(57)【要約】  本開示は、堆積システムにおいてキャリア（２２０）を非接触搬送するための装置を提供するものである。キャリア（２２０）は、キャリア（２２０）の磁石構造（２２２）に面するように構成された一または複数の能動磁石ユニット（１１２）を有するガイド構造（２１０）と、キャリア（２２０）の存在を検出するように構成された一または複数のセンサ（２３０）であって、一または複数の能動磁石ユニット（１１２）と一または複数のセンサ（２３０）はそれらの間に磁石構造（２２２）のためのガイド空間（Ｓ）を画定するように配置されている、一または複数のセンサ（２３０）とを含む。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置であって、
前記キャリアの磁石構造に面するように構成された一または複数の能動磁石ユニットを有するガイド構造と、
前記キャリアの存在を検出するように構成された一または複数のセンサであって、前記一または複数の能動磁石ユニットと前記一または複数のセンサは、前記一または複数の能動磁石ユニットと前記一または複数のセンサとの間に前記磁石構造のためのガイド空間を画定するように配置されている、一または複数のセンサと
を備える装置。
【請求項２】
前記一または複数のセンサは、前記キャリアへの距離を測定するように構成された距離センサである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
垂直方向又は水平方向に対し、前記一または複数の能動磁石ユニットは前記ガイド空間の一方の側に配置され、前記一または複数のセンサは前記ガイド空間の他方の側に配置されている、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記一または複数のセンサの各センサは前記キャリアの搬送方向にセンサ延長部を有し、前記センサ延長部は前記搬送方向におけるキャリア延長部の１％以上である、請求項１から３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
複数の更なる能動磁石ユニットを有する駆動構造を更に含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置であって、
前記キャリアの存在を検出するように構成された一または複数のセンサであって、前記一または複数のセンサの各センサは前記キャリアの搬送方向にセンサ延長部を有し、前記センサ延長部は前記搬送方向におけるキャリア延長部の１％以上である、一または複数のセンサ
を備える装置。
【請求項７】
前記センサ延長部は前記キャリア延長部の少なくとも２％である、又は前記キャリア延長部の少なくとも４％である、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記一または複数のセンサは前記キャリアへの距離を測定するように構成された距離センサである、請求項６または７に記載の装置。
【請求項９】
キャリアを非接触搬送するためのシステムであって、
請求項１から８のいずれか一項に記載の装置と、
前記キャリアと
を備えるシステム。
【請求項１０】
前記キャリアは前記一または複数のセンサによって検出可能な被検出可能装置を含む、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記被検出可能装置は前記一または複数のセンサに面するように配置されている、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記被検出可能装置は、搬送方向に沿って変化し且つ前記一または複数のセンサによって検出可能な幾何学的外形を含む、請求項１０又は１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記幾何学的外形は、傾き、非連続性、円弧形、及びそれらの任意の組合せからなる群から選択される一または複数の形状要素を有する、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記一または複数のセンサは、前記一または複数のセンサと前記幾何学的外形との間の距離を検出するように構成されている、請求項１２又は１３に記載のシステム。
【請求項１５】
堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法であって、
前記キャリアの被検出可能装置の第１の側面を検出することと、
前記被検出可能装置の前記第１の側面とは反対の第２の側面に配置された少なくとも１つの能動磁石ユニットを制御することと
を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
［０００１］本開示の実施形態は、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置、キャリアを非接触搬送するためのシステム、及び堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法に関する。本開示の実施形態は、具体的には、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）デバイスの製造で使用される基板及び／又はマスクを保持するための静電チャック（Ｅチャック）に関する。
【背景技術】
【０００２】
［０００２］基板上に層を堆積させる技法には、例えば、熱蒸着、物理的気相堆積（ＰＶＤ）、及び化学気相堆積（ＣＶＤ）が含まれる。コーティングされた基板は、いくつかの応用、及びいくつかの技術分野において使用されうる。例えば、コーティングされた基板は、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）デバイスの分野で使用されうる。ＯＬＥＤは、情報を表示するためのテレビ画面、コンピュータモニタ、携帯電話、その他の携帯型デバイスなどの製造時に使用されうる。ＯＬＥＤディスプレイなどのＯＬＥＤデバイスは、２つの電極の間に配置された有機材料の一又は複数の層を含んでもよく、これらは、すべて基板上に堆積される。
【０００３】
［０００３］処理中、基板は、基板と光学マスクを保持するように構成されたキャリア上で支持されうる。キャリアは、磁力を使用して、真空堆積システム等の堆積システム内で非接触搬送されうる。有機発光デバイスなどの用途において、基板上に堆積される有機層の純度及び均一性は高くなければならない。更に、非接触搬送を利用して、基板の破壊に起因してスループットを低下させることなく、基板及びマスクを支持するキャリアのハンドリング及び搬送を行うことは困難である。
【０００４】
［０００４］以上の観点から、当該技術の少なくとも幾つかの問題を克服するような、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための新たな装置、キャリアを非接触搬送するためのシステム、及び堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法が有益である。本開示は特に、例えば真空堆積システム等の堆積システムにおいて効率的に、また円滑に搬送されうるキャリアを提供することを目指すものである。
【発明の概要】
【０００５】
［０００５］上記を受けて、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置、キャリアを非接触搬送するためのシステム、及び堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法が提供される。本開示の別の態様、利点、及び特徴は、特許請求の範囲、明細書、及び添付図面から明らかになる。
【０００６】
［０００６］本開示の一態様によれば、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置が提供される。本装置は、キャリアの磁石構造に面するように構成された一または複数の能動磁石ユニットを有するガイド構造と、キャリアの存在を検出するように構成された一または複数のセンサとを含み、一または複数の能動磁石ユニットと一または複数のセンサは、一または複数の能動磁石ユニットと一または複数のセンサとの間に磁石構造のためのガイド空間を画定するように配置されている。
