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【手続補正書】
【提出日】平成29年4月21日(2017.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）に示される化合物。
一般式（１）
【化１】
2014237632.tif 000001
（一般式（１）において、Ｒｆは、少なくとも一部がフッ素原子で置換されたアルキル基、ＲＯはオキシアルキレン基の繰り返し構造、Ｎは窒素原子、ＲＡおよびＲＢはアルキル基を示す）
【請求項２】
前記ＲＯが、オキシエチレン基もしくはオキシプロピレン基の、繰り返し構造であることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記ＲＡおよび前記ＲＢが炭素数１以上５以下の鎖状アルキル基であることを特徴とする請求項１または２に記載の化合物。
【請求項４】
下記一般式（５）に示される化合物。
一般式（５）
【化２】
2014237632.tif 000002
（一般式（５）において、ａは１以上２５以下の整数から選ばれる。ｂは０以上２５以下の整数から選ばれ、ｃは１以上２５以下の整数である。Ｒ１およびＲ２はアルキル基である。）
【請求項５】
前記一般式（５）における、前記ａ、前記ｂ、および前記ｃが、各々独立して、１以上１０以下の整数から選ばれることを特徴とする請求項４に記載の化合物。
【請求項６】
前記一般式（５）における、前記ｂが、１以上５以下の整数から選ばれることを特徴とする請求項４または５に記載の化合物。
【請求項７】
前記一般式（５）における、Ｒ１およびＲ２が炭素数１以上５以下の鎖状アルキル基であることを特徴とする請求項４〜６のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項８】
重合性化合物と、光重合開始剤と、請求項１〜７のいずれか一項に記載の化合物と、を有する光硬化性組成物。
【請求項９】
光ナノインプリント用組成物であることを特徴とする請求項８に記載の光硬化性組成物。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の光硬化性組成物を硬化した硬化物。
【請求項１１】
基板上に、請求項８または９に記載の光硬化性組成物を配置する配置工程と、
前記光硬化性組成物とパターン形状を転写するための原型パターンを有するモールドとを接触させる型接触工程と、
前記光硬化性組成物に光を照射して硬化膜とする光照射工程と、
前記硬化膜と前記モールドとを引き離す離型工程と、
を有することを特徴とするパターン形状を有する膜の製造方法。
【請求項１２】
前記モールドの原型パターンの表面がヒドロキシル基を有することを特徴とする請求項１１に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
【請求項１３】
前記モールドの原型パターンの表面が石英であることを特徴とする請求項１１または１２に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
【請求項１４】
前記型接触工程が、凝縮性ガスを含む気体の雰囲気下で行われることを特徴とする請求項１１〜１３のいずれか一項に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
【請求項１５】
前記凝縮性ガスを含む気体が、ヘリウムと凝縮性ガスとの混合気体であることを特徴とする請求項１４に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
【請求項１６】
前記凝縮性ガスが、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンであることを特徴とする請求項１４または１５に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
【請求項１７】
請求項１１〜１６のいずれか一項に記載のパターン形状を有する膜の製造方法により、基板上にパターン形状を有する膜を得る工程を有することを特徴とする光学部品の製造方法。
【請求項１８】
請求項１１〜１６のいずれか一項に記載のパターン形状を有する膜の製造方法によりパターン形状を有する膜を得る工程と、得られた膜のパターン形状をマスクとして基板にエッチング又はイオン注入を行う工程と、を有することを特徴とする光学部品の製造方法。
【請求項１９】
請求項１１〜１６のいずれか一項に記載のパターン形状を有する膜の製造方法によりパターン形状を有する膜を得る工程と、得られた膜のパターン形状をマスクとして基板にエッチング又はイオン注入を行う工程と、前記基板に電子部材を形成する工程と、を有することを特徴とする回路基板の製造方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の回路基板の製造方法により回路基板を得る工程と、前記回路基板と前記回路基板を制御する制御機構とを接続する工程と、を有することを特徴とする電子部品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（一般式（１）において、Ｒｆは、少なくとも一部がフッ素原子で置換されたアルキル基、ＲＯはオキシアルキレン基の繰り返し構造、Ｎは窒素原子、ＲＡおよびＲＢはアルキル基を示す）
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月10日(2017.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼製の布帛から成る少なくとも２つの布帛層（１１，１２）を有するスクリーン構造（１０）を製造する方法であって、
第１のロール（１）に第１の布帛層（１１）を用意し、第２のロール（１）に第２の布帛層（１２）を用意し、
前記第１及び第２の布帛層（１１，１２）を合流させて互いに接触させ、
前記第１及び第２の布帛層（１１，１２）を一緒に金属被覆し、被着された金属（１５）により両布帛層（１１，１２）を互いに固く結合し、１つの布帛結合体（１３）を形成する、
ことを特徴とする、スクリーン構造を製造する方法。
【請求項２】
前記布帛結合体（１３）を第３のロール（９）に巻き取る前に、前記布帛結合体（１３）の後続の洗浄（５）及び乾燥（６）並びに光に反応する感光層（１４）又は局所的に除去可能なポリマー層の被着を実施する、請求項１記載のスクリーン構造を製造する方法。
【請求項３】
前記金属被覆を、外部電源を用いない金属析出（１５）を伴う化学的な金属被覆として実施する、請求項１又は２記載のスクリーン構造を製造する方法。
【請求項４】
前記金属被覆を、ニッケル浴（３）内での電気化学的なめっきとして実施する、請求項１又は２記載のスクリーン構造を製造する方法。
【請求項５】
