【手続補正書】
【提出日】平成29年7月13日(2017.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント処理において、前記基板上における前記インプリント材の供給位置を示す情報を生成する生成方法であって、
前記モールドのパターン領域のうちの第１寸法の第１パターンが形成された領域に対応する前記基板上の第１領域における前記インプリント材の第１供給位置を示す第１情報を生成する第１工程と、
前記パターン領域のうちの前記第１寸法よりも大きい寸法の第２パターンが形成された領域に対応する前記基板上の第２領域における前記インプリント材の第２供給位置を示す第２情報を生成する第２工程と、
前記第１情報と前記第２情報とを合成して前記情報を生成する第３工程と、を有し、
前記第３工程は、前記第１情報と前記第２情報とを合成する際に、前記第１情報における前記インプリント材の前記第１供給位置のうち、前記第１供給位置と当該第１供給位置に隣接する前記第２供給位置との間隔が許容範囲外の前記インプリント材の供給位置について、前記間隔が前記許容範囲内に収まるように、前記第１供給位置を調整する調整工程を含むことを特徴とする生成方法。
【請求項２】
前記調整工程では、前記第１情報における前記インプリント材の前記第１供給位置のうち、前記許容範囲の上限を超える前記インプリント材の供給位置について、前記インプリント材の第１供給位置を前記第２供給位置に近づけるように、前記第１供給位置を調整する請求項１に記載の生成方法。
【請求項３】
前記許容範囲の上限は、前記基板上に前記インプリント材を供給してから前記モールドと前記インプリント材とが接触するまでの間に前記基板上で隣接する前記インプリント材同士が接触するために離間可能な最大の間隔に基づいて決定されることを特徴とする請求項２に記載の生成方法。
【請求項４】
前記調整工程では、前記第１情報における前記インプリント材の前記第１供給位置のうち、前記許容範囲の下限を超える前記インプリント材の供給位置について、前記インプリント材の第１供給位置を前記第２供給位置から遠ざけるように、前記第１供給位置を調整する請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の生成方法。
【請求項５】
前記許容範囲の下限は、前記モールドを用いて前記基板上にインプリント材のパターンを形成したときに前記基板上に形成すべき前記インプリント材の厚さに基づいて決定されることを特徴とする請求項４に記載の生成方法。
【請求項６】
モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント処理において、前記基板上における前記インプリント材の供給位置を示す情報を生成する生成方法であって、
前記モールドのパターン領域の全面に対応する前記基板上の領域における前記インプリント材の供給位置を示す第１情報を生成する第１工程と、
前記モールドのパターンのうちの基準寸法よりも大きい寸法のパターンの位置に対応する前記基板上の第１位置と当該第１位置に隣接する前記供給位置との間隔が許容範囲内に収まるように、前記第１情報における前記インプリント材の供給位置を調整して前記情報を生成する第２工程と、
を有することを特徴とする生成方法。
【請求項７】
前記第２工程では、前記第１位置と前記供給位置とが同一となるように、前記第１情報における前記インプリント材の供給位置を調整することを特徴とする請求項６に記載の生成方法。
【請求項８】
モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント処理において、前記基板上における前記インプリント材の液滴の供給位置を示す情報を生成する生成方法であって、
前記モールドのパターン領域のうちの第１寸法の第１パターンが形成された領域に対応する前記基板上の第１領域における第１サイズの液滴の第１供給位置を示す第１情報を生成する第１工程と、
前記モールドのパターン領域のうちの前記第１寸法よりも大きい寸法の第２パターンが形成された領域に対応する前記基板上の第２領域における前記第１サイズよりも小さい第２サイズの液滴の第２供給位置を示す第２情報を生成する第２工程と、
前記第１情報と前記第２情報とを合成して前記情報を生成する第３工程と、を有し、
前記第３工程は、互いに隣接する前記第２サイズの液滴の間隔が許容範囲内に収まるように、前記第２供給位置を調整する調整工程を含むことを特徴とする生成方法。
【請求項９】
前記許容範囲は、前記基板上に前記インプリント材を供給してから前記モールドと前記インプリント材とが接触するまでの間に前記基板上で隣接する前記インプリント材同士が接触するために離間可能な最大の間隔、及び、前記モールドを用いて前記基板上にインプリント材のパターンを形成したときに前記基板上に形成すべき前記インプリント材の厚さに基づいて決定されることを特徴とする請求項６乃至８のうちいずれか１項に記載の生成方法。
【請求項１０】
モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント処理において、前記基板上における前記インプリント材の供給位置を示す情報を生成する処理を行う処理部を有する情報処理装置であって、
