Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月22日(2017.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つの巻上機に対して主ロープの両袖に乗りかごが設置された両かごエレベーターにおいて、前記主ロープの伸縮に対する調整を前記かごの運転毎に行う両かごエレベーター。
【請求項２】
請求項１において、前記主ロープの伸縮に対する調整は、主ロープ端を鉛直方向に移動させる装置を駆動することで実行される両かごエレベーター。
【請求項３】
請求項２において、両方のかご位置の基準位置からのずれ量を測定するかご位置検出器を備え、この基準位置からのずれ量に相当する量を前記主ロープ端を鉛直方向に移動させる両かごエレベーター。
【請求項４】
請求項２において、前記主ロープの伸縮に対する調整は、前記巻上機が動作している時に行われる両かごエレベーター。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月24日(2017.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エピタキシャルウェーハの製造方法であって、
研磨布が貼付された上下定盤と、該上下定盤間でシリコンウェーハを保持するキャリアとを具備する両面研磨装置を用い、第１の砥粒を含むスラリーを供給しながら、前記シリコンウェーハの両面を研磨する１次研磨を行う工程と、
前記両面研磨装置を用い、前記第１の砥粒より平均粒径の小さい第２の砥粒を含むスラリーを供給しながら、前記１次研磨を行った後のシリコンウェーハの両面を研磨する２次研磨を行う工程と、
前記２次研磨を行った後のシリコンウェーハ表面に片面ＣＭＰ研磨を行うことなくエピタキシャル層を成長させる工程と
を有し、
前記１次研磨と前記２次研磨を同一の両面研磨装置を用いて行うことを特徴とするエピタキシャルウェーハの製造方法。
【請求項２】
前記１次研磨を行う工程において、前記第１の砥粒を含むスラリーとして、平均粒径５０ｎｍ〜１００ｎｍのシリカ砥粒を含むアルカリ性水溶液を用い、
前記２次研磨を行う工程において、前記第２の砥粒を含むスラリーとして、平均粒径２０ｎｍ〜４０ｎｍのシリカ砥粒を含むアルカリ性水溶液を用いることを特徴とする請求項１に記載のエピタキシャルウェーハの製造方法。
【請求項３】
前記２次研磨を行う工程において、前記２次研磨の取り代を１μｍ以下とすることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のエピタキシャルウェーハの製造方法。
【請求項４】
前記研磨布をショアＡ硬度８５〜９５の発泡ポリウレタンからなる研磨布とし、前記キャリアを表面のビッカース硬さが３００以上のキャリアとすることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のエピタキシャルウェーハの製造方法。
【請求項５】
前記２次研磨後のシリコンウェーハの面品質を、１００ｎｍ以下のＬＰＤの個数が測定可能な面品質とすることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のエピタキシャルウェーハの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月17日(2017.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶方位が回転36°Y〜49°Yカットである回転YカットLiTaO3基板の表面から内部へLiを拡散させて、基板表面と基板内部とのLi濃度が異なる濃度プロファイルを有するLiTaO3単結晶基板であって、該LiTaO3単結晶基板は、単一分極処理が施されており、前記基板表面から該LiTaO3基板表面を伝搬する弾性表面波または漏洩弾性表面波の波長の5〜15倍の深さまで、概略一様なLi濃度を有することを特徴とするタンタル酸リチウム単結晶基板。
【請求項２】
前記Li濃度プロファイルは、前記回転YカットLiTaO3基板の基板表面に近いほどLi濃度が高く、基板中心部に近いほどLi濃度が減少する濃度プロファイルであることを特徴とする請求項１に記載のタンタル酸リチウム単結晶基板。
【請求項３】
前記基板表面のLiとTaの比率がLi：Ta＝50-α：50+αであり、αは-0.5＜α＜0.5の範囲であることを特徴とする請求項１または２に記載のタンタル酸リチウム単結晶基板。
【請求項４】
基板中に25ppm〜150ppmの濃度でFeがドープされていることを特徴とする請求項１から３の何れかに記載のタンタル酸リチウム単結晶基板。
【請求項５】
請求項１から４の何れかに記載のタンタル酸リチウム単結晶基板をベース基板に接合して構成されていることを特徴とする接合基板。
【請求項６】
Li濃度が概略一様になっている部分の少なくとも一部を残すように、接合面の反対側のLiTaO3表層を除去したことを特徴とする請求項５に記載の接合基板。
【請求項７】
前記ベース基板は、Si、SiC、スピネルの何れかであることを特徴とする請求項５または６に記載の接合基板。
【請求項８】
請求項１から４の何れかに記載のタンタル酸リチウム単結晶基板または請求項５から７の何れかに記載の接合基板を用いて構成されていることを特徴とする弾性表面波デバイス。
【請求項９】
基板表面と基板内部とのLi濃度が異なる濃度プロファイルを有し、少なくとも一方の基板表面から任意の深さまでLi濃度が概略一様であるLiTaO3単結晶基板とベース基板とを接合して、Li濃度が概略一様になっている部分の少なくとも一部を残すように、接合面の反対側のLiTaO3表層を除去することを特徴とする接合基板の製造方法。
【請求項１０】
基板表面と基板内部とのLi濃度が異なる濃度プロファイルを有し、少なくとも一方の基板表面から任意の深さまでLi濃度が概略一様であるLiTaO3単結晶基板とベース基板とを接合して、Li濃度が概略一様になっている部分のみを残すように、接合面の反対側のLiTaO3表層を除去することを特徴とする接合基板の製造方法。
【請求項１１】
前記Li濃度が概略一様になっている部分は、疑似ストイキオメトリー組成であることを特徴とする請求項９または１０に記載の接合基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】タンタル酸リチウム単結晶基板及びこれの接合基板とこの製造法及びこれら基板を用いた弾性表面波デバイス
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、タンタル酸リチウム単結晶基板及びこれの接合基板とこの製造法及びこれら基板を用いた弾性表面波デバイスに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