スクリーン印刷用のスクリーン構造（１０）であって、互いに略平行に配置される鋼製の布帛から成る少なくとも２つの布帛層（１１，１２）を備え、特に請求項１記載の方法により製造されるスクリーン構造（１０）において、
前記布帛層（１１，１２）には、めっきにより被着された金属層（１５）が設けられており、前記布帛層（１１，１２）は、前記金属層（１５）により互いに結合されている、ことを特徴とするスクリーン構造。
【請求項６】
前記金属層（１５）は、主としてニッケルからなる、請求項５記載のスクリーン構造。
【請求項７】
前記布帛層（１１，１２）は、それぞれ異なる布帛形式の布帛層である、請求項５又は６記載のスクリーン構造。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月7日(2017.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
特に好ましいバリエーションによると、吸着剤は、ＮａＸゼオライトと、モンモリロナイトタイプの粘土とによって構成される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
処理されるべき供給原料の組成に応じて、本発明の吸着剤を他の吸着剤と組み合わせて用いることが有利であり得る。例として、供給原料が水を含有する場合、水を抽出するためのアルミナの第１層と、その次の、他の不純物を抽出するための本発明による吸着剤の第２層とをカラム中に配置することが可能である。同様に、供給原料が窒素含有分子および硫黄含有分子を含有する場合、硫黄含有分子（これは、より選択性に乏しくゼオライト中に吸着される）は、窒素含有分子によって置換される傾向を有する。そこで、硫黄含有分子に選択的である吸着剤の層を、本発明による吸着剤の層の上流に配置することが有利であり得る。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月22日(2017.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
オイルフリー式の圧縮機からの圧縮空気を冷却するエアクーラと、
前記圧縮機から前記エアクーラへの空気路に設けられ、圧縮空気と通水とを熱交換して通水を加温する熱回収用熱交換器と、
前記圧縮機から前記熱回収用熱交換器への空気路と、前記熱回収用熱交換器から前記エアクーラへの空気路とを接続するバイパス路とを備え、
前記熱回収用熱交換器への通水停止中、前記熱回収用熱交換器への圧縮空気の流入を遮断して、前記バイパス路に圧縮空気を通すか、
前記バイパス路の設置を省略する代わりに、前記熱回収用熱交換器への通水停止中、前記圧縮機を停止する
ことを特徴とする熱回収システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、前記課題を解決するためになされたもので、請求項１に記載の発明は、オイルフリー式の圧縮機からの圧縮空気を冷却するエアクーラと、前記圧縮機から前記エアクーラへの空気路に設けられ、圧縮空気と通水とを熱交換して通水を加温する熱回収用熱交換器と、前記圧縮機から前記熱回収用熱交換器への空気路と、前記熱回収用熱交換器から前記エアクーラへの空気路とを接続するバイパス路とを備え、前記熱回収用熱交換器への通水停止中、前記熱回収用熱交換器への圧縮空気の流入を遮断して、前記バイパス路に圧縮空気を通すか、前記バイパス路の設置を省略する代わりに、前記熱回収用熱交換器への通水停止中、前記圧縮機を停止することを特徴とする熱回収システムである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項１に記載の発明によれば、熱回収用熱交換器への通水停止中、バイパス路に圧縮空気を通すが、熱回収用熱交換器への圧縮空気の流入を遮断する。あるいは、熱回収用熱交換器への通水停止中、圧縮機を停止する。このようにして、熱回収用熱交換器への通水停止中、熱回収用熱交換器への圧縮空気の流入を防止して、熱回収用熱交換器内の水の沸騰を防止できると共に、空焚きによる熱回収用熱交換器における熱応力の増大とそれによる破損を防止できる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月21日(2017.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１可動部と第２可動部を含む可動部、平面視で前記第１可動部と前記第２可動部との間に配置されている支持部、および前記可動部と前記支持部とを連結している連結部を含む素子片と、
前記第１可動部と対向して配置されている第１電極と、
前記第２可動部と対向して配置されている第２電極と、
前記平面視で、前記素子片の周囲の少なくとも一部を囲むように配置され、前記可動部と同電位である周囲配置部と、
を含むことを特徴とする物理量センサー。
【請求項２】
請求項１において、
前記周囲配置部は、前記可動部に電気的に接続されていることを特徴とする物理量センサー。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記周囲配置部は、前記平面視で、前記素子片の全周を囲んでいる枠状部であることを特徴とする物理量センサー。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか一項において、
前記素子片が揺動する方向とは異なる方向へ前記素子片が変位することを規制する規制部が、前記周囲配置部に設けられていることを特徴とする物理量センサー。
【請求項５】
請求項４において、
前記規制部は、前記周囲配置部から前記素子片に向けて突出している突起部を含むことを特徴とする物理量センサー。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか一項において、
前記可動部と対向し、かつ、前記平面視で前記第１電極および前記第２電極と重ならないように配置され、前記素子片と同電位である第３電極を含むことを特徴とする物理量センサー。
【請求項７】
請求項６において、
前記第３電極は、前記素子片と電気的に接続されていることを特徴とする物理量センサー。
【請求項８】
請求項６または７において、
前記第３電極は、前記平面視で、前記第１電極と前記第２電極との間、前記第１電極の前記第２電極の側とは反対側、および前記第２電極の前記第１電極の側とは反対側、にそれぞれ設けられていることを特徴とする物理量センサー。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか一項において、
前記素子片に加速度が作用したとき、前記第１可動部に生じる回転モーメントと前記第２可動部に生じる回転モーメントは互いに異なることを特徴とする物理量センサー。
【請求項１０】
請求項９において、
前記第２可動部に生じる回転モーメントは、前記第１可動部に生じる回転モーメントよりも大きいことを特徴とする物理量センサー。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれか一項に記載の物理量センサーを備えていることを特徴とする電子機器。
