(57)【要約】非接触支持プラットフォームは、非接触支持プラットフォームのＰＶステージの外面上にある複数の圧力ノズルを含む。圧力ノズルは、圧力ノズルを通じた流体の流出を引き起こす圧力源に接続される。複数の真空ノズルは、外面上の圧力ノズルが組み入れられ、真空ノズルを通じて流体の流入を作り出すように１つまたは複数のホースを介して真空マニホールドに接続される。少なくとも１つの流量計は、ホースの少なくとも１つのホースを介して測定流入を示す信号を発生するように構成される。制御装置は、測定流入が真空ノズルの閉塞を示すかどうかを決定するように信号を分析するように、および閉塞が示されるときに応答を生じさせるように、構成される。【選択図】図１Ａ
2020515054.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非接触支持プラットフォームであって、複数の圧力ノズルと、複数の真空ノズルと、少なくとも１つの流量計と、制御装置と、を備え、
前記複数の圧力ノズルは、前記非接触支持プラットフォームのＰＶステージの外面上にあり、前記圧力ノズルは、前記圧力ノズルを通じた流体の流出を引き起こす圧力源に接続され、
前記複数の真空ノズルは、外面上の圧力ノズルが組み入れられ、前記真空ノズルを通じて流体の流入を作り出すように１つまたは複数のホースを介して真空マニホールドに接続され、
前記少なくとも１つの流量計は、前記１つまたは複数のホースの少なくとも１つのホースを介して測定流入を示す信号を発生するように構成され、
前記制御装置は、測定流入が前記複数の真空ノズルのうちの真空ノズルの閉塞を示すかどうかを決定するように信号を分析するように、および閉塞が示されるときに応答を生じさせるように、構成される、
非接触支持プラットフォーム。
【請求項２】
請求項１の非接触支持プラットフォームであって、前記複数の真空ノズルのそれぞれの真空ノズルは、別個のホースによって前記真空マニホールドに接続される、非接触支持プラットフォーム。
【請求項３】
請求項２の非接触支持プラットフォームであって、それぞれの前記別個のホースは、別個の流量計を含み、前記別個の流量計は、前記別個のホースを介して測定流入を示す信号を生成するように構成される、非接触支持プラットフォーム。
【請求項４】
請求項１の非接触支持プラットフォームであって、複数の真空ノズルは、単一の分岐ホースによって前記真空マニホールドに接続される、非接触支持プラットフォーム。
【請求項５】
請求項４の非接触支持プラットフォームであって、前記複数の真空ノズルのそれぞれは、前記分岐ホースの枝に接続される、非接触支持プラットフォーム。
【請求項６】
請求項４または５の非接触支持プラットフォームであって、前記少なくとも１つの流量計は、前記分岐ホースのトランクに位置し、前記少なくとも１つの流量計が、前記複数の真空ノズルを通る測定混合流入を示す信号を発生するように構成されるようになっている、非接触支持プラットフォーム。
【請求項７】
請求項４から６のいずれか１項の非接触支持プラットフォームであって、前記分岐ホースは、前記分岐ホースの中間ホースブランチを含み、前記少なくとも１つの流量計は、中間ホースブランチに位置し、前記少なくとも１つの流量計が、ブランチが前記少なくとも１つの流量計の中間ホースブランチ上流に接続される前記複数の真空ノズルのモニタされる真空ノズルを通る測定混合流入を示す信号を発生するように構成されるようになっている、非接触支持プラットフォーム。
【請求項８】
請求項７の非接触支持プラットフォームであって、ブランチが前記少なくとも１つの流量計の中間ホースブランチ下流に加わる前記複数の真空ノズルのモニタされない真空ノズルには、補償構造が設けられ、前記モニタされない真空ノズルのそれぞれを通る流入を、前記モニタされる真空ノズルのそれぞれを通る流入にほぼ等しくする、非接触支持プラットフォーム。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載の非接触支持プラットフォームであって、前記少なくとも１つの流量計は絞りを備える、非接触支持プラットフォーム。
【請求項１０】
請求項９に記載の非接触支持プラットフォームであって、前記少なくとも１つの流量計は、絞りのホース上流の流圧を示す信号を発生する圧力トランスデューサーと、絞りのホース下流の流圧を示す信号を発生する圧力トランスデューサーと、を備える、非接触支持プラットフォーム。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の非接触支持プラットフォームであって、前記少なくとも１つの流量計は、絞りの上流流体圧力と絞りの下流流体圧力との間の差を示す信号を発生する圧力トランスデューサーを備える、非接触支持プラットフォーム。
【請求項１２】
請求項１１に記載の非接触支持プラットフォームであって、基準導管をさらに備え、前記基準導管は、前記少なくとも１つの流量計の絞りにほぼ等しい絞りを有し、前記圧力トランスデューサーは、前記１つまたは複数のホースのうちの前記少なくとも１つのホースにおよび前記基準導管に選択的に接続可能である、非接触支持プラットフォーム。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の非接触支持プラットフォームであって、導管をさらに備え、前記導管に、前記圧力トランスデューサーが接続可能であり、前記導管は、前記圧力トランスデューサーにゼロ圧力差を提供するように構成される、非接触支持プラットフォーム。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか１項に記載の非接触支持プラットフォームであって、前記制御装置は、測定流入を流入の閾値と比較することによって測定流入が閉塞を示すかどうかを決定するように構成される、非接触支持プラットフォーム。
【請求項１５】
請求項１４に記載の非接触支持プラットフォームであって、前記制御装置は、測定流入が持続する時間を最短期間と比較することによって測定流入が閉塞を示すかどうかを決定するように構成される、非接触支持プラットフォーム。
【請求項１６】
非接触支持プラットフォームの１つまたは複数の真空ノズルの閉塞を検出する方法であって、前記方法は、
流量計によって生成される信号を得ることであって、前記流量計は、ＰＶステージの外面上の前記１つまたは複数の真空ノズルのうちの少なくとも１つの真空ノズルを、真空マニホールドに接続する、ホースに含まれ、信号は、前記ホースを介した測定流入を示す、流量計によって生成される信号を得ることと、
測定流入が前記複数の真空ノズルのうちの真空ノズルの閉塞を示すかどうかを決定するように分析することと、
閉塞が示されるときに応答を生じさせることと、
を含む方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の方法であって、前記流量計は、ホースの絞りの両側間の圧力差を測定する圧力トランスデューサーを含み、前記方法は、基準導管の絞りの両側間の圧力差を測定するように前記圧力トランスデューサーを使用することをさらに含む、方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法であって、信号を分析することは、ホースの測定圧力差を、前記基準導管の測定圧力差と比較することを含む、方法。
【請求項１９】
請求項１６から１８のいずれか１項に記載の方法であって、信号を分析することは、値を得るために信号を処理することと、得られた値を閾値と比較することと、を含む、方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の方法であって、信号を分析することは、得られた値の持続の時間を最短期間と比較することを含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、非接触支持プラットフォームに関する。具体的には、本発明は、真空ノズルの閉塞を検出するように構成される非接触支持プラットフォームに関する。
【背景技術】
【０００２】
非接触支持面は、圧力−真空（ＰＶ）ステージの表面上の圧力ノズルおよび真空ノズルの配置を含む。圧力ノズルは、ＰＶステージからの空気の流出を引き起こすように、圧力源に接続される。真空ノズルは、真空源に接続され、空気が真空ノズルを介してＰＶステージに吸い込まれるようになっている。
