Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月6日(2017.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のＬＥＤと光透過性部材からなるリフレクタとを備えた照明装置であって、
ＬＥＤ基板上の前記複数のＬＥＤと対向して、前記ＬＥＤから入射した光を略直角方向に反射させる前記リフレクタが配置され、
前記リフレクタの外面は、２回の全反射により光を直角方向に向けるように屋根型形状の溝が光射出方向に平行に形成されていることを特徴とする照明装置。
【請求項２】
請求項１に記載の照明装置において、
前記屋根型形状の溝の存在範囲が、前記溝の稜線と前記ＬＥＤからの入射光線が臨界角以下である部分に限定されていることを特徴とする照明装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の照明装置において、
前記リフレクタが、前記複数のＬＥＤが置かれている前記ＬＥＤ基板の外周部分に沿って射出方向を外向きに配置されていることを特徴とする照明装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の照明装置において、
前記リフレクタが、前記複数のＬＥＤが置かれている前記ＬＥＤ基板の内周部分に沿って射出方向を内向きに配置されていることを特徴とする照明装置。
【請求項５】
請求項１に記載の照明装置において、
前記リフレクタの外面の溝の横断面の形状がＶ字型の溝であることを特徴とする照明装置。
【請求項６】
請求項５に記載の照明装置において、
前記リフレクタの外面の溝の横断面の形状が頂角９０度のＶ字型の溝であることを特徴とする照明装置。
【請求項７】
請求項１に記載の照明装置において、
前記リフレクタの外面の溝の横断面のＶ字型の面の角度が、稜線と入射光線の角度に応じて変化していることを特徴とする照明装置。
【請求項８】
請求項７に記載の照明装置において、
前記稜線と入射光線の角度が小さい場合には、前記Ｖ字型の面の角度を深く、前記稜線と入射光線の角度が大きくなるにつれて、前記Ｖ字型の面の角度を浅く形成したことを特徴とする照明装置。
【請求項９】
請求項１〜８の何れか１つに記載の照明装置において、
前記リフレクタの反射面に、曲面または微小な凹凸を設けることを特徴とする照明装置。
【請求項１０】
請求項１〜８の何れか１つに記載の照明装置において、
前記リフレクタの光の射出面に、曲面または微小な凹凸を設ける、またはマイクロレンズアレイまたはプリズムアレイを設けることを特徴とする照明装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れか１つに記載の照明装置において、
前記複数のＬＥＤおよび前記リフレクタを取り囲むようにセードが設けられていることを特徴とする照明装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【図１】本発明に係る照明装置の構造を説明するための図。
【図２】本発明の照明装置の基本構造を説明するための図。
【図３】本発明の照明装置の透明部材からなるリフレクタの全体構造を説明するための図。
【図４】放物面と臨界角を説明するための図。
【図５】等角螺旋反射面を説明するための図。
【図６】本発明の実施例を説明するための図。
【図７】本発明の実施例１の反射面の断面構造と光線状態を説明するための図。
【図８】本発明の実施例２の断面構造の変化を説明するための図。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図４に、反射面２の構造として放物面を用いた場合の反射の状態を示す。符号３は発光点を表し、リフレクタ４の内部から表面に向かって進む光が表面に到達すると、スネルの法則により屈折、反射が発生する。この際、以下の関係から定まる臨界角δcが存在する。  
sinδc=1/n
ここで、nは透明部材の屈折率である。透明部材としてたとえばポリカーボネート（n=1.59）を用いた場合には、  
δc=38.97°
となる。この臨界角より面法線に近い角度で入射した光線は全反射を起こさず反射面２より屈折射出する。他方、この臨界角より大きい角度で入射した光は反射面２で全反射を起こし、入射光束の100％が反射される。このように全反射はきわめて効率の高い反射方式であるが、臨界角という制限が発生するのが課題である。この例の場合には臨界角より小さい入射光線の光束は反射することなく反射面から漏れ出してしまい、所望の方向に光束を向けることはできない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
１  入射面
２  反射面
３  発光点
４  リフレクタ(反射器）
５  臨界角位置
６  器具シャーシ
７  射出面
８  射出光線
９  反射面谷部分
１０  反射面山部分
１１  ＬＥＤ素子
１２  ＬＥＤ実装基板
１３  電源
１４  セード
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月6日(2017.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
特許文献１の上側シール部材は、相手側コネクタから下方に押圧されてアウタハウジングと相手側コネクタとの間をシールする。このため、相手側コネクタの押圧力が不十分な場合、アウタハウジングと相手側コネクタとの間が完全に防水されない。更に、特許文献１のインナハウジングは、アウタハウジングに対して相対的に移動可能とする必要があるため、図３７に示されているような従来のシール部材によってアウタハウジングに固定できない。このため、アウタハウジングとインナハウジングとの間は防水されず、アウタハウジングと相手側コネクタとの間を通って水が入った場合、水はインナハウジングの内部の端子まで達するおそれがある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
本発明は、更に様々に変形可能であり、応用可能である。例えば、主シール部材４０は、第２ハウジング３０が第１ハウジング２０に対して相対的に移動できる限り、ゴムによって一体形成されていなくてもよい。例えば、第１被固定部４１０及び第２被固定部４２０をゴムによって形成すると共に、中間部４３０を合成樹脂によって全体的に蛇腹構造に形成してもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
