(57)【要約】  ガラス物品を洗浄するための洗浄組成物およびそれを使用したガラス基板を洗浄する方法が提供される。その洗浄組成物は、１００質量％の洗浄組成物に対して、約１質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、約０．１質量％から約１０質量％の範囲の界面活性剤、約０．１質量％から約１０質量％の範囲のキレート剤、約０．１質量％から約１０質量％の範囲の有機溶媒、および約０．１質量％から約１０質量％の範囲の分散安定剤を含み、その分散安定剤は、下記の式（１）の構造を有する。その洗浄組成物を使用すると、ガラス基板の表面上の粒子汚染物質および有機汚染物質を効果的に除去することができる。【化１】2020532642.tif 000025
2020532642.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス物品を洗浄するための洗浄組成物において、１００質量％の該洗浄組成物に対して、
約１質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、
約０．１質量％から約１０質量％の範囲の界面活性剤、
約０．１質量％から約１０質量％の範囲のキレート剤、
約０．１質量％から約１０質量％の範囲の有機溶媒、および
約０．１質量％から約１０質量％の範囲の分散安定剤、
を含み、
前記分散安定剤は、下記の式（１）の構造を有し、
【化１】
2020532642.tif 000019
式中、「ｎ」は、１０から５，０００の整数であり、「Ｍ＋」は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の陽イオンであり、「Ｒ−」は、Ｏ−またはＣＯＯ−である、洗浄組成物。
【請求項２】
前記洗浄組成物が、１００質量％の該洗浄組成物に対して、
約５質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、
約２質量％から約５質量％の範囲の界面活性剤、
約３質量％から約８質量％の範囲のキレート剤、
約３質量％から約８質量％の範囲の有機溶媒、および
約０．１質量％から約３質量％の範囲の分散安定剤、
を含む、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項３】
前記分散安定剤が、下記の式（１−１）の構造を有し、
【化２】
2020532642.tif 000020
式中、「ｎ」は、５０から１，０００の整数であり、「Ｍ」は、ナトリウムまたはカリウムである、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項４】
前記界面活性剤が、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンアリールフェノールエーテル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアミン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリアルキルグルコシド、アルキルアルコールアミン、およびアリールアルコールアミンからなる群より選択される少なくとも１つを含む、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項５】
前記界面活性剤が、下記の式（２）の構造を有し、
【化３】
2020532642.tif 000021
式中、「ＣＳ」で表される部分は、１０から１４の炭素数を有する直鎖炭化水素であり、「ＥＯＳ」で表される部分は、エチレンオキシドであり、「ＰＯＳ」で表される部分は、プロピレンオキシドであり、ＥＯＳとＰＯＳは、各々ブロックを形成するか、または互いに交互に生じ、ａ：ｂは７：３から９．５：０．５である、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項６】
ＣＳで表される前記部分が、１２の炭素数を有する直鎖炭化水素であり、ａ：ｂが約８．５：１．５から約９．３：０．７である、請求項５記載の洗浄組成物。
【請求項７】
前記アルカリが、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）、水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）２）、アンモニア（ＮＨ３）、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、アミノエトキシエタノール、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、水酸化アンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化ブチルアンモニウム、およびコリンヒドロキシドからなる群より選択される少なくとも１つを含む、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項８】
前記キレート剤が、
ピロリン酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、グルコン酸ナトリウム、クエン酸、サリチル酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、ピロリン酸、ポリリン酸、ベンゾトリアゾール、ソルビトール、グルコース、カルボン酸ベンゾトリアゾール、およびトリルトリアゾールからなる群より選択される少なくとも１つ；または
ニトリロ−２，２’，２”−三酢酸（ＮＴＡ）、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）、エチレンジニトリロ四酢酸（ＥＤＴＡ）、またはその金属塩；
を含み、
前記金属塩は、カリウム塩またはナトリウム塩を含む、請求項１記載の洗浄組成物。
【請求項９】
前記キレート剤が、１００質量％の前記洗浄組成物に対して、約２質量％から約７質量％の範囲のＮＴＡの金属塩および約１質量％から約６質量％の範囲のＤＴＰＡの金属塩を含む、請求項８記載の洗浄組成物。
【請求項１０】
ガラス物品を洗浄するための洗浄組成物において、１００質量％の該洗浄組成物に対して、
約５質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、
約２質量％から約５質量％の範囲の界面活性剤、
約３質量％から約８質量％の範囲のキレート剤、
約３質量％から約８質量％の範囲の有機溶媒、および
約０．１質量％から約３質量％の範囲の分散安定剤、
を含み、
前記界面活性剤は、下記の式（２）の構造を有し、
【化４】
2020532642.tif 000022
