(57)【要約】  本発明は、ポリイミド系基材；の少なくとも一面上にハードコーティング組成物の硬化物を含むハードコーティング層；が形成されたハードコーティングフィルムにおいて、前記ハードコーティング組成物は、ポリイミド系樹脂をスウェリング（ｓｗｅｌｌｉｎｇ）させる溶剤；を含み、前記ハードコーティングフィルムは、４００ｎｍ〜８００ｎｍの領域で反射率の測定時に、反射率のオシレーションの最大振幅差が０．５％以下に調節することによって、干渉模様を防止できるハードコーティングフィルムおよびこれを含む画像表示装置に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリイミド系基材；の少なくとも一面上にハードコーティング組成物の硬化物を含むハードコーティング層；が形成されたハードコーティングフィルムにおいて、
前記ハードコーティング組成物は、ポリイミド系基材をスウェリング（ｓｗｅｌｌｉｎｇ）させる溶剤；を含み、
前記ハードコーティングフィルムは、４００ｎｍ〜８００ｎｍの領域で反射率の測定時に、反射率のオシレーションの最大振幅差が０．５％以下であることを特徴とするハードコーティングフィルム。
【請求項２】
前記溶剤は、ケトン類、アセテート類およびアミド類よりなる群から選択される一つ以上であることを特徴とする請求項１に記載のハードコーティングフィルム。
【請求項３】
前記反射率のオシレーションの最大振幅差が０．２％以下であることを特徴とする請求項１に記載のハードコーティングフィルム。
【請求項４】
前記ハードコーティング組成物は、透光性樹脂、光開始剤、溶剤および添加剤よりなる群から選択される一つ以上をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のハードコーティングフィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のハードコーティングフィルムを含む画像表示装置。
【請求項６】
前記画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置であることを特徴とする請求項５に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコーティングフィルムおよびこれを含む画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、電子ペーパーなどの画像表示装置において、画像表示面は、外部光源から照射された光線による反射を少なくし、その視認性を高めることが要求される。これと関連して、光透過性基材に眩しさ防止層または反射防止層を形成した光学積層体（例えば、反射防止積層体）を利用することによって、画像表示装置の画像表示面の反射を減少させ、視認性を向上させる方法が一般的に行われている。
【０００３】
しかしながら、光透過性基材の屈折率とハードコーティング層の屈折率が異なる場合、干渉模様が発生しうる問題点があるので、これを改善するための研究が進行されている。
【０００４】
これと関連して、韓国特許登録第１０−１０６３９０２号には、互いに異なる屈折率の材料からなる第１透明層および第２透明層を含み、前記第１透明層と第２透明層との接触境界面を１０点平均照度（Ｒｚ）が０．７２μｍ≦Ｒｚ≦３．５μｍである光散乱性境界面とすることによって、干渉模様の発生が抑制された光学フィルムについて記載されているが、これは、干渉模様の防止のために複数のコーティング層を含む工程上の困難がある。
【０００５】
また、韓国特許公開第１０−２０１３−０１１７６９４号には、（メタ）アクリル系樹脂を主成分とする基材フィルムおよびハードコート層を含み、前記基材フィルムの前記ハードコート層側の界面の近くに、前記基材フィルムを構成する材料と前記ハードコート層を構成する材料が相溶された相溶層を形成させることによって、干渉模様の発生が抑制されたハードコートフィルムについて記載されているが、これは、反復的なストレスが加えられるフレキシブル特性に脆弱なアクリル系樹脂フィルムを使用していて、フレキシブル画像表示装置には適用が難しいという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】韓国特許登録第１０−１０６３９０２号公報（２０１１．０９．０２．）
【特許文献２】韓国特許公開第１０−２０１３−０１１７６９４号公報（２０１３．１０．２８．）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、前記のような問題を解決するためのものであって、フレキシブル画像表示装置に適用可能であり、干渉模様の発生を抑制できるハードコーティングフィルムおよびこれを含む画像表示装置を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成するための本発明は、ポリイミド系基材；の少なくとも一面上にハードコーティング組成物の硬化物を含むハードコーティング層；が形成されたハードコーティングフィルムにおいて、前記ハードコーティング組成物は、ポリイミド系基材をスウェリング（ｓｗｅｌｌｉｎｇ）させる溶剤；を含み、前記ハードコーティングフィルムは、４００ｎｍ〜８００ｎｍの領域で反射率の測定時に、反射率のオシレーションの最大振幅差が０．５％以下であることを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の画像表示装置は、前述したハードコーティングフィルムを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によるハードコーティングフィルムは、ポリイミド系基材を含むことによって、フレキシブルな画像表示装置にも適用が可能であり、反射率のオシレーションの最大振幅差を０．５％以下に調節することによって、干渉模様の発生を抑制できるという利点がある。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明において任意の部材が他の部材「上に」位置しているというとき、これは、任意の部材が他の部材に接している場合だけでなく、二つの部材の間にさらに他の部材が存在する場合も含む。
【００１２】
