【手続補正書】
【提出日】平成29年3月16日(2017.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を噴射する複数のノズル開口が並んで配置された液体噴射ヘッドであって、
前記ノズル開口に連通した圧力発生室に前記液体を供給する液体供給路を有する流路形成基板と、
前記流路形成基板上に形成され、前記圧力発生室の圧力を変化させる圧電素子と、
前記圧電素子と接続された駆動回路と、
前記圧電素子を保護する圧電素子保持部、および、前記駆動回路が配置された貫通孔を有する保護基板と、
前記駆動回路と接続された配線基板と、
前記配線基板が配置された開口を有し、前記貫通孔を覆うリザーバー形成基板と、
前記保護基板および前記リザーバー形成基板に一部が形成されたリザーバー部と、を備えた
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項２】
液体を噴射する複数のノズル開口が並んで配置された液体噴射ヘッドであって、
前記ノズル開口に連通した圧力発生室に前記液体を供給する液体供給路を有する流路形成基板と、
前記流路形成基板上に形成され、前記圧力発生室の圧力を変化させる圧電素子と、
前記圧電素子と接続された駆動回路と、
前記圧電素子を保護する圧電素子保持部、および、前記駆動回路が配置された貫通孔を有する保護基板と、
前記駆動回路と接続された配線基板であって、前記駆動回路を挟む位置に配置された複数の配線基板と、
前記貫通孔を覆うリザーバー形成基板と、
前記保護基板および前記リザーバー形成基板に一部が形成されたリザーバー部と、を備えた
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項３】
液体を噴射する複数のノズル開口が並んで配置された液体噴射ヘッドであって、
前記ノズル開口に連通した圧力発生室に前記液体を供給する液体供給路を有する流路形成基板と、
前記流路形成基板上に形成され、前記圧力発生室の圧力を変化させる圧電素子と、
前記圧電素子と接続された駆動回路と、
前記圧電素子を保護する圧電素子保持部、および、前記駆動回路が配置された貫通孔を有する保護基板と、
前記流路形成基板上に形成された電極を介して前記駆動回路と接続された配線基板と、
前記貫通孔を覆うリザーバー形成基板と、
前記保護基板および前記リザーバー形成基板に一部が形成されたリザーバー部と、を備えた
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項４】
液体を噴射する複数のノズル開口が並んで配置された液体噴射ヘッドであって、
前記ノズル開口に連通した圧力発生室に前記液体を供給する液体供給路を有する流路形成基板と、
前記流路形成基板上に形成され、前記圧力発生室の圧力を変化させる圧電素子と、
前記圧電素子と接続された駆動回路と、
前記圧電素子を保護する圧電素子保持部、および、前記駆動回路が配置された貫通孔を有する保護基板と、
前記駆動回路と接続された配線基板と、
前記貫通孔を覆うリザーバー形成基板と、
前記保護基板および前記リザーバー形成基板に一部が形成されたリザーバー部であって、前記リザーバー形成基板に設けられた導入口から前記液体を供給されるリザーバー部と、を備えた
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項５】
液体を噴射する複数のノズル開口が並んで配置された液体噴射ヘッドであって、
前記ノズル開口に連通した圧力発生室に前記液体を供給する液体供給路を有する流路形成基板と、
前記流路形成基板上に形成され、前記圧力発生室の圧力を変化させる圧電素子と、
前記圧電素子と接続された駆動回路と、
複数の前記圧電素子に対応する領域に一体的に設けられ、複数の前記圧電素子を保護する圧電素子保持部、および、前記駆動回路が配置された貫通孔を有する保護基板と、
前記駆動回路と接続された配線基板と、
前記貫通孔を覆うリザーバー形成基板と、
前記保護基板および前記リザーバー形成基板に一部が形成されたリザーバー部と、を備えた
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、さらに、
前記リザーバー形成基板は、前記配線基板が配置された開口を有する、
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、さらに、
複数の前記配線基板であって、前記駆動回路を挟む位置に配置された複数の前記配線基板を備える、
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項８】
請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、さらに、
前記配線基板は、前記流路形成基板上に形成された電極を介して前記駆動回路と接続された、
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項９】
請求項１〜請求項８のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、さらに、
前記リザーバー部は、前記リザーバー形成基板に設けられた導入口から前記液体を供給される、
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項１０】
請求項１〜請求項９のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、さらに、
前記圧電素子保持部は、前記圧電素子毎に前記圧電素子を保護する、
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項１１】
請求項１〜請求項１０のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、さらに、
前記リザーバー部を封止し、前記リザーバー部の圧力変動を吸収する圧力吸収部材を備えたことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項１２】
液体を噴射する複数のノズル開口が並んで配置された液体噴射ヘッドであって、
前記ノズル開口に連通した圧力発生室に前記液体を供給する液体供給路を有する流路形成基板と、
前記流路形成基板上に形成され、前記圧力発生室の圧力を変化させる圧電素子と、
前記圧電素子を保護する圧電素子保持部および前記圧電素子から引き出されたリード電極を露出させる貫通孔を有する保護基板と、
前記貫通孔に収められ、前記リード電極と接続された駆動回路と、
前記貫通孔上のリザーバー形成基板に一部が形成されたリザーバー部と、
前記リザーバー部を封止し、圧力吸収部材によって前記リザーバー部の圧力変動を吸収するコンプライアンス基板と、
前記駆動回路に接続された配線基板とを備え、
前記配線基板は、前記リザーバー形成基板に設けられた開口に挿入された
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項１３】
液体を噴射する複数のノズル開口が並んで配置された液体噴射ヘッドであって、
