Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月1日(2017.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録材として有色色材および高透過率材を用いる画像記録用の画像データを生成する画像処理装置であって、
入力画像データを色分解して、各記録材の記録量を表す材量データを生成する色分解手段と、
前記材量データに基づき、画像記録装置における記録走査ごとの二値データを生成するハーフトーン処理を行う生成手段とを有し、
前記記録走査ごとの二値データによって、前記有色色材を記録する第一の記録走査における前記有色色材の吐出と前記高透過率材を記録する第二の記録走査における前記高透過率材の吐出が表され、前記第一の記録走査の後、前記有色色材の記録層の上に所定の厚さで前記高透過率材が記録される画像処理装置。
【請求項２】
前記生成手段は、
記録材ごとに、前記材量データに基づき、記録走査ごとの記録データを設定する設定手段と、
前記記録走査ごとの記録データに前記ハーフトーン処理を行って、前記記録走査ごとの二値データを生成するハーフトーン処理手段と
を有することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記色分解手段は、前記入力画像データのRGB値に基づき前記高透過率材の材量データを決定することを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記高透過率材の記録層は前記高透過率材の材量データに応じた厚さに記録され、
前記高透過率材の記録層における薄膜干渉による構造色の色相は、前記高透過率材の記録層の下に記録された前記有色色材の色相に同一または近似する
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
ブラックを再現する前記有色色材の記録層の上に記録される前記高透過率材の記録層は前記高透過率材の材量データに応じた厚さに記録され、
前記有色色材の記録層と前記高透過率材の記録層の積層から反射される光の光量は、比視感度の高い波長において最小を示す
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記ハーフトーン処理手段は、ドット分散型の閾値マトリクスを用いて前記有色色材の記録データをハーフトーン処理し、前記入力画像データの色に基づく閾値マトリクスを用いて前記高透過率材の記録データをハーフトーン処理する
ことを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記入力画像データの色が前記画像記録装置の色域の境界部に対応する場合、前記ハーフトーン処理手段は、前記高透過率材の記録データのハーフトーン処理にドット分散型の閾値マトリクスを用いる
ことを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記入力画像データの色が前記画像記録装置の色域の内部に対応する場合、前記ハーフトーン処理手段は、前記高透過率材の記録データのハーフトーン処理にドット集中型の閾値マトリクスを用いる
ことを特徴とする請求項６又は７に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記ハーフトーン処理手段は、
前記入力画像データの色が属す前記画像記録装置の色域の領域を示す評価値を計算する評価手段と、
前記評価値に基づきドット分散型の閾値マトリクスとドット集中型の閾値マトリクスを線形結合した閾値マトリクスを生成するマトリックス生成手段と
を有することを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記ハーフトーン処理手段は、前記生成された閾値マトリクスを用いて前記高透過率材の記録データを量子化する
ことを特徴とする請求項９に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記評価手段は、前記入力画像データの色の色度に基づき前記評価値を計算する
ことを特徴とする請求項９に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
前記評価手段は、前記入力画像データの色のクロマ値に基づき前記評価値を計算する
ことを特徴とする請求項９に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
前記評価手段は、前記入力画像データの色と白色点の距離に基づき前記評価値を計算する
ことを特徴とする請求項９に記載の画像処理装置。
【請求項１４】
前記設定手段は、テーブルを参照して、前記記録データとして第一の記録データと第二の記録データを設定する
ことを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項１５】
前記ハーフトーン処理手段は、前記第一の記録データと前記第二の記録データをそれぞれハーフトーン処理し、前記ハーフトーン処理した第二の記録データから前記ハーフトーン処理した第一の記録データを減算した結果を前記ハーフトーン処理後の記録データとする
ことを特徴とする請求項１４に記載の画像処理装置。
【請求項１６】
さらに、前記ハーフトーン処理後の記録データを前記画像記録装置に出力する出力手段を有することを請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項１７】
前記高透過率材は、前記有色色材と同一または近似する色相、かつ、前記有色色材よりも高い透過率を有する色材であることを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１８】
記録材として有色色材および高透過率材を用いる画像記録用の画像データを生成する画像処理方法であって、
入力画像データを色分解して、各記録材の記録量を表す材量データを生成し、
前記材量データに基づき、画像記録装置における記録走査ごとの二値データを生成するハーフトーン処理を行い、
前記記録走査ごとの二値データによって、前記有色色材を記録する第一の記録走査における前記有色色材の吐出と前記高透過率材を記録する第二の記録走査における前記高透過率材の吐出が表され、前記第一の記録走査の後、前記有色色材の記録層の上に所定の厚さで前記高透過率材が記録される画像処理方法。
【請求項１９】
コンピュータを請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の画像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月2日(2017.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層上に位置し、開口部を有する第２の絶縁層と、
前記第１の絶縁層上及び前記第２の絶縁層上に位置し、前記開口部において前記第１の絶縁層と接する半導体層と、
前記半導体層上のソース電極及びドレイン電極と、
前記ソース電極上及び前記ドレイン電極上のゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上のゲート電極と、を有し、
