(57)【要約】  本発明は、物質を、好ましくは、加熱、調理、乾燥、消毒および／または低温殺菌、および滅菌する処理装置に関する。更に、本発明は、物質を高周波数によって処理する方法に関する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
物質を、好ましくは、加熱、乾燥、消毒、低温殺菌、および／または滅菌する処理装置であって、少なくとも１つ、好ましくは、多数のソリッドステート高周波源（２）を備えることを特徴とする、処理装置。
【請求項２】
前記ソリッドステート高周波源（２）は、ｎ行およびｍ列のアレイで設けられ、ｎは１よりも大きい整数であり、ｍは１と等しいかまたはそれよりも大きい整数であることを特徴とする、請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記源（２）は、製品チャンバ（１４）の周囲に等距離に配置されることを特徴とする、請求項１または２に記載の処理装置。
【請求項４】
互に離間した入口および出口を有する、請求項１〜３の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項５】
前記ソリッドステート高周波源（２）を通過するように前記物質を移送する手段（２２）を備えることを特徴とする、請求項１〜４の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項６】
前記物質は、前記ソリッドステート高周波源（２）、好ましくは、ソリッドステート高周波源（２）のアレイの近傍に配置される一回処理分として供給されることを特徴とする、請求項１〜３の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項７】
前記ソリッドステート高周波源（２）を制御する制御システムを備えることを特徴とする、請求項１〜６の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項８】
食料塊の少なくとも１つの特性および／または前記食料塊から反射される放射線の１つの特性を測定するセンサを備え、前記センサの信号は、好ましくは、前記制御システムによって利用されることを特徴とする、請求項１〜７の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項９】
食品製造ラインの一部であることを特徴とする、請求項１〜８の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項１０】
ホッパ（３）の下流に設けられることを特徴とする、請求項１〜９の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項１１】
成形機および／または衣付け装置と一緒に設けられることを特徴とする、請求項１〜１０の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項１２】
１つまたは複数の弁（１９）によって少なくとも部分的に隔離されることを特徴とする、処理装置。
【請求項１３】
高周波によって物質を処理する方法であって、前記高周波は、１つまたは複数の高周波源（２）によって供給されることを特徴とする、方法。
【請求項１４】
前記物質は、入口（２１）から前記入口（２１）から離間した出口（２０）に移送されることを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記物質は、連続的および／または間欠的に移送されることを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記物質の１つまたは複数の特性および／または前記物質から反射される放射線を測定する１つまたは複数のセンサ（１７）、好ましくは、前記ソリッドステートＲＦエネルギー源（２）の前記アンテナ（１７）が設けられることを特徴とする、請求項１３〜１５の何れか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記センサの信号は、前記ソリッドステート高周波源（２）を制御するために利用されることを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記物質は、加熱、乾燥、消毒および／または低温殺菌、滅菌および／または殺処理されることを特徴とする、請求項１３〜１７の何れか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記物質は、昆虫の少なくとも一部または昆虫の混合物を含む請求項１８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、物質を、好ましくは、加熱、調理、乾燥、消毒および／または低温殺菌、および滅菌する処理装置に関する。更に、本発明は、物質を高周波によって処理する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