本発明において任意の部分が或る構成要素を「含む」というとき、これは、特に反対になる記載がない限り、他の構成要素を除くものではなく、他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。
【００１３】
以下、本発明についてより詳細に説明する。
【００１４】
＜ハードコーティングフィルム＞
本発明の一様態によるハードコーティングフィルムは、ポリイミド系基材；の少なくとも一面上にハードコーティング組成物の硬化物を含むハードコーティング層；が形成され、前記ハードコーティング組成物は、ポリイミド系基材をスウェリング（ｓｗｅｌｌｉｎｇ）させる溶剤；を含み、前記ハードコーティングフィルムは、４００ｎｍ〜８００ｎｍの領域で反射率の測定時に、反射率のオシレーションの最大振幅差を０．５％以下に調節することによって、フレキシブル画像表示装置に適用可能であり、干渉模様の発生が抑制されるという利点がある。
【００１５】
ポリイミド系基材
本発明の一様態によるハードコーティングフィルムは、ポリイミド系基材を含む。
【００１６】
上記のように、本発明の一様態によるハードコーティングフィルムは、反復的な曲げに対する耐久性に優れたポリイミド系基材を含むことによって、フレキシブルな画像表示装置への適用が可能であるという利点がある。
【００１７】
本発明においてポリイミド系基材は、ポリイミド系化合物を主成分とする基材を意味するものであって、例えば、ポリイミド、ポリアミドイミドなどが挙げられるが、これに限定されず、ポリイミド系化合物を含むものであれば、特別な制限なしに使用され得る。
【００１８】
前記ポリイミド系基材は、一例として、テトラカルボン酸二無水物およびジアミンを含む単量体を重合して得られるものであり得る。
【００１９】
前記テトラカルボン酸二無水物としては、特に制限されないが、脂肪族テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００２０】
前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ［２．２．２］オクタン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、５−（ジオキソテトラヒドロフリル−３−メチル）−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、４−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）−テトラリン−１，２−ジカルボン酸無水物、テトラヒドロフラン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ−３，３’，４，４’−テトラカルボン酸二無水物、３ｃ−カルボキシメチルシクロペンタン−１ｒ、２ｃ、４ｃ−トリカルボン酸１，４，２，３−二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物などが挙げられる。
【００２１】
また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、ｍ−テルフェニル−３，３’，４，４’−テトラカルボン酸二無水物、４，４’−（２，２−ヘキサフルオロイソプロピレン）ジフタル酸二無水物、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、（１，１’：３’，１''−テルフェニル）−３，３''，４，４''−テトラカルボン酸二無水物、４，４’−（ジメチルシランジイル）ジフタル酸二無水物、４，４’−（１，４−フェニレンビス（オキシ））ジフタル酸二無水物などが挙げられる。
【００２２】
前述したテトラカルボン酸二無水物のうち、優れた化学的および物理的性質を有するポリイミド系基材を得ることができるという観点から、芳香族テトラカルボン酸二無水物であることが好ましく、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であることがより好ましく、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であることがより好ましい。
【００２３】
また、前述したテトラカルボン酸二無水物は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００２４】
前記ジアミンとしては、特に制限されないが、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミンが挙げられる。
【００２５】
前記脂肪族ジアミンとしては、ジアミノブタン、ジアミノペンタン、ジアミノヘキサン、ジアミノヘプタン、ジアミノオクタン、ジアミノノナン、ジアミノデカン、ジアミノウンデカン、ジアミノドデカン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、３−メチル−１，４−ジアミノシクロヘキサン、５，５−ジメチルシクロヘキシルアミン、１，３−ビスアミノメチルシクロヘキサン、ビス（４，４’−アミノシクロヘキシル）メタン、ビス（３，３’−メチル−４，４’−アミノシクロヘキシル）メタン、ビス（アミノメチル）ノルボルナン、ビス（アミノメチル）−トリシクロ［５，２，１，０］デカン、イソホロンジアミン、１，３−ジアミノアダマンタンなどが挙げられる。
【００２６】
また、前記芳香族ジアミンとしては、ｐ−フェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、２，６−ジアミノトルエン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ビス（４−アミノフェニル）スルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノベンズアニリド、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンが挙げられる。
【００２７】
前述したジアミンのうち、優れた化学的および物理的性質を有するポリイミド系基材を得ることができるという観点から、芳香族ジアミンであることが好ましく、ｐ−フェニレンジアミンであることがより好ましい。
