(57)【要約】本発明は、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の新規結晶形態、医薬製剤、ならびにウイルス感染の処置におけるその治療的使用に関する。一部の実施形態では、本発明は、固体のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩを対象とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエート、
テノホビルアラフェナミドセバケート、
テノホビルアラフェナミドナプシレート、または
テノホビルアラフェナミドオロテート。
【請求項２】
請求項１に記載のテノホビルアラフェナミドヘミパモエート。
【請求項３】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉである、請求項２に記載の結晶形態。
【請求項４】
約７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、および２２．３°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項３に記載の結晶形態。
【請求項５】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１７．４°、１９．０°、２０．１°、２３．８°、および２５．７°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項４に記載の結晶形態。
【請求項６】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１１．２°、１３．１°、１３．８°、１５．８°、２１．０°、および２８．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項５に記載の結晶形態。
【請求項７】
図１に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項３から５のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項８】
図２に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項３から６のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項９】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩである、請求項２に記載の結晶形態。
【請求項１０】
約５．５°、１０．９°、１６．２°、２２．１°、および２３．２°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項９に記載の結晶形態。
【請求項１１】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約２４．１°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項９に記載の結晶形態。
【請求項１２】
図３に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項９から１１のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項１３】
図４に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項９から１２のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項１４】
請求項１に記載のテノホビルアラフェナミドセバケート。
【請求項１５】
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉである、請求項１４に記載の結晶形態。
【請求項１６】
約５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、および１９．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項１５に記載の結晶形態。
【請求項１７】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°、および２２．１°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項１６に記載の結晶形態。
【請求項１８】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１１．７°、１２．６°、２０．９°、２３．４°、２３．８°、２６．２°、２８．２°、および２９．０°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項１７に記載の結晶形態。
【請求項１９】
図５に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項１５から１８のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項２０】
図６に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項１５から１９のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項２１】
請求項１に記載のテノホビルアラフェナミドナプシレート。
【請求項２２】
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉである、請求項２１に記載の結晶形態。
【請求項２３】
約３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、および１９．２°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項２２に記載の結晶形態。
【請求項２４】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°、および２７．２°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項２３に記載の結晶形態。
【請求項２５】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約９．８°、１３．２°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、２３．０°、２４．１°、および２６．０°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項２４に記載の結晶形態。
【請求項２６】
図７に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項２２から２５のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項２７】
図８に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項２３から２６のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項２８】
請求項１に記載のテノホビルアラフェナミドオロテート。
【請求項２９】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉである、請求項２８に記載の結晶形態。
【請求項３０】
約３．０°、５．９°、８．９°、および１１．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項２９に記載の結晶形態。
【請求項３１】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°、および２１．５°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項３０に記載の結晶形態。
【請求項３２】
図９に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項２９から３１のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項３３】
図１０に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項２９から３２のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項３４】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩである、請求項２８に記載の結晶形態。
【請求項３５】
約３．４°、６．９°、１０．３°、および１３．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項３４に記載の結晶形態。
【請求項３６】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１５．４°、１７．３°、１９．０°、２２．８°、および２９．０°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項３５に記載の結晶形態。
【請求項３７】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１８．４°、および２１．６°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項３６に記載の結晶形態。
【請求項３８】
図１１に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項３４から３７のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項３９】
図１２に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項３４から３８のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項４０】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩである、請求項２８に記載の結晶形態。
【請求項４１】
約３．８°、９．４°、１２．４°、１５．７°、および１９．０°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項４０に記載の結晶形態。
【請求項４２】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約８．３°、１６．４°、２４．５°、２６．６°、および２８．９°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項４１に記載の結晶形態。
【請求項４３】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約６．９°、２２．８°、および２７．６°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項４２に記載の結晶形態。
【請求項４４】
図１３に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項４０から４３のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項４５】
図１４に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項４０から４３のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項４６】
治療有効量の、請求項１から４５のいずれか一項に記載の形態と、薬学的に許容される賦形剤とを含む医薬組成物。
【請求項４７】
１から３つの追加の治療剤をさらに含む、請求項４６に記載の医薬組成物。
【請求項４８】
前記追加の治療剤が、それぞれ、ＨＩＶに対して活性である、請求項４７に記載の医薬組成物。
【請求項４９】
単位剤形である、請求項４６から４８のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項５０】
前記単位剤形が、皮下注射剤である、請求項４９に記載の医薬組成物。
【請求項５１】
治療有効量の、請求項１から４５のいずれか一項に記載の形態を、薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製される医薬組成物。
【請求項５２】
ＨＩＶ感染を処置するための、請求項１から４５のいずれか一項に記載の形態の使用。
【請求項５３】
治療有効量の、請求項１から４７のいずれか一項に記載の形態を、それを必要とするヒトに投与することを含む、ヒトのウイルス感染を処置するための方法。
【請求項５４】
前記ウイルス感染が、ＨＩＶによって引き起こされる、請求項５３に記載のヒトのウイルス感染を処置するための方法。
【請求項５５】
ＨＩＶによって引き起こされる感染を処置するための方法において使用するための、請求項１から４５のいずれか一項に記載の形態。
【請求項５６】
テノホビルアラフェナミドバニレート、または
テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエート。
【請求項５７】
テノホビルアラフェナミドバニレートである、請求項５６に記載の結晶形態。
【請求項５８】
約６．６°、９．３°、１４．２°、１５．２°、１９．０°、および２２．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折パターンによって特徴付けられる、請求項５７に記載の結晶形態。
【請求項５９】
約１０．８°、１２．３°、１８．４°、１９．８°、２２．１°、２５．０°、および３２．４°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折パターンによって特徴付けられる、請求項５７に記載の結晶形態。
【請求項６０】
図１５に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項５６から５９のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項６１】
図１６に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項５６から６０のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項６２】
テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートである、請求項５６に記載の結晶形態。
【請求項６３】
約４．５°、８．９°、１１．２°、１４．４°、１５．４°、１８．８°、２１．７°、および２５．５°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折パターンによって特徴付けられる、請求項６２に記載の結晶形態。
【請求項６４】
約７．７°、１４．７°、２１．９°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折パターンによって特徴付けられる、請求項６２に記載の結晶形態。
【請求項６５】
図１７に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項６２から６４のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項６６】
図１８に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項６２から６５のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項６７】
治療有効量の、請求項５６から６６のいずれか一項に記載の形態と、薬学的に許容される賦形剤とを含む医薬組成物。
【請求項６８】
１から３つの追加の治療剤をさらに含む、請求項６７に記載の医薬組成物。
【請求項６９】
前記追加の治療剤が、それぞれ、ＨＩＶに対して活性である、請求項６８に記載の医薬組成物。
【請求項７０】
単位剤形である、請求項５６から６６のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項７１】
前記単位剤形が、皮下注射剤である、請求項７０に記載の医薬組成物。
【請求項７２】
治療有効量の、請求項５６から６６のいずれか一項に記載の形態を、薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製される医薬組成物。
【請求項７３】
ＨＩＶ感染を処置するための、請求項５６から６６のいずれか一項に記載の形態の使用。
【請求項７４】
治療有効量の、請求項５６から６６のいずれか一項に記載の形態を、それを必要とするヒトに投与することを含む、ヒトのウイルス感染を処置するための方法。
【請求項７５】
前記ウイルス感染が、ＨＩＶによって引き起こされる、請求項７４に記載のヒトのウイルス感染を処置するための方法。
【請求項７６】
ＨＩＶによって引き起こされる感染を処置するための方法において使用するための、請求項５６から６６のいずれか一項に記載の形態。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願への相互参照
本出願は、２０１７年１月３１日に出願された米国仮出願第６２／４５２，４２８号の利益を主張し、当該出願の開示は、その全体が参考として援用される。
【０００２】
本発明は、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の新規結晶形態、ならびにその医薬製剤および治療的使用に関する。
【背景技術】
【０００３】
ＰＣＴ公開第ＷＯ２００２／００８２４１号で論じられるように、テノホビルアラフェナミドは、抗ウイルス活性を実証する。
【０００４】
テノホビルアラフェナミドは、以下の構造：
【化１】
2020505411.tif 000002
を有する。
適切な化学的および物理的安定性を有するテノホビルアラフェナミドの安定形態が所望される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２００２／００８２４１号
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
一部の実施形態では、本発明は、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の新規結晶形態を対象とする。
【０００７】
一部の実施形態では、本発明は、固体のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩを対象とする。
【０００８】
一部の実施形態では、本発明は、固体のテノホビルアラフェナミドセバケートを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉを対象とする。
【０００９】
一部の実施形態では、本発明は、固体のテノホビルアラフェナミドナプシレートを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉを対象とする。
【００１０】
一部の実施形態では、本発明は、固体のテノホビルアラフェナミドオロテートを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩを対象とする。
【００１１】
一部の実施形態では、本発明は、固体のテノホビルアラフェナミドバニレートを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートを対象とする。
【００１２】
一部の実施形態では、本発明は、固体のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを対象とする。一部の実施形態では、本発明は、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを対象とする。
【００１３】
一部の実施形態では、本発明は、治療有効量の、本明細書において提供されるテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶を投与することによって、ＨＩＶ感染を処置する方法を対象とする。
【００１４】
一部の実施形態では、本発明は、ＨＩＶ感染を処置する方法における使用のための、本明細書において提供されるテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶を対象とする。
【００１５】
一部の実施形態では、本発明は、ＨＩＶ感染を処置するための医薬の製造における、本明細書において提供されるテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の使用を対象とする。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩのＸＲＰＤパターンを示す。
【００１７】
【図２】図２は、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩのＤＳＣサーモグラムを示す。
【００１８】
【図３】図３は、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩのＸＲＰＤパターンを示す。
【００１９】
【図４】図４は、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩのＤＳＣサーモグラムを示す。
【００２０】
【図５】図５は、テノホビルアラフェナミドセバケートの形態ＩのＸＲＰＤパターンを示す。
【００２１】
【図６】図６は、テノホビルアラフェナミドセバケートの形態ＩのＤＳＣサーモグラムを示す。
【００２２】
【図７】図７は、テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態ＩのＸＲＰＤパターンを示す。
【００２３】
【図８】図８は、テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態ＩのＤＳＣサーモグラムを示す。
【００２４】
【図９】図９は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩのＸＲＰＤパターンを示す。
【００２５】
【図１０】図１０は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩのＤＳＣサーモグラムを示す。
【００２６】
【図１１】図１１は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩのＸＲＰＤパターンを示す。
【００２７】
【図１２】図１２は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩのＤＳＣサーモグラムを示す。
【００２８】
【図１３】図１３は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩのＸＲＰＤパターンを示す。
【００２９】
【図１４】図１４は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩのＤＳＣサーモグラムを示す。
【００３０】
【図１５】図１５は、テノホビルアラフェナミドバニレートのＸＲＰＤパターンを示す。
【００３１】
【図１６】図１６は、テノホビルアラフェナミドバニレートのＤＳＣサーモグラムを示す。
【００３２】
【図１７】図１７は、テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートのＸＲＰＤパターンを示す。
【００３３】
【図１８】図１８は、テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートのＤＳＣサーモグラムを示す。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下の記載において、ある特定の詳述は、本発明の種々の実施形態の全体的理解を提供するために示される。しかし、当業者は、これらの詳述なしに本発明を実践することができることを理解するであろう。いくつかの実施形態についての以下の記載は、本開示が特許請求される主題の例示とみなされるべきであり、添付の特許請求の範囲を例証された具体的な実施形態に限定することを意図するものではないことを理解して、なされる。この開示全体を通して使用される見出しは、便宜上、提供されるに過ぎず、特許請求の範囲をいかなるようにも限定するものと解釈されるべきではない。任意の見出しの下に例証される実施形態は、任意の他の見出しの下に例証される実施形態と組み合わせることができる。
定義
【００３５】
文脈で別段に要求されていなければ、本明細書および特許請求の範囲の全体を通して、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅ）」という語およびその変形、例えば、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」および「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、オープンな、包括的意味、すなわち、「含むが、これらに限定されない」として解釈されるべきである。
【００３６】
この明細書全体を通して、「一実施形態」または「ある実施形態」への言及は、実施形態と関連して記載される特定の特色、構造または特徴が、本発明の少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味する。したがって、この明細書全体を通して、様々な箇所における「一実施形態では」または「ある実施形態では」という句の出現は、必ずしもすべてが同じ実施形態を指すわけではない。さらに、特定の特色、構造、または特徴は、１つまたは複数の実施形態において任意の適切な方式で組み合わせることができる。
【００３７】
この明細書全体を通して、「化合物」への言及が、本明細書に開示されているテノホビルアラフェナミドの固体、結晶、塩、および共結晶形態を含むという実施形態。
【００３８】
「化合物」または「本明細書に記載の化合物」の出現または句は、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶を指す。したがって、「テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶」は、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉ、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩ、テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉ、テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉ、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉ、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩ、およびテノホビルアラフェナミドの形態ＩＩＩを含む。
【００３９】
さらに、「テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶」は、テノホビルアラフェナミドバニレートおよびテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを含む。
【００４０】
本明細書に開示されている本発明はまた、異なる原子質量または質量数を有する原子によって置き換えられた１つまたは複数の原子を有することによって同位体標識されたテノホビルアラフェナミドのすべての薬学的に許容される塩および／または共結晶を包含することを意味する。本開示の化合物に取り込むことができる同位体の例として、水素、炭素、窒素、酸素、リン、フッ素、塩素、およびヨウ素の同位体、例えば、それぞれ、２Ｈ、３Ｈ、１１Ｃ、１３Ｃ、１４Ｃ、１３Ｎ、１５Ｎ、１５Ｏ、１７Ｏ、１８Ｏ、３１Ｐ、３２Ｐ、３５Ｓ、１８Ｆ、３６Ｃｌ、１２３Ｉ、および１２５Ｉが挙げられる。これらの放射標識化合物は、例えば、作用部位もしくは作用モード、または作用の薬理学的に重要な部位に対する結合親和性を特徴付けることによって、上記化合物の有効性を決定または測定するのを助けるのに有用であり得る。ある特定のテノホビルアラフェナミドの同位体標識された塩および／または共結晶、例えば、放射性同位体を取り込んでいるものは、薬物および／または基質組織分布研究に有用である。放射性同位体であるトリチウム、すなわち、３Ｈ、および炭素−１４、すなわち、１４Ｃは、これらの取り込みの容易さおよびすぐに検出できる手段であるという点から、この目的に特に有用である。
【００４１】
より重い同位体、例えば、重水素、すなわち、２Ｈによる置換によって、より高い代謝安定性からもたらされるある特定の治療利益が与えられ得る。例えば、ｉｎ  ｖｉｖｏ半減期が増加する場合があり、または投薬必要量が低減する場合がある。したがって、より重い同位体は、一部の状況で好ましい場合がある。
【００４２】
１１Ｃ、１８Ｆ、１５Ｏおよび１３Ｎなどのポジトロン放出同位体による置換は、基質受容体占有を調査するためのポジトロン放出断層撮影（ＰＥＴ）研究において有用であり得る。テノホビルアラフェナミドの同位体標識された塩および／または共結晶は、一般的に、当業者に公知の従来技術によって、または以前に用いられた非標識試薬の代わりに適当な同位体標識試薬を使用して、以下に示す実施例に記載のプロセスと類似のプロセスによって調製することができる。
【００４３】
「安定な化合物」および「安定な構造」は、反応混合物からの有用な純度への単離、および効き目のある治療剤への製剤化に耐え抜くほどに十分丈夫な化合物を示すことを意味する。
【００４４】
「必要に応じた」または「必要に応じて」は、次に記載された事象または状況が起こっても起こらなくてもよいこと、およびその記載が、前記事象または状況が起こる例および起こらない例を含むことを意味する。例えば、「必要に応じて置換されたアリール」は、アリールラジカルが置換されていても置換されていなくてもよいこと、およびその記載は、置換されたアリールラジカルと置換を有さないアリールラジカルの両方を含むことを意味する。
【００４５】
「薬学的に許容される賦形剤」として、限定されないが、米国食品医薬品局（Ｕｎｉｔｅｄ  Ｓｔａｔｅｓ  Ｆｏｏｄ  ａｎｄ  Ｄｒｕｇ  Ａｄｍｉｎｉｓｔｒａｔｉｏｎ）によってヒトまたは飼育動物における使用に許容されるとして承認された、任意のアジュバント、担体、賦形剤、滑剤、甘味剤、希釈剤、保存剤、染料／着色剤、香味増強剤、界面活性剤、湿潤剤、分散剤、懸濁化剤、安定剤、等張剤、溶媒、および／もしくは乳化剤、または上記のうちの１つまたは複数の組合せが挙げられる。
【００４６】
「医薬組成物」は、本発明の化合物（例えば、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶）および、哺乳動物、例えば、ヒトに対する生物学的に活性な化合物の送達のために、当技術分野で一般的に許容される媒体の製剤を指す。このような媒体として、それらにとって薬学的に許容される賦形剤のすべてが挙げられる。
【００４７】
「有効量」または「治療有効量」は、それを必要とする患者に投与された場合に、本発明による化合物が有用性を有する疾患状態、状態、または障害に対する処置を行うのに十分な、該化合物の量を指す。このような量は、研究者または臨床医によって求められる組織系、または患者の生物学的または医学的応答を誘発するのに十分であろう。治療有効量を構成する本発明による化合物の量は、該化合物およびその生物学的活性、投与に使用される組成物、投与時間、投与経路、該化合物の排出速度、処置の期間、処置される疾患状態または障害のタイプおよびその重症度、本発明の化合物と組み合わせてまたは同時に使用される薬物、ならびに患者の年齢、体重、全身の健康、性別および食事などの因子に応じて変わる。このような治療有効量は、自身の知識、最新の技術水準、およびこの開示を考慮して当業者が日常的に決定することができる。
【００４８】
「処置すること（ｔｒｅａｔｉｎｇ）」という用語は、本明細書で使用する場合、別段指定されていなければ、このような用語が適用される障害もしくは状態、またはこのような障害もしくは状態の１つもしくは複数の症状を回復させること、緩和すること、その進行を阻害すること、または防止することを意味する。「処置（ｔｒｅａｔｍｅｎｔ）」という用語は、本明細書で使用する場合、「処置すること」がすぐ上で定義されるように、処置するという行為を指す。ある特定の実施形態では、「処置」という用語は、ＨＩＶ感染の症状を緩和するかもしくは排除するおよび／または患者のウイルス負荷を低減するための本発明による化合物または組成物の投与を意味することを意図する。ある特定の実施形態では、「処置」という用語は、本明細書で使用する場合、ＨＩＶ感染の症状を緩和するかもしくは排除するおよび／または患者のウイルス負荷を低減するための本発明による化合物または組成物の投与を意味することを意図する。ある特定の実施形態では、「処置」という用語は、本明細書で使用する場合、患者のウイルス負荷の低減を維持するための本発明による化合物または組成物の投与を意味することをさらにまたは代わりに意図する。ある特定の実施形態では、「処置」という用語は、本明細書で使用する場合、ファーストライン治療に対する次のまたは追加の治療（例えば、低ウイルス負荷の維持のため）として、個体のウイルスへの曝露後の本発明による化合物または組成物の投与を意味することをさらにまたは代わりに意図する。
【００４９】
「防止」または「防止すること」は、疾患または状態の臨床症状が発症しないようにする疾患または状態の任意の処置を意味する。「防止」という用語はまた、疾患の症状の出現を防止するために、および／またはウイルスが血中で検出可能レベルに達するのを防止するために、個体のウイルスへの曝露前の（例えば、曝露前予防）、治療有効量の本発明による化合物または組成物の投与も包含する。
【００５０】
「対象」または「患者」という用語は、処置、観察または実験の目標物となったかまたは目標物となるであろう哺乳動物（ヒトを含む）などの動物を指す。本明細書に記載の方法は、ヒトの治療および／または獣医学的適用に有用であり得る。一部の実施形態では、対象は、哺乳動物（または患者）である。一部の実施形態では、対象（または患者）は、ヒト、飼育動物（例えば、イヌおよびネコ）、家畜動物（例えば、ウシ、ウマ、ヒツジ、ヤギおよびブタ）、および／または実験動物（例えば、マウス、ラット、ハムスター、モルモット、ブタ、ウサギ、イヌおよびサル）である。一部の実施形態では、対象（または患者）は、ヒトである。「それを必要とするヒト（または患者）」は、ある特定の処置、例えば、本出願により本明細書に開示されている化合物で処置されることから利益を受け得る疾患または状態を有し得る、または有することが疑われるヒトを指す。
【００５１】
「抗ウイルス剤」という用語は、本明細書で使用する場合、これらに限定されないが、人類におけるウイルスの形成および／または複製に必要な宿主またはウイルスの機序のいずれかを妨げる薬剤を含む、人類におけるウイルスの形成および／または複製を阻害するのに有効な薬剤（化合物または生物学的製剤）を意味することを意図する。
【００５２】
「ＨＩＶ複製の阻害剤」という用語は、本明細書で使用する場合、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ、ｅｘ  ｖｉｖｏまたはｉｎ  ｖｉｖｏで、宿主細胞において複製するＨＩＶの能力を低減するかまたは排除することができる薬剤を意味することを意図する。
【００５３】
本明細書において「約」値またはパラメータへの言及は、その値またはパラメータ自体を対象とする実施形態を含む（および記載する）。例えば、「約Ｘ」に関する記載は、「Ｘ」の記載を含む。また、単数形「１つの（ａ）」および「その（ｔｈｅ）」は、文脈が別段明示していなければ、複数の参照物を含む。したがって、例えば、「化合物」への言及は、複数のこのような化合物を含み、「アッセイ」への言及は、１つまたは複数のアッセイおよび当業者に公知のその均等物への言及を含む。
【００５４】
「薬学的に許容される」または「生理学的に許容される」は、獣医学またはヒトの薬学的使用に適する医薬組成物を調製するのに有用な化合物、塩、組成物、剤形および他の材料を指す。
【００５５】
「単位剤形」は、対象（例えば、ヒト対象および他の哺乳動物）に対する単位投薬量として適切な物理的に別個の単位であり、各単位は、適切な医薬賦形剤と共に、所望の治療効果をもたらすように計算された所定量の活性材料を含有する。
【００５６】
「実質的に示される」という用語は、例えば、ＸＲＰＤパターン、またはＤＳＣサーモグラムに言及する場合、本明細書で示したものと必ずしも同一ではないが、当業者に考慮された場合に、実験誤差または偏差の限度内にあるサーモグラムまたはグラフを指す。
【００５７】
一部の実施形態では、化合物の特定の結晶形態に関する「実質的に純粋な」または「実質的に含まない」という用語は、結晶形態を含む組成物が、他の結晶形態および／または不純物を含む、他の物質の重量の９９％未満、９５％未満、９０％未満、８５％未満、８０％未満、７５％未満、７０％未満、６５％未満、６０％未満、５５％未満、５０％未満、４０％未満、３０％未満、２０％未満、１５％未満、１０％未満、５％未満、または１％未満を含有することを意味する。ある特定の実施形態では、「実質的に純粋な」または「〜を実質的に含まない」は、他の結晶形態および／または不純物を含む、他の物質を含まない物質を指す。不純物は、例えば、化学反応に由来する副産物または残った試薬、夾雑物、分解産物、他の結晶形態、水、および溶媒を含んでもよい。
テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の結晶形態
【００５８】
テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の合成に有用であり得るテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の結晶形態を開発することが望ましい。テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の結晶形態は、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の合成に対する中間体であり得る。結晶形態は、医学的または薬学的使用に適し得る、ある特定の条件でバイオアベイラビリティー、安定性、純度、および／または製造性などの特性を有し得る。
【００５９】
実質的に純粋な形態を含む、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の結晶形態は、医薬組成物における有効成分として使用するのに適するバイオアベイラビリティーおよび安定性という利点をもたらすことができる。薬学的薬物物質または有効成分の結晶構造の変化は、薬学的薬物製品または有効成分の溶解速度（バイオアベイラビリティーなどに影響を及ぼし得る）、製造性（例えば、取り扱いやすさ、公知の強度の用量を一貫して調製できること）、および安定性（例えば、熱安定性、貯蔵寿命など）に影響を及ぼし得る。このような変化は、液剤または錠剤およびカプセル剤を含む固体の経口剤形などの異なる剤形または送達形態の医薬組成物の調製または製剤化に影響を及ぼし得る。非結晶形態または非晶質形態などの他の形態と比較して、結晶形態は、所望のまたは適切な吸湿性、粒径制御、溶解速度、溶解度、純度、物理的および化学的安定性、製造性、収率、ならびに／またはプロセス制御を提供し得る。したがって、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の結晶形態は、化合物の製造プロセス、化合物の薬物製品形態の安定性もしくは保存性、化合物の薬物物質の安定性もしくは保存性ならびに／または活性剤としての化合物のバイオアベイラビリティーおよび／もしくは安定性を改善するなどの利点をもたらし得る。
【００６０】
ある特定の溶媒および／またはプロセスの使用によって、上記の１つまたは複数の好ましい特徴を呈することができる本明細書に記載のテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の様々な結晶形態を生じることが分かっている。本明細書に記載の結晶形態の調製のためのプロセスおよびこれらの結晶形態の特徴について、以下に詳細に記載する。
【００６１】
当業者は、化合物の構造が、一般的に認識された命名法のシステムおよび記号を使用して命名されるかまたは特定され得ることを理解する。例として、化合物は、一般名、系統名または非系統名で命名されるかまたは特定され得る。化学の技術分野で一般的に認識されている命名法のシステムおよび記号として、これらに限定されないが、Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ａｂｓｔｒａｃｔ  Ｓｅｒｖｉｃｅ（ＣＡＳ）および国際純正・応用化学連合（Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｕｎｉｏｎ  ｏｆ  Ｐｕｒｅ  ａｎｄ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）（ＩＵＰＡＣ）が挙げられる。したがって、上で提供されるテノホビルアラフェナミドについての化合物構造はまた、ＩＵＰＡＣおよびＣＡＳ登録番号３７９２７０−３７−８下で（Ｓ）−イソプロピル２−（（（Ｓ）−（（（（Ｒ）−１−（６−アミノ−９Ｈ−プリン−９−イル）プロパン−２−イル）オキシ）メチル）（フェノキシ）ホスホリル）アミノ）プロパノエートとしても命名されるかまたは特定され得る。
