(57)【要約】本開示はプレートコーティング装置を開示し、当該プレートコーティング装置は、第1のターゲットコーティングチャンバ（1）及び第2のターゲットコーティングチャンバ（2）を備え、前記第1のターゲットコーティングチャンバ（1）と前記第2のターゲットコーティングチャンバ（2）との間に隔離チャンバ（3）が設けられ、前記隔離チャンバ（3）内に分子ポンプ（4）が設けられ、前記隔離チャンバ（3）が、第1のセパレータ（5）によって前記第1のターゲットコーティングチャンバ（1）と隔離され、第2のセパレータ（6）によって前記第2のターゲットコーティングチャンバ（2）と隔離され、前記第1のセパレータ（5）と前記第2のセパレータ（6）のそれぞれにガラスを通過させるスリット（7）を有し、前記第1のセパレータ（5）にパージ装置（8）が設けられる。本プレートコーティング装置によれば、コーティング装置の各チャンバを効果的に隔離し、ガラスコーティング品質を確保することができ、構造が簡単で、製造コストが低い利点を有する。
2020504227.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第1のターゲットコーティングチャンバ（1）及び第2のターゲットコーティングチャンバ（2）を備え、前記第1のターゲットコーティングチャンバ（1）と前記第2のターゲットコーティングチャンバ（2）との間に隔離チャンバ（3）が設けられ、前記隔離チャンバ（3）内に分子ポンプ（4）が設けられるプレートコーティング装置であって、
前記隔離チャンバ（3）が、第1のセパレータ（5）によって前記第1のターゲットコーティングチャンバ（1）と隔離され、第2のセパレータ（6）によって前記第2のターゲットコーティングチャンバ（2）と隔離され、前記第1のセパレータ（5）と前記第2のセパレータ（6）にそれぞれスリット（7）を有し、前記第1のセパレータ（5）にパージ装置（8）が設けられることを特徴とするプレートコーティング装置。
【請求項２】
前記パージ装置（8）は前記第1のセパレータ（5）の前記隔離チャンバ（3）に近い一側に位置することを特徴とする請求項1に記載のプレートコーティング装置。
【請求項３】
前記パージ装置（8）は、ガス配管（9）、端板（10）及び流量制御弁（11）を備え、前記端板（10）は2つであり、それぞれ前記スリット（7）の長手方向の両端に固定され、前記ガス配管（9）は2つの前記端板（10）に固定され、前記ガス配管（9）の吸気端が前記流量制御弁（11）の排気端に接続され、前記流量制御弁（11）の吸気端が配管によってガス源に接続され、前記ガス配管（9）にノズル（12）を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のプレートコーティング装置。
【請求項４】
前記ガス配管（9）が環状構造であることを特徴とする請求項3に記載のプレートコーティング装置。
【請求項５】
前記ノズル（12）のスプレー方向が前記スリット（7）に向いており、前記ノズル（12）と前記スリット（7）との夾角が30°-60°であることを特徴とする請求項3に記載のプレートコーティング装置。
【請求項６】
前記ノズル（12）と前記スリット（7）との夾角が45°であることを特徴とする請求項5に記載のプレートコーティング装置。
【請求項７】
前記スリット（7）の内壁面が粗面であることを特徴とする請求項1に記載のプレートコーティング装置。
【請求項８】
前記分子ポンプ（4）が4つであることを特徴とする請求項1に記載のプレートコーティング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案はコーティング装置に関し、特にプレートコーティング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プレートコーティング装置では、異なるプロセス技術に応じて、様々なターゲットを同時にスパッタリングして堆積、コーティングする必要があり、各種のターゲットには対応するプロセス要求があり、主スパッタリングガスに加えて、補助スパッタリングガス、例えばO2、H2、N2等を添加する必要があり、複数種のターゲットのスパッタリングは同一の真空チャンバ内で行われ、プロセス技術では異なるターゲットの反応ガスの干渉を回避してコーティング品質を確保するために、異なるターゲットのスパッタリングプロセスを分離する必要がある。
【０００３】
図1に示すように、従来の隔離方式として、通常、異なるターゲットのスパッタリングプロセスに応じてそれぞれプロセスチャンバ100が設置され、プロセスチャンバ100の間に1つの隔離チャンバ200が追加され、隔離チャンバ200内に排気用の分子ポンプ300が配置され、前部・後部の隔離チャンバ200に、チャンバ間のゲートの代わりにそれぞれ1つのフラップバルブ400が取り付けられることで、異なるプロセスチャンバのガスの隔離を実現できるが、コストが高く、要求が厳しく、自動制御が必要である。
【開示の概要】
【０００４】
