(57)【要約】本発明は、基板１３上にマスクを適用することにより構造化された層を堆積するための装置に関し、支持フレーム７に対してマスクキャリア６の位置を調整するための調整装置１００、２００と、マスクキャリア６、調整装置１００、２００及びマスクキャリア６により担持されかつマスク４を有するマスク機構３と共に支持フレーム７を鉛直方向にマスク変更位置から処理位置へと変位可能とするマスクリフト装置と、基板ホルダ１０を鉛直方向に搭載位置から処理位置へと変位可能とする基板ホルダリフト装置とを有する。拘束手段２０、２１が、処理位置における基板ホルダ１０を支持フレーム７上に拘束し、拘束手段がＶ溝２１と球面２０とを有する。球面２０は支持フレーム７の球状要素により形成される。それは基板ホルダ１０により形成されるＶ溝２１の側面上で支持される。
2020511600.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（１３）上にマスク（４）を適用することにより構造化された層を堆積するための装置であって、支持フレーム（７）に対するマスクキャリア（６）の位置を調整するための調整装置（１００、２００）と、前記マスクキャリア（６）、前記調整装置（１００、２００）、及び前記マスクキャリアにより担持されかつ前記マスクを有するマスク機構（３）と共に前記支持フレーム（７）を鉛直方向にマスク変更位置から処理位置へと変位させることができるマスクリフト装置と、前記基板ホルダ（１０）を鉛直方向に搭載位置から処理位置へと鉛直方向に変位させることができる基板ホルダリフト装置とを有し、その場合、拘束手段（２０、２１）が前記基板ホルダ（１０）を前記支持フレーム（７）上で処理位置に拘束する、前記装置において、
前記拘束手段が、Ｖ溝（２１）と、前記Ｖ溝（２１）の側面上で支持される球面（２０）とを有することを特徴とする装置。
【請求項２】
前記球面（２０）が前記支持フレーム（７）の球状要素から形成されており、かつ、前記球面（２０）が前記基板ホルダ（１０）から形成されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
Ｖ溝（２１）とそれぞれ相互作用する複数の球面が設けられ、それらの前記Ｖ溝（２１）が共通点の方に向いて配列していることを特徴とする前出請求項のいずれかに記載の装置。
【請求項４】
前記マスクリフト装置が、前記リアクタハウジング（２）の外側に配置された駆動装置により鉛直方向に変位可能である少なくとも１つの支持柱（８）を有することを特徴とする前出請求項のいずれかに記載の装置。
【請求項５】
前記基板ホルダリフト装置が、前記リアクタハウジング（２）の外側に配置された駆動装置により鉛直方向に変位可能である少なくとも１つの支持柱（１１）を有することを特徴とする前出請求項のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
前記マスクリフト装置及び／又は前記基板ホルダリフト装置が、前記リアクタハウジング（２）に接続されたフレーム上で案内され水平方向に延在するマスクリフトプレート（９）又は基板リフトプレート（１２）を有することを特徴とする前出請求項のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
特にベローズ機構である気密性の運動伝達手段が設けられ、それによって前記駆動装置の鉛直運動が前記支持柱（８、１１）に伝達されることを特徴とする前出請求項のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
前記マスク（４）が前記基板（１３）の表面に接触して載置される前記マスク機構（３）の処理位置において、前記マスクリフト装置の前記支持柱（８）が、前記リアクタハウジング（２）に機械的に結合したフレームに取り付けられたマスクリフトプレート（９）から機械的に切り離されていることによって、前記支持フレーム（７）が前記基板ホルダ（）１０）のみにより支持されることを特徴とする前出請求項のいずれかに記載の装置。
【請求項９】
前記支持柱（８）の前記マスクリフトプレート（９）からの機械的な切り離しは、前記支持柱（８）と前記マスクリフトプレート（９）との間の間隙（１４）の形成により得られることを特徴とする前出請求項のいずれかに記載の装置。
【請求項１０】
前記マスクリフトプレート（９）から機械的に切り離された前記支持柱（８）をその位置に保持するための保持バネ（１８）を特徴とする前出請求項のいずれかに記載の装置。
【請求項１１】
中心の支持柱（１１）が前記基板ホルダ（１０）を支持すると共に、前記支持柱（１１）の周囲に配置された複数の支持柱（８）が前記支持フレーム（７）を支持することを特徴とする前出請求項のいずれかに記載の装置。
【請求項１２】
前記支持フレーム（７）に対する前記マスクキャリア（６）の位置を調整するための調整装置（１００、２００）であって、前記支持フレーム（７）上で前記調整装置（１００、２００）が、アクチュエータ（１２１、２２１）により鉛直方向に変位可能である制御ロッド（１０８、２０８）と係合することを特徴とする前出請求項のいずれかに記載の装置。
【請求項１３】
前記制御ロッド（１０８、２０８）が、外部環境に対して気密態様でシールされたリアクタハウジング（２）の外側から気密性の運動伝達手段を用いて変位可能であることを特徴とする前出請求項のいずれかに記載の装置。
【請求項１４】
基板（１３）上にマスク（４）を適用することにより構造化された層を堆積するための装置であって、支持フレーム（７）に対するマスクキャリア（６）の位置を調整するための調整装置（１００、２００）と、前記マスクキャリア（６）、前記調整装置（１００、２００）、及び前記マスクキャリアにより担持されかつ前記マスクを有するマスク機構（３）と共に前記支持フレーム（７）を鉛直方向にマスク変更位置から処理位置へと変位させることができるマスクリフト装置と、前記基板ホルダ（１０）を鉛直方向に搭載位置から処理位置へと鉛直方向に変位させることができる基板ホルダリフト装置とを有し、その場合、前記マスクリフト装置及び前記基板ホルダリフト装置がそれぞれ、前記リアクタハウジング（２）の外側に配置された駆動装置により鉛直方向に変位可能である少なくとも１つの支持柱（８、１１）を有し、その場合、前記マスクリフト装置の前記支持柱（８）の変位が、前記リアクタハウジング（２）に接続されたフレーム上で案内され水平方向に延在するマスクリフトプレート（９）により行われる、前記装置において、
前記マスク（４）が前記基板（１３）の表面に接触して載置される前記マスク機構（３）の処理位置において、前記マスクリフト装置の前記支持柱（８）が、前記マスクリフトプレート（９）から機械的に切り離されていることによって、前記支持フレーム（７）が前記基板ホルダ（１０）のみによって支持されることを特徴とする装置。
【請求項１５】
前記基板ホルダリフト装置が、前記リアクタハウジング（２）に接続されたフレーム上で案内され水平方向に延在する基板リフトプレート（１２）を有することを特徴とする請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
特にベローズ機構である気密性の運動伝達手段が設けられ、それによって前記駆動装置の鉛直方向の運動が前記支持柱（８、１１）に伝達されることを特徴とすることを特徴とする請求項１４又は１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記支持柱（８）の前記マスクリフトプレート（９）からの機械的な切り離しは、前記支持柱（８）と前記マスクリフトプレート（９）との間の間隙（１４）の形成により得られることを特徴とする請求項１４〜１６のいずれかに記載の装置。
【請求項１８】
前記マスクリフトプレート（９）から機械的に切り離された前記支持柱（８）をその位置に保持するための保持バネ（１８）を特徴とする請求項１４〜１７のいずれかに記載の装置。
【請求項１９】
中心の支持柱（１１）が前記基板ホルダ（１０）を支持すると共に、前記支持柱（１１）の周囲に配置された複数の支持柱（８）が前記支持フレーム（７）を支持することを特徴とする請求項１４〜１８のいずれかに記載の装置。
【請求項２０】
前記支持フレーム（７）に対する前記マスクキャリア（６）の位置を調整するための調整装置（１００、２００）であって、前記支持フレーム（７）上で前記調整装置（１００、２００）が、アクチュエータ（１２１、２２１）により鉛直方向に変位可能である制御ロッド（１０８、２０８）と係合することを特徴とする請求項１４〜１９のいずれかに記載の装置。
【請求項２１】
前記制御ロッド（１０８、２０８）が、外部環境に対して気密態様でシールされたリアクタハウジング（２）の外側から気密性の運動伝達手段を用いて変位可能であることを特徴とする請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