【００６２】
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの固体の塩および／または共結晶が開示される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の結晶形態が開示される。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエート
【００６３】
一部の実施形態では、固体のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートが提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの結晶形態が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉが提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩが提供される。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉ
【００６４】
一部の実施形態では、結晶構造が、図１に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、図２に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）サーモグラムを呈し得る。
【００６５】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、（ａ）〜（ｂ）の少なくとも１つ、または両方に当てはまる：（ａ）結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉが図１に実質的に示されるＸＲＰＤパターンを有する；（ｂ）結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉが図２に実質的に示されるＤＳＣサーモグラムを有する。
【００６６】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、以下の特性：
図１に実質的に示されるＸＲＰＤパターン
図２に実質的に示されるＤＳＣサーモグラム
を有する。
【００６７】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、図１に実質的に示されるＸＲＰＤパターンとして、最大強度を有する度２θでの反射のうちの少なくとも２つ、少なくとも３つ、少なくとも４つ、少なくとも５つ、少なくとも６つ、少なくとも７つ、または少なくとも８つを示すＸＲＰＤパターンを有する。
【００６８】
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、および２２．３°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、および２２．３°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、および２２．３°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、および２２．３°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、および２２．３°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの３つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、および２２．３°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの４つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、２２．３°、１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
【００６９】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１１．２°、１３．１°、１３．８°、１４．８°、１５．８°、１７．４°、１９．０°、２０．１°、２１．０°、２２．３°、２３．８°、２５．７°、および２８．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
【００７０】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、２２．３°、１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２１．０°、１５．８°、１１．２°、２８．８°、１３．１°、３０．６°、３２．９°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、２２．３°、１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２１．０°、１５．８°、１１．２°、２８．８°、１３．１°、３０．６°、３２．９°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、２２．３°、１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２１．０°、１５．８°、１１．２°、２８．８°、１３．１°、３０．６°、３２．９°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、２２．３°、１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２１．０°、１５．８°、１１．２°、２８．８°、１３．１°、３０．６°、３２．９°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの３つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、２２．３°、１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２１．０°、１５．８°、１１．２°、２８．８°、１３．１°、３０．６°、３２．９°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの４つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、２２．３°、１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２１．０°、１５．８°、１１．２°、２８．８°、１３．１°、３０．６°、３２．９°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの５つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、２２．３°、１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２１．０°、１５．８°、１１．２°、２８．８°���１３．１°、３０．６°、３２．９°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの６つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、２２．３°、１９．０°、２５．７°、２０．１°、２３．８°および１７．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２１．０°、１５．８°、１１．２°、２８．８°、１３．１°、３０．６°、３２．９°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの７つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１１．２°、１３．１°、１３．８°、１４．８°、１５．８°、１７．４°、１９．０°、２０．１°、２１．０°、２２．３°、２３．８°、２５．７°、２８．８°、３０．６°、および３２．９°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１１．２°、１３．１°、１３．８°、１４．８°、１５．８°、１７．４°、１９．０°、２０．１°、２１．０°、２２．３°、２３．８°、２５．７°、２８．８°、３０．６°、および３２．９°からなる群から選択される任意の５つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１１．２°、１３．１°、１３．８°、１４．８°、１５．８°、１７．４°、１９．０°、２０．１°、２１．０°、２２．３°、２３．８°、２５．７°、２８．８°、３０．６°、および３２．９°からなる群から選択される任意の７つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、７．４°、８．４°、１０．６°、１１．２°、１３．１°、１３．８°、１４．８°、１５．８°、１７．４°、１９．０°、２０．１°、２１．０°、２２．３°、２３．８°、２５．７°、２８．８°、３０．６°、および３２．９°からなる群から選択される任意の１０個の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩ
【００７１】
一部の実施形態では、結晶構造が、図３に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩは、図４に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）サーモグラムを呈し得る。
【００７２】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩは、（ａ）〜（ｂ）の少なくとも１つ、または両方に当てはまる：（ａ）結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩが図３に実質的に示されるＸＲＰＤパターンを有する；（ｂ）結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩが図４に実質的に示されるＤＳＣサーモグラムを有する。
【００７３】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩは、以下の特性：
図３に実質的に示されるＸＲＰＤパターン
図４に実質的に示されるＤＳＣサーモグラム
を有する。
【００７４】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩは、図３に実質的に示されるＸＲＰＤパターンとして、最大強度を有する度２θでの反射のうちの少なくとも２つ、少なくとも３つ、少なくとも４つ、少なくとも５つ、少なくとも６つ、少なくとも７つ、または少なくとも８つを示すＸＲＰＤパターンを有する。
【００７５】
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩは、５．５°、１０．９°、１６．２°、２２．１°、および２３．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩは、５．５°、１０．９°、１６．２°、２２．１°、および２３．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２４．１°、２７．６°、および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩは、５．５°、１０．９°、１６．２°、２２．１°、および２３．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２４．１°、２７．６°、および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩは、５．５°、１０．９°、１６．２°、２２．１°、および２３．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２４．１°、２７．６°、および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩは、５．５°、１０．９°、１６．２°、２２．１°、２３．２°、および２４．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩは、５．５°、１０．９°、１６．２°、２２．１°、２３．２°、２４．１°、２７．６°、および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）含むＸＲＰＤパターンを有する。
【００７６】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩは、５．５°、１０．９°、１６．２°、２２．１°、２３．２°、２４．１°、２７．６°、および２９．０°からなる群から選択される任意の５つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、５．５°、１０．９°、１６．２°、２２．１°、２３．２°、２４．１°、２７．６°、および２９．０°からなる群から選択される任意の７つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドセバケート
【００７７】
一部の実施形態では、固体のテノホビルアラフェナミドセバケートが提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドセバケートの結晶形態が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉが提供される。
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉ
【００７８】
一部の実施形態では、結晶構造が、図５に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、図６に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）サーモグラムを呈し得る。
【００７９】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、以下の（ａ）〜（ｂ）の少なくとも１つ、少なくとも２つ、またはすべてに当てはまる：（ａ）結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉが図５に実質的に示されるＸＲＰＤパターンを有する；（ｂ）結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉが図６に実質的に示されるＤＳＣサーモグラムを有する。
【００８０】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、以下の特性：
図５に実質的に示されるＸＲＰＤパターン
図６に実質的に示されるＤＳＣサーモグラム
を有する。
【００８１】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、図５に実質的に示されるＸＲＰＤパターンとして、最大強度を有する度２θでの反射のうちの少なくとも２つ、少なくとも３つ、少なくとも４つ、少なくとも５つ、少なくとも６つ、少なくとも７つ、または少なくとも８つを示すＸＲＰＤパターンを有する。
【００８２】
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、および１９．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、および１９．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、および１９．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、および１９．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、および１９．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの３つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、および１９．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの４つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°、１９．８°、および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
【００８３】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°、１９．８°、および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１１．７°、１２．６°、２０．９°、２３．４°、２３．８°、２６．２°、２８．２°、および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°、１９．８°、および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１１．７°、１２．６°、２０．９°、２３．４°、２３．８°、２６．２°、２８．２°、および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°、１９．８°、および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１１．７°、１２．６°、２０．９°、２３．４°、２３．８°、２６．２°、２８．２°、および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°、１９．８°、および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１１．７°、１２．６°、２０．９°、２３．４°、２３．８°、２６．２°、２８．２°、および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの３つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°、１９．８°、および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１１．７°、１２．６°、２０．９°、２３．４°、２３．８°、２６．２°、２８．２°、および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの４つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°、１９．８°、および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１１．７°、１２．６°、２０．９°、２３．４°、２３．８°、２６．２°、２８．２°、および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの５つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°、１９．８°、および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１１．７°、１２．６°、２０．９°、２３．４°、２３．８°、２６．２°、２８．２°、および���９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの６つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°、１９．８°、および２２．１°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１１．７°、１２．６°、２０．９°、２３．４°、２３．８°、２６．２°、２８．２°、および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの７つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、１１．７°、１２．６°、１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°、１９．８°、２０．９°、２２．１°、２３．４°、２３．８°、２６．２°、２８．２°、および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、１０．５°、１１．７°、１２．６°、１４．０°、１４．８°、１５．７°、１６．９°、１８．７°、１９．３°、１９．８°、２０．９°、２１．６°、２２．１°、２２．９°、２３．４°、２３．８°、２５．３°、２６．２°、２６．５°、２７．４°、２８．２°、２８．７°、２９．０°、３３．３°、および３７．９°からなる群から選択される任意の５つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、１０．５°、１１．７°、１２．６°、１４．０°、１４．８°、１５．７°、１６．９°、１８．７°、１９．３°、１９．８°、２０．９°、２１．６°、２２．１°、２２．９°、２３．４°、２３．８°、２５．３°、２６．２°、２６．５°、２７．４°、２８．２°、２８．７°、２９．０°、３３．３°、および３７．９°からなる群から選択される任意の７つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、１０．５°、１１．７°、１２．６°、１４．０°、１４．８°、１５．７°、１６．９°、１８．７°、１９．３°、１９．８°、２０．９°、２１．６°、２２．１°、２２．９°、２３．４°、２３．８°、２５．３°、２６．２°、２６．５°、２７．４°、２８．２°、２８．７°、２９．０°、３３．３°、および３７．９°からなる群から選択される任意の１０個の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドナプシレート
【００８４】
一部の実施形態では、固体のテノホビルアラフェナミドナプシレートが提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドナプシレートの結晶形態が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉが提供される。
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉ
【００８５】
一部の実施形態では、結晶構造が、図７に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、図８に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）サーモグラムを呈し得る。
【００８６】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、以下の（ａ）〜（ｂ）の少なくとも１つ、またはすべてに当てはまる：（ａ）結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉが図７に実質的に示されるＸＲＰＤパターンを有する；（ｂ）結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉが図８に実質的に示されるＤＳＣサーモグラムを有する。
【００８７】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、以下の特性：
図７に実質的に示されるＸＲＰＤパターン
図８に実質的に示されるＤＳＣサーモグラム
を有する。
【００８８】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、図７に実質的に示されるＸＲＰＤパターンとして、最大強度を有する度２θでの反射のうちの少なくとも２つ、少なくとも３つ、少なくとも４つ、少なくとも５つ、少なくとも６つ、少なくとも７つ、または少なくとも８つを示すＸＲＰＤパターンを有する。
【００８９】
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、および１９．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、および１９．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、および１９．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、および１９．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、および１９．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの３つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、および１９．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの４つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、１９．２°、１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
【００９０】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、１９．２°、１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに９．８°、１３．２°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、２３．０°、２４．１°、および２６．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、１９．２°、１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに９．８°、１３．２°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、２３．０°、２４．１°、および２６．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、１９．２°、１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに９．８°、１３．２°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、２３．０°、２４．１°、および２６．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、１９．２°、１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに９．８°、１３．２°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、２３．０°、２４．１°、および２６．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの３つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、１９．２°、１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに９．８°、１３．２°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、２３．０°、２４．１°、および２６．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの４つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、１９．２°、１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに９．８°、１３．２°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、２３．０°、２４．１°、および２６．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの５つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、１９．２°、１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに９．８°、１３．２°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、２３．０°、２４．１°、および２６．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの６つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、１９．２°、１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに９．８°、１３．２°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、２３．０°、２４．１°、および２６．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの７つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、９．８°、１３．２°、１３．６°、１５．３°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、１９．２°、１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．０°、２３．８°、２４．１°、２６．０°、および２７．２°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、９．８°、１０．３°、１１．６°、１３．２°、１３．６°、１５．３°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、１８．２°、１９．２°、１９．４°、１９．８°、２０．１°、２０．６°、２３．０°、２３．３°、２３．８°、２４．１°、２４．５°、２６．０°、２７．２°、２８．３°、２９．５°、３２．２°、３４．３°、３５．２°、３６．９°、３８．２°、および３９．２°からなる群から選択される任意の５つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、９．８°、１０．３°、１１．６°、１３．２°、１３．６°、１５．３°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、１８．２°、１９．２°、１９．４°、１９．８°、２０．１°、２０．６°、２３．０°、２３．３°、２３．８°、２４．１°、２４．５°、２６．０°、２７．２°、２８．３°、２９．５°、３２．２°、３４．３°、３５．２°、３６．９°、３８．２°、および３９．２°からなる群から選択される任意の７つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、３．９°、７．８°、９．８°、１０．３°、１１．６°、１３．２°、１３．６°、１５．３°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、１８．２°、１９．２°、１９．４°、１９．８°、２０．１°、２０．６°、２３．０°、２３．３°、２３．８°、２４．１°、２４．５°、２６．０°、２７．２°、２８．３°、２９．５°、３２．２°、３４．３°、３５．２°、３６．９°、３８．２°、および３９．２°からなる群から選択される任意の１０個の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドオロテート
【００９１】
一部の実施形態では、固体のテノホビルアラフェナミドオロテートが提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートの結晶形態が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉが提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩが提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩが提供される。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉ
【００９２】
一部の実施形態では、結晶構造が、図９に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、図１０に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）サーモグラムを呈し得る。
【００９３】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、以下の（ａ）〜（ｂ）の少なくとも１つ、またはすべてに当てはまる：（ａ）結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉが図９に実質的に示されるＸＲＰＤパターンを有する；（ｂ）結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉが図１０に実質的に示されるＤＳＣサーモグラムを有する。
【００９４】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、以下の特性：
図９に実質的に示されるＸＲＰＤパターン
図１０に実質的に示されるＤＳＣサーモグラム
を有する。
【００９５】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、図９に実質的に示されるＸＲＰＤパターンとして、最大強度を有する度２θでの反射のうちの少なくとも２つ、少なくとも３つ、少なくとも４つ、少なくとも５つ、少なくとも６つ、少なくとも７つ、または少なくとも８つを示すＸＲＰＤパターンを有する。
【００９６】
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、５．９°、８．９°、および１１．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、５．９°、８．９°、および１１．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°および２１．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、５．９°、８．９°、および１１．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°および２１．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、５．９°、８．９°、および１１．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°および２１．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、５．９°、８．９°、および１１．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°および２１．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの３つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、５．９°、８．９°、および１１．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°および２１．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの４つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、５．９°、８．９°、１１．８°、１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°および２１．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
【００９７】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、３．５°、５．９°、８．９°、１１．８°、１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°および２１．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２７．２°、２８．７°、および３１．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、３．５°、５．９°、８．９°、１１．８°、１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°および２１．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２７．２°、２８．７°、および３１．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、３．５°、５．９°、８．９°、１１．８°、１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°および２１．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに２７．２°、２８．７°、および３１．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、３．５°、５．９°、８．９°、１１．８°、１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°、２１．５°、２７．２°、２８．７°、および３１．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、３．５°、５．９°、８．９°、１１．８°、１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°、２１．５°、２７．２°、２８．７°、および３１．５°からなる群から選択される任意の５つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、３．５°、５．９°、８．９°、１１．８°、１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°、２１．５°、２７．２°、２８．７°、および３１．５°からなる群から選択される任意の７つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、３．０°、３．５°、５．９°、８．９°、１１．８°、１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°、２１．５°、２７．２°、２８．７°、および３１．５°からなる群から選択される任意の１０個の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩ
【００９８】
一部の実施形態では、結晶構造が、図１１に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、図１２に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）サーモグラムを呈し得る。
【００９９】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、以下の（ａ）〜（ｂ）の少なくとも１つ、またはすべてに当てはまる：（ａ）結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩが図１１に実質的に示されるＸＲＰＤパターンを有する；（ｂ）結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩが図１２に実質的に示されるＤＳＣサーモグラムを有する。
【０１００】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、以下の特性：
図１１に実質的に示されるＸＲＰＤパターン
図１２に実質的に示されるＤＳＣサーモグラム
を有する。
