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【手続補正書】
【提出日】平成29年4月21日(2017.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する第１及び第２面を有し、前記第１面上に配置された少なくとも一つのキャビティを含むパッケージボディーと、
前記キャビティ内に実装される少なくとも一つの発光素子と、
前記キャビティ上に配置されたモールディング部材と、
前記モールディング部材を取り囲んで配置される第１リセス部とを含み、
前記第１リセス部は複数個の側面を含み、
前記モールディング部材の水平方向の最大幅は、前記キャビティの幅よりも広く、第１リセス部の側面間の最大距離よりも狭い、発光素子パッケージ。
【請求項２】
前記キャビティと前記第１リセス部との間に配置され、前記モールディング部材と前記パッケージボディーとの間に配置されたコーティング層をさらに含む、請求項１に記載の発光素子パッケージ。
【請求項３】
前記コーティング層は酸化物またはポリマーを含む、請求項２に記載の発光素子パッケージ。
【請求項４】
前記パッケージボディーは、
前記キャビティ内で前記発光素子の下に配置される第２リセス部をさらに含む、請求項１乃至３のいずれかに記載の発光素子パッケージ。
【請求項５】
前記発光素子と前記パッケージボディーとの間に配置されるサブマウントをさらに含み、
前記サブマウントは、第１方向の幅を有し、第２方向の長さを有し、前記第１方向において前記サブマウントの幅よりさらに大きい幅を有する前記少なくとも一つの第２リセス部は、前記第２方向に配列された複数の第２リセス部を含む、請求項４に記載の発光素子パッケージ。
【請求項６】
前記少なくとも一つの第２リセス部の深さは下記の通りである、請求項５に記載の発光素子パッケージ。
【数１】
2015012287.tif 000001
（ここで、ｄは、第３方向において前記少なくとも一つの第２リセス部の深さを示し、ｔは、前記第２方向において前記複数の第２リセス部の間隔を示す。）
【請求項７】
前記少なくとも一つの第２リセス部は複数の第２リセス部を含み、前記複数の第２リセス部の長さ及び幅は互いに同一である、請求項４乃至６のいずれかに記載の発光素子パッケージ。
【請求項８】
前記少なくとも一つの第２リセス部は複数の第２リセス部を含み、前記複数の第２リセス部の長さ及び幅は互いに異なる、請求項４乃至６のいずれかに記載の発光素子パッケージ。
【請求項９】
前記少なくとも一つの第２リセス部の内部の少なくとも一部に空気が配置される、請求項４乃至８のいずれかに記載の発光素子パッケージ。
【請求項１０】
前記少なくとも一つの第２リセス部の内部の少なくとも一部に前記モールディング部材が配置された、請求項４乃至８のいずれかに記載の発光素子パッケージ。
【請求項１１】
前記少なくとも一つの第２リセス部は複数の第２リセス部を含み、
前記複数の第２リセス部のうちの一部は、前記発光素子と垂直方向に重ならず、
前記複数の第２リセス部のうちの他の一部は、前記発光素子と垂直方向に重なる、請求項４乃至１０のいずれかに記載の発光素子パッケージ。
【請求項１２】
前記パッケージボディーと前記発光素子とを電気的に接続するワイヤをさらに含み、
前記ワイヤがボンディングされる前記パッケージボディーのワイヤボンディング領域はラフネスを含む、請求項１乃至１１のいずれかに記載の発光素子パッケージ。
【請求項１３】
前記ワイヤボンディング領域の表面平均粗さは１．６μｍより大きく、２５μｍより小さい、請求項１２に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１４】
前記パッケージボディーはアルミニウムを含み、前記ワイヤは金（Ａｕ）を含む、請求項１２又は１３に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１５】
前記第１リセス部の縁は、前記キャビティの縁に最も近い内側縁部である、請求項２に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１６】
前記モールディング部材は、前記第１リセス部と垂直に重ならない、請求項２又は３に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１７】
互いに対向し、第１高さだけ互いに離隔した第１及び第２面を有するパッケージボディーと、
前記パッケージボディーの前記第１面上に配置され、前記第１高さより低い第２高さを有し、トップにおいて第１幅を有し、ボトムにおいて第２幅を有するキャビティと、
前記キャビティに配置され、膨らんだ形状を有するモールディング部材とを含み、
前記パッケージボディーの前記第１面から前記膨らんだ形状のピークまでの第３高さは、前記第１幅の０．１５乃至０．３５である、発光素子パッケージ。
【請求項１８】
前記第１面上に形成され、前記第２高さよりさらに低い高さを有するリセス部や突出部をさらに含み、
前記リセス部や前記突出部が前記キャビティを取り囲むように、前記リセス部や前記突出部は前記第１幅よりさらに大きい幅を有し、前記リセス部や前記突出部の幅は前記パッケージボディーの幅より小さい、請求項１７に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１９】
前記リセス部や前記突出部は、前記モールディング部材の物質が前記リセス部に流れ込むか、または前記突出部を越えて延びることを防止することで、前記膨らんだ形状の前記ピークは前記第１幅の０．１５乃至０．３５である、請求項１８に記載の発光素子パッケージ。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月29日(2016.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板または下地膜上に第１の駆動電極を形成するステップと、
前記第１の駆動電極上に電気機械変換膜を形成するステップと、
前記電気機械変換膜上に第２の駆動電極を形成するステップと、
前記第２の駆動電極上に第１の絶縁保護膜を形成するステップと、
前記第２の駆動電極に電気的に接続された配線を前記第１の絶縁保護膜上に形成するステップと、
前記配線上に形成される膜であり、前記配線に接続される端子電極及び複数の配線に導通して接続される電荷注入用電極を露出させて第２の絶縁保護膜を形成するステップと、
前記電荷注入用電極に、放電により発生した電荷を注入することにより、前記電気機械変換膜を分極処理するステップと、を有することを特徴とする電気機械変換素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１の電気機械変換素子の製造方法において、
前記基板または下地膜上に形成した複数の電気機械変換素子を互いに分離して個別化するように切断するステップを有し、
前記第２の絶縁保護膜を形成するステップでは、前記電荷注入用電極を前記電気機械変換膜に対して前記端子電極よりも離れた位置に形成し、
