(57)【要約】  薄膜封止構造（２００ａ）およびその製造方法であって、前記薄膜封止構造（２００ａ）は、交互に積層された有機層（３２０）および無機層（３１０）を含み、基板（１０）に位置する封止待ち部材（２０）を封止する積層（３０）と、前記有機層（３２０）の端面（３２３）と前記基板の表面との間に位置し、前記有機層（３２０）の位置を特定する制限層（３３０）と、を備え、前記積層（３０）は、最外層が前記無機層（３１０）であり、前記有機層（３２０）は、前記部材（２０）に面する内面（３２１）と、前記内面（３２１）の反対側の外面（３２２）と、前記内面（３２１）と前記外面（３２２）との間に位置し、前記基板（１０）における、前記部材（２０）の周辺に位置する領域にわたって延在する端面（３２３）と、を有し、前記有機層（３２０）は親水性と疎水性のうちの一方を有し、前記制限層（３３０）は親水性と疎水性のうちの他方を有する。
2020535578.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
交互に積層された有機層および無機層を含み、基板に位置する封止待ち部材を封止する積層と、
前記有機層の端面と前記基板の表面との間に位置し、前記有機層の位置を特定する制限層と、を備え、
前記積層は、最外層が前記無機層であり、前記有機層は、前記部材に面する内面と、前記内面の反対側の外面と、前記内面と前記外面との間に位置し、前記基板における、前記部材の周辺に位置する領域にわたって延在する端面と、を有し、
前記有機層は親水性と疎水性のうちの一方を有し、前記制限層は親水性と疎水性のうちの他方を有する、薄膜封止構造。
【請求項２】
前記有機層は親水性を有し、前記制限層は疎水性を有する、請求項１に記載の薄膜封止構造。
【請求項３】
前記有機層の材料は、エポキシ樹脂、アクリル、ポリアクリレート、ポリジメチルフェニルエーテル、ポリプロピレンまたはそれらの組み合わせを含み、前記制限層の材料は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属酸化物またはそれらの組み合わせを含む、請求項２に記載の薄膜封止構造。
【請求項４】
前記アルカリ金属塩はＬｉＦ、ＭｇＣｌ２、ＮａＣｌまたはそれらの組み合わせを含み、前記アルカリ土類金属酸化物はＣａＯを含む、請求項３に記載の薄膜封止構造。
【請求項５】
前記有機層は疎水性を有し、前記制限層は親水性を有する、請求項１に記載の薄膜封止構造。
【請求項６】
前記有機層の材料は、ポリイミド、ポリエチレンイミンまたはそれらの組み合わせを含み、前記制限層の材料は、Ａｌ２Ｏ３、ポリテトラフルオロエチレン、またはポリジメチルシロキサンまたはそれらの組み合わせを含む、請求項５に記載の薄膜封止構造。
【請求項７】
前記制限層の厚さは５０〜８００Åであり、前記制限層の幅は１００〜５００μｍである、請求項１に記載の薄膜封止構造。
【請求項８】
前記積層における、前記部材に最も近い層は前記有機層である、請求項１に記載の薄膜封止構造。
【請求項９】
前記積層における、前記部材に最も近い層は前記無機層である、請求項１に記載の薄膜封止構造。
【請求項１０】
前記積層は、前記有機層の前記内面における、前記基板の表面と平行な方向に延びる部分の上に位置する補助拡張層をさらに含み、
前記補助拡張層と前記有機層は親水性または疎水性を有する、請求項１に記載の薄膜封止構造。
【請求項１１】
前記補助拡張層と前記有機層は親水性を有する、請求項１０に記載の薄膜封止構造。
【請求項１２】
前記補助拡張層の材料は、Ａｌ２Ｏ３、ポリテトラフルオロエチレン、ポリジメチルシロキサンまたはそれらの組み合わせを含む、請求項１１に記載の薄膜封止構造。
【請求項１３】
前記補助拡張層と前記有機層は疎水性を有する、請求項１０に記載の薄膜封止構造。
【請求項１４】
前記補助拡張層の材料は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属酸化物またはそれらの組み合わせを含む、請求項１１に記載の薄膜封止構造。
【請求項１５】
前記アルカリ金属塩はＬｉＦ、ＭｇＣｌ２、ＮａＣｌまたはそれらの組み合わせを含み、前記アルカリ土類金属酸化物はＣａＯを含む、請求項１４に記載の薄膜封止構造。
【請求項１６】
前記補助拡張層の厚さは５０〜８００Åである、請求項１０に記載の薄膜封止構造。
【請求項１７】
