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【手続補正書】
【提出日】平成29年6月28日(2017.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報処理装置から送信された印刷ジョブを受信し、受信した印刷ジョブに含まれる画像情報に基づいて画像データを生成し、生成された画像データを含む印刷ジョブを印刷装置に送信する画像処理装置と、前記画像処理装置から送信された印刷ジョブに含まれる認証情報に基づいて認証を行い、認証が成功したことに従って前記画像データに基づく印刷を行う印刷装置とを含む印刷システムであって、
前記画像処理装置は、
前記画像処理装置へのログインのために使用された認証情報を、前記情報処理装置から送信された印刷ジョブの認証情報として設定する設定手段と、
前記設定手段により設定された認証情報と、前記情報処理装置から送信された印刷ジョブに含まれる画像情報に基づいて生成された画像データとを含む印刷ジョブを前記印刷装置に送信する送信手段と、
有する印刷システム。
【請求項２】
情報処理装置から送信された印刷ジョブを受信し、受信した印刷ジョブに含まれる画像情報に基づいて画像データを生成し、生成された画像データを含む印刷ジョブを印刷装置に送信する画像処理装置であって、
前記画像処理装置へのログインのために使用された認証情報を、前記情報処理装置から送信された印刷ジョブの認証情報として設定する設定手段と、
前記設定手段により設定された認証情報と、前記情報処理装置から送信された印刷ジョブに含まれる画像情報に基づいて生成された画像データとを含む印刷ジョブを前記印刷装置に送信する送信手段と、
を有し、
前記印刷装置は、前記画像処理装置から送信された印刷ジョブに含まれる認証情報に基づいて認証を行い、認証が成功したことに従って前記画像データに基づく印刷を行うことを特徴とする画像処理装置。
【請求項３】
前記設定手段は、前記情報処理装置から送信された印刷ジョブに認証情報が設定されていない場合に、前記画像処理装置へのログインのために使用された認証情報を、前記印刷ジョブの認証情報として設定する請求項２記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記印刷ジョブの認証情報として前記画像処理装置へのログインのために用いられた認証情報を用いるか否か、前記画像処理装置へのログインのために用いられた認証情報を用いる場合は、前記情報処理装置から送信された印刷ジョブに認証情報が設定されていない場合に用いるか、又は前記認証情報が設定されているか否かにかかわらず用いるか、認証情報の設定に関するポリシー情報を決定する決定手段を更に有し、
前記設定手段は、前記ポリシー情報に応じて、前記画像処理装置へのログインのために使用された認証情報を、前記印刷ジョブの認証情報として設定する請求項２又は３記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記決定手段は、更に、管理者又はオペレータでの認証を行うか否か、管理者又はオペレータでの認証を行う場合は、選択したユーザーの認証情報を前記印刷ジョブの認証情報として用いるか否かを前記ポリシー情報として決定する請求項４記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記決定手段は、設定画面を介した選択操作に基づいて、前記ポリシー情報を決定する請求項４又は５記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記印刷装置より属性情報を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された前記属性情報に基づいて、前記印刷装置の認証機能が有効になっているか否かを判定する判定手段と、
を更に有し、
前記設定手段は、前記判定手段により前記印刷装置の認証機能が有効になっていると判定されたことに基づいて、前記画像処理装置へのログインのために使用された認証情報を、前記印刷ジョブの認証情報として設定する請求項２から６の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記情報処理装置から送信された印刷ジョブを保存する保存手段を有し、
前記設定手段は、前記保存手段に保存された印刷ジョブの中から選択された印刷ジョブの設定情報として、前記画像処理装置へのログインのために使用された認証情報を設定することを特徴とする請求項２から７の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記情報処理装置から送信された印刷ジョブに含まれる画像情報はＰＤＬデータであり、
前記画像処理装置は、前記ＰＤＬデータに基づいて前記画像データを生成することを特徴とする請求項２から８の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
画像処理装置と印刷装置とを含む印刷システムにおける情報処理方法であって、
前記画像処理装置が、情報処理装置から送信された印刷ジョブを受信する受信ステップと、
前記画像処理装置が、前記受信ステップにより受信した印刷ジョブに含まれる画像情報に基づいて画像データを生成する生成ステップと、
前記画像処理装置が、前記画像処理装置へのログインのために使用された認証情報を、前記情報処理装置から送信された印刷ジョブの認証情報として設定する設定ステップと、
前記画像処理装置が、前記設定ステップにより設定された認証情報と、前記情報処理装置から送信された印刷ジョブに含まれる画像情報に基づいて生成された画像データとを含む印刷ジョブを前記印刷装置に送信する送信ステップと、
前記印刷装置が、前記印刷ジョブに設定された前記認証情報に基づき認証を実行する認証ステップと、
前記印刷装置が、前記認証ステップによる認証が成功したことに従って、前記印刷ジョブに含まれる画像データに基づく印刷を実行する実行ステップと、
を含む情報処理方法。
【請求項１１】
印刷装置と通信可能な画像処理装置が実行する情報処理方法であって、
情報処理装置から送信された印刷ジョブを受信する受信ステップと、
前記受信ステップにより受信した印刷ジョブに含まれる画像情報に基づいて画像データを生成する生成ステップと、
前記画像処理装置へのログインのために使用された認証情報を、前記受信ステップにより受信した印刷ジョブの認証情報として設定する設定ステップと、
前記設定ステップにより設定された認証情報と、前記生成ステップにより生成した画像データとを含む印刷ジョブを前記印刷装置に送信する送信ステップと、を含む情報処理方法。
【請求項１２】