マイクロ波放射線を製品内に通すことによって製品を処理する方法は、家庭用途および工業用途の両方において普及している。従来の電子レンジは、例えば、マイクロ波エネルギーを生成するマグネトロンを備えている。しかし、マイクロ波がマグネトロンによって長時間にわたって生成される工業用途では、望ましくない熱進展が生じ、および／またはこのプロセスは、十分に制御可能ではない。加えて、望ましくない高温箇所が生じる可能性がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
それ故、本発明の目的は、先行技術の欠点を含まない処理装置および方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題は、物質を、好ましくは、加熱、調理、乾燥、消毒および／または低温殺菌、および滅菌する処理装置であって、少なくとも１つ、好ましくは、多数のソリッドステート高周波源を備えることを特徴とする、処理装置によって達成される。
【０００５】
本発明のこの主題に関してなされる開示は、他の発明にも適用され、その逆も同様である。また、本発明に関して開示される主題は、本出願の他の発明の主題と組み合わされてもよい。
【０００６】
本発明は、ＲＦ電力増幅器におけるソリッドステート高周波（ＲＦ）−トランジスタを有する処理装置に関する。高周波電力増幅器は、低周波電力信号を高周波電力信号に変換する電子増幅器である。典型的に、ＲＦ電力増幅器は、トランジスタのアンテナを駆動する。アンテナは、導波管に連結され、および／または導波管内に配置され、アンテナは、マイクロ波を導波管内に放射するようになっているとよい。導波管は、好ましくは、反射材料から設計され、マイクロ波を所望の位置、例えば、処理される製品が位置する製品チャンバ内に案内することができる。マグネトロンと比較して、ソリッドステートＲＦエネルギー技術は、低電圧駆動、半導体の信頼性、および先進的な制御システムに起因する低エネルギー消費をもたらすという利点を有している。本発明の装置は、例えば、物質を加熱、調理、乾燥、消毒、低温殺菌、および／または滅菌するために用いることができる。物質は、好ましくは、人および／または動物が消費するための食料品、特に、タンパク質含有食品、特に、食肉である。食肉は、骨付き肉、筋肉、および／または挽肉とすることができる。また、食品は、魚および／または生地であってもよい。
【０００７】
また、物質は、昆虫の少なくとも一部または昆虫の混合物であってもよい。これらの昆虫は、好ましくは、生きたまま本発明の装置またはラインに供給され、マイクロ波放射線によって殺処理される。
【０００８】
本発明の好ましい実施形態によれば、本発明の装置は、１つのみならず多数のソリッドステート高周波源を備えている。これは、１つまたは複数のアンテナおよび／または１つまたは複数の導波管を用いることによって達成される。各高周波源は、好ましくは、個々に作動される。各高周波源は、好ましくは、制御され、更に好ましくは、閉ループ制御されるとよい。放射の波長、振幅、および／または方向が制御可能である。
【０００９】
ソリッドステート高周波源は、好ましくは、ｎ行およびｍ列の配列で設けられ、ｎは１よりも大きい整数であり、ｍは１と等しいかまたはそれよりも大きい整数である。好ましくは、一列におけるそれぞれのソリッドステート高周波は、等距離に配置され、および／またはそれぞれの列も等距離に配置される。多数の源の場合、これらの源は、不規則に配置されていてもよい。
【００１０】
好ましくは、ソリッドステート高周波源は、製品チャンバの周囲に等距離に配置される。このチャンバ内において、処理される食品は、この製品チャンバ内に配置されるかまたはこの製品チャンバを通って移送される。
【００１１】
好ましい実施形態によれば、処理装置は、互いに離間した入口および出口を備えている。物質、好ましくは、食物質は、入口を通って装置、好ましくは、製品チャンバに入り、装置／製品チャンバ内を通り、次いで、入口と異なる出口を通って装置／製品チャンバから出るようになっている。
【００１２】