図３１を参照すると、防水コネクタ１０Ｃを筐体６０に取り付けた取付状態において、第１ハウジング２０Ｃ及び筐体６０は、互いに固定されている。また、第２ハウジング３０Ｃ及び固定部材５５は、互いに固定されている。一方、第１ハウジング２０Ｃと第２ハウジング３０Ｃとは、上述したように弾性変形可能な主シール部材４０Ｃによって互いに連結されている。更に、Ｚ方向と直交する方向において、第２ハウジング３０Ｃは、第１ハウジング２０Ｃ及びカバー部材５０Ｃとの間に間隔をあけて位置しており、固定部材５５も、筐体６０の孔６４の内壁面との間に間隔をあけて位置している。このため、第２ハウジング３０Ｃは、ＸＹ平面内を第１ハウジング２０Ｃに対して相対的に移動可能である。一方、本実施の形態によれば、取付状態にある被支持部３４０は、Ｚ方向において、支持面２１４と規制面５１２との間に位置している。このため、第２ハウジング３０ＣのＺ方向における移動は、規制面５１２によって規制されている。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月23日(2017.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
実施形態によれば、
絶縁性基板と、前記絶縁性基板上に形成され、チャネル領域、前記チャネル領域を挟んだ両側に設けられたソース領域及びドレイン領域を有する半導体層と、
前記チャネル領域上に形成されるゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極、前記半導体層及び前記ゲート絶縁膜を覆う層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜に設けられ且つ前記ソース領域に到達するコンタクトホールに形成されるソース電極と、
前記層間絶縁膜に設けられ且つ前記ドレイン領域に到達するコンタクトホールに形成されるドレイン電極と、
前記ゲート電極と同じ材料で形成された配線と、を具備し、
前記絶縁性基板は、支持基板と、前記支持基板と前記半導体層との間に設けられた絶縁性材料からなるアンダーコート層をさらに含み、前記支持基板と前記半導体層との間には前記半導体層と対向して遮光層をさらに含み、
前記層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールは前記遮光層と、前記ゲート電極と同じ材料で形成された配線の上部表面に到達し、前記ソース電極及び前記ドレイン電極と同じ材料で形成された配線により、前記遮光層と、前記ゲート電極と同じ材料で形成された配線とを電気的に接続していることを特徴とする半導体装置が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］  絶縁性基板と、
前記絶縁性基板上に形成され、チャネル領域、前記チャネル領域を挟んだ両側に設けられたソース領域及びドレイン領域、前記ソース領域に設けられた第１の開孔、及び前記ドレイン領域に設けられた第２の開孔を有する酸化物半導体層と、
前記チャネル領域上に形成されると共に、前記ソース領域及びドレイン領域を露出するゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極、前記酸化物半導体層の前記ソース領域及びドレイン領域、及び前記ゲート絶縁膜を覆うと共に、前記第１の開孔と連通する第３の開孔、及び前記第２の開孔と連通する第４の開孔が形成された層間絶縁膜と、
前記第１の開孔と前記第３の開孔とを含み前記絶縁性基板に到達する第１のコンタクトホールと、
前記第２の開孔と前記第４の開孔とを含み前記絶縁性基板に到達する第２のコンタクトホールと、
前記第１のコンタクトホール内に形成されると共に前記第１の開孔の内壁とコンタクトする前記ソース電極と、
前記第２のコンタクトホール内に形成されると共に前記第２の開孔の内壁とコンタクトする前記ドレイン電極とを具備することを特徴とする半導体装置。
［２］  前記酸化物半導体層は、３０ないし４０ｎｍの厚さを有することを特徴とする［１］に記載の半導体装置。
［３］  前記絶縁性基板は、支持基板と、前記支持基板と前記酸化物半導体層との間に設けられた絶縁性材料からなるアンダーコート層をさらに含み、前記絶縁性基板とアンダーコート層との間には酸化物半導体層と対向して遮光層をさらに含むことを特徴とする［１］または［２］に記載の半導体装置。
［４］  前記第１のコンタクトホールと前記第２のコンタクトホールは、各々、前記遮光層に到達し、前記ソース電極及び前記ドレイン電極は、各々、前記遮光層とコンタクトしている［３］に記載の半導体装置。
［５］  絶縁性基板上に酸化物半導体層を形成し、
前記酸化物半導体層のチャネル領域上にゲート絶縁膜及びゲート電極を形成すると共に前記チャネル領域を挟んだ両側にソース領域及びドレイン領域を形成し、
前記ゲート電極上に層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜、及び前記酸化物半導体層を前記絶縁性基板が露出するまでパターニングし、前記ソース領域の前記層間絶縁膜に第３の開孔、及び前記ソース領域の前記酸化物半導体層に第１の開孔を形成して第１のコンタクトホールを設け、前記ドレイン領域の前記層間絶縁膜に第４の開孔、及び前記酸化物半導体層に第２の開孔を形成して第２のコンタクトホールを設け、
前記第１のコンタクトホール内に前記第１の開孔の内壁とコンタクトするソース電極を形成し、及び
前記第２のコンタクトホール内に前記第２の開孔の内壁とコンタクトするドレイン電極を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
［６］  前記酸化物半導体層は、３０ないし４０ｎｍの厚さを有することを特徴とする［５］に記載の半導体装置の製造方法。
［７］  前記絶縁性基板上に前記酸化物半導体層を形成する工程の前に、
支持基板上に前記酸化物半導体層と対向する遮光層を形成し、及び
前記支持基板上に前記遮光層を介してアンダーコート層を設けることにより、前記絶縁性基板を形成することをさらに含むことを特徴とする［５］または［６］に記載の半導体装
置の製造方法。
［８］  前記層間絶縁膜、前記酸化物半導体層、及び前記絶縁性基板を、前記遮光層が露出するまでパターニングして前記第１及び第２のコンタクトホールを設け、前記ソース電極及び前記ドレイン電極を前記遮光層にコンタクトさせることを特徴とする［７］に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性基板と、前記絶縁性基板上に形成され、チャネル領域、前記チャネル領域を挟んだ両側に設けられたソース領域及びドレイン領域を有する半導体層と、
前記チャネル領域上に形成されるゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極、前記半導体層及び前記ゲート絶縁膜を覆う層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜に設けられ且つ前記ソース領域に到達するコンタクトホールに形成されるソース電極と、
