(57)【要約】バソプレシン受容体に拮抗する化合物、特に該化合物を含むV1a受容体生成物、ならびにその使用および合成の方法が提供される。該化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩は式(I)の構造を有し、式中、Q1、Q2、Q3、R2a、R2b、R3、およびXは本明細書に定義の通りである。2020532592.tif 000585
2020532592.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(I)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩:
2020532592.tif 000400
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、ハロ、またはR6であり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
Q1はNまたはCR1aであり、Q2はNまたはCR1bであり、Q3はNまたはCR1cであり、ここで少なくとも1つのQ1、Q2、またはQ3はNではなく;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
R6はシクロアルキル、ヘテロシクリル、または-C(=O)R7であり;
R7はH、低級アルキル、または低級ハロアルキルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項２】
式(II)の構造を有する、請求項1記載の化合物:
2020532592.tif 000401
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、ハロ、またはR6であり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
R6はシクロアルキル、ヘテロシクリル、または-C(=O)R7であり;
R7はH、低級アルキル、または低級ハロアルキルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項３】
式(II-a)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000402
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項４】
R3が-(CHRz)m-Q-(R4)pであり、mおよびpがいずれも0であり、Qがヘテロアリールである、請求項3記載の化合物。
【請求項５】
式(II-b)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000403
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項６】
式(II-c)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000404
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項７】
式(II-d)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000405
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項８】
式(II-e)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000406
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項９】
式(II-f)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000407
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１０】
式(II-g)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000408
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１１】
式(II-h)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000409
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１２】
式(II-i)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000410
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１３】
式(II-j)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000411
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１４】
式(II-k)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000412
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１５】
式(III)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000413
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１６】
式(III-a)の構造を有する、請求項1、2、または15記載の化合物:
2020532592.tif 000414
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１７】
式(III-b)の構造を有する、請求項1、2、または15記載の化合物:
2020532592.tif 000415
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１８】
式(III-c)の構造を有する、請求項1、2、または15記載の化合物:
2020532592.tif 000416
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１９】
式(III-d)の構造を有する、請求項1、2、または15記載の化合物:
2020532592.tif 000417
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項２０】
式(III-e)の構造を有する、請求項1、2、または15記載の化合物:
2020532592.tif 000418
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項２１】
式(III-f)の構造を有する、請求項1、2、または15記載の化合物:
2020532592.tif 000419
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項２２】
式(III-g)の構造を有する、請求項1、2、または15記載の化合物:
2020532592.tif 000420
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項２３】
式(III-h)の構造を有する、請求項1、2、または15記載の化合物:
2020532592.tif 000421
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項２４】
式(III-i)の構造を有する、請求項1、2、または15記載の化合物:
2020532592.tif 000422
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項２５】
式(III-j)の構造を有する、請求項1、2、または15記載の化合物:
2020532592.tif 000423
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項２６】
式(III-k)の構造を有する、請求項1、2、または15記載の化合物:
2020532592.tif 000424
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項２７】
式(IV)の構造を有する、請求項1、2、または15記載の化合物:
2020532592.tif 000425
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【請求項２８】
式(IV-a)の構造を有する、請求項1、2、15、または27のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000426
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項２９】
式(IV-b)の構造を有する、請求項1、2、15、または27のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000427
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項３０】
式(IV-c)の構造を有する、請求項1、2、15、または27のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000428
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項３１】
式(IV-d)の構造を有する、請求項1、2、15、または27のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000429
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項３２】
式(IV-e)の構造を有する、請求項1、2、15、または27のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000430
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項３３】
式(IV-f)の構造を有する、請求項1、2、15、または27のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000431
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項３４】
式(IV-g)の構造を有する、請求項1、2、15、または27のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000432
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項３５】
式(IV-h)の構造を有する、請求項1、2、15、または27のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000433
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項３６】
式(IV-i)の構造を有する、請求項1、2、15、または27のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000434
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項３７】
式(IV-j)の構造を有する、請求項1、2、15、または27のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000435
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項３８】
式(IV-k)の構造を有する、請求項1、2、15、または27のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000436
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項３９】
式(V)の構造を有する、請求項1、2、15、または27のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000437
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【請求項４０】
式(V-a)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000438
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項４１】
式(V-b)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000439
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項４２】
式(V-c)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000440
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項４３】
式(V-d)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000441
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項４４】
式(V-e)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000442
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項４５】
式(V-f)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000443
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項４６】
式(V-g)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000444
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項４７】
式(V-h)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000445
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項４８】
式(V-i)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000446
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項４９】
式(V-j)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000447
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項５０】
式(V-k)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000448
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項５１】
式(VI)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000449
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【請求項５２】
式(VI-a)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または51のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000450
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項５３】
式(VI-b)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または51のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000451
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項５４】
式(VI-c)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または51のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000452
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項５５】
式(VI-d)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または51のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000453
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項５６】
式(VI-e)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または51のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000454
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項５７】
式(VI-f)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または51のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000455
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項５８】
式(VI-g)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または51のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000456
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項５９】
式(VI-h)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または51のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000457
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項６０】
式(VI-i)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または51のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000458
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項６１】
式(VI-j)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または51のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000459
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項６２】
式(VI-k)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または51のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000460
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項６３】
式(VII)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000461
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【請求項６４】
式(VII-a)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または63のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000462
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項６５】
式(VII-b)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または63のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000463
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項６６】
式(VII-c)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または63のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000464
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項６７】
式(VII-d)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または63のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000465
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項６８】
式(VII-e)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または63のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000466
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項６９】
式(VII-f)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または63のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000467
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項７０】
式(VII-g)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または63のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000468
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項７１】
式(VII-h)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または63のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000469
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項７２】
式(VII-i)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または63のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000470
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項７３】
式(VII-j)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または63のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000471
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項７４】
式(VII-k)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または63のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000472
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項７５】
式(VIII)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000473
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【請求項７６】
式(VIII-a)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または75のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000474
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項７７】
式(VIII-b)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または75のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000475
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項７８】
式(VIII-c)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または75のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000476
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項７９】
式(VIII-d)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または75のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000477
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項８０】
式(VIII-e)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または75のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000478
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項８１】
式(VIII-f)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または75のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000479
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項８２】
式(VIII-g)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または75のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000480
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項８３】
式(VIII-h)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または75のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000481
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項８４】
式(VIII-i)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または75のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000482
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項８５】
式(VIII-j)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または75のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000483
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項８６】
式(VIII-k)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または75のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000484
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項８７】
式(IX)の構造を有する、請求項1、2、15、27、または39のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000485
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【請求項８８】
式(IX-a)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または87のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000486
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項８９】
式(IX-b)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または87のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000487
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項９０】
式(IX-c)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または87のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000488
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項９１】
式(IX-d)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または87のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000489
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項９２】
式(IX-e)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または87のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000490
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項９３】
式(IX-f)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または87のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000491
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項９４】
式(IX-g)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または87のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000492
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項９５】
式(IX-h)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または87のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000493
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項９６】
式(IX-i)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または87のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000494
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項９７】
式(IX-j)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または87のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000495
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項９８】
式(IX-k)の構造を有する、請求項1、2、15、27、39、または87のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000496
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項９９】
式(X)の構造を有する、請求項1、2、または15記載の化合物:
2020532592.tif 000497
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１００】
式(X-a)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000498
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１０１】
式(X-b)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000499
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１０２】
式(X-c)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000500
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１０３】
式(X-d)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000501
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１０４】
式(X-e)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000502
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１０５】
式(X-f)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000503
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１０６】
式(X-g)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000504
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１０７】
式(X-h)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000505
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１０８】
式(X-i)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000506
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１０９】
式(X-j)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000507
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１１０】
式(X-k)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000508
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１１１】
式(XI)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000509