好ましくは、本発明の処理装置は、物質をソリッドステート高周波源を通り過ぎるように移送する手段を備えている。これらの手段は、チューブおよびチューブを通して物質を送給するポンプとすることができる。チューブは、ここでは、製品チャンバである。好ましくは、チューブは、ＲＦ放射線に対して少なくとも部分的に伝達可能、好ましくは、透過性である材料から少なくとも部分的に作製される。チューブは、例えば、プラスチック材料、好ましくは、食品グレードを満たすプラスチック材料から作製可能である。ポンプは、好ましくは、物質をＲＦ源を通り過ぎる連続的または半連続的な流れとして送給するものである。製品をポンプ送給する速度は、好ましくは、調整可能であり、これによって、製品チャンバ内の滞留時間を変更することができる。また、この手段は、コンベヤ、例えば、ベルト、好ましくは、エンドレスベルトまたはエンドレスチェーンとすることができ、該チェーンは、好ましくは、金属材料から作製されないようになっている。コンベヤは、好ましくは、少なくとも部分的にＲＦ放射を伝達可能である。このコンベヤは、好ましくは、食品を個々の部分としてソリッドステート高周波源を通過するように移送する。製品は、好ましくは、コンベヤによって連続的または間欠的に移送される。コンベヤの速度は、好ましくは、調整可能であり、これによって、製品チャンバ内の滞留時間を変更することができる。
【００１３】
本発明の他の好ましい実施形態によれば、物質が、ソリッドステート高周波源、好ましくは、ソリッドステート高周波源のアレイの近傍に配置される一回処理分として供給される。この一回処理分は、例えば、物質が収容されたバケット、ボウル、等とすることができる。ソリッドステート高周波は、例えば、食品がソリッドステート高周波源の近傍に配置された後該食品に向かって移動するようになっていてもよい。ソリッドステート高周波源の少なくとも一部は、遠隔位置と操作位置との間で往復運動可能な本発明のフレームに固定可能である。遠隔位置において、一回処理分の物質は、装置内またはその近くに配置され、次いで、ソリッドステート高周波源がそれらの操作位置に移動されるようになっていてもよい。
【００１４】
好ましくは、処理装置は、ソリッドステート高周波源を制御する制御システムを備えている。制御システムは、好ましくは、１つまたは複数のセンサを備え、その信号は、１つまたは複数の高周波源を、好ましくは、個々におよび／または互いに関連させて制御するために用いられるとよい。例えば、塊をチューブを通してポンプ送給する用途では、塊の徐熱は、電磁場を制御することによって、具体的には、電力レベル、周波数、および／または位相対時間を、例えば、製品チャンバ内または製品内の均一なエネルギー分布が達成されるような精度で制御することによって、達成することができる。ＲＦエネルギー負荷は、処理プロセスの進展に適合されるようになっていてもよい。例えば、調理中、ＲＦエネルギー負荷は、変更されてもよい。この負荷の変更は、例えば、反射エネルギーを測定することによって、アンテナを介して検出可能である。制御システムは、アンテナを介して伝達されたエネルギーを反射エネルギーと比較し、その結果、アンテナによって伝達されるべきエネルギーを調整することになる。各ソリッドステートＲＦエネルギー源において、振幅、周波数、および／または位相は、個々におよび／またはグループで制御可能である。アンテナは、例えば、処理される物質から反射される放射線を検出するために、センサとして機能してもよい。
【００１５】
センサは、物質の１つまたは複数の特性、例えば、その温度および／または物質によって吸収されたエネルギーを検出することができる。１つのセンサは、どのような種類の放射線が物質から反射されたか、例えば、物質から反射された放射線の波長を測定することができる。物質がＲＦ放射線による処理中に移送される場合、移送経路に沿って多数のセンサが配置されるとよい。センサの局部的な測定値を用いて、対応する局部的なソリッドステート高周波源および／または該センサの上流および／または下流のソリッドステート高周波源を制御することができる。
【００１６】
本発明の処理装置は、好ましくは、１つまたは複数の処理ステーション、例えば、切断または粉挽きステーション、成形ステーション、衣付けステーション、および／またはマリネ漬けステーションを備える食品製造ラインの一部である。これらのステーションは、コンベヤと組み合わされてもよい。好ましくは、物質は、入口からラインに入り、次いで、最終的にラインを出るまで、該ラインの全てのステーションを順次通過することになる。
【００１７】
それ故、本発明の他の好ましいまたは独創的な実施形態は、本発明の装置を備える製造ライン、特に、食品製造ラインである。
【００１８】
好ましくは、本発明の装置は、例えば、一回処理分の食材を貯蔵するホッパの下流に配置される。
【００１９】