本考案は、従来技術の技術的問題を解決し、コーティング装置の各チャンバを効果的に隔離し、ガラスコーティング品質を確保することができ、構造が簡単で、製造コストが低い利点を有するプレートコーティング装置を提供することを目的とする。
【０００５】
本考案はプレートコーティング装置を提供し、当該プレートコーティング装置は、第1のターゲットコーティングチャンバ及び第2のターゲットコーティングチャンバを備え、前記第1のターゲットコーティングチャンバと前記第2のターゲットコーティングチャンバとの間に隔離チャンバが設けられ、前記隔離チャンバ内に分子ポンプが設けられ、前記隔離チャンバが、第1のセパレータによって前記第1のターゲットコーティングチャンバと隔離され、第2のセパレータによって前記第2のターゲットコーティングチャンバと隔離され、前記第1のセパレータと前記第2のセパレータにそれぞれスリットが設けられ、前記第1のセパレータにパージ装置が設けられる。
【０００６】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記パージ装置は前記第1のセパレータの前記隔離チャンバに近い一側に位置する。
【０００７】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記パージ装置は、ガス配管、端板及び流量制御弁を備え、前記端板は2つであり、それぞれ前記スリットの長手方向の両端に固定され、前記ガス配管は2つの前記端板に固定され、前記ガス配管の吸気端が前記流量制御弁の排気端に接続され、前記流量制御弁の吸気端が配管によってガス源に接続され、前記ガス配管にノズルを有する。
【０００８】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記ガス配管が環状構造である。
【０００９】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記ノズルのスプレー方向が前記スリットに向いており、前記ノズルと前記スリットとの夾角が30°-60°である。
【００１０】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記ノズルと前記スリットとの夾角が45°である。
【００１１】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記スリットの内壁面が粗面である。
【００１２】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記分子ポンプが4つである。
【００１３】
従来技術に比べて、本考案は、隔離チャンバ内には、隔離チャンバ内のガスを隔離チャンバから排出して、ガスがスリットを経由してほかのコーティングチャンバ内に入ることを防止する分子ポンプが設けられ、各ターゲットコーティングチャンバ内でのコーティング品質を確保するために、ターゲットコーティングチャンバ内に分子ポンプが設けられることに加えて、第1のセパレータにパージ装置が設けられ、パージ装置のパージによって、スリット内に入ったガスを第1のターゲットコーティングチャンバ内に吹き戻し、さらに第1のターゲットコーティングチャンバ内の分子ポンプによって排出して、ガス逸脱の問題を解決する。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図1は従来技術のプレートコーティング装置の平面図である。
【図２】図2は本考案の一実施形態の平面図である。
【図３】図3は第1のセパレータ及びパージ装置の軸測図である。
【符号の簡単な説明】
【００１５】
図1では、100-プロセスチャンバ、200-隔離チャンバ、300-分子ポンプ、400-フラップバルブ。
図2-図3では、1-第1のターゲットコーティングチャンバ、2-第2のターゲットコーティングチャンバ、3-隔離チャンバ、4-分子ポンプ、5-第1のセパレータ、6-第2のセパレータ、7-スリット、8-パージ装置、9-ガス配管、10-端板、11-流量制御弁、12-ノズル。
【開示を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面に示される本考案の実施例を詳細に説明し、同一又は類似の符号は同一又は類似の素子、或いは同一又は類似の機能を有する素子を示す。以下、図面を参照して説明される実施例は例示的であり、本考案を説明するものに過ぎず、本考案を限定するものではない。
【００１７】
本考案の実施例について、図2及び図3に示すように、プレートコーティング装置は、第1のターゲットコーティングチャンバ1及び第2のターゲットコーティングチャンバ2を備え、第1のターゲットコーティングチャンバ1と第2のターゲットコーティングチャンバ2内のターゲットは異なるため、注入される主スパッタリングガスと補助スパッタリングガスも異なり、雰囲気逸脱によるコーティングプロセスへの影響を防止するために、第1のターゲットコーティングチャンバ1と第2のターゲットコーティングチャンバ2との間に隔離チャンバ3が設けられ、隔離チャンバ3内に分子ポンプ4が設けられ、分子ポンプ4は、4つであることが好ましく、隔離チャンバ3内のガスを排出するためのものであり、隔離チャンバ3が第1のセパレータ5によって第1のターゲットコーティングチャンバ1と隔離され、隔離チャンバ3が第2のセパレータ6によって第2のターゲットコーティングチャンバ2と隔離され、第1のセパレータ5と第2のセパレータ6のそれぞれにプレートを通過させるスリット7が設けられ、隔離効果を向上させるために、パージ装置8がさらに設けられ、それによりスリット7内のガスを元のコーティングチャンバ内に吹き戻すことができる。
