Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月11日(2017.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
図２０及び図２３から理解されるように、コネクタ２００Ｂと相手側対象物４００Ｂとの接続は、Ｚ方向に沿って行われる。具体的には、相手側対象物４００Ｂの主面４１０Ｂと接続対象物１００Ｂの主面１１０Ｂとを対向させた状態で（即ち、接続対象物１００Ｂの主面１１０Ｂを−Ｚ側に向けると共に相手側対象物４００Ｂの裏面４１５Ｂを−Ｚ側に向け）、Ｚ方向に沿って両者を近づける。この際、ガイド部２７０Ｂにより被ガイド部５２２Ｂのガイドがなされることから、ＸＹ平面内における相手側対象物４００Ｂのコネクタ２００Ｂに対する位置決めが適切になされる。そのため、コンタクト２１０Ｂと相手側接点４５０Ｂとの接続部分を直接確認することなく、コンタクト２１０Ｂと相手側接点４５０Ｂ（図２２参照）を適切に接続することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月11日(2017.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周が良導電性の金属層で覆われた超電導線材で形成される超電導部と、
前記超電導部を形成する前記超電導線材の超電導層側の外表面に固着される、補強テープ線で形成される補強部とを備え、
前記超電導部に、前記超電導部を前記超電導線材の幅方向に対して複数個に区切り、前記超電導部の各区分間の超電導的な接続を分断する隔離部を設けたことを特徴とする超電導テープ線。
【請求項２】
前記超電導部は、複数の超電導線材を前記超電導線材の幅方向に、同じ方向で並列に配置される構成であり、
前記補強部は、前記並列に配置される前記超電導線材の前記超電導層側の外表面の各々と固着され、
前記隔離部は、前記超電導線材間の界面および間隙の何れか一方であることを特徴とする請求項１記載の超電導テープ線。
【請求項３】
前記超電導線材の超電導層側の外表面と前記補強部との固着は、ろう材を用いたろう付けによる固着であることを特徴とする請求項１または２に記載の超電導テープ線。
【請求項４】
前記補強テープ線は、ステンレス鋼、銅−ベリリウム合金、アルミニウム、銅、ニッケル、および銅−ニッケル合金の少なくとも１種類から成る材料から選択されることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の超電導テープ線。
【請求項５】
前記補強テープ線の厚さは、０．０２０ｍｍ超０．０６８ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の超電導テープ線。
【請求項６】
前記補強テープ線の厚さは、０．０３５ｍｍ以上０．０６５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項５記載の超電導テープ線。
【請求項７】
外周が良導電性の金属層で覆われた超電導線材で形成される超電導部と、前記超電導部を形成する前記超電導線材の超電導層側の外表面に固着される、補強テープ線で形成される補強部とを備え、
前記補強テープ線の厚さは、０．０２０ｍｍ超０．０６８ｍｍ以下であることを特徴とする超電導テープ線。
【請求項８】
前記補強テープ線の厚さは、０．０３５ｍｍ以上０．０６５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項７記載の超電導テープ線。
【請求項９】
請求項１から８の何れか１項に記載の超電導テープ線を巻き回して形成されることを特徴とする超電導コイル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
さらに、後述するように、補強テープ線１１の厚さを適切（０．０２０ｍｍ超０．０６８ｍｍ以下、より好ましくは０．０３５ｍｍ以上０．０６５ｍｍ以下）に設定することで、電流密度の低下も最小限に止めることができる。すなわち、電流密度減少の最小限化および超電導コイル５０の劣化防止を両立することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
また、超電導コイル５０によれば、後述するように、補強部としての補強テープ線１１の厚さを適切（０．０２０ｍｍ超０．０６８ｍｍ以下、より好ましくは０．０３５ｍｍ以上０．０６５ｍｍ以下）に設定することで、電流密度の減少を最小限に止めつつ、従来よりも薄膜超電導線１の各層に生じる負荷応力に起因する剥離、変形、クラック等の発生を防止し、超電導コイル５０の劣化を防止することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
さらに、超電導テープ線１０および当該超電導テープ線１０を用いた超電導コイル５０によれば、補強部としての補強テープ線１１の厚さを適切（０．０２０ｍｍ超０．０６８ｍｍ以下、より好ましくは０．０３５ｍｍ以上０．０６５ｍｍ以下）に設定することで、従来よりも効果的に薄膜超電導線１の各層に生じる負荷応力に起因する超電導コイル５０の劣化を低減することができる。すなわち、電流密度の減少を最小限に止めつつ、薄膜超電導線１の各層に生じる負荷応力に起因する剥離、変形、クラック等の発生を抑制することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月11日(2017.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
第８の発明は、第７の発明であって、予測確率分布データＳｔ｜ｔ−１とし、予測確率分布データＳｔ｜ｔ−１に従って取得されたパーティクルであって、物体に対する追跡処理を行うために用意されたＮ１個（Ｎ１：自然数）のパーティクルのｊ番目のパーティクルについて、尤度取得部により取得された、当該ｊ番目のパーティクルの第１尤度についての内部変数をｗｐ（ｊ）とすると、
事後確率分布推定部は、
【数３】
2015222473.tif 000001
により内部変数ｗｐ（ｊ）の積算値ｓｕｍを取得する。そして、事後確率分布推定部は、以下の処理を行う。
（１）積算値ｓｕｍが所定の閾値Ｔｈ１よりも小さい場合、事後確率分布推定部は、物体に対する追跡処理を停止させる。
（２）積算値ｓｕｍが所定の閾値Ｔｈ１以上である場合、事後確率分布推定部は、物体に対する追跡処理を継続させる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
