(57)【要約】  本発明は、複数のミルスタンド(7、9)を備えるタンデムミル(1)内での圧延ストック(5)の冷間圧延中に圧延ストック(5)を洗浄するための方法に関連する。圧延ストック(5)が移動方向(3)においてタンデムミル(1)を通るように移動させられ、洗浄液(26)が、移動方向(3)の方向とは反対の成分を含む噴射方向において2つの圧延スタンド(7、9)の間で圧延ストック(5)に対して噴射される。
2020525297.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のミルスタンド(7、9)を有するタンデムミル(1)内で被加工物(5)の冷間圧延中に前記被加工物(5)を洗浄するための方法であって、
-  前記被加工物(5)が一つの圧延方向(3)において前記タンデムミル(1)を通るように移動させられ、
-  2つのミルスタンド(7、9)の間において、洗浄液(26)が、前記圧延方向(3)に対して反対である成分を含む噴射方向において前記被加工物(5)に対して噴射される、
方法。
【請求項２】
洗浄液(26)が前記タンデムミル(1)の第1のミルスタンド(7、9)と第2のミルスタンド(7、9)との間において前記被加工物(5)に対して噴射されることを特徴とする、
請求項1に記載の方法。
【請求項３】
洗浄液(26)が前記タンデムミル(1)の第2のミルスタンド(7、9)と第3のミルスタンド(7、9)との間において前記被加工物(5)に対して噴射されることを特徴とする、
請求項1または2に記載の方法。
【請求項４】
ミルスタンド(7、9)内での被加工物(5)の可逆冷間圧延中に前記被加工物(5)を洗浄するための方法であって、
-  前記被加工物(5)が、複数回の圧延通過において前記ミルスタンド(7、9)を通るように反対の圧延方向(3)に交互に移動させられ、
-  2つの圧延通過の間において、洗浄液(26)が、前記圧延方向(3)に対して反対である成分を含む噴射方向において前記被加工物(5)に対して噴射される、
方法。
【請求項５】
洗浄液(26)が第1の圧延通過と第2の圧延通過との間において前記被加工物(5)に対して噴射されることを特徴とする、
請求項4に記載の方法。
【請求項６】
洗浄液(26)が第2の圧延通過と第3の圧延通過との間において前記被加工物(5)に対して噴射されることを特徴とする、
請求項4または5に記載の方法。
【請求項７】
エマルジョン(16)が洗浄液(26)として使用されることを特徴とする、
請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
水が洗浄液(26)として使用されることを特徴とする、
請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記洗浄液(26)が6バールから100バールの間の圧力で前記被加工物(5)に対して噴射されることを特徴とする、
請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記噴射方向が前記被加工物(5)の縁部領域(35、37)の方を向く成分を含むことを特徴とする、
請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
洗浄液(26)を噴射される噴射位置に応じて、圧延方向(3)に対して直角である前記被加工物(5)の全幅にわたって前記噴射方向が変化させられることを特徴とする、
請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記被加工物(5)の縁部領域(35、37)の方を向く前記噴射方向の成分が、前記噴射位置に応じて、前記噴射位置に最も近い前記被加工物(5)の前記縁部領域(35、37)の方に方向付けられることを特徴とする、
請求項10または11に記載の方法。
【請求項１３】
前記噴射方向と前記被加工物(5)の表面との間の噴射角(39)が調整可能であることを特徴とする、
請求項1から12のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
洗浄液(26)が前記被加工物(5)の上側表面および下側表面に対して噴射されることを特徴とする、
