【手続補正書】
【提出日】平成29年4月4日(2017.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
＜＜ポリエステル鎖＞＞
ポリエステル鎖の構造
ポリアルキレンイミン誘導体は、後述するポリアルキレンイミン鎖とともに、下記式２−Ａで表されるポリエステル鎖および下記式２−Ｂで表されるポリエステル鎖からなる群から選択される少なくとも１つのポリエステル鎖を含む。ポリエステル鎖は、一態様では、後述する式Ａで表されるアルキレンイミン鎖と、式２−Ａ中の＊１において、式Ａに含まれる窒素原子Ｎとカルボニル結合−（Ｃ＝Ｏ）−により結合し、−Ｎ−（Ｃ＝Ｏ）−を形成することができる。また、他の一態様では、後述する式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖とポリエステル鎖とが、式Ｂ中の窒素カチオンＮ＋とポリエステル鎖が有するアニオン性基により塩架橋基を形成することができる。塩架橋基としては、ポリエステル鎖に含まれる酸素アニオンＯ−と式Ｂ中のＮ＋とにより形成されるものを挙げることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
式Ａで表されるアルキレンイミン鎖と、式Ａに含まれる窒素原子Ｎとカルボニル結合−（Ｃ＝Ｏ）−により結合するポリエステル鎖としては、上記式２−Ａで表されるポリエステル鎖を挙げることができる。上記式２−Ａで表されるポリエステル鎖は、＊１で表される結合位置において、アルキレンイミン鎖に含まれる窒素原子とポリエステル鎖に含まれるカルボニル基−（Ｃ＝Ｏ）−とが−Ｎ−（Ｃ＝Ｏ）−を形成することにより、式Ａで表されるアルキレンイミン鎖と結合することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
また、式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖と、式Ｂ中のＮ＋とポリエステル鎖に含まれるアニオン性基が塩架橋基を形成することにより結合するポリエステル鎖としては、上記式２−Ｂで表されるポリエステル鎖を挙げることができる。上記式２−Ｂで表されるポリエステル基は、酸素アニオンＯ−により、式Ｂ中のＮ＋と塩架橋基を形成することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３０】
成分Ａ−２は、ポリアルキレンイミンと反応し得る官能基を１つ以上有することにより、ポリアルキレンイミンと反応することができる。こうして形成されるポリアルキレンイミン誘導体において、先に記載したように、ポリエステル鎖は、好ましくは、−Ｎ−（Ｃ＝Ｏ）−または塩架橋基によって、ポリアルキレンイミン鎖を構成するアルキレンイミン鎖と結合することができる。そのような結合をもたらすために好ましくは、ポリエステルは、上記官能基として、一価の酸性基を有することができる。ここで酸性基とは、水中または水を含む溶媒（水性溶媒）中でＨ＋を放出しアニオンに解離可能な基をいう。そのような基は、ポリアルキレンイミン鎖と結合を形成し、または塩架橋基を形成することができる。具体例としては、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、それらの塩の形態等を挙げることができ、好ましくはカルボキシ基およびカルボキシ塩である。ここでカルボキシ基（−ＣＯＯＨ）の塩の形態とは、−ＣＯＯＭにおいてＭがアルカリ金属イオン等のカチオンを表すカルボキシ塩を意味する。他の酸性基の塩の形態についても、同様である。立体反発鎖として有効に機能し得るポリエステル鎖を導入する観点からは、成分Ａ−２に含まれる上記官能基の数は、好ましくは１つである。また同様の観点から、成分Ａ−２において、上記官能基は、好ましくは末端官能基として含まれる。
なお上記では酸性基を水中または水性溶媒に関して規定したが、ポリアルキレンイミン誘導体は、水系（ここで「系」とは、「含む」の意味で用いる。）溶媒中で用いられるものに限定されるものではなく、非水系溶媒中で好ましく使用され得る。また、ポリアルキレンイミン誘導体を含む後述する磁気記録媒体用塗料組成物に含まれる溶媒も、水系溶媒に限定されるものではなく、非水系溶媒でもよく、好ましくは非水系溶媒である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４５】
［磁性層］
（強磁性六方晶フェライト粉末）
＜活性化体積＞
本発明の磁気テープは、磁性層に１８００ｎｍ３以下の活性化体積を示す強磁性六方晶フェライト粉末を含む。
