【手続補正書】
【提出日】平成29年9月5日(2017.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多結晶シリコンウェハの平坦面上にパターニングされた光捕捉構造を生成する方法であって、
液体マスク材料の一部が夫々の導管の先端部から排出されるように、複数の並列の細長い前記導管に沿って前記液体マスク材料を送ることと、
複数の導管の先端部の下方を、多結晶シリコンウェハを移動させて、排出されたマスク材料部分によって多結晶シリコンウェハの平坦面の上にマスク材料パターンを形成することであって、前記平坦面の一部が前記マスク材料パターンを介して露出されるように前記液体マスク材料のパターンを形成することと、
露出された平坦面部分をエッチングして、エッチングされた前記多結晶シリコンウェハが一体パターニングされた光捕捉構造を形成するようにすることと
を備える、方法。
【請求項２】
前記複数の導管は、基部と前記先端部との間に延在する毛細管流路を備え、前記毛細管流路は、３〜１０ミクロンの公称流路幅を有し、且つ
前記液体マスク材料の送りは、前記毛細管流路の夫々から排出された液体マスク材料が、前記平坦面上において公称幅１０ミクロン以下のマスク特徴を形成するように、充分な量の前記液体マスク材料を前記毛細管流路に沿って流すようにせしめることを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記液体マスク材料の送りは、容器を有する基板を備える印刷ヘッドに前記液体マスク材料を供給することを含み、
複数の前記毛細管流路は、前記基板に接続されるとともに前記基板から離れて配設され、
前記液体マスク材料は、前記排出されたマスク材料部分が前記容器から複数の前記毛細管流路に沿って同時に流れるように、前記容器に供給される、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記多結晶シリコンウェハを移動させることは、複数の前記毛細管流路の下を、少なくとも１２５ｍｍ／ｓの速度で前記多結晶シリコンウェハを移動させることを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
複数の密集した導管は、夫々、基板に取り付けられた前記基部と前記基板から離れて配設された前記先端部とを備える湾曲した微小バネ構造を有し、
前記液体マスク材料の送りは、前記排出されたマスク材料部分が、夫々の前記微小バネ構造の部分によって画定される毛細管流路を同時に流れるようにせしめることを含む、
請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記液体マスク材料の送りは、前記排出されたマスク材料部分の夫々が、関連する一対の前記微小バネ構造によって画定される対応するスリット状の毛細管流路を流れるようにせしめることを含む、
請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記液体マスク材料の送りは、前記排出されたマスク材料部分の夫々が、複数の前記微小バネ構造のうちの関連する１つの微小バネ構造によって画定された対応するチューブ状の毛細管流路を流れるようにせしめることを含む、
請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記液体マスク材料の送りは、前記排出されたマスク材料部分の夫々が、複数の前記微小バネ構造のうちの関連する１つの微小バネ構造上に設けられた関連する液体案内流路構造を流れるようにせしめることを含む、
請求項５に記載の方法。
【請求項９】
前記複数の密集した導管は、基板に取り付けられた基部と、基板から離れて配設された先端部とを有する複数の直線状のカンチレバー部を含み、且つ
前記液体マスク材料の送りは、前記排出されたマスク材料部分が、前記複数の直線状のカンチレバー部の一対によって画定される対応するスリット状の毛細管流路を同時に流れるようにせしめることを含む、
請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
前記液体マスク材料の送りは、前記排出されたマスク材料部分を、１つ以上のインクジェット印刷ヘッドを介して前記複数の導管に供給することを含む、
請求項４に記載の方法。
【請求項１１】
前記液体マスク材料の送りは、前記排出されたマスク材料部分を、１つ以上の加圧されたマニホールドを介して前記複数の導管に供給することを含む、  
請求項４に記載の方法。
【請求項１２】
前記液体マスク材料の送りは、前記容器に隣接する前記基板を加熱することによって、前記複数の毛細管流路に供給される前記排出されたマスク材料部分の粘度勾配を制御することを含む、
請求項４に記載の方法。
【請求項１３】
前記液体マスク材料の送りは、第１の組の並列の導管と第２の組の並列の導管とに沿って前記液体マスク材料を排出することを含み、ここで、前記第１の組は、前記第２の組から前記多結晶シリコンウェハの移動方向に沿ってオフセットされており、
前記第１の組の導管で形成される第１のマスク特徴の夫々が、前記第２の組の導管で形成される第２のマスク特徴の対の間に位置するように、前記第１の組の並列の導管は、第２の組の並列の導管からクロスプロセス方向にオフセットされている、
請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記液体マスク材料の送りは、第１の導管から排出された第１の液体マスク材料が、第２の導管から排出された第２の液体マスク材料の上に重なるように、前記液体マスク材料を複数の直列配置された導管に同時に供給することを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記液体マスク材料の送りは、前記排出されたマスク材料部分を、直列に配置された複数の組の導管に、前記複数の組の導管から前記多結晶シリコンウェハに同時に排出されるように供給することを含む、
請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記液体マスク材料の送りは、前記複数の導管のそれぞれからマスク材料を連続的に排出して、排出されたマスク材料部分が、多結晶シリコンウェハの細長い露出された平坦な表面部によって分離された、連続した細長い並列のマスク材料線を形成することを含み、
エッチングは、前記細長い露出された平坦な表面部をエッチングして前記エッチングによって細長い溝型の光捕捉構造を形成することを含む
請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記液体マスク材料の送りは、複数の平行な細長い導管をウェハの移動方向に対して直交する方向に振動させて、排出されたマスク材料部分が前記多結晶シリコンウェハの表面に波型のマスク材料線を形成することを含む、
請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記液体マスク材料の送りは、前記多結晶シリコンウェハの上に、前記多結晶シリコンウェハのドット状の露出された平坦な表面部を画定する排出されたマスク材料部分を形成することを含み、
前記露出された平坦面のエッチングは、前記多結晶シリコンウェハのドット状の露出された表面をエッチングしてピット型の光捕捉構造を生成することを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記液体マスク材料の送りは、前記複数の導管の先端部を前記多結晶シリコンウェハの平坦面に断続的に接触させて排出されたマスク材料部分によって前記多結晶シリコンウェハの上にドット状のマスク材料構造を形成することを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記液体マスク材料の送りは、オフセットした導管を有する第１の印刷ヘッド及び第２の印刷ヘッドに前記液体マスク材料を供給して、前記第１の印刷ヘッドに設けられた導管の先端部から排出された前記液体マスク材料の第１の部分が、前記第２の印刷ヘッドに設けられた導管の先端部から排出された前記液体マスク材料の第２の部分の間に位置するようにすることを含む、
請求項１に記載の方法。