【００２８】
また、前述したジアミンは、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００２９】
前述したように、ポリイミド系基材は、テトラカルボン酸二無水物およびジアミンを含む単量体を重合して得ることができる。より詳細には、（１）テトラカルボン酸二無水物およびジアミンを有機溶媒中で反応させてポリアミド酸を合成し、（２）得られたポリアミド酸をイミド化することによって、ポリイミド系基材を製造することができる。
【００３０】
（１）ポリアミド酸の合成
前記ポリアミド酸は、テトラカルボン酸二無水物およびジアミンを有機溶媒中で反応させることによって合成することができる。
【００３１】
当該反応は、ジアミンを有機溶剤に溶解し、得られたジアミン溶液を撹拌しつつ、テトラカルボン酸二無水物を徐々に添加することによって行うことが好ましい。
【００３２】
使用できる有機溶媒としては、特に制限されないが、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミドなどのアミド溶媒；γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、ε−カプロラクトン、α−メチル−γ−ブチロラクトンなどの環状エステル溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどのカーボネート溶媒；トリエチレングリコールなどのグリコール系溶媒；ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、３−クロロフェノール、４−クロロフェノールなどのフェノール系溶媒；アセトフェノン；１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン；スルホラン；ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。また、フェノール、Ｏ−クレゾール、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールメチルアセテート、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、２−メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、ブタノール、エタノール、キシレン、トルエン、クロロベンゼン、テルペン、ミネラルスピリット、石油ナフサ系溶媒などの一般的な有機溶剤を使用することができる。
【００３３】
これらのうち、アミド系溶媒を使用することが好ましく、前記有機溶媒は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３４】
（２）ポリイミド基材の製造
前記（１）で得られたポリアミド酸をイミド化することによって、ポリイミド系基材を製造することができる。
【００３５】
ポリイミド基材の製造は、一例として、ポリアミド酸を含む溶液を支持体上に流延し、加熱することによって行うことができる。
【００３６】
前記ポリアミド酸を含む溶液は、ポリアミド酸、有機溶媒を含むことができ、必要に応じて、イミド化触媒、有機リン含有化合物、無機微粒子などをさらに含むこともできる。
【００３７】
前記ポリアミド酸は、前記（１）で得られたものが使用できる。この際、ポリアミド酸は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。また、ポリアミド酸の含有量は、ポリアミド酸を含む溶液の全量に対して１０〜３０質量％であることが好ましい。
【００３８】
前記溶媒は、前述した有機溶媒が使用できる。
【００３９】
前記イミド化触媒は、ポリイミドフィルムの物性（伸張、断熱抵抗など）を向上させる役割をすることができる。
【００４０】
前記イミド化触媒は、具体的に、置換あるいは非置換の窒素含有複素環化合物およびそのＮ−オキシド化合物；置換あるいは非置換のアミノ酸化合物；ヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素化合物；芳香族複素環状化合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００４１】
より具体的に、１，２−ジメチルイミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、Ｎ−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、５−メチルベンズイミダゾール、Ｎ−ベンジル−２−メチルイミダゾール、イソキノリン、３，５−ジメチルピリジン、３，４−ジメチルピリジン、２，５−ジメチルピリジン、２，４−ジメチルピリジン、４−ｎ−プロピルピリジンなどが挙げられる。
【００４２】
前記有機リン含有化合物としては、具体的に、モノカプロイルリン酸エステル、モノオクチルリン酸エステル、モノラウリルリン酸エステル、モノミリスチリルリン酸エステル、モノセチルリン酸エステル、モノステアリルリン酸エステル、トリエチレングリコールモノトリデシルエーテルのモノリン酸エステル、テトラエチレングリコールモノラウリルエーテルのモノリン酸エステル、ジエチレングリコールモノステアリルエーテルのモノリン酸エステル、ジカプロイルリン酸エステル、ジオクチルリン酸エステル、ジカプリルリン酸エステル、ジラウリルリン酸エステル、ジミリスチルリン酸エステル、ジセチルリン酸エステル、ジステアリルリン酸エステル、テトラエチレングリコールモノネオペンチルエーテルのジリン酸エステル、トリエチレングリコールモノトリデシルエーテルのジリン酸エステル、テトラエチレングリコールモノラウリルエーテルのジリン酸エステル、ジエチレングリコールモノステアリルエーテルのジリン酸エステルなどのリン酸エステル、これらのリン酸エステルのアミン塩が使用できる。アミン塩としては、アンモニア、モノメチルアミン、モノエチルアミン、モノプロピルアミン、モノブチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、モノエタノールアミン、エタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアミン塩が挙げられるが、これに限定されるものではない。前記有機リン含有化合物は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００４３】
