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【手続補正書】
【提出日】平成29年7月31日(2017.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＪＩＳ  ５１０１−１３−１（吸油量 精製あまに油法)に基づく、吸油量が４７０〜１５８０〔ｍｌ／１００ｇ〕の範囲であるポリアリーレンスルフィド樹脂微多孔質微粒子。
【請求項２】
３００℃で測定した溶融粘度が５００〔Ｐａ・ｓ〕以下のポリアリーレンスルフィド樹脂からなり、平均粒子径が１００〔ｎｍ〕以上、かつ１００〔μｍ〕未満の範囲である、請求項１記載のポリアリーレンスルフィド樹脂微多孔質微粒子。
【請求項３】
ＢＥＴ比表面積が３〜３００〔ｍ２／ｇ〕の範囲である請求項１または２記載のポリアリーレンスルフィド樹脂微多孔質微粒子。
【請求項４】
表面平均孔径が０．００５〜１．５〔μｍ〕の範囲である請求項１〜３の何れか一項に記載のポリアリーレンスルフィド樹脂微多孔質微粒子。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月2日(2017.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スカンジウムを含有する溶液をイオン交換樹脂に通液し、該イオン交換樹脂からスカンジウムを含有する溶離液を得るスカンジウム溶離工程と、
前記溶離液に中和剤を添加して中和する中和工程と、
中和後溶離液に対してアミン系抽出剤を用いた溶媒抽出を行う溶媒抽出工程と、
溶媒抽出により分離された抽残液からスカンジウムの沈殿物を得て、該沈殿物を焙焼することによって酸化スカンジウムを得るスカンジウム回収工程と
を有するスカンジウムの回収方法。
【請求項２】
前記溶媒抽出工程では、溶媒抽出後の抽出剤に、洗浄液としての１．０ｍｏｌ／Ｌ以上３．０ｍｏｌ／Ｌ以下の濃度の硫酸溶液を混合し、該抽出剤中に含まれるスカンジウムを該洗浄液中に分離するスクラビングを行い、
前記スカンジウム回収工程では、前記抽残液と共に、前記スクラビング後の洗浄液からスカンジウムの沈殿物を得る
請求項１に記載のスカンジウムの回収方法。
【請求項３】
前記溶媒抽出工程では、溶媒抽出後の抽出剤に炭酸塩を添加して逆抽出を行うことにより逆抽出後の抽出剤と逆抽出液とを得る
請求項１に記載のスカンジウムの回収方法。
【請求項４】
前記逆抽出後の抽出剤を、前記溶媒抽出の抽出剤として繰り返し用いる
請求項３に記載のスカンジウムの回収方法。
【請求項５】
前記中和工程では、前記溶離液に中和剤を添加してｐＨを５〜６の範囲に調整し、固液分離により中和澱物と中和濾液とを生成させ、該中和澱物に酸を添加することによって再溶解液を得て、
前記溶媒抽出工程では、得られた再溶解液を前記中和後溶離液として溶媒抽出に付す
請求項１乃至４のいずれか１項に記載のスカンジウムの回収方法。
【請求項６】
前記中和工程では、
前記溶離液に中和剤を添加してｐＨを３．５〜４．５の範囲に調整し、固液分離により１次中和澱物と１次中和濾液とを生成させ、
次いで、前記１次中和濾液にさらに中和剤を添加してｐＨを５．５〜６．５の範囲に調整し、固液分離により２次中和澱物と２次中和濾液とを生成させ、該２次中和澱物に酸を添加することによって再溶解液を得て、
前記溶媒抽出工程では、得られた再溶解液を前記中和後溶離液として溶媒抽出に付す
請求項１乃至４のいずれか１項に記載のスカンジウムの回収方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
（２）本発明に係る第２の発明は、第１の発明において、前記溶媒抽出工程では、溶媒抽出後の抽出剤に、洗浄液としての１．０ｍｏｌ／Ｌ以上３．０ｍｏｌ／Ｌ以下の濃度の硫酸溶液を混合し、該抽出剤中に含まれるスカンジウムを該洗浄液中に分離するスクラビングを行い、前記スカンジウム回収工程では、前記抽残液と共に、前記スクラビング後の洗浄液からスカンジウムの沈殿物を得る、スカンジウムの回収方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月30日(2017.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基端側のリンクハブに対し先端側のリンクハブを、３組以上のリンク機構を介して姿勢を変更可能に連結し、前記各リンク機構は、それぞれ前記基端側のリンクハブおよび先端側のリンクハブに一端が回転可能に連結された基端側および先端側の端部リンク部材と、
これら基端側および先端側の端部リンク部材の他端に両端がそれぞれ回転可能に連結された中央リンク部材とでなり、前記各リンク機構は、このリンク機構を直線で表現した幾何学モデルが、前記中央リンク部材の中央部に対する基端側部分と先端側部分とが対称を成す形状であるパラレルリンク機構において、
前記基端側のリンクハブと前記基端側の端部リンク部材の一端との回転対偶、前記先端側のリンクハブと前記先端側の端部リンク部材の一端との回転対偶、前記基端側および先端側の端部リンク部材の他端と前記中央リンク部材の両端との回転対偶にそれぞれ軸受を介在させ、これら軸受として、臨界揺動角が、前記基端側のリンクハブの中心軸と前記先端側のリンクハブの中心軸との成す角度である折れ角の可能な範囲内における最大値よりも小さいものを使用し
たことを特徴とするパラレルリンク機構。
【請求項２】
請求項１において、前記基端側のリンクハブと前記基端側の端部リンク部材の一端との回転対偶、および前記先端側のリンクハブと前記先端側の端部リンク部材の一端との回転対偶に介在させた前記軸受を前記基端側のリンクハブおよび前記先端側のリンクハブに埋設状態で設けたことを特徴とするパラレルリンク機構。
【請求項３】
請求項１または２において、前記臨界揺動角は、定められた作業動作における前記折れ角の最大値よりも小さいパラレルリンク機構。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３の何れか１項において、前記軸受は深溝玉軸受であり、この深溝玉軸受の転動体の個数をＺとした場合、前記臨界揺動角を２・１８０/（０．５５５・Ｚ・π）［ｄｅｇ］としたパラレルリンク機構。
【請求項５】
請求項１ないし請求項３の何れか１項において、前記軸受は円筒ころ軸受であり、この円筒ころ軸受の転動体の個数をＺとした場合、前記臨界揺動角を２・１８０/（０．３７・（Ｚ＋０．１）・π）［ｄｅｇ］としたパラレルリンク機構。
【請求項６】