他の好ましい実施形態によれば、本発明の装置は、好ましくは、１つのラインにおいて成形機および／または衣付け装置と一緒に設けられる。
【００２０】
好ましくは、本発明の処理装置では、特に、放射線は、１つまたは複数の弁によって少なくとも部分的に周囲の空気から隔離される。食品は、例えば、コンベヤによって、装置に入る。次いで、コンベヤが停止し、好ましくは、コンベヤの入口および出口においてゲートのような弁が閉じられ、これによって、放射線が全くまたは殆ど装置から周囲に漏れないことになる。ＲＦ処理後、弁／ゲートは、再び開けられ、処理された製品が装置を出て、好ましくは、同時に未処理の製品が装置に入る。
【００２１】
また、上記の課題は、物質を高周波によって処理する方法であって、高周波は、１つまたは複数のソリッドステート高周波源によって供給される、方法によって解消される。
【００２２】
本発明のこの主題に関してなされる開示は、他の発明にも適用され、その逆も同様である。また、本発明に関して開示される主題は、本出願の他の発明の主題と組み合わされてもよい。
【００２３】
処理される物質は、食物質、例えば、食肉、魚、または生地とすることができる。また、物質は、例えば、ＲＦ放射線によって殺処理される昆虫であってもよい。
【００２４】
好ましくは、物質は、処理装置の入口から同じ装置の入口から離間した出口に移送される。
【００２５】
物質は、連続的に移送されてもよいし、または間欠的に移送されてもよい。物質は、紐状に連なったものとして移送されてもよいし、または個々の部分として移送されてもよい。
【００２６】
好ましくは、食品の１つまたは複数の特性および／または食品から反射される放射線を測定する１つまたは複数のセンサが設けられる。食品の特性は、好ましくは、ＲＦ放射線によって処理中に少なくとも２回測定される。特性の変化が決定され、その決定された値がソリッドステート高周波源を制御する時に考慮されるとよい。
【００２７】
好ましくは、物質は、加熱、調理、乾燥、消毒および／または低温殺菌、および滅菌されるようになっている。
【００２８】
トランジスタ技術は、強力なＲＦ場を生成する。好ましくは、多数のＲＦ源が用いられる。これらの源は、個別に、好ましくは、互いに関して制御可能である。例えば、塊をチューブを通してポンプ送給する用途では、物質の徐熱は、電磁場を制御することによって、具体的には、電力レベル、周波数、および位相対時間を均一なエネルギー分布が達成される精度で制御することによって、達成することができる。一般的に、製品、塊、製品流れ、または塊流れのある箇所における負荷が変動した場合、制御装置は、負荷変動の悪影響を矯正するために、該箇所の特定のパラメータを制御することができる。例えば、調理中に負荷が常時変化する場合、この負荷の変化は、反射エネルギーを測定することによってアンテナを介して検出される。制御システムは、アンテナを介して伝達されたエネルギーを反射エネルギーと比較し、その結果、アンテナによって伝達されるべきエネルギーを調整することができる。例えば、もし製品チャンバ内に負荷が存在しない場合、エネルギーが吸収されず、アンテナは、反射エネルギーを受信し、制御ユニットが製品チャンバへの新しいエネルギーの伝達を停止することになる。ソリッドステートＲＦエネルギーの場合、振幅、周波数、および位相を個々のアンテナごとに制御することができる。加熱される製品のある特定の箇所における熱需要への迅速な応答に基づくこのような最新のエネルギー管理システムは、内部の構成要素の損傷を防ぎ、不均一なエネルギー分布による制御されない製品処理を防ぐことになる。エネルギー損失を生じないエネルギーの効率的な使用によって、ソリッドステートＲＦエネルギー源は、処理される製品の歩留まりを高めることになる。
【００２９】
以下、図面に基づき、本発明について説明する。この説明は、本発明の全ての実施形態に適用される。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１ａ．１ｂ】本発明の第１の実施形態を示す図である。
【図１ｃ．１ｄ】本発明の第１の実施形態を示す図である。
【図２ａ．２ｂ】本発明の第２の実施形態を示す図である。
【図３ａ．３ｂ】本発明の第３の実施形態を示す図である。
【図４ａ．４ｂ】本発明の第４の実施形態を示す図である。
【図５ａ−５ｄ】ホッパーおよび本発明の装置を有するラインを示す図である。
【図６ａ−６ｄ】１つまたは複数の弁を有する本発明の装置を示す図である。
【図７ａ−７ｃ】コンベヤと組み合わされた本発明の装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