前出請求項のいずれかに記載の１又は複数の特徴的構成を特徴とする装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上にマスクを適用することにより構造化された層を堆積するための装置に関し、装置は、支持フレームに対するマスクキャリアの位置を調整するための調整装置と、マスクキャリア、調整装置、及びマスクキャリアにより担持されかつマスクを具備するマスク機構と共に支持フレームを鉛直方向にマスク変更位置から処理位置へと変位可能とするマスクリフト装置と、基板ホルダを鉛直方向に搭載位置から処理位置へと変位可能とする基板ホルダリフト装置とを有する。
【背景技術】
【０００２】
本発明の装置は、例えばガラスからなる平坦な基板上にＯＬＥＤを堆積するために用いられる。このような装置は、粉体有機開始材料を蒸気に変換するために、例えば特許文献１に記載されたソース配置を用いる。気化した開始材料は、例えば特許文献２に記載のように搬送ガスと共にガス入口装置へと搬送される。ガス入口装置は、シャワーヘッドである。それは、コーティングされる基板の実質的に全体亘って延在する拡張表面を有する。ガス入口装置のガス出口面には、多数のガス出口孔があり、それらを通って蒸気がプロセスチャンバに入る。ガス入口装置の領域での蒸気の凝縮を回避するために、ガス入口装置は加熱される。ガス入口装置の下方にはプロセスチャンバが位置し、その床は基板ホルダにより形成されている。基板は、基板ホルダ上に載置される。特許文献３に記載されるように、基板ホルダは、搭載位置から処理位置へと鉛直方向に変位させることができる。処理位置において、フレームにより保持されたマスクが基板上に置かれる。それはシャドウマスクの形態をとり、コーティングプロセス中、ガス入口装置に対向する基板の広い面上に接触して載置されている。この手段により、構造化された層が堆積される。堆積プロセスは、実質的に、基板表面におけるマスクによりカバーされていない部分上での蒸気の凝縮である。このために、本発明の基板ホルダは、例えばそれに冷媒を通過させることによって能動的に冷却される。マスクも含め基板表面の冷却は、マスク又は基板表面から基板を通って基板ホルダ内への熱フローにより生じる。基板が変更されるとき、マスクと基板との間の接触が取り除かれることによって、熱放散が低減してマスクの加熱を生じる。このことは、熱膨張によるマスク幾何学形状の歪みを生じさせる。これを回避するために、上述した特許文献３では、基板又はマスクを変更するときに入口装置と基板ホルダとの間に導入される遮蔽板を提案している。
【０００３】
基板ホルダと、マスク機構のための支持フレームとを鉛直変位させるための装置は、特許文献４、５、６及び７からも公知の技術である。支持フレームと基板ホルダとは、実質的に互いに独立して鉛直方向に変位可能である。その場合、装置の動作中、マスクリフト装置の支持フレームが先ず、マスク変更位置から処理位置へとマスクリフト装置により鉛直変位させられ、そしてその後、基板ホルダが、基板ホルダリフト装置により搭載位置から処理位置へと変位させられる。鉛直変位行程は、数デシメートルとすることができる。この長い変位行程は、数ミクロンのマスクの構造寸法とは対照的である。不可避の振動及び不可避の公差のため、支持フレームに対する基板ホルダの再現性ある位置決めは、極めて困難である。さらに、支持柱を形成する長い鉛直アームによって、基板ホルダに対する支持フレームの鉛直方向の振動、及びそれによる基板ホルダに対するマスクの振動は避けることができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第2012/175128号パンフレット
【特許文献２】独国特許出願公開第10 2014 116 991号明細書
【特許文献３】独国特許出願公開第10 2010 000 447号明細書
【特許文献４】国際公開第2007/023 533号パンフレット
【特許文献５】韓国特許出願公開第2014 0100119号明細書
【特許文献６】韓国特許出願公開第2014 0115484号明細書
【特許文献７】国際公開第 2006/090 748号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、基板ホルダを、その処理位置において支持フレームに対して、より安定させる手段を特定することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的は、請求の範囲で特定された本発明により達成される。その場合、従属項は従来技術の有利な進展であるだけでなく、個々の目的達成も示している。従属項で特定された発明は、互いに組み合わせることができ、それらの場合、問題とする目的に不要な特徴を省略することもできる。
【０００７】
本発明の装置は、例えばスクリーン、ディスプレイ又はソーラーセル等の光学的にアクティブな平坦素子を作製するために、平坦な基板上に有機物質を堆積させるために用いられる。装置は、リアクタハウジングを有し、その中には特にシャワーヘッドの形態のガス入口装置がある。ガス入口装置は、プロセスチャンバ内へ導入される蒸気の開始材料がガス入口装置上で凝縮しないような高温に加熱される。基板は基板ホルダ上に載置され、基板ホルダは、シャワーヘッドから鉛直方向に離れた搭載位置から、ガス入口装置のガス出口面から短い鉛直方向距離に配置される処理位置まで変位可能である。基板上に堆積する層を構造化するためにマスクが設けられ、マスクはキャリア装置により担持される。マスクキャリア装置は、マスク機構を担持してリアクタハウジング内で鉛直方向にマスク変更位置から処理位置へと変位可能であるマスクキャリアを有する。処理位置において、マスクは基板表面上の接触位置に載置される。
【０００８】
基板ホルダは、別のリフト装置によりその搭載位置から処理位置へと変位させられる。このために好ましくは、リアクタハウジングの外側に配置された駆動装置により鉛直方向に変位可能である基板リフトプレートが設けられる。基板リフトプレートは、支持柱を担持する。しかしながら、複数の支持柱があることも可能である。支持柱は、外部環境に対して気密態様でシールされたリアクタハウジングの内側に配置されている。マスク機構を支持する支持フレームもまた、リアクタハウジングの内側に配置された１又は複数の支持柱により支持されている。その場合、ベローズ機構等の運動伝達手段が設けられることによってリアクタの外側から支持柱を鉛直方向に変位させる。したがって、運動伝達手段は、気密性の運動伝達手段である。よって、基板リフトプレート及びマスクリフトプレートは、ハウジングの外側に位置する。
本発明によれば、支持フレームをその処理位置において基板ホルダに接続するための拘束手段が設けられる。特に、その拘束手段は、それ以外の場合にはマスクリフト装置の支持柱により実行される支持機能を、基板ホルダが引き受けるように構成されている。本発明では、基板ホルダがその処理位置に変位させられたとき、基板ホルダは拘束手段により支持フレームに直接接続される。拘束手段は、Ｖ溝と球面の形態をとることができる。球面は、好ましくは、支持フレームに割り当てられた球状要素から形成される。これらの球状要素は、Ｖ溝の傾斜側面上で支持される。３つの球状要素の３つのＶ溝との相互作用により静的に決定された拘束位置が得られる。その場合、それらのＶ溝の頂点ラインが、共通点で交差することが好ましい。
基板のコーティングを実行するために、装置は先ず、以下に記載するようにセッティングされる。これは、基板ホルダ上に基板を載置せずに行うことができる。搭載のために、基板ホルダは、鉛直方向に降下した搭載位置において基板を搭載される。基板の予備的な配列は、このプロセス中に行われる。その後、基板ホルダは、その拘束手段により支持フレームの下面を把持するまで基板ホルダリフト装置により上昇させられる。マスク機構は未だ上昇位置にあることができ、それによってマスクが基板表面に接触しない。しかしながら、基板ホルダが支持フレームに対するその拘束位置に到達したときに、マスクが基板表面に接触することも可能である。基板ホルダはこの位置より上方に持ち上げられるが、マスクリフトプレートは動かない。この結果、更なるリフト運動によって、支持フレームがマスクリフトプレートから鉛直方向にさらに離れるように移動させられる。マスクリフト装置の少なくとも１つの支持柱は、好ましくは支持フレームにのみ固定されておりマスクリフトプレートには固定されていないので、支持柱の下端はマスクリフトプレートから離れ、それによって支持柱はマスクリフトプレートから機械的に切り離される。したがって、マスクリフトプレートの振動は、支持柱へ伝達されず、よって支持フレームへも伝達されない。しかしながら、機械的な切り離し中、基板ホルダに対する支持フレームの装着の静的な決定が保持されることが重要である。
