【手続補正書】
【提出日】平成29年7月19日(2017.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高い屈折率を有する材料であり、硫化亜鉛、五酸化ニオビム、酸化チタンから成るグループから特に選択される材料から成るHRI層が、基板の表面エリアの少なくとも一部に適用され、続いて、該HRI層の少なくとも一つの部分的な領域がアルカリ性溶液での処理により該基板から物理的に再び除去される、多層体の、製造プロセス。
【請求項２】
前記アルカリ性溶液が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、重炭酸ナトリウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、エチレンジアミン四酢酸ナトリウムから成るグループから選択され、前記アルカリ性溶液のpH値が、少なくとも10であり、及び／または、前記アルカリ性溶液のpH値が、少なくとも10であること、
を特徴とする請求項１に記載の製造プロセス。
【請求項３】
前記HRI層の分離を支援するために、前記HRI層の力学的な処理が、前記アルカリ性溶液での前記処理の間及び／または後に行われ、前記力学的な処理が、特に、ブラシがけ、及び／または、スポンジでのワイプ、及び／または、ワイプローラー、及び／または、超音波処理、及び／または、流れの利用、及び／または、前記HRI層への噴霧液を含むこと、
を特徴とする請求項１または２に記載の製造プロセス。
【請求項４】
前記HRI層の除去されない少なくとも一つの部分的な領域を保護するために、前記アルカリ性溶液での前記処理の前に、マスク層が、特に印刷、具体的には、グラビア印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、または、インクジェット印刷により前記HRI層に適用され、
前記保護ラッカーが、物理的に乾く、または、化学的に硬化する、あるいは放射線で硬化する、ラッカーであり、並びに／または、顔料、及び／若しくは、染料、及び／若しくは、紫外線活性化可能な顔料、及び／若しくは、ナノ粒子、及び／若しくは、アップコンバーター剤、及び／若しくは、サーモクロミック染料、及び／若しくは、フォトクロミック染料を含むこと、
を特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の製造プロセス。
【請求項５】
前記マスク層が、ポジ型のフォトレジストの全表面エリアへの適用または部分的な適用と、前記HRI層の除去される前記部分的な領域の露光と、露光された前記フォトレジストの除去と、により形成され、または、ネガ型のフォトレジストの全表面エリアへの適用または部分的な適用と、前記HRI層の除去されない前記部分的な領域の露光と、露光されない前記フォトレジストの除去とにより形成され、それぞれの場合に、染料、及び／または、顔料、及び／または、紫外線活性化可能な顔料、及び／または、ナノ粒子、及び／または、アップコンバーター剤、及び／または、サーモクロミック染料、及び／または、フォトクロミック染料を含む、フォトレジストが用いられること、
を特徴とする請求項４に記載の製造プロセス。
【請求項６】
前記アルカリ性溶液が、前記HRI層の除去される前記部分的な領域に、特にフレキソ印刷またはグラビア印刷により印刷され、具体的には、粘着性を増すための少なくとも一つの添加剤及び／または少なくとも一つの湿潤剤を含むアルカリ性溶液が用いられ、特に、添加剤として炭酸カルシウム、カオリン、二酸化チタン、アエロジル、または二酸化ケイ素が用いられること、
を特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の製造プロセス。
【請求項７】
特に請求項１から２２のいずれか１項による多層体の製造プロセスであって、前記基板の少なくとも一つの第一の領域において、少なくとも一つの第一のレリーフ構造が該基板の第一の表面にモールドされ、続いて、高い屈折率を有する材料から成る前記HRI層が、少なくとも一つの前記第一の領域と、該第一のレリーフ構造が該基板の前記第一の表面にはモールドされない該基板の少なくとも一つの第二の領域とを、前記HRI層が少なくとも部分的にカバーするように、該基板の前記第一の表面の表面エリアの少なくとも一部に適用され、続いて、少なくとも一つの前記第二の領域をカバーする前記部分的な領域において前記HRI層が除去され、少なくとも一つの前記第一の領域をカバーする前記部分的な領域において前記HRI層が該基板に残るように、前記HRI層の部分的な領域が、液体、特にアルカリ性溶液での処理により、該基板から物理的に再び除去され、各構造エレメントの深度−幅比が0.1以上、特に0.15以上、好ましくは0.2以上である、前記第一のレリーフ構造が、実現される、製造プロセス。
【請求項８】
少なくとも一つの前記第二の領域において、レリーフ構造が前記基板にモールドされず、または、前記第一のレリーフ構造とは異なる少なくとも一つの第二のレリーフ構造が、前記基板にモールドされ、特に、前記第一のレリーフ構造及び前記第二のレリーフ構造が、前記レリーフ構造により、前記基板への前記HRI層の接着力が、少なくとも一つの前記第二の領域におけるよりも少なくとも一つの前記第一の領域における方が強く、特に、前記第一のレリーフ構造の空間周波数が、前記第二のレリーフ構造の空間周波数よりも大きく、前記第一のレリーフ構造の構造エレメントの深度−幅比が、前記第二のレリーフ構造の構造エレメントの深度−幅比よりも大きく、及び／または、前記第一のレリーフ構造の構造エレメントの空間周波数と深度−幅比との積が、前記第二のレリーフ構造のものより大きいように、実現されること、
