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【手続補正書】
【提出日】平成29年1月13日(2017.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気装置に用いる磁気接合において、
基準層と、
非磁性スペーサー層と、
自由層と、を有し、
前記非磁性スペーサー層は、前記基準層と前記自由層との間に配置され、書込み電流が前記磁気接合を通過して流れる時、前記自由層が複数の安定した磁気状態の間でスイッチング可能なように構成され、
前記磁気接合の一部は、少なくとも１つの磁気サブ構造を有し、前記磁気サブ構造は、少なくとも１つのＦｅ層及び少なくとも１つの非磁性挿入層を含み、
前記少なくとも１つのＦｅ層は、前記少なくとも１つの非磁性挿入層と少なくとも１つの界面を共有し、前記少なくとも１つの非磁性挿入層の各々は、Ｗ、Ｉ、Ｈｆ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｏｓ、及びＩｎからなる群から選ばれるいずれか１つ以上で構成されることを特徴とする磁気接合。
【請求項２】
前記少なくとも１つの磁気サブ構造を含む前記磁気接合の一部は、前記自由層又は前記基準層の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の磁気接合。
【請求項３】
前記少なくとも１つの磁気サブ構造は、複数の磁気サブ構造を含むことを特徴とする請求項２に記載の磁気接合。
【請求項４】
前記少なくとも１つのＦｅ層は、第１Ｆｅ層及び第２Ｆｅ層を含み、
前記少なくとも１つの非磁性挿入層の中の１つの非磁性挿入層は、前記第１Ｆｅ層と前記第２Ｆｅ層との間に配置され、
前記少なくとも１つの界面は、前記第１Ｆｅ層と前記非磁性挿入層との間の第１界面及び前記第２Ｆｅ層と前記非磁性挿入層との間の第２界面を含み、
前記第１Ｆｅ層は、前記第２Ｆｅ層と強磁性的に結合されることを特徴とする請求項２に記載の磁気接合。
【請求項５】
前記少なくとも１つの非磁性挿入層は、第１非磁性挿入層及び第２非磁性挿入層を含み、
前記少なくとも１つのＦｅ層の中の１つのＦｅ層は、前記第１非磁性挿入層と前記第２非磁性挿入層との間に提供され、
前記少なくとも１つの界面は、前記第１非磁性挿入層と前記Ｆｅ層との間の第１界面及び前記第２非磁性挿入層と前記Ｆｅ層との間の第２界面を有することを特徴とする請求項２に記載の磁気接合。
【請求項６】
前記基準層及び前記自由層の前記少なくとも１つは、分極強化層を含み、  前記少なくとも１つのＦｅ層は、前記分極強化層と強磁性的に結合されることを特徴とする請求項２に記載の磁気接合。
【請求項７】
前記自由層は、前記少なくとも１つの磁気サブ構造及び追加的な分極強化層を含み、
前記少なくとも１つの磁気サブ構造は、前記分極強化層と前記追加的な分極強化層との間にあり、前記少なくとも１つのＦｅ層は、前記追加的な分極強化層と強磁性的に結合されることを特徴とする請求項６に記載の磁気接合。
【請求項８】
前記追加的な分極強化層は、前記分極強化層より厚いことを特徴とする請求項７に記載の磁気接合。
【請求項９】
追加的な基準層と、
追加的な非磁性スペーサー層と、をさらに有し、
前記追加的な非磁性スペーサー層は、前記追加的な基準層と前記自由層との間にあることを特徴とする請求項２に記載の磁気接合。
【請求項１０】
前記追加的な基準層は、少なくとも１つの追加的な磁気サブ構造を含み、
前記少なくとも１つの追加的な磁気サブ構造は、少なくとも１つの追加的なＦｅ層及び少なくとも１つの追加的な非磁性挿入層を含み、
前記少なくとも１つの追加的なＦｅ層は、前記少なくとも１つの追加的な非磁性挿入層と少なくとも１つの追加的な界面を共有し、前記少なくとも１つの追加的な非磁性挿入層の各々は、Ｗ、Ｉ、Ｈｆ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｏｓ、及びＩｎからなる群から選ばれるいずれか１つ以上で構成されることを特徴とする請求項９に記載の磁気接合。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】磁気接合
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月10日(2017.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調理場のシンク内で使用されている置き型の生ごみ収納器において、前記置き型の生ごみ収納器の安定板の形状を、シンク内底面に設置される安定板底部から極力シンク壁面に沿うように伸ばし、シンク底面から離れた位置に置き型の生ごみ収納器本体が設置されるように安定板を成形する事で、これまでシンク内底面に置かれていた置き型の生ごみ収納器本体があったスペースに新しい空間を設けシンク内の底面を広く利用する事を可能とした特徴を有する置き型の生ごみ収納器
【請求項２】
調理場のシンク内で使用されている置き型の生ごみ収納器において、前記置き型の生ごみ収納器本体をシンク内からゴミ箱に移す際、生ごみの入った置き型の生ごみ収納器本体からの水滴零れや生ごみの落下を防ぐ目的で、その置き型の生ごみ収納器本体の左右のどちらかに生ごみを捨てる方向を定め、その生ごみを捨てる側に定めた置き型生ごみ収納器本体の上部縁には傾けても生ごみが落ちないスライド式あるいは固定式の生ごみ落下防止ガイドを備え、またその生ごみを捨てる側の生ごみ落下防止ガイドを備えた生ごみ収納器本体側面と底面には水切り用の穴（孔、スリット）を設けず、その反対側の生ごみ落下防止ガイドの無い生ごみ収納器本体側面と底面には水切り用の穴（孔、スリット）を設け、水切り用の穴の無い生ごみ落下防止ガイドを備えた側の生ごみ収納器本体の底面には、反対側の生ごみ落下防止ガイドが無い側の底面の水切り用の穴（孔、スリット）を利用して水分等が集水排出される形状を施し、生ごみを捨てる側に定めた方向に傾けてシンク内より取り出す事で水滴零れや生ごみ落下を防ぐ特徴を有する置き型の生ごみ収納器
【請求項３】
調理場のシンク内で使用されている生ごみ収納器において、前記生ごみ収納器本体に構成面復元力の増強を施し、生ごみ収納器本体中腹へ手で押し込み離した時の生ごみ収納器本体の復元力による戻るときの振動を利用して、生ごみ収納器本体に付着した水滴をはじき飛ばし、生ごみを取り出す促進力としての利用も可能な特徴を有する生ごみ収納器
【請求項４】
調理場のシンク内で使用されている置き型の生ごみ収納器において、前記置き型の生ごみ収納器あるいは請求項１で説明した安定板の構成をユニット式で構成する事により、分離された生ごみ収納器本体底部や側面と分離された安定板本体に、調理場で使用されるさまざまな調理具等に合わせた調理具ホルダー形状を施し、前記置き型の生ごみ収納器としての非使用時に調理具ホルダーとして利用を可能とした特徴を有する置き型の生ごみ収納器
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月2日(2017.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パッケージ化電子デバイスであって、
１つ以上の構成要素を受けるように構成されるセラミック基板を備え、前記セラミック基板は接地平面と電気的に接する導電層を含み、さらに
集積回路を有するダイを備え、前記ダイは前記セラミック基板の表面上に実装され、さらに