本発明によれば、追跡対象の物体について、複数の観測データを取得し、取得した複数の観測データのそれぞれから導出された複数の尤度を用いて、物体の内部状態を推定することにより、より正確かつロバストに、物体の検出処理や追跡処理を行うことができる状態推定装置、プログラム、および、集積回路を実現することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２０】
また、サンプル集合（パーティクルの集合）Ｓｔ｜ｔのｉ番目のサンプル（パーティクル）ｓｔ｜ｔ（ｉ）は、ｉ番目のサンプル（パーティクル）の画像上の座標位置（Ｘｔ（ｉ），Ｙｔ（ｉ））と、当該座標位置を中心とする幅Ｗｔ、高さＨｔの矩形状の画像領域を決定するための幅Ｗｔ、高さＨｔと、第１尤度ｗｐｔ（ｉ）と、第２尤度ｗｎｔ（ｉ）とを内部変数とするベクトルデータであるものとする。つまり、サンプル（パーティクル）ｓｔ｜ｔ（ｉ）は、
ｓｔ｜ｔ（ｉ）＝（Ｘｔ（ｉ），Ｙｔ（ｉ），Ｗｔ（ｉ），Ｈｔ（ｉ），ｗｎｔ（ｉ），ｗｐｔ（ｉ））
であるものとする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６５】
（１）第１尤度値ｗｐと第２尤度値ｗｎとの比による承継
ｗｎｔ｜ｔ（ｉ）＝ｗｐｔ｜ｔ（ｉ）×ｗｎ／ｗｐ
＝（１／Ｍ１）×ｗｎ／ｗｐ
例えば、図７の予測確率分布データＳｔ｜ｔ−１に従って取得されたｉ４番目のパーティクルから第１尤度ｗｐ（ｉ４）＝０．９５、第２尤度ｗｎ（ｉ４）＝０．６が取得されるので、予測確率分布データＳｔ｜ｔ−１に従って取得されたｉ４番目のパーティクルの位置において、比例配分により、復元されるパーティクル、すなわち、事後確率分布データＳｔ｜ｔに従って取得されたｉ２〜ｉ５番目のパーティクルの内部変数ｗｎｔ｜ｔ（ｉ）は、上記数式により、
ｗｎｔ｜ｔ（ｉ）＝ｗｐｔ｜ｔ（ｉ）×ｗｎ／ｗｐ
＝（１／Ｍ１）×０．６／０．９５
と設定される。なお、上式のｉは、ｉ２〜ｉ５のいずれかである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６６】
上式において、ｗｐ＝０となる場合、「０」で除算されることになるため、これを防ぐために、第１尤度ｗｐが所定の値ｔｈよりも小さい場合、所定の値ｔｈでクリップ処理を行うようにしてもよい。例えば、第１尤度ｗｐが所定の値０．００１よりも小さい場合、第１尤度ｗｐを０．００１としてもよい。これにより、「０」で除算されることを防止することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６７】
（２）第１尤度値ｗｐと第２尤度値ｗｎとの差による承継
ｗｎｔ｜ｔ（ｉ）＝ｗｐｔ｜ｔ（ｉ）−（ｗｐ−ｗｎ）
＝（１／Ｍ１）−（ｗｐ−ｗｎ）
例えば、図７の予測確率分布データＳｔ｜ｔ−１に従って取得されたｉ４番目のパーティクルから第１尤度ｗｐ（ｉ４）＝０．９５、第２尤度ｗｎ（ｉ４）＝０．６が取得されるので、予測確率分布データＳｔ｜ｔ−１に従って取得されたｉ４番目のパーティクルの位置において、比例配分により、復元されるパーティクル、すなわち、事後確率分布データＳｔ｜ｔに従って取得されたｉ２〜ｉ５番目のパーティクルの内部変数ｗｎｔ｜ｔ（ｉ）は、上記数式により、
ｗｎｔ｜ｔ（ｉ）＝ｗｐｔ｜ｔ（ｉ）−（ｗｐ−ｗｎ）
＝（１／Ｍ１）−（０．９５−０．６）
と設定される。なお、上式のｉは、ｉ２〜ｉ５のいずれかである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記予測確率分布データＳｔ｜ｔ−１とし、前記予測確率分布データＳｔ｜ｔ−１に従って取得されたパーティクルであって、前記物体に対する追跡処理を行うために用意されたＮ１個（Ｎ１：自然数）のパーティクルのｊ番目のパーティクルについて、前記尤度取得部により取得された、当該ｊ番目のパーティクルの前記第１尤度についての内部変数をｗｐ（ｊ）とすると、
前記事後確率分布推定部は、
2015222473.tif 000002
により前記内部変数ｗｐ（ｊ）の積算値ｓｕｍを取得し、
（１）前記積算値ｓｕｍが所定の閾値Ｔｈ１よりも小さい場合、前記物体に対する追跡処理を停止させ、
（２）前記積算値ｓｕｍが所定の閾値Ｔｈ１以上である場合、前記物体に対する追跡処理を継続させる、
請求項７に記載の状態推定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月1日(2017.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光束のうち第１の色光を第１の光変調素子に導き、前記第１の色光と波長が異なる第２の色光を第２の光変調素子に導くための色分離合成系であって、
前記第１の色光及び前記第２の色光のうち、一方の色光を他方の色光と異なる方向に導く前記第１の色光と前記第２の色光の偏光方向に基づいて前記第１の色光と前記第２の色光のうち一方を他方が導かれる方向とは異なる方向に導く第１の偏光素子と、
第１の位相差付与部と、
前記第１の光変調素子及び前記第２の光変調素子のうち、前記第１の光変調素子に前記第１の色光を導くとともに、前記第１の光変調素子に前記第２の色光が導かれることを抑制する第１の光学部と、を備え、
前記第１の位相差付与部および前記第１の光学部は、前記第１の光変調素子と前記第１の偏光素子との間に設けられており、
前記第１の光学部は、前記第１の偏光素子と前記第１の位相差付与部との間に設けられている、
ことを特徴とする色分離合成系。
【請求項２】
前記第１の光学部は、前記第１の色光を透過させ、前記第２の色光を反射する特性を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の色分離合成系。
【請求項３】
前記第２の色光の比視感度は、前記第１の色光の比視感度よりも高い、
ことを特徴とする請求項１または２に記載の色分離合成系。
【請求項４】
第２の位相差付与部と、
前記第２の光変調素子に、前記第２の色光を導くとともに、前記第２の光変調素子に前記第１の色光が導かれることを抑制する第２の光学部と、を備え、
前記第２の位相差付与部および前記第２の光学部は、前記第２の光変調素子と前記第１の偏光素子との間に設けられており、
前記第２の光学部は、前記第２の色光を透過させ、前記第１の色光を反射する特性を有し、
前記第２の光学部は、前記第１の偏光素子と前記第２の位相差付与部との間に設けられている、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の色分離合成系。
【請求項５】
前記光源からの光束のうち、前記第１の色光及び前記第２の色光を、前記第１の色光及び前記第２の色光と波長が異なる色光である第３の色光と異なる方向に導く第３の光学部と、
前記第３の色光のうち、第１の偏光方向の光束を、前記第１の偏光方向の光束と偏光方向が異なる第２の偏光方向の光束と異なる方向に導く第２の偏光素子と、
