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【手続補正書】
【提出日】平成29年10月19日(2017.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一方の面に、配線層、絶縁層、及び保護層を積層した第１積層体に対して、前記保護層及び前記絶縁層を厚さ方向に貫通し、前記配線層に到達するビアホールを形成する工程と、
製品として残す平面視での領域の輪郭に沿って、レーザ加工、又は、超音波カッターによる切断加工によって前記保護層及び前記絶縁層の少なくとも一部を切断する工程と、
前記レーザ加工、又は、前記超音波カッターによる切断加工によって前記保護層及び前記絶縁層の少なくとも一部を切断した後に、前記基板、前記配線層、前記絶縁層、及び保護層をデスミア液に浸漬させることによってデスミア処理を行う工程と、
前記保護層を、前記基板、前記配線層、及び前記絶縁層を含む第２積層体から剥がす工程と、
前記第２積層体の前記絶縁層と、前記ビアホールの内部とに、シード層を形成する工程と、
平面視で前記ビアホールを含む領域内において、電解めっき処理で前記シード層の上に配線層を形成する工程と、
前記シード層のうち、前記配線層に覆われていない部分を除去する工程と
を含む、配線基板の製造方法。
【請求項２】
前記デスミア処理を行う工程の後に、前記保護層の上と前記ビアホールの内部とに無電解めっき層を形成する工程をさらに含み、
前記保護層を剥がす工程は、前記無電解めっき層が形成された前記保護層を、前記基板、前記配線層、及び前記絶縁層を含む第２積層体から剥がす工程であり、
前記シード層を形成する工程は、前記第２積層体の前記絶縁層と、前記ビアホールの内部に形成された前記無電解めっき層との上に、シード層を形成する工程である、請求項１記載の配線基板の製造方法。
【請求項３】
前記保護層及び前記絶縁層を切断する工程と、前記デスミア処理を行う工程との間に、さらに、前記保護層のうち、前記領域の外部に位置する部分を除去する工程を含む、請求項１又は２記載の配線基板の製造方法。
【請求項４】
前記製品として残す領域の輪郭は、切断するときの境界を表す輪郭である、請求項1乃至３のいずれか一項記載の配線基板の製造方法。
【請求項５】
前記シード層を形成する工程は、スパッタ法によって前記シード層を形成する工程である、請求項１乃至４のいずれか一項記載の配線基板の製造方法。
【請求項６】
前記超音波カッターによる切断加工は、前記保護層及び前記絶縁層の少なくとも一部に、前記超音波カッターの刃を斜めに入れることにより、前記一部を切断する工程である、請求項1乃至５のいずれか一項記載の配線基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月20日(2017.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の絶縁膜上に第１の酸化物半導体膜を形成し、
前記第１の酸化物半導体膜に第１の加熱処理を行った後、水素を含む雰囲気で第２の加熱処理を行うことで、前記第１の酸化物半導体膜を第２の酸化物半導体膜とし、
前記第２の酸化物半導体膜の抵抗率は、１×１０−３Ωｃｍ以上１×１０４Ωｃｍ未満であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の加熱処理は、３５０℃以上８００℃以下で、且つ１×１０−７Ｐａ以上１０Ｐａ以下であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
第１の絶縁膜上に第１の酸化物半導体膜を形成し、
前記第１の酸化物半導体膜に希ガスを添加した後、水素を含む雰囲気で加熱処理を行うことで、前記第１の酸化物半導体膜を前記第２の酸化物半導体膜とし、
前記第２の酸化物半導体膜の抵抗率は、１×１０−３Ωｃｍ以上１×１０４Ωｃｍ未満であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項３において、
前記希ガスは、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、及びキセノンのいずれか一以上であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記第２の酸化物半導体膜の水素濃度は、８×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記第２の酸化物半導体膜は、結晶部を含み、前記結晶部がｃ軸配向していることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記第２の酸化物半導体膜は、Ｉｎと、Ｇａと、Ｚｎとを含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月12日(2017.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
略法線方向に単結晶構造を有する複数の窒化ガリウム系単結晶粒子で構成される板からなる窒化ガリウム自立基板であって、前記窒化ガリウム自立基板の表面に露出している前記窒化ガリウム系単結晶粒子の最表面における断面平均径ＤＴに対する、前記窒化ガリウム自立基板の厚さＴの比として規定されるアスペクト比Ｔ／ＤＴが０．７以上である、窒化ガリウム自立基板。
【請求項２】
前記基板の最表面における前記窒化ガリウム系単結晶粒子の断面平均径が０．３μｍ以上である、請求項１に記載の窒化ガリウム自立基板。
【請求項３】
前記断面平均径が３μｍ以上である、請求項２に記載の窒化ガリウム自立基板。
【請求項４】
前記断面平均径が２０μｍ以上である、請求項２に記載の窒化ガリウム自立基板。
【請求項５】
２０μｍ以上の厚さを有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の窒化ガリウム自立基板。
【請求項６】
直径１００ｍｍ以上の大きさを有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の窒化ガリウム自立基板。
【請求項７】
前記窒化ガリウム系単結晶粒子が、略法線方向に概ね揃った結晶方位を有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の窒化ガリウム自立基板。
【請求項８】
前記窒化ガリウム系単結晶粒子がｎ型ドーパント又はｐ型ドーパントでドープされている、請求項１〜７のいずれか一項に記載の窒化ガリウム自立基板。
【請求項９】
前記窒化ガリウム系単結晶粒子がドーパントを含まない、請求項１〜７のいずれか一項に記載の窒化ガリウム自立基板。
【請求項１０】
前記窒化ガリウム系単結晶粒子が混晶化されている、請求項１〜９のいずれか一項に記載の窒化ガリウム自立基板。
【請求項１１】
