(57)【要約】  本発明は、回路基板及び表示装置を開示する。前記回路基板は表示領域と非表示領域とを含む。前記非表示領域は、第一電極層と、前記第一電極層上に設けられている第二電極層とを含む。前記第一電極層と前記第二電極層の接触面積は少なくとも表示領域の両側の外において同一である。このように、前記第一電極層と前記第二電極層の接触抵抗は表示領域の両側の外において同一である。このため、表示領域の両側を流れる電流量が同一であり、隅の焼損現象を回避することができる。
2020506431.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域（８００）と、非表示領域（９００）とを含み、
前記非表示領域（９００）は、第一電極層（３００）と、前記第一電極層（３００）上に設けられている第二電極層（１００）とを含み、
前記第一電極層（３００）と前記第二電極層（１００）とを接触する面積が、少なくとも前記表示領域（８００）の両側の外に同一であることを特徴とする回路基板。
【請求項２】
請求項１に記載の回路基板であって、前記第一電極層（３００）上に形成されている第一絶縁層（２００）をさらに含み、前記第一絶縁層（２００）は少なくとも前記表示領域（８００）の両側の外においてトレンチ領域（２１０）を有し、前記第二電極層（１００）は、前記トレンチ領域（２１０）の少なくとも一部を覆うとともに、前記トレンチ領域（２１０）において露出している前記第一電極層（３００）と接触し、前記第二電極層（１００）と前記第一電極層（３００）との接触面積は前記表示領域（８００）の両側の外において同一であることを特徴とする回路基板。
【請求項３】
請求項２に記載の回路基板であって、前記表示領域（８００）の両側の外における前記トレンチ領域（２１０）は前記表示領域（８００）の中心線に対し対称とすることを特徴とする回路基板。
【請求項４】
請求項２に記載の回路基板であって、前記表示領域（８００）の両側の外における前記トレンチ領域（２１０）の左右方向上の幅は同一であることを特徴とする回路基板。
【請求項５】
請求項２に記載の回路基板であって、前記第二電極層（１００）は、前記トレンチ領域（２１０）全体を覆うとともに、前記トレンチ領域（２１０）において露出している前記第一電極層（３００）と接触することを特徴とする回路基板。
【請求項６】
請求項２に記載の回路基板であって、前記第二電極層（１００）は、前記第一絶縁層（２００）の表面の少なくとも一部と、前記トレンチ領域（２１０）の少なくとも一部を覆うとともに、前記トレンチ領域（２１０）において露出している前記第一電極層（３００）と接触することを特徴とする回路基板。
【請求項７】
請求項６に記載の回路基板であって、前記第二電極層（１００）は、前記第一絶縁層（２００）の表面全体と、前記トレンチ領域（２１０）全体を覆うとともに、前記トレンチ領域（２１０）において露出している前記第一電極層（３００）と接触することを特徴とする回路基板。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の回路基板であって、回路層（６００）と、前記回路層（６００）の一側に設けられている接地層（５００）とをさらに含み、前記回路層（６００）の上面に第二絶縁層（４００）が形成され、前記第二絶縁層（４００）と前記接地層（５００）の上面に前記第一電極層（３００）が形成され、前記第一電極層（３００）は前記接地層（５００）と接触することを特徴とする回路基板。
【請求項９】
請求項１に記載の回路基板であって、前記第二電極層（１００）は前記表示領域（８００）におけるカソードと一体的に形成されることを特徴とする回路基板。
【請求項１０】
請求項１に記載の回路基板であって、前記第一絶縁層（２００）は前記表示領域（８００）におけるピクセル限定層と一体的に形成されることを特徴とする回路基板。
【請求項１１】
請求項１に記載の回路基板であって、前記第二電極層（１００）の厚さは０．１ｍｍ〜０．２ｍｍであることを特徴とする回路基板。
【請求項１２】
スクリーンと、
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の回路基板と含み、
