【手続補正書】
【提出日】平成28年12月13日(2016.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
次に中間ブロックＡ４について、斜視図である図４及び後方から前方に向かって見た概略縦断背面図である図５も参照しながら説明する。中間ブロックＡ４の左右の中央部の前方側には、受け渡し部を構成するモジュールのタワーＴ２が設けられており、当該タワーＴ２は、多数の受け渡しモジュールＴＲＳ及び温度調整モジュールＳＣＰＬが上下に積層されることにより構成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
前方から後方に向かって見て、下側搬送機構４１、上側搬送機構４２の右側には、周縁露光モジュール５１Ａ、５１Ｂと加熱モジュール５２Ａ〜５２Ｈと排気ユニット５３Ａ、５３Ｂとが互いに積層されて設けられており、下方から上方に向けて、５３Ａ、５２Ａ、５２Ｂ、５２Ｃ、５２Ｄ、５１Ａ、５３Ｂ、５２Ｅ、５２Ｆ、５２Ｇ、５２Ｈ、５１Ｂの順で設けられている。周縁露光モジュール５１Ａ、５１Ｂは、夫々ウエハＷの周縁部の不要なレジスト膜を除去するために、当該周縁部を露光する。この周縁露光モジュール５１Ａ、５１Ｂは、露光前のウエハＷの表面状態を検査するために、カメラによる撮像についても行えるように構成してもよい。加熱モジュール５２Ａ〜５２Ｈは、処理ブロックＡ３の加熱モジュール２２と同様に、載置されたウエハＷを加熱する熱板を備えている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
上記の保護膜形成モジュールＩＴＣ１〜ＩＴＣ３、周縁露光モジュール５１Ａ、加熱モジュール５２Ａ〜５２Ｄ及び温度調整モジュールＳＣＰＬ１１は、下側搬送機構４１によってウエハＷの受け渡しが行える高さに設けられている。そして、保護膜形成モジュールＩＴＣ４〜ＩＴＣ６、周縁露光モジュール５１Ｂ、加熱モジュール５２Ｅ〜５２Ｈ及び温度調整モジュールＳＣＰＬ１２は、上側搬送機構４２によってウエハＷの受け渡しが行える高さに設けられている。また、下側搬送機構４１、上側搬送機構４２は、インターフェイスブロックＡ５に設けられる後述のタワーＴ３に設けられる受け渡しモジュールＴＲＳにもウエハＷの受け渡しを行う。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
受け渡しモジュールＴＲＳ２１、ＴＲＳ２２に搬送されたウエハＷは、搬送機構６２により裏面洗浄モジュール６４に搬送されて裏面洗浄された後、受け渡しモジュールＴＲＳ２３に搬送され、搬送機構６１により露光装置Ａ６に搬送されて露光され、然る後、搬送機構６１により受け渡しモジュールＴＲＳ２４に搬送される。その後、搬送機構６３により表面洗浄モジュール６５に搬送されて、表面洗浄された後、タワーＴ３の受け渡しモジュールＴＲＳ２０に搬送され、シャトル５７によりタワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳ１０に直通で搬送される。つまり、中間ブロックＡ４の処理モジュールである保護膜形成モジュールＩＴＣ１〜６、加熱モジュール５２Ａ〜Ｈ、周縁露光モジュール５１Ａ、５１Ｂを素通りするように搬送される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
この塗布、現像装置１によれば、処理ブロックＡ３においてレジスト膜が形成された露光前のウエハＷに対して各種の処理を行う中間ブロックＡ４が設けられ、この中間ブロックＡ４には、多数の保護膜形成モジュールＩＴＣ１〜６からなる処理モジュールの積層体と、多数の加熱モジュール５２Ａ〜Ｈ及び複数の周縁露光モジュール５１Ａ、５１Ｂからなる処理モジュールの積層体と、処理ブロックＡ３から中間ブロックＡ４にウエハＷを受け渡すため受け渡しモジュールＴＲＳが積層されるタワーＴ２と、タワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳから上記の各積層体をなすモジュールにウエハＷを搬送し、当該モジュールにて処理済みのウエハＷをインターフェイスブロックＡ５に搬送する上下間搬送機構３１、下側搬送機構４１及び上側搬送機構４２と、露光済みのウエハＷを現像するためにインターフェイスブロックＡ５の受け渡しモジュールＴＲＳ２０からタワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳ１０へ直通でウエハＷを搬送するシャトル５７と、が設けられている。上記のように処理モジュールの積層体を形成することで、中間ブロックＡ４に設けられる保護膜形成モジュールＩＴＣ１〜６、加熱モジュール５２Ａ〜Ｈ、周縁露光モジュール５１Ａ、５１Ｂ夫々の個数の増加を図りつつ、中間ブロックＡ４ひいては塗布、現像装置１のフットプリントの上昇を抑えることができる。そして、シャトル５７が設けられていることで、速やかに露光済みのウエハＷを処理ブロックＡ３に戻すことができ、上記の各処理モジュールの積層体に対してウエハＷを受け渡す下側搬送機構４１及び上側搬送機構４２が露光済みのウエハＷを処理ブロックＡ３に戻すために動作する必要が無く、これら下側搬送機構４１及び上側搬送機構４２の負担が抑えられる。結果として、装置のスループットの向上を図ることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