【００１８】
好ましくは、パージ装置8は、第1のセパレータ5に設けられ、且つ隔離チャンバ3内に位置し、ブロー方向が第1のターゲットコーティングチャンバ1の一側に向く。このような構造は、製造コストが低く、隔離効果が良好である利点を有する。
【００１９】
上記実施例では、パージ装置8として、ブロー機能を有する任意の装置を用いてもよいが、隔離効果を確保するために、本実施例では、好ましくは、図3に示すように、パージ装置8は、ガス配管9、端板10及び流量制御弁11を備え、端板10は2つであり、それぞれボルトによってスリット7の長手方向の両端に固定され、ガス配管9は2つの端板10に固定され、ガス配管9の吸気端が流量制御弁11の排気端に接続され、流量制御弁11の吸気端が配管によってガス源に接続され、ガス配管9にノズル12を有する。
【００２０】
動作時、流量制御弁11によってガス配管9のガス供給量を制御し、ガス源中のガスが第1のターゲットコーティングチャンバ1の主スパッタリングガスと同じであり、効果を確保するために、好ましくは、ガス配管9は環状構造であり、該環状構造はスリット7にならい設計され、且つスリット7を囲んで取り付けられる。ノズル12のスプレー方向がスリット7に向いており、ノズル12とスリット7の夾角が30°-60°、好ましくは45°である。
【００２１】
さらに、スリット7の内壁面をサンドブラストプロセスによって粗面とすることで、雰囲気逸脱をある程度緩和する役割を果たす。
【００２２】
以上、図示される実施例を参照して本考案の構造、特徴及び作用効果を詳細に説明したが、本考案の好適な実施例に過ぎず、本考案は図示される実施範囲に限定されるものではなく、本考案の構想に基づいて行われた変形や、同等の変更形態に変更された等効実施例は、明細書と図に示される趣旨を逸脱しない限り、本考案の保護範囲に属する。
【図１】
2020504227.tif 000003
【図２】
2020504227.tif 000004
【図３】
2020504227.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月17日(2018.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示はプレートコーティング装置に関するが、これに限定されない。
【背景技術】
【０００２】
プレートコーティング装置では、異なるプロセス技術に応じて、様々なターゲットを同時にスパッタリングして堆積、コーティングする必要があり、各種のターゲットには対応するプロセス要求があり、主スパッタリングガスに加えて、補助スパッタリングガス、例えばO2、H2、N2等を添加する必要があり、複数種のターゲットのスパッタリングは同一の真空チャンバ内で行われ、プロセス技術では異なるターゲットの反応ガスの干渉を回避してコーティング品質を確保するために、異なるターゲットのスパッタリングプロセスを分離する必要がある。
【０００３】
図1に示すように、従来の隔離方式として、通常、異なるターゲットのスパッタリングプロセスに応じてそれぞれプロセスチャンバが設置され、プロセスチャンバの間に1つの隔離チャンバが追加され、前部・後部の隔離チャンバに、チャンバ間のゲートの代わりにそれぞれ1つのフラップバルブが取り付けられることで、異なるプロセスチャンバのガスの隔離を実現できる。しかしながら、フラップバルブは、コストが高く、要求が厳しく、自動制御が必要である。
【開示の概要】
【０００４】
本開示はプレートコーティング装置を提供し、当該プレートコーティング装置は、第1のターゲットコーティングチャンバ及び第2のターゲットコーティングチャンバを備え、前記第1のターゲットコーティングチャンバと前記第2のターゲットコーティングチャンバとの間に隔離チャンバが設けられ、前記隔離チャンバ内に分子ポンプが設けられ、前記隔離チャンバが、第1のセパレータによって前記第1のターゲットコーティングチャンバと隔離され、第2のセパレータによって前記第2のターゲットコーティングチャンバと隔離され、前記第1のセパレータと前記第2のセパレータにそれぞれスリットが設けられ、前記第1のセパレータにパージ装置が設けられる。
【０００５】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記パージ装置は前記第1のセパレータの前記隔離チャンバに近い一側に位置する。