ソリッドステートＲＦ励磁マイクロ波装置の第１の実施形態が、図１ａに示されている。このマイクロ波装置は、１つ、好ましくは、多数のソリッドステートＲＦ源２を備えている。とりわけ、各ソリッドステートＲＦ源２は、導波管１６および／またはアンテナ１７を備えている。この実施形態では、本発明の装置は、製品チャンバ１４の周囲に、好ましくは、等距離に設けられた多数のソリッドステートＲＦ源２を備えている。周方向におけるＲＦ源の数は、（例えば、単位時間当たりの温度上昇によって表される）製品を均一に加熱するマイクロ波の効率に依存する。この実施形態では、ソリッドステートＲＦ源２が位置するチャンバ１５および処理／加熱される製品が配置される製品チャンバ１４は、全く同一のチャンバであり、ハウジング８によって画定されている。ハウジングは、電磁波がハウジングから漏れるのを防ぐファラディケージと同様のものとすることができる。ハウジング８の少なくとも内壁９、好ましくは、ハウジング８の全体が鋼、例えば、ステンレス鋼によって作製されているとよい。コンベヤ手段１０、例えば、コンベヤベルトが、ハウジング８内に配置され、製品１１、例えば、成形された食品をハウジング８を通って移送させるようになっている。しかし、一回処理分の製品を製品チャンバ内に配置し、該一回処理分の製品をＲＦ放射によって処理し、処理が終了したなら、該一回処理分の製品を取り出すことも可能である。一回処理分の配置は、モータ手段によって行われてもよい。図１ｂは、正方形設計のハウジング８を示している。図１ｃは、図１ａの代替的実施形態であり、図１ｄは、図１ｂの代替的実施形態である。これらの代替実施形態は、いずれも、製品１１の遊離粒子がソリッドステートＲＦ源に接触するのを防ぐために、好ましくは、マイクロ波透過性インサート１２を備えている。この代替実施形態では、遮蔽手段は、円形に設計され、ハウジング８の内壁９と共半径を有している。遮蔽手段の設計は、この設計に制限されるものではなく、例えば、平坦な遮蔽手段も可能であるが、衛生上の理由から好ましくない。それ以外の点に関しては、図１ａおよび図１ｂに関する説明を参照されたい。
【００３２】
図２ａ，２ｂは、本発明の第２の実施形態を示している。この実施形態では、図１ａ，１ｂの実施形態と対照的に、マイクロ波チューブ１２が設けられている。図１ａ，１ｂの実施形態の説明は、この実施形態にも適用される。マイクロ波チューブ１２は、製品チャンバ１４をソリッドステートＲＦ源２が位置するチャンバ１５から分離している。チューブ材料は、好ましくは、ソリッドステートＲＦ源２から供給されるマイクロ波に対して透明であり、更に好ましくは、マイクロ波エネルギーを吸収せず、これによって、マイクロ波エネルギーによって加熱されず、もしいくらか加熱されることがあるしたなら、それは、温められた製品によるものである。マイクロ波エネルギーを加熱される食用製品の温度上昇に効率的に変換するために、チューブ１２の材料は、金属ではなく、ある種のプラスチック材料が適している。製品１１は、製品チャンバ１４内に配置され、チャンバ１５内に配置された１つ、好ましくは、多数のソリッドステート源２によって処理、好ましくは、加熱されるとよい。この実施形態は、例えば、製品チャンバ１４を洗浄するために用いられる洗浄剤がソリッドステート源２に接触しないことが望まれる場合に、好ましい。また、このチューブ１２を用いて、製品をソリッドステートＲＦ源２を通り過ぎるように導くことができる。この場合、製品は、少なくとも局部的にチューブの周囲に接触することがある。ソリッドステートＲＦ励磁マイクロ波装置のこの実施形態が、図３ａ，３ｂに示されている。１つ、好ましくは、多数のソリッドステートＲＦ源２がマイクロ波チューブ１２の周りに配置され、該マイクロ波チューブ内を通って、食材塊、例えば、挽肉が導かれるようになっている。
【００３３】
図４ａおよび図４ｂ（マイクロ波透過性インサート１２を備える例）は、図１ａおよび図１ｂ〜３ｂに関連する実施形態の代替実施形態を示している、この代替実施形態では、冷却回路、例えば、水冷却回路またはガス冷却回路、好ましくは、空気冷却回路に接続された冷却チャンバ１８が設けられている。冷却チャンバ１８は、図１ａ〜３ｂの１つに示される装置を包囲している。ソリッドステートＲＦ源を作動している間、マイクロ波エネルギーが、必要な時にのみ、処理される製品のある特定の箇所に伝達される。この効率的なエネルギー管理にも関わらず、例えば、長期間に及ぶ高エネルギー出力が行われる場合、導波管および接続されたアンテナの追加的な冷却が望ましい。図示されない他の実施形態では、ソリッドステートＲＦエネルギー源および電源も冷却されるようになっている。これは、必要に応じて、ＲＦ源ごとに行われるとよい。ＲＦエネルギー源の冷却は、好ましくは、１つまたは複数のRFエネルギー源の温度を測定し、この測定値に基づき冷却剤の流量および／または温度を制御することによって行われるとよい。
