Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月18日(2017.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信ネットワーク上におけるユーザ行動に基づく情報のうち、事業者に関連する情報を取得する取得部と、
前記取得部によって取得された情報に基づいて、事業者の信用度を評価する評価部と、
を備え、
前記取得部は、
前記通信ネットワーク上におけるユーザ行動に基づく情報として、前記事業者の顧客数、顧客の継続利用率、顧客単価の少なくともいずれか一つを取得し、
前記評価部は、
前記取得部によって取得された前記事業者の顧客数、顧客の継続利用率、顧客単価の少なくともいずれか一つに示される指標値の大小に基づいて、前記信用度の高低を評価する、
ことを特徴とする評価装置。
【請求項２】
前記取得部は、
前記通信ネットワーク上におけるユーザ行動に基づく情報として、各種ウェブサイトから提供されるサービスであって、前記事業者が関連するサービスの利用に際してユーザから発信された情報を取得する、
ことを特徴とする請求項１に記載の評価装置。
【請求項３】
前記取得部は、
前記通信ネットワーク上におけるユーザ行動に基づく情報として、前記事業者が提供するウェブサイトにおける閲覧数、閲覧者数、コンバージョン率の少なくともいずれか一つを取得し、
前記評価部は、
前記取得部によって取得された閲覧数、閲覧者数、コンバージョン率の少なくともいずれか一つに示される指標値の大小に基づいて、前記信用度の高低を評価する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の評価装置。
【請求項４】
前記取得部は、
前記通信ネットワーク上におけるユーザ行動に基づく情報として、前記事業者が提供する製品におけるユーザからの評価値、製品の利用者数、製品についてのレビュー投稿数の少なくともいずれか一つを取得し、
前記評価部は、
前記取得部によって取得された、前記事業者が提供する製品におけるユーザからの評価値、製品の利用者数、製品についてのレビュー投稿数の少なくともいずれか一つに示される指標値の大小に基づいて、前記信用度の高低を評価する、
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の評価装置。
【請求項５】
前記取得部は、
前記事業者の財務情報を取得し、
前記評価部は、
前記取得部によって取得された前記指標値のうち、少なくともいずれか一つの前記指標値と、前記事業者の財務情報と、を回帰分析することにより得られる前記指標値と前記事業者の財務情報との相関性に基づいて、前記信用度の高低を評価する、
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の評価装置。
【請求項６】
前記取得部は、
前記指標値により示される情報が類似することにより、前記事業者と類似すると判定される事業者である類似事業者の財務情報を取得し、
前記評価部は、
前記取得部によって取得された前記類似事業者の財務情報に基づいて、前記事業者の信用度を評価する、
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の評価装置。
【請求項７】
前記取得部は、
前記通信ネットワーク上におけるユーザ行動に基づく情報として、社会的ネットワーク構築のためのウェブサービスを利用する前記事業者の経営者、役員、社員、もしくは構成員の少なくともいずれかの情報を取得する、
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載の評価装置。
【請求項８】
前記取得部は、
前記社会的ネットワーク構築のためのウェブサービス内における前記事業者又は前記事業者の経営者、役員、社員、もしくは構成員の知名度、評判、人脈の少なくともいずれか一つに関する情報を取得する、
ことを特徴とする請求項７に記載の評価装置。
【請求項９】
前記取得部は、
前記事業者の同業者に関する情報を取得し、
前記評価部は、
前記取得部によって取得された前記同業者に関する情報に基づいて、前記事業者の信用度を評価する、
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一つに記載の評価装置。
【請求項１０】
コンピュータが実行する評価方法であって、
通信ネットワーク上におけるユーザ行動に基づく情報のうち、事業者に関連する情報を取得する取得工程と、
前記取得工程によって取得された情報に基づいて、事業者の信用度を評価する評価工程と、
を含み、
前記取得工程は、
前記通信ネットワーク上におけるユーザ行動に基づく情報として、前記事業者の顧客数、顧客の継続利用率、顧客単価の少なくともいずれか一つを取得し、
前記評価工程は、
前記取得工程によって取得された前記事業者の顧客数、顧客の継続利用率、顧客単価の少なくともいずれか一つに示される指標値の大小に基づいて、前記信用度の高低を評価する、
ことを特徴とする評価方法。
【請求項１１】
通信ネットワーク上におけるユーザ行動に基づく情報のうち、事業者に関連する情報を取得する取得手順と、
前記取得手順によって取得された情報に基づいて、事業者の信用度を評価する評価手順と、
をコンピュータに実行させ、
前記取得手順は、
前記通信ネットワーク上におけるユーザ行動に基づく情報として、前記事業者の顧客数、顧客の継続利用率、顧客単価の少なくともいずれか一つを取得し、
前記評価手順は、
前記取得手順によって取得された前記事業者の顧客数、顧客の継続利用率、顧客単価の少なくともいずれか一つに示される指標値の大小に基づいて、前記信用度の高低を評価する、
ことを特徴とする評価プログラム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年11月9日(2017.11.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
保護フィルムは、５−２００μｍ、好ましくは５−１００μｍ、より好ましくは８−８０μｍ、更により好ましくは１０−５０μｍの範囲の厚さを有してもよい。このように、保護フィルムは、デバイス領域内の突出部の外形に有効に適合するのに十分な、柔軟でしなやかであること、同時に、前述されたクッション性又は緩衝効果を信頼性良く効率的に与える為に有効な厚さを呈することを確実にすることができる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７３】
保護フィルム４は、５−２００μｍの範囲、例えば、８０μｍの厚さを有してもよい。保護フィルム４は、ＰＶＣまたはＥＶＡのような高分子材料で形成されてもよい。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の分割ライン（１１）によって区切られた複数のデバイスを備えたデバイス領域（２）と、デバイスを持たず、デバイス領域（２）の周りに形成される周辺限界領域（３）とを一面（１）に有するウェハ（Ｗ）を処理する方法において、
前記デバイス領域（２）は、前記ウェハ（Ｗ）の平坦面から突出する複数の突出部（１４）で形成され、当該方法は、
前記ウェハ（Ｗ）上の前記デバイスを覆う為に、保護フィルム（４）を前記ウェハ（Ｗ）の前記一面（１）に付けるステップであって、前記保護フィルム（４）が接着材で前記ウェハ（Ｗ）の前記一面（１）の少なくとも一部に付けられる、前記ステップと、
