Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月16日(2016.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチスクリーンを有する装置に文字を入力する方法であって、
複数のキーを含む基本キーパッドをタッチスクリーンに表示する工程と、
前記基本キーパッドの一番目のキーに印加される一番目のタッチ入力を受ける工程と、
前記一番目のキーに印加される前記一番目のタッチ入力が所定時間押されたか否かを感知する工程と、
前記一番目のキー印加される一番目のタッチ入力が所定時間押された時に、複数のキーを含むポップアップされたキー配列を前記タッチスクリーンに表示する工程と、
前記ポップアップされたキー配列の二番目のキーに印加される二番目のタッチ入力を受ける工程と、
前記二番目のキーに印加される二番目のタッチ入力が解除されたか否かを感知する工程と、
前記一番目のキーと前記二番目のキーとの組み合わせに対応する拡張文字を出力する工程と、を含み、
前記基本キーパッドの複数のキーそれぞれは基本文字を有し、
前記ポップアップされたキー配列の前記複数のキーは拡張キーを有し、
前記二番目のタッチ入力はドラッグタッチ入力であり、
前記ポップアップされたキー配列は、前記基本キーパッドを切り替えるのではなく、一番目のキーの周囲にポップアップすることを特徴とする、
タッチスクリーンを有する装置に文字を入力する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月25日(2017.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェブサーバが提供するクラウドコンピューティングによる会計処理を行うための会計処理装置であって、前記ウェブサーバは、
クレジットカードのウェブ明細データを取引ごとに識別し、
各取引を、前記各取引の取引内容の記載に基づいて、前記取引内容の記載に含まれうるキーワードと勘定科目との対応づけを参照して、特定の勘定科目に自動的に仕訳し、
前記仕訳は、前記各取引の取引内容の記載に複数のキーワードが含まれる場合に、いずれか１つのキーワードにより行われることを特徴とする会計処理装置。
【請求項２】
前記仕訳は、複数のキーワードが含まれる場合に文字数の長いキーワードを採用して行うことを特徴とする請求項１に記載の会計処理装置。
【請求項３】
前記複数の種類のウェブ明細データは、日付順に前記仕訳処理画面に表示されることを特徴とする請求項１又は２に記載の会計処理装置。
【請求項４】
前記各取引の取引内容の記載に複数のキーワードが含まれる場合に、品目、取引先の順に優先順位をつけることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の会計処理装置。
【請求項５】
前記ウェブ明細データをインターネット上から自動的に取得するウェブ明細データ取得部をさらに備えることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の会計処理装置。
【請求項６】
ウェブサーバが提供するクラウドコンピューティングによる会計処理を行うための会計処理方法であって、
前記ウェブサーバが、クレジットカードのウェブ明細データを取引ごとに識別するステップと、
前記ウェブサーバが、各取引を、前記各取引の取引内容の記載に基づいて、前記取引内容の記載に含まれうるキーワードと勘定科目との対応づけを参照して、特定の勘定科目に自動的に仕訳するステップと
を含み、
前記仕訳は、前記各取引の取引内容の記載に複数のキーワードが含まれる場合に、いずれか１つのキーワードにより行われることを特徴とする会計処理方法。
【請求項７】
前記仕訳は、複数のキーワードが含まれる場合に文字数の長いキーワードを採用して行うことを特徴とする請求項６に記載の会計処理方法。
【請求項８】
前記複数の種類のウェブ明細データは、日付順に前記仕訳処理画面に表示されることを特徴とする請求項６又は７に記載の会計処理方法。
【請求項９】
前記各取引の取引内容の記載に複数のキーワードが含まれる場合に、品目、取引先の順に優先順位をつけることを特徴とする請求項６から８のいずれかに記載の会計処理方法。
【請求項１０】
前記ウェブ明細データをインターネット上から自動的に取得することを特徴とする請求項６から９のいずれかに記載の会計処理方法。
【請求項１１】
ウェブサーバが提供するクラウドコンピューティングによる会計処理を行うための会計処理プログラムであって、前記ウェブサーバに、
クレジットカードのウェブ明細データを取引ごとに識別するステップと、
各取引を、前記各取引の取引内容の記載に基づいて、前記取引内容の記載に含まれうるキーワードと勘定科目との対応づけを参照して、特定の勘定科目に自動的に仕訳するステップと
を含み、
前記仕訳は、前記各取引の取引内容の記載に複数のキーワードが含まれる場合にいずれか１つのキーワードを優先して行われることを特徴とする方法を実行させるための会計処理プログラム。
【請求項１２】
前記仕訳は、複数のキーワードが含まれる場合に文字数の長いキーワードを採用して行うことを特徴とする請求項１１に記載の会計処理プログラム。
【請求項１３】
前記複数の種類のウェブ明細データは、日付順に前記仕訳処理画面に表示されることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の会計処理プログラム。
【請求項１４】
前記各取引の取引内容の記載に複数のキーワードが含まれる場合に、品目、取引先の順に優先順位をつけることを特徴とする請求項１１から１３のいずれかに記載の会計処理プログラム。
【請求項１５】
前記ウェブ明細データをインターネット上から自動的に取得することを特徴とする請求項１１から１４のいずれかに記載の会計処理プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月12日(2017.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェブサーバにおけるクラウドコンピューティングによる会計処理を行うための会計処理装置であって、前記ウェブサーバは、
ウェブ明細データを取引ごとに識別し、
各取引を、前記各取引の取引内容の記載に含まれるキーワードに基づいてラーンド・データベースを参照して、特定の勘定科目に自動的に仕訳することを特徴とする会計処理装置。
【請求項２】
ウェブサーバが提供するクラウドコンピューティングによる会計処理を行うための会計処理方法であって、
前記ウェブサーバが、ウェブ明細データを取引ごとに識別するステップと、
前記ウェブサーバが、各取引を、前記各取引の取引内容の記載に含まれるキーワードに基づいてラーンド・データベースを参照して、特定の勘定科目に自動的に仕訳するステップと
を含むことを特徴とする会計処理方法。
【請求項３】
ウェブサーバが提供するクラウドコンピューティングによる会計処理を行うための会計処理プログラムであって、前記ウェブサーバに、
ウェブ明細データを取引ごとに識別するステップと、
各取引を、前記各取引の取引内容の記載に含まれるキーワード基づいてラーンド・データベースを参照して、特定の勘定科目に自動的に仕訳するステップと
