(57)【要約】  基板を保持するためにキャリア本体に取り付けられるように構成されたホルダが提供される。ホルダは、材料源又はマスクに対向するように配置された前方部分、材料源と逆の方向を向くように配置された後方部分であって、傾斜面を有する傾斜部分を含む、後方部分、及び前方部分と後方部分との間に設けられた基板を受容するための溝を含む。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（１０１）を保持するためにキャリアのキャリア本体（１６０）に取り付けられるように構成されたホルダ（２００）であって、
材料源又はマスクに対向するように配置された前方部分（２１４）、
材料源と逆の方向を向くように配置された後方部分（２１６）であって、傾斜面を有する傾斜部分を含む、後方部分（２１６）、及び
前記前方部分と前記後方部分との間に設けられた基板を受容するための溝
を備えているホルダ（２００）。
【請求項２】
前記溝が、第１の対向面同士の間に５°以下の第１の角度を有する第１の部分を有し、前記溝が、第２の対向面同士の間に１０°以上の第２の角度を有する第２の部分を有する、請求項１に記載のホルダ。
【請求項３】
前記第２の角度が、前記傾斜部分の前記傾斜面と前記前方部分との間に設けられている、請求項２に記載のホルダ。
【請求項４】
前記第１の角度が０°である、請求項２又は３に記載のホルダ。
【請求項５】
前記第１の対向面が、前記前方部分の内表面及び前記後方部分の内表面であり、前記第２の対向面が、前記前方部分の前記内表面及び前記傾斜部分の前記傾斜面である、請求項２から４のいずれか一項に記載のホルダ。
【請求項６】
前記溝が、半Ｖ字状部分及び平行部分を備えている、請求項５に記載のホルダ。
【請求項７】
前記前方部分が、少なくとも２つの前方部分セグメントを有する前方部分アセンブリであり、前記２つの前方部分セグメントの間に間隙がある、請求項１から６のいずれか一項に記載のホルダ。
【請求項８】
前記ホルダをキャリア本体に装着するための開口又は止まり穴をさらに備えている、請求項１から７のいずれか一項に記載のホルダ。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載の少なくとも１つのホルダ（２００）を備えているキャリア（１００）。
【請求項１０】
第１の側部、第２の側部、第３の側部、及び第４の側部を備えたキャリア本体（１６０）をさらに備え、前記少なくとも１つのホルダ（２００）が、少なくとも８つのホルダ、とりわけ少なくとも２４個のホルダであり、前記第１の側部、前記第２の側部、前記第３の側部、及び前記第４の側部の各側部に、前記少なくとも８つのホルダのうちの少なくとも２つの対応するホルダが装着されている、請求項９に記載のキャリア。
【請求項１１】
前記少なくとも８つのホルダのうちの前記少なくとも２つの対応するホルダが、前記第１の側部、前記第２の側部、前記第３の側部、及び前記第４の側部の２つの隣接部位に移動可能に装着されている、請求項１０に記載のキャリア。
【請求項１２】
キャリア本体（１６０）を有するキャリア（１００）内に基板（１０１）を固定するための方法（８０）であって、
前記キャリア（１００）上に基板（１０１）をロードすることと、
前記基板（１０１）に向けて、傾斜部分（２１０）を備えた少なくとも１つのホルダ（２００）を、前記キャリア本体（１６０）に対して移動させること（８２）と、
前記傾斜部分を有する溝の第１の部分内に前記基板を誘導することと
を含む方法（８０）。
【請求項１３】
前記溝の第２の部分内で前記基板を支持することをさらに含み、前記第２の部分が、前記基板に対して、０．５ｍｍ以下、とりわけ０．２ｍｍ以下のクリアランスを有する、請求項１２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示の実施形態は、例えば、層堆積のための処理中に基板を保持するためのホルダに関する。本開示の諸実施形態は、特に、真空層堆積の間、基板を保持するためのキャリアのキャリア本体に取り付けられるように構成されたホルダに関する。特に、本開示の諸実施形態は、基板を保持するためにキャリアのキャリア本体に取り付けられるように構成されたホルダ、１つ又は複数の基板を保持するためのキャリア、及びキャリア本体を有するキャリア内に基板を固定するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板上に材料を堆積させる幾つかの方法が知られている。例えば、基板は、物理的気相堆積（ＰＶＤ）プロセス、化学気相堆積（ＣＶＤ）プロセス、プラズマ化学気相堆積（ＰＥＣＶＤ）プロセスなどによってコーティングすることができる。典型的には、プロセスは、コーティングすべき基板が配置される処理装置や処理チャンバ内で実施される。装置内には、堆積材料が供給される。複数の材料のみならず、さらにその酸化物、窒化物、又は炭化物が、基板上の堆積に使用され得る。さらに、処理チャンバ内で、エッチング、構造化（ｓｔｒｕｃｔｕｒｉｎｇ）、アニールなど他の処理作業が実施され得る。
