(57)【要約】  本発明は、新規チアゾール系化合物、特に式（Ｉ）で表される化合物、その医薬組成物、および単純ヘルペスウイルスに関連する疾患を治療する医薬品の調製へのその使用を開示する。2020504184.tif 000127
2020504184.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）で表される化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【化１】
2020504184.tif 000106
但し、
Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１−４アルキル基またはＣ３−６シクロアルキル基からなる群から選択され；
Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立してＨから選択されるか、或いはそれぞれ独立して１、２または３個のＲで置換されていてもよいＣ１−３アルキル基から選択され；
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、それぞれ独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉから選択され、或いはそれぞれ独立して１、２または３個のＲで置換されていてもよい以下の基から選択され：フェニル基、５〜６員ヘテロアリール基、５〜６員ヘテロアリール−Ｏ−；
環Ａは、Ｃ５-７シクロアルキル基または５〜８員のヘテロシクロアルキル基からなる群から選択され；
Ｒは、Ｆ、Ｃｌ、ＯＨ、ＮＨ２、−ＣＯＯＨ、またはＣ１−３アルキル基、Ｃ１−３アルコキシ基、−Ｎ,Ｎ−ジ（Ｃ１−３アルキル）アミノ基、Ｃ１−３アルキル−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から選択され；
前記の５〜６員ヘテロアリール基、５〜８員ヘテロシクロアルキル基における「ヘテロ」は、それぞれ独立して−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、Ｎからなる群から選択され；
前記の場合のいずれかにも、ヘテロ原子またはヘテロ原子団の数はそれぞれ独立して１、２または３から選択される。
【請求項２】
前記のＲは、Ｆ、Ｃｌ、ＯＨ、ＮＨ２、−ＣＯＯＨ、ＣＨ３、
【化２】
2020504184.tif 000107
ＣＨ３−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から選択される、請求項１に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項３】
前記のＲ１は、Ｈ、
【化３】
2020504184.tif 000108
からなる群から選択される、請求項１または請求項２に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項４】
前記のＲ２、Ｒ３は、それぞれ独立してＨから選択され、或いはそれぞれ独立して１、２または３個のＲで置換されていてもよい以下の基から選択される、請求項１または請求項２に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
ＣＨ３、−ＣＨ２−ＣＨ３。
【請求項５】
前記のＲ２、Ｒ３は、それぞれ独立してＨ、ＣＨ３、−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＯＡｃからなる群から選択される、請求項４に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項６】
前記のＲ２は、Ｈ、ＣＨ３、−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＯＡｃからなる群から選択される、請求項５に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項７】
前記のＲ３は、Ｈ、ＣＨ３からなる群から選択される、請求項５に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項８】
前記のＲ４、Ｒ５、Ｒ６は、それぞれ独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉから選択され、或いはそれぞれ独立して１、２または３個のＲで置換されていてもよい以下の基から選択される、請求項１または請求項２に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
ピリジル、チアゾリル、ピリジル−Ｏ−。
【請求項９】
前記のＲ４、Ｒ５、Ｒ６は、それぞれ独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉから選択され、或いはそれぞれ独立して１、２または３個のＲで置換されていてもよい以下の基から選択される、請求項７に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【化４】
2020504184.tif 000109
【請求項１０】
前記のＲ４、Ｒ５、Ｒ６は、それぞれ独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、
【化５】
2020504184.tif 000110
からなる群から選択される、請求項９に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項１１】
前記のＲ４は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、
【化６】
2020504184.tif 000111
からなる群から選択される、請求項１０に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項１２】
前記のＲ５は、Ｈ、
【化７】
2020504184.tif 000112
からなる群から選択される、請求項１０に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項１３】
前記のＲ６は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、
【化８】
2020504184.tif 000113
からなる群から選択される、請求項１０に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項１４】
前記の環Ａは、ピペリジル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、オキセパニル、シクロペンチル、シクロヘキシルからなる群から選択される、請求項１または請求項２に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項１５】
前記の構造単位
【化９】
2020504184.tif 000114
は、
【化１０】
2020504184.tif 000115
からなる群から選択される、請求項１または請求項２に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項１６】
前記前記の構造単位
【化１１】
2020504184.tif 000116
は、
【化１２】
2020504184.tif 000117
からなる群から選択される、請求項１５に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項１７】
前記の構造単位
【化１３】
2020504184.tif 000118
は、
【化１４】
2020504184.tif 000119
からなる群から選択される、請求項５または請求項１６に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項１８】
【化１５】
2020504184.tif 000120
【化１６】
2020504184.tif 000121
からなる群から選択される、
請求項１〜請求項１６のいずれか一項に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
ただし、
Ｒ１は、請求項１または請求項３のように定義され、
Ｒ２は、請求項１、請求項４〜請求項６のいずれか一項のように定義され、
Ｒ３は、請求項１、請求項４、請求項５、または請求項７のいずれか一項のように定義され、
Ｒ４は、請求項１、請求項８〜請求項１１のいずれか一項のように定義され、
Ｒ５は、請求項１、請求項８〜請求項１０、請求項１２のいずれか一項のように定義され、
Ｒ６は、請求項１、請求項８〜請求項１０、請求項１３のいずれか一項のように定義される。
【請求項１９】
以下の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【化１７】
2020504184.tif 000122
【化１８】
2020504184.tif 000123
【化１９】
2020504184.tif 000124
【請求項２０】
【化２１】
2020504184.tif 000125
【化２２】
2020504184.tif 000126
からなる群から選択される、
請求項１９に記載の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩。
【請求項２１】
治療有効量の請求項１〜請求項２０のいずれか一項に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩、および薬学的に許容される担体を含む、医薬組成物。
【請求項２２】
単純ヘルペスウイルスに関連する疾患を治療するための医薬品の調製への、請求項１〜請求項２０のいずれか一項に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩の使用。
【請求項２３】
単純ヘルペスウイルスに関連する疾患を治療するための医薬品の調製への、請求項２１に記載の医薬組成物の使用。
【発明の詳細な説明】
【関連出願への相互参照】
【０００１】
本出願は、２０１７年０１月０９日に出願された中国特許出願ＣＮ２０１７１００１４８９３．９に基づき優先権を主張するものであって、その内容の全てここに取り込む。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、新規チアゾール系化合物に関し、特に式（Ｉ）で表される化合物、その医薬組成物、および単純ヘルペスウイルスに関連する疾患を治療する医薬品の調製へのその使用に関する。
【背景技術】
【０００３】
ウイルス性疾患の治療において、新しい治療法に対して大きな需要がある。様々な細菌感染の治療法の開発において、大きな進歩がなされてきたが、ウイルスの治療に実行可能な治療法がまだほとんどない。ジドブジンは、すでに承認されたヒト免疫不全ウィルス治療用の主要な品種である。現在、ガンシクロビル、アシクロビル及びホスカルネットは、ヘルペスウイルス感染の治療に使用される。しかしながら、これらの治療法は宿主細胞ＤＮＡの複製を損なうか、または限られた数のウイルス感染にしか作用しないため、大きな副作用がある。また、ウイルスは、治療に対する耐性を発現することができ、治療効果を低下させていくことが知られている。
【０００４】
ヘルペスウイルス科は、単純ヘルペスウイルス１型（ＨＳＶ−１）、単純ヘルペスウイルス２型（ＨＳＶ−２）、サイトメガロウイルス（ＣＭＶ）、水痘・帯状疱疹ウイルス（ＶＺＶ）、エプスタイン−バーウイルス、ヒトヘルペスウイルス−６（ＨＨＶ６）、ヒトヘルペスウイルス−７（ＨＨＶ７）、ヒトヘルペスウイルス−８（ＨＨＶ８）、偽狂犬病ウイルス、および鼻気管炎ウイルスなどを含むＤＮＡウイルスのファミリーである。
【発明の概要】
【０００５】
本発明は、式（Ｉ）で表される化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩を提供する。
【化１】
2020504184.tif 000003
但し、
Ｒ１は、Ｈ、Ｃ１−４アルキル基またはＣ３−６シクロアルキル基からなる群から選択され；
Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立してＨから選択されるか、或いはそれぞれ独立して１、２または３個のＲで置換されていてもよいＣ１−３アルキル基から選択され；
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、それぞれ独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉから選択され、或いはそれぞれ独立して１、２または３個のＲで置換されていてもよい以下の基から選択され：フェニル基、５〜６員ヘテロアリール基、５〜６員ヘテロアリール−Ｏ−；
環Ａは、Ｃ５−７シクロアルキル基または５〜８員のヘテロシクロアルキル基からなる群から選択され；
Ｒは、Ｆ、Ｃｌ、ＯＨ、ＮＨ２、−ＣＯＯＨ、またはＣ１−３アルキル基、Ｃ１−３アルコキシ基、−Ｎ,Ｎ−ジ（Ｃ１−３アルキル）アミノ基、Ｃ１−３アルキル−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から選択され；
上記の５〜６員ヘテロアリール基、５〜８員ヘテロシクロアルキル基における「ヘテロ」は、それぞれ独立して−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、Ｎからなる群から選択され；
上記の場合のいずれかにも、ヘテロ原子またはヘテロ原子団の数はそれぞれ独立して１、２または３から選択される。
【０００６】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲは、Ｆ、Ｃｌ、ＯＨ、ＮＨ２、−ＣＯＯＨ、ＣＨ３、
【化２】
2020504184.tif 000004
ＣＨ３−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から選択される。
【０００７】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ１は、Ｈ、
【化３】
2020504184.tif 000005
からなる群から選択される。
【０００８】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ２、Ｒ３は、それぞれ独立してＨから選択され、或いはそれぞれ独立して１、２または３個のＲで置換されていてもよい以下の基から選択される：ＣＨ３、−ＣＨ２−ＣＨ３。
【０００９】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ２、Ｒ３は、それぞれ独立してＨ、ＣＨ３、−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＯＡｃからなる群から選択される。
【００１０】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ２は、Ｈ、ＣＨ３、−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＯＡｃからなる群から選択される。
【００１１】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ３は、Ｈ、ＣＨ３からなる群から選択される。
【００１２】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ４、Ｒ５、Ｒ６は、それぞれ独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉから選択され、或いはそれぞれ独立して１、２または３個のＲで置換されていてもよい以下の基から選択される：ピリジル、チアゾリル、ピリジル−Ｏ−。
【００１３】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ４、Ｒ５、Ｒ６は、それぞれ独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉから選択され、或いはそれぞれ独立して１、２または３個のＲで置換されていてもよい以下の基から選択される：
【化４】
2020504184.tif 000006
【００１４】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ４、Ｒ５、Ｒ６は、それぞれ独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、
【化５】
2020504184.tif 000007
からなる群から選択される。
【００１５】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ４は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、
【化６】
2020504184.tif 000008
からなる群から選択される。
【００１６】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ５は、Ｈ、
【化７】
2020504184.tif 000009
からなる群から選択される。
【００１７】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ６は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、
【化８】
2020504184.tif 000010
からなる群から選択される。
【００１８】
本発明のいくつかの実施形態において、前記の環Ａは、ピペリジル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、オキセパニル（ｏｘｅｐａｎｙｌ）、シクロペンチル、シクロヘキシルからなる群から選択される。
【００１９】
本発明のいくつかの実施形態において、前記の構造単位
【化９】
2020504184.tif 000011
は、
【化１０】
2020504184.tif 000012
からなる群から選択される。
【００２０】
本発明のいくつかの実施形態において、前記の構造単位
【化１１】
2020504184.tif 000013
は、
【化１２】
2020504184.tif 000014
からなる群から選択される。
【００２１】
本発明のいくつかの実施形態において、前記の構造単位
【化１３】
2020504184.tif 000015
は、
【化１４】
2020504184.tif 000016
からなる群から選択される。
【００２２】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲは、Ｆ、Ｃｌ、ＯＨ、ＮＨ２、−ＣＯＯＨ、ＣＨ３、
【化１５】
2020504184.tif 000017
ＣＨ３−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から選択され、また、その他の変数は上記のように定義される。
【００２３】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ１は、Ｈ、
【化１６】
2020504184.tif 000018
から選択され、また、その他の変数は上記のように定義される。
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ２、Ｒ３は、それぞれ独立してＨから選択され、或いはそれぞれ独立して１、２または３個のＲで置換されていてもよい以下の基から選択され：ＣＨ３、−ＣＨ２−ＣＨ３；また、その他の変数は上記のように定義される。
【００２４】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ２、Ｒ３は、それぞれ独立してＨ、ＣＨ３、−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＯＡｃからなる群から選択され、また、その他の変数は上記のように定義される。
【００２５】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ２は、Ｈ、ＣＨ３、−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＯＡｃからなる群から選択され、また、その他の変数は上記のように定義される。
【００２６】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ３は、Ｈ、ＣＨ３からなる群から選択され、また、その他の変数は上記のように定義される。
【００２７】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ４、Ｒ５、Ｒ６は、それぞれ独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉから選択され、或いはそれぞれ独立して１、２または３個のＲで置換されていてもよい以下の基から選択され：ピリジル、チアゾリル、ピリジル−Ｏ−；また、その他の変数は上記のように定義される。
【００２８】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ４、Ｒ５、Ｒ６は、それぞれ独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉから選択され、或いはそれぞれ独立して１、２または３個のＲで置換されていてもよい以下の基から選択され：
【化１７】
2020504184.tif 000019
また、その他の変数は上記のように定義される。
【００２９】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ４、Ｒ５、Ｒ６は、それぞれ独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、
【化１８】
2020504184.tif 000020
からなる群から選択され、また、その他の変数は上記のように定義される。
【００３０】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ４は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、
【化１９】
2020504184.tif 000021
からなる群から選択され、また、その他の変数は上記のように定義される。
【００３１】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ５は、Ｈ、
【化２０】
2020504184.tif 000022
からなる群から選択され、また、その他の変数は上記のように定義される。
【００３２】
本発明のいくつかの実施形態において、前記のＲ６は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、
【化２１】
2020504184.tif 000023
からなる群から選択され、また、その他の変数は上記のように定義される。
【００３３】
本発明のいくつかの実施形態において、前記の環Ａは、ピペリジル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、オキセパニル、シクロペンチル、シクロヘキシルからなる群から選択され、また、その他の変数は上記のように定義される。
【００３４】
本発明のいくつかの実施形態において、前記の構造単位
【化２２】
2020504184.tif 000024
は、
【化２３】
2020504184.tif 000025
からなる群から選択され、また、その他の変数は上記のように定義される。
【００３５】
本発明のいくつかの実施形態において、前記の構造単位
【化２４】
2020504184.tif 000026
は、
【化２５】
2020504184.tif 000027
からなる群から選択され、また、その他の変数は上記のように定義される。
【００３６】
本発明のいくつかの実施形態において、前記の構造単位
【化２６】
2020504184.tif 000028
は、
【化２７】
2020504184.tif 000029
からなる群から選択され、また、その他の変数は上記のように定義される。
【００３７】
また、本発明は、上記の変数を任意に組み合わせた実施形態も含む。
【００３８】
本発明のいくつかの実施形態において、前記化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩は、以下の化合物から選択される。
【化２８】
2020504184.tif 000030
【化２９】
2020504184.tif 000031
ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は上記のように定義される。
【００３９】
さらに、本発明は以下の化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩を提供する。
【化３０】
2020504184.tif 000032
【化３１】
2020504184.tif 000033
【化３２】
2020504184.tif 000034
【化３３】
2020504184.tif 000035
【００４０】
本発明のいくつかの実施形態において、前記化合物、その異性体、またはその薬学的に許容される塩は、以下の化合物から選択される。
【化３４】
2020504184.tif 000036
【化３５】
2020504184.tif 000037
【化３６】
2020504184.tif 000038
【００４１】
また、本発明は、治療有効量の前記化合物またはその薬学的に許容される塩、および薬学的に許容される担体を含む医薬組成物を提供する。
【００４２】
また、本発明は、単純ヘルペスウイルスに関連する疾患を治療するための医薬品の調製への、前記化合物またはその薬学的に許容される塩の使用を提供する。
【００４３】
また、本発明は、単純ヘルペスウイルスに関連する疾患を治療するための医薬品への、前記医薬組成物の使用を提供する。
【００４４】
発明の効果
新規チアゾール系化合物である本発明化合物は、単純ヘルペスウイルス（ＨＳＶ）に対して優れた抗ウイルス活性を有し、生体内の薬物動態学の研究において、同じ有効用量での血漿中曝露量が低く、より良好な安全性を示す。
【００４５】
定義と用語
特に明記しない限り、本明細書で使用される以下の用語は、以下の意味を有することを意図している。特定の用語は、特定の定義がない場合に、不定または不明瞭と見なされるべきではないが、通常の意味で理解されるべきである。本明細書に商品名が記載される場合、その対応する商品またはその活性成分を指す。ここで、「薬学的に許容される」という用語とは、これらの化合物、材料、組成物、および/または剤形について、信頼性のある医学的判断の範囲内で、ヒトおよび動物の組織と接触して使用することに適し、過度の毒性、刺激、アレルギー反応または他の問題または合併症を伴うことなく、合理的な利益/リスク比に見合うことをいう。
【００４６】
「薬学的に許容される塩」という用語とは、本発明で発見された特定の置換基を有する化合物を比較的毒性のない酸または塩基と反応させることで調製される本発明の化合物の塩を指す。本発明の化合物が比較的酸性の官能基を含む場合、純粋な溶液または適宜な不活性溶媒中でこのような化合物が中性形態として十分な量の塩基と接触させることで、塩基付加塩が得られる。薬学的に許容される塩基付加塩は、ナトリウム、カリウム、カルシウム、アンモニウム、有機アミンもしくはマグネシウムの塩、または類似の塩を含む。本発明の化合物が比較的塩基性の官能基を含む場合、純粋な溶液または適宜な不活性溶媒中でこのような化合物が中性形態として十分な量の酸と接触させることで、酸付加塩を得ることができる。薬学的に許容される酸付加塩は、無機酸塩と有機酸塩を含む。上記の無機酸塩として、例えば、塩酸、臭化水素酸、硝酸、炭酸、重炭酸塩、リン酸、リン酸一水素塩、リン酸二水素塩、硫酸、硫酸水素塩、ヨウ化水素酸、亜リン酸などの無機酸塩が挙げられる。上記の有機酸塩として、例えば、酢酸、プロピオン酸、イソ酪酸、マレイン酸、マロン酸、安息香酸、コハク酸、スベリン酸、フマル酸、乳酸、マンデル酸、フタル酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、クエン酸、酒石酸、メタンスルホン酸などの類似の酸の塩や、アミノ酸（アルギニンなど）の塩、およびグルクロン酸などの有機酸の塩が挙げられる（Ｂｅｒｇｅ  ｅｔ  ａｌ．，「Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ  Ｓａｌｔｓ」，Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ６６：１−１９（１９７７）参照）。本発明の一部の特定の化合物は、塩基性官能基と酸性官能基の両方を含むため、塩基付加塩または酸付加塩のいずれかに変換することができる。
