Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月17日(2017.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面を有する基板を準備し、
前記基板上に、第１の酸化物半導体層および第２の酸化物半導体層を含む積層膜を成膜し、
前記積層膜上の一部にマスク層を形成した後、ドライエッチング処理を行うことで、前記マスク層の設けられた領域を残して前記積層膜を除去するとともに、残った前記積層膜の側面に反応生成物を形成し、
前記マスク層を除去した後、前記反応生成物をウェットエッチング処理によって除去し、
前記積層膜上にソース電極およびドレイン電極を形成し、
前記積層膜上、前記ソース電極上および前記ドレイン電極上に、第３の酸化物半導体層、ゲート絶縁膜およびゲート電極を順に積層して形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
絶縁表面を有する基板を準備し、
前記基板上に、第１の酸化物半導体層および第２の酸化物半導体層を含む積層膜を成膜し、
前記積層膜上の一部にマスク層を形成した後、ドライエッチング処理を行うことで、前記マスク層の設けられた領域を残して前記積層膜を除去するとともに、残った前記積層膜の側面に反応生成物を形成し、
前記マスク層を縮小させた後、ドライエッチング処理を行うことで、縮小した前記マスク層の設けられなかった領域の前記積層膜をハーフエッチングし、
縮小させた前記マスク層を除去した後、前記反応生成物をウェットエッチング処理によって除去し、
前記積層膜上にソース電極およびドレイン電極を形成し、
前記積層膜上、前記ソース電極上および前記ドレイン電極上に、第３の酸化物半導体層、ゲート絶縁膜およびゲート電極を順に積層して形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記マスク層の除去は、ドライエッチング処理により行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記積層膜に対する前記ドライエッチング処理は、メタンおよび希ガスを含む雰囲気で行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記反応生成物に対する前記ウェットエッチング処理は、フッ化水素、リン酸、硝酸、酢酸またはシュウ酸を含む水溶液によって行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記ソース電極および前記ドレイン電極が第１の導電層および第２の導電層が順に積層されることで形成され、
前記第１の導電層を形成した後に、２５℃以上１００℃以下の温度で水洗することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月27日(2017.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に抵抗素子と、トランジスタとを有し、
前記抵抗素子は、
第１の酸化物半導体層と、
前記第１の酸化物半導体層上に接する窒化物絶縁層と、
前記窒化物絶縁層上に位置し、前記第１の酸化物半導体層と電気的に接続された第１の電極及び第２の電極と、を含み、
前記トランジスタは、
ゲート電極層と、
前記ゲート電極層と重なる第２の酸化物半導体層と、
前記ゲート電極層と前記第２の酸化物半導体層との間の絶縁層と、
前記第２の酸化物半導体層上に接する酸化物絶縁層と、
前記酸化物絶縁層上の前記窒化物絶縁層と、
前記窒化物絶縁層上に位置し、前記第２の酸化物半導体層と電気的に接続された第３の電極及び第４の電極と、を含み、
前記第１の酸化物半導体層と前記第２の酸化物半導体層は、同一の組成を有し、且つ、前記第１の酸化物半導体層のキャリア密度は、前記第２の酸化物半導体層のキャリア密度よりも高い半導体装置。
【請求項２】
基板上に抵抗素子と、トランジスタとを有し、
前記抵抗素子は、
第１の窒化物絶縁層と、
前記第１の窒化物絶縁層上の第１の酸化物絶縁層と、
前記第１の酸化物絶縁層上の第１の酸化物半導体層と、
前記第１の酸化物半導体層上に接する第２の窒化物絶縁層と、
前記第２の窒化物絶縁層上に位置し、前記第１の酸化物半導体層と電気的に接続された第１の電極及び第２の電極と、を含み、
前記トランジスタは、
ゲート電極層と、
前記ゲート電極層上の前記第１の窒化物絶縁層と、
前記第１の窒化物絶縁層上の前記第１の酸化物絶縁層と、
前記第１の窒化物絶縁層及び前記第１の酸化物絶縁層を介して前記ゲート電極層と重なる第２の酸化物半導体層と、
前記第２の酸化物半導体層上に接する第２の酸化物絶縁層と、
前記第２の酸化物絶縁層上の前記第２の窒化物絶縁層と、
前記第２の窒化物絶縁層上に位置し、前記第２の酸化物半導体層と電気的に接続された第３の電極及び第４の電極と、を含み、
前記第１の酸化物半導体層と前記第２の酸化物半導体層は、同一の組成を有し、且つ、前記第１の酸化物半導体層のキャリア密度は、前記第２の酸化物半導体層のキャリア密度よりも高い半導体装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記抵抗素子においてキャリアが流れる経路の長さは、前記トランジスタにおいてキャリアが流れる経路の長さよりも長い半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記トランジスタを含む画素を複数有する画素部と、
前記抵抗素子を含む駆動回路部と、を有する半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月1日(2017.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（６）上に電子構成要素又は光学構成要素を組み付ける方法であって、
接合頭部（２）に組み付けた吸着部材（３）により前記構成要素を受け取ることであって、前記接合頭部（２）は、平面にかかる第１の移動軸及び第２の移動軸により前記基板（６）に対して変位可能であり、前記接合頭部（２）及び／又は前記吸着部材（３）は、前記面に直角に延在する第３の移動軸により変位可能である、受け取ること；
前記構成要素を前記基板（６）の上の標的位置に位置決めするために、前記接合頭部（２）を前記第１の移動軸及び前記第２の移動軸により変位させること；
前記構成要素が前記基板（６）に接触するまで前記第３の移動軸により前記吸着部材（３）を下げ、所定接合力を生成することであって、前記所定接合力を用いて前記吸着部材（３）が前記構成要素を前記基板（６）に押し付ける、生成すること；及び
前記接合力が蓄積される間に生じた前記吸着部材（３）の傾斜位置を補正するために、第１の方向に沿って補正値Ｗ１だけ、及び／又は第２の方向に沿って補正値Ｗ２だけ前記接合頭部（２）及び／又は前記基板（６）を変位させること
を含む方法であり、前記補正値Ｗ１及びＷ２は、
保存較正データによって決定するか、又は
センサ（１４）によって供給される測定値、及び前記保存較正データから決定するか、又は
前記センサ（１４）によって供給される測定信号に基づく閉ループ制御により生成される、方法。
【請求項２】
基板（６）上に電子構成要素又は光学構成要素を組み付ける方法であって、
