【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年11月24日(2016.11.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脱水素シリル化産物を製造するためのプロセスであって、（ａ）少なくとも一つの不飽和官能基を含有する不飽和化合物、（ｂ）少なくとも一つのシリルヒドリド官能基を含有するシリルヒドリド、および（ｃ）触媒を含有する混合物を、任意選択で溶媒の存在下で脱水素シリル化産物を製造するために反応させるステップを含有し、ここで触媒は、式（Ｉ）：
【化２３】
2014037398.tif 000001
の錯体もしくはその付加物であり、
式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリール、置換アリール、もしくはフルオロ、クロロ、ブロモ、イオドおよび−ＯＲ３０〔Ｒ３０はヒドロカルビルもしくは置換ヒドロカルビル〕のエーテルから選ばれる不活性官能基であり、ここで水素以外のＲ１〜Ｒ５は、任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
Ｒ６およびＲ７の各々は独立して、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、ここでＲ６およびＲ７は任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
任意選択で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７の互いに隣接する任意の二つが一緒になって、置換のもしくは不置換の、飽和のもしくは不飽和の環を形成し、
Ｌはヒドロキシルであるかまたは、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリール基、または成分（ａ）〔Ｌは任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有する〕である、
プロセス。
【請求項２】
脱水素シリル化産物がシリル基と不飽和基を含有するシランもしくはシロキサンを含有する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記成分（ｂ）中のシリルヒドリド官能基に対する前記成分（ａ）中の不飽和基のモル比が、１：１以下である、請求項１又は２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記成分（ｂ）中のシリルヒドリド官能基に対する前記成分（ａ）中の不飽和基のモル比が、１：１より大きい、請求項１又は２に記載のプロセス。
【請求項５】
成分（ａ）が、モノ不飽和化合物である、請求項１〜４の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項６】
成分（ａ）が、オレフィン、シクロアルケン、アルキルキャップアリルポリエーテル、ビニル官能化アルキルキャップアリルもしくはメタリルポリエーテル、アルキルキャップ末端不飽和アミン、アルキン、末端不飽和アクリラートもしくはメタクリラート、不飽和アリールエーテル、ビニル官能化ポリマーもしくはオリゴマー、ビニル官能化シラン、ビニル官能化シリコーン、不飽和脂肪酸、不飽和エステル、ならびにそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１〜４の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項７】
前記成分（ａ）が、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、アリロキシ置換ポリエーテル、プロピレン、シクロヘキセン、直鎖のアルファオレフィン、内部オレフィン、分岐オレフィン、不飽和ポリオレフィン、式（ＶＩＩＩ）のビニルシロキサンならびにそれらの組み合わせからなる群より選択され、ここで式（ＶＩＩＩ）は
【化２４】
2014037398.tif 000002
であり、
式中、Ｒ８の各々は独立してＣ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、ビニル、アリール、もしくは置換アリールであり、ｎは０より大きいかもしくは０と等しい、請求項６に記載のプロセス。
【請求項８】
前記成分（ｂ）が、ＲａＳｉＨ４−ａ、（ＲＯ）ａＳｉＨ４−ａ、ＨＳｉＲａ（ＯＲ）３−ａ、Ｒ３Ｓｉ（ＣＨ２）ｆ（ＳｉＲ２Ｏ）ｋＳｉＲ２Ｈ、（ＲＯ）３Ｓｉ（ＣＨ２）ｆ（ＳｉＲ２Ｏ）ｋＳｉＲ２Ｈ、ＱｕＴｖＴＨｐＤｗＤＨｘＭＨｙＭｚおよびそれらの組み合わせからなる群より選択され、
式中、ＱはＳｉＯ４／２であり、ＴはＲ’ＳｉＯ３／２であり、ＴＨはＨＳｉＯ３／２であり、ＤはＲ’２ＳｉＯ２／２であり、ＤＨはＲ’ＨＳｉＯ２／２であり、ＭＨはＨｇＲ’３−ｇＳｉＯ１／２であり、ＭはＲ’３ＳｉＯ１／２であり、ＲおよびＲ’の各々は独立してＣ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、ここでＲおよびＲ’は任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し、ａの各々は独立して１から３の値を持ち、ｆは１から８の値を持ち、ｋは１から１１の値を持ち、ｇは１から３の値を持ち、ｐは０から２０であり、ｕは０から２０であり、ｖは０から２０であり、ｗは０から１０００であり、ｘは０から１０００であり、ｙは０から２０であり、そしてｚは０から２０であり、ｐ＋ｘ＋ｙは１から３０００に等しいという条件であり、そしてシリルヒドリド中のすべての元素の価数は満たされている、請求項１〜７の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項９】
