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【手続補正書】
【提出日】平成28年11月25日(2016.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信路を介して接続された相手機器との間で連繋したサービスをユーザに提供する電子機器であって、
前記サービスを提供するための情報であって、装置間でネゴシエーションを行うための第１情報を、前記通信路が形成される前に生成する生成手段と、
前記第１情報が生成され、かつ前記通信路が形成された後、該通信路を介して前記相手機器から受信された情報と前記第１情報に基づいて、前記相手機器が前記第１情報に基づいたサービスを実行可能か否かの判定を行う判定手段と、
前記判定手段によって前記相手機器が前記サービスを実行可能と判定された場合に、前記サービスを実行する実行手段とを備えることを特徴とする電子機器。
【請求項２】
前記判定手段は、前記相手機器から受信した情報と、前記第１情報に記憶された情報とを比較することによって前記判定を行うことを特徴とする請求項１に記載の電子機器。
【請求項３】
前記第１情報は、サービス種別とデバイス種別の情報を含み、
前記判定手段は、前記相手機器から受信したサービス種別とデバイス種別の情報が前記第１情報に含まれる前記サービス種別と前記デバイス種別の情報とそれぞれ一致する場合に、前記相手機器が前記第１情報に基づいたサービスを実行可能と判定することを特徴とする請求項１または２に記載の電子機器。
【請求項４】
ユーザに対して通知を行う通知手段を更に備え、
前記第１情報は、サービス種別とデバイス種別の情報を含み、
前記判定手段は、前記相手機器から受信したデバイス種別の情報と前記第１情報に含まれる前記デバイス種別の情報が一致し、前記相手機器から受信したサービス種別の情報と前記第１情報に含まれる前記サービス種別の情報が一致しない場合に、前記相手機器が前記第１情報に基づいたサービスを実行不可能と判定し、前記通知手段はサービスを再選択させるための通知を行うことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項５】
前記第１情報は、自機内で前記サービスを実行するための操作手順とパラメータ値を含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項６】
前記実行手段が前記サービスが実行した後に、前記第１情報を削除する削除手段を更に備えることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項７】
前記第１情報は、サービス種別とデバイス種別の情報を含み、
前記判定手段は、前記相手機器から受信したデバイス種別の情報と前記第１情報に含まれる前記デバイス種別の情報が一致しない場合に、前記相手機器が前記第１情報に基づいたサービスを実行不可能と判定し、前記生成手段は、代替サービスを提供するための代替情報を生成することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項８】
前記第１情報は、サービス種別とデバイス種別の情報を含み、
前記判定手段は、前記相手機器から受信したデバイス種別の情報と前記第１情報に含まれる前記デバイス種別の情報が一致し、前記相手機器から受信したサービス種別の情報と前記第１情報に含まれる前記サービス種別の情報が一致しない場合に、前記相手機器が前記第１情報に基づいたサービスを実行不可能と判定し、前記生成手段は、代替サービスを提供するための代替情報を生成することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項９】
前記相手機器が前記代替サービスを実行可能と前記判定手段が判定した場合に、前記実行手段は、前記代替サービスを実行することを特徴とする請求項７または８に記載の電子機器。
【請求項１０】
ユーザに対して通知を行う通知手段を更に備え、
前記相手機器が前記代替サービスを実行不可能と前記判定手段が判定した場合に、前記通知手段はサービスを再選択させるための通知を行うことを特徴とする請求項７乃至９のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項１１】
前記代替情報は、自機内で前記サービスを実行するための操作手順とパラメータ値を含むことを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項１２】
前記実行手段が前記代替サービスが実行した後に、前記代替情報を削除する削除手段を更に備えることを特徴とする請求項７乃至１１のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項１３】
通信路を介して接続された相手機器との間で連繋したサービスをユーザに提供する電子機器の制御方法であって、
前記サービスを提供するための情報であって、装置間でネゴシエーションを行うための第１情報を、前記通信路が形成される前に生成する生成工程と、
前記第１情報が生成され、かつ前記通信路が形成された後、該通信路を介して前記相手機器から受信された情報と前記第１情報に基づいて、前記相手機器が前記第１情報に基づいたサービスを実行可能か否かの判定を行う判定工程と、
前記判定工程において前記相手機器が前記サービスを実行可能と判定された場合に、前記サービスを実行する実行工程とを有することを特徴とする制御方法。
【請求項１４】
請求項１乃至請求項１２のいずれか１項に記載の電子機器としてコンピュータを機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するための一手段として、本発明の電子機器は以下の構成を備える。すなわち、通信路を介して接続された相手機器との間で連繋したサービスをユーザに提供する電子機器であって、前記サービスを提供するための情報であって、装置間でネゴシエーションを行うための第１情報を、前記通信路が形成される前に生成する生成手段と、前記第１情報が生成され、かつ前記通信路が形成された後、該通信路を介して前記相手機器から受信された情報と前記第１情報に基づいて、前記相手機器が前記第１情報に基づいたサービスを実行可能か否かの判定を行う判定手段と、前記判定手段によって前記相手機器が前記サービスを実行可能と判定された場合に、前記サービスを実行する実行手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月20日(2017.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｎ型ＩｎＰ基板と、
前記ｎ型ＩｎＰ基板上に設けられた、半導体レーザ部と、
前記ｎ型ＩｎＰ基板上における前記半導体レーザ部の隣に設けられ、前記半導体レーザ部からのレーザ光を受ける光変調器と、
前記ｎ型ＩｎＰ基板上における前記光変調器の隣に設けられ、前記光変調器から出射する光を受けるスポットサイズ変換器と、
前記ｎ型ＩｎＰ基板上における前記スポットサイズ変換器の隣に設けられ、前記スポットサイズ変換器から出射する光を受ける埋込窓と、