接合頭部（２）に組み付けた吸着部材（３）により前記構成要素を受け取ることであって、前記接合頭部（２）は、平面にかかる第１の移動軸及び第２の移動軸により前記基板（６）に対して変位可能であり、前記接合頭部（２）及び／又は前記吸着部材（３）は、前記面に直角に延在する第３の移動軸により変位可能である、受け取ること；
前記構成要素を前記基板（６）の上の標的位置に位置決めするために前記第１の移動軸及び前記第２の移動軸により前記接合頭部（２）を変位させること；
前記構成要素が前記基板（６）に接触するまで前記第３の移動軸により前記吸着部材（３）を下げ、所定接合力を生成することであって、前記所定接合力を用いて前記吸着部材（３）が前記構成要素を前記基板（６）に押し付ける、生成すること；及び
前記接合頭部（２）から前記吸着部材（３）に作用する力の結果として存在する少なくとも１つのせん断力を測定すること；及び
少なくとも１つのアクチュエータ（１６）を作動させること
を含み、前記少なくとも１つのアクチュエータ（１６）を用いて前記測定した少なくとも１つのせん断力を補償又は低減するように、前記接合頭部（２）に所定方向で作用する力を生成することができる、方法。
【請求項３】
基板（６）上に電子構成要素又は光学構成要素を組み付ける装置であって、
接合頭部（２）に組み付けた吸着部材（３）により前記構成要素を受け取るステップであって、前記接合頭部（２）は、平面にかかる第１の移動軸及び第２の移動軸により前記基板（６）に対して変位可能であり、前記接合頭部（２）及び／又は前記吸着部材（３）は、前記面に直角に延在する第３の移動軸により変位可能である、ステップ；
前記構成要素を前記基板（６）上の標的位置に位置決めするために、前記第１の移動軸及び前記第２の移動軸により前記接合頭部（２）を変位させるステップ；
前記構成要素が前記基板（６）に接触するまで前記第３の移動軸により前記吸着部材（３）を下げ、所定接合力を生成するステップであって、前記所定接合力を用いて前記吸着部材（３）が前記構成要素を前記基板（６）に押し付ける、ステップ；及び
前記接合力が蓄積される間に生じた前記吸着部材（３）の傾斜位置を補正するために、第１の方向に沿って補正値Ｗ１だけ、及び／又は第２の方向に沿って補正値Ｗ２だけ前記接合頭部（２）及び／又は前記基板（６）を変位させるステップ
を実施するように構成し、前記補正値Ｗ１及びＷ２は、
保存較正データによって決定するか、又は
センサ（１４）によって供給される測定値、及び前記保存較正データから決定するか、又は
前記センサ（１４）によって供給される測定信号に基づく閉ループ制御により生成される、装置。
【請求項４】
基板（６）上に電子構成要素又は光学構成要素を組み付ける装置であって、
接合頭部（２）に組み付けた吸着部材（３）により前記構成要素を受け取るステップであって、前記接合頭部（２）は、平面にかかる第１の移動軸及び第２の移動軸により前記基板（６）に対して変位可能であり、前記接合頭部（２）及び／又は前記吸着部材（３）は、前記面に直角に延在する第３の移動軸により変位可能である、ステップ；
前記構成要素を前記基板（６）上の標的位置に位置決めするために、前記第１の移動軸及び前記第２の移動軸により前記接合頭部（２）を変位させるステップ；
前記構成要素が前記基板（６）に接触するまで前記第３の移動軸により前記吸着部材（３）を下げ、所定接合力を生成するステップであって、前記所定接合力を用いて前記吸着部材（３）が前記構成要素を前記基板（６）に押し付ける、ステップ；及び
前記接合頭部（２）から前記吸着部材（３）に作用する力の結果として存在する少なくとも１つのせん断力を測定するステップ；及び
少なくとも１つのアクチュエータ（１６）を作動させるステップ
を実施するように構成し、前記少なくとも１つのアクチュエータ（１６）を用いて前記測定した少なくとも１つのせん断力を補償又は低減するように、前記接合頭部（２）に所定方向で作用する力を生成することができる、装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月1日(2017.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上方に第１の導電膜を形成する工程と、
前記第１の導電膜の上方に第１の絶縁膜を形成する工程と、
前記第１の絶縁膜の上方に半導体膜を形成する工程と、
前記半導体膜の上方に第２の絶縁膜を形成する工程と、
前記第２の絶縁膜の上方に、第１の領域と、前記第１の領域における厚さよりも小さな厚さを有する第２の領域と、を有する第１のマスクを形成する工程と、
前記第１のマスクを用いて、前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜のうち前記第１のマスクと重ならない部分を除去することにより、前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜に第１の開口を形成する工程と、
前記第２の領域における前記第１のマスクを後退させることにより、第２のマスクを形成する工程と、
前記第２のマスクを用いて、前記第２の絶縁膜のうち前記第２の領域と重なる部分を除去することにより、前記第２の絶縁膜における前記第１の開口よりも開口が広い第２の開口を形成すると共に、前記半導体膜と重なる領域に第３の開口を形成する工程と、
前記第２のマスクを除去する工程と、
前記第２の絶縁膜の少なくとも一部の上方に、前記第１の絶縁膜における前記第１の開口、前記第２の開口、及び前記第３の開口を介して前記第１の導電膜と前記半導体膜とを電気的に接続する第２の導電膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の絶縁膜における前記第１の開口は、テーパー形状を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第２の開口及び前記第３の開口は、テーパー形状を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月14日(2017.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示制御装置、その制御方法、及びプログラム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そこで、本願発明では、ユーザが表示部に対して操作指示を行うにあたり、ユーザの誤操作を抑止することが可能な表示制御装置、その制御方法、及びプログラムを提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するための第１の発明は、ユーザの押下によってイベントを実行する押下部を表示部へ表示する表示制御装置であって、前記表示部へ向けられたユーザの視線を検出する視線検出手段と、前記視線検出手段によってユーザの視線が検出された場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御し、一方、ユーザの視線が検出されない場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御するとともに、前記押下部と異なる他の押下部のイベントの実行を抑止するように制