Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月1日(2017.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜と重なるゲート電極層と、
前記酸化物半導体膜と前記ゲート電極層の間のゲート絶縁膜と、
前記酸化物半導体膜を介して、前記ゲート絶縁膜と重なる金属酸化物膜と、
前記酸化物半導体膜と電気的に接続するソース電極層及びドレイン電極層と、
を有し、
前記金属酸化物膜は、少なくとも前記酸化物半導体膜のチャネル領域及び側面を覆う、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜と重なるゲート電極層と、
前記酸化物半導体膜と前記ゲート電極層の間のゲート絶縁膜と、
前記酸化物半導体膜を介して、前記ゲート絶縁膜と重なる金属酸化物膜と、
前記酸化物半導体膜と電気的に接続するソース電極層及びドレイン電極層と、
を有し、
前記金属酸化物膜は、前記酸化物半導体膜よりも伝導帯下端のエネルギー準位が真空準位に近く、少なくとも前記酸化物半導体膜のチャネル領域及び側面を覆う、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
ゲート電極層と、
前記ゲート電極層上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の前記ゲート電極層と重畳する位置の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜のチャネル領域及び側面を覆う金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜を介して、前記酸化物半導体膜に電気的に接続されるソース電極層及びドレイン電極層と、を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記金属酸化物膜は、前記酸化物半導体膜よりも伝導帯下端のエネルギー準位が真空準位に近い、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項３において、
前記金属酸化物膜は、前記酸化物半導体膜に達する開口部を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月24日(2017.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置、表示装置、電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の酸化物半導体膜と、第２の酸化物半導体膜とを含むトランジスタと、
一対の電極間に絶縁膜を含む容量素子と、を有する半導体装置であって、
前記トランジスタは、
前記第１の酸化物半導体膜と、
前記第１の酸化物半導体膜に接して設けられたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜に接して設けられ、前記第１の酸化物半導体膜と重畳する位置に設けられた前記第２の酸化物半導体膜と、
前記第１の酸化物半導体膜に接続されたソース電極及びドレイン電極と、を有し、
前記容量素子の一対の電極の一方が、前記第２の酸化物半導体膜と同一表面上に設けられる、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
第１の酸化物半導体膜と、第２の酸化物半導体膜とを含むトランジスタと、
一対の電極間に絶縁膜を含む容量素子と、を有する半導体装置であって、
前記トランジスタは、
前記第２の酸化物半導体膜を含むゲート電極と、
前記ゲート電極上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の前記ゲート電極と重畳する位置の第１の酸化物半導体膜と、
前記第１の酸化物半導体膜上のソース電極及びドレイン電極と、を有し、
前記容量素子の一対の電極の一方が、前記第２の酸化物半導体膜と同一表面上に設けられる、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
第１の酸化物半導体膜と、第２の酸化物半導体膜とを含むトランジスタと、
一対の電極間に絶縁膜を含む容量素子と、を有する半導体装置であって、
前記トランジスタは、
前記第１の酸化物半導体膜と、
前記第１の酸化物半導体膜上のソース電極及びドレイン電極と、
前記第１の酸化物半導体膜上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の前記第１の酸化物半導体膜と重畳する位置の前記第２の酸化物半導体膜を含むゲート電極と、を有し、
前記容量素子の一対の電極の一方が、前記第２の酸化物半導体膜と同一表面上に設けられる、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２において、
前記容量素子の一対の電極の他方が、
前記第１の酸化物半導体膜と同一表面上に設けられる、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか一つにおいて、
前記容量素子は、可視光において透光性を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項３のいずれか一つにおいて、
前記第１の酸化物半導体膜及び前記第２の酸化物半導体膜は、
Ｉｎ−Ｍ−Ｚｎ酸化物（ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、ＳｎまたはＨｆを表す）である、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一つに記載の半導体装置を用いた表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項６のいずれか一つに記載の半導体装置を用いた電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月19日(2017.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸素を有する第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上のソース電極層およびドレイン電極層と、
前記第１の絶縁膜と前記ソース電極層との間に位置する第１の層と、
前記第１の絶縁膜と前記ドレイン電極層との間に位置する第２の層と、
