(57)【要約】  単一入力複数出力プラズマ制御システムは、単一入力を受け取り、複数出力を発生させるスプリッタを含む。スプリッタからの各出力は、負荷に提供される。スプリッタは、選択されたスプリッタ出力の間に接続される分岐回路を含む。分岐回路は、各負荷において測定される電圧、電流、電力、インピーダンス、周波数、または位相の間の所定の関係を制御することを可能にするために、各分岐の間の電圧、電流、電力、インピーダンス、周波数、または位相を制御する。
2020532826.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
RF出力信号を受け取り、それぞれの第1の負荷および第2の負荷への第1のRF出力および第2のRF出力を発生させる電気的スプリッタであって、
前記第1のRF出力を前記第1の負荷に提供する第1のレグと、
前記第2のRF出力を前記第2の負荷に提供する第2のレグと、
前記第1のレグと前記第2のレグとの間に接続されるバランス回路であって、前記バランス回路は、前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの1つと関連する電気的パラメータの第1の値および前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの他方と関連する前記電気的パラメータの第2の値を制御する、バランス回路とを備え、
前記第1の値および前記第2の値は、定義済みの関係に制御される、電気的スプリッタ。
【請求項２】
前記電気的パラメータは、電圧、電流、電力、インピーダンス、周波数、または位相のうちの1つである、請求項1に記載の電気的スプリッタ。
【請求項３】
前記バランス回路は、前記第1のレグと前記第2のレグとの間で分路され、インダクタおよびキャパシタのうちの少なくとも1つを備える、請求項1に記載の電気的スプリッタ。
【請求項４】
前記インダクタおよびキャパシタは、並列に配置される、請求項3に記載の電気的スプリッタ。
【請求項５】
前記キャパシタまたはインダクタのうちの少なくとも1つは、可変であり、前記第1の値と前記第2の値との間の前記関係を変えるために制御される、請求項4に記載の電気的スプリッタ。
【請求項６】
前記第1の値と前記第2の値との間の前記関係を変えるために、前記キャパシタまたはインダクタのうちの前記少なくとも1つを変えるように構成されるコントローラをさらに備える、請求項5に記載の電気的スプリッタ。
【請求項７】
前記バランス回路は、前記第1の値と前記第2の値との間の前記関係を調整するために変えられる少なくとも1つのコンポーネントを含む、請求項1に記載の電気的スプリッタ。
【請求項８】
前記第1の値および前記第2の値にそれぞれ従って変化する感知信号に従って前記関係を変えるように構成されるコントローラをさらに備える、請求項1に記載の電気的スプリッタ。
【請求項９】
前記定義済みの関係は、
min(Δχj) = ξ - (α1χ1 + α2χ2 +・・・αKχK)または
【数１】
2020532826.tif 000010
のうちの1つに従って前記第1の値と前記第2の値との間の差を最小化することに従って決定され、ただし、
iおよびjは、前記電気的スプリッタのK個のレグのうちの1つを指し、
ξは、前記電気的パラメータであり、
αnは、i番目のレグに対応する係数であり、
χnは、n番目のレグに対応する前記電気的パラメータの感知される値である、請求項1に記載の電気的スプリッタ。
【請求項１０】
j番目のレグについての前記電気的パラメータのための設定点は、
χj(n + 1) = αjχj(n)
に従って決定され、ただし、
αjは、前記j番目のレグに対応する前記係数であり、
χj(n)は、現在の設定点についてn番目の繰り返し中に前記j番目のレグに対応する前記電気的パラメータの感知される値である、請求項9に記載の電気的スプリッタ。
【請求項１１】
前記第1のレグおよび前記第2のレグのうちの少なくとも1つは、前記第1のレグおよび前記第2のレグのうちの前記少なくとも1つを前記第1のレグおよび前記第2のレグのうちの他方から分離するための分離回路を含み、前記分離回路は、インダクタおよびキャパシタのうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載の電気的スプリッタ。
【請求項１２】
前記電気的スプリッタは、第3の負荷への第3のRF出力を発生させ、
前記第3のRF出力を前記第3の負荷に提供する第3のレグと、
前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの選択された1つと前記第3のレグとの間に接続される第2のバランス回路とをさらに備え、
前記第2のバランス回路は、前記電気的パラメータの第3の値および前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの前記選択された1つに対応する前記第1の値または前記第2の値を変化させ、
前記第3の値および前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの前記選択された1つに対応する前記第1の値または前記第2の値は、第2の定義済みの関係に制御される、請求項1に記載の電気的スプリッタ。
【請求項１３】
前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの前記選択された1つの他方と前記第3のレグとの間に接続される第3のバランス回路をさらに備え、