前記第１の絶縁層は、酸化物を含み、
前記開口部は、上面側から見て前記半導体層の端部よりも内側に位置し、且つ、前記ゲート電極と重なる領域を有する半導体装置。
【請求項２】
第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層上の半導体層と、
前記半導体層上に位置し、開口部を有する第２の絶縁層と、
前記第２の絶縁層上のソース電極及びドレイン電極と、
前記ソース電極上及び前記ドレイン電極上に位置し、前記開口部において前記半導体層と接するゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上のゲート電極と、を有し、
前記第１の絶縁層は、酸化物を含み、
前記開口部は、上面側から見て前記半導体層の端部よりも内側に位置し、且つ、前記ゲート電極と重なる領域を有する半導体装置。
【請求項３】
前記半導体層は、酸化物半導体を含む、
請求項１又は請求項２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記第２の絶縁層は、窒化シリコン、窒化酸化シリコン、酸化アルミニウム、酸化窒化アルミニウム、酸化ガリウム、酸化窒化ガリウム、酸化イットリウム、酸化窒化イットリウム、酸化ハフニウム、又は酸化窒化ハフニウムを含む、
請求項１乃至請求項３のいずれか一に記載の半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月13日(2017.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置と、マイクと、記憶デバイスと、音声認識部とを有する電子機器と、
商品名および単価が関連付けられた商品情報を格納する商品データベースと、代表表記および別名表記が関連付けられた別名リストとを有し、前記商品データベースおよび前記別名リストを前記電子機器に配信する第１のサーバ装置と、
前記代表表記および発音を関連付けて格納する認識語彙リストを有し、前記認識語彙リストを前記電子機器に配信する第２のサーバ装置と、
を具備し
前記電子機器は、
配信された前記商品データベース、前記別名リスト、および前記認識語彙リストを前記記憶デバイスに格納し、
前記マイクを用いて入力された音声データを受信すると、前記音声認識部を用いて前記音声データの音声認識を実行し、前記記憶デバイスに格納される前記認識語彙リストを参照して認識結果として得た語彙に関連付けられた代表表記を検索し、その検索した１つ以上の代表表記を検索ワードとして前記表示装置に表示し、
前記表示装置に表示された前記検索ワードと前記記憶デバイスに格納される前記別名リストとに基づいて、前記記憶デバイスに格納される前記商品データベースを検索して前記商品情報を取得して前記表示装置に表示するシステム。
【請求項２】
前記商品データベースの検索は、
前記別名リストから前記検索ワードの前記代表表記に関連付けられた前記別名表記を読み出し、前記検索ワードと前記別名表記とを用いて検索する請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記別名リストは、
前記代表表記と、前記代表表記とは表記は異なるが、前記代表表記により示される語彙と発音及び意味が同等の語彙の前記別名表記、又は前記代表表記により示される語彙と意味が同等で発音が類似した語彙の表記である前記別名表記とが関連付けられている請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
商品名および単価が関連付けられた商品情報を格納する商品データベースと、代表表記および別名表記が関連付けられた別名リストとを有し、
ネットワークを介して接続される電子機器の処理により、マイクを用いて入力された音声データに対して音声認識部を用いた音声認識が行われ、内部に格納する認識語彙リストを参照して認識結果として得た語彙に関連づけられた代表表記が検索され、その検索した１つ以上の代表表記を検索ワードとして受信した時、
前記別名リストから前記検索ワードの前記代表表記に関連づけられた前記別名表記を読み出し、前記検索ワードと前記別名表記とを用いて前記商品データベースを検索して前記商品情報を取得し、その取得した商品情報を前記電子機器に送信するサーバ装置。
【請求項５】
表示装置と、マイクと、記憶デバイスと、音声認識部とを有し、
前記記憶デバイスには、商品名および単価が関連付けられた商品情報を格納する商品データベースと、代表表記および別名表記が関連付けられた別名リストと、前記代表表記および発音を関連づけて格納する認識語彙リストとが格納され、
前記マイクを用いて入力された音声データを受信すると、前記音声認識部を用いて前記音声データの音声認識を実行し、前記記憶デバイスに格納される前記認識語彙リストを参照して認識結果として得た語彙に関連付けられた代表表記を検索し、その検索した１つ以上の代表表記を検索ワードとして前記表示装置に表示し、
前記表示装置に表示された前記検索ワードと前記記憶デバイスに格納される前記別名リストとに基づいて、前記記憶デバイスに格納される前記商品データベースを検索して前記商品情報を取得して前記表示装置に表示する電子機器。
【請求項６】
前記商品データベースの検索は、
前記別名リストから前記検索ワードの前記代表表記に関連付けられた前記別名表記を読み出し、前記検索ワードと前記別名表記とを用いて検索する請求項５に記載の電子機器。
【請求項７】
前記別名リストは、
前記代表表記と、前記代表表記とは表記は異なるが、前記代表表記により示される語彙と発音及び意味が同等の語彙の前記別名表記、又は前記代表表記により示される語彙と意味が同等で発音が類似した語彙の表記である前記別名表記とが関連付けられている請求項５に記載の電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
実施形態に係るシステムは、表示装置と、マイクと、記憶デバイスと、音声認識部とを有する電子機器と、商品名および単価が関連付けられた商品情報を格納する商品データベースと、代表表記および別名表記が関連付けられた別名リストとを有し、前記商品データベースおよび前記別名リストを前記電子機器に配信する第１のサーバ装置と、前記代表表記および発音を関連付けて格納する認識語彙リストを有し、前記認識語彙リストを前記電子機器に配信する第２のサーバ装置と、を具備する。前記電子機器は、配信された前記商品データベース、前記別名リスト、および前記認識語彙リストを前記記憶デバイスに格納し、前記マイクを用いて入力された音声データを受信すると、前記音声認識部を用いて前記音声データの音声認識を実行し、前記記憶デバイスに格納される前記認識語彙リストを参照して認識結果として得た語彙に関連付けられた代表表記を検索し、その検索した１つ以上の代表表記を検索ワードとして前記表示装置に表示し、前記表示装置に表示された前記検索ワードと前記記憶デバイスに格納される前記別名リストとに基づいて、前記記憶デバイスに格納される前記商品データベースを検索して前記商品情報を取得して前記表示装置に表示する。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月25日(2017.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