【００３４】
図５ａ〜５ｂは、一列に並んだソリッドステートＲＦ励磁マイクロ波装置の第１の用途例を示している。例えば、容積移送式ポンプを備える塊供給システム３、例えば、肉挽き器、ホッパー、または詰め器が設けられている。塊供給システム３の容積移送式ポンプは、低温の食材塊４を、好ましくは供給区域５を通して、ポンプ送給可能な物質をインライン加熱する本発明の装置のマイクロ波区域６に押し出し、そこから加熱された塊４を排出区域７を介して排出するようになっている。更なるプロセスステップとして、脂肪および有効な成分の抽出が挙げられる。例えば、豚脇腹の挽肉または野菜食材のような食品塊が、連続的にまたは間欠的に移送されるとよい。食品のある特定の温度上昇を達成するために必要な滞留時間に依存して、流れを制御することができる。食品塊がポンプ送給される時に通るチューブは、製品を混合する手段、例えば、静的ミキサーおよび／または動的ミキサーを備えているとよい。例えば、温度上昇を測定する１つまたは複数のセンサが設けられているとよい。図５ｂは、ソリッドステートＲＦ熱源２の配置、ここでは、４列Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの配置を示している。各列は、好ましくは等距離に配置された多数のソリッドステート高周波源を備えている。ここでは、これらの列は、互い違いに配置されている。マイクロ波ステーション６の列Ｂの断面図が、図５cに示されている。この断面図は、図３aの実施形態に示される断面図と同様である。図５ｄでは、ソリッドステートＲＦエネルギー源２が塊と接触するのを防ぐために、マイクロ波透過性インサート１２が用いられている。塊流れの熱分布を更に最適化するために、および「冷点（cold-spots）」および「熱点（hot-spots）」を防ぐために、円筒状のソリッドステート高周波源配置構造、ここでは、リングの数が図示される４つから５つ以上に増やされてもよい。
【００３５】
ソリッドステートＲＦ励磁マイクロ波装置の第２の用途例は、昆虫の加熱および／または殺処理に関する。昆虫は、物質として用いられる。現在、昆虫は、沸騰水の槽内に浸漬され、昆虫が殺処理された後、次のプロセスステップに搬送される。図６に示される本発明の実施形態では、昆虫４は、塊供給システム３、ここでは、ホッパー、またはボウルに供給される。昆虫をマイクロ波装置１のマイクロ波区域６内に受け入れるために、マイクロ波区域の下流の弁１９が閉じられ、マイクロ波区域の上流の弁１９が開けられる。マイクロ波装置が始動され、昆虫が殺処理された後、下流の弁１９が開けられ、昆虫が、例えば、コンベヤを介して更なる処理ステーションに運搬される。マイクロ波区域６の列Ｂの断面が図６ｂ、６ｃに示されている。
【００３６】
本発明の他の実施形態では、昆虫４は、図６ｄに示されるように、流体、好ましくは、水を含む塊供給システム３内に浸漬される。浸漬された昆虫と一緒に、流体が塊供給システム３からソリッドステートＲＦエネルギー源を備えるマイクロ波装置１に運搬される。昆虫の加熱および殺処理は、流体および浸漬された昆虫を、バッチ処理またはマイクロ波装置を通る連続移動処理のいずれかによって、マイクロ波エネルギーに晒すことによって行われる。連続プロセスの場合、マイクロ波がマイクロ波区域６から漏れるのを防ぐ手段が設けられるべきである。これは、弁、ゲート、等によって行われる。本発明の装置から漏出する放射線を中和することにいよって行われてもよい。マイクロ波区域６の列Ｂの断面図が、図６ｂ，６ｃに示されている。次のプロセスステップにおいて、昆虫は、流体から濾過され、および／または別の方法において流体から分離されるとよい。水は、再循環されてもよい。
【００３７】
本発明の更なる実施形態では、昆虫４は、図７ａに示されるようにコンベヤ上に堆積され、そこからマイクロ波装置１に運搬されるようになっている。マイクロ波区域６の列Ｂの断面図が図７ａに示されている。この断面図は、図１ａの断面図と同様である。図７ｃの実施形態は、図１ｃの実施形態に対応している。当業者であれば、図７による装置が、マイクロ波によってパティのような成形物質を処理するために利用されてもよいことを理解するだろう。製品４は、パティを示している。図７における弁は、必ず設けなければならないものではない。
【００３８】