【００４７】
好ましくは、通常の方法で塩を塩基または酸と接触させ、次いで親化合物を分離することで、中性形態の化合物が再生される。親化合物の形態と様々な塩の形態との違いは、極性溶媒における異なる溶解度などの特定の物理的性質にある。
【００４８】
本明細書で使用される「薬学的に許容される塩」は、酸または塩基との塩を形成するように親化合物が修飾されたものであり、本発明の化合物の誘導体に含まれる。薬学的に許容される塩の例として、アミンなどの塩基性部分の無機酸塩または有機酸塩、カルボン酸などの酸性部分のアルカリ金属塩または有機塩などが挙げられるが、これらに限定されない。薬学的に許容される塩は、例えば無毒性の無機酸または有機酸で形成される塩のような通常の無毒性塩または親化合物の四級アンモニウム塩を含む。通常の無毒性塩は、無機酸及び有機酸に由来する塩が含まれるが、これらに限定されない。上記の無機酸又は有機酸は、２−アセトキシ安息香酸、２−ヒドロキシエタンスルホン酸、酢酸、アスコルビン酸、ベンゼンスルホン酸、安息香酸、重炭酸塩、炭酸、クエン酸、エデト酸、エタンジスルホン酸、エタンスルホン酸、フマル酸、グルコヘプトース、グルコン酸、グルタミン酸、グリコール酸、臭化水素酸、塩酸、ヨウ化水素酸塩、ヒドロキシル、ヒドロキシナフタレン、イセチオン酸、乳酸、ラクトース、ドデシルスルホン酸、マレイン酸、リンゴ酸、マンデル酸、メタンスルホン酸、硝酸、シュウ酸、パモ酸、パントテン酸、フェニル酢酸、リン酸、ポリガラクツロン酸、プロピオン酸、サリチル酸、ステアリン酸、亜酢酸（ｓｕｂａｃｅｔｉｃ  ａｃｉｄ）、コハク酸、スルファミン酸、スルファニル酸、硫酸、タンニン、酒石酸およびｐ−トルエンスルホン酸からなる群から選択される。
【００４９】
本発明の薬学的に許容される塩は、通常の化学的方法によって酸性または塩基性部分を含む親化合物から調製することができる。一般的に、このような塩は、水または有機溶媒或いは両者の混合物中で、これらの化合物を遊離酸または塩基として化学量論量の適宜な塩基または酸と反応させることにで調製される。一般的に、エーテル、酢酸エチル、エタノール、イソプロパノールまたはアセトニトリルなどの非水性媒体が好ましい。
【００５０】
塩の形態に加えて、本発明の化合物はプロドラッグの形態がある。本明細書に記載の化合物のプロドラッグとは、生理的条件下で容易に化学変化を起こして本発明の化合物に変換される化合物をいう。また、プロドラッグは、生体内の環境で化学的または生化学的方法によって本発明の化合物に変換することができる。
【００５１】
本発明の特定の化合物は、水和形態を含む溶媒和形態または非溶媒和形態として存在することができる。一般的に、溶媒和形態と非溶媒和形態は相当であり、両方とも本発明の範囲内に含まれる。
【００５２】
本発明の特定の化合物は、不斉炭素原子（光学中心）または二重結合を有しても良い。ラセミ体、ジアステレオマー、幾何異性体およびそれぞれの異性体はすべて、本発明の範囲内に含まれる。
【００５３】
特に断らない限り、くさび結合（ｗｅｄｇｅｄ  ｂｏｎｄ）および破線結合（ｄａｓｈｅｄ  ｂｏｎｄ）
【００５４】
【化３７】
2020504184.tif 000039
で立体中心の絶対配置を表し、波線
【化３８】
2020504184.tif 000040
でくさび結合または破線結合
【化３９】
2020504184.tif 000041
を表し、
【化４０】
2020504184.tif 000042
で立体中心の相対配置を表す。本発明の化合物がオレフィン性二重結合または他の幾何学的不斉中心を含む場合、特に明記されない限り、ＥおよびＺ幾何異性体が含まれる。同様に、全ての互変異性体は、本発明の範囲内に含まれる。
【００５５】
本発明の化合物は、特定の幾何異性体または立体異性体として存在してもよい。本発明では、シスとトランス異性体、（−）と（＋）エナンチオマー、（Ｒ）と（Ｓ）エナンチオマー、ジアステレオ異性体、（Ｄ）異性体、（Ｌ）異性体、およびそのラセミ混合物、他の混合物、例えばエナンチオマーまたはジアステレオ異性体が豊富な混合物を含むすべてのこのような化合物が想定される。これらはすべて本発明の範囲内に含まれる。アルキル基などの置換基は、さらなる不斉炭素原子を有していてもよい。これらの異性体およびそれらの混合物はすべて、本発明の範囲内に含まれる。
【００５６】
光学活性を有する（Ｒ）と（Ｓ）異性体、およびＤとＬ異性体は、キラル合成、キラル試薬または他の従来技術を用いて調製される。本発明のある化合物の１種類のエナンチオマーを得たい場合、純粋な所望のエナンチオマーは、不斉合成、または得られたジアステレオマー混合物の分離および補助基の開裂を含む、キラル補助剤による誘導作用によって得ることができる。或いは、分子が塩基性官能基（アミノ基など）または酸性官能基（カルボキシル基など）を含む場合、化合物は適宜な光学活性を有する酸または塩基と反応して、ジアステレオマー異性体の塩を形成し、その後、当技術分野における従来の方法でジアステレオマーの分離を行い、純粋なエナンチオマーを回収する。さらに、エナンチオマーおよびジアステレオ異性体は、一般的に、キラル固定相を使用した、任意に化学誘導法（例えば、アミンからカルバメートを生成する）と組み合わせたクロマトグラフィーによって単離される。
【００５７】
本発明の化合物は、この化合物を構成する１個以上の原子に非天然な割合で同位体原子を含有していてもよい。例えば、トリチウム（３Ｈ）、ヨウ素−１２５（１２５Ｉ）またはＣ−１４（１４Ｃ）のような放射性同位体で標識された化合物を用いられる。本発明の化合物の全ての同位体組成の変換は、放射性を有するか否かにかかわらず、本発明の範囲内に含まれる。
【００５８】
「任意の」または「任意に」は、後続の事項または条件が発生する可能性があるが必ず発生ではないことを意味し、この用語は、上記の事項または条件が発生する場合および上記の事項または条件が発生しない場合を含む。
【００５９】
「置換された」という用語とは、特定の原子上の１個以上の水素原子が置換基によって置換されることを指し、また、特定の原子の原子価が通常であり、且つ置換された化合物は安定している限り、重水素および水素の変種を含んでも良い。置換基がケトン基（即ち、＝Ｏ）である場合、それは２個の水素原子が置換されていることを意味する。芳香環上の位置は、ケトン基で置換することはできない。「置換されていてもよい」とは、原子が置換基で置換されても置換されていなくてもよいことを意味し、特に断りのない限り、置換基の種類および数は、化学的に実現可能である限り任意でもよい。
【００６０】
いずれかの変数（例えば、Ｒ）が化合物の組成や構造中に一回以上現れる場合、それぞれの場合の定義は独立している。したがって、例えば、ある基が０〜２個のＲで置換されている場合、上記の基は多くても２個のＲで置換されていてもよく、且つそれぞれの場合におけるＲは独立した選択肢を有する。さらに、置換基および／またはその変種の組み合わせは、安定な化合物を生じる場合に限り許容される。
【００６１】
−（ＣＲＲ）０−のような、連結基の数が０である場合、その連結基は単結合であることを意味する。
【００６２】
１個の変数が単結合である場合、それは該単結合によって結合された２つの基が直接結合していることを意味する。例えば、Ａ−Ｌ−ＺにおけるＬが単結合を表す場合、該構造は実質にＡ−Ｚである。
【００６３】
置換基が空いている場合は、該置換基が存在しないことを意味し、例えば、Ａ−ＸにおけるＸが空いている場合、該構造は実質にＡである。置換基の結合が環上の２個の原子に架橋できる場合、このような置換基は環上の任意の原子に結合しても良い。挙げられた置換基において、どの原子を介して、一般式に含まれるが具体的に言及されていない化合物に結合しているかを示さない場合、このような置換基は、いずれの原子によって結合しても良い。置換基および／またはその変種の組み合わせは、このような組み合わせが安定な化合物を生じる場合に限り許容される。例えば、構造単位
【化４１】
2020504184.tif 000043
は、シクロヘキシル又はシクロヘキサジエンの任意の位置で置換されることを意味する。
【００６４】
特に断りのない限り、用語「ヘテロ」は、炭素（Ｃ）と水素（Ｈ）以外の原子、およびこれらのヘテロ原子を含む原子団を含む、ヘテロ原子またはヘテロ原子団（即ち、ヘテロ原子を含む原子団）を表す。例えば、酸素（Ｏ）、窒素（Ｎ）、硫黄（Ｓ）、シリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、アルミニウム（Ａｌ）、ホウ素（Ｂ）、−Ｏ−、−Ｓ−、＝Ｏ、＝Ｓ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｓ（＝Ｏ）、−Ｓ（＝Ｏ）２−、及び置換されていてもよい以下の基：−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｈ）−、−Ｎ（Ｈ）−、−Ｃ（＝ＮＨ）−、−Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｈ）−、−Ｓ（＝Ｏ）Ｎ（Ｈ）−が挙げられる。
【００６５】
特に明記しない限り、用語「環」は、置換または非置換のシクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、シクロアルキニル基、ヘテロシクロアルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を指す。いわゆる環としては、単環、連結環（ｒｉｎｇ  ａｓｓｅｍｂｌｙ）、スピロ環、縮合環または架橋環が挙げられる。環上の原子数は、通常、環の員数として定義され、例えば、「５〜７員環」とは、５〜７個の原子が環上に配置されることを意味する。他に明記しない限り、環は任意に１〜３個のヘテロ原子を含む。したがって、「５〜７員環」は、例えば、フェニル、ピリジルおよびピペリジルを含む。一方、「５〜７員ヘテロシクロアルキル環」という用語は、ピリジルおよびピペリジニルを含むが、フェニルを含まない。また、用語「環」は、少なくとも１つの環を含有する環系を含み、ここで各環は独立して上記の定義を満たす。
【００６６】
特に明記しない限り、用語「複素環」または「複素環基」とは、ヘテロ原子またはヘテロ原子団を含む安定な単環式、二環式または三環式の環を指し、飽和、部分不飽和または不飽和（芳香族）のものであっても良く、また、これらは炭素と、Ｎ、Ｏ及びＳから独立して選択される１、２、３または４個の環ヘテロ原子とを含み、上記の複素環のいずれかはベンゼン環に縮合して二環式の環を形成してもよい。窒素および硫黄ヘテロ原子は、酸化されてもよい（すなわち、ＮＯおよびＳ（Ｏ）ｐであり、ｐは１または２である）。窒素原子は、置換されても置換されていなくてもよい（すなわち、ＮまたはＮＲであり、ここでＲはＨまたは本明細書で既に定義された他の置換基である）。複素環は、いずれのヘテロ原子または炭素原子のペンダント基に結合して安定な構造を形成することができる。得られた化合物が安定である場合、本明細書に記載の複素環は、炭素または窒素の位置に置換を有していてもよい。複素環における窒素原子は、四級アンモニウム化されていてもよい。好ましい実施形態では、複素環におけるＳ原子およびＯ原子の合計が１を超える場合、これらのヘテロ原子は互いに隣接していない。別の好ましい実施形態では、複素環におけるＳ原子およびＯ原子の合計は１を超えない。本発明で使用される場合、用語「芳香族複素環基」または「ヘテロアリール基」とは、安定している５、６、７員の単環式や二環式、或いは７、８、９または１０員の二環式複素環基の芳香環を指し、Ｎ、ＯおよびＳから独立して選択される１、２、３または４個の環ヘテロ原子および炭素原子を含む。窒素原子は、置換されても置換されていなくてもよい（すなわち、ＮまたはＮＲであり、ここでＲはＨまたは本明細書で既に定義されている他の置換基である）。窒素および硫黄ヘテロ原子は、酸化されてもよい（すなわち、ＮＯおよびＳ（Ｏ）ｐであり、ｐは１または２である）。なお、芳香族複素環におけるＳおよびＯ原子の合計が１超えない。架橋環も複素環の定義に含まれる。１個以上の原子（すなわち、Ｃ、Ｏ、ＮまたはＳ）が隣接していない２個の炭素原子または窒素原子を連結すると、架橋環を形成する。好ましい架橋環として、１個の炭素原子、２個の炭素原子、１個の窒素原子、２個の窒素原子および１個の炭素−窒素基を含むが、これらに限定されない。なお、１つの架橋は、常に単環式の環を三環式の環に変換する。架橋環において、環上の置換基は架橋上に存在してもよい。
【００６７】
複素環式化合物の例として、アクリジニル、アゾシニル（ａｚｏｃｉｎｙｌ）、ベンズイミダゾリル、ベンゾフラニル、ベンゾメルカプトフラニル、ベンゾメルカプトフェニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサゾリニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾテトラゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾイミダゾリニル、カルバゾール、４ａＨ−カルバゾール、カルボリニル、クロマニル、クロメン、シンノリニルデカヒドロキノリニル、２Ｈ，６Ｈ−１，５，２−ジチアジニル、ジヒドロフロ［２，３−ｂ］テトラヒドロフラニル、フラニル、フラザニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、イミダゾリル、１Ｈ−インダゾリル、インドレニル、インドリニル、インドリジニル、インドリル、３Ｈ−インドリル、イソベンゾフラニル、イソインドリル、イソインドリニル、イソキノリニル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、メチレンジオキシフェニル、モルホリニル、ナフチリジニル、オクタヒドロイソキノリニル、オキサジアゾリル、１，２，３−オキサジアゾリル、１，２，４−オキサジアゾリル、１，２，５−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、オキサゾリジニル、オキサゾリル、ヒドロキシインドリル、ピリミジニル、フェナントリジニル、フェナントロリニル、フェナジン、フェノチアジン、ベンゾキサンチニル、フェノキサジニル、フタラジニル、ピペラジニル、ピペリジル、ピペリドニル、４−ピペリドニル、ピペロニル、プテリジニル、プリニル、ピラニル、ピラジニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピラゾリル、ピリダジニル、ピリドオキサゾリル、ピリドイミダゾリル、ピリドチアゾリル、ピリジル、ピロリジニル、ピロリニル、２Ｈ−ピロリル、ピロリル、キナゾリニル、キノリニル、４Ｈ−キノリジニル、キノキサリニル、キヌクリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロイソキノリニル、テトラヒドロキノリニル、テトラゾリル、６Ｈ−１，２，５−チアジアジニル、１，２，３−チアジアゾリル、１，２，５−チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、チアントレニル、チアゾリル、イソチアゾリルチエニル、チエノオキサゾリル、チエノチアゾリル、チエノイミダゾリル、チエニル、トリアジニル、１，２，３−トリアゾリル、１，２，４−トリアゾリル、１，２，５−トリアゾリル、１，３，４−トリアゾリル、およびキサンテニルが挙げられるが、これらに限定されない。
【００６８】
特に明記されない限り、用語「ヒドロカルビル基」またはその下位語（例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、およびアリール基など）は、その自体または別の置換基の一部として、直鎖、分岐鎖または環状炭化水素基、またはそれらの組み合わせを指す。それらは完全飽和のもの（例えばアルキル基）、一価または多価不飽和のもの（例えばアルケニル基、アルキニル基、およびアリール基）であってもよく、一置換、二置換または多置換されてもよく、一価のもの（例えばメチル基）、二価のもの（例えばメチレン基）または多価のもの（例えば、メテニル基）であってもよく、また、二価または多価の基を含んでもよく、所定の数の炭素原子を有する（例えば、Ｃ１〜Ｃ１２は、１〜１２個の炭素原子を示し、Ｃ１−１２は、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４、Ｃ５、Ｃ６、Ｃ７、Ｃ８、Ｃ９、Ｃ１０、Ｃ１１およびＣ１２から選択される；Ｃ３−１２は、Ｃ３、Ｃ４、Ｃ５、Ｃ６、Ｃ７、Ｃ８、Ｃ９、Ｃ１０、Ｃ１１およびＣ１２から選択される）。用語「ヒドロカルビル基」は、脂肪族ヒドロカルビル基および芳香族ヒドロカルビル基を含むが、これらに限定されない。上記の脂肪族ヒドロカルビル基として、直鎖状および環状のヒドロカルビル基が挙げられ、具体的には、アルキル基、アルケニル基、およびアルキニル基が挙げられるが、これらに限定されない。芳香族ヒドロカルビル基として、フェニル基、ナフチル基などの６〜１２員芳香族ヒドロカルビル基が挙げられるが、これらに限定されない。いくつかの実施形態において、「ヒドロカルビル基」という用語は、完全飽和、一価または多価不飽和であってもよく、二価または多価の基を含んでも良い直鎖または分岐の基またはそれらの組み合わせを指す。飽和ヒドロカルビル基の例として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、シクロヘキシル、（シクロヘキシル）メチル、シクロプロピルメチル、およびｎ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチルなどの原子団の同族体または異性体が挙げられるが、これらに限定されない。不飽和ヒドロカルビル基は、１つ以上の二重結合または三重結合を有する。この不飽和ヒドロカルビル基の例として、ビニル、２−プロペニル、ブテニル、クロチル、２−イソペンテニル、２−（ブタジエニル）、２，４−ペンタジエニル、３−（１，４−ペンタジエニル）、エチニル、１−および３−プロピニル、３−ブチニル、ならびにより高級な同族体および異性体が挙げられるが、これらに限定されない。
【００６９】
特に明記されない限り、用語「ヘテロヒドロカルビル基」またはその下位語（例えば、ヘテロアルキル基、ヘテロアルケニル基、ヘテロアルキニル基、およびヘテロアリール基など）は、単独でまたは別の用語と併せて、一定の数の炭素原子および少なくとも１個のヘテロ原子を有する安定な直鎖、分岐鎖または環状炭化水素基、またはそれらの組み合わせを指す。いくつかの実施形態では、「ヘテロアルキル基」という用語は、単独でまたは別の用語と併せて、一定の数の炭素原子と少なくとも１つのヘテロ原子を有する安定な直鎖、分岐鎖炭化水素基、またはそれらの組み合わせを指す。代表的な実施形態では、ヘテロ原子はＢ、Ｏ、ＮおよびＳから選択され、ここで、窒素原子および硫黄原子は酸化されていてもよく、窒素原子は四級アンモニウム化されていても良い。ヘテロ原子またはヘテロ原子団は、ヘテロヒドロカルビル基が分子の残りの部分に結合する部位を含む、ヘテロヒドロカルビル基内部の任意の部位に位置しても良い。用語「アルコキシ基」、「アルキルアミノ基」および「アルキルチオ基」（またはチオアルキル基）は、慣用の表現であり、それぞれ酸素原子、アミノ基または硫黄原子を介して分子の残りの部分に結合しているアルキル基を指す。その例として、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ３、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＨ−ＣＨ３、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ３、−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨ３、−ＣＨ２−ＣＨ２、−Ｓ（Ｏ）−ＣＨ３、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓ（Ｏ）２−ＣＨ３、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−ＣＨ３、−ＣＨ２−ＣＨ＝Ｎ−ＯＣＨ３、および-ＣＨ＝ＣＨ−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ３が挙げられるが、これらに限定されない。例えば、−ＣＨ２−ＮＨ−ＯＣＨ３のように、最大２個のヘテロ原子が連続し得る。
【００７０】
特に明記されない限り、用語「シクロヒドロカルビル基」、「ヘテロシクロヒドロカルビル基」またはその下位語（例えば、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、シクロアルキニル基、ヘテロシクロアルキニル基など）は、単独でまたは別の用語と併せて環化した「ヒドロカルビル基」または「ヘテロヒドロカルビル基」を指す。さらに、ヘテロヒドロカルビル基またはヘテロシクロヒドロカルビル基（例えば、ヘテロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基）において、ヘテロ原子は、複素環が分子の残りの部分に結合している位置を占めても良い。シクロヒドロカルビル基の例として、シクロペンチル、シクロヘキシル、１−シクロヘキセニル、３−シクロヘキセニル、シクロヘプチルなどが挙げられるが、これらに限定されない。ヘテロシクロヒドロカルビル基の例として、１−（１，２，５，６−テトラヒドロピリジル）、１−ピペリジル、２−ピペリジル、３−ピペリジル、４−モルホリニル、３−モルホリニル、テトラヒドロフラン−２−イル、テトラヒドロフラン−３−イル、テトラヒドロチオフェン−２−イル、テトラヒドロチオフェン−３−イル、１−ピペラジニル、および２−ピペラジニルが挙げられるが、これらに限定されない。
【００７１】
特に明記されない限り、「アルキル基」という用語は、直鎖または分岐鎖の飽和炭化水素基を指し、一置換のもの（例えば−ＣＨ２Ｆ）または多置換のもの（例えば−ＣＦ３）であっても良く、一価のもの（例えばメチル基）、二価のもの（例えばメチレン基）または多価のもの（例えばメテニル基）であっても良い。アルキル基の例として、メチル（Ｍｅ）、エチル（Ｅｔ）、プロピル（ｎ−プロピルおよびイソプロピルなど）、ブチル（ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチルなど）、ペンチル（ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル）などが挙げられる。
【００７２】
特に明記されない限り、用語「アルケニル基」は、分子鎖上の任意の位置に１つ以上の炭素−炭素二重結合を有するアルキル基を指し、一置換のものまたは多置換のものであっても良く、一価のもの、二価のものまたは多価のものであってもよい。アルケニル基の例として、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ブタジエニル、ペンタジエニル、ヘキサジエニルなどが挙げられる。
【００７３】
特に明記されない限り、「アルキニル基」という用語は、分子鎖上の任意の位置に１つ以上の炭素−炭素三重結合を有するアルキル基を指し、一置換のものまたは多置換のものであっても良く、一価のもの、二価のものまたは多価のものであってもよい。アルキニル基の例として、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニルなどが挙げられる。
【００７４】
特に明記されない限り、シクロアルキル基は、任意の安定な環式または多環式のヒドロカルビル基を含み、任意の炭素原子は飽和であり、一置換のものまたは多置換のものであっても良く、一価のもの、二価のものまたは多価のものであってもよい。シクロアルキル基の例として、シクロプロピル、ノルボルナニル、［２．２．２］ビシクロオクタン、［４．４．０］ビシクロデカニルなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【００７５】
特に明記されない限り、シクロアルケニル基は、環上の任意の位置に１つ以上の不飽和炭素−炭素単結合を有する任意の安定な環式または多環式のヒドロカルビル基を含み、一置換のものまたは多置換のものであっても良く、一価のもの、二価のものまたは多価のものであってもよい。シクロアルケニル基の例として、シクロペンテニル、シクロヘキセニルなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【００７６】
特に明記されない限り、シクロアルキニル基は、環上の任意の位置に１つ以上の炭素−炭素三重結合を有する任意の安定な環式または多環式のヒドロカルビル基を含み、一置換のものまたは多置換のものであっても良く、一価のもの、二価のものまたは多価のものであってもよい。
【００７７】
特に明記されない限り、「ハロ」または「ハロゲン」という用語は、その自体または別の置換基の一部として、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子を指す。さらに、用語「ハロアルキル基」とは、モノハロアルキルおよびポリハロアルキルを含むことを意味する。例えば、用語「ハロ（Ｃ１−Ｃ４）アルキル基」は、トリフルオロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、４−クロロブチル、および３−ブロモプロピルなどが挙げられるが、これらに限定されない。ハロアルキル基の例として、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ペンタフルオロエチルおよびペンタクロロエチルが挙げられるが、これらに限定されない。
【００７８】
「アルコキシ基」という用語は、酸素架橋を介して結合した特定の数の炭素原子を有する、上記のアルキル基を表す。特に明記されない限り、Ｃ１−６アルコキシ基は、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４、Ｃ５およびＣ６アルコキシを含む。アルコキシ基の例として、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシおよびｓ−ペントキシが挙げられるが、これらに限定されない。
【００７９】
特に明記されない限り、用語「アリール基」は、多価不飽和の芳香族置換基を指し、一置換のもの、二置換のものまたは多置換のものであっても良く、一価のもの、二価のものまたは多価のものであってもよく、単環式のものまたは多環式のもの（例えば、１〜３個の環；ここで、少なくとも１個の環は芳香族である）であってもよく、これらは互いに縮合しているかまたは共有結合している。用語「ヘテロアリール基」とは、１〜４個のヘテロ原子を含有するアリール基（または環）を指す。例示的な例において、ヘテロ原子はＢ、Ｏ、ＮおよびＳから選択され、窒素原子および硫黄原子は酸化されていてもよく、窒素原子は四級アンモニウム化されていても良い。ヘテロアリール基は、ヘテロ原子を介して分子の残りの部分に結合してもよい。アリール基またはヘテロアリール基の例として、フェニル、ナフチル、ビフェニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、ピラジニル、オキサゾリル、フェニルオキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、フリル、チエニル、ピリジル、ピリミジニル、ベンゾチアゾリル、プリニル、ベンズイミダゾリル、インドリル、イソキノリル、キノキサリニル、キノリニル、１−ナフチル、２−ナフチル、４−ビフェニル、１−ピロリル、２−ピロリル、３−ピロリル、３−ピラゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、ピラジニル、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、２−フェニル−４−オキサゾリル、５−オキサゾリル、３−イソオキサゾリル、４−イソオキサゾリル、５−イソオキサゾリル、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル、２−フリル、 ３−フリル、２−チエニル、３−チエニル、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジル、４−ピリミジル、５−ベンゾチアゾリル、プリニル、２−ベンズイミダゾリル、５−インドリル、１−イソキノリル、５−イソキノリル、２−キノキサリニル、５−キノキサリニル、３−キノリル、および６−キノリルが挙げられるが、これらに限定されない。上記のアリール基およびヘテロアリール環系のいずれかの置換基は、後記の許容される置換基から選択される。
【００８０】
特に明記されない限り、他の用語（例えば、アリールオキシ基、アリールチオ基、アラルキル基）と併用すると、アリール基は上記で定義されたアリール基およびヘテロアリール環を含む。したがって、用語「アラルキル基」は、アリール基がアルキル基に結合している基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、ピリジルメチル基など）を含むことを意味し、例えば、フェノキシメチル基、２−ピリジルオキシメチル基、３−（１−ナフチルオキシ）プロピル基などの炭素原子（例えば、メチレン基）が酸素のような原子で置換されているアルキル基が挙げられる。