請求項１１記載の情報処理方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで、情報処理装置から送信された印刷ジョブを受信し、受信した印刷ジョブに含まれる画像情報に基づいて画像データを生成し、生成された画像データを含む印刷ジョブを印刷装置に送信する画像処理装置と、前記画像処理装置から送信された印刷ジョブに含まれる認証情報に基づいて認証を行い、認証が成功したことに従って前記画像データに基づく印刷を行う印刷装置とを含む印刷システムであって、前記画像処理装置は、前記画像処理装置へのログインのために使用された認証情報を、前記情報処理装置から送信された印刷ジョブの認証情報として設定する設定手段と、前記設定手段により設定された認証情報と、前記情報処理装置から送信された印刷ジョブに含まれる画像情報に基づいて生成された画像データとを含む印刷ジョブを前記印刷装置に送信する送信手段と、有する。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月30日(2017.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線層と、
前記配線層の上に設けられた、電子部品実装用の金属ポストと、
前記配線層及び前記金属ポストの基部を被覆する保護層と、を有し、
前記配線層は、シード層と、前記シード層の上に形成され、平面視において前記シード層と同じ大きさの金属めっき層と、を含み、
前記金属ポストは、上端が前記保護層から突出しており、上端の幅が基部の幅以下であり、
前記保護層は、前記金属ポストの側面に対して、前記金属ポストの上面に向かうフィレット部を有し、
前記金属ポストの表面及び前記配線層の表面は粗化面であり、
前記金属ポストの表面及び前記配線層の表面の粗度は、前記金属ポストと前記配線層との接合面の粗度よりも大きいこと、を特徴とする配線基板。
【請求項２】
前記保護層から前記金属ポストの上面及び上端側の側面が露出しており、前記保護層から露出する前記金属ポストの表面を覆う表面処理層を有すること、を特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項３】
前記表面処理層は、めっき層又はＯＳＰ膜であること、を特徴とする請求項２に記載の配線基板。
【請求項４】
絶縁層の上に形成された配線層は、前記金属ポストが設けられた第１の配線層と、前記金属ポストが設けられていない第２の配線層とを含み、
前記保護層には、前記第２の配線層の上面の少なくとも一部、または前記絶縁層の上面の一部を露出する開口部を有すること、を特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の配線基板。
【請求項５】
配線層の上に電子部品実装用の金属ポストを有する配線基板の製造方法であって、
絶縁層の上にシード層を形成する工程と、
前記シード層を覆い、所定位置に開口部を有する第１のレジスト層を形成する工程と、
前記シード層を給電層として前記第１のレジスト層の開口部に金属めっき層を形成する工程と、
前記第１のレジスト層を除去する工程と、
前記シード層と前記金属めっき層を覆い、前記金属めっき層の上面の一部を露出する開口部を有する第２のレジスト層を形成する工程と、
前記シード層を給電層として前記第２のレジスト層の開口部に金属ポストを形成する工程と、
前記第２のレジスト層を除去する工程と、
前記金属めっき層をマスクとして前記シード層をエッチングする工程と、
前記配線層及び前記金属ポストの表面を粗化処理する工程と、
前記配線層及び前記金属ポストを覆う樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層を薄膜化して前記金属ポストの上端を露出する工程と、
前記樹脂層を硬化して、前記配線層及び前記金属ポストの基部を被覆する保護層を形成する工程と、を有することを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項６】
前記樹脂層を薄膜化する工程の後、前記樹脂層に開口部を形成する工程を実施し、前記樹脂層を硬化して前記保護層を形成する工程を実施すること、を特徴とする請求項５に記載の配線基板の製造方法。
【請求項７】
前記樹脂層を硬化して前記保護層を形成する工程の後に、前記金属ポストの表面を覆う表面処理層を形成する工程を実施する、ことを特徴とする請求項５又は６に記載の配線基板の製造方法。
【請求項８】
前記表面処理層は、めっき層又はＯＳＰ膜である、ことを特徴とする請求項７に記載の配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の一観点によれば、配線層と、前記配線層の上に設けられた、電子部品実装用の金属ポストと、前記配線層及び前記金属ポストの基部を被覆する保護層と、を有し、前記配線層は、シード層と、前記シード層の上に形成され、平面視において前記シード層と同じ大きさの金属めっき層と、を含み、前記金属ポストは、上端が前記保護層から突出しており、上端の幅が基部の幅以下であり、前記保護層は、前記金属ポストの側面に対して、前記金属ポストの上面に向かうフィレット部を有し、前記金属ポストの表面及び前記配線層の表面は粗化面であり、前記金属ポストの表面及び前記配線層の表面の粗度は、前記金属ポストと前記配線層との接合面の粗度よりも大きい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2016018806.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月9日(2017.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体撮像装置の製造方法において、
光電変換素子が配された有効画素領域及びオプティカルブラック画素領域を有する半導体基板の上に、少なくとも１層の導電層と層間絶縁膜とを形成する工程と、
前記形成する工程の後に熱処理を行う工程と、
前記層間絶縁膜及び前記少なくとも１層の導電層の上に保護膜を形成する工程と、を有し、
前記少なくとも１層の導電層は前記オプティカルブラック画素領域の上に設けられた遮光層を含み、
前記層間絶縁膜は、前記有効画素領域の上にある第１の部分と、前記オプティカルブラック画素領域の上にあり前記遮光層よりも下にある第２の部分と、を含み、
前記熱処理を行う工程の前において、前記層間絶縁膜の前記第２の部分の平均の水素濃度が、前記層間絶縁膜の前記第１の部分の平均の水素濃度よりも高いことを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記熱処理を行う工程の前において、前記層間絶縁膜の前記第２の部分は、第１の絶縁層と、前記第１の絶縁層よりも水素濃度が高い第２の絶縁層と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記熱処理を行う工程の前において、前記第２の絶縁層の水素濃度は、前記層間絶縁膜の前記第１の部分の水素濃度よりも高いことを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記少なくとも１層の導電層は、銅を含む配線層を含み、
前記層間絶縁膜は、前記銅を含む配線層の上にある銅拡散防止層を含み、
