Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月9日(2017.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面側に遊技領域を設けた遊技盤と、
任意の画像を表示可能な画像表示手段と、
発光表示手段と、
駆動手段の駆動により動作する可動体とを備え、
前記発光表示手段は、前記画像表示手段の前側に位置する導光板と、前記導光板の端縁側に配置された発光素子とを備え且つ前記発光素子から前記導光板に入射した光を前記導光板の一面側に反射可能な
遊技機において、
前記画像表示手段を、前記遊技盤の裏側に固定された支持部材に装着し、
前記導光板を、前記支持部材とは別の支持手段により前記遊技盤に装着し、
第１のエラーが発生した場合には、前記発光表示手段を用いた報知は行わない一方、
第２のエラーが発生した場合には、前記発光表示手段を用いた報知を行うように構成した
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、前面側に遊技領域６ａを設けた遊技盤６と、任意の画像を表示可能な画像表示手段４１と、発光表示手段４４と、駆動手段１４３の駆動により動作する可動体１４１とを備え、前記発光表示手段４４は、前記画像表示手段４１の前側に位置する導光板１１１と、前記導光板１１１の端縁側に配置された発光素子１４５とを備え且つ前記発光素子１４５から前記導光板１１１に入射した光を前記導光板１１１の一面側に反射可能な遊技機において、前記画像表示手段４１を、前記遊技盤６の裏側に固定された支持部材６４に装着し、前記導光板１１１を、前記支持部材６４とは別の支持手段により前記遊技盤６に装着し、第１のエラーが発生した場合には、前記発光表示手段４４を用いた報知は行わない一方、第２のエラーが発生した場合には、前記発光表示手段４４を用いた報知を行うように構成したものである。
また、導光板７１，１１１，１１２，１６１と、前記導光板７１，１１１，１１２，１６１の端面７１ａ，７１ｂ，１１１ａ，１１１ｂ，１１２ａ，１１２ｂ，１６１ａに対向する発光素子７２，７３，１３２〜１３５，１４５，１４６，１６５と、前記導光板７１，１１１，１１２，１６１に設けられ且つ前記端面７１ａ，７１ｂ，１１１ａ，１１１ｂ，１１２ａ，１１２ｂ，１６１ａから入射した前記発光素子７２，７３，１３２〜１３５，１４５，１４６，１６５からの光を前記導光板７１，１１１，１１２，１６１の一面側に反射する複数の反射部７４とを備えた遊技機において、前記発光素子７２，７３，１３２〜１３５，１４５，１４６，１６５は、前記導光板７１，１１１，１１２，１６１の第１端面７１ａ，１１１ａ，１１２ａに対向する第１発光素子７２，１３２，１３４と、前記導光板７１，１１１，１１２，１６１の前記第１端面７１ａ，１１１ａ，１１２ａと平行でない第２端面７１ｂ，１１１ｂ，１１２ｂに対向する第２発光素子７３，１３３，１３５とを含み、前記反射部７４は、前記第１発光素子７２，１３２，１３４からの光を前記一面側に反射する第１反射部７４ａ，７４ｃ，７４ｅと、前記第２発光素子７３，１３３，１３５からの光を前記一面側に反射する第２反射部７４ｂ，７４ｄ，７４ｆとを含み、前記反射部７４の集合体よりなる反射集合体８１ａ〜８１ｄ，１３１ａ〜１３１ｚ，１５１ａ〜１５１ｄ，１６４を複数備え、前記複数の反射集合体８１ａ〜８１ｄ，１３１ａ〜１３１ｚ，１５１ａ〜１５１ｄ，１６４のうち、前記第１発光素子７２，１３２，１３４からの光の照射方向と略一致する方向に長く形成されているものを前記第１反射部７４ｃ，７４ｅよりなる第１反射集合体１３１ｋ〜１３１ｒとし、前記第２発光素子７３，１３３，１３５からの光の照射方向と略一致する方向に長く形成されているものを前記第２反射部７４ｄ，７４ｆよりなる第２反射集合体１３１ｅ〜１３１ｊとしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月21日(2017.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体からの音響波を受信するプローブと、前記被検体の解剖学的特徴点のうち少なくとも３つの位置を検出する位置姿勢検出ユニットと、を含む測定ユニットと、
前記プローブが受信した音響波を用いて前記被検体内の特性情報を取得する情報処理装置と、
を備えることを特徴とする被検体情報取得装置。
【請求項２】
前記位置姿勢検出ユニットは、前記被検体の体表面を撮影する複数のカメラを有する
ことを特徴とする請求項１に記載の被検体情報取得装置。
【請求項３】
前記複数のカメラが撮影した画像を用いて前記解剖学的特徴点の位置を検出する形状演算部をさらに備える
ことを特徴とする請求項２に記載の被検体情報取得装置。
【請求項４】
前記被検体は乳房であり、
前記解剖学的特徴点として、左肩峰点、右肩峰点および腹部前突点を用いる
ことを特徴とする請求項２または３に記載の被検体情報取得装置。
【請求項５】
赤外光を照射する赤外照明をさらに備え、
前記複数のカメラは、赤外線カメラである
ことを特徴とする請求項２ないし４のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項６】
前記カメラは、魚眼レンズを有する
ことを特徴とする請求項２ないし５のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項７】
前記複数のカメラは、前記被検体の体表面に設置されたマーカーを撮影する
ことを特徴とする請求項２ないし６のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項８】
前記測定ユニットの筐体をさらに備え、
前記筐体は、
前記プローブが音響波を受信するときは前記被検体に押し付けられ、前記被検体から
の音響波を透過する透過面と、
遮光カバーと、
を有し、
前記複数のカメラは、前記遮光カバーの外部に設置される
ことを特徴とする請求項２ないし７のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項９】
光源をさらに備え、
前記遮光カバーの内部に、前記被検体に光を照射する照明ユニットをさらに備え、
前記プローブは、前記照明ユニットによる光の照射により発生した光音響波を受信することを特徴とする請求項８に記載の被検体情報取得装置。
【請求項１０】
前記透過面は、光を透過するものであり、
前記遮光カバーの内部に、前記透過面を介して前記被検体を撮影する透過面撮影カメラをさらに備える
ことを特徴とする請求項８または９に記載の被検体情報取得装置。