式中、「ＣＳ」で表される部分は、１０から１４の炭素数を有する直鎖炭化水素であり、「ＥＯＳ」で表される部分は、エチレンオキシドであり、「ＰＯＳ」で表される部分は、プロピレンオキシドであり、ＥＯＳとＰＯＳは、各々ブロックを形成するか、または互いに交互に生じ、ａ：ｂは７：３から９．５：０．５である、洗浄組成物。
【請求項１１】
ガラス基板を洗浄する方法において、
ガラス基板上に洗浄組成物を供給する工程、
摩擦洗浄ユニットを使用して、前記洗浄組成物を前記ガラス基板と接触させて、該ガラス基板の表面を洗浄する工程、および
前記ガラス基板から前記洗浄組成物を除去する工程、
を有してなり、
前記洗浄組成物は、１００質量％の該洗浄組成物に対して、
約５質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、
約２質量％から約５質量％の範囲の界面活性剤、
約３質量％から約８質量％の範囲のキレート剤、
約３質量％から約８質量％の範囲の有機溶媒、および
約０．１質量％から約３質量％の範囲の分散安定剤、
を含む、方法。
【請求項１２】
前記分散安定剤が、下記の式（１）の構造を有し、
【化５】
2020532642.tif 000023
式中、「ｎ」は、１０から５，０００の整数であり、「Ｍ＋」は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の陽イオンであり、「Ｒ−」は、Ｏ−またはＣＯＯ−である、請求項１１方法。
【請求項１３】
前記界面活性剤が、下記の式（２）の構造を有し、
【化６】
2020532642.tif 000024
式中、「ＣＳ」で表される部分は、１０から１４の炭素数を有する直鎖炭化水素であり、「ＥＯＳ」で表される部分は、エチレンオキシドであり、「ＰＯＳ」で表される部分は、プロピレンオキシドであり、ＥＯＳとＰＯＳは、各々ブロックを形成するか、または互いに交互に生じ、ａ：ｂは７：３から９．５：０．５である、請求項１１記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【優先権】
【０００１】
本出願は、その内容が依拠され、ここに全て引用される、２０１７年８月２９日に出願された韓国特許出願第１０−２０１７−０１０９４８７号の米国法典第３５編第１１９条の下での優先権の恩恵を主張するものである。
【技術分野】
【０００２】
１つ以上の実施の形態は、ガラス物品を洗浄するための洗浄組成物およびそれを使用したガラス基板を洗浄する方法に関し、より詳しくは、ガラス基板の表面上の粒子汚染物質および有機汚染物質を効果的に除去することのできる、ガラス物品を洗浄するための洗浄組成物およびそれを使用したガラス基板を洗浄する方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
フラットパネルディスプレイなどに使用されるガラス基板を製造するために、物理的方法および化学的方法を含む様々な洗浄過程が使用されている。ガラス基板上の粒子汚染物質および有機汚染物質を除去するために、洗浄能力がさらに改善された洗浄組成物がまだ必要とされている。
【発明の概要】
【０００４】
１つ以上の実施の形態は、ガラス基板の表面上の粒子汚染物質および有機汚染物質を効果的に除去することのできる、ガラス物品を洗浄するための洗浄組成物およびそれを使用したガラス基板を洗浄する方法を含む。
【０００５】
追加の態様が、一部は、以下の説明に述べられており、一部は、その説明から明白となるか、または提示された実施の形態の実施によって分かるであろう。
【０００６】
１つ以上の実施の形態によれば、ガラス物品を洗浄するための洗浄組成物は、１００質量％の洗浄組成物に対して、約１質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、約０．１質量％から約１０質量％の範囲の界面活性剤、約０．１質量％から約１０質量％の範囲のキレート剤、約０．１質量％から約１０質量％の範囲の有機溶媒、および約０．１質量％から約１０質量％の範囲の分散安定剤を含み、その分散安定剤は、下記の式（１）の構造を有する。
【０００７】
【化１】
2020532642.tif 000003
【０００８】
（式中、「ｎ」は、１０から５，０００の整数であり、「Ｍ＋」は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の陽イオンであり、「Ｒ−」は、Ｏ−またはＣＯＯ−である）
【０００９】
いくつかの実施の形態において、その洗浄組成物は、１００質量％の洗浄組成物に対して、約５質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、約２質量％から約５質量％の範囲の界面活性剤、約３質量％から約８質量％の範囲のキレート剤、約３質量％から約８質量％の範囲の有機溶媒、および約０．１質量％から約３質量％の範囲の分散安定剤を含む。
【００１０】
この場合、その分散安定剤は、下記の式（１−１）の構造を有することがある。
【００１１】
【化２】
2020532642.tif 000004
【００１２】
（式中、「ｎ」は、５０から１，０００の整数であり、「Ｍ」は、ナトリウムまたはカリウムである）
【００１３】
また、前記界面活性剤は、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンアリールフェノールエーテル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアミン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリアルキルグルコシド、アルキルアルコールアミン、およびアリールアルコールアミンからなる群より選択される少なくとも１つを含むことがある。
【００１４】
いくつかの実施の形態において、その界面活性剤は、下記の式（２）の構造を有することがある。
【００１５】
【化３】
2020532642.tif 000005
【００１６】
（式中、「ＣＳ」で表される部分は、１０から１４の炭素数を有する直鎖炭化水素であり、「ＥＯＳ」で表される部分は、エチレンオキシドであり、「ＰＯＳ」で表される部分は、プロピレンオキシドであり、ＥＯＳとＰＯＳは、各々ブロックを形成するか、または互いに交互に生じ、ａ：ｂは７：３から９．５：０．５である）
【００１７】
詳しくは、ＣＳで表される部分は、１２の炭素数を有する直鎖炭化水素であることがあり、ａ：ｂは約８．５：１．５から約９．３：０．７であることがある。
【００１８】
