(57)【要約】  本発明は、Ｎｉ／Ｚｒ媒介カップリング反応を伴うケトンの合成のための方法を提供する。Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、ハリコンドリン（例として、ハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ノルハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）、およびそれらの類似体の合成において使用され得る。したがって、本発明はまた、ハリコンドリン、およびそれらの類似体の合成に有用な合成方法も提供する。また本明細書に提供されるのには、ハリコンドリン、およびそれらの類似体の合成において有用な化合物（すなわち、中間体）もある。とりわけ、本発明は、式（H3-A）で表される化合物の合成において有用な方法および化合物を提供する。
2020536046.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（H3-A）：
【化１】
2020536046.tif 000695
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法が、式（H3-N3）：
【化２】
2020536046.tif 000696
で表される化合物、またはその塩を還元することを含み、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３】
2020536046.tif 000697
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化４】
2020536046.tif 000698
を形成する；
ＲＰ６は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記方法。
【請求項２】
式（H3-L）：
【化５】
2020536046.tif 000699
で表される化合物、またはその塩を、アジドの存在下で反応させることで、式（H3-N3）：
【化６】
2020536046.tif 000700
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
ＲＬは、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、または任意置換アシルである；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化７】
2020536046.tif 000701
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化８】
2020536046.tif 000702
を形成する；
ＲＲＰ６は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
式（H3-OH）：
【化９】
2020536046.tif 000703
で表される化合物、またはその塩を、式ＸＬ−ＲＬで表される試薬の存在下で反応させることで、式（H3-L）：
【化１０】
2020536046.tif 000704
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらにを含み、式中：
ＲＬは、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、または任意置換アシルである；
ＸＬは、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化１１】
2020536046.tif 000705
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルあるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化１２】
2020536046.tif 000706
を形成する；
ＲＲＰ６は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
式（H3-2-I）：
【化１３】
2020536046.tif 000707
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法が、式（H3-2-II）：
【化１４】
2020536046.tif 000708
で表される化合物、またはその塩を環化させることを含み、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化１５】
2020536046.tif 000709
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化１６】
2020536046.tif 000710
を形成する；
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記方法。
【請求項５】
式（H3-2-II）：
【化１７】
2020536046.tif 000711
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、式（L-2-6）：
【化１８】
2020536046.tif 000712
表される化合物、またはその塩を、式（R-2-I）：
【化１９】
2020536046.tif 000713
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（H3-2-II）で表される化合物、またはその塩を生産することを含み、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化２０】
2020536046.tif 000714
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化２１】
2020536046.tif 000715
を形成する；
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記方法。
【請求項６】
式（H3-2-II）で表される化合物、またはその塩の１個以上の酸素原子を脱保護するというステップをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
式（R-2-I）：
【化２２】
2020536046.tif 000716
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法が、式（R-4-11B）：
【化２３】
2020536046.tif 000717
で表される化合物、またはその塩を、求核試薬の存在下で反応させ、これによって基−ＯＲＰ７を基−Ｘ１に置換することを含む；式中：
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化２４】
2020536046.tif 000718
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化２５】
2020536046.tif 000719
を形成する；
ＲＰ５は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＰ７は、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＰ５およびＲＰ７は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記方法。
【請求項８】
（ａ）式（R-4-11A）：
【化２６】
2020536046.tif 000720
で表される化合物、またはその塩を脱保護することで、式（R-4-11C）：
【化２７】
2020536046.tif 000721
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｂ）式（R-4-11C）で表される化合物、またはその塩を再度保護することで、式（R-4-11B）：
【化２８】
2020536046.tif 000722
で表される化合物、またはその塩を生産するという１以上のステップ
をさらに含み、式中：
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化２９】
2020536046.tif 000723
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３０】
2020536046.tif 000724
を形成する；
ＲＰ５は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；
ＲＰ７は、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＰ５およびＲＰ７は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
式（R-4-10）：
【化３１】
2020536046.tif 000725
で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（R-4-11A）：
【化３２】
2020536046.tif 000726
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３３】
2020536046.tif 000727
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３４】
2020536046.tif 000728
を形成する；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
（ａ）式（R-4-8）：
【化３５】
2020536046.tif 000729
で表される化合物、またはその塩を、式（R-4-9）：
【化３６】
2020536046.tif 000730
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（R-4-10B）：
【化３７】
2020536046.tif 000731
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ、これに続き
（ｂ）式（R-4-10B）で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（R-4-10）：
【化３８】
2020536046.tif 000732
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
をさらに含み、式中：
Ｘ３およびＸ２は各々、独立して、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３９】
2020536046.tif 000733
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化４０】
2020536046.tif 000734
を形成する；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
方法が、式（R-4-7）：
【化４１】
2020536046.tif 000735
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（R-4-8）：
【化４２】
2020536046.tif 000736
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化４３】
2020536046.tif 000737
を形成する；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
式（R-4-5B）：
【化４４】
2020536046.tif 000738
で表される化合物、またはその塩を、式（R-4-6）：
【化４５】
2020536046.tif 000739
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（R-4-7A）：
【化４６】
2020536046.tif 000740
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（a-i）式（R-4-7A）で表される化合物、またはその塩を脱保護および環化させることで、式（R-4-7）：
【化４７】
2020536046.tif 000741
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
をさらに含む；式中：
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化４８】
2020536046.tif 000742
を形成する；
ＲＰ５、ＲＰ８、およびＲＰ９の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および任意に、ここで２個のＲＰ９基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
方法が、
（ｂ）式（R-4-7A）で表される化合物、またはその塩を、基ＲＰ５およびＲＰ８を除去するのに充分な条件下で脱保護することで、式：
【化４９】
2020536046.tif 000743
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｃ）ステップ（ｂ）において産生された化合物、またはその塩を脱保護および環化させることで、式：
【化５０】
2020536046.tif 000744
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｄ）ステップ（ｃ）において形成された化合物、またはその塩を保護することで、式（R-4-7B）：
【化５１】
2020536046.tif 000745
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
を含む；式中：
ＲＰ５、ＲＰ８、およびＲＰ９の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および任意に、ここで２個のＲＰ９基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
式（R-4-5A）：
【化５２】
2020536046.tif 000746
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（R-4-5B）：
【化５３】
2020536046.tif 000747
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
式（R-4-4）：
【化５４】
2020536046.tif 000748
で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（R-4-5A）：
【化５５】
2020536046.tif 000749
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ５、ＲＰ８、およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
方法が、式（R-4-2）：
【化５６】
2020536046.tif 000750
で表される化合物、またはその塩を、式（R-4-3）：
【化５７】
2020536046.tif 000751
で表される化合物、式（R-4-4）：
【化５８】
2020536046.tif 000752
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせるというステップ
をさらに含み、式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
式（R-4-1）：
【化５９】
2020536046.tif 000753
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（R-4-2）：
【化６０】
2020536046.tif 000754
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
（ａ）式（R-4-1）：
【化６１】
2020536046.tif 000755
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（R-4-2）：
【化６２】
2020536046.tif 000756
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｂ）式（R-4-2A）で表される化合物、またはその塩をオレフィン化することで、式（R-4-2B）：
【化６３】
2020536046.tif 000757
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｃ）式（R-4-2B）で表される化合物、またはその塩を保護することで、式（R-4-2C）：
【化６４】
2020536046.tif 000758
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｄ）式（R-4-2C）で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（R-4-2）：
【化６５】
2020536046.tif 000759
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
をさらに含み、式中：
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
式（L-2-6）：
【化６６】
2020536046.tif 000760
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法が、式（L-5-7B）：
【化６７】
2020536046.tif 000761
で表される化合物、またはその塩を、チオール化剤の存在下で反応させることを含む；式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記方法。
【請求項２０】
式（L-5-7A）：
【化６８】
2020536046.tif 000762
で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（L-5-7B）：
【化６９】
2020536046.tif 000763
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
（ａ）式（L-5-7B）で表される化合物、またはその塩を、ＲＰ４基およびＲ８基を除去するのに充分な条件下で脱保護することで、式（L-5-7C）：
【化７０】
2020536046.tif 000764
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-7C）で表される化合物、またはその塩を保護することで、式（L-5-7D）：
【化７１】
2020536046.tif 000765
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
をさらに含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
式（L-5-6A）：
【化７２】
2020536046.tif 000766
で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（L-5-6B）：
【化７３】
2020536046.tif 000767
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
式（L-5-6B）で表される化合物、またはその塩を、オレフィン化試薬の存在下で反応させることで、式（L-5-7A）：
【化７４】
2020536046.tif 000768
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
をさらに含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項２０または２１に記載の方法。
【請求項２３】
式（L-5-4）：
【化７５】
2020536046.tif 000769
で表される化合物、またはその塩を、式（L-5-5）：
【化７６】
2020536046.tif 000770
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（L-5-6A）：
【化７７】
2020536046.tif 000771
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含む；式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
化合物（１）：
【化７８】
2020536046.tif 000772
化合物（１）、
またはその塩を調製する方法であって、方法が、式（Ｂ）：
【化７９】
2020536046.tif 000773
で表される化合物、またはその塩を還元することを含む、前記方法。
【請求項２５】
還元するというステップが、ホスフィン試薬の存在下で実行される、請求項１または２４に記載の方法。
【請求項２６】
ホスフィン試薬が、トリフェニルホスフィン（Ｐｈ３Ｐ）である、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
ホスフィン試薬が、ポリマー結合トリフェニルホスフィンである、請求項２５に記載の方法。
【請求項２８】
少なくとも１当量のホスフィン試薬が存在する、請求項２５〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
反応が、ＴＨＦおよび水の存在下で実行される、請求項１および２４〜２８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０】
産物、またはその塩が、沈殿によって精製および単離される、請求項１および２４〜２９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３１】
式（Ａ）：
【化８０】
2020536046.tif 000774
で表される化合物、またはその塩を、アジドの存在下で反応させることで、式（Ｂ）：
【化８１】
2020536046.tif 000775
で表される化合物、またはその塩を生産することというステップをさらに含み、式中：
ＲＬは、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、または任意置換アシルである、請求項２４〜３０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２】
アジドが、アジ化ナトリウム、アジ化カリウム、またはテトラアルキルアンモニウムアジドの塩である、請求項２または３１に記載の方法。
【請求項３３】
アジドが、テトラアルキルアンモニウムアジドである、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
アジドは、テトラブチルアンモニウムアジド（［ｎ−Ｂｕ４Ｎ］Ｎ３）である、請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
反応が、トルエン中で実行される、請求項３１〜３４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３６】
化合物（２）：
【化８２】
2020536046.tif 000776
化合物（２）、
またはその塩を、式ＸＬ−ＲＬで表される試薬の存在下で反応させることで、式（Ａ）：
【化８３】
2020536046.tif 000777
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
ＸＬは、ハロゲンまたは脱離基である；および
ＲＬは、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、または任意置換アシルである、請求項３１〜３５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３７】
式ＸＬ−ＲＬで表される試薬は、ハロゲン化スルホニルである；ＲＬは、任意置換スルホニルである；およびＸＬは、ハロゲンである、請求項３または３６に記載の方法。
【請求項３８】
式ＸＬ−ＲＬで表される試薬は、塩化スルホニルである；およびＲＬは、任意置換スルホニルである、請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
式ＸＬ−ＲＬで表される試薬は、塩化トシル（ＴｓＣｌ）である；およびＲＬは、Ｔｓである、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
反応が、塩基の存在下で実行される、請求項３および３６〜３９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４１】
塩基が、トリアルキルアミン塩基、ピリジン塩基、またはイミダゾール塩基である、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
塩基が、トリアルキルアミン塩基である、請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
塩基が、トリエチルアミン（ＴＥＡ）である、請求項４２に記載の方法。
【請求項４４】
反応が、ルイス酸の存在下で実行される、請求項３および３６〜４３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４５】
反応が、ジブチル錫オキシドの存在下で実行される、請求項４４に記載の方法。
【請求項４６】
反応が、ＴｓＣｌ、ＴＥＡ、およびジブチル錫オキシドの存在下で実行される、請求項３および３６〜４５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４７】
反応が、ジクロロメタン（ＤＣＭ）中で実行される、請求項３および３６〜４６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４８】
化合物（２）：
【化８４】
2020536046.tif 000778
化合物（２）、
またはその塩を調製する方法であって、方法が、式：
【化８５】
2020536046.tif 000779
化合物（Ｃ）
で表される化合物、またはその塩を環化させることを含む、前記方法。
【請求項４９】
環化させるというステップは、酸の存在下で実行される、請求項４または４８に記載の方法。
【請求項５０】
酸が、ピリジニウム塩である、請求項４９に記載の方法。
【請求項５１】
酸が、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）である、請求項５０に記載の方法。
【請求項５２】
反応が、ジクロロメタン（ＤＣＭ）中で実行される、請求項４および４８〜５１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５３】
任意に、１個以上の遊離ヒドロキシル基が、酸素保護基で置換される、請求項２４〜５２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５４】
１個以上の酸素保護基が、シリル保護基である、請求項５３に記載の方法。
【請求項５５】
式（E-1）：
【化８６】
2020536046.tif 000780
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、式（E-L）：
【化８７】
2020536046.tif 000781
で表される化合物、またはその塩を、式（E-R）：
【化８８】
2020536046.tif 000782
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（E-1）：
【化８９】
2020536046.tif 000783
で表される化合物、またはその塩を生産することを含み、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；および
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記方法。
【請求項５６】
カップリングさせるというステップは、ニッケルおよびジルコニウムの存在下で実行される、請求項５または５５に記載の方法。
【請求項５７】
ニッケルが、ニッケル錯体である、請求項５６に記載の方法。
【請求項５８】
ニッケルが、ニッケル（ＩＩ）錯体またはニッケル（０）錯体である、請求項５７に記載の方法。
【請求項５９】
ニッケル錯体が、式：ＮｉＸ２・（配位子）で表される；式中Ｘは、ハロゲンであり、および「配位子」は、二座配位子である、請求項５７または５８に記載の方法。
【請求項６０】
ニッケル錯体が、溶液中のニッケル供給源と「配位子」との錯体形成後に使用される、請求項５９に記載の方法。
【請求項６１】
ニッケル供給源が、ＮｉＣｌ２である；「配位子」が、４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ジピリジル（ｔｂｂｐｙ）である；およびニッケル錯体が、式ＮｉＣｌ２・（ｔｂｂｐｙ）で表される、請求項５９または６０に記載の方法。
【請求項６２】
ニッケル供給源が、ＮｉＢｒ２である；および「配位子」が、４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ジピリジル（ｔｂｂｐｙ）である；およびニッケル錯体が、式ＮｉＢｒ２・（ｔｂｂｐｙ）で表される、請求項５９または６０に記載の方法。
【請求項６３】
ニッケルが、触媒量で存在する、請求項５６〜６２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６４】
ニッケルが、１〜５０ｍｏｌ％で存在する、請求項６３に記載の方法。
【請求項６５】
ニッケルが、１〜１０ｍｏｌ％で存在する、請求項６３に記載の方法。
【請求項６６】
ジルコニウムが、ジルコニウム錯体である、請求項５６に記載の方法。
【請求項６７】
ジルコニウム錯体が、式：（配位子）ｎＺｒＸ２で表される；式中ｎは、０、１、２、３、または４であり、およびＸは、ハロゲンである、請求項６６に記載の方法。
【請求項６８】
ジルコニウム錯体が、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２である、請求項６６または６７に記載の方法。
【請求項６９】
ジルコニウムが、化学量論量または過剰量で存在する、請求項５６〜６８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７０】
ジルコニウムが、約１〜約４当量で存在する、請求項６９に記載の方法。
【請求項７１】
カップリングさせるというステップは、亜鉛またはマンガンの存在下で実行される、請求項５および５５〜７０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７２】
反応が、金属マンガンの存在下で実行される、請求項７１に記載の方法。
【請求項７３】
マンガンが、過剰量で存在する、請求項７２に記載の方法。
【請求項７４】
カップリングさせるというステップが、塩化トリエチルシリル（ＴＥＳＣｌ）の存在下で実行される、請求項５および５５〜７３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７５】
カップリングさせるというステップが、塩基またはプロトン捕捉剤の存在下で実行される、請求項５および５５〜７４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７６】
反応が、ＮｉＢｒ２・（ｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および金属マンガンの存在下で実行される、請求項５および５５〜７５のいずれか一項に記載の方法。
［請求項76a］
反応が、溶液中、式（L-2-6）で表される化合物、またはその塩を、式（R-2-I）で表される化合物、またはその塩、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および金属マンガンと混合すること；これに続くＮｉＢｒ２・（ｔｂｂｐｙ）の添加によって実行される、請求項７６に記載の方法。
［請求項76b］
反応が、溶液中、式（E-L）で表される化合物、またはその塩を、式（E-R）で表される化合物、またはその塩、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および金属マンガンと混合すること；これに続くＮｉＢｒ２・（ｔｂｂｐｙ）の添加によって実行される、請求項７６に記載の方法。
【請求項７７】
カップリングさせるというステップが、１種以上の溶媒中で実行される、請求項５および５５〜７６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７８】
カップリングさせるというステップが、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）中で実行される、請求項７７に記載の方法。
【請求項７９】
反応が、室温にて、またはほぼ室温にて実行される、請求項５および５５〜７８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８０】
反応が、室温を上回る温度にて実行される、請求項５および５５〜７８のいずれか一項に記載の方法。
［請求項80a］
反応が、およそ３０℃にて実行される、請求項８０に記載の方法。
［請求項80b］
反応が実行されることで、１ｇより多い産物を生産する、請求項５および５５〜80aのいずれか一項に記載の方法。
［請求項80c］
反応が実行されることで、３０ｇより多い産物を生産する、請求項80bに記載の方法。
【請求項８１】
式（E-1）で表される化合物、またはその塩を脱保護することで、式：
【化９０】
2020536046.tif 000784
化合物（Ｃ）
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含む、請求項５５〜８０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８２】
ＲＰ６、ＲＰ５、およびＲＰ４が、シリル保護基である；および脱保護のステップが、フッ化物供給源の存在下で実行される、請求項６または８１に記載の方法。
【請求項８３】
フッ化物供給源が、フッ化テトラブチルアンモニウム（ＴＢＡＦ）である、請求項８２に記載の方法。
【請求項８４】
反応が、イミダゾール塩酸塩の存在下で実行される、請求項６および８１〜８３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８５】
反応が、ＴＨＦ中で実行される、請求項６および８１〜８４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８６】
式（E-R）：
【化９１】
2020536046.tif 000785
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法が、式（E-R-1）：
【化９２】
2020536046.tif 000786
で表される化合物、またはその塩を、求核試薬の存在下で反応させることで、これによって基−ＯＲＰ７を基−Ｘ１に置換することを含む；式中：
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
ＲＰ５は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＰ７は、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＰ５およびＲＰ７は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記方法。
【請求項８７】
Ｘ１が、−Ｉである；および反応が、ヨウ化物塩の存在下で実行される、請求項７または８６に記載の方法。
【請求項８８】
ヨウ化物塩が、ヨウ化ナトリウム（ＮａＩ）である、請求項８７に記載の方法。
【請求項８９】
反応が、ＤＭＩ中で実行される、請求項７および８６〜８８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９０】
（ａ）式（E-R-2）：
【化９３】
2020536046.tif 000787
で表される化合物、またはその塩を脱保護することで、式：
【化９４】
2020536046.tif 000788
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）再度保護することで、式（E-R-1）：
【化９５】
2020536046.tif 000789
で表される化合物、またはその塩を生産するという１以上のステップ
をさらに含み、式中：
ＲＰ５は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
ＲＰ７は、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＰ５およびＲＰ７は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、請求項８６〜８９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９１】
２個のＲＰ５基が、一緒に結び合って、以下：
【化９６】
2020536046.tif 000790
を形成する；およびステップ（ａ）が、酸の存在下で実行される、請求項８または９０に記載の方法。
【請求項９２】
酸が、ｐ−トルエンスルホン酸（ＴｓＯＨ）である、請求項９１に記載の方法。
【請求項９３】
ステップ（ａ）が、ＤＣＭおよびＭｅＯＨの存在下で実行される、請求項８および９０〜９２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９４】
式（R-4-11B）または（E-R-1）で表される化合物に関し、−ＯＲＰ７が、スルホナート脱離基であり、およびＲＰ５が、シリル保護基である；およびステップ（ｂ）が、スルホン化試薬および塩基の存在下で実行され、これに続きシリル化試薬および塩基の存在下で実行される、請求項８または９０〜９３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９５】
−ＯＲＰ７が、−ＯＴｆである；およびスルホン化試薬が、Ｔｆ２Ｏである、請求項９４に記載の方法。
【請求項９６】
ＲＰ５が、ＴＥＳである；およびシリル化試薬が、ＴＥＳＯＴｆである、請求項９４または９５に記載の方法。
【請求項９７】
塩基が、アミン塩基またはピリジン塩基である、請求項９４〜９６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９８】
塩基が、２，４，６−コリジンである、請求項９７に記載の方法。
【請求項９９】
ステップ（ｂ）が、Ｔｆ２Ｏおよび２，４，６−コリジンの存在下で実行され、これに続きＴＥＳＯＴｆおよび２，４，６−コリジンの存在下で実行される、請求項９４〜９８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１００】
ステップ（ｂ）が、ＤＣＭ中で実行される、請求項９４〜９９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０１】
式（E-R-3）：
【化９７】
2020536046.tif 000791
で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（E-R-2）：
【化９８】
2020536046.tif 000792
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
ＲＰ５の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項９０〜１００のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０２】
環化させるというステップが、無水物の存在下で実行される、請求項９または１０１に記載の方法。
【請求項１０３】
無水物が、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物（ＭＮＢＡ）である、請求項１０２に記載の方法。
【請求項１０４】
環化させるというステップが、カルボキシル基−ＣＯ２Ｒ８または−ＣＯ２Ｈを活性化することが可能な求核試薬の存在下で実行される、請求項９および１０１〜１０３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０５】
環化させるというステップが、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下で実行される、請求項１０４に記載の方法。
【請求項１０６】
環化させるというステップが、塩基の存在下で実行される、請求項９および１０１〜１０５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０７】
塩基が、アミン塩基である、請求項１０６に記載の方法。
【請求項１０８】
アミン塩基が、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）である、請求項１０７に記載の方法。
【請求項１０９】
環化させるというステップが、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物（ＭＮＢＡ）、ＤＭＡＰ、およびＤＩＰＥＡの存在下で実行される、請求項９および１０１〜１０８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１０】
環化させるというステップが、トルエン中で実行される、請求項９および１０１〜１０９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１１】
（ａ）式（E-R-4）：
【化９９】
2020536046.tif 000793
で表される化合物、またはその塩を、式（E-R-5）：
【化１００】
2020536046.tif 000794
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（E-R-6）：
【化１０１】
2020536046.tif 000795
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ、これに続き
（ｂ）式（E-R-6）で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（E-R-7）：
【化１０２】
2020536046.tif 000796
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
をさらに含み、式中：
Ｘ３およびＸ２は各々、独立して、ハロゲンまたは脱離基である；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１０１〜１１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１２】
環化させるというステップが、酸の存在下で実行される、請求項１０または１１１に記載の方法。
【請求項１１３】
環化させるというステップが、塩基の存在下で実行される、請求項１０または１１１に記載の方法。
【請求項１１４】
塩基が、カーボナートである、請求項１１３に記載の方法。
【請求項１１５】
塩基が、炭酸カリウム（Ｋ２ＣＯ３）である、請求項１１４に記載の方法。
【請求項１１６】
環化させるというステップが、ＭｅＯＨの存在下で実行される、請求項１０および１１１〜１１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１７】
式（E-R-8）：
【化１０３】
2020536046.tif 000797
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（E-R-4）：
【化１０４】
2020536046.tif 000798
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１１１〜１１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１８】
還元するというステップが、水素化物供給源の存在下で実行される、請求項１１または１１７に記載の方法。
【請求項１１９】
水素化物供給源が、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）である、請求項１１８に記載の方法。
【請求項１２０】
還元するというステップが、ＤＣＭ中で実行される、請求項１１および１１７−１１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２１】
（ａ）式（E-R-9）：
【化１０５】
2020536046.tif 000799
で表される化合物、またはその塩を、式（E-R-10）：
【化１０６】
2020536046.tif 000800
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（E-R-11）：
【化１０７】
2020536046.tif 000801
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（a-i）式（E-R-11）で表される化合物、またはその塩を脱保護および環化させることで、式（E-R-8）：
【化１０８】
2020536046.tif 000802
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
をさらに含む；式中：
ＲＰ５、ＲＰ８、およびＲＰ９の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および任意に、ここで２個のＲＰ９基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１１７〜１２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２２】
方法が、
（ｂ）式（E-R-11）で表される化合物、またはその塩を脱保護することで、基ＲＰ５およびＲＰ８を除去するのに充分な条件下で、式（E-R-12）：
【化１０９】
2020536046.tif 000803
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｃ）式（E-R-12）で表される化合物、またはその塩を脱保護および環化させることで、式（E-R-13）：
【化１１０】
2020536046.tif 000804
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｄ）式（E-R-13）で表される化合物、またはその塩を保護することで、式（E-R-14）：
【化１１１】
2020536046.tif 000805
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
を含む；式中：
ＲＰ５、ＲＰ８、およびＲＰ９の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および任意に、ここで２個のＲＰ９基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１２１に記載の方法。
【請求項１２３】
ＲＰ５およびＲＰ８が、シリル保護基である；およびステップ（ｂ）が、フッ化物供給源の存在下で実行される、請求項１３または１２２に記載の方法。
【請求項１２４】
フッ化物供給源が、フッ化テトラブチルアンモニウム（ＴＢＡＦ）である、請求項１２３に記載の方法。
【請求項１２５】
ステップ（ｂ）が、ＴＨＦ中で実行される、請求項１３および１２２〜１２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２６】
ステップ（a-i）またはステップ（ｃ）が、酸の存在下で実行される、請求項１２、１３、および１２２〜１２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２７】
酸が、ルイス酸である、請求項１２６に記載の方法。
【請求項１２８】
ルイス酸が、トリエチルシリルトリフルオロメタンスルホナート（ＴＥＳＯＴｆ）である、請求項１２７に記載の方法。
【請求項１２９】
ルイス酸が、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート（ＴＭＳＯＴｆ）である、請求項１２７に記載の方法。
【請求項１３０】
ステップ（a-i）またはステップ（ｃ）が、水素化物供給源の存在下で実行される、請求項１２、１３、および１２２〜１２９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３１】
水素化物供給源が、トリエチルシランである、請求項１３０に記載の方法。
【請求項１３２】
ステップ（a-i）またはステップ（ｃ）が、ＴＭＳＯＴｆおよびトリエチルシランの存在下で実行される、請求項１２、１３、および１２２〜１３１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３３】
ステップ（a-i）またはステップ（ｃ）が、ＤＣＭ中で実行される、請求項１２、１３、および１２２〜１３２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３４】
式（E-R-14）または（R-4-7B）で表される化合物、またはその塩に関し、２個のＲＰ５が、一緒に結び合って以下：
【化１１２】
2020536046.tif 000806
を形成する；およびステップ（ｄ）が、ケタールおよび酸の存在下で実行される、請求項１３および１２２〜１３３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３５】
ケタールが、式：
【化１１３】
2020536046.tif 000807
で表される、請求項１３４に記載の方法。
【請求項１３６】
酸が、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）である、請求項１３４に記載の方法。
【請求項１３７】
ステップ（ｄ）が、ＰＰＴＳおよび式：
【化１１４】
2020536046.tif 000808
で表されるケタールの存在下で実行される、請求項１３４に記載の方法
【請求項１３８】
ステップ（ｄ）が、ＴＨＦ中で実行される、請求項１３および１２２〜１３７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３９】
式（E-R-14）、（E-R-8）、（R-4-7）、または（R-4-7B）で表される化合物、またはその塩が、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、ＯＤＳカラムクロマトグラフィー、および再結晶によって精製される、請求項１２、１３、および１２１〜１３８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４０】
式（E-R-15）：
【化１１５】
2020536046.tif 000809
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（E-R-9）：
【化１１６】
2020536046.tif 000810
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１２１〜１３９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４１】
還元するというステップが、水素化物供給源の存在下で実行される、請求項１４または１４０に記載の方法。
【請求項１４２】
水素化物供給源が、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）である、請求項１４１に記載の方法。
【請求項１４３】
還元するというステップが、ＤＣＭ中で実行される、請求項１４および１４０〜１４２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４４】
式（E-R-16）：
【化１１７】
2020536046.tif 000811
で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（E-R-15）：
【化１１８】
2020536046.tif 000812
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１４０〜１４３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４５】
環化させるというステップが、塩基の存在下で実行される、請求項１５または１４４に記載の方法。
【請求項１４６】
塩基が、ホスファートである、請求項１４５に記載の方法。
【請求項１４７】
塩基が、リン酸カリウム（Ｋ３ＰＯ４）である、請求項１４５に記載の方法。
【請求項１４８】
反応が、クラウンエーテルの存在下で実行される、請求項１５および１４４〜１４７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４９】
反応が、１８−クラウン−６の存在下で実行される、請求項１４８に記載の方法。
【請求項１５０】
反応が、Ｋ３ＰＯ４および１８−クラウン−６の存在下で実行される、請求項１５および１４４〜１４９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５１】
反応が、トルエンおよびＭｅＯＡｃ中で実行される、請求項１５および１４４〜１５０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５２】
式（R-4-5A）または（E-R-15）で表される化合物、またはその塩が、シリカゲルカラムクロマトグラフィーおよび再結晶によって精製される、請求項１５および１４４〜１５１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５３】
式（E-R-17）：
【化１１９】
2020536046.tif 000813
で表される化合物、またはその塩を、式（R-4-3）：
【化１２０】
2020536046.tif 000814
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（E-R-18）：
【化１２１】
2020536046.tif 000815
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１４４〜１５２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５４】
カップリングさせるというステップが、ニッケル、クロム、およびスルホンアミド配位子の存在下で実行される、請求項１０、１２、１６、１１１、１２１、および１５３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５５】
ニッケル供給源が、（Ｅｔ）２Ｐｈｅｎ・ＮｉＣｌ２または（Ｍｅ）２Ｐｈｅｎ（ＯＭｅ）２・ＮｉＣｌ２である、請求項１５４に記載の方法。
【請求項１５６】
ニッケル供給源が、以下：
【化１２２】
2020536046.tif 000816
である、請求項１５４に記載の方法。
【請求項１５７】
スルホンアミド配位子が、(S)-4-G、(R)-4-F、または(R)-4-Eである、請求項１５４〜１５６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５８】
スルホンアミド配位子が、以下：
【化１２３】
2020536046.tif 000817
であるか、またはその塩である、請求項１５４〜１５６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５９】
スルホンアミド配位子が、以下：
【化１２４】
2020536046.tif 000818
であるか、またはその塩である、請求項１５４〜１５６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６０】
カップリングさせるというステップが、以下のスルホンアミド配位子およびニッケル供給源：
【化１２５】
2020536046.tif 000819
※化中訳： および
の存在下で実行される、請求項１５４〜１５９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６１】
カップリングさせるというステップが、以下のスルホンアミド配位子、ニッケル供給源：
【化１２６】
2020536046.tif 000820
※化中訳： および
の存在下で実行される、請求項１５４〜１５９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６２】
クロム供給源が、ＣｒＣｌ３またはＣｒＣｌ２である、請求項１５４〜１６１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６３】
カップリングさせるというステップが、リチウム塩の存在下で実行される、請求項１０、１２、１６、１１１、１２１、および１５３〜１６２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６４】
リチウム塩が、塩化リチウム（ＬｉＣｌ）である、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１６５】
カップリングさせるというステップが、金属マンガンの存在下で実行される、請求項１０、１２、１６、１１１、１２１、および１５３〜１６４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６６】
カップリングさせるというステップが、ジルコニウム錯体の存在下で実行される、請求項１０、１２、１６、１１１、１２１、および１５３〜１６５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６７】
ジルコニウム供給源が、ＺｒＣｐ２Ｃｌ２である、請求項１６６に記載の方法。
【請求項１６８】
カップリングさせるというステップが、塩基および／またはプロトン捕捉剤の存在下で実行される、請求項１０、１２、１６、１１１、１２１、および１５３〜１６７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６９】
塩基またはプロトン捕捉剤が、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジン、２，６，−ルチジン、および／またはプロトン・スポンジである、請求項１６８に記載の方法。
【請求項１７０】
カップリングさせるというステップが、以下のニッケル供給源：
【化１２７】
2020536046.tif 000821
以下のスルホンアミド配位子：
【化１２８】
2020536046.tif 000822
ＣｒＣｌ３、金属マンガン、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジン、およびプロトン・スポンジの存在下で実行される、請求項１０または１１１に記載の方法。
【請求項１７１】
カップリングさせるというステップが、以下のニッケル供給源：
【化１２９】
2020536046.tif 000823
以下のスルホンアミド配位子：
【化１３０】
2020536046.tif 000824
ＣｒＣｌ２、金属マンガン、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、ＬｉＣｌ、およびプロトン・スポンジの存在下で実行される、請求項１２または１２１に記載の方法。
【請求項１７２】
カップリングさせるというステップが、以下のニッケル供給源：
【化１３１】
2020536046.tif 000825
以下のスルホンアミド配位子：
【化１３２】
2020536046.tif 000826
ＣｒＣｌ２、金属マンガン、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、ＬｉＣｌ、２，６−ルチジン、およびプロトン・スポンジの存在下で実行される、請求項１６または１５３に記載の方法。
【請求項１７３】
反応が、アセトニトリル（ＭｅＣＮ）中で実行される、請求項１０、１２、１６、１１１、１２１、および１５３〜１７２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７４】
（ａ）式（E-R-18）で表される化合物、またはその塩の遊離ヒドロキシル基を保護すること；および（ｂ）その結果得られる化合物を脱保護することで、基ＲＰ１０を除去すること、というステップをさらに含む、請求項１５３〜１７３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７５】
（ａ）式（E-R-19）：
【化１３３】
2020536046.tif 000827
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（E-R-20）：
【化１３４】
2020536046.tif 000828
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｂ）式（E-R-20）で表される化合物、またはその塩をオレフィン化することで、式（E-R-21）：
【化１３５】
2020536046.tif 000829
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｃ）式（E-R-21）で表される化合物、またはその塩を保護することで、式（E-R-22）：
【化１３６】
2020536046.tif 000830
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｄ）式（E-R-22）で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（E-R-17）：
【化１３７】
2020536046.tif 000831
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
をさらに含み、式中：
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する、請求項１６３〜１７４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７６】
還元するというステップが、水素化物供給源の存在下で実行される、請求項１８または１７５に記載の方法。
【請求項１７７】
水素化物供給源が、水素化ホウ素リチウム（ＬｉＢＨ４）である、請求項１７６に記載の方法。
【請求項１７８】
水素化物供給源が、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）である、請求項１７６に記載の方法。
【請求項１７９】
還元するというステップが、トルエン中で実行される、請求項１８および１７５〜１７８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８０】
オレフィン化するというステップが、オレフィン化試薬および塩基の存在下で実行される、請求項１８および１７５〜１７９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８１】
オレフィン化試薬が、Ｐｈ３ＰＣＨ３Ｂｒである、請求項１８０に記載の方法。
【請求項１８２】
塩基が、ｔ−ＢｕＯＫである、請求項１８０に記載の方法。
【請求項１８３】
オレフィン化するというステップが、Ｐｈ３ＰＣＨ３Ｂｒおよびｔ−ＢｕＯＫの存在下で実行される、請求項１８０に記載の方法。
【請求項１８４】
オレフィン化するというステップが、ＴＨＦ中で実行される、請求項１８および１７５〜１８３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８５】
ＲＰ１０が、シリル保護基である；および保護するというステップが、シリル化試薬および塩基の存在下で実行される、請求項１８および１７５〜１８４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８６】
ＲＰ１０が、ＴＥＳである；およびシリル化試薬が、ＴＥＳＯＴｆである、請求項１８５に記載の方法。
【請求項１８７】
塩基が、トリエチルアミン（ＴＥＡ）である、請求項１８５に記載の方法。
【請求項１８８】
ＲＰ１０が、ＴＥＳである；および保護するというステップが、ＴＥＳＯＴｆおよびＴＥＡの存在下で実行される、請求項１８５に記載の方法。
【請求項１８９】
保護するというステップが、ＴＨＦ中で実行される、請求項１８および１７５〜１８８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９０】
酸化するというステップが、ジョンソン・レミュー酸化的開裂である、請求項１８および１７５〜１８９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９１】
反応が、四酸化オスミウム（ＯｓＯ４）およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド（ＮＭＯ）の存在下で実行され、これに続き過ヨウ素酸ナトリウム（ＮａＩＯ４）の存在下で実行される、請求項１９０に記載の方法。
【請求項１９２】
酸化するというステップが、ＴＨＦ、アセトン、および／または水の存在下で実行される、請求項１９０または１９１に記載の方法。
【請求項１９３】
式（E-L）：
【化１３８】
2020536046.tif 000832
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法が、式（E-L-1）：
【化１３９】
2020536046.tif 000833
で表される化合物、またはその塩を、チオール化剤の存在下で反応させるというステップを含む；式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記方法。
【請求項１９４】
チオール化剤が、式（ＲＳＳ）２で表される、請求項１９または１９３に記載の方法。
【請求項１９５】
チオール化剤が、式（ピリジン−Ｓ）２で表される、請求項１９４に記載の方法。
【請求項１９６】
チオール化剤が、以下：
【化１４０】
2020536046.tif 000834
である、請求項１９５に記載の方法。
【請求項１９７】
チオール化するというステップが、ホスフィン試薬の存在下で実行される、請求項１９および１９３〜１９６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９８】
ホスフィンが、トリフェニルホスフィン（Ｐｈ３Ｐ）である、請求項１９７に記載の方法。
【請求項１９９】
反応が、チオール化剤：
【化１４１】
2020536046.tif 000835
およびＰＰｈ３の存在下で実行される、請求項１９および１９３〜１９８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２００】
反応が、アセトニトリル（ＭｅＣＮ）の存在下で実行される、請求項１９および１９３〜１９９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０１】
式（E-L-2）：
【化１４２】
2020536046.tif 000836
で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（E-L-1）：
【化１４３】
2020536046.tif 000837
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項１９３〜２００のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０２】
環化させるというステップが、塩基の存在下で実行される、請求項２０または２０１に記載の方法。
【請求項２０３】
塩基が、アミジン塩基またはグアニジン塩基である、請求項２０２に記載の方法。
【請求項２０４】
塩基が、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）である、請求項２０２に記載の方法。
【請求項２０５】
環化させるというステップが、リチウム塩の存在下で実行される、請求項２０および２０１〜２０４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０６】
リチウム塩が、臭化リチウム（ＬｉＢｒ）である、請求項２０５に記載の方法。
【請求項２０７】
環化させるというステップが、Ｒ８ＯＡｃの存在下で実行される、請求項２０および２０１〜２０６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０８】
環化させるというステップが、ＤＢＵ、ＬｉＢｒ、およびＡｃＯＢｎの存在下で実行される、請求項２０および２０１〜２０７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０９】
環化させるというステップが、アセトニトリル（ＭｅＣＮ）中で実行される、請求項２０および２０１〜２０８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１０】
（ａ）式（E-L-1）で表される化合物、またはその塩を、ＲＰ４基およびＲ８基を除去するのに充分な条件下で脱保護することで、式（E-L-3）：
【化１４４】
2020536046.tif 000838
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（E-L-3）で表される化合物、またはその塩を保護することで、式（E-L-4）：
【化１４５】
2020536046.tif 000839
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
をさらに含む、請求項２０１〜２０９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１１】
ＲＰ４およびＲ８が、任意置換ベンジル保護基である；および脱保護するというステップが、Ｈ２およびＰｄ／Ｃの存在下で実行される、請求項２１または２１０に記載の方法。
【請求項２１２】
ＲＰ４が、ＭＰＭである；Ｒ８が、Ｂｎである；および脱保護するというステップが、Ｈ２およびＰｄ／Ｃの存在下で実行される、請求項２１、２１０、および２１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１３】
脱保護するというステップが、ｉ−ＰｒＯＡｃ中で実行される、請求項２１、および２１０〜２１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１４】
式（E-L-4）または（L-5-7D）で表される化合物、またはその塩に関し、ＲＰ４が、シリル保護基である；および保護するというステップが、シリル化剤および塩基の存在下で実行される、請求項２１および２１０〜２１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１５】
ＲＰ４が、ＴＥＳである；およびシリル化試薬が、ＴＥＳＣｌである、請求項２１４に記載の方法。
【請求項２１６】
塩基が、イミダゾールである、請求項２１４または２１５に記載の方法。
【請求項２１７】
保護するというステップが、ＤＭＦ中で実行される、請求項２１および２１０〜２１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１８】
（ａ）式（E-L-5）：
【化１４６】
2020536046.tif 000840
で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（E-L-6）：
【化１４７】
2020536046.tif 000841
で表される化合物、またはその塩を生産すること；および
（ｂ）式（E-L-6）で表される化合物、またはその塩を、オレフィン化試薬の存在下で反応させることで、式（E-L-2）：
【化１４８】
2020536046.tif 000842
で表される化合物、またはその塩を生産すること
というステップをさらに含み、式中：
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項２１０〜２１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１９】
酸化するというステップが、ジョンソン・レミュー酸化的開裂である、請求項２２または２１８に記載の方法。
【請求項２２０】
酸化するというステップが、（ＯｓＯ４）またはオスミウム酸カリウム（ＶＩ）脱水物（Ｋ２ＯｓＯ４）；およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド（ＮＭＯ）の存在下で実行される、請求項２１９に記載の方法。
【請求項２２１】
酸化するというステップが、鉛錯体の存在下で実行される、請求項２１９または２２０に記載の方法。
【請求項２２２】
鉛錯体が、酢酸鉛（Ｐｂ（ＯＡｃ）４）である、請求項２２１に記載の方法。
【請求項２２３】
酸化するというステップが、過ヨウ素酸ナトリウム（ＮａＩＯ４）の存在下で実行される、請求項２１９〜２２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２４】
反応が、オスミウム酸カリウム（ＶＩ）脱水物（Ｋ２ＯｓＯ４）およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド（ＮＭＯ）の存在下で実行され、これに続き、過ヨウ素酸ナトリウム（ＮａＩＯ４）の存在下で実行される、請求項２２および２１８〜２２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２５】
酸化するというステップが、アセトンおよび／または水の存在下で実行される、請求項２２および２１８〜２２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２６】
オレフィン化試薬が、式：（ＲＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８で表される、請求項２２および２１８〜２２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２７】
オレフィン化試薬が、式：（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８で表される、請求項２２６に記載の方法。
【請求項２２８】
オレフィン化するというステップが、塩基の存在下で実行される、請求項２２および２１８〜２２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２９】
塩基が、ホスファートである、請求項２２８に記載の方法。
【請求項２３０】
塩基が、リン酸カリウム（Ｋ３ＰＯ４）である、請求項２２９に記載の方法。
【請求項２３１】
オレフィン化するというステップが、（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２ＢｎおよびＫ３ＰＯ４の存在下で実行される、請求項２２および２１８〜２３０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３２】
