Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月28日(2017.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静的混合及び熱交換のための装置（１）であって、
被覆要素（２）と、ミキサーインサート（３）とを含み、
前記ミキサーインサート（３）は前記被覆要素（２）内で動作状態にあり、
前記ミキサーインサート（３）は長手方向軸（４）を有し、
前記ミキサーインサート（３）には、ウェブ要素の第１のグループ（５）及びウェブ要素の第２のグループ（６）が設けられ、
前記ウェブ要素の第１のグループ（５）は、第１の共通グループ面（７）に沿って延出し、
前記ウェブ要素の第２のグループ面（６）は、第２の共通グループ面（８）に沿って延出し、
前記ウェブ要素（９，１０）の少なくとも一部にチャンネル（１１，１２）が設けられ、
前記チャンネルは、前記ウェブ要素（９，１０）の第１の端部（１３）から前記ウェブ要素（１１）の第２の端部（１４）に延びる静的混合及び熱交換のための装置（１）において、
前記被覆要素（２）は、前記ウェブ要素の前記第１の端部（１３）及び前記第２の端部（１４）に流体的に連結される対応するチャンネルを含み、
前記ウェブ要素の前記第１の端部（１３）及び前記第２の端部（１４）の少なくとも一つから前記被覆要素（２）内の前記対応するチャンネルへの連結は隙間なく形成され、
前記チャンネル（１１，１２）の長さは、前記ウェブ要素（９，１０）が前記長手方向軸（４）を含む場合、前記被覆要素（２）の平均直径よりも大きく形成されることを特徴とする静的混合及び熱交換のための装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置において、
前記チャンネル（１１，１２）は、前記ウェブ要素を囲む、混合空間と前記ウェブ要素内の前記チャンネルとの間で連結されないように前記ウェブ要素（９，１０）の内部に延びる装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の装置において、
前記第１のグループ（５，１５，２５，３５）及び第２のグループ（６，１６，２６，３６）が複数設けられ、
２つの隣接する第１のグループ（５，１５，２５，３５）又は２つの隣接する第２のグループ（６，１６，２６，３６）は、前記長手方向軸（４）に沿うウェブ要素（９，１０）の突出長さは長さＬ１であり、前記長手方向軸（４）に沿う前記隣接するグループ（２５）の前記ウェブ要素の重複部分の突出長さは長さＬ２となる態様で、重複し、
前記長さＬ２は、長さＬ１より小さくなり、ゼロより大きく形成される装置。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載の装置において、
前記ウェブ要素の少なくとも半分は、熱交換流体のためのチャンネル（１１，１２）を含む装置。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載の装置において、
前記被覆要素（２）は、熱交換流体を前記ウェブ要素の前記チャンネル（１１，１２，４１，４２）へ供給するための分配チャンネル（６４）を含む装置。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項に記載の装置において、
前記ウェブ要素内に配置される前記チャンネル（１１，１２，４１，４２）は円形要素の形状断面を有する装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】混合及び熱交換のための装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明はコスト効率よく生産される静的混合及び熱交換のための装置に関する。より詳細には、本発明は粘性又は高粘性流体、例えばポリマーを含む流体を冷却又は加熱するための装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
図１において、さらに、第１のグループ１５、第２のグループ１６、第１のグループ２５、第２のグループ２６、第１のグループ３５、第２のグループ３６、第１のグループ４５及び第２のグループ４６が示されている。ペアのグループ１５，１６，４５，４６を除いて、グループの全てのペアは同様に構成されている。そのため、以下の説明は第１のグループ５、２５、３５だけでなく第２のグループ６、２６、３６においても有効である。各グループは、複数のウェブ要素を含む。混合空間８０の大きさ及び／又はウェブ要素の幅に応じて、グループの２〜２０、好ましくは４〜１２のウェブ要素を互いに平行に配置することができる。その中心軸に沿うウェブ要素の第１の端部１３から第２の端部１４までの距離は、ウェブ要素の長さとして定義される。エッジから対向して配置されるエッジまでの中心軸に鉛直な方向に延びる寸法は、ウェブ要素の厚さとして定義される。長手方向軸４に対する横方向寸法は、図１にある図面の平面に鉛直な寸法であるウェブ要素の幅として定義される。ウェブ要素の第１のグループ５は、第１の共通グループ面７に沿って延びている。グループ面７は、その長手方向軸がウェブ要素の中心軸に一致するようにチャンネル１１が配置されている場合、ウェブ要素９の内部に延びるチャンネル１１の長手方向軸を含む。この視点において、グループ面７は、図面の平面に対して鉛直方向に延びている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
図１に従ってミキサーインサート３及び被覆要素２は、鋳造法により一体構造として製造されている。被覆要素２は、熱交換流体のための供給スタブ５２及び放出スタブ５３を含むジャケット本体５１から構成される。このジャケット本体は、複数の供給チャンネルに熱交換流体を分配するための分配チャンネル６４及び複数の放出チャンネルから熱交換流体を回収する回収チャンネル６５を備える。例えば、各供給チャンネル５４及び各放出チャンネル５５は、流体経路によって、ウェブ要素の第１及び第２の端部１３、１４に連結されている。供給チャンネル５６，５８，６０は、チャンネルを含むウェブ要素のそれぞれに設けられ、それが熱交換流体をウェブ要素内の対応するチャンネル及びチャンネル５７，５９に供給する。これらチャンネルはウェブ要素内のチャンネルからジャケット本体５１の回収チャンネル６５へ熱交換流体を導く。図１において、ウェブ要素９、２９、３９、４９は断面図で示されている。ウェブ要素１０、２０、３０、４０、５０は、図示された平面に対して背面側に配置されている。これらのウェブ要素を有するチャンネルは、視認できないため、部材番号を記載しない。ウェブ要素９の第１及び第２の端部１３，１４の少なくとも一つから対応するチャンネル５４，５５のそれぞれへの連結は、隙間なく形成される。ミキサーインサート３のウェブ要素、同様に被覆要素２は、有利には鋳造法によって製造された単一部品で構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月16日(2017.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面を有する金属ワークピースの物理的特性を変更するために前記金属ワークピースを加工する方法であって、