【０００７】
［０００７］本開示の別の態様によれば、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置が提供される。本装置は、キャリアの存在を検出するように構成された一または複数のセンサを含み、一または複数のセンサの各センサはキャリアの搬送方向にセンサ延長部を有し、センサ延長部は搬送方向におけるキャリア延長部の１％以上である。
【０００８】
［０００８］本開示の別の態様によれば、キャリアを非接触搬送するためのシステムが提供される。本システムは、本開示に係るキャリアを非接触搬送するための装置とキャリアとを含む。
【０００９】
［０００９］本開示の更に別の態様によれば、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法が提供される。本方法は、キャリアの被検出可能装置の第１の側面を検出することと、被検出可能装置の第１の側面とは反対の第２の側面に配置された少なくとも１つの能動磁石ユニットを制御することとを含む。
【００１０】
［００１０］実施形態は、開示される方法を実施するための装置も対象としており、記載される各方法の態様を実施するための装置部分を含む。これらの方法の態様は、ハードウェア構成要素を用いて、適切なソフトウェアによってプログラミングされたコンピュータを用いて、これらの２つの任意の組合せによって、又はそれ以外の任意の態様で実施することができる。さらに、本開示に係る実施形態は、記載された装置を作動させる方法も対象としている。記載された装置を作動させる方法は、装置のあらゆる機能を実施するための方法の態様を含む。
【００１１】
［００１１］本開示の上記の特徴を細部まで理解しうるように、実施形態を参照しながら上記で簡単に要約された本開示をより詳細に説明する。添付の図面は本開示の実施形態に関するものであり、下記でそれらについて説明する。  
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】キャリアとガイド構造とを示す概略図である。
【図２】本書に記載の実施形態に係る、非接触搬送するための装置及びキャリアを示す概略図である。
【図３Ａ】本書に記載の別の実施形態に係る、非接触搬送するための装置及びキャリアを示す概略図である。
【図３Ｂ】本書に記載の別の実施形態に係る、非接触搬送するための装置及びキャリアを示す概略図である。
【図４Ａ】本書に記載の実施形態に係る、非接触搬送するための装置及びキャリアを示す概略図である。
【図４Ｂ】本書に記載の実施形態に係る、非接触搬送するための装置及びキャリアを示す概略図である。
【図５】本書に記載の実施形態に係る、基板を処理するためのシステムを示す概略図である。
【図６】本書に記載の更なる実施形態に係る、基板を処理するためのシステムを示す概略図である。
【図７】本書に記載の実施形態に係る、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法を示すフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
［００１２］本開示の様々な実施形態をこれより詳細に参照する。これらの実施形態の一又は複数の例が、図中に示されている。図面についての以下の説明の中で、同じ参照番号は同じ構成要素を表す。概して、個々の実施形態に関する相違のみが説明される。各実施例は、本開示の説明のために提供されるが、本開示を限定することを意図しているわけではない。更に、１つの実施形態の一部として図示又は説明されている特徴は、更なる実施形態を創出するために、他の実施形態で使用されることも、他の実施形態と併用されることも可能である。説明には、このような修正例及び変形例が含まれるように意図されている。
【００１４】
［００１３］堆積システムの堆積チャンバ内で基板及び／又はマスクを保持し搬送するために、真空堆積システムなどの堆積システムにおいてキャリアを使用することが可能である。例えば、基板がキャリアによって支持されている間に、一又は複数の材料層を基板上に堆積させることができる。有機発光デバイスなどの用途では、基板上に堆積される有機層の高い純度及び均一性は利点になりうる。更に、基板の破損を削減するために、堆積システム内のキャリアの滑らかな搬送は有益である。
【００１５】
［００１４］本開示の実施形態によれば、一または複数の能動磁石ユニットと一または複数のセンサとはガイド空間の反対側に配置されている。詳細には、一または複数の能動磁石ユニットと一または複数のセンサとは、キャリアの磁石構造の反対側に配置される。磁気ガイドが実施される空間が効率的に使用されうる。更に、磁気ガイドと一または複数のセンサとの間の干渉が回避され、搬送方向におけるキャリアの滑らかな搬送が達成されうる。キャリアの不安定な搬送及び／又は粒子の生成に起因する基板の破損が削減されうる、又は回避さえもされうる。
【００１６】
［００１５］図１に、キャリア１００と、水平方向であってよい搬送方向１にキャリア１００を非接触搬送するように構成された搬送構成部の一部の概略図を示す。
【００１７】
［００１６］搬送構成部は、能動ガイド構造であってよいガイド構造１１０を含む。ガイド構造１１０は、搬送方向に沿って配置された複数のガイドユニット１１１を含む。各ガイドユニット１１１は、例えば能動磁石ユニット１１２等の（例えば電磁）アクチュエータと、アクチュエータを制御するように構成されたコントローラ１１４と、キャリア１００までの間隙を測定するように構成された距離センサ（図示せず）とを含む。ガイド構造１１０は、磁力を利用してキャリア１００を非接触浮上させるように構成されうる。
【００１８】
［００１７］キャリア１００がガイドユニット１１１に近づくあるいは遠ざかるときに、浮上精度及び／又は浮上安定性に影響が出る場合がある。詳細には、キャリア１００がガイドユニット１１１に近づく又は遠ざかるときに、キャリア１００の突然の加速又は減速につながりうる相当な力及び／又はパルス状の力が生成されうる。この力は、ガイド構造１１０、特に複数のガイドユニット１１１（例えば一または複数の電磁気アクチュエータ及び距離センサ）の構成要素の幾何学的な配置及び構成によって変化しうる。この力によりキャリア１００の望ましくない突然の移動が起こる場合があり、キャリア１００とガイド構造１１０との間の偶発的な機械的接触さえも起こる可能性がある。キャリア１００、基板及び／又はガイド構造１１０が破損する場合がある。更に、堆積処理の品質を低下させる粒子が生成されうる。
【００１９】
［００１８］浮上力の方向、特にアクチュエータによって付与される磁力の方向（例えば、垂直方向３）におけるパルス状の力又は力の変化は、キャリア１００が例えば距離センサの下から突然消えたときに生じうる。この結果、距離センサにおいて、キャリアが距離センサから例えば垂直方向３等の距離（又は測定）方向に高速移動で離れた場合と同じ信号値が得られうる。つまり、距離センサは間隙の拡大を示す。信号の変化により、コントローラに、「移動している」キャリア１００がガイド構造１１０とキャリア１００との間の設定距離に戻るように、アクチュエータの力を強力に変えさせることができる。
【００２０】
［００１９］更に、キャリア１００がガイドユニット１１１に近づく又は遠ざかるときに、搬送方向１に沿った力成分が生成されうる。力成分は、キャリア１００の更なる搬送を妨げるのに十分強いものであってもよい。搬送方向１に沿った力成分は、キャリアの前面及び／又は後面（例えば前縁又は後縁）に作用するアクチュエータの磁気抵抗から生じうる。これを、キャリア１００の後面における磁場線によって、図１に例示的に示す。
【００２１】
［００２０］図２に、本書に記載の実施形態に係る、堆積システムにおいてキャリア２２０を非接触搬送するための装置の概略図を示す。
【００２２】