Ｍ…電池モジュール
１０…単電池群
１１…単電池（蓄電素子）
１２Ａ，１２Ｂ…電極端子
２０…配線モジュール
２１…バスバー
２２…本体部
２５…接続部
２６…バスバー側取付片（バスバー側取付部）
３０…絶縁プロテクタ
３１…バスバー保持部
３５…電線収容溝
４０…温度検知部材
４１…温度検出素子
４２…伝熱板（取付部）
４３…載置部
４４…検知部材側取付片（取付部）
４５、５０…電線
５１…芯線
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月16日(2017.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
補強膜を電解質膜に含浸させて作製される補強型電解質膜の製造方法であって、
補強膜である多孔性膜に電解質膜を配置して積層膜を形成する積層工程と、
前記積層膜を、予め定められた予備加熱温度で予備加熱する予備加熱工程と、
予備加熱された前記積層膜を、前記予備加熱温度よりも高い温度に予め定められた加熱温度で加熱することにより、前記多孔性膜を前記電解質膜に含浸させる加熱含浸工程と、
を備え、
前記予備加熱温度は、前記予備加熱温度による予備加熱前後の前記積層膜の線膨張率の差、及び、前記加熱温度による加熱前後の前記積層膜の線膨張率の差が、あらかじめ定めた閾値以下となる温度である、補強型電解質膜の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の補強型電解質膜の製造方法において、
前記加熱含浸工程は、予備加熱された前記積層膜を、前記加熱温度で加熱するとともに押圧することにより、前記多孔性膜を前記電解質膜に含浸させる、補強型電解質膜の製造方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の補強型電解質膜の製造方法において、
前記予備加熱温度は、前記予備加熱温度による予備加熱前後の前記積層膜の線膨張率の差、及び、前記加熱温度による加熱前後の前記積層膜の線膨張率の差が、５％以下となる温度である、補強型電解質膜の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ステップＳ１１０〜Ｓ１３０は、図２で説明した含浸装置３０で実行される。ステップＳ１１０では、予備加熱ロール３２０上で積層膜２００を予備加熱ロール３２０に接触させることで、積層膜２００を予備加熱温度Ｔｐｈ１で加熱する予備加熱工程が実行される。ステップＳ１２０では、第１の加熱ロール３３０上で積層膜２００を第１の加熱ロール３３０に接触させることで、積層膜２００を加熱温度Ｔｈ１で加熱することにより、電解質膜２１０を軟化させて、電解質膜２１０に補強膜２３１を含浸させる加熱含浸工程が実行される。ステップＳ１３０では、加熱状態を維持したまま一対の加熱ロール３３０，３４０を用いて積層膜２００を積層方向に押圧（加圧）して、電解質膜２１０への補強膜２３１の含浸を促進させる加圧含浸工程が実行される。従って、ステップＳ１２０，Ｓ１３０が本発明の加熱含浸工程に相当する。なお、ステップＳ１３０の加圧含浸工程は、省略することも可能である。加圧含浸工程を省略する場合、第１の加熱ロール３３０と第２の加熱ロール３４０とを所定の距離だけ離間して配置して、積層膜２００を加圧することなく、第１及び第２の加熱ロール３３０，３４０による加熱により、電解質膜２１０への補強膜２３１の含浸を行なうようにしてもよい。この場合には、第２の加熱ロール３４０は、加熱温度Ｔｈ２を第１の加熱ロール３３０と加熱温度Ｔｈ１と同じ温度設定可能な加熱ロールを用いることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月7日(2017.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
本発明のリチウムリン系複合酸化物炭素複合体は、電気化学デバイスの正極の活物質に用いられる、リチウムリン系複合酸化物の表面が炭素被覆されたリチウムリン系複合酸化物炭素複合体であって、超純水で分散させたときに濾過した溶出液に溶出するフッ素イオンがリチウムリン系複合酸化物炭素複合体に対する質量比で５００ｐｐｍ以上、１５０００ｐｐｍ以下、より好ましくは１０００ｐｐｍ以上、１５０００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは、１５００ｐｐｍ以上、１５０００ｐｐｍ以下であり、リチウムリン系複合酸化物の組成が下記一般式（１）：
Ｌｉ１−ｘＦｅ１−ｚＭｚＰＯ４−ａＦａ（−０．１≦ｘ＜１、０≦ｚ≦１、０≦ａ≦４）・・・（１）
（式中、ＭはＭｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｖ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｚｎの群から選ばれる１種以上の金属元素を示す。）で表わされるものである。ここで、ｘは０≦ｘ＜０．５であることがより好ましく、０≦ｘ＜０．３であることがさらに好ましい。また、ｚは０＜ｚ＜０．７であることがより好ましく、０＜ｚ＜０．４であることがさらに好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
上記のリチウムリン系複合酸化物炭素複合体は、各種の電気化学デバイス（例えば、電池、センサ、電解槽等）の正極活物質として利用することができる。ここで、「電気化学デバイス」とは、電流を流す極板材料を含むデバイス、すなわち、電気エネルギーを取り出し可能なデバイス一般を指す用語であって、電解槽、一次電池、及び、二次電池を含む概念である。また、「二次電池」とは、リチウムイオン二次電池、ニッケル水素電池、ニッケルカドミウム電池等のいわゆる蓄電池ならびに電気二重層キャパシタ等の蓄電素子を包含する概念である。上記のリチウムリン系複合酸化物炭素複合体は、特に、リチウムイオン二次電池、電解槽の電極材として好適である。電解槽の形状はどのような形状でもよく、電流を流す極板材料を含んでいればよい。リチウムイオン二次電池の形状は、コイン、ボタン、シート、シリンダー、角型のいずれにも適用できる。なお、本発明のリチウムリン系複合酸化物炭素複合体が適用されるリチウムイオン二次電池の用途は、特に制限されないが、例えばノートパソコン、ラップトップパソコン、ポケットワープロ、携帯電話、コードレス電話機、ポータブルＣＤ、ラジオなどの電子機器、自動車、電動車両、ゲーム機器などの民生用電子機器などが挙げられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
以下、上記のリチウムリン系複合酸化物炭素複合体が適用される電気化学デバイス、リチウムイオン二次電池の構成要素について説明する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
（実施例５−８）