【０１０１】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、図１１に実質的に示されるＸＲＰＤパターンとして、最大強度を有する度２θでの反射のうちの少なくとも２つ、少なくとも３つ、少なくとも４つ、少なくとも５つ、少なくとも６つ、少なくとも７つ、または少なくとも８つを示すＸＲＰＤパターンを有する。
【０１０２】
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、３．４°、３．８°、６．９°、１０．３°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、３．４°、６．９°、１０．３°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１５．４°、１７．３°、１９．０°、２２．８°および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、３．４°、６．９°、１０．３°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１５．４°、１７．３°、１９．０°、２２．８°および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、３．４°、６．９°、１０．３°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１５．４°、１７．３°、１９．０°、２２．８°および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、３．４°、６．９°、１０．３°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１５．４°、１７．３°、１９．０°、２２．８°および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの３つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、３．４°、６．９°、１０．３°、および１３．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１５．４°、１７．３°、１９．０°、２２．８°および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの４つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、３．４°、６．９°、１０．３°、１３．８°、１５．４°、１７．３°、１９．０°、２２．８°および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
【０１０３】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、３．４°、６．９°、１０．３°、１３．８°、１５．４°、１７．３°、１９．０°、２２．８°および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１８．４°および２１．６°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、３．４°、６．９°、１０．３°、１３．８°、１５．４°、１７．３°、１９．０°、２２．８°および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１８．４°および２１．６°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、３．４°、６．９°、１０．３°、１３．８°、１５．４°、１７．３°、１８．４°、１９．０°、２１．６°  ２２．８°、および２９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、３．４°、３．８°、６．９°、１０．３°、１３．８°、１５．４°、１７．３°、１８．４°、１９．０°、２１．６°  ２２．８°、および２９．０°からなる群から選択される任意の５つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、３．４°、３．８°、６．９°、１０．３°、１３．８°、１５．４°、１７．３°、１８．４°、１９．０°、２１．６°  ２２．８°、および２９．０°からなる群から選択される任意の７つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、３．４°、３．８°、６．９°、１０．３°、１３．８°、１５．４°、１７．３°、１８．４°、１９．０°、２１．６°  ２２．８°、および２９．０°からなる群から選択される任意の１０個の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩ
【０１０４】
一部の実施形態では、結晶構造が、図１３に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、図１４に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）サーモグラムを呈し得る。
【０１０５】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、以下の（ａ）〜（ｂ）の少なくとも１つ、またはすべてに当てはまる：（ａ）結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩが図１３に実質的に示されるＸＲＰＤパターンを有する；（ｂ）結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩが図１４に実質的に示されるＤＳＣサーモグラムを有する。
【０１０６】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、以下の特性：
図１３に実質的に示されるＸＲＰＤパターン
図１４に実質的に示されるＤＳＣサーモグラム
を有する。
【０１０７】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、図１３に実質的に示されるＸＲＰＤパターンとして、最大強度を有する度２θでの反射のうちの少なくとも２つ、少なくとも３つ、少なくとも４つ、少なくとも５つ、少なくとも６つ、少なくとも７つ、または少なくとも８つを示すＸＲＰＤパターンを有する。
【０１０８】
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、９．４°、１２．４°、１５．７°、および１９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、９．４°、１２．４°、１５．７°、および１９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに８．３°、１６．４°、２４．５°、２６．６°および２８．９°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、９．４°、１２．４°、１５．７°、および１９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに８．３°、１６．４°、２４．５°、２６．６°および２８．９°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、９．４°、１２．４°、１５．７°、および１９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに８．３°、１６．４°、２４．５°、２６．６°および２８．９°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、９．４°、１２．４°、１５．７°、および１９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに８．３°、１６．４°、２４．５°、２６．６°および２８．９°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの３つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、９．４°、１２．４°、１５．７°、および１９．０°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに８．３°、１６．４°、２４．５°、２６．６°および２８．９°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの４つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、８．３°、９．４°、１２．４°、１５．７°、１６．４°、１９．０°、２４．５°、２６．６°および２８．９°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
【０１０９】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、８．３°、９．４°、１２．４°、１５．７°、１６．４°、１９．０°、２４．５°、２６．６°および２８．９°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに６．９°、２２．８°、および２７．６°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、８．３°、９．４°、１２．４°、１５．７°、１６．４°、１９．０°、２４．５°、２６．６°および２８．９°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに６．９°、２２．８°、および２７．６°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、８．３°、９．４°、１２．４°、１５．７°、１６．４°、１９．０°、２４．５°、２６．６°および２８．９°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに６．９°、２２．８°、および２７．６°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、６．９°、８．３°、９．４°、１２．４°、１５．７°、１６．４°、１９．０°、２２．８°、２４．５°、２６．６°、２７．６°、および２８．９°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、６．９°、８．３°、９．４°、１２．４°、１５．７°、１６．４°、１９．０°、２２．８°、２４．５°、２６．６°、２７．６°、および２８．９°からなる群から選択される任意の５つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、６．９°、８．３°、９．４°、１２．４°、１５．７°、１６．４°、１９．０°、２２．８°、２４．５°、２６．６°、２７．６°、および２８．９°からなる群から選択される任意の７つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、３．８°、６．９°、８．３°、９．４°、１２．４°、１５．７°、１６．４°、１９．０°、２２．８°、２４．５°、２６．６°、２７．６°、および２８．９°からなる群から選択される任意の１０個の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドバニレート
【０１１０】
一部の実施形態では、固体のテノホビルアラフェナミドバニレートが提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドバニレートの結晶形態が提供される。
テノホビルアラフェナミドバニレート
【０１１１】
一部の実施形態では、結晶構造が、図１５に実質的に示されるＸＲＰＤパターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、図１６に実質的に示されるＤＳＣサーモグラムを呈し得る。
【０１１２】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、以下の（ａ）〜（ｂ）の少なくとも１つ、少なくとも２つ、またはすべてに当てはまる：（ａ）結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートが図１５に実質的に示されるＸＲＰＤパターンを有する；（ｂ）結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートが図１６に実質的に示されるＤＳＣサーモグラムを有する。
【０１１３】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、以下の特性：
図１５に実質的に示されるＸＲＰＤパターン
図１６に実質的に示されるＤＳＣサーモグラム
を有する。
【０１１４】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、図１５に実質的に示されるＸＲＰＤパターンとして、最大強度を有する度２θでの反射のうちの少なくとも２つ、少なくとも３つ、少なくとも４つ、少なくとも５つ、少なくとも６つ、少なくとも７つ、または少なくとも８つを示すＸＲＰＤパターンを有する。
【０１１５】
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．２°、１５．２°、１９．０°、および１９．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．２°、１５．２°、１９．０°、および１９．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．２°、１５．２°、１９．０°、および１９．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．２°、１５．２°、１９．０°、および１９．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの３つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１４．２°、１５．２°、１９．０°、および１９．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの４つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、１４．２°、１５．２°、１９．０°、１９．８°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
【０１１６】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、１４．２°、１５．２°、１９．０°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１０．８°、１２．３°、１８．４°、１９．８°、２２．１°、２５．０°、および３２．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、１４．２°、１５．２°、１９．０°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１０．８°、１２．３°、１８．４°、１９．８°、２２．１°、２５．０°、および３２．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、１４．２°、１５．２°、１９．０°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１０．８°、１２．３°、１８．４°、１９．８°、２２．１°、２５．０°、および３２．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、１４．２°、１５．２°、１９．０°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１０．８°、１２．３°、１８．４°、１９．８°、２２．１°、２５．０°、および３２．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの３つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、１４．２°、１５．２°、１９．０°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１０．８°、１２．３°、１８．４°、１９．８°、２２．１°、２５．０°、および３２．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの４つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、１４．２°、１５．２°、１９．０°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１０．８°、１２．３°、１８．４°、１９．８°、２２．１°、２５．０°、および３２．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの５つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、１４．２°、１５．２°、１９．０°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１０．８°、１２．３°、１８．４°、１９．８°、２２．１°、２５．０°、および３２．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの６つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、１４．２°、１５．２°、１９．０°、および２２．８°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに１０．８°、１２．３°、１８．４°、１９．８°、２２．１°、２５．０°、および３２．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの７つを含むＸＲＰＤパターンを有���る。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、１０．８°、１２．３°、１４．２°、１５．２°、１８．４°、１９．０°、１９．８°、２２．１°、２２．８°、２５．０°、および３２．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、１０．８°、１２．３°、１４．２°、１５．２°、１５．９°、１８．４°、１９．０°、１９．８°、２１．６°、２２．１°、２２．８°、２５．０°、２７．７°、および３２．４°からなる群から選択される任意の５つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、１０．８°、１２．３°、１４．２°、１５．２°、１５．９°、１８．４°、１９．０°、１９．８°、２１．６°、２２．１°、２２．８°、２５．０°、２７．７°、および３２．４°からなる群から選択される任意の７つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートは、６．６°、９．３°、１０．８°、１２．３°、１４．２°、１５．２°、１５．９°、１８．４°、１９．０°、１９．８°、２１．６°、２２．１°、２２．８°、２５．０°、２７．７°、および３２．４°からなる群から選択される任意の１０個の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエート
【０１１７】
一部の実施形態では、固体のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートが提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートの結晶形態が提供される。
テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエート
【０１１８】
一部の実施形態では、結晶構造が、図１７に実質的に示されるＸＲＰＤパターンを呈する、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートが提供される。結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、図１８に実質的に示されるＤＳＣサーモグラムを呈し得る。
【０１１９】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、以下の（ａ）〜（ｂ）の少なくとも１つ、少なくとも２つ、またはすべてに当てはまる：（ａ）結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートが図１７に実質的に示されるＸＲＰＤパターンを有する；（ｂ）結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートが図１８に実質的に示されるＤＳＣサーモグラムを有する。
【０１２０】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、以下の特性：
図１７に実質的に示されるＸＲＰＤパターン
図１８に実質的に示されるＤＳＣサーモグラム
を有する。
【０１２１】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、図１７に実質的に示されるＸＲＰＤパターンとして、最大強度を有する度２θでの反射のうちの少なくとも２つ、少なくとも３つ、少なくとも４つ、少なくとも５つ、少なくとも６つ、少なくとも７つ、または少なくとも８つを示すＸＲＰＤパターンを有する。
【０１２２】
ある特定の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１４．４°、および１５．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１４．４°、および１５．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに７．７°、１１．２°、１８．８°、２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１４．４°、および１５．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに７．７°、１１．２°、１８．８°、２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１４．４°、および１５．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに７．７°、１１．２°、１８．８°、２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１４．４°、および１５．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに７．７°、１１．２°、１８．８°、２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの３つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１４．４°、および１５．４°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに７．７°、１１．２°、１８．８°、２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの４つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１１．２°、１４．４°、１５．４°、１８．８°、  ２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
【０１２３】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１１．２°、１４．４°、１５．４°、１８．８°、２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに７．７°、１４．７°、２１．９°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つまたは複数を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１１．２°、１４．４°、１５．４°、１８．８°、２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに７．７°、１８．８°、２１．７°、２１．９°、２５．５°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの１つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４４．５°、８．９°、１１．２°、１４．４°、１５．４°、１８．８°、  ２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに７．７°、１４．７°、２１．９°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの２つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１１．２°、１４．４°、１５．４°、１８．８°、  ２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに７．７°、１４．７°、２１．９°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの３つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１１．２°、１４．４°、１５．４°、１８．８°、  ２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに７．７°、１４．７°、２１．９°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの４つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１１．２°、１４．４°、１５．４°、１８．８°、  ２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに７．７°、１４．７°、２１．９°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの５つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１１．２°、１４．４°、１５．４°、１８．８°、  ２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに７．７°、１４．７°、２１．９°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの６つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、８．９°、１１．２°、１４．４°、１５．４°、１８．８°、  ２１．７°、および２５．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）ならびに７．７°、１４．７°、２１．９°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）のうちの７つを含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、７．７°、８．９°、１１．２°、１３．４°、１４．４°、１４．７°、１５．４°、１５．７°、１７．０°、１８．３°、１８．８°、２１．７°、２１．９°、２５．５°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、７．７°、８．９°、１１．２°、１３．４°、１４．４°、１４．７°、１５．４°、１５．７°、１７．０°、１８．３°、１８．８°、２１．７°、２１．９°、２５．５°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°からなる群から選択される任意の５つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、７．７°、８．９°、１１．２°、１３．４°、１４．４°、１４．７°、１５．４°、１５．７°、１７．０°、１８．３°、１８．８°、２１．７°、２１．９°、２５．５°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°からなる群から選択される任意の７つの度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、４．５°、７．７°、８．９°、１１．２°、１３．４°、１４．４°、１４．７°、１５．４°、１５．７°、１７．０°、１８．３°、１８．８°、２１．７°、２１．９°、２５．５°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°からなる群から選択される任意の１０個の度２θでの反射（＋／−０．２度２θ）を含むＸＲＰＤパターンを有する。
医薬組成物
【０１２４】
投与を目的として、ある特定の実施形態では、本明細書に記載の化合物は未加工の化学物質（ｒａｗ  ｃｈｅｍｉｃａｌ）として投与されるかまたは医薬組成物として製剤化される。本発明の医薬組成物は、本明細書において提供されるテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の治療有効量、ならびに薬学的に許容される賦形剤を含む。テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶は、目的の特定の疾患または状態を処置するのに有効な量で組成物中に存在する。テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の活性は、例えば、本明細書に記載されるように、当業者によって決定され得る。適当な治療有効濃度および投薬量は、当業者によって容易に決定され得る。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶は、約５ｍｇから約１，０００ｍｇの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶は、約５ｍｇから約１００ｍｇの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶は、約２０ｍｇから約７５ｍｇの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶は、約２５ｍｇから約５０ｍｇの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶は、約２５ｍｇの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶は、約５０ｍｇの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶は、約７５ｍｇの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶は、約１００ｍｇの量で医薬組成物中に存在する。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶は、約２５ｍｇ、２８ｍｇ、３０ｍｇ、３３ｍｇ、３５ｍｇ、３８ｍｇ、４０ｍｇ、４３ｍｇ、４５ｍｇ、４８ｍｇ、または約５０ｍｇの量で医薬組成物中に存在する。
【０１２５】
一部の実施形態では、投与される本発明の医薬組成物は、長時間作用型製剤であり得る。一部の実施形態では、対象に投与される本発明の医薬組成物は、少なくとも１０日間活性である。一部の実施形態では、対象に投与される本発明の医薬組成物は、少なくとも１５日間活性である。一部の実施形態では、対象に投与される本発明の医薬組成物は、少なくとも３０日間活性である。一部の実施形態では、対象に投与される本発明の医薬組成物は、少なくとも６０日間活性である。一部の実施形態では、対象に投与される本発明の医薬組成物は、少なくとも９０日間活性である。一部の実施形態では、対象に投与される本発明の医薬組成物は、最大６カ月間活性である。
【０１２６】
純粋形態のまたは適当な医薬組成物中の本発明の化合物の投与は、同様の有用性を果たすために許容される薬剤の投与様式のいずれかによって実行され得る。本発明の医薬組成物は、本発明の化合物を適当な薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製することができ、固体、半固体、液体または気体形態の調製物、例えば、錠剤、カプセル剤、粉剤・散剤（powder）、顆粒剤、軟膏剤、液剤、坐剤、注射剤、吸入剤、ゲル剤、ミクロスフェア、およびエアロゾルへと製剤化されてもよい。本発明の医薬組成物は、本発明の化合物を適当な薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製することができ、固体、半固体、液体または気体形態の調製物、例えば、固体分散剤および固体液剤（solid  solution）へと製剤化されてもよい。このような医薬組成物の典型的な投与経路として、限定されないが、経口、局所、経皮、吸入、非経口（皮下、筋肉内、静脈内、皮内、髄腔内および硬膜外を含む）、舌下、頬側、直腸、膣、鼻内、および肺が挙げられる。具体的な実施形態では、医薬組成物は、皮下注射剤である。具体的な実施形態では、医薬組成物は、皮下注射剤である単位用量形態中にある。具体的な実施形態では、医薬組成物は、錠剤である。本発明の医薬組成物は、その中に含有される有効成分が、該組成物を患者に投与すると生物学的に利用可能となるよう製剤化される。対象または患者に投与される組成物は、１つまたは複数の投薬単位の形態をとり、ここで、例えば、錠剤は単回投薬単位であってもよく、エアロゾル形態の本発明の化合物の容器は複数回の投薬単位を保持してもよい。このような剤形を調製する実際の方法は、当業者にとって公知であるか、または明らかである；例えば、Remington：The  Science  and  Practice  of  Pharmacy、第２０版（Philadelphia  College  of  Pharmacy  and  Science、２０００年）を参照のこと。投与される組成物は、いずれにしても、この発明の教示に従って、目的の疾患または状態の処置のために、治療有効量の本発明の化合物を含有する。
【０１２７】
一部の実施形態では、本発明の医薬組成物は、筋肉内注射によって投与することができる。特に、「活性な（active）」への言及は、ＨＩＶに対する効果的なレベルを超える最小濃度（Ｃｍｉｎ）を維持することを含む。
【０１２８】
本発明の医薬組成物は、薬学の技術分野で周知の方法論によって調製することができる。例えば、注射によって投与することが意図される医薬組成物は、本発明の化合物を滅菌蒸留水と組み合わせて、液剤を形成することによって調製することができる。界面活性剤または他の可溶化賦形剤を添加して、均質溶液または懸濁液の形成を促進することもできる。界面活性剤は、本発明の化合物と非共有結合により相互作用して、水性送達系における化合物の溶解または均質な懸濁を促進する化合物である。
【０１２９】
他の実施形態では、経口投与を意図した固体の医薬組成物は、治療有効量の本発明の化合物を少なくとも１つの適切な薬学的に許容される賦形剤と混合して、固体予備処方組成物を形成することによって調製することができ、次いで、錠剤、丸剤およびカプセル剤などの等しく有効な単位剤形に容易に小分けすることができる。したがって、一部の実施形態では、治療有効量の、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の化合物と薬学的に許容される賦形剤とを含む医薬組成物が提供される。
【０１３０】
本発明の化合物は、治療有効量で投与され、治療有効量は、用いられる具体的な化合物の活性；化合物の代謝安定性および作用の長さ；患者の年齢、体重、全身の健康、性別、および食事；投与の様式および時間；排泄速度；薬物の組合せ；特定の障害または状態の重症度、ならびに治療を受けている対象を含む様々な因子に応じて変化する。一部の実施形態では、本発明の化合物は、患者が感染しているか、潜在的に感染しているかぎり、または感染を防止するために（例えば、複数年、複数カ月、複数週、または複数日の間）、１日に１回、または１日に２回、または１日に３回、または１日に４回、単独でまたは他の抗ウイルス剤と組み合わせて、投与することができる。一部の実施形態では、本発明の化合物は、７日毎に１回、単独でまたは他の抗ウイルス剤と組み合わせて投与することができる。一部の実施形態では、本発明の化合物は、１４日毎に１回、単独でまたは他の抗ウイルス剤と組み合わせて投与することができる。一部の実施形態では、本発明の化合物は、２１日毎に１回、単独でまたは他の抗ウイルス剤と組み合わせて投与することができる。一部の実施形態では、本発明の化合物は、２８日毎に１回、単独でまたは他の抗ウイルス剤と組み合わせて投与することができる。一部の実施形態では、本発明の化合物は、１カ月毎に１回、単独でまたは他の抗ウイルス剤と組み合わせて投与することができる。
【０１３１】
テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶を含む組成物も、本明細書に記載されているように提供される。特定の実施形態では、本明細書に記載のテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶のうちの１つを含む組成物が提供される。特定の実施形態では、本明細書に記載のテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶のうちの２つを含む組成物が提供される。特定の実施形態では、本明細書に記載のテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶のうちの３つを含む組成物が提供される。特定の実施形態では、本明細書に記載のテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶のうちの４つを含む組成物が提供される。他の実施形態では、本明細書に記載の組成物は、実質的に純粋な結晶形態を含み得、または他の結晶形態および／もしくは不純物を実質的に含み得ない。
【０１３２】
一部の実施形態では、組成物は、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の結晶形態を含む。ある特定の実施形態では、本明細書に記載の結晶形態を含む組成物であって、該組成物内のテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶が実質的に純粋である（すなわち、本明細書に記載の、実質的に純粋なテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉ、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩ、テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉ、テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉ、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉ、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩ、およびテノホビルアラフェナミドの形態ＩＩＩ）、組成物が提供される。テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の結晶形態を含む組成物の特定の実施形態では、組成物中に存在するテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の少なくとも約５０％、少なくとも約６０％、少なくとも約７０％、少なくとも約８０％、少なくとも約８５％、少なくとも約９０％、少なくとも約９５％、少なくとも約９６％、少なくとも約９７％、少なくとも約９８％、または少なくとも約９９％は、本明細書に開示されている結晶形態のうちの１つである。ある特定の実施形態では、組成物は、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の結晶形態のうちの１つの少なくとも約５０％、少なくとも約６０％、少なくとも約７０％、少なくとも約８０％、少なくとも約８５％、少なくとも約９０％、少なくとも約９５％、少なくとも約９６％、少なくとも約９７％、少なくとも約９８％、または少なくとも約９９％を含む。
【０１３３】