【請求項１１】
前記測定ユニットは、前記遮光カバーに測定ユニットモニタを有する
ことを特徴とする請求項８ないし１０のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項１２】
前記測定ユニットモニタは、前記透過面撮影カメラにより撮影された画像、ならびに、前記特性情報を取得するエリアにおける、前記測定ユニットの位置および前記被検体の左右乳頭点の位置を示す画像を表示する
ことを特徴とする請求項１１に記載の被検体情報取得装置。
【請求項１３】
前記測定ユニットは、複数のジョイントを有するアームにより支持されている
ことを特徴とする請求項８ないし１２のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項１４】
前記プローブを走査する走査ユニットをさらに備える
ことを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項１５】
前記特性情報を示す画像を表示する表示部をさらに備える
ことを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項１６】
前記表示部は、前記被検体の解剖学的特徴点の位置を示すランドマークと、前記特性情報を示す画像の座標軸を表示する
ことを特徴とする請求項１５に記載の被検体情報取得装置。
【請求項１７】
被検者の乳房を測定する測定手段と、
前記被検体の体表面を撮影する複数のカメラと、
前記複数のカメラが撮影した画像を用いて、前記被検者の解剖学的特徴点のうち少なくとも左肩峰点、右肩峰点および腹部前突点の位置を検出する位置姿勢検出ユニットと、
を備えることを特徴とする乳房検査装置。
【請求項１８】
被検体から発生した音響波を処理する装置であって、
前記被検体の解剖学的特徴点を少なくとも３つ検出する検出ユニットと、
前記音響波を用いて前記被検体内の特性情報を取得し、前記特性情報に基づく３次元画像を表示部に表示させる情報処理装置と、
を備え、
前記情報処理装置は、前記解剖学的特徴点に基づいて、前記表示部における前記３次元画像の姿勢を決定する
ことを特徴とする装置。
【請求項１９】
前記情報処理装置は、同一の前記被検体の、取得時点の異なる複数の前記特性情報に基づく複数の前記３次元画像の姿勢を一致させて、前記表示部に表示させる
ことを特徴とする請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記情報処理装置は、前記複数の３次元画像を前記表示部に並べて表示させる
ことを特徴とする請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記情報処理装置は、前記解剖学的特徴点の位置を示すランドマークと、前記特性情報に基づく前記３次元画像の座標軸を、前記表示部に表示させる
ことを特徴とする請求項１８ないし２０のいずれか１項に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】被検体情報取得装置、乳房検査装置および装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、被検体情報取得装置、乳房検査装置および装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、以下の構成を採用する。すなわち、
被検体からの音響波を受信するプローブと、前記被検体の解剖学的特徴点のうち少なくとも３つの位置を検出する位置姿勢検出ユニットと、を含む測定ユニットと、
前記プローブが受信した音響波を用いて前記被検体内の特性情報を取得する情報処理装置と、
を備えることを特徴とする被検体情報取得装置である。
本発明はまた、以下の構成を採用する。すなわち、
被検者の乳房を測定する測定手段と、
前記被検体の体表面を撮影する複数のカメラと、
前記複数のカメラが撮影した画像を用いて、前記被検者の解剖学的特徴点のうち少なくとも左肩峰点、右肩峰点および腹部前突点の位置を検出する位置姿勢検出ユニットと、
を備えることを特徴とする乳房検査装置である。
本発明はまた、以下の構成を採用する。すなわち、
被検体から発生した音響波を処理する装置であって、
前記被検体の解剖学的特徴点を少なくとも３つ検出する検出ユニットと、
前記音響波を用いて前記被検体内の特性情報を取得し、前記特性情報に基づく３次元画像を表示部に表示させる情報処理装置と、
を備え、
前記情報処理装置は、前記解剖学的特徴点に基づいて、前記表示部における前記３次元画像の姿勢を決定する
ことを特徴とする装置である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月22日(2017.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定条件を満たしたことに基づいて電源断処理を実行可能とし、
前記電源断処理では、
所定時間が経過する前に電源復帰があった場合には、瞬断処理を実行可能とし、
前記所定時間が経過する前に電源復帰がなかった場合には、リセット待ち状態とする
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】遊技機
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するために本発明は、所定条件（電断を検出したことなど）を満たしたことに基づいて電源断処理を実行可能とし、
前記電源断処理では、
所定時間（５００ｍｓなど）が経過する前に電源復帰があった場合には、瞬断処理を実行可能とし、
前記所定時間が経過する前に電源復帰がなかった場合には、リセット待ち状態とする
ことを特徴とする遊技機である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月22日(2017.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タイマ割込み処理と、
所定条件を満たしたことに基づいて実行可能な電源断処理と、
暴走監視タイマが特定条件を満たしたことに基づいて実行可能なリセット手段を備え、
前記タイマ割込み処理を実行している際に前記暴走監視タイマが前記特定条件を満たした場合には、前記リセット手段により、実行しているタイマ割込み処理を終了可能とし、
前記電源断処理では、
所定時間が経過する前に電源復帰があった場合には、瞬断処理を実行可能とし、
前記所定時間が経過する前に電源復帰がなかった場合には、リセット待ち状態とする