表の面（１７）に硬化性樹脂（１３）が加えられるキャリア（７）を準備するステップと、
前記保護フィルム（４）が付けられた前記ウェハ（Ｗ）の前記一面（１）を前記キャリア（７）の前記表の面（１７）に付けるステップであって、前記ウェハ（Ｗ）の前記平坦面から突出する突出部（１４）は、前記硬化性樹脂（１３）に埋め込まれ、前記キャリア（７）の前記表の面（１７）の反対側にある裏の面（１８）は、前記一面（１）の反対側にある前記ウェハ（Ｗ）の面（６）に対して実質的に平行である、前記ステップと、
前記ウェハ（Ｗ）の厚さを調整する為、前記一面（１）の反対側にある前記ウェハ（Ｗ）の前記面（６）を研削するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記分割ライン（１１）に沿って前記ウェハ（Ｗ）を切断するステップを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記硬化性樹脂（１３）が加えられた前記キャリア（７）および前記保護フィルム（４）を前記ウェハ（Ｗ）から取り外すステップを更に含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記ウェハ（Ｗ）を切断するステップは、前記硬化性樹脂（１３）が加えられた前記キャリア（７）および前記保護フィルム（４）を前記ウェハ（Ｗ）から取り外すステップの後に行われる、請求項２に従属する請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記ウェハ（Ｗ）を切断するステップは、前記保護フィルム（４）および前記キャリア（７）が前記ウェハ（Ｗ）に付けられた状態で行われる、請求項２または、請求項２に従属する３に記載の方法。
【請求項６】
前記接着材は、前記ウェハ（Ｗ）の前記一面（１）および前記保護フィルム（４）の全体の接触領域にわたって設けられる、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記保護フィルム（４）は拡張可能であり、前記保護フィルム（４）は、前記ウェハ（Ｗ）の前記平坦面から突出する前記突出部（１４）の外形に追従するように、前記ウェハ（Ｗ）の前記一面（１）に付けられるときに拡張される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記硬化性樹脂（１３）は、ＵＶ線、熱、電界および／または化学剤のような外部刺激によって硬化可能である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記一面（１）の反対側にある前記ウェハ（Ｗ）の前記面（６）を研削する前に前記樹脂（１３）を硬化する為に、前記外部刺激を前記硬化性樹脂（１３）に加えるステップを更に含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
加えられた前記硬化性樹脂（１３）と共に前記キャリア（７）の一部分（２３）を切り離すステップを更に含み、前記一部分（２３）は、前記一面（１）の反対側にある前記ウェハ（Ｗ）の前記面（６）を研削する前に、前記ウェハ（Ｗ）の周囲を越えて側面に延びている、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記キャリア（７）は、ＰＥＴおよび／またはシリコンおよび／またはガラスおよび／またはＳＵＳのような剛性材料で形成される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記保護フィルム（４）は、５〜２００μmの範囲の厚さを有する、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月19日(2017.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リング状フレーム内のダイシングテープ上にマウントされたワークを個々のチップに分割するワーク分割装置において、
前記ダイシングテープをエキスパンドするエキスパンド手段と、
前記エキスパンドにより発生した前記ダイシングテープの外周部の弛み部分を局所的に加熱する加熱手段と、
前記加熱手段を前記ダイシングテープの外周部に沿って回転させる回転手段と、
を備える、ワーク分割装置。
【請求項２】
前記加熱手段は輻射熱又は対流熱を用いて加熱を行う、
請求項１に記載のワーク分割装置。
【請求項３】
前記加熱手段は前記ワークの中心を対称にした位置に複数設けられる、
請求項１又は２に記載のワーク分割装置。
【請求項４】
リング状フレーム内のダイシングテープ上にマウントされたワークを個々のチップに分割するワーク分割装置において、
前記ダイシングテープをエキスパンドするエキスパンドステップと、
前記エキスパンドにより発生した前記ダイシングテープの外周部の弛み部分を局所的に加熱する加熱ステップと、
前記加熱する位置を前記ダイシングテープの外周部に沿って回転させる回転ステップと、
を備える、ワーク分割方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ワーク分割装置及びワーク分割方法
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月19日(2017.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイシングテープの弛み部分を局所的に加熱する加熱手段と、
前記加熱手段を前記ダイシングテープの弛み部分に沿って相対的に移動させる移動手段と、
を備える、ダイシングテープ加熱装置。
【請求項２】
前記加熱手段は前記ダイシングテープの弛み部分に対して互いに異なる位置に複数設けられる、
請求項１に記載のダイシングテープ加熱装置。
【請求項３】
前記加熱手段は輻射熱または対流熱を用いて加熱を行う、
請求項１から３のいずれか１項に記載のダイシングテープ加熱装置。
【請求項４】
ダイシングテープの弛み部分を局所的に加熱する加熱ステップと、
前記加熱が行われる位置を前記ダイシングテープの弛み部分に沿って相対的に移動させる移動ステップと、
を備える、ダイシングテープ加熱方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ダイシングテープ加熱装置及びダイシングテープ加熱方法
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月26日(2017.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒素濃度が１×１０１２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上かつ１×１０１３ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下の範囲内に調整され、かつＣＯＰ領域からなるシリコンウェーハ表面上にエピタキシャルシリコン膜が形成されたエピタキシャルシリコンウェーハであって、
前記エピタキシャルシリコンウェーハに対して酸素析出物評価熱処理を施した場合に、前記シリコンウェーハの内部に形成される酸素析出物密度が前記シリコンウェーハの径方向全域に亘って１×１０８個／ｃｍ３以上かつ３×１０９個／ｃｍ３以下であり、かつ