第３の位相差付与部と、
前記第１の色光を変調し、第１の変調光を出射する前記第１の光変調素子と、
前記第２の色光を変調し、第２の変調光を出射する前記第２の光変調素子と、
前記第３の色光を変調し、第３の変調光を出射する第３の光変調素子と、
前記第１の変調光と、前記第２の変調光と、前記第３の変調光とを合成する光合成素子と、
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の色分離合成系と、
を備えることを特徴とする色分離合成装置。
【請求項６】
前記第１の光変調素子の長手方向に平行な方向を第１の方向とし、
前記第１の光変調素子の短手方向に平行な方向を第２の方向とし、
前記第１の偏光素子の面のうち、前記第１の方向および前記第２の方向と平行で、前記第３の光学部からの光束が入射する面を入射面とし、
前記入射面のうち、前記第１の偏光素子に入射する光束が前記入射面を照明する領域を、第１の領域とし、
前記第１の光変調素子のうち、前記第１の偏光素子から出射する光束が前記第１の光変調素子を照明する領域を、第２の領域とし、
前記第１の領域の前記第１の方向の寸法をＤ１とし、
前記第１の領域の前記第２の方向の寸法をＤ２とし、
前記第２の領域の前記第１の方向の寸法をＰ１とし、
前記第２の領域の前記第２の方向の寸法をＰ２とするとき、
Ｐ１＞Ｐ２
１．１＜（Ｄ１−Ｐ１）／（Ｄ２−Ｐ２）＜２．０
を満足することを特徴とする請求項５に記載の色分離合成装置。
【請求項７】
光源装置と、
請求項５または６に記載の色分離合成装置と、
前記光源装置からの光束を、請求項４または５に記載の色分離合成装置へ導く照明光学系と、
を備えることを特徴とする画像表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の色分離合成系は、
光源からの光束のうち第１の色光を第１の光変調素子に導き、前記第１の色光と波長が異なる第２の色光を第２の光変調素子に導くための色分離合成系であって、
前記第１の色光及び前記第２の色光のうち、一方の色光を他方の色光と異なる方向に導く前記第１の色光と前記第２の色光の偏光方向に基づいて前記第１の色光と前記第２の色光のうち一方を他方が導かれる方向とは異なる方向に導く第１の偏光素子と、
第１の位相差付与部と、
前記第１の光変調素子及び前記第２の光変調素子のうち、前記第１の光変調素子に前記第１の色光を導くとともに、前記第１の光変調素子に前記第２の色光が導かれることを抑制する第１の光学部と、を備え、
前記第１の位相差付与部および前記第１の光学部は、前記第１の光変調素子と前記第１の偏光素子との間に設けられており、
前記第１の光学部は、前記第１の偏光素子と前記第１の位相板との間に設けられている、
ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月10日(2017.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷データ配信装置と、
少なくとも１台の印刷機器に接続され、前記印刷データ配信装置から前記印刷機器の識別情報を含む印刷データを受信する情報処理装置と、を備え、
前記情報処理装置は、
前記印刷データ配信装置から前記印刷データを受信し、受信した順に記憶領域に格納する受信部と、
前記記憶領域に格納された前記印刷データに含まれる識別情報に基づいて、識別情報に対応する出力用処理部を起動する管理部と、を有し、
前記出力用処理部は、
前記記憶領域に格納された前記印刷データのうち、対応する識別情報が含まれる前記印刷データを受信した順に読み出して、対応する識別情報の前記印刷機器に出力する
ことを特徴とする印刷データ処理システム。
【請求項２】
前記情報処理装置の前記管理部は、
前記印刷データに含まれる識別情報に対応する前記出力用処理部が起動しているか否かを判別し、起動していないと判別した場合には、起動していない前記印刷データに含まれる識別情報に対応する前記出力用処理部を起動する請求項１に記載の印刷データ処理システム。
【請求項３】
前記情報処理装置の前記出力用処理部は、
前記記憶領域に、対応する識別情報を含む前記印刷データであって、読み出しが完了していない前記印刷データが無い場合、停止することを特徴とする請求項１又は２に記載の印刷データ処理システム。
【請求項４】
前記印刷データには、前記印刷機器の識別情報、又は、前記情報処理装置の識別情報が含まれ、
前記情報処理装置は、
印刷部と、前記印刷データに基づいて前記印刷部を制御する印刷制御部と、を有し、
前記情報処理装置の前記管理部は、
前記受信部により前記情報処理装置の識別情報を含む前記印刷データが前記記憶領域に格納された場合、前記情報処理装置の識別情報に対応する前記出力用処理部を起動し、
前記情報処理装置の識別情報に対応する前記出力用処理部は、
前記記憶領域に格納された前記印刷データのうち、前記情報処理装置の識別情報が含まれる前記印刷データを受信した順に読み出して前記印刷制御部に出力する
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の印刷データ処理システム。
【請求項５】
印刷データを受信し、受信した順に記憶領域に格納する受信部と、
前記記憶領域に格納された前記印刷データに含まれる外部装置の識別情報に基づいて、識別情報に対応する出力用処理部を起動する管理部と、を有し、
前記出力用処理部は、
前記記憶領域に格納された前記印刷データのうち、対応する識別情報が含まれる前記印刷データを受信した順に読み出して、対応する識別情報の前記外部装置に出力する
ことを特徴とする情報処理装置。
【請求項６】
印刷部と、
印刷データに基づいて前記印刷部を制御する印刷制御部と、
印刷データ配信装置から印刷データを受信し、受信した順に記憶領域に格納する受信部と、
前記記憶領域に格納された前記印刷データに含まれる外部装置の識別情報、又は、自印刷装置の識別情報に基づいて、前記識別情報に対応する出力用処理部を起動する管理部と、を有し、
前記外部装置の識別情報に対応する前記出力用処理部は、
前記記憶領域に格納された前記印刷データのうち、対応する前記外部装置の識別情報が含まれる前記印刷データを受信した順に読み出して、対応する識別情報の前記外部装置に出力し、
前記自印刷装置の識別情報に対応する前記出力用処理部は、
前記記憶領域に格納された前記印刷データのうち、前記自印刷装置の識別情報が含まれる前記印刷データを受信した順に読み出して、前記印刷制御部に出力する
ことを特徴とする印刷装置。
【請求項７】
印刷データ配信装置と、
少なくとも１台の印刷機器に接続され、前記印刷データ配信装置から前記印刷機器の識別情報を含む印刷データを受信する情報処理装置と、を備え、
