Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月17日(2017.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷装置により所望の媒体へ印刷される画像内の色調整領域が指定色になるよう印刷処理に先立って色調整を行う色調整装置であって、
画像の印刷時に使用する媒体と同種の媒体に、色相における全色の見本を印刷させるべく、色見本データを送信する第１の印刷指示手段と、
前記指定色に近い色を、印刷された前記色見本から第１の色として選択せしめる第１の色選択手段と、
画像の印刷時に使用する媒体と同種の媒体に、前記第１の色とその近傍色が配置された色可変チャートを印刷させるべく、色可変チャートデータを送信する第２の印刷指示手段と、
前記指定色に近い色を、印刷された前記色可変チャートから第２の色として選択せしめる第２の色選択手段と、
前記画像内における色調整領域の色を、前記第２の色に変換する色変換手段と、
を備えることを特徴とする色調整装置。
【請求項２】
前記色見本データの送信も、前記色可変チャートデータの送信も、画像の印刷を行う前記印刷装置へ行う請求項１に記載の色調整装置。
【請求項３】
前記色見本データは、印刷可能な領域の色の略全てを含んでいる請求項１に記載の色調整装置。
【請求項４】
前記色見本は、複数のパッチ画像が縦方向及び横方向に配列され、前記縦方向及び前記
横方向のうちの一方は色相が変化し、他方は明度及び彩度のうち何れか一方が変化する請求項１に記載の色調整装置。
【請求項５】
前記色可変チャートは、前記第１の色を有する特定カラーパッチを中心とした周方向に配置された複数の周囲カラーパッチからなる請求項１に記載の色調整装置。
【請求項６】
前記色可変チャートにおける複数の周囲カラーパッチは、特定カラーパッチを中心として120度間隔でＣＭＹまたはＲＧＢに対応した異なる３方向に延びる色領域で構成されており、各色領域の各周囲カラーパッチは、特定カラーパッチのＣＭＹ値またはＲＧＢ値（以下、色値と記す）に対して、１色の色値を固定して、残り２色の色値を変更して、特定カラーパッチの色値の近傍色を表現している請求項５に記載の色調整装置。
【請求項７】
隣接する各周囲カラーパッチ間の色値を変化させる振り幅を調整可能である請求項６に記載の色調整装置。
【請求項８】
画像の印刷時に使用する媒体と同種の媒体に色見本を印刷する第１の印刷工程と、
前記画像内における色調整領域が指定色になるようそれに近い色を、印刷された前記色見本から第１の色として選択する第１の色選択工程と、
前記第１の色とその近傍色が配置された色可変チャートを、画像の印刷時に使用する媒体と同種の媒体に印刷する第２の印刷工程と、
前記画像内における色調整領域が指定色になるようそれに近い色を、印刷された前記色可変チャートから第２の色として選択する第２の色選択工程と、
前記画像内における色調整領域の色を、前記第２の色に変換する色変換工程と、
を備えることを特徴とする色調整方法。
【請求項９】
印刷装置と、当該印刷装置により所望の媒体へ印刷される画像内の色調整領域が指定色になるよう印刷処理に先立って色調整を行う色調整装置とを含む印刷システムであって、
画像の印刷時に使用する媒体と同種の媒体に、色見本を印刷させるべく、色見本データを前記印刷装置に送信して印刷する第１の印刷手段と、
前記指定色に近い色を、印刷された前記色見本から第１の色として選択せしめる第１の色選択手段と、
画像の印刷時に使用する媒体と同種の媒体に、前記第１の色とその近傍色が配置された色可変チャートを印刷させるべく、色可変チャートデータを前記印刷装置に送信して印刷する第２の印刷手段と、
前記指定色に近い色を、印刷された前記色可変チャートから第２の色として選択せしめる第２の色選択手段と、
前記画像内における色調整領域の色を、前記第２の色に変換する色変換手段と、
を備えることを特徴とする印刷システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】色調整装置、色調整方法、および印刷システム
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月5日(2016.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機発光ダイオード及び上記有機発光ダイオードを発光させる画素回路を有する複数の画素を含むディスプレイパネル；
上記複数の画素の駆動のためのスキャン信号及びセンシングのためのセンシング信号を上記複数の画素に供給するゲートドライバ；
ドライビングモードで上記複数の画素にデータ電圧及びディスプレイ基準電圧を供給し、センシングモードで上記複数の画素の電圧をセンシングするデータドライバ；
上記ドライビングモードから上記センシングモードに転換された以後に、上記複数の画素に対応する複数のセンシング電源ラインの電圧を初期化させるディスチャージング駆動部；
上記ゲートドライバ、上記データドライバ、及び上記ディスチャージング駆動部をディスプレイモード及びセンシングモードで動作するように制御するタイミングコントローラ；及び
上記複数の画素のための補償データが格納されるメモリを含み、
上記データドライバによって上記複数の画素に供給される各々のデータ電圧は、上記補償データを利用して補償された有機発光ディスプレイ装置。
【請求項２】
上記ディスチャージング駆動部は、上記タイミングコントローラから供給されるディスチャージング制御信号によって駆動され、上記複数のセンシング電源ラインをグラウンドに接続させる、請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項３】
上記ディスチャージング駆動部は、上記ディスチャージング制御信号によってターンオン又はターンオフされるスイッチを含み、上記スイッチは、上記データドライバの内部または別途で提供される、請求項２に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項４】
上記ディスチャージング駆動部は、事前に設定された時間の間上記複数のセンシング電源ラインをグラウンドに接続させる、請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項５】
上記ディスチャージング駆動部は、ディスプレイ信号のライジングエッジまたはフォーリングエッジに同期されて上記複数の画素に対応する上記複数のセンシング電源ラインの電圧を初期化させる、請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項６】
上記ディスチャージング駆動部は、
nフレームとn+１フレーム間のブランク区間に上記複数の画素に対応する上記複数のセンシング電源ラインの電圧を初期化させる、請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項７】
上記ドライビングモードで各々のデータ電圧を上記複数の画素に供給する複数のデータライン；
