【手続補正書】
【提出日】平成28年12月19日(2016.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上方に設けられた第１ミラー層と、
前記第１ミラー層上方に設けられた活性層と、
前記活性層上方に設けられた第２ミラー層と、
前記第１ミラー層と前記第２ミラー層との間に設けられた電流狭窄層と、
前記第１ミラー層と連続して設けられた、複数の酸化層を含む第１領域と、
前記第２ミラー層と連続して設けられた、複数の酸化層を含む第２領域と、を含み、
前記第１ミラー層、前記活性層、前記第２ミラー層、前記電流狭窄層、前記第１領域、および前記第２領域は、積層体を構成し、
平面視において、前記積層体は、第１幅を有する第１部分と、第２幅を有する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分との間に設けられ、前記第１幅または前記第２幅よりも広い第３幅を有する第３部分と、を有し、
前記平面視において、前記第１部分における前記第１領域と前記第２領域とにより、酸化領域が構成されており、
前記平面視において、前記酸化領域の幅をＷ１とし、前記第１部分の前記第２ミラー層の上面の幅をＷ２としたとき、Ｗ２／Ｗ１≦３．３であることを特徴とする面発光レーザー。
【請求項２】
請求項１において、
Ｗ２／Ｗ１≦２．２であることを特徴とする面発光レーザー。
【請求項３】
請求項１または２において、
１．３≦Ｗ２／Ｗ１であることを特徴とする面発光レーザー。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項において、
前記平面視において、前記第１部分上に、前記第１部分と前記第２部分とが対向する方向に直交する仮想直線を引いた場合、前記第２ミラー層の前記上面の幅であるＷ２は、前記仮想直線上に位置することを特徴とする面発光レーザー。
【請求項５】
請求項４において、
前記平面視において、前記仮想直線と重なる位置に、前記第２ミラー層の前記上面を挟むように、前記酸化領域の第１部分と第２部分とがあり、
前記酸化領域の幅であるＷ１は、前記酸化領域の前記第１部分の幅であり、
前記酸化領域の幅であるＷ１は、前記仮想直線上に位置することを特徴とする面発光レーザー。
【請求項６】
基板と、
前記基板上方に設けられた第１ミラー層と、
前記第１ミラー層上方に設けられた活性層と、
前記活性層上方に設けられた第２ミラー層と、
前記第１ミラー層と前記第２ミラー層との間に設けられた電流狭窄層と、
前記第１ミラー層と連続して設けられた、複数の酸化層を含む第１領域と、
前記第２ミラー層と連続して設けられた、複数の酸化層を含む第２領域と、を含み、
前記第１ミラー層、前記活性層、前記第２ミラー層、前記電流狭窄層、前記第１領域、および前記第２領域は、積層体を構成し、
平面視において、前記積層体は、第１歪付与部と、第２歪付与部と、前記第１歪付与部と前記第２歪付与部との間に設けられ、前記活性層で発生した光を共振させる共振部と、を有し、 
前記平面視において、前記第１歪付与部における前記第１領域と前記第２領域とにより、酸化領域が構成されており、
前記平面視において、前記酸化領域の幅をＷ１とし、前記第１部分の前記第２ミラー層の上面の幅をＷ２としたとき、Ｗ２／Ｗ１≦３．３であることを特徴とする面発光レーザー。
【請求項７】
請求項６において、
Ｗ２／Ｗ１≦２．２であることを特徴とする面発光レーザー。
【請求項８】
請求項６または７において、
１．３≦Ｗ２／Ｗ１であることを特徴とする面発光レーザー。
【請求項９】
請求項６ないし８のいずれか１項において、
前記平面視において、前記第１歪付与部上に、前記第１歪付与部と前記第２歪付与部とが対向する方向に直交する仮想直線を引いた場合、前記第２ミラー層の前記上面の幅であるＷ２は、前記仮想直線上に位置することを特徴とする面発光レーザー。
【請求項１０】
請求項９において、
前記平面視において、前記仮想直線と重なる位置に、前記第２ミラー層の前記上面を挟むように、前記酸化領域の第１部分と第２部分とがあり、
前記酸化領域の幅であるＷ１は、前記酸化領域の前記第１部分の幅であり、
前記酸化領域の幅であるＷ１は、前記仮想直線上に位置することを特徴とする面発光レーザー。
