【手続補正書】
【提出日】平成29年6月9日(2017.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上にハードコート膜および反射防止膜が形成されてなる反射防止膜付基材であって、
前記ハードコート膜が、平均粒子径が５〜３００ｎｍの表面処理金属酸化物微粒子（Ｐ）とマトリックス成分（ＭH）とからなり、
（ｉ）前記表面処理金属酸化物微粒子（Ｐ）の前記ハードコート膜中の含有量（ＷPH）が５０〜９０重量％、
（ｉｉ）前記マトリックス成分（ＭH）の前記ハードコート膜中の含有量（ＷRH）が１０〜５０重量％、
（ｉｉｉ）前記含有量（ＷRH）と前記含有量（ＷPH）との比（ＷRH／ＷPH）が０．１２〜１．０、
（ｉｖ）前記ハードコート膜の平均膜厚（ＴH）が１〜１００μｍであり、
前記反射防止膜がシリカ系中空微粒子（Ａ）とマトリックス成分（ＭL）とを含み、
（ａ）前記シリカ系中空微粒子（Ａ）の前記反射防止膜中の含有量（ＷPLA）が５〜８０重量％、
（ｂ）前記マトリックス成分（ＭL）の前記反射防止膜中の含有量（ＷML）が２０〜９５重量％、
（ｃ）前記反射防止膜の膜厚（ＴL）が８０〜２００ｎｍ、
（ｄ）前記シリカ系中空微粒子（Ａ）の平均粒子径（Ｄｐａ）が１０〜４５ｎｍ、
（ｅ）前記シリカ系中空微粒子（Ａ）の平均粒子径（Ｄｐａ）と反射防止膜の膜厚（ＴL）との比（Ｄｐａ／ＴL）が０．０５〜０．５６である
ことを特徴とする反射防止膜付基材。
【請求項２】
前記シリカ系中空微粒子（Ａ）の屈折率が１．１０〜１．４０であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜付基材。
【請求項３】
前記反射防止膜が、さらに平均粒子径（Ｄｐｂ）が４〜１７ｎｍのシリカ系微粒子（Ｂ）（中空微粒子、シリカ微粒子、これらの鎖状粒子）を含み、前記シリカ系微粒子（Ｂ）の平均粒子径（Ｄｐｂ）前記とシリカ系中空微粒子（Ａ）の平均粒子径（Ｄｐａ）との比（Ｄｐｂ／Ｄｐａ）が０．１〜０．４であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止膜付基材。
【請求項４】
前記反射防止膜中の前記シリカ系中空微粒子（Ａ）と前記シリカ系微粒子（Ｂ）の合計の含有量が５〜８０重量％で、前記反射防止膜中の全微粒子中の前記シリカ系微粒子（Ｂ）の割合が３０重量％以下であることを特徴とする請求項３に記載の反射防止膜付基材。
【請求項５】
前記表面処理金属酸化物微粒子（Ｐ）が下記式（１）で表される有機珪素化合物で表面処理されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止膜付基材。
Ｒn−ＳｉＸ4-n                 （１）
（但し、式中、Ｒは炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘは炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、ｎは１〜３の整数）
【請求項６】
前記シリカ系中空微粒子（Ａ）および前記シリカ系微粒子（Ｂ）が、下記式（２）表される有機珪素化合物で表面処理されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止膜付基材。
Ｒn−ＳｉＸ4-n                （２）
（但し、式中、Ｒは炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘは炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、ｎは１〜３の整数）
【請求項７】
前記表面処理金属酸化物微粒子（Ｐ）の球状係数が０．２〜１．０であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止膜付基材。
【請求項８】
前記ハードコート膜と前記反射防止膜との界面（接合面）が波状であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止膜付基材。
【請求項９】
前記基材がアクリル、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ＰＥＴ、ＴＡＣから選ばれる少なくとも１種の樹脂基材であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止膜付基材。
【請求項１０】
鉛筆硬度が５Ｈ以上であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止膜付基材。
【請求項１１】
（Ａ）表面処理金属酸化物微粒子（Ｐ）と、マトリックス形成形分（ＭH）とを含み、前記表面処理金属酸化物微粒子（Ｐ）の固形分としての濃度（ＣPH）が４５〜８５重量％、前記マトリックス形成成分（ＭH）の固形分としての濃度（ＣRH）が１５〜５０重量％のハードコート膜形成用塗布液を基材表面に塗布・乾燥して、前記表面処理金属酸化物微粒子（Ｐ）の含有量（ＷPH）が５０〜９０重量％、マトリックス成分（ＭH）の固形分としての含有量（ＷRH）が１０〜５０重量％のハードコート膜を形成したのち、
