(57)【要約】  本発明は、偏光コーティング層；偏光コーティング層上に形成された配向膜；配向膜上に形成された第１ハードコート層；前記第１ハードコート層上に形成された透明基材；および前記透明基材上に形成された第２ハードコート層を含むフレキシブルウィンドウ積層体であって、前記第１ハードコート層の表面張力は、３０〜５０ｄｙｎｅ／ｃｍであり、前記第２ハードコート層の表面張力は、１０〜２３ｄｙｎｅ／ｃｍであることを特徴とするフレキシブルウィンドウ積層体、これを含む表示装置に関し、優れた防汚効果および偏光特性を有する。
2020520824.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光コーティング層；
偏光コーティング層上に形成された配向膜；
配向膜上に形成された第１ハードコート層；
前記第１ハードコート層上に形成された透明基材；および
前記透明基材上に形成された第２ハードコート層を含むフレキシブルウィンドウ積層体であって、
前記第１ハードコート層の表面張力は、３０〜５０ｄｙｎｅ／ｃｍであり、
前記第２ハードコート層の表面張力は、１０〜２３ｄｙｎｅ／ｃｍであることを特徴とするフレキシブルウィンドウ積層体。
【請求項２】
前記第１ハードコート層および第２ハードコート層は、無機酸化物微粒子；光硬化性樹脂；光開始剤；表面調整剤および溶剤を含むハードコート層形成用組成物から形成されることを特徴とする請求項１に記載のフレキシブルウィンドウ積層体。
【請求項３】
前記透明基材は、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、エチレン−酢酸ビニル共重合体、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアクリル、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびポリカーボネートからなる群より選択されることを特徴とする請求項１に記載のフレキシブルウィンドウ積層体。
【請求項４】
請求項１に記載のフレキシブルウィンドウ積層体を含む表示装置。
【請求項５】
前記表示装置は、フレキシブル表示装置であることを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フレキシブルウィンドウ積層体およびこれを含む表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、急速に発展している半導体技術を中心として、小型化および軽量化に伴って性能がさらに向上したディスプレイ装置の需要が爆発的に伸びている。
【０００３】
情報化の傾向により情報を視覚的に伝達するための電子ディスプレイが多様な形態で登場しており、最近、携帯通信の発達で携帯性が要求されるディスプレイの開発が強く浮上している。
【０００４】
このようなディスプレイ装置は、ブラウン管方式から、液晶表示装置（ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ：Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、有機発光表示装置（ＯＬＥＤ：Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ  Ｄｉｓｐｌａｙ）などの方式に変化した。特に、液晶ディスプレイ（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）は、既存のブラウン管方式に比べて消費電力が低く、小型化および軽量薄型化が可能であり、有害電磁波を放出しないという利点がある。これによって次世代先端ディスプレイとして注目されてきており、今のところは、ディスプレイ装置が必要なほぼすべての情報処理機器に装着されて用いられている。
【０００５】
最近は、ガラス基板の代わりに高分子フィルムを用いて、従来のパネルよりも薄くて軽く曲げられるフレキシブルディスプレイに関する研究が活発に進められている。また、フレキシブルディスプレイの機能をより向上させるために、防汚特性または偏光特性などの機能を改善したフレキシブルウィンドウ積層体の開発が要求されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】韓国公開特許第１０−２０１４−０１１５９０４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記の従来技術の問題を解決するためになされたものであって、偏光コーティング層；偏光コーティング層上に形成された配向膜；配向膜上に形成された第１ハードコート層；前記第１ハードコート層上に形成された透明基材；および前記透明基材上に形成された第２ハードコート層を含むフレキシブルウィンドウ積層体であって、前記第１ハードコート層の表面張力は、３０〜５０ｄｙｎｅ／ｃｍであり、前記第２ハードコート層の表面張力は、１０〜２３ｄｙｎｅ／ｃｍであることを特徴とするフレキシブルウィンドウ積層体を提供することを目的とする。
【０００８】
また、本発明は、前記フレキシブルウィンドウ積層体を含む表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、偏光コーティング層；偏光コーティング層上に形成された配向膜；配向膜上に形成された第１ハードコート層；前記第１ハードコート層上に形成された透明基材；および前記透明基材上に形成された第２ハードコート層を含むフレキシブルウィンドウ積層体であって、前記第１ハードコート層の表面張力は、３０〜５０ｄｙｎｅ／ｃｍであり、前記第２ハードコート層の表面張力は、１０〜２３ｄｙｎｅ／ｃｍであることを特徴とするフレキシブルウィンドウ積層体を提供する。
【００１０】
本発明において、前記第１ハードコート層および第２ハードコート層は、無機酸化物微粒子；光硬化性樹脂；光開始剤；表面調整剤および溶剤を含むハードコート用組成物から形成される。
【００１１】
本発明において、前記透明基材は、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、エチレン−酢酸ビニル共重合体、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアクリル、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびポリカーボネートからなる群より選択されてもよい。
【００１２】
また、本発明は、前記フレキシブルウィンドウ積層体を含む表示装置を提供する。
【００１３】
本発明において、前記表示装置は、フレキシブル表示装置であってもよい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のフレキシブルウィンドウ積層体は、ディスプレイの外側に位置する第２ハードコート層は、低い表面張力を有して外部汚染に対する防汚効果（例えば、指紋除去能に優れる）を有する。また、ディスプレイの内側に位置する第１ハードコート層は、架橋構造で耐溶剤性を有するので、溶剤によるスウェリングが発生せず配向膜の配向性能を阻害することがなく、高い表面張力を有する。これによって、配向膜のコーティング性（ｗｅｔｔｉｎｇ性）を向上させてｄｅ−ｗｅｔｔｉｎｇ現象などが発生せず均一な配向膜を形成可能なため、偏光コーティング層の優れた配向特性を確保することができ、これによって優れた偏光特性を有する。したがって、ディスプレイ装置、特にフレキシブルディスプレイに有用に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態に係るフレキシブルウィンドウ積層体の断面図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、添付した図面を参照して、実施例によって本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は種々の異なる形態で実現可能であり、ここで説明する実施例に限定されない。図面において、本発明を明確に説明するために、説明と関係のない部分は省略した。
【００１７】
本明細書において、「上部」と「下部」は、図面を基準として定義したものであり、視観点によって、「上部」が「下部」に、「下部」が「上部」に変更可能であり、層が他の層の「上（ｏｎ）」と称されるのは、他の層の真上だけでなく、中間に別の層を介在した場合をすべて含み、これに対し、層が「直接上（ｄｉｒｅｃｔｌｙ  ｏｎ）」または「真上」と称されるのは、中間に別の層を介在しないことを表し、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよび／またはメタクリレートを意味する。