前記ｎ型ＩｎＰ基板と前記スポットサイズ変換器との間および前記ｎ型ＩｎＰ基板と前記埋込窓との間に設けられ、前記光変調器の出射光が前記スポットサイズ変換器および前記埋込窓で曲がらないように前記スポットサイズ変換器および前記埋込窓の下層において屈折率を調整する光出射角調整層と、
を備えた半導体光素子。
【請求項２】
前記半導体レーザ部が、ｎ型ＩｎＰクラッド層を含み、
前記光出射角調整層が、前記ｎ型ＩｎＰクラッド層よりも不純物ドーピング密度が小さいｎ型ＩｎＰ層を含む請求項１に記載の半導体光素子。
【請求項３】
前記光出射角調整層が、ｎ型ＡｌＧａＩｎＡｓ層を含むことを特徴とする請求項１に記載の半導体光素子。
【請求項４】
前記光出射角調整層が、前記ｎ型ＩｎＰ基板と前記半導体レーザ部との間および前記ｎ型ＩｎＰ基板と前記光変調器との間にも設けられた請求項１〜３のいずれか１項に記載の半導体光素子。
【請求項５】
前記光出射角調整層が、前記ｎ型ＩｎＰ基板と前記半導体レーザ部との間および前記ｎ型ＩｎＰ基板と前記光変調器との間には、設けられていない請求項１〜３のいずれか１項に記載の半導体光素子。
【請求項６】
ｎ型ＩｎＰ基板上に光出射角調整層を成長させる工程と、
前記光出射角調整層の上に、半導体レーザ部を形成するための複数の半導体層を成長させる工程と、
前記複数の半導体層の上に前記半導体レーザ部の形成領域を覆うマスクを設け、前記複数の半導体層をエッチング除去し、前記光出射角調整層を露出させる工程と、
前記エッチング除去により露出した前記光出射角調整層の上に、前記光出射角調整層の平面方向に並べて光変調器、スポットサイズ変換器、および埋込窓を成長させる工程と、
を含むことを特徴とする半導体光素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明にかかる半導体光素子は、ｎ型ＩｎＰ基板と、前記ｎ型ＩｎＰ基板上に設けられた、半導体レーザ部と、前記ｎ型ＩｎＰ基板上における前記半導体レーザ部の隣に設けられ、前記半導体レーザ部からのレーザ光を受ける光変調器と、前記ｎ型ＩｎＰ基板上における前記光変調器の隣に設けられ、前記光変調器から出射する光を受けるスポットサイズ変換器と、前記ｎ型ＩｎＰ基板上における前記スポットサイズ変換器の隣に設けられ、前記スポットサイズ変換器から出射する光を受ける埋込窓と、前記ｎ型ＩｎＰ基板と前記スポットサイズ変換器との間および前記ｎ型ＩｎＰ基板と前記埋込窓との間に設けられ、前記光変調器の出射光が前記スポットサイズ変換器および前記埋込窓で曲がらないように前記スポットサイズ変換器および前記埋込窓の下層において屈折率を調整する光出射角調整層と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月21日(2016.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁路を形成する磁性コアと、前記磁性コアに捲回されるコイルとを備え、
前記磁性コアは、前記コイルの捲回中心軸線に沿った方向に延びるとともに周囲に前記コイルが配置される脚部を有する第１コアと、前記脚部の延設方向に対して交差する方向に延びる第２コアとを有し、
前記脚部の延設方向と前記第２コアの延設方向とが交差する位置には、ギャップ形成部が設けられており、前記ギャップ形成部は、前記第２コアに対向する対向面を有しており、前記第２コアは、前記対向面に対向して前記対向面と共にギャップを形成するギャップ形成面を有しており、
前記対向面及び前記ギャップ形成面は、前記脚部における前記コイルと対向する外側面よりも前記脚部の軸線に近い位置に配置されており、
前記第２コアにおけるギャップ形成面側の前記コイル寄りの角部に面取り部が形成されていることを特徴とする誘導機器。
【請求項２】
前記ギャップ形成部は、前記脚部と一体的に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の誘導機器。
【請求項３】
前記第１コアは、前記対向面と前記外側面とを繋ぐ湾曲部を有することを特徴とする請求項２に記載の誘導機器。
【請求項４】
前記ギャップ形成部及び前記第２コアは、放熱部材に接する接触部を有することを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の誘導機器。
【請求項５】
前記ギャップ形成部は、前記脚部とは別体であることを特徴とする請求項１に記載の誘導機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決する誘導機器は、磁路を形成する磁性コアと、前記磁性コアに捲回されるコイルとを備え、前記磁性コアは、前記コイルの捲回中心軸線に沿った方向に延びるとともに周囲に前記コイルが配置される脚部を有する第１コアと、前記脚部の延設方向に対して交差する方向に延びる第２コアとを有し、前記脚部の延設方向と前記第２コアの延設方向とが交差する位置には、ギャップ形成部が設けられており、前記ギャップ形成部は、前記第２コアに対向する対向面を有しており、前記第２コアは、前記対向面に対向して前記対向面と共にギャップを形成するギャップ形成面を有しており、前記対向面及び前記ギャップ形成面は、前記脚部における前記コイルと対向する外側面よりも前記脚部の軸線に近い位置に配置されており、前記第２コアにおけるギャップ形成面側の前記コイル寄りの角部に面取り部が形成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
磁束は、磁性コアに形成される磁路の磁気抵抗が低くなるように、磁性コアの最短経路を通過しようとするため、第２コアにおけるギャップ形成面側のコイル寄りの角部を含む周辺の領域に集中する。ここで、ギャップを形成する対向面及びギャップ形成面は、脚部におけるコイルと対向する外側面よりも脚部の軸線に近い位置に配置されている。これによれば、第２コアのギャップ形成面が、脚部におけるコイルと対向する外側面よりも脚部の軸線に対して離れた位置に配置されている場合に比べると、第２コアにおけるギャップ形成面側のコイル寄りの角部を、コイルから離間させることができる。その結果、第２コアにおけるギャップ形成面側のコイル寄りの角部の近傍に位置するコイルに鎖交する漏れ磁束を低減することができる。また、第２コアにおけるギャップ形成面側のコイル寄りの角部に面取り部が形成されていない場合に比べると、第２コアにおけるギャップ形成面側のコイル寄りの角部を含む周辺の領域に磁束が集中してしまうことを抑制することができる。その結果、第２コアにおけるギャップ形成面側のコイル寄りの角部の近傍に位置するコイルに鎖交する漏れ磁束をさらに低減させ易くすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月14日(2017.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原稿が載置される載置部と、
前記載置部上で原稿のサイズを検知する第一の検知手段と、
前記載置部から搬送された原稿の有無を検知する第二の検知手段と、