を含むことを特徴とする方法を実行させるための会計処理プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月1日(2017.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記特許文献１の加工方法においては、予め外部装置等で各切れ刃の振れ量を計測しておかなければならないため、作業に手間が掛かる、工作機械の制御装置とは別に外部装置が必要になる、といった課題があった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
次に、加工方向と制御軸方向とに着目した場合、両者は必ずしも図７のように一致するとは限らないため、切削負荷の変動検出及び補正にズレが生じるおそれがある。
そこで、図１０に示す第３変更例のように振れ量補正器７１を構成すると、加工方向と制御軸方向とが異なる場合でも、適切に切削負荷を平準化することができる。
この振れ量補正器７１は、ピーク検出部７２と、増減分推定部３３と、振れ量推定部３４と、補正量決定部６５とを備える。図９の振れ量補正器６１と異なるのは、振れ量補正器６１のピーク検出部３２には、１つの軸の参照信号refを入力していたのに対し、ここでのピーク検出部７２には、第１軸の参照信号ref_1と、第２軸の参照信号ref_2との複数の参照信号が入力され、制御軸構成に基づき内部で両信号を合成し、加工方向成分、或いは直交方向成分に相当する合成信号を算出する点及び、この合成信号に対して各切れ刃の影響で現れる波形のピークを各切れ刃と対応付けて検出する点である。
なお、ここで入力となる参照信号は２軸に限定する必要はなく、機械構成に応じて適宜追加することも可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月20日(2017.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランジスタと、
前記トランジスタ上方の第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層上方の電極と、
前記電極上方の第２の絶縁層と、
前記第２の絶縁層上方の画素電極と、を有し、
前記電極は、可視光を反射する機能を有し、
前記画素電極は、前記トランジスタと電気的に接続されている表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
第３の絶縁層を有し、
前記第３の絶縁層は、前記画素電極の側面と接する領域と、前記反射電極層と重なる領域と、を有する表示装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記画素電極は、端部に向かって表面が徐々に高くなる領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一の表示装置の作製方法であって、
前記第２の絶縁層の作製工程は、絶縁層をエッチングして除去する工程を有することを特徴とする表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月23日(2017.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の第１の電極と、
前記第１の電極上の絶縁膜と、
前記絶縁膜上の第２の電極と、
前記第２の電極上の液晶層と、
前記第１の電極又は前記第２の電極と電気的に接続されたトランジスタと、を有し、
前記液晶の配向は、前記第１の電極と前記第２の電極との間の電界によって制御されることを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月24日(2017.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録材に画像形成する画像形成装置に装着可能なドラム支持部材であって、
感光ドラムと、
前記感光ドラムを回転可能に支持する枠体と、
前記枠体に設けられ、現像ローラを備える現像カートリッジを取り外し可能に装着する装着部と、
前記現像カートリッジに接触し、第１位置と第２位置との間を移動可能な接触部材と、
前記接触部材を付勢する弾性部材と、
を有し、
前記現像カートリッジが、前記装着部に装着されて前記現像ローラと前記感光ドラムとが接触する第３位置にある時、前記接触部材は前記第１位置で前記現像カートリッジと接触し、
前記現像カートリッジが、前記第３位置とは異なる位置であって、前記装着部から取り外し可能な第４位置にある時、前記第２位置にあって前記弾性部材に付勢された前記接触部材が前記現像カートリッジに接触することで、前記現像カートリッジが前記第４位置から前記第３位置へ移動することを規制されていることを特徴とするドラム支持部材。
【請求項２】
前記接触部材と前記弾性部材は、前記枠体の長手方向両端部にそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項１に記載のドラム支持部材。
【請求項３】
前記接触部材は前記現像カートリッジに設けられた突起に接触することを特徴とする請求項１又は２に記載のドラム支持部材。
【請求項４】
前記突起は前記現像ローラの長手方向に突出する突起であることを特徴とする請求項３に記載のドラム支持部材。
【請求項５】
前記枠体を前記感光ドラムの軸線に交差する方向に挿入することで前記画像形成装置に装着されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のドラム支持部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、画像形成装置に装着可能なドラム支持部材に関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の目的は、感光体ドラムと現像ユニットを装着した引き出し部材を装置本体内に装着する画像形成装置において、感光体ドラムと現像ローラとが接離可能で、且つ各部材の劣化を抑制できるドラム支持部材を提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
すなわち、本発明のドラム支持部材は、
記録材に画像形成する画像形成装置に装着可能なドラム支持部材であって、
感光ドラムと、
前記感光ドラムを回転可能に支持する枠体と、
前記枠体に設けられ、現像ローラを備える現像カートリッジを取り外し可能に装着する装着部と、
前記現像カートリッジに接触し、第１位置と第２位置との間を移動可能な接触部材と、
前記接触部材を付勢する弾性部材と、
を有し、
前記現像カートリッジが、前記装着部に装着されて前記現像ローラと前記感光ドラムとが接触する第３位置にある時、前記接触部材は前記第１位置で前記現像カートリッジと接触し、
前記現像カートリッジが、前記第３位置とは異なる位置であって、前記装着部から取り外し可能な第４位置にある時、前記第２位置にあって前記弾性部材に付勢された前記接触部材が前記現像カートリッジに接触することで、前記現像カートリッジが前記第４位置から前記第３位置へ移動することを規制されていることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