前記第3のバランス回路は、前記第3の値および前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの他方に対応する前記第1の値または前記第2の値のうちの他方を変化させ、
前記第3の値および前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの前記選択された1つの他方に対応する前記第1の値または前記第2の値のうちの他方は、第3の定義済みの関係に制御される、請求項12に記載の電気的スプリッタ。
【請求項１４】
前記第1、前記第2、および前記第3の値は、等しいまたは異なる定義済みの関係のうちの1つに制御される、請求項13に記載の電気的スプリッタ。
【請求項１５】
RF信号を発生させるRF電力源と、
前記RF信号を受け取り、それぞれの第1の負荷および第2の負荷への第1のRF出力および第2のRF出力を発生させるスプリッタであって、
前記第1のRF出力を前記第1の負荷に提供する第1のレグ、
前記第2のRF出力を前記第2の負荷に提供する第2のレグ、
前記第1のレグと前記第2のレグとの間に接続されるバランス回路であって、少なくとも1つのコンポーネントを含み、前記少なくとも1つのコンポーネントは、前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの1つと関連する電気的パラメータの第1の値および前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの他方と関連する前記電気的パラメータの第2の値を制御するために可変である、バランス回路、および
前記少なくとも1つのコンポーネントを変えるように構成されるコントローラを含む、スプリッタとを備え
前記コントローラは、前記第1の値および前記第2の値が、定義済みの関係に制御されるように、前記少なくとも1つのコンポーネントを制御する、RFシステム。
【請求項１６】
前記電気的パラメータは、電圧、電流、電力、インピーダンス、周波数、または位相のうちの1つである、請求項15に記載のRFシステム。
【請求項１７】
前記バランス回路はさらに、インダクタおよびキャパシタのうちの少なくとも1つを備え、前記コントローラは、前記第1の値と前記第2の値との間の関係を変えるために前記インダクタまたはキャパシタのうちの前記少なくとも1つを変えるように構成される、請求項15に記載のRFシステム。
【請求項１８】
前記インダクタおよびキャパシタは、並列接続または直列接続のうちの1つに配置される、請求項17に記載のRFシステム。
【請求項１９】
前記コントローラは、前記第1の値および前記第2の値にそれぞれ従って変化する感知信号に従って前記定義済みの関係を変えるように構成される、請求項15に記載のRFシステム。
【請求項２０】
前記定義済みの関係は、
min(Δχj) = ξ - (α1χ1 + α2χ2 +・・・αKχK)または
【数２】
2020532826.tif 000011
のうちの1つに従って前記第1の値と前記第2の値との間の差を最小化することに従って決定され、ただし、
iおよびjは、前記スプリッタのK個のレグのうちの1つを指し、
ξは、前記電気的パラメータであり、
αnは、i番目のレグに対応する係数であり、
χnは、n番目のレグに対応する前記電気的パラメータの感知される値である、請求項15に記載のRFシステム。
【請求項２１】
j番目のレグについて前記電気的パラメータのための設定点は、
χj(n + 1) = αjχj(n)
に従って決定され、ただし、
αjは、前記j番目のレグに対応する前記係数であり、
χj(n)は、現在の設定点についてn番目の繰り返し中に前記j番目のレグに対応する前記電気的パラメータの感知される値である、請求項20に記載のRFシステム。
【請求項２２】
前記第1のレグおよび前記第2のレグのうちの少なくとも1つは、前記第1のレグおよび前記第2のレグのうちの前記少なくとも1つを前記第1のレグおよび前記第2のレグのうちの他方から分離するための分離回路を含み、前記分離回路は、インダクタおよびキャパシタのうちの少なくとも1つを含む、請求項15に記載のRFシステム。
【請求項２３】
前記スプリッタは、第3の負荷への第3のRF出力を発生させ、
前記第3のRF出力を前記第3の負荷に提供する第3のレグと、
前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの選択された1つと前記第3のレグとの間に接続される第2のバランス回路とをさらに備え、
前記第2のバランス回路は、前記電気的パラメータの第3の値および前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの前記選択された1つに対応する前記第1の値または前記第2の値を変化させ、
前記第3の値および前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの前記選択された1つに対応する前記第1の値または前記第2の値は、第2の定義済みの関係に制御される、請求項15に記載のRFシステム。
【請求項２４】
前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの前記選択された1つの他方と前記第3のレグとの間に接続される第3のバランス回路をさらに備え、
前記第3のバランス回路は、前記第3の値および前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの他方に対応する前記第1の値または前記第2の値のうちの他方を変化させ、
