(57)【要約】  加熱装置であって、キャビティを画定しているチャンバーを具備しており、上記の装置が、好ましくは多重グレージングを組み込んでいる扉又は壁部を具備しており、上記のグレージングが、積層体、すなわち以下の積層体で各々の面がコーティングされている、少なくとも１つの透明基材を具備している、加熱装置を記載している：−上記のキャビティに向けられている第一の面の、酸化インジウム錫をベースとする１又は複数の機能層に本質的により、熱を反射する、第一の積層体；及び−上記の装置の外側に向けられている他の面の、金又は好ましくは銀から選択される金属をベースとする１又は複数の機能層に本質的により、熱を反射する、第二の積層体。
2020504701.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱装置であって、キャビティを画定しているチャンバーを具備しており、前記装置が、多重グレージングを組み込んでいる扉又は壁部を具備しており、前記グレージングが、積層体、すなわち以下の積層体で各々の面がコーティングされている、少なくとも１つの透明基材を具備している、加熱装置：
−前記キャビティに向けられている第一の面の、酸化インジウム錫をベースとする１又は複数の機能層に本質的により、熱を反射する、第一の積層体；及び
−前記装置の外側に向けられている他の面の、金又は銀から選択される金属、好ましくは銀をベースとする１又は複数の機能層に本質的により、熱を反射する、第二の積層体。
【請求項２】
前記第一の積層体が、前記グレージングにおいて、前記加熱装置の前記キャビティに接触して配置されている、請求項１に記載の加熱装置。
【請求項３】
前記第一の積層体が、機能層として、酸化インジウム錫を具備しており、前記酸化インジウム錫におけるＳｎの原子百分率が、有利には、５〜７０％、特に１０〜６０％の範囲に含まれる、請求項１又は２に記載の加熱装置。
【請求項４】
前記第一の積層体が、機能層として、約８５〜９５重量％の酸化インジウム及び約１５〜５重量％の酸化錫を含有している、酸化インジウム錫の層を具備している、請求項１〜３のいずれか一項に記載の加熱装置。
【請求項５】
前記第一の積層体が、前記基材から連続して以下を具備している、請求項１〜４のいずれか一項に記載の加熱装置：
−誘電体化合物、特に窒化ケイ素、酸化ケイ素又は酸化亜鉛錫から選択される誘電体化合物の少なくとも１つの下層；
−ＩＴＯ機能層；及び
−誘電体化合物、特に窒化ケイ素、酸化ケイ素又は酸化亜鉛錫から選択される誘電体化合物の少なくとも１つの上層。
【請求項６】
前記第一の積層体が、前記基材から連続して以下を具備している、請求項１〜５のいずれか一項に記載の加熱装置：
−誘電体化合物、特に窒化ケイ素、酸化ケイ素及び酸化亜鉛錫から選択される誘電体化合物の少なくとも１つの下層；
−第一のＩＴＯ機能層；
−誘電体化合物、特に酸化ケイ素、窒化ケイ素又は酸化亜鉛錫から選択される誘電体化合物の中間層；
−第二のＩＴＯ機能層；及び
−誘電体化合物、特に窒化ケイ素、酸化ケイ素又は酸化亜鉛錫から選択される誘電体化合物の少なくとも１つの上層。
【請求項７】
前記第二の積層体が、少なくとも１つの銀をベースとする機能性金属層及び少なくとも２つの誘電体コーティングを具備しており、各々の誘電体コーティングが、少なくとも１つの誘電体層を含み、それによって、各々の銀をベースとする層を２つの誘電体コーティングの間に配置するようにされている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の加熱装置。
【請求項８】
前記第二の積層体が、例えば標準規格ＥＮ  １２８９８で測定したときに、１０％以下、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下の垂直放射率を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の加熱装置。
【請求項９】
前記グレージングが、２つ、３つ、又は４つの基材を具備している、多重グレージング請求項１〜８のいずれか一項に記載の加熱装置。
【請求項１０】
前記積層体の少なくとも前記コーティングされている前記基材が、湾曲しており、かつ／又は強化されており、好ましくは前記グレージングの前記基材が強化されている、請求項１〜９のいずれか一項に記載の加熱装置。
【請求項１１】
前記グレージングが、前記グレージングを構成する少なくとも１つの他の基材に堆積されている少なくとも１つの追加の熱反射コーティングを具備している、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の加熱装置。
【請求項１２】
前記追加の熱反射コーティングが、前記グレージングの、前記加熱装置の内側から外側に向かって数えて三番目の面及び／又は五番目の面、より好ましくは前記グレージングの前記三番目の面に配置されている、請求項１１に記載の加熱装置。
【請求項１３】
前記追加の熱反射コーティングが、機能層として、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、若しくは導電性とするためにドープされている酸化錫、特にフッ素でドープされている酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）若しくはアンチモンでドープされている酸化錫（ＳｎＯ２：Ｓｂ）から選択される透明導電性酸化物を具備しているか、又は前記追加の熱反射コーティングが、機能層として、少なくとも１つの銀層を具備している積層体である、請求項１１又は１２に記載の加熱装置。
【請求項１４】
加熱装置、例えば請求項１〜１３のいずれか一項に記載の加熱装置のための、複数の透明基材を具備しているグレージングであって、前記複数の透明基材のうちの１つの基材が、積層体、すなわち以下の積層体で各々の面がコーティングされている、グレージング：