【請求項１２】
請求項１ないし１０のいずれか一項に記載の物理量センサーを備えていることを特徴とする移動体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月8日(2017.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動体の位置を移動体位置として検出する検出手段と、
前記移動体の周囲に存在する地物に関連する地物情報、又は当該地物の位置を示す地物位置情報、の少なくともいずれか一方を取得する取得手段と、
前記地物情報又は前記地物位置情報の少なくともいずれか一方が取得されたとき、当該取得された少なくともいずれか一方を用いて、前記検出された移動体位置を補正する補正手段と、
前記補正手段による補正の有無、又は当該補正が実行された場合の当該補正の内容、の少なくともいずれか一方に基づいて、前記検出された移動体位置の信頼度を決定する決定手段と、
前記移動体の移動に関連する移動関連処理を、前記決定された信頼度に基づいて実行する実行手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の情報処理装置において、
前記地物情報又は前記地物位置情報の少なくともいずれか一方が取得されたとき前記補正手段は、当該取得された少なくともいずれか一方を用いて、前記移動体の移動方向に対応した方向について、前記移動体位置の補正を行うことを特徴とする情報処理装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の情報処理装置において、
前記地物情報又は前記地物位置情報の少なくともいずれか一方の取得に障害となる障害物であって、前記移動体及び前記地物以外の障害物を検出する障害物検出手段を更に備え、
前記決定手段は、前記障害物が検出された場合の前記信頼度を、当該障害物が検出されない場合の当該信頼度よりも相対的に低く決定することを特徴とする情報処理装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の情報処理装置において、
前記移動関連処理は、前記移動体の移動を案内する案内処理であることを特徴とする情報処理装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の情報処理装置において、
前記移動体と他の移動体との間で情報の授受が可能とされており、
前記信頼度が決定された前記移動体位置を示す移動体位置情報を、当該決定された信頼度を示す信頼度情報と共に前記他の移動体に送信する送信処理を、前記移動関連処理として実行する送信手段を更に備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項６】
移動体の位置を移動体位置として検出する検出工程と、
前記移動体の周囲に存在する地物に関連する地物情報、又は当該地物の位置を示す地物位置情報、の少なくともいずれか一方を取得する取得工程と、
前記地物情報又は前記地物位置情報の少なくともいずれか一方が取得されたとき、当該取得された少なくともいずれか一方を用いて、前記検出された移動体位置を補正する補正工程と、
前記補正工程における補正の有無、又は当該補正が実行された場合の当該補正の内容、の少なくともいずれか一方に基づいて、前記検出された移動体位置の信頼度を決定する決定工程と、
前記移動体の移動に関連する移動関連処理を、前記決定された信頼度に基づいて実行する実行工程と、
を含むことを特徴とする情報処理方法。
【請求項７】
コンピュータを、請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の情報処理装置に備えられた各前記手段として機能させることを特徴とする情報処理用プログラム。
【請求項８】
請求項７に記載の情報処理用プログラムが前記コンピュータで読み取り可能に記録されていることを特徴とする記録媒体。
【請求項９】
移動体の位置を移動体位置として検出する検出手段と、
前記移動体の周囲に存在する地物に関連する地物関連情報を取得する取得手段と、
当該取得された地物関連情報を用いて、前記移動体位置を補正する補正手段と、
前記補正手段による補正に関する情報に基づいて、前記移動体位置の信頼度を決定する決定手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の情報処理装置において、
前記移動体の移動に関連する移動関連処理を、前記信頼度に基づいて実行する実行手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記の課題を解決するために、請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の情報処理用プログラムが前記コンピュータで読み取り可能に記録されている。
上記の課題を解決するために、請求項９に記載の発明は、移動体の位置を移動体位置として検出する検出手段と、前記移動体の周囲に存在する地物に関連する地物関連情報を取得する取得手段と、当該取得された地物関連情報を用いて、前記移動体位置を補正する補正手段と、前記補正手段による補正に関する情報に基づいて、前記移動体位置の信頼度を決定する決定手段と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月25日(2017.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
相互標定では、投影中心Ｏ１とＯ２と対象点Ｐを結ぶ２本の光線が同一平面内になければならいという共面条件を用いる。数１に、共面条件式を示す。なお、ここで例えば左画像が基準重畳画像であり、右画像が比較重畳画像である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月20日(2017.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
また、車両の現在位置が切替ポイントに達したか否かを判定するために、まず特定ノードにおいて撮像画像に基づき第１地図上の位置を特定し、次に所定ノードからの距離を測定することによりその距離が所定距離以上であるか否かで判定している。したがって、ＧＰＳ測位部２５０の測位結果に基づき現在位置を特定して切替ポイントに達したか否かを特定する構成に比べて、切替ポイントに達したか否かを精度良く判定できる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月15日(2017.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明に係る測位装置は、