以上説明したように、本発明によれば、感光体ドラムと現像ユニットを装着した引き出し部材を装置本体内に装着する画像形成装置において、感光体ドラムと現像ローラとが接触離間可能で、且つ各部材の劣化を抑制できる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月5日(2017.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
体積基準の粒子径のＣＶ値が式２を満たすと共に、体積基準の累積９０％粒子径を体積基準の累積５０％粒子径で除した値Ｂが式４を満たしていることを特徴とするアクリル系樹脂粒子。
３０％≦体積基準の粒子径のＣＶ値≦４０％  ・・・式２
１．１≦Ｂ≦１．６  ・・・式４
【請求項２】
体積基準の累積１０％粒子径を個数基準の累積１０％粒子径で除した値α、体積基準の累積５０％粒子径を個数基準の累積５０％粒子径で除した値γ、及び、体積基準の累積９０％粒子径を個数基準の累積９０％粒子径で除した値ηが下記式１を満していることを特徴とする請求項１に記載のアクリル系樹脂粒子。
α＞γ＞η  ・・・式１
【請求項３】
体積基準の累積１０％粒子径を体積基準の累積５０％粒子径で除した値Ａが式３を満たしていることを特徴とする請求項１に記載のアクリル系樹脂粒子。
Ａ≦０．７５  ・・・式３
【請求項４】
体積基準の累積１０％粒子径を個数基準の累積１０％粒子径で除した値α、体積基準の累積５０％粒子径を個数基準の累積５０％粒子径で除した値γ、及び、体積基準の累積９０％粒子径を個数基準の累積９０％粒子径で除した値ηが下記式１を満し且つ体積基準の粒子径のＣＶ値が式２を満たすと共に、体積基準の累積１０％粒子径を体積基準の累積５０％粒子径で除した値Ａが式３を満たしていることを特徴とするアクリル系樹脂粒子。
α＞γ＞η  ・・・式１
３０％≦体積基準の粒子径のＣＶ値≦４０％  ・・・式２
Ａ≦０．７５  ・・・式３
【請求項５】
体積基準の累積１０％粒子径を個数基準の累積１０％粒子径で除した値α、体積基準の累積５０％粒子径を個数基準の累積５０％粒子径で除した値γ、及び、体積基準の累積９０％粒子径を個数基準の累積９０％粒子径で除した値ηが下記式１を満たすと共に、体積基準の累積１０％粒子径を体積基準の累積５０％粒子径で除した値Ａが式３を満たし且つ体積基準の累積９０％粒子径を体積基準の累積５０％粒子径で除した値Ｂが式４を満たしていることを特徴とするアクリル系樹脂粒子。
α＞γ＞η  ・・・式１
Ａ≦０．７５  ・・・式３
１．１≦Ｂ≦１．６  ・・・式４
【請求項６】
体積基準の累積２５％粒子径を個数基準の累積２５％粒子径で除した値β及び体積基準の累積７５％粒子径を個数基準の累積７５％粒子径で除した値δが下記式５を満たしていることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載のアクリル系樹脂粒子。
α＞β＞γ＞δ＞η  ・・・式５
【請求項７】
体積基準の累積２５％粒子径を体積基準の累積５０％粒子径で除した値Ｃが式６を満たし且つ体積基準の累積７５％粒子径を体積基準の累積５０％粒子径で除した値Ｄが式７を満たしていることを特徴とする請求項１〜６の何れか1項に記載のアクリル系樹脂粒子。
Ｃ≦０．８５  ・・・式６
１．１≦Ｄ≦１．４  ・・・式７
【請求項８】
体積基準の累積５０％粒子径が１〜５０μｍであることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載のアクリル系樹脂粒子。
【請求項９】
メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート及びイソブチルメタクリレートから選ばれた少なくとも一つのモノマーを含むアクリル系モノマーの重合体であることを特徴とする請求項１〜８の何れか１項に記載のアクリル系樹脂粒子。
【請求項１０】
アクリル系モノマーは、ビニル基を複数個有する多官能モノマーを含むことを特徴とする請求項９に記載のアクリル系樹脂粒子。
【請求項１１】
アクリル系樹脂粒子は分級したものであることを特徴とする請求項１〜１０の何れか１項に記載のアクリル系樹脂粒子。
【請求項１２】
艶消し塗料用の粒子であることを特徴とする請求項１〜１１の何れか１項に記載のアクリル系樹脂粒子。
【請求項１３】
建築物の外装塗料用の粒子であることを特徴とする請求項１〜１１の何れか１項に記載のアクリル系樹脂粒子。
【請求項１４】
光学材料用の粒子であることを特徴とする請求項１〜１１の何れか１項に記載のアクリル系樹脂粒子。
【請求項１５】
請求項１〜１１の何れか１項に記載のアクリル系樹脂粒子とバインダー樹脂とを含むことを特徴とする塗料組成物。
【請求項１６】
基材上に光拡散層が積層一体化されてなる光学材料であって、上記光拡散層は、請求項１〜１１の何れか１項に記載のアクリル系樹脂粒子とバインダー樹脂とを含むことを特徴とする光学材料。
【請求項１７】
光学材料が光拡散シートであることを特徴とする請求項１６に記載の光学材料。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月15日(2017.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
地図訂正データを配信する方法であって、
サーバにおいて、複数の遠隔のポータブルナビゲーション装置からユーザにより生成された地図訂正データを受信するステップと、
前記サーバにおいて、受信された地図訂正データを収集し、前記収集された地図訂正データを、少なくとも、各受信された地図訂正データの情報源である前記ユーザによるコミュニティカテゴリ選択に基づいて、複数のコミュニティカテゴリへ分類するステップと、各コミュニティカテゴリは、それぞれのコミュニティ内のユーザに適用可能な地図訂正データを備えており、前記複数のコミュニティカテゴリは移動手段のカテゴリを含み、
前記サーバにおいて、少なくとも１つの遠隔のポータブルナビゲーション装置からコミュニティカテゴリの選択を受信するステップと、
前記サーバにおいて、前記選択されたコミュニティカテゴリに属する地図訂正データを前記少なくとも１つのポータブルナビゲーション装置へ無線データ接続を介して配信するステップと、
領域の地図データに関連する新しい地図の公開を複数の遠隔のポータブルナビゲーション装置へ送信するステップと、を有し、前記新しい地図の公開は、前記地図訂正データに関連する前記領域が前記新しい地図の公開において変化している場合に、少なくとも１つのポータブルナビゲーション装置において前記領域の地図訂正データを自動的に除去させる方法。
【請求項２】
前記受信された地図訂正データを収集するステップは、受信した地図訂正データを、少なくとも各受信された地図訂正データの情報源であるユーザの信頼性に基づいて解析および収集し、一つ以上の有効な地図訂正データを得ることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記選択されたコミュニティカテゴリに属する前記地図訂正データを前記ポータブルナビゲーション装置に格納するステップを更に含む請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記地図訂正データは地図データから独立して前記ポータブルナビゲーション装置に格納される請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記収集された地図訂正データは、更に、少なくとも各受信された地図訂正データの情報源であるユーザに基づいて、承認されたカテゴリ、信頼ユーザカテゴリ、複数ユーザカテゴリ及び単独ユーザカテゴリのうち少なくとも１つへ分類される請求項１から４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