前記無機層はセラミック材料を含む、請求項１に記載の薄膜封止構造。
【請求項１８】
前記セラミック材料はＳｉＯ２、ＳｉＮｘ、ＳｉＯｘＮｙ、Ａｌ２Ｏ３またはそれらの組み合わせを含む、請求項１７に記載の薄膜封止構造。
【請求項１９】
表面に封止待ち部材が設けられている基板を提供するステップと、
交互に積層された有機層および無機層を含み、前記部材を封止する積層を前記基板と前記部材に形成するステップと、を含み、
前記積層は最外層が前記無機層であり、
前記積層を形成することは、前記有機層が形成される前記基板の表面に前記有機層の位置を特定する制限層を形成することをさらに含み、前記有機層は親水性と疎水性のうちの一方を有し、前記制限層は親水性と疎水性のうちの他方を有する、薄膜封止構造の製造方法。
【請求項２０】
前記積層を形成することは、前記有機層を形成する前に、その上の前記有機層の前記部材または前記無機層が形成される表面に補助拡張層を形成することをさらに含み、
前記補助拡張層と前記有機層は親水性または疎水性を有する、請求項１９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本願は、２０１７年９月２９日に提出された中国特許出願Ｎｏ．２０１７１０９０６３６９．２の優先権を主張し、当該中国特許出願のすべての公開内容を参照により援用する。
【０００２】
技術分野
本開示の実施例は表示パネル封止分野に関わり、特に薄膜封止構造及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００３】
ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）ディスプレイデバイスは新型の発光デバイスとして高性能ディスプレイへの応用が益々増えており、現在ディスプレイデバイスの主流となっている。中でも薄膜封止技術はＯＬＥＤディスプレイデバイスの製造に極めて重要であり、ＯＬＥＤ技術において最も重要である。また、薄膜封止技術はＯＬＥＤに広く応用されてもいる。フレキシブルＯＬＥＤ、マイクロディスプレイＯＬＥＤおよび大型ＯＬＥＤのいずれも薄膜封止技術に関わる。
【発明の概要】
【０００４】
本開示の実施例は、薄膜封止構造及びその製造方法を提供する。
【０００５】
本開示の実施例の第１の態様では、交互に積層された有機層および無機層を含み、基板に位置する封止待ち部材を封止する積層と、前記有機層の端面と前記基板の表面との間に位置し、前記有機層の位置を特定する制限層と、を備え、前記積層は、最外層が前記無機層であり、前記有機層は、前記部材に面する内面と、前記内面の反対側の外面と、前記内面と前記外面との間に位置し、前記基板における、前記部材の周辺に位置する領域にわたって延在する端面と、を有し、前記有機層は親水性と疎水性のうちの一方を有し、前記制限層は親水性と疎水性のうちの他方を有する薄膜封止構造を提供する。
【０００６】
本開示の実施例において、前記有機層は親水性を有し、前記制限層は疎水性を有する。
本開示の実施例において、前記有機層の材料は、エポキシ樹脂、アクリル、ポリアクリレート、ポリジメチルフェニルエーテル、ポリプロピレンまたはそれらの組み合わせを含み、前記制限層の材料は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属酸化物またはそれらの組み合わせを含む。
【０００７】
本開示の実施例において、前記アルカリ金属塩はＬｉＦ、ＭｇＣｌ２、ＮａＣｌまたはそれらの組み合わせを含み、前記アルカリ土類金属酸化物はＣａＯを含む。
本開示の実施例において、前記有機層は疎水性を有し、前記制限層は親水性を有する。
【０００８】
本開示の実施例において、前記有機層の材料は、ポリイミド、ポリエチレンイミンまたはそれらの組み合わせを含み、前記制限層の材料は、Ａｌ２Ｏ３、ポリテトラフルオロエチレン、またはポリジメチルシロキサンまたはそれらの組み合わせを含む。
【０００９】
本開示の実施例において、前記制限層の厚さは５０〜８００Åであり、前記制限層の幅は１００〜５００μｍである。
本開示の実施例において、前記積層における、前記部材に最も近い層は前記有機層である。
本開示の実施例において、前記積層における、前記部材に最も近い層は前記無機層である。
【００１０】
本開示の実施例において、前記積層は、前記有機層の前記内面における、前記基板の表面と平行な方向に延びる部分の上に位置する補助拡張層をさらに含み、前記補助拡張層と前記有機層は親水性または疎水性を有する。