前記シリコンウェーハの最外周から内方に１ｍｍから１０ｍｍまでの外周部領域内に形成される酸素析出物の平均密度が、前記外周部領域以外の中心部領域内に形成される酸素析出物の平均密度よりも低く、かつ
前記外周部領域における前記酸素析出物密度の最大値と最小値の差を前記外周部領域における前記酸素析出物密度の平均値で除した値が３以下であり、かつ
前記外周部領域における残存酸素濃度が８×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ３（Old-ASTM_F121, 1979）以上であることを特徴とするエピタキシャルシリコンウェーハ。
【請求項２】
前記外周部領域のうち前記最外周から内方に６ｍｍから１０ｍｍまでの範囲内に前記最大値が位置し、前記外周部領域のうち前記最外周から内方に６ｍｍ未満の範囲内に前記最小値が位置することを特徴とする請求項１記載のエピタキシャルシリコンウェーハ。
【請求項３】
前記外周部領域における前記酸素析出物密度が前記シリコンウェーハの最外周に向かって漸減していることを特徴とする請求項２に記載のエピタキシャルシリコンウェーハ。
【請求項４】
酸化誘起積層欠陥評価熱処理を施した場合に、前記エピタキシャルシリコンウェーハの裏面で観察される酸化誘起積層欠陥の密度が １００個／ｃｍ２以下であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載のエピタキシャルシリコンウェーハ。
【請求項５】
前記シリコンウェーハは酸素濃度が８×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ３（Old-ASTM_F121, 1979）以上かつ１４×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ３（Old-ASTM_F121, 1979）以下の範囲内に調整されたシリコン単結晶インゴットより切り出されたシリコンウェーハであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記載のエピタキシャルシリコンウェーハ。
【請求項６】
直径が３００ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一項に記載のエピタキシャルシリコンウェーハ。
【請求項７】
前記シリコンウェーハは、目標直径の１．０２〜１．０７倍の直径を有する前記シリコン単結晶インゴットの直胴部から切り出され、前記目標直径に加工されたシリコンウェーハであることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一項に記載のエピタキシャルシリコンウェーハ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記課題を解決するため、本発明によるエピタキシャルシリコンウェーハは、窒素濃度が１×１０１２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上かつ１×１０１３ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下の範囲内に調整され、かつＣＯＰ領域からなるシリコンウェーハ表面上にエピタキシャルシリコン膜が形成されたエピタキシャルシリコンウェーハであって、前記エピタキシャルシリコンウェーハに対して酸素析出物評価熱処理を施した場合に、前記シリコンウェーハの内部に形成される酸素析出物密度が前記シリコンウェーハの径方向全域に亘って１×１０８個／ｃｍ３以上かつ３×１０９個／ｃｍ３以下であり、かつ前記シリコンウェーハの最外周から内方に１ｍｍから１０ｍｍまでの外周部領域内に形成される酸素析出物の平均密度が、前記外周部領域以外の中心部領域内に形成される酸素析出物の平均密度よりも低く、かつ前記外周部領域における前記酸素析出物密度の最大値（Max）と最小値（Min）の差を前記外周部領域における前記酸素析出物密度の平均値（Ave）で除した値（(Max-Min)/Ave）が３以下であり、かつ前記外周部領域における残存酸素濃度が８×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ３（Old-ASTM_F121, 1979）以上であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月28日(2017.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線ネットワーク制御装置（ＲＮＣ）により実行される、媒体アクセス制御（ＭＡＣ）リソースを管理する方法であって、
共通拡張専用チャネル（Ｅ−ＤＣＨ）リソースに対して前記ＲＮＣ内に拡張ＭＡＣ−ｅｓエンティティを構成することと、
前記共通Ｅ−ＤＣＨリソースに対してノードＢ内に拡張ＭＡＣ−ｅエンティティを構成する指示を前記ノードＢへ送信することと、を含み、
前記共通Ｅ−ＤＣＨリソースは、セルフォワードアクセスチャネル（ＣＥＬＬ＿ＦＡＣＨ）状態またはアイドルモードの少なくとも１つにおいて共通制御チャネル（ＣＣＣＨ）送信を用いる無線送信／受信ユニット（ＷＴＲＵ）との通信に用いられる、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、前記ＲＮＣ内の前記拡張ＭＡＣ−ｅｓエンティティは、前記ＷＴＲＵのために維持される専用拡張ＭＡＣ−ｅｓエンティティである、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法において、前記ＲＮＣはサービングＲＮＣである、方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法において、前記ノードＢ内の前記拡張ＭＡＣ−ｅエンティティ及び前記ＲＮＣ内の前記拡張ＭＡＣ−ｅｓエンティティは、常に同時に、前記ＷＴＲＵに関連付けられて他のＷＴＲＵに関連付けられない共通エンティティとして動作する、方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法において、前記ＲＮＣは、コントローリングＲＮＣ（ＣＲＮＣ）であり、前記ＣＣＣＨ送信は、前記ＣＲＮＣにおいて終端される、方法。
【請求項６】
ノードＢであって、
セルフォワードアクセスチャネル（ＣＥＬＬ＿ＦＡＣＨ）状態において、共通拡張専用チャネル（Ｅ−ＤＣＨ）リソースに対して前記ノードＢ内に拡張媒体アクセス制御（拡張ＭＡＣ−ｅ）エンティティを構成するプロセッサを備え、
前記拡張ＭＡＣ−ｅエンティティは、制御モジュール、逆多重化モジュール及びハイブリッド自動再送要求（ＨＡＲＱ）モジュールを含む、ノードＢ。
【請求項７】
請求項６に記載のノードＢにおいて、共通トランスポートチャネルを通じて無線送信／受信ユニットへＩｕｂデータを送信する送信機をさらに備える、ノードＢ。
【請求項８】
請求項６に記載のノードＢにおいて、前記プロセッサは、前記共通Ｅ−ＤＣＨリソースに関連付けられる前記構成された拡張ＭＡＣ−ｅエンティティを介して、無線送信／受信ユニットと通信する、ノードＢ。
【請求項９】
請求項６に記載のノードＢにおいて、前記ノードＢ内の前記拡張ＭＡＣ−ｅエンティティは、前記ノードＢと通信する無線送信／受信ユニット（ＷＴＲＵ）のために維持される専用拡張ＭＡＣ−ｅエンティティである、ノードＢ。
【請求項１０】
請求項６に記載のノードＢにおいて、前記Ｅ−ＤＣＨリソースは、前記ノードＢと通信する無線送信／受信ユニットのために構成される、ノードＢ。