必要に応じて、その後マスクを基板との接触位置へと降下させるために鉛直調整を用いることができる。マスク変更中又は基板変更中に、加熱されたガス入口装置のガス出口面の前に配置される遮蔽板が、堆積プロセスの開始前にリアクタハウジングのプロセスチャンバから取り除かれる。堆積プロセスが完了した後、マスクリフト装置の支持柱をマスクリフトプレートに再び適宜の態様で機械的に結合させるために、支持柱の、切り離された端部の位置を保持するバネ要素が設けられている。
【０００９】
調整装置を設けることができる。調整装置は、マスク機構を載置するマスクキャリアを支持する支持フレーム上に装着されている。その場合、マスク機構は、マスクを把持するフレームを有する。マスクフレームは、マスクキャリアに対する規定された位置を維持するように、適切な手段によりマスクキャリアに拘束することができる。調整装置は、好ましくは、旋回ベアリングの回転軸の周りで回転可能であるように装着された調整レバーを有する。
調整レバーは２つのアームを有する。１つのアームは鉛直方向に装着された制御ロッドと係合する。制御ロッドは、リアクタハウジングの開口を通って気密性のリアクタハウジングの外側の領域へと延在し、そこにアクチュエータが設けられており、それにより制御ロッドはその延在方向に変位することができる。このような調整装置は、鉛直調整装置又は水平調整装置の形態をとることができる。好適な装置は、鉛直調整装置及び水平調整装置の双方を有する。制御ロッドガイド内で制御ロッドを案内することにより、制御ロッドガイドの下端に配置されたアクチュエータユニットの位置とは所定の独立性がある。制御ロッドの上端は、支持フレームに固定的に取り付けることができ、そして下端は、アクチュエータユニットのハウジングに固定的に取り付けることができる。
アクチュエータユニットは、好ましくは、鉛直調整装置の調整レバーを調整するためのアクチュエータと、水平調整装置の調整レバーを調整するためのアクチュエータとを収容している。好ましくは制御ロッドが引きロッドの形態をとるので、制御ロッドガイドが支持フレームへ圧力を伝達するか、又は、アクチュエータユニットのハウジングに取り付けられることが重要となる。しかしながら、それらが支持フレームにすなわちアクチュエータユニットのハウジングに引張に抗する態様で接続されることも好ましく、それによって制御ロッドが引き−押しロッドとして作用することができる。特に支持フレームを支持する支持柱を支持するマスクリフトプレートが開口を有することができ、それを通して、アクチュエータユニットに接続された制御ロッドガイドが自由に通過している。この構成により、例えば支持柱をマスクリフトプレートから機械的に切り離すために、支持フレームをマスクリフトプレートに対して変位させることができる。ここでも、リアクタハウジングの外側に配置されたアクチュエータの鉛直運動をリアクタハウジング内に配置された制御ロッドに伝達するために、気密性の運動伝達手段が設けられている。ここでも、好ましくはベローズ機構が用いられる。
以下、本発明の実施形態の例が添付の図面を用いて説明される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本質的構成要素及びそれらの相互作用を明確とするために高度に概略化した態様で鉛直断面における装置の断面を示し、マスクリフト装置がマスク変更位置に位置し、かつ基板ホルダリフト装置が搭載位置に位置している。
【図２】図２は、図１と同様の図を示すが、マスクリフト装置が処理位置に変位している。
【図３】図３は、図２に続く図を示すが、基板ホルダリフト装置が処理位置に変位している。
【図４】図４は、図３に続く図を示すが、基板リフトプレート１２が僅かに上昇し、又は、マスクリフトプレート９が僅かに降下することによって、間隙１４が形成されている。
【図５】図５は、図４に続く図を示すが、基板ホルダ１０に基板１３を搭載した後、基板ホルダ１０を処理位置とし、コーティングされる基板１３の基板表面上にマスク４を降下している。
【図６】図６は、支持フレーム７に対するマスクキャリア６の水平位置及び鉛直位置を調整可能とする鉛直調整装置１００及び水平調整装置２００の配置を示すために、支持フレーム７に対する概略平面図を示す。
【図７】図７は、水平調整装置２００の調整面２０１を概略的に示す。
【図８】図８は、プリズムジョイント２１０を概略的に示す。
【図９】図９は、鉛直調整装置１００の調整レバー１０１を概略的に示す。
【図１０】図１０は、図１のＸの詳細拡大図を示す。
【図１１】図１１は、図４のＸＩの詳細拡大図を示す。
【図１２】図１２は、図１１のＸＩＩの詳細拡大図を示す。
【図１３】図１３は、本発明による装置の台フレームの斜視図を示す。
【図１４】図１４は、支持フレーム７に対する平面図、及び支持フレーム７のポケットに配置された調整装置１００、２００を示す。
【図１５】図１５は、図１３に示す装置の幾つかの部品の展開図を示す。
【図１６】図１６は、図１４のラインＸＶＩ−ＸＶＩに沿った断面図を示す。
【図１７】図１７は、図１６のＸＶＩＩの詳細拡大図を示す。
【図１８】図１８は、図１６のＸＶＩＩＩの詳細拡大図を示す。
【図１９】図１９は、図１６のＸＩＸの詳細拡大図を示す。
【図２０】図２０は、図１９に示す拡大図の領域であるが、図１４のラインＸＸ−ＸＸに沿った断面図を示す。
【図２１】図２１は、旋回ベアリング１０６、２０６を形成するリーフスプリング２７の斜視図を示す。
【図２２】図２２は、図２１のラインＸＸＩＩに沿った断面図を示す。
【図２３】図２３は、図２１のラインＸＸＩＩＩ−ＸＸＩＩＩに沿った断面図を示す。
【図２４】図２４は、鉛直調整装置１００の斜視図を示す。
【図２５】図２５は、調整レバー１０１に対する平面図を示す。
【図２６】図２６は、図２５のラインＸＸＶＩ−ＸＸＶＩに沿った断面図を示す。
【図２７】図２７は、水平調整装置２００の斜視図を示す。
【図２８】図２８は、水平調整装置を示す。
【図２９】図２９は、図２８のラインＸＸＩＸ−ＸＸＩＸに沿った断面図を示す。
【図３０】図３０は、第２の例示的実施形態の水平調整装置を示す。
【図３１】図３１は、図３０の水平調整装置に対する平面図を示す。
【図３２】図３２は、図３１のラインＸＸＸＩＩ−ＸＸＸＩＩに沿った断面図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
図１〜図１２は、以下に説明する本発明の動作及び構成の説明に関する詳細を概略的に示す。
【００１２】
鋼製のリアクタハウジング２は、外部環境に対して気密態様でシールされ、真空にすることができる。このために真空ポンプ（ここでは図示せず）が設けられる。さらに、リアクタハウジング２は閉鎖可能な開口を有し、それを通してマスク４及びマスクフレーム５からなるマスク機構をリアクタハウジング２内に挿入することができる。リアクタハウジング２の壁も開口（図示せず）を有し、それを通して基板を搭載することができる。
【００１３】
鉛直方向に変位可能な基板リフトプレート１２は、リアクタハウジング２を担持できるフレーム（図示せず）に装着されている。基板リフトプレート１２は、開口を通してリアクタハウジング２内に突出する支持柱１１を担持する。支持柱１１はそこで基板ホルダ１０を担持し、基板ホルダ１０は冷却チャネル２３を有し、それを通して冷媒が基板ホルダ１０の基板支持面を冷却するために流れることができる。リアクタハウジング２において、開口を通して気密態様で支持柱１１を動作可能とするために、運動伝達手段、例えばベローズを設けることができる。
【００１４】
基板ホルダ１０の鉛直上方には、シャワーヘッドの形態のガス入口装置１があり、それは図示しない加熱要素を有することができ、加熱要素は、ガス入口装置１を通って下方のプロセスチャンバ内に導入される有機原材料の蒸気が凝縮しない温度にガス入口装置１を加熱する。
【００１５】
リアクタハウジング２の外側には、マスクリフトプレート９も配置されており、それも鉛直方向に変位可能である。支持柱１１は、マスクリフトプレート９の開口を通過することができる。ここでも、マスクリフトプレート２の運動を気密態様でリアクタハウジング２内に伝達するために適切な運動伝達手段を設けることができる。マスクリフトプレート９は、複数の支持柱８を担持しており、それらは開口を通ってリアクタハウジング２内に突出している。それらの上端において、支持柱８は支持フレーム７を支持し、その中には３つの鉛直調整装置１００及び３つの水平調整装置２００が配置されている。図１〜図６では、それらは符号のみで表され、図７〜図９では機能に関して符号のみで表される。
【００１６】
支持柱８の下端は、マスクリフトプレート９上でのみ支持されている。それらの支持柱８は、図示の間隙１４を調整できるように、それらが鉛直方向にマスクリフトプレート９から離れて変位可能であるようにバネ要素２２によりマスクリフトプレート９に接続されている。そのとき支持柱８は、マスクリフトプレート９から切り離されている。