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決するための第２の発明は、ユーザの押下によってイベントを実行する押下部を表示部へ表示する表示制御装置の制御方法であって、前記表示制御装置は、前記表示部へ向けられたユーザの視線を検出する視線検出ステップと、前記視線検出ステップによってユーザの視線が検出された場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御し、一方、ユーザの視線が検出されない場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御するとともに、前記押下部と異なる他の押下部のイベントの実行を抑止するように制御する制御ステップと、を実行することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記課題を解決するための第３の発明は、ユーザの押下によってイベントを実行する押下部を表示部へ表示する表示制御装置で読取実行可能なプログラムであって、前記表示制御装置を、前記表示部へ向けられたユーザの視線を検出する視線検出手段と、前記視線検出手段によってユーザの視線が検出された場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御し、一方、ユーザの視線が検出されない場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御するとともに、前記押下部と異なる他の押下部のイベントの実行を抑止するように制御する制御手段と、して機能させるためのプログラム。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明によれば、ユーザが表示部に対して操作指示を行うにあたり、ユーザの誤操作を抑止することができる、という効果を奏する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザの押下によってイベントを実行する押下部を表示部へ表示する表示制御装置であって、
前記表示部へ向けられたユーザの視線を検出する視線検出手段と、
前記視線検出手段によってユーザの視線が検出された場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御し、一方、ユーザの視線が検出されない場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御するとともに、前記押下部と異なる他の押下部のイベントの実行を抑止するように制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする表示制御装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記視線検出手段によってユーザの視線が検出されない場合は、当該ユーザに応じて、イベントを実行可能な押下部とイベントの実行が抑止された押下部とを制御することを特徴とする請求項１に記載の表示制御装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記視線検出手段によってログインユーザの視線が検出されない場合、押下部のイベントを実行可能なように制御するとともに、前記押下部と異なる他の押下部のイベントの実行を抑止するように制御することを特徴とする請求項１または２に記載の表示制御装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記視線検出手段によってログインユーザ以外のユーザの視線を検出した場合、押下部のイベントを実行可能なように制御するとともに、前記押下部と異なる他の押下部のイベントの実行を抑止するように制御することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の表示制御装置。
【請求項５】
自身のそれぞれの機構に関する状態を検知する検知手段を備え、
前記制御手段は、前記検知手段によって検知した機構に関する状態により、前記視線検出手段によってユーザの視線が検出された場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御し、一方、ユーザの視線が検出されない場合は、押下部のイベントの実行を抑止するように制御することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の表示制御装置。
【請求項６】
ユーザの押下によってイベントを実行する押下部を表示部へ備えた表示制御装置であって、
前記表示部へ向けられたユーザの視線を検出する視線検出手段と、
前記視線検出手段によってログインユーザの視線が検出された場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御し、一方、前記視線検出手段によってログインユーザの視線が所定期間検出されない場合は、当該ログインユーザのログアウトを行う制御手段と、
を備えたことを特徴とする表示制御装置。
【請求項７】
ユーザの押下によってイベントを実行する押下部を表示部へ表示する表示制御装置の制御方法であって、
前記表示制御装置は、
前記表示部へ向けられたユーザの視線を検出する視線検出ステップと、
前記視線検出ステップによってユーザの視線が検出された場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御し、一方、ユーザの視線が検出されない場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御するとともに、前記押下部と異なる他の押下部のイベントの実行を抑止するように制御する制御ステップと、
を実行することを特徴とする表示制御装置の制御方法。
【請求項８】
ユーザの押下によってイベントを実行する押下部を表示部へ表示する表示制御装置で読取実行可能なプログラムであって、
前記表示制御装置を、
前記表示部へ向けられたユーザの視線を検出する視線検出手段と、
前記視線検出手段によってユーザの視線が検出された場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御し、一方、ユーザの視線が検出されない場合は、押下部のイベントを実行可能なように制御するとともに、前記押下部と異なる他の押下部のイベントの実行を抑止するように制御する制御手段と、
して機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月7日(2017.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転駆動する潜像担持体と、
前記潜像担持体の表面を一様に帯電するための放電ワイヤを有する帯電手段と、
帯電後の前記表面に潜像を書き込む潜像書込手段と、
前記潜像担持体上の潜像をトナーによって現像する現像手段と、
現像によって得られたトナー像を転写体に転写する転写手段と、
転写後に前記潜像担持体の表面を帯電する除電前帯電のための放電ワイヤを有する帯電手段と、
除電前帯電の後に除電光の照射によって前記潜像担持体を除電するための除電手段とを備える画像形成装置において、