前記電気機械変換素子を個別化するステップでは、前記端子電極と前記電荷注入用電極との間を切断することを特徴とする電気機械変換素子の製造方法。
【請求項３】
請求項２の電気機械変換素子の製造方法において、
前記電気機械変換素子を個別化するステップは、前記端子電極と前記電荷注入用電極との間を完全に切断する切断位置よりも該端子電極側を前記基板の厚み方向の途中まで切断するステップを含むことを特徴とする電気機械変換素子の製造方法。
【請求項４】
請求項２の電気機械変換素子の製造方法において、
前記電気機械変換素子を個別化するステップは、
前記端子電極と前記電荷注入用電極との間を切断刃により前記基板の厚み方向の途中まで切断するステップと、
前記切断刃よりも幅の狭い切断刃により前記基板の厚み方向の途中まで切断した位置を中心に完全に切断するステップと、を含むことを特徴とする電気機械変換素子の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかの電気機械変換素子の製造方法において、
前記分極処理を行うステップにおいて、放電により発生した電荷が正帯電していることを特徴とする電気機械変換素子の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかの電気機械変換素子の製造方法において、
前記分極処理を行うステップにおいて、放電により、１．０×１０−８［Ｃ］以上の電荷量を発生させることを特徴とする電気機械変換素子の製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかの電気機械変換素子の製造方法により得られた電気機械変換素子。
【請求項８】
請求項７の電気機械変換素子において、
前記電気機械変換膜の分極が、±１５０［ｋＶ／ｃｍ］の電界強度かけてヒステリシスループを測定する際、測定開始時の０［ｋＶ／ｃｍ］における分極をＰｉｎｉとし、＋１５０［ｋＶ／ｃｍ］の電圧印加後、０［ｋＶ／ｃｍ］まで戻した際の０［ｋＶ／ｃｍ］時の分極をＰｒとした場合に、ＰｒとＰｉｎｉとの差が１０［μＣ／ｃｍ２］以下であることを特徴とする電気機械変換素子。
【請求項９】
請求項７又は８の電気機械変換素子において、
前記電気機械変換膜の比誘電率が、６００以上、２０００以下であることを特徴とする電気機械変換素子。
【請求項１０】
請求項７乃至８のいずれかの電気機械変換素子において、
前記第１の駆動電極に電気的に接続された配線と、前記第２の駆動電極に電気的に接続された配線とが、同一プロセス中に作製されることを特徴とする電気機械変換素子。
【請求項１１】
請求項７乃至１０のいずれかの電気機械変換素子において、
前記配線が、Ａｇ合金、Ｃｕ、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｕ、Ｐｔ、Ｉｒのいずれかから成る金属材料で形成されていることを特徴とする電気機械変換素子。
【請求項１２】
請求項７乃至１１のいずれかの電気機械変換素子において、
前記第１の絶縁保護膜及び前記第２の絶縁保護膜が、アルミナ膜、シリコン酸化膜、窒化シリコン膜及び酸化窒化シリコン膜のいずれかの無機膜であることを特徴とする電気機械変換素子。
【請求項１３】
液滴を吐出するノズルと、該ノズルが連通する加圧室と、該加圧室内の液体を昇圧させる吐出駆動手段とを備えた液滴吐出ヘッドにおいて、
前記吐出駆動手段として、前記加圧室の壁の一部を振動板で構成し、該振動板に請求項７乃至１２のいずれかの電気機械変換素子を配置したことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項１４】
請求項１３の液滴吐出ヘッドを備えたインクジェット記録装置。
【請求項１５】
請求項１３の液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月2日(2017.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上の第１の回路であって、該第１の回路は、第１の電気デバイス、第２の電気デバイス、ならびに、前記第１の電気デバイスおよび前記第２の電気デバイスを相互接続する第１のワイヤ・ボンド・アレイを含む、第１の回路と、
前記第１の回路に隣接する、前記基板上の第２の回路であって、該第２の回路は、第３の電気デバイス、第４の電気デバイス、ならびに、前記第３の電気デバイスおよび前記第４の電気デバイスを相互接続する第２のワイヤ・ボンド・アレイを含む、第２の回路と、
前記第１の回路と前記第２の回路との間の前記基板上の複数の接続パッドと、
前記第１の回路と前記第２の回路との間で前記基板の上に複数のワイヤボンドを含み、且つ前記複数の接続パッドを電気的に接続する、ワイヤボンド壁であって、該ワイヤボンド壁は、前記第１の回路および前記第２の回路の少なくとも一方の動作中に前記第１の回路と前記第２の回路との間の電磁結合を低減するように構成されている、ワイヤボンド壁とを備える、パッケージ。
【請求項２】
前記複数のワイヤボンドは相互接続されており、前記基板の、前記第１の回路および前記第２の回路の少なくとも一部分の間に位置する領域に沿って延在している、請求項１に記載のパッケージ。
【請求項３】
前記複数のワイヤボンドは、少なくとも第１の列のワイヤボンドおよび第２の列のワイヤボンドにて配置されており、前記第１の列のワイヤボンドは前記第２の列のワイヤボンドと平行に配置されている、請求項２に記載のパッケージ。
【請求項４】
前記第１の回路はドハティ増幅器のキャリア増幅器である、請求項１に記載のパッケージ。
【請求項５】
前記第２の回路はドハティ増幅器のピーク増幅器である、請求項４に記載のパッケージ。
【請求項６】
前記ワイヤボンド壁はグランド電圧端子に接続されている、請求項１に記載のパッケージ。
【請求項７】
前記ワイヤボンド壁は集積型受動デバイスに接続されている、請求項１に記載のパッケージ。
【請求項８】
前記集積型受動デバイスのキャパシタンスおよびインダクタンスの少なくとも一方は、前記集積型受動デバイスが前記ワイヤボンド壁に接続されているときに、特定の周波数帯の前記第１の回路と前記第２の回路との間の電磁結合を低減するように選択されている、請求項７に記載のパッケージ。
【請求項９】
前記第１の電気デバイス、第２の電気デバイス、第３の電気デバイス、および第４の電気デバイスの少なくとも１つは、キャパシタ、およびトランジスタの少なくとも一方を含む、請求項１に記載のパッケージ。
【請求項１０】
基板と、
前記基板上のキャリア増幅器と、
前記キャリア増幅器に隣接する、前記基板上のピーク増幅器と、
前記基板上の複数のワイヤボンドであって、該複数のワイヤボンドは、相互接続されており、前記基板の、前記キャリア増幅器および前記ピーク増幅器の少なくとも一部分の間に位置する領域に沿って延在しおり、該複数のワイヤボンドは、前記キャリア増幅器および前記ピーク増幅器の少なくとも一方の動作中に前記キャリア増幅器と前記ピーク増幅器との間の電磁結合を低減するように構成されたワイヤボンド壁を形成する、複数のワイヤボンドとを備える、ドハティ増幅器パッケージ。