−前記グレージングの外側に向けられている第一の面の、酸化インジウム錫をベースとする１又は複数の機能層に本質的により、熱を反射する、第一の積層体；及び
−前記グレージングの内側に向けられている他の面の、金又は銀から選択される金属をベースとする１又は複数の機能層に本質的により、熱を反射する、第二の積層体。
【請求項１５】
請求項１４に記載のグレージングを具備している、加熱装置の壁部又は扉。
【請求項１６】
チャンバー及び／又はキャビティを具備している加熱装置、例えばオーブンの壁部又は扉の構成要素としての、請求項１４に記載のグレージングの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加熱装置であって、キャビティを画定しているチャンバーを具備しており、上記のキャビティが、扉又は壁部により閉じられている、加熱装置に関する。ここで、この扉又は壁部は、熱を装置のキャビティ中に閉じ込めるグレージングを組み込んでいる。本発明は、かかるグレージング及びかかる装置の構成要素としてのその使用にも関する。
【背景技術】
【０００２】
加熱装置は、概して、嵌め込まれている扉を含む１又は複数の壁部により画定されているチャンバーを具備している。加熱手段は、チャンバーの内側のキャビティを高温に加熱することを可能とする。かかる加熱装置は、特にオーブン、暖炉、調理用レンジ等であってよい。
【０００３】
加熱装置の扉又は壁部の構成要素として用いられるグレージングは、概して多重グレージング、すなわち複数のグレージング基材を具備しているグレージング、特に三重又は四重グレージングである。これらの多重グレージングユニットは、熱を加熱装置の内側に保ちつつ、触れることができる程度にグレージングの外表面を冷たく保って、ユーザーを火傷から保護するのに寄与する。
【０００４】
かかる多重グレージングは、空間を画定するようにして離れた距離を保っている少なくとも２つの基材を具備している。グレージングの面は、慣習的に、加熱装置の内側から番号付けされ、基材の面は、加熱装置の内側から外側へと番号付けされる。
【０００５】
加熱装置の構成要素として用いられるグレージングは、赤外（ＩＲ）放射線を反射する機能性コーティングでコーティングされている基材を具備していることができる。これらのコーティングは、チャンバーの内側に向けて熱を跳ね返すことにより、加熱装置の外側へと透過するエネルギーの量を低減させることを可能とする。かかるコーティングの使用は、加熱装置の電力消費及び上記のオーブンの扉を作っているグレージングの外壁の発熱を低減させる。
【０００６】
例えば、欧州特許出願公開第１２９３７２６号明細書は、第一の面に、熱分解法により堆積された熱反射コーティング、及び第二の面に、物理気相成長（ＰＶＤ）法により堆積された熱反射コーティングを具備している、ガラスバリアを記載している。
【０００７】
銀をベースとする機能性金属層（又は銀層）を具備しているコーティングは、グレージングの放射性を低減させつつ、扉又は壁部の光学的及び審美的品質、特にその透過性を保つ最も効果的な手段として知られている。これらのコーティングはまた、より高いレベルのユーザー保護、より低い電力消費、及びより良好な使いやすさをも確実にする。
【０００８】
しかしながら、これらの銀をベースとする機能性金属層を具備しているコーティングの耐熱性は、しばしば十分ではない。これらのコーティングの低い耐熱性及び耐薬品性は、長期的には、外観の欠陥、例えば腐食の領域、引掻き傷、銀のディウェッティング、又は積層体の完全な若しくは部分的な剥離をもたらすことがある。
【０００９】
この作用は、薄い銀層を包含しているかかるグレージングが、加熱装置において、例えばオーブンの扉として用いられ、そして熱分解法でのように、湿潤環境での長くかつ反復した高温の熱処理サイクルにさらされたときに促進される。湿潤環境でのこれらの熱処理サイクルは、特に銀のディウェッティング又は腐食により、銀層の劣化を促進する。
【００１０】
更には、全ての欠陥又は引掻き傷は、それが腐食によるものであっても機械的応力によるものであっても、コーティングされている基材の光学的及びエネルギー的性能のみならず、その審美性をも劣化させる傾向にある。
【００１１】
しかしながら、米国特許出願公開第２０１２／００８４９６３号明細書は、少なくとも１つの銀をベースとする機能性金属層及び酸化ジルコニウムをベースとする保護性の最上層を具備している積層体でコーティングされている透明基材を具備している、オーブンの扉の構成要素として用いられる多重グレージングを開示している。この酸化ジルコニウムをベースとする層は、高温の熱処理の間に積層体を保護する。しかしながら、かかる保護性の層でコーティングされている基材は、高温多湿の環境で腐食にさらされる。
【００１２】
国際公開第２０１６／０９７５６０号パンフレットは、少なくとも１つの銀をベースとする機能性金属層を具備している積層体でコーティングされている透明基材を具備している、グレージングであって、この積層体が、酸化チタン及び酸化ジルコニウムをベースとする保護性の最上層を具備していることを特徴とする、グレージングを記載している。
【００１３】
銀をベースとする機能層を具備しているかかる積層体は、装置の壁部の面１に積層体を配置するのに十分に耐久性があることが、これらの特許文献において示されている。
【００１４】
上記の文献に記載されている積層体は、原則として、機械的耐性及び耐薬品性の要求水準を、オーブンの通常の操作温度において満足することを可能とするものの、断熱に関する性能が最適であり、かつ好ましくはより低いコストで、製造することが容易である、オーブンの扉及び壁部の形態は、現在未だ研究されている。
【００１５】
