(57)【要約】  ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法及びＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイ。該ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法は、カラーフィルター層（３）を製造した後、リチウムドープ酸化亜鉛溶液をスピンコーティングしてリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層を形成し、さらにリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をアニール処理する方式によってＴＦＴのチャネル層（７）を製造し、製造プロセス温度を２００℃まで低くすることができ、ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイを製造する温度の制約条件を満たし、且つ操作がシンプルであり、高価な真空装置を使用する必要がなく、インジウム、ガリウム等の高価レアメタルのかわりにリチウムをチャネル層（７）にドープすることで、ＴＦＴの電気的性能を向上させ、且つ材料コストが低く、さらに経済的で環境にやさしい。
2020520538.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法であって、
ベース基板を提供し、ベース基板に洗浄及びプリベークを行うステップＳ１と、
黒色遮光薄膜を堆積し、黒色遮光薄膜をパターニング処理し、黒色マトリクスを形成するステップＳ２と、
前記黒色マトリクス内に順に異なる色の色抵抗を堆積し、カラーフィルター層を形成するステップＳ３と、
前記カラーフィルター層の上に平坦層を堆積して形成するステップＳ４と、
前記平坦層の上に第１金属層を堆積し、第１金属層をパターニング処理し、ゲートを形成するステップＳ５と、
前記ゲートと平坦層の上にゲート絶縁層を堆積して被覆するステップＳ６と、
リチウムドープ酸化亜鉛溶液を配置し、配置したリチウムドープ酸化亜鉛溶液をゲート絶縁層の上にスピンコーティングしてリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層を形成し、次にリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をアニール処理し、さらにリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をパターニング処理し、チャネル層を形成するステップＳ７と、
エッチングバリア層を堆積し、且つエッチングバリア層をパターニング処理し、それぞれチャネル層の両側を露出させる第１ビア及び第２ビアを形成するステップＳ８と、
前記エッチングバリア層の上に第２金属層を堆積し、且つ第２金属層をパターニング処理し、ソース及びドレインを形成し、前記ソース、ドレインはそれぞれ第１ビア、第２ビアを経由してチャネル層の両側に接触するステップＳ９と、
前記エッチングバリア層、ソース、及びドレインの上に順に保護層、陽極、画素定義層、ＯＬＥＤ発光層、及び陰極を製造するステップＳ１０と、を含むＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項２】
前記ステップＳ１では、前記ベース基板はガラス基板である請求項１に記載のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項３】
前記ステップＳ３では、前記異なる色の色抵抗は赤色抵抗、緑色抵抗、及び青色抵抗を含む請求項１に記載のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項４】
前記平坦層、ゲート絶縁層、エッチングバリア層、及び保護層の材料はいずれも酸化ケイ素、窒化ケイ素、又は両方の組み合わせである請求項１に記載のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項５】
前記第１金属層と第２金属層の材料はいずれもモリブデン、チタン、アルミニウム、銅のうちの１種又は複数種のスタック組み合わせである請求項１に記載のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項６】
前記ステップＳ７では、水酸化リチウムと水酸化亜鉛を原料としてリチウムドープ酸化亜鉛溶液を配置する請求項１に記載のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項７】
前記陽極の材料は酸化インジウム錫である請求項１に記載のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項８】
ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイであって、請求項１に記載のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法によって製造され、内部のチャネル層の材料がリチウムドープ酸化亜鉛であるＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイ。
【請求項９】
ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法であって、
ベース基板を提供し、ベース基板に洗浄及びプリベークを行うステップＳ１と、
黒色遮光薄膜を堆積し、黒色遮光薄膜をパターニング処理し、黒色マトリクスを形成するステップＳ２と、
前記黒色マトリクス内に順に異なる色の色抵抗を堆積し、カラーフィルター層を形成するステップＳ３と、
前記カラーフィルター層の上に平坦層を堆積して形成するステップＳ４と、
前記平坦層の上に第１金属層を堆積し、第１金属層をパターニング処理し、ゲートを形成するステップＳ５と、
前記ゲートと平坦層の上にゲート絶縁層を堆積して被覆するステップＳ６と、