［００２１］この装置は、キャリア２２０の磁石構造２２２に面するように構成された一または複数の能動磁石ユニット１１２を有するガイド構造２１０と、キャリア２２０の存在を検出するように構成された一または複数のセンサ２３０とを含む。一または複数の能動磁石ユニット１１２と一または複数のセンサ２３０は、それらの間の磁石構造２２２のガイド空間Ｓを画定するように配置される。キャリア２２０の磁石構造２２２は、キャリア２２０の搬送方向１に沿って延びている。同様に、一または複数の能動磁石ユニット１１２は、キャリア２２０の搬送方向１に沿って配置されうる。磁石構造２２２は、キャリア２２０の長さに沿って延びている強磁性体材料であってよい。
【００２３】
［００２２］ある実施形態では、磁石構造２２２は、一または複数のセンサ２３０のセンサトレイル（ｓｅｎｓｏｒ  ｔｒａｉｌ）を提供しうる。別の実施形態では、センサトレイルは、磁石構造２２２に取り付けられうる別々の要素によって提供される。別々の要素によって提供されうるセンサトレイルの例を、傾斜部等の被検出可能装置の形態で図３Ａに示す。
【００２４】
［００２３］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、一または複数の能動磁石ユニット１１２はガイド空間Ｓの上に配置され、一または複数のセンサ２３０は垂直方向３に対してガイド空間Ｓの下に配置される。ガイド空間Ｓを画定する、例えば垂直方向３における一または複数の能動磁石ユニット１１２と一または複数のセンサ２３０との間の距離は、同じ方向における磁石構造２２２の延長部よりも広くてよい。詳細には、第１の間隙Ｇ１は、例えば垂直方向３における一または複数の能動磁石ユニット１１２と磁石構造２２２との間に設けられうる。同様に、第２の間隙Ｇ２は、例えば垂直方向３における一または複数のセンサ２３０と磁石構造２２２との間に設けられうる。第１の間隙Ｇ１と第２の間隙Ｇ２は、基本的に同一でありうる、あるいは異なっている場合がある。間隙により、例えばキャリア２２０の搬送中にキャリアがわずかに垂直に及び／又は水平に移動することに起因するキャリア２２０と搬送構成部との間の衝突又は接触が回避されうる。
【００２５】
［００２４］キャリア２２０は、例えば堆積システムの真空チャンバ等の一または複数のチャンバを通って、及び詳細には例えば直線搬送路等の搬送路に沿って少なくとも１つの堆積エリアを通って非接触搬送されるように構成される。キャリア２２０は、水平方向であってよい搬送方向１に非接触搬送されるように構成されうる。
【００２６】
［００２５］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、堆積システムは、堆積システムにおいてキャリア２２０を非接触浮上させる、及び／又は非接触搬送するように構成された搬送構成部を含みうる。搬送管理は、キャリア２２０を浮上させるための磁気浮上力を付与するためのガイド構造２１０と、キャリア２２０を搬送方向１に移動させるための駆動構造とを含みうる。キャリア２２０の磁石構造２２２は、ガイド構造と磁気的に相互作用するように構成された一または複数の第１の磁石ユニットからなっていてよい。ある実行形態では、一または複数の第１の磁石ユニットは、例えば永久磁石ユニット及び／又は強磁性体部品等の受動磁石ユニットであってよい。
【００２７】
［００２６］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、キャリア２２０は、キャリア２２０を搬送方向１に移動させるための駆動構造と磁気的に相互作用するように構成された一または複数の第２の磁石ユニット（図示せず）からなる別の磁石構造を含む。幾つかの実行形態では、一または複数の第２の磁石ユニットは受動磁石ユニット、例えば強磁性体であってよい。ガイド構造２１０と駆動構造は、キャリア２２０の対向する端又は端部に配置されうる。詳細には、一または複数の第１の磁石ユニットと一または複数の第２の磁石ユニットは、キャリア２２０の対向する端あるいは端部に配置されうる。
【００２８】
［００２７］堆積システム、及び具体的には搬送構成部は、複数のガイドユニット１１１を有するガイド構造を含みうる。各ガイドユニット１１１は、例えば能動磁石ユニット１１２等のアクチュエータ、アクチュエータを制御するように構成されたコントローラ１１４、及び磁石構造間、及び特にそれらの一または複数の第１の磁石ユニット間の間隙を感知する又は測定するように構成されたそれぞれのセンサ２３０、及びアクチュエータを含みうる。間隙、例えば第１の間隙Ｇ１は、垂直方向３などの、搬送方向１に対して直角な方向に測定されうる。詳細には、センサ２３０は、一または複数の第１の磁石ユニットと能動磁石ユニット１１２との間の間隙を感知する又は測定するために、例えばキャリア２２０がセンサ２３０にある時に、一または複数の第１の磁石ユニットに面するように配置されうる。センサ２３０は、距離センサであってよい。
【００２９】
［００２８］コントローラ１１４は、センサ２３０によって測定される間隙に基づいて、アクチュエータによって付与される磁力を調節するために、能動磁石ユニット１１２を制御するように構成されうる。詳細には、コントローラ１１４は、キャリア２２０が堆積システムを通って搬送されている間、一または複数の第１の磁石ユニットと能動磁石ユニット１１２との間の距離が基本的に一定となるように、能動磁石ユニット１１２を制御するように構成されうる。図２には、各ガイドユニット１１１がそれ自体のコントローラを有することを例示的に示したが、本開示はこれに限定されず、コントローラは２つ以上のガイドユニットに割り当てられうることを理解すべきである。例えば、単一のコントローラが全てのガイドユニット用に配設されうる。
【００３０】
［００２９］キャリア２２０は、基板処理中、例えば真空処理中に使用される基板及び／又はマスク（図示せず）を保持するように構成されうる。幾つかの実行形態では、キャリア２２０は基板とマスクの両方を支持するように構成可能である。更なる実行形態では、キャリア２２０は基板又はマスクのどちらかを支持するように構成されうる。このような場合、キャリア２２０はそれぞれ「基板キャリア」及び「マスクキャリア」と称されうる。
【００３１】
［００３０］キャリア２２０は支持面を提供する支持構造又は本体２２５を含むことが可能で、支持面は、例えば基板の背面に接触するように構成された基本的に平坦な面になりうる。詳細には、基板は、裏面の反対側の前面（「処理面」とも称される）であって、真空堆積処理などの処理中にその面に層が堆積される前面を有しうる。磁石構造２２２は、本体２２５に設けられ得る。
【００３２】
［００３１］本開示のいたるところで使用されている「真空（ｖａｃｕｕｍ）」という語は、例えば１０ｍｂａｒ未満の真空圧を有する工業的真空の意味に理解されうる。真空チャンバ内の圧力は、１０−５ｍｂａｒと約１０−８ｍｂａｒとの間、具体的には、１０−５ｍｂａｒと１０−７ｍｂａｒとの間、より具体的には、約１０−６ｍｂａｒと約１０−７ｍｂａｒとの間であってよい。真空チャンバ内部に真空を発生させるために真空チャンバに接続された、ターボポンプ及び／又はクライオポンプなどの一又は複数の真空ポンプが配設されうる。
【００３３】
［００３２］本開示に係るキャリア２２０は、キャリア２２０で基板及び／又はマスクを保持するための静電力を付与する静電チャック（Ｅチャック）であってよい。例えば、キャリア２２０は、基板及びマスクのうちの少なくとも１つに作用する引力を付与するように構成された電極構成部を含む。電極構成部は、本体２２５に埋め込まれてもよく、又は、本体２２５上に配設（例えば、配置）されてもよい。本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、本体２２５は誘電プレートなどの誘電体である。誘電体は、誘電材料、好ましくは、熱分解窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、アルミナ、又は等価材料などの高熱伝導性誘電体材料から製造されうるが、ポリイミドなどの材料からも作られうる。一部の実施形態では、電極構成部は、誘電体プレートに載置され、薄型誘電体層で覆われうる微細金属帯の格子などの複数の電極を含む。
【００３４】
［００３３］電極構成部、及び特に複数の電極は、チャック力などの引力をもたらすように構成されうる。引力は、複数の電極（又は支持面）と基板及び／又はマスクとの間のある相対距離で、基板及び／又はマスクに作用する力でありうる。引力は、複数の電極構成部に印加される電圧によってもたらされる静電力でありうる。