測位装置において、測位衛星の位置を示す位置情報を取得する取得手段と、前記取得手段により取得された前記位置情報に基づいて、ユーザが特定の動作をした際の前記測位装置の位置を測定する測位手段と、前記測位手段により測位処理が開始されたときの測定開始時刻を含む履歴情報に基づいて、前記測位手段が前記測位処理を開始する時刻を推定する推定手段と、前記推定手段により推定された推定開始時刻に基づいて、前記推定開始時刻よりも前に前記取得手段が前記位置情報を取得するように前記取得手段を制御する制御手段と、を備えたことを特徴としている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、本発明に係る測位衛星の位置情報の取得方法は、
測位衛星の位置を示す位置情報を取得する取得手段と、前記取得手段により取得された前記位置情報に基づいて、ユーザが特定の動作をした際に測位装置の位置を測定する測位手段とを備える前記測位装置を用いた測位衛星の位置情報の取得方法であって、前記測位手段により測位処理が開始されたときの測定開始時刻を含む履歴情報に基づいて、前記測位手段が前記測位処理を開始する時刻を推定する推定ステップと、前記推定ステップにより推定された推定開始時刻に基づいて、前記推定開始時刻よりも前に前記取得手段が前記位置情報を取得するように前記取得手段を制御する制御ステップとを含むことを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明に係るプログラムは、
測位衛星の位置を示す位置情報を取得する取得手段と、前記取得手段により取得された前記位置情報に基づいて、ユーザが特定の動作をした際に測位装置の位置を測定する測位手段とを備える前記測位装置のコンピュータを、前記測位手段により測位処理が開始されたときの測定開始時刻を含む履歴情報に基づいて、前記測位手段が前記測位処理を開始する時刻を推定する推定手段、前記推定手段により推定された推定開始時刻に基づいて、前記推定開始時刻よりも前に前記取得手段が前記位置情報を取得するように前記取得手段を制御する制御手段、として機能させることを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測位装置において、
測位衛星の位置を示す位置情報を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された前記位置情報に基づいて、ユーザが特定の動作をした際の前記測位装置の位置を測定する測位手段と、
前記測位手段により測位処理が開始されたときの測定開始時刻を含む履歴情報に基づいて、前記測位手段が前記測位処理を開始する時刻を推定する推定手段と、
前記推定手段により推定された推定開始時刻に基づいて、前記推定開始時刻よりも前に前記取得手段が前記位置情報を取得するように前記取得手段を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする測位装置。
【請求項２】
前記制御手段は、
前記推定開始時刻に基づいて、前記位置情報を取得する取得タイミングを特定する特定手段を備え、
当該制御手段は、前記取得タイミングで前記位置情報を取得するように前記取得手段を制御することを特徴とする請求項１に記載の測位装置。
【請求項３】
前記特定手段は、
前記取得タイミングで前記位置情報が取得されなかった場合、次の取得タイミングを特定することを特徴とする請求項２に記載の測位装置。
【請求項４】
前記推定手段は、
前記測位処理が終了したときの測定終了時刻を含む前記履歴情報に基づいて、前記測位手段が前記測位処理を終了する時刻を推定し、
前記特定手段は、前記推定開始時刻よりも前に前記位置情報が取得されなかった場合、前記推定手段により推定された推定終了時刻に達するまで、前記取得タイミングを特定する処理を繰り返し実行することを特徴とする請求項３に記載の測位装置。
【請求項５】
前記推定手段は、
前記取得手段により前記位置情報が取得される日と所定の関係を有する日に対応する情報を含む前記履歴情報を用いて、前記推定開始時刻を推定することを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の測位装置。
【請求項６】
前記推定手段は、更に、
前記履歴情報のうち、前記取得手段により前記位置情報が取得される日と所定の関係を有する日に対応する情報を用いて、前記推定終了時刻を推定することを特徴とする請求項４に記載の測位装置。
【請求項７】
前記制御手段は、
前記推定開始時刻が、前記位置情報が取得された時刻から所定時間以内である場合、前記特定手段による前記取得タイミングの特定を行わないことを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の測位装置。
【請求項８】
測位衛星の位置を示す位置情報を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された前記位置情報に基づいて、ユーザが特定の動作をした際に測位装置の位置を測定する測位手段とを備える前記測位装置を用いた測位衛星の位置情報の取得方法であって、
前記測位手段により測位処理が開始されたときの測定開始時刻を含む履歴情報に基づいて、前記測位手段が前記測位処理を開始する時刻を推定する推定ステップと、
前記推定ステップにより推定された推定開始時刻に基づいて、前記推定開始時刻よりも前に前記取得手段が前記位置情報を取得するように前記取得手段を制御する制御ステップとを含むことを特徴とする測位衛星の位置情報の取得方法。
【請求項９】
測位衛星の位置を示す位置情報を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された前記位置情報に基づいて、ユーザが特定の動作をした際に測位装置の位置を測定する測位手段とを備える前記測位装置のコンピュータを、
前記測位手段により測位処理が開始されたときの測定開始時刻を含む履歴情報に基づいて、前記測位手段が前記測位処理を開始する時刻を推定する推定手段、
前記推定手段により推定された推定開始時刻に基づいて、前記推定開始時刻よりも前に前記取得手段が前記位置情報を取得するように前記取得手段を制御する制御手段、
として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月21日(2017.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明は、収納位置と撮影位置との間をレンズが光軸方向に移動して撮影倍率を変更するレンズ鏡筒であって、外周部に複数の第１突起またはフォロワ部を有するとともに、被写体側の端部外周部にフランジ部を有する固定筒と、前記固定筒と同軸的に固定配置され、光軸方向の両側にフランク面を有する複数の第２突起またはフォロワ部を外周部に有するストッパ部材と、前記固定筒及び前記ストッパ部材の外周側に配置され、内周部に前記複数の第１突起またはフォロワ部がそれぞれカム係合する複数の第１カム溝を有するとともに、内周部に前記第１カム溝に対して光軸方向の像面側に離れた位置に前記複数の第２突起またはフォロワ部がそれぞれ係合する前記第１カム溝と同一の軌跡の複数の第２カム溝を有し、前記第１突起またはフォロワ部と前記第１カム溝との係合、及び前記第２突起またはフォロワ部と前記第２カム溝との係合により、前記固定筒及び前記ストッパ部材に対して回転しながら光軸方向に移動するカム筒と、を備え、前記カム筒が被写体側に繰り出して前記固定筒の前記フランジ部に接近した領域では、前記複数の第２突起またはフォロワ部がそれぞれ係合する前記複数の第２カム溝の像面側の側壁が開放されていることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
