２の電位に入力信号の電位が加わることで生成される第３の電位と、前記第２の電位とが、前記増幅回路に供給される信号処理回路。
【請求項３】
第１のバイアス発生回路と、第２のバイアス発生回路と、電位保持回路と、増幅回路と、電源スイッチと、を有し、
前記電位保持回路は、スイッチと、容量素子と、を有し、
前記スイッチは、チャネル形成領域に酸化物半導体を含むトランジスタを有し、
前記電源スイッチは、前記第２のバイアス発生回路への電力の供給を制御する機能を有し、
前記第２のバイアス発生回路は、第１の電位を生成する機能を有し、
前記電位保持回路は、前記第１の電位を保持する機能を有し、
前記第１のバイアス発生回路は、前記第１の電位を用いて第２の電位を生成する機能を有し、
前記第２の電位に入力信号の電位が加わることで生成される第３の電位と、前記第２の電位とが、前記増幅回路に供給される信号処理回路であって、
第１の期間を有し、
前記第１の期間において、前記スイッチがオフであり、かつ、前記電源スイッチがオフである信号処理回路。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
第３のバイアス発生回路を有し、
前記第３のバイアス発生回路には、前記電位保持回路から前記第１の電位が供給される信号処理回路。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月24日(2017.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
前記第１の導体部が寄与する動作周波数帯は２．４ＧＨｚ帯であり、
前記第２の導体部が寄与する動作周波数帯は５ＧＨｚ帯である、
ことを特徴とする請求項１３に記載のアンテナ。