前記ダイ上および前記セラミック基板の側方端縁まで延在する前記セラミック基板の前記表面上に実現されて遮蔽機能性を与えるコンフォーマル導電性コーティングと、
前記コンフォーマル導電性コーティングと前記導電層との間の電気的接続部とを備える、パッケージ化電子デバイス。
【請求項２】
前記コンフォーマル導電性コーティングは前記ダイの実質的にすぐ上に実現される、請求項１に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項３】
前記ダイはフリップチップデバイスとして構成される、請求項２に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項４】
前記フリップチップデバイスと前記セラミック基板との間に実現されるアンダーフィルをさらに備える、請求項３に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項５】
前記アンダーフィルは、前記フリップチップデバイスの側壁と前記セラミック基板の前記表面との間の角度付けられた遷移を設けるように構成される端縁プロファイルを含む、請求項４に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項６】
前記アンダーフィルの前記角度付けられた遷移プロファイルは、前記フリップチップデバイスと前記セラミック基板との間の前記コンフォーマル導電性コーティングの改良された被覆を容易にするように構成される、請求項５に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項７】
前記集積回路は無線周波数（ＲＦ）スイッチング回路を含む、請求項２に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項８】
前記ダイはシリコンオンインシュレータ（ＳＯＩ）ダイである、請求項７に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項９】
前記導電層は、前記導電層の端縁が前記コンフォーマル導電性コーティングと電気的に接するように、前記セラミック基板の対応の前記側方端縁に沿った端縁を含む、請求項１に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項１０】
前記導電層は、前記セラミック基板の前記対応の側方端縁に沿った導電性ストリップを含む、請求項９に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項１１】
前記導電性ストリップは、前記導電性ストリップと前記コンフォーマル導電性コーティングとの間の電気的接触を容易にするように前記セラミック基板の前記対応の側方端縁上に十分に露出する端縁を含む、請求項１０に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項１２】
前記導電層は、前記セラミック基板の各々の端縁が前記コンフォーマル導電性コーティ
ングと電気的に接する前記導電性ストリップの対応の露出した前記端縁を含むように配置される複数の前記導電性ストリップを含む、請求項１１に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項１３】
前記コンフォーマル導電性コーティングは、金属性塗料層または堆積によって形成される導電層を含む、請求項１に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項１４】
前記セラミック基板は低温同時焼成セラミック（ＬＴＣＣ）基板を含む、請求項１に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項１５】
前記セラミック基板の下側に実現される複数のコンタクトパッドをさらに備え、前記コンタクトパッドは回路板上への前記パッケージ化電子デバイスの実装を可能にするように構成される、請求項１に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項１６】
前記ダイのすぐ上の前記コンフォーマル導電性コーティングの結果、前記パッケージ化電子デバイスが低プロファイル遮蔽デバイスとなる、請求項２に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項１７】
オーバーモールドの表面上に前記コンフォーマルコーティングが実現されるように前記ダイの上に実現されるオーバーモールドをさらに備える、請求項１に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項１８】
前記オーバーモールドは、その側壁が前記セラミック基板の対応の側壁にほぼ整列するように寸法決めされる、請求項１７に記載のパッケージ化電子デバイス。
【請求項１９】
ＲＦ信号を処理するように構成されるＲＦモジュールであって、
１つ以上の構成要素を受けるように構成されるセラミック基板を含み、前記セラミック基板は接地平面と電気的に接する導電層を含み、さらに
集積回路を有するダイを含み、前記ダイは前記セラミック基板の表面上に実装され、さらに
前記ダイ上および前記セラミック基板の側方端縁まで延在する前記セラミック基板の前記表面上に実現されて遮蔽機能性を与えるコンフォーマル導電性コーティングと、
前記コンフォーマル導電性コーティングと前記導電層との間の電気的接続部とを含む、ＲＦモジュール。
【請求項２０】
前記導電層は、前記導電層の端縁が前記コンフォーマル導電性コーティングと電気的に接するように、前記セラミック基板の対応の側方端縁に沿った端縁を含む、請求項１９に記載のＲＦモジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月30日(2017.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
間接的な印刷プロセスで使用するための硬化性水系ラテックスインクであって、
硬化性材料と；
光開始剤と；
ポリ（プロポキシル化ビスフェノール−ｃｏ−テレフタレート−ｃｏ−フマレート）およびポリ（１，９−ノナンジオール−ｃｏ−ドデカン二酸）を含み、軟化温度が４０℃以上１０５℃未満であり、ガラス転移温度が４０℃〜１５０℃であるポリマーと、を含み、
平均粒径が５０ｎｍ〜３００ｎｍである、
硬化性水系ラテックスインク。
【請求項２】
前記硬化性材料は、硬化性モノマー、硬化性オリゴマーおよびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の硬化性水系ラテックスインク。
【請求項３】
前記硬化性モノマーは、メタクリレートモノマー、アクリレートモノマー、ジメタクリレートモノマー、ジアクリレートモノマー、トリアクリレートモノマー、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項２に記載の硬化性水系ラテックスインク。
【請求項４】
前記硬化性オリゴマーは、ジアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレートオリゴマー、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項２に記載の硬化性水系ラテックスインク。
【請求項５】
