Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月17日(2017.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１’）で表される２価の疎水ユニットと、
単数の芳香環からなる、または、２価の炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価の窒素含有基、２価のリン含有基、２価の酸素含有基、２価の硫黄含有基、もしくは炭素−炭素結合を介して互いに結合する複数の芳香環からなり、前記芳香環のうち少なくとも１つが陽イオン交換基を有する２価の親水性基が、炭素−炭素結合を介して繰り返される２価の親水ユニットと
を有し、
前記疎水ユニットと前記親水ユニットとが、炭素−炭素結合を介して結合していることを特徴とする、陽イオン交換樹脂。
【化１】
2017014423.tif 000001
（式中、Ｚ１〜Ｚ９は、互いに同一または相異なって、炭素原子またはケイ素原子を示し、Ｒ１〜Ｒ８は、互いに同一または相異なって、ケイ素含有基、窒素含有基、リン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、または直接結合を示し、Ｘ１〜Ｘ１８は、互いに同一または相異なって、ハロゲン原子、擬ハロゲン化物、または水素原子を示し、ａは、１以上の整数を示し、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈおよびｉは、互いに同一または相異なって、０以上の整数を示し、Ｒ’は直接結合を示す。）
【請求項２】
前記親水性基が、下記式（２’）で示される、前記陽イオン交換基を有する置換基で置換されているｍ−またはｐ−フェニレン基であることを特徴とする、請求項１に記載の陽イオン交換樹脂。
【化２】
2017014423.tif 000002
（式中、Ａｌｋは、アルキル基を示し、Ｉｏｎは、陽イオン交換基を有する置換基を示し、ａ’は、０〜４の整数を示し、ｓは、１〜４の整数を示す。）
【請求項３】
前記疎水ユニットが、２価のフッ素化飽和炭化水素基または２価の飽和炭化水素基であることを特徴とする、請求項１または２に記載の陽イオン交換樹脂。
【請求項４】
請求項３に記載の陽イオン交換樹脂を含むことを特徴とする、陽イオン交換膜。
【請求項５】
請求項３に記載の陽イオン交換樹脂を含むことを特徴とする、燃料電池用電解質膜。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記課題を解決するために、本発明の陽イオン交換樹脂は、
下記式（１’）で表される２価の疎水ユニットと、
単数の芳香環からなる、または、２価の炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価の窒素含有基、２価のリン含有基、２価の酸素含有基、２価の硫黄含有基、もしくは炭素−炭素結合を介して互いに結合する複数の芳香環からなり、前記芳香環のうち少なくとも１つが陽イオン交換基を有する２価の親水性基が、炭素−炭素結合を介して繰り返される２価の親水ユニットと
を有し、
前記疎水ユニットと前記親水ユニットとが、炭素−炭素結合を介して結合していることを特徴とする。
【化１】
2017014423.tif 000003
（式中、Ｚ１〜Ｚ９は、互いに同一または相異なって、炭素原子またはケイ素原子を示し、Ｒ１〜Ｒ８は、互いに同一または相異なって、ケイ素含有基、窒素含有基、リン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、または直接結合を示し、Ｘ１〜Ｘ１８は、互いに同一または相異なって、ハロゲン原子、擬ハロゲン化物、または水素原子を示し、ａは、１以上の整数を示し、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈおよびｉは、互いに同一または相異なって、０以上の整数を示し、Ｒ’は直接結合を示す。）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の陽イオン交換樹脂では、前記親水性基が、下記式（２）で示される、前記陽イオン交換基を有する置換基で置換されているビスフェノール残基、または下記式（２’）で示される、前記陽イオン交換基を有する置換基で置換されているｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン基であることが好適であり、前記親水性基が、下記式（２’）で示される、前記陽イオン交換基を有する置換基で置換されているｍ−またはｐ−フェニレン基であることが特に好適である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月12日(2017.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（ａ）成分を１０質量％以上４０質量％以下、（ｂ）成分を無水物換算で０．３質量％以上６質量％以下、（ｃ）成分を１０質量％以上８０質量％以下、（ｄ）成分及び（ｅ）成分を含有し、（ｅ）成分と（ｂ）成分の質量比（ｅ）成分／（ｂ）成分が、０以上０．５以下である衣料用粉末洗浄剤組成物であり、衣料用粉末洗浄剤組成物１ｇを水２５０ｇに分散させた分散液の２０℃におけるｐＨが５．５以上９．５以下である、衣料用粉末洗浄剤組成物。
（ａ）成分：アニオン界面活性剤
（ｂ）成分：水溶性アルミニウム塩
（ｃ）成分：アルカリ金属硫酸塩、及びアルカリ金属塩化物から選ばれる１種以上の化合物
（ｄ）成分：下記（ｄ１）成分、（ｄ２）成分、及び（ｄ３）成分から選ばれる１種以上のアルカリ剤
（ｄ１）成分：アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、及びアルカリ金属ケイ酸塩から選ばれる１種以上の水溶性アルカリ塩
（ｄ２）成分：構成元素としてアルカリ金属を含むアルミノケイ酸塩、構成元素としてアルカリ金属を含むスメクタイト系粘土から選ばれる１種以上の化合物
（ｄ３）成分：トリポリリン酸塩
（ｅ）成分：下記の（ｅ１）成分及び（ｅ２）成分から選ばれる１種以上の化合物（但し、（ａ）成分は除く）
（ｅ１）成分：分子内のカルボキシル基又はその塩の数が１個以上１０個以下のカルボン酸及び／又はその塩
（ｅ２）成分：分子内のカルボキシル基又はその塩の数が１個以上１０個以下のヒドロキシカルボン酸及び／又はその塩
【請求項２】
（ａ）成分が下記（ａ１）成分、（ａ２）成分、（ａ３）成分及び（ａ４）成分から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤である、請求項１に記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
（ａ１）成分：アルキル基の炭素数が１０以上１８以下のアルキル硫酸エステル塩、及びアルケニル基の炭素数が１０以上１８以下のアルケニル硫酸エステル塩から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤
（ａ２）成分：アルキル基の炭素数が１０以上１８以下、アルキレンオキシド平均付加モル数が１以上３以下のポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩であって、ポリオキシアルキレンのオキシアルキレン基が炭素数２以上３以下のオキシアルキレン基であるポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル、及びアルケニル基の炭素数が１０以上１８以下、アルキレンオキシド平均付加モル数が１以上３以下のポリオキシアルキレンアルケニルエーテル硫酸エステル塩であって、ポリオキシアルキレンのオキシアルキレン基が炭素数２以上３以下のオキシアルキレン基であるポリオキシアルキレンアルケニルエーテル硫酸エステルから選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤
（ａ３）成分：アルキル基の炭素数が１０以上１８以下のアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルケニル基の炭素数が１０以上１８以下のアルケニルベンゼンスルホン酸塩、アルキル基の炭素数が１０以上１８以下のアルカンスルホン酸塩、α−オレフィン部分の炭素数が１０以上１８以下のα−オレフィンスルホン酸塩、脂肪酸部分の炭素数が１０以上１８以下のα−スルホ脂肪酸塩、及び脂肪酸部分の炭素数が１０以上１８以下であり、エステル部分の炭素数が１以上５以下であるα−スルホ脂肪酸低級アルキルエステル塩から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤
（ａ４）成分：炭素数１２以上２４以下の脂肪酸又はその塩（但し、（ｅ）成分を除く）
【請求項３】
（ａ）成分として、（ａ１）成分及び（ａ２）成分から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤と、（ａ３）成分から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤とを含有する、請求項２に記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項４】
（ａ１）成分及び（ａ２）成分の含有量の合計と、（ａ３）成分の含有量との質量比〔（ａ１）＋（ａ２）〕／（ａ３）が、０．０５以上１以下である、請求項３に記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項５】
（ａ）成分が、（ａ１）成分から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤と（ａ２）成分から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤を含むアニオン界面活性剤である、請求項２〜４の何れかに記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項６】
（ａ１）成分の含有量と、（ａ２）成分及び（ａ３）成分の含有量の合計との質量比（ａ１）／〔（ａ２）＋（ａ３）〕が、０．１以上１．５以下である、請求項２〜５の何れかに記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項７】
（ｂ）成分が、カリウムミョウバン、ナトリウムミョウバン、アンモニウムミョウバン、及び硫酸アルミニウムから選ばれる１種以上の水溶性アルミニウム塩である、請求項１〜６の何れかに記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項８】
（ｃ）成分が、硫酸ナトリウム、及び塩化ナトリウムから選ばれる１種以上の化合物である、請求項１〜７の何れかに記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項９】
（ｄ１）成分が、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、及びケイ酸ナトリウムから選ばれる１種以上の水溶性アルカリ塩である、請求項１〜８の何れかに記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項１０】
（ｄ）成分を、０．１質量％以上１２質量％以下含有する、請求項１〜９の何れかに記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項１１】
（ｅ１）成分が、ギ酸、酢酸、シュウ酸、プロピオン酸、マロン酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、安息香酸、フタル酸、１，２，３−ベンゼントリカルボン酸、１，２，４，５−ベンゼンテトラカルボン酸、及びこれらの塩から選ばれる１種以上の化合物である、請求項１〜１０の何れかに記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項１２】
（ｅ２）成分が、グリコール酸、乳酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、サリチル酸、及びこれらの塩から選ばれる１種以上の化合物である、請求項１〜１１の何れかに記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項１３】
手洗い洗濯用である、請求項１〜１２の何れかに記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項１４】
衣料用粉末洗浄剤組成物１ｇを、衣料用粉末洗浄剤組成物１ｇを、アルカリ度１００ｍｇ／Ｌ、ドイツ硬度１０゜ｄＨ、ｐＨ７．５の２０℃の水２５０ｇに分散させた分散液の２０℃におけるｐＨが、５．５以上９．５以下である、請求項１〜１３の何れかに記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項１５】
請求項１〜１４の何れかに記載の衣料用粉末洗浄剤組成物と水とを混合して得た洗浄液を用いて、衣料を洗浄する、衣料の洗浄方法。
【請求項１６】
衣料が、食品由来の油汚れが付着した衣料である、請求項１５に記載の衣料の洗浄方法。
【請求項１７】
衣料を手洗い洗浄する、請求項１５又は１６に記載の衣料の洗浄方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月12日(2017.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（ａ）成分を３質量％以上３０質量％以下、（ｂ）成分を３０質量％以上８０質量％以下、（ｃ）成分を０質量％以上１０質量％以下含有し、
（ｂ１）成分の含有量と（ｂ１）成分及び（ｂ２）成分の合計の含有量との質量比である〔（ｂ１）成分の含有量〕／〔（ｂ１）成分の含有量＋（ｂ２）成分の含有量〕が、０．０５以上０．５以下である、
衣料用粉末洗浄剤組成物。
（ａ）成分：アニオン界面活性剤
（ｂ）成分：下記（ｂ１）成分及び（ｂ２）成分から選ばれる１種以上の化合物
（ｂ１）成分：硫酸マグネシウム及び塩化マグネシウムから選ばれる１種以上の化合物
（ｂ２）成分：硫酸ナトリウム及び塩化ナトリウムから選ばれる１種以上の化合物
（ｃ）成分：アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属ケイ酸塩及びトリポリリン酸塩から選ばれる１種以上のアルカリ剤
【請求項２】
（ａ）成分が、スルホン酸塩基を有するアニオン界面活性剤及び硫酸エステル塩基を有するアニオン界面活性剤から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤である、請求項１記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項３】
（ａ）成分として、下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤を含有する、請求項１又は２に記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
（ａ１）成分：アルキル基の炭素数が１０以上１６以下、エチレンオキシド平均付加モル数が１以上３以下のポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩及びアルキル基の炭素数が１０以上１６以下のアルキルベンゼンスルホン酸塩から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤
（ａ２）成分：アルキル基の炭素数が１０以上１６以下のアルキル硫酸エステル塩から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤
【請求項４】
（ａ）成分として、下記（ａ１）成分から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤と、下記（ａ２）成分から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤とを含有する、請求項１〜３の何れか１項記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
（ａ１）成分：アルキル基の炭素数が１０以上１６以下、エチレンオキシド平均付加モル数が１以上３以下のポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩及びアルキル基の炭素数が１０以上１６以下のアルキルベンゼンスルホン酸塩から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤
（ａ２）成分：アルキル基の炭素数が１０以上１６以下のアルキル硫酸エステル塩から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤
【請求項５】
（ａ１）成分の含有量に対する（ａ２）成分の含有量の質量比が、〔（ａ２）成分の含有量〕／〔（ａ１）成分の含有量〕で、０．０５以上５以下である、請求項４記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項６】
（ａ１）成分として、アルキル基の炭素数が１０以上１６以下、エチレンオキシド平均付加モル数が１以上３以下のポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩〔以後、（ａ１）ＡＥＳと称する。〕から選ばれる１種以上のアニオン界面活性剤を含有する、請求項４又は５記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項７】
（ａ１）成分の含有量に対する（ａ１）ＡＥＳの含有量の質量比が、〔（ａ１）ＡＥＳの含有量〕／〔（ａ１）成分の含有量〕で、０．１以上１以下である、請求項６記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項８】
（ｂ１）成分が、硫酸マグネシウムである、請求項１〜７の何れか１項記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項９】
（ｂ２）成分が、硫酸ナトリウムである、請求項１〜８の何れか１項記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項１０】
（ｃ）成分のアルカリ金属炭酸塩が、炭酸ナトリウム、及び炭酸カリウムから選ばれる１種以上の化合物である、請求項１〜９の何れか１項記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項１１】
手洗い洗濯用である、請求項１〜１０の何れか１項記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項１２】
２０℃の水で３００倍に希釈されたときのｐＨが、２．５以上９．５以下である、請求項１〜１１の何れか１項記載の衣料用粉末洗浄剤組成物。
【請求項１３】
請求項１〜１２の何れか１項記載の衣料用粉末洗浄剤組成物と水とを混合して得たｐＨ２．５以上９．５以下の洗浄液を用いて、衣料を洗浄する、衣料の洗浄方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月5日(2017.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
５０〜５６．２７重量％の１，１，１，２−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）および４３．７３〜５０重量％の１，１，１，２−テトラフルオロエタン（ＨＦＣ−１３４ａ）からなる共沸混合物様組成物を含んでなる冷媒を含む熱伝達システムであって、約−０．２〜約２．６℃の蒸発温度を有するシステム。
【請求項２】
前記共沸混合物様組成物が５５〜５６．２７重量％の１，１，１，２−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）および４３．７３〜４５重量％の１，１，１，２−テトラフルオロエタン（ＨＦＣ−１３４ａ）からなる、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記冷媒が共沸混合物様組成物からなる請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記熱伝達システムがさらに潤滑剤を含んでなる、請求項１〜３のいずれかに記載のシステム。
【請求項５】
前記潤滑剤が、鉱油、アルキルベンゼン（ＡＢ）、ポリアルファオレフィン（ＰＡＯ）、ポリオールエステル（ＰＯＥ）、ポリアルキレングリコール（ＰＡＧ）、ポリビニルエーテル（ＰＶＥ）、合成ナフタレン、フルオロ潤滑剤またはこれらの組合せからなる群から選ばれる、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記潤滑剤がポリオールエステル（ＰＯＥ）である、請求項４に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月14日(2017.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉに従った試薬複合体であって、
Ｍ０・Ｘｙ            Ｉ
Ｍ０は酸化状態０である０価金属であり、Ｘは水素化物であり、ｙは０よりも大きな整数値または小数値であり、
前記水素化物は、２元素金属水素化物、２元素メタロイド水素化物、複合金属水素化物、及び複合メタロイド水素化物よりなる群から選択される１種である、試薬複合体。
【請求項２】
０価金属は、０価遷移金属または０価ポスト遷移金属のうちの少なくとも１つである、請求項１に記載の試薬複合体。
【請求項３】
０価金属はマンガンまたは錫である、請求項１に記載の試薬複合体。
【請求項４】
約６３６ｅＶまたは４８４ｅＶを中心とするＸ線光電子分光ピークを有する、請求項３に記載の試薬複合体。
【請求項５】
水素化物は複合金属水素化物または複合メタロイド水素化物である、請求項１に記載の試薬複合体。
【請求項６】
水素化物は水素化ホウ素リチウムである、請求項１に記載の試薬複合体。
【請求項７】
ｙは約４以下である、請求項１に記載の試薬複合体。
【請求項８】
０価金属を含有する調合物と水素化物との混合物をボールミル粉砕するステップを含む式Ｉに従った試薬複合体を製造する方法であって、
Ｍ０・Ｘｙ            Ｉ
Ｍ０は酸化状態０である０価金属であり、Ｘは水素化物であり、ｙは０よりも大きな整数値または小数値であり、
前記水素化物は、２元素金属水素化物、２元素メタロイド水素化物、複合金属水素化物、及び複合メタロイド水素化物よりなる群から選択される１種である、方法。
【請求項９】
水素化物は、複合金属水素化物または複合メタロイド水素化物である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
水素化物は水素化ホウ素リチウムである、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
水素化物と０価金属を含有する調合物とは実質的に等モル比で混合される、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
水素化物は、０価金属を約４倍以下のモル過剰で含有する調合物と混合される、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