そこで、本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、反りが小さく、ワレやキズのない、しかも、温度特性が従来の回転YカットLiTaO3基板よりも良好であり、電気機械結合係数が大きく、さらに、デバイスのQ値が高いタンタル酸リチウム単結晶基板及びこれの接合基板とこの製造法及びこれら基板を用いた弾性表面波デバイスを提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明のタンタル酸リチウム単結晶基板は、ベース基板と接合して接合基板とすることができる。その場合、Li濃度が概略一様になっている部分の少なくとも一部を残すように、接合面の反対側LiTaO3表層を除去して接合基板とすることが好ましく、また、ベース基板は、Si、SiC、スピネルの何れかであることが好ましい。
さらに、本発明の接合基板の製造方法は、基板表面と基板内部とのLi濃度が異なる濃度プロファイルを有し、少なくとも一方の基板表面から任意の深さまでLi濃度が概略一様であるLiTaO3単結晶基板とベース基板とを接合して、Li濃度が概略一様になっている部分の少なくとも一部を残すか、またはLi濃度が概略一様になっている部分のみを残すように、接合面の反対側のLiTaO3表層を除去することを特徴とするものであり、Li濃度が概略一様になっている部分は、疑似ストイキオメトリー組成であることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月28日(2017.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造：
【化１】
2016204373.tif 000001
を有する、１−（（２Ｒ，４Ｒ）−２−（１Ｈ−ベンゾ［ｄ］イミダゾール−２−イル）−１−メチルピペリジン−４−イル）−３−（４−シアノフェニル）尿素マレイン酸塩。
【請求項２】
構造：
【化１】
2016204373.tif 000002
を有する、１−（（２Ｒ，４Ｒ）−２−（１Ｈ−ベンゾ［ｄ］イミダゾール−２−イル）−１−メチルピペリジン−４−イル）−３−（４−シアノフェニル）尿素マレイン酸塩の結晶性形態。
【請求項３】
１１．６、１２．１および１９．６°２θ±０．２°２θの２θ値にピークを含む粉末Ｘ線回折パターンを有する、請求項２に記載の結晶性形態。
【請求項４】
１１．６、１２．１、１７．０、１７．７および１９．６°２θ±０．２°２θの２θ値にピークを含む粉末Ｘ線回折パターンを有する、請求項２に記載の結晶性形態。
【請求項５】
２２１９ｃｍ−１±２ｃｍ−１の波数（ｃｍ−１）値を含むラマンスペクトルを有する、請求項２から４のいずれか一項に記載の結晶性形態。
【請求項６】
１６１２ｃｍ−１±２ｃｍ−１の波数（ｃｍ−１）値を含むラマンスペクトルを有する、請求項２から４のいずれか一項に記載の結晶性形態。
【請求項７】
１６１２および２２１９ｃｍ−１±２ｃｍ−１の波数（ｃｍ−１）値を含むラマンスペクトルを有する、請求項２から４のいずれか一項に記載の結晶性形態。
【請求項８】
１５３４、１６１２および２２１９ｃｍ−１±２ｃｍ−１の波数（ｃｍ−１）値を含むラマンスペクトルを有する、請求項２から４のいずれか一項に記載の結晶性形態。
【請求項９】
１１７５、１５３４、１６１２および２２１９ｃｍ−１±２ｃｍ−１の波数（ｃｍ−１）値を含むラマンスペクトルを有する、請求項２から４のいずれか一項に記載の結晶性形態。
【請求項１０】
１４８．３ｐｐｍ±０．２ｐｐｍの共鳴（ｐｐｍ）値を含む１３Ｃ固体ＮＭＲスペクトルを有する、請求項２から４のいずれか一項に記載の結晶性形態。
【請求項１１】
５７．８、１３４．８および１４８．３ｐｐｍ±０．２ｐｐｍの共鳴（ｐｐｍ）値を含む１３Ｃ固体ＮＭＲスペクトルを有する、請求項２から４のいずれか一項に記載の結晶性形態。
【請求項１２】
５７．８、１３４．８、１４４．７および１４８．３ｐｐｍ±０．２ｐｐｍの共鳴（ｐｐｍ）値を含む１３Ｃ固体ＮＭＲスペクトルを有する、請求項２から４のいずれか一項に記載の結晶性形態。
【請求項１３】
（ａ）１１．６および１２．１°２θ±０．２°２θの２θ値にピークを含む粉末Ｘ線回折パターン；ならびに（ｂ）１６１２および２２１９ｃｍ−１±２ｃｍ−１の波数（ｃｍ−１）値を含むラマンスペクトルを有する、請求項２に記載の結晶性形態。
【請求項１４】
（ａ）１１．６および１２．１°２θ±０．２°２θの２θ値にピークを含む粉末Ｘ線回折パターン；（ｂ）１６１２および２２１９ｃｍ−１±２ｃｍ−１の波数（ｃｍ−１）値を含むラマンスペクトル；ならびに（ｃ）１４８．３ｐｐｍ±０．２ｐｐｍの共鳴（ｐｐｍ）値を含む１３Ｃ固体ＮＭＲスペクトルを有する、請求項２に記載の結晶性形態。
【請求項１５】
（ａ）１６１２および２２１９ｃｍ−１±２ｃｍ−１の波数（ｃｍ−１）値を含むラマンスペクトル；ならびに（ｂ）１４８．３ｐｐｍ±０．２ｐｐｍの共鳴（ｐｐｍ）値を含む１３Ｃ固体ＮＭＲスペクトルを有する、請求項２に記載の結晶性形態。
【請求項１６】
（ａ）１１．６および１２．１°２θ±０．２°２θの２θ値にピークを含む粉末Ｘ線回折パターン；ならびに（ｂ）１４８．３ｐｐｍ±０．２ｐｐｍの共鳴（ｐｐｍ）値を含む１３Ｃ固体ＮＭＲスペクトルを有する、請求項２に記載の結晶性形態。
【請求項１７】
（ａ）１９．６°２θ±０．２°２θの２θ値にピークを含む粉末Ｘ線回折パターン；（ｂ）２２１９ｃｍ−１±２ｃｍ−１の波数（ｃｍ−１）値を含むラマンスペクトル；ならびに（ｃ）１４８．３ｐｐｍ±０．２ｐｐｍの共鳴（ｐｐｍ）値を含む１３Ｃ固体ＮＭＲスペクトルを有する、請求項２に記載の結晶性形態。
【請求項１８】
請求項２から１７のいずれか一項に記載の結晶性形態と、薬学的に許容できる担体または添加剤とを含む、医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月27日(2017.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルライトを治療するための医薬組成物であって、該医薬組成物は、精製されたコラゲナーゼから本質的になり、該精製されたコラゲナーゼは、少なくとも約５００ＳＲＣ単位／ｍｇ、少なくとも約７００ＳＲＣ単位／ｍｇ、少なくとも約１０００ＳＲＣ単位／ｍｇ、少なくとも約１５００ＳＲＣ単位／ｍｇ、少なくとも約１５０００ＳＲＣ単位／ｍｇおよび０．５８ｍｇあたり少なくとも約１００００ＡＢＣ単位からなる群より選択される比活性を有し、該組成物は、セルライトのコラーゲン性隔壁ネットワーク(collagenous septa network)に注入され、用量は、少なくとも約７００ＳＲＣ単位、少なくとも約１０００ＳＲＣ単位、少なくとも約１５００ＳＲＣ単位および少なくとも約１００００ＡＢＣ単位からなる群より選択される、医薬組成物。
【請求項２】
コラゲナーゼが細菌クロストリジウム・ヒストリチカムに由来する、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項３】
精製されたコラゲナーゼが、トリアムシノロン(traimcinolone)または他のコルチコステロイドの非存在下で投与される、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項４】
精製されたコラゲナーゼが一回以上の注射で注入される、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項５】