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】遊技機
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するために本発明は、タイマ割込み処理と、
所定条件（電断を検出したことなど）を満たしたことに基づいて実行可能な電源断処理と、
暴走監視タイマ（ウォッチドッグタイマなど）が特定条件（タイムアップなど）を満たしたことに基づいて実行可能なリセット手段（サブメインＣＰＵなど）を備え、
前記タイマ割込み処理を実行している際に前記暴走監視タイマが前記特定条件を満たした場合には、前記リセット手段により、実行しているタイマ割込み処理を終了可能とし、
前記電源断処理では、
所定時間（５００ｍｓなど）が経過する前に電源復帰があった場合には、瞬断処理を実行可能とし、
前記所定時間が経過する前に電源復帰がなかった場合には、リセット待ち状態とする
ことを特徴とする遊技機である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月22日(2017.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タイマ割込み処理と、
所定条件を満たしたことに基づいて実行可能な電源断処理と、
暴走監視タイマが特定条件を満たしたことに基づいて実行可能なリセット手段を備え、
前記タイマ割込み処理では、前記暴走監視タイマの停止処理を実行せず、
前記電源断処理では、前記暴走監視タイマの停止処理を実行可能とする
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】遊技機
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するために本発明は、タイマ割込み処理と、
所定条件（電断を検出したことなど）を満たしたことに基づいて実行可能な電源断処理と、
暴走監視タイマ（ウォッチドッグタイマなど）が特定条件（タイムアップなど）を満たしたことに基づいて実行可能なリセット手段（サブメインＣＰＵなど）を備え、
前記タイマ割込み処理では、前記暴走監視タイマの停止処理を実行せず、
前記電源断処理では、前記暴走監視タイマの停止処理を実行可能とする
ことを特徴とする遊技機である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月3日(2017.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
着座部材と、底壁部材とを有し、一方を治具に固定して他方と接合することにより中空
状に形成され、大便器に載置されて使用する便座であって、
前記着座部材が、使用者の臀部を支持する着座面部と、該着座面部の内周側及び外周側から垂れ下がるように形成された側面部とを有し、
前記底壁部材が、大便器の上面と対向する底面部と、該底面部の内周側及び外周側から垂れ下がるように形成された下方延設部とを有し、
該下方延設部と前記着座部材の側面部とが、一方が他方より下方へ突出するように嵌合しており、その突出部の側面に溶融樹脂からなる閉塞部材が充填されて固化していることによって、前記着座部材と前記底壁部材とが接合されていることを特徴とする便座。
【請求項２】
前記底面部の下面と前記下方延設部の内壁面とが、曲面で連続していることを特徴とする請求項１記載の便座。
【請求項３】
前記下方延設部が、内周側については中心方向下向きに鋭角を成しており、外周側については半径方向下向きに鋭角を成していることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の便座。
【請求項４】
前記着座部材の前記閉塞部材と接合する第一接合面と前記下方延設部の前記閉塞部材と接合する第二接合面とが、凹凸面を有していることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１つに記載の便座。
【請求項５】
前記着座部材と前記底壁部材との間に形成される便座内空間に加熱手段を備えていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１つに記載の便座。
【請求項６】
使用者の臀部を支持する着座面部と該着座面部の内周側及び外周側から垂れ下がるように形成された側面部とを備える着座部材と、大便器の上面と対向する底面部と該底面部の内周側及び外周側から垂れ下がるように形成された下方延設部とを備える底壁部材とを有し、前記着座部材と前記底壁部材との接合により中空状に形成され、前記大便器に載置されて使用する便座の製造方法であって、
第一金型と第二金型との間に溶融樹脂を注入することで前記着座部材および前記底壁部材を成型する着座部材・底壁部材成型工程と、
前記着座部材を前記第一金型に、前記底壁部材を前記第二金型に、それぞれ保持しつつ前記第一金型と前記第二金型とを離間する成型金型離間工程と、
前記着座部材と前記底壁部材とが対向するように前記第一金型または前記第二金型を移動する成型金型移動工程と、
前記底壁部材の下方延設部の外壁面と、前記着座部材の側面部の内壁面とを嵌合する嵌
合工程と、
前記着座部材と前記底壁部材との嵌合部の外側に閉塞部材を注入することで前記着座部材と前記底壁部材とを接合する接合工程とからなることを特徴とする便座の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月22日(2017.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定条件を満たしたことに基づいて実行可能な電源断処理と、
暴走監視タイマが特定条件を満たしたことに基づいて実行可能なリセット手段を備え、
前記電源断処理では、
前記暴走監視タイマの停止処理を実行可能とし、
所定時間が経過する前に電源復帰があった場合には、瞬断処理を実行可能とし、
前記瞬断処理では、前記暴走監視タイマの再開処理を実行可能とする
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】遊技機
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するために本発明は、所定条件（電断を検出したことなど）を満たしたことに基づいて実行可能な電源断処理と、
暴走監視タイマ（ウォッチドッグタイマなど）が特定条件（タイムアップなど）を満たしたことに基づいて実行可能なリセット手段（サブメインＣＰＵなど）を備え、
前記電源断処理では、
