【手続補正書】
【提出日】平成29年10月5日(2017.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
繰り返し単位として、下記一般式（１）
【化１】
2016089114.tif 000001
［式（１）中、Ｒ１は酸解離性基を表し、Ｒ１が複数存在する場合は、それらは同一でもよく異なっていてもよく、
Ｒ２は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、又はハロゲン原子を表し、複数存在するＲ２は、互いに同一でもよく異なっていてもよく、
Ｒ３は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表し、
ｐは１又は２を表し、ｒは４又は５を表す。但し、ｐとｒの和は６である。］
で表される構造単位（Ｉ）、又は、下記一般式（２）
【化２】
2016089114.tif 000002
［式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は前記一般式（１）と同様である。］
で表される構造単位（ＩＩ）を有し、
前記一般式（１）及び一般式（２）中の−ＯＲ１が、下記一般式（３ｕ）
【化３】
2016089114.tif 000003
［式（３ｕ）中、Ｒａは置換基を有していてもよい炭素原子数１〜１０のアルキレン基を表し、ｎａは１〜１０の整数を表す。］
で表される基、下記一般式（４ｕ）
【化４】
2016089114.tif 000004
［式（４ｕ）中、Ｒｂ１及びＲｂ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよく、相隣接しない１個以上のメチレン基が酸素原子で置換されていてもよい、炭素原子数１〜１０のアルキレン基を表し、ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立して、０又は１を表す。］
で表される基、下記一般式（３ｂ）
【化５】
2016089114.tif 000005
［式（３ｂ）中、Ｒａは置換基を有していてもよい炭素原子数１〜１０のアルキレン基を表し、ｎａは１〜１０の整数を表す。（＊）は、他の構造単位（Ｉ）又は（ＩＩ）中のナフタレン環に結合した酸素原子と結合している部位である。］
で表される基、又は下記一般式（４ｂ）
【化６】
2016089114.tif 000006
［式（４ｂ）中、Ｒｂ１及びＲｂ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよく、相隣接しない１個以上のメチレン基が酸素原子で置換されていてもよい、炭素原子数１〜１０のアルキレン基を表し、ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立して、０又は１を表す。（＊）は、他の構造単位（Ｉ）又は（ＩＩ）中のナフタレン環に結合した酸素原子と結合している部位である。］
で表される基のいずれかであることを特徴とする、変性ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂。
【請求項２】
更に、下記構造式
【化７】
2016089114.tif 000007
［式（１）中、Ｒ２は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、又はハロゲン原子を表し、複数存在するＲ２は、互いに同一でもよく異なっていてもよく、
Ｒ３は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表し、
ｐは１又は２を表し、ｒは４又は５を表す。但し、ｐとｒの和は６である。］
で表される構造単位を有する請求項１記載の変性ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂。
【請求項３】
ナフタレン環に結合した−ＯＲ１とフェノール性水酸基との存在比率［（−ＯＲ１）／（−ＯＨ）］が５／９５〜５０／５０の範囲である、請求項１又は２に記載の変性ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂。
【請求項４】
繰り返し単位として、下記一般式（１−１）〜（１−６）及び（２−１）〜（２−５）
【化８】
2016089114.tif 000008
［式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は前記一般式（１）と同様である。］
で表される構造単位を有する、請求項１〜３の何れか一つに記載の変性ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂。
【請求項５】
前記一般式（１−５）中のＲ２及びＲ３が水素原子であり、かつ−ＯＲ１が下記式（３ｕ−６）又は（４ｕ−１）
【化９】
2016089114.tif 000009
で表される基からなる構造単位を有する、請求項１〜４の何れか一つに記載の変性ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂。
【請求項６】
前記一般式（１−５）中のＲ２及びＲ３が水素原子であり、かつ−ＯＲ１が下記式（３ｂ−６）又は（４ｂ−１）
【化１０】
2016089114.tif 000010
で表される基からなる構造単位を有する、請求項１〜５の何れか一つに記載の変性ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂。
【請求項７】
下記一般式（５）
【化１１】
2016089114.tif 000011
［式（５）中、Ｒ２は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、又はハロゲン原子を表し、複数存在するＲ２は、互いに同一でもよく異なっていてもよく、ｓは１又は２を表し、ｒは４又は５を表す。但し、ｓとｒの和は６である。］
で表されるヒドロキシナフタレン類（Ａ）と下記一般式（６）
【化１２】
2016089114.tif 000012
［式（６）中、Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。］
で表されるアルデヒド類（Ｂ）とを、酸性触媒の存在下で反応させてフェノール性水酸基含有中間体を得、次いで、得られたフェノール性水酸基含有中間体と、下記一般式（３）
【化１３】
2016089114.tif 000013
［式（３）中、Ｒａは置換基を有していてもよい炭素原子数１〜１０のアルキレン基を表し、ｎａは１〜１０の整数を表す。］
又は、下記一般式（４）
【化１４】
2016089114.tif 000014
［式（４）中、Ｒｂ１及びＲｂ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよく、相隣接しない１個以上のメチレン基が酸素原子で置換されていてもよい、炭素原子数１〜１０のアルキレン基を表し、ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立して、０又は１を表す。］
で表されるジビニルエーテル類（Ｃ）とを、酸触媒下で反応させることを特徴とする、変性ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂の製造方法。
【請求項８】
前記ヒドロキシナフタレン類（Ａ）が、１−ナフトール、２−ナフトール、１，５−ジヒドロキシナフトール、１，６−ジヒドロキシナフトール、２，３−ジヒドロキシナフトール、又は２，７−ジヒドロキシナフトールであり、
前記アルデヒド類（Ｂ）が、ホルムアルデヒド、サリチルアルデヒド、３−ヒドロキシベンズアルデヒド、又は４−ヒドロキシベンズアルデヒドであり、
前記ジビニルエーテル類（Ｃ）が、トリエチレングリコールジビニルエーテル又は１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテルである、請求項７に記載の変性ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂の製造方法。
【請求項９】
ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂とジビニルエーテル類（Ｃ）との反応生成物である変性ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂。
【請求項１０】
前記ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂中に存在するフェノール性水酸基の５〜５０％が前記ジビニルエーテル類（Ｃ）により変性されている請求項９記載の変性ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂。
【請求項１１】
請求項１〜５又は９、１０の何れか一項に記載の変性ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂と光酸発生剤とを含有する感光性組成物。
【請求項１２】
請求項１１に記載の感光性組成物からなるレジスト材料。
【請求項１３】
請求項１２に記載のレジスト材料からなるレジスト塗膜。