ある特定の実施形態では、本明細書に記載の結晶形態を含む組成物であって、組成物内のテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶が、本明細書に記載の実質的に純粋なテノホビルアラフェナミドバニレートおよび／またはテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートである、組成物が提供される。テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の結晶形態を含む組成物の特定の実施形態では、組成物中に存在するテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の少なくとも約５０％、少なくとも約６０％、少なくとも約７０％、少なくとも約８０％、少なくとも約８５％、少なくとも約９０％、少なくとも約９５％、少なくとも約９６％、少なくとも約９７％、少なくとも約９８％、または少なくとも約９９％は、本明細書に開示されているテノホビルアラフェナミドバニレートまたはテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエート（Tenofovir  Alafenamide  Bis-Xinofoate）である。ある特定の実施形態では、組成物は、少なくとも約５０％、少なくとも約６０％、少なくとも約７０％、少なくとも約８０％、少なくとも約８５％、少なくとも約９０％、少なくとも約９５％、少なくとも約９６％、少なくとも約９７％、少なくとも約９８％、または少なくとも約９９％の、本明細書に開示されているテノホビルアラフェナミドバニレートまたはテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを含む。
【０１３４】
本明細書に開示されている結晶形態を含む組成物の他の実施形態では、組成物中に存在するテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の約５０％未満、約４０％未満、約３０％未満、約２０％未満、約１０％未満、約５％未満、約４％未満、約３％未満、約２％未満または約１％未満は、テノホビルアラフェナミドの塩および／もしくは共結晶の他の非晶質もしくは結晶形態ならびに／または不純物である。
【０１３５】
本明細書に開示されている結晶形態を含む組成物のさらに他の実施形態では、不純物が、存在する結晶形態の質量に対して、総質量の約５％未満、約４％未満、約３％未満、約２％未満または約１％未満を構成する。不純物として、例えば、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の合成に由来する副産物、夾雑物、分解産物、他の結晶形態、非晶質形態、水、ならびに溶媒が挙げられる。ある特定の実施形態では、不純物として、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶を合成するプロセスに由来する副産物が挙げられる。ある特定の実施形態では、不純物として、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶を合成するプロセスに由来する夾雑物が挙げられる。ある特定の実施形態では、不純物として、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の分解産物が挙げられる。ある特定の実施形態では、不純物として、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の他の結晶形態が挙げられる。ある特定の実施形態では、不純物として、テノホビルアラフェナミドの塩および／もしくは共結晶の他の結晶形態ならびに／またはテノホビルアラフェナミドの塩および／もしくは共結晶の非晶質形態が挙げられる。ある特定の実施形態では、不純物として、水または溶媒が挙げられる。本明細書に開示されている結晶形態を含む組成物のある特定の実施形態では、不純物は、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の合成に由来する副産物、夾雑物、分解産物、他の結晶形態、非晶質形態、水、溶媒ならびにこれらの組合せからなる群から選択される。
併用療法
【０１３６】
ある特定の実施形態では、ＨＩＶ感染を有するかまたはＨＩＶ感染を有するリスクのあるヒトのＨＩＶ感染を処置または防止するための方法であって、治療有効量の１つまたは複数（例えば、１、２、３、１もしくは２、または１から３つ）の追加の治療剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を、ヒトに投与することを含む、方法が提供される。一実施形態では、ＨＩＶ感染を有するかまたはＨＩＶ感染を有するリスクのあるヒトのＨＩＶ感染を処置するための方法であって、治療有効量の１つまたは複数（例えば、１、２、３、１もしくは２、または１から３つ）の追加の治療剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を、ヒトに投与することを含む、方法が提供される。
【０１３７】
一実施形態では、１つもしくは複数（例えば、１、２、３、１もしくは２、または１から３つ）の追加の治療剤、および薬学的に許容される担体、希釈剤、または賦形剤と組み合わせて、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む医薬組成物が提供される。
【０１３８】
ある特定の実施形態では、本開示は、ＨＩＶ感染を処置するための方法であって、治療有効量の、ＨＩＶ感染を処置するのに適切な１つまたは複数の追加の治療剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を、それを必要とする患者に投与することを含む、方法を提供する。
【０１３９】
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、１、２、３、４つ、またはそれより多い追加の治療剤と組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、２つの追加の治療剤と組み合わされる。他の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、３つの追加の治療剤と組み合わされる。さらなる実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、４つの追加の治療剤と組み合わされる。１、２、３、４つ、またはそれより多い追加の治療剤は、同じクラスの治療剤から選択される異なる治療剤であってもよく、および／または異なるクラスの治療剤から選択されてもよい。
ＨＩＶ併用療法の投与
【０１４０】
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物は、１つまたは複数の追加の治療剤と共に投与される。本明細書に開示されている化合物の１つまたは複数の追加の治療剤との共投与は、一般的に、治療有効量の本明細書に開示されている化合物と１つまたは複数の追加の治療剤両方が患者の体内に存在するような、本明細書に開示されている化合物と１つまたは複数の追加の治療剤との同時または逐次的投与を指す。逐次的に投与される場合、組合せは、２回またはそれより多い投与で投与されてもよい。
【０１４１】
共投与は、単位投薬量の１つまたは複数の追加の治療剤の投与前後の単位投薬量の本明細書に開示されている化合物の投与を含む。例えば、本明細書に開示されている化合物は、１つまたは複数の追加の治療剤の投与から数秒、数分、または数時間以内に投与されてもよい。一部の実施形態では、本明細書に開示されている化合物の単位用量が最初に投与された後、数秒または数分以内に、１つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が投与される。あるいは、１つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が最初に投与された後、数秒または数分以内に、本明細書に開示されている化合物の単位用量が投与される。他の実施形態では、本明細書に開示されている化合物の単位用量が最初に投与された後、数時間の期間（例えば、１〜１２時間）後に、１つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が投与される。さらに他の実施形態では、１つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が最初に投与された後、数時間の期間（例えば、１〜１２時間）後に、本明細書に開示されている化合物の単位用量が投与される。
【０１４２】
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物は、患者への同時投与のための単位剤形で、例えば、経口投与用の固体剤形として、１つまたは複数の追加の治療剤と組み合わされる。
【０１４３】
ある特定の実施形態では、式（Ｉ）の化合物は、ＨＩＶを処置するために有用な１つまたは複数の他の化合物を必要に応じて含有してもよい錠剤として製剤化される。ある特定の実施形態では、錠剤は、ＨＩＶプロテアーゼ阻害剤、ＨＩＶの逆転写酵素の非ヌクレオシドまたは非ヌクレオチド阻害剤、ＨＩＶの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤、ＨＩＶインテグラーゼ阻害剤、ＨＩＶ非触媒部位（またはアロステリック）インテグラーゼ阻害剤、薬物動態増強剤、およびこれらの組合せなどのＨＩＶを処置するための別の有効成分を含有することができる。
【０１４４】
ある特定の実施形態では、このような錠剤は、毎日１回投薬するために適切である。
ＨＩＶ併用療法
【０１４５】
上記実施形態では、追加の治療剤は、抗ＨＩＶ剤であってもよい。ＨＩＶプロテアーゼ阻害剤、ＨＩＶの逆転写酵素の非ヌクレオシドまたは非ヌクレオチド阻害剤、ＨＩＶの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤、ＨＩＶインテグラーゼ阻害剤、ＨＩＶ非触媒部位（またはアロステリック）インテグラーゼ阻害剤、ＨＩＶ侵入阻害剤、ＨＩＶ成熟阻害剤、免疫モジュレーター、免疫治療剤、抗体−薬物コンジュゲート、遺伝子改変剤、遺伝子編集剤（例えば、ＣＲＩＳＰＲ／Ｃａｓ９、ジンクフィンガーヌクレアーゼ、ホーミングヌクレアーゼ、合成ヌクレアーゼ、ＴＡＬＥＮ）、細胞療法（例えば、キメラ抗原受容体Ｔ細胞、ＣＡＲ−Ｔ、および操作されたＴ細胞受容体、ＴＣＲ−Ｔ）、潜伏反転剤（ｌａｔｅｎｃｙ  ｒｅｖｅｒｓｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）、ＨＩＶカプシドを標的とする化合物、免疫に基づいた療法、ホスファチジルイノシトール３−キナーゼ（ＰＩ３Ｋ）阻害剤、ＨＩＶ抗体、二重特異性抗体および「抗体様の」治療タンパク質、ＨＩＶ  ｐ１７マトリックスタンパク質阻害剤、ＩＬ−１３アンタゴニスト、ペプチジル−プロリルシス−トランス異性化酵素Ａモジュレーター、タンパク質ジスルフィド異性化酵素阻害剤、補体Ｃ５ａ受容体アンタゴニスト、ＤＮＡメチルトランスフェラーゼ阻害剤、ＨＩＶ  ｖｉｆ遺伝子モジュレーター、Ｖｉｆ二量体化アンタゴニスト、ＨＩＶ−１ウイルス感染性因子阻害剤、ＴＡＴタンパク質阻害剤、ＨＩＶ−１  Ｎｅｆモジュレーター、Ｈｃｋチロシンキナーゼモジュレーター、混合系統キナーゼ−３（ＭＬＫ−３）阻害剤、ＨＩＶ−１スプライシング阻害剤、Ｒｅｖタンパク質阻害剤、インテグリンアンタゴニスト、核タンパク質阻害剤、スプライシング因子モジュレーター、ＣＯＭＭドメイン含有タンパク質１モジュレーター、ＨＩＶリボヌクレアーゼＨ阻害剤、レトロサイクリンモジュレーター、ＣＤＫ−９阻害剤、樹状ＩＣＡＭ−３結合ノンインテグリン１阻害剤（dendritic  ICAM-3  grabbing  nonintegrin  1  inhibitor）、ＨＩＶ  ＧＡＧタンパク質阻害剤、ＨＩＶ  ＰＯＬタンパク質阻害剤、補体因子Ｈモジュレーター、ユビキチンリガーゼ阻害剤、デオキシシチジンキナーゼ阻害剤、サイクリン依存性キナーゼ阻害剤、プロタンパク質転換酵素ＰＣ９刺激剤、ＡＴＰ依存性ＲＮＡヘリカーゼＤＤＸ３Ｘ阻害剤、逆転写酵素プライミング複合体阻害剤、Ｇ６ＰＤおよびＮＡＤＨ−オキシダーゼ阻害剤、薬物動態増強剤、ＨＩＶ遺伝子療法、ＨＩＶワクチン、ならびにこれらの組合せ。
【０１４６】
一部の実施形態では、追加の治療剤は、ＨＩＶに対する併用薬、ＨＩＶを処置するための他の薬物、ＨＩＶプロテアーゼ阻害剤、ＨＩＶ逆転写酵素阻害剤、ＨＩＶインテグラーゼ阻害剤、ＨＩＶ非触媒部位（またはアロステリック）インテグラーゼ阻害剤、ＨＩＶ侵入（融合）阻害剤、ＨＩＶ成熟阻害剤、潜伏反転剤、カプシド阻害剤、免疫に基づいた療法、ＰＩ３Ｋ阻害剤、ＨＩＶ抗体、および二重特異性抗体、および「抗体様の」治療タンパク質、ならびにこれらの組合せからなる群から選択される。
ＨＩＶ併用薬
【０１４７】
併用薬の例として、ＡＴＲＩＰＬＡ（登録商標）（エファビレンツ、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、およびエムトリシタビン）；ＣＯＭＰＬＥＲＡ（登録商標）（ＥＶＩＰＬＥＲＡ（登録商標）；リルピビリン、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、およびエムトリシタビン）；ＳＴＲＩＢＩＬＤ（登録商標）（エルビテグラビル、コビシスタット、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、およびエムトリシタビン）；ＴＲＵＶＡＤＡ（登録商標）（テノホビルジソプロキシルフマル酸塩およびエムトリシタビン；ＴＤＦ＋ＦＴＣ）；ＤＥＳＣＯＶＹ（登録商標）（テノホビルアラフェナミドおよびエムトリシタビン）；ＯＤＥＦＳＥＹ（登録商標）（テノホビルアラフェナミド、エムトリシタビン、およびリルピビリン）；ＧＥＮＶＯＹＡ（登録商標）（テノホビルアラフェナミド、エムトリシタビン、コビシスタット、およびエルビテグラビル）；ダルナビル、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エムトリシタビン、およびコビシスタット；エファビレンツ、ラミブジン、およびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩；ラミブジンおよびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩；テノホビルおよびラミブジン；テノホビルアラフェナミドおよびエムトリシタビン；テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩およびエムトリシタビン；テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エムトリシタビン、およびリルピビリン；テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エムトリシタビン、コビシスタット、およびエルビテグラビル；ＣＯＭＢＩＶＩＲ（登録商標）（ジドブジンおよびラミブジン；ＡＺＴ＋３ＴＣ）；ＥＰＺＩＣＯＭ（登録商標）（ＬＩＶＥＸＡ（登録商標）；アバカビル硫酸塩およびラミブジン；ＡＢＣ＋３ＴＣ）；ＫＡＬＥＴＲＡ（登録商標）（ＡＬＵＶＩＡ（登録商標）；ロピナビルおよびリトナビル）；ＴＲＩＵＭＥＱ（登録商標）（ドルテグラビル、アバカビル、およびラミブジン）；ＴＲＩＺＩＶＩＲ（登録商標）（アバカビル硫酸塩、ジドブジン、およびラミブジン；ＡＢＣ＋ＡＺＴ＋３ＴＣ）；アタザナビルおよびコビシスタット；アタザナビル硫酸塩およびコビシスタット；アタザナビル硫酸塩およびリトナビル；ダルナビルおよびコビシスタット；ドルテグラビルおよびリルピビリン；ドルテグラビルおよびリルピビリン塩酸塩；ドルテグラビル、アバカビル硫酸塩、およびラミブジン；ラミブジン、ネビラピン、およびジドブジン；ラルテグラビルおよびラミブジン；ドラビリン、ラミブジン、およびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩；ドラビリン、ラミブジン、およびテノホビルジソプロキシル；ドルテグラビル＋ラミブジン、ラミブジン＋アバカルビル＋ジドブジン、ラミブジン＋アバカルビル、ラミブジン＋テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、ラミブジン＋ジドブジン＋ネビラピン、ロピナビル＋リトナビル、ロピナビル＋リトナビル＋アバカビル＋ラミブジン、ロピナビル＋リトナビル＋ジドブジン＋ラミブジン、テノホビル＋ラミブジン、およびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩＋エムトリシタビン＋リルピビリン塩酸塩、ロピナビル、リトナビル、ジドブジンおよびラミブジン；Ｖａｃｃ−４ｘおよびロミデプシン；ならびにＡＰＨ−０８１２が挙げられる。
他のＨＩＶ薬物
【０１４８】
ＨＩＶを処置するための他の薬物の例として、アセマンナン、アリスポリビル、ＢａｎＬｅｃ、デフェリプロン、Ｇａｍｉｍｕｎｅ、メテンケファリン、ナルトレキソン、Ｐｒｏｌａｓｔｉｎ、ＲＥＰ  ９、ＲＰＩ−ＭＮ、ＶＳＳＰ、Ｈ１ｖｉｒａｌ、ＳＢ−７２８−Ｔ、１，５−ジカフェオイルキナ酸、ｒＨＩＶ７−ｓｈｌ−ＴＡＲ−ＣＣＲ５ＲＺ、ＡＡＶ−ｅＣＤ４−Ｉｇ遺伝子療法、ＭａｚＦ遺伝子療法、ＢｌｏｃｋＡｉｄｅ、ＡＢＸ−４６４、ＡＧ−１１０５、ＡＰＨ−０８１２、ＢＩＴ−２２５、ＣＹＴ−１０７、ＨＧＴＶ−４３、ＨＰＨ−１１６、ＨＳ−１０２３４、ＩＭＯ−３１００、ＩＮＤ−０２、ＭＫ−１３７６、ＭＫ−８５０７、ＭＫ−８５９１、ＮＯＶ−２０５、ＰＡ−１０５００４０（ＰＡ−０４０）、ＰＧＮ−００７、ＳＣＹ−６３５、ＳＢ−９２００、ＳＣＢ−７１９、ＴＲ−４５２、ＴＥＶ−９０１１０、ＴＥＶ−９０１１２、ＴＥＶ−９０１１１、ＴＥＶ−９０１１３、ＲＮ−１８、Ｉｍｍｕｇｌｏ、およびＶＩＲ−５７６が挙げられる。
ＨＩＶプロテアーゼ阻害剤
【０１４９】
ＨＩＶプロテアーゼ阻害剤の例として、アンプレナビル、アタザナビル、ブレカナビル、ダルナビル、ホスアンプレナビル、ホスアンプレナビルカルシウム、インジナビル、インジナビル硫酸塩、ロピナビル、ネルフィナビル、ネルフィナビルメシル酸塩、リトナビル、サキナビル、サキナビルメシル酸塩、チプラナビル、ＤＧ−１７、ＴＭＢ−６５７（ＰＰＬ−１００）、Ｔ−１６９、ＢＬ−００８、およびＴＭＣ−３１０９１１が挙げられる。
ＨＩＶの逆転写酵素阻害剤
【０１５０】
ＨＩＶの逆転写酵素の非ヌクレオシドまたは非ヌクレオチド阻害剤の例として、ダピビリン、デラビルジン、デラビルジンメシル酸塩、ドラビリン、エファビレンツ、エトラビリン、レンチナン、ネビラピン、リルピビリン、ＡＩＣ−２９２、ＫＭ−０２３、およびＶＭ−１５００が挙げられる。
【０１５１】
ＨＩＶの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤の例として、アデホビル、アデホビルジピボキシル、アズブジン（ａｚｖｕｄｉｎｅ）、エムトリシタビン、テノホビル、テノホビルアラフェナミド、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、テノホビルジソプロキシル、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、ＶＩＤＥＸ（登録商標）およびＶＩＤＥＸ  ＥＣ（登録商標）（ジダノシン、ｄｄｌ）、アバカビル、アバカビル硫酸塩、アロブジン、アプリシタビン、センサブジン、ジダノシン、エルブシタビン、フェスチナビル、フォサルブジンチドキシル、ＣＭＸ−１５７、ダピビリン、ドラビリン、エトラビリン、ＯＣＲ−５７５３、テノホビルジソプロキシルオロテート、フォジブジンチドキシル、ラミブジン、ホスファジド、スタブジン、ザルシタビン、ジドブジン、ＧＳ−９１３１、ＧＳ−９１４８、ならびにＫＰ−１４６１が挙げられる。
ＨＩＶインテグラーゼ阻害剤
【０１５２】
ＨＩＶインテグラーゼ阻害剤の例として、エルビテグラビル、クルクミン、クルクミンの誘導体、チコリ酸、チコリ酸の誘導体、３，５−ジカフェオイルキナ酸、３，５−ジカフェオイルキナ酸の誘導体、アウリントリカルボン酸、アウリントリカルボン酸の誘導体、コーヒー酸フェネチルエステル、コーヒー酸フェネチルエステルの誘導体、チルホスチン、チルホスチンの誘導体、ケルセチン、ケルセチンの誘導体、ラルテグラビル、ドルテグラビル、ＪＴＫ−３５１、ビクテグラビル、ＡＶＸ−１５５６７、カボテグラビル（長時間作用型の注射剤）、ジケトキノリン−４−１誘導体、インテグラーゼ−ＬＥＤＧＦ阻害剤、ｌｅｄｇｉｎｓ、Ｍ−５２２、Ｍ−５３２、ＮＳＣ−３１０２１７、ＮＳＣ−３７１０５６、ＮＳＣ−４８２４０、ＮＳＣ−６４２７１０、ＮＳＣ−６９９１７１、ＮＳＣ−６９９１７２、ＮＳＣ−６９９１７３、ＮＳＣ−６９９１７４、スチルベンジスルホン酸、Ｔ−１６９およびカボテグラビルが挙げられる。
【０１５３】
ＨＩＶ非触媒部位、またはアロステリック、インテグラーゼ阻害剤（ＮＣＩＮＩ）の例として、ＣＸ−０５０４５、ＣＸ−０５１６８、およびＣＸ−１４４４２が挙げられる。
ＨＩＶ侵入阻害剤
【０１５４】
ＨＩＶ侵入（融合）阻害剤の例として、セニクリビロック、ＣＣＲ５阻害剤、ｇｐ４１阻害剤、ＣＤ４付着阻害剤、ｇｐ１２０阻害剤、およびＣＸＣＲ４阻害剤が挙げられる。
【０１５５】
ＣＣＲ５阻害剤の例として、アプラビロック、ビクリビロック、マラビロク、セニクリビロック、ＰＲＯ−１４０、アダプタビル（ＲＡＰ−１０１）、ニフェビロック（ｎｉｆｅｖｉｒｏｃ）（ＴＤ−０２３２）、抗ＧＰ１２０／ＣＤ４またはＣＣＲ５二重特異性抗体、Ｂ−０７、ＭＢ−６６、ポリペプチドＣ２５Ｐ、ＴＤ−０６８０、およびｖＭＩＰ（Ｈａｉｍｉｐｕ）が挙げられる。
【０１５６】
ｇｐ４１阻害剤の例として、アルブビルチド、エンフビルチド、ＢＭＳ−９８６１９７、エンフビルチドバイオベター、エンフビルチドバイオシミラー、ＨＩＶ−１融合阻害剤（Ｐ２６−Ｂａｐｃ）、ＩＴＶ−１、ＩＴＶ−２、ＩＴＶ−３、ＩＴＶ−４、ＰＩＥ−１２三量体およびシフビルチドが挙げられる。
【０１５７】
ＣＤ４付着阻害剤の例として、イバリズマブおよびＣＡＤＡ類似体が挙げられる。
【０１５８】
ｇｐ１２０阻害剤の例として、Ｒａｄｈａ−１０８（ｒｅｃｅｐｔｏｌ）３Ｂ３−ＰＥ３８、ＢａｎＬｅｃ、ベントナイト系ナノメディシン、ホステムサビルトロメタミン（ｆｏｓｔｅｍｓａｖｉｒ  ｔｒｏｍｅｔｈａｍｉｎｅ）、ＩＱＰ−０８３１、およびＢＭＳ−６６３０６８が挙げられる。
【０１５９】
ＣＸＣＲ４阻害剤の例として、プレリキサフォル、ＡＬＴ−１１８８、Ｎ１５ペプチド、およびｖＭＩＰ（Ｈａｉｍｉｐｕ）が挙げられる。
ＨＩＶ成熟阻害剤
【０１６０】
ＨＩＶ成熟阻害剤の例として、ＢＭＳ−９５５１７６およびＧＳＫ−２８３８２３２が挙げられる。
潜伏反転剤
【０１６１】
潜伏反転剤の例として、ヒストン脱アセチル化酵素（ＨＤＡＣ）阻害剤、プロテアソーム阻害剤、例えばベルケイド、タンパク質キナーゼＣ（ＰＫＣ）活性化剤、ＢＥＴ−ブロモドメイン４（ＢＲＤ４）阻害剤、イオノマイシン、ＰＭＡ、ＳＡＨＡ（スベラニロヒドロキサム酸、またはスベロイル、アニリド、およびヒドロキサム酸）、ＩＬ−１５、ＪＱ１、ジスルフラム、アンホテリシンＢ、およびユビキチン阻害剤、例えば、ラルガゾール類似体、およびＧＳＫ−３４３が挙げられる。
【０１６２】
ＨＤＡＣ阻害剤の例として、ロミデプシン、ボリノスタット、およびパノビノスタットが挙げられる。
【０１６３】
ＰＫＣ活性化剤の例として、インドラクタム、プロストラチン、インゲノールＢ、およびＤＡＧ−ラクトンが挙げられる。
カプシド阻害剤
【０１６４】
カプシド阻害剤の例として、カプシド重合阻害剤またはカプシド破壊化合物、ＨＩＶヌクレオカプシドｐ７（ＮＣｐ７）阻害剤、例えば、アゾジカルボンアミド、ＨＩＶ  ｐ２４カプシドタンパク質阻害剤、ＡＶＩ−６２１、ＡＶＩ−１０１、ＡＶＩ−２０１、ＡＶＩ−３０１、およびＡＶＩ−ＣＡＮ１−１５シリーズが挙げられる。
免疫に基づく療法
【０１６５】
免疫に基づく療法の例として、ｔｏｌｌ様受容体モジュレーター、例えばｔｌｒ１、ｔｌｒ２、ｔｌｒ３、ｔｌｒ４、ｔｌｒ５、ｔｌｒ６、ｔｌｒ７、ｔｌｒ８、ｔｌｒ９、ｔｌｒ１０、ｔｌｒ１１、ｔｌｒ１２、およびｔｌｒ１３；プログラム細胞死タンパク質１（Ｐｄ−１）モジュレーター；プログラム死リガンド１（Ｐｄ−Ｌ１）モジュレーター；ＩＬ−１５アゴニスト；ＤｅｒｍａＶｉｒ；インターロイキン−７；プラケニル（ヒドロキシクロロキン）；プロロイキン（アルデスロイキン、ＩＬ−２）；インターフェロンアルファ；インターフェロンアルファ−２ｂ；インターフェロンアルファ−ｎ３；ペグ化インターフェロンアルファ；インターフェロンガンマ；ヒドロキシウレア；ミコフェノール酸モフェチル（ＭＰＡ）およびそのエステル誘導体ミコフェノール酸モフェチル（ＭＭＦ）；リバビリン；リンタトリモド；ポリマーポリエチレンイミン（ＰＥＩ）；ｇｅｐｏｎ；リンタトリモド；ＩＬ−１２；ＷＦ−１０；ＶＧＶ−１；ＭＯＲ−２２；ＢＭＳ−９３６５５９；ＣＹＴ−１０７、インターロイキン−１５／Ｆｃ融合タンパク質、ノルムフェロン（ｎｏｒｍｆｅｒｏｎ）、ペグインターフェロンアルファ−２ａ、ペグインターフェロンアルファ−２ｂ、組換えインターロイキン−１５、ＲＰＩ−ＭＮ、ＧＳ−９６２０、ならびにＩＲ−１０３が挙げられる。  
ホスファチジルイノシトール３−キナーゼ（ＰＩ３Ｋ）阻害剤
【０１６６】
ＰＩ３Ｋ阻害剤の例として、イデラリシブ、アルペリシブ、ブパルリシブ、ＣＡＩオロテート、コパンリシブ、ドゥベリシブ、ゲダトリシブ、ネラチニブ、パヌリシブ、ペリホシン、ピクチリシブ、ピララリシブ、プキチニブメシル酸塩、リゴセルチブ、リゴセルチブナトリウム、ソノリシブ、タセリシブ、ＡＭＧ−３１９、ＡＺＤ−８１８６、ＢＡＹ−１０８２４３９、ＣＬＲ−１４０１、ＣＬＲ−４５７、ＣＵＤＣ−９０７、ＤＳ−７４２３、ＥＮ−３３４２、ＧＳＫ−２１２６４５８、ＧＳＫ−２２６９５７７、ＧＳＫ−２６３６７７１、ＩＮＣＢ−０４００９３、ＬＹ−３０２３４１４、ＭＬＮ−１１１７、ＰＱＲ−３０９、ＲＧ−７６６６、ＲＰ−６５３０、ＲＶ−１７２９、ＳＡＲ−２４５４０９、ＳＡＲ−２６０３０１、ＳＦ−１１２６、ＴＧＲ−１２０２、ＵＣＢ−５８５７、ＶＳ−５５８４、ＸＬ−７６５、およびＺＳＴＫ−４７４が挙げられる。
アルファ−４／ベータ−７アンタゴニスト
【０１６７】
インテグリンアルファ−４／ベータ−７アンタゴニストの例として、ＰＴＧ−１００、ＴＲＫ−１７０、アブリルマブ、エトロリズマブ、カロテグラストメチル、およびベドリズマブが挙げられる。
ＨＩＶ抗体、二重特異性抗体、および「抗体様」治療タンパク質
【０１６８】
ＨＩＶ抗体、二重特異性抗体、および「抗体様」治療タンパク質の例として、ＤＡＲＴｓ（登録商標）、ＤＵＯＢＯＤＩＥＳ（登録商標）、ＢＩＴＥＳ（登録商標）、ＸｍＡｂｓ（登録商標）、ＴａｎｄＡｂｓ（登録商標）、Ｆａｂ誘導体、ｂｎＡＢｓ（広域中和ＨＩＶ−１抗体）、ＢＭＳ−９３６５５９、ＴＭＢ−３６０、およびＨＩＶ  ｇｐ１２０またはｇｐ４１を標的とするもの、ＨＩＶを標的とする抗体動員分子、抗ＣＤ６３モノクローナル抗体、抗ＧＢウイルスＣ抗体、抗ＧＰ１２０／ＣＤ４、ＣＣＲ５二重特異性抗体、抗ｎｅｆ単一ドメイン抗体、抗Ｒｅｖ抗体、ラクダ由来抗ＣＤ１８抗体、ラクダ由来抗ＩＣＡＭ−１抗体、ＤＣＶａｘ−００１、ｇｐ１４０標的化抗体、ｇｐ４１系ＨＩＶ治療抗体、ヒト組換えｍＡｂｓ（ＰＧＴ−１２１）、イバリズマブ、Ｉｍｍｕｇｌｏ、ＭＢ−６６が挙げられる。
【０１６９】
このような方式でＨＩＶを標的とするものの例として、バビツキシマブ、ＵＢ−４２１、Ｃ２Ｆ５、Ｃ２Ｇ１２、Ｃ４Ｅ１０、Ｃ２Ｆ５＋Ｃ２Ｇ１２＋Ｃ４Ｅ１０、３−ＢＮＣ−１１７、ＰＧＴ１４５、ＰＧＴ１２１、ＭＤＸ０１０（イピリムマブ）、ＶＲＣ０１、Ａ３２、７Ｂ２、１０Ｅ８、ＶＲＣ−０７−５２３、ＶＲＣ−ＨＩＶＭＡＢ０８０−００−ＡＢ、ＭＧＤ−０１４およびＶＲＣ０７が挙げられる。
薬物動態増強剤
【０１７０】
薬物動態増強剤の例として、コビシスタットおよびリトナビルが挙げられる。
追加の治療剤
【０１７１】
追加の治療剤の例として、ＷＯ２００４／０９６２８６（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＷＯ２００６／０１５２６１（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＷＯ２００６／１１０１５７（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＷＯ２０１２／００３４９７（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＷＯ２０１２／００３４９８（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＷＯ２０１２／１４５７２８（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＷＯ２０１３／００６７３８（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＷＯ２０１３／１５９０６４（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＷＯ２０１４／１００３２３（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＵＳ２０１３／０１６５４８９（Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ  ｏｆ  Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）、ＵＳ２０１４／０２２１３７８（日本たばこ産業株式会社）、ＵＳ２０１４／０２２１３８０（日本たばこ産業株式会社）、ＷＯ２００９／０６２２８５（Ｂｏｅｈｒｉｎｇｅｒ  Ｉｎｇｅｌｈｅｉｍ）、ＷＯ２０１０／１３００３４（Ｂｏｅｈｒｉｎｇｅｒ  Ｉｎｇｅｌｈｅｉｍ）、ＷＯ２０１３／００６７９２（Ｐｈａｒｍａ  Ｒｅｓｏｕｒｃｅｓ）、ＵＳ２０１４０２２１３５６（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＵＳ２０１００１４３３０１（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）およびＷＯ２０１３／０９１０９６（Ｂｏｅｈｒｉｎｇｅｒ  Ｉｎｇｅｌｈｅｉｍ）に開示されている化合物が挙げられる。
ＨＩＶワクチン
【０１７２】
ＨＩＶワクチンの例としては、ペプチドワクチン、組換えサブユニットタンパク質ワクチン、生ベクターワクチン、ＤＮＡワクチン、ＣＤ４由来ペプチドワクチン、ワクチンの組合せ、ｒｇｐ１２０（ＡＩＤＳＶＡＸ）、ＡＬＶＡＣ  ＨＩＶ（ｖＣＰ１５２１）／ＡＩＤＳＶＡＸ  Ｂ／Ｅ（ｇｐ１２０）（ＲＶ１４４）、モノマーｇｐ１２０  ＨＩＶ−１サブタイプＣワクチン、Ｒｅｍｕｎｅ、ＩＴＶ−１、Ｃｏｎｔｒｅ  Ｖｉｒ、Ａｄ５−ＥＮＶＡ−４８、ＤＣＶａｘ−００１（ＣＤＸ−２４０１）、Ｖａｃｃ−４ｘ、Ｖａｃｃ−Ｃ５、ＶＡＣ−３Ｓ、マルチクレード（ｍｕｌｔｉｃｌａｄｅ）ＤＮＡ組換えアデノウイルス−５（ｒＡｄ５）、Ｐｅｎｎｖａｘ−Ｇ、Ｐｅｎｎｖａｘ−ＧＰ、ＨＩＶ−ＴｒｉＭｉｘ−ｍＲＮＡワクチン、ＨＩＶ−ＬＡＭＰ−ｖａｘ、Ａｄ３５、Ａｄ３５−ＧＲＩＮ、ＮＡｃＧＭ３／ＶＳＳＰ  ＩＳＡ−５１、ポリＩＣＬＣアジュバント化ワクチン、ＴａｔＩｍｍｕｎｅ、ＧＴＵ−ｍｕｌｔｉＨＩＶ（ＦＩＴ−０６）、ｇｐ１４０［デルタ］Ｖ２．ＴＶ１＋ＭＦ−５９、ｒＶＳＶＩＮ  ＨＩＶ−１  ｇａｇワクチン、ＳｅＶ−Ｇａｇワクチン、ＡＴ−２０、ＤＮＫ−４、ａｄ３５−Ｇｒｉｎ／ＥＮＶ、ＴＢＣ−Ｍ４、ＨＩＶＡＸ、ＨＩＶＡＸ−２、ＮＹＶＡＣ−ＨＩＶ−ＰＴ１、ＮＹＶＡＣ−ＨＩＶ−ＰＴ４、ＤＮＡ−ＨＩＶ−ＰＴ１２３、ｒＡＡＶ１−ＰＧ９ＤＰ、ＧＯＶＸ−Ｂ１１、ＧＯＶＸ−Ｂ２１、ＴＶＩ−ＨＩＶ−１、Ａｄ−４（Ａｄ４−ｅｎｖ  Ｃｌａｄｅ  Ｃ＋Ａｄ４−ｍＧａｇ）、ＥＮ４１−ＵＧＲ７Ｃ、ＥＮ４１−ＦＰＡ２、ＰｒｅＶａｘＴａｔ、ＡＥ−Ｈ、ＭＹＭ−Ｖ１０１、ＣｏｍｂｉＨＩＶｖａｃ、ＡＤＶＡＸ、ＭＹＭ−Ｖ２０１、ＭＶＡ−ＣＭＤＲ、ＤＮＡ−Ａｄ５  ｇａｇ／ｐｏｌ／ｎｅｆ／ｎｅｖ（ＨＶＴＮ５０５）、ＭＶＡＴＧ−１７４０１、ＥＴＶ−０１、ＣＤＸ−１４０１、ｒｃＡＤ２６．ＭＯＳ１．ＨＩＶ−Ｅｎｖ、Ａｄ２６．Ｍｏｄ．ＨＩＶワクチン、ＡＧＳ−００４、ＡＶＸ−１０１、ＡＶＸ−２０１、ＰＥＰ−６４０９、ＳＡＶ−００１、ＴｈＶ−０１、ＴＬ−０１、ＴＵＴＩ−１６、ＶＧＸ−３３００、ＩＨＶ−００１、およびウイルス様粒子ワクチン、例えば、偽ビリオンワクチン、ＣｏｍｂｉＶＩＣＨｖａｃ、ＬＦｎ−ｐ２４  Ｂ／Ｃ融合ワクチン、ＧＴＵ系ＤＮＡワクチン、ＨＩＶ  ｇａｇ／ｐｏｌ／ｎｅｆ／ｅｎｖ  ＤＮＡワクチン、抗ＴＡＴ  ＨＩＶワクチン、コンジュゲートポリペプチドワクチン、樹状細胞ワクチン、ｇａｇ系ＤＮＡワクチン、ＧＩ−２０１０、ｇｐ４１  ＨＩＶ−１ワクチン、ＨＩＶワクチン（ＰＩＫＡアジュバント）、Ｉｉ−ｋｅｙ／ＭＨＣクラスＩＩエピトープハイブリッドペプチドワクチン、ＩＴＶ−２、ＩＴＶ−３、ＩＴＶ−４、ＬＩＰＯ−５、マルチクレードＥｎｖワクチン、ＭＶＡワクチン、Ｐｅｎｎｖａｘ−ＧＰ、ｐｐ７１欠損ＨＣＭＶベクターＨＩＶ  ｇａｇワクチン、組換えペプチドワクチン（ＨＩＶ感染）、ＮＣＩ、ｒｇｐ１６０  ＨＩＶワクチン、ＲＮＡｃｔｉｖｅ  ＨＩＶワクチン、ＳＣＢ−７０３、Ｔａｔ  Ｏｙｉワクチン、ＴＢＣ−Ｍ４、治療ＨＩＶワクチン、ＵＢＩ  ＨＩＶ  ｇｐ１２０、Ｖａｃｃ−４ｘ  ＋  ロミデプシン、バリアントｇｐ１２０ポリペプチドワクチン、ｒＡｄ５  ｇａｇ−ｐｏｌ  ���ｎｖ  Ａ／Ｂ／Ｃワクチンが挙げられる。
ＨＩＶ併用療法
【０１７３】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、ＡＴＲＩＰＬＡ（登録商標）（エファビレンツ、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、およびエムトリシタビン）；ＣＯＭＰＬＥＲＡ（登録商標）（ＥＶＩＰＬＥＲＡ（登録商標）；リルピビリン、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、およびエムトリシタビン）；ＳＴＲＩＢＩＬＤ（登録商標）（エルビテグラビル、コビシスタット、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、およびエムトリシタビン）；ＴＲＵＶＡＤＡ（登録商標）（テノホビルジソプロキシルフマル酸塩およびエムトリシタビン；ＴＤＦ＋ＦＴＣ）；ＤＥＳＣＯＶＹ（登録商標）（テノホビルアラフェナミドおよびエムトリシタビン）；ＯＤＥＦＳＥＹ（登録商標）（テノホビルアラフェナミド、エムトリシタビン、およびリルピビリン）；ＧＥＮＶＯＹＡ（登録商標）（テノホビルアラフェナミド、エムトリシタビン、コビシスタット、およびエルビテグラビル）;アデホビル；アデホビルジピボキシル；コビシスタット；エムトリシタビン；テノホビル；テノホビルジソプロキシル；テノホビルジソプロキシルフマル酸塩；テノホビルアラフェナミド；テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩；ＴＲＩＵＭＥＱ（登録商標）（ドルテグラビル、アバカビル、およびラミブジン）；ドルテグラビル、アバカビル硫酸塩、およびラミブジン；ラルテグラビル；ラルテグラビルおよびラミブジン；マラビロク；エンフビルチド；ＡＬＵＶＩＡ（登録商標）（ＫＡＬＥＴＲＡ（登録商標）；ロピナビルおよびリトナビル）；ＣＯＭＢＩＶＩＲ（登録商標）（ジドブジンおよびラミブジン；ＡＺＴ＋３ＴＣ）；ＥＰＺＩＣＯＭ（登録商標）（ＬＩＶＥＸＡ（登録商標）；アバカビル硫酸塩およびラミブジン；ＡＢＣ＋３ＴＣ）；ＴＲＩＺＩＶＩＲ（登録商標）（アバカビル硫酸塩、ジドブジン、およびラミブジン；ＡＢＣ＋ＡＺＴ＋３ＴＣ）；リルピビリン；リルピビリン塩酸塩；アタザナビル硫酸塩およびコビシスタット；アタザナビルおよびコビシスタット；ダルナビルおよびコビシスタット；アタザナビル；アタザナビル硫酸塩；ドルテグラビル；エルビテグラビル；リトナビル；アタザナビル硫酸塩およびリトナビル；ダルナビル；ラミブジン；プロラスチン；ホスアンプレナビル；ホスアンプレナビルカルシウムエファビレンツ；エトラビリン；ネルフィナビル；ネルフィナビルメシル酸塩；インターフェロン；ジダノシン；スタブジン；インジナビル；インジナビル硫酸塩；テノホビルおよびラミブジン；ジドブジン；ネビラピン；サキナビル；サキナビルメシル酸塩；アルデスロイキン；ザルシタビン；チプラナビル；アンプレナビル；デラビルジン；デラビルジンメシル酸塩；Ｒａｄｈａ−１０８（ｒｅｃｅｐｔｏｌ）；ラミブジンおよびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩；エファビレンツ、ラミブジン、およびテノホビルジソプロキシルフマル酸塩；ホスファジド；ラミブジン、ネビラピン、およびジドブジン；アバカビル；ならびにアバカビル硫酸塩から選択される、１、２、３、４つ、またはそれより多い追加の治療剤と組み合わされる。
【０１７４】
上に列挙された追加の治療剤は、上に列挙されたクラスのうちの１つより多くに含まれる場合もあることを当業者は理解されたい。特定のクラスは、これらのクラスに列挙された化合物の機能性を限定することを意図するものではない。
【０１７５】
具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、ＨＩＶの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤およびＨＩＶの逆転写酵素の非ヌクレオシド阻害剤と組み合わされる。別の具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、ＨＩＶの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤、およびＨＩＶプロテーゼ阻害化合物と組み合わされる。追加の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、ＨＩＶの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤、ＨＩＶの逆転写酵素の非ヌクレオシド阻害剤、および薬物動態増強剤と組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、少なくとも１つのＨＩＶの逆転写酵素のヌクレオシド阻害剤、インテグラーゼ阻害剤、および薬物動態増強剤と組み合わされる。別の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、２つのＨＩＶの逆転写酵素のヌクレオシドまたはヌクレオチド阻害剤と組み合わされる。
【０１７６】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アバカビル硫酸塩、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、テノホビルアラフェナミド、またはテノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩と組み合わされる。
【０１７７】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルアラフェナミド、またはテノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩と組み合わされる。
【０１７８】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アバカルビル硫酸塩、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルアラフェナミド、およびテノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩からなる群から選択される第１の追加の治療剤、ならびにエムトリシタビンおよびラミブジンからなる群から選択される第２の追加の治療剤と組み合わされる。
【０１７９】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルアラフェナミド、およびテノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩からなる群から選択される第１の追加の治療剤、ならびに第２の追加の治療剤と組み合わされ、第２の追加の治療剤は、エムトリシタビンである。
【０１８０】
本明細書に開示されている化合物（例えば、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶）は、本明細書に記載の化合物の任意の投薬量で（例えば、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の１ｍｇから５００ｍｇ）１つまたは複数の追加の治療剤と組み合わされてもよい。
【０１８１】
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、５〜３０ｍｇのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミド、および２００ｍｇのエムトリシタビンと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、５〜１０、５〜１５、５〜２０、５〜２５、２５〜３０、２０〜３０、１５〜３０、または１０〜３０ｍｇのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミド、および２００ｍｇのエムトリシタビンと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、１０ｍｇのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミド、および２００ｍｇのエムトリシタビンと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、２５ｍｇのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミド、および２００ｍｇのエムトリシタビンと組み合わされる。本明細書に開示されている化合物（例えば、式（Ｉ）の化合物）は、各投薬量の組合せが具体的かつ個別に列挙された場合と同様に、化合物の任意の投薬量で（例えば、１ｍｇから５００ｍｇの化合物）、本明細書において提供される薬剤と組み合わされてもよい。