前記第3の値および前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの前記選択された1つの他方に対応する前記第1の値または前記第2の値のうちの他方は、第3の定義済みの関係に制御される、請求項23に記載のRFシステム。
【請求項２５】
前記第1、前記第2、および前記第3の値は、等しいまたは異なる定義済みの関係のうちの1つに制御される、請求項24に記載のRFシステム。
【請求項２６】
RF出力信号を受け取り、それぞれの第1の負荷および第2の負荷への第1のRF出力および第2のRF出力を発生させる電気的スプリッタのバランス回路であって、第1のレグは、前記第1のRF出力を前記第1の負荷に提供し、第2のレグは、前記第2のRF出力を前記第2の負荷に提供し、前記第1のレグと前記第2のレグとの間に接続される少なくとも1つのコンポーネントを備え、前記少なくとも1つのコンポーネントは、前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの1つと関連する電気的パラメータの第1の値および前記第1のレグまたは前記第2のレグのうちの他方と関連する前記電気的パラメータの第2の値を制御するために可変であり、前記第1の値および前記第2の値は、定義済みの関係に制御される、バランス回路。
【請求項２７】
前記電気的パラメータは、電圧、電流、電力、インピーダンス、周波数、または位相のうちの1つである、請求項26に記載のバランス回路。
【請求項２８】
前記バランス回路はさらに、インダクタおよびキャパシタのうちの少なくとも1つを備え、インダクタンスまたはキャパシタンスのそれぞれの少なくとも1つは、前記第1の値と前記第2の値との間の関係を変えるために制御される、請求項26に記載のバランス回路。
【請求項２９】
前記インダクタおよびキャパシタは、並列接続または直列接続のうちの1つに配置される、請求項28に記載のバランス回路。
【請求項３０】
前記少なくともインダクタンスまたはキャパシタンスは、前記第1の値および前記第2の値にそれぞれ従って変化する感知信号に従って前記定義済みの関係を変化させる、請求項26に記載のバランス回路。
【請求項３１】
前記定義済みの関係は、
min(Δχj) = ξ - (α1χ1 + α2χ2 +・・・αKχK)または
【数３】
2020532826.tif 000012
のうちの1つに従って前記第1の値と前記第2の値との間の差を最小化することに従って決定され、ただし、
iおよびjは、前記スプリッタのK個のレグのうちの1つを指し、
ξは、前記電気的パラメータであり、
αnは、i番目のレグに対応する係数であり、
χnは、n番目のレグに対応する前記電気的パラメータの感知される値である、請求項26に記載のバランス回路。
【請求項３２】
j番目のレグについて前記電気的パラメータのための設定点は、
χj(n + 1) = αjχj(n)
に従って決定され、ただし、
αjは、前記j番目のレグに対応する前記係数であり、
χj(n)は、現在の設定点についてn番目の繰り返し中に前記j番目のレグに対応する前記電気的パラメータの感知される値である、請求項31に記載のバランス回路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
この出願は、2018年8月24日に出願された米国一般特許出願第16/112,055号の優先権を主張し、また2017年8月29日に出願された米国仮出願第62/551,637号の利益も主張するものである。上記の出願の開示全体は、参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本開示は、RFシステム、および複数の出力間の複数の電力、電圧、または電流の間で電力を分配することに関する。
【背景技術】
【０００３】
このセクションでは、必ずしも従来技術とは限らない本開示に関連する背景情報を提供する。ここで提供される背景の記述は、本開示の文脈を全体的に提示するためのものである。現在名前を挙げられている発明者らの仕事は、それがこの背景セクションにおいて述べられる範囲、ならびに場合によっては出願時に従来技術と見なされない可能性がある本記述の態様について、本開示に対する従来技術として明示的にも黙示的にも認められるものでない。
【０００４】
様々なプラズマベースの製造システムでは、ワークピースは、電極または作業台の間で回転される。いくつかの構成では、ワークピースは、各電極または作業台において等しい時間を費やす。各電極または作業台において等しい時間を費やすことは、ワークピースが、各作業台または電極において等しい時間を費やすので、各電極または作業台の間での電力の不一致を説明する。等しい期間の間に複数作業台を通ってワークピースを回転させることによって提供されるこの理論的に等しいエネルギー量は、理論的に堆積均一性の改善につながり、それに応じてスループットを増加させる。例えば、もしワークピースが、4つの電極または作業台を通って回転するならば、4:1のスループットが、提供される。
【０００５】
いくつかのプラズマベースの製造システムでは、しかしながら、各電極または作業台の間での電力のずれは、著しく変動する可能性がある。著しい変動は、複数電極または作業台を通ってワークピースを回転させることによって理論的に提供される所望の均一性を低減する可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第7,602,127号
【特許文献２】米国特許第8,110,991号
【特許文献３】米国特許第8,395,322号
