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【手続補正書】
【提出日】平成28年11月18日(2016.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料給油ノズルから吐出される燃料を燃料タンクに供給する燃料供給装置（ＦＳ）であって、
樹脂製のフィラーネック本体（２９）と、金属製のリテーナ（３０）と、を含むフィラーネック（２０）を備え、
前記フィラーネック本体（２９）は、前記燃料給油ノズルが挿入される開口部（２１）を形成する開口端（２１Ｅ）を備える筒状に形成され、
前記リテーナ（３０）は、前記フィラーネック本体（２９）の前記開口端（２１Ｅ）の少なくとも一部を覆い、前記フィラーネック本体（２９）の少なくとも一部において、熱溶着にて前記フィラーネック本体（２９）と接合されている、
燃料供給装置（ＦＳ）。
【請求項２】
請求項１に記載の燃料供給装置（ＦＳ）において、
前記リテーナ（３０）は、前記フィラーネック本体（２９）の外周の少なくとも一部において、熱溶着にて前記フィラーネック本体（２９）と接合されている、
燃料供給装置（ＦＳ）。
【請求項３】
請求項２に記載の燃料供給装置（ＦＳ）において、
前記フィラーネック本体（２９）の外周と前記リテーナ（３０）との間であって、前記フィラーネック本体（２９）と前記リテーナ（３０）とが溶着された溶着部（Ｗ）と、前記フィラーネック本体（２９）の前記開口端（２１Ｅ）との間に、前記熱溶着時に溶融された樹脂の前記開口端（２１Ｅ）側への流入を抑制する抑制部（２２）を備える、
燃料供給装置（ＦＳ）。
【請求項４】
請求項３に記載の燃料供給装置（ＦＳ）において、
前記抑制部（２２）は、前記フィラーネック本体（２９）の外周に、突起状に形成される、
燃料供給装置（ＦＳ）。
【請求項５】
請求項３または請求項４のいずれか一項に記載の燃料供給装置（ＦＳ）において、
前記抑制部（２２）は、環状に形成される、
燃料供給装置（ＦＳ）。
【請求項６】
請求項３から請求項５までのいずれか一項に記載の燃料供給装置（ＦＳ）において、
前記フィラーネック本体（２９）は、前記開口端（２１Ｅ）から離間するに従って径が大きくなる拡径部（２８）を有し、
前記溶着部（Ｗ）は、前記拡径部の外周の一部である、
燃料供給装置（ＦＳ）。
【請求項７】
請求項６に記載の燃料供給装置（ＦＳ）において、
前記拡径部（２８）は、前記開口端（２１Ｅ）から離間するに従って徐々に径が大きくなるテーパ形状を有する、
燃料供給装置（ＦＳ）。
【請求項８】
請求項３から請求項７までのいずれか一項に記載の燃料供給装置（ＦＳ）において、
前記フィラーネック本体（２９）の外周と前記リテーナ（３０）との間であり、前記溶着部（Ｗ）近傍であって、前記溶着部（Ｗ）に対して前記開口端（２１Ｅ）と反対側に、略螺旋形に形成された調整部（２７）を備える、
燃料供給装置（ＦＳ）。
【請求項９】
請求項８に記載の燃料供給装置（ＦＳ）において、
前記調整部（２７）は、前記フィラーネック本体（２９）の外周に、突起状に形成される、
燃料供給装置（ＦＳ）。
【請求項１０】
請求項３から請求項９までのいずれか一項に記載の燃料供給装置（ＦＳ）において、
前記リテーナ（３０Ｅ）には、前記フィラーネック本体（２９Ｅ）の外周に対向する部分（３３）の少なくとも一部に孔（３５，３６）が形成されている、
燃料供給装置（ＦＳ）。
【請求項１１】
燃料給油ノズルから吐出される燃料を燃料タンクに供給する燃料供給装置（ＦＳ）の製造方法であって、
前記燃料給油ノズルが挿入される開口部（２１）を形成する開口端（２１Ｅ）を備える筒状に形成された、樹脂製のフィラーネック本体（２９）を用意する工程と、
前記フィラーネック本体（２９）の前記開口端（２１Ｅ）の少なくとも一部を覆う、金属製のリテーナ（３０）を用意する工程と、
前記リテーナ（３０）を、前記フィラーネック本体（２９）の前記開口部（２１）に被せる工程と、
前記リテーナ（３０）の少なくとも一部を加熱して、前記リテーナ（３０）と前記フィラーネック本体（２９）とを、熱溶着により接合する工程と、
を備える、燃料供給装置（ＦＳ）の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
（１）本発明の一形態によれば、燃料給油ノズルから吐出される燃料を燃料タンクに供給する燃料供給装置が提供される。この燃料供給装置は、樹脂製のフィラーネック本体と、金属製のリテーナと、を含むフィラーネックを備え、前記フィラーネック本体は、前記燃料給油ノズルが挿入される開口部を形成する開口端を備える筒状に形成され、前記リテーナは、前記フィラーネック本体の前記開口端の少なくとも一部を覆い、前記フィラーネック本体の少なくとも一部において、熱溶着にて前記フィラーネック本体と接合されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（２）上記実施形態において、前記リテーナは、前記フィラーネック本体の外周の少なくとも一部において、熱溶着にて前記フィラーネック本体と接合されてもよい。フィラーネック本体２９の外周において熱溶着によりリテーナと接合すると、例えば、フィラーネック本体２９の開口端２１Ｅや内周において熱溶着によりリテーナ３０と接合する場合に比べて、溶融された樹脂がフィラーネック本体２９の内周側に流入しにくくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月3日(2017.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理装置、情報処理装置の制御方法、コンピュータプログラム
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画像ファイルのうちの一つの画像ファイルのプレビュー画像を表示する表示手段と、
前記表示手段により表示された前記プレビュー画像上でのタッチ操作を検出する検出手段と、
前記検出手段によりフリック操作を検出するのに従って、前記表示手段に表示される前記プレビュー画像を、中間描写を行わずに、該プレビュー画像を表示中の画像ファイルのＮ個（Ｎは２以上）前又は後の画像ファイルのプレビュー画像に切り替える表示制御手段と、を有することを特徴とする、
情報処理装置。
【請求項２】
前記表示制御手段は、前記検出手段によりドラッグ操作を検出するのに従って、前記表示手段に表示される前記プレビュー画像を、該プレビュー画像を表示中の画像ファイルの一つ前又は後の画像ファイルのプレビュー画像に切り替えることを特徴とする、
請求項１記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記表示制御手段は、前記検出手段によりフリック操作を検出するのに従って、フリックの強度に拘わらず、前記プレビュー画像を表示中の画像ファイルのＮ個（Ｎは２以上）前又は後の画像ファイルのプレビュー画像に切り替えることを特徴とする、
