【手続補正書】
【提出日】平成29年10月2日(2017.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｉ．Ｓ．マシンのセクションのキャビティにおける動作のイベント・タイミングを自動的に調節するシステムであって、
Ｉ．Ｓ．マシンにより製造される高温ガラス・コンテナの特定の測定値を示すコンテナ・ピクセル・データ情報を提供するマルチポイント・マルチスペクトル・ガラス・コンテナ測定システムと、
コンテナ・ピクセル・データ情報を、低減した次元の測定シグネチャーへと数学的に変換するシグネチャー抽出ブロックと、
前記測定シグネチャーと好ましい目標シグネチャーとに応じて、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティを動作させるためのイベント・タイミング信号を作成し、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティにおける動作のイベント・タイミングを自動的に調節して、前記測定シグネチャーにおける変化を低減させるためのコントローラーとを含み、
前記シグネチャー抽出ブロックは、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティのそれぞれに対して、低減された次元の測定シグネチャーを作成するように構成され
前記システムは更に、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティのそれぞれに対しての前記低減された次元の測定シグネチャーの平均をとり、前記コントローラーへ提供されるセクション平均測定シグネチャーを作成するように構成されるセクション平均化ブロックを含み、
前記セクション平均測定シグネチャーが前記コントローラーへ提供されることに加えて、前記システムは、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティのそれぞれに対しての前記低減された次元の測定シグネチャーを前記コントローラーへ提供するように構成され、
前記コントローラーは、前記セクション平均測定シグネチャーに基づいて、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの全てへの共通イベント・タイミング信号を提供するように、および、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティのそれぞれに対しての前記測定シグネチャーに基づいて、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションのそれぞれへ一意のキャビティ・イベント・タイミング信号を提供するように、構成される、
システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、前記ガラス・コンテナ測定システムは、前記高温ガラス・コンテナが成形された後の、および前記高温ガラス・コンテナが前記Ｉ．Ｓ．マシンから離れるように運ばれるときの前記高温ガラス・コンテナが冷却される前の、前記高温ガラス・コンテナにより発せられる放射を監視するように配置および構成される、システム。
【請求項３】
請求項２に記載のシステムであって、前記ガラス・コンテナ測定システムは、
前記高温ガラス・コンテナが成形された後および前記高温ガラス・コンテナが前記Ｉ．Ｓ．マシンから離れるように運ばれるときの、高温ガラス・コンテナにより発せられる放射を監視するための少なくとも１つのイメージング・デバイス
を含む、システム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムであって、前記シグネチャー抽出ブロックは、主成分分析を用いて、コンテナ・ピクセル・データ情報を、低減した次元の測定シグネチャーへと数学的に変換する、システム。
【請求項５】
請求項１に記載のシステムであって、前記シグネチャー抽出ブロックは、部分最小二乗回帰を用いて、コンテナ・ピクセル・データ情報を、低減した次元の測定シグネチャーへと数学的に変換する、システム。
【請求項６】
請求項１に記載のシステムであって、前記コントローラーにより作成された前記イベント・タイミング信号は、少なくともモールド接触時間、ストレッチ時間、およびブランク接触時間を含む望ましい熱成形期間を含む、システム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムであって、前記コントローラーは、調節可能な制限値により前記イベント・タイミング信号を制限するように構成される、システム。
【請求項８】
請求項１に記載のシステムであって、前記コントローラーは、
望ましいシグネチャー設定値に応じて一組の成形期間を作るように構成される逆プロセス・モデル・モジュールであって、前記成形期間は、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティへ適用される動作の前記イベント・タイミングの基礎であり、前記成形期間は、望ましいシグネチャー設定値の近似値を提供する、逆プロセス・モデル・モジュールと、
前記成形期間における変化に対しての前記測定シグネチャーの計算された応答である予測シグネチャーを計算するように構成される予測プロセス・モデル・モジュールと
を含み、
前記コントローラーは、前記予測シグネチャーを前記測定シグネチャーから減算して、モデリング・エラー信号を作るように構成され、
前記コントローラーは、前記モデリング信号を前記好ましい目標シグネチャーから減算して、前記望ましいシグネチャー設定値の基礎となる変更した設定値を作るように構成される、
システム。
【請求項９】
請求項８に記載のシステムであって、
前記望ましいシグネチャー設定値を作るために前記変更した設定値をフィルタリングするロー・パス・フィルター
を更に含むシステム。
【請求項１０】
請求項８に記載のシステムであって、
前記逆プロセス・モデル・モジュールにより作られる前記成形期間に応じて、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティへ適用される動作の前記イベント・タイミングを提供する熱成形タイミング調節システム
を更に含むシステム。
【請求項１１】
請求項１０に記載のシステムであって、
前記熱成形タイミング調節システムへ許容される最小値または最大値を提供するように構成される最小／最大値リミット・ブロックを更に含み、
前記熱成形タイミング調節システムは、達成可能な（制限された）出力信号を前記予測プロセス・モデルへ提供するように構成される、
システム。
【請求項１２】
Ｉ．Ｓ．マシンのセクションのキャビティにおける動作のイベント・タイミングを自動的に調節するシステムであって、