【０００３】
幾つかの用途及び幾つかの技術分野では、コーティングされた材料が使用され得る。例えば、半導体デバイスの製造などマイクロエレクトロニクス分野に用途がある。さらに、ディスプレイ用基板もＰＶＤプロセスによってコーティングされることが多い。さらなる用途には、絶縁パネル、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）パネル、ＴＦＴ付き基板、カラーフィルタなどがある。
【０００４】
典型的には、ガラス基板は、処理中にキャリア上に支持され得る。キャリアは、ガラス又は基板を支持し、処理機械に通される。つまり、キャリアが、ガラス又は基板を駆動する。典型的には、キャリアは、基板をその縁に沿って支持するフレーム又はプレートを形成し、又は、プレートの場合、表面それ自体を支持する。
【０００５】
基板をキャリア内に固定するためには、種々の保持アレンジメント、例えば、ガラスホルダが利用可能である。例えば、ＴＦＴ用途のために粒子に対する要求が増えているため、粒子の生成を避けることがより重要になる。キャリア及びホルダ（例えば、クランプ）上の側方堆積、並びにホルダ（例えば、ガラスクランプ）内のガラス移動は、ガラス表面の近くの主要な粒子生成源である。
【０００６】
上記の観点から、当該技術分野の課題のうちの少なくとも幾つかを克服するような、ホルダ、具体的には、基板を保持するためにキャリア本体に取り付けられるように構成されたホルダを提供することが有益である。
【発明の概要】
【０００７】
上記の観点から、基板を保持するためにキャリアのキャリア本体に取り付けられるように構成されたホルダ、及びキャリア内に基板を固定するための方法が提供される。本開示のさらなる態様、利点、及び特徴は、従属請求項、明細書、及び添付の図面から明らかである。
【０００８】
一実施形態によれば、基板を保持するためにキャリア本体に取り付けられるように構成されたホルダが提供される。ホルダは、材料源又はマスクに対向するように配置された前方部分、材料源と逆の方向を向くように配置された後方部分であって、傾斜面を有する傾斜部分を含む、後方部分、及び前方部分と後方部分との間に設けられた基板を受容するための溝を含む。
【０００９】
別の態様によれば、少なくとも１つのホルダを含むキャリアが提供される。少なくとも１つのホルダは、材料源又はマスクに対向するように配置された前方部分、材料源と逆の方向を向くように配置された後方部分であって、傾斜面を有する傾斜部分を含む、後方部分、及び前方部分と後方部分との間に設けられた基板を受容するための溝を含む。
【００１０】
さらに別の態様によれば、キャリア本体を有するキャリア内に基板を固定するための方法が提供される。当該方法は、キャリア上に基板をロードすることと、基板に向けて、傾斜部分を備えた少なくとも１つのホルダを、キャリア本体に対して移動させることと、傾斜部分を有する溝の第１の部分内に基板を誘導することとを含む。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
本開示の上述の特徴を詳細に理解することができるように、諸実施形態を参照することによって、上記に簡単に要約された本開示のより具体的な説明が与えられ得る。添付図面は、本開示の諸実施形態に関するものであり、以下で説明される。
【図１】本明細書に記載された実施形態に係る、少なくとも１つのホルダを有するキャリアを示す。
【図２】本開示の実施形態の改善点を例示するためのホルダを示す。
【図３】本明細書に記載された実施形態に係るホルダを示す。
【図４Ａ−４Ｂ】本明細書に記載された実施形態に係る、さらなるホルダの種々の図を示す。
【図５Ａ−５Ｂ】本明細書に記載された実施形態に係る、さらなるホルダの種々の図を示す。
【図６】本明細書に記載された実施形態に係る、ホルダを有するキャリアを示し、ロボットアームを用いたローディングを示す。
【図７】本明細書に記載された実施形態に係る、キャリア本体を有するキャリア内に基板を固定するための方法のフロー図を示す。
【図８】本明細書に記載された実施形態に係る、堆積チャンバの概略図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本開示の様々な実施形態について、これより詳細に参照する。これらの実施形態の１つ又は複数の実施例は、図面で示されている。図面についての以下の説明の中で、同じ参照番号は同じ構成要素を表す。概して、個々の実施形態に関する相違のみが説明される。各実施例は、本開示の説明のために提供されるが、本開示を限定することを意図しているわけではない。さらに、ある実施形態の一部として図示且つ説明されている特徴は、他の実施形態において用いてもよく、又は、他の実施形態と共に用いてもよく、それにより、さらに別の実施形態が生じる。本記載は、このような修正例及び変形例を含むことが意図されている。
【００１３】