請求項１または２記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記複数の画像ファイルをソートして記憶する記憶手段を有し、
前記表示制御手段は、ソート順に従って前記表示手段に表示する画像ファイルを切り替えることを特徴とする、
請求項１から３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記表示手段により、前記情報処理装置が備える複数の機能の中から実行すべき機能を選択するためのホーム画面が表示されている場合、前記表示制御手段は、前記検出手段により前記ホーム画面上でフリック操作とドラッグ操作のいずれを検出した場合であっても、中間描写を行いながら現在の画面から遷移先の画面へ表示を切り替えることを特徴とする、
請求項２から４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記表示手段により、複数のデータの送信宛先のうちの一つの送信宛先を表示している場合、前記表示制御手段は、前記一つの送信宛先上でフリック操作とドラッグ操作のいずれを検出した場合であっても、表示されている前記一つの送信宛先の一つ前又は後の送信宛先に表示を切り替えることを特徴とする、
請求項２から５のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記複数の画像ファイルを記憶する外部記憶装置に接続され、該外部記憶装置から前記画像ファイルを取得する接続手段を有することを特徴とする、
請求項１から６のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項８】
原稿上の画像を読み取ることにより前記画像ファイルを生成する読み取り手段を有することを特徴とする、
請求項１から７のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記画像ファイルを印刷する印刷手段を有することを特徴とする、
請求項１から８のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
画像を表示する表示手段と、前記表示手段により表示された画像上でのタッチ操作を検出する検出手段と、を有する情報処理装置の制御方法であって、
前記検出手段によりフリック操作を検出するのに従って、前記表示手段に表示される画像を、中間描写を行わずに、表示中の画像のＮ個（Ｎは２以上）前又は後の画像に切り替えることを特徴とする、
情報処理装置の制御方法。
【請求項１１】
コンピュータを、請求項１から９のいずれか１項に記載の情報処理装置として動作させるためのプログラム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決する本発明の情報処理装置は、複数の画像ファイルのうちの一つの画像ファイルのプレビュー画像を表示する表示手段と、前記表示手段により表示された前記プレビュー画像上でのタッチ操作を検出する検出手段と、前記検出手段によりフリック操作を検出するのに従って、前記表示手段に表示される前記プレビュー画像を、中間描写を行わずに、該プレビュー画像を表示中の画像ファイルのＮ個（Ｎは２以上）前又は後の画像ファイルのプレビュー画像に切り替える表示制御手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月24日(2017.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
ここで、軸受スリーブ１６の外周面に冷却路を設けた本発明の冷却構造と、軸受スリーブにもリアハウジングにも冷却路を設けない冷却なしの構造とを用いて、軸受スリーブ内径からハウジング外径までの温度上昇値を比較した。図１０は、冷却構造の違いによる軸受スリーブ内径からハウジング外径までの温度上昇値を比較したグラフである。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
図１０から明らかなように、各冷却構造による温度上昇は、軸受スリーブ１６の外周面に冷却路４０を設けた本発明の冷却構造の温度上昇値が最も小さく、主軸装置１０を高効率で冷却していることが分かる。また、ハウジング内径（スリーブ内嵌部）と軸受スリーブの温度上昇値の差も小さくなっており、熱膨張差によるスライド部の嵌め合い隙間の減少を小さくでき、良好な摺動特性が維持できる。 
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
また、軸受スリーブの温度も約１６℃低いので、軸受温度も低くなり潤滑剤の基油粘度が維持でき、転がり接触部の油膜形成も良好となる。グリース潤滑の場合、基油の増ちょう剤からの分離（離油）もしにくくなり、軸受外部へのグリース流出も少なくなり、グリース寿命の延長化も図れる。 
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2015178168.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月24日(2017.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
例えば、前側軸受からの発熱を抑制する従来の冷却装置１００としては、図１０に示すように、主軸１０１の前側を支持する一対の前側軸受１０２，１０３が内嵌するフロントハウジング１０４の外周面に円周方向溝１０５を設ける。そして、フロントハウジング１０４の外周面と他のハウジング１０６の内周面との間に、冷却媒体を循環させて前側軸受１０２，１０３を冷却している。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このため、図１１に示す冷却装置１１０では、周辺構造を簡素化しつつ、後側軸受を冷却することが考えられる。この場合、主軸１０１の後側を支持する一対の自由側軸受１１２，１１３が内嵌するスリーブ１１４をリアハウジング１１５に内嵌し、このリアハウジング１１５の外周面に円周方向溝１１６を設ける。そして、リアハウジング１１５の外周面と他のハウジング１１７の内周面との間に冷却媒体を循環させて、自由側軸受１１２，１１３を冷却する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
しかしながら、図１１に示す構造では、冷却部は、発熱部（軸受１１２，１１３）から径方向に離れた位置に配置されており、また、すきま嵌めで嵌合するスリーブ１１４とリアハウジング１１５との間の熱伝達効率が低いため、冷却効率が低いという問題がある。したがって、リアハウジングは冷却されるが、スリーブが効果的に冷却されず、リアハウジングとスリーブとの間のすきまが小さくなってスライド不良が発生する虞がある。このため、前側軸受（固定側軸受）と後側軸受（自由側軸受）間で熱膨張による突っ張り荷重が発生し、軸受に過大荷重が負荷されて軸受が損傷する可能性がある。或いは、予圧抜けが発生して異音や異常振動が発生する要因となる。 
