Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月21日(2017.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の遊技を行うことが可能な遊技機において、
遊技の進行に伴って実行される演出を制御する演出制御手段と、
所定の待機位置から動作位置へ変位可能な可動部材と、
遊技者による操作が可能な操作部と、を備え、
前記演出制御手段は、所定の演出を行わせるとともに、前記可動部材を前記待機位置から前記動作位置へと変位させることがあり、
前記可動部材は、前記所定の演出が終了し、前記所定の演出とは別の演出が行われても、前記動作位置に位置し続けることがあり、
前記演出制御手段は、前記可動部材が前記待機位置にないときに前記操作部が操作されたことに基づいて、前記可動部材を前記待機位置に復帰可能なものであることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
請求項１に記載の遊技機であって、
前記可動部材は、所定の装置に干渉しないように前記動作位置へ変位可能であることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
ところで上記のように遊技機に設けられた可動部材の動作については、改善の余地がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の遊技機は、
所定の遊技を行うことが可能な遊技機において、
遊技の進行に伴って実行される演出を制御する演出制御手段と、
所定の待機位置から動作位置へ変位可能な可動部材と、
遊技者による操作が可能な操作部と、を備え、
前記演出制御手段は、所定の演出を行わせるとともに、前記可動部材を前記待機位置から前記動作位置へと変位させることがあり、
前記可動部材は、前記所定の演出が終了し、前記所定の演出とは別の演出が行われても、前記動作位置に位置し続けることがあり、
前記演出制御手段は、前記可動部材が前記待機位置にないときに前記操作部が操作されたことに基づいて、前記可動部材を前記待機位置に復帰可能なものであることを特徴とする遊技機である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、可動部材の動作を改善することが可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月7日(2016.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る遊技台は、その一態様として、遊技媒体を電子的に貯留する貯留手段と、前記貯留手段に貯留された前記遊技媒体を払い出すために操作される精算操作手段と、待機状態を演出する待機状態演出を実行する演出手段と、を備え、前記貯留手段に前記遊技媒体の貯留がある場合に前記精算操作手段に対する操作があると、前記遊技媒体が払い出された後に前記演出手段により前記待機状態演出を実行可能な遊技台であって、入賞後に前記貯留手段に前記遊技媒体の貯留がある場合に前記精算操作手段に対する操作があると、前記遊技媒体が払い出された後に前記演出手段により前記待機状態演出が実行されない第一の役を備え、前記第一の役は、入賞により前記遊技媒体を投入することなく再遊技が可能な再遊技役である、ことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技媒体を電子的に貯留する貯留手段と、
前記貯留手段に貯留された前記遊技媒体を払い出すために操作される精算操作手段と、
待機状態を演出する待機状態演出を実行する演出手段と、を備え、
前記貯留手段に前記遊技媒体の貯留がある場合に前記精算操作手段に対する操作があると、前記遊技媒体が払い出された後に前記演出手段により前記待機状態演出を実行可能な遊技台であって、
入賞後に前記貯留手段に前記遊技媒体の貯留がある場合に前記精算操作手段に対する操作があると、前記遊技媒体が払い出された後に前記演出手段により前記待機状態演出が実行されない第一の役を備え、
前記第一の役は、入賞により前記遊技媒体を投入することなく再遊技が可能な再遊技役である、
ことを特徴とする遊技台。
【請求項２】
請求項１記載の遊技台であって、
前記演出手段は、遊技中演出を実行する手段であり、
前記演出手段は、前記第一の役が入賞した場合に、前記第一の役が入賞したときに実行していた前記遊技中演出を、前記遊技媒体が払い出された後も継続する手段である、
ことを特徴とする遊技台。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月17日(2016.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球が流下可能とされた遊技パネルを具備する遊技盤を備えた遊技機において、
側部から光を入射可能とされた透光性を有する複数の導光板と、
前記複数の導光板の側部に光を入射させるための複数の光源と、
前記複数の光源の発光制御を行う制御手段と、
所定の演出表示を行う演出表示部と、を備え、
前記複数の導光板のうちの第１の導光板の面部には、第１光源からの光が該第１の導光板の側部に入射されることで表出される第１装飾が設けられ、
前記複数の導光板のうちの第２の導光板の面部には、第２光源からの光が該第２の導光板の側部に入射されることで表出される第２装飾が、前記第１の導光板における前記第１装飾と前後方向に重なるように設けられ、
前記制御手段は、
前記第１光源を発光させる第１発光制御と、前記第２光源を発光させる第２発光制御とを実行可能であり、
所定時点からの第１時間の経過に基づき前記演出表示部にて第１演出表示が行われるときに前記第１発光制御を実行し、前記第１演出表示に関連して前記第１装飾を表出し、前記第１時間とは異なる第２時間の経過に基づき前記演出表示部にて第２演出表示が行われるときに前記第２発光制御を実行し、前記第２演出表示に関連して前記第２装飾を表出し得ることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、これに鑑みてなされたもので、その目的は、遊技盤を新たな態様で装飾することで、興趣の低下を抑制する遊技機を提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項１に係る遊技機は、
遊技球が流下可能とされた遊技パネルを具備する遊技盤を備えた遊技機において、
側部から光を入射可能とされた透光性を有する複数の導光板と、
前記複数の導光板の側部に光を入射させるための複数の光源と、
前記複数の光源の発光制御を行う制御手段と、
所定の演出表示を行う演出表示部と、を備え、