地図訂正データを配信するサーバシステムであって、
複数の遠隔のポータブルナビゲーション装置からユーザにより生成された地図訂正データを受信する手段と、
前記受信された地図訂正データを収集し、前記収集された地図訂正データを、少なくとも、各受信された地図訂正データの情報源である前記ユーザによるコミュニティカテゴリ選択に基づいて、複数のコミュニティカテゴリへ分類する手段と、各コミュニティカテゴリは、それぞれのコミュニティ内のユーザに適用可能な地図訂正データを備え、前記複数のコミュニティカテゴリは移動手段のカテゴリを含み、
少なくとも１つの遠隔のポータブルナビゲーション装置からコミュニティカテゴリの選択を受信する手段と、
前記選択されたコミュニティカテゴリに属する地図訂正データを前記少なくとも１つのポータブルナビゲーション装置へ無線データ接続を介して配信する手段と、
領域の地図データに関連する新しい地図の公開を前記複数の遠隔のポータブルナビゲーション装置へ送信する手段と、を備え、前記新しい地図の公開は、前記地図訂正データに関連する前記領域が前記新しい地図の公開において変化している場合に、少なくとも１つのポータブルナビゲーション装置において前記領域の地図訂正データを自動的に除去させるサーバシステム。
【請求項７】
前記受信された地図訂正データを収集する手段は、受信した地図訂正データを、少なくとも各受信された地図訂正データの情報源であるユーザの信頼性に基づいて解析および収集し、一つ以上の有効な地図訂正データを得る手段を含む、請求項６に記載のサーバシステム。
【請求項８】
前記選択されたコミュニティカテゴリに属する前記地図訂正データを前記ポータブルナビゲーション装置に格納する手段を更に具備する請求項６または７に記載のサーバシステム。
【請求項９】
前記地図訂正データは地図データから独立して前記ポータブルナビゲーション装置に格納される請求項８に記載のサーバシステム。
【請求項１０】
受信された地図訂正データを収集し、収集された地図訂正データをカテゴリへ分類する前記手段は、前記収集された地図訂正データを、更に、少なくとも各受信された地図訂正データの情報源であるユーザに基づいて、承認されたカテゴリ、信頼ユーザカテゴリ、複数ユーザカテゴリ及び単独ユーザカテゴリのうち少なくとも１つへ分類する請求項６から９のいずれか１項に記載のサーバシステム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年7月14日(2017.7.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項６】
前記第２のモノマーが、以下の一般式（ＩＩ）のものであり、
【化２】
2017016104.tif 000001
式中、Ｒ３が、水素及びＣ１〜Ｃ３アルキルまたはハロアルキルから選択され、Ａｒが、任意に置換された芳香族基から選択され、Ｚ１が、単結合またはスペーサー単位であり、該スペーサー単位が、任意に置換された脂肪族基及び芳香族基ならびにそれらの組み合わせから選択され、かつ任意に、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、及び−ＯＣ（Ｏ）−から選択される１つ以上の結合部分を含む、請求項５に記載の前記パターン処理組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１１】
パターン処理法であって、
（ａ）表面にパターン形成された特徴部を備える半導体基板を提供することと、
（ｂ）請求項１〜１０のいずれか一項に記載のパターン処理組成物を前記パターン形成された特徴部に塗布することと、
（ｃ）残留パターン処理組成物を前記基板からすすいで、前記パターン形成された特徴部に結合した前記ブロックコポリマーを残すことと、
（ｄ）エッチングマスクとして前記パターン形成された特徴部及び前記結合したブロックコポリマーを用いて前記パターン形成された特徴部の下にある層をエッチングすることと、を含む、前記パターン処理法。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
本発明のさらなる態様に従って、パターン処理法が提供される。本方法は、（ａ）表面上にパターン形成された特徴部を備える半導体基板を提供することと、（ｂ）本明細書に記載のパターン処理組成物をパターン形成された特徴部に塗布することと、（ｃ）残留パターン処理組成物を基板からすすいで、パターン形成された特徴部に結合した第１のポリマーの一部を残すこととを含む。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
式中、Ｒ３が、水素及びＣ１〜Ｃ３アルキルまたはハロアルキル、例えば、フルオロアルキル、クロロアルキル、ヨードアルキル、またはブロモアルキルから選択され、Ａｒが、任意に置換された芳香族基、例えば、任意に置換されたＣ５〜Ｃ２５、Ｃ５〜Ｃ１５、またはＣ５〜Ｃ１０アリール、例えば、任意に置換されたベンジル、フェニル、ビフェニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントレニル、キリシル、ピリル、ベンゾ［ａ］ピリル、ピリジル、クメニル、メシチル、トリル、キシリル、及びそれらの誘導体から選択され、Ｚ１が、単結合またはスペーサー単位であり、該スペーサー単位が、任意に置換された脂肪族基及び芳香族基ならびにそれらの組み合わせから選択され、かつ任意に、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、及び−ＯＣ（Ｏ）−から選択される１つ以上の結合部分を含む。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６０】
図１Ａは、様々な層及び特徴部を含み得る基板１００の断面を示す。基板は、半導体、例えば、シリコンまたは化合物半導体（例えば、ＩＩＩ−ＶまたはＩＩ−ＶＩ）、ガラス、石英、セラミック、銅等の材料のものである。典型的には、基板は、単結晶シリコンまたは化合物半導体ウエハ等の半導体ウエハであり、その表面上に形成された１つ以上の層及びパターン形成された特徴部を有し得る。パターン形成される１つ以上の層１０２が基板１００上に提供される。任意に、例えば、基板材料内での溝の形成が所望される場合に、下位のベース基板材料自体がパターン形成され得る。ベース基板材料自体をパターン形成する場合、パターンは、基板の層内に形成されると見なされるべきである。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月29日(2017.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正極活物質層が正極集電体に配置された正極と、
負極活物質層が負極集電体に配置された負極と、
セパレータと、
電解液と、
を含む発電要素を、外装体内部に含むリチウムイオン二次電池であって、
該正極活物質層が、リチウム・ニッケル系複合酸化物を正極活物質として含み、
該正極が、該正極活物質の重量に対して１％未満の残留アルカリ成分を含み、