保護膜形成モジュールＩＴＣ１〜６との差異点として、現像モジュールＮＴＤ１〜ＮＴＤ６は、保護膜形成用の薬液の代わりにレジスト膜における露光されていない領域を除去する現像（以下、ネガ型現像と記載する）を行うための現像液をウエハＷに供給する。塗布、現像装置７では、レジスト膜が形成された後、ポジ型現像を行う場合、当該ウエハＷは現像モジュールＤＥＶ４〜ＤＥＶ６に搬送されて現像処理され、ネガ型現像を行う場合、当該ウエハＷは現像モジュールＮＴＤ１〜ＮＴＤ６に搬送されて現像処理される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
塗布、現像装置１と同様に塗布、現像装置７では、中間ブロックＡ４において、加熱モジュール５２Ａ〜５２Ｈが積層されて設けられている。ただし、塗布、現像装置７における加熱モジュール５２Ａ〜５２Ｈは、その役割について塗布、現像装置１の加熱モジュール５２Ａ〜５２Ｈと異なり、露光後のウエハＷの加熱を行う。また、この第２の実施形態における中間ブロックＡ４には、周縁露光モジュール５１Ａ、５１Ｂが設けられていない。例えば周縁露光モジュールは、単位ブロックＢ１〜Ｂ３の加熱モジュール２２に積層して設けておき、ウエハＷはレジスト塗布後に各単位ブロックＢ１〜Ｂ３にて周縁露光処理されるようにしてもよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
タワーＴ２１の受け渡しモジュールＴＲＳ１１〜ＴＲＳ１３に受け渡されたウエハＷが、中間ブロックＡ４２で処理を受ける場合、例えば当該ウエハＷは、中間ブロックＡ４１の下側搬送機構４１→タワーＴ２２の受け渡しモジュールＴＲＳ１９→中間ブロックＡ４２の上下間搬送機構３１→タワーＴ２２の受け渡しモジュールＴＲＳ１７、ＴＲＳ１８に受け渡され、中間ブロックＡ４２の下側搬送機構４１及び上側搬送機構４２により、当該中間ブロックＡ４２内を搬送されて処理される。その後、中間ブロックＡ４１で処理されたウエハＷと同様に、タワーＴ２３の各受け渡しモジュールＴＲＳ１７、ＴＲＳ１８及び中間ブロックＡ４３の下側搬送機構４１、上側搬送機構４２を介してタワーＴ３の受け渡しモジュールＴＲＳ２１、ＴＲＳ２２へ搬送される。タワーＴ２１の受け渡しモジュールＴＲＳ１１〜ＴＲＳ１３に受け渡されたウエハＷが、中間ブロックＡ４３で処理を受ける場合、例えば当該ウエハＷは、中間ブロックＡ４１の下側搬送機構４１→タワーＴ２２の受け渡しモジュールＴＲＳ１９→中間ブロックＡ４２の下側搬送機構４１→タワーＴ２３の受け渡しモジュールＴＲＳ１９→中間ブロックＡ４３の上下間搬送機構３１→タワーＴ２３の受け渡しモジュールＴＲＳ１７、ＴＲＳ１８に受け渡され、中間ブロックＡ４３の下側搬送機構４１及び上側搬送機構４２により、当該中間ブロックＡ４３にて搬送されて処理された後、タワーＴ３の受け渡しモジュールＴＲＳ２１、ＴＲＳ２２へ受け渡される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
（第４の実施形態）
第４の実施形態の塗布、現像装置７２について、塗布、現像装置１との差異点を中心に、図１４の平面図を参照しながら説明する。この塗布、現像装置７２に関しては、中間ブロックＡ４の配置が塗布、現像装置１とは異なっており、受け渡しブロックＡ２と処理ブロックＡ３との間に中間ブロックＡ４が設けられている。また、中間ブロックＡ４において、保護膜形成モジュールＩＴＣ１〜６の代わりに裏面洗浄モジュール６４と同様に構成された裏面洗浄モジュール７３が複数積層されて設けられ、現像処理が行われたウエハＷはキャリア１１に戻される前に、当該裏面洗浄モジュール７３に搬送されて洗浄される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2016178185.tif 000001
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2016178185.tif 000002
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2016178185.tif 000003
【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2016178185.tif 000004
【手続補正１４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2016178185.tif 000005
【手続補正１５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
2016178185.tif 000006
【手続補正１６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１７】
2016178185.tif 000007