前記硬化性材料は、硬化性水系ラテックスインクの合計重量に対して１〜３０重量％の量で存在する、請求項１に記載の硬化性水系ラテックスインク。
【請求項６】
前記ポリマーは、アモルファスポリエステル、結晶性ポリエステル、またはこれらの混合物を含む、請求項１に記載の硬化性水系ラテックスインク。
【請求項７】
前記ポリマーは、重量平均分子量が５，０００ｇ／ｍｏｌ〜４０，０００ｇ／ｍｏｌである、請求項１に記載の硬化性水系ラテックスインク。
【請求項８】
前記ポリマーは、体積平均粒径が５０ｎｍ〜６００ｎｍである、請求項１に記載の硬化性水系ラテックスインク。
【請求項９】
前記ポリマーは、硬化性水系ラテックスインクの合計重量に対して１重量％〜２０重量％の量で存在する、請求項１に記載の硬化性水系ラテックスインク。
【請求項１０】
前記光開始剤は、ヒドロキシケトン、ベンゾフェノン、アシルホスフィンオキシド、フェニルグリオキシレート、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の硬化性水系ラテックスインク。
【請求項１１】
顔料、染料、顔料と染料との混合物、顔料の混合物、および染料の混合物からなる群から選択される着色剤を更に含む、請求項１に記載の硬化性水系ラテックスインク。
【請求項１２】
吐出温度での表面張力が１５〜５０ダイン／ｃｍである、請求項１に記載の硬化性水系ラテックスインク。
【請求項１３】
吐出温度での粘度が２センチポイズ〜２０センチポイズである、請求項１に記載の硬化性水系ラテックスインク。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月23日(2017.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
研磨装置１００は、スラリ等の研磨液１３２を研磨パッド１１０に分注するためのポート１３０を含むことができる。研磨装置はまた、研磨パッド１１０を薄く削って研磨パッド１１０を一貫した研磨状態に保つ研磨パッド調整器も含むことができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図２に示すように、ウインドウ１１８がプラテンに設置された場合、プラテン（←２０４で示す）の回転に起因して、ウインドウ１１８がキャリアヘッドの下を移動した時に、サンプリング周波数においてスペクトルの測定を行う光学モニタシステムにより、基板１０を横切るアークの場所２０１においてスペクトルの測定が行われる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
プローブ１８０は、プラットフォーム１０６の上面に対してそれ自体の垂直方向の高さを調節する仕組みを含むことができる。ある実装態様では、プローブ１８０は、トラックの平面に平行である平面を横方向にプローブ１８０を移動させるように構成されたアクチュエータシステム１８２上に支持される。アクチュエータシステム１８２は、２つの直交軸に沿って個別にプローブ１８０を移動させる２つの個別の線形アクチュエータを含むＸＹアクチュエータシステムであってよい。ある実装態様では、アクチュエータシステム１８２はなく、キャリアヘッド１４０が移動することにより、プローブ１８０によって測定される箇所が基板上の経路を横切る間、プローブ１８０は（プラットフォーム１０６に対して）静止している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
図４に示す特定の実装態様では、キャリアヘッド１４０が回転している間、運び台１０８により、基板の中心がプローブ１８０から外向きに移動することができ、これによりプローブ１８０によって測定される箇所１８４が、基板１０上のらせん経路１８４を横切ることになる。しかしながら、他の動きが組み合わさることにより、プローブが例えば基板１０の中心を通過する一連の同心円又は一連のアーチ形部分等の他の経路を横切ることになる場合もある。さらに、モニタステーションがＸＹアクチュエータシステムを含む場合、測定箇所１８４は、複数の等間隔に並んだ平行線部分を有する経路を横切る場合がある。これにより、光学計測システム１６０が、基板の上で長方形のパターンの間隔で測定を行うことが可能になる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
研磨装置によって研磨される基板１０は通常約８〜１８インチの直径を有し、基板１０が研磨された後で、例えば切断等によって互いに分離させることができる数十、数百、又は数千ものダイを含むことができる。各ダイは約１インチ以下にまたがることができる。ある実装態様では、基板１０のダイは、分離しやすくするためにスクライバでラインを形成することによって互いに分離される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
例えば、図５Ａは、メモリセル５０４を収容する中心領域５０２を含むメモリチップ５００を示す。領域５０２は、同一であり、格子形状に配置された何百万ものメモリセル５０４を収容することができる。各メモリセル５０４のサイズは、ほぼ１ミクロン以下程度であってよい。メモリチップ５００は、アドレスラインを収容する領域５０６と、制御ユニットを収容する領域５０８も含む。チップは他の領域及び構造を含みうる。各領域５０２、５０６、５０８は、異なる物理特性を有する。例えば、領域５０２は、一般に規則的に配列しているメモリセルを収容し、領域５０６及び５０８は金属ライン及び領域５０２のパターンほど規則的に配置されていないパターンの他の物理構造を含むことができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図５Ｂに示す概略断面図では、基板は複数の層を有し、複数の層は、下部の半導体ウェハ５１０、特徴を含むパターン層５１２、及び研磨の対象である外側層５１４を含む。ウェハ５１０とパターン層５１２との間、及び／又はパターン層５１２と外側層５１４との間に追加の層があってもよい。領域５０６、５０８等の異なる領域に対応する基板の異なる部分は、異なる層の組み合わせ、異なる層の異なる材料、及び／又は異なる特徴密度を有しうる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
さらに、一般には、測定スペクトルはノイズデータを含む。ある実装態様では、グループ分けされたスペクトルのノイズは、構造的特徴の厚さを判断するのに使用する前に、削減されている又は除去されていてよい。ノイズ削減技術の例は、本願と同日に出願され、参照することにより本明細書に全体的な内容が組み込まれる米国特許出願第１４／０６３９１７に記載されている。ある実装態様では、厚さを判断するために全測定スペクトルよりも少ない測定スペクトルが使用可能である。例えば、異なる構造的特徴又はデバイスの組み合わせについての情報を含むスペクトルは有用でない可能性がある。スペクトルをグループ分けすることによって、使用可能ではないスペクトルから有用なスペクトルを分離することができる。一又は複数の有用なスペクトルのグループをさらに解析し、これらのグループに基づいて厚さの判断をすることで、グループ分けしていない測定スペクトルに基づいて判断を行うよりもより的確で正確な判断ができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月31日(2017.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を記録媒体に噴射可能な記録ヘッドと、