該電解液が添加剤を含有し、該電解液が、第１添加剤として、不飽和結合を有する環状カーボネート添加剤を含み、
該リチウムイオン二次電池の初期充放電後に、該添加剤の総モル量を１００としたときの該不飽和結合を有する環状カーボネート添加剤のモル比率が７８％以下である
ことを特徴とする、前記リチウムイオン二次電池。
【請求項２】
該電解液が、該添加剤の総モル量を１００としたときの不飽和結合を有する環状カーボネート添加剤のモル比率が６３％以下である、請求項１に記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項３】
該正極活物質の重量に対して０．２％以下のアルカリ成分を含む、請求項１または２に記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項４】
該不飽和結合を有する環状カーボネート添加剤がビニレンカーボネートである、請求項１〜３のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項５】
該正極活物質層が、一般式ＬｉｘＮｉｙＣｏｚＭｎ（１−ｙ−ｚ）Ｏ２（式中、ｘは１≦ｘ≦１．２であり、ｙおよびｚはｙ＋ｚ＜１を満たす正の数であり、ｙの値が０．５以下である。）で表される層状結晶構造を有するリチウムニッケルマンガンコバルト複合酸化物を正極活物質として含む、請求項１〜４のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項６】
該正極が、該正極活物質であるリチウム・ニッケル系複合酸化物の重量に対して４００ｐｐｍ以下の水を含有する、請求項１〜５のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項７】
該電解液が、第２添加剤として、メチレンメタンジスルホン酸エステルを含有する、請求項１〜６のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
負極活物質層に用いられるバインダーとして、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）等のフッ素樹脂、ポリアニリン類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリピロール類等の導電性ポリマー、スチレンブタジエンラバー（ＳＢＲ）、ブタジエンラバー（ＢＲ）、クロロプレンラバー（ＣＲ）、イソプレンラバー（ＩＲ）、アクリロニトリルブタジエンラバー（ＮＢＲ）等の合成ゴム、あるいはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、キサンタンガム、グアーガム、ペクチン等の多糖類を用いることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
正極活物質層に用いられるバインダーとして、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）等のフッ素樹脂、ポリアニリン類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリピロール類等の導電性ポリマー、スチレンブタジエンラバー（ＳＢＲ）、ブタジエンラバー（ＢＲ）、クロロプレンラバー（ＣＲ）、イソプレンラバー（ＩＲ）、アクリロニトリルブタジエンラバー（ＮＢＲ）等の合成ゴム、あるいはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、キサンタンガム、グアーガム、ペクチン等の多糖類を用いることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月29日(2017.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正極活物質層が正極集電体に配置された正極と、
負極活物質層が負極集電体に配置された負極と、
セパレータと、
含硫黄添加剤を含む電解液と、
を含む発電要素を、外装体内部に含むリチウムイオン二次電池であって、
該セパレータが、オレフィン系樹脂層と、少なくともアルミナおよびベーマイトからなる群より選択される耐熱性微粒子層とを有し、該リチウムイオン二次電池の初期充放電を行った後に、該セパレータの重量に対して０．０２〜０．１１重量％の硫黄が該セパレータに吸着されている、前記リチウムイオン二次電池。
【請求項２】
該耐熱性微粒子層が、アルミナを含み、該アルミナが、α−アルミナ、β−アルミナまたはγ−アルミナである、請求項１に記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項３】
該セパレータに吸着された該硫黄が該耐熱性微粒子層中に含有されている、請求項１または２に記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項４】
正極活物質層が一般式ＬｉｘＮｉｙＣｏｚＭｎ（１−ｙ−ｚ）Ｏ２（ここで、式中のｘは１≦ｘ≦１．２であり、ｙおよびｚはｙ＋ｚ＜１を満たす正の数であり、ｙの値が０．５以下である。）で表される層状結晶構造を有するリチウムニッケルコバルトマンガン複合酸化物を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載のリチウムイオン二次電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
負極活物質層に用いられるバインダーとして、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）等のフッ素樹脂、ポリアニリン類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリピロール類等の導電性ポリマー、スチレンブタジエンラバー（ＳＢＲ）、ブタジエンラバー（ＢＲ）、クロロプレンラバー（ＣＲ）、イソプレンラバー（ＩＲ）、アクリロニトリルブタジエンラバー（ＮＢＲ）等の合成ゴム、あるいはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、キサンタンガム、グアーガム、ペクチン等の多糖類を用いることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
正極活物質層に用いられるバインダーとして、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）等のフッ素樹脂、ポリアニリン類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリピロール類等の導電性ポリマー、スチレンブタジエンラバー（ＳＢＲ）、ブタジエンラバー（ＢＲ）、クロロプレンラバー（ＣＲ）、イソプレンラバー（ＩＲ）、アクリロニトリルブタジエンラバー（ＮＢＲ）等の合成ゴム、あるいはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、キサンタンガム、グアーガム、ペクチン等の多糖類を用いることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月29日(2017.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正極活物質層が正極集電体に配置された正極と、