請求項1から13にいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
タンデムミル(1)を通るように一つの圧延方向(3)に移動させられる被加工物(5)の冷間圧延のためのタンデムミル(1)であって、前記タンデムミル(1)が、
-  前記圧延方向(3)に沿って直列に配置される複数のミルスタンド(7、9)と、
-  2つのミルスタンド(7、9)の間に配置される、複数のノズル(25)を有する少なくとも1つの噴射棒(21、23)であって、前記複数のノズル(25)により、洗浄液(26)を前記圧延方向(3)に対して反対である成分を含む噴射方向において前記被加工物(5)に対して噴射可能な、少なくとも1つの噴射棒(21、23)と、
を備える、
タンデムミル(1)。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被加工物の冷間圧延中に被加工物を洗浄するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
被加工物の冷間圧延中、一般には金属ストリップである被加工物が、通常、複数回の変形を受け、各々の変形が被加工物の厚さを縮小させる。変形は例えばいわゆるタンデムミルにおいて行われ、タンデムミルでは、被加工物が、圧延方向に沿うように直列に配置される複数のミルスタンドを通って一つの圧延方向に移動させられ、これらの複数のミルスタンドの各々が1回の変形を引き起こす。別法としてまたは加えて、いわゆる可逆圧延の場合、被加工物が複数回の圧延通過(rolling pass)において同一のミルスタンドを通るように反対の圧延方向に交互に移動させられ、各々の圧延通過において被加工物の変形が引き起こされる。
【０００３】
ミルスタンドは、一般に、一方がもう一方の上にくるような形で配置されて圧延間隙によって分離される2つの作動ロールを有し、被加工物が圧延間隙を通過させられる。被加工物と作動ロールとの間の摩擦を低減するために、圧延エマルジョンが被加工物および/または作動ロールに適用される。圧延エマルジョンは、一般に、水と、圧延油と、圧延油を水に混ぜるための乳化剤とを含有する。エマルジョンが、例えば、少なくとも1つの酸化防止剤、摩耗保護添加剤、および/または腐食保護添加剤などの、他の成分をさらに含有することができる。
【０００４】
冷間圧延中、金属粒子が被加工物からおよび作動ロールから削られる。また、エマルジョン残留物、具体的には圧延油が、被加工物に付着し続ける。付着する金属粒子およびエマルジョン残留物が、冷間圧延される被加工物の表面を汚染し、被加工物の表面の表面品質に悪影響を与える。このような不純物を低減することを目的として例えば、例としては、設備をきれいな状態で維持すること、適切な保守管理を行うこと、またはエマルジョン中の油の濃度を下げること、などにより、冷間圧延プラント内での被加工物の表面の汚染物質を最小にするという試みが行われる。被加工物は例えば冷間圧延後にも洗浄され、上記洗浄は、流体手段または化学的手段との組み合わせで、機械的手段(例えば、ブラッシング)の影響を受ける。
【０００５】
特許文献１が、冷間圧延されるストリップが圧延間隙を出るときにストリップを洗浄するための保持プレートの形態のデバイスを開示しており、保持プレートの上にV形の機械的スクレーパ(mechanical scraper)が設置され、保持プレートが被加工物に洗浄剤を適用するための孔をさらに組み込む。機械的摩擦デバイスは本質的に摩耗を受けるものである。加えて、摩擦デバイスに入ってしまう可能性がある硬質粒子が被加工物の表面に傷をつける可能性がある。
【０００６】
特許文献２が、冷間圧延中に金属ストリップを洗浄するための方法を開示しており、ここでは、最後の圧延作業の直前および直後に洗浄溶液が金属ストリップの上側表面および下側表面に対して噴射される。しかし、被加工物が最後の圧延作業の前および後のみで洗浄される場合、最後の圧延作業の前に強く圧延されて被加工物の表面の中に入り込んでしまっている金属粒子は、被加工物の表面から一切除去され得ないか、または多大な労力を伴ってしか被加工物の表面から除去され得ない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】独国特許出願公開第282632号明細書