また、前記アルカリは、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）、水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）２）、アンモニア（ＮＨ３）、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、アミノエトキシエタノール、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、水酸化アンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化ブチルアンモニウム、およびコリンヒドロキシドからなる群より選択される少なくとも１つを含むことがある。
【００１９】
前記キレート剤は、ピロリン酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、グルコン酸ナトリウム、クエン酸、サリチル酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、ピロリン酸、ポリリン酸、ベンゾトリアゾール、ソルビトール、グルコース、カルボン酸ベンゾトリアゾール、およびトリルトリアゾールからなる群より選択される少なくとも１つを含むことがある。いくつかの実施の形態において、そのキレート剤は、ニトリロ−２，２’，２”−酸酢酸（ＮＴＡ）、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）、エチレンジニトリロ四酢酸（ＥＤＴＡ）、またはその金属塩を含むことがあり、その金属塩は、カリウム塩またはナトリウム塩を含むことがある。この場合、キレート剤は、１００質量％の洗浄組成物に対して、約２質量％から約７質量％の範囲のＮＴＡの金属塩および約１質量％から約６質量％の範囲のＤＴＰＡの金属塩を含むことがある。
【００２０】
いくつかの実施の形態において、そのキレート組成物は、漂白剤、相安定剤、または緩衝剤をさらに含むことがある。
【００２１】
１つ以上の実施の形態によれば、ガラス物品を洗浄するための洗浄組成物は、１００質量％の洗浄組成物に対して、約５質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、約２質量％から約５質量％の範囲の界面活性剤、約３質量％から約８質量％の範囲のキレート剤、約３質量％から約８質量％の範囲の有機溶媒、および約０．１質量％から約３質量％の範囲の分散安定剤を含み、前記界面活性剤は、上記式（２）の構造を有する。
【００２２】
１つ以上の実施の形態によれば、ガラス基板を洗浄する方法は、ガラス基板上に洗浄組成物を供給する工程；摩擦洗浄ユニットを使用して、洗浄組成物をガラス基板と接触させて、ガラス基板の表面を洗浄する工程；およびガラス基板から洗浄組成物を除去する工程を有してなる。その洗浄組成物は、１００質量％の洗浄組成物に対して、約５質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、約２質量％から約５質量％の範囲の界面活性剤、約３質量％から約８質量％の範囲のキレート剤、約３質量％から約８質量％の範囲の有機溶媒、および約０．１質量％から約３質量％の範囲の分散安定剤を含むことがある。
【００２３】
前記分散安定剤は、上記式（１）の構造を有することがある。また、前記界面活性剤は、上記式（２）の構造を有することがある。
【発明の効果】
【００２４】
前記洗浄組成物が使用されると、ガラス基板の表面上の粒子汚染物質および有機汚染物質が効果的に除去されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
これらおよび／または他の態様は、添付図面と共に解釈されたときに、実施の形態の以下の説明から明白かつより容易に認識されるようになる。
【図１】実施例１、比較例１、および比較例２の洗浄組成物を使用した、洗浄の前後の接触角の変化を示すグラフ
【図２】実施例１、比較例１、および比較例２の洗浄組成物を使用することによって洗浄が行われたときの、ガラス粒子除去率の平均を示すグラフ
【図３】実施例１の洗浄組成物の施用の前後、および従来の洗浄組成物の再施用後の粒子の数の経時変化を示すグラフ
【図４】実施例１の洗浄組成物の施用中（陰影部により示される）の粒子の数の連続経時変化を示すグラフ
【発明を実施するための形態】
【００２６】
ここで、全体に亘り、同様の参照番号が同様に要素を指している、添付図面にその例が示された、実施の形態を詳しく参照する。この点に関して、本実施の形態は、異なる形態を有することがあり、ここに述べられた説明に限定されるものと解釈されるべきではない。したがって、実施の形態は、本記載の態様を説明するために、図面を参照することによって、下記に説明されているに過ぎない。ここに用いられているように、「および／または」という用語は、関連する列挙された項目の１つ以上の任意と全ての組合せを含む。
【００２７】
以後、添付図面を参照して、実施の形態を詳しく記載する。しかしながら、本開示は、多くの異なる形態で具体化されることがあり、下記に記載された実施の形態に限定されるものと解釈されるべきではない。実施の形態は、本開示を当業者により十分に説明するために与えられていると解釈されるであろう。全体に亘り、同様の参照番号が同様の要素を示す。また、図面における様々な要素および領域は、概略として示されている。それゆえ、本開示は、添付図面に示された相対的なサイズまたは距離によって限定されない。
【００２８】
ここに使用される用語法は、特定の実施の形態を記載する目的でしかなく、本開示を限定する意図はない。ここに用いられているように、名詞は、文脈が明白にそうではないと示していない限り、複数の対象を指すことが意図されている。「からなる」、「含む」、および「有する」などの用語は、ここに使用された場合、述べられた特徴、整数、工程、操作、要素、成分、またはその組合せの存在を述べるが、１つ以上の他の特徴、整数、工程、操作、要素、成分、またはその組合せの存在または追加を排除しないことを理解すべきである。
【００２９】
特に明記のない限り、ここに使用される全ての用語（技術用語および科学用語を含む）は、当業者が一般に理解するのと同じ意味を有する。また、一般に使用される辞書に定義されるものなどの用語は、関連技術の文脈におけるその意味と一貫する意味を有するものとして解釈されるべきであり、ここに明白に定義されていない限り、理想化されたまたは過度に形式的な意味で解釈されないことを理解すべきである。
【００３０】
特定の実施の形態が異なって実施される場合、特定の工程順序が、記載された順序と異なって行われることがある。例えば、２つの連続的に記載された過程が、実質的に同時に行われる、または記載された順序と逆の順序で行われることがある。
【００３１】