本明細書に記載された実施形態によれば、少なくとも１つのホルダを含むキャリアが提供される。少なくとも１つのホルダは、基板を保持又はクランプするように構成されている。ホルダは、傾斜部分を有し、それにより、基板をさらなる溝部分に誘導する溝の部分が形成される。さらなる溝部分は、小さなクリアランス、例えば、０．５ｍｍ以下（約０．１ｍｍなど）のクリアランスを有する。
【００１４】
本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、基板の厚さは、０．１から１．８ｍｍであり得、ホルダは、このような基板の厚さに対して適合させられ得る。基板の厚さが、約０．９ｍｍ以下、例えば、０．７ｍｍ、０．５ｍｍ、又は０．３ｍｍであると特に有益であり得、ホルダは、特にこのような基板の厚さに対して適合させられる。さらに、ホルダをより小さな又はより大きな基板の厚さに適合させてもよい。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、ホルダ、又は少なくとも１つのホルダを含むキャリアは、特定のガラスの厚さに適合され得る。特定のガラスの厚さに比べてより小さな厚さを有するガラス基板も、ホルダ又はホルダを含むキャリアによって支持され得る。
【００１５】
本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、大面積基板は、少なくとも０．１７４ｍ２のサイズを有し得る。そのサイズは、約１．３７５ｍ２から約１０ｍ２、より典型的には、約２ｍ２から約１１ｍ２、又はさらに最大１２ｍ２であり得る。典型的には、本明細書に記載された実施形態に係る、マスク構造体、装置、及び方法の提供の対象である長方形基板が、本明細書に記載された大面積基板である。例えば、大面積基板は、約１．４ｍ２の基板（１．１ｍ×１．３ｍ）に対応するＧＥＮ５、約４．３９ｍ２の基板（１．９５ｍ×２．２５ｍ）に対応するＧＥＮ７．５、約５．５ｍ２の基板（２．２ｍ×２．５ｍ）に対応するＧＥＮ８．５、又はさらに約８．７ｍ２の基板（２．８５ｍ×３．０５ｍ）に対応するＧＥＮ１０であり得る。ＧＥＮ１１及びＧＥＮ１２などのさらに次の世代、並びにそれに相当する基板領域を同様に実装することができる。しかしながら、当業者であれば、ホルダを任意の基板サイズ、すなわち、上述の基板サイズよりも小さい又は大きい基板サイズにも使用されてよいことを理解するであろう。
【００１６】
典型的には、基板は、材料堆積に適した任意の材料から作られてもよい。例えば、基板は、ガラス（例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス等）、金属、ポリマー、セラミック、複合材料、炭素繊維材料、又は堆積処理によってコーティングすることができる任意の他の材料若しくは材料の組合せからなる群から選択された材料から作られ得る。
【００１７】
図１は、本明細書に記載された実施形態に係る、少なくとも１つのホルダ２００を有するキャリア１００を示す。キャリア１００は、基板１０１を支持するように構成されている。図１に示すように、基板１０１は、特に処理チャンバ内で処理されるとき、キャリア１００内のある位置に設けられる。キャリア１００は、フレーム又はキャリア本体１６０を含む。例えば、キャリア本体は、窓又は開孔を画定し得る。典型的な実装形態によれば、キャリア本体１６０は、基板受容面を提供する。
【００１８】
図１は、キャリア１００の下方部分に配置され得る誘導棒１６２（例えば、ロッド）をさらに示す。動作中、誘導棒１６２は、キャリア本体１６０の下方に設けられ得る。誘導棒は、搬送システム（例えば、ローラアレンジメント）と接触するように構成され得る。キャリア１００は、上方誘導アレンジメント１６４をさらに含み得る。上方誘導アレンジメント１６４は、搬送システムの上方部分でキャリア１００の位置を支持するように構成され得る。
【００１９】
さらに別の実施形態によれば、キャリアは、例えば、磁気浮揚システムを用いた無接触搬送のために構成され得る。無接触搬送のためのキャリアの配置は、キャリアの上方部分において、磁気浮揚システムと相互作用するように構成された磁気素子を有し得る。キャリアの下方部分は、キャリアの横方向の安定化のために構成されてもよく、又は、キャリア本体１６０は、無接触搬送配置で吊り下げられてもよい。
【００２０】
本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、複数のホルダ２００は、移動可能であり得、とりわけ、キャリア本体の端部に対して直角な又は実質的に直角な方向に移動可能であり得る。例えば、キャリア本体の端部は、キャリア本体によって形成された開孔の端部であり得る。ホルダは、ホルダによって支持された基板の対応する端部に対して直角な又は実質的に直角な方向に移動可能であり得る。図１では、ホルダの移動は、矢印２０１によって示される。幾つかの実施形態によれば、キャリア本体の片側（右側又は左側）のホルダ２００、及びキャリア本体の上側又は下側の、特に、図１に示すキャリア本体の上側のホルダ２００は、移動可能であり得る。キャリア本体１６０は、第１の側部、第２の側部、第３の側部、及び第４の側部を含む。少なくとも８つのホルダ、とりわけ少なくとも２４個のホルダを設けることができ、ここでは、第１の側部、第２の側部、第３の側部、及び第４の側部の各側部に少なくとも８つのホルダのうちの少なくとも２つの対応するホルダが装着される。ホルダ群のうちの少なくとも２つの対応するホルダは、第１の側部、第２の側部、第３の側部、及び第４の側部の２つの隣接する部位に移動可能に装着される。