前記記録媒体を保持する記録媒体保持ユニットと、
前記記録媒体を前記記録ヘッドに搬送する搬送ユニットと、
前記記録ヘッドと前記搬送ユニットとを収容し、前記記録媒体保持ユニットが挿入される筐体と、
前記筐体の側面に形成され、前記記録媒体保持ユニットを挿入する挿入口と、
前記液体を収容する液体収容体と、
前記筐体の前記挿入口が形成された側面に隣接する少なくとも一方の外側面に着脱可能に装着され、前記液体収容体を格納するケースと、
前記液体収容体から前記筐体の内部に前記液体を供給する供給部と、
を備え、
前記ケースの下方には、前記ケースよりも剛性が高いガード部が形成されていることを特徴とする記録装置。
【請求項２】
請求項１に記載の記録装置であって、
前記ガード部は、少なくとも一部が前記ケースの側面に延在していることを特徴とする記録装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の記録装置であって、
前記ガード部と前記ケースとの間には隙間が形成されることを特徴とする記録装置。
【請求項４】
請求項３に記載の記録装置であって、
前記隙間における高さ方向の距離は、前記筐体側から前記筐体と反対側に位置するほど長く設定されることを特徴とする記録装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の記録装置であって、
前記ガード部の上面の面積は、前記ケースの底面積と同等以上であり、前記ガード部は前記ケースの底面に対向する領域に配置されることを特徴とする記録装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の記録装置であって、
前記ガード部は、前記筐体に着脱可能に設けられ、
前記筐体に設けられた凹部と、
前記ガード部に設けられ、前記凹部に挿入されて係合する係合部と、を備えたことを特徴とする記録装置。
【請求項７】
請求項６に記載の記録装置であって、
前記ガード部の前記係合部の下端の位置は、前記筐体の底面の位置にあることを特徴とする記録装置。
【請求項８】
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の記録装置であって、
前記ガード部は、前記筐体に一体に形成されることを特徴とする記録装置。
【請求項９】
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の記録装置であって、
前記ガード部は金属フレームを含み、当該金属フレームは前記筐体の金属フレームに固定されることを特徴とする記録装置。
【請求項１０】
請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の記録装置であって、
前記筐体の両側に、前記ケース及び前記ガード部が備えられることを特徴とする記録装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の記録装置であって、
一方の前記ガード部は前記筐体に一体に成型され、他方の前記ガード部は前記筐体に着脱可能に設けられることを特徴とする記録装置。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載の記録装置であって、
前記ガード部には、指が掛かるための指掛け部が形成されていることを特徴とする記録装置。
【請求項１３】
請求項１から請求項１２のいずれか一項に記載の記録装置であって、
前記液体収容体が可撓性であることを特徴とする記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月12日(2017.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート積載面上にシートを積載する積載トレイと、
前記積載トレイにシートを排出する、一対のローラ部材が接離可能に構成された排出ローラ対と、
前記排出ローラ対よりもシート搬送方向上流側に設けられ、シート搬送方向と直交する方向であるシート幅方向に移動可能であり、シートを前記積載トレイに向けて搬送するとともに、前記シート幅方向の異なる位置にシートをシフトさせるシフト動作を行うシフトローラ対とを備えたシート処理装置において、
シート情報に基づいて、前記シフトローラ対によるシートのシフト動作タイミングと、前記排出ローラ対の接離タイミングとを変更する制御を行う制御手段を有することを特徴とするシート処理装置。
【請求項２】
請求項１のシート処理装置において、
前記シート情報はシートサイズであり、
シートの搬送方向の長さが、前記シフトローラ対により該シートを挾持した状態で、シート先端が前記シート積載面に接触し得る長さの場合には、
前記シフトローラ対と前記排出ローラ対とでシートを挾持搬送した状態で、シート先端が前記積載トレイに接触するまでシートを搬送し、その後、該排出ローラ対を離間させてから該シフトローラ対によるシートのシフト動作を行うことを特徴とするシート処理装置。
【請求項３】
請求項１のシート処理装置において、
前記シート情報はシートサイズであり、
シートの搬送方向の長さが、前記シフトローラ対により該シートを挾持した状態で、シート先端が前記シート積載面に接触し得ない長さの場合には、
前記シフトローラ対でシートを挾持搬送しシート先端が前記排出ローラ対に到達する前に、該シフトローラ対によるシートのシフト動作を完了させ、シフト動作が完了したシートを該排出ローラ対で挾持搬送することを特徴とするシート処理装置。
【請求項４】
請求項１のシート処理装置において、
前記シート情報はシートの厚さであり、
シートが予め設定された所定の厚さよりも厚い場合には、
前記シフトローラ対が離間した状態で前記シフトローラ対によりシートを挾持搬送し、シート先端が該排出ローラ対よりもシート搬送方向下流側に位置するときに、該シフトローラ対によるシートのシフト動作を行うことを特徴とするシート処理装置。
【請求項５】
シート上に画像を形成する画像形成装置と、
前記画像形成装置によって画像が形成されたシートに対して所定の処理を施すシート処理装置とを備えた画像形成システムにおいて、
前記シート処理装置として、請求項１、２、３または４のシート処理装置を用いたことを特徴とする画像形成システム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月27日(2017.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼底画像、および、前記眼底画像の一部に関して撮影された前記眼底画像よりも高解像度の部分画像を取得する取得手段と、
前記部分画像に対応する前記眼底画像上の画像領域に対して前記部分画像を合成し、前記眼底画像と前記部分画像との合成画像を表示媒体に表示させる表示制御手段と、を有していることを特徴とする眼科用画像処理装置。
【請求項２】
前記表示制御手段は、第１の表示倍率と該第１の表示倍率よりも大きな第２の表示倍率とのそれぞれで、前記合成画像の一部又は全部を表示可能であり、
前記表示制御部は、前記合成画像における前記部分画像が合成された部分画像領域が前記第２の表示倍率にて表示される場合に、前記合成画像における、前記部分画像が合成されていない周辺領域が前記第２の表示倍率で表示される場合と比べて、高解像度で前記合成画像を表示する、請求項１記載の眼科用画像処理装置。