前記層間絶縁膜に設けられ且つ前記ドレイン領域に到達するコンタクトホールに形成されるドレイン電極と、前記ゲート電極と同じ材料で形成された配線と、を具備し、
前記絶縁性基板は、支持基板と、前記支持基板と前記半導体層との間に設けられた絶縁性材料からなるアンダーコート層をさらに含み、前記支持基板と前記半導体層との間には前記半導体層と対向して遮光層をさらに含み、
前記層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールは前記遮光層と、前記ゲート電極と同じ材料で形成された配線の上部表面に到達し、前記ソース電極及び前記ドレイン電極と同じ材料で形成された配線により、前記遮光層と、前記ゲート電極と同じ材料で形成された配線とを電気的に接続していることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記半導体層は、３０ないし４０ｎｍの厚さを有することを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月28日(2017.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
しかしながら、高い磁気異方性を有する材料で形成された磁気記録層を有する磁気記録媒体は、大きな保磁力を有し、磁化の記録が困難である。この記録困難性を克服するために、熱アシスト磁気記録方式、マイクロ波アシスト磁気記録方式などのエネルギーアシスト磁気記録方式が提案されている。熱アシスト磁気記録方式は、磁性材料における磁気異方性定数（Ｋｕ）の温度依存性、すなわち高温ほどＫｕが小さいという特性を利用したものである。この方式では、磁気記録層の加熱機能を有するヘッドを用いる。すなわち、磁気記録層を昇温させて一時的にＫｕを低下させることにより反転磁界を低減させ、その間に書き込みを行う。降温後はＫｕが元の高い値に戻るため、安定して記録した磁化を保持できる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本実施形態において、規則合金は、必ずしもすべての原子が規則構造を有していなくてもよい。規則構造の程度を表わす規則度Ｓが所定の値以上であれば良い。規則度Ｓは、磁性薄膜をＸ線回折法（ＸＲＤ）により測定し、測定値と完全に規則化した際の理論値との比により算出される。Ｌ１0型規則合金の場合は、規則合金由来の（００１）および（００２）ピークの積分強度を用いて算出する。測定された（００２）ピーク積分強度に対する（００１）ピーク積分強度の比の値を、完全に規則化した際に理論的に算出される（００２）ピーク積分強度に対する（００１）ピーク積分強度の比で除算し、その平方根を採ることで規則度Ｓを得ることができる。このようにして得られた規則度Ｓが０．５以上であれば、磁性薄膜として実用的な磁気異方性定数Ｋｕを有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板１０と磁気記録層３０との間に、密着層、ヒートシンク層、軟磁性裏打ち層、下地層、およびシード層２０からなる群から選択される１つまたは複数の層をさらに含んでもよい。また、本発明の磁気記録媒体は、磁気記録層３０の上に保護層をさらに含んでもよい。さらに、本発明の磁気記録媒体は、磁気記録層３０または保護層の上に液体潤滑剤層をさらに含んでもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
保護層は、磁気記録媒体の分野で慣用的に使用されている材料を用いて形成することができる。具体的には、Ｐｔなどの非磁性金属、ダイアモンドライクカーボンなどのカーボン系材料、あるいは窒化シリコンなどのシリコン系材料を用いて、保護層を形成することができる。また、保護層は、単層であってもよく、積層構造を有してもよい。積層構造の保護層は、たとえば、特性の異なる２種のカーボン系材料の積層構造、金属とカーボン系材料との積層構造、または金属酸化物膜とカーボン系材料との積層構造であってもよい。保護層は、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
このような構成のトンネル磁気抵抗素子６０は、同素子に供給する電流または外部磁界により自由磁性層６４の磁化の向きを変化させることで動作する。たとえば、通電によってスピン注入を行い、スピン注入によって磁化を変化させるトンネル型磁気抵抗素子は次のように動作する。図２（ａ）に示すように、固定磁性層６２から自由磁性層６４に向かって電流を流すことによって、固定磁性層６２および自由磁性層６４の磁化の向きが平行な状態とすることができる。また、図２（ｂ）に示すように、自由磁性層６４から固定磁性層６２に向かって電流を流すことによって、固定磁性層６２および自由磁性層６４の磁化の向きが反平行な状態とすることができる。図２（ａ）および図２（ｂ）に示す両状態は、可逆的に相互に変化させることができる。トンネル磁気抵抗素子６０は、固定磁性層６２および自由磁性層６４の磁化の向きが平行であるか反平行であるかによって、「０」および「１」の情報を記録することができる。図２（ａ）および図２（ｂ）において、固定磁性層６２および自由磁性層６４の磁化の向きが平行である場合を「０」とし、固定磁性層６２および自由磁性層６４の磁化の向きが反平行である場合を「１」としたが、この対応関係は逆であってもよい。また、図２（ａ）および図２（ｂ）において、固定磁性層６２および自由磁性層６４の磁化の向きが層に平行である方向である場合を例示したが、固定磁性層６２および自由磁性層６４の磁化の向きは、層に垂直な方向であってもよい。この場合にも、両層の磁化の向きが平行であるか反平行であるかによって、障壁層６６を流れるトンネル電流の大きさを変化させて、「０」および「１」の情報を記録することができる。以上説明したＴＭＲの他にも、固定磁性層６２と自由磁性層６４を直接に接合した磁気抵抗素子としてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
磁気記録層３０のＳｃ含有量と、保磁力Ｈｃとの関係を図５に示す。また、磁気記録層３０のＳｃ含有量と、磁気異方性定数Ｋｕとの関係を図６に示す。図５および図６から分かるように、Ｓｃを含むことにより、保磁力Ｈｃおよび磁気異方性定数Ｋｕが増大する。特に、Ｓｃの含有量が２．４ａｔ％である場合に、保磁力Ｈｃが８．５ｋＯｅ（６８０Ａ／ｍｍ）の最大値を示し、かつ、磁気異方性定数Ｋｕが２６．７×１０6ｅｒｇ／ｃｍ3（２．６７×１０6Ｊ／ｍ3）の最大値を示した。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月23日(2017.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸着対象物が載置される載置面、及び前記載置面の反対面となる背面を備えた基体と、