前記窒化ガリウム自立基板の表面に露出している前記窒化ガリウム系単結晶粒子が、該窒化ガリウム自立基板の裏面に粒界を介さずに連通してなる、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の窒化ガリウム自立基板。
【請求項１２】
前記アスペクト比Ｔ／ＤＴが１．０以上である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の窒化ガリウム自立基板。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の窒化ガリウム自立基板と、
該基板上に形成され、略法線方向に単結晶構造を有する複数の半導体単結晶粒子で構成される層を一以上有する発光機能層と、
を備えた、発光素子。
【請求項１４】
前記発光機能層の最表面における前記半導体単結晶粒子の断面平均径が０．３μｍ以上である、請求項１３に記載の自立した発光素子。
【請求項１５】
前記断面平均径が３μｍ以上である、請求項１４に記載の発光素子。
【請求項１６】
前記半導体単結晶粒子が、前記窒化ガリウム自立基板の結晶方位に概ね倣って成長した構造を有する、請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の発光素子。
【請求項１７】
前記発光機能層が窒化ガリウム系材料で構成される、請求項１３〜１６のいずれか一項に記載の発光素子。
【請求項１８】
配向多結晶焼結体を用意する工程と、
前記配向多結晶焼結体上に、窒化ガリウムからなる種結晶層を、前記配向多結晶焼結体の結晶方位に概ね倣った結晶方位を有するように形成する工程と、
前記種結晶層上に、厚さ２０μｍ以上の窒化ガリウム系結晶から構成される層を、前記種結晶層の結晶方位に概ね倣った結晶方位を有するように形成する工程と、
前記配向多結晶焼結体を除去して、窒化ガリウム自立基板を得る工程であって、前記窒化ガリウム自立基板の表面に露出している窒化ガリウム系単結晶粒子の最表面における断面平均径ＤＴに対する、前記窒化ガリウム自立基板の厚さＴの比として規定されるアスペクト比Ｔ／ＤＴが０．７以上である工程と、
を含む、窒化ガリウム自立基板の製造方法。
【請求項１９】
前記配向多結晶焼結体が配向多結晶アルミナ焼結体である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記配向多結晶焼結体を構成する粒子の板面における平均粒径が０．３〜１０００μｍである、請求項１８又は１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記窒化ガリウム系結晶から構成される層の形成がＮａフラックス法により行われる、請求項１８〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
前記配向多結晶焼結体が透光性を有する、請求項１８〜２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の窒化ガリウム自立基板を用意する、又は請求項１８〜２２のいずれか一項に記載の方法により前記窒化ガリウム自立基板を用意する工程と、
前記窒化ガリウム自立基板に、前記窒化ガリウム基板の結晶方位に概ね倣った結晶方位を有するように、略法線方向に単結晶構造を有する複数の半導体単結晶粒子で構成される層を一つ以上形成して発光機能層を設ける工程と、
を含む、発光素子の製造方法。
【請求項２４】
前記発光機能層が窒化ガリウム系材料で構成される、請求項２３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月22日(2016.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
音響装置のカバーであって、
カバー内面及びカバー外面の少なくとも一方に形成され、水を滑り落とすための溝と、
前記溝の途中に形成され、前記カバー内面から前記カバー外面に貫通する音響孔と、
を備える、音響装置のカバー。
【請求項２】
前記溝は、重力方向に延びるように前記カバー内面及び前記カバー外面の少なくとも一方に形成される、請求項１に記載の音響装置のカバー。
【請求項３】
前記溝は、前記カバー内面及び前記カバー外面にそれぞれ設けられ、
前記カバー外面に設けられた前記溝は、前記音響孔を介して、前記カバー内面に設けられた前記溝に連通している、請求項１又は２に記載の音響装置のカバー。
【請求項４】
前記カバー外面に設けられた前記溝は、前記カバー内面に設けられた前記溝に対して、重力方向における上側に形成されている、請求項３に記載の音響装置のカバー。
【請求項５】
前記音響孔の内周面の撥水性は、前記カバー外面側よりも前記カバー内面側の方が低い、請求項１から４のいずれか一項に記載の音響装置のカバー。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の前記音響装置のカバーと、
前記カバー内において、前記音響孔と対向するように設けられる音響部品と、
を備える、音響装置。
【請求項７】
車両に搭載される、請求項６に記載の音響装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】音響装置のカバー、及び音響装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、音響装置のカバー、及び音響装置に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月8日(2017.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のブロックを含むスキャン画像を取得する取得手段であって、各ブロックは複数の画素を含む、取得手段と、
前記各ブロックがカラーであるかモノクロであるかを判定する第１の判定手段と、
前記第１の判定手段でカラーであると判定されたブロックの並びと、カラーブロックとモノクロブロックとからなる所定のパターンとを比較することによって、前記スキャン画像がカラーであるかモノクロであるかを判定する第２の判定手段と
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
複数のブロックを含むスキャン画像を取得する取得手段であって、各ブロックは複数の画素を含む、取得手段と、
前記各ブロックがカラーであるかモノクロであるかを判定する第１の判定手段と、
前記第１の判定手段の判定を受けた連続する５つのブロックの並びが、カラー、カラー、モノクロ、カラー、カラーであるかを判定する第２の判定手段とを有し、
前記第２の判定手段での判定結果が肯定的である場合に、前記スキャン画像は、カラー画像として取り扱われることを特徴とする画像処理装置。
【請求項３】