活性化体積とは、前述したように磁化反転の単位であって、粒子の磁気的な大きさを示す指標であり、一般に、磁性層に含まれる強磁性粉末が示す活性化体積が小さいほど、高密度記録化に適した強磁性粉末と言うことができる。一方、磁化の安定性の観点からは、上記活性化体積の下限は、例えば８００ｎｍ３以上であることが好ましく、１０００ｎｍ３以上であることがより好ましく、１２００ｎｍ３以上であることが更に好ましい。ただし、強磁性六方晶フェライト粉末は、磁性層において前述の範囲のｃｏｓθを満たす状態で存在すればよく、その活性化体積は上記下限を下回ってもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６６】
［層構成］
本発明の磁気テープにおける非磁性支持体および各層の厚さについては、非磁性支持体の厚さが、好ましくは３．０〜８０．０μｍであり、より好ましくは３．０〜５．０μｍである。磁性層の厚さは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるものであるが、一般には１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、高密度記録化の観点から、好ましくは２０ｎｍ〜１２０ｎｍであり、更に好ましくは３０ｎｍ〜１００ｎｍである。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７９】
６．磁気テープの作製
厚さ５．０μｍのポリエチレンナフタレート製支持体の表面上に、乾燥後の厚さが０．１μｍとなるように上記５．（２）で調製した非磁性層形成用組成物を塗布、乾燥して非磁性層を形成した。次いで、非磁性層上に乾燥後の厚さが７０ｎｍとなるように上記５．（１）で調製した磁性層形成用組成物を塗布した。表４、表５に垂直配向処理「有」と記載した実施例、比較例については、塗布した磁性層形成用組成物が未乾状態にあるうちに、磁場強度０．３Ｔの磁場を塗布面に対し垂直方向に印加して垂直配向処理を行った後乾燥させ、磁性層を形成した。表４に垂直配向処理「無」と記載したものについては上記垂直配向処理を行わずに塗布した磁性層形成用組成物を乾燥させ、磁性層を形成した。
その後、上記ポリエチレンナフタレート製支持体の非磁性層および磁性層を形成した面とは反対側の面に、乾燥後の厚さが０．４μｍとなるように上記５．（３）で調製したバックコート層形成用組成物を塗布、乾燥させて、積層体を得た。
その後、得られた積層体に対して、金属ロールのみから構成されるカレンダーを用いてカレンダー処理速度１００ｍ／分、線圧３００ｋｇ／ｃｍ、金属ロール温度１００℃で表面平滑化処理を行い、更に、温度７０℃の環境下で３６時間熱処理を行った。続いてスリッターを用いて熱処理した積層体を１／２インチ幅（０．０１２７メートル）に裁断し、磁気テープを作製した。
ここで、各実施例、比較例について、それぞれ長さ５８０ｍの磁気テープを２つ作製し、一方を後述する摩耗幅Ａの測定に、他方を後述する摩耗幅Ｂの測定に用いた。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８９】
（３）化合物Ｊ−２の調製
＜ポリエステル（ｉ−２）の合成＞
表３に示すカルボン酸の仕込み量を変更した点以外はポリエステル（ｉ−１）と同様にして、ポリエステル（ｉ−２）を得た。
＜ポリエチレンイミン誘導体（Ｊ−２）の合成＞
表２に示すポリエチレンイミンと、得られたポリエステル（ｉ−２）とを用いた点以外は化合物Ｊ−１と同様に合成を行い、ポリエチレンイミン誘導体（Ｊ−２）を得た。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９７】
（摩耗試験）
温度２３℃相対湿度５０％に温度および湿度を制御した雰囲気下、磁気テープの磁性層表面を、ＡｌＦｅＳｉｌ角柱（ＥＣＭＡ（European Computer Manufacturers Association）−２８８／Ａｎｎｅｘ Ｈ／Ｈ２ に規定されている角柱） の長手方向と直交するように、ＡｌＦｅＳｉｌ角柱の一稜辺（エッジ）にラップ角１２度で接触させ、その状態で長さ５８０ｍの磁気テープを１．０Ｎの張力下において３ｍ／秒の速さで５０往復させた。なおＡｌＦｅＳｉｌ角柱とは、センダスト系の合金であるＡｌＦｅＳｉｌ製角柱である。
上記角柱のエッジを光学顕微鏡を用いて上方から観察し、特開２００７−０２６５６４号公報段落００１５に同公報図１に基づき説明されている磨耗幅（ＡｌＦｅＳｉｌ摩耗幅）を求めた。
未走行の状態の磁気テープについて求めた摩耗幅を摩耗幅Ａ、繰り返し走行後の磁気テープについて求めた摩耗幅を摩耗幅Ｂとし、未走行状態に対する繰り返し走行後の摩耗幅の差分（摩耗幅変化量）を、下記式により算出した。
（摩耗幅変化量）＝Ａ―Ｂ
算出された結果を、表４および表５に示す。こうして求められる摩耗幅変化量が５μｍ以内であれば、磁性層表面の摩耗性が繰り返し走行後も維持されていると判断することができる。