前記一様に帯電するための放電ワイヤと前記除電前帯電を行う放電ワイヤとを一体の筐体内に設け、前記除電前帯電のための放電ワイヤが他の放電ワイヤに対して前記潜像担持体の回転方向に対し最も上流側の位置になるように配置され、前記除電手段は、前記除電前帯電のための放電ワイヤの前記潜像担持体上における放電範囲であって前記放電範囲のうち前記回転方向に対して最も上流に位置する箇所よりも下流側に前記除電光が照射されるように配設することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載の画像形成装置において、
前記除電手段（第１の除電手段）に加え、前記転写手段と前記帯電手段との間において前記潜像担持体と対向して配置された第２の除電手段を備え、前記第２の除電手段による除電光の照射前には前記除電前帯電を行わず、前記除電前帯電および前記第１の除電手段による除電光の照射を行う一連の工程と、前記第２の除電手段による除電光の照射との少なくとも一方を実施するようにすることを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
請求項２に記載の画像形成装置において、
前記工程と第２の除電手段による除電光の照射との実施を制御する制御手段を備え、潜像書き込み後に、前記潜像担持体表面における潜像書き込みが行われた箇所における転写後の電位の絶対値が所定の第１基準値よりも小さいときには、前記制御手段が前記工程を実施するようにすることを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
請求項３に記載の画像形成装置において、
潜像書き込み後に、前記箇所における転写後の電位の絶対値が前記第１基準値よりも大きいときには、前記制御手段が、前記第２の除電手段による除電光の照射のみを実施し、前記工程は実施しないようにすることを特徴とする画像形成装置。
【請求項５】
請求項３または４のいずれかに記載の画像形成装置において、
潜像書き込み後に、前記絶対値が前記第１基準値よりも小さく、かつ、潜像担持体を一様帯電するための目標電位の絶対値が、所定の第２基準値よりも大きいときには、前記制御手段が、前記第１の除電手段による除電を実施している間に、前記他の放電ワイヤにおける放電電流を増加するようにすることを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
請求項２に記載の画像形成装置において、
前記工程と第２の除電手段による除電光の照射との実施を制御する制御手段を備え、
装置の環境に基づいて、前記制御手段が前記工程を実施するか否かを決定することを特徴とする画像形成装置。
【請求項７】
請求項２乃至６のいずれか一の画像形成装置において、
前記除電手段の除電光の光量を、前記第２の除電手段の除電光量よりも少なくしたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一の画像形成装置において、
前記帯電手段が、放電生成物を除去する清掃手段を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一の画像形成装置において、
前記帯電手段から発生するオゾンを収集し浄化するオゾン処理手段を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一の画像形成装置において、
前記除電手段の除電光照射面が、前記潜像担持体表面移動方向下流側に位置するように、前記除電手段を、前記潜像担持体法線方向に対して傾けて配置したことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一の画像形成装置において、
前記除電手段を、前記筐体内に配置したことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一の画像形成装置において、
前記潜像担持体の表面を一様に帯電するための放電ワイヤの、前記潜像担持体表面に電荷を付与して前記潜像担持体表面を帯電させる帯電範囲に、前記除電手段から照射された除電光が照射されないように前記除電光を遮光する遮光手段を設けたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１３】
請求項１２の画像形成装置において、
前記遮光手段は、前記除電手段と前記潜像担持体の表面を一様に帯電するための放電ワイヤとの間に配置され、
前記遮光手段を、前記潜像担持体表面に当接させたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか一の画像形成装置において、
前記潜像担持体の表面を一様に帯電するための帯電手段は、放電ワイヤを複数備え、
転写後に前記潜像担持体の表面を帯電する除電前帯電のための放電ワイヤと、この放電ワイヤに隣接する前記潜像担持体の表面を一様に帯電するための放電ワイヤとの間隔を、前記潜像担持体の表面を一様に帯電するための放電ワイヤの間隔よりも広くしたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか一の画像形成装置において、
転写後に前記潜像担持体の表面を帯電する除電前帯電のための放電ワイヤと、前記潜像担持体の表面を一様に帯電するための放電ワイヤとにそれぞれ個別に電流を流すように構成したことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１６】
請求項１５の画像形成装置において、
転写後に前記潜像担持体の表面を帯電する除電前帯電のための放電ワイヤに流す電流を、前記潜像担持体の表面を一様に帯電するための放電ワイヤに流す電流よりも小さくしたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１７】
請求項１乃至１６いずれか一の画像形成装置において、
転写後に前記潜像担持体の表面を帯電する除電前帯電のための放電ワイヤと前記潜像担持体との間に配設されるグリッドの開口部比率を、前記潜像担持体の表面を一様に帯電するための放電ワイヤと前記潜像担持体との間に配設されるグリッドの開口部比率よりも広くした、または、転写後に前記潜像担持体の表面を帯電する除電前帯電のための放電ワイヤと前記潜像担持体との間にグリッドを設置しないことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１８】
請求項１乃至１７のいずれか一の画像形成装置において、
前記潜像担持体と前記現像手段とを備え、互いに異なる色の画像を形成する複数の像形成手段を有し、これらが形成する各色の画像を転写媒体上に複数重ね合わせてカラー画像を形成することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月26日(2017.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１光電変換素子及び第２光電変換素子を有する半導体基板と、
前記半導体基板の受光面側に位置する層間絶縁層、
前記受光面に対する平面視において、前記第１光電変換素子及び前記第２光電変換素子と重なり、前記半導体基板上で前記層間絶縁層に囲まれる導光部、