前記無機微粒子は、具体的に、微粒子型の二酸化チタニウム粉末、二酸化ケイ素（シリカ）粉末、酸化マグネシウム粉末、酸化アルミニウム（アルミナ）粉末、酸化亜鉛粉末などの無機酸化物粉末；微粒子型の窒化ケイ素粉末、窒化チタニウム粉末などの無機窒化物粉末；炭化ケイ素粉末などの無機炭化物粉末；微粒子型の炭酸カルシウム粉末、硫酸カルシウム粉末、硫酸バリウム粉末などの無機塩粉末が挙げられるが、これに限定されるものではない。これらの無機微粒子は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。また、ポリアミド酸を含む溶液に無機微粒子を均一に分散させるために、それ自体公知の手段を適用することができる。
【００４４】
前記ポリアミド酸を含む溶液を流延するための支持体としては、ステンレス基板、ステンレスベルトなどの公知の支持体が使用できるが、これに限定されるものではない。この際、前記支持体は、平滑なものが好ましく、連続生産を可能にするという観点から、エンドレスベルトなどのエンドレス支持体であることが好ましい。
【００４５】
ポリアミド酸を含む溶液の流延方法としては、特に制限されないが、押出塗布、溶融塗布であることが好ましい。
【００４６】
ポリアミド酸を含む溶液を支持体に流延すると、自己支持性を有する塗膜を得ることができる。
【００４７】
この際、得られた自己支持性を有する塗膜の片面または両面に、必要に応じて、表面処理剤を含む溶液を塗布することもできる。また、本明細書において、前記表面処理剤によるポリイミド基材の処理は、後述する「ポリイミド基材の表面処理」には含まれない。
【００４８】
前記表面処理剤を含む溶液は、表面処理剤および有機溶媒を含むことができる。
【００４９】
前記表面処理剤としては、具体的に、シランカップリング剤、ボランカップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、アルミニウム系キレート剤、チタネート系カップリング剤、鉄カップリング剤、銅カップリング剤などが挙げられるが、これに限定されるものではない。これらのうち、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤を使用することが好ましい。
【００５０】
前記シランカップリング剤としては、具体的に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどのエポキシシラン系カップリング剤；ビニルトリクロロシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどのビニルシラン系カップリング剤；γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランなどのアクリルシラン系カップリング剤；Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどのアミノシラン系カップリング剤；γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシランなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００５１】
また、前記チタネート系カップリング剤としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス（ジオクチルピロホスフェート）チタネート、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ジ−トリデシル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチルピロホスフェート）オキシアセテートチタネート、ビス（ジオクチルピロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネートなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００５２】
上述した表面処理剤のうち、アミノシランカップリング剤を使用することが好ましく、γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン、Ｎ−（アミノカルボニル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−［β−（フェニルアミノ）−エチル］−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシランを使用することがより好ましく、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシランを使用することがより好ましい。
【００５３】
上述した表面処理剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００５４】
前記有機溶媒の具体的な例は、前述したポリアミド酸の合成に使用される有機溶媒の具体的な例が同一に適用され得る。
【００５５】
前記表面処理剤を含む溶液の自己支持性を有する塗膜への塗布方法としては、例えばグラビアコート法、スピンコート法、シルクスクリーン法、ディップコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法などの公知の塗布方法が挙げられる。
【００５６】
このように得られた自己支持性を有する塗膜、または自己支持性を有する塗膜および表面処理剤を含む溶液を塗布して得られる塗膜を加熱することによって、ポリアミド酸のイミド化が発生し、ポリイミド系基材を製造することができる。
【００５７】
