【手続補正書】
【提出日】平成29年8月14日(2017.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置および表示装置の製造方法、並びに電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本開示は、例えば有機ＥＬ（ＥＬ：Electroluminescence）素子などの発光素子を含む表示装置およびそのような表示装置の製造方法、並びに電子機器に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、狭額縁化を実現しつつ歩留まりの低下を抑制することが可能な表示装置およびその製造方法、並びに電子機器を提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本開示の表示装置は、第１基板上に、各々が発光素子を含む複数の画素を有する表示領域と、表示領域の周辺領域の一部において複数の端子を有する端子領域とを有する表示パネルを備える。発光素子は、第１基板側から順に、第１電極と、有機層と、複数の画素に共通して設けられた第２電極とを含み、第２電極は、第１基板上の端子領域を除く領域において、平面視的に連なって第１基板の端部まで延在すると共に、表示パネルの外装部材と電気的に非接続となるように構成されているものである。
本開示の電子機器は、上記本開示の表示装置を備えたものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本開示の表示装置および電子機器では、第２電極が、第１基板上の端子領域を除く領域において、平面視的に連なって第１基板の端部まで延在する。即ち、製造プロセスにおいて、第２電極は、例えば成膜用のマスクを用いることなく、あるいは端子領域のみを選択的に遮蔽するような開口を持つマスクを用いて形成される。このため、周辺領域のうちの端子領域を除く領域では、第２電極を形成する際に、マスク開口位置のずれ等を考慮した成膜マージンを確保する必要がない。一方で、第２電極が第１基板の端部まで延在することで、表示パネルの外装部材との間での電気的なショートの発生が懸念されるが、第２電極は表示パネルの外装部材と電気的に非接続となるように構成されているので、外装部材に実装後も、そのようなショートは発生しにくい。よって、第１基板上の周辺領域において、第２電極を形成する際の成膜マージンを確保する必要がなくなり、マスクを用いて選択的な領域に第２電極を成膜する場合に比べ、周辺領域が狭小化される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本開示の表示装置および表示装置の製造方法、並びに電子機器では、第２電極が、第１基板上の端子領域を除く領域において、平面視的に連なって第１基板の端部まで延在する。即ち、周辺領域のうちの端子領域を除く領域においては、第２電極は、マスクを用いることなく形成され、所定の成膜マージンを確保する必要がない。したがって、第１基板上の周辺領域を狭小化できる。このような第２電極は表示パネルの端面に露出するが、第２電極が外装部材と電気的に非接続となるように構成されているので、外装部材に実装後も、電気的なショートの発生を抑制でき、歩留まりの低下を抑制できる。よって、狭額縁化を実現しつつ歩留まりの低下を抑制することが可能となる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【図１】本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の構成を表す平面図である。
【図２】図１に示したIA−IA線における断面構成を表す図である。
【図３】図１に示したIB−IB線における断面構成を表す図である。
【図４】図１に示した表示装置を外装フレームに実装した状態を表す断面図である。
【図５Ａ】図１に示した表示装置の第２電極の形成工程において用いるエリアマスクの構成を表す平面図である。
【図５Ｂ】図１に示した表示装置の第２電極の形成工程において用いるエリアマスクを第１基板上に配置した状態を表す平面図である。
【図６】第２電極の形成工程における端子部付近の断面構成を表す図である。
【図７】比較例１に係る表示装置の第２電極の形成工程において用いるエリアマスクの構成を表す平面図である。
【図８】図７に示したエリアマスクを用いて作製した表示装置の構成を表す断面図である。
【図９】比較例２に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図１０】本開示の第２の実施の形態に係る表示装置の構成を表す平面図である。
【図１１】図１０に示したIIA−IIA線における断面構成を表す図である。
【図１２】本開示の第３の実施の形態に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図１３Ａ】変形例に係る表示装置の構成例を表す断面図である。
【図１３Ｂ】他の変形例に係る表示装置の構成例を表す断面図である。
【図１３Ｃ】他の変形例に係る表示装置の構成例を表す断面図である。
【図１３Ｄ】他の変形例に係る表示装置の構成例を表す断面図である。
【図１４】図１３Ａに示した表示装置の作製方法を説明するための模式図である。
【図１５Ａ】スマートフォンの構成を表す斜視図である。
【図１５Ｂ】スマートフォンの構成を表す斜視図である。
【図１６Ａ】携帯電話機の外観を表す図である。
【図１６Ｂ】携帯電話機の外観を表す図である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
有機絶縁膜１５は、第１電極１４を画素毎に電気的に分離すると共に、第１電極１４と第２電極１７との間の絶縁性を確保するためのものである。有機絶縁膜１５は、画素Ｐ毎に開口を有しており、有機ＥＬ素子の発光領域を形成するものである。この有機絶縁膜１５は、例えば感光性樹脂などの有機絶縁材料により構成されている。有機絶縁膜１５は、表示領域１Ａと額縁領域１Ｂに、周辺回路を覆う状態で設けられ、額縁領域１Ｂに分離溝（分離溝１５Ａ）を有している。また、有機絶縁膜１５は、額縁領域１Ｂの最外周の領域において選択的に除去されている。分離溝１５Ａの幅は、例えば１０μｍ以上１００μｍ以下であり、有機絶縁膜１５の端部１５ｅと第１基板１１の端部ｅ１との間の距離（有機絶縁膜１５の除去部分の幅）は、例えば１００μｍ以上２００μｍ以下である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
この一方で、第２電極１７が第１基板１１の端部まで延在することで、例えば図９に示した比較例２のように、第２電極１７が金属製の外装フレーム２４と接触し、電気的なショートＸ１の発生が懸念される。これは歩留まり低下の要因となる。これに対し、本実施の形態では、第２電極１７の端部１７ｅは、表示パネル１０の外装フレーム２４と電気的に非接続となるように構成されている。具体的には、第２電極１７の端部１７ｅが、端面保護膜２１により覆われている。このため、外装フレーム２４に実装後も、比較例２のようなショートＸ１は発生しにくい。よって、第１基板１１上の額縁領域１Ｂにおいて、第２電極１７を形成する際の成膜マージンを確保せずに第２電極１７を形成することができ、額縁領域１Ｂが狭小化される。