前記複数の導光板のうちの第１の導光板の面部には、第１光源からの光が該第１の導光板の側部に入射されることで表出される第１装飾が設けられ、
前記複数の導光板のうちの第２の導光板の面部には、第２光源からの光が該第２の導光板の側部に入射されることで表出される第２装飾が、前記第１の導光板における前記第１装飾と前後方向に重なるように設けられ、
前記制御手段は、
前記第１光源を発光させる第１発光制御と、前記第２光源を発光させる第２発光制御とを実行可能であり、
所定時点からの第１時間の経過に基づき前記演出表示部にて第１演出表示が行われるときに前記第１発光制御を実行し、前記第１演出表示に関連して前記第１装飾を表出し、前記第１時間とは異なる第２時間の経過に基づき前記演出表示部にて第２演出表示が行われるときに前記第２発光制御を実行し、前記第２演出表示に関連して前記第２装飾を表出し得ることを特徴とする遊技機。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項１に係る遊技機によれば、遊技盤を新たな態様で装飾することで、興趣の低下を抑制することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月19日(2017.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定条件の成立に基づいて遊技者に有利な特別遊技を実行するか否かの特別遊技判定を行い、該特別遊技判定によって特別遊技を実行すると判定された場合は前記特別遊技を実行する遊技機であって、
前記特別遊技判定が行われた場合、該特別遊技判定の結果を報知するための報知演出を実行する報知演出実行手段と、
前記報知演出の実行中に遊技機に関する説明を行う説明演出を実行するか否かを決定する説明演出決定手段と、
複数の前記説明演出から構成される複数の説明演出群を記憶する説明演出群記憶手段と、
演出態様が異なる複数種類の演出モードのうちいずれかの演出モードにて遊技の演出を制御する演出モード制御手段と、
前記説明演出を実行すると決定された場合、前記複数の説明演出群から前記演出モードの種類に対応する一の説明演出群を選択し、該選択された説明演出群から一の説明演出を選択する説明演出選択手段と、
前記報知演出の実行中に前記特別遊技が実行されるか否かを示唆する示唆演出を実行するか否かを決定する示唆演出決定手段と、
前記説明演出を実行すると決定された場合、前記説明演出を実行し、前記示唆演出を実行すると決定された場合、前記示唆演出を実行する演出実行手段と、を備え、
前記説明演出決定手段は、
前記複数種類の演出モードのうち、少なくとも第１演出モードにて遊技の演出が制御されている場合は、前記説明演出を実行するか否かを決定する、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明にかかる遊技機は、所定条件の成立に基づいて遊技者に有利な特別遊技を実行するか否かの特別遊技判定を行い、該特別遊技判定によって特別遊技を実行すると判定された場合は前記特別遊技を実行する遊技機であって、前記特別遊技判定が行われた場合、該特別遊技判定の結果を報知するための報知演出を実行する報知演出実行手段と、前記報知演出の実行中に遊技機に関する説明を行う説明演出を実行するか否かを決定する説明演出決定手段と、複数の前記説明演出から構成される複数の説明演出群を記憶する説明演出群記憶手段と、演出態様が異なる複数種類の演出モードのうちいずれかの演出モードにて遊技の演出を制御する演出モード制御手段と、前記説明演出を実行すると決定された場合、前記複数の説明演出群から前記演出モードの種類に対応する一の説明演出群を選択し、該選択された説明演出群から一の説明演出を選択する説明演出選択手段と、前記報知演出の実行中に前記特別遊技が実行されるか否かを示唆する示唆演出を実行するか否かを決定する示唆演出決定手段と、前記説明演出を実行すると決定された場合、前記説明演出を実行し、前記示唆演出を実行すると決定された場合、前記示唆演出を実行する演出実行手段と、を備え、前記説明演出決定手段は、前記複数種類の演出モードのうち、少なくとも第１演出モードにて遊技の演出が制御されている場合は、前記説明演出を実行するか否かを決定する、ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明に係る遊技機によれば、多岐にわたった説明演出を実行可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月19日(2017.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定条件の成立に基づいて遊技者に有利な特別遊技を実行するか否かの特別遊技判定を行い、該特別遊技判定によって特別遊技を実行すると判定された場合は前記特別遊技を実行する遊技機であって、
前記特別遊技判定が行われた場合、該特別遊技判定の結果を報知するための報知演出を実行する報知演出実行手段と、
遊技機に関する説明を行う複数の説明演出から構成される複数の説明演出群を記憶する説明演出群記憶手段と、
前記特別遊技判定が第１の確率で実行されるとともに前記所定条件が成立し難い通常遊技状態と、前記特別遊技判定が前記通常遊技状態よりも高確率である第２の確率で実行されるとともに前記所定条件が成立し易い高確率遊技状態と、を含む複数の遊技状態のうちいずれかの遊技状態にて遊技を制御する遊技状態制御手段と、
前記通常遊技状態に制御されているときに、演出態様が異なる複数種類の演出モードのうちいずれかの演出モードにて遊技の演出を制御する演出モード制御手段と、
前記複数の説明演出群から一の説明演出群を選択し、該選択された説明演出群から一の説明演出を選択する説明演出選択手段と、
前記説明演出が選択された場合、前記説明演出を実行する特定演出実行手段と、
を備え、
前記説明演出選択手段は、