【特許文献２】独国特許出願公開第3028285号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、被加工物の冷間圧延中に被加工物を洗浄するための改善された方法を詳細に説明することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この目的は、請求項1から4で特許請求される特徴を有する方法により、および請求項15で特許請求される特徴を有するタンデムミルにより、本発明に従って達成される。
【００１０】
本発明の有利な実施形態が従属請求項に記載される。
【００１１】
本発明による方法の第1の実施形態が、複数のミルスタンドを備えるタンデムミル内で被加工物の冷間圧延中に被加工物を洗浄することに関連する。この実施形態では、被加工物が一つの圧延方向においてタンデムミルを通るように移動させられ、2つのミルスタンドの間において、洗浄液が、圧延方向に対して反対である成分を含む噴射方向において被加工物に対して噴射される。
【００１２】
この実施形態が、タンデムミルの2つのミルスタンドの間で被加工物を洗浄するのを可能にし得る。これは、ミルスタンドを通過した後の被加工物のいかなる汚染物質も、次のスタンドに被加工物が入る前に除去され得る、ということを意味する。これにより、スタンドを通過するときに削られる金属粒子が次のスタンドにより圧延されて被加工物の表面の中に入り込むことが防止される。その理由は、被加工物が次のスタンドに入る前に金属粒子が既に被加工物から除去されているからである。
【００１３】
被加工物からの金属粒子およびエマルジョン残留物の機械的摩擦と比較した場合の、被加工物に対して洗浄液を噴射することにより被加工物を洗浄することの利点は、洗浄デバイスが被加工物に接触してひいては被加工物との接触により洗浄デバイスが機械的に摩耗することが、回避される、ことである。除去されるべき金属粒子が数μmのオーダーのサイズを有し、洗浄用スプレージェット(cleaning spray jet)の機械的影響のみにより除去される;したがって、タンデムミルの下流に位置する従来のストリップ洗浄システムとは異なり、洗浄液の高い温度が余計なものとなることから、有利には加熱器の必要性および付随する所要エネルギーの必要性が排除される。圧延方向に対して反対である成分を含む噴射方向において被加工物に対して噴射を行うことにより、有利には、金属粒子およびエマルジョン残留物の移動の反対方向である噴射方向成分により、噴射の洗浄効果が向上する。
【００１４】
本発明の第1の実施形態の変形形態が、タンデムミルの、第1のミルスタンドと第2のミルスタンドとの間においておよび/または第2のミルスタンドと第3のミルスタンドとの間において被加工物に対して洗浄液を噴射するのを実現する。タンデムミルの第1のミルスタンドは、被加工物を最初に通過させるところのタンデムミルスタンドを意味するものとして理解される。したがって、タンデムミルの第2および第3のミルスタンドは、それぞれ、被加工物を通過させるところの第2および第3のタンデムミルスタンドを意味するものとして理解される。
【００１５】
本方法の第1の実施形態の上記の変形形態は、下流のミルスタンドを通過するときの状態と比較して、タンデムミルに入る被加工物が高い表面粗さを有しそれでも比較的柔らかくて厚いことを理由として、タンデムミル内での金属アブレーションの大部分がタンデムミルの最初の2つのスタンド内で生じるということを考慮するものである。つまり、被加工物の表面粗さが各々の圧延作業において低下し、対して被加工物の表面硬さが各々の圧延作業において増大する。その結果、被加工物の金属アブレーションも各々の圧延作業において低減される。したがって、最初の2つのミルスタンドを被加工物が通過するときに削られる大量の金属粒子が後続のスタンドにより圧延されて被加工物の表面に入り込んでしまいその結果として除去され得なくなってしまうかまたは多大な時間および労力を伴ってしか除去され得なくなってしまうのを防止することを目的として、タンデムミルの第1および/または第2のスタンドを経た時点といったような早い段階で被加工物を洗浄することが有利である。これにより、タンデムミルの最後まで被加工物を洗浄しない場合と比較して、被加工物の清浄度および表面品質を大幅に向上させることが可能となり、その後の洗浄処置を低減することが可能となる。