前記載置部から搬送された原稿の画像を読み取る読取手段と、
情報を通知する通知手段と、
前記第二の検知手段により原稿の先端を検知してから前記第一の検知手段により検知された前記原稿のサイズに応じた長さ分、前記原稿を搬送させたときに、前記第二の検知手段が前記原稿の有を検知していた場合には、前記第一の検知手段により原稿のサイズを正しく検知できなかったことを前記通知手段により通知する制御手段と、
を有することを特徴とする画像読取装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記第二の検知手段により原稿の先端を検知してから前記第一の検知手段により検知された前記原稿のサイズに応じた長さ分、前記原稿を搬送させたときに、前記第二の検知手段が前記原稿の有を検知していた場合には、前記読取手段による前記原稿の画像の読み取りを停止させることを特徴とする請求項１に記載の画像読取装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記読取手段による原稿の画像の読み取りを停止させた後も、前記原稿の搬送を継続させることを特徴とする請求項２に記載の画像読取装置。
【請求項４】
前記第二の検知手段は、搬送されている原稿の有無を検知する複数の検知手段の中で、前記載置部よりも原稿の搬送方向における下流で且つ最も上流側に配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項５】
前記第二の検知手段よりも前記搬送方向における下流側であって、前記読取手段により原稿の画像を読み取るための位置よりも前記搬送方向における上流側に配置され、原稿の有無を検知する第三の検知手段を備え、
前記制御手段は、前記読取手段による原稿の画像の読み取りを停止させた後、前記原稿の搬送を継続させている間に、前記第二の検知手段及び前記第三の検知手段のうち少なくとも一つの検知手段が原稿の有を検知してから所定の時間が経過しても原稿の有を検知している場合には、原稿の紙詰まりと判断し、原稿の搬送を停止させることを特徴とする請求項４に記載の画像読取装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記読取手段による原稿の画像の読み取りを停止させた後、前記原稿の搬送を継続させている間に、前記第二の検知手段及び前記第三の検知手段が、いずれも原稿の後端が通過したことを検知した場合には、原稿の搬送を継続させることを特徴とする請求項５に記載の画像読取装置。
【請求項７】
原稿を排紙する排紙部と、
原稿を前記排紙部に搬送する搬送手段と、
を備え、
前記制御手段は、前記読取手段による原稿の画像の読み取りを停止させた後、前記原稿の搬送を継続させている場合に、前記原稿の後端が前記搬送手段により挟持された状態で、前記搬送手段による原稿の搬送を停止させることを特徴とする請求項６に記載の画像読取装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記載置部に複数の種類のサイズの原稿を混ぜて載置する設定、及び原稿の搬送方向の長さを測定しながら原稿を搬送する設定となっていない場合に、前記第二の検知手段により原稿の先端を検知してから前記第一の検知手段により検知された原稿のサイズに応じた長さ分、前記原稿を搬送させたときに、前記第二の検知手段が前記原稿の有を検知していた場合には、前記原稿のサイズを正しく検知できなかったことを前記通知手段により通知することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記第二の検知手段により原稿の搬送方向における長さを検知した結果に基づき原稿のサイズを決定することを特徴とする請求項８に記載の画像読取装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記第一の検知手段により検知した原稿の搬送方向における長さが所定の長さ未満の場合に、前記第二の検知手段により原稿の先端を検知してから前記第一の検知手段により検知された原稿のサイズに応じた長さ分、前記原稿を搬送させたときに、前記第二の検知手段が前記原稿の有を検知していた場合には、前記原稿のサイズを正しく検知できなかったことを前記通知手段により通知することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、前記第二の検知手段により原稿の先端を検知してから前記第一の検知手段により検知された原稿のサイズに応じた長さ分、前記原稿を搬送させる前に、前記原稿の後端が前記第二の検知手段を通過したことを検知した場合には、前記読取手段による前記原稿の画像の読み取りを続行させることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項１２】
前記第一の検知手段は、原稿の搬送方向の長さを検知するための原稿長センサと、前記原稿の前記搬送方向に直交する方向の長さを検知するための原稿幅センサと、を有することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項１３】
前記読取手段により読み取った原稿の画像の情報を記憶する記憶手段を備え、
前記制御手段は、前記記憶手段の領域内に、前記第一の検知手段により検知した原稿のサイズに応じた領域を確保することを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月8日(2017.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１対１の無線通信により映像を伝送するための映像無線伝送規格に従って、映像を送信または受信する装置であって、
前記装置と接続先装置との間における前記映像無線伝送規格に従った接続の確立を制御する接続制御部と、
前記装置と前記接続先装置との両方が、前記映像の送信側装置として機能する送信側状態である場合、または、前記装置と前記接続先装置との両方が、前記映像の受信側装置として機能する受信側状態である場合に、前記接続の確立に先立って、前記装置と前記接続先装置とのいずれか一方の状態を変更させる状態変更部と、
を備える、装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置であって、
前記状態変更部は、前記接続先装置の状態を取得し、取得した状態に基づいて、前記装置と前記接続先装置との両方の状態が同じであるか否かを判定する、装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の装置であって、
前記装置は、前記送信側装置としての機能と、前記受信側装置としての機能と、の両方を備え、
前記状態変更部は、前記装置と前記接続先装置との両方の状態が同じである場合に、前記装置の状態を変更させる、装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の装置であって、
前記装置は、前記送信側装置としての機能と、前記受信側装置としての機能と、のいずれか一方を備え、