前記情報処理装置は、
前記印刷データ配信装置から前記印刷データを受信し、受信した順に記憶領域に格納する受信部と、
前記記憶領域に格納された前記印刷データに含まれる識別情報に基づいて、前記識別情報に対応する出力用処理部を起動する管理部と、を有し、
前記管理部は、
前記記憶領域に格納された前記印刷データを受信した順に読み出し、読み出した前記印刷データに含まれる識別情報に対応する前記出力用処理部に、読み出した前記印刷データを出力し、
前記出力用処理部は、
前記管理部から入力された前記印刷データを、対応する識別情報の前記印刷機器に出力する
ことを特徴とする印刷データ処理システム。
【請求項８】
前記情報処理装置の前記管理部は、
１の識別情報に対応する前記出力用処理部に前記印刷データを出力してから、出力した前記印刷データに基づく前記印刷機器の処理が完了するまでの間、次の前記印刷データを当該１の識別情報に対応する前記出力用処理部に出力しないことを特徴とする請求項７に記載の印刷データ処理システム。
【請求項９】
前記情報処理装置の前記管理部は、
１の識別情報に対応する前記出力用処理部を起動した後、前記記憶領域に読み出しの完了していない当該１の識別情報を含む前記印刷データが無くなった場合、当該１の識別情報に対応する前記出力用処理部を停止することを特徴とする請求項７又は８に記載の印刷データ処理システム。
【請求項１０】
前記印刷データには、前記印刷機器の識別情報、又は、前記情報処理装置の識別情報が含まれ、
前記情報処理装置は、
印刷部と、前記印刷データに基づいて前記印刷部を制御する印刷制御部と、を有し、
前記情報処理装置の前記管理部は、
前記受信部により前記情報処理装置の識別情報を含む前記印刷データが前記記憶領域に格納された場合、前記情報処理装置の識別情報に対応する前記出力用処理部を起動し、前記記憶領域から前記情報処理装置の識別情報を含む前記印刷データを読み出した場合、読み出した前記印刷データを、前記情報処理装置の識別情報に対応する前記出力用処理部に出力し、
前記情報処理装置の識別情報に対応する前記出力用処理部は、
前記管理部から入力された前記印刷データを、前記印刷制御部に出力する
ことを特徴とする請求項７乃至９のいずれか１項に記載の印刷データ処理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月25日(2017.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ加速装置であって、
磁場生成体と、
前記磁場生成体の中央領域を横断するように配置される供給路であって、上流側から下流側に向けてプラズマを供給する供給路と、
前記磁場生成体よりも下流側に配置され、前記磁場生成体の下流側の磁束を集める磁束収集体と、
前記磁場生成体よりも下流側に配置されるカソードと、
前記カソードよりも上流側に配置されるアノードと、
前記カソードと前記アノードとの間に電圧を印加する電圧印加装置と、
を備え、
前記磁場生成体は、前記磁場生成体の前記中央領域に軸方向磁場を生成するとともに、前記磁場生成体、及び、前記磁束収集体は、前記磁場生成体よりも下流側に径方向磁場を含む磁場を生成し、
前記電圧印加装置は、前記カソードと前記アノードとの間に、電場を生成し、
前記供給路を介して供給される前記プラズマは、前記カソードから放出される電子と、前記径方向磁場と、前記電場との相互作用によって生成されるホール電場によって加速される
プラズマ加速装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ加速装置において、
前記供給路は環状断面でなく円形断面である
プラズマ加速装置。
【請求項３】
請求項２に記載のプラズマ加速装置において、
前記磁場生成体及び前記磁束収集体によって、前記磁場生成体及び前記磁束収集体の下流側に、磁束密度が疎である領域が形成され、前記領域を通過する前記プラズマが下流側に向けて拡散される
プラズマ加速装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載のプラズマ加速装置において、
前記磁束収集体は、複数の分割片で構成され、
前記複数の分割片は、前記供給路の周囲に等間隔で配置される
プラズマ加速装置。
【請求項５】
請求項２乃至４のいずれか一項に記載のプラズマ加速装置において、
前記磁束収集体は、ヨークに取り付けられる
プラズマ加速装置。
【請求項６】
請求項５に記載のプラズマ加速装置において、
前記ヨークは、前記磁束収集体よりも径外方向に延びる延設部を備える
プラズマ加速装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のプラズマ加速装置において、
前記供給路の周囲に配置されるプラズマ生成アンテナを、更に備え、
前記プラズマは、前記軸方向磁場と前記プラズマ生成アンテナにより誘起される誘起電場との相互作用によって生成される無電極プラズマである
プラズマ加速装置。
【請求項８】
請求項７に記載のプラズマ加速装置において、
前記プラズマ生成アンテナは、ヘリカルアンテナであり、
前記無電極プラズマは、ヘリコンプラズマである
プラズマ加速装置。
【請求項９】
請求項７又は８に記載のプラズマ加速装置において、
前記磁場生成体と前記プラズマ生成アンテナとは、前記供給路の方向に、少なくとも一部分がオーバーラップしている
プラズマ加速装置。
【請求項１０】
請求項７乃至９のいずれか一項に記載のプラズマ加速装置において、
前記供給路のうち、前記プラズマ生成アンテナが周囲に配置されている部分の直径は、２０ｍｍ以上、１００ｍｍ以下である
プラズマ加速システム。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のプラズマ加速装置において、
前記カソードは、微細孔を有するホローカソードである
プラズマ加速装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のプラズマ加速装置において、
前記供給路は、上流管と下流管を含み、
前記下流管の直径は、前記上流管の直径よりも大きい
プラズマ加速装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載のプラズマ加速装置において、
前記アノードは、前記下流管に設けられる
プラズマ加速装置。
【請求項１４】
プラズマ加速装置を用いてプラズマを加速するプラズマ加速方法であって、
前記プラズマ加速装置は、
磁場生成体と、
前記磁場生成体の中央領域を横断するように配置される供給路であって、上流側から下流側に向けてプラズマを供給する供給路と、