ｐ、ｕ、ｖ、ｙおよびｚは０から１０であり、ｗおよびｘは０から１００であり、ここでｐ＋ｘ＋ｙは１から１００に等しい、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記成分（ｂ）が以下の構造の一つを持つ、請求項１〜７の何れか１項に記載のプロセス。
Ｒ１ａ（Ｒ２Ｏ）ｂＳｉＨ    （式ＩＸ）
【化２５】
2014037398.tif 000003
式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、Ｒ６は水素、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、ｘおよびｗは独立して０より大きいかもしくは０と等しく（式Ｘではｘは少なくとも１と等しい）、そしてａおよびｂは０から３の整数であり、ａ＋ｂ＝３であるという条件である。
【請求項１１】
触媒が式（Ｉ）の錯体のＭｅＢ（Ｃ６Ｆ５）３−もしくは[Ｂ［３，５−（ＣＦ３）２Ｃ６Ｈ３］４]−の塩である、請求項１〜１０の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項１２】
Ｒ６およびＲ７の少なくとも一つが、
【化２６】
2014037398.tif 000004
であり、
式中、
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２の各々は独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリール、置換アリール、もしくはフルオロ、クロロ、ブロモ、イオドおよび−ＯＲ３０〔Ｒ３０はヒドロカルビルもしくは置換ヒドロカルビル〕のエーテルから選ばれる不活性官能基であり、ここで水素以外のＲ８〜Ｒ１２は、任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有する、請求項１〜１１の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項１３】
錯体が支持体上に固定され、支持体が、炭素、シリカ、アルミナ、ＭｇＣｌ２、ジルコニア、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ（アミノスチレン）、スルホン化ポリスチレン、デンドリマーならびにそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１〜１２の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項１４】
触媒が、触媒前駆体と活性化剤とを、溶媒、シリルヒドリド、少なくとも一つの不飽和基を含有する化合物、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される少なくとも一つの成分を含有する液体メディウムの存在下で接触させることによってその場で生成でき、ここで前記触媒前駆体は構造式（ＩＶ）
【化２７】
2014037398.tif 000005
によって表され、
式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリール、置換アリール、もしくはフルオロ、クロロ、ブロモ、イオドおよび−ＯＲ３０〔Ｒ３０はヒドロカルビルもしくは置換ヒドロカルビル〕のエーテルから選ばれる不活性官能基であり、ここで水素以外のＲ１〜Ｒ５は、任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
Ｒ６およびＲ７の各々は独立して、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、ここでＲ６およびＲ７は任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
任意選択で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７の互いに隣接する任意の二つが一緒になって、置換のもしくは不置換の、飽和のもしくは不飽和の環状構造を形成し、
Ｘは、Ｆ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＣＦ３Ｒ４０ＳＯ３−もしくはＲ５０ＣＯＯ−からなる群より選択され、式中、Ｒ４０は共有結合もしくはＣ１〜Ｃ６のアルキレン基であり、そしてＲ５０はＣ１〜Ｃ１０のヒドロカルビル基であり、
そして前記活性化剤は、ＮａＨＢＥｔ３、ＣＨ３Ｌｉ、ＤＩＢＡＬ−Ｈ、ＬｉＨＭＤＳならびにそれらの組み合わせからなる群より選択される還元剤もしくはアルキル化剤である、請求項１〜１３の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項１５】
反応が不活性環境、かつ−４０℃〜２００℃で実施される、請求項１〜１４の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項１６】
反応が、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される溶媒の存在下で実施される、請求項１〜１５の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項１７】
式（ＩＩ）
【化２８】
2014037398.tif 000006
の化合物であって、