水素化物は、０価金属を約２倍以下のモル過剰で含有する調合物と混合される、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
前記ボールミル粉砕するステップは、１−３／４インチ、３−１／２インチおよび５−１／４インチの３１６ステンレス鋼玉軸受を用いて、ステンレス鋼の気密ボールミルジャーにおいて、約４００ｒｐｍで、約４時間、プラネタリボールミルで行われる、請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
無酸素の環境において、無水の環境において、または無酸素および無水の環境において実行される、請求項８に記載の方法。
【請求項１６】
０価金属を含有する調合物は、遷移金属の調合物またはポスト遷移金属の調合物である、請求項８に記載の方法。
【請求項１７】
０価金属を含有する調合物はマンガンまたは錫の調合物である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
約６３６ｅＶまたは約４８４ｅＶを中心とするＸ線光電子分光ピークを有する、式Ｉに従った試薬複合体を生成する、請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月7日(2016.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の積層体と第２の積層体との間にフィラー層を備える複合パネルに屈曲部を形成する方法であって、
湾曲フランジを有するスロットを複合パネルに形成することと、
前記湾曲フランジにシートを挿入することと、
前記スロットを有する前記複合パネル、及び、前記湾曲フランジ内の前記シートを、前記スロットの長軸周りに曲げることによって屈曲部を形成すること、を含み、
前記湾曲フランジは、屈曲用スロット幅より大きい屈曲許容幅を有しており、
前記屈曲用スロット幅は、前記複合パネルを曲げることにより前記屈曲部を形成した結果、前記第１の積層体の端部が互いに接触しないように設定されている、方法。
【請求項２】
前記スロットを形成する工程は、工具を用いて前記スロットを切削することを含み、前記工具は、前記屈曲許容幅及び前記屈曲用スロット幅に対応した形状を有するカッターである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記シートは、繊維強化材料からなり、前記シートは、硬化ガラス繊維を含み、前記シートは、所望の色又は所望のテクスチャーの少なくとも１つを備えるとともに、前記硬化ガラス繊維に接着された材料をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記スロットは、前記第１の積層体及び前記フィラー層に形成されている、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記屈曲用スロット幅は、前記複合パネルを曲げることにより前記屈曲部を形成した結果、前記第１の積層体の端部が前記シートに接触するように設定されている、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
第１の複合層と、
フィラー層と、
第２の複合層と、を備える装置であって、前記第１の層及び前記フィラー層には、湾曲フランジを有するスロットが設けられているとともに、前記第１の層、前記フィラー層、及び前記第２の層は、複合パネルを形成しており、
前記スロットの前記湾曲フランジ内に位置するシートをさらに備えており、
前記湾曲フランジを有する前記スロットは、屈曲用スロット幅より大きい屈曲許容幅を有しており、
前記屈曲用スロット幅は、前記複合パネルを曲げることにより前記屈曲部を形成した結果、前記第１の積層体の端部が互いに接触しないように設定されている、装置。
【請求項７】
前記湾曲フランジを有する前記スロットを備える前記複合パネルを曲げることによって前記複合パネルに屈曲部を形成するように構成された曲げ工具をさらに備える、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記屈曲用スロット幅は、前記複合パネルを曲げることにより前記屈曲部を形成した結果、前記第１の積層体の端部が前記シートに接触するように設定されている、請求項６又は７に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月28日(2016.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔性基材と、
前記多孔性基材の表面の少なくとも一部を覆う、一次粒子径が１〜３００ｎｍのシリカ粒子と、
前記シリカ粒子の表面の少なくとも一部に担持された抗微生物剤と、
を含む、吸水性多孔シート。
【請求項２】
前記多孔性基材が、繊維により構成されてなる、請求項１に記載の吸水性多孔シート。
【請求項３】
前記シリカ粒子の含有量が、０．１〜１０質量％である、請求項１または２に記載の吸水性多孔シート。
【請求項４】
前記シリカ粒子と前記抗微生物剤との合計における、前記抗微生物剤の含有量が、１０〜５０質量％である、請求項１〜３のいずれかに記載の吸水性多孔シート。
【請求項５】
前記抗微生物剤が、抗菌剤及び抗カビ剤の少なくとも一方を含む、請求項１〜４のいずれかに記載の吸水性多孔シート。
【請求項６】
前記抗微生物剤が、トリクロサン、塩酸クロルヘキシジン、ジンクピリチオン、２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオール、３−ヨード−２−プロピニルブチルカーバメート、チアベンダゾール、フルオロフォルペット、クロルキシレノール、カルベンダジン、キャプタン、クロロタロニル、及びメチルスルホニルテトラクロルピリジンからなる群から選択された少なくとも１種である、請求項１〜５のいずれかに記載の吸水性多孔シート。
【請求項７】
極性有機溶媒に、一次粒子径が１〜３００ｎｍのシリカ粒子及び抗微生物剤が分散された分散体に多孔性基材を浸漬する浸漬工程と、
前記浸漬工程の後、前記多孔性基材を乾燥させる乾燥工程と、
を備える、吸水性多孔シートの製造方法。
【請求項８】
前記極性有機溶媒として、炭素数１〜６の低級アルコール、アセトン、及びジエチルエーテルからなる群から選択された少なくとも１種を用いる、請求項７に記載の吸水性多孔シートの製造方法。
【請求項９】
前記乾燥工程において、前記多孔性基材を５０〜１００℃の温度下、３０〜１８０分間乾燥させる、請求項７または８に記載の吸水性多孔シートの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれかに記載の吸水性多孔シートを備える、加湿装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月8日(2017.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】壁の背後のシーンにおけるターゲットを検出するシステム
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
壁の背後のシーンにおけるターゲットを検出するシステムであって、
前記壁の正面に概ね平行して配置されるアンテナアレイと、
前記壁を通してパルスを送信するように構成される送信機と、
前記パルスの送信に応答して、前記壁を通して前記ターゲットによって反射される受信信号を受信するように構成される受信機と、
前記パルスと、前記受信信号とに基づいて、スパース正則化最小二乗反転によって主インパルス応答を検出する手段と、
前記主インパルス応答を、前記受信信号内の同様のインパルス応答に一致させる遅延演算子を求める手段と、
を備える、壁の背後のシーンにおけるターゲットを検出するシステム。