前記銅拡散防止層は、前記第１の部分に形成された第１の銅拡散防止層と、前記第２の部分に形成された第２の銅拡散防止層と、を含み、
前記熱処理を行う工程の前において、前記第２の銅拡散防止層の水素濃度が、前記第１の銅拡散防止層よりも高いことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記層間絶縁膜の前記第１の部分は、前記第１の銅拡散防止層と、第３の絶縁層とを含む複数の絶縁層を含み、
前記熱処理を行う工程の前において、前記層間絶縁膜の前記第１の部分の水素濃度は、前記複数の絶縁層の平均の水素濃度であることを特徴とする請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
前記熱処理を行う工程は、前記保護膜を形成した後に行われることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
光電変換素子が配された有効画素領域及びオプティカルブラック画素領域を有する半導体基板と、
少なくとも１層の導電層と、
層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜及び前記少なくとも１層の導電層の上に保護膜と、を備える固体撮像装置であって、
前記少なくとも１層の導電層は、前記オプティカルブラック画素領域の上に遮光層を備え、
前記層間絶縁膜は、前記有効画素領域の上にある第１の部分と、前記オプティカルブラック画素領域の上にあり前記遮光層よりも下にある第２の部分と、を含み、
前記層間絶縁膜の前記第１の部分と、前記層間絶縁膜の前記第２の部分と、はそれぞれ少なくとも１層の絶縁層を有し、
前記第１の部分と、前記第２の部分と、の層構造及び平均の水素濃度が、それぞれ互いに異なることを特徴とする固体撮像装置。
【請求項８】
前記第２の部分の平均の水素濃度が、前記第１の部分の平均の水素濃度よりも高いことを特徴とする請求項７に記載の固体撮像装置。
【請求項９】
前記少なくとも１層の導電層は、銅を含む配線層を含み、
前記層間絶縁膜は、前記銅を含む配線層の上にある銅拡散防止層を含むことを特徴とする請求項７又は８に記載の固体撮像装置。
【請求項１０】
前記少なくとも１層の導電層は、金属を用いた配線層及び前記遮光層を含むことを特徴とする請求項７乃至９のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１１】
前記遮光層は、前記少なくとも１層の導電層のうちの最上位層に形成されることを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１２】
前記固体撮像装置は、ＣＭＯＳ型であることを特徴とする請求項７乃至１１のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題に鑑みて、本発明の一部の実施形態に係る固体撮像装置の製造方法は、光電変換素子が配された有効画素領域及びオプティカルブラック画素領域を有する半導体基板の上に、少なくとも１層の導電層と層間絶縁膜とを形成する工程と、形成する工程の後に熱処理を行う工程と、層間絶縁膜及び少なくとも１層の導電層の上に保護膜を形成する工程と、を有し、少なくとも１層の導電層はオプティカルブラック画素領域の上に設けられた遮光層を含み、層間絶縁膜は、有効画素領域の上にある第１の部分と、オプティカルブラック画素領域の上にあり遮光層よりも下にある第２の部分と、を含み、熱処理を行う工程の前において、層間絶縁膜の第２の部分の平均の水素濃度が、層間絶縁膜の第１の部分の平均の水素濃度よりも高いことを特徴とする。また本発明の実施形態に係る固体撮像装置は、光電変換素子が配された有効画素領域及びオプティカルブラック画素領域を有する半導体基板と、少なくとも１層の導電層と、層間絶縁膜と、層間絶縁膜及び少なくとも１層の導電層の上に保護膜と、を備える固体撮像装置であって、少なくとも１層の導電層は、オプティカルブラック画素領域の上に遮光層を備え、層間絶縁膜は、有効画素領域の上にある第１の部分と、オプティカルブラック画素領域の上にあり遮光層よりも下にある第２の部分と、を含み、層間絶縁膜の第１の部分と、層間絶縁膜の第２の部分と、はそれぞれ少なくとも１層の絶縁層を有し、第１の部分と、第２の部分と、の層構造及び平均の水素濃度が、それぞれ互いに異なることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月14日(2017.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象画像に複数種類の物体それぞれがあるかを検出する検出手段と、
前記検出された物体を含む領域において複数の局所領域を生成する生成手段と、
前記生成された複数の局所領域の特徴量を算出する算出手段と、
前記複数種類の物体を判別するための複数の判別基準から前記検出された物体の種類に応じた判別基準を選択し、該選択した判別基準を用い、前記算出した特徴量に基づいて、前記複数の局所領域から前記検出した物体の領域を決定する決定手段と、を有することを特徴とする画像認識装置。
【請求項２】
前記対象画像全域において複数の局所領域を生成する第２の生成手段と、
前記第２の生成手段により生成された対象画像全域の複数の局所領域の特徴量を算出する第２の算出手段と、を更に有し、
前記決定手段は、
前記複数の判別基準から対象画像全域を判別するための判別基準を選択し、当該判別基準を用い、前記第２の算出手段により算出された特徴量に基づいて、前記対象画像全域の複数の局所領域のカテゴリーを判別し、
前記物体の種類に応じた判別基準を用い、前記算出した特徴量に基づいて、前記検出された物体を含む領域の複数の局所領域のカテゴリーを判別し、
前記判別結果に基づいて、前記検出された物体を含む領域の複数の局所領域から前記検出した物体の領域を決定することを特徴とする請求項１に記載の画像認識装置。
【請求項３】
前記複数種類の物体の少なくともいずれか１つを含む学習データに基づいて、前記複数種類の物体のそれぞれに応じた判別基準を学習する学習手段を更に有することを特徴とする請求項１又は２に記載の画像認識装置。
【請求項４】
前記決定手段は、前記対象画像全域における複数の局所領域それぞれのカテゴリーを更に決定することを特徴とする請求項２に記載の画像認識装置。
【請求項５】
前記カテゴリーは物体の種別であることを特徴とする請求項２又は４に記載の画像認識装置。
【請求項６】
前記カテゴリーは物体の種別と姿勢であることを特徴とする請求項２又は４に記載の画像認識装置。
【請求項７】
前記決定手段は、前記検出手段により検出された物体信頼度が閾値未満の場合、前記複数の判別基準から対象画像全域を判別するための判別基準を選択することを特徴とする請求項２に記載の画像認識装置。
【請求項８】
前記決定手段は、前記検出手段により検出された物体の種類に応じた判別基準により決定した領域の結果と、前記対象画像全域を判別するための判別基準により決定した領域の結果と、を統合することを特徴とする請求項２に記載の画像認識装置。
【請求項９】