精製されたコラゲナーゼが、少なくとも約７００ＳＲＣ単位、少なくとも約１０００ＳＲＣ単位、少なくとも約１５００ＳＲＣ単位および少なくとも約１００００ＡＢＣ単位からなる群より選択される総用量で注入される、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項６】
精製されたコラゲナーゼを含む総注入量が、約１．０ｍＬである、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項７】
精製されたコラゲナーゼが複数の部位で注入される、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項８】
精製されたコラゲナーゼが、コラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩで構成される、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項９】
注入が、セルライトの領域に送達される、請求項６記載の医薬組成物。
【請求項１０】
被験体がヒト患者である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１１】
治療が約４〜６週間後に繰り返される、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１２】
コラゲナーゼの少なくとも一回の投与を受けた１ヵ月後に、患者がセルライトの外観の目視による有意な減少を有する、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１３】
比活性は、少なくとも約５００ＳＲＣ単位／ｍｇである、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１４】
比活性は、少なくとも約７００ＳＲＣ単位／ｍｇである、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１５】
比活性は、少なくとも約１０００ＳＲＣ単位／ｍｇである、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１６】
比活性は、少なくとも約１５００ＳＲＣ単位／ｍｇである、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１７】
比活性は、０．５８ｍｇあたり少なくとも約１００００ＡＢＣ単位である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１８】
比活性は、少なくとも約１５０００ＳＲＣ単位／ｍｇである、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１９】
セルライトを治療するための医薬組成物であって、該医薬組成物は、精製されたコラゲナーゼから本質的になり、該精製されたコラゲナーゼは、少なくとも約５００ＳＲＣ単位／ｍｇ〜少なくとも約１５０００ＳＲＣ単位／ｍｇで選択される比活性を有し、該組成物は、セルライトのコラーゲン性隔壁ネットワーク(collagenous septa network)に注入され、用量は、少なくとも約７００ＳＲＣ単位、少なくとも約１０００ＳＲＣ単位、少なくとも約１５００ＳＲＣ単位および少なくとも約１００００ＡＢＣ単位からなる群より選択される、医薬組成物。
【請求項２０】
コラゲナーゼが細菌クロストリジウム・ヒストリチカムに由来する、請求項１９記載の医薬組成物。
【請求項２１】
精製されたコラゲナーゼが、コラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩで構成される、請求項１９記載の医薬組成物。
【請求項２２】
精製されたコラゲナーゼが複数の部位で注入される、請求項１９記載の医薬組成物。
【請求項２３】
治療が約４〜６週間後に繰り返される、請求項１９記載の医薬組成物。
【請求項２４】
セルライトを治療するための医薬組成物であって、該医薬組成物は、クロストリジウム・ヒストリチカムに由来する精製されたコラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩから本質的になり、該コラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩは、０．５８ｍｇあたり少なくとも約１００００ＡＢＣ単位の比活性を有し、該組成物は、セルライトのコラーゲン性隔壁ネットワーク(collagenous septa network)の領域に一回以上の注射で注入され、総用量は、１００００ＡＢＣ単位である、医薬組成物。
【請求項２５】
精製されたコラゲナーゼが、約１．０ｍＬの体積で注入される、請求項２４記載の医薬組成物。
【請求項２６】
精製されたコラゲナーゼが複数の部位で注入される、請求項２４記載の医薬組成物。
【請求項２７】
コラゲナーゼの少なくとも一回の投与を受けた１ヵ月後に、患者がセルライトの外観の目視による有意な減少を達成する、請求項２４記載の医薬組成物。
【請求項２８】
精製されたコラゲナーゼが、トリアムシノロン(traimcinolone)または他のコルチコステロイドの非存在下で投与される、請求項２４記載の医薬組成物。
【請求項２９】
注入が、セルライトの領域に送達される、請求項２４記載の医薬組成物。
【請求項３０】
治療が約４〜６週間後に繰り返される、請求項２４記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月27日(2016.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験体において癌細胞を含む腫瘍を処置するための、ＧＩＴＲ結合抗体またはその抗原結合フラグメントを含有する組成物であって、前記組成物は、抗腫瘍治療の少なくとも１回の投与後に投与されることを特徴とし、前記ＧＩＴＲ結合抗体または前記抗原結合フラグメントは、エフェクターＴ細胞アゴニスト活性を有し、そして、前記抗腫瘍治療は、前記被験体において癌細胞の死滅を生じさせるか、または、前記被験体において前記癌細胞に対して抗増殖作用を及ぼす、組成物。
【請求項２】
前記組成物と前記治療とが、前記被験体において腫瘍増殖の抑制をもたらす、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記組成物と前記治療とが、前記被験体において腫瘍の大きさの縮小をもたらす、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記組成物と前記治療とが、前記被験体において腫瘍数の低下をもたらす、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記組成物と前記治療とが、前記被験体において腫瘍量を減少させる、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記組成物と前記治療とが、前記被験体の生存を延長させる、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記治療が化学療法剤を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記化学療法剤が、代謝拮抗薬、微小管形成に影響を及ぼす作用物質、アルキル化剤および細胞障害性抗生物質からなる群より選択される、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記化学療法剤が代謝拮抗薬である、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記代謝拮抗薬がヌクレオシド類似体である、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
