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【手続補正書】
【提出日】平成29年4月17日(2017.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ相関器を有するシステムの作動方法において、前記データ相関器が、造影剤ベースの撮像手順に対する注入器から伝達される物質供給情報及び前記手順に対して使用される撮像システムにより各時間に取得された各画像データを有する撮像データを共通の時間基準系にマッピングするステップ、
を有する方法。
【請求項２】
前記マッピングするステップが、前記注入器の第１のクロック及び前記撮像システムの第２のクロックを同期するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記撮像データと共通の時間基準系にマッピングされた前記物質供給情報のグラフを示すステップを含む、請求項１ないし２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４】
前記マッピングに基づいて前記撮像データ内の特定の画像データが取得された時間の前記物質供給情報を表示するステップを含む、請求項１ないし３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記物質供給情報が、供給順序、供給レート、供給体積、又は供給圧力の１以上を含む、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記注入器が、前記物質供給情報に加えて解剖学的注入場所を前記データ相関器に伝達する、請求項１ないし５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記データ相関器が、選択された撮像システムスキャンプロトコルが前記注入器により達成可能なパラメータに基づくことを確認する手順前妥当性確認を実行するステップと、
前記手順前妥当性確認に基づいて、前記注入器が選択された撮像システムスキャンプロトコルによって動作するかどうかを示す信号を生成するステップと、
を含む、請求項１ないし６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記注入器により達成可能なパラメータは、前記注入器が供給することができる造影剤を示す、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記スキャンプロトコルが、造影剤供給レート、供給体積又は供給圧力の少なくとも１つを指定する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記データ相関器が、選択された注入器プロトコルが前記撮像システムにより達成可能なパラメータに基づくことを確認する手順前妥当性確認を実行するステップと、
前記手順前妥当性確認に基づいて、前記撮像システムが選択された注入器プロトコルパラメータによって動作するかどうかを示す信号を生成するステップと、
を含む、請求項１ないし９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記手順前妥当性確認は、前記撮像システムが前記注記プロトコルにより指定された注入からのスキャン起動時間内にスキャンすることができるかどうかを決定する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記データ相関器が、患者情報に基づいて、
選択された撮像システムスキャンプロトコルが前記注入器により達成可能なパラメータに基づくこと、又は選択された注入器プロトコルが前記撮像システムにより達成可能なパラメータに基づくことの少なくとも一方を確認する手順前妥当性確認を実行するステップ、
を含む、請求項１ないし１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記患者情報が、ローカル又はネットワーク患者データリポジトリから得られる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
注入器から伝達される物質供給情報の時間及び撮像システムにより各時間に取得された各画像データを有する撮像データを共通の時間基準系にマッピングするデータ相関器、
を有するシステム。
【請求項１５】
前記物質供給情報が、造影剤供給開始時間、レート、体積又は圧力の１以上を含む、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記マッピングが、前記注入器の第１のクロック及び前記撮像システムの第２のクロックを同期することを含む、請求項１４ないし１５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１７】
前記共通の時間基準系が、前記撮像システムの時間基準系である、請求項１４ないし１６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１８】
前記物質供給情報と関連して前記撮像データを分析するデータ分析器であって、前記データ分析器が、前記撮像データの特定の画像データと前記特定の画像データが取得された時間の前記物質供給情報とを表示手段に表示させる、データ分析器、
を含む、請求項１４ないし１７のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１９】
前記データ分析器は、前記共通の時間基準系に対する前記物質供給情報のグラフ及びセレクタを前記表示手段に表示させ、前記セレクタは、前記特定の画像データに基づいて前記共通の時間基準系に対して配置される、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
選択された撮像システムスキャンプロトコルが前記注入器により達成可能なパラメータに基づくことを確認するスキャン前妥当性確認が、前記注入器に対して実行される、及び／又は
注入器プロトコルが前記撮像システムにより達成可能なパラメータに基づくことを確認するスキャン前妥当性確認が、前記撮像システムに対して実行される、請求項１４ないし１９のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２１】
前記注入器プロトコル又はスキャンプロトコルの少なくとも１つのパラメータが、前記撮像システム又は前記注入器により達成可能なパラメータに基づくように前記スキャン前妥当性確認に基づいて修正される、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】
コンピュータにより実行される場合に、データ相関器により、造影剤ベースの撮像手順に対する注入器から伝達される物質供給情報及び前記手順により使用される撮像システムにより取得された撮像データを共通の時間基準系にマッピングする動作を前記コンピュータに実行させる命令を含むコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項２３】
前記コンピュータにより実行される場合に、
前記注入器又は前記撮像システムの少なくとも一方において、選択された撮像システムスキャンプロトコルが前記注入器により達成可能なパラメータに基づく又は選択された注入器プロトコルが前記撮像システムにより達成可能なパラメータに基づくことの少なくとも一方を確認する手順前妥当性確認を実行する動作、
を前記コンピュータに実行させる命令を含む、請求項２２に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月18日(2017.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１光電変換素子と、
第２光電変換素子と、
入力ノードを有し、前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号を読み出すための増幅部と、
前記第１光電変換素子にて生じた電荷を前記入力ノードへ転送する第１転送ゲートと、前記第２光電変換素子にて生じた電荷を前記入力ノードへ転送する第２転送ゲートと、前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子に入射光を集光する１つのマイクロレンズと、をそれぞれが含む第１画素および第２画素を有する光電変換装置であって、
