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【手続補正書】
【提出日】平成28年11月25日(2016.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気共鳴装置（５）によりボリューム部分の内部のＭＲデータを取得するために、
ａ）第１の共鳴高周波パルス（３１）が照射されるステップ、
ｂ）第２の共鳴高周波パルス（３２）が照射されるステップ、
ｃ）第１の共鳴高周波パルス（３１）の後でかつ第２の共鳴高周波パルス（３２）の前に印加されてディフェーズを行う第１の傾斜磁場（４１）が印加されるステップ、
ｄ）第２の共鳴高周波パルス（３２）の後に第３の共鳴高周波パルス（３３）が照射されるステップ、
ｅ）第１の傾斜磁場（４１）によって準備された磁化成分の励起エコー（ＳＥ）をリフォーカスするために第３の共鳴高周波パルス（３３）の後に第２の傾斜磁場（４２）が印加されるステップ、
ｆ）ＭＲデータが読み出されるステップ、
ｇ）ＭＲデータの読み出し後に縦磁化を低減するために第４の共鳴高周波パルス（３４）が照射されるステップ
を含むシーケンス（６１，６２）により繰り返してＭＲデータを取得する方法。
【請求項２】
ボリューム部分が１つのスライスを含み、第１の共鳴高周波パルス（３１）の期間中、第２の共鳴高周波パルス（３２）の期間中、第３の共鳴高周波パルス（３３）の期間中および第４の共鳴高周波パルス（３４）の期間中に、それぞれスライス選択傾斜磁場が印加されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
第１の共鳴高周波パルス（３１）により、第２の共鳴高周波パルス（３２）により、第３の共鳴高周波パルス（３３）により、そして第４の共鳴高周波パルス（３４）により、それぞれ３次元のボリューム部分の全体が励起されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
第２の共鳴高周波パルス（３２）の後でかつ第３の共鳴高周波パルス（３３）の前に、磁化の横方向成分をディフェーズするために、スポイラー傾斜磁場（４４）が印加されることを特徴とする請求項１乃至３の１つに記載の方法。
【請求項５】
第４の共鳴高周波パルス（３４）の後に、磁化の横方向成分をディフェーズするために、別のスポイラー傾斜磁場（４５）が印加されることを特徴とする請求項１乃至４の１つに記載の方法。
【請求項６】
第４の共鳴高周波パルス（３４）が照射される前に、第３の共鳴高周波パルス（３３）が照射されるステップと、第２の傾斜磁場（４２）が印加されるステップと、ＭＲデータが読み出されるステップとが繰り返し実行されることを特徴とする請求項１乃至５の１つに記載の方法。
【請求項７】
励起エコー（ＳＥ）の第１の信号強度（Ｉ1）および自由誘導減衰エコー（ＦＥ）の第２の信号強度（Ｉ2）を決定するために、請求項１乃至６の１つに記載の方法が使用され、
励起エコー（ＳＥ）および自由誘導減衰エコー（ＦＥ）をリフォーカスするために、第２の傾斜磁場（４２）の後に、その第２の傾斜磁場（４２）とは異なる極性を持つ第３の傾斜磁場（４３）が印加され、
ＭＲデータの読み出し時に、励起エコー（ＳＥ）の第１の信号強度（Ｉ1）および自由誘導減衰エコー（ＦＥ）の第２の信号強度（Ｉ2）が決定され、
第１の信号強度（Ｉ1）および第２の信号強度（Ｉ2）に関係してＢ１磁場の振幅が決定される、磁気共鳴装置（５）によりボリューム部分の内部のＢ１磁場を決定する方法。
【請求項８】
第１の共鳴高周波パルス（３１）および第２の共鳴高周波パルス（３２）がそれぞれ同一のフリップ角を有することを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
フリップ角が４５°乃至６５°の範囲内に設定されることを特徴とする請求項８記載の方法。
【請求項１０】
第４の共鳴高周波パルス（３４）のフリップ角が９０°であることを特徴とする請求項７乃至９の１つに記載の方法。
【請求項１１】
第４の共鳴高周波パルス（３４）のフリップ角が、第１の共鳴高周波パルス（３１）のフリップ角又は第２の共鳴高周波パルス（３２）のフリップ角に一致するか、又は、
第４の共鳴高周波パルス（３４）のフリップ角が、第１の共鳴高周波パルス（３１）のフリップ角又は第２の共鳴高周波パルス（３２）のフリップ角よりも大きく選ばれることを特徴とする請求項７乃至１０の１つに記載の方法。
【請求項１２】
ボリューム部分の内部のＭＲデータを取得する磁気共鳴装置であって、
磁気共鳴装置（５）が、静磁場磁石（１）と、傾斜磁場システム（３）と、少なくとも１つの高周波アンテナ（４）と、少なくとも１つの受信コイル要素と、傾斜磁場システム（３）および少なくとも１つの高周波アンテナ（４）を制御し、少なくとも１つの受信コイル要素によって収集された測定信号を受信し、それらの測定信号を評価しかつＭＲデータを生成するための制御装置（１０）とを含み、
磁気共鳴装置（５）が、ＭＲデータを取得するシーケンス（６１；６２）を繰り返し実行するように構成され、
各シーケンス（６１；６２）ごとに、
ａ）少なくとも１つの高周波アンテナ（４）により、第１の共鳴高周波パルス（３１）を照射し、
ｂ）少なくとも１つの高周波アンテナ（４）により、第２の共鳴高周波パルス（３２）を照射し、
ｃ）傾斜磁場システム（３）により、第１の共鳴高周波パルス（３１）の後でかつ第２の共鳴高周波パルス（３２）の前に、ディフェーズを行う第１の傾斜磁場（４１）を印加し、
ｄ）少なくとも１つの高周波アンテナ（４）により、第２の共鳴高周波パルス（３２）の後に第３の共鳴高周波パルス（３３）を照射し、
ｅ）傾斜磁場システム（３）により、第１の傾斜磁場（４１）によって準備された磁化成分の励起エコー（ＳＥ）をリフォーカスするために、第３の共鳴高周波パルス（３３）の後に第２の傾斜磁場（４２）を印加し、
ｆ）ＭＲデータを読み出し、
ｇ）少なくとも１つの高周波アンテナ（４）により、ＭＲデータの読み出し後に第４の共鳴高周波パルス（３４）を照射する
磁気共鳴装置。
【請求項１３】
磁気共鳴装置（５）が、請求項１乃至１１の１つに記載の方法を実施するよう構成されていることを特徴とする請求項１２記載の磁気共鳴装置。
【請求項１４】
プログラムを含み磁気共鳴装置（５）のプログラム可能な制御装置（１０）のメモリ内に直接にロード可能であり、プログラムが磁気共鳴装置（５）の制御装置（１０）内で実行される際に請求項１乃至１１の１つに記載の方法の全てのステップを実行するためのプログラム手段を有する、コンピュータプログラム。
【請求項１５】
磁気共鳴装置（５）の制御装置（１０）内でのデータ媒体（２１）の使用時に請求項１乃至１１の１つに記載の方法を実行するように構成されている電子的に読取可能な制御情報が記憶されている電子的に読取可能なデータ媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月12日(2017.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラット・モジュール検出器アレイを有する計算機式断層写真法（ＣＴ）システムにおいて撮像を行なう方法であって、