前記代謝拮抗薬が、アミノプテリン、メトトレキサート、ペメトレキセド、ラルチトレキセド、クラドリビン、クロファラビン、フルダラビン、メルカプトプリン、ペントスタチン、チオグアニン、カペシタビン、シタラビン、フルオロウラシル、フロクスウリジンおよびゲムシタビンからなる群より選択される、請求項９に記載の組成物。
【請求項１２】
前記化学療法剤が、微小管形成に影響を及ぼす作用物質である、請求項８に記載の組成物。
【請求項１３】
前記微小管形成に影響を及ぼす作用物質が、パクリタキセル、ドセタキセル、ビンクリスチン、ビンブラスチン、ビンデシン、ビノレルビン、タキソテール、エトポシドおよびテニポシドからなる群より選択される、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
前記化学療法剤がアルキル化剤である、請求項８に記載の組成物。
【請求項１５】
前記アルキル化剤がシクロホスファミドである、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
前記化学療法剤が細胞障害性抗生物質である、請求項８に記載の組成物。
【請求項１７】
前記細胞障害性抗生物質がトポイソメラーゼＩＩ阻害剤である、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
前記トポイソメラーゼＩＩ阻害剤がドキソルビシンである、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
前記治療がさらに放射線療法を含む、請求項７〜１８のいずれかに記載の組成物。
【請求項２０】
前記ＧＩＴＲ結合抗体または前記抗原結合フラグメントが、ヒト化抗体またはヒト化抗原結合フラグメントである、請求項１〜１９のいずれかに記載の組成物。
【請求項２１】
前記ヒト化抗体または前記ヒト化抗原結合フラグメントが、配列番号１、２、４、５、６および７に示されるＣＤＲ、または、配列番号１、３、４、５、６および７に示されるＣＤＲを含む、請求項２０に記載の組成物。
【請求項２２】
前記ＧＩＴＲ結合抗体または前記抗原結合フラグメントが、キメラ抗体またはキメラ抗原結合フラグメントである、請求項１〜１９のいずれかに記載の組成物。
【請求項２３】
前記腫瘍が固形腫瘍である、請求項１〜２２のいずれかに記載の組成物。
【請求項２４】
前記腫瘍が黒色腫である、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２５】
前記腫瘍が転移性である、請求項１〜２４のいずれかに記載の組成物。
【請求項２６】
生物学的作用物質と組み合わせて投与されることをさらに特徴とする、請求項１〜２５のいずれかに記載の組成物。
【請求項２７】
前記生物学的作用物質が抗体である、請求項２６に記載の組成物。
【請求項２８】
前記抗体が抗ＣＴＬＡ４抗体である、請求項２７に記載の組成物。
【請求項２９】
（ａ）包装材料と；
（ｂ）ＧＩＴＲ結合抗体またはその抗原結合フラグメントであって、抗腫瘍治療の少なくとも１回の投与後に投与されることを特徴とする、ＧＩＴＲ結合抗体またはその抗原結合フラグメントと；
（ｃ）前記ＧＩＴＲ結合抗体または前記抗原結合フラグメントが前記抗腫瘍治療の少なくとも１回の投与後に投与されることを示す、前記包装材料内に収容されるラベルまたは添付文書と
を含むキットであって、ここで、前記ＧＩＴＲ結合抗体または前記抗原結合フラグメントは、エフェクターＴ細胞アゴニスト活性を有し、そして、前記抗腫瘍治療は、被験体において癌細胞の死滅を生じさせるか、または、被験体において癌細胞に対して抗増殖作用を及ぼす、キット。
【請求項３０】
前記抗腫瘍治療が化学療法剤を含む、請求項２９に記載のキット。
【請求項３１】
前記抗腫瘍治療がさらに放射線療法を含む、請求項２９または３０に記載のキット。
【請求項３２】
前記ＧＩＴＲ結合抗体または前記抗原結合フラグメントが、ヒト化抗体またはヒト化抗原結合フラグメントである、請求項２９〜３１のいずれかに記載のキット。
【請求項３３】
前記ヒト化抗体または前記ヒト化抗原結合フラグメントが、配列番号１、２、４、５、６および７に示されるＣＤＲ、または、配列番号１、３、４、５、６および７に示されるＣＤＲを含む、請求項３２に記載のキット。
【請求項３４】
前記ＧＩＴＲ結合抗体または前記抗原結合フラグメントが、キメラ抗体またはキメラ抗原結合フラグメントである、請求項２９〜３１のいずれかに記載のキット。
【請求項３５】
（ｄ）生物学的作用物質、をさらに含む、請求項２９〜３４のいずれかに記載のキット。
【請求項３６】
前記生物学的作用物質が抗体である、請求項３５に記載のキット。
【請求項３７】
前記抗体が抗ＣＴＬＡ４抗体である、請求項３６に記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月7日(2017.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（ＶＩ）：
【化１】
2016204383.tif 000001
（式中、Ｘ−はギ酸イオンである）で表される塩であって、任意に、フッ素が１８Ｆで同位体的に富化されている塩；もしくは
式（ＶＩＩ）：
【化２】
2016204383.tif 000002
（式中、Ｘ−はアスコルビン酸イオンである）で表される塩であって、任意に、フッ素が１８Ｆで同位体的に富化されている塩；または
前記塩のいずれか１つを含む組成物；および
使用上の説明書
を含む医薬キット。
【請求項２】
被験者の一部分を造影または被験者の一部分におけるノルエピネフリントランスポータ（ＮＥＴ）を検出するための、請求項１に記載のキット。
【請求項３】
画像データを提供するための他の造影剤をさらに含む、請求項１または２に記載のキット。
【請求項４】
前記画像データに基づいて血流を判定して、ＮＥＴ機能または分布における局所的または全体的な変化から局所的または全体的な血流を識別するための、請求項３に記載のキット。
【請求項５】
式（ＩＩ）：
【化３】
2016204383.tif 000003
を有する出発化合物もしくはその塩、遊離塩基またはこれらの組み合わせを、式（Ｉ）：
【化４】
2016204383.tif 000004
（式中：
Ｒ１は、各々が任意によりハライドもしくはＣ１〜Ｃ６アルキルで置換されている、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、ヘテロアルキル、またはアリールであり；