【００３５】
［００３４］基板はキャリア２２０（Ｅチャックになりうる）によって、支持面に向かって（例えば、搬送方向に直交する方向に）もたらされる引力によって引き付けられうる。引力は、基板を例えば摩擦力によって垂直位置に保持できるほど十分強力になりうる。具体的には、引力は、基板が支持面上で原則的に不動に固定されるように構成されうる。例えば、摩擦力を利用して０．５ｍｍガラス基板を垂直位置に保持するには、摩擦係数に応じて、約５０〜１００Ｎ／ｍ２（Ｐａ）の引き付け圧力が使用されうる。
【００３６】
［００３５］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、キャリア２２０は、基板及び／又はマスクを実質的に垂直な配向又は実質的に水平な配向に保持又は支持するように構成されている。具体的には、キャリアは垂直配向に搬送されるように構成されうる。本開示全体において使用する「ほぼ垂直」という表現は、特に基板の配向を指す場合、垂直方向又は配向から±２０°以下（例えば、±１０°以下）の偏差を許容することであると理解される。例えば、垂直配向から幾らかの偏差を有する基板支持体がより安定した基板位置をもたらす場合があるので、このような偏差が設けることができる。さらに、基板が前方に傾いた場合、基板表面に達する粒子がより少なくなる。ただし、例えば堆積処理中の基板配向は実質的に垂直であるとみなされ、これは、水平の基板配向とは異なるとみなされる。水平の基板配向は、水平±２０°以下であるとみなされ得る。
【００３７】
［００３６］「垂直方向」又は「垂直配向」という表現は、「水平方向」又は「水平配向」と区別されると理解される。つまり、「垂直方向」又は「垂直配向」は、例えば、キャリア及び基板の、実質的に垂直な配向に関連するが、厳密な垂直方向又は垂直配向からの数度（例えば、最大１０°、又はさらに最大１５°）の偏差は、依然として「実質的に垂直な方向」又は「実質的に垂直な配向」と見なされる。垂直方向は、重力に対してほぼ平行でありうる。
【００３８】
［００３７］本書に記載の実施形態は、例えば、ＯＬＥＤディスプレイ製造のための大面積基板上の蒸着に利用されうる。特に、本書に記載の実施形態による構造及び方法が提供の対象である基板は、大面積基板である。例えば、大面積基板又はキャリアは、約０．６７ｍ２の表面積（０．７３×０．９２ｍ）に対応するＧＥＮ４．５、約１．４ｍ２の表面積（１．１ｍ×１．３ｍ）に対応するＧＥＮ５、約４．２９ｍ２の表面積（１．９５ｍ×２．２ｍ）に対応するＧＥＮ７．５、約５．７ｍ２の表面積（２．２ｍ×２．５ｍ）に対応するＧＥＮ８．５、又は更に、約８．７ｍ２の表面積（２．８５ｍ×３．０５ｍ）に対応するＧＥＮ１０でありうる。ＧＥＮ１１及びＧＥＮ１２などの更なる次世代、及びそれに相当する表面積も、同様に実装されうる。ＯＬＥＤディスプレイの製造においては、ハーフサイズのＧＥＮ世代も提供されうる。
【００３９】
［００３８］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、基板の厚さは０．１〜１．８ｍｍであってよい。基板の厚さは、約０．９ｍｍ以下、例えば０．５ｍｍであってよい。本書で使用する「基板」という語は、例えば、ウエハ、サファイア等の透明な結晶片、又はガラスプレート等の実質的に非フレキシブルな基板を特に包含しうる。しかしながら、本開示はこれらに限定されず、「基板」という用語は、例えばウェブ又はホイル等のフレキシブル基板も含みうる。「実質的に非フレキシブル（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ  ｉｎｆｌｅｘｉｂｌｅ）」という語は、「フレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）」とは区別して理解される。具体的には、０．９ｍｍ以下（例えば０．５ｍｍ以下）の厚さを有するガラスプレートなどの実質的に非フレキシブルな基板もある程度の柔軟性を有しうるが、実質的に非フレキシブルな基板の柔軟性はフレキシブル基板と比較して低い。
【００４０】
［００３９］本書に記載の実施形態によれば、基板は、材料を堆積させるのに適した任意の材料から作られてもよい。例えば、基板は、ガラス（例えばソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラスなど）、金属、ポリマー、セラミック、複合材料、炭素繊維材料、又は、堆積処理によってコーティングされうる他の任意の材料、若しくはかかる材料の組合せからなる群から選択された材料で作られうる。
【００４１】
［００４０］図３Ａに、本書に記載の実施形態に係る、堆積システムにおいてキャリア３２０を非接触搬送するための装置の概略図を示す。図３Ａの装置及びキャリア３２０は図２に示す装置及びキャリアと同様のものであり、同様のあるいは同一の要素に関する記載は繰り返さない。
【００４２】
［００４１］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、キャリア３２０は、キャリア３２０の存在を検出する一または複数のセンサ２３０によって検出可能な被検出可能装置３４０を含む。ある実行形態では、被検出可能装置３４０は、例えば被検出可能装置３４０が例えばそれぞれのセンサ（複数可）の上に位置しているときに、一または複数のセンサ２３０に面するように配置される。ある実施形態によれば、一または複数のセンサ２３０は、被検出可能装置３４０によって提供される第１のセンサトレイルに面し、例えば一または複数の能動磁石ユニット１１２等のアクチュエータは磁石構造２２２、具体的には、一または複数の第１の磁石ユニットによって提供されるアクチュエータトレイルに面している。被検出可能装置３４０は、第１の側面、及び第１の側面とは反対側の第２の側面を有しうる。例えば、第１の側面は被検出可能装置３４０の下方側面であってよく、第２の側面は上方側面であってよい。一または複数のセンサ２３０は、第１の側面に面していてよい。一または複数の能動磁石ユニット１１２は、第２の側面に面していてよい。
【００４３】
［００４２］被検出可能装置３４０と磁石構造２２２とは一体的に形成されうる、又は別々の要素として配設されうる。本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、被検出可能装置３４０と磁石構造２２２、及び具体的には一または複数の第１の磁石ユニットは、例えば原則的に水平な平面などの、搬送方向１に平行な平面において互いに隣接するように配置されうる。例えば、被検出可能装置３４０は、一または複数の第１の磁石ユニットを有するキャリア３２０の磁石構造２２２に取り付けられうる。
【００４４】
［００４３］被検出可能装置３４０は、キャリア３２０の端部に配置され、搬送方向１に沿って延びていてよい。被検出可能装置３４０は、ガイド構造２１０の複数のガイドユニット１１１の少なくとも１つのガイドユニットに対する、キャリア３２０の位置、又はキャリア３２０の端部の位置を決定するために、堆積システムの搬送構成部の一または複数のセンサ２３０によって検出可能でありうる。これに関して、被検出可能装置３４０は「センサトレイル」とも称されうる。
【００４５】
［００４４］キャリア３２０は、例えば第１の端部と、第１の端部の反対側の第２の端部等の一または複数の端部を有する。基板は、第１の端部と第２の端部との間に位置しうる。第１の端部は、上部（又は上方）端部であってよく、第２の端部は底部（又は下方）端部であってよい。第１の端部と第２の端部は、原則的に平行に、例えば原則的に水平方向に延びていてよい。被検出可能装置３４０は、第１の端部及び／又は第２の端部に配設されうる。図３Ａの例に、キャリア３２０の上部又は上方端部である第１の端部における被検出可能装置３４０と磁石構造２２２を例示的に示す。被検出可能装置３４０と磁石構造２２２、具体的には、一または複数の第１の磁石ユニットは、搬送構成部のガイド構造２１０に面していてよい。一または複数の第２の磁石ユニットは、キャリア３２０の底部又は下方端部であってよい第２の端部に位置していてよい。一または複数の第２の磁石ユニットは、搬送構成部の駆動構造に面していてよい。