前記第１画素において、前記第１転送ゲートをオンにすることによって前記入力ノードに前記第１光電変換素子にて生じた電荷を転送し、前記第１光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号を前記光電変換装置が出力し、前記入力ノードに転送された前記第１光電変換素子にて生じた電荷を前記入力ノードが保持した状態で、前記第１転送ゲート、及び前記第２転送ゲートをオンにすることによって、前記第１光電変換素子および前記第２光電変換素子にて生じた電荷を前記入力ノードに転送し、前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号を前記光電変換装置が出力する第１動作と、
前記第２画素において、前記第１転送ゲートをオンにすることによって前記入力ノードに前記第１光電変換素子にて生じた電荷を転送し、前記第１光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号を前記光電変換装置が出力せず、前記入力ノードに転送された前記第１光電変換素子にて生じた電荷を保持した状態で、前記第１転送ゲート、及び前記第２転送ゲートをオンにすることによって、前記第１光電変換素子および前記第２光電変換素子にて生じた電荷を前記入力ノードに転送し、前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号を前記光電変換装置が出力する第２動作を行うことを特徴とする光電変換装置。
【請求項２】
前記第２動作では、前記第１転送ゲートをオンにした後、且つ、前記第１転送ゲートと前記第２転送ゲートをオンにする前に、前記第１転送ゲートをオフすることを特徴とする請求項１に記載の光電変換装置。
【請求項３】
前記第１動作における前記第１転送ゲートと前記第２転送ゲートのオンの回数の和が、前記第２動作における前記第１転送ゲートと前記第２転送ゲートのオンの回数の和と等しいことを特徴とする請求項１または２に記載の光電変換装置。
【請求項４】
前記第２動作において、前記第１転送ゲートをオンにした後、前記第１転送ゲートをオンの状態で維持し、前記第２転送ゲートをオンすることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項５】
前記第１動作と前記第２動作は、１つのフレーム期間に行われることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項６】
第１フレーム期間に前記第１動作を行い、
前記第１フレーム期間とは別の第２フレーム期間に前記第２動作が行われることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項７】
前記第１動作によって読み出された前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号と、前記第２動作によって読み出された前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号は、１つの画像を構成することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項８】
前記第１画素と前記第２画素のそれぞれは、更にリセット部を有し、
前記リセット部をオンにし維持しながら、前記第１転送ゲートをオンにした後に、前記第１転送ゲートと前記第２転送ゲートをオンするリセット動作を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項９】
前記増幅部が出力する信号が入力される信号処理回路をさらに有し、
前記第２動作において、前記第１転送ゲートをオンにし前記第１光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号が前記増幅部から前記信号処理回路に出力され、
前記信号処理回路が前記第１転送ゲートをオンにし前記第１光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号を保持しないことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項１０】
前記第１画素と前記第２画素のそれぞれは、前記第１光電変換素子、及び第２光電変換素子と、前記マイクロレンズとの間に、単色のカラーフィルタを有することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光電変換装置と、
前記光電変換装置からの信号を処理する処理部と、を有する撮像システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光電変換装置、撮像システム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の光電変換装置は、第１光電変換素子と、第２光電変換素子と、入力ノードを有し、前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号を読み出すための増幅部と、前記第１光電変換素子にて生じた電荷を前記入力ノードへ転送する第１転送ゲートと、前記第２光電変換素子にて生じた電荷を前記入力ノードへ転送する第２転送ゲートと、前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子に入射光を集光する１つのマイクロレンズと、をそれぞれが含む第１画素および第２画素を有する光電変換装置であって、前記第１画素において、前記第１転送ゲートをオンにすることによって前記入力ノードに前記第１光電変換素子にて生じた電荷を転送し、前記第１光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号を前記光電変換装置が出力し、前記入力ノードに転送された前記第１光電変換素子にて生じた電荷を前記入力ノードが保持した状態で、前記第１転送ゲート、及び前記第２転送ゲートをオンにすることによって、前記第１光電変換素子および前記第２光電変換素子にて生じた電荷を前記入力ノードに転送し、前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号を前記光電変換装置が出力する第１動作と、前記第２画素において、前記第１転送ゲートをオンにすることによって前記入力ノードに前記第１光電変換素子にて生じた電荷を転送し、前記第１光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号を前記光電変換装置が出力せず、前記入力ノードに転送された前記第１光電変換素子にて生じた電荷を保持した状態で、前記第１転送ゲート、及び前記第２転送ゲートをオンにすることによって、前記第１光電変換素子および前記第２光電変換素子にて生じた電荷を前記入力ノードに転送し、前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子にて生じた電荷に基づく信号を前記光電変換装置が出力する第２動作を行うことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月13日(2017.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記第三画像生成部は、前記第一画像と前記第二画像の画像間で対応する画素同士の画素値の除算によって前記第一画像と前記第二画像の比を示す前記第三画像を生成する請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記入力画像の各画素の階調値を濃度値に変換する第一濃度値変換部と、
前記入力画像に対応する前記ハーフトーン画像の各画素のドットの階調値を濃度値に変換する第二濃度値変換部と、を有し、
前記第一画像生成部は、前記入力画像の階調値を前記第一濃度値変換部によって濃度値に変換して得られた画像に前記第一ローパスフィルタをかけて前記第一画像を生成するものであり、
前記第二画像生成部は、前記ハーフトーン画像の階調値を前記第二濃度値変換部によって濃度値に変換して得られた画像に前記第二ローパスフィルタをかけて前記第二画像を生成するものである請求項１から５のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【非特許文献１】Sagar Bhatt, John Harlim, Joel Lepak, Robert Ronkese, John Sabino, Chai Wah Wu,“Direct Binary Search with Adaptive Search and Swap”,pp.1-9, 2005.