請求項１ないし請求項３の何れか１項において、前記軸受は針状ころ軸受であり、この針状ころ軸受の転動体の個数をＺとした場合、前記臨界揺動角を２・１８０/（０．５４４・Ｚ・π）［ｄｅｇ］としたパラレルリンク機構。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載のパラレルリンク機構を備え、このパラレルリンク機構の前記基端側のリンクハブに入力軸を設け、かつ前記先端側のリンクハブに出力軸を設けたことを特徴とする等速自在継手。
【請求項８】
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載のパラレルリンク機構を備え、このパラレルリンク機構の３組以上のリンク機構のうちの少なくとも２組に、前記基端側の端部リンク部材を回動させて、前記基端側のリンクハブに対する前記先端側のリンクハブの姿勢を変更させるアクチュエータを設けたことを特徴とするリンク作動装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明のパラレルリンク機構は、基端側のリンクハブに対し先端側のリンクハブを、３組以上のリンク機構を介して姿勢を変更可能に連結し、前記各リンク機構は、それぞれ前記基端側のリンクハブおよび先端側のリンクハブに一端が回転可能に連結された基端側および先端側の端部リンク部材と、これら基端側および先端側の端部リンク部材の他端に両端がそれぞれ回転可能に連結された中央リンク部材とでなる。前記各リンク機構は、このリンク機構を直線で表現した幾何学モデルが、前記中央リンク部材の中央部に対する基端側部分と先端側部分とが対称を成す形状である。この発明のパラレルリンク機構は、上記構成において、前記基端側のリンクハブと前記基端側の端部リンク部材の一端との回転対偶、前記先端側のリンクハブと前記先端側の端部リンク部材の一端との回転対偶、前記基端側および先端側の端部リンク部材の他端と前記中央リンク部材の両端との回転対偶にそれぞれ軸受を介在させ、これら軸受として、臨界揺動角が、前記基端側のリンクハブの中心軸と前記先端側のリンクハブの中心軸との成す角度である折れ角の可能な範囲内における最大値よりも小さいものを使用することを特徴とする。
前記基端側のリンクハブと前記基端側の端部リンク部材の一端との回転対偶、および前記先端側のリンクハブと前記先端側の端部リンク部材の一端との回転対偶に介在させた前記軸受を前記基端側のリンクハブおよび先端側のリンクハブに埋設状態で設けてもよい。なお、上記臨界揺動角は、軸受の実用可能な最小の揺動角であり、軸受諸元等で定まり定格寿命が得られる最小の揺動角を言う。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月30日(2017.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料を濾過するサクションフィルタ（９０，２９０）と、前記サクションフィルタにより濾過された前記燃料を吸入する燃料ポンプ（１０）と、を具備する燃料ポンプユニットであって、
前記燃料ポンプは、
回転中心線（Ｃｉｇ）に沿って配置され、回転駆動される回転軸（１３ａ）と、
ロータ収容室（７０ａ）に収容され、前記回転軸の回転駆動に応じて回転するロータ部（１９ａ）と、
前記ロータ収容室内に前記燃料を吸入する吸入穴部（７６）と、
前記吸入穴部を囲んで設けられる外周壁（７８）と、を備え、
前記サクションフィルタは、
前記燃料を濾過して内部空間（９２ａ）に取り込むフィルタエレメント（９２）と、
内周壁（９４ａ）を有する筒穴状に形成され、前記外周壁と前記内周壁を相対させて嵌合されていることで、前記内部空間と前記吸入穴部とを連通する筒穴部（９４）と、を備え、
前記筒穴部は、前記回転中心線が前記内周壁の内側を通るように配置され、
前記燃料ポンプは、前記筒穴部の内部において前記内周壁に囲まれて配置され、前記吸入穴部が開口する面（７３）をさらに備え、
前記サクションフィルタは、前記内周壁から内周側に突出し、前記面と軸方向に対向する対向壁（９８）をさらに備える燃料ポンプユニット。
【請求項２】
前記サクションフィルタは、前記燃料ポンプと軸方向（Ｄａ）に接触する接触部（９６）をさらに有する請求項１に記載の燃料ポンプユニット。
【請求項３】
前記接触部は、前記筒穴部の開口部（９４ｂ）から外周側に接続された環状に形成される請求項２に記載の燃料ポンプユニット。
【請求項４】
前記筒穴部は、前記回転軸と同軸上の円筒穴状に形成される請求項１から３のいずれか１項に記載の燃料ポンプユニット。
【請求項５】
前記面は、平面状の開口平面である請求項１から４のいずれか１項に記載の燃料ポンプユニット。
【請求項６】
前記サクションフィルタは、
前記面と前記対向壁との間に配置される弾性部材（２９１）とを、さらに備える請求項５に記載の燃料ポンプユニット。
【請求項７】
前記サクションフィルタは、
前記面と前記対向壁との間に配置される弾性部材（２９１）とを、さらに備える請求項１から５のいずれか１項に記載の燃料ポンプユニット。
【請求項８】
前記ロータ部は、
外歯（２４ａ）を複数有し、前記回転軸と同軸上に配置されるインナギヤ（２０）と、
内歯（３２ａ）を複数有し、前記インナギヤに対して偏心して噛合するアウタギヤ（３０）と、を有し、
前記筒穴部は、前記アウタギヤの回転中心として軸方向に沿ったアウタ中心線（Ｃｏｇ）が前記内周壁の内側を通るように配置される請求項１から７のいずれか１項に記載の燃料ポンプユニット。
【請求項９】
前記サクションフィルタは、
前記フィルタエレメントの形状を維持する骨組部（９０ａ）と、
前記対向壁から前記フィルタエレメント側へ突出して、前記回転中心線上にて前記骨組部と連結される連結部（９０ｂ）と、をさらに備える請求項１から８のいずれか１項に記載の燃料ポンプユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、燃料を濾過するサクションフィルタ（９０，２９０）と、サクションフィルタにより濾過された燃料を吸入する燃料ポンプ（１０）と、を具備する燃料ポンプユニットであって、
燃料ポンプは、
回転中心線（Ｃｉｇ）に沿って配置され、回転駆動される回転軸（１３ａ）と、
ロータ収容室（７０ａ）に収容され、回転軸の回転駆動に応じて回転するロータ部（１９ａ）と、
ロータ収容室内に燃料を吸入する吸入穴部（７６）と、
吸入穴部を囲んで設けられる外周壁（７８）と、を備え、
サクションフィルタは、
燃料を濾過して内部空間（９２ａ）に取り込むフィルタエレメント（９２）と、