【００８１】
用語「脱離基」とは、置換反応（例えば、求核置換反応）によって別の官能基または原子で置換される官能基または原子を指す。代表的な脱離基として、例えば、トリフレート；塩素、臭素およびヨウ素；メシレート、トシレート、ｐ−ブロモベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート等のスルホネート基；アセトキシ、トリフルオロアセトキシ等のアシルオキシ基などが挙げられる。
【００８２】
用語「保護基」は、「アミノ保護基」、「ヒドロキシ保護基」または「チオ保護基」を含むが、これらに限定されない。用語「アミノ保護基」とは、アミノ基の窒素位置における副反応を阻止することに適した保護基を指す。代表的なアミノ保護基として、ホルミル；アルカノイル（例えばアセチル、トリクロロアセチルまたはトリフルオロアセチル）等のアシル；ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）等のアルコキシカルボニル；ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、９−フルオレニルメトキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）等のアリールメトキシカルボニル；ベンジル（Ｂｎ）、トリチル（Ｔｒ）、１，１−ビス（４’−メトキシフェニル）メチル等のアリールメチル；トリメチルシリル（ＴＭＳ）およびｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）等のシリルなど挙げられるが、限定されない。用語「ヒドロキシ保護基」とは、ヒドロキシ基の副反応を阻止することに適した保護基を指す。代表的なヒドロキシ保護基として、メチル、エチルおよびｔｅｒｔ−ブチル等のアルキル；アルカノイル（例、アセチル）等のアシル；ベンジル（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル（ＰＭＢ）、９−フルオレニルメチル（Ｆｍ）、ジフェニルメチル（ベンズヒドリル、ＤＰＭ）等のアリールメチル；トリメチルシリル（ＴＭＳ）およびｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）等のシリルなど挙げられるが、限定されない。
【００８３】
本発明の化合物は、以下の実施形態、それらを他の化学合成方法と組み合わせた実施形態、および当業者に周知の同等の置換を含む、当業者に周知の様々な合成方法によって調製される。好ましい実施形態は、本発明の実施例を含むが、これらに限定されない。
【００８４】
本発明で使用される全ての溶媒は市販されている。本発明は以下の略語を使用する。ａｑは、水を表す。ＨＡＴＵは、Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェートを表す。ＥＤＣは、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ’−エチルカルボジイミド塩酸塩を表す。ｍ−ＣＰＢＡは、３−クロロペルオキシ安息香酸を表す。ｅｑは、当量または等価を表す。ＣＤＩは、カルボニルジイミダゾールを表す。ＤＣＭは、ジクロロメタンを表す。ＰＥは、石油エーテルを表す。ＤＩＡＤは、ジイソプロピルアゾジカルボキシレートを表す。ＤＭＦは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを表す。ＤＭＳＯは、ジメチルスルホキシドを表す。ＥｔＯＡｃは、酢酸エチルを表す。ＥｔＯＨは、エタノールを表す。ＭｅＯＨは、メタノールを表す。ＣＢｚは、アミノ保護基であるベンジルオキシカルボニルを表す。ＢＯＣは、アミノ保護基であるｔｅｒｔ−ブチルカルボニルを表す。ＨＯＡｃは、酢酸を表す。ＮａＣＮＢＨ３は、シアノ水素化ホウ素ナトリウムを表す。ｒ．ｔ．は、室温を表す。Ｏ／Ｎは、一晩を表す。ＴＨＦは、テトラヒドロフランを表す。Ｂｏｃ２Ｏは、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネートを表す。ＴＦＡは、トリフルオロ酢酸を表す。ＤＩＰＥＡは、ジイソプロピルエチルアミンを表す。ＳＯＣｌ２は、塩化チオニルを表す。ＣＳ２は、二硫化炭素を表す。ＴｓＯＨは、ｐ−トルエンスルホン酸を表す。ＮＦＳＩは、Ｎ−フルオロ−Ｎ−（フェニルスルホニル）ベンゼンスルホンアミドを表す。ＮＣＳは、１−クロロピロリジン−２，５−ジオンを表す。ｎ−Ｂｕ４ＮＦは、テトラブチルアンモニウムフルオリドを表す。ｉＰｒＯＨは、２−プロパノールを表す。ｍｐは、融点を表す。ＬＤＡは、リチウムジイソプロピルアミドを表す。ＤＭＡＰは、４−ジメチルアミノピリジンを表す。Ｐｄ（ｄｐｐｆ）Ｃｌ２は、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］二塩化パラジウムを表す。ＥＤＣＩは、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩を表す。ＨＯＢｔは、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールを表す。ＮＢＳは、Ｎ−ブロモスクシンイミドを表す。ＴＭＳＣＮは、トリメチルシリルシアニドを表す。ＨＢＦ４・Ｅｔ２Ｏは、三フッ化ホウ素フッ化水素ジエチルエーテルを表す。ＩＰＡは、イソプロパノールを表す。
【００８５】
化合物は、手動で又はＣｈｅｍＤｒａｗ（登録商標）ソフトウェアによって命名され、市販の化合物は、メーカのカタログ名を使用する。
【発明を実施するための形態】
【００８６】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。本発明は、本明細書に開示された実施形態を含めて本明細書に詳細に記載されている。本発明の精神および範囲を離れることなく、様々な変更および修正が可能であることは、当業者にとって明らかである。
【００８７】
参考例１：ＢＢ−１部分
【化４２】
2020504184.tif 000044
合成経路：
【化４３】
2020504184.tif 000045
【００８８】
工程１：化合物ＢＢ−１−２の合成
クロロアセトン（３２０ｇ，３．４６ｍｍｏｌ）を３．５Ｌのエタノールに溶解し、チオシアン酸ナトリウム（３３６．３１ｇ，４．１５ｍｏｌ）を加え、室温で４８時間撹拌した。反応液を濾過し、濾液を減圧下で濃縮して粗生成物を得た。２Ｌのメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルを加え、濾過し、濾液を減圧下で濃縮して別の粗生成物を得た。これを１．５Ｌのメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、濾過し、濾液を減圧下で濃縮して、化合物ＢＢ−１−２（３９０ｇ，暗褐色油状物）を得た。生成物を精製せずにそのまま次の反応に使用した。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ４．０４（ｓ，２Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ）。
【００８９】
工程２：化合物ＢＢ−１−３の合成
ＢＢ−１−２（２００ｇ，１．７４ｍｏｌ）を３．５Ｌのジクロロメタンに溶解し、塩化水素ガスを０℃で３０分間バブリングし、室温で１２時間攪拌し。飽和重炭酸ナトリウム溶液を滴下し、混合物を中性に調整し、ジクロロメタン（８００ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、水（１０００ｍＬ×２）、飽和塩化ナトリウム溶液（１０００ｍＬ×２）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濾液を減圧下で濃縮して、溶離剤系Ａを使用するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより得られた残留物を精製し、生成物ＢＢ−１−３（１５９ｇ，黄色油状物）を得た。収率：６４．９％。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ６．７７（ｓ，１Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ）。
【００９０】
工程３：化合物ＢＢ−１−４の合成
クロロスルホン酸（２４９ｍＬ，３．７４ｍｏｌ）を２１７ｍＬの塩化チオニルに溶解し、２−クロロ−４−メチルチアゾール（１００ｇ，７４８．５０ｍｍｏｌ）を加え、１３０℃で１６時間攪拌した。反応液を２Ｌの氷水にゆっくり加え、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（５００ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、水（８００ｍＬ×２）、飽和塩化ナトリウム溶液（８００ｍＬ×２）で順次洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濾液を減圧下で濃縮して、生成物ＢＢ−１−４（１７０ｇ，暗褐色液体）を得た。生成物を精製せずにそのまま次の反応に使用した。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ２．７７（ｓ，３Ｈ）。
【００９１】
工程４：化合物ＢＢ−１−５の合成
ＢＢ−１−４（１１０．００ｇ，４７３．９１ｍｍｏｌ）を５００ｍＬテトラヒドロフランに溶解し、０℃でアンモニア水（１４０ｍＬ，９４７．８２ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで抽出し（２００ｍＬ×３），有機相を合わせ、水（５０ｍＬ×２）、飽和塩化ナトリウム溶液（５０ｍＬ×２）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濾液を減圧下で濃縮して、溶離剤系Ａを使用するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより得られた残留物を精製し、生成物ＢＢ−１−５（７２ｇ，黄色固体）を得た。収率：７１．４３％。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．０３（ｓ，２Ｈ），２．２９（ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，３Ｈ）。
【００９２】
工程５：化合物ＢＢ−１の合成
ＢＢ−１−５（２０ｇ，９４．０４ｍｍｏｌ）と、２８％のメチルアミン水溶液（４１．７３ｇ，３７．１６ｍｍｏｌ）とを１００ｍＬのテトラヒドロフランに添加し、５０℃に加熱して４時間反応させ、反応を完了させた。反応液を濃縮乾固し、溶離剤系Ａを使用するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより得られた残留物を精製し、生成物ＢＢ−１（１８ｇ，黄色固体）を得た。収率：９２．３５％。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ２．７９（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，３Ｈ），２．２９（ｓ，３Ｈ）。
【００９３】
参考例２：ＢＢ−２部分
【化４４】
2020504184.tif 000046
合成経路：
【化４５】
2020504184.tif 000047
【００９４】
工程１：化合物ＢＢ−２−２の合成
０℃で、２−クロロ−４−メチルチアゾール−５−スルホニルクロリド（５０．００ｇ，２１５．４２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８００．００ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（４３．６０ｇ，４３０．８４ｍｍｏｌ）及びシクロプロピルアミン（１８．４５ｇ，３２３．１３ｍｍｏｌ）を添加し、系を２０℃で１０分間撹拌した。反応が完了した後、２００ｍＬの水を系に添加し、有機層を３Ｍの硫酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ×２）およびブライン（３００ｍＬ）でそれぞれ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮して、暗灰色固体として生成物ＢＢ−２−２（３３．００ｇ，粗生成物）を得た。そのまま次の反応に使用した。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ５．２３−５．３２（ｍ，１Ｈ），２．６４，（ｓ，３Ｈ），２．３５−２．４８（ｍ，１Ｈ），０．６８−０．７５（ｍ，４Ｈ）。
【００９５】
工程２：化合物ＢＢ−２の合成
２０℃で、ＢＢ−２−２（１３．００ｇ，５１．４４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１００．００ｍＬ）溶液に、メチルアミン水溶液（６１．４５ｇ，５１４．３６ｍｍｏｌ，２６％純度）を加え、系を８０℃で１６時間攪拌した。反応が完了した後、系を減圧下で濃縮して、残留物を５００ｍＬの石油エーテルと６０ｍＬの酢酸エチルとの系に添加し、１０分間撹拌し、固体を濾過した。濾過ケーキを乾燥させて、暗褐色固体として生成物ＢＢ−２（１１．００ｇ，８６．４５％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝４．７７Ｈｚ，１Ｈ），７．８１（ｄ，Ｊ＝２．５１Ｈｚ，１Ｈ），２．８０（ｄ，Ｊ＝４．７７Ｈｚ，３Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），２．１５−２．２２（ｍ，１Ｈ），０．５１（ｓ，２Ｈ），０．４１（ｄ，Ｊ＝３．２６Ｈｚ，２Ｈ）。
【００９６】
実施例１：ＷＸ０４２
【化４６】
2020504184.tif 000048
合成経路：
【化４７】
2020504184.tif 000049
【００９７】
工程１：化合物ＷＸ０４２−２の合成
窒素ガス保護下、０℃で、ＷＸ０４２−１（５．００ｇ，２２．１２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０．００ｍＬ）溶液にボランジメチルスルフィド（１０Ｍ，１１．０６ｍＬ）を滴下し、系を７０℃で１６時間撹拌した。反応が完了した後、０℃で、系に１００ｍＬのメタノールを加えて反応系をクエンチし、減圧下で濃縮して。残留物をカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタノール＝２０：１）で精製して、白色固体として化合物ＷＸ０４２−２（１．００ｇ，２２．１６％収率，９７．１％純度）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．４３（ｓ，１Ｈ），７．４０−７．３４（ｍ，２Ｈ），７．１１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），４．４８（ｄ，Ｊ＝１６．６Ｈｚ，４Ｈ）。
【００９８】
工程２：化合物ＷＸ０４２−３の合成
２０℃で、ＷＸ０４２−２（５．００ｇ，２２．１２ｍｍｏｌ）およびＢｏｃ２Ｏ（１．２１ｇ，５．５６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０．００ｍＬ）の系に、ＤＭＡＰ（６１．７０ｍｇ，５０５．００μｍｏｌ）を加え、系を２０℃で１２時間攪拌した。反応が完了した後、反応系を酢酸エチル（１５ｍＬ×３）で抽出し。有機層を水（１０ｍＬ×３）およびブライン（１０ｍＬ×２）でそれぞれ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー（石油エーテル：酢酸エチル＝５：１）で精製して、白色固体として化合物ＷＸ０４２−３（９００．００ｍｇ，５９．８０％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．４２−７．３６（ｍ，２Ｈ），７．１７−７．０８（ｍ，１Ｈ），４．６７−４．５９（ｍ，４Ｈ），１．５１（ｓ，９Ｈ）。
【００９９】
工程３：化合物ＷＸ０４２−４の合成
窒素ガス保護下、ＷＸ０４２−３（８００．００ｍｇ，２．６８ｍｍｏｌ）、トリ−ｔｅｒｔ−ブチル（２−ピリジル）スタンナン（１．１８ｇ，３．２２ｍｍｏｌ）およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１５４．８５ｍｇ，１３４．００μｍｏｌ）のトルエン（１０．００ｍＬ）反応系を１１０℃で４時間攪拌した。反応が完了した後、減圧下で濃縮して，残留物をカラムクロマトグラフィー（石油エーテル：酢酸エチル＝１０：１−３：１）で精製して、白色固体として化合物ＷＸ０４２−４（５８０．００ｍｇ，７３．０３％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．６９（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），７．９５−７．８５（ｍ，２Ｈ），７．７９−７．６８（ｍ，２Ｈ），７．３５（ｄｄ，Ｊ＝７．９，１９．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２６−７．２１（ｍ，１Ｈ），４．８０−４．６６（ｍ，４Ｈ），１．５３（ｓ，９Ｈ）。
【０１００】
工程４：化合物ＷＸ０４２−５の合成
０℃で、ＷＸ０４２−４（５８０．００ｍｇ，１．９６ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８．００ｍＬ）反応系にトリフルオロ酢酸（１．１２ｇ，９．８０ｍｍｏｌ）を滴下し、系を２０℃で１時間攪拌した。反応が完了した後、減圧下で濃縮して。残留物を１０ｍＬのジクロロメタンに溶解させ、炭酸ナトリウムで系を中性に調節し、減圧下で濃縮して、残留物をカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタノール＝５：１）で精製して、白色固体として化合物ＷＸ０４２−５（３００．００ｍｇ，７８．０６％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）δ８．６４（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０３−７．８７（ｍ，４Ｈ），７．５５（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．４０-７．４３（ｍ，１Ｈ），４．６８（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，４Ｈ）。
【０１０１】
工程５：化合物ＷＸ０４２−６の合成
窒素ガス保護下、０℃で、ＣＤＩ（９９．１５ｍｇ，６１１．４６μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３．００ｍＬ）溶液に、ＷＸ０４２−５（１００．００ｍｇ，５０９．５５μｍｏｌ）およびトリエチルアミン（５１．５６ｍｇ，５０９．５５μｍｏｌ）を加え、系を２０℃で２時間攪拌し、反応を完了させた。減圧下で濃縮して、残留物をカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタノール＝２０：１）で精製して、白色固体として化合物ＷＸ０４２−６（１２０．００ｍｇ，粗生成物）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）δ８．６６−８．６０（ｍ，１Ｈ），８．３３（ｓ，１Ｈ），８．１７（ｓ，１Ｈ），７．９６−７．９２（ｍ，２Ｈ），７．９１−７．８６（ｍ，１Ｈ），７．７４（ｔ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５４−７．４４（ｍ，１Ｈ），７．３９（ｍ，１Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１Ｈ），５．１２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，４Ｈ）。
【０１０２】
工程６：化合物ＷＸ０４２の合成
窒素ガス保護下、１５℃で、ＷＸ０４２−６（８０．００ｍｇ，２７５．５６μｍｏｌ）およびＢＢ−１（５７．１１ｍｇ，２７５．５６μｍｏｌ）のトルエン（１０．００ｍＬ）溶液に、トリメチルアルミニウム（１Ｍ，８２６．６８μＬ）を加え、系を１１０℃で２時間攪拌し、反応を完了させた。０℃で、系に１０ｍＬのメタノールを加えて反応をクエンチし、系を濾過した。濾液を減圧下で濃縮して、残留物を分取クロマトグラフィーにより精製して化合物ＷＸ０４２（１．７０ｍｇ，１．１５％収率，１００％純度）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６５（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），８．０７（ｓ，１Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．９７−７．９３（ｍ，１Ｈ），７．９１−７．８５（ｍ，１Ｈ），７．５７（ｓ，２Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．３５（ｄｄ，Ｊ＝５．１，６．９Ｈｚ，１Ｈ），４．９６（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，４Ｈ），３．５８（ｓ，２Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ）。
【０１０３】
実施例２：ＷＸ０７６
【化４８】
2020504184.tif 000050
合成経路：
【化４９】
2020504184.tif 000051
【０１０４】
工程１：化合物ＷＸ０７６−２の合成
０℃で、ＷＸ０７６−１（２０．００ｇ，１０９．８８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１００．００ｍＬ）溶液に臭化メチルマグネシウム（３Ｍ，１０９．８８ｍｍｏｌ）を滴下し、系を１５℃で１時間攪拌した後、チタンテトライソプロポキシド（３１．３２ｇ，１０９．８８ｍｍｏｌ）を添加し、反応液をさらに１５時間攪拌した。反応が完了した後、０℃で、反応系に８００ｍＬの１０％水酸化ナトリウム溶液を加え、１５℃で３０分間攪拌し、系を酢酸エチル（１００ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、減圧下で濃縮した。２００ｍＬの５％塩酸溶液で残留物を抽出し、水相を合わせて酢酸エチル（５０ｍＬ×２）で洗浄し、２０％水酸化ナトリウム水溶液でｐＨを１４に調整し、酢酸エチル（１５０ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、ブライン（１００ｍＬ×３）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して黄色油状物として化合物ＷＸ０７６−２（１７．００ｇ，粗生成物）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．３６−７．４７（ｍ，４Ｈ），１．４７（ｓ，６Ｈ）。
【０１０５】
工程２：化合物ＷＸ０７６−３の合成
窒素ガス保護下、０℃で、ＷＸ０７６−２（１６．３０ｇ，７６．１３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１５．４１ｇ，１５２．２６ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２００．００ｍＬ）溶液に、塩化オキサリルモノエチルエステル（４１．５８ｇ，３０４．５２ｍｍｏｌ）を滴下し、系を１５℃で０．５時間攪拌した。反応が完了した後、系に１００ｍＬのジクロロメタンを加え、反応液を１０％の塩酸溶液で洗浄し、水層を合わせて、ジクロロメタン（７５ｍＬ×３）で抽出し、有機相をブライン（１００ｍＬ×３）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー（石油エーテル：酢酸エチル＝１００：０−０：１００）で精製して、黄色油状物として化合物ＷＸ０７６−３を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．４６（ｄ，Ｊ＝８．５３Ｈｚ，３Ｈ），７．２８（ｄ，Ｊ＝８．５３Ｈｚ，２Ｈ），４．３３（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，２Ｈ），１．７４（ｓ，６Ｈ），１．３９（ｔ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，３Ｈ）。
【０１０６】
工程３：化合物ＷＸ０７６−４の合成
ＷＸ０７６−３（２１．００ｇ，６６．８４ｍｍｏｌ）のエタノール（１００．００ｍＬ）溶液に、水酸化ナトリウム（８．０２ｇ，２００．５２ｍｍｏｌ）の水（５０．００ｍＬ）溶液を加え、系を１５℃で１時間攪拌した。反応が完了した後、１Ｍの塩酸溶液で反応系をｐＨ＝２−３に調整し、酢酸エチル（１００ｍＬ×３）で抽出し、有機相をブライン（５０ｍＬ×３）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過濃縮して白色固体として化合物ＷＸ０７６−４を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．９０−８．５０（ｍ，１Ｈ），７．６７（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝８．５３Ｈｚ，２Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝８．５３Ｈｚ，２Ｈ），１．７３（ｓ，６Ｈ）。
【０１０７】
工程４：化合物ＷＸ０７６−５の合成
ＷＸ０７６−４（５．００ｇ，１７．４８ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（２５０．００ｍＬ）溶液に、Ｎａ２Ｓ２Ｏ８（８．３２ｇ，３４．９６ｍｍｏｌ）を加え、系を１１０℃で３６時間攪拌した。反応が完了した後、反応系を５００ｍＬの飽和炭酸ナトリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチル（１５０ｍＬ×３）で抽出し、有機層を合わせて、水（１５０ｍＬ×３）およびブライン（１５０ｍＬ×３）でそれぞれ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー（石油エーテル：酢酸エチル＝１０：９０−０：１００）で精製して、黄色油状物として化合物ＷＸ０７６−５を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．９４（ｄ，Ｊ＝１．２５Ｈｚ，１Ｈ），７．６８（ｄｄ，Ｊ＝１．５１，８．０３Ｈｚ，１Ｈ），７．２８（ｄ，Ｊ＝８．０３Ｈｚ，１Ｈ），６．４２（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），１．５４（ｓ，６Ｈ）。
【０１０８】
工程５：化合物ＷＸ０７６−６の合成
ＷＸ０７６−５（１．５０ｇ，６．２５ｍｍｏｌ）およびトリ−ｔｅｒｔ−ブチル（２−ピリジル）スタンナン（３．４５ｇ，９．３７ｍｍｏｌ）のトルエン（１０．００ｍＬ）溶液を窒素ガスで３回パージした。その後、反応液にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（７２１．９２ｍｇ，６２４．７４μｍｏｌ）を加え、窒素ガス保護下、１１０℃で系を３時間攪拌した。反応が完了した後、減圧下で濃縮して。残留物を分取クロマトグラフィーにより精製して白色固体として化合物ＷＸ０７６−６を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．７３（ｄ，Ｊ＝４．５２Ｈｚ，１Ｈ），８．３３−８．４１（ｍ，２Ｈ），７．７６−７．８６（ｍ，２Ｈ），７．５４（ｄ，Ｊ＝８．５３Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．３２（ｍ，１Ｈ），７．１５（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），１．６２（ｓ，６Ｈ）。
【０１０９】
工程６：化合物ＷＸ０７６−７の合成