【請求項１１】
前記基板の上の複数の接続パッドを含み、前記複数のワイヤボンドは、前記接続パッドを電気的に相互接続する、請求項１０に記載のドハティ増幅器パッケージ。
【請求項１２】
前記複数の接続パッドはグランド電圧に接続されている、請求項１１に記載のドハティ増幅器パッケージ。
【請求項１３】
前記複数のワイヤボンドはグランド電圧端子に接続されている、請求項１０に記載のドハティ増幅器パッケージ。
【請求項１４】
前記複数のワイヤボンドは集積型受動デバイスに接続されている、請求項１０に記載のドハティ増幅器パッケージ。
【請求項１５】
前記集積型受動デバイスのキャパシタンスおよびインダクタンスの少なくとも一方は、前記集積型受動デバイスが前記複数のワイヤボンドに接続されているときに、および、前記キャリア増幅器および前記ピーク増幅器の少なくとも一方の動作中に、特定の周波数帯の前記キャリア増幅器と前記ピーク増幅器との間の電磁結合を低減するように選択されている、請求項１４に記載のドハティ増幅器パッケージ。
【請求項１６】
前記キャリア増幅器は、該キャリア増幅器の第１の電気デバイスと該キャリア増幅器の第２の電気デバイスとを相互接続する第１のワイヤ・ボンド・アレイを含み、
前記ピーク増幅器は、該ピーク増幅器の第３の電気デバイスと該ピーク増幅器の第４の電気デバイスとを相互接続する第２のワイヤ・ボンド・アレイを含む、請求項１０に記載のドハティ増幅器パッケージ。
【請求項１７】
基板上にキャリア増幅器を取り付ける工程と、
前記キャリア増幅器に隣接して、前記基板上にピーク増幅器を取り付ける工程と、
前記基板の、前記キャリア増幅器および前記ピーク増幅器の少なくとも一部分の間に位置する領域に沿って、前記基板上に複数の相互接続されたワイヤボンドを形成する工程であって、該複数のワイヤボンドは、前記キャリア増幅器および前記ピーク増幅器の少なくとも一方の動作中に前記キャリア増幅器と前記ピーク増幅器との間の電磁結合を低減するように構成されたワイヤボンド壁を形成する、形成する工程とを備える、方法。
【請求項１８】
前記基板の上に複数の接続パッドを形成する工程を含み、前記複数のワイヤボンドは、前記接続パッドを電気的に相互接続する、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記複数の接続パッドをグランド電圧端子に接続する工程を含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記基板に集積型受動デバイスを載置する工程と、
前記複数のワイヤボンドを前記集積型受動デバイスに接続する工程とを含む、請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月1日(2017.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
症例に対応する入力情報を取得する取得手段と、
前記入力情報に基づいて前記症例に対応する診断名を特定するとともに該診断名の推論確率を得る推論手段と、
前記特定された診断名の推論確率に応じた支援情報を表示部に表示させる表示制御手段と、
を有することを特徴とする診断支援システム。
【請求項２】
前記特定された診断名に対し、前記入力情報の影響度を取得する影響度取得手段をさらに有し、
前記表示制御手段は、前記影響度に基づいて前記支援情報を表示させることを特徴とする請求項１に記載の診断支援システム。
【請求項３】
前記表示制御手段は、前記特定された診断名に対する推論確率が所定の基準よりも高い場合は、前記特定された診断名を肯定する影響度を有する情報を表示することを特徴とする請求項２に記載の診断支援システム。
【請求項４】
前記表示制御手段は、前記特定された診断名に対する推論確率が所定の基準よりも低いと判断した場合には、前記特定された診断名以外の診断名を否定する影響度を有する情報を表示することを特徴とする請求項２に記載の診断支援システム。
【請求項５】
前記表示制御手段は、前記特定された診断名に対する推論確率が所定の基準よりも低いと判断した場合には、前記特定された診断名を肯定し、かつ、前記特定された診断名以外の診断名を否定する影響度を有する情報を表示することを特徴とする請求項２に記載の診断支援システム。
【請求項６】
前記特定された診断名は、診断名に対する推論確率が最も高い診断名であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の診断支援システム。
【請求項７】
前記特定された診断名は、ユーザの指定によって特定されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の診断支援システム。
【請求項８】
前記所定の基準は、閾値であることを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載の診断支援システム。
【請求項９】
症例に対応する入力情報を取得する取得工程と、
前記入力情報に基づいて前記症例に対応する診断名を特定するとともに該診断名の推論確率を得る推論工程と、
前記特定された診断名の推論確率に応じた支援情報を表示部に表示させる表示制御工程と、
を有することを特徴とする診断支援システムの制御方法。
【請求項１０】
請求項９に記載された診断支援システムの制御方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１１】
症例に対応する入力情報を取得する取得手段と、
前記入力情報に基づいて前記症例に対応する診断名を特定するとともに該診断名の推論確率を得る推論手段と、
前記特定された診断名の推論確率に基づいて、少なくとも肯定的な情報及び／又は否定的な情報を該特定された診断名の支援情報として選択する選択手段と、
前記特定された診断名の前記支援情報を表示部に表示させる表示制御手段と、
を有し、
前記肯定的な情報は、前記特定された診断名の推論確率に対して肯定的な影響を与える情報であり、
前記否定的な情報は、前記特定された診断名とは異なる診断名の推論確率に対して否定的な影響を与える情報であることを特徴とする診断支援システム。
【請求項１２】
前記選択手段は、前記特定された診断名の推論確率が所定の基準よりも低い場合には、少なくとも前記否定的な情報を該特定された診断名の支援情報として選択することを特徴とする請求項１１に記載の診断支援システム。
【請求項１３】
前記選択手段は、前記特定された診断名の推論確率が所定の基準よりも高い場合には、少なくとも前記肯定的な情報を該特定された診断名の支援情報として選択することを特徴とする請求項１１に記載の診断支援システム。
【請求項１４】
前記選択手段は、前記特定された診断名の推論確率が所定の基準よりも高い場合には、少なくとも前記肯定的な情報を該特定された診断名の支援情報として選択し、前記特定された診断名の推論確率が所定の基準よりも低い場合には、少なくとも前記否定的な情報を該特定された診断名の支援情報として選択することを特徴とする請求項１１に記載の診断支援システム。