【特許文献４】米国特許第9,336,995号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このセクションは、本開示の全体的な概要を提供し、その全範囲またはその特徴のすべての包括的な開示ではない。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
単一入力複数出力プラズマ制御システムは、単一入力を受け取り、複数出力を発生させるスプリッタを含む。スプリッタからの各出力は、負荷インピーダンスに提供される。スプリッタは、選択されたスプリッタ出力の間に接続される分岐回路を含む。分岐回路は、各負荷に印加されるそれぞれの電圧、電流、または電力をバランスさせることを可能にするために、各分岐間の電圧、電流、または電力の流れを制御する。
【０００９】
電気的スプリッタは、RF出力信号を受け取り、それぞれの第1の負荷および第2の負荷への第1のRF出力および第2のRF出力を発生させる。電気的スプリッタは、第1のRF出力を第1の負荷に提供する第1のレグおよび第2のRF出力を第2の負荷に提供する第2のレグを含む。第1のレグと第2のレグとの間に接続されるバランス回路は、第1のレグまたは第2のレグのうちの1つと関連する電気的パラメータの第1の値および第1のレグまたは第2のレグのうちの他方と関連する電気的パラメータの第2の値を制御する。第1の値および第2の値は、定義済みの関係に制御される。
【００１０】
RFシステムは、RF信号を発生させるRF電力源を含む。スプリッタは、RF信号を受け取り、それぞれの第1の負荷および第2の負荷への第1のRF出力および第2のRF出力を発生させる。RFシステムは、第1のRF出力を第1の負荷に提供する第1のレグおよび第2のRF出力を第2の負荷に提供する第2のレグを含む。バランス回路は、第1のレグと第2のレグとの間に接続される。バランス回路は、少なくとも1つのコンポーネントを含む。少なくとも1つのコンポーネントは、第1のレグまたは第2のレグのうちの1つと関連する電気的パラメータの第1の値および第1のレグまたは第2のレグのうちの他方と関連する電気的パラメータの第2の値を制御するために可変である。コントローラは、少なくとも1つのコンポーネントを変えるように構成される。コントローラは、第1の値および第2の値が、定義済みの関係に制御されるように、少なくとも1つのコンポーネントを制御する。
【００１１】
電気的スプリッタのバランス回路は、RF出力信号を受け取り、それぞれの第1の負荷および第2の負荷への第1のRF出力および第2のRF出力を発生させる。第1のレグは、第1のRF出力を第1の負荷に提供し、第2のレグは、第2のRF出力を第2の負荷に提供する。バランス回路は、第1のレグと第2のレグとの間に接続される少なくとも1つのコンポーネントを含む。少なくとも1つのコンポーネントは、第1のレグまたは第2のレグのうちの1つと関連する電気的パラメータの第1の値および第1のレグまたは第2のレグのうちの他方と関連する電気的パラメータの第2の値を制御するために可変である。第1の値および第2の値は、定義済みの関係に制御される。
【００１２】
適用可能性のさらなるエリアは、本明細書で提供される記述から明らかになることになる。この概要における記述および具体例は、説明に役立つためだけを目的とし、本開示の範囲を限定することを目的としない。
【００１３】
本明細書で述べられる図面は、すべての可能な実装形態ではなく、選択された実施形態の説明に役立つ目的だけのためであり、本開示の範囲を限定することを目的としない。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本開示のRF電力分配システムの一例の概略的かつ機能的ブロック図である。
【図２】2つの出力を含む例となる電力分配システムの概略的かつ機能的ブロック図である。
【図３】図2の2つの出力の出力電流の例となる波形である。
【図４】n個の出力に至るまでを含む例となる電力分配システムの概略的かつ機能的ブロック図である。
【図５】4つの出力があるときの図4の出力の出力電流の例となる波形である。
【図６】n個の出力およびn個のブリッジ回路に至るまでを含む例となる電力分配システムの概略的かつ機能的ブロック図である。
【図７】4つの出力があるときの図6の出力の出力電流の例となる波形である。
【図８】初期負荷電力誤差に対する累積密度関数の例となるプロットである。
【図９】最終負荷電力誤差に対する累積密度関数の例となるプロットである。
【図１０ａ】本明細書で述べられるブリッジ回路の様々な構成の概略図である。
【図１０ｂ】本明細書で述べられるブリッジ回路の様々な構成の概略図である。
【図１０ｃ】本明細書で述べられるブリッジ回路の様々な構成の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
対応する参照番号は、図面のいくつかの図全体にわたり対応する部分を示す。
【００１６】
例となる実施形態は、添付の図面を参照してより完全に今から述べられることになる。
【００１７】
プラズマエッチングは、半導体製作においてしばしば使用される。プラズマエッチングでは、イオンが、基板上の露出表面をエッチングするために電場によって加速される。電場は、RF電力システムのラジオ周波数(RF)発生器によって発生されるRF電力信号に基づいて発生される。RF発生器によって発生されるRF電力信号は、プラズマエッチングを効果的に実行するために精密に制御されなければならない。
【００１８】