前記受光面に対する平面視において、前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子との間の領域と重なる位置に分離部、及び
前記受光面に対する平面視において前記導光部と重なる位置に配されるオンチップレンズ
を有する導光構造とを備え、
前記分離部の前記半導体基板とは反対側の端と前記半導体基板の前記受光面との距離は、前記導光部の前記半導体基板とは反対側の端と前記半導体基板の前記受光面との距離よりも短いことを特徴とする固体撮像装置。
【請求項２】
第１光電変換素子及び第２光電変換素子を有する半導体基板と、
前記半導体基板の受光面側に位置する層間絶縁層、
前記受光面に対する平面視において、前記第１光電変換素子及び前記第２光電変換素子と重なり、前記半導体基板上で前記層間絶縁層に囲まれる導光部、
前記受光面に対する平面視において、前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子との間の領域と重なる位置に分離部、及び
前記受光面に対する平面視において前記導光部と重なる位置に配されるオンチップレンズ
を有する導光構造とを備え、
前記第１光電変換素子、前記第２光電変換素子、前記導光部、及び前記分離部を含む断面において、前記分離部は前記半導体基板と前記導光部との間にあることを特徴とする固体撮像装置。
【請求項３】
前記導光部は、絶縁層であることを特徴とする請求項１又は２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
前記分離部は、前記導光部に形成された第１間隙であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項５】
前記第１間隙は、前記受光面に対する平面視において第１の方向に延びた第１部分と、前記平面視において前記第１の方向とは異なる第２の方向に延びた第２部分とを含むことを特徴とする請求項４に記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記層間絶縁層は、第１層間絶縁層と、前記半導体基板と前記第１層間絶縁層との間に位置する第２層間絶縁層とを有し、
前記導光部のうち前記分離部を形成する第１部分は、前記第２層間絶縁層に囲まれ、
前記導光部のうち前記第１部分と異なる第２部分は、前記第１層間絶縁層に囲まれることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項７】
前記第１層間絶縁層と前記第２層間絶縁層との間に配線が位置することを特徴とする請求項６に記載の固体撮像装置。
【請求項８】
前記導光部と前記層間絶縁層の間に第２間隙があることを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項９】
前記第２間隙の前記半導体基板とは反対側の端は、金属層によって塞がれていることを特徴とする請求項８に記載の固体撮像装置。
【請求項１０】
前記分離部の前記半導体基板とは反対側の端は、前記半導体基板から遠ざかる方に凸の形状を有することを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１１】
前記導光部の前記半導体基板側の端と、前記分離部の前記半導体基板側の端とは、前記半導体基板の前記受光面から同じ高さにあることを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１２】
前記第１光電変換素子及び前記第２光電変換素子は、焦点検出のための信号を生成することを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１３】
前記半導体基板の前記受光面とは反対側の第２面側に、配線層と、層間絶縁層とを更に有することを特徴とする請求項１乃至１２の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１４】
２次元アレイ上に配された複数の画素を有し、
前記複数の画素はそれぞれ、前記第１光電変換素子及び前記第２光電変換素子を有することを特徴とする請求項１乃至１３の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１５】
複数の画素を有する固体撮像装置であって、
半導体基板と、
前記半導体基板の受光面側に位置する第１層間絶縁層及び前記第１層間絶縁層内に配される導光部を有する導光構造と、
前記半導体基板の前記受光面とは反対側に位置する配線層及び第２層間絶縁層とを備え、
前記複数の画素の少なくとも１つは、焦点検出のための信号を生成するために複数の光電変換素子を前記半導体基板に有することを特徴とする固体撮像装置。
【請求項１６】
請求項１乃至１５の何れか１項に記載の固体撮像装置と、
前記固体撮像装置によって得られた信号を処理する信号処理部と、
を備えることを特徴とするカメラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題に鑑みて、第１側面では、第１光電変換素子及び第２光電変換素子を有する半導体基板と、前記半導体基板の受光面側に位置する層間絶縁層、前記受光面に対する平面視において、前記第１光電変換素子及び前記第２光電変換素子と重なり、前記半導体基板上で前記層間絶縁層に囲まれる導光部、前記受光面に対する平面視において、前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子との間の領域と重なる位置に分離部、及び前記受光面に対する平面視において前記導光部と重なる位置に配されるオンチップレンズを有する導光構造とを備え、前記分離部の前記半導体基板とは反対側の端と前記半導体基板の前記受光面との距離は、前記導光部の前記半導体基板とは反対側の端と前記半導体基板の前記受光面との距離よりも短いことを特徴とする固体撮像装置が提供される。第２側面では、第１光電変換素子及び第２光電変換素子を有する半導体基板と、前記半導体基板の受光面側に位置する層間絶縁層、前記受光面に対する平面視において、前記第１光電変換素子及び前記第２光電変換素子と重なり、前記半導体基板上で前記層間絶縁層に囲まれる導光部、前記受光面に対する平面視において、前記第１光電変換素子と前記第２光電変換素子との間の領域と重なる位置に分離部、及び前記受光面に対する平面視において前記導光部と重なる位置に配されるオンチップレンズを有する導光構造とを備え、前記第１光電変換素子、前記第２光電変換素子、前記導光部、及び前記分離部を含む断面において、前記分離部は前記半導体基板と前記導光部との間にあることを特徴とする固体撮像装置が提供される。第３側面では、複数の画素を有する固体撮像装置であって、半導体基板と、前記半導体基板の受光面側に位置する第１層間絶縁層及び前記第１層間絶縁層内に配される導光部を有する導光構造と、前記半導体基板の前記受光面とは反対側に位置する配線層及び第２層間絶縁層とを備え、前記複数の画素の少なくとも１つは、焦点検出のための信号を生成するために複数の光電変換素子を前記半導体基板に有することを特徴とする固体撮像装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月12日(2017.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