【請求項１５】
前記選択手段は、前記特定された診断名の推論確率が所定の基準よりも低い場合には、前記肯定的な情報と前記否定的な情報とを該特定された診断名の支援情報として選択することを特徴とする請求項１１に記載の診断支援システム。
【請求項１６】
前記特定された診断名に対し、前記入力情報の影響度を取得する影響度取得手段をさらに有し、
前記選択手段は、前記影響度に基づいて少なくとも前記肯定的な情報及び／又は否定的な情報を前記支援情報として選択することを特徴とする請求項１１に記載の診断支援システム。
【請求項１７】
前記選択手段は、前記特定された診断名に対する推論確率が所定の基準よりも高い場合は、前記特定された診断名を肯定する影響度を有する前記肯定的な情報を選択することを特徴とする請求項１６に記載の診断支援システム。
【請求項１８】
前記選択手段は、前記特定された診断名に対する推論確率が所定の基準よりも低いと判断した場合には、前記特定された診断名以外の診断名を否定する影響度を有する前記否定的な情報を選択することを特徴とする請求項１６に記載の診断支援システム。
【請求項１９】
前記選択手段は、前記特定された診断名に対する推論確率が所定の基準よりも低いと判断した場合には、前記特定された診断名を肯定する影響度を有する前記肯定的な情報と、前記特定された診断名以外の診断名を否定する影響度を有する前記否定的な情報とを選択することを特徴とする請求項１６に記載の診断支援システム。
【請求項２０】
前記特定された診断名は、診断名に対する推論確率が最も高い診断名であることを特徴とする請求項１１に記載の診断支援システム。
【請求項２１】
前記特定された診断名は、ユーザの指定によって特定されることを特徴とする請求項１１に記載の診断支援システム。
【請求項２２】
症例に対応する入力情報を取得する取得工程と、
前記入力情報に基づいて前記症例に対応する診断名を特定するとともに該診断名の推論確率を得る推論工程と、
前記特定された診断名の推論確率に基づいて、少なくとも肯定的な情報及び／又は否定的な情報を該特定された診断名の支援情報として選択する選択工程と、
前記特定された診断名の前記支援情報を表示部に表示させる表示制御工程と、
を有し、
前記肯定的な情報は、前記特定された診断名の推論確率に対して肯定的な影響を与える情報であり、
前記否定的な情報は、前記特定された診断名とは異なる診断名の推論確率に対して否定的な影響を与える情報であることを特徴とする診断支援システムの制御方法。
【請求項２３】
請求項２２に記載された診断支援システムの制御方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月8日(2017.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細長いツール（７）であって、先端（８）に開口部を有し、かつ前記ツール（７）の前記先端（８）の前記開口部に通じる長手方向の孔を有するツール（７）；
長手方向の孔を有するツール取付部（９）；
長手方向の孔を有する超音波発生器（１０）、および
糸ガイド管（１１）；
を備える、フラックスフリーのハンダを基板（２）に供給および配置するための装置（１）であって、
前記超音波発生器（１０）は、前記ツール取付部（９）に固定され、超音波を発生するように構成されており、
前記ツール取付部（９）は、前記ツール（７）を固定するように構成され、
前記ツール取付部（９）は、前記超音波発生器（１０）によって発生された超音波を前記ツール（７）に伝達する振動体として形成されており、
前記ツール取付部（９）、前記超音波発生器（１０）、および、前記ツール（７）のそれぞれの長手方向の孔は、互いに一直線上にあり、
前記糸ガイド管（１１）が、前記超音波発生器（１０）および前記ツール取付部（９）の長手方向の孔を通って延び、前記ツール（７）の長手方向の孔の中に、前記ツール（７）の前記先端（８）より上の位置まで突き出し、かつ前記ツール（７）に接触しない、装置。
【請求項２】
前記ツール取付部（９）が、前記糸ガイド管（１１）を支える延長部（１９）を備えることを特徴とする、請求項１に記載の装置（１）。
【請求項３】
前記延長部（１９）が、超音波発生器（１０）が発生する超音波の節に配置されることを特徴とする、請求項２に記載の装置（１）。
【請求項４】
ハウジング（１５）をさらに備える装置（１）であって、積極的に冷却することができる冷却チャンバ（２０）が、前記ハウジング（１５）の内壁と前記超音波発生器（１０）との間に形成されている、請求項１〜３のうちいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項５】
前記糸ガイド管（１１）に固定されているヒートシンク（１４）をさらに備える、請求項１〜４のうちいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項６】
請求項１〜５のうちいずれか一項に記載の装置（１）および、中に前記ツール（７）の下部が突き出している加熱冷却装置（１６）を備える、３つの空間方向に移動可能な書込みヘッド（５）であって、前記加熱冷却装置（１６）が、前記ツール（７）の前記先端（８）の温度を所定温度域内に保つために使用される書込みヘッド（５）。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月21日(2017.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気共鳴装置の公称ラーモア周波数からの局所的偏差を描写するＢ0磁場マップを求める方法であって、２つの異なるエコー時間（２，３）の差が１つのディフェージング時間を形成し、励起後に２つの異なるエコー時間（２，３）で行われる測定において少なくとも２つの異なるディフェージング時間について磁気共鳴データが取得され、異なるエコー時間（２，３）で測定された位相の差から、Ｂ0磁場マップを求めるために使用される位相変化が求められ、異なるディフェージング時間の位相変化が、曖昧さを少なくとも部分的に低減するためにナイキスト位相ラッピングに基づいて評価される方法において、異なるディフェージング時間についての測定が、少なくとも部分的に、異なる励起磁場を発生する励起により行われることを特徴とする方法。
【請求項２】
励起の総量が磁気共鳴装置（６）の撮像領域をほぼ均一にカバーすること、および、撮像領域の各ボクセルについて少なくとも１つの励起に対して信号強度が、予め定められた最小信号強度を上回っていることの少なくとも一方であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
独立に制御可能な複数の送信チャネル（８）を有する高周波コイル装置（７）が使用され、磁気共鳴データが、それらの送信チャネル（８）用のＢ1マップを決定するのに用いられる測定過程において取得されることを特徴とする請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