前記決定手段は、前記検出手段により検出された物体が前景であるか背景であるかを判別することを特徴とする請求項２に記載の画像認識装置。
【請求項１０】
前記決定手段は、前記検出手段により検出された物体の姿勢の属性に基づいて前記判別基準を選択し、前記検出した物体の領域を決定することを特徴とする請求項６に記載の画像認識装置。
【請求項１１】
前記複数種類の物体を判別するための複数の判別基準は、前記前記複数種類の物体ごとにサブクラスに対応する判別基準が用意され、
前記決定手段は、前記検出手段により検出された物体の検出結果に基づいて推定されるサブクラスに基づいて前記判別基準を選択し、前記検出した物体の領域を決定することを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の画像認識装置。
【請求項１２】
前記サブクラスは、物体の所定の領域の類似度に基づいて予め分類されたグループに対応することを特徴とする請求項１１に記載の画像認識装置。
【請求項１３】
前記検出手段が検出する複数種類の物体は、他の物体と重畳している物体であることを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の画像認識装置。
【請求項１４】
前記算出手段により算出される特徴量は、前記検出手段の検出結果に基づいて相対的に決定されることを特徴とする請求項１から１３のいずれか１項に記載の画像認識装置。
【請求項１５】
前記算出手段により算出される特徴量は、前記検出手段によって検出される複数の物体の相対的な位置に基づいて決定されることを特徴とする請求項１４に記載の画像認識装置。
【請求項１６】
前記決定手段は、前記特徴量としての前記複数の物体の相対的な位置を分類木のクエリーに用いることを特徴とする請求項１５に記載の画像認識装置。
【請求項１７】
前記算出手段により算出される特徴量は、前記局所領域との類似度に基づいて決定されることを特徴とする請求項１５に記載の画像認識装置。
【請求項１８】
対象画像に複数種類の物体それぞれがあるかを検出するステップと、
前記検出された物体を含む領域において複数の局所領域を生成するステップと、
前記生成された複数の局所領域の特徴量を算出するステップと、
前記複数種類の物体を判別するための複数の判別基準から前記検出された物体の種類に応じた判別基準を選択し、該選択した判別基準を用い、前記算出した特徴量に基づいて、前記複数の局所領域から前記検出した物体の領域を決定するステップと、を有することを特徴とする画像認識方法。
【請求項１９】
コンピュータを、請求項１から１７のいずれか１項に記載の画像認識装置として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、画像認識装置、方法及びプログラムに関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、画像中の物体を認識する精度を向上させることを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の画像認識装置は、対象画像に複数種類の物体それぞれがあるかを検出する検出手段と、前記検出された物体を含む領域において複数の局所領域を生成する生成手段と、前記生成された複数の局所領域の特徴量を算出する算出手段と、前記複数種類の物体を判別するための複数の判別基準から前記検出された物体の種類に応じた判別基準を選択し、該選択した判別基準を用い、前記算出した特徴量に基づいて、前記複数の局所領域から前記検出した物体の領域を決定する決定手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明によれば、画像中の物体を認識する精度が向上する。特に物体と背景の領域の見えが類似している場合や、物体と物体が重畳しているような場合に、従来の方法に比べて精度の良い結果が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月9日(2017.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
相手側ハウジングと互いに嵌合されるハウジングと、
圧入部を介して前記ハウジングに保持される複数のコンタクトと、を備え、
複数の一部又は全部の前記コンタクトの前記圧入部は、
第１圧入部と、
前記第１圧入部と所定の間隔Ｐを隔て、かつ、前記第１圧入部よりも圧入の際に前記コンタクトを挿入する向きの後方に設けられる第２圧入部と、を備える、
ことを特徴とする電気コネクタ。
【請求項２】
前記第２圧入部は、前記第１圧入部よりも前記ハウジングに対する圧入代が小さい、
請求項１に記載の電気コネクタ。
【請求項３】
前記ハウジングは、前記挿入の向きに延びる圧入孔を備え、
前記圧入孔は、
前記第１圧入部が圧入される第１圧入孔と、前記挿入の向きの後方において前記第１圧入孔に連なり、前記第２圧入部が圧入される第２圧入孔と、を備え、
前記第２圧入孔の前記挿入の向きの寸法Ｄは、前記第１圧入部と前記第２圧入部の間の前記間隔Ｐ以下である、
請求項２に記載の電気コネクタ。
【請求項４】
前記第１圧入孔における圧入の向きの寸法をＷ２４とし、
前記第２圧入孔における前記圧入の向きの寸法をＷ２５とすると、
Ｗ２５＞Ｗ２４を満たす、
請求項３に記載の電気コネクタ。
【請求項５】
前記第１圧入部における前記圧入の向きの寸法をＷ５１Ａとし、
前記第２圧入部における前記圧入の向きの寸法をＷ５５Ａとすると、
Ｗ２４＜Ｗ５１Ａ  及び Ｗ２５＜Ｗ５５Ａ  を満たす、
請求項４に記載の電気コネクタ。
【請求項６】
前記電気コネクタは、前記圧入部を介して複数の前記コンタクトを保持する保持壁を備え、
複数の前記コンタクトは、前記保持壁を貫通して接続対象に接続され、
前記保持壁を貫通する部位から前記接続される部位までの露出長が最も長い前記コンタクトに適用される、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気コネクタ。
【請求項７】
前記露出長が最も長い前記コンタクトに対応する前記保持壁の部位は、
他の前記コンタクトに対応する前記保持壁の部位よりも、前記コンタクトが引き出される向きの突出量が大きい、
請求項６に記載の電気コネクタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の電気コネクタにおいて、ハウジングが挿入の向きに延びる圧入孔を備える場合に、圧入孔は、第１圧入部が圧入される第１圧入孔と、挿入の向きの後方において第１圧入孔に連なり、第２圧入部が圧入される第２圧入孔と、を備え、第２圧入孔の挿入の向きの寸法Ｄは、第１圧入部と第２圧入部の間の間隔Ｐ以下であることが好ましい。