【００１８】
以下、本発明の一実施形態の偏光板を、図１を参照して説明する。
【００１９】
本発明は、偏光コーティング層１０；偏光コーティング層１０上に形成された配向膜２０；配向膜２０上に形成された第１ハードコート層３０；前記第１ハードコート層３０上に形成された透明基材４０；および前記透明基材４０上に形成された第２ハードコート層５０を含むフレキシブルウィンドウ積層体であって、前記第１ハードコート層の表面張力は、３０〜５０ｄｙｎｅ／ｃｍであり、前記第２ハードコート層の表面張力は、１０〜２３ｄｙｎｅ／ｃｍであることを特徴とするフレキシブルウィンドウ積層体を提供する。
【００２０】
前記偏光コーティング層１０は、偏光性能を有するコーティング層であって、画像表示装置に適用時、より薄膜軽量化された表示装置を実現できる役割を果たす。
【００２１】
偏光コーティング層は、第１ハードコート層３０上に配向膜形成用組成物を塗布し、配向させて形成された配向膜２０上に、偏光コーティング層形成用組成物を塗布して形成されたものであってもよい。
【００２２】
配向膜は、配向性ポリマーまたはこれを含有した組成物を塗布して形成される。
【００２３】
配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル類などのポリマーが挙げられる。なかでも、ポリビニルアルコールが好ましい。これらは、単独または２種以上混合したり、共重合して使用することができる。これらのポリマーは、脱水や脱アミンなどによる重縮合や、ラジカル重合、陰イオン重合、陽イオン重合などの連鎖重合、配位重合や開環重合などで容易に得ることができる。
【００２４】
配向性ポリマーは、溶剤に溶解し、塗布することができる。溶剤としては、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチルなどのエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリルなどのニトリル溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル溶剤；クロロホルム、クロロベンゼンなどの塩素置換炭化水素溶剤；などが挙げられる。これらは、単独または２種以上混合して使用することができる。
【００２５】
また、使用可能な市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製造）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製造）などが挙げられる。
【００２６】
第１ハードコート層３０上に配向膜２０を形成する方法としては、例えば、前記第１ハードコート層３０上に前記配向性ポリマーの溶液や市販の配向膜材料を塗布し、アニーリングして形成することができる。こうして得られる配向膜の厚さは、例えば、１０ｎｍ〜１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍである。
【００２７】
前記配向膜に対して配向規制力を付与するために、必要に応じてラビングあるいは偏光ＵＶ照射をすることが好ましい。配向規制力を付与することにより、後述する重合性液晶化合物を所望の方向に配向させることができる。
【００２８】
配向膜をラビングする方法としては、例えば、ラビング布が巻かれて、回転しているラビングロールを、ステージに載せられて搬送されている配向膜に接触させる方法が挙げられる。ラビングあるいは偏光ＵＶ照射をする時にマスキングを行えば、得られる偏光子に遅相軸の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。
【００２９】
偏光層形成用組成物は、重合性液晶化合物、二色性色素、レベリング剤、および溶剤を含むものであってもよい。
【００３０】
前記重合性液晶化合物は、化学式１で表される化合物であってもよい。
【００３１】
化学式１：Ｕ１−Ｖ１−Ｗ１−Ｘ１−Ｙ１−Ｘ２−Ｙ２−Ｘ３−Ｗ２−Ｖ２−Ｕ２
【００３２】
（式中、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、置換もしくは非置換のｐ−フェニレン基またはシクロヘキサン−１，４−ジイル基であるが、これらの少なくとも１つは、ｐ−フェニレン基であり；
Ｙ１およびＹ２は、互いに独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲａ＝ＣＲｂ−、−Ｃ≡Ｃ−、またはＣＲａ＝Ｎ−であり；
Ｕ１は、水素原子または重合性基であり；
Ｕ２は、重合性基であり；
Ｗ１およびＷ２は、互いに独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、またはＯＣＯＯ−基であり；
Ｖ１およびＶ２は、互いに独立して、置換もしくは非置換の炭素数１〜２０のアルカンジイル基である）。
【００３３】
ｐ−フェニレン基は、メチル基、エチル基、ブチル基などの炭素数１〜４のアルキル基；シアノ基およびフルオロ基（フッ素原子）、クロロ基（塩素原子）、ブロモ基（臭素原子）などのハロゲノ基（ハロゲン原子）；などで置換されていてもよいが、無置換であることが好ましい。
【００３４】
シクロヘキサン−１，４−ジイル基は、メチル基、エチル基、ブチル基などの炭素数１〜４のアルキル基；シアノ基およびフルオロ基（フッ素原子）、クロロ基（塩素原子）、ブロモ基（臭素原子）などのハロゲノ基（ハロゲン原子）；−Ｏ−；−Ｓ−；ＮＲ−などで置換されていてもよい。Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基である。好ましくは、トランス−シクロヘキサン−１，４−ジイル基であってもよく、これは、非置換であることがより好ましい。
【００３５】
Ｕ１およびＵ２は、重合性基であることが好ましく、光ラジカル重合性基または光陽イオン重合性基であることがより好ましく、さらに好ましくは、同じ種類の基であってもよい。
【００３６】
重合性基としては、例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基などが挙げられる。なかでも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基、およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
【００３７】
炭素数１〜２０のアルカンジイル基は、シアノ基およびフルオロ基（フッ素原子）、クロロ基（塩素原子）、ブロモ基（臭素原子）などのハロゲノ基（ハロゲン原子）；−Ｏ−；−Ｓ−；ＮＨ−；などで置換されていてもよい。
【００３８】
炭素数１〜２０のアルカンジイル基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、テトラデカン−１，１４−ジイル基、およびエイコサン−１，２０−ジイル基などが挙げられ、好ましくは、炭素数２〜１２のアルカンジイル基であり、より好ましくは、炭素数６〜１２のアルカンジイル基である。
【００３９】
化学式１の化合物としては、例えば、下記式（１−１）〜（１−２１）で表される化合物が挙げられる。
【００４０】
【化１】
2020520824.tif 000003
【００４１】
【化２】
2020520824.tif 000004
【００４２】
前記重合性液晶化合物は、偏光コーティング層形成用組成物の固形分総重量中、７０〜９５重量％含まれる。含有量が前記範囲内の場合、配向性が高くなり得る。
【００４３】
前記二色性色素は、染料でも良く、顔料でも良い。二色性色素としては、３００〜７００ｎｍに極大吸収波長を有する二色性色素が好ましい。二色性色素としては、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素、およびアントラキノン色素が挙げられる。２種以上の二色性色素を組み合わせて用いてもよい。
【００４４】
二色性色素としては、アゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、およびスチルベンアゾ色素が挙げられ、ビスアゾ色素およびトリスアゾ色素が好ましい。
【００４５】
アゾ色素としては、下記化学式２で表される化合物が挙げられる。
【００４６】
化学式２：Ａ１（−Ｎ＝Ｎ−Ａ２）ｐ−Ｎ＝Ｎ−Ａ３
【００４７】
（式中、Ａ１およびＡ３は、互いに独立して、置換もしくは非置換のフェニル基、ナフチル基、または１価の複素環基であり；
Ａ２は、互いに独立して、置換もしくは非置換のｐ−フェニレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基、または２価の複素環基であり；