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１１２】
式(XI-a)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または111のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000510
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0または1である。
【請求項１１３】
式(XI-b)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または111のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000511
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１１４】
式(XI-c)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または111のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000512
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１１５】
式(XI-d)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または111のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000513
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１１６】
式(XI-e)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または111のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000514
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１１７】
式(XI-f)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または111のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000515
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１１８】
式(XI-g)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または111のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000516
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１１９】
式(XI-h)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または111のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000517
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１２０】
式(XI-i)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または111のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000518
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１２１】
式(XI-j)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または111のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000519
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１２２】
式(XI-k)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または111のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000520
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１２３】
式(XII)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000521
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１２４】
式(XII-a)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または123のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000522
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１２５】
式(XII-b)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または123のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000523
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１２６】
式(XII-c)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または123のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000524
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１２７】
式(XII-d)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または123のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000525
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１２８】
式(XII-e)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または123のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000526
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１２９】
式(XII-f)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または123のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000527
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１３０】
式(XII-g)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または123のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000528
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１３１】
式(XII-h)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または123のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000529
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１３２】
式(XII-i)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または123のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000530
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１３３】
式(XII-j)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または123のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000531
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１３４】
式(XII-k)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または123のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000532
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１３５】
式(XIII)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000533
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１３６】
式(XIII-a)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または135のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000534
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１３７】
式(XIII-b)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または135のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000535
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１３８】
式(XIII-c)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または135のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000536
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１３９】
式(XIII-d)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または135のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000537
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１４０】
式(XIII-e)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または135のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000538
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１４１】
式(XIII-f)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または135のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000539
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１４２】
式(XIII-g)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または135のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000540
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１４３】
式(XIII-h)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または135のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000541
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１４４】
式(XIII-i)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または135のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000542
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１４５】
式(XIII-j)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または135のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000543
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１４６】
式(XIII-k)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または135のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000544
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１４７】
式(XIV)の構造を有する、請求項1、2、15、または99のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000545
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１４８】
式(XIV-a)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または147のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000546
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１４９】
式(XIV-b)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または147のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000547
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１５０】
式(XIV-c)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または147のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000548
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１５１】
式(XIV-d)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または147のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000549
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１５２】
式(XIV-e)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または147のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000550
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１５３】
式(XIV-f)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または147のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000551
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１５４】
式(XIV-g)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または147のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000552
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１５５】
式(XIV-h)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または147のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000553
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１５６】
式(XIV-i)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または147のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000554
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１５７】
式(XIV-j)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または147のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000555
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１５８】
式(XIV-k)の構造を有する、請求項1、2、15、99、または147のいずれか一項記載の化合物:
2020532592.tif 000556
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【請求項１５９】
式(XV)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000557
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2である。
【請求項１６０】
式(XV-a)の構造を有する、請求項1、2、または159記載の化合物:
2020532592.tif 000558
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１６１】
(XV-b)の構造を有する、請求項1、2、または159記載の化合物:
2020532592.tif 000559
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１６２】
式(XV-c)の構造を有する、請求項1、2、または159記載の化合物:
2020532592.tif 000560
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１６３】
式(XV-d)の構造を有する、請求項1、2、または159記載の化合物:
2020532592.tif 000561
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１６４】
式(XV-e)の構造を有する、請求項1、2、または159記載の化合物:
2020532592.tif 000562
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１６５】
式(XV-f)の構造を有する、請求項1、2、または159記載の化合物:
2020532592.tif 000563
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１６６】
式(XV-g)の構造を有する、請求項1、2、または159記載の化合物:
2020532592.tif 000564
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１６７】
式(XV-h)の構造を有する、請求項1、2、または159記載の化合物:
2020532592.tif 000565
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１６８】
式(XV-i)の構造を有する、請求項1、2、または159記載の化合物:
2020532592.tif 000566
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１６９】
式(XV-j)の構造を有する、請求項1、2、または159記載の化合物:
2020532592.tif 000567
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１７０】
式(XV-k)の構造を有する、請求項1、2、または159記載の化合物:
2020532592.tif 000568
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１７１】
式(XVI)の構造を有する、請求項1または2記載の化合物:
2020532592.tif 000569
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2である。
【請求項１７２】
式(XVI-a)の構造を有する、請求項1、2、または171記載の化合物:
2020532592.tif 000570
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１７３】
式(XVI-b)の構造を有する、請求項1、2、または171記載の化合物:
2020532592.tif 000571
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１７４】
式(XVI-c)の構造を有する、請求項1、2、または171記載の化合物:
2020532592.tif 000572
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１７５】
式(XVI-d)の構造を有する、請求項1、2、または171記載の化合物:
2020532592.tif 000573
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１７６】
式(XVI-e)の構造を有する、請求項1、2、または171記載の化合物:
2020532592.tif 000574
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１７７】
式(XVI-f)の構造を有する、請求項1、2、または171記載の化合物:
2020532592.tif 000575
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１７８】
式(XVI-g)の構造を有する、請求項1、2、または171記載の化合物:
2020532592.tif 000576
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１７９】
式(XVI-h)の構造を有する、請求項1、2、または171記載の化合物:
2020532592.tif 000577
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１８０】
式(XVI-i)の構造を有する、請求項1、2、または171記載の化合物:
2020532592.tif 000578
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１８１】
式(XVI-j)の構造を有する、請求項1、2、または171記載の化合物:
2020532592.tif 000579
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１８２】
式(XVI-k)の構造を有する、請求項1、2、または171記載の化合物:
2020532592.tif 000580
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【請求項１８３】
式(XVII-S)の構造を有する実質的に鏡像異性的に純粋な化合物、またはその薬学的に許容される水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩:
2020532592.tif 000581
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、ハロ、またはR6であり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
Q1はNまたはCR1aであり、Q2はNまたはCR1bであり、Q3はNまたはCR1cであり、ここで少なくとも1つのQ1、Q2、またはQ3はNではなく;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
R6はシクロアルキル、ヘテロシクリル、または-C(=O)R7であり;
R7はH、低級アルキル、または低級ハロアルキルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１８４】
式(XVII-R)の構造を有する実質的に鏡像異性的に純粋な化合物、またはその薬学的に許容される水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩:
2020532592.tif 000582
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、ハロ、またはR6であり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
Q1はNまたはCR1aであり、Q2はNまたはCR1bであり、Q3はNまたはCR1cであり、ここで少なくとも1つのQ1、Q2、またはQ3はNではなく;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
R6はシクロアルキル、ヘテロシクリル、または-C(=O)R7であり;
R7はH、低級アルキル、または低級ハロアルキルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１８５】
式(XVIII-S)の構造を有する実質的に鏡像異性的に純粋な化合物、またはその薬学的に許容される水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩:
2020532592.tif 000583
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、ハロ、またはR6であり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
Q1はNまたはCR1aであり、Q2はNまたはCR1bであり、Q3はNまたはCR1cであり、ここで少なくとも1つのQ1、Q2、またはQ3はNではなく;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
R6はシクロアルキル、ヘテロシクリル、または-C(=O)R7であり;
R7はH、低級アルキル、または低級ハロアルキルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１８６】
式(XVIII-R)の構造を有する実質的に鏡像異性的に純粋な化合物、またはその薬学的に許容される水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩:
2020532592.tif 000584
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、ハロ、またはR6であり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
Q1はNまたはCR1aであり、Q2はNまたはCR1bであり、Q3はNまたはCR1cであり、ここで少なくとも1つのQ1、Q2、またはQ3はNではなく;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
R6はシクロアルキル、ヘテロシクリル、または-C(=O)R7であり;
R7はH、低級アルキル、または低級ハロアルキルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【請求項１８７】
R1bがハロゲンである、請求項1〜186のいずれか一項記載の化合物。
【請求項１８８】
R1bがClである、請求項187記載の化合物。
【請求項１８９】
R1bが低級アルキルである、請求項1〜186のいずれか一項記載の化合物。
【請求項１９０】
R1bがメチル、エチル、またはイソプロピルである、請求項189記載の化合物。
【請求項１９１】
R1bが低級ハロアルキルである、請求項1〜186のいずれか一項記載の化合物。
【請求項１９２】
R1bが-CF3である、請求項191記載の化合物。
【請求項１９３】
R1bが低級アルコキシである、請求項1〜186のいずれか一項記載の化合物。
【請求項１９４】
R1bがメトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、またはt-ブトキシである、請求項193記載の化合物。
【請求項１９５】
R1bがシアノである、請求項1〜186のいずれか一項記載の化合物。
【請求項１９６】
Rxが水素である、請求項1〜195のいずれか一項記載の化合物。
【請求項１９７】
Rxが低級アルキルである、請求項1〜195のいずれか一項記載の化合物。
【請求項１９８】
Rxがメチル、エチル、またはイソプロピルである、請求項197記載の化合物。
【請求項１９９】
Rxが低級アルコキシである、請求項1〜195のいずれか一項記載の化合物。
【請求項２００】
Rxがメトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、またはt-ブトキシである、請求項199記載の化合物。
【請求項２０１】
Rxがシクロアルキルである、請求項1〜195のいずれか一項記載の化合物。
【請求項２０２】
Rxがシクロプロピルまたはシクロブチルである、請求項201記載の化合物。
【請求項２０３】
R4がハロゲンである、請求項1〜202のいずれか一項記載の化合物。
【請求項２０４】
R4がFまたはClである、請求項203記載の化合物。
【請求項２０５】
R4が低級アルキルである、請求項1〜202のいずれか一項記載の化合物。
【請求項２０６】
R4がメチルまたはエチルである、請求項205記載の化合物。
【請求項２０７】
R4が低級アルコキシである、請求項1〜202のいずれか一項記載の化合物。
【請求項２０８】
R4がメトキシまたはエトキシである、請求項207記載の化合物。
【請求項２０９】
R4がシアノである、請求項1〜202のいずれか一項記載の化合物。
【請求項２１０】
R4がヒドロキシである、請求項1〜202のいずれか一項記載の化合物。
【請求項２１１】
R5が低級アルキルである、請求項1〜210のいずれか一項記載の化合物。
【請求項２１２】
R5がメチル、エチル、またはイソプロピルである、請求項211記載の化合物。
【請求項２１３】
R5が低級アルコキシである、請求項1〜210のいずれか一項記載の化合物。
【請求項２１４】
R5がt-ブトキシである、請求項213記載の化合物。
【請求項２１５】
表1に列挙される構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩。
【請求項２１６】
表2に列挙される構造を有する化合物の実質的に鏡像異性的に純粋な形態、またはその薬学的に許容される水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩。
【請求項２１７】
請求項1〜216のいずれか一項記載の化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩と、薬学的に許容される担体、希釈剤、または賦形剤とを含む、組成物。
【請求項２１８】
V1a受容体に拮抗するための方法であって、該V1a受容体と、有効量の請求項1〜216のいずれか一項記載の化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む組成物とを接触させる段階を含む、方法。
【請求項２１９】
バソプレシン依存性状態、またはバソプレシンの不適切な分泌に関連する状態を処置するための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の請求項1〜216のいずれか一項記載の化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む、方法。
【請求項２２０】
神経心理学を処置するための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の請求項1〜216のいずれか一項記載の化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む、方法。
【請求項２２１】
神経心理学的障害が自閉症スペクトラム障害である、請求項220記載の方法。
【請求項２２２】
神経心理学的障害が攻撃行動である、請求項220記載の方法。
【請求項２２３】
神経心理学的障害が間欠性爆発性障害である、請求項220記載の方法。
【請求項２２４】
神経心理学的障害が不安障害である、請求項220記載の方法。
【請求項２２５】
不安障害が、全般性不安障害、パニック障害、ストレス関連障害、強迫性障害、恐怖症、社会不安障害、分離不安障害、または外傷後ストレス障害である、請求項224記載の方法。
【請求項２２６】
不安障害が社会不安障害である、請求項225記載の方法。
【請求項２２７】
不安障害が恐怖症である、請求項225記載の方法。
【請求項２２８】
不安障害がストレス関連障害である、請求項225記載の方法。
【請求項２２９】
不安障害が外傷後ストレス障害である、請求項225記載の方法。
【請求項２３０】
不安障害が強迫性障害である、請求項225記載の方法。
【請求項２３１】
神経心理学的障害が、うつ病性障害、気分障害、または感情障害である、請求項220記載の方法。
【請求項２３２】
うつ病性障害が、大うつ病、薬物抵抗性うつ病、気分変調症、および双極性障害である、請求項231記載の方法。
【請求項２３３】
うつ病性障害が大うつ病である、請求項232記載の方法。
【請求項２３４】
気分障害が快感消失である、請求項231記載の方法。
【請求項２３５】
神経心理学的障害が統合失調症スペクトラム障害である、請求項220記載の方法。
【請求項２３６】
統合失調症スペクトラム障害が統合失調症、統合失調感情障害、精神病状態、または記憶障害である、請求項235記載の方法。
【請求項２３７】
概日リズム関連障害を処置するための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の請求項1〜216のいずれか一項、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む、方法。
【請求項２３８】
概日リズム関連障害が時差ぼけである、請求項237記載の方法。
【請求項２３９】
概日リズム関連障害が睡眠障害である、請求項237記載の方法。
【請求項２４０】
慢性ストレス関連の不妊症、原発性または続発性月経困難症、男性または女性の性機能障害の治療的および/または予防的処置のための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の請求項1〜216のいずれか一項、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
発明の分野
本発明は、バソプレシン受容体アンタゴニストおよびそれを含む生成物、ならびにその使用および調製の方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
背景
アルギニンバソプレシン(AVP)は、脳内および血流中に放出される天然神経ホルモンである。AVPは、水分保持、血圧、および下垂体副腎皮質刺激ホルモン(ACTH)分泌を調節する上で重要であり、中枢神経系内および特定の末梢部位または末梢組織中の特定のGタンパク質共役型受容体に結合することで生理機能および行動に対して作用を発揮する。脳内で、AVPは概日リズムを調節し、海馬学習および海馬記憶を促進し、また、神経行動障害において調節不全になる辺縁系回路内で作用することで社会的行動の媒介において重要な役割を果たす。
【０００３】
3つの異なるAVP受容体サブタイプV1a、V1b、およびV2が薬理学的および機能的基礎に基づいて同定された。これらの受容体は肝臓、血管(冠動脈、腎臓、大脳)、血小板、腎臓、子宮、副腎、膵臓、中枢神経系、または下垂体に位置している。AVPはいくつかの機能の調節、例えば、心血管作用、肝作用、膵作用、抗利尿作用、および血小板凝集作用、ならびに中枢および末梢神経系ならびに子宮領域に対する作用の調節に関与する。AVP受容体の作用は、それが位置する場所に依存する。V1a受容体は、脳の辺縁系および皮質の全体を通じて、かつ血管、子宮、および心筋の平滑筋中に見られる。また、V1b受容体は辺縁系および下垂体に位置する。V2受容体は、腎臓内のネフロンの集合管に位置し、心血管状態の処置に対する治療的アプローチの標的となっている。