【００１７】
支持柱８は中空である。制御ロッドガイド１０９は、鉛直調整装置１００の制御ロッド１０８のためにマスク支持柱の空洞内に延在し、制御ロッドガイド２０９は、水平調整装置２００の制御ロッド２０８のためのマスク支持柱の空洞内に延在している。１つの制御ロッドガイド１０９及び１つの制御ロッドガイド２０９は、それぞれマスクリフトプレート９の開口１７を通過し、そしてそれらの下端はアクチュエータユニット１６のハウジングに接続されている。したがって、アクチュエータユニット１６は、直接的にマスクリフトプレート９に接続されていない。アクチュエータユニット１６には、制御ロッド１０８を制御ロッドガイド１０９内で変位させるための第１のアクチュエータ１２１が配置され、そして制御ロッド２０８を制御ロッドガイド２０９内で変位させるための第２のアクチュエータ２２１が配置されている。
【００１８】
鉛直調整装置１００は、旋回ベアリング１０６を具備する調整レバー１０１をそれぞれ有する。旋回ベアリング１０６の回転軸１０７同士は、支持フレーム７により囲まれた面内にある点Ｐ１で交差する（図６参照）。
【００１９】
水平調整装置２００は３つの調整レバー２０１を有し、それらは、大凡、３つの調整レバー１０１も配置されているところに配置されている。調整レバー２０１はさらに、旋回ベアリング２０６の周りで回転可能である。旋回ベアリング２０６の回転軸２０７同士は、点Ｐ２において交差する。点Ｐ１と点Ｐ２の位置は、原理的には任意とすることができる。しかしながら好ましくは、点Ｐ１と点Ｐ２がほぼ一致している。図６に一点鎖線で示される軸１０７、２０７は、好ましくは１２０°の角度αをなす。しかしながら、その角度は１００°〜１６０°の範囲内とすることもできる。
【００２０】
図７は、水平調整装置２００の単一要素の構成を概略的に示している。支持フレーム７に固定的に接続された旋回ベアリング２０６は、特に遊びなしで、ここではアングルレバーとして構成された調整レバー２０１をリーフスプリングベアリングを用いて支持する。短尺レバーアーム２０３の約５倍の長さである長尺レバーアーム２０２が水平方向に延在し、一方、短尺レバーアーム２０３は鉛直方向に延在する。長尺アーム２０２の自由端における関節点２０４において制御ロッド２０８が関節接続され、制御ロッド２０８は管状の制御ロッドガイド２０９内で鉛直方向に変位可能である。短尺アーム２０３の自由端における関節点２０５においてリンクアーム２１０が関節接続され、リンクアーム２１０は他方で柱２２２に関節接続され、柱２２２はマスクキャリア６に固定的に接続されている。
【００２１】
制御ロッド２０８が鉛直方向に変位する場合、調整レバー２０１がその旋回ベアリング２０６の周りで回転することで、図７の両矢印の方向の水平運動となる短尺アーム２０３上の関節点２０５の変位を生じさせる。この水平運動は、剛体柱２２２を介してマスクキャリア６に伝達される。
【００２２】
図８は、リンクアーム２１０の好ましい構成の例を示す。リンクアームは、端部片２１３及び２１４により短尺アーム２０３の関節点２０５及び柱２２２に接続される。端部片２１３、２１４の互いに対向する側には凹部２１６を有し、その中で、押しロッド２１１の互いに反対向きの先端２１５が支持されている。各凹部２１６はカップ状の最下点を有し、そこで先端２１５が支持されている。端部片２１３、２１４は、反対側にも凹部２１６’を有し、その中で支持要素２１７、２１７’が支持されている。支持要素２１７、２１７’は、引張部材２１２により互いに接続されている。ここで、これらは、一端を支持要素２１７に取り付けられた引きロッドの形態をとる。それらの他端は、他方の支持要素２１７’の通路２１８を通過する。先端２１５の反対側では、ここでは圧縮バネであり支持要素２１７’上で支持されるバネ要素２２０が引張部材２１２により貫通され、それらのバネ要素２２０の他端は、引張部材２１２の端が取り付けられた接続片２１９により作用されることによって、バネ要素２２０が、凹部２１６に割り当てられた凹部２１６内の先端２１５を保持する引張力を形成する。
【００２３】
図９は、鉛直調整装置１００の要素の調整レバー１０１の構成及びベアリング機構を概略的に示す。それは、短尺アーム１０３の約５倍の長さである長尺レバーアーム１０２を具備する２アームレバーの形態をとる。２つのアーム１０２及び１０３は、１８０°の角度で水平方向に延在している。しかしながら、それらは互いに９０°の角度でも延在することができる。長尺レバーアーム１０２の自由端において、管状の制御ロッドガイド１０９により案内される制御ロッド１０８が、関節点１０４で関節接続されている。短尺アーム１０３の自由端において、マスクキャリア６の下に係合する押しロッド１１０が関節点１０５で関節接続されている。押しロッド１１０は、関節点１１１においてスライド又は関節接続の態様でマスクキャリア６と係合している。制御ロッド１０８が鉛直方向に変位した場合、この鉛直変位は、押しロッド１１０の鉛直変位へと縮小される。さらに、任意のバネ要素１２０が設けられ、バネ要素１２０は、押しロッド１１０がマスクキャリア６に対して単純にスライド接続されている場合にマスクキャリア６に対して鉛直方向に付加的な引張力を印加する。
【００２４】
図１１及び図１２は、基板ホルダ１０の上部を示す。基板ホルダ１０は、Ｖ溝の形態の拘束要素２１を有する。Ｖ溝２１はここでは概略のみを示す。それは延長部２４に設けられている。全部で３つのＶ溝２１が設けられる。それらのＶ溝２１の頂点ラインは共通点で交差する。Ｖ溝２１は水平面内に延在する。Ｖ溝２１は上方に開いている。
【００２５】
支持フレーム７は、その下面に球を有し、それはＶ溝の側面上で支持される球面２０を形成する。Ｖ溝２１と球面２０により形成されるこの拘束手段により、支持フレーム７は、基板ホルダ１０により静的に決定された態様で直接支持されることができる。その結果、基板ホルダ１０と支持フレーム７との間の剛性かつ特に耐振動性の接続が得られる。支持フレーム７は、調整レバー１０１及び２０１によって、マスクフレーム５を担持するマスクキャリア６に機械的に剛接合されている。
【００２６】
マスク変更後の装置のセッティングは、好ましくは以下のステップにより行われる。
【００２７】
図１に示す位置では、基板ホルダ１０と、支持フレーム、マスクキャリア６及び調整装置１００、２００により形成されるマスクキャリア装置との双方が、それぞれ変更位置を占める。基板は、支持面１０’を形成する基板ホルダ１０の上面に配置することができる。そのマスクフレーム５を具備する別のマスクを、マスクキャリア６上に配置することができる。開口部を有する薄いマスク４がほぼ１つの面内に延在するように、マスクフレーム５上に引き伸ばされる。
【００２８】
交換されたマスク機構３を設けられたマスクキャリア６は、マスクリフトプレート９を変位させることによって図２に示す処理位置へと上方に変位させられる。
【００２９】
その後、基板リフトプレート１２の変位により、基板ホルダ１０が上方に、球面２０が未だＶ溝２１内で支持されていない図３に示す位置に持ち上げられる。
【００３０】
その後、基板ホルダ１０が、マスクリフトプレート９に対して上方に変位させられるか、又は、マスクリフトプレート９が下方に僅かに変位させられる。この基板リフトプレート１２とマスクリフトプレート９との間の相対的変位により、球面２０がＶ溝２１に入り込む。マスクリフトプレート９と支持フレーム７との間の距離が大きくなる。支持柱８は、引張に抗する態様ではマスクリフトプレート９に接続されていないので、図４に符号１４で示すように支持柱８とマスクリフトプレート９との間に間隙が形成される。支持フレーム７は、もはやマスクリフトプレート９によって支持されておらず、基板ホルダ１０のみによって支持され、特に球面２０がＶ溝２１の側面上でそれぞれ支持される３つの支持点において支持されている。
【００３１】
次のステップでは、図４に示す動作位置において、マスク４の縁と基板ホルダ１０との間の鉛直方向の距離が、近接スイッチの形態をとり得る図１１に示す距離センサ２５により少なくとも３つの位置において決定され、好ましくは鉛直調整装置１００の要素が配置された３つの位置において決定される。それらの鉛直方向の距離が均等になるまで、鉛直調整装置１００の調整レバー１０１を用いてそれらの鉛直方向の距離が変更される。その後、マスク４は、基板ホルダ１０に対して平行に位置する。
【００３２】
しかしながら、本発明の変形形態では、距離センサ２５を支持フレーム７に取り付けることもできる。
【００３３】