【００１１】
本開示の実施例において、前記補助拡張層と前記有機層は親水性を有する。
本開示の実施例において、前記補助拡張層の材料は、Ａｌ２Ｏ３、ポリテトラフルオロエチレン、ポリジメチルシロキサンまたはそれらの組み合わせを含む。
【００１２】
本開示の実施例において、前記補助拡張層と前記有機層は疎水性を有する。
本開示の実施例において、前記補助拡張層の材料は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属酸化物またはそれらの組み合わせを含む。
【００１３】
本開示の実施例において、前記アルカリ金属塩はＬｉＦ、ＭｇＣｌ２、ＮａＣｌまたはそれらの組み合わせを含み、前記アルカリ土類金属酸化物はＣａＯを含む。
【００１４】
本開示の実施例において、前記補助拡張層の厚さは５０〜８００Åである。
本開示の実施例において、前記無機層はセラミック材料を含む。
【００１５】
本開示の実施例において、前記セラミック材料はＳｉＯ２、ＳｉＮｘ、ＳｉＯｘＮｙ、Ａｌ２Ｏ３またはそれらの組み合わせを含む。
【００１６】
本開示の実施例の第２の態様では、表面に封止待ち部材が設けられている基板を提供するステップと、交互に積層された有機層および無機層を含み、前記部材を封止する積層を前記基板と前記部材に形成するステップと、を含み、前記積層は最外層が前記無機層であり、前記積層を形成することは、前記有機層が形成される前記基板の表面に前記有機層の位置を特定する制限層を形成することをさらに含み、前記有機層は親水性と疎水性のうちの一方を有し、前記制限層は親水性と疎水性のうちの他方を有する薄膜封止構造の製造方法を提供する。
【００１７】
本開示の実施例において、前記積層を形成することは、前記有機層を形成する前に、その上の前記有機層の前記部材または前記無機層が形成される表面に補助拡張層を形成することをさらに含み、前記補助拡張層と前記有機層は親水性または疎水性を有する。
【００１８】
さらなる適切な態様および範囲は、本文で提供される記述から明らかになるであろう。本願の各態様は、単独で、または一つ以上の他の態様と組み合わせて実施することができる。また、本文における記述および特定の実施例は、説明を行うためのものにすぎず、本願の範囲を限定するものではないことを理解されたい。
本文に記載の図面は選択された実施例を説明するためのものであるにすぎず、すべての可能な実施形態ではなく、本願の範囲を限定するものでもない。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１ａ】１つの薄膜封止構造の断面を概略的に示す概略図である。
【図１ｂ】もう１つの薄膜封止構造の断面を概略的に示す概略図である。
【図２ａ】本開示の実施例による薄膜封止構造の断面を概略的に示す概略図である。
【図２ｂ】本開示の実施例による薄膜封止構造の断面を概略的に示す概略図である。
【図３ａ】本開示の実施例による薄膜封止構造の断面を概略的に示す概略図である。
【図３ｂ】本開示の実施例による薄膜封止構造の断面を概略的に示す概略図である。
【図４】本開示の実施例による薄膜封止構造の製造方法を概略的に示すフローチャートである。
【図５】本開示の実施例による薄膜封止構造の製造方法における基板の形成を概略的に示す概略図である。
【図６ａ】本開示の実施例による薄膜封止構造の製造方法における制限層の形成を概略的に示す概略図である。
【図６ｂ】本開示の実施例による薄膜封止構造の製造方法における制限層の形成を概略的に示す概略図である。
【図６ｃ】本開示の実施例による薄膜封止構造の製造方法における制限層の形成を概略的に示す概略図である。
【図７ａ】本開示の実施例による薄膜封止構造の製造方法における補助拡張層の形成を概略的に示す概略図である。
【図７ｂ】本開示の実施例による薄膜封止構造の製造方法における補助拡張層の形成を概略的に示す概略図である。
【図７ｃ】本開示の実施例による薄膜封止構造の製造方法における補助拡張層の形成を概略的に示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
これら図面の各図において、相応の参照番号は相応の部材または特徴を示す。