リチウムドープ酸化亜鉛溶液を配置し、配置したリチウムドープ酸化亜鉛溶液をゲート絶縁層の上にスピンコーティングしてリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層を形成し、次にリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をアニール処理し、さらにリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をパターニング処理し、チャネル層を形成するステップＳ７と、
エッチングバリア層を堆積し、且つエッチングバリア層をパターニング処理し、それぞれチャネル層の両側を露出させる第１ビア及び第２ビアを形成するステップＳ８と、
前記エッチングバリア層の上に第２金属層を堆積し、且つ第２金属層をパターニング処理し、ソース及びドレインを形成し、前記ソース、ドレインはそれぞれ第１ビア、第２ビアを経由してチャネル層の両側に接触するステップＳ９と、
前記エッチングバリア層、ソース、及びドレインの上に順に保護層、陽極、画素定義層、ＯＬＥＤ発光層、及び陰極を製造するステップＳ１０と、を含み、
前記ステップＳ１では、前記ベース基板はガラス基板であり、
前記平坦層、ゲート絶縁層、エッチングバリア層、及び保護層の材料はいずれも酸化ケイ素、窒化ケイ素、又は両方の組み合わせであり、
前記第１金属層と第２金属層の材料はいずれもモリブデン、チタン、アルミニウム、銅のうちの１種又は複数種のスタック組み合わせであり、
前記ステップＳ７では、水酸化リチウムと水酸化亜鉛を原料としてリチウムドープ酸化亜鉛溶液を配置するＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項１０】
前記ステップＳ３では、前記異なる色の色抵抗は赤色抵抗、緑色抵抗、及び青色抵抗を含む請求項９に記載のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【請求項１１】
前記陽極の材料は酸化インジウム錫である請求項９に記載のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はＯＬＥＤ表示装置製造プロセスの分野に関し、特にＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法及びＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
表示技術分野では、液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）と有機発光ダイオードディスプレイ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）等の平板型表示装置は徐々に陰極線管ディスプレイ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）を代替ている。
【０００３】
ＯＬＥＤディスプレイは自己発光、低駆動電圧、高発光効率、短い応答時間、高解像度、高コントラスト、略１８０°の視野角、広い使用温度範囲や、柔軟性のある表示及び大画面フルカラー表示を実現できること等、多くの利点を有し、業界では最も有望な表示装置として認められている。
【０００４】
表示技術の発展に伴って、薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ−Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）駆動回路をカラーフィルター層（Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ、ＣＦ）の上に設置したＴＯＣ（Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ  Ｏｎ  Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ）型ＯＬＥＤディスプレイが登場した。ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイは偏光片（Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）を省くことができ、ＯＬＥＤ表示装置のさらなる軽量化及び薄型化を実現でき、製造コストがさらに低くなる。
【０００５】
ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造フローは、まず、ベース基板の上にＣＦを製造するステップと、次に、カラーフィルター層の上にＴＦＴを製造するステップと、を含む。
【０００６】
先にＣＦが製造されるため、後続のＴＦＴの製造は２３０℃未満の温度制約条件下で行わざるを得ない。
【０００７】
一方、従来のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイは通常、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）等の高価なレアメタルを含有する材料を用いてＴＦＴのチャネル層を製造するが、ＴＦＴの電気的性能を向上させることができるものの、生産コストをさらに削減することが期待される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、２３０℃未満の温度制約条件下でＴＦＴを製造でき、チャネル層の材料コスト及びＴＦＴの装置コストを効果的に削減させ、経済的で環境にやさしいＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法を提供することである。
【０００９】
本発明の別の目的は、内部のＴＦＴの電気的性能が比較的良く、生産コストが比較的低いＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を実現するために、本発明はまずＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法を提供し、以下のステップを含む。