ＣＴ走査から対象のファン・ビーム投影データを得るステップと、
前記フラット・モジュール検出器アレイの幾何学的構造パラメータを得るステップと、
前記ファン・ビーム投影データをパラレル・ビーム投影データへ変換するステップであって、前記幾何学的構造パラメータに基づいてファン・ビーム・投影データからデータを並べ換えするステップと、
前記パラレル・ビーム投影データからＣＴ画像を形成するステップと
を備え、
データを並べ換えする前記ステップは、
前記ＣＴ走査の設定パラメータを用いて、前記ファン・ビーム投影データと、対応する前記パラレル・ビーム投影データとの間の関係を得るために、前記幾何学的構造パラメータに基づいて、前記ファン・ビーム・投影データを再標本化するステップと、
前記パラレル・ビーム投影データと前記ファン・ビーム投影データとの間の前記対応関係に基づいて前記ファン・ビーム投影データに補間を施すステップを含んでおり、
前記ファン・ビーム投影データに施される前記補間は６次のラグランジュ補間である方法。
【請求項２】
データを並べ換えする前記ステップは、等間隔化されたパラレル・ビーム投影データを生成するために、前記パラレル・ビーム投影データを等間隔化するステップをさらに含んでおり、該等間隔化されたパラレル・ビーム投影データと間隔変更前の前記パラレル・ビーム投影データとの間の対応関係が、前記パラレル・ビーム投影データを等間隔化することにより得られ得る、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記パラレル・ビーム投影データを等間隔化する前記ステップは、予め決められた距離で前記パラレル・ビーム投影データを等間隔化するステップを含んでいる、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記等間隔化されたパラレル・ビーム投影データと間隔変更前の前記パラレル・ビーム投影データとの間の前記対応関係に基づいて前記パラレル・ビーム投影データに補間を施すステップをさらに含んでいる請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記ＣＴ走査から前記対象のファン・ビーム投影データを得る前記ステップは、前記ＣＴシステムがヘリカル・スキャンを実行するときには、アキシャル・スキャン・データを得るために、前記ヘリカル・スキャンにより得られる前記ファン・ビーム投影データを補間するステップを含んでいる、請求項１から請求項４の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記パラレル・ビーム投影データからの前記ＣＴ画像の形成は、フィルタ補正逆投影再構成アルゴリズムに基づく、請求項１から請求項５の何れか一項に記載の方法。
【請求項７】
彎曲型検出器アレイに適用可能である請求項１から請求項６の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
フラット・モジュール検出器アレイを有する計算機式断層写真法（ＣＴ）システムにおいて撮像を行なってＣＴ走査から対象のファン・ビーム投影データを得る装置であって、
前記フラット・モジュール検出器アレイの幾何学的構造パラメータを取得するパラメータ取得手段と、
前記パラレル・ビーム投影データと前記ファン・ビーム投影データとの間の対応関係を得るために、前記幾何学的構造パラメータに基づいて、前記ファン・ビーム投影データからパラレル・ビーム投影データへデータを再標本化し、かつ前記パラレル・ビーム投影データと前記ファン・ビーム投影データとの間の前記対応関係に基づいて前記ファン・ビーム投影データに補間を施すデータ並べ換え手段であって、データの前記再標本化は、前記ＣＴ走査の設定パラメータを用いるデータ並べ換え手段と、
前記パラレル・ビーム投影データを用いてＣＴ画像を形成する画像生成手段と
を備えており、
前記ファン・ビーム投影データに施される前記補間は６次のラグランジュ補間である、装置。
【請求項９】
前記データ並べ換え手段は、等間隔化されたパラレル・ビーム投影データを生成するために、前記パラレル・ビーム投影データを等間隔化する動作をさらに含んでおり、該等間隔化されたパラレル・ビーム投影データと間隔変更前の前記パラレル・ビーム投影データとの間の対応関係が、前記パラレル・ビーム投影データを等間隔化することにより得られ得る、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記並べ換え手段は、予め決められた距離で前記パラレル・ビーム投影データを等間隔化する、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記並べ換え手段は、前記等間隔化されたパラレル・ビーム投影データと間隔変更前の前記パラレル・ビーム投影データとの間の前記対応関係に基づいて前記パラレル・ビーム投影データに補間を施す、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記パラレル・ビーム投影データに施される前記補間は４次のラグランジュ補間である、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
請求項８から請求項１２の何れか一項に記載の装置を備えた計算機式断層写真法（ＣＴ）システム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月26日(2017.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スキャンガントリの第１の側に配置され、対象に放射線を発する放射線源と、
前記対象と前記放射線源との間に配置され、前記放射線源からの前記放射線をビームフォーミングするコリメータであって、前記放射線を通すための少なくとも１つのスリットを有する平面ゲーティング装置を含むコリメータと、
前記スキャンガントリの前記第１の側とは反対の第２の側に配置され、前記放射線を検出する放射線検出器と
を含む、放射線ＣＴ撮影システムであって、
前記放射線検出器が、一列に配置された複数の検出器要素を含み、隣接する検出器要素間に傾斜角度が存在し、
前記コリメータの長手方向における前記少なくとも一つのスリットの各々の幅の分布が、前記放射線源の焦点と前記スリットとの垂直距離と、前記焦点と前記放射線検出器との垂直距離と、隣接する検出器要素間の前記傾斜角度と、各検出器要素の長さと、前記スリットを通過する前記放射線によって形成される前記放射線検出器上の投影の所望の幅と、前記焦点を通り前記スリットに垂直な平面に対する前記スリットの長手方向の中心線上の点から前記焦点までの接続線のオフセット角とによって、統合的に求められる、