内周壁（９４ａ）を有する筒穴状に形成され、外周壁と内周壁を相対させて嵌合されていることで、内部空間と吸入穴部とを連通する筒穴部（９４）と、を備え、
筒穴部は、回転中心線が内周壁の内側を通るように配置され、
燃料ポンプは、筒穴部の内部において内周壁に囲まれて配置され、吸入穴部が開口する面（７３）をさらに備え、
サクションフィルタは、内周壁から内周側に突出し、面と軸方向に対向する対向壁（９８）をさらに備える。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月9日(2017.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
筒穴部（９５）と、前記筒穴部の内周壁（９５ａ）から内周側に突出する凸部（９６，２９６）と、を有するフィルタ側結合部（９４，２９４）を備えるサクションフィルタ（９０，２９０）と結合され、前記サクションフィルタによりフィルタエレメント（９２）の内部空間（９２ａ）に濾過された燃料を吸入する燃料ポンプであって、
前記サクションフィルタ側に開口する複数の吸入開口穴（７６）を有し、前記複数の吸入開口穴から前記燃料を吸入する吸入ポート部（７４）と、
前記複数の吸入開口穴よりも外周側に設けられ、前記フィルタ側結合部と結合されるポンプ側結合部（７８）と、を備え、
前記複数の吸入開口穴は、同一の前記筒穴部を介して前記フィルタエレメントの内部空間と連通し、
前記ポンプ側結合部は、
前記内周壁に合わせた形状の外周壁（７８ａ）と、
前記外周壁から内周側に凹むことで、前記凸部が嵌る凹部（７９）と、を有する燃料ポンプ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
フィルタエレメント（９２）の内部空間（９２ａ）に燃料を濾過するサクションフィルタ（９０，２９０）と、前記サクションフィルタに濾過された燃料を吸入する燃料ポンプ（１０）と、を具備する燃料ポンプモジュールであって、
前記サクションフィルタは、筒穴部（９５）、及び前記筒穴部の内周壁（９５ａ）から内周側に突出する凸部（９６，２９６）を有するフィルタ側結合部（９４，２９４）を備え、
前記燃料ポンプは、
前記サクションフィルタ側に開口する複数の吸入開口穴（７６）を有し、前記複数の吸入開口穴から燃料を吸入する吸入ポート部（７４）と、
前記複数の吸入開口穴よりも外周側に設けられ、前記フィルタ側結合部と結合されるポンプ側結合部（７８）と、を備え、
前記複数の吸入開口穴は、同一の前記筒穴部を介して前記フィルタエレメントの内部空間と連通し、
前記ポンプ側結合部は、
前記内周壁に合わせた形状の外周壁（７８ａ）と、
前記外周壁から内周側に凹む凹部（７９）と、を有し、
前記燃料ポンプと前記サクションフィルタとは、前記凸部が前記凹部に嵌った状態で結合されている燃料ポンプモジュール。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
開示される本発明のひとつは、筒穴部（９５）と、筒穴部の内周壁（９５ａ）から内周側に突出する凸部（９６，２９６）と、を有するフィルタ側結合部（９４，２９４）を備えるサクションフィルタ（９０，２９０）と結合され、サクションフィルタによりフィルタエレメント（９２）の内部空間（９２ａ）に濾過された燃料を吸入する燃料ポンプであって、
サクションフィルタ側に開口する複数の吸入開口穴（７６）を有し、複数の吸入開口穴から燃料を吸入する吸入ポート部（７４）と、
複数の吸入開口穴よりも外周側に設けられ、フィルタ側結合部と結合されるポンプ側結合部（７８）と、を備え、
複数の吸入開口穴は、同一の筒穴部を介してフィルタエレメントの内部空間と連通し、
ポンプ側結合部は、
内周壁に合わせた形状の外周壁（７８ａ）と、
外周壁から内周側に凹むことで、凸部が嵌る凹部（７９）と、を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、開示される本発明の他のひとつは、フィルタエレメント（９２）の内部空間（９２ａ）に燃料を濾過するサクションフィルタ（９０，２９０）と、サクションフィルタに濾過された燃料を吸入する燃料ポンプ（１０）と、を具備する燃料ポンプモジュールであって、
サクションフィルタは、筒穴部（９５）、及び筒穴部の内周壁（９５ａ）から内周側に突出する凸部（９６，２９６）を有するフィルタ側結合部（９４，２９４）を備え、
燃料ポンプは、
サクションフィルタ側に開口する複数の吸入開口穴（７６）を有し、複数の吸入開口穴から燃料を吸入する吸入ポート部（７４）と、
複数の吸入開口穴よりも外周側に設けられ、フィルタ側結合部と結合されるポンプ側結合部（７８）と、を備え、
複数の吸入開口穴は、同一の筒穴部を介してフィルタエレメントの内部空間と連通し、
ポンプ側結合部は、
内周壁に合わせた形状の外周壁（７８ａ）と、
外周壁から内周側に凹む凹部（７９）と、を有し、
燃料ポンプとサクションフィルタとは、凸部が凹部に嵌った状態で結合されている。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月30日(2017.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原料として、ゆず果汁、蜂蜜、及びゆず果汁濃縮粉末が使用される、リモネン0.13〜0.20質量%、γ-テルピネン0.058〜0.094質量%、及びα-テルピネオール0.000052〜0.00038質量%を含み、ブリックスが60〜85%であるゆず果汁含有濃縮飲料。
【請求項２】
請求項１に記載の濃縮飲料及び該濃縮飲料の2〜5倍容量の水を含むゆず果汁含有飲料。
【請求項３】
ゆず果汁、蜂蜜、及びゆず果汁濃縮粉末を混合する工程を有する、リモネン0.13〜0.20質量%、γ-テルピネン0.058〜0.094質量%、及びα-テルピネオール0.000052〜0.00038質量%を含み、ブリックスが60〜85%であるゆず果汁含有濃縮飲料の製造方法。
【請求項４】
添加量がゆず果汁濃縮粉末1質量部に対してゆず果汁19〜980質量部である、請求項３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月6日(2017.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒト組織因子経路インヒビター（配列番号：１）のエピトープに結合する単離されたモノクローナル抗体であって、以下のいずれかの組合せの相補性決定領域（ＣＤＲ）を含む前記単離されたモノクローナル抗体