【０００６】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記パージ装置は、ガス配管、端板及び流量制御弁を備え、前記端板は2つであり、それぞれ前記スリットの長手方向の両端に固定され、前記ガス配管は2つの前記端板に固定され、前記ガス配管の吸気端が前記流量制御弁の排気端に接続され、前記流量制御弁の吸気端が配管によってガス源に接続され、前記ガス配管にノズルを有する。
【０００７】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記ガス配管が環状構造である。
【０００８】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記ノズルのスプレー方向が前記スリットに向いており、前記ノズルと前記スリットとの夾角が30°-60°である。
【０００９】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記ノズルと前記スリットとの夾角が45°である。
【００１０】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記スリットの内壁面が粗面である。
【００１１】
前記プレートコーティング装置では、好ましくは、前記分子ポンプが4つである。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図1は従来技術のプレートコーティング装置の平面図である。
【図２】図2は本開示の一実施形態の平面図である。
【図３】図3は第1のセパレータ及びパージ装置の軸測図である。
【開示を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面に示される本開示の実施例を詳細に説明し、同一又は類似の符号は同一又は類似の素子、或いは同一又は類似の機能を有する素子を示す。以下、図面を参照して説明される実施例は例示的であり、本開示を説明するものに過ぎず、本開示を限定するものではない。
【００１４】
図1は従来技術のプレートコーティング装置の平面図である。図1に示すように、従来の隔離方式として、通常、異なるターゲットのスパッタリングプロセスに応じてそれぞれプロセスチャンバ100が設置され、プロセスチャンバ100の間に1つの隔離チャンバ200が追加される。隔離チャンバ200内に排気用の分子ポンプ300が配置され、隔離チャンバ200の前後に、チャンバ間のゲートの代わりにそれぞれ1つのフラップバルブ400が取り付けられることで、異なるプロセスチャンバのガスの隔離を実現できる。しかしながら、そのコストが高く、要求が厳しく、自動制御が必要である。
【００１５】
本開示の実施例について、図2及び図3に示すように、プレートコーティング装置は、第1のターゲットコーティングチャンバ1及び第2のターゲットコーティングチャンバ2を備え、第1のターゲットコーティングチャンバ1と第2のターゲットコーティングチャンバ2内のコーティング用のターゲットは異なるため、注入される主スパッタリングガスと補助スパッタリングガスも異なり、雰囲気逸脱によるコーティングプロセスへの影響を防止するために、第1のターゲットコーティングチャンバ1と第2のターゲットコーティングチャンバ2との間に隔離チャンバ3が設けられ、隔離チャンバ3内に分子ポンプ4が設けられ、分子ポンプ4は、4つであってもよく、隔離チャンバ3内のガスを排出するためのものであり、隔離チャンバ3が第1のセパレータ5によって第1のターゲットコーティングチャンバ1と隔離され、隔離チャンバ3が第2のセパレータ6によって第2のターゲットコーティングチャンバ2と隔離され、第1のセパレータ5と第2のセパレータ6のそれぞれにプレートを通過させるスリット7が設けられ、隔離効果を向上させるために、パージ装置8がさらに設けられ、それによりスリット7内のガスを元のコーティングチャンバ内に吹き戻すことができる。
【００１６】
好ましくは、パージ装置8は、第1のセパレータ5に設けられ、且つ隔離チャンバ3内に位置し、ブロー方向が第1のターゲットコーティングチャンバ1の一側に向く。このような構造は、製造コストが低く、隔離効果が良好である利点を有する。
【００１７】
上記実施例では、パージ装置8として、ブロー機能を有する任意の装置を用いてもよいが、隔離効果を確保するために、本実施例では、例示的に、図3に示すように、パージ装置8は、ガス配管9、端板10及び流量制御弁11を備え、端板10は2つであり、それぞれボルトによってスリット7の長手方向の両端に固定され、ガス配管9は2つの端板10に固定され、ガス配管9の吸気端が流量制御弁11の排気端に接続され、流量制御弁11の吸気端が配管によってガス源に接続され、ガス配管9にノズル12を有する。
【００１８】
動作時、流量制御弁11によってガス配管9のガス供給量を制御し、ガス源中のガスが第1のターゲットコーティングチャンバ1の主スパッタリングガスと同じであり、効果を確保するために、ガス配管9は環状構造であってもよく、該環状構造はスリット7にならい設計され、且つスリット7を囲んで取り付けられる。ノズル12のスプレー方向がスリット7に向いており、ノズル12とスリット7の夾角が30°-60°である。ノズル12とスリット7の夾角が45°であってもよい。