収納位置と撮影位置との間をレンズが光軸方向に移動して撮影倍率を変更するレンズ鏡筒であって、
外周部に複数の第１突起またはフォロワ部を有するとともに、被写体側の端部外周部にフランジ部を有する固定筒と、
前記固定筒と同軸的に固定配置され、光軸方向の両側にフランク面を有する複数の第２突起またはフォロワ部を外周部に有するストッパ部材と、
前記固定筒及び前記ストッパ部材の外周側に配置され、内周部に前記複数の第１突起またはフォロワ部がそれぞれカム係合する複数の第１カム溝を有するとともに、内周部に前記第１カム溝に対して光軸方向の像面側に離れた位置に前記複数の第２突起またはフォロワ部がそれぞれ係合する前記第１カム溝と同一の軌跡の複数の第２カム溝を有し、前記第１突起またはフォロワ部と前記第１カム溝との係合、及び前記第２突起またはフォロワ部と前記第２カム溝との係合により、前記固定筒及び前記ストッパ部材に対して回転しながら光軸方向に移動するカム筒と、を備え、
前記カム筒が被写体側に繰り出して前記固定筒の前記フランジ部に接近した領域では、前記複数の第２突起またはフォロワ部がそれぞれ係合する前記複数の第２カム溝の像面側の側壁が開放されていることを特徴とするレンズ鏡筒。
【請求項２】
前記カム筒が被写体側に繰り出して前記固定筒の前記フランジ部に接近した領域では、前記第２カム溝の底部に前記第２突起またはフォロワ部が接触するとともに、前記第２カム溝の被写体側の側壁に対して前記第２突起またはフォロワ部のフランク面が隙間を有して配置されることを特徴とする請求項１に記載のレンズ鏡筒。
【請求項３】
前記カム筒が被写体側に繰り出して前記固定筒の前記フランジ部に接近した領域では、前記第２のカム溝の被写体側の側壁に前記第２突起またはフォロワ部のフランク面が接触して配置されることを特徴とする請求項１に記載のレンズ鏡筒。
【請求項４】
前記カム筒の像面側端部には、前記カム筒の光軸方向の位置を検出するためのリブ部が設けられ、前記リブ部は、２つの前記第２カム溝に周方向に挟まれた位置で、かつ前記第２カム溝と光軸方向に重なる位置に配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のレンズ鏡筒。
【請求項５】
前記撮影位置は、前記レンズが前記収納位置から被写体側に繰り出した第１撮影位置と、前記レンズが前記第１撮影位置から更に被写体側に繰り出した第２撮影位置と、前記レンズが前記第２撮影位置から更に被写体側に繰り出した第３撮影位置とを有し、
前記第３撮影位置で前記カム筒が前記フランジ部に最も接近し、前記第２撮影位置から前記第３撮影位置までの領域では、前記カム筒は、前記固定筒に対して略定位置で回転することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のレンズ鏡筒。
【請求項６】
前記ストッパ部材は、レンズを保持するレンズ保持部を光軸方向に移動可能に案内することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のレンズ鏡筒。
【請求項７】
前記ストッパ部材は、前記レンズ保持部を光軸方向に駆動する駆動源を保持することを特徴とする請求項６に記載のレンズ鏡筒。
【請求項８】
収納位置と撮影位置との間をレンズが光軸方向に移動して撮影倍率を変更するレンズ鏡筒を備える撮像装置であって、
前記レンズ鏡筒は、
外周部に複数の第１突起またはフォロワ部を有するとともに、被写体側の端部外周部にフランジ部を有する固定筒と、
前記固定筒と同軸的に固定配置され、光軸方向の両側にフランク面を有する複数の第２突起またはフォロワ部を外周部に有するストッパ部材と、
前記固定筒及び前記ストッパ部材の外周側に配置され、内周部に前記複数の第１突起またはフォロワ部がそれぞれカム係合する複数の第１カム溝を有するとともに、内周部に前記第１カム溝に対して光軸方向の像面側に離れた位置に前記複数の第２突起またはフォロワ部がそれぞれ係合する前記第１カム溝と同一の軌跡の複数の第２カム溝を有し、前記第１突起またはフォロワ部と前記第１カム溝との係合、及び前記第２突起またはフォロワ部と前記第２カム溝との係合により、前記固定筒及び前記ストッパ部材に対して回転しながら光軸方向に移動するカム筒と、を備え、
前記カム筒が被写体側に繰り出して前記固定筒の前記フランジ部に接近した領域では、前記複数の第２突起またはフォロワ部がそれぞれ係合する前記複数の第２カム溝の像面側の側壁が開放されていることを特徴とする撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月3日(2017.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記目的を果たすため、本発明の一態様によれば、光源装置は、励起光を出射する励起光源と、前記励起光に励起され、前記励起光の波長とは異なる波長の蛍光光を出射する蛍光体プレートと、前記励起光源から出射される前記励起光を前記蛍光体プレートの一方の面の一部である励起光照射領域内に集光して、前記蛍光体プレートに照射すると共に、前記励起光照射領域からの蛍光体発光光を取り込む、集光光学系と、を備え、前記励起光照射領域が前記蛍光体プレートに対して偏心するように、前記励起光が前記蛍光体プレートに照射される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
励起光を出射する励起光源と、
前記励起光に励起され、前記励起光の波長とは異なる波長の蛍光光を出射する蛍光体プレートと、
前記励起光源から出射される前記励起光を前記蛍光体プレートの一方の面の一部である励起光照射領域内に集光して、前記蛍光体プレートに照射すると共に、前記励起光照射領域からの蛍光体発光光を取り込む、集光光学系と、
を備え、
前記励起光照射領域が前記蛍光体プレートに対して偏心するように、前記励起光が前記蛍光体プレートに照射されることを特徴とする光源装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記励起光照射領域が矩形形状であり、前記蛍光体プレートが矩形形状であって、
前記矩形形状の励起光照射領域が、前記矩形形状の蛍光体プレートの一辺に対して近接