各Ｒ２は水素であり；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、同一であることも異なっていることも可能であり、個別に、水素、任意によりハライドもしくはＣ１〜Ｃ６アルキルで置換されているＣ１〜Ｃ６アルキル、またはハライドであり；
ｍは１〜１２の整数（その両端を含む）であり；ならびに
ｎは１〜４の整数（その両端を含む）である）
を有する目的化合物もしくはその塩、遊離塩基またはこれらの組み合わせを形成するのに好適な条件下で反応させるステップを含み、好適な条件が式（ＩＩ）の化合物をアンモニウム塩または重炭酸塩の存在下でフッ化物源に露出させるステップをさらに含む方法。
【請求項６】
フッ素が１８Ｆで同位体的に富化されている、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
構造：
【化５】
2016204383.tif 000005
を有する式（ＩＩ）の化合物もしくはその塩、またはこれらの組み合わせを反応させる、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
アンモニウム塩または重炭酸塩対前記式（ＩＩ）の化合物のモル比が、１０：１以下または９：１以下または８：１以下または７：１以下または６：１以下または５：１以下または４：１以下または３：１以下または２：１以下または１：１以下である、請求項５〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記アンモニウム塩が、重炭酸アンモニウム塩、水酸化アンモニウム塩、酢酸アンモニウム塩、乳酸アンモニウム塩、トリフルオロ酢酸アンモニウム塩、メタンスルホン酸アンモニウム塩、ｐ−トルエンスルホン酸アンモニウム塩、硝酸アンモニウム塩、ヨウ化アンモニウム塩または重硫酸アンモニウム塩である、請求項５〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記重炭酸塩が、テトラアルキル重炭酸アンモニウムである、請求項５〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記アンモニウム塩または前記重炭酸塩が、式：
Ｒ４ＮＨＣＯ３
（式中、Ｒ４はアルキルである）
を有する、請求項５〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記反応させるステップがクリプタンドの存在下で実施される、請求項５〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月6日(2017.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
一般式：Ｎｉ1-x-y-zＣｏxＡｌyＭｇz（ＯＨ）2（ただし、０．０５≦ｘ≦０．２０、０．０１≦ｙ≦０．０６、０．０１≦ｚ≦０．０３）で表され、アルミニウムまたはアルミニウム化合物からなる被膜によって被覆されたアルミニウム被覆ニッケルコバルト複合水酸化物粒子であって、
複数の一次粒子が凝集して形成された中実構造の二次粒子からなり、
前記二次粒子の平均粒径が４μｍ以上７μｍ以下であり、タップ密度が１．５ｇ／ｍＬ以上あり、かつ、比表面積が５．５ｍ2／ｇ以上７．５ｍ2／ｇ以下である、
アルミニウム被覆ニッケルコバルト複合水酸化物粒子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
一般式：ＬｉuＮｉ1-x-y-zＣｏxＡｌyＭｇzＯ2（ただし、１．００≦ｕ≦１．０４、０．０５≦ｘ≦０．２０、０．０１≦ｙ≦０．０６、０．０１≦ｚ≦０．０３）で表され、層状構造のリチウムニッケルコバルト複合酸化物粒子からなる非水系電解質二次電池用正極活物質であって、
複数の一次粒子が凝集して形成された中実構造の二次粒子からなり、
前記二次粒子の平均粒径が４μｍ以上７μｍ以下であり、タップ密度が２．０ｇ／ｍＬ以上であり、かつ、比表面積が０．７ｍ2／ｇ以上１．０ｍ2／ｇ以下である、
非水系電解質二次電池用正極活物質。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明のアルミニウム被覆ニッケルコバルト複合水酸化物粒子は、一般式：Ｎｉ1-x-y-zＣｏxＡｌyＭｇz（ＯＨ）2（ただし、０．０５≦ｘ≦０．２０、０．０１≦ｙ≦０．０６、０．０１≦ｚ≦０．０３）で表され、アルミニウムまたはアルミニウム化合物からなる被膜によって被覆されたアルミニウム被覆ニッケルコバルト複合水酸化物粒子であって、複数の一次粒子が凝集して形成された中実構造の二次粒子からなり、前記二次粒子の平均粒径が４μｍ以上７μｍ以下であり、タップ密度が１．５ｇ／ｍＬ以上あり、かつ、比表面積が５．５ｍ2／ｇ以上７．５ｍ2／ｇ以下であることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の正極活物質は、一般式：ＬｉuＮｉ1-x-y-zＣｏxＡｌyＭｇzＯ2（ただし、１．００≦ｕ≦１．０４、０．０５≦ｘ≦０．２０、０．０１≦ｙ≦０．０６、０．０１≦ｚ≦０．０３）で表され、層状構造のリチウムニッケルコバルト複合酸化物粒子からなる非水系電解質二次電池用正極活物質であって、複数の一次粒子が凝集して形成された中実構造の二次粒子からなり、前記二次粒子の平均粒径が４μｍ以上７μｍ以下であり、タップ密度が２．０ｇ／ｍＬ以上であり、かつ、比表面積が０．７ｍ2／ｇ以上１．０ｍ2／ｇ以下であることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
一次粒子の形状は、上述した粒子構造の場合と同様に、二次粒子を断面観察が可能な状態とした上で、ＳＥＭ観察することにより確認することができる。また、本発明では、一次粒子の平均粒径とは結晶子径を意味し、粉末Ｘ線回折測定の結果を用いて、次のシェラーの式によって求めることができる。
＜シェラーの式＞
結晶子径（Å）＝０．９λ／（βｃｏｓθ）
ただし、λ：使用Ｘ線管球の波長（ＣｕＫα＝１．５４２Å）
β：各面からの回折ピークにおける半価幅
θ：回折角
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
１−２．アルミニウム被覆ニッケルコバルト複合水酸化物粒子の製造方法
本発明のＡｌ被覆複合水酸化物粒子の製造方法は、上述したＡｌ被覆複合水酸化物粒子の製造方法であって、不活性雰囲気中、温度を４５℃〜５５℃、液温２５℃基準におけるｐＨ値を１０．８〜１１．８およびアンモニウムイオン濃度を８ｇ／Ｌ〜１２ｇ／Ｌに制御した反応水溶液に、ニッケル、コバルおよびマグネシウムを含有する原料水溶液を供給して、晶析反応により、ニッケルコバルト複合水酸化物粒子（以下、「複合水酸化物粒子」という）を得る、晶析工程と、この複合水酸化物粒子を含む水溶液とアルミニウムを含む被覆溶液を混合し、アルミニウムまたはアルミニウム化合物からなる被膜によって被覆されたＡｌ被覆複合水酸化物粒子を得る、被覆工程と、を備えることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