この電気コネクタによると、圧入のためにコンタクトを押し込む過程において、第１圧入部の圧入が開始されるときには、第２圧入部の圧入が開始されるか、または、圧入が既に開始されていることになる。したがって、この電気コネクタによると、嵌合方向の二か所でコンタクトをハウジングに支持させることができるので、圧入作業時にコンタクトが座屈して圧入不良が生じるのをより確実に防ぐことができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の電気コネクタにおいて、第１圧入孔における圧入の向きの寸法をＷ２４とし、第２圧入孔における圧入の向きの寸法をＷ２５とすると、Ｗ２５＞Ｗ２４を満たすことが好ましい。
Ｗ２５＞Ｗ２４を満たすことにより、第２圧入部の圧入代を第１圧入部の圧入代よりも小さくすることを確保しつつ、第１圧入部が第２圧入孔を通過する際に、第２圧入孔を取り囲むハウジングが傷つくのを防止できるか又は軽減できる。この効果をより確実に得るために、第１圧入部における圧入の向きの寸法をＷ５１Ａとし、第２圧入部における圧入の向きの寸法をＷ５５Ａとすると、Ｗ２４＜Ｗ５１Ａ  及び Ｗ２５＞Ｗ５５Ａ  を満たすことが好ましい。なお、本発明において、圧入の向きとは、第１圧入部５１と第２圧入部５５を圧入するとハウジングとの間に生じる力の向きをいう。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
１０      コネクタ
２０      ハウジング
２１      コンタクト保持壁
２２      圧入サポート
２２Ａ    圧入サポート
２３      圧入孔
２３Ａ    圧入孔
２４      第１圧入孔
２５      第２圧入孔
２６      位置規制孔
２７      誘い込み口
２８      嵌合フード
２８Ｓ    受容空間
２９      保護カバー
３０      タインプレート
３１      位置決め孔
４０      コンタクト
４０Ａ    コンタクト
４２      水平部
４３      位置決め部
４４      垂直部
４５      屈曲部
４６      タイン
５０      圧入部
５１      第１圧入部
５１Ａ    先行圧入突起
５１Ｂ    後行圧入突起
５５      第２圧入部
５５Ａ    先行圧入突起
５５Ｂ    後行圧入突起
Ｐ        ピッチ
Ｘ        嵌合方向
Ｙ        高さ方向
Ｚ        幅方向
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月9日(2017.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
誘導加熱では、ワークを加工するために使用される潤滑剤や、加熱されたワークの表面に生じるスケール（酸化被膜）等がコイルに付着する。そして、スケール等がコイルに堆積すると、例えばコイルとワーク間でスケール等の堆積物を通して短絡が生じ、ワークやコイルが損傷してしまう場合がある。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月7日(2016.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一のガスと第二のガスを用いて被エッチング膜を処理室にてプラズマエッチングするプラズマ処理方法において、
前記第一のガスは、前記被エッチング膜のエッチングを促進させるガスであり、
前記第二のガスは、前記被エッチング膜の側壁に反応層を形成させるガスであって、
前記第一のガスを前記処理室へ連続的に供給するとともに前記第二のガスを前記処理室へ周期的に第一の流量と前記第一の流量より少ない流量である第二の流量を繰り返しながら供給することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理方法において、
前記第一の流量と前記第二の流量を繰り返す周期に対する前記第一の流量の期間の比と、前記第一の流量と、の積を前記第二のガスの平均流量とするとき、前記第一のガスの流量と前記第二のガスの平均流量との和に対する前記第二のガスの平均流量の比を２０％以下とすることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項３】
請求項２に記載のプラズマ処理方法において、
前記和に対する第二のガスの平均流量の比を５％以上とすることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項４】
請求項１に記載のプラズマ処理方法において、
前記反応層の厚さが１ないし３ｎｍの範囲の厚さとなるように前記第一の流量と前記第一の流量の期間を調整することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項５】
請求項１に記載のプラズマ処理方法において、
前記第一の流量に対する前記第二の流量の比を５％以下とすることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項６】
請求項１に記載のプラズマ処理方法において、
前記第一の流量と前記第二の流量を繰り返す周期を１０秒以下とすることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項７】
請求項１に記載のプラズマ処理方法において、
前記第一のガスは、臭化水素ガス、塩素ガスまたは六フッ化硫黄ガスであることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項８】
請求項１に記載のプラズマ処理方法において、
前記第二のガスは、酸素含有ガス、窒素含有ガス、炭素含有ガスまたはシリコン含有ガスであることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項９】
第一のガスと第二のガスを用いて被エッチング膜を処理室にてプラズマエッチングするプラズマ処理方法において、
前記第一のガスは、前記被エッチング膜のエッチングを促進させるガスであり、
前記第二のガスは、前記被エッチング膜の側壁に反応層を形成させるガスであるとともに複数のガスの混合ガスであって、
前記第一のガスの前記処理室へ供給は連続的に行うとともに前記第二のガスの前記処理室への供給は、パルス変調させ、
前記複数のガスの各々における供給は、全て同位相でパルス変調させる、または少なくとも一つのガスにおけるパルス変調の位相が前記一つのガス以外のガスにおけるパルス変調の位相に対して逆位相となるようにパルス変調させることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項１０】
第一のガスと第二のガスを用いて被エッチング膜を処理室にてプラズマエッチングするプラズマ処理方法において、
前記第一のガスは、前記被エッチング膜のエッチングを促進させるガスであり、
前記第二のガスは、前記被エッチング膜の側壁に反応層を形成させるガスであるとともに第三のガスと第四のガスを含み、
前記第一のガスの前記処理室へ供給は連続的に行うとともに前記第二のガスの前記処理室への供給は、パルス変調させ、
前記第三のガスの供給におけるパルス変調の周期は、前記第四のガスの供給におけるパルス変調の周期より短く、