目的の金属コンポーネントに到達するための既定の加工パラメータを確立するステップと、
前記物理的特性の変更中に前記ワークピースを配置するステップと、
前記既定の加工パラメータにより衝撃を制御しつつ、前記ワークピースの第１のセクションの表面に衝撃を与えるステップと、
前記衝撃を与えるステップの間、前記ワークピースのこれから加工する第２のセクションの現在の物理的状態を感知するステップと、
前記ワークピースの前記現在の物理的状態の感知から得られた前記ワークピースの前記第２のセクションの前記現在の物理的状態に反応して、前記衝撃のための前記既定の加工パラメータを調整済み加工パラメータへと調整するステップと、
前記調整済み加工パラメータにより前記衝撃を制御しつつ、前記ワークピースの前記第２のセクションの前記表面にさらなる衝撃を与えるステップと
を含む方法。
【請求項２】
前記さらなる衝撃を与えるステップは、前記目的の金属コンポーネントに到達するまで継続される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ワークピースの前記表面にさらなる衝撃を与える間に前記ワークピースの現在の物理的状態を感知するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記既定の加工パラメータ及び前記調整済み加工パラメータは共に、前記ワークピースへの衝撃カバレージエリア、前記衝撃のエネルギーレベル、及び前記ワークピースの前記カバレージエリアへの前記衝撃の付与レートを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
従動部材を提供することと、前記従動部材により前記衝撃を与えることとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
エンドエフェクタを提供することと、前記エンドエフェクタに前記従動部材を設置することとを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記エンドエフェクタにセンサを設置することと、前記センサにより前記感知するステップを実行することとを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記従動部材によって前記ワークピースの前記表面に前記衝撃を与えるために、前記エンドエフェクタを制御するためのマニピュレータを提供することを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記エンドエフェクタを運動経路に従って位置決めし、且つ運動させるために、前記マニピュレータと通信する制御装置を提供することを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記ワークピースの物理的特性は前記ワークピースの外形を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
表面を有する金属ワークピースの加工及び外形形成のための方法であって、
前記ワークピースの前記外形に到達するための既定の加工パラメータを確立するステップと、
制御装置を提供するステップと、
前記既定の加工パラメータを前記制御装置にインストールするステップと、
前記ワークピースが前記外形に到達するまで、前記ワークピースを加工のために配置するステップと、
エンドエフェクタと、前記エンドエフェクタに設置された従動部材とを提供するステップと、
前記既定の加工パラメータを伴って、前記制御装置を前記エンドエフェクタと通信させるステップと、
前記ワークピースの前記外形に到達するために、前記既定の加工パラメータの制御下で、前記従動部材により前記ワークピースの第１のセクションの前記表面に複数回衝撃付与するステップと、
衝撃付与中に前記ワークピースのこれから加工する第２のセクションの既存の物理的状態を監視するためのセンサを提供するステップと、
前記既定の加工パラメータの制御下で前記エンドエフェクタと前記従動部材とを既定の運動経路を介して位置決めし、且つ運動させるために、前記制御装置と通信するマニピュレータを提供するステップと、
前記ワークピースの前記第２のセクションの外形に到達するための調整済み加工パラメータにより前記ワークピースの前記第２のセクションをさらに加工するために、前記センサから受信した前記ワークピースの前記第２のセクションの既存の物理的状態に反応して、前記既定の加工パラメータを前記調整済み加工パラメータへと調整するステップと
を含む方法。
【請求項１２】
前記既定の加工パラメータ及び前記調整済み加工パラメータは共に、前記ワークピースへの前記衝撃付与のエネルギーレベル、前記ワークピースへの前記衝撃付与レート、及び、前記ワークピースへの前記衝撃付与のカバレージエリアを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
表面を有する金属ワークピースを金属コンポーネントに加工するための装置であって、
前記加工中の前記ワークピースのための支持体と、
前記ワークピースの前記表面に複数の衝撃を与える従動部材と、
前記金属ワークピースの物理的特性を変更するため、既定の加工パラメータの制御下で前記ワークピースの第１のセクションの表面に複数の衝撃を与えるために、前記従動部材に接続されて前記既定の加工パラメータを有する制御装置と、
前記従動部材が前記ワークピースの第２のセクションの表面に複数の衝撃を与える間に前記ワークピースのこれから加工する第２のセクションの既存の物理的状態を継続的に感知するためのセンサと、
前記ワークピースの前記第２のセクションの既存の物理的状態を前記センサから前記制御装置に伝送し、前記ワークピースの前記第２のセクションの既存の物理的状態に反応して、金属コンポーネントに到達するためのさらなる加工を行うために前記既定の加工パラメータを調整済み加工パラメータへと調整するフィードバックシステムと
を備える装置。
【請求項１４】