【００１６】
本発明による本方法の第2の実施形態が、ミルスタンド内での被加工物の可逆冷間圧延中に被加工物を洗浄することに関連する。ここでは、被加工物が複数回の圧延通過においてミルスタンドを通るように反対の圧延方向に交互に移動させられ、2つの圧延通過の間において、圧延方向に対して反対である成分を含む方向において洗浄液が被加工物に対して噴射される。
【００１７】
本発明による本方法の第2の実施形態は、タンデムミルを通過するときに2つのミルスタンドの間で被加工物を洗浄することが2つの可逆圧延通過の間において洗浄を行うことに取って代わられることを除いて、第1の実施形態に一致する。
【００１８】
したがって、第1の実施形態の上で言及した変形形態に類似する、本方法の第2の実施形態の変形形態が、第1の圧延通過と第2の圧延通過との間においておよび/または第2の圧延通過と第3の圧延通過との間において被加工物に対して洗浄液を噴射することを実現する。
【００１９】
本発明の変形形態が、洗浄液としてエマルジョンを使用することを実現する。具体的には、洗浄液として使用されるエマルジョンが、被加工物とタンデムミルスタンドのロールまたは可逆圧延スタンドのロールとの間の摩擦を低減するのにも使用される洗浄液と等しいものであってよい。その結果、具体的には、冷間圧延プラントの既存のエマルジョンシステムの配管のうちの少なくとも一部が、被加工物を洗浄するのにも使用され得、それにより配管のコスト/複雑さが低減される。
【００２０】
別法として、例えば、水が洗浄液として使用されてもよい。特別な洗浄液を使用する場合と比較すると、水を使用することにより被加工物の洗浄コストが低減される。
【００２１】
本発明の別の変形形態が、6バールから100バールの間の圧力で被加工物に対して洗浄液を噴射するのを実現する。例えば各々のミルスタンドにおいて約6000l/分といったように、冷間圧延中に比較的大量のエマルジョンが使用される。これにより、通常、被加工物の上側において、金属粒子およびエマルジョン残留物を被加工物から取り除くことを目的として洗浄液が強制的に通過する必要がある数ミリメートルの深さのエマルジョン「レーク」(emulsion “lake”)が作られる。これを達成するために、通常、洗浄液が6バールから100バールの間の圧力で被加工物に対して噴射される。
【００２２】
本発明の別の変形形態が、噴射方向が被加工物の縁部領域の方を向く成分を含むことを実現する。これにより、金属粒子、および被加工物に対して噴射される洗浄液のエマルジョン残留物が、被加工物の縁部領域の方向に移動させられるようになり、被加工物の縁部領域において、金属粒子およびエマルジョン残留物が被加工物から除去され得る。
【００２３】
本発明の別の変形形態が、洗浄液を噴射されるところの噴射位置に応じて、圧延方向に対して直角である被加工物の全幅にわたって噴射方向が変化させられる。これは、金属粒子、および非加工物に対して噴射される洗浄液のエマルジョン残留物が、特には、噴射位置に最も近い縁部領域まで移動させられ得る、ということを意味する。
【００２４】
したがって、本発明の上で言及した2つの変形形態の別の発展形態が、被加工物の縁部領域の方を向く噴射方向の成分が、噴射位置に応じて、噴射位置に最も近い被加工物の縁部領域の方に方向付けられることを実現する。
【００２５】
本発明の別の変形形態が、噴射方向と被加工物表面との間の噴射角が調整され得るのを実現する。これが、プラントに依る手法で洗浄効果を最適化するようにそれぞれの冷間圧延プラントの噴射方向を適合させるのを可能にする。
【００２６】
本発明の別の変形形態が、被加工物の上側および下側に対して洗浄液を噴射するのを実現する。本発明のこの変形形態は、冷間圧延中に一般に被加工物の両側が金属粒子およびエマルジョン残留物によって汚染されるのを考慮するものであり、したがって両側を洗浄することが有利である。
【００２７】