式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリール、置換アリール、もしくはフルオロ、クロロ、ブロモ、イオドおよび−ＯＲ３０〔Ｒ３０はヒドロカルビルもしくは置換ヒドロカルビル〕のエーテルから選ばれる不活性官能基であり、ここで水素以外のＲ１〜Ｒ５は、任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
Ｒ６およびＲ７の各々は独立して、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、ここでＲ６およびＲ７は任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
任意選択で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７の互いに隣接する任意の二つが一緒になって、置換のもしくは不置換の、飽和のもしくは不飽和の環を形成する、化合物。
【請求項１８】
脱水素シリル化産物を製造するためのプロセスであって、
（ａ）少なくとも一つの不飽和官能基を含有する不飽和化合物、（ｂ）少なくとも一つのシリルヒドリド官能基を含有するシリルヒドリド、および（ｃ）触媒を含有する混合物を、任意選択で溶媒の存在下で脱水素シリル化産物を製造するために反応させるステップを含有し、ここで触媒は、式（ＩＩＩ）：
【化２９】
2014037398.tif 000007
の錯体もしくはその付加物であり、
式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリール、置換アリール、もしくはフルオロ、クロロ、ブロモ、イオドおよび−ＯＲ３０〔Ｒ３０はヒドロカルビルもしくは置換ヒドロカルビル〕のエーテルから選ばれる不活性官能基であり、ここで水素以外のＲ１〜Ｒ５は、任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
Ｒ６およびＲ７の各々は独立して、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、ここでＲ６およびＲ７は任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
任意選択で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７の互いに隣接する任意の二つが一緒になって、置換のもしくは不置換の、飽和のもしくは不飽和の環を形成し、
Ｌはヒドロキシルであるかまたは、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリール基からなる群より選択されるアニオン性配位子であるか、または成分（ａ）〔Ｌは任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有する〕であり、
Ｙは中性の配位子であり、そして
Ｑは非配位性アニオンである、
プロセス。
【請求項１９】
錯体を脱水素シリル化産物より除去するステップをさらに含有し、ここで脱水素シリル化産物がシリル基と不飽和基を含有するシランもしくはシロキサンを含有する、請求項１８に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記成分（ｂ）中のシリルヒドリド官能基に対する前記成分（ａ）中の不飽和基のモル比が、１：１未満であるか、または、前記成分（ｂ）中のシリルヒドリド官能基に対する前記成分（ａ）中の不飽和基のモル比が、１：１と等しいかもしくはそれより大きい、請求項１８又は１９に記載のプロセス。
【請求項２１】
成分（ａ）が、モノ不飽和化合物である、請求項１８〜２０の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項２２】
成分（ａ）が、オレフィン、シクロアルケン、アルキルキャップアリルポリエーテル、ビニル官能化アルキルキャップアリルもしくはメタリルポリエーテル、アルキルキャップ末端不飽和アミン、アルキン、末端不飽和アクリラートもしくはメタクリラート、不飽和アリールエーテル、ビニル官能化ポリマーもしくはオリゴマー、ビニル官能化シラン、ビニル官能化シリコーン、不飽和脂肪酸、不飽和エステル、ならびにそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１８〜２０の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項２３】
Ｑが、[Ｂ［３，５−（ＣＦ３）２Ｃ６Ｈ３］４]−、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−、Ａｌ（ＯＣ（ＣＦ３）３）４−、およびＣＢ１１Ｈ１２−ならびにそれらの組み合わせからなる群より選択され、Ｙが、二窒素（Ｎ２）、ホスフィン類、ＣＯ、ニトロシル類、オレフィン類、アミン類、エーテル類ならびにそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１８〜２２の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項２４】
Ｙが、ＰＨ３、ＰＭｅ３、ＣＯ、ＮＯ、エチレン、ＴＨＦおよびＮＨ３からなる群より選択される、請求項２３に記載のプロセス。
【請求項２５】
前記成分（ａ）が、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、アリロキシ置換ポリエーテル、プロピレン、シクロヘキセン、直鎖のアルファオレフィン、内部オレフィン、分岐オレフィン、不飽和ポリオレフィン、式（ＶＩＩＩ）のビニルシロキサンならびにそれらの組み合わせからなる群より選択され、ここで式（ＶＩＩＩ）は