前記状態変更部は、前記装置と前記接続先装置との両方の状態が同じである場合に、前記接続先装置に対して、前記接続先装置の状態を変更する旨の要求を送信することで、前記接続先装置の状態を変更させる、装置。
【請求項５】
請求項１または請求項２に記載の装置であって、
前記装置は、前記送信側装置としての機能と、前記受信側装置としての機能と、の両方を備え、
前記接続先装置は、前記送信側装置としての機能と、前記受信側装置としての機能と、の両方を備え、
前記状態変更部は、さらに、
前記装置と前記接続先装置との両方の状態が同じである場合に、前記装置と前記接続先装置との中から状態を変更させる対象装置を決定し、
前記対象装置が前記装置である場合、前記装置の状態を変更させ、
前記対象装置が前記接続先装置である場合、前記接続先装置に対して、前記接続先装置の状態を変更する旨の要求を送信することで、前記接続先装置の状態を変更させる、装置。
【請求項６】
請求項５に記載の装置であって、
前記状態変更部は、
前記装置に接続されている機器の種類を取得し、
前記接続先装置に接続されている機器の種類を取得し、
前記装置に接続されている機器の種類と、前記接続先装置に接続されている機器の種類と、に応じて、前記対象装置を決定する、装置。
【請求項７】
請求項５または請求項６に記載の装置であって、
前記状態変更部は、
前記装置から前記接続を開始するための要求を送信した場合は、前記接続先装置を前記対象装置と決定し、
前記接続先装置から前記接続を開始するための要求を受信した場合は、前記装置を前記対象装置と決定する、装置。
【請求項８】
請求項５から請求項７のいずれか一項に記載の装置であって、さらに、
前記装置において過去に前記送信側状態が採用された回数または時間と、前記装置において過去に前記受信側状態が採用された回数または時間と、に関する履歴を記憶する履歴記憶部を備え、
前記状態変更部は、
前記接続先装置の前記履歴を取得し、
前記装置の前記履歴と、前記接続先装置の前記履歴と、に応じて、前記対象装置を決定する、装置。
【請求項９】
請求項５から請求項８のいずれか一項に記載の装置であって、
前記状態変更部は、予め定められた優先順位に従って前記対象装置を決定する、装置。
【請求項１０】
装置を制御する方法であって、
（ａ）前記装置と接続先装置との間における、１対１の無線通信により映像を伝送するための映像無線伝送規格に従った接続の確立を制御する工程と、
（ｂ）前記装置と前記接続先装置との両方が、前記映像の送信側装置として機能する送信側状態である場合、または、前記装置と前記接続先装置との両方が、前記映像の受信側装置として機能する受信側状態である場合に、前記接続の確立に先立って、前記装置と前記接続先装置とのいずれか一方の状態を変更させる工程と、
を備える、方法。
【請求項１１】
コンピュータープログラムであって、
装置と接続先装置との間における、１対１の無線通信により映像を伝送するための映像無線伝送規格に従った接続の確立を制御する機能と、
前記装置と前記接続先装置との両方が、前記映像の送信側装置として機能する送信側状態である場合、または、前記装置と前記接続先装置との両方が、前記映像の受信側装置として機能する受信側状態である場合に、前記接続の確立に先立って、前記装置と前記接続先装置とのいずれか一方の状態を変更させる機能と、
をコンピューターに実現させるための、コンピュータープログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月22日(2016.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザ端末であって、
制御部と、
Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ情報を含みブロードキャストにより送信されるシステム情報ブロック（ＳＩＢ）を基地局から受信するよう構成される受信部と、
前記ユーザ端末の近傍に存在する他のユーザ端末を発見するための発見信号を送信するよう構成される送信部と、を備え、
前記Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ情報は、前記発見信号を送信する際に用いられるリソース情報、前記発見信号を送信する際に用いられる送信電力情報、及び所定の閾値を示す閾値情報を含み、
前記制御部は、
サービングセルからの参照信号のＲＳＲＰ（Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ  Ｓｉｇｎａｌ  Ｒｅｃｅｉｖｅｄ  Ｐｏｗｅｒ）と前記閾値情報によりに示される前記所定の閾値との比較に基づいて、前記発見信号を送信するか否かを判断し、
前記リソース情報に基づいて前記発見信号を送信するために用いられる無線リソースを決定し、かつ、
前記送信電力情報に基づいて前記発見信号を送信するために用いられる送信電力を決定する、よう構成され、
前記送信部は、前記決定した無線リソースを用いて、前記決定した送信電力で、前記発見信号を前記他のユーザ端末へ直接的に送信するよう構成されるユーザ端末。
【請求項２】
ユーザ端末を制御するためのプロセッサであって、
Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ情報を含みブロードキャストにより送信されるシステム情報ブロック（ＳＩＢ）を基地局から受信する処理と、
前記ユーザ端末の近傍に存在する他のユーザ端末を発見するための発見信号を送信する処理と、を実行し、
前記Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ情報は、前記発見信号を送信する際に用いられるリソース情報、前記発見信号を送信する際に用いられる送信電力情報、及び所定の閾値を示す閾値情報を含み、
前記プロセッサは、
サービングセルからの参照信号のＲＳＲＰ（Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ  Ｓｉｇｎａｌ  Ｒｅｃｅｉｖｅｄ  Ｐｏｗｅｒ）と前記閾値情報によりに示される前記所定の閾値との比較に基づいて、前記発見信号を送信するか否かを判断する処理と、
前記リソース情報に基づいて前記発見信号を送信するために用いられる無線リソースを決定する処理と、
前記送信電力情報に基づいて前記発見信号を送信するために用いられる送信電力を決定する処理と、
前記決定した無線リソースを用いて、前記決定した送信電力で、前記発見信号を前記他のユーザ端末へ直接的に送信する処理と、を実行するプロセッサ。
【請求項３】
Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ情報をシステム情報ブロック（ＳＩＢ）に含めるよう構成される制御部と、
ブロードキャストにより前記ＳＩＢをユーザ端末へ送信するよう構成される送信部と、を備え、
前記Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ情報は、前記ユーザ端末の近傍に存在する他のユーザ端末を発見するための発見信号を前記ユーザ端末が送信するための情報であり、
前記Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ情報は、