前記金属ワークピースはシート金属であり、前記金属コンポーネントは航空機に有用なコンポーネントである、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記金属ワークピースはプレート金属であり、前記金属コンポーネントは航空機に有用なコンポーネントである、請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】
前記既定の加工パラメータ及び前記調整済み加工パラメータは共に、前記ワークピースへの衝撃カバレージエリア、前記従動部材の衝撃エネルギーレベル、及び前記ワークピースの前記カバレージエリアへの前記衝撃の付与レートを含む、請求項１３に記載の装置。
【請求項１７】
前記ワークピースの前記表面に複数の衝撃を与えるため、エンドエフェクタと前記エンドエフェクタに設置される前記従動部材とを含む、請求項１３に記載の装置。
【請求項１８】
前記従動部材によって前記ワークピースの前記表面に衝撃を与えるために、前記エンドエフェクタの運動及び位置を制御するためのマニピュレータを含む、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記センサは前記エンドエフェクタに設置される、請求項１７に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月16日(2017.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子線の照射により放射線を発生するターゲット層を有する透過型ターゲットと、前記ターゲット層に電子線を照射する電子放出源と、を備えた放射線発生装置と、前記放射線発生装置から放出され被験者の乳房を透過した放射線を検出する放射線検出器と、を備える放射線撮影装置であって、
前記電子放出源は前記ターゲット層上に放射線焦点を形成し、
前記放射線検出器は、前記放射線発生装置の側に検出面を有し、
前記放射線発生装置は、前記検出面上に、前記被験者に近い側に位置する端辺である近接辺と、前記被験者から離れた側に位置する端辺である遠方辺と、を有する放射線照射領域を形成するように配置され、
前記放射線焦点の中心を通り前記ターゲット層に垂直な垂線と、前記検出面を含む仮想平面と、は、一意に定まる交点を形成し、
前記交点と前記近接辺との距離Ａと、前記交点と前記遠方辺との距離Ｂが、距離Ａ＜距離Ｂであることを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項２】
前記距離Ｂは前記距離Ａの２倍以上であることを特徴とする請求項１に記載の放射線撮影装置。
【請求項３】
前記ターゲット層と前記仮想平面との間において前記垂線が前記被験者と交差するように、前記ターゲット層は前記放射線発生装置に傾斜して設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の放射線撮影装置。
【請求項４】
前記電子放出源は、前記ターゲット層から前記電子放出源の側へ伸ばした前記垂線よりも前記被験者から離れた位置に設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項５】
前記近接辺の中央を近接中点、前記遠方辺の中央を遠方中点としたとき、
前記距離Ａは前記交点と前記近接中点との間の距離であり、前記距離Ｂは前記交点と前記遠方中点との間の距離であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項６】
前記垂線と前記検出面とのなす角θは、９０度以上１８０度以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項７】
前記垂線と前記検出面とのなす角θは、１００度以上１６０度以下であることを特徴とする請求項６に記載の放射線撮影装置。
【請求項８】
前記透過型ターゲットは、前記ターゲット層を支持する支持基板を、前記ターゲット層を挟んで前記電子放出源とは反対側に有していることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項９】
電子線の照射により放射線を発生するターゲット層を有する透過型ターゲットと、前記ターゲット層に電子線を照射する電子放出源と、を備える放射線発生装置と、前記放射線発生装置から放出され被験者の乳房を透過した放射線を検出する検出面を有する放射線検出器と、を備える放射線撮影装置であって、
前記電子放出源は前記ターゲット層上に放射線焦点を形成し、
前記放射線発生装置は、前記被験者から最も近い側と最も遠い側のそれぞれに近接辺と遠方辺とを有する放射線照射領域を前記検出面上に形成するように配置され、
前記遠方辺から見た焦点径が前記近接辺から見た焦点径より小さくなるように、前記ターゲット層が配置されていることを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項１０】
前記放射線焦点の中心を通り前記ターゲット層に垂直な垂線と、前記検出面を含む仮想平面と、は、一意に定まる交点を形成し、
前記交点と前記近接辺との距離Ａと、前記交点と前記遠方辺との距離Ｂが、距離Ａ＜距離Ｂであることを特徴とする請求項９に記載の放射線撮影装置。
【請求項１１】
前記距離Ｂは前記距離Ａの２倍以上であることを特徴とする請求項１０に記載の放射線撮影装置。
【請求項１２】
前記ターゲット層と前記仮想平面との間において前記垂線が前記被験者と交差するように、前記ターゲット層が前記検出面に対して傾斜して設けられていることを特徴とする請求項１０または１１に記載の放射線撮影装置。
【請求項１３】
前記電子放出源は、前記ターゲット層から前記電子放出源の側へ伸ばした前記垂線よりも前記被験者から離れた位置に設けられていることを特徴とする請求項１０乃至１２のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１４】
前記近接辺の中央を近接中点、前記遠方辺の中央を遠方中点としたとき、
前記距離Ａは前記交点と前記近接中点との間の距離であり、前記距離Ｂは前記交点と前記遠方中点との間の距離であることを特徴とする請求項１０乃至１３のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１５】
前記垂線と前記検出面とのなす角θは、９０度以上１８０度以下であることを特徴とする請求項１０乃至１４のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１６】
前記垂線と前記検出面とのなす角θは、１００度以上１６０度以下であることを特徴とする請求項１５に記載の放射線撮影装置。
【請求項１７】