まず一点説明すると、文脈上特に明確に示さない限り、本文および添付の特許請求の範囲で用いられる語句の単数形は複数を含み、その逆もまた同様である。よって、単数形が言及されるとき、相応の用語の複数形が通常含まれている。同様に、用語「含む」は、排他的ではなく包括的であると解釈されるべきである。同様に、用語「含む」と「または」は、本文で別に説明がない限り、包括的であると解釈されるべきである。本文において用語「例」が用いられる場合、特にそれが一群の用語の後に置かれる場合、当該「例」は単に例示的かつ説明的なものであり、排他的または広義的なものとみなされるべきではない。
【００２１】
また一点説明すると、本開示の記載において「上」、「の上」、「下」、「の下」、「頂」、「底」、「間」等の用語が示す方位または位置関係は図面に基づいて示す方位または位置関係であり、単に本開示を説明し記載を簡略化するためのものであり、示される装置または部品が特定の方位を有し、特定の方位で構成され操作されなければならないことを示すかまたは暗示するためのものではないため、本開示を限定するものとして理解されるべきではない。また、部品または層が他の部品または層の「上」にあると記載されるとき、それは他の部品または層の上に直接存在するか、あるいは中間の部品または層が存在してもよい。同様に、部品または層が他の部品または層の「下」にあると記載されるとき、それは他の部品または層の下に直接存在するか、あるいは少なくとも一つの中間の部品または層が存在してもよい。部品または層が２つの部品または２つの層の「間」にあると記載されるとき、それは当該２つの部品または２つの層の間に存在する唯一の部品または層であるか、あるいは一つ以上の中間の部品または層が存在してもよい。 
【００２２】
本開示に示されているフローチャートは単なる例である。本開示の精神を逸脱しなければ、当該フローチャートまたはその中に記載のステップの多くの変形が存在してもよい。例えば、前記ステップは異なる順序で行うか、あるいはステップを追加、削除または修正してもよい。これらの変形は請求範囲の一部であると見なされる。
【００２３】
以下、図面を参照して例示的な実施例についてより十分に説明する。
図１ａは１つの薄膜封止構造１００ａの断面を概略的に示す概略図であり、図１ｂはもう１つの薄膜封止構造１００ｂの断面を概略的に示す概略図である。図１ａと１ｂに示すように、薄膜封止構造１００ａと１００ｂはそれぞれ基板１０、封止待ち部材２０、交互に積層された無機層３１０および有機層３２０を含む。有機層３２０の材料は通常インク材料を含む。インク材料（即ち、有機層３２０）は封止待ち部材２０の周辺領域で溢れやすいため、設計領域から溢れて基板１０の縁部に向かって絶えず拡散し、それによって封止後のフレームが比較的広くなる。
【００２４】
本開示の実施例において、封止待ち部材の周辺領域に制限層が設けられている薄膜封止構造を提供し、当該制限層は、有機層材料が設計領域から溢れるのを防止することができ、狭額縁の封止を実現するのに役立つ。また、薄膜封止構造は、封止待ち部材に面する有機層の内面上に位置する補助拡張層をさらに含み、当該補助拡張層は、有機層を形成する際に有機層を均一に平坦化させるのに役立ち、有機層のしわを防止し、ディスプレイデバイスの表示効果を向上させる。
【００２５】
図２ａは本開示の実施例による薄膜封止構造２００ａの断面を概略的に示す概略図であり、図２ｂは本開示の実施例による薄膜封止構造２００ｂの断面を概略的に示す概略図である。図２ａと２ｂに示すように、薄膜封止構造２００ａと２００ｂはそれぞれ基板１０と、基板１０上に位置する封止待ち部材２０（下文では「部材２０」と称する）と、部材２０を封止する積層３０とを含む。積層３０は交互に積層された無機層３１０および有機層３２０を含む。本開示の実施例において、積層３０の最外層は無機層３１０である。有機層３２０は、部材２０に面する内面３２１と、内面の反対側の外面３２２と、内面３２１と外面３２２との間に位置し、前記基板における、部材２０の周辺に位置する領域にわたって延在する端面３２３と、を有する。また、薄膜封止構造２００ａと２００ｂは、端面３２３と基板１０の表面との間に位置する、有機層３２０の位置を特定する制限層３３０をさらに含み、有機層３２０は親水性と疎水性のうちの一方を有してもよく、制限層３３０は親水性と疎水性のうちの他方を有してもよい。
【００２６】
本開示の例示的な実施例において、図２ａと３ａ（後述する）は、積層３０における、部材２０に最も近い層が有機層３２０である場合を示しており、図２ｂと３ｂ（後述する）は、積層３０における、部材２０に最も近い層が無機層３１０である場合を示している。