前記第三のガスのパルス変調された供給におけるオン期間は、前記第四のガスのパルス変調された供給におけるオン期間に含まれることを特徴とするプラズマ処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、第一のガスと第二のガスを用いて被エッチング膜を処理室にてプラズマエッチングするプラズマ処理方法において、前記第一のガスは、前記被エッチング膜のエッチングを促進させるガスであり、前記第二のガスは、前記被エッチング膜の側壁に反応層を形成させるガスであって、前記第一のガスを前記処理室へ連続的に供給するとともに前記第二のガスを前記処理室へ周期的に第一の流量と前記第一の流量より少ない流量である第二の流量を繰り返しながら供給することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月7日(2016.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマが生成されるプラズマ生成部と、前記プラズマ生成部の外側を巻回するとともに両端が接地されたヘリカルコイルと、前記ヘリカルコイルへ高周波電力を供給する高周波電源と、試料が前記プラズマにより処理される処理部とを備えるプラズマ処理装置において、
前記ヘリカルコイルは、第一のヘリカルコイルと第二のヘリカルコイルと第三のヘリカルコイルを具備し、
前記第一のヘリカルコイルに供給される高周波電力の位相と前記第二のヘリカルコイルに供給される高周波電力の位相の差である第一の位相差、前記第二のヘリカルコイルに供給される高周波電力の位相と前記第三のヘリカルコイルに供給される高周波電力の位相の差である第二の位相差および前記第三のヘリカルコイルに供給される高周波電力の位相と前記第一のヘリカルコイルに供給される高周波電力の位相の差である第三の位相差がそれぞれの所定の値となるように前記第一の位相差、前記第二の位相差および前記第三の位相差を制御する位相制御器をさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
前記第一の位相差、前記第二の位相差および前記第三の位相差は、全て１２０度であること特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
前記第一のヘリカルコイルと前記第二のヘリカルコイルと前記第三のヘリカルコイルのそれぞれは、前記プラズマ生成部の軸の回りを１回転した場合に３本のつる巻き線となるように前記プラズマ生成部の外側を巻回していることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
前記高周波電源は、前記第一のヘリカルコイルと第二のヘリカルコイルと第三のヘリカルコイルのそれぞれにパルス変調された高周波電力を供給することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置において、
前記第二のヘリカルコイルの給電端は、前記第一のヘリカルコイルの給電端に対して１２０度回転した位置に配置され、
前記第三のヘリカルコイルの給電端は、前記第二のヘリカルコイルの給電端に対して１２０度回転した位置に配置されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、プラズマが生成されるプラズマ生成部と、前記プラズマ生成部の外側を巻回するとともに両端が接地されたヘリカルコイルと、前記ヘリカルコイルへ高周波電力を供給する高周波電源と、試料が前記プラズマにより処理される処理部とを備えるプラズマ処理装置において、前記ヘリカルコイルは、第一のヘリカルコイルと第二のヘリカルコイルと第三のヘリカルコイルを具備し、前記第一のヘリカルコイルに供給される高周波電力の位相と前記第二のヘリカルコイルに供給される高周波電力の位相の差である第一の位相差、前記第二のヘリカルコイルに供給される高周波電力の位相と前記第三のヘリカルコイルに供給される高周波電力の位相の差である第二の位相差および前記第三のヘリカルコイルに供給される高周波電力の位相と前記第一のヘリカルコイルに供給される高周波電力の位相の差である第三の位相差がそれぞれの所定の値となるように前記第一の位相差、前記第二の位相差および前記第三の位相差を制御する位相制御器をさらに備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月6日(2017.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体撮像素子上に被写体の像を結像する撮像レンズであって、物体側から像側に向かって順に、物体側に凸面を向けた正の屈折力を有する第１レンズと、像側に凹面を向けた負の屈折力を有する第２レンズと、負の屈折力を有する第３レンズと、像側に凸面を向けたメニスカス形状で負の屈折力を有する両面が非球面の第４レンズと、像側に凹面を向けた両面が非球面の第５レンズとから成り、前記第５レンズの像側の非球面上には光軸上以外の位置に変極点を有しており、以下の条件式（１）、（２）および（６）を満足することを特徴とする撮像レンズ。
（１）  ＴＴＬ／２ｉｈ≦０．８
（２）  ２０＜νｄ１−νｄ２＜５０
（６）  １．５＜ｒ４／ｆ＜２．３
ただし、
νｄ１：第１レンズのｄ線に対するアッベ数
νｄ２：第２レンズのｄ線に対するアッベ数
ｉｈ：最大像高
ＴＴＬ：光学全長
ｆ：撮像レンズ全系の焦点距離
ｒ４：第２レンズの像側の面の曲率半径
【請求項２】
以下の条件式（３）を満足することを特徴とする請求項１に記載の撮像レンズ。
（３）  ０＜νｄ３−νｄ４＜４０
ただし、
νｄ３：第３レンズのｄ線に対するアッベ数
νｄ４：第４レンズのｄ線に対するアッベ数
【請求項３】
以下の条件式（４）および（５）を満足することを特徴とする請求項１に記載の撮像レンズ。
（４）  ０．４＜ｆ１／ｆ＜１．０
（５）  −１．５＜ｆ２３４５／ｆ＜−０．６
ただし、
ｆ：撮像レンズ全系の焦点距離
ｆ１：第１レンズの焦点距離
ｆ２３４５：第２レンズ、第３レンズ、第４レンズおよび第５レンズの合成焦点距離
【請求項４】
以下の条件式（７）を満足することを特徴とする請求項１に記載の撮像レンズ。
（７）  −１．９＜（ｒ１＋ｒ２）／（ｒ１−ｒ２）＜−０．７
ただし、
ｒ１：第１レンズの物体側の面の曲率半径
ｒ２：第１レンズの像側の面の曲率半径
【請求項５】
以下の条件式（８）を満足することを特徴とする請求項１に記載の撮像レンズ。
（８）  −６．０＜ｆ４５／ｆ＜−３．０
ただし、
ｆ：撮像レンズ全系の焦点距離
ｆ４５：第４レンズと第５レンズの合成焦点距離
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１５】
2016018001.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月28日(2017.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の通信プロトコルを用いた複数のセッションに基づいて、一つ以上のサーバとデータ通信を行う通信手段と、