高温ガラス・コンテナが成形された後の、および前記高温ガラス・コンテナが前記Ｉ．Ｓ．マシンから離れるように運ばれるときの前記高温ガラス・コンテナが冷却される前の、前記高温ガラス・コンテナにより発せられる放射を監視するように構成されるマルチポイント・マルチスペクトル・ガラス・コンテナ測定システムであって、前記Ｉ．Ｓ．マシンにより製造される高温ガラス・コンテナの特定の測定値を示すコンテナ・ピクセル・データ情報を提供する、マルチポイント・マルチスペクトル・ガラス・コンテナ測定システムと、
コンテナ・ピクセル・データ情報を、低減した次元の測定シグネチャーへと数学的に変換するシグネチャー抽出ブロックと、
以前に提供された望ましい高温ガラス・コンテナを有することが知られている好ましい目標シグネチャーを提供するためのエレメントと、
前記測定シグネチャーと好ましい目標シグネチャーとに応じて、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティを動作させるためのイベント・タイミング信号を作成し、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティにおける動作のイベント・タイミングを自動的に調節して、前記測定シグネチャーにおける変化を低減させるためのコントローラーと
を含み、
前記シグネチャー抽出ブロックは、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティのそれぞれに対して、低減された次元の測定シグネチャーを作成するように構成され、
前記システムは更に、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティのそれぞれに対しての前記低減された次元の測定シグネチャーの平均をとり、前記コントローラーへ提供されるセクション平均測定シグネチャーを作成するように構成されるセクション平均化ブロックを含み、
前記システムは、前記セクション平均測定シグネチャーが前記コントローラーへ提供されることに加えて、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティのそれぞれに対しての前記低減された次元の測定シグネチャーを前記コントローラーへ提供するように構成され、
前記コントローラーは、前記セクション平均測定シグネチャーに基づいて、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの全てへの共通イベント・タイミング信号を提供するように、および、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティのそれぞれに対しての前記測定シグネチャーに基づいて、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションのそれぞれへ一意のキャビティ・イベント・タイミング信号を提供するように、構成される、
システム。
【請求項１３】
Ｉ．Ｓ．マシンのセクションのキャビティにおける動作のイベント・タイミングを自動的に調節する方法であって、
マルチポイント・マルチスペクトル・ガラス・コンテナ測定システムを用いて、前記Ｉ．Ｓ．マシンにより製造される高温ガラス・コンテナの特定の測定値を示すコンテナ・ピクセル・データ情報を提供するステップと、
コンテナ・ピクセル・データ情報を、低減した次元の測定シグネチャーへと数学的に変換するステップと、
前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティにおける動作のイベント・タイミングを自動的に調節して、前記測定シグネチャーにおける変化を低減させるために、前記測定シグネチャーと好ましい目標シグネチャーとに応じて、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティを動作させるためのイベント・タイミング信号を作成するステップと
数学的に変換する前記ステップは、
前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティのそれぞれに対して、低減された次元の測定シグネチャーを作成するステップと、
前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティのそれぞれに対して前記低減された次元の測定シグネチャーの平均をとり、セクション平均測定シグネチャーを作成するステップと
を含み、
前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティのそれぞれに対しての前記低減された次元の測定シグネチャーを前記コントローラーへ提供するステップと、
前記セクション平均測定シグネチャーに基づく、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの全てへの共通イベント・タイミング信号を、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティのそれぞれに対しての前記測定シグネチャーに基づく、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションのそれぞれへの一意のキャビティ・イベント・タイミング信号とともに、提供するステップと、
を含む方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法であって、コンテナ・ピクセル・データ情報を提供する前記ステップは、
少なくとも１つのイメージング・デバイスを用いて、高温ガラス・コンテナにより発せられる放射を監視するステップ
を含む、方法。
【請求項１５】
請求項１３に記載の方法であって、数学的に変換する前記ステップは、主成分分析を用いて、コンテナ・ピクセル・データ情報を、低減した次元の測定シグネチャーへと数学的に変換するステップ、または部分最小二乗回帰を用いて、コンテナ・ピクセル・データ情報を、低減した次元の測定シグネチャーへと数学的に変換するステップを含む、方法。
【請求項１６】
請求項１３に記載の方法であって、
調節可能な制限値により前記イベント・タイミング信号を制限するステップ
を更に含む方法。
【請求項１７】
請求項１３に記載の方法であって、
望ましいシグネチャー設定値に応じて一組の成形期間を作るステップであって、前記成形期間は、前記Ｉ．Ｓ．マシンの前記セクションの前記キャビティへ適用される動作の前記イベント・タイミングの基礎であり、前記成形期間は、望ましいシグネチャー設定値の近似値を提供する、ステップと、
前記成形期間における変化に対して前記測定シグネチャーの計算された応答である予測シグネチャーを計算するステップと、
前記予測シグネチャーを前記測定シグネチャーから減算して、モデリング・エラー信号を作るステップと、
前記モデリング信号を前記好ましい目標シグネチャーから減算して、前記望ましいシグネチャー設定値の基礎となる変更した設定値を作るステップと
を更に含む方法。