前記ノズル開口に連通した圧力発生室に前記液体を供給する液体供給路を有する流路形成基板と、
前記流路形成基板上に形成され、前記圧力発生室の圧力を変化させる圧電素子と、
前記圧電素子を保護する圧電素子保持部および前記圧電素子から引き出されたリード電極を露出させる貫通孔を有する保護基板と、
前記貫通孔に収められ、前記リード電極と接続された駆動回路と、
前記貫通孔上のリザーバー形成基板に一部が形成されたリザーバー部と、
前記リザーバー部を封止し、圧力吸収部材によって前記リザーバー部の圧力変動を吸収するコンプライアンス基板と、
前記駆動回路に接続された複数の配線基板とを備え、
複数の前記配線基板は、前記駆動回路を挟む位置に配置された
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項１４】
液体を噴射する複数のノズル開口が並んで配置された液体噴射ヘッドであって、
前記ノズル開口に連通した圧力発生室に前記液体を供給する液体供給路を有する流路形成基板と、
前記流路形成基板上に形成され、前記圧力発生室の圧力を変化させる圧電素子と、
前記圧電素子を保護する圧電素子保持部および前記圧電素子から引き出されたリード電極を露出させる貫通孔を有する保護基板と、
前記貫通孔に収められ、前記リード電極と接続された駆動回路と、
前記貫通孔上のリザーバー形成基板に一部が形成されたリザーバー部と、
前記リザーバー部を封止し、圧力吸収部材によって前記リザーバー部の圧力変動を吸収するコンプライアンス基板と、
前記駆動回路に接続された配線基板とを備え、
前記駆動回路および前記配線基板は、前記流路形成基板上に形成された電極を介して接続された
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項１５】
液体を噴射する複数のノズル開口が並んで配置された液体噴射ヘッドであって、
前記ノズル開口に連通した圧力発生室に前記液体を供給する液体供給路を有する流路形成基板と、
前記流路形成基板上に形成され、前記圧力発生室の圧力を変化させる圧電素子と、
前記圧電素子を保護する圧電素子保持部および前記圧電素子から引き出されたリード電極を露出させる貫通孔を有する保護基板と、
前記貫通孔に収められ、前記リード電極と接続された駆動回路と、
前記貫通孔上のリザーバー形成基板に一部が形成されたリザーバー部と、
前記リザーバー部を封止し、圧力吸収部材によって前記リザーバー部の圧力変動を吸収するコンプライアンス基板とを備え、
前記リザーバー部は、前記リザーバー形成基板に設けられた導入口から液体を供給される
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項１６】
液体を噴射する複数のノズル開口が並んで配置された液体噴射ヘッドであって、
前記ノズル開口に連通した圧力発生室に前記液体を供給する液体供給路を有する流路形成基板と、
前記流路形成基板上に形成され、前記圧力発生室の圧力を変化させる圧電素子と、
前記圧電素子を保護する圧電素子保持部および前記圧電素子から引き出されたリード電極を露出させる貫通孔を有する保護基板と、
前記貫通孔に収められ、前記リード電極と接続された駆動回路と、
前記貫通孔上のリザーバー形成基板に一部が形成されたリザーバー部と、
前記リザーバー部を封止し、圧力吸収部材によって前記リザーバー部の圧力変動を吸収するコンプライアンス基板とを備え、
前記保護基板は、前記リザーバー部の一部を形成する孔を有する
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項１７】
液体を噴射する複数のノズル開口が並んで配置された液体噴射ヘッドであって、
前記ノズル開口に連通した圧力発生室に前記液体を供給する液体供給路を有する流路形成基板と、
前記流路形成基板上に形成され、前記圧力発生室の圧力を変化させる圧電素子と、
前記圧電素子を保護する圧電素子保持部および前記圧電素子から引き出されたリード電極を露出させる貫通孔を有する保護基板と、
前記貫通孔に収められ、前記リード電極と接続された駆動回路と、
前記貫通孔上のリザーバー形成基板に一部が形成されたリザーバー部と、
前記リザーバー部を封止し、圧力吸収部材によって前記リザーバー部の圧力変動を吸収するコンプライアンス基板とを備え、
前記保護基板は、複数の前記圧電素子を収める圧電素子保持部を、複数の前記圧電素子に対応する領域に一体的に有する
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項１８】
請求項１２〜請求項１７のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、さらに、
前記駆動回路に接続された配線基板を備え、
前記配線基板は、前記リザーバー形成基板に設けられた開口に挿入された
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項１９】
請求項１２〜請求項１８のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、さらに、
前記駆動回路に接続された複数の配線基板を備え、
複数の前記配線基板は、前記駆動回路を挟む位置に配置された
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項２０】
請求項１２〜請求項１９のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、さらに、
前記駆動回路に接続された配線基板を備え、
前記駆動回路および前記配線基板は、前記流路形成基板上に形成された電極を介して接続された
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項２１】
請求項１２〜請求項２０のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、
前記リザーバー部は、前記リザーバー形成基板に設けられた導入口から液体を供給される
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項２２】
請求項１２〜請求項２１のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、
前記保護基板は、前記リザーバー部の一部を形成する孔を有する
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項２３】
請求項１２〜請求項２２のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、
前記保護基板は、複数の前記圧電素子を収める圧電素子保持部を、前記圧電素子毎に有する
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項２４】
請求項１〜請求項２３のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドを備えた
ことを特徴とする液体噴射装置。