放射線ＣＴ撮影システム。
【請求項２】
前記複数の検出器要素は３個〜７個の検出器要素を有する、請求項１に記載の放射線ＣＴ撮影システム。
【請求項３】
前記放射線が、Ｘ線である、請求項１記載の放射線ＣＴ撮影システム。
【請求項４】
前記複数の検出器要素は３個〜７個の検出器要素を有する、請求項３に記載の放射線ＣＴ撮影システム。
【請求項５】
前記複数のスリットのうちの一つのスリットを選択するように構成されたコリメータコントローラを含む、請求項１記載の放射線ＣＴ撮影システム。
【請求項６】
前記複数の検出器要素が、同じ長さ、または異なる長さを有する、請求項１記載の放射線ＣＴ撮影システム。
【請求項７】
隣接する検出器要素間の前記傾斜角度が等しい、請求項１記載の放射線ＣＴ撮影システム。
【請求項８】
隣接する検出器要素の選択されたペア間の前記傾斜角度は等しくない、請求項１記載の放射線ＣＴ撮影システム。
【請求項９】
ＣＴコリメータのスリットプロファイルを測定するための方法であって、
前記ＣＴコリメータは、平面構造のゲーティング装置を含み、平面構造のゲーティング装置では、少なくとも１つのスリットが、ＣＴコリメータと協働して使用される放射線源からの放射線を通し、前記放射線がＣＴコリメータと協働して使用される放射線検出器に投影することができ、前記放射線検出器が、一列に配置された複数の検出器要素を含み、２つの隣接する検出器要素間には傾斜角度があり、前記方法が、
前記少なくとも１つのスリットの各スリットについて、前記スリットの長手方向における２つの対向エッジのプロファイルを、
前記放射線源の焦点と前記スリットとの間の垂直距離と、
前記焦点と前記放射線検出器との間の垂直距離と、
隣接する検出器要素間の前記傾斜角度と、
各検出器要素の長さと、
前記スリットを通過する前記放射線による前記放射線検出器上の投影の望ましい幅と、
前記焦点を通り、前記スリットに垂直な平面に対する、前記スリットの長手方向の中心線上の点から前記焦点までの接続線のオフセット角と、
に基づいて、測定するステップ
を含む、方法。
【請求項１０】
前記複数の検出器要素が、３から７つの検出器要素を含む、請求項９項記載の方法。
【請求項１１】
前記放射線がＸ線である、請求項９記載の方法。
【請求項１２】
前記複数の検出器要素が、同じ長さ、または異なる長さを有する、請求項９記載の方法。
【請求項１３】
隣接する検出器要素間の前記傾斜角度が等しい、請求項９記載の方法。
【請求項１４】
隣接する検出器要素の選択されたペア間の傾斜角度が等しくない、請求項９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月24日(2017.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々が複数の光電変換部を備え、第１の信号と第２の信号を出力する複数の画素と、
時刻と共に所定の傾きをもって電位が変化する参照信号を生成する参照信号生成器と、前記参照信号と前記複数の画素の各々から出力されるアナログ信号を比較する比較器とを備え、前記アナログ信号をデジタル信号に変換するＡＤ変換器とを有し、
前記第２の信号のＡＤ変換は前記ＡＤ変換器による前記第１の信号のＡＤ変換結果に応じて制御され、前記第１の信号をＡＤ変換する際に前記比較器の出力が変化したタイミングの前記参照信号に応じた値が前記第２の信号をＡＤ変換する際に前記比較器の初期値として設定され、
前記第１の信号は各画素の前記複数の光電変換部の少なくとも１つにより生成された第１の電荷に基づくものであり、前記第２の信号は各画素の残りの光電変換部の少なくとも１つにより生成された第２の電荷に基づくものであることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記第２の信号をＡＤ変換する際に前記比較器に入力される前記参照信号の初期値は、前記第１の信号をＡＤ変換する際の選択行の中で最も早く前記比較器の出力が変化したタイミングの参照信号に応じた値であることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記第１の信号をＡＤ変換する際に前記比較器の出力が変化したタイミングの前記参照信号に応じた値に対して、さらに所定の電位分オフセットさせた値を前記第２の信号をＡＤ変換する際に前記比較器に入力される前記参照信号の初期値として設定することを特徴とする請求項１または２に記載の撮像装置。
【請求項４】
各画素は、さらに前記複数の光電変換部により共有される電荷電圧変換部と、前記複数の光電変換部により生成された電荷を前記電荷電圧変換部に転送する複数の転送部とを備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
各々が複数の光電変換部を備え、第１の信号と第２の信号を出力する複数の画素と、
時刻と共に所定の傾きをもって電位が変化する参照信号を生成する参照信号生成器と、前記参照信号と前記複数の画素の各々から出力されるアナログ信号を比較する比較器とを備え、前記アナログ信号をデジタル信号に変換するＡＤ変換器とを有する撮像装置を制御する方法であって、
前記第２の信号のＡＤ変換を前記ＡＤ変換器による前記第１の信号のＡＤ変換結果に応じて制御し、前記第１の信号をＡＤ変換する際に前記比較器の出力が変化したタイミングの前記参照信号に応じた値を前記第２の信号をＡＤ変換する際に前記比較器の初期値として設定し、
前記第１の信号は各画素の前記複数の光電変換部の少なくとも１つにより生成された第１の電荷に基づくものであり、前記第２の信号は各画素の残りの光電変換部の少なくとも１つにより生成された第２の電荷に基づくものであることを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項６】
前記第２の信号をＡＤ変換する際に前記比較器に入力する前記参照信号の初期値は、前記第１の信号をＡＤ変換する際の選択行の中で最も早く前記比較器の出力が変化したタイミングの参照信号に応じた値であることを特徴とする請求項５に記載の撮像装置の制御方法。
【請求項７】
前記第１の信号をＡＤ変換する際に前記比較器の出力が変化したタイミングの前記参照信号に応じた値に対して、さらに所定の電位分オフセットさせた値を前記第２の信号をＡＤ変換する際に前記比較器に入力する前記参照信号の初期値として設定することを特徴とする請求項５または６に記載の撮像装置の制御方法。
【請求項８】
請求項５乃至７のいずれか１項に記載の制御方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項９】