を特徴とする請求項７に記載の製造プロセス。
【請求項９】
少なくとも一つの前記第一のレリーフ構造及び／または第二のレリーフ構造が、特に、一次元または二次元の回折格子構造として実現され、特に、1000 lines/mm以上、好ましくは1500 lines/mm以上の空間周波数を有し、
前記第二のレリーフ構造の前記回折格子構造が、3 μm未満の周期で実現され、
少なくとも一つの前記第一のレリーフ構造及び／または第二のレリーフ構造が、光回折性、及び／または、光屈折性、及び／または、光散乱性、及び／または、集光性の、マイクロ構造またはナノ構造として、等方性または異方性のマット構造として、バイナリフレネルレンズまたは連続フレネルレンズとして、マイクロプリズム構造として、ブレーズ格子として、マクロ構造として、または、これらの組み合わせ構造として、実現されること、
を特徴とする請求項７または８に記載の製造プロセス。
【請求項１０】
前記HRI層の適用前及び／または後に、少なくとも一つのさらなる機能層が適用され、
該機能層が、ラッカー層またはポリマー層として実現され、及び／または、
該機能層が、一つ以上の、着色された、特に多色の、機能層の材料の添加で実現され、及び／または、
少なくとも一つの部分的に形成された機能層が、疎水性または親水性の層として実現され、及び／または、
該機能層が、少なくとも一つのさらなる前記機能層が、観察角度に応じて異なる光学的効果を有する光学的可変層として、及び／または、金属反射層として、及び／または、誘電体反射層として、実現され、
前記光学的可変層が、観察角度に応じて異なる光学的効果を有する少なくとも一つの物質を含み、及び／または、観察角度に応じて異なる光学的効果を有する少なくとも一つの液晶層により形成され、及び／または、観察角度に応じた干渉カラー効果を有する薄膜層のスタックにより形成されるように、実現されること、
を特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の製造プロセス。
【請求項１１】
前記HRI層の前記部分的な領域の除去後に、さらなるHRI層が適用され、続いて、特に、前記HRI層の少なくとも一つの部分的な領域が、アルカリ性溶液での処理により、前記基板から物理的に再び除去され、特に、請求項１から１０のいずれか１項に記載のプロセスが、一回以上繰り返され、前記HRI層の除去された前記部分的な領域及び前記さらなるHRI層の除去された前記部分的な領域が、重ならず、または、部分的にのみ重なること、
を特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の製造プロセス。
【請求項１２】
少なくとも一つの部分的に形成されたさらなる機能層に対して正確な配置状態にある、少なくとも一つの部分的に形成されたHRI層を有する、特に請求項１から１１に記載のいずれか１項により形成され、または、形成可能な、多層体。
【請求項１３】
基板と、高い屈折率を有する材料からなるHRI層と、を有し、該基板の少なくとも一つの第一の領域において、少なくとも一つの第一のレリーフ構造が該基板の第一の表面にモールドされ、該HRI層が、少なくとも一つの第二の領域をカバーする部分的な領域において除去され、少なくとも一つの第一の領域をカバーする部分的な領域において該基板に備えられるように、該HRI層が該基板の前記第一の表面の表面エリアの一部に適用される、
特に請求項１から１１に記載のいずれか１項により形成可能な、多層体。
【請求項１４】
前記多層体の、少なくとも一つの、または、部分的に形成された前記機能層、及び／または、少なくとも一つの部分的に形成された前記HRI層が、回折性のレリーフ構造と重ねて配置され、ホログラフィックまたはキネグラフィックな光学的可変効果を示し、及び／または、
前記多層体の、少なくとも一つの、または、部分的に形成された、前記機能層、及び、少なくとも一つの部分的に形成された前記HRI層が、互いに補完的に、装飾的な、及び／または、情報を与える、幾何学的な、英数字の、絵で表した、図形の、または、造形的な、着色された表示を形成し、及び／または、
前記多層体の、少なくとも一つの、または、部分的に形成された、前記機能層、及び／または、少なくとも一つの部分的に形成された前記HRI層が、200 μm未満の範囲、特に5から100 μmの範囲の、ライン幅を有する、少なくとも一つのラインとして、及び／または、200 μm未満の範囲、特に5から100 μmの範囲のピクセル径を有する、少なくとも一つのピクセルとして、実現され、及び／または、
前記多層体の、少なくとも一つの、または、部分的に形成された、前記機能層が、一つ以上の以下の層：金属層、特に、不透明な金属層、液晶を含む層、観察角度に応じた干渉カラー効果を有する薄膜反射層のスタック、着色されたラッカー層、誘電体反射層、蛍光性または放射線励起性の顔料または染料を含む層、を含み、及び／または、
前記多層体の、少なくとも一つの、または、部分的に形成された前記機能層、及び、前記HRI層が、特定の観察角度で、または、特定のタイプの放射線で、少なくとも観察される場合、補色で実現されること、
を特徴とする請求項１２または１３に記載の多層体。
【請求項１５】
前記多層体の、少なくとも一つの、または、部分的に形成された前記機能層、及び、前記HRI層が、ラインが横方向のずれなく互いに統合されるように、ライン形状でそれぞれ実現され、
前記ラインが、特に連続的なカラー勾配を伴い、
前記多層体の、少なくとも一つの、または、部分的に形成された前記機能層、及び／または、前記HRI層が、人間の眼では個々に解像できない、ピクセル、イメージ点、またはラインから成る、格子イメージを、少なくとも部分的に形成すること、
を特徴とする請求項１２から１４のいずれか１項に記載の多層体。