【００２１】
ホルダは、キャリア本体の２つの隣接する側部、例えば、図１の右側の側部及び上方の側部において移動可能であり得る。ホルダを移動させることにより、ホルダ２００を引っ込めることが可能になる。キャリア本体内にガラス基板をロード又はアンロードするためにホルダ２００を引っ込めることができる。図１の矢印２０１によって示されているようにホルダを引っ込めることにより、キャリア本体又はホルダ２００のそれぞれによって形成された開孔のサイズが拡大する。開孔のサイズの拡大により、ガラス基板のロード又はアンロードのために十分な空間が設けられる。
【００２２】
本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、キャリア本体１６０は、アルミニウム、アルミニウム合金、チタン、これらの合金、ステンレス鋼、又は同等物から作られ得る。比較的小さな大面積基板（例えば、ＧＥＮ５以下）については、キャリア本体１６０を単一片から製造することができ、すなわち、その場合、フレームが一体的に形成される。しかしながら、本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、キャリア本体１６０は、上部棒、側部棒、及び底部棒などの２つ以上の要素を含み得る。特に、面積が非常に大きな基板については、キャリア又はキャリア本体は、幾つかの部分を有するように製造され得る。キャリア本体のこれらの部分は、基板１０１を支持するキャリア本体１６０を提供するために組み立てられる。キャリア本体１６０は、特に、基板領域（例えば、キャリア本体の開孔）内で基板１０１を受容するように構成されている。
【００２３】
図２は、共通クランプと比較可能であり得るホルダ２０を示す。ホルダ又はクランプは、長方形断面を有する基板受容部又は溝３０、すなわち長方形の溝を有する。ホルダ２０は、後方部分２１６、前方部分、及び中間部分２１２を有する。中間部分２１２は、前方部分２１４と後方部分２１６とを接続させる。前方部分２１４は、堆積される材料又は材料源に対向している。材料堆積の方向は、矢印２５によって示される。基板１０１が堆積材料と後方部分２１６との間に設けられるように、後方部分２１６は、堆積される材料と逆の方向を向く。
【００２４】
長方形の基板受容部３０を有するホルダ又はクランプにおいては、ホルダ又はクランプへのガラスの供給を容易にするために、ホルダ又はクランプとガラスとの間に比較的大きなクリアランスが存在し得る。例えば、図２は、後方部分２１６と基板１０１のガラスとの間の後方間隙２１、及び前方部分２１４と基板１０１のガラスとの間の前方間隙２３を示す。クリアランスによって、ガラスがホルダの溝（すなわち、クランプ）の内部に移動することが可能になる。
【００２５】
図２にさらに示されているように、矢印２５によって示された方向に沿って基板１０１上に堆積された材料は、結果的に、側方堆積５０、すなわち、ホルダ２０上の材料の望まれない堆積となり得る。側方堆積物５０は、特に前方間隙２３内に入り込む恐れがある。基板１０１とホルダとの間の摩擦により、粒子の生成が生じ得る。ガラス−マスク間隙２６が、例えば、前方間隙２３、前方部分２１４におけるホルダの幅、及びマスク−ホルダ間隙２７によって設けられる。クランプの内部でガラス位置が画定されないことに起因して、ガラス−マスク間隙２６が比較的大きい場合があり、例えば、より大きな前方間隙２３が生じる。前方間隙２３は、ホルダとガラスとの間で、ホルダに対して設けられる。ホルダ又はクランプは、互いから分離して設けることができ、それにより、ホルダとマスク７０との間にマスク−ホルダ間隙２７が生じる。端部除外マスクなどのマスク７０までの距離が画定されていないことにより、ホルダ又はクランプを適切に覆うことができないので、ホルダ又はクランプには比較的大量の側方堆積物が蓄積される。図２に示すように、側方堆積物が、クランプの溝、すなわち、前方部分２１４と基板１０１との間の溝内に入り込む可能性がある。ホルダ内部でのガラスの移動により、側方堆積が緩くなり、粒子の生成がさらに増える。
【００２６】
図３は、本明細書に記載された実施形態に係るホルダ２００を示す。ホルダ２００は、前方部分２１４、及び後方部分２１６を含む。ホルダ２００内への基板１０１の挿入のために構成され得る溝３００には、傾斜面を有する傾斜部分２２０が含まれる。傾斜部分２２０は、半Ｖ字状のホルダ又はクランプをもたらす。すなわち、基板用の溝の片方の側部がＶ字状である。基板用の溝の別の側部は、Ｖ字状ではない場合があり、すなわち、真っ直ぐであり得る。半Ｖ字状クランプの設計によって、上述の欠点の一部又はすべてが対処される。中間部分２１２が前方部分と後方部分を接続し得る。