前記複数種類の演出モードのうち、少なくとも第１演出モードにて遊技の演出が制御されている場合は、前記説明演出を実行するか否かを選択する、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明にかかる遊技機は、所定条件の成立に基づいて遊技者に有利な特別遊技を実行するか否かの特別遊技判定を行い、該特別遊技判定によって特別遊技を実行すると判定された場合は前記特別遊技を実行する遊技機であって、前記特別遊技判定が行われた場合、該特別遊技判定の結果を報知するための報知演出を実行する報知演出実行手段と、遊技機に関する説明を行う複数の説明演出から構成される複数の説明演出群を記憶する説明演出群記憶手段と、前記特別遊技判定が第１の確率で実行されるとともに前記所定条件が成立し難い通常遊技状態と、前記特別遊技判定が前記通常遊技状態よりも高確率である第２の確率で実行されるとともに前記所定条件が成立し易い高確率遊技状態と、を含む複数の遊技状態のうちいずれかの遊技状態にて遊技を制御する遊技状態制御手段と、前記通常遊技状態に制御されているときに、演出態様が異なる複数種類の演出モードのうちいずれかの演出モードにて遊技の演出を制御する演出モード制御手段と、前記複数の説明演出群から一の説明演出群を選択し、該選択された説明演出群から一の説明演出を選択する説明演出選択手段と、前記説明演出が選択された場合、前記説明演出を実行する特定演出実行手段と、を備え、前記説明演出選択手段は、前記複数種類の演出モードのうち、少なくとも第１演出モードにて遊技の演出が制御されている場合は、前記説明演出を実行するか否かを選択する、ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明に係る遊技機によれば、多岐にわたった説明演出を実行可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月16日(2016.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層モールドを製造するためのシステムであって、
支持層；
硬化性ポリマー；
支持層および硬化性ポリマーを受けるような形状のニップポイント
を含み、前記ニップポイントは硬化性ポリマーに対するパターンを導入し、硬化したポリマーが第一表面上にパターンを維持し、該第一表面の反対側に第二表面を有するように該硬化性ポリマー硬化させ、ここで、第二表面が支持層と結合して積層モールドを形成する、前記積層モールドを製造するためのシステム。
【請求項２】
前記パターンが複数の空孔のアレイを含み、それぞれの空孔は所定の形状を有しており、最大寸法が１０マイクロメーター未満である、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記所定の形状が、円筒形または立方形から選択される形状である、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記第一表面が隣接する空孔間にランド領域を含み、さらに該ランド領域は第一表面の全表面積の５％〜９９％である、請求項２に記載のシステム。
【請求項５】
前記ランド領域が線寸法において２００ナノメートルである、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記硬化性ポリマーが、フルオロポリエーテル、パーフルオロポリエーテル、ポリ（ジメチルシロキサン）、ポリ（テトラメチレンオキシド）、ポリ（エチレンオキシド）、ポリ（オキセタン）、ポリイソプレン、ポリブタジエン、及びフルオロオレフィンベースフルオロエラストマーからなる群から選択される、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記ニップポイントが少なくとも１つのローラーを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記少なくとも１つのローラーが、硬化性ポリマーおよび支持層上で３ｐｓｉｇ〜８０ｐｓｉｇを与える、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記支持層と、前記硬化したポリマーの第二表面との間に配置されたつなぎ層をさらに含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
硬化したポリマーの厚さが７５マイクロメーター未満である、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
支持層の厚さが２０ミル（５０８マイクロメーター）未満である、請求項１に記載のシステム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年1月18日(2017.1.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
Ａｒ１は、炭素環式、複素環式、もしくはそれらの組み合わせであり得る、芳香族基を表す。芳香族基は、フェニルもしくはピリジル等の単一の芳香族環、ナフチル、アントラセニル、ピレニル、もしくはキノリニル等の縮合芳香族環、または１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン、９，１０−ジヒドロアントラセン、もしくはフルオレン等の芳香族ならびに非芳香族環の両方を有する縮合環系を含んでもよい。任意に芳香族基を置換してもよい。本明細書中で使用されるとき、用語「置換」アルキルもしくは芳香族基は、Ｃ１−３０アルキル、Ｃ２−３０アルケニル、Ｃ７−３０アラルキル、Ｃ６−３０アリール、−ＯＲ、−Ｃ１−３０アルキレン−ＯＲ、及び−Ｃ１−３０アルキリデン−ＯＲから選択される１つ以上の置換基で置換された水素のうちの１つ以上を有する、任意のそのような基を指し、式中、ＲはＨ、Ｃ１−３０アルキル、Ｃ２−３０アルケニル、及びＣ６−３０アリールから選択される。非置換もしくは置換Ａｒ１の代わりに、様々な芳香族基を使用することができる。そのような非置換芳香族基は、５〜４０個の炭素、好ましくは６〜３５個の炭素、より好ましくは６〜３０個の炭素を有する。好適な芳香族基は、フェニル、ビフェニル、ナフタレニル、アントラセニル、フェナントレニル、ピレニル、テトラセニル、トリフェニルエニル、テトラフェニル、ベンゾ［ｆ］テトラフェニル、ベンゾ［ｍ］テトラフェニル、ベンゾ［ｋ］テトラフェニル、ペンタセニル、ペリレニル、ベンゾ［ａ］ピレニル、ベンゾ［ｅ］ピレニル、ベンゾ［ｇｈｉ］ペリレニル、コロネニル、キノロニル、７，８−ベンゾキノリニル、フルオレニル、及び１２Ｈ−ジベンゾ［ｂ，ｈ］フルオレニルを含むがそれらに限定されず、それらの各々は置換されていなくても置換されていてもよい。Ｒ１は独立して、カルボキシル、ヒドロキシ、ニトロ、シアノ、Ｃ１−５アルコキシ、及びホルミルから選択される基を表す。Ｙは独立して、例えば、硫黄、任意に置換されたアミノ基、アミド、エーテル、カルボニルエステル、スルホニルエステル、スルホン、スルホンアミド、及び二価炭化水素基、例えば、Ｃ１−２０直鎖、分岐、もしくは環状の任意に置換された炭化水素基、ならびにそれらの組み合わせから選択される結合基を表す。Ｚは独立して、フッ素化アルコール、フッ素化エステル、置換または非置換アルキル、Ｃ５以上の単環式、多環式、縮合多環式脂環式、またはアリールから選択される基を表し、かかる基は任意にヘテロ原子を含んでいてもよく、ただしＺの少なくとも１つの存在はフッ素化アルコール基である。ａは０以上、典型的には０〜２の整数であり、ｂは１以上、典型的には１〜２の整数であり、ｃは１以上、典型的には１〜２の整数であるが、ただし、ａ＋ｂ＋ｃが少なくとも２であり、かつ芳香族基の利用可能な芳香族炭素原子の総数以下であることを条件とする。典型的には、ａ＋ｂ＋ｃは２〜５、より典型的には２〜３である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月11日(2017.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