壁部の外側の面を外側で冷たく保って、ユーザーの安全性を確実にすることのみならず、装置のチャンバー又はキャビティ内に熱を効果的に閉じ込めることを可能とする、構造が特に追求されている。更には、装置の電力の消費を可能な限り少なくすること、及び特に装置の壁部の冷却に必要な動作、例えば上記の壁部を構成する種々のグレージングを通した冷却用空気の流れ等をより少なくするか、又はなくすことが望まれている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明の目的は、上記の問題を効果的に解決できる、加熱装置、及びかかる装置の扉又は壁部への組み込みのためのグレージングを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
より具体的には、本発明は、加熱装置であって、キャビティを画定しているチャンバーを具備しており、上記の装置が、好ましくは多重グレージングを組み込んでいる扉又は壁部を具備しており、上記のグレージングが、積層体、すなわち以下の積層体で各々の面がコーティングされている、少なくとも１つの透明基材を具備している、加熱装置に関する：
−上記のキャビティに向けられている第一の面の、酸化インジウム錫をベースとする１又は複数の機能層に本質的により、熱を反射する、第一の積層体；及び
−上記の装置の外側に向けられている他の面の、金又は好ましくは銀から選択される金属をベースとする１又は複数の機能層に本質的により、熱を反射する、第二の積層体。
【００１８】
適切な場合には共に組み合わせることができる本発明の好ましい実施態様によれば：
−第一の積層体が、グレージングにおいて、加熱装置の前記キャビティに接触して配置されている。
−第一の積層体が、機能層として、酸化インジウム錫を具備しており、前記酸化インジウム錫におけるＳｎの原子百分率が、有利には、５〜７０％、特に１０〜６０％に及ぶ範囲に含まれる。
−第一の積層体が、機能層として、約８５〜９５重量％の酸化インジウム及び約１５〜５重量％の酸化錫を含有している、ＩＴＯの層を具備している。
−第一の積層体が、基材から連続して以下を具備している：
−誘電体化合物、特に窒化ケイ素、又は酸化ケイ素から選択される誘電体化合物の少なくとも１つの下層；
−ＩＴＯ機能層；及び
−誘電体化合物、特に窒化ケイ素、酸化ケイ素又は酸化亜鉛錫から選択される誘電体化合物の少なくとも１つの上層。
−第一の積層体が、基材から連続して以下を具備している：
−窒化ケイ素をベースとする第一の下層；
−酸化ケイ素をベースとする第二の下層；
−ＩＴＯ機能層；
−窒化ケイ素をベースとする第一の上層；及び
−酸化ケイ素をベースとする第二の上層。
−第一の積層体が、基材から連続して以下を具備している：
−誘電体化合物、特に窒化ケイ素、酸化ケイ素及び酸化亜鉛錫から選択される誘電体化合物の少なくとも１つの下層；
−第一のＩＴＯ機能層；
−誘電体化合物、特に酸化ケイ素、窒化ケイ素又は酸化亜鉛錫から選択される誘電体化合物の中間層；
−第二のＩＴＯ機能層；及び
−誘電体化合物、特に窒化ケイ素、酸化ケイ素又は酸化亜鉛錫から選択される誘電体化合物の少なくとも１つの上層。
−第二の積層体が、少なくとも１つの銀をベースとする機能性金属層及び少なくとも２つの誘電体コーティングを具備しており、各々の誘電体コーティングが、少なくとも１つの誘電体層を含み、それによって、各々の銀をベースとする層を２つの誘電体コーティングの間に配置するようにされている。
−積層体が、銀をベースとする機能性金属層の下に接触して配置されている、少なくとも１つの遮断層及び／又は銀をベースとする機能性金属層の上に接触して配置されている、少なくとも１つの遮断層を具備している。
−第二の積層体が、１０％以下、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下の垂直放射率を有する。コーティング又は積層体の「垂直放射率」が意味するものは、標準規格ＮＦ−ＥＮ  １２８９８（２００１）における２８３Ｋでのその垂直放射率であり、積層体は、厚さ４ｍｍの透明なガラスに垂直に堆積されている。
−積層体が、以下を具備している：
−銀をベースとする機能性金属層の下に配置されている誘電体コーティング；
−任意選択的に、遮断層；
−銀をベースとする機能性金属層；
−任意選択的に、遮断層；
−銀をベースとする機能性金属層の上に配置されている誘電体コーティング；及び
−保護性の最上層。
−積層体が、以下を具備している：
−アルミニウム及び／又はケイ素の窒化物をベースとする少なくとも１つの誘電体層、及び任意選択的に酸化亜鉛又は酸化亜鉛錫をベースとする安定機能を有する誘電体層を具備している、銀をベースとする機能性金属層の下に配置されている誘電体コーティング；
−任意選択的に、遮断層；
−銀をベースとする機能性金属層；
−任意選択的に、遮断層；
−アルミニウム及び／又はケイ素の窒化物をベースとする少なくとも１つの誘電体層を具備している、銀をベースとする機能性金属層の上に配置されている誘電体コーティング；並びに
−保護性の最上層。
−コーティングされている基材が、湾曲しており、かつ／又は強化されている。
−グレージングが、グレージングを構成する少なくとも１つの他の基材に堆積されている少なくとも１つの追加の熱反射コーティングを具備している。
−上記の追加の熱反射コーティングが、より好ましくはグレージングの面３及び／又は面５、非常に好ましくはグレージングの面３に配置されている。
−上記の追加の熱反射コーティングが、機能層として、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、若しくは導電性とするためにドープされている酸化錫、特にフッ素でドープされている酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）若しくはアンチモンでドープされている酸化錫（ＳｎＯ２：Ｓｂ）から選択される透明導電性酸化物を具備しているか；又は上記の追加の熱反射コーティングが、機能層として、少なくとも１つの銀層を具備している積層体である。