【請求項３】
前記表示制御手段は、さらに、前記眼底画像上での前記部分画像に対応する画像領域と、前記部分画像とを画像処理によってマッチングさせ、画像間の位置ずれを補正することを特徴とする請求項１又は２記載の眼科用画像処理装置。
【請求項４】
前記眼底画像と、前記部分画像とは、同一の受光素子からの信号に基づいて生成された画像である、請求項１から３のいずれかに記載の眼科用画像処理装置。
【請求項５】
眼科用画像処理装置のプロセッサで実行されることにより、
眼底画像、および、前記眼底画像の一部に関して撮影された前記眼底画像よりも高解像度の部分画像を取得する取得ステップと、
前記部分画像に対応する前記眼底画像上の画像領域に対して前記部分画像を合成し、前記眼底画像と前記部分画像との合成画像を表示媒体に表示させる表示制御ステップと、を画像処理装置に実行させることを特徴とする画像処理プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月15日(2017.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乳化重合によって、ラテックスの中でポリマー樹脂粒子を作成することと、
前記ポリマー樹脂粒子からトナー粒子を作成することと、
を含むプロセスであって、
前記ポリマー樹脂粒子が、１種類以上のモノマーエマルションと非界面活性剤系電荷制御剤とを含む混合物から作られ、
前記乳化重合が、混合物の１０〜３０重量％の範囲の固形分含有量で、供給量を抑えた条件で行われ、
前記トナー粒子が、乳化凝集／融着によって、形成され、
前記トナー粒子が、１成分現像系で、Ａゾーン環境条件で使用するのに十分な静電電荷を保持する、
プロセス。
【請求項２】
前記ポリマー樹脂粒子を作成する工程が、１０％未満の反応器の汚染を引き起こす、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記ポリマー樹脂粒子が、粒径で１５０ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記非界面活性剤系電荷制御剤が、前記混合物の１重量％〜１０重量％の範囲で存在する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
前記非界面活性剤系電荷制御剤が、前記混合物の４重量％以下の範囲で存在する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】
前記トナー粒子は、１成分現像系で、Ｃゾーン環境条件で使用するのに十分な静電電荷を保持する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項７】
前記トナー粒子が負に帯電している、請求項１に記載のプロセス。
【請求項８】
前記Ａゾーン環境条件で使用するのに十分な静電電荷は、−２０マイクロクーロン／グラム〜−１００マイクロクーロン／グラムの範囲内である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項９】
前記非界面活性剤系電荷制御剤は、サリチル金属酸塩である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記サリチル金属酸塩は、亜鉛またはアルミニウムを含む、請求項９に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記非界面活性剤系電荷制御剤が疎水性である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記ラテックスからトナー粒子のコアを作成することを含み、前記ラテックスがトナー粒子のコアに組み込まれる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記ラテックスからトナー粒子のシェルを作成することを含み、前記ラテックスがトナー粒子のシェルに組み込まれる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記ラテックスからシェルおよびコアを作成することを含み、前記ラテックスがトナー粒子のシェルおよびコアに組み込まれる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記１種類以上のモノマーエマルションは、スチレン、アクリレート、メタクリレート、ブタジエン、イソプレン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、およびこれらの組み合わせからなる群から選択されたモノマーを含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１６】
供給量を抑えた条件で乳化重合によって、混合物からラテックスを作成することと、
前記ラテックスからトナー粒子を作成することと、
を含み、
前記混合物は、
水中にアクリレートおよびスチレンモノマーを含むモノマーエマルションと、
前記混合物の０．１〜１０重量％のサリチル金属酸塩と、
を含み、
前記混合物の固形分含有量は、混合物の１０〜３０重量％の範囲であり、
前記トナー粒子のシェル部は、前記ラテックスを含む、
プロセス。
【請求項１７】
前記トナー粒子のコア部は、前記ラテックスを含む、請求項１６に記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月8日(2016.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の光学系を保持する第１のユニットと、
前記第１のユニットに対して着脱され、前記第１のユニットに取り付けられた場合に前記第１の光学系から射出された光束が入射する第２の光学系を保持する第２のユニットと、
を備え、
前記第１のユニットおよび前記第２のユニットは、前記第１の光学系の光軸の方向に沿って一方を他方に対して挿抜でき、少なくとも一部が互いに相補的な形状を有する嵌合部を有し、
前記嵌合部の嵌合長Ｌと前記嵌合部の直径Ｄとの比Ｌ／Ｄが、０．１以上、且つ、２．０以下である光学機器。
【請求項２】
前記比Ｌ／Ｄが、０．３以上、且つ、１．３以下である請求項１に記載の光学機器。
【請求項３】
前記嵌合部において互いに嵌合した前記第１のユニットおよび前記第２のユニットの全長Ｔと、前記嵌合部における嵌合長Ｌとの比Ｌ／Ｔが０．１以下である請求項１または２に記載の光学機器。
【請求項４】
前記光軸の周りを回転することにより前記第１のユニットおよび前記第２のユニットの少なくとも一方に螺合して、前記第１のユニットおよび前記第２のユニットを連結する連結部を更に備える請求項１から３のいずれか一項に記載の光学機器。
【請求項５】
前記第２のユニットおよび前記第１のユニットの一方に設けられ、前記第１のユニットおよび前記第２のユニットの間で弾性変形して、前記第１のユニットおよび前記第２のユニットの間隙を液密に封止するシール部を更に備える請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の光学機器。
【請求項６】