前記測定過程において使用される各励起モードについて少なくとも２つの測定が異なるエコー時間で行われ、少なくとも２つの異なる励起モードについてディフェージング時間が異なることを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項５】
励起モードが、単一の送信チャネル（８）を使用する場合に比べてＢ1振幅のダイナミックレンジが低減するように、１つよりも多い送信チャネル（８）を使用することを特徴とする請求項３又は４記載の方法。
【請求項６】
磁気共鳴データを取得するためにグラジエントエコーシーケンスが使用されることを特徴とする請求項１乃至５の１つに記載の方法。
【請求項７】
請求項１乃至６の１つに記載の方法を実施するべく構成された制御装置（１０）を含む磁気共鳴装置（６）。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月3日(2017.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ボア（２４）を有するレバー（１４）を備え、棒状又は球状物体を分離する装置（１）であって、
前記ボア（２４）が１つの棒状又は球状物体を収容できるように構成され、
かつ前記ボア（２４）が、前記レバー（１４）の第１位置で入口開口部の下に配設され、かつ前記レバー（１４）の第２位置で出口開口部（３２）の上に配設され、前記レバー（１４）が、第２位置で前記入口開口部を閉塞する装置（１）。
【請求項２】
前記レバー（１４）が、前記装置（１）に揺動自在に取り付けられ、かつ前記装置（１）が、前記レバー（１４）の第１位置で、前記入口開口部の下に前記ボア（２４）をセンタリングする第１センタリング手段を有する請求項１に記載の装置（１）。
【請求項３】
前記レバー（１４）が、前記装置（１）に揺動自在に取り付けられ、かつ前記装置（１）が、前記レバー（１４）の第２位置で、前記出口開口部（３２）の上に前記ボア（２４）をセンタリングする第２センタリング手段を有する請求項１又は２に記載の装置（１）。
【請求項４】
それぞれのセンタリング手段が、
前記レバー（１４）の前記ボア（２４）の周りに配設される円柱形隆起部（３６、３８）と、
それぞれの開口部の周りに配設されるくさび形くぼみ（２６、３４）とを有する請求項２又は３に記載の装置（１）。
【請求項５】
前記隆起部（３６、３８）が、それぞれの開口部を囲い込む円柱形スリーブ（２、３０）の延長である請求項４に記載の装置（１）。
【請求項６】
前記ボア（２４）の中心点と、前記くぼみ（２６、３４）の２つの縁部の間の距離は、前記隆起部（３６、３８）の半径に相当する請求項４又は５に記載の装置（１）。
【請求項７】
前記レバー（１４）に作用する磁気作動手段（２０）を含む請求項１から６のいずれかに記載の装置（１）。
【請求項８】
前記入口開口部の上に配設された充填レベルセンサを含む請求項１から７のいずれかに記載の装置（１）。
【請求項９】
前記出口開口部（３２）の下に配設され、かつ棒状又は球状物体の通過を検知するセンサを含む請求項１から８のいずれかに記載の装置（１）。
【請求項１０】
磁気的に吸引可能な棒状又は球状撹拌素子を分離する請求項１から９のいずれかに記載の装置（１）。
【請求項１１】
自動分析器内で、磁気的に吸引可能な棒状又は球状撹拌素子を分離する請求項１から１０のいずれかに記載の装置（１）の使用方法。
【請求項１２】
所定の移動経路に沿って移動でき、かつ裏側に固定された少なくとも１つの永久磁石（４０）を有する平面を含み、かつ移動経路に沿って配設され、かつ表面と接触する次の部分：
・磁気的に吸引可能な多数の素子を収容する供給チャンバ（２０１）と、
・磁気的に吸引可能なそれぞれの素子の断面に対応し、かつ磁気的に吸引可能な余剰の素子をはぎ取ることを目的としたアパーチャを有する第１シケイン（２８０）と、
・入口（３２０）を有し、かつ磁気的に吸引可能な素子を収容する断面を有し、前記断面が、磁気的に吸引可能なそれぞれの素子の断面に対応するチャネル（３００）と、
・前記チャネル（３００）に接続され、かつ内部断面が、磁気的に吸引可能なそれぞれの素子の断面に対応するホース（３６０）と、を同様に含む、磁気的に吸引可能な棒状又は球状素子を分離する装置であって、
請求項１から１０のいずれかに記載の装置（１）が、前記ホース（３６０）の端部に固定されることを特徴とする装置。
【請求項１３】
前記ホース（３６０）の配向が、重力（Ｇ）方向の方向成分を有する請求項１２に記載の装置（１００）。
【請求項１４】
前記移動経路が、円形経路であり、前記平面及び前記円形経路は、単一平面内に位置し、かつ前記永久磁石（４０）の極が、接線方向に配向される請求項１２又は１３に記載の装置（１００）。
【請求項１５】
前記平面が、円形プレート（２００）の一部である請求項１２から１４のいずれかに記載の装置（１００）。
【請求項１６】
前記円形プレート（２００）が、その裏側に複数の永久磁石（４０）を円形経路上に有する請求項１５に記載の装置（１００）。
【請求項１７】
表面と接触し、前記供給チャンバ（２０１）と第１シケイン（２８０）の間の移動経路の途中に配設され、かつ前記第１シケイン（２８０）よりも大きいアパーチャを有する第２シケイン（２６０）を備えた請求項１２から１６のいずれかに記載の装置（１００）。
【請求項１８】
自動分析器内で、磁気的に吸引可能な球状又は棒状撹拌素子を分離する請求項１２から１７のいずれかに記載の装置（１００）の使用方法。
【請求項１９】
請求項１２から１７のいずれかに記載の装置（１００）を有する自動分析器。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月20日(2017.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微小水クラスタを調製する水処理装置であって、
１つ以上の照明装置と、金属粒子を保持する１つ以上のホルダとを備え、
前記ホルダが前記金属粒子の照明を可能とする場合、前記金属粒子の表面プラズモン共鳴が可能になり、前記ホルダは、１つ以上の入り口および１つ以上の出口を有する透明な中空カラムまたは中空容器であり、前記１つ以上の出口は任意で切替え制御弁を有し、前記透明な中空カラムまたは中空容器は、表面プラズモン共鳴が可能な金属粒子によって満たされる、装置。
【請求項２】