前記暴走監視タイマの停止処理を実行可能とし、
所定時間（５００ｍｓなど）が経過する前に電源復帰があった場合には、瞬断処理を実行可能とし、
前記瞬断処理では、前記暴走監視タイマの再開処理（ウォッチドッグタイマの動作を開始する処理など）を実行可能とする
ことを特徴とする遊技機である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月1日(2017.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
着座部材と、底壁部材と、前記着座部材と前記底壁部材とが接合することにより前記着座部材と前記底壁部材との間で形成される中空空間内に収納された加熱手段とを有する暖房便座において、
前記加熱手段が、断熱材と、該断熱材の上部にあり前記着座部材を暖める線状発熱体と、該線状発熱体に接触しつつ前記断熱材を覆うことで前記線状発熱体によって発生した熱を拡散する熱分散シートとを一体に有しており、
該熱分散シートが前記着座部材の内面に当接し、前記断熱材が前記底壁部材の内面に当接するように前記着座部材と前記底壁部材とが嵌合しており、
前記着座部材と前記底壁部材との嵌合部の外側に溶融樹脂からなる閉塞部材が充填されて固化していることにより、前記着座部材と前記底壁部材とが接合されていることを特徴とする暖房便座。
【請求項２】
前記断熱材が、弾性部材であり、
前記加熱手段が、前記着座部材と前記底壁部材との間で厚み方向に圧縮されていることを特徴とする請求項１記載の暖房便座。
【請求項３】
前記断熱材が、前記線状発熱体を収納する溝部を前記線状発熱体の直下に有していることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の暖房便座。
【請求項４】
前記断熱材が、前記底壁部材側に凹部を有していることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１つに記載の暖房便座。
【請求項５】
着座部材と、底壁部材と、前記着座部材と前記底壁部材とが接合することにより前記着座部材と前記底壁部材との間で形成される中空空間内に収納された加熱手段と、を有する暖房便座の製造方法において、
断熱材と、該断熱材の上部にあり前記着座部材を暖める線状発熱体と、該線状発熱体に接触しつつ前記断熱材を覆うことで前記線状発熱体によって発生した熱を拡散する熱分散シートとを一体に有した前記加熱手段を予め用意しておく加熱手段準備工程と、
第一金型と第二金型との間に溶融樹脂を注入することで前記着座部材および前記底壁部材を成型する着座部材・底壁部材成型工程と、
前記着座部材を前記第一金型に、前記底壁部材を前記第二金型に、それぞれ保持しつつ前記第一金型と前記第二金型とを離間する成型金型離間工程と、
前記着座部材と前記底壁部材とが対向するように前記第一金型または前記第二金型を移動する成型金型移動工程と、
前記着座部材と前記底壁部材との間に前記加熱手段を挿入する加熱手段挿入工程と、
前記着座部材と前記底壁部材とを前記加熱手段を挟み込むように嵌合させる嵌合工程と、
前記着座部材と前記底壁部材との嵌合部の外側に閉塞部材を注入することで前記着座部材と前記底壁部材とを接合する接合工程とを備えることを特徴とする暖房便座の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月6日(2017.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験者より採取されたＤＮＡ含有試料に含まれるＤＮＡ上のdbSNP:ID rs9904288で表されるＳＮＰの型を検出することを含む、内臓脂肪蓄積に対する遺伝的感受性の高い被験者より採取されたＤＮＡ含有試料の判定方法。
【請求項２】
前記rs9904288で表されるＳＮＰの型がＣ／ＴもしくはＣ／Ｃである場合に、前記ＤＮＡ含有試料を、内臓脂肪蓄積に対する遺伝的感受性の高い被験者より採取されたＤＮＡ含有試料であると判定することをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記rs9904288で表されるＳＮＰのＣアレルの数がより大きい場合に、前記ＤＮＡ含有試料を、内臓脂肪蓄積に対する遺伝的感受性のより高い被験者より採取されたＤＮＡ含有試料であると判定することをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記ＤＮＡ上のdbSNP:ID rs2287019で表されるＳＮＰの型を検出することをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記rs9904288で表されるＳＮＰの型がＣ／ＴもしくはＣ／Ｃであり、かつ前記rs2287019で表されるＳＮＰの型がＣ／ＴもしくはＣ／Ｃである場合に、前記ＤＮＡ含有試料を、内臓脂肪蓄積に対する遺伝的感受性の高い被験者より採取されたＤＮＡ含有試料であると判定することをさらに含む、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記rs9904288で表されるＳＮＰのＣアレルの数と、前記rs2287019で表されるＳＮＰのＣアレルの数との合計数がより大きい場合に、前記ＤＮＡ含有試料を、内臓脂肪蓄積に対する遺伝的感受性のより高い被験者より採取されたＤＮＡ含有試料であると判定することをさらに含む、請求項４記載の方法。
【請求項７】
前記ＤＮＡ上のdbSNP:ID rs5566901またはdbSNP:ID rs11650936で表されるＳＮＰの型を検出することをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記rs9904288で表されるＳＮＰのＣアレルの数と、前記rs5566901で表されるＳＮＰのＴアレルの数との合計数がより大きい場合に、前記ＤＮＡ含有試料を、内臓脂肪蓄積に対する遺伝的感受性のより高い被験者より採取されたＤＮＡ含有試料であると判定することをさらに含む、請求項７記載の方法。
【請求項９】
被験者より採取されたＤＮＡ含有試料に含まれるＤＮＡ上のdbSNP:ID rs9904288で表されるＳＮＰの型を検出することを含む、内臓脂肪量増大の危険性の高い被験者より採取されたＤＮＡ含有試料の判定方法。
【請求項１０】
