【手続補正書】
【提出日】平成29年2月14日(2017.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プレートを保持する保持装置であって、
前記プレートを支持する支持部材と、
前記支持部材によって支持された前記プレートに対向して配置された板状部材と、
流体を噴射する噴射口を含み、前記噴射口を介して前記プレートと前記板状部材との間の空間に前記流体を供給する供給機構と、を有し、
前記板状部材の厚さは、前記プレートの厚さよりも薄く、
前記噴射口は、前記プレートの表面に平行な方向において前記プレート及び前記板状部材から離れた位置にあり、かつ、前記プレートの表面に垂直な方向において前記プレートよりも前記板状部材に近い位置にあることを特徴とする保持装置。
【請求項２】
前記噴射口は、前記プレートの表面に平行な方向を向いていることを特徴とする請求項１に記載の保持装置。
【請求項３】
プレートを保持する保持装置であって、
前記プレートを支持する支持部材と、
前記支持部材によって支持された前記プレートに対向して配置された板状部材と、
流体を噴射する噴射口を含み、前記噴射口を介して前記プレートと前記板状部材との間の空間に前記流体を供給する供給機構と、を有し、
前記板状部材の厚さは、前記プレートの厚さよりも薄く、
前記噴射口は、前記プレートの表面に平行な方向において前記プレート及び前記板状部材から離れた位置にあり、かつ、前記プレートと前記板状部材のうち前記板状部材側を向いていることを特徴とする保持装置。
【請求項４】
プレートを保持する保持装置であって、
前記プレートを支持する支持部材と、
前記支持部材によって支持された前記プレートに対向して配置された板状部材と、
流体を噴射する噴射口を含み、前記噴射口を介して前記プレートと前記板状部材との間の空間に前記流体を供給する供給機構と、を有し、
前記板状部材の厚さは、前記プレートの厚さよりも薄く、
前記噴射口は、前記プレートの表面に平行な方向において前記プレート及び前記板状部材から離れた位置にあり、前記プレートの表面に垂直な方向において前記プレートよりも前記板状部材に近い位置にあり、かつ、前記プレートと前記板状部材のうち前記板状部材側を向いていることを特徴とする保持装置。
【請求項５】
前記流体は、クリーンドライエアを含むことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の保持装置。
【請求項６】
前記プレートの表面に垂直な方向における前記噴射口の位置、及び、前記噴射口の向きの少なくとも一方を調整することにより前記プレートの側面に当たる流体の量を減らす調整手段を有することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の保持装置。
【請求項７】
前記噴射口から噴射されて前記空間を通過した流体の量を検出する検出部と、
前記検出部によって検出される流体の量が所定量以上となるように、前記調整手段による調整を制御する制御部と、を更に有することを特徴とする請求項６に記載の保持装置。
【請求項８】
前記板状部材は、前記プレートの表面及び前記プレートの側面に垂直な方向の断面において、前記噴射口から噴射される流体を表面に沿って流すための曲面形状を前記噴射口側の端部に有することを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の保持装置。
【請求項９】
前記板状部材は、前記プレートの表面及び前記プレートの側面に垂直な方向の断面において、前記噴射口から噴射される流体を表面に沿って流すための鋭角形状を前記噴射口側の端部に有することを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の保持装置。
【請求項１０】
プレートを保持する保持装置であって、
前記プレートを支持する支持部材と、
前記支持部材によって支持された前記プレートに対向して配置された板状部材と、
流体を噴射する噴射口を含み、前記噴射口を介して前記プレートと前記板状部材との間の空間に前記流体を供給する供給機構と、を有し、
前記噴射口は、前記プレートの表面に平行な方向において前記プレート及び前記板状部材から離れた位置にあり、かつ、前記プレートの表面に垂直な方向において前記プレートよりも前記板状部材に近い位置にあることにより、前記噴射口から噴射されて前記板状部材の側面に当たる流体の単位面積当たりの量よりも、前記噴射口から噴射されて前記プレートの側面に当たる流体の単位面積当たりの量が少なくなることを特徴とする保持装置。
【請求項１１】
プレートを保持する保持装置であって、
前記プレートを支持する支持部材と、
前記支持部材によって支持された前記プレートに対向して配置された板状部材と、
流体を噴射する噴射口を含み、前記噴射口を介して前記プレートと前記板状部材との間の空間に前記流体を供給する供給機構と、を有し、
前記噴射口は、前記プレートの表面に平行な方向において前記プレート及び前記板状部材から離れた位置にあり、かつ、前記プレートと前記板状部材のうち前記板状部材側を向いて配置されることにより、前記噴射口から噴射されて前記板状部材の側面に当たる流体の単位面積当たりの量よりも、前記噴射口から噴射されて前記プレートの側面に当たる流体の単位面積当たりの量が少なくなることを特徴とする保持装置。
【請求項１２】
プレートを保持する保持装置であって、
前記プレートを支持する支持部材と、
前記支持部材によって支持された前記プレートに対向して配置された板状部材と、