【０１８２】
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、２００〜４００ｍｇのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシル、および２００ｍｇのエムトリシタビンと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、２００〜２５０、２００〜３００、２００〜３５０、２５０〜３５０、２５０〜４００、３５０〜４００、３００〜４００、または２５０〜４００ｍｇのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシル、および２００ｍｇのエムトリシタビンと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、３００ｍｇのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシル、および２００ｍｇのエムトリシタビンと組み合わされる。本明細書に開示されている化合物（例えば、式（Ｉ）の化合物）は、各投薬量の組合せが具体的かつ個別に列挙された場合と同様に、化合物の任意の投薬量で（例えば、１ｍｇから５００ｍｇの化合物）、本明細書において提供される薬剤と組み合わされてもよい。
【０１８３】
一実施形態では、１つまたは複数（例えば、１、２、３、１もしくは２、または１から３つ）の追加の治療剤と組み合わせて、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を含むキットが提供される。
産児調節（避妊薬）併用療法
【０１８４】
産児調節（避妊薬）に使用される治療剤として、酢酸シプロテロン、デソゲストレル、ジエノゲスト、ドロスピレノン、吉草酸エストラジオール、エチニルエストラジオール、エチノジオール、エトノゲストレル、レボメフォレート（levomefolate）、レボノルゲストレル、リネストレノール、酢酸メドロキシプロゲステロン、メストラノール、ミフェプリストン、ミソプロストール、酢酸ノメゲストロール、ノルエルゲストロミン、ノルエチンドロン、ノルエチノドレル、ノルゲスチメート、オルメロキシフェン、酢酸セゲステルソン（ｓｅｇｅｓｔｅｒｓｏｎｅ  ａｃｅｔａｔｅ）、酢酸ウリプリスタル、およびこれらの任意の組合せが挙げられる。
【０１８５】
一実施形態では、１つまたは複数（例えば、１、２、３、１もしくは２、または１から３つ）の追加の治療剤と組み合わせて、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を含むキットが提供される。
遺伝子療法および細胞療法
【０１８６】
遺伝子をサイレンシングする遺伝子修飾；感染細胞を直接死滅させる遺伝的手法；感染細胞への免疫応答を増強する患者自身の免疫系のほとんどを置き換えるか、または感染細胞を死滅させる患者自身の免疫系を活性化するか、または感染細胞を見つけて死滅させるよう設計された免疫細胞の注入；感染に対する内因性免疫応答をさらに変更するよう細胞の活性を改変する遺伝的手法を含む遺伝子療法および細胞療法。
【０１８７】
樹状細胞療法の例はＡＧＳ−００４を含む。
遺伝子編集剤
【０１８８】
ゲノム編集系は、ＣＲＩＳＰＲ／Ｃａｓ９系、ジンクフィンガーヌクレアーゼ系、ＴＡＬＥＮ系、ホーミングエンドヌクレアーゼ系、およびメガヌクレアーゼ系からなる群から選択される。
【０１８９】
ＨＩＶを標的とするＣＲＩＳＰＲ／Ｃａｓ９系の例として、ＥＢＴ１０１が挙げられる。
ＣＡＲ−Ｔ細胞療法
【０１９０】
免疫エフェクター細胞の集団を操作して、ＨＩＶ抗原結合ドメインを含むキメラ抗原受容体（ＣＡＲ）を発現させる。ＨＩＶ抗原として、ＨＩＶエンベロープタンパク質またはその一部、ｇｐ１２０またはその一部、ｇｐ１２０のＣＤ４結合部位、ｇｐ１２０のＣＤ４誘導結合部位、ｇｐ１２０のＮグリカン、ｇｐ１２０のＶ２、ｇｐ４１の膜近位領域が挙げられる。免疫エフェクター細胞は、Ｔ細胞またはＮＫ細胞である。一部の実施形態では、Ｔ細胞は、ＣＤ４＋  Ｔ細胞、ＣＤ８＋  Ｔ細胞、またはそれらの組合せである。
【０１９１】
ＨＩＶ  ＣＡＲ−Ｔの例として、ＶＣ−ＣＡＲ−Ｔが挙げられる。
ＴＣＲ−Ｔ細胞療法
【０１９２】
ＴＣＲ−Ｔ細胞を操作して、ウイルス感染細胞の表面に存在するＨＩＶ由来ペプチドを標的とする。
ＨＢＶ組合せ
【０１９３】
ある特定の実施形態では、感染を有するかまたは感染を有するリスクのあるヒトのＨＢＶ感染を処置または防止するための方法であって、治療有効量の１つまたは複数（例えば、１、２、３、４、１もしくは２、１から３、または１から４つ）の追加の治療剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を、ヒトに投与することを含む、方法が提供される。一実施形態では、感染を有するかまたは感染を有するリスクのあるヒトのＨＢＶ感染を処置するための方法であって、治療有効量の１つまたは複数（例えば、１、２、３、４、１もしくは２、１から３、または１から４つ）の追加の治療剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を、ヒトに投与することを含む、方法が提供される。
【０１９４】
ある特定の実施形態では、本開示は、ＨＢＶ感染を処置するための方法であって、ＨＢＶ感染を処置するために適切な、治療有効量の１つまたは複数（例えば、１、２、３、４、１もしくは２、１から３、または１から４つ）の追加の治療剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を、それを必要とする患者に投与することを含む、方法を提供する。
【０１９５】
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、１、２、３、４つ、またはそれより多い追加の治療剤と組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、２つの追加の治療剤と組み合わされる。他の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、３つの追加の治療剤と組み合わされる。さらなる実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、４つの追加の治療剤と組み合わされる。１、２、３、４つ、またはそれより多い追加の治療剤は、同じクラスの治療剤から選択される異なる治療剤であってもよく、および／またはこれらは、異なるクラスの治療剤から選択されてもよい。
ＨＢＶ併用療法の投与
【０１９６】
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物を、上記の１つまたは複数の追加の治療剤と組み合わせる場合、組成物の構成成分は、同時または逐次的レジメンとして投与される。逐次的に投与される場合、組合せは、２回またはそれより多い投与で投与されてもよい。
【０１９７】
本明細書に開示されている化合物の１つまたは複数の追加の治療剤との共投与は、一般的に、各薬剤の治療有効量が患者の体内に存在するような、本明細書に開示されている化合物および１つまたは複数の追加の治療剤の同時または逐次的投与を指す。
【０１９８】
共投与は、単位投薬量の１つまたは複数の追加の治療剤の投与前後の、単位投薬量の本明細書に開示されている化合物の投与を含む。本明細書に開示されている化合物は、１つまたは複数の追加の治療剤の投与から数秒、数分、または数時間以内に投与されてもよい。例えば、一部の実施形態では、本明細書に開示されている化合物の単位用量が最初に投与された後、数秒または数分以内に、１つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が投与される。あるいは、他の実施形態では、１つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が最初に投与された後、数秒または数分以内に、本明細書に開示されている化合物の単位用量が投与される。一部の実施形態では、本明細書に開示されている化合物の単位用量が最初に投与された後、数時間の期間（例えば、１〜１２時間）後に、１つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が投与される。他の実施形態では、１つまたは複数の追加の治療剤の単位用量が最初に投与された後、数時間の期間（例えば、１〜１２時間）後に、本明細書に開示されている化合物の単位用量が投与される。
【０１９９】
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物は、患者への同時投与のための単位剤形で、例えば、経口投与用の固体剤形として、１つまたは複数の追加の治療剤と組み合わされる。
【０２００】
ある特定の実施形態では、本明細書に記載されている化合物は、ＨＢＶを処置するために有用な１つまたは複数の他の化合物を必要に応じて含有してもよい錠剤として製剤化される。ある特定の実施形態では、錠剤は、ＨＢＶを処置するための別の有効成分を含有してもよい。
【０２０１】
ある特定の実施形態では、このような錠剤は、毎日１回投薬するために適切である。
ＨＢＶ併用療法
【０２０２】
上記実施形態では、追加の治療剤は、抗ＨＢＶ剤であってもよい。例えば、追加の治療剤は、ＨＢＶ併用薬、ＨＢＶを処置するための他の薬物、３−ジオキシゲナーゼ（ＩＤＯ）阻害剤、ウイルスｍＲＮＡを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチド、アポリポタンパク質Ａ１モジュレーター、アルギナーゼ阻害剤、ＢおよびＴリンパ球アテニュエーター阻害剤、Ｂｒｕｔｏｎ型チロシンキナーゼ（ＢＴＫ）阻害剤、ＣＣＲ２ケモカインアンタゴニスト、ＣＤ１３７阻害剤、ＣＤ１６０阻害剤、ＣＤ３０５阻害剤、ＣＤ４アゴニストおよびモジュレーター、ＨＢｃＡｇを標的とする化合物、Ｂ型肝炎コア抗原（ＨＢｃＡｇ）を標的とする化合物、共有結合閉環状ＤＮＡ（ｃｃｃＤＮＡ）阻害剤、シクロフィリン阻害剤、サイトカイン、細胞傷害性Ｔリンパ球関連タンパク質４（ｉｐｉ４）阻害剤、ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤、エンドヌクレアーゼモジュレーター、エピジェネティック改変剤、ファルネソイドＸ受容体アゴニスト、遺伝子改変剤または編集剤、ＨＢｓＡｇ阻害剤、ＨＢｓＡｇ分泌またはアセンブリー阻害剤、ＨＢＶ抗体、ＨＢＶ  ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤、ＨＢＶ複製阻害剤、ＨＢＶ  ＲＮＡｓｅ阻害剤、ＨＢＶワクチン、ＨＢＶウイルス侵入阻害剤、ＨＢｘ阻害剤、Ｂ型肝炎ラージエンベロープタンパク質モジュレーター、Ｂ型肝炎ラージエンベロープタンパク質刺激剤、Ｂ型肝炎構造タンパク質モジュレーター、Ｂ型肝炎表面抗原（ＨＢｓＡｇ）阻害剤、Ｂ型肝炎表面抗原（ＨＢｓＡｇ）分泌またはアセンブリー阻害剤、Ｂ型肝炎ウイルスＥ抗原阻害剤、Ｂ型肝炎ウイルス複製阻害剤、肝炎ウイルス構造タンパク質阻害剤、ＨＩＶ−１逆転写酵素阻害剤、ヒアルロニダーゼ阻害剤、ＩＡＰ阻害剤、ＩＬ−２アゴニスト、ＩＬ−７アゴニスト、免疫グロブリンアゴニスト、免疫グロブリンＧモジュレーター、免疫モジュレーター、インドールアミン−２、リボヌクレオチドレダクターゼの阻害剤、インターフェロンアゴニスト、インターフェロンアルファ１リガンド、インターフェロンアルファ２リガンド、インターフェロンアルファ５リガンドモジュレーター、インターフェロンアルファリガンド、インターフェロンアルファリガンドモジュレーター、インターフェロンアルファ受容体リガンド、インターフェロンベータリガンド、インターフェロンリガンド、インターフェロン受容体モジュレーター、インターロイキン−２リガンド、ｉｐｉ４阻害剤、リシンデメチラーゼ阻害剤、ヒストンデメチラーゼ阻害剤、ＫＤＭ５阻害剤、ＫＤＭ１阻害剤、キラー細胞レクチン様受容体サブファミリーＧメンバー１阻害剤、リンパ球活性化遺伝子３阻害剤、リンホトキシンベータ受容体活性化剤、マイクロＲＮＡ（ｍｉＲＮＡ）遺伝子療法剤、Ａｘｌのモジュレーター、Ｂ７−Ｈ３のモジュレーター、Ｂ７−Ｈ４のモジュレーター、ＣＤ１６０のモジュレーター、ＣＤ１６１のモジュレーター、ＣＤ２７のモジュレーター、ＣＤ４７のモジュレーター、ＣＤ７０のモジュレーター、ＧＩＴＲのモジュレーター、ＨＥＶＥＭのモジュレーター、ＩＣＯＳのモジュレーター、Ｍｅｒのモジュレーター、ＮＫＧ２Ａのモジュレーター、ＮＫＧ２Ｄのモジュレーター、ＯＸ４０のモジュレーター、ＳＩＲＰアルファのモジュレ��ター、ＴＩＧＩＴのモジュレーター、Ｔｉｍ−４のモジュレーター、Ｔｙｒｏのモジュレーター、Ｎａ＋−タウロコール酸共輸送ポリペプチド（ＮＴＣＰ）阻害剤、ナチュラルキラー細胞受容体２Ｂ４阻害剤、ＮＯＤ２遺伝子刺激剤、核タンパク質阻害剤、核タンパク質モジュレーター、ＰＤ−１阻害剤、ＰＤ−Ｌ１阻害剤、ＰＥＧ−インターフェロンラムダ、ペプチジルプロリルイソメラーゼ阻害剤、ホスファチジルイノシトール−３キナーゼ（ＰＩ３Ｋ）阻害剤、組換えスカベンジャー受容体Ａ（ＳＲＡ）タンパク質、組換えチモシンアルファ−１、レチノイン酸誘導性遺伝子１刺激剤、逆転写酵素阻害剤、リボヌクレアーゼ阻害剤、ＲＮＡ  ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤、低分子干渉ＲＮＡ（ｓｉＲＮＡ）、短鎖合成ヘアピンＲＮＡ（ｓｓｈＲＮＡ）、ＳＬＣ１０Ａ１遺伝子阻害剤、ＳＭＡＣ模倣体、Ｓｒｃチロシンキナーゼ阻害剤、インターフェロン遺伝子刺激剤（ＳＴＩＮＧ）アゴニスト、ＮＯＤ１の刺激剤、Ｔ細胞表面糖タンパク質ＣＤ２８阻害剤、Ｔ細胞表面糖タンパク質ＣＤ８モジュレーター、チモシンアゴニスト、チモシンアルファ１リガンド、Ｔｉｍ−３阻害剤、ＴＬＲ−３アゴニスト、ＴＬＲ−７アゴニスト、ＴＬＲ−９アゴニスト、ＴＬＲ９遺伝子刺激剤、ｔｏｌｌ様受容体（ＴＬＲ）モジュレーター、ウイルスリボヌクレオチドレダクターゼ阻害剤、ジンクフィンガーヌクレアーゼまたは合成ヌクレアーゼ（ＴＡＬＥＮ）、ならびにこれらの組合せからなる群から選択されてもよい。
【０２０３】
ある特定の実施形態では、本明細書に記載の化合物は、ＨＢＶを処置するために有用な１つまたは複数の他の化合物を必要に応じて含有してもよい錠剤として製剤化される。ある特定の実施形態では、錠剤は、ＨＢＶを処置するための別の有効成分、例えば、３−ジオキシゲナーゼ（ＩＤＯ）阻害剤、アポリポタンパク質Ａ１モジュレーター、アルギナーゼ阻害剤、ＢおよびＴリンパ球アテニュエーター阻害剤、Ｂｒｕｔｏｎ型チロシンキナーゼ（ＢＴＫ）阻害剤、ＣＣＲ２ケモカインアンタゴニスト、ＣＤ１３７阻害剤、ＣＤ１６０阻害剤、ＣＤ３０５阻害剤、ＣＤ４アゴニストおよびモジュレーター、ＨＢｃＡｇを標的とする化合物、Ｂ型肝炎コア抗原（ＨＢｃＡｇ）を標的とする化合物、コアタンパク質アロステリックモジュレーター、共有結合閉環状ＤＮＡ（ｃｃｃＤＮＡ）阻害剤、シクロフィリン阻害剤、細胞傷害性Ｔリンパ球関連タンパク質４（ｉｐｉ４）阻害剤、ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤、エンドヌクレアーゼモジュレーター、エピジェネティック改変剤、ファルネソイドＸ受容体アゴニスト、ＨＢｓＡｇ阻害剤、ＨＢｓＡｇ分泌またはアセンブリー阻害剤、ＨＢＶ  ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤、ＨＢＶ複製阻害剤、ＨＢＶ  ＲＮＡｓｅ阻害剤、ＨＢＶウイルス侵入阻害剤、ＨＢｘ阻害剤、Ｂ型肝炎ラージエンベロープタンパク質モジュレーター、Ｂ型肝炎ラージエンベロープタンパク質刺激剤、Ｂ型肝炎構造タンパク質モジュレーター、Ｂ型肝炎表面抗原（ＨＢｓＡｇ）阻害剤、Ｂ型肝炎表面抗原（ＨＢｓＡｇ）分泌またはアセンブリー阻害剤、Ｂ型肝炎ウイルスＥ抗原阻害剤、Ｂ型肝炎ウイルス複製阻害剤、肝炎ウイルス構造タンパク質阻害剤、ＨＩＶ−１逆転写酵素阻害剤、ヒアルロニダーゼ阻害剤、ＩＡＰ阻害剤、ＩＬ−２アゴニスト、ＩＬ−７アゴニスト、免疫モジュレーター、インドールアミン−２阻害剤、リボヌクレオチドレダクターゼの阻害剤、インターロイキン−２リガンド、ｉｐｉ４阻害剤、リシンデメチラーゼ阻害剤、ヒストンデメチラーゼ阻害剤、ＫＤＭ１阻害剤、ＫＤＭ５阻害剤、キラー細胞レクチン様受容体サブファミリーＧメンバー１阻害剤、リンパ球活性化遺伝子３阻害剤、リンホトキシンベータ受容体活性化剤、Ａｘｌのモジュレーター、Ｂ７−Ｈ３のモジュレーター、Ｂ７−Ｈ４のモジュレーター、ＣＤ１６０のモジュレーター、ＣＤ１６１のモジュレーター、ＣＤ２７のモジュレーター、ＣＤ４７のモジュレーター、ＣＤ７０のモジュレーター、ＧＩＴＲのモジュレーター、ＨＥＶＥＭのモジュレーター、ＩＣＯＳのモジュレーター、Ｍｅｒのモジュレーター、ＮＫＧ２Ａのモジュレーター、ＮＫＧ２Ｄのモジュレーター、ＯＸ４０のモジュレーター、ＳＩＲＰアルファのモジュレーター、ＴＩＧＩＴのモジュレーター、Ｔｉｍ−４のモジュレーター、Ｔｙｒｏのモジュレーター、Ｎａ＋−タウロコール酸共輸送ポリペプチド（ＮＴＣＰ）阻害剤、ナチュラルキラー細胞受容体２Ｂ４阻害剤、ＮＯＤ２遺伝子刺激剤、核タンパク質阻害剤、核タンパク質モジュレーター、ＰＤ−１阻害剤、ＰＤ−Ｌ１阻害剤、ペプチジルプロリルイソメラーゼ阻害剤、ホスファチジルイノシトール−３キナーゼ（ＰＩ３Ｋ）阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子１刺激剤、逆転写酵素阻害剤、リ��ヌクレアーゼ阻害剤、ＲＮＡ  ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤、ＳＬＣ１０Ａ１遺伝子阻害剤、ＳＭＡＣ模倣体、Ｓｒｃチロシンキナーゼ阻害剤、インターフェロン遺伝子刺激剤（ＳＴＩＮＧ）アゴニスト、ＮＯＤ１の刺激剤、Ｔ細胞表面糖タンパク質ＣＤ２８阻害剤、Ｔ細胞表面糖タンパク質ＣＤ８モジュレーター、チモシンアゴニスト、チモシンアルファ１リガンド、Ｔｉｍ−３阻害剤、ＴＬＲ−３アゴニスト、ＴＬＲ−７アゴニスト、ＴＬＲ−９アゴニスト、ＴＬＲ９遺伝子刺激剤、ｔｏｌｌ様受容体（ＴＬＲ）モジュレーター、ウイルスリボヌクレオチドレダクターゼ阻害剤、ならびにこれらの組合せを含有することができる。
【０２０４】
ある特定の実施形態では、本開示の化合物、またはその薬学的に許容される塩は、ＨＢＶ併用薬、ＨＢＶワクチン、ＨＢＶ  ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤、免疫モジュレーター  ｔｏｌｌ様受容体（ＴＬＲ）モジュレーター、インターフェロンアルファ受容体リガンド、ヒアルロニダーゼ阻害剤、ｂ型肝炎表面抗原（ＨＢｓＡｇ）阻害剤、細胞傷害性Ｔリンパ球関連タンパク質４（ｉｐｉ４）阻害剤、シクロフィリン阻害剤、ＨＢＶウイルス侵入阻害剤、ウイルスｍＲＮＡを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチド、低分子干渉ＲＮＡ（ｓｉＲＮＡ）およびｄｄＲＮＡｉエンドヌクレアーゼモジュレーター、リボヌクレオチド（ribonucelotide）レダクターゼ阻害剤、ＨＢＶ  Ｅ抗原阻害剤、共有結合閉環状ＤＮＡ（ｃｃｃＤＮＡ）阻害剤、ファルネソイドＸ受容体アゴニスト、ＨＢＶ抗体、ＣＣＲ２ケモカインアンタゴニスト、チモシンアゴニスト、サイトカイン、核タンパク質モジュレーター、レチノイン酸誘導性遺伝子１刺激剤、ＮＯＤ２刺激剤、ホスファチジルイノシトール３−キナーゼ（ＰＩ３Ｋ）阻害剤、インドールアミン−２，３−ジオキシゲナーゼ（ＩＤＯ）経路阻害剤、ＰＤ−１阻害剤、ＰＤ−Ｌ１阻害剤、組換えチモシンアルファ−１、ｂｒｕｔｏｎ型チロシンキナーゼ（ＢＴＫ）阻害剤、ＫＤＭ阻害剤、ＨＢＶ複製阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、ならびに他のＨＢＶ薬から選択される、１、２、３、４つまたはそれより多い追加の治療剤と組み合わされる。
ＨＢＶ併用薬
【０２０５】
ＨＢＶの処置のための併用薬の例として、ＴＲＵＶＡＤＡ（登録商標）（テノホビルジソプロキシルフマル酸塩およびエムトリシタビン）；ＡＢＸ−２０３、ラミブジン、およびＰＥＧ−ＩＦＮ−アルファ；ＡＢＸ−２０３アデホビル、およびＰＥＧ−ＩＦＮアルファ；およびＩＮＯ−１８００（ＩＮＯ−９１１２およびＲＧ７９４４）が挙げられる。
他のＨＢＶ薬
【０２０６】
ＨＢＶの処置のための他の薬物の例として、アルファ−ヒドロキシトロポロン、アムドキソビル、ベータ−ヒドロキシシトシンヌクレオシド、ＣＣＣ−０９７５、エルブシタビン、エゼチミブ、シクロスポリンＡ、ゲンチオピクリン（ゲンチオピクロシド）、ＪＮＪ−５６１３６３７９、ニタゾキサニド、ビリナパント、ＮＯＶ−２０５（ｍｏｌｉｘａｎ、ＢＡＭ−２０５）、オリゴチド、ミボチレート（ｍｉｖｏｔｉｌａｔｅ）、フエロン、ＧＳＴ−ＨＧ−１３１、レバミソール、Ｋａ  Ｓｈｕ  Ｎｉｎｇ、アロフェロン、ＷＳ−００７、Ｙ−１０１（Ｔｉ  Ｆｅｎ  Ｔａｉ）、ｒＳＩＦＮ−ｃｏ、ＰＥＧ−ＩＩＦＮｍ、ＫＷ−３、ＢＰ−Ｉｎｔｅｒ−０１４、オレアノール酸、ＨｅｐＢ−ｎＲＮＡ、ｃＴＰ−５（ｒＴＰ−５）、ＨＳＫ−ＩＩ−２、ＨＥＩＳＣＯ−１０６−１、ＨＥＩＳＣＯ−１０６、Ｈｅｐｂａｒｎａ、ＩＢＰＢ−００６ＩＡ、Ｈｅｐｕｙｉｎｆｅｎ、ＤａｓＫｌｏｓｔｅｒ  ００１４−０１、ＩＳＡ−２０４、Ｊｉａｎｇａｎｔａｉ（Ｇａｎｘｉｋａｎｇ）、ＭＩＶ−２１０、ＯＢ−ＡＩ−００４、ＰＦ−０６、ピクロシド、ＤａｓＫｌｏｓｔｅｒ−００３９、ヘプランタイ（ｈｅｐｕｌａｎｔａｉ）、ＩＭＢ−２６１３、ＴＣＭ−８００Ｂ、還元グルタチオン、ＲＯ−６８６４０１８、ＲＧ−７８３４、ＵＢ−５５１、およびＺＨ−２Ｎ、ならびにＵＳ２０１５０２１０６８２（Ｒｏｃｈｅ）、ＵＳ２０１６／０１２２３４４（Ｒｏｃｈｅ）、ＷＯ２０１５１７３１６４、ＷＯ２０１６０２３８７７、ＵＳ２０１５２５２０５７Ａ（Ｒｏｃｈｅ）、ＷＯ１６１２８３３５Ａ１（Ｒｏｃｈｅ）、ＷＯ１６１２０１８６Ａ１（Ｒｏｃｈｅ）、ＵＳ２０１６２３７０９０Ａ（Ｒｏｃｈｅ）、ＷＯ１６１０７８３３Ａ１（Ｒｏｃｈｅ）、ＷＯ１６１０７８３２Ａ１（Ｒｏｃｈｅ）、ＵＳ２０１６１７６８９９Ａ（Ｒｏｃｈｅ）、ＷＯ１６１０２４３８Ａ１（Ｒｏｃｈｅ）、ＷＯ１６０１２４７０Ａ１（Ｒｏｃｈｅ）、ＵＳ２０１６２２０５８６Ａ（Ｒｏｃｈｅ）、およびＵＳ２０１５０３１６８７Ａ（Ｒｏｃｈｅ）に開示された化合物が挙げられる。
ＨＢＶワクチン
【０２０７】
ＨＢＶワクチンは、予防および治療ワクチンの両方を含む。ＨＢＶ予防ワクチンの例として、Ｖａｘｅｌｉｓ、Ｈｅｘａｘｉｍ、Ｈｅｐｌｉｓａｖ、Ｍｏｓｑｕｉｒｉｘ、ＤＴｗＰ−ＨＢＶワクチン、Ｂｉｏ−Ｈｅｐ−Ｂ、Ｄ／Ｔ／Ｐ／ＨＢＶ／Ｍ（ＬＢＶＰ−０１０１；ＬＢＶＷ−０１０１）、ＤＴｗＰ−Ｈｅｐｂ−Ｈｉｂ−ＩＰＶワクチン、Ｈｅｂｅｒｐｅｎｔａ  Ｌ、ＤＴｗＰ−ＨｅｐＢ−Ｈｉｂ、Ｖ−４１９、ＣＶＩ−ＨＢＶ−００１、Ｔｅｔｒａｂｈａｙ、Ｂ型肝炎予防ワクチン（Ａｄｖａｘ  Ｓｕｐｅｒ  Ｄ）、Ｈｅｐａｔｒｏｌ−０７、ＧＳＫ−２２３１９２Ａ、ＥＮＧＥＲＩＸ  Ｂ（登録商標）、組換えＢ型肝炎ワクチン（筋肉内、Ｋａｎｇｔａｉ  Ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）、組換えＢ型肝炎ワクチン（Ｈａｎｓｅｎｕａｌ  ｐｏｌｙｍｏｒｐｈａ酵母、筋肉内、Ｈｕａｌａｎ  Ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ）、組換えＢ型肝炎表面抗原ワクチン、Ｂｉｍｍｕｇｅｎ、Ｅｕｆｏｒａｖａｃ、Ｅｕｔｒａｖａｃ、ａｎｒｉｘ−ＤＴａＰ−ＩＰＶ−Ｈｅｐ  Ｂ、ＨＢＡＩ−２０、Ｉｎｆａｎｒｉｘ−ＤＴａＰ−ＩＰＶ−Ｈｅｐ  Ｂ−Ｈｉｂ、Ｐｅｎｔａｂｉｏ  Ｖａｋｓｉｎ  ＤＴＰ−ＨＢ−Ｈｉｂ、Ｃｏｍｖａｃ  ４、Ｔｗｉｎｒｉｘ、Ｅｕｖａｘ−Ｂ、Ｔｒｉｔａｎｒｉｘ  ＨＢ、Ｉｎｆａｎｒｉｘ  Ｈｅｐ  Ｂ、Ｃｏｍｖａｘ、ＤＴＰ−Ｈｉｂ−ＨＢＶワクチン、ＤＴＰ−ＨＢＶワクチン、Ｙｉ  Ｔａｉ、Ｈｅｂｅｒｂｉｏｖａｃ  ＨＢ、Ｔｒｉｖａｃ  ＨＢ、ＧｅｒＶａｘ、ＤＴｗＰ−Ｈｅｐ  Ｂ−Ｈｉｂワクチン、Ｂｉｌｉｖｅ、Ｈｅｐａｖａｘ−Ｇｅｎｅ、ＳＵＰＥＲＶＡＸ、Ｃｏｍｖａｃ５、Ｓｈａｎｖａｃ−Ｂ、Ｈｅｂｓｕｌｉｎ、Ｒｅｃｏｍｂｉｖａｘ  ＨＢ、Ｒｅｖａｃ  Ｂ  ｍｃｆ、Ｒｅｖａｃ  Ｂ＋、Ｆｅｎｄｒｉｘ、ＤＴｗＰ−ＨｅｐＢ−Ｈｉｂ、ＤＮＡ−００１、Ｓｈａｎ６、ｒｈＨＢｓＡＧワクチン、およびＤＴａＰ−ｒＨＢ−Ｈｉｂワクチンが挙げられる。
【０２０８】
ＨＢＶ治療ワクチンの例として、ＨＢｓＡＧ−ＨＢＩＧ複合体、ＡＲＢ−１５９８、Ｂｉｏ−Ｈｅｐ−Ｂ、ＮＡＳＶＡＣ、ａｂｉ−ＨＢ（静脈内）、ＡＢＸ−２０３、Ｔｅｔｒａｂｈａｙ、ＧＸ−１１０Ｅ、ＧＳ−４７７４、ペプチドワクチン（ｅｐｓｉｌｏｎＰＡ−４４）、Ｈｅｐａｔｒｏｌ−０７、ＮＡＳＶＡＣ（ＮＡＳＴＥＲＡＰ）、ＩＭＰ−３２１、ＢＥＶＡＣ、Ｒｅｖａｃ  Ｂ  ｍｃｆ、Ｒｅｖａｃ  Ｂ＋、ＭＧＮ−１３３３、ＫＷ−２、ＣＶＩ−ＨＢＶ−００２、ＡｌｔｒａＨｅｐＢ、ＶＧＸ−６２００、ＦＰ−０２、ＦＰ−０２．２、ＴＧ−１０５０、ＮＵ−５００、ＨＢＶａｘ、ｉｍ／ＴｒｉＧｒｉｄ／抗原ワクチン、Ｍｅｇａ−ＣＤ４０Ｌ−アジュバントワクチン、ＨｅｐＢ−ｖ、ＲＧ７９４４（ＩＮＯ−１８００）、組換えＶＬＰ系治療ワクチン（ＨＢＶ感染、ＶＬＰ  Ｂｉｏｔｅｃｈ）、ＡｄＴＧ−１７９０９、ＡｄＴＧ−１７９１０  ＡｄＴＧ−１８２０２、ＣｈｒｏｎＶａｃ−Ｂ、ＴＧ−１０５０、およびＬｍ  ＨＢＶが挙げられる。
ＨＢＶ  ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤
【０２０９】
ＨＢＶ  ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤の例として、アデホビル（ＨＥＰＳＥＲＡ（登録商標））、エムトリシタビン（ＥＭＴＲＩＶＡ（登録商標））、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩（ＶＩＲＥＡＤ（登録商標））、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、テノホビルジピボキシル（ｔｅｎｏｆｏｖｉｒ  ｄｉｐｉｖｏｘｉｌ）、テノホビルジピボキシルフマル酸塩、テノホビルオクタデシルオキシエチルエステル、ＣＭＸ−１５７、ベシフォビル（ｂｅｓｉｆｏｖｉｒ）、エンテカビル（ＢＡＲＡＣＬＵＤＥ（登録商標））、エンテカビルマレエート、テルビブジン（ＴＹＺＥＫＡ（登録商標））、プラデホビル（ｐｒａｄｅｆｏｖｉｒ）、クレブジン、リバビリン、ラミブジン（ＥＰＩＶＩＲ−ＨＢＶ（登録商標））、フォスファジド、ファムシクロビル、フソリン、メタカビル、ＳＮＣ−０１９７５４、ＦＭＣＡ、ＡＧＸ−１００９、ＡＲ−ＩＩ−０４−２６、ＨＩＰ−１３０２、テノホビルジソプロキシルアスパラギン酸塩、テノホビルジソプロキシルオロテート、およびＨＳ−１０２３４が挙げられる。
免疫モジュレーター
【０２１０】
免疫モジュレーターの例として、リンタトリモド、イミドール塩酸塩、インガロン、ｄｅｒｍａＶｉｒ、プラケニル（ヒドロキシクロロキン）、プロロイキン、ヒドロキシウレア、ミコフェノール酸モフェチル（ＭＰＡ）およびそのエステル誘導体であるミコフェノール酸モフェチル（ＭＭＦ）、ＷＦ−１０、リバビリン、ＩＬ−１２、ＩＮＯ−９１１２、ポリマーポリエチレンイミン（ＰＥＩ）、Ｇｅｐｏｎ、ＶＧＶ−１、ＭＯＲ−２２、ＢＭＳ−９３６５５９、ＲＯ−７０１１７８５、ＲＯ−６８７１７６５、およびＩＲ−１０３が挙げられる。
ｔｏｌｌ様受容体（ＴＬＲ）モジュレーター
【０２１１】
ＴＬＲモジュレーターとして、ＴＬＲ１、ＴＬＲ２、ＴＬＲ３、ＴＬＲ４、ＴＬＲ５、ＴＬＲ６、ＴＬＲ７、ＴＬＲ８、ＴＬＲ９、ＴＬＲ１０、ＴＬＲ１１、ＴＬＲ１２、およびＴＬＲ１３のモジュレーターが挙げられる。ＴＬＲ３モジュレーターの例として、リンタトリモド、ポリ−ＩＣＬＣ、ＲＩＢＯＸＸＯＮ（登録商標）、Ａｐｏｘｘｉｍ、ＲＩＢＯＸＸＩＭ（登録商標）、ＩＰＨ−３３、ＭＣＴ−４６５、ＭＣＴ−４７５、およびＮＤ−１．１が挙げられる。
【０２１２】
ＴＬＲ７モジュレーターの例として、ＧＳ−９６２０、ＧＳＫ−２２４５０３５、イミキモド、レシキモド、ＤＳＲ−６４３４、ＤＳＰ−３０２５、ＩＭＯ−４２００、ＭＣＴ−４６５、ＭＥＤＩ−９１９７、３Ｍ−０５１、ＳＢ−９９２２、３Ｍ−０５２、Ｌｉｍｔｏｐ、ＴＭＸ−３０Ｘ、ＴＭＸ−２０２、ＲＧ−７８６３、ＲＧ−７７９５、ならびにＵＳ２０１００１４３３０１（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＵＳ２０１１００９８２４８（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、およびＵＳ２００９００４７２４９（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）に開示された化合物が挙げられる。
【０２１３】
ＴＬＲ８モジュレーターの例として、モトリモド、レシキモド、３Ｍ−０５１、３Ｍ−０５２、ＭＣＴ−４６５、ＩＭＯ−４２００、ＶＴＸ−７６３、ＶＴＸ−１４６３、ならびにＵＳ２０１４００４５８４９（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＵＳ２０１４００７３６４２（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４／０５６９５３（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４／０７６２２１（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４／１２８１８９（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＵＳ２０１４０３５００３１（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４／０２３８１３（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＵＳ２００８０２３４２５１（Ａｒｒａｙ  Ｂｉｏｐｈａｒｍａ）、ＵＳ２００８０３０６０５０（Ａｒｒａｙ  Ｂｉｏｐｈａｒｍａ）、ＵＳ２０１０００２９５８５（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、ＵＳ２０１１００９２４８５（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、ＵＳ２０１１０１１８２３５（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、ＵＳ２０１２００８２６５８（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、ＵＳ２０１２０２１９６１５（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、ＵＳ２０１４００６６４３２（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、ＵＳ２０１４００８８０８５（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、ＵＳ２０１４０２７５１６７（Ｎｏｖｉｒａ  Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）、およびＵＳ２０１３０２５１６７３（Ｎｏｖｉｒａ  Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）に開示された化合物が挙げられる。
【０２１４】
ＴＬＲ９モジュレーターの例として、ＢＢ−００１、ＢＢ−００６、ＣＹＴ−００３、ＩＭＯ−２０５５、ＩＭＯ−２１２５、ＩＭＯ−３１００、ＩＭＯ−８４００、ＩＲ−１０３、ＩＭＯ−９２００、アガトリモド、ＤＩＭＳ−９０５４、ＤＶ−１０７９、ＤＶ−１１７９、ＡＺＤ−１４１９、レフトリモド（ＭＧＮ−１７０３）、リテニモド、およびＣＹＴ−００３−ＱｂＧ１０が挙げられる。
インターフェロンアルファ受容体リガンド
【０２１５】
インターフェロンアルファ受容体リガンドの例として、インターフェロンアルファ−２ｂ（ＩＮＴＲＯＮ  Ａ（登録商標））、ペグ化インターフェロンアルファ−２ａ（ＰＥＧＡＳＹＳ（登録商標））、ＰＥＧ化インターフェロンアルファ−１ｂ、インターフェロンアルファ１ｂ（ＨＡＰＧＥＮ（登録商標））、Ｖｅｌｄｏｎａ、Ｉｎｆｒａｄｕｒｅ、Ｒｏｆｅｒｏｎ−Ａ、ＹＰＥＧ−インターフェロンアルファ−２ａ（ＹＰＥＧ−ｒｈＩＦＮアルファ−２ａ）、Ｐ−１１０１、Ａｌｇｅｒｏｎ、Ａｌｆａｒｏｎａ、Ｉｎｇａｒｏｎ（インターフェロンガンマ）、ｒＳＩＦＮ−ｃｏ（組換えスーパー化合物インターフェロン）、Ｙペグインターフェロンアルファ−２ｂ（ＹＰＥＧ−ｒｈＩＦＮアルファ−２ｂ）、ＭＯＲ−２２、ペグインターフェロンアルファ−２ｂ（ＰＥＧ−ＩＮＴＲＯＮ（登録商標））、Ｂｉｏｆｅｒｏｎ、Ｎｏｖａｆｅｒｏｎ、Ｉｎｍｕｔａｇ（Ｉｎｆｅｒｏｎ）、ＭＵＬＴＩＦＥＲＯＮ（登録商標）、インターフェロンアルファ−ｎ１（ＨＵＭＯＦＥＲＯＮ（登録商標））、インターフェロンベータ−１ａ（ＡＶＯＮＥＸ（登録商標））、Ｓｈａｆｅｒｏｎ、インターフェロンアルファ−２ｂ（Ａｘｘｏ）、Ａｌｆａｆｅｒｏｎｅ、インターフェロンアルファ−２ｂ（ＢｉｏＧｅｎｅｒｉｃ  Ｐｈａｒｍａ）、インターフェロン−アルファ２（ＣＪ）、Ｌａｆｅｒｏｎｕｍ、ＶＩＰＥＧ、ＢＬＡＵＦＥＲＯＮ−Ａ、ＢＬＡＵＦＥＲＯＮ−Ｂ、Ｉｎｔｅｒｍａｘ  Ａｌｐｈａ、Ｒｅａｌｄｉｒｏｎ、Ｌａｎｓｔｉｏｎ、Ｐｅｇａｆｅｒｏｎ、ＰＤｆｅｒｏｎ−Ｂ  ＰＤｆｅｒｏｎ−Ｂ、インターフェロンアルファ−２ｂ（ＩＦＮ、Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｏｓ  Ｂｉｏｐｒｏｆａｒｍａ）、アルファインターフェロナ（ａｌｆａｉｎｔｅｒｆｅｒｏｎａ）２ｂ、Ｋａｌｆｅｒｏｎ、Ｐｅｇｎａｎｏ、Ｆｅｒｏｎｓｕｒｅ、ＰｅｇｉＨｅｐ、インターフェロンアルファ２ｂ（Ｚｙｄｕｓ−Ｃａｄｉｌａ）、インターフェロンアルファ２ａ、Ｏｐｔｉｐｅｇ  Ａ、Ｒｅａｌｆａ  ２Ｂ、Ｒｅｌｉｆｅｒｏｎ、インターフェロンアルファ−２ｂ（Ａｍｅｇａ）、インターフェロンアルファ−２ｂ（Ｖｉｒｃｈｏｗ）、ロペグインターフェロンアルファ−２ｂ、ｒＨＳＡ−ＩＦＮアルファ−２ａ（組換えヒト血清アルブミンインターフェロンアルファ２ａ融合タンパク質）、ｒＨＳＡ−ＩＦＮアルファ２ｂ、組換えヒトインターフェロンアルファ−（１ｂ、２ａ、２ｂ）、ペグインターフェロンアルファ−２ｂ（Ａｍｅｇａ）、ペグインターフェロンアルファ−２ａ、Ｒｅａｆｅｒｏｎ−ＥＣ、Ｐｒｏｑｕｉｆｅｒｏｎ、Ｕｎｉｆｅｒｏｎ、Ｕｒｉｆｒｏｎ、インターフェロンアルファ−２ｂ（Ｃｈａｎｇｃｈｕｎ  Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ  ｏｆ  Ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）、Ａｎｔｅｒｆｅｒｏｎ、Ｓｈａｎｆｅｒｏｎ、Ｌａｙｆｆｅｒｏｎ、Ｓｈａｎｇ  Ｓｈｅｎｇ  Ｌｅｉ  Ｔａｉ、ＩＮＴＥＦＥＮ、ＳＩＮＯＧＥＮ、Ｆｕｋａｎｇｔａｉ、Ｐｅｇｓｔａｔ、ｒＨＳＡ−ＩＦＮアルファ−２ｂ、およびＩｎｔｅｒａｐｏ（Ｉｎｔｅｒａｐａ）が挙げられる。
ヒアルロニダーゼ阻害剤
【０２１６】
ヒアルロニダーゼ阻害剤の例として、アストドリマーが挙げられる。
Ｂ型肝炎表面抗原（ＨＢｓＡｇ）阻害剤
【０２１７】
ＨＢｓＡｇ阻害剤の例として、ＨＢＦ−０２５９、ＰＢＨＢＶ−００１、ＰＢＨＢＶ−２−１５、ＰＢＨＢＶ−２−１、ＲＥＰ−９ＡＣ、ＲＥＰ−９Ｃ、ＲＥＰ−９、ＲＥＰ−２１３９、ＲＥＰ−２１３９−Ｃａ、ＲＥＰ−２１６５、ＲＥＰ−２０５５、ＲＥＰ−２１６３、ＲＥＰ−２１６５、ＲＥＰ−２０５３、ＲＥＰ−２０３１およびＲＥＰ−００６、およびＲＥＰ−９ＡＣ’が挙げられる。
【０２１８】
ＨＢｓＡｇ分泌阻害剤の例として、ＢＭ６０１が挙げられる。
細胞傷害性Ｔリンパ球関連タンパク質４（ｉｐｉ４）阻害剤
【０２１９】
細胞傷害性Ｔリンパ球関連タンパク質４（ｉｐｉ４）阻害剤の例として、ＡＧＥＮ−２０４１、ＡＧＥＮ−１８８４、イピルミマブ、ベラタセプト、ＰＳＩ−００１、ＰＲＳ−０１０、Ｐｒｏｂｏｄｙ  ｍＡｂ、トレメリムマブ、およびＪＨＬ−１１５５が挙げられる。
シクロフィリン阻害剤
【０２２０】
シクロフィリン阻害剤の例として、ＣＰＩ−４３１−３２、ＥＤＰ−４９４、ＯＣＢ−０３０、ＳＣＹ−６３５、ＮＶＰ−０１５、ＮＶＰ−０１８、ＮＶＰ−０１９、ＳＴＧ−１７５、ならびにＵＳ８５１３１８４（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＵＳ２０１４００３０２２１（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＵＳ２０１３０３４４０３０（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、およびＵＳ２０１３０３４４０２９（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）に開示された化合物が挙げられる。
ＨＢＶウイルス侵入阻害剤
【０２２１】
ＨＢＶウイルス侵入阻害剤の例として、Ｍｙｒｃｌｕｄｅｘ  Ｂが挙げられる。
ウイルスｍＲＮＡを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチド
【０２２２】
ウイルスｍＲＮＡを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチドの例として、ＩＳＩＳ−ＨＢＶＲｘ、ＩＯＮＩＳ−ＨＢＶＲｘ、ＩＯＮＩＳ−ＧＳＫ６−ＬＲｘ、ＧＳＫ−３３８９４０４が挙げられる。
低分子干渉ＲＮＡ（ｓｉＲＮＡ）およびｄｄＲＮＡｉ
【０２２３】
ｓｉＲＮＡの例として、ＴＫＭ−ＨＢＶ（ＴＫＭ−ＨｅｐＢ）、ＡＬＮ−ＨＢＶ、ＳＲ−００８、ＨｅｐＢ−ｎＲＮＡ、およびＡＲＣ−５２０、ＡＲＣ−５２１、ＡＲＢ−１７４０、ＡＲＢ−１４６７が挙げられる。
【０２２４】
ＤＮＡ指向ＲＮＡ干渉（ｄｄＲＮＡｉ）の例として、ＢＢ−ＨＢ−３３１が挙げられる。
エンドヌクレアーゼモジュレーター
【０２２５】
エンドヌクレアーゼモジュレーターの例として、ＰＧＮ−５１４が挙げられる。
リボヌクレオチドレダクターゼ阻害剤
【０２２６】
リボヌクレオチドレダクターゼの阻害剤の例として、Ｔｒｉｍｉｄｏｘが挙げられる。
ＨＢＶ  Ｅ抗原阻害剤
【０２２７】
ＨＢＶ  Ｅ抗原阻害剤の例として、オウゴニンが挙げられる。
共有結合閉環状ＤＮＡ（ｃｃｃＤＮＡ）阻害剤
【０２２８】
ｃｃｃＤＮＡ阻害剤の例として、ＢＳＢＩ−２５、およびＣＨＲ−１０１が挙げられる。
ファルネソイドＸ受容体アゴニスト
【０２２９】
ＥＹＰ−００１などのファルネソイドｘ受容体アゴニストの例。
ＨＢＶ抗体
【０２３０】
Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体の例として、ＧＣ−１１０２、ＸＴＬ−１７、ＸＴＬ−１９、ＫＮ−００３、ＩＶ  Ｈｅｐａｂｕｌｉｎ  ＳＮ、および完全ヒトモノクローナル抗体療法（Ｂ型肝炎ウイルス感染、Ｈｕｍａｂｓ  ＢｉｏＭｅｄ）が挙げられる。
【０２３１】
モノクローナル抗体およびポリクローナル抗体を含むＨＢＶ抗体の例として、Ｚｕｔｅｃｔｒａ、Ｓｈａｎｇ  Ｓｈｅｎｇ  Ｇａｎ  Ｄｉ、Ｕｍａｎ  Ｂｉｇ（Ｈｅｐａｔｉｔｉｓ  Ｂ  Ｈｙｐｅｒｉｍｍｕｎｅ）、Ｏｍｒｉ−Ｈｅｐ−Ｂ、Ｎａｂｉ−ＨＢ、Ｈｅｐａｔｅｃｔ  ＣＰ、ＨｅｐａＧａｍ  Ｂ、イガンチベ（ｉｇａｎｔｉｂｅ）、Ｎｉｕｌｉｖａ、ＣＴ−Ｐ２４、Ｂ型肝炎免疫グロブリン（静脈内、ｐＨ４、ＨＢＶ感染、Ｓｈａｎｇｈａｉ  ＲＡＡＳ  Ｂｌｏｏｄ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）、およびＦｏｖｅｐｔａ（ＢＴ−０８８）が挙げられる。
【０２３２】
ＨＢＣ−３４などの完全ヒトモノクローナル抗体。
ＣＣＲ２ケモカインアンタゴニスト
【０２３３】
ＣＣＲ２ケモカインアンタゴニストの例として、プロパゲルマニウムが挙げられる。
チモシンアゴニスト
【０２３４】
チモシンアゴニストの例として、Ｔｈｙｍａｌｆａｓｉｎ、組換えチモシンアルファ１（ＧｅｎｅＳｃｉｅｎｃｅ）が挙げられる。
サイトカイン
【０２３５】
サイトカインの例として、組換えＩＬ−７、ＣＹＴ−１０７、インターロイキン−２（ＩＬ−２、Ｉｍｍｕｎｅｘ）、組換えヒトインターロイキン−２（Ｓｈｅｎｚｈｅｎ  Ｎｅｐｔｕｎｕｓ）、ＩＬ−１５、ＩＬ−２１、ＩＬ−２４、およびセルモロイキンが挙げられる。
核タンパク質モジュレーター
【０２３６】
核タンパク質モジュレーターは、ＨＢＶコアまたはカプシドタンパク質阻害剤のいずれかであってもよい。核タンパク質モジュレーターの例として、ＡＴ−１３０、ＧＬＳ４、ＮＶＲ−１２２１、ＮＶＲ−３７７８、ＢＡＹ  ４１−４１０９、メシル酸モルホチアジン、ＪＮＪ−３７９、およびＤＶＲ−２３が挙げられる。ＡＢ−４２３などのカプシドアセンブリー阻害剤。
【０２３７】