以上の課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、
光ファイバーケーブルにより温度を測定する光ファイバー温度計であって、
保護管に前記光ファイバーケーブルが通して構成されていることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項３に記載の発明は、
地盤に貫入させた噴射ロッドから硬化材液を高圧噴射して造成する地盤改良体の品質管理方法であって、
地盤改良体を造成する地盤に、請求項１または２に記載の前記保護管に前記光ファイバーケーブルが通して構成された光ファイバー温度計を挿入しておき、
地盤改良体の造成中に、その地盤改良体が造成される地盤の温度を前記光ファイバー温度計により連続的に測定することによって、地盤改良体の径に代表される形状を測定して品質管理することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項４に記載の発明は、
地盤に貫入させた噴射ロッドから硬化材液を高圧噴射して地盤改良体を造成する造成装置と、
地盤改良体を造成する地盤に挿入され、請求項１または２に記載の前記保護管に前記光ファイバーケーブルが通して構成された光ファイバー温度計と、
前記造成装置による前記噴射ロッドから硬化材液を高圧噴射して行う地盤改良体の造成中に、その地盤改良体が造成される地盤の温度を前記光ファイバー温度計により連続的に測定することによって、地盤改良体の径に代表される形状を測定して品質管理する管理装置と、を備える、地盤改良体の品質管理装置を特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバーケーブルにより温度を測定する光ファイバー温度計であって、
保護管に前記光ファイバーケーブルが通して構成されていることを特徴とする光ファイバー温度計。
【請求項２】
前記保護管は鉄やアルミニウム等の金属製であることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバー温度計。
【請求項３】
地盤に貫入させた噴射ロッドから硬化材液を高圧噴射して造成する地盤改良体の品質管理方法であって、
地盤改良体を造成する地盤に、請求項１または２に記載の前記保護管に前記光ファイバーケーブルが通して構成された光ファイバー温度計を挿入しておき、
地盤改良体の造成中に、その地盤改良体が造成される地盤の温度を前記光ファイバー温度計により連続的に測定することによって、地盤改良体の径に代表される形状を測定して品質管理することを特徴とする地盤改良体の品質管理方法。
【請求項４】
地盤に貫入させた噴射ロッドから硬化材液を高圧噴射して地盤改良体を造成する造成装置と、
地盤改良体を造成する地盤に挿入され、請求項１または２に記載の前記保護管に前記光ファイバーケーブルが通して構成された光ファイバー温度計と、
前記造成装置による前記噴射ロッドから硬化材液を高圧噴射して行う地盤改良体の造成中に、その地盤改良体が造成される地盤の温度を前記光ファイバー温度計により連続的に測定することによって、地盤改良体の径に代表される形状を測定して品質管理する管理装置と、を備えることを特徴とする地盤改良体の品質管理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月13日(2017.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
【図１】この発明に係る動力伝達ローラの第一実施形態を示し、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）中のｂ−ｂ線に沿う断面図
【図２】図１に示す動力伝達ローラの縦断面図
【図３】図１に示す動力伝達ローラの斜視図
【図４】図１に示す動力伝達ローラの分解斜視図
【図５】図１に示す動力伝達ローラの車体側への取り付け態様を示す縦断面図
【図６】図１に示す動力伝達ローラの作用を示す縦断面図
【図７】図６に示す動力伝達ローラの要部を示す縦断面図
【図８】この発明に係る動力伝達ローラの第二実施形態を示す正面図
【図９】この発明に係る動力伝達ローラの第三実施形態、及びその作用を示す正面図
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月5日(2017.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクブランク用基板の主表面上に、転写パターン形成用薄膜が形成されたマスクブランクに使用されるマスクブランク用基板の製造方法であって、
研磨砥粒を含む研磨液を用いてマスクブランク用基板を研磨する研磨工程と、
前記研磨工程の後、前記基板を物理洗浄、化学洗浄及びこれらの組み合わせの何れかで洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程の後、前記基板に対して、常態では溶解性を示さない処理流体を前記主表面に接触させ、且つ触媒定盤の加工基準面を前記主表面に接触又は接近させた状態で、前記基板と前記加工基準面を相対運動させることにより、前記主表面を触媒基準エッチングする触媒基準エッチング工程と、
を有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項２】
前記洗浄工程は、前記研磨工程において前記主表面上に付着した研磨液を除去した後に行い、前記主表面上に付着した異物を除去する工程であることを特徴とする請求項１記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項３】
前記基板はガラス材料からなることを特徴とする請求項１又は２記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項４】
研磨砥粒を含む研磨液を用いて研磨されたマスクブランク用基板の主表面上に、転写パターン形成用薄膜を形成してマスクブランクを作製するマスクブランクの製造方法であって、
研磨砥粒を含む研磨液を用いて研磨されたマスクブランク用基板を準備する工程と、