−グレージングが、二重グレージング（すなわち、２つのグレージング基材を具備しているグレージング）である。
−グレージングが、三重グレージング（すなわち、３つのグレージング基材を具備しているグレージング）である。
−グレージングが、四重グレージング（すなわち、４つのグレージング基材を具備しているグレージング）である。
【００１９】
本発明は、複数の透明基材を具備している上記のグレージングであって、複数の透明基材複数の透明基材のうちの１つの基材が、積層体、すなわち以下の積層体で各々の面がコーティングされている、グレージングにも関する：
−グレージングの外側に向けられている第一の面の、酸化インジウム錫をベースとする１又は複数の機能層に本質的により、熱を反射する、第一の積層体；及び
−グレージングの内側に向けられている他の面の、金又は好ましくは銀から選択される金属をベースとする１又は複数の機能層に本質的により、熱を反射する、第二の積層体。
【００２０】
更には、本発明の別の主題は、グレージング、例えば上記のグレージングを具備している、加熱装置の扉又は壁部、並びに特にチャンバー及び／又はキャビティを具備している加熱装置、例えばオーブンの壁部又は扉の構成要素としてのかかるグレージングの使用である。当然、加熱装置に関する上記の特徴の全ては、上記の扉又は壁部に関連するが、簡単のため、ここでは上記の扉又は壁部を繰り返さない。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
（原文に記載なし）
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の実施及び／又は製造についての他の詳細を、以下で示す：
グレージングは、本発明に従い、透明であってもよく、又は色付けされていてもよい少なくとも２つの透明基材を具備している積層グレージングから好ましくは選択される。
【００２３】
それによれば、本発明によるグレージングは、その各々の面が積層体でコーティングされている１又は複数の透明基材、例えば上記の透明基材を具備していてよい。更には、本発明によるグレージングは、その各々の面が積層体でコーティングされている１又は複数の透明基材、例えば上記の透明基材を具備していてよく、上記の基材がチャンバーのキャビティ及び熱反射性積層体に向いており、この熱反射性積層体は、キャビティの雰囲気に直接的に接触して配置されている、透明導電性酸化物ＩＴＯで作られている１又は複数の機能層に本質的により、熱を反射する。
【００２４】
本発明に従い用いられる透明基材は、好ましくは硬質の無機材料、例えばガラス、特にソーダ石灰シリカガラス、ホウケイ酸塩ガラス、若しくはアルミノケイ酸塩ガラス、又はガラスセラミックで作られている。有利な一実施態様によれば、基材は、非常に高い温度に対して良好に耐えるホウケイ酸塩ガラスで作られている。１又は複数の基材の厚さは、概して０．５ｍｍ〜１９ｍｍで変化する。１又は複数の基材の厚さは、好ましくは６ｍｍ以下、又は４ｍｍ以下である。２つの積層体でコーティングされている透明基材は、アニール処理、例えば瞬間アニール処理、例えばレーザーアニール処理又はフレームアニール処理、強化及び／又は湾曲から選択される高温の熱処理にさらすことができる。熱処理の温度は、４００℃超、好ましくは４５０℃超、更に良いのは５００℃超である。積層体でコーティングされている基材は、それによれば、湾曲され、かつ／又は強化されることができる。積層体で各々の面がコーティングされている基材は、特に加熱装置又は耐火性の扉の構成要素として用いるグレージングの部分を形成する場合には、好ましくは強化されているガラスで作られている。
【００２５】
一実施態様によれば、グレージングは、二重グレージングであり、２つの基材、すなわち外側基材及び内側基材、並びに４つの面を含む。面１は、加熱装置の内側に存在しており、したがって、グレージングの内壁を作っている。面２及び３は、二重グレージングの内側に存在している。面４は、加熱装置の外側に存在しており、したがって、グレージングの外壁を作っている。
【００２６】
別の実施態様によれば、グレージングは、三重グレージングであり、３つの基材、すなわち外側基材、中央基材及び内側基材、並びに６つの面を含む。面１は、加熱装置の内側に存在しており、したがって、グレージングの内壁を作っている。面２〜５は、三重グレージングの内側に存在している。面６は、加熱装置の外側に存在しており、したがって、グレージングの外壁を作っている。
【００２７】
別の実施態様によれば、グレージングは、四重グレージングであり、３種の基材、すなわち外側基材、中央基材及び内側基材、並びに８つの面を含む。面１は、加熱装置の内側に存在しており、したがって、グレージングの内壁を作っている。面２〜７は、四重グレージングの内側に存在している。面８は、加熱装置の外側に存在しており、したがって、グレージング又は本発明の加熱装置の外壁を作っている。
【００２８】