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
第６態様として、第１態様から第５態様のいずれか一態様の画像処理装置において、入力画像の各画素の階調値を濃度値に変換する第一濃度値変換部と、入力画像に対応するハーフトーン画像の各画素のドットの階調値を濃度値に変換する第二濃度値変換部と、を有し、第一画像生成部は、入力画像の階調値を第一濃度値変換部によって濃度値に変換して得られた画像に第一ローパスフィルタをかけて第一画像を生成するものであり、第二画像生成部は、ハーフトーン画像の階調値を第二濃度値変換部によって濃度値に変換して得られた画像に第二ローパスフィルタをかけて第二画像を生成するものである構成とすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
画像取得部５２は、入力画像７０を取り込むインターフェース部である。画像取得部５２は、外部又は装置内の他の信号処理部から入力画像７０を取り込むデータ入力端子で構成することができる。画像取得部５２として、有線又は無線の通信インターフェース部を採用してもよいし、メモリカードなどの可搬型外部記憶媒体の読み書きを行うメディアインターフェース部を採用してもよく、若しくは、これら態様の適宜の組み合わせであってもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５３】
これに対して、本発明の実施形態では、入力反映ローパスハーフトーン画像を導入し、入力反映ローパスハーフトーン画像を均一化することで、結果的に、ローパス入力画像とローパスハーフトーン画像との誤差を小さくするという演算手法を採用している。つまり、本実施形態では、入力反映ローパスハーフトーン画像を均一化するように、入力反映ローパスハーフトーン画像の画像内における画素値の比較に基づいて、着目ドットを設置するドット設置画素の位置を特定し、ドットの置き換えを行う。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月27日(2017.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザの頭部に装着された装身具の複数のマーカーの撮影画像をスキャンして前記複数のマーカーの撮影画像上の２次元座標を検出するマーカー検出部と、
マーカーのＺ方向の座標を用いることなく、検出された前記複数のマーカーの２次元座標を用いて、ユーザの視点位置を補正する視点位置補正部と、
補正された視点位置から３次元オブジェクトを見た場合の視差画像を生成する立体画像生成部とを含み、
前記複数のマーカーは、少なくともユーザの頭部の頭頂部に設けられたマーカーを含み、
前記視点位置補正部は、
頭頂部のマーカーの２次元座標にもとづいて視点位置の並進補正量を求める並進補正量計算部と、
前記並進補正量にもとづいて視点位置を更新する視点位置更新部とを含むことを特徴とする画像生成装置。
【請求項２】
前記複数のマーカーは、さらに左側頭部に設けられたマーカーと右側頭部に設けられたマーカーを含み、
前記視点位置補正部は、
左側頭部のマーカーの２次元座標および右側頭部のマーカーの２次元座標にもとづいて頭部の傾きを求める頭部傾き計算部と
頭部の傾きにもとづいて視点位置のシフト量を求めるシフト量計算部とをさらに含み、
前記並進補正量計算部は、頭頂部のマーカーの２次元座標および頭部の傾きにもとづいて視点位置の並進補正量を求め、
前記視点位置更新部は、前記シフト量および前記並進補正量にもとづいて視点位置を更新することを特徴とする請求項１に記載の画像生成装置。
【請求項３】
較正用３次元オブジェクトの視差画像を前記立体画像生成部に生成させ、頭部を動かしても立体視された較正用３次元オブジェクトが静止するように、ユーザの頭部に装着された装身具を前後させてマーカーの位置を調整するようユーザに促す較正部をさらに含むことを特徴とする請求項１または２に記載の画像生成装置。
【請求項４】
ユーザの頭部に装着された装身具の複数のマーカーの撮影画像をスキャンして前記複数のマーカーの撮影画像上の２次元座標を検出するマーカー検出ステップと、
マーカーのＺ方向の座標を用いることなく、検出された前記複数のマーカーの２次元座標を用いて、ユーザの視点位置を補正する視点位置補正ステップと、
補正された視点位置から較正用３次元オブジェクトを見た場合の視差画像を生成する立体画像生成ステップと、
頭部を動かしても立体視された較正用３次元オブジェクトが静止するように、ユーザの頭部に装着された装身具を前後させてマーカーの位置を調整するようユーザに促す較正ステップとを含むことを特徴とする較正方法。
【請求項５】
ユーザの頭部に装着された装身具の複数のマーカーの撮影画像をスキャンして前記複数のマーカーの撮影画像上の２次元座標を検出するマーカー検出ステップと、
マーカーのＺ方向の座標を用いることなく、検出された前記複数のマーカーの２次元座標を用いて、ユーザの視点位置を補正する視点位置補正ステップと、
補正された視点位置から３次元オブジェクトを見た場合の視差画像を生成する立体画像生成ステップとを含み、
前記複数のマーカーは、少なくともユーザの頭部の頭頂部に設けられたマーカーを含み、
前記視点位置補正ステップは、
頭頂部のマーカーの２次元座標にもとづいて視点位置の並進補正量を求める並進補正量計算ステップと、
前記並進補正量にもとづいて視点位置を更新する視点位置更新ステップとを含むことを特徴とする画像生成方法。
【請求項６】
ユーザの頭部に装着された装身具の複数のマーカーの撮影画像をスキャンして前記複数のマーカーの撮影画像上の２次元座標を検出するマーカー検出機能と、
マーカーのＺ方向の座標を用いることなく、検出された前記複数のマーカーの２次元座標を用いて、ユーザの視点位置を補正する視点位置補正機能と、
補正された視点位置から３次元オブジェクトを見た場合の視差画像を生成する立体画像生成機能とをコンピュータに実現させ、
前記複数のマーカーは、少なくともユーザの頭部の頭頂部に設けられたマーカーを含み、