【００２７】
本開示の例示的な実施例において、一つの態様では、有機層３２０が親水性を有してもよく、この場合は制限層３３０が疎水性を有する。一つの例として、有機層３２０の材料は、エポキシ樹脂、アクリル、ポリアクリレート、ポリジメチルフェニルエーテル、ポリプロピレンまたはそれらの組み合わせを含んでもよく、制限層３３０の材料は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属酸化物またはそれらの組み合わせを含んでもよい。例として、アルカリ金属塩はＬｉＦ、ＭｇＣｌ２、ＮａＣｌまたはそれらの組み合わせを含んでもよく、アルカリ土類金属酸化物はＣａＯを含んでもよい。
【００２８】
本開示の例示的な実施例において、もう一つの態様では、有機層３２０が疎水性を有してもよく、この場合は制限層３３０が親水性を有する。一つの例として、有機層３２０の材料は、ポリイミド、ポリエチレンイミンまたはそれらの組み合わせを含んでもよく、制限層３３０の材料は、Ａｌ２Ｏ３、ポリテトラフルオロエチレン、ポリジメチルシロキサンまたはそれらの組み合わせを含んでもよい。
【００２９】
本開示の例示的な実施例において、有機層３２０の厚さは３〜１５μｍであり、制限層３３０の厚さは５０〜８００Åであり、制限層３３０の幅は１００〜５００μｍである。
【００３０】
また、図３ａは本開示の実施例による薄膜封止構造３００ａの断面を概略的に示す概略図であり、図３ｂは本開示の実施例による薄膜封止構造３００ｂの断面を概略的に示す概略図である。
【００３１】
図３ａと３ｂに示すように、本開示の例示的な実施例において、薄膜封止構造における積層３０は、有機層３２０の内面３２１における、基板１０の表面と平行な方向に延びる部分の上に位置する補助拡張層３４０をさらに含んでもよく、補助拡張層３４０と有機層３２０は親水性または疎水性を有する。
【００３２】
本開示の例示的な実施例において、一つの態様では、有機層３２０が親水性を有する場合、補助拡張層３４０が親水性を有する。一つの例として、補助拡張層３４０の材料はＡｌ２Ｏ３、ポリテトラフルオロエチレン、ポリジメチルシロキサンまたはそれらの組み合わせを含む。
【００３３】
本開示の例示的な実施例において、もう一つの態様では、有機層３２０が疎水性を有する場合、補助拡張層３４０が疎水性を有する。一つの例として、補助拡張層３４０の材料は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属酸化物またはそれらの組み合わせを含む。例として、アルカリ金属塩はＬｉＦ、ＭｇＣｌ２、ＮａＣｌまたはそれらの組み合わせを含んでもよく、アルカリ土類金属酸化物はＣａＯを含んでもよい。
【００３４】
本開示の例示的な実施例において、補助拡張層３４０の厚さは５０〜８００Åである。
【００３５】
本開示の例示的な実施例において、無機層３１０はセラミック材料を含んでもよい。例として、セラミック材料はＳｉＯ２、ＳｉＮｘ、ＳｉＯｘＮｙ、Ａｌ２Ｏ３またはそれらの組み合わせを含み、無機層３１０の厚さは０．５〜１μｍであってもよい。
【００３６】
一点説明すると、基板１０における補助拡張層３４０の投影は、基板における部材２０の投影と重なってもよい。
【００３７】
本開示の例示的な実施例において、無機層３１０は環境中の水分および酸素を遮断するのに用いられ、有機層３２０は平坦層として用いられる。積層３０は交互に積層された複数の無機層３１０および有機層３２０を含んでもよく、これにより環境中の水分および酸素をよりよく遮断し、封止される部材をよりよく保護できることを理解されたい。
【００３８】
本開示の例示的な実施例において、部材２０はＯＬＥＤディスプレイデバイスを含んでもよい。
【００３９】
本開示の実施例において、制限層を含む薄膜封止構造を製造し、狭額縁の封止を実現することができる薄膜封止構造の製造方法をさらに提供する。
【００４０】
図４は本開示の実施例による薄膜封止構造の製造方法を概略的に示すフローチャートである。図４に示すように、ステップＳ４０１において基板が提供される。図５は本開示の実施例による薄膜封止構造の製造方法における基板１０の形成を概略的に示す概略図である。図５に示すように、表面に封止待ち部材２０（下文では「部材２０」と称する）が設けられている基板１０が提供される。