マスク４が基板ホルダ１０の上面１０’に対して平行な位置とされた後、基板ホルダ１０は、基板１３を搭載するためにその搭載位置（図２）へと降下させて戻すことができる。その後、基板ホルダ１０は処理位置へと変位させられ、そこではマスク４が、最初はまだ基板１３の上面から例えば０．５ｍｍの僅かな離間距離を有している。マスク４は、水平調整装置２００及び画像調整補助具（図示せず）を用いて基板１３に対して水平方向に調整することができる。このために、マスクの配列マーク（図示せず）が基板の配列マーク（図示せず）と一致させられる。調整レバー１０１、及び各短尺アーム１０３のマスクキャリア６との関節的な接続によって、マスクキャリア６は、面内で線形にのみ変位できるのではない。マスクキャリア６は回転することもできる。調整補助具は、基板ホルダに取り付けられたレーザーを有することができ、そしてそのレーザービームがマスクに向かう方向に向けられる。
【００３４】
図１３〜図３２は、基板上に有機分子を堆積するための本発明の装置を詳細に示す。図１３の斜視図は、マスクリフトプレート９及び基板リフトプレート１２が互いに実質的に独立して鉛直方向に変位可能であるフレームを具備する台フレームを示す。マスクリフトプレート９及び基板リフトプレート１２の変位のために電気的駆動部が設けられる。マスクリフトプレート９により、マスクキャリア６を担持する支持フレーム７が鉛直方向に変位可能であり、マスクキャリア６は他方では、シャドウマスク（図示せず）が取り付けられたマスクフレーム５を担持する。シャドウマスクは、鉛直方向において僅かだけ撓むようにマスクフレーム５に対して挟持される。基板ホルダ及びそれに載置される基板は、気密性のリアクタハウジングであるのでこの図では隠れている。
【００３５】
図１４は、マスクキャリア６を取り外した支持フレーム７の方を向いた平面図である。支持フレーム７は、長方形の輪郭と、水平調整装置２００が中に配置されたポケット２８とを有する。それらのポケット２８は上方に開いており、鉛直調整装置１００が中に配置されたポケット２９も同様である。各鉛直調整装置１００は、それぞれ押しロッド１１０を有する。それらの押しロッド１１０は、三角形の頂点に配置されている。水平調整装置２００は、水平方向に変位可能な柱２２２を有する。柱２２２もまた、三角形の頂点に配置されている。
【００３６】
２つの調整装置は、支持フレーム７の短いレグ上に、その延在方向に前後して位置している。鉛直調整装置１００は、水平調整装置２００と並んで延在している。押しロッド１１０と柱２２２は、鉛直調整装置１００及び水平調整装置２００により形成される配置における互いに反対側の２つの端部に位置している。
【００３７】
鉛直調整装置１００及び水平調整装置２００の２つの更なる鏡像配置が、もう一方の短いフレームレグの隅領域に配置されている。ここでも、鉛直調整装置１００が、水平調整装置２００の隣に配置され、押しロッド１１０が柱２２２の反対側に配置されている。鉛直調整装置１００及び水平調整装置２００の配置は、調整レバー１０１、２０１の旋回ベアリング１０６、２０６がそれぞれ支持フレーム７により囲まれた領域内の点の方に向くようになっている。
【００３８】
図１５は、調整装置１００、２００の旋回ベアリング２０６、１０６が装着されるベアリング凹部３０を示す。これらは、それぞれ半円凹部の形態をとって互いに並んでおり、その中に旋回ベアリング１０６、２０６のスタブシャフトが配置されている。ベアリング凹部３０を上方にてロックするベアリングロック要素３１が設けられる。
【００３９】
図１７は、鉛直調整装置１００の断面を示す。調整レバー１０１は、旋回ベアリング１０６の周りで回転可能に装着されている。調整レバー１０１は、水平方向に延在する長尺アームを有する。長尺アーム１０２の端部における関節点１０４にて制御ロッド１０８が関節接続され、それは制御ロッドガイド１０９を通って延在している。バネ要素１２０が、やはり水平方向に延在する調整レバー１０１の短尺アーム１０３と係合している。短尺アーム１０３は、バネ要素により上方に引っ張られている。短尺アーム１０３上には、マスクキャリア６上で支持される押しロッド１１０もある。
【００４０】
図１８は、水平調整装置２００の複数の例の１つを示す。レバーアーム２０１が、旋回ベアリング２０６の周りに装着されている。レバーアームは、長尺レバーアーム２０２と、短尺レバーアーム２０３とを有する。長尺レバーアーム２０２は水平方向に延在し、そして関節点２０４において制御ロッド２０８と関節接続され、制御ロッド２０８は、制御ロッドガイド２０９を通って鉛直方向に延在している。
【００４１】
短尺レバーアーム２０３は、鉛直方向上方に延在している。リンクアーム２１０は、短尺レバーアーム２０３と関節接続されている。リンクアーム２１０は、押しロッド２１１とバネ要素２２０の形態の引張部材とを有する。押しロッド２１１は、その一端にて短尺アーム２０３上で支持され、その他端にて柱２２２上で支持され、柱２２２は曲げ抵抗を有する態様でマスクキャリア６に接続されている。バネ要素２２６は、柱２２２に対して下方への負荷を掛ける。バネ要素２２６はポケット２８の床に取り付けられている。
【００４２】
図１９は、マスクリフトプレート９を貫通する通路１７を示す。部品３５がマスクリフトプレート９に取り付けられ、その部品の上で端部プレート３３を支持可能である。ベローズ２６の形態の運動伝達手段が、端部プレート３３に取り付けられている。ベローズの外側は大気圧であり、ベローズの内側は真空又は低圧である。端部プレート２３の縁領域は、バネ２２により部品３４に対してバネ付勢されている。部品３４は、部品３５と同様に、マスクリフトプレート９に固定的に接続されている。マスクリフトプレート９が降下されるとき、端部プレート３３は部品３５から離れ、部品３４と部品３５との間の空間に浮くことができる。
【００４３】
部品３３はリング片３６を担持しており、リング片３６は、鉛直調整装置の制御ロッド１０８用の通路１２５、及び、水平調整装置２２の制御ロッド２０８用の通路２２５を形成している。それらのリング片２６は、それぞれベローズ２２３、１２３の端部分であり、それらの他端において、押しロッド１０８、２０８に固定的に接続されたリング片１２４、２２４を形成している。したがって、ベローズ１２３、２２３は、制御ロッド１０８及び２０８のための運動伝達手段を形成している。ベローズ１２３、２２３の内側は大気圧である。ベローズ１２３、２２３の外側は、真空又は低圧である。
【００４４】
リング片１２４、２２４の上方には、端部プレート３３に固定的に接続されたブリッジ３２がある。制御ロッドガイド１０９、２０９は両方とも管状の形態であり、ブリッジ３２上で支持されている。制御ロッド１０９、２０９が支持柱として機能できることによって、端部プレート３３が部品３５上に載置されたとき、マスクリフトプレート９により支持フレーム７を支持する。そのとき、ブリッジ３２は、端部プレート３３に剛性的に接続されていることが好ましい。
【００４５】
制御ロッド１０８、２０８の２つの下端は、アクチュエータ１２１、２２１に接続されている。図１９には示されていないアクチュエータハウジングは、端部プレート３３に、したがってブリッジ３２にも固定的に接続されている。
【００４６】
図２０の断面は、図１９と同様の、後方に変位した断面を示す。端部プレート３３は、ここでは球３７により部品３５に対して支持されている。部品３５は、ここでは２つのＶ溝３８を形成し、それらは互いに反対側に位置し、そしてその中に球３７が位置している。
【００４７】
図２１は、旋回ベアリング１０６及び２０６に用いられるリーフスプリング要素２７の斜視図を示す。中央領域４２が調整レバー１０１又は２０１を支持する。このために調整レバーが円形孔を有し、その円形孔は、中央領域４２が旋回ベアリング１０６又は２０６のベアリング孔内に回転可能に固定されて位置するようにクランプ螺子を用いて狭めることができる。
【００４８】
両方の軸方向において、調整レバー１０１、２０１の広い面からスタブシャフト４１、４３が突出している。リーフスプリング２７の２つの部分の間、すなわちスタブシャフト４１の領域と中央領域４２との間及びスタブシャフト４３の領域と中央領４２との間には、ジョイント４４が延在している。リーフスプリング２７の端部には、ウェブ３９又は４０がそれぞれ設けられ、ウェブ３９はスタブシャフト４１、３２の領域に配置され、そしてウェブ４０は中央領域４２に配置されている。中央領域４２が２つの外側のスタブシャフト４１、４３の領域に対して回転する場合、ウェブ３９、４０が曲がることによって、単に曲げの結果として摩擦のない態様で回転運動が生じ得る。その際、ジョイント４４の領域においてリーフスプリングの領域４２と４３が互いに対して回転方向に動く。
【００４９】
図２４〜図２６は、鉛直調整装置の調整レバー１０１を示す。押しロッド１１０は、開口１２６内に挿入される。旋回ベアリング１０６を形成するリーフスプリングは、ベアリングアイ１２７に挿入することができる。
【００５０】