前記視点位置補正機能は、
頭頂部のマーカーの２次元座標にもとづいて視点位置の並進補正量を求める並進補正量計算機能と、
前記並進補正量にもとづいて視点位置を更新する視点位置更新機能とを含むことを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月24日(2017.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を原版に照射し、前記原版のパターンを投影光学系を介して基板上に投影して前記基板を露光する露光処理を行う露光方法であって、
前記投影光学系の瞳面照度分布を第１瞳面照度分布として前記投影光学系を照射して前記露光処理を行う第１露光工程と、
前記第１露光工程の後、前記瞳面照度分布を、前記第１瞳面照度分布とは異なる第２瞳面照度分布として前記投影光学系を照射して前記露光処理を行う第２露光工程と、
前記第１瞳面照度分布で照射された前記第１露光工程における前記投影光学系の結像性能について、前記瞳面照度分布を前記第２瞳面照度分布とした条件における前記結像性能の変化量を導出する変化量導出工程と、
前記変化量導出工程にて導出された前記変化量を用いて、前記第２露光工程における前記投影光学系の結像性能を補正するための補正量を導出する補正量導出工程と、を有し、
前記第２露光工程において、導出された補正量で前記投影光学系の結像性能を補正して前記露光処理を行うことを特徴とする露光方法。
【請求項２】
前記変化量導出工程において、前記第１瞳面照度分布の条件のもとでの前記光の照射と、該照射により前記投影光学系が温度分布を与えられた状態における前記第２瞳面照度分布の条件のもとでの前記投影光学系の結像性能の計測と、を行うことによって、該結像性能の変化量を導出することを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
前記変化量導出工程において、前記第１瞳面照度分布の条件のもとで前記光を照射することによる、前記第２瞳面照度分布の条件のもとでの前記投影光学系の結像性能の変化量を、シミュレーションによって導出することを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項４】
前記補正量導出工程において、前記補正量は、
前記光の照射を前記第１瞳面照度分布の条件のもとで行い、前記結像性能の計測を前記第２瞳面照度分布の条件のもとで行うことで得られた第３パラメータと、
前記光の照射と前記結像性能の計測とを前記第２瞳面照度分布の条件のもとで行うことで得られた第４パラメータと、
を用いて導出されることを特徴とする請求項１または２に記載の露光方法。
【請求項５】
前記補正量導出工程において、前記補正量は、
前記光の照射と前記結像性能の計測とを前記第１瞳面照度分布の条件のもとで行うことで得られた第１パラメータと、
前記光の照射を前記第２瞳面照度分布の条件のもとで行い、前記結像性能の計測を前記第１瞳面照度分布の条件のもとで行うことで得られた第２パラメータと、
を用いて導出されることを特徴とする請求項１または２に記載の露光方法。
【請求項６】
前記補正量導出工程において、前記第２露光工程のときに適用される前記補正量は、前記第３パラメータおよび前記第４パラメータを用いて導出されることを特徴とする請求項４に記載の露光方法。
【請求項７】
前記補正量導出工程において、前記第２露光工程のときに適用される前記補正量は、前記第１パラメータまたは前記第２パラメータの少なくともいずれかを用いて導出されることを特徴とする請求項５に記載の露光方法。
【請求項８】
前記第１パラメータ、前記第２パラメータ、前記第３パラメータおよび前記第４パラメータは、前記結像性能の単位光量あたりの変化量、前記投影光学系に含まれる光学要素への加熱の速さを表す第１時定数、および、前記光学要素からの放熱の速さを表す第２時定数のうちの少なくとも１つをそれぞれ含むことを特徴とする請求項４から７のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項９】
前記補正量導出工程において、前記補正量は、該補正量を導出するときに要求される精度に基づいて決定された時刻よりも後に行われた露光の影響について導出されることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項１０】
前記結像性能は、フォーカス、倍率、歪曲収差、非点収差および像面湾曲のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項１１】
光源からの光を原版に照射し、前記原版のパターンを投影光学系を介して基板上に投影して前記基板を露光する露光処理を行う露光装置であって、
前記投影光学系の瞳面照度分布を、第１瞳面照度分布と、該第１瞳面照度分布とは異なる第２瞳面照度分布とに切り替え可能とする切り替え部と、
前記瞳面照度分布を前記第１瞳面照度分布として前記投影光学系を照射する第１の前記露光処理、および、前記第１の露光処理の後、前記瞳面照度分布を前記第２瞳面照度分布として前記投影光学系を照射する第２の前記露光処理を行わせることが可能で、かつ、
前記第１瞳面照度分布で照射された前記第１の露光処理における前記投影光学系の結像性能について、前記瞳面照度分布を前記第２瞳面照度分布とした条件における前記結像性能の変化量を導出し、該変化量を用いて前記第２の露光処理における前記投影光学系の結像性能を補正するための補正量を導出し、該補正量を用いて前記投影光学系の結像性能を補正して前記第２の露光処理を行わせる制御部と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