前記回路基板は前記スクリーンの発光を制御することを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示領域に関し、特に回路基板及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ、有機発光ダイオード）ディスプレイは、基板の製造において、スクリーンの表示領域の両側外の非表示領域にカソード層を蒸着する際、スクリーンの表示領域の両側の外におけるカソード層と電極層の接触部分の面積が同一でないと、変位を引き起こす可能性がある。カソード層の蒸着において変位が発生すると、スクリーンの左右両側（両隅）において蒸着されたカソードと電極層の接着面積が同一でなくなり、その抵抗が同一でなくなる。その結果、スクリーンの両側の外において、カソードと電極層を流れる電流の流れ方向が違いによって発熱量が不一致になるため、スクリーンの隅が焼損されてしまう現象を引き起こす可能性がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
これに鑑みて、ディスプレイのスクリーンの両側（両隅）において蒸着されたカソードと電極層の接着抵抗の不一致による隅の焼損問題に対し、ディスプレイのスクリーンの両側の外における抵抗が同一である回路基板及び表示装置を提供する必要がある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
回路基板であって、表示領域と、非表示領域とを含み、前記非表示領域は、第一電極層と、前記第一電極層上に設けられている第二電極層とを含み、ここで、前記第一電極層と前記第二電極層とを接触する面積が、少なくとも表示領域の両側の外に同一である。
【０００５】
本実施例において、前記第一電極層と前記第二電極層との接触面積は少なくとも前記表示領域の両側の外において同一である。これにより、前記第一電極層と前記第二電極層との接触抵抗は同一である。このため、少なくとも表示領域の両側に流れる電流が同一であることを確保することができ、隅の焼損を回避することができる。
【０００６】
一実施例において、前記第一電極層上に形成されている第一絶縁層をさらに含み、前記第一絶縁層は少なくとも前記表示領域の両側の外においてトレンチ領域を有し、前記第二電極層は、前記トレンチ領域の少なくとも一部を覆うとともに、前記トレンチ領域において露出している前記第一電極層と接触し、前記第二電極層と前記第一電極層との接触面積は前記表示領域の両側の外において同一である。
【０００７】
本実施例において、前記トレンチ領域は、前記第二電極層を前記第一電極層と接触するように用いられる。
【０００８】
一実施例において、前記表示領域の両側の外におけるトレンチ領域は表示領域の中心線に対し対称とする。
【０００９】
一実施例において、前記表示領域の両側の外におけるトレンチ領域の左右方向上の幅は同一である。
【００１０】
一実施例において、前記第二電極層は、前記トレンチ領域全体を覆うとともに、前記トレンチ領域において露出している前記第一電極層と接触する。
【００１１】
本実施例において、前記トレンチ領域の左右方向上の幅が同一であるため、前記第二電極層が前記トレンチ領域全体を覆った後、前記第二電極層と前記第一電極層と接触する幅が同一になる。これにより、表示領域の両側の外における抵抗が同一であることを確保することができる。
【００１２】
一実施例において、前記第二電極層は、前記第一絶縁層の表面の少なくとも一部と前記トレンチ領域の少なくとも一部を覆うとともに、前記トレンチ領域において露出している前記第一電極層と接触する。
【００１３】
一実施例において、前記第二電極層は、前記第一絶縁層の表面全体と、前記トレンチ領域全体を覆うとともに、前記トレンチ領域において露出している前記第一電極層と接触する。
【００１４】
本実施例において、前記第二電極層の蒸着面積が前記トレンチ領域の面積をカバーすると、前記第二電極層の蒸着プロセスを容易にするとともに、前記表示領域の両側の外において前記第二電極層と前記第一電極層の接触部の幅が同一であることを確保することができ、表示領域の両側の外における抵抗が同一であることを確保することができる。
【００１５】