前記磁場生成体よりも下流側に配置され、前記磁場生成体の下流側の磁束を集める磁束収集体と、
前記磁場生成体よりも下流側に配置されるカソードと、
前記カソードよりも上流側に配置されるアノードと、
前記カソードと前記アノードとの間に電圧を印加する電圧印加装置と、
を備え、
前記プラズマ加速方法は、
電子を前記カソードから放出する工程と、
前記磁場生成体、及び、前記磁束収集体により生成される径方向磁場に前記電子を捕捉させて、ホール電流を形成する工程と、
前記ホール電流と前記径方向磁場との相互作用により生成されるホール電場によって、前記供給路を介して供給される前記プラズマを加速する工程と
を備える
プラズマ加速方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月18日(2017.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された下地の複数のショット領域のそれぞれへの露光を順次行う露光装置であって、
前記複数のショット領域に含まれる１つのショット領域を分割せずに該１つのショット領域を露光する一括露光、および、前記複数のショット領域に含まれる１つのショット領域を複数の部分領域に分割して前記部分領域毎に露光を行う分割露光を制御する制御部を備え、
前記制御部は、前記基板の平面内における、前記複数のショット領域それぞれの形状の情報に基づいて、前記一括露光及び前記分割露光のいずれを行うかを決定し、前記一括露光を行うと決定した場合には前記一括露光を行い、前記分割露光を行うと決定した場合には前記分割露光が行われる前記部分領域の形状を決定し該決定された部分領域の形状に基づいて前記分割露光を行うように制御することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
レチクルのパターンを前記基板の上に投影する投影光学系と、前記投影光学系の倍率を調整する倍率調整機構と、前記部分領域以外の領域に対する露光を遮る遮光部と、前記基板を保持して前記投影光学系の光軸に垂直な平面上で移動および回転が可能なステージと、を備え、
前記制御部は、前記遮光部により調整される露光領域の形状と前記部分領域の形状とのずれを低減するように、前記倍率調整機構、前記遮光部および前記ステージを制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記部分領域の形状に基づいて前記倍率を制御し、前記部分領域の位置に基づいて前記ステージの移動および回転の少なくともいずれかを制御することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記露光装置の外部から前記情報を取得することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記複数のショット領域それぞれの形状を計測する計測器を備え、前記制御部は、前記計測器の計測結果から前記情報を取得することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記制御部は、ロットの第１番目の基板における前記計測器の計測結果から前記情報を取得することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記制御部は、ショット領域を分割しない場合のショット領域の形状と前記基板上に投影されるパターンの形状とのずれ量が許容範囲内にない場合に、前記分割露光を行うと決定することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記制御部は、ショット領域を分割しない場合のショット領域の形状と前記基板上に投影されるパターンの形状とのずれ量に基づいて前記分割露光を行うショット領域における前記部分領域の数と形状を決定することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記複数のショット領域の露光に要する時間が予め設定されている目標範囲の中に入るように、前記分割露光を行うショット領域の数を決定することを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記制御部は、露光の単位とする領域の形状に基づいて前記複数のショット領域を複数のグループにグループ分けし、前記複数のショット領域への露光を前記グループ毎に順次行うことを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記制御部は、歩留まり目標値に基づいて前記分割露光を行うショット領域の数を決定することを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記複数のショット領域それぞれの形状は、前記投影光学系の光軸に垂直な平面における形状を含むことを特徴とする請求項２または３に記載の露光装置。
【請求項１３】
基板上に形成された下地の複数のショット領域のそれぞれへの露光を順次行う露光方法であって、
前記基板の平面内における、前記複数のショット領域それぞれの形状の情報に基づいて、前記複数のショット領域に含まれる１つのショット領域を分割せずに該１つのショット領域を露光する一括露光、および、前記複数のショット領域に含まれる１つのショット領域を複数の部分領域に分割して部分領域毎に露光を行う分割露光のいずれを行うかを決定する工程と、
前記決定する工程において前記一括露光を行うと決定した場合には前記一括露光を行い、前記決定する工程において前記分割露光を行うと決定した場合には前記分割露光が行われる前記部分領域の形状を決定し該決定された部分領域の形状に基づいて前記分割露光を行う工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項１４】
請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、
前記露光工程で露光された前記基板を現像する現像工程と、