請求項５乃至７のいずれか１項に記載の制御方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラムを記憶したコンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮像装置及びその制御方法、プログラム、記憶媒体
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、撮像装置及びその制御方法、プログラム、記憶媒体に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明に係わる撮像装置は、各々が複数の光電変換部を備え、第１の信号と第２の信号を出力する複数の画素と、時刻と共に所定の傾きをもって電位が変化する参照信号を生成する参照信号生成器と、前記参照信号と前記複数の画素の各々から出力されるアナログ信号を比較する比較器とを備え、前記アナログ信号をデジタル信号に変換するＡＤ変換器とを有し、前記第２の信号のＡＤ変換は前記ＡＤ変換器による前記第１の信号のＡＤ変換結果に応じて制御され、前記第１の信号をＡＤ変換する際に前記比較器の出力が変化したタイミングの前記参照信号に応じた値が前記第２の信号をＡＤ変換する際に前記比較器の初期値として設定され、前記第１の信号は各画素の前記複数の光電変換部の少なくとも１つにより生成された第１の電荷に基づくものであり、前記第２の信号は各画素の残りの光電変換部の少なくとも１つにより生成された第２の電荷に基づくものであることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月6日(2017.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原稿を読み取り、複数の色成分データを出力する読取センサと、
前記読取センサの軸方向に対応する主走査方向に直交する副走査方向の色ずれの補正とＭＴＦの調整を行うフィルタ処理手段と、
前記読取センサにかかる、副走査方向の色ずれ値とＭＴＦ値とを記憶する記憶手段と、
副走査方向の色ずれ値とＭＴＦ値との複数の組み合わせに対応させてフィルタ係数を保持するテーブルを参照して、前記記憶されている副走査方向の色ずれ値とＭＴＦ値に対応するフィルタ係数を決定する決定手段とを有し、
前記フィルタ処理手段は、前記決定手段が決定したフィルタ係数を用いて、前記読取センサから出力された注目画素の色成分データに対して、副走査方向の前後に隣接する２つの画素の画像データを用いてフィルタ処理を行うことを特徴とする画像読取装置。
【請求項２】
前記複数の色成分データには、第１の色成分データ、第２の色成分データおよび第３の色成分データが含まれ、
前記記憶手段は、前記第１の色成分データに対しては、第１のＭＴＦ値および前記第２の色成分データに対する該第１の色成分データの色ずれ量を示す第１の色ずれ値を記憶し、前記第３の色成分データに対しては、第３のＭＴＦ値および前記第２の色成分データに対する該第２の色成分データの色ずれ量を示す第２の色ずれ値を記憶し、前記第２の色成分データに対しては第２のＭＴＦ値を記憶し、
前記決定手段は、前記テーブルを参照して、前記第２のＭＴＦ値から前記第２の色成分データに対する第２のフィルタ係数を決定し、前記第１のＭＴＦ値および前記第１の色ずれ値から前記第１の色成分データに対する第１のフィルタ係数を決定し、前記第３のＭＴＦ値および前記第３の色ずれ値から前記第３の色成分データに対する第３のフィルタ係数を決定し、
前記フィルタ処理手段は、前記第１のフィルタ係数を用いて前記第１の色成分データに対してフィルタ処理を行い、前記第２のフィルタ係数を用いて前記第２の色成分データに対してフィルタ処理を行い、前記第３のフィルタ係数を用いて前記第３の色成分データにフィルタ処理を行うことを特徴とする請求項１記載の画像読取装置。
【請求項３】
前記読取センサは、コンタクトイメージセンサであることを特徴とする請求項１または２記載の画像読取装置。
【請求項４】
さらに、前記読取センサから出力された複数の色成分データを、副走査方向に隣接する２つのライン分記憶するメモリを有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項５】
前記第１、第２及び第３のフィルタ係数は、それぞれａ、ｂ、ｃの３つのフィルタ係数からなり、
前記テーブルは、前記第１の色成分データ用及び前記第３の色成分データ用として共用され、前記第３の色成分データ用として適用される場合は、前記第１の色成分データ用として適用される場合における前記フィルタ係数のうちａとｃとが入れ替えて適用されることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項６】
前記記憶手段は、前記副走査方向の色ずれ値とＭＴＦ値とを読取モードごとに記憶し、
前記決定手段は、前記読取モードごとの前記副走査方向の色ずれ値とＭＴＦ値とを使用して、当該副走査方向の色ずれ値とＭＴＦ値に対応するフィルタ係数を決定することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項７】
前記読取モードは、所定の速度で画像を読み取る通常モードと、該通常モードよりも高速で画像を読み取る高速モードであることを特徴とする請求項６記載の画像読取装置。
【請求項８】
前記読み取りモードは、原稿搬送装置を適用して原稿を流し読みするモードと、原稿台に載せた原稿を読み取るフラットベッド読みモードであることを特徴とする請求項６記載の画像読取装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月14日(2017.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板を保持するステージと、
前記モールドを保持する保持機構と、
前記モールドに設けられたマークを検出するスコープと、
前記スコープを駆動する駆動機構と、
前記保持機構に保持された前記モールドの前記マークが前記スコープの視野に位置するように前記駆動機構により前記スコープを駆動して位置決めし、前記スコープの位置決めに要した前記スコープの駆動量に基づいて前記保持機構に保持された前記モールドの基準位置からの位置ずれ量を求め、当該位置ずれ量に基づいて前記基板に設けられたマークが前記スコープの視野に位置するように前記ステージを移動させる処理部と、を有することを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記処理部は、前記スコープの位置決め後、前記モールドのマークと前記基板のマークの前記スコープによる検出結果に基づいて、前記モールドと前記基板のアライメントを行うことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記処理部は、前記基板の前記マークを前記スコープの視野内に位置させるために予め設定された前記ステージの移動量を前記位置ずれ量で補正した補正量に基づいて、前記ステージを移動させることを特徴とする請求項１又は２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記スコープが駆動される前の位置が前記モールドの基準位置であって、