RF電力システムは、RF発生器または供給装置、整合ネットワーク、および負荷(例えば、プラズマチャンバ)を含んでもよい。RF発生器は、RF電力信号を発生させ、それらは、整合ネットワークにおいて受け取られる。整合ネットワークは、整合ネットワークの入力インピーダンスをRF発生器と整合ネットワークとの間の伝送線路の特性インピーダンスに整合させる。このインピーダンス整合は、整合ネットワークに送られる電力量(順方向電力)を最大化し、整合ネットワークからRF発生器に反射されて戻る電力量(逆方向電力)を最小化するのに役立つ。整合ネットワークの入力インピーダンスが、伝送線路の特性インピーダンスと整合するとき、順方向電力は最大化されてもよく、逆方向電力は、最小化されてもよい。
【００１９】
RF電力発生器または供給装置の分野では、典型的には、RF信号を負荷に印加することに対して2つの手法がある。第1の、より伝統的な手法は、連続波信号を負荷に印加することである。連続波モードでは、連続波信号は典型的には、電力源によって負荷に連続的に出力される正弦波である。連続波手法では、RF信号は、正弦波出力であってもよく、正弦波の振幅および/または周波数は、負荷に印加される出力電力を変えるために変えることができる。
【００２０】
RF信号を負荷に印加することに対する第2の手法は、連続波信号を負荷に印加することよりもむしろ、RF信号をパルス化することを伴う。動作のパルスモードでは、RF正弦波信号は、変調された正弦波信号についてエンベロープを規定するために変調信号によって変調される。従来のパルス変調スキームでは、RF正弦波信号は典型的には、所定の周波数および振幅において出力される。周波数は、インピーダンス整合条件を改善するために変えることができ、素早い周波数同調を提供する。振幅は、RF信号の電力を変化させるために変えられてもよい。負荷に配送される電力はまた、正弦波RF信号を変えることに加えて、または正弦波RF信号を変えるよりもむしろ、変調信号を変えることによって制御されてもよい。
【００２１】
典型的なRF電力発生器構成では、負荷に印加される出力電力は、負荷に印加されるRF信号の順方向電力および反射電力または電圧および電流を測定するセンサを使用して決定される。これらの信号のどちらかの組が、負荷に印加される電力のパラメータを決定するために分析される。パラメータは、例えば、電圧、電流、周波数、および位相を含むことができる。分析は、例えば、負荷に印加される電力を変えるために、RF電力供給装置の出力を調整するために使用される電力値を決定してもよい。負荷がプラズマチャンバであるRF電力配送システムでは、印加される電力は部分的に、負荷のインピーダンスの関数であるので、負荷の変動インピーダンスは、負荷に印加される対応する変動電力を引き起こす。従って、変動インピーダンスは、RF電力供給装置から負荷への電力の最適印加を維持するために、負荷に印加される電力のパラメータを変えることを必要とする可能性がある。
【００２２】
プラズマシステムでは、電力は典型的には、2つの構成のうちの1つにおいて配送される。第1の構成では、電力は、プラズマチャンバに容量結合される。そのようなシステムは、容量結合プラズマ(CCP)システムと呼ばれる。第2の構成では、電力は、プラズマチャンバに誘導結合される。そのようなシステムは典型的には、誘導結合プラズマ(ICP)システムと呼ばれる。プラズマ配送システムは典型的には、それぞれのバイアス電力およびソース電力を1つのまたは複数の電極に印加するバイアスおよびソースを含む。ソース電力は典型的には、プラズマチャンバ内にプラズマを発生させ、バイアス電力は、バイアスRF電力供給装置に対してあるエネルギーにプラズマを同調する。バイアスおよびソースは、様々な設計検討に従って、同じ電極を共有してもよく、または別個の電極を使用してもよい。
【００２３】
RF電力配送システムが、プラズマチャンバの形の負荷を駆動するとき、プラズマチャンバに配送される電力によって発生される電場は、チャンバ内にイオンエネルギーをもたらす。イオンエネルギーの1つの特性尺度は、イオンエネルギー分布関数(IEDF)である。イオンエネルギー分布関数(IEDF)は、RF波形を用いて制御可能である。複数RF電力信号が負荷に印加されるシステムについてIEDFを制御する1つの方法は、周波数および位相によって関連付けられる複数RF信号を変えることによって起こる。複数RF電力信号間の周波数は、固定され、複数RF信号間の相対位相もまた、固定される。そのようなシステムの例は、本発明の譲受人に委譲され、参照によりこの出願に組み込まれる、米国特許第7,602,127号、米国特許第8,110,991号、米国特許第8,395,322号、および米国特許第9,336,995号を参照すると見いだすことができる。
【００２４】
RFプラズマ処理システムは、プラズマ発生および制御のためのコンポーネントを含む。1つのそのようなコンポーネントは、プラズマチャンバまたはリアクタと呼ばれる。薄膜製造のための、例としてなどの、RFプラズマ処理システムにおいて利用される典型的なプラズマチャンバまたはリアクタは、二重周波数システムを利用する。二重周波数システムの片方の周波数(ソース)は、プラズマの発生を制御し、二重周波数システムのもう一方の周波数(バイアス)は、イオンエネルギーを制御する。二重周波数システムの例は、上で言及された米国特許第7,602,127号、米国特許第8,110,991号、米国特許第8,395,322号、および米国特許第9,336,995号において述べられるシステムを含む。上で言及された特許において述べられる二重周波数システムは、イオン密度およびその対応するIEDFを制御する目的のためにRF電力供給動作を適合させるための閉ループ制御システムを含む。
【００２５】