前記結像性能の変化量は、前記第１瞳面照度分布の条件のもとでの前記光の照射と、該照射により前記投影光学系が温度分布を与えられた状態における前記第２瞳面照度分布の条件のもとでの前記投影光学系の結像性能の計測と、を行うことによって導出されることを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記第１瞳面照度分布の条件のもとで前記光を照射することによる、前記第２瞳面照度分布の条件のもとでの前記投影光学系の結像性能の変化量は、シミュレーションによって導出されることを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記光源からの光を原版に照射する照明光学系を有し、
前記切り替え部は、前記照明光学系の瞳面照度分布、前記パターン、および、前記原版の照射領域のうち少なくとも１つを変更することを特徴とする請求項１１から１３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記投影光学系の結像性能を可変とする可変部を有し、
前記制御部は、前記補正量に基づいて前記可変部を制御することを特徴とする請求項１１から１４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記原版を保持し可動の原版保持部と、
前記基板を保持し可動の基板保持部と、
前記投影光学系に含まれる光学要素を移動または変形可能とする光学要素駆動部と、
を有し、
前記可変部は、前記原版保持部、前記基板保持部および前記光学要素駆動部の少なくとも１つを含む、
ことを特徴とする請求項１５に記載の露光装置。
【請求項１７】
請求項１から１０のいずれか１項に記載の露光方法または請求項１１から１６のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月1日(2017.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上のインプリント材をモールドで成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント処理を行うインプリントシステムであって、
前記基板上に前記インプリント材の液滴を供給するディスペンサを含み、前記インプリント処理を行う処理部と、
前記ディスペンサから供給すべき液滴の前記基板上における供給位置又は供給量を示す、互いに異なる複数のマップを管理するライブラリと、
前記モールド及び前記ディスペンサの少なくとも一方の経時変化による前記インプリント処理の結果の変化に関する情報に基づいて、前記ライブラリで管理されている前記複数のマップから前記インプリント処理に用いる１つのマップを選択する制御部と、
を有することを特徴とするインプリントシステム。
【請求項２】
前記情報は、前記モールドの使用履歴、前記ディスペンサの使用履歴及び前記インプリント処理の結果のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載のインプリントシステム。
【請求項３】
前記制御部は、前記インプリント処理を行う際のインプリント条件にも基づいて、前記１つのマップを選択することを特徴とする請求項１又は２に記載のインプリントシステム。
【請求項４】
前記インプリント条件は、前記基板の面内における前記インプリント材の揮発量の分布及び前記基板の面内における気流の分布を含む基板面内分布情報、及び、前記基板のショット領域のレイアウト情報のうちの少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項３に記載のインプリントシステム。
【請求項５】
前記インプリント処理の結果は、前記基板上に形成されたパターンの線幅、残膜厚及び欠陥数のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項２乃至４のうちいずれか１項に記載のインプリントシステム。
【請求項６】
前記複数のマップは、前記モールドのパターンの寸法及び前記基板上に形成すべきパターンの残膜厚に基づいて生成されていることを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載のインプリントシステム。
【請求項７】
前記モールドのパターンの寸法は、前記モールドのパターンの設計値又は前記モールドのパターンの実測値を含むことを特徴とする請求項６に記載のインプリントシステム。
【請求項８】
前記複数のマップは、前記基板の面内における前記インプリント材の揮発量の分布及び前記基板の面内における気流の分布を含む基板面内分布情報、及び、前記基板のショット領域のレイアウト情報の少なくとも一方にも基づいて生成されていることを特徴とする請求項６又は７に記載のインプリントシステム。
【請求項９】
前記複数のマップのそれぞれは、前記経時変化から変化が予測されるインプリント処理の結果の範囲内の複数の結果のそれぞれに対応する、液滴の前記基板上における供給位置を示すことを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載のインプリントシステム。
【請求項１０】
前記マップを生成する生成部を更に有することを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載のインプリントシステム。
【請求項１１】
前記経時変化から変化が予測される前記インプリント処理の結果の範囲が第１範囲から第２範囲に変動する場合に、前記制御部は、前記第２範囲におけるマップを生成するように前記生成部を制御し、且つ、前記生成部によって生成された前記第２範囲におけるマップを管理するように前記ライブラリを制御することを特徴とする請求項１０に記載のインプリントシステム。
【請求項１２】
前記制御部は、前記処理部による前記インプリント処理と、前記生成部による前記第２範囲におけるマップの生成とが並行して行われるように、前記処理部及び前記生成部を制御することを特徴とする請求項１１に記載のインプリントシステム。
【請求項１３】
前記第１範囲と前記第２範囲とは、一部重なり合っていることを特徴とする請求項１１又は１２に記載のインプリントシステム。
【請求項１４】
前記基板上に前記インプリント材の液滴を供給するディスペンサをそれぞれ含み、前記インプリント処理をそれぞれ行う他の処理部を更に有し、
