【手続補正書】
【提出日】平成29年9月14日(2017.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
図６は、対向基板２００への横方向の力が強く、柱状スペーサ４０が凹部を超えて、周辺に乗り上げている場合の状態を示す断面図である。図６に示すように、スルーホールの周辺は、コモン金属配線の突起が形成されることとなり、配向膜材料を塗布したときのレベリング効果により、配向膜１１３の膜厚は凹部内に比べて小さくなっている。したがって、仮に図６のように、柱状スペーサ４０がスルーホールの周辺に乗り上げることがあっても、配向膜１１３の削れは小さく抑えることが出来る。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
図７は、液晶の配向方向９０と映像信号線２０の延在方向が同じ方向である場合の映像信号線２０の側面からの光の反射を示す模式図である。この場合、p偏光成分はなくｓ偏光とｐ偏光の割合は変わらないので、反射光の偏光軸の方向は変化しない。図８は、液晶の配向方向９０と映像信号線２０の延在方向がある角度、例えばθを持っている場合である。この時は、ｐ偏光の反射率はｓ偏光の反射率よりも小さくなるので、入射光と反射光の偏光軸が変化することになる。そして、θが大きくなるほど、偏光軸のずれは大きくなる。そうすると、上偏光板による検光作用が十分でなくなり、黒表示においても光もれが生ずるようになる。つまりコントラストが低下する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
以上の説明では、コモン金属配線３０は、例えばＡｌ合金単層であるとして説明したが、これに限らず、コモン金属配線３０は複数層で形成されていてもよい。例えば、ＡｌやＡｌ合金の上層および下層にＭｏＷ等の薄膜を形成することもできる。高融点金属によって上層を形成することにより、Ａｌのヒロックが成長して容量絶縁膜および配向膜を突き破って液晶層に達し、液晶中の電界を乱すことを防止することが出来る。また、Ａｌ合金とＩＴＯが直接接触すると、Ａｌが酸化され、Ａｌ合金とＩＴＯの電気的導通が十分にとれなくなる場合がありうる。高融点金属で下層を形成することによって、Ａｌが酸化されることを防止し、ＩＴＯとコモン金属配線との導通を十分にとることが出来る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
図２３は、このような構成を示す例である。図２３は混色の目立ちやすい赤画素６０Ｒおよび青画素６０Ｂに対応するコモン金属配線３０の幅を増加させた例である。図２３において、赤画素６０Ｒ側の増加分を３５で示し、青画素６０Ｂ側の増加分を３６で示す。緑画素６０Ｇは、他の色に比較して明るさへの影響が大きいので、他の画素に比べて透過率が大きくなっている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
本実施例は、コモン電極１１０とコモン金属配線３０の位置関係を示す例である。図２６は本実施例の第１の形態を示す平面図である。図２６では、画素電極は省略されている。画素電極とコンタクト電極を導通させるために、コンタクトホール１３０内において、容量絶縁膜１１１にコンタクトホール１３２を形成している。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
図２６に戻り、コモン金属配線３０は映像信号線２０を覆って、映像信号線２０の幅よりも大きい幅で形成される。前述した柱状スペーサの配置のため、図２６では、コンタクトホール１３０の付近では、映像信号線２０を覆うコモン金属配線３０は、映像信号線1本置きに設けられている。つまり、一本おきに前述の開放部が設けられている。コモン金属配線３０の開放部（切欠き）は1本おきに限らず数本おきでも良い。このような構成とすることによりスペーサによる配向膜の削れ防止とコモン電極の抵抗低減とを両立させることが出来る。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
コンタクトホール１３０内は、形状が複雑であり、容量絶縁膜１１１には、亀裂等が生じやすい。一方、有機パッシベーション膜１０９は水分を含みやすく、この水分が容量絶縁膜１１１の亀裂等を通して液晶層に侵入すると、液晶の動作を劣化させる。そこで、図３２では、有機パッシベーション膜１０９と容量絶縁膜１１１の間に保護ＩＴＯ１１０１を形成することによって、有機パッシベーション膜１０９に存在する水分が液晶内に侵入することを防止している。なお、保護ＩＴＯ１１０１はコモン電極１１０と同時に形成されるが、パターニング後はコンタクト電極と接続されているので、仮に、容量絶縁膜１１１に亀裂が入って、この部分で、画素電極と保護ＩＴＯ１１０１が接触しても特性に影響が生ずることはない。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
また、以上の実施例の説明では、コモン金属配線は、映像信号線および走査線を覆うようにして形成されているとしたが、コモン金属配線は、映像信号線あるいは走査線のいずれかを覆うように形成されている場合にも本発明を適用することが出来る。また、コモン金属配線とコモン電極とは、有機パッシベーション膜１０９と容量絶縁膜１１１との間で積層される構成となっているが、コモン金属配線とコモン電極との間に絶縁膜を設け、コンタクトホールにて双方の導通をとる構成であってもよい。また、実施例１から７の画素電極が液晶層側に設けられる構造において、コモン金属配線３０のスルーホール内部の全部、或いは画素電極よりも所定距離離れた一部に画素電極と同層のＩＴＯを設ける構成であってもよい。これにより、配向膜が部分的に形成されなくなる領域ができ、配向膜の削れ防止効果を高めることが可能となる場合もある。
【手続補正９】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査線と、映像信号線と、前記走査線と前記映像信号線とに囲まれた領域に形成された画素電極と、前記画素電極に対して絶縁膜を介して形成されたコモン電極とが形成されたＴＦＴ基板と、スペーサを有する対向基板と、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板の間に挟持された液晶とを有する液晶表示装置であって、