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【図１】本発明に係る主軸装置の第１実施形態の断面図である。
【図２】図１に示す自由側軸受近傍の拡大断面図である。
【図３】環状溝を説明するため、スリーブの外周面を示す図２に対応する部分断面図である。
【図４】環状溝の断面図である。
【図５】各種変形例の環状溝の断面図である。
【図６】外周面両端縁部に面取り部が形成されたスリーブの部分破断側面図である。
【図７】環状溝の肩部に面取り部が形成されたスリーブの部分破断側面図である。
【図８】本発明に係る第２実施形態の自由側軸受近傍の拡大断面図である。
【図９】環状溝を説明するため、スリーブの外周面を示す図８に対応する部分断面図である。
【図１０】従来の固定側軸受の構造を示す断面図である。
【図１１】従来の自由側軸受の構造を示す断面図である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2015178165.tif 000001
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2015178165.tif 000002
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月15日(2017.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
プロジェクター１において、液晶パネル１６２は、光変調手段１０１の一例である。光学系１６３は、投写手段１０２の一例である。プログラムを実行しているＭＣＵ１０により制御されているパネル駆動回路１６５は、駆動手段１０３の一例である。プログラムを実行しているＭＣＵ１０により制御されているＩＦ部１４は、入力手段１０４の一例である。プログラムを実行しているＭＣＵ１０は、選択手段１０５および制限手段１０９の一例である。ＲＡＭ１２および記憶部１３は、記憶手段１０６の一例である。プログラムを実行しているＭＣＵ１０により制御されているイメージセンサー１７は、受付手段１０７の一例である。プログラムを実行しているＭＣＵ１０により制御されている画像処理回路１５は、投写画像生成手段１０８の一例である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
第４行目では、座席表表示領域Ｌ２において、ユーザーＵ３とユーザーＵ２とユーザーＵ６とユーザーＵ１とが選択されている。この状態で、投写開始ボタン５３がタップされると、タブレット端末２Ｔ３からの入力画像と、タブレット端末２Ｔ２からの入力画像と、タブレット端末２Ｔ６からの入力画像と、タブレット端末２Ｔ１からの入力画像とが並べて投写される。この例では、入力画像は、映像ソースが選択された順番に従って、投写画像の左上、右上、左下、右下に表示されている。次に、プロジェクター１に座席表データを登録する方法について説明する。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月28日(2017.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィーに使用されるマスクブランク用基板の一方の主表面の上に、導電膜が形成された導電膜付き基板であって、
前記導電膜表面における１μｍ×１μｍの領域を、原子間力顕微鏡で測定して得られるベアリング深さと、該ベアリング深さの頻度（％）との関係をプロットした度数分布図において、前記プロットした点より求めた近似曲線、又は前記プロットした点における最高頻度より求められる半値幅の中心に対応するベアリング深さの絶対値が、前記導電膜表面の表面粗さにおける最大高さ（Ｒｍａｘ）の１／２に対応する前記ベアリング深さの絶対値よりも小さく、かつ前記最大高さ（Ｒｍａｘ）が１．３ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることを特徴とする導電膜付き基板。
【請求項２】
前記導電膜表面の表面粗さにおける二乗平均平方根粗さ（Ｒｍｓ）は、０．１５ｎｍ以上１．０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の導電膜付き基板。
【請求項３】
前記導電膜表面における１μｍ×１μｍの領域は、１４８ｍｍ×１４８ｍｍの領域を含む任意の箇所であることを特徴とする請求項１又は２に記載の導電膜付き基板。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れかに記載の導電膜付き基板の前記導電膜が形成されている側とは反対側の主表面の上に、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した多層反射膜が形成されていることを特徴とする多層反射膜付き基板。
【請求項５】
前記多層反射膜の上に保護膜が形成されていることを特徴とする請求項４に記載の多層反射膜付き基板。
【請求項６】
請求項４若しくは５に記載の多層反射膜付き基板の前記多層反射膜の上、又は前記保護膜の上に、吸収体膜が形成されていることを特徴とする反射型マスクブランク。
【請求項７】
請求項６に記載の反射型マスクブランクの前記吸収体膜をパターニングして、前記多層反射膜上に吸収体パターンを有することを特徴とする反射型マスク。
【請求項８】
請求項７に記載の反射型マスクを用いて、露光装置を使用したリソグラフィープロセスを行い、被転写体上に転写パターンを形成する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月13日(2017.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素領域と、
前記画素領域に設けられたトランジスタと、
前記トランジスタのソース電極層またはドレイン電極層と同一平面上の反射電極層と、
前記反射電極層上の第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層を介して、前記反射電極層と重なる領域を有する有色層と、
前記有色層上の第２の絶縁層と、
前記第２の絶縁層上の画素電極層と、を有し、
前記有色層は、第１の開口部及び第２の開口部を有し、
前記画素電極層は、前記第１の開口部を介して前記トランジスタと電気的に接続され、
前記第２の絶縁層が、前記第２の開口部を介して前記第１の絶縁層と接する領域を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の絶縁層は、前記第１の開口部と重畳する位置に第３の開口部を有し、
前記画素電極層は、前記第１の開口部及び前記第３の開口部を介して前記ドレイン電極層と電気的に接続されることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