研磨された前記基板を物理洗浄、化学洗浄及びこれらの組み合わせの何れかで洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程の後、前記基板に対して、常態では溶解性を示さない処理流体を前記主表面に接触させ、且つ触媒定盤の加工基準面を前記主表面に接触又は接近させた状態で、前記基板と前記加工基準面を相対運動させることにより、前記主表面を触媒基準エッチングする触媒基準エッチング工程と、
前記触媒基準エッチング工程を行った後に、前記主表面上に転写パターン形成用薄膜をスパッタリング法により成膜する転写パターン形成用薄膜成膜工程と、
を行うことを特徴とするマスクブランクの製造方法。
【請求項５】
前記基板はガラス材料からなることを特徴とする請求項４記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項６】
前記触媒定盤の少なくとも前記加工基準面は、アルミニウム、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、テクネチウム、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、ハフニウム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金から選ばれる遷移金属及びこれらのうち少なくとも一つを含む合金からなる群より選ばれる少なくとも一種の材料からなることを特徴とする請求項４又は５記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項７】
前記処理流体は、純水であることを特徴とする請求項４乃至６のいずれか一項記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項８】
前記基板はガラス材料からなり、前記加工基準面は白金からなり、及び、前記処理流体は純水であることを特徴とする請求項７記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項９】
前記基板は合成石英ガラスからなることを特徴とする請求項５乃至８のいずれか一項記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１０】
前記洗浄工程は、前記研磨された前記基板の前記主表面上に付着した研磨液を除去した後に行い、前記主表面上に付着した異物を除去する工程であることを特徴とする請求項４乃至９のいずれか一項記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１１】
前記転写パターン形成用薄膜は、ケイ素を含む材料からなることを特徴とする請求項４乃至１０のいずれか一項記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１２】
請求項４乃至１１のいずれか一項記載のマスクブランクの製造方法によって得られたマスクブランクの前記転写パターン形成用薄膜をパターニングして、前記主表面上に転写パターンを形成することを特徴とする転写用マスクの製造方法。
【請求項１３】
前記転写パターン形成後に、物理洗浄を行うことを特徴とする請求項１２記載の転写用マスクの製造方法。
【請求項１４】
前記転写用マスクは、パターン線幅が１００ｎｍ以下である転写パターンを有することを特徴とする請求項１２又は１３記載の転写用マスクの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月12日(2017.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
建築物の防火区画体を厚み方向に貫通して形成された貫通部に配線・配管材が挿通され、該貫通部の内面と前記配線・配管材の外面との間に、熱により膨張する熱膨張性耐火具が設けられてなる貫通部の耐火構造であって、
前記熱膨張性耐火具は、前記配線・配管材の外面に対し間隙を空けて該外面を取り囲むように配置されて前記防火区画体に固定されており、
前記間隙には、前記熱膨張性耐火具の内周面に密接するとともに前記配線・配管材の外面に密接するように前記間隙を閉塞する閉塞部材が前記配線・配管材の外面に接着されることなく設けられ、
前記熱膨張性耐火具の内周面の摩擦係数が前記配線・配管材の外周面の摩擦係数よりも大きく、前記閉塞部材を前記間隙内に残した状態で前記熱膨張性耐火具に対する前記配線・配管材の軸方向への移動が許容されることを特徴とする貫通部の耐火構造。
【請求項２】
建築物の防火区画体を厚み方向に貫通して形成された貫通部に配線・配管材が挿通され、該貫通部の内面と前記配線・配管材の外面との間に、熱により膨張する熱膨張性耐火具が設けられてなる貫通部の耐火構造であって、
前記熱膨張性耐火具は、前記配線・配管材の外面に対し間隙を空けて該外面を取り囲むように配置されて前記防火区画体に固定されており、
前記間隙には、前記熱膨張性耐火具に対する前記配線・配管材の軸方向への移動を許容しつつ前記間隙を閉塞する閉塞部材が前記配線・配管材の外面に接着されることなく設けられ、
前記配線・配管材の外面には、該配線・配管材の移動を許容する装着部材が装着されていることを特徴とする貫通部の耐火構造。
【請求項３】
前記閉塞部材は、前記装着部材と、該装着部材の外面と前記熱膨張性耐火具の内面との間に充填される充填材と、からなることを特徴とする請求項２に記載の貫通部の耐火構造。
【請求項４】
建築物の防火区画体を厚み方向に貫通して形成された貫通部に配線・配管材が挿通され、該貫通部の内面と前記配線・配管材の外面との間に、熱により膨張する熱膨張性耐火具が設けられてなる貫通部の耐火構造であって、
前記熱膨張性耐火具は、前記配線・配管材の外面に対し間隙を空けて該外面を取り囲むように配置されて前記防火区画体に対して移動不能に設置されており、
前記間隙には、前記熱膨張性耐火具に対する前記配線・配管材の軸方向への移動を許容しつつ前記間隙を閉塞する、非熱膨張性の発泡性材料からなる閉塞部材が前記配線・配管材の外面に接着されることなく設けられ、
前記配線・配管材が軸方向に移動したときに、前記充填材及び前記閉塞部材が前記貫通部内に位置したままとなるように構成されていることを特徴とする貫通部の耐火構造。
【請求項５】
建築物の防火区画体を厚み方向に貫通して形成された貫通部に配線・配管材が挿通され、該貫通部の内面と前記配線・配管材の外面との間に、熱により膨張する熱膨張性耐火具が設けられてなる貫通部の耐火構造であって、
前記熱膨張性耐火具は、前記配線・配管材の外面に対し間隙を空けて該外面を取り囲むように配置されて前記防火区画体に対して移動不能に設置されており、