【化３０】
2014037398.tif 000008
であり、
式中、Ｒ８の各々は独立してＣ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、ビニル、アリール、もしくは置換アリールであり、ｎは０より大きいかもしくは０と等しい、請求項２２に記載のプロセス。
【請求項２６】
前記成分（ｂ）が、ＲａＳｉＨ４−ａ、（ＲＯ）ａＳｉＨ４−ａ、ＨＳｉＲａ（ＯＲ）３−ａ、Ｒ３Ｓｉ（ＣＨ２）ｆ（ＳｉＲ２Ｏ）ｋＳｉＲ２Ｈ、（ＲＯ）３Ｓｉ（ＣＨ２）ｆ（ＳｉＲ２Ｏ）ｋＳｉＲ２Ｈ、ＱｕＴｖＴＨｐＤｗＤＨｘＭＨｙＭｚおよびそれらの組み合わせからなる群より選択され、
式中、ＱはＳｉＯ４／２であり、ＴはＲ’ＳｉＯ３／２であり、ＴＨはＨＳｉＯ３／２であり、ＤはＲ’２ＳｉＯ２／２であり、ＤＨはＲ’ＨＳｉＯ２／２であり、ＭＨはＨｇＲ’３−ｇＳｉＯ１／２であり、ＭはＲ’３ＳｉＯ１／２であり、ＲおよびＲ’の各々は独立してＣ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、ここでＲおよびＲ’は任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し、ａの各々は独立して１から３の値を持ち、ｆは１から８の値を持ち、ｋは１から１１の値を持ち、ｇは１から３の値を持ち、ｐは０から２０であり、ｕは０から２０であり、ｖは０から２０であり、ｗは０から１０００であり、ｘは０から１０００であり、ｙは０から２０であり、そしてｚは０から２０であり、ｐ＋ｘ＋ｙは１から３０００に等しいという条件であり、そしてシリルヒドリド中のすべての元素の価数は満たされている、請求項１８〜２５の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項２７】
ｐ、ｕ、ｖ、ｙおよびｚは０から１０であり、ｗおよびｘは０から１００であり、ここでｐ＋ｘ＋ｙは１から１００に等しい、請求項２６に記載のプロセス。
【請求項２８】
前記成分（ｂ）が以下の構造の一つを持つ、請求項１８〜２５の何れか１項に記載のプロセス。
Ｒ１ａ（Ｒ２Ｏ）ｂＳｉＨ    （式ＩＸ）
【化３１】
2014037398.tif 000009
式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、Ｒ６は水素、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、ｘおよびｗは独立して０より大きいかもしくは０と等しく（式Ｘではｘは少なくとも１と等しい）、そしてａおよびｂは０から３の整数であり、ａ＋ｂ＝３であるという条件である。
【請求項２９】
触媒が式（ＩＩＩ）の錯体のＭｅＢ（Ｃ６Ｆ５）３−もしくは[Ｂ［３，５−（ＣＦ３）２Ｃ６Ｈ３］４]−もしくはテトラキス（パーフルオロアリール）ボラートの塩である、請求項１８〜２８の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項３０】
錯体が支持体上に固定され、支持体が、炭素、シリカ、アルミナ、ＭｇＣｌ２、ジルコニア、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ（アミノスチレン）、スルホン化ポリスチレン、デンドリマーならびにそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１８〜２９の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項３１】
触媒が、触媒前駆体と活性化剤とを、溶媒、シリルヒドリド、少なくとも一つの不飽和基を含有する化合物、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される少なくとも一つの成分を含有する液体メディウムの存在下で接触させることによってその場で生成でき、ここで前記触媒前駆体は構造式（ＩＶ）
【化３３】
2014037398.tif 000010
によって表され、
式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリール、置換アリール、もしくはフルオロ、クロロ、ブロモ、イオドおよび−ＯＲ３０〔Ｒ３０はヒドロカルビルもしくは置換ヒドロカルビル〕のエーテルから選ばれる不活性官能基であり、ここで水素以外のＲ１〜Ｒ５は、任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
Ｒ６およびＲ７の各々は独立して、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、ここでＲ６およびＲ７は任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
任意選択で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７の互いに隣接する任意の二つが一緒になって、置換のもしくは不置換の、飽和のもしくは不飽和の環状構造を形成し、
Ｘは、Ｆ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＣＦ３Ｒ４０ＳＯ３−もしくはＲ５０ＣＯＯ−からなる群より選択され、式中、Ｒ４０は共有結合もしくはＣ１〜Ｃ６のアルキレン基であり、そしてＲ５０はＣ１〜Ｃ１０のヒドロカルビル基であり、
そして前記活性化剤は、ＮａＨＢＥｔ３、ＣＨ３Ｌｉ、ＤＩＢＡＬ−Ｈ、ＬｉＨＭＤＳならびにそれらの組み合わせからなる群より選択される還元剤もしくはアルキル化剤である、請求項１８〜３０の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項３２】