ペレット成型したＬｉＦｅＰＯ４から、一定電流で５０％までリチウムを引き抜いたＬｉ０．５ＦｅＰＯ４をＤＭＣ（ジメチルカーボネート）で洗浄して、濾過乾燥し、軽く粉砕した粉末に水酸化リチウム（ＬｉＯＨ・Ｈ２Ｏ）と六フッ化リン酸リチウム（ＬｉＰＦ６、添加した総リチウムの５％）をＬｉ／Ｆｅの当量比が１．０５／１．００になるようにして混合し、さらにスクロース（ショ糖：Ｃ１２Ｈ２２Ｏ１１）を混合した。この混合物を窒素ガス中で焼成した後、冷却し、細かく粉砕した。次いで、目開き７５μｍの篩で分級し、リン酸リチウムに相当するピークを有するＬｉＦｅＰＯ４の組成をもち、表面が炭素で被覆されたリチウムリン系複合酸化物炭素複合体を製造した。ただし、焼成条件は、実施例５では７００℃、３時間、実施例６では５８０℃、４時間、実施例７では７５０℃、４時間、実施例８では５５０℃、５時間とした。実施例５−８についても実施例１と同様にしてＸ線回折測定を行い、リン酸リチウムに相当するピークが見られることが確認された。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２４】
（コイン型非水電解質二次電池の作製）
作製した正極板及び負極版、セパレータ、取り付け金具、外部端子、及び、電解液等の各部材を使用して非水電解質二次コイン電池を製作した。このうち、電解液には、エチレンカーボネートとジエチルカーボネートとフルオロエチレンカーボネイトの２：７：１ 混練液１リットルにＬｉＰＦ６１モルを溶解したものを使用した。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月9日(2017.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
（コイン型非水電解質二次電池の作製）
作製した正極板及び負極板、セパレータ、集電板、取り付け金具、外部端子、電解液、等の各部材を用いて、コイン型非水電解質二次電池を製作した。このうち、電解液には、エチレンカーボネートと、ジエチルカーボネートと、フルオロエチレンカーボネイトとの２：７：１混練液１リットルに、ＬｉＰＦ６１モルを溶解したものを用いた。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２２】
表１からわかるように、超純水で分散させた溶出液に溶出するフッ素イオンがリチウムコバルト系複合酸化物に対する質量比で５００ｐｐｍ以上１５０００ｐｐｍ以下である実施例１−１２のリチウムコバルト系複合酸化物を用いて作製された非水電解質二次コイン電池では、超純水で分散させた溶出液に溶出するフッ素イオンがリチウムコバルト系複合酸化物に対する質量比で５００ｐｐｍ未満、又は、１５０００ｐｐｍより大きい比較例１−５のリチウムコバルト系複合酸化物を用いて作製された非水電解質二次コイン電池と比較して、高い放電容量とともに高いサイクル特性が得られている。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月6日(2017.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
赤外線画像を取得する取得部と、
前記取得部により取得された前記赤外線画像に基づいてカラー画像を生成する生成部と、
前記生成部により生成された前記カラー画像の色をユーザにより入力される色調整情報に従って調整する調整部と、
を備える画像処理装置。
【請求項２】
１つ以上の候補色を画面に表示させる制御部を備え、
前記色調整情報は、前記画面に表示される前記１つ以上の候補色から前記ユーザにより選択される選択色を示す選択色情報を含む、
請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記制御部は、色平面を前記画面に表示させ、前記色平面上の前記１つ以上の候補色を前記画面上で強調させる、請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記生成部は、前記赤外線画像の画素値から被写体の色を予測することにより前記カラー画像を生成し、
前記制御部は、前記生成部による前記予測に関連する色ごとの信頼度に基づいて、前記１つ以上の候補色を決定する、
請求項２又は３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記色調整情報は、前記カラー画像内の色を調整すべき対象領域を指定する領域指定情報を含み、
前記調整部は、前記領域指定情報に基づいて前記対象領域を決定し、決定された前記対象領域内の色を調整する、
請求項１から４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
画像のテクスチャに基づいて、前記カラー画像を１つ以上のセグメントに分割する分割部、をさらに備え、
前記調整部は、前記領域指定情報に基づいて、前記１つ以上のセグメントのうちの少なくとも１つのセグメントを、前記対象領域として決定する、
請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記領域指定情報は、画面上で前記ユーザにより指定される画素位置を示し、
前記調整部は、前記領域指定情報により示される前記画素位置を含むセグメントを、前記対象領域として決定する、
請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記赤外線画像は、動画を構成する一連のフレームに含まれ、
前記分割部は、複数のフレームにわたって同じ被写体を映すセグメントを追跡し、
前記調整部は、過去のフレームの前記対象領域が映す被写体と同じ被写体を映す現在のフレーム内のセグメントを、前記現在のフレームの前記対象領域として決定する、
請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記領域指定情報は、画面上で前記ユーザにより指定される領域を示す、請求項５又は６に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記生成部は、事前に学習される予測モデルを用いて前記赤外線画像の画素値から被写体の色を予測し、
前記信頼度は、前記予測モデルにより計算される、
請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記制御部は、前記赤外線画像と前記調整部による調整後の前記カラー画像とを用いて、前記予測モデルを更新する、請求項１０に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
前記生成部は、前記信頼度をそれぞれ伴う複数の色のうちで、前記信頼度の最も高い色を予測色として決定し、
前記制御部は、前記予測色を除いて前記信頼度の高い順に決定される前記１つ以上の候補色を前記画面に表示させる、
請求項１０又は１１に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
前記生成部は、前記予測色の前記信頼度が閾値を下回る画素について、カラー化をスキップし又は前記予測色の彩度を引き下げる、請求項１２に記載の画像処理装置。
【請求項１４】
前記制御部は前記閾値を前記ユーザに設定させるためのユーザインタフェースを前記画面に表示させる、請求項１３に記載の画像処理装置。
【請求項１５】