を含み、前記現像工程で現像された前記基板を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の１つの側面は、基板上に形成された下地の複数のショット領域のそれぞれへの露光を順次行う露光装置であって、前記複数のショット領域に含まれる１つのショット領域を分割せずに該１つのショット領域を露光する一括露光、および、前記複数のショット領域に含まれる１つのショット領域を複数の部分領域に分割して前記部分領域毎に露光を行う分割露光を制御する制御部を備え、前記制御部は、前記基板の平面内における、前記複数のショット領域それぞれの形状の情報に基づいて、前記一括露光及び前記分割露光のいずれを行うかを決定し、前記一括露光を行うと決定した場合には前記一括露光を行い、前記分割露光を行うと決定した場合には前記分割露光が行われる前記部分領域の形状を決定し該決定された部分領域の形状に基づいて前記分割露光を行うように制御することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2015222773.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2015222773.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月15日(2017.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物を吸着して保持する保持装置であって、
前記対象物が接触する接触部と、該接触部と前記対象物とが接触している状態で前記対象物とで囲まれる空間を形成する吸着領域とを有するチャックと、
前記吸着領域に連通し、該吸着領域内が大気圧と比べて負圧となるように圧力を調整可能とする圧力調整部と、
一方の側が前記吸着領域に連通し、他方の側が大気開放となるように設置され、前記吸着領域内の圧力が負圧の状態において該負圧による気体の流れを妨げるパッシブ弁と、
を備えることを特徴とする保持装置。
【請求項２】
前記チャックは、前記吸着領域に通じる第１の開口と、該第１の開口とは異なる第２の開口との間を連通する孔を有し、
前記保持装置は、
一端が前記第２の開口に接続され、他端が前記圧力調整部に接続される配管と、
前記配管から分岐する分岐管と、を備え、
前記パッシブ弁は、前記分岐管に設置される、
ことを特徴とする請求項１に記載の保持装置。
【請求項３】
前記チャックは、前記吸着領域に通じる第１の開口と、該第１の開口とは異なる第２の開口との間を連通する孔を、複数有し、
前記保持装置は、
一端が前記第２の開口に接続され、他端が前記圧力調整部に接続される配管と、
前記配管のうち前記第２の開口のそれぞれに接続される部分からそれぞれ分岐する複数の分岐管と、を備え、
前記パッシブ弁は、前記分岐管に設置される、
ことを特徴とする請求項１に記載の保持装置。
【請求項４】
前記チャックは、前記吸着領域に通じる第１の開口と、該第１の開口とは異なる第２の開口との間を連通する孔を、複数有し、
前記保持装置は、
一端が前記第２の開口の少なくとも１つに接続され、他端が前記圧力調整部に接続される配管と、
一端が前記配管に接続されない前記第２の開口に接続され、他端が大気開放となる排出管と、を備え、
前記パッシブ弁は、前記排出管に設置される、
ことを特徴とする請求項１に記載の保持装置。
【請求項５】
前記チャックを支持して可動の可動部を備え、
前記パッシブ弁は、前記可動部に固定される、
ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の保持装置。
【請求項６】
前記パッシブ弁は、前記チャックと前記可動部との間に固定されることを特徴とする請求項５に記載の保持装置。
【請求項７】
前記パッシブ弁は、逆止弁であることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の保持装置。
【請求項８】
対象物を吸着する保持装置であって、
前記対象物を吸着する吸着部と、
前記対象物と前記吸着部との間の第１空間の気圧を調整する調整部と、
前記第１空間と気圧が大気圧である第２空間との間に配置され、前記調整部により前記第１空間の圧力が大気圧と比べて負圧になるように調整されることにより前記第２空間から前記第１空間への気体の流れを妨げるパッシブ弁と、を有し、
前記調整部が前記第１空間の気圧を大気圧と比べて正圧になるように調整している状態において前記パッシブ弁は前記第１空間から前記第２空間へ気体を流れさせることを特徴とする保持装置。
【請求項９】
パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を対象物として吸着して保持する請求項１ないし８のいずれか１項に記載の保持装置を備える、
ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１０】
請求項９に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を処理する工程と、
を含み、前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月19日(2016.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、その開示の他の観点によれば、チャンバと、前記チャンバに取り付けられた静電チャックとを備え、前記静電チャックは、貫通孔を備えたベースプレートと、前記ベースプレートの上に配置され、前記貫通孔に対応する位置に電極を備えた載置台と、前記ベースプレートの貫通孔内の上方に配置された第１筒状絶縁部品と、前記第１筒状絶縁部品の上に配置された第２筒状絶縁部品と、前記第１筒状絶縁部品の下に配置され、第１筒状絶縁部品の内径よりも小さい内径を有する第３筒状絶縁部品と、前記貫通孔に配置されたコネクタと、前記コネクタに備えられ、内部に弾性体を有する筒状部材と、前記コネクタに備えられ、前記弾性体に接続された給電端子とを有し、前記コネクタの筒状部材が前記第３筒状絶縁部品で固定された状態で、前記給電端子が前記載置台の電極に当接している半導体・液晶製造装置が提供される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
またこのとき、本来であれば、コネクタ７００の給電端子Ｔはばねに連結されているため、給電端子Ｔは弾性力によって接続電極Ｅの移動に追随して接続電極Ｅに当接したままの状態となるはずである。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月13日(2017.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水冷式の内燃機関が備えるウォータジャケットの内部に組み付けて冷却水の流れを制御するウォータジャケット用スペーサの製造方法であって、
前記ウォータジャケット用スペーサが、複数の円弧状周面部がくびれ部を介して連接した側壁部を有し、
前記側壁部の外周面に相当する位置に、長手方向に沿って複数のゲートが配列するように樹脂流路が設計された射出成形型を用いて、所定の樹脂材料を射出成形し、
型開きしてエジェクトした後も、前記ゲートに連なるランナを残した状態としたまま冷却し、しかる後に、前記ランナを切除することを特徴とするウォータジャケット用スペーサの製造方法。