ＷＸ０７６−６（１１２．００ｍｇ，４７０．０４μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５．００ｍＬ）溶液に、水素化アルミニウムリチウム（２６．７６ｍｇ，７０５．０５μｍｏｌ）を添加し、系を７０℃で２０時間攪拌した。反応が完了した後、系に５０ｍＬの水を添加し、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出し、有機層を合わせて５０ｍＬのブラインで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して濃縮した。残留物を薄層クロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタノール＝１０：１）で精製して、黄色油状物として化合物ＷＸ０７６−７を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．６９（ｄ，Ｊ＝４．５２Ｈｚ，１Ｈ），７．９２−８．００（ｍ，２Ｈ），７．７５−７．８３（ｍ，１Ｈ），７．６７−７．７３（ｍ，１Ｈ），７．２７−７．２９（ｍ，１Ｈ），７．２６（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），４．７２（ｓ，２Ｈ），１．８７（ｓ，６Ｈ）。
【０１１０】
工程７：化合物ＷＸ０７６−８の合成
窒素ガス保護下、２０℃で、ＣＤＩ（３４．７０ｍｇ，２１４．００μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５．００ｍＬ）溶液に、化合物ＷＸ０７６−７（４０．００ｍｇ，１７８．３３μｍｏｌ）およびトリエチルアミン（１８．０５ｍｇ，１７８．３３μｍｏｌ）を加え、反応系を還流させて２０時間反応した。反応が完了した後、減圧下で濃縮して、残留物を５０ｍＬの水に溶解させ、系を酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出し、有機層を合わせて、５０ｍＬブラインおよび５０ｍＬ水でそれぞれ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮して白色固体として化合物ＷＸ０７６−８を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．７０（ｄ，Ｊ＝４．２７Ｈｚ，１Ｈ），８．０６（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），７．９７（ｄ，Ｊ＝８．２８Ｈｚ，１Ｈ），７．８７（ｓ，１Ｈ），７．７８（ｓ，１Ｈ），７．６８−７．７３（ｍ，１Ｈ），７．３９（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝８．０３Ｈｚ，１Ｈ），７．１６（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），４．９９（ｓ，２Ｈ），１．８９（ｓ，４Ｈ）。
【０１１１】
工程８：化合物ＷＸ０７６の合成
窒素ガス保護下、１５℃で、ＷＸ０７６−８（５０．００ｍｇ，１５７．０５μｍｏｌ）およびＢＢ−１（３２．５５ｍｇ，１５７．０５μｍｏｌ）のトルエン（５．００ｍＬ）溶液に、トリメチルアルミニウム（２Ｍ，２３５．５７μＬ）を加え、反応系を１１０℃で４時間反応させた。反応が完了した後、減圧下で濃縮して，残留物を５０ｍＬのジクロロメタンに溶解させ、系を２５ｍＬブラインおよび２５ｍＬ水でそれぞれ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して濃縮した。残留物を分取クロマトグラフィーにより精製して化合物ＷＸ０７６を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）δ８．６１−８．６５（ｍ，１Ｈ），８．４８−８．５３（ｍ，１Ｈ），７．８６−７．９８（ｍ，４Ｈ），７．４２−７．４６（ｍ，１Ｈ），７．３８−７．４１（ｍ，１Ｈ），４．９８−５．０１（ｍ，３Ｈ），３．４４−３．４９（ｍ，３Ｈ），２．４８−２．５２（ｍ，２Ｈ），１．７９−１．９４（ｍ，６Ｈ）。
【０１１２】
実施例３：ＷＸ１２８
【化５０】
2020504184.tif 000052
合成経路：
【化５１】
2020504184.tif 000053
【０１１３】
工程１：化合物ＷＸ１２８−２の合成
ＷＸ１２８−１（２．００ｇ，６．４１ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコラト）ジボロン（１．７９ｇ，７．０５ｍｍｏｌ）および酢酸カリウム（１．８９ｇ，１９．２２ｍｍｏｌ）のジオキサン（２０．００ｍＬ）溶液を窒素ガスで３回パージした。その後、系にＰｄ（ｄｐｐｆ）Ｃｌ２（１．４１ｇ，１．９２ｍｍｏｌ）を加え、窒素ガス保護下、８０℃で反応液を１５時間反応させた。反応が完了した後、減圧下で濃縮して、残留物を３０ｍＬの水に溶解させ、酢酸エチル（３０ｍＬ×３）で抽出し、有機層を合わせて、ブライン（５０ｍＬ×３）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮して暗褐色油状物として化合物ＷＸ１２８−２（３．３８ｇ，粗生成物）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．６３−７．５４（ｍ，２Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），４．５９（ｓ，２Ｈ），３．６５（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），２．８５（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），１．４９（ｓ，９Ｈ），１．３５（ｓ，１２Ｈ）。
【０１１４】
工程２：化合物ＷＸ１２８−３の合成
窒素ガス保護下、２５℃で、ＷＸ１２８−２（２．８８ｇ，８．０２ｍｍｏｌ）および２−ブロモピリジン（１．２７ｇ，８．０２ｍｍｏｌ，７６３．３５μＬ）のジオキサン（３０．００ｍＬ）と水（７．５０ｍＬ）の溶液に、炭酸ナトリウム（１．０２ｇ，９．６２ｍｍｏｌ）およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１８５．３５ｍｇ，１６０．４０μｍｏｌ）を加え、窒素ガス保護下、１００℃で反応液を１５時間反応させた。反応が完了した後、減圧下で濃縮して、残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して白色固体として化合物ＷＸ１２８−３（１．８３ｇ，６２．８８％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．６３−７．５４（ｍ，２Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），４．５９（ｓ，２Ｈ），３．６５（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），２．８５（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），１．４９（ｓ，９Ｈ），１．３５（ｓ，１２Ｈ）。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．６９（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），７．８４−７．６８（ｍ，４Ｈ），７．２７−７．２１（ｍ，２Ｈ），４．６８（ｓ，２Ｈ），３．６９（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），２．９０（ｂｒ  ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，２Ｈ），１．５１（ｓ，９Ｈ）。
【０１１５】
工程３：化合物ＷＸ１２８−４の合成
窒素ガス保護下、０℃で、ＷＸ１２８−３（１．８３ｇ，５．９０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２０．００ｍＬ）溶液に、トリフルオロ酢酸（１０．００ｍＬ）を滴下し、２５℃で反応液２０分間反応させた。反応が完了した後、減圧下で濃縮して、残留物を２０ｍＬのジクロロメタンで希釈し、系を飽和炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ＝８−９に調整し、ジクロロメタン（２０ｍＬ×３）で抽出し、有機層を合わせて、ブライン（２５ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮して化合物ＷＸ１２８−４（１．０９ｇ，８７．８６％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．６８（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７７−７．６７（ｍ，４Ｈ），７．２５−７．１６（ｍ，２Ｈ），４．１２（ｓ，２Ｈ），３．１９（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），２．８６（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ）。
【０１１６】
工程４：化合物ＷＸ１２８−５の合成
窒素ガス保護下、２５℃で、ＷＸ１２８−４（３００．００ｍｇ，１．４３ｍｍｏｌ）のトルエン（５．００ｍＬ）溶液にＣＤＩ（２５５．０６ｍｇ，１．５７ｍｍｏｌ）を加え、系を８０℃で１５時間攪拌した。反応が完了した後、１５ｍＬの水を添加して反応をクエンチし、２０ｍＬの酢酸エチルで希釈し、系を酢酸エチル（２０ｍＬ×３）で抽出し、有機層を合わせて、５０ｍＬのブラインで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して黄色油状物として化合物ＷＸ１２８−５（３２７．００ｍｇ，粗生成物）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．７１−８．６７（ｍ，１Ｈ），７．９７（ｓ，１Ｈ），７．８６−７．６７（ｍ，４Ｈ），７．３４−７．２８（ｍ，２Ｈ），７．２７−７．２３（ｍ，１Ｈ），７．１３（ｄ，Ｊ＝９．８Ｈｚ，１Ｈ），４．８６（ｓ，２Ｈ），３．８８（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），３．０８（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ）。
【０１１７】
工程５：化合物ＷＸ１２８の合成
窒素ガス保護下、２５℃で、ＷＸ１２８−５（１００．００ｍｇ，３２８．５７μｍｏｌ）およびＢＢ−１（６８．１０ｍｇ，３２８．５７μｍｏｌ）のトルエン（５．００ｍＬ）溶液に、トリメチルアルミニウム（１Ｍ，９８５．７１μＬ）を加え、１１０℃で反応系を２時間反応させた。反応が完了した後、２５℃で、系に２ｍＬの１Ｍ希塩酸を添加して反応をクエンチし、減圧下で濃縮した。残留物を分取クロマトグラフィーにより精製して化合物ＷＸ１２８（２３．８０ｍｇ，１６．３３％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．７５（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），８．２４−８．０９（ｍ，２Ｈ），７．９５（ｓ，１Ｈ），７．９２（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６９−７．４８（ｍ，３Ｈ），７．３９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），４．６６（ｓ，２Ｈ），３．６５（ｂｒ  ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），３．５１（ｓ，３Ｈ），３．００（ｂｒ  ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ），２．４３（ｓ，３Ｈ）。
【０１１８】
実施例４：ＷＸ１３５
【化５２】
2020504184.tif 000054
合成経路：
【化５３】
2020504184.tif 000055
【０１１９】
工程１：化合物ＷＸ１３５−２の合成
窒素ガス保護下、０℃で、ＷＸ１３５−１（２．００ｇ，９．６１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０．００ｍＬ）溶液に水素化トリエチルホウ素リチウム（１Ｍ，４２．２８ｍＬ）を加え、系を２５℃で２時間反応した。反応が完了した後、１Ｍの希塩酸で反応系をｐＨ＝２−３に調整し、その後、炭酸ナトリウム溶液でｐＨ＝９−１０に調整した。０℃で、系にＢｏｃ２Ｏ（４．１９ｇ，１９．２２ｍｍｏｌ，４．４２ｍＬ）を添加し、２５℃でさらに反応液を１５時間攪拌した。反応が完了した後、２５℃で、反応系に１００ｍＬの水を添加し、１００ｍＬの酢酸エチルを加えて希釈し、酢酸エチル（１００ｍＬ×３）で系を抽出し、有機層を合わせて、ブライン（１５０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー（石油エーテル：酢酸エチル＝１００：１−５０：１）で精製して無色油状物として化合物ＷＸ１３５−２（２．４２ｇ，７０．１４％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．３３−７．２９（ｍ，２Ｈ），６．９９（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），４．５２（ｓ，２Ｈ），３．６３（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），２．８１（ｂｒ  ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），１．５０（ｓ，９Ｈ）。
【０１２０】
工程２：化合物ＷＸ１３５−３の合成
化合物ＷＸ１３５−３の合成は、実施例３における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．６５−７．５８（ｍ，２Ｈ），７．１３（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），４．５９（ｓ，２Ｈ），３．６４（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），２．８５（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），１．４９（ｓ，９Ｈ），１．３６−１．３３（ｍ，１２Ｈ）。
【０１２１】
工程３：化合物ＷＸ１３５−４の合成
化合物ＷＸ１３５−４の合成は、実施例３における工程２の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．６９（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８５−７．６８（ｍ，４Ｈ），７．２６−７．１８（ｍ，２Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），３．６９（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），２．９４（ｂｒ  ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），１．５１（ｓ，９Ｈ）。
【０１２２】
工程４：化合物ＷＸ１３５−５の合成
化合物ＷＸ１３５−５の合成は、実施例３における工程３の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６３（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），７．９３−７．８９（ｍ，１Ｈ），７．８５（ｄｄ，Ｊ＝１．６，７．４Ｈｚ，１Ｈ），７．８３−７．７８（ｍ，２Ｈ），７．３４−７．２６（ｍ，１Ｈ），７．１６−７．０５（ｍ，１Ｈ），３．８８（ｓ，２Ｈ），３．０１−２．９３（ｍ，２Ｈ），２．８１−２．７２（ｍ，２Ｈ）。
【０１２３】
工程５：化合物ＷＸ１３５−６の合成
化合物ＷＸ１３５−６の合成は、実施例３における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６６（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），８．１３（ｓ，１Ｈ），７．９６（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），７．９４（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．９１−７．８５（ｍ，１Ｈ），７．５８（ｓ，１Ｈ），７．３８−７．３１（ｍ，２Ｈ），７．０８（ｓ，１Ｈ），４．７７（ｓ，２Ｈ），３．７５（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ），３．０５（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ）。
【０１２４】
工程６：化合物ＷＸ１３５の合成
化合物ＷＸ１３５の合成は、実施例３における工程５の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ．７６（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），８．２５（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），８．２１−８．１５（ｍ，１Ｈ），７．９４（ｓ，１Ｈ），７．９１（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６７（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．５７（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），７．４１（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），３．６５（ｂｒ  ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），３．５０（ｓ，３Ｈ），３．０２（ｂｒ  ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，２Ｈ），２．４３（ｓ，３Ｈ）。
【０１２５】
実施例５：ＷＸ０２７
【化５４】
2020504184.tif 000056
合成経路：
【化５５】
2020504184.tif 000057
【０１２６】
工程１：化合物ＷＸ０２７−２の合成
ＷＸ０２７−１（４．００ｇ，１９．９０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３５．００ｍＬ）溶液にＨＢＦ４・Ｅｔ２Ｏ（３２２．２４ｍｇ，１．９９ｍｍｏｌ）を加え、系が黒くになった後、ジアゾ酢酸エチル（５．４５ｇ，４７．７７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５．００ｍＬ）溶液を滴下し、反応温度を３８℃未満に維持し、系を２０℃で１時間攪拌した。２０℃で反応液を減圧下で濃縮し、２ｍＬの硫酸を滴下し、１時間攪拌した。反応が完了した後、反応液を３０ｍＬの氷水に注ぎ、ジクロロメタン（３０ｍＬ×３）で抽出し、有機層を合わせて、５％重炭酸ナトリウム（２０ｍＬ×２）およびブライン（１５０ｍＬ×２）でそれぞれ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー（石油エーテル：酢酸エチル＝３：１）で精製して、淡黄色固体として化合物ＷＸ０２７−２（３．００ｇ，５６．０２％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．２２（ｓ，１Ｈ），７．９３（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１Ｈ），７．４８（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．３Ｈｚ，１Ｈ），４．４１（ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），１．４２（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）。
【０１２７】
工程２：化合物ＷＸ０２７−３の合成
２０℃で、ＷＸ０２７−２（４００．９４ｍｇ，１．４９ｍｍｏｌ）のメタノール（１０．００ｍＬ）溶液にマグネシウム（１８１．１１ｍｇ，７．４５ｍｍｏｌ）を添加し、系を２０℃で３時間攪拌した。反応が完了した後、反応液を３０ｍＬの氷水に注ぎ、３０ｍＬの酢酸エチルを加え、２０℃で反応液を３０分間攪拌し、濾過した。濾液を酢酸エチル（２０ｍＬ×３）で抽出し、有機層を合わせて、水（２０ｍＬ×３）およびブライン（１５ｍＬ×３）でそれぞれ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮して白色固体として化合物ＷＸ０２７−３（２６０．００ｍｇ，６７．７９％収率）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．３８（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．８９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），５．０１−４．９０（ｍ，１Ｈ），４．７５−４．６０（ｍ，１Ｈ），４．３５（ｄｄ，Ｊ＝６．８，９．８Ｈｚ，１Ｈ），３．７８（ｓ，３Ｈ）。
【０１２８】
工程３：化合物ＷＸ０２７−４の合成
ＷＸ０２７−３（２００．００ｍｇ，７３７．７１μｍｏｌ）およびトリ−ｔｅｒｔ−ブチル（２−ピリジル）スタンナン（４０７．３７ｍｇ，１．１１ｍｍｏｌ）のトルエン（１０．００ｍＬ）溶液を窒素ガスで３回パージした。その後、反応液にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（４２．６２ｍｇ，３６．８９μｍｏｌ）を加え、窒素ガス保護下、１１０℃で系を５時間攪拌した。反応が完了した後、減圧下で濃縮した。残留物を分取クロマトグラフィー（石油エーテル：酢酸エチル＝３：１）で精製して、白色固体として化合物ＷＸ０２７−４（９０．００ｍｇ，４０．７７％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．７０−８．６４（ｍ，１Ｈ），７．７６−７．６４（ｍ，２Ｈ），７．５７−７．５２（ｍ，１Ｈ），７．４８−７．４３（ｍ，２Ｈ），７．２３（ｍ，１Ｈ），４．９９（ｄｄ，Ｊ＝６．５，９．３Ｈｚ，１Ｈ），４．７４（ｔ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ），４．３９（ｄｄ，Ｊ＝６．５，９．５Ｈｚ，１Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ）。
【０１２９】
工程４：化合物ＷＸ０２７−５の合成
２０℃で、ＷＸ０２７−４（８０．００ｍｇ，３１３．３９μｍｏｌ）のメタノール（３．００ｍＬ）溶液に水酸化ナトリウム（２Ｍ，３１３．３９μＬ）溶液を加え、２０℃で系を３０分間攪拌した。反応が完了した後、１０ｍＬの水で反応液を希釈し、１Ｍの塩酸溶液で系をｐＨ＝６−７に調整し、酢酸エチル（１５ｍＬ×３）で抽出し、有機相をブライン（１０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮して白色固体として化合物ＷＸ０２７−５（７０．００ｍｇ，９２．５９％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６５（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），７．９７−７．９０（ｍ，１Ｈ），７．９０−７．８２（ｍ，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ＝１．３，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５０（ｓ，１Ｈ），７．４６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３５（ｄｄ，Ｊ＝５．３，６．８Ｈｚ，１Ｈ），４．８１（ｄｄ，Ｊ＝６．４，８．９Ｈｚ，１Ｈ），４．７１（ｔ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，１Ｈ），４．４５（ｄｄ，Ｊ＝６．７，９．２Ｈｚ，１Ｈ）。
【０１３０】
工程５：化合物ＷＸ０２７の合成
ＷＸ０２７−５（８０．００ｍｇ，３３１．６２μｍｏｌ）、ＢＢ−１（７５．６１ｍｇ，３６４．７８μｍｏｌ）、ＥＤＣＩ（９５．３６ｍｇ，４９７．４３μｍｏｌ）およびＨＯＢｔ（６７．２１ｍｇ，４９７．４３μｍｏｌ）のＤＭＦ（３．００ｍＬ）溶液を、４０℃で４時間攪拌した。反応が完了した後、２５℃で系に１０ｍＬの水を添加し、酢酸エチル（１５ｍＬ×３）で抽出し、有機相を水（１５ｍＬ×３）およびブライン（１０ｍＬ×３）でそれぞれ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮した。残留物を薄層クロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタノール＝１５：１）で精製して、化合物ＷＸ０２７（６１．００ｍｇ，４２．８４％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６４（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），７．９８−７．８０（ｍ，２Ｈ），７．７１−７．５８（ｍ，３Ｈ），７．５３（ｓ．，１Ｈ），７．４３−７．２９（ｍ，２Ｈ），５．２８（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），４．８５（ｓ．，２Ｈ），３．８６（ｓ．，３Ｈ），２．４９−２．４９（ｍ，３Ｈ）。
【０１３１】
実施例６：ＷＸ１３１
【化５６】
2020504184.tif 000058
合成経路：
【化５７】
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【０１３２】
工程１：化合物ＷＸ１３１−２の合成
２５℃で、ＷＸ１３１−１（８０．００ｍｇ，３３１．６２μｍｏｌ）およびｔｅｒｔ−ブチルアクリレート（１５．３０ｇ，１１９．４０ｍｍｏｌ，１７．３９ｍＬ）のｔｅｒｔ−ブチルアルコール（１００．００ｍＬ）溶液に、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（１．６７ｇ，１４．９３ｍｍｏｌ，０．３ｅｑ．）を加え、系を１３０℃で４８時間攪拌した。反応が完了した後、系に１００ｍＬの水と１００ｍＬの酢酸エチルを添加し、有機層をブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して白色固体として化合物ＷＸ１３１−２（８．５０ｇ，５４．９１％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．５８（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４２−７．３７（ｍ，２Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），４．９１（ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，２Ｈ），１．４８（ｓ，９Ｈ）。
【０１３３】
工程２：化合物ＷＸ１３１−３の合成
化合物ＷＸ１３１−３の合成は、実施例３における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．６１（ｓ，１Ｈ），７．５７−７．５１（ｍ，１Ｈ），７．４６（ｓ，１Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），４．９３（ｓ，２Ｈ），１．４８（ｓ，９Ｈ），１．２８（ｓ，１２Ｈ）。
【０１３４】
工程３：化合物ＷＸ１３１−４の合成
化合物ＷＸ１３１−４の合成は、実施例３における工程２の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．５８（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１Ｈ），７．８１−７．７３（ｍ，２Ｈ），７．６９−７．６３（ｍ，１Ｈ），７．６１−７．５６（ｍ，１Ｈ），７．３６（ｓ，１Ｈ），７．１９（ｓ，１Ｈ），７．１３（ｄｄ，Ｊ＝４．９，７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．８６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），４．９４（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，２Ｈ），１．４７（ｓ，９Ｈ）。