前記制御部は、前記処理部及び前記他の処理部のそれぞれについて、前記ライブラリで管理されている前記複数のマップから前記インプリント処理に用いる１つのマップを選択することを特徴とする請求項１に記載のインプリントシステム。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載のインプリントシステムを用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月2日(2017.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子デバイスと、前記電子デバイスを搭載し、ボンディングワイヤを介して前記電子デバイスへ電気的に接続された第一接続部および外部へ電気的に接続される第二接続部を有する実装部材と、前記電子デバイスおよび前記第一接続部を覆う封止部材と、を備える電子部品であって、
前記実装部材は、前記電子デバイスを搭載する搭載面を有する基板と、前記搭載面の上に配された第一導電層と、前記搭載面に交わる第一方向において前記第一導電層から離れて配された第二導電層と、を含み、
前記第一導電層は、前記第一接続部を有する第一導電パターンと、前記搭載面に沿う第二方向において前記第一導電パターンから離れて設けられ、前記第二接続部を有する第二導電パターンと、を含み、前記第二導電パターンは前記第二導電層に含まれる第三導電パターンを介して前記第一導電パターンに接続されており、
前記封止部材は前記第二導電パターンを覆わないことを特徴とする電子部品。
【請求項２】
前記第二方向における前記封止部材の縁が、前記第一導電パターンに前記第一方向において重ならない、請求項１に記載の電子部品。
【請求項３】
前記第二方向における前記封止部材の縁が、前記第一導電層に含まれる導電パターンに前記第一方向において重ならない、請求項１または２に記載の電子部品。
【請求項４】
前記第二導電パターンは、前記基板の端面に配された導電部を介して前記第三導電パターンに接続されている、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電子部品。
【請求項５】
前記導電部は、前記端面に設けられた凹部に沿って配されている、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の電子部品。
【請求項６】
前記第一導電パターンは、前記基板に設けられた孔に配された導電体を介して前記第三導電パターンに接続されている、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の電子部品。
【請求項７】
前記封止部材は熱硬化性の透明樹脂であり、前記封止部材は前記ボンディングワイヤと前記ボンディングワイヤが接続された前記電子デバイスの端子部とに接触する、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の電子部品。
【請求項８】
電子デバイスと、前記電子デバイスを搭載し、前記電子デバイスへ電気的に接続された第一接続部および外部へ電気的に接続される第二接続部を有する実装部材と、前記電子デバイスおよび前記第一接続部を覆う封止部材と、を備える電子部品であって、
前記実装部材は、前記電子デバイスを搭載する搭載面を有する基板と、前記搭載面の上に配された第一導電層と、前記搭載面に交わる第一方向において前記第一導電層から離れて配された第二導電層と、を含み、
前記第一導電層は、前記第一接続部を有する第一導電パターンと、前記搭載面に沿う第二方向において前記第一導電パターンから離れて設けられ、前記第二接続部を有する第二導電パターンと、を含み、前記第二導電パターンは前記第二導電層に含まれる第三導電パターンを介して前記第一導電パターンに接続されており、
前記封止部材は、前記搭載面に沿った上面と、前記上面から前記搭載面に向かって延び、前記搭載面に対する前記封止部材の側の角度が第一角度である第一側面と、前記上面から前記搭載面に向かって延び、前記搭載面に対する前記封止部材の側の角度が前記第一角度よりも小さい第二角度である第二側面と、を有し、前記第二方向において前記電子デバイスと前記第一側面との間に前記第一接続部が位置し、前記第二方向において前記電子デバイスと前記第二接続部との間に前記第二側面が位置し、前記封止部材は前記第二導電パターンを覆わないことを特徴とする電子部品。
【請求項９】
端子を有する配線部材と、
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の電子部品と、を備え、
前記第二接続部が前記端子に半田で接合された電子モジュール。
【請求項１０】
前記配線部材は開口を有し、前記端子は前記開口の周囲に配されており、前記封止部材が前記開口に位置している、請求項９に記載の電子モジュール。
【請求項１１】
請求項１乃至８の何れか１項に記載の電子部品を搭載した電子機器であって、前記電子デバイスは受光デバイスであることを特徴とする電子機器。
【請求項１２】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の電子部品の製造方法であって、
実装板の上に前記電子デバイスを含む複数の電子デバイスを配置する工程と、
前記実装板の上に、前記複数の電子デバイスを連続あるいは個別に覆う樹脂体を形成する工程と、
少なくとも前記実装板を複数に分割することにより、各々が、前記樹脂体の一部としての前記封止部材と、前記実装板の一部としての前記実装部材と、前記複数の電子デバイスの少なくとも１つと、を備える、複数の電子部品を得る工程と、を有する、電子部品の製造方法。
【請求項１３】
金型を用いたトランスファー成形法により前記樹脂体を成形し、前記金型が、前記搭載面のうち、前記第二方向における前記第一導電パターンと前記第二導電パターンとの間の領域に当接する、請求項１２に記載の電子部品の製造方法。
【請求項１４】