負極活物質層が負極集電体に配置された負極と、
セパレータと、
電解液と、
を含む発電要素を、外装体内部に含むリチウムイオン二次電池であって、
該電解液が、
硫黄を含む添加剤Ａと、
不飽和結合を有する、添加剤Ａとは異なる環状カーボネート添加剤Ｂおよび／または
ハロゲンを有する、添加剤ＡおよびＢとは異なる環状カーボネート添加剤Ｃと
を含み、
該リチウムイオン二次電池の初期充放電の後に、該添加剤Ａと添加剤Ｂと添加剤Ｃの合計モル量を１００としたときの該添加剤Ａのモル比率が、該添加剤Ｂのモル比率、添加剤Ｃのモル比率、または添加剤Ｂと添加剤Ｃの合計モル比率の何れかよりも小さく、
該添加剤Ａが、環状ジスルホン酸エステル化合物から選択される、前記リチウムイオン二次電池。
【請求項２】
該添加剤Ａのモル比率が、５０モル％以下である、請求項１に記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項３】
該添加剤Ｂおよび該添加剤Ｃを含む、請求項１または２に記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項４】
該環状ジスルホン酸エステル化合物が、メチレンメタンジスルホン酸エステル（ＭＭＤＳ）、エチレンメタンジスルホン酸エステル、プロピレンメタンジスルホン酸エステルからなる群より選択される、請求項１〜３のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項５】
該添加剤Ｂが、ビニレンカーボネートである、請求項１〜４のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項６】
該添加剤Ｃが、４−フルオロエチレンカーボネートである、請求項１〜５のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項７】
正極活物質層が一般式ＬｉｘＮｉｙＣｏｚＭｅ（１−ｙ−ｚ）Ｏ２（ここでＭｅは、Ａｌ、Ｍｎ、Ｎａ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃａ、Ｋ、Ｍｇ、およびＰｂからなる群より選択される、少なくとも１種以上の金属であり、式中のｘは１≦ｘ≦１．２であり、ｙおよびｚはｙ＋ｚ＜１を満たす正の数であり、ｙの値が０．５以下である。）で表される遷移金属複合酸化物を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項８】
式中、ｙ＞１−ｙ−ｚ、およびｙ＞ｚである、請求項７に記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項９】
該負極に存在する硫黄の重量が、該正極に存在する硫黄の重量よりも大きい、請求項１〜８のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項１０】
該セパレータが、オレフィン樹脂系樹脂層と耐熱性樹脂層とを含む、請求項１〜９のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池。
【請求項１１】
該負極が、負極活物質を含む負極活物質層が負極集電体に配置された負極であり、該負極活物質が、黒鉛粒子および／または非晶質炭素粒子である、請求項１〜１０のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
負極活物質層に用いられるバインダーとして、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）等のフッ素樹脂、ポリアニリン類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリピロール類等の導電性ポリマー、スチレンブタジエンラバー（ＳＲＢ）、ブタジエンラバー（ＢＲ）、クロロプレンラバー（ＣＲ）、イソプレンラバー（ＩＲ）、アクリロニトリルブタジエンラバー（ＮＢＲ）等の合成ゴム、あるいはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、キサンタンガム、グアーガム、ペクチン等の多糖類を用いることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
正極活物質層に用いられるバインダーとして、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）等のフッ素樹脂、ポリアニリン類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリピロール類等の導電性ポリマー、スチレンブタジエンラバー（ＳＲＢ）、ブタジエンラバー（ＢＲ）、クロロプレンラバー（ＣＲ）、イソプレンラバー（ＩＲ）、アクリロニトリルブタジエンラバー（ＮＢＲ）等の合成ゴム、あるいはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、キサンタンガム、グアーガム、ペクチン等の多糖類を用いることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月14日(2017.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性を有する光電変換素子を含む第１の光検出層と、前記第１の光検出層より下層にあり、ストライプ状に形成された反射部材からなる偏光子を含む偏光子層と、前記偏光子層より下層にあり光電変換素子を含む第２の光検出層と、を含む撮像素子をマトリクス状に配置したイメージセンサにより撮影された、共通の画素配列に対する自然光の画像と偏光成分の画像のデータを取得する画像データ取得部と、
前記偏光成分の画像を用いて被写体表面の法線に係る情報を取得する法線情報取得部と、
前記自然光の画像を用いて被写体の撮像面からの距離を画像平面にマッピングしたデプスマップを取得し、前記法線に係る情報に基づき対応する位置におけるデータを補間して最終的なデプスマップを生成するデプスマップ生成部と、
少なくとも前記最終的なデプスマップを用いて所定の処理を行い出力用の画像データを生成する出力データ生成部と、
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記デプスマップ生成部はさらに、同一空間を左右の視点から撮影した偏光成分のステレオ画像から検出した特徴点を利用して、当該偏光成分のステレオ画像のそれぞれと共通の画素配列に対する自然光のステレオ画像における対応する点の視差を求めることにより、被写体の撮像面からの距離を求め、前記デプスマップを生成することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記法線情報取得部は、同一空間を左右の視点から撮影した偏光成分のステレオ画像に基づき被写体表面の法線ベクトルを求め、画像平面にマッピングした法線マップを生成することを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記法線情報取得部は、前記デプスマップから生成した被写体表面の法線ベクトルのデータを、一の視点から撮影した偏光成分の画像から取得した被写体表面の方位に基づき補正して最終的な法線ベクトルを求め、画像平面にマッピングした法線マップを生成することを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記デプスマップ生成部は、同一空間を左右の視点から撮影した自然光のステレオ画像に基づき前記デプスマップを生成し、