【請求項１１】
請求項６に記載のノードＢにおいて、前記ノードＢ内の前記拡張ＭＡＣ−ｅエンティティ及び無線ネットワーク制御装置（ＲＮＣ）内の拡張ＭＡＣ−ｅｓエンティティは、常に同時に、前記ノードＢと通信する無線送信／受信ユニット（ＷＴＲＵ）に関連付けられて他のＷＴＲＵに関連付けられない共通エンティティとして動作する、ノードＢ。
【請求項１２】
コントローリング無線ネットワーク制御装置（ＣＲＮＣ）であって、
共通拡張専用チャネル（Ｅ−ＤＣＨ）リソースに対して前記ＣＲＮＣ内に拡張媒体アクセス制御（拡張ＭＡＣ−ｅｓ）エンティティを構成するプロセッサを備え、
前記拡張Ｅ−ＤＣＨリソースは、セルフォワードアクセスチャネル（ＣＥＬＬ＿ＦＡＣＨ）状態またはアイドルモードの少なくとも１つにおいて共通制御チャネル（ＣＣＣＨ）送信を用いる無線送信／受信ユニット（ＷＴＲＵ）との通信に用いられ、
前記拡張ＭＡＣ−ｅｓエンティティは、分解モジュール、並べ替え−キュー分配モジュール、並べ替えモジュール、再構築モジュール及び巡回冗長検査（ＣＲＣ）誤り検出モジュールを含む、ＣＲＮＣ。
【請求項１３】
請求項１２に記載のＣＲＮＣにおいて、前記ＣＲＮＣ内の前記拡張ＭＡＣ−ｅｓエンティティは、無線送信／受信ユニットのために維持される専用拡張ＭＡＣ−ｅｓエンティティである、ＣＲＮＣ。
【請求項１４】
請求項１２に記載のＣＲＮＣにおいて、ノードＢ内の拡張ＭＡＣ−ｅエンティティ及び前記ＣＲＮＣ内の前記拡張ＭＡＣ−ｅｓエンティティは、常に同時に、１つの無線送信／受信ユニット（ＷＴＲＵ）に関連付けられて他のＷＴＲＵに関連付けられない共通エンティティとして動作する、ＣＲＮＣ。
【請求項１５】
請求項１２に記載のＣＲＮＣにおいて、共通制御チャネル（ＣＣＣＨ）送信が前記ＣＲＮＣにおいて終端される、ＣＲＮＣ。
【請求項１６】
サービング無線ネットワーク制御装置（ＳＲＮＣ）であって、
セルフォワードアクセスチャネル（ＣＥＬＬ＿ＦＡＣＨ）状態において、前記ＳＲＮＣに関連付けられている無線送信／受信ユニット（ＷＴＲＵ）に対して拡張媒体アクセス制御（拡張ＭＡＣ−ｅｓ）エンティティを構成するように構成されているプロセッサを備え、
前記ＷＴＲＵ内の前記拡張ＭＡＣ−ｅｓエンティティは、拡張専用チャネル（Ｅ−ＤＣＨ）送信に対して用いられ、
前記ＷＴＲＵ内の前記拡張ＭＡＣ−ｅｓエンティティは、分解モジュール、並べ替え−キュー分配モジュール、並べ替えモジュール、再構築モジュール及び巡回冗長検査（ＣＲＣ）誤り検出モジュールを含む、ＳＲＮＣ。
【請求項１７】
請求項１６に記載のＳＲＮＣにおいて、前記ＷＴＲＵに対し、前記拡張ＭＡＣ−ｅｓエンティティは、専用トラフィックチャネル又は専用制御チャネル送信のために前記ＳＲＮＣ内に構成される、ＳＲＮＣ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月24日(2017.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属空気二次電池の負極または空気極において、活物質として働く物質を含む負極の金属電極層、または、空気極の触媒層に当接して被覆するように設けられた、反応副生成物を孔中に蓄積するための多孔性層の原料組成物であって、カーボン系材料と、結着樹脂とからなる群から選択される一種以上を含有する組成物。
【請求項２】
前記カーボン系材料が、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、カーボンファイバ、グラファイト、グラフェン、活性炭のうち、いずれか一種以上を含有する請求項１に記載された組成物。
【請求項３】
活物質として働く物質を含む金属電極層に多孔性層が当接して被覆するように設けられた金属空気二次電池用負極であって、
前記多孔性層が、酸化物系材料と、結着樹脂とを含有し、反応副生成物を孔中に蓄積するための多孔性層の原料組成物から構成された金属空気二次電池用負極。
【請求項４】
前記酸化物系材料が、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、ＭｎＯ２、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ５、ＶＯ２のうちのいずれか一種以上を含有した請求項３に記載された金属空気二次電池用負極。
【請求項５】
活物質として働く物質を含む金属電極層に多孔性層が当接して被覆するように設けられた金属空気二次電池用負極であって、
前記多孔性層が、カーボン系材料と、結着樹脂とを含有し、反応副生成物を孔中に蓄積するための多孔性層の原料組成物から構成された金属空気二次電池用負極。
【請求項６】
前記カーボン系材料が、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、カーボンファイバ、グラファイト、グラフェン、活性炭のうち、いずれか一種以上を含有する請求項５に記載された金属空気二次電池用負極。
【請求項７】
前記金属電極層が、アルミニウム、鉄、マグネシウム、亜鉛、リチウムからなる群から選択される一種以上を含有する請求項３〜６のいずれか一項に記載された金属空気二次電池用負極。
【請求項８】
空気極層、負極層、および電解質層を有する金属空気二次電池であって、前記負極層が請求項３〜７のいずれか一項に記載された金属空気二次電池用負極を含み、前記金属空気二次電池用負極の多孔性層が前記電解質層と接している金属空気二次電池。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月14日(2017.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電力が供給されると発熱するヒータと、
前記ヒータに直列に接続され、オンとオフとが切り換えられることで前記ヒータへの電力の供給と遮断とを切り換える少なくとも２つのスイッチング素子と、を備え、
前記少なくとも２つのスイッチング素子のうち第１のスイッチング素子は、第２のスイッチング素子がオンとオフとの切換動作を繰り返している間、オン状態を維持し、
前記第１のスイッチング素子は、前記第２のスイッチング素子がオフに切り換えられている間に、オンからオフに切り換えられて再びオンに切り換えられることを特徴とする加熱装置。
【請求項２】
請求項１に記載の加熱装置であって、
前記第１のスイッチング素子は、前記第２のスイッチング素子と比較して通電時間が長く設定されることを特徴とする加熱装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の加熱装置であって、
前記第１のスイッチング素子がオンに切り換えられた後オフに切り換えられる１回の切換動作の間に、前記第２のスイッチング素子は２回以上切換動作が実行されることを特徴とする加熱装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一つに記載の加熱装置であって、
前記第１のスイッチング素子は、前記第２のスイッチング素子に対して先にオンに切り換えられ、前記第２のスイッチング素子に対して後でオフに切り換えられることを特徴とする加熱装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一つに記載の加熱装置であって、
