【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年12月8日(2016.12.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
フォトレジスト組成物であって、
１００モル％の全繰り返し単位に基づいて、５０〜１００モル％の光酸発生繰り返し単位を含む第１のポリマーであって、前記光酸発生繰り返し単位の各々が、アニオン、光酸発生カチオン、及び塩基溶解度向上官能基を含み、前記アニオンまたは前記光酸発生カチオンのいずれかが、ポリマー結合され、前記塩基溶解度向上官能基が、第３級カルボン酸エステル、第２級炭素が少なくとも１つの非置換もしくは置換Ｃ６−４０アリールで置換されている第２級カルボン酸エステル、アセタール、ケタール、ラクトン、スルトン、アルファ−フッ素化エステル、ベータ−フッ素化エステル、アルファ，ベータ−フッ素化エステル、ポリアルキレングリコール、アルファ−フッ素化アルコール、及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、前記光酸発生カチオンが、構造（Ｉ）
【化１】
2016081053.tif 000001
を有し、式中、
ｑが、各光酸発生繰り返し単位において独立して、０、１、２、３、４、または５であり、
ｒが、各光酸発生繰り返し単位において各出現時に独立して、０、１、２、３、または４であり、
Ｒ１が、各光酸発生繰り返し単位において各出現時に独立して、ハロゲン、非置換もしくは置換Ｃ１−４０ヒドロカルビル、または非置換もしくは置換Ｃ１−４０ヒドロカルビレンであり、
ｍが、各光酸発生繰り返し単位において独立して、０または１であり、
Ｘが、各光酸発生繰り返し単位において独立して、一重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（Ｒ２）２−、−Ｃ（Ｒ２）（ＯＨ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）−、または−Ｓ（＝Ｏ）２−であり、式中、Ｒ２が、各出現時に独立して、水素またはＣ１−１２ヒドロカルビルであり、
Ｚ−が、遊離または一価モノアニオンである、第１のポリマーと、
酸の作用下でアルカリ現像液中での溶解度の変化を呈する、第２のポリマーと、を含む、前記フォトレジスト組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項９】
前記第１のポリマーの前記光酸発生繰り返し単位の各々が、構造
【化４】
2016081053.tif 000002
を有し、式中、
Ｒ３が、前記光酸発生繰り返し単位の各々において独立して、水素またはメチルであり、
Ｌ２が、前記光酸発生繰り返し単位の各々において−Ｏ−であり、−
Ｌ３が、前記光酸発生繰り返し単位の各々において独立して、非置換もしくは置換Ｃ１−２０ヒドロカルビレンであり、前記置換Ｃ１−２０ヒドロカルビレンが、任意に、−Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−、または−Ｃ（Ｏ）Ｏ−である、１つ以上の鎖内二価ヘテロ原子含有基を含んでもよく、
ｑが、前記光酸発生繰り返し単位の各々において独立して、１、２、または３であり、
ｒが、前記光酸発生繰り返し単位の各々において各出現時に０であり、
前記光酸発生繰り返し単位の各々におけるＲ１の少なくとも１つの出現が、第３級カルボン酸エステル、アセタール、またはケタールを含み、
ｍが、前記光酸発生繰り返し単位の各々において、１であり、
Ｘが、前記光酸発生繰り返し単位の各々において、一重結合であり、
前記第２のポリマーが、１０〜６５モル％の酸不安定繰り返し単位、０〜５０重量％の塩基不安定繰り返し単位、０〜４０モル％の塩基可溶繰り返し単位、及び０〜１５モル％の光酸発生繰り返し単位を含み、
前記フォトレジスト組成物が、乾燥重量に基づいて、
２０〜８０重量％の前記第１のポリマーと、
１０〜６０重量％の前記第２のポリマーと、
０．５〜１０重量％のクエンチャーと、を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の前記フォトレジスト組成物。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