【０００３】
圧力ノズルを通じた空気の流出および真空ノズルを通じた空気の流入は、物体（例えば、平板物体）を支持することができるエアークッションを作り出すことができる。流出および流入は、物体とステージの表面との間の距離の変化に抵抗する流体スプリング効果を作り出すことができる。従って、非接触支持面は、ステージ表面からの固定距離で物体を支持することができる。ステージは、下からまたは上から物体を支持することができる。
【０００４】
１つ以上のノズルを通る空気流の遮断は、エアークッションの均一性を低減し得る。従って、閉塞ノズルは、物体、または閉塞ノズル近くの物体の一部と、ステージ表面と、の間の距離に影響を与え得る。期待距離からの距離の偏差は、物体上で行われる測定または過程の品質に悪影響を与え得る。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
従って、本発明の実施形態に従って、複数の圧力ノズルと、複数の真空ノズルと、少なくとも１つの流量計と、制御装置と、を含む非接触支持プラットフォームが提供される。複数の圧力ノズルは、非接触支持プラットフォームのＰＶステージの外面上にあり、圧力ノズルは、圧力ノズルを通じた流体の流出を引き起こす圧力源に接続される。複数の真空ノズルは、外面上の圧力ノズルが組み入れられ、真空ノズルを通じて流体の流入を作り出すように１つまたは複数のホースを介して真空マニホールドに接続される。少なくとも１つの流量計は、１つまたは複数のホースの少なくとも１つのホースを介して測定流入を示す信号を発生するように構成される。制御装置は、測定流入が複数の真空ノズルのうちの真空ノズルの閉塞を示すかどうかを決定するように信号を分析するように、および閉塞が示されるときに応答を生じさせるように、構成される。
【０００６】
さらに、本発明の実施形態によると、複数の真空ノズルのそれぞれの真空ノズルは、別個のホースによって真空マニホールドに接続される。
【０００７】
さらに、本発明の実施形態によると、それぞれの別個のホースは、別個の流量計を含み、別個の流量計は、別個のホースを介して測定流入を示す信号を生成するように構成される。
【０００８】
さらに、本発明の実施形態によると、複数の真空ノズルは、単一の分岐ホースによって真空マニホールドに接続される。
【０００９】
さらに、本発明の実施形態によると、複数の真空ノズルのそれぞれは、分岐ホースの枝に接続される。
【００１０】
さらに、本発明の実施形態によると、少なくとも１つの流量計は、分岐ホースのトランクに位置し、流量計が、複数の真空ノズルを通る測定混合流入を示す信号を発生するように構成されるようになっている。
【００１１】
さらに、本発明の実施形態によると、分岐ホースは、分岐ホースの中間ホースブランチを含み、少なくとも１つの流量計は、中間ホースブランチに位置し、流量計が、ブランチが流量計の中間ホースブランチ上流に接続される複数の真空ノズルのモニタされる真空ノズルを通る測定混合流入を示す信号を発生するように構成されるようになっている。
【００１２】
さらに、本発明の実施形態によると、ブランチが流量計の中間ホースブランチ下流に加わる複数の真空ノズルのモニタされない真空ノズルには、補償構造が設けられ、モニタされない真空ノズルのそれぞれを通る流入を、モニタされる真空ノズルのそれぞれを通る流入にほぼ等しくする。
【００１３】
さらに、本発明の実施形態によると、流量計は、絞りを含む。
【００１４】
さらに、本発明の実施形態によると、流量計は、絞りのホース上流の流圧を示す信号を発生する圧力トランスデューサーと、絞りのホース下流の流圧を示す信号を発生する圧力トランスデューサーと、を含む。
【００１５】
さらに、本発明の実施形態によると、流量計は、絞りの上流流体圧力と絞りの下流流体圧力との間の差を示す信号を発生する圧力トランスデューサーを含む。
【００１６】
さらに、本発明の実施形態によると、非接触支持プラットフォームは、基準導管を含み、基準導管は、少なくとも１つの流量計の絞りにほぼ等しい絞りを有し、圧力トランスデューサーは、１つまたは複数のホースのうちの少なくとも１つのホースにおよび基準導管に選択的に接続可能である。
【００１７】
さらに、本発明の実施形態によると、非接触支持プラットフォームは、導管を含み、導管に、圧力トランスデューサーが接続可能であり、導管は、圧力トランスデューサーにゼロ圧力差を提供するように構成される。
【００１８】
さらに、本発明の実施形態によると、制御装置は、測定流入を流入の閾値と比較することによって測定流入が閉塞を示すかどうかを決定するように構成される。
【００１９】
さらに、本発明の実施形態によると、制御装置は、測定流入が持続する時間を最短期間と比較することによって測定流入が閉塞を示すかどうかを決定するように構成される。
【００２０】
本発明の実施形態によると、非接触支持プラットフォームの１つまたは複数の真空ノズルの閉塞を検出する方法がさらに提供され、その方法は、流量計によって生成される信号を得ることを含み、流量計は、ＰＶステージの外面上の１つまたは複数の真空ノズルのうちの少なくとも１つの真空ノズルを、真空マニホールドに接続する、ホースに含まれ、信号は、ホースを介した測定流入を示す。その方法は、測定流入が複数の真空ノズルのうちの真空ノズルの閉塞を示すかどうかを決定するように分析することと、閉塞が示されるときに応答を生じさせることを、含む。
【００２１】
さらに、本発明の実施形態によると、流量計は、ホースの絞りの両側間の圧力差を測定する圧力トランスデューサーを含み、方法は、基準導管の絞りの両側間の圧力差を測定するように圧力トランスデューサーを使用することを含む。
【００２２】
さらに、本発明の実施形態によると、信号を分析することは、ホースの測定圧力差を、基準導管の測定圧力差と比較することを含む。
【００２３】
さらに、本発明の実施形態によると、信号を分析することは、値を得るために信号を処理すること、および得られた値を閾値と比較することを含む。
【００２４】
さらに、本発明の実施形態によると、信号を分析することは、得られた値の持続の時間を最短期間と比較することを含む。
【００２５】
本発明がより良く理解され、その実用的応用が評価されるために、次の図が提供されて以下で言及される。図は、例としてのみ与えられ、発明の範囲を少しも限定しないことに、注目すべきである。同様の部品は、同様の参照符号で示される。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１Ａ】それぞれの真空ノズルが別個のホースによって真空マニホールドに接続される、閉塞検出を伴う非接触プラットフォームの例を概略的に示す。
【図１Ｂ】図１Ａに示される非接触プラットフォームの閉塞検出用の制御装置の略ブロック図である。
【図２Ａ】図１Ａに示される非接触プラットフォームの閉塞検出用の圧力トランスデューサー付きの流量計を概略的に示す。
【図２Ｂ】図１Ａに示される非接触プラットフォームの閉塞検出用の圧力差トランスデューサーを有する流量計を示す。
【図３Ａ】複数の真空ノズルが分岐ホースによって真空マニホールドに接続される、閉塞検出を伴う非接触支持プラットフォームの例を概略的に示す。
【図３Ｂ】中間ホースブランチを含む図３Ａに示される非接触支持プラットフォームの変形の例を概略的に示す。
【図４】本発明の実施形態による、非接触支持プラットフォームの閉塞検出の方法を表現するフローチャートである。
【図５Ａ】基準導管の流量測定用の構成の、基準導管を有する非接触支持プラットフォームを概略的に示す。
【図５Ｂ】圧力−真空（ＰＶ）ステージの真空ノズルの真空ホースの流量測定用の構成の、基準導管を有する非接触支持プラットフォームを概略的に示す。
【図５Ｃ】ゼロオフセット測定用の構成の、基準導管を有する非接触支持プラットフォームを概略的に示す。
【図６】本発明の実施形態による、基準導管を有する非接触支持プラットフォームの閉塞検出の方法を表現するフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
次の詳細な説明では、発明の完全な理解を提供するために、多くの具体的詳細が記載される。しかしながら、当業者は、発明がこれらの具体的詳細なしに実施され得ることを理解する。他の例では、周知の方法、手順、部品、モジュール、ユニットおよび／または回路は、発明を不明瞭にしないように、詳細に記載されていない。