前記イミド化の加熱温度は、イミド化が進行される温度であれば、特に制限されないが、１００〜５５０℃であることが好ましく、１００〜４００℃であることがより好ましい。この際、加熱は、段階的に行うことが好ましく、例えば第１次加熱処理として１００〜１７０℃で加熱し、第２次加熱処理として１７０〜２２０℃で加熱し、第３次加熱処理として２２０〜４００℃で加熱し、第４次加熱処理として４００〜５５０℃で加熱することができる。
【００５８】
加熱時には、必要に応じてフィルムを延伸することもできる。これにより、ポリイミド系基材の熱膨張係数などの物性を適切に制御することができる。この際、延伸方法は、逐次二軸延伸、同時二軸延伸などの二軸延伸であってもよく、一軸延伸であってもよい。延伸倍率は、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ２〜１０倍であることが好ましい。また、ポリイミド系基材の寸法安定性を向上させる観点から、延伸後に緩和処理を行ってもよい。
【００５９】
前記ポリアミド酸のイミド化は、前記加熱の代わりに、または加熱と共に化学イミド化により行うこともできる。
【００６０】
前記化学イミド化の具体的な方法は、特に制限されないが、例えば上述したポリアミド酸を含む溶液に脱水剤、触媒をさらに添加して得られる溶液を支持体上に流延し、加熱することによって行うことができる。
【００６１】
前記脱水剤としては、特に制限されないが、脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物、脂環式酸無水物、複素環式酸無水物などが挙げられる。具体的には、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、ギ酸無水物、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、安息香酸無水物、無水ピコリン酸などが挙げられる。これらのうち、無水酢酸を使用することが好ましい。また、当該脱水剤は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００６２】
前記触媒としては、脂肪族第３級アミン、芳香族第３級アミン、複素環式第３級アミンなどが挙げられ、具体的に、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン、β−ピコリン、イソキノリン、キノリンなどが挙げられ、これらのうち、イソキノリンを使用することが好ましいが、これに限定されるものではない。
【００６３】
前記支持体への流延および加熱については、上述と同様の方法で行うことによって、ポリイミド系基材を製造することができる。
【００６４】
また、ポリイミド系基材としては、上述したこと他に、例えばテトラカルボン酸二無水物とジイソシアナトを反応させて製造した公知のポリイミド系基材を使用することもできる。
【００６５】
ハードコーティング組成物
本発明の一様態によるハードコーティングフィルムは、前述したポリイミド系基材の少なくとも一面上にハードコーティング組成物の硬化物を含むハードコーティング層を含み、前記ハードコーティング組成物は、ポリイミド系基材をスウェリングさせる溶剤を含む。
【００６６】
この際、ポリイミド系基材をスウェリングさせるという意味は、ポリイミド系基材の主成分であるポリイミド化合物をスウェリングさせることを意味する。
【００６７】
このように、ポリイミド系基材をスウェリングさせる溶剤を含むハードコーティング組成物；を前記ポリイミド系基材；の少なくとも一面に塗布してハードコーティング層を形成する場合、前記ポリイミド系基材とハードコーティング層の境界面でポリイミド系基材のスウェリングが発生することになり、これによって、ハードコーティング層の成分とポリイミド系基材の成分が混合される現象が発生する。このようにハードコーティング層の成分とポリイミド系基材の成分が混合されると、前記ハードコーティング層とポリイミド系基材間の屈折率の差異が減少することになって、屈折率の差異に比例して発生する界面反射を抑制することが可能であるので、これによって発生する干渉模様の発生を抑制できる利点がある。
【００６８】
また、上記のように、ポリイミド系基材をスウェリングさせることによって、前記ポリイミド系基材とハードコーティング層間の境界面が平坦でなく、凹凸が生じることになるが、これにより、ハードコーティング層の表面で反射する光と前記境界面で反射する光の方向が互いに異なるようになって、干渉を起こすことができる可干渉性を大きく低下させることができる。これにより、４００ｎｍ〜８００ｎｍの領域でハードコーティングフィルムの反射率の測定時に、薄膜干渉による反射率のオシレーション（ｏｓｃｉｌｌａｔｉｏｎ）の最大振幅差を０．５％以下に調節することが可能であるので、干渉模様の発生を抑制することが可能である。本発明の一実施形態によれば、前記反射率のオシレーションの最大振幅差は、０．２％以下に調節することが好ましく、この場合、干渉模様の発生をさらに抑制することができるという利点がある。
【００６９】
前記ポリイミド系基材をスウェリングさせる溶剤は、具体的に、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、エチルアセテート、ブチルアセテートなどのアセテート類およびジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類よりなる群から選択される一つ以上であってもよく、これらは、それぞれ単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００７０】
また、前述した溶剤以外に当業界において使用される溶剤をさらに含んで使用することもできる。
【００７１】
前記溶剤の含量は、これを含むハードコーティング組成物の全体１００重量％に対して１０〜９５重量％で含まれ得、具体的には、２０〜８０重量％で含まれ得る。前記溶剤の含量が前記範囲内で含まれる場合、作業性に有利になるように粘度を調節することが可能であり、ポリイミド系基材を十分にスウェリングさせることができ、乾燥時間が短縮され得るという利点がある。
【００７２】