【０００４】
バソプレシンは、脳内で神経化学シグナルとして、社会的行動に影響するように機能する。V1a受容体は、脳内で、特に、不安、記憶および学習、社会的認知、攻撃行動、親和欲求、抑うつ状態などを含むAVPの大部分の公知の作用の調節において重要な役割を果たすことが知られる扁桃体、外側中隔、および海馬のような辺縁系領域内で広範に発現される。V1a受容体は自閉症スペクトラム障害、統合失調症、攻撃性、攻撃行動、および強迫性障害などの他の神経心理学的障害に関与している。また、V1a受容体は、孤束核内の血圧および心拍数を中枢的に調節し、かつ血管平滑筋の収縮を末梢的に誘導することで、脳内でのバソプレシンの心血管作用を媒介する。
【０００５】
バソプレシン受容体アンタゴニスト、特にV1a受容体アンタゴニストの使用は、V1a受容体拮抗作用が有益でありうる種々の障害の処置に関して著しく有望である。結果として、いくつかのV1aアンタゴニストが臨床的に使用および/または開発されるようになった。しかし、本分野においてなされた進歩にもかかわらず、新規のかつ/または改善されたV1a受容体アンタゴニストおよびそれを含む薬学的製剤、ならびにその使用および製造に関連する方法が依然として著しく求められている。
【発明の概要】
【０００６】
本発明は、バソプレシン受容体、特にV1a受容体に拮抗する化合物、それを含む組成物、ならびに、その調製方法、およびV1a受容体拮抗作用が医学的に必要または有益である病態の処置のためのその使用方法に関する。
【０００７】
一態様では、式(I)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000003
式中、Q1、Q2、Q3、R2a、R2b、R3、およびXは以下に定義の通りである。
【０００８】
一態様では、式(I)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩と、薬学的に許容される担体、希釈剤、または賦形剤との組み合わせを含む、薬学的組成物が提供される。
【０００９】
一態様では、医薬の製造のための、式(I)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩の使用が提供される。
【００１０】
一態様では、V1a受容体に拮抗するための方法であって、該受容体と有効量の式(I)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物とを接触させる段階を含む方法が提供される。
【００１１】
一態様では、対象におけるV1a受容体拮抗作用が医学的に必要である病態の処置のための方法が提供される。該方法は、対象に有効量の式(I)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む。
【００１２】
一態様では、式(I)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩と、少なくとも1つの薬学的に許容される担体、希釈剤、または賦形剤との組み合わせを含む、薬学的組成物が提供される。
【００１３】
一態様では、式(I)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩の合成方法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
発明の詳細な説明
先に言及したように、本発明は、バソプレシン受容体、特にV1a受容体に拮抗する化合物、それを含む製剤、ならびにその使用および合成のための方法に関する。
【００１５】
一態様では、式(I)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000004
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、ハロ、またはR6であり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
Q1はNまたはCR1aであり、Q2はNまたはCR1bであり、Q3はNまたはCR1cであり、ここで少なくとも1つのQ1、Q2、またはQ3はNではなく;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
R6はシクロアルキル、ヘテロシクリル、または-C(=O)R7であり;
R7はH、低級アルキル、または低級ハロアルキルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００１６】
本明細書において使用される「低級アルキル」とは、1〜8個の炭素原子、いくつかの態様では1〜6個の炭素原子、いくつかの態様では1〜4個の炭素原子、いくつかの態様では1〜2個の炭素原子を有する、直鎖状または分岐状アルキル基を意味する。直鎖状低級アルキル基の例としてはメチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、およびn-オクチル基が挙げられるがそれに限定されない。分岐状低級アルキル基の例としてはイソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、および2,2-ジメチルプロピル基が挙げられるがそれに限定されない。
【００１７】
「ハロ」または「ハロゲン」とはフッ素、塩素、臭素、およびヨウ素を意味する。
【００１８】
「ヒドロキシ」とは-OHを意味する。
【００１９】
「シアノ」とは-CNを意味する。
【００２０】
「低級ハロアルキル」とは、1個または複数の水素原子がハロゲンで置き換えられた上記定義の低級アルキルを意味する。低級ハロアルキル基の例としては-CF3、-CH2CF3などが挙げられるがそれに限定されない。
【００２１】
「低級アルコキシ」とは、酸素原子によって連結される上記定義の低級アルキル(すなわち-O-(低級アルキル))を意味する。低級アルコキシ基の例としてはメトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、n-ブトキシ、イソプロポキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシなどが挙げられるがそれに限定されない。
【００２２】
「低級ハロアルコキシ」とは、酸素原子によって連結される上記定義の低級ハロアルキル(すなわち-O-(低級ハロアルキル))を意味する。低級ハロアルコキシ基の例としては-OCF3、-OCH2CF3などが挙げられるがそれに限定されない。
【００２３】
「シクロアルキル」とは、置換されていても置換されていなくてもよい、環構造を形成するアルキル基であって、環が完全飽和、部分不飽和、または完全不飽和であり、不飽和が存在する場合、環中のπ電子の共役が芳香族性を生じさせない、アルキル基を意味する。シクロアルキルの例としてはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、およびシクロオクチル基が挙げられるがそれに限定されない。いくつかの態様では、シクロアルキル基は3〜8個の環員を有し、一方、他の態様では、環炭素原子の数は3〜5、3〜6、または3〜7の範囲である。さらに、シクロアルキル基としてはノルボルニル基、アダマンチル基、ボルニル基、カンフェニル(camphenyl)基、イソカンフェニル(isocamphenyl)基、およびカレニル(carenyl)基などであるがそれに限定されない多環式シクロアルキル基、ならびにデカリニルなどであるがそれに限定されない縮合環、などが挙げられる。
【００２４】
「シクロアルキルアルキル」とは、アルキル基の水素結合または炭素結合が上記定義のシクロアルキル基への結合で置き換えられた、上記定義のアルキル基のことである。
【００２５】
「アリール」基とは、ヘテロ原子を含まない環状芳香族炭化水素のことである。したがって、アリール基としてはフェニル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニル基、インダセニル基、フルオレニル基、フェナントレニル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、ナフタセニル基、クリセニル基、ビフェニレニル基、アントラセニル基、およびナフチル基が挙げられるがそれに限定されない。いくつかの態様では、アリール基は、基の環部分に6〜14個の炭素を含む。「アリール基」という語句は、縮合芳香族-脂肪族環系などの縮合環を含む基(例えばインダニル、テトラヒドロナフチルなど)を含む。一態様では、アリールはフェニルまたはナフチルであり、別の態様では、アリールはフェニルである。
【００２６】
「ヘテロシクリル」または「複素環」とは、そのうち1個または複数がN、O、S、またはPなどであるがそれに限定されないヘテロ原子である3個以上の環員を含む芳香環および非芳香環部分を意味する。いくつかの態様では、ヘテロシクリルは3〜20個の環員を含み、一方、他の当該の基は3〜15個の環員を有する。少なくとも1個の環がヘテロ原子を含むが、多環系中のすべての環がヘテロ原子を含む必要はない。例えば、ジオキソラニル環およびベンゾジオキソラニル環系(メチレンジオキシフェニル環系)はいずれも、本明細書における意味の範囲内にあるヘテロシクリル基である。
【００２７】
また、ヘテロシクリル基は、縮合芳香族基および非芳香族基を有する種を含む縮合環種を含む。ヘテロシクリル基は、キヌクリジルなどであるがそれに限定されない、ヘテロ原子を含む多環系も含み、また、1個の環員に結合したアルキル基、ハロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、チオ基、またはアルコキシ基を含むがそれに限定されない置換基を有するヘテロシクリル基も含む。本明細書に定義されるヘテロシクリル基は、ヘテロアリール基、または少なくとも1個の環ヘテロ原子を含む部分飽和もしくは完全飽和環状基でありうる。ヘテロシクリル基としてはピロリジニル基、フラニル基、テトラヒドロフラニル基、ジオキソラニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、ピリジニル基、チオフェニル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾフラニル基、ジヒドロベンゾフラニル基、インドリル基、ジヒドロインドリル基、アザインドリル基、インダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、アザベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、イミダゾピリジニル基、イソオキサゾロピリジニル基、チアナフタレニル基、プリニル基、キサンチニル基、アデニニル基、グアニニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、テトラヒドロキノリニル基、キノキサリニル基、およびキナゾリニル基が挙げられるがそれに限定されない。
【００２８】
「ヘテロアリール」とは、そのうち1個または複数がN、O、およびSなどであるがそれに限定されないヘテロ原子である5個以上の環員を含む芳香環部分を意味する。ヘテロアリール基としてはピロリル基、ピラゾリル基、ピリジニル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、チエニル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、トリアジニル基、チアゾリル基、チオフェニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾフラニル基、インドリル基、アザインドリル基、インダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、アザベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、イミダゾピリジニル基、イソオキサゾロピリジニル基、チアナフタレニル基、プリニル基、キサンチニル基、アデニニル基、グアニニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、テトラヒドロキノリニル基、テトラヒドロイソキノリニル基、キノキサリニル基、およびキナゾリニル基などの基が挙げられるがそれに限定されない。
【００２９】
本明細書において、「異性体」は、特定の立体化学配置または異性形態が特に示されない限り、ある構造のすべてのキラル形態、ジアステレオ異性形態、またはラセミ形態を包含するように使用される。これらの化合物は、記述から明らかなあらゆる不斉原子において、任意の濃縮度で濃縮または分割された光学異性体でありうる。ラセミ混合物およびジアステレオ異性混合物の両方、ならびに個々の光学異性体を、それらの鏡像異性パートナーまたはジアステレオ異性パートナーを実質的に含まないように合成することができ、これらはすべて本発明の特定の態様の範囲内である。キラル中心の存在により生じる異性体は、「鏡像異性体」と呼ばれる一対の重ね合わせられない異性体を含む。純粋な化合物の1つの鏡像異性体は光学的に活性である(すなわち、平面偏光面を回転可能であり、RまたはSと呼ばれる)。
【００３０】
「単離光学異性体」とは、同じ式の対応する光学異性体から実質的に精製された化合物を意味する。例えば、単離異性体は純度が少なくとも約80%、少なくとも80%、または少なくとも85%でありうる。他の態様では、単離異性体は重量比で純度が少なくとも90%、または純度が少なくとも98%、または純度が少なくとも99%である。
【００３１】
「実質的に鏡像異性的またはジアステレオ異性的に」純粋であるとは、他の鏡像異性体またはジアステレオマーに対する1つの鏡像異性体の鏡像異性的またはジアステレオ異性的濃縮レベルが少なくとも約80%、より具体的には80%超、85%超、90%超、95%超、98%超、99%超、99.5%超、または99.9%超であることを意味する。
【００３２】
「ラセミ体」および「ラセミ混合物」という用語は、2つの鏡像異性体の等量混合物を意味する。ラセミ体は、光学的に活性ではない(すなわち、構成鏡像異性体が互いを打ち消し合うことから、いずれかの方向に平面偏光を回転させない)ことから、「(±)」と表示される。三級炭素または四級炭素に隣接する星印(*)を伴うすべての化合物は光学活性異性体であり、これらは各ラセミ体から精製および/または適切なキラル合成により合成可能である。
【００３３】
「水和物」とは、水分子との組み合わせで存在する化合物のことである。この組み合わせは、一水和物または二水和物のように水を化学量論的量で含んでもよく、水をランダムな量で含んでもよい。本明細書において使用される「水和物」という用語は、固体形態を意味し、すなわち、水溶液中の化合物は、水和していることがあるが、本明細書において使用される用語としての水和物ではない。
【００３４】
「溶媒和物」は、水以外の溶媒が存在する以外は水和物と同様である。例えば、メタノールまたはエタノールは、やはり化学量論的でも非化学量論的でもよい「アルコール和物」を形成しうる。本明細書において使用される「溶媒和物」という用語は、固体形態を意味し、すなわち、溶媒溶液中の化合物は、溶媒和していることがあるが、本明細書において使用される用語としての溶媒和物ではない。
【００３５】
「同位体」とは、プロトンの数が同じであるが中性子の数が異なる原子を意味し、式(I)の化合物の同位体は、1個または複数の原子が該原子の同位体で置き換えられた任意の該化合物を含む。例えば、炭素の最も一般的な形態である炭素12は6個のプロトンおよび6個の中性子を有し、一方、炭素13は6個のプロトンおよび7個の中性子を有し、炭素14は6個のプロトンおよび8個の中性子を有する。水素は2種の安定な同位体、すなわち重水素(1個のプロトンおよび1個の中性子)ならびにトリチウム(1個のプロトンおよび2個の中性子)を有する。フッ素はいくつかの同位体を有するが、フッ素19が最長寿命である。したがって、式(I)の構造を有する化合物の同位体としては、1個または複数の炭素12原子が炭素13および/または炭素14原子で置き換えられた式(I)の化合物、1個または複数の水素原子が重水素および/またはトリチウムで置き換えられた式(I)の化合物、ならびに/あるいは1個または複数のフッ素原子がフッ素19で置き換えられた式(I)の化合物が挙げられるがそれに限定されない。
【００３６】
一般に、「塩」とは、イオン形態のカルボン酸またはアミンなどの有機化合物と対イオンとの組み合わせを意味する。例えば、アニオン形態の酸とカチオンとの間で形成される塩を「酸付加塩」と呼ぶ。逆に、カチオン形態の塩基とアニオンとの間で形成される塩を「塩基付加塩」と呼ぶ。
【００３７】
式(I)の構造を有する化合物の共結晶形態、すなわち、溶媒和物でも単塩でもない一般に化学量論的比の2種以上の異なる分子化合物および/またはイオン化合物で構成される結晶性単相材料である固体も、本発明の範囲内に含まれる。
【００３８】
「薬学的に許容される」という用語は、ヒト消費向けに承認された、一般に無毒の剤を意味する。例えば、「薬学的に許容される塩」という用語は無毒の無機または有機の酸および/または塩基の付加塩を意味する(例えばLit et al., Salt Selection for Basic Drugs, Int. J. Pharm., 33, 201-217, 1986を参照)(参照により本明細書に組み入れられる)。
【００３９】
例えば、本発明の化合物の薬学的に許容される塩基付加塩としては、例えばカルシウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩、および亜鉛塩などのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、および遷移金属塩を含む金属塩が挙げられる。薬学的に許容される塩基付加塩としては、例えばN,N'-ジベンジルエチレンジアミン、クロロプロカイン、コリン、ジエタノールアミン、エチレンジアミン、メグルミン(N-メチルグルカミン)、およびプロカインなどの塩基性アミンから作製される有機塩も挙げられる。
【００４０】
薬学的に許容される酸付加塩は無機酸または有機酸から調製可能である。無機酸の例としては塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、炭酸、硫酸、およびリン酸が挙げられる。適切な有機酸は脂肪族、脂環式、芳香族、芳香族脂肪族、複素環、カルボン酸、およびスルホン酸クラスの有機酸から選択可能であり、その例としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸、コハク酸、グリコール酸、グルコン酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、アスコルビン酸、グルクロン酸、マレイン酸、フマル酸、ピルビン酸、アスパラギン酸、グルタミン酸、安息香酸、アントラニル酸、4-ヒドロキシ安息香酸、フェニル酢酸、マンデル酸、馬尿酸、マロン酸、シュウ酸、エンボン酸(パモ酸)、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、パントテン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、2-ヒドロキシエタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、スルファニル酸、シクロヘキシルアミノスルホン酸、ステアリン酸、アルギン酸、βヒドロキシ酪酸、サリチル酸、ガラクタル酸、およびガラクツロン酸が挙げられる。
【００４１】
薬学的に許容されない塩は一般に医薬としては有用ではないが、これらの塩は、例えば式Iの構造を有する化合物の合成における中間体として、例えば再結晶による精製において有用でありうる。
【００４２】
一態様では、式(II)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000005
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、ハロ、またはR6であり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
R6はシクロアルキル、ヘテロシクリル、または-C(=O)R7であり;
R7はH、低級アルキル、または低級ハロアルキルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００４３】
一態様では、式(II-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000006
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００４４】
一態様では、式(II-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000007
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００４５】
一態様では、式(II-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000008
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００４６】
一態様では、式(II-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000009
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００４７】
一態様では、式(II-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000010
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００４８】
一態様では、式(II-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000011
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００４９】
一態様では、式(II-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000012
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００５０】
一態様では、式(II-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000013
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００５１】
一態様では、式(II-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000014
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００５２】
一態様では、式(II-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000015
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００５３】
一態様では、式(II-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000016
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００５４】
一態様では、式(III)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000017
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００５５】
一態様では、式(III-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000018
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００５６】
一態様では、式(III-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000019
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００５７】
一態様では、式(III-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000020
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００５８】
一態様では、式(III-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000021
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００５９】
一態様では、式(III-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000022
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００６０】
一態様では、式(III-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000023
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００６１】
一態様では、式(III-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000024
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００６２】
一態様では、式(III-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000025
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００６３】
一態様では、式(III-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000026
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００６４】
一態様では、式(III-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000027
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００６５】
一態様では、式(III-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000028
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【００６６】
一態様では、式(IV)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000029
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【００６７】
一態様では、式(IV-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000030
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００６８】
一態様では、式(IV-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000031
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００６９】
一態様では、式(IV-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000032
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００７０】
一態様では、式(IV-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000033
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００７１】
一態様では、式(IV-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000034
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００７２】
一態様では、式(IV-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000035
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００７３】
一態様では、式(IV-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000036
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００７４】
一態様では、式(IV-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000037
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００７５】
一態様では、式(IV-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000038
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００７６】
一態様では、式(IV-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000039
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００７７】
一態様では、式(IV-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000040
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
RzはHまたはCH3であり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００７８】
一態様では、式(V)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000041
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【００７９】
一態様では、式(V-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000042
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００８０】
一態様では、式(V-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000043
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００８１】
一態様では、式(V-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000044
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００８２】
一態様では、式(V-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000045
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００８３】
一態様では、式(V-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000046
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００８４】
一態様では、式(V-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000047
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００８５】
一態様では、式(V-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000048
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００８６】
一態様では、式(V-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000049
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００８７】
一態様では、式(V-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000050
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００８８】
一態様では、式(V-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000051
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００８９】
一態様では、式(V-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000052
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００９０】
一態様では、式(VI)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000053
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【００９１】
一態様では、式(VI-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000054
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００９２】
一態様では、式(VI-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000055
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００９３】
一態様では、式(VI-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000056
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００９４】
一態様では、式(VI-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000057
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００９５】
一態様では、式(VI-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000058
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００９６】
一態様では、式(VI-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000059
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００９７】
一態様では、式(VI-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000060
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００９８】
一態様では、式(VI-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000061
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【００９９】
一態様では、式(VI-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000062
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１００】
一態様では、式(VI-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000063
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１０１】
一態様では、式(VI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000064
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１０２】
一態様では、式(VII)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000065
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【０１０３】
一態様では、式(VII-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000066