添付図面において、図示された形状からの差異が、例えば、製造技術および／または許容差の結果として予測されることがある。それゆえ、実施の形態は、ここに示された領域の特定の形状に限定されるものと解釈されるべきではなく、例えば、製造過程から生じる形状の逸脱を含むことがある。ここに用いられている「および／または」という用語は、関連する列挙された成分の１つ以上の任意と全ての組合せを含む。また、ここに用いられている「基板」という用語は、基板自体、または基板およびその上に形成された層または膜を含む積層構造を称することがある。また、ここに用いられている「基板表面」という用語は、基板自体の露出面または基板上に形成された層または膜の外面を称することがある。
【００３２】
ある実施の形態は、アルカリ、界面活性剤、キレート剤、有機溶媒、および分散安定剤を含む洗浄組成物を提供する。その洗浄組成物は、１００質量％の洗浄組成物に対して、約１質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、約０．１質量％から約１０質量％の範囲の界面活性剤、約０．１質量％から約１０質量％の範囲のキレート剤、約０．１質量％から約１０質量％の範囲の有機溶媒、および約０．１質量％から約１０質量％の範囲の分散安定剤を含むことがある。洗浄組成物の残りは、水、例えば、脱イオン水（ＤＩＷ）を含むことがある。
【００３３】
いくつかの実施の形態において、その洗浄組成物は、１００質量％の洗浄組成物に対して、約５質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、約２質量％から約５質量％の範囲の界面活性剤、約３質量％から約８質量％の範囲のキレート剤、約３質量％から約８質量％の範囲の有機溶媒、および約０．１質量％から約３質量％の範囲の分散安定剤を含む。
【００３４】
［分散安定剤］
分散安定剤は、下記の式（１）の構造を有することがある。
【００３５】
【化４】
2020532642.tif 000006
【００３６】
（式中、「ｎ」は、１０から５，０００の整数であり、「Ｍ＋」は、アルカリ金属アルカリ土類金属の陽イオンであり、「Ｒ−」は、Ｏ−またはＣＯＯ−である）
【００３７】
いくつかの実施の形態において、その分散安定剤は、下記の式（１−１）の構造を有することがある。
【００３８】
【化５】
2020532642.tif 000007
【００３９】
（式中、「ｎ」は、５０から１，０００の整数であり、「Ｍ」は、ナトリウムまたはカリウムである）
【００４０】
より詳しくは、その分散安定剤は、下記の式（１−２）に列挙された構造の内の少なくとも１つを含むことがある。
【００４１】
【化６】
2020532642.tif 000008
【００４２】
その分散安定剤は、−Ｒ−Ｍ＋の部位の粒子への付着によって、その粒子を除去すると推測される。すなわち、−Ｒ−Ｍ＋の部位が粒子に付着するであろうから、その粒子は、ガラス物品の表面から容易に除去されるであろうと仮定される。しかしながら、本開示は、この理論により限定されない。
【００４３】
ガラス物品を洗浄するために、洗浄組成物が使用されるときに、分散安定剤の含有量が少なすぎると、粒子が、ガラス基板などのガラス物品に再付着されるのを防ぐ能力が欠如することがある。他方で、分散安定剤の含有量が多すぎると、経済的に不都合であろう。
【００４４】
［界面活性剤］
界面活性剤は、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンアリールフェノールエーテル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアミン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリアルキルグルコシド、アルキルアルコールアミン、およびアリールアルコールアミンからなる群より選択される少なくとも１つを含むことがある。
【００４５】
いくつかの実施の形態において、その界面活性剤は、下記の式（２）の構造を有することがある。
【００４６】
【化７】
2020532642.tif 000009
【００４７】
（式中、「ＣＳ」で表される部分は、１０から１４の炭素数の直鎖炭化水素であり、「ＥＯＳ」で表される部分は、エチレンオキシドであり、「ＰＯＳ」で表される部分は、プロピレンオキシドであり、ＥＯＳとＰＯＳの各々は、ブロックを形成するか、または互いに交互に生じ、ａ：ｂは７：３から９．５：０．５である）
【００４８】
ここで、エチレンオキシドの部分は、エチレンオキシド由来の繰り返し単位を表し、プロピレンオキシドの部分は、プロピレンオキシド由来の繰り返し単位を表す。
【００４９】
式（２）の界面活性剤において、ＣＳは、デシル、ウンデシル、ラウリル、トリデシル、およびテトラデシルのいずれか１つであることがある。いくつかの実施の形態において、式（２）の界面活性剤において、ＣＳは、１１から１３の炭素数を有することがあり、それは、例えば、１２の炭素数を有する直鎖炭化水素であることがある。
【００５０】
式（２）において、ＥＯＳおよびＰＯＳは、それぞれのブロックを形成するものとして表されているが、ＥＯＳおよびＰＯＳは、それぞれのブロックを形成する必要はない。したがって、−（ＥＯＳ）２−（ＰＯＳ）−（ＥＯＳ）５−（ＰＯＳ）２−、−（ＥＯＳ）−（ＰＯＳ）２−（ＥＯＳ）６−（ＰＯＳ）−、および−（ＥＯＳ）９−（ＰＯＳ）−（ＥＯＳ）−（ＰＯＳ）−などの式（２）の−（ＥＯＳ）ａ−（ＰＯＳ）ｂの記号に関して、１つ以上のＰＯＳが２つのＥＯＳの間に置かれることがあり、１つ以上のＥＯＳが２つのＰＯＳの間に置かれることがある。
【００５１】
ここで、「ａ」および「ｂ」は、対応する繰り返し単位の数を表し、これらは、所定の比を形成することがあり、ａ：ｂは、例えば、７：３から９．５：０．５、または８．５：１．５から９．３：０．７であることがある。ａ：ｂが小さすぎると（すなわち、ＥＯＳとＰＯＳの内のＰＯＳの比率が高すぎると）、転相温度（ＰＩＴ）が低下することがあり、それゆえ、洗浄力が悪化することがある。他方で、ａ：ｂが大きすぎると（すなわち、ＥＯＳとＰＯＳの内のＰＯＳの比率が低すぎると）、洗浄過程で気泡が過剰に生成されることがある。
【００５２】
［アルカリ］
アルカリは、例えば、以下に限られないが、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）、水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）２）、アンモニア（ＮＨ３）、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、アミノエトキシエタノール、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、水酸化アンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化ブチルアンモニウム、およびコリンヒドロキシドからなる群より選択される少なくとも１つを含むことがある。