一実施例において、回路層と、前記回路層の一側に設けられている接地層とをさらに含み、前記回路層の上面に第二絶縁層が形成され、前記第二絶縁層と前記接地層の上面に前記第一電極層が形成され、前記第一電極層は前記接地層と接触する。
【００１６】
本実施例において、前記第一電極層は前記第二絶縁層と接触する。これにより、前記第二電極層と前記第二絶縁層との間が前記第一電極層を介して導通するようになり、信号の中継を実現することができる。
【００１７】
一実施例において、前記第二電極層は前記表示領域におけるカソードと一体的に形成される。
【００１８】
本実施例において、前記第二電極層は前記表示領域におけるカソードと一体的に形成される。これにより、製造プロセスが減少され、生産効率が向上する。
【００１９】
一実施例において、前記第一絶縁層は前記表示領域におけるピクセル限定層と一体的に形成される。
【００２０】
本実施例において、前記第一絶縁層は前記表示領域におけるピクセル限定層と一体的に形成される。これにより、製造プロセスが減少され、生産効率が向上する。
【００２１】
一実施例において、前記第二電極層の厚さは０．１ｍｍ〜０．２ｍｍである。
【００２２】
本実施例において、厚さが０．１ｍｍ〜０．２ｍｍである前記第二電極層は、良好な導電性を有するとともに低い抵抗値を有するため、過大な抵抗値のために高発熱量によるエネルギーの無駄を回避することができる。
【００２３】
本発明の実施例は、表示装置をさらに提供する。前記表示装置は、スクリーンと、前記回路基板と含み、前記回路基板は前記スクリーンの発光を制御する。
【発明の効果】
【００２４】
本実施例において、前記回路基板は、前記スクリーンの表示領域の両側を流れる電流量が同一であることを確保することができ、スクリーンの表示領域の両側を流れる電流量の不均一による隅の焼損を回避することができ、前記表示装置の耐用年数が延びる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の実施例に係る回路基板の概略断面図である。
【図２】本発明の実施例に係る表示装置の構造図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明の目的、技術案及び技術的効果をより明瞭にするために、以下、図面を参照しながら本発明の実施例を説明する。ここで説明する実施例は本発明を解釈するためのものに過ぎず、本発明を限定するものではないことは無論である。
【００２７】
図１及び図２に示すように、図１は図２における断面Ａ―Ｂに沿う断面図である。本発明の実施例は、回路基板１０を提供する。前記回路基板１０は、非表示領域９００と表示領域８００とを含む。前記非表示領域９００において、第一電極層３００と、前記第一電極層３００上に形成されている第二電極層１００が設けられ、前記第一電極層３００と前記第二電極層１００の接触面積は少なくとも表示領域８００の両側の外において同一である。
【００２８】
好ましくは、前記回路基板１０は、前記第一電極層３００の表面に形成されている第一絶縁層２００をさらに含む。前記第一絶縁層２００は少なくとも前記表示領域８００の両側の外においてトレンチ領域２１０を有する。前記トレンチ領域２１０の形状については特に限定せず、例えば、長方形や円弧形状などであってもよい。好ましくは、表示領域８００の両側の外における前記トレンチ領域２１０は表示領域８００の中心線について対称とする。前記回路基板１０は、前記第一絶縁層２００上に形成されている第二電極層１００をさらに含む。前記第二電極層１００は、前記トレンチ領域２１０の少なくとも一部を覆うとともに、前記トレンチ領域２１０において露出している前記第一電極層３００と接触する。表示領域８００の両側の外において前記第二電極層１００と前記第一電極層３００の接触面積は同一である。
【００２９】
表示領域８００は表示装置の中央部に位置し、非表示領域９００は表示装置の周縁に位置する。前記非表示領域９００全体において、第一電極層３００、第二電極層１００、及びトレンチ領域２１０が設けられてもよい。一実施例において、前記表示領域８００は長方形であり、前記トレンチ領域２１０の幅及び深さについては、非表示領域９００全体において同一であってもよく、同一でなくてもよく、ここで特に限定しない。前記表示領域８００の中心線を対称軸とする前記表示領域８００の左右両側の外における前記トレンチ領域２１０の幅及び深さは同一である。前記表示領域８００の上下両側の外において前記トレンチ領域２１０の幅及び深さは同一であってもよく、同一でなくてもよい。