【００１１】
ステップＳ１、ベース基板を提供し、ベース基板に洗浄及びプリベークを行う。
【００１２】
ステップＳ２、黒色遮光薄膜を堆積し、黒色遮光薄膜をパターニング処理し、黒色マトリクスを形成する。
【００１３】
ステップＳ３、前記黒色マトリクス内に順に異なる色の色抵抗を堆積し、カラーフィルター層を形成する。
【００１４】
ステップＳ４、前記カラーフィルター層の上に平坦層を堆積して形成する。
【００１５】
ステップＳ５、前記平坦層の上に第１金属層を堆積し、第１金属層をパターニング処理し、ゲートを形成する。
【００１６】
ステップＳ６、前記ゲートと平坦層の上にゲート絶縁層を堆積して被覆する。
【００１７】
ステップＳ７、リチウムドープ酸化亜鉛溶液を配置し、配置したリチウムドープ酸化亜鉛溶液をゲート絶縁層の上にスピンコーティングしてリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層を形成し、次にリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をアニール処理し、さらにリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をパターニング処理し、チャネル層を形成する。
【００１８】
ステップＳ８、エッチングバリア層を堆積し、且つエッチングバリア層をパターニング処理し、それぞれチャネル層の両側を露出させる第１ビア及び第２ビアを形成する。
【００１９】
ステップＳ９、前記エッチングバリア層の上に第２金属層を堆積し、且つ第２金属層をパターニング処理し、ソース及びドレインを形成し、前記ソース、ドレインはそれぞれ第１ビア、第２ビアを経由してチャネル層の両側に接触する。
【００２０】
ステップＳ１０、前記エッチングバリア層、ソース、及びドレインの上に順に保護層、陽極、画素定義層、ＯＬＥＤ発光層、及び陰極を製造する。
【００２１】
前記ステップＳ１では、前記ベース基板はガラス基板である。
【００２２】
前記ステップＳ３では、前記異なる色の色抵抗は赤色抵抗、緑色抵抗、及び青色抵抗を含む。
【００２３】
前記平坦層、ゲート絶縁層、エッチングバリア層、及び保護層の材料はいずれも酸化ケイ素、窒化ケイ素、又は両方の組み合わせである。
【００２４】
前記第１金属層と第２金属層の材料はいずれもモリブデン、チタン、アルミニウム、銅のうちの１種又は複数種のスタック組み合わせである。
【００２５】
前記ステップＳ７では、水酸化リチウムと水酸化亜鉛を原料としてリチウムドープ酸化亜鉛溶液を配置する。
【００２６】
前記陽極の材料は酸化インジウム錫である。
【００２７】
本発明はＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイをさらに提供し、上記ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法によって製造され、その内部のチャネル層の材料はリチウムドープ酸化亜鉛である。
【００２８】
本発明はＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法をさらに提供し、以下のステップを含む。
【００２９】
ステップＳ１、ベース基板を提供し、ベース基板に洗浄及びプリベークを行う。
【００３０】
ステップＳ２、黒色遮光薄膜を堆積し、黒色遮光薄膜をパターニング処理し、黒色マトリクスを形成する。
【００３１】
ステップＳ３、前記黒色マトリクス内に順に異なる色の色抵抗を堆積し、カラーフィルター層を形成する。
【００３２】
ステップＳ４、前記カラーフィルター層の上に平坦層を堆積して形成する。
【００３３】
ステップＳ５、前記平坦層の上に第１金属層を堆積し、第１金属層をパターニング処理し、ゲートを形成する。
【００３４】
ステップＳ６、前記ゲートと平坦層の上にゲート絶縁層を堆積して被覆する。
【００３５】
ステップＳ７、リチウムドープ酸化亜鉛溶液を配置し、配置したリチウムドープ酸化亜鉛溶液をゲート絶縁層の上にスピンコーティングしてリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層を形成し、次にリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をアニール処理し、さらにリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をパターニング処理し、チャネル層を形成する。
【００３６】
ステップＳ８、エッチングバリア層を堆積し、且つエッチングバリア層をパターニング処理し、それぞれチャネル層の両側を露出させる第１ビア及び第２ビアを形成する。
【００３７】
ステップＳ９、前記エッチングバリア層の上に第２金属層を堆積し、且つ第２金属層をパターニング処理し、ソース及びドレインを形成し、前記ソース、ドレインはそれぞれ第１ビア、第２ビアを経由してチャネル層の両側に接触する。
【００３８】
ステップＳ１０、前記エッチングバリア層、ソース、及びドレインの上に順に保護層、陽極、画素定義層、ＯＬＥＤ発光層、及び陰極を製造する。
前記ステップＳ１では、前記ベース基板はガラス基板であり、
前記平坦層、ゲート絶縁層、エッチングバリア層、及び保護層の材料はいずれも酸化ケイ素、窒化ケイ素、又は両方の組み合わせであり、
【００３９】
前記第１金属層と第２金属層の材料はいずれもモリブデン、チタン、アルミニウム、銅のうちの１種又は複数種のスタック組み合わせであり、
【００４０】
前記ステップＳ７では、水酸化リチウムと水酸化亜鉛を原料としてリチウムドープ酸化亜鉛溶液を配置する。
【００４１】