【００５３】
そのアルカリのヒドロキシ基は、効率的に除去されるように有機鎖を分解することがある。また、ガラス粒子を除去すべき場合、ヒドロキシ基は、ガラス粒子が容易に分離されるように、ガラス粒子とガラス基板との間の接触領域を微細にエッチングする（すなわち、二酸化ケイ素状態をケイ酸状態に変化させる）ことがある。したがって、アルカリの含有量が少なすぎると、洗浄力が不十分であることがある。他方で、アルカリの含有量が多すぎると、環境に有害であろう。
【００５４】
［キレート剤］
キレート剤は、汚染物質の中でも金属材料を除去するであろう；しかしながら、本開示にそれに限定されない。
【００５５】
キレート剤は、ピロリン酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、グルコン酸ナトリウム、クエン酸、サリチル酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、ピロリン酸、ポリリン酸、ベンゾトリアゾール、ソルビトール、グルコース、カルボン酸ベンゾトリアゾール、およびトリルトリアゾールからなる群より選択される少なくとも１つを含むことがある。
【００５６】
いくつかの実施の形態において、キレート剤は、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）（ＣＡＳ番号６７−４３−６）、ニトリロ−２，２’，２”−トリ酢酸（ＮＴＡ）（ＣＡＳ番号１３９−１３−９）、エチレンジニトリロ四酢酸（ＥＤＴＡ）（ＣＡＳ番号６０−００−４）、またはその金属塩を含むことがある。この場合、その金属塩は、カリウム塩またはナトリウム塩を含むことがある。
【００５７】
そのキレート剤は、単独でまたは一緒に使用されることがある。例えば、１００質量％の洗浄組成物に対して、約２質量％から約７質量％のＮＴＡおよび約１質量％から約６質量％のＤＴＰＡの混合物が、キレート剤として使用されることがある。
【００５８】
キレート剤の含有量が少なすぎると、金属汚染物質が不十分にしか除去されないことがある。他方で、キレート剤の含有量が多すぎると、洗浄の相が不安定になり、製造費が増し、Ｔ−Ｎ値が増し、それゆえ、環境問題の可能性があるであろう。
【００５９】
［有機溶媒］
有機溶媒として、アルコール、アルコールアミン、ケトン、エステル、およびアミドなどの有機溶媒が使用されることがある；しかしながら、本開示は、それに限定されない。
【００６０】
有機溶媒として使用されるアルコールは、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、デカノール、イソプロパノール、イソヘキサノール、イソオクタノール、イソデカノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、トリエチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、トリエチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、およびトリエチレングリコールモノヘキシルエーテルからなる群より選択される少なくとも１つを含むことがある。
【００６１】
有機溶媒として使用されるアルコールアミンは、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）、ジエタノールアミン（ＤＥＡ）、トリエタノールアミン（ＴＥＡ）、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、およびトリイソプロパノールアミンからなる群より選択される少なくとも１つを含むことがある。
【００６２】
有機溶媒として使用されるケトンは、アセトン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロペンタノン、およびシクロヘキサノンからなる群より選択される少なくとも１つを含むことがある。
【００６３】
有機溶媒として使用されるエステルは、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチルプロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸３−メチル−３−メトキシブチル、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、およびγ−ブチロラクトンからなる群より選択される少なくとも１つを含むことがある。
【００６４】
有機溶媒として使用されるアミドは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、およびＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドからなる群より選択される少なくとも１つを含むことがある。
【００６５】
いくつかの実施の形態において、その有機溶媒は、ＴＥＡとＭＥＡの混合物を含むことがある。この場合、ＴＥＡ対ＭＥＡの質量比は、約７：３から約９：１であることがある。ＴＥＡ対ＭＥＡの質量比が上記範囲から外れると、洗浄組成物は、長期間に亘り放置された場合、変色することがある。
【００６６】
［他の成分］
実施の形態によれば、前記洗浄組成物は、上記成分に加え、相安定剤、緩衝剤、および漂白剤をさらに含むことがある。
【００６７】
（１）相安定剤
脂肪酸またはその金属塩が、相安定剤として使用されることがある。例えば、５から１５の炭素数の脂肪酸のナトリウム塩またはカリウム塩が使用されることがある。しかしながら、本開示は、それに限定されない。
【００６８】
相安定剤の含有量は、１００質量％の洗浄組成物に対して、約２質量％から約８質量％の範囲にあることがある。相安定剤の含有量が少なすぎると、相安定剤は、相分離を防ぐ働きをしないことがある。また、相安定剤の含有量が多すぎると、洗浄組成物の洗浄力が弱まることがある。
【００６９】
（２）漂白剤
例えば、漂白剤として、ＮａＯＣｌが使用されることがある；しかしながら、本開示は、それに限定されない。
【００７０】
漂白剤の含有量は、１００質量％の洗浄組成物に対して、約０．１質量％から約１質量％の範囲にあることがある。漂白剤の含有量が少なすぎると、有機物質の除去効率が低下することがある。また、漂白剤の含有量が多すぎると、活性酸素の量が増し、それゆえ、洗浄力が弱まることがある。
【００７１】
（３）緩衝剤
例えば、緩衝剤として、Ｋ２ＣＯ３が使用されることがある；しかしながら、本開示は、それに限定されない。