【００２８】
発明の実施形態はこれに関して限定されないが、例えば、「処理する」、「計算する」、「算出する」、「決定する」、「確証する」、「分析する」、「確認する」、または同様のものなどの用語を使用する議論は、コンピューター、コンピューター・プラットフォーム、コンピューターシステム、または他の電子計算機の動作および／またはプロセスに言及することがあり、それは、コンピューターのレジスタおよび／またはメモリ内の物理（例えば電子）量として表されるデータを、コンピューターのレジスタおよび／またはメモリまたは動作および／またはプロセスを実行する命令を格納することができる他の情報非一時的記憶媒体（例えばメモリ）内の物理量として同様に表される他のデータに、操作および／または変換する。発明の実施形態はこれに関して限定されないが、本明細書で使用される「複数」（“ｐｌｕｒａｌｉｔｙ”および“ａ  ｐｌｕｒａｌｉｔｙ”）という用語は、例えば、「多数の（ｍｕｌｔｉｐｌｅ）」または「２つ以上（ｔｗｏ  ｏｒ  ｍｏｒｅ）」を含み得る。「複数」（“ｐｌｕｒａｌｉｔｙ”または“ａ  ｐｌｕｒａｌｉｔｙ”）という用語は、２つ以上の部品、装置、要素、ユニット、パラメーターまたは同様のものを記載するために明細書にわたって使用され得る。明示的に述べない限り、本明細書に記載される方法の実施形態は、特定の順序または順番に限定されるものではない。加えて、記載される方法の実施形態またはその要素のいくつかは、同一時点で、同時に、すなわち並行して、現れるまたは行われることができる。別段の指示がない限り、本明細書で用いられる接続詞「または」は、両立的（挙げられた選択肢のいずれかまたは全て）と理解されるべきである。
【００２９】
発明のいくつかの実施形態は、コンピューターまたはプロセッサ可読媒体などの品物、または、例えばメモリ、ディスクドライブ、またはＵＳＢフラッシュメモリなどのコンピューターまたはプロセッサ非一時的記憶媒体などの品物を含んでよく、プロセッサまたは制御装置で実行されるときに本明細書に開示される方法を実行する、例えばコンピューター実行可能命令である、命令をコード化する、含むまたは格納する。
【００３０】
本発明の実施形態に従って、非接触支持プラットフォームは、圧力−真空（ＰＶ）ステージの真空ノズルを通る空気または別の流体の流入の閉塞または他の遮断を検出するように構成され得る。例えば、適切な流量計は、真空ノズルの閉塞による流入の減少を検出し得る。流量計は、制御装置に伝えられ得る信号を発生させるように構成されてよい。制御装置は、アラートを生成するように、動作を修正するように、あるいは真空ノズルの閉塞を示す信号に反応するように、構成されてよい。
【００３１】
それぞれの真空ノズルは、真空源に接続される１つ以上の真空マニホールドを介して真空源に接続される。真空源は、真空エジェクタ、真空ポンプ、または別の種類の真空源を含んでよい。使用される真空源の種類は、非接触支持プラットフォームの、または非接触支持プラットフォームの特定の用途の、要求に応じて決められてよい。例えば、真空源の選択に影響を与え得る考慮すべき事柄は、真空ノズルの数、真空ノズルのそれぞれを通る望ましい流入、周囲騒音の許容レベル、または他の考慮すべき事柄を、含んでよい。
【００３２】
真空ノズルは、非接触支持プラットフォームの圧力−真空（ＰＶ）ステージ上で圧力ノズルが典型的に組み入れられる。圧力ノズルは、ＰＶステージの表面で空気または別の流体の流出を引き起こす真空源に接続され得る。典型的に、流体流出は、圧力ノズルの閉塞が比較的まれであり得るように、圧力ノズルからの異物を放出すると期待され得る。それ故に、圧力ノズルを真空源に接続するホースに、本明細書に記載される流量計も設けられてよいが、そのような流量計は、典型的な状況下で不要と考えられ得る。
【００３３】
ホース、管、チューブ、導管、または他の接続（そのいずれかは、本明細書で真空ホースと称される）は、それぞれの真空ノズルを真空マニホールドに接続する。場合によっては、それぞれの真空ノズルは、別個の真空ホースによって真空マニホールドに接続されてよい。場合によっては、単一の真空ホースは、真空ノズルの一群を真空マニホールドに接続してよい。例えば、真空マニホールドに接続する単一のホースは、真空ノズルのそれぞれへの接続のために別々のブランチに枝分かれしてよい。別の例として、ＰＶステージは、複数の（例えば、隣り合う真空ノズル）を単一の真空ホースとの接続に接続する導管を組み込んでよい。
【００３４】
それぞれの真空ホースには、ホースを通じた流入を測定するために流量計が設けられる。流量計は、制御装置またはコンピューターが読み取れる信号を生成するように構成されてよい。
【００３５】
真空ノズルが真空マニホールドにどのように接続されるかに応じて、測定流入は、１つ以上の真空ノズルを通る流入によって影響を受け得る。例えば、測定流入は、１つ以上の真空ノズルの障害物または閉塞によって影響を受け得る。
【００３６】
それぞれの真空ノズルが別個の真空ホースによって真空マニホールドに接続される場合、それぞれの真空ホースには、別個の流量計が設けられてよい。この場合、それぞれの流量計によって測定される流入は、対応する真空ホースが接続される単一の真空ノズルを通る流入を示し得る。従って、流入の測定された減少は、１つの真空ノズルの閉塞を示し得る。この場合、比較的多くの真空ホースおよび流量計が、必要とされ得る。一方、比較的低いまたは粗い感度の流量計は、真空ノズルの部分的閉塞を検出するのに十分であり得る。それ故に、比較的簡単で安価な流量計を使用することができる。
【００３７】
一方、単一のホースは、複数の真空ノズルを真空マニホールドに接続し得る。例えば、ホースは、分岐してよく、分枝してよく（例えば、多重分枝）、またはその他の方法で、ホースの一端が単一のトランク部分を形成し、ホースの他端が複数の分岐ホースを形成するように、構成されてよい。従って、ホースは、近位端の真空マニホールドの単一の開口を、遠位端の複数の真空ノズルに接続してよい。単一のホースに接続する複数の真空ノズルは、非接触支持プラットフォームのＰＶステージ上の隣り合う真空ノズルであってよい。流量計は、単一のホースに接続される真空ノズルの全てからの流入に共通する分岐ホースの部分に位置してよい。例えば、流量計は、ホースの分枝または分岐の近位にある真空マニホールドの近くのホースのトランク部分に位置してよい。この場合、測定流は、単一のホースに接続される真空ノズルのいずれかを通る流入の減少の影響を受け得る。ホースの１つを通じたそのような減少の検出は、真空ノズルの１つを通じた流入の変化によって引き起こされるトランク部分を通じた流入の変化を検出するのに十分な感度を有する流量計を、必要とし得る。代替的に、１つまたは加えて、１つ以上の分岐ホースに、別個の流量計が設けられてよい。
【００３８】
流量計は、流入物が通る絞りを含んでよい。例えば、絞りは、単一のオリフィス、一連のオリフィス、または別の種類の絞りを含んでよい。圧力トランスデューサーは、絞りの両側、例えば、絞りの上流側および下流側、の流圧を測定するように構成され得る。絞りの両側間の測定差圧は、流量を示し得る。
【００３９】
圧力トランスデューサーは、測定圧力または圧力差を示す電気信号を発生させるように構成されてよい。電気信号は、制御装置に伝えられ得る。例えば、圧力トランスデューサーは、ワイヤ、ケーブル、または他の接続を介して、電気信号を受け取るように構成された受信装置の適切なコネクタまたはポートに接続されてよい。受信装置は、制御装置に組み込まれてよい、または制御装置から分かれてよい。代替的にまたは加えて、圧力トランスデューサーは、制御装置によって受信可能である信号を無線で送るように構成されてよい。
【００４０】
制御装置（例えば、制御装置のプロセッサ）は、受け取った信号を分析または解読するように構成されてよい。場合によっては、信号は、真空ポートを通る減少した流入を示し得る。例えば、制御装置は、所定の期間持続する流入の減少を検出するように構成されてよい。所定の期間は、流量の測定が閉塞または別の変化の後に安定化する前に、典型的に経過する期間（例えば、３０秒から６０秒）に対応し得る。圧力差または流量の測定変化は、閾値の変化と比較され得る。