【請求項２】
前記パルスが前記壁を通過した後であるが、前記パルスが前記ターゲットによって反射される前の前記パルスの歪みが推定される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記パルスは超広帯域信号であり、前記受信信号は、アンテナ素子の線形アレイによって受信され、前記アレイのうちの１つ又は複数の素子は、前記パルスの送信に用いられる、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
ランダムにオフに切り替えられる前記アレイのアンテナ素子の８０％もの素子を用いて、前記アンテナ素子がランダムにサブサンプリングされる、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記受信信号は、直接路を介して受信される前記主インパルス応答と、マルチパスによって受信される補助インパルス応答とを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記壁の背後の前記シーンは画像領域において疎であり、前記主インパルス応答は時間領域において疎であり、前記画像領域は前記時間領域と非コヒーレントである、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記ターゲットが前記主インパルス及び前記遅延演算子を用いて撮像される、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記遅延演算子は、一連の加重ディラックデルタ関数である、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記シーン及び前記壁の物理的な属性又はジオメトリ特徴を知ることなく、壁内反射によって引き起こされるクラッターが除去される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記主インパルス応答は画像領域において検出され、前記遅延演算子は時間領域において求められる、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記遅延演算子は、補助インパルス応答に対応するマルチパス反射を識別する、請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月26日(2017.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミクロトームにおける試料（３１０）の移送装置（１００）であって、
移送アーム（１１２）と、
移送アーム（１１２）上に揺動可能に取り付けられ、移送経路上にある試料（３１０）を取り込む第１の位置と、前記移送経路上にある試料（３１０）を取り込まない第２の位置と、を取ることができる、取込要素（１１４）と、
位置決め要素と、前記位置決め要素を受容するために互いに並置延在する二つのトラック（１３１，１３２）を具備するゲート（１３０）と、を有する取込要素の位置決め機構と、
を備え、
前記位置決め要素が前記二つのトラックのうち第１のトラック（１３１）内を移動するとき、前記取込み要素は第１の位置に位置決めされ、
前記位置決め要素が前記二つのトラックのうち第２のトラック（１３２）内を移動するとき、前記取込み要素は第２の位置に位置決めされ、
前記ゲート（１３０）は、前記二つのトラック（１３１，１３２）を互いに連通させる少なくとも一つの切替領域（１３３）を有する、
移送装置（１００）。
【請求項２】
前記位置決め要素は、前記二つのトラック（１３１，１３２）によって受容されるペグ（１２２）を有し、前記位置決め機構は、前記ペグ（１２２）を前記取込要素（１１４）に結合させる変位プレート（１２０）を有する、請求項１記載の移送装置（１００）。
【請求項３】
前記ゲート（１３０）は、前記少なくとも一つの切替領域（１３３）に配された少なくとも一つのワンウェイスイッチ（１３４，１３５）であって、一方向への前記位置決め要素の経路では、当該ワンウェイスイッチが前記位置決め要素を前記二つのトラックの一方から前記二つのトラックの他方へ案内し、他方向への前記位置決め要素の経路では、当該ワンウェイスイッチが前記位置決め要素を前記二つのトラックの一方から前記二つのトラックの他方へ案内しないよう構成された少なくとも一つのワンウェイスイッチ（１３４，１３５）を有する、請求項１記載の移送装置（１００）。
【請求項４】
前記少なくとも一つのワンウェイスイッチ（１３４，１３５）は、枢支点（１３５ａ）で枢動可能に取り付けられるスプリング付きタブ（１３５ｂ）を有する、請求項３記載の移送装置（１００）。
【請求項５】
前記少なくとも一つのワンウェイスイッチは、二つの互いに反対方向への通過を可能とするワンウェイスイッチ（１３４，１３５）を有する請求項３記載の移送装置（１００）。
【請求項６】
前記少なくとも一つの前記切替領域（１３３）は、第１の反転点（１３６）を有し、前記位置決め要素は移動されて、前記位置決め要素の運動方向が前記第１の反転点（１３６）で逆転するとき、前記第１の反転点（１３６）から出発して、前記二つのトラックのうち前記第１のトラック（１３１）に入る、請求項１記載の移送装置（１００）。
【請求項７】
前記少なくとも一つの前記切替領域（１３３）は、第２の反転点（１３７）を有し、前記位置決め要素は移動されて、前記位置決め要素の運動方向が前記第２の反転点（１３７）で逆転するとき、前記第２の反転点（１３７）から出発して、前記二つのトラックのうち前記第２のトラック（１３２）に入る、請求項６記載の移送装置（１００）。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月16日(2017.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リングレール（１）を備えたリング精紡機であって、該リングレール（１）には、複数の紡績リング（２）が配置されており、該紡績リング（２）にはそれぞれ１つのリングトラベラ（３）が滑走するように支持されており、該リングトラベラ（３）の運動を検出するセンサ（４，５）が設けられており、隣り合う２つの紡績リング（２）の間には、前記リングレール（１）の上方で、前記リングレール（１）の上昇時に該リングレール（１）に対する間隔が一定のままであるように、セパレータ（６）が配置されており、前記センサ（４，５）は前記セパレータ（６）の下側の領域に配置されている、リング精紡機において、
前記センサは、マイクロフォン（４，５）として形成されており、かつ該セパレータ（６）によって保持されており、
前記マイクロフォン（４，５）は、ブラケット（７）に配置されており、該ブラケット（７）は、前記セパレータ（６）に設けられたスリットに嵌め込まれており、
前記ブラケット（７）に表示手段（８）が配置されていて、該表示手段（８）は、前記リングトラベラ（３）の運動の停止を表示するものであって、該ブラケットの、オペレータに向いた側に配置されていることを特徴とする、リング精紡機。
【請求項２】
前記ブラケット（７）に、隣の紡績リングの前記リングトラベラの運動を検出する第２のマイクロフォン（４，５）が配置されている、請求項１記載のリング精紡機。
【請求項３】
前記ブラケット（７）に、隣り合う両リングトラベラ（３）のうちの一方のリングトラベラの運動の停止を表示する１つの表示手段（８）が配置されている、請求項２記載のリング精紡機。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月12日(2017.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に第１の窪んだ領域を含む第１の構造物を形成する段階と、
前記第１の構造物上にシリコンを包含しない有機膜を形成して前記第１の窪んだ領域を満たす段階と、