前記発見信号を送信する際に用いられる無線リソースの情報と、
前記発見信号を送信する際に用いられる送信電力の情報と、
前記Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ情報に基づく前記発見信号を送信するか否かを前記ユーザ端末が判断するために、サービングセルから送信される参照信号のＲＳＲＰ（Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ  Ｓｉｇｎａｌ  Ｒｅｃｅｉｖｅｄ  Ｐｏｗｅｒ）と比較される所定の閾値を示す情報と、を含む基地局。
【請求項４】
基地局を制御するためのプロセッサであって、
Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ情報をシステム情報ブロック（ＳＩＢ）に含める処理と、
ブロードキャストにより前記ＳＩＢをユーザ端末へ送信する処理と、を実行し、
前記Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ情報は、前記ユーザ端末の近傍に存在する他のユーザ端末を発見するための発見信号を前記ユーザ端末が送信するための情報であり、
前記Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ情報は、
前記発見信号を送信する際に用いられる無線リソースの情報と、
前記発見信号を送信する際に用いられる送信電力の情報と、
前記Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ情報に基づく前記発見信号を送信するか否かを前記ユーザ端末が判断するために、サービングセルから送信される参照信号のＲＳＲＰ（Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ  Ｓｉｇｎａｌ  Ｒｅｃｅｉｖｅｄ  Ｐｏｗｅｒ）と比較される所定の閾値を示す情報と、を含むプロセッサ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月8日(2017.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持して移動可能なステージと、
前記基板に形成されたマークの位置を計測するスコープと、
前記スコープにより計測された前記マークの位置に基づいて前記パターンの形成を行うように前記ステージの移動を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記スコープにより前記基板に形成された第１マークの位置である第１位置を計測する第１計測を行い、
前記計測された第１位置に基づいてＸＹＺ座標系における第１軸の軸周りに関する前記基板の前記ステージに対する回転ずれの量を算出し、
前記算出された回転ずれの量に基づいて前記第１軸に垂直な第２軸の方向における、前記基板に形成された第２マークの位置である第２位置を推定し、
前記推定された第２位置に基づいて前記ステージを前記第２軸の方向に移動させた後に、前記スコープにより前記第２マークの位置である第３位置を計測する第２計測を行う
ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記第１軸は、前記ＸＹＺ座標系のＺ軸であり、前記第１位置、前記第２位置、および前記第３位置は、Ｘ軸およびＹ軸の少なくともいずれかの方向における位置であることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記制御部は、Ｚ軸周りの前記回転ずれの量に基づいて、Ｘ軸およびＹ軸の少なくともいずれかの方向における前記第２マークの位置を前記第２位置として推定し、該推定された第２位置に基づいて、前記ステージをＺ軸周りに回転させることなくＸ軸およびＹ軸の少なくともいずれかの方向に移動させた後に、前記第２計測を行うことを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記第２軸は、前記ＸＹＺ座標系のＺ軸であり、前記第１位置、前記第２位置、および前記第３位置は、Ｚ軸の方向における位置であることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記制御部は、Ｘ軸およびＹ軸の少なくともいずれかの軸周りの前記回転ずれの量に基づいてＺ軸の方向における前記第２マークの位置を前記第２位置として推定し、該推定された第２位置に基づいて、前記ステージをＸ軸周りおよびＹ軸周りに回転させることなくＺ軸の方向に移動させた後に、前記第２計測を行うことを特徴とする請求項４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記基板には前記第１マークが複数形成されており、
前記制御部は、前記第１計測において、前記複数の第１マークそれぞれの位置を計測することにより前記第１位置を複数得ることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記スコープにより第１倍率で前記第１計測を行い、前記スコープにより前記第１倍率より高い第２倍率で前記第２計測を行うことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記ＸＹＺ座標系のＸ軸またはＹ軸の方向における前記ステージの位置を計測する計測器をさらに備え、前記制御部は、前記スコープにより計測された前記マークの位置および前記計測器により計測された前記ステージの位置に基づいて前記ステージを移動して前記パターンを形成することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記ステージは、バーミラーを含み、前記計測器は、前記バーミラーの面の位置を計測する干渉計を含むことを特徴とする請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
ステージに保持された基板の上にパターンを形成するリソグラフィ方法であって、
スコープにより前記基板に形成された第１マークの位置である第１位置を計測する第１計測工程と、
前記第１計測工程で計測された前記第１位置に基づいてＸＹＺ座標系の第１軸の軸周りに関する前記基板の前記ステージに対する回転ずれの量を算出する算出工程と、
前記算出工程で算出された前記回転ずれの量に基づいて前記第１軸に垂直な第２軸の方向における、前記基板に形成された第２マークの位置である第２位置を推定する推定工程と、
前記推定工程で推定された前記第２位置に基づいて前記ステージを前記第２軸の方向に移動させた後に、前記スコープにより前記第２マークの位置である第３位置を計測する第２計測工程と、
前記第２計測工程で計測された前記第３位置に基づいて前記ステージを移動させた後に前記パターンを形成する形成工程と、
を含むことを特徴とするリソグラフィ方法。
【請求項１１】
請求項１ないし９のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された前記基板を加工する工程と、