画素領域と、
前記画素領域に設けられたトランジスタと、
前記トランジスタ上の絶縁層と、
前記絶縁層上の反射電極層と、
前記反射電極層と重畳する有色層と、を有し、
前記反射電極層は、前記トランジスタと電気的に接続され、
前記有色層は、第１の開口部及び第２の開口部を有することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項３において、
第２の有色層と、第３の有色層とを有し、
前記第２の有色層は、第３の開口部及び第４の開口部を有し、
前記第３の開口部の上面形状及び前記第４の開口部の上面形状は、前記第１の開口部の上面形状及び前記第２の開口部の上面形状と異なることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月13日(2017.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記の目的を達成するために本発明の情報処理サーバは、クラウドサービスを提供するためのクラウドシステムからのアクセスが制限される内部ネットワークに設けられた処理装置と通信可能に接続され、前記クラウドシステムで管理されるジョブを取得するジョブ取得手段と、  前記ジョブ取得手段で取得したジョブに応じて、所定の処理の実行を前記処理装置に対して指示するジョブ実行手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クラウドサービスを提供するためのクラウドシステムからのアクセスが制限される内部ネットワークに設けられた処理装置と通信可能に接続される情報処理サーバであって、
前記クラウドシステムで管理されるジョブを取得するジョブ取得手段と、
前記ジョブ取得手段で取得したジョブに応じて、所定の処理の実行を前記処理装置に対して指示するジョブ実行手段と
を備えることを特徴とする情報処理サーバ。
【請求項２】
前記ジョブに対応する一連の処理が定義された定義ファイルを記憶する定義ファイル記憶手段を更に備え、
前記ジョブ実行手段は、前記ジョブ取得手段で取得したジョブに対応する定義ファイルであって、前記定義ファイル記憶手段に記憶された定義ファイルで定義された一連の処理を実行することを特徴とする請求項１に記載の情報処理サーバ。
【請求項３】
前記ジョブ実行手段は、前記ジョブ取得手段で取得したジョブに対応する定義ファイルで定義された一連の処理を、当該処理に対応するアダプタを用いて実行することを特徴とする請求項２に記載の情報処理サーバ。
【請求項４】
前記ジョブ実行手段は、前記ジョブ取得手段で取得したジョブに含まれるパラメータと、所定のテンプレートとに基づいて生成された帳票データを用いて前記所定の処理を実行することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理サーバ。
【請求項５】
前記情報処理サーバは、
前記ジョブ実行手段で実行されたジョブの実行状態を前記クラウドシステムに登録する実行状態登録手段を更に備え、
前記クラウドシステムは、
前記登録された前記ジョブの実行状態を用いて、当該ジョブの実行状態を通知する実行状態通知手段を更に備えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理サーバ。
【請求項６】
前記ジョブ実行手段は、当該ジョブ実行手段で実行がされていないジョブに応じて、所定の処理の実行を前記処理装置に対して指示することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の情報処理サーバ。
【請求項７】
前記ジョブ取得手段は、所定時間ごとに前記クラウドシステムから前記ジョブを取得することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の情報処理サーバ。
【請求項８】
前記クラウドシステムは、
前記ジョブの実行指示を受付可能な画面を生成する画面生成手段を更に備え、
前記ジョブ生成手段は、前記画面生成手段で生成した画面において前記ジョブの実行指示を受け付けた場合に、前記情報処理サーバで実行可能なジョブを生成することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の情報処理サーバ。
【請求項９】
前記内部ネットワークは、当該内部ネットワークに備えられたファイアウォールによって前記クラウドシステムからの通信を制限することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の情報処理サーバ。
【請求項１０】
クラウドサービスを提供するためのクラウドシステムからのアクセスが制限される内部ネットワークに設けられた処理装置と通信可能に接続される情報処理サーバの制御方法であって、
前記クラウドシステムで管理されるジョブを取得するジョブ取得工程と、
前記ジョブ取得手段で取得したジョブに応じて、所定の処理の実行を前記処理装置に対して指示するジョブ実行工程と
を備えることを特徴とする情報処理サーバの制御方法。
【請求項１１】
コンピュータを、請求項１から９のいずれか１項に記載された情報処理サーバの各手段として機能させるためのプログラム。
【請求項１２】
クラウドサービスを提供するためのクラウドシステムと、該クラウドシステムからのアクセスが制限される内部ネットワークに設けられた処理装置と通信可能に接続される情報処理システムであって、
前記情報処理サーバは、
前記クラウドシステムで管理されるジョブを取得するジョブ取得手段と、
前記ジョブ取得手段で取得したジョブに応じて、所定の処理の実行を前記処理装置に対して指示するジョブ実行手段と
を備えることを特徴とする情報処理システム。
【請求項１３】
クラウドサービスを提供するためのクラウドシステムと、該クラウドシステムからのアクセスが制限される内部ネットワークに設けられた処理装置と通信可能に接続される情報処理システムの制御方法であって、
前記情報処理サーバは、
前記クラウドシステムで管理されるジョブを取得するジョブ取得工程と、
前記ジョブ取得手段で取得したジョブに応じて、所定の処理の実行を前記処理装置に対して指示するジョブ実行工程と
を備えることを特徴とする情報処理システムの制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月10日(2017.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
ステップＳ１１０９では、ＣＰＵ１０５は、Ｔｆ＞Ｔｐであるか否かを判断し、Ｔｆ＞Ｔｐであれば、処理はステップＳ１１１０に進み、Ｔｆ≦Ｔｐであれば、処理はステップＳ１１１４に進む。ここで、Ｔｐは常に固定であるため、複合機１０１のメーカ等が定数として予め定義して設定データパーティション２０２に登録している。ステップＳ１１１０では、ＣＰＵ１０５は、改ざん確認モードを第２のモードに切り替える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報処理装置であって、