Ｐは、１〜４の整数であり、Ｐが２以上の場合、複数のＡ２は、互いに同一であるか、異なっていてもよい）。
【００４８】
１価の複素環基としては、キノリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環などの複素環から１個の水素原子を除した基が挙げられる。また、２価の複素環基としては、前記複素環から２個の水素原子を除した基が挙げられる。
【００４９】
Ａ１およびＡ３におけるフェニル基、ナフチル基、および１価の複素環基、並びにＡ２におけるｐ−フェニレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基、および２価の複素環基は、メチル基、エチル基、ブチル基などの炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などの炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４のフッ化アルキル基；シアノ基；ニトロ基；フルオロ基、クロロ基、ブロモ基などのハロゲノ基；アミノ基；ジエチルアミノ基、ピロリジノ基などの炭素数１〜４のアルキル基で置換されたアミノ基（アミノ基で置換された２個のアルキル基が互いに結合して炭素数２〜８のアルカンジイル基を形成してもよい）が挙げられる。
【００５０】
アゾ色素は、好ましくは、下記式（２−１）〜（２−６）で表される化合物であってもよい。
【００５１】
【化３】
2020520824.tif 000005
【００５２】
【化４】
2020520824.tif 000006
【００５３】
（式中、Ｂ１〜Ｂ２０は、互いに独立して、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、炭素数１〜４のアルキル基で置換されたアミノ基（アミノ基で置換された２個のアルキル基が互いに結合して炭素数２〜８のアルカンジイル基を形成してもよい）、クロロ基（塩素原子）、またはトリフルオロメチル基であり；
ｎ１〜ｎ４は、互いに独立して、０〜３の整数である）。
【００５４】
アントラキノン色素としては、下記式（２−７）で表される化合物が挙げられる。
【００５５】
【化５】
2020520824.tif 000007
【００５６】
（式中、Ｒ１〜Ｒ８は、互いに独立して、水素原子、−Ｒｘ、アミノ基、−ＮＨＲｘ、−ＳＲｘ、またはハロゲン原子であり；
Ｒｘは、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基である）。
【００５７】
アクリジン色素としては、式（２−８）で表される化合物が挙げられる。
【００５８】
【化６】
2020520824.tif 000008
【００５９】
（式中、Ｒ９〜Ｒ１５は、互いに独立して、水素原子、−Ｒｘ、アミノ基、−ＮＨＲｘ、−ＳＲｘ、またはハロゲン原子であり；
Ｒｘは、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基である）。
【００６０】
オキサゾン色素としては、式（２−９）で表される化合物が挙げられる。
【００６１】
【化７】
2020520824.tif 000009
【００６２】
（式中、Ｒ１６〜Ｒ２３は、互いに独立して、水素原子、−Ｒｘ、アミノ基、−ＮＨＲｘ、−ＳＲｘ、またはハロゲン原子であり；
Ｒｘは、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基である）。
【００６３】
Ｒｘにおける炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられる。Ｒｘにおける炭素数６〜１２のアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などが挙げられる。
【００６４】
シアニン色素としては、式（２−１０）および（２−１１）で表される化合物が挙げられる。
【００６５】
【化８】
2020520824.tif 000010
【００６６】
（式中、Ｄ１およびＤ２は、互いに独立して、式（２−１０ａ）〜（２−１０ｄ）で表される基であり；
ｎ５は、１〜３の整数である）。
【００６７】
【化９】
2020520824.tif 000011
【００６８】
【化１０】
2020520824.tif 000012
【００６９】
（式中、Ｄ３およびＤ４は、互いに独立して、式（２−１１ａ）〜（２−１１ｈ）で表される基であり；
ｎ６は、１〜３の整数である）。
【００７０】
【化１１】
2020520824.tif 000013
【００７１】
二色性色素は、重合性液晶化合物１００重量部に対して５０重量部以下、好ましくは０．１重量部〜２０重量部、より好ましくは０．１重量部〜１０重量部含まれる。二色性色素の含有量が前記範囲を満足すれば、重合性液晶化合物の配向低下の問題が発生する可能性が低くなり得る。
【００７２】
レベリング剤は、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤およびフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤からなる群より選択される少なくとも１種であってもよい。
【００７３】
ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤としては、ＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３、ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５、ＢＹＫ−３５８Ｎ、ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＢＹＫ−３８０、ＢＹＫ−３８１、ＢＹＫ−３９２（ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ社）などが挙げられる。
【００７４】
フッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤としては、メガファック（商品名）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７１、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製造）、サーフロン（商品名）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、いずれもＡＧＣセイミケミカル（株）製造）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製造）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、いずれも三菱マテリアル電子化成（株）製造）などが挙げられる。
【００７５】
レベリング剤は、重合性液晶化合物１００重量部に対して０．３重量部〜５重量部、好ましくは０．５重量部〜３重量部含まれる。レベリング剤の含有量が前記範囲内であれば、重合性液晶組成物の水平配向が容易で、平滑な塗膜を得ることができ、塗膜にシミが発生する可能性を低下させることができる。
【００７６】
レベリング剤は、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤およびフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤からなる群より選択される１種以上が用いられ、２種類以上を併用してもよい。
【００７７】
レベリング剤は、ポリアクリレート化合物、フッ素原子含有化合物、またはその両方であることが好ましい。
【００７８】
溶剤としては、重合性液晶組成物の各成分を溶解できる溶剤が好ましい。また、重合性液晶組成物の重合反応に不活性の溶剤であることが好ましい。
【００７９】
溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチルなどのエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリルなどのニトリル溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル溶剤；クロロホルム、クロロベンゼンなどの塩素含有溶剤；などが挙げられる。これらは、単独または２種以上混合して使用することができる。
【００８０】
溶剤は、偏光コーティング層形成用組成物の総重量中、５０〜９８重量％含まれる。溶剤の含有量が前記範囲であれば、組成物の粘度が適切に維持しやすいので、均一な厚さのコーティング層を得るのに有利であり、偏光コーティング層形成用組成物で得られる偏光コーティング層にシミが発生する可能性が低くなる。