図２７〜図２９は、水平調整装置の実施形態の一例を示す。調整レバー２０１は長尺アーム２０２を有し、その端部に関節点２０４が配置されている。リーフスプリング２７が、ベアリングアイ２２７に挿入される。短尺レバーアーム２０３は、短尺レバーアーム２０３を効果的に形成する端部片２１３を担持している。引張部材２１２は、端部片の一方の面上で支持されている。端部片２１３の他方の面上では押しロッド２１１が支持されている。引張部材２１２は空洞を有し、それを押しロッド２１１が通過している。押しロッド２１１は、マスクキャリア６に固定的に接続された柱２２上に置かれた他方の先端により、端部片２１４上で支持されている。引張部材２１２の一部２２８は、圧縮ばねとして構成されたバネ要素２２０の背面に係合する。バネ要素２２０は別の引張部材２３０の突起２２９上で支持されている。引張部材２３０は管形態を有し、バネ要素２２０をその外壁上で支持している。引張部材２３０は、端部片２１４に取り付けられている。引張部材は、ここでは互いにバネ付勢された２つの引張部材により形成されている。
【００５１】
図３０〜図３２は、水平調整装置２００の別の例示的実施形態を示し、その場合、引張部材２１２が互いに平行に延在する２つの引きロッドからなる。ここでも、調整レバー２０１が、旋回ベアリング２０６を形成するためのベアリングアイを有し、その中にリーフスプリングベアリング２７が挿入される。ベアリングアイは、リーフスプリングベアリング２７の中央領域に対して押圧することができる。この例示的実施形態の説明のために、図８の説明を参照する。
【００５２】
上記の説明は、本願により記録された発明を全体的に説明するためのものであり、それは、少なくとも以下の特徴の組合せにより及び各々独立しても従来技術をさらに進展させるものであり、その場合、２つ、複数、又は全てのこれらの特徴の組合せもまた組み合わせることができる。
【００５３】
調整装置１００、２００が、旋回ベアリング１０６、２０６の回転軸１０７、２０７の周りで回転可能であるように支持フレーム７上に装着された調整レバー１０１、２０１を有すると共に、第１のアーム１０１、２０２及び第２のアーム１０３、２０３を有し、前記第２のアーム１０３、２０３がマスクキャリア６と係合し、かつ、アクチュエータ１２１、２２１により鉛直方向に変位可能な制御ロッド１０８、２０８が第１のアーム１０２、２０２と係合することを特徴とする装置。
【００５４】
鉛直調整装置１００において、前記第２のアーム１０３及び前記第１のアーム１０２が水平方向に延在し、前記第２のアーム１０３が、前記マスクキャリア６に接続された押しロッド１１０と係合することを特徴とする装置。
【００５５】
水平調整装置２００において、前記第２のアーム２０３が鉛直方向に延在すると共に、前記第１のアーム２０２が水平方向に延在し、前記第２のアーム２０３が、前記第２のアームに関節接続されたリンクアーム２２０により前記マスクキャリア６に接続されていることを特徴とする装置。
【００５６】
前記第１のアームが前記調整レバー１０１、２０１の長尺アームであり、かつ前記第２のアームが前記調整レバー１０１、２０１の短尺アームであることを特徴とする装置。
【００５７】
前記水平調整装置２００の前記リンクアーム２２０がプリズムジョイントであり、押しロッド２１１の互いに反対側の先端２１５が、それぞれ端部片２１３、２１４の凹部２１６内で支持され、かつ、引張部材２１３が前記端部片２１３、２１４と係合すると共に前記凹部２１６内の前記先端２１５に対して負荷を掛けることを特徴とする装置。
【００５８】
前記引張部材２１２が取付点２１７において端部片２１３に固定的に接続され、前記引張部材により作用するバネ要素２２０が設けられ、前記バネ要素２２０が前記引張部材２１２上で支持されることにより一方の端部片２１４に対して他方の端部片２１３の方への力を印加することを特徴とする装置。
【００５９】
前記引張部材２１２が空洞を有し、それを通して前記押しロッド２１１が案内されることを特徴とする装置。
【００６０】
前記引張部材２１２が２つの入れ子要素を有し、前記要素のうちの内側の１つが、圧縮バネの形態のバネ要素２２０により囲まれていることを特徴とする装置。
【００６１】
前記旋回ベアリング１０６、２０６が、摩擦のないリーフスプリングベアリングであることを特徴とする装置。
【００６２】
前記長尺レバーアーム１０２、２０２が、前記短尺レバーアーム１０３、２０３の少なくとも５倍、好ましくは少なくとも６倍の長さであることを特徴とする装置。
【００６３】
前記マスクキャリア６と、前記調整レバー１０１、２０１と、前記支持フレーム７とが、外部環境に対して気密態様でシールされたリアクタハウジング２内においてマスクリフト装置により鉛直方向に変位可能であるように配置されており、前記制御ロッド１０８、２０８と、前記支持フレーム７に対して作用する支持柱とが、前記リアクタハウジング２の外側から気密性の運動伝達手段によって変位可能であることを特徴とする装置。
【００６４】
特にマスクリフトプレート９を有する前記マスクリフト装置が、前記リアクタハウジング２の外側に配置されていることを特徴とする装置。
【００６５】
前記調整レバー１０１、２０１の回転軸１０７、２０７が、前記支持フレーム７により囲まれた面内に位置する共通点Ｐ１、Ｐ２の方に向いていることを特徴とする装置。
【００６６】
３つの水平調整装置２００の各々、及び／又は、３つの鉛直調整装置１００の各々が設けられ、調整レバー１０１、２０１をそれぞれ有し、それらの回転軸１０６、２０６が、前記共通点Ｐ１、Ｐ２に対して１００°〜１６０°の角度で互いに離れて配置されていることを特徴とする装置。
【００６７】
前記制御ロッド１０８、２０８が、制御ロッドガイド１０９、２０９内で案内され、前記制御ロッドガイド１０９、２０９が、上端において圧力伝達態様で前記支持フレーム７に取り付けられると共に、それらの下端において圧力伝達態様でアクチュエータユニット（１６）のハウジングに取り付られ、特に、前記アクチュエータユニット１６が、前記鉛直調整装置の前記制御ロッド１０８を変位させるためのアクチュエータ１２１と、前記水平調整装置２００のアクチュエータ２２１とを有するように設けられていることを特徴とする装置。
【００６８】
駆動ユニットにより鉛直方向に変位可能であるマスクリフトプレート９が、開口１７を有し、それを通って前記アクチュエータユニットに接続された前記制御ロッドガイド１０９、２０９が延在することを特徴とする装置。
【００６９】
前記鉛直調整装置１００が前記マスクキャリア６と係合する位置において、前記マスク４の縁から前記基板ホルダ１０又は前記支持フレーム７までの鉛直方向の距離を検知するように装備された距離センサ２５が設けられていることを特徴とする装置。
【００７０】
前記距離センサ１９が誘導性又は容量性の近接スイッチ、又は、光学的距離計測装置であることを特徴とする装置。
【００７１】
以下のステップを有することを特徴とする方法。
−  マスクキャリア６を担持する支持フレーム７をマスク変更位置へと変位させるステップ。
−  マスク４を把持するマスクフレーム５を有するマスク機構３を前記マスクキャリア６上に配置するステップ。
−  前記マスクキャリア６及び前記マスク機構３と共に前記支持フレーム７を、前記マスク変更位置から処理位置へと鉛直方向に変位させ、前記マスクキャリア６が前記支持フレーム７に対して配列位置をとるステップ。
−  鉛直調整装置が前記マスクキャリア６と係合する３つの位置において、前記処理位置に変位させた前記マスク４の各縁から前記支持フレーム７又は前記基板ホルダ１０までの鉛直方向の距離１５を決定するステップ。
−  前記距離１５が均等になるまで前記鉛直調整装置１０を用いて前記距離を変更するステップ。
−  前記基板ホルダ１０を搭載位置へと変位させるステップ。
−  基板１３を前記基板ホルダ１０上に配置するステップ。
−  前記マスクキャリア６が前記配列位置にあるとき、前記基板ホルダ１０が前記マスク４から最小の前記距離１５を有する前記処理位置へと前記基板ホルダ１０を変位させるステップ。
−  前記マスク４が前記基板１３に対して配列位置に変位するまで、水平調整装置２００を用いて前記マスクキャリア６の水平方向の調整を行うステップ。
−  前記マスクを、前記配列位置から前記基板１３の表面に対する接触位置へと前記鉛直調整装置１００を用いて降下させるステップ。
【００７２】
前記鉛直調整装置１００及び／又は前記水平調整装置２００が調整レバー１０１、２０１を有し、前記調整レバー１０１、２０１は、前記リアクタハウジングの外側に配置されたアクチュエータ１２１、２２１により変位可能な制御ロッド１０８、２０８による鉛直方向の変位を含み、かつ、前記マスクキャリア６に接続された押しロッド１１０又はリンクアーム２１０に係合することを特徴とする方法。
【００７３】