を含み、前記加工された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の１つの側面は、基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、前記基板を保持して移動可能なステージと、前記基板に形成されたマークの位置を計測するスコープと、前記スコープにより計測された前記マークの位置に基づいて前記パターンの形成を行うように前記ステージの移動を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記スコープにより前記基板に形成された第１マークの位置である第１位置を計測する第１計測を行い、前記計測された第１位置に基づいてＸＹＺ座標系における第１軸の軸周りに関する前記基板の前記ステージに対する回転ずれの量を算出し、前記算出された回転ずれの量に基づいて前記第１軸に垂直な第２軸の方向における、前記基板に形成された第２マークの位置である第２位置を推定し、前記推定された第２位置に基づいて前記ステージを前記第２軸の方向に移動させた後に、前記スコープにより前記第２マークの位置である第３位置を計測する第２計測を行うことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月10日(2017.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１配線層と、
前記第１配線層の上に形成された第１絶縁層と、
平面視で前記第１配線層と重なり合う領域の前記第１絶縁層の上に形成され、前記第１配線層と離間する複数の突出部を下面に備えた電子部品搭載パッドと、
前記第１絶縁層の上に形成され、前記電子部品搭載パッドの上に開口部が配置された第２絶縁層と
を有することを特徴とする配線基板。
【請求項２】
前記第１絶縁層に形成され、前記第１配線層に到達するビアホールと、
前記第１絶縁層の上に形成され、前記ビアホール内のビア導体を介して前記第１配線層に接続されると共に、前記電子部品搭載パッドと同一層から形成された第２配線層とを有することを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項３】
前記電子部品搭載パッドと前記第１配線層とを接続する接続ビアが形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の配線基板。
【請求項４】
前記電子部品搭載パッドの突出部は、前記電子部品搭載パッドの周縁部に枠状に繋がって配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の配線基板。
【請求項５】
第１配線層と、
前記第１配線層の上に形成された第１絶縁層と、
平面視で前記第１配線層と重なり合う領域の前記第１絶縁層の上に形成され、前記第１配線層と離間する複数の突出部を下面に備えた電子部品搭載パッドと、
前記第１絶縁層の上に形成され、前記電子部品搭載パッドの上に開口部が配置された第２絶縁層と、
前記電子部品搭載パッドの上に搭載された電子部品と
を有することを特徴とする電子部品装置。
【請求項６】
前記第１絶縁層に形成され、前記第１配線層に到達する第１ビアホールと、
前記第１絶縁層の上に形成され、前記第１ビアホール内のビア導体を介して前記第１配線層に接続されると共に、前記電子部品搭載パッドと同一層から形成された第２配線層とを有することを特徴とする請求項５に記載の電子部品装置。
【請求項７】
前記第２絶縁層の上に形成され、前記電子部品を被覆する第３絶縁層と、
前記第３絶縁層に形成され、前記電子部品の接続端子に到達する第２ビアホールと、
前記第３絶縁層の上に形成され、前記第２ビアホール内のビア導体を介して前記電子部品の接続端子に接続される第３配線層とを有することを特徴とする請求項５又は６に記載の電子部品装置。
【請求項８】
第１配線層の上に第１絶縁層を形成する工程と、
平面視で前記第１配線層と重なり合う領域の前記第１絶縁層の上面側に凹部を形成する工程と、
前記凹部を埋め込む複数の突出部を下面に備え、前記突出部が前記第１配線層と離間する電子部品搭載パッドを前記絶縁層の上に形成する工程と、
前記第１絶縁層の上に、前記電子部品搭載パッド上にレーザで開口部が形成された第２絶縁層を形成する工程と
を有することを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項９】
前記凹部を形成する工程において、
レーザで前記絶縁層に前記凹部を形成し、かつ、前記レーザで前記絶縁層に前記第１配線層に到達するビアホールを形成し、
前記電子部品搭載パッドを形成する工程において、
前記ビアホール内のビア導体を介して前記第１配線層に接続される第２配線層を同時に形成することを特徴とする請求項８に記載の配線基板の製造方法。
【請求項１０】
第１配線層の上に第１絶縁層を形成する工程と、
平面視で前記第１配線層と重なり合う領域の前記第１絶縁層の上面側に凹部を形成する工程と、
前記凹部を埋め込む複数の突出部を下面に備え、前記突出部が前記第１配線層と離間する電子部品搭載パッドを前記第１絶縁層の上に形成する工程と、
前記第１絶縁層の上に、前記電子部品搭載パッドの上に開口部が配置された第２絶縁層を形成する工程と、
前記電子部品搭載パッドの上に電子部品を搭載する工程と
を有することを特徴とする電子部品装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
以下の開示の一観点によれば、第１配線層と、前記第１配線層の上に形成された第１絶縁層と、平面視で前記第１配線層と重なり合う領域の前記第１絶縁層の上に形成され、前記第１配線層と離間する複数の突出部を下面に備えた電子部品搭載パッドと、前記第１絶縁層の上に形成され、前記電子部品搭載パッドの上に開口部が配置された第２絶縁層とを有する配線基板が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、その開示の他の観点によれば、第１配線層と、前記第１配線層の上に形成された第１絶縁層と、平面視で前記第１配線層と重なり合う領域の前記第１絶縁層の上に形成され、前記第１配線層と離間する複数の突出部を下面に備えた電子部品搭載パッドと、前記第１絶縁層の上に形成され、前記電子部品搭載パッドの上に開口部が配置された第２絶縁層と、前記電子部品搭載パッドの上に搭載された電子部品とを有する電子部品装置が提供される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、その開示の他の観点によれば、第１配線層の上に第１絶縁層を形成する工程と、平面視で前記第１配線層と重なり合う領域の前記第１絶縁層の上面側に凹部を形成する工程と、前記凹部を埋め込む複数の突出部を下面に備え、前記突出部が前記第１配線層と離間する電子部品搭載パッドを前記絶縁層の上に形成する工程と、前記第１絶縁層の上に、前記電子部品搭載パッド上にレーザで開口部が形成された第２絶縁層を形成する工程とを有する配線基板の製造方法が提供される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