オレフィン化するというステップが、トルエンの存在下で実行される、請求項２２および２１８〜２３１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３３】
式（E-L-7）：
【化１４９】
2020536046.tif 000843
で表される化合物、またはその塩を、式（E-L-8）：
【化１５０】
2020536046.tif 000844
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（E-L-5）：
【化１５１】
2020536046.tif 000845
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含む；式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；および
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、請求項２１８〜２３２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３４】
カップリングさせるというステップが、金属の存在下で実行される、請求項２３または２３３に記載の方法。
【請求項２３５】
カップリングさせるというステップが、有機リチウムの存在下で実行される、請求項２３４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３６】
有機リチウムが、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムである、請求項２３５に記載の方法。
【請求項２３７】
有機リチウムが、ｓｅｃ−ブチルリチウムである、請求項２３６に記載の方法。
【請求項２３８】
カップリングさせるというステップが、ＴＨＦ中で実行される、請求項２３および２３３〜２３７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３９】
式（Ａ）で表される化合物が、以下：
【化１５２】
2020536046.tif 000846
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４０】
式（E-1）で表される化合物が、以下：
【化１５３】
2020536046.tif 000847
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４１】
式（E-R）で表される化合物が、以下：
【化１５４】
2020536046.tif 000848
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４２】
式（E-R-1）で表される化合物が、以下：
【化１５５】
2020536046.tif 000849
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４３】
式（E-R-2）で表される化合物が、以下：
【化１５６】
2020536046.tif 000850
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４４】
式（E-R-3）で表される化合物が、以下：
【化１５７】
2020536046.tif 000851
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４５】
式（E-R-4）で表される化合物が、以下：
【化１５８】
2020536046.tif 000852
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４６】
式（E-R-5）で表される化合物が、以下：
【化１５９】
2020536046.tif 000853
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４７】
式（E-R-6）で表される化合物が、以下：
【化１６０】
2020536046.tif 000854
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４８】
式（E-R-7）で表される化合物が、以下：
【化１６１】
2020536046.tif 000855
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４９】
式で（E-R-9）表される化合物が、以下：
【化１６２】
2020536046.tif 000856
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５０】
式（E-R-10）で表される化合物が、以下：
【化１６３】
2020536046.tif 000857
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５１】
式（E-R-11）で表される化合物が、以下：
【化１６４】
2020536046.tif 000858
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５２】
式（E-R-12）で表される化合物が、以下：
【化１６５】
2020536046.tif 000859
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５３】
式（E-R-13）で表される化合物が、以下：
【化１６６】
2020536046.tif 000860
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５４】
式（E-R-8）または式（E-R-14）で表される化合物が、以下：
【化１６７】
2020536046.tif 000861
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５５】
式（E-R-15）で表される化合物が、以下：
【化１６８】
2020536046.tif 000862
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５６】
式（E-R-16）で表される化合物が、以下：
【化１６９】
2020536046.tif 000863
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５７】
式（E-R-17）で表される化合物が、以下：
【化１７０】
2020536046.tif 000864
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５８】
式（R-4-3）で表される化合物が、以下：
【化１７１】
2020536046.tif 000865
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５９】
式（E-R-18）で表される化合物が、以下：
【化１７２】
2020536046.tif 000866
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６０】
式（E-R-19）で表される化合物が、以下：
【化１７３】
2020536046.tif 000867
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６１】
式（E-R-20）で表される化合物が、以下：
【化１７４】
2020536046.tif 000868
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６２】
式（E-R-21）で表される化合物が、以下：
【化１７５】
2020536046.tif 000869
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６３】
式（E-R-22）で表される化合物が、以下：
【化１７６】
2020536046.tif 000870
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６４】
式（E-L）で表される化合物が、以下：
【化１７７】
2020536046.tif 000871
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６５】
式（E-L-1）で表される化合物が、以下：
【化１７８】
2020536046.tif 000872
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６６】
式（E-L-3）で表される化合物が、以下：
【化１７９】
2020536046.tif 000873
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６７】
式（E-L-4）で表される化合物が、以下：
【化１８０】
2020536046.tif 000874
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６８】
式（E-L-5）で表される化合物が、以下：
【化１８１】
2020536046.tif 000875
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６９】
式（E-L-6）で表される化合物が、以下：
【化１８２】
2020536046.tif 000876
であるか、またはその塩である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７０】
式（Ｃ）：
【化１８３】
2020536046.tif 000877
で表される化合物、またはその塩を調製するための方法であって、方法が、式（Ａ）：
【化１８４】
2020536046.tif 000878
で表される化合物、またはその塩を、式（Ｂ）：
【化１８５】
2020536046.tif 000879
で表される化合物、またはその塩と、ニッケルおよびジルコニウムの存在下で反応させることを含む；式中：
ＲＡは、任意置換アルキルである；
ＲＢは、任意置換アルキル、任意置換アルケニル、任意置換アルキニル、任意置換アリール、任意置換カルボシクリル、任意置換ヘテロアリール、または任意置換ヘテロシクリルである；
任意にここで、ＲＡおよびＲＢは、リンカーを介して一緒に結び合い、ここでリンカーが、任意置換アルキレン、任意置換ヘテロアルキレン、任意置換アルケニレン、任意置換ヘテロアルケニレン、任意置換アルキニレン、任意置換ヘテロアルキニレン、任意置換アリーレン、任意置換ヘテロアリーレン、任意置換カルボシクリレン、任意置換ヘテロシクリレン、任意置換アシレン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される；
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；および
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである、前記方法。
【請求項２７１】
式（H-2-I）：
【化１８６】
2020536046.tif 000880
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法が、式（H-2-II）：
【化１８７】
2020536046.tif 000881
で表される化合物、またはその塩を環化させるというステップを含み、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化１８８】
2020536046.tif 000882
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化１８９】
2020536046.tif 000883
を形成する；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記方法。
【請求項２７２】
式（L-2-14）：
【化１９０】
2020536046.tif 000884
で表される化合物、またはその塩を、式（R-2-I）：
【化１９１】
2020536046.tif 000885
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（H-2-II）：
【化１９２】
2020536046.tif 000886
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化１９３】
2020536046.tif 000887
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化１９４】
2020536046.tif 000888
を形成する；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、請求項２７１に記載の方法。
【請求項２７３】
式（H-2-II）で表される化合物、またはその塩の１個以上の酸素原子を脱保護するというステップをさらに含む、請求項２７２に記載の方法。
【請求項２７４】
式（HH-2-I）：
【化１９５】
2020536046.tif 000889
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法が、式（HH-2-II）：
【化１９６】
2020536046.tif 000890
で表される化合物、またはその塩を環化させるというステップを含み、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化１９７】
2020536046.tif 000891
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化１９８】
2020536046.tif 000892
を形成する；
ＲＰ１、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記方法。
【請求項２７５】
式（L-2-16）：
【化１９９】
2020536046.tif 000893
で表される化合物、またはその塩を、式（R-2-I）：
【化２００】
2020536046.tif 000894
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（HH-2-II）：
【化２０１】
2020536046.tif 000895
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化２０２】
2020536046.tif 000896
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化２０３】
2020536046.tif 000897
を形成する；
ＲＰ１、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、請求項２７４に記載の方法。
【請求項２７６】
式（HH-2-II）で表される化合物、またはその塩の１個以上の酸素原子を脱保護するというステップをさらに含む、請求項２７５に記載の方法。
【請求項２７７】
式（NH-2-I）：
【化２０４】
2020536046.tif 000898
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法が、式（NH-2-II）：
【化２０５】
2020536046.tif 000899
で表される化合物、またはその塩を環化させるというステップを含み、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化２０６】
2020536046.tif 000900
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化２０７】
2020536046.tif 000901
を形成する；
ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
Ｒ７は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記方法。
【請求項２７８】
式（L-2-15）：
【化２０８】
2020536046.tif 000902
で表される化合物、またはその塩を、式（R-2-I）：
【化２０９】
2020536046.tif 000903
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（NH-2-II）：
【化２１０】
2020536046.tif 000904
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化２１１】
2020536046.tif 000905
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化２１２】
2020536046.tif 000906
を形成する；
ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
Ｒ７は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、請求項２７７に記載の方法。
【請求項２７９】
式（NH-2-II）で表される化合物、またはその塩の１個以上の酸素原子を脱保護するというステップをさらに含む、請求項２７８に記載の方法。
【請求項２８０】
カップリングさせるというステップが、ニッケルおよびジルコニウムの存在下で実行される、請求項２７０、２７２、２７５、および２７８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８１】
ニッケルが、ニッケル錯体である、請求項２８０に記載の方法。
【請求項２８２】
ニッケルが、ニッケル（ＩＩ）錯体またはニッケル（０）錯体である、請求項２８０または２８１に記載の方法。
【請求項２８３】
ニッケル供給源が、式：ＮｉＸ２・（配位子）で表される；式中Ｘは、ハロゲンであり、および「配位子」は、二座配位子である、請求項２８０〜２８２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８４】
ニッケル錯体が、溶液中、ニッケル供給源および「配位子」の錯体形成後に使用される、請求項２８０〜２８３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８５】
ニッケル供給源が、ＮｉＣｌ２である；「配位子」が、４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ジピリジル（ｔｂｂｐｙ）である；およびニッケル錯体が、式ＮｉＣｌ２・（ｔｂｂｐｙ）で表される、請求項２８０〜２８４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８６】
ニッケル供給源が、ＮｉＢｒ２である；および「配位子」が、４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ジピリジル（ｔｂｂｐｙ）である；およびニッケル錯体が、式ＮｉＢｒ２・（ｔｂｂｐｙ）で表される、請求項２８０〜２８４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８７】
ニッケルが、触媒量で存在する、請求項２８０〜２８６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８８】
ニッケルが、１〜５０ｍｏｌ％で存在する、請求項２８０〜２８７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８９】
ニッケルが、１〜１０ｍｏｌ％で存在する、請求項２８０〜２８８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９０】
ジルコニウムが、ジルコニウム錯体である、請求項２８０〜２８９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９１】
ジルコニウム供給源が、式：（配位子）ｎＺｒＸ２で表される；式中ｎは、０、１、２、３、または４であり、およびＸは、ハロゲンである、請求項２８０〜２９０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９２】
ジルコニウム供給源が、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２である、請求項２８０〜２９１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９３】
ジルコニウムが、化学量論量または過剰量で存在する、請求項２８０〜２９２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９４】
ジルコニウムが、約１〜約３当量で存在する、請求項２８０〜２９３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９５】
カップリングさせるというステップが、亜鉛またはマンガンの存在下で実行される、請求項２７０、２７２、２７５、２７８、および２８０〜２９４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９６】
反応が、亜鉛の存在下で実行され、および亜鉛供給源が、亜鉛金属である、請求項２９５に記載の方法。
【請求項２９７】
反応が、マンガンの存在下で実行され、およびマンガン供給源が、金属マンガンである、請求項２９５に記載の方法。
【請求項２９８】
亜鉛またはマンガンが、過剰量で存在する、請求項２９５または２９６に記載の方法。
【請求項２９９】
カップリングさせるというステップが、塩化トリエチルシリル（ＴＥＳＣｌ）の存在下で実行される、請求項２７０、２７２、２７５、２７８、および２８０〜２９８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３００】
カップリングさせるというステップが、塩基またはプロトン捕捉剤の存在下で実行される、請求項２７０、２７２、２７５、２７８、および２８０〜２９９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０１】
塩基またはプロトン捕捉剤が、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジンである、請求項３００に記載の方法。
【請求項３０２】
カップリングさせるというステップが、１種以上の溶媒中で実行される、請求項２７０、２７２、２７５、２７８、および２８０〜３０１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０３】
カップリングさせるというステップが、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）中で実行される、請求項３０２に記載の方法。
【請求項３０４】
カップリングさせるというステップが、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）混合物、酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）、またはいずれの組み合わせまたはそれらの混合物中で実行される、請求項３０２に記載の方法。
【請求項３０５】
反応が、室温にてまたはほぼ室温にて実行される、請求項２７０、２７２、２７５、２７８、および２８０〜３０４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０６】
反応は、室温を上回る温度にて実行される、請求項２７０、２７２、２７５、２７８、および２８０〜３０４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０７】
環化させるというステップが、酸の存在下で実行される、請求項２７１、２７４、および２７７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０８】
酸が、ピリジニウム塩である、請求項３０７に記載の方法。
【請求項３０９】
酸が、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）である、請求項３０８に記載の方法。
【請求項３１０】
式（L-2-14）：
【化２１３】
2020536046.tif 000907
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法が、式（L-5-17）：
【化２１４】
2020536046.tif 000908
で表される化合物、またはその塩を、チオール化剤の存在下で反応させるというステップを含む；式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、およびＲＰ４は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記方法。
【請求項３１１】
方法が、
（ａ）式（L-5-16A）：
【化２１５】
2020536046.tif 000909
で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（L-5-16B）：
【化２１６】
2020536046.tif 000910
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-16B）で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（L-5-17）：
【化２１７】
2020536046.tif 000911
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
をさらに含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３１０に記載の方法。
【請求項３１２】
式（L-5-17）で表される化合物、またはその塩を脱保護することで、式（L-5-17C）：
【化２１８】
2020536046.tif 000912
で表される化合物、またはその塩を生産すること；および任意に、前記化合物、またはその塩を再度保護するというステップをさらに含む、請求項３１１に記載の方法。
【請求項３１３】
（ａ）式（L-5-15）：
【化２１９】
2020536046.tif 000913
で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（L-5-15B）：
【化２２０】
2020536046.tif 000914
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｂ）式（L-5-15B）で表される化合物、またはその塩を、オレフィン化試薬の存在下で反応させることで、式（L-5-15C）：
【化２２１】
2020536046.tif 000915
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
をさらに含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３１１に記載の方法。
【請求項３１４】
式（L-5-14）：
【化２２２】
2020536046.tif 000916
で表される化合物、またはその塩を、酸の存在下で反応させることで、式（L-5-15）：
【化２２３】
2020536046.tif 000917
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３１３に記載の方法。
【請求項３１５】
酸が、ジフェニルホスファート（（ＰｈＯ）２Ｐ（＝Ｏ）ＯＨ）である、請求項３１４に記載の方法。
【請求項３１６】
式（L-5-12）：
【化２２４】
2020536046.tif 000918
で表される化合物、またはその塩を、式（L-5-5）：
【化２２５】
2020536046.tif 000919
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（L-5-14）：
【化２２６】
2020536046.tif 000920
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ４、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３１４または３１５に記載の方法。
【請求項３１７】
方法が、式（L-5-11）：
【化２２７】
2020536046.tif 000921
で表される化合物、またはその塩をエポキシ化することで、式（L-5-12）：
【化２２８】
2020536046.tif 000922
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３１６に記載の方法。
【請求項３１８】
エポキシ化するというステップが、バナジウム試薬の存在下で実行される、請求項３１７に記載の方法。
【請求項３１９】
バナジウム試薬が、ＶＯ（ＴＭＨＤ）２である、請求項３１８に記載の方法。
【請求項３２０】
エポキシ化するというステップが、過酸化物の存在下で実行された、請求項３１７〜３１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２１】
過酸化物が、ｔ−ＢｕＯＯＨである、請求項３２０に記載の方法。
【請求項３２２】
式（L-5-10）：
【化２２９】
2020536046.tif 000923
で表される化合物、またはその塩を、式（L-5-9）：
【化２３０】
2020536046.tif 000924
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（L-5-11）：
【化２３１】
2020536046.tif 000925
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３１７〜３２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２３】
カップリングさせるというステップが、銅の存在下で実行される、請求項３２２に記載の方法。
【請求項３２４】
銅供給源が、Ｌｉ（チエニルＣｕＣＮ）である、請求項３２３に記載の方法。
【請求項３２５】
カップリングさせるというステップが、有機リチウムの存在下で実行される、請求項３２２〜３２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２６】
有機リチウムが、ｎ−ブチルリチウムである、請求項３２５に記載の方法。
【請求項３２７】
式（L-2-16）：
【化２３２】
2020536046.tif 000926
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法が、式（L-5-26）：
【化２３３】
2020536046.tif 000927
で表される化合物、またはその塩を、チオール化剤の存在下で反応させるというステップを含む；式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ４は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記方法。
【請求項３２８】
式（L-5-25C）：
【化２３４】
2020536046.tif 000928
で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（L-5-26）：
【化２３５】
2020536046.tif 000929
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ４は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３２７に記載の方法。
【請求項３２９】
（ａ）式（L-5-25A）：
【化２３６】
2020536046.tif 000930
で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（L-5-25B）：
【化２３７】
2020536046.tif 000931
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-25B）で表される化合物、またはその塩を、オレフィン化試薬の存在下で、反応させることで、式（L-5-25C）：
【化２３８】
2020536046.tif 000932
で表される化合物、またはその塩を生産することをさらに含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ４は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３２８に記載の方法。
【請求項３３０】
式（L-5-5）：
【化２３９】
2020536046.tif 000933
で表される化合物、またはその塩を、式（L-5-24）：
【化２４０】
2020536046.tif 000934
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（L-5-25A）：
【化２４１】
2020536046.tif 000935
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ４は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３２９に記載の方法。
【請求項３３１】
（ａ）式（L-5-23B）：
【化２４２】
2020536046.tif 000936
で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（L-5-23C）：
【化２４３】
2020536046.tif 000937
で表される化合物またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-23C）で表される化合物、またはその塩を環化させること、式（L-5-24）：
【化２４４】
2020536046.tif 000938
で表される化合物、またはその塩を生産すること
をさらに含み、式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３３０に記載の方法。
【請求項３３２】
酸化するというステップが、超原子価ヨウ素の存在下で実行される、請求項３３１に記載の方法。
【請求項３３３】
超原子価ヨウ素試薬が、（ジアセトキシヨード）ベンゼン（ＰｈＩ（ＯＡｃ）２）である、請求項３３２に記載の方法。
【請求項３３４】
酸化するというステップが、（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−イル）オキシル（ＴＥＭＰＯ）の存在下で実行される、請求項３３１に記載の方法。
【請求項３３５】
方法が、式（L-5-23A）：
【化２４５】
2020536046.tif 000939
で表される化合物、またはその塩を水和させることで、式（L-5-23B）：
【化２４６】
2020536046.tif 000940
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３３１〜３３４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３３６】
水和させるというステップが、ヒドロホウ素化反応を伴う、請求項３３５に記載の方法。
【請求項３３７】
ヒドロホウ素化反応が、９−ＢＢＮの存在下で実行される、請求項３３６に記載の方法。
【請求項３３８】
ヒドロホウ素化反応が、ＮａＢＯ３・Ｈ２Ｏの存在下で実行される、請求項３３６または３３７に記載の方法。
【請求項３３９】
（ａ）式（L-5-22）：
【化２４７】
2020536046.tif 000941
で表される化合物、またはその塩をエポキシ化することで、式（L-5-22A）：
【化２４８】
2020536046.tif 000942
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-22A）で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（L-5-23A）：
【化２４９】
2020536046.tif 000943
で表される化合物、またはその塩を生産すること
をさらに含み、式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３３６〜３３８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４０】
エポキシ化するというステップが、チタン試薬の存在下で実行される、請求項３３９に記載の方法。
【請求項３４１】
チタン試薬が、チタンイソプロポキシドＴｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４である、請求項３４０に記載の方法。
【請求項３４２】
エポキシ化するというステップが、（＋）−酒石酸ジエチル（（＋）−ＤＥＴ）の存在下で実行される、請求項３３９〜３４１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４３】
エポキシ化するというステップが、過酸化物の存在下で実行される、請求項３３９〜３４２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４４】
過酸化物が、ｔ−ＢｕＯＯＨ（ＴＢＨＰ）である、請求項３４３に記載の方法。
【請求項３４５】
式（L-5-21B）：
【化２５０】
2020536046.tif 000944
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（L-5-22）：
【化２５１】
2020536046.tif 000945
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ６、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３３９〜３４４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４６】
還元するというステップが、水素化物供給源の存在下で実行される、請求項３４５に記載の方法。
【請求項３４７】
水素化物供給源が、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）である、請求項３４６に記載の方法。
【請求項３４８】
（ａ）式（L-5-21A）：
【化２５２】
2020536046.tif 000946
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（L-5-21C）：
【化２５３】
2020536046.tif 000947
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-21C）で表される化合物、またはその塩を、オレフィン化試薬の存在下で反応させることで、式（L-5-21B）：
【化２５４】
2020536046.tif 000948
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
をさらに含み、式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ６、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３４５〜３４７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４９】
還元するというステップが、水素化物供給源の存在下で実行される、請求項３４８に記載の方法。
【請求項３５０】
水素化物供給源が、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）である、請求項３４９に記載の方法。
【請求項３５１】
オレフィン化試薬が、式（ＣＦ３ＣＨ２Ｏ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８で表される、請求項３４８〜３５０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５２】
オレフィン化するというステップが、塩基の存在下で実行される、請求項３４８〜３５１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５３】
塩基が、カリウムヘキサメチルジシラジド（ＫＨＭＤＳ）である、請求項３５２に記載の方法。
【請求項３５４】
式（L-5-20）：
【化２５５】
2020536046.tif 000949
で表される化合物、またはその塩を、シアン化物の存在下で反応させることで、式（L-5-21A）：
【化２５６】
2020536046.tif 000950
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ６、ＲＰ７およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
式中−ＯＲＰ７は、脱離基である、請求項３４８〜３５３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５５】
シアン化物供給源が、シアン化ナトリウム（ＮａＣＮ）である、請求項３５４に記載の方法。
【請求項３５６】
式（L-2-15）：
【化２５７】
2020536046.tif 000951
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法が、式（L-5-32）：
【化２５８】
2020536046.tif 000952
で表される化合物、またはその塩を、チオール化剤の存在下で反応させるというステップを含む；式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ７およびＲ８は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである、前記方法。
【請求項３５７】
式（L-5-31）：
【化２５９】
2020536046.tif 000953
で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（L-5-32）：
【化２６０】
2020536046.tif 000954
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ４、およびＲＰ６は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３５６に記載の方法。
【請求項３５８】
酸化するというステップが、ペルヨージナンの存在下で実行され、これに続き亜塩素酸塩の存在下で実行される、請求項３５７に記載の方法。
【請求項３５９】
ペルヨージナンが、デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）である、請求項３５８に記載の方法。
【請求項３６０】
亜塩素酸塩は、亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ２）である、請求項３５８に記載の方法。
【請求項３６１】
式（L-5-32A）：
【化２６１】
2020536046.tif 000955
で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（L-5-31）：
【化２６２】
2020536046.tif 000956
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップをさらに含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ４およびＲＰ６は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３５７〜３６０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３６２】
（ａ）式（L-5-28）：
【化２６３】
2020536046.tif 000957
で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（L-5-29）：
【化２６４】
2020536046.tif 000958
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-29）で表される化合物、またはその塩を、オレフィン化試薬の存在下で反応させることで、式（L-5-30）：
【化２６５】
2020536046.tif 000959
で表される化合物、またはその塩を生産することをさらに含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ４およびＲＰ６は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、請求項３６１に記載の方法。
【請求項３６３】
式（L-5-27）：
【化２６６】
2020536046.tif 000960
で表される化合物、またはその塩を、式（L-5-5）：
【化２６７】
2020536046.tif 000961
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせるというステップをさらに含み、式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、請求項３６２に記載の方法。
【請求項３６４】
チオール化剤が、式（ＲＳＳ）２で表される、請求項３１０、３２７、および３５６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３６５】
チオール化剤が、式（ピリジン−Ｓ）２で表される、請求項３６４に記載の方法。
【請求項３６６】
チオール化剤が、以下：
【化２６８】
2020536046.tif 000962
である、請求項３６５に記載の方法。
【請求項３６７】
チオール化するというステップが、ホスフィン試薬の存在下で実行される、請求項３１０、３２７、３５６、および３６４〜３６６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３６８】
ホスフィンが、トリフェニルホスフィン（Ｐｈ３Ｐ）である、請求項３６７に記載の方法。
【請求項３６９】
環化させるというステップが、塩基の存在下で実行される、請求項３１１、３２８、および３６１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３７０】
塩基が、アミジン塩基またはグアニジン塩基である、請求項３６９に記載の方法。
【請求項３７１】
塩基が、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）である、請求項３７０に記載の方法。
【請求項３７２】
環化させるというステップが、リチウム塩の存在下で実行される、請求項３１１、３２８、３６１、および３６９〜３７１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３７３】
リチウム塩が、塩化リチウム（ＬｉＣｌ）である、請求項３７２に記載の方法。
【請求項３７４】
環化させるというステップが、Ｒ８−ＯＡｃの存在下で実行される、請求項３１１、３２８、３６１、および３６９〜３７３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３７５】
酸化するというステップが、ジヒドロキシル化試薬の存在下で実行される、請求項３１３、３２９、および３６２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３７６】
ジヒドロキシル化試薬が、四酸化オスミウム（ＯｓＯ４）である、請求項３７５に記載の方法。
【請求項３７７】
酸化するというステップが、鉛錯体の存在下で実行される、請求項３１３、３２９、３６２、３７５、および３７６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３７８】
鉛錯体が、酢酸鉛（Ｐｂ（ＯＡｃ）４）である、請求項３７７に記載の方法。
【請求項３７９】
酸化するというステップが、過ヨウ素酸ナトリウムの存在下で実行される、請求項３１３、３２９、３６２、３７５、および３７６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３８０】
オレフィン化試薬ｆ、式（ＲＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８で表される、請求項３１３、３２９、および３６２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３８１】
オレフィン化試薬が、式（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８で表される、請求項３８０に記載の方法。
【請求項３８２】
オレフィン化するというステップが、塩基の存在下で実行される、請求項３１３、３２９、３６２、３８０、および３８１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３８３】
塩基が、リン酸カリウム（Ｋ３ＰＯ４）である、請求項３８２に記載の方法。
【請求項３８４】
カップリングさせるというステップが、金属の存在下で実行される、請求項３１６、３３０、および３６３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３８５】
カップリングさせるというステップが、有機リチウムの存在下で実行される、請求項３８４に記載の方法。
【請求項３８６】
有機リチウムが、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムである、請求項３８５に記載の方法。
【請求項３８７】
ＲＬが、任意置換スルホニルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３８８】
ＲＬが、Ｍｓ、Ｔｓ、Ｔｆ、Ｂｓ、Ｎｆ、Ｎｓ、Ｄｓ、または−ＳＯ２Ｐｈである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３８９】
ＲＬが、Ｔｓである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３９０】
ＸＬが、塩素である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３９１】
基−ＯＲＰ７が、スルホナート脱離基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３９２】
基−ＯＲＰ７が、−ＯＴｆである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３９３】
Ｘ１が、ハロゲンである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３９４】
Ｘ１が、−Ｉである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３９５】
ＲＳが、任意置換ヘテロアリールである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３９６】
ＲＳが、任意置換ピリジルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３９７】
ＲＳが、任意置換２−ピリジルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３９８】
ＲＳが、式：
【化２６９】
2020536046.tif 000963
で表される、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３９９】
ＲＰ１が、シリル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４００】
ＲＰ１が、ＴＢＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０１】
ＲＰ２が、シリル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０２】
ＲＰ２が、ＴＢＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０３】
ＲＰ３が、シリル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０４】
ＲＰ３が、ＴＥＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０５】
ＲＰ４が、シリルまたは任意置換ベンジル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０６】
ＲＰ４が、ＴＥＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０７】
ＲＰ４が、ＭＰＭである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０８】
ＲＰ４が、水素である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０９】
ＲＰ５が、シリル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４１０】
ＲＰ５が、ＴＥＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４１１】
ＲＰ５が、水素である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４１２】
ＲＰ４およびＲＰ５が、水素である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４１３】
２個のＲＰ５が、介在原子と一緒に結び合って、以下：
【化２７０】
2020536046.tif 000964
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４１４】
２個のＲＰ５が、介在原子と一緒に結び合って、以下：
【化２７１】
2020536046.tif 000965
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４１５】
２個のＲＰ６が、介在原子と一緒に結び合って、以下：
【化２７２】
2020536046.tif 000966
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４１６】
２個のＲＰ６が、介在原子と一緒に結び合って、以下：
【化２７３】
2020536046.tif 000967
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４１７】
ＲＰ６が、水素である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４１８】
ＲＰ８が、ベンジル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４１９】
ＲＰ８が、ＭＰＭである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４２０】
ＲＰ８が、シリル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４２１】
ＲＰ８が、ＴＢＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４２２】
２個のＲＰ９が、介在原子と一緒になって、以下：
【化２７４】
2020536046.tif 000968
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４２３】
２個のＲＰ９が、介在原子と一緒になって、以下：
【化２７５】
2020536046.tif 000969
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４２４】
ＲＰ１０が、シリル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４２５】
ＲＰ１０が、ＴＥＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４２６】
Ｘ２が、ハロゲンである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４２７】
Ｘ２が、−Ｉである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４２８】
Ｘ３が、ハロゲンである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４２９】
Ｘ３が、−Ｃｌである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３０】
Ｘ４が、ハロゲンである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３１】
Ｘ４が、−Ｉである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３２】
Ｒ１が、任意置換Ｃ１〜６アルキルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３３】
Ｒ１が、メチルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３４】
Ｒ２が、任意置換Ｃ１〜６アルキルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３５】
Ｒ２が、メチルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３６】
Ｒ３が、任意置換Ｃ１〜６アルキルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３７】
Ｒ３が、メチルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３８】
Ｒ５が、任意置換Ｃ１〜６アルキルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３９】
Ｒ５が、メチルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４４０】
２個のＲ４基が、一緒になって以下：
【化２７６】
2020536046.tif 000970
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４４１】
２個のＲ６基が、一緒になって以下：
【化２７７】
2020536046.tif 000971
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４４２】
Ｒ８が、任意置換Ｃ１〜６アルキルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４４３】
Ｒ８が、メチルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４４４】
Ｒ８は、エチルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４４５】
ＲＸおよびＲＹがともに、水素である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４４６】
ＲＸが、水素である；およびＲＹが、−ＯＲＹａである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４４７】
ＲＸが、水素である；およびＲＹが、−ＯＨである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４４８】
ＲＸが、水素である；およびＲＹが、−Ｏ−アリルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４４９】
ＲＸが、−ＯＲＸａである；およびＲＹが、−ＯＲＹａである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４５０】
ＲＸおよびＲＹがともに、−ＯＨである、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４５１】
ＲＸａおよびＲＹａが、それらの介在原子と一緒に結び合って、以下：
【化２７８】
2020536046.tif 000972
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４５２】
式：
【化２７９】
2020536046.tif 000973
化合物（Ｂ）
で表される化合物、またはその塩。
【請求項４５３】
式：
【化２８０】
2020536046.tif 000974
化合物（Ａ）
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１は、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、または任意置換アシルである、前記化合物。
【請求項４５４】
式：
【化２８１】
2020536046.tif 000975
化合物（２）
で表される化合物、またはその塩。
【請求項４５５】
式（E-1）：
【化２８２】
2020536046.tif 000976
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４５６】
化合物が、式：
【化２８３】
2020536046.tif 000977
化合物（Ｃ）
で表されるか、またはその塩である、請求項４５５に記載の化合物。
【請求項４５７】
式（E-R）：
【化２８４】
2020536046.tif 000978
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；および
ＲＰ５は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４５８】
式（E-R-1）：
【化２８５】
2020536046.tif 000979
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ５は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＰ７は、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
任意にここで、ＲＰ５およびＲＰ７は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４５９】
式（E-R-2）：
【化２８６】
2020536046.tif 000980
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ５の各存在は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する、前記化合物。
【請求項４６０】
式（E-R-7）：
【化２８７】
2020536046.tif 000981
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ５の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４６１】
式（E-R-4）：
【化２８８】
2020536046.tif 000982
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する、前記化合物。
【請求項４６２】
式（E-R-6）：
【化２８９】
2020536046.tif 000983
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｘ３は、ハロゲンまたは脱離基である；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４６３】
式（E-R-8）：
【化２９０】
2020536046.tif 000984
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４６４】
式（E-R-9）：
【化２９１】
2020536046.tif 000985
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する、前記化合物。
【請求項４６５】
式（E-R-11）：
【化２９２】
2020536046.tif 000986
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ５、ＲＰ８、およびＲＰ９の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；任意に、ここで２個のＲＰ９基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する、前記化合物。
【請求項４６６】
式（E-R-15）：
【化２９３】
2020536046.tif 000987
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４６７】
式（E-R-16）：
【化２９４】
2020536046.tif 000988
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４６８】
式（E-R-17）：
【化２９５】
2020536046.tif 000989
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する、前記化合物。
【請求項４６９】
式（E-R-19）：
【化２９６】
2020536046.tif 000990
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する、前記化合物。
【請求項４７０】
式（E-R-22）：
【化２９７】
2020536046.tif 000991
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する、前記化合物。
【請求項４７１】
式（E-L）：
【化２９８】
2020536046.tif 000992
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４７２】
化合物が、式：
【化２９９】
2020536046.tif 000993
で表されるか、またはその塩である、請求項４７１に記載の化合物。
【請求項４７３】
式（E-L-1）：
【化３００】
2020536046.tif 000994
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４７４】
式（E-L-2）：
【化３０１】
2020536046.tif 000995
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４７５】
式（E-L-5）：
【化３０２】
2020536046.tif 000996
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４７６】
式（E-L-6）：
【化３０３】
2020536046.tif 000997
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４７７】
式（E-L-7）：
【化３０４】
2020536046.tif 000998
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４７８】
式（H3-N3）：
【化３０５】
2020536046.tif 000999
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、任意置換アルキル、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３０６】
2020536046.tif 001000
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、任意置換アルキル、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３０７】
2020536046.tif 001001
を形成する；
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４７９】
式（H3-L）：
【化３０８】
2020536046.tif 001002
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＬは、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、または任意置換アシルである；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３０９】
2020536046.tif 001003
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３１０】
2020536046.tif 001004
を形成する；
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４８０】
式（H3-2-I）：
【化３１１】
2020536046.tif 001005
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３１２】
2020536046.tif 001006
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３１３】
2020536046.tif 001007
を形成する；
ＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４８１】
式（H3-2-II）：
【化３１４】
2020536046.tif 001008
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３１５】
2020536046.tif 001009
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３１６】
2020536046.tif 001010
を形成する；
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４８２】
式（R-2-I）：
【化３１７】
2020536046.tif 001011
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３１８】
2020536046.tif 001012
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３１９】
2020536046.tif 001013
を形成する；
ＲＰ５は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４８３】
式（L-2-6）：
【化３２０】
2020536046.tif 001014
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ４およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４８４】
式（R-4-11B）：
【化３２１】
2020536046.tif 001015
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３２２】
2020536046.tif 001016
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３２３】
2020536046.tif 001017
を形成する；
ＲＰ５およびＲＰ７は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＰ７は、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＰ５およびＲＰ７は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４８５】
式（R-4-11A）：
【化３２４】
2020536046.tif 001018
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３２５】
2020536046.tif 001019
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３２６】
2020536046.tif 001020
を形成する；
ＲＰ５の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４８６】
式（R-4-10）：
【化３２７】
2020536046.tif 001021
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３２８】
2020536046.tif 001022
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３２９】
2020536046.tif 001023
を形成する；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４８７】
式（R-4-8）：
【化３３０】
2020536046.tif 001024
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３３１】
2020536046.tif 001025
を形成する；および
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する、前記化合物。
【請求項４８８】
式（R-4-9）：
【化３３２】
2020536046.tif 001026
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｘ３およびＸ２は各々、独立して、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４８９】
式（R-4-10B）：
【化３３３】
2020536046.tif 001027
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｘ３は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、任意置換アルキル、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３３４】
2020536046.tif 001028
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、任意置換アルキル、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３３５】
2020536046.tif 001029
を形成する；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項４９０】
式（R-4-7）：
【化３３６】
2020536046.tif 001030
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３３７】
2020536046.tif 001031
を形成する；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４９１】
式（R-4-5B）：
【化３３８】
2020536046.tif 001032