中心の支持柱１１が前記基板ホルダ１０を支持し、かつ、前記支持柱１１の周囲に配置された複数の支持柱８が前記支持フレーム７を支持することを特徴とする装置。
【００７４】
前記基板ホルダ１０を、前記支持フレーム７の前記処理位置に拘束する拘束手段２０、２１を特徴とする装置。
【００７５】
前記拘束手段が、Ｖ溝２１と球面２０とを有することを特徴とする装置。
【００７６】
前記球面２０が、前記支持フレーム７の球状要素により形成され、かつ、前記球面２０が前記基板ホルダ１０により形成された前記Ｖ溝２１の側面上で支持されることを特徴とする装置。
【００７７】
Ｖ溝２１とそれぞれ相互作用する前記球状要素が設けられ、それらの前記Ｖ溝２１が共通点の方に向いて配列していることを特徴とする装置。
【００７８】
前記マスクリフト装置が、前記リアクタハウジング２の外側に配置された駆動装置により鉛直方向に変位可能である少なくとも１つの支持柱８を有することを特徴とする装置。
【００７９】
前記基板ホルダリフト装置が、前記リアクタハウジング２の外側に配置された駆動装置により鉛直方向に変位可能である少なくとも１つの支持柱１１を有することを特徴とする装置。
【００８０】
前記マスクリフト装置及び／又は前記基板ホルダリフト装置が、前記リアクタハウジング２に接続されたフレーム上で案内され水平方向に延在するマスクリフトプレート９又は基板リフトプレート１２を有することを特徴とする装置。
【００８１】
特にベローズ機構である気密性の運動伝達手段が設けられ、それによって前記駆動装置の鉛直方向の運動が前記支持柱８、１１に伝達されることを特徴とする装置。
【００８２】
前記マスク４が前記基板１３の表面に接触して載置されている前記マスク機構３の処理位置において、前記マスクリフト装置の前記支持柱８が、前記リアクタハウジング２に機械的に結合したフレームに取り付けられたマスクリフトプレート９から機械的に切り離されていることによって、前記支持フレーム７が前記基板ホルダ１０のみにより支持されることを特徴とする装置。
【００８３】
前記支持柱８の前記マスクリフトプレート９からの機械的な切り離しは、前記支持柱８と前記マスクリフトプレート９との間の間隙１４の形成により得られることを特徴とする装置。
【００８４】
前記マスクリフトプレート９から機械的に切り離された前記支持柱８をその位置に保持するための保持バネ１８を特徴とする装置。
【００８５】
中心の支持柱１１が前記基板ホルダ１０を支持すると共に、前記支持柱１１の周囲に配置された複数の支持柱８が前記支持フレーム７を支持することを特徴とする装置又は方法。
【００８６】
前記支持フレーム７に対する前記マスクキャリア６の位置を調整するための調整装置１００、２００であって、前記支持フレーム７上で前記調整装置１００、２００が、アクチュエータ１２１、２２１により鉛直方向に変位可能である制御ロッド１０８、２０８と係合することを特徴とする装置。
【００８７】
前記制御ロッド１０８、２０８が、外部環境に対して気密態様でシールされたリアクタハウジング２の外側から気密性の運動伝達手段を用いて変位可能であることを特徴とする装置。
【００８８】
開示されたすべての特徴は、（個別に、そして互いの組合せの双方において）本発明にとって不可欠である。本願の開示において、関連する／添付の優先書類の開示内容（先行出願の複写）もまた、本願の請求項にこれらの書類の特徴を組込む目的のために、ここに完全に包含される。従属項は、特にこれらの請求項に基づいて分割出願を行うために、先行技術の本発明の開発とは独立した構成を特徴とする。各請求項で特定される本発明は、上記の説明で説明された特徴、特に参照符号を備えた特徴および/または参照符号のリストで特定された特徴をさらに含むことができる。本発明はまた、特に個々の目的のために認識可能に不要であるか、または他の技術的に均等の手段で置き換えることができる限り、上記の説明で言及した特徴の各々が実装されない形態にも関連する。
【符号の説明】
【００８９】
１  ガス入口装置
２  リアクタハウジング
３  マスク機構
４  マスク
５  マスクフレーム
６  マスクキャリア
７  支持フレーム
８  支持柱
９  マスクリフトプレート
１０  基板ホルダ
１０’  支持面
１１  支持柱
１２  基板リフトプレート
１３  基板
１４  間隙
１５  距離
１６  アクチュエータユニット
１７  開口
１９  保持バネ
２０  球面
２１  Ｖ溝
２２  バネ要素
２３  冷却通路
２４  延長部
２５  距離センサ
２６  運動伝達手段、ベローズ
２７  リーフスプリング、リーフスプリングベアリング
２８  ポケット
２９  ポケット
３０  ベアリング凹部
３１  ベアリングロック要素
３２  ブリッジ
３３  端部プレート
３４  部品
３５  部品
３６  リング片
３７  球
３８  Ｖ溝
３９  ウェブ
４０  ウェブ
４１  スタブシャフト軸方向端部
４２  中央領域
４３  スタブシャフト軸方向端部
１００  鉛直調整装置
１０１  調整レバー
１０２  長尺アーム
１０３  短尺アーム
１０４  関節点
１０５  関節点
１０６  回転軸、旋回ベアリング
１０７  回転軸
１０８  制御ロッド
１０９  制御ロッドガイド
１１０  押しロッド
１２０  バネ要素
１２１  アクチュエータ
１２３  ベローズ
１２４  リング
１２５  開口
１２６  開口
１２７  ベアリングアイ
２００  水平調整装置
２０１  調整レバー
２０２  長尺アーム
２０３  短尺アーム
２０４  関節点
２０５  関節点
２０６  旋回ベアリング
２０７  回転軸
２０８  制御ロッド
２０９  制御ロッドガイド
２１０  リンクアーム
２１１  押しロッド
２１２  引張部材
２１３  端部片
２１４  端部片
２１５  先端
２１６  凹部
２１６’  凹部
２１７  支持要素
２１７’  支持要素
２１８  開口
２１９  接続片
２２０  バネ要素
２２１  アクチュエータ
２２２  柱
２２３  ベローズ
２２４  リング
２２５  開口
２２６  バネ要素
２２７  ベアリングアイ
２２８  引張部材の一部
２２９  突起
２３０  引張部材
Ｐ１  点
Ｐ２  点
α  角度
【図１】
2020511600.tif 000003
【図２】
2020511600.tif 000004
【図３】
2020511600.tif 000005
【図４】
2020511600.tif 000006
【図５】
2020511600.tif 000007
【図６】
2020511600.tif 000008
【図７】
2020511600.tif 000009
【図８】
2020511600.tif 000010
【図９】
2020511600.tif 000011
【図１０】
2020511600.tif 000012
【図１１】
2020511600.tif 000013
【図１２】
2020511600.tif 000014
【図１３】
2020511600.tif 000015
【図１４】
2020511600.tif 000016
【図１５】
2020511600.tif 000017
【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
2020511600.tif 000021
【図２０】
2020511600.tif 000022
【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
2020511600.tif 000034
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月21日(2019.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（１３）上にマスク（４）を適用することにより構造化された層を堆積するための装置であって、調整装置（１００、２００）と、前記マスクキャリア（６）、及び前記マスクキャリアにより担持されかつ前記マスクを有するマスク機構（３）と共に前記支持フレーム（７）を鉛直方向にマスク変更位置から処理位置へと変位させることができるマスクリフト装置と、前記基板ホルダ（１０）を鉛直方向に搭載位置から処理位置へと鉛直方向に変位させることができる基板ホルダリフト装置とを有し、その場合、拘束手段（２０、２１）が前記基板ホルダ（１０）を前記支持フレーム（７）上で処理位置に拘束する、前記装置において、
前記拘束手段が、Ｖ溝（２１）と、前記Ｖ溝（２１）の側面上で支持される球面（２０）とを有し、
前記支持フレーム（７）に対する前記マスクキャリア（６）の位置を調整するための前記調整装置（１００、２００）が前記支持フレーム（７）により支持されていることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記球面（２０）が前記支持フレーム（７）の球状要素から形成されており、かつ、前記Ｖ溝（２１）が前記基板ホルダ（１０）から形成されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