（１）配列番号２のアミノ酸配列のＣＤＲ１〜３および、配列番号３のアミノ酸配列のＣＤＲ１〜３、
（２）配列番号４のアミノ酸配列のＣＤＲ１〜３および、配列番号５のアミノ酸配列のＣＤＲ１〜３、
（３）配列番号６のアミノ酸配列のＣＤＲ１〜３および、配列番号７のアミノ酸配列のＣＤＲ１〜３、
（４）配列番号８のアミノ酸配列のＣＤＲ１〜３および、配列番号９のアミノ酸配列のＣＤＲ１〜３。
【請求項２】
治療有効量の請求項１に記載のモノクローナル抗体および薬学的に許容される担体を含む、医薬組成物。
【請求項３】
治療有効量の請求項１に記載の少なくとも２つのモノクローナル抗体および薬学的に許容される担体を含む、医薬組成物。
【請求項４】
凝固における遺伝的または後天的欠乏または欠損を処置するための請求項２または３に記載の医薬組成物。
【請求項５】
血友病Ａ、ＢまたはＣを処置するための、請求項４に記載の医薬組成物。
【請求項６】
出血時間を短縮するための請求項２または３に記載の医薬組成物。
【請求項７】
請求項１に記載の単離されたモノクローナル抗体であり、かつ、ヒト組織因子経路インヒビター（配列番号：１）のエピトープに結合する抗体をコードする、単離された核酸分子。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月13日(2017.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
網状シートの片面又は両面に、繊維集合体が、構成繊維どうしが絡合し且つ該構成繊維が前記網状シートとも絡合した状態で一体化している基材シートと、該基材シートに担持された洗浄液とを有し、
前記基材シートは、清掃面側に、巨視的な曲線部を有する凹凸パターンの凹凸を有し、前記凹凸パターンは、１ｃｍ2あたりの凹凸境界線の長さが１０ｍｍ以上で、凹部で囲まれた個々の凸部の面積が３００ｍｍ2以上であり、製造時の流れ方向又は構成繊維の主たる配向方向である第１方向、及び第１方向に直交する第２方向を有し、第１方向の長さが２８０ｍｍ、第２方向の長さが２００ｍｍの長方形状の領域内に、第２方向に延びる直線を想定したときに、前記凹凸パターンの凹部と重なる部分の合計長さが最大の最大直線の該合計長さと、前記凹凸パターンの凹部と重なる部分の合計長さが最小の最小直線の該合計長さとの差を、最大直線と最小直線との第１方向の最小距離で除した値が１０以上である、湿式清掃用シート。
【請求項２】
前記凹凸パターンは、平面方向に、前記凹部と該凹部によって分離された複数の前記凸部を有し、個々の前記凸部は、周囲を前記凹部に囲まれている、請求項１に記載の湿式清掃用シート。
【請求項３】
前記凹凸パターンは、複数の前記凸部として、相互に平面視形状が異なる複数種類の凸部を有している、請求項１又は２に記載の湿式清掃用シート。
【請求項４】
前記凹凸パターンは、複数の前記凸部として、点Ｐ１を中心とする円上に位置する３つの第１円弧及び該第１円弧どうし間に介在する逆向きに凸の３つの第２円弧とに囲まれた略三角形状の第１凸部と、前記点Ｐ１とは異なる点Ｐ２を中心とする円上に位置する一つの円弧、該円弧に対向する２つの円弧及び該２つの円弧間から前記点Ｐ２の方向に突出する略五角形部分を有する第２凸部とを有している、請求項１〜３の何れか１項に記載の湿式清掃用シート。
【請求項５】
前記凹凸パターンは、複数の凸部として、点Ｐ３を中心とする円形の第３凸部と、該第３凸部を囲むように配された円弧状の４つの第４凸部と、更にその外側に配された円弧状の４つの第５凸部とを有し、前記第３乃至第５凸部からなる円形凸部群が、前記第１方向及び前記第２方向にそれぞれ列を形成するように配置されている、請求項１〜３の何れか１項に記載の湿式清掃用シート。
【請求項６】
前記基材シートは、シート面内における繊維の交絡度合が不均一であり、前記シート面の１２０ｍｍ四方の領域を１２ｍｍ四方のブロック状の小領域に分割し、各小領域に対してテープストリッピング法試験を行ったときに、個々の小領域から抜ける繊維量の標準偏差が０．６ｍｇ以上である、請求項１〜５の何れか１項に記載の湿式清掃用シート。
【請求項７】
清掃面が平面視で長方形のヘッド部を備えた柄付き清掃用具における該ヘッド部に装着されて使用される湿式清掃用シートであって、前記第２方向を、該ヘッド部の清掃面の短辺に沿う方向に一致させ、前記第１方向を、該ヘッド部の清掃面の長辺に沿う方向に一致させて用いられる、請求項１〜６の何れか１項に記載の湿式清掃用シート。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか１項に記載の湿式清掃用シートの製造方法であって、
前記網状シートの片面又は両面に繊維集合体を有する帯状積層体を、平面視曲線状の帯状部を含むパターン形成用ネットを配した透水性支持部材上に導入し、該透水性支持部材とともに移動する帯状重ね合わせ体に対してジェット水流を吹き付け、該帯状積層体に、前記パターン形成用ネットの帯状部に対応する形状の凹部及び該パターン形成用ネットの開口部に対応する形状の凸部を形成して前記の基材シートを得る水流交絡工程を具備する、湿式清掃用シートの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月20日(2017.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２種類の被処理流動体を用いるものであり、
そのうちで少なくとも１種類の被処理流動体は、被析出物質を少なくとも１種類含む原料流体であり、
上記以外の被処理流動体で少なくとも１種類の被処理流動体は、上記被析出物質を析出させるための物質を少なくとも１種類含む析出流体であり、
上記の被処理流動体を、対向して配設された、接近・離反可能な、少なくとも一方が他方に対して相対的に回転する少なくとも２つの処理用面の間に出来る薄膜流体中で混合し、上記被析出物質を析出させる微粒子の製造方法において、
上記析出させた被析出物質が金属化合物であり、
異なる結晶子径の微粒子を作り分ける際に、
上記少なくとも２つの処理用面間に導入される上記析出流体に関する特定の条件を変化させることによって、上記被析出物質の結晶子径が大きくなるように制御するものであり、
上記特定の条件が、上記析出流体に含まれる少なくとも１種類の物質の種類と、上記析出流体のｐHとからなる群から選択された少なくとも１種であることを特徴とする、微粒子の製造方法。
【請求項２】