前記複数のセッションのうち、少なくとも一つのセッションにおけるエラー検出を行う検出手段と、
前記検出手段が、前記複数のセッションのうち第一のセッションにおいてエラーを検出した場合、前記第一の通信プロトコルを用いた前記複数のセッションのうち第二のセッションにおいてデータ通信に用いる通信プロトコルを前記第一の通信プロトコルから第二の通信プロトコルに変更するプロトコル制御手段とを有する情報処理装置。
【請求項２】
前記検出手段により前記第一のセッションにおけるエラーが検出されている場合、前記プロトコル制御手段は、新規に構築するセッションに用いる通信プロトコルを前記第二の通信プロトコルとし、
前記検出手段により前記複数のセッションにおけるエラーが検出されていない場合、前記プロトコル制御手段は、新規に構築するセッションに用いる通信プロトコルを前記第一の通信プロトコルとする請求項１に記載された情報処理装置。
【請求項３】
前記通信手段は、前記複数のセッションに基づいて、前記一つ以上のサーバからコンテンツデータを取得し、
前記検出手段が、第一のドメインに対応するサーバからコンテンツデータを取得するための前記第一のセッションにおけるエラーを検出した場合、前記プロトコル制御手段は、前記複数のセッションのうち、前記第一のドメインに対応するサーバからコンテンツデータを取得するための前記第二のセッションに対応する通信プロトコルを前記第一の通信プロトコルから前記第二の通信プロトコルに変更し、前記複数のセッションのうち、第二のドメインに対応するサーバからコンテンツデータを取得するための第三のセッションに対応する通信プロトコルを変更しない請求項１に記載された情報処理装置。
【請求項４】
前記検出手段が、前記複数のセッションのうち前記第一のセッションにおけるウィンドウサイズに関するエラーを検出した場合、前記複数のセッションのうち前記第二のセッションにおいてデータ通信に用いるウィンドウサイズを変更するウィンドウサイズ制御手段をさらに有する請求項１に記載された情報処理装置。
【請求項５】
複数のタブを有するウェブブラウザに表示させるためのコンテンツデータを、第一の通信プロトコルを用いて一つ以上のサーバから取得する通信手段と、
前記複数のタブのうち、少なくとも一つのタブに対応する通信におけるエラー検出を行う検出手段と、
前記検出手段が、前記複数のタブのうち第一のタブに対応する通信におけるエラーを検出した場合、前記第一の通信プロトコルを用いてコンテンツデータを取得する前記複数のタブのうち第二のタブに対応する通信に用いる通信プロトコルを前記第一の通信プロトコルから第二の通信プロトコルに変更するプロトコル制御手段とを有する情報処理装置。
【請求項６】
前記第一の通信プロトコルはHTTP2.0であり、前記第二の通信プロトコルはHTTP/1.1である請求項１または５に記載された情報処理装置。
【請求項７】
第一の通信プロトコルを用いた複数のセッションに基づいて、一つ以上のサーバとデータ通信を行う通信工程と、
前記複数のセッションのうち、少なくとも一つのセッションにおけるエラー検出を行う検出工程と、
前記検出工程において、前記複数のセッションのうち第一のセッションにおけるエラーが検出された場合、前記第一の通信プロトコルを用いた前記複数のセッションのうち第二のセッションにおいてデータ通信に用いる通信プロトコルを前記第一の通信プロトコルから第二の通信プロトコルに変更するプロトコル制御工程とを有する情報処理方法。
【請求項８】
前記検出工程において前記第一のセッションにおけるエラーが検出された場合、前記プロトコル制御工程において、新規に構築するセッションに用いる通信プロトコルが前記第二の通信プロトコルとされ、
前記検出工程において前記複数のセッションにおけるエラーが検出されない場合、前記プロトコル制御工程において、新規に構築するセッションで用いる通信プロトコルが前記第一の通信プロトコルとされる請求項７に記載された情報処理方法。
【請求項９】
前記通信工程において、前記複数のセッションに基づいて、前記一つ以上のサーバからコンテンツデータが取得され、
前記検出工程において、第一のドメインに対応するサーバからコンテンツデータを取得するための前記第一のセッションにおけるエラーが検出された場合、前記プロトコル制御工程において、前記複数のセッションのうち、前記第一のドメインに対応するサーバからコンテンツデータを取得するための前記第二のセッションに対応する通信プロトコルが前記第一の通信プロトコルから前記第二の通信プロトコルに変更され、前記複数のセッションのうち、第二のドメインに対応するサーバからコンテンツデータを取得するための第三のセッションに対応する通信プロトコルが変更されない請求項７に記載された情報処理方法。
【請求項１０】
複数のタブを有するウェブブラウザに表示させるためのコンテンツデータを、第一の通信プロトコルを用いて一つ以上のサーバから取得する通信工程と、
前記複数のタブのうち、少なくとも一つのタブに対応する通信におけるエラー検出を行う検出工程と、
前記検出工程において、前記複数のタブのうち第一のタブに対応する通信におけるエラーが検出された場合、前記第一の通信プロトコルを用いてコンテンツデータを取得する前記複数のタブのうち第二のタブに対応する通信に用いる通信プロトコルを前記第一の通信プロトコルから第二の通信プロトコルに変更するプロトコル制御工程とを有する情報処理方法。
【請求項１１】
コンピュータを請求項１から６の何れか一項に記載された情報処理装置の各手段として動作させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明にかかる情報処理装置は、第一の通信プロトコルを用いた複数のセッションに基づいて、一つ以上のサーバとデータ通信を行う通信手段と、前記複数のセッションのうち、少なくとも一つのセッションにおけるエラー検出を行う検出手段と、前記検出手段が、前記複数のセッションのうち第一のセッションにおいてエラーを検出した場合、前記第一の通信プロトコルを用いた前記複数のセッションのうち第二のセッションにおいてデータ通信に用いる通信プロトコルを前記第一の通信プロトコルから第二の通信プロトコルに変更するプロトコル制御手段とを有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
図3に示す処理をクライアント装置上で開いているタブウィンドウすべてにおいて実行することで、複数のセッションの間で非同期的にエラー情報を共有し、エラー情報に応じてデータ通信部210を制御することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月4日(2017.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
近距離無線通信を実行可能な通信装置であって、
前記近距離無線通信よりも高速に通信を行うために使用される第１インタフェースと、
前記近距離無線通信よりも高速に通信を行うために使用される第２インタフェースと、