【０１３５】
工程４：化合物ＷＸ１３１−５の合成
窒素ガス保護下、ＷＸ１３１−４（８２０．００ｍｇ，２．６５ｍｍｏｌ）のメタノール（１０．００ｍＬ）溶液にＰｄ／Ｃ（１０％，０．１ｇ）を加え、水素ガス雰囲気下、２５℃で系を１６時間攪拌した。反応が完了した後、濾過し、減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー（石油エーテル：酢酸エチル＝１５：１−５：１）で精製して化合物ＷＸ１３１−５（６００．００ｍｇ，７２．７２％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．６４−８．６０（ｍ，１Ｈ），７．７７（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７２−７．６６（ｍ，２Ｈ），７．６５−７．６１（ｍ，１Ｈ），７．１５（ｄｄｄ，Ｊ＝１．３，４．９，７．２Ｈｚ，１Ｈ），６．８９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），４．４３（ｄｄ，Ｊ＝３．３，１０．８Ｈｚ，１Ｈ），４．１５-４．１０（ｍ，１Ｈ），３．１０−３．０４（ｍ，２Ｈ），２．９８−２．９０（ｍ，１Ｈ），１．４６（ｓ，９Ｈ）。
【０１３６】
工程５：化合物ＷＸ１３１−６の合成
ＷＸ１３１−５（６００．００ｍｇ，１．９３ｍｍｏｌ）のギ酸（１０．００ｍＬ）溶液を２５℃で１２時間攪拌した。反応が完了した後、減圧下で濃縮し、残留物をカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタノール＝３０：１−１０：１）で精製して白色固体として化合物ＷＸ１３１−６（３９０．００ｍｇ，７９．１６％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．７５（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８３−７．７８（ｍ，２Ｈ），７．６８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６０（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｓ，１Ｈ），６．９４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），４．５３（ｄｄ，Ｊ＝３．５，１１．０Ｈｚ，１Ｈ），４．３０−４．２４（ｍ，１Ｈ），３．２７−３．２１（ｍ，２Ｈ），３．１７−３．０９（ｍ，１Ｈ）。
【０１３７】
工程６：化合物ＷＸ１３１の合成
ＷＸ１３１−６（５０．００ｍｇ，１９５．８７μｍｏｌ）、ＥＤＣＩ（４５．０６ｍｇ，２３５．０４μｍｏｌ）およびＨＯＢｔ（３１．７６ｍｇ，２３５．０４μｍｏｌ）のＤＭＦ（１．００ｍＬ）溶液を３０分間攪拌した。その後、ＢＢ−１（４８．７２ｍｇ，２３５．０４μｍｏｌ）を加え、系を２５℃で１２時間攪拌した。反応が完了した後、２５℃で、系に５ｍＬの水を添加し、酢酸エチル（２０ｍＬ×２）で抽出し、有機相をブライン（２０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー（石油エーテル：酢酸エチル＝１：１）で精製して化合物ＷＸ１３１（５０．００ｍｇ，５７．４３％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６１（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），７．９３（ｓ，１Ｈ），７．９０−７．８０（ｍ，３Ｈ），７．６６（ｓ，２Ｈ），７．３０−７．２５（ｍ，１Ｈ），６．９１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），４．５３（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝１０．３Ｈｚ，１Ｈ），４．１７−４．０９（ｍ，１Ｈ），３．７９（ｓ，３Ｈ），３．７６−３．６９（ｍ，１Ｈ），３．２１−３．１３（ｍ，１Ｈ），３．１２−３．０４（ｍ，１Ｈ）。
【０１３８】
実施例７：ＷＸ１３８
【化５８】
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合成経路：
【化５９】
2020504184.tif 000061
【０１３９】
工程１：化合物ＷＸ１３８−２の合成
ＷＸ１３８−１（３０．００ｍｇ，１１６．７０μｍｏｌ）およびＢＢ−１（２９．０２ｍｇ，１４０．０４μｍｏｌ）のＤＭＦ（１．００ｍＬ）溶液に、ＥＤＣＩ（２６．８４ｍｇ，１４０．０４μｍｏｌ）およびＨＯＢｔ（１８．９２ｍｇ，１４０．０４μ）を添加し、系を５０℃で８時間攪拌した。反応が完了した後、減圧下で濃縮して，系に１０ｍＬの水を添加し、ジクロロメタン（１０ｍＬ×２）で反応系を抽出し、有機相を減圧下で濃縮して白色固体として化合物ＷＸ１３８−２（４０．００ｍｇ，粗生成物）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．６９（ｓ，２Ｈ），７．３０（ｓ，１Ｈ），７．２６（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），５．５２（ｄｄ，Ｊ＝３．６，６．８Ｈｚ，１Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），２．９１−２．８０（ｍ，１Ｈ），２．７５−２．６５（ｍ，１Ｈ），２．２０（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１Ｈ），２．１５−２．０４（ｍ，１Ｈ）。
【０１４０】
工程２：化合物ＷＸ１３８の合成
化合物ＷＸ１３８の合成は、実施例５における工程３の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６１（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），７．９１−７．８０（ｍ，４Ｈ），７．６９（ｓ，２Ｈ），７．２９（ｓ，１Ｈ），６．９６（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），５．５８（ｄｄ，Ｊ＝３．５，７．３Ｈｚ，１Ｈ），３．７７（ｓ，３Ｈ），２．９５（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），２．８６−２．７６（ｍ，１Ｈ），２．３１−２．２５（ｍ，１Ｈ），２．２２−２．１１（ｍ，１Ｈ）。
【０１４１】
実施例８：ＷＸ１４１
【化６０】
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合成経路：
【化６１】
2020504184.tif 000063
【０１４２】
工程１：化合物ＷＸ１４１−２の合成
０℃で、水素化ナトリウム（１．４９ｇ，３７．３２ｍｍｏｌ，６０％純度）のテトラヒドロフラン（２０．００ｍＬ）溶液に、ＷＸ１４１−１（３．００ｇ，１２．４４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０．００ｍＬ）溶液を滴下し、１０分間撹拌して、さらに室温下で１０分間撹拌した後、炭酸ジメチル（６．７２ｇ，７４．６４ｍｍｏｌ，６．２８ｍＬ）を滴下し、系を室温で１時間撹拌し、そして４０℃で１時間攪拌した。反応が完了した後、系に１００ｍＬの１Ｍ塩酸を滴下し、酢酸エチル（１００ｍＬ×３）で抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して淡黄色固体として化合物ＷＸ１４１−２（２．２５ｇ，粗生成物）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１３．１３（ｓ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２８−７．２５（ｍ，１Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．３９（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），２．７２（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ）。
【０１４３】
工程２：化合物ＷＸ１４１−３の合成
ＷＸ１４１−２（７５．００ｍｇ，２５０．７４μｍｏｌ）のトリフルオロ酢酸（５．００ｍＬ）溶液にトリエチルシラン（１７４．９３ｍｇ，１．５０ｍｍｏｌ，２３９．６３μＬ）を加え、系を室温で１８時間反応させた。減圧下で濃縮し、残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して淡黄色油状物としてＷＸ１４１−３（２００．００ｍｇ，粗生成物）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．１８（ｓ，２Ｈ），７．１３（ｓ，１Ｈ），４．２６−４．１７（ｍ，１Ｈ），３．８４（ｄｄｄ，Ｊ＝２．８，８．７，１２．１Ｈｚ，１Ｈ），３．６１（ｓ，３Ｈ），３．０２−２．８４（ｍ，２Ｈ），２．７７−２．６５（ｍ，１Ｈ），２．１６−１．９８（ｍ，２Ｈ）。
【０１４４】
工程３：化合物ＷＸ１４１−４の合成
化合物ＷＸ１４１−４の合成は、実施例５における工程３の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６４（ｄ，Ｊ＝４．３Ｈｚ，１Ｈ），７．９７−７．９０（ｍ，１Ｈ），７．８８−７．８２（ｍ，１Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｓ，１Ｈ），７．３６−７．２９（ｍ，２Ｈ），４．３１−４．２０（ｍ，１Ｈ），３．８９−３．８１（ｍ，１Ｈ），３．６３（ｓ，３Ｈ），３．０７−２．９６（ｍ，２Ｈ），２．７５（ｔｄ，Ｊ＝４．２，８．８Ｈｚ，１Ｈ），２．１１（ｂｒ  ｄｄ，Ｊ＝８．０，１１．０Ｈｚ，２Ｈ）。
【０１４５】
工程４：化合物ＷＸ１４１−５の合成
ＷＸ１４１−４（８０．００ｍｇ，２８２．３７μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．５０ｍＬ）、水（１５０．００μＬ）およびメタノール（３００．００μＬ）溶液に水酸化リチウム（１３．５３ｍｇ，５６４．７４μｍｏｌ）を加え、系を室温で３時間攪拌した。反応が完了した後、１Ｍの塩酸で反応系を中性に調整し、酢酸エチル（１０ｍＬ×３）で抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮して淡黄色油状物として化合物ＷＸ１４１−５（７０．００ｍｇ，９２．０６％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６３（ｄ，Ｊ＝４．３Ｈｚ，１Ｈ），７．９３（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．８８−７．８２（ｍ，１Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｓ，１Ｈ），７．３５−７．３０（ｍ，２Ｈ），４．３０−４．２２（ｍ，１Ｈ），３．８９−３．７９（ｍ，１Ｈ），３．０８−２．９５（ｍ，２Ｈ），２．６５−２．５７（ｍ，１Ｈ），２．１７−２．０５（ｍ，２Ｈ）。
【０１４６】
工程５：化合物ＷＸ１４１の合成
化合物ＷＸ１４１の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．７７（ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ），８．２９−８．１６（ｍ，２Ｈ），７．７９−７．６３（ｍ，５Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），４．５５−４．４４（ｍ，１Ｈ），３．８７（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），３．７８−３．７７（ｍ，３Ｈ），３．３３（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），３．１４−３．００（ｍ，２Ｈ），２．５３（ｂｒ  ｓ，３Ｈ），２．２２−２．０６（ｍ，２Ｈ）。
【０１４７】
実施例９：ＷＸ０４３
【化６２】
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合成経路：
【化６３】
2020504184.tif 000065
【０１４８】
工程１：化合物ＷＸ０４３−２の合成
ＷＸ０４３−１（３０．００ｇ，１６２．１１ｍｍｏｌ）の四塩化炭素（４００．００ｍ）溶液に、ＮＢＳ（５７．７０ｇ，３２４．２２ｍｍｏｌ）およびＡＩＢＮ（５．３２ｇ，３２．４２ｍｍｏｌ）を加え、系を８０℃で２時間攪拌した。反応が完了した後、減圧下で濃縮し、残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して無色油状物として化合物ＷＸ０４３−２（３７．００ｇ，粗生成物）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．５５（ｓ，１Ｈ），７．４７−７．４５（ｍ，１Ｈ），７．２８−７．２５（ｍ，１Ｈ），４．６２（ｓ，２Ｈ），４．６０（ｓ，２Ｈ）。
【０１４９】
工程２：化合物ＷＸ０４３−３の合成
エタノール（１４４．００ｍＬ）およびテトラヒドロフラン（４３２．００ｍＬ）溶液に、水素化ナトリウムをゆっくり加え、室温で５分間攪拌した後、系にマロン酸ジエチル（１８．２２ｇ，１１３．７５ｍｍｏｌ）およびＷＸ０４３−２（３９．００ｇ，１１３．７５ｍｍｏｌ）を添加し、系を室温で３０分間攪拌した。反応が完了した後、水を加えて反応をクエンチし、減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して無色油状物として化合物ＷＸ０４３−３（２１．００ｇ，粗生成物）を得た。
【０１５０】
工程３：化合物ＷＸ０４３−４の合成
ＷＸ０４３−３（１０．００ｇ，２９．３１ｍｍｏｌ）の水（１０．００ｍＬ）およびＤＭＳＯ（１００．００ｍＬ）溶液に、塩化リチウム（７．４５ｇ，１７５．８６ｍｍｏｌ）を加え、系を１６０℃で４時間攪拌した。反応が完了した後、１００ｍＬの水を添加し、系を酢酸エチル（５０ｍＬｘ５）で抽出し、有機層を重炭酸ナトリウム水溶液（５０ｍＬｘ２）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー（石油エーテル：酢酸エチル＝１０：１）で精製して、黄色油状物として化合物ＷＸ０４３−４（３．５ｇ，粗生成物）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．４０（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），４．０７（ｔ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，２Ｈ），３．４２−３．３５（ｍ，１Ｈ），３．１６−３．０４（ｍ，４Ｈ），１．１８（ｔ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，３Ｈ）。
【０１５１】
工程４：化合物ＷＸ０４３−５の合成
化合物ＷＸ０４３−５の合成は、実施例５における工程３の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６２（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），７．９２−７．８１（ｍ，４Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），４．０９（ｑ，Ｊ１＝１８．０Ｈｚ，Ｊ２＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．４０−３．２３（ｍ，１Ｈ），３．２１−３．１５（ｍ，４Ｈ），１．２０（ｔ，Ｊ＝１４．４Ｈｚ，３Ｈ）。
【０１５２】
工程５：化合物ＷＸ０４３−６の合成
化合物ＷＸ０４３−６の合成は、実施例５における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６３（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），７．９４−７．８３（ｍ，４Ｈ），７．３４−７．３１（ｍ，２Ｈ），３．３１０−３．００（ｍ，１Ｈ），３．２２−３．１６（ｍ，４Ｈ）。
【０１５３】
工程６：化合物ＷＸ０４３の合成
化合物ＷＸ０４３の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６５（ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ），７．９５−７．８４（ｍ，４Ｈ），７．３６−７．３２（ｍ，２Ｈ），４．１２−４．０６（ｍ，１Ｈ），３．７８（ｓ，３Ｈ），３．４４−３．３９（ｍ，２Ｈ），３．３０−３．２７（ｍ，２Ｈ），３．２５（ｓ，３Ｈ），２．２４−２．１９（ｍ，１Ｈ），０．５５−０．５２（ｍ，２Ｈ），０．４４−０．４３（ｍ，２Ｈ）。
【０１５４】
実施例１０：ＷＸ０７２
【化６４】
2020504184.tif 000066
合成経路：
【化６５】
2020504184.tif 000067
【０１５５】
工程１：化合物ＷＸ０７２−２の合成
エタノール（１０．００ｍＬ）およびテトラヒドロフラン（３０．００ｍＬ）溶液に、水素化ナトリウム（４．９２ｇ，１２３．０８ｍｍｏｌ）（６０％）をゆっくり加え、さらに１５℃で５分間攪拌した後、反応系にマロン酸ジエチル（９．３４ｇ，５８．３３ｍｍｏｌ）およびＷＸ０７２−１（２０．００ｇ，５８．３３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０．００ｍＬ）溶液を添加し、１５℃で系を５５分間攪拌した。反応が完了した後、１００ｍＬの塩化アンモニウム溶液を加えて反応をクエンチし、系を酢酸エチル（５００ｍＬｘ３）で抽出し、有機層をブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して黄色油状物として化合物ＷＸ０７２−２（１２．００ｇ，６０．２９％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．４０−７．３１（ｍ，２Ｈ），７．１４−７．０２（ｍ，１Ｈ），４．２７−４．２０（ｍ，４Ｈ），３．７２−３．２７（ｍ，４Ｈ），１．３７−１．２２（ｍ，６Ｈ）。
【０１５６】
工程２：化合物ＷＸ０７２−３の合成
化合物ＷＸ０７２−３の合成は、実施例５における工程３の合成方法を参照する。
【０１５７】
工程３：化合物ＷＸ０７２−４の合成
化合物ＷＸ０７２−４の合成は、実施例５における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．５８−８．７０（ｍ，１Ｈ），７．６９−７．９５（ｍ，４Ｈ），７．０７−７．４２（ｍ，２Ｈ），３．９６−４．０７（ｍ，２Ｈ），３．３５−３．５４（ｍ，４Ｈ），１．１６（ｔ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，３Ｈ）。
【０１５８】
工程４：化合物ＷＸ０７２−５の合成
１５℃で、ＷＸ０７２−４（２．５０ｇ，８．０３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０．００ｍ）および２−プロパノール（３０．００ｍＬ）溶液に、水素化ホウ素リチウム（３４９．７９ｍｇ，１６．０６ｍｍｏｌ）を加え、系を１５℃で１６時間攪拌した。反応が完了した後、１Ｍの塩酸で反応系をｐＨ＝４に調整し、その後、炭酸カリウム溶液で中性に調整し、減圧下で濃縮した。残留物をジクロロメタン：メタノール＝１０：１（１Ｌ）に溶解させ、沈殿物を濾別し、濾液を濃縮して黄色固体として化合物ＷＸ０７２−５（２．００ｇ，９２．４９％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＭＥＴＨＡＮＯＬ−ｄ４）δ８．７８（ｄ，Ｊ＝５．５２Ｈｚ，１Ｈ），８．５９−８．５１（ｍ，１Ｈ），８．３０（ｄ，Ｊ＝８．０３Ｈｚ，１Ｈ），７．９２（ｔ，Ｊ＝６．７８Ｈｚ，１Ｈ），７．８５−７．８０（ｍ，１Ｈ），７．７７（ｄ，Ｊ＝８．０３Ｈｚ，１Ｈ），７．５５−７．４６（ｍ，１Ｈ），３．８１−３．７４（ｍ，２Ｈ），３．５６−３．４７（ｍ，２Ｈ），３．１８（ｄｄ，Ｊ＝１６．８１，７．７８Ｈｚ，２Ｈ）。
【０１５９】
工程５：化合物ＷＸ０７２−６の合成
０℃で、ＷＸ０７２−５（２．００ｇ，７．４３ｍｍｏｌ）のピリジン（３０．００ｍ）溶液に塩化アセチル（２．６５ｍＬ，３７．１３ｍｍｏｌ）を加え、系を１５℃で１６時間攪拌した。反応が完了した後、系を１Ｍの塩酸でｐＨ＝６に調整し、ジクロロメタン（５００ｍＬ×３）で反応液を抽出し、有機相を合わせ、３００ｍＬのブラインおよび３００ｍＬの水でそれぞれ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮して褐色油状物として化合物ＷＸ０７２−６（２．３０ｇ，粗生成物）を得た。
【０１６０】
工程６：化合物ＷＸ０７２の合成
化合物ＷＸ０７２の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６３（ｄ，Ｊ＝４．２７Ｈｚ，１Ｈ），７．８２−７．９９（ｍ，４Ｈ），７．６５（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），７．２９−７．３９（ｍ，２Ｈ），４．３０（ｓ，２Ｈ），３．６３−３．７１（ｍ，５Ｈ），３．３６（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．４３−２．４７（ｍ，３Ｈ），１．９４（ｓ，３Ｈ）。
【０１６１】
実施例１１：ＷＸ０７３
【化６６】
2020504184.tif 000068
合成経路：
【化６７】
2020504184.tif 000069
【０１６２】
工程１：化合物ＷＸ０７３の合成
ＷＸ０７２（５０．００ｍｇ，９９．８８μｍｏｌ）の塩酸（６Ｍ，３．００ｍＬ）溶液を１５℃で１時間攪拌した。反応が完了した後、重炭酸ナトリウム溶液で系をｐＨ＝７に調整し、ジクロロメタン（１００ｍＬ×３）で反応液を抽出し、有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮した。残留物を分取クロマトグラフィーにより精製して化合物ＷＸ０７３（６．００ｍｇ，１３．１０％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６５（ｄ，Ｊ＝４．０２Ｈｚ，１Ｈ），７．８３−８．００（ｍ，４Ｈ），７．６５（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），７．３０−７．４０（ｍ，２Ｈ），５．３１−５．４１（ｍ，１Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．６７（ｄ，Ｊ＝５．０２Ｈｚ，２Ｈ），３．５８−３．６５（ｍ，２Ｈ），３．２７（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．５４−２．５８（ｍ，３Ｈ）。
【０１６３】
実施例１２：ＷＸ０７４
【化６８】
2020504184.tif 000070
合成経路：
【化６９】
2020504184.tif 000071
【０１６４】
工程１：化合物ＷＸ０７４−２の合成
窒素ガス保護下、−７８℃で、ＷＸ０７４−１（１．００ｇ，３．９５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０．００ｍＬ）溶液にＬＤＡ（２Ｍ，２．９６ｍＬ）を滴下し、−７８℃で１時間攪拌した後、系にヨウ化メチル（２．８０ｇ，１９．７４ｍｍｏｌ）を加え、該温度でさらに２時間攪拌した。反応が完了した後、０℃で１０ｍＬの水を加えて反応をクエンチし、反応液を酢酸エチル（１５ｍＬ×３）で抽出し、有機相を１５ｍＬのブラインで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥させ、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して白色固体として化合物ＷＸ０７４−２（６００．００ｍｇ，５６．８２％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．６７（ｍ，１Ｈ），７．８５（ｓ，１Ｈ），７．７７−７．６９（ｍ，３Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２１（ｍ，１Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），３．５３（ｄｄ，Ｊ＝３．０，１６．１Ｈｚ，２Ｈ），２．８８（ｔ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ，２Ｈ），１．３９（ｓ，３Ｈ）。
【０１６５】
工程２：化合物ＷＸ０７４−３の合成
化合物ＷＸ０７４−３の合成は、実施例５における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．７０（ｄ，Ｊ＝４．０２Ｈｚ，１Ｈ），７．８３（ｓ，１Ｈ），７．６７−７．７８（ｍ，３Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝７．７８Ｈｚ，１Ｈ），７．１９−７．２５（ｍ，１Ｈ），３．４９−３．６１（ｍ，２Ｈ），２．８１−２．９６（ｍ，２Ｈ），１．３６−１．４６（ｍ，３Ｈ）。
【０１６６】
工程３：化合物ＷＸ０７４の合成
化合物ＷＸ０７４の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６１−８．６７（ｍ，１Ｈ），７．９８（ｓ，１Ｈ），７．９２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），７．８３−７．８９（ｍ，１Ｈ），７．６５（ｓ，２Ｈ），７．３５−７．４０（ｍ，１Ｈ），７．２９−７．３５（ｍ，１Ｈ），３．７１（ｓ，５Ｈ），３．０６−３．１７（ｍ，２Ｈ），２．４８−２．４９（ｍ，３Ｈ），１．４４（ｓ，３Ｈ）。
【０１６７】
実施例１３：ＷＸ１２９
【化７０】
2020504184.tif 000072
合成経路：
【化７１】
2020504184.tif 000073
【０１６８】
工程１：化合物ＷＸ１２９−２の合成
化合物ＷＸ１２９−２の合成は、実施例３における工程２の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．９０（ｓ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６１（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３３−７．２６（ｍ，２Ｈ），６．６７（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），４．０７−３．９８（ｍ，３Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．４６−３．２１（ｍ，５Ｈ）。
【０１６９】
工程２：化合物ＷＸ１２９−３の合成
化合物ＷＸ１２９−３の合成は、実施例８における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．８１（ｓ，１Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５３（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２４−７．１７（ｍ，２Ｈ），６．５９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．３９−３．１５（ｍ，５Ｈ）。
【０１７０】
工程３：化合物ＷＸ１２９の合成
化合物ＷＸ１２９の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．９８（ｓ，１Ｈ），７．９２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７７（ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｓ，２Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），６．７６（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），４．１６−４．０４（ｍ，１Ｈ），３．９６（ｓ，３Ｈ），３．７７（ｓ，３Ｈ），３．４０−３．２２（ｍ，４Ｈ）。