【００７２】
緩衝剤の含有量は、１００質量％の洗浄組成物に対して、約０．２質量％から約２質量％の範囲にあることがある。緩衝剤の含有量が少なすぎると、洗浄組成物のｐＨが不安定になることがある。また、緩衝剤の含有量が多すぎると、洗浄に適したｐＨの範囲から外れることがある。
【実施例】
【００７３】
以後、特定の実施の形態および比較例を参照して、本開示の形態および効果をより詳しく記載する；しかしながら、これらの実施の形態は、本開示のより明確な理解を与えるためだけを目的としており、その範囲を限定する意図はない。
【００７４】
［実施例１−洗浄組成物の製造］
以下の組成を有する洗浄組成物を製造した（質量％は、洗浄組成物の総質量に基づく）。
【００７５】
（１）１０質量％のアルカリ（５質量％のＫＯＨ５、５質量％のＮａＯＨ）
（２）３質量％の界面活性剤（Ｃ１２−（ＥＯＳ）９−（ＰＯＳ）１）
（３）５質量％のキレート剤（２質量％の炭酸カルシウム、３質量％の炭酸ナトリウム）
（４）５質量％の有機溶媒（２質量％のジエチレングリコール、３質量％のトリエチレングリコール）
（５）１質量％の分散安定剤（式（１）において、ｎ＝１５０、および−ＣＯＯＮａが、−Ｒ−Ｍ＋として使用される）
（６）残りの量の脱イオン水
【００７６】
各成分の質量を計って、上記組成を提供した後、それらの成分を室温で混合して、洗浄組成物を製造した。
【００７７】
［比較例１および比較例２］
ガラス基板を洗浄するために現在使用されている２種類の市販の洗浄組成物（ＬＧＬ２００、Ｐａｒｋｅｒ２２５Ｘ）を使用することによって、性能を比較した。
【００７８】
［有機物質の除去可能性試験１］
最初に、有機物質で汚染された表面を持つガラス基板試料を製造するために、ガラス基板試料（１００ｍｍ×１００ｍｍ）の表面に粘着テープを貼り付け、１時間後に、ガラス基板試料の表面に対して垂直な力を印加することによって、粘着テープを剥がした。このようにして、接着剤有機成分で汚染された表面を持つ６０枚のガラス基板試料を調製した。
【００７９】
その後、実施例１の洗浄組成物を使用することによって、洗浄の前後の２０枚のガラス基板試料の接触角を測定した。各ガラス基板試料について、水滴の接触角を測定し、ガラス基板試料を洗浄組成物で洗浄した後、再び、接触角を測定した。洗浄前の接触角の平均を計算し、洗浄後の接触角の平均を計算した。
【００８０】
また、もう２０枚のガラス基板試料に関して、比較例１の洗浄組成物を使用し、さらにもう２０枚のガラス基板試料について比較例２の洗浄組成物を使用することによって、洗浄の前／後の接触角の平均を、同じようにして計算した。
【００８１】
図１は、実施例１、比較例１、および比較例２の洗浄組成物を使用した洗浄の前後の接触角の変化を示すグラフである。
【００８２】
図１を参照すると、比較例１および２の洗浄組成物を使用した洗浄の前の平均接触角は、それぞれ、６９°および７６°であり、洗浄後の平均接触角は、それぞれ、３０°および２９°であった。すなわち、洗浄の前後の平均接触角の減少度は、それぞれ、３９°および４７°であった。
【００８３】
他方で、実施例１の洗浄組成物を使用した洗浄の前の平均接触角は、７５°であり、洗浄後の平均接触角は、２１°であった。すなわち、洗浄の前後の平均接触角の減少度は、５４°であった。
【００８４】
すなわち、平均接触角の変化度が著しく大きかったので、実施例１の洗浄組成物は、優れた有機物質除去可能性を示したことが分かるであろう。
【００８５】
［ガラス粒子の除去可能性試験１］
最初に、ガラス粒子で汚染された表面を持つガラス基板試料を製造するために、ガラス基板試料（１００ｍｍ×１００ｍｍ）の表面に微細ガラス粒子を施した。この目的のために、微細ガラス粒子をエタノール中に分散させ、次いで、回転塗布方法によって、ガラス基板試料の表面に被覆した。その後、乾燥を行って、エタノールを十分に除去した。このようにして、ガラス粒子で汚染された表面を持つ６０枚のガラス基板試料を調製した。
【００８６】
その後、実施例１の洗浄組成物を使用することによって、洗浄の前／後の２０枚のガラス基板試料のガラス粒子除去率を測定した。ガラス粒子除去率は、各ガラス基板試料の９点に関して測定し、その平均値を、ガラス基板試料のガラス粒子除去率として定義した。また、ガラス粒子除去率は、２０枚のガラス基板試料の各々について測定し、次いで、その平均値を、実施例１の洗浄組成物のガラス粒子除去率として定義した。
【００８７】
また、もう２０枚のガラス基板試料に関して、比較例１の洗浄組成物を使用し、残りの２０枚のガラス基板試料について比較例２の洗浄組成物を使用することによって、洗浄の前／後のガラス粒子除去率の平均を、同じようにして計算した。
【００８８】
図２は、実施例１、比較例１、および比較例２の洗浄組成物を使用することによって、洗浄を行った場合のガラス粒子除去率の平均を示すグラフである。
【００８９】
図２を参照すると、比較例１および２の洗浄組成物を使用した場合、ガラス粒子除去率は、８．６０％（比較例１）および１４．７７％（比較例２）であった。
【００９０】
他方で、実施例１の洗浄組成物を使用した場合、ガラス粒子除去率は１７．０７％であった。
【００９１】
それゆえ、ガラス粒子除去率が比較的高かったので、実施例１の洗浄組成物は、優れたガラス粒子除去可能性を示したことが分かるであろう。
【００９２】
［ライン適用試験１］
実施例１の洗浄組成物を製造ラインに適用する場合における粒子の数の変化を測定した。それが、図３に示されている。図３は、実施例１の洗浄組成物の施用の前後、および従来の洗浄組成物の再施用後の粒子の数の経時変化を示す。ここでは、粒子の数は、０．３マイクロメートル（μｍ）以上の直径を有する粒子の数を称する。
【００９３】
図３を参照すると、比較例１の洗浄組成物を施用する場合における粒子の平均数（水平の破線により示される）と比較して、実施例１の洗浄組成物を施用した場合における粒子の平均数（水平の破線により示される）は、約１６％減少していた。
【００９４】
それゆえ、洗浄組成物を施した場合、粒子の数が、実際の過程においても効果的に減少するであろうことが分かるであろう。
【００９５】
［ライン適用試験２］
実施例１の洗浄組成物を製造ラインに適用する場合における粒子の数の変化を連続的に測定した。それが、図４に示されている。図４は、実施例１の洗浄組成物の施用中（陰影部）の粒子の数の連続経時変化を示す。
【００９６】
図４において、連続グラフは、全ての物品における粒子の数の全数検査の結果を示し、正方形の点は、対応する時間点での物品における粒子の数の試料検査の結果を表す。実施例１の洗浄組成物を施用する期間（陰影部）における試料検査の結果および全数検査の結果は、実質的に同じ傾向を示すので、粒子の数の検査は、実質的に正確に行われていると判断される。