前記基体の前記載置面側に内蔵された上層電極と、
前記基体の前記上層電極よりも前記背面側に内蔵された下層電極と、
前記上層電極と前記下層電極とを電気的に接続する配線と、を有し、
前記載置面は前記基体の上面に設けられた凹部の底面であり、
前記背面側から与えられる静電位により、前記載置面に載置される前記吸着対象物を保持する静電吸着用トレイ。
【請求項２】
前記基体は低抵抗誘電体から構成されている請求項１記載の静電吸着用トレイ。
【請求項３】
前記載置面及び前記背面は何れも研磨された面である請求項１又は２記載の静電吸着用トレイ。
【請求項４】
前記載置面及び前記上層電極を複数個有し、
夫々の前記載置面は、前記基体の上面の、夫々の前記上層電極に対応する位置に設けられた凹部の底面であり、
夫々の前記載置面に吸着対象物を載置可能な請求項１乃至３の何れか一項記載の静電吸着用トレイ。
【請求項５】
前記背面側に不活性ガスを充填させる空間を備えた請求項１乃至４の何れか一項記載の静電吸着用トレイ。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか一項記載の静電吸着用トレイと、
静電電極が内蔵された基体を備えた静電チャックと、を有し、
前記静電電極と前記下層電極とは対向するように配され、
前記静電吸着用トレイは、前記静電チャックの基体の上面に着脱可能な状態で載置されている基板固定装置。
【請求項７】
前記載置面に吸着対象物が載置され、前記静電電極に電圧が印加されると、前記下層電極が前記静電電極に吸着されて前記静電吸着用トレイが前記静電チャックの基体の上面に保持され、前記吸着対象物が前記上層電極に吸着されて前記吸着対象物が前記載置面に保持される請求項６記載の基板固定装置。
【請求項８】
前記静電チャックの基体は低抵抗誘電体から構成されている請求項６又は７記載の基板固定装置。
【請求項９】
前記静電チャックの基体の上面は研磨された面である請求項６乃至８の何れか一項記載の基板固定装置。
【請求項１０】
前記静電チャックは、前記静電吸着用トレイに不活性ガスを供給するガス路を備えている請求項６乃至９の何れか一項記載の基板固定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本静電吸着用トレイは、吸着対象物が載置される載置面、及び前記載置面の反対面となる背面を備えた基体と、前記基体の前記載置面側に内蔵された上層電極と、前記基体の前記上層電極よりも前記背面側に内蔵された下層電極と、前記上層電極と前記下層電極とを電気的に接続する配線と、を有し、前記載置面は前記基体の上面に設けられた凹部の底面であり、前記背面側から与えられる静電位により、前記載置面に載置される前記吸着対象物を保持することを要件とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月21日(2017.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版のパターンを投影光学系を介して基板上のショット領域に転写する露光装置であって、
前記基板上のショット領域に形成された第１マークを前記投影光学系を介して検出する第１検出部と、
前記基板上の前記ショット領域に形成された第２マークを検出する第２検出部と、
前記第１検出部による検出結果から求められる前記第１マークの前記原版に対する位置と、前記第１検出部と前記第２検出部との位置関係を表すベースライン量に関する情報および前記第２検出部による検出結果から求められる前記第２マークの前記第１検出部に対する位置とに基づいて前記原版と前記ショット領域との位置合わせを行う制御部と、
を含み、
前記制御部は、前記位置合わせにおいて得られた前記ショット領域の前記第１マークの位置および前記ショット領域の前記第２マークの位置から求められた前記基板上における前記ショット領域の変形量を示す変形情報に基づいて前記ベースライン量に関する情報を補正する、ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記第１マークの位置から求められた前記ショット領域の変形情報と前記第２マークの位置から求められた前記ショット領域の変形情報との差分に基づいて前記ベースライン量に関する情報を補正する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記ベースライン量に関する情報が取得されたときの前記差分からの変動量が閾値以上であるときに前記ベースライン量に関する情報を補正する、ことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記差分が閾値以上であるときに前記ベースライン量に関する情報を補正する、ことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第２検出部は、複数の前記第２マークの各々を並行して検出する複数のスコープを含み、
前記制御部は、前記第２検出部のスコープごとに前記ベースライン量に関する情報を補正する、ことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記ベースライン量は、前記第１検出部による基板上の検出位置と前記第２検出部による基板上の検出位置との距離である、ことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記変形情報は、前記ショット領域のシフト成分、倍率成分および回転成分の少なくとも１つを示す情報を含む、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記第１検出部と前記第２検出部とに基板上の同一のマークを検出させ、前記第１検出部による検出結果から求められた当該同一のマークの基板上における位置と前記第２検出部による検出結果から求められた当該同一のマークの基板上における位置との差に基づいて前記ベースライン量に関する情報を取得する、ことを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記第１検出部と前記第２検出部とに基板上の同一のマークを検出させ、前記第１検出部による検出結果が取得されたときの前記基板の位置と、前記第２検出部による検出結果が取得されたときの前記基板の位置とに基づいて前記ベースライン量に関する情報を取得する、ことを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第２検出部は、前記投影光学系と前記基板との間に配置されている、ことを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１２】