前記有機膜に対してＣＭＰ（ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）用スラリー組成物を利用してＣＭＰ工程を進行して前記有機膜の少なくとも一部を除去する段階と、を有し、
前記ＣＭＰ用スラリー組成物は、酸化物研磨粒子を０．００１重量％〜５重量％、酸化剤を０．１重量％〜５重量％、研磨調節剤を０重量％〜５重量％、界面活性剤を０重量％〜３重量％、ｐＨ調節剤を０重量％〜３重量％、及び脱イオン水を７９重量％〜９９．８９９重量％含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記有機膜の少なくとも一部を除去する段階は、前記第１の構造物の上部面を露出させることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１の窪んだ領域は、前記基板を露出させる第１のホールであり、
前記有機膜に対してＣＭＰ工程を進行した後に、
前記第１の構造物上に前記有機膜の上部面を露出させる第２のホールを含む第２の構造物を形成する段階と、
前記第２のホールを通じて前記有機膜を除去する段階と、
前記第１のホールと前記第２のホールとの少なくとも側壁を覆う活性柱を形成する段階と、
前記第１の構造物と前記第２の構造物の一部に導電ラインを形成する段階と、をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１の構造物と前記第２の構造物とは、各々複数層の絶縁膜と犠牲膜とが交互に積層された構造を有し、
前記第１の構造物と前記第２の構造物との一部に導電ラインを形成する段階は、
前記犠牲膜を選択的に除去する段階と、
前記犠牲膜が除去された領域に前記導電ラインを形成する段階と、を含むことを特徴とする請求項３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１の構造物は、前記基板上に配置されるエッチング対象膜、前記エッチング対象膜上に配置され、複数個の互に平行なライン形態の第１のマスクパターン、及び前記第１のマスクパターンの側壁と上部面をコンフォーマルに覆う第３のマスク膜を含み、
前記第１の構造物の上部面を露出させる段階は、前記第３のマスク膜の上部面を露出させることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記第１のマスクパターン間の間隔は、前記第３のマスク膜の厚さの３倍であり、
前記第１のマスクパターンの間に前記有機膜が配置されることを特徴とする請求項５に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
異方性エッチング工程を進行して露出された前記第３のマスク膜を除去し、前記有機膜下に第３のマスクパターンを形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記第１の構造物の上端には酸化膜が配置され、
前記ＣＭＰ用スラリー組成物は、前記酸化膜に対して６：１以上の選択比で前記有機膜を研磨することを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記有機膜の少なくとも一部を除去する段階は、前記第１の構造物の上部面を露出させないことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
ＣＭＰ（ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）用スラリー組成物を利用して有機膜のＣＭＰ工程を行う方法であって、
前記ＣＭＰ用スラリー組成物は、酸化物研磨粒子を０．００１重量％〜５重量％、酸化剤を０．１重量％〜５重量％、研磨調節剤を０重量％〜５重量％、界面活性剤を０重量％〜３重量％、ｐＨ調節剤を０重量％〜３重量％、及び脱イオン水を７９重量％〜９９．８９９重量％含むことを特徴とするＣＭＰ工程を行う方法。
【請求項１１】
前記ＣＭＰ工程は、シリコンを含まない有機膜に対して適用することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】有機膜研磨に用いられるＣＭＰ用スラリー組成物を利用してＣＭＰ工程を行う方法及びこれを利用する半導体装置の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月16日(2017.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラテックスを不安定化するカチオンを含むポリエステル樹脂を有機溶媒に溶解して溶液を作成することであって、ここで、ラテックスを不安定化する前記カチオンは前記溶液の不溶性部分に存在し、前記不溶性部分は溶解工程後の２時間〜９６時間の待ち時間後に形成される、前記作成することと；
前記待ち時間後に、濾過、デカンテーション、遠心分離、またはこれらの組み合わせにより、ラテックスを不安定化する前記カチオンを除去することと；
前記ポリエステル樹脂の前記溶液を中和することと；
中和した溶液に、十分な量の水を加えてエマルションを生成することと；
前記エマルションから前記有機溶媒の一部を除去し、前記ポリエステル樹脂のラテックスを作成することと
を含む、ラテックスを製造するプロセス。
【請求項２】
前記ポリエステル樹脂が、アモルファス性である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記ポリエステル樹脂が、結晶性である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記有機溶媒が、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、イソプロパノール、またはこれらの組み合わせを含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
ラテックスを不安定化する前記カチオンが、一価カチオン、二価のカチオン、またはこれらの組み合わせを含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】
前記一価カチオンが、リチウムイオン、カリウムイオン、ナトリウムイオン、およびこれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項５に記載のプロセス。
【請求項７】
前記二価のカチオンが、スズイオン、鉄イオン、銅イオン、カルシウムイオン、マグネシウムイオン、および亜鉛イオンからなる群より選択される、請求項５に記載のプロセス。
【請求項８】
ラテックスを不安定化する前記カチオンが、カリウムイオンとスズイオンとの混合物を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項９】
ラテックスを不安定化するカチオンを含むポリエステル樹脂を有機溶媒に溶解して溶液を作成することと；
前記溶液を熟成させて、ラテックスを不安定化する前記カチオンを含む不溶性部分を形成することであって、ここで、前記不溶性部分は溶解工程後の２時間〜９６時間の待ち時間後に形成される、前記作成することと；
前記不溶性部分を除去することにより、前記待ち時間後に、濾過、デカンテーション、遠心分離、またはこれらの組み合わせにより、ラテックスを不安定化する前記カチオンを除去することと；
除去工程後に少なくとも１つのポリエステル樹脂のラテックスを形成することと
を含む、ラテックスを製造するプロセス。
【請求項１０】
ラテックスを不安定化する前記カチオンが、カリウムイオン、錫イオン、またはこれらの組み合わせである、請求項９に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記ラテックスからトナーを形成することを更に含む、請求項９に記載のプロセス。
【請求項１２】