【００４６】
［００４５］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、被検出可能装置３４０は例えば、搬送方向１においてキャリア３２０の全長Ｌに渡って延びる要素である。キャリア３２０の長さＬは、搬送方向１に沿って、例えばキャリア３２０の第１の端部２０１と第２の端部２０２との間で搬送方向１に沿って画定されうる。
【００４７】
［００４６］ある実行形態では、被検出可能装置３４０は、搬送方向１に沿って変化し，一または複数のセンサ２３０によって検出可能な幾何学的外形を含む、あるいは搬送方向１に沿って変化し、一または複数のセンサ２３０によって検出可能な幾何学的外形である。一または複数のセンサ２３０は、それぞれのセンサと幾何学的外形との間、特にそれぞれのセンサと、センサに面する幾何学的外形の面との間の距離を検出するように構成された距離センサであってよい。距離は、例えば垂直方向３又は水平方向２等の搬送方向１に対して直角の方向に測定されうる。ある実行形態では、各ガイドユニット１１１は、幾何学的外形を検出するそれぞれのセンサを含む。
【００４８】
［００４７］幾何学的外形は、キャリア３２０の第１の端部２０１と第２の端部２０２との間で搬送方向１に沿って変化しうる。幾何学的外形は、第１の端部２０１と第２の端部２０２との間に延びているセンサトレイルを提供しうる。本開示全体で使用する「幾何学的外形」という語は、外形、又は搬送方向１に延び、搬送方向１及び搬送方向１に対して直角の少なくとも１つの方向（垂直方向３など）によって画定される平面に一定でない（又は変化する）断面形状を有する外形を有する要素を指す。幾何学的外形は、搬送方向１に見たときに、キャリア３２０の第１の端部２０１（例えば搬送方向１にキャリア３２０の最外境界を画定しうる前面又は前縁）と第２の端部２０２（例えば搬送方向１とは反対の方向にキャリア３２０の最外境界を画定しうる後面又は後縁）との間に画定されうる。つまり、様々な幾何学的外形はキャリア３２０の第１の端部２０１又は第２の端部２０２のエッジを指すのではなく、一または複数のセンサ２３０によって検出されうる第１の端部２０１と第２の端部２０２との間の更なる構造的バリエーションを指す。
【００４９】
［００４８］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、幾何学的外形は一又は複数の形状要素を含む。ある実行形態では、一または複数の形状要素は、非連続性、傾斜部、円弧形状及びこれらの任意の組合せを含む群から選択されうる。例えば、幾何学的外形は、キャリア２２０の長さに沿って延び、例えば一または複数の傾斜部３４２等の一または複数の形状要素を有する要素であってよい。
【００５０】
［００４９］ある実施形態では、キャリア３２０の第１の端部２０１及び／又は第２の端部２０２に例えば傾斜部等の一または複数の形状要素が配置される。例えば、少なくとも１つの第１の形状要素が第１の端部２０１に配置されうる、及び／又は少なくとも１つの第２の形状要素が第２の端部２０２に配置されうる。少なくとも１つの第１の形状要素及び少なくとも１つの第２の形状要素は基本的に同じであってよい、あるいは異なっていてよい。図３Ａの実施例では、少なくとも１つの第１の形状要素と少なくとも１つの第２の形状要素は両方とも、幾何学的外形を提供する要素内の傾斜部である。
【００５１】
［００５０］一または複数の形状要素は、キャリア３２０の端部がガイド構造２１０に対してどこに位置するかを決定しうるように、キャリア３２０の端部に配置されうる。ガイドユニット１１１の一または複数の能動磁石ユニット１１２は、搬送方向１におけるキャリア３２０の滑らかな搬送を提供するように制御されうる。詳細には、キャリアの一または複数のエッジに位置する、及び／又は一または複数のエッジが近づいているアクチュエータを制御することが可能である。例えば、一または複数のアクチュエータによって付与される磁力を継続的に増加させて、又は減少させて、隣接するアクチュエータ／磁石ユニットの間でキャリア３２０の端部の滑らかな遷移を得ることができる。例えば、キャリア３２０がアクチュエータを「離れた」ときに、キャリア３２０に基本的に何の力も加わらないように、アクチュエータの作動を低下させることができる。
【００５２】
［００５１］ある実施形態によれば、一または複数の形状要素の個別の形状要素は、搬送方向１における幾何学的外形及び／又はキャリア３２０の長さに沿った長さの延長部を有しうる。個々の形状要素の長さの延長部は、幾何学的外形及び／又はキャリア３２０の長さの少なくとも１％、具体的には、長さの少なくとも４％、具体的には、長さの少なくとも８％に対応しうる。
【００５３】
［００５２］図３Ａに、傾斜部３４２を一または複数の形状要素として例示的に示す。しかしながら、本開示はこれに限定されず、切り抜き部又は継続的に変化する形状等の他の形状要素が提供可能である。ある実行形態では、傾斜部３４２は、搬送方向１に対して傾斜した、キャリア３２０の面であってよい。例えば、傾斜部３４２は水平面に対して傾斜していてよい。ある実施形態では、傾斜部３４２は、キャリア３２０の第１の端部２０１及び／又は第２の端部２０２に配置される。例えば、キャリア３２０の第１の端部２０１に少なくとも１つの第１の傾斜部が配置されうる、及び／又は第２の端部２０２に少なくとも１つの第２の傾斜部が配置されうる。少なくとも１つの第１の傾斜部と少なくとも１つの第２の傾斜部は、反対方向に傾斜していてよい。具体的には、少なくとも１つの第１の傾斜部と少なくとも１つの第２の傾斜部は、鏡面対称であってよい。
【００５４】
［００５３］センサ２３０は、傾斜部３４２に面するように配置されうる。具体的には、センサ２３０は、キャリア３２０が搬送方向１に移動したときに、傾斜部３４２を検出するように構成されうる。センサと傾斜部との間で検出された距離は、搬送方向１及び／又は傾斜方向に応じて増加する、又は減少する。ガイドユニット１１１の一または複数の能動磁石ユニットは、搬送方向にキャリア３２０の滑らかな搬送を提供するように制御されうる。具体的には、一または複数の傾斜部に位置するアクチュエータが制御されうる。例えば、一または複数のアクチュエータによって付与される磁力は、隣接するアクチュエータ／磁石ユニット間のキャリアの端部の滑らかな遷移を提供するために、傾斜部によってもたらされる様々な距離に基づいて継続的に増加しうる、又は減少しうる。具体的には、図３Ａにおいて、キャリアの左側の傾斜部により、キャリアが上向きに移動したのと同じ検出信号がセンサにおいて得られうる。コントローラは、キャリアがアクチュエータを「離れる」ときに左側のアクチュエータがキャリアに浮上力を付与しないように、例えばアクチュエータの電流を減少させることによって、アクチュエータの力を弱めうる。
【００５５】
［００５４］図３Ｂに、本書に記載の実施形態に係る、堆積システムにおいてキャリア３２０´を非接触搬送するための装置の概略図を示す。図３Ｂの装置及びキャリア３２０´は図３Ａに示す装置及びキャリアに類似しており、類似の又は同一の態様についての説明は繰り返さない。
【００５６】
［００５５］本開示の一態様によれば、堆積システムにおいてキャリア３２０´を非接触搬送するための装置は、キャリア３２０´の存在を検出するように構成された一または複数のセンサ３３０を含む。一または複数のセンサ３３０の各センサは、キャリア３２０´の搬送方向１にセンサ延長部ｄを有し、センサ延長部ｄは、キャリア延長部、すなわち搬送方向１におけるキャリアの長さＬの少なくとも１％、具体的には少なくとも２％、具体的には少なくとも４％、具体的には少なくとも８％、及び更に具体的には少なくとも１０％であってよい。センサ延長部ｄは、キャリア３２０´の長さＬの１０％以上、具体的には１５％以上、具体的には２０％以上、及び更に具体的には２５％以上であってもよい。
【００５７】