【００２７】
一方では、基板のロード又は供給は、後方部分におけるガラスの後方側への大きなホルダ口によって容易となる。他方では、ホルダの内部のガラスの移動は、例えば、０．１ｍｍの小さなクリアランスによって制限される。小さなクリアランスを有する溝部分は、溝の第１の部分を形成する。大きなホルダ口を有する溝部分、すなわち、傾斜部分又は半Ｖ字状部分は、溝の第２の部分を形成する。形状がそれぞれ異なる第１の溝部分及び第２の溝部分を有するホルダは、本開示の実施形態に従って設けられ得る。
【００２８】
幾つかの実施形態によれば、ホルダ又はクランプは、使用されるガラスの厚さに対して適合され得、これにより、小さなクリアランスのすべての又はほとんどの利点を備える。代替的に、キャリアのホルダの交換をしなくても、幾つかのガラスの厚さを処理システム内で使用することができる。より薄いガラスに対してさえも、処理システム内で処理される最も厚いガラスのためのホルダ又はクランプを使用することが可能である。
【００２９】
本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる本開示の実施形態によれば、溝３００は、第１の部分、例えば、図３の下方部分を有し得る。溝の第１の部分は、実質的に互いに平行な表面、例えば、前方部分２１４の内表面及び後方部分２１６の内表面を有し得る。第１の部分は、平行部分であり得る。例えば、第１の部分は、５°以下、とりわけ０°の、前方部分及び後方部分の対向面同士の間の第１の角度を有し得る。溝３００は、第２の部分を有し、第２の部分は、傾斜部分２２０に起因して、第１の角度より大きな対向面同士間の第２の角度を有する。第２の角度は、傾斜部分２２０の傾斜面と前方部分２１４の内表面との間に設けられ得る。第２の角度は、１０°以上、例えば、約１５°であり得る。第１の角度を形成する前方部分２１４の内表面、及び第２の角度を形成する前方部分２１４の内表面は、同一の内表面、すなわち、１つの平坦面であり得る。
【００３０】
本開示の実施形態によれば、特に、溝３００の第１の部分（例えば、底部）における、すなわち、中間部分２１２に隣接する溝部分における小さなクリアランスによって、基板１０１のより優れた又はより真っ直ぐなガラス端部がさらにもたらされ得る。これにより、基板１０１のガラス表面とマスク７０（例えば、端部除外マスク）との間の間隙をさらに小さくすることが可能になる。ガラスとマスクとの間のより小さな間隙により、均一性が向上し、ホルダ又はクランプへの側方堆積が減少する。さらに、クランプ内部の画定されたガラス位置によって、クランプの内部は、側方堆積に対してより優れた保護がなされる。ガラス−マスク間隙３２６は、例えば、小さな前方間隙、前方部分２１４におけるホルダの幅、及びマスク−ホルダ間隙２７によって設けられる。ガラス−マスク間隙３２６は、クランプの内部のガラス位置によって縮小することができ、例えば、小さな前方間隙が生じる。図３に示すように、矢印２５に沿って堆積された材料からの側方堆積２５０は、図２の側方堆積５０に比べて減少する。図３は、回転可能カソード又は回転カソード３３０をさらに示す。回転可能カソード又は回転カソード３３０は、例えば、材料堆積中のターゲット材料のスパッタリングの間、矢印３３５によって示されるように回転し得る、他の実施形態によれば、平坦なカソード又は材料堆積のための他の源が使用されてもよい。
【００３１】
図４Ａから図５Ｂは、ホルダ２００のさらなる実施形態を示す。図４Ａ及び図５Ａは、前方部分２１４の側部からの側面図を示す。図４Ｂ及び図５Ｂは、図２及び図３に類似する側面図を示す。図４Ａ及び図４Ｂは、一実施例に係るホルダ２００を示す。このホルダ２００は、本開示の実施形態と組み合わせることができる修正例を示すために使用され得る。ホルダは、後方部分２１６を有する。例えば、後方部分は、２０から４０ｍｍ、例えば、約３０ｍｍの高さを有し得る。前方部分２１４は、ホルダ２００の長さに沿って延びる。幾つかの実施形態によれば、長さ（図４Ａに示す左から右への寸法）は、３０から６０ｍｍ、例えば、約４０ｍｍであり得る。中間部分２１２は、５ｍｍから１５ｍｍ、例えば、約７ｍｍの幅（図４Ｂに示す左から右への寸法）を有し得る。溝３００は、溝３００の第１の部分４１２、例えば、図４Ａから図５Ｂの底部分において、すなわち、中間部分２１２に対向する溝部分において、一定幅を有する。図４Ａから図５Ｂの底部分は、ホルダがキャリアの上側に装着される場合、溝の上部分であり得る。第１の部分４１２の幅は、基板の厚さに対応する。典型的に、第１の部分４１２の幅は、基板の厚さより０．０５から０．２ｍｍ大きい場合がある。例えば、第１の部分の幅は、０．６ｍｍ、０．７ｍｍ、０．８ｍｍ、又は１ｍｍであり得る。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、傾斜部分２２０は、１０°から２５°（例えば、約１３°又は約１５°）の傾斜面傾斜角度を有し得る。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、傾斜部分２２０又は傾斜面のそれぞれの高さは、傾斜部分の幅が、１．５ｍｍから５ｍｍ（例えば、約３ｍｍ）であるような高さであってよい。傾斜部分の幅は、溝の第２の部分における溝の幅増加に対応する。