前記第１のユニットは、前記第１の光学系の雰囲気を気密に封止する開閉可能な栓部を備え、前記栓部は、前記第２のユニットを前記第１のユニットに対して連結した場合に、前記第２のユニットにより覆い隠される位置に設けられる請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の光学機器。
【請求項７】
前記第１の光学系は、前記第１の光学系の焦点を前記光軸の方向に移動させる合焦光学系を含み、
前記第１のユニットは、ユーザによる操作量に応じて前記合焦光学系を移動させる粗動操作部と、ユーザによる操作量に応じて前記合焦光学系を移動させて、前記粗動操作部と同じ操作量に対して前記合焦光学系の移動量が相対的に小さい微動操作部と
を備える請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の光学機器。
【請求項８】
前記第１のユニットおよび第２のユニットの少なくとも一方は、外部からの液体の侵入を阻止する防水構造を有する請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の光学機器。
【請求項９】
前記第２のユニットに換えて前記第１のユニットに対して一端を連結され、他端を撮像装置に結合される撮像装置結合ユニットを更に備える請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載の光学機器。
【請求項１０】
一端を前記第１のユニットに対して連結された前記第２のユニットの他端において前記第２のユニットに対して着脱され、前記第２のユニットに対して取り付けられて前記第２の光学系から射出された光束が入射する接眼光学系を保持する接眼ユニットと、
前記接眼ユニットおよび前記第２のユニットを相互に連結する第２の連結部と、
を更に備える請求項１から請求項９までのいずれか一項に記載の光学機器。
【請求項１１】
前記第２のユニットおよび前記接眼ユニットは、前記接眼ユニットの光軸と平行な方向に沿って一方を他方に対して挿抜でき、少なくとも一部が互いに相補的な形状を有する嵌合部を備える請求項１０に記載の光学機器。
【請求項１２】
前記第１の光学系は、対物レンズを含む対物光学系である請求項１から１１のいずれか一項に記載の光学機器。
【請求項１３】
前記第２の光学系は、前記第２のユニットが前記第１のユニットに取り付けられた場合に、前記第１の光学系から射出された光束が入射するプリズムを含む請求項１２に記載の
光学機器。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月29日(2016.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トナーとキャリアとからなる二成分現像剤を担持して潜像担持体との対向部である現像領域に搬送する現像剤担持体と、
該現像剤担持体に対向して該現像剤担持体の軸線方向に現像剤を搬送するとともに、該現像剤担持体に現像剤を供給する第一現像剤搬送部材が配置される第一現像剤搬送路と、
該第一現像剤搬送路と該現像剤担持体の軸線方向に両端部で連通するとともに、該第一現像剤搬送部材とは逆方向に現像剤を搬送する第二現像剤搬送部材が配置される第二現像剤搬送路とを備え、
該第一現像剤搬送路から該現像剤担持体に供給された現像剤が現像領域を通過し該第一現像剤搬送路内に回収される現像装置において、
上記第一現像剤搬送路内から現像剤が上記現像剤担持体に供給される供給位置に対向する空間と、現像領域を通過した現像剤が該現像剤担持体から離間する離間位置に対向する空間とを仕切る仕切板を備え、該離間位置に対向する空間内の現像剤面高さに応じて、該離間位置に対向する空間内の現像剤が該第二現像剤搬送路に移動可能な移動経路が形成されることを特徴とする現像装置。
【請求項２】
請求項１の現像装置において、
上記第一現像剤搬送部材は、上記第一現像剤搬送路内の現像剤が上記現像剤担持体側に偏る方向に回転し、
上記第二現像剤搬送部材は、上記第二現像剤搬送路内の現像剤が該現像剤担持体から離れた側に偏る方向に回転することを特徴とする現像装置。
【請求項３】
請求項１又は２の現像装置において、
上記第一現像剤搬送路内の現像剤面高さは、上記第二現像剤搬送路内の現像剤面高さよりも高いことを特徴とする現像装置。
【請求項４】
潜像を担持する潜像担持体と、
該潜像担持体上の潜像を現像する現像手段とを備える画像形成装置における少なくとも該潜像担持体と該現像手段とをひとつのユニットとして共通の保持体に保持させて画像形成装置本体に着脱可能にしたプロセスカートリッジにおいて、
請求項１、２又は３の現像装置を用いることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項５】
少なくとも像担持体と、該像担持体表面を帯電させるための帯電手段と、該像担持体上に静電潜像を形成するための潜像形成手段と、該像担持体上の潜像を現像してトナー像化するための現像手段とを有する画像形成装置において、
上記現像手段として、請求項１、２又は３の現像装置を用いることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するため、請求項１の発明は、トナーとキャリアとからなる二成分現像剤を担持して潜像担持体との対向部である現像領域に搬送する現像剤担持体と、該現像剤担持体に対向して該現像剤担持体の軸線方向に現像剤を搬送するとともに、該現像剤担持体に現像剤を供給する第一現像剤搬送部材が配置される第一現像剤搬送路と、該第一現像剤搬送路と該現像剤担持体の軸線方向に両端部で連通するとともに、該第一現像剤搬送部材とは逆方向に現像剤を搬送する第二現像剤搬送部材が配置される第二現像剤搬送路とを備え、該第一現像剤搬送路から該現像剤担持体に供給された現像剤が現像領域を通過し該第一現像剤搬送路内に回収される現像装置において、上記第一現像剤搬送路内から現像剤が上記現像剤担持体に供給される供給位置に対向する空間と、現像領域を通過した現像剤が該現像剤担持体から離間する離間位置に対向する空間とを仕切る仕切板を備え、該離間位置に対向する空間内の現像剤面高さに応じて、該離間位置に対向する空間内の現像剤が該第二現像剤搬送路に移動可能な移動経路が形成されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月29日(2016.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像生成素子で生成された画像を、投射レンズ保持部によって保持された投射レンズを介して投射面に向けて投射する投射光学装置において、
前記投射レンズ保持部に前記投射レンズ保持部の熱を放熱する放熱手段を設けたことを特徴とする投射光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の投射光学装置において、
前記投射レンズ保持部と、前記放熱手段とは、金属製の部材で連結されていることを特徴とする投射光学装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の投射光学装置において、
前記放熱手段は、前記画像生成素子の熱も放熱することを特徴とする投射光学装置。
【請求項４】
請求項１乃至３いずれかに記載の投射光学装置において、
前記放熱手段を冷却する冷却手段を備えたことを特徴とする投射光学装置。
【請求項５】
請求項４に記載の投射光学装置において、
前記投射レンズ保持部の温度を検知する第１温度検知手段と、