前記第１の判定手段は、前記スキャン画像を平滑化した後の各画素がカラーであるかモノクロであるかの判定結果を用いて前記各ブロックがカラーであるかモノクロであるかを判定することを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記第１の判定手段は、前記スキャン画像の副走査方向の先端及び後端の少なくとも一方の領域のブロックをモノクロであると判定することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記第１の判定手段は、ブロック内の有彩色画素の数が第１の閾値より大きい場合、前記ブロックをカラーであると判定することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記第１の判定手段は、注目ブロックの位相を変更したブロックそれぞれについて前記判定を行い、いずれかのブロックでブロック内の有彩色画素の数が第１の閾値より大きい場合、前記注目ブロックをカラーであると判定することを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記第２の判定手段は、カラーであると判定された前記ブロックの並びが前記所定のパターンと合致した数をカウントアップし、カウントアップした数が第２の閾値よりも大きい場合、前記スキャン画像はカラーであると判定することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記第２の判定手段は、カラーであると判定された前記ブロックの並びが複数の所定のパターンのいずれかと合致する場合、数をカウントアップすることを特徴とする請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記第２の判定手段は、前記複数の所定のパターンを順に用いて比較を行い、カウントアップしたときに前記合致したブロックをモノクロのブロックに変更し、変更後のブロックを用いて残りのパターンを用いた比較を行なうことを特徴とする請求項８に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記所定のパターンは、所定の領域内において複数のカラーブロックがまとまっているパターンであることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記所定のパターンは、前記所定の領域内にモノクロブロックを含むパターンであることを特徴とする請求項１０に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
複数のブロックを含むスキャン画像を取得する取得ステップであって、各ブロックは複数の画素を含む、取得ステップと、
前記各ブロックがカラーであるかモノクロであるかを判定する第１の判定ステップと、
前記第１の判定ステップでカラーであると判定されたブロックの並びと、カラーブロックとモノクロブロックとからなる所定のパターンとを比較することによって、前記スキャン画像がカラーであるかモノクロであるかを判定する第２の判定ステップと
を含むことを特徴とする画像処理方法。
【請求項１３】
複数のブロックを含むスキャン画像を取得する取得ステップであって、各ブロックは複数の画素を含む、取得ステップと、
前記各ブロックがカラーであるかモノクロであるかを判定する第１の判定ステップと、
前記第１の判定ステップの判定を受けた連続する５つのブロックの並びが、カラー、カラー、モノクロ、カラー、カラーであるかを判定する第２の判定ステップとを含み、
前記第２の判定ステップでの判定結果が肯定的である場合に、前記スキャン画像は、カラー画像として取り扱われることを特徴とする画像処理方法。
【請求項１４】
コンピュータを請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の画像処理装置として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明にかかる画像処理装置は、複数のブロックを含むスキャン画像を取得する取得手段であって、各ブロックは複数の画素を含む、取得手段と、前記各ブロックがカラーであるかモノクロであるかを判定する第１の判定手段と、前記第１の判定手段でカラーであると判定されたブロックの並びと、カラーブロックとモノクロブロックとからなる所定のパターンとを比較することによって、前記スキャン画像がカラーであるかモノクロであるかを判定する第２の判定手段とを有することを特徴とする。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年12月21日(2016.12.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板（３０６）と、
前記第１の基板（３０６）の表面に配置された回路素子と、
前記第１の基板（３０６）の表面に配置された縦型ホール効果素子（３０８）であって、磁界に対して第１の感度を有する前記縦型ホール効果素子（３０８）と、
前記第１の基板（３０６）に結合された第２の基板（３０７）であって、該第２の基板（３０７）の主表面に直交する方向がｚ軸（３２４）方向である前記第２の基板（３０７）と、
前記第２の基板（３０７）の表面に配置された横型ホール効果素子（３０９）であって、磁界に対して第２の異なる感度を有する前記横型ホール効果素子（３０９）と、を備えている集積回路であり、
該集積回路は、前記横型ホール効果素子（３０９）に応じた第１の動作範囲と、前記縦型ホール効果素子（３０８）に応じた第２の異なる動作範囲、を有し、且つ前記横型ホール効果素子（３０９）はｚ軸方向に最大の応答軸を有し、且つ前記縦型ホール効果素子（３０８）は前記ｚ軸方向とは異なる他の方向に最大応答軸を有する、集積回路。
【請求項２】
請求項１に記載の集積回路において、前記第１の基板が、Ｓｉ、ＧａＡｓ、ＩｎＰ、ＩｎＳｂ、ＩｎＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓＰ、ＳｉＧｅ、セラミック、またはガラスのうちから選択された１つを含んでおり、前記第２の基板が、Ｓｉ、ＧａＡｓ、ＩｎＰ、ＩｎＳｂ、ＩｎＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓＰ、ＳｉＧｅ、セラミック、またはガラスのうちから選択された１つを含んでいる、集積回路。
【請求項３】
請求項１に記載の集積回路において、電流導体部分（３０４）を備えており、前記横型ホール効果素子（３０９）と前記縦型ホール効果素子（３０８）とが、該電流導体部分（３０４）によって流される電流（３１６）によって発生される磁界に反応するようになされている、集積回路。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０７】