図１〜７に示される全ての実施形態は、バッチ処理用に設計されたソリッドステートエネルギーＲＦエネルギー技術を有する装置内において行われてもよいし、連続処理用に設計されたソリッドステートエネルギーＲＦエネルギー技術を有する装置内において行われてもよい。いずれの処理も、少なくとも１つのゲート、例えば、ドアを有する装置を必要とし、このゲート、例えば、ドアを通して、処理される塊４または製品１１が処理区域６に入るようになっている。装置が第２のゲートを備える場合、塊または製品は、この第２のゲートを介して処理区域から取り出されることになる。
【００３９】
連続処理用に設計されたソリッドステートＲＦエネルギー技術を有する装置は、図５に示されている。少なくとも処理区域６は、トンネル状装置の一部であるが、それのみならず、供給区域５および排出区域７も同一のトンネル状装置の一部であってもよい。必要がなけらば、これらの区域５，７は、省略されてもよい。塊４または製品１１の移送は、適切な運搬手段を介して行われるとよい。前述の全ての実施形態において、ソリッドステートＲＦエネルギー源２が配置された列の数は、４列に制限されるものではない。
【００４０】
前述の実施形態の全てにおいて、ハウジング８の設計は、例えば、図１ａ，２ａ，３ａに示されるような円設計に制限されるものではなく、図１ｂ，２ｂ，３ｂに示されるように、異なって形作られていてもよい。製品１１または塊４の熱処理がハウジング８の内壁９を介するマイクロ波の跳ね返りによって悪影響を受けないことが重要である。
【００４１】
前述の全ての実施形態において、マイクロ波チューブ１２の設計は、円設計に制限されるものではなく、異なって形作られてもよい。特に、塊４が、例えば、図３ａに示されるようにチューブ内を流れる場合、円状設計は、圧力分布に関して有利である。好ましくは、内壁１３は、食品塊へのせん断力を低減させるためにおよび洗浄を容易にするために、滑らかな壁を備えるべきである。マイクロ波チューブ１２は、好ましくは、図示される組立品内の固定部品であるとよく、衛生に対して有利である点からハウジング８およびソリッドステートＲＦエネルギー源２から隔離されているとよい。マイクロ波チューブの洗浄は、手動によって行われてもよいが、好ましくは、、組み込まれた定置洗浄（ＣＩＰ）システムによって行われるとよい。
【符号の説明】
【００４２】
１  処理装置、工業用処理装置
２  ソリッドステートＲＦエネルギー源
３  塊供給システム、ホッパー
４  塊、食材塊、食品塊、昆虫
５  供給区域、入口
６  マイクロ波区域、処理区域
７  排出区域
８  ハウジング
９  ハウジング８の内壁
１０  コンベヤ手段、ベルト
１１  製品、食品、物質、食材
１２  マイクロ波チャンバ、マイクロ波透過性チューブ、マイクロ波透過性インサート
１３  マイクロ波チューブ１２の内壁
１４  製品チャンバ
１５  ソリッドステート源チャンバ
１６  導波管
１７  アンテナ
１８  冷却チャンバ
１９  弁
２０  出口
２１  入口
２２  遮蔽手段、可動遮蔽手段
２３  フレーム
Ａ  ソリッドステートＲＦエネルギー源
Ｂ  ソリッドステートＲＦエネルギー源
Ｃ  ソリッドステートＲＦエネルギー源
Ｄ  ソリッドステートＲＦエネルギー源
【図１ａ．１ｂ】
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【図１ｃ．１ｄ】
2020519262.tif 000004
【図２ａ．２ｂ】
2020519262.tif 000005
【図３ａ．３ｂ】
2020519262.tif 000006
【図４ａ．４ｂ】
2020519262.tif 000007
【図５ａ−５ｄ】
2020519262.tif 000008
【図６ａ−６ｄ】
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【図７ａ−７ｃ】
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【手続補正書】
【提出日】令和2年1月10日(2020.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物質を、好ましくは、加熱、乾燥、消毒、低温殺菌、および／または滅菌する処理装置であって、送信機のアンテナを駆動する高周波電力増幅器を各々が有する多数のソリッドステート高周波源（６）を備え、前記アンテナは、導波管に連結および／または前記導波管内に配置され、前記導波管が、マイクロ波を食品が加熱される食品チャンバに案内するように構成されているものにおいて、前記ソリッドステート高周波（ＲＦ）源を通過するように前記物質を移送するコンベヤを備え、前記コンベヤは、前記ＲＦ放射を少なくとも部分的に伝達可能であり、前記放射線は、１つまたは複数の弁によって周囲の空気から隔離されることを特徴とする、処理装置。
【請求項２】