前記放熱手段の温度を検知する第２温度検知手段と、
前記第１温度検知手段の検知結果と第２温度検知手段の検知結果とに基づいて、前記冷却手段を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする投射光学装置。
【請求項６】
光源と、前記光源からの光を用いて画像を生成する画像生成素子と、複数の光学素子を備え、前記画像を投射面に向けて投射する投射光学部とを備えた画像投射装置において、
前記投射光学部として、請求項１乃至５いずれかに記載の投射光学装置を用いたことを特徴とする画像投射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月30日(2017.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超音波プローブを介して、被検体に対して超音波を送信し、前記被検体からの反射波をエコー信号として受信する送受信部と、
前記超音波プローブによる加圧または減圧に関連する前記被検体における組織の速度分布情報を、前記エコー信号に基づいて生成する速度分布情報生成部と、
前記速度分布情報に基づいて、前記加圧または前記減圧の周期を示す状況情報と、目標となる加圧または減圧の周期を示す目標情報とを生成する指標情報生成部と、
所定の図形を規定する２つの変数のうち一方の変数を前記周期に関連づけて、前記状況情報及び前記目標情報を前記図形として表示させ、前記状況情報における前記加圧または前記減圧の周期の変化に応じて、前記図形の形状を変形して表示させる表示制御部と、
を具備する超音波診断装置。
【請求項２】
前記指標情報生成部は、
前記速度分布情報に基づいて、前記加圧または前記減圧の程度を示す情報をさらに有する前記状況情報と、前記目標となる加圧または減圧の程度を示す情報をさらに有する前記目標情報とを生成し、
前記表示制御部は、
前記２つの変数のうち他方の変数を前記程度にさらに関連づけて、前記状況情報及び前記目標情報を前記図形として表示させ、前記状況情報における前記加圧または前記減圧の程度の変化に応じて、前記形状を変形して表示させる請求項１に記載の超音波診断装置。
【請求項３】
前記所定の図形は矩形である請求項２に記載の超音波診断装置。
【請求項４】
前記状況情報における前記程度及び前記目標情報における前記程度は、前記組織の変位、速度、歪みまたは歪み比によって表される請求項２または３に記載の超音波診断装置。
【請求項５】
前記表示制御部は、前記エコー信号に基づいて画像を生成し、
前記指標情報生成部は、
前記画像の生成時点を含む所定の期間に属する複数の画像を表示するモードが設定された場合、前記期間における前記速度分布情報に基づいて、前記状況情報を生成する請求項２乃至４のうちいずれか一項に記載の超音波診断装置。
【請求項６】
前記表示制御部は、前記状況情報及び前記目標情報を対比可能な前記図形または数値として表示させる請求項２乃至５のうちいずれか一項に記載の超音波診断装置。
【請求項７】
前記速度分布情報に基づいて、前記状況情報における前記程度の経時的変化を示す波形を生成する波形生成部を更に具備し、
前記表示制御部は、前記波形を更に表示させる請求項２乃至６のうちいずれか一項に記載の超音波診断装置。
【請求項８】
前記表示制御部は、
前記状況情報における前記程度を、前記矩形における第１の辺の長さで表示させ、
前記状況情報における前記周期を、前記第１の辺に直交する第２の辺の長さで表示させる請求項３に記載の超音波診断装置。
【請求項９】
前記指標情報生成部は、
前記状況情報と前記目標情報との比較により、前記状況情報における前記程度および前記周期が適切であるか否かを判定し、
前記表示制御部は、前記指標情報生成部による判定結果を表示させる請求項２に記載の超音波診断装置。
【請求項１０】
前記所定の図形は楕円である請求項２に記載の超音波診断装置。
【請求項１１】
前記所定の図形は、前記２つの変数により定義される関数により表示可能な図形である請求項２に記載の超音波診断装置。
【請求項１２】
前記指標情報生成部は、
前記状況情報における前記周期と前記目標情報における前記周期との差分値に基づいて、前記状況情報における前記周期を前記目標情報における前記周期に近づけるための周期指示情報を発生し、
前記状況情報における前記程度と前記目標情報における前記程度との差分値に基づいて、前記状況情報における前記程度を前記目標情報における前記程度に近づけるための程度指示情報を発生し、
前記表示制御部は、
前記エコー信号に関する画像および前記図形の表示領域とは異なる表示領域に、前記周期指示情報と前記程度指示情報とに関する文字列を、一文として表示させる請求項２に記載の超音波診断装置。
【請求項１３】
前記表示制御部は、
前記超音波プローブの種類または前記被検体における診断対象領域に応じて、前記矩形において互いに直交する２辺の単位長さのスケールを変更して、前記矩形を表示させる請求項３に記載の超音波診断装置。
【請求項１４】
超音波プローブを介して、被検体に対して超音波を送信し、当該被検体からの反射波をエコー信号として受信する送受信部と、
前記超音波プローブによる加圧または減圧に関連する前記被検体内の組織の速度分布情報を、前記エコー信号に基づいて生成する速度分布情報生成部と、
前記速度分布情報に基づいて、前記加圧または前記減圧の周期および程度を示す状況情報と、目標となる加圧または減圧の周期および程度を示す目標情報とを生成する指標情報生成部と、
前記状況情報における前記程度に対応する音量又周波数を有する可聴音を、前記状況情報における前記周期に対応する時間間隔で出力し、前記目標情報における前記程度に対応する音量又周波数を有する可聴音を、前記目標情報における前記周期に対応する時間間隔で出力する出力部と、
を具備する超音波診断装置。
【請求項１５】
コンピュータに、
被検体からの反射波をエコー信号として記憶させ、
前記エコー信号に基づいて、超音波プローブによる加圧または減圧に関連する前記被検体における組織の速度分布情報を生成させ、
前記速度分布情報に基づいて、前記加圧または前記減圧の周期を示す状況情報と、目標となる加圧または減圧の周期を示す目標情報とを生成させ、
所定の図形を規定する２つの変数のうち一方の変数を前記周期に関連づけて、前記状況情報及び前記目標情報を前記図形として表示させ、
前記状況情報における前記加圧または前記減圧の周期の変化に応じて、前記図形の形状を変形して表示させること、
を具備するプローブ加減圧情報表示プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本実施形態に係る超音波診断装置は、超音波プローブを介して、被検体に対して超音波を送信し、前記被検体からの反射波をエコー信号として受信する送受信部と、前記超音波プローブによる加圧または減圧に関連する前記被検体における組織の速度分布情報を、前記エコー信号に基づいて生成する速度分布情報生成部と、前記速度分布情報に基づいて、前記加圧または前記減圧の周期を示す状況情報と、目標となる加圧または減圧の周期を示す目標情報とを生成する指標情報生成部と、所定の図形を規定する２つの変数のうち一方の変数を前記周期に関連づけて、前記状況情報及び前記目標情報を前記図形として表示させ、前記状況情報における前記加圧または前記減圧の周期の変化に応じて、前記図形の形状を変形して表示させる表示制御部と、を具備する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月7日(2016.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