本発明の一実施形態によれば、前記ハードコーティング組成物は、前述した溶剤以外に透光性樹脂、光開始剤、溶剤および添加剤よりなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。
【００７３】
前記透光性樹脂は、光硬化性樹脂であってもよく、光硬化型（メタ）アクリレートオリゴマー乃至モノマーを含むことができるが、本発明では、前記透光性樹脂に対して特に限定せず、当業界において使用される透光性樹脂を制限なしに使用することができる。
【００７４】
例えば、光硬化型（メタ）アクリレートオリゴマーは、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレートなどを通常的に使用することができ、ウレタン（メタ）アクリレートを使用することが好ましい。前記ウレタン（メタ）アクリレートは、分子内にヒドロキシ基を有する多官能（メタ）アクリレートとイソシアネート基を有する化合物を触媒の存在下で製造することができる。前記分子内にヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレートの具体的な例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシイソプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン開環ヒドロキシアクリレート、ペンタエリスリトールトリ／テトラ（メタ）アクリレート混合物およびジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサ（メタ）アクリレート混合物よりなる群から選択される１種以上が選択され得る。また、前記イソシアネート基を有する化合物の具体的な例としては、１，４−ジイソシアナトブタン、１，６−ジイソシアナトヘキサン、１，８−ジイソシアナトオクタン、１，１２−ジイソシアナトドデカン、１，５−ジイソシアナト−２−メチルペンタン、トリメチル−１，６−ジイソシアナトヘキサン、１，３−ビス（イソシアナトーメチル）シクロヘキサン、トランス−１，４−シクロヘキセンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、トルエン−２，４−ジイソシアネート、トルエン−２，６−ジイソシアネート、キシレン−１，４−ジイソシアネート、テトラメチルキシレン−１，３−ジイソシアネート、１−クロロメチル−２，４−ジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（２，６−ジメチルフェニルイソシアネート）、４，４’−オキシビス（フェニルイソシアネート）、ヘキサメチレンジイソシアネートから誘導される三官能イソシアネート、およびトリメタンプロパノールアダクトトルエンジイソシアネートよりなる群から１種以上が選択され得るが、これに限定されるものではない。
【００７５】
前記モノマーは、通常的に使用するものであって、光硬化型官能基として（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などの不飽和基を分子内に有するものであって、その中でも（メタ）アクリロイル基がより好ましく使用できる。
【００７６】
前記（メタ）アクリロイル基を有するモノマーは、具体的な例としてネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリ（メタ）アクリレート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソ−デキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロパーフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルネオール（メタ）アクリレートよりなる群から１種以上が選択され得るが、これに限定されるものではない。
【００７７】
前記例示した透光性樹脂である光硬化型（メタ）アクリレートオリゴマー乃至モノマーは、それぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００７８】
前記透光性樹脂の含量は、本発明において特に限定しないが、これを含むハードコーティング組成物全体１００重量％に対して１〜８０重量％で含まれ得る。前記透光性樹脂が前記範囲内に含まれる場合、硬度に優れ、カーリングの発生を抑制することができるという利点がある。
【００７９】
前記光開始剤は、本発明では、特に限定せず、当業界において使用されるものを制限なしに使用することができる。
【００８０】
例えば、ヒドロキシケトン類、アミノケトン類、水素引き抜き型光開始剤などが挙げられ、より具体的には、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］２−モルホリンプロパノン−１，ジフェニルケトン、ベンジルジメチルケタル、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−オン、４−ヒドロキシシクロフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−アセトフェノン、アントラキノン、フルオレン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロアセトフェノン、４，４−ジメトキシアセトフェノン、４，４−ジアミノベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシドなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００８１】
前記光開始剤の含量は、本発明において特に限定しないが、これを含むハードコーティング組成物全体１００重量％に対して０．１〜１０重量％、具体的には、１〜５重量％で含まれ得る。前記光開始剤の含量が前記範囲内で含まれる場合、ハードコーティング組成物の硬化速度を短縮させても、未硬化の発生確率が減少して、これによる機械的物性の低下を防止することができ、クラックの発生を抑制することができるという利点がある。
【００８２】
前記添加剤は、本発明において特に限定するものではないが、例えば無機酸化物微粒子、レベリング剤などを含むことができる。