上記ドライビングモードで上記データドライバから上記複数の画素にディスプレイ基準電圧を供給し、上記センシングモードで上記データドライバから上記複数の画素にセンシングプリチャージング電圧を供給し、各画素の電圧を上記データドライバに供給する上記複数のセンシング電源ライン；
上記複数のデータラインと交差し、上記ゲートドライバから上記複数の画素に上記スキャン信号を供給する複数のゲートライン；
上記ゲートドライバから上記複数の画素に上記センシング信号を供給する複数のセンシング信号ラインを更に含む、請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項８】
有機発光ダイオード及び上記有機発光ダイオードを発光させる画素回路を有する複数の画素を含む有機発光ディスプレイ装置の駆動方法において、
画像が表示されるドライビングモードで、１つのフレームの期間の間に最初のデータラインから最後のデータラインまでの映像データに対応するデータ電圧(Vdata)を供給して画像を表示する段階；
上記ドライビングモードからセンシングモードに転換される時に、上記複数の画素に対応する複数のセンシング電源ラインの電圧を初期化させる段階；
上記センシング電源ラインの電圧が初期化以後、センシングプリチャージング電圧を上記センシング電源ラインに供給する段階；
上記センシング電源ラインをフローティングさせる段階；
上記センシング電源ラインの電圧をセンシングする段階；
センシングされた電圧に基づいて上記複数の画素の各々の補償データを生成する段階；及び
上記補償データに基づいて上記複数の画素に印加されるデータ電圧を補償する段階を含む、有機発光ディスプレイ装置の駆動方法。
【請求項９】
上記センシング電源ラインの電圧を初期化させる段階は、上記複数のセンシング電源ラインを事前に設定された時間の間グラウンドに接続させる、請求項８に記載の有機発光ディスプレイ装置の駆動方法。
【請求項１０】
上記センシング電源ラインの電圧を初期化させる段階は、ディスプレイ信号のライジングエッジまたはフォーリングエッジに同期されて上記複数の画素に対応する上記センシング電源ラインの電圧を初期化させることを含む、 請求項８に記載の有機発光ディスプレイ装置の駆動方法。
【請求項１１】
上記センシング電源ラインの電圧を初期化させる段階は、nフレームとn+１フレーム間のブランク区間に上記複数の画素に対応するセンシング電源ラインの電圧を初期化させることを含む、請求項８に記載の有機発光ディスプレイ装置の駆動方法。
【請求項１２】
上記センシング電源ラインの電圧を初期化させる段階は、前記複数のセンシング電源ラインをグラウンドに接続させることを含む、請求項８に記載の有機発光ディスプレイ装置の駆動方法。
【請求項１３】
上記補償データは、上記複数の画素各々のドライビングトランジスタのしきい値電圧及び移動度に対応する、請求項８に記載の有機発光ディスプレイ装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月8日(2017.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
１    回転軸
２ａ、２ｂ  入力側ディスク
３    ボールスプライン
４    筒部材
５    歯車
６    出力側ディスク
７    パワーローラ
８    トラニオン
９    支持軸
１０    傾転軸
１１    駆動軸
１２    押圧装置
１３    アクチュエータ
１４    変速比制御弁
１５    ステッピングモータ
１６    プリセスカム
１７    スプール
１８    スリーブ
１９    油圧源
２０ａ、２０ｂ  油圧室
２１    リンク腕
２２    ロッド
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月28日(2017.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
Ａ２．グロープラグの評価
図４は、通電開始から２秒後におけるコイル８２０に流れる電流とシースチューブ８１０の表面温度との関係を示すグラフである。図５は、通電開始から６０秒後におけるコイル８２０に流れる電流とシースチューブ８１０の表面温度との関係を示すグラフである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
図４および図５の評価試験では、試験者は、１０個の評価試料と、１０個の比較試料とを用意した。評価試料は、軸部２２０で縮径した中軸２００を備えるグロープラグ１０である。比較試料は、評価試料とは中軸の仕様が異なる点を除き同様の構成を有するグロープラグである。比較試料の中軸は、軸部２２０が形成されることなく軸部２１０と軸部２３０とが一連に形成された点を除き、評価試料の中軸２００と同様である。試験者は、評価試料および比較試料に通電を開始した後、２秒後および６０秒後に、コイル８２０に流れる電流と、シースチューブ８１０の先端側における表面温度とを測定した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
１０，１０Ｂ，１０Ｃ…グロープラグ
１００…ナット
２００，２００Ｂ，２００Ｃ…中軸
２０５…嵌合部
２１０…軸部（第１の軸部）
２２０，２２０Ｂ，２２０Ｃ…軸部（第２の軸部）
２３０…軸部（第３の軸部）
２９０…後端部
３００…リング
４１０…絶縁ブッシュ
４６０…Ｏリング
５００…主体金具
５１０…先端部
５２０…軸孔面（対向面）
５３０…軸孔面（圧入面）
５４０…軸孔面
５６０…円筒部
５７０…ねじ部
５８０…工具係合部
６００…シール材
８００…シースヒータ
８１０…シースチューブ
８２０…コイル
８７０…絶縁粉末
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月2日(2017.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明にかかる計測装置は、パターン間で明部と暗部のうち少なくとも何れか一方の幅が異なる複数の空間符号化パターンそれぞれの明部を、所定の模様のマスクによってマスキングした第一のパターン群と、前記模様を変化させたマスクによって前記複数の空間符号化パターンそれぞれの明部をマスキングした第二のパターン群とを取得する取得手段と、投影装置によって前記第一のパターン群と前記第二のパターン群とがそれぞれ投影された対象物を撮像装置がそれぞれ撮像した撮影画像を入力する入力手段と、前記投影されたパターンの投影座標と前記撮影画像それぞれの座標の対応関係を検出する検出手段とを有し、前記対応関係に基づいて、前記対象物の三次元形状を計測する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン間で明部と暗部のうち少なくとも何れか一方の幅が異なる複数の空間符号化パターンそれぞれの明部を、所定の模様のマスクによってマスキングした第一のパターン群と、前記模様を変化させたマスクによって前記複数の空間符号化パターンそれぞれの明部をマスキングした第二のパターン群とを取得する取得手段と、