［００５６］一または複数のセンサ３３０は、搬送方向１に細長くなっている。キャリア３２０´（又はそれ自体のセンサトレイル）がセンサ３３０から離れると、センサ３３０の信号又は信号値は、キャリア３２０´があたかも上向きに（ゆっくり）移動しているかのように徐々に変化する。能動磁石ユニット１１２によって付与される力は、キャリア３２０´の滑らかな搬送が達成されうるように、信号の変化に従ってゼロまで（徐々に）減少しうる。徐々の（一定の比率の）信号の変化は、細長いセンサによって達成されうる。逆に、例えば図２に示すような短いセンサは、センサがキャリアのエッジに到達したときに突然の信号の変化を呈する。本実施形態は、キャリアの突然の加速又は減速につながりうるパルス状の力の発生を低減させる、あるいは回避さえすることができる。
【００５８】
［００５７］図４Ａ及び図４Ｂに、本書に記載の実施形態に係るキャリア４１０を非接触搬送するための装置４００の概略図を示す。装置及びキャリア４１０は、本書に記載の実施形態にしたがって構成されうる。
【００５９】
［００５８］装置４００は、複数の能動磁石ユニット４７５と、キャリア４１０の存在を検出する一または複数のセンサ（図示せず）と、本開示に係るキャリア４１０とを含むガイド構造４７０を有する搬送構成部を含む。一または複数のセンサは、一または複数のセンサとキャリア４１０の被検出可能装置との間の距離を検出するように構成されうる。装置４００はさらに、一または複数のセンサによって提供される検出データに基づいて、複数の能動磁石ユニット４７５のうちの少なくとも１つの能動磁石ユニットを選択的に制御するように構成されたコントローラを含みうる。本書に記載の幾つかの実施形態によれば、搬送構成部は真空システムの真空チャンバ内に配置されうる。真空チャンバは真空堆積チャンバであってもよい。しかしながら、本開示は真空システムに限定されず、本書に記載のキャリア及び搬送構成部を大気環境において実行することが可能である。
【００６０】
［００５９］キャリア４１０は、キャリア４１０を浮上させる磁気浮上力を付与するために真空システムのガイド構造４７０と磁気的に相互作用するように構成された一または複数の第１の磁石ユニットを有する磁石構造を含みうる。一または複数の第１の磁石ユニットは、第１の受動磁石ユニット４５０であってよい。ガイド構造４７０は、水平方向であってよいキャリア４１０の搬送方向１に延びていてよい。ガイド構造４７０は、複数の能動磁石ユニット４７５を含みうる。キャリア４１０は、ガイド構造４７０に沿って移動可能でありうる。第１の受動磁石ユニット４５０、例えば、強磁性材料のバー、及びガイド構造４７０の複数の能動磁石ユニット４７５は、キャリア４１０を浮上させる第１の磁気浮上力を付与するように構成されうる。本書に記載の浮上のためのデバイスは、例えば、キャリア４１０を浮上させる非接触力をもたらすデバイスである。
【００６１】
［００６０］ある実施形態によれば、搬送構成部は更に駆動構造４８０を含みうる。駆動構造４８０は、更なる能動磁石ユニットのような、複数の更なる磁石ユニットを含みうる。キャリア４１０は、駆動構造４８０と磁気的に相互作用するように構成された一または複数の第２の磁石ユニットを含みうる。具体的には、一または複数の第２の磁石ユニットは、駆動構造４８０の別の能動磁石ユニット４８５と相互作用する、例えば、強磁性材料のバー等の第２の受動磁石ユニット４６０であってよい。
【００６２】
［００６１］図４Ｂに、搬送構成部の別の側面を示す。図４Ｂは、複数の能動磁石ユニット４７５の能動磁石ユニットを示す図である。能動磁石ユニットは、キャリア４１０の第１の受動磁石ユニット４５０と相互作用する磁力を付与する。例えば、第１の受動磁石ユニット４５０は、強磁性材料のロッドでありうる。ロッドは、支持構造４１２に接続されたキャリア４１０の一部でありうる。支持構造４１２は、キャリア４１０の本体によって設けられうる。ロッド又は第１の受動磁石ユニットは、それぞれ、基板１０を支持する支持構造４１２と一体的に形成されてもよい。被検出可能装置は第１の受動磁石ユニット４５０に取り付けられうる、あるいは第１の受動磁石ユニット４５０によって提供されうる。キャリア４１０は、例えば、更なるロッドなどの第２の受動磁石ユニット４６０を更に含みうる。更なるロッドは、キャリア４１０に接続されうる。ロッド又は第２の受動磁石ユニットは、それぞれ、支持構造４１２と一体的に形成されてもよい。
【００６３】
［００６２］「受動（ｐａｓｓｉｖｅ）」磁石ユニットという用語は、本書では、「能動（ａｃｔｉｖｅ）」磁石ユニットという概念と区別するために使用される。受動磁石ユニットとは、少なくとも搬送構成部の作動中には、能動制御又は調節の対象とはならない磁気的特性を有する要素のことを指す場合がある。例えば、受動磁石ユニット（例えば、キャリアのロッド又は更なるロッド）の磁気的特性は、概して真空チャンバ又は真空システムを通過するキャリアの運動中は能動制御の対象ではない。本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、搬送構成部のコントローラは受動磁石ユニットを制御するように構成されていない。受動磁石ユニットは、磁場（例えば、静磁場）を生成するように適合されうる。受動磁石ユニットは、調節可能な磁場を生成するように構成されない場合がある。受動磁石ユニットは、強磁性材料などの磁性材料、永久磁石であってもよく、又は永久磁石特性を有してもよい。
【００６４】
［００６３］本書に記載の実施形態によれば、複数の能動磁石ユニット４７５は、第１の受動磁石ユニット４５０に、及びその結果としてキャリア４１０に磁力を付与する。複数の能動磁石ユニット４７５は、キャリア４１０を浮上させる。更なる能動磁石ユニット４８５は、例えば、搬送方向１に沿って、真空チャンバの内部でキャリア４１０を駆動させることができる。複数の更なる能動磁石ユニット４８５は、キャリア４１０の上に位置する複数の能動磁石ユニット４７５によって浮上している間、搬送方向１にキャリア４１０を移動させるための駆動構造を形成する。更なる能動磁石ユニット４８５は、第２の受動磁石ユニット４６０と相互作用して、搬送方向１に沿って力を付与することができる。例えば、第２の受動磁石ユニット４６０は、交互に変わる極性で配置された複数の永久磁石を含みうる。第２の受動磁石ユニット４６０から得られる磁場は、複数の更なる能動磁石ユニット４８５と相互作用し、浮上中のキャリア４１０を移動させることができる。
【００６５】
［００６４］複数の能動磁石ユニット４７５でキャリア４１０を浮上させるため、及び／又は、複数の更なる能動磁石ユニット４８５でキャリア４１０を移動させるため、能動磁石ユニットを制御して調節可能な磁場を生じさせることができる。調整可能な磁場は、静磁場又は動磁場でありうる。本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、能動磁石ユニットは、垂直方向３に沿って延在する磁気浮上力を付与するための磁場を生成するように構成される。本書に記載の更なる実施形態と組み合わせることができる他の実施形態によれば、能動磁石ユニットは、横方向に沿って延在する磁力を付与するように構成されうる。本書に記載の能動磁石ユニットは、電磁デバイス、ソレノイド、コイル、超伝導磁石、又はこれらの任意の組み合わせからなる群から選択された要素であってもよく、又はその要素を含んでいてよい。
【００６６】
［００６５］本書に記載の実施形態は、キャリア、基板、及び／又はマスクの非接触浮上、搬送、及び／又はアライメントに関する。本開示はキャリアを参照し、キャリアは、基板を支持するキャリア、基板のないキャリア、基板、又は支持体によって支持される基板からなる群のうちの一または複数の要素を含みうる。本開示全体で使用する「非接触」という語は、例えばキャリア及び基板の重量は機械的接触又は機械的力によって保持されないが、磁力によって保持されるという意味であると理解すべきである。特に、機械的な力の代わりに磁力を用いて、キャリアが浮上した状態又は浮動した状態で保持される。一実施例として、本書に記載された搬送構成部は、キャリアの重量を支持する機械的レールなどの機械的デバイスを有しない場合がある。幾つかの実行形態では、浮上中に、また、例えば真空システム内のキャリアの運動中に、キャリアと装置のそれ以外の部分との間の機械的接触は全くなくてよい。
【００６７】