【００３２】
さらに、図４Ａに示すホルダ２００は、開口４１６を含む。開口４１６は、ホルダ２００をキャリアに装着するように構成されている。例えば、開口４１６は、スクリューなどを受け入れるスレッドを含み得る。開口４１６は、ホルダ２００をキャリアに装着するように構成されている。ホルダは、矢印４１７によって示されているように、キャリアに枢動可能に装着され得る。ホルダの枢動装着には、ガラスが溝の第１の部分４１２と全面的に接触するためにホルダが例えば、２５°以下だけ回転し得るという利点がある。ガラスの端部に沿ったガラスの全面接触は、溝の面にもたらされ得る。これにより、ガラス端部において応力を減らすことができる。幾つかの実施形態によれば、溝３００の第１の部分４１２は、その側部において湾曲し得る。このことは、基板をホルダ２００内にゆるやかにロードする上で有益であり得る。湾曲は、２ｍｍ以上の半径を有し得る。
【００３３】
図５Ａ及び図５Ｂは、一実施例に係るホルダ２００を示す。このホルダ２００は、本開示の実施形態と組み合わせることができる修正例を示すために使用され得る。図４Ａ及び図４Ｂに示すホルダ２００に比べて、図５Ａ及び図５Ｂに示す実施例のホルダ２００は、例えば、７ｍｍから１５ｍｍの、高さが縮小した後方部分２１６を有し得る。追加的又は代替的な修正例によれば、前方部分２１４は、２つの前方部分セグメントを有する前方部分アセンブリであり得る。２つの前方部分セグメントの間に間隙が存在し得、これにより、前方部分の側、すなわち、材料堆積の側からみたときに、傾斜部分２２０が露出する。後方部分２１６の高さの縮小により、ホルダ２００をキャリア又はキャリア本体に装着するために、開口の代わりに止まり穴５１６が設けられる。
【００３４】
図６は、ローディングアーム６０２、例えば、ロボットアームを用いたローディング操作の間のキャリア１００を示す。図６に示すように、キャリア本体１６０の４つの側部の第１の側部及び第２の側部にあるホルダ２００は、引っ込み位置に移動している。例示的に、図６の上側及び右側のホルダ２００は、引っ込み位置にあるように示されている。図１の矢印２０１によって示すように、ホルダの移動によって引っ込み位置が設けられる。例えば、引っ込み位置への移動及び引っ込み位置から出る移動は、ホルダによって支持される長方形基板１０１に対して直角方向であり得る。
【００３５】
上側及び右側のホルダ２００が引っ込み位置にある状態では、ホルダ間の基板受容領域が拡大するため、ローディングアーム６０２は、基板１０１をホルダ間の領域に移動させることができる。基板は、例えば、図６の下側及び左側でホルダ２００内に支持されるように、矢印６０３によって示されているように移動し得る。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、キャリア本体の２つの隣接する側部上のホルダ２００が静止していてもよく、キャリア本体の４つの側部のうちの残りの２つの側部上のホルダが移動可能であってもよい。残りの２つの側部もキャリア本体の隣接する側部であってもよい。
【００３６】
上述のように、ホルダ内の溝は、基板に対して比較的小さなクリアランスを有する第１の部分を有し得る。第１の部分は、ホルダの中間部分に隣接する。例えば、第１の部分は、キャリア本体１６０の底側においてホルダの溝の底部分であり得、且つ、キャリア本体の上側においてホルダの溝の上部分であり得る。さらに、ホルダ内の溝は、傾斜部分を含む第２の部分を有し得る。傾斜部分は、ホルダ口のサイズをホルダの後方側（すなわち、例えば、基板上への材料の堆積の間において、材料源と逆の方向を向く側）へと広げる。
【００３７】
基板１０１をキャリア１００内にロードするために、基板は、矢印６０３に示すように移動させられる。傾斜部分を含む溝の第２の部分が、基板を溝の中へと誘導する。第２の部分において溝の厚さが増加していることにより、ホルダ内への基板の円滑な挿入が可能になる。矢印６０３に沿った移動の後、基板１０１は、溝の第１の部分内で支持される。第１の部分には、第２の部分内のクリアランスに比べて小さな基板のためのクリアランスが設けられる。基板を最終位置で保持するためにクリアランスを減少させることにより、基板からマスクへの距離が減少した状態で、ホルダにおける側方堆積が減り、支持位置においてガラス基板の安定性がもたらされ、且つ／又は端部除外マスクによるマスキングが可能になる。基板からマスクへの距離の減少により、側方堆積がさらに減少する。側方堆積の減少及び能力の向上により、基板処理中の粒子生成が減少する。
【００３８】