投影装置によって前記第一のパターン群と前記第二のパターン群とがそれぞれ投影された対象物を撮像装置がそれぞれ撮像した撮影画像を入力する入力手段と、
前記投影されたパターンの投影座標と前記撮影画像それぞれの座標の対応関係を検出する検出手段とを有し、
前記対応関係に基づいて、前記対象物の三次元形状を計測することを特徴とする計測装置。
【請求項２】
前記第一のパターン群は前記空間符号化パターンの明部において明暗のパターンを有し、前記第二のパターン群は前記第一のパターン群の明暗のパターンを反転したパターンを有する請求項1に記載された計測装置。
【請求項３】
前記検出手段は、前記撮影画像の各画素において、前記第一のパターン群の明部に対応する輝度値と前記第二のパターン群の暗部に対応する輝度値の差分絶対値を直接反射光成分として算出する請求項2に記載された計測装置。
【請求項４】
さらに、市松模様のマスクを用いて前記第一のパターン群を生成し、前記市松模様を反転したマスクを用いて前記第二のパターン群を生成する生成手段を有する請求項3に記載された計測装置。
【請求項５】
前記市松模様の格子サイズは、前記差分絶対値がノイズと見做されない大きさに設定される請求項4に記載された計測装置。
【請求項６】
前記空間符号化パターンは位相シフトパターンである請求項1から請求項5の何れか一項に記載された計測装置。
【請求項７】
前記取得手段は、所定の模様のマスクを所定距離ずつ移動して前記空間符号化パターンの明部をマスキングした複数のパターン群を取得する請求項1に記載された計測装置。
【請求項８】
前記検出手段は、前記複数のパターン群がそれぞれ投影された対象物を撮像した複数の撮影画像の各画素において、前記複数のパターン群の明部に対応する輝度値の最大値から前記複数のパターン群の暗部に対応する輝度値の最小値を減算して直接反射光成分を算出する請求項7に記載された計測装置。
【請求項９】
さらに、格子模様のマスクを用いて前記複数のパターン群を生成する生成手段を有する請求項7または請求項8に記載された計測装置。
【請求項１０】
前記所定距離は、前記複数のパターン群がそれぞれ投影された対象物を撮像した複数の撮影画像の各画素について、前記複数の撮影画像から最小輝度値を抽出して形成した間接反射光画像に、前記格子模様の周期的パターンが残らないように設定される請求項9に記載された計測装置。
【請求項１１】
前記取得手段は、更に、前記複数の空間符号化パターンを反転させたパターンそれぞれの明部を、前記所定の模様のマスクによってマスキングした第三のパターン群と、前記模様を変化させたマスクによって前記複数の空間符号化パターンを反転させたパターンそれぞれの明部をマスキングした第四のパターン群とを取得し、
前記入力手段は、前記投影装置によって前記第三のパターン群と前記第四のパターン群とがそれぞれ投影された対象物を前記撮像装置がそれぞれ撮像した撮影画像を更に取得する請求項1から請求項8の何れか一項に記載された計測装置。
【請求項１２】
取得手段が、パターン間で明部と暗部のうち少なくとも何れか一方の幅が異なる複数の空間符号化パターンそれぞれの明部を、所定の模様のマスクによってマスキングした第一のパターン群と、前記模様を変化させたマスクによって前記複数の空間符号化パターンそれぞれの明部をマスキングした第二のパターン群とを取得し、
入力手段が、投影装置によって前記第一のパターン群と前記第二のパターン群とがそれぞれ投影された対象物を撮像装置がそれぞれ撮像した撮影画像を入力し、
検出手段が、前記投影されたパターンの投影座標と前記撮影画像それぞれの座標の対応関係を検出し、
前記対応関係に基づいて、前記対象物の三次元形状を計測することを特徴とする計測方法。
【請求項１３】
コンピュータを請求項1から請求項11の何れか一項に記載された計測装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【請求項１４】
請求項13に記載されたプログラムが記録されたコンピュータが読み取り可能な記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月14日(2017.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の情報の表示に連続して回動する第１表示車と、
第２の情報を表示する第２表示車と、
前記第１表示車により回動し、回動軸と異なる位置に設けられた爪部により前記第２表示車を回す回し車と、
前記第２の情報を修正するときに前記第２表示車を規制位置で規制する修正レバーと、
前記修正レバーを操作する操作ボタンと、を有し、
前記修正レバーは、前記規制位置において、前記第２表示車の歯先が、前記回し車の回動に伴う前記爪部の回動範囲から外れた位置となるように前記第２表示車を規制することを特徴とする時計。
【請求項２】
請求項１に記載の時計において、
前記修正レバーは、前記操作ボタンを押圧操作したときに前記操作ボタンに押圧される基端部、および、前記第２表示車と当接される先端部とを有し、
前記先端部は、前記操作ボタンを押圧操作したときに前記第２表示車に接触する送り部と、前記規制位置で前記第２表示車の回動を規制する規制部を有することを特徴とする時計。
【請求項３】
請求項１または２に記載の時計において、
前記修正レバーは、第１の修正レバーと第２の修正レバーとを有し、
前記第１の修正レバーの前記基端部と前記先端部との間に、前記第２の修正レバーの前記基端部側が連結されていることを特徴とする時計。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の時計において、
回転錘の回転によって駆動される発電機または太陽電池によって発電された電力を蓄電する二次電池、前記二次電池の電力エネルギーによって駆動される制御回路、前記制御回路によって動作するステッピングモーターを備えた電子時計であることを特徴とする時計。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月19日(2017.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定数のブロックを橋脚から順に連設する張出架設工法における上げ越し量をコンピュータが修正する上げ越し量修正方法であって、
橋桁の温度を取得し、予め記憶部に保持されている温度による橋桁の変形量の基準値を用いて、橋桁の変形量を求める温度影響算出ステップと、
既設の先端のブロックについて測定した橋桁の高さである実測値から前記温度影響算出ステップにおいて求められた橋桁の変形量を除いた橋桁の真の高さを求める真値算出ステップと、
前記既設の先端のブロックについて設計に基づいて算出された橋桁の高さである目標高と前記橋桁の真の高さとの差分を求め、当該差分を前記先端のブロックから前記所定数のブロックまでの残ブロックの各々に適用すべき補正値を求める補正値算出ステップと、