【００８３】
前記無機酸化物微粒子は、塗膜内に均一に形成されて、耐摩耗性、耐スクラッチ性、鉛筆硬度などの機械的物性を向上させることができるという利点がある。
【００８４】
前記無機酸化物微粒子は、粒径が１００ｎｍ以下であるものを使用することができ、この場合、組成物内に凝集が発生する現象を防止して、均一な塗膜の形成を可能にして、機械的物性が低下するのを防止することができる。
【００８５】
前記無機酸化物微粒子は、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウムなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００８６】
前記レベリング剤は、シリコン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤およびアクリル系レベリング剤などが挙げられるが、これに限定されるものではない。このようにレベリング剤を共に含む場合、塗膜の形成時に、平滑性およびコーティング性の付与が可能であるという利点がある。
【００８７】
本発明の一様態によるハードコーティングフィルムは、ポリイミド系基材；の少なくとも一面上にハードコーティング組成物の硬化物を含むハードコーティング層；が形成され、前記ハードコーティング組成物は、ポリイミド系基材をスウェリング（ｓｗｅｌｌｉｎｇ）させる溶剤；を含み、前記ハードコーティングフィルムは、４００ｎｍ〜８００ｎｍの領域で反射率の測定時に、反射率のオシレーションの最大振幅差を０．５％以下に調節することによって、フレキシブル画像表示装置に適用可能であり、硬度および密着性などが低下することなく、干渉模様の発生が抑制されるという利点がある。
【００８８】
＜画像表示装置＞
本発明の他の様態は、前述したハードコーティングフィルムを含む画像表示装置である。
【００８９】
前記画像表示装置は、特に限定されないが、例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）、電界放出表示装置（ＦＥＤ）、プラズマ表示装置（ＰＤＰ）、有機電界発光装置（ＯＬＥＤ）、フレキシブル表示装置などが挙げられる。
【００９０】
特に、本発明の一実施形態による画像表示装置は、ポリイミド系基材が設けられたハードコーティングフィルムを含むことによって、フレキシブル画像表示装置への適用時にさらに有利であるという利点がある。
【００９１】
以下、本発明の理解を助けるために好ましい実施例を提示するが、下記実施例は、本発明を例示するものに過ぎず、本発明の範疇および技術思想の範囲内で多様な変更および修正が可能であることは当業者にとって明白なことであり、このような変形および修正が添付の特許請求の範囲に属することも当然のことである。以下の実施例および比較例で含量を示す「％」および「部」は、特に言及しない限り、重量基準である。
【００９２】
製造例：ハードコーティング組成物の製造
製造例１
２５重量部のペンタエリスリトールトリアクリレート、２５重量部の多官能アクリレート（美源スペシャリティケミカル、ＭＩＲＡＭＥＲ  ＳＰ１１０６）、４７重量部のメチルエチルケトン、２．７重量部の１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、０．３重量部のシリコン系添加剤（ＢＹＫ社、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０）を撹拌器を利用して配合し、ＰＰ材質のフィルターを利用して濾過して、ハードコーティング組成物を製造した。
【００９３】
製造例２
２５重量部のペンタエリスリトールトリアクリレート、２５重量部の多官能アクリレート（美源スペシャリティケミカル、ＭＩＲＡＭＥＲ  ＳＰ１１０６）、４７重量部のエチルアセテート、２．７重量部の１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、０．３重量部のシリコン系添加剤（ＢＹＫ社、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０）を撹拌器を利用して配合し、ＰＰ材質のフィルターを利用して濾過して、ハードコーティング組成物を製造した。
【００９４】
製造例３
２５重量部のペンタエリスリトールトリアクリレート、２５重量部の多官能アクリレート（美源スペシャリティケミカル、ＭＩＲＡＭＥＲ  ＳＰ１１０６）、２５重量部のプロピレングリコールモノメチルエーテル、２２重量部のメチルエチルケトン、２．７重量部の１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、０．３重量部のシリコン系添加剤（ＢＹＫ社、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０）を撹拌器を利用して配合し、ＰＰ材質のフィルターを利用して濾過して、ハードコーティング組成物を製造した。
【００９５】
製造例４
３０重量部の多官能アクリレート（美源スペシャリティケミカル、ＭＩＲＡＭＥＲ  ＳＰ１１０６）、５０重量部のメチルエチルケトン分散ナノシリカゾル（１２ｎｍ、固形分４０％）、１７重量部のエチルアセテート、２．７重量部の１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、０．３重量部のシリコン系添加剤（ＢＹＫ社、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０）を撹拌器を利用して配合し、ＰＰ材質のフィルターを利用して濾過して、ハードコーティング組成物を製造した。
【００９６】
製造例５
２５重量部のペンタエリスリトールトリアクリレート、２５重量部の多官能アクリレート（美源スペシャリティケミカル、ＭＩＲＡＭＥＲ  ＳＰ１１０６）、４７重量部のプロピレングリコールモノメチルエーテル、２．７重量部の１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、０．３重量部のシリコン系添加剤（ＢＹＫ社、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０）を撹拌器を利用して配合し、ＰＰ材質のフィルターを利用して濾過して、ハードコーティング組成物を製造した。