上記析出流体が、塩基性物質を含む塩基性水溶液であることを特徴とする、請求項１に記載の微粒子の製造方法。
【請求項３】
上記塩基性水溶液が、水酸化ナトリウム水溶液、アンモニア水溶液、炭酸水素カリウム水溶液とからなる群から選択された１種であることを特徴とする、請求項２に記載の微粒子の製造方法。
【請求項４】
上記特定の条件が、上記析出流体のｐＨが高くなるように変化させることを特徴とする、請求項１〜３の何れかに記載の微粒子の製造方法。
【請求項５】
上記原料流体は、硝酸酸化ジルコニウム二水和物と硝酸イットリウムとを純水に溶解させた金属塩の混合液であることを特徴とする、請求項１〜４の何れかに記載の微粒子の製造方法。
【請求項６】
上記被析出物質の粒子径を変化させず、上記被析出物質の結晶子径のみを変化させることを特徴とする、請求項１〜５の何れかに記載の微粒子の製造方法。
【請求項７】
少なくとも２種類の被処理流動体を用いるものであり、
そのうちで少なくとも１種類の被処理流動体は、被析出物質を少なくとも１種類含む原料流体であり、
上記以外の被処理流動体で少なくとも１種類の被処理流動体は、上記被析出物質を析出させるための物質を少なくとも１種類含む析出流体であり、
上記の被処理流動体を、対向して配設された、接近・離反可能な、少なくとも一方が他方に対して相対的に回転する少なくとも２つの処理用面の間に出来る薄膜流体中で混合し、上記被析出物質を析出させる微粒子の製造方法において、
上記析出させた被析出物質が金属単体であり、
異なる結晶子径の微粒子を作り分ける際に、
上記少なくとも２つの処理用面間に導入される上記析出流体に関する特定の条件を変化させることによって、上記被析出物質の粒子径を変化させず、上記被析出物質の結晶子径が大きくなるように制御するものであり、
上記特定の条件が、上記析出流体の導入速度であることを特徴とする、微粒子の製造方法。
【請求項８】
上記特定の条件が、上記析出流体の導入速度を上げるように変化させることであることを特徴とする、請求項７に記載の微粒子の製造方法。
【請求項９】
上記析出流体は、ヒドラジン一水和物をエチレングリコールに溶解させた還元剤溶液であることを特徴とする、請求項７又は８に記載の微粒子の製造方法。
【請求項１０】
上記析出流体は、塩化銅（無水）をエチレングリコールに溶解させた金属塩溶液であることを特徴とする、請求項７〜９の何れかに記載の微粒子の製造方法。
【請求項１１】
少なくとも２種類の被処理流動体を用いるものであり、
そのうちで少なくとも１種類の被処理流動体は、被析出物質を少なくとも１種類含む原料流体であり、
上記以外の被処理流動体で少なくとも１種類の被処理流動体は、上記被析出物質を析出させるための物質を少なくとも１種類含む析出流体であり、
上記の被処理流動体を、対向して配設された、接近・離反可能な、少なくとも一方が他方に対して相対的に回転する少なくとも２つの処理用面の間に出来る薄膜流体中で混合し、上記被析出物質を析出させる微粒子の製造方法において、
異なる結晶子径の微粒子を作り分ける際に、
上記少なくとも２つの処理用面間に導入される上記原料流体と上記析出流体との少なくとも何れか一方に関する特定の条件を変化させることによって、上記被析出物質の粒子径を変化させず、被析出物質の結晶子径が大きくなるように制御するものであり、
上記特定の条件が、上記原料流体と上記析出流体とのうちの少なくともいずれか一方のｐＨと、上記原料流体と上記析出流体とのうちの少なくともいずれか一方の導入速度とからなる群から選択された少なくとも１種である事を特徴とする、微粒子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月2日(2017.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
孔によって形成された内周部を含む第１部材と、
前記第１部材の前記内周部に嵌め込まれる外周部を含む第２部材と、
を備え、
少なくとも、前記第１部材の前記内周部の一部に形成される内周凹部又は前記第２部材の前記外周部の一部に形成される外周凹部のうち、いずれか１つが形成され、
前記第１部材と前記第２部材との間で、前記内周凹部又は前記外周凹部が対応する位置に表面から裏面へ貫通するスリットが形成され、
前記内周凹部のうち前記内周部から最も離れた外側の外側面又は前記外周凹部のうち前記外周部から最も離れた内側の内側面は、前記第２部材が前記第１部材に嵌め込まれる方向と交差する
加工品。
【請求項２】
前記外側面又は前記内側面は、前記嵌め込まれる方向に対して傾斜する
請求項１に記載の加工品。
【請求項３】
前記外側面と前記内側面は、対向して形成される
請求項１又は２に記載の加工品。
【請求項４】
前記外側面と前記内側面は、平行に形成される
請求項３に記載の加工品。
【請求項５】
前記第１部材と前記第２部材は、プレス加工によって嵌め込まれ、
前記内周凹部と前記外周凹部は、プレス加工によって形成される
請求項１乃至４のいずれか１つに記載の加工品。
【請求項６】
材料から第１部材の一部をプレスして、内周部を形成するステップと、
前記内周部の一部をプレスして、内周凹部を形成するステップと、
前記材料から外周部が形成されるように第２部材をプレスして、前記第２部材を保持するステップと、
前記内周凹部によって表面から裏面へ貫通するスリットが形成されるように、前記第２部材をプレスして、前記第２部材の前記外周部を前記第１部材の前記内周部に嵌め込むステップと、
を有する
プレス加工方法。
【請求項７】
材料から第１部材の一部をプレスして、内周部を形成するステップと、
前記材料の対応する位置をプレスして、外周凹部を形成するステップと、
前記材料から前記外周凹部を含む外周部が形成されるように、第２部材をプレスして、前記第２部材を保持するステップと、
前記外周凹部によって表面から裏面へ貫通するスリットが形成されるように、前記第２部材をプレスして、前記第２部材の前記外周部を前記第１部材の前記内周部に嵌め込むステップと、
を有する
プレス加工方法。
【請求項８】
材料から第１部材の一部をプレスして、内周部を形成するステップと、
前記内周部の一部をプレスして、内周凹部を形成するステップと、
前記材料の対応する位置をプレスして、外周凹部を形成するステップと、
前記材料から前記外周凹部を含む外周部が形成されるように、第２部材をプレスして、前記第２部材を保持するステップと、
前記内周凹部及び前記外周凹部によって表面から裏面へ貫通するスリットが形成されるように、前記第２部材をプレスして、前記第２部材の前記外周部を前記第１部材の前記内周部に嵌め込むステップと、