をコンピュータが実行する上げ越し量修正方法。
【請求項２】
前記温度による橋桁の変形量の基準値とは、橋桁の上床版の温度及び下床版の温度の差分と橋桁の変形量の予測値とを対応付けた情報であり、
前記温度影響算出ステップにおいて、前記既設の先端のブロックにおける上床版の温度及び下床版の温度の差分と、前記基準値とに基づき取得した前記橋桁の温度に対応する橋桁の変形量を求める
請求項１に記載の上げ越し量修正方法。
【請求項３】
前記補正値算出ステップにおいて、前記目標高と前記橋桁の真の高さとの差分を残ブロック数で按分することにより、前記補正値を算出する
請求項１又は２に記載の上げ越し量修正方法。
【請求項４】
鉛直方向に対する前記橋脚の軸方向の傾きを取得し、当該傾きに基づいて前記先端のブロックにおける、前記傾きに起因する高さの変位を求める傾斜影響算出ステップ
をさらに実行し、
前記真値算出ステップにおいて、前記実測値から、前記温度影響算出ステップにおいて求められた橋桁の変形量、及び前記傾斜影響算出ステップにおいて求められた前記高さの変位を除くことにより前記真の高さを求める
請求項１から３のいずれか一項に記載の上げ越し量修正方法。
【請求項５】
所定数のブロックを橋脚から順に連設する張出架設工法における上げ越し量をコンピュータが修正する上げ越し量修正装置であって、
温度による橋桁の変形量の基準値を保持する記憶部と、
橋桁の温度を取得し、前記記憶部に保持されている前記基準値を用いて、取得した前記橋桁の温度に対応する橋桁の変形量を求める温度影響算出部と、
既設の先端のブロックについて測定した橋桁の高さである実測値から前記温度影響算出部が求めた橋桁の変形量を除いた橋桁の真の高さを求める真値算出部と、
前記既設の先端のブロックについて設計に基づいて算出された橋桁の高さである目標高と前記橋桁の真の高さとの差分を求め、当該差分を前記先端のブロックから前記所定数のブロックまでの残ブロックの各々に適用すべき補正値を求める補正値算出部と、
を有する上げ越し量修正装置。
【請求項６】
所定数のブロックを橋脚から順に連設する張出架設工法における上げ越し量を修正する処理をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
橋桁の温度を取得し、予め記憶部に保持されている温度による橋桁の変形量の基準値を用いて、取得した前記橋桁の温度に対応する橋桁の変形量を求める温度影響算出ステップと、
既設の先端のブロックについて測定した橋桁の高さである実測値から前記温度影響算出ステップにおいて求められた橋桁の変形量を除いた橋桁の真の高さを求める真値算出ステップと、
前記既設の先端のブロックについて設計に基づいて算出された橋桁の高さである目標高と前記橋桁の真の高さとの差分を求め、当該差分を前記先端のブロックから前記所定数のブロックまでの残ブロックの各々に適用すべき補正値を求める補正値算出ステップと、
を含むプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月12日(2017.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基礎地盤上に擁壁ブロックを段積みし、あるいは１段のみ配置して構築する擁壁構造であって、
中空円柱状の形状を有する擁壁ブロックと、
擁壁ブロックの裏面側と法面の間、又は擁壁ブロックの中に配置された土嚢ブロックと、
擁壁ブロックの内部空間及び土嚢ブロックの外周空間であって、土嚢ブロックと擁壁ブロックと法面により画成される空間に充填された中詰材とからなる擁壁構造。
【請求項２】
請求項１に記載された擁壁構造において、
前記擁壁ブロックの前面側上部及び/又は前記擁壁ブロックの裏面側下部には突起部が設けられ、擁壁ブロックを段積みした場合に、上側の擁壁ブロックの前面側下部が下側擁壁ブロックの突起部に噛合い、及び/又は下側の擁壁ブロックの裏面側上部が上側擁壁ブロックの突起部に噛合ようになっていることを特徴とする擁壁構造。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された擁壁構造において、
段積みされた擁壁ブロックの各段における擁壁ブロック、又は１段のみ配置された擁壁ブロックが、擁壁厚さ方向に複数列配置されていることを特徴とする擁壁構造。
【請求項４】
請求項３に記載された擁壁構造において、各段における擁壁ブロックが千鳥状に配置されていることを特徴とする擁壁構造。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載された擁壁構造において、
段積みされた擁壁ブロックの各段における擁壁ブロック、又は１段のみ配置された擁壁ブロックが、互いに隣接する擁壁ブロック同士が接触して配置されていることを特徴とする擁壁構造。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれかに記載された擁壁構造において、
段積みされた擁壁ブロックの各段における擁壁ブロック、又は１段のみ配置された擁壁ブロックが、互いに隣接する擁壁ブロック同士が隔離して配置されていることを特徴とする擁壁構造。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載された擁壁構造において、
前記土嚢ブロックは、１又は複数の角型土嚢ブロックからなることを特徴とする擁壁構造。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載された擁壁構造において、
前記基礎地盤が、複数の独楽型ブロックを埋設した強化地盤から構成されることを特徴とする擁壁構造。
【請求項９】
基礎地盤上に擁壁ブロックを段積みし、あるいは１段のみ配置して構築する擁壁構造であって、
中空円柱状の形状を有する擁壁ブロックと、
擁壁ブロックの裏面側と法面の間に配置された土嚢ブロックと、
土嚢ブロックの外周空間であって、土嚢ブロックと擁壁ブロックと法面により画成される空間に充填された中詰材とからなる擁壁構造。
【請求項１０】
請求項９に記載された擁壁構造において、
前記擁壁ブロックの前面側上部及び/又は前記擁壁ブロックの裏面側下部には突起部が設けられ、擁壁ブロックを段積みした場合に、上側の擁壁ブロックの前面側下部が下側擁壁ブロックの突起部に噛合い、及び/又は下側の擁壁ブロックの裏面側上部が上側擁壁ブロックの突起部に噛合ようになっていることを特徴とする擁壁構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
第９の観点にかかる発明においては、基礎地盤上に擁壁ブロックを段積みし、あるいは１段のみ配置して構築する擁壁構造において、中空円柱状の形状を有する擁壁ブロックと、擁壁ブロックの裏面側と法面の間に配置された土嚢ブロックと、土嚢ブロックの外周空間であって、土嚢ブロックと擁壁ブロックと法面により画成される空間に充填された中詰材とからなる擁壁構造とした。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月21日(2017.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