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４９２】
式（R-4-7A）：
【化３３９】
2020536046.tif 001033
で表される化合物、またはその塩；式中：
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３４０】
2020536046.tif 001034
を形成する；
ＲＰ５、ＲＰ８、およびＲＰ９の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および任意に、ここで２個のＲＰ９基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４９３】
式（R-4-5A）：
【化３４１】
2020536046.tif 001035
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４９４】
式（R-4-4）：
【化３４２】
2020536046.tif 001036
で表される化合物、またはそれらの塩であって、式中：
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ５、ＲＰ８、およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４９５】
式（R-4-2）：
【化３４３】
2020536046.tif 001037
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する、前記化合物。
【請求項４９６】
式（R-4-1）：
【化３４４】
2020536046.tif 001038
で表される化合物、またはそれらの塩であって、式中：
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ５は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する、前記化合物。
【請求項４９７】
式（L-5-7B）：
【化３４５】
2020536046.tif 001039
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４９８】
式（L-5-7A）：
【化３４６】
2020536046.tif 001040
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項４９９】
式（L-5-6A）：
【化３４７】
2020536046.tif 001041
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項５００】
式（L-5-4）：
【化３４８】
2020536046.tif 001042
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
各ＲＰ６は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項５０１】
式（H-2-II）：
【化３４９】
2020536046.tif 001043
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３５０】
2020536046.tif 001044
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３５１】
2020536046.tif 001045
を形成する；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項５０２】
式（L-2-14）：
【化３５２】
2020536046.tif 001046
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｒ１およびＲ２は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、およびＲＰ４は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５０３】
式（HH-2-II）：
【化３５３】
2020536046.tif 001047
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３５４】
2020536046.tif 001048
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３５５】
2020536046.tif 001049
を形成する；
ＲＰ１、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項５０４】
式（L-2-16）：
【化３５６】
2020536046.tif 001050
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ３およびＲＰ４は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項５０５】
式（NH-2-II）：
【化３５７】
2020536046.tif 001051
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３５８】
2020536046.tif 001052
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３５９】
2020536046.tif 001053
を形成する；
ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
Ｒ７は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項５０６】
式（L-2-15）：
【化３６０】
2020536046.tif 001054
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ３およびＲＰ４は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
Ｒ７は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５０７】
式（L-5-17）：
【化３６１】
2020536046.tif 001055
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、およびＲＰ４は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５０８】
式（L-5-16B）：
【化３６２】
2020536046.tif 001056
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、およびＲＰ４は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５０９】
式（L-5-16A）：
【化３６３】
2020536046.tif 001057
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５１０】
式（L-5-15）：
【化３６４】
2020536046.tif 001058
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５１１】
酸の存在下での、式（L-5-14）：
【化３６５】
2020536046.tif 001059
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ４、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５１２】
式（L-5-12）：
【化３６６】
2020536046.tif 001060
で表される化合物、およびそれらの塩であって、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５１３】
式（L-5-11）：
【化３６７】
2020536046.tif 001061
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５１４】
式（L-5-26）：
【化３６８】
2020536046.tif 001062
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ４は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５１５】
式（L-5-25C）：
【化３６９】
2020536046.tif 001063
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ４は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５１６】
式（L-5-25A）：
【化３７０】
2020536046.tif 001064
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ４は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５１７】
式（L-5-24）：
【化３７１】
2020536046.tif 001065
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１およびＲＰ３は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５１８】
式（L-5-23B）：
【化３７２】
2020536046.tif 001066
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５１９】
式（L-5-23C）：
【化３７３】
2020536046.tif 001067
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５２０】
式（Ｌ−５−２３Ａ）：
【化３７４】
2020536046.tif 001068
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５２１】
式（L-5-22）：
【化３７５】
2020536046.tif 001069
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５２２】
式（L-5-22A）：
【化３７６】
2020536046.tif 001070
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５２３】
式（L-5-21B）：
【化３７７】
2020536046.tif 001071
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ６、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５２４】
式（L-5-21A）：
【化３７８】
2020536046.tif 001072
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ６およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５２５】
式（L-5-32）：
【化３７９】
2020536046.tif 001073
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ７およびＲ８は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５２６】
式（L-5-31）：
【化３８０】
2020536046.tif 001074
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ４、およびＲＰ６は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５２７】
式（L-5-32A）：
【化３８１】
2020536046.tif 001075
で表される化合物、またはその塩であって；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ４およびＲＰ６は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５２８】
式（L-5-28）：
【化３８２】
2020536046.tif 001076
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ４およびＲＰ６は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する、前記化合物。
【請求項５２９】
式（L-5-27）：
【化３８３】
2020536046.tif 001077
で表される化合物、またはその塩であって、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である、前記化合物。
【請求項５３０】
ＲＬが、任意置換スルホニルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５３１】
ＲＬが、Ｍｓ、Ｔｓ、Ｔｆ、Ｂｓ、Ｎｆ、Ｎｓ、Ｄｓ、または−ＳＯ２Ｐｈである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５３２】
ＲＬが、Ｔｓである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５３３】
ＲＰ１が、シリル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５３４】
ＲＰ１が、ＴＢＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５３５】
ＲＰ２が、シリル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５３６】
ＲＰ２が、ＴＢＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５３７】
ＲＰ３が、シリル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５３８】
ＲＰ３が、ＴＥＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５３９】
ＲＰ４が、シリルまたはベンジル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５４０】
ＲＰ４が、ＴＥＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５４１】
ＲＰ４が、ＴＢＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５４２】
ＲＰ４が、ＭＰＭである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５４３】
ＲＰ５が、シリル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５４４】
ＲＰ５が、ＴＥＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５４５】
ＲＰ４およびＲＰ５が、水素である、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５４６】
２個のＲＰ５が、介在原子と一緒に結び合って、以下：
【化３８４】
2020536046.tif 001078
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５４７】
２個のＲＰ５が、介在原子と一緒に結び合って、以下：
【化３８５】
2020536046.tif 001079
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５４８】
２個のＲＰ６が、介在原子と一緒に結び合って、以下：
【化３８６】
2020536046.tif 001080
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５４９】
２個のＲＰ６が、介在原子と一緒に結び合って、以下：
【化３８７】
2020536046.tif 001081
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５５０】
ＲＰ８が、ベンジル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５５１】
ＲＰ８が、ＭＰＭである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５５２】
２個のＲＰ９が、介在原子と一緒になって、以下：
【化３８８】
2020536046.tif 001082
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５５３】
２個のＲＰ９が、介在原子と一緒になって、以下：
【化３８９】
2020536046.tif 001083
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５５４】
ＲＰ１０が、シリル保護基である、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５５５】
ＲＰ１０が、ＴＥＳである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５５６】
Ｘ２が、ハロゲンである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５５７】
Ｘ２が、−Ｉである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５５８】
Ｘ３が、ハロゲンである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５５９】
Ｘ３が、−Ｃｌである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５６０】
Ｘ４が、ハロゲンである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５６１】
Ｘ４が、−Ｉである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５６２】
Ｒ１が、任意置換Ｃ１〜６アルキルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５６３】
Ｒ１が、メチルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５６４】
Ｒ２が、任意置換Ｃ１〜６アルキルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５６５】
Ｒ２が、メチルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５６６】
Ｒ３が、任意置換Ｃ１〜６アルキルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５６７】
Ｒ３が、メチルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５６８】
Ｒ５が、任意置換Ｃ１〜６アルキルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５６９】
Ｒ５が、メチルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５７０】
２個のＲ４基が、一緒になって以下：
【化３９０】
2020536046.tif 001084
を形成する先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物、。
【請求項５７１】
２個のＲ６基が、一緒になって以下：
【化３９１】
2020536046.tif 001085
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５７２】
Ｒ８が、任意置換Ｃ１〜６アルキルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５７３】
Ｒ８が、メチルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５７４】
Ｒ８が、エチルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５７５】
ＲＸおよびＲＹがともに、水素である、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５７６】
ＲＸが、水素である；およびＲＹが、−ＯＲＹａである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５７７】
ＲＸが、水素である；およびＲＹが、−ＯＨである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５７８】
ＲＸが、水素である；およびＲＹが、−Ｏ−アリルである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５７９】
ＲＸが、−ＯＲＸａである；およびＲＹが、−ＯＲＹａである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５８０】
ＲＸおよびＲＹがともに、−ＯＨである、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５８１】
ＲＸａおよびＲＹａが、これらの介在原子と一緒に結び合って、以下：
【化３９２】
2020536046.tif 001086
を形成する、先行する請求項のいずれか一項に記載の化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願
本出願は、35 U.S.C.§119(e)の下、2017年7月6日に出願された米国仮特許出願第(U.S.S.N.)62/529,333号；および2017年7月6日に出願された第(U.S.S.N.)62/529,310号に対する優先権を主張するものである；これら各々の全体の内容は、参照により本明細書に組み込まれる。
【背景技術】
【０００２】
本発明の背景
ハリコンドリンは、Uemura、Hirata、および共同研究者らによって海生腐食動物(marine scavenger）Halichondria okadaiから当初単離されたポリエーテル天然産物である。例として、Uemura, D.; Takahashi, K.; Yamamoto, T.; Katayama, C.; Tanaka, J.; Okumura, Y.; Hirata, Y. J. Am. Chem. Soc. 1985, 107, 4796；Hirata, Y.; Uemura, D. Pure Appl. Chem. 1986, 58, 701を参照。ハリスタチン(halistatin)を包含する数種の追加メンバー(members)が、様々な海生腐食動物から単離された。このクラスの天然産物は、Ｃ８〜Ｃ１４多環(polycycle)の炭素の酸化状態、および炭素主鎖の長さなどの、興味深い構造的多様性を見せる。よって、このクラスの天然産物は、ノルハリコンドリン系(series)（例として、ノルハリコンドリンＡ、Ｂ、およびＣ）、ハリコンドリン系（例として、ハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）、およびホモハリコンドリン系（例として、ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）（図１を参照）の下位群へ分類される(sub-grouped into)。ハリコンドリンＡを除くすべてのメンバーが、天然の供給源から単離されたものである。それらの魅力的な構造的アーキテクチャ(structural architecture)および類いまれな抗腫瘍活性のおかげで、ハリコンドリンは、科学界から大きな注目を集めている。
【発明の概要】
【０００３】
本発明の概要
本発明は、ハリコンドリン天然産物および関連分子の合成において有用な新しい合成方法を提供する。本明細書に記載のとおり、新規ニッケル／ジルコニウムを媒介するカップリング反応が、その合成における重要な(key)ステップとして開発された。合成方法に加えて、本発明はまた、ハリコンドリン天然産物およびそれらの類似体の合成における有用な合成中間体である化合物も提供する。
【０００４】
例えば、ある態様において、本明細書に提供されるのは、化合物（１）：
【化１】
2020536046.tif 000003
化合物（１）
の合成において有用な化合物および方法である。
【０００５】
一側面において、本発明は、スキーム１Ａに概説されるとおり、Ｎｉ／Ｚｒ媒介カップリング反応を使用してケトンを調製するための方法を提供する。これらのカップリング反応は、ハリコンドリン（例として、ハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ノルハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）、およびそれらの類似体の合成へ適用され得る。
スキーム１Ａ
【化２】
2020536046.tif 000004
【０００６】
ハリコンドリン系（例として、ハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ、およびそれらの類似体）における化合物の調製に対する、本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介カップリング反応の適用は、例えばスキーム２Ａに概説される。このストラテジーは、本明細書に記載のＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化(ketolization)反応を介して「左半分」構成ブロック(building block)を「右半分」構成ブロックとカップリングさせることを伴う。
スキーム２Ａ
【化３】
2020536046.tif 000005
【０００７】
ホモハリコンドリン系（例として、ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ、およびそれらの類似体）における化合物の調製に対する、本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介カップリング反応の適用は、例えばスキーム２Ｂに概説される。このストラテジーは、本明細書に記載のＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応を介して「左半分」構成ブロックを「右半分」構成ブロックとカップリングさせることを伴う。
スキーム２Ｂ
【化４】
2020536046.tif 000006
【０００８】
ノルハリコンドリン系（例として、ノルハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ、およびそれらの類似体）における化合物の調製に対する、本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介カップリング反応の適用は、例えばスキーム２Ｃに概説される。このストラテジーは、本明細書に記載のＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応を介して「左半分」構成ブロックを「右半分」構成ブロックとカップリングさせることを伴う。
スキーム２Ｃ
【化５】
2020536046.tif 000007
【０００９】
追加のハリコンドリン類似体の調製に対する、本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介カップリング反応の適用は、例えばスキーム２Ｄに概説される。このストラテジーは、本明細書に記載のＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応を介して「左半分」構成ブロックを「右半分」構成ブロックとカップリングさせることを伴う。
スキーム２Ｄ
【化６】
2020536046.tif 000008
【００１０】
一般に、ハリコンドリン（例として、ハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ノルハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）、およびそれらの類似体の調製のための提供される方法は、「左半分」フラグメントを「右半分」フラグメントとカップリングさせることを伴う。別の側面において、本発明は、該「右半分」および「左半分」構成ブロックの調製において有用な方法を提供する。
【００１１】
別の側面において、本発明は、ハリコンドリン（例として、ハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ノルハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）、およびそれらの類似体へ向かう途中の有用な中間体である化合物を提供する。例えば、一側面において、本発明は、ハリコンドリン（例として、ハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ノルハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）、およびそれらの類似体の新規「左半分」および「右半分」構成ブロック、および該構成ブロックの調製において有用な中間体を提供する。
【００１２】
もう１つの他の側面において、本発明は、ハリコンドリン類似体の調製；とりわけ、化合物（１）の調製において有用な方法を提供する。本発明はまた、化合物（１）の合成において有用な化合物（すなわち、合成中間体）も提供する。
【００１３】
一側面において、本発明は、化合物（２）の一級ヒドロキシル基（−ＯＨ；スキーム１中＊で示される）をアミノ基（−ＮＨ２）に置換することを伴う化合物（１）を調製するための方法を提供する。置換は、１以上のステップにおいて実行されてもよい。例えば、置換は、化合物（２）の一級ヒドロキシル基を脱離基（例として、−ＯＲ１）へ変換すること、これに続く脱離基のアミンまたはアミン前駆体（例として、アジド）との置換によって実行されてもよい。
スキーム１
【化７】
2020536046.tif 000009
【００１４】
ハリコンドリンの合成のための現行の方法は、例えば、2016年11月3日に公開された国際ＰＣＴ刊行物WO 2016/176560、および2016年1月7日に公開されたWO 2016/003975から見出され得る；これらの各々の全体の内容は、参照により本明細書に組み込まれる。
【００１５】
ハリコンドリンの合成のための現行の他の方法は、例えば、2018年4月10日に交付された米国特許第9,938,288号；2017年11月15日に出願された米国仮特許出願第(U.S.S.N.)62/586,416号；2018年5月9日に出願された国際出願第PCT/US2018/031765号；2018年6月7日に公開された米国特許出願公開第US 2018/0155361号から見出され得る；これらの各々の全体の内容は、参照により本明細書に組み込まれる。
【００１６】
本発明のある態様の詳細は、下に記載されるとおり、ある態様の詳細な記載に規定される。本発明の他の特色、目的、および利点は、定義、例、図、およびクレームから明らかであろう。
【００１７】
定義
特定の官能基および化学用語の定義が、より詳細に下に記載される。化学元素は、元素周期表, CAS version, Handbook of Chemistry and Physics, 75th Ed.（中表紙）に従って同定され、特定の官能基は、そこに記載されるとおりに一般に定義される。加えて、有機化学の一般原則ならびに特定の官能性部分および反応性は、Organic Chemistry, Thomas Sorrell, University Science Books, Sausalito, 1999；Smith and March, March's Advanced Organic Chemistry, 5 th Edition, John Wiley & Sons, Inc., New York, 2001；Larock, Comprehensive Organic Transformations, VCH Publishers, Inc., New York, 1989；およびCarruthers, Some Modern Methods of Organic Synthesis, 3rd Edition, Cambridge University Press, Cambridge, 1987に記載されている。
【００１８】
本明細書に記載の化合物は、１個以上の不斉中心を含み得、よって様々な立体異性体型、例として鏡像異性体および／またはジアステレオマーとして存在し得る。例として、本明細書に記載の化合物は、個々の鏡像異性体、ジアステレオマー、もしくは幾何異性体の形態であり得るか、または、ラセミ混合物および１個以上の立体異性体が富化された混合物を包含する、立体異性体の混合物の形態であり得る。異性体は、キラル高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、およびキラル塩の形成および結晶化を包含する当業者に知られている方法によって混合物から単離され得る；または好ましい異性体は、不斉合成によって調製され得る。例として、Jacques et al., Enantiomers, Racemates and Resolutions（Wiley Interscience, New York, 1981)；Wilen et al., Tetrahedron 33:2725（1977)；Eliel, E.L. Stereochemisty of Carbon Compounds（McGraw-Hill, NY, 1962)；およびWilen, S.H., Tables of Resolving Agents and Optical Resolutions p. 268（E.L. Eliel, Ed., Univ. of Notre Dame Press, Notre Dame, IN 1972)を参照。本発明は、加えて、他の異性体が実質的にない個々の異性体として、代わりに様々な異性体の混合物として、本明細書に記載の化合物を網羅する。
【００１９】
そのように述べられていない限り、本明細書に描かれる構造体はまた、同位体が濃縮された１個以上の原子の存在下でしか異ならない化合物も包含することが意図される。例えば、水素の重水素もしくはトリチウムによる置き換え、１９Ｆの１８Ｆとの置き換え、または１２Ｃの１３Ｃもしくは１４Ｃとの置き換えを除く本構造体を有する化合物は、本開示の範囲内にある。かかる化合物は、有用な、例えば、生物学的アッセイにおける分析ツールまたは分析プローブとして有用である。
【００２０】
値の範囲が列挙されているとき、範囲内の各値および部分範囲を網羅することが意図される。例として、「Ｃ１〜６アルキル」は、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４、Ｃ５、Ｃ６、Ｃ１〜６、Ｃ１〜５、Ｃ１〜４、Ｃ１〜３、Ｃ１〜２、Ｃ２〜６、Ｃ２〜５、Ｃ２〜４、Ｃ２〜３、Ｃ３〜６、Ｃ３〜５、Ｃ３〜４、Ｃ４〜６、Ｃ４〜５、およびＣ５〜６のアルキルを網羅することが意図される。
【００２１】
用語「脂肪族」は、アルキル、アルケニル、アルキニル、および炭素環式の基を指す。同じく、用語「ヘテロ脂肪族」は、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、および複素環式の基を指す。
【００２２】
用語「アルキル」は、１個から１０個までの炭素原子を有する直鎖または分岐の飽和炭化水素基のラジカルを指す（「Ｃ１〜１０アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は１〜９個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜９アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は１〜８個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜８アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は１〜７個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜７アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は１〜６個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜６アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は１〜５個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜５アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は１〜４個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜４アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は１〜３個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜３アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は１〜２個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜２アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は１個の炭素原子を有する（「Ｃ１アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は２〜６個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜６アルキル」）。Ｃ１〜６アルキル基の例は、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、プロピル（Ｃ３）（例として、ｎ−プロピル、イソプロピル）、ブチル（Ｃ４）（例として、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソ−ブチル）、ペンチル（Ｃ５）（例として、ｎ−ペンチル、３−ペンタニル、アミル、ネオペンチル、３−メチル−２−ブタニル、三級アミル）、およびヘキシル（Ｃ６）（例として、ｎ−ヘキシル）を包含する。アルキル基の追加の例は、ｎ−ヘプチル（Ｃ７）、ｎ−オクチル（Ｃ８）等を包含する。そのように特定されない限り、アルキル基の各存在は、独立して、非置換であるか（「非置換アルキル」）、または１以上の置換基（例として、Ｆなどのハロゲン）で置換されている（「置換アルキル」）。ある態様において、アルキル基は、非置換Ｃ１〜１０アルキル（非置換Ｃ１〜６アルキルなど、例として、−ＣＨ３（Ｍｅ）、非置換エチル（Ｅｔ）、非置換プロピル（Ｐｒ、例として、非置換ｎ−プロピル（ｎ−Ｐｒ）、非置換イソプロピル（ｉ−Ｐｒ））、非置換ブチル（Ｂｕ、例として、非置換ｎ−ブチル（ｎ−Ｂｕ）、非置換ｔｅｒｔ−ブチル（ｔｅｒｔ−Ｂｕまたはｔ−Ｂｕ）、非置換ｓｅｃ−ブチル（ｓｅｃ−Ｂｕまたはｓ−Ｂｕ）、非置換イソブチル（ｉ−Ｂｕ））である。ある態様において、アルキル基は、置換Ｃ１〜１２アルキル（置換Ｃ１〜６アルキルなど、例として、−ＣＦ３、Ｂｎ）である。
【００２３】
用語「ハロアルキル」は、水素原子の１個以上が、独立して、ハロゲン、例として、フルオロ、ブロモ、クロロ、またはヨードによって置き換えられている、置換アルキル基である。いくつかの態様において、ハロアルキル部分は、１〜８個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜８ハロアルキル」）。いくつかの態様において、ハロアルキル部分は、１〜６個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜６ハロアルキル」）。いくつかの態様において、ハロアルキル部分は、１〜４個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜４ハロアルキル」）。いくつかの態様において、ハロアルキル部分は、１〜３個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜３ハロアルキル」）。いくつかの態様において、ハロアルキル部分は、１〜２個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜２ハロアルキル」）。ハロアルキル基の例は、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＣｌ３、−ＣＦＣｌ２、−ＣＦ２Ｃｌ等を包含する。
【００２４】
用語「ヘテロアルキル」は、親鎖内に（親鎖の隣接する炭素原子間に挿入されている）、および／または親鎖の１以上の末端位（単数または複数）に置かれている、酸素、窒素、または硫黄から選択される少なくとも１個のヘテロ原子（例として、１個、２個、３個、または４個のヘテロ原子）をさらに包含するアルキル基を指す。ある態様において、ヘテロアルキル基は、１個から１０個までの炭素原子および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する飽和した基を指す（「ヘテロＣ１〜１０アルキル」）。ある態様において、ヘテロアルキル基は、１〜９個の炭素原子および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する飽和した基を指す（「ヘテロＣ１〜９アルキル」）。ある態様において、ヘテロアルキル基は、１〜８個の炭素原子および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する飽和した基を指す（「ヘテロＣ１〜８アルキル」）。ある態様において、ヘテロアルキル基は、１〜７個の炭素原子および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する飽和した基を指す（「ヘテロＣ１〜７アルキル」）。ある態様において、ヘテロアルキル基は、１〜６個の炭素原子および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する飽和した基を指す（「ヘテロＣ１〜６アルキル」）。ある態様において、ヘテロアルキル基は、１〜５個の炭素原子および１個または２個のヘテロ原子を親鎖内に有する飽和した基を指す（「ヘテロＣ１〜５アルキル」）。ある態様において、ヘテロアルキル基は、１〜４個の炭素原子および１個または２個のヘテロ原子を親鎖内に有する飽和した基を指す（「ヘテロＣ１〜４アルキル」）。ある態様において、ヘテロアルキル基は、１〜３個の炭素原子および１個のヘテロ原子を親鎖内に有する飽和した基を指す（「ヘテロＣ１〜３アルキル」）。ある態様において、ヘテロアルキル基は、１〜２個の炭素原子および１個のヘテロ原子を親鎖内に有する飽和した基を指す（「ヘテロＣ１〜２アルキル」）。ある態様において、ヘテロアルキル基は、１個の炭素原子および１個のヘテロ原子を有する飽和した基を指す（「ヘテロＣ１アルキル」）。ある態様において、ヘテロアルキル基は、２〜６個の炭素原子および１個または２個のヘテロ原子を親鎖内に有する飽和した基を指す（「ヘテロＣ２〜６アルキル」）。そのように特定されない限り、ヘテロアルキル基の各存在は、独立して、非置換であるか（「非置換ヘテロアルキル」）、または１以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロアルキル」）。ある態様において、ヘテロアルキル基は、非置換ヘテロＣ１〜１０アルキルである。ある態様において、ヘテロアルキル基は、置換ヘテロＣ１〜１０アルキルである。
【００２５】
用語「アルケニル」は、２個から１０個までの炭素原子、および１以上の炭素−炭素二重結合（例として、１、２、３、または４つの二重結合）を有する、直鎖または分岐の炭化水素基のラジカルを指す。いくつか態様において、アルケニル基は、２〜９個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜９アルケニル」）。いくつか態様において、アルケニル基は、２〜８個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜８アルケニル」）。いくつかの態様において、アルケニル基は、２〜７個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜７アルキニル」）。いくつかの態様において、アルケニル基は、２〜６個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜６アルケニル」）。いくつかの態様において、アルケニル基は、２〜５個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜５アルケニル」）。いくつかの態様において、アルケニル基は、２〜４個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜４アルケニル」）。いくつかの態様において、アルケニル基は、２〜３個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜３アルケニル」）。いくつかの態様において、アルケニル基は、２個の炭素原子を有する（「Ｃ２アルケニル」）。１個以上の炭素−炭素三重三重結合は、内部にあるか（２−ブテニルなどにあるような）、または末端にあり得る（１−ブテニルなどにあるような）。Ｃ２〜４アルケニル基の例は、エテニル（Ｃ２）、１−プロぺニル（Ｃ３）、２−プロぺニル（Ｃ３）、１−ブテニル（Ｃ４）、２−ブテニル（Ｃ４）、ブタジエニル（Ｃ４）、等を包含する。Ｃ２〜６アルケニル基の例は、先述のＣ２〜４アルケニル基、ならびにペンテニル（Ｃ５）、ペンタジエニル（Ｃ５）、ヘキセニル（Ｃ６）等を包含する。アルケニルの追加の例は、ヘプテニル（Ｃ７）、オクテニル（Ｃ８）、オクタトリエニル（Ｃ８）等を包含する。そのように特定されない限り、アルケニル基の各存在は、独立して、非置換であるか（「非置換アルケニル」）、または１以上の置換基で置換されている（「置換アルケニル」）。ある態様において、アルケニル基は、非置換Ｃ２〜１０アルキニルである。ある態様において、アルケニル基は、置換Ｃ２〜１０アルケニルである。アルケニル基において、立体化学が特定されていないＣ＝Ｃ二重結合（例として、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、または
【化８】
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は、（Ｅ）−もしくは（Ｚ）−二重結合であってもよい。
【００２６】
用語「ヘテロアルケニル」は、親鎖内に（親鎖の隣接する炭素原子間に挿入されている）、および／または親鎖の１以上の末端位（単数または複数）に置かれている、酸素、窒素、または硫黄から選択される少なくとも１個のヘテロ原子（例として、１個、２個、３個、または４個のヘテロ原子）をさらに含有するアルケニル基を指す。ある態様において、ヘテロアルケニル基は、２個から１０個までの炭素原子、少なくとも１の二重結合、および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する基を指す（「ヘテロＣ２〜１０アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、２〜９個の炭素原子、少なくとも１の二重結合、および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する基を指す（「ヘテロＣ２〜９アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、２〜８個の炭素原子、少なくとも１の二重結合、および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する基を指す（「ヘテロＣ２〜８アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、２〜７個の炭素原子、少なくとも１の二重結合、および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する基を指す（「ヘテロＣ２〜７アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、２〜６個の炭素原子、少なくとも１の二重結合、および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する基を指す（「ヘテロＣ２〜６アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、２〜５個の炭素原子、少なくとも１の二重結合、および１個または２個のヘテロ原子を親鎖内に有する基を指す（「ヘテロＣ２〜５アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、２〜４個の炭素原子、少なくとも１の二重結合、および１個または２個のヘテロ原子を親鎖内に有する基を指す（「ヘテロＣ２〜４アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、２〜３個の炭素原子、少なくとも１の二重結合、および１個のヘテロ原子を親鎖内に有する基を指す（「ヘテロＣ２〜３アルケニル」）。
いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、２〜６個の炭素原子、少なくとも１の二重結合、および１個または２個のヘテロ原子を親鎖内に有する基を指す（「ヘテロＣ２〜６アルケニル」）。そのように特定されない限り、ヘテロアルケニル基の各存在は、独立して、非置換であるか（「非置換ヘテロアルケニル」）、または１以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロアルケニル」）。ある態様において、ヘテロアルケニル基は、非置換ヘテロＣ２〜１０アルケニルである。ある態様において、ヘテロアルケニル基は、置換ヘテロＣ２〜１０アルケニルである。
【００２７】
用語「アルキニル」は、２個から１０個までの炭素原子および１以上の炭素−炭素三重結合（例として、１、２、３、または４つの三重結合）を有する、直鎖または分岐の炭化水素基のラジカルを指す（「Ｃ２〜１０アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜９個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜９アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜８個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜８アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜７個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜７アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜６個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜６アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜５個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜５アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜４個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜４アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜３個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜３アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２個の炭素原子を有する（「Ｃ２アルキニル」）。１個以上の炭素−炭素三重結合は、内部にあるか（２−ブチニルなどにあるような）、または末端にあり得る（１−ブチニルなどにあるような）。Ｃ２〜４アルキニル基の例は、限定せずに、エチニル（Ｃ２）、１−プロピニル（Ｃ３）、２−プロピニル（Ｃ３）、１−ブチニル（Ｃ４）、２−ブチニル（Ｃ４）等を包含する。Ｃ２〜６アルケニル基の例は、先述のＣ２〜４アルキニル基、ならびにペンチニル（Ｃ５）、ヘキシニル（Ｃ６）等を包含する。アルキニルの追加の例は、ヘプチニル（Ｃ７）、オクチニル（Ｃ８）等を包含する。そのように特定されない限り、アルキニル基の各存在は、独立して、非置換であるか（「非置換アルキニル」）、または１以上の置換基で置換されている（「置換アルキニル」）。ある態様において、アルキニル基は、非置換Ｃ２〜１０アルキニルである。ある態様において、アルキニル基は、置換Ｃ２〜１０アルキニルである。
【００２８】
用語「ヘテロアルキニル」は、親鎖内に（親鎖の隣接する炭素原子間に挿入されている）、および／または親鎖の１以上の末端位（単数または複数）に置かれている、酸素、窒素、または硫黄から選択される少なくとも１個のヘテロ原子（例として、１個、２個、３個、または４個のヘテロ原子）をさらに包含するアルキニル基を指す。ある態様において、ヘテロアルキニル基は、２個から１０個までの炭素原子、少なくとも１の三重結合、および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する基を指す（「ヘテロＣ２〜１０アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、２〜９個の炭素原子、少なくとも１の三重結合、および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する（「ヘテロＣ２〜９アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、２〜８個の炭素原子、少なくとも１の三重結合、および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する（「ヘテロＣ２〜９アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、２〜７個の炭素原子、少なくとも１の三重結合、および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する（「ヘテロＣ２〜７アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、２〜６個の炭素原子、少なくとも１の三重結合、および１個以上のヘテロ原子を親鎖内に有する（「ヘテロＣ２〜６アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、２〜５個の炭素原子、少なくとも１の三重結合、および１個または２個のヘテロ原子を親鎖内に有する（「ヘテロＣ２〜５アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、２〜４個の炭素原子、少なくとも１の三重結合、および１個または２個のヘテロ原子を親鎖内に有する（「ヘテロＣ２〜４アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、２〜３個の炭素原子、少なくとも１の三重結合、および１個のヘテロ原子を親鎖内に有する（「ヘテロＣ２〜３アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、２〜６個の炭素原子、少なくとも１の三重結合、および１個または２個のヘテロ原子を親鎖内に有する（「ヘテロＣ２〜６アルキニル」）。そのように特定されない限り、ヘテロアルキニル基の各存在は、独立して、非置換であるか（「非置換ヘテロアルキニル」）、または１以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロアルキニル」）。ある態様において、ヘテロアルキニル基は、非置換ヘテロＣ２〜１０アルキニルである。ある態様において、ヘテロアルキニル基は、置換ヘテロＣ２〜１０アルキニルである。
【００２９】
用語「カルボシクリル」または「炭素環式」は、非芳香族環式炭化水素基のラジカルであって、その非芳香環系中に３個から１４個までの環炭素原子およびゼロ個のヘテロ原子を有する（「Ｃ３〜１４カルボシクリル」）前記ラジカルを指す。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、３〜１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ３〜１０カルボシクリル」）。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、３〜８個の環炭素原子を有する（「Ｃ３〜８カルボシクリル」）。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、３〜７個の環炭素原子を有する（「Ｃ３〜７カルボシクリル」）。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、３〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３〜６カルボシクリル」）。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、４〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ４〜６カルボシクリル」）。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、５〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ５〜６カルボシクリル」）。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、５〜１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ５〜１０カルボシクリル」）。例示のＣ３〜６カルボシクリル基は、限定せずに、シクロプロピル（Ｃ３）、シクロプロペニル（Ｃ３）、シクロブチル（Ｃ４）、シクロブテニル（Ｃ４）、シクロペンチル（Ｃ５）、シクロペンテニル（Ｃ５）、シクロヘキシル（Ｃ６）、シクロヘキセニル（Ｃ６）、シクロヘキサジエニル（Ｃ６）等を包含する。例示のＣ３〜８カルボシクリル基は、限定せずに、先述のＣ３〜６カルボシクリル基ｓならびにシクロへプチル（Ｃ７）、シクロヘプテニル（Ｃ７）、シクロへプタジエニル（Ｃ７）、シクロへプタトリエニル（Ｃ７）、シクロオクチル（Ｃ８）、シクロオクテニル（Ｃ８）、ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル（Ｃ７）、ビシクロ［２．２．２］オクタニル（Ｃ８）等を包含する。例示のＣ３〜１０カルボシクリル基は、限定せずに、先述のＣ３〜８カルボシクリル基ならびにシクロノニル（Ｃ９）、シクロノネニル（Ｃ９）、シクロデシル（Ｃ１０）、シクロデセニル（Ｃ１０）、オクタヒドロ−１Ｈ−インデニル（Ｃ９）、デカヒドロナフタレニル（Ｃ１０）、スピロ［４．５］デカニル（Ｃ１０）等を包含する。上記の例が説明するとおり、ある態様において、カルボシクリル基は、単環式（「単環式カルボシクリル」）または多環式（例として、二環式系（「二環式カルボシクリル」）または三環式系（「三環式カルボシクリル」）などの縮合、架橋またはスピロ環系を含有する）のいずれかであり、飽和であり得るか、または１以上の炭素−炭素二重結合または三重結合を含有し得る。「カルボシクリル」はまた、カルボシクリル環が、上に定義されるとおり、１以上のアリール基またはヘテロアリール基と縮合されている環系（ここで付着点は、カルボシクリル環上にあり、かかる実例において、炭素数は、炭素環式の環系中の炭素数を通しで指定する）も包含する。そのように特定されない限り、カルボシクリル基の各存在は、独立して、非置換であるか（「非置換カルボシクリル」）、または１以上の置換基で置換されている（「置換カルボシクリル」）。ある態様において、カルボシクリル基は、非置換Ｃ３〜１４カルボシクリルである。ある態様において、カルボシクリル基は、置換Ｃ３〜１４カルボシクリルである。
【００３０】
いくつかの態様において、「カルボシクリル」は、３個から１４個までの環炭素原子を有する単環式の飽和カルボシクリル基である（「Ｃ３〜１４シクロアルキル」）。いくつかの態様において、「カルボシクリル」は、３個から１０個までの環炭素原子を有する単環式の飽和カルボシクリル基である（「Ｃ３〜１０シクロアルキル」）。いくつかの態様において、シクロアルキル基は、３〜８個の環炭素原子を有する（「Ｃ３〜８シクロアルキル」）。いくつかの態様において、シクロアルキル基は、３〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３〜６シクロアルキル」）。いくつかの態様において、シクロアルキル基は、４〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ４〜６シクロアルキル」）。いくつかの態様において、シクロアルキル基は、５〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ５〜６シクロアルキル」）。いくつかの態様において、シクロアルキル基は、５〜１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ５〜１０シクロアルキル」）。Ｃ５〜６シクロアルキル基の例は、シクロペンチル（Ｃ５）およびシクロヘキシル（Ｃ５）を包含する。Ｃ３〜６シクロアルキル基の例は、先述のＣ５〜６シクロアルキル基、ならびにシクロプロピル（Ｃ３）およびシクロブチル（Ｃ４）を包含する。Ｃ３〜８シクロアルキル基の例は、先述のＣ３〜６シクロアルキル基、ならびにシクロヘプチル（Ｃ７）およびシクロオクチル（Ｃ８）を包含する。そのように特定されない限り、シクロアルキル基のどの場合も、独立して、非置換であるか（「非置換シクロアルキル」）、または１以上の置換基でで置換されている（「置換シクロアルキル」）。ある態様において、シクロアルキル基は、非置換Ｃ３〜１４シクロアルキルである。ある態様において、シクロアルキル基は、置換Ｃ３〜１４シクロアルキルである。
【００３１】
用語「ヘテロシクリル」または「複素環式」は、環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する３〜１４員の(membered）ノナ−芳香環系のラジカルを指し、環ヘテロ原子ここで各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、および硫黄から選択される（「３〜１４員ヘテロシクリル」）。１個以上の窒素原子を含有するヘテロシクリル基において、付着点は、原子価が許す限り、炭素原子または窒素原子であり得る。ヘテロシクリル基は、単環式（「単環式ヘテロシクリル」）、または多環式（例として、二環式系（「二環式ヘテロシクリル」）または三環式系（「三環式ヘテロシクリル」）などの、縮合環系、架橋環系、またはスピロ環系）のいずれかであり得る。ヘテロシクリル基は、飽和であり得るか、または１以上の炭素−炭素二重結合もしくは三重結合を含有し得る。ヘテロシクリルの多環式の環系は、１個以上のヘテロ原子を一方または両方の環中に包含し得る。「ヘテロシクリル」はまた、ヘテロシクリル環が、上に定義されるとおり、１個以上のカルボシクリル基と縮合されている環系（ここで付着点は、カルボシクリル環上またはヘテロシクリル環上のいずれかにある）、あるいは、ヘテロシクリル環が、上に定義されるとおり、１個以上のアリール基またはヘテロアリール基と縮合されている環系（ここで付着点は、ヘテロシクリル環上にある）も包含し、かかる実例において、環員数は、ヘテロシクリル環系中の環員数を通しで指定する。そのように特定されない限り、ヘテロシクリルの各場合は、独立して、非置換であるか（「非置換ヘテロシクリル」）、または１以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロシクリル」）。ある態様において、ヘテロシクリル基は、非置換の３〜１４員ヘテロシクリルである。ある態様において、ヘテロシクリルは、置換の３〜１４員ヘテロシクリルである。
【００３２】
いくつかの態様において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜１０員の非芳香環系であり、ここで各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、および硫黄から選択される（「５〜１０員ヘテロシクリル」）。いくつかの態様において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜８員の非芳香環系であり、ここで各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、および硫黄から選択される（「５〜８員ヘテロシクリル」）。いくつかの態様において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜６員の非芳香環系であり、ここで各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、および硫黄から選択される（「５〜６員ヘテロシクリル」）。いくつかの態様において、５〜６員ヘテロシクリルは、窒素、酸素、および硫黄から選択される１〜３個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの態様において、５〜６員ヘテロシクリルは、窒素、酸素、および硫黄から選択される１〜２個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの態様において、５〜６員ヘテロシクリルは、窒素、酸素、および硫黄から選択される１個の環ヘテロ原子を有する。
【００３３】
１個のヘテロ原子を含有する例示の３員ヘテロシクリル基は、限定せずに、アジルジニル(azirdinyl)、オキシラニル、およびチイラニルを包含する。１個のヘテロ原子を含有する例示の４員ヘテロシクリル基は、限定せずに、アゼチジニル、オキセタニル、およびチエタニルを包含する。１個のヘテロ原子を含有する例示の５員ヘテロシクリル基は、限定せずに、テトラヒドロフラニル、ジヒドロフラニル、テトラヒドロチオフェニル、ジヒドロチオフェニル、ピロリジニル、ジヒドロピロリル、およびピロリル−２，５−ジオンを包含する。２個のヘテロ原子を含有する例示の５員ヘテロシクリル基は、限定せずに、ジオキソラニル、オキサチオラニルおよびジチオラニルを包含する。３個のヘテロ原子を含有する例示の５員ヘテロシクリル基は、限定せずに、トリアゾリニル、オキサジアゾリニル、およびチアジアゾリニルを包含する。１個のヘテロ原子を含有する例示の６員ヘテロシクリル基は、限定せずに、ピペリジニル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロピリジニル、およびチアニルを包含する。２個のヘテロ原子を含有する例示の６員ヘテロシクリル基は、限定せずに、ピペラジニル、モルホリニル、ジチアニル、およびジオキサニルを包含する。３個のヘテロ原子を含有する例示の６員ヘテロシクリル基は、限定せずに、トリアジナニルを包含する。１個のヘテロ原子を含有する例示の７員ヘテロシクリル基は、限定せずに、アゼパニル、オキセパニル、およびチエパニルを包含する。１個のヘテロ原子を含有する例示の８員ヘテロシクリル基は、限定せずに、アゾカニル、オキセカニル、およびチオカニルを包含する。例示の二環式ヘテロシクリル基は、限定せずに、インドリニル、イソインドリニル、ジヒドロベンゾフラニル、ジヒドロベンゾチエニル、テトラヒドロベンゾチエニル、テトラヒドロベンゾフラニル、テトラヒドロインドリル、テトラヒドロキノリニル、テトラヒドロイソキノリニル、デカヒドロキノリニル、デカヒドロイソキノリニル、オクタヒドロクロメニル、オクタヒドロイソクロメニル、デカヒドロナフチリジニル、デカヒドロ−１，８−ナフチリジニル、オクタヒドロピロロ［３，２−ｂ］ピロール、インドリニル、フタルイミジル、ナフタルイミジル、クロマニル(chromanyl)、クロメニル、１Ｈ−ベンゾ［ｅ］［１，４］ジアゼピニル、１，４，５，７−テトラヒドロピランｏ［３，４−ｂ］ピロリル、５，６−ジヒドロ−４Ｈ−フロ［３，２−ｂ］ピロリル、６，７−ジヒドロ−５Ｈ−フロ［３，２−ｂ］ピラニル、５，７−ジヒドロ−４Ｈ−チエノ［２，３−ｃ］ピラニル、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジニル、２，３−ジヒドロフロ［２，３−ｂ］ピリジニル、４，５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジニル、４，５，６，７−テトラヒドロフロ［３，２−ｃ］ピリジニル、４，５，６，７−テトラヒドロチエノ［３，２−ｂ］ピリジニル、１，２，３，４−テトラヒドロ−１，６−ナフチリジニル等を包含する。
【００３４】
用語「アリール」は、単環式または多環式（例として、二環式または三環式）の４ｎ＋２芳香環系（例として、環式アレイ(cyclic array)中に共有される６個、１０個、または１４個のπ電子を有する）のラジカルを指し、芳香環系中に提供されている６〜１４個の環炭素原子およびゼロ個のヘテロ原子を有する提供され（「Ｃ６〜１４アリール」）。いくつかの態様において、アリール基は、６個の環炭素原子を有する（「Ｃ６アリール」；例として、フェニル）。いくつかの態様において、アリール基は、１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ１０アリール」；例として、１−ナフチルおよび２−ナフチルなどの、ナフチル）。いくつかの態様において、アリール基は、１４個の環炭素原子を有する（「Ｃ１４アリール」；例として、アントラシル(anthracyl)）。「アリール」はまた、アリール環が、上に定義されるとおり、1個以上のカルボシクリル基またはヘテロシクリル基と縮合されている環系も包含し、ここでラジカルまたは付着点が、アリール環上にあり、およびかかる実例において、炭素原子の数は、アリール環系中の炭素原子数を通しで指定する。そのように特定されない限り、アリール基の各場合は、独立して、非置換であるか（「非置換アリール」）、または１以上の置換基で置換されている（「置換アリール」）。ある態様において、アリール基は、非置換Ｃ６〜１４アリールである。ある態様において、アリール基は、置換Ｃ６〜１４アリールである。
【００３５】
用語「ヘテロアリール」は、５〜１４員の単環式または多環式（例として、二環式、三環式）の４ｎ＋２芳香環系（例として、環式アレイ中に共有された６個、１０個、または１４個のπ電子を有する）のラジカルを指し、芳香環系中に提供される環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有し、ここで各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、および硫黄から選択される（「５〜１４員ヘテロアリール」）。1個以上の窒素原子を含有するへテロアリール基において、付着点は、原子価が許す限り、炭素原子または窒素原子であり得る。ヘテロアリールの多環式の環系は、一方または両方の環中、１個以上のヘテロ原子を包含し得る。「ヘテロアリール」は、ヘテロアリール環が、上に定義されるとおり、1個以上のカルボシクリル基またはヘテロシクリル基と縮合されている環系を包含し、ここで付着点は、ヘテロアリール環上にあり、およびかかる実例において、環員数は、ヘテロアリール環系中、環員数を通しで指定する。「ヘテロアリール」はまた、ヘテロアリール環が、上に定義されるとおり、１個以上のアリール基と縮合されている環系も包含し、ここで付着点は、アリール環またはヘテロアリール環上にあり、およびかかる実例において、環員数は、縮合多環式（アリール／ヘテロアリール）の環系において環員数を指定する。１個の環がヘテロ原子を含有しない多環式ヘテロアリール基（例として、インドリル、キノリニル、カルバゾリル等）において、付着点は、いずれかの環、例として、ヘテロ原子を担持する環（例として、２−インドリル）、またはヘテロ原子を含有しない環（例として、５−インドリル）のいずれかの環上にあり得る。
【００３６】
いくつかの態様において、ヘテロアリール基は、５〜１０員芳香環系であって、芳香環系中に提供されている環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有し、ここで各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、および硫黄から選択される（「５〜１０員ヘテロアリール」）。いくつかの態様において、ヘテロアリール基は、５〜８員芳香環系であって、芳香環系中に提供されている環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有し、ここで各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、および硫黄から選択される（「５〜８員ヘテロアリール」）。いくつかの態様において、ヘテロアリール基は、５〜６員芳香環系であって、香環系中に提供されている環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有し、ここで各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、および硫黄から選択される（「５〜６員ヘテロアリール」）。いくつかの態様において、５〜６員ヘテロアリールは、窒素、酸素、および硫黄から選択される１〜３個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの態様において、５〜６員ヘテロアリールは、窒素、酸素、および硫黄から選択される１〜２個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの態様において、５〜６員ヘテロアリールは、窒素、酸素、および硫黄から選択される１個の環ヘテロ原子を有する。そのように特定されない限り、ヘテロアリール基の各存在は、独立して、非置換であるか（「非置換ヘテロアリール」）、または１以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロアリール」）。ある態様において、ヘテロアリール基は、非置換の５〜１４員ヘテロアリールである。ある態様おいて、ヘテロアリール基は、置換の５〜１４員ヘテロアリールである。
【００３７】