（Ｂ）シリカ系中空微粒子（Ａ）とマトリックス形成成分と溶媒とを含み、前記シリカ系中空微粒子（Ａ）の平均粒子径（Ｄｐａ）が１０〜４５ｎｍ、前記シリカ系中空微粒子（Ａ）の固形分としての濃度が０．２５〜９重量％、マトリックス形成成分の固形分としての濃度が０．７５〜９．５重量％で、全固形分濃度が１〜１０重量％の反射防止膜形成用塗布液を前記ハードコート膜表面に塗布し乾燥して、反射防止膜を形成することを特徴とする反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項１２】
前記ハードコート膜の下記条件で測定したときのカーリング特性が５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１１に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
１４ｃｍ×２５ｃｍ×４０μｍ（厚み）のＴＡＣフィルム基材上に厚みが１２μｍのハードコート膜が形成できるようにハードコート膜形成用塗布液を塗布し、２０時間静置し、その後、フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍサイズにカットし、塗布面を下にしてフィルムを平板上に置き、カーリング（湾曲）して浮上した基材の頂点の平板からの高さ。
【請求項１３】
前記ハードコート膜形成用塗布液を塗布した後、乾燥したときの塗膜の収縮率が２５％以下であり、硬化したときの塗膜の収縮率が１０％以下であり、合計の収縮率が３５％以下であることを特徴とする請求項１１または１２に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項１４】
前記シリカ系中空微粒子（Ａ）の屈折率が１．１０〜１．４０であることを特徴とする請求項１１に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項１５】
前記反射防止膜形成用塗布液が、さらに、平均粒子径（Ｄｐｂ）が４〜１７ｎｍのシリカ系微粒子（Ｂ）を含み、前記シリカ系微粒子（Ｂ）の平均粒子径（Ｄｐｂ）と前記シリカ系中空微粒子（Ａ）の平均粒子径（Ｄｐａ）との比（Ｄｐｂ／Ｄｐａ）が０．１〜０．４であることを特徴とする請求項１１に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項１６】
前記シリカ系中空微粒子（Ａ）および前記シリカ系微粒子（Ｂ）が、下記式（３）で表される有機珪素化合物で表面処理されていることを特徴とする請求項１５に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
Ｒn−ＳｉＸ4-n                （３）
（但し、式中、Ｒは炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘは炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、ｎは１〜３の整数）
【請求項１７】
前記反射防止膜形成用塗布液中のマトリックス形成成分が有機樹脂系マトリックス形成成分であることを特徴とする請求項１１に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項１８】
前記反射防止膜形成用塗布液中のマトリックス形成成分が分散用有機樹脂（Ａ）および／または硬化用有機樹脂（Ｂ）を含むことを特徴とする請求項１７に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項１９】
前記分散用有機樹脂（Ａ）が１〜２個の官能基を有する紫外線硬化型樹脂モノマーないしオリゴマーであり、前記硬化用有機樹脂（Ｂ）が３個以上の官能基を有する紫外線硬化型樹脂モノマーないしオリゴマーであることを特徴とする請求項１８に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項２０】
前記分散用有機樹脂（Ａ）および前記硬化用有機樹脂（Ｂ）の有する官能基が(メタ)アクリレート基、ウレタン(メタ)アクリレート基、アルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート基から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１８または１９に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項２１】
前記ハードコート膜形成用塗布液を塗布、乾燥し、前記反射防止膜形成用塗布液を塗布、乾燥し、ついで紫外線照射して同時に硬化することを特徴とする請求項１１に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】反射防止膜付基材および反射防止膜付基材の製造方法