タンデムミルを通るように一つの圧延方向に移動させられる被加工物を冷間圧延するためのタンデムミルが圧延方向に沿って配置される一連のミルスタンドと、2つのミルスタンドの間にある、複数のノズルを有する少なくとも1つの噴射棒とを備え、これらの複数のノズルを通して、洗浄液が、圧延方向に対して反対の成分を含む噴射方向において被加工物に対して噴射され得る。2つのミルスタンドの間で洗浄液を被加工物に対して噴射するための複数のノズルを有する噴射棒の構成が本発明の方法を可能なものとし、ここでは、複数のミルスタンドを備えるタンデムミル内での被加工物の冷間圧延中に被加工物を洗浄するという上で言及した利点を有する。
【００２８】
本発明の上述の性質、特徴、および利点、ならびに本発明の上述の性質、特徴、および利点を達成する手法が、添付図面を参照して後でより詳細に説明される例示の実施形態の以下の説明に関連させることにより、より明瞭となり、より容易に理解可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】タンデムミルの第1の例示の実施形態を示す断面図である。
【図２】タンデムミルの第2の例示の実施形態を示す断面図である。
【図３】2つのミルスタンドの間にある噴射棒の第1の例示の実施形態を示す平面図である。
【図４】2つのミルスタンドの間にある、図3に示される噴射棒を示す側面図である。
【図５】2つのミルスタンドの間にある噴射棒の第2の例示の実施形態を示す平面図である。
【図６】2つのミルスタンドの間にある、図5に示される噴射棒を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
複数の図において一致する部分が等しい参照符号を有する。
【００３１】
図1が、タンデムミル1を通るように一つの圧延方向3に移動させられる本事例では金属ストリップである被加工物5を冷間圧延するためのタンデムミル1の第1の例示の実施形態の断面を概略的に示している。
【００３２】
タンデムミル1が、図1に2つのみ示される複数のミルスタンド7、9を備える。具体的には、示される2つのミルスタンド7、9が、タンデムミル1の、第1のミルスタンド7および第2のミルスタンド9であってよいか、または第2のミルスタンド7および第3のミルスタンド9であってよい。各ミルスタンド7、9が、一方がもう一方の上にくるような形で配置されて圧延間隙によって分離される2つの作動ロール11を有し、被加工物5が圧延間隙を通過させられてそれにより圧延される。各ミルスタンド7が各々の作動ロール11のためのバックアップロール13をさらに有する。
【００３３】
タンデムミル1が、作動ロール11および被加工物5に対してエマルジョン16を分配するためのエマルジョンシステム15をさらに備える。エマルジョン16が、一般に、水と、圧延油と、圧延油を水に混ぜるための乳化剤とを含有する。エマルジョン16が、例えば、少なくとも1つの酸化防止剤、摩耗保護添加剤、および/または腐食保護添加剤などの、他の成分をさらに含有することができる。エマルジョン16が、各々のミルスタンド7、9の圧延間隙の領域に入る入口側において、被加工物5の上側および下側と、ミルスタンド7、9の2つの作動ロール11とに分配され、また出口側において、ミルスタンド7、9の2つの作動ロール11に分配される。入口側という用語は、ミルスタンド7、9の中に被加工物5が供給されるところのミルスタンド7、9の側を意味し、出口側という用語は、入口側の反対であるミルスタンド7、9の側を意味する。
【００３４】
エマルジョンシステム15が、エマルジョン16を保管するためのエマルジョンタンク17と、各々のミルスタンド7、9のためのものである、ミルスタンド7、9から滴下するエマルジョン16を収集するための収集容器19とを有する。エマルジョンシステム15が配管をさらに有し、この配管により、エマルジョン16が、収集容器19からエマルジョンタンク17の中へ、およびエマルジョンタンク17からミルスタンド7まで、運搬される。
【００３５】
被加工物5を洗浄するための2つの噴射棒21、23が第1のミルスタンド7と第2のミルスタンド9との間に配置され、ここでは、上側噴射棒21が被加工物5の上方に配置され、下側噴射棒23が被加工物5の下方に配置される。
【００３６】