画像処理装置により赤外線画像を取得することと、
取得された前記赤外線画像に基づいてカラー画像を生成することと、
生成された前記カラー画像の色をユーザにより入力される色調整情報に従って調整することと、
を含む画像処理方法。
【請求項１６】
画像処理装置を制御するコンピュータを、
赤外線画像を取得する取得部と、
前記取得部により取得された前記赤外線画像に基づいてカラー画像を生成する生成部と、
前記生成部により生成された前記カラー画像の色をユーザにより入力される色調整情報に従って調整する調整部と、
として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月9日(2017.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スパッタリングにより金属膜を形成する第１の工程と、
前記金属膜の上にレジストパターンを形成するフォトリソグラフィ工程と、
前記フォトリソグラフィ工程の後に行うエッチング工程と、を含む、半導体装置の製造方法であって、
前記第１の工程において、
成膜速度は、７ｎｍ／ｍｉｎ以上１００ｎｍ／ｍｉｎ以下であり、
放電用ガス流量は１０ｓｃｃｍより大きく、１００ｓｃｃｍ以下である、
半導体装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記金属膜の材料であるバルク金属の反射率が５０％以上である、
半導体装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記金属膜は、主に、アルミニウム、銀、銅の少なくとも一つから形成されている、
半導体装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記放電用ガスは、アルゴンガスである、
半導体装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記金属膜の反射率は、３０％以下であり、
前記金属膜の表面粗さは、１０ｎｍ以下である、
半導体装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記金属膜の抵抗率が１０μΩｃｍ以下である、
半導体装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記第１の工程において、
背圧は、８．００×１０−５Ｐａ以下である、半導体装置の製造方法。
【請求項８】
半導体層と、
前記半導体層上にそれぞれ設けられた絶縁層及び電極層と、
前記絶縁層と前記電極層とを覆うように形成された配線電極層と、を備える半導体装置であって、
前記配線電極層の反射率は、３０％以下であり、
前記配線電極層の表面粗さは、１０ｎｍ以下である、
半導体装置。
【請求項９】
請求項８に記載の半導体装置であって、
前記配線電極層は、主に、アルミニウム、銀、銅の少なくとも一つから形成されている、
半導体装置。
【請求項１０】
請求項８または請求項９に記載の半導体装置であって、
前記配線電極層の抵抗率が１０μΩｃｍ以下である、
半導体装置。
【請求項１１】
請求項８から請求項１０までのいずれか一項に記載の半導体装置であって、
前記配線電極層の膜厚が２００ｎｍ以上であり、２００００ｎｍ以下である、半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、上記の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態として実現することができる。
本発明の第１の形態は、スパッタリングにより金属膜を形成する第１の工程と、前記金属膜の上にレジストパターンを形成するフォトリソグラフィ工程と、前記フォトリソグラフィ工程の後に行うエッチング工程と、を含む、半導体装置の製造方法であって、前記第１の工程において、成膜速度は、７ｎｍ／ｍｉｎ以上１００ｎｍ／ｍｉｎ以下であり、放電用ガス流量は１０ｓｃｃｍより大きく、１００ｓｃｃｍ以下である。
本発明の第２の形態は、半導体層と、前記半導体層上にそれぞれ設けられた絶縁層及び電極層と、前記絶縁層と前記電極層とを覆うように形成された配線電極層と、を備える半導体装置であって、前記配線電極層の反射率は、３０％以下であり、前記配線電極層の表面粗さは、１０ｎｍ以下である。また、本発明は以下の形態として実現することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月30日(2017.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基台と、
前記基台に対して進退自在に設けられ、複数の基板を多段に保持可能な保持部と、
前記保持部に保持された前記基板の外縁をそれぞれ異なる位置で検出する少なくとも３個の検出部と、
前記検出部の検出結果に基づき前記基板の位置を推定し、推定した前記基板の位置と予め決められた基準位置とのずれ量を算出し、算出したずれ量が閾値以内であると判定した場合に、前記保持部に保持された複数の前記基板の搬送を実行させる制御部と
を備えることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記制御部は、
隣接する２個の前記検出部によって検出された検出結果に基づき、同一の前記基板の外縁を検出したと仮定した場合における当該基板の前記基準位置からのずれ量を算出し、他の隣接する２個の前記検出部についても当該他の隣接する２個の前記検出部によって検出された検出結果に基づいて前記ずれ量を算出し、算出した複数のずれ量の最大値が閾値以内であるか否かを判定すること
を特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記保持部に保持された複数の前記基板を収容可能な一時載置部
を備え、
前記制御部は、
前記ずれ量が前記閾値を超える場合に、前記保持部に保持された複数の前記基板のうち１枚を前記保持部に保持させ、残りの基板を前記一時載置部に収容させた後、前記保持部に保持された前記１枚の基板の外縁を前記検出部を用いて再度検出させ、前記検出部の検出結果に基づいて前記１枚の基板の前記基準位置からのずれ量を算出し、算出したずれ量に応じて前記保持部の位置を変更して、前記１枚の基板の位置を前記基準位置に一致させること
を特徴とする請求項１または２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記制御部は、
前記保持部の位置を変更したうえで前記１枚の基板を前記一時載置部へ収容させた後、前記一時載置部から他の１枚の前記基板を取り出し、前記検出部の検出結果に基づいて当該基板の前記基準位置からのずれ量を算出し、算出したずれ量に応じて前記保持部の位置を変更したうえで当該基板を前記一時載置部へ収容させる処理を、前記残りの基板について繰り返し、その後、前記一時載置部に収容された全ての前記基板を前記保持部に保持させること
を特徴とする請求項３に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記制御部は、
全ての前記検出部について、当該検出部によって検出された前記基板の外縁が、当該検出部の検出範囲内に含まれると判定した場合に、前記ずれ量が閾値以内であるか否かの判定を行うこと