前記法線情報取得部は、前記デプスマップから生成した被写体表面の法線ベクトルのデータを、一の視点から撮影した偏光成分の画像から取得した被写体表面の方位に基づき補正して最終的な法線ベクトルを求め、画像平面にマッピングした法線マップを生成することを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記法線情報取得部は、同一空間を左右の視点から撮影した自然光の画像の対応する領域の輝度差に基づき鏡面反射成分が支配的な領域を抽出し、前記偏光成分の画像における当該領域とそれ以外の領域で、被写体表面の方位を求める手法を切り替えることを特徴とする請求項４または５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
多視点カメラと、その撮影画像のデータを取得し画像処理を行う画像処理装置を含む画像処理システムであって、
前記多視点カメラは、
光透過性を有する光電変換素子を含む第１の光検出層と、前記第１の光検出層より下層にあり、ストライプ状に形成された反射部材からなる偏光子を含む偏光子層と、前記偏光子層より下層にあり光電変換素子を含む第２の光検出層と、を含む撮像素子をマトリクス状に配置したイメージセンサにより撮影した、同じ画素配列に対する自然光の画像と偏光成分の画像のデータを並行して出力する並列撮像装置を含む複数の撮像装置が既知の間隔で水平方向に配置され、
前記画像処理装置は、
前記多視点カメラから、少なくとも複数視点から撮影した自然光の画像と、一視点から撮影した偏光成分の画像のデータを取得する画像データ取得部と、
少なくとも前記偏光成分の画像を利用して被写体表面の法線に係る情報を求める法線情報取得部と、
前記複数視点から撮影した自然光の画像に基づき被写体の撮像面からの距離を求め、画像平面にマッピングしたデプスマップを生成するデプスマップ生成部と、
少なくとも前記デプスマップを用いて所定の処理を行い出力用の画像データを生成する出力データ生成部と、
を備え、
前記デプスマップ生成部は、前記法線情報取得部が求めた対応する位置における法線に係る情報に基づき、前記デプスマップに表される距離を補間することを特徴とする画像処理システム。
【請求項８】
光透過性を有する光電変換素子を含む第１の光検出層と、前記第１の光検出層より下層にあり、ストライプ状に形成された反射部材からなる偏光子を含む偏光子層と、前記偏光子層より下層にあり光電変換素子を含む第２の光検出層と、を含む撮像素子をマトリクス状に配置したイメージセンサにより撮影した、同じ画素配列に対する自然光の画像と偏光成分の画像のデータを並行して出力する並列撮像装置を含む複数の撮像装置が既知の間隔で水平方向に配置されたことを特徴とする多視点カメラ。
【請求項９】
光透過性を有する光電変換素子を含む第１の光検出層と、前記第１の光検出層より下層にあり、ストライプ状に形成された反射部材からなる偏光子を含む偏光子層と、前記偏光子層より下層にあり光電変換素子を含む第２の光検出層と、を含む撮像素子をマトリクス状に配置したイメージセンサにより撮影された、同じ画素配列に対する自然光の画像と偏光成分の画像のデータを取得するステップと、
前記偏光成分の画像を用いて被写体表面の法線に係る情報を取得するステップと、
前記自然光の画像を用いて被写体の撮像面からの距離を画像平面にマッピングしたデプスマップを取得するステップと、
前記法線に係る情報に基づき対応する位置におけるデータを補間して最終的なデプスマップを生成するステップと、
少なくとも前記最終的なデプスマップを用いて所定の処理を行い出力用の画像データを生成し出力するステップと、
を含むことを特徴とする画像処理装置による画像処理方法。
【請求項１０】
光透過性を有する光電変換素子を含む第１の光検出層と、前記第１の光検出層より下層にあり、ストライプ状に形成された反射部材からなる偏光子を含む偏光子層と、前記偏光子層より下層にあり光電変換素子を含む第２の光検出層と、を含む撮像素子をマトリクス状に配置したイメージセンサにより撮影された、同じ画素配列に対する自然光の画像と偏光成分の画像のデータを取得する機能と、
前記偏光成分の画像を用いて被写体表面の法線に係る情報を取得する機能と、
前記自然光の画像を用いて被写体の撮像面からの距離を画像平面にマッピングしたデプスマップを取得する機能と、
前記法線に係る情報に基づき対応する位置におけるデータを補間して最終的なデプスマップを生成する機能と、
少なくとも前記最終的なデプスマップを用いて所定の処理を行い出力用の画像データを生成し出力する機能と、
をコンピュータに実現させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月18日(2016.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー容器を形成する方法であって、該方法は、
チャンバと、一端において前記チャンバへの開口とを有するブロー型を提供する工程と、前記ブロー型は開放位置と閉鎖位置との間を可動であり、前記開口内には前記チャンバを閉鎖するようにプッシュアップ部材が配置され、前記プッシュアップ部材は容器の底壁を画定するための前記チャンバ内に延在する表面を有することと、
前記ブロー型内に予備成形物を挿入する工程と、
前記予備成形物を前記チャンバに対して吹き込んで、基部を有する容器を形成する工程と、を含み、前記容器は、基部と、前記基部は支持構造を画定する外周部分と、前記支持構造から半径方向内側に離間され、水平線と８０°超の角度を形成する軸線方向内方に延びる周壁と、前記周壁の端部を閉鎖する圧力補償パネルとを有することと、該圧力補償パネルは、容器の容積を変化させるために、前記パネルの中央部分が周壁の頂部より下方に位置する第１位置から前記中央部分が周壁の頂部より上方に位置する第２位置へ前記容器の軸線に沿って可動であることと、前記パネル上の複数の周方向に離間された半径方向溝とを有する、方法。
【請求項２】
前記プッシュアップ部材は、相補的形状を有する第１部分および第２部分を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ブロー型を開放位置に移動させる工程と、
第２部分が前記型内に残ったまま、第１部分を前記型から引く抜く工程と、
前記型から第２部分を引き抜く工程と、
前記チャンバから容器を取り出す工程と、をさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記予備成形物をチャンバに対して吹き込む工程は、完成容器のそれよりも１５ｍｍ〜４０ｍｍだけ大きな軸線方向寸法を有する中間容器を形成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記プッシュアップを中間容器の底壁に対して軸線方向内方に移動させて、軸線方向寸法を減少させて完成容器を形成することをさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
押出ブロー型からブロー成形容器を解放する方法であって、