前記透過型ターゲットは、前記ターゲット層を支持する支持基板を、前記ターゲット層を挟んで前記電子放出源とは反対側に有していることを特徴とする請求項９乃至１６のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、上記目的のために、第一に、電子線の照射により放射線を発生するターゲット層を有する透過型ターゲットと、前記ターゲット層に電子線を照射する電子放出源と、を備えた放射線発生装置と、前記放射線発生装置から放出され被験者の乳房を透過した放射線を検出する放射線検出器と、を備える放射線撮影装置であって、
前記電子放出源は前記ターゲット層上に放射線焦点を形成し、
前記放射線検出器は、前記放射線発生装置の側に検出面を有し、
前記放射線発生装置は、前記検出面上に、前記被験者に近い側に位置する端辺である近接辺と、前記被験者から離れた側に位置する端辺である遠方辺と、を有する放射線照射領域を形成するように配置され、
前記放射線焦点の中心を通り前記ターゲット層に垂直な垂線と、前記検出面を含む仮想平面と、は、一意に定まる交点を形成し、
前記交点と前記近接辺との距離Ａと、前記交点と前記遠方辺との距離Ｂが、距離Ａ＜距離Ｂであることを特徴とする放射線撮影装置を提供するものである。
また第二に、電子線の照射により放射線を発生するターゲット層を有する透過型ターゲットと、前記ターゲット層に電子線を照射する電子放出源と、を備える放射線発生装置と、前記放射線発生装置から放出され被験者の乳房を透過した放射線を検出する検出面を有する放射線検出器と、を備える放射線撮影装置であって、
前記電子放出源は前記ターゲット層上に放射線焦点を形成し、
前記放射線発生装置は、前記被験者から最も近い側と最も遠い側のそれぞれに近接辺と遠方辺とを有する放射線照射領域を前記検出面上に形成するように配置され、
前記遠方辺から見た焦点径が前記近接辺から見た焦点径より小さくなるように、前記ターゲット層が配置されていることを特徴とする放射線撮影装置を提供するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月17日(2017.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乳房収納部を挟んで対向する放射線発生管及び放射線検出器と、
前記乳房収納部への被検者の乳房の挿入方向に前記乳房収納部の内側を通る回転軸の周りに前記放射線発生管及び前記放射線検出器を共に回転させる回転駆動部と、
前記放射線発生管及び前記放射線検出器を収納し、前記被検者の側に前面部を有するガントリと、
を有する乳房断層撮影装置であって、
前記放射線発生管は、電子線の照射により放射線を発生するターゲット層と該ターゲット層を支持する支持基板とを有する透過型のターゲットと、前記ターゲット層に電子線を照射する電子放出源と、を備えることを特徴とする乳房断層撮影装置。
【請求項２】
前記ターゲット層は、前記支持基板を前記乳房収納部の側へ向けるように、前記回転軸に対して傾斜していることを特徴とする請求項１に記載の乳房断層撮影装置。 
【請求項３】
前記ターゲット層は、前記電子放出源から放出された電子線の照射方向に対して傾斜していることを特徴とする請求項２に記載の乳房断層撮影装置。
【請求項４】
前記前面部と前記放射線発生管の焦点中心との距離が、前記前面部と前記電子放出部との距離よりも短くなるように、前記ターゲットと前記電子放出源が配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の乳房断層撮影装置。
【請求項５】
前記電子放出部と前記ターゲットとの間に印加する加速電圧をＶａ（Ｖ）とした時に、前記ターゲットの電位はグランド電位（０Ｖ）であり、前記電子放出部の電位は−Ｖａ（Ｖ）であることを特徴とする請求項４に記載の乳房断層撮影装置。
【請求項６】
前記回転軸に対する前記ターゲットの傾斜角度θが、撮影に必要な放射線の取出角度をφとした時に、０°＜θ＜（９０−φ）°であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の乳房断層撮影装置。
【請求項７】
前記ガントリは、前記前面部に、前記乳房収納部の内側に乳房を挿入するための挿入口が設けられており、該挿入口の周囲は前記ガントリの内側へ窪んだ凹状となっていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の乳房断層撮影装置。
【請求項８】
前記放射線発生管は、前記ターゲットの前記支持基板の側に接続され、前記ターゲットから放出された放射線の照射範囲を制限する前方遮蔽体を備えていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の乳房断層撮影装置。
【請求項９】
前記放射線発生管は、前記ターゲットと、前記ターゲットを支持する陽極部材とを有する陽極と、
前記電子放出源と、前記電子放出源を支持する陰極部材とを有する陰極と、
前記陽極と前記陰極との間において挟持され前記陽極と前記陰極とに接続される絶縁管と、を有し、
前記陽極部材は、管軸方向において前記絶縁管から離れる方向に突出している突出部を有し、
前記ターゲットは、前記突出部において前記陽極部材に支持され、前記前面部と前記絶縁管との間に位置することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の乳房断層撮影装置。
【請求項１０】
前記放射線発生管は、冷却媒体と共に、金属製の収納容器に収納され、
前記収納容器は、開口を有し、
前記陽極部材は、前記管軸方向において前記開口から突出し、
前記ターゲットは、前記収納容器と前記前面部との間に位置することを特徴とする請求項９に記載の乳房断層撮影装置。
【請求項１１】
前記放射線発生管は、冷却媒体と共に、金属製の収納容器に収納され、
前記収納容器は、開口を有し、
前記陽極部材は、前記管軸方向において前記開口から突出し、
前記ターゲットは、前記開口と前記前面部との間に位置することを特徴とする請求項９に記載の乳房断層撮影装置。
【請求項１２】
前記支持基板は、前記ターゲット層で発生した放射線を透過することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の乳房断層撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】乳房断層撮影装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明は、上記目的のために、乳房収納部を挟んで対向する放射線発生管及び放射線検出器と、
前記乳房収納部への被検者の乳房の挿入方向に前記乳房収納部の内側を通る回転軸の周りに前記放射線発生管及び前記放射線検出器を共に回転させる回転駆動部と、
前記放射線発生管及び前記放射線検出器を収納し、前記被検者の側に前面部を有するガントリと、
を有する乳房断層撮影装置であって、