透明導電性酸化物で作られている、機能性の熱反射性層としての１又は複数の機能層を具備している（かつしたがって他の導電性層、特に金属、例えば銀で作られている導電性層を具備していない）第一の積層体に関して：本発明によれば、ＩＴＯタイプの透明導電性酸化物をベースとする、好ましくはこれから作られている、すなわち混合した酸化インジウム及び酸化錫をベースとする、機能層を具備している随意のコーティングを用いる。「ベースとする」及び「〜をベースとする」との表現は、特に、本発明においては、同じことを意味しており、すなわち問題としている層が、少なくとも８０重量％、又は９０重量％、９５重量％の問題としている化合物を含有していることを意味するものと理解される。この層は、有利には、かかる化合物から成っていてよく、又はかかる化合物から本質的に成っていてよい。特に、これらの導電性を有するにもかかわらず透明な層は、低い抵抗率又は低いシート抵抗と相関のある低い放射率を有する。この層は、真空カソードスパッタリング、任意選択的に真空マグネトロンカソードスパッタリングにより得られる材料の層である。驚くべきことに、本発明によれば、かかる積層体が、その機能層がフッ素でドープされている酸化錫（ＳｎＯ２：Ｆ）をベースとする積層体よりも、熱的分離の観点でより良好な性質をもたらすことが見出されている。後者の材料は、慣習的に、化学的処理、例えば化学気相成長（ＣＶＤ）、又は任意選択的にプラズマ強化化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）等を用いて堆積される。より具体的には、予想外にも、これらのＩＴＯをベースとする積層体を、グレージングの他の面の、銀で作られている機能性（反射性）層を具備している低放射率コーティングと組み合わせたときに、より良好な性能が得られる。好ましくは、堆積させた積層体は、その１又は複数の機能層がＩＴＯをベースとしている積層体である。酸化物におけるＳｎの原子濃度は、有利には、５〜７０％、特に１０〜６０％に及ぶ範囲に含まれる。より具体的には、本発明によれば、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）及び酸化錫（ＩＶ）（ＳｎＯ２）の混合物の層を好ましくは用い、酸化インジウムの含有率は、約８５〜９５重量％であり、酸化錫の含有率は、約１５〜５重量％である。
【００２９】
本発明の非常に好ましい一実施態様によれば、第一の面に堆積されている積層体は、ＩＴＯをベースとする２つの機能層を具備している積層体であり、これらの２つの機能層は、誘電体材料の少なくとも１つの層により隔てられている。
【００３０】
ＩＴＯをベースとする各々の層は、２０〜８０ｎｍ、特に３０〜８０ｎｍに及ぶ範囲に含まれる物理的厚さを特に有していてよい。ＩＴＯをベースとする全ての層の累積的な物理的厚さは、好ましくは４０〜２００ｎｍ、特に６０〜１６０ｎｍに及ぶ範囲に含まれる。
【００３１】
１つ又は各々の中間の誘電体層は、好ましくはケイ素、アルミニウム、チタン、錫、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、ニッケル、クロムの酸化物、窒化物、若しくは酸窒化物、又はこれらの混合物のうちの１つから選択される化合物をベースとしている。誘電体層は、好ましくはかかる化合物から本質的に成るか、又は実際にはかかる化合物から成る。
【００３２】
より具体的には、１又は複数の中間の誘電体層は、好ましくは、ケイ素及び／若しくはアルミニウムの酸化物、窒化物若しくは酸窒化物、チタンの窒化物若しくは酸化物、ニッケル及びクロムの酸化物、ニオブの窒化物、又は錫及び亜鉛の酸化物から選択される化合物から本質的に成る。好ましくは、１つ又は各々の中間の誘電体層は、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化チタン、又は酸化亜鉛錫をベースとしている（又は酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化チタン、又は酸化亜鉛錫から本質的に成る）。窒化ケイ素及び酸化ケイ素が特に好ましい。窒化ケイ素又は酸化亜鉛錫は、それらの屈折率がＩＴＯの屈折率付近にあり、それによって、それらの存在が積層体の光学的性質を変化させないために、特に好ましい。好ましくは、１又は複数の中間層（特に単一の中間層）の屈折率は、５５０ｎｍの波長で、少なくとも１．８、特に少なくとも１．９であり、有利には１．８〜２．５、特に１．９〜２．２に及ぶ範囲に含まれる。ＩＴＯをベースとする層を隔てている中間層の数は、好ましくは１〜５、特に１〜３、又は１若しくは２で変化する。有利には、積層体は、透明導電性酸化物をベースとする少なくとも２つの層（特に２つの層）を具備しており、これらの層は、最大で２つの中間層、特に単一の中間層により隔てられている。
【００３３】
好ましい組合せの中でも、積層体は、基材から連続して以下を具備している（又は以下から成る）：
−接着層、例えばシリカをベースとするか、又はシリカから本質的に成る、接着層；
−第一のＩＴＯ層；
−中間の誘電体層、例えばシリカ、窒化ケイ素又は酸化亜鉛錫をベースとするか、又はシリカ、窒化ケイ素又は酸化亜鉛錫から本質的に成る、中間の誘電体層；
−第二のＩＴＯ層；
−酸素に対するバリアを作る層、例えば窒化ケイ素をベースとしているか、又は窒化ケイ素から本質的に成る層；及び
−低屈折率層、例えばシリカをベースとしているか、又はシリカから本質的に成る層。
【００３４】
金又は好ましくは銀から選択される金属をベースとする１又は複数の機能層に本質的により、熱を反射させる第二の積層体に関して：
【００３５】
積層体の光学的性質を調節することを可能とする複数の誘電体層を具備しており、かつチャンバーを外部から見通すことを可能とするのに十分な光の透過性もたらす複数の誘電体コーティングの間に、金をベースとする層又は好ましくは銀をベースとする層が配置される。これらの誘電体層はまた、化学的又は機械的攻撃から銀層を保護することを可能とする。したがって、積層体は、有利には少なくとも１つの銀をベースとする機能性金属層及び少なくとも２つの誘電体コーティングを具備しており、各々の誘電体コーティングは、少なくとも１つの誘電体層を含み、それによって、各々の機能性金属層が２つの誘電体コーティングの間に配置されるようにされている。
【００３６】
積層体は、カソードスパッタリング、特に磁場支援カソードスパッタリング(マグネトロン法)により堆積させる。この有利な実施態様によれば、積層体の全ての層を、磁場支援カソードスパッタリングにより堆積させる。
【００３７】