原版のパターンを投影光学系を介して基板上のショット領域に転写する露光装置における前記原版と前記基板との位置合わせ方法であって、
第１検出部によって前記基板上のショット領域に形成された第１マークを前記投影光学系を介して検出する第１検出工程と、
第２検出部によって前記基板上の前記ショット領域に形成された第２マークを検出する第２検出工程と、
前記第１検出工程における検出結果から求められる前記第１マークの前記原版に対する位置と、前記第１検出部と前記第２検出部との位置関係を表すベースライン量に関する情報および前記第２検出工程における検出結果から求められる前記第２マークの前記第１検出部に対する位置とに基づいて、前記原版と前記ショット領域との位置合わせを行う位置合わせ工程と、を含み、
前記位置合わせにおいて得られた前記ショット領域の前記第１マークの位置および前記ショット領域の前記第２マークの位置から求められた前記基板上における前記ショット領域の変形量を示す変形情報に基づいて前記ベースライン量に関する情報を補正することを特徴とする位置合わせ方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、原版のパターンを投影光学系を介して基板上のショット領域に転写する露光装置であって、前記基板上のショット領域に形成された第１マークを前記投影光学系を介して検出する第１検出部と、前記基板上の前記ショット領域に形成された第２マークを検出する第２検出部と、前記第１検出部による検出結果から求められる前記第１マークの前記原版に対する位置と、前記第１検出部と前記第２検出部との位置関係を表すベースライン量に関する情報および前記第２検出部による検出結果から求められる前記第２マークの前記第１検出部に対する位置とに基づいて前記原版と前記ショット領域との位置合わせを行う制御部と、を含み、前記制御部は、前記位置合わせにおいて得られた前記ショット領域の前記第１マークの位置および前記ショット領域の前記第２マークの位置から求められた前記基板上における前記ショット領域の変形量を示す変形情報に基づいて前記ベースライン量に関する情報を補正する、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月22日(2017.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
表示パネルと、表示面に接触する被検出体を検出するタッチパネルと、前記表示面に近接する前記被検出体を検出する近接センサと、を有する表示装置の駆動方法であって、接触信号が発生した時を起点として、前記被検出体の位置を前記タッチパネルによって検出し、次に前記被検出体の近接信号の強度を前記近接センサにより検出し、次に前記近接信号の強度と基準信号強度とを比較して前記近接センサの検出閾値を補正する表示装置の駆動方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の表示装置の駆動方法は、表示パネルと、表示面に接触する被検出体を検出するタッチパネルと、前記表示面に近接する前記被検出体を検出する近接センサと、を有する表示装置の駆動方法であって、接触信号が発生した時を起点として、前記被検出体の位置を前記タッチパネルによって検出し、次に前記被検出体の近接信号の強度を前記近接センサにより検出し、次に前記近接信号の強度と基準信号強度とを比較して前記近接センサの検出閾値を補正する構成である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の表示装置の駆動方法は、表示パネルと、表示面に接触する被検出体を検出するタッチパネルと、表示面に近接する被検出体を検出する近接センサと、を有する表示装置の駆動方法であって、接触信号が発生した時を起点として、被検出体の位置をタッチパネルによって検出し、次に被検出体の近接信号の強度を近接センサにより検出し、次に近接信号の強度と基準信号強度とを比較して近接センサの検出閾値を補正することから、被検出体の色、大きさ等の種々の要因に起因して被検出体を検出する近接センサの受信強度が変動しても、被検出体を確実に検出することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月21日(2017.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置の置き忘れを警告する置き忘れ警告装置であって、
前記装置と当該置き忘れ警告装置の離間距離が所定の範囲内か否かを判定する離間距離判定手段と、
当該置き忘れ警告装置が屋内に存在するか屋外に存在するかを判定する屋内屋外判定手段と、
前記離間距離判定手段による判定結果と、前記屋内屋外判定手段による判定結果と、に基づいて前記装置の置き忘れを判定する置き忘れ判定手段と、
前記置き忘れ判定手段により前記装置の置き忘れと判定された場合、置き忘れを警告する置き忘れ警告手段と、
を備えたことを特徴とする置き忘れ警告装置。
【請求項２】
前記置き忘れ判定手段は、前記離間距離判定手段による判定結果が前記装置と当該置き忘れ警告装置の離間距離が所定の範囲を超えている場合、で且つ、前記屋内屋外判定手段による判定結果が当該置き忘れ警告装置が屋外に存在する場合、前記装置の置き忘れと判定することを特徴とする請求項１に記載の置き忘れ警告装置。
【請求項３】
前記置き忘れ判定手段は、前記離間距離判定手段による判定結果が前記装置と当該置き忘れ警告装置の離間距離が所定の範囲を超えていると判定された後に、前記屋内屋外判定手段により当該置き忘れ警告装置が屋内に存在するか屋外に存在するかを判定することを特徴とする請求項１又は２に記載の置き忘れ警告装置。
【請求項４】
前記離間距離判定手段は、
前記装置と近距離無線通信を行なう近距離無線通信手段と、
前記近距離無線通信手段による前記装置との近距離無線通信が確立されているか否かを判定する近距離無線通信確立判定手段と、を備え、
前記近距離無線通信が確立されているか否かに基づいて、前記装置と当該置き忘れ警告装置の離間距離が所定の範囲内か否かを判定することを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の置き忘れ警告装置。
【請求項５】
前記離間距離判定手段は、
前記装置との近距離無線通信が確立されていない場合、前記装置と当該置き忘れ警告装置の離間距離が所定の範囲を超えていると判定することを特徴とする請求項４に記載の置き忘れ警告装置。
【請求項６】
前記屋内屋外判定手段は、
現在位置情報を取得する位置情報取得手段と、
前記位置情報取得手段により前記現在位置情報を取得出来ているか否かを判定する位置情報取得可否判定手段と、を備え、
前記現在位置情報を取得出来ているか否かに基づいて、当該置き忘れ警告装置が屋内に存在するか屋外に存在するかを判定することを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の置き忘れ警告装置。