【請求項１１】
基板と、
前記基板上方に設けられた第１ミラー層と、
前記第１ミラー層上方に設けられた活性層と、
前記活性層上方に設けられた第２ミラー層と、
前記第１ミラー層と前記第２ミラー層との間に設けられた電流狭窄層と、
前記第１ミラー層の一部と連続して設けられた、複数の酸化層を含む第１領域と、
前記第２ミラー層と連続して設けられた、複数の酸化層を含む第２領域と、を含み、
前記第１ミラー層、前記活性層、前記第２ミラー層、前記電流狭窄層、前記第１領域、および前記第２領域は、積層体を構成し、
平面視において、前記積層体は、第１幅を有する第１部分と、第２幅を有する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分との間に設けられ、前記第１幅または前記第２幅よりも広い第３幅を有する第３部分と、を有し、
断面視において、前記第１領域の複数の酸化層のうち、最下層の酸化層は、前記第１部分の前記第１ミラー層と接する端と対向する第１端を有し、
前記断面視において、前記第２領域の複数の酸化層のうち、最上層の酸化層は、前記第１部分の前記第２ミラー層と接する第２端を有し、
前記平面視において、前記第１端から前記第２端までの幅をＷ１とし、前記第１部分における前記第２ミラー層の上面の幅をＷ２としたとき、Ｗ２／Ｗ１≦３．３であることを特徴とする面発光レーザー。
【請求項１２】
請求項１１において、
Ｗ２／Ｗ１≦２．２であることを特徴とする面発光レーザー。
【請求項１３】
請求項１１または１２において、
１．３≦Ｗ２／Ｗ１であることを特徴とする面発光レーザー。
【請求項１４】
請求項１１ないし１３のいずれか１項において、
前記平面視において、前記第１部分上に、前記第１部分と前記第２部分とが対向する方向に直交する仮想直線を引いた場合、前記第２ミラー層の上面の幅であるＷ２は、前記仮想直線上に位置することを特徴とする面発光レーザー。
【請求項１５】
請求項１４において、
前記断面視において、前記積層体の前記第１部分の前記第１ミラー層を挟むように、前記第１領域の第１部分と第２部分とがあり、
前記断面視において、前記積層体の前記第１部分の前記第２ミラー層を挟むように、前記第１領域の前記第１部分の上方に前記第２領域の第１部分と、前記第１領域の前記第２部分の上方に前記第２領域の第２部分とがあり
前記第１領域の前記第１部分は、前記最下層の酸化層を有し、
前記第２領域の前記第１部分は、前記最上層の酸化層を有し、
前記最下層の酸化層の前記第１端から前記最上層の酸化層の前記第２端までの幅であるＷ１は、前記仮想直線上に位置することを特徴とする面発光レーザー。
【請求項１６】
基板と、
前記基板上方に設けられた第１ミラー層と、
前記第１ミラー層上方に設けられた活性層と、
前記活性層上方に設けられた第２ミラー層と、
前記第１ミラー層と前記第２ミラー層との間に設けられた電流狭窄層と、
前記第１ミラー層と連続して設けられた、複数の酸化層を含む第１領域と、
前記第２ミラー層と連続して設けられた、複数の酸化層を含む第２領域と、を含み、
前記第１ミラー層、前記活性層、前記第２ミラー層、前記電流狭窄層、前記第１領域、および前記第２領域は、積層体を構成し、
平面視において、前記積層体は、第１歪付与部と、第２歪付与部と、前記第１歪付与部と前記第２歪付与部との間に設けられ、前記活性層で発生した光を共振させる共振部と、を有し、
断面視において、前記第１領域の複数の酸化層のうち、最下層の酸化層は、前記第１歪付与部の前記第１ミラー層と接する端と対向する第１端を有し、
前記断面視において、前記第２領域の複数の酸化層のうち、最上層の酸化層は、前記第
１歪付与部の前記第２ミラー層と接する第２端を有し、
前記平面視において、前記第１端から前記第２端までの幅をＷ１とし、前記第１部分における前記第２ミラー層の上面の幅をＷ２としたとき、Ｗ２／Ｗ１≦３．３であることを特徴とする面発光レーザー。
【請求項１７】
請求項１６において、
Ｗ２／Ｗ１≦２．２であることを特徴とする面発光レーザー。
【請求項１８】
請求項１６または１７において、
１．３≦Ｗ２／Ｗ１であることを特徴とする面発光レーザー。
【請求項１９】
請求項１６ないし１８のいずれか１項において、