することを特徴とする請求項１又は２に記載の光源装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記励起光照射領域が矩形形状であり、前記蛍光体プレートが矩形形状であって、
前記矩形形状の励起光照射領域が、前記矩形形状の蛍光体プレートの二辺に対して等距
離に近接することを特徴とする請求項１又は２に記載の光源装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月23日(2017.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板の上に設けられた反射防止膜とを有し、
前記反射防止膜は、
前記基板の上に設けられ、複数の薄膜から成る中間層と、
前記中間層の上に設けられ、表面側から基板側に向かって屈折率が連続的に増加する部分を有する凹凸層とを備え、
前記中間層は、前記基板の上に設けられた第１層と、前記第１層の上に設けられた第２層とを含み、
波長５５０ｎｍにおける前記基板の屈折率をｎｓ、波長５５０ｎｍにおける前記第２層の屈折率をｎ２、前記第２層の膜厚をｄ２（ｎｍ）としたとき、
１．４０≦ｎｓ≦１．８５
ｎｓ＜ｎ２
１．７２≦ｎ２≦１．９５
２３０（ｎｍ）≦ｎ２ｄ２≦２９０（ｎｍ）
なる条件式を満たすことを特徴とする光学素子。
【請求項２】
波長５５０ｎｍにおける前記第１層の屈折率をｎ１、前記第１層の膜厚をｄ１（ｎｍ）としたとき、
１．５５≦ｎ１≦１．７６
１００（ｎｍ）≦ｎ１ｄ１≦３００（ｎｍ）
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
ｎｓ＜ｎ１
１００（ｎｍ）≦ｎ１ｄ１≦１５０（ｎｍ）
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項２に記載の光学素子。
【請求項４】
ｎ１＜ｎｓ
２００（ｎｍ）≦ｎ１ｄ１≦２９０（ｎｍ）
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項２に記載の光学素子。
【請求項５】
前記中間層は、前記第２層の上に設けられた第３層を有し、
波長５５０ｎｍにおける前記第３層の屈折率をｎ３、前記第３層の膜厚をｄ３（ｎｍ）としたとき、
１．３６≦ｎ３≦１．５５
ｎ３ｄ３≦１００（ｎｍ）
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項６】
前記凹凸層は、屈折率が厚さ方向に変化しない均質部を含み、
前記中間層は、前記第２層の上に設けられた第３層を有し、
波長５５０ｎｎにおける前記均質部の屈折率をｎａ、前記均質部の厚さをｄａ（ｎｍ）、波長５５０ｎｍにおける前記第３層の屈折率をｎ３、前記第３層の膜厚をｄ３（ｎｍ）としたとき、
１．３５≦ｎａ≦１．５８
７０（ｎｍ）≦ｎ３ｄ３＋ｎａｄａ≦１００（ｎｍ）
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項７】
前記凹凸層は、酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶を含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項８】
前記凹凸層における凸部のピッチは、４００ｎｍよりも小さいことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項９】
前記凹凸層の厚さは１８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光学素子を有することを特徴とする光学系。
【請求項１１】
請求項１０に記載の光学系を有することを特徴とする光学機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】反射防止膜を有する光学素子、光学系、光学機器
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、反射防止膜を有する光学素子に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
そこで、本発明の目的は、屈折率が低い基板に対して入射角度特性に優れた反射防止膜を有する光学素子を提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一側面としての光学素子は、基板と、前記基板の上に設けられた反射防止膜とを有し、前記反射防止膜は、前記基板の上に設けられ、複数の薄膜から成る中間層と、前記中間層の上に設けられ、表面側から基板側に向かって屈折率が連続的に増加する部分を有する凹凸層とを備え、前記中間層は、前記基板の上に設けられた第１層と、前記第１層の上に設けられた第２層とを含み、波長５５０ｎｍにおける前記基板の屈折率をｎｓ、波長５５０ｎｍにおける前記第２層の屈折率をｎ２、前記第２層の膜厚をｄ２（ｎｍ）としたとき、
１．４０≦ｎｓ≦１．８５
ｎｓ＜ｎ２
１．７２≦ｎ２≦１．９５
２３０（ｎｍ）≦ｎ２ｄ２≦２９０（ｎｍ）
なる条件式を満たすことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月2日(2017.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置の性能を評価する際に用いられる評価用マスクであって、
前記露光装置の第１性能を評価するための第１パターン及び第２パターンと、
前記第１パターンを含む第１部分領域における単位面積あたりの開口部と遮光部との第１比率と、前記第２パターンを含む第２部分領域における単位面積あたりの開口部と遮光部との第２比率との差分を±１０％以内にするためのダミーパターンと、
を有することを特徴とする評価用マスク。
【請求項２】
前記ダミーパターンは、前記第１比率と前記第２比率とを等しくするように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の評価用マスク。
【請求項３】
前記第１部分領域は、前記第１パターンを中心とする円形状の領域であり、
前記第２部分領域は、前記第２パターンを中心とする円形状の領域であることを特徴とする請求項１又は２に記載の評価用マスク。
【請求項４】
前記第１部分領域及び前記第２部分領域は、直径５ｍｍ以上８０ｍｍ以下の領域であることを特徴とする請求項３に記載の評価用マスク。
【請求項５】
前記露光装置の前記第１性能とは異なる第２性能を評価するための第３パターンを有し、
前記第３パターンが、前記第１部分領域内において前記第１パターンの周囲に配置され、
前記ダミーパターンが、前記第２部分領域内において前記第２パターンの周囲に配置されていることを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の評価用マスク。