カプシド阻害剤の例として、ＵＳ２０１４０２７５１６７（Ｎｏｖｉｒａ  Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）、ＵＳ２０１３０２５１６７３（Ｎｏｖｉｒａ  Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）、ＵＳ２０１４０３４３０３２（Ｒｏｃｈｅ）、ＷＯ２０１４０３７４８０（Ｒｏｃｈｅ）、ＵＳ２０１３０２６７５１７（Ｒｏｃｈｅ）、ＷＯ２０１４１３１８４７（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４０３３１７６（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４０３３１７０（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４０３３１６７（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１５／０５９２１２（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１５１１８０５７（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１５０１１２８１（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４１８４３６５（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４１８４３５０（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４１６１８８８（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１３０９６７４４（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１５０２２５３５５（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１４０１７８３３７（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１５０３１５１５９（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１５０１９７５３３（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１５０２７４６５２（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１５０２５９３２４（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１５０１３２２５８（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ９１８１２８８（Ｎｏｖｉｒａ）、ＷＯ２０１４１８４３５０（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１３１４４１２９（Ｒｏｃｈｅ）に開示された化合物が挙げられる。
レチノイン酸誘導性遺伝子１刺激剤
【０２３８】
レチノイン酸誘導性遺伝子１の刺激剤の例として、ＳＢ−９２００、ＳＢ−４０、ＳＢ−４４、ＯＲＩ−７２４６、ＯＲＩ−９３５０、ＯＲＩ−７５３７、ＯＲＩ−９０２０、ＯＲＩ−９１９８、およびＯＲＩ−７１７０、ＲＧＴ−１００が挙げられる。
ＮＯＤ２刺激剤
【０２３９】
ＮＯＤ２の刺激剤の例として、ＳＢ−９２００が挙げられる。
ホスファチジルイノシトール３−キナーゼ（ＰＩ３Ｋ）阻害剤
【０２４０】
ＰＩ３Ｋ阻害剤の例として、イデラリシブ、ＡＣＰ−３１９、ＡＺＤ−８１８６、ＡＺＤ−８８３５、ブパルリシブ、ＣＤＺ−１７３、ＣＬＲ−４５７、ピクチリシブ、ネラチニブ、リゴセルチブ、リゴセルチブナトリウム、ＥＮ−３３４２、ＴＧＲ−１２０２、アルペリシブ、デュベリシブ、ＩＰＩ−５４９、ＵＣＢ−５８５７、タセリシブ、ＸＬ−７６５、ゲダトリシブ、ＭＥ−４０１、ＶＳ−５５８４、コパンリシブ、ＣＡＩオロテート、ペリホシン、ＲＧ−７６６６、ＧＳＫ−２６３６７７１、ＤＳ−７４２３、パヌリシブ、ＧＳＫ−２２６９５５７、ＧＳＫ−２１２６４５８、ＣＵＤＣ−９０７、ＰＱＲ−３０９、ＩＮＣＢ−４００９３、ピララリシブ、ＢＡＹ−１０８２４３９、プキチニブメシル酸塩、ＳＡＲ−２４５４０９、ＡＭＧ−３１９、ＲＰ−６５３０、ＺＳＴＫ−４７４、ＭＬＮ−１１１７、ＳＦ−１１２６、ＲＶ−１７２９、ソノリシブ、ＬＹ−３０２３４１４、ＳＡＲ−２６０３０１、ＴＡＫ−１１７、ＨＭＰＬ−６８９、テナリシブ、ボクスタリシブ、およびＣＬＲ−１４０１が挙げられる。
インドールアミン−２，３−ジオキシゲナーゼ（ＩＤＯ）経路阻害剤
【０２４１】
ＩＤＯ阻害剤の例として、エパカドスタット（ＩＮＣＢ２４３６０）、レスミノスタット（４ＳＣ−２０１）、インドキシモド、Ｆ−００１２８７、ＳＮ−３５８３７、ＮＬＧ−９１９、ＧＤＣ−０９１９、ＧＢＶ−１０２８、ＧＢＶ−１０１２、ＮＫＴＲ−２１８、ならびにＵＳ２０１０００１５１７８（Ｉｎｃｙｔｅ）、ＵＳ２０１６１３７６５２（Ｆｌｅｘｕｓ  Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｉｎｃ．）、ＷＯ２０１４０７３７３８（Ｆｌｅｘｕｓ  Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｉｎｃ．）、およびＷＯ２０１５１８８０８５（Ｆｌｅｘｕｓ  Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｉｎｃ．）に開示された化合物が挙げられる。
ＰＤ−１阻害剤
【０２４２】
ＰＤ−１阻害剤の例として、ニボルマブ、ペンブロリズマブ、ピディリズマブ、ＢＧＢ−１０８、ＳＨＲ−１２１０、ＰＤＲ−００１、ＰＦ−０６８０１５９１、ＩＢＩ−３０８、ＧＢ−２２６、ＳＴＩ−１１１０、およびｍＤＸ−４００が挙げられる。
ＰＤ−Ｌ１阻害剤
【０２４３】
ＰＤ−Ｌ１阻害剤の例として、アテゾリズマブ、アベルマブ、ＡＭＰ−２２４、ＭＥＤＩ−０６８０、ＲＧ−７４４６、ＧＸ−Ｐ２、デュルバルマブ、ＫＹ−１００３、ＫＤ−０３３、ＭＳＢ−００１０７１８Ｃ、ＴＳＲ−０４２、ＡＬＮ−ＰＤＬ、ＳＴＩ−Ａ１０１４、ＣＸ−０７２、およびＢＭＳ−９３６５５９が挙げられる。
組換えチモシンアルファ−１
【０２４４】
組換えチモシンアルファ−１の例として、ＮＬ−００４およびＰＥＧ化チモシンアルファ−１が挙げられる。
Ｂｒｕｔｏｎ型チロシンキナーゼ（ＢＴＫ）阻害剤
【０２４５】
ＢＴＫ阻害剤の例として、ＡＢＢＶ−１０５、アカラブルチニブ（ＡＣＰ−１９６）、ＡＲＱ−５３１、ＢＭＳ−９８６１４２、ダサチニブ、イブルチニブ、ＧＤＣ−０８５３、ＰＲＮ−１００８、ＳＮＳ−０６２、ＯＮＯ−４０５９、ＢＧＢ−３１１１、ＭＬ−３１９、ＭＳＣ−２３６４４４７、ＲＤＸ−０２２、Ｘ−０２２、ＡＣ−０５８、ＲＧ−７８４５、スペブルチニブ、ＴＡＳ−５３１５、ＴＰ−０１５８、ＴＰ−４２０７、ＨＭ−７１２２４、ＫＢＰ−７５３６、Ｍ−２９５１、ＴＡＫ−０２０、ＡＣ−００２５、ならびにＵＳ２０１４０３３００１５（Ｏｎｏ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ）、ＵＳ２０１３００７９３２７（Ｏｎｏ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ）、およびＵＳ２０１３０２１７８８０（Ｏｎｏ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ）に開示された化合物が挙げられる。
ＫＤＭ阻害剤
【０２４６】
ＫＤＭ５阻害剤の例として、ＷＯ２０１６０５７９２４（Ｇｅｎｅｎｔｅｃｈ／Ｃｏｎｓｔｅｌｌａｔｉｏｎ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌｓ）、ＵＳ２０１４０２７５０９２（Ｇｅｎｅｎｔｅｃｈ／Ｃｏｎｓｔｅｌｌａｔｉｏｎ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌｓ）、ＵＳ２０１４０３７１１９５（Ｅｐｉｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）およびＵＳ２０１４０３７１２１４（Ｅｐｉｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）、ＵＳ２０１６０１０２０９６（Ｅｐｉｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）、ＵＳ２０１４０１９４４６９（Ｑｕａｎｔｉｃｅｌ）、ＵＳ２０１４０１７１４３２、ＵＳ２０１４０２１３５９１（Ｑｕａｎｔｉｃｅｌ）、ＵＳ２０１６００３９８０８（Ｑｕａｎｔｉｃｅｌ）、ＵＳ２０１４０２７５０８４（Ｑｕａｎｔｉｃｅｌ）、ＷＯ２０１４１６４７０８（Ｑｕａｎｔｉｃｅｌ）に開示された化合物が挙げられる。
【０２４７】
ＫＤＭ１阻害剤の例として、ＵＳ９１８６３３７Ｂ２（Ｏｒｙｚｏｎ  Ｇｅｎｏｍｉｃｓ）に開示された化合物、およびＧＳＫ−２８７９５５２、ＲＧ−６０１６、ＯＲＹ−２００１が挙げられる。
ＨＢＶ複製阻害剤
【０２４８】
Ｂ型肝炎ウイルス複製阻害剤の例として、イソチアフルジン（ｉｓｏｔｈｉａｆｌｕｄｉｎｅ）、ＩＱＰ−ＨＢＶ、ＲＭ−５０３８、およびＸｉｎｇａｎｔｉｅが挙げられる。
アルギナーゼ阻害剤
【０２４９】
アルギナーゼ阻害剤の例として、ＣＢ−１１５８、Ｃ−２０１、およびレスミノスタットが挙げられる。
ＨＢＶ併用療法
【０２５０】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル（ＨＥＰＳＥＲＡ（登録商標））、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩（ＶＩＲＥＡＤ（登録商標））、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル（ＢＡＲＡＣＬＵＤＥ（登録商標））、テルビブジン（ＴＹＺＥＫＡ（登録商標））、またはラミブジン（ＥＰＩＶＩＲ−ＨＢＶ（登録商標））からなる群から選択される１、２、３、または４つの追加の治療剤と組み合わされる。特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル（ＨＥＰＳＥＲＡ（登録商標））、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩（ＶＩＲＥＡＤ（登録商標））、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル（ＢＡＲＡＣＬＵＤＥ（登録商標））、テルビブジン（ＴＹＺＥＫＡ（登録商標））、またはラミブジン（ＥＰＩＶＩＲ−ＨＢＶ（登録商標））からなる群から選択される第１の追加の治療剤と組み合わされる。一実施形態では、１つまたは複数（例えば、１、２、３、４、１もしくは２、または１から３、または１から４つ）の追加の治療剤および薬学的に許容される担体、希釈剤、または賦形剤と組み合わせて、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む医薬組成物が提供される。
ＨＢＶ  ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤併用療法
【０２５１】
具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、ＨＢＶ  ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤と組み合わされる。別の具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、ＨＢＶ  ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤ならびに免疫モジュレーター、ＴＬＲモジュレーター、インターフェロンアルファ受容体リガンド、ヒアルロニダーゼ阻害剤、組換えＩＬ−７、ＨＢｓＡｇ阻害剤、ＨＢｓＡｇ分泌またはアセンブリー阻害剤、ＨＢｃＡｇを標的とする化合物、シクロフィリン阻害剤、ＨＢＶワクチン、ＨＢＶウイルス侵入阻害剤、ＮＴＣＰ阻害剤、ウイルスｍＲＮＡを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチド、ｓｉＲＮＡ、ｍｉＲＮＡ遺伝子療法剤、エンドヌクレアーゼモジュレーター、リボヌクレオチドレダクターゼの阻害剤、Ｂ型肝炎ウイルスＥ抗原阻害剤、組換えＳＲＡタンパク質、ｓｒｃキナーゼ阻害剤、ＨＢｘ阻害剤、ｃｃｃＤＮＡ阻害剤、ｓｓｈＲＮＡ、Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質（例えば、ＤＡＲＴｓ（登録商標）、ＤＵＯＢＯＤＩＥＳ（登録商標）、ＢＩＴＥＳ（登録商標）、ＸｍＡｂｓ（登録商標）、ＴａｎｄＡｂｓ（登録商標）、Ｆａｂ誘導体、またはＴＣＲ様抗体）を含むＨＢＶ抗体、ＣＣＲ２ケモカインアンタゴニスト、チモシンアゴニスト、サイトカイン、核タンパク質モジュレーター（ＨＢＶコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター）、レチノイン酸誘導性遺伝子１の刺激剤、ＲＩＧ−Ｉ様受容体の刺激剤、ＮＯＤ２の刺激剤、ＮＯＤ１の刺激剤、アルギナーゼ阻害剤、ＳＴＩＮＧアゴニスト、ＰＩ３Ｋ阻害剤、リンホトキシンベータ受容体活性化剤、ナチュラルキラー細胞受容体２Ｂ４阻害剤、リンパ球活性化遺伝子３阻害剤、ＣＤ１６０阻害剤、細胞傷害性Ｔリンパ球関連タンパク質４（ｉｐｉ４）阻害剤、ＣＤ１３７阻害剤、キラー細胞レクチン様受容体サブファミリーＧメンバー１阻害剤、ＴＩＭ−３阻害剤、ＢおよびＴリンパ球アテニュエーター阻害剤、ＣＤ３０５阻害剤、ＰＤ−１阻害剤、ＰＤ−Ｌ１阻害剤、ＰＥＧ−インターフェロンラムダ、組換えチモシンアルファ−１、ＢＴＫ阻害剤、ＴＩＧＩＴのモジュレーター、ＣＤ４７のモジュレーター、ＳＩＲＰアルファのモジュレーター、ＩＣＯＳのモジュレーター、ＣＤ２７のモジュレーター、ＣＤ７０のモジュレーター、ＯＸ４０のモジュレーター、エピジェネティック改変剤、ＮＫＧ２Ｄのモジュレーター、Ｔｉｍ−４のモジュレーター、Ｂ７−Ｈ４のモジュレーター、Ｂ７−Ｈ３のモジュレーター、ＮＫＧ２Ａのモジュレーター、ＧＩＴＲのモジュレーター、ＣＤ１６０のモジュレーター、ＨＥＶＥＭのモジュレーター、ＣＤ１６１のモジュレーター、Ａｘｌのモジュレーター、Ｍｅｒのモジュレーター、Ｔｙｒｏのモジュレーター、ＣＲＩＳＰＲ（ＣＲＩＳＰＲ  Ｃａｓ９を含む）、ジンクフィンガーヌクレアーゼまたは合成ヌクレアーゼ（ＴＡＬＥＮ）などの遺伝子改変剤または編集剤、ＩＡＰ阻害剤、ＳＭＡＣ模倣体、ＫＤＭ５阻害剤、ＩＤＯ阻害剤、およびＢ型肝炎ウイルス複製阻害剤からなる群から選択される少なくとも１つの追加の治療剤と組み合わされる。
【０２５２】
別の具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、ＨＢＶ  ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤；免疫モジュレーター、ＴＬＲモジュレーター、ＨＢｓＡｇ阻害剤、ＨＢｓＡｇ分泌またはアセンブリー阻害剤、ＨＢＶ治療ワクチン、Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質（例えば、ＤＡＲＴｓ（登録商標）、ＤＵＯＢＯＤＩＥＳ（登録商標）、ＢＩＴＥＳ（登録商標）、ＸｍＡｂｓ（登録商標）、ＴａｎｄＡｂｓ（登録商標）、Ｆａｂ誘導体、またはＴＣＲ様抗体）を含むＨＢＶ抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子１の刺激剤、ＲＩＧ−Ｉ様受容体の刺激剤、ＰＤ−１阻害剤、ＰＤ−Ｌ１阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、ＰＩ３Ｋ阻害剤、ＩＤＯ阻害剤、およびＮＯＤ２の刺激剤からなる群から選択される１つまたは２つの追加の治療剤；ならびにＨＢＶウイルス侵入阻害剤、ＮＴＣＰ阻害剤、ＨＢｘ阻害剤、ｃｃｃＤＮＡ阻害剤、Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体、ｓｉＲＮＡ、ｍｉＲＮＡ遺伝子療法剤、ｓｓｈＲＮＡ、ＫＤＭ５阻害剤、および核タンパク質モジュレーター（ＨＢＶコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター）からなる群から選択される１つまたは２つの追加の治療剤と組み合わされる。
【０２５３】
別の具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、ＨＢＶ  ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤ならびに免疫モジュレーター、ＴＬＲモジュレーター、ＨＢｓＡｇ阻害剤、ＨＢＶ治療ワクチン、Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質（例えば、ＤＡＲＴｓ（登録商標）、ＤＵＯＢＯＤＩＥＳ（登録商標）、ＢＩＴＥＳ（登録商標）、ＸｍＡｂｓ（登録商標）、ＴａｎｄＡｂｓ（登録商標）、Ｆａｂ誘導体、またはＴＣＲ様抗体）を含むＨＢＶ抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子１の刺激剤、ＲＩＧ−Ｉ様受容体の刺激剤、ＰＤ−１阻害剤、ＰＤ−Ｌ１阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、ＰＩ３Ｋ阻害剤、ＩＤＯ阻害剤、およびＮＯＤ２の刺激剤からなる群から選択される少なくとも第２の追加の治療剤と組み合わされる。
【０２５４】
別の具体的な実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、ＨＢＶ  ＤＮＡポリメラーゼ阻害剤ならびにＨＢＶウイルス侵入阻害剤、ＮＴＣＰ阻害剤、ＨＢｘ阻害剤、ｃｃｃＤＮＡ阻害剤、Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体、ｓｉＲＮＡ、ｍｉＲＮＡ遺伝子療法剤、ｓｓｈＲＮＡ、ＫＤＭ５阻害剤、および核タンパク質モジュレーター（ＨＢＶコアまたはカプシドタンパク質阻害剤）からなる群から選択される少なくとも第２の追加の治療剤と組み合わされる。
ＨＢＶ薬併用療法
【０２５５】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル（ＨＥＰＳＥＲＡ（登録商標））、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩（ＶＩＲＥＡＤ（登録商標））、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル（ＢＡＲＡＣＬＵＤＥ（登録商標））、テルビブジン（ＴＹＺＥＫＡ（登録商標））、またはラミブジン（ＥＰＩＶＩＲ−ＨＢＶ（登録商標））からなる群から選択される第１の追加の治療剤、ならびに免疫モジュレーター、ＴＬＲモジュレーター、インターフェロンアルファ受容体リガンド、ヒアルロニダーゼ阻害剤、組換えＩＬ−７、ＨＢｓＡｇ阻害剤、ＨＢｓＡｇ分泌またはアセンブリー阻害剤、ＨＢｃＡｇを標的とする化合物、シクロフィリン阻害剤、ＨＢＶワクチン、ＨＢＶウイルス侵入阻害剤、ＮＴＣＰ阻害剤、ウイルスｍＲＮＡを標的とするアンチセンスオリゴヌクレオチド、ｓｉＲＮＡ、ｍｉＲＮＡ遺伝子療法剤、エンドヌクレアーゼモジュレーター、リボヌクレオチドレダクターゼの阻害剤、Ｂ型肝炎ウイルスＥ抗原阻害剤、組換えＳＲＡタンパク質、ｓｒｃキナーゼ阻害剤、ＨＢｘ阻害剤、ｃｃｃＤＮＡ阻害剤、ｓｓｈＲＮＡ、Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質（例えば、ＤＡＲＴｓ（登録商標）、ＤＵＯＢＯＤＩＥＳ（登録商標）、ＢＩＴＥＳ（登録商標）、ＸｍＡｂｓ（登録商標）、ＴａｎｄＡｂｓ（登録商標）、Ｆａｂ誘導体、およびＴＣＲ様抗体）を含むＨＢＶ抗体、ＣＣＲ２ケモカインアンタゴニスト、チモシンアゴニスト、サイトカイン、核タンパク質モジュレーター（ＨＢＶコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター）、レチノイン酸誘導性遺伝子１の刺激剤、ＲＩＧ−Ｉ様受容体の刺激剤、ＮＯＤ２の刺激剤、ＮＯＤ１の刺激剤、ＩＤＯ阻害剤、組換えチモシンアルファ−１、アルギナーゼ阻害剤、ＳＴＩＮＧアゴニスト、ＰＩ３Ｋ阻害剤、リンホトキシンベータ受容体活性化剤、ナチュラルキラー細胞受容体２Ｂ４阻害剤、リンパ球活性化遺伝子３阻害剤、ＣＤ１６０阻害剤、ｉｐｉ４阻害剤、ＣＤ１３７阻害剤、キラー細胞レクチン様受容体サブファミリーＧメンバー１阻害剤、ＴＩＭ−３阻害剤、ＢおよびＴリンパ球アテニュエーター阻害剤、エピジェネティック改変剤、ＣＤ３０５阻害剤、ＰＤ−１阻害剤、ＰＤ−Ｌ１阻害剤、ＰＥＧ−インターフェロンラムダ、ＢＴＫ阻害剤、ＴＩＧＩＴのモジュレーター、ＣＤ４７のモジュレーター、ＳＩＲＰアルファのモジュレーター、ＩＣＯＳのモジュレーター、ＣＤ２７のモジュレーター、ＣＤ７０のモジュレーター、ＯＸ４０のモジュレーター、ＮＫＧ２Ｄのモジュレーター、Ｔｉｍ−４のモジュレーター、Ｂ７−Ｈ４のモジュレーター、Ｂ７−Ｈ３のモジュレーター、ＮＫＧ２Ａのモジュレーター、ＧＩＴＲのモジュレーター、ＣＤ１６０のモジュレーター、ＨＥＶＥＭのモジュレーター、ＣＤ１６１のモジュレーター、Ａｘｌのモジュレーター、Ｍｅｒのモジュレーター、Ｔｙｒｏのモジュレーター、ＣＲＩＳＰＲ（ＣＲＩＳＰＲ  Ｃａｓ９を含む）、ジンクフィンガーヌ���レアーゼまたは合成ヌクレアーゼ（ＴＡＬＥＮ）などの遺伝子改変剤または編集剤、ＩＡＰ阻害剤、ＳＭＡＣ模倣体、ＫＤＭ５阻害剤、およびＢ型肝炎ウイルス複製阻害剤からなる群から選択される少なくとも第２の追加の治療剤と組み合わされる。
【０２５６】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル（ＨＥＰＳＥＲＡ（登録商標））、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩（ＶＩＲＥＡＤ（登録商標））、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル（ＢＡＲＡＣＬＵＤＥ（登録商標））、テルビブジン（ＴＹＺＥＫＡ（登録商標））またはラミブジン（ＥＰＩＶＩＲ−ＨＢＶ（登録商標））からなる群から選択される第１の追加の治療剤、ならびにペグインターフェロンアルファ−２ｂ（ＰＥＧ−ＩＮＴＲＯＮ（登録商標））、ＭＵＬＴＩＦＥＲＯＮ（登録商標）、インターフェロンアルファ１ｂ（ＨＡＰＧＥＮ（登録商標））、インターフェロンアルファ−２ｂ（ＩＮＴＲＯＮ  Ａ（登録商標））、ペグ化インターフェロンアルファ−２ａ（ＰＥＧＡＳＹＳ（登録商標））、インターフェロンアルファ−ｎ１（ＨＵＭＯＦＥＲＯＮ（登録商標））、リバビリン、インターフェロンベータ−１ａ（ＡＶＯＮＥＸ（登録商標））、Ｂｉｏｆｅｒｏｎ、Ｉｎｇａｒｏｎ、Ｉｎｍｕｔａｇ（Ｉｎｆｅｒｏｎ）、Ａｌｇｅｒｏｎ、Ｒｏｆｅｒｏｎ−Ａ、Ｏｌｉｇｏｔｉｄｅ、Ｚｕｔｅｃｔｒａ、Ｓｈａｆｅｒｏｎ、インターフェロンアルファ−２ｂ（ＡＸＸＯ）、Ａｌｆａｆｅｒｏｎｅ、インターフェロンアルファ−２ｂ（ＢｉｏＧｅｎｅｒｉｃ  Ｐｈａｒｍａ）、Ｆｅｒｏｎ、インターフェロン−アルファ２（ＣＪ）、ＢＥＶＡＣ、Ｌａｆｅｒｏｎｕｍ、ＶＩＰＥＧ、ＢＬＡＵＦＥＲＯＮ−Ｂ、ＢＬＡＵＦＥＲＯＮ−Ａ、Ｉｎｔｅｒｍａｘ  Ａｌｐｈａ、Ｒｅａｌｄｉｒｏｎ、Ｌａｎｓｔｉｏｎ、Ｐｅｇａｆｅｒｏｎ、ＰＤｆｅｒｏｎ−Ｂ、インターフェロンアルファ−２ｂ（ＩＦＮ、Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｏｓ  Ｂｉｏｐｒｏｆａｒｍａ）、アルファインターフェロナ２ｂ、Ｋａｌｆｅｒｏｎ、Ｐｅｇｎａｎｏ、Ｆｅｒｏｎｓｕｒｅ、ＰｅｇｉＨｅｐ、インターフェロンアルファ２ｂ（Ｚｙｄｕｓ−Ｃａｄｉｌａ）、Ｏｐｔｉｐｅｇ  Ａ、Ｒｅａｌｆａ  ２Ｂ、Ｒｅｌｉｆｅｒｏｎ、インターフェロンアルファ−２ｂ（Ａｍｅｇａ）、インターフェロンアルファ−２ｂ（Ｖｉｒｃｈｏｗ）、ペグインターフェロンアルファ−２ｂ（Ａｍｅｇａ）、Ｒｅａｆｅｒｏｎ−ＥＣ、Ｐｒｏｑｕｉｆｅｒｏｎ、Ｕｎｉｆｅｒｏｎ、Ｕｒｉｆｒｏｎ、インターフェロンアルファ−２ｂ（Ｃｈａｎｇｃｈｕｎ  Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ  ｏｆ  Ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）、Ａｎｔｅｒｆｅｒｏｎ、Ｓｈａｎｆｅｒｏｎ、ＭＯＲ−２２、インターロイキン−２（ＩＬ−２、Ｉｍｍｕｎｅｘ）、組換えヒトインターロイキン−２（Ｓｈｅｎｚｈｅｎ  Ｎｅｐｔｕｎｕｓ）、Ｌａｙｆｆｅｒｏｎ、Ｋａ  Ｓｈｕ  Ｎｉｎｇ、Ｓｈａｎｇ  Ｓｈｅｎｇ  Ｌｅｉ  Ｔａｉ、ＩＮＴＥＦＥＮ、ＳＩＮＯＧＥＮ、Ｆｕｋａｎｇｔａｉ、Ａｌｌｏｆｅｒｏｎ、およびセルモロイキンからなる群から選択される少なくとも第２の追加の治療剤と組み合わされる。
【０２５７】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル（ＨＥＰＳＥＲＡ（登録商標））、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩（ＶＩＲＥＡＤ（登録商標））、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル（ＢＡＲＡＣＬＵＤＥ（登録商標））、テルビブジン（ＴＹＺＥＫＡ（登録商標））、またはラミブジン（ＥＰＩＶＩＲ−ＨＢＶ（登録商標））からなる群から選択される第１の追加の治療剤、ならびに免疫モジュレーター、ＴＬＲモジュレーター、ＨＢｓＡｇ阻害剤、ＨＢｓＡｇ分泌またはアセンブリー阻害剤、ＨＢＶ治療ワクチン、Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質（例えば、ＤＡＲＴｓ（登録商標）、ＤＵＯＢＯＤＩＥＳ（登録商標）、ＢＩＴＥＳ（登録商標）、ＸｍＡｂｓ（登録商標）、ＴａｎｄＡｂｓ（登録商標）、Ｆａｂ誘導体、またはＴＣＲ様抗体）を含むＨＢＶ抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子１の刺激剤、ＲＩＧ−Ｉ様受容体の刺激剤、アルギナーゼ阻害剤、ＰＩ３Ｋ阻害剤、ＰＤ−１阻害剤、ＰＤ−Ｌ１阻害剤、ＩＤＯ阻害剤、およびＮＯＤ２の刺激剤からなる群から選択される少なくとも第２の追加の治療剤と組み合わされる。
【０２５８】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル（ＨＥＰＳＥＲＡ（登録商標））、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩（ＶＩＲＥＡＤ（登録商標））、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル（ＢＡＲＡＣＬＵＤＥ（登録商標））、テルビブジン（ＴＹＺＥＫＡ（登録商標））、またはラミブジン（ＥＰＩＶＩＲ−ＨＢＶ（登録商標））からなる群から選択される第１の追加の治療剤、ならびにＨＢＶウイルス侵入阻害剤、ＮＴＣＰ阻害剤、ＨＢｘ阻害剤、ｃｃｃＤＮＡ阻害剤、Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体、ｓｉＲＮＡ、ｍｉＲＮＡ遺伝子療法剤、ｓｓｈＲＮＡ、ＫＤＭ５阻害剤、および核タンパク質モジュレーター（ＨＢＶコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター）からなる群から選択される少なくとも第２の追加の治療剤と組み合わされる。
【０２５９】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル（ＨＥＰＳＥＲＡ（登録商標））、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩（ＶＩＲＥＡＤ（登録商標））、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル（ＢＡＲＡＣＬＵＤＥ（登録商標））、テルビブジン（ＴＹＺＥＫＡ（登録商標））、またはラミブジン（ＥＰＩＶＩＲ−ＨＢＶ（登録商標））からなる群から選択される第１の追加の治療剤；免疫モジュレーター、ＴＬＲモジュレーター、ＨＢｓＡｇ阻害剤、ＨＢｓＡｇ分泌またはアセンブリー阻害剤、ＨＢＶ治療ワクチン、Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質（例えば、ＤＡＲＴｓ（登録商標）、ＤＵＯＢＯＤＩＥＳ（登録商標）、ＢＩＴＥＳ（登録商標）、ＸｍＡｂｓ（登録商標）、ＴａｎｄＡｂｓ（登録商標）、Ｆａｂ誘導体、またはＴＣＲ様抗体）を含むＨＢＶ抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子１の刺激剤、ＲＩＧ−Ｉ様受容体の刺激剤、ＰＤ−１阻害剤、ＰＤ−Ｌ１阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、ＰＩ３Ｋ阻害剤、ＩＤＯ阻害剤、およびＮＯＤ２の刺激剤からなる群から選択される１、２、または３つの追加の治療剤；ならびにＨＢＶウイルス侵入阻害剤、ＮＴＣＰ阻害剤、ＨＢｘ阻害剤、ｃｃｃＤＮＡ阻害剤、Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体、ｓｉＲＮＡ、ｍｉＲＮＡ遺伝子療法剤、ｓｓｈＲＮＡ、ＫＤＭ５阻害剤、および核タンパク質モジュレーター（ＨＢＶコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター）からなる群から選択される１または２つの追加の治療剤と組み合わされる。
【０２６０】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル（ＨＥＰＳＥＲＡ（登録商標））、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩（ＶＩＲＥＡＤ（登録商標））、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル（ＢＡＲＡＣＬＵＤＥ（登録商標））、テルビブジン（ＴＹＺＥＫＡ（登録商標））、またはラミブジン（ＥＰＩＶＩＲ−ＨＢＶ（登録商標））からなる群から選択される第１の追加の治療剤；免疫モジュレーター、ＴＬＲモジュレーター、ＨＢｓＡｇ阻害剤、ＨＢｓＡｇ分泌またはアセンブリー阻害剤、ＨＢＶ治療ワクチン、Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質（例えば、ＤＡＲＴｓ（登録商標）、ＤＵＯＢＯＤＩＥＳ（登録商標）、ＢＩＴＥＳ（登録商標）、ＸｍＡｂｓ（登録商標）、ＴａｎｄＡｂｓ（登録商標）、Ｆａｂ誘導体、またはＴＣＲ様抗体）を含むＨＢＶ抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子１の刺激剤、ＲＩＧ−Ｉ様受容体の刺激剤、ＰＤ−１阻害剤、ＰＤ−Ｌ１阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、ＰＩ３Ｋ阻害剤、ＩＤＯ阻害剤、およびＮＯＤ２の刺激剤からなる群から選択される１または２つの追加の治療剤；ならびにＨＢＶウイルス侵入阻害剤、ＮＴＣＰ阻害剤、ＨＢｘ阻害剤、ｃｃｃＤＮＡ阻害剤、Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体、ｓｉＲＮＡ、ｍｉＲＮＡ遺伝子療法剤、ｓｓｈＲＮＡ、ＫＤＭ５阻害剤、および核タンパク質モジュレーター（ＨＢＶコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター）からなる群から選択される１または２つの追加の治療剤と組み合わされる。
【０２６１】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、アデホビル（ＨＥＰＳＥＲＡ（登録商標））、テノホビルジソプロキシルフマル酸塩（ＶＩＲＥＡＤ（登録商標））、テノホビルアラフェナミド、テノホビル、テノホビルジソプロキシル、テノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、エンテカビル（ＢＡＲＡＣＬＵＤＥ（登録商標））、テルビブジン（ＴＹＺＥＫＡ（登録商標））、またはラミブジン（ＥＰＩＶＩＲ−ＨＢＶ（登録商標））からなる群から選択される第１の追加の治療剤；ならびに免疫モジュレーター、ＴＬＲ７モジュレーター、ＴＬＲ８モジュレーター、ＨＢｓＡｇ阻害剤、ＨＢｓＡｇ分泌またはアセンブリー阻害剤、ＨＢＶ治療ワクチン、Ｂ型肝炎ウイルスの表面抗原を標的とするＨＢＶ抗体および二重特異性抗体および「抗体様」治療タンパク質（例えば、ＤＡＲＴｓ（登録商標）、ＤＵＯＢＯＤＩＥＳ（登録商標）、ＢＩＴＥＳ（登録商標）、ＸｍＡｂｓ（登録商標）、ＴａｎｄＡｂｓ（登録商標）、Ｆａｂ誘導体、またはＴＣＲ様抗体）を含むＨＢＶ抗体、シクロフィリン阻害剤、レチノイン酸誘導性遺伝子１の刺激剤、ＲＩＧ−Ｉ様受容体の刺激剤、ＰＤ−１阻害剤、ＰＤ−Ｌ１阻害剤、アルギナーゼ阻害剤、ＰＩ３Ｋ阻害剤、ＩＤＯ阻害剤、ＮＯＤ２の刺激剤  ＨＢＶウイルス侵入阻害剤、ＮＴＣＰ阻害剤、ＨＢｘ阻害剤、ｃｃｃＤＮＡ阻害剤、ｓｉＲＮＡ、ｍｉＲＮＡ遺伝子療法剤、ｓｓｈＲＮＡ、ＫＤＭ５阻害剤、および核タンパク質モジュレーター（ＨＢＶコアまたはカプシドタンパク質モジュレーター）からなる群から選択される１、２、３、または４つの追加の治療剤と組み合わされる。
【０２６２】
特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、米国特許出願公開第２０１０／０１４３３０１号（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、米国特許出願公開第２０１１／００９８２４８号（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、米国特許出願公開第２００９／００４７２４９号（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、米国特許第８７２２０５４号（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、米国特許出願公開第２０１４／００４５８４９号（Ｊａｎｓｓｅｎ）、米国特許出願公開第２０１４／００７３６４２号（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４／０５６９５３（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４／０７６２２１（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４／１２８１８９（Ｊａｎｓｓｅｎ）、米国特許出願公開第２０１４／０３５００３１号（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４／０２３８１３（Ｊａｎｓｓｅｎ）、米国特許出願公開第２００８／０２３４２５１号（Ａｒｒａｙ  Ｂｉｏｐｈａｒｍａ）、米国特許出願公開第２００８／０３０６０５０号（Ａｒｒａｙ  Ｂｉｏｐｈａｒｍａ）、米国特許出願公開第２０１０／００２９５８５号（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、米国特許出願公開第２０１１／００９２４８５号（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、ＵＳ２０１１／０１１８２３５（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、米国特許出願公開第２０１２／００８２６５８号（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、米国特許出願公開第２０１２／０２１９６１５号（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、米国特許出願公開第２０１４／００６６４３２号（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、米国特許出願公開第２０１４／００８８０８５号（Ｖｅｎｔｉｒｘ  Ｐｈａｒｍａ）、米国特許出願公開第２０１４／０２７５１６７号（Ｎｏｖｉｒａ  Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）、米国特許出願公開第２０１３／０２５１６７３号（Ｎｏｖｉｒａ  Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）、米国特許第８５１３１８４号（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、米国特許出願公開第２０１４／００３０２２１号（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、米国特許出願公開第２０１３／０３４４０３０号（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、米国特許出願公開第２０１３／０３４４０２９号（Ｇｉｌｅａｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）、ＵＳ２０１４０２７５１６７（Ｎｏｖｉｒａ  Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）、ＵＳ２０１３０２５１６７３（Ｎｏｖｉｒａ  Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）、米国特許出願公開第２０１４／０３４３０３２号（Ｒｏｃｈｅ）、ＷＯ２０１４０３７４８０（Ｒｏｃｈｅ）、米国特許出願公開第２０１３／０２６７５１７号（Ｒｏｃｈｅ）、ＷＯ２０１４１３１８４７（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４０３３１７６（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４０３３１７０（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４０３３１６７（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１５／０５９２１２（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１５１１８０５７（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１５０１１２８１（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４１８４３６５（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４１８４３５０（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１４１６１８８８（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１３０９６７４４（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１５０２２５３５５（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１４０１７８３３７（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１５０３１５１５９（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１５０１９７５３３（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１５０２７４６５２（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１５０２５９３２４（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ２０１５０１３２２５８（Ｎｏｖｉｒａ）、ＵＳ９１８１２８８（Ｎｏｖｉｒａ）、ＷＯ２０１４１８４３５０（Ｊａｎｓｓｅｎ）、ＷＯ２０１３１４４１２９（Ｒｏｃｈｅ）、ＵＳ２０１０００１５１７８（Ｉｎｃｙｔｅ）、ＵＳ２０１６１３７６５２（Ｆｌｅｘｕｓ  Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｉｎｃ．）、ＷＯ２０１４０７３７３８（Ｆｌｅｘｕｓ  Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｉｎｃ．）、ＷＯ２０１５１８８０８５（Ｆｌｅｘｕｓ  Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｉｎｃ．）、米国特許出願公開第２０１４／０３３００１５号（Ｏｎｏ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ）、米国特許出願公開第２０１３／００７９３２７号（Ｏｎｏ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ）、米国特許出願公開第２０１３／０２１７８８０号（Ｏｎｏ  ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ）、ＷＯ２０１６０５７９２４（Ｇｅｎｅｎｔｅｃｈ／Ｃｏｎｓｔｅｌｌａｔｉｏｎ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌｓ）、ＵＳ２０１４０２７５０９２（Ｇｅｎｅｎｔｅｃｈ／Ｃｏｎｓｔｅｌｌａｔｉｏｎ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌｓ）、ＵＳ２０１４０３７１１９５（Ｅｐｉｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）およびＵＳ２０１４０３７１２１４（Ｅｐｉｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）、ＵＳ２０１６０１０２０９６（Ｅｐｉｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）、ＵＳ２０１４０１９４４６９（Ｑｕａｎｔｉｃｅｌ）、ＵＳ２０１４０１７１４３２、ＵＳ２０１４０２１３５９１（Ｑｕａｎｔｉｃｅｌ）、ＵＳ２０１６００３９８０８（Ｑｕａｎｔｉｃｅｌ）、ＵＳ２０１４０２７５０８４（Ｑｕａｎｔｉｃｅｌ）、ＷＯ２０１４１６４７０８（Ｑｕａｎｔｉｃｅｌ）、ＵＳ９１８６３３７Ｂ２（Ｏｒｙｚｏｎ  Ｇｅｎｏｍｉｃｓ）に開示されたものなどの化合物、ならびにＨＢＶを処置するための他の薬物、ならびにそれらの組合せと組み合わされる。