前記第１のスイッチング素子と前記第２のスイッチング素子とは、互いに異なる周期でオンとオフとが周期的に切り換えられることを特徴とする加熱装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一つに記載の加熱装置であって、
オンに切り換えられると前記ヒータへの通電が開始されるヒータスイッチを更に備え、
前記第１のスイッチング素子と前記第２のスイッチング素子とは、前記ヒータスイッチがオンに切り換えられたときにともにオフである場合にのみ、オンに切り換えられることを特徴とする加熱装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一つに記載の加熱装置であって、
前記第１のスイッチング素子が、前記ヒータへの通電を可能とするスイッチ機能を有し、前記第２のスイッチング素子が、前記ヒータを周波数制御する制御機能を有する第１運転状態と、
前記第１のスイッチング素子が、前記ヒータを周波数制御する制御機能を有し、前記第２のスイッチング素子が、前記ヒータへの通電を可能とするスイッチ機能を有する第２運転状態と、が切り換えられることを特徴とする加熱装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明のある態様によれば、加熱装置は、電力が供給されると発熱するヒータと、前記ヒータに直列に接続され、オンとオフとが切り換えられることで前記ヒータへの電力の供給と遮断とを切り換える少なくとも２つのスイッチング素子と、を備え、前記少なくとも２つのスイッチング素子のうち第１のスイッチング素子は、第２のスイッチング素子がオンとオフとの切換動作を繰り返している間、オン状態を維持し、前記第１のスイッチング素子は、前記第２のスイッチング素子がオフに切り換えられている間に、オンからオフに切り換えられて再びオンに切り換えられることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月16日(2017.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンシラリーサービスを提供するアグリゲータ（２００）と通信を行いながら、電力系統（ＰＳ）から建物（ＨＭ）に供給される電力を調整する電力制御システム（１００）であって、
前記建物に接続された蓄電池（ＢＴ）の、所定期間における充放電計画を作成する計画部（１１０）と、
前記充放電計画に基づいて、前記所定期間における前記蓄電池の充放電を制御する充放電制御部（１２０）と、
前記充放電計画を前記アグリゲータのサーバー（２１０）に送信する送信部（１３０）と、
前記充放電計画に基づいて前記サーバーから送信される調整要求信号、を受信する受信部（１４０）と、を備え、
前記充放電計画には、
前記所定期間において許容される最大蓄電量の推移に関する第１データと、
前記所定期間において許容される最小蓄電量の推移に関する第２データと、が含まれており、
前記所定期間において、前記充放電制御部は、
前記蓄電池の蓄電量が、前記最小蓄電量と前記最大蓄電量との平均値である最適蓄電量と一致するように、前記蓄電池の充放電を制御し、且つ、
前記受信部により前記調整要求信号（Ｐｈ）が受信されると、当該調整要求信号に基づいて、前記蓄電量と前記最適蓄電量との間で差が生じるように前記蓄電池の充放電を制御することを特徴とする電力制御システム。
【請求項２】
前記所定期間において、前記充放電制御部は、
前記蓄電量が前記最小蓄電量以上であり、且つ、前記蓄電量が前記最大蓄電量以下である状態を常に維持しながら、前記蓄電池の充放電を制御することを特徴とする、請求項１に記載の電力制御システム。
【請求項３】
前記計画部は、
前記所定期間を含む算出対象期間における電気料金、に比例する第１項と、
前記算出対象期間における前記蓄電量の積算値、に比例する第２項と、の差である評価関数が最大となるように、前記第１データを作成することを特徴とする、請求項１に記載の電力制御システム。
【請求項４】
前記計画部は、
前記所定期間を含む算出対象期間における電気料金、に比例する第１項と、
前記算出対象期間における前記蓄電量の積算値、に比例する第２項と、の差に、
前記算出対象期間における前記蓄電池の充放電回数、に比例する第３項を加えたものである評価関数が最大となるように、前記第１データを作成することを特徴とする、請求項１に記載の電力制御システム。
【請求項５】
前記計画部は、
前記所定期間を含む算出対象期間における電気料金、に比例する第１項と、
前記算出対象期間における前記蓄電量の積算値、に比例する第２項と、の和である評価関数が最小となるように、前記第２データを作成することを特徴とする、請求項１に記載の電力制御システム。
【請求項６】
前記計画部は、
前記所定期間を含む算出対象期間における電気料金、に比例する第１項と、
前記算出対象期間における前記蓄電量の積算値、に比例する第２項と、
前記算出対象期間における前記蓄電池の充放電回数、に比例する第３項と、の和である評価関数が最小となるように、前記第２データを作成することを特徴とする、請求項１に記載の電力制御システム。
【請求項７】
前記充放電計画には、
前記所定期間において前記建物で消費される消費電力の推移に関する第３データと、
前記所定期間において前記建物で発電される発電電力の推移に関する第４データと、が更に含まれることを特徴とする、請求項１に記載の電力制御システム。
【請求項８】
アンシラリーサービスを提供するアグリゲータに設置され、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の電力制御システムと通信を行うサーバー（２１０）であって、
アンシラリーサービスのために地域送電機関（３００）へ提示する容量（Ｐｂ）を、複数台の前記電力制御システムから受信した前記充放電計画に基づいて算出することを特徴とするサーバー。
【請求項９】
算出された前記容量を前記地域送電機関に予め送信し、
前記所定期間においては、前記容量に基づいて前記地域送電機関から送信されるレギュレーション信号（Ｒｒ）、を受信することを特徴とする、請求項８に記載のサーバー。
【請求項１０】
前記レギュレーション信号に基づいて、それぞれの前記調整要求信号を作成することを特徴とする、請求項９に記載のサーバー。
【請求項１１】
それぞれの前記蓄電量が前記最適蓄電量と一致しているときに、前記電力系統から前記建物のそれぞれに供給されると予測される電力の合計値と、
前記レギュレーション信号に対応するために必要となる電力の調整量と、の和を、
前記電力系統からそれぞれの前記建物に実際に供給されている電力の合計値、から差し引くことにより電力偏差を算出し、
当該電力偏差を積算した値に基づいて前記調整要求信号を作成することを特徴とする、請求項１０に記載のサーバー。
【請求項１２】
前記調整要求信号を、送信先である前記電力制御システム毎に異なる個別の信号として作成することを特徴とする、請求項１０に記載のサーバー。
【請求項１３】
それぞれの前記電力制御システムに前記調整要求信号が送信される周期は、前記地域送電機関から前記レギュレーション信号が送信される周期よりも短いことを特徴とする、請求項１０に記載のサーバー。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月9日(2017.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
オペアンプ（１１）と、該オペアンプの第１入力端子と出力端子との間に挿入された積分容量（Ｃ１）と、を有する積分器（１０，４０，７０）と、