前記ソース電極層および前記ドレイン電極層上、並びに前記第１の絶縁膜上に接する酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上の第２の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜又は前記第２の絶縁膜を介して前記酸化物半導体層と重なるゲート電極層と、を有し、
前記第１の層及び前記第２の層は、それぞれ、酸化アルミニウム、酸化窒化アルミニウム、酸化ガリウム、酸化窒化ガリウム、酸化イットリウム、酸化窒化イットリウム、酸化ハフニウム、酸化窒化ハフニウム、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、窒化チタン、窒化タンタル、金、白金、パラジウム、またはルテニウムを有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
酸素を有する第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上のソース電極層およびドレイン電極層と、
前記第１の絶縁膜と前記ソース電極層との間に位置する第１の層と、
前記第１の絶縁膜と前記ドレイン電極層との間に位置する第２の層と、
前記ソース電極層および前記ドレイン電極層上、並びに前記第１の絶縁膜上に接する酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上の第２の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜又は前記第２の絶縁膜を介して前記酸化物半導体層と重なるゲート電極層と、を有し、
前記第１の層及び前記第２の層は、それぞれ、酸化アルミニウム、酸化窒化アルミニウム、酸化ガリウム、酸化窒化ガリウム、酸化イットリウム、酸化窒化イットリウム、酸化ハフニウム、酸化窒化ハフニウム、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、窒化チタン、窒化タンタル、金、白金、パラジウム、またはルテニウムを有し、
前記ソース電極層は、前記第１の絶縁膜とは接さず、
前記ドレイン電極層は、前記第１の絶縁膜とは接さないことを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月22日(2017.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上のインプリント材とモールドとを接触させることにより前記インプリント材のパターンを形成するインプリント処理を、ショット領域ごとに行う、インプリント装置であって、
前記基板を保持するステージと、
前記ショット領域と前記モールドとの前記基板の表面に平行な方向における相対位置を検出する検出器と、
前記インプリント処理を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、
対象ショット領域とは異なる他のショット領域で行ったインプリント処理において、前記モールドと前記インプリント材とを接触させた後の前記他のショット領域と前記モールドの前記方向に関する位置合わせに用いた、前記他のショット領域と前記モールドの相対位置又は相対移動量に関連する情報を取得し、
前記対象ショット領域に対して前記インプリント処理を行うとき、前記対象ショット領域に関する前記検出器の検出結果と前記取得した情報とを用いて前記対象ショット領域と前記モールドの前記方向に関する相対位置を調整し、前記モールドと前記インプリント材とを接触させる前記インプリント処理を行う、
ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記情報は、前記モールドと前記インプリント材とを接触させた後の、前記他のショット領域と前記モールドの前記方向に関する位置合わせに要した、前記ステージの前記モールドに対する駆動量に基づく情報であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記モールドと前記インプリント材とを接触させた後、前記検出器により前記パターンが形成されていない前記対象ショット領域と前記モールドとの前記方向に関する相対位置を検出し、当該検出器の検出結果に基づいて前記ステージを前記方向にさらに移動させる、ことを特徴とする請求項１または２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記他のショット領域は、最初に前記パターンが形成されたショット領域である、ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記他のショット領域は、前記パターンが形成された複数のショット領域である、ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記他のショット領域は、前記パターンが形成された複数のショット領域であり、
前記制御部は、前記モールドと前記インプリント材とを接触させてから前記複数のショット領域のそれぞれを前記モールドに対して前記方向に関する位置合わせに要した、前記ステージの前記モールドに対する複数の駆動量の平均値に基づいて前記情報を取得する、ことを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記モールドと前記インプリント材とを接触させてから前記他のショット領域を前記モールドに対して前記方向に関する位置合わせに要した前記ステージの前記モールドに対する駆動量を前記ステージの基準位置からの前記方向における位置の検出結果と前記モールドの前記方向における変位とから取得する、ことを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記モールドの前記方向における変位を検出する第２の検出器をさらに備える、ことを特徴とする請求項７に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記第２の検出器は、変位センサを含む、ことを特徴とする請求項８に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
前記第２の検出器は、歪みゲージを含む、ことを特徴とする請求項８に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