矢印６０３に沿った基板の移動の後、図６の上側及び右側のホルダ２００は、引っ込み位置から展開位置（ｕｎ−ｒｅｔｒａｃｔｅｄ  ｐｏｓｉｔｉｏｎ）へと移動し得る。さらにホルダのこの移動の間、ホルダの溝の第２の部分が、基板を正確な位置へと誘導し、ホルダの溝の第１の部分が、ホルダの最終位置において安定性向上と側方堆積減少をもたらす。
【００３９】
種々の実施形態によれば、キャリア１００は、ＰＶＤ堆積プロセス、ＣＶＤ堆積プロセス、基板構造化バリ取り（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ  ｓｔｒｕｃｔｕｒｉｎｇ  ｅｄｇｉｎｇ）、加熱（例えば、アニール）、又は任意の種類の基板処理において利用することができる。本明細書に記載されたキャリア及びこのようなキャリアを利用するための方法の実施形態は、特に、静止的、すなわち、非連続的な基板処理において有用である。典型的には、キャリアは、垂直配向大面積ガラス基板に対して設けられる。
【００４０】
図７は、本明細書に記載された実施形態に係る、キャリア本体１６０を有するキャリア１００内に基板１０１を固定するための方法８０のフロー図を示す。ブロック８１では、基板１０１がキャリア１００上にロードされる。ブロック８２では、ロードされた基板１０１に向けて、少なくとも１つのホルダ２００が、キャリア本体１６０に対して移動させられる。少なくとも１つのホルダ２００は、傾斜部分２２０、例えば、ホルダの溝３００の第２の部分の傾斜部分を含む。ブロック８３では、基板１０１は、傾斜部分を有する溝の部分、すなわち、溝の第２の部分の傾斜面内に誘導される。
【００４１】
真っ直ぐな内表面を有するホルダの前方部分によって、ホルダの側方堆積の減少が可能となる。溝の傾斜部分の傾斜面、すなわち、溝の第２の部分が、ホルダ内への基板の円滑な挿入を可能にする。溝の第２の部分に比べて、溝の第１の部分における基板のより小さなクリアランスが、粒子生成の減少を可能にする。特に、半Ｖ字形状、すなわち、片側Ｖ字形状によって、このような利点の組み合わせが可能になる。
【００４２】
図８は、本明細書に記載された実施形態に係る、堆積チャンバ６００の概略図を示す。堆積チャンバ６００は、ＰＶＤプロセス又はＣＶＤプロセスなどの堆積プロセスのために適合される。基板１０１は、基板輸送装置６２０上のキャリア１００内に又はキャリア１００において位置するように示されている。堆積材料のための堆積源６３０は、コーティングされる基板１０１の側に対向するようにチャンバ６１２内に設けられる。材料源６３０は、基板１０１上に堆積される堆積材料を供給する。
【００４３】
図８では、堆積源６３０は、堆積材料を上部に有するターゲット、又は、基板１０１への堆積のために材料の放出を可能にする任意の他のアレンジメントであってもよい。典型的には、材料源６３０は、回転可能ターゲット、すなわち、回転ターゲットであり得る。幾つかの実施形態によれば、材料源を配置且つ／又は交換するために、材料源６３０は移動可能であり得る。他の実施形態によれば、材料源は平面ターゲットであってもよい。
【００４４】
幾つかの実施形態によれば、堆積材料は、堆積プロセス、及びコーティングされた基板のその後の用途に応じて選択され得る。例えば、材料源の堆積材料は、金属（アルミニウム、モリブデン、チタン、銅など）、シリコン、酸化インジウムスズ、及び他の透明な導電性酸化物からなる群から選択される材料であってもよい。典型的に、このような材料を含み得る酸化物、窒化物、又は炭化物層は、材料源から材料を供給することによって、又は、反応性堆積（すなわち、材料源からの材料が処理ガスからの酸素、窒化物、又は炭素のような要素と反応する）によって、堆積し得る。
【００４５】
典型的に、基板１０１は、キャリア１００の内に又はキャリア１００において設けられる。キャリア又はキャリアアセンブリは、特に、非静止的堆積処理用の端部除外マスクとしてさらに機能し得るか、又は端部除外マスクを含み得る。破線６６５は、堆積チャンバ６００の動作中の堆積材料の経路を例示する。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる他の実施形態によれば、チャンバ６１２内に設けられた別個の端部除外マスクによってマスキングを行うことができる。本明細書に記載された実施形態に係るキャリアは、静止的プロセスに対して、及び非静止的プロセスに対して有益であり得る。
【００４６】
本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、ホルダ２００は、特に堆積処理の間、基板１０１の端部を確実に保持する（簡略的に描くために、図面は、傾斜部分、すなわち、半Ｖ字形状がない状態で提供される）。諸実施形態は、基板の安定性の向上をもたらすことができ、したがって、特に、基板の長さと高さが拡大しているという事実に鑑み、基板の破損の減少をもたらすことができる。さらに、特に基板の近くの粒子生成を減らすことができる。
【００４７】