【００４１】
流量計の絞り（例えば、オリフィスまたは他の絞り）は、望ましい範囲で圧力変化が生じるように、選択されてよい。例えば、約０．１ミリバールから約０．３ミリバール、例えば約０．２ミリバールの範囲の圧力差が、測定または分析にとって有利であるということが、分かり得る。例えば、絞りは、毎分約２０標準リットルの公称流量が、約１０ミリバールの圧力差をもたらすときに、約１９ＮＬ／分までの空気流の減少が、約９．８ミリバールの圧力差をもたらすように、選択されてよい。
【００４２】
図１Ａは、それぞれの真空ノズルが別個のホースによって真空マニホールドに接続される、閉塞検出を伴う非接触プラットフォームの例を概略的に示す。図１Ｂは、図１Ａに示される非接触プラットフォームの閉塞検出用の制御装置の略ブロック図である。
【００４３】
非接触プラットフォーム１０は、ＰＶステージ１２を含み、ＰＶステージ１２は、ＰＶステージ１２の外面からほぼ固定距離で物体を支持する流体クッション（流体は空気または他の気体を典型的に含む）を形成するように構成される。典型的な物体は、シリコン基板、ガラス板、または他の薄く平たい物体などの、薄く平たい物体を含み得る。
【００４４】
ＰＶステージ１２は、複数の真空ノズル１４が組み入れられている圧力ノズル１６を典型的に含む。圧力流出２９を伴う圧力ノズル１６から流出する流体、および真空流入２８を伴う真空ノズル１４に流入する流体は、物体の非接触支持の外面１３で流体クッションを作り出し得る。
【００４５】
それぞれの圧力ノズル１６は、圧力ホース２６によって圧力マニホールド２４に接続される。例えば、それぞれの圧力ホース２６は、それぞれの圧力ノズル１６を、圧力マニホールド２４の別のポートに別々に接続してよい。代替的にまたは加えて、１つ以上の圧力ホース２６は、２つ以上の圧力ノズル１６を圧力マニホールド２４の単一のポートに接続する分岐ホースを含んでよい。圧力マニホールド２４が圧力源（例えば、ポンプ、ブロワー、または他の圧力源）に接続され、圧力源が動作しているとき、流体は、圧力流出２９で示されるようにそれぞれの圧力ノズル１６から外側に流れ得る。
【００４６】
典型的に、圧力流出２９は、圧力ノズル１６を通る圧力流出２９を妨げるように圧力ノズル１６での汚れまたはごみの蓄積を防ぐのに十分強いと期待され得る。
【００４７】
それぞれの真空ノズル１４は、真空ホース２０によって真空マニホールド１８に接続される。場合によっては、それぞれの真空ノズル１４には、例えば、自己適応セグメント化オリフィス（ＳＡＳＯ）ラビリンスの形の、狭窄フィンが設けられてよい。
【００４８】
図示の例では、それぞれの真空ノズル１４は、別個の真空ホース２０によって真空マニホールド１８の単一の真空ポート１９に接続される。真空マニホールド１８は、真空源２４に接続され得る。例えば、真空源２４は、真空ポンプ、真空エジェクタ、または別の真空源または吸引源を含んでよい。真空マニホールド１８が真空源２４に接続され、真空源２４が動作しているとき、流体は、真空流入２８で示されるようにそれぞれの真空ノズル１４から内側に流れ得る。
【００４９】
圧力流出２９および真空流入２８の割合は、特定の特徴を伴う流体クッションを作り出すように選択されてよい。例えば、エアークッションは、ＰＶステージ１２の外面１３から特定の距離で特定の種類の物体を支持するように構成または最適化されてよい。エアークッションは、特定の流体スプリング効果を提供するように構成されてよい。
【００５０】
例えば、流体が空気であるとき、真空流入２８または圧力流出２９の典型的な空気流は、毎分約２０標準リットルから毎分約４０標準リットルの範囲であってよい。（標準リットルを特徴付ける温度および圧力の値は、異なるユーザーの間でおよび異なる用途の間で異なってよい。）圧力流出２８に対する真空流入２９の割合は（例えば、支持される物体が、対応する真空ノズル１４および圧力ノズル１６をカバーしないとき）、典型的に１より大きくてよく、例えば約１．５または１より大きい別の値であってよい。（例えば、割合は、支持される物体が、対応する真空ノズル１４および圧力ノズル１６をカバーするとき、真空流入２９が圧力流出２８に等しいように、選択されてよい。）
【００５１】
場合によっては、真空流入２８は、ほこり、ごみ、すす、油、または環境からの他の粒子状物質を、１つ以上の真空ノズル１４に吸い込み得る。その物質は、影響を受ける真空ノズル１４を通る真空流入２８を減少させるように影響を受ける真空ノズル１４を少なくとも部分的に妨げ得る。
【００５２】
図示の例では、それぞれの真空ホース２０には、流量計（ＦＭ）２２が設けられている。それぞれの流量計２２は、真空ホース２０を通る真空流入２８を示す信号を生成するように構成され、真空ホース２０の流体流入がその流量計２２で測定される。例えば、信号は、電気ケーブルを介して伝達することができる電気信号、電磁波を介して伝達可能である電磁信号、光ファイバーを介してまたは直接（例えば、光送信機と光受信機との間の見通し線に沿って）伝達可能である光信号、または別の種類の信号、であってよい。
【００５３】
制御装置３０は、１つ以上の流量計２２によって伝えられる信号を受信および分析するように構成されてよい。例えば、制御装置３０のプロセッサ３４は、流量計２２によって伝えられる信号を分析するように構成されてよい。
【００５４】
制御装置３０のプロセッサ３４は、例えば１つ以上のコンピューターの、１つ以上の処理装置を含んでよい。プロセッサ３４は、データ記憶装置３６に保存されるプログラム命令に従って動作するように構成されてよい。
【００５５】
プロセッサ３４は、データ記憶装置３６と通信し得る。データ記憶装置３６は、１つ以上の揮発性または不揮発性の、固定または取り外し可能な、データ記憶装置またはメモリ装置を含んでよい。データ記憶装置３６は、例えば、プロセッサ３４の動作のためのプログラミングされた命令、動作中のプロセッサ３４による使用のためのデータまたはパラメーター、またはプロセッサ３４の動作の結果、を保存するのに使用されてよい。
【００５６】
例えば、プロセッサ３４は、流量計２２から受け取る信号を処理することができ、その流量計２２によって示される流量を決定するようになっている。決定された流量は、閾値流量と比較され得る。例えば、閾値流量の値または流量の閾値の部分変化は、データ記憶装置３６に保存され得る。代替的にまたは加えて、閾値流量を示す単一の値または他の値または閾値の部分変化は、データ記憶装置３６に保存され得る。プロセッサ３４は、流量計２２から受け取る信号、または受信信号の処理の結果を、適切な閾値と比較するように構成されてよい。例えば、閾値は、例えば、較正またはセットアップ手順中、非接触支持プラットフォーム１０の製造業者または設置業者によって決定されてよい。
【００５７】
代替的にまたは加えて、真空ノズル１４（および真空ホース２０）に構造および動作の点で同様または同一である、および真空源２４に接続される、１つ以上の外部真空ノズルが、ＰＶステージ１２の外側に設けられてよい。例えば、外部真空ノズルは、物体の非接触支持を目的としないＰＶステージ１２の部分（例えば、ＰＶステージ１２の側面または底面）、または他の部分に、位置してよい。位置は、外部真空ノズルを塞ぎ得る物質の流入がありそうにないように、選択され得る。外部真空ノズルを通る流入も、流量計でモニタされてよい。外部真空ノズルを通る流入を測定する流量計で発生する信号は、例えば、真空源２４の（または真空マニホールド１８の）操作ミスの誤った解釈と閉塞を区別することができるように、基準流入になり得る。
【００５８】
例えば、流量または流量計の安定化時間と関連がある、１つ以上の制限時間または時間閾値が、データ記憶装置３６に保存されてよい。例えば、流量計信号が受信されるとき、プロセッサ３４は、信号が受け取られたまたは処理された時間を示す時間と共に、信号の処理から得られる値を保存するように構成されてよい。それに続く信号が受信されるとき、現在受信している信号によって示される現在得られている値は、以前に受信した信号によって示された１つ以上の以前の値と比較され得る。現在の値と、流量の減少を示す以前の値と、の値で変化が検出される場合（例えば、変化が閾値を超える）、続いて得られる値は、変化が持続するかどうかを決定するために変更値と比較され得る。変化が最短期間持続する場合、プロセッサ３４は、変化を、対応する真空ノズル１４の閉塞を示すと、解釈し得る。同様に、閉塞を示す低流量を示す値が、検出されてよい。最短期間にわたって繰り返し得られる値が、低流量を示し続ける場合、プロセッサ３４は、その値を、対応する真空ノズル１４の閉塞を示すと、解釈し得る。