前記オペアンプの出力信号を量子化した量子化結果を出力する量子化器（２０）と、
前記オペアンプにおける前記第１入力端子に接続され、前記積分容量に蓄積された電荷の減算を行うためのＤＡＣ電圧（Ｖｄａｃ）を前記量子化結果に基づいて決定するＤＡＣ（３０）と、を備えるＡ／Ｄ変換器であって、
前記積分器は、前記積分容量と前記オペアンプの出力端子との間に、互いの接続をオンオフするフィードバックスイッチ（Ｓ３）を有し、
入力信号としてのアナログ信号は、前記積分容量と前記フィードバックスイッチとの間に入力され、
前記積分容量は、前記フィードバックスイッチがオフされた状態で前記アナログ信号をサンプリングし、
前記量子化器が前記オペアンプの出力に基づいて量子化を行い、
前記ＤＡＣが前記量子化結果に基づいて前記積分容量に蓄積された電荷を順次減算することにより前記アナログ信号をデジタル値に変換することを特徴とするＡ／Ｄ変換器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記目的を達成するために、本発明は、オペアンプ（１１）と、該オペアンプの第１入力端子と出力端子との間に挿入された積分容量（Ｃ１）と、を有する積分器（１０，４０，７０）と、オペアンプの出力信号を量子化した量子化値を出力する量子化器（２０）と、オペアンプにおける第１入力端子に接続され、積分容量に蓄積された電荷の減算を行うためのＤＡＣ電圧（Ｖｄａｃ）を量子化値に基づいて決定するＤＡＣ（３０）と、を備えるＡ／Ｄ変換器であって、積分器は、積分容量とオペアンプの出力端子との間に、互いの接続をオンオフするフィードバックスイッチ（Ｓ３）を有し、入力信号としてのアナログ信号は、積分容量とフィードバックスイッチとの間に入力され、積分容量は、フィードバックスイッチがオフされた状態でアナログ信号をサンプリングし、量子化器がオペアンプの出力に基づいて量子化を行い、ＤＡＣが量子化値に基づいて積分容量に蓄積された電荷を順次減算することによりアナログ信号をデジタル値に変換することを特徴としている。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年12月13日(2016.12.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薬剤の色素沈着を制御する能力の評価方法であって、
(A) 前記薬剤をin vitro皮膚同等物に適用することであって、
前記in vitro皮膚同等物が、少なくとも1つの基底層および少なくとも1つの表層を形成するケラチノサイトを含む少なくとも1つの表皮同等物、ならびに少なくとも1つの真皮同等物を含み、
前記皮膚同等物が、構成的にメラニンを生産するメラノサイト、および生きた線維芽細胞を含み、全てのメラノサイトが表皮同等物の基底層にある、
前記薬剤をin vitro皮膚同等物に適用すること、
(B) 評価される薬剤を適用しているin vitro皮膚同等物の色素沈着(i)を、薬剤にさらされていない対照皮膚同等物の色素沈着(ii)と比較すること、
(C) (B)における色素沈着(i)及び(ii)の各々を、染色を使用することによって測定すること
を特徴とし、
真皮同等物中において、真皮同等物の表面に対して縦方向に方向付けられる線維芽細胞のパーセンテージが50%未満であり、
真皮同等物がI型コラーゲンのマトリックスを含み、そのマトリックス中に線維芽細胞が分散しており、
前記in vitro皮膚同等物が、
a) 線維芽細胞とコラーゲン溶液とを接触させ、その後十分な時間インキュベートして、その中に線維芽細胞が分散している収縮コラーゲンマトリックスを取得し、真皮同等物を構成する工程、
b) a)で取得した真皮同等物上において、真皮同等物にケラチノサイトとメラノサイトの混合物を播種し、液体培地中に浸して培養する工程、
c) b)で取得した真皮同等物上にケラチノサイトとメラノサイトの培養物が出現し、空気-液体界面で培養を継続して、メラノサイトを含み、コラーゲンマトリックス中に線維芽細胞を含む真皮同等物上にあり、皮膚同等物を構成する多層化表皮同等物を取得する工程
を含む、
皮膚同等物を調製する方法によって調製され、
皮膚同等物を調製する工程c)の後に、凍結乾燥等による前記真皮同等物又は前記コラーゲンマトリックスを非収縮化するためのいかなる処理も行われない、
評価方法。
【請求項２】
メラノサイトが、ヒト皮膚に由来するメラノサイトであることを特徴とする、請求項１に記載の評価方法。
【請求項３】
色素沈着活性化剤および/または紫外線へさらすことにより色素沈着が増大することを特徴とする、請求項１又は２に記載の評価方法。
【請求項４】
メラノサイトが、大人の皮膚から取得するヒトメラノサイトであり、事前に増殖させることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項５】
ケラチノサイトおよび線維芽細胞が大人の皮膚から取得されたものであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項６】
IV型コラーゲン、ラミニン、および/またはエンタクチンの存在下で工程a)を実行することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項７】
皮膚同等物の少なくとも一部と直接接触させることにより、前記薬剤を皮膚同等物に適用することを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項８】
前記皮膚同等物が、色素疾患に由来する線維芽細胞および/またはケラチノサイトおよび/またはメラノサイトを少なくとも含むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項９】
前記薬剤が色素沈着阻害剤であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項１０】
評価する薬剤を、過剰色素沈着を提示する領域の皮膚同等物に適用することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項１１】
前記評価する薬剤が色素沈着促進剤であることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項１２】
皮膚同等物がさらに紫外線にさらされ、評価する薬剤の適用前に、適用と同時に、および/または適用後に、紫外線を適用する、あるいは対照皮膚同等物と同等の時間紫外線を適用することを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項１３】
評価する薬剤を適用しているin vitro皮膚同等物の色素沈着(i)をまた、色素沈着促進剤または色素沈着阻害剤参照基質を適用している皮膚同等物の色素沈着(iii)とも比較することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項１４】
評価する薬剤が、ケラチノサイト、線維芽細胞、細胞外マトリックスの構成要素、および/または真皮-表皮接合に対して、少なくとも部分的に作用することを通して色素沈着を制御することを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項１５】