前記制御部は、前記ステージを前記方向に移動させた場合の駆動力と前記モールドの前記方向における変位量との関係を規定する係数と、前記他のショット領域におけるインプリント処理において前記モールドを前記インプリント材に接触させた状態で前記ステージを前記方向に移動させるための駆動力と、に基づいて、前記モールドの前記方向における変位量を求める、ことを特徴とする請求項７に記載のインプリント装置。
【請求項１２】
前記制御部は、前記基板の周辺領域に存在するショット領域に対するインプリント処理を前記基板の中心領域に存在するショット領域に対するインプリント処理よりも先に行う、ことを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１３】
基板を保持するステージと、前記基板の上のショット領域とモールドとの前記基板の表面に平行な方向における相対位置を検出する検出器と、を備えたインプリント装置を用いて、前記基板の上のインプリント材と前記モールドとを接触させることにより前記インプリント材のパターンを形成するインプリント処理をショット領域ごとに行う、インプリント方法であって、
対象ショット領域とは異なる他のショット領域で行ったインプリント処理において、前記モールドと前記インプリント材とを接触させてから、前記他のショット領域と前記モールドの前記方向に関する位置合わせに用いた、前記他のショット領域と前記モールドの相対位置又は相対移動量に関連する情報を取得する工程と、
前記対象ショット領域に対して前記インプリント処理を行うとき、前記対象ショット領域に関する前記検出器の検出結果と前記取得した情報とを用いて前記対象ショット領域と前記モールドの前記方向に関する相対位置を調整し、前記モールドと前記対象ショット領域のインプリント材とを接触させる工程と、
を含むことを特徴とするインプリント方法。
【請求項１４】
前記モールドと前記ショット領域のインプリント材とを接触させる工程の後、
前記モールドと前記インプリント材とが接触した状態で前記検出器により前記対象ショット領域と前記モールドとの前記方向に関する相対位置を検出する工程と、
前記モールドと前記インプリント材とが接触した状態での前記検出器の検出結果に基づいて前記ステージを前記方向にさらに移動させて前記インプリント材を硬化させる工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項１３に記載のインプリント方法。
【請求項１５】
請求項１ないし１２のいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンが形成された基板を加工する工程と、
を有し、前記加工する工程で加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月27日(2017.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発振波長を指定するための複数のパラメータが入力され、前記パラメータに基づいて前記発振波長を算出する第１ステップと、
メモリから、第１波長で波長可変レーザをレーザ発振させるための駆動条件を取得する第２ステップと、
前記第２ステップで取得された駆動条件と、前記第１波長と前記第１ステップで算出した発振波長である第２波長との波長差分と、を参照して、前記波長可変レーザを前記第２波長でレーザ発振させるための駆動条件を算出する第３ステップと、
前記第３ステップにおいて算出された駆動条件に基づいて、前記波長可変レーザを駆動する、波長可変レーザの制御方法。
【請求項２】
前記第１ステップにおける複数のパラメータには、基準周波数、グリッド間隔および基準周波数からのグリッド数を指定するチャネル番号の少なくとも２つが含まれ、前記発振波長の算出は、前記基準周波数、前記グリッド間隔および前記基準周波数からのグリッド数を指定するチャネル番号に基づいて実施される、請求項１記載の波長可変レーザの制御方法。
【請求項３】
発振波長を指定するための少なくとも２種類以上の入力されたパラメータに基づいて前記発振波長を算出するか、入力された前記発振波長の実数値を使用するかを選択する第１ステップと、
メモリから、第１波長で波長可変レーザをレーザ発振させるための駆動条件を取得する第２ステップと、
前記第２ステップで取得された駆動条件と、前記第１波長と前記第１ステップで選択された前記発振波長である第２波長との波長差分とを参照して、前記波長可変レーザを前記第２波長でレーザ発振させるための駆動条件を算出する第３ステップと、
前記第３ステップにおいて算出された駆動条件に基づいて、前記波長可変レーザを駆動する、波長可変レーザの制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月26日(2016.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の角型電池と、
前記角型電池を保持する電池ホルダと、
前記角型電池と接着される被接合体と、
前記角型電池と前記被接合体とを接着する接着シートとを備えた電池体であって、
前記電池ホルダは、前記接着シートにおける前記角型電池及び前記被接合体と接着される接着面以外の面の少なくとも一部分及び前記角型電池と対向する対向部を有し、前記対向部には、前記角型電池と対向する領域から前記接着シートにおける前記接着面以外の面と対向する領域に亘って設けられる切り欠き若しくは孔が設けられていることを特徴とする電池体。
【請求項２】
前記角型電池及び前記被接合体の両方を保持している前記電池ホルダを複数並設したことを特徴とする請求項１に記載の電池体。
【請求項３】
複数の前記電池ホルダは、それぞれ、少なくとも１つの前記対向部を備え、
複数の前記電池ホルダの少なくとも１つの前記対向部には、それぞれ、前記切り欠き若しくは孔が設けられ、
前記切り欠き若しくは孔が設けられた前記対向部が連なる面を電池体の外面に備えることを特徴とする請求項２に記載の電池体。
【請求項４】
前記対向部が連なる面を構成する各対向部に設けられた前記切り欠き若しくは孔は、前記電池ホルダの並設方向に並んで設けられ、かつ、前記対向部が連なる面に沿う方向のうち前記並設方向に直交する方向での位置が同一であることを特徴とする請求項３に記載の電池体。
【請求項５】
複数の前記電池ホルダは、それぞれ、前記角型電池の外面のうち最も広い面よりも狭い面を被覆するとともに前記対向部となる矩形状の被覆部と、
前記被覆部の短手方向の一方の端部である短手方向第１端部、及び、前記被覆部の短手方向の他方の端部である短手方向第２端部のそれぞれに設けられた前記切り欠きと、を備え、