各噴射棒21、23が複数のノズル25を有し、それにより、洗浄液26が、圧延方向3に対して反対である成分を含む噴射方向において被加工物5に対して噴射され得る。この例示の実施形態では、洗浄液26が、各々の事例おいて、濾過器27およびポンプ29を介してエマルジョンシステム15から噴射棒21、23に供給される濾過されたエマルジョン16である。濾過器27が、具体的には被加工物5および作動ロール11から削られる金属粒子である、汚染物質をエマルジョン16から分離するのに使用される。ポンプ29の各々が、6バールから100バールの間の圧力を発生させ、この圧力で洗浄液26が被加工物5に対して噴射される。被加工物5からのノズル25の垂直方向距離が、例えば約20cmである。噴射棒21、23の実施例を図3から図6を参照して以下でより詳細に説明する。
【００３７】
図1に示される噴射棒21、23と同様に、噴射棒21、23がやはりタンデムミル1の他のミルスタンド7、9の間に配置され得る。
【００３８】
図2が、タンデムミル1を通るように一つの圧延方向3に移動させられるこの事例では金属ストリップである被加工物5を冷間圧延するためのタンデムミル1の第2の例示の実施形態の断面を概略的に示す。この例示の実施形態は、エマルジョンシステム15からではなく別個の洗浄システム31から噴射棒21、23が供給を受けるという点のみが、図1に示される例示の実施形態とは異なり、別個の洗浄システム31が、エマルジョンシステム15のエマルジョン16とは異なる洗浄液26を噴射棒21、23に対して供給する。
【００３９】
この例示の実施形態の洗浄液26は、例えば、エマルジョンシステム15のエマルジョン16に類似するエマルジョンであるが、その成分は洗浄効果を向上させるためにエマルジョンシステム15のエマルジョン16の成分とは異なる。別法として、洗浄液26が例えば水である。
【００４０】
洗浄システム31が洗浄液26を保管するための洗浄タンク33を備え、洗浄液26が洗浄タンク33からポンプ29および任意選択の濾過器27を介してそれぞれの噴射棒21、23へと供給される。
【００４１】
図3および図4が、2つのミルスタンド7、9の間にある噴射棒21の第1の例示の実施形態を概略的に示す。図3が、噴射棒21と、被加工物5と、ミルスタンド7、9との平面図を示しており、図4が、噴射棒21と、被加工物5と、ミルスタンド7、9の作動ロール11との側面図を示しており、明瞭さのために図4には1つのスプレージェットのみが示される。
【００４２】
噴射棒21が被加工物5の両側の縁部領域35、37の間で被加工物5の上方を延在する。噴射棒21が、噴射棒21の中心から縁部領域35、37のうちの一方の縁部領域の方に向かって各々が延在して互いに一定の角度をなす2つの噴射アームを有し、その結果、噴射棒21がV形となり、ここではVの頂点が被加工物5が最初に通過するところのミルスタンド7の方を向く。噴射棒21のノズル25が噴射棒21の出口側に配置され、上記出口側が被加工物5が最初に通過するところのミルスタンド7の方を向く。各ノズル25が、圧延方向に対して反対である成分を含む噴射方向において被加工物5に対して洗浄液26を噴射する。
【００４３】
図5および図6が、2つのミルスタンド7、9の間にある噴射棒21の第2の例示の実施形態を概略的に示す。図3と同様に、図5が、噴射棒21と、被加工物5と、ミルスタンド7、9との平面図を示しており、図4と同様に、図6が、噴射棒21と、被加工物5と、ミルスタンド7、9の作動ロール11との側面図を示している。
【００４４】
図3および図4に示される例示の実施形態とは異なり、噴射棒21が、V形ではなく、被加工物5の両側の縁部領域35、37の間で被加工物5の上方を直線状に延在する。噴射棒21のノズル25がやはり噴射棒21の出口側に配置され、上記出口側が被加工物5が最初に通過するところのミルスタンド7の方を向き、各ノズル25が、圧延方向3に対して反対である成分を含む噴射方向において被加工物5に対して洗浄液26を適用する。
【００４５】