前記基準位置は、前記保持機構に保持された前記モールドの前記マークの設計位置を含むことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記スコープが駆動される前の位置が前記モールドの基準位置であって、
前記基準位置は、前記基板に設けられたマーク又は前記ステージに設けられた基準マークを前記スコープで検出したときの前記スコープの位置を含むことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記処理部は、前記スコープに前記基板のマークを検出させた後、前記モールドのマークが前記スコープの視野に位置するように前記駆動機構により前記スコープを位置決めし、前記スコープの位置決めに要した前記スコープの駆動量に基づいて前記基板の位置ずれ量を求め、該位置ずれ量に基づいて前記基板のマークが前記スコープの視野に位置するように前記ステージを移動させることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記スコープは、前記モールドに設けられた複数のマークのそれぞれを検出するように複数設けられていることを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記駆動機構によって駆動された前記スコープの駆動量を検出する検出部を更に有することを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント処理における前記モールドと前記基板とのアライメントを行うアライメント方法であって、
保持機構に保持された前記モールドに設けられたマークがスコープの視野に位置するように前記スコープを駆動して位置決めする工程と、
前記スコープの位置決めに要した前記スコープの駆動量に基づいて前記保持機構に保持された前記モールドの基準位置からの位置ずれ量を求め、当該位置ずれ量に基づいて前記基板に設けられたマークが前記スコープの視野に位置するように前記基板を保持するステージを移動させる工程と、
前記モールドのマークと前記基板のマークの前記スコープによる検出結果に基づいて、前記モールドと前記基板のアライメントを行う工程と、
を有することを特徴とするアライメント方法。
【請求項１０】
請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、を有し、
該処理する工程により処理された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのインプリント装置は、モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、前記基板を保持するステージと、前記モールドを保持する保持機構と、前記モールドに設けられたマークを検出するスコープと、前記スコープを駆動する駆動機構と、前記保持機構に保持された前記モールドの前記マークが前記スコープの視野に位置するように前記駆動機構により前記スコープを駆動して位置決めし、前記スコープの位置決めに要した前記スコープの駆動量に基づいて前記保持機構に保持された前記モールドの基準位置からの位置ずれ量を求め、当該位置ずれ量に基づいて前記基板に設けられたマークが前記スコープの視野に位置するように前記ステージを移動させる処理部と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月26日(2016.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
貫通孔が形成され、前記貫通孔の内部に並べて設けられる複数の単位配置領域の境界部において、前記貫通孔の内壁から平面視で前記貫通孔の内側に突出する突出部を有するコア層と、
前記貫通孔の内部で、前記突出部によって互いに離間された状態で、前記複数の単位配置領域にそれぞれ収容される複数の電子部品と、
前記貫通孔の内部に充填され、前記電子部品の少なくとも側面を保持する樹脂層と
を含み、
前記突出部は、平面視における断面形状が先端に向かって細くなるテーパ状であるとともに、前記貫通孔の内側に突出する第１方向と、前記貫通孔が前記コア層を貫通する第２方向とを含む平面に対する断面形状が先端に向かって細くなるテーパ状であり、
前記突出部の前記先端は、前記コア層の前記第２方向における厚さの中央部に位置する、配線基板。
【請求項２】
前記貫通孔は平面視で矩形状であり、前記突出部は、前記境界部において前記複数の単位配置領域が並べられる方向に対する側方に位置する一対の前記内壁から突出している、請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記一対の内壁から突出する一対の突出部同士の間隔は、前記複数の単位配置領域が並べられる方向における前記電子部品の幅より狭い、請求項２記載の配線基板。
【請求項４】
前記突出部の突出方向と前記コア層の厚さ方向とで規定される前記突出部の断面の形状は、前記コア層の両方の面からテーパ状に形成される形状である、請求項１乃至３のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項５】
前記コア層の平面に平行な前記突出部の断面の形状は、当該突出部の両側に位置する一対の前記単位配置領域の内壁面からテーパ状に突出する形状である、請求項１乃至４のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項６】
前記電子部品は直方体状であり、長手方向の両端に電極が形成される、請求項１乃至５のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項７】
前記電子部品は直方体状であり、前記電子部品の長手方向に前記複数の電子部品が配列される、請求項１乃至６のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項８】
前記電子部品は直方体状であり、前記電子部品の短手方向に前記複数の電子部品が配列される、請求項１乃至６のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項９】
前記電子部品はキャパシタチップである、請求項１乃至８のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項１０】