【００４１】
図４に示すように、ステップＳ４０１において、基板の上に積層が形成される。具体的には、基板１０と部材２０の上に部材２０を封止する積層３０が形成されて、図２ａと２ｂに示すような薄膜封止構造２００ａと２００ｂが形成される。本開示の実施例において、積層３０は交互に積層された無機層３１０および有機層３２０を含み、積層３０の最外層は無機層３１０である。有機層３２０は、部材２０に面する内面３２１と、内面３２１の反対側の外面３２２と、内面３２１と外面３２２との間に位置し、基板１０における、部材２０の周辺に位置する領域にわたって延在する端面３３３と、を有する。
【００４２】
本開示の実施例において、積層３０を形成することは、有機層３２０が形成される基板１０の表面に有機層３２０の位置を特定する制限層３３０を形成することをさらに含み、有機層３２０は親水性と疎水性のうちの一方を有し、制限層３３０は親水性と疎水性のうちの他方を有する。
【００４３】
図６ａ〜６ｃは本開示の実施例による薄膜封止構造の製造方法における制限層の形成を概略的に示す概略図である。
【００４４】
図６ａに示すように、有機層３２０が形成される基板１０の表面に有機層３２０の位置を特定する制限層３３０を形成し、これにより最終的に図２ａに示すような薄膜封止構造２００ａを得ることができる。
【００４５】
図６ｂと６ｃに示すように、有機層３２０が形成される基板１０の表面に有機層３２０の位置を特定する制限層３３０を形成し、これにより最終的に図２ｂに示すような薄膜封止構造２００ｂを得ることができる。
【００４６】
本開示の例示的な実施例において、積層３０を形成することは、有機層３２０を形成する前に、その上の有機層３２０の部材２０または無機層３１０が形成される表面に補助拡張層３４０を形成することをさらに含み、補助拡張層３４０と有機層３２０は同時に親水性または疎水性を有する。これにより得られる薄膜封止構造は図３ａと３ｂにおける薄膜封止構造３００ａと３００ｂに示すようなものである。
【００４７】
図７ａ〜７ｃは本開示の実施例による薄膜封止構造の製造方法における補助拡張層の形成を概略的に示す概略図である。
【００４８】
図７ａに示すように、無機層３１０の表面に補助拡張層３４０を形成し、これにより最終的に図３ａに示すような構造３００ａを得ることができる。
【００４９】
図７ｂと７ｃに示すように、部材２０の表面に補助拡張層３４０を形成し、交互に積層された有機層３２０および無機層３１０を形成した後、無機層３１０の表面にもう一つの補助拡張層３４０を形成して、これにより最終的に図３ｂに示すような薄膜封止構造３００ｂを得ることができる。
【００５０】
一点説明すると、基板１０における補助拡張層３４０の投影は、基板における部材２０の投影と重なってもよい。
【００５１】
本開示の例示的な実施例において、一つの態様では、有機層３２０が親水性を有してもよく、この場合は制限層３３０が疎水性を有し、補助拡張層３４０が親水性を有する。一つの例として、有機層３２０の材料は、エポキシ樹脂、アクリル、ポリアクリレート、ポリジメチルフェニルエーテル、ポリプロピレンまたはそれらの組み合わせを含んでもよく、制限層３３０の材料は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属酸化物またはそれらの組み合わせを含んでもよく、補助拡張層３４０の材料は、Ａｌ２Ｏ３、ポリテトラフルオロエチレン、ポリジメチルシロキサンまたはそれらの組み合わせを含んでもよい。例として、アルカリ金属塩はＬｉＦ、ＭｇＣｌ２、ＮａＣｌまたはそれらの組み合わせを含んでもよく、アルカリ土類金属酸化物はＣａＯを含んでもよい。
【００５２】
本開示の例示的な実施例において、もう一つの態様では、有機層３２０が疎水性を有してもよく、この場合は制限層３３０が親水性を有し、補助拡張層３４０が疎水性を有する。一つの例として、有機層３２０の材料は、ポリイミド、ポリエチレンイミンまたはそれらの組み合わせを含んでもよく、制限層３３０の材料は、Ａｌ２Ｏ３、ポリテトラフルオロエチレン、ポリジメチルシロキサンまたはそれらの組み合わせを含んでもよく、補助拡張層３４０の材料は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属酸化物またはそれらの組み合わせを含んでもよい。例として、アルカリ金属塩はＬｉＦ、ＭｇＣｌ２、ＮａＣｌまたはそれらの組み合わせを含んでもよく、アルカリ土類金属酸化物はＣａＯを含んでもよい。