仮焼温度での保持時間は、１時間〜１０時間とすることが好ましく、３時間〜６時間とすることがより好ましい。また、仮焼工程における雰囲気は、後述する焼成工程と同様に、酸素の濃度が、好ましくは９８容量％以上、より好ましくは９９容量％以上の酸化性雰囲気とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２６】
また、粉末Ｘ線回折測定の結果、このＡｌ被覆複合水酸化物粒子を構成する一次粒子の平均粒径（結晶子径）は０．０６μｍであることが確認された。さらに、粒子断面を特性Ｘ線分光分析した結果、このＡｌ被覆複合水酸化物粒子は、ニッケル、コバルトおよびマグネシウムからなる中心部が、厚さ０．００５μｍの水酸化アルミニウムからなる被膜によって被覆されたものであることが確認された。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２７】
［平均粒径、タップ密度および比表面積］
レーザ光回折散乱式粒度分析計（日機装株式会社製、マイクロトラック）、振とう比重測定器および窒素吸着式ＢＥＴ法測定機（マウンテック製、マックソーブ）を用いた測定の結果、このＡｌ被覆複合水酸化物粒子は、平均粒径が５．３μｍ、タップ密度が１．８ｇ／ｍＬ、比表面積が６．２ｍ2／ｇであることが確認された。これらの結果を表２に示す。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３４】
［平均粒径、タップ密度および比表面積］
レーザ光回折散乱式粒度分析計、振とう比重測定器および窒素吸着式ＢＥＴ法測定機を用いた測定の結果、この正極活物質は、平均粒径が５．５μｍ、タップ密度が２．３ｇ／ｍＬ、比表面積が１．０ｍ2／ｇであることが確認された。これらの結果を表３に示す。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５８】
【表３】
2016204239.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月2日(2017.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【図１】本発明の建具の第１実施形態を示す横断面図（図３のＡ−Ａ断面）である。
【図２】本発明の建具の第２実施形態を示す横断面図（図３のＡ−Ａ断面）である。
【図３】本発明の一実施形態に係る建具の室内側正面図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１，３は、本発明の建具の第１実施形態を示している。この建具は、ビルの窓に用いられるものであって、図３に示すように、左右に隣接して配置されたサッシ枠１，１の縦枠２，２同士を方立３で連結し、連窓にしたものである。
各サッシ枠１には、図１に示すように、室内側から複層ガラス１１を嵌め込み、室内側に押縁１２を取付け、サッシ枠１の室外側のガラス保持片１３及び室内側の押縁１２と複層ガラス１１との間に、バックアップ材１４とシール材１５を装填して複層ガラス１１を固定してあり、いわゆる嵌め殺し窓となっている。
サッシ枠１の縦枠２は、アルミニウム合金の押出形材よりなり、図１に示すように、外周側が開放した略コ字状断面となっており、縦枠２の室外側縁部１６は室内側に向けて鉤状に曲がった形に形成され、縦枠２の室内側縁部１７は室外側に向けて鉤状に曲がった形に形成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
図２は、本発明の建具の第２実施形態を示している。本実施形態の建具は、方立３の室内側端部の張り出し部８，８より室外側に離間した見込み壁２１，２１上に突部７が長手方向に沿って設けてあり、縦枠２の室内側縁部１７を張り出し部８と突部７間に保持した上で室内側からのネジ３５で固定してある。それ以外の点は、第１実施形態と同様である。
本実施形態の建具は、上述のように縦枠２の室内側縁部１７を張り出し部８と突部７間に保持したことで、縦枠２が方立３との係合が解除される方向（室外側）に移動するのを長手方向で規制するため、火災時に縦枠２と方立３間の隙間の発生をより確実に抑制することができ、火炎や煙の連通を防止できるので、防火性能がさらに向上する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
１  サッシ枠
２  縦枠
３  方立
６  爪
７  突部
８  張り出し部
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2016204872.tif 000001
【図２】
2016204872.tif 000002
【図３】
2016204872.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月22日(2017.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも水、着色剤、含窒素樹脂粒子からなることを特徴とする水性ボールペン用インキ組成物。 
【請求項２】
前記含窒素樹脂粒子が、平均粒子径が１５μm以下であることを特徴とする請求項１に記載の水性ボールペン用インキ組成物。
【請求項３】
前記水性ボールペン用インキ組成物のインキ粘度が、２０℃、剪断速度１．９２ｓｅｃ−１において、５０００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の水性ボールペン用インキ組成物。 
【請求項４】
前記含窒素樹脂粒子が架橋構造を有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。
【請求項５】
前記着色剤が平均粒子径１μm以下である顔料粒子であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。
【請求項６】
前記含窒素樹脂粒子の平均粒子径をＸμm、前記顔料粒子の平均粒子径をＹμmとした場合、 Ｙ／Ｘ＜２．０であることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。
【請求項７】
前記水性ボールペン用インキ組成物にデキストリンを含有することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。
【請求項８】
前記水性ボールペン用インキ組成物にリン酸エステル系界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】水性ボールペン用インキ組成物
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するために 
「１．少なくとも水、着色剤、含窒素樹脂粒子からなることを特徴とする水性ボールペン用インキ組成物。 
２．前記含窒素樹脂粒子が、平均粒子径が１５μm以下であることを特徴とする第１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。 
３．前記水性ボールペン用インキ組成物のインキ粘度が、２０℃、剪断速度１．９２ｓｅｃ−１において、５０００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする第１項または第２項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。 