を有する
プレス加工方法。
【請求項９】
前記内周凹部のうち前記内周部から最も離れた外側の外側面又は前記外周凹部のうち前記外周部から最も離れた内側の内側面は、前記第２部材が前記第１部材に嵌め込まれる方向と交差する
請求項６乃至８のいずれか１つに記載のプレス加工方法。
【請求項１０】
前記外側面又は前記内側面は、前記嵌め込まれる方向に対して傾斜する
請求項９に記載のプレス加工方法。
【請求項１１】
前記外側面と前記内側面は、対向して形成される
請求項９又は１０に記載のプレス加工方法。
【請求項１２】
前記外側面と前記内側面は、平行に形成される
請求項１１に記載のプレス加工方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月19日(2017.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球が流下する遊技領域が設けられた遊技盤と、
前記遊技領域に設けられ遊技球が進入可能な始動領域と、
前記始動領域に遊技球が進入したことを条件として、遊技者に有利な遊技利益を付与するか否かを決定する抽選手段と、
前記抽選手段によって抽選結果が導出されると、当該抽選結果を報知するための変動演出の態様を決定する変動演出態様決定手段と、
前記変動演出態様決定手段の決定にしたがって、変動演出画像を画像表示部に表示制御する変動演出画像表示制御手段と、
前記抽選手段によって前記遊技利益を付与する抽選結果が導出され、当該抽選結果が前記変動演出画像によって報知された場合に、当該遊技利益を付与する遊技利益付与手段と、を備え、
前記変動演出態様決定手段によって決定される前記変動演出の態様には、前記抽選結果に応じた発展先の演出内容を示唆する画像として予め設けられた複数種類の選択画像の中からいずれか１または複数の選択画像が前記画像表示部に表示される表示演出が１回もしくは複数回繰り返して行われた後に、当該表示演出によって前記画像表示部に表示された選択画像の中から、実行が決定されている第２演出の演出画像に対応する選択画像が自動的に選択されて表示される第１演出が実行され、当該第１演出の実行後、当該第１演出において前記画像表示部に選択表示された選択画像に対応する演出画像が前記画像表示部に表示される第２演出が実行される特定演出が含まれていることを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月3日(2017.11.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球が流下する遊技領域と、
所定の発射位置から前記遊技領域に向けて遊技球を発射する球発射装置と、
前記発射位置から発射されたものの前記遊技領域に到達しなかった遊技球を所定の返却口を通して遊技者に返却する発射球返却部と、
遊技球に付された線材の機前からの操作を防止し得る不正防止部と、を備え、
前記不正防止部は、遊技球に付された線材を切断又は挟止するものであり、
前記発射位置から発射されたものの前記遊技領域に到達しなかった遊技球が通過する返却経路に前記不正防止部を設けたことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、上記に鑑みなされたもので、その目的は不正行為の抑止力を高めた遊技機を提供することにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の遊技機は、
遊技球が流下する遊技領域と、
所定の発射位置から前記遊技領域に向けて遊技球を発射する球発射装置と、
前記発射位置から発射されたものの前記遊技領域に到達しなかった遊技球を所定の返却口を通して遊技者に返却する発射球返却部と、
遊技球に付された線材の機前からの操作を防止し得る不正防止部と、を備え、
前記不正防止部は、遊技球に付された線材を切断又は挟止するものであり、
前記発射位置から発射されたものの前記遊技領域に到達しなかった遊技球が通過する返却経路に前記不正防止部を設けたことを特徴とする。
かかる遊技機によれば、遊技球に付された線材が、返却経路に設けた不正防止部で切断又は挟止されてその遊技球を操ることができなくなるため、返却経路を利用した不正行為を抑止することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明によれば、不正行為の抑止力を高めた遊技機を提供できる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月21日(2017.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球を発射する遊技球発射装置と、その遊技球発射装置により発射される遊技球が流下する遊技領域を形成する遊技盤と、その遊技盤の盤面に配置され前記遊技球発射装置により発射された遊技球を案内面に沿って前記遊技領域に案内する帯状の案内部とを備える遊技機において、
前記遊技盤の盤面に固定される案内部補強部材を備え、
その案内部補強部材は、前記遊技盤の盤面に窪み状に形成された孔部に嵌合する嵌合凸部と、
その嵌合凸部の基端側から配設され、前記案内部の案内面の反対面側に接触する反対面側接触部とを備え、
前記嵌合凸部は、外周面の一部が窪み状に形成された凹部を備え、
その凹部は、前記嵌合凸部の先端から基端に向けて形成され、
前記案内部補強部材は、前記嵌合凸部の軸方向からみた前記凹部と前記嵌合凸部の軸中心とを通る方向が、近接する前記案内部の長手方向と非平行であり、
前記反対面側接触部は、前記案内部に接触する側の面が前記案内部に沿うように形成されていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記遊技球発射装置側へ遊技球を導くための導入手段を備えることを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