【請求項２】
前記ランナが、前記側壁部に櫛歯状に接続した請求項１に記載のウォータジャケット用スペーサの製造方法。
【請求項３】
前記ランナの分岐部に、火打ち状の補強部を設けた請求項２に記載のウォータジャケット用スペーサの製造方法。
【請求項４】
前記ウォータジャケット用スペーサが、前記側壁部が対向して配置され、長手方向両端で円弧状端面部に接続された形状である請求項１〜３のいずれか一項に記載のウォータジャケット用スペーサの製造方法。
【請求項５】
前記ウォータジャケット用スペーサが、複数の円弧状周面部がくびれ部を介して連接した側壁部を有する形状の分割成形体を含む複数の分割成形体を成形して、これらの分割成形体を組み合わせてなる請求項４に記載のウォータジャケット用スペーサの製造方法。
【請求項６】
前記ウォータジャケット用スペーサが、前記ウォータジャケット用スペーサを長手方向に沿って二分された分割成形体を成形して、当該二つの分割成形体を組み合わせてなる請求項５に記載のウォータジャケット用スペーサの製造方法。
【請求項７】
前記円弧状周面部に相当する位置に前記ゲートを配置した請求項１〜６のいずれか一項に記載のウォータジャケット用スペーサの製造方法。
【請求項８】
前記くびれ部に相当する位置に前記ゲートを配置した請求項１〜７のいずれか一項に記載のウォータジャケット用スペーサの製造方法。
【請求項９】
水冷式の内燃機関が備えるウォータジャケットの内部に組み付けて冷却水の流れを制御するウォータジャケット用スペーサの製造方法であって、
前記ウォータジャケット用スペーサが、複数の円弧状周面部がくびれ部を介して連接した側壁部を有し、
前記側壁部の外周面側を固定型又は可動型の一方により成形し、前記側壁部の内周面側を固定型又は可動型の他方により成形する型構造とされ、前記ウォータジャケット用スペーサの両端縁に相当する位置に、長手方向に沿って複数のゲートが配列するように樹脂流路が設計された射出成形型を用いて、所定の樹脂材料を射出成形し、
型開きしてエジェクトした後も、前記ゲートに連なるランナを残した状態としたまま冷却し、しかる後に、前記ランナを切除することを特徴とするウォータジャケット用スペーサの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
また、図９（ｅ）〜（ｈ）に示すような分割成形体１ａのように、スペーサ１が、複数の円弧状周面部２がくびれ部３を介して連接した側壁部４を有する形状であって、型開きに際してアンダーカットとなるような部位がなければ、例えば、側壁部４の外周側を固定型又は可動型の一方により成形し、側壁部４の内周側を固定型又は可動型の他方により成形する型構造とした射出成形型により、スペーサ１を成形することができる。この場合、ゲート６は、図１１に示すように、スペーサ１の両端縁に相当する位置に配列させればよく、このようにしても、スペーサ１の内周面に抜き勾配を設ける必要がなくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月25日(2017.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＭＰＤスラスタであって、
推進剤から無電極プラズマを生成する無電極プラズマ生成装置と、
前記無電極プラズマを加速させる加速装置と、
生成された前記無電極プラズマを、前記加速装置に供給する供給路と、
を備え、
前記加速装置は、
磁気コイルと、
カソードと、
アノードと、
前記カソードと前記アノードの間に電圧を印加する電圧印加装置と、
を備え、
前記供給路は、前記カソードと前記アノードの間の空間に前記無電極プラズマを供給し、
前記磁気コイルは、前記空間内に、前記磁気コイルの中心軸の方向に沿う軸方向磁場成分及び前記中心軸に直交する径方向磁場成分を生成し、
前記電圧印加装置は、前記空間内に電流を生成し、
前記空間に供給される前記無電極プラズマは、前記軸方向磁場成分及び前記径方向磁場成分と、前記電流とによって誘起されるローレンツ力によって、前記無電極プラズマを加速し、
前記カソードの位置は、前記アノードの位置よりも上流側にある
ＭＰＤスラスタ。
【請求項２】
請求項１に記載のＭＰＤスラスタにおいて、
前記供給路と前記磁気コイルの前記中心軸との距離は、前記カソードと前記中心軸との距離より大きく、前記アノードと前記中心軸との距離より小さい
ＭＰＤスラスタ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のＭＰＤスラスタにおいて、
前記カソードは、前記磁気コイルの前記中心軸に沿って配置される
ＭＰＤスラスタ。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載のＭＰＤスラスタにおいて、
前記無電極プラズマ生成装置は、
前記供給路の周囲に配置されるアンテナ
を備え、
前記無電極プラズマ生成装置は、前記アンテナにより誘起される電場と、前記磁気コイルにより生成される磁場との相互作用により、前記推進剤をプラズマ化する
ＭＰＤスラスタ。
【請求項５】
請求項４に記載のＭＰＤスラスタにおいて、
前記供給路は、複数の供給管を含み、
前記複数の供給管は、前記カソードの周囲に等間隔で配置され、
前記無電極プラズマ生成装置は、前記アンテナを複数備え、
前記複数の供給管の各々の周囲には、複数の前記アンテナのうちの１つが配置される
ＭＰＤスラスタ。
【請求項６】
請求項５に記載のＭＰＤスラスタにおいて、
前記無電極プラズマ生成装置は、
１つの電源装置と、
インピーダンス整合器と、
を更に備え、
前記１つの電源装置は、前記インピーダンス整合器を介して、複数の前記アンテナを駆動する
ＭＰＤスラスタ。
【請求項７】
請求項４乃至６のいずれか一項に記載のＭＰＤスラスタにおいて、
前記アンテナは、ヘリカルアンテナであり、
前記無電極プラズマは、ヘリコンプラズマである
ＭＰＤスラスタ。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載のＭＰＤスラスタにおいて、
前記カソードは、ホローカソードである
ＭＰＤスラスタ。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載のＭＰＤスラスタにおいて、
前記無電極プラズマを放出するノズル
を更に備え、
前記アノードは、前記ノズルの内面の少なくとも一部を構成する
ＭＰＤスラスタ。
【請求項１０】
ＭＰＤスラスタを用いて無電極プラズマを加速する方法であって、
カソードとアノードの間の空間に無電極プラズマを供給して、前記空間内の電気抵抗率を下げる工程と、
前記空間内に、前記ＭＰＤスラスタの中心軸の方向に沿う軸方向磁場成分及び前記中心軸に直交する径方向磁場成分を生成する工程と、