【００８１】
偏光コーティング層形成用組成物は、重合開始剤をさらに含んでもよい。
【００８２】
重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始する化合物であり、光および／または熱の作用によって活性ラジカルや酸を発生する。なかでも、光の作用によって活性ラジカルまたは酸を発生する重合開始剤、すなわち、光重合開始剤であることが好ましく、光照射によってラジカルを発生する光重合開始剤がより好ましい。
【００８３】
光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩などが挙げられる。
【００８４】
ベンゾイン化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。
【００８５】
ベンゾフェノン化合物としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。
【００８６】
アルキルフェノン化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニル−２，２−ジメトキシエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパン−１−オンのオリゴマーなどが挙げられる。
【００８７】
アシルホスフィンオキシド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００８８】
トリアジン化合物としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００８９】
光重合開始剤としては、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、いずれもチバガイギージャパン（株）製造）、セイクオール（ＳＥＩＫＵＯＬ）ＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、いずれも精工化学（株）製造）、カヤキュア（ｋａｙａｃｕｒｅ）ＢＰ１００（日本化薬（株）製造）、カヤキュアＵＶＩ−６９９２（ダウ社製造）、アデカオプトマーＳＰ−１５２またはアデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、いずれも（株）ＡＤＥＫＡ製造）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製造）、ＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製造）などの市販の光重合開始剤も用いることができる。
【００９０】
熱重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物；過酸化水素、過硫酸塩、過酸化ベンゾイルなどの過酸化物；などが挙げられる。
【００９１】
重合開始剤は、重合性液晶化合物１００重量部に対して０．１重量部〜３０重量部含まれ、好ましくは０．５重量部〜１０重量部、より好ましくは０．５重量部〜８重量部含まれる。含有量が前記範囲内の場合、重合性液晶化合物の配向を阻害することなく重合が可能である。
【００９２】
重合開始剤として光重合開始剤を用いる場合、光増減剤を併用することができる。光増減剤としては、キサントン、チオキサントンなどのキサントン化合物（例えば、２，４−ジエチルチオキサンテン、イソプロピルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントンなど）；アントラセン、アルコキシ基含有アントラセン（例えば、ジブトキシアントラセンなど）などのアントラセン化合物；フェノチアジン；ルブレンなどが挙げられる。
光増減剤を用いることにより、重合性液晶化合物の重合を高感度化することができる。光増減剤は、重合性液晶化合物１００重量部に対して０．１〜３０重量部含まれ、好ましくは０．５〜１０重量部、より好ましくは０．５〜８重量部含まれる。
【００９３】
偏光コーティング層形成用組成物は、重合禁止剤をさらに含んでもよい。重合禁止剤を含むことにより、重合性液晶化合物の重合が制御されやすくなって、組成物の安定性を向上させることができる。
【００９４】
重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、アルコキシ基含有ヒドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えば、ブチルカテコールなど）、ピロガロール、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカルなどのラジカル補充剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類；β−ナフトール類；などが挙げられる。
【００９５】
重合禁止剤は、重合性液晶化合物１００重量部に対して０．１〜３０重量部含まれ、好ましくは０．５〜１０重量部、より好ましくは０．５〜８重量部含まれる。含有量が前記範囲内の場合、重合性液晶化合物の配向を阻害することなく重合が可能である。
【００９６】
偏光コーティング層形成用組成物は、塗布後に乾燥できる。
【００９７】
乾燥方法としては、例えば、自然乾燥法、通風乾燥法、減圧乾燥法などが挙げられる。乾燥温度は、０℃〜２５０℃であってもよく、好ましくは５０℃〜２２０℃であってもよい。乾燥時間は、例えば、１０秒〜６０分であってもよく、好ましくは３０秒〜３０分であってもよい。
【００９８】
偏光コーティング層形成用組成物に含まれた重合性液晶化合物は、液晶相を示す温度に加熱できる。液晶相は、スメクチック相であることが好ましい。また、重合性液晶化合物がネマチック相に転移する温度以上で加熱し、次に、前記重合性液晶化合物がスメクチック相を示す温度まで冷却することにより、スメクチック相を形成させた膜を得ることがより好ましい。
【００９９】
ネマチック相を経由することにより、偏光コーティング層形成用組成物に含まれるレベリング剤が流動しやすくなって、水平配向した膜を容易に得ることができる。
【０１００】
加熱する温度としては、ネマチック相転移点以上ネマチック相転移点より１００℃高い温度以下が好ましく、ネマチック相転移点以上ネマチック相転移点より５０℃高い温度以下がより好ましい。液晶相に配向させるための加熱と前記乾燥は同時に行ってもよい。
【０１０１】
次に、液晶相を形成させた膜に含まれる重合性液晶化合物を重合させることにより、偏光板を得ることができる。重合方法は、重合性液晶化合物に含まれる重合性基によって熱重合または光重合方法によることができる。光重合の場合、耐熱性が低い基材フィルムを用いることができるので、好ましい。
【０１０２】
偏光コーティング層の厚さは特に限定されず、例えば、０．５〜１０μｍであってもよい。偏光コーティング層の厚さが前記範囲の場合、十分な偏光性能を実現しながらも、屈曲性の面から有利で、屈曲疲労によってフレキシブル偏光板のクラックが発生する可能性が低くなり得る。優れた偏光性能および屈曲性を同時に示すという面から、好ましくは０．５〜５μｍであってもよい。
【０１０３】
前記第１ハードコート層３０は、架橋構造で耐溶剤性を有するので、溶剤によるスウェリングが発生せず配向膜の配向性能を阻害することがなく、高い表面張力を有することにより、配向膜のコーティング性（ｗｅｔｔｉｎｇ性）を向上させてｄｅ−ｗｅｔｔｉｎｇ現象などが発生せず均一な配向膜を形成可能なため、偏光コーティング層の優れた配向特性を確保できる役割を果たす。
【０１０４】
前記第１ハードコート層３０の表面張力は、３０〜５０ｄｙｎｅ／ｃｍである。
【０１０５】
前記第１ハードコート層３０は、無機酸化物微粒子；光硬化性樹脂；光開始剤；表面調整剤および溶剤を含むハードコート層形成用組成物から形成される。
【０１０６】
ハードコート層形成用組成物の総重量に対して、無機酸化物微粒子；光硬化性樹脂；光開始剤；表面調整剤および溶剤を含むことができる。
【０１０７】
前記第１ハードコート層３０は、本発明のハードコート層形成用組成物は、例えば、表面調整剤の成分および含有量を調節することにより、前記第１ハードコート層３０の表面張力を３０〜５０ｄｙｎｅ／ｃｍに調節する。
【０１０８】
前記無機酸化物微粒子は、第１ハードコート層に硬度を補強できる粒子である。前記酸化物微粒子は、平均粒径が１〜１００ｎｍ、好ましくは５〜５０ｎｍのものを用いることができる。このような酸化物微粒子は、粒子サイズが前記範囲であれば塗膜内に均一に形成されて、耐摩耗性、耐スクラッチ性、鉛筆硬度などの機械的物性を向上させるのに有利である。
【０１０９】