前記放射線発生管は、電子線の照射により放射線を発生するターゲット層と該ターゲット層を支持する支持基板とを有する透過型のターゲットと、前記ターゲット層に電子線を照射する電子放出源と、を備えることを特徴とする乳房断層撮影装置を提供するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
第１の例に係るマンモ（乳房）断層撮影装置は、ガントリ１０の内部に、放射線発生管１Ａと放射線検出器４を備えている。放射線発生管１Ａは、透過型放射線発生管である。ガントリ１０の前面部１１（被験者７側の壁面）には開口（挿入口）１２があり、乳房収納部５を規定するボア１３が配置されている。放射線発生管１Ａと放射線検出器４は、乳房収納部５を挟んで対向して配置されて支持台１４に支持されている。支持台１４は、回転駆動部６によって回転可能となっている。回転駆動部６は、支持台１４を回転させることで、回転軸１５の周りに放射線発生管１及び放射線検出器４を共に回転させるものとなっている。回転軸１５は、乳房収納部５の内側への乳房８の挿入方向に乳房収納部５内を通る直線となっている。なお、放射線発生管１と乳房収納部５との間に、放射線の照射領域を規定するための不図示のコリメータを設けてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2015058182.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2015058182.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月30日(2017.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の抽選条件の成立に基づいて抽選を行い、該抽選の結果が当りの場合に所定の遊技利益を付与する遊技機であって、
遊技者が操作可能な演出用操作手段と、
前記演出用操作手段を振動させる振動手段とを備え、
前記振動手段は、前記演出用操作手段が操作されたときだけでなく、前記演出用操作手段が操作されていない所定時期にも前記演出用操作手段を振動させうる
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−０３４６８２号公報
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、
所定の抽選条件の成立に基づいて抽選を行い、該抽選の結果が当りの場合に所定の遊技利益を付与する遊技機であって、
遊技者が操作可能な演出用操作手段と、
前記演出用操作手段を振動させる振動手段とを備え、
前記振動手段は、前記演出用操作手段が操作されたときだけでなく、前記演出用操作手段が操作されていない所定時期にも前記演出用操作手段を振動させうる
ことを特徴とする。
また、本発明とは別の発明として以下の手段を参考的に例示する。
（手段１）遊技機において、遊技者の操作によって遊技が行われる遊技領域を有した遊技盤と、該遊技盤を脱着可能に支持する本体枠と、扉枠と、を備え、前記遊技盤は、複数の装飾図柄を変動させた後に停止表示すると共に所定の演出画像を表示する表示装置を備え、前記扉枠は、前記本体枠の前面に対して開閉可能に支持されると共に閉鎖した時に該本体枠に支持された前記遊技盤の少なくとも前記遊技領域が遊技者側へ臨む遊技窓を有した扉枠ベースと、前記扉枠ベースの前面且つ前記遊技窓より下側に配置され遊技媒体を貯留可能な貯留部を有する貯留ユニットと、遊技者が操作可能な接触型入力装置と、前記接触型入力装置を振動させる振動発生装置とを備え、前記振動発生装置は、遊技者の前記接触型入力装置への操作とは無関係のタイミングで前記接触型入力装置を振動させることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月6日(2017.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記導光体レンズに形成された前記取付部の基端部の厚さを他の部位の厚さよりも薄く設定したことを特徴とする請求項１記載の車両用灯具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記導光体レンズに形成された前記取付部の基端部の厚さを他の部位の厚さよりも薄く設定したことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月28日(2017.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア層を有する下側配線基板と、
前記下側配線基板の上に搭載された電子部品と、
前記下側配線基板及び前記電子部品の上に配置され、コアレス基板からなる上側配線基板と、
前記電子部品に対応する領域の前記上側配線基板に備えられ、前記電子部品の面積に対応する面積を有する補強層と、
前記下側配線基板と前記上側配線基板とを接続する接続端子と、
前記下側配線基板と前記上側配線基板との間に充填された封止樹脂と
を有することを特徴とする電子部品装置。
【請求項２】
コアレス基板からなる下側配線基板と、
前記下側配線基板の上に搭載された電子部品と、
前記電子部品に対応する領域の前記下側配線基板に備えられ、前記電子部品の面積に対応する面積を有する第１補強層と、
前記下側配線基板及び前記電子部品の上に配置され、コアレス基板からなる上側配線基板と、
前記電子部品に対応する領域の前記上側配線基板に備えられ、前記電子部品の面積に対応する面積を有する第２補強層と、
前記下側配線基板と前記上側配線基板とを接続する接続端子と、
前記下側配線基板と前記上側配線基板との間に充填された封止樹脂と
を有することを特徴とする電子部品装置。
【請求項３】
コアレス基板からなる下側配線基板と、
前記下側配線基板の上に搭載された電子部品と、
前記電子部品に対応する領域の前記下側配線基板に備えられ、前記電子部品の面積に対応する面積を有する補強層と、
前記下側配線基板及び前記電子部品の上に配置され、コア層を有する上側配線基板と、
前記下側配線基板と前記上側配線基板とを接続する接続端子と、
前記下側配線基板と前記上側配線基板との間に充填された封止樹脂と
を有することを特徴とする電子部品装置。
【請求項４】
前記コア層は、繊維補強材含有樹脂層から形成されることを特徴とする請求項１又は３に記載の電子部品装置。
【請求項５】
前記コアレス基板は、絶縁層と配線層とが積層されて形成され、
前記絶縁層内に形成された全てのビア導体は、前記電子部品装置の外面側の直径が前記電子部品装置の内方側の直径よりも小さい円錐台形状であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電子部品装置。