Ｖ溝（２１）とそれぞれ相互作用する複数の球面が設けられ、それらの前記Ｖ溝（２１）が共通点の方に向いて配列していることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記マスクリフト装置が、前記リアクタハウジング（２）の外側に配置された駆動装置により鉛直方向に変位可能である少なくとも１つの支持柱（８）を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記基板ホルダリフト装置が、前記リアクタハウジング（２）の外側に配置された駆動装置により鉛直方向に変位可能である少なくとも１つの支持柱（１１）を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記マスクリフト装置及び／又は前記基板ホルダリフト装置が、前記リアクタハウジング（２）に接続されたフレーム上で案内され水平方向に延在するマスクリフトプレート（９）又は基板リフトプレート（１２）を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
特にベローズ機構である気密性の運動伝達手段が設けられ、それによって前記駆動装置の鉛直運動が前記支持柱（８、１１）に伝達されることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項８】
前記マスク（４）が前記基板（１３）の表面に接触して載置される前記マスク機構（３）の処理位置において、前記マスクリフト装置の前記支持柱（８）が、前記リアクタハウジング（２）に機械的に結合したフレームに取り付けられたマスクリフトプレート（９）から機械的に切り離されていることによって、前記支持フレーム（７）が前記基板ホルダ（）１０）のみにより支持されることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項９】
前記支持柱（８）の前記マスクリフトプレート（９）からの機械的な切り離しは、前記支持柱（８）と前記マスクリフトプレート（９）との間の間隙（１４）の形成により得られることを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記マスクリフトプレート（９）から機械的に切り離された前記支持柱（８）をその位置に保持するための保持バネ（１８）を特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１１】
中心の支持柱（１１）が前記基板ホルダ（１０）を支持すると共に、前記支持柱（１１）の周囲に配置された複数の支持柱（８）が前記支持フレーム（７）を支持することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記支持フレーム（７）に対する前記マスクキャリア（６）の位置を調整するための調整装置（１００、２００）であって、前記支持フレーム（７）上で前記調整装置（１００、２００）が、アクチュエータ（１２１、２２１）により鉛直方向に変位可能である制御ロッド（１０８、２０８）と係合することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記制御ロッド（１０８、２０８）が、外部環境に対して気密態様でシールされたリアクタハウジング（２）の外側から気密性の運動伝達手段を用いて変位可能であることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１４】
基板（１３）上にマスク（４）を適用することにより構造化された層を堆積するための装置であって、調整装置（１００、２００）と、前記マスクキャリア（６）、及び前記マスクキャリアにより担持されかつ前記マスクを有するマスク機構（３）と共に前記支持フレーム（７）を鉛直方向にマスク変更位置から処理位置へと変位させることができるマスクリフト装置と、前記基板ホルダ（１０）を鉛直方向に搭載位置から処理位置へと鉛直方向に変位させることができる基板ホルダリフト装置とを有し、その場合、前記マスクリフト装置及び前記基板ホルダリフト装置がそれぞれ、前記リアクタハウジング（２）の外側に配置された駆動装置により鉛直方向に変位可能である少なくとも１つの支持柱（８、１１）を有し、その場合、前記マスクリフト装置が、水平方向に延在するマスクリフトプレート（９）を有し、その場合、前記マスク（４）が前記基板（１３）の表面に接触して載置される前記マスク機構（３）の処理位置において、前記マスクリフト装置の前記支持柱（８）が、前記マスクリフトプレート（９）から機械的に切り離されていることによって、前記支持フレーム（７）が前記基板ホルダ（１０）のみによって支持されることを特徴とする装置。
【請求項１５】
中空の前記支持柱（８）内に延在し、かつ、前記リアクタハウジング（２）の外側に配置されたアクチュエータ（１２１、２２１により鉛直方向に変位可能である制御ロッド（１０８、２０８）が、前記調整装置（１００、２００）と係合することを特徴とする請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記基板ホルダリフト装置が、前記リアクタハウジング（２）に接続されたフレーム上で案内され水平方向に延在する基板リフトプレート（１２）を有することを特徴とする請求項１４に記載の装置。
【請求項１７】
ベローズ機構である気密性の運動伝達手段が設けられ、それによって前記駆動装置の鉛直方向の運動が前記支持柱（８、１１）に伝達されることを特徴とすることを特徴とする請求項１４に記載の装置。
【請求項１８】
前記支持柱（８）の前記マスクリフトプレート（９）からの機械的な切り離しは、前記支持柱（８）と前記マスクリフトプレート（９）との間の間隙（１４）の形成により得られることを特徴とする請求項１４に記載の装置。
【請求項１９】
前記マスクリフトプレート（９）から機械的に切り離された前記支持柱（８）をその位置に保持するための保持バネ（１８）を特徴とする請求項１４に記載の装置。
【請求項２０】
前記支持フレーム（７）に対する前記マスクキャリア（６）の位置を調整するための調整装置（１００、２００）であって、前記支持フレーム（７）上で前記調整装置（１００、２００）が、アクチュエータ（１２１、２２１）により鉛直方向に変位可能である制御ロッド（１０８、２０８）と係合することを特徴とする請求項１４に記載の装置。
【請求項２１】
前記制御ロッド（１０８、２０８）が、外部環境に対して気密態様でシールされたリアクタハウジング（２）の外側から気密性の運動伝達手段を用いて変位可能であることを特徴とする請求項２０に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
図１９は、マスクリフトプレート９を貫通する通路１７を示す。部品３５がマスクリフトプレート９に取り付けられ、その部品の上で端部プレート３３を支持可能である。ベローズ２６の形態の運動伝達手段が、端部プレート３３に取り付けられている。ベローズの外側は大気圧であり、ベローズの内側は真空又は低圧である。端部プレート３３の縁領域は、バネ２２により部品３４に対してバネ付勢されている。部品３４は、部品３５と同様に、マスクリフトプレート９に固定的に接続されている。マスクリフトプレート９が降下されるとき、端部プレート３３は部品３５から離れ、部品３４と部品３５との間の空間に浮くことができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
部品３３はリング片３６を担持しており、リング片３６は、鉛直調整装置の制御ロッド１０８用の通路１２５、及び、水平調整装置２００の制御ロッド２０８用の通路２２５を形成している。それらのリング片３６は、それぞれベローズ２２３、１２３の端部分であり、それらの他端において、押しロッド１０８、２０８に固定的に接続されたリング片１２４、２２４を形成している。したがって、ベローズ１２３、２２３は、制御ロッド１０８及び２０８のための運動伝達手段を形成している。ベローズ１２３、２２３の内側は大気圧である。ベローズ１２３、２２３の外側は、真空又は低圧である。
【国際調査報告】
2020511600.tif 000035
2020511600.tif 000036
2020511600.tif 000037
2020511600.tif 000038
2020511600.tif 000039
2020511600.tif 000040
2020511600.tif 000041
2020511600.tif 000042