一実施形態は、１００モル％の全繰り返し単位に基づいて、５０〜１００モル％の光酸発生繰り返し単位を含む第１のポリマーであって、光酸発生繰り返し単位の各々が、アニオン、光酸発生カチオン、及び塩基溶解度向上官能基を含み、アニオンまたは光酸発生カチオンのいずれかがポリマー結合され、塩基溶解度向上官能基が、第３級カルボン酸エステル、第２級炭素が少なくとも１つの非置換または置換Ｃ６−４０アリールで置換されている第２級カルボン酸エステル、アセタール、ケタール、ラクトン、スルトン、アルファ−フッ素化エステル、ベータ−フッ素化エステル、アルファ，ベータ−フッ素化エステル、ポリアルキレングリコール、アルファ−フッ素化アルコール、及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、光酸発生カチオンが、構造（Ｉ）
【化１】
2016081053.tif 000003
を有し、式中、ｑが各光酸発生繰り返し単位において独立して、０、１、２、３、４、または５であり、ｒが各光酸発生繰り返し単位において各出現時に独立して、０、１、２、３、または４であり、Ｒ１が各光酸発生繰り返し単位において各出現時に独立して、ハロゲン、非置換もしくは置換Ｃ１−４０ヒドロカルビル、または非置換もしくは置換Ｃ１−４０ヒドロカルビレンであり、ｍが各光酸発生繰り返し単位において独立して、０または１であり、Ｘが各光酸発生繰り返し単位において独立して、一重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（Ｒ２）２−、−Ｃ（Ｒ２）（ＯＨ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）−、または−Ｓ（＝Ｏ）２−であり、式中、Ｒ２が各出現時に独立して、水素またはＣ１−１２ヒドロカルビルであり、Ｚ−が遊離または一価モノアニオンである、第１のポリマーと、酸の作用下でアルカリ現像液中での溶解度の変化を呈する、第２のポリマーと、を含む、フォトレジスト組成物である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
したがって、一実施形態は、１００モル％の全繰り返し単位に基づいて、５０〜１００モル％の光酸発生繰り返し単位を含む第１のポリマーであって、光酸発生繰り返し単位の各々が、アニオン、光酸発生カチオン、及び塩基溶解度向上官能基を含み、アニオンまたは光酸発生カチオンのいずれかがポリマー結合され、塩基溶解度向上官能基が、第３級カルボン酸エステル、第２級炭素が少なくとも１つの非置換または置換Ｃ６−４０アリールで置換されている第２級カルボン酸エステル、アセタール、ケタール、ラクトン、スルトン、アルファ−フッ素化エステル、ベータ−フッ素化エステル、アルファ，ベータ−フッ素化エステル、ポリアルキレングリコール、アルファ−フッ素化アルコール、及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、光酸発生カチオンが、構造（Ｉ）
【化２】
2016081053.tif 000004
を有し、式中、ｑが各光酸発生繰り返し単位において独立して、０、１、２、３、４、または５であり、ｒが各光酸発生繰り返し単位において各出現時に独立して、０、１、２、３、または４であり、Ｒ１が各光酸発生繰り返し単位において各出現時に独立して、ハロゲン、非置換もしくは置換Ｃ１−４０ヒドロカルビル、または非置換もしくは置換Ｃ１−４０ヒドロカルビレンであり、ｍが各光酸発生繰り返し単位において独立して、０または１であり、Ｘが各光酸発生繰り返し単位において独立して、一重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（Ｒ２）２−、−Ｃ（Ｒ２）（ＯＨ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）−、または−Ｓ（＝Ｏ）２−であり、式中、Ｒ２が各出現時に独立して、水素またはＣ１−１２ヒドロカルビルであり、Ｚ−が遊離または一価モノアニオンである、第１のポリマーと、酸の作用下でアルカリ現像液中での溶解度の変化を呈する、第２のポリマーと、を含む、フォトレジスト組成物である。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