さらに、その開示の他の観点によれば、第１配線層の上に第１絶縁層を形成する工程と、平面視で前記第１配線層と重なり合う領域の前記第１絶縁層の上面側に凹部を形成する工程と、前記凹部を埋め込む複数の突出部を下面に備え、前記突出部が前記第１配線層と離間する電子部品搭載パッドを前記第１絶縁層の上に形成する工程と、前記第１絶縁層の上に、前記電子部品搭載パッドの上に開口部が配置された第２絶縁層を形成する工程と、前記電子部品搭載パッドの上に電子部品を搭載する工程とを有する電子部品装置の製造方法が提供される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２５】
図２１（ａ）に示すように、前述した第１実施形態の図１０（ａ）〜図１１（ａ）と同様な工程を遂行する。これにより、第２配線層２２に到達する第２ビアホールＶＨ２を備えた第２絶縁層３２が第１絶縁層３１の上に形成される。さらに、第２ビアホールＶＨ２を介して第１配線層２１に接続される第３配線層２３が第２絶縁層３２の上に形成される。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月6日(2017.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２次元状に配列された複数の画素を有し、
前記複数の画素の各々は、
光電変換部と、
前記光電変換部の上に設けられた開口部を有する配線層と、
前記配線層の上に設けられたマイクロレンズとを有し、
前記複数の画素のマイクロレンズは、第１のマイクロレンズ領域では複数の第１のマイクロレンズ構造のマイクロレンズが配置され、第２のマイクロレンズ領域では前記第１のマイクロレンズ構造とは異なる複数の第２のマイクロレンズ構造のマイクロレンズが配置され、
前記複数の画素の前記配線層の前記開口部は、第１の光学要素領域では第１の大きさを有し、第２の光学要素領域では前記第１の大きさとは異なる第２の大きさを有し、
前記第１の光学要素領域と前記第２の光学要素領域との境界の上に前記第１のマイクロレンズ領域が位置することを特徴とする固体撮像装置。
【請求項２】
２次元状に配列された複数の画素を有し、
前記複数の画素の各々は、
光電変換部と、
前記光電変換部の上に設けられた反射防止膜と、
前記反射防止膜の上に設けられたマイクロレンズとを有し、
前記複数の画素のマイクロレンズは、第１のマイクロレンズ領域では複数の第１のマイクロレンズ構造のマイクロレンズが配置され、第２のマイクロレンズ領域では前記第１のマイクロレンズ構造とは異なる複数の第２のマイクロレンズ構造のマイクロレンズが配置され、
前記複数の画素の前記反射防止膜は、第１の光学要素領域では第１の膜厚を有し、第２の光学要素領域では前記第１の膜厚とは異なる第２の膜厚を有し、
前記第１の光学要素領域と前記第２の光学要素領域との境界の上に前記第１のマイクロレンズ領域が位置することを特徴とする固体撮像装置。
【請求項３】
２次元状に配列された複数の画素を有し、
前記複数の画素の各々は、
光電変換部と、
前記光電変換部の上に設けられたカラーフィルタと、
前記カラーフィルタの上に設けられたマイクロレンズとを有し、
前記複数の画素のマイクロレンズは、第１のマイクロレンズ領域では複数の第１のマイクロレンズ構造のマイクロレンズが配置され、第２のマイクロレンズ領域では前記第１のマイクロレンズ構造とは異なる複数の第２のマイクロレンズ構造のマイクロレンズが配置され、
前記複数の画素の前記カラーフィルタは、第１の光学要素領域では第１の膜厚を有し、第２の光学要素領域では前記第１の膜厚とは異なる第２の膜厚を有し、
前記第１の光学要素領域と前記第２の光学要素領域との境界の上に前記第１のマイクロレンズ領域が位置することを特徴とする固体撮像装置。
【請求項４】
前記反射防止膜は、ＳｉＯ2膜及びＳｉＮ膜を有し、
前記第１の光学要素領域の前記ＳｉＮ膜の膜厚と、前記第２の光学要素領域の前記ＳｉＮ膜の膜厚が異なることを特徴とする請求項２記載の固体撮像装置。
【請求項５】
前記第１のマイクロレンズ構造は、頂点を通る軸に回転対称な形状を有するマイクロレンズであり、
前記第２のマイクロレンズ構造は、頂点を通る軸に回転対称でない形状を有するマイクロレンズであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記第１のマイクロレンズ領域は、前記２次元状に配列された複数の画素のうちの中央部の領域であり、
前記第２のマイクロレンズ領域は、前記２次元状に配列された複数の画素のうちの周辺部の領域であることを特徴とする請求項５記載の固体撮像装置。
【請求項７】
２次元状に配列された複数の画素を有し、
前記複数の画素の各々は、
光電変換部と、
前記光電変換部の上に設けられた光学要素と、
前記光学要素の上に設けられたマイクロレンズとを有し、
前記複数の画素のマイクロレンズは、第１のマイクロレンズ領域では複数の第１のマイクロレンズ構造のマイクロレンズが配置され、第２のマイクロレンズ領域では前記第１のマイクロレンズ構造とは異なる複数の第２のマイクロレンズ構造のマイクロレンズが配置され、
前記複数の画素の光学要素は、第１の光学要素領域では複数の第１の光学要素構造の光学要素が配置され、第２の光学要素領域では前記第１の光学要素構造とは異なる複数の第２の光学要素構造の光学要素が配置され、
前記第１の光学要素領域と前記第２の光学要素領域との境界の上に前記第１のマイクロレンズ領域が位置することを特徴とする固体撮像装置。
【請求項８】
前記第１の光学要素領域と前記第２の光学要素領域との境界部では、前記第１の光学要素構造の光学要素と前記第２の光学要素構造の光学要素とが入り混じって配置されていることを特徴とする請求項７記載の固体撮像装置。
【請求項９】
前記第１のマイクロレンズ領域及び前記第２のマイクロレンズ領域は相互に隣接し、
前記第１の光学要素領域及び前記第２の光学要素領域は相互に隣接し、
前記第１の光学要素領域の光学要素と前記第２の光学要素領域の光学要素との感度差の平均値は、前記第１のマイクロレンズ領域のマイクロレンズと前記第２のマイクロレンズ領域のマイクロレンズとの感度差の平均値以下であることを特徴とする請求項７または８に記載の固体撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の固体撮像装置は、２次元状に配列された複数の画素を有し、前記複数の画素の各々は、光電変換部と、前記光電変換部の上に設けられた開口部を有する配線層と、前記配線層の上に設けられたマイクロレンズとを有し、前記複数の画素のマイクロレンズは、第１のマイクロレンズ領域では複数の第１のマイクロレンズ構造のマイクロレンズが配置され、第２のマイクロレンズ領域では前記第１のマイクロレンズ構造とは異なる複数の第２のマイクロレンズ構造のマイクロレンズが配置され、前記複数の画素の前記配線層の前記開口部は、第１の光学要素領域では第１の大きさを有し、第２の光学要素領域では前記第１の大きさとは異なる第２の大きさを有し、前記第１の光学要素領域と前記第２の光学要素領域との境界の上に前記第１のマイクロレンズ領域が位置することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月28日(2017.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パッドが設けられた基板の表面に、前記パッドの少なくとも中央部を避けるように部分的にソルダーレジスト材料をインクジェット方式で塗布し、前記インクジェット方式により前記ソルダーレジスト材料の塗布量を位置によって変え、