を特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記制御部は、
全ての前記検出部について、当該検出部によって検出された前記基板の外縁が、当該検出部の検出範囲内に含まれると判定し、さらに、当該検出部によって検出された前記基板の外縁が、当該検出部の検出範囲のうちの所定範囲内に含まれると判定した場合に、前記ずれ量が閾値以内であるか否かの判定を行うこと
を特徴とする請求項５に記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記検出部が有する受光部は、
リニアイメージセンサであること
を特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
【請求項８】
前記リニアイメージセンサは、
受光素子の配列方向に沿って延びる仮想的な直線が前記基準位置を通るように配置されること
を特徴とする請求項７に記載の基板搬送装置。
【請求項９】
前記リニアイメージセンサは、
前記基台に設けられること
を特徴とする請求項７または８に記載の基板搬送装置。
【請求項１０】
基台と、前記基台に対して進退自在に設けられ、複数の基板を多段に保持可能な保持部と、前記保持部に保持された前記基板の外縁をそれぞれ異なる位置で検出する少なくとも３個の検出部とを備える基板搬送装置における基板搬送方法であって、
前記検出部を用いて、前記保持部に保持された前記基板の外縁をそれぞれ異なる位置で検出する検出工程と、
前記検出部の検出結果に基づき前記基板の位置を推定し、推定した前記基板の位置と予め決められた基準位置とのずれ量を算出し、算出したずれ量が閾値以内であると判定した場合に、前記保持部に保持された複数の前記基板の搬送を実行させる制御工程と
を含むことを特徴とする基板搬送方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
なお、投光部１３１および受光部１３２の配置は、上記の例に限定されない。たとえば、投光部１３１が保持部１０２の上方に配置され、受光部１３２が保持部１０２の下方に配置されてもよい。また、検出部１０３ａ〜１０３ｄが反射型の光学センサである場合には、投光部１３１および受光部１３２の両方が保持部１０２の上方または下方に配置されてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
第２判定処理において、制御部１８は、全ての検出部１０３ａ〜１０３ｄについて、検出されたウェハＷの外縁がその検出部１０３ａ〜１０３ｄの検出範囲における所定範囲（以下、「第１閾値範囲」と記載する）内に含まれるか否かを判定する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
＜基板搬送装置１３の具体的動作＞
次に、基板搬送装置１３の具体的動作について図１１を参照して説明する。図１１は、基板搬送装置１３の処理手順を示すフローチャートである。なお、図１１には、キャリア載置部１１からウェハＷを取り出した後、キャリア載置部１１から取り出したウェハＷを受渡部１４へ搬入するまでの処理手順を示している。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月10日(2017.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
経路案内とは無関係の出力情報が格納される出力情報格納部と、
移動体の走行状況に関する走行状況情報を取得する走行状況情報取得部と、
前記走行状況情報が予め決められた条件を満たす場合に、前記出力情報を出力する出力部と、
地図に関する地図情報が格納される地図情報格納部と、
現在位置を示す現在位置情報を取得する現在位置情報取得部と、を備え、
前記出力情報は、音声であり、
前記出力情報格納部には、２以上の音声が格納され、
前記出力部は、前記２以上の音声の中から、前記現在位置情報および前記現在位置情報を前記地図情報に適用した結果である現在属性情報に対応する一の音声を選択して出力するナビゲーション装置。
【請求項２】
前記走行状況情報取得部は、渋滞中であることを示す走行状況情報を取得し、
前記出力部は、前記走行状況情報が渋滞中であることを示す場合に、前記出力情報を出力する請求項１記載のナビゲーション装置。
【請求項３】
ユーザの音声であるユーザ音声を受け付ける音声受付部と、
前記ユーザ音声を認識する音声認識部とをさらに備え、
前記出力部は、前記音声認識部によるユーザ音声の認識結果に対応する一の音声を選択して出力する請求項１または請求項２記載のナビゲーション装置。
【請求項４】
前記出力情報には、当該出力情報の出力に必要な時間を示す出力時間情報が対応付いており、
前記走行状況情報取得部は、進路を変更する地点までの時間または次の経路案内までの時間を示す走行状況情報を取得し、
前記出力部は、前記走行状況情報が示す時間以下の時間または前記走行状況情報が示す時間未満の時間を示す出力時間情報が対応付いている出力情報を出力する請求項１から請求項３いずれか一項に記載のナビゲーション装置。
【請求項５】
前記出力部は、移動体に同乗者がいない場合に、前記出力情報を出力する請求項１から請求項４いずれか一項に記載のナビゲーション装置。
【請求項６】
現在位置を示す現在位置情報を取得する現在位置情報取得ステップと、
移動体の走行状況に関する走行状況情報を取得する走行状況情報取得ステップと、
前記走行状況情報が予め決められた条件を満たす場合に、２以上の音声の出力情報の中から、前記現在位置情報および前記現在位置情報を地図情報に適用した結果である現在属性情報に対応する一の出力情報を選択して、経路案内とは無関係の出力情報を出力する出力ステップと、を備えるナビゲーション方法。
【請求項７】
経路案内とは無関係の２以上の音声が出力情報として格納される出力情報格納部および地図に関する地図情報が格納される地図情報格納部にアクセス可能なコンピュータを、
現在位置を示す現在位置情報を取得する現在位置情報取得部、移動体の走行状況に関する情報である走行状況情報を取得する走行状況情報取得部、前記走行状況情報が予め決められた条件を満たす場合に、２以上の音声の中から、前記現在位置情報および前記現在位置情報を前記地図情報に適用した結果である現在属性情報に対応する一の音声を選択して出力する出力部として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２７】
図１０は、コンピュータシステム９のブロック図である。図１０において、コンピュータ９０１は、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０１１に加えて、ＭＰＵ９０１２と、ブートアッププログラム等のプログラムを記憶するためのＲＯＭ９０１３と、ＭＰＵ９０１２に接続され、アプリケーションプログラムの命令を一時的に記憶するとともに一時記憶空間を提供するためのＲＡＭ９０１４と、アプリケーションプログラム、システムプログラム、およびデータを記憶するためのハードディスク９０１５と、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０１１、ＭＰＵ９０１２等を相互に接続するバス９０１６とを備える。ここでは図示しないが、コンピュータ９０１は、さらに、ＬＡＮへの接続を提供するネットワークカードを備えていてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月6日(2017.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体であって、前記流体は、色素パーティクルまたはナノパーティクルで着色されている、流体と、