１個のヘテロ原子を含有する例示の５員ヘテロアリール基は、限定せずに、ピロリル、フラニル、およびチオフェニルを包含する。２個のヘテロ原子を含有する例示の５員ヘテロアリール基は、限定せずに、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、およびイソチアゾリルを包含する。３個のヘテロ原子を含有する例示の５員ヘテロアリール基は、限定せずに、トリアゾリル、オキサジアゾリル、およびチアジアゾリルを包含する。４個のヘテロ原子を含有する例示の５員ヘテロアリール基は、限定せずに、テトラゾリルを包含する。１個のヘテロ原子を含有する例示の６員ヘテロアリール基は、限定せずに、ピリジニルを包含する。２個のヘテロ原子を含有する例示の６員ヘテロアリール基は、限定せずに、ピリダジニル、ピリミジニル、およびピラジニルを包含する。３個または４個のヘテロ原子を含有する例示の６員ヘテロアリール基は夫々、限定せずに、トリアジニルおよびテトラジニルを包含する。１個のヘテロ原子を含有する例示の７員のヘテロアリール基は、限定せずに、アゼピニル、オキセピニル、およびチエピニルを包含する。例示の５，６−二環式ヘテロアリール基は、限定せずに、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾチオフェニル、イソベンゾチオフェニル、ベンゾフラニル、ベンゾイソフラニル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンズチアゾリル、ベンズイソチアゾリル、ベンズチアジアゾリル、インドリジニル、およびプリニルを包含する。例示の６，６−二環式ヘテロアリール基は、限定せずに、ナフチリジニル、プテリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、キノキサリニル、フタラジニル、およびキナゾリニルを包含する。例示の三環式ヘテロアリール基は、限定せずに、フェナントリジニル、ジベンゾフラニル、カルバゾリル、アクリジニル、フェノチアジニル、フェノキサジニル、およびフェナジニルを包含する。
【００３８】
用語「不飽和結合」は、二重結合または三重結合を指す。
【００３９】
用語「不飽和（の）」または「部分的に不飽和の」は、少なくとも１つの二重結合または三重結合を包含する部分(moiety)を指す。
【００４０】
用語「飽和（の）」は、二重結合も三重結合も含有しない部分、すなわち単結合しか含有しない部分を指す。
【００４１】
接尾辞「−エン」を基へ添えることは、その基が二価の部分である、例として、アルキレンがアルキルの二価の部分である、アルケニレンがアルケニルの二価の部分である、アルキニレンがアルキニルの二価の部分である、ヘテロアルキレンがヘテロアルキルの二価の部分である、ヘテロアルケニレンがヘテロアルケニル二価の部分である、ヘテロアルキニレンがヘテロアルキニルの二価の部分である、カルボシクリレンがカルボシクリルの二価の部分である、ヘテロシクリレンがヘテロシクリルの二価の部分である、アリーレンがアリールの二価の部分である、およびヘテロアリーレンがヘテロアリールの二価の部分であることを示す。
【００４２】
基は、そのようにはっきりと提供されていない限り、任意に置換されていてもよい（任意置換である）。用語「任意置換（の）」は、置換されていること、または置換されていないことを指す。ある態様において、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロアルキル基、ヘテロアルケニル基、ヘテロアルキニル基、カルボシクリル基、ヘテロシクリル基、アリール基、およびヘテロアリール基は、任意に置換されていてもよい（任意置換である）。「任意置換（の）」は、置換されていても、または非置換であってもよい基（例として、「置換」もしくは「非置換」アルキル基、「置換」もしくは「非置換」アルケニル基、「置換」もしくは「非置換」アルキニル基、「置換」もしくは「非置換」ヘテロアルキル基、「置換」もしくは「非置換」ヘテロアルケニル基、「置換」もしくは「非置換」ヘテロアルキニル基、「置換」もしくは「非置換」カルボシクリル基、「置換」もしくは「非置換」ヘテロシクリル基、「置換」もしくは「非置換」アリール基、または「置換」もしくは「非置換」ヘテロアリール基）を指す。一般に、用語「置換（の／されている）」は、ある基の上に存在する少なくとも１個の水素が、許され得る置換基（例として、置換された際に安定な化合物、例として、転位、環化、脱離、または他の反応などによる変形を自発的に受けない化合物、をもたらす置換基）で置き換えられていることを意味する。そのように示されない限り、「置換されている」基は、基の１個以上の置換可能な位置にて置換基を有し、およびいかなる構造中、１より多くの位置が置換されているとき、置換基は、各位置にて同じかまたは異なっているかのいずれかである。用語「置換（の／されている）」は、有機化合物のすべての許され得る置換基での置換を包含することが企図され、安定な化合物の形成をもたらす本明細書に記載の置換基のいずれも包含する。本発明は、安定な化合物に到達するために、ありとあらゆるかかる組み合わせを企図する。本発明の目的上、窒素などのヘテロ原子は、ヘテロ原子の原子価を満足させ、かつ安定な部分の形成をもたらす、水素置換基および／または本明細書に記載のとおりのいずれの好適な置換基を有していてもよい。本発明は、本明細書に記載の例示の置換基によってどのように限定されることも意図されていない。
【００４３】
例示の炭素原子置換基は、これらに限定されないが、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、−ＳＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＯＨ、−ＯＲａａ、−ＯＮ（Ｒｂｂ）２、−Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｎ（Ｒｂｂ）３＋Ｘ−、−Ｎ（ＯＲｃｃ）Ｒｂｂ、−ＳＨ、−ＳＲａａ、−ＳＳＲｃｃ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＨＯ、−Ｃ（ＯＲｃｃ）２、−ＣＯ２Ｒａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＣＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＮＲｂｂＣＯ２Ｒａａ、−ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＲｂｂＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、−ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＳＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２ＯＲａａ、−ＯＳＯ２Ｒａａ、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＳ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｓｉ（Ｒａａ）３、−ＯＳｉ（Ｒａａ）３、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲａａ、−ＳＣ（＝Ｓ）ＳＲａａ、−ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲａａ、−ＳＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２、−ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２、−Ｐ（Ｒｃｃ）２、−Ｐ（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（Ｒｃｃ）３＋Ｘ−、−Ｐ（ＯＲｃｃ）３＋Ｘ−、−Ｐ（Ｒｃｃ）４、−Ｐ（ＯＲｃｃ）４、−ＯＰ（Ｒｃｃ）２、−ＯＰ（Ｒｃｃ）３＋Ｘ−、−ＯＰ（ＯＲｃｃ）２、−ＯＰ（ＯＲｃｃ）３＋Ｘ−、−ＯＰ（Ｒｃｃ）４、−ＯＰ（ＯＲｃｃ）４、−Ｂ（Ｒａａ）２、−Ｂ（ＯＲｃｃ）２、−ＢＲａａ（ＯＲｃｃ）、Ｃ１〜１０アルキル、Ｃ１〜１０ペルハロアルキル、Ｃ２〜１０アルケニル、Ｃ２〜１０アルキニル、ヘテロＣ１〜１０アルキル、ヘテロＣ２〜１０アルケニル、ヘテロＣ２〜１０アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１４員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１４アリール、および５〜１４員のヘテロアリールを包含し、ここで各アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０個、１個、２個、３個、４個、または５個のＲｄｄ基で置換されている；ここでＸ−は、対イオンである；
あるいは、炭素原子上の２個のジェミナルな水素は、基＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＮ（Ｒｂｂ）２、＝ＮＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、＝ＮＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）ＯＲａａ、＝ＮＮＲｂｂＳ（＝Ｏ）２Ｒａａ、＝ＮＲｂｂ、または＝ＮＯＲｃｃで置き換えられている；
Ｒａａの各存在は、独立して、Ｃ１〜１０アルキル、Ｃ１〜１０ペルハロアルキル、Ｃ２〜１０アルケニル、Ｃ２〜１０アルキニル、ヘテロＣ１〜１０アルキル、ヘテロＣ２〜１０アルケニル、ヘテロＣ２〜１０アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１４員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１４アリール、および５〜１４員のヘテロアリールから選択されるか、あるいは、２個のＲａａ基は結び合って、３〜１４員のヘテロシクリル環または５〜１４員のヘテロアリール環を形成し、ここで各アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリールおよびヘテロアリールは、独立して、０個、１個、２個、３個、４個、または５個のＲｄｄ基で置換されている；
Ｒｂｂの各存在は、独立して、水素、−ＯＨ、−ＯＲａａ、−Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｒｃｃ、−ＳＯ２ＯＲｃｃ、−ＳＯＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｃｃ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｃｃ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｃｃ）２）２、Ｃ１〜１０アルキル、Ｃ１〜１０ペルハロアルキル、Ｃ２〜１０アルケニル、Ｃ２〜１０アルキニル、ヘテロＣ１〜１０アルキル、ヘテロＣ２〜１０アルケニル、ヘテロＣ２〜１０アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１４員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１４アリール、および５〜１４員のヘテロアリールから選択されるか、あるいは、２個のＲｂｂ基は結び合って、３〜１４員のヘテロシクリル環または５〜１４員のヘテロアリール環を形成し、ここで各アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０個、１個、２個、３個、４個、または５個のＲｄｄ基で置換されている；ここでＸ−は、対イオンである；
Ｒｃｃの各存在は、独立して、水素、Ｃ１〜１０アルキル、Ｃ１〜１０ペルハロアルキル、Ｃ２〜１０アルケニル、Ｃ２〜１０アルキニル、ヘテロＣ１〜１０アルキル、ヘテロＣ２〜１０アルケニル、ヘテロＣ２〜１０アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１４員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１４アリール、および５〜１４員のヘテロアリールから選択されるか、あるいは、２個のＲｃｃ基は結び合って、３〜１４員のヘテロシクリル環または５〜１４員のヘテロアリール環を形成し、ここで各アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリールおよびヘテロアリールは、独立して、０個、１個、２個、３個、４個、または５個のＲｄｄ基で置換されている；
Ｒｄｄの各存在は、独立して、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、−ＳＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＯＨ、−ＯＲｅｅ、−ＯＮ（Ｒｆｆ）２、−Ｎ（Ｒｆｆ）２、−Ｎ（Ｒｆｆ）３＋Ｘ−、−Ｎ（ＯＲｅｅ）Ｒｆｆ、−ＳＨ、−ＳＲｅｅ、−ＳＳＲｅｅ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２Ｒｅｅ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、−ＯＣＯ２Ｒｅｅ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＮＲｆｆＣ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、−ＮＲｆｆＣＯ２Ｒｅｅ、−ＮＲｆｆＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−Ｃ（＝ＮＲｆｆ）ＯＲｅｅ、−ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｒｅｅ、−ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）ＯＲｅｅ、−Ｃ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＮＲｆｆＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＮＲｆｆＳＯ２Ｒｅｅ、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＳＯ２Ｒｅｅ、−ＳＯ２ＯＲｅｅ、−ＯＳＯ２Ｒｅｅ、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、−Ｓｉ（Ｒｅｅ）３、−ＯＳｉ（Ｒｅｅ）３、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｅｅ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｅｅ、−ＳＣ（＝Ｓ）ＳＲｅｅ、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｅｅ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒｅｅ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒｅｅ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｅｅ）２、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ペルハロアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ２〜６アルキニル、ヘテロＣ１〜６アルキル、ヘテロＣ２〜６アルケニル、ヘテロＣ２〜６アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１０員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１０アリール、５〜１０員のヘテロアリールから選択され、ここで各アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０個、１個、２個、３個、４個、または５個のＲｇｇ基で置換されているか、あるいは、２個のジェミナルなＲｄｄ置換基は結び合って、＝Ｏまたは＝Ｓを形成し得る；ここでＸ−は、対イオンである；
Ｒｅｅの各存在は、独立して、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ペルハロアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ２〜６アルキニル、ヘテロＣ１〜６アルキル、ヘテロＣ２〜６アルケニル、ヘテロＣ２〜６アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、Ｃ６〜１０アリール、３〜１０員のヘテロシクリル、および３〜１０員のヘテロアリールから選択され、ここで各アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０個、１個、２個、３個、４個、または５個のＲｇｇ基で置換されている；
Ｒｆｆの各存在は、独立して、水素、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ペルハロアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ２〜６アルキニル、ヘテロＣ１〜６アルキル、ヘテロＣ２〜６アルケニル、ヘテロＣ２〜６アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１０員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１０アリールおよび５〜１０員のヘテロアリールから選択されるか、あるいは、２個のＲｆｆ基は結び合って、３〜１０員のヘテロシクリル環または５〜１０員のヘテロアリール環を形成し、ここで各アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０個、１個、２個、３個、４個、または５個のＲｇｇ基で置換されている；ならびに
Ｒｇｇの各存在は、独立して、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、−ＳＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＯＨ、−ＯＣ１〜６アルキル、−ＯＮ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）３＋Ｘ−、−ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）２＋Ｘ−、−ＮＨ２（Ｃ１〜６アルキル）＋Ｘ−、−ＮＨ３＋Ｘ−、−Ｎ（ＯＣ１〜６アルキル）（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｎ（ＯＨ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨ（ＯＨ）、−ＳＨ、−ＳＣ１〜６アルキル、−ＳＳ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（＝ＮＨ）Ｏ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＯＣ１〜６アルキル、−Ｃ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＯＣ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＮＨＣ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＮＨＣ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＮＨＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＳＯ２ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２Ｏ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｓｉ（Ｃ１〜６アルキル）３、−ＯＳｉ（Ｃ１〜６アルキル）３、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＣ１〜６アルキル、−ＳＣ（＝Ｓ）ＳＣ１〜６アルキル、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＣ１〜６アルキル）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＣ１〜６アルキル）２、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ペルハロアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ２〜６アルキニル、ヘテロＣ１〜６アルキル、ヘテロＣ２〜６アルケニル、ヘテロＣ２〜６アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、Ｃ６〜１０アリール、３〜１０員ヘテロシクリル、５〜１０員のヘテロアリールである；あるいは、２個のジェミナルなＲｇｇ置換基は結び合って、＝Ｏまたは＝Ｓを形成し得る；ここでＸ−は、対イオンである。
【００４４】
ある態様において、炭素原子置換基は、以下を包含する：ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、−ＳＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＯＨ、−ＯＣ１〜６アルキル、−ＯＮ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）３＋Ｘ−、−ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）２＋Ｘ−、−ＮＨ２（Ｃ１〜６アルキル）＋Ｘ−、−ＮＨ３＋Ｘ−、−Ｎ（ＯＣ１〜６アルキル）（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｎ（ＯＨ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨ（ＯＨ）、−ＳＨ、−ＳＣ１〜６アルキル、−ＳＳ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（＝ＮＨ）Ｏ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＯＣ１〜６アルキル、−Ｃ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＯＣ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＮＨＣ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＮＨＣ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＮＨＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＳＯ２ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２Ｏ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｓｉ（Ｃ１〜６アルキル）３、−ＯＳｉ（Ｃ１〜６アルキル）３、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＣ１〜６アルキル、−ＳＣ（＝Ｓ）ＳＣ１〜６アルキル、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＣ１〜６アルキル）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＣ１〜６アルキル）２、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ペルハロアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ２〜６アルキニル、ヘテロＣ１〜６アルキル、ヘテロＣ２〜６アルケニル、ヘテロＣ２〜６アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、Ｃ６〜１０アリール、３〜１０員のヘテロシクリル、５〜１０員のヘテロアリール；あるいは、２個のジェミナルなＲｇｇ置換基は結び合って、＝Ｏまたは＝Ｓを形成し得る；ここでＸ−は、対イオンである。
【００４５】
用語「ハロ」または「ハロゲン」は、フッ素（フルオロ、−Ｆ）、塩素（クロロ、−Ｃｌ）、臭素（ブロモ、−Ｂｒ）、またはヨウ素（ヨード、−Ｉ）を指す。
【００４６】
用語「ヒドロキシル」または「ヒドロキシ」は、基−ＯＨを指す。用語「置換ヒドロキシル」または「置換ヒドロキシ」は、その延長線上で考えると(by extension)、親分子へ直接付着されている酸素原子が水素以外の基で置換されているヒドロキシル基を指し、−ＯＲａａ、−ＯＮ（Ｒｂｂ）２、−ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＣＯ２Ｒａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＳ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＳＯ２Ｒａａ、−ＯＳｉ（Ｒａａ）３、−ＯＰ（Ｒｃｃ）２、−ＯＰ（Ｒｃｃ）３＋Ｘ−、−ＯＰ（ＯＲｃｃ）２、−ＯＰ（ＯＲｃｃ）３＋Ｘ−、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、および−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２から選択される基を包含するが、ここでＸ−、Ｒａａ、Ｒｂｂ、およびＲｃｃは、本明細書に定義されるとおりである。
【００４７】
用語「アミノ」は、基−ＮＨ２を指す。用語「置換アミノ」は、その延長線上で考えると、単置換アミノ、二置換アミノ、または三置換アミノを指す。ある態様において、「置換アミノ」は、単置換アミノ基または二置換アミノ基である。
【００４８】
用語「単置換アミノ」は、親分子へ直接付着されている窒素原子が１個の水素と水素以外の１つの基とで置換されているアミノ基を指し、−ＮＨ（Ｒｂｂ）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＮＨＣＯ２Ｒａａ、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＨＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＨＳＯ２Ｒａａ、−ＮＨＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、および−ＮＨＰ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２から選択される基を包含するが、ここでＲａａ、ＲｂｂおよびＲｃｃは、本明細書に定義されるとおりであり、およびここで基−ＮＨ（Ｒｂｂ）のＲｂｂは、水素ではない。
【００４９】
用語「二置換アミノ」は、親分子へ直接付着されている窒素原子が水素以外の２つの基で置換されているアミノ基を指し、−Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＮＲｂｂＣＯ２Ｒａａ、−ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＲｂｂＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、−ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、および−ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２から選択される基を包含し、ここでＲａａ、Ｒｂｂ、およびＲｃｃは、本明細書に定義されるとおりであるが、ただし親分子へ直接付着されている窒素原子は、水素では置換されていない。
【００５０】
用語「三置換アミノ」は、親分子へ直接付着されている窒素原子が３つの基で置換されているアミノ基を指し、−Ｎ（Ｒｂｂ）３および−Ｎ（Ｒｂｂ）３＋Ｘ−から選択される基を包含するが、ここでＲｂｂおよびＸ−は、本明細書に定義されるとおりである。
【００５１】
用語「スルホニル」は、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＳＯ２Ｒａａ、および−ＳＯ２ＯＲａａから選択される基を指し、ここでＲａａおよびＲｂｂは、本明細書に定義されるとおりである。
【００５２】
用語「スルフィニル」は、基−Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａを指し、ここでＲａａは、本明細書に定義されるとおりである。
【００５３】
用語「アシル」は、一般式−Ｃ（＝Ｏ）ＲＸ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＸ１、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＲＸ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＸ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＸ１）２、−Ｃ（＝Ｓ）ＲＸ１、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（ＲＸ１）２、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ（ＲＸ１）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｓ（ＲＸ１）、−Ｃ（＝ＮＲＸ１）ＲＸ１、−Ｃ（＝ＮＲＸ１）ＯＲＸ１、−Ｃ（＝ＮＲＸ１）ＳＲＸ１、および−Ｃ（＝ＮＲＸ１）Ｎ（ＲＸ１）２を有する基を指し、ここでＲＸ１は、水素；ハロゲン；置換もしくは非置換ヒドロキシル；置換もしくは非置換チオール；置換もしくは非置換アミノ；置換もしくは非置換アシル、環式もしくは非環式の、置換もしくは非置換の、分枝もしくは非分枝の脂肪族；環式もしくは非環式の、置換もしくは非置換の、分枝もしくは非分枝のヘテロ脂肪族；環式もしくは非環式の、置換もしくは非置換の、分枝もしくは非分枝のアルキル；環式もしくは非環式の、置換もしくは非置換の、分枝もしくは非分枝のアルケニル；置換もしくは非置換アルキニル；置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、脂肪族オキシ、ヘテロ脂肪族オキシ、アルキルオキシ、ヘテロアルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、脂肪族チオキシ、ヘテロ脂肪族チオキシ、アルキルチオキシ、ヘテロアルキルチオキシ、アリールチオキシ、ヘテロアリールチオキシ、モノ−もしくはジ−脂肪族アミノ、モノ−もしくはジ−ヘテロ脂肪族アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−ヘテロアルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールアミノ、またはモノ−もしくはジ−ヘテロアリールアミノである；あるいは、一緒になった２個のＲＸ１基は、５〜６員の複素環式の環を形成する。例示のアシル基は、アルデヒド（−ＣＨＯ）、カルボン酸（−ＣＯ２Ｈ）、ケトン、ハロゲン化アシル、エステル、アミド、イミン、カーボナート、カルバマート、および尿素を包含する。アシル置換基は、これらに限定されないが、安定した部分の形成をもたらす本明細書に記載の置換基のいずれも包含する（例として、脂肪族、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロ脂肪族、複素環式、アリール、ヘテロアリール、アシル、オキソ、イミノ、チオオキソ、シアノ、イソシアノ、アミノ、アジド、ニトロ、ヒドロキシル、チオール、ハロ、脂肪族アミノ、ヘテロ脂肪族アミノ、アルキルアミノ、ヘテロアルキルアミノ、アリールアミノ、ヘテロアリールアミノ、アルキルアリール、アリールアルキル、脂肪族オキシ、ヘテロ脂肪族オキシ、アルキルオキシ、ヘテロアルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、脂肪族チオキシ、ヘテロ脂肪族チオキシ、アルキルチオキシ、ヘテロアルキルチオキシ、アリールチオキシ、ヘテロアリールチオキシ、アシルオキシ等、これらの各々は、さらに置換されていても、されていなくてもよい）。
【００５４】
用語「カルボニル」は、親分子へ直接付着されている炭素がｓｐ２混成されている基を指し、酸素原子、窒素原子、または硫黄原子で置換されており、例として、ケトン（例として、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ）、カルボン酸（例として、−ＣＯ２Ｈ）、アルデヒド（−ＣＨＯ）、エステル（例として、−ＣＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲａａ）、アミド（例として、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｂｂ）２）、およびイミン（例として、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ）、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２）から選択される基であるが、ここでＲａａおよびＲｂｂは、本明細書に定義されるとおりである。
【００５５】
用語「シリル」は、基−Ｓｉ（Ｒａａ）３を指し、ここでＲａａは、本明細書に定義されるとおりである。
【００５６】
用語「オキソ」は、基＝Ｏを指し、用語「チオオキソ」は、基＝Ｓを指す。
【００５７】
窒素原子は、原子価が許す限り、置換または非置換であり得、一級、二級、三級、および四級の窒素原子を包含する。例示の窒素原子置換基は、これらに限定されないが、水素、−ＯＨ、−ＯＲａａ、−Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｒｃｃ、−ＳＯ２ＯＲｃｃ、−ＳＯＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｃｃ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｃｃ、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｃｃ）２）２、Ｃ１〜１０アルキル、Ｃ１〜１０ペルハロアルキル、Ｃ２〜１０アルケニル、Ｃ２〜１０アルキニル、ヘテロＣ１〜１０アルキル、ヘテロＣ２〜１０アルケニル、ヘテロＣ２〜１０アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１４員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１４アリール、および５〜１４員のヘテロアリールを包含するか、あるいは、Ｎ原子へ付着されている２個のＲｃｃ基は結び合って、３〜１４員のヘテロシクリル環または５〜１４員のヘテロアリール環を形成し、ここで各アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０個、１個、２個、３個、４個、または５個のＲｄｄ基で置換されており、およびここでＲａａ、Ｒｂｂ、Ｒｃｃ、およびＲｄｄは、上に定義されるとおりである。
【００５８】
ある態様において、窒素原子上に存在する置換基は、窒素保護基（また本明細書中アミノ保護基とも称される）である。窒素保護基は、これらに限定されないが、−ＯＨ、−ＯＲａａ、−Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｒｃｃ、−ＳＯ２ＯＲｃｃ、−ＳＯＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｃｃ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｃｃ、Ｃ１〜１０アルキル（例として、アラルキル、ヘテロアラルキル）、Ｃ２〜１０アルケニル、Ｃ２〜１０アルキニル、ヘテロＣ１〜１０アルキル、ヘテロＣ２〜１０アルケニル、ヘテロＣ２〜１０アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１４員ヘテロシクリル、Ｃ６〜１４アリール、および５〜１４員ヘテロアリールの基を包含し、ここで各アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アラルキル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０個、１個、２個、３個、４個、または５個のＲｄｄ基で置換されており、ならびにここでＲａａ、Ｒｂｂ、Ｒｃｃ、およびＲｄｄは、本明細書に定義されるとおりである。窒素保護基は、当該技術分野において周知であり、Protecting Groups in Organic Synthesis, T. W. Greene and P. G. M. Wuts, 3rd edition, John Wiley & Sons, 1999に詳細に記載されているものを包含し、これは参照によって本明細書に組み込まれる。
【００５９】
例えば、アミド基などの窒素保護基（例として、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ）は、これらに限定されないが、ホルムアミド、アセトアミド、クロロアセトアミド、トリクロロアセトアミド、トリフルオロアセトアミド、フェニルアセトアミド、３−フェニルプロパンアミド、ピコリンアミド、３−ピリジルカルボキサミド、Ｎ−ベンゾイルフェニルアラニル誘導体、ベンズアミド、ｐ−フェニルベンズアミド、ｏ−ニトフェニルアセトアミド、ｏ−ニトロフェノキシアセトアミド、アセトアセトアミド、（Ν’−ジチオベンジルオキシアシルアミノ）アセトアミド、３−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンアミド、３−（ｏ−ニトロフェニル）プロパンアミド、２−メチル−２−（ｏ−ニトロフェノキシ）プロパンアミド、２−メチル−２−（ｏ−フェニルアゾフェノキシ）プロパンアミド、４−クロロブタンアミド、３−メチル−３−ニトロブタンアミド、ｏ−ニトロケイ皮酸アミド、Ｎ−アセチルメチオニン誘導体、ｏ−ニトロベンズアミド、およびｏ−（ベンゾイルオキシメチル）ベンズアミドを包含する。
【００６０】
カルバマート基などの窒素保護基（例として、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲａａ）は、これらに限定されないが、メチルカルバマート、エチルカルバマート、９−フルオレニルメチルカルバマート（Ｆｍｏｃ）、９−（２−スルホ）フルオレニルメチルカルバマート、９−（２，７−ジブロモ）フルオロエニルメチルカルバマート、２，７−ジ−ｔ−ブチル−［９−（１０，１０−ジオキソ−１０，１０，１０，１０−テトラヒドロチオキサンチル）］メチルカルバマート（ＤＢＤ−Ｔｍｏｃ）、４−メトキシフェナシルカルバマート（Ｐｈｅｎｏｃ）、２，２，２−トリクロロエチルカルバマート（Ｔｒｏｃ）、２−トリメチルシリルエチルカルバマート（Ｔｅｏｃ）、２−フェニルエチルカルバマート（ｈＺ）、１−（１−アダマンチル）−１−メチルエチルカルバマート（Ａｄｐｏｃ）、１，１−ジメチル−２−ハロエチルカルバマート、１，１−ジメチル−２，２−ジブロモエチルカルバマート（ＤＢ−ｔ−ＢＯＣ）、１，１−ジメチル−２，２，２−トリクロロエチルカルバマート（ＴＣＢＯＣ）、１−メチル−１−（４−ビフェニリル）エチルカルバマート（Ｂｐｏｃ）、１−（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−１−メチルエチルカルバマート（ｔ−Ｂｕｍｅｏｃ）、２−（２’−および４’−ピリジル）エチルカルバマート（Ｐｙｏｃ）、２−（Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボキサミド）エチルカルバマート、ｔ−ブチルカルバマート（ＢＯＣまたはＢｏｃ）、１−アダマンチルカルバマート（Ａｄｏｃ）、ビニルカルバマート（Ｖｏｃ）、アリルカルバマート（Ａｌｌｏｃ）、１−イソプロピルアリルカルバマート（Ｉｐａｏｃ）、シンナミルカルバマート（Ｃｏｃ）、４−ニトロシンナミルカルバマート（Ｎｏｃ）、８−キノリルカルバマート、Ｎ−ヒドロキシピペリジニルカルバマート、アルキルジチオカルバマート、ベンジルカルバマート（Ｃｂｚ）、ｐ−メトキシベンジルカルバマート（Ｍｏｚ）、ｐ−ニトベンジルカルバマート、ｐ−ブロモベンジルカルバマート、ｐ−クロロベンジルカルバマート、２，４−ジクロロベンジルカルバマート、４−メチルスルフィニルベンジルカルバマート（Ｍｓｚ）、９−アントリルメチルカルバマート、ジフェニルメチルカルバマート、２−メチルチオエチルカルバマート、２−メチルスルホニルエチルカルバマート、２−（ｐ−トルエンスルホニル）エチルカルバマート、［２−（１，３−ジチアニル）］メチルカルバマート（Ｄｍｏｃ）、４−メチルチオフェニルカルバマート（Ｍｔｐｃ）、２，４−ジメチルチオフェニルカルバマート（Ｂｍｐｃ）、２−ホスホニオエチルカルバマート（Ｐｅｏｃ）、２−トリフェニルホスホニオイソプロピルカルバマート（Ｐｐｏｃ）、１，１−ジメチル−２−シアノエチルカルバマート、ｍ−クロロ−ｐ−アシルオキシベンジルカルバマート、ｐ−（ジヒドロキシボリル）ベンジルカルバマート、５−ベンゾイソオキサゾリルメチルカルバマート、２−（トリフルオロメチル）−６−クロモニルメチルカルバマート（Ｔｃｒｏｃ）、ｍ−ニトロフェニルカルバマート、３，５−ジメトキシベンジルカルバマート、ｏ−ニトロベンジルカルバマート、３，４−ジメトキシ−６−ニトロベンジルカルバマート、フェニル（ｏ−ニトロフェニル）メチルカルバマート、ｔ−アミルカルバマート、Ｓ−ベンジルチオカルバマート、ｐ−シアノベンジルカルバマート、シクロブチルカルバマート，シクロヘキシルカルバマート、シクロペンチルカルバマート、シクロプロピルメチルカルバマート、ｐ−デシルオキシベンジルカルバマート、２，２−ジメトキシアシルビニルカルバマート、ｏ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルボキサミド）ベンジルカルバマート、１，１−ジメチル−３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルボキサミド）プロピルカルバマート、１，１−ジメチルプロピニルカルバマート、ジ（２−ピリジル）メチルカルバマート、２−フラニルメチルカルバマート、２−ヨードエチルカルバマート、イソボリニル(isoborynl)カルバマート、イソブチルカルバマート、イソニコチニルカルバマート、ｐ−（ｐ’−メトキシフェニルアゾ）ベンジルカルバマート、１−メチルシクロブチルカルバマート、１−メチルシクロヘキシルカルバマート、１−メチル−１−シクロプロピルメチルカルバマート、１−メチル−１−（３，５−ジメトキシフェニル）エチルカルバマート、１−メチル−１−（ｐ−フェニルアゾフェニル）エチルカルバマート、１−メチル−１−フェニルエチルカルバマート、１−メチル−１−（４−ピリジル）エチルカルバマート、フェニルカルバマート、ｐ−（フェニルアゾ）ベンジルカルバマート、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニルカルバマート、４−（トリメチルアンモニウム）ベンジルカルバマート、および２，４，６−トリメチルベンジルカルバマートを包含する。
【００６１】
スルホンアミド基などの窒素保護基（例として、−Ｓ（＝Ｏ）２Ｒａａ）は、これらに限定されないが、ｐ−トルエンスルホンアミド（Ｔｓ）、ベンゼンスルホンアミド、２，３，６，−トリメチル−４−メトキシベンゼンスルホンアミド（Ｍｔｒ）、２，４，６−トリメトキシベンゼンスルホンアミド（Ｍｔｂ）、２，６−ジメチル−４−メトキシベンゼンスルホンアミド（Ｐｍｅ）、２，３，５，６−テトラメチル−４−メトキシベンゼンスルホンアミド（Ｍｔｅ）、４−メトキシベンゼンスルホンアミド（Ｍｂｓ）、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホンアミド（Ｍｔｓ）、２，６−ジメトキシ−４−メチルベンゼンスルホンアミド（ｉＭｄｓ）、２，２，５，７，８−ペンタメチルクロマン−６−スルホンアミド（Ｐｍｃ）、メタンスルホンアミド（Ｍｓ）、β−トリメチルシリルエタンスルホンアミド（ＳＥＳ）、９−アントラセンスルホンアミド、４−（４’，８’−ジメトキシナフチルメチル）ベンゼンスルホンアミド（ＤＮＭＢＳ）、ベンジルスルホンアミド、トリフルオロメチルスルホンアミド、およびフェナシルスルホンアミドを包含する。
【００６２】
他の窒素保護基は、これらに限定されないが、フェノチアジニル−（１０）−アシル誘導体、Ｎ’−ｐ−トルエンスルホニルアミノアシル誘導体、Ｎ’−フェニルアミノチオアシル誘導体、Ｎ−ベンゾイルフェニルアラニル誘導体、Ｎ−アセチルメチオニン誘導体、４，５−ジフェニル−３−オキサゾリン−２−オン、Ｎ−フタルイミド、Ｎ−ジチアスクシンイミド（Ｄｔｓ）、Ｎ−２，３−ジフェニルマレイミド、Ｎ−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−１，１，４，４−テトラメチルジシリルアザシクロペンタン付加体（STABASE）、５−置換１，３−ジメチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン−２−オン、５−置換１，３−ジベンジル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン−２−オン、１−置換３，５−ジニトロ−４−ピリドン、Ｎ−メチルアミン、Ｎ−アリルアミン、Ｎ−［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メチルアミン（ＳＥＭ）、Ｎ−３−アセトキシプロピルアミン、Ｎ−（１−イソプロピル−４−ニトロ−２−オキソ−３−ピローリン(pyroolin)−３−イル）アミン、四級アンモニウム塩、Ｎ−ベンジルアミン、Ｎ−ジ（４−メトキシフェニル）メチルアミン、Ｎ−５−ジベンゾスベリル(dibenzosuberyl)アミン、Ｎ−トリフェニルメチルアミン（Ｔｒ）、Ｎ−［（４−メトキシフェニル）ジフェニルメチル］アミン（ＭＭＴｒ）、Ｎ−９−フェニルフルオレニルアミン（ＰｈＦ）、Ｎ−２，７−ジクロロ−９−フルオレニルメチレンアミン、Ｎ−フェロセニルメチルアミノ（Ｆｃｍ）、Ｎ−２−ピコリルアミノＮ’−オキシド、Ｎ−１，１−ジメチルチオメチレンアミン、Ｎ−ベンジリデンアミン、Ｎ−ｐ−メトキシベンジリデンアミン、Ｎ−ジフェニルメチレンアミン、Ｎ−［（２−ピリジル）メシチル］メチレンアミン、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノメチレン）アミン、Ｎ，Ｎ’−イソプロピリデンジアミン、Ｎ−ｐ−ニトロベンジリデンアミン、Ｎ−サリチリデンアミン、Ｎ−５−クロロサリチリデンアミン、Ｎ−（５−クロロ−２−ヒドロキシフェニル）フェニルメチレンアミン、Ｎ−シクロヘキシリデンアミン、Ｎ−（５，５−ジメチル−３−オキソ−１−シクロヘキセニル）アミン、Ｎ−ボラン誘導体、Ｎ−ジフェニルボロン酸誘導体、Ｎ−［フェニル（ペンタアシルクロムまたはタングステン）アシル］アミン、Ｎ−銅キレート、Ｎ−亜鉛キレート、Ｎ−ニトロアミン、Ｎ−ニトロソアミン、アミンＮ−オキシド、ジフェニルホスフィンアミド（Ｄｐｐ）、ジメチルチオホスフィンアミド（Ｍｐｔ）、ジフェニルチオホスフィンアミド（Ｐｐｔ）、ジアルキルホスホロアミダート、ジベンジルホスホロアミダート、ジフェニルホスホロアミダート、ベンゼンスルフェンアミド、ｏ−ニトロベンゼンスルフェンアミド（Ｎｐｓ）、２，４−ジニトロベンゼンスルフェンアミド、ペンタクロロベンゼンスルフェンアミド、２−ニトロ−４−メトキシベンゼンスルフェンアミド、トリフェニルメチルスルフェンアミド、および３−ニトロピリジンスルフェンアミド（Ｎｐｙｓ）を包含する。ある態様において、窒素保護基は、ベンジル（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル（ＢＯＣ）、カルボベンジルオキシ（Ｃｂｚ）、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）、トリフルオロアセチル、トリフェニルメチル、アセチル（Ａｃ）、ベンゾイル（Ｂｚ）、ｐ−メトキシベンジル（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル（ＤＭＰＭ）、ｐ−メトキシフェニル（ＰＭＰ）、２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル（Ｔｒｏｃ）、トリフェニルメチル（Ｔｒ）、トシル（Ｔｓ）、ブロシル（Ｂｓ）、ノシル（Ｎｓ）、メシル（Ｍｓ）、トリフリル（Ｔｆ）、またはダンシル（Ｄｓ）である。
【００６３】
ある態様において、酸素原子上に存在する置換基は、酸素保護基（また本明細書中「ヒドロキシル保護基」としても言及される）である。酸素保護基は、これらに限定されないが、−Ｒａａ、−Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＣＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｓｉ（Ｒａａ）３、−Ｐ（Ｒｃｃ）２、−Ｐ（Ｒｃｃ）３＋Ｘ−、−Ｐ（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（ＯＲｃｃ）３＋Ｘ−、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、および−Ｐ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２を包含し、ここでＸ−、Ｒａａ、Ｒｂｂ、およびＲｃｃは、本明細書に定義されるとおりである。酸素保護基は、当該技術分野において周知であり、Protecting Groups in Organic Synthesis, T. W. Greene and P. G. M. Wuts, 3rd edition, John Wiley & Sons, 1999に詳細に記載されているものを包含し、これは参照によって本明細書に組み込まれる。
【００６４】
例示の酸素保護基は、これらに限定されないが、メチル、メトキシルメチル（ＭＯＭ）、メチルチオメチル（ＭＴＭ）、ｔ−ブチルチオメチル、（フェニルジメチルシリル）メトキシメチル（ＳＭＯＭ）、ベンジルオキシメチル（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル（ＰＭＢＭ）、（４−メトキシフェノキシ）メチル（ｐ−ＡＯＭ）、グアイアコールメチル（ＧＵＭ）、ｔ−ブトキシメチル、４−ペンテニルオキシメチル（ＰＯＭ）、シロキシメチル、２−メトキシエトキシメチル（ＭＥＭ）、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル（ＳＥＭＯＲ）、テトラヒドロピラニル（ＴＨＰ）、３−ブロモテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、１−メトキシシクロヘキシル、４−メトキシテトラヒドロピラニル（ＭＴＨＰ）、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルＳ，Ｓ−ジオキシド、１−［（２−クロロ−４−メチル）フェニル］−４−メトキシピペリジン−４−イル（ＣＴＭＰ）、１，４−ジオキサン−２−イル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イル、１−エトキシエチル、１−（２−クロロエトキシ）エチル、１−メチル−１−メトキシエチル、１−メチル−１−ベンジルオキシエチル、１−メチル−１−ベンジルオキシ−２−フルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、２−トリメチルシリルエチル、２−（フェニルセレニル）エチル、ｔ−ブチル、アリル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−メトキシフェニル、２，４−ジニトロフェニル、ベンジル（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル、３，４−ジメトキシベンジル、ｏ−ニトロベンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−ハロベンジル、２，６−ジクロロベンジル、ｐ−シアノベンジル、ｐ−フェニルベンジル、２−ピコリル、４−ピコリル、３−メチル−２−ピコリルＮ−オキシド、ジフェニルメチル、ｐ，ｐ’−ジニトロベンズヒドリル、５−ジベンゾスベリル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、ｐ−メトキシフェニルジフェニルメチル、ジ（ｐ−メトキシフェニル）フェニルメチル、トリ（ｐ−メトキシフェニル）メチル、４−（４’−ブロモフェナシルオキシフェニル）ジフェニルメチル、４，４’，４’’−トリス（４，５−ジクロロフタルイミドフェニル）メチル、４，４’，４’’−トリス（レブリノイルオキシフェニル）メチル、４，４’，４’’−トリス（ベンゾイルオキシフェニル）メチル、３−（イミダゾール−１−イル）ビス（４’，４’’−ジメトキシフェニル）メチル、１，１−ビス（４−メトキシフェニル）−１’−ピレニルメチル、９−アントリル、９−（９−フェニル）キサンテニル、９−（９−フェニル−１０−オキソ）アントリル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イル、ベンゾイソチアゾリルＳ，Ｓ−ジオキシド、トリメチルシリル（ＴＭＳ）、トリエチルシリル（ＴＥＳ）、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）、ジメチルイソプロピルシリル（ＩＰＤＭＳ）、ジエチルイソプロピルシリル（ＤＥＩＰＳ）、ジメチルｔヘキシ���シリル、ｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）、ｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）、トリベンジルシリル、トリ−ｐ−キシリルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニルメチルシリル（ＤＰＭＳ）、ｔ−ブチルメトキシフェニルシリル（ＴＢＭＰＳ）、蟻酸、蟻酸ベンゾイル、酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メトキシ酢酸、トリフェニルメトキシ酢酸、フェノキシ酢酸、ｐ−クロロフェノキシ酢酸、３−フェニルプロピオン酸、４−オキソペンタノアート（レブリナート）、４，４−（エチレンジチオ）ペンタノアート（レブリノイルジチオアセタール）、ピバロアート(pivaloate)、アダマントアート(adamantoate)、クロトン酸、４−メトキシクロトン酸、安息香酸、ｐ−フェニル安息香酸、２，４，６−トリメチル安息香酸（メシト酸）、メチルカーボネート、９−フルオレニルメチルカーボネート（Ｆｍｏｃ）、エチルカーボネート、２，２，２−トリクロロエチルカーボネート（Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エチルカーボネート（ＴＭＳＥＣ）、２−（フェニルスルホニル）エチルカーボネート（Ｐｓｅｃ）、２−（トリフェニルホスホニオ）エチルカーボネート（Ｐｅｏｃ）、イソブチルカーボネート、ビニルカーボネート、アリルカーボネート、ｔ−ブチルカーボナート（ＢＯＣまたはＢｏｃ）、ｐ−ニトロフェニルカーボネート、ベンジルカーボネート、ｐ−メトキシベンジルカーボネート、３，４−ジメトキシベンジルカーボネート、ｏ−ニトロベンジルカーボネート、ｐ−ニトロベンジルカーボネート、Ｓ−ベンジルチオカーボネート、４−エトキシ−１−ナフトチル(napththyl)カーボネート、メチルジチオカーボネート、２−ヨード安息香酸、４−アジドブチレート、４−ニトロ−４−メチルペンタノアート、ｏ−（ジブロモメチル）安息香酸、２−ホルミルベンゼンスルホン酸、２−（メチルチオメトキシ）エチル、４−（メチルチオメトキシ）酪酸、２−（メチルチオメトキシメチル）安息香酸、２，６−ジクロロ−４−メチルフェノキシ酢酸、２，６−ジクロロ−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノキシ酢酸、２，４−ビス（１，１−ジメチルプロピル）フェノキシ酢酸、クロロジフェニル酢酸、イソ酪酸、モノスクシノアート(monosuccinoate)、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテン酸、ｏ−（メトキシアシル）安息香酸、α−ナフトエ酸、硝酸、アルキルΝ，Ν，Ν’，Ν’−テトラメチルホスホロジアミダート、アルキルＮ−フェニルカルバマート、ホウ酸、ジメチルホスフィノチオイル、アルキル２，４−ジニトロフェニルスルフェン酸、硫酸、メタンスルホン酸（メシレート）、ベンジルスルホン酸、およびトシル酸（Ｔｓ）を包含する。ある態様において、酸素保護基は、シリルである。ある態様において、酸素保護基は、ｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）、ｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）、トリイソプロイルシリル（ＴＩＰＳ）、トリフェニルシリル（ＴＰＳ）、トリエチルシリル（ＴＥＳ）、トリメチルシリル（ＴＭＳ）、トリイソプロピルシロキシメチル（ＴＯＭ）、アセチル（Ａｃ）、ベンゾイル（Ｂｚ）、アリルカーボナート、２，２，２−トリクロロエチルカーボナート（Ｔｒｏｃ）、２−トリメチルシリルエチルカーボナート、メトキシメチル（ＭＯＭ）、１−エトキシエチル（ＥＥ）、２−メトキシ−２−プロピル（ＭＯＰ）、２，２，２−トリクロロエトキシエチル、２−メトキシエトキシメチル（ＭＥＭ）、２−トリメチルシリルエトキシメチル（ＳＥＭ）、メチルチオメチル（ＭＴＭ）、テトラヒドロピラニル（ＴＨＰ）、テトラヒドロフラニル（ＴＨＦ）、ｐ−メトキシフェニル（ＰＭＰ）、トリフェニルメチル（Ｔｒ）、メトキシトリチル（ＭＭＴ）、ジメトキシトリチル（ＤＭＴ）、アリル、ｐ−メトキシベンジル（ＰＭＢ、ＭＰＭ）、ｔ−ブチル、ベンジル（Ｂｎ）、アリル、またはピバロイル（Ｐｉｖ）である。
【００６５】
ある態様において、硫黄原子上に存在する置換基は、硫黄保護基（また「チオール保護基」とも称される）である。硫黄保護基は、これらに限定されないが、−Ｒａａ、−Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＣＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｓｉ（Ｒａａ）３、−Ｐ（Ｒｃｃ）２、−Ｐ（Ｒｃｃ）３＋Ｘ−、−Ｐ（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（ＯＲｃｃ）３＋Ｘ−、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、および−Ｐ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２を包含し、ここでＲａａ、Ｒｂｂ、およびＲｃｃは、本明細書に定義されるとおりである。硫黄保護基は、当該技術分野において周知であり、Protecting Groups in Organic Synthesis, T. W. Greene and P. G. M. Wuts, 3rd edition, John Wiley & Sons, 1999に詳細に記載されているものを包含し、これは参照によって本明細書に組み込まれる。ある態様において、硫黄保護基は、アセトアミドメチル、ｔ−ブチル、３−ニトロ−２−ピリジンスルフェニル、２−ピリジン−スルフェニル、またはトリフェニルメチルである。
【００６６】
「対イオン」または「アニオン性の対イオン」は、電子的中性を維持するために、正に荷電した基へ付着された、負に荷電した基である。アニオン性対イオンは、一価であってもよい（すなわち、１つの形式的な負電荷を包含する）。アニオン性の対イオンはまた、二価または三価などの、多価であってもよい（すなわち、１より多くの形式的な負電荷を包含する）。例示の対イオンは、ハロゲン化物イオン（例として、Ｆ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−）、ＮＯ３−、ＣｌＯ４−、ＯＨ−、Ｈ２ＰＯ４−、ＨＣＯ３−、ＨＳＯ４−、スルホン酸イオン（例として、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、１０−カンファースルホン酸、ナフタレン−２−スルホン酸、ナフタレン−１−スルホン酸−５−スルホン酸、エタン−１−スルホン酸−２−スルホン酸等）、カルボン酸イオン（例として、酢酸、プロパン酸、安息香酸、グリセリン酸、乳酸、酒石酸、グリコール酸、グルコン酸等）、ＢＦ４−、ＰＦ４−、ＰＦ６−、ＡｓＦ６−、ＳｂＦ６−、Ｂ［３，５−（ＣＦ３）２Ｃ６Ｈ３］４］−、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−、ＢＰｈ４−、Ａｌ（ＯＣ（ＣＦ３）３）４−、およびカルボランアニオン（例として、ＣＢ１１Ｈ１２−または（ＨＣＢ１１Ｍｅ５Ｂｒ６）−）を包含する。多価であってもよい例示の対イオンは、ＣＯ３２−、ＨＰＯ４２−、ＰＯ４３−、Ｂ４Ｏ７２−、ＳＯ４２−、Ｓ２Ｏ３２−、カルボン酸アニオン（例として、酒石酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、リンゴ酸、マロン酸、グルコン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、サリチル酸、フタル酸、アスパラギン酸、グルタミン酸等）、およびカルボランを包含する。
【００６７】
用語「脱離基」は、合成有機化学の技術分野におけるその通常の(ordinary)意味が与えられ、求核試薬によって取って換えられることが可能な原子または基を指す。例えば、Smith, March Advanced Organic Chemistry 6th ed.（501-502)を参照。好適な脱離基の例は、これらに限定されないが、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、またはＩ（ヨウ素）など）、アルコキシカルボニルオキシ、アリールオキシカルボニルオキシ、アルカンスルホニルオキシ、アレーンスルホニルオキシ、アルキルカルボニルオキシ（例として、アセトキシ）、アリールカルボニルオキシ、アリールオキシ、メトキシ、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミノ、ピクシル(pixyl)、およびハロホルマートを包含する。いくつかのケースにおいて、脱離基は、トルエンスルホナート（トシラート、−ＯＴｓ）、メタンスルホナート（メシラート、−ＯＭｓ）、ｐ−ブロモベンゼンスルホニルオキシ（ブロシラート、−ＯＢｓ）、−ＯＳ（＝Ｏ）２（ＣＦ２）３ＣＦ３（ノナフラート、−ＯＮｆ）、またはトリフルオロメタンスルホナート（トリフラート、−ＯＴｆ）などのスルホン酸エステルである。いくつかのケースにおいて、脱離基は、ｐ−ブロモベンゼンスルホニルオキシなどのブロシラートである。いくつかのケースにおいて、脱離基は、２−ニトロベンゼンスルホニルオキシなどのノシラートである。脱離基はまた、ホスフィンオキシド（例として、光延(Mitsunobu)反応の間に形成される）であってもよく、またはエポキシドもしくは環式スルファートなどの内部脱離基であってもよい。脱離基の他の非限定例は、水、アンモニア、アルコール、エーテル部分、チオエーテル部分、ハロゲン化亜鉛、マグネシウム部分、ジアゾニウム塩、および銅部分である。さらなる例示の脱離基は、これらに限定されないが、ハロ（例として、クロロ、ブロモ、ヨード）および活性化された置換ヒドロキシル基（例として、−ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＣＯ２Ｒａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＳ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＳＯ２Ｒａａ、−ＯＰ（Ｒｃｃ）２、−ＯＰ（Ｒｃｃ）３、−ＯＰ（＝Ｏ）２Ｒａａ、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、および−ＯＰ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２、ここでＲａａ、Ｒｂｂ、およびＲｃｃは、本明細書に定義されるとおりである）を包含する。
【００６８】
本明細書に使用されるとき、句「少なくとも１つの存在(instance)」の使用は、１つ、２つ、３つ、４つ、またはそれ以上の存在を指すが、また例として、ある範囲、例えば、１つから４つまで、１つから３つまで、１つから２つまで、２つから４つまで、２つから３つまで、または３つから４つまでの存在（両端含む）も網羅する。
【００６９】
「非水素基」は、水素ではない具体的に可変するものについて定義されるいずれの基をも指す。
【００７０】
以下の定義は、本出願全体を通して使用される、より一般の用語である。
【００７１】
本明細書に使用されるとき、用語「塩」は、ありとあらゆる塩を指し、薬学的に許容し得る塩を網羅する。用語「薬学的に許容し得る塩」は、正しい医学的判断の範囲内において、ヒトおよび下等動物の組織との接触における使用にとって好適であって、過度の毒性、刺激、アレルギー反応等がなく、および合理的なベネフィット／リスク(benefit/risk)比に相応する塩を指す。薬学的に許容し得る塩は、当該技術分野において周知である。例として、Bergeらは、J.Pharmaceutical Sciences（1977）66:1-19（参照により本明細書に組み込まれる）において、薬学的に許容し得る塩を詳細に記載する。本発明の化合物の薬学的に許容し得る塩は、好適な無機および有機の酸ならびに塩基に由来するものを包含する。薬理的に許容し得る、非毒性の酸付加塩の例は、無機酸（塩酸、臭化水素酸、リン酸、硫酸、および過塩素酸など）とともに、または有機酸（酢酸、シュウ酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸、コハク酸、もしくはマロン酸など）とともに形成されるアミノ基の塩、あるいは当該技術分野において知られている他の方法（イオン交換など）を使用することによって形成されるアミノ基の塩である。他の薬学的に許容し得る塩は、アジピン酸塩、アルギン酸塩、アスコルビン酸塩、アスパラギン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、安息香酸塩、重硫酸塩、ホウ酸塩、酪酸塩、樟脳酸(camphorate)、カンファースルホン酸塩、クエン酸塩、シクロペンタンプロピオン酸塩、二グルコン酸塩、ドデシル硫酸塩、エタンスルホン酸塩、蟻酸塩、フマル酸塩、グルコヘプトン酸塩、グリセロリン酸塩、グルコン酸塩、ヘミ硫酸塩、ヘプタン酸塩、ヘキサン酸塩、ヨウ化水素塩、２−ヒドロキシ−エタンスルホン酸塩、ラクトビオン酸塩、乳酸塩、ラウリン酸塩、ラウリル硫酸塩、リンゴ酸塩、マレイン酸塩、マロン酸塩、メタンスルホン酸塩、２−ナフタレンスルホン酸塩、ニコチン酸塩、硝酸塩、オレイン酸塩、シュウ酸塩、パルミチン酸塩、パモ酸塩、ペクチニン酸塩、過硫酸塩、３−フェニルプロピオン酸塩、リン酸塩、ピクリン酸塩、ピバル酸塩、プロピオン酸塩、ステアリン酸塩、コハク酸塩、硫酸塩、酒石酸塩、チオシアン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、ウンデカン酸塩、吉草酸塩等を包含する。適切な塩基に由来する塩は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、およびＮ＋（Ｃ１〜４アルキル）４塩を包含する。代表的なアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩は、ナトリウム、リチウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム等を包含する。さらに薬学的に許容し得る塩は、適切な場合、ハロゲン化物、水酸化物、カルボキシラート、スルファート、ホスファート、ニトラート、低級アルキルスルホナート、およびアリールスルホナートなどの対イオンを使用して形成される、非毒性アンモニウム、四級アンモニウム、およびアミンカチオンを包含する。
【００７２】
同じ分子式を有するが、それら原子の結合の性質もしくは配列の点でまたはそれら原子の空間配置の点で異なる化合物が「異性体」と名付けられることもまた、理解されるべきである。それら原子の空間配置の点で異なる異性体は、「立体異性体」と名付けられる。
【００７３】
相互に鏡像ではない立体異性体は、「ジアステレオマー」と名付けられ、互いに重ね合わせることができない鏡像のそれらは、「鏡像異性体」と名付けられる。化合物が不斉中心を有するとき、例えば、化合物が４つの異なる基へ結合されているとき、対の鏡像異性体があり得る。鏡像異性体は、その不斉中心の絶対立体配置によって特徴付けられ得、CahnおよびPrelogのＲ−およびＳ−順序付け規則によって記載されるか、または分子が平面偏光を回転させるやり方によって記載され、右旋性もしくは左旋性と指定される（すなわち、夫々（＋）もしくは（−）−異性体）。キラル化合物は、個々の鏡像異性体またはそれらの混合物のいずれかとして存在し得る。鏡像異性体を等しい割合で含有する混合物は、「ラセミ混合物」と呼ばれる。
【００７４】
用語「小分子」は、相対的に低分子量を有する、天然に存在するかまたは人工的に（例として、化学合成を介して）創出された分子を指す。典型的には、小分子は、有機化合物である（すなわち、これは炭素を含有する）。小分子は、複数の炭素−炭素結合、立体中心、および他の官能基（例として、アミン、ヒドロキシル、カルボニル、および複素環式の環等々）を含有していてもよい。ある態様において、小分子の分子量は、約１，０００ｇ／ｍｏｌ以下、約９００ｇ／ｍｏｌ以下、約８００ｇ／ｍｏｌ以下、約７００ｇ／ｍｏｌ以下、約６００ｇ／ｍｏｌ以下、約５００ｇ／ｍｏｌ以下、約４００ｇ／ｍｏｌ以下、約３００ｇ／ｍｏｌ以下、約２００ｇ／ｍｏｌ以下、または約１００ｇ／ｍｏｌ以下である。ある態様において、小分子の分子量は、少なくとも約１００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約２００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約３００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約４００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約５００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約６００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約７００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約８００ｇ／ｍｏｌ、または少なくとも約９００ｇ／ｍｏｌ、または少なくとも約１，０００ｇ／ｍｏｌである。上の範囲の組み合わせ（例として、少なくとも約２００ｇ／ｍｏｌかつ約５００ｇ／ｍｏｌ以下）もまた、取り得るものである。ある態様において、小分子は、薬物（例として、連邦規則集（Ｃ．Ｆ．Ｒ．）に規定されるとおり米国食品医薬品局によって承認された分子）などの治療活性剤(therapeutically active agent)である。
【００７５】
用語「触媒作用」、「触媒する」、または「触媒の」は、「触媒」と呼ばれる物質が加わることに起因する化学反応の速度増大を指す。ある態様において、触媒の量および性質は、反応の間に本質的に変化しないままである。ある態様において、触媒は再生されるか、または触媒の性質は反応後、本質的に復元される。触媒は、複数の化学転換に加わってもよい。触媒の効果は、インヒビターもしくは毒物（触媒活性を低減させる）またはプロモーター（その活性を増大させる）として知られている他の物質の存在に起因して変動してもよい。触媒反応は、対応する非触媒反応より低い活性化エネルギー（活性化の律速自由エネルギー）を有し、同じ温度にてより高い反応速度をもたらす。触媒は、反応環境に好ましい影響を及ぼしてもよく、結合を分極させる(polarize)試薬へ結合してもよく、非触媒反応によって典型的には産生されない特定の中間体を形成してもよく、試薬の解離を引き起こして反応型にさせてもよい。
【００７６】
用語「溶媒」は、１以上の溶質を溶解し、溶液をもたらす物質を指す。溶媒は、本明細書に記載のいずれの反応または転換のための媒体として働くものであってもよい。溶媒は、１以上の反応物または試薬を反応混合物に溶解させるものであってもよい。溶媒は、反応混合物中の１以上の試薬または反応物の混合を容易にするものであってもよい。溶媒はまた、異なる溶媒中の反応と比べて、反応速度を増大または減少させるよう働くものであってもよい。溶媒は、極性または非極性、プロトン性または非プロトン性であり得る。本明細書に記載の方法において有用な一般的な有機溶媒は、これらに限定されないが、アセトン、アセトニトリル、ベンゼン、ベンゾニトリル、１−ブタノール、２−ブタノン、酢酸ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、二硫化炭素、四塩化炭素、クロロベンゼン、１−クロロブタン、クロロホルム、シクロヘキサン、シクロペンタン、１，２−ジクロロベンゼン、１，２−ジクロロエタン、ジクロロメタン（ＤＣＭ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、１，３−ジメチル−３，４，５，６−テトラヒドロ−２−ピリミジノン（ＤＭＰＵ）、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキサン、ジエチルエーテル、２−エトキシエチルエーテル、酢酸エチル、エチルアルコール、エチレングリコール、ジメチルエーテル、ヘプタン、ｎ−ヘキサン、ヘキサン、ヘキサメチルホスホルアミド（ＨＭＰＡ）、２−メトキシエタノール、２−メトキシ酢酸エチル、メチルアルコール、２−メチルブタン、４−メチル−２−ペンタノン、２−メチル−１−プロパノール、２−メチル−２−プロパノール、１−メチル−２−ピロリジノン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ニトロメタン、１−オクタノール、ペンタン、３−ペンタノン、１−プロパノール、２−プロパノール、ピリジン、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン、トルエン、トリクロロベンゼン、１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン、２，２，４−トリメチルペンタン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ジイソプロピルアミン、水、ｏ−キシレン、およびｐ−キシレンを包含する。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
図面の簡単な記載
本明細書の一部を構成する添付の図面は、本発明の数種の態様を説明するものであり、本記載とともに本発明の原理を解釈するのに役立つ。
【００７８】
【図１】図1は、ハリコンドリンＡ、Ｂ、およびＣ；ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、およびＣ；ならびにノルハリコンドリンＡ、Ｂ、およびＣの構造を示す。
【００７９】
【図２Ａ−Ｃ】図2Aは、Ni/Zr媒介ケトール化の例を示す。図2Bは、Ni触媒によるケトンのカップリングの例を示す。図2Cは、Ni媒介ワンポット(one-pot)ケトンのカップリングの3つのバリエーションの下での実現可能性の研究を示す。