前記処理部は、
前記モールドのパターン領域のうちの第１寸法の第１パターンが形成された領域に対応する前記基板上の第１領域における前記インプリント材の第１供給位置を示す第１情報を生成する第１工程と、
前記パターン領域のうちの前記第１寸法よりも大きい寸法の第２パターンが形成された領域に対応する前記基板上の第２領域における前記インプリント材の第２供給位置を示す第２情報を生成する第２工程と、
前記第１情報と前記第２情報とを合成して前記情報を生成する第３工程と、を行い、
前記第３工程は、前記第１情報と前記第２情報とを合成する際に、前記第１情報における前記インプリント材の前記第１供給位置のうち、前記第１供給位置と当該第１供給位置に隣接する前記第２供給位置との間隔が許容範囲外の前記インプリント材の供給位置について、前記間隔が前記許容範囲内に収まるように、前記第１供給位置を調整する調整工程を含むことを特徴とする情報処理装置。
【請求項１１】
モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント処理において、前記基板上における前記インプリント材の供給位置を示す情報を生成する処理を行う処理部を有する情報処理装置であって、
前記処理部は、
前記モールドのパターン領域の全面に対応する前記基板上の領域における前記インプリント材の供給位置を示す第１情報を生成する第１工程と、
前記モールドのパターンのうちの基準寸法よりも大きい寸法のパターンの位置に対応する前記基板上の第１位置と当該第１位置に隣接する前記供給位置との間隔が許容範囲内に収まるように、前記第１情報における前記インプリント材の供給位置を調整して前記情報を生成する第２工程と、
を行うことを特徴とする情報処理装置。
【請求項１２】
モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント処理において、前記基板上における前記インプリント材の液滴の供給位置を示す情報を生成する処理を行う処理部を有する情報処理装置であって、
前記処理部は、
前記モールドのパターン領域のうちの第１寸法の第１パターンが形成された領域に対応する前記基板上の第１領域における第１サイズの液滴の第１供給位置を示す第１情報を生成する第１工程と、
前記モールドのパターン領域のうちの前記第１寸法よりも大きい寸法の第２パターンが形成された領域に対応する前記基板上の第２領域における前記第１サイズよりも小さい第２サイズの液滴の第２供給位置を示す第２情報を生成する第２工程と、
前記第１情報と前記第２情報とを合成して前記情報を生成する第３工程と、を行い、
前記第３工程は、互いに隣接する前記第２サイズの液滴の間隔が許容範囲内に収まるように、前記第２供給位置を調整する調整工程を含むことを特徴とする情報処理装置。
【請求項１３】
モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の生成方法を用いて、前記基板上における前記インプリント材の供給位置を示す情報を生成する工程と、
前記情報に従って、前記基板上に前記インプリント材を供給する工程と、
前記基板上に供給された前記インプリント材を前記モールドで成形する工程と、
を有することを特徴とするインプリント方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載のインプリント方法を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された基板を加工する加工工程と、を有し、
前記加工工程により加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】生成方法、情報処理装置、インプリント方法及び物品の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、生成方法、情報処理装置、インプリント方法及び物品の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての生成方法は、モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント処理において、前記基板上における前記インプリント材の供給位置を示す情報を生成する生成方法であって、前記モールドのパターン領域のうちの第１寸法の第１パターンが形成された領域に対応する前記基板上の第１領域における前記インプリント材の第１供給位置を示す第１情報を生成する第１工程と、前記パターン領域のうちの前記第１寸法よりも大きい寸法の第２パターンが形成された領域に対応する前記基板上の第２領域における前記インプリント材の第２供給位置を示す第２情報を生成する第２工程と、前記第１情報と前記第２情報とを合成して前記情報を生成する第３工程と、を有し、前記第３工程は、前記第１情報と前記第２情報とを合成する際に、前記第１情報における前記インプリント材の前記第１供給位置のうち、前記第１供給位置と当該第１供給位置に隣接する前記第２供給位置との間隔が許容範囲外の前記インプリント材の供給位置について、前記間隔が前記許容範囲内に収まるように、前記第１供給位置を調整する調整工程を含むことを特徴とする。