前記空間内に電流を生成する工程と、
前記軸方向磁場成分及び前記径方向磁場成分と、前記電流とによって誘起されるローレンツ力によって、前記無電極プラズマを加速する工程と
を備え、
前記カソードの位置は、前記アノードの位置よりも上流側にある
方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月16日(2017.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回動可能な回転体と、
前記回転体の軸線方向に延び、前記回転体の上に配置されるブレードと、
前記ブレードに固定され、前記軸線方向と交差する短手方向において、前記回転体側に前記ブレードが突出するように支持する支持部材と、
前記支持部材が支持される載置面を有する枠体と、
前記載置面の上に前記支持部材を介して配置し、前記枠体に固定される固定部材と、
を備えたカートリッジであって、
前記支持部材は、前記軸線方向に延びる切欠き部を有し、
前記固定部材は、エネルギーが加えられることにより変形した変形部が設けられ、前記変形部と前記切欠き部とが係合することにより、前記枠体に対して前記支持部材の移動を規制する構成を有する
ことを特徴とするカートリッジ。
【請求項２】
請求項１に記載のカートリッジであって、
前記固定部材と一体的に形成され、前記回転体の軸を支持する軸受部材を有する
ことを特徴とするカートリッジ。
【請求項３】
請求項１または２に記載のカートリッジであって、
前記変形部は、前記軸線方向において、前記切欠き部の長さより短い
ことを特徴とするカートリッジ。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載のカートリッジであって、
前記変形部は、前記切欠き部の前記短手方向において対向する二辺に沿って設けられている
ことを特徴とするカートリッジ。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載のカートリッジであって、
前記支持部材は、係合部をさらに有し、
前記枠体は、前記載置面に被係合部が設けられ、前記係合部と前記被係合部とが係合することにより、前記枠体に対して軸線方向における前記固定部材の位置決めをする
ことを特徴とするカートリッジ。
【請求項６】
請求項５に記載のカートリッジであって、
前記係合部と前記被係合部の一方は凸部であり、他方は前記短手方向において前記凸部の長さより短い前記凹部である
ことを特徴とするカートリッジ。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載のカートリッジであって、
前記回転体は、現像剤担持体であり、
前記ブレードは、前記現像剤担持体に担持された現像剤の厚さを規制する現像ブレードである
ことを特徴とするカートリッジ。
【請求項８】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載のカートリッジであって、
前記回転体、感光体ドラムであり、
前記ブレードは、前記感光体ドラムの表面から現像剤を除去するクリーニングブレードである
ことを特徴とするカートリッジ。
【請求項９】
回動可能な回転体と、
前記回転体の軸線方向に延び、前記回転体の上に配置されるブレードと、
前記ブレードに固定され、前記軸線方向と交差する短手方向において、前記回転体側に前記ブレードが突出するように支持する支持部材と、
前記支持部材が支持される載置面を有する枠体と、
前記載置面の上に前記支持部材を介して配置し、前記枠体に固定される固定部材と、
を備えたカートリッジの製造方法であって、前記支持部材の上に前記固定部材を配置し、前記枠体に前記固定部材を固定する第１工程と、
前記第１工程後、エネルギーを加えることにより、前記固定部材を変形させ、変形部を形成し、前記支持部材の前記軸線方向に延びる切欠き部と係合させ、前記枠体に対して前記支持部材の移動を規制する構成とする第２工程と、
を有することを特徴とするカートリッジの製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載のカートリッジの製造方法であって、
前記第２工程において、前記変形部はレーザーにより前記固定部にエネルギーを加え、形成する
ことを特徴とするカートリッジの製造方法。
【請求項１１】
請求項９に記載のカートリッジの製造方法であって、
前記第２工程において、前記変形部は熱を前記固定部材に加え、形成する
ことを特徴とするカートリッジの製造方法。
【請求項１２】
請求項９ないし１１のいずれか１項に記載のカートリッジの製造方法であって、
前記第１工程において、前記固定部材は前記回転体の軸を支持する軸受部材と一体的に形成され、前記軸受部材と固定部材の間で前記支持部材の移動を規制するとともに、前記回転体の軸を支持する
ことを特徴とするカートリッジの製造方法。
【請求項１３】
請求項９ないし１２のいずれか１項に記載のカートリッジの製造方法であって、
前記変形部は、前記軸線方向において、前記切欠き部の長さより短いこと
ことを特徴とするカートリッジの製造方法。
【請求項１４】
請求項９ないし１３のいずれか１項に記載のカートリッジの製造方法であって、
前記変形部は、前記切欠き部の前記短手方向において対向する二辺に沿って設けられている
ことを特徴とするカートリッジの製造方法。
【請求項１５】
請求項９ないし１４のいずれか１項に記載のカートリッジの製造方法であって、
前記枠体の前記載置面の上に前記支持部材を配置し、前記枠体の前記載置面に設けられた被係合部と、前記支持部材の係合部とを係合させ、前記枠体に対して軸線方向における前記固定部材の位置決めをする第３工程をさらに有し、
前記第３工程後、前記第１工程を行う
ことを特徴とするカートリッジの製造方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載のカートリッジの製造方法であって、
前記係合部と前記被係合部の一方は凸部であり、他方は前記短手方向において前記凸部の長さより短い前記凹部である
ことを特徴とするカートリッジの製造方法。
【請求項１７】
請求項９ないし１６のいずれか１項に記載のカートリッジの製造方法であって、
前記回転体は、現像剤担持体であり、
前記ブレードは、前記現像剤担持体に担持された現像剤の厚さを規制する現像ブレードである
ことを特徴とするカートリッジの製造方法。
【請求項１８】
請求項９ないし１６のいずれか１項に記載のカートリッジの製造方法であって、
前記回転体、感光体ドラムであり、
前記ブレードは、前記感光体ドラムの表面から現像剤を除去するクリーニングブレードである
ことを特徴とするカートリッジの製造方法。