【００８０】
【図３Ａ−Ｂ】図3Aは、本明細書に提供されるNi/Zr媒介ケトール化のための触媒回路案を示す。図3Bは、一般的なラジカルプローブとの例示カップリングを示す。
【００８１】
【図４】図4は、α-ORおよび他の官能基を担持する求核試薬とのワンポットケトンカップリングを示す。反応条件：1-5（1.0 equiv.）、1-7（1.2 equiv.）、NiBr2・（dtbbpy）（5 mol%）．
【００８２】
【図５Ａ】図5Aは、Ni/Zrケトール化反応の例を示す。
【図５Ｂ】図5Bは、さらなる例を示す。
【００８３】
【図５Ｃ−Ｄ】図5Cは、ニッケル配位子スクリーニング実験の結果を示す。図5Dは、NiBr2、NiCl2、およびNiI2の比較実験を示す。
【図５Ｅ】図5Eは、溶媒スクリーニング実験の結果を示す。
【図５Ｆ−Ｇ】図5Fは、共溶媒スクリーニング実験の結果を示す。図5Gは、添加剤スクリーニング実験を示す。
【図５Ｈ−Ｊ】図5Hは、ジルコニウム当量のスクリーニングを示す。図5Iは、様々な求電子試薬を用いた研究を示す。図5Jは、還元試薬スクリーニング実験を示す。
【図５Ｋ−Ｌ】図5Kは、濃度研究を示す。図5Lは、基質比率実験を示す。
【００８４】
【図６】図6は、ハリコンドリンおよびそれらの類似体への見込みのある(potential)ルートを示す。
【００８５】
【図７】図7は、ハリコンドリン類似体の合成へ適用される本明細書に提供されるNi/Zrケトール化を示す。試薬および条件：（a）5:1 DMI-EtOAc（C 0.1 M）中、2-5（1.0 equiv.）、2-6（1.3 equiv.）、NiBr2・（dtbbpy）（30 mol％）、Cp2ZrCl2（3 equiv.）、(t-Bu)2(Me)Py（4 equiv.）、Zn（6 equiv.）、rt。（b）HF・Py（20 equiv.）、THF、これに続きTBAF（4 equiv.）、ピバル酸（2 equiv.）、DMF、rt。（c）PPTS（5 equiv.）、CH2Cl2、〜20℃、2hr。略語：TES＝Et3Si-；SPy-2：2-チオピリジン；DMI：1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン；TBAF：フッ化テトラブチルアンモニウム；PPTS：p-トルエンスルホン酸ピリジニウム。
【００８６】
【図８Ａ−Ｂ】図8Aは、ハリコンドリン、ホモハリコンドリン、およびノルハリコンドリンの、例示の右半分および左半分を示す。図8Bは、ハリコンドリンの例示合成を示す。試薬および条件：すべてのケースについて、ステップ#1は、スキーム３において特定された条件下でのケトンカップリングであった；ステップ#2は、TBAF（10 equiv.）、ピバル酸（5 equiv.）、DMF、rt、3〜8hrであった；ステップ#3は、PPTS、CH2Cl2、〜20℃、2〜4時間であった。C38-エピ-ハリコンドリンのエピマー化は、TMSOTf、CH2Cl2、−78℃を用いてなされた。ハリコンドリン-Ａまたは-Ｃ系について、それらのステップの後に夫々、PPTS、2,2-ジメチルプロパン-1,3-ジオール、i-PrOH、rt、終夜が、またはPd(PPh3)4、ジメドン、CH2Cl2、rt、4〜8時間が続いた。ノルハリコンドリン系において、転換の終了時に、メチルエステルがC53にて、aq. LiOH、THF、rtでの処置によって加水分解された。iおよびiiの後の数字は夫々、ケトンカップリングの収率およびケトンカップリング後の全収率を示す。
【００８７】
【図９Ａ−Ｂ】図9Aは、C27〜C37構成ブロックの例示合成を示す。試薬および条件：a.1．LiBH4、Et2O、0℃（〜100％）。2．TES-Cl、イミダゾール、CH2Cl2、rt（〜100％）。3．スワーン酸化（例として、Rodriguez, A.; Nomen, M.; Spur, B.W.; Godfroid, J.J. Tetrahedron Lett. 1999, 40, 5161を参照）；b.1．（S）-4-Eから調製されたCr触媒（10 mol％）、(Me)2Phen-(OMe)2・NiCl2（2 mol％）、LiCl（2 equiv.）、Mn（過剰）、Cp2ZrCl2（1.1 equiv.）、2,6-ルチジン（1 equiv.）、MeCN（C 0.4 M）、rt、1時間（93％、2ステップ分；dr＝19:1）。2．MPMO(=NH)CCl3、La(OTf)3、トルエン、rt、6時間。3．p-TsOH（cat.）、MeOH-CH2Cl2、rt、4時間（88％、2ステップ分）。c.1．K3PO4（1 equiv.）、18-クラウン-6（3 equiv.）、トルエン（79％）。2．DIBAL、CH2Cl2、−78℃、1.5時間（94％）。略語：18-クラウン-6＝1,4,7,10,13,16-ヘキサ-オキサシクロオクタデセン；DIBAL＝水素化ジイソブチルアルミニウム；p-TsOH＝p-トルエンスルホン酸。図9Bは、本明細書に提供されるNi/Crカップリング反応において有用な例示のスルホンアミド配位子およびニッケル錯体を示す。
【００８８】
【図１０Ａ−Ｂ】図10Aは、C20〜C37構成ブロックの例示合成を示す。試薬および条件：a.1．(R)-4-Fから調製されたCr触媒（10 mol％）、(Et)2Phen・NiCl2（2 mol％）、LiCl（2 equiv.）、Mn（過剰）、Cp2ZrCl2（1 equiv.）、MeCN（C 0.3 M）、rt、3時間。2．TBAF（2 equiv.）、AcOH（0.6 equiv.）、THF、0℃→rt（79％、2ステップ分）。3．TES-H（10 equiv.）、TEOTf（5 equiv.）、CH2Cl2、0℃、3時間（87％）。4．2,2-ジメトキシプロパン（3 equiv.）、アセトン、0℃→rt。b．DIBAL、CH2Cl2、−78℃、1.5時間（89％、2ステップ分）。略語：MPM＝p-MeOC6H4CH2-；TES＝Et3Si-。図10Bは、還元的環化：望ましい系および望ましくない系の立体化学的経路の分析を示す。
【００８９】
【図１１】図11は、ハリコンドリンＢ系中のC1〜C37構成ブロックの例示合成を示す。試薬および条件：a.1．（S）-4-Gから調製されたCr触媒（10 mol％）、(Et)2Phen・NiCl2（2 mol％）、LiCl（2 equiv.）、Mn（過剰）、ZrCp2Cl2（2.5 equiv.）、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチリジン(methyridine)（2.5 equiv.）、MeCN（C 0.x M）、rt、2時間。2．K2CO3（10 equiv.）、60℃、16hr、次いでH2O（MeOHの1/10体積）を加え、60℃、3時間。b．2-メチル-6-ニトロ安息香酸無水物（6 equiv.）、4-ジメチルアミノピリジン（12 equiv.）、i-Pr2NEt（6 equiv.）、トルエン、70℃（シリンジポンプ；73％、3ステップ分）。c.1．p-TsOH、MeOH、rt、1時間。2．Tf2O（1.2 equiv.）、2,6-ルチジン（5 equiv.）、CH2Cl2、−78℃、15min、これに続きTESOTf（1.5 equiv.）の添加、−78℃→0℃、次いでDMF中NaI（5 equiv.）の添加、rt、2.5時間が続く（94％、ステップ（複数）分）。略語：TES＝Et3Si-；p-TsOH＝p-トルエンスルホン酸。
【００９０】
【図１２】図12は、4-10-BのC35/C37-ジオールのＸ線構造を示す。
【００９１】
【図１３】図13は、ハリコンドリンＡ系中のC1〜C37構成ブロックの例示合成を示す。試薬および条件：a.1．Ac2O、py、rt。2．CSA、CH2Cl2-MeOH、rt。3．TBSOTf、2,6-ルチジン、CH2Cl2、−78℃、1時間（92％、3ステップ分）。4．DIBAL、CH2Cl2、−78℃、1時間（88％）。(Me)6PhenNiCl2（2 mol％）がNi/Cr媒介カップリングのために使用されたことを除いて、図11において定義された条件下での合成順序に続く。ビス-TBS-4-8から4-12-Aまでの全収率は40.8％であったが、これはハリコンドリンＢ系における全収率と比較して良好であった。略語：TBS＝tBuMe2Si-；CSA＝カンファースルホン酸。
【００９２】
【図１４Ａ−Ｂ】図14Aは、ハリコンドリンＣ系中のC1〜C37構成ブロックの例示合成を示す。試薬および条件：a．図11において定義された条件下での合成順序に続く。4-8から4-12-Cまでの全収率は54.2％であったが、これはハリコンドリンＢ系における全収率と比較して良好であった。図14Bは、産物のX線構造を示す。
【００９３】
【図１５】図15は、立体制御された[6,6]-スピロケタールの例示合成を示す。略語：MPM＝p-MeOC6H4CH2-。
【００９４】
【図１６】図16は、ハリコンドリン類似体の左半分の例示合成を示す。試薬および条件：a.1．TBSOTf（2.5 equiv.）、Et3N（5 equiv.）、CH2Cl2、0℃〜rt、3時間。2．NH4Cl aq.、EtOAc、THF、50℃、3時間（100％、2ステップ分）。b.1．DIBAL（1.3 equiv.）、CH2Cl2、−78℃、40分。2．MePPh3Br（4 equiv.）、t-BuOK（3 equiv.）、THF、0℃〜rt、1.5時間（96％、２ステップ分）。3．9-BBN（2.5 eq.）、THF、rt、1.5時間、次いでNaBO3・H2O aq。4．TEMPO（10 mol％）、PhI(OAc)2（3 equiv.）、NaHCO3（10 equiv.）、4℃、15時間（97％、2ステップ分）。c．5（1.4 equiv.）、t-BuLi(2.6 equiv.）、THF、−78℃、15min（90％）。d.1．OsO4（10 mol％）、NMMO（2 equiv.）、H2O、アセトン、rt、21時間。2．Pb(OAc)4（1.2 equiv.）、K2CO3（3 equiv.）、CH2Cl2、rt、1時間（83％、2ステップ分）。3．(MeO)2P(=O)CH2CO2Bn（4 equiv.）、K3PO4（3 equiv.）、rt、23時間。e．LiBr（10 equiv.）、DBU（5 equiv.）、BnOAc（10 equiv.）、MeCN、rt、12hr、2．DDQ（2 equiv.）、CH2Cl2、緩衝液(buffer)（pH 7）、rt、40min（75％、3ステップ分）。3．TESCl（2 equiv.）、イミダゾール（4 equiv.）、CH2Cl2、rt、16時間。4．H2（1 atm）、Pd/C、EtOAc、rt、45min、5．(PyS)2（1.4 equiv.）、PPh3（1.2 equiv.）、CH2Cl2、rt、17hr（96％、３ステップ分）。略語：DIBAL＝水素化ジイソブチルアルミニウム；9-BBN＝9-ボラビシクロノナン；TEMPO＝2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシ；NMMOまたはNMO＝4-メチルモルホリンN-オキシド；DBU＝1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-ウンデカ-7-エン；DDQ＝2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-p-ベンゾキノン。
【００９５】
【図１７】図17は、ハリコンドリンの左方構成ブロックの例示合成を示す。試薬および条件：a．10（1.8 equiv.）、n-BuLi（1.75 equiv.）、Li（チエニルCuCN）（2.0 equiv.）、BF3・Et2O（1.6 equiv.）、Et2O、−78℃、1時間（81％）。b.1．VO(TMHD)2（5 mol％）、tBuOOH（デカン中5.5 M、2 equiv.）、トルエン、rt、5時間。2．TESCl（2.0 equiv.）、イミダゾール（4.0 equiv.）、CH2Cl2、0℃、2hr（85％、2ステップ分）。c．t-BuLi（2.6 equiv.）、THF、−78℃、0.5時間（85％）。d.1．(PhO)2P(=O)OH（5 mol％）、トルエン（0.05M）、0℃〜rt、12時間。2．TESCl（3.0 equiv.）、イミダゾール（6.0 equiv.）、CH2Cl2、rt、2時間（85％、2ステップ分）。e.1．OsO4（5 mol％）、NMMO（2.0 equiv.）、アセトン/H2O、rt、12時間。2．Pb(OAc)4（1.5 equiv.）、K2CO3（10 equiv.）、CH2Cl2、rt、10分。3．(MeO)2P(=O)COOBn（4 equiv.）、K3PO4（8 equiv.）、トルエン、rt、15時間（82％、3ステップ分）。4．(PhO)2P(=O)OH（5 mol％）、THF-H2O（4:1、0.02M）、rt、24時間。5．TBSCl（1.5 equiv.）、イミダゾール（3.0 equiv.）、CH2Cl2、rt、2時間（80％、2ステップ分）。f．BnOAc（1 equiv.）、およびLiCl（10 equiv.）、DBU（20 equiv.）、MeCN（0.05M）、24hr（8％ 18と併せて86％）。またはBnOAc（1 equiv.）、およびLiCl（10 equiv.）、DBU（20 equiv.）、M（50 mol％）、MeCN（0.05M）、2時間；次いでBnOAc（1 equiv.）、およびLiCl（10 equiv.）、DBU（20 equiv.）、MeCN（0.05M）、24時間（93％）。g.1．DDQ（1.6 equiv.）、CH2Cl2、リン酸緩衝液、0℃、0.5時間。2．TESCl（3 equiv.）、イミダゾール（6 equiv.）、CH2Cl2、rt、2時間（90％、2ステップ分）。3．Pd/C、H2バルーン、EtOAc、rt、1時間。4．(PyS)2（1.4 equiv.）、PPh3（1.3 equiv.）、トルエン、rt、3hr（91％、2ステップ分）。略語：TMHD＝トリス（2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオナート）。
【００９６】
【図１８】図18は、ホモハリコンドリン系中の左半分構成ブロックの例示合成を示す。試薬および条件：a.1．DIBAL（1.3 equiv.）、CH2Cl2、−78℃、15min。2．MePPh3Br（4 equiv.）、t-BuOK（3 equiv.）、THF、0℃〜rt、20分。3．TBSOTf（1.3 equiv.）、2,6-ルチジン（2 equiv.）、CH2Cl2、0℃〜rt、1時間。4．HF・py（ca. 8 equiv.）、ピリジン、MeCN、−10℃〜rt、1.5時間（96％、4ステップ分）。b.1．Tf2O（1.2 equiv.）、2,6-ルチジン（4 equiv.）、CH2Cl2、−78℃、10分。2．NaCN（10 equiv.）、DMSO、rt、1時間。3．TBSCl（3 equiv.）、ピリジン（8 equiv.）、AgNO3（3 equiv.）、DMF、0℃〜rt、18時間（87％、3ステップ分）。c.1．DIBAL（1.1 equiv.）、CH2Cl2、ヘキサン、−78℃、30分。2．(CF3CH2O)2P(O)CH2CO2Me（1.5 equiv.）、18-クラウン-6（8 equiv.）、KHMDS（1.5 equiv.）、THF、−78℃、30分（84％、2ステップ分）。3．DIBAL（4 equiv.）、THF、−78℃〜0℃、30分（99％）。d.1．(+)-DET（20 mol％）、Ti(OPr-i)4（15 mol％）、TBHP（1.5 equiv.）、MS 4A、CH2Cl2、−10℃、15時間（望ましい異性体は86％、望ましくない異性体は11％）。2．TBAF（6 equiv.）、MS 4Å、THF（96％）。e.1．TBSCl（1.5 equiv.）、Et3N（4 equiv.）、CH2Cl2、rt、5時間（99％）。2．TESCl（1.2 equiv.）、イミダゾール（3 euiv.）、CH2Cl2、0℃〜rt、15分。3．9-BBN（3 equiv.）、THF、0℃〜rt、1時間、次いでNaBO3・H2O aq.（94％、2ステップ分）。4．TEMPO（20 mol％）、PhI(OAc)2（3 equiv.）、CH2Cl2、rt、36時間（95％）。f.1．5（1.3 equiv.）、t-BuLi（2.5 equiv.）、THF、−78℃、30分。2．OsO4（10 mol％）、NMMO（2 equiv.）、H2O、アセトン、rt、4時間。3．Pb(OAc)4（1.5 equiv.）、K2CO3（10 equiv.）、CH2Cl2、rt、15分（68％、3ステップ分）。4．(MeO)2P(=O)CH2CO2Bn（5 equiv.）、NaH（4 equiv.）、THF、0℃、3時間（88％）。g.1．LiBr（10 equiv.）、DBU（20 equiv.）、MeCN、rt、11時間（70％）。h．DDQ（3 equiv.）、CH2Cl2、t-BuOH、緩衝液（pH 7）、rt、15分（86％）。2．TESCl（1.5 equiv.）、イミダゾール（3 equiv.）、CH2Cl2、rt、4hr（97％）。3．H2（1 atm）、Pd/C、AcOEt、rt、2時間（89％）。4．(PyS)2（1.2 equiv.）、PPh3（3 equiv.）、トルエン、rt、12時間（97％）。略語：18-クラウン-6＝1,4,7,10,13,16-ヘキサ-オキサシクロオクタデセン；KHMDS＝カリウムビス（トリメチルシリル）アミド；9-BBN＝9-ボラビシクロノナン；DET＝酒石酸ジエチル；TBHP＝tert-ブチルヒドロペルオキシド；MS＝モレキュラーシーブ(molecular sieves)；TBAF＝フッ化テトラブチルアンモニウム。
【００９７】
【図１９】図19は、ノルハリコンドリン系中の左方C38〜C53構成ブロックの例示合成を示す。試薬および条件：a.1．Tf2O（1.2 equiv.）、2,6-ルチジン（4 equiv.）、CH2Cl2、−78℃、10分。2．NaCN（10 equiv.）、DMSO、rt、1時間（87％、2ステップ分）。3．DIBAL（4.5 equiv.）、CH2Cl2、−78℃、30分。4．NaBH4（5 equiv）、MeOH、rt、30分。5．TBSOTf（3 equiv.）、2,6-ルチジン（3.5 equiv.）、CH2Cl2、rt、30分（90％、3ステップ分）。6．9-BBN（2 equiv.）、THF、rt、2時間、次いでNaOH、H2O2、H2O、rt、3hr（91％）。7．TEMPO（0.5 equiv.）、PhI(OAc)2（5.0 equiv.）、CH3CN、H2O、THF、rt、12時間（90％）。8．p-TsOH・H2O（1.0 equiv.）、H2O（10 equiv.）、CH2Cl2、rt、24時間。9．TESOTf（10 equiv）、2,6-ルチジン（12 equiv.）、CH2Cl2、rt、1時間（76％、2ステップ分）。b.1．5、t-BuLi（2.2 equiv.）、トルエン、Et2O、−78℃、10分（82％）。2．OsO4（5 mol％）、NMMO（2 equiv.）、H2O、アセトン、rt、12時間。3．Pb(OAc)4（2 equiv.）、K2CO3（10 equiv.）、rt、30分（86％、2ステップ分）。4．(MeO)2P(=O)CH2CO2Bn（4 equiv.）、K3PO4（3 equiv.）、rt、36時間（93％）。c．LiBr（10 equiv.）、DBU（5 equiv.）、BnOAc（2 equiv.）、CH3CN、rt、12時間（82％）。d.1．TBAF（1.5 equiv.）、HOAc（1.0 equiv.）、THF、0℃、5時間（81％）。2．デス・マーチン・ペルヨージナン（2.0 equiv.）、NaHCO3（10 equiv.）、CH2Cl2、rt、30min。3．NaClO2（3 equiv.）、NaH2PO4（4 equiv.）、2-メチル-2-ブテン、t-BuOH、H2O、rt、30分。4．TMSCH2N2（3.0 equiv.）、ベンゼン、MeOH、rt、5分（87％、3ステップ分）。e.1．DDQ（2.0 equiv.）、CH2Cl2、水性緩衝液（pH7）、rt、1時間。2．TESOTf（2.0 equiv.）、2,6-ルチジン（2.5 equiv.）、CH2Cl2、rt、30分（83％、2ステップ分）。f.1．Pd/C（10 wt％）、H2、EtOAc、rt、3時間。2．(SPy)2（1.4 equiv.）、PPh3（1.2 equiv.）、トルエン、rt、12時間（88％、2ステップ分）。略語：p-TsOH＝p-トルエンスルホン酸。
【００９８】
【図２０】図20は、本明細書に記載の方法を使用して調製されたハリコンドリンＣについてのＸ線構造を示す。無色単結晶のハリコンドリンＣが、MeOH：CH2Cl2＝1：1からの再結晶化によって得られた。
【００９９】
【図２１】図21は、ハリコンドリンおよびそれらの類似体の例示C33〜C43フラグメントの調製のための例示合成スキームを示す。
【０１００】
【図２２】図22は、ハリコンドリンおよびそれらの類似体の例示C27〜C37フラグメントの調製のための例示合成スキームを示す。
【０１０１】
【図２３】図23は、ハリコンドリンおよびそれらの類似体の例示C39〜C43フラグメントの調製の例示合成スキームを示す。
【発明を実施するための形態】
【０１０２】
ある態様の詳細な記載
本明細書に提供されるのは、ケトン含有化合物の調製において有用なＮｉ／Ｚｒ媒介カップリング反応である。本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、ハリコンドリンおよびそれらの類似体の合成において具体的に有用である。したがって、また本明細書に提供されるのには、ハリコンドリン（例として、ハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ノルハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）およびそれらの類似体の調製のための方法もある。
【０１０３】
ある態様において、本明細書に提供されるのは、化合物（１）：
【化９】
2020536046.tif 000011
化合物（１）
を包含する、式（H3-A）で表される化合物の調製において有用な方法である。
【０１０４】
本発明はまた、本明細書に提供される方法において有用な化合物（すなわち、中間体）も提供する。ある態様において、本明細書に提供される化合物は、ハリコンドリンおよびそれらの類似体へ向かう途中の合成中間体として有用である。さらにまた、本発明は、本明細書に記載の方法において有用な試薬および触媒を提供する。
【０１０５】
Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応
一側面において、本明細書に提供されるのは、チオエステルおよびハロゲン化アルキル（例として、ヨウ化アルキル、臭化アルキル、塩化アルキル等々）またはアルキル脱離基（例として、スルホン酸アルキル）のカップリングを伴うニッケル／ジルコニウム媒介ケトール化反応（「Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応」）である（スキーム１Ａ）。ケトール化反応は、分子間にあっても、または分子内にあってもよい（すなわち、スキーム１Ａにおいて、ＲＡおよびＲＢは任意に、リンカーによって結び合っている）。ある態様において、スキーム１Ｂに示されるとおり、式（Ａ）で表される化合物は、一級または二級ハロゲン化アルキル（Ｘ１＝ハロゲン）であり、および式（Ｂ）で表される化合物は、アルキルチオエステル（ＲＢ＝任意置換アルキル）である。
スキーム１Ａ
【化１０】
2020536046.tif 000012
スキーム１Ｂ
【化１１】
2020536046.tif 000013
【０１０６】
スキーム１Ａにおいて表されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（Ｃ）：
【化１２】
2020536046.tif 000014
で表される化合物、またはその塩を調製するための方法であって、方法は、式（Ａ）：
【化１３】
2020536046.tif 000015
で表される化合物、またはその塩を、式（Ｂ）：
【化１４】
2020536046.tif 000016
で表される化合物、またはその塩と、ニッケルおよびジルコニウムの存在下で反応させることを含む；式中：
ＲＡは、任意置換アルキルである；
ＲＢは、任意置換アルキル、任意置換アルケニル、任意置換アルキニル、任意置換アリール、任意置換カルボシクリル、任意置換ヘテロアリール、または任意置換ヘテロシクリルである；
任意にここで、ＲＡおよびＲＢは、リンカーを介して一緒に結び合い、ここでリンカーは、任意置換アルキレン、任意置換ヘテロアルキレン、任意置換アルケニレン、任意置換ヘテロアルケニレン、任意置換アルキニレン、任意置換ヘテロアルキニレン、任意置換アリーレン、任意置換ヘテロアリーレン、任意置換カルボシクリレン、任意置換ヘテロシクリレン、任意置換アシレン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される；
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；および
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである。
【０１０７】
ある態様において、ＲＡは、小分子である。ある態様において、ＲＢは、小分子である。小分子は、天然産物、医薬品、およびそれらのフラグメント、ならびにそれらへの中間体などの、錯体小分子を網羅する。
【０１０８】
本明細書に一般に定義されるとおり、「リンカー」は、任意置換アルキレン、任意置換ヘテロアルキレン、任意置換アルケニレン、任意置換ヘテロアルケニレン、任意置換アルキニレン、任意置換ヘテロアルキニレン、任意置換アリーレン、任意置換ヘテロアリーレン、任意置換カルボシクリレン、任意置換ヘテロシクリレン、任意置換アシレン、またはそれらのいずれの組み合わせを含む基である。
【０１０９】
ある態様において、式（Ａ）で表される化合物は、式（A-1）：
【化１５】
2020536046.tif 000017
で表される化合物、またはその塩である；式（Ｂ）で表される化合物は、式（B-1）：
【化１６】
2020536046.tif 000018
で表される化合物、またはその塩である；および式（Ｃ）で表される化合物は、式（C-1）：
【化１７】
2020536046.tif 000019
で表される化合物、またはその塩であり、式中：
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
ＲＡ１、ＲＡ２、ＲＢ１、およびＲＢ２の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アルケニル、任意置換アルキニル、任意置換アリール、任意置換カルボシクリル、任意置換ヘテロアリール、または任意置換ヘテロシクリルである；任意にここで、ＲＡ１およびＲＢ１は、リンカーを介して一緒に結び合っている。
【０１１０】
ある態様において、ＲＡ１は、小分子である。ある態様において、ＲＢ１およびＲＢ２は、独立して、小分子である。小分子は、天然産物、医薬品、およびそれらのフラグメント、ならびにそれらへの中間体などの小分子を網羅する。
【０１１１】
本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、スキーム１Ｃに示されるとおり環式ケトンを生産する分子内様式で(in intramolecular fashion)実施されてもよい。
スキーム１Ｃ
【化１８】
2020536046.tif 000020
【０１１２】
スキーム１Ｃに示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（C-2）：
【化１９】
2020536046.tif 000021
で表される化合物、またはその塩を調製するための方法であって、式（A-B）：
【化２０】
2020536046.tif 000022
で表される化合物、またはその塩を、ニッケルおよびジルコニウムの存在下で反応させることを含む；式中：
ＲＡ２およびＲＢ２は、任意置換アルキル、任意置換アルケニル、任意置換アルキニル、任意置換アリール、任意置換カルボシクリル、任意置換ヘテロアリール、または任意置換ヘテロシクリル；
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；および
【化２１】
2020536046.tif 000023
は、リンカーを表す。
【０１１３】
本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、ニッケルの存在下で実行される。ある態様において、ケトール化反応は、ニッケル錯体の存在下で実行される。当該技術分野において知られているかまたは入手可能ないずれのニッケル錯体（例として、ニッケル塩、ニッケル錯体、ニッケル触媒、またはニッケルプレ触媒(pre-catalyst)）も、反応に使用されてもよい。ある態様において、ケトール化反応は、ニッケル（ＩＩ）の存在下で実行される。ある態様において、ケトール化反応は、ニッケル（０）の存在下で実行される。ある態様において、ニッケル錯体は、式：ＮｉＸ２・（配位子）で表されるが、式中Ｘは、ハロゲン（例として、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、またはＦ）である。ある態様において、「配位子」は、二座配位子である。ある態様において、配位子は、任意置換ビスピリジル配位子である。ある態様において、ニッケル錯体は、ＮｉＸ２・（ｔｂｂｐｙ）であり、ここでＸは、ハロゲン（例として、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、またはＦ）であり、「ｔｂｂｐｙ」は、構造：
【化２２】
2020536046.tif 000024
を有する４，４’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチル）−２，２’−ビピリジンである。ある態様において、ニッケル錯体は、ＮｉＣｌ２・（ｔｂｂｐｙ）である。ある態様において、ニッケル錯体は、ＮｉＢｒ２・（ｔｂｂｐｙ）である。
【０１１４】
ある態様において、ニッケル錯体は、溶液中のニッケル供給源と「配位子」との錯体形成後に使用される。ある態様において、ニッケル錯体は、式：ＮｉＸ２・（配位子）で表される；式中Ｘは、ハロゲンであり、「配位子」は、二座配位子である。ある態様において、ニッケル供給源は、ＮｉＣｌ２である；「配位子」は、４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ジピリジル（ｔｂｂｐｙ）である；およびその結果得られるニッケル錯体は、式ＮｉＣｌ２・（ｔｂｂｐｙ）で表される。ある態様において、ニッケル供給源は、ＮｉＢｒ２である；および「配位子」は、４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ジピリジル（ｔｂｂｐｙ）である；およびその結果得られるニッケル錯体は、式ＮｉＢｒ２・（ｔｂｂｐｙ）で表される。
【０１１５】
ある態様において、ニッケルは、触媒量で存在する。ある態様において、ニッケルは、反応混合物中、式（Ａ）または（Ｂ）で表される化合物と比べて、およそ１〜５ｍｏｌ％、５〜１０ｍｏｌ％、１〜１０ｍｏｌ％、５〜２０ｍｏｌ％、１０〜２０ｍｏｌ％、２０〜３０ｍｏｌ％、２０〜４０ｍｏｌ％、３０〜４０ｍｏｌ％、４０〜５０ｍｏｌ％、５０〜６０ｍｏｌ％、６０〜７０ｍｏｌ％、７０〜８０ｍｏｌ％、または８０〜９０ｍｏｌ％にて存在する。ある態様において、ニッケルは、１〜５０ｍｏｌ％で存在する。ある態様において、ニッケルは、１〜１０ｍｏｌ％で存在する。ある態様において、ニッケルは、およそ５ｍｏｌ％で存在する。ある態様において、ニッケルは、およそ３０ｍｏｌ％で存在する。ある態様において、ニッケルは、反応混合物中、式、（Ａ）または（Ｂ）で表される化合物と比べて、化学量論量または過剰量で存在する。ある態様において、およそ１当量のニッケルが存在する（すなわち、化学量論）。他の態様において、１当量より多いニッケルが存在する（すなわち、過剰）。
【０１１６】
上に記載のとおり、Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、ジルコニウムの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ジルコニウム錯体の存在下で実行される。当該技術分野において知られているかまたは入手可能ないずれのジルコニウム供給源（例として、ジルコニウム塩、錯体、触媒、またはプレ触媒）も、反応に使用されてもよい。ある態様において、ジルコニウム供給源は、式（配位子）ｎＺｒＸ２で表される；式中ｎは、配位子の数（例として、０、１、２、３、４）であり、Ｘは、ハロゲン（例として、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、またはＦ）である。ある態様において、ｎは、２であり、配位子は、シクロペンタジエニルである。ある態様において、ジルコニウム供給源は、Ｃｐ２ＺｒＸ２である。ある態様において、ジルコニウム供給源は、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２である。
【０１１７】
ある態様において、ジルコニウムは、触媒量で存在する。ある態様において、ジルコニウムは、反応混合物中、式（Ａ）または（Ｂ）で表される化合物と比べて、１〜５ｍｏｌ％、５〜１０ｍｏｌ％、１〜１０ｍｏｌ％、５〜２０ｍｏｌ％、１０〜２０ｍｏｌ％、２０〜３０ｍｏｌ％、３０〜４０ｍｏｌ％、４０〜５０ｍｏｌ％、５０〜６０ｍｏｌ％、６０〜７０ｍｏｌ％、７０〜８０ｍｏｌ％、または８０〜９０ｍｏｌ％の間に存在する。ある態様において、ジルコニウムは、反応混合物中、式（Ａ）または（Ｂ）で表される化合物と比べて、化学量論量または過剰量で存在する。ある態様において、およそ１当量のジルコニウムが存在する（すなわち、化学量論）。他の態様において、１当量より多いジルコニウムが存在する（すなわち、過剰）。ある態様において、およそ１．１、１．２、１．３、１．４、１．５、１．６、１．７、１．８、１．９、２、２．５、３、３．５、４、４．５、５、６、７、８、９、または１０当量のジルコニウムが存在する。ある態様において、およそ３当量のジルコニウムが存在する。
【０１１８】
ある態様において、本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、還元金属などの、１以上の追加の試薬または触媒の存在下で実施される。ある態様において、還元金属は、亜鉛である。ある態様において、還元金属は、マグネシウムである。ある態様において、亜鉛金属が使用される（すなわち、亜鉛（０））である。ある態様において、金属マグネシウムが使用される（すなわち、マグネシウム（０））である。ある態様において、反応は、亜鉛粉末、亜鉛箔、亜鉛ビーズ、または他のいずれの形態の亜鉛金属の存在下で実行される。ある態様において、酢酸亜鉛、硫酸亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、フッ化亜鉛、硫化亜鉛、またはリン酸亜鉛などの亜鉛塩が採用される。亜鉛は、触媒量、化学量論量、または過剰量で存在してもよい。ある態様において、亜鉛は、式（Ａ）または式（Ｂ）で表される化合物と比べて、過剰に存在する（すなわち、１当量より多い）。ある態様において、１当量と１０当量との間の亜鉛が使用される。ある態様において、およそ１．５、２、２．５、３、３．５、４、４．５、５、５．５、６、７、８、９、または１０当量の亜鉛が存在する。ある態様において、およそ６当量の亜鉛が使用される。
【０１１９】
ある態様において、ケトール化反応は、反応において亜鉛金属を（例として、酸化亜鉛の表面を清浄することによって）活性化するのに役立つ１以上の試薬の存在下で実行である。ある態様において、反応は、ハロゲン化トリアルキルシリル（例として、塩化トリエチルシリル（ＴＥＳＣｌ））の存在下で実行される。この試薬は、触媒量、化学量論量、または過剰量で存在していてもよい。ある態様において、およそ１．５、２、２．５、３、３．５、４、４．５、５、５．５、６、７、８、９、または１０当量のこの試薬が存在する。ある態様において、およそ１．５当量のこの試薬が存在する。
【０１２０】
ある態様において、Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化は、１以上の追加の試薬の存在下で（すなわち、ニッケル、ジルコニウム、および亜鉛に加えて）実行される。
【０１２１】
ある態様において、Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、塩基またはプロトン捕捉剤の存在下で実行される。ある態様において、塩基は、ピリジン塩基である。ある態様において、塩基は、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルピリジンである。ある態様において、塩基は、２，６−ルチジンである。ある態様において、塩基は、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジンである。ある態様において、塩基は、化学量論量または過剰量で使用される。ある態様において、およそ１．５、２、２．５、３、３．５、４、４．５、５、５．５、６、７、８、９、または１０当量の塩基またはプロトン捕捉剤が存在する。ある態様において、およそ４当量の塩基またはプロトン捕捉剤が採用される。
【０１２２】
ある態様において、本明細書に記載のＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化は、溶媒中で実行される。いずれの溶媒も使用されてよく、方法の範囲は、いずれの具体的な溶媒または溶媒の混合物に限定されない。溶媒は、極性もしくは非極性、プロトン性もしくは非プロトン性、または溶媒の組み合わせ（例として、共溶媒）であってもよい。有用な有機溶媒の例は、本明細書に提供されている。ある態様において、ケトール化反応は、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）中で実行される。ある態様において、ケトール化反応は、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）／テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）混合物中で実行される。ある態様において、ケトール化反応は、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）／酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）混合物中で実行される。
【０１２３】
本明細書に記載のＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、溶媒中いずれの濃度にても実行されてよい。濃度は、溶媒中のカップリングパートナー（例として、式（Ａ）または（Ｂ）で表される化合物）のモル濃度（ｍｏｌ／Ｌ）を指す。ある態様において、濃度は、約０．１Ｍである。ある態様において、濃度は、およそ０．５Ｍである。ある態様において、濃度は、およそ０．１、０．２、０．３、０．４、０．５、０．６、０．７、０．８、または０．９Ｍである。ある態様において、濃度は、１Ｍより多い。ある態様において、濃度は、０．１Ｍ未満である。
【０１２４】
本明細書に記載のＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、いずれの温度にても実行され得る。ある態様において、反応は、ほぼ室温（すなわち、１８℃と２４℃との間）にて実行される。ある態様において、反応は、室温を下回って（例として、０℃と室温との間で）実行される。ある態様において、反応は、室温を上回る温度（例として、室温と１００℃との間）にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ１００℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。
【０１２５】
ある態様において、Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、ニッケル錯体、ジルコニウム錯体、および還元金属の存在下で実行される。ある態様において、ニッケル錯体は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）である。ある態様において、ジルコニウム錯体は、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２である。ある態様において、還元金属は、亜鉛である。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および亜鉛金属の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＤＭＩ（１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン）などの極性溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行である。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ１００℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。例えば、ある態様において、カップリングさせることは、以下の条件：ＤＭＩ中、室温にて、５ｍｏｌ％ ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、１．０当量 Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、過剰な亜鉛金属の下で実行される。
【０１２６】
ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、亜鉛金属、および塩基またはプロトン捕捉剤の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、亜鉛金属、および（ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＤＭＩとＥｔＯＡｃ（酢酸エチル）との混合物中で実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行である。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ１００℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。例えば、ある態様において、をカップリングさせることは、以下の条件：ＤＭＩ−ＥｔＯＡｃ中、室温にて、３０ｍｏｌ％ ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、３．０当量 Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、６．０当量 亜鉛金属、および４．０当量 （ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙの下で実行される。
【０１２７】
ハリコンドリンおよび類似体の合成
本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、ハリコンドリン（例として、ハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ、ノルハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）およびそれらの類似体の合成に対して適用され得る。ある態様において、方法は、化合物（１）などの式（H3-A）で表される化合物の合成において有用である。ある態様において、方法は、（１）本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応を介して「左半分」構成ブロックを「右半分」構成ブロックとカップリングさせること；これに続き（２）その結果得られたカップリング産物を環化させること（例として、酸媒介環化）；任意にこれに続き、所望の産物に到達するのに必要ないずれの合成転換というステップを含む。
【０１２８】
ハリコンドリンの合成
本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、ハリコンドリン（例として、ハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）およびそれらの類似体の調製に対して適用され得る。例えば、スキーム２Ａに示されるとおり、Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化を介し式（L-2-14）で表される左半分を式（R-2-I）で表される右半分とカップリングさせることで、式（H-2-II）で表されるケトンが生産され、この環化が、ハリコンドリンもしくはその類似体、またはそれへの中間体である式（H-2-I）で表される化合物を提供する。
スキーム２Ａ
【化２３】
2020536046.tif 000025
【０１２９】
本明細書に提供されるのは、式（H-2-I）：
【化２４】
2020536046.tif 000026
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（H-2-II）：
【化２５】
2020536046.tif 000027
で表される化合物、またはその塩を環化させることを含み、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化２６】
2020536046.tif 000028
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、任意置換アルキル、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化２７】
2020536046.tif 000029
を形成する；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０１３０】
ある態様において、式（H-2-II）で表される化合物、またはその塩を環化させるというステップは、酸の存在下で実行される。酸は、ルイス酸であっても、またはブレンステッド酸であってもよい。ある態様において、酸は、ブレンステッド酸である。ある態様において、酸は、スルホン酸である。ある態様において、酸は、スルホン酸の塩である。ある態様において、酸は、ピリジニウム塩である。ある態様において、酸は、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）である。ある態様において、酸は、触媒量で存在する。ある態様において、酸は、化学量論量（例として、およそ１当量）または過剰量（例として、１当量より多い）で存在する。ある態様において、酸は、過剰量（例として、約５当量）で存在する。
【０１３１】
ある態様において、環化させるというステップは、ＰＰＴＳの存在下で実行される。ある態様において、ステップは、ＣＨ２Ｃｌ２などの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行である。ある態様において、反応は、ほぼ２０℃にて実行される。例えば、ある態様において、環化させるというステップは、以下の条件：ほぼ２０℃にて（例として、２時間）ＣＨ２Ｃｌ２中５当量のＰＰＴＳの下で実行される。
【０１３２】
ある態様において、ＲＰ１、ＲＰ２、およびＲＰ３はシリル保護基であり、ＲＰ４およびＲＰ５は水素である。ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２はＴＢＳであり、ＲＰ３はＴＥＳであり、ＲＰ４およびＲＰ５は水素である。
【０１３３】
ある態様において、式（H-2-II）で表される化合物は、式（H-2-IIA）：
【化２８】
2020536046.tif 000030
で表される化合物、またはその塩である。
【０１３４】
本明細書に提供されるのは、式（H-2-II）：
【化２９】
2020536046.tif 000031
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-2-14）：
【化３０】
2020536046.tif 000032
で表される化合物、またはその塩を、式（R-2-I）：
【化３１】
2020536046.tif 000033
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることを含み、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３２】
2020536046.tif 000034
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３３】
2020536046.tif 000035
を形成する；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０１３５】
ある態様において、カップリングさせることで、式（H-2-II）で表される化合物を提供するというステップは、本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化である。Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化のための本明細書に提供されるいずれの試薬または条件は、カップリングさせることにおいて使用されてもよい。ある態様において、Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、ニッケル錯体、ジルコニウム錯体、および還元金属の存在下で実行される。反応はまた、塩基またはプロトン捕捉剤などの１以上の追加の試薬の存在下でも実行されてよい。ある態様において、ニッケル錯体は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）である。ある態様において、ジルコニウム錯体は、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２である。ある態様において、還元金属は、亜鉛である。ある態様において、追加の塩基またはプロトン捕捉剤は、（ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙである。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および亜鉛金属の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および亜鉛金属の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、亜鉛金属、および（ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＤＭＩ（１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン）などの極性溶媒中で実行である。ある態様において、反応は、ＤＭＩとＥｔＯＡｃ（酢酸エチル）との混合物中で実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ１００℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行である。
【０１３６】
例えば、ある態様において、カップリングさせることは、以下の条件：ＤＭＩ−ＥｔＯＡｃ中、室温にて、３０ｍｏｌ％ ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、３．０当量 Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、６．０当量 亜鉛金属、および４．０当量 （ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙの下で実行される
【０１３７】
ある態様において、ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４およびＲＰ５は、シリル保護基である。ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２は、ＴＢＳである；およびＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は、ＴＥＳである。
【０１３８】
ある態様において、式（H-2-II）で表される化合物を調製する方法はさらに、式（H-2-II）で表される化合物の１個以上の酸素原子を脱保護するという１以上のステップ（例として、式（H-2-IIA）で表される化合物、またはその塩を生産すること）を含む。ある態様において、その結果得られる化合物またはその塩は次いで、式（H-2-I）で表される化合物、またはその塩を生産する環化ステップにおいて使用され得る。ある態様において、脱保護するというステップは、フッ化物供給源の存在下で実行される（例として、１個以上の酸素原子がシリル基で保護されているとき）。
【０１３９】
本発明において有用なフッ化物供給源の例は、これらに限定されないが、金属フッ化物（例として、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、フッ化銀）およびテトラアルキルアンモニウムフッ化物（例として、フッ化テトラメチルアンモニウム、フッ化テトラエチルアンモニウム、フッ化テトラブチルアンモニウム）を包含する。ある態様において、フッ化物供給源は、テトラアルキルアンモニウムフッ化物である。ある態様において、フッ化物供給源は、フッ化テトラブチルアンモニウム（ＴＢＡＦ）である。ある態様において、フッ化水素（ＨＦ）が使用される。ある態様において、ＨＦ・ピリジンは、ＨＦ供給源として使用される。本発明において有用な保護基、および保護／脱保護反応において有用な試薬の他の例は、当該技術分野において、例として、Protecting Groups in Organic Synthesis, T. W. Greene and P. G. M. Wuts, 3rd edition, John Wiley & Sons, 1999（参照により本明細書に組み込まれる）において見出され得る。
【０１４０】
式（H-2-I）で表される化合物、またはその塩が得られたら、方法は、所望の化合物（例として、ハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ、またはそれらの類似体）を生産する１以上の追加のステップ（例として、脱保護、保護、置換、付加、脱離）を含んでもよい。
【０１４１】
ホモハリコンドリンの合成
本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、ホモハリコンドリン（例として、ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）、およびそれらの類似体の調製に対して適用され得る。例えば、スキーム２Ｂに示されるとおり、Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化を介し式（L-2-16）で表される左半分を式（R-2-I）で表される右半分とカップリングさせることで、式（HH-2-II）で表されるケトンが生産され、この環化は、ホモハリコンドリン天然産物もしくはそれらの類似体、またはそれらへの中間体である式（HH-2-I）で表される化合物を提供する。
スキーム２Ｂ
【化３４】
2020536046.tif 000036
【０１４２】
本明細書に提供されるのは、式（HH-2-I）：
【化３５】
2020536046.tif 000037
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（HH-2-II）：
【化３６】
2020536046.tif 000038
で表される化合物、またはその塩を環化させることを含み、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化３７】
2020536046.tif 000039
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化３８】
2020536046.tif 000040
を形成する；
ＲＰ１、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０１４３】
ある態様において、式（HH-2-II）で表される化合物、またはその塩を環化させるというステップは、酸の存在下で実行される。酸は、ルイス酸であっても、またはブレンステッド酸であってもよい。ある態様において、酸は、ブレンステッド酸である。ある態様において、酸は、スルホン酸である。ある態様において、酸は、スルホン酸の塩である。ある態様において、酸は、ピリジニウム塩である。ある態様において、酸は、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）である。ある態様において、酸は、触媒量で存在する。ある態様において、酸は、化学量論量（例として、およそ１当量）または過剰量（例として、１当量より多い）で存在する。ある態様において、酸は、過剰量（例として、約５当量）で存在する。
【０１４４】
ある態様において、環化させるというステップは、ＰＰＴＳの存在下で実行される。ある態様において、ステップは、ＣＨ２Ｃｌ２などの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ２０℃にて実行される。例えば、ある態様において、環化させるというステップは、以下の条件：ＣＨ２Ｃｌ２中ほぼ２０℃にて（例として、２時間）５当量のＰＰＴＳの下で実行される。
【０１４５】
ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２は、シリル保護基である；およびＲＰ４およびＲＰ５は、水素である。ある態様において、ＲＰ１は、ＴＢＳである；ＲＰ２は、ＴＥＳである；およびＲＰ４およびＲＰ５は、水素である。
【０１４６】
ある態様において、式（HH-2-II）で表される化合物は、式（HH-2-IIA）：
【化３９】
2020536046.tif 000041
で表される化合物、またはその塩である。
【０１４７】
本明細書に提供されるのは、式（HH-2-II）：
【化４０】
2020536046.tif 000042
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-2-16）：
【化４１】
2020536046.tif 000043
で表される化合物、またはその塩を、式（R-2-I）：
【化４２】
2020536046.tif 000044
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることを含み、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化４３】
2020536046.tif 000045
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化４４】
2020536046.tif 000046
を形成する；
ＲＰ１、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０１４８】
ある態様において、カップリングさせることで、式（HH-2-II）で表される化合物を提供するというステップは、本明細書に提供されるとおりのＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化である。Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化のための本明細書に提供されるいずれの試薬または条件は、カップリングさせることにおいて使用されてもよい。ある態様において、Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、ニッケル錯体、ジルコニウム錯体、および還元金属の存在下で実行される。反応はまた、塩基またはプロトン捕捉剤などの１以上の追加の試薬の存在下でも実行されてよい。ある態様において、ニッケル錯体は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）である。ある態様において、ジルコニウム錯体は、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２である。ある態様において、還元金属は、亜鉛である。ある態様において、追加の塩基またはプロトン捕捉剤は、（ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙである。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および亜鉛金属の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および亜鉛金属の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、亜鉛金属、および（ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＤＭＩ（１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン）などの極性溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、ＤＭＩとＥｔＯＡｃ（酢酸エチル）との混合物中で実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ１００℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行される。
【０１４９】
例えば、ある態様において、カップリングさせることは、以下の条件：ＤＭＩ−ＥｔＯＡｃ中、室温にて、３０ｍｏｌ％ ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、３．０当量 Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、６．０当量 亜鉛金属、および４．０当量 （ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙの下で実行される。
【０１５０】
ある態様において、ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４およびＲＰ５は、シリル保護基である。ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２は、ＴＢＳである；およびＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は、ＴＥＳである。
【０１５１】
ある態様において、式（HH-2-II）で表される化合物を調製する方法はさらに、式（HH-2-II）で表される化合物の１個以上の酸素原子を脱保護するという１以上のステップ（例として、式（HH-2-IIA）で表される化合物、またはその塩を生産すること）を含む。ある態様において、その結果得られる化合物、またはその塩は次いで、式（HH-2-I）で表される化合物、またはその塩を生産するために環化される。ある態様において、脱保護するというステップは、フッ化物供給源の存在下で実行される（例として、１個以上の酸素原子がシリル基で保護されているとき）。フッ化物供給源の例は、本明細書に提供されている。
【０１５２】
式（HH-2-I）で表される化合物、またはその塩が得られたら、１以上の追加のステップ（例として、脱保護、保護、置換、付加、脱離）が、所望の化合物（例として、ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ、もしくはそれらの類似体、またはそれらへの中間体）を生産するために実施されてもよい。
【０１５３】
ノルハリコンドリンの合成
本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応ノルハリコンドリン（例として、ノルハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）およびそれらの類似体の調製に対して適用され得る。例えば、スキーム２Ｃに示されるとおり、Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化を介し式（L-2-15）で表される左半分を式（R-2-I）で表される右半分とカップリングさせることで、式（NH-2-II）で表されるケトンが生産され、この環化は、ノルハリコンドリンもしくはそれらの類似体、またはそれらへの中間体である式（NH-2-I）で表される化合物を提供する。
スキーム２Ｃ
【化４５】
2020536046.tif 000047
【０１５４】
本明細書に提供されるのは、式（NH-2-I）：
【化４６】
2020536046.tif 000048
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（NH-2-II）：
【化４７】
2020536046.tif 000049
で表される化合物、またはその塩を環化させることを含み、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化４８】
2020536046.tif 000050
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化４９】
2020536046.tif 000051
を形成する；
ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
Ｒ７は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０１５５】
ある態様において、式（NH-2-II）で表される化合物、またはその塩を環化させるというステップは、酸の存在下で実行される。酸は、ルイス酸であっても、またはブレンステッド酸であってもよい。ある態様において、酸は、ブレンステッド酸である。ある態様において、酸は、スルホン酸である。ある態様において、酸は、スルホン酸の塩である。ある態様において、酸は、ピリジニウム塩である。ある態様において、酸は、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）である。ある態様において、酸は、触媒量で存在する。ある態様において、酸は、化学量論量（例として、およそ１当量）または過剰量（例として、１当量より多い）で存在する。ある態様において、酸は、過剰量（例として、約５当量）で存在する。
【０１５６】
ある態様において、環化させるというステップは、ＰＰＴＳの存在下で実行される。ある態様において、ステップは、ＣＨ２Ｃｌ２などの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行である。ある態様において、反応は、ほぼ２０℃にて実行される。例えば、ある態様において、環化させるというステップは、以下の条件：ＣＨ２Ｃｌ２中ほぼ２０℃にて（例として、２時間）、５当量のＰＰＴＳの下で実行される。
【０１５７】
ある態様において、ＲＰ３は、シリル保護基である；Ｒ７は、任意置換アルキルである；およびＲＰ４およびＲＰ５は、水素である。ある態様において、ＲＰ３は、ＴＥＳである；Ｒ７は、メチルである；およびＲＰ４およびＲＰ５は、水素である。
【０１５８】
ある態様において、式（NH-2-II）で表される化合物は、式（NH-2-IIA）：
【化５０】
2020536046.tif 000052
で表される化合物、またはその塩である。
【０１５９】
本明細書に提供されるのは、式（NH-2-II）：
【化５１】
2020536046.tif 000053
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-2-15）：
【化５２】
2020536046.tif 000054
で表される化合物、またはその塩を、式（R-2-I）：
【化５３】
2020536046.tif 000055
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることを含み、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化５４】
2020536046.tif 000056
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化５５】
2020536046.tif 000057
を形成する；
ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
Ｒ７は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０１６０】
ある態様において、カップリングさせることで、式（NH-2-II）で表される化合物を提供するというステップは、本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化である。Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化のための本明細書に提供されるいずれの試薬または条件は、カップリングさせることにおいて使用されてもよい。ある態様において、Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、ニッケル錯体、ジルコニウム錯体、および還元金属の存在下で実行される。反応はまた、塩基またはプロトン捕捉剤などの１以上の追加の試薬の存在下でも実行されてよい。ある態様において、ニッケル錯体は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）である。ある態様において、ジルコニウム錯体は、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２である。ある態様において、還元金属は、亜鉛である。ある態様において、追加の塩基またはプロトン捕捉剤は、（ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙである。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および亜鉛金属の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および亜鉛金属の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、亜鉛金属、および（ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＤＭＩ（１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン）などの極性溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、ＤＭＩとＥｔＯＡｃ（酢酸エチル）との混合物中で実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ１００℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行される。
【０１６１】
例えば、ある態様において、カップリングさせることは、以下の条件：ＤＭＩ−ＥｔＯＡｃ中、室温にて、３０ｍｏｌ％ ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、３．０当量 Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、６．０当量 亜鉛金属、および４．０当量 （ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙの下で実行される。
【０１６２】
ある態様において、ＲＰ３は、シリル保護基である；Ｒ７は、任意置換アルキルである；およびＲＰ４およびＲＰ５は、シリル保護基である。ある態様において、ＲＰ３は、ＴＥＳである；Ｒ７は、メチルである；およびＲＰ４およびＲＰ５は、ＴＥＳである。
【０１６３】
ある態様において、式（NH-2-II）で表される化合物を調製する方法はさらに、式（NH-2-II）で表される化合物の１個以上の酸素原子を脱保護するという１以上のステップ（例として、式（NH-2-IIA）で表される化合物、またはその塩を生産すること）を含む。ある態様において、その結果得られる化合物、またはその塩は次いで、式（NH-2-I）で表される化合物、またはその塩を生産するために環化される。ある態様において、脱保護するというステップは、フッ化物供給源の存在下で実行される（例として、１個以上の酸素原子がシリル基で保護されているとき）。フッ化物供給源の例は、本明細書に提供されている。
【０１６４】
式（NH-2-I）で表される化合物、またはその塩が得られたら、方法は、所望の化合物（例として、ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ、またはそれらの類似体）を生産する１以上の追加のステップ（例として、脱保護、保護、置換、付加、脱離）を含んでもよい。
【０１６５】
追加のハリコンドリン類似体の合成
追加のハリコンドリン類似体の調製のための方法は、本明細書に提供されている。本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、追加のハリコンドリン類似体の調製に対して適用され得る。例えば、スキーム２Ｄに示されるとおり、Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化を介し式（L-2-6）で表される左半分を式（R-2-I）で表される右半分とカップリングさせることで、式（H3-2-II）で表されるケトンが生産され、この環化は、式（H3-2-I）で表される化合物を提供する。式（H3-2-I）で表される化合物は、所望の化合物を生産するさらなる合成転換へ供され得る。
スキーム２Ｄ
【化５６】
2020536046.tif 000058
【０１６６】
スキーム２Ｄに示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（H3-2-I）：
【化５７】
2020536046.tif 000059
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（H3-2-II）：
【化５８】
2020536046.tif 000060
で表される化合物、またはその塩を環化させることを含み、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化５９】
2020536046.tif 000061
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化６０】
2020536046.tif 000062
を形成する；
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０１６７】
ある態様において、式（H3-2-II）で表される化合物は、式（H3-2-IIA）：
【化６１】
2020536046.tif 000063
で表される化合物、またはその塩である。
【０１６８】
ある態様において、方法は、化合物（２）：
【化６２】
2020536046.tif 000064
化合物（２）、
またはその塩を調製する方法であって、方法は、式：
【化６３】
2020536046.tif 000065
化合物（Ｃ）
で表される化合物、またはその塩を環化させることを含む。
【０１６９】