【請求項７】
前記屋内屋外判定手段は、前記位置情報取得手段により前記現在位置情報を取得出来ていない場合、当該置き忘れ警告装置が屋内に存在すると判定することを特徴とする請求項６に記載の置き忘れ警告装置。
【請求項８】
前記屋内屋外判定手段は、
地図データと、
前記位置情報取得手段により取得した前記現在位置情報と前記地図データを照合して、前記現在位置情報が建造物内か否かを判定する位置判定手段と、を更に備え、
前記位置情報取得手段により前記現在位置情報を取得出来ている場合、で且つ、前記位置判定手段による判定結果が建造物内の場合、当該置き忘れ警告装置が屋内に存在すると判定することを特徴とする請求項６に記載の置き忘れ警告装置。
【請求項９】
前記屋内屋外判定手段は、
当該置き忘れ警告装置の移動範囲の情報を取得する移動範囲取得手段と、
前記移動範囲取得手段により取得した移動範囲が所定の範囲内の移動か否かを判定する移動範囲判定手段と、を更に備え、
前記位置情報取得手段により前記現在位置情報を取得出来ている場合、で且つ、前記位置判定手段による判定結果が建造物内ではない場合、で且つ、前記移動範囲判定手段による判定結果が前記所定の範囲内の移動の場合、当該置き忘れ警告装置が屋内に存在すると判定することを特徴とする請求項８に記載の置き忘れ警告装置。
【請求項１０】
装置の置き忘れを警告する置き忘れ警告装置の置き忘れ警告方法であって、
前記装置と当該置き忘れ警告装置の離間距離が所定の範囲内か否かを判定する離間距離判定ステップと、
当該置き忘れ警告装置が屋内に存在するか屋外に存在するかを判定する屋内屋外判定ステップと、
前記離間距離判定ステップによる判定結果と、前記屋内屋外判定ステップによる判定結果と、に基づいて前記装置の置き忘れを判定する置き忘れ判定ステップと、
前記置き忘れ判定ステップにより前記装置の置き忘れと判定された場合、置き忘れを警告する置き忘れ警告ステップと、
を含むことを特徴とする置き忘れ警告方法。
【請求項１１】
装置の置き忘れを警告する置き忘れ警告装置のコンピュータを、
前記装置と当該置き忘れ警告装置の離間距離が所定の範囲内か否かを判定する離間距離判定手段、
当該置き忘れ警告装置が屋内に存在するか屋外に存在するかを判定する屋内屋外判定手段、
前記離間距離判定手段による判定結果と、前記屋内屋外判定手段による判定結果と、に基づいて前記装置の置き忘れを判定する置き忘れ判定手段、
前記置き忘れ判定手段により前記装置の置き忘れと判定された場合、置き忘れを警告する置き忘れ警告手段、
として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月10日(2017.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明の情報処理装置は、建物の図面データを表示手段に表示させる表示制御手段と、前記表示された図面データの一部が指示された際に、その指示位置に基づいて検索条件を抽出する抽出手段と、前記抽出された検索条件に基づいて、施工事例を検索する検索手段と、を備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
建物の図面データを表示手段に表示させる表示制御手段と、
前記表示された図面データの一部が指示された際に、その指示位置に基づいて検索条件を抽出する抽出手段と、
前記抽出された検索条件に基づいて、施工事例を検索する検索手段と、
を備える情報処理装置。
【請求項２】
前記情報処理装置の位置を検出して位置情報を取得する位置検出手段を備え、
前記表示制御手段は、前記検出された位置情報に基づいて顧客を特定し、当該特定した顧客に対応する図面データを前記表示手段に表示させる請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記抽出手段は、前記特定された顧客に対応する建物種別情報を参照し、当該参照した建物種別情報に基づいて建物に関する検索条件を抽出し、
前記検索手段は、前記抽出された建物に関する検索条件に基づいて、施工事例を検索する請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記抽出手段は、前記指示位置に対応する領域に含まれる文字列を文字認識し、当該文字認識した文字列に基づいて場所に関する検索条件を抽出し、
前記検索手段は、前記抽出された場所に関する検索条件に基づいて、施工事例を検索する請求項１から３のいずれか一項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記抽出手段は、前記指示位置に対応する領域の面積を算出し、当該算出した面積に基づいて面積に関する検索条件を抽出し、
前記検索手段は、前記抽出された面積に関する検索条件に基づいて、施工事例を検索する請求項１から４のいずれか一項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
コンピュータを、
建物の図面データを表示手段に表示させる表示制御手段、
前記表示された図面データの一部が指示された際に、その指示位置に基づいて検索条件を抽出する抽出手段、
前記抽出された検索条件に基づいて、施工事例を検索する検索手段、
として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月10日(2017.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】工事管理装置及びプログラム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、工事管理装置及びプログラムに関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明の工事管理装置は、天気予報情報を取得する第１取得手段と、対象工事における工事要素情報を前記対象工事における工事日程ととともに取得する第２取得手段と、前記第１取得手段により取得された天気予報情報が前記第２取得手段により取得された工事要素情報に対して警告対象となるか否かを判別する判別手段と、を備える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
天気予報情報を取得する第１取得手段と、
対象工事における工事要素情報を前記対象工事における工事日程ととともに取得する第２取得手段と、
前記第１取得手段により取得された天気予報情報が前記第２取得手段により取得された工事要素情報に対して警告対象となるか否かを判別する判別手段と、
を備える工事管理装置。
【請求項２】
前記対象工事が複数の工程からなる場合に、前記複数の工程を工程表として表示させる表示制御手段を備え、