【請求項６】
前記接続端子は、金属柱であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電子部品装置。
【請求項７】
前記コアレス基板からなる配線基板は配線層と絶縁層とを備え、前記補強層は前記配線層と同一層から形成され、前記補強層及び前記配線層が前記絶縁層に埋め込まれていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電子部品装置。
【請求項８】
前記コア層の厚みは、前記コアレス基板からなる配線基板の１層の絶縁層の厚みよりも厚いことを特徴とする請求項１又は３に記載の電子部品装置。
【請求項９】
コア層を有する下側配線基板を用意する工程と、
前記下側配線基板の上に電子部品を搭載する工程と、
支持体の上に、補強層を含むコアレス基板からなる上側配線基板を形成して、上側配線部材を得る工程と、
前記下側配線基板の上に、前記電子部品を収容するように、接続端子を介して前記支持体を上側にして前記上側配線部材を配置する工程と、
前記下側配線基板と前記上側配線部材との間に封止樹脂を充填する工程と、
前記上側配線部材から前記支持体を除去する工程と
を有し、
前記補強層は、前記電子部品に対応する領域に配置され、前記電子部品の面積に対応する面積を有することを特徴とする電子部品装置の製造方法。
【請求項１０】
第１支持体の上に、第１補強層を含むコアレス基板からなる下側配線基板を形成して、下側配線部材を得る工程と、
前記下側配線部材の上に電子部品を搭載する工程と、
第２支持体の上に、第２補強層を含むコアレス基板からなる上側配線基板を形成して、上側配線部材を得る工程と、
前記下側配線部材の上に、電子部品を収容するように、接続端子を介して前記第２支持体を上側にして前記上側配線部材を配置する工程と、
前記下側配線部材と前記上側配線部材との間に封止樹脂を充填する工程と、
前記下側配線部材から前記第１支持体を除去すると共に、前記上側配線部材から前記第２支持体を除去する工程と
を有し、
前記第１補強層及び前記第２補強層は、前記電子部品に対応する領域に配置され、前記電子部品の面積に対応する面積を有することを特徴とする電子部品装置の製造方法。
【請求項１１】
支持体の上に、補強層を含むコアレス基板からなる下側配線基板を形成して、下側配線部材を得る工程と、
前記下側配線部材の上に電子部品を搭載する工程と、
前記下側配線部材の上に、電子部品を収容するように、接続端子を介してコア層を有する上側配線基板を配置する工程と、
前記下側配線部材と前記上側配線基板との間に封止樹脂を充填する工程と、
前記下側配線部材から前記支持体を除去する工程と
を有し、
前記補強層は、前記電子部品に対応する領域に配置され、前記電子部品の面積に対応する面積を有することを特徴とする電子部品装置の製造方法。
【請求項１２】
前記コア層は、繊維補強材含有樹脂層から形成されることを特徴とする請求項９又は１１に記載の電子部品装置の製造方法。
【請求項１３】
前記コアレス基板は、絶縁層と配線層とが積層されて形成され、
前記絶縁層内に形成された全てのビア導体は、前記電子部品装置の外面側の直径が前記電子部品装置の内方側の直径よりも小さい円錐台形状であることを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか一項に記載の電子部品装置の製造方法。
【請求項１４】
前記接続端子は、金属柱であることを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか一項に記載の電子部品装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
以下の開示の一観点によれば、コア層を有する下側配線基板と、前記下側配線基板の上に搭載された電子部品と、前記下側配線基板及び前記電子部品の上に配置され、コアレス基板からなる上側配線基板と、前記電子部品に対応する領域の前記上側配線基板に備えられ、前記電子部品の面積に対応する面積を有する補強層と、前記下側配線基板と前記上側配線基板とを接続する接続端子と、前記下側配線基板と前記上側配線基板との間に充填された封止樹脂とを有する電子部品装置が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、その開示の他の観点によれば、コア層を有する下側配線基板を用意する工程と、前記下側配線基板の上に電子部品を搭載する工程と、支持体の上に、補強層を含むコアレス基板からなる上側配線基板を形成して、上側配線部材を得る工程と、前記下側配線基板の上に、前記電子部品を収容するように、接続端子を介して前記支持体を上側にして前記上側配線部材を配置する工程と、前記下側配線基板と前記上側配線部材との間に封止樹脂を充填する工程と、前記上側配線部材から前記支持体を除去する工程とを有し、前記補強層は、前記電子部品に対応する領域に配置され、前記電子部品の面積に対応する面積を有する電子部品装置の製造方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月7日(2017.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る振動子ユニットは、弾性体と該弾性体に接合される電気−機械エネルギ変換素子とを有する振動子と、前記振動子と接合される支持部材とを備える振動子ユニットであって、前記振動子を被駆動体に加圧接触させて前記振動子に振動を励起することで前記振動子と前記被駆動体とを相対的に移動させたときの前記振動子と被駆動体との相対的な移動方向を第１の方向、前記振動子の前記被駆動体に対する加圧方向を第２の方向、前記第１の方向および前記第２の方向と直交する方向を第３の方向として、前記支持部材は、前記振動子と接合される接合部と、前記接合部から前記第２の方向に延伸する第１の部分、および、前記第１の部分から前記第１の方向に延伸する第２の部分を有する弾性変形部と、前記弾性変形部から前記第１の方向に延伸する固定部と、を有し、少なくとも前記接合部、前記第１の部分および前記第２の部分は、前記第３の方向から見たときに前記弾性体と重複することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾性体と該弾性体に接合される電気−機械エネルギ変換素子とを有する振動子と、前記振動子と接合される支持部材とを備える振動子ユニットであって、
前記振動子を被駆動体に加圧接触させて前記振動子に振動を励起することで前記振動子と前記被駆動体とを相対的に移動させたときの前記振動子と被駆動体との相対的な移動方向を第１の方向、前記振動子の前記被駆動体に対する加圧方向を第２の方向、前記第１の方向および前記第２の方向と直交する方向を第３の方向として、