カリウムイオン、錫イオン、またはその両方を含むポリエステル樹脂を有機溶媒に溶解して溶液を作成することと；
少なくとも１つのポリエステル樹脂の不溶性部分を除去することであって、ここで、前記不溶性部分はカリウムイオン、錫イオン、またはその両方を１０％〜５０％含み、前記少なくとも１つのポリエステル樹脂の不溶性部分は、溶解工程後の２時間〜９６時間の待ち時間後に形成され、前記不溶性部分を除去することは、前記待ち時間後に、濾過、デカンテーション、遠心分離、またはこれらの組み合わせを含む、前記除去することと
を含む、ラテックスを製造するプロセス。
【請求項１３】
前記不溶性部分はカリウムイオン、錫イオン、またはその両方を１０％〜３５％含む、請求項１２に記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月4日(2017.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モノマーおよび有機着色剤を重合させ、有機着色剤が分散したポリマーナノ粒子を含むラテックスを作成すること、
ここで、前記モノマーは、スチレン、アクリレート、メタクリレート、ブタジエン、イソプレン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、およびこれらの組み合わせからなる群より選択され、前記有機着色剤はアニオン系官能基と親油性対イオンとを含む；および、
前記有機着色剤が分散したポリマーナノ粒子を含むラテックスを凝集させて前記ラテックスからトナー粒子を作成すること；を含み、
作成したトナー粒子の上にシェルを作成すること；を任意に含む、
プロセス。
【請求項２】
アニオン系官能基が、スルホネート、サルフェート、カルボキシレート、ホスフェート、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
親油性対イオンが、四級アンモニウムイオンである、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記ラテックスが、架橋剤、電荷制御剤、連鎖移動剤、界面活性剤、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される添加剤をさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
ポリマーナノ粒子の平均直径が、５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】
着色剤の保持量が、０．１〜２５重量％の範囲である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項７】
ラテックスを作成することが、スターブ・フェッド重合を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項８】
アクリルモノマーおよびスチレンモノマーを共重合させ、有機着色剤が分散したポリマーナノ粒子を含むラテックスを作成すること、
ここで、前記有機着色剤はサルフェート基および長鎖脂肪族四級アンモニウム対イオンを含む；および、
有機有機着色剤が分散したスチレン−アクリレートコポリマーナノ粒子を含むラテックスを凝集させて前記ラテックスからトナー粒子を作成すること；を含み 
作成したトナー粒子の上にシェルを作成すること；を任意に含む、
プロセス。
【請求項９】
スチレンとアクリレートの比率が、４０：６０〜９８：２の範囲である、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記有機着色剤が、インジゴを含む改質顔料を含む、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記長鎖脂肪族四級アンモニウム対イオンが、対イオン中に少なくとも１つの不飽和炭素結合を含む、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記ラテックスが、架橋剤、電荷制御剤、連鎖移動剤、界面活性剤、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される添加剤をさらに含む、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１３】
トナー粒子が、シェル−コア構造を有する、請求項８に記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月27日(2017.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セメント硬化物製の有底筒部材と、
セメント硬化物製の蓋部材と
を含み、セメント硬化物は、補強繊維および気泡が分散した多孔質体であり、かつ、細骨材および粗骨材を含まない、放射性汚染物格納容器。
【請求項２】
前記セメント硬化物は、
セメントと、
セメント１００重量部に対して２０〜５０重量部の水と、
セメント１００重量部に対して０．５〜５重量部の補強繊維と、
気泡と
を含む混合物を硬化させて成る、請求項１に記載の放射性汚染物格納容器。
【請求項３】
前記補強繊維が、ポリオレフィン系繊維、アラミド繊維、炭素繊維、鋼繊維、ガラス繊維からなる群より選択される少なくとも１種である、請求項１または２に記載の放射性汚染物格納容器。
【請求項４】
前記セメント硬化物が、０．８〜１．５の比重を有する、請求項１〜３のいずれかに記載の放射性汚染物格納容器。
【請求項５】
前記有底筒部材の厚みが３０〜７０ｍｍである、請求項１〜４のいずれかに記載の放射性汚染物格納容器。
【請求項６】
放射性汚染物を保管する方法であって、請求項１〜５のいずれかに記載の放射性汚染物格納容器の有底筒部材内に放射性汚染物を入れ、有底筒部材内に放射性汚染物を入れた状態のままで、有底筒部材を蓋部材で閉じることを含む方法。
【請求項７】
原子力発電所事故に伴って大気中に放散された放射性物質で汚染された放射性汚染物を保管する放射性汚染物保管方法であって、
前記放射性汚染物を、補強繊維及び気泡を分散状態で含み、比重が０．８〜１．５の範囲内であるセメント硬化物製多孔質成形体からなる有底筒部材に、ドラム缶を介することなく、直接、又はフレキシブルコンテナバッグに収容した状態で格納し、
前記有底筒部材の上端部の開口を前記セメント硬化物製多孔質成形体からなる蓋部材によって閉じた状態で、前記有底筒部材を仮置場や中間貯蔵施設に静置することによって前記放射性汚染物を保管することを特徴とする放射性汚染物保管方法。
【請求項８】
前記有底筒部材の厚みが３０〜７０ｍｍである請求項７に記載の放射性汚染物保管方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】放射性汚染物格納容器および放射性汚染物保管方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明に係る放射性汚染物格納容器は、セメント硬化物製の有底筒部材と、セメント硬化物製の蓋部材とを含み、セメント硬化物は、補強繊維および気泡が分散した多孔質体であり、かつ、細骨材および粗骨材を含まない、放射性汚染物格納容器である。本発明に係る放射性汚染物保管方法は、原子力発電所事故に伴って大気中に放散された放射性物質で汚染された放射性汚染物を保管する放射性汚染物保管方法であって、前記放射性汚染物を、補強繊維及び気泡を分散状態で含み、比重が０．８〜１．５の範囲内であるセメント硬化物製多孔質成形体からなる有底筒部材に、ドラム缶を介することなく、直接、又はフレキシブルコンテナバッグに収容した状態で格納し、前記有底筒部材の上端部の開口を前記セメント硬化物製多孔質成形体からなる蓋部材によって閉じた状態で、前記有底筒部材を仮置場や中間貯蔵施設に静置することによって前記放射性汚染物を保管することを要旨とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月28日(2017.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