この配列では、電流導体部分３０４を矢印３１６で示された方向に通過する電流によって生成される磁界が、ホール効果素子３０８、３０９の最大応答軸と実質的に一直線に合わされた方向であるように、ホール効果素子３０８、３０９は、電流導体部分３０４に密接しかつ電流導体部分３０４に対して予め決められた位置に配置される。ホール効果素子３０８、３０９は、磁界に比例した、したがって電流導体部分３０４を流れる電流に比例したそれぞれの電圧出力を生成する。例示のホール効果素子３０８、３０９は、ｚ軸３２４と実質的に一直線に合わされた最大応答軸を有する。電流に対応して生成される磁界は、電流導体部分３０４の周りに環状であるので、ホール効果素子３０８、３０９は、図示のように、電流導体部分３０４のまさに側面に（すなわち、ｙ軸３２２に沿って僅かに片寄って）配置され、この場所で、磁界は、ｚ軸３２４に実質的に沿って向けられている。この位置は、ホール効果素子３０８、３０９からより大きな電圧出力をもたらし、したがって、感度の改善をもたらす。しかし、他の方向に合わされた最大応答軸を持つ一つの縦型ホール効果素子、または他の型の磁界センサ、例えば磁気抵抗素子が、電流導体部分３０４に対して他の位置に、例えば、電流導体部分３０４の上（ｚ軸３２４に沿った方向）に配置されてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月9日(2017.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微多孔膜がコアに捲回されてなる微多孔膜の捲回体から前記微多孔膜を水平方向に繰り出した際における当該微多孔膜のたるみを推定して評価する方法であって、
前記捲回体の外径を複数箇所にて測定し、
該測定により得られた外径値を用いた計算により、当該捲回体の断面形状を算出し、
前記捲回体の外径形状を、微小な厚みである円板状の複数の微小領域に分割し、これら微小領域を組み合わせた数理的なモデルで当該捲回体の外径形状を近似化してモデリングし、
前記捲回体から前記微多孔膜を繰り出したと模擬した場合に、前記微小領域に作用する張力ｆとひずみΔl/lとの関係を数式化し、
前記数式化した張力ｆと伸びΔlとの関係を、前記微小領域を組み合わせたモデルに組み合わせ、前記微多孔膜の全幅に作用する張力Ｆと、幅方向の各位置における伸びΔlとの関係を数式化し、
前記張力Ｆと伸びΔlの関係式を解き、前記微多孔膜のなかで、前記張力が作用して伸びる範囲と、前記張力が作用せずたるむ範囲とを算出し、
隣り合う２つの前記微小領域の繰り出し量を比較し、これら微小領域間に生じる領域間たるみ量を計算し、
前記領域間たるみ量の計算を、前記微多孔膜の全幅における前記微小領域の各区間において行い、得られた全区間の前記領域間たるみ量を積算して、当該微多孔膜の全幅でのたるみ形状を算出する
ことを特徴とする、微多孔膜のたるみ評価方法。
【請求項２】
前記捲回体から前記微多孔膜を繰り出したと模擬した場合に、張力による伸び範囲内において前記微多孔膜は弾性体として振る舞うとして取り扱う、請求項１に記載の微多孔膜のたるみ評価方法。
【請求項３】
前記微小領域に作用する張力ｆと伸びΔlとの関係を、数式（１）
【数１】
2016001120.tif 000001
で表す、請求項２に記載の微多孔膜のたるみ評価方法。
【請求項４】
前記微多孔膜の全幅に作用する張力Ｆと、幅方向の各位置における伸びΔlとの関係を、数式（２）
【数２】
2016001120.tif 000002
で表す、請求項１から３のいずれか一項に記載の微多孔膜のたるみ評価方法。
【請求項５】
前記領域間たるみ量を、直角三角形の組み合わせで近似したモデルを利用して表す、請求項１から４のいずれか一項に記載の微多孔膜のたるみ評価方法。
【請求項６】
前記直角三角形の組み合わせで近似したモデル中の最大たるみ量ＢＣの長さを数式（３）
【数３】
2016001120.tif 000003
により求める、請求項５に記載の微多孔膜のたるみ評価方法。
【請求項７】
前記直角三角形の組み合わせで近似したモデル中における、前記微多孔膜の実際のたるみ量に相当するＣＤの長さを、数式（４）
【数４】
2016001120.tif 000004
により求める、請求項６に記載の微多孔膜のたるみ評価方法。
【請求項８】
微多孔膜がコアに捲回されてなる微多孔膜の捲回体であって、
前記請求項１から７のいずれか一項に記載のたるみ評価方法によって得られたたるみ形状計算値と、
微多孔膜がコアに捲回されてなる微多孔膜の捲回体から前記微多孔膜を水平方向に繰り出した際における当該微多孔膜のたるみをレーザースキャンによってたるみ形状を実測したデータが近似した値であることを特徴とする、微多孔膜の捲回体。
【請求項９】
前記たるみ形状計算値と前記実測したデータの差が、捲回体の幅５０〜２００ｍｍの範囲で１５ｍｍ以下である、請求項８に記載の微多孔膜の捲回体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】微多孔膜のたるみ評価方法、微多孔膜の捲回体
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月9日(2017.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
現実空間に配置されている１以上の指標が映された撮影画像を撮像装置より取得する取得手段と、
取得した撮影画像に映された前記指標の内容を解析する解析手段と、
前記撮影画像が、前記解析された指標、当該指標の配置情報または当該指標と前記撮影装置との位置関係を校正するための校正用画像に該当するかについて、予め定めた判定条件との適合度合いを判定する判定手段と、
前記判定条件との適合度合いを表す判定情報を視覚的に提示する提示手段と、
を有する情報処理装置。
【請求項２】
前記取得手段は、前記撮影画像の取得を所定周期で繰り返し、
前記解析手段は、前記撮影画像が取得される度に前記解析を繰り返し、
前記判定手段は、前記指標情報が特定される度に前記判定を繰り返し、
前記提示手段は、前記判定が行われる度に前記判定情報を提示するように構成されている、
請求項１記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記撮像装置は撮影中の画像を表示可能な表示部を備えるものであり、
前記提示手段は、前記判定情報を前記撮影中の画像と共に前記表示部に表示させる、
請求項１記載の情報処理装置。
【請求項４】
繰り返し取得した複数の撮影画像に基づいて前記撮像装置が静止している状態を検出するとともに、その状態の継続時間が予め定めた所定時間に達したかどうかを判定する状態判定手段を有し、
前記提示手段は、前記判定手段の判定情報を提示する際に前記状態判定手段の判定情報を併せて提示する、
請求項１記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記判定手段は、予め定められた複数の判定条件のそれぞれとの適合度合いを判定する複数の判定手段を備える、