無機酸化物微粒子は、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウムなどの微粒子が挙げられる。これらの中でも、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【０１１０】
前記無機酸化物微粒子は、ハードコート層形成用組成物全１００重量％中、５〜７０重量％、好ましくは１０〜６０重量％、さらに好ましくは２０〜５０重量％の範囲で使用することができる。前記範囲を有する時、第１ハードコート層に硬度を補強する面から有利であり得る。
【０１１１】
前記光硬化性樹脂は、光硬化型（メタ）アクリレートオリゴマー、モノマーを含むことができる。
【０１１２】
前記光硬化型（メタ）アクリレートオリゴマーは、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレートなどを通常使用し、ウレタン（メタ）アクリレートがより好ましい。ウレタン（メタ）アクリレートは、分子内にヒドロキシ基を有する多官能（メタ）アクリレートとイソシアネート基を有する化合物を触媒の存在下で製造することができる。前記分子内にヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレートの具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシイソプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン開環ヒドロキシアクリレート、ペンタエリスリトールトリ／テトラ（メタ）アクリレート混合物、およびジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサ（メタ）アクリレート混合物からなる群より選択される１種以上選択されてもよい。また、前記イソシアネート基を有する化合物の具体例としては、１，４−ジイソシアナトブタン、１，６−ジイソシアナトヘキサン、１，８−ジイソシアナトオクタン、１，１２−ジイソシアナトドデカン、１，５−ジイソシアナト−２−メチルペンタン、トリメチル−１，６−ジイソシアナトヘキサン、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、トランス−１，４−シクロヘキセンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、トルエン−２，４−ジイソシアネート、トルエン−２，６−ジイソシアネート、キシレン−１，４−ジイソシアネート、テトラメチルキシレン−１，３−ジイソシアネート、１−クロロメチル−２，４−ジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（２，６−ジメチルフェニルイソシアネート）、４，４’−オキシビス（フェニルイソシアネート）、ヘキサメチレンジイソシアネートから誘導される３官能イソシアネート、およびトリメタンプロパノールアダクトトルエンジイソシアネートからなる群より１種以上選択されてもよい。
【０１１３】
前記モノマーは、通常使用するもので、光硬化型官能基として、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などの不飽和基を分子内に有するもので、なかでも、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
【０１１４】
前記（メタ）アクリロイル基を有するモノマーは、具体例として、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリ（メタ）アクリレート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルネオール（メタ）アクリレートからなる群より１種以上選択されてもよい。
【０１１５】
本発明において、前記「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を意味する。
【０１１６】
前記光硬化性樹脂は、ハードコート層形成用組成物全１００重量％中、１０〜７０重量％、好ましくは１５〜６５重量％の範囲で使用することができる。前記範囲を有する時、粘度、塗布性、表面レベリングの面から有利であり得る。
【０１１７】
前記光開始剤は、当該技術分野で用いられるものであれば制限なく使用可能である。例えば、ヒドロキシケトン類、アミノケトン類、水素奪還型光開始剤、およびこれらの組み合わせからなる群より選択された１種以上を使用することができる。
【０１１８】
具体的には、前記光開始剤としては、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］２−モルホリンプロパノン−１、ジフェニルケトン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−オン、４−ヒドロキシシクロフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−アセトフェノン、アントラキノン、フルオレン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロアセトフェノン、４，４−ジメトキシアセトフェノン、４，４−ジアミノベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、およびこれらの組み合わせからなる群より選択された１種以上を使用することができる。
【０１１９】
前記光開始剤は、ハードコート層形成用組成物全１００重量％中、０．１〜５重量％、好ましくは１〜３重量％の範囲で使用することができる。前記範囲を有する時、ハードコート層形成用組成物の硬化速度、最終的に形成される第１ハードコート層の機械的物性の面から優れることができ、ハードコート層形成用組成物の過硬化による第１ハードコート層にクラックが発生する可能性、硬化収縮による接着力不良やカール現象が発生する可能性も低下させることができる。
【０１２０】
前記表面調整剤は、第１ハードコート層のコーティング表面のレベリング性を制御し、表面張力を調節可能な機能性添加剤である。
【０１２１】
前記表面調整剤であって表面張力が高い添加剤としては、シリコン成分あるいはアクリル成分を含む添加剤、代表例として、ＢＹＫ社のＢＹＫ−３４４０、ＢＹＫ−３４５５、ＢＹＫ−ＵＶ３５３０、ＢＹＫ−ＵＶ３５３５があり、これらは、１種類を単独で使用してもよく、２種類以上を併用してもよい。
【０１２２】
表面張力が高い添加剤としては、シリコン成分あるいはアクリル成分を含む添加剤、代表例として、ＢＹＫ社のＢＹＫ−３４４０、ＢＹＫ−３４５５、ＢＹＫ−ＵＶ３５３０、ＢＹＫ−ＵＶ３５３５がある。
【０１２３】
前記表面調整剤は、ハードコート層形成用組成物全１００重量％中、０．０５〜１．０重量％、好ましくは０．１〜０．５重量％の範囲で使用することができる。前記範囲を有する時、前記第１ハードコート層３０の表面張力を３０〜５０ｄｙｎｅ／ｃｍに調節するのに有利であり得る。
【０１２４】
前記溶剤は、前述したところの組成を溶解または分散させられるもので、本技術分野におけるハードコート層形成用組成物の溶剤として知られたものであれば制限なく使用可能である。
【０１２５】
使用可能な溶剤は、アルコール系（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、ケトン系（メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなど）、アセテート系（エチルアセテート、プロピルアセテート、ノルマルブチルアセテート、ターシャリーブチルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテートなど）、ヘキサン系（ヘキサン、ヘプタン、オクタンなど）、ベンゼン系（ベンゼン、トルエン、キシレンなど）、エーテル系（ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど）などが好ましく使用できる。前記例示された溶剤は、それぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０１２６】
前記溶剤は、ハードコート層形成用組成物全１００重量％中、５〜９０重量％を使用することができる。前記範囲を有する時、ハードコート層形成用組成物の粘度が一定水準に維持されて、作業性の面、乾燥時間の面から有利であり得る。
【０１２７】
前記第１ハードコート層３０は、５〜２０μｍの厚さを有することができ、前記範囲の時、優れた鉛筆硬度、耐衝撃性、耐スクラッチ、屈曲性の特性を有することができる。
【０１２８】