貫通孔の内部に並べて設けられる複数の単位配置領域の境界部において内壁から平面視で内側に突出する突出部を有する前記貫通孔をコア層に形成する工程であって、前記突出部の平面視における断面形状が先端に向かって細くなるテーパ状であるとともに、前記貫通孔の内側に突出する第１方向と、前記貫通孔が前記コア層を貫通する第２方向とを含む平面に対する前記突出部の断面形状が先端に向かって細くなるテーパ状になるように、かつ、前記突出部の前記先端が前記コア層の前記第２方向における厚さの中央部に位置するように、前記貫通孔をコア層に形成する工程と、
前記貫通孔の内部の前記複数の単位配置領域に、前記突出部によって互いに離間された状態で、複数の電子部品をそれぞれ配置する工程と、
前記貫通孔の内部に樹脂材料を充填することにより、前記電子部品の少なくとも側面を保持する樹脂層を形成する工程と
を含む、配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の実施の形態の配線基板は、貫通孔が形成され、前記貫通孔の内部に並べて設けられる複数の単位配置領域の境界部において、前記貫通孔の内壁から平面視で前記貫通孔の内側に突出する突出部を有するコア層と、前記貫通孔の内部で、前記突出部によって互いに離間された状態で、前記複数の単位配置領域にそれぞれ収容される複数の電子部品と、前記貫通孔の内部に充填され、前記電子部品の少なくとも側面を保持する樹脂層とを含み、前記突出部は、平面視における断面形状が先端に向かって細くなるテーパ状であるとともに、前記貫通孔の内側に突出する第１方向と、前記貫通孔が前記コア層を貫通する第２方向とを含む平面に対する断面形状が先端に向かって細くなるテーパ状であり、前記突出部の前記先端は、前記コア層の前記第２方向における厚さの中央部に位置する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月26日(2016.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
貫通孔が形成され、前記貫通孔の内壁から平面視で前記貫通孔の内側に突出する突出部を有するコア層と、
前記貫通孔の内部に互いに離間した状態で平面視で並べて収容され、互いが並べられる方向に対する側部が前記突出部に係合される複数の電子部品と、
前記貫通孔の内部に充填され、前記電子部品の少なくとも側面を保持する樹脂層と
を含む、配線基板。
【請求項２】
前記貫通孔は平面視で矩形状であり、前記突出部は、少なくとも、前記複数の電子部品が並べられる方向に対する側方に位置する一対の前記内壁から突出しており、前記電子部品は、互いが並べられる方向に対する両側の側部が前記突出部に係合される、請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記突出部は、平面視で矩形状の前記貫通孔の前記内壁に沿って矩形環状に形成されており、前記電子部品は、互いが並べられる方向に対する両側の側部が前記突出部に係合される、請求項２記載の配線基板。
【請求項４】
前記貫通孔は平面視で矩形状であり、前記突出部は、前記複数の電子部品が並べられる方向に対する側方に位置する一対の前記内壁から突出する一対の突出部であり、前記電子部品は、前記両側の側部がそれぞれ前記一対の突出部に係合される、請求項２記載の配線基板。
【請求項５】
前記突出部の突出方向と前記コア層の厚さ方向とで規定される前記突出部の断面の形状は、前記コア層の両方の面からテーパ状に形成される形状である、請求項１乃至４のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項６】
前記電子部品は直方体状であり、長手方向の両端に電極が形成されており、前記電極の側部が前記突出部に係合される、請求項１乃至５のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項７】
前記電子部品は直方体状であり、前記電子部品の長手方向に沿って前記複数の電子部品が配列される、請求項１乃至６のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項８】
前記電子部品はキャパシタチップである、請求項１乃至７のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項９】
コア層の一方の面及び他方の面から底に向かって開口が徐々に小さくなる穴部を形成することにより、内壁から平面視で内側に突出するとともに、断面視で先端に向かって細くなるテーパ状の突出部を有する貫通孔を前記コア層に形成する工程と、
前記貫通孔の内部に互いに離間した状態で複数の電子部品を平面視で並べて収容し、前記複数の電子部品が互いに並べられる方向に対する側部を前記突出部に係合させる工程と、
前記貫通孔の内部に樹脂材料を充填することにより、前記電子部品の少なくとも側面を保持する樹脂層を形成する工程と
を含む、配線基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月24日(2017.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像表示パネルとタッチパネルとを含む表示装置を備える表示制御装置であって、
使用者が前記タッチパネルの操作受付部を視認可能な状態か否かを判定する判定部と、
前記タッチパネルの前記操作受付部の位置を感知可能な刺激を発生させる触感発生部と、
前記判定部による判定の結果に基づいて、前記触感発生部を作動または停止させる制御部と、
を有することを特徴とする表示制御装置。
【請求項２】
前記判定部は、前記画像表示パネルの表示が停止している場合に、使用者が前記タッチパネルの前記操作受付部を視認不可能な状態であると判定し、
前記制御部は、前記判定部によって前記画像表示パネルの表示が停止していると判定された場合に、前記触感発生部を作動させることを特徴とする請求項１に記載の表示制御装置。
【請求項３】
前記判定部は、前記画像表示パネルの光源が消灯している場合に、使用者が前記タッチパネルの前記操作受付部を視認不可能な状態であると判定し、
前記制御部は、前記判定部によって前記画像表示パネルの表示が停止していると判定された場合に、前記触感発生部を作動させることを特徴とする請求項１に記載の表示制御装置。
【請求項４】
前記触感発生部は、前記タッチパネルの操作面の任意の位置に触感を出現させられることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の表示制御装置。
【請求項５】
使用者が被写体像を確認できるファインダーと、
使用者が前記ファインダーに接眼したことを検出する接眼検出部と、
をさらに有し、
前記判定部は、前記接眼検出部により使用者が前記ファインダーに接眼したことを検出された場合には、前記タッチパネルの前記操作受付部が使用者により視認不可能な状態であると判定し、
前記触感発生部は、前記タッチパネルの前記操作受付部が使用者により視認不可能な状態であると判定された場合に作動することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の表示制御装置。