図1の概略的かつ機能的ブロック図は、交差結合された単一入力複数出力(SIMO)分配ネットワークのためのバランスおよび制御システム10を描写する。バランスおよび制御システム10は、RF発生器12を含む。RF発生器12は、整合ネットワーク14に入力されるRF信号を発生させる。整合ネットワーク14は、最大電力が、RF発生器12からチャンバアセンブリ18に移されるように、RF発生器12とプラズマチャンバアセンブリ18との間のインピーダンスを変える。プラズマチャンバアセンブリ18は、複数電極またはチャンバ20a、20b、20c、・・・、20nを含む。電気的スプリッタ16は、整合ネットワーク14とプラズマチャンバアセンブリ18との間に挿入される。スプリッタ16は、RF信号を整合ネットワーク14から受け取り、プラズマチャンバアセンブリの各それぞれのチャンバ20aに印加するためにRF信号を分割する。
【００２６】
センサ22a、22b、22c、・・・、22nは、スプリッタ16とプラズマチャンバアセンブリ18との間に置かれる。図1に示されるように、各センサ22a、22b、・・・、22nは、各それぞれのプラズマチャンバまたは電極に出力される信号のそれぞれの電気的特性またはパラメータと関連する電気的特性値または電気的パラメータ値を決定するためにそれぞれのプラズマチャンバまたは電極20a、20b、・・・、20nに対応する。本明細書の様々な部分では、複数センサは、集合的にセンサ22と呼ばれてもよく、プラズマチャンバまたは電極は、集合的にプラズマチャンバまたは電極20と呼ばれてもよい。
【００２７】
様々な実施形態によると、センサ22は、RF信号の動作電気的パラメータまたは特性を検出し、それを示す値を出力する。当業者は、センサ22が、それに印加されるRF信号の選択された電気的パラメータまたは特性を検出するために電圧、電流、および/または方向性結合器センサとして実施されてもよいということを認識することになる。様々な実施形態では、センサ22は、(i)電圧vおよび電流iならびに/または(ii)スプリッタ16から出力される順方向(もしくはソース)電力PFWDおよび/もしくはそれぞれのプラズマチャンバもしくは電極からの逆方向(もしくは反射)電力PREVを検出してもよい。電圧v、電流i、順方向電力PFWD、および逆方向電力PREVは、それぞれのセンサ22に印加されるRF信号と関連する実際の電圧、電流、順方向電力、および逆方向電力の縮小/拡大されたかつ/またはフィルタ処理されたバージョンであってもよい。様々な実施形態では、センサ22は、アナログおよび/またはデジタルセンサであってもよい。デジタル実装形態では、センサ22は、アナログ/デジタル(A/D)変換器および対応するサンプリングレートを有する信号サンプリングコンポーネントを含んでもよい。様々な実施形態では、センサ22は、チャンバ20に印加されるRF信号の電圧、電流、電力、または位相を決定するように構成されてもよい。
【００２８】
当業者は、整合ネットワーク14が、別個のコンポーネントとしてまたは他のコンポーネントと組み合わされて実施されてもよいということを認識することになる。さらに、当業者は、センサ22が、それぞれの整合ネットワーク14と一体的に実施されてもよくまたはそれぞれの整合ネットワーク14から切り離して実施されてもよいということを認識することになる。さらになお、当業者は、スプリッタ16からの出力が、整合ネットワーク14に印加され、整合ネットワーク14からの出力が、センサ22に印加されるように、整合ネットワーク14およびセンサ22が、隣接するように構成されてもよいということを認識することになる。
【００２９】
バランスおよび制御システム10はまた、コントローラ24も含む。コントローラ24は、RF電力発生器12、整合ネットワーク14、スプリッタ16、センサ22、およびチャンバ20の1つまたはすべてと選択的に通信するように構成される。様々な実施形態では、コントローラ24は、バランスおよび制御システム10の動作を変えるために、様々なコンポーネントから入力を受け取り、様々なコンポーネントへの制御信号を発生させる。
【００３０】
図2は、スプリッタ16の拡大図を描写する。本記述全体にわたって、類似の参照数字は、図面および明細書において同様のコンポーネントに言及するために使用されることになる。図2は、RF発生器12からなどの、RF入力を受け取り、整合された信号をスプリッタ16に出力する整合ネットワーク14を描写する。図2におけるスプリッタ16は、整合ネットワーク14から出力される信号を受け取り、信号をそれぞれのセンサ1 22aおよびセンサ2 22bに出力される一対の信号に分割する一対の分岐(n=2)を含む。センサ1 22aおよびセンサ2 22bは、RF信号をそれぞれのチャンバ1 20aおよびチャンバ2 20bに出力する。図2に示されるように、チャンバ1およびチャンバ2は、それぞれのインピーダンスZ1およびZ2によって表される。
【００３１】
図2のスプリッタ16は、バランスまたはブリッジ回路32によって相互接続される2つの分岐またはレグ30a、30bを示す。レグ30aは、インダクタLa1およびキャパシタCa1を含む第1のLC回路を含む。インダクタLa1は、シャントインダクタLs1に接続する。様々な実施形態では、分岐またはレグ30aは、シャントインダクタLs1の反対側の端部に接続されるインダクタLa1'およびキャパシタCa1'を含む第2のLC回路を含む。様々な実施形態では、LおよびCの値は、LC回路が、RF信号の動作周波数において共振するように選択される。それ故に、様々な実施形態では、様々なLC回路は、RF信号の周波数以外の周波数においてインピーダンスZ1およびZ2とRF電力発生器12との間の分離を提供する。分離の大きさは、それぞれのLC回路を通過する信号の周波数に従って変化する。様々な他の実施形態では、選択されたLC回路は、インピーダンスおよびバンド幅の考察に対処する。