前記判別手段は、前記工程毎に前記天気予報情報が前記工事要素情報に対して警告対象となるか否かを判別し、
前記表示制御手段は、前記判別手段により前記天気予報情報が前記工事要素情報に対して警告対象と判別された工程があった場合に、当該工程に対応させて警告を表示させる請求項１に記載の工事管理装置。
【請求項３】
前記表示制御手段は、前記工程表において、前記対象工事に含まれる工事要素情報毎に、日付に沿って当該工事要素情報に対応する作業期間を示すバーを表示させる請求項２に記載の工事管理装置。
【請求項４】
前記表示制御手段は、前記工程表において、工事毎に、日付に沿って当該工事に対応する全体期間を示すバーを表示させる請求項２又は３に記載の工事管理装置。
【請求項５】
前記表示制御手段は、前記工程表において、前記工事要素情報に対して警告対象と判別された工程に対応する期間を、他の期間とは異なる態様で表示させる請求項２〜４のいずれか一項に記載の工事管理装置。
【請求項６】
前記天気予報情報には、降雨の有無、最低気温、最高気温、風速のうち少なくとも一つが含まれる請求項１〜５のいずれか一項に記載の工事管理装置。
【請求項７】
前記工事要素情報は、前記対象工事において作業を行う者を示す情報、又は、前記対象工事において作業に使用される物を示す情報である請求項１〜６のいずれか一項に記載の工事管理装置。
【請求項８】
コンピュータを、
天気予報情報を取得する第１取得手段、
対象工事における工事要素情報を前記対象工事における工事日程ととともに取得する第２取得手段、
前記第１取得手段により取得された天気予報情報が前記第２取得手段により取得された工事要素情報に対して警告対象となるか否かを判別する判別手段、
として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月15日(2017.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明の情報処理装置は、登録される文書の作成日時情報を取得する取得手段と、前記取得手段により取得された前記作成日時情報に基づいて、前記文書を、予め登録されていたスケジュール内容のうち前記文書の作成日時に実行予定となっていたスケジュール内容に対応付けて登録する登録手段と、を備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
登録される文書の作成日時情報を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された前記作成日時情報に基づいて、前記文書を、予め登録されていたスケジュール内容のうち前記文書の作成日時に実行予定となっていたスケジュール内容に対応付けて登録する登録手段と、
を備える情報処理装置。
【請求項２】
前記登録手段は、前記スケジュール内容に基づいて前記文書を管理するための管理情報を付加する請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記管理情報は、前記スケジュール内容の訪問先を含む請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記スケジュール内容が変更された場合、変更されたスケジュール内容に対応付けて登録された前記文書を書き換える書換手段を備える請求項１〜３の何れか一項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
コンピュータを、
登録される文書の作成日時情報を取得する取得手段、
前記取得手段により取得された前記作成日時情報に基づいて、前記文書を、予め登録されていたスケジュール内容のうち前記文書の作成日時に実行予定となっていたスケジュール内容に対応付けて登録する登録手段、
として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月3日(2017.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明の携帯型情報処理装置は、装置本体の現在位置情報を検出した際に該検出した現在位置情報を所定の顧客に対する住所情報として取得する取得手段と、前記取得手段により取得された住所情報に基づいて該住所情報に対応付けて予め登録されている文書情報または図面情報を検索する検索手段と、前記検索手段により検索した結果のリストを、前記顧客の名称情報とともに表示させる表示制御手段と、を備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置本体の現在位置情報を検出した際に該検出した現在位置情報を所定の顧客に対する住所情報として取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された住所情報に基づいて該住所情報に対応付けて予め登録されている文書情報または図面情報を検索する検索手段と、
前記検索手段により検索した結果のリストを、前記顧客の名称情報とともに表示させる表示制御手段と、
を備える携帯型情報処理装置。
【請求項２】
装置本体の現在位置情報を検出した際に該検出した現在位置情報を住所情報として取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された住所情報に基づいて該住所情報に対応付けて予め登録されている顧客情報を検索して取得する検索手段と、
所定の文書情報または図面情報を登録する際に、前記検索手段により取得された顧客情報に対応付けて前記文書情報または前記図面情報を登録する登録制御手段と、
を備える携帯型情報処理装置。
【請求項３】
コンピュータを、
装置本体の現在位置情報を検出した際に該検出した現在位置情報を所定の顧客に対する住所情報として取得する取得手段、
前記取得手段により取得された住所情報に基づいて該住所情報に対応付けて予め登録されている文書情報または図面情報を検索する検索手段、
前記検索手段により検索した結果のリストを、前記顧客の名称情報とともに表示させる表示制御手段、
として機能させるためのプログラム。
【請求項４】
コンピュータを、
装置本体の現在位置情報を検出した際に該検出した現在位置情報を住所情報として取得する取得手段、
前記取得手段により取得された住所情報に基づいて該住所情報に対応付けて予め登録されている顧客情報を検索して取得する検索手段、
所定の文書情報または図面情報を登録する際に、前記検索手段により取得された顧客情報に対応付けて前記文書情報または前記図面情報を登録する登録制御手段、
として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月20日(2017.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成装置であって、