前記間隙には、前記熱膨張性耐火具に対する前記配線・配管材の軸方向への移動を許容しつつ前記間隙を閉塞する、非熱膨張性の発泡性材料からなる閉塞部材が前記配線・配管材の外面に接着されることなく設けられ、
前記閉塞部材が前記熱膨張性耐火具の内面に接着されていることを特徴とする貫通部の耐火構造。
【請求項６】
前記閉塞部材は、前記配線・配管材に対して接着性を持たない材料で形成された充填材であることを特徴とする請求項１、４又は５に記載の貫通部の耐火構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項４に記載の発明は、建築物の防火区画体を厚み方向に貫通して形成された貫通部に配線・配管材が挿通され、該貫通部の内面と前記配線・配管材の外面との間に、熱により膨張する熱膨張性耐火具が設けられてなる貫通部の耐火構造であって、
前記熱膨張性耐火具は、前記配線・配管材の外面に対し間隙を空けて該外面を取り囲むように配置されて前記防火区画体に対して移動不能に設置されており、
前記間隙には、前記熱膨張性耐火具に対する前記配線・配管材の軸方向への移動を許容しつつ前記間隙を閉塞する、非熱膨張性の発泡性材料からなる閉塞部材が前記配線・配管材の外面に接着されることなく設けられ、
前記配線・配管材が軸方向に移動したときに、前記充填材及び前記閉塞部材が前記貫通部内に位置したままとなるように構成されていることを要旨とする。
請求項５に記載の発明は、建築物の防火区画体を厚み方向に貫通して形成された貫通部に配線・配管材が挿通され、該貫通部の内面と前記配線・配管材の外面との間に、熱により膨張する熱膨張性耐火具が設けられてなる貫通部の耐火構造であって、
前記熱膨張性耐火具は、前記配線・配管材の外面に対し間隙を空けて該外面を取り囲むように配置されて前記防火区画体に対して移動不能に設置されており、
前記間隙には、前記熱膨張性耐火具に対する前記配線・配管材の軸方向への移動を許容しつつ前記間隙を閉塞する、非熱膨張性の発泡性材料からなる閉塞部材が前記配線・配管材の外面に接着されることなく設けられ、
前記閉塞部材が前記熱膨張性耐火具の内面に接着されていることを要旨とする。
請求項６に記載の発明は、請求項１，４又は５に記載の貫通部の耐火構造において、前記閉塞部材は、前記配線・配管材に対して接着性を持たない材料で形成された充填材であることを要旨とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月11日(2017.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
以上の課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、
管体に光ファイバーケーブルを巻き付けて構成される光ファイバー温度計であって、
高い剛性を具備する材料による管体に前記光ファイバーケーブルが巻き付けられていて、
その高い剛性を具備する材料による管体に巻き付けられた光ファイバーケーブルの外周の少なくとも一部に、低い熱伝導率を具備する材料による被膜が形成されていることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項４に記載の発明は、
地盤に薬液を注入して造成する地盤改良体の品質管理方法であって、
地盤改良体を造成する地盤に、請求項１から３のいずれか一項に記載の前記高い剛性を具備する材料による管体に巻き付けられた前記光ファイバーケーブルの外周の少なくとも一部に前記低い熱伝導率を具備する材料による被膜が形成されてなる光ファイバー温度計を挿入しておき、
地盤改良体の造成中に、その地盤改良体が造成される地盤の温度を前記光ファイバー温度計により連続的に測定することによって、地盤改良体の径に代表される形状を測定して品質管理することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項５に記載の発明は、
地盤に薬液を注入して造成する地盤改良体の品質管理装置であって、
地盤改良体を造成する地盤に挿入され、請求項１から３のいずれか一項に記載の前記高い剛性を具備する材料による管体に巻き付けられた前記光ファイバーケーブルの外周の少なくとも一部に前記低い熱伝導率を具備する材料による被膜が形成されてなる光ファイバー温度計と、
前記薬液の注入による地盤改良体の造成中に、その地盤改良体が造成される地盤の温度を前記光ファイバー温度計により連続的に測定することによって、地盤改良体の径に代表される形状を測定して品質管理する管理装置と、を備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
管体に光ファイバーケーブルを巻き付けて構成される光ファイバー温度計であって、
高い剛性を具備する材料による管体に前記光ファイバーケーブルが巻き付けられていて、
その高い剛性を具備する材料による管体に巻き付けられた光ファイバーケーブルの外周の少なくとも一部に、低い熱伝導率を具備する材料による被膜が形成されていることを特徴とする光ファイバー温度計。
【請求項２】
前記高い剛性を具備する材料による管体はステンレス製管体であることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバー温度計。
【請求項３】
前記低い熱伝導率を具備する材料による被膜はＦＲＰ製被膜であることを特徴とする請求項１または２に記載の光ファイバー温度計。
【請求項４】
地盤に薬液を注入して造成する地盤改良体の品質管理方法であって、
地盤改良体を造成する地盤に、請求項１から３のいずれか一項に記載の前記高い剛性を具備する材料による管体に巻き付けられた前記光ファイバーケーブルの外周の少なくとも一部に前記低い熱伝導率を具備する材料による被膜が形成されてなる光ファイバー温度計を挿入しておき、
地盤改良体の造成中に、その地盤改良体が造成される地盤の温度を前記光ファイバー温度計により連続的に測定することによって、地盤改良体の径に代表される形状を測定して品質管理することを特徴とする地盤改良体の品質管理方法。
【請求項５】
地盤に薬液を注入して造成する地盤改良体の品質管理装置であって、
地盤改良体を造成する地盤に挿入され、請求項１から３のいずれか一項に記載の前記高い剛性を具備する材料による管体に巻き付けられた前記光ファイバーケーブルの外周の少なくとも一部に前記低い熱伝導率を具備する材料による被膜が形成されてなる光ファイバー温度計と、
前記薬液の注入による地盤改良体の造成中に、その地盤改良体が造成される地盤の温度を前記光ファイバー温度計により連続的に測定することによって、地盤改良体の径に代表される形状を測定して品質管理する管理装置と、を備えることを特徴とする地盤改良体の品質管理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月22日(2017.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【特許文献１】実開平６−４７７３３号公報