本発明の有益な効果は、以下のとおりである。本発明により提供されるＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法は、カラーフィルター層を製造した後、リチウムドープ酸化亜鉛溶液をスピンコーティングしてリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層を形成し、さらにリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をアニール処理する方式によってＴＦＴのチャネル層を製造し、製造プロセス温度を２００℃まで低くすることができ、ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイ製造の温度制約条件を満たし、且つ操作がシンプルであり、高価な真空装置を使用する必要がなく、インジウム、ガリウム等の高価レアメタルのかわりにリチウムをチャネル層にドープすることで、ＴＦＴの電気的性能を向上させ、且つ材料コストが低く、さらに経済的で環境にやさしい。本発明により提供されるＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイは、その内部のチャネル層の材料がリチウムドープ酸化亜鉛であり、それによりＴＦＴの電気的性能が比較的良く、生産コストが比較的低い。
【００４２】
本発明の特徴及び技術内容をさらに理解するために、以下の本発明に関する詳細説明及び図面を参照できるが、図面は参考及び説明用のものに過ぎず、本発明を制限するためのものではない。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】図１は、本発明のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法のフローチャートである。
【図２】図２は、本発明のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの断面構造模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
本発明が採用する技術手段及びその効果をさらに説明するために、以下、本発明の好適な実施例及びその図面と組み合わせて詳細に説明する。
【００４５】
図１を図２と組み合わせて参照すると、本発明はまずＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法を提供し、ステップＳ１〜Ｓ１０を含む。
【００４６】
ステップＳ１、ベース基板１を提供し、ベース基板１に洗浄及びプリベークを行う。
【００４７】
具体的には、前記ベース基板１は好適にはガラス基板である。
【００４８】
ステップＳ２、黒色遮光薄膜を堆積し、フォトマスクを用いて黒色遮光薄膜をパターニング処理し、黒色マトリクス２を形成する。
【００４９】
ステップＳ３、前記黒色マトリクス２内に異なる色の色抵抗を順に堆積し、カラーフィルター層３を形成する。
【００５０】
具体的には、前記異なる色の色抵抗は少なくとも赤色抵抗Ｒ、緑色抵抗Ｇ、及び青色抵抗Ｂを含む。
【００５１】
ステップＳ４、前記カラーフィルター層３の上に平坦層４を堆積して形成する。
【００５２】
具体的には、前記平坦層４の材料は酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、又は両方の組み合わせである。
【００５３】
ステップＳ５、前記平坦層４の上に第１金属層を堆積し、フォトマスクを用いて第１金属層をパターニング処理し、ゲート５を形成する。
【００５４】
具体的には、前記第１金属層の材料はモリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）のうちの１種又は複数種のスタック組み合わせである。
【００５５】
ステップＳ６、前記ゲート５と平坦層４の上にゲート絶縁層６を堆積して被覆する。
【００５６】
具体的には、前記ゲート絶縁層６の材料はＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、又は両方の組み合わせである。
【００５７】
ステップＳ７、リチウム（Ｌｉ）ドープ酸化亜鉛（ＺｎＯ）溶液を配置し、配置したリチウムドープ酸化亜鉛（Ｌｉ−  ＺｎＯ）溶液をゲート絶縁層６の上にスピンコーティングしてリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層を形成し、次にリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をアニール処理し、さらにフォトマスクを用いてリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をパターニング処理し、チャネル層７を形成する。
【００５８】
具体的には、該ステップＳ７では、水酸化リチウム（ＬｉＯＨ）と水酸化亜鉛（Ｚｎ（ＯＨ）２）を原料としてリチウムドープ酸化亜鉛溶液を配置する。
【００５９】
ステップＳ８、エッチングバリア層８を堆積し、且つフォトマスクを用いてエッチングバリア層８をパターニング処理し、それぞれチャネル層７の両側を露出させる第１ビア８１及び第２ビア８２を形成する。
【００６０】
具体的には、前記エッチングバリア層８の材料はＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、又は両方の組み合わせである。
【００６１】
ステップＳ９、前記エッチングバリア層８の上に第２金属層を堆積し、且つフォトマスクを用いて第２金属層をパターニング処理し、ソース９１及びドレイン９２を形成する。
【００６２】
具体的には、前記第２金属層の材料もＭｏ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｕのうちの１種又は複数種のスタック組み合わせである。
【００６３】
前記ソース９１、ドレイン９２はそれぞれ第１ビア８１、第２ビア８２を経由してチャネル層７の両側に接触する。
【００６４】
前記ゲート５、ゲート絶縁層６、チャネル層７、ソース９１、及びドレイン９２からＴＦＴが構成される。
【００６５】
ステップＳ１０、前記エッチングバリア層８、ソース９１、及びドレイン９２の上に保護層１０、陽極１１、画素定義層１２、ＯＬＥＤ発光層１３、及び陰極１４を順に製造する。
【００６６】