【０２６３】
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物（例えば、テノホビルアラフェナミドの任意の塩および／または共結晶）は、本明細書に開示されている化合物の任意の投薬量（例えば、１０ｍｇから１０００ｍｇのテノホビルアラフェナミドの任意の塩および／または共結晶）で、１つまたは複数（例えば、１、２、３、４、１もしくは２、１から３、または１から４つ）の追加の治療剤と組み合わされてもよい。
【０２６４】
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、５〜３０ｍｇのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミドと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、５〜１０；５〜１５；５〜２０；５〜２５；２５〜３０；２０〜３０；１５〜３０；または１０〜３０ｍｇのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミドと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、１０ｍｇのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミドと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、２５ｍｇのテノホビルアラフェナミドフマル酸塩、テノホビルアラフェナミドヘミフマル酸塩、またはテノホビルアラフェナミドと組み合わされる。本明細書に開示されている化合物（例えば、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶）は、各投薬量の組合せが具体的かつ個別に列挙された場合と同様に、化合物の任意の投薬量で（例えば、５０ｍｇから５００ｍｇの化合物）、本明細書において提供される薬剤と組み合わされてもよい。
【０２６５】
ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、１００〜４００ｍｇのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシルと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、１００〜１５０；１００〜２００、１００〜２５０；１００〜３００；１００〜３５０；１５０〜２００；１５０〜２５０；１５０〜３００；１５０〜３５０；１５０〜４００；２００〜２５０；２００〜３００；２００〜３５０；２００〜４００；２５０〜３５０；２５０〜４００；３５０〜４００または３００〜４００ｍｇのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシルと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、３００ｍｇのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシルと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、２５０ｍｇのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシルと組み合わされる。ある特定の実施形態では、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩は、１５０ｍｇのテノホビルジソプロキシルフマル酸塩、テノホビルジソプロキシルヘミフマル酸塩、またはテノホビルジソプロキシルと組み合わされる。本明細書に開示されている化合物（例えば、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶）は、各投薬量の組合せが具体的かつ個別に列挙された場合と同様に、化合物の任意の投薬量で（例えば、５０ｍｇから５００ｍｇの化合物）、本明細書において提供される薬剤と組み合わされてもよい。
【０２６６】
一実施形態では、１つまたは複数（例えば、１、２、３、４、１もしくは２、または１から３、または１から４つ）の追加の治療剤と組み合わせて、本明細書に開示されている化合物、またはその薬学的に許容される塩を含むキットが提供される。
ＸＲＰＤデータ
【０２６７】
ある特定の実施形態では、結晶形態は、Ｘ線粉末回折パターン（ＸＲＰＤ）によって決定される格子面間隔によって特徴付けられる。ＸＲＰＤのディフラクトグラムは、典型的には、ピークの強度  対  ピークの位置、すなわち、度単位の回折角２θ（２シータ）をプロットする図によって表される。所与のＸＲＰＤの特徴的ピークをピーク位置とその相対強度に従って選択して、この結晶構造を他の結晶構造と都合よく区別することができる。
【０２６８】
ＸＲＰＤパターンを、以下の実験設定：４５ＫＶ、４０ｍＡ、Ｋα１＝１．５４０６Å、スキャン範囲２から４０°、ステップサイズ０．００８４または０．０１６７°、測定時間：５分で、周囲条件にて、ＰＡＮａｎａｌｙｔｉｃａｌ  ＸＰＥＲＴ−ＰＲＯ回折計で収集した。
【０２６９】
当業者は、同じ化合物の所与の結晶形態についてのＸＲＰＤピーク位置および／または強度の測定値が、誤差の限度（margin  of  error）内で変動することを認識する。度２θの値によって適当な誤差限度（error  margin）が与えられる。典型的には、誤差限度は「±」で表される。例えば、約「８．７±０．３」の度２θは、約８．７＋０．３、すなわち、約９．０から約８．７−０．３、すなわち、約８．４の範囲を示す。試料の調製技術、機器に適用される較正技術、ヒトの操作のばらつきなどに応じて、当業者は、ＸＲＰＤに関する適当な限度の誤差（error  of  margin）が、±０．５；±０．４；±０．３；±０．２；±０．１；±０．０５;またはそれより小さい場合があることを認識する。本発明のある特定の実施形態では、ＸＲＰＤの誤差の限度は、±０．０５である。本発明のある特定の実施形態では、ＸＲＰＤの誤差の限度は、±０．１である。本発明のある特定の実施形態では、ＸＲＰＤの誤差の限度は、±０．２である。本発明のある特定の実施形態では、ＸＲＰＤの誤差の限度は、±０．５である。
【０２７０】
ＸＲＰＤ分析に関して使用される方法および装置のさらなる詳細は、実施例のセクションに記載される。
【０２７１】
結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉに関するＸＲＰＤピークは、以下の表１Ａにある。
【表１Ａ】
2020505411.tif 000003
【０２７２】
結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩに関するＸＲＰＤピークは、以下の表１Ｂにある。
【表１Ｂ】
2020505411.tif 000004
【０２７３】
結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉに関するＸＲＰＤピークは、以下の表１Ｃにある。
【表１Ｃ−１】
2020505411.tif 000005
【表１Ｃ−２】
2020505411.tif 000006
【０２７４】
結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉに関するＸＲＰＤピークは、以下の表１Ｄにある。
【表１Ｄ−１】
2020505411.tif 000007
【表１Ｄ−２】
2020505411.tif 000008
【０２７５】
結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉに関するＸＲＰＤピークは、以下の表１Ｅにある。
【表１Ｅ】
2020505411.tif 000009
【０２７６】
結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩに関するＸＲＰＤピークは、以下の表１Ｆにある。
【表１Ｆ】
2020505411.tif 000010
【０２７７】
結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩに関するＸＲＰＤピークは、以下の表１Ｇにある。
【表１Ｇ−１】
2020505411.tif 000011
【表１Ｇ−２】
2020505411.tif 000012
【０２７８】
結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートに関するＸＲＰＤピークは、以下の表１Ｈにある。
【表１Ｈ−１】
2020505411.tif 000013
【表１Ｈ−２】
2020505411.tif 000014
【０２７９】
結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートに関するＸＲＰＤピークは、以下の表１Ｉにある。
【表１Ｉ】
2020505411.tif 000015
結晶形態の調製
【０２８０】
テノホビルアラフェナミドを合成する１つの方法は、２００１年７月２０日に出願されたＰＣＴ公開第ＷＯ２００２／００８２４１号に以前より記載されている。この参照文献は、参照によりその全体として、具体的にはテノホビルアラフェナミドの合成に関して、本明細書に組み込まれる。
【０２８１】
例えば、一態様では、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の１つまたは複数の結晶形態を含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶を適切な溶媒または適切な溶媒の混合物と組み合わせて、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の１つまたは複数の結晶形態を含む組成物を生成することを含む、方法が提供される。別の態様では、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の１つまたは複数の結晶形態を含む組成物を生成する別の方法であって、テノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶を適切な溶媒または適切な溶媒の混合物と組み合わせることを含む、方法が提供される。
【０２８２】
特定の溶媒もしくは溶媒の組合せまたは溶媒を組み合わせる方法の選択により、別のものよりも好ましいテノホビルアラフェナミドの１つの結晶形態の形成に影響が及ぼされる。結晶の形成に適切な溶媒として、例えば、テトラヒドロフラン、アセトン、エタノール、アセトニトリル、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、ジクロロメタン、２−メチルテトラヒドロフラン、酢酸エチル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、トルエン、水、およびそれらの任意の混合物が挙げられ得る。
【０２８３】
不純物の存在によって、別のものよりも好ましいテノホビルアラフェナミドの１つの結晶形態の形成に影響が及ぼされる場合がある。一部の実施形態では、形態は、不純物を有するテノホビルアラフェナミドを含むプロセスによって調製される。別の実施形態では、形態は、実質的に純粋なテノホビルアラフェナミドを含むプロセスによって調製される。
【０２８４】
別の態様では、本明細書に記載の方法のいずれかに従って生成されたテノホビルアラフェナミドの１つまたは複数の結晶形態も提供される。別の態様では、本明細書に記載の方法のいずれかに従って生成されたテノホビルアラフェナミドの塩および／または共結晶の１つまたは複数の結晶形態も提供される。
【０２８５】
本明細書に記載の結晶形態を調製するための方法は、実験室スケールで生成されるテノホビルアラフェナミドを調製するための方法と比較して、量および質の差を生じる場合があることを理解されたい。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエート
【０２８６】
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエート（Hemipanoate）を調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをパモ酸と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをパモ酸およびテトラヒドロフランと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを調製する方法であって、約５０から６０℃で、テノホビルアラフェナミドをパモ酸およびテトラヒドロフランと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを調製する方法であって、自然蒸発する開放バイアル内で、約５０から６０℃で、テノホビルアラフェナミドをパモ酸およびテトラヒドロフランと組み合わせることを含む、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉ
【０２８７】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを、水、エタノール、アセトニトリル、アセトン、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、ジクロロメタン、２−メチルテトラヒドロフラン、酢酸エチル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、およびトルエン、ならびにこれらの任意の混合物から選択される溶媒と組み合わせることを含む。
【０２８８】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートと溶媒を組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉが提供される。テノホビルアラフェナミドヘミパモエートと溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉであって、溶媒が、水、エタノール、アセトニトリル、アセトン、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、ジクロロメタン、２−メチルテトラヒドロフラン、酢酸エチル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、およびトルエン、ならびにこれらの任意の混合物から選択される、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉが提供される。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩ
【０２８９】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートを溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートをジクロロメタンと組み合わせることを含む。
【０２９０】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートと溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩが提供される。テノホビルアラフェナミドヘミパモエートとジクロロメタンとを組み合わせることによって生成される、結晶のテノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩが提供される。
テノホビルアラフェナミドセバケート
【０２９１】
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドセバケートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをセバシン酸と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドセバケートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをセバシン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドセバケートを調製する方法であって、自然蒸発する開放バイアル中で、テノホビルアラフェナミドをセバシン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉ
【０２９２】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドセバケートを溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドセバケートを、テトラヒドロフランおよびヘプタン、ならびにこれらの任意の混合物から選択される溶媒と組み合わせることを含む。
【０２９３】
テノホビルアラフェナミドセバケートと溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉが提供される。テノホビルアラフェナミドセバケートと、テトラヒドロフランおよびヘプタン、ならびにこれらの任意の混合物から選択される溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉが提供される。
テノホビルアラフェナミドナプシレート
【０２９４】
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドナプシレートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドを２−ナフタレンスルホン酸と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドナプシレートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドを２−ナフタレンスルホン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉ
【０２９５】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉを含む組成物を生成する方法であって、自然蒸発する開放バイアル中で、テノホビルアラフェナミドを２−ナフタレンスルホン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
【０２９６】
自然蒸発する開放バイアル中で、テノホビルアラフェナミドを２−ナフタレンスルホン酸およびアセトンと組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉが提供される。
テノホビルアラフェナミドオロテート
【０２９７】
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをオロト酸と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをオロト酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉ
【０２９８】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドをオロト酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
【０２９９】
テノホビルアラフェナミドをオロト酸およびアセトンと組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉが提供される。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩ
【０３００】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉを溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉを、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、トルエン、またはこれらの組合せから選択される溶媒と組み合わせることを含む。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉをイソプロピルアルコールである溶媒と組み合わせることを含む。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉをテトラヒドロフランである溶媒と組み合わせることを含む。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉを酢酸エチルである溶媒と組み合わせることを含む。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉを、トルエンである溶媒と組み合わせることを含む。
【０３０１】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉと溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩが提供される。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉと、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、トルエン、またはこれらの組合せから選択される溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩが提供される。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉと、イソプロピルアルコールである溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩが提供される。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉと、テトラヒドロフランである溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩが提供される。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉと、酢酸エチルである溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩが提供される。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉと、トルエンである溶媒とを組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩが提供される。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩ
【０３０２】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉを溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩを含む組成物を生成する方法は、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉを、水である溶媒と組み合わせることを含む。
【０３０３】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉを溶媒と組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩが提供される。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉを、水である溶媒と組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩが提供される。
テノホビルアラフェナミドバニレート
【０３０４】
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドバニレートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをバニリン酸と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドバニレートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドをバニリン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドバニレートを調製する方法であって、約５０℃の温度で、テノホビルアラフェナミドをバニリン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドバニレート
【０３０５】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドをバニリン酸および溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドをバニリン酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。
【０３０６】
テノホビルアラフェナミドをバニリン酸およびアセトンと組み合わせることによって生成される結晶のテノホビルアラフェナミドバニレートが本明細書において提供される。
テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエート
【０３０７】
一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを調製する方法であって、テノホビルアラフェナミドを、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸および溶媒と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを調製する方法であって、テトラヒドロフラン中で、テノホビルアラフェナミドを、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸と組み合わせることを含む（comprises  combining  tenofovir  alafenamide  1-hydroxy-2-naphthoic  acid）、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを調製する方法であって、テトラヒドロフラン中で、テノホビルアラフェナミドを１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸と組み合わせることを含み、テトラヒドロフランを蒸発させて第２の溶媒と置き換える、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを調製する方法であって、テトラヒドロフラン中で、テノホビルアラフェナミドを１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸と組み合わせることを含み、テトラヒドロフランを蒸発させてジクロロメタンと置き換える、方法が提供される。一部の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを調製する方法であって、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中で、テノホビルアラフェナミドを１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸と組み合わせることを含み、テトラヒドロフランを蒸発させてジクロロメタンと置き換え、ジクロロメタンを蒸発させる、方法が提供される。
テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエート
【０３０８】
一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸および溶媒または溶媒の混合物と組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸およびＴＨＦと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸およびＴＨＦと組み合わせた後、ＴＨＦを蒸発させることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸およびＴＨＦと組み合わせることと、ＴＨＦを蒸発させることと、ジクロロメタンを添加することと、ジクロロメタンを蒸発させることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸およびＴＨＦと組み合わせる第１のステップ、ＴＨＦを蒸発させる第２のステップ、ジクロロメタンを添加する第３のステップ、ならびにジクロロメタンを蒸発させる第４のステップを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、ＴＨＦ中で、テノホビルアラフェナミドを１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸と組み合わせることによって、テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートの種晶を作出することを含み、テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートの種晶を次いで使用して（seed  crystal  is  then  use）、メタノール、エタノール、アセトン、イソプロパノール、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、トルエン、またはこれらの混合物から選択される溶媒中の、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸の溶液に播種する、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸およびアセトンと組み合わせることを含む、方法が提供される。一部の実施形態では、結晶のテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートを含む組成物を生成する方法であって、テノホビルアラフェナミドを１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸およびアセトンと組み合わせた後、アセトンを蒸発させることを含む、方法が提供される。
薬物製品の製造における使用
【０３０９】
薬物製品の製造における本明細書に記載の結晶形態の使用も提供される。本明細書に記載の１つまたは複数の結晶形態（例えば、本明細書に記載の化合物）は、薬物製品を生成するための製造プロセスにおいて使用されてもよい。本明細書に記載の１つまたは複数の結晶形態（例えば、本明細書に記載の化合物）は、薬物製品を生成するための製造プロセスにおいて中間体として使用されてもよい。
【０３１０】
ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドの結晶の塩および／または共結晶は、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩは、活性医薬成分の製造において使用される。
【０３１１】
ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドバニレートは、活性医薬成分の製造において使用される。ある特定の実施形態では、テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートは、活性医薬成分の製造において使用される。
製造品およびキット
【０３１２】
本明細書に記載の１つまたは複数の結晶形態（例えば、本明細書に記載の化合物）を含み、１つまたは複数の薬学的に許容される賦形剤または他の成分中で製剤化される組成物を調製し、適当な容器中に配置し、表記の状態の処置のためにラベルを貼ることができる。したがって、本明細書に記載の１つまたは複数の結晶形態の剤形および化合物（複数可）の使用のための指示を含有するラベルを含む容器などの製造品も企図される。
【０３１３】
一部の実施形態では、製造品は、本明細書に記載の１つまたは複数の結晶形態の剤形と、１つまたは複数の薬学的に許容される賦形剤または他の成分とを含む容器である。本明細書に記載の製造品の一部の実施形態では、剤形は液剤である。
【０３１４】
キットも企図される。例えば、キットは、医薬組成物の剤形と、医学的状態の処置における組成物の使用のための指示を含有する添付文書を含むことができる。別の実施形態では、キットは、複数の個別の剤形を含んでもよく、それぞれは、治療有効量の本明細書に記載の化合物、およびそれらの投与を必要とするヒトへのそれらの投与のための指示を含んでもよい。個別の剤形のそれぞれは、少なくとも１つの薬学的に有効な賦形剤と組み合わせて、治療有効量の本明細書に記載の化合物を含んでもよい。個々の剤形は、例として、液剤、錠剤、丸剤、カプセル剤、サシェ剤、舌下医薬、凍結乾燥粉末、噴霧乾燥粉末、または経口、非経口、もしくは局所投与用の液体組成物の形態であってもよい。キットにおける使用のための指示は、ＨＩＶウイルス感染を処置するためのものであってもよい。指示は、本明細書に記載のウイルス感染および方法のいずれかを対象としてもよい。指示は、既存のウイルス感染の予防または処置のためのものであってもよい。
【０３１５】
ある特定の実施形態では、本明細書に記載の結晶形態または塩形態は、潜在的に、改善された特性を示し得る。例えば、ある特定の実施形態では、本明細書に記載の結晶形態または塩形態は、潜在的に、改善された安定性を示し得る。このような改善された安定性は、ここで記載される化合物の製造に関する潜在的に有益な効果、例えば、プロセス中間体を長期間貯蔵する能力を付与することなどを有することができる。改善された安定性によって、本明細書に記載の化合物の組成物または医薬組成物に潜在的に利益をもたらすこともできる。ある特定の実施形態では、本明細書に記載の結晶または塩はまた、本明細書に記載の化合物の収率の改善を潜在的にもたらすか、または本明細書に記載の化合物の質の改善を潜在的にもたらす場合がある。ある特定の実施形態では、本明細書に記載の結晶形態、塩形態および溶媒和物形態は、改善された薬物動態特性および／または潜在的に改善されたバイオアベイラビリティを呈する場合もある。
方法
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉ
【０３１６】
約５０から６０℃で、テノホビルアラフェナミド（約１ｇ）を、パモ酸（約０．４ｇ）およびテトラヒドロフラン（約１０ｍＬ）と混合した。溶液を、蓋の開いたガラスバイアルに入れ、蒸発させた。試料を、オーブン内でさらに乾燥させた。固体をアセトニトリルと混合した。テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉを単離し、以下で論じるように特徴付けた。アセトニトリルをエタノール、アセトン、酢酸イソプロピル、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、またはトルエンと置き換えて、テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉを形成することができることも見出した。
【０３１７】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉを生成するための別の方法では、テノホビルアラフェナミド（約１０ｇ）、パモ酸（約４ｇ）およびテトラヒドロフラン（約１５０ｍＬ）を、約７０℃で合わせた。溶液を濾過し、蒸発させた。約４０℃で、固体をアセトン（約１００ｍＬ）中に溶解させ、約室温に冷却した。テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉの種を添加した。テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉを単離し、以下で論じるように特徴付けた。
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩ
【０３１８】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉ（約１００ｍｇ）をジクロロメタン（約１ｍＬ）と混合した。テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩを単離し、以下で論じるように特徴付けた。
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉ
【０３１９】
テノホビルアラフェナミド（約１ｇ）をセバシン酸（約０．４ｇ）およびアセトン（約１０ｍＬ）と混合した。溶液を、蓋の開いたガラスバイアルに入れ、蒸発させた。テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉを単離し、以下で論じるように特徴付けた。
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉ
【０３２０】
テノホビルアラフェナミド（約１ｇ）を２−ナフタレンスルホン酸（約０．４ｇ）およびアセトン（約１０ｍＬ）と混合した。溶液を、蓋の開いたガラスバイアルに入れ、蒸発させた。テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉを単離し、以下で論じるように特徴付けた。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉ
【０３２１】
テノホビルアラフェナミド（約１ｇ）をオロト酸（約０．３ｇ）およびアセトン（約１０ｍＬ）と混合した。溶液を、蓋の開いたガラスバイアルに入れ、蒸発させた。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉを単離し、以下で論じるように特徴付けた。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩ
【０３２２】
約室温で、１２時間以上、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉを酢酸イソプロピルと混合した。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩを単離し、以下で論じるように特徴付けた。酢酸イソプロピルを、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、またはトルエンと置き換えて、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩを形成することができることも見出した。
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩ
【０３２３】
約室温で、１２時間以上、テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉを水と混合した。テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩを単離し、以下で論じるように特徴付けた。
テノホビルアラフェナミドバニレート
【０３２４】
１ｇのテノホビルアラフェナミド遊離塩基を、５０℃のアセトン１０ｍＬ中に溶解させ、濾過し、０．３５ｇ（１当量）のバニリン酸と混合して、溶液を得た。溶液を、約２１℃で終夜撹拌して、スラリーを形成した。スラリーを濾過により単離し、５０℃にて、真空下で乾燥させた。
テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエート
【０３２５】
４ｇのテノホビルアラフェナミド遊離塩基を、１０ｍＬのＴＨＦ中で、１．５当量の１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸と混合して溶液を形成し、これを、約５０℃の回転式エバポレーター（ｒｏｔｏｖａｐｏｒ）中で乾燥させて、泡状物とした。２００ｍｇから５００ｍｇの結果として得られた固体を、約２１℃で、１ｍＬのＤＣＭ中で撹拌した。試料を、蓋を開けて蒸発させると、濃いシロップになった。シロップを、５７℃でさらに蒸発させ、１６時間の間に結晶化させた。この結晶材料を使用して、メタノール、エタノール、アセトン、イソプロパノール、ＭＩＢＫ、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、トルエンなどの溶媒中の、１．５当量の１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸を含むテノホビルアラフェナミドの溶液に播種し、これらをすべて、同じ形態として結晶化させた。
【０３２６】