【特許文献２】特開平８−１５９１６３号公報
【特許文献３】特開２００９−７９６９３号公報
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、上記状況に鑑み、プランマブロック軸受の稼働中における、円滑な回転の維持のための追加的な給油作業に要する時間を短縮し、これによりプランマブロック軸受を用いた生産設備の保守性及び生産性を向上させることを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
以上の通り、本発明によれば、プランマブロック軸受を用いた生産設備の稼働中におけるプランマブロック軸受への給油作業に要する時間を短縮し、これによりプランマブロック軸受を用いた生産設備の保守性と生産性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月26日(2016.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の遊技機のような演出は周知であり、同様の構成では、遊技に対する飽きが生じてしまい、遊技興趣の低下を招くおそれがある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、遊技興趣の低下を抑制することが可能な遊技機を提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項１に係る遊技機は、
遊技媒体を用いて遊技が行われる遊技機であって、
遊技に関する所定の演出画像を表示可能な第１演出表示装置と、
遊技に関する所定の演出画像を表示可能な第２演出表示装置と、
所定条件の成立に基づいて利益付与に関する抽選を行う抽選手段と、
前記抽選の結果に基づいて、前記第１演出表示装置及び前記第２演出表示装置による演出の進行を制御する演出制御手段と、
を備え、
前記演出制御手段は、
遊技の進行過程にて遊技者に特定の遊技操作を促す際に、前記第１演出表示装置にて特定の演出表示を行いつつ、前記第２演出表示装置にて該特定の遊技操作を促す特定促進表示を行う手段を有する
ことを特徴とする。
また、別発明として、以下の手段でもよい。
（手段１）
遊技者の操作によって遊技が行われる遊技領域を有した遊技盤と、該遊技盤を脱着可能に支持する本体枠と、扉枠とを備え、前記扉枠は、前記本体枠の前面に対して開閉可能に支持されると共に閉鎖した時に該本体枠に支持された前記遊技盤の少なくとも前記遊技領域が遊技者側へ臨む遊技窓を有した扉枠ベースと、前記扉枠ベースの前面且つ前記遊技窓より下側に配置され遊技媒体を貯留可能な貯留部を有する貯留ユニットと、表示装置と、前記表示装置上に重なるように配置され、遊技者が操作可能な接触型入力装置と、前記接触型入力装置の近傍に配置され、遊技者が操作可能な操作部とを備え、前記表示装置の表示により、遊技者に対して前記操作部の操作の示唆を行うことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項１に係る遊技機によれば、遊技興趣の低下を抑制することが可能となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技媒体を用いて遊技が行われる遊技機であって、
遊技に関する所定の演出画像を表示可能な第１演出表示装置と、
遊技に関する所定の演出画像を表示可能な第２演出表示装置と、
所定条件の成立に基づいて利益付与に関する抽選を行う抽選手段と、
前記抽選の結果に基づいて、前記第１演出表示装置及び前記第２演出表示装置による演出の進行を制御する演出制御手段と、
を備え、
前記演出制御手段は、
遊技の進行過程にて遊技者に特定の遊技操作を促す際に、前記第１演出表示装置にて特定の演出表示を行いつつ、前記第２演出表示装置にて該特定の遊技操作を促す特定促進表示を行う手段を有する
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
請求項１に記載の遊技機において、音の出力にかかる制御を行う音出力制御手段をさらに備えることを特徴とする遊技機。
【請求項３】
請求項１または２に記載の遊技機において、遊技結果に応じて遊技者に遊技価値を付与可能な遊技価値付与手段をさらに備えることを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月23日(2017.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＵＶ硬化性成分と、
芳香族環を有し、前記芳香族環がベンゼン基及びナフタレン基からなる群から選択される、モノアミド結晶性成分と、
アモルファス成分と
を含む相変化インク組成物。
【請求項２】
前記結晶性成分および前記アモルファス成分は、それぞれ、約６０：４０から約９５：５の重量比で混合される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ＵＶ硬化性成分および前記結晶性成分は、約４０：６０から約５：９５の重量比で混合される、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記アモルファス成分は、約１４０℃の温度にて約１〜約１００ｃｐｓの粘度を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記アモルファス成分は、約１０〜約５０℃のＴｇ値を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記ＵＶ硬化性成分は、（２−ヒドロキシルエチル）イソシアヌレートトリアクリレートである、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
ＵＶ硬化性成分と、
結晶性成分と、
多環式モノアミド及び多環式ジアミドからなる群から選択されるアモルファス成分と、
を含む相変化インク組成物。
【請求項８】
前記結晶性成分および前記アモルファス成分は、それぞれ、約６０：４０から約９５：５の重量比で混合される、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記ＵＶ硬化性成分および前記結晶性成分は、約４０：６０から約５：９５の重量比で混合される、請求項７に記載の組成物。
【請求項１０】