光酸発生官能基に加えて、第１のポリマーの各光酸発生繰り返し単位は、塩基溶解度向上官能基を含む。塩基溶解度向上官能基は、塩基溶解性である官能基（例えば、ポリアルキレングリコール、アルファ−フッ素化アルコール）、酸触媒脱保護後に塩基溶解性である官能基（例えば、第３級エステル、アセタール、ケタール、第２級カルボン酸エステルであって、この第２級炭素が少なくとも１つの非置換または置換Ｃ６−４０アリールで置換される）、及び塩基触媒脱保護後に塩基溶解性である官能基（例えば、フッ素化エステル、ラクトン、スルトン）を含む。塩基溶解度向上官能基の例として、第３級カルボン酸エステル、第２級炭素が少なくとも１つの非置換もしくは置換Ｃ６−４０アリールで置換されている第２級カルボン酸エステル、アセタール、ケタール、ラクトン、スルトン、アルファ−フッ素化エステル、ベータ−フッ素化エステル、アルファ，ベータ−フッ素化エステル、ポリアルキレングリコール、アルファ−フッ素化アルコール、及びこれらの組み合わせが挙げられる。いくつかの実施形態では、塩基溶解度向上官能基は、第３級カルボン酸エステル、アセタール、ケタール、ラクトン、またはこれらの組み合わせである。いくつかの実施形態では、塩基溶解度向上官能基は、第３級カルボン酸エステル、ラクトン、またはこれらの組み合わせである。塩基溶解度向上官能基は、アニオンまたは光酸発生カチオン中に存在してもよい。いくつかの実施形態では、塩基溶解度向上官能基は、光酸発生カチオン中に存在する。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
第１のポリマーに加えて、フォトレジスト組成物は、第２のポリマーを含む。第２のポリマーは、酸の作用下でアルカリ現像液中での溶解度の変化を呈する。アルカリ現像液は、例えば、０．２６標準ＴＭＡＨ水溶液であり得る。酸は、フォトレジスト組成物中の光酸発生官能基の活性化放射線への露光により発生し得る。光酸発生官能基は、光酸発生繰り返し単位中に、第２のポリマー中に、または非ポリマー結合光酸発生剤中に存在し得る。第２のポリマーの溶解度の変化は、光発生酸の第２のポリマー中の酸不安定官能基との反応のためであり得る。例えば、第２のポリマーは、第３級カルボン酸エステル、第２級炭素が少なくとも１つの非置換もしくは置換Ｃ６−４０アリールで置換されている第２級カルボン酸エステル、アセタール、ケタール、またはこれらの組み合わせを含んでもよい。第２のポリマーの溶解度のさらなる変化は、第２のポリマー官能基のアルカリ現像液中の塩基でのイオン化またはそれとの反応のためであり得る。例えば、第２のポリマー中の第３級カルボン酸エステルは、酸と反応してカルボン酸及び第３級アルコールを形成することができ、カルボン酸は、塩基と反応してカルボキシレートアニオンを形成することができる。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
第１のポリマー及び第２のポリマーに加えて、フォトレジスト組成物は、任意に、さらに、光破壊可能クエンチャー、光速度及び／もしくは酸拡散を調節するためのアミンもしくはアミド添加剤、溶媒、界面活性剤、またはこれらの組み合わせを含む。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
フォトレジスト組成物は、アミンまたはアミド化合物を含んでもよい。これらの化合物は、「クエンチャー」と呼ばれることもあるが、光破壊可能クエンチャーとは化学的にはっきり異なる。アミンまたはアミド化合物は、Ｃ１−３０有機アミン、イミン、もしくはアミドを含むか、または強塩基（例えば、ヒドロキシドまたはアルコキシド）もしくは弱塩基（例えば、カルボキシレート）のＣ１−３０第４級アンモニウム塩であり得る。