あるいは、４ｇのテノホビルアラフェナミド遊離塩基を、５０℃で、４０ｍＬのアセトン中に溶解させ、濾過し、３．１６ｇの１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（２当量）を投入して溶液を形成した。溶液を、５０℃のロータリーエバポレーター内で乾燥させて泡状物とし、４０ｍＬのＩＰＡｃ（酢酸イソプロピル）中に再度溶解させた。溶液にテノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートの結晶を播種し、超音波処理し、その後まもなく濃いスラリーが形成された。スラリーを、１６ｍＬのＩＰＡｃで希釈し、濾過し、５０℃にて、３日間、真空オーブンで乾燥させた。
【０３２７】
本発明の結晶形態は、以下に記載の手順を使用して、Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）、および熱重量分析（ＴＧＡ）を含む種々の分析技術によって特徴付けた。
【０３２８】
Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）：ＸＲＰＤパターンを、以下の実験設定：４５ＫＶ、４０ｍＡ、Ｋα１＝１．５４０６Å、スキャン範囲２から４０°、ステップサイズ０．００８４または０．０１６７°、測定時間：５分で、周囲条件にて、ＰＡＮａｎａｌｙｔｉｃａｌ  ＸＰＥＲＴ−ＰＲＯ回折計で収集した。
【０３２９】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉに関するＸＲＰＤパターンを図１に表す。
【０３３０】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩに関するＸＲＰＤパターンを図３に表す。
【０３３１】
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉに関するＸＲＰＤパターンを図５に表す。
【０３３２】
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉに関するＸＲＰＤパターンを図７に表す。
【０３３３】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉに関するＸＲＰＤパターンを図９に表す。
【０３３４】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩに関するＸＲＰＤパターンを図１１に表す。
【０３３５】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩに関するＸＲＰＤパターンを図１３に表す。
【０３３６】
テノホビルアラフェナミドバニレートに関するＸＲＰＤパターンを図１５に表す。
【０３３７】
テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートに関するＸＲＰＤパターンを図１７に表す。
【０３３８】
示差走査熱量測定（ＤＳＣ）：５０ポジションオートサンプラーを備えたＴＡ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｑ２０００システムでＤＳＣサーモグラムを収集した。エネルギーおよび温度の較正は、認定されたインジウムを使用して行った。典型的には、ピンホールアルミニウムパン内で、１〜５ｍｇの各試料を、１０℃／分で、２５℃から３００℃まで加熱した。測定全体を通して、試料に対して、５０ｍＬ／分の乾燥窒素のパージを維持した。融解吸熱の発生を、融点として報告した。
【０３３９】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉに関するＤＳＣを図２に表す。
【０３４０】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩに関するＤＳＣを図４に表す。
【０３４１】
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉに関するＤＳＣを図６に表す。
【０３４２】
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉに関するＤＳＣを図８に表す。
【０３４３】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉに関するＤＳＣを図１０に表す。
【０３４４】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩに関するＤＳＣを図１２に表す。
【０３４５】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩに関するＤＳＣを図１４に表す。
【０３４６】
テノホビルアラフェナミドバニレートに関するＤＳＣを図１６に表す。
【０３４７】
テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートに関するＤＳＣを図１８に表す。
溶解度のスクリーニング
【０３４８】
予め秤量した量の固体を含有するバイアル中に、およそ２２℃で、脱イオン水を少しずつ添加した。固体／液体混合物を、ボルテックスミキサーでかき混ぜ、室温で保持した。脱イオン水の添加を続け、固体が完全に溶解するまで混合を繰り返した。種々の塩の溶解度を、先の手順で測定し、値を以下の表２に反映する。
【表２】
2020505411.tif 000016
【０３４９】
溶解度のより低い塩形態（ヘミフマル酸塩と比較して）によって、長時間作用型製剤に対応する放出の持続時間の延長がもたらされる。
【０３５０】
本出願で引用したすべての特許、特許出願および刊行物を含む参照文献はそれぞれ、そのそれぞれが個別に組み込まれている場合と同様に、参照によりその全体として本明細書に組み込まれる。さらに、本発明の上記教示において、当業者が、本発明にある特定の変更または修正を行うことができ、これらの均等物が、依然として本出願に添付の特許請求の範囲によって定義された本発明の範囲内にあることが理解されるであろう。本出願で引用したすべての特許、特許出願および刊行物を含む参照文献はそれぞれ、そのそれぞれが個別に組み込まれている場合と同様に、参照によりその全体として本明細書に組み込まれる。さらに、本発明の上記教示において、当業者が、本発明にある特定の変更または修正を行うことができ、これらの均等物が、依然として本出願に添付の特許請求の範囲によって定義された本発明の範囲内にあることが理解されるであろう。
【図１】
2020505411.tif 000017
【図２】
2020505411.tif 000018
【図３】
2020505411.tif 000019
【図４】
2020505411.tif 000020
【図５】
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【図６】
2020505411.tif 000022
【図７】
2020505411.tif 000023
【図８】
2020505411.tif 000024
【図９】
2020505411.tif 000025
【図１０】
2020505411.tif 000026
【図１１】
2020505411.tif 000027
【図１２】
2020505411.tif 000028
【図１３】
2020505411.tif 000029
【図１４】
2020505411.tif 000030
【図１５】
2020505411.tif 000031
【図１６】
2020505411.tif 000032
【図１７】
2020505411.tif 000033
【図１８】
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【手続補正書】
【提出日】令和1年9月9日(2019.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テノホビルアラフェナミドセバケート。
【請求項２】
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉである、請求項１に記載の結晶形態。
【請求項３】
約５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、および１９．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項２に記載の結晶形態。
【請求項４】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°、および２２．１°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項３に記載の結晶形態。
【請求項５】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１１．７°、１２．６°、２０．９°、２３．４°、２３．８°、２６．２°、２８．２°、および２９．０°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項４に記載の結晶形態。
【請求項６】
図５に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項２から５のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項７】
図６に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項２から６のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項８】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエート、
テノホビルアラフェナミドナプシレート、または
テノホビルアラフェナミドオロテート。
【請求項９】
請求項８に記載のテノホビルアラフェナミドヘミパモエート。
【請求項１０】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉである、請求項９に記載の結晶形態。
【請求項１１】
約７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、および２２．３°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項１０に記載の結晶形態。
【請求項１２】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１７．４°、１９．０°、２０．１°、２３．８°、および２５．７°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項１１に記載の結晶形態。
【請求項１３】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１１．２°、１３．１°、１３．８°、１５．８°、２１．０°、および２８．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項１２に記載の結晶形態。
【請求項１４】
図１に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項１０から１２のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項１５】
図２に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項１０から１３のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項１６】
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩである、請求項９に記載の結晶形態。
【請求項１７】
約５．５°、１０．９°、１６．２°、２２．１°、および２３．２°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項１６に記載の結晶形態。
【請求項１８】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約２４．１°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項１６に記載の結晶形態。
【請求項１９】
図３に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項１６から１８のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項２０】
図４に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項１６から１９のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項２１】
請求項８に記載のテノホビルアラフェナミドナプシレート。
【請求項２２】
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉである、請求項２１に記載の結晶形態。
【請求項２３】
約３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、および１９．２°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項２２に記載の結晶形態。
【請求項２４】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°、および２７．２°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項２３に記載の結晶形態。
【請求項２５】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約９．８°、１３．２°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、２３．０°、２４．１°、および２６．０°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項２４に記載の結晶形態。
【請求項２６】
図７に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項２２から２５のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項２７】
図８に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項２３から２６のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項２８】
請求項８に記載のテノホビルアラフェナミドオロテート。
【請求項２９】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉである、請求項２８に記載の結晶形態。
【請求項３０】
約３．０°、５．９°、８．９°、および１１．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項２９に記載の結晶形態。
【請求項３１】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°、および２１．５°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項３０に記載の結晶形態。
【請求項３２】
図９に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項２９から３１のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項３３】
図１０に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項２９から３２のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項３４】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩである、請求項２８に記載の結晶形態。
【請求項３５】
約３．４°、６．９°、１０．３°、および１３．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項３４に記載の結晶形態。
【請求項３６】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１５．４°、１７．３°、１９．０°、２２．８°、および２９．０°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項３５に記載の結晶形態。
【請求項３７】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１８．４°、および２１．６°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項３６に記載の結晶形態。
【請求項３８】
図１１に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項３４から３７のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項３９】
図１２に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項３４から３８のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項４０】
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩである、請求項２８に記載の結晶形態。
【請求項４１】
約３．８°、９．４°、１２．４°、１５．７°、および１９．０°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項４０に記載の結晶形態。
【請求項４２】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約８．３°、１６．４°、２４．５°、２６．６°、および２８．９°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項４１に記載の結晶形態。
【請求項４３】
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約６．９°、２２．８°、および２７．６°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、請求項４２に記載の結晶形態。
【請求項４４】
図１３に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項４０から４３のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項４５】
図１４に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項４０から４３のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項４６】
治療有効量の、請求項１から４５のいずれか一項に記載の形態と、薬学的に許容される賦形剤とを含む医薬組成物。
【請求項４７】
１から３つの追加の治療剤をさらに含む、請求項４６に記載の医薬組成物。
【請求項４８】
前記追加の治療剤が、それぞれ、ＨＩＶに対して活性である、請求項４７に記載の医薬組成物。
【請求項４９】
単位剤形である、請求項４６から４８のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項５０】
前記単位剤形が、皮下注射剤である、請求項４９に記載の医薬組成物。
【請求項５１】
治療有効量の、請求項１から４５のいずれか一項に記載の形態を、薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製される医薬組成物。
【請求項５２】
ＨＩＶ感染を処置するための、請求項１から４５のいずれか一項に記載の形態を含む組成物。
【請求項５３】
ヒトのウイルス感染を処置するための、請求項１から４５のいずれか一項に記載の形態を含む組成物、または請求項４６もしくは４７に記載の医薬組成物。
【請求項５４】
前記ウイルス感染が、ＨＩＶによって引き起こされる、請求項５３に記載の組成物または医薬組成物。
【請求項５５】
テノホビルアラフェナミドバニレート、または
テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエート。
【請求項５６】
テノホビルアラフェナミドバニレートである、請求項５５に記載の結晶形態。
【請求項５７】
約６．６°、９．３°、１４．２°、１５．２°、１９．０°、および２２．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折パターンによって特徴付けられる、請求項５６に記載の結晶形態。
【請求項５８】
約１０．８°、１２．３°、１８．４°、１９．８°、２２．１°、２５．０°、および３２．４°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折パターンによって特徴付けられる、請求項５６に記載の結晶形態。
【請求項５９】
図１５に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項５６から５８のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項６０】
図１６に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項５６から５９のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項６１】
テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートである、請求項５５に記載の結晶形態。
【請求項６２】
約４．５°、８．９°、１１．２°、１４．４°、１５．４°、１８．８°、２１．７°、および２５．５°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折パターンによって特徴付けられる、請求項６１に記載の結晶形態。
【請求項６３】
約７．７°、１４．７°、２１．９°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折パターンによって特徴付けられる、請求項６１に記載の結晶形態。
【請求項６４】
図１７に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、請求項６１から６３のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項６５】
図１８に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、請求項６１から６４のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項６６】
治療有効量の、請求項５５から６５のいずれか一項に記載の形態と、薬学的に許容される賦形剤とを含む医薬組成物。
【請求項６７】
１から３つの追加の治療剤をさらに含む、請求項６６に記載の医薬組成物。
【請求項６８】
前記追加の治療剤が、それぞれ、ＨＩＶに対して活性である、請求項６７に記載の医薬組成物。
【請求項６９】
単位剤形である、請求項５５から６５のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項７０】
前記単位剤形が、皮下注射剤である、請求項６９に記載の医薬組成物。
【請求項７１】
治療有効量の、請求項５５から６５のいずれか一項に記載の形態を、薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製される医薬組成物。
【請求項７２】
ＨＩＶ感染を処置するための、請求項５５から６５のいずれか一項に記載の形態を含む組成物。
【請求項７３】
請求項５５から６５のいずれか一項に記載の形態を含む、ヒトのウイルス感染を処置するための組成物。
【請求項７４】
前記ウイルス感染が、ＨＩＶによって引き起こされる、請求項７３に記載の組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３５０】
本出願で引用したすべての特許、特許出願および刊行物を含む参照文献はそれぞれ、そのそれぞれが個別に組み込まれている場合と同様に、参照によりその全体として本明細書に組み込まれる。さらに、本発明の上記教示において、当業者が、本発明にある特定の変更または修正を行うことができ、これらの均等物が、依然として本出願に添付の特許請求の範囲によって定義された本発明の範囲内にあることが理解されるであろう。本出願で引用したすべての特許、特許出願および刊行物を含む参照文献はそれぞれ、そのそれぞれが個別に組み込まれている場合と同様に、参照によりその全体として本明細書に組み込まれる。さらに、本発明の上記教示において、当業者が、本発明にある特定の変更または修正を行うことができ、これらの均等物が、依然として本出願に添付の特許請求の範囲によって定義された本発明の範囲内にあることが理解されるであろう。
本発明の実施形態の例として、以下の項目が挙げられる。
（項目１）
テノホビルアラフェナミドヘミパモエート、
テノホビルアラフェナミドセバケート、
テノホビルアラフェナミドナプシレート、または
テノホビルアラフェナミドオロテート。
（項目２）
項目１に記載のテノホビルアラフェナミドヘミパモエート。
（項目３）
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態Ｉである、項目２に記載の結晶形態。
（項目４）
約７．４°、８．４°、１０．６°、１４．８°、および２２．３°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目３に記載の結晶形態。
（項目５）
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１７．４°、１９．０°、２０．１°、２３．８°、および２５．７°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、項目４に記載の結晶形態。
（項目６）
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１１．２°、１３．１°、１３．８°、１５．８°、２１．０°、および２８．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、項目５に記載の結晶形態。
（項目７）
図１に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目３から５のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目８）
図２に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、項目３から６のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目９）
テノホビルアラフェナミドヘミパモエートの形態ＩＩである、項目２に記載の結晶形態。
（項目１０）
約５．５°、１０．９°、１６．２°、２２．１°、および２３．２°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目９に記載の結晶形態。
（項目１１）
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約２４．１°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、項目９に記載の結晶形態。
（項目１２）
図３に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目９から１１のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目１３）
図４に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、項目９から１２のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目１４）
項目１に記載のテノホビルアラフェナミドセバケート。
（項目１５）
テノホビルアラフェナミドセバケートの形態Ｉである、項目１４に記載の結晶形態。
（項目１６）
約５．３°、６．６°、９．４°、９．６°、および１９．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目１５に記載の結晶形態。
（項目１７）
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１４．８°、１５．７°、１８．７°、１９．３°、および２２．１°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、項目１６に記載の結晶形態。
（項目１８）
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１１．７°、１２．６°、２０．９°、２３．４°、２３．８°、２６．２°、２８．２°、および２９．０°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、項目１７に記載の結晶形態。
（項目１９）
図５に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目１５から１８のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目２０）
図６に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、項目１５から１９のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目２１）
項目１に記載のテノホビルアラフェナミドナプシレート。
（項目２２）
テノホビルアラフェナミドナプシレートの形態Ｉである、項目２１に記載の結晶形態。
（項目２３）
約３．９°、７．８°、１３．６°、１５．３°、および１９．２°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目２２に記載の結晶形態。
（項目２４）
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１９．４°、１９．８°、２０．６°、２３．８°、および２７．２°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、項目２３に記載の結晶形態。
（項目２５）
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約９．８°、１３．２°、１５．５°、１６．５°、１７．８°、２３．０°、２４．１°、および２６．０°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、項目２４に記載の結晶形態。
（項目２６）
図７に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目２２から２５のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目２７）
図８に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、項目２３から２６のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目２８）
項目１に記載のテノホビルアラフェナミドオロテート。
（項目２９）
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態Ｉである、項目２８に記載の結晶形態。
（項目３０）
約３．０°、５．９°、８．９°、および１１．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目２９に記載の結晶形態。
（項目３１）
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１４．８°、１６．０°、１７．７°、１８．７°、および２１．５°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、項目３０に記載の結晶形態。
（項目３２）
図９に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目２９から３１のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目３３）
図１０に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、項目２９から３２のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目３４）
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩである、項目２８に記載の結晶形態。
（項目３５）
約３．４°、６．９°、１０．３°、および１３．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目３４に記載の結晶形態。
（項目３６）
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１５．４°、１７．３°、１９．０°、２２．８°、および２９．０°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、項目３５に記載の結晶形態。
（項目３７）
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約１８．４°、および２１．６°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、項目３６に記載の結晶形態。
（項目３８）
図１１に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目３４から３７のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目３９）
図１２に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、項目３４から３８のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目４０）
テノホビルアラフェナミドオロテートの形態ＩＩＩである、項目２８に記載の結晶形態。
（項目４１）
約３．８°、９．４°、１２．４°、１５．７°、および１９．０°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目４０に記載の結晶形態。
（項目４２）
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約８．３°、１６．４°、２４．５°、２６．６°、および２８．９°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、項目４１に記載の結晶形態。
（項目４３）
前記Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンが、約６．９°、２２．８°、および２７．６°  ２−θ±０．２°  ２−θでさらなるピークを有する、項目４２に記載の結晶形態。
（項目４４）
図１３に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目４０から４３のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目４５）
図１４に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、項目４０から４３のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目４６）
治療有効量の、項目１から４５のいずれか一項に記載の形態と、薬学的に許容される賦形剤とを含む医薬組成物。
（項目４７）
１から３つの追加の治療剤をさらに含む、項目４６に記載の医薬組成物。
（項目４８）
前記追加の治療剤が、それぞれ、ＨＩＶに対して活性である、項目４７に記載の医薬組成物。
（項目４９）
単位剤形である、項目４６から４８のいずれか一項に記載の医薬組成物。
（項目５０）
前記単位剤形が、皮下注射剤である、項目４９に記載の医薬組成物。
（項目５１）
治療有効量の、項目１から４５のいずれか一項に記載の形態を、薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製される医薬組成物。
（項目５２）
ＨＩＶ感染を処置するための、項目１から４５のいずれか一項に記載の形態の使用。
（項目５３）
治療有効量の、項目１から４７のいずれか一項に記載の形態を、それを必要とするヒトに投与することを含む、ヒトのウイルス感染を処置するための方法。
（項目５４）
前記ウイルス感染が、ＨＩＶによって引き起こされる、項目５３に記載のヒトのウイルス感染を処置するための方法。
（項目５５）
ＨＩＶによって引き起こされる感染を処置するための方法において使用するための、項目１から４５のいずれか一項に記載の形態。
（項目５６）
テノホビルアラフェナミドバニレート、または
テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエート。
（項目５７）
テノホビルアラフェナミドバニレートである、項目５６に記載の結晶形態。
（項目５８）
約６．６°、９．３°、１４．２°、１５．２°、１９．０°、および２２．８°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折パターンによって特徴付けられる、項目５７に記載の結晶形態。
（項目５９）
約１０．８°、１２．３°、１８．４°、１９．８°、２２．１°、２５．０°、および３２．４°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折パターンによって特徴付けられる、項目５７に記載の結晶形態。
（項目６０）
図１５に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目５６から５９のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目６１）
図１６に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、項目５６から６０のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目６２）
テノホビルアラフェナミドビス−キシナホエートである、項目５６に記載の結晶形態。
（項目６３）
約４．５°、８．９°、１１．２°、１４．４°、１５．４°、１８．８°、２１．７°、および２５．５°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折パターンによって特徴付けられる、項目６２に記載の結晶形態。
（項目６４）
約７．７°、１４．７°、２１．９°、２５．９°、３２．９°、３３．８°、および３６．５°  ２−θ±０．２°  ２−θでピークを有するＸ線粉末回折パターンによって特徴付けられる、項目６２に記載の結晶形態。
（項目６５）
図１７に実質的に示されるＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンによって特徴付けられる、項目６２から６４のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目６６）
図１８に実質的に示される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）パターンによって特徴付けられる、項目６２から６５のいずれか一項に記載の結晶形態。
（項目６７）
治療有効量の、項目５６から６６のいずれか一項に記載の形態と、薬学的に許容される賦形剤とを含む医薬組成物。
（項目６８）
１から３つの追加の治療剤をさらに含む、項目６７に記載の医薬組成物。
（項目６９）
前記追加の治療剤が、それぞれ、ＨＩＶに対して活性である、項目６８に記載の医薬組成物。
（項目７０）
単位剤形である、項目５６から６６のいずれか一項に記載の医薬組成物。
（項目７１）
前記単位剤形が、皮下注射剤である、項目７０に記載の医薬組成物。
（項目７２）
治療有効量の、項目５６から６６のいずれか一項に記載の形態を、薬学的に許容される賦形剤と組み合わせることによって調製される医薬組成物。
（項目７３）
ＨＩＶ感染を処置するための、項目５６から６６のいずれか一項に記載の形態の使用。
（項目７４）
治療有効量の、項目５６から６６のいずれか一項に記載の形態を、それを必要とするヒトに投与することを含む、ヒトのウイルス感染を処置するための方法。
（項目７５）
前記ウイルス感染が、ＨＩＶによって引き起こされる、項目７４に記載のヒトのウイルス感染を処置するための方法。
（項目７６）
ＨＩＶによって引き起こされる感染を処置するための方法において使用するための、項目５６から６６のいずれか一項に記載の形態。
【国際調査報告】
2020505411.tif 000035
2020505411.tif 000036
2020505411.tif 000037