図４は、回転子１の回転軸１１から、回転する回転翼１２の外側方向に対して、回転翼１２に対して磁石の発生する磁場を示す図である。
ここで、偏角θは、周回経路２２上における１点を取り、この１点とｚ軸を回転軸として、ｘ軸及びｙ軸からなる２次元座標系におけるｘ軸から、時計回り方向への回転子１の回転角度を示している。したがって、偏角θは、０から増加して２π［ラジアン］となり、この２πで周回経路２２を一周したことになる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
図５は、複数の異なる粘性ηを有する標準試料における、モーター４の回転数ΩMと対応する標準試料での回転子１の回転数ΩD各々との関係を示す図である。図５において、縦軸は回転数ΩMと回転数ΩDとの回転差ΩMD（回転数ΩM−回転数ΩD）を示し、横軸は回転子１の回転数ΩDを示している。ここで使用した各標準試料の粘性ηは、例えば、それぞれ異なり、０．５（mP・s）、１．０（mP・s）、２．０（mP・s）である。そして、この図５から粘性ηの異なる標準試料毎の回転差ΩMDと回転数ΩDとの関係、すなわち傾きΩD／ΩMDの対応を示す直線を最低二乗法などにより求める。この傾きΩMD／ΩDは、各標準試料の粘性ηと比例するものである。このとき回転子の厚みは０．３ｍｍあり、試料容器の底と回転子の間の距離、すなわち試料の厚みは１ｍｍであり、回転子の縁と試料容器との距離は５ｍｍあり、また測定に用いた試料量は約１．２ｃｃである。また図５において、回転数ΩDと回転差ΩMDとの関係は、慣性の影響により正しくは直線とはならないことが知られているが、本発明の低粘性領域における粘性の識別能力を示すために、アイガイドとして直線を表記している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
粘性検出部８２は、上述した標準試料の場合と同様に、試料１００における傾きΩD／ΩMD（＝ΩM−ΩD）を求め、この傾きの逆数ΩMD／ΩDを求める。このとき、粘性検出部８２は、回転磁場制御部８３（後述）に対して、異なる複数の回転速度ΩMでモーター４を回転させる制御を行い、回転数を変更する毎に制御信号を回転検出部８１へ出力する。回転検出部８１は、粘性検出部８２から制御信号が供給される毎に、回転速度ΩMにおいて試料容器２に入れた試料１００中の回転子１の回転速度ΩDを回転検出センサ５から入力する。そして、回転検出部８１は、検出した回転速度ΩDを、制御信号に対応して粘性検出部８２へ出力する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０８】
図１１は、弾性と、回転速度及び回転角度の比との関係を示す図である。図１１において横軸が弾性（弾性率：Ｐａ）を示し、縦軸が回転速度ΩMと回転角度θとの比例係数を示している。ここで、粘性と回転角度θとは逆比例する。
この図１１は、図１０における各標準試料の傾き（回転速度ΩMと回転角度θとの比）と、対応する標準試料の粘性とを対応付けて作成した、弾性測定に用いる弾性の標準データである。
実際の未知の弾性の試料１００の測定において、この測定対象の試料１００を試料容器２に入れ、標準試料の場合と同様に、回転磁場制御部８３がモーター４を予め設定した回転速度で回転させる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月16日(2017.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
図２５及び図２６に示されるように、相手側ハウジング３２０Ａは、略角筒状の形状を有している。図２４及び図２６に示されるように、相手側ハウジング３２０Ａには、下側凹部３２２Ａが設けられている。相手側コンタクト３１０の圧入部３１２（図１１参照）が下側凹部３２２Ａに圧入されると、下側凹部３２２Ａの内壁のうち横方向において対向する２つの内壁は、相手側コンタクト３１０を保持するコンタクト保持部３２４Ａとして機能する。図２５及び図２６に示されるように、相手側ハウジング３２０Ａには、更に、２つのシェル保持部３２６Ａと、２つの端部収容部３３２Ａとが形成されている。シェル保持部３２６Ａは、横方向において外側に張り出しており、後述するように、相手側シェル３５０Ａの一部を保持する。端部収容部３３２Ａは、横方向において内側に凹んでいる。端部収容部３３２Ａは、上面（＋Ｚ面）及び下面（−Ｚ面）まで達しているが、本発明はこれに限定されるわけではなく、いずれにも達していなくてもよい。但し、コネクタ組立体１０Ａ全体が小型化されることを考慮すると、本実施の形態のように、端部収容部３３２Ａは、上面（＋Ｚ面）及び下面（−Ｚ面）まで達しているほうが製造しやすい。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月16日(2017.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両とともに移動する通信装置であって、
前記車両が移動する道路に関する信号機であって、停止中の信号機を検出する検出手段と、
前記検出手段が検出した信号機が停止していることを示す信号機停止情報を前記車両の外部の装置に送信する第１の送信手段と、
を備えることを特徴とする通信装置。
【請求項２】
前記車両の前方の画像を撮影する撮影手段を備え、
前記検出手段は、前記撮影手段により撮影された画像に基づいて、前記停止中の信号機を検出することを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
前記第１の送信手段は、前記検出手段が前記停止中の信号機を検出した際に、前記撮影手段により撮影された画像を、前記信号機停止情報に付加して送信することを特徴とする請求項２に記載の通信装置。
【請求項４】
前記検出手段が検出した信号機の位置情報を取得する取得手段をさらに備え、
前記信号機停止情報には、少なくとも停止している信号機の位置情報が含まれていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の通信装置。
【請求項５】
前記第１の送信手段は、前記車両の後続車に対して前記信号機停止情報を送信することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の通信装置。
【請求項６】
前記第１の送信手段は、前記検出手段が前記停止中の信号機を検出した時刻を、前記信号機停止情報に付加して送信することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の通信装置。
【請求項７】
外部の装置から、前記信号機停止情報を受信する受信手段と、
前記停止中の信号機の位置情報が示す位置が、前記車両の現在位置から所定範囲内である場合に、当該停止中の信号機の位置情報を前記車両の外部の装置に送信する第２の送信手段と、
を備えることを特徴とする請求項４乃至６のいずれか一項に記載の通信装置。
【請求項８】
外部の装置から、前記停止中の信号機の位置情報を受信する受信手段と、
前記受信手段が受信した前記停止中の信号機の位置情報が示す信号機の動作の回復を検出する回復検出手段と、