被験者より採取されたＤＮＡ含有試料に含まれるＤＮＡ上のdbSNP:ID rs9904288で表されるＳＮＰの型を検出することを含む、内臓脂肪蓄積に起因する疾患または状態の発症の危険群に属する被験者より採取されたＤＮＡ含有試料の判定方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載された方法を行うためのＳＮＰタイピング用プライマーまたはプローブであって、dbSNP:ID rs9904288で表されるＳＮＰの型を検出するためのプライマーまたはプローブを含む、ＳＮＰタイピング用プライマーまたはプローブ。
【請求項１２】
dbSNP:ID rs9904288で表されるＳＮＰの型を検出するためのプライマーまたはプローブと、dbSNP:ID rs2287019で表されるＳＮＰの型を検出するためのプライマーまたはプローブとを含む、請求項１１記載のＳＮＰタイピング用プライマーまたはプローブ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月30日(2017.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
始動手段が遊技球を検出したことを契機に、所定の遊技情報を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された前記遊技情報に基づき、当り遊技を発生させるか否かに関する抽選を行う抽選手段と、
遊技図柄の変動表示動作を行い、当該遊技図柄の停止表示態様により前記抽選手段による抽選結果を報知するための図柄表示手段と、
前記抽選手段による抽選結果に基づき、リーチ状態を経由して当該抽選結果を報知するリーチ演出指定用のリーチ変動パターンを含む複数種類の変動パターンのうちからいずれかを選択的に決定する変動パターン決定手段と、
前記変動パターン決定手段により決定された変動パターンに基づき、前記図柄表示手段における前記遊技図柄の変動表示動作を制御する図柄表示制御手段と、
前記取得手段により取得された前記遊技情報を、前記図柄表示手段における前記遊技図柄の変動表示動作に供されるまで、あらかじめ定めた最大保留記憶個数を上限として保留記憶する保留記憶手段と、
前記取得手段により取得された遊技情報に基づき、前記変動パターン決定手段により前記変動パターンがどのような変動パターンに決定されるかを先読み判定する先読み判定手段と、
前記先読み判定手段による先読み判定結果に基づき、当該先読み判定結果に関連する情報を報知する先読み予告演出を実行制御可能に構成された先読み予告演出制御手段と、を備え、
前記図柄表示手段に前記遊技図柄が特定の表示態様で停止表示された後、前記当り遊技を実行制御可能に構成された遊技機であって、
前記リーチ演出には、第１の演出を含む第１のリーチ演出と、前記第１の演出よりも前記当り遊技への当選期待度が高いことを示唆する第２の演出を含む第２のリーチ演出とが含まれ、
前記リーチ変動パターンには、
前記第１のリーチ演出を実行した後に前記第２のリーチ演出を実行し、当該第２のリーチ演出を実行した後に前記抽選結果を報知して前記遊技図柄の変動表示動作を終えるように指定する第１のリーチ変動パターンと、
前記第１のリーチ演出を実行することなく前記第２のリーチ演出を実行し、当該第２のリーチ演出を実行した後に前記抽選結果を報知して前記遊技図柄の変動表示動作を終えるように指定する第２のリーチ変動パターンと、が含まれ、
前記先読み予告演出制御手段は、
前記先読み判定手段による先読み判定結果が前記第１のリーチ変動パターンであると先読み判定された場合か、または前記第２のリーチ変動パターンであると先読み判定された場合に、特定の先読み予告演出を実行制御可能であり、前記第１のリーチ変動パターンであると先読み判定された場合よりも前記第２のリーチ変動パターンであると先読み判定された場合の方が、当該特定の先読み演出を高い割合で実行する、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月29日(2016.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体の内部と外部とを空間的に仕切る複数のカバー部材を備える筐体構造において、
上記複数のカバー部材のうち、隣接する第一カバー部材と第二カバー部材との間に上記筐体の内部と外部とを連通する隙間が形成され、
該第一カバー部材から内部に突出する第一突出部と、
該第二カバー部材から内部に突出する第二突出部と、を設け、
該第二突出部によって、該第一突出部の先端部を囲むように該隙間が形成されていることを特徴とする筐体構造。
【請求項２】
筐体の内部と外部とを空間的に仕切る複数のカバー部材を備える筐体構造において、
隣接する上記カバー部材同士の間に上記筐体の内部と外部とを連通する隙間が形成され、
該隙間によって形成される該筐体の内部から該隙間を通過して外部に向かう経路が、複数箇所の屈曲部を有する形状となることを特徴とする筐体構造。
【請求項３】
請求項２に記載の筐体構造において、
上記屈曲部が三箇所以上であることを特徴とする筐体構造。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れかに記載の筐体構造において、
上記隙間を形成する二つの上記カバー部材の両方が筐体構造本体に固定される固定カバー部材であることを特徴とする筐体構造。
【請求項５】
請求項１乃至３の何れかに記載の筐体構造において、
上記隙間を形成する二つの上記カバー部材の少なくとも一方が、開閉可能な開閉カバー部材であることを特徴とする筐体構造。
【請求項６】
請求項５に記載の筐体構造において、
上記隙間を形成する二つの上記カバー部材の両方が開閉可能な開閉カバー部材であり、二つの該開閉カバー部材はどちらからでも開閉が可能であることを特徴とする筐体構造。
【請求項７】
請求項５または６の何れかに記載の筐体構造において、
上記開閉カバー部材の閉鎖が完了した状態における該開閉カバー部材の位置に対して、閉鎖時の押し込みによって移動し得る位置までの移動量である押し込み量よりも上記隙間が大きいことを特徴とする筐体構造。
【請求項８】
請求項５乃至７の何れかに記載の筐体構造において、
上記隙間は、部品公差及び可動部のクリアランスのばらつきを許容する大きさであることを特徴とする筐体構造。
【請求項９】
請求項１乃至４の何れかに記載の筐体構造において、
上記隙間は、部品公差のばらつきを許容する大きさであることを特徴とする筐体構造。
【請求項１０】
請求項１乃至９の何れかに記載の筐体構造において、
上記隙間を形成する上記カバー部材のうち、着脱頻度が高いカバー部材が外側となるように配置されていることを特徴とする筐体構造。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れかに記載の筐体構造において、