【００９７】
また、全平均を計算した結果として、試料検査を行った結果（正方形の点）から、実施例１の洗浄組成物を使用した場合における粒子の数は、従来の洗浄組成物を使用した場合と比べて、約１５％減少したことが分かる。また、全数検査を行った結果（黒い線）から、実施例１の洗浄組成物を使用した場合における粒子の数は、従来の洗浄組成物を使用した場合と比べて、約１７％減少したことが分かる。
【００９８】
それゆえ、洗浄組成物が施された場合、粒子の数は、実際の過程においても効果的に減少するであろうことが分かるであろう。
【００９９】
［比較例３］
分散安定剤として、下記の式（３）の構造を有する材料を使用したことを除いて、実施例１と同じように、洗浄組成物を製造した。
【０１００】
【化８】
2020532642.tif 000010
【０１０１】
［実施例２］
分散安定剤として、下記の式（１−３）の構造を有する材料を使用したことを除いて、実施例１と同じように、洗浄組成物を製造した。
【０１０２】
【化９】
2020532642.tif 000011
【０１０３】
［ガラス粒子の除去可能性試験２］
実施例１、実施例２、および比較例３の洗浄組成物を使用することによって、ガラス粒子の除去可能性試験を行った。試験方法は、ガラス粒子の除去可能性試験１と同じであった。
【０１０４】
その結果、比較例３の洗浄組成物を使用した場合、ガラス粒子除去率は１１．９１％であったのに対し、実施例１の洗浄組成物を使用した場合、ガラス粒子除去率は１８．１１％であり、実施例２の洗浄組成物を使用した場合、ガラス粒子除去率は１６．５３％であったことが分かる。
【０１０５】
それゆえ、ガラス粒子を除去するために、−ＣＯＯ−Ｎａ＋基が主鎖に直接結合している、本開示の分散安定剤を使用することが都合よいことが分かる。また、実施例１の分散安定剤が、実施例２の分散安定剤よりも高いガラス粒子除去率を有することが分かるであろう。
【０１０６】
［実施例３］
界面活性剤におけるａ：ｂを７．５：２．５に調節したことを除いて、実施例１と同じように、洗浄組成物を製造した。
【０１０７】
［実施例４］
界面活性剤におけるａ：ｂを７：３に調節したことを除いて、実施例１と同じように、洗浄組成物を製造した。
【０１０８】
［比較例４］
界面活性剤におけるａ：ｂを６．５：３．５に調節したことを除いて、実施例１と同じように、洗浄組成物を製造した。
【０１０９】
［有機物質の除去力試験２］
実施例１、実施例３、実施例４、および比較例４の洗浄組成物を使用することによって、接触角の変化を、有機物質の除去可能性試験１と同じように測定した。その測定結果が、下記の表１に示されている。
【０１１０】
【表１】
2020532642.tif 000012
【０１１１】
表１を参照すると、実施例１、３、および４の洗浄組成物の接触角減少効果が、比較例４の洗浄組成物の接触角減少効果よりも大きいことが分かるであろう。言い換えると、実施例１、３、および４の洗浄組成物の有機物質除去効果が、比較例４の洗浄組成物の有機物質除去効果よりも大きいことが分かる。
【０１１２】
それに加え、実施例１の洗浄組成物の有機物質除去効果が、実施例３および４の洗浄組成物の有機物質除去効果より大きいことが分かる。
【０１１３】
［実施例５］
キレート剤として、２質量％の炭酸カルシウムおよび３質量％の炭酸ナトリウムの代わりに、２質量％のＮＴＡのＮａ塩および３質量％のＤＴＰＡのＮａ塩を使用したことを除いて、実施例１と同じように、洗浄組成物を製造した。
【０１１４】
［実施例６］
界面活性剤として、３質量％のＣ１２−（ＥＯＳ）９−（ＰＯＳ）１の代わりに、３質量％のポリオキシメチレンエチルフェノールエーテルを使用したことを除いて、実施例１と同じように、洗浄組成物を製造した。
【０１１５】
［実施例７］
有機溶媒として、２質量％のジエチレングリコールおよび３質量％のトリエチレングリコールの代わりに、４質量％のＴＥＡおよび１質量％のＭＥＡを使用したことを除いて、実施例１と同じように、洗浄組成物を製造した。
【０１１６】
［実施例８］
キレート剤として、２質量％の炭酸カルシウムおよび３質量％の炭酸ナトリウムの代わりに、２質量％のピロリン酸カリウムおよび３質量％のソルビトールを使用したことを除いて、実施例１と同じように、洗浄組成物を製造した。
【０１１７】
［実施例９］
界面活性剤として、３質量％のＣ１２−（ＥＯＳ）９−（ＰＯＳ）１の代わりに、３質量％のポリプロピルグルコシドを使用したことを除いて、実施例１と同じように、洗浄組成物を製造した。
【０１１８】
本開示の実施の形態を、先に詳しく記載してきたが、当業者には、以下の請求項に定義されるその精神および範囲から逸脱せずに、ここに様々な変更を行ってよいことが理解されるであろう。
【０１１９】
ここに記載された実施の形態は、限定の目的のためではなく、説明の意味としてのみ考えられるべきであることを理解すべきである。各実施の形態内の特徴または態様の記載は、典型的に、他の実施の形態における他の同様の特徴または態様に利用できると考えられるべきである。
【０１２０】
１つ以上の実施の形態を、図面を参照して記載してきたが、以下の請求項に定義される本開示の精神および範囲から逸脱せずに、形態および詳細の様々な変更を行ってよいことが当業者には理解されよう。
【０１２１】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【０１２２】
実施形態１
ガラス物品を洗浄するための洗浄組成物において、１００質量％の該洗浄組成物に対して、
約１質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、
約０．１質量％から約１０質量％の範囲の界面活性剤、
約０．１質量％から約１０質量％の範囲のキレート剤、
約０．１質量％から約１０質量％の範囲の有機溶媒、および
約０．１質量％から約１０質量％の範囲の分散安定剤、
を含み、
前記分散安定剤は、下記の式（１）の構造を有し、
【０１２３】
【化１０】
2020532642.tif 000013
【０１２４】
式中、「ｎ」は、１０から５，０００の整数であり、「Ｍ＋」は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の陽イオンであり、「Ｒ−」は、Ｏ−またはＣＯＯ−である、洗浄組成物。
【０１２５】
実施形態２
前記洗浄組成物が、１００質量％の該洗浄組成物に対して、
約５質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、
約２質量％から約５質量％の範囲の界面活性剤、
約３質量％から約８質量％の範囲のキレート剤、
約３質量％から約８質量％の範囲の有機溶媒、および
約０．１質量％から約３質量％の範囲の分散安定剤、