共重合体（Ａ）と、活性水素と反応し得る官能基（以下「反応性官能基」という）を有する反応性化合物（Ｂ）とを含む、ラミネート鋼板形成用樹脂組成物。
ただし、下記（１）〜（４）である。
（１）共重合体（Ａ）全量中、
水酸基を有するα,β−不飽和化合物（ａ−１）に由来する成分が０．０１〜２０重量％
、
その他共重合可能なα,β−不飽和化合物（ａ−２）に由来成分が８０〜９９．９９重量
％である。
（２）共重合体（Ａ）のガラス転移点（Ｔｇ）が、５０℃以上、１２０℃未満である。
（３）反応性化合物（Ｂ）が、イソシアネート基含有化合物（ｂ−１）および／またはエポキシ基含有化合物（ｂ−２）である。
（４）反応性化合物（Ｂ）中の反応性官能基と、共重合体（Ａ）中の水酸基の当量比（反応性官能基／水酸基）が１〜８である。
【請求項２】
共重合体（Ａ）の、数平均分子量が１，０００〜１００,０００、分子量分布（重量平均分子量／数平均分子量）が１．５〜８の範囲であることを特徴とする請求項１記載のラミネート鋼板形成用樹脂組成物。
【請求項３】
α,β−不飽和化合物（ａ−２）全量中、下記α,β−不飽和化合物（ａ−２−１）が０．１〜１００重量％であることを特徴とする請求項１または２記載のラミネート鋼板形成用樹脂組成物。
ただし、水１００ｍｌに対するα,β−不飽和化合物（ａ−２−１）の溶解度は、２０℃
において、０．２ｇ以下である。
【請求項４】
反応性化合物（Ｂ）が、芳香族イソシアネート基含有化合物（ｂ−１−１）であることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項に記載のラミネート鋼板形成用樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１〜４いずれか１項に記載のラミネート鋼板形成用樹脂組成物を用いて、プラスチックフィルムと鋼板とを積層してなるプラスチックフィルムラミネート鋼板。
【請求項６】
プラスチックフィルムが塩化ビニル系フィルムであることを特徴とする請求項５記載のプラスチックフィルムラミネート鋼板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ラミネート鋼板形成用樹脂組成物、およびプラスチックフィルムラミネート鋼板。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月14日(2017.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
錠剤の全重量に対し、ホリナートカルシウムを１５〜２５重量パーセント含み、塩基性崩壊剤を含まず、塩基性崩壊剤でない崩壊剤を５〜２０重量パーセント含み、さらに賦形剤及び滑沢剤を含有する錠剤。
【請求項２】
塩基性崩壊剤がデンプングリコール酸ナトリウムであり、塩基性崩壊剤でない崩壊剤が部分アルファー化デンプンである請求項１に記載の錠剤。
【請求項３】
賦形剤が乳糖水和物及び結晶セルロースであり、滑沢剤がステアリン酸マグネシウムである請求項１又は請求項２に記載の錠剤。
【請求項４】
錠剤の全重量に対し、賦形剤の含有量が５３〜７９．５重量パーセントであり、ステアリン酸マグネシウムの含有量が０．５〜２重量パーセントである請求項１〜３のいずれかに記載の錠剤。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月9日(2017.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
疎水性色素とリガンドを含む複合体を有する造影剤の製造方法であって、
疎水性色素とリガンドを反応させて複合体を得る反応工程と、
未反応の前記疎水性色素を水中で吸着材に吸着させる精製工程と、を有する
造影剤の製造方法。
【請求項２】
前記精製工程が、
吸着材に吸着した未反応の前記疎水性色素を除去する工程を有することを特徴とする、
請求項１に記載の造影剤の製造方法。
【請求項３】
前記吸着材に吸着した未反応の前記疎水性色素を除去する工程において
吸着材に吸着した未反応の前記疎水性色素の除去が沈降、遠心分離、もしくはフィルターろ過の少なくとも１つの手段から選択されることを特徴とする、
請求項２に記載の造影剤の製造方法。
【請求項４】
前記吸着材が疎水性の材料を有することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の造影剤の製造方法。
【請求項５】
前記吸着材が、アリール基を有する材料、炭素数４以上のアルキル基を有する材料、アクリル基を有する材料からなる群より選択される少なくとも１種を有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の造影剤の製造方法。
【請求項６】
前記吸着材がアリールアガロース、アリール有機ポリマー樹脂、アルキルアガロース、アルキル有機デキストランおよびアクリル基を有する樹脂、からなる群より選択される少なくとも１種を有することを特徴とする、
請求項１から５のいずれか１項に記載の造影剤の製造方法。
【請求項７】
前記吸着材がフェニルアガロース、ブチルアガロース、オクチルアガロース、アリルデキストランおよびメチレンビスアクリルアミドゲルからなる共重合体およびエチレングリコールおよびメタクリレートからなる共重合体、からなる群より選択される少なくとも１種を有することを特徴とする、
請求項１から６のいずれか１項に記載の造影剤の製造方法。
【請求項８】
前記疎水性色素がナフタレン構造を有することを特徴とする、請求項１から７のいずれか１項に記載の造影剤の製造方法。
【請求項９】
前記疎水性色素がシアニン系色素であることを特徴とする、請求項１から８のいずれか１項に記載の造影剤の製造方法。
【請求項１０】
前記疎水性色素が下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の造影剤の製造方法。
【化１】
2016003188.tif 000001
（上記一般式（Ｉ）において、Ｒ１０１乃至Ｒ１１２は互いに独立に水素原子、または直鎖もしくは分岐の炭素数１乃至１８のアルキル基であり、
上記一般式（Ｉ）において、Ｌ１１乃至Ｌ１７は互いに独立にＣＨ、またはＣＲ１５であり、Ｒ１５は、直鎖もしくは分岐の炭素数１乃至１８のアルキル基であり、
上記一般式（Ｉ）において、Ｌ１１乃至Ｌ１７は互いに結合して４員環乃至６員環を形成していてもよく、
上記一般式（Ｉ）において、Ｒ１１乃至Ｒ１４は互いに独立に水素原子、または直鎖もしくは分岐の炭素数１乃至１８のアルキル基であり、
上記一般式（Ｉ）において、Ａ１１およびＢ１１は、互いに独立に直鎖もしくは分岐の炭素数１乃至１８のアルキレン基であり、