【００５９】
プロセッサ３４が真空ノズル１４の閉塞を検出するとき、適切な出力が生成され得る。例えば、プロセッサ３４は、閉塞を示す出力を生成するように出力装置３２を作動させ得る。出力装置３２は、例えば、１つ以上の表示画面、表示ライト、スピーカー、ブザー、ベル、または可聴出力を作り出すように構成された他の装置を含んでよい。
【００６０】
プロセッサ３４は、閉塞を示すように出力装置３２を作動させ得る。例えば、プロセッサ３４は、メッセージを、１つ以上の真空ノズル１４が塞がれていることを示す出力装置３２のディスプレー画面に表示させ得る。メッセージは、閉塞し得る真空ノズル１４の表示（例えば、ＰＶステージ１２の図に、または別の方法で）を含んでよい、またはそれを伴ってよい。
【００６１】
場合によっては、プロセッサ３４は、検出された閉塞を示す、および遠隔装置によって受け取られ得る、メッセージを送るように構成されてよい。例えば、遠隔装置は、非接触プラットフォーム１０のまたはプロセッサ３４のオペレーターと関連してよい。
【００６２】
場合によっては、プロセッサ３４および制御装置３０は、１つ以上の真空源２４、圧力源、または１つ以上のバルブを作動させるように構成されてよい。この場合、プロセッサ３４は、閉塞が検出されたときに真空源２４の動作を修正するように構成されてよい。例えば、制御装置３０は、検出された閉塞を補う（例えば、ＰＶステージ１２によって作られる非接触支持プラットフォーム１０の一様な流体クッションを維持する）ように、真空源２４、、圧力源、または１つ以上のバルブの動作を修正し得る。
【００６３】
ＰＶステージ１２は、モニタされる真空ノズル１４（例えば、それぞれに流量計２２が設けられる）と、モニタされない、および流量計２２が設けられない、真空ノズル１４と、を含んでよい。モニタされる真空ノズル１４もモニタされない真空ノズル１４も、単一の真空源２４に接続されてよい。流量計２２の存在は、モニタされない真空ノズル１４を通るのと比べて、モニタされる真空ノズル１４を通る真空流入２８の割合に著しく影響を与え得る。それ故に、真空流入２８がＰＶステージ１２にわたって一様であることを確実にするために（例えば、物体が均一に支持され得るように）、モニタされない真空ノズル１４は、モニタされる真空ノズル１４とは異なって構成され得る。例えば、モニタされない真空ノズル１４またはその真空ホース２０は、異なる直径、内部構造、またはモニタされる真空ノズル１４の構成とは異なるその他の構成を、有してよい。異なる構成は、モニタされない真空ノズル１４を通る真空流入２８が、モニタされる真空ノズル１４を通る真空流入２８にほぼ等しいように、構成され得る。
【００６４】
流量計２２は、絞りおよび１つ以上の圧力トランスデューサーを含んでよい。例えば、圧力トランスデューサーは、制御装置３０に伝えられ得る電気信号を作り出すように構成されてよい。真空流入２８が絞りを流れるとき、圧力トランスデューサーによって生じる信号は、絞りの上流であるポイントでの流圧と、絞りの下流であるポイントでの流圧と、の差を示し得る。流圧の差は、真空流入２８の流れの割合（例えば、絞り、または別の方法による小損失によって決定される）と関連し得る。
【００６５】
場合によっては、流量計２２は、オリフィスの形の絞りと、絞りの流圧上流および下流を測定する別個の圧力トランスデューサーと、を含んでよい。
【００６６】
図２Ａは、図１Ａに示される非接触プラットフォームの閉塞検出用の圧力トランスデューサー付きの流量計を概略的に示す。
【００６７】
圧力トランスデューサーオリフィス流量計２３は、真空ホース２０に（または真空ホース２０と直列に接続されるチューブまたはホースに）配置されるオリフィス５０の形の絞りを含む。オリフィス５０は、単一のオリフィス、オリフィスカスケード（例えば、互いに同軸でない一連の空間的に分離されたオリフィス）または別の種類の絞りを、表し得る。
【００６８】
上流圧力トランスデューサー５２は、オリフィス５０の上流であるポイントでの真空流入２８の流圧を示す電気信号を発生するように構成される。同様に、下流圧力トランスデューサー５４は、オリフィス５０の下流であるポイントでの真空流入２８の流圧を示す電気信号を発生するように構成される。
【００６９】
上流圧力トランスデューサー５２によっておよび下流圧力トランスデューサー５３によって生じる電気信号は、制御装置３０に伝えられ得る。制御装置３０のプロセッサ３４は、上流圧力トランスデューサー５２での流圧と下流圧力トランスデューサー５３での流圧との間の差を示す値を生成する電気信号を処理するように構成され得る。従って、その値は、真空ホース２０を通る真空流入２８の流量を示し得る。得られた値は、真空ホース２０の閉塞があるかどうかを決定する以前の値（例えば、真空ホース２０に接続される真空ノズル１４で）と比較され得る。例えば、閾値減少を超える流量の減少を示す、および最短期間（例えば、約３０秒から６０秒までの範囲の期間、または、例えば、真空流入２８の安定化にまたは圧力トランスデューサーオリフィス流量計２３による精密測定に十分である時間に対応する別の最短期間、またはその他の方法で決定された最短期間）持続する、値は、閉塞を示し得る。
【００７０】
代替的にまたは加えて、上流圧力トランスデューサー５２および下流圧力トランスデューサー５３によって生じる電気信号、または信号の処理によって生じる値は、上記の外部真空ノズルを通る基準流入を測定する流量計の圧力トランスデューサーからの同様の信号または値と比較され得る。
【００７１】
場合によっては、流量計２２は、オリフィスの形の絞りと、絞りの上流と下流の流圧の差を測定する別個の差圧トランスデューサーと、を含んでよい。
【００７２】
図２Ｂは、図１Ａに示される非接触プラットフォームの閉塞検出用の圧力差トランスデューサーを有する流量計を示す。
【００７３】
圧力差オリフィス流量計２５は、真空ホース２０に（または真空ホース２０と直列に接続されるチューブまたはホースに）配置されるオリフィス５０の形の絞りを含む。
【００７４】
差圧トランスデューサー５６は、チューブ５８によって真空ホース２０に接続される。チューブ５８は、真空ホース２０から差圧トランスデューサー５６に流圧を伝えるように構成される。例えば、チューブ５８は、上流開口５９ａで真空ホース２０に開いてよい。同様に、チューブ５８は、下流開口５９ｂで真空ホース２０に開いてよい。従って、オリフィス５０の上流であるポイントでの真空ホース２０の流圧は、差圧トランスデューサー５６の一面に伝えられ得る。オリフィス５０の下流であるポイントでの真空ホース２０の流圧は、差圧トランスデューサー５６の別の一面に伝えられ得る。
【００７５】
差圧トランスデューサー５６は、オリフィス５０の上流であるポイントと、オリフィス５０の下流であるポイントと、の間の真空流入２８の流圧の差を示す電気信号を発生するように構成される。差圧トランスデューサー５６により生じる電気信号は、制御装置３０に伝えられてよい。制御装置３０のプロセッサ３４は、上流開口５９ａでの流圧と下流開口５９ｂでの流圧との間の差を示す値を生成する電気信号を処理するように構成され得る。従って、その値は、真空ホース２０を通る真空流入２８の流量を示し得る。得られた値は、真空ホース２０の閉塞があるかどうかを決定する以前の値（例えば、真空ホース２０に接続される真空ノズル１４で）と比較され得る。例えば、流量の減少を示す、および最短期間（例えば、約３０秒から６０秒までの範囲の期間、または、例えば、真空流入２８の安定化にまたは圧力差オリフィス流量計２５による精密測定に十分である時間に対応する別の最短期間、またはその他の方法で決定された最短期間）持続する、値は、閉塞を示し得る。
【００７６】
代替的にまたは加えて、圧力差オリフィス流量計２５によって生じる電気信号、または信号の処理によって生じる値は、上記の外部真空ノズルを通る基準流入を測定する流量計の圧力差圧力トランスデューサーからの同様の信号または値と比較され得る。
【００７７】