前記電池ホルダは、前記被覆部の短手方向と前記電池ホルダの並設方向とが一致する態様で並設されていることを特徴とする請求項２〜請求項４のうちいずれか一項に記載の電池体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
これによれば、対向部に設けられた切り欠き若しくは孔を介して角型電池と被接合体との間に治具を挿入することができる。したがって、角型電池が電池ホルダに保持されていても、角型電池と被接合体との分離が容易に行われる。
前記電池体について、前記角型電池及び前記被接合体の両方を保持している前記電池ホルダを複数並設してもよい。
前記電池体について、複数の前記電池ホルダは、それぞれ、少なくとも１つの前記対向部を備え、複数の前記電池ホルダの少なくとも１つの前記対向部には、それぞれ、前記切り欠き若しくは孔が設けられ、前記切り欠き若しくは孔が設けられた前記対向部が連なる面を電池体の外面に備えていてもよい。
前記電池体について、前記対向部が連なる面を構成する各対向部に設けられた前記切り欠き若しくは孔は、前記電池ホルダの並設方向に並んで設けられ、かつ、前記対向部が連なる面に沿う方向のうち前記並設方向に直交する方向での位置が同一であってもよい。
前記電池体について、複数の前記電池ホルダは、それぞれ、前記角型電池の外面のうち最も広い面よりも狭い面を被覆するとともに前記対向部となる矩形状の被覆部と、前記被覆部の短手方向の一方の端部である短手方向第１端部、及び、前記被覆部の短手方向の他方の端部である短手方向第２端部のそれぞれに設けられた前記切り欠きと、を備え、前記電池ホルダは、前記被覆部の短手方向と前記電池ホルダの並設方向とが一致する態様で並設されていてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月21日(2017.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源部と本体部とを備え、前記光源部が前記本体部に対向して脱着可能に装着される照明装置において、
前記光源部と前記本体部とのどちらかに取り付けられる長手形状の板バネであるバネ部であって、長手方向に向かう平坦部と、前記平坦部の終わりから前記光源部と前記本体部とのうち取り付けられない方に向かって凸となる円弧形状の円弧形状部とを有し、前記平坦部で前記光源部と前記本体部とのどちらかに取り付けられるバネ部と、
前記光源部と前記本体部とのうち前記バネ部が取り付けられない方に取り付けられる連結部であって、前記円弧形状部を貫通させる開口が形成され、前記平坦部の終わり付近の前記円弧形状部である付近円弧形状部を、無負荷状態に対して変位させた状態で前記開口の周縁が前記付近円弧形状部と当接する連結部と
を備えたことを特徴とする照明装置。
【請求項２】
前記バネ部の前記円弧形状部は、
前記平坦部とは反対の端部に、屈曲された屈曲部が形成されたことを特徴とする請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】
前記光源部と前記本体部とは、
複数個の前記バネ部と、各バネ部に対応する各連結部とが取り付けられることを特徴とする請求項２に記載の照明装置。
【請求項４】
前記照明装置は、
前記光源部が前記本体部から取り外された状態で前記屈曲部が前記開口の周縁に引っ掛かることで、前記光源部の自重が支持されることを特徴とする請求項３に記載の照明装置。
【請求項５】
前記バネ部は、
前記本体部に取り付けられ、
前記連結部は、
前記光源部に取り付けられたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月21日(2017.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明の透光性カバーは、
照明器具に使用される透光性を有する長手形状の透光性カバーにおいて、
アーチ形状が前記長手形状にわたって続くカバー部と、
前記カバー部の前記長手形状の長手方向に沿った一方の端部から壁形状に起立する第１の側部と、
前記カバー部の前記長手方向に沿った他方の端部から壁形状に起立する第２の側部と
を備え、
前記第１の側部は、
前記第２の側部に向かって内側に凹形状に凹む第１側凹部と、前記第２の側部に対して外側に凸となる第１側凸部との少なくともいずれかが形成され、
前記第２の側部は、
前記第１の側部に向かって内側に凹形状に凹む第２側凹部と、前記第１の側部に対して外側に凸となる第２側凸部との少なくともいずれかが形成されたことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明器具に使用される透光性を有する長手形状の透光性カバーにおいて、
アーチ形状が前記長手形状にわたって続くカバー部と、
前記カバー部の前記長手形状の長手方向に沿った一方の端部から壁形状に起立する第１の側部と、
前記カバー部の前記長手方向に沿った他方の端部から壁形状に起立する第２の側部と
を備え、
前記第１の側部は、
前記第２の側部に向かって内側に凹形状に凹む第１側凹部と、前記第２の側部に対して外側に凸となる第１側凸部との少なくともいずれかが形成され、
前記第２の側部は、
前記第１の側部に向かって内側に凹形状に凹む第２側凹部と、前記第１の側部に対して外側に凸となる第２側凸部との少なくともいずれかが形成されたことを特徴とする透光性カバー。
【請求項２】
前記第１の側部は、
前記第１側凹部が形成され、
前記第２の側部は、
前記第２側凹部が形成されたことを特徴とする請求項１に記載の透光性カバー。
【請求項３】
前記第１側凹部と前記第２側凹部とは、
溝形状をなすことを特徴とする請求項２に記載の透光性カバー。
【請求項４】
前記第１の側部は、
前記第１側凸部が形成され、
前記第２の側部は、
前記第２側凸部が形成されたことを特徴とする請求項１に記載の透光性カバー。
【請求項５】
前記第１側凸部と前記第２側凸部とは、
突起形状をなすことを特徴とする請求項４に記載の透光性カバー。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の透光性カバーを備えた照明器具。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月2日(2017.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板に設けられた発光部と、
前記発光部からの光を反射する複数の反射部と、
前記基板に設けられ、前記発光部からの光を検出する第１検出部と、
を有し、
前記反射部は、略ｎ角錐状（ｎは３以上の整数）の形状を有し、その底面が前記基板と平行になるように設けられており、