上記一般式（Ｉ）において、Ｘ１１およびＹ１１はスルホ基あるいはリンカー基Ｌを介してリガンドと互いに独立に化学的に結合されていることを示し、Ｌは−ＮＨ２、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−ＳＨ、エポキシ基、グリシジル基、Ｎ−サクシイミジルオキシ基、Ｎ−スルホサクシイミジルオキシ基、およびＮ−マレイミドアルキル基のいずれか１つ以上を含み、
リガンドは天然物あるいは非天然物から任意に選択される分子である。）
【請求項１１】
前記疎水性色素がインドシアニングリーン、あるいはその誘導体であることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の造影剤の製造方法。
【請求項１２】
前記リガンドが、合成高分子、タンパク質、糖類の少なくともひとつから選ばれることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の造影剤の製造方法。
【請求項１３】
前記リガンドが、ポリエチレングリコール、アルブミンの少なくともいずれか一方である請求項１から１２のいずれか１項に記載の造影剤の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月23日(2017.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＢＥＴ比表面積が８０ｍ２／ｇ以上３００ｍ２／ｇ以下であり、かつＣＡＡ４０％が３０秒以下である酸化マグネシウム粒子、又はその表面処理物を含む酸化マグネシウム系添加剤。
【請求項２】
前記酸化マグネシウム粒子は、乾式粒度分布の平均粒子径が５μｍ以上１０μｍ以下である請求項１に記載の酸化マグネシウム系添加剤。
【請求項３】
前記酸化マグネシウム粒子は、細孔半径が３ｎｍ以上４ｎｍ以下におけるｌｏｇ微分細孔容積のピークが３００ｍｍ３／ｇ以上５００ｍｍ３／ｇ以下である請求項１又は２に記載の酸化マグネシウム系添加剤。
【請求項４】
高級脂肪酸、高級脂肪酸アルカリ土類金属塩、カップリング剤、脂肪酸と多価アルコールとからなるエステル類、及びリン酸と高級アルコールとからなるリン酸エステル類からなる群より選択される少なくとも１種の表面処理剤により表面処理されている請求項１〜３いずれか１項に記載の酸化マグネシウム系添加剤。
【請求項５】
請求項１〜４いずれか１項に記載の酸化マグネシウム系添加剤と、ゴム、樹脂、又は接着剤とを含有する組成物。
【請求項６】
樹脂として、ＡＢＳ系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリフェニレン系樹脂、ポリエステル系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂を含有する請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
ゴムとして、クロロプレンゴム、アクリルゴム、ニトリルゴム、イソプレンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、エピクロルヒドリンゴム、シリコーンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、フッ素ゴム及びポリイソブチレンゴムからなる群より選択される少なくとも１種のゴムを含有する請求項５に記載の組成物。
【請求項８】
請求項５〜７いずれか１項に記載の組成物より得られる成形体。
【請求項９】
焼成用原料として、水酸化マグネシウムスラリーを調製する工程、
前記水酸化マグネシウムスラリーを湿式粉砕する工程、及び
前記湿式粉砕を経て得られる水酸化マグネシウムを３５０〜９００℃で焼成する工程
を含む酸化マグネシウムの製造方法。
【請求項１０】
前記水酸化マグネシウムのＢＥＴ比表面積が３０ｍ２／ｇ以上７０ｍ２／ｇ以下であり、かつ沈降容積が３５ｍＬ以上９５ｍＬ以下である請求項１１に記載の酸化マグネシウムの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月6日(2017.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
この種の配管の再生方法が特許文献１や特許文献２に開示されている。その概要を図６〜図１０で説明する。老朽化した金属の配管１（図６）内にこれよりも小径に巻回された一定幅のステンレス鋼板等の金属板７を複数装入する。そして、これら金属板７を、ジャッキ等を使用して配管１の内周面に押し拡げ、各金属板７の周方向両端部７１，７２を互いに重ねて（重ね継手）隅肉溶接７３を行っている（図７）。そしてこの場合、配管１への損傷を防止するために重ね継手部の背後にガラス繊維等の耐火断熱材７４を裏当てとして配設している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
配管１の継ぎ手部１１では、隣接する配管１の内周面にそれぞれ配設された金属板７の幅方向端部７３，７４（図１０）間を、配管１の内方から広幅のゴム製シールリング６で塞ぎ、シールリング６の幅方向両端縁にそれぞれリング状固定板６１を当接させてシールリング６を配管内周方向へ押圧保持している。固定板６１の両端部６１１，６１２は、図９に示すように互いに重ねられ、積層構造の連結板６２で内周側から押さえられている。連結板６２は、その長穴６２１内に挿入したボルト６３を固定板６１の一方の端部６１２にねじ込み、長穴６２１内に樹脂材を注入して固定されている。なお、上記固定板８１の両端部も同様の構造で連結板によって内周側から押さえられている。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月6日(2017.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁基板及びその表面に形成した樹脂硬化物層を有する樹脂基板と、前記樹脂硬化物層の表面に形成した金属配線と、を備えた配線板を製造する方法であって、
前記樹脂硬化物層は、（Ａ）１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と、（Ｂ）紫外線活性型エステル基含有化合物と、（Ｃ）エポキシ樹脂硬化促進剤と、を含む樹脂組成物を硬化して得たものであり、
前記樹脂硬化物層に紫外線を照射して前記樹脂硬化物層の表面に親水基を生成する紫外線照射工程と、
その後、前記樹脂硬化物層の表面に無電解めっき用触媒を吸着させる触媒吸着工程と、
前記無電解めっき用触媒を吸着した前記樹脂硬化物層の表面に無電解めっき膜を形成する無電解めっき工程と、を含み、
前記紫外線照射工程は、前記樹脂硬化物層の表面にマスクを設置し、前記樹脂硬化物層の一部のみに前記紫外線が照射される工程であることを特徴とする配線板の製造方法。
【請求項２】
前記紫外線は、波長１７０〜３５０ｎｍ、光量１０〜５０ｍＪ／ｍｍ２である、請求項１記載の配線板の製造方法。
【請求項３】
前記エポキシ樹脂は、主鎖に炭素数３〜１０のアルキレングリコールに由来する構造単位を有する、請求項１又は２に記載の配線板の製造方法。