ある態様において、式（H3-2-II）で表される化合物、化合物（Ｃ）、またはその塩を環化させるというステップは、酸の存在下で実行される。酸は、ルイス酸であっても、またはブレンステッド酸であってもよい。ある態様において、酸は、ブレンステッド酸である。ある態様において、酸は、スルホン酸である。ある態様において、酸は、スルホン酸の塩である。ある態様において、酸は、ピリジニウム塩である。ある態様において、酸は、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）である。ある態様において、酸は、触媒量で存在する。ある態様において、酸は、化学量論量（例として、およそ１当量）または過剰量（例として、１当量より多い）で存在する。ある態様において、酸は、過剰量（例として、約５当量）で存在する。ある態様において、ステップは、溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、ジクロロメタン（ＤＣＭ）中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ２０℃にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ９〜１１℃にて実行される。
【０１７０】
ある態様において、環化させるというステップは、ＰＰＴＳの存在下で実行される。ある態様において、環化させるというステップは、ＤＣＭ中ＰＰＴＳの存在下で実行される。例えば、ある態様において、環化させるというステップは、以下の条件：ほぼ２０℃にて（例として、２時間）ＤＣＭ中５当量のＰＰＴＳの下で実行される。例えば、ある態様において、環化させるというステップは、以下の条件：ほぼ９〜１１℃にて（例として、３時間）ＤＣＭ中５当量のＰＰＴＳの下で実行される。
【０１７１】
ある態様において、２個のＲＰ６は、酸素保護基である；およびＲＰ４およびＲＰ５は、水素である。ある態様において、２個のＲＰ６は、結び合って以下：
【化６４】
2020536046.tif 000066
を形成する；およびＲＰ４およびＲＰ５は、水素である。ある態様において、２個のＲＰ６は、結び合って以下：
【化６５】
2020536046.tif 000067
を形成する；およびＲＰ４およびＲＰ５は、水素である。ある態様において、各ＲＰ６、ＲＰ４、およびＲＰ５は各々、水素である。ある態様において、化合物（Ｃ）の１個以上の遊離ヒドロキシル基は、酸素保護基（例として、シリル保護基）で置換されている。
【０１７２】
スキーム２Ｄに示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（H3-2-II）：
【化６６】
2020536046.tif 000068
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-2-6）：
【化６７】
2020536046.tif 000069
で表される化合物、またはその塩を、式（R-2-I）：
【化６８】
2020536046.tif 000070
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることを含み、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化６９】
2020536046.tif 000071
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化７０】
2020536046.tif 000072
を形成する；
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０１７３】
ある態様において、方法は、式（E-L）：
【化７１】
2020536046.tif 000073
で表される化合物、またはその塩を、式（E-R）：
【化７２】
2020536046.tif 000074
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（E-1）：
【化７３】
2020536046.tif 000075
で表される化合物、またはその塩を生産することを含み、式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；および
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０１７４】
ある態様において、カップリングさせることで、式（H3-2-II）、（E-1）で表される化合物、またはその塩を提供するというステップは、本明細書に提供されるＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化である。Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化のための本明細書に提供されるいずれの試薬または条件は、カップリングさせることにおいて使用されてもよい。例として、上のＮｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応と題するセクションを参照。
【０１７５】
ある態様において、Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、ニッケルおよびジルコニウム錯体の存在下で実行される。ある態様において、Ｎｉ／Ｚｒ媒介ケトール化反応は、ニッケル錯体、ジルコニウム錯体、および還元金属の存在下で実行される。
【０１７６】
ある態様において、ニッケルは、ニッケル錯体である。ある態様において、ニッケルは、ニッケル（ＩＩ）またはニッケル（０）錯体である。ある態様において、ニッケル錯体は、式：ＮｉＸ２・（配位子）で表される；式中Ｘは、ハロゲンであり、「配位子」は、二座配位子である。ある態様において、ニッケル錯体は、溶液中のニッケル供給源と「配位子」との錯体形成後に使用される。ある態様において、ニッケル供給源は、ＮｉＣｌ２である；「配位子」は、４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ジピリジル（ｔｂｂｐｙ）である；およびニッケル錯体は、式ＮｉＣｌ２・（ｔｂｂｐｙ）で表される。ある態様において、ニッケル供給源は、ＮｉＢｒ２である；および「配位子」は、４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ジピリジル（ｔｂｂｐｙ）である；およびニッケル錯体は、式ＮｉＢｒ２・（ｔｂｂｐｙ）で表される。
【０１７７】
ある態様において、ジルコニウム錯体は、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２である。ある態様において、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２は、化学量論量または過剰量で存在する（例として、１〜４当量）。ある態様において、還元金属は、亜鉛金属である。ある態様において、還元金属は、金属マンガンである。ある態様において、亜鉛または金属マンガンは、過剰量で存在する。反応はまた、塩基および／またはプロトン捕捉剤などの１以上の追加の試薬の存在下でも実行されてよい。ある態様において、反応は、（ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙの存在下で実行される。ある態様において、反応は、プロトン・スポンジ（例として、１，８−ビス（ジメチルアミノ）ナフタレン）の存在下で実行される。
【０１７８】
ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および亜鉛金属の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および金属マンガンの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、亜鉛金属、および（ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、金属マンガン、および（ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙの存在下で実行される。
【０１７９】
ある態様において、反応は、ＤＭＩ（１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン）などの極性溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、ＤＭＩとＥｔＯＡｃ（酢酸エチル）との混合物中で実行される。ある態様において、反応は、ＤＭＩとエタノールとの混合物中で実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ１００℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行である。ある態様において、反応は、ほぼ３０℃にて実行される。
【０１８０】
例えば、ある態様において、カップリングさせることは、以下の条件：室温にてＤＭＩ−ＥｔＯＡｃ中、３０ｍｏｌ％ ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、３．０当量 Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、６．０当量 亜鉛金属、および４．０当量 （ｔ−Ｂｕ）２（Ｍｅ）Ｐｙの下で実行される。
【０１８１】
ある態様において、カップリングさせることは、ＤＭＩ中、ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および金属マンガンの存在下で実行される。例えば、ある態様において、カップリングさせることは、以下の条件：ほぼ３０℃にて（例として、４時間）ＤＭＩ中、およそ７５ｍｏｌ％ ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）、３．５当量 Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および７当量 金属マンガンの下で実行される
【０１８２】
ある態様において、カップリングさせることは、式（L-2-6）で表される化合物、またはその塩を、式（R-2-I）で表される化合物、またはその塩、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および金属マンガンの存在下で反応させること；これに続くＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）の反応混合物への添加によって実行される。ある態様において、カップリングさせることは、式（L-2-6）で表される化合物、またはその塩を、ＤＭＩ中、式（R-2-I）で表される化合物、またはその塩、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および金属マンガンの存在下で反応させること；これに続くＤＭＩの溶液中ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）の反応混合物への添加によって実行される。
【０１８３】
ある態様において、カップリングさせることは、式（E-L）で表される化合物、またはその塩を、式（R-L）で表される化合物、またはその塩、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および金属マンガンの存在下で反応させること；これに続くＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）の反応混合物への添加によって実行される。ある態様において、カップリングさせることは、式（E-L）で表される化合物、またはその塩を、ＤＭＩ中式（R-L）で表される化合物、またはその塩、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、および金属マンガンの存在下で反応させること；これに続くＤＭＩの溶液中ＮｉＢｒ２（ｄｔｂｂｐｙ）の反応混合物への添加によって実行される。
【０１８４】
式（H3-2-II）、（E-1）で表される化合物、またはその塩を生産するカップリング反応は、いずれの量の産物を生産するために実行され得る。ある態様において、反応は、１ｇ、２ｇ、５ｇ、１０ｇ、２０ｇ、３０ｇ、５０ｇ、１００ｇ、２００ｇ、５００ｇ、または１ｋｇより多い産物を生産するために実行される。ある態様において、反応は、１ｇ未満の産物を生産するために実行される。ある態様において、反応は、１ｇから１００ｇまでの産物（両端含む）を生産するために実行される。ある態様において、反応は、およそ１ｇ、２ｇ、５ｇ、１０ｇ、２０ｇ、３０ｇ、４０ｇ、５０ｇ、６０ｇ、７０ｇ、８０ｇ、９０ｇ、または１００ｇの産物を生産するために実行される。
【０１８５】
ある態様において、Ｘ１は、ハロゲンであり、およびＲＳは、任意置換ピリジルである。ある態様において、Ｘ１は、−Ｉである。ある態様において、ＲＳは、２−ピリジルである。ある態様において、Ｘ１は、−Ｉである；およびＲＳは、２−ピリジルである。
【０１８６】
ある態様において、２個のＲＰ６は、結び合って以下：
【化７４】
2020536046.tif 000076
を形成する；および、ＲＰ４およびＲＰ５は、シリル保護基である。ある態様において、２個のＲＰ６は、結び合って以下：
【化７５】
2020536046.tif 000077
を形成する；および、ＲＰ４およびＲＰ５は、ＴＥＳである。
【０１８７】
ある態様において、式（H3-2-II）で表される化合物を調製する方法はさらに、式（H3-2-II）で表される化合物の１以上の酸素原子を脱保護するという１以上のステップ（例として、基ＲＰ４、ＲＰ５、および／またはＲＰ６を除去すること）（例として、式（H3-2-IIA）で表される化合物、またはその塩を生産すること）を含む。ある態様において、その結果得られる化合物、またはその塩は次いで、式（H3-2-I）で表される化合物、またはその塩を生産する環化ステップにおいて使用され得る。同じく、式（E-1）で表される化合物を調製する方法はさらに、式（E-1）で表される化合物の１以上の酸素原子を脱保護するという１以上のステップ（例として、基ＲＰ４、ＲＰ５、および／またはＲＰ６を除去すること）（例として、化合物（Ｃ）、またはその塩を生産すること）を含み得る。ある態様において、その結果得られる化合物、またはその塩は次いで、化合物（２）を生産する環化ステップにおいて使用され得る。
【０１８８】
ある態様において、脱保護するというステップは、フッ化物供給源の存在下で実行される（例として、ＲＰ４、ＲＰ５、および／またはＲＰ６が、シリル保護基であるとき）。フッ化物供給源の例は、本明細書に提供されている。ある態様において、フッ化物供給源は、ＴＢＡＦである。ある態様において、脱保護のステップは、イミダゾール塩酸塩の存在下で実行される。ある態様において、ＲＰ４およびＲＰ５は、ＴＥＳである；および脱保護するというステップ（ＲＰ４およびＲＰ５を除去する）は、ＴＢＡＦおよびイミダゾール塩酸塩の存在下で実行される。ある態様において、２個のＲＰ６は、結び合って以下：
【化７６】
2020536046.tif 000078
を形成する；ＲＰ４およびＲＰ５は、ＴＥＳである；および脱保護するというステップ（ＲＰ６、ＲＰ４、およびＲＰ５を除去する）は、ＴＢＡＦおよびイミダゾール塩酸塩の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＴＨＦなどの溶媒中で実行される。
【０１８９】
式（H3-2-I）、（E-1）で表される化合物、またはその塩が得られたら、方法は、所望の化合物を生産する１以上の追加のステップ（例として、脱保護、保護、置換、付加、脱離）を含んでもよい。
【０１９０】
ハリコンドリンのアミノ類似体の合成
本明細書に提供されるのは、式（H3-A）で表される化合物などのハリコンドリンのアミノ類似体を調製するための方法である。例えば、スキーム４において下に示されるとおり、式（H3-A）で表される化合物は、式（H3-OH）で表される化合物を変換することによって調製され得る。一級ヒドロキシル基（スキーム４中＊で示される）は、式ＸＬ−ＲＬで表される試薬を用いた式（H3-A）で表される化合物の処置によって、脱離基−ＯＲＬへ変換される。基−ＯＲＬは次いで、アミンまたはアミン前駆体に置換され得る。ある態様において、方法は、一級−ＯＲＬ基をアジド（−Ｎ３）で置換すること（すなわち、式（H3-N3）で表される化合物を生産すること）を含む。アジド部分は次いで、アミンへ還元されることで、式（H3-A）で表される化合物を生産し得る。
スキーム４
【化７７】
2020536046.tif 000079
【０１９１】
ある態様において、式（H3-A）で表される化合物は、化合物（１）、またはその塩である。したがって、本明細書に提供されるのは、化合物（１）およびそれらの塩を調製するための方法である。例えば、スキーム２において下に示されるとおり、化合物（１）は、化合物（２）を式（Ａ）で表される化合物へ変換することによって調製され得る。このステップにおいて、化合物（２）の一級ヒドロキシル基（スキーム２中＊で示される）は、式ＸＬ−ＲＬで表される試薬を用いた化合物（２）の処置によって、脱離基−ＯＲＬへ変換される。ある態様において、脱離基は、スルホナートである（すなわち、ＲＬは、任意置換スルホニルである）。基−ＯＲＬは次いで、アミンまたはアミン前駆体に置換され得る。ある態様において、方法は、一級−ＯＲＬ基をアジド（−Ｎ３）で置換すること（すなわち、式（Ｂ）で表される化合物を生産すること）を含む。式（Ｂ）で表される化合物のアジド部分は次いで、アミンへ還元されることで化合物（１）を生産し得る。
スキーム２
【化７８】
2020536046.tif 000080
【０１９２】
上のスキーム４に示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（H3-A）：
【化７９】
2020536046.tif 000081
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（H3-N3）：
【化８０】
2020536046.tif 000082
で表される化合物、またはその塩を還元するというステップを含み、式中：
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化８１】
2020536046.tif 000083
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化８２】
2020536046.tif 000084
を形成する；
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０１９３】
ある態様において、スキーム２に示されるとおり、本明細書に提供される方法は、化合物（１）：
【化８３】
2020536046.tif 000085
化合物（１）、
またはその塩を調製するための方法であって、方法は、式（Ｂ）：
【化８４】
2020536046.tif 000086
で表される化合物、またはその塩を還元することを含む。
【０１９４】
還元することで、式（H3-A）で表される化合物、化合物（１）、またはその塩を形成するというステップは、アジドをアミンへ還元することが可能ないずれの試薬または条件の存在下で実行されてもよい（例として、Chem. Rev., 1988, 88（2), pp 297-368）。ある態様において、還元するというステップは、ホスフィン試薬の存在下で実行される（すなわち、シュタウディンガー反応）。ある態様において、ホスフィンは、トリアルキルホスフィンである。ある態様において、ホスフィンは、トリアリールホスフィンである。ある態様において、ホスフィンは、トリフェニルホスフィン（Ｐｈ３Ｐ）である。ある態様において、ホスフィン試薬は、ポリマー結合ホスフィンである。ある態様において、ホスフィン試薬は、ポリマー結合トリフェニルホスフィンである。ある態様において、ホスフィンでの処置は、水での処置、例として、水性ワークアップ(aqueous work-up)が続く。
【０１９５】
ある態様において、およそ１当量のホスフィン試薬が使用される。ある態様において、１当量より多いホスフィン試薬が使用される。ある態様において、およそ１〜１０当量のホスフィン試薬が使用される。ある態様において、およそ１〜５当量のホスフィン試薬が使用される。ある態様において、およそ３当量のホスフィンが使用される。ある態様において、反応は、溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、ＴＨＦ中で実行される。ある態様において、反応は、ＴＨＦおよび水中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行である。ある態様において、反応は、ほぼ２５℃にて実行される。
【０１９６】
ある態様において、反応は、ＴＨＦおよび水中ポリマー結合ＰＰｈ３の存在下で実行される。ある態様において、反応は、以下の条件：ほぼ２５℃にて（例として、７０時間）ＴＨＦおよび水中３当量 ポリマー結合ＰＰｈ３の下で実行される
【０１９７】
ある態様において、産物は、沈殿によって精製および単離される。ある態様において、産物は、カラムクロマトグラフィーによって精製される。ある態様において、産物は、カラムクロマトグラフィーと沈殿との組み合わせを使用して単離および精製される。
【０１９８】
ある態様において、ＲＰ６は、水素である。ある態様において、ＲＰ６は、酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ６は、シリル保護基である。ある態様において、化合物（Ｂ）および化合物（１）の１個以上の遊離ヒドロキシル基は、酸素保護基（例として、シリル保護基）で置換される。
【０１９９】
他の試薬および条件も、化合物（Ｂ）のアジド、または式（H3-N3）で表される化合物を、アミンへ変換するために使用されてもよい。例えば、ある態様において、還元するというステップは、パラジウムおよび水素（例として、Ｐｄ／ＣおよびＨ２）の存在下で実行される。ある態様において、還元するというステップは、水素化物（すなわち、Ｈ−）供給源の存在下で実行される。
【０２００】
スキーム４に示されるとおり、また本明細書に提供されるのには、式（H3-N3）：
【化８５】
2020536046.tif 000087
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（H3-L）：
【化８６】
2020536046.tif 000088
で表される化合物、またはその塩を、アジドの存在下で反応させることで、式（H3-N3）で表される化合物、またはその塩を生産するというステップを含み、式中：
ＲＬは、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、または任意置換アシルである；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化８７】
2020536046.tif 000089
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化８８】
2020536046.tif 000090
を形成する；
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０２０１】
ある態様において、スキーム２に示されるとおり、方法は、式（Ｂ）：
【化８９】
2020536046.tif 000091
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（Ａ）：
【化９０】
2020536046.tif 000092
で表される化合物、またはその塩を、アジドの存在下で反応させることを含み、式中：
ＲＬは、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、または任意置換アシルである。
【０２０２】
式（H3-N3）で表される化合物、化合物（Ｂ）、またはその塩を形成する反応は、アジドの存在下で実行される。ある態様において、アジドは、アジド塩である。ある態様において、アジドは、アジ化ナトリウム（ＮａＮ３）またはアジ化カリウム（ＫＮ３）である。ある態様において、アジドは、テトラアルキルアンモニウムアジド（すなわち、［（アルキル）４Ｎ］Ｎ３）である。ある態様において、アジドは、テトラブチルアンモニウムアジド（［ｎ−Ｂｕ４Ｎ］Ｎ３）である。ある態様において、およそ１当量のアジドが存在する。ある態様において、１当量より多いアジドが存在する。ある態様において、およそ１〜１０当量のアジドが存在する。ある態様において、およそ５〜１０当量が存在する。ある態様において、およそ８当量のアジドが存在する。
【０２０３】
ある態様において、反応は、溶媒中で実行される。ある態様において、溶媒は、極性溶媒である。ある態様において、溶媒は、非極性溶媒である。ある態様において、溶媒は、トルエンである。ある態様において、反応は、室温を上回る温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温からおよそ１５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ１００℃にて実行される。
【０２０４】
ある態様において、反応は、トルエン中テトラブチルアンモニウムアジド（［ｎ−Ｂｕ４Ｎ］Ｎ３）の存在下で実行である。ある態様において、反応は、およそ１００℃にてトルエン中テトラブチルアンモニウムアジド（［ｎ−Ｂｕ４Ｎ］Ｎ３）の存在下で実行である。ある態様において、反応は、以下の条件：およそ１００℃にて（例として、５時間）トルエン中８当量のテトラブチルアンモニウムアジド（［ｎ−Ｂｕ４Ｎ］Ｎ３）の下で実行される。
【０２０５】
ある態様において、ＲＰ６は、水素であり、およびＲＬは、Ｔｓである。ある態様において、ＲＰ６は、酸素保護基であり、およびＲＬは、Ｔｓである。ある態様において、ＲＰ６は、シリル保護基であり、およびＲＬは、Ｔｓである。ある態様において、化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）の１個以上の遊離ヒドロキシル基は、酸素保護基（例として、シリル保護基）で置換されている。
【０２０６】
ある態様において、式（Ａ）で表される化合物は、以下の：
【化９１】
2020536046.tif 000093
またはその塩である。「Ｔｓ」は、式：
【化９２】
2020536046.tif 000094
で表されるトシル基である。
【０２０７】
また本明細書に提供されるのには、式（H3-L）：
【化９３】
2020536046.tif 000095
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（H3-OH）：
【化９４】
2020536046.tif 000096
で表される化合物、またはその塩を、式ＸＬ−ＲＬで表される試薬の存在下で反応させることで、式（H3-L）で表される化合物、またはその塩を生産するというステップを含み、式中：
ＲＬは、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、または任意置換アシルである；
ＸＬは、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化９５】
2020536046.tif 000097
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化９６】
2020536046.tif 000098
を形成する；
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０２０８】
ある態様において、方法は、式（Ａ）：
【化９７】
2020536046.tif 000099
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、化合物（２）：
【化９８】
2020536046.tif 000100
化合物（２）、
またはその塩を、式ＸＬ−ＲＬで表される試薬の存在下で反応させることを含み、式中：
ＸＬは、ハロゲンまたは脱離基である；および
ＲＬは、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、または任意置換アシルである。
【０２０９】
式（H3-L）で表される化合物、化合物（Ａ）、またはその塩を形成する反応は、式ＸＬ−ＲＬで表される試薬の存在下で実行される。全転換は、出発材料の一級ヒドロキシル基を、式−ＯＲＬで表される脱離基（例として、スルホニル脱離基）へ変換する。
【０２１０】
ある態様において、式ＸＬ−ＲＬで表される試薬は、スルホン化剤である。遊離ヒドロキシル基をスルホナート脱離基へ変換することが可能なスルホン化試薬は、当該技術分野において知られている。ある態様において、式ＸＬ−ＲＬで表される試薬は、ハロゲン化スルホニルである（すなわち、式中ＲＬは、任意置換スルホニルである）。ある態様において、試薬は、ハロゲン化トシル（すなわち、ＸＬ−Ｔｓ）である。ある態様において、試薬は、塩化スルホニルである（ＸＬは、塩素であり、およびＲＬは、任意置換スルホニルである）。ある態様において、試薬は、塩化トシル（ＴｓＣｌ）である。ある態様において、およそ１当量の試薬が使用される。ある態様において、１当量より多い試薬が使用される。ある態様において、およそ３当量の試薬が使用される。
【０２１１】
ある態様において、反応は、１以上の追加の試薬の存在下で実行される。ある態様において、反応は、塩基の存在下で実行される。ある態様において、塩基は、窒素塩基である。ある態様において、塩基は、アミン塩基である。ある態様において、塩基は、トリアルキルアミン塩基である。アミン塩基の例は、これらに限定されないが、トリエチルアミン（ＴＥＡ）およびジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）を包含する。ある態様において、塩基は、トリエチルアミン（ＴＥＡ）である。ある態様において、塩基は、複素環式の塩基である。複素環式の塩基の例は、これらに限定されないが、ピリジン塩基およびイミダゾール塩基を包含する。ある態様において、およそ１当量の塩基が使用される。ある態様において、１当量より多い塩基が使用される。ある態様において、過剰（例として、およそ６当量）の塩基が使用される。
【０２１２】
ある態様において、反応は、ルイス酸の存在下で実行される。ある態様において、ルイス酸は、ジブチル錫オキシドである。ある態様において、ルイス酸は、１当量以下で存在する（例として、０．５当量）。
【０２１３】
ある態様において、反応は、溶媒中で実行される。ある態様において、溶媒は、ジクロロメタン（ＤＣＭ）である。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行である。ある態様において、反応は、ほぼ２５℃にて実行される。
【０２１４】
ある態様において、反応は、ＴｓＣｌ、ＴＥＡ、およびルイス酸の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＴｓＣｌ、ＴＥＡ、およびジブチル錫オキシドの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＤＣＭ中ＴｓＣｌ、ＴＥＡ、およびジブチル錫オキシドの存在下で実行である。ある態様において、反応は、ＤＣＭ中ほぼ２５℃にてＴｓＣｌ、ＴＥＡ、およびジブチル錫オキシドの存在下で実行される。ある態様において、反応は、以下の条件：およそ２５℃にて（例として、３時間）ＤＣＭ中３当量 ＴｓＣｌ、過剰ＴＥＡ（例として、およそ６当量）、および１当量未満（例として、０．６当量）のジブチル錫オキシドの下で実行される
【０２１５】
ある態様において、ＲＰ６は、水素であり、およびＲＬは、Ｔｓである。ある態様において、ＲＰ６は、酸素保護基であり、およびＲＬは、Ｔｓである。ある態様において、ＲＰ６は、シリル保護基であり、およびＲＬは、Ｔｓである。ある態様において、化合物（Ａ）および化合物（２）の１個以上の遊離ヒドロキシル基は、酸素保護基（例として、シリル保護基）で置換されている。
【０２１６】
出発材料を調製するための方法（すなわち、式（H3-OH）で表される化合物、化合物（２）、およびそれらの塩）は、例として、追加のハリコンドリン類似体の合成と題するサブセクションの下で本明細書に提供される。
【０２１７】
「右半分」構成ブロックの調製
また本明細書に提供されるのは、ハリコンドリン（例として、ハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ、ノルハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ、およびそれらの類似体）の「右半分」構成ブロックの調製において有用な方法である。例えば、上に記載のとおり、式（R-2-I）で表される化合物は、右半分構成ブロックとして有用である。スキーム３Ａにおいて下に示されるとおり、式（R-2-I）で表される化合物は、式（R-4-11B）で表される化合物の置換（すなわち、基−ＯＲＰ７を基−Ｘ１に置換すること）によって調製され得る。式（R-4-11B）で表される化合物は、式（R-4-11A）で表される化合物の１個以上の酸素原子を脱保護および再保護し(re-protecting)、これにより基−ＯＲＰ５のうち一方(one occurrence)を基−ＯＲＰ７へ変換することによって調製され得る。またスキーム３Ａにおいても示されるとおり、式（R-4-11）で表される化合物は、式（R-4-10）で表される化合物を環化させることによって調製され得る。さらにまた、式（R-4-10）で表される化合物は、を式（R-4-8）で表される化合物を、式（R-4-9）で表される化合物とカップリングさせることによって得られ得る。
スキーム３Ａ
【化９９】
2020536046.tif 000101
【０２１８】
スキーム３Ａに示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（R-2-I）：
【化１００】
2020536046.tif 000102
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（R-4-11B）：
【化１０１】
2020536046.tif 000103
で表される化合物、またはその塩、求核試薬の存在下でを反応させ、これによって基−ＯＲＰ７を基−Ｘ１に置換することを含む；式中：
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化１０２】
2020536046.tif 000104
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化１０３】
2020536046.tif 000105
を形成する；
ＲＰ５は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＰ７は、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＰ５およびＲＰ７は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０２１９】
ある態様において、方法は、式（E-R）：
【化１０４】
2020536046.tif 000106
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（E-R-1）：
【化１０５】
2020536046.tif 000107
で表される化合物、またはその塩を、求核試薬の存在下で反応させ、これによって基−ＯＲＰ７を基−Ｘ１に置換することを含む；式中：
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である；
ＲＰ５は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＰ７は、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＰ５およびＲＰ７は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０２２０】
上に記載のとおり、式（R-2-I）、（E-R）で表される化合物、またはその塩を調製する方法は、式（R-4-11B）で表される化合物、またはその塩を、求核試薬の存在下で反応させ、これによって脱離基−ＯＲＰ７を基−Ｘ１に置換するというステップを含む。ある態様において、求核試薬は、ハロゲン化物アニオン（例として、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、Ｆ−）である。ある態様において、反応は、ハロゲン化物塩の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ヨウ化物塩（例として、ＮａＩ、ＫＩ）の存在下で実行され、これによって脱離基−ＯＲＰ７を基−Ｉに置換する。ある態様において、ヨウ化物塩は、ヨウ化ナトリウム（ＮａＩ）である。ある態様において、反応は、ＮａＩの存在下で実行される。ある態様において、反応は、極性溶媒（例として、ＤＭＦまたはＤＭＩ）中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行される。
【０２２１】
ある態様において、反応は、ＤＭＩ中ほぼ室温にてＮａＩの存在下で実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にて（例として、２〜５時間）ＤＭＦ中５当量のＮａＩの下で実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にて（例として、２〜５時間）ＤＭＩ中５当量のＮａＩの下で実行される。
【０２２２】
ある態様において、基−ＯＲＰ７は、脱離基である。ある態様において、基−ＯＲＰ７は、−Ｏ−スルホニルである。ある態様において、基−ＯＲＰ７は、−ＯＭｓである。ある態様において、基−ＯＲＰ７は、−ＯＴｓである。ある態様において、基−ＯＲＰ７は、−ＯＴｆである。ある態様において、基−ＯＲＰ７は、−Ｏ−アシルである。ある態様において、基−ＯＲＰ７は、−Ｏ−ホスホリルである。ある態様において、ＲＰ５は、シリル保護基である。ある態様において、ＲＰ５は、ＴＥＳである。ある態様において、−ＯＲＰ７は、−ＯＴｆであり、およびＲＰ５は、ＴＥＳである。
【０２２３】
スキーム３Ａに示されるとおり、式（R-4-11B）で表される化合物は、式（R-4-11A）で表される化合物の１個以上の酸素原子を脱保護および再保護し、これによって基−ＯＲＰ５のうち一方を基−ＯＲＰ７へ変換することによって調製され得る。
【０２２４】
例えば、ある態様において、本明細書に提供されるのは、式（R-4-11B）で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、以下を含む：
（ａ）式（R-4-11A）：
【化１０６】
2020536046.tif 000108
で表される化合物、またはその塩を脱保護することで、式（R-4-11C）：
【化１０７】
2020536046.tif 000109
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ、これに続いて（ｂ）式（R-4-11C）で表される化合物、またはその塩を再保護することで、式（R-4-11B）で表される化合物、またはその塩を生産するという１以上のステップ。
【０２２５】
ある態様において、方法は、以下：
（ａ）式（E-R-2）：
【化１０８】
2020536046.tif 000110
で表される化合物、またはその塩を脱保護することで、式：
【化１０９】
2020536046.tif 000111
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）ステップ（ａ）の産物を再保護することで、式（E-R-1）：
【化１１０】
2020536046.tif 000112
で表される化合物、またはその塩を生産するという１以上のステップを含み、式中：
ＲＰ５は、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
ＲＰ７は、任意置換スルホニル、任意置換スルフィニル、任意置換ホスホリル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＰ５およびＲＰ７は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０２２６】
上に示されるとおり、式（R-4-11A）および（E-R-2）で表される化合物は、脱保護されることで、基ＲＰ５が除去され得る（すなわち、ステップ（ａ））。ある態様において、ＲＰ５基は、シリル保護基である；およびステップ（ａ）は、フッ化物供給源の存在下で実行される。ある態様において、フッ化物供給源は、フッ化テトラブチルアンモニウム（ＴＢＡＦ）である。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１１１】
2020536046.tif 000113
で表される環を形成する；およびステップ（ａ）は、酸の存在下で実行される。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１１２】
2020536046.tif 000114
で表される環を形成する；およびステップ（ａ）は、酸の存在下で実行される。ある態様において、酸は、ｐ−トルエンスルホン酸（ＴｓＯＨ）である。ある態様において、酸は、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（ＴｓＯＨ・Ｈ２Ｏ）である。ある態様において、酸は、触媒量で存在する。
【０２２７】
ある態様において、脱保護するというステップは、ＤＣＭおよびアルコール（例として、ＲＯＨ）中で実行される。ある態様において、脱保護は、ＤＣＭおよびＭｅＯＨ中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、脱保護は、ほぼ室温にて実行である。ある態様において、脱保護は、ほぼ２５℃にて実行される。
【０２２８】
ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１１３】
2020536046.tif 000115
で表される環を形成する；および脱保護は、ＤＣＭおよびアルコール中ＴｓＯＨ・Ｈ２Ｏの存在下で実行される。ある態様において、脱保護は、以下の条件：ほぼ２５℃にて（例として、４時間）ＤＣＭおよびＭｅＯＨ中触媒ＴｓＯＨ・Ｈ２Ｏ（例として、０．０２当量）の下で実行される。
【０２２９】
ある態様において、式（R-4-11B）または（E-R-1）で表される化合物上、−ＯＲＰ７は、スルホナート脱離基であり、およびＲＰ５は、シリル保護基である；およびステップ（ｂ）は、スルホン化試薬および塩基の存在下で実行され（これによってＲＰ７がスルホニル基として導入される）、これに続きシリル化試薬および塩基の存在下で実行される（これによってＲＰ５がシリル基として導入される）。ある態様において、スルホン化試薬は、トリフラート化剤である。ある態様において、スルホン化試薬は、Ｔｆ２Ｏである。ある態様において、シリル化試薬は、ＴＥＳＯＴｆである。ある態様において、塩基は、アミンまたはピリジン塩基である。ある態様において、塩基は、２，４，６−コリジンである。
【０２３０】
ある態様において、保護するというステップは、溶媒中で実行される。ある態様において、溶媒は、ＤＣＭである。ある態様において、保護するというステップは、室温を下回る温度（例として、約−７８℃から−４０℃まで；約−７８℃から０℃まで；約−７８℃から室温まで）にて実行される。
【０２３１】
ある態様において、−ＯＲＰ７は、−ＯＴｆであり、およびＲＰ５は、ＴＥＳである；およびステップ（ｂ）は、Ｔｆ２Ｏおよび塩基の存在下で実行され、これに続きＴＥＳＯＴｆおよび塩基の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＤＣＭ中Ｔｆ２Ｏおよび２，４，６−コリジンの存在下で実行され、ＴＥＳＯＴｆの付加がこれに続く。ある態様において、反応は、以下の条件：ほぼ−７８℃にてＤＣＭ中およそ１．４当量のＴｆ２Ｏおよび５当量の２，４，６−コリジンの下で実行され、１．４当量のＴＥＳＯＴｆの付加およびほぼ−４０℃への加温がこれに続く。
【０２３２】
スキーム３Ａに示されるとおり、また本明細書に提供されるのには、式（R-4-11A）：
【化１１４】
2020536046.tif 000116
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（R-4-10）：
【化１１５】
2020536046.tif 000117
で表される化合物、またはその塩を環化させることを含み、式中：
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、任意置換アルキル、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化１１６】
2020536046.tif 000118
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、任意置換アルキル、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化１１７】
2020536046.tif 000119
を形成する；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０２３３】
ある態様において、方法は、式（E-R-3）：
【化１１８】
2020536046.tif 000120
で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（E-R-2）：
【化１１９】
2020536046.tif 000121
で表される化合物、またはその塩を生産することを含み、式中：
ＲＰ５の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０２３４】
ある態様において、式（R-4-10）、（E-R-3）で表される化合物、またはその塩を環化させるというステップは、無水物試薬の存在下で実行される。ある態様において、無水物試薬は、安息香酸無水物である。ある態様において、試薬は、ニトロ安息香酸無水物である。ある態様において、無水物は、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物（ＭＮＢＡ）である。無水物試薬は、触媒量、化学量論量、または過剰量で存在していてもよい。ある態様において、無水物試薬は、式（R-4-10）または（E-R-3）で表される化合物と比べて、過剰に（すなわち、１当量より多く）存在する。ある態様において、無水物は、およそ３当量で存在する。
【０２３５】
ある態様において、反応は、カルボキシル基−ＣＯ２Ｒ８または−ＣＯ２Ｈを活性化させることが可能な求核試薬の存在下で実行される。ある態様において、求核試薬は、ピリジンである。ある態様において、求核試薬は、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）である。ある態様において、求核試薬は、式（R-4-10）または（E-R-3）で表される化合物と比べて、過剰に（すなわち、１当量より多く）存在する。ある態様において、試薬は、およそ６当量で存在する。
【０２３６】
ある態様において、環化させるというステップは、塩基の存在下で実行される。ある態様において、塩基は、窒素塩基である。ある態様において、塩基は、アミン塩基である。ある態様において、塩基は、トリアルキルアミン塩基（例として、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン）である。ある態様において、塩基は、ヘテロアリール塩基（例として、ピリジン塩基、イミダゾール塩基）である。ある態様において、塩基は、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）である。ある態様において、塩基は、式（R-4-10）で表される化合物と比べて、過剰に（すなわち、１当量より多く）存在する。ある態様において、塩基は、およそ６当量で存在する。
【０２３７】
ある態様において、環化させるというステップは、溶媒（例として、トルエン）  中で実行される。ある態様において、反応は、室温を上回る温度にて実行される。ある態様において、脱保護は、ＤＣＭおよびＭｅＯＨ中で実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ１００℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ７０℃または８０℃にて実行される。
【０２３８】
ある態様において、環化させるというステップは、無水物試薬、求核試薬、および塩基の存在下で実行される。ある態様において、無水物試薬は、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物である。ある態様において、求核試薬は、ＤＭＡＰである。ある態様において、塩基は、ＤＩＰＥＡなどのトリアルキルアミン塩基である。ある態様において、ステップは、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物（ＭＮＢＡ）、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、およびジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）の存在下で実行される。
【０２３９】
例えば、ある態様において、環化させるというステップは、以下の条件：ほぼ７０℃にてトルエン中６当量 ＭＮＢＡ、１２当量 ＤＭＡＰ、および６当量 ＤＩＰＥＡの下で実行される。例えば、ある態様において、環化させるというステップは、以下の条件：ほぼ８０℃にて（例として、６時間）トルエン中３当量 ＭＮＢＡ、６当量 ＤＭＡＰ、および６当量 ＤＩＰＥＡの下で実行される。ある態様において、反応は、式（R-4-10）または（E-R-3）で表される化合物、またはその塩の、反応混合物へのゆっくりした添加（すなわち、滴加）を必然的に伴う。
【０２４０】
ある態様において、式（R-4-10）で表される化合物は、式（R-4-10A）：
【化１２０】
2020536046.tif 000122
で表される化合物、またはその塩である。
【０２４１】
ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１２１】
2020536046.tif 000123
で表される環を形成する；およびＲ８は、水素である。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１２２】
2020536046.tif 000124
で表される環を形成する；およびＲ８は、水素である。
【０２４２】
また本明細書に提供されるのには、式（R-4-10）：
【化１２３】
2020536046.tif 000125
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、ステップ：
（ａ）式（R-4-8）：
【化１２４】
2020536046.tif 000126
で表される化合物、またはその塩を、式（R-4-9）：
【化１２５】
2020536046.tif 000127
で表される化合物、またはその塩をカップリングさせることで、式（R-4-10B）：
【化１２６】
2020536046.tif 000128
で表される化合物、またはその塩を生産すること、これに続き
（ｂ）式（R-4-10B）で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（R-4-10）で表される化合物、またはその塩を生産することを含み、式中：
Ｘ３およびＸ２は各々、独立して、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化１２７】
2020536046.tif 000129
を形成する；
Ｒ６の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ６基は、一緒になって以下：
【化１２８】
2020536046.tif 000130
を形成する；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である；
ＲＸは、水素または−ＯＲＸａであり、ここでＲＸａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
ＲＹは、水素または−ＯＲＹａであり、ここでＲＹａは、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；
任意にここで、ＲＸａおよびＲＹａは、これらの介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０２４３】
ある態様において、方法は、以下：
（ａ）式（E-R-4）：
【化１２９】
2020536046.tif 000131
で表される化合物、またはその塩を、式（E-R-5）：
【化１３０】
2020536046.tif 000132
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（E-R-6）：
【化１３１】
2020536046.tif 000133
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ、これに続き
（ｂ）式（E-R-6）で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（E-R-7）：
【化１３２】
2020536046.tif 000134
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップを含み、式中：
Ｘ３およびＸ２は各々、独立して、ハロゲンまたは脱離基である；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０２４４】
ある態様において、上のステップ（ａ）（式（R-4-10B）、（E-R-6）で表される化合物、またはその塩を調製する）は、Ｎｉ／Ｃｒ媒介還元カップリング反応である；および上のステップ（ｂ）（式（R-4-10）、（E-R-7）で表される化合物、またはその塩を調製する）は、酸で促進されるかまたは塩基で促進される分子内フラン環化である。ステップ（ａ）および（ｂ）のための試薬および条件は、例として、2016年11月3日に公開された国際ＰＣＴ出願公開WO 2016/176560、および2016年1月7日に公開されたWO 2016/003975から見出され得るが、これらの内容全体は参照により本明細書に組み込まれる。
【０２４５】
Ｎｉ／Ｃｒ媒介還元カップリング（すなわち、ステップ（ａ））は、ニッケルおよびクロムの存在下で実行される。ある態様において、ニッケルは、ニッケル錯体である。ニッケル錯体の例は、これらに限定されないが、図９Ｂに示されるものを包含する。ある態様において、ニッケル錯体は、（Ｅｔ）２Ｐｈｅｎ・ＮｉＣｌ２である。ある態様において、ニッケル錯体は、以下：
【化１３３】
2020536046.tif 000135
である。ある態様において、ニッケル錯体は、触媒量で存在する。
【０２４６】
ある態様において、クロムは、クロム錯体である。ある態様において、クロム錯体は、クロム塩およびキラル配位子から調製される。ある態様において、クロム塩は、ＣｒＣｌ２またはＣｒＣｌ３である。ある態様において、キラル配位子は、キラルスルホンアミドである。キラル配位子の例は、これらに限定されないが、図９Ｂに示されるものを包含する。ある態様において、キラル配位子は、(S)-4-Gである。ある態様において、キラルスルホンアミド配位子は、以下：
【化１３４】
2020536046.tif 000136
のうちの１つで表される化合物、またはその塩である。ある態様において、クロム錯体は、触媒量で存在する。
【０２４７】
Ｎｉ／Ｃｒ媒介還元カップリングは、１以上の追加の試薬の存在下で実行されてもよい。ある態様において、カップリングさせることは、リチウム塩（例として、ＬｉＣｌまたはＬｉＢｒ）の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせることは、亜鉛またはマンガン（例として、亜鉛または金属マンガン）などの還元金属の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせることは、ジルコニウム（例として、ＺｒＣｐ２Ｃｌ２）の存在下で実行される。ある態様において、還元金属は、亜鉛金属である。ある態様において、金属は、金属マンガンである。ある態様において、カップリングさせることは、塩基またはプロトン捕捉剤（例として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジン）の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせることは、プロトン・スポンジ（例として、１，８−ビス（ジメチルアミノ）ナフタレン）の存在下で実行である。
【０２４８】
ある態様において、反応は、溶媒中で実行される。ある態様において、溶媒は、アセトニトリル（ＭｅＣＮ）である。ある態様において、脱保護は、ＤＣＭおよびＭｅＯＨ中で実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ１００℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ３０℃にて実行される。
【０２４９】
ある態様において、Ｎｉ／Ｃｒ媒介還元カップリングは、ニッケル錯体、クロム塩、スルホンアミド配位子、リチウム塩、ジルコニウム錯体、還元金属、および塩基またはプロトン捕捉剤の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせるというステップは、（Ｅｔ）２Ｐｈｅｎ・ＮｉＣｌ２、ＣｒＣｌ２、(S)-4-G、ＬｉＣｌ、ＺｒＣｐ２Ｃｌ２、金属マンガン、および塩基またはプロトン捕捉剤（例として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジン）の存在下で実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：ＭｅＣＮ中室温にて（例として、２時間）２ｍｏｌ％ （Ｅｔ）２Ｐｈｅｎ・ＮｉＣｌ２、１０ｍｏｌ％ ＣｒＣｌ２、１０ｍｏｌ％ 配位子（Ｓ）−４−Ｇ、２当量 ＬｉＣｌ、２．５当量 ＺｒＣｐ２Ｃｌ２、過剰な金属マンガン、および２．５当量 ２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジンの下で実行される。
【０２５０】
ある態様において、Ｎｉ／Ｃｒ媒介還元カップリングは、ニッケル錯体、クロム塩、スルホンアミド配位子、ジルコニウム錯体、還元金属、および塩基またはプロトン捕捉剤の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせることは、：式：
【化１３５】
2020536046.tif 000137
で表されるニッケル錯体、ＣｒＣｌ３、式：
【化１３６】
2020536046.tif 000138
で表されるスルホンアミド配位子、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、金属マンガン、および塩基またはプロトン捕捉剤（例として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジンおよび／またはプロトン・スポンジ（例として、１，８−ビス（ジメチルアミノ）ナフタレン））の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＭｅＣＮ中で実行される。ある態様において、反応は、ほぼ３０℃にて実行される。例えば、カップリングさせることは、以下の条件：ほぼ３０℃にてＭｅＣＮ中３ｍｏｌ％の式：
【化１３７】
2020536046.tif 000139
で表されるニッケル錯体、２０ｍｏｌ％ ＣｒＣｌ３、２０ｍｏｌ％の式：
【化１３８】
2020536046.tif 000140
で表されるスルホンアミド配位子、２．６当量 Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、２当量 金属マンガン、および２当量の２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジン、およびプロトン・スポンジの下で実行され得る。
【０２５１】
ある態様において、ステップ（ｂ）（式（R-4-10）、（E-R-7）で表される化合物、またはその塩を調製する）は、ルイス酸の存在下で実行される。ある態様において、ルイス酸は、ＡｇＯＴｆである。ある態様において、ルイス酸は、Ａｇ２Ｏである。ある態様において、ルイス酸は、ＳｒＣＯ３である。ルイス酸は、触媒量、化学量論量、または過剰量で存在していてもよい。他の態様において、ステップ（ｂ）は、塩基の存在下で実行される。ある態様において、塩基は、炭酸塩である。ある態様において、塩基は、炭酸カリウム（Ｋ２ＣＯ３）である。
【０２５２】
ある態様において、反応は、溶媒中で実行される。ある態様において、溶媒は、ＭｅＯＨである。ある態様において、溶媒は、ＭｅＣＮである。ある態様において、反応は、ＭｅＯＨおよび水中で実行される。ある態様において、反応は、室温を上回る温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ１００℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、５０〜６０℃にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ６０℃にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ５５℃にて実行される。
【０２５３】
ある態様において、フラン環化に影響を及ぼすのに加えて、反応条件は、エステル−ＣＯ２Ｒ８（ここでＲ８は、産物（E-R-7）または（R-4-10）中、水素である）を加水分解するのにも充分である。
【０２５４】
例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：６０℃にて（例として、３時間）ＭｅＣＮ中１０当量 Ｋ２ＣＯ３の下で実行される。ある態様において、反応は、ほぼ５５℃にてＭｅＯＨおよび水中Ｋ２ＣＯ３の存在下で実行される。別の例として、反応は、以下の条件：ほぼ５５℃にて（例として、２３時間）ＭｅＯＨおよび水中１０当量 Ｋ２ＣＯ３の下で実行され得る。
【０２５５】
ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１３９】
2020536046.tif 000141
で表される環を形成する；ＲＰ８は、水素である；およびＲ８は、任意置換アルキルまたは水素である。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１４０】
2020536046.tif 000142
で表される環を形成する；ＲＰ８は、水素である；およびＲ８は、メチルである。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１４１】
2020536046.tif 000143
で表される環を形成する；ＲＰ８は、水素である；およびＲ８は、水素である。
【０２５６】
スキーム３Ｂに示されるとおり、式（R-4-8）で表される化合物は、式（R-4-7）で表される化合物のエステル部分（−ＣＯ２Ｒ８）をアルデヒド部分へ還元することによって調製され得る。式（R-4-7）で表される化合物は、式（R-4-5B）で表される化合物を式（R-4-6）で表される化合物とカップリングさせ、付加体または脱保護形態の付加体の環化を介するピラン環の形成がこれに続くことによって調製され得る。次に、式（R-4-5B）で表される化合物は、式（R-4-5A）で表される化合物のエステル部分（−ＣＯ２Ｒ８）をアルデヒド部分へ還元することによって調製され得る。式（R-4-5A）で表される化合物は、式（R-4-4）で表される化合物の環化によって調製され得るが、これは、式（R-4-2）で表される化合物を式（R-4-3）で表されるオレフィンとカップリングさせることによって調製され得る。スキーム３Ｂに示されるとおり、式（R-4-2）で表される化合物は、式（R-4-1）で表される化合物のラクトンを還元することによって調製され得る。
スキーム３Ｂ
【化１４２】
2020536046.tif 000144
【０２５７】
スキーム３Ｂに示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（R-4-8）：
【化１４３】
2020536046.tif 000145
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（R-4-7）：
【化１４４】
2020536046.tif 000146
で表される化合物、またはその塩を還元することを含み、式中：
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化１４５】
2020536046.tif 000147
を形成する；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０２５８】
ある態様において、方法は、式（E-R-8）：
【化１４６】
2020536046.tif 000148
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（E-R-4）：
【化１４７】
2020536046.tif 000149
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップを含み、式中：
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０２５９】
式（R-4-7）、（E-R-8）で表される化合物、またはその塩を還元するというステップは、エステル基−ＣＯ２Ｒ８をアルデヒド基へ変換する。ある態様において、還元するというステップは、水素化物（すなわち、Ｈ−）供給源の存在下で実行される。当該技術分野において知られているいずれの水素化物供給源も、この転換において使用されてよい。水素化物供給源の例は、これらに限定されないが、水素化リチウムアルミニウム（ＬＡＨ）、水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ４）、水素化ホウ素リチウム、および水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）を包含する。ある態様において、水素化物供給源は、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）である。ある態様において、水素化物供給源は、化学量論量または過剰量で存在する。
【０２６０】
還元するというステップは任意に、−ＣＯ２Ｒ８部分をアルコールへ還元し、その結果得られるアルコールのアルデヒドへの酸化がこれに続くことで、式（R-4-7）、（E-R-8）で表される化合物、またはその塩を生産することを含んでもよい。
【０２６１】
ある態様において、還元するというステップは、ＤＩＢＡＬの存在下で実行される。ある態様において、反応は、溶媒中で実行される。ある態様において、溶媒は、ＤＣＭである。ある態様において、反応は、室温を下回る温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ−７８℃にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：ほぼ−７８℃にてＤＣＭ中ＤＩＢＡＬの下で実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：ほぼ−７８℃にて（例として、１〜２時間）ＤＣＭ中およそ２．３当量 ＤＩＢＡＬの下で実行される。
【０２６２】
ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１４８】
2020536046.tif 000150
で表される環を形成する；ＲＰ８は、水素である；およびＲ８は、任意置換アルキルである。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１４９】
2020536046.tif 000151
で表される環を形成する；ＲＰ８は、水素であり、およびＲ８は、エチルである。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１５０】
2020536046.tif 000152
で表される環を形成する；ＲＰ８は、水素であり、およびＲ８は、メチルである。
【０２６３】
スキーム３Ｂに示されるとおり、また本明細書に提供されるのには、式（R-4-7）：
【化１５１】
2020536046.tif 000153
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、以下：
式（R-4-5B）：
【化１５２】
2020536046.tif 000154
で表される化合物、またはその塩を、式（R-4-6）：
【化１５３】
2020536046.tif 000155
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（R-4-7A）：
【化１５４】
2020536046.tif 000156
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（a-i）式（R-4-7A）で表される化合物、またはその塩を脱保護および環化させることで、式（R-4-7）で表される化合物、またはその塩が与えられるというステップを含む；式中：
Ｒ３およびＲ５は各々、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
Ｒ４の各存在は、独立して、水素、ハロゲン、もしくは任意置換アルキルであるか、または２個のＲ４基は、一緒になって以下：
【化１５５】
2020536046.tif 000157
を形成する；
ＲＰ５、ＲＰ８、およびＲＰ９の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および任意に、ここで２個のＲＰ９基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０２６４】
ある態様において、式（R-4-5B）および（R-4-6）で表される化合物をカップリングさせるというステップ（すなわち、ステップ（ａ））の後、方法は、以下：
（ｂ）式（R-4-7A）で表される化合物、またはその塩を脱保護することで、式（R-4-7B）：
【化１５６】
2020536046.tif 000158
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｃ）環化させるこで、式（R-4-7C）：
【化１５７】
2020536046.tif 000159
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および任意に
（ｄ）式（R-4-7C）で表される化合物、またはその塩を１以上の酸素原子にて再保護することで、式（R-4-7B）：
【化１５８】
2020536046.tif 000160
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップを含む。
【０２６５】
ある態様において、方法は、以下：
（ａ）式（E-R-9）：
【化１５９】
2020536046.tif 000161
で表される化合物、またはその塩を、式（E-R-10）：
【化１６０】
2020536046.tif 000162
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（E-R-11）：
【化１６１】
2020536046.tif 000163
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｂ）式（E-R-11）で表される化合物、またはその塩を、基ＲＰ５およびＲＰ８を除去するのに充分な条件下で脱保護することで、式（E-R-12）：
【化１６２】
2020536046.tif 000164
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｃ）式（E-R-12）で表される化合物、またはその塩を脱保護および環化させることで、式（E-R-13）：
【化１６３】
2020536046.tif 000165
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｄ）式（E-R-13）で表される化合物、またはその塩を保護することで、式（E-R-14）：
【化１６４】
2020536046.tif 000166
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップを含む；式中：
ＲＰ５、ＲＰ８、およびＲＰ９の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および任意に、ここで２個のＲＰ９基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０２６６】
ある態様において、上のステップ（ａ）（式（R-4-7A）、（E-R-11）で表される化合物、またはその塩を調製する）は、Ｎｉ／Ｃｒ媒介還元カップリング反応である；およびステップ（a-i）または（ｃ）（式（R-4-7）、（E-R-13）で表される化合物、またはその塩を形成する）は、ケタール脱保護および酸で促進される分子内ピラン環化である。上のステップ（ａ）、（a-i）、および／または（ｃ）のための試薬および条件は、例として、2016年11月3日に公開された国際ＰＣＴ公開WO 2016/176560、および2016年1月7日に公開されたWO 2016/003975から見出され得る；これらの各々の内容全体は参照により本明細書に組み込まれる。
【０２６７】
Ｎｉ／Ｃｒ媒介還元カップリング（すなわち、ステップ（ａ））は、ニッケルおよびクロムの存在下で実行される。ある態様において、ニッケルは、ニッケル錯体である。ニッケル錯体の例は、これらに限定されないが、図９Ｂに示されるものを包含する。ある態様において、ニッケル錯体は、（Ｅｔ）２Ｐｈｅｎ・ＮｉＣｌ２である。ある態様において、ニッケル錯体は、以下：
【化１６５】
2020536046.tif 000167
である。ある態様において、ニッケル錯体は、触媒量で存在する。
【０２６８】
ある態様において、クロムは、クロム錯体である。ある態様において、クロム錯体は、クロム塩およびキラル配位子から調製される。ある態様において、クロム塩は、ＣｒＣｌ２またはＣｒＣｌ３である。ある態様において、キラル配位子は、キラルスルホンアミドである。キラル配位子の例は、これらに限定されないが、図９Ｂに示されるものを包含する。ある態様において、キラル配位子は、(S)-4-Gである。ある態様において、スルホンアミド配位子は、以下：
【化１６６】
2020536046.tif 000168
のうちの１つで表される化合物、またはその塩である。ある態様において、クロム錯体は、触媒量で存在する。
【０２６９】
Ｎｉ／Ｃｒ媒介還元カップリングは、１以上の追加の試薬の存在下で実行されてもよい。ある態様において、カップリングさせることは、リチウム塩（例として、ＬｉＣｌ）の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせることは、亜鉛またはマンガン（例として、亜鉛または金属マンガン）などの還元金属の存在下で実行される。ある態様において、還元金属は、亜鉛金属である。ある態様において、還元金属は、金属マンガンである。ある態様において、カップリングさせることは、ジルコニウム（例として、ＺｒＣｐ２Ｃｌ２）の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせることは、塩基またはプロトン捕捉剤（例として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジン）の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせることは、プロトン・スポンジ（例として、１，８−ビス（ジメチルアミノ）ナフタレン）の存在下で実行される。