前記結晶性成分は、示差走査熱量測定に従う結晶化（Ｔｃｒｙｓ）ピークおよび溶融（Ｔｍｅｌｔ）ピークを示し、ピーク間の差（Ｔｍｅｌｔ−Ｔｃｒｙｓ）は、５５℃未満である、請求項７に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ＵＶ硬化性成分は、（２−ヒドロキシルエチル）イソシアヌレートトリアクリレートである、請求項７に記載の組成物。
【請求項１２】
ＵＶ硬化性成分と、
Ｎ−フェニルエチルベンズアミドである結晶性成分と、
４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロへキシル、シクロヘキシルタルトレートであるアモルファス成分と、
を含む相変化インク組成物。
【請求項１３】
前記結晶性成分および前記アモルファス成分は、それぞれ、約６０：４０から約９５：５の重量比で混合される、請求項１２に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月16日(2017.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像再形成可能な画像形成表面を有する画像形成部材と、前記画像形成表面へ湿し流体の層を塗布するように構成される湿し流体計量システムと、前記湿し流体層がレーザ画像形成システムを用いてデジタル画像データに従ってパターン化された後に、前記画像形成部材の前記画像形成表面へインクを塗布するように構成されるインキングシステムとを含むインクベースのデジタル印刷システムであって、前記システムは、
オフセット部材を備え、前記オフセット部材は、前記画像形成部材と共に第１のインク転写ニップを形成し、前記画像形成部材および前記オフセット部材は、前記画像形成表面から前記オフセット部材のオフセット部材表面へ前記インク画像を転写するように構成され、
さらに前記オフセット部材上に置かれたインクを、前記インクが前記オフセット部材から転写される前に照射するように構成される流動学的調整システム、を備えるインクベースのデジタル印刷システム。
【請求項２】
前記画像形成部材表面は滑らかなきめを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記オフセット部材表面は、前記画像形成部材表面のそれより粗いきめを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記画像形成部材へのインクの付着は、インクの凝集より少ない、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記画像形成部材へのインクの付着は、オフセット部材表面へのインクの付着より少ない、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記画像形成表面はシリコーンを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記画像形成表面はフルオロシリコーンを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記画像形成表面はフルオロエラストマ材料を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
デジタル画像データに従って複合インク画像を印刷するためのインクベースのデジタル印刷システムであって、前記システムは、複数のインクベースデジタル印刷モジュールとインキングシステムとを有し、前記複数のインクベースデジタル印刷モジュールはそれぞれ湿し流体計量システムを有し、前記湿し流体計量システムは、画像形成表面へ湿し流体の層を塗布するように構成され、前記インキングシステムは、前記湿し流体層がレーザ画像形成システムを用いてデジタル画像データに従ってパターン化された後に、画像形成部材の前記画像形成表面へインクを塗布するように構成され、
前記インクベースのデジタル印刷システムは、
オフセット部材を有する前記複数のインクベースデジタル印刷モジュールの少なくとも１つを備え、前記オフセット部材は前記画像形成部材と共に第１のインク転写ニップを形成し、前記画像形成部材および前記オフセット部材は、前記画像形成表面から前記オフセット部材のオフセット部材表面へ前記インク画像を転写するように構成され、
さらに前記オフセット部材上に置かれたインクを、前記インクが前記オフセット部材から転写される前に照射するように構成される、流動学的調整システム、を備えるインクベースのデジタル印刷システム。
【請求項１０】
前記画像形成部材表面は滑らかなきめを備える、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記オフセット部材表面は、前記画像形成部材表面のそれより粗いきめを備える、請求項９に記載のシステム。
【請求項１２】
前記画像形成部材へのインクの付着は、インクの凝集より少ない、請求項９に記載のシステム。
【請求項１３】
前記画像形成部材へのインクの付着は、オフセット部材表面へのインクの付着より少ない、請求項９に記載のシステム。
【請求項１４】
前記画像形成表面はシリコーンを含む、請求項９に記載のシステム。
【請求項１５】
前記画像形成表面はフルオロシリコーンを含む、請求項９に記載のシステム。
【請求項１６】
前記画像形成表面はフルオロエラストマ材料を含む、請求項９に記載のシステム。
【請求項１７】
インクベースのデジタル印刷の方法であって、
デジタル画像データに従って画像形成部材表面に配置された、湿し流体層の一部を選択的に除去することにより、前記画像形成部材の表面にインク画像を形成して、パターン化された湿し流体層を形成することと、前記パターン化された湿し流体層を有する前記画像形成部材表面にインクを供給して前記画像形成部材表面にインク画像を形成することと、を含み、前記画像形成部材表面は、オフセット部材表面と共に第１のインク転写ニップを形成し、前記オフセット部材表面は、前記画像形成部材表面のきめより粗いきめを有し、
前記オフセット部材上に置かれたインクを前記インクが前記オフセット部材から転写される前に流動学的調整システムによって照射し、前記インク画像を前記画像形成部材から前記オフセット部材へ前記第１の転写ニップにおいて転写することと、
前記転写されたインク画像を放射線に暴露して、前記インク画像を少なくとも部分的に硬化させる、または乾燥させることと、
前記オフセット部材および基材により形成される第２のインク転写ニップにおいて、前記オフセット部材から印刷可能基材へ前記インク画像を転写することと、
を含む、インクベースのデジタル印刷の方法。
【請求項１８】
前記印刷インク画像を有する前記基材を、第２インク画像を前記基材に印刷するためのオフセット構成を有する別のインクベースのデジタル印刷システムに搬送して、第１のインク画像との複合画像を形成することを含む、請求項１７に記載の方法。