前記平面視において、前記第１歪付与部上に、前記第１歪付与部と前記第２歪付与部が対向する方向に直交する仮想直線を引いた場合、前記第２ミラー層の上面の幅であるＷ２は、前記仮想直線上に位置することを特徴とする面発光レーザー。
【請求項２０】
請求項１９において、
前記断面視において、前記積層体の前記第１歪付与部の前記第１ミラー層を挟むように、前記第１領域の第１部分と第２部分とがあり、 
前記断面視において、前記積層体の前記第１歪付与部の前記第２ミラー層を挟むように、前記第１領域の前記第１部分の上方に前記第２領域の第１部分と、前記第１領域の前記第２部分の上方に前記第２領域の第２部分とがあり、
前記第１領域の前記第１部分は、前記最下層の酸化層を有し、
前記第２領域の前記第１部分は、前記最上層の酸化層を有し、
前記最下層の酸化層の前記第１端から前記最上層の酸化層の前記第２端までの幅であるＷ１は、前記仮想直線上に位置することを特徴とする面発光レーザー。
【請求項２１】
請求項１ないし２０のいずれか１項において、
前記第２領域の上面が、前記基板側に傾斜していることを特徴とする面発光レーザー。
【請求項２２】
請求項１ないし２１のいずれか１項の面発光レーザーを含む原子発振器。 
【請求項２３】
基板と、
前記基板上方に設けられた第１ミラー層と、
前記第１ミラー層上方に設けられた活性層
前記活性層上方に設けられた第２ミラー層と、
前記第１ミラー層と前記第２ミラー層との間に設けられた電流狭窄層と、
前記第１ミラー層に形成された樹脂層と、
前記第１ミラー層と接続され、複数の酸化層を含む第１領域と、
前記第２ミラー層と接続され、複数の酸化層を含む第２領域と、を含み、
前記第１ミラー層、前記活性層、前記第２ミラー層、前記電流狭窄層、前記第１領域、および前記第２領域は、積層体を構成し、
平面視において、前記積層体は、第１幅を有する第１部分と、第２幅を有する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分との間に設けられ、前記第１幅または前記第２幅よりも広い第３幅を有する第３部分と、を有し、
前記平面視において、前記第１部分における前記第１領域と前記第２領域とにより、酸化領域が構成されており、
前記平面視において、前記酸化領域の幅をＷ１とし、前記第１部分の前記第２ミラー層の上面の幅をＷ２としたとき、Ｗ２／Ｗ１≦３．３であり、
断面視において、前記第１領域は、前記第１ミラー層と前記樹脂層との間に設けられて
おり、前記第２領域は、前記第２ミラー層と前記樹脂層との間に設けられていることを特徴とする面発光レーザー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
このような原子発振器では、本発明に係る面発光レーザーを含むため、例えば、λ／４板を介して、ガスセルに円偏光の光を安定して照射することができ、原子発振器の周波数安定性を高めることができる。
本発明に係る面発光レーザーは、
基板と、
前記基板上方に設けられた第１ミラー層と、
前記第１ミラー層上方に設けられた活性層
前記活性層上方に設けられた第２ミラー層と、
前記第１ミラー層と前記第２ミラー層との間に設けられた電流狭窄層と、
前記第１ミラー層に形成された樹脂層と、
前記第１ミラー層と接続され、複数の酸化層を含む第１領域と、
前記第２ミラー層と接続され、複数の酸化層を含む第２領域と、を含み、
前記第１ミラー層、前記活性層、前記第２ミラー層、前記電流狭窄層、前記第１領域、および前記第２領域は、積層体を構成し、
平面視において、前記積層体は、第１幅を有する第１部分と、第２幅を有する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分との間に設けられ、前記第１幅または前記第２幅よりも広い第３幅を有する第３部分と、を有し、
前記平面視において、前記第１部分における前記第１領域と前記第２領域とにより、酸化領域が構成されており、
前記平面視において、前記酸化領域の幅をＷ１とし、前記第１部分の前記第２ミラー層の上面の幅をＷ２としたとき、Ｗ２／Ｗ１≦３．３であり、
断面視において、前記第１領域は、前記第１ミラー層と前記樹脂層との間に設けられており、前記第２領域は、前記第２ミラー層と前記樹脂層との間に設けられている。