チャンバと、一端において前記チャンバへの開口とを有するブロー型を提供する工程と、前記ブロー型は開放位置と閉鎖位置との間を可動であり、前記チャンバ内に配置された容器を有することと、
前記ブロー型の底壁を形成するために前記開口内に配置され、かつ第１部分および第２部分を有するツーピースのプッシュアップアセンブリを提供する工程と、
前記ブロー型を開放位置に移動させる工程と、
第２部分が前記型内に残ったまま、第１部分を前記型から引く抜く工程と、
前記型から第２部分を引き抜く工程と、
前記チャンバから容器を取り出す工程と、を含む、方法。
【請求項７】
第１部分および第２部分は環状である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
第２部分は第１部分の周りに同心的に配置されている、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
押出ブロー成形に使用されるブロー型であって、該ブロー型は、
一端に開口を有するチャンバを画定する壁と、前記チャンバはそのチャンバ内でブロー成形される物品の形状を有することと、
前記開口内に配置されるプッシュアップアセンブリと、を有し、前記プッシュアップアセンブリは、第１部分および第２部分を有し、第１部分は、第１部分が前記チャンバの内部の位置から前記チャンバの外部の位置に移動されることを可能にするために往復並進運動するように取り付けられており、第２部分は、第１部分の動作とは独立して、前記チャンバの内部の位置から前記チャンバの外部の位置に並進往復運動するように取り付けられており、第１部分および第２部分は、第１部分および第２部分の双方がチャンバの内部に配置されているときに前記開口を閉鎖する相補的形状を有する、ブロー型。
【請求項１０】
前記開口は略円形の形状であり、第１部分および第２部分は略円形の形状であり、第１部分は、第２部分の周りに同心的に取り付けられている、請求項９のブロー型。
【請求項１１】
前記チャンバは底壁を有する容器の形状にあり、前記プッシュアップアセンブリは底壁を形成するための表面を有する、請求項９に記載のブロー型。
【請求項１２】
前記底壁は容器内の圧力変化に応答して屈曲することができる、請求項１１に記載のブロー型。
【請求項１３】
前記底壁は複数の半径方向に延びる窪みを有しており、隣接する窪みの間にパネルを画定する、請求項１１に記載のブロー型。
【請求項１４】
前記底壁は、前記窪みの周りに同軸上に配置された軸線方向内方に延びる直立壁さらに備える、請求項１２に記載のブロー型。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ポリマー容器を形成する方法、押出ブロー型からブロー成形容器を解放する方法、および押出ブロー成形に使用されるブロー型
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月25日(2017.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明は、複数の操作釦が設けられた乗りかごと、前記乗りかごの行先階を登録する行先登録装置と、前記行先階の情報をユーザに報知する報知装置と、前記行先登録装置にて登録された行先階に前記乗りかごを昇降させる制御装置と、を備えたエレベータ装置であって、前記行先登録装置は、前記複数の操作釦の中から前記ユーザが選択した前記操作釦が操作されることにより出力される操作信号から前記操作釦の動作不全を検出する釦故障検出部と、前記釦故障検出部が前記操作釦の動作不全を検出している場合に、前記操作信号が、動作不全とされた前記操作釦の操作を代替する信号である代替操作信号であるか否かを判定する代替操作信号判定部と、前記操作信号が前記代替操作信号に該当する場合に、前記動作不全とされた操作釦に割り当てられた行先階を前記ユーザの要求する行先階として登録する行先階登録部と、前記動作不全の操作釦に割り当てられた行先階を登録するための代替操作情報を出力する報知情報生成部と、を備え、前記報知装置は、前記報知情報生成部からの前記代替操作情報を前記ユーザに報知することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乗りかごに設けられた複数の操作釦の中からユーザが選択した前記操作釦が操作されることにより出力される操作信号に基づいて前記乗りかごの行先階を登録するエレベータの行先登録装置であって、
前記操作信号から前記操作釦の動作不全を検出する釦故障検出部と、
前記釦故障検出部が前記操作釦の動作不全を検出している場合に、前記操作信号が、動作不全とされた前記操作釦の操作を代替する信号である代替操作信号に該当するか否かを判定する代替操作信号判定部と、
前記操作信号が前記代替操作信号に該当する場合に、前記動作不全とされた操作釦に割り当てられた行先階を前記ユーザの要求する行先階として登録する行先階登録部と、
を備えたことを特徴とするエレベータの行先登録装置。
【請求項２】
前記釦故障検出部が前記操作釦の動作不全を検出している場合に、前記複数の操作釦のうち正常に動作する少なくとも一つの操作釦を用いて、前記動作不全の操作釦により実行させる動作と同じ動作を前記ユーザに対して入力させるための代替操作情報を生成する代替操作生成部を更に備え、
前記代替操作信号判定部は、前記操作釦から出力される操作信号が、前記代替操作情報に従って操作された場合に出力される代替操作信号に該当するか否かを判定することを特徴とする請求項１に記載のエレベータの行先登録装置。
【請求項３】
乗りかごに設けられた複数の操作釦の中からユーザが選択した前記操作釦が操作されることにより出力される操作信号に基づいて前記乗りかごの行先階を登録するエレベータの行先登録方法であって、
前記操作信号から前記操作釦の動作不全を検出するステップと、
前記操作釦の動作不全が検出されている場合に、前記操作信号が、動作不全とされた前記操作釦の操作を代替する信号である代替操作信号に該当するか否かを判定するステップと、
前記操作信号が前記代替操作信号に該当すると判定された場合に、前記動作不全とされた操作釦に割り当てられた行先階を前記ユーザの要求する行先階として登録するステップと、
を含むことを特徴とするエレベータの行先登録方法。
【請求項４】
複数の操作釦が設けられた乗りかごと、前記乗りかごの行先階を登録する行先登録装置と、前記行先階の情報をユーザに報知する報知装置と、前記行先登録装置にて登録された行先階に前記乗りかごを昇降させる制御装置と、を備えたエレベータ装置であって、
前記行先登録装置は、
前記複数の操作釦の中から前記ユーザが選択した前記操作釦が操作されることにより出力される操作信号から前記操作釦の動作不全を検出する釦故障検出部と、
前記釦故障検出部が前記操作釦の動作不全を検出している場合に、前記操作信号が、動作不全とされた前記操作釦の操作を代替する信号である代替操作信号であるか否かを判定する代替操作信号判定部と、
前記操作信号が前記代替操作信号に該当する場合に、前記動作不全とされた操作釦に割り当てられた行先階を前記ユーザの要求する行先階として登録する行先階登録部と、
前記動作不全の操作釦に割り当てられた行先階を登録するための代替操作情報を出力する報知情報生成部と、を備え、
前記報知装置は、前記報知情報生成部からの前記代替操作情報を前記ユーザに報知することを特徴とするエレベータ装置。