前記ソルダーレジスト材料を硬化させる
ことを含むフレキシブルプリント配線板のソルダーレジスト形成方法。
【請求項２】
前記基板の表面は検出マークを含み、
前記検出マークに基づいて前記ソルダーレジスト材料の塗布位置を調整する
請求項１に記載のフレキシブルプリント配線板のソルダーレジスト形成方法。
【請求項３】
基板と、
前記基板に設けられた表層パターンと、
前記基板の厚さ方向で前記表層パターンに重ならない領域に設けられる第１部分と、前記基板の厚さ方向で前記表層パターンと重なる領域に設けられる第２部分とを含むソルダーレジストとを具備し、
前記第１部分の厚さは、前記表層パターンの厚さ分、前記第２部分の厚さよりも厚いことを特徴とするプリント配線板。
【請求項４】
基板と、
前記基板に設けられ、第１配線と、前記第１配線よりも高速な信号が流れる第２配線とを含む表層パターンと、
前記第１配線とその周囲を覆う第１部分と、前記第２配線とその周囲を覆う第２部分とを含むソルダーレジストとを具備し、
前記第２部分の厚さは、前記第１部分の厚さよりも薄いことを特徴とするプリント配線板。
【請求項５】
基板と、
前記基板に設けられ、第１配線と、前記第１配線よりも高速な信号が流れる第２配線とを含む表層パターンと、
前記第１配線とその周囲を覆う第１部分と、前記第２配線とその周囲を覆う第２部分とを含むソルダーレジストとを具備し、
前記第２部分は、前記第１部分よりも誘電率が低い材料で形成されることを特徴とするプリント配線板。
【請求項６】
基板と、
前記基板に設けられるパッドと、
前記パッドの少なくとも中央部を避けるように塗布され前記パッドの周囲に形成される第１部分と、前記第１部分の外側に形成される第２部分とを含むソルダーレジストとを具備し、
前記第２部分は、前記第１部分と比べて光の反射率が低いことを特徴とするプリント配線板。
【請求項７】
基板と、
前記基板に設けられるパッドと、
前記パッドの少なくとも中央部を避けるように塗布され、前記パッドの周囲を囲む枠状の凸部が設けられているソルダーレジストと
を具備するプリント配線板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】フレキシブルプリント配線板のソルダーレジスト形成方法、及びプリント配線板
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明の実施形態は、プリント配線板のソルダーレジスト、及びプリント配線板に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、製造性の向上を図ることができるソルダーレジスト形成方法、及びプリント配線板を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
実施形態によれば、フレキシブルプリント配線板のソルダーレジスト形成方法は、パッドが設けられた基板の表面に、前記パッドの少なくとも中央部を避けるように部分的にソルダーレジスト材料をインクジェット方式で塗布し、前記インクジェット方式により前記ソルダーレジスト材料の塗布量を位置によって変え、前記ソルダーレジスト材料を硬化させることを含む。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月7日(2017.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図１及び図６に示されるように、第２コネクタ２００は、第２中心導体（第２端子）２１０と、第２保持部材２２０と、第２外部導体２３０とを備えている。第２中心導体２１０は、軸方向に延びている。第２保持部材２２０は、絶縁体からなるものであり、第２中心導体２１０を保持している。図６に示されるように、第２中心導体２１０は、第２保持部材２２０を貫通して軸方向に長く延びている。第２外部導体２３０は、第２保持部材２２０を径方向において覆うように第２保持部材２２０に取り付けられ、それによって、第２外部導体２３０は、径方向において第２中心導体２１０から離れて位置している。このようにして、第２中心導体２１０と第２外部導体２３０とは、第２保持部材２２０により径方向において分離絶縁されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
図１６に示されるように、保持部材５００の内側（即ち、保持孔５５０内）には、突当部５６０と、第１受部５７０と、第２受部５８０とが形成されている。突当部５６０と、第１受部５７０と、第２受部５８０とは、夫々、軸方向と直交している。図１６及び図１９から理解されるように、突当部５６０は、軸方向においてランス４６０の先端４６２と対向している。同様に、第１受部５７０及び第２受部５８０は、軸方向において第１肩部（第１曲げ部）４５４及び第２肩部４６４と夫々対向しており、第１肩部４５４と第２肩部４６４とを夫々受け止めることが可能である。図１９から理解されるように、本実施の形態の保持部材５００とソケットコンタクト４００とは、第１肩部４５４及び第２肩部４６４が第１受部５７０及び第２受部５８０に接触しているとき、ランス４６０の先端４６２が突当部５６０から軸方向において離れているように、設計されている。このため、ソケットコンタクト４００は、保持部材５００内において軸方向に移動可能である。即ち、ソケットコンタクト４００は、軸方向において移動可能となるように、保持部材５００にフローティング支持されている。本実施の形態においては、ランス４６０の先端４６２が突当部５６０に対向し、第１肩部４５４及び第２肩部４６４が第１受部５７０及び第２受部５８０と夫々対向していることから、保持孔５５０に保持されたソケットコンタクト４００が保持孔５５０の外に抜け出てしまうことが防止されている。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月14日(2017.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】蓄電装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正極、負極、及び電解液を有し、
前記電解液は、第１のカチオン及びアニオンを有し、
前記第１のカチオンは、構造式（１００）で表される、蓄電装置。
【化１】
2016096023.tif 000001
【請求項２】
請求項１において、
前記電解液は、第２のカチオンを有し、
前記第２のカチオンは、イミダゾリウムカチオンである、蓄電装置。