本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる、本明細書に記載された実施形態によれば、基板及びキャリアは、堆積の間、垂直な、すなわち、実質的に垂直な配向で設けられ得る。実質的に垂直とは、基板配向について言及するとき、垂直方向から２０°以下（例えば、１０°以下）の偏差を許容することと理解される。例えば、垂直配向から幾らかの偏差を有する基板支持体は、より安定した基板位置をもたらし得るので、このような偏差を設けてもよい。代替的に、反対方向への偏差（下方に向く基板）によって、基板上の粒子の数量が結果的に減少する場合がある。
【００４８】
以上の記載は、本開示の実施形態を対象としているが、本開示の基本的な範囲から逸脱しない限り、本開示の他の実施形態及びさらなる実施形態が考案されてよく、本開示の範囲は、下記の特許請求の範囲によって決定される。
【図１】
2020505513.tif 000003
【図２】
2020505513.tif 000004
【図３】
2020505513.tif 000005
【図４Ａ】
2020505513.tif 000006
【図４Ｂ】
2020505513.tif 000007
【図５Ａ】
2020505513.tif 000008
【図５Ｂ】
2020505513.tif 000009
【図６】
2020505513.tif 000010
【図７】
2020505513.tif 000011
【図８】
2020505513.tif 000012
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月27日(2019.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（１０１）を保持するためにキャリアのキャリア本体（１６０）に取り付けられるように構成されたホルダ（２００）であって、
材料源又はマスクに対向するように配置された前方部分（２１４）、
材料源と逆の方向を向くように配置された後方部分（２１６）であって、傾斜面を有する傾斜部分を含む、後方部分（２１６）、及び
前記前方部分と前記後方部分との間に設けられた基板を受容するための溝
を備え、
前記溝が、第１の対向面同士の間に５°以下の第１の角度を有する第１の部分を有し、前記溝が、第２の対向面同士の間に１０°以上の第２の角度を有する第２の部分を有する、ホルダ（２００）。
【請求項２】
前記第２の角度が、前記傾斜部分の前記傾斜面と前記前方部分との間に設けられている、請求項１に記載のホルダ。
【請求項３】
前記第１の角度が０°である、請求項１又は２に記載のホルダ。
【請求項４】
前記第１の対向面が、前記前方部分の内表面及び前記後方部分の内表面であり、前記第２の対向面が、前記前方部分の前記内表面及び前記傾斜部分の前記傾斜面である、請求項１から３のいずれか一項に記載のホルダ。
【請求項５】
前記溝が、半Ｖ字状部分及び平行部分を備えている、請求項４に記載のホルダ。
【請求項６】
前記前方部分が、少なくとも２つの前方部分セグメントを有する前方部分アセンブリであり、前記２つの前方部分セグメントの間に間隙がある、請求項１から５のいずれか一項に記載のホルダ。
【請求項７】
前記ホルダをキャリア本体に装着するための開口又は止まり穴をさらに備えている、請求項１から６のいずれか一項に記載のホルダ。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載の少なくとも１つのホルダ（２００）を備えているキャリア（１００）。
【請求項９】
第１の側部、第２の側部、第３の側部、及び第４の側部を備えたキャリア本体（１６０）をさらに備え、前記少なくとも１つのホルダ（２００）が、少なくとも８つのホルダ、とりわけ少なくとも２４個のホルダであり、前記第１の側部、前記第２の側部、前記第３の側部、及び前記第４の側部の各側部に、前記少なくとも８つのホルダのうちの少なくとも２つの対応するホルダが装着されている、請求項８に記載のキャリア。
【請求項１０】
前記少なくとも８つのホルダのうちの前記少なくとも２つの対応するホルダが、前記第１の側部、前記第２の側部、前記第３の側部、及び前記第４の側部の２つの隣接部位に移動可能に装着されている、請求項９に記載のキャリア。
【請求項１１】
キャリア本体（１６０）を有するキャリア（１００）内に基板（１０１）を固定するための方法（８０）であって、
前記キャリア（１００）上に基板（１０１）をロードすることと、
前記基板（１０１）に向けて、傾斜部分（２１０）を備えた少なくとも１つのホルダ（２００）を、前記キャリア本体（１６０）に対して移動させること（８２）と、
前記傾斜部分を有する溝の第１の部分内に前記基板を誘導することと
を含む方法（８０）。
【請求項１２】
前記溝の第２の部分内で前記基板を支持することをさらに含み、前記第２の部分が、前記基板に対して、０．５ｍｍ以下、とりわけ０．２ｍｍ以下のクリアランスを有する、請求項１１に記載の方法。
【国際調査報告】
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