前記電子デバイスと前記実装板とをワイヤボンディング法で接続する工程を有し、
前記樹脂体を形成する工程では、前記樹脂体を前記複数の電子デバイスを連続に覆うように形成し、
前記複数の電子部品を得る工程を、前記ワイヤボンディング法で形成された前記ボンディングワイヤが、前記実装板の分割に伴って形成された前記樹脂体の断面と前記電子デバイスとの間に位置するように行う、請求項１３に記載の電子部品の製造方法。
【請求項１５】
請求項４または５に記載の電子部品の製造方法であって、
実装板の上に前記電子デバイスを含む複数の電子デバイスを配置する工程と、
前記実装板の上に、前記複数の電子デバイスを連続あるいは個別に覆う樹脂体を形成する工程と、
少なくとも前記実装板を複数に分割することにより、各々が前記樹脂体の一部としての前記封止部材と、前記実装板の一部としての前記実装部材と、前記複数の電子デバイスの少なくとも１つと、を備える、複数の電子部品を得る工程と、を有し、
前記実装板に設けられた孔の内側に配された導電体を前記実装板の分割に伴って複数に分割することにより、前記導電体の一部としての前記導電部を形成する、電子部品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月12日(2017.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線基板と、
前記配線基板に実装された半導体素子と、
前記半導体素子の上面に接着剤を介して設けられた放熱板と、
前記放熱板と前記配線基板との間に充填された封止樹脂と、を有し、
前記放熱板は、
前記半導体素子と平面視で重なるように形成され、前記半導体素子の平面形状よりも平面形状が大きく形成された本体部と、
前記本体部と一体に形成され、前記本体部の端部から外側に突出するように形成され、前記本体部よりも低い位置に設けられた突出部と、を有し、
前記封止樹脂は、前記突出部の上下両面を被覆するように形成され、
前記本体部の上面は、前記封止樹脂から露出されており、
前記突出部は、前記本体部の端部から下方に屈曲された接続部と、前記接続部の端部から前記配線基板の外周縁に向かって前記本体部と平行となるように屈曲された延出部とを有し、
前記延出部の前記接続部と接続される端部とは反対側の端部に切り欠き部が形成されて
いることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記突出部は、前記本体部の角部から外側に突出するように形成され、又は前記本体部の外形をなす各辺の１箇所から外側に突出するように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記延出部の外側面は、前記封止樹脂の外側面及び前記配線基板の外側面と面一になるように形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記突出部は、導電性を有する接着剤を介して、前記配線基板の上面に形成されたグランド配線と電気的に接続されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項５】
Ｎ×Ｍ個（Ｎは２以上の整数、Ｍは１以上の整数）の個別領域を有する配線基板を準備し、前記各個別領域における前記配線基板の上面に半導体素子を実装する工程と、
本体部と、前記本体部と一体に形成され、前記本体部の端部から外側に突出して前記本体部と段差状に形成された突出部とを有する放熱板がＮ×Ｍ個連結された大判の放熱板を準備する工程と、
前記本体部が前記半導体素子と平面視で重なるように、前記半導体素子の背面上に接着剤を介して前記大判の放熱板を接着する工程と、
前記大判の放熱板と前記配線基板との間の空間を充填し、前記突出部の上下両面を被覆し、前記本体部の上面を露出する封止樹脂を形成する工程と、
切断領域上に配置された前記封止樹脂と前記突出部と前記配線基板とを切断して個片化する工程と、を有し、
前記突出部は、前記本体部の端部から下方に屈曲された接続部と、前記接続部の端部から前記個別領域の外周縁に向かって前記本体部と平行となるように屈曲された延出部とを有し、
前記延出部には、前記接続部と接続される端部から離間した位置に切り欠き部が形成されており、
前記切断領域は、前記各個別領域において前記本体部よりも外側に設定されており、且つ、前記切り欠き部が形成された部分の前記延出部を切断するように設定されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記突出部は、前記本体部の角部から外側に突出するように形成され、又は前記本体部の外形をなす各辺の１箇所から外側に突出するように形成されていることを特徴とする請求項５に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一観点によれば、配線基板と、前記配線基板に実装された半導体素子と、前記半導体素子の上面に接着剤を介して設けられた放熱板と、前記放熱板と前記配線基板との間に充填された封止樹脂と、を有し、前記放熱板は、前記半導体素子と平面視で重なるように形成され、前記半導体素子の平面形状よりも平面形状が大きく形成された本体部と、前記本体部と一体に形成され、前記本体部の端部から外側に突出するように形成され、前記本体部よりも低い位置に設けられた突出部と、を有し、前記封止樹脂は、前記突出部の上下両面を被覆するように形成され、前記本体部の上面は、前記封止樹脂から露出されており、前記突出部は、前記本体部の端部から下方に屈曲された接続部と、前記接続部の端部から前記配線基板の外周縁に向かって前記本体部と平行となるように屈曲された延出部とを有し、前記延出部の前記接続部と接続される端部とは反対側の端部に切り欠き部が形成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月2日(2017.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受信した放送信号から分離したＭＭＴパッケージテーブルに含まれ、同一内容を異なる音声モードで伝送する音声アセットに対し同じ値をとるサイマルキャストグループ識別に基づいて複数の音声モードの音声アセットを検出し、