前記ハードコート層形成用組成物は、ダイコーター、エアナイフ、リバースロール、スプレー、ブレード、キャスティング、グラビア、マイクログラビア、スピンコーティングなどの公知の方式を適切に用いて、透明基材に塗工（Ｃｏａｔｉｎｇ  Ｐｒｏｃｅｓｓ）が可能である。
【０１２９】
前記ハードコート層形成用組成物を透明基材に塗布した後には、３０〜１５０℃の温度で１０秒〜１時間、より具体的には３０秒〜１０分間揮発物を蒸発させて乾燥させた後、ＵＶ光を照射して硬化させる。前記ＵＶ光の照射量は、具体的には約０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ２であってもよいし、より具体的には０．１〜２Ｊ／ｃｍ２であってもよい。
【０１３０】
前記透明基材４０は、ハードコート層の密着力を付与させる役割を果たす。
【０１３１】
本発明のフレキシブルウィンドウ積層体において、前記透明基材４０の両面に、前述したハードコート層形成用組成物の硬化物を含むコーティング層が形成されていることを特徴とする。言い換えれば、本発明のフレキシブルウィンドウ積層体において、前記第１ハードコート層３０上に形成された透明基材４０；および前記透明基材４０上に形成された第２ハードコート層５０の構造を含む。
【０１３２】
本明細書で使用される「透明」という表現は、可視光線の透過率が７０％以上、例えば、８０％以上、具体的には８０〜１００％であることを意味する。
【０１３３】
また、全面積がすべて透明でなく、開口率が６０％以上の場合も含むことができる。
【０１３４】
前記透明基材４０は、透明な高分子フィルムであればいずれも使用可能であり、例えば、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、エチレン−酢酸ビニル共重合体、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアクリル、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネートなどの高分子で形成されたフィルムであってもよい。これらの高分子は、単独または２種以上混合して使用することができる。
【０１３５】
前記高分子フィルムは、分子量とフィルムの製造工法によって、製膜工法または押出工法で製造することができる。
【０１３６】
具体的には、コーティング後、密着力の付与が難しい結晶性高分子基材、エンジニアリングプラスチック基材、加水分解やケン化で表面が親水性に変化した高分子基材に適用時、機械的物性の低下なく密着力を増大させることができ、前記高分子基材にプラズマまたはコロナ処理を進行させて本発明のハードコート層形成用組成物をコーティングすれば、より一層密着力が増大できる。
【０１３７】
前記透明基材４０は、２０〜１００μｍの厚さを有することができ、前記範囲の時、優れた硬度性、屈曲性の特性を有することができる。また、前記透明基材の厚さが前記範囲の場合、フレキシブルウィンドウ積層体の強度が高くて加工性に優れ、透明性が低下する現象を防止することができ、フレキシブルウィンドウ積層体の軽量化が可能であるという利点がある。
【０１３８】
前記第２ハードコート層５０は、架橋構造で耐溶剤性を有するので、溶剤によるスウェリングが発生せず配向膜の配向性能を阻害することがなく、高い表面張力を有することにより、配向膜のコーティング性（ｗｅｔｔｉｎｇ性）を向上させてｄｅ−ｗｅｔｔｉｎｇ現象などが発生せず均一な配向膜を形成可能なため、偏光コーティング層の優れた配向特性を確保できる役割を果たす。
【０１３９】
前記第２ハードコート層５０の表面張力は、１０〜２３ｄｙｎｅ／ｃｍである。
【０１４０】
前記第２ハードコート層５０は、無機酸化物微粒子；光硬化性樹脂；光開始剤；表面調整剤および溶剤を含むハードコート層形成用組成物から形成される。
【０１４１】
ハードコート層形成用組成物の総重量に対して、無機酸化物微粒子；光硬化性樹脂；光開始剤；表面調整剤および溶剤を含むことができる。
【０１４２】
前記第２ハードコート層５０は、本発明のハードコート層形成用組成物は、例えば、表面調整剤の成分および含有量を調節することにより、前記第２ハードコート層５０の表面張力を１０〜２３ｄｙｎｅ／ｃｍに調節する。
【０１４３】
前記無機酸化物微粒子は、第１ハードコート層に硬度を補強できる粒子である。前記酸化物微粒子は、平均粒径が１〜１００ｎｍ、好ましくは５〜５０ｎｍのものを用いることができる。このような酸化物微粒子は、粒子サイズが前記範囲であれば、塗膜内に均一に形成されて、耐摩耗性、耐スクラッチ性、鉛筆硬度などの機械的物性を向上させるのに有利である。
【０１４４】
無機酸化物微粒子は、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウムなどの微粒子が挙げられる。これらの中でも、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【０１４５】
前記無機酸化物微粒子は、ハードコート層形成用組成物全１００重量％中、５〜７０重量％、好ましくは１０〜６０重量％、さらに好ましくは２０〜５０重量％の範囲で使用することができる。前記範囲を有する時、第２ハードコート層に硬度を補強する面から有利であり得る。
【０１４６】
前記光硬化性樹脂は、光硬化型（メタ）アクリレートオリゴマー、モノマーを含むことができる。
【０１４７】
前記光硬化型（メタ）アクリレートオリゴマーは、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレートなどを通常使用し、ウレタン（メタ）アクリレートがより好ましい。ウレタン（メタ）アクリレートは、分子内にヒドロキシ基を有する多官能（メタ）アクリレートとイソシアネート基を有する化合物を触媒の存在下で製造することができる。前記分子内にヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレートの具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシイソプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン開環ヒドロキシアクリレート、ペンタエリスリトールトリ／テトラ（メタ）アクリレート混合物、およびジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサ（メタ）アクリレート混合物からなる群より選択される１種以上選択されてもよい。また、前記イソシアネート基を有する化合物の具体例としては、１，４−ジイソシアナトブタン、１，６−ジイソシアナトヘキサン、１，８−ジイソシアナトオクタン、１，１２−ジイソシアナトドデカン、１，５−ジイソシアナト−２−メチルペンタン、トリメチル−１，６−ジイソシアナトヘキサン、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、トランス−１，４−シクロヘキセンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、トルエン−２，４−ジイソシアネート、トルエン−２，６−ジイソシアネート、キシレン−１，４−ジイソシアネート、テトラメチルキシレン−１，３−ジイソシアネート、１−クロロメチル−２，４−ジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（２，６−ジメチルフェニルイソシアネート）、４，４’−オキシビス（フェニルイソシアネート）、ヘキサメチレンジイソシアネートから誘導される３官能イソシアネート、およびトリメタンプロパノールアダクトトルエンジイソシアネートからなる群より１種以上選択されてもよい。
【０１４８】
前記モノマーは、通常使用するもので、光硬化型官能基として、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などの不飽和基を分子内に有するもので、なかでも、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
【０１４９】
前記（メタ）アクリロイル基を有するモノマーは、具体例として、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリ（メタ）アクリレート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルネオール（メタ）アクリレートからなる群より１種以上選択されてもよい。
【０１５０】
前記光硬化性樹脂は、ハードコート層形成用組成物全１００重量％中、１０〜７０重量％、好ましくは１５〜６５重量％の範囲で使用することができる。前記範囲を有する時、粘度、塗布性、表面レベリングの面から有利であり得る。
【０１５１】