評価する薬剤が、少なくとも1種類の日焼け防止剤を含むことを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の評価方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月10日(2017.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の選択方向（ＳＲ1）に空間選択的に作用する少なくとも１つの第１のパルス配列（ＰＡ1，ＰＡ1’）と、第２の選択方向（ＳＲ2）に空間選択的に作用する後続の第２のパルス配列（ＰＡ2，ＰＡ2’）とを有する磁気共鳴制御シーケンス（ＡＳ）を決定する方法であって、
励起されるべき視野ボリューム（Ｖin）の空間的な広がりを規定する視野ボリュームサイズパラメータ値（ｄｘ，ｄｙ，ｄｚ）が獲得され、
その後、第１の選択方向（ＳＲ1）および第２の選択方向（ＳＲ2）が、互いに異なる選択方向（ＳＲ1，ＳＲ2）において励起されるべき視野ボリューム（Ｖin）の空間的な広がりの長さ比に応じて自動的に決定される磁気共鳴制御シーケンスの決定方法。
【請求項２】
第１のパルス配列（ＰＡ1，ＰＡ1’）がスラブ励起高周波パルス（ＨＦS）を含み、
第２のパルス配列（ＰＡ2，ＰＡ2’）がリフォーカス高周波パルス（ＨＦR）を含み、
スラブ励起高周波パルス（ＨＦS）の目標フリップ角がリフォーカス高周波パルス（ＨＦR）の目標フリップ角よりも小さい請求項１記載の方法。
【請求項３】
第１の選択方向（ＳＲ1）を規定する第１の選択方向パラメータ（ＳＲＰ）および第２の選択方向（ＳＲ2）を規定する第２の選択方向パラメータ（ＲＲＰ）が獲得され、
第１の選択方向（ＳＲ1）および第２の選択方向（ＳＲ2）が、互いに異なる選択方向（ＳＲ1，ＳＲ2）において励起されるべき視野ボリューム（Ｖin）の空間的な広がりの長さ比に応じて設定されている条件に適合しない場合に、第１の選択方向パラメータ（ＳＲＰ）および第２の選択方向パラメータ（ＲＲＰ）が自動的に変更される請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
第２の選択方向（ＳＲ2）が視野ボリューム（Ｖin）の最も少ない広がり（ｄｚ）の方向に置かれる請求項１乃至３の１つに記載の方法。
【請求項５】
獲得された第１の選択方向パラメータ（ＳＲＰ）および獲得された第２の選択方向パラメータ（ＲＲＰ）が、第１および第２の選択方向（ＳＲ1，ＳＲ2）を、第２の選択方向（ＳＲ2）が第１の選択方向（ＳＲ1）よりも長い視野ボリューム（Ｖin）の広がりの方向にあるように規定する場合に、第１の選択方向（ＳＲ1）と第２の選択方向（ＳＲ2）とが交換される請求項３または４記載の方法。
【請求項６】
先ず請求項１乃至５の１つに記載の方法で磁気共鳴制御シーケンス（ＡＳ）を決定し、
その後この磁気共鳴制御シーケンス（ＡＳ）を利用して磁気共鳴システム（１）を動作させる磁気共鳴システム（１）の動作方法。
【請求項７】
第１の選択方向（ＳＲ1）に空間選択的に作用する少なくとも１つの第１のパルス配列（ＰＡ1，ＰＡ1’）と、第２の選択方向（ＳＲ2）に空間選択的に作用する後続の第２のパルス配列（ＰＡ2，ＰＡ2’）とを含む磁気共鳴制御シーケンス（ＡＳ）を決定する制御シーケンス決定装置（２２）であって、
励起されるべき視野ボリューム（Ｖin）の空間的な広がりを規定する視野ボリュームサイズパラメータ値（ｄｘ，ｄｙ，ｄｚ）を獲得するための入力インターフェース装置（２３）と、
互いに異なる選択方向（ＳＲ1，ＳＲ2）において励起されるべき視野ボリューム（Ｖin）の空間的な広がりの長さ比に応じて第１の選択方向（ＳＲ1）および第２の選択方向（ＳＲ2）を自動的に決定するように構成されている方向規定ユニット（２６）と、
視野ボリュームサイズパラメータ値（ｄｘ，ｄｙ，ｄｚ）と決定された第１の選択方向（ＳＲ1）および第２の選択方向（ＳＲ2）とを考慮してパルス配列（ＰＡ1，ＰＡ1'，ＰＡ2，ＰＡ2’）を決定するためのパルス配列決定ユニット（２９）と、
を有する制御シーケンス決定装置（２２）。
【請求項８】
第１の選択方向（ＳＲ1）を規定する第１の選択方向パラメータ（ＳＲＰ）および第２の選択方向（ＳＲ2）を規定する第２の選択方向パラメータ（ＲＲＰ）を獲得するための選択方向パラメータインターフェース（２４）と、
第１の選択方向（ＳＲ1）および第２の選択方向（ＳＲ2）が、互いに異なる選択方向（ＳＲ1，ＳＲ2）において励起されるべき視野ボリューム（Ｖin）の空間的な広がりの長さ比に応じて予め与えられた条件に適合しているか否かを検査する方向パラメータ検査ユニット（２７）と、
第１の選択方向（ＳＲ1）および第２の選択方向（ＳＲ2）が予め与えられた条件に適合しない場合に、第１の選択方向パラメータ（ＳＲＰ）および第２の選択方向パラメータ（ＲＲＰ）を自動的に変更する方向パラメータ変更ユニット（２８）と、
を有する請求項７記載の制御シーケンス決定装置（２２）。
【請求項９】
高周波送信装置（６）と、傾斜磁場システム（４）と、予め与えられた磁気共鳴制御シーケンス（ＡＳ）に基づいて所望の測定を実施するべく高周波パルス列を送出すると共にそれに協調して傾斜磁場システムを介して傾斜磁場パルス列（ＧＰ）を送出するように構成されている制御装置（１５）とを有する磁気共鳴システム（１）において、
磁気共鳴制御シーケンスを決定して、その磁気共鳴制御シーケンスを制御装置（１５）に伝送するために請求項７又は８記載の制御シーケンス決定装置（２２）を有することを特徴とする磁気共鳴システム（１）。
【請求項１０】
制御シーケンス決定装置（２２）内で実行される際に請求項１乃至６の１つに記載の方法の全てのステップを実行するためのプログラムコード部分を有する、制御シーケンス決定装置（２２）の記憶装置内にロード可能なコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月29日(2016.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積載されたシート束の上面に対向配置された回転可能な無端状の吸着ベルトと、
前記シート束の最上位シートを前記吸着ベルトに吸着させる吸着手段とを備えたシート搬送装置において、
前記吸着ベルトの内周面に押し当てて前記吸着ベルトの前記最上位シートが吸着する吸着領域を屈曲させる屈曲手段を、シート搬送方向に沿って複数設け、
前記吸着ベルトに押し当てる屈曲手段を切り替える切り替え手段を備えたことを特徴とするシート搬送装置。
【請求項２】
請求項１のシート搬送装置において、
複数の屈曲手段は、前記吸着ベルトを張架する複数の張架ローラのいずれかの回転軸に回動自在に支持されており、
前記切り替え手段は、前記屈曲手段の回転を規制する規制部材であることを特徴とするシート搬送装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のシート搬送装置において、
各屈曲手段は異なる押し力で前記吸着ベルトを押すように構成されており、シート搬送方向上流側にある前記屈曲手段ほど前記押し力が大きいことを特徴とするシート搬送装置。
【請求項４】
請求項３に記載のシート搬送装置において、
各屈曲手段の前記吸着ベルトとの接触面は曲面形状となっており、前記曲面形状の曲率半径はシート搬送方向上流側にある屈曲手段ほど大きいことを特徴とするシート搬送装置。
【請求項５】
請求項１乃至４いずれかに記載のシート搬送装置において、
前記吸着手段は、シートが静電的に前記吸着ベルトに吸着するように、前記吸着ベルト表面を帯電させる帯電手段であり、
