【手続補正書】
【提出日】平成29年8月18日(2017.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学素子の光学面の実際形状の、意図した形状からの偏差を測定する方法であって、
入力波を発生するステップと、
前記入力波のビーム経路中に回折光学素子を配置して、前記入力波を、前記回折光学素子との相互作用によって、少なくとも１つの測定波に変換するステップであって、該測定波は、前記光学面の前記意図した形状に適合し、さらに、前記入力波から、前記回折光学素子におけるリトロー反射の参照波を発生するステップと、
前記光学面を、前記適合した測定波のビーム経路中に配置して、前記適合した測定波の波面を、前記光学面との相互作用後に、前記参照波を参照波として用いた干渉計測によって測定するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記入力波を、前記回折光学素子との相互作用によって、さらに少なくとも１つの較正波に変換するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記回折光学素子が、複合符号化位相格子を具えていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
基板、及びこの基板上に配置された回折構造パターンを有する回折光学素子であって、
前記回折構造パターンは、当該回折構造パターン上に放射される平面波または球面波の入力波を、測定される光学面の意図した形状に適合する非球面の出力波に変換するように構成され、
前記回折光学素子は、当該回折光学素子におけるリトロー反射の参照波を発生するようにさらに構成されていることを特徴とする回折光学素子。
【請求項５】
前記入力波を、さらに、平面波または球面波の形態の少なくとも１つの較正波に変換するように構成されていることを特徴とする請求項４に記載の回折光学素子。
【請求項６】
光学素子の光学面の実際形状の、意図した形状からの偏差を測定する干渉計測システムであって、
入力波を発生するための光源と、
前記入力波のビーム経路中に配置された回折光学素子とを具え、
前記入力波は、前記回折光学素子との相互作用によって、少なくとも１つの測定波に変換され、該測定波は、前記光学面の前記意図した形状に適合し、さらに、前記入力波から、前記回折光学素子におけるリトロー反射の参照波を発生し、
前記干渉計測システムは、さらに、前記適合した測定波の波面を、前記光学面との相互作用後に、前記参照波を参照波として用いて測定するための干渉計を具えていることを特徴とする干渉計測システム。
【請求項７】
５００mmより大きい直径ｄを有する光学面を有する光学素子であって、
前記光学面の実際形状の、意図した形状からの偏差が０．０５nm以下であるように、前記実際形状が前記意図した形状に適合し、前記偏差は、ｄ／１００〜ｄ／５の振動波長を有する振動に由来し、
前記意図した形状が自由形状面であり、回転対称な非球面の各々から５μmより大きい偏差を有する
ことを特徴とする光学素子。
【請求項８】
前記意図した形状が、あらゆる球面から少なくとも１mmの偏差を有することを特徴とする請求項７に記載の光学素子。
【請求項９】
基板、及びこの基板上に配置された回折構造パターンを有する回折光学素子であって、
前記回折構造パターンは、当該回折構造パターン上に放射される平面波または球面波の入力波を、少なくとも４つの別個の出力波に変換するように構成され、前記出力波のうち少なくとも１つは非球面波であり、前記出力波のうち少なくとも他の１つは球面波であり、前記出力波のうち少なくとも他の２つのそれぞれは、平面波または球面波であることを特徴とする回折光学素子。
【請求項１０】
前記回折構造パターンは、前記少なくとも他の２つの出力波が平面波であり、当該出力波の伝搬方向が前記入力波の入射方向に対して互いに対称であるように構成されていることを特徴とする請求項９に記載の回折光学素子。
【請求項１１】