【００３０】
前記非表示領域９００は、前記表示領域８００の中心線を対称軸とする前記表示領域８００の左右両側の外における非表示領域９００を含むことができる。前記表示領域８００の左右両側の外における非表示領域９００において、前記第二電極層１００と前記第一電極層３００の接触部の面積が同一であると、前記第二電極層１００と前記第一電極層３００の接触部の抵抗が同一であることになる。その結果、前記表示領域８００の左右両側の外における非表示領域９００において、前記第一電極層３００及び前記第二電極層１００を流れる電流量は同一であり、これにより、前記表示領域８００の両側を流れる電流量が同一でないことによる隅の焼損を回避することができる。前記第二電極層１００は、トレンチ領域２１０の一部だけを覆ってもよく、トレンチ領域２１０全体を覆ってもよい。また、前記第二電極層１００は、トレンチ領域２１０の一部及び第一電極層３００の表面の一部を覆ってもよく、トレンチ領域２１０全体及び第一電極層３００の表面全体を覆ってもよい。要するに、表示領域８００の両側の外における非表示領域９００において前記第二電極層１００と前記第一電極層３００の接触部の幅が同一であることを確保すればよい。
【００３１】
一実施例において、前記回路基板１０の非表示領域９００において、回路基板１０を制御するための集積チップが設けられている。前記非表示領域９００において、ゲート駆動モジュール５０とソース駆動モジュール４０がさらに設けられている。前記ゲート駆動モジュール５０は、前記表示領域８００におけるピクセルスイッチの投入を制御することができる。前記ピクセルスイッチが投入された後、前記ソース駆動モジュール４０は前記表示領域８００におけるピクセル６２５にデータ信号を提供することができる。前記回路基板１０の周縁において電源配線ユニット８１０がさらに設けられてもよい。前記電源配線ユニット８１０は接地線として機能することができる。前記電源配線ユニット８１０は前記溶接ユニット８２０によって前記回路基板１０に固定されることができる。
【００３２】
前記回路基板１０は、基材７００を含んでもよい。この場合、前記第一電極層３００は前記基材７００上に設けられている。前記基材７００は前記回路基板１０を支持することに用いられる。前記基材７００は、ガラスまたはプラスチックのような硬い材料で形成されることができる。前記第一電極層３００は電気接続層として機能し電源信号の中継に用いられることができる。前記第一電極層３００はＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯで形成されることができ、表示領域８００におけるアノードと共蒸着されアノードの一部となることができる。しかし、両者の役割は異なる。表示領域におけるアノードは表示領域におけるピクセルの発光を制御するように機能する一方、非表示領域におけるアノードは信号の中継に用いられる。前記第二電極層１００は共通カソードの一部となり、蒸着によって形成されることができる。前記第一電極層３００は前記第二電極層１００と接触し、接地層５００に接続される。前記第二電極層１００は前記第一電極層３００を介して接地層５００に接続される。前記第一絶縁層２００は、酸化ケイ素、窒化ケイ素、または酸化ケイ素と窒化ケイ素の組み合わせで形成される。前記トレンチ領域２１０はリソグラフィー法などによって形成される。
【００３３】
一実施例において、前記表示領域８００の周縁に位置する非表示領域９００に設けられている前記トレンチ領域２１０の幅は同一である。これにより、前記トレンチ領域２１０において前記第二電極層１００を蒸着する際に、前記第二電極層１００の寸法制御に寄与する。
【００３４】