流体を噴射する噴射口を含み、前記噴射口を介して前記プレートと前記板状部材との間の空間に前記流体を供給する供給機構と、を有し、
前記噴射口は、前記プレートの表面に平行な方向において前記プレート及び前記板状部材から離れた位置にあり、前記プレートの表面に垂直な方向において前記プレートよりも前記板状部材に近い位置にあり、かつ、前記プレートと前記板状部材のうち前記板状部材側を向いて配置されることにより、前記噴射口から噴射されて前記板状部材の側面に当たる流体の単位面積当たりの量よりも、前記噴射口から噴射されて前記プレートの側面に当たる流体の単位面積当たりの量が少なくなることを特徴とする保持装置。
【請求項１３】
前記板状部材の厚さは、前記プレートの厚さよりも薄いことを特徴とする請求項１０乃至１２のうちいずれか１項に記載の保持装置。
【請求項１４】
前記噴射口は、前記プレートの表面に垂直な方向において前記プレートと前記板状部材の間の位置にあることを特徴とする請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載の保持装置。
【請求項１５】
前記プレートは、パターンが形成された原版又はパターンが形成される基板であることを特徴とする請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載の保持装置。
【請求項１６】
原版のパターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記原版を前記プレートとして保持する請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載の保持装置を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１７】
前記保持装置は、前記原版を前記リソグラフィ装置に搬入するための搬入口と、前記原版のパターンを前記基板に形成するための処理位置との間の前記原版の搬送経路内に配置されていることを特徴とする請求項１６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１８】
前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系を更に有することを特徴とする請求項１６又は１７のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１９】
請求項１６乃至１８のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を有し、処理された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての保持装置は、プレートを保持する保持装置であって、前記プレートを支持する支持部材と、前記支持部材によって支持された前記プレートに対向して配置された板状部材と、流体を噴射する噴射口を含み、前記噴射口を介して前記プレートと前記板状部材との間の空間に前記流体を供給する供給機構と、を有し、前記板状部材の厚さは、前記プレートの厚さよりも薄く、前記噴射口は、前記プレートの表面に平行な方向において前記プレート及び前記板状部材から離れた位置にあり、かつ、前記プレートの表面に垂直な方向において前記プレートよりも前記板状部材に近い位置にあることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
供給機構１０４は、気体を噴射する噴射口１０５を含み、噴射口１０５を介してレチクル２０１の表面２０１ａと板状部材１０３との間の空間ＳＰに気体を供給する。噴射口１０５は、本実施形態では、ライン状のスリットで形成されているが、一定間隔で配列されたチューブによって噴射口１０５を形成してもよい。供給機構１０４は、気体に限らず、純水、ブライン、クーリングオイル（Ｃ−ｏｉｌ）などの液体であってもよく、流体（熱媒体）を供給し得る。特に、本実施形態では、気体として、装置内の温度に温調されたクリーンドライエアを供給する。但し、供給機構１０４は、クリーンドライエア以外に、クリーンエア、窒素、酸素など、更には、これらの混合気体を供給してもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本実施形態では、噴射口１０５から噴射された気体ＧＳ１がレチクル２０１の側面２０１ｃに当たらないように噴射口１０５を配置しているが、噴射口１０５の配置は、これに限定されるものではない。具体的には、噴射口１０５から噴射されてレチクル２０１の側面２０１ｃに当たる気体の単位面積当たりの量が、噴射口１０５から噴射されて板状部材１０３の側面１０３ａに当たる気体の単位面積当たりの量よりも少なくなるように、噴射口１０５を配置すればよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
＜第２の実施形態＞
図４は、本発明の一側面としての保持装置１００Ａの構成を示す概略図である。保持装置１００Ａは、パターンが形成されたレチクルやパターンが形成される基板（ウエハやガラスプレート）などのプレートを保持する保持装置であって、図４に示すように、保持装置１００と同様な構成を有する。保持装置１００Ａは、保持装置１００と比較して、噴射口１０５の配置が異なる。但し、本実施形態においても、噴射口１０５から噴射されてレチクル２０１の側面２０１ｃに当たる気体の単位面積当たりの量が、噴射口１０５から噴射されて板状部材１０３の側面１０３ａに当たる気体の単位面積当たりの量よりも少なくなるように、噴射口１０５を配置している。