前記映像信号線または前記走査線を覆うようにして、前記コモン電極と積層してコモン金属配線が形成され、前記コモン金属配線には、スルーホールが形成され、
前記スルーホールの内部に前記スペーサの先端が配置していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記スルーホールの一部に開放部が設けられ、前記スルーホールは、前記コモン金属配線の外側に開放されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記開放部は、平面で視て前記スルーホールの半分以下にわたって形成されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記コモン金属配線は前記コモン電極の上側に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
互いに異なる色を表示する前記画素が第１の方向に配列し、前記画素の前記第１の方向の境界における前記コモン金属配線の幅は、前記第1の方向に隣接する境界における前記コモン金属配線の幅と異なることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
互いに互いに異なる色を表示する前記画素が前記第１の方向に配列し、前記画素の前記第１の方向の境界における前記コモン金属配線は、前記境界における前記映像信号線の中心を基準にした場合、左右において、幅が異なることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記コモン金属配線の前記スルーホールと重畳して、前記絶縁膜にスルーホールが形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記コモン電極は、前記画素電極の上側に形成されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記コモン金属配線は、３層構造であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記コモン金属配線は２層構造であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
走査線が第１の方向に延在し、映像信号線が第２の方向に延在し、前記走査線と前記映像信号線に囲まれた領域に画素電極が形成され、前記画素電極に対して第１の絶縁膜を介してコモン電極が形成されたＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向してスペーサを有する対向基板が配置され、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板の間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記画素電極、前記第１の絶縁膜、前記コモン電極は第２の絶縁膜の上に形成され、前記第２の絶縁膜には、前記画素電極とＴＦＴを接続するためのコンタクトホールが形成され、
前記映像信号線または前記走査線を覆うようにして、前記コモン電極と積層してコモン金属配線が形成され、前記コモン金属配線には、スルーホールが形成され、
前記スルーホールの内部に前記スペーサが配置しており、
前記映像信号線を覆う前記コモン金属配線は、前記コンタクトホールが形成されている付近においては、前記第１の方向に映像信号線の1本おき毎に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
前記コンタクトホールの中心は、前記第１の方向において、前記画素の中心に対し、前記コンタクトホールが形成されている付近において前記映像信号線が形成されている部分から遠ざかる方向に配置されていることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
走査線が第１の方向に延在し、映像信号線が第２の方向に延在し、前記走査線と前記映像信号線に囲まれた領域に画素電極が形成され、前記画素電極に対して絶縁膜を介してコモン電極が形成されたＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向してスペーサを有する対向基板が配置され、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板の間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記映像信号線の延在方向は液晶の初期配向方向と所定の角度を有しており、
前記映像信号線を覆うようにして、前記コモン電極と積層してコモン金属配線が形成され、
前記コモン電極の幅は前記映像信号線の幅よりも大きく、
前記映像信号線の厚さは前記コモン電極の厚さよりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１４】
前記所定の角度は５度乃至１５であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記映像信号線と前記コモン金属配線の間には、断面で視て、絶縁膜が存在し、前記絶縁膜の厚さをｙとし、前記コモン金属配線の幅をｗ１、前記映像信号線の幅をｗ２とし、ｘ=（ｗ1−ｗ２）/２としたとき、ｘ≧ｙｔａｎ５°であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記ｘは３μｍ以下であることを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記コモン金属配線は３層構造であることを特徴とする請求項１3乃至１６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記コモン金属配線は２層構造であることを特徴とする請求項１3乃至１６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。