【請求項６】
前記第１パターン、前記第２パターン、前記第３パターン及び前記ダミーパターンは、開口パターンであることを特徴とする請求項５に記載の評価用マスク。
【請求項７】
前記ダミーパターンは、前記第３パターンと同一の開口パターンで形成されていることを特徴とする請求項６に記載の評価用マスク。
【請求項８】
前記第１性能は、線幅及びフォーカスの少なくとも一方を含み、
前記第２性能は、ディストーションを含むことを特徴とする請求項５乃至７のうちいずれか１項に記載の評価用マスク。
【請求項９】
基板を露光する露光装置の性能を評価する際に用いられる評価用マスクであって、
前記露光装置の第１性能を評価するための第１パターン及び第２パターンと、
前記評価用マスクを介してレジストが塗布された基板を前記露光装置で露光して、当該基板を現像したときに、当該基板の上の前記第１パターンに対応するレジスト像の線幅と、前記第２パターンに対応するレジスト像の線幅とを同一とするためのダミーパターンと、
を有することを特徴とする評価用マスク。
【請求項１０】
基板を露光する露光装置の性能を評価する際に用いられる評価用マスクであって、
前記露光装置の第１性能を評価するための第１パターン及び第２パターンと、
前記第１パターンを含む第１部分領域における単位面積あたりの開口部の面積と、前記第２パターンを含む第２部分領域における単位面積あたりの開口部の面積とを一致させるためのダミーパターンと、
を有することを特徴とする評価用マスク。
【請求項１１】
基板を露光する露光装置の性能を評価する評価方法であって、
前記露光装置を用いて、評価用マスクを介して、レジストが塗布された基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、
現像された前記基板の上のレジスト像に基づいて、前記露光装置の性能を評価する工程と、を有し、
前記評価用マスクは、請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載の評価用マスクであることを特徴とする評価方法。
【請求項１２】
基板を露光する露光装置であって、
前記基板に転写すべきパターンを有するマスクと、前記露光装置の性能を評価するための評価用マスクとを交換可能に保持するマスクステージと、
前記評価用マスクを用いて評価された前記露光装置の性能に基づいて、前記露光装置の性能の調整を制御する制御部と、を有し、
前記評価用マスクは、請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載の評価用マスクであることを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
を有し、現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
図５（ａ）乃至図５（ｃ）のそれぞれは、パターン１１、１５及び１９のそれぞれの近傍、具体的には、パターン１１、１５及び１９のそれぞれを含む部分領域１１ａ、１５ａ及び１９ａを示す拡大図である。パターン１５（第１パターン）を含む部分領域１５ａ（第１部分領域）における単位面積あたりの開口率（第１比率）と、パターン１１（第２パターン）を含む部分領域１１ａ（第２部分領域）における単位面積あたりの開口率（第２比率）とが等しくなっている。同様に、パターン１５を含む部分領域１５ａにおける単位面積あたりの開口率と、パターン１９（第２パターン）を含む部分領域１９ａ（第２部分領域）における単位面積あたりの開口率（第２比率）とが等しくなっている。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月4日(2017.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側から像面側に向かって順に、正の屈折力を有する第１レンズ群と、負の屈折力を有する第２レンズ群とを配置して構成され、
前記第１レンズ群は、正の屈折力を有する第１レンズと、正の屈折力を有する第２レンズと、負の屈折力を有する第３レンズとから構成され、
前記第２レンズ群は、負の屈折力を有する第４レンズと、負の屈折力を有する第５レンズと、正の屈折力を有する第６レンズとから構成され、
レンズ系全体の焦点距離をｆ、前記第１レンズ群の焦点距離をＦ１、前記第１レンズのアッベ数をνｄ１、前記第２レンズのアッベ数をνｄ２、前記第３レンズのアッベ数をνｄ３、前記第１レンズと前記第２レンズとの間の光軸上の距離をＤ１２、前記第２レンズと前記第３レンズとの間の光軸上の距離をＤ２３としたとき、
０．６＜Ｆ１／ｆ＜１．４
４０＜νｄ１＜７５
４０＜νｄ２＜７５
１５＜νｄ３＜３５
３＜Ｄ１２／Ｄ２３＜８
を満足する撮像レンズ。
【請求項２】
前記第１レンズの焦点距離をｆ１、前記第２レンズの焦点距離をｆ２としたとき、
０．５＜ｆ１／ｆ２＜５．０
を満足する請求項１に記載の撮像レンズ。
【請求項３】
前記第４レンズおよび前記第５レンズの合成焦点距離をｆ４５としたとき、
−７．０＜ｆ４５／ｆ＜−０．５
を満足する請求項１または２に記載の撮像レンズ。
【請求項４】
前記第６レンズの焦点距離をｆ６としたとき、
２＜ｆ６／ｆ＜１０
を満足する請求項１〜３のいずれか一項に記載の撮像レンズ。
【請求項５】
前記第４レンズおよび前記第５レンズの合成焦点距離をｆ４５、前記第６レンズの焦点距離をｆ６としたとき、
−０．８＜ｆ４５／ｆ６＜−０．１
を満足する請求項１〜４のいずれか一項に記載の撮像レンズ。
【請求項６】
前記第６レンズのアッベ数をνｄ６としたとき、
１５＜νｄ６＜３５
を満足する請求項１〜５のいずれか一項に記載の撮像レンズ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するために本発明の撮像レンズは、物体側から像面側に向かって順に、正の屈折力を有する第１レンズ群と、負の屈折力を有する第２レンズ群とを配置して構成される。第１レンズ群は、正の屈折力を有する第１レンズと、正の屈折力を有する第２レンズと、負の屈折力を有する第３レンズとから構成される。第２レンズ群は、負の屈折力を有する第４レンズと、負の屈折力を有する第５レンズと、正の屈折力を有する第６レンズとから構成される。また、本発明に係る撮像レンズは、レンズ系全体の焦点距離をｆ、第１レンズ群の焦点距離をＦ１、第１レンズのアッベ数をνｄ１、第２レンズのアッベ数をνｄ２、第３レンズのアッベ数をνｄ３、第１レンズと第２レンズとの間の光軸上の距離をＤ１２、第２レンズと第３レンズとの間の光軸上の距離をＤ２３としたとき、次の条件式（１）〜（４）および（７）を満足する。
０．６＜Ｆ１／ｆ＜１．４                    （１）
４０＜νｄ１＜７５                          （２）
４０＜νｄ２＜７５                          （３）
１５＜νｄ３＜３５                          （４）