【０２７０】
ある態様において、反応は、溶媒中で実行される。ある態様において、溶媒は、ＭｅＣＮである。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ１００℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ４０℃にて実行される。
【０２７１】
ある態様において、Ｎｉ／Ｃｒ媒介還元カップリングは、ニッケル錯体、クロム塩、スルホンアミド配位子、リチウム塩、ジルコニウム錯体、還元金属、および塩基またはプロトン捕捉剤の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせるというステップは、（Ｅｔ）２Ｐｈｅｎ・ＮｉＣｌ２、ＣｒＣｌ２、(S)-4-F、ＬｉＣｌ、金属マンガン、およびＺｒＣｐ２Ｃｌ２の存在下で実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にて（例として、３時間）ＭｅＣＮ中２ｍｏｌ％ （Ｅｔ）２Ｐｈｅｎ・ＮｉＣｌ２、１０ｍｏｌ％ ＣｒＣｌ２、１０ｍｏｌ％ 配位子(S)-4-F、２当量 ＬｉＣｌ、過剰な金属マンガン、２．５当量 ＺｒＣｐ２Ｃｌ２の下で実行される。
【０２７２】
ある態様において、カップリングさせることは、式：
【化１６７】
2020536046.tif 000169
で表されるニッケル錯体、ＣｒＣｌ２、式：
【化１６８】
2020536046.tif 000170
で表されるスルホンアミド配位子、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、金属マンガン、および塩基またはプロトン捕捉剤（例として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジンおよび／またはプロトン・スポンジ（例として、１，８−ビス（ジメチルアミノ）ナフタレン））の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ほぼ４０℃にてＭｅＣＮ中で実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：ほぼ４０℃にて（例として、１９時間）ＭｅＣＮ中０．５ｍｏｌ％以上の式：
【化１６９】
2020536046.tif 000171
で表されるニッケル錯体、２０ｍｏｌ％ ＣｒＣｌ２、２０ｍｏｌ％ 式：
【化１７０】
2020536046.tif 000172
で表されるスルホンアミド配位子、１．１当量 Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、４当量 金属マンガン、およびプロトン・スポンジの下で実行される。
【０２７３】
ある態様において、ＲＰ５およびＲＰ８は、シリル保護基である；およびステップ（ｂ）における脱保護は、フッ化物供給源の存在下で実行される。ある態様において、フッ化物供給源は、フッ化テトラブチルアンモニウム（ＴＢＡＦ）である。
【０２７４】
ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１７１】
2020536046.tif 000173
で表される環を形成する；２個のＲＰ９は、一緒に結び合って、以下：
【化１７２】
2020536046.tif 000174
を形成する；ＲＰ８は、任意置換ベンジルまたは任意置換シリル保護基である；およびＲ８は、任意置換アルキルである。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１７３】
2020536046.tif 000175
で表される環を形成する；２個のＲＰ９は、一緒に結び合って、
【化１７４】
2020536046.tif 000176
を形成する；ＲＰ８は、ＭＰＭである；Ｒ８は、エチルである。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１７５】
2020536046.tif 000177
で表される環を形成する；２個のＲＰ９は、一緒に結び合って、
【化１７６】
2020536046.tif 000178
を形成する；ＲＰ８は、ＴＢＳである；およびＲ８は、メチルである。
【０２７５】
ステップ（a-i）および（ｃ）（式（R-4-7）で表される化合物、（E-R-13）、またはその塩を形成する）におけるケタール脱保護および酸で促進される分子内ピラン環化は、出発材料のケタールを脱保護し、式（R-4-7）または（E-R-13）で表される化合物の新しい６員環を提供する環化反応がこれに続くことを伴う。脱保護および環化は、同じステップにおいてなされてもよく、または別個のステップにおいてなされてもよく、この場合どちらの順であってもよい。ある態様において、脱保護し環化させるというステップは、酸の存在下で（例として、ルイス酸またはブレンステッド酸）実行される。ある態様において、酸は、ルイス酸である。ある態様において、脱保護し環化させるというステップは、水素化物供給源の存在下で実行される。
【０２７６】
ある態様において、脱保護し環化させるというステップは、トリアルキルシリルスルホナートまたはトリアルキルシリルハロゲン化物の存在下で実行される。ある態様において、脱保護し環化させるというステップは、トリエチルシリルトリフルオロメチルスルホナート（ＴＥＳＯＴｆ）の存在下で実行される。ある態様において、脱保護し環化させるというステップは、トリメチルシリルトリフルオロメチルスルホナート（ＴＭＳＯＴｆ）の存在下で実行される。ある態様において、ＴＥＳＯＴｆまたはＴＭＳＯＴｆは、化学量論量または過剰量で存在する。
【０２７７】
ある態様において、脱保護し環化させるというステップは、トリアルキルシランの存在下で実行される。ある態様において、脱保護し環化させるというステップは、トリエチルシラン（Ｅｔ３ＳｉＨ）の存在下で実行される。ある態様において、Ｅｔ３ＳｉＨは、化学量論量または過剰量で存在する。
【０２７８】
ある態様において、反応は、溶媒（例として、ＣＨ２Ｃｌ２）中で実行される。ある態様において、反応は、室温を下回る温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃にて実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。
【０２７９】
ある態様において、脱保護し環化させるというステップは、ルイス酸および水素化物供給源の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＴＥＳＯＴｆおよびトリエチルシランの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ほぼ０℃にてＤＣＭ中ＴＥＳＯＴｆおよびトリエチルシランの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＴＭＳＯＴｆおよびトリエチルシランの存在下で実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ０℃までに及ぶ温度にてＤＣＭ中ＴＭＳＯＴｆおよびトリエチルシランの存在下で実行される。ある態様において、反応は、以下の条件：ほぼ０℃にて（例として、３時間）ＤＣＭ中１０当量 トリエチルシラン、５当量 ＴＥＳＯＴｆの下で実行される。別の例として、ある態様において、反応は、以下の条件：およそ−７８℃からおよそ０℃までに及ぶ温度にて（例として、１時間）ＤＣＭ中５当量 トリエチルシラン、５当量 ＴＭＳＯＴｆの下で実行される。
【０２８０】
ある態様において、式（R-4-7C）、（E-R-13）、またはその塩で表される化合物を再保護するというステップ（すなわち、ステップ（ｄ））は、ＲＰ５基を導入するために実行される。ある態様において、その結果得られるＲＰ５基は、一緒に結び合って、以下の式：
【化１７７】
2020536046.tif 000179
を形成する。ある態様において、ＲＰ５基は、以下の式：
【化１７８】
2020536046.tif 000180
で表される。ある態様において、反応は、ケタールまたはケトン；および酸の存在下で実行される。ある態様において、ケタールは、式：
【化１７９】
2020536046.tif 000181
（２，２−ジメトキシプロパン）で表される。ある態様において、酸は、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）である。ある態様において、反応は、２，２−ジメトキシプロパンおよびＰＰＴＳの存在下で実行される。ある態様において、反応は、溶媒（例として、ＴＨＦ）中で実行される。ある態様において、反応は、ほぼ４０℃にてＴＨＦおよびＰＰＴＳ中２，２−ジメトキシプロパンの存在下で実行される。ある態様において、保護は、以下の条件：ほぼ４０℃にて（例として、４〜５時間）ＴＨＦ中４当量 ２，２，−ジメトキシプロパンおよび５ｍｏｌ％ ＰＰＴＳの下で実行される。
【０２８１】
ある態様において、式（E-R-14）、（E-R-8）、（R-4-7）、または（R-4-7B）で表される化合物、またはその塩は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、ＯＤＳ（オクタデシルシリル）カラムクロマトグラフィー、および再結晶化のいずれの組み合わせによっても精製される。
【０２８２】
またスキーム３Ｂにおいても示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（R-4-5B）：
【化１８０】
2020536046.tif 000182
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（R-4-5A）：
【化１８１】
2020536046.tif 000183
で表される化合物、またはその塩を還元することを含み、式中：
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０２８３】
ある態様において、方法は、式（E-R-15）：
【化１８２】
2020536046.tif 000184
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（E-R-9）：
【化１８３】
2020536046.tif 000185
で表される化合物、またはその塩を生産することを含み、式中：
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０２８４】
（R-4-5A）、（E-R-15）で表される化合物、またはその塩を還元するというステップは、−ＣＯ２Ｒ８部分をアルデヒドへ変換する。ある態様において、還元するというステップは、水素化物（すなわち、Ｈ−）供給源の存在下で実行される。当該技術分野において知られているいずれの水素化物供給源も、この転換において使用されてもよい。水素化物供給源の例は、本明細書に提供されている。ある態様において、水素化物供給源は、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）である。ある態様において、化学量論量または過剰量のＤＩＢＡＬが、反応において使用される。
【０２８５】
還元するというステップは任意に、−ＣＯ２Ｒ８部分をアルコールへ還元すること、その結果得られるアルコールのアルデヒドへの酸化がこれに続くことで、式（R-4-5B）または（E-R-9）で表される化合物、またはその塩を生産することを含んでもよい。
【０２８６】
ある態様において、還元するというステップは、ＤＩＢＡＬの存在下で実行される。ある態様において、反応は、溶媒（例として、ＤＣＭ）中で実行される。ある態様において、反応は、室温を下回る温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ−７８℃にて実行される。ある態様において、反応は、およそ−７０℃からおよそ−７８℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：−７８℃にて（例として、１〜２時間）ＤＣＭ中ＤＩＢＡＬの下で実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：−７０℃〜−７８℃にて（例として、１〜２時間）ＤＣＭ中２．３当量 ＤＩＢＡＬの下で実行される。
【０２８７】
ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１８４】
2020536046.tif 000186
で表される環を形成する；ＲＰ８は、任意置換ベンジルまたは任意置換シリル保護基である；およびＲ８は、任意置換アルキルである。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１８５】
2020536046.tif 000187
で表される環を形成する；ＲＰ８は、ＭＰＭである；およびＲ８は、メチルである。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１８６】
2020536046.tif 000188
で表される環を形成する；ＲＰ８は、ＴＢＳである；およびＲ８は、メチルである。
【０２８８】
また本明細書に提供されるのには、式（R-4-5A）：
【化１８７】
2020536046.tif 000189
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（R-4-4）：
【化１８８】
2020536046.tif 000190
で表される化合物、またはその塩を環化させることを含み、式中：
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ５、ＲＰ８、およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０２８９】
ある態様において、方法は、式（E-R-16）：
【化１８９】
2020536046.tif 000191
で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（E-R-15）：
【化１９０】
2020536046.tif 000192
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップを含み、式中：
ＲＰ５およびＲＰ８の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０２９０】
ある態様において、式（R-4-4）または（E-R-16）で表される化合物、またはその塩を環化させるというステップは、塩基の存在下で実行される。いずれの塩基も、この環化反応において使用されてよい。ある態様において、塩基は、リン酸塩である。ある態様において、塩基は、リン酸カリウム（Ｋ３ＰＯ４）である。ある態様において、塩基は、１当量以下で存在する。ある態様において、塩基は、過剰量で存在する。
【０２９１】
ある態様において、環化させるというステップは、金属キレーターなどの１以上の追加の試薬の存在下で実行される。ある態様において、反応は、クラウンエーテル（例として、１８−クラウン−６）の存在下で実行される。ある態様において、反応は、１８−クラウン−６の存在下で実行される。ある態様において、１当量以下の１８−クラウン−６が使用される。
【０２９２】
ある態様において、反応は、溶媒の存在下で実行される。ある態様において、溶媒は、トルエンおよび／またはＭｅＯＡｃである。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、０℃から室温までにて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行される。
【０２９３】
ある態様において、環化させるというステップは、塩基およびクラウンエーテルの存在下で実行される。ある態様において、反応は、Ｋ３ＰＯ４および１８−クラウン−の存在下で実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にてトルエン中１当量 Ｋ３ＰＯ４、３当量 １８−クラウン−６の下で実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：ほぼ３℃にて（例として、１〜２時間）トルエンおよびＭｅＯＡｃ中０．３当量 Ｋ３ＰＯ４、０．９当量 １８−クラウン−６の下で実行される。
【０２９４】
ある態様において、式（R-4-4）で表される化合物は、式（R-4-4A）：
【化１９１】
2020536046.tif 000193
で表される化合物、またはその塩である。
【０２９５】
ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１９２】
2020536046.tif 000194
で表される環を形成する；ＲＰ８は、任意置換ベンジルまたは任意置換シリル保護基である；およびＲ８は、任意置換アルキルである。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１９３】
2020536046.tif 000195
で表される環を形成する；ＲＰ８は、ＭＰＭである；およびＲ８は、メチルである。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化１９４】
2020536046.tif 000196
で表される環を形成する；ＲＰ８は、ＴＢＳである；およびＲ８は、メチルである。
【０２９６】
ある態様において、式（R-4-5A）または（E-R-15）で表される化合物、またはその塩は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーおよび／または再結晶化によって精製される。
【０２９７】
また本明細書に提供されるのには、式（R-4-4）：
【化１９５】
2020536046.tif 000197
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（R-4-2）：
【化１９６】
2020536046.tif 000198
で表される化合物、またはその塩を、式（R-4-3）：
【化１９７】
2020536046.tif 000199
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることを含み、式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０２９８】
ある態様において、式（R-4-2）で表される化合物および式（R-4-3）で表される化合物をカップリングさせることは、式（R-4-4A）：
【化１９８】
2020536046.tif 000200
で表される化合物、またはその塩を生産し、および（R-4-4）で表される化合物、またはその塩を調製する方法は、式（R-4-4A）で表される化合物、またはその塩の酸素原子を保護する（例として、基ＲＰ８を導入する）ことを含む。方法はさらに、化合物を脱保護することで、保護基ＲＰ１０を除去するというステップを含んでもよい。
【０２９９】
ある態様において、方法は、式（E-R-17）：
【化１９９】
2020536046.tif 000201
で表される化合物、またはその塩を、式（R-4-3）：
【化２００】
2020536046.tif 000202
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせることで、式（E-R-18）：
【化２０１】
2020536046.tif 000203
で表される化合物、またはその塩を生産することを含み、式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３００】
ある態様において、方法は、（ａ）式（E-R-18）で表される化合物、またはその塩の遊離ヒドロキシル基を保護するというステップ；および（ｂ）その結果得られる化合物を脱保護することで、基ＲＰ１０を除去するというステップをさらに含む。
【０３０１】
ある態様において、式（R-4-2）で表される化合物および式（R-4-3）で表される化合物をカップリングさせることで、式（R-4-4）で表される化合物を生産すること（あるいは、式（E-R-17）で表される化合物および式（R-4-3）で表される化合物をカップリングさせることで、式（E-R-18）で表される化合物を生産すること）は、Ｎｉ／Ｃｒ媒介カップリングである。Ｎｉ／Ｃｒ媒介還元カップリングは、ニッケルおよびクロムの存在下で実行される。ある態様において、ニッケルは、ニッケル錯体である。ニッケル錯体の例は、これらに限定されないが、図９Ｂに示されるものを包含する。ある態様において、ニッケル錯体は、（Ｍｅ）２Ｐｈｅｎ（ＯＭｅ）２・ＮｉＣｌ２である。ある態様において、ニッケル錯体は、触媒量で存在する。ある態様において、ニッケル錯体は、以下：
【化２０２】
2020536046.tif 000204
である。
【０３０２】
ある態様において、クロムは、クロム錯体である。ある態様において、クロム錯体は、クロム塩およびキラル配位子から調製される。ある態様において、クロム塩は、ＣｒＣｌ３またはＣｒＣｌ２である。ある態様において、キラル配位子は、キラルスルホンアミドである。キラル配位子の例は、これらに限定されないが、図９Ｂに示されるものを包含する。ある態様において、キラル配位子は、（Ｒ）−４−Ｅである。ある態様において、クロム錯体は、触媒量で存在する。ある態様において、スルホンアミド配位子は、以下：
【化２０３】
2020536046.tif 000205
のうちの１つで表される化合物、またはその塩である。
【０３０３】
Ｎｉ／Ｃｒ媒介還元カップリングは、１以上の追加の試薬の存在下で実行されてもよい。ある態様において、カップリングさせることは、リチウム塩（例として、ＬｉＣｌ）の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせることは、亜鉛またはマンガン（例として、亜鉛または金属マンガン）などの還元金属の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせることは、ジルコニウム（例として、ＺｒＣｐ２Ｃｌ２）の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせることは、塩基またはプロトン捕捉剤（例として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジンまたは２，６−ルチジン）の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせることは、プロトン・スポンジ（例として、１，８−ビス（ジメチルアミノ）ナフタレン）の存在下で実行である。
【０３０４】
ある態様において、反応は、溶媒（例として、ＭｅＣＮ）中で実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ１００℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ３０℃にて実行される。
【０３０５】
ある態様において、Ｎｉ／Ｃｒ媒介還元カップリングは、ニッケル錯体、クロム塩、スルホンアミド配位子、リチウム塩、ジルコニウム錯体、還元金属、および塩基またはプロトン捕捉剤の存在下で実行される。ある態様において、カップリングさせるというステップは、（Ｍｅ）２Ｐｈｅｎ（ＯＭｅ）２・ＮｉＣｌ２、ＣｒＣｌ２、配位子(S)-4-E、ＬｉＣｌ、金属マンガン、２，６−ルチジン、およびＺｒＣｐ２Ｃｌ２の存在下で実行される。ある態様において、反応は、溶媒（例として、ＭｅＣＮ）中で実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にてＭｅＣＮ中２ｍｏｌ％ （Ｍｅ）２Ｐｈｅｎ（ＯＭｅ）２・ＮｉＣｌ２、１０ｍｏｌ％ ＣｒＣｌ２、１０ｍｏｌ％ 配位子(S)-4-E、２当量 ＬｉＣｌ、１．１当量 Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、１当量 ２，６−ルチジン、および過剰なマンガンの下で実行される。
【０３０６】
ある態様において、カップリングさせることは、式：
【化２０４】
2020536046.tif 000206
で表されるニッケル錯体、ＣｒＣｌ２、式：
【化２０５】
2020536046.tif 000207
で表されるスルホンアミド配位子、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、金属マンガン、および塩基またはプロトン捕捉剤（例として、２，６−ルチジンおよび／またはプロトン・スポンジ（例として、１，８−ビス（ジメチルアミノ）ナフタレン））の存在下で実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：ほぼ３０℃にて（例として、２〜３時間）ＭｅＣＮ中０．５ｍｏｌ％の式：
【化２０６】
2020536046.tif 000208
で表されるニッケル錯体、２０ｍｌ％ ＣｒＣｌ２、２０ｍｏｌ％の式：
【化２０７】
2020536046.tif 000209
で表されるスルホンアミド配位子、１．１当量 Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、４当量 金属マンガン、２当量 ２，６−ルチジン、およびプロトン・スポンジの下で実行される。
【０３０７】
ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化２０８】
2020536046.tif 000210
で表される環を形成する；ＲＰ８は、任意置換ベンジルまたは任意置換シリル保護基である；Ｒ８は、任意置換アルキルである；およびＲＰ１０は、シリル保護基である。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化２０９】
2020536046.tif 000211
で表される環を形成する；ＲＰ８は、ＭＰＭである；Ｒ８は、メチルである；およびＲＰ１０は、ＴＥＳである。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化２１０】
2020536046.tif 000212
で表される環を形成する；ＲＰ８は、ＴＢＳである；Ｒ８は、メチルである；およびＲＰ１０は、ＴＥＳである。
【０３０８】
本明細書に提供されるのは、式（R-4-2）：
【化２１１】
2020536046.tif 000213
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（R-4-1）：
【化２１２】
2020536046.tif 000214
で表される化合物、またはその塩を還元することを含み、式中：
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する。
【０３０９】
ある態様において、式（R-4-2）で表される化合物、またはその塩を調製する方法は、以下を含む：
式（R-4-1）：
【化２１３】
2020536046.tif 000215
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（R-4-1A）：
【化２１４】
2020536046.tif 000216
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
式（R-4-1）で表される化合物、またはその塩を保護することで、式（R-4-1B）：
【化２１５】
2020536046.tif 000217
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
式（R-4-1B）で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（R-4-2）で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ。
【０３１０】
（R-4-2）で表される化合物、またはその塩を還元するというステップは、化合物のラクトンを還元する。ある態様において、還元するというステップは、水素化物（すなわち、Ｈ−）供給源の存在下で実行される。当該技術分野において知られているいずれの水素化物供給源も、この転換において使用されてよい。水素化物供給源の例は、本明細書に提供されている。ある態様において、水素化物供給源は、水素化ホウ素リチウム（ＬｉＢＨ４）である。ある態様において、酸化するというステップ（すなわち、ステップ（ｃ））は、スワーン酸化を伴う。
【０３１１】
ある態様において、還元するというステップは、ＬｉＢＨ４の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ジエチルエーテルなどの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：０℃にてジエチルエーテル中ＬｉＢＨ４の下で実行される。
【０３１２】
ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化２１６】
2020536046.tif 000218
で表される環を形成する；およびＲＰ１０は、シリル保護基である。ある態様において、２個のＲＰ５は、介在原子とともに結び合って、式：
【化２１７】
2020536046.tif 000219
で表される環を形成する；およびＲＰ１０は、ＴＥＳである。
【０３１３】
また本明細書に提供されるのには、式（R-4-2）で表される化合物、またはその塩を調製する代替方法もあり、以下：
（ａ）式（R-4-1）：
【化２１８】
2020536046.tif 000220
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（R-4-2）：
【化２１９】
2020536046.tif 000221
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｂ）式（R-4-2A）で表される化合物、またはその塩をオレフィン化することで、式（R-4-2B）：
【化２２０】
2020536046.tif 000222
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｃ）式（R-4-2B）で表される化合物、またはその塩を保護することで、式（R-4-2C）：
【化２２１】
2020536046.tif 000223
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｄ）式（R-4-2C）で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（R-4-2）：
【化２２２】
2020536046.tif 000224
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップを含み、式中：
Ｒ３は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する。
【０３１４】
ある態様において、方法は、以下：
（ａ）式（E-R-19）：
【化２２３】
2020536046.tif 000225
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（E-R-20）：
【化２２４】
2020536046.tif 000226
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｂ）式（E-R-20）で表される化合物、またはその塩をオレフィン化することで、式（E-R-21）：
【化２２５】
2020536046.tif 000227
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；
（ｃ）式（E-R-21）で表される化合物、またはその塩を保護することで、式（E-R-22）：
【化２２６】
2020536046.tif 000228
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｄ）式（E-R-22）で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（E-R-17）：
【化２２７】
2020536046.tif 000229
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップを含み、式中：
ＲＰ５およびＲＰ１０の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ５基は、介在原子と一緒に結び合って、任意置換ヘテロシクリル環を形成する。
【０３１５】
ある態様において、式（R-4-1）、（E-R-19）で表される化合物、またはその塩を還元するというステップ（すなわち、ステップ（ａ））は、水素化物供給源の存在下で実行される。水素化物供給源の例は、本明細書に提供されている。ある態様において、水素化物供給源は、水素化ホウ素リチウム（ＬｉＢＨ４）である。ある態様において、水素化物供給源は、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）である。ある態様において、反応は、溶媒（例として、トルエン）中で実行される。ある態様において、反応は、トルエン中ＤＩＢＡＬの存在下で実行される。ある態様において、反応は、およそ室温からおよそ−７８℃まで、およそ０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、以下の条件：−７８℃から−６０℃までにて（例として、１時間未満）トルエン中およそ１．３当量のＤＩＢＡＬの下で実行される。
【０３１６】
ある態様において、式（R-4-2A）、（E-R-20）で表される化合物、またはその塩をオレフィン化するというステップ（すなわち、ステップ（ｂ））は、オレフィン化試薬および塩基の存在下で実行される。ある態様において、オレフィン化試薬は、Ｐｈ３ＰＣＨ３Ｂｒである。ある態様において、塩基は、アルコキシドである。ある態様において、塩基は、ｔ−ＢｕＯＫである。ある態様において、オレフィン化するというステップは、Ｐｈ３ＰＣＨ３Ｂｒおよびｔ−ＢｕＯＫの存在下で実行される。ある態様において、反応は、溶媒（例として、ＴＨＦ）中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、オレフィン化するというステップは、以下の条件：０℃から１０℃までにて（例として、１時間未満）ＴＨＦ中４当量 Ｐｈ３ＰＣＨ３Ｂｒ、３当量 ｔ−ＢｕＯＫの下で実行される。
【０３１７】
ある態様において、ＲＰ１０は、シリル保護基である；および保護するというステップ（ｃ）は、シリル化試薬およびアミン塩基の存在下で実行される。ある態様において、ＲＰ１０は、ＴＥＳである；およびシリル化試薬は、ＴＥＳＯＴｆである。ある態様において、アミン塩基は、トリエチルアミン（ＴＥＡ）である。ある態様において、保護するというステップは、ＴＥＳＯＴｆおよびＴＥＡの存在下で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、保護するというステップは、０℃から１０℃までにて（例として、１時間未満）ＴＨＦ中ＴＥＳＯＴｆおよびＴＥＡの存在下で実行される。
【０３１８】
ある態様において、式（R-4-2C）、（E-R-22）で表される化合物、またはその塩を酸化するというステップは、ジョンソン・レミュー酸化的開裂である。例えば、ある態様において、反応は、四酸化オスミウム（ＯｓＯ４）またはＫ２ＯｓＯ４；およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド（ＮＭＯ）の存在下で実行される。ある態様において、反応は、過ヨウ素酸ナトリウム（ＮａＩＯ４）または酢酸鉛Ｐｂ（ＯＡｃ）４の存在下で実行される。ある態様において、反応は、四酸化オスミウム（ＯｓＯ４）およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド（ＮＭＯ）の存在下で実行され、これに続き過ヨウ素酸ナトリウム（ＮａＩＯ４）の存在下で実行される。ある態様において、酸化するというステップは、ＴＨＦ、アセトン、および／または水の存在下で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。例えば、ある態様において、酸化するというステップは、以下の条件：室温にて（例として、１９時間）ＴＨＦ／アセトン／水中２５当量 ＯｓＯ４および３当量 ＮＭＯ、これに続く室温にて（例として、１時間未満）３当量 ＮａＩＯ４の添加の下で実行される。
【０３１９】
左半分の調製
本明細書に記載のとおり、ハリコンドリン天然産物およびそれらの類似体の調製は、「左半分」フラグメントの、「右半分」フラグメントとのカップリングを含んでもよい。右半分構成ブロックの調製において有用な方法は、上に提供されている。別の側面において、本発明は、「左方の」構成ブロック、およびそれらの調製において有用な方法を提供する。
【０３２０】
ハリコンドリンの左半分の調製
本明細書に提供されるのは、ハリコンドリンおよびそれらの類似体の「左半分」構成ブロックの調製において有用な方法である。例えば、ハリコンドリン系（例として、ハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ、およびそれらの類似体）における化合物の左半分は、スキーム４Ａに示されるとおりに調製され得る。例えば、式（L-2-14）で表される左半分構成ブロックは、式（L-5-17）で表される化合物のチオール化によって調製され得るが、これは、式（L-5-16B）で表される化合物を環化させることによって調製され得る。この目的に向けて(To this end)、式（L-5-16B）で表される化合物は、式（L-5-16A）で表される化合物の環化によって調製され得るが、これは、酸化およびオレフィン化を介して式（L-5-15）で表される中間体から調製され得る。またスキーム４Ａにおいても示されるとおり、式（L-5-15）で表される中間体は、式（L-5-14）で表される化合物の転位によって調製され得る。式（L-5-14）で表される化合物は、式（L-5-12）で表される化合物を式（L-5-5）で表される化合物とカップリングさせることによって調製され得る。式（L-5-12）で表される化合物は、式（L-5-11）で表される化合物のエポキシ化によって調製され得るが、これは、式（L-5-10）で表される化合物を式（L-5-9）で表される化合物とカップリングさせることによって調製されてもよい。
スキーム４Ａ
【化２２８】
2020536046.tif 000230
【０３２１】
スキーム４Ａに示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（L-2-14）：
【化２２９】
2020536046.tif 000231
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-5-17）：
【化２３０】
2020536046.tif 000232
で表される化合物、またはその塩を、チオール化剤の存在下で反応させるというステップを含む；式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、およびＲＰ４は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３２２】
本明細書に記載のとおり、式（L-2-14）で表される化合物を形成するというステップは、式（L-5-17）で表される化合物をチオール化剤の存在下で反応させることを含む。当該技術分野において知られているいずれのチオール化剤も、この目的に向けて使用されてもよい。ある態様において、チオール化剤は、ジスルフィドである。ある態様において、チオール化剤は、式（ＲＳＳ）２で表される。ある態様において、チオール化剤は、式（ピリジン−Ｓ）２で表される。ある態様において、チオール化剤は、以下：
【化２３１】
2020536046.tif 000233
である。
【０３２３】
ある態様において、式（L-5-17）で表される化合物をチオール化するというステップは、１以上の追加の試薬の存在下で実行される。ある態様において、チオール化するというステップは、ホスフィン試薬（例として、トリフェニルホスフィン（Ｐｈ３Ｐ））の存在下で実行される。
【０３２４】
ある態様において、チオール化するというステップは、ジスルフィドおよびホスフィンの存在下で実行される。ある態様において、反応は、（Ｐｙ−Ｓ）２およびＰｈ３Ｐの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＣＨ２Ｃｌ２などの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温にて実行される。例えば、ある態様において、チオール化するというステップは、以下の条件：室温にて（例として、１０〜２０時間）ＣＨ２Ｃｌ２中１．４当量の（Ｐｙ−Ｓ）２、１．２当量のＰｈ３Ｐの下で実行される。
【０３２５】
ある態様において、式（L-5-17）で表される化合物、またはその塩をチオール化する方法は、以下：
式（L-5-17）で表される化合物、またはその塩を脱保護することで、式（L-5-17B）：
【化２３２】
2020536046.tif 000234
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
式（L-5-17B）で表される化合物、またはその塩をチオール化することで、式（L-2-14）で表される化合物、またはその塩を生産するというステップを含む。
【０３２６】
ある態様において、ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、およびＲＰ４は、シリル保護基である。ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２は、ＴＢＳである；およびＲＰ３およびＲＰ４は、ＴＥＳである。
【０３２７】
またスキーム４Ａにおいても示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（L-5-17）：
【化２３３】
2020536046.tif 000235
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-5-16B）：
【化２３４】
2020536046.tif 000236
で表される化合物、またはその塩を環化させるというステップを含む；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、およびＲＰ４は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３２８】
ある態様において、式（7-5-16B）で表される化合物を環化させるというステップは、塩基の存在下で実行される。ある態様において、塩基は、窒素塩基である。ある態様において、塩基は、アミン塩基またはアミド塩基である。ある態様において、塩基は、アミジン塩基またはグアニジン塩基である。ある態様において、塩基は、アミジン塩基（例として、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ））である。ある態様において、環化させるというステップは、酸の存在下で実行される。ある態様において、酸は、ルイス酸である。ある態様において、酸は、ブレンステッド酸である。
【０３２９】
ある態様において、環化させるというステップは、リチウム塩（例として、ＬｉＢｒ、ＬｉＣｌ）の存在下で実行される。環化させるというステップは、１以上の追加の試薬の存在下で実行されてもよい。ある態様において、環化させるというステップは、Ｒ８−ＯＡｃの存在下で実行される。ある態様において、環化させるというステップは、ＢｎＯＡｃの存在下で実行される。
【０３３０】
ある態様において、環化させるというステップは、リチウム塩、および塩基の存在下で実行される。ある態様において、環化させるというステップは、ＬｉＢｒおよびＤＢＵの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＭｅＣＮなどの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にて（例として、１０〜２０時間）ＭｅＣＮ中１０当量 ＬｉＢｒ、５当量 ＤＢＵ、および１０当量 ＢｎＯＡｃの下で実行である。
【０３３１】
ある態様において、ＲＰ１、ＲＰ２、およびＲＰ３は、シリル保護基である；およびＲＰ４およびＲＰ８は、任意置換ベンジルである。ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２は、ＴＢＳである；ＲＰ３は、ＴＥＳである；ＲＰ４は、ＭＰＭ；およびＲ８は、ベンジルである。
【０３３２】
ある態様において、式（L-5-17）で表される化合物、またはその塩は、脱保護されることで、基ＲＰ４が除去され、式（L-5-17C）：
【化２３５】
2020536046.tif 000237
で表される化合物、またはその塩が生産される；および任意に、再保護する（すなわち、基ＲＰ４を、例として、ベンジル保護基（例として、ＭＰＭ）から、シリル保護基（例として、トリエチルシリルなどのトリアルキルシリル）へ切り替える）。
【０３３３】
本明細書に提供されるのは、式（L-5-16B）：
【化２３６】
2020536046.tif 000238
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、以下：
（ａ）式（L-5-15）：
【化２３７】
2020536046.tif 000239
で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（L-5-15B）：
【化２３８】
2020536046.tif 000240
で表される化合物、またはその塩を与えるというステップ；および
（ｂ）式（L-5-15B）で表される化合物、またはその塩を、オレフィンおよびオレフィンメタセシス触媒の存在下で反応させることで、式（L-5-16B）で表される化合物を生産するというステップを含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３３４】
ある態様において、オレフィンは、式：
【化２３９】
2020536046.tif 000241
で表される。さらにまた、当該技術分野において知られているいずれのオレフィンメタセシス触媒も、式（L-5-16B）で表される化合物を供給するメタセシス反応においても使用されてよい。
【０３３５】
ある態様において、ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ１０、およびＲＰ３は、シリル保護基である；およびＲＰ４は、任意置換ベンジルである。ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２は、ＴＢＳである；およびＲＰ３は、ＴＥＳである；ＲＰ４は、ＭＰＭである；およびＲＰ１０は、ＴＥＳである。
【０３３６】
本明細書に提供されるのは、式（L-5-16B）：
【化２４０】
2020536046.tif 000242
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-5-16A）：
【化２４１】
2020536046.tif 000243
で表される化合物、またはその塩を環化させるというステップを含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ  ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３３７】
ある態様において、式（L-5-16A）で表される化合物、またはその塩を環化させるというステップは、塩基の存在下で実行される。ある態様において、環化させるというステップは、酸（例として、ルイス酸またはブレンステッド酸）の存在下で実行される。ある態様において、酸は、リン酸である。ある態様において、酸は、リン酸ジフェニル（（ＰｈＯ）２Ｐ（＝Ｏ）ＯＨ）である。ある態様において、酸は、式（L-5-16A）で表される化合物と比べて、触媒量、化学量論量、または過剰量で存在する。ある態様において、酸は、触媒量（例として、およそ５ｍｏｌ％）で存在する。
【０３３８】
ある態様において、環化させるというステップは、リン酸ジフェニルの存在下で実行される。ある態様において、環化させるというステップは、ＴＨＦ、またはＴＨＦとＨ２Ｏとの混合物などの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にて（例として、およそ２４時間）ＴＨＦ−Ｈ２Ｏ中５ｍｏｌ％ リン酸ジフェニルの下で実行される。
【０３３９】
また本明細書に提供されるのには、式（L-5-16A）：
【化２４２】
2020536046.tif 000244
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、以下：
（ａ）式（L-5-15）：
【化２４３】
2020536046.tif 000245
で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（L-5-15B）もしくは（L-5-15BB）：
【化２４４】
2020536046.tif 000246
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-15B）または（L-5-15BB）で表される化合物、またはその塩を、オレフィン化試薬の存在下で反応させることで、式（L-5-15C）：
【化２４５】
2020536046.tif 000247
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップを含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３４０】
上のステップ（ａ）における反応は、酸化的開裂である；ステップ（ｂ）における反応は、オレフィン化反応である。ある態様において、酸化的開裂は、オゾン分解を介して（例として、Ｏ３の存在下で）実行される。ある態様において、切断は、二重結合をジヒドロキシル化することが可能な１以上の試薬（例として、四酸化オスミウム（ＯｓＯ４）、Ｎ−メチルモルホリンＮ−オキシド（ＮＭＭＯ））の存在下で実行され、これに続き遷移金属（例として、Ｐｂ（ＯＡｃ）４などの鉛錯体）の存在下で実行される。ある態様において、二重結合は、ＯｓＯ４、ＮＭＭＯ、および水での処置によってジヒドロキシル化される。ある態様において、反応は、アセトンなどの溶媒の存在下で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温にて実行される。例えば、ある態様において、二重結合は、以下の条件：室温にて（例として、２０〜２５時間）アセトン中１０ｍｏｌ％ ＯｓＯ４、２当量 ＮＭＭＯ、および水の下でジヒドロキシル化される。その結果得られる化合物はある態様において、次いで、Ｐｂ（ＯＡｃ）４およびＫ２ＣＯ３で処置されることで、アルデヒドまたはヘミアセタールを生産する。例えば、ある態様において、このステップは、以下の条件：室温にて（例として、およそ１時間）ＣＨ２Ｃｌ２中１．２当量 Ｐｂ（ＯＡｃ）４、３当量 Ｋ２ＣＯ３の下で実行される。
【０３４１】
ある態様において、オレフィン化は、ウィッティヒ(Wittig)試薬またはホーナー・ワズワース・エモンズ(Horner-Wadsworth Emmons)試薬の存在下で実行される。ある態様において、オレフィン化は、式：（ＲＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８で表される試薬の存在下で実行される。ある態様において、試薬は、式：（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８（例として、（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｂｎ）で表される。ある態様において、オレフィン化は、塩基（例として、Ｋ３ＰＯ４などのリン酸塩）の存在下で実行される。
【０３４２】
ある態様において、オレフィン化は、式：（ＲＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８で表されるオレフィン化試薬、および塩基の存在下で実行される。ある態様において、オレフィン化は、（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２ＢｎおよびＫ３ＰＯ４の存在下で実行される。ある態様において、反応は、トルエンなどの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にて（例として、約２０〜２５時間）トルエン中４当量 （ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｂｎ、３当量 Ｋ３ＰＯ４の下で実行される。
【０３４３】
ある態様において、ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、およびＲＰ１０は、シリル保護基である；およびＲＰ４およびＲ８は、任意置換ベンジルである。ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２は、ＴＢＳである；ＲＰ３およびＲＰ１０は、ＴＥＳである；ＲＰ４は、ＭＰＭである；およびＲ８は、ベンジルである。
【０３４４】
本明細書に提供されるのは、式（L-5-15）：
【化２４６】
2020536046.tif 000248
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-5-14）：
【化２４７】
2020536046.tif 000249
で表される化合物、またはその塩を、酸または塩基の存在下で反応させるというステップを含み、式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３４５】
上に記載のとおり、式（L-5-15）で表される化合物、またはその塩を形成する方法は、式（L-5-14）で表される化合物、またはその塩を、酸または塩基の存在下で反応させるという反応ステップを伴う。ある態様において、酸が使用される。酸は、ルイス酸であっても、またはブレンステッド酸であってもよい。ある態様において、酸は、ブレンステッド酸である。ある態様において、酸は、リン酸（例として、リン酸、リン酸ジフェニル）である。ある態様において、酸は、リン酸ジフェニル（（ＰｈＯ）２Ｐ（＝Ｏ）ＯＨ）である。ある態様において、反応は、トルエンなどの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃から室温までで実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：０℃から室温まで（例として、１０〜１５時間にわたって）トルエン中５ｍｏｌ％ （ＰｈＯ）２Ｐ（＝Ｏ）ＯＨの下で実行される。
【０３４６】
ある態様において、式（L-5-15）で表される化合物は、式（L-5-15A）：
【化２４８】
2020536046.tif 000250
で表される化合物、またはその塩であって、および方法はさらに、式（L-5-15A）で表される化合物、またはその塩を保護することで、式（L-5-15）で表される化合物を生産する（例として、基ＲＰ３を導入する（ここで基ＲＰ３は、酸素保護基である））というステップを含む。
【０３４７】
ある態様において、ＲＰ１、ＲＰ２、およびＲＰ１０は、シリル保護基である；およびＲＰ４は、任意置換ベンジルである。ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２は、ＴＢＳである；ＲＰ１０は、ＴＥＳである；およびＲＰ４は、ＭＰＭである。
【０３４８】
スキーム４Ａに示されるとおり、また本明細書に提供されるのには、式（L-5-14）：
【化２４９】
2020536046.tif 000251
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（L-5-12）：
【化２５０】
2020536046.tif 000252
で表される化合物、またはその塩を、式（L-5-5）：
【化２５１】
2020536046.tif 000253
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせるというステップを含み、式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ４、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３４９】
ある態様において、式（L-5-12）で表される化合物を式（L-5-5）で表される化合物とカップリングさせることは、有機金属試薬（例として、式（L-5-12）で表される化合物への付加のため、Ｘ４を金属へ変換する）の存在下で実行される。ある態様において、有機金属試薬は、リチウム試薬である（例として、式（L-5-12）で表される化合物への付加のため、式（L-5-5）で表される化合物を式：
【化２５２】
2020536046.tif 000254
で表される化合物へ変換する）。ある態様において、リチウム試薬は、有機リチウム（例として、ｎ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム）である。ある態様において、リチウム試薬は、ＬｉＨＭＤＳまたはＬＤＡである。ある態様において、反応は、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＴＨＦなどの溶媒中で実施される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、−７８℃〜室温にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、ＴＨＦ中２．６当量のｔｅｒｔ−ブチルリチウムで−７８℃から室温まで（例として、１時間未満にわたって）実行される。
【０３５０】
ある態様において、ＲＰ１、ＲＰ２、およびＲＰ１０は、シリル保護基である；およびＲＰ４は、任意置換ベンジルである。ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２は、ＴＢＳである；ＲＰ１０は、ＴＥＳである；およびＲＰ４は、ＭＰＭである。
【０３５１】
また本明細書に提供されるのには、式（L-5-12）：
【化２５３】
2020536046.tif 000255
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（L-5-11）：
【化２５４】
2020536046.tif 000256
で表される化合物、またはその塩をエポキシ化するというステップを含み、式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３５２】
いずれのエポキシ化試薬も、上に記載のエポキシ化するというステップにおいて使用されてよい。ある態様において、エポキシ化試薬は、過酸（例として、ｍ−ＣＰＢＡ）である。ある態様において、エポキシ化試薬は、有機金属試薬である。ある態様において、エポキシ化試薬は、チタン試薬（例として、Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４）である。ある態様において、エポキシ化試薬は、バナジウム試薬（例として、ＶＯ（ＴＭＨＤ）２）である。ある態様において、エポキシ化は、シャープレスエポキシ化である。ある態様において、エポキシ化するというステップは、１以上の追加の試薬の存在下で実行される。ある態様において、エポキシ化は、過酸化物（例として、ｔ−ＢｕＯＯＨ）の存在下で実行される。
【０３５３】
ある態様において、エポキシ化するというステップは、バナジウム試薬および過酸化物の存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＶＯ（ＴＭＨＤ）２およびｔ−ＢｕＯＯＨの存在下で実行される。ある態様において、反応は、トルエンなどの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にて（例として、１〜１０時間）トルエン中５ｍｏｌ％ ＶＯ（ＴＭＨＤ）２および２当量 ｔ−ＢｕＯＯＨの下で実行される。
【０３５４】
ある態様において、ＲＰ１、ＲＰ２、およびＲＰ１０は、シリル保護基である；およびＲＰ４は、任意置換ベンジルである。ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２は、ＴＢＳである；およびＲＰ１０は、ＴＥＳである。
【０３５５】
また本明細書に提供されるのには、式（L-5-11）：
【化２５５】
2020536046.tif 000257
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（L-5-10）：
【化２５６】
2020536046.tif 000258
で表される化合物、またはその塩を、式（L-5-9）：
【化２５７】
2020536046.tif 000259
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせるというステップを含み、式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ２、およびＲＰ１０は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３５６】
ある態様において、式（L-5-10）で表される化合物を式（L-5-9）で表される化合物とカップリングさせることは、金属または有機金属試薬（例として、式（L-5-9）で表される化合物への付加のため、Ｘ４を金属へ変換する）の存在下で実行される。ある態様において、反応は、銅の存在下で実行される。ある態様において、銅は、銅錯体または銅塩である。具体的な態様において、銅供給源は、Ｌｉ（チエニルＣｕＣＮ）である。ある態様において、反応は、リチウム試薬の存在下で実行される。ある態様において、リチウム試薬は、有機リチウム（例として、ｎ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム）である。ある態様において、リチウム試薬は、ＬｉＨＭＤＳまたはＬＤＡである。ある態様において、反応は、リチウム試薬および銅試薬（例として、式（L-5-9）で表される化合物への付加のため、式（L-5-10）で表される化合物を式：
【化２５８】
2020536046.tif 000260
で表される化合物へ変換する）の存在下で実行される。反応はまた、ルイス酸（例として、ＢＦ３・Ｅｔ２Ｏ）の存在下でも実行されてよい。
【０３５７】
ある態様において、カップリングさせるというステップは、銅供給源、有機金属、およびルイス酸の存在下で実行される。ある態様において、反応は、のＬｉ（チエニルＣｕＣＮ）、ｎ−ブチルリチウム、およびＢＦ３・Ｅｔ２Ｏ存在下で実行される。ある態様において、反応は、Ｅｔ２Ｏなどの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ−７８℃にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：−７８℃にて（例として、１時間）Ｅｔ２Ｏ中２当量 Ｌｉ（チエニルＣｕＣＮ）、１．７５当量 ｎ−ブチルリチウム、および１．６当量 ＢＦ３・Ｅｔ２Ｏの下で実行される。
【０３５８】
ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２は、シリル保護基である；ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２は、ＴＢＳである。
【０３５９】
ホモハリコンドリンの左半分の調製
また本明細書に提供されるのには、式（L-2-16）で表される化合物などの、ホモハリコンドリン（例として、ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）、およびそれらの類似体の「左方の」構成ブロックもある。ホモハリコンドリン（例として、式（L-2-16）で表される化合物）の左方の構成ブロックの調製において有用な方法は、スキーム４Ｂに概説されている。実例として、式（L-2-16）で表される化合物は、式（L-5-26）で表される化合物をチオール化することによって調製され得るが、これは、式（L-5-25C）で表される化合物の環化を介して調製され得る。この目的に向けて、式（L-5-25C）で表される化合物は、式（L-5-25A）で表される化合物の酸化およびオレフィン化によって調製され得る。またスキーム４Ｂにおいても示されるとおり、式（L-5-24）で表される化合物を式（L-5-5）で表される化合物とカップリングさせることは、式（L-5-25A）で表される化合物を提供し得る。さらにまた、式（L-5-24）で表される化合物は、式（L-5-23A）で表される化合物のヒドロホウ素化、酸化、および環化によって調製され得るが、これは、式（L-5-22）で表される化合物の内部オレフィンのエポキシ化、これに続く環化によって調製され得る。式（L-5-22）で表される化合物は、式（L-5-21B）で表される化合物を還元することによって調製され得るが、これは、式（L-5-21A）で表されるニトリルの還元およびオレフィン化によって調製されてもよい。ニトリルは、式（L-5-3）で表される化合物の還元およびオレフィン化、これに続く式（L-5-20）で表される化合物の置換（すなわち、基−ＯＲＰ７を−ＣＮへ変換する）によって調製され得る。
スキーム４Ｂ
【化２５９】
2020536046.tif 000261
【０３６０】
スキーム4Bに示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（L-2-16）：
【化２６０】
2020536046.tif 000262
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-5-26）：
【化２６１】
2020536046.tif 000263
で表される化合物、またはその塩を、チオール化剤の存在下で反応させるというステップことを含む；式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ４は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３６１】
本明細書に記載のとおり、式（L-2-16）で表される化合物を形成するというステップは、式（L-5-26）で表される化合物をチオール化剤の存在下で反応させることを含む。当該技術分野において知られているいずれのチオール化剤も、この目的に向けて使用されてよい。ある態様において、チオール化剤は、ジスルフィドである。ある態様において、チオール化剤は、式（ＲＳＳ）２で表される。ある態様において、チオール化剤は、式（ピリジン−Ｓ）２で表される。ある態様において、チオール化剤は、以下：
【化２６２】
2020536046.tif 000264
である。
【０３６２】
ある態様において、式（L-5-26）で表される化合物をチオール化するというステップは、１以上の追加の試薬の存在下で実行される。ある態様において、チオール化するというステップは、ホスフィン試薬（例として、トリフェニルホスフィン（Ｐｈ３Ｐ））の存在下で実行される。
【０３６３】
ある態様において、チオール化するというステップは、ジスルフィドおよびホスフィンの存在下で実行される。ある態様において、反応は、（Ｐｙ−Ｓ）２およびＰｈ３Ｐの存在下で実行される。ある態様において、反応は、トルエンなどの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温にて実行される。例えば、ある態様において、チオール化するというステップは、以下の条件：室温にて（例として、１０〜２０時間）トルエン中１．２当量の（Ｐｙ−Ｓ）２、３当量のＰｈ３Ｐの下で実行される。
【０３６４】
ある態様において、式（L-5-26）で表される化合物、またはその塩をチオール化するという方法は、以下：
（ａ）式（L-5-26）で表される化合物、またはその塩を脱保護することで、式（L-5-26B）：
【化２６３】
2020536046.tif 000265
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-26B）で表される化合物、またはその塩をチオール化することで、式（L-2-6）で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
を含む。
【０３６５】
ある態様において、ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ４は、シリル保護基である。ある態様において、ＲＰ１は、ＴＢＳである；およびＲＰ３およびＲＰ４は、ＴＥＳである。
【０３６６】
またスキーム４Ｂにおいても示されるとおり、本明細書に提供されるのには、式（L-5-26）：
【化２６４】
2020536046.tif 000266
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（L-5-25C）：
【化２６５】
2020536046.tif 000267
で表される化合物、またはその塩を環化させるというステップを含む；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ４は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３６７】
ある態様において、式（7-5-25C）で表される化合物を環化させるというステップは、塩基の存在下で実行される。ある態様において、塩基は、窒素塩基である。ある態様において、塩基は、アミジン塩基、グアニジン塩基である。ある態様において、塩基は、アミン塩基またはアミド塩基である。ある態様において、塩基は、アミジン塩基（例として、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ））である。ある態様において、環化させるというステップは、酸の存在下で実行される。ある態様において、酸は、ルイス酸である。ある態様において、環化させるというステップは、リチウム塩（例として、ＬｉＢｒ、ＬｉＣｌ）の存在下で実行される。環化させるというステップは、１以上の追加の試薬の存在下で実行されてもよい。ある態様において、環化させるというステップは、Ｒ８−ＯＡｃの存在下で実行される。ある態様において、環化させるというステップは、ＢｎＯＡｃの存在下で実行される。
【０３６８】
ある態様において、環化させるというステップは、リチウム塩、および塩基の存在下で実行される。ある態様において、環化させるというステップは、ＬｉＢｒおよびＤＢＵの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＭｅＣＮなどの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にて（例として、１０〜２０時間）ＭｅＣＮ中１０当量 ＬｉＢｒおよび２０当量 ＤＢＵの下で実行される。
【０３６９】
ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ３は、シリル保護基である；ＲＰ４は、任意置換ベンジルである；およびＲ８は、任意置換ベンジルである。ある態様において、ＲＰ１は、ＴＢＳである；ＲＰ３は、ＴＥＳである；ＲＰ４は、ＭＰＭである；およびＲ８は、ベンジルである。
【０３７０】
ある態様において、式（L-5-26）で表される化合物、またはその塩は、脱保護されることで基ＲＰ４を除去し、式（L-5-26B）：
【化２６６】
2020536046.tif 000268
で表される化合物、またはその塩を生産する；および任意に、再保護される（すなわち、基ＲＰ４を、例として、ベンジル保護基（例として、ＭＰＭ）から、シリル保護基（例として、トリエチルシリルなどのトリアルキルシリル）へ切り替える））。
【０３７１】
また本明細書に提供されるのには、式（L-5-25C）：
【化２６７】
2020536046.tif 000269
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（L-5-25A）：
【化２６８】
2020536046.tif 000270
で表される化合物、またはその塩を、オレフィンおよびオレフィンメタセシス触媒の存在下で反応させるというステップを含む；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ４は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３７２】
ある態様において、オレフィンは、式：
【化２６９】
2020536046.tif 000271
で表される。さらに、当該技術分野において知られているいずれのオレフィンメタセシスも、式（L-5-25C）で表される化合物を供給するメタセシス反応において使用されてよい。
【０３７３】
また本明細書に提供されるのには、式（L-5-25C）：
【化２７０】
2020536046.tif 000272
で表される化合物、またはその塩調製する代替方法もあり、方法は、以下：
（ａ）式（L-5-25A）：
【化２７１】
2020536046.tif 000273
で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（L-5-25B）もしくは（L-5-25BB）：
【化２７２】
2020536046.tif 000274
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｃ）式（L-5-25B）または（L-5-25BB）で表される化合物、またはその塩を、オレフィン化試薬の存在下で反応させることで、式（L-5-25C）で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
を含む。
【０３７４】
上のステップ（ａ）における反応は、酸化的開裂である；ステップ（ｂ）における反応は、オレフィン化反応である。ある態様において、酸化的開裂は、オゾン分解を介して（例として、Ｏ３の存在下で）実行される。ある態様において、切断は、二重結合をジヒドロキシル化することが可能な試薬（例として、四酸化オスミウム（ＯｓＯ４）、Ｎ−メチルモルホリンＮ−オキシド（ＮＭＭＯ））の存在下で実行され、これに続き遷移金属（例として、Ｐｂ（ＯＡｃ）４などの鉛錯体）の存在下で実行される。
【０３７５】
ある態様において、二重結合は、ＯｓＯ４、ＮＭＭＯ、および水での処置によってジヒドロキシル化される。ある態様において、反応は、アセトンなどの溶媒の存在下で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温にて実行される。例えば、ある態様において、二重結合は、以下の条件：室温にて（例として、１〜５時間）アセトン中１０ｍｏｌ％ ＯｓＯ４、２当量 ＮＭＭＯ、および水の下でジヒドロキシル化される。その結果得られる化合物は次いで、ある態様において、Ｐｂ（ＯＡｃ）４およびＫ２ＣＯ３で処置されることで、アルデヒドまたはヘミアセタールを生産する。例えば、ある態様において、このステップは、以下の条件：室温にて（例として、１時間のうちに）ＣＨ２Ｃｌ２中１．５当量 Ｐｂ（ＯＡｃ）４、１０当量 Ｋ２ＣＯ３の下で実行される。
【０３７６】
ある態様において、オレフィン化は、ウィッティヒ試薬またはホーナー・ワズワース・エモンズ試薬の存在下で実行される。ある態様において、オレフィン化は、式：（ＲＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８で表される試薬の存在下で実行される。ある態様において、試薬は、式：（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８（例として、（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｂｎ）で表される。ある態様において、オレフィン化は、塩基（例として、Ｋ３ＰＯ４などのリン酸塩、またはＮａＨなどの水素化物）の存在下で実行される。
【０３７７】
