【手続補正書】
【提出日】平成29年7月3日(2017.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷装置のためのエラストマー性画像形成ブランケットであって、前記印刷装置の印刷プロセスにおいて基材へと画像を転写するように構成された画像形成表面を有しているエラストマー性画像形成ブランケットを、作成する方法であって、
エラストマー性ポリマーブランケット化合物を受け入れるための型であって、前記エラストマー性ポリマーブランケット化合物を前記型へと導入するための開いた表面と、前記開いた表面の反対側の型表面とを有している前記型を、調製することと、
前記エラストマー性ポリマーブランケット化合物を液体状態で前記開いた表面において前記型に入れることと、
前記エラストマー性ポリマーブランケット化合物を硬化させることで、エラストマー性画像形成ブランケットを、前記エラストマー性画像形成ブランケットの第１の表面を前記硬化の際に空気へと露出させ、前記第１の表面の反対側の第２の表面を前記硬化の際に前記型表面に接触させつつ、製造することと、
前記エラストマー性画像形成ブランケットを前記型から剥離させることと、
前記エラストマー性画像形成ブランケットの前記第１の表面および前記第２の表面のうちの前記エラストマー性画像形成ブランケットの前記画像形成表面を形成する表面を一様にエッチングし、前記表面にテクスチャパターンを作成することと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記エラストマー性ポリマーブランケット化合物が、フルオロシリコーン、フルオロカーボン系合成ゴムおよびシリコーンからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記エラストマー性ポリマーブランケット化合物が、実質的に３〜２５重量％の炭素をさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記エッチングが、ドライエッチングプロセスによって行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ドライエッチングプロセスが、ＣＦ４、ＳＦ６およびＯ２種の組み合わせを用いた異方性プラズマエッチングプロセスを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ドライエッチングプロセスが、ＣＦ４、ＳＦ６およびＯ２種の組み合わせを用いた反応性イオンエッチングプロセスを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記エッチングが、ウェットエッチングプロセスによって行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記ウェットエッチングプロセスが、画像形成表面へのＴＢＡＦおよびＮＭＰの溶液の塗布を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記エッチングが、ドライエッチングとウェットエッチングの組み合わせによって行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記エラストマー性ポリマーブランケット化合物には、３〜２５重量％の顆粒状フィラー材料が分散している、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記エッチングは、前記顆粒状フィラー材料と比べて前記エラストマー性ポリマーブランケット化合物についてより大きい材料除去速度を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記エッチングは、前記エラストマー性ポリマーブランケット化合物と比べて前記顆粒状フィラー材料についてより大きい材料除去速度を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記顆粒状フィラー材料は、炭素を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記エッチングは、実質的に０．１〜１．５ミクロンの間の周期的な表面粗さＲａを有する前記画像形成表面をもたらすように構成される、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記一様にエッチングすることは、前記エラストマー性画像形成ブランケットの前記第１の表面をエッチングして前記表面に前記テクスチャパターンを作成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記一様にエッチングすることは、前記エラストマー性画像形成ブランケットの前記第２の表面をエッチングして前記表面に前記テクスチャパターンを作成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
印刷装置用の成型によるエラストマー性画像形成ブランケットであって、前記印刷装置の印刷プロセスにおいて基材へと画像を転写するように構成された画像形成表面を有しているエラストマー性画像形成ブランケットを、作成する方法であって、
フルオロシリコーンエラストマー性ブランケット化合物を受け入れるための型構造であって、少なくとも１つのガラス型表面と、前記フルオロシリコーンエラストマー性ブランケット化合物を前記型構造へと導入するための開いた表面とを有しており、前記開いた表面は前記ガラス型表面の反対側である前記型構造を、調製することと、
３〜２５重量パーセントの炭素が分散させられている前記フルオロシリコーンエラストマー性ブランケット化合物を液体状態で前記開いた表面において前記型構造に導入することと、
前記フルオロシリコーンエラストマー性ブランケット化合物を硬化させることで、前記成型による画像形成ブランケットを、前記画像形成ブランケットの第１の表面を前記硬化の際に空気へと露出させ、前記第１の表面の反対側の第２の表面を前記硬化の際に前記ガラス型表面に接触させつつ、製造することと、
前記画像形成ブランケットを前記型構造から剥離させることと、
前記ガラス型表面に物理的に接触して形成された前記画像形成ブランケットの前記第２の表面を一様にエッチングして、前記表面にテクスチャパターンを作成し、前記エッチングされた第２の表面で前記画像形成ブランケットの前記画像形成表面を形成することと、
を含む、方法。
【請求項１８】
前記エッチングは、ＣＦ４およびＯ２種の組み合わせを用いた異方性の反応性イオンエッチングプロセスを含むドライエッチングプロセスによって実行される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記フルオロシリコーンエラストマー性ブランケット化合物は、顆粒状材料を含み、前記エッチングは、前記顆粒状材料と比べて前記フルオロシリコーンエラストマー性ブランケット化合物についてより大きい材料除去速度をもたらすように構成される、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
印刷装置用の成型によるエラストマー性画像形成ブランケットであって、前記印刷装置の印刷プロセスにおいて基材へと画像を転写するように構成された画像形成表面を有している前記エラストマー性画像形成ブランケットを、作成する方法であって、
フルオロシリコーンエラストマー性ブランケット化合物を受け入れるための型構造であって、少なくとも１つのガラス型表面と、前記フルオロシリコーンエラストマー性ブランケット化合物を前記型構造へと導入するための開いた表面とを有しており、前記開いた表面は前記ガラス型表面の反対側である前記型構造を、調製することと、
実質的に３〜２５重量パーセントの炭素および顆粒状材料を有する暗く着色された材料を含む前記フルオロシリコーンエラストマー性ブランケット化合物を液体状態で前記開いた表面において前記型構造に導入することと、
前記フルオロシリコーンエラストマー性ブランケット化合物を硬化させることで、前記成型によるエラストマー性画像形成ブランケットを、前記成型によるエラストマー性画像形成ブランケットの第１の表面を前記硬化の際に空気へと露出させ、前記第１の表面の反対側の第２の表面を前記硬化の際に前記ガラス型表面に接触させつつ、製造することと、
前記成型による画像形成ブランケットを前記型構造から剥離させることと、
前記ガラス型表面に物理的に接触して形成された前記画像形成ブランケットの前記第２の表面を一様にエッチングして、前記表面にテクスチャパターンを作成し、前記エッチングされた第２の表面で前記画像形成ブランケットの前記画像形成表面を形成することと、
を含み、
前記エッチングは、前記顆粒状材料と比べて前記フルオロシリコーンエラストマー性ブランケット化合物についてより大きい材料除去速度をもたらすように構成され、
前記エッチングは、実質的に０．１〜１．５ミクロンの間の周期的な表面粗さＲａを有する前記画像形成表面をもたらすようにさらに構成される、
方法。