ここで、ボールペンチップとしては、その意匠を優れたものにするために、ホルダー部の最大外径部分から先端のカシメ部近傍の部分までが円錐状のテーパー部となっているものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
このようなボールペンチップを備えたボールペンでは、ペン先が円錐状のテーパー部の陰となるので、ペン先の描線部分が見えにくい場合がある。
そこで、円錐状に形成されたテーパー部の代わりに、ホルダー部の最大外径部分の端部に軸方向と直交する端面を形成し、且つ、この端面から先端へ向かって突出する細長い円筒状のパイプ部を設け、このパイプ部の先端に筆記ボールを回転可能に収納し、これにより、ペン先の描線部分を見易くしたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
〔実験方法〕
前述の実施例及び比較例の各３個のサンプルに対して、ボールペンチップ10, 30の先端部分に軸方向と直交する押圧力、すなわち、曲げ加重を加え、さらに、当該曲げ加重を増やしていき、曲がり又は破断が開始される曲げ加重を求める実験を行った。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月27日(2017.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの輪郭を有する複合部品（３５）を真空バッグ処理する方法であって、
伸縮可能なブリーザ（４４）を伸縮可能な真空バッグ（４２）に取り付けることにより、真空バッグアセンブリ（４０）を形成することと、
前記複合部品の上に前記真空バッグアセンブリを密封することと、
前記複合部品の前記輪郭にほぼ一致するように前記真空バッグアセンブリを伸ばすことと
を含み、
前記ブリーザ（４４）を前記真空バッグ（４２）に取り付けることが、マトリックス状に規則的配列に並べられた接着パッチ、または不規則に並べられた不連続接着ストリップによって、前記ブリーザを前記真空バッグに取り付けることを含む、
方法。
【請求項２】
前記ブリーザを前記伸縮可能な真空バッグに取り付けることが、前記ブリーザ（４４）と前記真空バッグ（４２）との間に両面粘着テープを配置することによって実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記真空バッグアセンブリ（４０）を伸ばすことが、
前記真空バッグ（４２）を伸ばすことと、
前記ブリーザ（４４）を伸ばすことと
を含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記真空バッグ（４２）を伸ばすことおよび前記ブリーザ（４４）を伸ばすことが、ほぼ同時に実行される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記ブリーザ（４４）を伸ばすことが、前記ブリーザを伸ばす量とほぼ同じ量だけ前記真空バッグ（４２）を伸ばすことを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記真空バッグアセンブリ（４０）を伸ばすことが、
前記真空バッグ内を真空引きすることと、
前記ブリーザ（４４）を伸ばすために前記真空バッグ（４２）を使用することと
により実行される、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記真空バッグアセンブリ（４０）を伸ばすことが、前記ブリーザ（４４）に対して前記真空バッグ（４２）を伸ばすためにオートクレーブ圧力を使用することを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項８】
前記真空バッグアセンブリ内に少なくとも１つのプリーツを形成すること
をさらに含む、請求項１から３または６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
伸縮可能な真空バッグ（４２）、および
前記伸縮可能な真空バッグに取り付けられた伸縮可能なブリーザ（４４）
を含み、
前記伸縮可能なブリーザ（４４）は、マトリックス状に規則的配列に並べられた接着パッチ、または不規則に並べられた不連続接着ストリップによって、前記真空バッグに取り付けられることを含む、真空バッグアセンブリ（４０）。
【請求項１０】
前記ブリーザ（４４）が、ブリーザ材のほぼ一枚のピースであり、かつ前記真空バッグ（４２）とほぼ同一の広がりを持つ、請求項９に記載の真空バッグアセンブリ（４０）。
【請求項１１】
前記伸縮可能なブリーザ（４４）が、比較的軽量の不織材料である、請求項９または１０に記載の真空バッグアセンブリ（４０）。
【請求項１２】
前記不織材料が、ポリエステルである、請求項１１に記載の真空バッグアセンブリ（４０）。
【請求項１３】
前記伸縮可能なブリーザ（４４）が、少なくとも約５０パーセント伸長することが可能である、
請求項９から１２のいずれか一項に記載の真空バッグアセンブリ（４０）。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月28日(2017.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導体層及び誘電層を含む保護層（７０）、
高分子材及び磁気材料（１０５）を含む加熱層（１００）、並びに
接着層（８５）
を備え、
前記磁気材料（１０５）は、前記接着層（８５）中の接着剤の結合が結合解除する温度範囲内にキュリー点温度を有する、アップリケ。
【請求項２】
前記接着層（８５）は、前記加熱層（１００）の底面上に位置し、前記アップリケを取付面（９０）に付着させるように構成されている、請求項１に記載のアップリケ。
【請求項３】
前記保護層（７０）に隣接する前記加熱層（１００）の表面上に位置する第２の接着層（８５）をさらに備える請求項１又は２に記載のアップリケ。
【請求項４】
前記磁気材料はニッケル−鉄合金などの合金である、請求項１から３のいずれか一項に記載のアップリケ。
【請求項５】
前記磁気材料（１０５）は、繊維ワイヤセグメント（１１０）又は材料フレーク（１２０）などの粒子材料をさらに含んでいる、請求項１から４のいずれか一項に記載のアップリケ。
【請求項６】
前記接着層（８５）は、熱硬化性フィルム接着剤、感圧接着剤、及び熱可塑性フィルム接着剤のうちの一つをさらに含んでいる、請求項１から５のいずれか一項に記載のアップリケ。
【請求項７】
前記接着層（８５）中の前記接着剤の結合が結合解除する前記温度範囲内のキュリー点温度に前記磁気材料が到達するように選択された磁界を生成する磁界源に反応する、請求項１から６のいずれか一項に記載のアップリケ。
【請求項８】
前記磁界源は、１５〜３００ＫＨｚの範囲の磁界を生成するコイルを含んでいる、請求項７に記載のアップリケ。
【請求項９】
前記保護層（７０）を含む表面層（８８）をさらに備える請求項１から８のいずれか一項に記載のアップリケ。
【請求項１０】
空力効果層を含む表面層（８８）をさらに備える請求項１から９のいずれか一項に記載のアップリケ。
【請求項１１】
前記保護層は、少なくとも航空機の一部を落雷から保護するように適合されている、請求項１から１０のいずれか一項に記載のアップリケ。