前記回復検出手段により前記動作の回復が検出されたときに、動作が回復した信号機の位置情報を外部の装置に送信する第３の送信手段と、
を備えることを特徴とする請求項４乃至７のいずれか一項に記載の通信装置。
【請求項９】
車両とともに移動する通信装置により実行される通信方法であって、
前記車両が移動する道路に関する信号機であって、停止中の信号機を検出する検出工程と、
前記検出工程が検出した信号機が停止していることを示す信号機停止情報を前記車両の外部の装置に送信する第１の送信工程と、
を有することを特徴とする通信方法。
【請求項１０】
コンピュータを備え、車両とともに移動する通信装置により実行される通信プログラムであって、
前記車両が移動する道路に関する信号機であって、停止中の信号機を検出する検出手段、
前記検出手段が検出した信号機が停止していることを示す信号機停止情報を前記車両の外部の装置に送信する第１の送信手段、
として前記コンピュータを機能させることを特徴とする通信プログラム。
【請求項１１】
請求項１０に記載の通信プログラムを記憶したことを特徴とする記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項に記載の発明は、車両とともに移動する通信装置であって、前記車両が移動する道路に関する信号機であって、停止中の信号機を検出する検出手段と、前記検出手段が検出した信号機が停止していることを示す信号機停止情報を前記車両の外部の装置に送信する第１の送信手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項に記載の発明は、車両とともに移動する通信装置により実行される通信方法であって、前記車両が移動する道路に関する信号機であって、停止中の信号機を検出する検出工程と、前記検出工程が検出した信号機が停止していることを示す信号機停止情報を前記車両の外部の装置に送信する第１の送信工程と、を有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項に記載の発明は、コンピュータを備え、車両とともに移動する通信装置により実行される通信プログラムであって、前記車両が移動する道路に関する信号機であって、停止中の信号機を検出する検出手段、前記検出手段が検出した信号機が停止していることを示す信号機停止情報を前記車両の外部の装置に送信する第１の送信手段、として前記コンピュータを機能させることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月21日(2017.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動ディスクを固着した回転軸体上に、軸受を介して支承された非磁性体のケースと該ケースに取着されたカバーとからなる密封器匣の内部が、油の供給調整孔を有する仕切板により油溜り室と駆動ディスクを内装するトルク伝達室とに区劃され、回転時の油の集溜する駆動ディスクの外周壁部に対向する密封器匣側の内周壁面の一部にダムと、これに連なってトルク伝達室より油溜り室間に油循環流通路を備えると共に、外部周囲の温度が設定値を超えると前記仕切板の供給調整孔を開放し、設定値以下では前記仕切板の供給調整孔を閉鎖する油供給用弁部材を前記カバーの前面に設けた感温体の温度変化に伴う変形に連動するように内部に備え、駆動ディスクと前記密封器匣の外方付近の対向壁面に設けたトルク伝達間隙部での油の有効接触面積を増減させて、駆動側の回転体から被駆動側の密封器匣側への回転トルク伝達を制御するようにしてなる温度感応型流体式ファン・クラッチ装置において、前記ダムと油循環流通路をそれぞれ２つ以上設けると共に、前記２つ以上の油循環流通路の少なくとも一つを開閉する油回収用弁部材を油溜り室内に配置するとともに、該油回収用弁部材を前記油供給用弁部材と共通の感温体の温度変化に伴う変形に連動して前記油供給用弁部材とは別々に作動するごとく設けたことを特徴とする温度感応型流体式ファン・クラッチ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る温度感応型流体式ファン・クラッチ装置は、駆動ディスクを固着した回転軸体上に、軸受を介して支承された非磁性体のケースと該ケースに取着されたカバーとからなる密封器匣の内部が、油の供給調整孔を有する仕切板により油溜り室と駆動ディスクを内装するトルク伝達室とに区劃され、回転時の油の集溜する駆動ディスクの外周壁部に対向する密封器匣側の内周壁面の一部にダムと、これに連なってトルク伝達室より油溜り室間に油循環流通路を備えると共に、外部周囲の温度が設定値を超えると前記仕切板の供給調整孔を開放し、設定値以下では前記仕切板の供給調整孔を閉鎖する油供給用弁部材を前記カバーの前面に設けた感温体の温度変化に伴う変形に連動するように内部に備え、駆動ディスクと前記密封器匣の外方付近の対向壁面に設けたトルク伝達間隙部での油の有効接触面積を増減させて、駆動側の回転体から被駆動側の密封器匣側への回転トルク伝達を制御するようにしてなる温度感応型流体式ファン・クラッチ装置において、前記ダムと油循環流通路をそれぞれ２つ以上設けると共に、前記２つ以上の油循環流通路の少なくとも一つを開閉する油回収用弁部材を油溜り室内に配置するとともに、該油回収用弁部材を前記油供給用弁部材と共通の感温体の温度変化に伴う変形に連動して前記油供給用弁部材とは別々に作動するごとく設けたことを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月26日(2017.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円周方向の三等分位置に軸方向に延びるトラック溝を形成した外側継手部材と、円周方向の三等分位置から半径方向に突出した脚軸を有するトリポード部材と、前記脚軸に回転自在に装着されたローラとを備え、このローラが前記トラック溝に収容されたトリポード型等速自在継手において、
前記ローラの外径面が、熱処理後の研削加工あるいは切削加工が施されてない面で形成されていることを特徴とするトリポード型等速自在継手。
【請求項２】
前記熱処理の前段階において、前記ローラの外径面がリード目のない旋削加工面であることを特徴とする請求項１に記載のトリポード型等速自在継手。
【請求項３】
前記ローラの外径面の真円度が１０μｍ以上で４０μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のトリポード型等速自在継手。
【請求項４】
前記ローラが、前記脚軸としてのトラニオンジャーナルの円筒形外周面の回りに複数の針状ころを介して回転自在に装着されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のトリポード型等速自在継手。
【請求項５】
円周方向の三等分位置に軸方向に延びるトラック溝を形成した外側継手部材と、円周方向の三等分位置から半径方向に突出した脚軸を有するトリポード部材と、前記脚軸に回転自在に装着されたローラとを備え、このローラが前記トラック溝に収容されたトリポード型等速自在継手の製造方法において、
前記ローラの製造工程は、ローラの熱処理後にローラの外径面を研削加工する工程を備えず、
前記ローラの外径面を総形バイトで旋削加工する工程と、
前記旋削加工の後、前記ローラを熱処理する工程と、