前記第１検出部は、互いに隣接する２つの反射部の一方の反射部の底面に対応するｎ角形の頂点と、他方の反射部の底面に対応するｎ角形の頂点と、の間に設けられている
ことを特徴とする光源装置。
【請求項２】
前記第１検出部は、前記反射部の底面に対応するｎ角形の辺と対向しない位置に設けられている
ことを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項３】
前記発光部に対向する位置に設けられた光学シートをさらに有し、
前記第１検出部は、前記発光部から、前記発光部と前記光学シートの間の距離の３〜６倍の距離だけ離れた位置に設けられている
ことを特徴とする請求項１または２に記載の光源装置。
【請求項４】
前記反射部は、多角錐の底面側の頂点部分を切り取った形状を有し、
前記第１検出部は、切り取られた前記頂点部分に設けられている
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項５】
前記第１検出部の周囲に設けられ、前記反射部からの反射光を遮る遮蔽部を有する
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項６】
前記基板は凹部を有し、
前記第１検出部は前記凹部に設けられている
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項７】
前記第１検出部の周辺回路は、前記反射部の内部に設けられている
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項８】
前記複数の反射部は、前記発光部を囲むように設けられている
ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項９】
複数の発光部を有し、
前記複数の反射部は、各発光部が２つ以上の反射部で囲まれるように設けられている
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１０】
前記発光部は複数の光源を有し、
前記複数の反射部は、各光源が２つ以上の反射部で囲まれるように設けられている
ことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１１】
前記光源は、前記反射部の底面に対応するｎ角形の辺に対向する位置に設けられていることを特徴とする請求項１０に記載の光源装置。
【請求項１２】
前記基板に設けられ、前記発光部からの光を検出する第２検出部と、
前記第１検出部の検出値と前記第２検出部の検出値との差に基づいて、前記第１検出部の検出値を補正する補正手段と、
をさらに有する
ことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１３】
前記発光部と前記第２検出部の間の距離は、前記発光部と前記第１検出部の間の距離よりも短い
ことを特徴とする請求項１２に記載の光源装置。
【請求項１４】
前記補正手段は、前記第１検出部の検出値と前記第２検出部の検出値との差が大きいほど、前記第１検出部の補正前の検出値と補正後の検出値との差が大きくなるように、前記第１検出部の検出値を補正する
ことを特徴とする請求項１２または１３に記載の光源装置。
【請求項１５】
検出値の差と補正値との対応関係を表す対応情報が予め用意されており、
前記補正手段は、前記第１検出部の検出値と前記第２検出部の検出値との差に対応する補正値を前記対応情報に基づいて決定し、決定した前記補正値を用いて前記第１検出部の検出値を補正する
ことを特徴とする請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１６】
前記第２検出部は、検出面が前記反射部の方向を向くように設けられている
ことを特徴とする請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１７】
前記第２検出部の検出面が、前記発光部に対向する位置に設けられた光学シート上の前記反射部に対向する位置の方向を向いている
ことを特徴とする請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の光源装置と、
前記光源装置からの光を変調することで画面に画像を表示する表示部と、
を有する表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の第１の態様は、
基板と、
前記基板に設けられた発光部と、
前記発光部からの光を反射する複数の反射部と、
前記基板に設けられ、前記発光部からの光を検出する第１検出部と、
を有し、
前記反射部は、略ｎ角錐状（ｎは３以上の整数）の形状を有し、その底面が前記基板と平行になるように設けられており、
前記第１検出部は、互いに隣接する２つの反射部の一方の反射部の底面に対応するｎ角形の頂点と、他方の反射部の底面に対応するｎ角形の頂点と、の間に設けられている
ことを特徴とする光源装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図４は、バックライト装置の構成の一例を示すブロック図である。本実施例では、光源基板１０１はｎ個（ｎは２以上の整数）のＬＥＤ基板１１０（１）〜１１０（ｎ）を有する。ｎ個のＬＥＤ基板１１０（１）〜１１０（ｎ）の構成は同等であるため、一例としてＬＥＤ基板１１０（１）について説明する。ＬＥＤ基板１１０（１）は、発光部１１１（１，１）〜１１１（１，８）を有する。発光部１１１（１，１）〜１１１（１，８）は、それぞれ、ＬＥＤドライバ１２０（１，１）〜１２０（１，８）により駆動される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
図１９は、調整用光センサの検出値と誤差補正用光センサの検出値とに基づいて、調整用光センサの検出値を補正する方法を説明する図である。図１９のｘ軸は割合Ｒｄ、ｙ軸は光学シート１０６のたわみによる検出輝度の変化量を示す。
本実施例では、調整用光センサの検出値と誤差補正用光センサの検出値との差に基づいて、調整用光センサの検出値を補正する。符号７０１は、調整用光センサの検出値と誤差補正用光センサの検出値との差（乖離量）を示す。符号７０２は、調整用光センサの検出値が含む誤差を示す。図１９から、たわみ量の変化によって乖離量７０１も変化することがわかる。そして、乖離量７０１が大きいほど誤差７０２が大きいこともわかる。そこで、補正処理では、乖離量７０１を算出し、乖離量７０１が大きいほど、補正前の検出値と補正後の検出値の差が大きくなるように、調整用光センサの検出値を補正する。