しかしながら上述したような遊技機では、遊技領域へ案内される遊技球の軌道や飛距離が不安定になるという問題が生じ得る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記例示した問題点等を解決するためになされたものであり、遊技領域へ案内される遊技球の軌道や飛距離を安定させることができる遊技機を提供することを目的としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この目的を達成するために本発明の遊技機は、遊技球を発射する遊技球発射装置と、その遊技球発射装置により発射される遊技球が流下する遊技領域を形成する遊技盤と、その遊技盤の盤面に配置され前記遊技球発射装置により発射された遊技球を案内面に沿って前記遊技領域に案内する帯状の案内部とを備える遊技機において、前記遊技盤の盤面に固定される案内部補強部材を備え、その案内部補強部材は、前記遊技盤の盤面に窪み状に形成された孔部に嵌合する嵌合凸部と、その嵌合凸部の基端側から配設され、前記案内部の案内面の反対面側に接触する反対面側接触部とを備え、前記嵌合凸部は、外周面の一部が窪み状に形成された凹部を備え、その凹部は、前記嵌合凸部の先端から基端に向けて形成され、前記案内部補強部材は、前記嵌合凸部の軸方向からみた前記凹部と前記嵌合凸部の軸中心とを通る方向が、近接する前記案内部の長手方向と非平行であり、前記反対面側接触部は、前記案内部に接触する側の面が前記案内部に沿うように形成されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明によれば、遊技領域へ案内される遊技球の軌道や飛距離を安定させることができる効果がある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０７】
１，２０１，３０１，４０１  パチンコ機（遊技機）
６                          上皿（導入手段に相当）
２１                        遊技球発射装置
４３ａ                      図柄表示装置
３０，１３０，２１０        遊技盤
３１                        外レール部（案内部）
３１ｃ                      案内面
５０，８０，９０            案内部補強部材
５２                        反対面側突設部（反対面側接触部）
５５，８５，９５            嵌合凸部
５６，８６，９６            凹部
６９                        孔部
１３１                      連結部
１３２                      光散乱部
１６１，２１１              開口部
１７０，１９０，２２０，２３０，２４０  構造物
１７３                      図柄表示部（飾り部）
１８１                      発光部
１９２                      回転体（飾り部の一部、可動演出部材）
１９６                      モータ（駆動部）
ＰＥ                        遊技領域
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月25日(2017.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
［解決手段１］に係る遊技機は、上記課題を解決するために、
演出制御を行う周辺制御基板と、
前記周辺制御基板から送信された制御データに基づいて、演出部を制御する制御基板と、を備え、
前記周辺制御基板と前記制御基板とが、制御データを通信接続するために接続され、
前記周辺制御基板は、前記制御基板に前記制御データを出力する制御データ出力手段を有し、
前記制御基板は、それぞれに接続されているモータを制御する複数のドライバ回路部を備え、
前記複数のドライバ回路部によって駆動される前記モータのそれぞれは、駆動源用電源ラインを通じて駆動源用電源が供給され、かつそれぞれ、所定の作動電源が供給される作動電源ラインと前記駆動源用電源ラインとの間がヒューズで接続されている
ことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
演出制御を行う周辺制御基板と、
前記周辺制御基板から送信された制御データに基づいて、演出部を制御する制御基板と、を備え、
前記周辺制御基板と前記制御基板とが、制御データを通信接続するために接続され、
前記周辺制御基板は、前記制御基板に前記制御データを出力する制御データ出力手段を有し、
前記制御基板は、それぞれに接続されているモータを制御する複数のドライバ回路部を備え、
前記複数のドライバ回路部によって駆動される前記モータのそれぞれは、駆動源用電源ラインを通じて駆動源用電源が供給され、かつそれぞれ、所定の作動電源が供給される作動電源ラインと前記駆動源用電源ラインとの間がヒューズで接続されている
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月19日(2017.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子であって、（０００１）配向ＳｉＣ基板上に配置された炭化ケイ素（ＳｉＣ）ドリフト層を備え、前記ＳｉＣドリフト層が、前記半導体素子のチャネル長に対して平行に配向された複数の反復トレンチ形状を含む非平面の表面を含み、前記チャネルが、前記ＳｉＣドリフト層の特定の結晶面に配置された、半導体素子。
【請求項２】
前記ＳｉＣドリフト層の前記非平面の表面の少なくとも一部に一致して配置された非平面ウェル領域を、さらに備えた、請求項１に記載の素子。
【請求項３】
前記反復トレンチ形状の深さは、前記ＳｉＣドリフト層の厚さの約１０％以下である、請求項２に記載の素子。
【請求項４】
少なくとも、前記ＳｉＣドリフト層の一部及び前記ウェル領域の一部に一致して配置された非平面誘電層と、
前記非平面誘電層の少なくとも一部に一致して配置された非平面ゲートと、
をさらに備えた、請求項２に記載の素子。
【請求項５】
前記反復トレンチ形状は、三角形のピーク、バレーおよび傾斜側壁を含む三角形状のトレンチを有する三角形の形状を含む、請求項１に記載の素子。
【請求項６】
ａを前記の反復する三角形の形状の辺の長さとし、ｂを前記の反復する三角形の形状の底辺の長さ又は前記の反復する三角形の形状のピッチとした場合、前記の反復する三角形の形状により、約２ａ／ｂに等しく前記チャネルの幅が広がる、請求項５に記載の素子。
【請求項７】
前記結晶面は、前記ＳｉＣドリフト層の
【数１】
2015015464.tif 000001
面である、請求項５に記載の素子。
【請求項８】
前記反復トレンチ形状は、矩形ピーク形状を含む、請求項１に記載の素子。
【請求項９】