４．前記含窒素樹脂粒子が架橋構造を有することを特徴とする第１項ないし第３項のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。 
５．前記着色剤が平均粒子径１μm以下である顔料粒子であることを特徴とする第１項ないし第４項のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。 
６．前記含窒素樹脂粒子の平均粒子径をＸμm、前記顔料粒子の平均粒子径をＹμmとした場合、 Ｙ／Ｘ＜２．０であることを特徴とする第１項ないし第５項のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。 
７．前記水性ボールペン用インキ組成物にデキストリンを含有することを特徴とする第１項ないし第６項のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。
８．前記水性ボールペン用インキ組成物にリン酸エステル系界面活性剤を含有することを特徴とする第１項ないし第７項のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。」とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月22日(2017.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも水、着色剤、有機樹脂粒子、剪断減粘性付与剤からなる水性ボールペン用インキ組成物であって、前記有機樹脂粒子が水素結合性官能基を有し、水素結合性官能基が、アミノ基、イミノ基、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基の中から１種以上を選択し、前記水性ボールペン用インキ組成物のインキ粘度が、２０℃、剪断速度１．９２ｓｅｃ−１において、５０００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする水性ボールペン用インキ組成物。 
【請求項２】
前記水性ボールペン用インキ組成物にデキストリンを含有することを特徴とする請求項１に記載の水性ボールペン用インキ組成物。
【請求項３】
前記水性ボールペン用インキ組成物にリン酸エステル系界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の水性ボールペン用インキ組成物。
【請求項４】
前記水性ボールペン用インキ組成物に水溶性溶剤を含有し、インキ組成物全量に対し、含有量が０．１〜２５質量％であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。
【請求項５】
インキ収容筒の先端部にボールを回転自在に抱持したボールペンチップを直接又はチップホルダーを介して装着し、前記インキ収容筒内に請求項１ないし４のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物を収容してなる水性ボールペンとし、前記ボールペンチップのボールの軸方向への移動量が１５μm以上であることを特徴とする水性ボールペン。 
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の水性ボールペンを軸筒内に摺動自在に配設し、前記ボールペンチップのチップ先端部を前記軸筒先端部から出没可能とした出没式の水性ボールペンであることを特徴とする記載の水性ボールペン。  
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するために 
「１．少なくとも水、着色剤、有機樹脂粒子、剪断減粘性付与剤からなる水性ボールペン用インキ組成物であって、前記有機樹脂粒子が水素結合性官能基を有し、水素結合性官能基が、アミノ基、イミノ基、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基の中から１種以上を選択し、前記水性ボールペン用インキ組成物のインキ粘度が、２０℃、剪断速度１．９２ｓｅｃ−１において、５０００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする水性ボールペン用インキ組成物。
２．前記水性ボールペン用インキ組成物にデキストリンを含有することを特徴とする第１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。
３．前記水性ボールペン用インキ組成物にリン酸エステル系界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の水性ボールペン用インキ組成物。 
４．前記水性ボールペン用インキ組成物に水溶性溶剤を含有し、インキ組成物全量に対し、含有量が０．１〜２５質量％であることを特徴とする第１項ないし第３項のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物。
５．インキ収容筒の先端部にボールを回転自在に抱持したボールペンチップを直接又はチップホルダーを介して装着し、前記インキ収容筒内に第１項ないし第４項のいずれか１項に記載の水性ボールペン用インキ組成物を収容してなる水性ボールペンとし、前記ボールペンチップのボールの軸方向への移動量が１５μm以上であることを特徴とする水性ボールペン。
６．第１項ないし第５項のいずれか１項に記載の水性ボールペンを軸筒内に摺動自在に配設し、前記ボールペンチップのチップ先端部を前記軸筒先端部から出没可能とした出没式の水性ボールペンであることを特徴とする水性ボールペン。 」とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月20日(2017.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性水素含有化合物（Ａ）、ビニル重合性化合物（Ｚ）、水を含有する発泡剤（Ｂ）、整泡剤（Ｃ）及び触媒（Ｙ）を含有する樹脂製造用活性水素含有組成物であって、ビニル重合性化合物（Ｚ）が、下記一般式（１）で示されるビニル重合性官能基を有し、分子内のビニル重合性官能基の濃度が０．５〜２０（ｍｍｏｌ／ｇ）である下記（Ｚ１）〜（Ｚ３）からなる群より選ばれる１種以上のビニル重合性化合物であり、触媒（Ｙ）が、１〜３級アミンとカルボン酸の塩（Ｙ１）を含有する樹脂製造用活性水素含有組成物。
Ｒ
｜
ＣＨ2＝Ｃ−            （１）
［一般式（１）中、Ｒは、水素、炭素数１〜１５のアルキル基又は炭素数６〜２１のアリール基を表す。］
（Ｚ１）ポリオールの不飽和カルボン酸エステル又は不飽和アルキルエーテル
（Ｚ２）アミンの不飽和カルボン酸アミド化物又は不飽和アルキル化物
（Ｚ３）ポリチオールの不飽和カルボン酸チオエステル又は不飽和アルキルチオエーテル
【請求項２】
ビニル重合性化合物（Ｚ）の活性水素価が０〜５００である請求項１記載の樹脂製造用活性水素含有組成物。
【請求項３】
触媒（Ｙ１）のカルボン酸が、飽和若しくは不飽和脂肪族カルボン酸である請求項１又は２に記載の樹脂製造用活性水素含有組成物。
【請求項４】