前記光開始剤は、当該技術分野で用いられるものであれば制限なく使用可能である。例えば、ヒドロキシケトン類、アミノケトン類、水素奪還型光開始剤、およびこれらの組み合わせからなる群より選択された１種以上を使用することができる。
【０１５２】
具体的には、前記光開始剤としては、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］２−モルホリンプロパノン−１、ジフェニルケトン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−オン、４−ヒドロキシシクロフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−アセトフェノン、アントラキノン、フルオレン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロアセトフェノン、４，４−ジメトキシアセトフェノン、４，４−ジアミノベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、およびこれらの組み合わせからなる群より選択された１種以上を使用することができる。
【０１５３】
前記光開始剤は、ハードコート層形成用組成物全１００重量％中、０．１〜５重量％、好ましくは１〜３重量％の範囲で使用することができる。前記範囲を有する時、ハードコート層形成用組成物の硬化速度、最終的に形成される第２ハードコート層の機械的物性の面から優れることができ、ハードコート層形成用組成物の過硬化による第２ハードコート層にクラックが発生する可能性、硬化収縮による接着力不良やカール現象が発生する可能性も低下させることができる。
【０１５４】
前記表面調整剤は、第２ハードコート層のコーティング表面のレベリング性を制御し、表面張力を調節可能な機能性添加剤である。
【０１５５】
前記表面調整剤であって表面張力が低い添加剤としては、フッ素成分を含む添加剤、代表例として、信越社のＫＹ−１２００シリーズ、ダイキン社のＯｐｔｏｏｌ  ＤＡＣ−ＨＰ、ＤＩＣ社のＭｅｇａｆａｃｅシリーズ、フルオロリンク社のＦＳシリーズがあり、これらは、１種類を単独で使用してもよく、２種類以上を併用してもよい。
【０１５６】
表面張力が高い添加剤としては、シリコン成分あるいはアクリル成分を含む添加剤、代表例として、ＢＹＫ社のＢＹＫ−３４４０、ＢＹＫ−３４５５、ＢＹＫ−ＵＶ３５３０、ＢＹＫ−ＵＶ３５３５がある。
【０１５７】
前記表面調整剤は、ハードコート層形成用組成物全１００重量％中、０．０５〜１．０重量％、好ましくは０．１〜０．５重量％の範囲で使用することができる。前記範囲を有する時、前記第２ハードコート層５０の表面張力を１０〜２３ｄｙｎｅ／ｃｍに調節するのに有利であり得る。
【０１５８】
前記溶剤は、前述したところの組成を溶解または分散させられるもので、本技術分野におけるハードコート層形成用組成物の溶剤として知られたものであれば制限なく使用可能である。
【０１５９】
使用可能な溶剤は、アルコール系（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、ケトン系（メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなど）、アセテート系（エチルアセテート、プロピルアセテート、ノルマルブチルアセテート、ターシャリーブチルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテートなど）、ヘキサン系（ヘキサン、ヘプタン、オクタンなど）、ベンゼン系（ベンゼン、トルエン、キシレンなど）、エーテル系（ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど）などが好ましく使用できる。前記例示された溶剤は、それぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０１６０】
前記溶剤は、ハードコート層形成用組成物全１００重量％中、５〜９０重量％を使用することができる。前記範囲を有する時、ハードコート層形成用組成物の粘度が一定水準に維持されて、作業性の面、乾燥時間の面から有利であり得る。
【０１６１】
前記第２ハードコート層５０は、５〜２０μｍの厚さを有することができ、前記範囲の時、優れた鉛筆硬度、耐衝撃性、耐スクラッチ、屈曲性の特性を有することができる。
【０１６２】
前記ハードコート層形成用組成物は、ダイコーター、エアナイフ、リバースロール、スプレー、ブレード、キャスティング、グラビア、マイクログラビア、スピンコーティングなどの公知の方式を適切に用いて、透明基材に塗工（Ｃｏａｔｉｎｇ  Ｐｒｏｃｅｓｓ）が可能である。
【０１６３】
前記ハードコート層形成用組成物を透明基材に塗布した後には、３０〜１５０℃の温度で１０秒〜１時間、より具体的には３０秒〜１０分間揮発物を蒸発させて乾燥させた後、ＵＶ光を照射して硬化させる。前記ＵＶ光の照射量は、具体的には約０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ２であってもよいし、より具体的には０．１〜２Ｊ／ｃｍ２であってもよい。
【０１６４】
また、本発明は、前記フレキシブルウィンドウ積層体を含む表示装置を提供する。
【０１６５】
前記表示装置は、フレキシブル表示装置であってもよい。
【０１６６】
本発明は、前記偏光板を含む表示装置を提供する。
【０１６７】
前記表示装置は、フレキシブル表示装置であってもよい。
【実施例】
【０１６８】
以下、本発明を製造例、実施例、比較例および実験例を用いてより詳細に説明する。しかし、下記の製造例、実施例、比較例および実験例は、本発明を例示するためのものであって、本発明は、下記の実施例によって限定されず、多様に修正および変更可能である。
【０１６９】
＜製造例＞ハードコート層形成用組成物の製造例
製造例１．ハードコート層形成用組成物
３０重量部の多官能アクリレート（ミウォンスペシャリティケミカル、ＭＩＲＡＭＥＲ  Ｍ３４０）、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散５０重量部のナノシリカゾル（１２ｎｍ、固形分４０％）、１７重量部のエチルアセテート、２．７重量部の光開始剤（チバ社、Ｉ−１８４）、０．３重量部のフッ素系添加剤（信越社、ＫＹ１２０３）を撹拌機を用いて配合し、ポリプロピレン（ＰＰ）材質のフィルタを用いて濾過してハードコート組成物を製造した。
【０１７０】
製造例２．ハードコート層形成用組成物
３０重量部の多官能アクリレート（ミウォンスペシャリティケミカル、ＭＩＲＡＭＥＲ  Ｍ３４０）、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散５０重量部のナノシリカゾル（１２ｎｍ、固形分４０％）、１７重量部のエチルアセテート、２．７重量部の光開始剤（チバ社、Ｉ−１８４）、０．３重量部のフッ素系添加剤（ダイキン社、Ｏｐｔｏｏｌ  ＤＡＣ−ＨＰ）を撹拌機を用いて配合し、ポリプロピレン（ＰＰ）材質のフィルタを用いて濾過してハードコート組成物を製造した。
【０１７１】
製造例３．ハードコート層形成用組成物
３０重量部の多官能アクリレート（ミウォンスペシャリティケミカル、ＭＩＲＡＭＥＲ  Ｍ３４０）、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散５０重量部のナノシリカゾル（１２ｎｍ、固形分４０％）、１７重量部のエチルアセテート、２．７重量部の光開始剤（チバ社、Ｉ−１８４）、０．３重量部のフッ素系添加剤（ダイキン社、ＦＳ−７０２４）を撹拌機を用いて配合し、ポリプロピレン（ＰＰ）材質のフィルタを用いて濾過してハードコート組成物を製造した。
【０１７２】
製造例４．ハードコート層形成用組成物
３０重量部の多官能アクリレート（ミウォンスペシャリティケミカル、ＭＩＲＡＭＥＲ  Ｍ３４０）、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散５０重量部のナノシリカゾル（１２ｎｍ、固形分４０％）、１７重量部のエチルアセテート、２．７重量部の光開始剤（チバ社、Ｉ−１８４）、０．３重量部のシリコン系添加剤（ＢＹＫ社、ＢＹＫ−ＵＶ３５３０）を撹拌機を用いて配合し、ポリプロピレン（ＰＰ）材質のフィルタを用いて濾過してハードコート組成物を製造した。
【０１７３】
製造例５．ハードコート層形成用組成物
３０重量部の多官能アクリレート（ミウォンスペシャリティケミカル、ＭＩＲＡＭＥＲ  Ｍ３４０）、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散５０重量部のナノシリカゾル（１２ｎｍ、固形分４０％）、１７重量部のエチルアセテート、２．７重量部の光開始剤（チバ社、Ｉ−１８４）、０．３重量部のアクリル系添加剤（ＢＹＫ社、ＢＹＫ−３４４０）を撹拌機を用いて配合し、ポリプロピレン（ＰＰ）材質のフィルタを用いて濾過してハードコート組成物を製造した。