【００５３】
本開示の例示的な実施例において、有機層３２０、制限層３３０および無機層３１０を形成する方法は、インクジェット印刷、化学気相堆積、スクリーン印刷、蒸着法、スパッタリング法、または原子層堆積法を含む。
【００５４】
例えば、親水性の制限層３３０または親水性の補助拡張層３４０の形成について、具体的には、スパッタリング法または原子層堆積法によりＡｌ２Ｏ３薄膜を形成した後、Ａｌ２Ｏ３薄膜が形成された構造をオルトケイ酸テトラエチル−エタノール溶液に２〜５分間浸漬して、制限層３３０または補助拡張層３４０を得ることができる。また、スパッタリング法によりポリテトラフルオロエチレンを含む制限層３３０または補助拡張層３４０を得ることができ、蒸着法、インクジェット印刷またはスクリーン印刷によりポリジメチルシロキサンを含む制限層３３０または補助拡張層３４０を得ることができる。
【００５５】
本開示の例示的な実施例において、無機層３１０は環境中の水分および酸素を遮断するのに用いられ、有機層３２０は平坦層として用いられる。本開示の図面は例示的なものにすぎない。交互に積層された複数の無機層３１０および有機層３２０を含む積層３０を形成してもよく、これにより環境中の水分および酸素をよりよく遮断し、封止される部材をよりよく保護できることを理解されたい。
【００５６】
本開示の実施例において、薄膜封止構造は、封止待ち部材の周囲に位置する制限層を含み、有機層が親水性と疎水性のうちの一方を有し、制限層が親水性と疎水性のうちの他方を有するため、制限層は有機層を設計領域内に制限して、有機層が基板の縁部に向かって拡散するのを防ぎ、これにより狭額縁の封止を実現することができる。また、薄膜封止構造は、封止待ち部材に面する有機層の内面上に位置し、有機層を均一に平坦化させ、有機層のしわを防止することができる補助拡張層をさらに含んでもよく、これにより、封止された表示装置の表示時の輝度ムラが低減され、表示装置の表示効果が向上する。
【００５７】
説明および記述のために、実施例に関する上記記載を提供したが、当該記載は包括的ではなく、または本願を限定するものではない。特定の実施例における各要素または特徴は通常特定の実施例に限定されないが、適切な場合ではこれら要素および特徴は交換可能であり、具体的に示されていなくても、または記載されていなくても、選択された実施例に用いることができる。また、多くの方法で変形することもできる。この変形は本願を逸脱したと見なされるべきでなく、これら変更はすべて本願の範囲内に含まれる。
【符号の説明】
【００５８】
１０  基板
１００ａ、１００ｂ  薄膜封止構造
２０  封止待ち部材
２００ａ、２００ｂ  薄膜封止構造
３０  積層
３００ａ、３００ｂ  薄膜封止構造
３１０  無機層
３２０  有機層
３２１  内面
３２２  外面
３２３  端面
３３０  制限層
３４０  補助拡張層
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図２ａ】
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【図２ｂ】
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【図３ａ】
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【図３ｂ】
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【図４】
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【図５】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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【図６ｃ】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図７ｃ】
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【国際調査報告】
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