図3から図6に示される噴射棒21の2つの例示の実施形態では、各ノズル25の噴射方向が、それぞれのノズル25に最も近い縁部領域35、37の方へ方向付けられる成分を含む。図3および図4に示される例示の実施形態では、これがV形の噴射棒21によって達成され、ここでは、洗浄液26が噴射棒のそれぞれの脚部の線に対して垂直に供給され得る。図5および図6に示される例示の実施形態では、これが噴射棒21内のノズル25の向きによって達成される。したがって、図3および図4に示される例示の実施形態は、図5および図6に示される例示の実施形態と比較して噴射棒21内のノズル25をより単純な構成にするのを可能にし、対して図5および図6に示される例示の実施形態は、噴射棒21自体の幾何形状を、図3および図4に示される例示の実施形態よりも単純にする。
【００４６】
図3から図6に示される噴射棒21の両方の例示の実施形態で、噴射棒21が枢動可能に設置されることがさらに実現され得、その結果、噴射方向と洗浄液26を噴射される被加工物5の表面との間の噴射角39が調整され得る。
【００４７】
ノズル25が例えばフラットファンノズル(flat fan nozzle)であり、各々のファンノズルがノズル25から被加工物5の方へと外側に広がる噴射プロフィールを有する。別法として、ノズル25が、実質的に一定の断面を有する噴射プロフィールを有するフルジェットノズルとして実装され得る。
【００４８】
本発明による被加工物5の洗浄は安価に実現され、既存のプラントオートメーションに容易に接続される。その理由は、1つの追加のポンプ29とは別個に、また可能性として汚染物質を除去するための濾過器27、および各々の噴射棒21、23のためのまたは噴射棒のグループのための1つの制御弁とは別個に、噴射棒21、23を接続するための別の装置が必要ない。また、噴射棒21、23が比較的高い圧力で被加工物5に対して洗浄液26を噴射することを理由として、例えば1つのスタンド間領域につき約500l/分といった具合に、エマルジョンシステム15からのエマルジョン16(例えば、1つのスタンド7、9につき6000l/分)と比較して非常の少量の洗浄液26しか被加工物5に適用されず、その結果、被加工物5の冷却挙動が追加の噴射棒21、23の影響を有意には受けず、したがって、噴射棒21、23によって供給される洗浄液の品質の複雑な形での制御が必要なくなる(噴射棒21、23が、流量およびボリュームに関して、一定のスループットに単純に関連付けられる)。上記の理由から、本発明による被加工物5の洗浄は、既存のタンデムミル1を安価に改良するような解決策としても適し得る。
【００４９】
好適な例示の実施形態により本発明を詳細に示して説明してきたが、本発明は開示される実施例のみに限定されず、本発明のために求められる保護範囲から逸脱することなく他の変形形態も当業者には明らかとなろう。
【符号の説明】
【００５０】
1  タンデムミル
3  圧延方向
5  被加工物
7、9  ミルスタンド
11  作動ロール
13  バックアップロール
15  エマルジョンシステム
16  エマルジョン
17  エマルジョンタンク
19  収集容器
21、23  噴射棒
25  ノズル
26  洗浄液
27  濾過器
29  ポンプ
31  洗浄システム
33  洗浄タンク
35、37  縁部領域
39  噴射角
【図１】
2020525297.tif 000003
【図２】
2020525297.tif 000004
【図３】
2020525297.tif 000005
【図４】
2020525297.tif 000006
【図５】
2020525297.tif 000007
【図６】
2020525297.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月27日(2020.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のミルスタンド(7、9)を有するタンデムミル(1)内で被加工物(5)の冷間圧延中に前記被加工物(5)を洗浄するための方法であって、
-  前記被加工物(5)が一つの圧延方向(3)において前記タンデムミル(1)を通るように移動させられ、
-  2つのミルスタンド(7、9)の間において、洗浄液(26)が、前記圧延方向(3)に対して反対である成分を含む噴射方向において前記被加工物(5)に対して噴射される、
方法。
【請求項２】