ある態様において、オレフィン化は、式：（ＲＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８で表されるオレフィン化試薬、および塩基の存在下で実行される。ある態様において、オレフィン化は、（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２ＢｎおよびＮａＨの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＴＨＦなどの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、０℃にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：０℃にて（例として、約１〜５時間）ＴＨＦ中５当量 （ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｂｎ、４当量 ＮａＨの下で実行される。
【０３７８】
ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ３は、シリル保護基である；ＲＰ４は、任意置換ベンジルである；およびＲ８は、任意置換ベンジルである。ある態様において、ＲＰ１は、ＴＢＳである；ＲＰ３は、ＴＥＳである；ＲＰ４は、ＭＰＭである；およびＲ８は、ベンジルである。
【０３７９】
また本明細書に提供されるのには、式（L-5-25A）：
【化２７３】
2020536046.tif 000275
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（L-5-24）：
【化２７４】
2020536046.tif 000276
で表される化合物、またはその塩を、式（L-5-5）：
【化２７５】
2020536046.tif 000277
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせるというステップを含み、式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ４は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３８０】
ある態様において、式（L-5-24）で表される化合物を式（L-5-5）で表される化合物とカップリングさせることは、有機金属試薬（例として、式（L-5-24）で表される化合物への付加のため、Ｘ４を金属へ変換する）の存在下で実行される。ある態様において、有機金属試薬は、リチウム試薬（例として、式（L-5-24）で表される化合物への付加のため、式（L-5-5）で表される化合物を式：
【化２７６】
2020536046.tif 000278
で表される化合物へ変換する）である。ある態様において、リチウム試薬は、有機リチウム（例として、ｎ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム）である。ある態様において、リチウム試薬は、ＬｉＨＭＤＳまたはＬＤＡである。
【０３８１】
ある態様において、反応は、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＴＨＦなどの溶媒中で実施される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、ＴＨＦ中２．５当量のｔｅｒｔ−ブチルリチウムで−７８℃にて（例として、１時間未満にわたって）実施される。
【０３８２】
ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ３は、シリル保護基である；およびＲＰ４は、任意置換ベンジルである。ある態様において、ＲＰ１は、ＴＢＳである；ＲＰ３は、ＴＥＳである；およびＲＰ４は、ＭＰＭである。
【０３８３】
本明細書に提供されるのは、式（L-5-24）：
【化２７７】
2020536046.tif 000279
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、以下：
（ａ）式（L-5-23B）：
【化２７８】
2020536046.tif 000280
で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（L-5-23C）：
【化２７９】
2020536046.tif 000281
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-23C）で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（L-5-24）で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
を含む；式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３８４】
式（L-5-23B）で表される化合物を酸化するというステップは、酸化体(oxidant)の存在下で実行される。ある態様において、酸化体は、超原子価ヨウ素試薬である。ある態様において、酸化体は、ペルヨージナン（例として、デス・マーチン・ペルヨージナン）である。ある態様において、酸化体は、（ジアセトキシヨード）ベンゼン（ＰｈＩ（ＯＡｃ）２）である。ある態様において、酸化は、１以上の追加の試薬の存在下で実行される。ある態様において、酸化は、（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−イル）オキシル（ＴＥＭＰＯ）の存在下で実行される。ある態様において、酸化は、ＴＥＭＰＯおよび超原子価ヨウ素の存在下で実行される。ある態様において、ステップ（ａ）における酸化およびステップ（ｂ）における環化は、同じステップにおいて実行されるか、または続いて起こるステップにおいて実行される。ある態様において、ステップ（ｂ）における環化は、別個のステップにおいて、および酸（例として、ルイス酸またはブレンステッド酸）または塩基の存在下で実行される。
【０３８５】
ある態様において、酸化するというステップは、ＰｈＩ（ＯＡｃ）２およびＴＥＭＰＯの存在下で実行される。ある態様において、酸化するというステップは、ＣＨ２Ｃｌ２などの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、酸化するというステップは、室温にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にて（例として、２４〜４８時間にわたって）ＣＨ２Ｃｌ２中２０ｍｏｌ％ ＴＥＭＰＯ、３当量 ＰｈＩ（ＯＡｃ）２の下で実行される。
【０３８６】
ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ３は、シリル保護基である；およびＲＰ１０は、水素である。ある態様において、ＲＰ１は、ＴＢＳである；ＲＰ３は、ＴＥＳである；およびＲＰ１０は、水素である。
【０３８７】
本明細書に提供されるのは、式（L-5-23B）：
【化２８０】
2020536046.tif 000282
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-5-23A）：
【化２８１】
2020536046.tif 000283
で表される化合物、またはその塩を水和させるというステップを含む；式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ３、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３８８】
ある態様において、式（L-5-23A）で表される化合物を水和させるというステップは、ヒドロホウ素化反応である。ヒドロホウ素化を生じさせる(effect)いずれの試薬または条件も使用されてよい。例えば、反応は、ボラン（例として、ＢＨ３または９−ＢＢＮ）の存在下で実行され得、これに続き過酸化物（例として、Ｈ２Ｏ２）またはペルボラート（例として、過ホウ酸ナトリウム（ＮａＢＯ３））の存在下で実行され得る。ある態様において、反応は、９−ＢＢＮの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＮａＢＯ３・Ｈ２Ｏの添加を伴う。
【０３８９】
ある態様において、水和させるというステップは、９−ＢＢＮの存在下で実行され、これに続きＮａＢＯ３・Ｈ２Ｏの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＴＨＦなどの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、０℃〜室温にて実行される。ある態様において、反応は、以下の条件：０℃から室温まで（例として、１時間にわたって）ＴＨＦ中３当量 ９−ＢＢＮの下で実行され、水性ＮａＢＯ３・Ｈ２Ｏの添加がこれに続く。
【０３９０】
ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ３は、シリル保護基である；およびＲＰ１０は、水素である。ある態様において、ＲＰ１は、ＴＢＳである；ＲＰ３は、ＴＥＳである；およびＲＰ１０は、水素である。
【０３９１】
本明細書に提供されるのは、式（L-5-23A）：
【化２８２】
2020536046.tif 000284
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、以下:
（ａ）式（L-5-22）：
【化２８３】
2020536046.tif 000285
で表される化合物、またはその塩をエポキシ化することで、式（L-5-22A）：
【化２８４】
2020536046.tif 000286
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-22A）で表される化合物、またはその塩を環化させることで、式（L-5-23A）で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
を含む。
【０３９２】
いずれのエポキシ化試薬も、上に記載のエポキシ化するというステップにおいて使用されてよい。ある態様において、エポキシ化試薬は、過酸（例として、ｍ−ＣＰＢＡ）である。ある態様において、エポキシ化試薬は、有機金属試薬である。ある態様において、エポキシ化試薬は、チタン試薬（例として、Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４）である。ある態様において、エポキシ化試薬は、バナジウム試薬（例として、ＶＯ（ＴＭＨＤ）２）である。ある態様において、エポキシ化は、シャープレスエポキシ化である。ある態様において、エポキシ化は、不斉エポキシ化（例として、シャープレス不斉エポキシ化）である。ある態様において、エポキシ化は、１以上のキラル配位子（例として、（＋）−または（−）−ＤＥＴ、（＋）−または（−）−ＤＩＰＴ；ここでＤＥＴ＝酒石酸ジエチルおよびＤＩＰＴ＝酒石酸ジイソプロピル）の存在下で実行である。ある態様において、エポキシ化するというステップは、１以上の追加の試薬の存在下で実行される。ある態様において、エポキシ化は、過酸化物（例として、ｔ−ＢｕＯＯＨ）の存在下で実行される。
【０３９３】
ある態様において、エポキシ化するというステップは、チタン錯体、タートラート配位子、および過酸化物の存在下で実行される。ある態様において、反応は、Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４、（＋）−ＤＥＴ、およびｔ−ＢｕＯＯＨの存在下で実行される。ある態様において、反応は、モレキュラーシーブの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＣＨ２Ｃｌ２などの溶媒の存在下で実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ−１０℃にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：−１０℃にて（例として、１０〜２０時間）ＣＨ２Ｃｌ２中１５ｍｏｌ％ Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）４、２０ｍｏｌ％ （＋）−ＤＥＴ、１．５当量 ｔ−ＢｕＯＯＨ、および４Åモレキュラーシーブの下で実行される。
【０３９４】
ある態様において、ＲＰ６およびＲＰ１０は、シリル保護基である；およびＲＰ１は、水素である。ある態様において、ＲＰ６およびＲＰ１０は、ＴＢＳである；およびＲＰ１は、水素である。ある態様において、ＲＰ６は、式（L-5-22A）で表される化合物を環化させるというステップの前に脱保護される。
【０３９５】
ある態様において、エポキシ化／環化は、式（L-5-22B）：
【化２８５】
2020536046.tif 000287
で表される化合物、またはその塩を提供するが、これは次いで、保護されることで、式（L-5-23A）で表される化合物、またはその塩を生産し得る（例として、基ＲＰ３を導入する；ここでＲＰ３は、酸素保護基である）。
【０３９６】
スキーム４Ｂに示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（L-5-22）：
【化２８６】
2020536046.tif 000288
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-5-21B）：
【化２８７】
2020536046.tif 000289
で表される化合物、またはその塩を還元するというステップを含む；式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ６、およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０３９７】
（L-5-21B）で表される化合物、またはその塩を還元するというステップは、−ＣＯ２Ｒ８部分を−ＯＲＰ１基（すなわち、−ＯＨ）へ変換する。ある態様において、還元するというステップは、水素化物（すなわち、Ｈ−）供給源の存在下で実行される。当該技術分野において知られているいずれの水素化物供給源も、この転換において使用されてよい。水素化物供給源の例は、これらに限定されないが、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、および水素化ジイソブチルアルミニウムを包含する。ある態様において、水素化物供給源は、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）である。
【０３９８】
ある態様において、還元するというステップは、ＤＩＢＡＬの存在下で実行される。ある態様において、反応は、溶媒（例として、ＴＨＦ）中で実行される。ある態様において、反応は、室温を下回る温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ−７８℃にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：−７８℃にて（例として、１時間のうちに）ＴＨＦ中４当量のＤＩＢＡＬの下で実行される。
【０３９９】
ある態様において、ＲＰ６およびＲＰ１０は、シリル保護基である；およびＲ８は、任意置換アルキルである。ある態様において、ＲＰ６およびＲＰ１０は、ＴＢＳである；およびＲ８は、メチルである。
【０４００】
ある態様において、式（L-5-22）で表される化合物は、式（L-5-22-C）：
【化２８８】
2020536046.tif 000290
で表されるか、またはその塩である。
【０４０１】
また本明細書に提供されるのには、式（L-5-21B）：
【化２８９】
2020536046.tif 000291
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、以下：
（ａ）式（L-5-21A）：
【化２９０】
2020536046.tif 000292
で表される化合物、またはその塩を還元することで、式（L-5-21C）：
【化２９１】
2020536046.tif 000293
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-21C）で表される化合物、またはその塩を、オレフィン化試薬の存在下で反応させることで、式（L-5-21B）で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
を含む。
【０４０２】
（L-5-21A）で表される化合物、またはその塩を還元するというステップ（すなわち、上のステップ（ａ））は、−ＣＮ部分をアルデヒド基（すなわち、−ＣＨＯ）へ変換する。ある態様において、還元するというステップは、水素化物（すなわち、Ｈ−）供給源の存在下で実行される。当該技術分野において知られているいずれの水素化物供給源も、この転換において使用されてよい。水素化物供給源の例は、これらに限定されないが、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、および水素化ジイソブチルアルミニウムを包含する。ある態様において、水素化物供給源は、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）である。還元するというステップは任意に、−ＣＮ部分をアルコールへ還元し、これに続き、その結果得られるアルコールをアルデヒドへ酸化することで、式（L-5-21C）で表される化合物、またはその塩を生産することを含んでもよい。
【０４０３】
ある態様において、還元するというステップは、ＤＩＢＡＬの存在下で実行される。ある態様において、反応は、溶媒（例として、ヘキサン、ＣＨ２Ｃｌ２）中で実行される。ある態様において、反応は、室温を下回る温度にて実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ−７８℃にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：−７８℃にて（例として、１時間のうちに）ヘキサン−ＣＨ２Ｃｌ２中１．１当量のＤＩＢＡＬの下で実行される。
【０４０４】
ある態様において、式（L-5-21C）で表される化合物、またはその塩のオレフィン化（すなわち、上のステップ（ｂ））は、ウィッティヒ試薬またはホーナー・ワズワース・エモンズ試薬の存在下で実行される。ある態様において、オレフィン化は、式：（ＲＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８で表される試薬の存在下で実行される。ある態様において、試薬は、式：（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８（例として、（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｂｎ）で表される。ある態様において、試薬は、式：（ＣＦ３ＣＨ２Ｏ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８（例として、（ＣＦ３ＣＨ２Ｏ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｍｅ）で表である。ある態様において、オレフィン化は、塩基の存在下で実行される。ある態様において、塩基は、Ｋ３ＰＯ４などのリン酸塩である。ある態様において、塩基は、アミド塩基である。ある態様において、塩基は、ジイソプロピルアミド塩基（例として、ＬＤＡ）である。ある態様において、塩基は、ヘキサメチルジシラジド塩基（例として、ＬｉＨＭＤＳ、ＮａＨＭＤＳ、ＫＨＭＤＳ）である。ある態様において、オレフィン化は、１以上の追加の試薬の存在下で実行される。ある態様において、オレフィン化は、クラウンエーテル（例として、１８−クラウン−６）の存在下で実行される。
【０４０５】
ある態様において、オレフィン化は、式（ＲＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８で表される試薬、塩基の存在下で実行される。ある態様において、反応は、（ＣＦ３ＣＨ２Ｏ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２ＭｅおよびＫＨＭＤＳの存在下で実行される。ある態様において、１８−クラウン−６が存在する。ある態様において、反応は、溶媒（例として、ＴＨＦ）中で実行される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、−７８℃にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：−７８℃にて（例として、１時間のうちに）ＴＨＦ中１．５当量 （ＣＦ３ＣＨ２Ｏ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｍｅ、１．５当量 ＫＨＭＤＳ、８当量 １８−クラウン−６の下で実行される。
【０４０６】
ある態様において、ＲＰ６およびＲＰ１０は、シリル保護基である；およびＲ８は、任意置換アルキルである。ある態様において、ＲＰ６およびＲＰ１０は、ＴＢＳである；およびＲ８は、メチルである。
【０４０７】
また本明細書に提供されるのには、式（L-5-21A）：
【化２９２】
2020536046.tif 000294
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（L-5-20）：
【化２９３】
2020536046.tif 000295
で表される化合物、またはその塩を、シアン化物の存在下で反応させることを含む；式中：
Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ６、ＲＰ７およびＲＰ１０は各々、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および式中−ＯＲＰ７は、脱離基である。
【０４０８】
式（L-5-21A）で表される化合物、またはその塩を調製する方法は、式（L-5-20）で表される化合物、またはその塩を、シアン化物の存在下で反応させることを含む。ある態様において、シアン化物は、シアン化物塩（例として、ＮａＣＮ、ＫＣＮ、ＬｉＣＮ）である。ある態様において、シアン化物塩は、シアン化ナトリウム（ＮａＣＮ）である。反応は、１以上の追加の試薬（例として、クラウンエーテル）の存在下で実行されてもよい。ある態様において、反応は、ＤＭＳＯなどの溶媒中ＮａＣＮの存在下で実行である。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にて（例として、１時間）ＤＭＳＯ中２０当量 ＮａＣＮの下で実行される。
【０４０９】
ある態様において、ＲＰ６およびＲＰ１０は、シリル保護基である。ある態様において、ＲＰ６およびＲＰ１０は、ＴＢＳである。
【０４１０】
ノルハリコンドリンの左半分の調製
本明細書に提供されるのは、ノルハリコンドリン系（例として、ノルハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ、およびそれらの類似体）における化合物の「左半分」構成ブロックを調製する方法である。例えば、スキーム４Ｃに示されるとおり、式（L-2-15）で表される左半分構成ブロックは、式（L-5-32）で表される化合物のエステル基（すなわち、−ＣＯ２Ｒ８）をチオエステル部分（すなわち、−Ｃ（Ｏ）ＳＲＳ）へ変換することによって調製され得る。この目的に向けて、式（L-5-32）で表される化合物は、式（L-5-31）で表される化合物を酸化することによって調製され得るが、これは、式（L-5-30）で表される化合物を環化させることによって調製され得る。式（L-5-30）で表される化合物は、式（L-5-28）で表される化合物の酸化的開裂およびオレフィン化を介して調製され得るが、これは、式（L-5-27）で表される化合物を式（L-5-5）で表される化合物とカップリングさせることによって得られ得る。式（L-5-27）で表される化合物は、本明細書に記載のとおり、式（L-5-21A）で表される中間体から得られ得る。
スキーム４Ｃ
【化２９４】
2020536046.tif 000296
【０４１１】
スキーム４Ｃに示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（L-2-15）：
【化２９５】
2020536046.tif 000297
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-5-32）：
【化２９６】
2020536046.tif 000298
で表される化合物、またはその塩を、チオール化剤の存在下で反応させるというステップを含む；式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ７およびＲ８は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである。
【０４１２】
本明細書に記載のとおり、式（L-2-15）で表される化合物を形成するというステップは、式（L-5-32）で表される化合物をチオール化剤の存在下で反応させることを含む。当該技術分野において知られているいずれのチオール化剤も、この目的に向けて使用されてよい。ある態様において、チオール化剤は、ジスルフィドである。ある態様において、チオール化剤は、式（ＲＳＳ）２で表される。ある態様において、チオール化剤は、式（ピリジン−Ｓ）２で表される。ある態様において、チオール化剤は、以下：
【化２９７】
2020536046.tif 000299
である。
【０４１３】
ある態様において、式（L-5-32）で表される化合物をチオール化するというステップは、１以上の追加の試薬の存在下で実行される。ある態様において、チオール化するというステップは、ホスフィン試薬（例として、トリフェニルホスフィン（Ｐｈ３Ｐ））の存在下で実行される。
【０４１４】
ある態様において、チオール化するというステップは、ジスルフィドおよびホスフィンの存在下で実行される。ある態様において、反応は、（Ｐｙ−Ｓ）２およびＰｈ３Ｐの存在下で実行される。ある態様において、反応は、トルエンまたはＣＨ２Ｃｌ２などの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温にて実行される。例えば、ある態様において、チオール化するというステップは、以下の条件：室温にて（例として、１０〜２０時間）トルエン中１．４当量の（Ｐｙ−Ｓ）２、１．２当量のＰｈ３Ｐの下で実行される。
【０４１５】
ある態様において、式（L-5-32）で表される化合物、またはその塩をチオール化する方法は、以下：
（ａ）式（L-5-32）で表される化合物、またはその塩を脱保護することで、式（L-5-32B）：
【化２９８】
2020536046.tif 000300
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-32B）で表される化合物、またはその塩をチオール化することで、式（L-2-15）で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
を含む。
【０４１６】
ある態様において、Ｒ７は、任意置換アルキルである；およびＲＰ６およびＲＰ４は、シリル保護基である。ある態様において、Ｒ７は、任意置換アルキルである；ＲＰ６およびＲＰ４は、ＴＥＳである。
【０４１７】
また本明細書に提供されるのには、式（L-5-32）：
【化２９９】
2020536046.tif 000301
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（L-5-31）：
【化３００】
2020536046.tif 000302
で表される化合物、またはその塩を酸化することを含む；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ４、およびＲＰ６は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０４１８】
ある態様において、式（L-5-32）で表される化合物、またはその塩を調製する方法は、以下：
（ａ）式（L-5-31B）：
【化３０１】
2020536046.tif 000303
で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（L-5-32C）：
【化３０２】
2020536046.tif 000304
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-32C）で表される化合物、またはその塩を保護することで、式（L-5-32）で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
を含む。
【０４１９】
いずれの方法も、式（L-5-31）または（L-5-31B）で表される化合物を酸化するというステップにおいて使用され得る。ある態様において、酸化は、ペルヨージナン（例として、デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ））の存在下で実行される。ある態様において、酸化は、スワーン酸化を伴う。ある態様において、酸化は、クロム試薬（例として、クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ））の存在下で実行される。ある態様において、酸化するというステップは、ピンニック酸化、例として、亜塩素酸塩（例として、亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ２））での反応混合物の処置を伴う。ある態様において、酸化は、ペルヨージナン（例として、ＤＭＰ）の存在下での反応、これに続き亜塩素酸塩（例として、ＮａＣｌＯ２）の存在下での反応を実行することを伴う。ある態様において、酸化は、溶媒（例として、ＣＨ２Ｃｌ２）中ＤＭＰおよびＮａＨＣＯ３の存在下で実行され、これに続き溶媒（例として、ｔ−ＢｕＯＨ／Ｈ２Ｏ）中ＮａＣｌＯ２およびＮａＨ２ＰＯ４の存在下で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：（ａ）室温にて（例として、１時間のうちに）ＣＨ２Ｃｌ２中２当量 ＤＭＰ、１０当量 ＮａＨＣＯ３；これに続き（ｂ）室温にて（例として、１時間のうちに）ｔ−ＢｕＯＨおよび水中２−メチル−２−ブテンとともに３当量 ＮａＣｌＯ２、４当量 ＮａＨ２ＰＯ４の下で実行される。
【０４２０】
ある態様において、式（L-5-32C）で表される化合物を保護するというステップは、アルキル化剤で化合物を処置することを伴う。ある態様において、アルキル化剤は、ハロゲン化アルキルまたは構造：アルキル−脱離基で表される試薬である。ある態様において、アルキル化剤は、メチル転移(transfer)試薬（例として、ジアゾメタン、トリメチルシリルジアゾメタン（ＴＭＳＣＨ２Ｎ２））である。
【０４２１】
ある態様において、保護するというステップは、ＴＭＳＣＨ２Ｎ２の存在下で実行される。ある態様において、反応は、溶媒（例として、ベンゼン／ＭｅＯＨ）中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、ほぼ室温にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にて（例として、５ｍｉｎ）ベンゼン／ＭｅＯＨ中３当量 ＴＭＳＣＨ２Ｎ２の下で実行される。
【０４２２】
ある態様において、Ｒ７は、任意置換アルキルである；およびＲＰ６は、シリル保護基である；ＲＰ４は、任意置換ベンジルである；およびＲ８は、任意置換ベンジルである。ある態様において、Ｒ７は、メチルである；ＲＰ６は、ＴＥＳである；ＲＰ４は、ＭＰＭである；およびＲ８は、ベンジルである。
【０４２３】
ある態様において、式（L-5-32）で表される化合物、またはその塩は、脱保護されることで基ＲＰ４が除去され、式（L-5-32D）：
【化３０３】
2020536046.tif 000305
で表される化合物、またはその塩が生産される；および任意に、再保護される（すなわち、基ＲＰ４を、例として、ベンジル保護基（例として、ＭＰＭ）から、シリル保護基（例として、トリエチルシリルなどのトリアルキルシリル）へ切り替える）。
【０４２４】
スキーム４Ｃに示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（L-5-31）：
【化３０４】
2020536046.tif 000306
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-5-32A）：
【化３０５】
2020536046.tif 000307
で表される化合物、またはその塩を環化させるというステップを含む；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ１、ＲＰ４およびＲＰ６は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０４２５】
ある態様において、式（7-5-30）で表される化合物を環化させるというステップは、塩基の存在下で実行される。ある態様において、塩基は、窒素塩基である。ある態様において、塩基は、アミジン塩基またはグアニジン塩基である。ある態様において、塩基は、アミンまたはアミドである。ある態様において、塩基は、アミジン塩基（例として、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ））である。ある態様において、環化させるというステップは、酸の存在下で実行される。ある態様において、酸は、ルイス酸である。ある態様において、環化させるというステップは、リチウム塩（例として、ＬｉＢｒ、ＬｉＣｌ）の存在下で実行される。環化させるというステップは、１以上の追加の試薬の存在下で実行されてもよい。ある態様において、環化させるというステップは、ＢｎＯＡｃの存在下で実行される。
【０４２６】
ある態様において、環化させるというステップは、リチウム塩、および塩基の存在下で実行される。ある態様において、環化させるというステップは、ＬｉＢｒおよびＤＢＵの存在下で実行される。ある態様において、反応は、ＭｅＣＮなどの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にて（例として、１０〜２０時間）ＭｅＣＮ中１０当量 ＬｉＢｒ、５当量 ＤＢＵ、および２当量 ＢｎＯＡｃの下で実行される。
【０４２７】
ある態様において、ＲＰ１は、シリルである；およびＲＰ６は、シリル保護基である；ＲＰ４は、任意置換ベンジルである；およびＲ８は、任意置換ベンジルである。ある態様において、ＲＰ１は、ＴＥＳである；ＲＰ６は、ＴＥＳである；ＲＰ４は、ＭＰＭである；およびＲ８は、ベンジルである。
【０４２８】
また本明細書に提供されるのには、式（L-5-30）：
【化３０６】
2020536046.tif 000308
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（L-5-28）：
【化３０７】
2020536046.tif 000309
で表される化合物、またはその塩を、オレフィンおよびオレフィンメタセシス触媒の存在下で反応させるというステップを含む；式中：
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ４およびＲＰ６は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０４２９】
ある態様において、オレフィンは、式：
【化３０８】
2020536046.tif 000310
で表される。さらに、当該技術分野において知られているいずれのオレフィンメタセシスも、式（L-5-30）で表される化合物を供給するメタセシス反応において使用されてよい。
【０４３０】
また本明細書に提供されるのには、式（L-5-30）：
【化３０９】
2020536046.tif 000311
で表される化合物、またはその塩を調製する代替方法もあり、方法は、以下：
（ａ）式（L-5-28）：
【化３１０】
2020536046.tif 000312
で表される化合物、またはその塩を酸化することで、式（L-5-29）もしくは（L-5-29B）：
【化３１１】
2020536046.tif 000313
で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ；および
（ｂ）式（L-5-29）もしくは（L-5-29B）で表される化合物、またはその塩を、オレフィン化試薬の存在下で反応させることで、式（L-5-30）で表される化合物、またはその塩を生産するというステップ
を含む。
上のステップ（ａ）における反応は、酸化的開裂である；ステップ（ｂ）における反応は、オレフィン化反応である。ある態様において、酸化的開裂は、オゾン分解を介して（例として、Ｏ３の存在下で）実行される。ある態様において、切断は、二重結合をジヒドロキシル化することが可能な試薬（例として、四酸化オスミウム（ＯｓＯ４）、Ｎ−メチルモルホリンＮ−オキシド（ＮＭＭＯ））の存在下で実行され、これに続き遷移金属（例として、Ｐｂ（ＯＡｃ）４などの鉛錯体）の存在下で実行される。
【０４３１】
ある態様において、二重結合は、ＯｓＯ４、ＮＭＭＯ、および水での処置によってジヒドロキシル化される。ある態様において、反応は、アセトンなどの溶媒の存在下で実施される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温にて実行される。例えば、ある態様において、二重結合は、以下の条件：室温にて（例として、１０〜２０時間）アセトン中５ｍｏｌ％ ＯｓＯ４、２当量 ＮＭＭＯ、および水の下でジヒドロキシル化される。その結果得られる化合物は次いで、ある態様において、Ｐｂ（ＯＡｃ）４およびＫ２ＣＯ３で処置されることで、アルデヒドまたはヘミアセタールを生産する。例えば、ある態様において、このステップは、以下の条件：ＣＨ２Ｃｌ２中室温にて（例として、１時間のうちに）２当量 Ｐｂ（ＯＡｃ）４、１０当量 Ｋ２ＣＯ３の下で実行される。
【０４３２】
ある態様において、オレフィン化は、ウィッティヒ試薬またはホーナー・ワズワース・エモンズ試薬の存在下で実行される。ある態様において、オレフィン化は、式：（ＲＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８で表される試薬の存在下で実行される。ある態様において、試薬は、式：（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８（例として、（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｂｎ）で表される。ある態様において、オレフィン化は、塩基（例として、Ｋ３ＰＯ４などのリン酸塩）の存在下で実行される。
【０４３３】
ある態様において、オレフィン化は、式：（ＲＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｒ８で表されるオレフィン化試薬、および塩基の存在下で実行される。ある態様において、オレフィン化は、（ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２ＢｎおよびＫ３ＰＯ４の存在下で実行される。ある態様において、反応は、トルエンなどの溶媒中で実行される。ある態様において、反応は、およそ０℃からおよそ５０℃までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、室温にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、以下の条件：室温にて（例として、２４〜４８時間）溶媒中４当量 （ＭｅＯ）２Ｐ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯ２Ｂｎ、３当量 Ｋ３ＰＯ４の下で実行される。
【０４３４】
ある態様において、ＲＰ１は、シリルである；およびＲＰ６は、シリル保護基である；ＲＰ４は、任意置換ベンジルである；およびＲ８は、任意置換ベンジルである。ある態様において、ＲＰ１は、ＴＥＳである；ＲＰ６は、ＴＥＳである；ＲＰ４は、ＭＰＭである；およびＲ８は、ベンジルである。
【０４３５】
また本明細書に提供されるのには、式（L-5-28）：
【化３１２】
2020536046.tif 000314
で表される化合物、またはその塩を調製する方法もあり、方法は、式（L-5-27）：
【化３１３】
2020536046.tif 000315
で表される化合物、またはその塩を、式（L-5-5）：
【化３１４】
2020536046.tif 000316
で表される化合物、またはその塩とカップリングさせるというステップを含み、式中：
Ｘ４は、ハロゲンまたは脱離基である；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；および
ＲＰ１、ＲＰ４、およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する。
【０４３６】
ある態様において、式（L-5-4）で表される化合物を式（L-5-5）で表される化合物とカップリングさせることは、有機金属試薬（例として、式（L-5-4）で表される化合物への付加のため、Ｘ４を金属へ変換する）の存在下で実行される。ある態様において、有機金属試薬は、リチウム試薬（例として、式（L-5-4）で表される化合物への付加のため、式（L-5-5）で表される化合物を式：
【化３１５】
2020536046.tif 000317
で表される化合物へ変換する）である。ある態様において、リチウム試薬は、有機リチウム（例として、ｎ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム）である。ある態様において、リチウム試薬は、ＬｉＨＭＤＳまたはＬＤＡである。
【０４３７】
ある態様において、反応は、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムの存在下で実行される。ある態様において、反応は、トルエン、ＴＨＦ、Ｅｔ２Ｏ、またはそれらの組み合わせなどの溶媒中で実施される。ある態様において、反応は、およそ−７８℃からおよそ室温までに及ぶ温度にて実行される。ある態様において、反応は、−７８℃にて実行される。例えば、ある態様において、反応は、−７８℃にて（例として、１時間未満）トルエンおよびＥｔ２Ｏ中２．２当量のｔｅｒｔ−ブチルリチウムで実行される。
【０４３８】
ある態様において、ＲＰ１は、シリルである；およびＲＰ６は、シリル保護基である；ＲＰ４は、任意置換ベンジルである；およびＲ８は、任意置換ベンジルである。ある態様において、ＲＰ１は、ＴＥＳである；ＲＰ６は、ＴＥＳである；ＲＰ４は、ＭＰＭである；およびＲ８は、ベンジルである。
【０４３９】
ハリコンドリン類似体の左半分の調製
本明細書に提供されるのは、他のハリコンドリン類似体の「左半分」構成ブロック（例として、式（H3-2-1）で表される化合物）の調製において有用な方法である。例えば、スキーム４Ｄに示されるとおり、式（L-2-6）で表される左半分構成ブロックは、式（L-5-7B）で表される化合物のエステル基（すなわち、−ＣＯ２Ｒ８）をチオエステル部分（すなわち、−Ｃ（Ｏ）ＳＲＳ）へ変換することによって調製され得る。式（L-5-7B）で表される化合物は、式（L-5-7A）で表される化合物を環化させることによって調製され得るが、これは、式（L-5-6A）で表される化合物の酸化的開裂およびオレフィン化によって調製されてもよい。式（L-5-6A）で表される化合物は、式（L-5-4）で表される化合物を式（L-5-5）で表される化合物とカップリングさせることによって調製され得る。またスキーム４Ｄにおいても示されるとおり、式（L-5-4）で表される化合物は、式（L-5-3）で表されるラクトンの同族体化(homologation)を介して調製され得る。
スキーム４Ｄ
【化３１６】
2020536046.tif 000318
【０４４０】
スキーム４Ｄに示されるとおり、本明細書に提供されるのは、式（L-2-6）：
【化３１７】
2020536046.tif 000319
で表される化合物、またはその塩を調製する方法であって、方法は、式（L-5-7B）：
【化３１８】
2020536046.tif 000320
で表される化合物、またはその塩を、チオール化剤の存在下で反応させるというステップを含む；式中：
ＲＳは、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、または任意置換ヘテロアリールである；
Ｒ１およびＲ２は、独立して、水素、ハロゲン、または任意置換アルキルである；
ＲＰ４およびＲＰ６の各存在は、独立して、水素、任意置換アルキル、任意置換アシル、または酸素保護基である；任意に、ここで２個のＲＰ６は、介在原子とともに結び合って、任意置換ヘテロシクリルを形成する；および
Ｒ８は、水素、任意置換アルキル、任意置換カルボシクリル、任意置換アリール、任意置換ヘテロシクリル、任意置換ヘテロアリール、任意置換アシル、または酸素保護基である。
【０４４１】
ある態様において、方法は、式（E-L）：
【化３１９胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲〲㌵〶㘴琮晩㸢〲〲㌵〶㘴琮晩ꃂ〰㌰ㄲ⼼㹡⼼䥄㹖ਊ戼㹲ꞁꇨ閁苣讂賥袐觧膀臣龁臣鶁臣ꦡ苣뾪ꏨ馁苣릖돦ꞁ臣ꎁ臣膀雦閳臣膀볥袼ⵅⵌ覼볯㲚牢ਾ䐼噉邀賥鎼볯邼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲〲㌵〶㘴琮晩㸢〲〲㌵〶㘴琮晩ꃂ〰㌰㈲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ戼㹲ꞁꇨ閁苣讂賥袐觧膀臣龁臣鶁臣ꦡ苣膀菣ꪂ菣ꮃ賥ꒉ臣颭鳥许臣趏뿥閁臣讂臣蒁臣릂菣莃菣銂郥肂볯込룤骼戼㹲 늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰뎼⼼畳㹰臣膀믤辄뷧鮏苣ꮃ苣ꮃ胣뮻蓦꺽迦ꮂ菣鲃苣꾂菣ꮃ胣뮻蓦꺽迦ꊂ菣벃菣膀믤辄뷧鮏菣蚃菣랂苣ꪃ菣膀臣龁臣뮻蓦꺽迦颃菣궃苣ꪃ菣ꮃ臣芁苣鮼戼㹲 늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰낼볯㲔猯灵誁苣뎁볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯隼⼼畳㹰臣蒐귥ꢜ臣膀诧讫臣ꚁ胣뒰듧膀믤辄뷧鮏苣ꮃ苣ꮃ胣뮻蓦꺽迦ꊂ苣ꮃ胣뺁臣꾁藩ꂴ뿤랭鿥ꞁ臣讂볯뮻蓦ꮁ胣鎁臣ꞁ볯讀臣늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰낼볯㲖猯灵꾁胣讻鳥龎귥ꢁ臣节臣邵臣袐臣ꚁ胣뮻蓦꺽迦颃菣궃苣꾂菣ꮃ苣ꊽ裦馁苣鮼臣袂臣㲳牢ਾ†볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲘猯灵꾁胣뒰듧膀믤辄뷧鮏苣ꮃ苣ꮃ胣뮻蓦꺽迦ꮂ菣鲃苣꾂菣ꮃ胣뮻蓦꺽迦ꊂ菣벃菣膀믤辄뷧鮏菣蚃菣랂苣ꪃ菣膀믤辄뷧鮏菣蚃菣ꊂ菣벃菣膀믤辄뷧鮏苣랂菣膀臣龁臣뢅듧鶿귨몟臣芁苣芀㰊䐯噉ਾ䐼噉㰾䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖 겜飦내鯦ꮁ꣨覼臣ꢁ臣誂胣込볯䲈㈭㘭볯膀볯䖈䰭볯ꞁꇨ閁苣讂賥袐觧膀臣龁臣鶁臣ꦡ苣ꊽ裦馁苣ꢁ臣蚁苣蚃菣鞃臣膀볥袼ⵌⴵ䈷볯膀볯䖈䰭ㄭ볯ꞁꇨ閁苣讂賥袐觧膀臣龁臣鶁臣ꦡ苣膀菣ꪂ菣ꮃ賥ꒉ臣颭鳥许臣趏뿥閁臣讂臣ꢁ苣ꮐ苣芀뷥늩諦鎡裥躇臣誁臣ꚁ鿧覂苣ꚁ臣讂臣骁苣꺁菣ꪂ菣ꮃ賥ꒉ苣膀臣꺁鯧蒚臣醐臣ꚁ뷤ꢔ臣貂臣袂臣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣膃苣벃菣隌觥꾁胣뢂苣ꮃ菣ꎂ菣ꞁ臣讂胣芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀菣ꪂ菣ꮃ賥ꒉ臣膀볥袼볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲳猯灵뎼볯㲉畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꞁꇨ閁苣讂胣芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀菣ꪂ菣ꮃ賥ꒉ臣膀볥袼菣ꪃ苣뎃裢뎼볯㲉畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵ꞁꇨ閁苣讂胣芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀菣ꪂ菣ꮃ賥ꒉ臣膀믤许볯㲚牢ਾ䐼噉邀賥鎼볯醼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲〲㌵〶㘴琮晩㸢〲〲㌵〶㘴琮晩ꃂ〰㌰㌲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ戼㹲袼볯貼볯馀裢뢂菣ꪃ苣ꮃ苣ꮃ菣ꎂ菣覼臣芁苣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣膃苣벃菣隌ꧨ겖臣膀賥ꚭ蟩隫蟩뺁臣꾁臩낉蟩袼뻤ꢁ臣ꚁ胣醼胣銼뷥辇볯ꞁ귥ꢜ臣讂胣ં⼼䥄㹖㰊䥄㹖䐼噉邀볯钼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ†臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣膃苣벃菣隌臣讂臣蒁臣릂菣莃菣꾁胣醼믤誸臣붿諥꺁ꧨ겖臣颭鳥许臣龮ꇨ閁苣讂胣芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀菣ꪂ菣ꮃ賥馁苣ꢁ臣蚁苣蚃菣鞃臣膀菣릂菣ꎂ菣ꚩ雨꺁귥ꢜ룤ꞁ껥財臣貂苣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣鮃苣閃苣뎃臣膀菣ꪃ苣ꮃ苣ꮃ菣릂菣ꎂ菣ꞁ臣讂胣芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀菣릂菣ꎂ菣꾁胣袃菣ꊂ菣벃菣鮃苣閃苣뎃臣芁苣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣鮃苣閃苣뎃臣膀볯낼뷯㲈畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵ꞁ臣讂胣芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀菣릂菣ꎂ菣꾁胣鶃菣麃菣邵郥낼볯袽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢臣芁苣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣鮃苣閃苣뎃臣膀賥ꚭ蟩隫蟩뺁臣꾁臩낉蟩袼뻤ꢁ臣ꚁ胣醼胣鎼뷥辇볯ꞁ귥ꢜ臣讂胣ં⼼䥄㹖㰊䥄㹖䐼噉邀볯钼볯钼胣㲑䐯噉ਾ†臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣膃苣벃菣隌臣讂臣蒁臣릂菣莃菣꾁胣뢂苣ꮃ菣ꎂ菣誁苣뎁菣릂菣ꎂ菣꺁귥ꢜ룤ꞁ껥財臣貂苣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣趏뿥꾁胣銼볯銼胢銈苣钃菣뢂菣릂菣閃苣覃臣袂臣낼뷯㲈畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵낼臣颭鳥许臣龮ꇨ閁苣讂胣芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀迥鲿臣膀뫦銪룤ꞁ껥財臣貂苣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣뚺ꫥ꾁胣꒼볯궼臣芁苣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣뚺ꫥ꾁胣ꊂ苣袃菣袃菣ꮃ臣芁苣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣趏뿥꾁胣邼蓢讁苣꒮룦뺁臣ꮁ臣龮ꇨ閁苣讂胣芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀迥鲿臣膀臣袂臣邼蓢讁苣誁苣鶁볯邼蓢뺁臣ꮁ迥뚁룦ꚺ臣ꚁ껥財臣貂苣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣趏뿥꾁胣꒮룦ꮁ臣龮ꇨ閁苣讂胣芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀迥鲿臣膀볯莄臣覂껥ꦸ臣ꞁ臣ꚁ볯薽볯꺼룤銼볯銼胢銈苣钃菣뢂菣릂菣閃苣覃臣袂臣낼뷯㲈畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵낼臣颭鳥许臣龮ꇨ閁苣讂㰊䐯噉ਾ䐼噉㰾䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖 设臣낁胣芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀菣ꪂ菣ꮃ賥馁苣ꢁ臣蚁苣蚃菣鞃臣膀믤许臣ꆝ믤骼껥ꦸ臣ꚁ볯设臣鞁臣膀볯邼胣銼볯芙雩覼볯ꎼ볯궸볯躼볯鎽蟩꺁볯貼볯馀裢뢂菣ꪃ苣ꮃ苣ꮃ菣ꎂ菣膀볯躼볯鎽蟩꺁볯袽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢볯꺁룤ꞁ껥財臣貂苣芀뻤袁臣膀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣膃苣벃菣隌臣讂臣蒁臣릂菣莃菣꾁胣ꖻ룤꺁鷦뚻볯邼蓢讁苣꒮룦뺁臣ꮁ臣袼뻤ꢁ臣ꚁ胣醼볯鲀볯邼駦鎖볯궼뷯ꎼ볯궸볯躼볯鎽蟩꺁볯貼볯馀裢뢂菣ꪃ苣ꮃ苣ꮃ菣ꎂ菣膀볯躼볯鎽蟩꺁볯袽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢볯꺁룤ꞁ껥財臣貂苣芀㰊䐯噉ਾ䐼噉㰾䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖 芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀볯讀臣늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰낼볯㲖猯灵꾁胣讻鳥龎귥ꢁ臣节臣邵臣袐臣ꚁ胣込볯㲚牢ਾ䐼噉邀賥鎼볯銼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲〲㌵〶㘴琮晩㸢〲〲㌵〶㘴琮晩ꃂ〰㌰㐲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ戼㹲ꞁꇨ閁苣讂鋧銂뷥邈臣讂볯誁苣뎁볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯钼⼼畳㹰臣膀苣ꪃ菣鶿귨몟臣芁苣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣銼胥꺁볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯隼⼼畳㹰臣膀믤ꢜ軥邭臣ꢁ苣ꮁ뗧뎁郥ꎁ臣膀볥骼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢㈰㔰㘳㐰⸶楴≦㈾㈰㔰㘳㐰⸶楴쉦゠〰㈳㰵愯㰾䐯噉ਾ㰊牢ਾ臣ꢡ臣貂苣낒苣ꊽ裦馁苣鮼臣袂臣늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰낼볯㲔猯灵꾁胣뒼볯뎼臣芁苣芀㰊䐯噉ਾ䐼噉㰾䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖 芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀볥袼ⵌⴵ䈷볯ꞁꇨ閁苣讂賥袐觧膀臣龁臣鶁臣ꦡ苣膃苣벃菣隌臣讂雦閳臣膀믤许苣ꮐ苣骼戼㹲 袼뷯覼볥袼ⵌⴵ䈷볯ꞁꇨ閁苣讂賥袐觧膀臣龁臣鶁臣ꦡ苣膀볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯钼⼼畳㹰鿥誁苣뎁볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲘猯灵몟苣꒙軥馁苣꺁臣薅裥ꪁ鷦뚻룤ꞁ蓨鶿귨馁苣鎁臣ꞁ胣込볯겼裢閼裢鞼볯覼볯㲚牢ਾ䐼噉邀賥鎼볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲〲㌵〶㘴琮晩㸢〲〲㌵〶㘴琮晩ꃂ〰㌰㘲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ戼㹲ꞁꇨ閁苣讂賥袐觧膀臣龁臣鶁臣ꦡ苣龔铧馁苣ꢁ臣蚁苣蚃菣鞃볯誁苣뎁戼㹲 袼뷯覼볥袼ⵌⴵ䌷볯ꞁꇨ閁苣讂賥袐觧膀臣龁臣鶁臣ꦡ苣鶿귨馁苣鎁臣ꞁ胣込볯䲈㔭㜭覼볯㲚牢ਾ䐼噉邀賥鎼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲〲㌵〶㘴琮晩㸢〲〲㌵〶㘴琮晩ꃂ〰㌰㜲⼼㹡⼼䥄㹖ਊ戼㹲ꞁꇨ閁苣讂賥袐觧膀臣龁臣鶁臣ꦡ苣龔铧馁苣ꢁ臣蚁苣蚃菣鞃胣ં⼼䥄㹖㰊䥄㹖䐼噉邀볯钼볯颼胣㲑䐯噉ਾ†臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣릖돦꾁胣ꖻ룤銂郥肂볯㲚牢ਾ†볯膽볯込볯䖈䰭ㄭ볯ꞁꇨ閁苣讂賥袐觧膀臣龁臣鶁臣ꦡ苣膀볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯钼⼼畳㹰鿥誁苣뎁볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲘猯灵몟苣꒙軥馁苣꺁臣薅裥ꪁ鷦뚻룤ꞁ蓨鶿귨馁苣鎁臣ꞁ胣込볯䖈䰭㌭볯骼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢㈰㔰㘳㐰⸶楴≦㈾㈰㔰㘳㐰⸶楴쉦゠〰㈳㰸愯㰾䐯噉ਾ㰊牢ਾ臣ꢡ臣貂苣隌郥ꦉ胣뺁臣꾁臣꺁ꇥ銂铧ꎔ臣讂臣蒁臣릂菣莃菣鮼臣袂臣㲳牢ਾ†볯芽볯込볯䖈䰭㌭볯ꞁꇨ閁苣讂賥袐觧膀臣龁臣鶁臣ꦡ苣鶿귨馁苣鎁臣ꞁ胣込볯䖈䰭㐭볯骼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯銼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢㈰㔰㘳㐰⸶楴≦㈾㈰㔰㘳㐰⸶楴쉦゠〰㈳㰹愯㰾䐯噉ਾ㰊牢ਾ臣ꢡ臣貂苣隌郥ꦉ胣뺁臣꾁臣꺁ꇥ銂铧ꎔ臣讂臣蒁臣릂菣莃菣芀㰊䐯噉ਾ䐼噉㰾䥄㹖胣邼볯钼볯醀⼼䥄㹖 芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀볥袼ⵌⴵ䈷볯膀볯䖈䰭ㄭ볯ꞁꇨ閁苣讂賥袐觧膀臣龁臣鶁臣ꦡ臣ꊖ臣膀볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯钼⼼畳㹰臣袂臣늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰颼⼼畳㹰臣膀믤辄뷧鮏菣뎃苣ꮃ뿤랭鿥ꞁ臣讂볯誁苣뎁蓨鶿귨馁苣ꢁ臣蚁苣蚃菣鞃볯馁臣辂臣膀苣蚃菣鞃볯膽볯覼臣膀볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵誁苣뎁볯蒽볯ꎼ臣颭鳥许臣龮ꇨ閁苣讂胣芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯钼⼼畳㹰臣膀볯낼볯ꞁ臣誂胣誁苣뎁볯㲲畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲘猯灵꾁胣馃菣뢂菣袼볯躽볯ꞁ臣讂볯誁苣뎁蓨鶿귨馁苣ꢁ臣蚁苣蚃菣鞃臣膀볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵誁苣뎁볯蒽볯ꎼ臣颭鳥许臣龮ꇨ閁苣讂胣芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀蓨鶿귨馁苣ꢁ臣蚁苣蚃菣鞃臣膀뷯銈볯銽볯ꆼ뷯궸볯㲨畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲒猯扵誁苣뎁볯蒽볯ꎼ臣颭鳥许臣龮ꇨ閁苣讂胣ં⼼䥄㹖㰊䥄㹖䐼噉邀볯钼볯邼胣㲑䐯噉ਾ†臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣込볯䖈䰭㐭볯膀볯䲈㔭㜭覼臣ꢡ臣貂苣隌郥ꦉ胣뺁臣꾁臣꺁ꇥꮁ雩鞁胣늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰낼볯㲔猯灵꾁胣랂菣ꮃ뿤랭鿥ꞁ臣讂볯誁苣뎁뿤랭臣讂臣蒁臣릂菣莃菣袼臣ꪁ苣ꆁ胣릂菣莃菣袼뷯覼볯꾁胣랂菣ꮃ賥ꒉ臣袂臣ꦡ鿥꺁귥ꢜ룤ꞁ껥財臣貂苣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣늼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰낼볯㲔猯灵꾁胣뒼볯뎼臣芁苣鮼臣袂臣랂菣ꮃ賥ꚩ雨꾁胣뒼볯뎼볯貽臣芁苣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣ꦡ鿥꾁胣ꒂ菣肃苣벃菣ꞁ臣讂胣芁苣讅꟦ꮁ臣蒁臣膀뿤랭臣讂臣蒁臣릂菣莃菣꾁胣뒼볯뎼볯貽臣袂臣ꒂ菣肃苣벃菣꺁귥ꢜ룤ꞁ껥財臣貂苣芀臣讂藦颧臣誁臣ꚁ胣鶿귨馁苣ꢁ臣蚁苣蚃菣鞃臣膀볯궼볯궸볯ꖼ볯ꎼ뷯誁苣뎁苣龃菣뺂菣ꮃ臣颭鳥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業릒详鞁臣玦瑡궃菣랂苣ꮃꇥ憩⹱苣ꂊ臣龁胣꒮룦ꮁ臣㎦栠鋦貋뻥膀럦袐觧銂瑅䅏ꞁ룥袇臣龁胣覜ꧦ꒱苣蚈鯩鞁臣뒰胦꒱苣䖒佴捁臣붊蟥鞁臣芀郥辂臣龁鳦龩뇥銂菣ꦃ苣뎃臣鞴뗦鞁慎猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㈾⼼畳㹢体猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㐾⼼畳㹢룤ꞁ매ꖇ臣鮁뿦躁臣鮸鳥许臣莿룧鞁臣芀껦ꎸ苣궸胦랂菣ꮂ苣ꮃ룤閃菣莃苣ꖃ苣ꦃ菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃볯颃苣떂菣궸薼胣㊁薼胣ꆬ臣ꞁ㌳볯₅瑅䅏覼臣袂臣ꚁ닧붣臣讂臣ꢁ臣ꆄ觨ꊂ菣ꮃ菣ꆂ苣몛뷤ꢁ臣ꚁⴴ袼⸴㜳膀⸸㤴洠潭膀㐹볯覼臣躸臣覂苣龁胣㒂㔭볯定뇎㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢〲⼼畳㹰猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰䐾⼼畳㹢ⴠ㜳㌮볯授ㄠ〮胣䎁䍈㱬畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰳猯扵覼胣㲂畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰱猯灵䠾丠前⠠〶‰䡍ⱺ䌠猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㘾⼼畳㹢㱄畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰶猯扵⤾듎㤺㔮‱ㄨⱈ琠‬⁊‽⸲‴穈Ⱙ㜠㈮‱㈨ⱈ洠Ⱙ㘠㠮′㈨ⱈ洠Ⱙ㐠㌮″ㄨⱈ搠‬⁊‽〱㘮䠠⥺‬⸴㐲⠠䠱‬Ɽ䨠㴠ㄠ⸰‶穈Ⱙ㐠ㄮ‷ㄨⱈ搠Ɽ䨠㴠ㄠ⸲ⰳ㌠㔮䠠⥺‬⸴ㄱ⠠䠱‬⥭‬⸳㤹㌭㤮‱㈨ⱈ洠Ⱙ㌠㌮‱㌨ⱈ猠Ⱙ㌠㈮‶ㄨⱈ洠Ⱙ㌠〮⠠䠱‬摤‬⁊‽⸷ⰰ㐠ㄮ䠠⥺‬⸲ㄹ⠠䠱‬⥭‬⸲ㄸ⠠䠱‬摤‬⁊‽〱㘮‬⸹‴穈Ⱙ㈠㐮‰ㄨⱈ洠Ⱙ㈠㌮‴ㄨⱈ洠Ⱙ㈠ㄮⴸ⸲㠰⠠䠲‬⥭‬⸱㐵⠠䠱‬瑤‬⁊‽㐱ㄮ‬⸵″穈Ⱙㄠ㈮‴㤨ⱈ猠Ⱙㄠㄮ‸㌨ⱈ搠‬⁊‽⸷‰穈Ⱙㄠㄮ″㤨ⱈ猠 灰⹭㰠畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㌱⼼畳㹰⁃䵎⁒ㄨ㔲䴠穈‬㱃畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰶猯扵䐾猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㘾⼼畳㹢츩㪴㈠〰ㄮ‬㘱⸰ⰶㄠㄳ㈮‬㌱⸰ⰴㄠ㐱㜮‬ㄸ㐮‬〸㠮‬㐷㔮‬㐷㐮‬㌷㌮‬㤶ㄮ‬㠶㈮‬㘶〮‬㔵㐮‬㜴㤮‬〴㤮‬㐳㈮‬㠲㐮‬㠲ㄮ‬㌲㘮‬ㄲ㘮‬㜱㌮瀠浰†剉†楦浬†㈠㌹ⰳ㈠㔸ⰷㄠ㈷ⰵㄠㄵⰴㄠ㔲ⰰㄠ㜰‸浣猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ⴾ㰱猯灵⸾䠠䵒⁓䔨䥓 ⽭㩺嬠⭍慎㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰫猯灵‾慣捬⁤潦⁲㱃畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㠲⼼畳㹢㱈畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㐴⼼畳㹢㱏畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰷猯扵匾乩ⱡ㔠㌴㜮㜲㬲映畯摮‬㐵⸳㜲〵㰮牢ਾ䐼噉邀賥閼볯鎼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲〲㌵〶㘴琮晩㸢〲〲㌵〶㘴琮晩ꃂ〰㔰㔸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ㰊䐯噉ਾ䐼噉㰾䥄㹖胣邼볯鎼볯醀⼼䥄㹖 낂菣벃菣鲃菣꾂苣궸胣䎁䍲㱬畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰲猯扵袼〱‴杭胣め㠮㤴洠潭膀〱洠汯볯覼臣膀匨⴩苣ꮃ菣뎃苣龃菣超뷤邭볯㒈㔶洠膀⸰㌹‴浭汯胣ㆁ‱潭薼볯ꢁ胣鞃菣袃菣閍跦ꒉ볯㊈〰洠膀⸰㌹‴浭汯胣ㆁ‱潭薼볯ꢁ臣랷郥ꦉ臣膀敍乃볯㊈‸䱭볯銂諥袁臣膀뗧鲞臣鞁臣龔臣龁뫦늶苣꒮룦ꮁ臣ㆦ栠鋦貋臣龁胣ꖈ胥꺁菣ꦃ苣뎂룤膀ⴴ袼⸴㜳膀⸸㤴洠潭膀‱煥覼胣㒁㘭볯㖈㈮朲胣ㆁ⸲‷浭汯胣ㆁ㔮攠⹱볯膀楌汃볯㞈〲洠膀㜱〮洠潭膀′煥覼胣䶁袼㌹′杭胣ㆁ⸷‰浭汯胣㊁攠⹱볯膀灃猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㈾⼼畳㹢牚汃猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㈾⼼畳㹢볯㊈㐮朸胣㢁㐮‹浭汯胣ㆁ攠⹱볯膀臣袂臣亳䍩㱬畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰲猯扵뮃䕄袼㌳‱杭胣め㠮㤴洠潭膀〱洠汯볯覼苣肸럧ꮁ럦袐臣龁胣ꆬ臣ꞁ牃賩鎽뫦늶苣閃菣릂苣뢁꟧鞁臣膀臣꺁뗧鲞뻥覂苣龁럦袐觧銂껥ꦸ臣ꚁ″肿臣辁鋦貋臣龁胣趏뿥랷郥ꦉ苣낂菣벃菣鲃菣꾂苣讁苣随苣몇臣䖗佴捁볯ㆈ〰洠覼臣貸蟩鞁臣芀냦Ꞁ苣ꪃ菣뢅猨牥湩瑡⥥苣ꪃ苣ꂃ볯よ㔮䴠胣ㆁ〰洠覼臣袂臣玳瑡‮慎䍈㱏畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢″⼼畳㹢煡袼〱‰䱭볯銂諥袁臣膀臣꺁뗧鲞뻥覂苣龁럦袐觧銂‱릒详鞁臣芀蟦膿뛦銂苣ꮃ菣ꒂ菣꺁菣莃菣ꮁ胩鞁臣뺿臩鞁臣芀鳦龩뇥銂裥ꊛ臣ꚁ냦Ꞁ뇥銂瑅䅏ꞁ諦몇臣龁胣袐苣鮁臣覜ꧦ꒱苣隃菣ꒂ菣ꞁ듦蒵臣亗㱡畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰲猯扵匾㱏畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰴猯扵誸臣뺹蟧閁臣뺿臩鞁룦Ꞝ룤ꞁ뿦꺸臣讂臣ꢁ臣鞲苣ꪃ菣讞苣ꮃ苣벃菣貁룤袁苣貂臣貁胣鎁苣銂臣覂臣讂닧붣臣鮁臣ꮁ곦꺁迥鲿臣뾽铧鞁臣芀럧鶡䉔䙁뫦늶苣膀䉔䙁뫦늶볯咈䙈룤ㆭ꺁ㄲ洠膀ㄲ〮洠潭膀⸲‵煥覼臣袂臣䆳佣袼⸰〶‸䱭胣ㆁ⸰‶浭汯胣ㆁ㈮‵煥覼苣꒮룦ꮁ臣랷郥馁苣鎁臣ꮁ苣ꎁ臣뾪ꏨ鞁臣芀䡔袼〱‰䱭볯궸臣鞲苣ꮃ苣벃菣袼⸸㤴洠潭ꢁ꣨鞮臣貂臣覼臣릒详閁苣龁뫦늶臣膀䉔䙁䄭佣뚺뛦銂莄臣ꚁ諥袁臣芀迥鲿럦袐觧銂郥颁룦ꚺ臣ꚁ‱릒详鞁胣ꆬ臣ꞁ慳⹴丠㱈畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰴猯扵䌾⁬煡ꞁ苣ꢂ菣膃臣龁胣랷郥ꦉ苣䖒佴捁臣貸蟩鞁臣芀鳦龩뇥銂裥ꊛ臣ꚁ냦Ꞁ뇥銂瑅䅏ꞁ諦몇臣龁胣袐苣鮁臣覜ꧦ꒱苣隃菣ꒂ菣ꞁ듦蒵臣亗㱡畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰲猯扵匾㱏畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰴猯扵誸臣뺹蟧閁臣뺿臩鞁룦Ꞝ룤ꞁ뿦꺸臣龁胣议룦銂룤Ꞁ苣ꪃ苣늂菣誸菣ꦃ菣랂菣ꮂ菣ꂃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣袼菣궂苣뎃룤㊭薼胣㖁薼胣ꆬ臣ꞁ〱薼䔠佴捁볯ꮁ苣ꎁ臣뺲ꏨ馁苣鎁臣ꞁ蓧늉닦ꢁ臣ꚁⴴ㙓볯㒈㐮朵胣㚁㘮‹浭汯胣㊁苣蚃菣鞃臣㞧薼볯貁룤袁苣貂臣芀ⴴ㙓볯定뇎㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢〲⼼畳㹰猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰䐾⼼畳㹢ⴠ㌲㤮볯授ㄠ〮胣䎁䍈㱬畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰳猯扵覼胣㲂畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰱猯灵䠾丠前⠠〶‰䡍ⱺ䌠猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㘾⼼畳㹢㱄畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰶猯扵⤾듎㜺㈮⠹䠲‬⥭‬⸶㘸⠠䠲‬⥭‬⸵㔴⠠䠱‬⥳‬⸵㄰⠠䠱‬⥳‬⸴㈵⠠䠱‬牢Ɽ䨠㴠㔠㤮䠠⥺‬⸴㜴⠠䠱‬Ɽ䨠㴠ㄠ⸱′穈Ⱙ㐠㐮″ㄨⱈ洠Ⱙ㐠㌮‸ㄨⱈ搠‬⁊ㄽ⸱′穈Ⱙ㐠〮ⴲ⸳㔹⠠䠳‬⥭‬⸳㜸⠠䠲‬⥭‬⸳㜵⠠䠱‬牢⥳‬⸳㌴⠠䠱‬牢⥳‬⸳㜳㌭㌮‰㐨ⱈ洠Ⱙ㌠㈮‵㈨ⱈ洠Ⱙ㌠〮‷ㄨⱈ洠Ⱙ㈠㤮‸ㄨⱈ搠Ɽ䨠㴠㜠㘮‬⸶‵穈Ⱙ㈠㤮″ㄨⱈ洠Ⱙ㈠㘮‱ㄨⱈ洠Ⱙ㈠㔮‵㈨ⱈ琠‬⁊‽⸷‹穈Ⱙ㈠㈮‹ㄨⱈ洠Ⱙ㈠㈮ⴴ⸲㐱⠠䠲‬⥭‬⸲㈱⠠䠱‬摤Ɽ䨠㴠ㄠ⸴ⰲ㌠㈮‬⸳′穈Ⱙ㈠〮′㈨ⱈ洠Ⱙ㈠〮ⴷ⸱㠹⠠䠲‬⥭‬⸱〹ㄭ㠮‰㌨ⱈ洠Ⱙㄠ㌮‰㌨ⱈ搠‬⁊‽⸷‰穈Ⱙㄠㄮ‸ㄨⱈ洠Ⱙ〠㤮‹㌨ⱈ琠‬⁊‽⸷‰穈Ⱙ〠㠮‹㌨ⱈ搠‬⁊‽⸷‶穈Ⱙ〠㜮‴㌨ⱈ猠Ⱙ〠㘮‹㌨ⱈ猠 灰Ɑ㰠畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㌱⼼畳㹰⁃䵎⁒ㄨ㔲䴠穈‬㱃畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰶猯扵䐾猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㘾⼼畳㹢츩₴›㜱⸳ⰷㄠ㤵㠮‬㔱⸹ⰳㄠㄳㄮ‬㈱⸹ⰵㄠ㐱ㄮ‬〱⸷ⰹㄠ〰〮‬ㄸ〮‬〸ㄮ‬㤷㔮‬㔷㜮‬㐷㔮‬㈷㈮‬〷ㄮⰲ㜠⸰ㄱ‬㐶㠮‬㐶㐮‬㌶㔮‬〶㈮‬㐵㠮‬ㄴ㔮‬㠳㤮‬㠳㠮‬㔳㈮‬ㄳ㌮‬〳㔮‬㤲㐮‬㠲㤮‬㈲㤮‬㈲㠮‬㈲㜮‬㜱㠮‬㐱㌮瀠浰‮剉⠠楦浬㨩㌠㜴ⰰ㈠㔹ⰶ㈠㜸ⰱㄠ㌷ⰲㄠㄵⰴㄠ㐲ⰸㄠ㠰ⰱㄠ㌰‵浣猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ⴾ㰱猯灵⸾䠠䵒⁓䔨䥓 ⽭㩺嬠⭍慎㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰫猯灵‾慣捬⁤潦⁲㱃畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㘳⼼畳㹢㱈畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㘵⼼畳㹢㱏畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢ㄱ⼼畳㹢慎‬㠶⸷㜳㔱※潦湵Ɽ㘠㜸㌮ㄷ⸵戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢㈰㔰㘳㐰⸶楴≦㈾㈰㔰㘳㐰⸶楴쉦゠〰㠵㰶愯㰾䐯噉ਾਊ⼼䥄㹖㰊䥄㹖䐼噉邀볯鞼볯颼胣㲑䐯噉ਾ†䡃猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㈾⼼畳㹢汃猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㈾⼼畳㹢볯㦈‰䱭볯궸ⴴ㙓볯㒈㐮朵胣㚁㘮‹浭汯胣ㆁ攠⹱볯誁苣뎁䕔䡓볯ㆈ⸰‷䱭胣㚁⸶‹浭汯胣ㆁ‰煥覼臣릒详閁苣龁뫦늶臣膀䕔体晔볯㞈㔮‸䱭胣㎁⸳‵浭汯胣㖁攠⹱볯銂莄臣ꚁ믦ꂊ臣龁胣㎂栠鋦貋뻥膀럦袐觧銂慳⹴丠䡡佃猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㌾⼼畳㹢愠⹱룤뢁돦蒁臣芀鳦龩뇥銂裥ꊛ臣ꚁ냦Ꞁ뇥銂䡃猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㈾⼼畳㹢汃猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㈾⼼畳㹢臣붊蟥鞁臣芀郥辂臣龁鳦龩뇥銂菣ꦃ苣뎃臣鞴뗦鞁慎猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㈾⼼畳㹢体猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㐾⼼畳㹢룤ꞁ매ꖇ臣鮁뿦躁臣鮸鳥许臣莿룧鞁臣芀껦ꎸ苣궸胦랂菣ꮂ苣ꮃ룤閃菣莃苣ꖃ苣ꦃ菣꾂菣麃菣낂菣閃苣벃볯颃苣떂菣궸〱볯膀〵볯膀곦蒁臣ㆧ〰볯₅瑅䅏覼臣袂臣ꚁ닧붣臣讂臣ꢁ臣ꆄ觨릲臣鞁臣㒦匭袼⸲㜵膀⸵ㄸ洠潭膀㜸볯覼臣躸臣覂苣龁胣㒂匭骼칛嶱猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㈾㰰猯灵㰾畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㱄猯扵‾㈭⸹袼⁣⸱膀敍䡏볯芀猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ㄾ⼼畳㹰⁈䵎⁒㘨〰䴠穈‬㱃畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰶猯扵䐾猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㘾⼼畳㹢츩₴›⸴㜷⠠䠱‬⥳‬⸴㔷⠠䠱‬Ɽ䨠㴠ㄠ㠮䠠⥺‬⸴㤳⠠䠱‬⥭‬⸴㜲㐭ㄮ‴㈨ⱈ洠Ⱙ㐠〮″ㄨⱈ洠Ⱙ㌠㤮‵ㄨⱈ洠Ⱙ㌠㠮‸ㄨⱈ搠摤‬⁊‽ㄱ㤮‬⸷ⰸ㐠㐮䠠⥺‬⸳㠷⠠䠱‬摤‬⁊‽⸸ⰲ㐠ㄮ䠠⥺‬⸳㜵⠠䠱‬⥭‬⸳㈵⠠䠱‬⥭‬⸳㘴⠠䠱‬摤Ɽ䨠㴠㜠㔮‬⸳ⰶ㌠㘮䠠⥺‬⸳ㄴ⠠䠱‬⥭‬⸳㌰⠠䠱‬摤‬⁊‽⸵‰穈Ⱙ㈠㤮‱ㄨⱈ戠獲Ⱙ㈠㠮‸ㄨⱈ戠獲Ⱙ㈠㐮‴㈨ⱈ洠Ⱙ㈠㈮‵ㄨ⹈洠Ⱙ㈠〮ⴷ⸱㔸⠠䠴‬⥭‬⸱㘷ㄭ㘮‵㈨ⱈ洠Ⱙㄠ㌮‱ㄨⱈ搠摤‬⁊‽㈱㠮‬⸴ⰳㄠ㠮䠠⥺‬⸱㘱⠠䠱‬摤Ɽ䨠㴠ㄠ⸵ⰰ㌠ㄮ‬⸳‱穈Ⱙㄠ〮′㌨ⱈ琠‬⁊‽⸷‰穈Ⱙ〠㤮ⴵ⸰㜸⠠䠴‬⥭‬⸰㔸⠠䠳‬Ɽ䨠㴠㜠㘮䠠⥺⠠讀臣侮鞃菣袃菣貁ꛨ鎽臣覂臣蒁 灰⹭㰠畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㌱⼼畳㹰⁃䵎⁒ㄨ㔲䴠穈‬㱃畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰶猯扵䐾猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㘾⼼畳㹢츩₴›㜱⸳ⰵㄠㄵ㈮‬〱⸴ⰶ㠠⸰ⰹ㜠⸸ⰶ㜠⸷ⰲ㜠⸶ⰷ㜠⸶ⰵ㜠⸱ⰰ㘠⸵ⰵ㘠⸳ⰵ㘠⸲ⰶ㘠⸰ⰳ㐠⸲ⰷ㌠⸸ⰷ㌠⸵ⰹ㌠⸵ⰰ㌠⸲ⰴ㌠⸱ⰳ㌠⸰ⰷㄠ⸸ⰰㄠ⸶ⰲㄠ⸴″灰⁭剉⠠楦浬 㐳㔳‬㤲㠲‬㜱㤲‬㐱〲‬㈱㌵‬ㄱ㔶‬〱㈹‬〱㠴‬㌶‹浣猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰ⴾ㰱猯灵⸾䠠䵒⁓䔨䥓 ⽭㩺嬠⭍慎㱝畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰫猯灵‾慣捬⁤潦⁲㱃畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㌲⼼畳㹢㱈畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㠳⼼畳㹢㱏畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰸猯扵举ⱡ㐠㔶㈮㔴㬹映畯摮‬㘴⸵㐲〶㰮牢ਾ䐼噉邀賥閼볯閼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲〲㌵〶㘴琮晩㸢〲〲㌵〶㘴琮晩ꃂ〰㔰㜸⼼㹡⼼䥄㹖ਊ⼼䥄㹖㰊䥄㹖䐼噉邀볯鞼볯馼胣㲑䐯噉ਾ†苣뮂菣뎃볯ㆈ〰洠覼룤㒭匭袼⸱㌸膀⸴㐱洠潭膀‱煥覼臣袂臣㊳㈬뢂菣袃苣랂菣궃菣뎃볯㎈⸷‶䱭胣㎁㘰洠潭膀〳攠⹱볯꺁鋦貋臣貂臣뚺뛦뢁胣䎁䅓볯㊈㘳洠膀⸱㈰洠潭膀〱洠汯볯覼苣を蓢ꮁ臣ꂊ臣龁胣㎂‰業릒详貾胣랷郥ꦉ苣꒮룦뺁臣ꂊ룦鞁臣㒦栠鋦貋臣龁胣趏뿥銂瑅猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㌾⼼畳㹢袼′䱭볯ꞁ苣ꢂ菣膃臣䖗佴捁臣貸蟩鞁臣㎦‰業릒详鞁臣芀곦蒁臣랷郥ꦉ苣玒瑡‮慎䍈㱏畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢″⼼畳㹢煡궸臣ꢳ臣ꂁ胣覜ꧦ꒱苣蚈鯩鞁臣뒰胦꒱苣䖒佴捁臣붊蟥鞁臣芀郥辂臣龁鳦龩뇥銂菣ꦃ苣뎃臣鞴뗦鞁慎猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㈾⼼畳㹢体猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯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