前記支持部材は、
前記振動子と接合される接合部と、
前記接合部から前記第２の方向に延伸する第１の部分、および、前記第１の部分から前記第１の方向に延伸する第２の部分を有する弾性変形部と、
前記弾性変形部から前記第１の方向に延伸する固定部と、を有し、
少なくとも前記接合部、前記第１の部分および前記第２の部分は、前記第３の方向から見たときに前記弾性体と重複することを特徴とする振動子ユニット。
【請求項２】
前記弾性体および前記電気−機械エネルギ変換素子はそれぞれ、矩形平板状の形状を有し、
前記第１の方向、前記第２の方向、前記第３の方向はそれぞれ、前記振動子の長辺と平行な方向、前記振動子の厚さ方向、前記振動子の短辺と平行な方向であり、
前記第２の方向から見たときに、前記弾性体と前記電気−機械エネルギ変換素子とは重複することを特徴とする請求項１に記載の振動子ユニット。
【請求項３】
前記弾性体において前記電気−機械エネルギ変換素子が接合された面の反対側の面に前記第１の方向に並べて配置された２つの突起部を有し、
前記振動子は、前記第１の方向と前記第３の方向のそれぞれの方向において対称な形状を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の振動子ユニット。
【請求項４】
前記振動子は、前記第２の方向に延びる中心軸について対称な形状を有することを特徴とする請求項３に記載の振動子ユニット。
【請求項５】
前記振動子の前記第１の方向における端部と前記第３の方向における端部は共に、前記支持部材と接触していないことを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の振動子ユニット。
【請求項６】
前記接合部の前記第１の方向における幅と前記第３の方向における幅はそれぞれ、前記弾性体の前記第１の方向と前記第３の方向のそれぞれの長さの２０％以下であることを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載の振動子ユニット。
【請求項７】
前記支持部材は、前記第２の方向から見たときに前記振動子と重なる部位における前記第３の方向の寸法が、前記振動子の前記第３の方向の寸法以下であることを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項に記載の振動子ユニット。
【請求項８】
前記支持部材の前記固定部は、前記弾性変形部の少なくとも一部よりも前記振動子と当接する被駆動体から前記第２の方向に離れるように形成されていることを特徴とする請求項２乃至７のいずれか１項に記載の振動子ユニット。
【請求項９】
前記支持部材は薄板状の金属部材であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の振動子ユニット。
【請求項１０】
前記支持部材は、前記接合部において前記弾性体と接合されていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の振動子ユニット。
【請求項１１】
前記支持部材は、前記接合部において前記電気−機械エネルギ変換素子と接合されていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の振動子ユニット。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の振動子ユニットと、被駆動体とを備え、前記振動子ユニットの振動子を前記被駆動体に接触させて前記振動子に振動を励起することで前記振動子と前記被駆動体とを相対的に移動させる振動型アクチュエータであって、
前記支持部材が固定される基台と、
前記基台を前記被駆動体に対して押し付ける加圧バネと、
前記加圧バネを支持するバネ支持部材と、を備えることを特徴とする振動型アクチュエータ。
【請求項１３】
請求項１２に記載の振動型アクチュエータと、
前記振動型アクチュエータによって移動されるレンズと、
前記レンズを通過した光が結像する位置に設けられた撮像素子と、を備えることを特徴とする撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月17日(2017.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コイルサポート構造において、
コイルスペーサーと、
前記コイルスペーサーに接続されるヨークスペーサーと、
前記コイルスペーサーと前記ヨークスペーサーとに接続されるサポートと、を有し、
前記サポートは、側面に沿って突起部を有していることを特徴とするコイルサポート構造。
【請求項２】
請求項１に記載のコイルサポート構造において、
前記サポートは、前記突起部が複数形成され、前記複数の突起部同士の間に凹部を形成していることを特徴とするコイルサポート構造。
【請求項３】
請求項１に記載のコイルサポート構造において、
前記突起部は、サポートの外周周りの方向において交互に形成されていることを特徴とするコイルサポート構造。
【請求項４】
請求項１に記載のコイルサポート構造において、
前記コイルスペーサーは、前記サポートと接触する面において前記サポートと接触する第一の領域と前記サポートと接触しない第二の領域を有することを特徴とするコイルサポート構造。
【請求項５】
請求項４に記載のコイルサポート構造において、
前記サポートは、少なくとも２つの方向において対称形状であることを特徴とするコイルサポート構造。
【請求項６】
請求項１に記載のコイルサポート構造において、
前記突起部は、ローターの回転軸に対して垂直面を有し、前記垂直面は貫通孔を有し、前記貫通孔はローターの回転軸方向の延伸方向に延びて形成されていることを特徴とするコイルサポート構造。
【請求項７】
請求項６に記載のコイルサポート構造において、
前記垂直面は、二以上の仕切りが形成されており、前記仕切りはコイルスペーサーに対して法線方向に形成されていることを特徴とするコイルサポート構造。
【請求項８】
請求項６に記載のコイルサポート構造において、
前記垂直面は、二以上の仕切りが形成されており、前記仕切りは、前記コイルスペーサーの高さ方向の中央位置とヨークスペーサーの端部との間に形成されることを特徴とするコイルサポート構造。
【請求項９】
請求項６に記載のコイルサポート構造において、
前記貫通孔の貫通軸はローターの回転軸に対して傾いていることを特徴とするコイルサポート構造。
【請求項１０】
請求項１に記載のコイルサポート構造において、
前記サポートは、前記サポートを前記ヨークスペーサーに対して固定するためのボルトを受け入れるようにボルト孔が形成されることを特徴とするコイルサポート構造。
【請求項１１】