映像を表示する映像表示部と、
前記映像を透過及び反射の性質によって空中映像として空中に結像させる空中結像光学系と、
観察者から見て前記空中映像と同一平面に視認されるように前記空中映像の周囲にガイド映像を表示するガイド映像表示部とを備え、
前記ガイド映像は、前記空中映像と同程度のボケを加える処理、輝度低下処理、又はコントラスト低下処理が行われている
ことを特徴とする空中映像表示装置。
【請求項２】
前記空中結像光学系は、入射光を透過光と反射光とに分離するビームスプリッタと、前記入射光を入射方向にそのまま反射する再帰性反射シートとを有する
ことを特徴とする請求項１に記載の空中映像表示装置。
【請求項３】
前記空中結像光学系は、２面コーナーリフレクタアレイである
ことを特徴とする請求項１に記載の空中映像表示装置。
【請求項４】
前記空中映像と前記ガイド映像とによりシームレスにつながった映像を構成する
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の空中映像表示装置。
【請求項５】
表示対象となる映像を前記映像表示部と前記ガイド映像表示部とに分割して出力する映像分割制御部とをさらに備える
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の空中映像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月27日(2017.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１領域及び第２領域を有し、前記第２領域に中間領域を有し、前記第１領域及び前記第２領域が相互に重なるように前記中間領域で屈曲し、前記第１領域に発光素子層が設けられたフレキシブルディスプレイと、
前記フレキシブルディスプレイの屈曲の内側に配置され、前記第１領域に重なる正面領域と、前記第２領域に重なる背面領域と、前記中間領域に重なって前記屈曲を規制するガイド領域と、を有し、前記正面領域に第１段差を備え、前記背面領域に第２段差を備えるスペーサと、
前記第１領域の前記スペーサの側に位置する第１補強フィルムと、
前記第２領域の前記中間領域とは異なる領域の、前記スペーサの側に位置する第２補強フィルムと、
を有し、
前記第１段差は、前記ガイド領域に接する第１上面と、前記第１上面の前記ガイド領域とは反対側に位置し、前記第１領域から前記上面までの距離よりも前記第１領域からの距離が大きい第１底面と、前記第１上面と前記第１底面とに交差する第１立ち上げ面と、からなり、
前記第２段差は、前記ガイド領域に接する第２上面と、前記第２上面の前記ガイド領域とは反対側に位置し、前記第２領域から前記上面までの距離よりも前記第２領域からの距離が大きい第２底面と、前記第２上面と前記第２底面とに交差する第２立ち上げ面と、からなり、
前記第１補強フィルムは、前記第１底面と対向し、前記第１上面とは対向せず、
前記第２補強フィルムは、前記第２底面と対向し、前記第２上面とは対向せず、
前記第２立ち上げ面と前記第２補強フィルムとの間には、隙間があり、
前記第２補強フィルムと前記第２立ち上げ面との間隔は、前記第１補強フィルムと前記第１立ち上げ面との間隔よりも大きいことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置において、
前記第１補強フィルムは、前記第１立ち上げ面に接することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された表示装置において、
前記第２段差は、前記第１段差よりも、前記ガイド領域に近い位置にあることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記第１領域の前記第１補強フィルムとは反対側に、表補強フィルムをさらに有し、
前記表補強フィルムは、前記第１上面と前記第１底面と前記第１段差とに重なることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記第１補強フィルムは、第１粘着剤で前記第１底面に固定され、
前記第２補強フィルムは、第２粘着剤で前記第２底面に固定され、
前記第１粘着剤は、前記第１立ち上げ面と接し、
前記第２粘着剤は、前記第２立ち上げ面に接することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記第２領域の先端部に取り付けられて、前記先端部から前記ガイド領域とは反対側へ延びる配線基板をさらに有し、
前記第２底面は、前記先端部から前記ガイド領域とは反対側へ突出し、
前記配線基板と前記第２底面とは、粘着剤で固定されることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
第１領域及び第２領域を有し、前記第２領域に中間領域を有し、前記第１領域に発光素子層が設けられ、前記発光素子層とは反対側では前記第１領域に第１補強フィルムが貼りつけられ、かつ、前記第２領域に第２補強フィルムが貼りつけられたフレキシブルディスプレイを用意する工程と、
端部にガイド領域を有し、相互に反対側に正面領域及び背面領域を有し、前記正面領域には第１段差があって前記ガイド領域の表面よりも凹んだ第１底面を有し、前記背面領域には第２段差があって前記ガイド領域の表面よりも凹んだ第２底面を有するスペーサを用意する工程と、
前記第１補強フィルムの先端を、前記第１段差の第１立ち上げ面に合わせて、前記フレキシブルディスプレイを、第１粘着剤を介して前記第１底面に貼りつける工程と、
前記第１粘着剤に貼りつけられた前記フレキシブルディスプレイを、前記スペーサの前記ガイド領域で屈曲を規制しながら、前記中間領域で屈曲させる工程と、
屈曲した前記フレキシブルディスプレイに貼りつけられた前記第２補強フィルムを、第２粘着剤を介して前記第２底面に貼りつける工程と、
を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載された表示装置の製造方法において、
前記フレキシブルディスプレイを前記第１底面に貼りつける工程で、前記第１補強フィルムを、前記第１段差の前記第１立ち上げ面に当てることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項９】
請求項７又は８に記載された表示装置の製造方法において、
前記第２段差は、前記第１段差よりも、前記ガイド領域に近い位置にあることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項７から９のいずれか１項に記載された表示装置の製造方法において、
前記フレキシブルディスプレイを用意する工程で、前記フレキシブルディスプレイの前記第１領域に設けられた前記発光素子層の上に表補強フィルムを貼りつけることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項７から１０のいずれか１項に記載された表示装置の製造方法において、
前記スペーサを用意する工程で、前記第１粘着剤を前記第１段差の前記第１立ち上げ面に至るように設け、前記第２粘着剤を前記第２段差の第２立ち上げ面に至るように設けることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項７から１１のいずれか１項に記載された表示装置の製造方法において、
前記フレキシブルディスプレイを用意する工程で、前記第２領域の先端部に、前記フレキシブルディスプレイから突出するように、配線基板を取り付け、
前記フレキシブルディスプレイを前記第２粘着剤に貼りつける工程で、前記第２粘着剤によって、前記配線基板を前記第２底面に貼りつけることを特徴とする表示装置の製造方法。