［００６６］本開示の実施形態によれば、浮上している、あるいは浮上は物体の状態を指すものであり、物体は機械的接触又は支持体なしで浮動する。更に、物体の移動は、駆動力、例えば浮上力とは異なる方向の力を付与することを指すものであり、物体は１つの位置から別の異なる位置へ移動する。例えば、キャリア等の物体は、すなわち重力に反作用する力によって浮上することができ、浮上している間は重力に平行な方向とは異なる方向に移動しうる。
【００６８】
［００６７］本書に記載の実施形態に係るキャリアの非接触浮上及び搬送は、キャリアの搬送又はアライメントの間、キャリアと、機械的レールなどの搬送構成部のセクションとの間の機械的接触により粒子が生成されることはないという点において有益である。したがって、詳細には非接触型の浮上、搬送、及び／又はアライメントを使用すると粒子発生が最小限に抑えられることから、本書に記載の実施形態は、基板に堆積される層の純度及び均一性の向上をもたらす。
【００６９】
［００６８］図５に、本書に記載の実施形態に係る基板処理のためのシステム５００を示す。真空システムであってよいシステム５００は、基板１０の上に例えば有機材料層等の一または複数の層を堆積させるように構成されうる。
【００７０】
［００６９］システム５００は、真空チャンバ５０２等の堆積チャンバ、本書に記載の実施形態に係るキャリア５２０、及び堆積チャンバ内でキャリア５２０を搬送するように構成された搬送構成部５１０を含む。幾つかの実行形態では、システム５００は堆積チャンバ内に一又は複数の材料堆積源５８０を含む。キャリア５２０は、真空堆積処理等の堆積処理中に基板１０を保持するように構成されうる。システム５００は、例えばＯＬＥＤデバイス製造用の有機材料の蒸着のために構成され得る。別の実施例では、システム５００は、スパッタ堆積などのＣＶＤ又はＰＶＤ用に構成されうる。
【００７１】
［００７０］幾つかの実行形態では、一又は複数の材料堆積源５８０は蒸着源であってよく、特に、ＯＬＥＤデバイスの層を形成するために一又は複数の有機材料を基板上に堆積させるための蒸着源であり得る。例えば層堆積処理中に基板１０を支持するためのキャリア５２０は、堆積チャンバの中へ、また、堆積チャンバを経由して、具体的には直線搬送路などの搬送路に沿って堆積エリアを経由して搬送されうる。
【００７２】
［００７１］材料は、一又は複数の材料堆積源５８０から、コーティングされる基板１０が位置する堆積エリアに向かう放出方向に放出される。例えば、一又は複数の材料堆積源５８０は、一又は複数の材料堆積源５８０の長さに沿って少なくとも１つの線に配置された複数の開口部及び／又はノズルを有する線源を提供しうる。材料は、複数の開口部及び／又はノズルを介して吐出されうる。
【００７３】
［００７２］図５に示すように、更なるチャンバを真空チャンバ５０２の隣に設けてもよい。真空チャンバ５０２は、バルブハウジング５０４及びバルブユニット５０６を有するバルブによって隣接するチャンバから分離され得る。矢印で示すように、基板１０が載ったキャリア５２０が真空チャンバ５０２の中に挿入された後、バルブユニット５０６が閉じられうる。真空チャンバ５０２内の雰囲気は、例えば真空チャンバ５０２に接続された真空ポンプによって工業的真空を生成することによって、個別に制御されうる。
【００７４】
［００７３］幾つかの実施形態によれば、キャリア５２０、基板１０及びオプションとしてマスク２０は、堆積材料の堆積中は静的又は動的である。本書に記載の幾つかの実施形態によると、例えば、ＯＬＥＤデバイスの製造のために動的堆積処理が提供されうる。
【００７５】
［００７４］幾つかの実行形態では、システム５００は、真空チャンバ５０２を通って延びる一又は複数の搬送路を含み得る。キャリア５２０は、例えば、一又は複数の材料堆積源５８０を通過して一又は複数の搬送路に沿って搬送するように構成されうる。図５には、矢印によって１つの搬送路が例示的に示されているが、本開示はこれに限定されるものではなく、２つ以上の搬送路が提供されうることを理解されたい。例えば、それぞれのキャリアの搬送のために、少なくとも２つの搬送路を互いに対して実質的に平行に配置することができる。一又は複数の材料堆積源５８０は、２つの搬送路の間に配置されうる。
【００７６】
［００７５］図６に、本書に記載の更なる実施形態に係る、基板１０の処理、例えば真空処理のためのシステム６００の概略図を示す。
【００７７】
［００７６］システム６００は、２つ以上の処理領域と、基板１０とオプションによりマスクを支持するキャリア６０１を２つ以上の処理領域まで順次搬送するように構成された本開示に係る搬送構成部６６０とを含む。例えば、搬送構成部６６０は、基板処理のための２つ以上の処理領域を通って、搬送方向１に沿ってキャリア６０１を搬送するように構成されうる。言い換えるならば、複数の処理領域を通る基板１０の搬送に同一のキャリアが使用されるということである。具体的には、基板１０は、処理領域内での基板処理と後続の処理領域での基板処理との間は、キャリア６０１から取り外されない。すなわち、２つ以上の基板処理手順において、基板は同一キャリア上に留まる。幾つかの実施形態によれば、キャリア６０１は本書に記載の実施形態によって構成されうる。オプションにより、又は代替的に、搬送構成部６６０は、例えば、図４Ａ及び図４Ｂに関連して説明したように構成されうる。
【００７８】
［００７７］図６に例示的に示すように、２つ以上の処理領域は、第１の堆積領域６０８と第２の堆積領域６１２を含むことができる。オプションにより、第１の堆積領域６０８と第２の堆積領域６１２との間に移送（ｔｒａｎｓｆｅｒ）領域６１０を設けることができる。２つ以上の処理領域と移送領域などの複数の領域を、１つの真空チャンバ内に設けることができる。代替的に、複数の領域は、互いに接続された異なる真空チャンバ内に設けることができる。例えば、各真空チャンバは１つの領域を提供することができる。具体的に、第１の真空チャンバは第１の堆積領域６０８を提供することができ、第２の真空チャンバは移送領域６１０を提供することができ、第３の真空チャンバは第２の堆積領域６１２を提供することができる。幾つかの実行形態では、第１の真空チャンバと第３の真空チャンバは「堆積チャンバ」と称されうる。第２の真空チャンバは「処理  チャンバ」と称されうる。更に、真空チャンバ又は領域は、図６の実施例に示す領域に隣接して提供されうる。
【００７９】
［００７８］真空チャンバ又は領域は、バルブハウジング６０４及びバルブユニット６０５を有するバルブによって、隣接する領域から分離されうる。基板１０が載ったキャリア６０１が領域（第２の堆積領域６１２など）の中に挿入された後、バルブユニット６０５を閉じることができる。領域内の雰囲気は、例えば、当該領域に接続された真空ポンプで工業的真空を生成することによって、及び／又は、例えば、第１の堆積領域６０８及び／又は第２の堆積領域６１２に一又は複数の処理ガスを注入することによって、個別に制御可能である。直線搬送路などの搬送路は、基板１０が載ったキャリア６０１を領域の中へ、領域を通過して外へ搬送するように提供されうる。搬送路は、２つ以上の処理領域（第１の堆積領域６０８、第２の堆積領域６１２など）を少なくとも部分的に通って延在し、オプションにより移送領域６１０を通って延在しうる。
【００８０】
［００７９］システム６００は移送領域６１０を含みうる。幾つかの実施形態では、移送領域６１０は省略されうる。移送領域６１０は、回転モジュール、中継（ｔｒａｎｓｉｔ）モジュール、又はこれらの組み合わせによって提供されうる。図６は、回転モジュールと中継モジュールの組み合わせを示す。回転モジュールでは、トラック構成部とその上に配置されたキャリア（複数可）は、垂直回転軸などの回転軸の周りで回転可能である。例えば、キャリア（複数可）は、システム６００の左側からシステム６００の右側へと、又はその逆に移送されうる。中継モジュールは、キャリア（複数可）が中継モジュールを経由して異なる方向へ、例えば互いに直交する方向へ移送されるように、交差トラックを含みうる。
【００８１】
［００８０］第１の堆積領域６０８及び第２の堆積領域６１２などの堆積領域内では、一又は複数の堆積源が配設されうる。例えば、第１の堆積源６３０は第１の堆積領域６０８内に配設されうる。第２の堆積源６５０は第２の堆積領域６１２内に配設されうる。一又は複数の堆積源は、ＯＬＥＤデバイス用の有機層スタックを形成するため、基板１０の上に一又は複数の有機層を堆積させるように構成された蒸着源であってよい。