一実施例において、前記第二電極層１００は、前記トレンチ領域２１０全体を覆うとともに、前記トレンチ領域２１０において露出している前記第一電極層３００と接触する。前記回路基板１０の製造において、前記第二電極層１００の蒸着時、前記第二電極層１００は前記第一絶縁層２００の表面を覆うとともに前記トレンチ領域２１０を完全に充填する。前記表示領域８００の両側の外において、前記トレンチ領域２１０の幅は同一である。このため、蒸着プロセスを変更せずに、前記トレンチ領域２１０によって前記第一電極層３００と前記第二電極層１００の接触面積が同一であることを確保することができる。そのため、前記表示領域８００の両側の外において、前記第一電極層３００及び前記第二電極層１００を流れる電流量は同一であることを確保することができる。
【００３５】
一実施例において、前記第二電極層１００は、前記第一絶縁層２００の表面の少なくとも一部と前記トレンチ領域２１０の少なくとも一部を覆うとともに、前記トレンチ領域２１０において露出している前記第一電極層３００と接触する。一実施例において、前記第二電極層１００は、前記第一絶縁層２００の表面全体と前記トレンチ領域２１０全体を覆うとともに、前記トレンチ領域２１０において露出している前記第一電極層３００と接触する。前記表示領域８００の両側の外において前記第二電極層１００を前記トレンチ領域２１０全体だけを覆うようにすることは精度の高い製造プロセスが必要となり、製造コストが増加する。その一方、前記第二電極層１００の製造において、前記トレンチ領域２１０全体に加えて、前記第一絶縁層２００の表面上にも前記第二電極層１００を蒸着することにより、製造を容易にすることができ、製造コストを低減することができる。
【００３６】
一実施例において、前記第二電極層１００は前記トレンチ領域２１０の一部を覆うとともに、前記表示領域８００の両側の外において、前記トレンチ領域２１０を覆う前記第二電極層１００の面積が同一である。このため、前記表示領域８００の両側の外において抵抗が同一であり、流れる電流量も同一であり、電流の不均一による隅の焼損を回避することができる。
【００３７】
本実施例において、表示領域８００の上側における前記トレンチ領域２１０の幅と深さ、及び、第二電極層１００と第一電極層３００の接触面積については特に限定せず、表示領域８００の左右両側の外において第二電極層１００と第一電極層３００の接触面積が同一であることだけを確保すれば、スクリーンの左右両側を流れる電流量が同一であり、スクリーンの左右両側の外において隅の焼損を回避することができる。もう一つの実施例において、表示領域８００の全ての周縁における第二電極層１００と第一電極層３００の接触面積が同一であるようにすることができる。このように、スクリーンの全ての周縁における電流が同一であり、隅の焼損を回避することができる。
【００３８】
一実施例において、前記回路基板１０は、回路層６００と、前記回路層６００の一側に設けられている接地層５００とをさらに含む。前記回路層６００の上面に第二絶縁層４００が形成され、前記第二絶縁層４００及び前記接地層５００の上面に前記第一電極層３００が形成されている。前記第一電極層３００は前記接地層５００と接触する。前記回路層６００は、スクリーンの表示を制御することができる。前記第二絶縁層４００は平坦化層として機能し前記回路層６００の表面を平坦化にすることができる。前記第二絶縁層４００によって、前記回路層６００と前記接地層５００が隔てられ、お互いに絶縁される。前記第二電極層１００と、前記第一電極層３００と、前記接地層５００との間は導通し、回路を形成する。
【００３９】
一実施例において、前記回路層６００は、トランジスタスイッチ素子６２０と、第三の絶縁層６１１と、第四の絶縁層６１２とをさらに含む。トランジスタスイッチ素子６２０は、ソース６２１と、ドレイン６２２と、ゲート６２３とを含む。前記基材７００上に、緩衝層６１３と、前記緩衝層６１３上に形成されているアクティブ層６２４と、前記アクティブ層６２４上に敷設されている第四の絶縁層６１２と、前記第四の絶縁層６１２上に蒸着されているゲート６２３と、前記ゲート６２３上に形成されている第三の絶縁層６１１と、前記第三の絶縁層６１１上に形成されているソース６２１及びドレイン６２２が設けられている。前記ソース６２１及びドレイン６２２はそれぞれ、前記第三の絶縁層６１１と前記第四の絶縁層６１２を貫通し前記アクティブ層６２４に接続する。