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１０４】
一態様では、式(VII-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000067
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１０５】
一態様では、式(VII-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000068
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１０６】
一態様では、式(VII-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000069
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１０７】
一態様では、式(VII-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000070
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１０８】
一態様では、式(VII-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000071
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１０９】
一態様では、式(VII-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000072
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１１０】
一態様では、式(VII-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000073
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１１１】
一態様では、式(VII-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000074
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１１２】
一態様では、式(VII-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000075
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１１３】
一態様では、式(VII-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000076
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１１４】
さらなる態様では、pが0である、式(VII-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。より具体的な態様では、R1bがハロであり; R1aおよびR1cがそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級アルコキシであり; R2aおよびR2bがそれぞれ独立してH、低級アルキル、または低級アルコキシである、式(VII-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。
【０１１５】
一態様では、式(VIII)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000077
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【０１１６】
一態様では、式(VIII-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000078
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１１７】
一態様では、式(VIII-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000079
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１１８】
一態様では、式(VIII-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000080
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１１９】
一態様では、式(VIII-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000081
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１２０】
一態様では、式(VIII-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000082
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１２１】
一態様では、式(VIII-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000083
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１２２】
一態様では、式(VIII-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000084
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１２３】
一態様では、式(VIII-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000085
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１２４】
一態様では、式(VIII-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000086
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１２５】
一態様では、式(VIII-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000087
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１２６】
一態様では、式(VIII-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000088
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１２７】
一態様では、式(IX)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000089
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【０１２８】
一態様では、式(IX-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000090
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１２９】
さらなる態様では、pが0である、式(IX-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。より具体的な態様では、R1bがハロであり; R1aおよびR1cがそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級アルコキシであり; R2aおよびR2bがそれぞれ独立してH、低級アルキル、または低級アルコキシである、式(IX-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。より具体的な態様では、R1bがハロであり; R1aおよびR1cがそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり; R2aおよびR2bがそれぞれ独立してH、低級アルキル、または低級アルコキシである、式(IX-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。
【０１３０】
一態様では、式(IX-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000091
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１３１】
一態様では、式(IX-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000092
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１３２】
一態様では、式(IX-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000093
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１３３】
一態様では、式(IX-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000094
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１３４】
一態様では、式(IX-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000095
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１３５】
一態様では、式(IX-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000096
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１３６】
一態様では、式(IX-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000097
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１３７】
一態様では、式(IX-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000098
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１３８】
一態様では、式(IX-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000099
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１３９】
一態様では、式(IX-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000100
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１４０】
一態様では、式(X)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000101
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【０１４１】
一態様では、式(X-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000102
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１４２】
一態様では、式(X-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000103
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１４３】
一態様では、式(Xc-)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000104
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１４４】
一態様では、式(Xd-)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000105
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１４５】
一態様では、式(Xe-)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000106
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１４６】
一態様では、式(X-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000107
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１４７】
一態様では、式(Xg-)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000108
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１４８】
一態様では、式(Xh-)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000109
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１４９】
一態様では、式(X-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000110
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１５０】
一態様では、式(Xj-)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000111
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１５１】
一態様では、式(Xk-)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000112
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
J1、J2、J3、およびJ4はそれぞれ独立してN、O、CH、またはCR4であり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１５２】
一態様では、式(XI)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000113
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【０１５３】
一態様では、式(XI-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000114
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0または1である。
【０１５４】
一態様では、式(XI-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000115
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１５５】
一態様では、式(XI-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000116
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１５６】
一態様では、式(XI-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000117
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１５７】
一態様では、式(XI-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000118
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１５８】
一態様では、式(XI-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000119
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１５９】
一態様では、式(XI-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000120
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１６０】
一態様では、式(XI-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000121
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１６１】
一態様では、式(XI-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000122
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１６２】
一態様では、式(XI-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000123
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１６３】
一態様では、式(XIk-)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000124
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１６４】
一態様では、式(XII)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000125
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【０１６５】
一態様では、式(XII-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000126
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１６６】
一態様では、式(XII-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000127
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１６７】
一態様では、式(XII-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000128
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１６８】
一態様では、式(XII-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000129
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１６９】
一態様では、式(XII-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000130
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１７０】
一態様では、式(XII-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000131
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１７１】
一態様では、式(XII-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000132
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１７２】
一態様では、式(XII-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000133
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１７３】
一態様では、式(XII-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000134
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１７４】
一態様では、式(XII-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000135
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１７５】
一態様では、式(XII-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000136
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１７６】
一態様では、式(XIII)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000137
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【０１７７】
一態様では、式(XIII-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000138
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１７８】
一態様では、式(XIII-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000139
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１７９】
一態様では、式(XIII-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000140
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１８０】
一態様では、式(XIII-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000141
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１８１】
一態様では、式(XIII-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000142
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１８２】
一態様では、式(XIII-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000143
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１８３】
一態様では、式(XIII-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000144
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１８４】
一態様では、式(XIII-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000145
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１８５】
一態様では、式(XIII-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000146
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１８６】
一態様では、式(XIII-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000147
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１８７】
一態様では、式(XIII-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000148
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１８８】
一態様では、式(XIV)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000149
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
pは0、1、または2である。
【０１８９】
一態様では、式(XIV-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000150
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１９０】
一態様では、式(XIV-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000151
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１９１】
一態様では、式(XIV-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000152
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１９２】
一態様では、式(XIV-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000153
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１９３】
一態様では、式(XIV-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000154
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１９４】
一態様では、式(XIV-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000155
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１９５】
一態様では、式(XIV-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000156
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１９６】
一態様では、式(XIV-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000157
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１９７】
一態様では、式(XIV-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000158
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１９８】
一態様では、式(XIV-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000159
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０１９９】
一態様では、式(XIV-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000160
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
pは0、1、または2である。
【０２００】
一態様では、式(XV)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000161
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2である。
【０２０１】
一態様では、式(XV-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000162
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２０２】
一態様では、式(XV-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000163
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２０３】
一態様では、式(XV-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000164
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２０４】
一態様では、式(XV-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000165
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２０５】
一態様では、式(XV-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000166
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２０６】
一態様では、式(XV-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000167
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２０７】
一態様では、式(XV-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000168
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２０８】
一態様では、式(XV-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000169
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２０９】
一態様では、式(XV-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000170
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２１０】
一態様では、式(XV-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000171
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２１１】
一態様では、式(XV-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000172
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２１２】
一態様では、式(XVI)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000173
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2である。
【０２１３】
一態様では、式(XVI-a)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000174
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２１４】
一態様では、式(XVI-b)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000175
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２１５】
一態様では、式(XVI-c)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000176
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２１６】
一態様では、式(XVI-d)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000177
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２１７】
一態様では、式(XVI-e)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000178
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２１８】
一態様では、式(XVI-f)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000179
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２１９】
一態様では、式(XVI-g)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000180
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２２０】
一態様では、式(XVI-h)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000181
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２２１】
一態様では、式(XVI-i)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000182
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２２２】
一態様では、式(XVI-j)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000183
式中、
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、またはハロであり;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２２３】
一態様では、式(XVI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000184
式中、
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルである。
【０２２４】
以下のより具体的な態様では、様々な置換基(例えばR1a、R1b、R1c、R2a、R2b、R3、R4、R5、およびX)を、さらに定義される該置換基に該当する上記の各式(I)〜(XVI-k)の化合物に関して、さらに詳細に記載する。例えば、以下のQ1への言及は、上記式(I)の化合物をさらに限定するように意図されているが、式(II)〜(XVI-k)の化合物に関してはそうではない。というのも、Q1置換基が式(I)において既にさらに定義されているためである。したがって、以下の置換基への言及は、当該の式が当該の特定の置換基を変動要素として記述している限りにおいて、式(I)〜(XVI-k)をさらに修正するように意図されている。
【０２２５】
さらなる態様では、R1bがハロゲンである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。より具体的な態様では、R1bがCl、F、またはBrである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。より具体的な態様では、R1bがClである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。
【０２２６】
さらなる態様では、R1bが低級アルキルである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。より具体的な態様では、R1bがメチル、エチル、またはイソプロピルである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。
【０２２７】
さらなる態様では、R1bが低級ハロアルキルである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。より具体的な態様では、R1bが-CF3である、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。