【０１７１】
実施例１４：ＷＸ１５６
【化７２】
2020504184.tif 000074
合成経路：
【化７３】
2020504184.tif 000075
【０１７２】
工程１：化合物ＷＸ１５６−２の合成
０℃で、ＷＸ１５６−１（５．００ｇ，１９．６０ｍｍｏｌ）の硫酸（４０．００ｍＬ）溶液に、５分間をかけて硝酸（２．０９ｇ，２１．５６ｍｍｏｌ，１．４９ｍＬ）および硫酸（３．６９ｇ，３６．８５ｍｍｏｌ，２．００ｍＬ，９８％純度）をゆっくりと加え、−７８℃で１時間攪拌した後、系にヨウ化メチル（２．８０ｇ，１９．７４ｍｍｏｌ）を添加し、該温度でさらに２５分間攪拌した。反応が完了した後、反応液を３００ｍＬの氷水に注ぎ、酢酸エチル（３００ｍＬ×３）で反応液を抽出し、有機相を２５０ｍＬの重炭酸ナトリウム水溶液および２５０ｍＬのブラインでそれぞれ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥させ、濾過し、濃縮して化合物ＷＸ１５６−２（５．２５ｇ，粗生成物）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．６２（ｓ，１Ｈ），７．４８（ｓ，１Ｈ），３．６３（ｂｒ  ｓ，３Ｈ），３．４０−３．１８（ｍ，５Ｈ）。
【０１７３】
工程２：化合物ＷＸ１５６−３の合成
ＷＸ１５６−２（５．２０ｇ，１７．３３ｍｍｏｌ）おいび鉄（４．８４ｇ，８６．６５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３２．００ｍＬ）溶液に、メタノール（８．００ｍＬ）および水（８．００ｍＬ）を添加した後、塩化アンモニウム（２．３２ｇ，４３．３３ｍｍｏｌ）を加えた。反応が完了した後、２００ｍＬの水を添加し、酢酸エチル（２００ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥させ、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して無色液体として化合物ＷＸ１５６−３（３．１５ｇ，６７．２９％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．６２（ｓ，１Ｈ），７．４８（ｓ，１Ｈ），３．６３（ｂｒ  ｓ，３Ｈ），３．４０−３．１８（ｍ，５Ｈ）。
【０１７４】
工程３：化合物ＷＸ１５６−４の合成
ＷＸ１５６−３（５．２０ｇ，１７．３３ｍｍｏｌ）、亜硝酸ｔｅｒｔ−ブチル（２７４．８６ｍｇ，２．６７ｍｍｏｌ，３１５．９４μＬ）および塩化第二鉄（３５８．３７ｍｇ，２．６７ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（５．００ｍＬ）溶液を１５℃から６０℃に加熱し、この温度で１時間攪拌した。６０ｍＬの水を添加し、酢酸エチル（６０ｍＬ×３）で抽出し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して白色固体として化合物ＷＸ１５６−４（２４５．００ｍｇ，６３．６２％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．４５（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｓ，１Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），３．４１−３．３１（ｍ，１Ｈ），３．２５−３．１３（ｍ，４Ｈ）。
【０１７５】
工程４：化合物ＷＸ１５６−５の合成
化合物ＷＸ１５６−５の合成は、実施例５における工程３の合成方法を参照する。
【０１７６】
工程５：化合物ＷＸ１５６−６の合成
化合物ＷＸ１５６−６の合成は、実施例８における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．６４（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６９（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．５８（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．２４（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，２Ｈ），１．５３（ｓ，１Ｈ），１．２８−１．２０（ｍ，４Ｈ）。
【０１７７】
工程６：化合物ＷＸ１５６の合成
化合物ＷＸ１５６の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．７９（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），８．１９（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．８４（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｂｒ  ｓ，３Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，２Ｈ），４．１８−４．０６（ｍ，１Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），３．４４−３．２０（ｍ，４Ｈ），２．４７（ｂｒ  ｓ，３Ｈ）。
【０１７８】
実施例１５：ＷＸ１３０
【化７４】
2020504184.tif 000076
合成経路：
【化７５】
2020504184.tif 000077
【０１７９】
工程１：化合物ＷＸ１３６−２の合成
化合物ＷＸ１３６−２の合成は、実施例３における工程２の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．７８−７．７４（ｍ，２Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｓ，１Ｈ），３．６７（ｓ，３Ｈ），３．３７−３．１３（ｍ，５Ｈ）。
【０１８０】
工程２：化合物ＷＸ１３６−３の合成
化合物ＷＸ１３６−３の合成は、実施例８における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．７８（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），７．６９（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．１８（ｍ，２Ｈ），３．４１−３．１７（ｍ，５Ｈ）。
【０１８１】
工程３：化合物ＷＸ１３６の合成
化合物ＷＸ１３６の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．９０（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ），７．８０−７．７３（ｍ，２Ｈ），７．６５（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），４．１０（ｑｕｉｎ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．４５−３．２２（ｍ，４Ｈ），２．４９（ｂｒ  ｓ，３Ｈ）。
【０１８２】
実施例１６：ＷＸ１４２
【化７６】
2020504184.tif 000078
合成経路：
【化７７】
2020504184.tif 000079
【０１８３】
工程１：化合物ＷＸ１４２−２の合成
０℃で、ＷＸ１４２−１（１．００ｇ，５．７８ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（３０．００ｍＬ）溶液に、パラホルムアルデヒド（３．４７ｇ，１１５．６０ｍｍｏｌ，３．１８ｍＬ）およびシアノ水素化ホウ素ナトリウム（１．０９ｇ，１７．３４ｍｍｏｌ）を加え、この温度でさらに反応系を１０分間撹拌した後、酢酸（２．０８ｇ，３４．６８ｍｍｏｌ，１．９８ｍＬ）を滴下した。反応が完了した後、濾過し、濾液に１５０ｍＬの水を添加し、酢酸エチル（１５０ｍＬ×３）で抽出し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して無色液体として化合物ＷＸ１４２−２（１．０２ｇ，５．０７ｍｍｏｌ，８７．７７％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．１７（ｄｄ，Ｊ＝７．５，８．３Ｈｚ，１Ｈ），６．５９（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．３０（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），２．９９（ｓ，６Ｈ）。
【０１８４】
工程２：化合物ＷＸ１４２−３の合成
化合物ＷＸ１４２−３の合成は、実施例３における工程２の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．８１（ｓ，１Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４２（ｄｄ，Ｊ＝７．５，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２１−７．１６（ｍ，１Ｈ），６．９２（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．３９（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），３．６７（ｓ，３Ｈ），３．３５−３．１３（ｍ，５Ｈ），３．０９−３．０８（ｍ，１Ｈ），３．０８（ｓ，７Ｈ）。
【０１８５】
工程３：化合物ＷＸ１４２−４の合成
化合物ＷＸ１４２−４の合成は、実施例８における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．８１（ｓ，１Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４２（ｄｄ，Ｊ＝７．５，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．１９−７．１７（ｍ，１Ｈ），６．９１（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．３８（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），３．３９−３．１５（ｍ，５Ｈ），３．０８（ｓ，６Ｈ）。
【０１８６】
工程４：化合物ＷＸ１４２の合成
化合物ＷＸ１４２の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．１５（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．８８−７．７４（ｍ，２Ｈ），７．７１（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．９４（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），４．１７−４．０１（ｍ，１Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．４５−３．２４（ｍ，４Ｈ），３．２０（ｓ，６Ｈ），２．４８（ｂｒ  ｓ，３Ｈ），２．１８（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），０．５５−０．３４（ｍ，４Ｈ）。
【０１８７】
実施例１７：ＷＸ１３３
【化７８】
2020504184.tif 000080
合成経路：
【化７９】
2020504184.tif 000081
【０１８８】
工程１：化合物ＷＸ１３３−２の合成
０℃で、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（５．９８ｇ，５３．３０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１３．００ｍＬ）およびトルエン（３７．００ｍＬ）溶液に、ＷＸ１３３−１（５．００ｇ，２２．２１ｍｍｏｌ）および二硫化炭素（１．６９ｇ，２２．２１ｍｍｏｌ，１．３４ｍＬ）のトルエン（１０．００ｍＬ）溶液を滴下し、系を室温で４時間攪拌した後、ヨウ化メチル（６．６２ｇ，４６．６４ｍｍｏｌ，２．９０ｍＬ）を加え、反応液を室温で１８時間攪拌した。反応が完了した後、１００ｍＬの水を添加し、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（１００ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、ブライン（２５ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥させ、濾過し、濃縮して黄色固体として化合物ＷＸ１３３−２（４．４０ｇ，６０．１５％収率）を得た。
【０１８９】
工程２：化合物ＷＸ１３３−３の合成
ＷＸ１３３−２（４．４０ｇ，１３．３６ｍｍｏｌ）のメタノール（５０．００ｍＬ）溶液に、水素化ホウ素ナトリウム（１．０１ｇ，２６．７２ｍｍｏｌ）およびＢＦ３・Ｅｔ２Ｏ（３４．１３ｇ，２４０．４８ｍｍｏｌ，２９．６８ｍＬ）を加え、系を２５−５０℃で１６時間攪拌した。反応が完了した後、５０ｍＬの水を添加し、酢酸エチル（１００ｍＬ×２）で抽出し、有機相を合わせ、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥させ、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー（石油エーテル：酢酸エチル＝１：０−２：１）で精製して、白色固体として化合物ＷＸ１３３−３（３．１０ｇ，８６．８７％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．６１（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．５１（ｓ，１Ｈ），７．４５（ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），２．８３−２．７４（ｍ，２Ｈ），２．５５−２．４５（ｍ，２Ｈ）。
【０１９０】
工程３：化合物ＷＸ１３３−４の合成
化合物ＷＸ１３３−４の合成は、実施例３における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．６２−７．５３（ｍ，３Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），２．８５（ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），１．３０（ｓ，１２Ｈ）。
【０１９１】
工程４：化合物ＷＸ１３３−５の合成
化合物ＷＸ１３３−５の合成は、実施例３における工程２の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６３（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），８．０４（ｓ，１Ｈ），８．０２−７．９７（ｍ，１Ｈ），７．９５−７．９０（ｍ，１Ｈ），７．８８−７．８２（ｍ，１Ｈ），７．６１（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．３２（ｂｒ  ｄｄ，Ｊ＝３．５，７．３Ｈｚ，２Ｈ），３．７６−３．７２（ｍ，３Ｈ），２．９１−２．８２（ｍ，２Ｈ），２．５６−２．５１（ｍ，２Ｈ）。
【０１９２】
工程５：化合物ＷＸ１３３−６の合成
化合物ＷＸ１３３−６の合成は、実施例５における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ１２．４９（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），８．６７（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０４（ｓ，１Ｈ），８．０１（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．９９−７．９５（ｍ，１Ｈ），７．９０（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ），７．５９（ｓ，１Ｈ），７．３８−７．３３（ｍ，２Ｈ），２．８８（ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），２．５（ｍ，２Ｈ）。
【０１９３】
工程６：化合物ＷＸ１３３−７の合成
窒素ガス保護下、ＷＸ１３３−６（１００．００ｍｇ，３９７．９６μｍｏｌ）のメタノール（１０．００ｍＬ）溶液にＰｄ／Ｃ（１０％，１０ｍｇ）を加え、系を水素ガスで数回パージし、２５℃で５時間攪拌した。反応が完了した後、濾過し、濃縮して、残留物をカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタノール＝１００：１−２０：１）で精製して白色固体として化合物ＷＸ１３３−７（４８．００ｍｇ）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ１２．３２（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），８．６４（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），７．９４−７．９０（ｍ，１Ｈ），７．８８−７．７９（ｍ，３Ｈ），７．３６−７．２８（ｍ，１Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），３．０９−３．０１（ｍ，１Ｈ），２．９４（ｓ，１Ｈ），２．９１−２．８０（ｍ，３Ｈ），２．７５−２．６６（ｍ，２Ｈ），２．１２（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），１．８５−１．７２（ｍ，１Ｈ）。
【０１９４】
工程７：化合物ＷＸ１３３−８の合成
化合物ＷＸ１３３の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６５（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），７．９５−７．９１（ｍ，１Ｈ），７．８８（ｓ，１Ｈ），７．８５（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．８９−７．８２（ｍ，１Ｈ），７．６５（ｓ，２Ｈ），７．３６−７．３０（ｍ，１Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），３．７７（ｓ，３Ｈ），３．５３−３．４２（ｍ，１Ｈ），３．１０−２．８９（ｍ，１Ｈ），３．１０−２．８９（ｍ，１Ｈ），３．１４−２．８６（ｍ，２Ｈ），２．９７（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），２．６８（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），２．７０−２．６５（ｍ，１Ｈ），２．３４（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），２．２１−２．１３（ｍ，１Ｈ），１．８１（ｂｒ  ｄｄ，Ｊ＝５．２，１１．６Ｈｚ，１Ｈ），１．２４（ｓ，１Ｈ）。
【０１９５】
実施例１８：ＷＸ１４４
【化８０】
2020504184.tif 000082
合成経路：
【化８１】
2020504184.tif 000083
【０１９６】
工程１：化合物ＷＸ１４４−２の合成
室温で、ＷＸ１４４−１（５００．００ｍｇ，１．６５ｍｍｏｌ）のエタノール／水（２：１，９．００ｍＬ）溶液にｍ−クロロペルオキシ安息香酸（２９８．９８ｍｇ，１．７３ｍｍｏｌ）を加え、系を２５℃で２時間攪拌した。反応が完了した後、５０ｍＬの水を添加し、酢酸エチル（５０ｍＬ×２）で抽出し、有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥させ、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して白色固体として化合物ＷＸ１４４−２（２３１．００ｍｇ，７２．７３％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．０６（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），６．７１（ｓ，１Ｈ），６．６６（ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．０Ｈｚ，１Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．４２−３．３１（ｍ，１Ｈ），３．２９−３．０８（ｍ，４Ｈ）。
【０１９７】
工程２：化合物ＷＸ１４４−３の合成
室温で、ＷＸ１４４−２（１４０．００ｍｇ，７２８．３７μｍｏｌ）のＤＭＦ（２．００ｍＬ）溶液に、２−フルオロピリジン（７７．７９ｍｇ，８０１．２１μｍｏｌ，６８．８４μＬ）および炭酸カリウム（２０１．３４ｍｇ，１．４６ｍｍｏｌ）を添加し、マイクロ波により１２０℃で系を２時間反応させた。反応が完了した後、１５ｍＬの水を添加し、酢酸エチル（１５ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥させ、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して化合物ＷＸ１４４−３（６５．００ｍｇ，２１．１１％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．１９（ｄｄ，Ｊ＝１．３，５．０Ｈｚ，１Ｈ），７．７０−７．６４（ｍ，１Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．００−６．８７（ｍ，４Ｈ），３．７４（ｓ，３Ｈ），３．４５−３．３４（ｍ，１Ｈ），３．３０−３．１３（ｍ，４Ｈ）。
【０１９８】
工程３：化合物ＷＸ１４４−４の合成
化合物ＷＸ１４４−４の合成は、実施例８における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．１８（ｄｄ，Ｊ＝１．５，５．０Ｈｚ，１Ｈ），７．７３−７．６３（ｍ，１Ｈ），７．２０（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０１−６．８５（ｍ，４Ｈ），３．４４−３．３３（ｍ，１Ｈ），３．２８−３．１９（ｍ，４Ｈ）。
【０１９９】
工程４：化合物ＷＸ１４４の合成
化合物ＷＸ１４４の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．１２（ｄｄ，Ｊ＝１．３，５．０Ｈｚ，１Ｈ），７．８６−７．７８（ｍ，１Ｈ），７．６４（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０９（ｄｄ，Ｊ＝５．０，６．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０１−６．９５（ｍ，２Ｈ），６．８９（ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．０Ｈｚ，１Ｈ），４．０８（ｑｕｉｎ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），３．３５−３．１４（ｍ，４Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ）。
【０２００】
実施例１９：ＷＸ０１７およびＷＸ０１８
【化８２】
2020504184.tif 000084
合成経路：
【化８３】
2020504184.tif 000085
【０２０１】
工程１：化合物ＷＸ０１７−２の合成
５℃で、ＷＸ０１７−１（５．００ｇ，２３．６９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１００．００ｍＬ）溶液に、エタノール（３．２７ｇ，７１．０７ｍｍｏｌ）およびＴｏｓＭＩＣ（９．２５ｇ，４７．３８ｍｍｏｌ）を加えた後、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（９．３０ｇ，８２．９２ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温し、さらに２時間攪拌した。反応が完了した後、２０ｍＬの水を添加し、１Ｍの塩酸でｐＨ＝６に調整し、酢酸エチル（２０ｍＬ×２）で抽出し、５０ｍＬのブラインで有機層を洗浄し、有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥させ、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して化合物ＷＸ０１７−２（１．８０ｇ，３１．８２％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．３７−７．４５（ｍ，１Ｈ），７．３１（ｓ，１Ｈ），４．０６（ｔ，Ｊ＝８．２８Ｈｚ，１Ｈ），３．０２−３．１５（ｍ，１Ｈ），２．８９−３．０１（ｍ，１Ｈ），２．５３−２．７４（ｍ，１Ｈ），２．３５−２．４４（ｍ，１Ｈ）。
【０２０２】
工程２：化合物ＷＸ０１７−３の合成
ＷＸ０１７−２（１．８０ｇ，８．１１ｍｍｏｌ）の塩酸メタノール（４Ｍ，３０．０１ｍＬ）溶液を８０℃で１６時間反応させた。反応が完了した後、減圧下で濃縮して、５０ｍＬのジクロロメタンを添加し、５０ｍＬのブラインで溶液を洗浄し、無水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥させ、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して化合物ＷＸ０１７−３（１．８０ｇ，８０．９１％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．４０（ｓ，１Ｈ），７．３１−７．３５（ｍ，１Ｈ），７．２５−７．２９（ｍ，１Ｈ），３．９９−４．０７（ｍ，１Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．０４−３．１５（ｍ，１Ｈ），２．９２（ｄｔ，Ｊ＝１５．８１，７．６５Ｈｚ，１Ｈ），２．４３−２．５１（ｍ，１Ｈ），２．３２−２．４１（ｍ，１Ｈ）。
【０２０３】
工程３：化合物ＷＸ０１７−４の合成
化合物ＷＸ０１７−４の合成は、実施例５における工程３の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．６８（ｄ，Ｊ＝４．５２Ｈｚ，１Ｈ），７．８９（ｓ，１Ｈ），７．７９（ｄ，Ｊ＝８．０３Ｈｚ，１Ｈ），７．６８−７．７６（ｍ，２Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝８．０３Ｈｚ，１Ｈ），７．１８−７．２５（ｍ，１Ｈ），４．１１（ｔ，Ｊ＝７．２８Ｈｚ，１Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．１３−３．２２（ｍ，１Ｈ），２．９４−３．０５（ｍ，１Ｈ），２．４６−２．５５（ｍ，１Ｈ），２．３５−２．４４（ｍ，１Ｈ）。
【０２０４】
工程４：化合物ＷＸ０１７−５の合成
化合物ＷＸ０１７−５の合成は、実施例５における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＭＥＴＨＡＮＯＬ−ｄ４）δ８．６０（ｄ，Ｊ＝４．５２Ｈｚ，１Ｈ），７．８８−７．９４（ｍ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝１１．５４Ｈｚ，２Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝８．０３Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｄ，Ｊ＝８．０３Ｈｚ，１Ｈ），７．３４−７．４０（ｍ，１Ｈ），４．１０（ｔ，Ｊ＝７．５３Ｈｚ，１Ｈ），３．１１−３．２２（ｍ，１Ｈ），２．９５−３．０７（ｍ，１Ｈ），２．３６−２．５１（ｍ，２Ｈ）。
【０２０５】
工程５：化合物ＷＸ０１７−６の合成