活性水素含有化合物（Ａ）とビニル重合性化合物（Ｚ）の合計重量に基づく触媒（Ｙ１）の量が０．１〜１０重量％である請求項１〜３のいずれかに記載の樹脂製造用活性水素含有組成物。
【請求項５】
活性水素含有化合物（Ａ）の活性水素価が５０〜１９００である請求項１〜４のいずれかに記載の樹脂製造用活性水素含有組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の樹脂製造用活性水素含有組成物と有機ポリイソシアネート（Ｅ）とを反応させる硬質ポリウレタンフォーム又は硬質ポリイソシアヌレートフォームの製造方法。
【請求項７】
有機ポリイソシアネート（Ｅ）が、２，４’−又は４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート及びポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネート並びにそれらの変性物からなる群より選ばれる１種以上を含有する請求項６に記載の硬質ポリウレタンフォーム又は硬質ポリイソシアヌレートフォームの製造方法。
【請求項８】
イソシアネート指数が７０〜５００である請求項６又は７に記載の硬質ポリウレタンフォーム又は硬質ポリイソシアヌレートフォームの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜５のいずれかに記載の樹脂製造用活性水素含有組成物と有機ポリイソシアネート（Ｅ）とを反応させてなるサンドイッチパネル、ボード、サイディング又はスプレーに使用される硬質ポリウレタンフォーム又は硬質ポリイソシアヌレートフォーム。
【請求項１０】
請求項１〜５のいずれかに記載の樹脂製造用活性水素含有組成物と有機ポリイソシアネート（Ｅ）とを反応させてなる断熱材用ポリウレタンフォーム又は断熱材用ポリイソシアヌレートフォーム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月26日(2016.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板への半田の供給に用いられる供給孔を有した略筒形状の鏝先をもつ半田鏝部として、少なくとも第１の半田鏝部および第２の半田鏝部を備え、
前記供給された半田を溶融させる溶融処理、および前記鏝先に付着した半田の残留物を除去するクリーニング処理を行う半田処理装置であって、
第１の半田鏝部にて前記溶融処理が行われる間に、第２の半田鏝部に対して前記クリーニング処理が行われる第１動作と、
第２の半田鏝部にて前記溶融処理が行われる間に、第１の半田鏝部に対して前記クリーニング処理が行われる第２動作と
を実行し、
第１の半田鏝部および第２の半田鏝部は、
前記基板に近接又は接触する下方位置と、該下方位置よりも上方である上方位置との間で可動であり、
前記下方位置において前記溶融処理が行われ、前記上方位置において前記クリーニング処理が行われることを特徴とする半田処理装置。
【請求項２】
前記クリーニング処理は、前記鏝先を加熱することにより、前記残留物を焼却して除去する処理である請求項１に記載の半田処理装置。
【請求項３】
上方位置にある前記半田鏝部の下に配置され、前記除去された残留物を受ける受け皿を備えた請求項１又は２に記載の半田処理装置。
【請求項４】
前記受け皿を移動させる受け皿移動機構を備え、
前記受け皿移動機構は、
第１動作の実行時において第２の半田鏝部の下に配置され、第２動作の実行時において第１の半田鏝部の下に配置されるように、前記受け皿を移動させる請求項３に記載の半田処理装置。
【請求項５】
第１の半田鏝部および第２の半田鏝部それぞれに固定された各ラックと、該各ラックに挟まれたピニオンとを有するラックアンドピニオン機構を備え、
前記ラックアンドピニオン機構を用いて、第１の半田鏝部および第２の半田鏝部を上下方向に移動させる請求項１から請求項４の何れかに記載の半田処理装置。
【請求項６】
第１の半田鏝部および第２の半田鏝部は、ベルトに連結されており、
前記ベルトを駆動させることにより、第１の半田鏝部および第２の半田鏝部を上下方向に移動させる請求項１から請求項４の何れかに記載の半田処理装置。
【請求項７】
第１の半田鏝部および第２の半田鏝部ならびに前記受け皿は、ベルトに連結されており、
前記ベルトを駆動させることにより、第１の半田鏝部および第２の半田鏝部を上下方向に移動させるとともに、前記受け皿を移動させる請求項４に記載の半田処理装置。
【請求項８】
前記供給孔に空気を吹き込んで前記残留物を吹き飛ばす空気吹込み手段と、
前記吹き飛ばされた残留物を回収する回収手段と
を備えた請求項１から請求項７の何れかに記載の半田処理装置。
【請求項９】
前記回収手段は、前記吹き飛ばされた残留物を吸引する吸引手段を備えている請求項８に記載の半田処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る半田処理装置は、基板への半田の供給に用いられる供給孔を有した略筒形状の鏝先をもつ半田鏝部として、少なくとも第１の半田鏝部および第２の半田鏝部を備え、前記供給された半田を溶融させる溶融処理、および前記鏝先に付着した半田の残留物を除去するクリーニング処理を行う半田処理装置であって、第１の半田鏝部にて前記溶融処理が行われる間に、第２の半田鏝部に対して前記クリーニング処理が行われる第１動作と、第２の半田鏝部にて前記溶融処理が行われる間に、第１の半田鏝部に対して前記クリーニング処理が行われる第２動作とを実行し、第１の半田鏝部および第２の半田鏝部は、前記基板に近接又は接触する下方位置と、該下方位置よりも上方である上方位置との間で可動であり、前記下方位置において前記溶融処理が行われ、前記上方位置において前記クリーニング処理が行われる構成とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
また半田処理装置Ｘの下方部分には、左右方向へ可動である受け皿７１が設けられている。受け皿７１は移動することにより、ヘッド１Ａが上方位置にあるときはヘッド１Ａの鏝先５１の真下に配置され、ヘッド１Ｂが上方位置にあるときはヘッド１Ｂの鏝先５１の真下に配置される。受け皿７１の役割については、改めて詳しく説明する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
また先述した通り、上方位置にある各ヘッド（１Ａ、１Ｂ）の下には、受け皿７１が配置されるようになっている。そのため各ヘッド（１Ａ、１Ｂ）がクリーニングされる際、鏝先５１から剥がれて落下するドロスは受け皿７１により受け止められるため、基板Ｂｄに付着することは回避される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
ここで受け皿７１を移動させるための受け皿移動機構について説明する。受け皿移動機構は、図３に示すように、前後方向へ伸びた支持部材７２の一端に受け皿７１が設けられ、支持部材７２の他端が、壁体１１へ摺動可能に取付けられた構成となっている。そして支持部材７２が壁体１１に沿って左右方向へ摺動することにより、受け皿７１が左右方向へ移動する。なお、受け皿７１の移動は、各ヘッド（１Ａ、１Ｂ）の上下移動と干渉しないように行われる。