前記情報処理装置のファームウェアを保存するためのメモリ領域のハッシュ値を算出する算出手段と、
前記ハッシュ値に基づいて、前記ファームウェアの改竄検知を行う改竄検知手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記算出手段は、前記メモリ領域内のファームウェアが更新されるたびに、該更新の後の該メモリ領域のハッシュ値を算出することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記算出手段は、前記ファームウェアの更新に用いるファイルの署名の検証に成功した場合には、ファームウェアの取得の後に前記情報処理装置を再起動し、前記メモリ領域のハッシュ値を算出することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記算出手段が算出したハッシュ値を暗号化してから前記メモリ領域とは異なる別メモリ領域に登録する登録手段を更に備えることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記改竄検知手段は、
前記メモリ領域のハッシュ値を算出し、該算出したハッシュ値と、前記別メモリ領域に登録されているハッシュ値の復号結果と、が一致しているか否かを判断し、一致していないと判断した場合には、前記メモリ領域に対する改ざんが行われたことを報知することを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
情報処理装置が行う情報処理方法であって、
前記情報処理装置の算出手段が、前記情報処理装置のファームウェアを保存するためのメモリ領域のハッシュ値を算出する算出工程と、
前記情報処理装置の改竄検知手段が、前記ハッシュ値に基づいて、前記ファームウェアの改竄検知を行う改竄検知工程と
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【請求項７】
コンピュータを、請求項１乃至５の何れか１項に記載の情報処理装置の各手段として機能させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月9日(2017.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、接続金具（１Ａ）の斜面（１ａ）と反対側の端部には、頭部に電線接続スリーブ（４ａ）を備えたボルト（４ｂ）からなる電線接続具（４）が、接続金具（１Ａ）の端部に形成された雌ねじ（Ｓ）に螺合することによって固定される。そして、絶縁被覆電線（７）のねじれ発生を招くことなく、絶縁被覆電線（７）と接続金具（１）と中空電極（３）の導通が図られる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2015156327.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月7日(2017.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放熱板と、
前記放熱板上に設けられた接着層と、
前記接着層上に設けられた基板と、
前記基板の前記接着層が設けられた面とは反対側の面に設けられた配線と、
前記基板を厚さ方向に貫通し、平面視において、前記基板の外縁部から内方に向かって切れ込んだ切れ込み部と、を有し、
前記接着層の一部は、前記切れ込み部の内壁面に露出する前記基板の端面を被覆している配線基板。
【請求項２】
前記切れ込み部の内壁面には前記配線の端面が露出し、
前記接着層は、前記切れ込み部の内壁面に露出する前記基板の端面と前記配線の端面を連続的に被覆している請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記接着層は、前記切れ込み部の内壁面に露出する前記基板の端面と前記配線の端面を連続的に被覆し、更に、前記基板上に延在している請求項２記載の配線基板。
【請求項４】
前記切れ込み部の内壁面側の前記配線の端面に絶縁膜が形成され、
前記切れ込み部の内壁面には前記絶縁膜の端面が露出している請求項１記載の配線基板。
【請求項５】
前記接着層は、前記切れ込み部の内壁面に露出する前記基板の端面と前記絶縁膜の端面を連続的に被覆している請求項４記載の配線基板。
【請求項６】
前記接着層は、前記切れ込み部の内壁面に露出する前記基板の端面と前記絶縁膜の端面を連続的に被覆し、更に、前記基板上に延在している請求項５記載の配線基板。
【請求項７】
前記基板上に設けられ、前記配線を選択的に露出する反射膜、を有し、
前記反射膜は、平面視において、前記基板の前記切れ込み部の内壁面に沿った領域を露出し、
前記接着層は、前記領域に延在している請求項３又は６記載の配線基板。
【請求項８】
前記基板上に設けられ、前記配線を選択的に露出する反射膜、を有し、
前記反射膜は、前記切れ込み部を埋めるように設けられている請求項３又は６記載の配線基板。
【請求項９】
前記配線の前記基板側の面に接し、前記基板を厚さ方向に貫通する貫通配線が設けられた請求項１乃至８の何れか一項記載の配線基板。
【請求項１０】
前記接着層側の前記貫通配線の端面に絶縁膜が形成されている請求項９記載の配線基板。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか一項記載の配線基板と、
前記配線基板に搭載された半導体素子又は半導体素子を含むモジュールと、を有する半導体パッケージ。
【請求項１２】
一方の面に配線が形成された基板を用意する工程と、
前記基板を厚さ方向に貫通し、平面視において、前記基板の外縁部から内方に向かって切れ込んだ切れ込み部を形成する工程と、
前記基板を、接着層を介して放熱板上に固定する工程と、を有し、
前記放熱板上に固定する工程では、前記基板の一方の面とは反対側の面と前記放熱板との間に前記接着層が配置されると共に、前記接着層の一部が、前記切れ込み部の内壁面に露出する前記基板の端面を被覆する配線基板の製造方法。
【請求項１３】
前記切れ込み部を形成する工程では、前記切れ込み部の内壁面に前記配線の端面が露出し、
前記放熱板上に固定する工程では、前記接着層が、前記切れ込み部の内壁面に露出する前記基板の端面と前記配線の端面を連続的に被覆する請求項１２記載の配線基板の製造方法。
【請求項１４】
前記放熱板上に固定する工程では、前記接着層が、前記切れ込み部の内壁面に露出する前記基板の端面と前記配線の端面を連続的に被覆し、更に、前記基板上に延在する請求項１３記載の配線基板の製造方法。
【請求項１５】
前記切れ込み部を形成する工程よりも前に、前記配線を選択的に露出する反射膜を形成する工程を有し、
前記切れ込み部を形成する工程では、平面視において、前記基板上の前記切れ込み部の内壁面に沿った領域が前記反射膜から露出し、