【００３２】
スプリッタ16はまた、バランスまたはブリッジ回路32も含む。ブリッジ回路32は、並列接続のインダクタLb1およびキャパシタCb1を含む。様々な構成では、ブリッジ回路32は、分岐またはレグ30aと30bとの間での電流、電圧、インピーダンス、または電力の移動を制御する。様々な他の構成では、ブリッジ回路32は、分岐またはレグ30a、30bの間の位相を制御する。様々な実施形態では、ブリッジ回路32は、それぞれの分岐30a、30bに対応する電気的パラメータの値を変えるように制御される。それぞれの値は、所定の関係に制御される。電気的パラメータは、電圧、電流、電力、インピーダンス、周波数、または位相を含むことができる。このようにして、スプリッタ16のレグまたは分岐30a、30bからそれぞれのインピーダンスZ1 20aおよびZ2 20bへの出力は、変えることができる。それ故に、インダクタLb1およびキャパシタCb1の値の適切な選択によって、ブリッジ回路32は、スプリッタ16が等しい電力を発生させることを可能にする。様々な実施形態では、インダクタLb1およびキャパシタCb1の1つまたは両方は、スプリッタ16の各レグまたは分岐30a、30bによって出力される電力が、動的に制御されてもよいように、コントローラ24によって制御することができる。
【００３３】
図3における波形に言及すると、図3は、ブリッジ回路32のキャパシタCb1の値およびそれぞれのセンサ22a、22bによって測定された出力電流のプロットを描写する。図3に見られるように、キャパシタCb1の値を変えることは、それぞれのセンサ22a、22bを通る電流(図3における電気的パラメータ電流のそれぞれの値)をそれに応じて変化させる。また図3にも見られるように、キャパシタCb1の値が、変わるにつれて、センサ2 22bを通過する電流の増加は、センサ1 22aを通る電流の減少に対応し、逆もまた同様である。さらに、波形が、交差するところでは、センサ1 22aおよびセンサ2 22bを通る電流は、等しい。それ故に、Cb1を変えることは、それぞれのセンサ1 22aおよびセンサ2 22bによって測定される電流間の関係を変えることを可能にする。
【００３４】
図4は、n個の分岐またはレグ30a、30b、30c、・・・、30nのためのスプリッタ16の一般化された図を描写する。図4は、RF発生器12からなどの、RF入力を受け取り、整合された信号をスプリッタ16に出力する整合ネットワーク14を描写する。図4におけるスプリッタ16は、整合ネットワーク14から出力される信号を受け取り、信号をそれぞれのセンサ1、2、3、・・・、n(22a、22b、22c、・・・、22n)に出力されるn個の信号に分割するn個の分岐を含む。図4に示されるように、各チャンバは、それぞれのインピーダンスZ1、Z2、Z3、・・・、Zn(20a、20b、20c、・・・、20n)によって表される。
【００３５】
図4のスプリッタ16は、それぞれのバランスまたはブリッジ回路32a、32b、・・・、30n-1によって相互接続されるn個の分岐またはレグ30a、30b、30c、・・・、30nを示す。様々な実施形態では、各レグまたは分岐30a、30b、30c、・・・、30nは、図2に関して上で述べられたような共振LC回路を用いて構成することができる。
【００３６】
スプリッタ16はまた、バランスまたはブリッジ回路32a、32b、・・・、32n-1も含む。各ブリッジ回路32 32a、32b、・・・、32n-1は、図2に関して上で述べられた通りに構成される。このようにして、スプリッタ16のレグまたは分岐30a、30b、30c、・・・、30nからそれぞれのインピーダンスZ1、Z2、Z3、・・・、Zn(20a、20b、20c、・・・、20n)への出力は、それぞれのブリッジ回路によって接続される各分岐またはレグの電気的パラメータの値の間の所定の関係を維持することを可能にするために変えることができる。それ故に、ブリッジ回路のインダクタおよびキャパシタの値の適切な選択によって、ブリッジ回路32a、32b、・・・、32n-1は、スプリッタ16が各分岐またはレグから等しい電力を発生させることを可能にする。様々な実施形態では、各分岐回路のインダクタおよびキャパシタの1つまたは両方は、スプリッタ16の各レグまたは分岐30a、30b、30c、・・・、30nによって出力される電力が、動的に制御されてもよいように、コントローラ24によって制御することができる。各バランスまたはブリッジ回路32a、32b、・・・、32n-1は、各レグ30a、30b、・・・、30nにおける電気的パラメータ値を定義済みの関係に制御することを可能にするために、図2に関して上で述べられた通りに制御することができる。様々な実施形態では、いくつかの定義済みの関係は、それぞれのレグ30a、30b、・・・、30nの電気的パラメータの値の間で維持することができる。
【００３７】
図5における波形に言及すると、図5は、ブリッジ回路32のn=4についてのキャパシタCb1 = Cb2 = Cb3の値およびそれぞれのセンサ22a、22b、22c、22dによって測定された出力電流(図5における電気的パラメータ電流のそれぞれの値)のプロットを描写する。図5に見られるように、キャパシタの値を変えることは、それぞれのセンサ22a、22b、22c、22dを通る電流をそれに応じて変化させる。波形が、交差するところでは、交差波形に対応するセンサを通る電流は、等しい。それ故に、Cb1、Cb2、およびCb3を変えることは、センサ1 22a、センサ2 22b、センサ3 22c、およびセンサ4 22dによって測定される電流の間の関係を変えることを可能にする