前記ソリッドステート高周波源（６）は、ｎ行ｍ列のアレイで設けられ、ｎは１よりも大きい整数であり、ｍは１と等しいかまたはそれよりも大きい整数であることを特徴とする、請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記ソリッドステート高周波源（６）は、製品チャンバ（１４）の周囲に等距離に配置されることを特徴とする、請求項１または２に記載の処理装置。
【請求項４】
互に離間した入口および出口を有する、請求項１〜３の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項５】
前記ソリッドステート高周波源（６）を通過するように前記物質を移送する手段（２２）を備えることを特徴とする、請求項１〜４の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項６】
前記物質は、前記ソリッドステート高周波源（６）、好ましくは、ソリッドステート高周波源（６）のアレイの近傍に配置される一回処理分として供給されることを特徴とする、請求項１〜３の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項７】
前記ソリッドステート高周波源（６）を制御する制御システムを備えることを特徴とする、請求項１〜６の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項８】
食料塊の少なくとも１つの特性および／または前記食料塊から反射される放射線の１つの特性を測定するセンサを備え、前記センサの信号は、好ましくは、前記制御システムによって利用されることを特徴とする、請求項１〜７の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項９】
食品製造ラインの一部であることを特徴とする、請求項１〜８の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項１０】
ホッパ（３）の下流に設けられることを特徴とする、請求項１〜９の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項１１】
オーブン、成形機および／または衣付け装置と一緒に設けられることを特徴とする、請求項１〜１０の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項１２】
１つまたは複数の弁（１９）によって少なくとも部分的に隔離されることを特徴とする、請求項１〜１０の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項１３】
請求項１〜１２の何れか一項に記載の処理装置と、更なる熱処理装置とを備えるライン。
【請求項１４】
前記装置は、搬送手段（１０）によって、互いに接続されることを特徴とする、請求項１３に記載のライン。
【請求項１５】
高周波によって物質を処理する方法であって、前記高周波は、１つまたは複数の高周波源（６）によって供給されることを特徴とする、方法。
【請求項１６】
前記物質は、入口（２１）から前記入口（２１）から離間した出口（２０）に移送されることを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
前記物質は、連続的および／または間欠的に移送されることを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
前記物質の１つまたは複数の特性および／または前記物質から反射される放射線を測定する１つまたは複数のセンサ（１７）、好ましくは、前記ソリッドステートＲＦエネルギー源（２）の前記アンテナ（１７）が設けられることを特徴とする、請求項１３〜１５の何れか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記センサの信号は、前記ソリッドステート高周波源（２）を制御するために利用されることを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記物質は、加熱、乾燥、消毒および／または低温殺菌、滅菌および／または殺処理されることを特徴とする、請求項１３〜１７の何れか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記物質は、昆虫の少なくとも一部または昆虫の混合物を含む請求項１８に記載の方法。
【国際調査報告】
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