反応が不活性環境、かつ−４０℃〜２００℃で実施される、請求項１８〜３１の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項３３】
反応が、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される溶媒の存在下で実施される、請求項１８〜３２の何れか１項に記載のプロセス。
【請求項３４】
架橋物質を製造するプロセスであって、（ａ）シリルヒドリド含有ポリマー、（ｂ）モノ不飽和オレフィンもしくは不飽和ポリオレフィンまたはそれらの混合物、（ｃ）触媒を含有する混合物を任意選択で溶媒の存在下で架橋物質を製造するために反応させるステップを含有し、ここで触媒は式（Ｉ）：
【化３４】
2014037398.tif 000011
の錯体もしくはその付加物であり、
式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリール、置換アリール、もしくはフルオロ、クロロ、ブロモ、イオドおよび−ＯＲ３０〔Ｒ３０はヒドロカルビルもしくは置換ヒドロカルビル〕のエーテルから選ばれる不活性官能基であり、ここで水素以外のＲ１〜Ｒ５は、任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
Ｒ６およびＲ７の各々は独立して、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、ここでＲ６およびＲ７は任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
任意選択で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７の互いに隣接する任意の二つが一緒になって、置換のもしくは不置換の、飽和のもしくは不飽和の環を形成し、
Ｌはヒドロキシルであるかまたは、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリール基、または成分（ａ）〔Ｌは任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有する〕である、プロセス。
【請求項３５】
反応が不活性環境、かつ−４０℃〜２００℃で実施される、請求項３４に記載のプロセス。
【請求項３６】
反応が、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される溶媒の存在下で実施される、請求項３４又は３５に記載のプロセス。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
本発明のプロセスにおいて使用する触媒を調製するためにさまざまな方法を使用できる。一実施態様において、触媒は、触媒前駆体と活性化剤とを、溶媒、シリルヒドリド、少なくとも一つの不飽和基を含有する化合物、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される少なくとも一つの成分を含有する液体メディウムの存在下で接触させることによってその場で生成でき、ここで該触媒前駆体は構造式（ＩＶ）
【化９】
2014037398.tif 000012
によって表され、
式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の各々は独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリール、置換アリール、もしくは不活性官能基であり、ここで水素以外のＲ１〜Ｒ５は、任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
Ｒ６およびＲ７の各々は独立して、Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル、Ｃ１〜Ｃ１８の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、ここでＲ６およびＲ７は任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し；
任意選択で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７の互いに隣接する任意の二つが一緒になって、置換のもしくは不置換の、飽和のもしくは不飽和の環状構造を形成してもよく、そして
Ｘは、Ｆ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＣＦ３Ｒ４０ＳＯ３−もしくはＲ５０ＣＯＯ−からなる群より選択され、式中、Ｒ４０は共有結合もしくはＣ１〜Ｃ６のアルキレン基であり、そしてＲ５０はＣ１〜Ｃ１０のヒドロカルビル基である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
活性化剤は、ＮａＨＢＥｔ３、ＣＨ３Ｌｉ、ＤＩＢＡＬ−Ｈ、ＬｉＨＭＤＳならびにそれらの組み合わせのような還元剤もしくはアルキル化剤であってよい。好ましくは、還元剤は、−０．６Ｖよりもより負の還元電位を持つ（Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．  １９９６、９６、８７７−９１０に記載されるように対フェロセン。より大きな負の数はより大きな還元電位を示す）。好ましくは、還元電位は−０．７６〜−２．７１Ｖの範囲である。もっとも好ましい還元剤は−２．８〜−３．１Ｖの範囲の還元電位を持つ。