具体的には、前記保護層１０の材料もＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、又は両方の組み合わせであり、前記陽極１１の材料は酸化インジウム錫（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）であり、前記画素定義層１２の材料は有機フォトレジストであり、前記保護層１０はパターニング処理によって、ドレイン９２の表面の一部を露出させる第３ビア１０１を有し、前記画素定義層１２はパターニング処理によって、陽極１１の表面の一部を露出させる第４ビア１２１を有し、前記陽極１１は第３ビア１０１を経由してドレイン９２に接触し、前記ＯＬＥＤ発光層１３と陰極１４は順に第４ビア１２１内に位置する。
【００６７】
上記ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法は、カラーフィルター層３を製造した後、リチウムドープ酸化亜鉛溶液をスピンコーティングしてリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層を形成し、さらにリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をアニール処理する方式によってＴＦＴのチャネル層７を製造し、製造プロセス温度を２００℃まで低くすることができ、ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイ製造の温度制約条件を満たし、且つ操作がシンプルであり、高価な真空装置を使用する必要がなく、インジウム、ガリウム等の高価なレアメタルのかわりにリチウムをチャネル層７にドープすることで、ＴＦＴの電気的性能を向上させることができるだけでなく、且つ材料コストが低く、さらに経済的で環境にやさしい。
【００６８】
同一の発明思想に基づき、本発明は上記ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法によって製造されたＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイであって、図２に示すように、ベース基板１と、前記ベース基板１の上に設置される黒色マトリクス２と、前記黒色マトリクス２内に充填されるカラーフィルター層３と、前記カラーフィルター層３に被覆される平坦層４と、前記平坦層４の上に設置されるゲート５と、前記ゲート５及び平坦層４に被覆されるゲート絶縁層６と、前記ゲート５の上方においてゲート絶縁層６の上に設置されるチャネル層７と、前記チャネル層７及びゲート絶縁層６に被覆されるエッチングバリア層８と、前記エッチングバリア層８の上に設置されるソース９１及びドレイン９２と、前記ソース９１、ドレイン９２、及びエッチングバリア層８に被覆される保護層１０と、前記保護層１０の上に設置される陽極１１と、前記陽極１１の上に設置される画素定義層１２と、前記画素定義層１２内において陽極１１の上に順に積層されるＯＬＥＤ発光層１３及び陰極１４と、を含むＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイをさらに提供する。
【００６９】
前記エッチングバリア層８はそれぞれチャネル層７の両側を露出させる第１ビア８１、及び第２ビア８２を有し、前記保護層１０はドレイン９２の表面の一部を露出させる第３ビア１０１を有し、前記画素定義層１２は陽極１１の表面の一部を露出させる第４ビア１２１を有し、前記ソース９１、ドレイン９２はそれぞれ第１ビア８１、第２ビア８２を経由してチャネル層７の両側に接触し、前記陽極１１は第３ビア１０１を経由してドレイン９２に接触し、前記ＯＬＥＤ発光層１３と陰極１４は順に第４ビア１２１内に位置し、前記チャネル層７の材料はリチウムドープ酸化亜鉛であり、それによりＴＦＴの電気的性能を向上させ、生産コストを削減させることができる。
【００７０】
上記のように、本発明のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイの製造方法は、カラーフィルター層を製造した後、リチウムドープ酸化亜鉛溶液をスピンコーティングしてリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層を形成し、さらにリチウムドープ酸化亜鉛コーティング層をアニール処理する方式によってＴＦＴのチャネル層を製造し、製造プロセス温度を２００℃まで低くすることができ、ＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイ製造の温度制約条件を満たし、且つ操作がシンプルであり、高価な真空装置を使用する必要がなく、インジウム、ガリウム等の高価レアメタルのかわりにリチウムをチャネル層にドープすることで、ＴＦＴの電気的性能を向上させ、且つ材料コストが低く、さらに経済的で環境にやさしい。本発明のＴＯＣ型ＯＬＥＤディスプレイは、その内部のチャネル層の材料がリチウムドープ酸化亜鉛であり、それによりＴＦＴの電気的性能が比較的良く、生産コストが比較的低い。
【００７１】
上記について、当業者であれば、本発明の技術的手段及び技術的思想に基づきほかの各種の相応な変更や変形を行うことができ、これらの変更や変形はすべて本発明の、添付する特許請求の範囲の保護範囲に属する。
【符号の説明】
【００７２】
１  ベース基板
２  黒色マトリクス
３  カラーフィルター層
４  平坦層
５  ゲート
６  ゲート絶縁層
７  チャネル層
８  エッチングバリア層
１０  保護層
１１  陽極
１２  画素定義層
１３  ＯＬＥＤ発光層
１４  陰極
８１  第１ビア
８２  第２ビア
９１  ソース
９２  ドレイン
１０１  第３ビア
１２１  第４ビア
【図１】
2020520538.tif 000003
【図２】
2020520538.tif 000004
【国際調査報告】
2020520538.tif 000005
2020520538.tif 000006
2020520538.tif 000007
2020520538.tif 000008
2020520538.tif 000009
2020520538.tif 000010