【請求項６】
前記ファインダーからの入射光を防ぐ機能を持つアイピースシャッターをさらに備え、
前記アイピースシャッターが閉じられており、かつ、前記判定部により使用者が前記タッチパネルの前記操作受付部を視認可能な状態であると判定された場合に、前記触感発生部は停止することを特徴とする請求項５に記載の表示制御装置。
【請求項７】
ライブビュー撮影中であり、前記判定部により使用者が前記タッチパネルの前記操作受付部を視認可能な状態であると判定された場合に、前記触感発生部は停止することを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の表示制御装置。
【請求項８】
再生モードに設定されており、前記判定部により使用者が前記タッチパネルの前記操作受付部を視認可能な状態であると判定された場合に、前記触感発生部は停止することを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の表示制御装置。
【請求項９】
前記触感発生部は、前記タッチパネルの前記操作受付部に対応する位置の表面の形状を部分的に変化させることにより、前記操作受付部を認識できるようにすることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の表示制御装置。
【請求項１０】
前記触感発生部は、前記タッチパネルの前記操作受付部またはその周辺の位置がタッチされると、前記タッチパネルを振動させることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の表示制御装置。
【請求項１１】
前記触感発生部は、前記タッチパネルの前記操作受付部またはその周辺の位置がタッチされると、使用者に電気的刺激を与えることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の表示制御装置。
【請求項１２】
画像表示パネルおよびタッチパネルを含む可動式表示装置と、前記可動式表示装置の収納状態を検出する状態検出部と、を備えた表示制御装置であって、
使用者が前記タッチパネルの操作受付部を操作可能な状態か否かを判定する判定部と、
前記タッチパネルの前記操作受付部の位置を感知可能な刺激を発生させる触感発生部と、
を備え、
前記可動式表示装置の前記タッチパネルが視認不可能な状態に収納されていると前記検出部により検出され、使用者が前記タッチパネルの操作受付部を操作不可能な状態であると前記判定部により判定された場合には、前記触感発生部は停止することを特徴とする表示制御装置。
【請求項１３】
前記触感発生部は、前記タッチパネルの前記操作受付部に対応する位置の表面の形状を部分的に変化させることにより、前記操作受付部を認識できるようにすることを特徴とする請求項１２に記載の表示制御装置。
【請求項１４】
前記触感発生部は、前記タッチパネルの操作受付部またはその周辺の位置がタッチされると、前記タッチパネルを振動させることを特徴とする請求項１２に記載の表示制御装置。
【請求項１５】
前記触感発生部は、前記タッチパネルの操作受付部またはその周辺の位置がタッチされると、使用者に電気的刺激を与えることを特徴とする請求項１２に記載の表示制御装置。
【請求項１６】
画像表示パネルとタッチパネルとを含む表示装置を備える表示制御装置の制御方法であって、
前記タッチパネルの操作受付部が使用者に視認可能な状態か否かを判定する判定ステップと、
前記判定ステップにおける判定の結果に基づいて、前記タッチパネルの前記操作受付部の位置を感知可能な刺激を発生させる触感発生部を作動または停止させる制御ステップと、
を有することを特徴とする表示制御装置の制御方法。
【請求項１７】
画像表示パネルとタッチパネルとを含む表示装置を制御する表示制御装置のコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
使用者が前記タッチパネルの操作受付部を視認可能な状態か否かを判定する判定ステップと、
前記判定ステップにおける判定の結果に基づいて、前記タッチパネルの前記操作受付部の位置を感知可能な刺激を発生させる触感発生部を作動または停止させる制御ステップと、
をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示制御装置、表示制御装置の制御方法、プログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、表示制御装置、表示制御装置の制御方法、プログラムに関する。特には、表示パネルとタッチパネルとを備えた表示装置を制御する表示制御装置と、この表示制御装置の制御方法と、この表示制御装置に実行させるためのプログラムに関する。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月27日(2017.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電力状態を切り替えて動作する２つ以上の機能装置の電力状態を独立して制御可能な画像処理装置であって、  操作部に操作画面を表示するアプリケーションの切り替えを行う場合に、該切り替え先のアプリケーションが機能装置毎の独立した電力制御に対応していない場合、前記２つ以上の機能装置の電力状態を前記２つ以上の機能装置が動作可能な状態に遷移させる第１の電源制御を行い、前記切り替え先のアプリケーションが機能装置毎の独立した電力制御に対応している場合、該アプリケーションで使用される機能装置の電力状態を該機能装置が動作可能な状態に遷移させる第２の電源制御を行う制御手段を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記切り替え先のアプリケーションが所定のアプリケーションではない場合、前記第１の電源制御を行わないことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記機能装置毎の独立した電力制御に対応しているアプリケーションは、属性情報として、前記アプリケーションで使用される機能装置の情報を保持することを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記切り替えを行う場合に、該切り替え先のアプリケーションが機能装置毎の独立した電力制御に対応しているか否かを判定する判定手段を有し、  前記制御手段は、前記判定手段の判定に基づいて動作することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