圧力トランスデューサーオリフィス流量計２３に代えてまたは加えて、圧力差オリフィス流量計２３、または他の種類のオリフィス流量計、流量計２２は、別の種類の流量計を含んでよい。例えば、流量計２２は、機械的流量計、ベンチュリ流量計、または他の種類の流量計を、含んでよい。
【００７８】
別個の真空ホース２０によって真空マニホールド１８にそれぞれ接続される真空ノズル１２に代えてまたは加えて、２つ以上の真空ノズル１４が、単一の分岐ホースによって真空マニホールド１８に接続されてよい。流量計２２は、接続された真空ノズル１４の全てから真空流入２８が流れる分岐ホースの一部の流量を測定するように構成されてよい。
【００７９】
図３Ａは、複数の真空ノズルが分岐ホースによって真空マニホールドに接続される、閉塞検出を伴う非接触支持プラットフォームの例を概略的に示す。
【００８０】
非接触支持プラットフォーム４０は、ＰＶステージ１２を含み、ＰＶステージ１２は、ＰＶステージ１２の外面１３からほぼ固定距離で物体を支持する流体クッションを形成するように構成される。ＰＶステージ１２は、複数の真空ノズル１４が組み入れられる複数の圧力ノズル１６を典型的に含む。圧力流出２９を伴う圧力ノズル１６から流出するおよび真空流入２８を伴う真空ノズル１４に流入する流体は、物体の非接触支持のために外面１３で流体クッションを作り出し得る。
【００８１】
真空ノズル１４（ＰＶステージ１２の真空ノズル１４の全部または一部を表す）は、真空ホース４１によって真空マニホールド１８に接続される。真空マニホールド１８は、真空源２４に接続されてよい。真空マニホールド１８が真空源２４に接続され、真空源２４が動作しているとき、流体は、真空流入２８で示されるようにそれぞれの真空ノズル１４を通って内側に流れ得る。
【００８２】
真空ホース４１は、ホーストランク４４によって真空マニホールド１８に接続されてよい。真空ホース４１は、複数の分岐ホース４２に枝分かれする。真空ホース４１のそれぞれの分岐ホース４２は、異なる真空ノズル１４に接続されてよい。
【００８３】
場合によっては、分岐ホース４２は、ＰＶステージ１２に組み込まれている、または別の方法でＰＶステージ１２の内部の、導管システムを表し得る。
【００８４】
真空ノズル１４に接続される分岐ホース４２を通る真空流入２８は、全ホース流入４６を形成するように真空ホース４１内で合わせられてよい。全ホース流入４６は、ホーストランク４４を通るおよび真空マニホールド１８への合わせられた全流量を表し得る。
【００８５】
場合によっては、真空流入２８は、ほこり、ごみ、すす、油、または環境からの他の粒子状物質を、１つ以上の真空ノズル１４に吸い込み得る。その物質は、影響を受ける真空ノズル１４を通る真空流入２８を減少させるように影響を受ける真空ノズル１４を少なくとも部分的に妨げ得る。１つの真空流入２８の減少は、全ホース流入４６の減少をもたらし得る。
【００８６】
真空ホース４１のホーストランク４４には、トランク流量計４８が設けられる。トランク流量計４８は、全ホース流入４６の流量を示す信号を生成するように構成される。例えば、信号は、電気ケーブルを介して伝達することができる電気信号、電磁波を介して伝達可能である電磁信号、光ファイバーを介してまたは直接（例えば、光送信機と光受信機との間の見通し線に沿って）伝達可能である光信号、または別の種類の信号、であってよい。トランク流量計４８は、オリフィス流量計、機械的流量計、ベンチュリ流量計、または別の種類の流量計を、含んでよい。
【００８７】
トランク流量計４８は、真空ノズル１４の１つの部分的または全体的障害または閉塞の検出を可能にするように、十分に高感度であるように構成され得る。トランク流量計４８によって測定される全ホース流入４６についての単一の真空ノズル１４の閉塞の影響は、単一の真空ホース４１の分岐ホース４２に接続される真空ノズル１４の数が増加するにつれて、減少する。代替的にまたは加えて、トランク流量計４８（および制御装置３０）は、複数の真空ノズル１４の同時閉塞のみが検出されるように、構成されてよい。例えば、トランク流量計４８は、約１％から２％の全ホース流入４６の減少が検出可能であり得るように、構成されてよい。
【００８８】
場合によっては、異なる真空ホース４１の複数のホーストランク４４が、真空マニホールド１８に接続されてよい。例えば、真空ホース４１のそれぞれの分岐ホース４２は、ＰＶステージ１２の異なる領域の真空ノズル１４に接続してよい。この場合、特定のホーストランク４４を通る全ホース流入４６の減少の検出は、ＰＶステージ１２の特定の領域の１つ以上の真空ノズル１４の閉塞を示し得る。
【００８９】
場合によっては、２つ以上の分岐ホース４２が、中間ホースブランチを形成するようにつながってよい。中間ホースブランチは、１つ以上の他の中間ホースブランチまたは１つ以上のブランチホースに加わってよく、別の中間ホースブランチ（例えば、第１の中間ホースブランチよりも大きい流入量で）、またはホーストランク４４を形成する。従って、真空ホースは、中間ホースブランチの異なるレベルが形成される構造の形態で構成され得る。中間ホースブランチのいくつかまたは全部に、流量計が設けられてよい。
【００９０】
図３Ｂは、中間ホースブランチを含む図３Ａに示される非接触支持プラットフォームの変形の例を概略的に示す。
【００９１】
非接触支持プラットフォーム６０の真空ホース６１では、２つ以上の分岐ホース４２ａが、中間ホースブランチ６３を形成するように接続する。中間ホースブランチ６３には、中間ブランチ流量計６４が設けられる。分岐ホース４２ａは、中間ブランチ流量計６４の中間ホースブランチ６３上流を形成するように加わる。モニタされる真空ノズル１４ａおよび分岐ホース４２ａを通る真空流入２８ａは、中間流入６６を形成するように組み合わされる。
【００９２】
分岐ホース４２ｂは、中間ブランチ流量計６４のホーストランク下流を形成するように中間ホースブランチ６３に加わる。従って、モニタされない真空ノズル１４ｂおよびブランチホース４２ｂは、中間流入６６に寄与しない。
【００９３】
場合によっては、真空ホース６１は、分岐ホース４２の異なるレベルが中間ホースブランチ６３を形成する構造によって形成されてよい。例えば、ホーストランク４４は、２つまたは中間ホースブランチ６３に分枝または分岐してよい。それぞれの中間ホースブランチ６３は、２つ以上の二次中間ホースブランチに分岐してよい。分枝または分岐は、中間ホースブランチが分岐ホース４２ａに枝分かれするまで続いてよい。
【００９４】
図示の例では、分岐ホース４２ａを通る流入は、中間ブランチ流量計６４によってモニタされるが、分岐ホース４２ｂを通る真空流入２８ｂは、モニタされない。中間ブランチ流量計６４の存在は、分岐ホース４２ａを通る真空流入２８ａの量にかなり影響を与え得る。一方、真空流入２８ｂは、中間ブランチ流量計６４によって影響を受けない。それ故に、確実に真空流入２８ａが真空流入２８ｂにほぼ等しくなるようにするために（例えば、物体がＰＶステージ１２から固定距離で等しく支持され得るように）、モニタされないノズル１４ｂ、分岐ホース４２ｂ、または両方が、モニタされる真空ノズル１４ａまたは分岐ホース４２ａとは異なって構成されてよい。例えば、分岐ホース２８ｂまたはそのモニタされない真空ノズル１４ｂは、分岐ホース４２ａまたはそのモニタされる真空ノズル１４ａとは、直径、内部構造、またはその他において、異なってよい。異なる構成は、分岐ホース６２ｂの補償構造６２によって表される。例えば、補償構造６２は、絞り、または真空流入２８ｂが真空流入２８ａにほぼ等しいように構成される他の構造を表し得る。
【００９５】
制御装置３０のプロセッサ３４は、非接触支持プラットフォーム１０または４０のＰＶステージ１２の真空ノズル１４の閉塞検出の方法を実行するように、構成されてよい。
【００９６】
図４は、本発明の実施形態による、非接触支持プラットフォームの閉塞検出の方法を表現するフローチャートである。
【００９７】
当然のことながら、本明細書で言及されるフローチャートに関して、フローチャートのブロックで表される個別動作への示された方法の分割は、便宜上および明確さのためだけに選択された。個別動作への示された方法の代替の分割が、同等の結果で可能である。個別動作への示された方法のそのような代替の分割は、示された方法の他の実施形態を表すと理解されるべきである。
【００９８】