前記カラムの出口は、前記カラムの入口より狭い、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記照明装置は、１００ｎｍ〜３，０００ｎｍの範囲の波長を有する光源である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記照明装置は、昼光ランプ、ＬＥＤランプ、電球、水銀ランプ、メタルハライドランプ、ナトリウムランプ、または、ハロゲンランプである、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記ＬＥＤランプは、緑色ＬＥＤランプである、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記金属粒子は、金ナノ粒子、銀ナノ粒子、白金ナノ粒子、ロジウムナノ粒子、銅ナノ粒子、ニッケルナノ粒子、ジルコニウムナノ粒子、合金ナノ粒子、酸化チタンナノ粒子、金ナノ／銀粒子、金ナノ／酸化チタン粒子、または、それらの組合せである、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記金属粒子は、金ナノ粒子、銀ナノ粒子、金ナノ／銀粒子、または、金ナノ／酸化チタン粒子である、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記金属粒子は、セラミックとの混合により金ナノ／セラミック粒子となり、あるいは、キトサンとの混合により金ナノ／キトサン粒子となる、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記金属粒子の大きさは、０．１ｎｍ〜１００ｎｍである、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記金属粒子は、球形、円筒形、楕円形、立方形、または、立方体の形状を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
微小水クラスタを調製する方法であって、
請求項１に記載の装置を提供するステップと、前記金属ナノ粒子と水とを接触させるステップと、前記金属ナノ粒子を照明することにより、微小水クラスタを得るステップと、を含み、前記微小水クラスタは、脱イオン水より高い非水素結合レベルを有する、方法。
【請求項１２】
前記照明にかかる時間は、１〜４８０分である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
以下の特徴：
（ａ）水のＯＨ振動のデコンボリューションスペクトルにおけるラマンバンドの中心点は、約３０１８ｃｍ−１、約３２２３ｃｍ-１、約３３９３ｃｍ−１、約３５０６ｃｍ−１、および、約３６２４ｃｍ−１の位置であり、約３０１８ｃｍ−１、約３２２３ｃｍ−１、約３３９３ｃｍ−１、約３５０６ｃｍ−１、および、約３６２４ｃｍ−１の位置の５つのバンドの積分範囲の合計で除した約３５０６ｃｍ−１、および、約３６２４ｃｍ−１の位置の積分範囲によって得た非水素結合レベルは、約２２％より高い；
（ｂ）水分子の赤外スペクトルにおける三重水素結合の特性ピーク（約３０９０ｃｍ−１〜約３３１０ｃｍ−１）は、約３１７０ｃｍ−１から約３１７５ｃｍ−１を上回る値へとシフトし、また、前記赤外スペクトルにおける非水素結合、単水素結合、および、二重水素結合のピーク（約３３１０ｃｍ−１〜約３６４０ｃｍ−１）は、約３４４９ｃｍ-１から約３４５４ｃｍ−１を上回る値へとシフトする；
（ｃ）前記微小水クラスタの蒸発率は、脱イオン水の蒸発率より時間当たり３％を超えて高い；
（ｄ）約１気圧下で約２２．８℃での前記微小水クラスタにおけるＮａＣｌの溶解度は、約３７ｇ  ｄＬ−１を上回る；
（ｅ）約１気圧下で約２２．８℃での前記微小水クラスタにおける最大溶存酸素量は、約２１ｍｇＬ−１を上回る；
（ｆ）前記微小水クラスタのＰＥＧ４００における溶解度は、予測値より約２％を上回る値だけ低い；および、
（ｇ）前記微小水クラスタの温度２５℃における飽和蒸気圧は、脱イオン水の飽和蒸気圧  より約３．０％を上回る値だけ高い；
のうちの１つ以上を有する、微小水クラスタ。
【請求項１４】
前記微小水クラスタは、誘導結合プラズマ質量分析装置（ＩＰＣ−ＭＳ）により測定された約０．０５ｐｐｂより多い金属残渣を有する、請求項１３に記載の微小水クラスタ。
【請求項１５】
以下の特徴：
（ａ）前記ラマンスペクトルは、それぞれパーセンテージが１５．０％および６％より高い約３５０６ｃｍ−１および３６２４ｃｍ−１の位置のラマンシフトをさらに含み、前記パーセンテージは、前記約３０１８ｃｍ−１、約３２２３ｃｍ−１、約３３９３ｃｍ−１、約３５０６ｃｍ−１、および、約３６２４ｃｍ−１の位置の５つのバンドの積分範囲の合計によって除された前記約３５０６ｃｍ−１または約３６２４ｃｍ−１の位置におけるバンドの積分範囲によって計算される；
（ｂ）前記水分子の赤外スペクトルにおける三重水素結合の特性ピーク（約３０９０ｃｍ−１〜約３３１０ｃｍ−１）は、約３１７０ｃｍ−１から約３１８０ｃｍ−１へとシフトし、また、前記赤外スペクトルにおける非水素結合、単水素結合、および、二重水素結合のピーク（約３３１０ｃｍ−１〜約３６４０ｃｍ−１）は、約３４４９ｃｍ-１から約３４６１ｃｍ-1へとシフトする；
（ｃ）前記微小水クラスタの前記蒸発率は、前記脱イオン水の蒸発率より時間当たり７．２％を超えて高い；
（ｄ）約１気圧下で２２．８℃での前記微小水クラスタにおける前記ＮａＣｌの溶解度は、約４１．３ｇ  ｄＬ−１を上回る；および、
（ｅ）約１気圧下で２２．８℃での前記微小水クラスタの前記最大溶存酸素量は、２３．８ｍｇＬ−１を上回る、
のうちの１つを有する、請求項１３に記載の微小水クラスタ。
【請求項１６】
前記微小水クラスタは、少なくとも３日間安定して存在することができる、請求項１３に記載の微小水クラスタ。
【請求項１７】
前記微小水クラスタは、化粧品、美容医療、医薬品、エネルギー産業、および、さまざまな化学製品および物的生産物に用いることができる、請求項１３に記載の微小水クラスタ。
【請求項１８】
前記微小水クラスタは、血液透析、または、ポリメラーゼ連鎖反応に用いることができる、請求項１３に記載の微小水クラスタ。
【請求項１９】
請求項１３〜１８のいずれか一項に記載の微小水クラスタの血液透析における使用方法。
【請求項２０】
血液透析液を調製する方法であって、血液透析水を金属ナノ粒子と接触させるステップと、結果として生じた溶液を照明することにより請求項１３〜１８のいずれか一項に記載の微小水クラスタを得るステップと、結果として生じた前記微小水クラスタを用いて血液透析液を調製するステップと、を含む方法。
【請求項２１】
金属ナノ粒子でコーティングされた血液透析バッグまたは血液透析カラムと、照明装置とを備えた血液透析装置。
【請求項２２】
請求項１３〜１８のいずれか一項に記載の微小水クラスタのポリメラーゼ連鎖反応における使用方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月18日(2017.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材（２１０）上に複合材料を配置するための自動繊維配置（ＡＦＰ）機（１００；２００）であって、
１つ以上の円形カッターブレード（３７０）を備える第１の薄型トウ制御モジュール（３５４Ａ）と、
１つ以上の円形カッターブレード（３７０）を備える第２の薄型トウ制御モジュール（３５４Ｂ）と、