該流体による濡れに耐性のある露出表面を有する基板と、
該基板を介して延び、該基板の露出表面に隣接して終端する少なくとも３つの導電性ビアと、
該露出表面に隣接する該導電性ビアの終端を覆うキャップ部であって、該キャップ部は、該流体によって濡れる材料から形成されている、キャップ部と
を特徴とする、ディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月19日(2017.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体と、
前記筐体の内部に設置された基板と、
前記基板に設置されたアンテナと、
前記筐体に着脱可能に設置され、前記筐体の反射率よりも高い反射率を有し、設置時において前記基板に対向する面を有する金属板と、
前記金属板の設置を検知する検知部と、
前記検知部の検知結果を出力する出力部と、
を含む無線通信装置。
【請求項２】
筐体と、
前記筐体の内部に設置された基板と、
前記基板に設置されたアンテナと、
前記アンテナの指向性を第１状態から第２状態に切り替える切替部と、
前記切替部による切り替えを検知する検知部と、
前記検知部の検知結果を出力する出力部と、
を含む無線通信装置。
【請求項３】
筐体と、
前記筐体の内部に設置されたアンテナと、
前記筐体に着脱可能に設置され、前記筐体の反射率よりも高い反射率を有し、設置時において前記アンテナに対向する面を有する金属板と、
前記金属板の設置を検知する検知部と、
前記検知部の検知結果を出力する出力部と、
を含む無線通信装置。
【請求項４】
筐体と、
前記筐体の内部に設置されたアンテナと、
前記アンテナの指向性を第１状態から第２状態に切り替える切替部と、
前記切替部による切り替えを検知する検知部と、
前記検知部の検知結果を出力する出力部と、
を含む無線通信装置。
【請求項５】
前記アンテナは、前記基板に複数個設置されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の無線通信装置。
【請求項６】
前記金属板の一部が前記筐体内部に挿入されることを特徴とする請求項１から請求項４の何れか一に記載の無線通信装置。
【請求項７】
前記基板と前記対向する面との距離は、λ／１２より大きく５λ／１２未満であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の無線通信装置。
【請求項８】
前記出力部が出力する検知結果に基づいて、動作モードを制御する制御部をさらに含むことを特徴とする請求項１から請求項４の何れか一に記載の無線通信装置。
【請求項９】
前記アンテナは、前記検知部が検知した結果を受信機側に送信することを特徴とする請求項１から請求項４の何れか一に記載の無線通信装置。
【請求項１０】
前記検知部が検知した結果を制御部に送信することを特徴とする請求項１から請求項４の何れか一に記載の無線通信装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月15日(2017.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電トランスデューサを製造する方法であって、
複数の振動素子を有する振動素子アレイを形成するステップであって、前記複数の振動素子の各々は、湾曲したプロファイル転写基板の上に導電層を堆積して駆動電極層を形成し、圧電材料の粒子を前記駆動電極層の上に堆積して第１の厚さを有する圧電層を形成し、前記圧電層並びに前記駆動電極層をパターニングして個々の駆動電極並びに圧電素子を形成することによって形成されるものである、ステップと、
基部の上部表面の上方に前記振動素子の柔軟部分を懸架するステップと、
前記基部の前記上部表面と前記振動素子の底部表面との間に空間を作るために支持体を用いるステップと、
前記振動素子への鉛直接続部で前記振動素子アレイに対応している駆動回路アレイを  集積回路（ＡＳＩＣ）層に提供するステップと、
を有する方法。
【請求項２】
基準電極層を複数の前記圧電素子の上に堆積する前に、前記圧電層と前記駆動電極層のパターニングが行われることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記振動素子の柔軟部分を懸架するステップと空間を作るために支持体を用いるステップは、複数の環状支持体を有する環状支持体アレイを提供するステップを含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記環状支持体は複数の環状金属シールを有し、第１の振動素子を支持する第１の環状金属シールは、他の振動素子を支持する環状金属シールから空気間隙または真空間隙によって絶縁されていることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記環状金属シールの厚さおよび幅は、当該環状金属シールが、前記アレイ内の隣接する振動素子間の振動クロストークを実質的に防ぐように選択されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記環状金属シールは共晶接合プロセスを用いて生成されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記プロファイル転写基板をエッチングで除去するステップをさらに有する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記駆動電極層を形成する前に、前記プロファイル転写基板の上に薄膜層を形成するステップを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記薄膜層の底部表面から当該底部表面の中央湾曲部分を露出させるように前記プロファイル転写基板をエッチングで除去するときに、前記薄膜層はエッチング停止層として機能する酸化層を含むことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記圧電層の上部表面に接触しかつ当該上部表面と形状が一致した底部表面を有する導電材料の層を堆積するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記圧電材料の粒子を堆積する際に当該粒子はスパッタリングによって堆積させ、スパッタリングされた圧電材料は、整列し且つ前記圧電素子の湾曲した表面に対して垂直な円柱状結晶粒構造と、当該円柱状結晶粒構造の方向を指し示す自然に堆積されたままのポーリング方向とを有することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記圧電層の前記第１の厚は、前記圧電層が駆動電圧の下で十分に柔軟に屈曲することができ、さらにその振動を前記振動素子の露出外面に接している伝播媒体に伝達するのに十分な堅さとなるよう選択されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記トランスデューサの駆動および感知機能を制御する前記集積回路（ＡＳＩＣ）層の集積回路は、前記トランスデューサの多数の振動素子へ駆動信号を伝送し且つ当該多数の振動素子から感知信号を集めるために、少数の外部接続部を用いることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