前記第二絶縁層４００は前記回路層６００上に設けられ、前記回路層６００の表面を平坦化するように前記回路層６００の表面を覆う。前記回路層６００は、前記接地層５００と一体的に形成されることができるが、製造工程において接地層５００の不要な部分をエッチングすることにより除去し、導通に役立つ部分だけ残せばよい。一般的に、前記接地層５００は前記回路層６００の片側に設けられ、前記第三の絶縁層６１１は前記ゲート６２３、ソース６２１、及びドレイン６２２を隔てることに用いられる。前記第四の絶縁層６１２は前記アクティブ層６２４と前記ゲート６２３を隔てることに用いられる。好ましくは、前記ゲート６２３は金属モリブデンで形成される。前記第二絶縁層４００は、酸化ケイ素、窒化ケイ素、または酸化ケイ素と窒化ケイ素の組み合わせで形成されることができる。前記第一絶縁層２００も、酸化ケイ素、窒化ケイ素、または酸化ケイ素と窒化ケイ素の組み合わせで形成されることができる。前記ゲート６２３が電圧によってトリガーされると、ソース６２１とドレイン６２２との間は導通するようになる。その後、前記トランジスタスイッチ素子６２０を投入するように制御する。
【００４０】
一実施例において、前記第二電極層１００は前記表示領域８００におけるカソードと一体的に形成される。これにより、製造プロセスが減少され、生産効率が向上する。
【００４１】
一実施例において、前記第一電極層３００は前記表示領域８００におけるアノードと一体的に形成される。これにより、製造プロセスが減少され、生産効率が向上する。
【００４２】
一実施例において、前記第一絶縁層２００は前記表示領域８００におけるピクセル限定層と一体的に形成される。これにより、製造プロセスが減少され、生産効率が向上する。
【００４３】
一実施例において、前記第二電極層１００の厚さは０．１ｍｍ〜０．２ｍｍである。好ましくは、前記第二電極層１００の前記第一絶縁層２００の表面上における部分の厚さは、前記第二電極層１００の前記トレンチ領域２１０内における部分の厚さと同一である。厚さが０．１ｍｍ〜０．２ｍｍである前記第二電極層１００は良好な導電性を有するとともに、低い抵抗値を有するため、過大な抵抗値のために高発熱量によるエネルギーの無駄を回避することができる。
【００４４】
一実施例において、前記アクティブ層６２４と前記基材７００との間に緩衝層６１３が設けられている。前記緩衝層６１３は、前記基材７００と前記アクティブ層６２４を隔てるとともに、緩衝の役割を果たす。
【００４５】
本発明の実施例は、表示装置をさらに提供する。前記表示装置は、スクリーンと、前記回路基板１０と含む。前記回路基板１０は、前記スクリーンの発光を制御する。前記第二電極層１００は前記表示領域８００に電気的接続されている。前記表示領域８００においてピクセルの表示を制御するためのアノードとカソードが配置されている。前記第二電極層１００と前記カソードは一体的に形成され共通カソードとなることができる。前記回路基板１０において、前記スクリーンの両側を流れる電流量が同一であり、前記スクリーンの両側の外における電流の不均一による隅の焼損を回避することができ、前記表示装置の耐用年数が延びる。
【００４６】
本明細書において、ある要素がもう一つの要素「に固定」されているように記載する場合、この要素が前記もう一つの要素に直接に固定され、或いは、中間要素を介して固定されていることを意味する。また、ある要素がもう一つの要素「に接続」されているように記載する場合、この要素が前記もう一つの要素に直接に接続され、或いは、中間要素を介して接続されていることを意味する。逆に、ある要素がもう一つの要素「に直接に固定」されているように記載する場合、中間要素が存在しないことを意味する。また、本明細書で使用する「垂直」、「水平」、「左」、「右」などの用語及び類似する表現は説明のためのものに過ぎない。
【００４７】
上述した実施例は、本発明のいくつかの実施形態を示したものにすぎず、その記述が具体的かつ詳細であるが、本発明の範囲を限定するものと解釈されるべきではない。なお、当業者にとって、本発明の趣旨から逸脱しないかぎり、若干の変形および改良を行うことができ、これらもすべて本発明の保護範囲内にある。本発明の保護範囲は、特許請求の範囲に準ずるべきである。
【符号の説明】
【００４８】