同様に、当然のことながら、別段の指示がない限り、本明細書で言及されるフローチャートのブロックで表される動作の実行の示された順序は、便宜上および明確さのためだけに選択された。示された方法の動作は、代替の順序、または同時に、同等の結果で実行され得る。示された方法の動作のそのような並べ換えは、示された方法の他の実施形態を表すと理解されるべきである。
【００９９】
閉塞検出方法１００は、制御装置３０によって、例えば、非接触支持プラットフォーム（例えば、非接触支持プラットフォーム１０または４０）の制御装置３０の制御装置３４によって、実行され得る。閉塞検出方法１００は、継続的に実行され得る、所定の間隔で実行され得る、または所定のイベント（例えば、システム起動、または別のイベント）に応答して実行され得る。実行は、非接触支持プラットフォームのオペレーターによって開始されてよい。
【０１００】
信号は、流量計、例えば、流量計２２またはトランク流量計４８、から得られ得る（ブロック１１０）。例えば、制御装置３０は、有線または無線接続で流量計によって送信される信号を受信し得る。信号は、流量計の１つ以上の圧力トランスデューサー、または別の方法によって生成され得る。
【０１０１】
得られた信号は、信号が真空ノズル１４の閉塞を示すかどうかを判断するように処理され得る（ブロック１２０）。例えば、流量計の圧力トランスデューサーから受信される信号は、流量を示す値を生成するように処理され得る。値は、現在の流量が閉塞を示すかどうかを決定するために、閾値とまたは以前に測定された値と比較され得る。同様に、値は、値が所定の最短期間変わらないままである（例えば、所定の許容範囲で）場合に限り、閉塞を示すと解釈され得る。
【０１０２】
場合によっては、閉塞は、真空ノズル１４を通る流入が、外部真空ノズルを通る基準流入未満であると決定されるときに、示されるように決定され得る。この場合、真空ノズル１４を通るおよび外部ノズルを通る真空流入の同様の減少は、動作、または１つ以上の真空源２４、真空マニホールド１８、または両方の流入に共通する他の構造が不良であり得ることを示すと解釈され得る。
【０１０３】
閉塞が示されない場合、信号は、流量計から得られ続け得る（ブロック１１０）。
【０１０４】
閉塞が示される場合、制御装置３０は、応答を生じさせ得る（ブロック１３０）。例えば、応答は、非接触支持プラットフォームのオペレーターに分かる信号を生じさせることを含み得る。代替的にまたは加えて、応答は、非接触支持プラットフォームの動作を修正することを含み得る。
【０１０５】
場合によっては、閉塞検出を伴う非接触支持プラットフォームは、１つ以上の基準導管を含んでよい。基準導管は、流量計が装備されている、ＰＶステージの真空ノズルに接続される真空ホース（または、場合によっては、ＰＶステージの圧力ノズルに接続される圧力ホース）と同様に作られ得る。例えば、基準導管は、ＰＶステージの真空ノズルと同じ寸法を有する真空ノズルを有してよく、ＰＶステージの真空ノズルに接続される真空ホースのオリフィスと同様の絞りオリフィスを含んでよい。単一の差圧トランスデューサー（または類似のデバイス）は、基準導管にも真空ホースにも選択的に接続されてよい。差圧測定値の比較は、非接触支持プラットフォームシステムの制御装置が、実際の閉塞か、差圧トランスデューサーのドリフトまたは他の誤りかを区別することができるようにし得る。
【０１０６】
例えば、非接触支持プラットフォームの真空および圧力ノズルは、ＰＶステージの表面にわたって繰り返される１つ以上のパターンで配置され得る。パターンのそれぞれの種類では、流入（または、場合によっては、流出）は、パターンの１つ以上のゾーンでモニタされ得る。例えば、ゾーンで１つ以上の真空ノズルに接続する真空ホースは、流量測定用に構成され得る。異なるパターンまたはゾーンのノズルが互いに異なる場合には、それぞれの種類のノズルのために異なる基準導管が設けられ得る。
【０１０７】
図５Ａは、基準導管の流量測定用の構成の、基準導管を有する非接触支持プラットフォームを概略的に示す。
【０１０８】
非接触支持プラットフォーム７０は、ＰＶステージ１２、基準導管７８、および制御ハウジング７１に接続される真空ホース２０を含む。真空ホース２０および基準導管７８には、ほぼ同一のオリフィス５０および真空ノズル１４が設けられる。２種類以上の真空ノズル１４がある場合、追加の基準導管７８が設けられてよい。
【０１０９】
図示の例では、制御ハウジング７１は、制御装置３０、バルブ７４および７６、および差圧トランスデューサー５６を含む。場合によっては、真空ノズル１４を含む基準導管７８は、少なくとも部分的に制御ハウジング７１内に入れられてもよい。典型的に、単一の制御ハウジング７１は、１つ以上の追加の真空ホースへの接続を制御する接続のためのバルブを含み得る。非接触支持プラットフォーム７０が２種類以上の真空ホースまたは真空ノズルを含む場合では、追加のバルブが、対応する追加の基準導管への接続を制御するように設けられ得る。場合によっては、追加の差圧トランスデューサーが、複数の差圧の平行測定を可能にするように設けられ得る。
【０１１０】
場合によっては、図示の例では制御ハウジング７１が収容していると示される１つ以上の部品は、別個のハウジング、または非接触支持プラットフォーム７０の他の部分または近くに収容されてよい。
【０１１１】
制御ハウジング７１、および特に差圧トランスデューサー５６は、様々なホース、導管、または様々な接続導管（例えば、ホースまたは他の種類の管または導管）を介して非接触支持プラットフォーム７０の他の導風構造に、接続してよい。例えば、真空ホースコネクタ導管８６は、制御ハウジング７１を真空ホース２０に接続するように構成されてよい。基準コネクタ導管７２は、制御ハウジング７１を基準導管７８に接続するように構成されてよい。均圧導管８２は、制御ハウジング７１を真空マニホールド１８に接続するように構成されてよい。
【０１１２】
制御装置３０は、バルブ７４および７６の動作を制御してよい。バルブ７４は、差圧トランスデューサー５６をバルブ７６または均圧導管８２に接続するように動作してよい。例えば、バルブ７６がバルブ７４を介して差圧トランスデューサー５６に、または基準コネクタ導管８４を介して基準導管７８に、または真空ホースコネクタ導管８６を介して真空ホース２０に、接続されるときに、バルブ７６はバルブ７４に接続するように動作してよい。例えば、バルブ７４および７６の一方または両方は、３／２（３ポート２位置を示す）ソレノイドバルブ、例えば、パイロット動作型ソレノイドバルブまたは直動ソレノイドバルブ、または別の種類のバルブを、含んでよい。
【０１１３】
１つ以上の基準コネクタ導管８４、真空ホースコネクタ導管８６、および均圧導管８２は、プロテクションバルブ７２を含んでよい、またはそれに接続されてよい。それぞれのプロテクションバルブ７２は、ソレノイドバルブ、または、真空マニホールド１８（または真空マニホールド１８に接続される真空ホース２０または基準導管７８）と差圧トランスデューサー５６との間の空気流を妨げるように閉じられ得る他の種類のバルブを、含んでよい。例えば、１つ以上のプロテクションバルブ７２は、メンテナンス中、例えば、圧力が真空マニホールド１８に加えられるときに、閉じられ得る。そのような圧力は、均圧導管８２に達することができるならば、均圧導管８２の動作を損ない得る、またはそれに影響を与え得る。プロテクションバルブ７２は、制御装置３０によって、またはその他の方法で、作動されてよい。
【０１１４】
制御装置３０は、差圧トランスデューサー５６からの差圧データを受け取ってよい。制御装置３０は、受け取った差圧データを、例えば、バルブ７４および７６の現在の状態に従って、分析することができ、差圧トランスデューサー５６のゼロオフセット、基準流量、またはＰＶステージ１２からの真空流を決定することができる。受け取った差圧データの分析は、ＰＶステージ１２の真空ノズル１４または真空ホース２０が閉塞しているかどうかを決定し得る。
【０１１５】
制御装置３０は、ＰＶステージ１２の１つ以上の基板センサ８０からのデータを受け取るように構成されてよい。基板センサ８０は、近接センサ、画像センサ、またはＰＶステージ１２の１つ以上の真空ノズル１４が基板によって覆われることを示すように構成された別の種類のセンサを、含んでよい。例えば、制御装置３０は、１つ以上の真空ノズル１４が基板によって覆われるときに、例えば、空気流が基板の存在によって影響を受け得るときに、真空ホース２０を通るまたは基準導管７８を通る空気流を測定するのを回避するように、構成されてよい。