化合物ＷＸ０１７−６の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６４（ｄ，Ｊ＝３．７６Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ），７．８３−７．９５（ｍ，３Ｈ），７．６４（ｓ，２Ｈ），７．２７−７．３７（ｍ，２Ｈ），４．８６（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），２．９７−３．１０（ｍ，２Ｈ），２．５３（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），２．４６−２．４９（ｍ，３Ｈ），２．２８（ｄｄ，Ｊ＝１２．１７，７．６５Ｈｚ，１Ｈ）。
【０２０６】
工程６：化合物ＷＸ０１７およびＷＸ０１８の合成
室温で、ＷＸ０１７−６（３００．００ｍｇ，７００．０７μｍｏｌ）のメタノール（１０ｍＬ）溶液に、塩酸メタノール（４Ｍ，３５０．０４μＬ）を加え、系を１０分間撹拌し、減圧下で濃縮した。残留物を超臨界流体クロマトグラフィー（分離条件：カラム：ＡＳ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ，５ｕｍ）；移動相：［０．１％ＮＨ３Ｈ２ＯＭｅＯＨ］；Ｂ％：４０％−４０％）によりキラル分割を行い、回転異性体ＷＸ０１７およびＷＸ０１８を得た（保持時間はそれぞれ７．５ｍｉｎ、８．７ｍｉｎである）。化合物ＷＸ０１７（６５．００ｍｇ，２１．０２％収率）：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６４（ｄ，Ｊ＝３．７６Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ），２．２３−２．３３（ｍ，１Ｈ）７．８３−７．９４（ｍ，３Ｈ），７．６４（ｓ，２Ｈ），７．２７−７．３５（ｍ，２Ｈ），４．８６（ｔ，Ｊ＝７．６５Ｈｚ，１Ｈ），３．３２（ｓ，３Ｈ），２．９５−３．１４（ｍ，２Ｈ），２．５４（ｄ，Ｊ＝８．０３Ｈｚ，１Ｈ），２．４４−２．４９（ｍ，３Ｈ）。化合物ＷＸ０１８（６０．９０ｍｇ，１９．８９％収率）：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６６（ｄ，Ｊ＝４．０２Ｈｚ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），７．９６（ｍ，３Ｈ），７．６５（ｓ，２Ｈ），７．３４（ｍ，２Ｈ），４．８９（ｔ，Ｊ＝７．７８Ｈｚ，１Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），２．９７−３．１７（ｍ，２Ｈ），２．５９（ｍ，１Ｈ），２．５２−２．５４（ｍ，３Ｈ），２．３１（ｍ，１Ｈ）。
【０２０７】
実施例２０：ＷＸ０３０およびＷＸ０３１
【化８４】
2020504184.tif 000086
合成経路：
【化８５】
2020504184.tif 000087
【０２０８】
工程１：化合物ＷＸ０２９−２の合成
２０℃で、ＷＸ０２９−１（３．７０ｇ，１６．４４ｍｍｏｌ）およびＴＭＳＣＮ（１６．３１ｇ，１６４．３９ｍｍｏｌ）の溶液にヨウ化亜鉛（１．５７ｇ，４．９３ｍｍｏｌ）を加え、系をさらに１６時間攪拌した。反応が完了した後、５０ｍＬの酢酸エチルで反応液を希釈し、１００ｍＬの飽和炭酸ナトリウム水溶液および５０ｍＬのブラインでそれぞれ洗浄し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して化合物ＷＸ０２９−２（４．７０ｇ，７９．３２％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．５４（ｄ，Ｊ＝８．５３Ｈｚ，１Ｈ），７．４１（ｄ，Ｊ＝８．５３Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｓ，１Ｈ），２．３２−２．４０（ｍ，１Ｈ），２．１８（ｄｄ，Ｊ＝１２．９２，９．５４，３．１４Ｈｚ，１Ｈ），１．９４−２．１０（ｍ，２Ｈ），０．２６（ｓ，９Ｈ）。
【０２０９】
工程２：化合物ＷＸ０２９−３の合成
０℃で、ＷＸ０２９−２（４．７０ｇ，１４．４９ｍｍｏｌ）に硫酸（５５．２０ｇ，５５１．５５ｍｍｏｌ）を加え、系を２０℃でさらに１０分間撹拌した。反応が完了した後、反応液を２００ｍＬの氷水に注ぎ、ジクロロメタン（１００ｍＬ×２）で反応液を抽出し、有機相を２００ｍＬの炭酸溶液および２００ｍＬのブラインでそれぞれ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥させ、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して化合物ＷＸ０２９−３（３．００ｇ，７６．０６％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．４２（ｄ，Ｊ＝９．５４Ｈｚ，１Ｈ），７．２９−７．３４（ｍ，２Ｈ），６．９１（ｔ，Ｊ＝４．７７Ｈｚ，１Ｈ），２．８４（ｔ，Ｊ＝８．０３Ｈｚ，２Ｈ），２．５０（ｔｄ，Ｊ＝８．１６，４．７７Ｈｚ，２Ｈ）。
【０２１０】
工程３：化合物ＷＸ０２９−４の合成
ＷＸ０２９−３（３．００ｇ，１２．８２ｍｍｏｌ）のメタノール（５０．００ｍＬ）溶液に水素化ホウ素ナトリウム（２．９１ｇ，７６．９２ｍｍｏｌ）を加え、系を８０℃でさらに３０分間攪拌した。反応が完了した後、系に１００ｍＬの水および１００ｍＬのジクロロメタンを添加し、有機層を１００ｍＬのブラインで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥させ、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して化合物ＷＸ０２９−４（２．２０ｇ，６５．４４％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．３４（ｄ，Ｊ＝８．０３Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｓ，１Ｈ），７．２２−７．２７（ｍ，１Ｈ），３．９２（ｔ，Ｊ＝６．２７Ｈｚ，１Ｈ），２．７４−２．８６（ｍ，２Ｈ），２．１１−２．１８（ｍ，２Ｈ），１．９９−２．０６（ｍ，１Ｈ），１．７９−１．８８（ｍ，１Ｈ）。
【０２１１】
工程４：化合物ＷＸ０２９−５の合成
ＷＸ０２９−４（２．２０ｇ，９．３２ｍｍｏｌ）の塩酸メタノール（４Ｍ，５０．００ｍＬ）溶液を８０℃でさらに１６時間攪拌した。反応が完了した後、減圧下で濃縮して、１００ｍＬのジクロロメタンを加えて溶解させ、１００ｍＬのブラインで洗浄し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して黄色液体として化合物ＷＸ０２９−５（１．５０ｇ，５５．０４％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．２３−７．２８（ｍ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝８．０３Ｈｚ，１Ｈ），３．７７（ｔ，Ｊ＝５．７７Ｈｚ，１Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），２．６５−２．９０（ｍ，２Ｈ），２．０９−２．２０（ｍ，１Ｈ），１．９０−２．０２（ｍ，２Ｈ），１．７１−１．８０（ｍ，１Ｈ）。
【０２１２】
工程５：化合物ＷＸ０２９−６の合成
化合物ＷＸ０２９−６の合成は、実施例５における工程３の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．７０（ｄ，Ｊ＝４．７７Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｓ，１Ｈ），７．７３−７．７６（ｍ，２Ｈ），７．２８−７．３１（ｍ，１Ｈ），７．２１−７．２６（ｍ，１Ｈ），３．９１（ｔ，Ｊ＝５．７７Ｈｚ，１Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），２．８１−３．００（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），１．９８−２．１０（ｍ，２Ｈ），１．７７−１．８８（ｍ，１Ｈ）。
【０２１３】
工程６：化合物ＷＸ０２９−７の合成
化合物ＷＸ０２９−７の合成は、実施例５における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＭＥＴＨＡＮＯＬ−ｄ４）δ８．６０（ｄ，Ｊ＝４．５２Ｈｚ，１Ｈ），７．８８−７．９４（ｍ，１Ｈ），７．８２−７．８７（ｍ，１Ｈ），７．６７−７．７１（ｍ，２Ｈ），７．３１−７．３９（ｍ，２Ｈ），３．８７（ｔ，Ｊ＝５．９０Ｈｚ，１Ｈ），２．８３−２．９９（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｔ，Ｊ＝５．２７Ｈｚ，１Ｈ），１．９８−２．１２（ｍ，２Ｈ），１．８４（ｄ，Ｊ＝１１．５４Ｈｚ，１Ｈ）。
【０２１４】
工程７：化合物ＷＸ０２９の合成
化合物ＷＸ０２９の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６６（ｄ，Ｊ＝４．０２Ｈｚ，１Ｈ），７．９３（ｓ，１Ｈ），７．８９（ｓ，２Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），７．６５（ｓ，２Ｈ），７．２８−７．３９（ｍ，１Ｈ），７．１１（ｄ，Ｊ＝８．５３Ｈｚ，１Ｈ），４．６７（ｓ，１Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），２．８９（ｄ，Ｊ＝６．５３Ｈｚ，２Ｈ），２．５０−２．５１（ｍ，３Ｈ），２．１６（ｄ，Ｊ＝４．０２Ｈｚ，１Ｈ），２．０９（ｓ，１Ｈ），１．９２−２．０１（ｍ，１Ｈ），１．８４（ｄ，Ｊ＝４．０２Ｈｚ，２Ｈ）。
【０２１５】
工程８：化合物ＷＸ０３０およびＷＸ０３１の合成
化合物ＷＸ０２９を超臨界流体クロマトグラフィー（装置：ＳＦＣ−８０；カラム：ＯＤ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ，１０μｍ）；移動相：超臨界ＣＯ２／ＭｅＯＨ（０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ）＝４５／５５；流速７０ｍＬ／ｍｉｎ；カラム温度：３８ｏＣ）によりキラル分割を行い、回転異性体ＷＸ０３０およびＷＸ０３１を得た（保持時間はそれぞれ２．１ｍｉｎ、２．５ｍｉｎである）。化合物ＷＸ０３０：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６４（ｄ，Ｊ＝４．５２Ｈｚ，１Ｈ），８．６４（ｄ，Ｊ＝４．５２Ｈｚ，１Ｈ），７．９３（ｍ，１Ｈ），７．８６（ｍ，２Ｈ），７．７９（ｄ，Ｊ＝８．２８Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｓ，２Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝６．５３，５．０２Ｈｚ，１Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝８．２８Ｈｚ，１Ｈ），４．６５（ｔ，Ｊ＝６．４０Ｈｚ，１Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），２．８７（ｍ，２Ｈ），２．５３（ｍ，３Ｈ），２．１５（ｍ，１Ｈ），１．８６（ｍ，３Ｈ）。ＷＸ０３１：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６４（ｄ，Ｊ＝４．５２Ｈｚ，１Ｈ），７．９２（ｍ，１Ｈ），７．８６（ｍ，２Ｈ），７．７９（ｄ，Ｊ＝８．０３Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｓ，２Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝６．７８，５．２７Ｈｚ，１Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝８．２８Ｈｚ，１Ｈ），４．６５（ｔ，Ｊ＝６．４０Ｈｚ，１Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），２．８６（ｑ，Ｊ＝６．７８Ｈｚ，２Ｈ），２．５３（ｍ，３Ｈ），２．１６（ｍ，１Ｈ），１．８７（ｍ，３Ｈ）。
【０２１６】
実施例２１：ＷＸ０３６およびＷＸ０３７
【化８６】
2020504184.tif 000088
合成経路：
【化８７】
2020504184.tif 000089
【０２１７】
工程１：化合物ＷＸ０２８−２の合成
ＷＸ０２８−１（３０．００ｇ，１６２．１１ｍｍｏｌ）の四塩化炭素（４００．００ｍＬ）溶液に、ＮＢＳ（５７．７０ｇ，３２４．２２ｍｍｏｌ）およびＡＩＢＮ（５．３２ｇ，３２．４２ｍｍｏｌ）を加え、系を８０℃でさらに２時間攪拌した。反応が完了した後、減圧下で濃縮して、残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して無色油状物として化合物ＷＸ０２８−２（３７ｇ，粗生成物）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．５５（ｓ，１Ｈ），７．４７−７．４５（ｍ，１Ｈ），７．２８−７．２５（ｍ，１Ｈ），４．６２（ｓ，２Ｈ），４．６０（ｓ，２Ｈ）。
【０２１８】
工程２：化合物ＷＸ０２８−３の合成
化合物ＷＸ０２８−３の合成は、実施例９における工程２の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．３６（ｓ，１Ｈ），７．３４−７．３２（ｍ，１Ｈ），７．２２−７．１２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｑ，Ｊ１＝１４．０Ｈｚ，Ｊ２＝７．２Ｈｚ，６Ｈ），１．１８−１．１４（ｍ，８Ｈ）。
【０２１９】
工程３：化合物ＷＸ０２８−４の合成
化合物ＷＸ０２８−４の合成は、実施例９における工程３の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．４０（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），４．０７（ｔ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，２Ｈ），３．４２−３．３５（ｍ，１Ｈ），３．１６−３．０４（ｍ，４Ｈ），１．１８（ｔ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，３Ｈ）。
【０２２０】
工程４：化合物ＷＸ０２８−５の合成
化合物ＷＸ０２８−５の合成は、実施例５における工程３の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６２（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），７．９２−７．８１（ｍ，４Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），４．０９（ｑ，Ｊ１＝１８．０Ｈｚ，Ｊ２＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．４０−３．２３（ｍ，１Ｈ），３．２１−３．１５（ｍ，４Ｈ），１．２０（ｔ，Ｊ＝１４．４Ｈｚ，３Ｈ）。
【０２２１】
工程５：化合物ＷＸ０２８−６の合成
化合物ＷＸ０２８−６の合成は、実施例５における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６３（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），７．９４−７．８３（ｍ，４Ｈ），７．３４−７．３１（ｍ，２Ｈ），３．３０−３．００（ｍ，１Ｈ），３．２２−３．１６（ｍ，４Ｈ）。
【０２２２】
工程６：化合物ＷＸ０２８の合成
化合物ＷＸ０２８の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１２．２６（ｂｒ，１Ｈ），８．７０（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），（ｓ，１Ｈ），７．８１−７．７１（ｍ，３Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．２６−７．２５（ｍ，１Ｈ），（ｓ，２Ｈ），３．９１−３．８３（ｍ，１Ｈ），３．７９（ｓ，３Ｈ），３．４５−３．３５（ｍ，４Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ）。
【０２２３】
工程７：化合物ＷＸ０３６およびＷＸ０３７の合成
化合物ＷＸ０２８（６９０．００ｍｇ，１．６１ｍｍｏｌ）を超臨界流体クロマトグラフィー（装置：ＳＦＣ−１０；カラム：ＡＤ（２５０ｍｍ＊５０ｍｍ，１０μｍ）；移動相：超臨界ＣＯ２／ＭｅＯＨ（０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ）＝５５／４５；流速１８０ｍＬ／ｍｉｎ；カラム温度：３８℃）によりキラル分割を行い、回転異性体ＷＸ０３６およびＷＸ０３７を得た（保持時間はそれぞれ１．２ｍｉｎ、１．７ｍｉｎである）。化合物ＷＸ０３６（１３４．００ｍｇ，１９．１１％収率，９８．３７％純度）：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６２（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１Ｈ），７．９４−７．８２（ｍ，４Ｈ），７．６４（ｓ，２Ｈ），７．３４−７．２９（ｍ，２Ｈ），４．０９−４．０６（ｍ，１Ｈ），３．７４（ｓ，３Ｈ），３．３２−３．２６（ｍ，４Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ）。化合物ＷＸ０３７（１３．００ｍｇ，１．８６％収率，９８．５４％純度）：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．６２（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１Ｈ），７．９４−７．８２（ｍ，４Ｈ），７．６３（ｓ，２Ｈ），７．３４−７．２９（ｍ，２Ｈ），４．０９−４．０６（ｍ，１Ｈ），３．７４（ｓ，３Ｈ），３．３２−３．２６（ｍ，４Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ）。
【０２２４】
実施例２２：ＷＸ１５８およびＷＸ１５９
【化８８】
2020504184.tif 000090
合成経路：
【化８９】
2020504184.tif 000091
【０２２５】
工程１：化合物ＷＸ１５７−２の合成
−１０℃で、ＷＸ１５７−１（１．００ｇ，３．７０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２．００ｍＬ）溶液に、三フッ化ホウ素・フッ化水素酸（１．４１ｇ，１６．０７ｍｍｏｌ，１．００ｍＬ）を加え、系をさらに３０分間攪拌した後、亜硝酸ｔｅｒｔ−ブチル（１．４１ｇ，１６．０７ｍｍｏｌ，１．００ｍＬ）を滴下し、系をさらに３０分間攪拌した。反応が完了した後、濾過し、濾過ケーキを１０ｍＬのテトラヒドロフランおよび１０ｍＬの石油エーテルで洗浄し、その後、干燥して７４０ｍｇの固体を得た。１５０℃で１時間分解した。室温に冷却し、５０ｍＬの水を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して白色固体として化合物ＷＸ１５７−２（１４１．００ｍｇ，１３．９５％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．２９（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１Ｈ），６．８９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），３．６６（ｓ，３Ｈ），３．３５−３．２５（ｍ，１Ｈ），３．１６−３．０７（ｍ，４Ｈ）。
【０２２６】
工程２：化合物ＷＸ１５７−３の合成
化合物ＷＸ１５７−３の合成は、実施例５における工程３の合成方法を参照する。
【０２２７】
工程３：化合物ＷＸ１５７−４の合成
化合物ＷＸ１５７−４の合成は、実施例８における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．６４（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），８．３３（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７６（ｂｒ  ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２４（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１Ｈ），６．９４（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ，１Ｈ），３．３５−３．０７（ｍ，５Ｈ）。
【０２２８】
工程４：化合物ＷＸ１５７の合成
化合物ＷＸ１５７の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。
【０２２９】
工程５：化合物ＷＸ１５８およびＷＸ１５９の合成
化合物ＷＸ１５７を超臨界流体クロマトグラフィー（分離条件：カラム：ＯＤ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ，１０ｕｍ）；移動相：超臨界ＣＯ２／ＭｅＯＨ（０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ），Ｂ％：５５％−５５％）によりキラル分割を行い、回転異性体ＷＸ１５８およびＷＸ１５９を得た（保持時間はそれぞれ１．２ｍｉｎ、２．７ｍｉｎである）。化合物ＷＸ１５８：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．７０（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），７．８９（ｄｔ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．７６（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），７．６５（ｓ，２Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝４．９，６．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ，１Ｈ），４．１８−４．０７（ｍ，１Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．３３−３．１６（ｍ，４Ｈ），２．５５−２．５２（ｍ，３Ｈ）。ＷＸ１５９：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．７０（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），７．８９（ｄｔ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．７６（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），７．６５（ｓ，２Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝４．９，６．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ，１Ｈ），４．１８−４．０７（ｍ，１Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．３３−３．１６（ｍ，４Ｈ），２．５５−２．５２（ｍ，３Ｈ）。
【０２３０】
実施例２３：ＷＸ１５４およびＷＸ１５５
【化９０】
2020504184.tif 000092
合成経路：
【化９１】
2020504184.tif 000093
【０２３１】
工程１：化合物ＷＸ１４５−２の合成
化合物ＷＸ１４５−２の合成は、実施例３における工程２の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．５６−８．５０（ｍ，１Ｈ），７．８１（ｄｄｄ，Ｊ＝０．８，８．４，１１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．７６（ｓ，１Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｔｄ，Ｊ＝４．２，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），３．６６（ｓ，３Ｈ），３．４４（ｑ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），３．２９−３．１４（ｍ，４Ｈ）。
【０２３２】
工程２：化合物ＷＸ１４５−３の合成
化合物ＷＸ１４５−３の合成は、実施例８における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ１２．３４（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），８．５６−８．５０（ｍ，１Ｈ），７．８６−７．７９（ｍ，１Ｈ），７．７６（ｓ，１Ｈ），７．７１（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｔｄ，Ｊ＝４．１，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），３．４１−３．３６（ｍ，１Ｈ），３．２７−３．１６（ｍ，４Ｈ）。
【０２３３】
工程３：化合物ＷＸ１４５の合成
化合物ＷＸ１４５の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．５３（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８３（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｓ，１Ｈ），７．７３（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｓ，２Ｈ），７．４７（ｔｄ，Ｊ＝４．１，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），４．１１（ｑｕｉｎ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．４０−３．２５（ｍ，４Ｈ），２．５４−２．５２（ｍ，３Ｈ）。
【０２３４】
工程４：化合物ＷＸ１５４和ＷＸ１５５の合成
化合物ＷＸ１４５を超臨界流体クロマトグラフィー（分離条件：カラム：ＡＤ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ，１０μｍ）；移動相：超臨界ＣＯ２／ＩＰＡ（０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ），Ｂ％：５５％−５５％）によりキラル分割を行い、回転異性体ＷＸ１５４およびＷＸ１５５を得た（保持時間はそれぞれ１．７ｍｉｎ、２．５ｍｉｎである）。化合物ＷＸ１５４：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．５４（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），７．８６−７．７７（ｍ，２Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｔｄ，Ｊ＝４．１，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），４．１１（ｂｒ  ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．３２−３．２９（ｍ，４Ｈ），２．４８（ｂｒ  ｓ，３Ｈ）。化合物ＷＸ１５５：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．５４（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），７．８６−７．７７（ｍ，２Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｔｄ，Ｊ＝４．１，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），４．１１（ｂｒ  ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．３２−３．２９（ｍ，４Ｈ），２．４８（ｂｒ  ｓ，３Ｈ）。
【０２３５】
実施例２４：ＷＸ１５２およびＷＸ１５３