前記第１および第２の薄型トウ制御モジュール（３５４Ａ，３５４Ｂ）に結合されるとともに、前記第１および第２の薄型トウ制御モジュール（３５４Ａ，３５４Ｂ）間に位置付けられるＶ字形ブロック（３５０）であって、該Ｖ字形ブロック（３５０）が内部に位置付けられる複数の空気通路（３５２）を備える、Ｖ字形ブロック（３５０）と、
前記Ｖ字形ブロック（３５０）に結合されるとともに、前記第１の薄型トウ制御モジュール（３５４Ａ）と前記第２の薄型トウ制御モジュール（３５４Ｂ）との間に入れ子にされる複数のエア取付具（３８４）であって、前記複数のエア取付具（３８４）が前記Ｖ字形ブロック（３５０）内に位置付けられる前記空気通路（３５２）と位置合わせされる、複数のエアシリンダと、
を備え、
前記円形カッターブレード（３７０）が、第１のカッター伸長ピストン（３６０Ｄ）および第２のカッター引き込みピストン（３６０Ａ）によって１つの軸（３７６Ａ）周りに回転されるように構成されたカッターロッカーアーム（３６８）に連結されている、自動繊維配置（ＡＦＰ）機（１００；２００）。
【請求項２】
前記第１および第２の薄型トウ制御モジュール（３５４Ａ，３５４Ｂ）が約３／４インチ以下の高さを有する請求項１に記載のＡＦＰ機（１００；２００）。
【請求項３】
前記円形カッターブレード（３７０）が約３／４インチ以下の高さを有する請求項１または２に記載のＡＦＰ機（１００；２００）。
【請求項４】
約３／４インチ以下の直径を有する圧縮ローラ（２４５）を更に備える請求項１〜３のいずれか一項に記載のＡＦＰ機（１００；２００）。
【請求項５】
前記円形カッターブレード（３７０）は、前記カッターロッカーアーム（３６８）に取り外し可能に結合される請求項１〜４のいずれか一項に記載のＡＦＰ機（１００；２００）。
【請求項６】
前記基材がフラットチャージまたは略フラットチャージを備える請求項１〜５のいずれか一項に記載のＡＦＰ機（１００；２００）。
【請求項７】
複合品を作るためのコンピュータ可読命令を含むファイルにアクセスするように構成された制御ユニット（１３５）を更に備える請求項１〜６のいずれか一項に記載のＡＦＰ機（１００；２００）。
【請求項８】
複合材料が前記基材上に配置される間に前記基材を供給ヘッド（２１５）に対して操作するように構成される１つ以上の位置決め装置（１１０）を更に備える請求項１〜７のいずれか一項に記載のＡＦＰ機（１００；２００）。
【請求項９】
前記位置決め装置（２０５）は、１つ以上のＮＣ機、ロボットアーム、または、マンドレルを備える請求項８に記載のＡＦＰ機（１００；２００）。
【請求項１０】
請求項１に記載のＡＦＰ機（１００；２００）を使用して基材上に複合材料の経路を配置する方法において、
送りピストン（３６０Ｃ）を伸長させてピンチローラ（３７４）を送りローラ（３８２Ａ，３８２Ｂ）と接触させ、それにより、トウガイドチャネル（３５８）に沿って複合材料のトウ（２１０）が前記ピンチローラ（３７４）と前記送りローラ（３８２Ａ，３８２Ｂ）との間で引張られるようにすることによって、供給ヘッドを通じて複合材料の１つ以上のトウを送るステップと、
カッター伸長ピストン（３６０Ｄ）を伸長させるとともにカッター引き込みピストン（３６０Ａ）を引き込み、それにより、カッターロッカーアーム（３６８）を１つの軸（３７６Ａ）周りに回転させて、前記円形カッターブレード（３７０）を前記トウガイドチャネル（３５８）を貫いて下降させることによって、前記複合材料のトウ（２１０）を所望の長さに切断するステップと、
カッター引き込みピストン（３６０Ａ）を伸長させるとともにカッター伸長ピストン（３６０Ｄ）を引き込み、それにより、カッターロッカーアーム（３６８）を１つの軸（３７６Ａ）周りに回転させて、前記円形カッターブレード（３７０）を前記トウガイドチャネル（３５８）から引き上げることによって、前記円形カッターブレード（３７０）を引き込むステップと、
を備える方法。
【請求項１１】
新たな切断縁を提供するために前記円形カッターブレード（３７０）を回転させるステップを更に備える請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記円形カッターブレード（３７０）が下げられるとほぼ同時にクランプピストン（３６０Ｂ）を伸長させることによって前記複合材料のトウ（２１０）を前記トウガイドチャネル（３５８）内の所定位置でクランプするステップを更に備える請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ピストンを伸長させるステップは、Ｖ字形ブロック（３５０）内に形成される通路（３６４）を通じて空気圧を前記ピストン（３６０Ａ，３６０Ｂ，３６０Ｃ，３６０Ｄ）へ供給するステップを備える請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記基材がフラットチャージまたは略フラットチャージを備える請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月29日(2016.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液滴を吐出する複数のノズル孔と、該複数のノズル孔とそれぞれ連通する複数の加圧液室と、該加圧液室の一壁面を形成する振動板と、該振動板を介して該加圧液室内の液体を昇圧するエネルギーを発生するアクチュエータ手段と、該複数の加圧液室に液体を供給する共通液室と、該共通液室と該加圧液室との間の流路に配置された複数の供給孔を有するフィルタ部とを備えた液滴吐出ヘッドにおいて、
上記フィルタ部を通過した液体が上記加圧液室に向かう流れの方向に関して、該フィルタ部の流体抵抗が単調に変化することを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項２】
請求項１の液滴吐出ヘッドにおいて、上記液体が加圧液室に向かう流れの方向に関して、上記フィルタ部の上流部の流体抵抗が下流部の流体抵抗に比べて小さいことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項３】
請求項１または２の液滴吐出ヘッドにおいて、上記フィルタ部の複数の供給孔の断面積を変化させることにより該フィルタ部の流体抵抗を変化させることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項４】
請求項１または２の液滴吐出ヘッドにおいて、上記フィルタ部の複数の供給孔の配置密度を変化させることにより該フィルタ部の流体抵抗を変化させることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項５】
請求項３の液滴吐出ヘッドにおいて、上記フィルタ部の複数の供給孔は楕円形状の断面を有しており、該楕円形状の長軸の長さが変化させることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れかの液滴吐出ヘッドにおいて、上記アクチュエータ手段は上記振動板上に形成した圧電素子であり、上記フィルタ部は該振動板に誘導結合型プラズマ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａｓ：ＩＣＰ）ドライエッチングにより複数の供給孔を形成した振動板フィルタであることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項７】