前記回折構造パターンは、前記別個の出力波が、第１波動対を形成する前記他の２つの平面波である出力波に加えて、２つの追加的な平面波を第２波動対の形で有するように構成され、前記追加的な平面波の伝搬方向は、前記入力波の入射方向に対して前記第１波動対と同様に互いに対称であり、前記第１波動対の伝搬方向が張る平面が、前記第２波動対の伝搬方向が張る平面と一致しないことを特徴とする請求項１０に記載の回折光学素子。
【請求項１２】
前記回折構造パターンの点ｉ毎に、角度αiが、第１差分ベクトルと第２差分ベクトルとの間の角度によって定義され、前記第１差分ベクトルは、前記点ｉから出る前記非球面波の波動ベクトルと、前記点ｉに当たる前記入力波の波動ベクトルとの差分によって定義され、前記第２差分ベクトルは、前記点ｉから出る前記少なくとも１つの球面波の波動ベクトルと、点ｉに当たる入力波の波動ベクトルとの差分によって定義され、前記構造パターンは、前記角度αiの絶対値を、当該回折構造パターンの前記点ｉのすべてにわたって平均して、当該構造パターンに平行な平面上に射影した値が、５°より大きく、特に１０°より大きいように構成されていることを特徴とする請求項９〜１１のいずれかに記載の回折光学素子。
【請求項１３】
前記非球面波を発生するための前記回折構造パターンの回折効率が、前記少なくとも１つの球面波を発生するための前記回折構造パターンの回折効率よりも少なくとも５０％大きいことを特徴とする請求項９〜１２のいずれかに記載の回折光学素子。
【請求項１４】
前記回折構造パターンは、前記非球面波である出力波の放射電力が、前記球面波または平面波である出力波のそれぞれの放射電力よりも大きいことを特徴とする請求項９〜１３のいずれかに記載の回折光学素子。
【請求項１５】
前記回折構造パターンは、当該回折構造パターン上に放射される入力波が少なくとも５つの出力波に変換され、これらの出力波のうち４つが球面波として具現されるように構成されていることを特徴とする請求項９〜１４のいずれかに記載の回折光学素子。
【請求項１６】
前記出力波のそれぞれが、互いに対して配向された平均伝搬方向を有し、該平均伝搬方向は、当該出力波の異なる伝搬方向を強度で重み付け平均して出る伝搬方向であり、前記４つの球面波である出力波の平均伝搬方向どうしが、これらの出力波を２つずつ対にした各対において、前記非球面波である出力波の平均伝搬方向によって規定される軸線に対して互いに対称に配置されないことを特徴とする請求項１５に記載の回折光学素子。
【請求項１７】
前記回折構造パターンが多レベル位相格子を具えていることを特徴とする請求項９〜１６のいずれかに記載の回折光学素子。
【請求項１８】
基板、及びこの基板上に配置された回折格子を有する回折光学素子であって、
前記回折格子が、互いに距離をおいて配置された格子線を有し、前記回折格子の平均周期距離は、隣り合う前記格子線間の中心間距離の各々を、前記回折格子全体にわたって平均した値によって定まり、前記格子線が波状の形状を有し、前記格子線の波状の平均周期は、前記回折格子の前記平均周期距離の３倍〜２０倍の領域内にあり、前記格子線の長手方向を横切る向きの前記格子線の変動は、前記回折格子の前記平均周期距離の０．１倍〜３倍の領域内に入る幅を有することを特徴とする回折光学素子。
【請求項１９】
前記回折格子が、前記基板の少なくとも２０％をカバーすることを特徴とする請求項１８に記載の回折光学素子。
【請求項２０】
前記回折格子の前記格子線の少なくとも９０％が、連続線として具体化され、前記連続線は、前記回折格子のエッジ領域間に中断なしに延びることを特徴とする請求項１８または１９に記載の回折光学素子。
【請求項２１】
前記回折格子は、当該回折格子における１mmのエッジ長を有する正方形の測定領域内で、５０μmのエッジ長を有するあらゆる正方形部分領域にわたって平均した前記格子線のストライプ密度が、２０線対／mm未満の幅に及ぶ変動を有するように構成されていることを特徴とする請求項１８〜２０のいずれかに記載の回折光学素子。
【請求項２２】
基板、及びこの基板上に配置された回折構造パターンを有する回折光学素子であって、
前記回折構造パターンは、当該回折構造パターン上に放射される平面波または球面波の入力波を、各々が球面の波面を有する少なくとも３つの別個の出力波に変換するように構成されていることを特徴とする回折光学素子。