有効化されるインタフェースの選択指示を受信する受信手段と、
前記選択指示に従って前記第１および第２インタフェースから有効化されたインタフェースに対応するネットワーク情報を、前記近距離無線通信により送信される近距離無線通信情報に書き込む書き込み手段と、
前記近距離無線通信情報を前記近距離無線通信にて通信相手装置に送信する送信手段を備えることを特徴とする通信装置。
【請求項２】
無効化されていたインタフェースが前記選択指示によって有効化された場合、前記書き込み手段は、前記近距離無線通信情報に書き込まれたネットワーク情報を前記有効化されたインタフェースに対応するネットワーク情報に書き換えることを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
前記第１インタフェースは無線ＬＡＮのために使用され、前記第２インタフェースは有線ＬＡＮのために使用されることを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項４】
用紙に画像を印刷するための印刷手段を更に備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項５】
近距離無線通信を行うＮＦＣユニット及び当該近距離無線通信よりも高速にネットワークと通信を行う通信部とを有する端末装置であって、
処理の依頼対象の処理装置と前記ＮＦＣユニットを介して通信することで、前記処理装置から、当該処理装置が有する１以上のネットワーク接続手段それぞれと通信するための情報を取得する取得手段と、
前記通信部を介し、前記端末装置が接続可能なネットワークにて前記処理装置を、該取得手段で取得した情報に従って探索する探索手段と、
該探索手段により、前記処理装置が探索できた場合、処理要求を前記通信部を介して、前記処理装置へ送信する送信手段と
を有することを特徴とする端末装置。
【請求項６】
前記取得手段は、前記処理装置が有するＮＦＣユニット内の不揮発性メモリから前記情報を取得することを特徴とする請求項５に記載の端末装置。
【請求項７】
前記取得手段は、前記処理装置が有するネットワークインターフェースユニットのＭＡＣアドレス、ネットワークインターフェースユニットが無線ＬＡＮユニットである場合には更にピアツーピア接続するためのＳＳＩＤ、暗号方式、認証方式、ネットワークキーを取得することを特徴とする請求項５又は６に記載の端末装置。
【請求項８】
前記処理装置は印刷装置であって、前記送信手段は印刷データを前記処理要求として送信することを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の端末装置。
【請求項９】
前記端末装置は画像を記憶する記憶手段と、
該記憶手段に記憶された画像のうち印刷対象の画像を選択する選択手段とを有し、
前記取得手段は、前記選択手段にて印刷対象の画像が選択状態の場合に前記情報を取得することを特徴とする請求項８に記載の端末装置。
【請求項１０】
前記端末装置は携帯型の端末であることを特徴とする請求項５乃至９のいずれか１項に記載の端末装置。
【請求項１１】
コンピュータが読み込み実行することで、前記コンピュータを、請求項５乃至９のいずれか１項に記載の端末装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【請求項１２】
コンピュータが読み込み実行することで、前記コンピュータを、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の通信装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載のプログラムを格納したことを特徴とするコンピュータが読み込み可能な記憶媒体。
【請求項１４】
近距離無線通信を実行可能であって、前記近距離無線通信よりも高速に通信を行うために使用される第１インタフェースと、前記近距離無線通信よりも高速に通信を行うために使用される第２インタフェースと有する通信装置の制御方法あって、
有効化されるインタフェースの選択指示を受信する受信工程と、
前記選択指示に従って前記第１および第２インタフェースから有効化されたインタフェースに対応するネットワーク情報を、前記近距離無線通信により送信される近距離無線通信情報に書き込む書き込み工程と、
前記近距離無線通信情報を前記近距離無線通信にて通信相手装置に送信する送信工程を備えることを特徴とする通信装置の制御方法。
【請求項１５】
近距離無線通信を行うＮＦＣユニット及び当該近距離無線通信よりも高速にネットワークと通信を行う通信部とを有する端末装置の制御方法であって、
処理の依頼対象の処理装置と前記ＮＦＣユニットを介して通信することで、前記処理装置から、当該処理装置が有する１以上のネットワーク接続手段それぞれと通信するための情報を取得する取得工程と、
前記通信部を介し、前記端末装置が接続可能なネットワークにて前記処理装置を、該取得工程で取得した情報に従って探索する探索工程と、
該探索工程により、前記処理装置が探索できた場合、処理要求を前記通信部を介して、前記処理装置へ送信する送信工程と
を有することを特徴とする端末装置の制御方法。
【請求項１６】
近距離無線通信を行うＮＦＣユニット及び当該近距離無線通信よりも高速にネットワークと通信を行う通信部とを有する端末装置と、
近距離無線通信を行うＮＦＣユニット及び当該近距離無線通信よりも高速にネットワークと通信を行う少なくとも１つのネットワーク接続手段とを有し、ネットワークから受信した処理要求に従って処理を実行する処理装置と
を含むネットワーク処理システムであって、
前記端末装置は、
前記処理装置と前記ＮＦＣユニットを介して通信することで、前記処理装置から、当該処理装置が有する前記ネットワーク接続手段それぞれと通信するための情報を取得する取得手段と、
前記通信部を介し、前記端末装置が接続可能なネットワークにて前記処理装置を、該取得手段で取得した情報に従って探索する探索手段と、
該探索手段により、前記処理装置が探索できた場合、処理要求を前記通信部を介して、前記処理装置へ送信する送信手段とを有し、
前記処理装置は、前記処理要求を受信した場合に、当該処理要求に従って処理を実行する手段と有する
ことを特徴とするネットワーク処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、通信装置は以下の構成を有する。すなわち、
近距離無線通信を実行可能な通信装置であって、
前記近距離無線通信よりも高速に通信を行うために使用される第１インタフェースと、
前記近距離無線通信よりも高速に通信を行うために使用される第２インタフェースと、
有効化されるインタフェースの選択指示を受信する受信手段と、
前記選択指示に従って前記第１および第２インタフェースから有効化されたインタフェースに対応するネットワーク情報を、前記近距離無線通信により送信される近距離無線通信情報に書き込む書き込み手段と、
前記近距離無線通信情報を前記近距離無線通信にて通信相手装置に送信する送信手段を備える。