【００８２】
［００８１］図７に、本書に記載の実施形態に係る、例えば真空システム等の堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法７００のフロー図を示す。方法７００は、本開示に係るキャリア、装置及びシステムを利用し得る。
【００８３】
［００８２］方法７００は、ブロック７１０において、キャリアの被検出可能装置の第１の側面を検出することと、ブロック７２０において、第１の側面の反対側の、被検出可能装置の第２の側面に配置された少なくとも１つの能動磁石ユニットを制御することとを含む。ある実行形態では、方法７００は、例えば検出された信号が例えば距離の変化を示すときに、堆積システムにおけるキャリアの端部の位置を決定することができる。ある実施形態によれば、２つ以上のセンサは、それぞれの能動磁石ユニットが制御されることに基づいて、グループを形成していてよい。例えば、能動磁石ユニットのセンサによって送られた信号と、センサの一または複数の隣接するセンサによって送られた一または複数の信号が互いに異なる場合に、能動磁石ユニットが制御されうる。
【００８４】
［００８３］一実施形態では、検出信号にしたがって、少なくとも１つの能動磁石ユニットを通して流れる電流が変更されうる。例えば、キャリアが「離れる」能動磁石ユニットの電流は徐々に、又は継続的に減少してゼロになりうる。更に、キャリアが「近づく」又は「入る」能動磁石ユニットの電流は、徐々に又は継続的にゼロから設定値まで増加しうる。
【００８５】
［００８４］本書に記載の実施形態によれば、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法は、コンピュータプログラム、ソフトウェア、コンピュータソフトウェア製品、及び相互関連コントローラを使用して実施することができる。相互関連コントローラは、キャリア、装置及び／又はシステムの対応構成要素と通信可能なＣＰＵ、メモリ、ユーザインターフェース、及び入出力デバイスを有し得る。
【００８６】
［００８５］本開示の実施形態によれば、一または複数の能動磁石ユニットと一または複数のセンサは、ガイド空間の対向する側面に配置される。具体的には、一または複数の能動磁石ユニットと一または複数のセンサは、キャリアの磁石構造の対向する側面に配置される。磁気ガイドが実施される空間を効率的に使用することが可能になる。更に、磁気ガイドと一または複数のセンサとの間の干渉を回避することができ、搬送方向におけるキャリアの滑らかな搬送が達成されうる。キャリアの不安定な搬送及び／又は粒子の生成に起因する基板の破損が削減されうる、又は回避さえもされうる。
【００８７】
［００８６］以上の記述は本開示の実施形態を対象としているが、本開示の基本的な範囲から逸脱せずに本開示の他の実施形態及び更なる実施形態が考案されてよく、本開示の範囲は、以下の特許請求の範囲によって決定される。
【図１】
2020500256.tif 000003
【図２】
2020500256.tif 000004
【図３Ａ】
2020500256.tif 000005
【図３Ｂ】
2020500256.tif 000006
【図４Ａ】
2020500256.tif 000007
【図４Ｂ】
2020500256.tif 000008
【図５】
2020500256.tif 000009
【図６】
2020500256.tif 000010
【図７】
2020500256.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月11日(2019.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するためのシステムであって、
キャリアと、
前記キャリアの磁石構造に面するように構成された一または複数の能動磁石ユニットを有するガイド構造と、
前記キャリアの存在を検出するように構成された一または複数のセンサであって、前記一または複数の能動磁石ユニットと前記一または複数のセンサは、前記一または複数の能動磁石ユニットと前記一または複数のセンサとの間に磁石構造のためのガイド空間を画定するように配置されている、一または複数のセンサと
を備え、
前記キャリアは、前記キャリアの搬送方向に沿って変化し且つ前記一または複数のセンサによって検出可能な幾何学的外形を含む被検出可能装置を含む、システム。
【請求項２】
前記一または複数のセンサは、前記キャリアへの距離を測定するように構成された距離センサである、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
垂直方向又は水平方向に対し、前記一または複数の能動磁石ユニットは前記ガイド空間の一方の側に配置され、前記一または複数のセンサは前記ガイド空間の他方の側に配置されている、請求項１又は２に記載のシステム。
【請求項４】
前記一または複数のセンサの各センサは前記キャリアの搬送方向にセンサ延長部を有し、前記センサ延長部は前記搬送方向におけるキャリア延長部の１％以上である、請求項１から３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項５】
複数の更なる能動磁石ユニットを有する駆動構造を更に含む、請求項１から４のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項６】
堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置であって、
前記キャリアの存在を検出するように構成された一または複数のセンサであって、前記一または複数のセンサの各センサは前記キャリアの搬送方向にセンサ延長部を有し、前記センサ延長部は前記搬送方向におけるキャリア延長部の１％以上である、一または複数のセンサ
を備える装置。
【請求項７】
前記センサ延長部は前記キャリア延長部の少なくとも２％である、又は前記キャリア延長部の少なくとも４％である、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記一または複数のセンサは前記キャリアへの距離を測定するように構成された距離センサである、請求項６または７に記載の装置。
【請求項９】
前記被検出可能装置は前記一または複数のセンサに面するように配置されている、請求項１から５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記被検出可能装置は前記キャリアの端部に配置されている、請求項１から５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１１】
前記幾何学的外形は、傾き、非連続性、円弧形、及びそれらの任意の組合せからなる群から選択される一または複数の形状要素を有する、請求項１から５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１２】
前記一または複数のセンサは、前記一または複数のセンサと前記幾何学的外形との間の距離を検出するように構成されている、請求項１から５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１３】
堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法であって、
前記キャリアの被検出可能装置の第１の側面を検出することであって、前記被検出可能装置が前記キャリアの搬送方向に沿って変化する幾何学的外形を含む、第１の側面を検出することと、
前記被検出可能装置の前記第１の側面とは反対の第２の側面に配置された少なくとも１つの能動磁石ユニットを制御することと
を含む方法。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの能動磁石ユニットが前記キャリアの磁石構造に面している、請求項１３に記載の方法。
【国際調査報告】
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