別段の指示がない限り、本明細書において言及する厚さは、物理的な厚さである。薄層は、その性質及びその組成に応じて、０．１ｎｍ〜２００ミクロンの厚さを有する層を意味するものと理解される。
【００３８】
本明細書全体を通じて、本発明による基材は、水平に配置されるものとみなす。積層体は、基材の上に堆積されている。「上」及び「下」、並びに「上方」及び「下方」との表現の意味は、この方向に関して考慮されるべきである。特段の明記がない限り、「上」及び「下」との表現は、２つの層及び／又はコーティングが互いに接触して配置されていることを必ずしも意味していない。層が他の層又はコーティングと「接触して」堆積されていることが特定されている場合には、このことは、これらの２つの層の間に挿入されている１又は複数の層が存在できないことを意味している。
【００３９】
ここで、機能性金属層は、典型的には、銀をベースとしており、概して、機能層の重量に対して、少なくとも８０重量％、好ましくは少なくとも９０重量％、更に良いのは少なくとも９５重量％又は少なくとも９８重量％の銀を含有している。銀をベースとする金属機能層は、好ましくは、銀をベースとする金属機能層の重量に対して、１．０重量％未満の銀以外の金属を含有している。
【００４０】
銀をベースとする機能層の厚さは、好ましくなる順に、５〜２０ｎｍ、８〜１５ｎｍである。
【００４１】
積層体は、誘電体コーティングの堆積又は熱処理と関連している全ての劣化を抑制することにより、銀層を保護することを機能とする少なくとも１つの遮断層を具備していてよい。これらの遮断層は、好ましくは銀をベースとする機能性金属層に接触して配置されている。
【００４２】
積層体は、銀をベースとする機能性金属層の下に接触して配置されている、少なくとも１つの遮断層及び／又は銀をベースとする機能性金属層の上に接触して配置されている、少なくとも１つの遮断層を具備していてよい。
【００４３】
従来用いられている遮断層の中でも、ニオブＮｂ、タンタルＴａ、チタンＴｉ、クロムＣｒ若しくはニッケルＮｉから選択される金属をベースとする遮断層、又は少なくとも２つのこれらの金属から得られる合金、特にニッケル−クロム合金（ＮｉＣｒ）をベースとする遮断層が挙げられる。
【００４４】
上部遮断層又は下部遮断層の各々の厚さは、好ましくは：
−少なくとも０．２ｎｍ、若しくは少なくとも０．５ｎｍ、及び／又は
−最大で５．０ｎｍ、若しくは最大で２．０ｎｍ。
【００４５】
誘電体コーティングは、１５ｎｍ超、好ましくは１５〜５０ｎｍ、更に良いのは３０〜４５ｎｍの厚さを有する。
【００４６】
「バリア機能を有する誘電体層」との表現は、周囲の雰囲気又は透明基材から生じて機能層へと向かう、水及び酸素の高温拡散に対するバリアを作ることができる材料で作られている層を意味するものと理解される。バリア機能を有する誘電体層は、ケイ素及び／又はアルミニウムの化合物であって、任意選択的に少なくとも１つの他の元素を用いてドープされている、酸化物、例えばＳｉＯ２、窒化物、例えば窒化ケイ素Ｓｉ３Ｎ４及び窒化アルミニウムＡｌＮ、並びに酸窒化物ＳｉＯｘＮｙから選択される化合物をベースとしていてよい。バリア機能を有する誘電体層はまた、酸化亜鉛錫をベースとしていてもよい。
【００４７】
「安定機能を有する誘電体層」との表現は、機能層と上記の層との間の界面を安定化させることができる材料で作られている層を意味することが意図されている。安定機能を有する誘電体層は、好ましくは、任意選択的に少なくとも１つの他の元素、例えばアルミニウムによりドープされている、結晶化されている酸化物、特に酸化亜鉛をベースとしている。安定機能を有する誘電体層は、好ましくは酸化亜鉛層である。
【００４８】
安定機能を有する誘電体層は、少なくとも１つの銀をベースとする機能性金属層の上及び／若しくは下に配置されていてよく、又は銀をベースとする各々の機能性金属層に直接接触しているか若しくは遮断層により隔てられて配置されていてよい。
【００４９】
有利な実施態様によれば、アルミニウム及び／又はケイ素の窒化物をベースとする誘電体層は、好ましくは保護性の最上層と接触しており、保護性の最上層は、有利には酸化チタン又は例えば国際公開第ＷＯ２０１６／０９７５６０号パンフレットに記載されている酸化チタンジルコニウムをベースとしていてよい。ケイ素及び／又はアルミニウムの窒化物をベースとする誘電体層は、以下の厚さを有する：
−    １００ｎｍ以下、５０ｎｍ以下、若しくは４５ｎｍ以下、かつ／又は
−    １５ｎｍ以上、２０ｎｍ以上、若しくは２５ｎｍ以上。
【００５０】
この実施態様によれば、積層体は、例えば以下を具備していてよい:
−    銀をベースとする機能性金属層の下に配置されている、誘電体コーティング;
−    任意選択的に、遮断層;
−    銀をベースとする機能性金属層;
−    任意選択的に、遮断層;
−    銀をベースとする機能性金属層の上に配置されている、誘電体コーティング;及び
−    保護性の最上層。
【００５１】
一実施態様によれば、積層体は、以下を具備している:
−    アルミニウム及び／又はケイ素の窒化物をベースとする少なくとも１つの誘電体層、並びに任意選択的に酸化亜鉛をベースとする安定機能を有する誘電体層を具備している、銀をベースとする機能性金属層の下に配置されている誘電体コーティング;
−    任意選択的に、遮断層;
−    銀をベースとする機能性金属層;
−    任意選択的に、遮断層;
−    アルミニウム及び／又はケイ素の窒化物をベースとする少なくとも１つの誘電体層を具備している、銀をベースとする機能性金属層の上に配置されている誘電体コーティング;並びに
−    保護性の最上層。
【００５２】
本発明の別の可能な実施態様によれば、第二の積層体は、金又は好ましくは銀から選択される金属をベースとしている複数の機能層、特に銀で作られている２つ又は３つの層を具備していてよく、これらの層の各々は、好ましくは誘電体材料の少なくとも１つの層、特に例えば上記の層により、次に続く層から隔てられている。