請求項１０に記載のコイルサポート構造において、
さらに第二のボルト孔を有し、前記第一のボルト孔および前記第二のボルト孔は、前記突起部同士を結ぶ中心線上であってローターの回転軸方向に配置されることを特徴とするコイルサポート構造。
【請求項１２】
回転電機において、
ステーターと、
前記ステーターに対して回転するローターと、
前記ローターの磁極の間に設けられるコイルサポート構造と、を有し、
前記コイルサポート構造は、
コイルスペーサーと、
前記コイルスペーサーに接続されるヨークスペーサーと、
前記コイルスペーサーと前記ヨークスペーサーとに接続されるサポートを有し、
前記サポートは側面に突起部を有することを特徴とする回転電機。
【請求項１３】
請求項１２に記載の回転電機において、
前記サポートは、前記突起部が複数形成され、前記複数の突起部同士の間に凹部を形成していることを特徴とする回転電機。
【請求項１４】
請求項１２に記載の回転電機において、
前記突起部は、サポートの外周周りの方向において交互に形成されていることを特徴とする回転電機。
【請求項１５】
請求項１２に記載の回転電機において、
前記コイルスペーサーは、前記サポートと接触する面において前記サポートと接触する第一の領域と前記サポートと接触しない第二の領域を有することを特徴とする回転電機。
【請求項１６】
請求項１５に記載の回転電機において、
前記サポートは、少なくとも２つの方向において対称形状であることを特徴とする回転電機。
【請求項１７】
請求項１２に記載の回転電機において、
前記突起部は、ローターの回転軸に対して垂直面を有し、前記垂直面は貫通孔を有し、前記貫通孔はローターの回転軸方向の延伸方向に延びて形成されていることを特徴とする回転電機。
【請求項１８】
請求項１７に記載の回転電機において、
前記垂直面は、二以上の仕切りが形成されており、前記仕切りはコイルスペーサーに対して法線方向に形成されていることを特徴とする回転電機。
【請求項１９】
請求項１７に記載の回転電機において、
前記垂直面は、二以上の仕切りが形成されており、前記仕切りは、前記コイルスペーサーの高さ方向の中央位置とヨークスペーサーの端部との間に形成されることを特徴とする回転電機。
【請求項２０】
請求項１２に記載の回転電機において、
前記磁極の頭部を構成するポールシューを有し、
隣り合うコイルサポート構造の高さは異なり、
当該高さは、前記突起部と前記ポールシューの高さの間であることを特徴とする回転電機。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月16日(2017.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
ポリオレフィンにシランカップリング剤をグラフトしてシラングラフトポリオレフィンを製造する方法としては、例えばポリオレフィンとシランカップリング剤に遊離ラジカル発生剤を加え、二軸あるいは単軸の押出機で混合する方法が一般的である。この他にも、ポリオレフィンを重合する際に、シランカップリング剤を添加する方法を用いてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
官能基としてカルボキシル基や酸無水物基を導入する化合物としては、具体的には、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸などのα、β−不飽和ジカルボン酸、またはこれらの無水物、アクリル酸、メタクリル酸、フラン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、ペンテン酸などの不飽和モノカルボン酸などが挙げられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
（Ｇ）酸化防止剤は、ヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましく用いられ、特に融点が２００℃以上のヒンダードフェノールが好ましい。ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）、ベンゼンプロパン酸，３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ，Ｃ７−Ｃ９側鎖アルキルエステル、２，４−ジメチル−６−（１−メチルペンタデシル）フェノール、ジエチル［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ホスフォネート、３，３’，３”，５，５’５”−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ”−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、カルシウムジエチルビス［［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ホスフォネート］、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾール、エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート］、ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、１，３，５−トリス［（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−キシリル）メチル］−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（４，６−ビス（オクチルチオ）−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ）フェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、３，９−ビス［２−（３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−プロピオン酸）−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカンなどが挙げられる。これらは１種で用いても２種以上併用しても良い。融点が２００℃以上のヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、３，３’，３”，５，５’５”−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ”−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン等が挙げられる。