【手続補正書】
【提出日】平成29年7月24日(2017.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性化合物である成分（Ａ）と、光重合開始剤である成分（Ｂ）と、を少なくとも有し、下記式（２）を満たすことを特徴とする光インプリント用組成物であって、
前記成分（Ａ）が、イソボルニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−ナフチルメチルアクリレート、から選択される少なくとも一種からなる単官能アクリレートと、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、フェニルエチレングリコールジアクリレート、ｍ−キシリレンジアクリレート、の中から選択される少なくとも一種からなる多官能アクリレートと、を含み、
前記単官能アクリレートの総量に対し前記多官能アクリレートの総量の重量比が３：１以上であり、
前記成分（Ｂ）が、アルキルフェノン系重合開始剤、オキシムエステル系重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系重合開始剤の少なくともいずれかを含む、
ことを特徴とする光インプリント用組成物。
２．５５ＧＰａ≦Ｅｒ１０（２）
（式（２）において、Ｅｒ１０は露光量１０ｍＪ／ｃｍ２で前記光インプリント用組成物を露光した際に得られる光硬化膜の複合弾性率（ＧＰａ）を示す。）
【請求項２】
イソボルニルアクリレートもしくはイソボルニルアクリレートおよびベンジルアクリレートで構成される単官能化合物と、ネオペンチルグリコールジアクリレートもしくは１，６−ヘキサンジオールジアクリレートもしくはジメチロールトリシクロデカンジアクリレートで構成される多官能化合物と、を含む前記（Ａ）成分と、下記式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｅ）に示す化合物のうちの少なくとも一つを含む前記（Ｂ）成分と、を有し、前記単官能化合物と前記多官能化合物との重量比が１：１〜３：１であることを特徴とする請求項１に記載の光インプリント用組成物。
【化１】
2017085148.tif 000001
【化２】
2017085148.tif 000002
【化３】
2017085148.tif 000003
（ｃ）
【化４】
2017085148.tif 000004
（ｅ）
【請求項３】
下記式（ｆ）に記載の化合物をさらに有することを特徴とする請求項１または２に記載の光インプリント用組成物。
【化５】
2017085148.tif 000005
（ｆ）
【請求項４】
下記式（ｇ）、（ｊ）、（ｌ）に示す化合物のうち少なくとも一つをさらに有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光インプリント用組成物。
【化６】
2017085148.tif 000006
（ｇ）
【化７】
2017085148.tif 000007
【化８】
2017085148.tif 000008
【請求項５】
前記光インプリント用組成物の９０％以上が前記（Ａ）成分であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光インプリント用組成物。
【請求項６】
前記光インプリント用組成物を露光した際に得られる光硬化膜の膜厚が１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光インプリント用組成物の光硬化膜。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の前記光インプリント用組成物を硬化させた硬化物。
【請求項８】
基板上に、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光インプリント用組成物を配置する工程［１］と、
前記光インプリント用組成物とパターン形状を転写するための原型パターンを有するモールドとを接触させる工程［２］と、
前記基板とモールドとの位置合わせを行う工程［３］と、
前記光インプリント用組成物に光を照射して硬化膜とする工程［４］と、
前記硬化膜と前記モールドとを引き離す工程［５］と、
を有することを特徴とするパターン形状を有する膜の製造方法。
【請求項９】
前記光インプリント用組成物に光を照射して硬化膜とする工程における露光量が７５ｍＪ／ｃｍ２以下であることを特徴とする請求項８に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
【請求項１０】
前記光インプリント用組成物に光を照射して硬化膜とする工程における露光量が３０ｍＪ／ｃｍ２以下であることを特徴とする請求項８に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
【請求項１１】
前記工程［１］〜［５］を前記基板上の異なる領域に複数回行うことを特徴とする請求項８〜１０のいずれか一項に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
【請求項１２】
前記工程［１］〜［５］を１ショットとした時に、第一のショットの前記工程［４］が終わった後から第二のショットの前記工程［３］が終わるまでの時間を１．２秒以内に行うことを特徴とする請求項１１に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
【請求項１３】
前記モールドの原型パターンの表面が石英であることを特徴とする請求項８〜１２のいずれか一項に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
【請求項１４】
前記型接触工程が、凝縮性ガスを含む雰囲気下で行われることを特徴とする請求項８〜１３のいずれか一項に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
【請求項１５】
請求項８〜１４のいずれか一項に記載の膜の製造方法によりパターン形状を有する膜を得る工程を有することを特徴とする光学部品の製造方法。
【請求項１６】
請求項８〜１４のいずれか一項に記載の膜の製造方法によりパターン形状を有する膜を得る工程と、得られた膜のパターン形状をマスクとして基板にエッチング又はイオン注入を行う工程と、を有することを特徴とする光学部品の製造方法。
【請求項１７】
請求項８〜１４のいずれか一項に記載の膜の製造方法によりパターン形状を有する膜を得る工程と、得られた膜のパターン形状をマスクとして基板にエッチング又はイオン注入を行う工程と、を有することを特徴とする回路基板の製造方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の回路基板の製造方法により回路基板を得る工程と、前記回路基板に電子部材を形成する工程と、を有することを特徴とする電子部品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そこで、本発明に係る光インプリント用組成物は、重合性化合物である成分（Ａ）と、光重合開始剤である成分（Ｂ）と、を少なくとも有し、下記式（２）を満たすことを特徴とする光インプリント用組成物であって、
前記成分（Ａ）が、イソボルニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−ナフチルメチルアクリレート、から選択される少なくとも一種からなる単官能アクリレートと、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、フェニルエチレングリコールジアクリレート、ｍ−キシリレンジアクリレート、の中から選択される少なくとも一種からなる多官能アクリレートと、を含み、
前記単官能アクリレートの総量に対し前記多官能アクリレートの総量の重量比が３：１以上であり、
前記成分（Ｂ）が、アルキルフェノン系重合開始剤、オキシムエステル系重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系重合開始剤の少なくともいずれかを含む、
ことを特徴とする光インプリント用組成物。
２．５５ＧＰａ≦Ｅｒ１０（２）
（式（２）において、Ｅｒ１０は露光量１０ｍＪ／ｃｍ２で前記光インプリント用組成物を露光した際に得られる光硬化膜の複合弾性率（ＧＰａ）を示す。）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】