【０２２８】
さらなる態様では、R1bが低級アルコキシである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。より具体的な態様では、R1bがメトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、またはt-ブトキシである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。
【０２２９】
さらなる態様では、R1bがシアノである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。
【０２３０】
さらなる態様では、Rxが水素である、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。
【０２３１】
さらなる態様では、Rxが低級アルキルである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。より具体的な態様では、Rxがメチル、エチル、またはイソプロピルである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。
【０２３２】
さらなる態様では、Rxが低級アルコキシである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。より具体的な態様では、Rxがメトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、またはt-ブトキシである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。
【０２３３】
さらなる態様では、Rxがシクロアルキルである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。より具体的な態様では、Rxがシクロプロピルまたはシクロブチルである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。
【０２３４】
さらなる態様では、R3が-Q-(R4)pである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される。さらなる態様では、pは0である。さらなる態様では、pは1または2である。さらなる態様では、pは1である。
【０２３５】
さらなる態様では、R3が-Q-(R4)pであり、R4がハロゲンである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物が提供される。より具体的な態様では、R4がFまたはClである、化合物が提供される。
【０２３６】
さらなる態様では、R2が-Q-(R4)pであり、R4が低級アルキルである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物が提供される。より具体的な態様では、R4がメチルまたはエチルである、化合物が提供される。
【０２３７】
さらなる態様では、R3が-Q-(R4)pであり、R4が低級アルコキシである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物が提供される。より具体的な態様では、R4がメトキシまたはエトキシである、化合物が提供される。
【０２３８】
さらなる態様では、R3が-Q-(R4)pであり、R4がシアノである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物が提供される。
【０２３９】
さらなる態様では、R3が-Q-(R4)nであり、R4がヒドロキシである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物が提供される。
【０２４０】
さらなる態様では、R3が-S(=O)2R5または-C(=O)R5であり、R5が低級アルキルである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物が提供される。より具体的な態様では、R5がメチル、エチル、またはイソプロピルである、化合物が提供される。
【０２４１】
さらなる態様では、R3が-S(=O)2R5または-C(=O)R5であり、R5が低級アルコキシである、式(I)〜(XVI-k)のうちいずれか1つの構造を有する化合物が提供される。より具体的な態様では、R5がt-ブトキシである、化合物が提供される。
【０２４２】
該当する式(I)および式(II)〜(XVI-k)の代表的化合物としては、下記表1に列挙される化合物、ならびにその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、および塩が挙げられる。これに関して、代表的化合物は本明細書においてそれぞれの「化合物番号」により識別され、化合物番号は「化合物番号(Compound No.)」、「化合物番号(Cpd. No.)」、または「No.」と略されることがある。
【０２４３】
（表１）代表的化合物
2020532592.tif 000185
2020532592.tif 000186
2020532592.tif 000187
2020532592.tif 000188
2020532592.tif 000189
2020532592.tif 000190
2020532592.tif 000191
2020532592.tif 000192
2020532592.tif 000193
2020532592.tif 000194
2020532592.tif 000195
2020532592.tif 000196
2020532592.tif 000197
2020532592.tif 000198
2020532592.tif 000199
2020532592.tif 000200
2020532592.tif 000201
2020532592.tif 000202
2020532592.tif 000203
2020532592.tif 000204
【０２４４】
一態様では、式(XVII-S)の構造を有する実質的に鏡像異性的に純粋な化合物、またはその薬学的に許容される水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000205
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、ハロ、またはR6であり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
Q1はNまたはCR1aであり、Q2はNまたはCR1bであり、Q3はNまたはCR1cであり、ここで少なくとも1つのQ1、Q2、またはQ3はNではなく;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
R6はシクロアルキル、ヘテロシクリル、または-C(=O)R7であり;
R7はH、低級アルキル、または低級ハロアルキルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【０２４５】
一態様では、式(XVII-R)の構造を有する実質的に鏡像異性的に純粋な化合物、またはその薬学的に許容される水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000206
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、ハロ、またはR6であり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
Q1はNまたはCR1aであり、Q2はNまたはCR1bであり、Q3はNまたはCR1cであり、ここで少なくとも1つのQ1、Q2、またはQ3はNではなく;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
R6はシクロアルキル、ヘテロシクリル、または-C(=O)R7であり;
R7はH、低級アルキル、または低級ハロアルキルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【０２４６】
一態様では、式(XVIII-S)の構造を有する実質的に鏡像異性的に純粋な化合物、またはその薬学的に許容される水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000207
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、ハロ、またはR6であり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
Q1はNまたはCR1aであり、Q2はNまたはCR1bであり、Q3はNまたはCR1cであり、ここで少なくとも1つのQ1、Q2、またはQ3はNではなく;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
R6はシクロアルキル、ヘテロシクリル、または-C(=O)R7であり;
R7はH、低級アルキル、または低級ハロアルキルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【０２４７】
一態様では、式(XVIII-R)の構造を有する実質的に鏡像異性的に純粋な化合物、またはその薬学的に許容される水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩が提供される:
2020532592.tif 000208
式中、
Xは-(CRxRy)nO(CRxRy)q-、-(CRxRy)nS(O)t(CRxRy)q-、-(CRxRy)nN(Rx)(CRxRy)q-、または-(CRxRy)n-であり;
Rxは出現する毎に独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、ハロ、またはR6であり;
Ryは出現する毎に独立してH、-OH、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロであり;
Q1はNまたはCR1aであり、Q2はNまたはCR1bであり、Q3はNまたはCR1cであり、ここで少なくとも1つのQ1、Q2、またはQ3はNではなく;
R1a、R1b、およびR1cはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、シアノ、またはハロであり;
R2aおよびR2bはそれぞれ独立してH、低級アルキル、低級ハロアルキル、または低級アルコキシであり;
R3は-(CHRz)m-Q-(R4)p、-S(=O)2R5、または-C(=O)R5であり;
RzはHまたはCH3であり;
Qはアリールまたはヘテロアリールであり;
R4は出現する毎に独立してH、-OH、=O、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ハロ、またはシアノであり;
R5はH、シクロアルキル、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、または-O-ヘテロシクリルであり;
R6はシクロアルキル、ヘテロシクリル、または-C(=O)R7であり;
R7はH、低級アルキル、または低級ハロアルキルであり;
nは0、1、または2であり;
qは0、1、または2であり;
tは0、1、または2であり;
mは0、1、2、3、4、5、または6であり;
pは0、1、または2である。
【０２４８】
該当する式(XVII-R)、(XVII-S)、(XVIII-R)、および(XVIII-S)の代表的化合物としては、下記表2に列挙される化合物、ならびにその薬学的に許容される水和物、溶媒和物、同位体、および塩が挙げられる。
【０２４９】
（表２）代表的立体異性体
2020532592.tif 000209
2020532592.tif 000210
2020532592.tif 000211
2020532592.tif 000212
2020532592.tif 000213
2020532592.tif 000214
2020532592.tif 000215
2020532592.tif 000216
2020532592.tif 000217
2020532592.tif 000218
2020532592.tif 000219
2020532592.tif 000220
2020532592.tif 000221
2020532592.tif 000222
2020532592.tif 000223
2020532592.tif 000224
【０２５０】
特定の態様では、本発明は、本発明の化合物を少なくとも1つの薬学的に許容される担体、希釈剤、または賦形剤と共に含む、薬学的組成物を提供する。例えば、有効化合物は通常、担体と混合されるか、または担体により希釈されるか、またはアンプル、カプセル、サッシェ、紙、もしくは他の容器の形態でありうる担体内に封入される。有効化合物が担体と混合される場合、または担体が希釈剤の役割を果たす場合、担体は、有効化合物の媒体、賦形剤、または媒質として作用する固体材料、半固体材料、または液体材料でありうる。有効化合物は、例えばサッシェに収容される顆粒状固体担体に吸着されうる。好適な担体のいくつかの例としては水、塩類溶液、アルコール、ポリエチレングリコール、ポリヒドロキシエトキシル化ヒマシ油、ピーナッツ油、オリーブ油、ゼラチン、乳糖、白土、ショ糖、デキストリン、炭酸マグネシウム、糖、シクロデキストリン、アミロース、ステアリン酸マグネシウム、タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、アラビアゴム、ステアリン酸、またはセルロースの低級アルキルエーテル、ケイ酸、脂肪酸、脂肪酸アミン、脂肪酸モノグリセリドおよびジグリセリド、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン、ヒドロキシメチルセルロース、ならびにポリビニルピロリドンがある。同様に、担体または希釈剤は、単独のまたはワックスと混合された、モノステアリン酸グリセリンまたはジステアリン酸グリセリンなどの当技術分野において公知の任意の持続放出材料を含みうる。
【０２５１】
製剤は、有効化合物との劣化反応を引き起こさない補助剤と混合されうる。これらの添加剤としては湿潤剤、乳化剤および懸濁化剤、浸透圧に影響を与えるための塩、緩衝剤、ならびに/または着色料、保存料、甘味料、もしくは香味料を挙げることができる。所望であれば、本組成物は滅菌されていてもよい。
【０２５２】
投与経路は、本発明の有効化合物を適切なまたは所望の作用部位に効果的に輸送する任意の経路、例えば経口、経鼻、肺内、頬側、真皮下、皮内、経皮、または非経口、例えば直腸、デポー、皮下、静脈内、尿道内、筋肉内、鼻腔内、点眼液、または軟膏であることができ、経口経路が好ましい。
【０２５３】
非経口投与では、通常、担体は滅菌水を含むが、溶解性を促進するかまたは保存料の役割を果たす他の成分が含まれてもよい。さらに、注射用懸濁液剤を調製してもよく、この場合、適切な液体担体、懸濁化剤などを使用することができる。
【０２５４】
局所投与では、本発明の化合物を軟膏またはクリームなどの無刺激加湿基剤を使用して製剤化することができる。
【０２５５】
固体担体を経口投与に使用する場合、製剤を錠剤化するか、粉末もしくはペレットの形態で硬ゼラチンカプセル剤に入れるか、またはトローチ剤もしくは舐剤の形態にすることができる。液体担体を使用する場合、製剤をシロップ剤、乳剤、軟ゼラチンカプセル剤、または滅菌注射用液剤、例えば水性もしくは非水性の懸濁液剤もしくは溶液剤の形態にすることができる。
【０２５６】
一般に、注射用剤形としては、好適な分散剤または湿潤剤、および懸濁化剤を使用して調製可能な水性懸濁液剤または油性懸濁液剤が挙げられる。注射用形態は、溶媒または希釈剤を用いて調製される、溶液相、または懸濁液剤の形態でありうる。許容される溶媒または媒体としては滅菌水、リンゲル液、または等張食塩水が挙げられる。あるいは、滅菌油を溶媒または懸濁液剤として使用してもよい。好ましくは、油または脂肪酸は非揮発性であり、天然油または合成油、脂肪酸、モノグリセリド、ジグリセリド、またはトリグリセリドを含む。
【０２５７】
注射では、製剤は、上記の適切な溶液による再構成に好適な散剤であってもよい。これら製剤の例としては凍結乾燥、回転乾燥、もしくは噴霧乾燥散剤、非晶質散剤、顆粒剤、沈殿物、または細粒剤が挙げられるがそれに限定されない。注射では、製剤は安定剤、pH調整剤、界面活性剤、バイオアベイラビリティ調整剤、およびこれらの組み合わせを含んでもよい。本化合物を注射による非経口投与、例えばボーラス注射または持続注入による非経口投与用に製剤化することができる。注射用単位剤形はアンプルまたは複数用量容器中に存在しうる。
【０２５８】
本発明の製剤を、患者への投与後に有効成分の急速放出、持続放出、または遅延放出を実現するように、当技術分野において周知の手順を使用して設計することができる。したがって、本製剤を制御放出または緩徐放出用に製剤化することもできる。
【０２５９】
本発明により想定される組成物は、長期の滞留および/または送達効果を実現するために、ミセルもしくはリポソーム、または何らかの他の封入形態を例えば含んでもよく、長期放出形態で投与されてもよい。したがって、本製剤は、ペレットまたはシリンダーに圧縮されて、デポー注射剤として筋肉内または皮下に埋め込まれてもよい。これらの埋め込み剤はシリコーンおよび生分解性ポリマー、例えばポリ乳酸-ポリグリコール酸などの公知の不活性材料を使用しうる。他の生分解性ポリマーの例としてはポリ(オルトエステル)およびポリ(無水物)が挙げられる。
【０２６０】
経鼻投与では、本製剤は、エアロゾル適用のために液体担体、好ましくは水性担体に溶解または懸濁した、本発明の化合物を含みうる。担体は添加剤、例えば、可溶化剤、例えばプロピレングリコール、界面活性剤、レシチン(ホスファチジルコリン)もしくはシクロデキストリンなどの吸収促進剤、またはパラベンなどの保存料を含みうる。
【０２６１】
非経口適用では、注射用溶液剤または懸濁液剤、好ましくは、有効化合物がポリヒドロキシル化ヒマシ油に溶解した水性溶液剤が特に好ましい。
【０２６２】
剤形を1日1回、または1日2回以上、例えば1日2回もしくは3回投与することができる。あるいは、処方医が得策であると判断する場合は、剤形を1日1回未満の頻度で、例えば2日に1回または週1回投与することもできる。投与レジメンとしては、例えば、患者の身体が処置に適応しかつ/または該処置に関連する望ましくない副作用を最小化もしくは回避することを可能にする、徴候を処置するために必要または有用な程度までの用量設定が挙げられる。他の剤形としては遅延放出形態または制御放出形態が挙げられる。好適な投与レジメンおよび/または剤形としては、参照により本明細書に組み入れられるPhysicians' Desk Referenceの最新版に例えば記載のものが挙げられる。
【０２６３】
病態の発症を予防するために使用される場合、本明細書において提供される化合物は、それを発生させる危険性がある対象に、通常は医師の助言および監督に基づいて、上記の投与量レベルで投与される。一般に、特定の病態を発生させる危険性がある対象としては、その家族歴を有する対象、または該病態を特に発生させやすいと遺伝子試験もしくは遺伝子スクリーニングにより同定された対象が挙げられる。
【０２６４】
慢性投与とは、長期間にわたる、例えば3ヶ月間、6ヶ月間、1年間、2年間、3年間、5年間などにわたる、または無期限に、例えば対象の残りの人生にわたって継続しうる、化合物またはその薬学的組成物の投与を意味する。特定の態様では、慢性投与は、例えば長期間にわたって治療窓内で、血中の本化合物の一定レベルを実現するように意図されている。
【０２６５】
別の態様では、本明細書に記載の化合物の組成物を作製する方法であって、本発明の化合物を薬学的に許容される担体または希釈剤と共に製剤化する工程を含む方法が提供される。いくつかの態様では、薬学的に許容される担体または希釈剤は経口投与に好適である。いくつかの当該の態様では、本方法は、本組成物を錠剤またはカプセル剤に製剤化する工程をさらに含みうる。他の態様では、薬学的に許容される担体または希釈剤は非経口投与に好適である。いくつかの当該の態様では、本方法は、本組成物を凍結乾燥させて凍結乾燥製剤を形成する工程をさらに含む。
【０２６６】
別の態様では、V1a受容体に拮抗するための方法であって、該受容体と有効量の式(I)〜(XVI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物とを接触させる段階を含む方法が提供される。
【０２６７】
本明細書において、「拮抗作用」という用語は、天然リガンドの結合部位で受容体に結合することで、または結合部位以外の場所で受容体に結合することで、何らかのやり方で受容体と相互作用し、それによりアンタゴニストとして機能する、分子を包含するように使用される。本明細書において、「V1a拮抗作用」という語句は、天然リガンドの結合部位でV1a受容体に結合することで、または結合部位以外の場所でV1a受容体に結合(すなわちアロステリック結合)することで、何らかのやり方でV1a受容体と相互作用し、それによりアンタゴニストとして機能する、分子を包含するように使用される。
【０２６８】
一態様では、対象におけるV1a受容体拮抗作用が医学的に必要である病態の処置のための方法が提供される。該方法は、対象に有効量の式(I)〜(XVI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む。
【０２６９】
本明細書において使用される「対象」とは、哺乳動物および非哺乳動物の両方を意味する。哺乳動物としては例えばヒト; 非ヒト霊長類(例えば類人猿およびサル); ウシ; ウマ; ヒツジ; ならびにヤギが挙げられる。非哺乳動物としては例えば魚および鳥類が挙げられる。
【０２７０】
本明細書中での意味の範囲内の「処置すること」または「処置」とは、病態に関連する症状の軽減、または該症状のさらなる進行もしくは悪化の阻害、または特定の場合における該病態の防止もしくは予防を意味する。
【０２７１】
V1a受容体拮抗作用が医学的に必要である病態に罹患した対象を処置するための化合物の使用を記述するために使用される場合の、「有効量」という表現は、該対象に対する有益な治療効果を生じさせるために十分な該化合物の量を意味する。
【０２７２】
「病態」という語句は、V1a受容体がそこで役割を果たし、したがって治療的に有益な効果がV1a受容体拮抗作用により実現可能である、あらゆる疾患、障害、症候群、および/または症状を広範に包含するように意図されている。
【０２７３】
特定の態様では、本発明は、V1a受容体と、該受容体に拮抗するために好適な量の式(I)〜(XVI-k)の化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩とを接触させることで、該化合物で該受容体に拮抗するための方法を提供する。この接触工程をインビトロで、例えば、規制当局の承認申請に関連する実験中の化合物のV1a阻害活性を確定するアッセイを実行する際に行うことができる。
【０２７４】
特定の態様では、V1a受容体に拮抗するための方法をインビボで、すなわち対象の生体内で行ってもよい。式(I)〜(XVI-k)の化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩は、上記の1つの経路を通じて(例えば経口的に)生物に供給してもよく、体組織内で局所的に提供してもよい。本発明の化合物の存在下で、該受容体の阻害が行われ、その効果が試験可能になる。
【０２７５】
別の態様では、式(I)〜(XVI-k)の化合物は画像化剤であり、ここで本化合物は同位体、例えばF、O、N、およびCの同位体を含む。特定の態様では、同位体はフッ素同位体である。本化合物を、V1a受容体拮抗作用が医学的に必要な病態(バソプレシン依存性状態)の治療目的で、または該病態を診断するかもしくはその進行を評価するために、対象において使用することができる。
【０２７６】
いくつかの態様では、それを必要とする対象に本明細書に記載の画像化剤を投与する段階、および該画像化剤に含まれる本化合物を該対象中で検出する段階を含む、画像化および/または診断方法が提供される。いくつかの局面では、対象中の本化合物の量が定量化される。さらなる局面では、対象中のバソプレシン依存性状態が、該対象中の本化合物の検出により検出される。特定の態様では、画像化は放射線診断法により行われる。放射線診断法は、本化合物による放射線を検出可能な任意の機器により行うことができる。例示的な放射線診断法としては陽電子放出断層撮影法(PET)、PET-時間放射能曲線法(TAC)、またはPET-磁気共鳴画像法(MRI)が挙げられるがそれに限定されない。特定の局面では、放射線診断法はPETである。一態様では、V1a受容体に拮抗することが医学的に必要である病態を有する対象に、式(I)〜(XVI-k)の化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩を単独でまたは別の薬理学的に活性な剤もしくは第2の医薬との組み合わせで投与する段階を含む処置方法が提供される。
【０２７７】
上記で言及したように、V1a受容体アンタゴニストは、V1a受容体拮抗作用が有益である病態の処置に関して著しく有望である。Szczepanska-Sadowaska et al., Current Drug Metabolism 18:306-345, 2017(参照によりその全体が本明細書に組み入れられる)による総説論文において要約されるように、バソプレシンは、数多くの臓器および/または組織中での広範な調節機能に関連しており、(1) 心血管系、(2) 腎作用、(3) 概日リズム、(4) 食物摂取調節ならびに代謝調節および内分泌調節、(5) 子宮、(6) 内毒血症、ならびに(7) ストレス、うつ病、および精神障害に関与または関係している。また、AVPはいくつかの機能の調節、例えば、肝作用、膵作用、および血小板凝集作用、ならびに中枢および末梢神経系に対する作用の調節に関与する。AVP受容体の作用は、それが位置する場所に依存する。
【０２７８】
心血管系内で、バソプレシンは(a) 末梢作用(例えば、バソプレシンは強力な血管収縮剤として作用し、カリオカ筋(carioca muscle)の分化、増殖、および収縮性の調節において役割を果たす); (b) 中枢心血管制御(例えば過度の血圧上昇および血圧低下を緩衝する); (c) 心血管性反射の調節(例えば圧受容器反射の調節); (d) 他の因子(例えばAng IIなどの血圧を調節する因子)との相互作用; (e) 出血への適応; ならびに(f) 心血管疾患(例えば高血圧および心不全、頭蓋内出血および脳卒中)に関連している。
【０２７９】
腎作用に関して、バソプレシンは抗利尿作用を示し、尿排泄の調節においてアンジオテンシンII(AngII)と相互作用する。また、バソプレシンは口渇誘発作用を発揮し、これは浸透圧性口渇閾値の減少により示される。
【０２８０】
概日リズムに関して、視床下部の視交叉上核(SCN)中のバソプレシンニューロンは特徴的な概日リズム性を示すものであり、研究は、脳脊髄液(CSF)中のバソプレシン濃度の特徴的な概日リズム性を示している。SCNバソプレシンニューロンが自律ペースメーカーの群に属し、概日リズムの調節において役割を果たすことが示唆されており、研究は、バソプレシン放出の概日リズム性がコルチコステロン放出、自発運動活性、および体温などの他の機能の日周リズム性に波及することを示している。
【０２８１】
食物摂取調節ならびに代謝調節および内分泌調節に関して、バソプレシンは食物摂取およびグルコース恒常性の調節に関連しており、高脂肪食を消費するV1a受容体ノックアウトマウスによる動物研究は、V1a受容体に作用するバソプレシンが耐糖能を改善し、肥満の発生を防止することを示す。また、研究は、バソプレシンが膵細胞からのグルカゴン放出およびインスリン放出の調節において直接的な役割を果たすことを示している。副腎において、バソプレシンは副腎皮質の肥大および過形成を引き起こし、V1a受容体の刺激を通じてアルドステロンおよびグルココルチコイドの分泌を刺激する。また、バソプレシンによるV1a受容体の刺激は、黄体形成ホルモン放出ホルモン(LHRL)の放出に影響するものであり、排卵前のLH上昇を開始する上で役割を果たすと考えられる。
【０２８２】
また、子宮内でのV1a受容体の存在が報告されており、該受容体の密度は子宮内膜中よりも子宮筋層中のほうが高く、該受容体はオキシトシン(OT)受容体と反応する。
【０２８３】
内毒血症は、視床下部核中でのバソプレシン遺伝子発現の増加、および血中のバソプレシン濃度の上昇を伴う。バソプレシンは、内毒血症の間に、腎髄質血流の大動脈収縮性を減少させることを含む、心血管系に対する様々な作用を発揮する。また、バソプレシンが免疫過程の調節において役割を果たすこと、および、バソプレシンが肝臓の再生において役割を果たしうることが証明されている。
【０２８４】
ストレス、うつ病、および精神障害に関して、行動の調節におけるバソプレシンの役割が数十年にわたって研究されており、初期の研究は、バソプレシンがラットにおいて条件回避応答を促進することを示している。実験研究は、バソプレシンが学習および新規記憶獲得ならびに情動行動および社会的行動に対して持続的な作用を示すことを示しており、臨床所見は、うつ病および他の精神障害がバソプレシン分泌の著しい変化に関連することを示している。また、神経原性ストレスが血液およびCSF中でバソプレシン放出を刺激することが示されている。慢性ストレスと、バソプレシン作動系の不適切な活性化と、うつ病との間の強力な関連が示されている。ヒトにおける研究は、大うつ病患者が血漿バソプレシンレベルの上昇を示したことを示しており、単極性うつ病患者においては、末梢血漿バソプレシンと高コルチゾール血症との間に有意な正の相関が存在した。また、バソプレシンが不安惹起剤であること、および、ラットの室傍核(PVN)中へのV1a受容体アンタゴニストの直接投与が不安および抑うつ行動を減少させたことが証明されている。また、攻撃性はCSF中へのバソプレシン放出の増加に関連している。バソプレシンは疼痛の調節において役割を果たすものであり、その抗侵害受容作用がいくつかの研究において示されている。また、統合失調症において生じる心身ストレスの処理障害におけるバソプレシンの不適切な分泌が示唆されている。
【０２８５】
バソプレシン、およびV1aを含むその受容体は、種々の条件下で身体恒常性を維持するために広範かつ中心的な役割を果たすことから、診断用途および治療用途での重要な標的として認識されている。これに関して、バソプレシンアンタゴニストは、うっ血症状および浮腫を緩和しかつ臨床試験において血漿ナトリウムイオン濃度を増加させる上で有効性を示している。さらに、本発明の化合物は、以下を含む広範な病態にわたって有用性を示す: 心不全、肝硬変、精神障害(例えば大うつ病性障害または全般性不安障害)、脳損傷、概日リズム障害(例えば、毎日の就寝を遅らせ、夜間睡眠パターンを異常にし、かつ/または日中に覚醒し続けることを困難にする、交代勤務または時差ぼけに関連する障害)、骨成長、糖尿病、卵巣機能、敗血症性ショック(例えば血行動態パラメータを維持し、臓器損傷を予防する)、ならびにがんおよび転移(例えば、うっ血を改善し、がん細胞の増殖を遅らせることで、腫瘍細胞の内転移、および転移の広がりを減少させる)。
【０２８６】
本発明の化合物は、V1a受容体の作用を選択的に遮断し、経口的にバイオアベイラビリティを示し/有効であり、中枢神経系(CNS)浸透作用を示す。これらの化合物は(末梢的および/または中枢的に作用する際に)、バソプレシン依存性状態の処置、または、特に慢性ストレスに応答しての、および感情障害において調節不全になる回路中での、バソプレシンの不適切な分泌に関連する状態の処置において有用である。これらの化合物はストレス、恐怖、攻撃性、うつ病、および不安の測定値を減少させる。
【０２８７】
一態様では、バソプレシン依存性状態、またはバソプレシンの不適切な分泌に関連する状態の処置または予防のための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の式(I)〜(XVI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む方法が提供される。
【０２８８】
一態様では、器質性、ストレス誘発性、または医原性のバソプレシン依存性状態の処置のための方法が提供される。
【０２８９】
本明細書において使用される「バソプレシン依存性状態」は、特に慢性ストレスに応答しての、ならびに、ストレス関連感情障害を含む感情障害、例えばストレス障害、気分障害、および行動障害において調節不能になる回路中での、バソプレシンの不適切な分泌に関連する状態として定義される。バソプレシン依存性状態としては、心血管の状態、例えば高血圧、肺高血圧症、心不全、特に喫煙者における心筋梗塞もしくは冠動脈攣縮、レイノー症候群、不安定狭心症およびPTCA(経皮経管冠動脈形成術)、心虚血、止血機能障害、または血栓症; 中枢神経系の状態、例えば偏頭痛、脳血管攣縮、脳出血、外傷および脳浮腫、うつ病、不安、ストレス、情動障害、強迫性障害、パニック発作、精神病状態、攻撃性、記憶障害もしくは睡眠障害、または認知障害、例えば、社会的認知障害に関連する障害(例えば統合失調症、自閉症スペクトラム障害); 腎臓系の状態、例えば腎血管攣縮、腎皮質壊死、腎性尿崩症、または糖尿病性腎症; あるいは胃系の状態、例えば胃血管攣縮、肝硬変、潰瘍、または嘔吐病態、例えば、化学療法による悪心を含む悪心、もしくは乗り物酔い; 概日リズム関連障害、例えば位相変位睡眠障害、時差ぼけ、睡眠障害、および他の時間生物学的障害などの状態が挙げられる。バソプレシン依存性状態のさらなる例としては神経精神障害、神経変性疾患における神経精神症状、PTSD、不適切な攻撃性、不安、うつ病性障害、大うつ病、強迫性障害、自閉症スペクトラム障害、統合失調症、および攻撃行動、ならびに他の感情障害が挙げられるがそれに限定されない。
【０２９０】
一態様では、自閉症スペクトラム障害の処置のための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の式(I)〜(XVI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む方法が提供される。
【０２９１】
自閉症(autism)スペクトラム障害(ASD)は、本明細書では自閉症(autistic)スペクトラム障害とも呼ばれ、脳によるソーシャルスキルおよびコミュニケーションスキルの正常な発達に影響する複合発達障害を記述する包括語である。ASDの中心的症状としては、社会的相互作用の困難などの社会的相互作用障害、言語および非言語コミュニケーション障害を含むコミュニケーションの問題、感覚からの情報を処理する上での問題、ならびに、限定的かつ反復的な行動パターンに固執する傾向が挙げられる。一態様では、自閉症スペクトラム障害の中心的症状は社会的相互作用障害、およびコミュニケーションの問題である。一態様では、自閉症スペクトラム障害の中心的症状は社会的相互作用障害である。一態様では、自閉症スペクトラム障害の中心的症状はコミュニケーションの問題である。一態様では、自閉症スペクトラム障害の中心的症状は限定的かつ反復的な行動パターンに固執する傾向である。
【０２９２】
一態様では、不安障害の処置のための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の式(I)〜(XVI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む方法が提供される。
【０２９３】
不安障害は、異常かつ病理学的な恐怖および不安のいくつかの異なる形態を網羅する包括語である。現行の精神医学的診断基準は、全般性不安障害、パニック障害、ストレス関連障害、強迫性障害、恐怖症、社会不安障害、分離不安障害、および外傷後ストレス障害(PTSD)を含む多種多様な不安障害を認識する。一態様では、不安障害は社会不安障害である。一態様では、不安障害は恐怖症である。一態様では、不安障害はストレス関連障害である。一態様では、不安関連障害はPTSDである。
【０２９４】
全般性不安障害とは、任意の1つの対象物または状況のみに対するものではない持続性の不安を特徴とする、一般的な慢性障害のことである。全般性不安に罹患している個人は、非特異的で持続的な恐怖および心配を経験し、日々の事柄に過度に気をかけるようになる。全般性不安障害は、高齢成人が罹患する最も一般的な不安障害である。
【０２９５】
パニック障害において、個人は、振戦、揺れ、混乱、眩暈、悪心、呼吸困難をしばしば特徴とする、短時間の激しい恐怖および不安感の発作に悩まされる。これらのパニック発作は、突然生じて10分未満でピークに達する恐怖または不快感としてAPAにより定義されており、数時間続くことがあり、ストレス、恐怖、さらには運動が引き金を引くことがあるが、具体的な原因は常に明らかであるわけではない。パニック障害の診断は、パニック発作が再発性で予想外であることに加えて、該発作が慢性的な結果、すなわち発作の潜在的な意味に関する心配、今後の発作に関する持続的な恐怖、または発作に関連する著しい行動の変化を伴うことも必要とする。したがって、パニック障害に罹患している個人は、特異的なパニックエピソードの範囲外にある症状さえ経験する。多くの場合、パニック罹患者は心拍動の正常な変化に気づくと、心臓に何らかの異常があるか、または別のパニック発作を起こしそうであると考えるようになる。いくつかの症例では、パニック発作中に身体機能に関する認識亢進(過覚醒)が生じ、認識された任意の生理学的変化は、生命を脅かしうる疾患として解釈される(すなわち極度の心気症)。
【０２９６】
強迫性障害とは、反復的な強迫観念(苦悩的、持続的、かつ侵入的な思考またはイメージ)および強迫衝動(特定の行動または儀式を実行しようとする衝動)を主に特徴とする、不安障害の一種のことである。OCDの思考パターンは、実際にはそこに何も存在しない因果関係を信じることを包含する限りにおいて、迷信に例えられることがある。多くの場合、プロセスはまったく非論理的である。例えば、危害が差し迫っているという強迫観念を軽減するために、特定のパターンで歩こうとする強迫衝動が使用されることがある。また、多くの症例において、強迫衝動はまったく説明不可能であり、単純に言えば、神経過敏が引き金を引く、儀式を完了させようという衝動である。一部の症例では、OCD罹患者は強迫観念のみを経験し、顕性の強迫衝動を伴わないことがあり、それよりもはるかに少ない罹患者は強迫衝動のみを経験する。
【０２９７】