上記カバー部材の上記隙間を形成する部分がテーパー形状となっていることを特徴とする筐体構造。
【請求項１２】
請求項１乃至１１の何れかに記載の筐体構造において、
上記隙間を形成する上記カバー部材の面同士が該隙間を挟んで重なり合う部分における該カバー部材の少なくとも一方の面に他方の面と接触する突起部を設けたことを特徴とする筐体構造。
【請求項１３】
請求項１乃至１２の何れかの記載の筐体構造において、
上記筐体の内部から上記隙間を通過して外部に向かう経路における該隙間を形成する上記カバー部材の面同士が該隙間を挟んで重なり合う部分の該経路に沿う方向の長さが、３．０［ｍｍ］以上であることを特徴とする筐体構造。
【請求項１４】
動作時に音を発生する音源装置と、該音源装置を覆う筐体とを備えた電子機器において、
上記筐体として、請求項１乃至１３の何れかに記載の筐体構造を用いることを特徴とする電子機器。
【請求項１５】
電子写真方式の画像形成装置において、
請求項１４に記載の電子機器の構成を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
（態様Ｍ）
態様Ａ乃至Ｌの何れかの態様において、筐体の内部から隙間２００等の隙間を通過して外部に向かう経路における隙間を形成する第二左側面カバー１１２及び第三左側面カバー１１３等のカバー部材の面同士が隙間を挟んで重なり合う部分の経路に沿う方向の長さ（Ｌ１及びＬ２等）が、３．０［ｍｍ］以上である。
これによれば、上記実施形態について説明したように、隙間を形成するカバー部材が隙間を挟んで重なり合う部分の長さをある程度確保することによって、隙間内で回折せずに音が外部に漏れ出ることを防止することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月30日(2017.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体が収容され、その内部が真空排気可能な処理容器と、前記処理容器内に配置され、前記被処理体の載置台として機能する下部電極と、前記下部電極に対向するように前記処理容器内に配置された上部電極と、前記処理容器内に少なくともＣｘＦｙガスとＡｒガスよりも質量が軽い希ガスとを含む処理ガスを供給する処理ガス供給ユニットと、前記上部電極又は前記下部電極の少なくとも一方にプラズマ生成用の高周波電力を印加するプラズマ生成用高周波電力印加ユニットと、前記上部電極に負の直流電圧を印加する第１の直流電源とを具備するプラズマエッチング装置を用いて、エッチング対象膜にホールを形成するプラズマエッチング方法であって、
前記プラズマ生成用高周波電力印加ユニットをオンにして前記処理容器内に少なくとも前記ＣｘＦｙガスと前記Ａｒガスよりも質量が軽い希ガスとを含む処理ガスのプラズマを生成する第１条件と、前記プラズマ生成用高周波電力印加ユニットをオフにして前記処理容器内の少なくとも前記ＣｘＦｙガスと前記Ａｒガスよりも質量が軽い希ガスとを含む処理ガスのプラズマを消滅させる第２条件とを交互に繰り返し、前記第１の直流電源から、前記第１条件の期間よりも前記第２条件の期間のほうが印加電圧の絶対値が大きくなるように負の直流電圧を印加して、前記エッチング対象膜をエッチングしてホールを形成することを特徴とするプラズマエッチング方法。 
【請求項２】
第１の絶縁層と第２の絶縁層とが交互に積層された積層膜と第１の絶縁層上に形成されたマスク層とエッチング対象膜とを有する被処理体が収容され、その内部が真空排気可能な処理容器と、前記処理容器内に配置され、前記被処理体の載置台として機能する下部電極と、前記下部電極に対向するように前記処理容器内に配置された上部電極と、前記処理容器内に少なくともＣｘＦｙガスとＡｒガスよりも質量が軽い希ガスとを含む処理ガスを供給する処理ガス供給ユニットと、前記上部電極又は前記下部電極の少なくとも一方にプラズマ生成用の高周波電力を印加するプラズマ生成用高周波電力印加ユニットと、前記上部電極に負の直流電圧を印加する第１の直流電源とを具備するプラズマエッチング装置を用いて、前記エッチング対象膜にホールを形成するプラズマエッチング方法であって、
前記第１の絶縁層を第１のプラズマによりエッチングする第１のプラズマエッチング工程と、
前記第２の絶縁層を第１のプラズマによりエッチングする第２のプラズマエッチング工程と
を有し、
前記第２のプラズマエッチング工程では、
前記プラズマ生成用高周波電力印加ユニットをオンにして前記処理容器内に少なくとも前記ＣｘＦｙガスと前記Ａｒガスよりも質量が軽い希ガスとを含む処理ガスのプラズマを生成する第１条件と、前記プラズマ生成用高周波電力印加ユニットをオフにして前記処理容器内の少なくとも前記ＣｘＦｙガスと前記Ａｒガスよりも質量が軽い希ガスとを含む処理ガスのプラズマを消滅させる第２条件とを交互に繰り返し、前記第１の直流電源から、前記第１条件の期間よりも前記第２条件の期間のほうが印加電圧の絶対値が大きくなるように負の直流電圧を印加して、前記エッチング対象膜をエッチングしてホールを形成することを特徴とするプラズマエッチング方法。 
【請求項３】
前記ＣｘＦｙガスは、Ｃ４Ｆ６ガス又はＣ４Ｆ８ガスであり、前記処理ガスは、少なくとも前記Ｃ４Ｆ６ガス、前記Ｃ４Ｆ８ガスの１つを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマエッチング方法。 
【請求項４】
前記処理ガスは、Ｏ２ガスを含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のプラズマエッチング方法。 
【請求項５】
前記処理ガスは、ＮＦ３ガスを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のプラズマエッチング方法。 
【請求項６】
前記Ａｒガスよりも質量が軽い希ガスは、Ｈｅガス、Ｎｅガスであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のプラズマエッチング方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマエッチング方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明の種々の側面及び実施形態は、プラズマエッチング方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