【０１７４】
製造例６．ハードコート層形成用組成物
３０重量部の多官能アクリレート（ミウォンスペシャリティケミカル、ＭＩＲＡＭＥＲ  Ｍ３４０）、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散５０重量部のナノシリカゾル（１２ｎｍ、固形分４０％）、１７重量部のエチルアセテート、２．７重量部の光開始剤（チバ社、Ｉ−１８４）、０．３重量部のアクリル系添加剤（ＢＹＫ社、ＢＹＫ−３５００）を撹拌機を用いて配合し、ポリプロピレン（ＰＰ）材質のフィルタを用いて濾過してハードコート組成物を製造した。
【０１７５】
製造例７．偏光コーティング層形成用組成物の製造
化合物（１−６）はＬｕｂ  ｅｔ  ａｌ．、Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ−Ｂａｓ、１１５、３２１−３２８（１９９６）に記載の方法によって合成した。
【０１７６】
【化１２】
2020520824.tif 000014
【０１７７】
この後、前記化合物（１−６）１００重量部、アゾ色素（ＮＫＸ２０２９；林原生物化学研究所製造）２重量部、重合開始剤として２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９；ＢＡＳＦジャパン社製造）６重量部、増感剤としてイソプロピルチオキサントン（日本シイベルヘグナー社製造）２重量部、レベリング剤としてポリアクリレート化合物（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製造）１．２重量部、および溶剤としてシクロペンタノン２５０重量部を混合し、混合物を８０℃で１時間撹拌することにより、偏光コーティング層形成用組成物を製造した。
【０１７８】
製造例８．配向膜形成用組成物の製造
下記の成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間撹拌することにより、配向膜形成用組成物を得た。下記の第１配向層形成用材料は、日本国特開第２０１３−３３２４８号公報に記載の方法で合成した。
【０１７９】
光配向性材料（２部）：
【化１３】
2020520824.tif 000015
【０１８０】
溶剤（９８部）：ｏ−キシレン
【０１８１】
＜実施例および比較例＞フレキシブルウィンドウ積層体
透明基材として透明ポリイミドフィルム（ＰＩ、５０μｍ）上に、前記製造例により製造されたハードコート層形成用組成物を下記表１によって図１に示されるようにコーティングした後、溶剤を乾燥し、ＵＶを照射して両面ハードコートフィルムを製造した。具体的には、第１ハードコート層；前記第１ハードコート層上に形成された透明基材；および前記透明基材上に形成された第２ハードコート層の構造を有するように両面ハードコートフィルムを製造した。また、ディスプレイの内側面のハードコート表面、すなわち、第１ハードコート層上に製造例７の配向膜組成物をダイコーティング方法で塗布して乾燥した後、ワイヤグリッドを通過したＵＶを照射して配向膜を形成した。具体的には、偏光コーティング層の配向のための配向膜をダイコーティング方法でコーティング後、溶剤乾燥およびワイヤグリッドを通過したＵＶを照射して特定の方向に配向されるように０．３μｍの厚さの配向膜を形成させて、配向膜；配向膜上に形成された第１ハードコート層；前記第１ハードコート層上に形成された透明基材；および前記透明基材上に形成された第２ハードコート層の構造を形成した。最終的に前記配向膜上に製造例６の偏光コーティング層形成用組成物をダイコーティング方法でコーティング後、溶剤乾燥およびワイヤグリッドを通過したＵＶを照射して、最終的に２μｍの厚さの偏光コーティング層；偏光コーティング層上に形成された配向膜；配向膜上に形成された第１ハードコート層；前記第１ハードコート層上に形成された透明基材；および前記透明基材上に形成された第２ハードコート層を含むフレキシブルウィンドウ積層体を形成した。
【０１８２】
【表１】
2020520824.tif 000016
【０１８３】
＜実験例＞フレキシブルウィンドウ積層体の性能テスト
実験例１．表面張力の測定
測定しようとする層のハードコート層の一面が上部へいくようにコーティングフィルムをガラスに固定後、接触角測定器（ＫＳＶ社）を用いて、ハードコート層の一面の水接触角およびジヨードメタン（ｄｉｉｏｄｏｍｅｔｈａｎｅ）の接触角をそれぞれ５回測定して、平均値からＯＷＲＫ法によって表面張力を測定した。
【０１８４】
具体的には、ＫＳＶ社の接触角測定器を用いて、表面処理層および表面保護フィルムの耐水接触角および耐油接触角を測定する。
【０１８５】
前記耐水接触角および耐油接触角は、２３℃、６０ＲＨ％の恒温／恒湿条件下で測定することが好ましい。
【０１８６】
前記恒温／恒湿条件下で測定した耐水接触角および耐油接触角を用いて、表面処理層および表面保護フィルムの表面エネルギーを導出することができる。
【０１８７】
この時、前記接触角から表面エネルギーを導出する方法は、ＯＷＲＫ（Ｏｗｅｎ、Ｗｅｎｄｔ、Ｒａｂｅｌ  ａｎｄ  Ｋａｅｌｂｌｅ）方法を利用することができ、ＯＷＲＫの式は下記の通りである。
【０１８８】
【数１】
2020520824.tif 000017
【０１８９】
実施例１〜９と比較例１〜５に対する第１ハードコート層と第２ハードコート層の表面張力測定結果は下記表２に示した。
【０１９０】
実験例２．指紋消去性評価
ディスプレイの外側面に向かうコーティング面すなわち、第２ハードコート層が上部へいくようにコーティングフィルムを黒色アクリル板に付着させた後、指紋を第２ハードコート層のハードコート表面に取った後、サビナで往復消去を実施後、指紋が残っているか否かを肉眼で確認した。結果を下記のように評価した。
Ａ：指紋が５回以内に容易に消されて視認されない。
Ｂ：指紋が５回以上往復消去作業をしてこそ消される。
Ｃ：指紋が５回以上往復消去作業後に消されるが、表面に消去作業によるスクラッチが発生して表面が汚染する。
【０１９１】
実施例１〜９と比較例１〜５に対する第１ハードコート層の指紋消去性評価結果は下記表２に示した。
【０１９２】
実験例３．偏光特性評価
偏光コーティング層までコーティングされたフィルム２枚を互いに直交状態（クロスニコル）で配置して光の漏れる所があるかを肉眼で確認した。結果を下記のように評価した。
Ａ：全面で均一に光が漏れない。
Ｂ：一部の面積で配向性が低下して光の漏れる所が確認される。
Ｃ：偏光コーティング層がコーティングされない部分が多数発生して全面的に光が漏れる。
【０１９３】
実施例１〜９と比較例１〜５に対する第２ハードコート層の偏光特性評価結果は下記表２に示した。
【０１９４】
実験結果
実験例１〜３に対する実験結果は下記表２に示した。
【０１９５】
【表２】
2020520824.tif 000018
【０１９６】
前記表２から確認できるように、本発明のフレキシブルウィンドウ積層体は、ディスプレイの外側に位置する第２ハードコート層は、低い表面張力を有して外部汚染に対する防汚効果（例えば、指紋除去能に優れる）を有する。また、ディスプレイの内側に位置する第１ハードコート層は、架橋構造で耐溶剤性を有するので、溶剤によるスウェリングが発生せず配向膜の配向性能を阻害することがなく、高い表面張力を有することにより、配向膜のコーティング性（ｗｅｔｔｉｎｇ性）を向上させてｄｅ−ｗｅｔｔｉｎｇ現象などが発生せず均一な配向膜を形成することができる。したがって、偏光コーティング層の優れた配向特性を確保することができ、これによって優れた偏光特性を有する。
【産業上利用可能性】
【０１９７】
本発明のフレキシブルウィンドウ積層体は、ディスプレイの外側に位置する第２ハードコート層は、低い表面張力を有して外部汚染に対する防汚効果（例えば、指紋除去能に優れる）を有する。また、ディスプレイの内側に位置する第１ハードコート層は、架橋構造で耐溶剤性を有するので、溶剤によるスウェリングが発生せず配向膜の配向性能を阻害することがなく、高い表面張力を有する。これによって、配向膜のコーティング性（ｗｅｔｔｉｎｇ性）を向上させてｄｅ−ｗｅｔｔｉｎｇ現象などが発生せず均一な配向膜を形成可能なため、偏光コーティング層の優れた配向特性を確保することができ、これによって優れた偏光特性を有する。したがって、ディスプレイ装置、特にフレキシブルディスプレイに有用に適用可能である。
【図１】
2020520824.tif 000019
【国際調査報告】
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