【００５３】
かかる実施態様の１つによれば、積層体は、例えば以下を具備していてよい:
−    銀をベースとする機能性金属層の下に配置されている誘電体コーティング;
−    任意選択的に、遮断層;
−    銀をベースとする第一の機能性金属層;
−    任意選択的に、遮断層;
−    銀をベースとする第一の機能性金属層の上に配置されている誘電体コーティング;
−    任意選択的に、遮断層;
−    銀をベースとする第二の機能性金属層;
−    任意選択的に、遮断層;
−    銀をベースとする第二の機能性金属層の上に配置されている誘電体コーティング、及び
−    保護性の最上層。
【００５４】
本発明の種々の実施態様を、ここに添付する図１を参照して以下で示す:
【００５５】
図１は、本発明による多重グレージングである、４つの基材を具備しているグレージング（形態Ｉ〜ＩＶ）、三重グレージング（形態Ｖ）及び二重グレージング（形態ＶＩ）を具備している加熱装置の３種の例を示している。
【実施例】
【００５６】
本発明に従い、以下で規定する積層体を、厚さ４ｍｍの透明なソーダ石灰ガラスで作られている第一の基材に堆積させた。
【００５７】
基材の第一の面に、国際公開第２０１５／０３３０６７号パンフレットの実施例１による積層体を堆積させた。
【００５８】
より正確には、次の積層体Ａを、ＡＣマグネトロンカソードスパッタリングにより、厚さ４ｍｍの透明なソーダ石灰シリカガラス基材に堆積させた：
【００５９】
ガラス／ＳｉＮｘ（２ｎｍ）／ＳｉＯ２（３４ｎｍ）／ＩＴＯ（１１８ｎｍ）／ＳｉＮｘ（６ｎｍ）／ＳｉＯ２（６５ｎｍ）／ＴｉＯ２（３ｎｍ）。
【００６０】
丸括弧の間の数字は、ナノメートルで示した、各々の層についての堆積させた物理的厚さに相当する。
【００６１】
アルミニウムでドープされている（８ａｔ％まで)ケイ素ターゲットを用いて、アルゴンプラズマ中で酸素及び窒素をそれぞれ添加して、酸化ケイ素及び窒化ケイ素を堆積させた。ＩＴＯターゲットを用いて、アルゴンプラズマ中でＩＴＯ層を堆積させた。ＩＴＯ層は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）及び酸化錫（ＩＶ）（ＳｎＯ２）の混合物であって、１つ目の含有率が約９０重量％であり、２つ目の含有率が約１０重量％である、混合物から成る。ＳｉＮｘバリア層を、２．０μｂａｒの圧力で堆積させた。この積層体の、例えば標準規格ＦＲ−ＥＮ  １２８９８に従って測定した、垂直放射率は、１８％であった。
【００６２】
基材の第二の面の、銀の機能層を含み、垂直放射率が３％である次の積層体Ｂを、慣習的なカソードスパッタリング堆積技術を用いて堆積させた：
【００６３】
ガラス／ＳｉＮｘ（３０ｎｍ）／ＺｎＯ（５ｎｍ）／ＮｉＣｒ（０．５ｎｍ）／Ａｇ（１２ｎｍ）／ＮｉＣｒ（０．５ｎｍ）／ＺｎＯ（５ｎｍ）／ＳｉＮｘ（３０ｎｍ）／ＴｉＯ２（３ｎｍ）。
【００６４】
次いで、２つの面をコーティングしたこの基材を、図１に示した形態において示した１又は複数の他のグレージング基材と組み合わせて、オーブンの壁部に取り付けた。
【００６５】
本発明に従い、上記の基材を、オーブンのチャンバーに直接接触させて配置し、それによって、機能層がＩＴＯで作られている第一の積層体を、上記のチャンバー（グレージングの面１）に向けるようにし、そして機能層が銀で作られている第二の積層体を、オーブンの壁部を構成するグレージングの面２に配置した。
【００６６】
形態Ｉ〜ＩＶにおいては、壁部は４つのグレージング基材を具備している：
−    本発明による第一の基材、例えば上記の基材；及び
−    次いで３つの連続しているグレージング基材、ここで、グレージング基材の面を、続けて２〜８で番号付けする（図１を参照されたい）。
【００６７】
形態Ｉにおいては、２つの中間基材は、呼称Ｐｌａｎｉｂｅｌ  Ｇ（登録商標）の下でＡＧＣから販売されているグレージング製品である例である。中間基材は各々、一方の面に、フッ素でドープされている酸化錫の層から成る、熱分解法ＣＶＤにより堆積したコーティングＣを具備していた。このコーティングを具備している面は、オーブンのキャビティに向けられていた（すなわち壁部の面３及び５であった）。
【００６８】
形態ＩＩＩは、第二の基材を積層体でコーティングしなかったことを除き、形態ＩＩと同一であった。
【００６９】
形態ＩＶは、第三の基材を積層体でコーティングしなかったことを除き、形態ＩＩと同一であった。
【００７０】
形態Ｖにおいては、壁部は３つのグレージング基材のみを具備していた：本発明による第一の基材、例えば上記の基材、次いで２つの連続するグレージング基材、ここで、これらのグレージング基材の面を、２〜６で番号付けした。中間基材は、Ｐｌａｎｉｂｅｌ  Ｇ（登録商標）であり、コーティングを、グレージングの面３に配置した。
【００７１】
形態ＶＩにおいては、壁部は２つのグレージング基材のみを具備していた：本発明による第一の基材、例えば上記の基材、次いで積層体でコーティングされていない基材。
【００７２】
続いて、比較の形態を作製した。この形態においては、種々の熱反射性積層体を、四重グレージングの他の面に配置した。より具体的には：
−    形態ＶＩＩにおいては、コーティングＣ（Ｐｌａｎｉｂｅｌ）を、グレージングの面１及び３に配置し、積層体Ａ（ＩＴＯ）をグレージングの面５及び６に配置した。
−    形態ＶＩＩＩにおいては、積層体Ｃを、グレージングの面１及び５に配置し、積層体Ａを、グレージングの面３及び４に配置した。
−    形態ＩＸにおいては、積層体Ａを、グレージングの面１及び２に配置し、コーティングＣを、面３及び５に配置した。
−    形態Ｘにおいては、積層体Ａを、グレージングの面１、３及び５に配置した。