前記接着層が、前記領域に延在する請求項１４記載の配線基板の製造方法。
【請求項１６】
前記放熱板上に固定する工程よりも後に、前記配線を選択的に露出する反射膜を形成する工程を有し、
前記反射膜は前記切れ込み部を埋めるように形成される請求項１４記載の配線基板の製造方法。
【請求項１７】
前記一方の面に配線が形成された基板を用意する工程では、前記一方の面に形成した金属層をパターニングして前記配線を形成すると共に、前記配線に接続された電解めっき用のバスラインを形成し、
前記切れ込み部を形成する工程では、前記配線と前記バスラインとが切断されて、前記切れ込み部の内壁面に前記配線の端面が露出する請求項１３乃至１６の何れか一項記載の配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本配線基板は、放熱板と、前記放熱板上に設けられた接着層と、前記接着層上に設けられた基板と、前記基板の前記接着層が設けられた面とは反対側の面に設けられた配線と、前記基板を厚さ方向に貫通し、平面視において、前記基板の外縁部から内方に向かって切れ込んだ切れ込み部と、を有し、前記接着層の一部は、前記切れ込み部の内壁面に露出する前記基板の端面を被覆していることを要件とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月17日(2017.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応室と、前記反応室に連通する搬送室と、前記搬送室と連通する待機室を備える気相成長装置を用いた気相成長方法であって、
前記反応室に第１の基板を搬入し、
前記反応室内の支持部上に載置される前記第１の基板にガリウム（Ｇａ）を含有する膜を形成し、
前記第１の基板を前記反応室から搬出し、
前記第１の基板を前記反応室から搬出した後に、前記支持部に付着した付着物を被覆膜で被覆するか、または、除去し、
前記付着物を前記被覆膜で被覆するか、または、除去した後に、前記反応室に、表面がシリコン（Ｓｉ）の第２の基板を搬入し、
前記第２の基板に窒化アルミニウム膜を形成し、
前記第２の基板を前記反応室から前記搬送室に搬出した後、前記待機室に搬入し、
前記反応室に、表面がシリコン（Ｓｉ）の第３の基板を搬入し、
前記第３の基板に窒化アルミニウム膜を形成し、
前記第３の基板を前記反応室から前記搬送室に搬出した後、前記待機室に搬入し、
前記第２の基板を前記待機室から前記搬送室に搬出した後、前記反応室に搬入し、
前記第２の基板にガリウム（Ｇａ）を含有する膜を形成し、
前記第２の基板を前記反応室から搬出し、
前記第３の基板を前記待機室から前記搬送室に搬出した後、前記反応室に搬入し、
前記第３の基板にガリウム（Ｇａ）を含有する膜を形成し、
前記第３の基板を前記反応室から搬出することを特徴とする気相成長方法。
【請求項２】
前記第１の基板を前記反応室から搬出した後に、前記反応室にダミー基板を搬入し、前記ダミー基板に前記被覆膜となる窒化アルミニウム膜を形成して、前記付着物を被覆することを特徴とする請求項１記載の気相成長方法。
【請求項３】
前記第１の基板を前記反応室から搬出した後に、前記支持部を前記第１の基板に形成されたガリウム（Ｇａ）を含有する膜の成膜温度よりも高い温度で加熱して、前記付着物を除去することを特徴とする請求項１記載の気相成長方法。
【請求項４】
前記第２および第３の基板に窒化アルミニウム膜を形成し始めてから終了するまでの間、前記反応室、前記搬送室、および、前記待機室を第１の圧力に維持し、前記第２および第３の基板にガリウム（Ｇａ）を含有する膜を形成し始めてから終了するまでの間、前記反応室、前記搬送室、および、前記待機室を前記第１の圧力よりも高い第２の圧力に維持することを特徴とする請求項２または請求項３記載の気相成長方法。
【請求項５】
前記ダミー基板に前記窒化アルミニウム膜を形成する前に、前記支持部を前記第１の基板に形成されたガリウム（Ｇａ）を含有する膜の成膜温度よりも高い温度で加熱して、前記付着物を除去することを特徴とする請求項２記載の気相成長方法。
【請求項６】
シリコン基板を載置する支持部を有し、前記シリコン基板上に窒化アルミニウム膜を、及び前記窒化アルミニウム膜上にガリウムを含む膜をそれぞれ形成する反応室と、
前記反応室に、アルミニウムを含む第１のプロセスガス及びガリウムを含む第２のプロセスガスをそれぞれ供給するガス供給部と、
前記反応室と連通する搬送室と、
前記搬送室と連通し、表面に前記窒化アルミニウム膜が形成された前記シリコン基板が保管される待機室と、
を備える気相成長装置。
【請求項７】
シリコン基板を載置する第１の支持部を有し、前記シリコン基板上に窒化アルミニウム膜を形成する第１の反応室と、
前記第１の反応室にアルミニウムを含む第１のプロセスガスを供給する第１のガス供給部と、
前記窒化アルミニウム膜が形成された前記シリコン基板を載置する第２の支持部を有し、前記窒化アルミニウム膜が形成されたシリコン基板上にガリウムを含む膜を形成する前記第１の反応室と異なる第２の反応室と、
前記第２の反応室にガリウムを含む第２のプロセスガスを供給する第２のガス供給部と、
前記第１の反応室及び前記第２の反応室と連通する搬送室と、
前記搬送室と連通し、前記シリコン基板上に前記窒化アルミニウム膜が形成された基板が保管される待機室と、
を備える気相成長装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】気相成長方法及び気相成長装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
反応室１００から第１のウェハＷ１を搬出した後、反応室１００にダミーウェハ（ダミー基板）Ｗｄを搬入する（Ｓ１６）。ダミーウェハＷｄは、例えば、Ｓｉ（シリコン）ウェハである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
このように、ダミーウェハＷｄにＡｌＮ膜を形成した後、連続して３枚のウェハＷ２〜Ｗ４にＡｌＮ膜を形成する。連続してＡｌＮ膜を成膜するウェハの枚数は３枚に限られることはなく、２枚であっても、４枚以上であってもかまわない。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月31日(2017.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＳ（Transport Stream）パケットを割り当てる複数のパケット配置用スロットと１つの多重フレームヘッダ情報用スロットからなるフレームにて可変長パケットを多重伝送する送信装置であって、
伝送するＴＳパケットと同サイズのパケット長の第３のパケットを生成し、伝送する可変長パケットを分割して各分割された当該可変長パケットのデータを前記第３のパケットに順次割り当て、各分割されたデータに対して、ＴＳパケットと同一の同期バイトを付加し、且つ当該可変長パケットの先頭位置に位置するデータに対しては当該可変長パケットの先頭位置を示す先頭位置情報を付加した当該第３のパケットのパケット列を形成する可変長パケット分割手段と、