アミンまたはアミド化合物の例として、アミン、例えば、トレーガー塩基；ヒンダードアミン、例えば、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）及びジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）；Ｎ−保護アミン、例えば、Ｎ−ｔ−ブチルカルボニル−１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチルアミン；ならびにイオン性化合物、例えば、第４級アルキルアンモニウム塩、例えば、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＢＡＨ）及びテトラブチルアンモニウムラクテートが挙げられる。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
光破壊可能クエンチャーの例として、トリフェニルスルホニウムヒドロキシド、トリフェニルスルホニウム３−ヒドロキシアダマンタンカルボキシレート、トリフェニルスルホニウムカンフルスルホネート、及びｔ−ブチルフェニルジベンゾチオフェニウム１−アダマンタンカルボキシレートが挙げられる。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
フォトレジスト組成物の極めて特定の実施形態では、第１のポリマーの光酸発生繰り返し単位の各々は、構造
【化７】
2016081053.tif 000005
を有し、式中、Ｒ３は光酸発生繰り返し単位の各々において独立して、水素またはメチルであり、Ｌ２は光酸発生繰り返し単位の各々において−Ｏ−であり、Ｌ３は光酸発生繰り返し単位の各々において独立して、非置換または置換Ｃ１−２０ヒドロカルビレンであり、置換Ｃ１−２０ヒドロカルビレンは、任意に、−Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−、または−Ｃ（Ｏ）Ｏ−である１つ以上の鎖内二価ヘテロ原子含有基を含んでもよく、ｑは光酸発生繰り返し単位の各々において独立して、１、２、３、４、または５であり、ｒは光酸発生繰り返し単位の各々において各出現時に０であり、光酸発生繰り返し単位の各々におけるＲ１の少なくとも１つの出現は第３級カルボン酸エステル、アセタール、またはケタールを含み、ｍは光酸発生繰り返し単位の各々において１であり、Ｘは光酸発生繰り返し単位の各々において一重結合であり、第２のポリマーは、１０〜６５モル％の酸不安定繰り返し単位、０〜５０重量％の塩基不安定繰り返し単位、０〜４０モル％の塩基可溶繰り返し単位、及び０〜１５モル％の光酸発生繰り返し単位を含み、フォトレジスト組成物は、乾燥重量に基づいて、２０〜８０重量％の第１のポリマー、１０〜６０重量％の第２のポリマー、及び０．５〜１０重量％のクエンチャーを含む。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６５】
実施例１９
フォトレジスト組成物の調製及び処理。フォトレジスト組成物の調製で使用した非ポリマー光酸発生剤及び光破壊可能クエンチャー（集合的に「添加剤」）を表１に要約する。フォトレジスト組成物を表２に要約する。実施例１９のポジティブ−トーンフォトレジスト組成物を、成分１、乳酸エチル中の実施例１７のポリマーの５．３３ｇの１０重量％溶液；成分２、乳酸エチル中の添加剤Ａ−１の１０．３７３ｇの２重量％溶液；成分３、乳酸エチル中のテトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミンの０．３２０ｇの０．５重量％溶液；成分４、乳酸エチル中の添加剤Ａ−２の０．３５６ｇの２重量％溶液；成分５、乳酸エチル中のフッ素化界面活性剤（Ｏｍｎｏｖａ  ＰＦ６５６）の０．１０７ｇの０．５重量％溶液；成分６、４．７３７ｇの乳酸エチル；及び成分７、８．７７５ｇの２−ヒドロキシイソブチル酸メチルエステルを合わせることにより調製した。調合したレジストを０．０１マイクロメートル（μｍ）のポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）フィルタに通した。このようにして調製したレジストを、シリコンウエハ上にスピンコートし、ソフトベークして、担体溶媒を除去し、フォトマスクを通してＥＵＶ放射線に露光した。次いで、画像化されたレジスト層を１１０℃で６０秒間ベークし、その後、水性アルカリ性組成物で現像した。