【請求項４】
前記紫外線活性型エステル基含有化合物のエステル当量は、前記エポキシ樹脂のエポキシ１当量に対して、０．７５〜１．２５当量であり、
前記紫外線活性型エステル基含有化合物は、１分子中にエステル基１個以上を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の配線板の製造方法。
【請求項５】
前記樹脂硬化物層の表面のうち前記紫外線が照射された第１の領域における純水の接触角をＡ゜とし、
前記樹脂硬化物層の表面のうち前記紫外線が前記マスクにより遮光された第２の領域における純水の接触角をＢ゜とし、
前記第１の領域に形成された単位面積当たりの極性官能基の数をＣとし、
前記第２の領域に形成された単位面積当たりの極性官能基の数をＤとしたとき、
下記式（Ｉ）及び（ＩＩ）が満たされる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の配線板の製造方法。
式（Ｉ）：Ａ＜８５＜Ｂ
式（ＩＩ）：１．１＜（Ｃ／Ｄ）＜５．０
【請求項６】
前記紫外線照射工程及び前記触媒吸着工程の後、
前記樹脂硬化物層の表面のうち前記紫外線が照射された第１の領域における前記無電解めっき用触媒の吸着量をＥ（μｇ／ｍ２）とし、
前記樹脂硬化物層の表面のうち前記紫外線が前記マスクにより遮光された第２の領域における前記無電解めっき用触媒の吸着量をＦ（μｇ／ｍ２）としたとき、
下記式（ＩＩＩ）が満たされる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の配線板の製造方法。
式（ＩＩＩ）：１．１＜（Ｅ／Ｆ）＜１０．０
【請求項７】
前記無電解めっき膜は、前記第１の領域に選択的に形成する、請求項５又は６に記載の配線板の製造方法。
【請求項８】
前記マスクは、前記紫外線を透過する紫外線透過部と、前記紫外線を透過しない紫外線遮光部と、からなる、請求項２〜７のいずれか一項に記載の配線板の製造方法。
【請求項９】
前記紫外線透過部は、空気又は石英ガラスで構成されている、請求項８記載の配線板の製造方法。
【請求項１０】
前記無電解めっき用触媒の前駆体は、水溶性パラジウム化合物である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の配線板の製造方法。
【請求項１１】
絶縁基板及びその表面に形成した樹脂硬化物層を有する樹脂基板と、前記樹脂硬化物層の表面に形成した金属配線と、を備え、
前記樹脂硬化物層は、（Ａ）１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と、（Ｂ）紫外線活性型エステル基含有化合物と、（Ｃ）エポキシ樹脂硬化促進剤と、を含む樹脂組成物を硬化して得たものであり、
前記金属配線の断面の外側の角部は、湾曲した形状を有することを特徴とする配線板。
【請求項１２】
前記樹脂硬化物層の誘電率は、２．０〜４．０である、請求項１１記載の配線板。
【請求項１３】
前記樹脂硬化物層の露出した表面の粗さは、０．０１μｍ以下であり、
前記金属配線と前記樹脂硬化物層との界面における前記樹脂硬化物層の粗さは、０．０２μｍ〜０．２μｍである、請求項１１又は１２に記載の配線板。
【請求項１４】
前記樹脂硬化物層と前記金属配線との界面には、無電解めっき用触媒を構成する金属元素が含まれる、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の配線板。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月10日(2017.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
必須成分である三級アミノ基含有ビニル単量体とカルボキシル基含有ビニル単量体とスルホン基含有ビニル単量体とヒドロキシル基含有ビニル単量体の使用比率としては、三級アミノ基含有ビニル単量体のモル数をＡ、カルボキシル基含有ビニル単量体のモル数をＢ、スルホン基含有ビニル単量体のモル数をＣ、ヒドロキシル基含有ビニル単量体のモル数をＤとした時に以下の式を満足する範囲内である。
０．３≦Ａ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ）≦０．７
０．０２５≦Ｂ／（Ｂ＋Ｃ）≦０．９
０．０００５≦Ｄ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）≦０．０１
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月24日(2017.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに所望の大きさの孔を加工するための工作機械であって、
本体部と、
前記本体部に支持され、ワークを保持するワーク保持部と、
工具を保持する主軸と、
前記主軸を回転軸の周りで回転可能に保持するスピンドル、及び、前記スピンドルの周りを覆うハウジングを有するスピンドルユニットと、
前記スピンドルユニットに保持された前記主軸の前記ワークに対する傾きを変更可能となるように当該スピンドルユニットを保持し、且つ、前記スピンドルユニットを前記本体部に対して相対移動させる軸傾け並進駆動手段と、
前記ハウジングに固定され、当該ハウジングから前記主軸の周りを取り囲むように延び出るセンサマウントと、
前記センサマウントに保持され各々が計測対象との距離を計測可能な複数のセンサからなるセンサ群と、
前記センサ群による計測結果に基づいて前記軸傾け並進駆動手段を制御して、前記主軸の前記ワークに対する傾きを補正する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記軸傾け並進駆動手段を制御して、前記センサ群と共に前記主軸を前記回転軸の軸方向に沿って送って、前記センサ群を、前記ワークに設けられた孔、又は、前記ワークの前記主軸側を向く面に取り付けられる基準孔プレートに設けられた孔に挿入するようになっており、
前記センサ群は、前記ワークに設けられた孔に挿入された際に前記ワークに設けられた孔を規定する壁面との距離を計測するか、又は、前記基準孔プレートに設けられた孔に挿入された際に前記基準孔プレートに設けられた孔を規定する壁面との距離を計測するようになっている、工作機械。
【請求項２】
前記センサ群は、前記回転軸の回転方向に並べられた複数の前記センサからなる小センサ群を複数含み、
前記複数の小センサ群が、前記回転軸の軸方向に並べて配置されている、請求項１に記載の工作機械。
【請求項３】
前記制御部は、前記軸傾け並進駆動手段を制御して、前記センサ群と共に前記主軸を前記回転軸の軸方向に沿って少なくとも或る送り位置まで送り、
前記主軸が前記或る送り位置に位置するときに、前記センサ群は、前記回転軸の軸方向に沿ってずれた複数の位置にて、前記ワークに設けられた孔を規定する壁面との距離を計測するようになっており、