不安障害の単一の最大分類は恐怖症の分類であり、特定の刺激または状況が恐怖および不安の引き金を引くすべての症例を含む。通常、罹患者は、恐怖の対象物に遭遇することによる恐ろしい結果を予期するものであり、これらは社会恐怖症、限局性恐怖症、広場恐怖症、動物恐怖症から場所恐怖症、体液恐怖症までの何かでありうる。
【０２９８】
外傷後ストレス障害またはPTSDとは、外傷経験により生じる不安障害のことである。外傷後ストレスは、戦闘、レイプ、人質状況、さらには重大事故などの極限状況により生じることがある。また、例えば個々の戦いに耐えるものの継続的戦闘には耐えられない兵士において、重度のストレス要因に対する長期(慢性)曝露によって生じることがある。一般的な症状としてはフラッシュバック、回避行動、およびうつ病が挙げられる。
【０２９９】
一態様では、うつ病性障害、うつ病、またはうつ病性疾患の処置のための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の式(I)〜(XVI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む方法が提供される。これらの障害の例としては大うつ病、MDD、薬物抵抗性うつ病、気分変調症、および双極性障害が挙げられる。
【０３００】
一態様では、気分障害または感情障害の処置のための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の式(I)〜(XVI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む方法が提供される。
【０３０１】
気分障害または感情障害の例としては大うつ病性障害(MDD); 双極性障害; 快感消失; 気分変調症; 大うつ病、精神病性大うつ病(PMD)、または精神病性うつ病; 産後うつ病; 季節性感情障害(SAD); ならびに、運動行動障害および他の症状を包含する稀で重症の形態の大うつ病である緊張性うつ病が挙げられる。
【０３０２】
「快感消失」および「快感消失症状」という用語は、互換的に使用され、通常は楽しいはずの活動、例えば運動、趣味、音楽、性行為、または社会的相互作用による快楽を経験できないこととして定義される。「快感消失」および「快感消失症状」という用語は「メランコリー型の特徴を示すうつ病性障害」の基準に密接に関連しており、この障害はDSM-5において、大部分のもしくはすべての活動における快楽の消失、快楽刺激に反応できないこと、悲嘆もしくは喪失の気分よりも顕著な質の抑うつ気分、朝の時間帯における症状の悪化、早朝覚醒、精神運動遅滞、過度の体重減少、または過度の罪悪感を特徴とする、メランコリー型うつ病として定義されている。「メランコリー型の特徴を示すうつ病性障害の処置」という用語は、うつ病性障害およびそれに関連するメランコリー型の特徴の両方の処置を含む。一態様では、気分障害は快感消失である。一態様では、気分障害は大うつ病である。一態様では、気分障害は季節性感情障害(SAD)である。
【０３０３】
一態様では、感情障害の処置のための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の式(I)〜(XVI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む方法が提供される。ストレス関連感情障害を含む感情障害、例えばストレス障害、気分障害、および行動障害、強迫性障害、自閉症スペクトラム障害、人格障害、ADHD、パニック発作など。本明細書において使用される「自閉症(autistic)スペクトラム障害」および「自閉症(autism)スペクトラム障害」は互換的に使用され、自閉症や、自閉症の一遺伝子性の原因、例えばシナプス変性症、例えばレット症候群、脆弱X症候群、アンジェルマン症候群などを意味する。
【０３０４】
一態様では、怒り、攻撃性もしくは攻撃障害、または衝動制御障害の処置のための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の式(I)〜(XVI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む方法が提供される。怒り、攻撃性もしくは攻撃障害、または衝動制御障害の例としては、不適切な攻撃性、攻撃行動、社会的孤立に関連する攻撃性や、ADHD、自閉症、双極性障害、情動障害、記憶および/または認知の障害ならびに認知障害(例えばアルツハイマー病、パーキンソン病、ハンチントン病など)、ならびに嗜癖性障害/物質乱用などの疾患と同時に生じる対人暴力が挙げられるがそれに限定されない。
【０３０５】
一態様では、間欠性爆発性障害(IEDと略されることがある)の処置のための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の式(I)〜(XVI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む方法が提供される。間欠性爆発性障害とは、目前の状況とは不相応な、しばしば激怒に至る怒りおよび暴力の爆発的噴出を特徴とする行動障害(例えば、相対的に取るに足らない事象が引き金を引く衝動的な絶叫)のことである。衝動的攻撃性は、予め計画されたものではなく、任意の現実的なまたは知覚された挑発に対する不相応な反応として定義される。何名かは噴出前の感情変動(例えば緊張、気分変動、エネルギー変動など)を報告している。現在、この障害は、Diagnostic and Statistical Manual of Mental Disorders (DSM-5)において「破壊的行動障害、衝動制御障害、および行為障害」という分類に分類されている。この障害自体は、特徴づけが容易ではなく、多くの場合、他の気分障害、特に双極性障害との合併性を示す。IEDと診断された個人では、短時間の(1時間未満続く)噴出が報告されており、1つのサンプルのうち3分の1では様々な身体症状(発汗、吃音、胸部絞扼感、単収縮、動悸)が報告されている。解放感およびいくつかの症例では喜びを伴うが、その後の良心の呵責をしばしば伴う、攻撃的行為が頻繁に報告されている。
【０３０６】
他の態様では、統合失調症スペクトラム障害の処置のための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の式(I)〜(XVI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む方法が提供される。統合失調症スペクトラム障害の例としては統合失調症、統合失調感情障害、精神病状態、および記憶障害が挙げられる。
【０３０７】
他の態様では、概日リズム関連障害の処置のための方法であって、それを必要とする対象に、有効量の式(I)〜(XVI-k)の構造を有する化合物、またはその薬学的に許容される異性体、ラセミ体、水和物、溶媒和物、同位体、もしくは塩、あるいはそれを含む薬学的組成物を、有益な効果を該対象に与えるために十分な頻度および期間で投与する段階を含む方法が提供される。概日リズム睡眠障害は、体内の睡眠覚醒リズム(体内時計)と体外の明暗サイクルとの間の脱同調または不整合により引き起こされる。概日リズム障害(位相変位障害と呼ばれることもある)としては、毎日の就寝を遅らせ、夜間睡眠パターンを異常にし、かつ/または日中に覚醒し続けることを困難にする、時差ぼけ、交代勤務、または睡眠相の種類の変化に関連する睡眠障害が挙げられる。原因は体内であることもあれば(例えば睡眠相後退症候群もしくは睡眠相前進症候群、または非24時間睡眠覚醒症候群)、体外であることもある(例えば時差ぼけ、交代勤務)。原因が体外である場合、温度およびホルモン分泌を含む他の概日体内リズムが明暗サイクルと同調しなくなることがあり(外的脱同調)、また、互いに同調しなくなることがあり(内的脱同調)、これらの変化は、不眠および過度の眠気に加えて悪心、倦怠感、易怒性、およびうつ病を引き起こすことがある。また、心血管障害および代謝障害の危険性が増加することがある。本発明の化合物は、うつ病、時差ぼけ、交代勤務症候群、睡眠障害、緑内障、生殖障害、がん、月経前症候群、免疫障害、炎症性関節疾患、および神経内分泌障害、非24時間障害などの概日リズム関連障害を処置するために有用である。
【０３０８】
また、本発明の化合物を、神経性食欲不振症、過食症、気分障害、うつ病、不安、睡眠障害、嗜癖性障害、パニック発作、恐怖症、強迫観念、痛覚障害(線維筋痛症)、物質依存症、出血性ストレス、筋痙縮、および低血糖などの神経精神障害の処置または予防において使用することができる。嗜癖性障害は物質乱用または嗜癖および強制行動に関連する障害を含む。
【０３０９】
また、本発明の化合物を、免疫抑制、妊娠障害、および視床下部下垂体副腎皮質系機能障害などの慢性ストレス状態の処置または予防において使用することができる。
【０３１０】
また、本発明の化合物を、原発性または続発性月経困難症、早期分娩または子宮内膜症、男性または女性性機能障害、高血圧、慢性心不全、バソプレシンの不適切な分泌、肝硬変、およびネフローゼ症候群などの障害の処置において使用することができる。
【０３１１】
また、本発明の化合物を、疲労およびその症候群、ACTH依存性障害、心障害、疼痛、胃内容排出の変化、糞便排泄の変化(大腸炎、過敏性腸症候群、もしくはクローン病)、または酸分泌の変化、高血糖、免疫抑制、炎症過程(関節リウマチおよび変形性関節症)、多重感染症、敗血症性ショック、がん、喘息、乾癬、ならびにアレルギーなどの、ストレスにより生じる任意の病態の処置または予防において使用することができる。
【０３１２】
また、本発明の化合物を、意識/注意力、および/または環境に対する情動反応性を増加させ、順応をより容易にする、精神刺激薬として使用することができる。
【０３１３】
本発明の化合物を、治癒において、鎮痛において、不安緩解において、疼痛の予防において、不安、うつ病、統合失調症、自閉症、または強迫性症候群の予防において、母性行動(子どもによる母親の認識および受容の促進)ならびに社会的行動において、記憶において、飲食物摂取、薬物依存、退薬、および性的動機づけの調節において、高血圧、低ナトリウム血症、心不全、アテローム性動脈硬化症、血管新生、腫瘍増殖、カポジ肉腫において、脂肪細胞による脂肪貯蔵の調節において、高脂血症、高トリグリセリド血症、およびメタボリックシンドロームの制御において、使用することができる。
【０３１４】
また、本発明の化合物を、小細胞肺がんもしくは乳がんなどのがん; 低ナトリウム血性脳症; 肺症候群; メニエール病; 高眼圧; 緑内障; 白内障; 肥満; I型およびII型糖尿病; アテローム性動脈硬化症; メタボリックシンドローム; 高脂血症; インスリン抵抗性; または高トリグリセリド血症の処置において; 特に腹部手術後の術後処置において; 自閉症; 高コルチゾール血症; 高アルドステロン血症; 褐色細胞腫; クッシング症候群; 子癇前症; 排尿障害; または早漏の処置において使用することができる。
【０３１５】
式(I)の構造および式(II)〜(XVI-k)の亜構造を有する化合物を、当業者に公知の標準的合成技術を使用して合成することができる。例えば、本発明の化合物を、反応スキーム1〜5に記載の一般的合成手順を使用して合成することができる。
【０３１６】
これに関して、本明細書に記載の反応、プロセス、および合成方法は、以下の実験セクションに記載される特定の条件に限定されるものではなく、むしろ当業者に対する指針として意図されている。例えば、反応を任意の好適な溶媒、または変換を行うために必要な他の試薬中で行うことができる。一般に、好適な溶媒は、反応が行われる温度(すなわち凍結温度から沸点までの範囲でありうる温度)で反応物、中間体、または生成物と実質的に反応しないプロトン性または非プロトン性溶媒である。所与の反応を1種の溶媒中または2種以上の溶媒の混合物中で行うことができる。特定の反応に応じて、反応後の特定のワークアップに好適な溶媒を使用することができる。
【０３１７】
反応スキーム1
2020532592.tif 000225
試薬および条件: i) トリホスゲン、DIPEA、DCM; ii) 1、DIPEA、DMF; iii) TFA、DCM; iv) R3BrまたはR3Cl、RuphosまたはXantphos、Cs2CO3、Pd(OAc)2、1,4-ジオキサン; v) R3Br、BINAP、Pd2(dba)3、NaOtBu、1,4-ジオキサン; vi) R3Cl、DIPEA、ジオキサン; vii) R3Cl、NaOtBu、ジオキサン。
【０３１８】
反応スキーム2
2020532592.tif 000226
試薬および条件: i) R3BrまたはR3Cl、Ruphos、Cs2CO3、Pd(OAc)2、1,4-ジオキサン; ii) Pd/C、EtOH; iii) 4、トリホスゲン、DIPEA、DCM; iv) 3、DIPEA、DMF。
【０３１９】
反応スキーム3
2020532592.tif 000227
試薬および条件: i) R3BrまたはR3Cl、Ruphos、Cs2CO3、Pd(OAc)2、1,4-ジオキサン; ii) TFA、DCM; iii) 4、トリホスゲン、DIPEA、DCM; iv) 3、DIPEA、DMF。
【０３２０】
反応スキーム4
2020532592.tif 000228
試薬および条件: i) トリホスゲン、DIPEA、DCM; ii) 2、DIPEA、DMF; iii) TFA、DCM; iv) BrCN、DIPEA、DCM; v) HONH3Cl、NEt3、EtOH; vi) Ac2O、Pyr。
【０３２１】
反応スキーム5
2020532592.tif 000229
試薬および条件: i) R3BrまたはR3Cl、Ruphos、Cs2CO3、Pd(OAc)2、1,4-ジオキサン; ii) Pd/C、メチルシクロヘキサジエン、EtOH; iii) 4、トリホスゲン、DIPEA、DCM; iv) 3、DIPEA、DMF; v) Deoxo-Fluor(登録商標)、DCM; vi) NaBH4、MeOH; vii) Deoxo-Fluor(登録商標)、DCM; viii) NaH、MeI、DMF; ix) MeLi、THF。
【実施例】
【０３２２】
本発明を以下の実施例によってさらに説明する。以下の実施例は非限定的なものであり、本発明の様々な局面を代表するものでしかない。本明細書に開示される構造内の実線および点線の楔形は相対立体化学配置を示し、絶対立体化学配置は特に記載または描写される場合にのみ示される。
【０３２３】
一般的方法
すべての出発原料および試薬は市販されており、そのまま使用した。別途記載がない限り、1H核磁気共鳴(NMR)分光法を、400MHzで動作するBruker機器を使用して、記載の溶媒を使用して室温近傍で行った。すべての場合において、NMRデータは提示された構造と一致していた。特徴的化学シフト(δ)を、主ピークの呼称に関する慣習的な略語、例えばs、一重項; d、二重項; t、三重項; q、四重項; dd、二重項の二重項; dt、三重項の二重項; m、多重項; br、ブロードを使用して百万分率で示す。分取HPLC精製を、Waters Fractionlynx分取HPLCシステム(2525ポンプ、2996/2998 UV/VIS検出器、2767リキッドハンドラー)または同等のHPLCシステム、例えばGilson Trilution UV指向性システムを使用する逆相HPLCにより行った。Waters 2767リキッドハンドラーはオートサンプラーおよびフラクションコレクターの両方として機能した。化合物の分取精製に使用したカラムはWaters Sunfire OBD Phenomenex Luna Phenyl Hexyl(10μm 21.2x150mm、10μm)またはWaters Xbridge Phenyl(10μm 19x150mm、5μm)であった。適切なフォーカスグラジエントを酸性または塩基性条件下でアセトニトリルおよびメタノール溶媒系に基づいて選択した。酸性/塩基性条件下で使用した調整剤はそれぞれギ酸(0.1% V/V)および炭酸水素アンモニウム(10mM)であった。精製をWaters Fractionlynxソフトウェアによって210〜400nmでのモニタリングを通じて制御し、260nmの収集閾値で開始し、Fractionlynxを使用する際に、標的分子イオンの存在をAPi条件下で観測した。収集画分をLCMS(Waters SQD付きWaters Acquityシステム)により分析した。順相フラッシュカラムクロマトグラフィーをBiotage Isoleraシステムを利用して行った。シリカゲルカラムをInterchimまたはBiotageから購入した。移動相は様々な比のヘキサン中酢酸エチルまたはジクロロメタン中メタノールとし、画分収集を紫外吸光度254nmで開始した。分析用高速液体クロマトグラフィー質量分析(HPLC-MS)を、HPもしくはWatersのDAD + Micromass ZQ、シングル四重極LC-MS、またはQuattro Micro LC-MS-MSを利用して行った。方法1: RP-HPLCカラムはPhenomenex Luna 5μm C18 (2)、(100x4.6mm)とした。移動相 水(0.1%ギ酸)中5〜95%アセトニトリル勾配、流量2.0mL/分、および実行時間6.5分。方法2: RP-HPLCカラムはWaters Xterra MS 5μm C18、100x4.6mmとした。移動相 水(10mM重炭酸アンモニウム(炭酸水素アンモニウム))中5〜95%アセトニトリル。
【０３２４】
略語
2020532592.tif 000230
【０３２５】
実施例1
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(3-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号1-1)の合成
2020532592.tif 000231
【０３２６】
工程1
tert-ブチル 6-(7-クロロ-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-カルボニル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレート
2020532592.tif 000232
0℃に冷却したトリホスゲン(735mg、2.48mmol、1.10当量)のDCM(4mL)溶液に7-クロロ-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン(382mg、2.25mmol、1.10当量)、DIPEA(427μL、2.5mmol、1.2当量)のDCM溶液を滴下した。反応混合物を室温で3時間攪拌し、減圧濃縮した。残渣のDMF(7mL)溶液にtert-ブチル 2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレートヘミシュウ酸塩(500mg、2.05mmol、1.0当量)、DIPEA(428μL、2.5mmol、1.2当量)を加え、混合物を室温で終夜攪拌した。混合物を水で希釈し、DCMで抽出した。有機層を分離し、減圧濃縮し、残渣をイソヘキサン中0〜90% EtOAcで溶離するシリカフラッシュカラムクロマトグラフィーを使用して精製した。ジエチルエーテル中でトリチュレートした後、濾過して標記化合物(438mg、収率49%)を得た。
2020532592.tif 000233
【０３２７】
工程2
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン 2,2,2-トリフルオロ酢酸塩
2020532592.tif 000234
tert-ブチル 6-(7-クロロ-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-カルボニル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレート(438mg、1.11mmol、1.10当量)のDCM(30mL)溶液にTFA(3.0mL)を滴下した。混合物を室温で45分間攪拌し、減圧濃縮し、残渣をジエチルエーテルでトリチュレートして標記化合物を灰色固体(496mg、定量)として得た。
2020532592.tif 000235
【０３２８】
工程3
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(3-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号1-1)
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン 2,2,2-トリフルオロ酢酸塩(62mg、0.152mmol、1.0当量)、2-ブロモ-3-フルオロピリジン(37mg、0.21mmol、1.4当量)、RuPhos(20mg、0.042mmol、0.3当量)、炭酸セシウム(274mg、0.84mmol、5.5当量)の1,4-ジオキサン中混合物を、窒素を使用して30分間脱気した。酢酸パラジウム(5mg、0.02mmol、0.1当量)を加え、混合物を80℃に終夜加熱した。混合物をH2Oで希釈し、DCMで抽出し、有機相を減圧濃縮した。残渣を分取HPLCを使用して精製して標記化合物(20mg、収率24%)を得た。
2020532592.tif 000236
【０３２９】
以下の表3に列挙される化合物番号1-2〜1-83を、実施例1に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。同様に、化合物番号1-84および1-90を、実施例1に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。
【０３３０】
（表３）
2020532592.tif 000237
2020532592.tif 000238
2020532592.tif 000239
2020532592.tif 000240
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2020532592.tif 000250
2020532592.tif 000251
【０３３１】
実施例2
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(ピリジン-4-イルメチル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号2-1)の合成
2020532592.tif 000252
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン 2,2,2-トリフルオロ酢酸塩(110mg、0.27mmol、1.0当量)、4-ピリジンカルボキシアルデヒド(34mg、0.32mmol、1.2当量)、Et3N(0.075mL、0.54mmol、2.0当量)のDCM(3mL)中混合物を室温で10分間攪拌した。トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム(131mg、0.62mmol、2.3当量)を加え、混合物を室温で終夜攪拌した。反応混合物を水で希釈し、EtOAc(x2)で抽出した。有機相を一緒にし、乾燥させ(MgSO4)、減圧濃縮した。残渣を分取HPLCを使用して精製して標記化合物(71mg、収率68%)を得た。
2020532592.tif 000253
【０３３２】
以下の表4に列挙される化合物番号2-2〜2-6を、実施例2に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。
【０３３３】
（表４）
2020532592.tif 000254
【０３３４】
実施例3
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(5-メチルピリダジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号3-1)の合成
2020532592.tif 000255
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン 2,2,2-トリフルオロ酢酸塩(80mg、0.196mmol、1.0当量)、Xantphos(24mg、0.04mmol、0.2当量)、炭酸セシウム(273mg、0.84mmol、4.3当量)、および3-クロロ-5-メチルピリダジン(81mg、0.21mmol、1.1当量)の1,4-ジオキサン(2mL)中混合物を、窒素を使用して30分間脱気した。Pd2(dba)3(19mg、0.02mmol、0.1当量)を加え、混合物を100℃に終夜加熱した。混合物をセライトパッドを通じて濾過し、減圧濃縮した。残渣をDCMと飽和NaHCO3溶液との間で分配し、有機相を分離し、乾燥させ、減圧濃縮した。残渣を分取HPLCを使用して精製して標記化合物(5mg、収率6%)を得た。
2020532592.tif 000256
【０３３５】
実施例4
(6-(ベンゾ[d]イソオキサゾール-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)メタノン(化合物番号4-1)の合成
2020532592.tif 000257
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン 2,2,2-トリフルオロ酢酸塩(60mg、0.147mmol、1.0当量)および3-クロロベンゾ[d]イソオキサゾール(59mg、0.2mmol、1.36当量)のピリジン中混合物を90℃に3時間、続いて70℃に終夜加熱した。反応液を水で希釈し、DCM(x2)で抽出した。有機相を一緒にし、10%クエン酸水溶液で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、減圧濃縮した。残渣を分取HPLCを使用して精製して標記化合物(38mg、収率45%)を得た。
2020532592.tif 000258
【０３３６】
以下の表5に列挙される化合物番号4-2および4-3を、実施例4に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。
【０３３７】
（表５）
2020532592.tif 000259
【０３３８】
実施例5
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(イミダゾ[1,2-a]ピリジン-7-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン ギ酸塩(化合物番号5-1)の合成
2020532592.tif 000260
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン 2,2,2-トリフルオロ酢酸塩(80mg、0.20mmol、1.0当量)、7-ブロモイミダゾ[1,2-a]ピリジン(41mg、0.21mmol、1.05当量)、BINAP(17mg、0.03mmol、0.15当量)、ナトリウムtert-ブトキシド(60mg、0.63mmol、3.15当量)の1,4-ジオキサン(1.5mL)中混合物を、窒素を使用して30分間脱気した。Pd2(dba)3(6.0mg、0.01mmol、0.05当量)を加え、混合物を80℃に終夜加熱した。混合物をセライトパッドを通じて濾過し、減圧濃縮した。残渣のDCM溶液を飽和NaHCO3溶液で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、減圧濃縮した。残渣を分取HPLCを使用して精製して標記化合物(57mg、収率66%)を得た。
2020532592.tif 000261
【０３３９】
実施例6
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(5-フルオロ-4-メチルピリミジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号6-1)の合成
2020532592.tif 000262
2-クロロ-5-フルオロ-4-メチルピリミジン(36mg、0.19mmol、1.4当量)および(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン 2,2,2-トリフルオロ酢酸塩(42mg、0.10mmol、1.0当量)の1,4-ジオキサン(2.5mL)中混合物をマイクロ波条件下で120℃に20分間加熱した。DIPEA(0.028mL、0.16mmol、1.6当量)を加え、混合物をマイクロ波条件下で150℃に1.5時間加熱した。混合物を減圧濃縮し、残渣をDCMに溶解させ、10%クエン酸水溶液で洗浄し、減圧濃縮した。残渣を分取HPLCを使用して精製して標記化合物(17mg、収率30%)を得た。
2020532592.tif 000263
【０３４０】
化合物番号6-2、6-3、6-4、6-5、6-6、6-7、および6-8を、実施例6に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製する。
【０３４１】
実施例7
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(5-メチル-1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号7-1)の合成
2020532592.tif 000264
【０３４２】
工程1
6-(7-クロロ-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-カルボニル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボニトリル
2020532592.tif 000265
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン 2,2,2-トリフルオロ酢酸塩(280mg、0.69mmol、1.0当量)、DIPEA(0.163mL、0.94mmol、1.4当量)のDCM(2mL)中氷冷混合物に臭化シアン(95mg、0.9mmol、1.3当量)を加えた。混合物を氷中で1時間攪拌した後、水を加え、混合物をDCM(x2)で抽出した。有機相を一緒にし、飽和NaHCO3溶液で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、減圧濃縮した。粗残渣を精製せずに次の工程に持ち越した。
【０３４３】
工程2
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(5-メチル-1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号7-1)
粗材料6-(7-クロロ-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-カルボニル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボニトリル(85mg、0.27mmol、1.0当量)、Et3N(0.039mL、0.28mmol、1.05当量)、およびヒドロキシルアミン塩酸塩(20mg、0.28mmol、1.05当量)のEtOH(1mL)懸濁液を80℃に1時間加熱した。混合物を減圧濃縮した後、ピリジン(1mL)および無水酢酸(0.027mL、0.28mmol、1.05当量)を加えた。得られた混合物を80℃に1時間加熱した後、減圧濃縮した。残渣を分取HPLCを使用して精製して標記化合物(15mg、収率14%)を得た。
2020532592.tif 000266
【０３４４】
実施例8
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(6-メトキシピリジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号8-1)の合成
2020532592.tif 000267
【０３４５】
工程1
2-ベンジル-6-(6-メトキシピリジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン
2020532592.tif 000268
2-ベンジル-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン(400mg、1.44mmol、1.0当量)、5-ブロモ-2-メトキシピリジン(188μL、1.44mmol、1.0当量)、RuPhos(134mg、0.29mmol、0.2当量)、および炭酸セシウム(1.40g、4.32mmol、3当量)の1,4-ジオキサン(8mL)中混合物を、窒素を使用して30分間脱気し、Pd(OAc)2(32mg、0.14mmol、0.1当量)を加えた。混合物を80℃に2時間加熱した。混合物をEtOAcで希釈し、セライトを通じて濾過した。有機相を分離し、LiCl水溶液で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、濾過し、減圧濃縮して黄色油状物を得た。粗材料をDCM中0〜10%メタノールのシリカフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して標記化合物を白色固体(208mg、収率49%)として得た。
2020532592.tif 000269
【０３４６】
工程2
2-(6-メトキシピリジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン
2020532592.tif 000270
2-ベンジル-6-(6-メトキシピリジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン(208mg、0.75mmol、1.0当量)および1-メチル-1,4-シクロヘキサジエン(0.5mL、4.49mmol、6当量)のEtOH(6mL)中混合物に10%パラジウム炭素(120mg、水分50%)を加え、混合物を還流温度に4時間加熱した。追加のパラジウム炭素(100mg、水分50%)および1-メチル-1,4-シクロヘキサジエン(0.5mL、4.49mmol、6当量)を加え、混合物を還流温度に3時間加熱した。混合物をセライトを通じて濾過し、減圧濃縮して標記化合物を油色固体(167mg、定量)として得た。
2020532592.tif 000271
【０３４７】
工程3
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(6-メトキシピリジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号8-1)
2020532592.tif 000272
0℃に冷却したトリホスゲン(87.4mg、0.3mmol、1.5当量)のDCM(1mL)溶液に7-クロロ-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン(33mg、0.2mmol、1.0当量)およびDIPEA(122μL、0.22mmol、1.1当量)のDCM(1mL)中混合物を滴下し、混合物を0℃で2時間攪拌した。混合物を減圧濃縮し、DMF(2mL)、続いてDIPEA(122μL、0.22mmol、1.1当量)および2-(6-メトキシピリジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン(50mg、0.2mmol、1.0当量)を加え、混合物を室温で終夜攪拌した。混合物を減圧濃縮し、残渣を分取HPLCで精製して標記化合物(26mg、収率35%)を得た。
2020532592.tif 000273
【０３４８】
以下の表6に列挙される化合物番号8-2〜8-17を、実施例8に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。同様に、化合物番号8-18〜8-20を、実施例8に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。
【０３４９】
（表６）
2020532592.tif 000274
2020532592.tif 000275
2020532592.tif 000276
【０３５０】
実施例9
(7-クロロ-3-メチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(ピリダジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号9-1)の合成
2020532592.tif 000277
【０３５１】
工程1
tert-ブチル 6-(ピリダジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレート
2020532592.tif 000278
tert-ブチル 2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレート シュウ酸塩(1.0g、3.47mmol、1.0当量)、3-ブロモピリダジン(730mg、4.6mmol、1.3当量)、2-ジ-tert-ブチルホスフィノ-2',4',6'-トリイソプロピルビフェニル(150mg、0.35mmol、0.1当量)、およびナトリウムtert-ブトキシド(1.68g、17.5mmol、5当量)のtert-ブタノール(35mL)中混合物を、窒素を使用して30分間脱気し、[2-(ジ-tert-ブチルホスフィノ)-2',4',6'-トリイソプロピル-1,1'-ビフェニル][2-(2-アミノエチル)フェニル)]パラジウム(II) クロリド(240mg、0.35mmol、0.1当量)を加えた。混合物を80℃に16時間加熱した。混合物をEtOAcで希釈し、セライトを通じて濾過した。有機相を分離し、NaCl水溶液で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、濾過し、減圧濃縮して褐色油状物を得た。粗材料をDCM中0〜10%メタノールのシリカフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して標記化合物を黄色固体(530mg、収率55%)として得た。
2020532592.tif 000279
【０３５２】
工程2
2-(ピリダジニル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン 2,2,2-トリフルオロ酢酸塩
2020532592.tif 000280
tert-ブチル 6-(ピリダジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレート(621mg、2.25mmol、1.0当量)のDCM(20mL)溶液にTFA(3.0mL)を滴下した。混合物を室温で45分間攪拌し、減圧濃縮し、残渣をジエチルエーテルでトリチュレートして標記化合物を黄色固体(280mg、収率43%)として得た。m/z 177 (M+H)+。