媒体を搬送しながら、液滴吐出手段により吐出した液滴を該媒体に付着させて画像形成を行う画像形成装置において、
上記液滴吐出手段として請求項１乃至６の何れかの液滴吐出ヘッドを採用したことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月26日(2017.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
壁を有し、第１の位置と第２の位置との間で移動可能なレッジを含む中空部材と、
前記壁の内部表面上に材料を射出することができるように前記中空部材内に装着される第１の印字ヘッドと、
前記中空部材の前記壁を前記第１の印字ヘッドの周りに回転させるように前記中空部材に動作可能に接続される第１のドライバと、
前記第１の印字ヘッドおよび前記第１のドライバに動作可能に接続されるコントローラと、を備え、
前記コントローラは、前記中空部材を回転させるために前記第１のドライバを動作させるように、および、前記壁の前記内部表面上へ材料を射出し、前記壁が前記第１の印字ヘッドの周りを回転するにつれて前記壁の上に材料層を構築するために前記第１の印字ヘッドを動作させるように構成され、
前記コントローラは、重力によって、前記壁の上の前記材料層が前記中空部材に対して相対的に移動可能なように、前記中空部材の回転を調整するように構成され、
前記第１の位置にある前記レッジは、前記重力によって、前記壁の上の前記材料層が前記中空部材に対して相対的に移動するのを防止し、前記第２の位置にある前記レッジは、
前記重力によって、前記壁の上の前記材料層が前記中空部材に対して相対的に移動することを可能にする、
ことを特徴とする３次元プリンタ。
【請求項２】
前記中空部材の前記壁に対して前記第１の印字ヘッドを動かすように前記第１の印字ヘッドに動作可能に接続される第２のドライバをさらに備え、前記コントローラが、前記第２のドライバに動作可能に接続され、前記第１の印字ヘッドを第１の位置から第２の位置まで動かすために前記第２のドライバを動作させるようにさらに構成される、請求項１に記載の３次元プリンタ。
【請求項３】
前記第２のドライバが、前記第１の印字ヘッドを前記中空部材の前記壁に対して垂直な方向に前記第１の位置から前記第２の位置まで動かすようにさらに構成される、請求項２に記載の３次元プリンタ。
【請求項４】
前記コントローラが、（ｉ）前記中空部材の回転中の連続的な運動および（ｉｉ）前記中空部材の１つもしくは複数の回転の後の少なくとも１つの個別的な運動のうちの１つ以上の運動で、前記第１の印字ヘッドを前記第１の位置から前記第２の位置まで動かすために前記第２のドライバを動作させるようにさらに構成される、請求項３に記載の３次元プリンタ。
【請求項５】
センサと前記中空部材の前記内部表面から最も遠い射出された材料層との間のギャップの距離に対応する信号を生成するように構成される前記センサをさらに備え、前記コントローラは前記センサに動作可能に接続され、前記コントローラが、
前記センサによって生成された前記信号を参照して、前記センサから、前記中空部材の前記内部表面から最も遠い射出された前記材料層までの距離を特定するように、および、
前記特定された距離を参照して、前記中空部材の前記内部表面に対して垂直な方向に前記第１の印字ヘッドを動かし、前記第１の印字ヘッドと前記中空部材の前記内部表面から最も遠い射出された前記材料層との間の所定のギャップを保持するために、前記第２のドライバを動作させるように、さらに構成される、請求項２に記載の３次元プリンタ。
【請求項６】
前記第２のドライバが、前記中空部材の前記壁に対して平行な方向に前記第１の位置から前記第２の位置まで前記第１の印字ヘッドを動かすようにさらに構成される、請求項２に記載の３次元プリンタ。
【請求項７】
前記コントローラが、（ｉ）前記中空部材の回転中の連続的な運動および（ｉｉ）前記中空部材の１つもしくは複数の回転の後の少なくとも１つの個別的な運動のうちの１つ以上の運動で、前記第１の印字ヘッドを前記第１の位置から前記第２の位置まで動かすために前記第２のドライバを動作させるようにさらに構成される、請求項６に記載の３次元プリンタ。
【請求項８】
前記中空部材の前記壁が、前記ドライバが前記中空部材を回転させる軸に対して平行な角度を形成する、請求項１に記載の３次元プリンタ。
【請求項９】
前記中空部材の前記壁が、前記第１のドライバが前記中空部材を回転させる軸に対して傾斜した角度を形成する、請求項１に記載の３次元プリンタ。
【請求項１０】
前記中空部材に動作可能に接続される位置エンコーダであって、前記位置エンコーダが、前記中空部材の回転位置の関数として交流信号を生成するように構成され、前記コントローラが、前記位置エンコーダに動作可能に接続され、前記コントローラが、
所定の期間に生成される前記交流信号のいくつかの整数周期および分数周期を合計し、前記所定の期間の前記交流信号の整数周期および分数周期を参照して、前記中空部材の回転速度を特定し、
前記交流信号の前記整数周期および分数周期ならびに変換係数を参照して、前記中空部材の位置を特定し、
前記中空部材の前記特定された回転速度および前記特定された位置を参照して、前記壁の前記内部表面上へ前記材料を射出するために、前記第１の印字ヘッドを動作させるようにさらに構成される、請求項１に記載の３次元プリンタ。
【請求項１１】
前記コントローラは、さらに、前記特定された回転速度および前記特定された中空部材の位置を参照して、前記中空部材の回転を調整するように構成される、請求項１０に記載の３次元プリンタ。
【請求項１２】
前記壁の前記内部表面上に材料を射出することができるように前記中空部材内に装着される第２の印字ヘッドをさらに備え、
前記コントローラは、前記第２の印字ヘッドに動作可能に接続され、前記壁の前記内部表面上へ材料を射出するように前記第２の印字ヘッドを動作させるように構成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の３次元プリンタ。
【請求項１３】
前記第２の印字ヘッドは、前記第１の印字ヘッドから、前記中空部材の回転によって定義される周方向に離間して配置されている、請求項１２に記載の３次元プリンタ。
【請求項１４】
前記第２の印字ヘッドは、前記第１の印字ヘッドと前記第２の印字ヘッドが前記壁の回転方向に対して垂直な方向に延びるように、前記第１の印字ヘッドに隣接して配置される、請求項１２に記載の３次元プリンタ。
【請求項１５】
前記コントローラは、さらに、前記中空部材の前記内部表面上に射出された前記材料層が硬化可能なように、前記中空部材の１回転以上の回転後に前記中空部材の前記内部表面上に材料を射出することで、前記第１の印字ヘッドを選択的に動作させるように構成される、請求項１に記載の３次元プリンタ。