前記制御部は、前記主軸が前記或る送り位置に位置するときに前記センサ群が前記回転軸の軸方向に沿ってずれた複数の位置にて前記ワークに設けられた孔を規定する壁面との距離を計測した計測結果から、前記主軸の前記ワークに対する傾きを特定することができるようになっている、請求項１または２に記載の工作機械。
【請求項４】
前記制御部は、前記軸傾け並進駆動手段を制御して、前記センサ群と共に前記主軸を前記回転軸の軸方向に沿って各送り位置を通過するように送り、
前記主軸が各送り位置に位置するときの各々において、前記センサ群は、前記回転軸の軸方向に沿ってずれた複数の位置にて、前記ワークに設けられた孔を規定する壁面との距離を計測するようになっており、
前記制御部は、前記主軸が各送り位置に位置するときに前記センサ群が前記回転軸の軸方向に沿ってずれた複数の位置にて前記ワークに設けられた孔を規定する壁面との距離を計測した計測結果から、当該送り位置における前記主軸の前記ワークに対する傾きを他の送り位置における前記傾きと独立して特定することができるようになっている、請求項１または２に記載の工作機械。
【請求項５】
前記制御部は、前記軸傾け並進駆動手段を制御して、前記センサ群と共に前記主軸を前記回転軸の軸方向に沿って少なくとも或る送り位置まで送り、
前記主軸が前記或る送り位置に位置するときに、前記センサ群は、前記回転軸の軸方向に沿ってずれた複数の位置にて、前記ワークの前記主軸側を向く面に取り付けられる基準孔プレートに設けられた孔を規定する壁面との距離を計測するようになっており、
前記制御部は、前記主軸が前記或る送り位置に位置するときに前記センサ群が前記回転軸の軸方向に沿ってずれた複数の位置にて前記基準孔プレートに設けられた孔を規定する壁面との距離を計測した計測結果から、前記主軸の前記ワークに対する傾きを特定することができるようになっている、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の工作機械。
【請求項６】
前記制御部は、前記軸傾け並進駆動手段を制御して、前記センサ群と共に前記主軸を前記回転軸の軸方向に沿って各送り位置を通過するように送り、
前記主軸が各送り位置に位置するときの各々において、前記センサ群は、前記回転軸の軸方向に沿ってずれた複数の位置にて、前記ワークの前記主軸側を向く面に取り付けられる基準孔プレートに設けられた孔を規定する壁面との距離を計測するようになっており、
前記制御部は、前記主軸が各送り位置に位置するときに前記センサ群が前記回転軸の軸方向に沿ってずれた複数の位置にて前記基準孔プレートに設けられた孔を規定する壁面との距離を計測した計測結果から、当該送り位置における前記主軸の前記ワークに対する傾きを他の送り位置における前記傾きと独立して特定することができるようになっている、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の工作機械。
【請求項７】
前記回転軸の軸方向に沿って前記主軸を送った各送り位置において、前記主軸の前記ワークに対する傾きを補正する量は、前記センサ群が当該送り位置にて前記基準孔プレートに設けられた孔を規定する壁面との距離を計測した計測結果から特定された前記主軸の前記ワークに対する傾き量の大きさに相当する、請求項６に記載の工作機械。
【請求項８】
前記制御部は、前記回転軸の軸方向に沿った前記主軸の送り量に応じて、前記主軸の前記ワークに対する傾きを補正するようになっている、請求項３乃至７のいずれか一項に記載の工作機械。
【請求項９】
前記軸傾け並進駆動手段は、前記スピンドルユニットに保持された前記主軸の前記ワークに対する傾きを変更可能となるように当該スピンドルユニットを保持し、且つ、前記スピンドルユニットを前記ワークに対して接離させる軸傾け部と、前記軸傾け部を前記本体部に対して相対移動させる並進駆動部と、を有する請求項１乃至８のいずれか一項に記載の工作機械。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月13日(2017.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線に応じた撮像信号を生成するための、第１電極と第２電極とを有する複数の第１の変換素子と、放射線を検知するための、第３電極と第４電極とを有する複数の第２の変換素子と、
前記第１の変換素子の前記第１電極と前記第２電極との間に第１の電位差を印加し、かつ前記第２の変換素子の前記第３電極と前記第４電極との間に前記第１の電位差よりも小さい第２の電位差を印加して、前記第１の変換素子と前記第２の変換素子とをリセットする電源と、
前記第２の変換素子からの信号に基づいて前記放射線の照射量の測定を行う測定部と、
を有することを特徴とする放射線撮像装置。
【請求項２】
前記電源は、前記第１の変換素子の第１電極と前記第２の変換素子の第３電極とに共通に接続されるバイアス配線に接続されるバイアス電源を含むことを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項３】
前記電源は、前記第１の変換素子の第１電極に接続される第１のバイアス配線と、前記第２の変換素子の第３電極に接続される第２のバイアス配線と、
前記第１のバイアス配線に接続される第１のバイアス電源と、前記第２のバイアス配線に接続される第２のバイアス電源と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項４】
前記第４電極に第１のモニタ用配線が接続されており、平面視において前記第２のバイアス配線と前記第１のモニタ用配線とは重なるように配置されていることを特徴とする請求項３に記載の放射線撮像装置。
【請求項５】
前記第２の変換素子と前記第１のモニタ用配線とはスイッチを介して接続されていることを特徴とする請求項４に記載の放射線撮像装置。
【請求項６】
前記第１の変換素子を含む画素が行列状に配置されており、
前記第１のモニタ用配線が列に配置された画素に沿って配置され、
前記行列状に配置された最外周の画素の外側に、前記第１のモニタ用配線と行に配置された画素に沿って配置された第２のモニタ用配線とを接続する接続素子が配置されていることを特徴とする請求項４又は５に記載の放射線撮像装置。
【請求項７】
前記電源は、
前記第１の変換素子の前記第１電極及び前記第２電極間に印加される電界強度をＥ１、前記第２の変換素子の前記第３電極及び前記第４電極に印加される電界強度をＥ２とした時に、
Ｅ１≧40000V/cm
20000V/cm≦Ｅ２≦40000V/cm
Ｅ１≧Ｅ２
となる、前記第１の電位差と前記第２の電位差とを前記第１電極と前記第２電極との間及び前記第３電極と前記第４電極との間に印加することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の放射線撮像装置。
【請求項８】
放射線を発生する放射線源と、
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の放射線撮像装置と、
を備えることを特徴とする放射線撮像システム。