−    形態ＸＩにおいては、積層体Ａを、グレージングの面１及び２に配置し、コーティングＣを、グレージングの面５に配置した。
【００７３】
グレージングの面１に熱分解法ＣＶＤにより堆積させた透明導電性酸化物層を具備している、欧州特許出願公開第１２９３７２６号明細書の教示による２つの形態も、比較例として作製した。
【００７４】
特に、熱分解法ＣＶＤにより堆積させたＳｎＯ２：Ｆの層を一方の面に具備している２つの商業的なグレージング基材を、キャビティと接触している第一の基材として用いた：
−    上記のＰｌａｎｉｂｅｌグレージング製品；及び
−    呼称ＴＥＣ（登録商標）の下でＮＳＧから販売されている、熱反射性積層体が１２％の放射率を有する（コーティングＤ）グレージング製品。
【００７５】
より具体的には：
−    形態ＸＩＩにおいては、上記の銀をベースとする積層体Ｂを、Ｐｌａｎｉｂｅｌ基材の熱分解積層体でコーティングされていない面に堆積させた。この比較の基材は、実施例ＩＩの４つの基材における第一の基材と置き換えた。熱分解機能層（コーティングＣ）は、上記のチャンバー（グレージングの面１）を向いていた。
−    形態ＸＩＩＩにおいては、上記の銀をベースとする積層体Ｂを、ＴＥＣ製品の熱分解積層体でコーティングされていない面に堆積させた。この比較の基材は、この比較の基材は、実施例ＩＩの４つの基材における第一の基材と置き換えた。熱分解機能層（コーティングＤ）は、上記のチャンバー（グレージングの面１）を向いていた。
【００７６】
次いで、種々の扉を備えたチャンバーを、約４２５℃〜４３０℃の温度まで加熱し、そして壁部を構成する各々の基材の間の温度を、熱電対を用いて慣習的な方法より測定した。
【００７７】
結果を以下の表１に示す：
【００７８】
表１において、積層体Ａ（ＩＴＯ機能層を具備しており、かつ放射率が１８％である）でコーティングされている面を、Ａと示し、積層体Ｂ（銀の機能層を具備している）でコーティングされている面を、Ｂと示し、コーティングＣ（放射率１６％の熱分解ＳｎＯ２：Ｆ層を具備している）でコーティングされている面を、Ｃと示し、コーティングＤ（放射率１２％の熱分解ＳｎＯ２：Ｆ層を具備している）でコーティングされている面を、Ｄと示し、コーティングされていない面を、Ｘと示している。
【００７９】
【表１】
2020504701.tif 000003
【００８０】
表１において、「Ｔｍａｘ  扉」は、扉の外側での最大温度を示しており、「Ｔｍａｘ  Ｓ１−Ｓ２」基材１と基材２との間の空間で測定した最大温度を示しており、「Ｔｍａｘ  Ｓ２−Ｓ３」は、基材２と基材３との間の空間で測定した最大温度を示しており、「Ｔｍａｘ  Ｓ３−Ｓ４」は、基材３及び基材４との間の空間で測定した最大温度を示している。
【００８１】
表１に示した結果は、本発明の利点を示している：オーブンのキャビティを向いている面のＩＴＯ機能層を具備しているコーティング、及び他の面の銀の機能層を具備しているコーティングで、第一の基材がコーティングされている壁部を具備している、本発明による実施例Ｉ〜ＩＶは、上記の第一の基材と第二の基材との間の空間における温度の大きな減少が示すように、上記のキャビティを良好に断熱することを可能とした。それによれば、第一の基材に存在している積層体の特定の形態によって見られた２つの第一の基材の間の温度の減少は、キャビティを良好に断熱することを可能とし、このことは、多くの利点をもたらす:
−    熱分解法オーブンの場合、かかる断熱の向上は、上記の熱分解法のために必要とされる高温を維持するために必要とされる加熱を制限することを可能とする。
−    食物を調理するためのオーブンの通常の使用の間においては（すなわち２４０℃の最大温度では）、この良好な断熱は、オーブンの電力消費を有意に低減させ、したがって、そのエネルギー評価を向上させることを可能とする。
−    更には、壁部のグレージング部分を冷却するために用いる換気を大きく低減させ、又はもはや必要ではなくすることができる。
【００８２】
別の利点によれば、本発明によれば、熱分解法によるオーブンの清掃の段階において、上記のコーティングにより「見られる」実質的な温度の低減により、かかる壁部において、機能層が銀で作られており、かつ特に熱に耐えるように構成されていない積層体を用いることが可能となる。
【００８３】
更には、本発明による壁部の使用は、扉の形態を、実施例IVが示すように単純にし(４つのペインの形態より寧ろ3つのペインの配置)、その一方で、要求される安全レベルを確かにすることができた。
【００８４】
最後に、壁部が２つ又は３つのグレージング基材のみを具備している従来の（熱分解式ではない）オーブンの場合、全体として適切でかつ向上した断熱レベルを得ることができることがわかる。
【００８５】
実施例ＩＩ、ＸＩＩ及びＸＩＩＩの比較は、本発明によるコーティングの特定の組合せのみが、かかる結果を得ることを可能とすることを示している。特に、非常に驚くべきかつ予想外にも、上記の錫をベースとする熱分解ＴＣＯコーティングについて測定した放射率がＩＴＯをベースとする層の積層体の放射率よりも低いにもかかわらず、錫をベースとする熱分解ＴＣＯコーティングを、本発明によるＩＴＯをベースとする層の積層体へと置換することにより、壁部の断熱性を有意に向上させることが可能となることがわかる。
【００８６】
実施例Ｉ、ＩＩ及びＩＩＩは、実施例ＩＶと比較したときに、ＴＣＯ（ＳｎＯ２：Ｆ又はＩＴＯ）タイプの追加の熱反射コーティング、又は銀を含有している積層体を、グレージングの面３及び／又は５、特にグレージングの面３に配置したときに、キャビティの断熱性を更に向上させることができることを更に示している。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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