１０  回路基板、１００  第二電極層、２００  第一絶縁層、３００  第一電極層、２１０  トレンチ領域、４００  第二絶縁層、５００  接地層、６００  回路層、６１１  第三の絶縁層、６１２  第四の絶縁層、６１３  緩衝層、６２０  トランジスタスイッチ素子、７００  基材、６２１  ソース、６２２  ドレイン、６２３  ゲート、６２４  アクティブ層、６２５  ピクセル、４０  ソース駆動モジュール、５０  ゲート駆動モジュール、２０  表示装置、８００  表示領域、８１０  電源配線ユニット、８２０  溶接ユニット、９００  非表示領域。
【図１】
2020506431.tif 000003
【図２】
2020506431.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月1日(2019.8.1)
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、表示領域に関し、特に回路基板に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
一実施例において、前記第一電極層上に形成されている第一絶縁層をさらに含み、前記第一絶縁層は少なくとも前記表示領域の両側の外においてトレンチ領域を有する。前記第一電極層の少なくとも一部は前記トレンチ領域において露出し、前記第二電極層は、前記トレンチ領域の少なくとも一部を覆うとともに、前記トレンチ領域において露出している前記第一電極層の少なくとも一部と接触し、前記第二電極層と前記第一電極層との接触面積は前記表示領域の両側の外において同一である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
一実施例において、前記表示領域の両側の外におけるトレンチ領域は表示領域の中心線に対し対称となるように配置される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
一実施例において、前記第二電極層は、前記トレンチ領域全体を覆うとともに、前記トレンチ領域において露出している前記第一電極層の少なくとも一部と接触する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
一実施例において、前記第二電極層は、前記第一絶縁層の表面の少なくとも一部と前記トレンチ領域の少なくとも一部を覆うとともに、前記トレンチ領域において露出している前記第一電極層の少なくとも一部と接触する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
一実施例において、前記第二電極層は、前記第一絶縁層の表面全体と、前記トレンチ領域全体を覆うとともに、前記トレンチ領域において露出している前記第一電極層の少なくとも一部と接触する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
図１及び図２に示すように、図１は図２における断面Ａ―Ｂに沿う断面図である。本発明の実施例は、回路基板１０を提供する。前記回路基板１０は、非表示領域９００と表示領域８００とを含む。前記非表示領域９００において、第一電極層３００と、前記第一電極層３００上に形成されている第二電極層１００が設けられ、前記第一電極層３００と前記第二電極層１００の接触面積は少なくとも表示領域８００の両側の外において同一である。ここで、「両側」は表示領域８００の異なる二つの側であり、例えば、上側と下側、左側と右側、又は右側と上側などである。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
好ましくは、前記回路基板１０は、前記第一電極層３００の表面に形成されている第一絶縁層２００をさらに含む。前記第一絶縁層２００は少なくとも前記表示領域８００の両側の外においてトレンチ領域２１０を有する。前記トレンチ領域２１０の形状については特に限定せず、例えば、長方形や円弧形状などであってもよい。好ましくは、表示領域８００の両側の外における前記トレンチ領域２１０は表示領域８００の中心線について対称とする。前記回路基板１０は、前記第一絶縁層２００上に形成されている第二電極層１００をさらに含む。前記第二電極層１００は、前記トレンチ領域２１０の少なくとも一部を覆うとともに、前記トレンチ領域２１０において露出している前記第一電極層３００の少なくとも一部と接触する。表示領域８００の両側の外において前記第二電極層１００と前記第一電極層３００の接触面積は同一である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