【０３５３】
工程3
(7-クロロ-3-メチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(ピリダジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号9-1)
2020532592.tif 000281
実施例1の工程3と同様にして標記化合物を調製した(91mg、収率24%)。
2020532592.tif 000282
【０３５４】
以下の表7に列挙される化合物番号9-2〜9-9を、実施例9に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。同様に、化合物番号9-10〜9-32を、実施例9に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。
【０３５５】
（表７）
2020532592.tif 000283
2020532592.tif 000284
【０３５６】
実施例10
(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(メチルスルホニル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号10-1)の合成
2020532592.tif 000285
0℃に冷却した(7-クロロ-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン 2,2,2-トリフルオロ酢酸塩(100mg、0.25mmol、1.0当量)(実施例1の工程2より)のDCM(3mL)溶液にEt3N(75.2μL、0.54mmol、2.20当量)および塩化メタンスルホニル(20.9μL、0.27mmol、1.10当量)を加え、混合物を0℃で30分間攪拌した。混合物を水で希釈し、濾過し、固体残渣を分取HPLCで精製して標記化合物(62mg、68%)を得た。
2020532592.tif 000286
【０３５７】
同様に、化合物番号10-2〜10-8を、実施例10に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。
【０３５８】
実施例11
(7-クロロ-3-エチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(ピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号11-1)の合成
2020532592.tif 000287
【０３５９】
工程1
7-クロロ-3-エチル-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン
2020532592.tif 000288
2-アミノ-5-クロロフェノール(200mg、1.4mmol、1.0当量)および炭酸カリウム(232mg、1.6mmol、1.2当量)のアセトン中氷冷混合物に1-ブロモブタン-2-オン(232mg、1.54mmol、1.10当量)を加えた後、混合物を室温で3時間攪拌した。混合物をセライトを通じて濾過し、減圧濃縮して標記化合物を褐色油状物(373mg、収率98%)として得た。
2020532592.tif 000289
【０３６０】
工程2
7-クロロ-3-エチル-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン
2020532592.tif 000290
7-クロロ-3-エチル-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン(272mg、1.39mmol、1.0当量)のエタノール(5mL)溶液にNaBH4(63mg、1.67mmol、1.2当量)を加え、混合物を室温で15分間攪拌した。水を加え、混合物をEtOAc(30mL)で抽出し、有機相を乾燥させ(MgSO4)、濾過し、減圧濃縮した。粗材料をイソヘキサン中20〜100% EtOAcのシリカフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して標記化合物を透明油状物(152mg、収率55%)として得た。
2020532592.tif 000291
【０３６１】
工程3
tert-ブチル 6-(7-クロロ-3-エチル-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-カルボニル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレート
2020532592.tif 000292
実施例1の工程3と同様にして標記化合物を調製した(389mg、収率91%)。
2020532592.tif 000293
【０３６２】
工程4
(7-クロロ-3-エチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(ピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号11-1)
2020532592.tif 000294
tert-ブチル 6-(7-クロロ-3-エチル-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-カルボニル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレート(389mg、0.92mmol、0.9当量)のDCM(30mL)溶液にTFA(3.0mL)を滴下した。混合物を室温で45分間攪拌し、減圧濃縮し、残渣をさらに精製せずに使用した。実施例1の工程3と同様にして標記化合物を調製した(59mg、収率47%)。
2020532592.tif 000295
【０３６３】
実施例12
(7-フルオロ-3-メチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号12-1)の合成
2020532592.tif 000296
0℃に冷却したトリホスゲン(98mg、0.33mmol、1.1当量)のDCM(1mL)溶液に7-フルオロ-3-メチル-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン(50mg、0.30mmol、1.0当量)およびDIPEA(0.11mL、0.66mmol、2.2当量)のDCM(1.5mL)中混合物を滴下した。混合物を室温で3時間攪拌し、減圧濃縮した。DMF(3mL)中溶液としての残渣を2-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン(110mg、0.58mmol、1.9当量)およびDIPEA(0.12mL、0.632mmol、2.10当量)のDMF(3mL)中混合物に加え、混合物を室温で終夜攪拌した。水を加え、混合物をEtOAc(x3)で抽出し、有機相を一緒にし、ブラインで洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、濾過し、減圧濃縮した。残渣を分取HPLCで精製して標記化合物(62mg、収率28%)を得た。
2020532592.tif 000297
【０３６４】
実施例13
(6-クロロ-4-ヒドロキシ-3,4-ジヒドロキノリン-1(2H)-イル)(6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号13-1)の合成
2020532592.tif 000298
【０３６５】
工程1
2-ベンジル-6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン
2020532592.tif 000299
2-ベンジル-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン シュウ酸塩(1.0g、4.29mmol、1.0当量)、2-ブロモ-5-フルオロピリジン(.75g、4.29mmol、1.0当量)、RuPhos(0.4g、0.857mmol、0.2当量)、および炭酸セシウム(4.2g、12.9mmol、3当量)の1,4-ジオキサン懸濁液を、窒素を使用して5分間脱気した。Pd(OAc)2(0.096g、0.429mmol、0.1当量)を加え、混合物を80℃に終夜加熱した。水(50mL)を加え、混合物をEtOAc(x3)で抽出し、一緒にした有機層をブラインで洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、濾過し、減圧濃縮した。残渣をDCM中0〜5% MeOHで溶離するフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して標記化合物を黄色油状物(731mg、収率60%)として得た。
2020532592.tif 000300
【０３６６】
工程2
2-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン
2020532592.tif 000301
2-ベンジル-6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン(0.731g、2.58mmol、1.0当量)および1-メチル-1,4-シクロヘキサジエン(1.45mL、12.9mmol、5.0当量)のエタノール(12mL)溶液に10%パラジウム炭素(0.365g、水分50%)を加え、混合物を還流温度に3時間加熱した。追加の1-メチル-1,4-シクロヘキサジエン(1.45mL、12.9mmol、5.0当量)および10%パラジウム炭素に(0.365g、水分50%)を加え、混合物を還流温度に5時間加熱した。反応混合物を濾過し、減圧濃縮して標記化合物を黄色残渣(0.434g、収率87%)として得た。
2020532592.tif 000302
【０３６７】
工程3
6-クロロ-1-(6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボニル)-2,3-ジヒドロキノリン-4(1H)-オン
2020532592.tif 000303
0℃に冷却した6-クロロ-2,3-ジヒドロキノリン-4(1H)-オン(0.10g、0.551mmol、1.0当量)およびDIPEA(0.21mL、1.21mmol、2.2当量)のDCM中混合物にトリホスゲン(0.18g、0.606mmol、1.1当量)を加え、混合物を室温で3時間攪拌した。反応混合物を濾過し、減圧濃縮して黄色残渣を得た。残渣をDMF(2.5mL)中溶液として2-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン(0.21g、1.09mmol、2.0当量)およびDIPEA(0.23mL、1.3mmol、2.4当量)のDMF(5mL)溶液に加え、室温で終夜攪拌した。水(50mL)を加え、混合物をEtOAc(x3)で抽出し、一緒にした有機層をブラインで洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、濾過し、減圧濃縮した。残渣をDCM中0〜5% MeOHで溶離するシリカフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して標記化合物を黄色油状物(266mg、収率61%)として得た。
2020532592.tif 000304
【０３６８】
工程4
6-クロロ-4-ヒドロキシ-3,4-ジヒドロキノリン-1(2H)-イル)(6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号13-1)
2020532592.tif 000305
6-クロロ-1-(6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボニル)-2,3-ジヒドロキノリン-4(1H)-オン(0.262g、0.664mmol、1.0当量)のMeOH中冷却溶液に水素化ホウ素ナトリウム(0.025g、0.664mmol、1.0当量)を加え、混合物を室温で5分間攪拌した。飽和NaHCO3溶液を加え、混合物をEtOAc(x3)で抽出した。有機相を一緒にし、ブラインで洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、濾過し、減圧濃縮した。残渣を分取HPLCで精製して標記化合物を白色固体(114mg、収率42%)として得た。
2020532592.tif 000306
【０３６９】
以下の表8に列挙される化合物番号13-2〜13-5を、実施例13に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。同様に、化合物番号13-6および13-7を、実施例13に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。
【０３７０】
（表８）
2020532592.tif 000307
【０３７１】
実施例14
(6-クロロ-4-フルオロ-3,4-ジヒドロキノリン-1(2H)-イル)(6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号14-1)の合成
2020532592.tif 000308
0℃に冷却した6-クロロ-4-ヒドロキシ-3,4-ジヒドロキノリン-1(2H)-イル)(6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(120mg、0.3mmol、1.0当量)のDCM(20mL)溶液にDeoxo-Fluor(登録商標)(THF中50%溶液; 190μL、0.4mmol、1.33当量)を2分かけて加え、混合物を室温で3時間攪拌した。反応混合物を飽和NaHCO3溶液で処理し、CHCl3(x3)で抽出し、一緒にした有機層を減圧濃縮した。残渣をイソヘキサン中20〜80% EtOAcで溶離するシリカフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して標記化合物を黄色油状物(29mg、収率24%)として得た。
2020532592.tif 000309
【０３７２】
実施例15
(6-クロロ-4-ヒドロキシ-4-メチル-3,4-ジヒドロキノリン-1(2H)-イル)(6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号15-1)の合成
2020532592.tif 000310
-78℃に冷却した6-クロロ-1-(6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボニル)-2,3-ジヒドロキノリン-4(1H)-オン(120mg、0.3mmol、1.0当量)のTHF(3mL)溶液にメチルリチウム(0.44mL、0.7mmol、2.3当量)を加え、混合物を-78℃で1時間攪拌した。混合物を0℃に昇温させ、飽和NH4Cl溶液で処理し、DCMで抽出し、有機相を減圧濃縮した。残渣を分取HPLCで精製して標記化合物を白色固体(17.3mg、収率11%)として得た。
2020532592.tif 000311
【０３７３】
実施例16
(6-クロロ-4-メトキシ-3,4-ジヒドロキノリン-1(2H)-イル)(6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号16-1)の合成
2020532592.tif 000312
-0℃に冷却した6-クロロ-4-ヒドロキシ-3,4-ジヒドロキノリン-1(2H)-イル)(6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(120mg、0.3mmol、1.0当量)のDMF(3mL)溶液に水素化ナトリウム(13mg、0.33mmol、1.1当量、ミネラルオイル中60%分散液)を加え、混合物を0℃で30分間攪拌した。混合物にヨードメタン(51mg、0.36mmol、1.2当量)を加えた。混合物を室温に昇温させ、2時間攪拌した。混合物を飽和NH4Cl溶液で処理し、EtOAcで抽出し、有機相を減圧濃縮した。残渣を分取HPLCで精製して標記化合物を帯黄白色固体(9mg、収率7%)として得た。
2020532592.tif 000313
【０３７４】
実施例17
(6-クロロ-4,4-ジフルオロ-3,4-ジヒドロキノリン-1(2H)-イル)(6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号17-1)の合成
2020532592.tif 000314
0℃に冷却した6-クロロ-1-(6-(5-フルオロピリジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボニル)-2,3-ジヒドロキノリン-4(1H)-オン(120mg、0.3mmol、1.0当量)のDCM(20mL)溶液にDeoxo-Fluor(登録商標)(THF中50%溶液; 380μL、0.8mmol、2.66当量)を2分かけて加え、混合物を室温で3時間攪拌した。反応混合物を飽和NaHCO3溶液で処理し、CHCl3(x3)で抽出し、一緒にした有機層を減圧濃縮した。残渣をイソヘキサン中20〜80% EtOAcで溶離するシリカフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して標記化合物を黄色油状物(7mg、収率5%)として得た。
2020532592.tif 000315
【０３７５】
実施例18
(7-フルオロ-3-メチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(ピリミジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号18-1)の合成
2020532592.tif 000316
【０３７６】
工程1
tert-ブチル 6-(ピリミジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレートの合成
2020532592.tif 000317
tert-ブチル 2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレート ヘミシュウ酸塩(10.0g、3.47mmol、1.0当量)、2-クロロピリミジン(5.9g、52mmol、1.5当量)の1,4-ジオキサン(100mL)およびN,N-ジメチルホルムアミド(50mL)中混合物をN,N-ジイソプロピルエチルアミン(24.2mL、138.7mmol、4.0当量)で処理し、混合物を100℃に加熱し、終夜攪拌した。混合物を減圧濃縮し、残渣をDCM(100mL)に溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、水層をDCM(2x50mL)で抽出した。有機層を相分離カートリッジに通し、減圧濃縮した。残渣をイソヘキサン中20〜100% EtOAcで溶離するフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して標記化合物を帯黄白色固体(7.91g、収率55%)として得た。
2020532592.tif 000318
【０３７７】
工程2
2-(ピリミジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン ビス(2,2,2-トリフルオロ酢酸塩)の合成
2020532592.tif 000319
tert-ブチル 6-(ピリミジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレート(7.65g、27.7mmol、1.0当量)のDCM(150mL)溶液にTFA(63.6mL、830.5mmol、30当量)を滴下した。混合物を室温で45分間攪拌し、減圧濃縮し、残渣をジエチルエーテルでトリチュレートして標記化合物を白色固体として得た。
2020532592.tif 000320
【０３７８】
工程3
(7-フルオロ-3-メチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(ピリミジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号18-1)の合成
2020532592.tif 000321
0℃に冷却したトリホスゲン(34mg、0.114mmol、0.33当量)のDCM(2mL)溶液に7-フルオロ-3-メチル-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン(50mg、0.29mmol、1.0当量)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.057mL、0.33mmol、1.1当量)のDCM(2mL)溶液を滴下した。反応混合物を室温で4時間攪拌し、減圧濃縮した。残渣のN,N-ジメチルホルムアミド(2mL)溶液に2-(ピリミジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン ビス(2,2,2-トリフルオロ酢酸塩)(0.12g、0.29mmol、1.0当量)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.18mL、1.05mmol、3.5当量)のDMF(2mL)溶液を加え、混合物を室温で終夜攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で反応停止させ、DCMと水との間で分配した。水層をDCMで抽出し、一緒にした有機層を乾燥させ、減圧濃縮した。残渣を分取HPLCで精製して標記化合物を白色固体(65mg、収率26%)として得た。
2020532592.tif 000322
【０３７９】
以下の表9に列挙される化合物番号18-2〜18-5を、実施例18に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。
【０３８０】
（表９）
2020532592.tif 000323
【０３８１】
実施例19
(6,7-ジフルオロ-3-メチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(ピリミジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号19-1)の合成
2020532592.tif 000324
【０３８２】
工程1
エチル (4,5-ジフルオロ-2-ヨードフェニル)アラニネートの合成
2020532592.tif 000325
乳酸エチル(0.45mL、3.92mmol、1.0当量)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.72mL、4.12mmol、1.05当量)のDCM(6mL)溶液を、無水トリフルオロメタンスルホン酸(0.68mL、4.04mmol、1.03当量)を0℃で滴下して処理し、10分間攪拌した。混合物を4,5-ジフルオロ-2-ヨードアニリン(1.0g、3.92mmol、1.0当量)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.68mL、3.92mmol、1.0当量)のDCM(8mL)溶液に0℃で滴下した。混合物をマイクロ波中、120℃で30分間加熱し、水とDCMとの間で分配した。有機層を乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をイソヘキサン中5〜10% EtOAcで溶離するフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して標記化合物を黄色油状物(0.92g、収率66%)として得た。
2020532592.tif 000326
【０３８３】
工程2
2-((4,5-ジフルオロ-2-ヨードフェニル)アミノ)プロパン-1-オールの合成
2020532592.tif 000327
エチル (4,5-ジフルオロ-2-ヨードフェニル)アラニネート(0.92g、2.60mmol、1.0当量)のエタノール(12mL)溶液を0℃で水素化ホウ素ナトリウム(0.29g、7.79mmol、3.0当量)によって数回に分けて処理し、4時間攪拌した。反応液を酢酸エチルおよび固体炭酸水素ナトリウムで反応停止させ、混合物を少量に濃縮した。混合物を水と酢酸エチルとの間で分配し、水層を酢酸エチル(2x50mL)で抽出した。一緒にした有機層を乾燥させ、減圧濃縮して標記化合物を黄色油状物(0.72g、収率88%)として得た。
2020532592.tif 000328
【０３８４】
工程3
6,7-ジフルオロ-3-メチル-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジンの合成
2020532592.tif 000329
2-((4,5-ジフルオロ-2-ヨードフェニル)アミノ)プロパン-1-オール(0.72g、2.30mmol、1.0当量)および1,10-フェナントロリン(83mg、0.46mmol、0.20当量)のジオキサン(10mL)中混合物を、該溶液に窒素を吹き込むことで脱気した。この溶液にナトリウムtert-ブトキシド(0.44g、4.60mmol、2.0当量)およびヨウ化銅(44mg、0.23mmol、0.1当量)を加え、混合物を100℃で50分間加熱した。得られた混合物をセライトを通じて濾過し、濃縮し、DCMと水との間で分配した。水層をDCM(2x50mL)で抽出し、一緒にした有機層を乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をイソヘキサン中0〜20% EtOAcで溶離するフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して標記化合物を褐色固体(0.31g、収率73%)として得た。(0.53g、収率64%)。
2020532592.tif 000330
【０３８５】
工程4
(6,7-ジフルオロ-3-メチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(ピリミジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号19-1)の合成
2020532592.tif 000331
0℃に冷却したトリホスゲン(22mg、0.074mmol、0.33当量)のDCM(2mL)溶液に6,7-ジフルオロ-3-メチル-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン(42mg、0.226mmol、1.0当量)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.043mL、0.25mmol、1.1当量)のDCM(2mL)溶液を滴下した。反応混合物を室温で2時間攪拌し、減圧濃縮した。残渣のN,N-ジメチルホルムアミド(1mL)溶液に2-(ピリミジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン ビス(2,2,2-トリフルオロ酢酸塩)(0.10g、0.23mmol、1.0当量)、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.137mL、0.248mmol、1.10当量)のDMF(2mL)溶液を加え、混合物を室温で終夜攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で反応停止させ、DCMと水との間で分配した。水層をDCMで抽出し、一緒にした有機層を乾燥させ、減圧濃縮した。残渣を分取HPLCで精製して標記化合物を帯黄白色固体(25mg、収率26%)として得た。
2020532592.tif 000332
【０３８６】
以下の表10に列挙される化合物番号19-2〜19-6を、実施例19に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。同様に、化合物番号19-7〜19-18を、実施例19に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。
【０３８７】
（表１０）
2020532592.tif 000333
2020532592.tif 000334
【０３８８】
実施例20
(7-クロロ-3-メチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(ピリジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号20-1)の合成
2020532592.tif 000335
【０３８９】
工程1
tert-ブチル 6-(ピリジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレートの合成
2020532592.tif 000336
tert-ブチル 2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレート シュウ酸塩(1.0g、3.47mmol、1.0当量)、3-ブロモピリジン(0.66g、4.16mmol、1.2当量)、RuPhos(0.32g、0.69mmol、0.2当量)、および炭酸セシウム(3.39g、10.41mmol、3.0当量)の1,4-ジオキサン(18mL)中混合物を、窒素を使用して30分間脱気した。酢酸パラジウム(78mg、0.34mmol、0.1当量)を加え、混合物を80℃に終夜加熱した。混合物を水とDCMとの間で分配し、有機層を乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をイソヘキサン中0〜100% EtOAcで溶離するフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して標記化合物を帯黄白色固体(0.43g、収率46%)として得た。
2020532592.tif 000337
【０３９０】
工程2
2-(ピリジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン 2,2,2-トリフルオロ酢酸塩の合成
2020532592.tif 000338
tert-ブチル 6-(ピリジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-カルボキシレート(0.20g、0.73mmol、1.0当量)のDCM(4mL)溶液にTFA(2.0mL、26.15mmol、36当量)を滴下した。混合物を室温で30分間攪拌し、減圧濃縮し、残渣をジエチルエーテルでトリチュレートして標記化合物を白色固体(0.283g、収率97%)として得た。
2020532592.tif 000339
【０３９１】
工程3
(7-クロロ-3-メチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(ピリジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号20-1)の合成
2020532592.tif 000340
0℃に冷却したトリホスゲン(31mg、0.103mmol、0.38当量)のDCM(2mL)溶液に7-クロロ-3-メチル-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン(50mg、0.27mmol、1.0当量)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.052mL、0.3mmol、1.1当量)のDCM(2mL)溶液を滴下した。反応混合物を室温で2時間攪拌し、減圧濃縮した。残渣のN,N-ジメチルホルムアミド(2mL)溶液に2-(ピリジン-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン 2,2,2-トリフルオロ酢酸塩(110mg、0.27mmol、1.0当量)、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.17mL、0.95mmol、3.5当量)のDMF(2mL)溶液を加え、混合物を室温で終夜攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で反応停止させ、DCMと水との間で分配した。水層をDCMで抽出し、一緒にした有機層を乾燥させ、減圧濃縮した。残渣を分取HPLCで精製して標記化合物を白色固体(65mg、収率62%)として得た。
2020532592.tif 000341
【０３９２】
以下の表11に列挙される化合物番号20-2〜20-16を、実施例20に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。
【０３９３】
（表１１）
2020532592.tif 000342
2020532592.tif 000343
2020532592.tif 000344
2020532592.tif 000345
【０３９４】
実施例21
(6-(ベンゾ[d]イソオキサゾール-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)(7-クロロ-3-メチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)メタノン(化合物番号21-1)の合成
2020532592.tif 000346
【０３９５】
工程1
エチル (4-クロロ-2-ヨードフェニル)アラニネートの合成
2020532592.tif 000347
2-ヒドロキシプロパン酸エチル(0.99mL、8.73mmol、1.0当量)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(1.59mL、9.2mmol、1.05当量)のDCM(6mL)中混合物を、無水トリフルオロメタンスルホン酸(1.51mL、8.99mmol、1.03当量)を0℃で滴下して処理し、10分間攪拌した。この溶液を4-クロロ-2-ヨードアニリン(2.21g、8.73mmol、1.0当量)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(1.52mL、8.73mmol、1.0当量)のDCM(20mL)溶液に0℃で滴下し、終夜攪拌した。混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液とDCMとの間で分配し、有機層を乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をイソヘキサン中0〜20% EtOAcで溶離するフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して標記化合物を黄色油状物(1.74g、収率56%)として得た。
2020532592.tif 000348
【０３９６】
工程2
2-((4-クロロ-2-ヨードフェニル)アミノ)プロパン-1-オールの合成
2020532592.tif 000349
エチル (4-クロロ-2-ヨードフェニル)アラニネート(1.74g、4.92mmol、1.0当量)のエタノール(25mL)溶液を0℃で水素化ホウ素ナトリウム(0.56g、14.76mmol、3.0当量)によって数回に分けて処理し、5時間攪拌した。反応液を酢酸エチルおよび固体炭酸水素ナトリウムで反応停止させ、混合物を少量に濃縮した。混合物を水と酢酸エチルとの間で分配し、水層を酢酸エチル(2x50mL)で抽出した。有機層を乾燥させ、濃縮し、残渣をイソヘキサン中0〜20% EtOAcで溶離するフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して標記化合物を黄色油状物(1.4g、収率56%)として得た。
2020532592.tif 000350
【０３９７】
工程3
7-クロロ-3-メチル-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジンの合成
2020532592.tif 000351
2-((4-クロロ-2-ヨードフェニル)アミノ)プロパン-1-オール(1.4g、4.49mmol、1.0当量)および1,10-フェナントロリン(0.16g、0.89mmol、0.20当量)のジオキサン(15mL)中混合物を、該溶液に窒素を吹き込むことで脱気した。この溶液にナトリウムtert-ブトキシド(0.86g、8.99mmol、2.0当量)およびヨウ化銅(86mg、0.45mmol、0.1当量)を加え、混合物を100℃で20分間加熱した。得られた混合物をセライトを通じて濾過し、濃縮し、DCMと水との間で分配した。水層をDCM(2x50mL)で抽出し、一緒にした有機層を乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をイソヘキサン中10〜20% EtOAcで溶離するフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製した。画分を減圧濃縮し、残渣をキラルSFCで精製して標記化合物の第1の溶離異性体を白色固体(0.37g、収率39%)として得た。キラルSFC純度 2.6分で100%、100% ee(YMC Cellulose-Cカラム - 55% CO2/45% iPrOH(ジエチルアミン0.1%) 120barを使用してSFCにより確定)。
2020532592.tif 000352
【０３９８】
工程4
(6-(ベンゾ[d]イソオキサゾール-3-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)(7-クロロ-3-メチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)メタノン(化合物番号21-1)の合成
2020532592.tif 000353