ａを前記の反復する矩形形状の高さとし、ｂを前記の反復する矩形形状のピッチとした場合、前記の反復する矩形形状により、約（２ａ＋ｂ）／ｂに等しく前記チャネルの幅が広がる、請求項８に記載の素子。
【請求項１０】
前記結晶面は、前記ＳｉＣドリフト層の
【数２】
2015015464.tif 000002
面である、請求項８に記載の素子。
【請求項１１】
前記結晶面は、前記ＳｉＣドリフト層の
【数３】
2015015464.tif 000003
面である、請求項８記載の素子。
【請求項１２】
前記複数の反復トレンチ形状の間の各領域は、前記ＳｉＣドリフト層の他の部分のドーパント濃度よりも高いドーパント濃度を有する、請求項１に記載の素子。
【請求項１３】
前記反復トレンチ形状の間の領域の前記ドーパント濃度は、ほぼ、前記ＳｉＣドリフト層の臨界電界の２倍を前記反復形状の幅で除した値以下である、請求項１２に記載の素子。
【請求項１４】
前記半導体素子は、三角形状、矩形状又はハニカムセル状設計を有するセル状半導体素子である、請求項１に記載の素子。
【請求項１５】
前記半導体素子は、ハニカムセル状設計を有するセル状半導体素子であり、前記チャネルは、前記ＳｉＣドリフト層の
【数４】
2015015464.tif 000004
面に沿って配列された、請求項１４に記載の素子。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月16日(2017.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上に第１の酸化物層と、
前記第１の酸化物層上に酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上に第２の酸化物層と、
前記第２の酸化物層上に絶縁層と、
前記絶縁層上にゲート電極層と、
前記ゲート電極層上に保護絶縁層と、を有し、
前記酸化物半導体層は、前記ゲート電極層と重なるチャネル形成領域と、該チャネル形成領域よりも低抵抗な領域である低抵抗領域とを有し、
前記保護絶縁層は、前記低抵抗領域の上面及び側面と接し、
前記チャネル形成領域と前記低抵抗領域は組成が異なることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
半導体基板上に第１の保護絶縁層と、
前記第１の保護絶縁層上に第１の酸化物層と、
前記第１の酸化物層上に酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上に第２の酸化物層と、
前記第２の酸化物層上に絶縁層と、
前記絶縁層上にゲート電極層と、
前記ゲート電極層上に第２の保護絶縁層と、を有し、
前記酸化物半導体層は、前記ゲート電極層と重なるチャネル形成領域と、該チャネル形成領域よりも低抵抗な領域である低抵抗領域とを有し、
前記第２の保護絶縁層は、前記低抵抗領域の上面及び側面と接し、
前記第２の保護絶縁層は、前記第１の保護絶縁層と接する領域を有し、
前記チャネル形成領域と前記低抵抗領域は組成が異なることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
半導体基板上に酸化アルミニウムを含む第１の保護絶縁層と、
前記第１の保護絶縁層上に第１の酸化物層と、
前記第１の酸化物層上に酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上に第２の酸化物層と、
前記第２の酸化物層上に絶縁層と、
前記絶縁層上にゲート電極層と、
前記ゲート電極層上に酸化アルミニウムを含む第２の保護絶縁層と、を有し、
前記酸化物半導体層は、前記ゲート電極層と重なるチャネル形成領域と、該チャネル形成領域よりも低抵抗な領域である低抵抗領域とを有し、
前記第２の保護絶縁層は、前記第１の酸化物層の側面、前記低抵抗領域の上面及び側面、前記第２の酸化物層の側面、及び前記絶縁層の側面と接し、
前記第２の保護絶縁層は、前記第１の保護絶縁層と接する領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記低抵抗領域は、アルミニウムを含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記低抵抗領域は、前記ゲート電極層を利用して自己整合的に設けられることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記チャネル形成領域のチャネル長は、１００ｎｍ以下であることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、
前記チャネル形成領域のチャネル幅は、１００ｎｍ以下であることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記第１の酸化物層、前記酸化物半導体層、及び前記第２の酸化物層は、Ｉｎ−Ｍ−Ｚｎ酸化物（ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、ＮｄまたはＨｆ）であり、
前記第１の酸化物層および前記第２の酸化物層は、Ｉｎに対するＭの原子数比が前記酸化物半導体層よりも大きいことを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月25日(2017.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上の第１の酸化物半導体膜と、
前記第１の酸化物半導体膜上の第２の酸化物半導体膜と、
前記絶縁表面の上面、前記第１の酸化物半導体膜の側面、前記第２の酸化物半導体膜の側面および前記第２の酸化物半導体膜の上面と接する第３の酸化物半導体膜と、
第３の酸化物半導体膜上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上で接し、前記第２の酸化物半導体膜の上面および側面に面するゲート電極と、を有し、
前記第１の酸化物半導体膜の厚さが、前記第３の酸化物半導体膜の厚さおよび前記ゲート絶縁膜の厚さの合計よりも大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第３の酸化物半導体膜は、結晶領域を含む第１の層、および前記第１の層上の結晶領域を含む第２の層を有し、
前記第１の層に含まれる結晶は、特定の結晶方位に対して配向性を有さず、
前記第２の層に含まれる結晶は、前記第２の層の上面の法線ベクトルに対してｃ軸が平行方向に配向することを特徴とする半導体装置。