洗浄液(26)が前記タンデムミル(1)の第1のミルスタンド(7、9)と第2のミルスタンド(7、9)との間において前記被加工物(5)に対して噴射されることを特徴とする、
請求項1に記載の方法。
【請求項３】
洗浄液(26)が前記タンデムミル(1)の第2のミルスタンド(7、9)と第3のミルスタンド(7、9)との間において前記被加工物(5)に対して噴射されることを特徴とする、
請求項1または2に記載の方法。
【請求項４】
ミルスタンド(7、9)内での被加工物(5)の可逆冷間圧延中に前記被加工物(5)を洗浄するための方法であって、
-  前記被加工物(5)が、複数回の圧延通過において前記ミルスタンド(7、9)を通るように反対の圧延方向(3)に交互に移動させられ、
-  2つの圧延通過の間において、洗浄液(26)が、前記圧延方向(3)に対して反対である成分を含む噴射方向において前記被加工物(5)に対して噴射される、
方法。
【請求項５】
洗浄液(26)が第1の圧延通過と第2の圧延通過との間において前記被加工物(5)に対して噴射されることを特徴とする、
請求項4に記載の方法。
【請求項６】
洗浄液(26)が第2の圧延通過と第3の圧延通過との間において前記被加工物(5)に対して噴射されることを特徴とする、
請求項4または5に記載の方法。
【請求項７】
エマルジョン(16)が洗浄液(26)として使用されることを特徴とする、
請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
水が洗浄液(26)として使用されることを特徴とする、
請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記洗浄液(26)が6バールから100バールの間の圧力で前記被加工物(5)に対して噴射されることを特徴とする、
請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記噴射方向が前記被加工物(5)の縁部領域(35、37)の方を向く成分を含むことを特徴とする、
請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
洗浄液(26)を噴射される噴射位置に応じて、圧延方向(3)に対して直角である前記被加工物(5)の全幅にわたって前記噴射方向が変化させられることを特徴とする、
請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
洗浄液(26)を噴射される噴射位置に応じて、圧延方向(3)に対して直角である前記被加工物(5)の全幅にわたって前記噴射方向が変化させられ、
前記被加工物(5)の縁部領域(35、37)の方を向く前記噴射方向の成分が、前記噴射位置に応じて、前記噴射位置に最も近い前記被加工物(5)の前記縁部領域(35、37)の方に方向付けられることを特徴とする、
請求項10に記載の方法。
【請求項１３】
前記噴射方向と前記被加工物(5)の表面との間の噴射角(39)が調整可能であることを特徴とする、
請求項1から12のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
洗浄液(26)が前記被加工物(5)の上側表面および下側表面に対して噴射されることを特徴とする、
請求項1から13にいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
タンデムミル(1)を通るように一つの圧延方向(3)に移動させられる被加工物(5)の冷間圧延のためのタンデムミル(1)であって、前記タンデムミル(1)が、
-  前記圧延方向(3)に沿って直列に配置される複数のミルスタンド(7、9)と、
-  2つのミルスタンド(7、9)の間に配置される、複数のノズル(25)を有する少なくとも1つの噴射棒(21、23)であって、前記複数のノズル(25)により、洗浄液(26)を前記圧延方向(3)に対して反対である成分を含む噴射方向において前記被加工物(5)に対して噴射可能な、少なくとも1つの噴射棒(21、23)と、
を備える、
タンデムミル(1)。
【国際調査報告】
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