圧電トランスデューサであって、
複数の電極と、圧電部分であって、静止平面環状圧電部分と当該静止平面環状圧電部分に囲まれたドーム型柔軟圧電部分とを有する圧電部分、を備える振動素子と、
基部であって、該基部の第１表面上で前記振動素子を支持し、かつ前記振動素子の前記複数の電極と電気的に接続されている集積回路を含んでいる、基部と、
前記ドーム型柔軟圧電部分と前記基部との間に画定される孔、
を備え、
前記ドーム型柔軟圧電部分の一部が、前記複数の電極間に印加された駆動電圧に応じて、前記基部に向かって前記孔内へ偏向するものであることを特徴とする、圧電トランスデューサ。
【請求項１５】
前記振動素子が、実質的に同一の振動素子から成る線形アレイの中の１つであり、さらに前記線形アレイの振動素子が夫々、前記基部の前記第１表面の上方で、対応する環状支持体により支持されかつ前記基部内の回路に電気的に接続されていることを特徴とする請求項１４記載の圧電トランスデューサ。
【請求項１６】
前記圧電部の結晶粒構造が、円柱状でありかつ実質的に整列したものであり、さらに全てのまたは実質的に全ての該円柱状結晶粒が前記圧電部分の前記ドーム型柔軟圧電部分と前記静止平面環状圧電部分との両方に及ぶ前記圧電部の表面に対し、局所的に垂直であることを特徴とする請求項１４記載の圧電トランスデューサ。
【請求項１７】
前記駆動電圧が、１０ボルト以下であることを特徴とする請求項１４記載の圧電トランスデューサ。
【請求項１８】
前記基部内の前記集積回路が、複数の前記振動素子の前記圧電部分夫々に前記圧電トランスデューサの露出外面を通して加えられた該圧電部分夫々での圧力変化を個々に感知するための感知回路を含んでいることを特徴とする請求項１４記載の圧電トランスデューサ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月21日(2017.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
着色剤、バインダー樹脂、有機溶剤を含み、かつ、前記着色剤が、ベンジジン系ジスアゾイエロー顔料（Ａ）を含有することを特徴とする、非水系インクジェットイエローインキ。
【請求項２】
インキ全体に対してベンジジン系ジスアゾイエロー顔料（Ａ）を０．５〜７．５重量％含み、かつ、着色剤全体に対して、ベンジジン系ジスアゾイエロー顔料（Ａ）を５０重量％以上含有することを特徴とする請求項１記載の非水系インクジェットイエローインキ。
【請求項３】
ベンジジン系ジスアゾイエロー顔料（Ａ）が、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３であることを特徴とする、請求項１または２に記載の非水系インクジェットイエローインキ。
【請求項４】
請求項１〜３いずれかに記載のイエローインキと、少なくともマゼンタインキとを含むことを特徴とする非水系インクジェットインキセットであって、
前記マゼンタインキが、着色剤、バインダー樹脂、有機溶剤を含み、かつ、マゼンタインキに含まれる着色剤が、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２，１４６，および、１８４から選択される少なくとも１種類以上を含むマゼンタ顔料（Ｂ）を含むことを特徴とする、非水系インクジェットインキセット。
【請求項５】
各インキが、塩基性分散剤を含むことを特徴とする、請求項４記載の非水系インクジェットインキセット。
【請求項６】
各インキに含まれる塩基性分散剤の重量平均分子量（Ｍｗ）が、それぞれ独立に、２０，０００以上５５，０００以下であることを特徴とする、請求項５記載の非水系インクジェットインキセット。
【請求項７】
非吸収シート基材へ、請求項４〜６いずれか記載の非水系インクジェットインキセットを用いて印刷してなる印刷物。
【請求項８】
非吸収シート基材へ、請求項４〜６いずれか記載の非水系インクジェットインキセットを用いて印刷することを特徴とする印刷物の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また本発明は、各インキに含まれる塩基性分散剤の重量平均分子量（Ｍｗ）が、それぞれ独立に、２０，０００以上５５，０００以下であることを特徴とする、上記非水系インクジェットインキセットに関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また本発明は、非吸収シート基材へ、上記非水系インクジェットインキセットを用いて印刷してなる印刷物に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また本発明は、非吸収シート基材へ、上記非水系インクジェットインキセットを用いて印刷することを特徴とする印刷物の製造方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月27日(2017.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記真空槽は、複数の有機蒸着室から構成され、各有機蒸着室には前記各蒸発源と前記水晶発振式膜厚計が配設され、この一の有機蒸着室に配設する前記水晶発振式膜厚計の前記複数の水晶振動子は、予め残余のうちの他の有機蒸着室の前記蒸発源から蒸発させた有機材料を、一定膜厚形成したら次の水晶振動子に交換することでこの複数の水晶振動子上に夫々前記有機材料下地膜を形成し、この有機材料下地膜付の水晶振動子を備えた水晶発振式膜厚計により、前記一の有機蒸着室の前記蒸発源での蒸着工程における膜厚モニタリングを行う構成としたことを特徴とする請求項１記載の真空蒸着装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、前記真空槽１は、複数の有機蒸着室12から構成され、各有機蒸着室12には前記各蒸発源２と前記水晶発振式膜厚計Ｍが配設され、この一の有機蒸着室12に配設する前記水晶発振式膜厚計Ｍの前記複数の水晶振動子４は、予め残余のうちの他の有機蒸着室12の前記蒸発源２から蒸発させた有機材料を、一定膜厚形成したら次の水晶振動子４に交換することでこの複数の水晶振動子４上に夫々前記有機材料下地膜６を形成し、この有機材料下地膜６付の水晶振動子４を備えた水晶発振式膜厚計Ｍにより、前記一の有機蒸着室12の前記蒸発源２での蒸着工程における膜厚モニタリングを行う構成としたことを特徴とする請求項１記載の真空蒸着装置に係るものである。