予め定められた複数のパケット配置用スロットを有するフレームにおける前記ＴＳパケット及び前記第３のパケットのデータ構造配列を規定する多重フレームヘッダ情報を生成する多重フレームヘッダ生成手段と、
前記多重フレームヘッダ情報に基づいて、前記ＴＳパケット及び前記第３のパケットを当該パケット配置用スロットごとに配列して多重化し、複数ＴＳ多重フレームとして構成する多重化手段と、
前記複数ＴＳ多重フレームの多重化信号を外部に送信する送信手段と、
を備えることを特徴とする送信装置。
【請求項２】
ＴＳパケットを割り当てる複数のパケット配置用スロットと１つの多重フレームヘッダ情報用スロットからなるフレームにて可変長パケットのデータが多重化された複数ＴＳ多重フレームの多重化信号から可変長パケットのデータを受信する受信装置であって、
当該複数ＴＳ多重フレームの多重化信号を受信する受信手段と、
前記複数ＴＳ多重フレームの多重フレームヘッダ情報を参照して前記複数ＴＳ多重フレームから前記可変長パケットのデータを含む第３のパケットを抜き出して分離する分離手段と、
前記第３のパケットに格納されている可変長パケットの先頭位置情報を抽出し、当該可変長パケットの先頭位置情報を基に当該第３のパケットのパケット列からデータを抽出して合成し当該可変長パケットを復元する可変長パケット復元手段と、
を備えることを特徴とする受信装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月15日(2017.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
補聴器のユーザの聴力損失を補うために一つ又は複数の音声信号を処理するための信号プロセッサと、
無線データ通信のために前記信号プロセッサに接続される無線通信ユニットと、
データ端子及び少なくとも一つの制御端子を有するアンテナシステムであって、前記データ端子は前記無線通信ユニットに接続され、第１のアンテナと第１のアンテナ・フィードを含む一つ又は複数のアンテナ・フィードとを有するアンテナシステムと、
を備え、
前記アンテナシステムは、前記少なくとも一つの制御端子における制御信号に応じて、第１のアンテナ・モードと第２のアンテナ・モードとを含む複数のアンテナ・モードから選択される選択アンテナ・モードで作動するように、前記アンテナシステムを構成するためのアンテナ構成装置を備え、前記アンテナ構成装置は、前記第１のアンテナ・モードで作動するときは第１のアンテナ構成を前記データ端子に適用し、前記第２のアンテナ・モードで作動するときは第２のアンテナ構成を前記データ端子に適用するように構成される、補聴器。
【請求項２】
前記第１のアンテナ・フィードは、第１の位置で前記第１のアンテナに接続され、第２のアンテナ・フィードは、第２の位置で前記第１のアンテナに接続される、請求項１に記載の補聴器。
【請求項３】
前記第１のアンテナ・フィードは、第１の位置で前記第１のアンテナに接続され、前記アンテナシステムは第２のアンテナを有し、第２のアンテナ・フィードは、第２の位置で前記第２のアンテナに接続される、請求項１に記載の補聴器。
【請求項４】
前記データ端子は、前記第１のアンテナ・モードでは前記第１のアンテナ・フィードに接続され、前記データ端子は、前記第２のアンテナ・モードでは前記第２のアンテナ・フィードに接続される、請求項２又は３に記載の補聴器。
【請求項５】
前記第１のアンテナ・モードにおける前記アンテナ構成装置は、前記第１のアンテナ・フィードに第１の一次インピーダンスを適用するとともに前記第２のアンテナ・フィードに第２の一次インピーダンスを適用し、前記第２のアンテナ・モードにおける前記アンテナ構成装置は、前記第１のアンテナ・フィードに第１の二次インピーダンスを適用するとともに前記第２のアンテナ・フィードに第２の二次インピーダンスを適用する、請求項２から４のいずれか一項に記載の補聴器。
【請求項６】
前記信号プロセッサは、前記アンテナ・モードを選択し、選択したアンテナ・モードで前記アンテナシステムを作動させるために、前記アンテナシステムに前記制御信号を送信するように構成される、請求項１から５のいずれか一項に記載の補聴器。
【請求項７】
前記第１のアンテナ構成は第１の放射パターンを有し、前記第２のアンテナ構成は前記第１の放射パターンとは異なる第２の放射パターンを有する、請求項１から６のいずれか一項に記載の補聴器。
【請求項８】
前記第１のアンテナ構成は第１の偏極を有し、前記第２のアンテナ構成は第１の偏極とは異なる第２の偏極を有する、請求項１から７のいずれか一項に記載の補聴器。
【請求項９】
前記第１のアンテナ構成は第１の方向に延びるアンテナ部を有し、前記第２のアンテナ構成は前記第１の方向に実質的に垂直な第２の方向に延びるアンテナ部を有する、請求項１から８のいずれか一項に記載の補聴器。
【請求項１０】
前記信号プロセッサは、無線信号の受信状態の間は第１のアンテナ構成を適用し、送信状態の間は第２のアンテナ構成を適用するように前記アンテナシステムを構成する、請求項１から９のいずれか一項に記載の補聴器。
【請求項１１】
前記第１のアンテナ構成は、外部無線送信機から受信するために構成され、前記第２のアンテナ構成は、両耳用の聴力装置において、第１の補聴器から第２の補聴器に送信するために構成される、請求項１０に記載の補聴器。
【請求項１２】
前記第１のアンテナ構成は、２．４から２．５ＧＨｚまでの範囲の周波数用に構成される、請求項１から１１のいずれか一項に記載の補聴器。
【請求項１３】
データ通信用のデータ端子を有するアンテナシステムを備える補聴器を作動させるための方法であって、
前記アンテナシステムの第１のアンテナ・モードにおける信号品質を示す第１のパラメータを受信することと、
前記アンテナシステムの第２のアンテナ・モードにおける信号品質を示す第２のパラメータを受信することと、
前記第１及び第２のパラメータに基づいて最適アンテナ・モードを決定することと、
前記最適アンテナ・モードで作動するように前記アンテナシステムを構成することと、
を含む方法。
【請求項１４】