前記複数の音声モードのうち再生可能な音声モードの音声アセットのいずれかを選択する
受信装置。
【請求項２】
前記再生可能な音声モードの音声アセットを前記音声アセットに対応付けられたコンポーネントタグに対応する順に選択する
請求項１に記載の受信装置。
【請求項３】
前記再生可能な音声モードの音声の情報を通知し、操作に応じて前記音声アセットのいずれかを選択する
請求項１又は請求項２に記載の受信装置。
【請求項４】
前記再生可能な音声モードのうち最も処理能力の高い音声モードを選択する請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の受信装置。
【請求項５】
受信装置における受信方法であって、
受信した放送信号から分離したＭＭＴパッケージテーブルに含まれ、同一内容を異なる音声モードで伝送する音声アセットに対し同じ値をとるサイマルキャストグループ識別に基づいて複数の音声モードの音声アセットを検出する過程と、
前記複数の音声モードのうち再生可能な音声モードの音声アセットのいずれかを選択する過程と、
を有する受信方法。
【請求項６】
受信装置のコンピュータに、
受信した放送信号から分離したＭＭＴパッケージテーブルに含まれ、同一内容を異なる音声モードで伝送する音声アセットに対し同じ値をとるサイマルキャストグループ識別に基づいて複数の音声モードの音声アセットを検出する手順と、
前記複数の音声モードのうち再生可能な音声モードの音声アセットのいずれかを選択する手順と、
を実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、本発明の一態様は、受信した放送信号から分離したＭＭＴパッケージテーブルに含まれ、同一内容を異なる音声モードで伝送する音声アセットに対し同じ値をとるサイマルキャストグループ識別に基づいて複数の音声モードの音声アセットを検出し、前記複数の音声モードのうち再生可能な音声モードの音声アセットのいずれかを選択する受信装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2016092695.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月26日(2017.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
全方位撮像レンズを介して撮像された撮像画像から物体を検出する物体検出手段と、
前記全方位撮像レンズの鉛直位置に対応する基準位置を前記撮像画像に対して設定し、前記基準位置と前記物体の位置とに基づいて、前記物体のフットプリント位置を設定する設定手段と、
前記フットプリント位置と前記撮像画像上に設定された検出ラインとに基づいて、前記物体による前記検出ラインの通過を検出する通過検出手段と
を備えることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記通過検出手段は、前記検出ラインに対する前記フットプリント位置の通過を検出することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記設定手段は、前記基準位置と前記物体との最短距離に対応する位置を前記フットプリント位置として設定することを特徴とする請求項１又は２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記フットプリント位置に基づいて前記物体の重心位置を設定し、当該重心位置に対応する第２の検出ラインを設定する検出ライン設定手段をさらに備え、
前記通過検出手段は、前記第２の検出ラインに対する前記物体の重心位置の通過を検出することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記検出ライン設定手段は、前記基準位置に対して前記フットプリント位置から所定距離だけ離間した位置を前記重心位置として設定することを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記設定手段は、前記全方位撮像レンズの鉛直方向に対する傾倒角度に応じて前記基準位置を設定することを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか１項に記載の撮像装置と、
前記撮像装置からネットワークを介して画像を取得する情報処理装置と
を備えることを特徴とする監視カメラシステム。
【請求項８】
撮像装置の制御方法であって、
物体検出手段が、全方位撮像レンズを介して撮像された撮像画像から物体を検出する工程と、
設定手段が、前記全方位撮像レンズの鉛直位置に対応する基準位置を前記撮像画像に対して設定し、前記基準位置と前記物体の位置とに基づいて、前記物体のフットプリント位置を設定する工程と、
通過検出手段が、前記フットプリント位置と前記撮像画像上に設定された検出ラインとに基づいて、前記物体による前記検出ラインの通過を検出する工程と
を有することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項９】
請求項８に記載の撮像装置の制御方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記の目的を達成するために、本発明の一態様による撮像装置は以下のような構成を備える。即ち、
全方位撮像レンズを介して撮像された撮像画像から物体を検出する物体検出手段と、
前記全方位撮像レンズの鉛直位置に対応する基準位置を前記撮像画像に対して設定し、前記基準位置と前記物体の位置とに基づいて、前記物体のフットプリント位置を設定する設定手段と、
前記フットプリント位置と前記撮像画像上に設定された検出ラインとに基づいて、前記物体による前記検出ラインの通過を検出する通過検出手段と
を備えることを特徴とする。