前記シート束の最上位シートを前記吸着ベルトに接触させ吸着させる吸着位置と、前記吸着ベルトに吸着した最上位シートを搬送する、前記吸着位置よりもシート束から離れた搬送位置とを前記吸着ベルトが取りうるように、前記吸着ベルトおよび前記シート束の少なくとも一方を移動させる移動手段を備えたことを特徴とするシート搬送装置。
【請求項６】
請求項５に記載のシート搬送装置において、
前記吸着ベルトを張架する第１張架ローラと、該第１張架ローラのシート搬送方向上流側に位置する第２張架ローラとを有する吸着分離ユニットを備え、
前記移動手段は、前記第２張架ローラよりもシート搬送方向上流側に設けられた支点を中心にして前記吸着分離ユニットを揺動させることで、前記吸着ベルトを、前記吸着位置と前記搬送位置との間を往復移動させることを特徴とするシート搬送装置。
【請求項７】
請求項６に記載のシート搬送装置において、
前記移動手段は、吸着分離ユニットのシート搬送方向下流側端部に取り付けられた第１駆動伝達部と、装置本体に取り付けられた上記第１駆動伝達部と噛み合う第２駆動伝達部とを備え、上記第１駆動伝達部と、上記第２駆動伝達部との噛み合いにより上記吸着分離ユニットを揺動させることを特徴とするシート搬送装置
【請求項８】
請求項５乃至７いずれかに記載のシート搬送装置において、
前記吸着ベルトを張架する第１張架ローラと、該第１張架ローラのシート搬送方向上流側に位置する第２張架ローラとを有する吸着分離ユニットを備え、
前記吸着分離ユニットは、前記第１張架ローラおよび前記第２張架ローラが、前記シート束の最上位シートに上記吸着ベルトを介して当接すると、前記第１張架ローラおよび前記第２張架ローラの支持が解除されるように、各張架ローラを支持したことを特徴とするシート搬送装置。
【請求項９】
請求項５乃至８いずれかに記載のシート搬送装置において、
前記吸着ベルトを張架する第１張架ローラと、該第１張架ローラのシート搬送方向上流側に位置する第２張架ローラとを有する吸着分離ユニットを備え、
前記吸着分離ユニットは、前記第２張架ローラを、シート束の上面に対して所定範囲垂直方向に移動可能に支持したことを特徴とするシート搬送装置。
【請求項１０】
シートに画像を形成する画像形成手段と、
積載されたシート束から最上位シートを分離し、前記画像形成手段へ前記最上位シートを搬送するシート搬送手段とを備えた画像形成装置において、
前記シート搬送手段として、請求項１乃至９いずれかに記載のシート搬送装置を有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月11日(2017.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リニアモーションステージ（１０）の制御装置において、
当該制御装置は、
前記リニアモーションステージ（１０）のリニアエンコーダ（１２）から受信された信号の周波数をフィルタリングするための第１フィルタ（３４）と、
命令位置を示す入力信号と前記第１フィルタ（３４）の出力信号の負数値とを加算するための加算器（３１）と、
前記加算器（３１）の出力信号に基づいて前記リニアモーションステージ（１０）を制御するための制御信号を生成するための制御部と、
前記制御信号の周波数をフィルタリングするための第２フィルタ（３３）とから構成され、
前記第１フィルタ（３４）と前記第２フィルタ（３３）とがそれぞれ、前記リニアモーションステージ（１０）の移動される位置に応じて最初に測定された遮断周波数と減衰率とを記憶するための校正テーブルを有する入力端末装置を備える結果、前記第１フィルタ（３４）と前記第２フィルタ（３３）との前記校正テーブルは、前記リニアモーションステージ（１０）の移動される位置に応じて、前記第１フィルタ（３４）の遮断周波数及び前記第２フィルタ（３３）の遮断周波数並びにその減衰率を変更するために利用される当該リニアモーションステージ（１０）の制御装置。
【請求項２】
前記リニアモーションステージ（１０）が、複数の移動位置のうちの隣接した２つの位置間に設置されるならば、前記第１フィルタ（３４）及び前記第２フィルタ（３３）のそれぞれの遮断周波数並びにその減衰率が、当該隣接した複数の位置のうちの一方の位置に対する遮断周波数及び減衰率と当該隣接した複数の位置のうちの他方の位置に対する遮断周波数及び減衰率との間を補間することによって取得され、当該補間法は、線形補間法、ラグランジェ補間法、ネヴィルの帰納法、ニュートン補間法、スプライン補間法のうちの１つの補間法である請求項１に記載のリニアモーションステージ（１０）の制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月27日(2017.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のダイアフラムを収容する第１の側面と第２の側面とを有する第１の円形状の基板であって、前記第２の側面は、第２の円形状の基板に関連された第２のダイアフラムを収容する大きさの多角形状の窪みを含む前記第１の円形状の基板と、
前記多角形状の窪みに含まれる支持領域であって、当該支持領域は、前記第１の円形状の基板を含む第１のアッセンブリと前記第２のダイアフラムおよび前記第２の円形状の基板を含む第２のアッセンブリとが積み重ねられたとき、前記第２のダイアフラムのための支持を提供する、前記支持領域と、
を有する装置。
【請求項２】
装置はさらに、前記第１のダイアフラムを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１のダイアフラムは、多角形の形状である、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記支持領域は、リング形状である、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
第１のダイアフラムを収容する第１の側面と第２の側面とを有する第１の円形状の基板であって、前記第２の側面は、第２の円形状の基板に関連された第２のダイアフラムを収容する大きさの多角形状の窪みを含む前記第１の円形状の基板と、
前記第１の側面上の突出部であって、当該突出部は、前記第１のダイアフラムのためのプラットフォームを提供する、前記突出部と、
を有する装置。
【請求項６】
前記突出部は、多角形状である、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
装置はさらに、第１のダイアフラムを含み、当該第１のダイアフラムは、前記突出部に接合される、請求項５に記載の装置。
【請求項８】
前記第１のダイアフラムは、封止ガラスを使用して前記突出部に接合される、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記第１の基板は、圧力トランスデューサに含まれる、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記圧力トランスデューサは、自動車用の圧力トランスデューサ（ＡＰＴ）である、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記第１の基板は、圧力トランスデューサに含まれる、請求項５に記載の装置。
【請求項１２】
前記圧力トランスデューサは、自動車用の圧力トランスデューサ（ＡＰＴ）である、請求項１１に記載の装置。