【００１９】
さらに、スリット7の内壁面をサンドブラストプロセスによって粗面とすることで、雰囲気逸脱をある程度緩和する役割を果たす。
【００２０】
従来技術に比べて、本開示は、隔離チャンバ内には、隔離チャンバ内のガスを隔離チャンバから排出して、ガスがスリットを経由してほかのコーティングチャンバ内に入ることを防止する分子ポンプが設けられ、各ターゲットコーティングチャンバ内でのコーティング品質を確保するために、ターゲットコーティングチャンバ内に分子ポンプが設けられることに加えて、第1のセパレータにパージ装置が設けられ、パージ装置のパージによって、スリット内に入ったガスを第1のターゲットコーティングチャンバ内に吹き戻し、さらに第1のターゲットコーティングチャンバ内の分子ポンプによって排出して、ガス逸脱の問題を解決する。
【００２１】
以上、図示される実施例を参照して本開示の構造、特徴及び作用効果を詳細に説明したが、本開示の好適な実施例に過ぎず、本開示は図示される実施範囲に限定されるものではなく、本開示の構想に基づいて行われた変形や、同等の変更形態に変更された等効実施例は、明細書と図に示される趣旨を逸脱しない限り、本開示の保護範囲に属する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第1のターゲットコーティングチャンバ（1）及び第2のターゲットコーティングチャンバ（2）を備え、前記第1のターゲットコーティングチャンバ（1）と前記第2のターゲットコーティングチャンバ（2）との間に隔離チャンバ（3）が設けられるプレートコーティング装置であって、
前記隔離チャンバ（3）が、第1のセパレータ（5）によって前記第1のターゲットコーティングチャンバ（1）と隔離され、第2のセパレータ（6）によって前記第2のターゲットコーティングチャンバ（2）と隔離され、前記第1のセパレータ（5）と前記第2のセパレータ（6）にそれぞれスリット（7）を有することを特徴とするプレートコーティング装置。
【請求項２】
前記第1のセパレータ（5）と前記第2のセパレータ（6）の少なくとも一方にパージ装置（8）が設けられることを特徴とする請求項1に記載のプレートコーティング装置。
【請求項３】
前記第1のセパレータ（5）と前記第2のセパレータ（6）にそれぞれパージ装置（8）が設けられることを特徴とする請求項2に記載のプレートコーティング装置。
【請求項４】
前記隔離チャンバ（3）内に分子ポンプ（4）が設けられることを特徴とする請求項3に記載のプレートコーティング装置。
【請求項５】
前記第1のセパレータ（5）の前記パージ装置（8）は前記第1のセパレータ（5）の前記隔離チャンバ（3）に近い一側に位置し、前記第2のセパレータ（6）の前記パージ装置（8）は前記第2のセパレータ（6）の前記隔離チャンバ（3）に近い一側に位置することを特徴とする請求項4に記載のプレートコーティング装置。
【請求項６】
前記パージ装置（8）は、ガス配管（9）、端板（10）及び流量制御弁（11）を備え、前記端板（10）は2つであり、それぞれ前記スリット（7）の長手方向の両端に固定され、前記ガス配管（9）は2つの前記端板（10）に固定され、前記ガス配管（9）の吸気端が前記流量制御弁（11）の排気端に接続され、前記流量制御弁（11）の吸気端が配管によってガス源に接続され、前記ガス配管（9）にノズル（12）を有することを特徴とする請求項4又は5に記載のプレートコーティング装置。
【請求項７】
前記ガス配管（9）が環状構造であることを特徴とする請求項6に記載のプレートコーティング装置。
【請求項８】
前記ノズル（12）のスプレー方向が前記スリット（7）に向いており、前記ノズル（12）と前記スリット（7）との夾角が30°-60°であることを特徴とする請求項6に記載のプレートコーティング装置。
【請求項９】
前記ノズル（12）と前記スリット（7）との夾角が45°であることを特徴とする請求項8に記載のプレートコーティング装置。
【請求項１０】
前記スリット（7）の内壁面が粗面であることを特徴とする請求項1に記載のプレートコーティング装置。
【請求項１１】
前記分子ポンプ（4）が4つであることを特徴とする請求項4に記載のプレートコーティング装置。
【請求項１２】
前記第1のターゲットコーティングチャンバ（1）内のガスが前記第1のセパレータ（5）での前記パージ装置（8）のガス源中のガスと同じであり、前記第2のターゲットコーティングチャンバ（2）内のガスが前記第2のセパレータ（6）での前記パージ装置（8）のガス源中のガスと同じであることを特徴とする請求項6に記載のプレートコーティング装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2020504227.tif 000006
【図２】
2020504227.tif 000007
【図３】
2020504227.tif 000008
【国際調査報告】
2020504227.tif 000009
2020504227.tif 000010
2020504227.tif 000011
2020504227.tif 000012