を含む、実施形態１に記載の洗浄組成物。
【０１２６】
実施形態３
前記分散安定剤が、下記の式（１−１）の構造を有し、
【０１２７】
【化１１】
2020532642.tif 000014
【０１２８】
式中、「ｎ」は、５０から１，０００の整数であり、「Ｍ」は、ナトリウムまたはカリウムである、実施形態１に記載の洗浄組成物。
【０１２９】
実施形態４
前記界面活性剤が、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンアリールフェノールエーテル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアミン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリアルキルグルコシド、アルキルアルコールアミン、およびアリールアルコールアミンからなる群より選択される少なくとも１つを含む、実施形態１に記載の洗浄組成物。
【０１３０】
実施形態５
前記界面活性剤が、下記の式（２）の構造を有し、
【０１３１】
【化１２】
2020532642.tif 000015
【０１３２】
式中、「ＣＳ」で表される部分は、１０から１４の炭素数を有する直鎖炭化水素であり、「ＥＯＳ」で表される部分は、エチレンオキシドであり、「ＰＯＳ」で表される部分は、プロピレンオキシドであり、ＥＯＳとＰＯＳは、各々ブロックを形成するか、または互いに交互に生じ、ａ：ｂは７：３から９．５：０．５である、実施形態１に記載の洗浄組成物。
【０１３３】
実施形態６
ＣＳで表される前記部分が、１２の炭素数を有する直鎖炭化水素であり、ａ：ｂが約８．５：１．５から約９．３：０．７である、実施形態５に記載の洗浄組成物。
【０１３４】
実施形態７
前記アルカリが、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）、水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）２）、アンモニア（ＮＨ３）、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、アミノエトキシエタノール、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、水酸化アンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化ブチルアンモニウム、およびコリンヒドロキシドからなる群より選択される少なくとも１つを含む、実施形態１に記載の洗浄組成物。
【０１３５】
実施形態８
前記キレート剤が、
ピロリン酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、グルコン酸ナトリウム、クエン酸、サリチル酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、ピロリン酸、ポリリン酸、ベンゾトリアゾール、ソルビトール、グルコース、カルボン酸ベンゾトリアゾール、およびトリルトリアゾールからなる群より選択される少なくとも１つ；または
ニトリロ−２，２’，２”−三酢酸（ＮＴＡ）、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）、エチレンジニトリロ四酢酸（ＥＤＴＡ）、またはその金属塩；
を含み、
前記金属塩は、カリウム塩またはナトリウム塩を含む、実施形態１に記載の洗浄組成物。
【０１３６】
実施形態９
前記キレート剤が、１００質量％の前記洗浄組成物に対して、約２質量％から約７質量％の範囲のＮＴＡの金属塩および約１質量％から約６質量％の範囲のＤＴＰＡの金属塩を含む、実施形態８に記載の洗浄組成物。
【０１３７】
実施形態１０
ガラス物品を洗浄するための洗浄組成物において、１００質量％の該洗浄組成物に対して、
約５質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、
約２質量％から約５質量％の範囲の界面活性剤、
約３質量％から約８質量％の範囲のキレート剤、
約３質量％から約８質量％の範囲の有機溶媒、および
約０．１質量％から約３質量％の範囲の分散安定剤、
を含み、
前記界面活性剤は、下記の式（２）の構造を有し、
【０１３８】
【化１３】
2020532642.tif 000016
【０１３９】
式中、「ＣＳ」で表される部分は、１０から１４の炭素数を有する直鎖炭化水素であり、「ＥＯＳ」で表される部分は、エチレンオキシドであり、「ＰＯＳ」で表される部分は、プロピレンオキシドであり、ＥＯＳとＰＯＳは、各々ブロックを形成するか、または互いに交互に生じ、ａ：ｂは７：３から９．５：０．５である、洗浄組成物。
【０１４０】
実施形態１１
ガラス基板を洗浄する方法において、
ガラス基板上に洗浄組成物を供給する工程、
摩擦洗浄ユニットを使用して、前記洗浄組成物を前記ガラス基板と接触させて、該ガラス基板の表面を洗浄する工程、および
前記ガラス基板から前記洗浄組成物を除去する工程、
を有してなり、
前記洗浄組成物は、１００質量％の該洗浄組成物に対して、
約５質量％から約２０質量％の範囲のアルカリ、
約２質量％から約５質量％の範囲の界面活性剤、
約３質量％から約８質量％の範囲のキレート剤、
約３質量％から約８質量％の範囲の有機溶媒、および
約０．１質量％から約３質量％の範囲の分散安定剤、
を含む、方法。
【０１４１】
実施形態１２
前記分散安定剤が、下記の式（１）の構造を有し、
【０１４２】
【化１４】
2020532642.tif 000017
【０１４３】
式中、「ｎ」は、１０から５，０００の整数であり、「Ｍ＋」は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の陽イオンであり、「Ｒ−」は、Ｏ−またはＣＯＯ−である、実施形態１１の方法。
【０１４４】
実施形態１３
前記界面活性剤が、下記の式（２）の構造を有し、
【０１４５】
【化１５】
2020532642.tif 000018
【０１４６】
式中、「ＣＳ」で表される部分は、１０から１４の炭素数を有する直鎖炭化水素であり、「ＥＯＳ」で表される部分は、エチレンオキシドであり、「ＰＯＳ」で表される部分は、プロピレンオキシドであり、ＥＯＳとＰＯＳは、各々ブロックを形成するか、または互いに交互に生じ、ａ：ｂは７：３から９．５：０．５である、実施形態１１に記載の方法。
【図１】
2020532642.tif 000026
【図２】
2020532642.tif 000027
【図３】
2020532642.tif 000028
【図４】
2020532642.tif 000029
【国際調査報告】
2020532642.tif 000030
2020532642.tif 000031