アプリケーションの登録を行う場合に、該登録するアプリケーションが機能装置毎の独立した電力制御に対応しているか否かを判定する判定手段と、  前記判定手段の判定に基づく情報を保持しておく保持手段と、を有し、  前記制御手段は、前記保持手段に保持されている情報に基づいて動作することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記判定手段は、アプリケーションに所定の属性が定義されていない場合に、該アプリケーションが機能装置毎の独立した電力制御に対応していないと判定することを特徴とする請求項４又は５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記制御手段は、ログイン中のユーザに使用権限がない機能に対応する機能装置については、前記動作可能な電力状態への遷移を制限することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
複数の電力状態を切り替えて動作する２つ以上の機能装置の電力状態を独立して制御可能な画像処理装置の制御方法であって、  操作部に操作画面を表示するアプリケーションの切り替えを行う場合に、該切り替え先のアプリケーションが機能装置毎の独立した電力制御に対応していない場合、前記２つ以上の機能装置の電力状態を前記２つ以上の機能装置が動作可能な状態に遷移させる第１の電源制御を行うステップと、  前記切り替え先のアプリケーションが機能装置毎の独立した電力制御に対応している場合、該アプリケーションで使用される機能装置の電力状態を該機能装置が動作可能な状態に遷移させる第２の電源制御を行うステップと、を有することを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項９】
コンピュータを、請求項１乃至７のいずれか１項に記載された手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】  本発明は、複数の電力状態を切り替えて動作する２つ以上の機能装置の電力状態を独立して制御可能な画像処理装置であって、操作部に操作画面を表示するアプリケーションの切り替えを行う場合に、該切り替え先のアプリケーションが機能装置毎の独立した電力制御に対応していない場合、前記２つ以上の機能装置の電力状態を前記２つ以上の機能装置が動作可能な状態に遷移させる第１の電源制御を行い、前記切り替え先のアプリケーションが機能装置毎の独立した電力制御に対応している場合、該アプリケーションで使用される機能装置の電力状態を該機能装置が動作可能な状態に遷移させる第２の電源制御を行う制御手段を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月21日(2017.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記目的を達成するために、本発明の一態様の撮像装置は、撮像光学系により結像される光学像を受けて画像データを取得する撮像部と、上記画像データから複数の特徴部を検出する特徴検出部と、上記検出された複数の特徴部を記憶する記憶部と、新たに得られた上記画像データから得られた特徴部と記憶された上記複数の特徴部との一致をもとに、各特徴の奥行き方向の位置変化を検出すると共に、所定の時間経過後の上記複数の特徴部の位置を予測する位置変化予測部と、上記位置変化予測部によって予測される上記複数の特徴部の所定時間経過後の位置情報と上記撮像光学系の焦点距離とによって画像内の上記複数の特徴部を合焦状態とし得る被写界深度に応じた撮影制御を行う制御部とを有する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の一態様の撮像装置の制御方法は、撮像光学系により結像される光学像を受けて画像データを取得し、上記画像データから複数の特徴部を検出し、上記検出された複数の特徴部を記憶し、新たに得られた画像データから得られた特徴部と記憶された上記複数の特徴部との一致をもとに、各特徴の奥行き方向の位置変化を検出すると共に、所定の時間経過後の上記複数の特徴部の位置を予測し、上記予測される上記複数の特徴部の所定時間経過後の位置情報と上記撮像光学系の焦点距離とによって画像内の上記複数の特徴部を合焦状態とし得る被写界深度に応じた撮影制御を行う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像光学系により結像される光学像を受けて画像データを取得する撮像部と、
上記画像データから複数の特徴部を検出する特徴検出部と、
上記検出された複数の特徴部を記憶する記憶部と、
新たに得られた上記画像データから得られた特徴部と記憶された上記複数の特徴部との一致をもとに、各特徴の奥行き方向の位置変化を検出すると共に、所定の時間経過後の上記複数の特徴部の位置を予測する位置変化予測部と、
上記位置変化予測部によって予測される上記複数の特徴部の所定時間経過後の位置情報と上記撮像光学系の焦点距離とによって画像内の上記複数の特徴部を合焦状態とし得る被写界深度に応じた撮影制御を行う制御部と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
上記制御部は、上記撮像部が取得した画像データに基づいて形成される画像内に複数の移動する被写体を判定する被写体判定部を更に有し、
上記被写体判定結果をもとに上記被写界深度に応じた撮影制御に切り換えることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
上記制御部は、上記撮像部が取得した画像データに基づいて形成される画像内の複数の移動する被写体の存在を判定する被写体判定部を更に有し、
上記被写体判定部で画像内に複数の移動する被写体が存在すると判定された場合には、上記制御部によって被写界深度の設定を制御する撮像モードに切り換えることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
上記制御部は、設定した絞り値に基づいて自動露出制御を行なってシャッター速度を設定し、設定されたシャッター速度値が所定の下限値以下の場合には、感度設定値を高める制御を行なうことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項５】
撮像光学系により結像される光学像を受けて画像データを取得し、
上記画像データから複数の特徴部を検出し、
上記検出された複数の特徴部を記憶し、
新たに得られた画像データから得られた特徴部と記憶された上記複数の特徴部との一致をもとに、各特徴の奥行き方向の位置変化を検出すると共に、所定の時間経過後の上記複数の特徴部の位置を予測し、
上記予測される上記複数の特徴部の所定時間経過後の位置情報と上記撮像光学系の焦点距離とによって画像内の上記複数の特徴部を合焦状態とし得る被写界深度に応じた撮影制御を行うことを特徴とする撮像装置の制御方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2015170919.tif 000001