表示領域８００は表示装置２０の中央部に位置し、非表示領域９００は表示装置２０の周縁に位置する。前記非表示領域９００全体において、第一電極層３００、第二電極層１００、及びトレンチ領域２１０が設けられてもよい。一実施例において、前記表示領域８００は長方形であり、前記トレンチ領域２１０の幅及び深さについては、非表示領域９００全体において同一であってもよく、同一でなくてもよく、ここで特に限定しない。前記表示領域８００の中心線を対称軸とする前記表示領域８００の左右両側の外における前記トレンチ領域２１０の幅及び深さは同一である。前記表示領域８００の上下両側の外において前記トレンチ領域２１０の幅及び深さは同一であってもよく、同一でなくてもよい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域と、非表示領域とを含み、
前記非表示領域は、第一電極層と、前記第一電極層上に設けられている第二電極層とを含み、
前記第一電極層と前記第二電極層とを接触する面積が、少なくとも前記表示領域の両側の外に同一であることを特徴とする回路基板。
【請求項２】
前記第一電極層上に形成されている第一絶縁層をさらに含み、前記第一絶縁層は少なくとも前記表示領域の両側の外においてトレンチ領域を有し、前記第一電極層の少なくとも一部は前記トレンチ領域において露出し、前記第二電極層は、前記トレンチ領域の少なくとも一部を覆うとともに、前記トレンチ領域において露出している前記第一電極層の少なくとも一部と接触し、前記第二電極層と前記第一電極層との接触面積は前記表示領域の両側の外において同一であることを特徴とする請求項１に記載の回路基板。
【請求項３】
前記表示領域の両側の外における前記トレンチ領域は前記表示領域の中心線に対し対称となるように配置されることを特徴とする請求項２に記載の回路基板。
【請求項４】
前記表示領域の両側の外における前記トレンチ領域の左右方向上の幅は同一であることを特徴とする請求項２に記載の回路基板。
【請求項５】
前記第二電極層は、前記トレンチ領域全体を覆うとともに、前記トレンチ領域において露出している前記第一電極層の少なくとも一部と接触することを特徴とする請求項２に記載の回路基板。
【請求項６】
前記第二電極層は、前記第一絶縁層の表面の少なくとも一部と、前記トレンチ領域の少なくとも一部を覆うとともに、前記トレンチ領域において露出している前記第一電極層の少なくとも一部と接触することを特徴とする請求項２に記載の回路基板。
【請求項７】
前記第二電極層は、前記第一絶縁層の表面全体と、前記トレンチ領域全体を覆うとともに、前記トレンチ領域において露出している前記第一電極層の少なくとも一部と接触することを特徴とする請求項６に記載の回路基板。
【請求項８】
回路層と、前記回路層の一側に設けられている接地層とをさらに含み、前記回路層の上面に第二絶縁層が形成され、前記第二絶縁層と前記接地層の上面に前記第一電極層が形成され、前記第一電極層は前記接地層と接触することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の回路基板。
【請求項９】
前記第二電極層は前記表示領域におけるカソードと一体的に形成され、或いは、前記第一絶縁層は前記表示領域におけるピクセル限定層と一体的に形成されることを特徴とする請求項２に記載の回路基板。
【請求項１０】
前記第二電極層の厚さは０．１ｍｍ〜０．２ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載の回路基板。
【国際調査報告】
2020506431.tif 000005
2020506431.tif 000006
2020506431.tif 000007
2020506431.tif 000008