以下に、開示するプラズマエッチング方法の実施形態について、図面に基づいて詳細に説明する。なお、本実施形態により開示する発明が限定されるものではない。実施形態は、処理内容を矛盾させない範囲で適宜組み合わせることが可能である。以下、添付図面を参照して本発明の実施の形態について具体的に説明する。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月25日(2017.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁層と、
前記絶縁層から露出するパッドと、
前記パッド上に形成されたはんだバンプと、を有し、
前記絶縁層は、水酸基又はカルボン酸基を含み、
前記絶縁層の最表面には、前記水酸基又は前記カルボン酸基とシリコーンに含有されるオリゴマーとの共有結合である疎水性基が形成されている配線基板。
【請求項２】
前記パッドは、前記絶縁層の最表面に形成されている請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記パッドは、前記絶縁層の下層となる第２の絶縁層上に形成され、
前記絶縁層は、前記第２の絶縁層上に形成され、前記パッドを露出する開口部を備えたソルダーレジスト層である請求項１記載の配線基板。
【請求項４】
前記開口部は、前記パッドの表面全体と、前記パッドの周囲の前記第２の絶縁層の表面を露出し、
前記ソルダーレジスト層の最表面及び前記開口部内に露出する前記第２の絶縁層の表面には、前記水酸基又は前記カルボン酸基とシリコーンに含有されるオリゴマーとの共有結合である疎水性基が形成されている請求項３記載の配線基板。
【請求項５】
絶縁層の最表面にシリコーンでスタンプし、前記絶縁層の最表面を疎水性に改質する絶縁層の表面改質方法であって、
前記絶縁層は、水酸基又はカルボン酸基を含み、
前記絶縁層の最表面において、前記水酸基又は前記カルボン酸基は、前記シリコーンに含有されるオリゴマーと反応して共有結合を形成し、疎水性基へ変更される絶縁層の表面改質方法。
【請求項６】
前記絶縁層の最表面にシリコーンでスタンプした後、前記絶縁層を加熱する請求項５記載の絶縁層の表面改質方法。
【請求項７】
絶縁層と、前記絶縁層から露出するパッドと、前記パッド上に形成されたはんだバンプと、を有する配線基板の製造方法であって、
請求項５又は６記載の絶縁層の表面改質方法により前記絶縁層の最表面を疎水性に改質する工程と、
前記パッド上に前記はんだバンプを形成する工程と、を有することを特徴とする配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本配線基板は、絶縁層と、前記絶縁層から露出するパッドと、前記パッド上に形成されたはんだバンプと、を有し、前記絶縁層は、水酸基又はカルボン酸基を含み、前記絶縁層の最表面には、前記水酸基又は前記カルボン酸基とシリコーンに含有されるオリゴマーとの共有結合である疎水性基が形成されていることを要件とする。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月7日(2016.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の一態様によれば、挿入部の先端部に設けられた先端硬性部と、 前記挿入部の前記先端硬性部の基端側に設けられ、操作部における湾曲操作に応じて湾曲する湾曲部と、 前記湾曲部の基端側に設けられ、フレックスで構成された可撓管部と、 前記湾曲部と前記可撓管部の間に設けられた筒状弾性部と、を備え、前記筒状弾性部は、(a)前記操作部における湾曲操作に応じて湾曲せず、(b)前記湾曲部の曲げに対する硬さよりも高くかつ前記可撓管部の曲げに対する硬さよりも低い、曲げに対する硬さを有し、(c)前記挿入部の軸方向の長さが前記湾曲部以上であり、(d)前記挿入部の軸方向において圧縮されない密着コイルによって構成されている内視鏡を提供することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
挿入部の先端部に設けられた先端硬性部と、
前記挿入部の前記先端硬性部の基端側に設けられ、操作部における湾曲操作に応じて湾曲する湾曲部と、
前記湾曲部の基端側に設けられ、フレックスで構成された可撓管部と、
前記湾曲部と前記可撓管部の間に設けられた筒状弾性部と、を備え、
前記筒状弾性部は、
(a)前記操作部における湾曲操作に応じて湾曲せず、
(b)前記湾曲部の曲げに対する硬さよりも高くかつ前記可撓管部の曲げに対する硬さよりも低い、曲げに対する硬さを有し、
(c)前記挿入部の軸方向の長さが前記湾曲部以上であり、
(d)前記挿入部の軸方向において圧縮されない密着コイルによって構成されていることを特徴とする内視鏡。
【請求項２】
前記湾曲部の基端部に前記筒状弾性部の先端部を固定する第１の筒状弾性部受け部材が設けられ、
前記湾曲部を湾曲させる湾曲用ワイヤが挿通されるコイルパイプの先端部は、前記第１の筒状弾性部受け部材のうち、前記筒状弾性部よりも内周面側に固定されていることを特徴とする請求項１に記載の内視鏡。
【請求項３】
前記コイルパイプの先端部は、前記第１の筒状弾性部受け部材の先端部に固定され、
前記筒状弾性部の先端部は、前記第１の筒状弾性部受け部材の基端部に固定されていることを特徴とする請求項２に記載の内視鏡。
【請求項４】
前記第１の筒状弾性部受け部材の基端部の外周部に段差部が形成されており、
前記筒状弾性部の先端部は、前記段差部に嵌合されていることを特徴とする請求項３に記載の内視鏡。
【請求項５】
前記筒状弾性部の基端部に前記筒状弾性部の基端部を固定する第２の筒状弾性部受け部材が設けられ、
前記第２の筒状弾性部受け部材の先端部の外周部に段差部が形成されており、
前記筒状弾性部の基端部は、前記段差部に嵌合されていることを特徴とする請求項１に記載の内視鏡。
【請求項６】
前記筒状弾性部の曲げに対する硬さは、前記挿入部の軸方向に沿って異なっていることを特徴とする請求項１に記載の内視鏡。
【請求項７】
前記筒状弾性部の曲げに対する硬さは、前記挿入部の先端部から基端部に向かう方向に沿って、高くなっていることを特徴とする請求項１に記載の内視鏡。
【請求項８】
前記筒状弾性部の曲げに対する硬さは、前記筒状弾性部を構成する線状部材の線径又は材質を変更することによって、変化していることを特徴とする請求項７に記載の内視鏡。
【請求項９】
前記筒状弾性部の曲げに対する硬さは、前記挿入部の先端部から基端部に向かう方向に沿って、段階的に高くなっていることを特徴とする請求項７に記載の内視鏡。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月7日(2017.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート電極層と、