前記熱処理の後、前記ローラをタンブラ加工する工程とを備えていることを特徴とするトリポード型等速自在継手の製造方法。
【請求項６】
前記ローラを熱処理する工程の後に、前記ローラの内径面を研削加工する工程を設けたことを特徴とする請求項５に記載のトリポード型等速自在継手の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月9日(2017.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア、及び当該コア上に設けられて、開口部を画定するスキン層を有するパネルと、
前記スキン層の下方に設けられるとともに、前記開口部と位置合わせされるインサートと、を含み、前記開口部は、長状である、パネル−インサートアセンブリ。
【請求項２】
前記パネルは、サンドイッチパネルであり、第２スキン層を更に含み、前記コアは、前記スキン層と前記第２スキン層との間に設けられる、請求項１に記載のパネル−インサートアセンブリ。
【請求項３】
前記開口部は、最大長を有している、請求項１又は２に記載のパネル−インサートアセンブリ。
【請求項４】
前記インサートは、長軸寸法と短軸寸法とを有しており、前記短軸寸法は、前記最大長以下である、請求項３に記載のパネル−インサートアセンブリ。
【請求項５】
前記長軸寸法は、前記最大長よりも大きい、請求項４に記載のパネル−インサートアセンブリ。
【請求項６】
前記インサートは、前記スキン層と前記コアとの間に設けられる、請求項１〜５のいずれかに記載のパネル−インサートアセンブリ。
【請求項７】
前記インサートは、穴を画定する、請求項１〜６のいずれかに記載のパネル−インサートアセンブリ。
【請求項８】
前記穴には、ねじ山がつけられている、請求項７に記載のパネル−インサートアセンブリ。
【請求項９】
前記インサートは、材料の組み合わせを含む、請求項１に記載のパネル−インサートアセンブリ。
【請求項１０】
ねじ山付きインサートを、コアとスキン層とを含むパネルに接続する方法であって、
前記スキン層に開口部を形成することと、
前記ねじ山付きインサートを前記開口部に挿入して、前記ねじ山付きインサートを前記スキン層の下方に配置することと、
前記開口部に対して前記ねじ山付きインサートを回転させることと、を含む方法。
【請求項１１】
前記ねじ山付きインサートを前記開口部に位置合わせすることを更に含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記開口部を形成することは、前記開口部を、開口軸に沿って長くすることを含む、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記回転は、前記インサートの長軸が、前記開口軸と実質的に平行になるまで前記インサートを回転させることを含み、前記インサートは、前記長軸に沿った長軸寸法と、短軸に沿った短軸寸法とを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記挿入は、前記短軸寸法を前記開口部に位置合わせすることを含む、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月24日(2017.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動力を伝達するベルトと、前記ベルト部材に張力を付与しながら回転するローラと、前記ローラを回転可能に支持する支持部材と、前記支持部材を前記ベルトに対して所定方向に付勢する付勢部材と、前記支持部材の穴に挿入され被締結部材とネジ結合することにより前記被締結部材に対して前記支持部材を締結する締結部材と、を備え、
前記支持部材は、前記締結部材の座面と当接する当接面と、前記当接面よりも突出し且つ前所定方向に沿って延在して設けられた突出部と、を有しており、
前記支持部材が前記被締結部材に締結された状態において、前記突出部のうち第１の部分は前記座面との当接により変形して前記座面は前記第１の部分および前記当接面に当接しており、且つ、前記突出部のうち前記座面と当接しない第２の部分は前記当接面よりも突出していることを特徴とする駆動伝達装置。
【請求項２】
前記支持部材は、延在している前記突出部に沿って前記突出部の脇に設けられ且つ前記当接面よりも凹んでいる凹部を有し、前記突出部の前記第１の部分は前記座面との当接により変形して前記凹部に収まっていることを特徴とする請求項１に記載の駆動伝達装置。
【請求項３】
前記凹部は、延在している前記突出部の両脇に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の駆動伝達装置。
【請求項４】
記録ヘッドと、シートを搬送するローラと、駆動モータと、請求項１から請求項３の何れか１項に記載の駆動伝達装置と、を有し、
前記駆動モータの駆動力は駆動伝達装置を介して前記ローラに伝わり、前記ローラにより搬送されるシートに対して前記記録ヘッドにより画像を記録することを特徴とする記録装置。
【請求項５】
ネジを部材の穴に挿入して締結する締結方法であって、
前記部材は、前記穴から所定方向に延在しており且つ締結の際に前記ネジの座面に当接する突出部と、延在する前記突出部に沿って前記突出部の脇に設けられた凹部と、を有しており、
締結の際に前記ネジを締めると、前記突出部のうち前記座面に当接する部分が押圧されて変形し、変形した部分は前記凹部に収まることを特徴とする締結方法。
【請求項６】
締結された状態において、前記突出部のうち前記座面と当接しない部分は、前記座面よりも突出していることを特徴とする請求項５の記載の締結方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】駆動伝達装置、記録装置、及び締結方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、部材の位置を調整してこの部材を他の部材に固定するための駆動伝達装置、記録装置、及び締結方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は上記課題に鑑みなされたものである。そして、その目的は、締結部材を用いて他の部材に部材を固定する場合に、部材の位置を所望の位置に維持することができる駆動伝達装置、記録装置、及び締結方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決する本発明の駆動伝達装置は、駆動力を伝達するベルトと、前記ベルト部材に張力を付与しながら回転するローラと、前記ローラを回転可能に支持する支持部材と、前記支持部材を前記ベルトに対して所定方向に付勢する付勢部材と、前記支持部材の穴に挿入され被締結部材とネジ結合することにより前記被締結部材に対して前記支持部材を締結する締結部材と、を備え、前記支持部材は、前記締結部材の座面と当接する当接面と、前記当接面よりも突出し且つ前所定方向に沿って延在して設けられた突出部と、を有しており、前記支持部材が前記被締結部材に締結された状態において、前記突出部のうち第１の部分は前記座面との当接により変形して前記座面は前記第１の部分および前記当接面に当接しており、且つ、前記突出部のうち前記座面と当接しない第２の部分は前記当接面よりも突出していることを特徴とする。