ユーザの個人設定値を保存する保存手段と、
ユーザのログインを受け付ける受付手段と、
前記受付手段によりログインを受け付けた前記ユーザの個人設定値を、前記保存手段に保存することができるかどうかを判断する判断手段と、
保存できないと前記判断手段により判断され、ログインを受け付けた前記ユーザにより個人設定値を登録することが指示された場合、登録が指示された前記個人設定値を、一時的に保存するために用意された仮想保存領域に保存するように制御する制御手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記個人設定値は、表示言語の情報であることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記個人設定値は、実行されたジョブの設定情報であることを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記判断手段は、前記仮想保存領域の空き容量が閾値未満であるときに、ログインを受け付けた前記ユーザの個人設定値を前記仮想保存領域に保存できないと判断することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記判断手段は、所定数のユーザの個人設定値が前記仮想保存領域に保存されている状態で、個人設定が保存されていないユーザのログインを受け付けたときに、当該ユーザの個人設定値を前記仮想保存領域に保存できないと判断することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記仮想保存領域に保存される個人設定値は、ユーザのログアウトを条件に削除されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記仮想保存領域に保存された個人設定値と同一の機能又は項目の設定値を、前記保存手段に保存されているログイン中のユーザの設定値から削除することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記制御手段は、ユーザがログインする際に、該ログインするユーザと、前記仮想保存領域に保存されている設定値が保存された際にログインしていたユーザとが同一ユーザか否かを判断し、同一ユーザである場合には前記仮想保存領域に保存されている設定値を削除せず、同一ユーザでない場合には前記仮想保存領域に保存されている設定値を削除することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記判断手段により保存できないと判断された場合に、ログイン中のユーザに警告を行う警告手段を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
ユーザの個人設定値を保存する保存手段を有する画像形成装置の制御方法であって、
ユーザのログインを受け付ける受付ステップと、
前記受付ステップでログインを受け付けた前記ユーザの個人設定値を、前記保存手段に保存することができるかどうかを判断する判断ステップと、
保存できないと前記判断ステップで判断され、ログインを受け付けた前記ユーザにより個人設定値を登録することが指示された場合、登録が指示された前記個人設定値を、一時的に保存するために用意された仮想保存領域に保存する保存ステップと、
を有することを特徴とする制御方法。
【請求項１１】
コンピュータを、請求項１乃至９のいずれか１項に記載された手段として機能させるためのプログラムを記憶した記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、画像形成装置であって、ユーザの個人設定値を保存する保存手段と、ユーザのログインを受け付ける受付手段と、前記受付手段によりログインを受け付けた前記ユーザの個人設定値を、前記保存手段に保存することができるかどうかを判断する判断手段と、保存できないと前記判断手段により判断され、ログインを受け付けた前記ユーザにより個人設定値を登録することが指示された場合、登録が指示された前記個人設定値を、一時的に保存するために用意された仮想保存領域に保存するように制御する制御手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ユーザ毎の個人設定値を記憶しておき、個人設定値に応じて処理のデフォルト値や振る舞いを変更するための機能を備えた画像形成装置、画像形成装置の制御方法、及びプログラムを記憶した記憶媒体に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像形成装置、画像形成装置の制御方法及びプログラムを記憶した記憶媒体
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月10日(2017.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明の文書管理装置は、文書の各ページに含まれる分類項目に基づいて、当該分類項目に対応するフォルダを作成する作成手段と、前記文書の各ページをそれぞれ、前記作成手段により作成されたフォルダのうち当該ページに対応するフォルダに登録する登録手段と、を備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
文書の各ページに含まれる分類項目に基づいて、当該分類項目に対応するフォルダを作成する作成手段と、
前記文書の各ページをそれぞれ、前記作成手段により作成されたフォルダのうち当該ページに対応するフォルダに登録する登録手段と、
を備える文書管理装置。
【請求項２】
前記文書の各ページから前記分類項目を抽出する抽出手段を更に備え、
前記作成手段は、前記抽出手段により抽出された分類項目に基づいて、前記フォルダを作成する請求項１に記載の文書管理装置。
【請求項３】
前記抽出手段は、前記文書の各ページに含まれる分類項目設定情報を読み込み、当該読み込まれた分類項目設定情報に含まれる分類項目を抽出する請求項２に記載の文書管理装置。
【請求項４】
前記文書は、工事に関する文書であり、前記分類項目は、工事を識別するための工事番号である請求項１〜３のいずれか一項に記載の文書管理装置。
【請求項５】
文書の各ページに含まれる分類項目に基づいて、当該分類項目に対応するフォルダを作成する工程と、
前記文書の各ページをそれぞれ、前記作成されたフォルダのうち当該ページに対応するフォルダに登録する工程と、
を含む文書管理方法。
【請求項６】
コンピュータを、
文書の各ページに含まれる分類項目に基づいて、当該分類項目に対応するフォルダを作成する作成手段、
前記文書の各ページをそれぞれ、前記作成手段により作成されたフォルダのうち当該ページに対応するフォルダに登録する登録手段、
として機能させるためのプログラム。