補正処理は、例えば、マイコン１２５によって行われる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2015162333.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月9日(2017.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子と、
前記発光素子が実装された基板と、
少なくとも前記発光素子の出光面側に設けられ、前記発光素子に対向し厚さが一定な均厚部と、前記均厚部に並べて設けられ前記発光素子と反対側の面が前記発光素子に向かって傾斜し前記発光素子から遠ざかるにつれ厚みが減少する傾斜部とを備える光源カバーと、
を備える照明器具。
【請求項２】
前記発光素子と前記光源カバーの間に設けられ、透光機能を有する拡散板と、
前記拡散板を支持し、前記発光素子からの光を反射する反射板と、
を備える請求項１記載の照明器具。
【請求項３】
前記光源カバーは、前記傾斜部から前記均厚部とは反対側に設けられ前記発光素子からの光を反射する反射部をさらに備える請求項１または２に記載の照明器具。
【請求項４】
前記反射部の表面が段状に形成されている請求項３に記載の照明器具。
【請求項５】
前記反射部は、前記傾斜部から遠ざかるにつれ厚みが減少する請求項３または４に記載の照明器具。
【請求項６】
前記傾斜部の表面が段状に形成されている請求項１〜５のいずれか１項に記載の照明器具。
【請求項７】
前記傾斜部は連続的に厚みが減少する請求項１〜５のいずれか１項に記載の照明器具。
【請求項８】
前記傾斜部の表面が曲面である請求項７に記載の照明器具。
【請求項９】
前記発光素子と前記光源カバーの間にプリズムシートが設けられた請求項１〜８のいずれか１項に記載の照明器具。
【請求項１０】
前記均厚部が曲面形状を有する請求項１〜９のいずれか１項に記載の照明器具。
【請求項１１】
発光素子を覆うための光源カバーであって、
少なくとも前記発光素子の出光面側に位置し、前記発光素子に対向する面に設けられた厚さが一定な均厚部と、前記均厚部に並べて設けられ前記発光素子と反対側の面が前記発光素子に向かって傾斜し前記発光素子から遠ざかるにつれ厚みが減少する傾斜部と、を備える光源カバー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明にかかる照明器具は、発光素子と、前記発光素子が実装された基板と、少なくとも前記発光素子の出光面側に設けられ、前記発光素子に対向し厚さが一定な均厚部と、前記均厚部に並べて設けられ前記発光素子と反対側の面が前記発光素子に向かって傾斜し前記発光素子から遠ざかるにつれ厚みが減少する傾斜部とを備える光源カバーと、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明にかかる光源カバーは、発光素子を覆うための光源カバーであって、少なくとも前記発光素子の出光面側に位置し、前記発光素子に対向する面に設けられた厚さが一定な均厚部と、前記均厚部に並べて設けられ前記発光素子と反対側の面が前記発光素子に向かって傾斜し前記発光素子から遠ざかるにつれ厚みが減少する傾斜部と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月24日(2017.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子が実装された基板と、
前記発光素子の発光面側に設けられ、前記発光素子に被さる光学レンズと、
前記光学レンズが嵌まり込む開口部を備え、前記基板に重ねられて前記開口部から前記光学レンズを露出させる光拡散パネルと、
を備える光源ユニット。
【請求項２】
前記光学レンズの外形は柱状であり、前記光拡散パネルの前記開口部が前記光学レンズの外周面を覆い、前記開口部が前記光学レンズの底面を露出させる請求項１に記載の光源ユニット。
【請求項３】
前記光学レンズは円柱形状である請求項２に記載の光源ユニット。
【請求項４】
前記光学レンズは、発光素子の光が入射する入射面と、入射された光を出射する出射面と、前記出射面の縁に沿って前記出射面を囲う外周面とを備え、
前記入射面は、平面部と、前記平面部から斜め方向かつ前記発光素子の側に広がる傾斜面とを備え、
前記傾斜面に入射した光が前記外周面から出射される請求項１〜３のいずれか１項に記載の光源ユニット。
【請求項５】
前記発光素子および前記光学レンズが複数設けられ、
複数の前記光学レンズそれぞれが接続板を介して接続されて一つの光学部品が構成された請求項１〜４のいずれか１項に記載の光源ユニット。
【請求項６】
複数の前記光学レンズを備える光学部品をさらに備え、
前記光拡散パネルの前記開口部は、前記光学部品の複数の光学レンズがそれぞれ嵌まり込むように複数個形成された請求項１〜５のいずれか１項に記載の光源ユニット。
【請求項７】
複数の前記光学レンズを備える光学部品をさらに備え、
前記光拡散パネルには、複数の開口部が形成され、
前記複数の開口部のうち一部の開口部に前記光学部品の前記光学レンズが嵌め込まれ他の開口部には前記光学部品の前記光学レンズが嵌め込まれず、
前記他の開口部から、前記基板の表面または前記発光素子が露出する請求項１〜６のいずれか１項に記載の光源ユニット。
【請求項８】
光源ユニットと、
前記光源ユニットが取り付けられる器具本体と、
を備え、
前記光源ユニットは、
発光素子が実装された基板と、
前記発光素子の発光面側に設けられ、前記発光素子に被さる光学レンズと、
前記光学レンズが嵌まり込む開口部を備え、前記基板に重ねられて前記開口部から前記光学レンズを露出させる光拡散パネルと、
を備える照明器具。
【請求項９】
発光素子の光が入射する入射面と、入射された光を出射する出射面と、前記出射面の縁に沿って前記出射面を囲う外周面とを備え、
前記入射面は、平面部と、前記平面部から斜め方向かつ前記発光素子の側に広がる傾斜面とを備え、