請求項１記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記提示手段は、前記複数の判定手段の判定情報を表示するための複数の領域と、前記状態判定手段の判定情報を表示するための状態領域とが割り当てられたグラフを前記撮影中の画像と共に前記表示部に表示させる、
請求項５記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記状態領域は、一定時間分の長さを有する領域であり、前記静止している状態が継続
されるにつれて大きくなる動画像が該状態領域内に表示される、
請求項６記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記状態領域における動画像が前記一定時間分の長さに達したことを契機に前記撮像装
置に対して撮影のトリガを与える出力手段をさらに有する、
請求項７記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記グラフが円環状または複数の同心円環状のグラフである、
請求項６ないし８のいずれか１項記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記グラフが前記表示部の画面端部付近に表示される１つ以上の帯状のグラフである、
請求項６ないし８のいずれか１項記載の情報処理装置。
【請求項１１】
前記複数の領域には、前記複数の判定条件のそれぞれとの適合度合いを表す判定情報が表示される、
請求項９又は１０記載の情報処理装置。
【請求項１２】
前記複数の判定手段は、
前記撮影画像に映された指標の数を含む指標情報が当該指標の校正を可能にするものかどうかについて判定する第１判定手段を含む、
請求項５記載の情報処理装置。
【請求項１３】
前記第１判定手段は、前記撮影画像から２つ以上の指標の指標情報が特定されること、または、前記指標情報が前記撮像装置の位置姿勢の同定を可能にする情報を含むことを前記判定条件として含む、
請求項１２記載の情報処理装置。
【請求項１４】
前記複数の判定手段は、
前記指標情報が既存のものと重複するかどうかを判定する第２判定手段を含む、
請求項５記載の情報処理装置。
【請求項１５】
前記第２判定手段は、前記指標情報が前記撮像装置の位置姿勢の同定を可能にする情報
を含み、かつ、前記位置姿勢が既存の指標情報から同定されるものと重複することを前記
判定条件として含む、
請求項１４記載の情報処理装置。
【請求項１６】
前記複数の判定手段は、
前記指標情報が前記校正を有意にするものかどうかを判定する第３判定手段を含む、
請求項５記載の情報処理装置。
【請求項１７】
前記第３判定手段は、（１）前記撮影画像から解析された指標の数の、既に校正された指標の数に対する割合、（２）前記指標情報に基づいて同定された前記撮像装置の位置姿勢と既に特定されている前記撮像装置の位置姿勢とに基づいて算出される撮像間相対角（３）前記同定された前記撮像装置の位置姿勢と解析された指標の重心点との距離に対する前記撮像装置の過去の位置姿勢と過去に解析された指標の重心点との距離の比、の少なくともいずれかを算出する算出手段を有し、算出結果が予め定められた閾値を超えることを前記判定条件として含む、
請求項１６記載の情報処理装置。
【請求項１８】
前記判定手段により前記撮影画像が前記校正用画像に該当すると判定された場合に、当該撮影画像を当該校正用画像として保持する保持手段と、
保持された校正用画像に基づいて当該校正用画像に映された指標の校正を行う校正手段とをさらに有する、
請求項１ないし１７のいずれか１項記載の情報処理装置。
【請求項１９】
現実空間に配置されている１以上の指標が映された撮影画像を撮像装置から取得する情報処理装置が実行する方法であって、
取得した前記撮影画像に映された指標を解析し、解析した前記指標、当該指標の配置情報または当該指標と前記撮影装置との位置関係を校正するための校正用画像に該当するかについて、予め定めた判定条件との適合度合いを判定し、前記判定条件との適合度合いを表す判定情報を視覚的に提示する、指標校正のための撮影案内方法。
【請求項２０】
前記判定情報は、前記撮影画像が前記校正用画像に該当するときに非表示となり、前記
適合度合いに応じてその表示態様が変化するグラフにより前記撮像装置へ提示される、
請求項１９記載の撮影案内方法。
【請求項２１】
コンピュータを、請求項１乃至請求項１８のいずれか１項記載の情報処理装置として機能
させる、コンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、現実空間に配置されている１以上の指標が映された撮影画像を撮像装置より取得する取得手段と、取得した撮影画像に映された前記指標の内容を解析する解析手段と、前記撮影画像が、前記解析された指標、当該指標の配置情報または当該指標と前記撮影装置との位置関係を校正するための校正用画像に該当するかについて、予め定めた判定条件との適合度合いを判定する判定手段と、前記判定条件との適合度合いを表す判定情報を視覚的に提示する提示手段と、を有する情報処理装置を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月31日(2017.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
請求項８に記載の放射性物質の除染装置において、
前記止水材は、第４のホースを介して止水材タンクに接続され、前記第４のホースの途中には止水材供給ポンプが設置されていることを特徴とする放射性物質の除染装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
請求項８に記載の放射性物質の除染装置において、
前記第３のホースの途中に切替バルブが設置されていると共に、該切替バルブにはサンプリング容器と核燃料回収容器がそれぞれ接続され、かつ、前記吸引ポンプで吸引した前記除染剤の廃水を前記切替バルブを切替えて前記サンプリング容器で汲み取って分析し、前記除染剤の廃水中に核燃料物質が含まれている場合には、前記吸引ポンプで吸引した前記除染剤の廃水を前記切替バルブを切替えて前記核燃料回収容器に回収することを特徴とする放射性物質の除染装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月2日(2017.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を分離するクロマトグラフ部と、
前記クロマトグラフ部で分離された成分をイオン化するイオン源部と、
前記イオン源部でイオン化された成分を質量毎に分離する質量分析部と、
質量分離されたイオン成分を検出するイオン検出部と、
前記イオン検出部の検出結果に基づいて、マススペクトルデータ及び１つ又は複数のマスクロマトグラムデータを生成するデータ処理部と、
前記１つ又は複数のマスクロマトグラムデータの各ピーク波形のベースラインによって定まる各ピークの開始時間および終了時間に基づいて、対応するイオン成分毎に、選択イオンモニタリングで使用する測定時間を決定する制御部と