前記ゲート電極層上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の前記ゲート電極層と重畳する酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の一対の電極層と、を有し、
前記一対の電極層は、合金膜を含む積層を有し、
前記酸化物半導体膜は、ｃ軸に配向した結晶部を有し、
前記一対の電極層が重畳しない領域の前記酸化物半導体膜の膜厚が、前記一対の電極層が重畳する領域の前記酸化物半導体膜の膜厚よりも薄く、
前記合金膜は、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｔａ、またはＴｉのいずれか一と、Ｃｕと、を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
ゲート電極層と、
前記ゲート電極層上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の前記ゲート電極層と重畳する酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜の上面に接する金属酸化膜と、
前記金属酸化膜上の一対の電極層と、を有し、
前記一対の電極層は、合金膜を含む積層を有し、
前記金属酸化膜は、ｃ軸に配向した結晶部を有し、
前記一対の電極層が重畳しない領域の前記金属酸化膜の膜厚が、前記一対の電極層が重畳する領域の前記金属酸化膜の膜厚よりも薄く、
前記合金膜は、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｔａ、またはＴｉのいずれか一と、Ｃｕと、を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記一対の電極層は、前記合金膜の上面に接するＣｕ、Ａｌ、Ａｕ、またはＡｇのいずれか一を含む導電膜を有することを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月10日(2017.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のゲート電極層と、
前記第１のゲート電極層上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の前記第１のゲート電極層と重畳する酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の一対の電極層と、を有し、
前記第１のゲート電極層は、Ｃｕ−Ｘ合金膜（Ｘは、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｔａ、またはＴｉを表す）を含み、
前記ゲート絶縁膜が、窒素とシリコンを含む窒化膜と、酸素とシリコンを含む酸化膜と、を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
第１のゲート電極層と、
前記第１のゲート電極層上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の前記ゲート電極層ゲート電極層と重畳する酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の保護絶縁膜と、
前記保護絶縁膜を介し、前記酸化物半導体膜に電気的に接続される一対の電極層と、を有し、
前記第１のゲート電極層は、Ｃｕ−Ｘ合金膜（Ｘは、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｔａ、またはＴｉを表す）を含み、
前記ゲート絶縁膜が、窒素とシリコンを含む窒化膜と、酸素とシリコンを含む酸化膜と、を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
第１のゲート電極層と、
前記第１のゲート電極層上の第１のゲート絶縁膜と、
前記第１のゲート絶縁膜上の前記第１のゲート電極層と重畳する酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の保護絶縁膜と、
前記保護絶縁膜を介し、前記酸化物半導体膜に電気的に接続される一対の電極層と、
前記保護絶縁膜及び前記一対の電極層上の第２のゲート絶縁膜と、
前記第２のゲート絶縁膜上の前記酸化物半導体膜と重畳する第２のゲート電極層と、を有するトランジスタを有し、
前記第１のゲート電極層は、Ｃｕ−Ｘ合金膜（Ｘは、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｔａ、またはＴｉを表す）を含み、
前記第１のゲート絶縁膜が、窒素とシリコンを含む窒化膜と、酸素とシリコンを含む酸化膜と、を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記トランジスタのチャネル幅方向において、前記第１のゲート電極層及び前記第２のゲート電極層は、
前記第１のゲート絶縁膜、前記保護絶縁膜、及び前記第２のゲート絶縁膜に設けられる開口部において接続すると共に、前記第１のゲート絶縁膜、前記保護絶縁膜、及び前記第２のゲート絶縁膜を介して前記酸化物半導体膜を囲む、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記第１のゲート電極層は、Ｃｕ−Ｍｎ合金膜を含む、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記第１のゲート電極層は、
Ｃｕ−Ｍｎ合金膜と、前記Ｃｕ−Ｍｎ合金膜上のＣｕ膜と、を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記第１のゲート電極層は、
第１のＣｕ−Ｍｎ合金膜と、前記第１のＣｕ−Ｍｎ合金膜上のＣｕ膜と、前記Ｃｕ膜上の第２のＣｕ−Ｍｎ合金膜と、を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
前記第１のゲート絶縁膜は、窒化シリコン膜と、前記窒化シリコン膜上の酸化窒化シリコン膜と、を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、
前記酸化物半導体膜は、
Ｉｎ−Ｍ−Ｚｎ酸化物（Ｍは、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、ＳｎまたはＨｆを表す）である、
ことを特徴とする半導体装置。