３＜Ｄ１２／Ｄ２３＜８                      （７）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
条件式（７）は、撮像レンズの小型化を図りつつ、像面湾曲および歪曲収差を好ましい範囲内に抑制するための条件である。上限値「８」を超えると、撮像レンズの小型化には有利となるものの、バックフォーカスの確保が困難となる。像面湾曲については、非点収差のうちタンジェンシャル像面が像面側に倒れるため、補正過剰となる。また、歪曲収差がプラス方向に増大することとなり、良好な結像性能を得ることが困難となる。一方、下限値「３」を下回ると、バックフォーカスの確保には有利となるものの、撮像レンズの小型化が困難となる。また、非点収差のうちサジタル像面が物体側に倒れ、良好な結像性能を得ることが困難となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記構成の撮像レンズにおいては、第１レンズの焦点距離をｆ１、第２レンズの焦点距離をｆ２としたとき、次の条件式（５）を満足することが望ましい。
０．５＜ｆ１／ｆ２＜５．０                  （５）
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
条件式（５）は、色収差、非点収差、および像面湾曲を良好に補正するための条件である。上限値「５．０」を超えると、第２レンズの屈折力に対して第１レンズの屈折力が相対的に弱くなるため、バックフォーカスの確保には有利となるものの、撮像レンズの小型化が困難となる。また、非点収差のうちサジタル像面が像面側に倒れて非点収差が増大するため、良好な結像性能を得ることが困難となる。一方、下限値「０．５」を下回ると、第２レンズの屈折力に対して第１レンズの屈折力が相対的に強くなるため撮像レンズの小型化には有利となる。しかし、バックフォーカスが短くなり、赤外線カットフィルタ等の挿入物を配置するためのスペースの確保が困難となる。また、非点収差のうちサジタル像面が物体側に倒れて非点収差が増大するため、良好な結像性能を得ることが困難となる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記構成の撮像レンズにおいては、第３レンズの焦点距離をｆ３としたとき、次の条件式（６）を満足することが望ましい。
−３．５＜ｆ３／Ｆ１＜−０．５              （６）
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
条件式（６）は、色収差および非点収差を良好に補正するための条件である。上限値「−０．５」を超えると、第１レンズ群において第３レンズの有する負の屈折力が相対的に強くなるため、非点収差が像面側に増大するとともに軸外光束の倍率色収差が補正過剰（基準波長の結像点に対して短波長の結像点が光軸から遠ざかる方向に移動）となり、良好な結像性能を得ることが困難となる。一方、下限値「−３．５」を下回ると、非点収差については補正し易くなるものの、軸上色収差が増大するため良好な結像性能を得ることが困難となる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月31日(2017.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被計測対象の表面を穿孔しながら前記被計測対象にレーザ・インデュースト・ブレイクダウンを起こして元素をプラズマ化するために、繰り返しレーザ光を発射するレーザ光源と、
アシストガス供給部と、
前記レーザ光源が発射したレーザ光を前記被計測対象の表面に伝送する第１の光ファイバ、前記被計測対象で発生したプラズマ光を集光する集光光学系、前記集光光学系によって集光されたプラズマ光を伝送する第２の光ファイバ、及び、前記アシストガス供給部からアシストガスを供給するためのガスチューブが取り付けられ、前記被計測対象と接する面に、前記ガスチューブを経由して前記アシストガスが供給される空間を形成した計測ヘッドと、
前記第２の光ファイバによって伝送されたプラズマ光を分光し、分光スペクトルの発光強度パターンを示す信号を出力する分光計測部と、
前記分光計測部の出力信号から特定の元素の深さ方向の濃度分布を求めて前記特定の元素の厚みを計測する信号処理部と
を備えた特定の元素の厚み計測装置。
【請求項２】
前記信号処理部は、前記分光計測部の出力信号が示す前記発光強度パターンの時間的変化に基づき、穿孔の深さを求める
請求項１に記載の特定の元素の厚み計測装置。
【請求項３】
前記計測ヘッドは、前記集光光学系を光軸方向に移動させる移動機構をさらに有する
請求項１に記載の特定の元素の厚み計測装置。
【請求項４】
前記アシストガス供給部は、前記アシストガスとして酸素ガスと窒素ガスとを交互に供給する
請求項１に記載の特定の元素の厚み計測装置。
【請求項５】
前記計測ヘッドを搭載した移動体を備えた
請求項１に記載の特定の元素の厚み計測装置。
【請求項６】
前記信号処理部は、前記被計測対象の複数の位置の表面についての前記特定の元素の厚みの計測結果に基づき、前記複数の位置のうち、前記特定の元素の厚みが大きい１つの位置または前記特定の元素の厚みが大きい２つ以上の位置の中間の位置を、前記被計測対象のうちボーリングを行う位置として決定する
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の特定の元素の厚み計測装置。
【請求項７】
被計測対象にレーザ・インデュースト・ブレイクダウンを起こして元素をプラズマ化するためのレーザ光を発射するレーザ光源と、
アシストガス供給部と、
前記レーザ光源が発射したレーザ光を前記被計測対象の表面に伝送する第１の光ファイバ、前記被計測対象で発生したプラズマ光を集光する集光光学系、前記集光光学系によって集光されたプラズマ光を伝送する第２の光ファイバ、及び、前記アシストガス供給部からアシストガスを供給するためのガスチューブが取り付けられ、前記被計測対象と接する面に、前記ガスチューブを経由して前記アシストガスが供給される空間を形成した計測ヘッドと、
前記第２の光ファイバによって伝送されたプラズマ光が入射する分光計測部と、
前記分光計測部の出力信号が入力する信号処理部と
を用いた特定の元素の厚み計測方法において、
前記アシストガス供給部が前記計測ヘッドに形成された前記空間へ前記アシストガスを供給し、前記レーザ光源が繰り返しレーザ光を発射することにより前記被計測対象の表面を穿孔しながら元素をプラズマ化する第１のステップと、
前記分光計測部が、前記第２の光ファイバによって伝送されたプラズマ光を分光し、分光スペクトルの発光強度パターンを示す信号を出力する第２のステップと、
前記信号処理部が、前記分光計測部の出力信号から特定の元素の深さ方向の濃度分布を求めて前記特定の元素の厚みを計測する第３のステップと
を有する特定の元素の厚み計測方法。