を有するクロマトグラフ質量分析装置。
【請求項２】
請求項１に記載のクロマトグラフ質量分析装置において、
前記制御部は、前記ベースラインに対応する時間幅の前及び／又は後に所定幅の時間を付加した時間を前記測定時間とする
ことを特徴とするクロマトグラフ質量分析装置。
【請求項３】
請求項１に記載のクロマトグラフ質量分析装置において、
前記制御部は、前記イオン検出部によるスキャンデータの検出動作と並行して前記１つ又は複数のマスクロマトグラムデータの各ピーク波形を判定し、前記測定時間をイオン成分毎に決定する
ことを特徴とするクロマトグラフ質量分析装置。
【請求項４】
請求項１に記載のクロマトグラフ質量分析装置において、
前記クロマトグラフ部は、液体クロマトグラフである
ことを特徴とするクロマトグラフ質量分析装置。
【請求項５】
請求項１に記載のクロマトグラフ質量分析装置において、
前記クロマトグラフ部は、ガスクロマトグラフである
ことを特徴とするクロマトグラフ質量分析装置。
【請求項６】
試料を分離するクロマトグラフ部と、前記クロマトグラフ部で分離された成分をイオン化するイオン源部と、前記イオン源部でイオン化された成分を質量毎に分離する質量分析部と、質量分離されたイオン成分を検出するイオン検出部と、前記イオン検出部の検出結果に基づいて、マススペクトルデータ及び１つ又は複数のマスクロマトグラムデータを生成するデータ処理部と、前記質量分析部及び前記イオン検出部の動作を制御する制御部とを有するクロマトグラフ質量分析装置の制御方法において、
前記制御部は、
前記１つ又は複数のマスクロマトグラムデータの各ピーク波形のベースラインによって定まる各ピークの開始時間および終了時間に基づいて、対応するイオン成分毎に、選択イオンモニタリングで使用する測定時間を決定する
ことを特徴とするクロマトグラフ質量分析装置の制御方法。
【請求項７】
請求項６に記載のクロマトグラフ質量分析装置の制御方法において、
前記制御部は、前記ベースラインに対応する時間幅の前及び／又は後に所定幅の時間を付加した時間を前記測定時間とする
ことを特徴とするクロマトグラフ質量分析装置の制御方法。
【請求項８】
請求項６に記載のクロマトグラフ質量分析装置の制御方法において、
前記制御部は、前記イオン検出部によるスキャンデータの検出動作と並行して前記１つ又は複数のマスクロマトグラムデータの各ピーク波形を判定し、前記測定時間をイオン成分毎に決定する
ことを特徴とするクロマトグラフ質量分析装置の制御方法。
【請求項９】
請求項６に記載のクロマトグラフ質量分析装置の制御方法において、
前記クロマトグラフ部は、液体クロマトグラフである
ことを特徴とするクロマトグラフ質量分析装置の制御方法。
【請求項１０】
請求項６に記載のクロマトグラフ質量分析装置の制御方法において、
前記クロマトグラフ部は、ガスクロマトグラフである
ことを特徴とするクロマトグラフ質量分析装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月28日(2016.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ヘッドアレイ及び画像形成装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ヘッドアレイと、これにより記録媒体にインクを吐出して画像を形成する画像形成装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係るヘッドアレイは、複数のヘッドを配置したヘッドアレイにおいて、屈曲部が設けられた屈曲可能なシート状プレートと、複数の傾斜面を有するアレイベースと、を備え、前記複数のヘッドは、前記シート状プレートの前記屈曲部を挟んだ両側に配置され、前記屈曲部で屈曲した前記シート状プレートが、前記アレイベースに固定されている、ことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のヘッドを配置したヘッドアレイにおいて、
屈曲部が設けられた屈曲可能なシート状プレートと、
複数の傾斜面を有するアレイベースと、を備え、
前記複数のヘッドは、前記シート状プレートの前記屈曲部を挟んだ両側に配置され、
前記屈曲部で屈曲した前記シート状プレートが、前記アレイベースに固定されている、
ことを特徴とするヘッドアレイ。
【請求項２】
請求項１に記載のヘッドアレイにおいて、
前記シート状プレートは、前記アレイベースの前記複数の傾斜面のそれぞれと平行となるように固定されている、
ことを特徴とするヘッドアレイ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のヘッドアレイにおいて、
前記シート状プレートに位置決め基準穴を設け、前記アレイベースの前記位置決め基準穴に対応する位置に位置決め基準ピンを設けた、
ことを特徴とするヘッドアレイ。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載のヘッドアレイにおいて、
前記シート状プレートの前記屈曲部を挟んで両側に位置決め基準穴を設け、前記アレイベースの前記位置決め基準穴に対応する位置に位置決め基準ピンを設けた、
ことを特徴とするヘッドアレイ。
【請求項５】
請求項４に記載のヘッドアレイにおいて、
前記位置決め基準穴を前記シート状プレートの対角線上に設けた、
ことを特徴とするヘッドアレイ。
【請求項６】
請求項４に記載のヘッドアレイにおいて、
前記位置決め基準穴を前記屈曲部に対して線対称に設けた、
ことを特徴とするヘッドアレイ。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のヘッドアレイにおいて、
前記シート状プレートの前記屈曲部を複数設けた、
ことを特徴とするヘッドアレイ。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載のヘッドアレイにおいて、
前記シート状プレートの前記屈曲部上に凹形状の溝部を設けた、
ことを特徴とするヘッドアレイ。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載のヘッドアレイにおいて、
前記シート状プレートの前記屈曲部上に開口部を複数設けた、
ことを特徴とするヘッドアレイ。
【請求項１０】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載のヘッドアレイにおいて、
前記複数の傾斜面と平行になる面をそれぞれ有し、前記シート状プレートを前記アレイベースに押さえる押さえ部材を備えた、
ことを特徴とするヘッドアレイ。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のヘッドアレイを備えた、
ことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月19日(2016.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向した２つの端面、並びに、前記端面の相互間を覆う外面を有すると共に、前記端面の相互間を貫通して真っ直ぐに延出したバレル孔の内周面を有し、更に、前記内周面が前記端面の相互間に沿って分断されるように、連続的に一体化された前記外面から円筒形状の前記内周面に亘って一部切り欠いて構成されたスリットを有するバレル本体と、
前記バレル孔に対して取り出し可能に組み込まれ、かつ、円筒形状の外周面を有する中空のスリーブと、
前記バレル孔に組み込まれた前記スリーブを前記バレル孔に固定させる固定機構と、を備え、
前記スリットは、前記バレル本体を一部切り欠いた際に残存し、かつ、互いに間隔を存して対向する２つの切欠面を有し、
前記固定機構は、前記切欠面の相互間の間隔を狭めて前記バレル本体を変形させることで、前記バレル孔の前記内周面を前記スリーブに隙間なく密着させるバレルブロック。
【請求項２】
前記バレル孔を囲むように連続して構成され、かつ、前記バレル本体を冷却するための冷却水通路を備え、
前記冷却水通路は、
前記冷却水通路に冷却水を導入するための導入口と、
前記冷却水通路を流れた冷却水を排出するための排出口と、を有し、
前記スリットは、前記冷却水通路を回避した位置で、かつ、前記導入口及び前記排出口が前記スリットの両側に配置されるように構成されている請求項１に記載のバレルブロック。
【請求項３】
前記固定機構は、
前記バレル本体の前記外面から前記スリットの２つの前記切欠面を貫通して延出した１又は複数の締結穴と、
前記締結穴に対して抜き出し可能に挿入される１又は複数の締結具と、を有している請求項２に記載のバレルブロック。
【請求項４】
前記締結穴は、前記冷却水通路を回避した位置に構成されている請求項３に記載のバレルブロック。
【請求項５】
前記固定機構において、前記締結具を前記締結穴に挿入して締め付けた際に、前記切欠面の相互間の間隔が狭まることで、初期形状にある前記バレル本体を変形させる請求項３に記載のバレルブロック。
【請求項６】
初期形状にある前記バレル本体を変形させることで、前記バレル孔の前記内周面に前記スリーブを隙間なく密着させ、これにより、前記スリーブを前記バレル孔に固定させる請求項５に記載のバレルブロック。
【請求項７】
前記固定機構において、前記締結具を前記締結穴に対して緩めた際に、前記切欠面の相互間の間隔が拡がることで、変形した前記バレル本体が初期形状に復元する請求項５に記載のバレルブロック。
【請求項８】
変形した前記バレル本体が初期形状に復元することで、前記バレル孔から前記スリーブが取り出し可能となる請求項７に記載のバレルブロック。
【請求項９】
前記スリーブは、前記バレル本体の前記端面の相互間距離に一致した長さに設定されている請求項１に記載のバレルブロック。
【請求項１０】
前記スリーブは、当該スリーブが前記バレル本体の前記端面から僅かに突出した長さに設定されている請求項１に記載のバレルブロック。
【請求項１１】
前記スリーブを前記バレル孔に対して一定の姿勢で組み込むための位置合わせ機構を備えている請求項１に記載のバレルブロック。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】バレルブロック
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の目的は、焼き嵌めや冷し嵌めを不要とし、スリーブをバレルに対して低コストで簡単かつ効率良く組み込むことが可能なバレルブロックを提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この目的を達成するために、本発明のバレルブロックは、バレル本体と、スリーブと、固定機構（締結穴、締結具）と、を備える。バレル本体は、２つの端面、外面、バレル孔の内周面、スリットを有する。スリットは、連続的に一体化された外面から円筒形状の内周面に亘って一部切り欠いて構成されている。バレル孔には、中空円筒形状のスリーブが取り出し可能に組み込まれる。スリットは、互いに間隔を存して対向する２つの切欠面を有する。固定機構は、切欠面の相互間の間隔を狭めてバレル本体を変形させることで、バレル孔の内周面をスリーブに隙間なく密着させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明によれば、焼き嵌めや冷し嵌めを不要とし、スリーブをバレルに対して低コストで簡単かつ効率良く組み込むことが可能なバレルブロックを実現することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月6日(2017.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車体（６）に対してタイヤを備えた走行車輪（５ａ〜５ｄ）およびスペア輪（５ｅ）を含む複数の車輪（５）が取り付けられた車両（１）に適用され、
前記複数の車輪それぞれに設けられ、固有の識別情報を含めたフレームを作成すると共に送信する第１制御部（２３）を有する送信機（２）と、
前記車体側に設けられ、所定の登録モードに移行したときに、受信アンテナ（３１）を介して前記送信機から送信されたフレームを受信することで、該フレームに含まれた前記識別情報毎に、前記フレームを送信してきた前記送信機が前記複数の車輪のいずれに取り付けられたものであるかを特定し、前記複数の車輪と該複数の車輪それぞれに設けられた前記送信機の識別情報とを対応づけて登録する車輪位置検出を行う第２制御部（３３）を有する受信機（３）とを備えた車輪位置検出装置であって、
前記送信機は、該送信機が取り付けられた車輪の回転に伴って変化する加速度に応じた検出信号を出力する加速度センサ（２２）を有すると共に、前記第１制御部の機能として、該送信機の取り付けられた車輪の車輪速度が前記加速度センサによる加速度検出が行えるオンの状態となる所定速度に至ったことを検知して、該検知結果に基づいて前記加速度センサの状態を示すデータを前記フレームに格納する機能を有し、
前記受信機の前記第２制御部には、
受信した前記フレームに格納された前記加速度センサの状態を示すデータが、該加速度センサがオンの状態ではないという条件を満たすか否かを判定する第１判定手段（Ｓ２２５）と、
前記第１判定手段で前記条件を満たしていると判定されると、前記スペア輪の識別情報の候補に登録する候補登録手段（Ｓ２３５）と、
前記登録モードに移行してから前記車両の走行履歴が有るか否かを判定する第２判定手段（Ｓ２６０）と、
前記第２判定手段にて走行履歴が有ると判定されると、前記スペア輪の識別情報の候補に登録された中から、前記スペア輪の識別情報を特定し、当該識別情報が前記スペア輪のものであることを対応付けて登録する登録手段（Ｓ２７０）と、が備えられ、
さらに、前記第２制御部には、