【０１１６】
図５Ａに示されている例では、バルブ７４は、差圧トランスデューサー５６がバルブ７６に接続されるような状態にあり、均圧導管８２から切り離されている。バルブ７６は、バルブ７４が基準コネクタ導管８４に接続されるような状態にあり、真空ホースコネクタ導管８６から切り離されている。従って、差圧トランスデューサー５６は、基準導管７８（オリフィス５０と真空ノズル１４との間のポイントでの）と真空マニホールド１８との間の差圧を測定し得る。差圧の測定値は、基準導管７８の空気流量を示し得る。測定値、または測定値から導き出される値は、基準値として、例えば、制御装置３０のデータ記憶装置３６に、保存され得る。
【０１１７】
基準導管７８の真空ノズル１４は、基準導管７８の閉塞がありそうにないように、構成され得る（例えば、スクリーンまたはフィルタによって保護される、または様々な種類のごみを作り出すプロセスから十分離れて配置される）。それ故に、基準導管７８が差圧トランスデューサー５６に接続されるときの差圧測定の変化は、差圧トランスデューサー５６のドリフトまたは応答の他の変化を示し得る。（真空センサまたは他の種類のセンサが、真空源２４の変化を示すように提供され得る。）従って、差圧トランスデューサー５６が基準導管７８に接続されるときに得られる微分または空気流値は、差圧トランスデューサー５６が真空ホース２０に接続されるときに得られる値に対する基準値となり得る。
【０１１８】
図５Ｂは、圧力−真空（ＰＶ）ステージの真空ノズルの真空ホースの流量測定用の構成の、基準導管を有する非接触支持プラットフォームを概略的に示す。
【０１１９】
図示の例では、バルブ７４は、差圧トランスデューサー５６がバルブ７６に接続されるような状態にあり、均圧導管８２から切り離されている。バルブ７６は、バルブ７４が真空ホースコネクタ導管８６に接続されるような状態にあり、基準コネクタ導管８４から切り離されている。従って、差圧トランスデューサー５６は、真空ホース２０（オリフィス５０と真空ノズル１４との間のポイントでの）と真空マニホールド１８との間の差圧を測定し得る。差圧の測定値は、真空ホース２０の空気流量を示し得る。測定値、結果として生じる空気流量、または差圧の測定値から導き出される別の値は、記憶される基準値を用いて修正され得る。
【０１２０】
図５Ｃは、ゼロオフセット測定用の構成の、基準導管を有する非接触支持プラットフォームを概略的に示す。
【０１２１】
図示の例では、バルブ７４は、差圧トランスデューサー５６が均圧導管８２に接続されるような状態にあり、バルブ７６から切り離されている。従って、差圧トランスデューサー５６の両側は、真空マニホールドに接続され、圧力差はゼロになる見込みである。この場合、差圧の測定値は、差圧トランスデューサー５６のゼロオフセット値を示し得る。結果として生じるゼロオフセット値は、例えば、制御装置３０のデータ記憶装置に、記憶され得る。ゼロオフセット値は、例えば、真空ホース２０のまたは基準導管７８の空気流に接続されるときになされる測定を処理または修正するのに利用され得る。
【０１２２】
図６は、本発明の実施形態による、基準導管を有する非接触支持プラットフォームの閉塞検出の方法を表現するフローチャートである。
【０１２３】
閉塞検出方法２００は、制御装置３０によって、例えば、基準導管７８を有する非接触支持プラットフォーム７０の制御装置３０のプロセッサ３４によって、実行され得る。閉塞検出方法２００は、継続的に実行され得る、所定の間隔で実行され得る、または所定のイベント（例えば、システム起動、または別のイベント）に応答して実行され得る。実行は、非接触支持プラットフォームのオペレーターによって開始されてよい。
【０１２４】
信号は、基板センサから感知され得る（ブロック２１０）。
【０１２５】
基板が感知される場合（ブロック２２０）ゼロオフセットのみが測定され得る（ブロック２４０）。例えば、差圧トランスデューサー５６は、ゼロオフセットを測定するために均圧導管８２に接続され得る。測定は、測定変動が閾値レベル以下に減少するまで、または別の基準が満たされるまで、所定時間続いてよい。
【０１２６】
場合によっては、例えば、ゼロオフセットが最近測定された場合には、別のゼロオフセット測定を行わずに、制御装置３０は、基板センサが基板の存在を示さないまで待機してよい（ブロック２１０に戻る）。場合によっては、例えば、１つ以上の基準（例えば、以前のゼロオフセット測定、または測定サイクルが始まってから経過した時間）のとき、ゼロオフセット測定が、基板が存在しないときになされてよい。
【０１２７】
基板が感知されない場合（ブロック２２０）、差圧トランスデューサー５６は、基準導管７８に接続され得る（ブロック２３０）。基準測定は、測定変動が閾値レベル以下に減少するまで、または別の基準が満たされるまで、所定時間続いてよい。
【０１２８】
差圧トランスデューサー５６による測定は、基準値を得るのに利用され得る（ブロック２４０）。例えば、基準値は、その後の圧力または真空ホースの空気流測定が比較され得る基準値として記憶され得る。
【０１２９】
差圧トランスデューサー５６は、真空ホース２０などの、圧力または真空ホースに接続されてよい（ブロック２５０）。ホース測定は、測定変動が閾値レベル以下に減少するまで、または別の基準が満たされるまで、所定時間続いてよい。
【０１３０】
測定ホース値は、基準値およびゼロオフセット値と共に、ホースを通る空気流を示す値を生成するように分析され得る（ブロック２６０）。例えば、基準値は、差圧トランスデューサー５６による測定のドリフトと無関係である空気流値を算出するために利用され得る。
【０１３１】
ホース測定は、閉塞が示されるかどうかを決定するように分析され得る（ブロック２７０）。例えば、ホース測定と基準測定との間の差は、閉塞が示されるかどうかを決定するように閾値と比較され得る。
【０１３２】
閉塞が示される場合、応答が生じ得る（ブロック２８０）。例えば、応答は、非接触支持プラットフォームのオペレーターに分かる信号を生じさせることを含み得る。代替的にまたは加えて、応答は、非接触支持プラットフォームの動作を修正することを含み得る。
【０１３３】
閉塞が示されない場合、差圧トランスデューサー５６を使用する測定が、続き得る（ブロック２１０に戻る）。
【０１３４】
基準値、ゼロオフセットの測定、およびホース測定は、任意の順序で行われてよいことが、指摘され得る。場合によっては、順序は、固定されてよい、および所定回数繰り返されてよい。
【０１３５】
閉塞検出方法２００は、例えば異なるゾーンの、ＰＶステージ１２の複数の異なるホースについて、またはノズルの異なるパターンについて、（例えば、差圧トランスデューサーおよびバルブの異なる配置によって）順番に繰り返されてよい、または同時に実行されてよい。
【０１３６】
様々な実施形態が、本明細書に開示される。特定の実施形態の特徴が、他の実施形態の特徴と組み合わせられてよい。従って、ある実施形態は、複数の実施形態の特徴の組み合わせであり得る。発明の実施形態の前述の説明は、解説および説明を目的として提示された。網羅的であること、または発明を開示された正確な形に限定することを意図するものではない。当業者には当然のことながら、多くの改良、変化、置換、変更および均等物が、上記の教示を踏まえると可能である。従って、添付の「特許請求の範囲」は、発明の真の趣旨の範囲内にある全てのそのような改良および変更をカバーするよう意図されていることが、理解されるべきである。
【０１３７】
発明の特定の特徴が本明細書に示されて説明されたが、多くの改良、置換、変更および均等物が、当業者に思い当たる。従って、添付の「特許請求の範囲」は、発明の真の趣旨の範囲内にある全てのそのような改良および変更をカバーするよう意図されていることが、理解されるべきである。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６】
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【国際調査報告】
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