0℃に冷却したトリホスゲン(89mg、0.30mmol、1.1当量)のDCM(2mL)溶液に7-クロロ-3-メチル-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン(50mg、0.27mmol、1.0当量)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.052mL、0.098mmol、1.1当量)のDCM(2mL)溶液を滴下した。反応混合物を室温で2時間攪拌し、減圧濃縮した。残渣のN,N-ジメチルホルムアミド(1mL)溶液に3-(2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)ベンゾ[d]イソオキサゾール 2,2,2-トリフルオロ酢酸塩(90mg、0.27mmol、1.0当量)、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.16mL、0.95mmol、3.5当量)のDMF(2mL)溶液を加え、混合物を室温で終夜攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で反応停止させ、DCMと水との間で分配した。水層をDCMで抽出し、一緒にした有機層を乾燥させ、減圧濃縮した。残渣を分取HPLCで精製して標記化合物を白色固体(83mg、収率71%)として得た。
2020532592.tif 000354
【０３９９】
以下の表12の化合物21-2〜21-11を、実施例21に記載の方法に従って、適切に置換または修飾された中間体を使用して調製した。
【０４００】
（表１２）
2020532592.tif 000355
2020532592.tif 000356
2020532592.tif 000357
【０４０１】
実施例22
(7-クロロ-3-メチル-2,3-ジヒドロ-4H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン-4-イル)(6-(ピリミジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3.3]ヘプタン-2-イル)メタノン(化合物番号1-83-B)の合成
2020532592.tif 000358
0℃に冷却したトリホスゲン(89mg、0.30mmol、1.1当量)のDCM(2mL)溶液に7-クロロ-3-メチル-3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[b][1,4]オキサジン(50mg、0.27mmol、1.0当量)およびN,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.052mL、0.098mmol、1.1当量)のDCM(2mL)溶液を滴下した。反応混合物を室温で2時間攪拌し、減圧濃縮した。残渣のN,N-ジメチルホルムアミド(1mL)溶液に2-(ピリミジン-2-イル)-2,6-ジアザスピロ[3,3]ヘプタン ビス-(2,2,2-トリフルオロ)酢酸塩(110mg、0.27mmol、1.0当量)、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(0.16mL、0.95mmol、3.5当量)のDMF(2mL)溶液を加え、混合物を室温で終夜攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で反応停止させ、DCMと水との間で分配した。水層をDCMで抽出し、一緒にした有機層を乾燥させ、減圧濃縮した。残渣を分取HPLCで精製して標記化合物を白色固体(93mg、収率89%)として得た。
2020532592.tif 000359
【０４０２】
実施例23
異性体分離
ラセミ体をキラルHPLCで分割することで、Aとして識別される第1の溶離ピークおよびBとして識別される第2の溶離ピークを有する異性体Aおよび異性体Bを得た。Waters Thar Prep100分取SFCシステム(P200 CO2ポンプ、2545調整ポンプ、2998 UV/VIS検出器、スタック注入モジュール付き2767リキッドハンドラー)またはWaters Thar Investigator半分取システム(Waters流体送達モジュール、2998 UV/VIS検出器、Watersフラクションコレクターモジュール)を使用した。Waters 2767リキッドハンドラーを使用した場合はオートサンプラーおよびフラクションコレクターの両方として機能した。化合物を、以下より選択される適切な分取カラムを使用して精製した: YMC Amylose-C、YMC Cellulose-C、YMC Cellulose-SC、Phenomenex LUX Cellulose-3、またはPhenomenex LUX Cellulose-4。以下の溶媒を使用する適切なアイソクラティック法を選択した: メタノール、エタノール、2-プロパノール、ヘプタン、およびCO2(表13A)。また、調整剤ジエチルアミン(0.1% V/V)をすべての方法に使用し、流量を100ml/分(または適宜変更)、背圧を120 Bar、カラム温度を40℃とした。表13に要約されるように、保持時間を各化合物について適切な分析用カラムを使用して得た。精製をWaters FractionlynxまたはWaters Chromscopeソフトウェアにより210〜400nmでのモニタリングを通じて制御し、適切な波長での収集閾値で開始した。収集画分をSFC(Waters SQD付きWaters/Thar SFCシステム、またはWaters QDa付きWaters UPCC)により分析した。所望の生成物を含む画分を真空遠心分離により濃縮した。
【０４０３】
（表１３）キラル分離条件
2020532592.tif 000360
【０４０４】
以下の表14に列挙される化合物を、実施例23に記載のSFCキラル分離を使用して精製した。第1列は、化合物番号(「No.」)により化合物を列挙するものであり、化合物番号は、第3列に示される構造により同定される化合物のラセミ混合物(星印はキラル原子を示す)の呼称である。これらの化合物は2つの異性形態、すなわち「異性体A」または「異性体B」のうち一方を有する。正確な立体配座(例えばRまたはS)は名付けられていないが、以下の表15に示される活性データを作成するために利用される異性形態を具体的に同定するために、第5列に列挙され(かつ表13に指定される)SFC方法論を利用する際に、異性体Aは、第6列に示すように、常に異性体Bよりも短い保持時間を示す(すなわち、異性体Aは常に最初に溶離する)。
【０４０５】
（表１４）
2020532592.tif 000361
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【０４０６】
実施例24
バソプレシンV1a受容体アンタゴニストアッセイ
本アッセイの目的は、バソプレシンV1a受容体に対する合成化合物の阻害効果を確定することにあった。本アッセイを、ヒトアルギニンバソプレシン受容体1a(AVPR1a)を発現するチャイニーズハムスター卵巣(CHO)細胞中で行った。アルギニンバソプレシン(AVP)はCHO-AVPR1a細胞中で細胞内カルシウムの増加を誘起するものであり、この増加はカルシウム感受性色素を使用するFLIPRTETRA上での蛍光アッセイにおいて測定される。試験化合物をAVPへの応答の規模に影響する能力について評価したところ、アンタゴニストはAVP媒介蛍光の濃度依存的減少を示した。本アッセイでは、化合物を、名目濃度3μMで出発する10点1:3希釈系列において二つ組で試験した。
【０４０７】
CHO-AVPR1a細胞をT175フラスコ中、37℃、5% CO2での日常的培養下に維持した。増殖培地は、10% v/vウシ胎仔血清、1倍非必須アミノ酸、および0.4mg/mlジェネティシンG418を補充した、ハムF12培地からなる。
【０４０８】
1日目に、細胞が80〜90%コンフルエントになったときに、最初に細胞単層をPBSで洗浄し、次にトリプシン0.05%/EDTA(T175フラスコ1個当たり3mL)を使用して分離することで、細胞をT175フラスコから収集した。細胞が剥離されるまでフラスコを室温でインキュベートした。細胞懸濁液に増殖培地10mlを加え、細胞密度をVi-Cell自動細胞カウンターを使用して確定した。細胞を1000rpmで3分間回転させた後、上清を慎重に取り除き、廃棄した。細胞ペレットを増殖培地に細胞6.0e5個/mlで再懸濁させた。細胞入り増殖培地25μLをポリ-D-リジンコーティング黒色透明底384ウェルプレートの各ウェルに分注した(1ウェル当たり細胞15,000個)。プレートを37℃、5% CO2で終夜インキュベートした。
【０４０９】
各アッセイ日の開始時に、AVPの効力を評価し、EC80濃度を後続の化合物プロファイリングのために確定した。アッセイをFLIPRTETRA上で2段階添加プロトコルを使用して行った。すなわち、最初に対照化合物または試験化合物5μlをアッセイ緩衝液中に最終10倍で加え、37℃、5% CO2で15分間インキュベートした後、AVP 10μlをアッセイ緩衝液中に最終濃度6倍で加えた。蛍光の変化をFLIPRTETRA上での両添加後に3分間、励起波長470〜495nmおよび発光波長515〜575nmを使用してモニタリングした。アッセイ緩衝液は、20mM HEPES、およびAVPアゴニストのみの調製用に0.1% w/vウシ血清アルブミンを補充した、HBSS(+Ca/+Mg)からなった。細胞から増殖培地を取り除き、アッセイ緩衝液中で1倍で用意されたCalcium-6色素(Molecular Devices)45μlで置き換えることで、本アッセイを開始した。細胞に色素を37℃、5% CO2で60〜90分かけて加えた後、FLIPRTETRAプロトコルを開始した。AVP効力確定では、第1の添加は、3% v/v DMSOを含むアッセイ緩衝液からなり、第2の添加は、0.1% BSAを補充したアッセイ緩衝液中でのAVPの10点希釈系列(1μMから1:3希釈)からなった。化合物プロファイリングでは、試験化合物を最初にDMSO中で系列希釈し(10点曲線、1:3希釈)、次にアッセイ緩衝液中で33.3倍に希釈した後、FLIPRTETRA上で色素添加細胞に加えた。インキュベーション期間の終了時に、0.1% BSAを含むアッセイ緩衝液中のAVP溶液10μlを、既に確定されたEC80濃度で加えた。
【０４１０】
本アッセイのプレート内対照は、参照V1aアンタゴニストとしてのバロバプタン(balovaptan)およびPF-184563濃度反応曲線、ならびに化合物負荷に使用されるEC80の再現性を確認するためのAVP濃度反応曲線を含むものとした。
【０４１１】
MAX-MIN生データを、300nM SR49059(100阻害%)およびAVP EC80(0阻害%)のDMSO対応溶液を含むプレート内アッセイ対照に対して正規化した。
【０４１２】
バソプレシンV1bおよびV2受容体に対する特定の実施例化合物の選択性プロファイリングを確定した。
【０４１３】
実施例25
バソプレシンV1b受容体アンタゴニストアッセイ
本アッセイの目的は、バソプレシンV1b受容体に対する合成化合物の阻害効果を確定することにあった。本アッセイを、ヒトアルギニンバソプレシン受容体1b(AVPR1b)を発現するチャイニーズハムスター卵巣(CHO)細胞中で行った。アルギニンバソプレシン(AVP)はCHO-AVPR1b細胞中で細胞内カルシウムの増加を誘起するものであり、この増加はカルシウム感受性色素を使用するFLIPRTETRA上での蛍光アッセイにおいて測定される。試験化合物をAVPへの応答の規模に影響する能力について評価したところ、アンタゴニストはAVP媒介蛍光の濃度依存的減少を示した。
【０４１４】
CHO-AVPR1b細胞をT175フラスコ中、37℃、5% CO2での日常的培養下に維持した。増殖培地は、10% v/vウシ胎仔血清、1倍非必須アミノ酸、および0.4mg/mlジェネティシンG418を補充した、ハムF12培地からなった。
【０４１５】
細胞が80〜90%コンフルエントになったときに、最初に細胞単層をPBSで洗浄し、次にトリプシン0.05%/EDTA(T175フラスコ1個当たり3mL)を使用して分離することで、細胞をT175フラスコから収集した。細胞が剥離されるまでフラスコを室温でインキュベートした。細胞懸濁液に増殖培地10mlを加え、細胞密度をVi-Cell自動細胞カウンターを使用して確定した。細胞を1000rpmで3分間回転させた後、上清を慎重に取り除き、廃棄した。細胞ペレットを増殖培地に細胞6.0e5個/mlで再懸濁させた。細胞入り増殖培地25μLをポリ-D-リジンコーティング黒色透明底384ウェルプレートの各ウェルに分注した(1ウェル当たり細胞15,000個)。プレートを37℃、5% CO2で終夜インキュベートした。
【０４１６】
各アッセイ日の開始時に、AVPの効力を評価し、EC80濃度を後続の化合物プロファイリングのために確定した。アッセイをFLIPRTETRA上で2段階添加プロトコルを使用して行った。すなわち、最初に対照化合物または試験化合物5μlをアッセイ緩衝液中に最終10倍で加え、37℃、5% CO2で15分間インキュベートした後、AVP 10μlをアッセイ緩衝液中に最終濃度6倍で加えた。蛍光の変化をFLIPRTETRA上での両添加後に3分間、励起波長470〜495nmおよび発光波長515〜575nmを使用してモニタリングした。アッセイ緩衝液は、20mM HEPES、およびAVPアゴニストのみの調製用に0.1% w/vウシ血清アルブミンを補充した、HBSS(+Ca/+Mg)からなった。細胞から増殖培地を取り除き、アッセイ緩衝液中で1倍で用意されたCalcium-6色素(Molecular Devices)45μlで置き換えることで、本アッセイを開始した。細胞に色素を37℃、5% CO2で60〜90分かけて加えた後、FLIPRTETRAプロトコルを開始した。AVP効力確定では、第1の添加は、3% v/v DMSOを含むアッセイ緩衝液からなり、第2の添加は、0.1% BSAを補充したアッセイ緩衝液中でのAVPの10点希釈系列(1μMから1:3希釈)からなった。化合物プロファイリングでは、試験化合物を最初にDMSO中で系列希釈し(10点曲線、1:3希釈)、次にアッセイ緩衝液中で33.3倍に希釈した後、FLIPRTETRA上で色素添加細胞に加えた。インキュベーション期間の終了時に、0.1% BSAを含むアッセイ緩衝液中のAVP溶液10μlを、既に確定されたEC80濃度で加えた。
【０４１７】
本アッセイのプレート内対照は、参照V1bアンタゴニストとしてのネリバプタン(Nelivaptan)濃度反応曲線、および化合物負荷に使用されるEC80の再現性を確認するためのAVP濃度反応曲線を含むものとした。
【０４１８】
MAX-MIN生データを、3μMネリバプタン(100阻害%)およびAVP EC80(0阻害%)のDMSO対応溶液を含むプレート内アッセイ対照に対して正規化した。
【０４１９】
実施例26
バソプレシンV2受容体アンタゴニストアッセイ
本アッセイの目的は、バソプレシン受容体2に対する合成化合物の阻害効果を確定することにあった。本アッセイを、ヒトアルギニンバソプレシン受容体V2(AVPR2)を発現する市販の1321N1細胞(Perkin Elmer # ES-363-CF)中で行った。アルギニンバソプレシン(AVP)は、これらの細胞中で細胞内cAMPの増加を誘起するものであり、この増加は、LANCE Ultra cAMPキット(Perkin Elmer # TRF0263)に含まれるユーロピウムcAMPトレーサーおよびULight標識抗体試薬を使用するTR-FRETアッセイにおいて測定される。刺激された細胞により産生されるcAMPがULight標識抗体上の結合部位をめぐってEu-cAMPトレーサーと競合することから、本アッセイにおけるcAMPの増加はTR-FRETの減少を生じさせる。試験化合物をAVPへの応答の規模に影響する能力について評価したところ、アンタゴニストはTR-FRETシグナルのAVP媒介減少の濃度依存的減少を示した。
【０４２０】
cAMPZen V2アッセイレディ細胞を37℃で融解させ、10% v/vウシ胎仔血清、1倍非必須アミノ酸、および1mMピルビン酸ナトリウムを補充したDMEMからなる増殖培地9mlに凍結融解状態から直接再懸濁させた。細胞を1000rpmで3分間回転させ、上清を慎重に取り除き、廃棄した。ペレットを刺激緩衝液5mlに再懸濁させ、細胞密度をVi-Cell自動細胞カウンターを使用して確定した。細胞懸濁液を懸濁液1ml当たり0.2x106個まで希釈してプレーティングの準備を整えた。白色384ウェルOptiplate(Perkin Elmer # 6007299)のすべてのウェルに細胞入り刺激緩衝液5μLを分注した(1ウェル当たり細胞1,000個)。刺激緩衝液は、5mM HEPES、0.1% BSA安定剤、および0.5mM IBMXを補充した、HBSS(+Ca/+Mg)からなった。
【０４２１】
各アッセイ日の開始時に、AVPの効力を評価し、EC80濃度を後続の化合物プロファイリングのために確定した。最初に対照化合物または試験化合物2.5μlを刺激緩衝液中に最終濃度4倍で加え、続いてAVP 2.5μlを刺激緩衝液中に最終濃度4倍で加えることで、アッセイを行った。1時間の反応後、いずれも製造者の説明書に従って希釈されたEU-cAMPトレーサー5μlを最初に、ULight-抗cAMP 5μlを続いて加えることで、検出試薬を加えた。1時間のインキュベーション後、プレートは読み取りの準備が整った(そのときシグナルは最大24時間安定したままであった)。時間分解蛍光の変化を、615nmおよび665nmの両方の発光波長を測定するレーザー(337nm)での励起によりモニタリングした。AVP効力確定では、第1の添加は、3% v/v DMSOを含む刺激緩衝液からなり、第2の添加は、刺激緩衝液中でのAVPの10点希釈系列(0.1nMから1:3希釈)からなった。化合物プロファイリングでは、試験化合物をLabcyte Echo(10点曲線、1:3希釈)により目標量0.1μlで分注し、次に3% DMSOを含む刺激緩衝液中で750倍に希釈した後、細胞に加えた。インキュベーション期間の終了時に、刺激緩衝液中AVP溶液2.5μlを、既に確定されたEC80濃度で加えた。
【０４２２】
本アッセイのプレート内対照は、参照V2アンタゴニストとしてのトルバプタン濃度反応曲線、および化合物負荷に使用されるEC80の再現性を確認するためのAVP濃度反応曲線を含むものとした。
【０４２３】
665nmでの蛍光のデータを、アゴニストなしのアッセイ緩衝液(100阻害%)およびAVP EC80(0阻害%)のDMSO対応溶液を含むプレート内アッセイ対照に対して正規化する。
【０４２４】
実施例27
オキシトシン受容体(OTR)アンタゴニストアッセイ
ヒトオキシトシン受容体(hOTR)に対する本発明の化合物の阻害効果を確定するために、本アッセイを、ヒトオキシトシン受容体を発現するCHEM-1細胞中で行った。オキシトシンはCHEM-1-hOTR細胞中で細胞内カルシウムの増加を誘起するものであり、この増加はカルシウム感受性色素を使用するFLIPRTETRA上での蛍光アッセイにおいて測定される。試験化合物をオキシトシンへの応答の規模に影響する能力について評価したところ、アンタゴニストはオキシトシン媒介蛍光の濃度依存的減少を示した。本アッセイでは、バソプレシンV1a受容体において効力100nM未満を示す化合物を、hOTRに対する選択性試験に供し、名目濃度3μMで出発する10点1:3希釈系列において三つ組で試験した。
【０４２５】
商標登録された培地成分が供給された凍結細胞(Eurofins # HTS090RTA)をアッセイするためにCHEM-1-hOTRレディを使用した。
【０４２６】
アッセイ1日目: 細胞を37℃水浴中で融解させ、供給された培地成分で最終量10mlに希釈した。細胞懸濁液を1000rpm、室温で3分間遠心分離し、上清を廃棄した。細胞ペレットを培地成分(10.5ml)に再懸濁させ、細胞(25μL)をポリ-D-リジンコーティング黒色透明底384ウェルプレートに分注した。プレートを37℃、5% CO2で終夜インキュベートした。
【０４２７】
2日目: 各アッセイ日の開始時に、オキシトシンの効力を評価し、EC80濃度を後続の化合物プロファイリングのために確定した。アッセイをFLIPRTETRA上で2段階添加プロトコルを使用して行った。すなわち、最初に対照化合物または試験化合物5μlをアッセイ緩衝液中に最終10倍で加え、37℃、5% CO2で15分間インキュベートした後、オキシトシン10μlをアッセイ緩衝液中に最終濃度6倍で加えた。蛍光の変化をFLIPRTETRA上での両添加後に3分間、励起波長470〜495nmおよび発光波長515〜575nmを使用してモニタリングした。アッセイ緩衝液は、20mM HEPES、およびオキシトシンアゴニストのみの調製用に0.1% w/vウシ血清アルブミンを補充した、HBSS(+Ca/+Mg)からなった。細胞から増殖培地を取り除き、アッセイ緩衝液中で1倍で用意されたCalcium-6色素(Molecular Devices)45μlで置き換えることで、本アッセイを開始した。細胞に色素を37℃、5% CO2で60〜90分かけて加えた後、FLIPRTETRAプロトコルを開始した。オキシトシン効力確定では、第1の添加は、3% v/v DMSOを含むアッセイ緩衝液からなり、第2の添加は、0.1% BSAを補充したアッセイ緩衝液中でのオキシトシンの10点希釈系列(1μMから1:3希釈)を含んだ。化合物プロファイリングでは、試験化合物を最初にDMSO中で系列希釈し(10点曲線、1:3希釈)、次にアッセイ緩衝液中で33.3倍に希釈した後、FLIPRTETRA上で色素添加細胞に加えた。インキュベーション期間の終了時に、0.1% BSAを含むアッセイ緩衝液中のオキシトシン溶液10μlを、既に確定されたEC80濃度で加えた。
【０４２８】
本アッセイのプレート内対照は、参照OTRアンタゴニストとしてのL-368,899濃度反応曲線、および化合物負荷に使用されるEC80の再現性を確認するためのオキシトシン濃度反応曲線を含むものとした。
【０４２９】
MAX-MIN生データを、アゴニストなしのアッセイ緩衝液(100阻害%)およびオキシトシンEC80(0阻害%)のDMSO対応溶液を含むプレート内アッセイ対照に対して正規化する。
【０４３０】
V1a(実施例24)、V1b(実施例25)、V2(実施例26)、およびOTR(実施例27)受容体に対する代表的化合物のIC50として表される活性を以下の表15に示す。V1a、V1b、V2、およびOTR活性に関して、「++++」は100nM未満のIC50を示し、「+++」は100nM〜500nM未満のIC50を示し、「++」は500nM〜1000nM未満のIC50を示し、「+」は1000nM以上のIC50を示す。
【０４３１】
（表１５）代表的化合物の活性
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【０４３２】
実施例28
MDCK-MDR1有効流出比
MDR1-MDCK有効流出アッセイを、BioFocus標準操作手順ADME-SOP-56に記載のように行った。野生型(WT)細胞およびMDR1-MDCK細胞(Solvo Biotechnology)の両方を24ウェルTranswellプレート上に1ウェル当たり細胞2.35x105個で播種し、5% CO2下、37℃で3日間の培養後にコンフルエント単層中で使用した。両細胞型について、頂端→側底(A→B)測定および側底→頂端(B→A)測定の両方のために、試験化合物および対照化合物(プロプラノロール、ビンブラスチン)をアッセイ緩衝液(25mM HEPESを補充したハンクス平衡塩類溶液、pH 7.4に調整)の入ったTranswellプレートアセンブリのドナー区画に加えた(10μM、0.1% DMSO最終、n=2)。インキュベーションを37℃で行い、試料をT=0時間および1時間でドナーチャンバーおよびアクセプターチャンバーの両方から取り除き、化合物を、分析用内部標準を含む質量分析(LC-MS/MS)で分析した。
【０４３３】
見かけの透過率(Papp)値を以下の関係式から確定した。
Papp = [化合物アクセプター T=終了時] x V アクセプター / ([化合物ドナー T=0] x V ドナー) / インキュベーション時間 x V ドナー / 面積 x 60 x 10-6cm/秒
式中、Vは、各Transwell区画の容積(頂端125μL、側底600μL)であり、濃度は、インキュベーション前のドナーチャンバー中およびインキュベーション終了時のアクセプターチャンバー中の化合物の相対MS応答(内部標準に対して正規化)であり、面積は、薬物移動のために曝露される細胞の面積(0.33cm2)である。
【０４３４】
流出比(Papp B→A/Papp A→B)を各化合物に関して野生型細胞およびMDR1-MDCK細胞の両方において各方向で平均Papp値から計算した。流出トランスポーターMDR1(P-糖タンパク質)を過剰発現するようにMDR1-MDCK細胞株を操作した。B→A透過率が良好だがA→B透過率が低いという知見は、化合物がこのトランスポーターの基質であることを示す。
【０４３５】
観測される任意の流出におけるMDR1の関与を確認するために、2つの細胞型における化合物流出比(ER)を下記式により比較することで「有効流出比」(EER)を計算した。
EER = ER (MDR1-MDCK)/ER (野生型MDCK)
この比は、野生型細胞を通じた化合物のバックグラウンド移動に対して正規化された過剰発現MDR1の効果を示すものである。
【０４３６】
細胞層の生存率を評価するために、ルシファーイエロー(LY)をすべてのウェル中の頂端緩衝液に加えた。LYが親油性バリアを自由に透過できないことから、LYの高い輸送度は細胞層の低い完全性を示すものであり、LY Pappが10x10-6cm/秒を超えるウェルは除外された。(1つのウェルが完全性を満たさないことがプレート上の他のウェルの正当性に影響を与えるものではないことに留意されたい)。インキュベーション終了時に、ウェルからの化合物回収率を、ドナーチャンバーおよびアクセプターチャンバー中でのMS応答(内部標準に対して正規化)により、インキュベーション前のドナーチャンバー中での応答との比較で確定した。回収率50%未満は化合物の溶解性、安定性、または結合に関する問題を示すものであり、これにより結果の信頼性が低下する。
【０４３７】
潜在的薬物分子の固有の、血液脳関門に浸透する能力、および脳内で発現されるトランスポーターによる流出を回避する能力を、それぞれ大まかにPapp(A-B)および流出比(上記定義の通り)と相関させることができる。見かけの透過率が7(10-6cm/秒)未満の潜在的薬物分子は低い透過性を示し(+)、7(10-6cm/秒)超だが10(10-6cm/秒)未満の分子は中程度の透過性を示し(++)、10(10-6cm/秒)超だが20(10-6cm/秒)未満の分子は良好な透過性を示し(+++)、20(10-6cm/秒)超の分子は透過性が高い(++++)。WTおよびMDCK II細胞透過性アッセイにおける高い透過性は、血液脳関門浸透およびCNSへの到達の可能性を増加させる。流出比または有効流出比が1未満である上記アッセイ系における潜在的薬物分子は流出基質である可能性が低く(++++)、1を超えるが2未満である分子は流出基質である可能性が中程度であり(+++)、2を超えるが3未満である分子は流出基質である可能性が増加し(++)、3を超える分子は流出基質である可能性が高い(+)。潜在的薬物分子が流出基質である場合、該分子は、有効レベルの受容体占有率を生じさせる脳(作用部位)内曝露量に到達する可能性が低い。
【０４３８】
（表１６）Papp(10-6cm/秒)A→B、流出比(ER)、および有効流出比(EER)
2020532592.tif 000398
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【０４３９】
実施例29
バルプロ酸モデルにおける行動特性、生化学特性、および/または神経生理学的特性の評価
バルプロ酸(VPA)は、てんかん患者に一般的に処方される抗痙攣薬である。妊娠中、VPAの投与により子孫における神経発達障害の危険性が高まる。この効果は、VPAが誘発する神経発達変化の根底にある機序をより良く理解するために、げっ歯類において同様にモデリングされている。妊娠13日目(胎生13日目)の妊娠雌親にバルプロ酸(600mg/kg)または媒体(偽)の単回注射剤を投与した後の、げっ歯類における予防効果および/または回復効果について、V1aアンタゴニストを評価する。妊娠雌親を体重および健康の変化、または摂食パターンの変化について毎日モニタリングする。出生後、子を身体異常の任意の徴候(例えば体重、食物摂取および水分摂取、出生後の開眼日)についてモニタリングする。
【０４４０】
バルプロ酸処置動物の行動特性、生化学特性、および/または神経生理学的特性を対照動物との比較で評価するために、選択的試験を行う。より具体的には、VPA処置動物に投与されるV1アンタゴニストの効果を、不安(例えば超音波発声、高架式十字迷路)、学習および記憶(例えばモリス水迷路、新規物体認識)、社会的相互作用、感覚運動ゲーティング、ならびに自発運動活性などの行動変化に関する標準的方法論を使用して評価する。生化学的変化を、シナプスタンパク質およびmRNA(例えばγ-アミノ酪酸[GABA]合成、グルタミン酸デカルボキシラーゼ[GAD]、脳由来神経栄養因子[BDNF])を評価することで測定する。神経生理学的特性を、VPA処置動物および偽処置動物のニューロンの電気生理学的特性のホールセル記録を行ってV1アンタゴニストの有無によるニューロン機能の差を同定することで評価する。
【０４４１】
睡眠/覚醒サイクルおよび概日リズムを評価するためのげっ歯類および非ヒト霊長類における活動および/またはテレメトリー試験
バソプレシン系は、環境変化後に生物学的概日リズムを調節し、再同調を行う上で重要である。これらの試験では、動物を12時間明暗サイクルで収容し、赤外線ビームブレークシステムを使用して、またはかご走行(げっ歯類)、もしくは動物の襟に取り付けられた活動モニター(非ヒト霊長類)によって、活動をモニタリングする。活動データを最大30日間収集して概日リズムを確定し、明暗サイクルを例えば4時間、8時間、または12時間位相変位させることで誘導される変化を記録および分析する。規則的活動パターンの再確立により測定される再同調を改善するために、V1aアンタゴニストを投与する。さらなるエンドポイントとしては認知評価(例えば空間作業記憶)を挙げることができる。
【０４４２】
睡眠/覚醒サイクルを段階分けするために、脳波記録/筋電図記録/眼電図記録(EEG/EMG/EOG)を行うための電極付きテレメトリー装置の埋め込みを使用する。この場合、訓練された外科医がEEG/EMG電極および送信機を完全麻酔動物に埋め込む。送信機モジュールを肩甲部の下方または腹部に皮下的に埋め込む。生体電位リードを正中切開によって背部から頭部まで皮下的にガイドする。定位固定アプローチを使用して、ステンレススクリューを頭蓋内に関心対象の区域にわたって、先端が硬膜の表面上に達するまで埋め込む。生体電位リードをスクリューに巻き付け、基準とする。EMGリードまたはEOGリードをそれぞれ側頭筋または眼内筋に縫合する。動物は術後鎮痛および抗生物質を受け取り、試験前に最低21日間かけて回復する。受信ボードを動物に近接させて配置することで試験中のリアルタイムEEG/EMG/EOG記録を容易にする。
【０４４３】
生理学的測定値
バソプレシンは体内での水分保持および血圧の重要な調節因子であり、末梢血液供給中へのその放出は血漿浸透圧の上昇により誘導されうる。健常成人において、基礎レベルを1〜2%超える血漿浸透圧の上昇は口渇を生じさせ、口渇は水分摂取および浸透圧正常化を促進する。げっ歯類またはヒトへの高浸透圧溶液の静脈内投与は、血漿バソプレシン濃度ならびに他の測定値(例えば口渇、尿量、および血管収縮)を増加させる。生理食塩水(0.9%塩化ナトリウム溶液)または高浸透圧溶液(0.9%超塩化ナトリウム溶液)の投与後、V1aアンタゴニストを、血漿バソプレシン濃度、血管収縮、尿量、および/またはqEEGパラメータを変化させる能力について評価する。
【０４４４】
実施例30
天然組織中でのアルギニン-バソプレシン(AVP)誘導ホスホERKの測定
V1a受容体は、ホスホリパーゼC(PLC)に結合するときに、細胞内Ca2+濃度およびタンパク質キナーゼC(PKC)活性を増加させ、活性化時に分裂促進因子活性化タンパク質キナーゼ/細胞外シグナル調節キナーゼ(MAPK/Erk)およびPI3キナーゼ/Akt経路をトランス活性化する(Chen et al., J Neuroendocrinol. 2010)。ラット脈絡叢(RCP)細胞株は機能的V1a受容体を発現し、この受容体はV1a受容体アゴニストに応答してのカルシウム濃度の増加により測定される(Battle et al., Biochem. Biophys. Res. Comm. 2000)。これらの研究では、RCPをAVPで刺激し、V1a受容体アンタゴニスト参照化合物レルコバプタン(relcovaptan)およびバロバプタン、ならびに化合物番号1-83Bを評価した。
【０４４５】
RCP P9(18)細胞を、ポリスチレン96ウェルプレート中の10% FBSを含む増殖培地100μlに30K個/ウェルで播種し、37℃、5% CO2で終夜インキュベートした。翌日、増殖培地を、20mM HEPESを含む予備昇温HBSS 50μlに交換し、細胞を37℃、5% CO2で1.5時間インキュベートした。ガラスバイアル中で蒸留水中1mM AVP(Sigma V9879)溶液を新たに用意し、ガラスバイアル中で20mM HEPESおよび0.1% BSAを含むHBSS中で3倍濃度に希釈し、氷上に保持した。細胞を3倍媒体、3倍eBioscience細胞刺激カクテル(Thermo Fisher Scientific 00-4970-93)、または3倍AVP 25μlで処理し、37℃、5% CO2で5分間、10分間、または20分間インキュベートした。AVPの最終濃度: 10、100、または1000nM。細胞刺激カクテル中の成分の最終濃度: PMA 81nM、イオノマイシン1.34μM、エタノール0.2%。細胞を、プロテアーゼ阻害剤およびホスファターゼ阻害剤PMSFおよびSDSを含む4倍CST溶解緩衝液25μlで溶解させた後、-80℃で48時間保管した。溶解液を融解させ、2000g、4℃で30分間遠心分離し、上清40μlをpERK1/2(Thr202/Tyr204; Thr185/Tyr187)および総ERK1/2についてMSDキットK15107Dを使用してアッセイした。溶解液のMSD ECLデータを無細胞ブランクに対して補正した後、リンタンパク質レベルを総ERK1/2レベルに対する比として表した。これらの比を、各時点での媒体処理対照からの変化倍率として表した。
【０４４６】
第1の試験では、レルコバプタン、化合物番号1-83B、およびバロバプタンのIC50値はそれぞれ0.03nM、16.0nM、および10.9nMであった。第2の試験では、レルコバプタン、化合物番号1-83B、およびバロバプタンのIC50値はそれぞれ0.08nM、20.0nM、および13.6nMであった。これらの試験では、レルコバプタンおよびバロバプタンを商業的に購入した。
【０４４７】
実施例31
マウスにおけるアルギニン-バソプレシン(AVP)誘導行動
アルギニン-バソプレシン(AVP)の脳室内(i.c.v.)投与は、特徴的なひっかき行動、穴掘り行動、および毛づくろい行動をマウスにおいて誘発するものであり、この行動は容易に測定可能であり、バソプレシンアンタゴニストによる遮断に対して感受性がある(Meisenberg, Ann N Y Acad Sci. 525:257-69, 1988; Bleickardt et. al., Psychopharmacology (Berl). 202(4):711-8, 2009)。
【０４４８】
インライフ試験時に体重が22〜25gである雄CD-1マウス(Charles River Germany)をこの試験に使用した。動物を標準温度(22±1℃)および光制御環境(午前7時〜午後8時に光を点けた)下でケージ1個当たり4〜5匹の群に分けて収容し、食物および水は自由摂取とした。マウスに対して任意の手技を開始する前に、マウスを動物施設中で最低7日間馴化させた。麻酔をプレキシガラスチャンバー中で2〜3分間、5%イソフルランにより誘導した後、鼻マスクを通じて1〜2%イソフルランで維持した。直腸プローブ付きの恒温ブランケットシステムを使用して、手術中の動物の体温をモニタリングし、37.0℃±1.5℃に維持した。麻酔マウスを脳定位固定装置に入れ、両耳の間の皮膚を剪毛し、ポビドンヨード溶液(Betadine)で消毒した。28ゲージ針付きの10μlハミルトンシリンジを脳室内注射に使用した。すべての動物は同一のAVP注射液(3.689μM)または滅菌食塩水(0.9%塩化ナトリウム溶液)を右側脳室中の以下の座標において受け取った: AP = +0.5mm; ML = +1.0mm; DV = -2.5mm(十字縫合からの近似値)。実際の座標を両眼間の正中線の点からの距離により計算し、皮膚切開は行わなかった。針を脳室内に置いてAVPを送達した後、針をその場に3分間残してから取り出した。最後に、マウスを麻酔マスクから外し、直ちに清潔なケージに入れて観察を開始した。
【０４４９】
マウスをAVP/食塩水投与後に15分間観察および録画し、行動を測定し(秒単位)、累積時間を計算した。以下の行動をAVP関連と見なした: 肢または胴体のひっかき、穴掘り、舌なめずり、および洗顔行動(顔面の平手打ち)。このアッセイを使用して、バロバプタン(100および300mg/kg、経口)、JNJ-17308616(30、100mg/kg、経口)、および化合物番号1-83B(100、300、500mg/kg、経口)をAVP誘発ひっかき行動に対するアンタゴニスト活性について評価した。バロバプタンは100mg/kgで有効であり、JNJ-17308616は100mg/kgで弱い効果を示し、1-83Bは300mg/kgおよび500mg/kgで有効であった。
【０４５０】
上記の様々な態様を組み合わせることでさらなる態様を実現することができる。2017年9月5日出願の米国仮出願第62/554,452号を含む、本明細書において言及されかつ/または出願データシートに列挙されたすべての米国特許、米国特許出願公開、米国特許出願、外国特許、外国特許出願、および非特許刊行物は、参照によりその全体が本明細書に組み入れられる。本態様の局面を、必要であれば様々な特許、出願、および刊行物の概念を使用するように修正することで、なおさらなる態様を実現することができる。これらのおよび他の変更を、上記の説明に照らして本態様に対して行うことができる。一般に、以下の特許請求の範囲において、使用される用語は、本明細書および特許請求の範囲に開示される特定の態様に特許請求の範囲を限定するものと解釈されるべきではなく、すべての可能な態様を、該特許請求の範囲にその法的権利が与えられる等価物の範囲全体と共に含むように解釈されるべきである。したがって、特許請求の範囲は本開示によって限定されない。
【国際調査報告】
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