前記第１判定手段にて前記条件を満たしていると判定されると、該フレームに格納された識別情報を初めて受信したものであるか否かを判定すると共に、初めて受信したものであると判定すると、前記候補登録手段による前記スペア輪の識別情報の候補への登録を行わせる第３判定手段（Ｓ２３０）と、
前記第３判定手段で初めて受信したものでないと判定されると、前記候補登録手段で既に登録されている前記スペア輪の識別情報の候補のうち、受信した前記フレームに格納されている識別情報のものの受信数を加算する受信数加算手段（Ｓ２４５）と、
前記受信数加算手段で加算されている前記スペア輪の識別情報の候補のうち、受信数が最も多い最大受信数と２番目に多い受信数との差が所定値以上になったか否かを判定する第４判定手段（Ｓ２６５）と、が備えられ、
前記登録手段は、前記第４判定手段にて前記差が前記所定値以上になったと判定されると、前記最大受信数となっている前記スペア輪の識別情報の候補を前記スペア輪の識別情報として登録することを特徴とする車輪位置検出装置。
【請求項２】
前記第２判定手段は、
前記登録モードに移行した後に前記車両の走行時間が所定時間以上になると前記走行履歴があると判定することを特徴とする請求項１に記載の車輪位置検出装置。
【請求項３】
前記第２判定手段は、
前記登録モードに移行した後に前記走行車輪についての前記車輪位置検出が完了していると前記走行履歴があると判定することを特徴とする請求項１に記載の車輪位置検出装置。
【請求項４】
前記第４判定手段は、前記差が前記所定値として３以上になったか否かを判定することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１つに記載の車輪位置検出装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１つに記載の車輪位置検出装置を含むタイヤ空気圧検出システムであって、
前記送信機は、前記複数の車輪それぞれに備えられた前記タイヤの空気圧に応じた検出信号を出力するセンシング部（２１）を備え、前記第１制御部によって前記センシング部の検出信号を信号処理したタイヤ空気圧に関する情報をフレームに格納したのち、当該フレームを前記受信機に送信し、
前記受信機は、前記第２制御部にて、該タイヤ空気圧に関する情報より、前記複数の車輪それぞれに備えられた前記タイヤの空気圧を検出することを特徴とするタイヤ空気圧検出システム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月12日(2017.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
建物に設備された昇降路の各階床間を昇降する乗りかご内に設けられて当該乗りかご内の様子を撮影した結果を示すかご内映像信号を出力するかご内カメラと、前記乗りかご内に設けられて前記かご内映像信号に基づくかご内映像を表示可能なかご内表示器と、前記乗りかご内に設けられて当該乗りかご内の利用者により操作可能な操作釦を備えたかご内操作盤と、前記かご内カメラ、前記かご内表示器、及び前記かご内操作盤と接続されて各部を制御する制御部と、を備えたエレベータ装置において、
前記建物の各階床の乗り場付近に設けられて当該乗り場の様子を撮影した結果を示す乗り場映像信号を出力する乗り場カメラと、前記制御部からの指示により前記かご内表示器へ出力する前記かご内映像信号と前記乗り場映像信号とを切り替えるスイッチャーと、を備え、
前記かご内操作盤は、前記乗りかご内の利用者による操作でかごドアの戸閉状態を継続させる戸閉継続手段を含み、
前記制御部は、前記乗りかごが次回停止階となる階床で停止する前に前記スイッチャーを制御指示して切り替えることで当該次回停止階となる乗り場に設けられた前記乗り場カメラから出力される前記乗り場映像信号に基づく乗り場映像を前記かご内表示器に表示させ、
前記戸閉継続手段は、前記かご内表示器の前記乗り場映像を確認しての前記乗りかご内の利用者による任意な操作に供され、
更に、前記制御部は、前記戸閉継続手段が操作されなければ前記乗りかごを前記次回停止階となる階床で停止する指示、操作されれば当該乗りかごを次々回停止階となる階床で停止する指示をエレベータ制御装置へ行うことを特徴とするエレベータ装置。
【請求項２】
建物に設備された昇降路の各階床間を昇降する乗りかご内に設けられて当該乗りかご内の様子を撮影した結果を示すかご内映像信号を出力するかご内カメラと、前記乗りかご内に設けられて前記かご内映像信号に基づくかご内映像を表示可能なかご内表示器と、前記乗りかご内に設けられて当該乗りかご内の利用者により操作可能な操作釦を備えたかご内操作盤と、前記かご内カメラ、前記かご内表示器、及び前記かご内操作盤と接続されて各部を制御する制御部と、を備えたエレベータ装置において、
前記乗りかごの外壁側に設けられると共に、前記建物の各階床の乗り場の出入口上部に設置された専用の監視窓、当該出入口に設置される乗り場ドアの所定箇所に設けられた専用の監視窓、或いは当該乗り場ドアに設けられた窓を介して前記昇降路側から当該乗り場の様子を撮影した結果を示す乗り場映像信号を出力する乗り場撮影用かご外カメラと、前記制御部からの指示により前記かご内表示器へ出力する前記かご内映像信号と前記乗り場映像信号とを切り替えるスイッチャーと、を備え、
前記かご内操作盤は、前記乗りかご内の利用者による操作でかごドアの戸閉状態を継続させる戸閉継続手段を含み、
前記制御部は、前記乗りかごが次回停止階となる階床で停止する前に前記スイッチャーを制御指示して切り替えることで当該次回停止階となる乗り場に設けられた前記乗り場撮影用かご外カメラから出力される前記乗り場映像信号に基づく乗り場映像を前記かご内表示器に表示させ、
前記戸閉継続手段は、前記かご内表示器の前記乗り場映像を確認しての前記乗りかご内の利用者による任意な操作に供され、
更に、前記制御部は、前記戸閉継続手段が操作されなければ前記乗りかごを前記次回停止階となる階床で停止する指示、操作されれば当該乗りかごを次々回停止階となる階床で停止する指示をエレベータ制御装置へ行うことを特徴とするエレベータ装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載のエレベータ装置において、
前記制御部は、前記昇降路の所定箇所に設けられた遮蔽板に前記乗りかごに設けられたポジテクタが前記次回停止階となる階床のドアゾーンに入ったことを検出したときに前記スイッチャーへ切り替えの制御指示を行い、
前記かご内表示器は、前記切り替えの制御指示を受けると前記かご内映像から前記乗り場映像へと切り替えて表示することを特徴とするエレベータ装置。
【請求項４】
請求項１又は２記載のエレベータ装置において、
前記戸閉継続手段は、前記かご内操作盤に設けられた専用の戸閉継続釦の押圧操作で機能することを特徴とするエレベータ装置。
【請求項５】
請求項１又は２記載のエレベータ装置において、
前記戸閉継続手段は、前記かご内操作盤に設けられた既存の戸閉釦の長押し操作で機能することを特徴とするエレベータ装置。