前記傾斜面に入射した光が前記外周面から出射される光学レンズ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明にかかる光源ユニットは、発光素子が実装された基板と、前記発光素子の発光面側に設けられ、前記発光素子に被さる光学レンズと、前記光学レンズが嵌まり込む開口部を備え、前記基板に重ねられて前記開口部から前記光学レンズを露出させる光拡散パネルと、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明にかかる照明器具は、光源ユニットと、前記光源ユニットが取り付けられる器具本体と、を備え、前記光源ユニットは、発光素子が実装された基板と、前記発光素子の発光面側に設けられ、前記発光素子に被さる光学レンズと、前記光学レンズが嵌まり込む開口部を備え、前記基板に重ねられて前記開口部から前記光学レンズを露出させる光拡散パネルと、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月10日(2017.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理装置の処理容器内に残存するＴi含有反応物を除去するためのクリーニング方法であって、
前記処理容器内を排気しながら、減圧状態の前記処理容器内にＨ2ガスとＮ2ガスを含む第１のクリーニングガスを導入し、前記第１のクリーニングガスを放電させてプラズマを生成し、前記プラズマのいずれかの活性種を前記Ｔi含有反応物と反応させて、その反応生成物を前記処理容器から排出する第１のドライクリーニング工程を有し、
前記処理容器内で被エッチング材である絶縁層およびＴiを含有するエッチングマスク層が積層された被処理体に対してＣＦ系のエッチングガスを用いて行われるドライエッチング工程の終了後に、前記被処理体が未だ前記処理容器内に入っている状態の下で前記第１のドライクリーニング工程が行われる、
クリーニング方法。
【請求項２】
前記絶縁層は、Low-k膜である、請求項１に記載のクリーニング方法。
【請求項３】
前記処理容器内を定期的に清掃するために、前記処理容器内に被処理体の代わりに被処理体と同じ形状のダミー部材を配置し、前記処理容器内を排気しながら、減圧状態の前記処理容器内に第２のクリーニングガスを導入し、前記第２のクリーニングガスを放電させてプラズマを生成し、前記プラズマのいずれかの活性種を前記処理容器内の堆積物または汚染物質と反応させて、その反応生成物を前記処理容器から排出する第２のドライクリーニング工程を有し、
前記第２のドライクリーニング工程の終了後に、前記第１のドライクリーニング工程が行われる、
請求項１または請求項２に記載のクリーニング方法。
【請求項４】
前記第１のドライクリーニング工程の終了後に、前記被処理体を前記処理容器から搬出し、被処理体が入っていない前記処理容器内を排気しながら、減圧状態の前記処理容器内に第３のクリーニングガスを導入し、前記第３のクリーニングガスを放電させてプラズマを生成し、前記プラズマのいずれかの活性種を前記処理容器内の堆積物または汚染物質と反応させて、その反応生成物を前記処理容器から排出する第３のドライクリーニング工程を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のクリーニング方法。
【請求項５】
前記第２のクリーニングガスはＯ2ガスを含む、請求項４に記載のクリーニング方法。
【請求項６】
前記第１のドライクリーニング工程に先立って、前記処理容器内にプラズマを発生せずに不活性ガスを流して前記処理容器内を換気する第１のパージング工程を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載のクリーニング方法。
【請求項７】
前記第１のドライクリーニング工程の終了直後に、前記処理容器内にプラズマを生成せずに不活性ガスを流して前記処理容器内を換気する第２のパージング工程を有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載のクリーニング方法。
【請求項８】
前記処理ガスにおいて、Ｈ２ガスとＮ２ガスの流量比は１：０〜１：３である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のクリーニング方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明のクリーニング方法は、プラズマ処理装置の処理容器内に残存するＴi含有反応物を除去するためのクリーニング方法であって、前記処理容器内を排気しながら、減圧状態の前記処理容器内にＨ2ガスとＮ2ガスを含む第１のクリーニングガスを導入し、前記第１のクリーニングガスを放電させてプラズマを生成し、前記プラズマのいずれかの活性種を前記Ｔi含有反応物と反応させて、その反応生成物を前記処理容器から排出する第１のドライクリーニング工程を有し、 前記処理容器内で被エッチング材である絶縁層およびＴiを含有するエッチングマスク層が積層された被処理体に対してＣＦ系のエッチングガスを用いて行われるドライエッチング工程の終了後に、前記被処理体が未だ前記処理容器内に入っている状態の下で前記第１のドライクリーニング工程が行われる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明のクリーニング方法においては、処理容器内で被エッチング材である絶縁層およびＴiを含有するエッチングマスク層が積層された被処理体に対してＣＦ系のエッチングガスを用いて行われるドライエッチング工程の終了後に、被処理体が未だ処理容器内に入っている状態の下で上記構成の第１のドライクリーニング工程が行われ、この第１のドライクリーニング工程においてプラズマに含まれる水素系の活性種が処理容器内に残留しているＴi含有反応物と反応して、揮発性の反応生成物を生成する。一方、プラズマに含まれる窒素系の活性種はＴi含有反応物と直接に化学反応を起こすことはほとんどなく、むしろ水素系活性種とＴi含有反応物との化学反応を促進し、あるいは適度に抑制するように作用する。こうして生成されたＴi含有反応生成物は、他の反応生成物や未反応ガス等と一緒に処理容器から排出される。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月26日(2016.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内部に配置されその内側の空間が減圧される処理室と、この処理室内に配置されその上面に処理対象の試料が載置される試料台とを有し、この試料台の上方の前記処理室内に供給された処理用のガスを用いてプラズマを形成して前記試料を処理するプラズマ処理装置であって、
前記試料台は、内部に冷媒が通流する流路を有し、且つ前記試料の処理中に高周波電力が供給される円板または円筒の形状を有した金属製の電極及びこの電極上面上に配置された静電チャックであって情報に載せられた試料を静電吸着する静電チャックを備え、