【化９２】
2020504184.tif 000094
合成経路：
【化９３】
2020504184.tif 000095
【０２３６】
工程１：化合物ＷＸ１４３−２の合成
化合物ＷＸ１４３−２の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．９１−７．８３（ｍ，２Ｈ），７．４７−７．４１（ｍ，１Ｈ），７．２８（ｓ，１Ｈ），７．２３−７．１８（ｍ，４Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．８６−６．８２（ｍ，４Ｈ），６．４１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），４．７９（ｓ，４Ｈ），３．８３（ｓ，２Ｈ），３．９０−３．８１（ｍ，１Ｈ），３．７９（ｓ，６Ｈ），３．５１−３．２５（ｍ，４Ｈ），２．６１（ｓ，３Ｈ），２．４０−２．３２（ｍ，１Ｈ），０．７０−０．６２（ｍ，３Ｈ），０．７４−０．５６（ｍ，１Ｈ）。
【０２３７】
工程２：化合物ＷＸ１４３の合成
ＷＸ１４３−２（２２０．００ｍｇ，３０３．９１μｍｏｌ）のトリフルオロ酢酸（７．７０ｇ，６７．５３ｍｍｏｌ，５．００ｍＬ）溶液を室温で１６時間攪拌した。反応が完了した後、減圧下で濃縮した。残留物を分取クロマトグラフィーにより精製して淡黄色固体として化合物ＷＸ１４３（７１．００ｍｇ，４５．０２％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．９４（ｄｄ，Ｊ＝７．７，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．９４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），４．１７−４．０４（ｍ，１Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．３７−３．２４（ｍ，４Ｈ），２．４８（ｂｒ  ｓ，３Ｈ），２．１９（ｑｔ，Ｊ＝３．４，６．６Ｈｚ，１Ｈ），０．５６−０．３３（ｍ，４Ｈ）。
【０２３８】
工程３：化合物ＷＸ１５２およびＷＸ１５３の合成
化合物ＷＸ１４３（６０ｍｇ）を超臨界流体クロマトグラフィー（分離条件：カラム：ＡＳ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ，５ｕｍ）；移動相：超臨界ＣＯ２／ＭｅＯＨ（０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ），Ｂ％：４０％−４０％）によりキラル分割を行い、回転異性体ＷＸ１５２およびＷＸ１５３を得た（保持時間はそれぞれ３．９ｍｉｎ，４．８ｍｉｎである）。化合物ＷＸ１５２（１５ｍｇ）：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．９５（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．７５（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．６９（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），６．９２（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），４．１２（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），３．７８（ｓ，３Ｈ），３．３０（ｂｒ  ｓ，４Ｈ），２．５４−２．５３（ｍ，３Ｈ），２．２１（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ），０．５５−０．４６（ｍ，２Ｈ），０．４５−０．３８（ｍ，２Ｈ）。化合物ＷＸ１５３（１５ｍｇ）：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．９５（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．７５（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．６９（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），６．９２（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），４．１２（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），３．７８（ｓ，３Ｈ），３．３０（ｂｒ  ｓ，４Ｈ），２．５４−２．５３（ｍ，３Ｈ），２．２１（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ），０．５５−０．４６（ｍ，２Ｈ），０．４５−０．３８（ｍ，２Ｈ）。
【０２３９】
実施例２５：ＷＸ１４６およびＷＸ１４７
【化９４】
2020504184.tif 000096
合成経路：
【化９５】
2020504184.tif 000097
【０２４０】
工程１：化合物ＷＸ１２７−２ＡおよびＷＸ１２７−２Ｂの合成
０℃で、水素化ナトリウム（１７．０６ｇ，４２６．４２ｍｍｏｌ，６０％純度）のテトラヒドロフラン（２００．００ｍＬ）溶液に、ＷＸ１２７−１（３０．００ｇ，１４２．１４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２００．００ｍＬ）溶液を滴下し、さらに１５分間攪拌した後、炭酸ジメチル（６４．０２ｇ，７１０．７０ｍｍｏｌ，５９．８３ｍＬ）を滴下し、系を４５℃で０．５時間攪拌した。反応が完了した後、系に５００ｍＬの１Ｍ塩酸を滴下し、酢酸エチル（１０００ｍＬ×３）で抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮して化合物ＷＸ１２７−２ＡおよびＷＸ１２７−２Ｂの混合物３６ｇを得た。
【０２４１】
工程２：化合物ＷＸ１２７−３の合成
窒素ガス保護下、０℃で、ＷＸ１２７−２ＡおよびＷＸ１２７−２Ｂの混合物１５ｇのトリフルオロ酢酸（２３１．４６ｇ，２．０３ｍｏｌ，１５０．３０ｍＬ）溶液に、トリエチルシラン（２１．６０ｇ，１８５．８０ｍｍｏｌ，２９．６０ｍＬ）を滴下し、系を室温で１６時間反応した。減圧下で濃縮して、残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製して無色油状物としてＷＸ１２７−３（８．５０ｇ，４７．４４％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．３４（ｓ，１Ｈ），７．３０−７．２４（ｍ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），３．４０−３．３０（ｍ，１Ｈ），３．２７−３．１１（ｍ，４Ｈ）。
【０２４２】
工程３：化合物ＷＸ１２７−４の合成
化合物ＷＸ１２７−４の合成は、実施例３における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．６７（ｓ，１Ｈ），７．６２（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），３．３８−３．１５（ｍ，５Ｈ），１．４２−１．３０（ｍ，１２Ｈ）。
【０２４３】
工程４：化合物ＷＸ１２７−５の合成
化合物ＷＸ１２７−５の合成は、実施例３における工程２の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．８７（ｓ，１Ｈ），７．７７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６３（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），３．８０−３．７２（ｍ，３Ｈ），３．４４−３．２６（ｍ，５Ｈ），２．６４（ｓ，３Ｈ）。
【０２４４】
工程５：化合物ＷＸ１２７−６の合成
化合物ＷＸ１２７−６の合成は、実施例８における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．８２（ｓ，１Ｈ），７．７０（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６３（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），３．４４−３．１８（ｍ，５Ｈ），２．６４（ｓ，３Ｈ）。
【０２４５】
工程６：化合物ＷＸ１２７の合成
化合物ＷＸ１２７の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．４７（ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），８．１１（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．９１（ｓ，１Ｈ），７．８３（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），７．６８（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），４．１５（ｄｄｄ，Ｊ＝６．５，８．８，１５．３Ｈｚ，１Ｈ），３．７７（ｓ，３Ｈ），３．５１−３．２３（ｍ，４Ｈ），２．８５（ｓ，３Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ）。
【０２４６】
工程８：化合物ＷＸ１４６およびＷＸ１４７の合成
化合物ＷＸ１２７を超臨界流体クロマトグラフィー（分離条件：カラム：ＡＳ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ，５ｕｍ）；移動相：超臨界ＣＯ２／ＥｔＯＨ（０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ），Ｂ％：４０％−４０％）によりキラル分割を行い、回転異性体ＷＸ１４６およびＷＸ１４７を得た（保持時間はそれぞれ３．７ｍｉｎ，４．７ｍｉｎである）。化合物ＷＸ１４６：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．３３（ｂｒ  ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．８８（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７１（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．６６（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），４．１９−４．０８（ｍ，１Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．７２−３．７１（ｍ，１Ｈ），３．７２−３．７１（ｍ，１Ｈ），３．４０−３．３９（ｍ，１Ｈ），３．４０（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），３．３５（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，４Ｈ），２．７９−２．７１（ｍ，１Ｈ），２．７５（ｓ，２Ｈ），２．４９−２．４８（ｍ，２Ｈ）。ＷＸ１４７：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．９５（ｓ，１Ｈ），７．８９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．７７−７．６８（ｍ，２Ｈ），７．６５（ｓ，２Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），４．１５−４．０２（ｍ，１Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．３４−３．２２（ｍ，４Ｈ），２．５３（ｂｒ  ｓ，３Ｈ），２．４９−２．４８（ｍ，３Ｈ）。
【０２４７】
実施例２６：ＷＸ１５０およびＷＸ１５１
【化９６】
2020504184.tif 000098
合成経路：
【化９７】
2020504184.tif 000099
【０２４８】
工程１：化合物ＷＸ１３７−２の合成
化合物ＷＸ１３７−２の合成は、実施例３における工程２の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．７７（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），７．３８−７．３２（ｍ，１Ｈ），７．１９−７．１０（ｍ，６Ｈ），６．９６（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．７９−６．７４（ｍ，４Ｈ），６．３２（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），４．７１（ｓ，４Ｈ），３．７１（ｓ，６Ｈ），３．６６（ｓ，３Ｈ），３．３９−３．０８（ｍ，４Ｈ），２．１０（ｓ，４Ｈ）。
【０２４９】
工程２：化合物ＷＸ１３７−３の合成
化合物ＷＸ１３７−３の合成は、実施例８における工程４の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．８１−７．７２（ｍ，２Ｈ），７．３７−７．２９（ｍ，１Ｈ），７．２０−７．１８（ｍ，１Ｈ），７．１８（ｓ，１Ｈ），７．１４−７．１１（ｍ，１Ｈ），６．９３（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，４Ｈ），６．３０（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），４．７０（ｓ，４Ｈ），３．７０（ｓ，６Ｈ），３．３５−３．１１（ｍ，５Ｈ）。
【０２５０】
工程３：化合物ＷＸ１３７−４の合成
化合物ＷＸ１３７−４の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．９４（ｓ，２Ｈ），７．８２−７．７８（ｍ，１Ｈ），７．２０−７．１９（ｍ，１Ｈ），７．１９（ｓ，１Ｈ），７．１５−７．１２（ｍ，４Ｈ），６．９６（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７８−６．７５（ｍ，４Ｈ），６．３４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），６．３８−６．２８（ｍ，１Ｈ），４．７１（ｓ，４Ｈ），３．７９−３．７４（ｍ，１Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），３．７１（ｓ，６Ｈ），３．３８−３．１７（ｍ，４Ｈ），２．５２（ｓ，３Ｈ）。
【０２５１】
工程４：化合物ＷＸ１３７の合成
ＷＸ１３７−４（３５０．００ｍｇ，５１１．８２μｍｏｌ）のトリフルオロ酢酸（１２．３２ｇ，１０８．０５ｍｍｏｌ，８．００ｍＬ）溶液を室温で１６時間反応させた。反応が完了した後、減圧下で濃縮して、残留物を分取クロマトグラフィーにより精製して白色固体としてＷＸ１３７（１８４．００ｍｇ，８０．３８％収率）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．５９−７．９８（ｍ，２Ｈ），７．９９−７．８９（ｍ，１Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），７．４３（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），４．１６−４．０２（ｍ，１Ｈ），３．７４（ｓ，３Ｈ），３．３９−３．２３（ｍ，４Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ）。
【０２５２】
工程５：化合物ＷＸ１５０およびＷＸ１５１の合成
化合物ＷＸ１３７（１６０ｍｇ）を超臨界流体クロマトグラフィー（分離条件：カラム：ＡＳ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ，５μｍ）；移動相：超臨界ＣＯ２／ＭｅＯＨ（０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ），Ｂ％：４０％−４０％）によりキラル分割を行い、回転異性体ＷＸ１５０およびＷＸ１５１を得た（保持時間はそれぞれ４．６ｍｉｎ，６．４ｍｉｎである）。化合物ＷＸ１５０（３０ｍｇ）：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．４８−７．９２（ｍ，３Ｈ），７．７９（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．７２（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｓ，２Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），６．９６（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），４．１９−４．０８（ｍ，１Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．３７−３．２６（ｍ，４Ｈ），２．５３（ｂｒ  ｓ，３Ｈ）。化合物ＷＸ１５１（２４ｍｇ）：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ８．４８−７．９２（ｍ，３Ｈ），７．７９（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．７２（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｓ，２Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），６．９６（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），４．１９−４．０８（ｍ，１Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．３７−３．２６（ｍ，４Ｈ），２．５３（ｂｒ  ｓ，３Ｈ）。
【０２５３】
実施例２７：ＷＸ１４８およびＷＸ１４９
【化９８】
2020504184.tif 000100
合成経路：
【化９９】
2020504184.tif 000101
【０２５４】
工程１：化合物ＷＸ１３６の合成
化合物ＷＸ１３６の合成は、実施例７における工程１の合成方法を参照する。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．９０（ｓ，１Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６３（ｓ，２Ｈ），７．５４（ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．５７（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），４．１２−４．００（ｍ，１Ｈ），３．７４（ｓ，３Ｈ），３．３２−３．１９（ｍ，４Ｈ），３．０８（ｓ，６Ｈ），２．４７−２．４６（ｍ，３Ｈ）。
【０２５５】
工程２：化合物ＷＸ１４８およびＷＸ１４９の合成
化合物ＷＸ１３６（４０ｍｇ）を超臨界流体クロマトグラフィー（分離条件：カラム：ＡＳ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ，５μｍ）；移動相：超臨界ＣＯ２／ＥｔＯＨ，Ｂ％：４０％−４０％）によりキラル分割を行い、回転異性体ＷＸ１４８およびＷＸ１４９を得た（保持時間はそれぞれ４．５ｍｉｎ，５．１ｍｉｎである）。化合物ＷＸ１４８（５ｍｇ）：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．８１（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．７５（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．６５（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），７．３７（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１１（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．８７（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），４．１５−４．０５（ｍ，１Ｈ），４．０５−４．０５（ｍ，１Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．３８−３．３３（ｍ，１Ｈ），３．３６（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，２Ｈ），３．２５−３．２４（ｍ，１Ｈ），３．３０（ｂｒ  ｓ，３Ｈ），３．１９（ｓ，６Ｈ），２．４８−２．４７（ｍ，１Ｈ）。ＷＸ１４９（９ｍｇ）：１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．９２（ｓ，１Ｈ），７．８７（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｂｒ  ｓ，２Ｈ），７．５６（ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１２（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．５９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），４．０８（ｂｒ  ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．３３（ｂｒ  ｓ，４Ｈ），３．０９（ｓ，６Ｈ），２．５４−２．５３（ｍ，３Ｈ）。
【０２５６】
実験例１：１型単純ヘルペスウイルス細胞変性実験（インビトロ評価）
実験目的：
細胞変性（ＣＰＥ）実験における、１型単純ヘルペスウイルス（ＨＳＶ−１）ＧＨＳＶ−ＵＬ  ４６株に対する化合物の抗ウイルス活性を評価する。
実験装置：
細胞培養インキュベーター：Ｔｈｅｒｍｏ  ２４０Ｉ
細胞計数器：Ｂｅｃｋｍａｎ  Ｖｉ−ＣｅｌｌＴＭ  ＸＲ
自動ディスペンサー：Ｔｈｅｒｍｏ  Ｍｕｌｔｉｄｒｏｐ
化合物ピペッティングシステム：Ｌａｂｃｙｔｅ  ＥＣＨＯ  ５５５  ｌｉｑｕｉｄ  ｈａｎｄｌｅｒ
マイクロプレートリーダー：Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｄｅｖｉｃｅ  ＳｐｅｃｔｒａＭａｘ３４０ＰＣ３８４。
実験材料：
ウイルス：ＨＳＶ−１ＧＨＳＶ−ＵＬ４６，ＡＴＣＣ＃ＶＲ−１５４４
細胞：アフリカミドリザル腎臓細胞ＶｅｒｏＥ６、中国科学院武漢ウイルス研究所から入手した。
実験試薬：
2020504184.tif 000102
【０２５７】
培地の調製方法：
細胞培養培地：５００ｍｌのＤＭＥＭ＋５０ｍｌのＦＢＳ＋５ｍｌのＰＳ＋５ｍｌのＮＥＡＡ。
実験培地：５００ｍｌのＤＭＥＭ＋１０ｍｌのＦＢＳ＋５ｍｌのＰＳ＋５ｍｌのＮＥＡＡ。
実験の工程：
１．細胞の播種（Ｄａｙ．１）
１．１．７５％のアルコールでバイオセーフティキャビネットの作業台を拭き、紫外線でバイオセーフティキャビネットを１５分間照射し、排気ファンを作動させ、ガラス窓を警戒線の下端まで下げ、キャビネット内の空気流を５分間安定させた。
１．２．細胞密度８０％のＶｅｒｏＥ６細胞を１本（Ｔ１５０細胞培養フラスコ）取り出した。増殖培地を吸引し、１０ｍｌのリン酸塩緩衝液で細胞を２回洗浄し、２ｍｌのトリプシンを加え、３７℃のＣＯ２インキュベーターに置いて細胞を消化した。
１．３．細胞を分離して脱落させた後、細胞変性実験培地１５ｍｌを加えて消化を停止し、細胞を数回ピペッティングした後、細胞懸濁液１ｍｌを細胞計数器で計数した。
１．４．細胞変性実験培地を用いて細胞を１．３３×１０５ｃｅｌｌｓ／ｍｌに希釈した。Ｍｕｌｔｉｄｒｏｐを使用して、希釈した細胞懸濁液を３８４ウェルプレート（Ｃｏｒｎｉｎｇ＃３７０１）に添加し、1ウェルあたり３０μｌ、４０００細胞を添加した。
１．５．細胞プレートの周囲で軽く振って、細胞を均一に分布させ、３７℃のＣＯ２細胞培養インキュベーターに置いて一晩培養した。
【０２５８】
２．化合物の希釈、処理およびウイルス接種（Ｄａｙ．２）
２．１．ＤＭＳＯで化合物を段階希釈し、希釈した化合物をＥＣＨＯ  ｓｏｕｒｃｅプレートに加えた。
２．２．ＥＣＨＯ５５５液体ワークステーションを使用して、化合物を、細胞が接種された３８４ウェルプレートに添加した。各試験化合物について８つの濃度を重複で測定した。細胞対照ウェルについて、化合物またはウイルスを加えなかった。ウイルス対照ウェルについて、化合物を添加しなかった。全てのウェル中のＤＭＳＯの最終濃度は０．５％であった。
２．３．接種量を１．５  ＴＣＩＤ９０／ｗｅｌｌ、３０μｌになるように、実験培地でウイルスを希釈した。Ｍｕｌｔｉｄｒｏｐを使用して、1ウェルあたり３０μｌで実験培地を細胞対照ウェルに添加し、さらに、1ウェルあたり３０μｌで希釈したウイルスをＭｕｌｔｉｄｒｏｐで化合物試験ウェルおよびウイルス対照ウェルに添加した。
２．４．細胞プレートを３７℃のＣＯ２細胞培養インキュベーターに置いて、５日間培養した。
【０２５９】
３．細胞生存率アッセイ（Ｄａｙ．７）
３．１．５日間の培養後、細胞プレートの全てのウェルにおける細胞変性情況を観察した。細胞対照ウェル中の細胞は細胞変性しないはずであるが、ウイルス対照ウェル中のほとんど全ての細胞は細胞変性を示した。
３．２．ＭｕｌｔｉｄｒｏｐでＣＣＫ８を1ウェルあたり６μｌで細胞プレートに添加した。
３．３．細胞プレートを３７℃のＣＯ２細胞培養インキュベーターに置いて３時間インキュベートした。
３．４．マイクロプレートリーダーを用いて４５０ｎｍの波長で細胞プレートの各ウェルの吸光度を読み取った。ここで、６３０ｎｍを参照波長として使用した。生データは、４５０ｎｍの吸光度から６３０ｎｍの吸光度を引いたものである（Ｒａｗ  ｄａｔａ＝ＯＤ４５０−ＯＤ６３０）。
【０２６０】
４．データ分析
４．１．以下の式を用いて試験化合物の抗ウイルス活性（％Ｉｎｈｉｂｉｔｉｏｎ）を算出した。
【数１】
2020504184.tif 000103
式中、Ｓａｍｐｌｅは化合物試験ウェルの吸光度であり、ｃｅｌｌ  ｃｏｎｔｒｏｌは細胞対照ウェルの吸光度の平均であり、ｖｉｒｕｓ  ｃｏｎｔｒｏｌはウイルス対照ウェルの吸光度の平均である。
４．２．ＧｒａｐｈＰａｄ  Ｐｒｉｓｍソフトウェアを用いて用量−反応曲線をプロットし、試験化合物の５０％有効濃度（ＥＣ５０）を得た。
【０２６１】
５．実験結果を表１に示す。
【表１】
2020504184.tif 000104
【０２６２】
６．結論：本発明の化合物は、単純ヘルペスウイルス（ＨＳＶ）に対して良好な抗ウイルス活性を有する。
【０２６３】
実験例２：化合物の薬物動態評価
実験目的：マウスにおける化合物の薬物動態をｉｎ ｖｉｖｏで試験する。
実験材料：
Ｂａｌｂ／ｃマウス（オス，１８−２２ｇ，６〜８週齢，Ｓｈａｎｇｈａｉ  Ｓｌａｃｋ）
実験手順：
げっ歯類における化合物の薬物動態は、標準的なプロトコルで静脈内注射および経口投与後に試験された。候補化合物を、対応する溶液として調製し、単回静脈内注射（１．０ｍｇ／ｋｇ、５％のＤＭＳＯ／９５％の２０％ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン）または強制経口投与（１．０ｍｇ／ｋｇ、０．５％のメチルセルロースＭＣ４０００）で投与した。２４時間以内の全血サンプルを採取し、３０００ｇで１５分間遠心分離し、上清を分離して血漿サンプルを得た。それに、内部標準を含む４倍容量のアセトニトリル溶液を加えて、タンパク質を沈殿させ、遠心分離し、上澄液を集め、これに等容量の水を加え、さらに遠心分離して得られた上澄液をサンプルとして、ＬＣ−ＭＳ／ＭＳ分析法を用いて血漿濃度を定量的に分析し、ピーク濃度、ピーク時間、クリアランス速度、半減期、血中濃度−時間曲線下面積、およびバイオアベイラビリティなどの薬物動態学的パラメータを算出した。
【０２６４】
実験結果を表２に示す。
表２．薬物動態実験の結果
【表２】
2020504184.tif 000105
結論：本発明の化合物は、より優れた活性を有する。強制経口投与されたマウスにおけるｉｎ ｖｉｖｏ薬物動態研究において、同じ有効用量で血漿中曝露量を低下させ、より良好な安全性を示す。
【国際調査報告】
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