【００９７】
製造例６
２５重量部のペンタエリスリトールトリアクリレート、２５重量部の多官能アクリレート（美源スペシャリティケミカル、ＭＩＲＡＭＥＲ  ＳＰ１１０６）、４７重量部のトルエン、２．７重量部の１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、０．３重量部のシリコン系添加剤（ＢＹＫ社、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０）を撹拌器を利用して配合し、ＰＰ材質のフィルターを利用して濾過して、ハードコーティング組成物を製造した。
【００９８】
実施例および比較例：ハードコーティングフィルム
実施例１
前記製造例１のハードコーティング組成物をポリイミドフィルム（ＰＩ、８０μｍ）上に硬化した後、厚さ１０μｍになるように、コーティングを実施した後、溶剤乾燥およびＵＶ積算光量５００Ｊ／ｃｍ２を照射してハードコーティングフィルムを製造した。
【００９９】
実施例２
前記実施例１において製造例１のハードコーティング組成物の代わりに製造例２のハードコーティング組成物を使用したこと以外には、実施例１と同じ構成および方法でハードコーティングフィルムを製造した。
【０１００】
実施例３
前記実施例１において製造例１のハードコーティング組成物の代わりに製造例３のハードコーティング組成物を使用したこと以外には、実施例１と同じ構成および方法でハードコーティングフィルムを製造した。
【０１０１】
実施例４
前記実施例１において製造例１のハードコーティング組成物の代わりに製造例４のハードコーティング組成物を使用したこと以外には、実施例１と同じ構成および方法でハードコーティングフィルムを製造した。
【０１０２】
比較例１
前記実施例１において製造例１のハードコーティング組成物の代わりに製造例５のハードコーティング組成物を使用したこと以外には、実施例１と同じ構成および方法でハードコーティングフィルムを製造した。
【０１０３】
比較例２
前記実施例１において製造例１のハードコーティング組成物の代わりに製造例６のハードコーティング組成物を使用したこと以外には、実施例１と同じ構成および方法でハードコーティングフィルムを製造した。
【０１０４】
実験例
実験例１：ポリイミド系基材に対する溶剤のスウェリング性の評価
前記製造例１〜６で使用された溶剤を前記実施例および比較例で使用されたものと同じポリイミドフィルム（ＰＩ、８０μｍ）上にウェット塗膜１０μｍになるようにコーティングした。この際、使用された溶剤が２種以上の場合、その混合比率は、前記製造例で混合された比率と同一に適用した。８０℃強制対流オーブンで溶剤を乾燥させた後、乾燥されたフィルムのヘーズ（Ｈａｚｅ）を測定して、各溶剤のポリイミド基材に対するスウェリング性を下記評価基準によって評価した。この際、ヘーズの測定は、ヘーズメーター（ＭＨ−１５０、村上社）を利用して測定し、基材がスウェリングされた後、再び乾燥されながら表面に凹凸が生じてヘーズ値が増加するので、ヘーズ値が高いほどスウェリング性が高いことを意味する。実験結果は、下記表１に記載した。
【０１０５】
＜評価基準＞
◎：Ｈａｚｅ  ５％以上
○：Ｈａｚｅ  ３％以上５％未満
△：Ｈａｚｅ  １％以上３％未満
×：Ｈａｚｅ  １％未満
【０１０６】
実験例２：反射率オシレーションの最大振幅の測定
ハードコーティング層の面が上部に行くように基材フィルムを透明粘着剤を利用して黒色アクリル板に接合した後、４００ｎｍ〜８００ｎｍでフィルムの１２度（°）正反射率を測定した。その後、反射率グラフ上で隣り合った山と谷の振幅差が最も大きい値を取って下記表１に記載した。
【０１０７】
実験例３：干渉模様の防止性
ハードコーティング層の面が上部に行くように基材フィルムを透明粘着剤を利用して黒色アクリル板に接合し、３波長ランプ下でコーティング面の干渉模様の発生水準を下記評価基準によって評価した。実験結果は、下記表１に記載した。
【０１０８】
＜評価基準＞
○：干渉模様が視認されない
△：干渉模様が微弱に視認される
×：干渉模様が明確に視認される
【０１０９】
実験例４：鉛筆硬度実験
前記実施例および比較例のハードコーティングフィルムにおいてハードコーティング層の面が上部に行くように基材フィルム面をガラスに固定させた後、鉛筆硬度試験機（ＰＨＴ、韓国ＳＵＫＢＯ科学社）を利用して、１ｋｇ荷重下で鉛筆硬度を測定した。同一硬度の鉛筆を利用して、１ｃｍの長さで５回テストを実施し、４回以上実施後にもキズが生じない硬度を鉛筆硬度として下記表１に記載した。
【０１１０】
実験例５：密着性実験
前記実施例および比較例のハードコーティングフィルムにおいてハードコーティング層の面が上部に行くように基材フィルム面を透明粘着剤を利用してガラスに接合した後、１ｍｍの間隔で横、縦１００個の正四角形の形態でカッターナイフを利用してハードコーティング層の面にキズを作った後、ニチバンテープを利用して３回密着性テストを実施した。その結果は、下記表１に記載し、下記表１に記載された数値は、「密着性テスト後に除去されずに残っている四角形の数／１００」で表記したものである。
【０１１１】
【表１】
2020520826.tif 000002
【０１１２】
前記表１を参照すると、本発明において要求する条件を満たす、すなわち反射率オシレーションの最大振幅差が０．５％以下であり、ポリイミド系基材をスウェリングさせることができる溶剤を含むハードコーティング組成物の硬化物をハードコーティング層として含む場合（実施例１〜４）、本発明の条件を満足しない場合（比較例１〜２）より干渉模様防止性に優れていることを確認し、硬度および密着性の低下もないことを確認した。
【０１１３】
また、本発明の反射率オシレーションの好ましい最大振幅差である０．２％以下を満たす場合（実施例１および４）、干渉模様の防止性にさらに優れていることを確認した。
【国際調査報告】
2020520826.tif 000003
2020520826.tif 000004
2020520826.tif 000005
2020520826.tif 000006