前記静電チャックが、前記試料を吸着する電力が供給される膜状の電極と、この電極を内部に有してこれを覆う誘電体製の焼結体とを備え、当該焼結体は所定の厚さを有して前記電極を上下から挟んで接合された板状の上部焼結体及び下部焼結体とを備え、前記上部焼結体の強度より前記下部焼結体の強度のほうが高くされ前記上部焼結体の誘電率よりも前記下部焼結体の誘電率方が高くされたプラズマ処理装置。
【請求項２】
真空容器内部に配置されその内側の空間が減圧される処理室と、この処理室内に配置されその上面に処理対象の試料が載置される試料台とを有し、この試料台の上方の前記処理室内に供給された処理用のガスを用いてプラズマを形成して前記試料を処理するプラズマ処理装置であって、
前記試料台は、内部に冷媒が通流する流路を有し、且つ前記試料の処理中に高周波電力が供給される円板または円筒の形状を有した金属製の電極及びこの電極上面上に配置された静電チャックであって情報に載せられた試料を静電吸着する静電チャックを備え、
前記静電チャックが、前記試料を吸着する電力が供給される膜状の電極と、この膜状の電極を内部に有してこれを覆う誘電体製の焼結体とを備え、当該焼結体は所定の厚さを有して前記膜状の電極を上下から挟んで接合された板状の上部焼結体及び下部焼結体とを備え、前記上部焼結体の強度より前記下部焼結体の強度のほうが高くされ前記上部焼結体の体積抵抗率が前記下部焼結体の体積抵抗率より大きくされたプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプラズマ処理装置であって、
前記上部焼結体の厚さより前記下部焼結体の厚さが大きくされたプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記上部焼結体が純セラミクスにより構成されたプラズマ処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記金属製の電極の上方で前記静電チャックの下方に配置された膜状のヒータと、このヒータの上方であって前記静電チャックの下方に前記金属製の電極と絶縁されて配置され前記ヒータより大きな径を有し熱伝導性を有する板状部材とを備えたプラズマ処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載のプラズマ処理装置であって、
前記ヒータが前記板状部材と前記金属製の電極の上面との間に挟まれて配置された絶縁層の内部に配置されたプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記の目的は、真空容器内部に配置されその内側の空間が減圧される処理室と、この処理室内に配置されその上面に処理対象の試料が載置される試料台とを有し、この試料台の上方の前記処理室内に供給された処理用のガスを用いてプラズマを形成して前記試料を処理するプラズマ処理装置であって、前記試料台は、内部に冷媒が通流する流路を有し、且つ前記試料の処理中に高周波電力が供給される円板または円筒の形状を有した金属製の電極及びこの電極上面上に配置された静電チャックであって情報に載せられた試料を静電吸着する静電チャックを備え、前記静電チャックが、前記試料を吸着する電力が供給される膜状の電極と、この電極を内部に有してこれを覆う誘電体製の焼結体とを備え、当該焼結体は所定の厚さを有して前記電極を上下から挟んで接合された板状の上部焼結体及び下部焼結体とを備え、前記上部焼結体の強度より前記下部焼結体の強度のほうが高くされ前記上部焼結体の誘電率よりも前記下部焼結体の誘電率方が高くされたことにより達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月2日(2017.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光パケットを入力するＮ個（Ｎは２以上の整数）の入力端（１１）と，
前記Ｎ個の入力端（１１）と接続され，前記光パケットに関するパケット情報を得る光パケット情報取得部（１３）と，
前記Ｎ個の入力端（１１）と接続された，複数のスイッチ（１５）と，
前記複数のスイッチ（１５）のそれぞれと接続された複数の遅延線（１７）と，
前記Ｎ個の入力端（１１）と接続された，電子バッファ（１９）と，
前記複数の遅延線（１７）及び前記電子バッファ（１９）と接続された出力端（２１）と，
前記光パケット情報取得部（１３）と接続され，前記Ｎ個の入力端（１１）と前記複数のスイッチ（１５）との接続関係，前記Ｎ個の入力端（１１）と前記電子バッファ（１９）との接続関係，及び，前記複数のスイッチ（１５）と前記複数の遅延線（１７）との接続関係を制御する光バッファ制御部（２３）と，
を有し，
前記複数の遅延線（１７）は，それぞれ遅延量が異なり，
前記バッファ制御部（２３）は，前記パケット情報を受け取ってパケットのトラヒックを解析し，パケットのトラヒックがトラヒックに関する第１の閾値以下の場合であるか，又は前記遅延線の利用率が利用率に関する第１の閾値以下の場合は，前記電子バッファ（１９）を利用しないように制御する，
光遅延線及び電子バッファ融合型光パケットバッファ制御装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置であって，
前記電子バッファ（１９）は，
前記Ｎ個の入力端（１１）のそれぞれと対応したＮ個のＯ／Ｅ変換レシーバ（３１）と，
前記Ｎ個のＯ／Ｅ変換レシーバ（３１）のそれぞれと接続されたメモリ（３３）と，
前記メモリ（３３）から読み出された電気信号を光信号に変換する1個又は複数個のＥ／Ｏ変換トランスミッタ（３５）とを有し，
前記バッファ制御部（２３）は，
前記Ｎ個の入力端（１１）のそれぞれにおけるパケット情報又は前記遅延線の利用率に基づいて，それぞれの入力端（１１）の混雑状況を把握し，把握した混雑状況に基づいて，それぞれの入力端（１１）と接続された電子バッファ（１９）に含まれる記憶領域の状態を制御する，
装置。
【請求項３】
請求項１に記載の装置であって，
前記バッファ制御部（２３）は，
前記パケットのトラヒックが，トラヒックに関する第１の閾値以上トラヒックに関する第２の閾値以下の場合であるか，又は
前記遅延線の利用率が利用率に関する第１の閾値以上利用率に関する第２の閾値以下の場合は，前記電子バッファ（１９）が動作準備状態となるように制御する，
装置。
【請求項４】
請求項１に記載の装置であって，
前記バッファ制御部（２３）は，前記Ｎ個の入力端（１１）のうちいずれかから入力される光パケットを前記電子バッファ（１９）へと入力する場合，前記複数の遅延線（１７）のうち少なくとも１つを利用しないように制御する，
装置。