前記アンテナシステムを構成することは、前記第１のアンテナ・モードが前記最適アンテナ・モードであるときは前記アンテナシステムのデータ端子に第１のアンテナ構成を適用し、前記第２のアンテナ・モードが前記最適アンテナ・モードであるときは前記データ端子に第２のアンテナ構成を適用することを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記アンテナシステムを構成することは、前記第１のアンテナ・モードが前記最適アンテナ・モードであるときは前記アンテナシステムの第１のアンテナ・フィードに第１の一次インピーダンスを適用するとともに前記アンテナシステムの第２のアンテナ・フィードに第２の一次インピーダンスを適用することを含み、前記方法は、前記第２のアンテナ・モードが前記最適アンテナ・モードであるときに前記第１のアンテナ・フィードに第１の二次インピーダンスを適用するとともに前記第２のアンテナ・フィードに第２の二次インピーダンスを適用することを含む、請求項１３又は１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記方法は、前記アンテナシステムの外部の信号プロセッサによって実行され、前記信号プロセッサは、前記アンテナシステムに制御信号を送信して前記アンテナシステムを構成する、請求項１３から１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１及び／又は前記第２のパラメータは受信信号強度を示す、請求項１１から１６のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月27日(2017.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線チャネルを介して受信される信号においてシンボルを検出する方法であって、検出されるシンボルごとに、
各シンボルの統計モデルを生成するステップであって、前記シンボルは、対応する送信シンボルの平均及び分散に等しい平均及び分散を有するガウス分布を用いて近似され、前記ガウス分布の成分は等しく重み付けされる、ステップと、
前記信号内の全ての他のシンボルからの寄与を、予測される干渉として求めるステップと、
前記予測される干渉を前記信号から減算して、干渉のない信号を得るステップと、
前記統計モデル及び前記干渉のない信号に基づいて前記シンボルを推測するステップと、
を含み、各前記ステップは受信機が実行する、無線チャネルを介して受信される信号においてシンボルを検出する方法。
【請求項２】
前記推測することは、ベイズ規則を用いる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記モデルは平滑で連続した統計分布である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記モデルは単一ガウス確率変数である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記モデルはガウス分布の混合である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記モデルは、有限のコンスタレーションから値をとる決定論的な未知の変数と、ゼロ平均確率変数との和であり、前記ゼロ平均確率変数は、前記シンボルの推定される分散に等しい分散を有し、前記和は、前記シンボルの平均及び共分散に等しい平均及び共分散を有するガウス分布を用いて近似される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
特定のコンスタレーション点インスタンス化における前記シンボルの事後確率は、該コンスタレーション点に対応する複素平面における領域にわたって前記ガウス事後確率を積分することによって更新される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記ガウス分布の成分の重みは、各シンボルを検出した後に更新される、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記受信機は、ブロック送信及びブロック検出を用いる単入力単出力通信システムの一部である、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記シンボルｘｎの前記モデルは、
【数１】
2015156642.tif 000001
であり、ここで、
【数２】
2015156642.tif 000002
は、有限のコンスタレーションＸから選択される決定論的な未知の変数であり、
【数３】
2015156642.tif 000003
は、前記受信信号を条件とするｘｎの分散に分散が等しいゼロ平均確率変数である、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月17日(2016.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１以上のＬＥＤチップを有するＬＥＤ発光部と、
上記ＬＥＤ発光部を支持するケースと、
上記ＬＥＤ発光部とは反対側に設けられ、給電部に対して着脱可能である口金と、
上記ＬＥＤ発光部からの光を透過させるカバーと、を備えたＬＥＤ照明モジュールであって、
上記口金と上記給電部とは、上記口金を上記給電部に対して相対回転させることにより着脱可能であり、
上記カバーは、上記相対回転の回転軸周りの周方向に沿って設けられた高摩擦部を有することを特徴とする、
ＬＥＤ照明モジュール。
【請求項２】
上記高摩擦部は、上記周方向の全周に形成されている、請求項１に記載のＬＥＤ照明モジュール。
【請求項３】
上記高摩擦部は、各々が上記回転軸方向視において径方向に延びる複数のリブを含んでいる、請求項１または２に記載のＬＥＤ照明モジュール。
【請求項４】
上記リブの上記径方向における長さは、５ｍｍ〜２０ｍｍである、請求項１ないし３のいずれかに記載のＬＥＤ照明モジュール。
【請求項５】
上記リブの上記周方向における幅は、０．５ｍｍ〜２．０ｍｍである、請求項１ないし４のいずれかに記載のＬＥＤ照明モジュール。
【請求項６】
上記複数のリブの上記周方向におけるピッチは、１．０ｍｍ〜５．０ｍｍである、請求項１ないし５のいずれかに記載のＬＥＤ照明モジュール。
【請求項７】
上記リブの高さは、０．５ｍｍ〜５ｍｍである、請求項１ないし６のいずれかに記載のＬＥＤ照明モジュール。
【請求項８】
上記複数のリブは、両隣の上記リブよりも高さが低い最低位リブを含む、請求項１ないし７のいずれかに記載のＬＥＤ照明モジュール。
【請求項９】
上記複数のリブは、上記最低位リブと、この最低位リブから上記周方向に離間するほど高さが高くなる複数の中位リブと、を含む、請求項８に記載のＬＥＤ照明モジュール。
【請求項１０】
上記口金は、１対のピンを含んでおり、
上記複数のリブのうち上記１対のピンと周方向位置が対応するものは、体積が最大である、請求項１ないし９のいずれかに記載のＬＥＤ照明モジュール。
【請求項１１】
上記複数のリブのうち上記１対のピンと周方向位置が対応するものは、最も高さが高い、請求項１０に記載のＬＥＤ照明モジュール。
【請求項１２】
上記複数のリブのうち上記１対のピンと周方向位置が対応するものは、上記径方向における長さが最も長い、請求項１０または１１に記載のＬＥＤ照明モジュール。
【請求項１３】
上記高摩擦部は、複数の突起を含む、請求項１または２に記載のＬＥＤ照明モジュール。
【請求項１４】
上記高摩擦部は、上記周方向において互いに離間する複数のグループに分けられている、請求項１ないし１３のいずれかに記載のＬＥＤ照明モジュール。