【００３８】
図6は、ブリッジ回路32nの追加がある、図4に似た構成を描写する。図6は、図4と同様に動作し、ブリッジ回路32nは、分岐30aと30nとの間の電圧、電流、電力、インピーダンス、周波数、または位相を制御する。図7における波形に言及すると、図7は、図6の構成についてn=4についてのキャパシタCb1 = Cb2 = Cb3 = Cb4の値のプロットを描写する。図7に見られるように、キャパシタの値を変えることは、それぞれのセンサ22a、22b、22c、22dを通る電流(図7における電気的パラメータ電流のそれぞれの値)をそれに応じて変化させる。波形が、交差するところでは、センサを通る電流は、等しい。それ故に、Cb1、Cb2、Cb3、およびCb4を変えることは、センサ1 22a、センサ2 22b、センサ3 22c、およびセンサ4 22dによって測定される電流の間の関係を変えることを可能にする。
【００３９】
プラズマのチャンバまたはチャンバアセンブリ18を制御するための統合制御フレームワークは、ツール上のK個の活性プラズマチャンバの間で均一な負荷電力を決定することを含む。活性プラズマチャンバは、対応するプラズマチャンバが動作しているかどうかを決定するためにしきい検出レベルを適用することによって自律的に決定することができる。別法として、動作しているプラズマチャンバは、デジタル入力またはデジタル通信インターフェースを通じてコントローラ24に示されることもあり得る。活性チャンバから、平均負荷電力が、計算され、
【００４０】
【数１】
2020532826.tif 000003
【００４１】
ただし、
E[Pj]は、平均電力(average or mean power)であり、
Pnは、n番目のチャンバについての電力であり、
PDAは、平均電力分配である。
活性チャンバの間で均一な電力を得るために、それぞれのチャンバ電力測定結果に対する平均電力の差は、コスト関数、
min(ΔPj) = PDA - (α1P1 + α2P2 +・・・αKPK) = 0     (2)
によって最小化される。最適α係数を見いだすために、コスト関数は、行列形式、
【００４２】
【数２】
2020532826.tif 000004
【００４３】
に変換される。Λが行列を表すものとし、行列方程式P = Λαを形成する。最適αは、
α = (ΛTΛ)-1ΛTP     (4)
によって決定される。
【００４４】
すべての活性チャンバについて、αjは、新しい負荷電力設定点pj(n + 1) = αjpj(n)を決定するために使用され、それは、共通分析モジュールからのアナログ出力信号を介してまたはデジタル通信インターフェースを介してそれぞれの電力配送システムに伝えられる。系統的便益のためのオフセットはその後、新しい負荷電力設定点に追加されてもよい。定期的な間隔において、αは、プラントにおける動的効果を説明するために再計算される。
【００４５】
図8および図9を参照すると、動的電力配送システムおよびプラズマチャンバについてのモンテカルロシミュレーションが、主題開示の有効性を実証する。初期二乗平均平方根(RMS)負荷電力誤差についての累積密度関数は、約2.5%から35%までの変化として図8に示される。図9におけるRMS負荷電力誤差の最終分配は、1%を越えず、時間の90%(90% of the time)が近似的に0.1%未満のRMS誤差である。
【００４６】
代替最小化手法が、以下で述べられる。前の方程式は、平均負荷電力と活性チャンバに対応する負荷電力との間の差を最小化するコスト関数を記述する。代替手法は、活性チャンバに対応する電気的パラメータ(負荷電力などの)測定結果の間の電気的パラメータ(負荷電力などの)の差を最小化するコスト関数を利用する。
【００４７】
【数３】
2020532826.tif 000005
【００４８】
これは、行列形式で、
【００４９】
【数４】
2020532826.tif 000006
【００５０】
と表すことができる一組の方程式に対応する。
【００５１】
前に示されたように、これは、
α = (ΛTΛ)-1ΛTP     (7)
によって決定される最適αを用いた等価形式を有する。係数αnは、本明細書で述べられるような制御を達成するためにブリッジ回路32におけるLまたはCの1つまたは両方の調整可能な値を決定する。
【００５２】
上記のように、αjは、新しい電気的パラメータ設定点pj(n + 1) = αjpj(n)を決定するために使用され、それは、コントローラ24などの、共通分析モジュールからのアナログ出力信号を介してまたはデジタル通信インターフェースを介してそれぞれの電力配送システムに伝えられる。電力配送システムは次いで、系統的便益のためのオフセットに対する調整値を決定し、オフセットはその後、新しい負荷電力設定点に追加されてもよい。定期的な間隔において、αは、プラントにおける動的効果を説明するために再計算される。
【００５３】
両方の最小化方法において使用される行列形式は、行列内の最後のエントリとして含まれる行を有する。これは、α結果を平均負荷電力PDAに強制的に収束させるための拘束方程式である。様々な実施形態では、この方程式は、他の拘束について省略されるまたは変更されることもあり得る。拘束方程式の1つの可能性のある置換は、K-1定数が、加重値合計が1になるという要件とともに加重値によって置き換えられるところの、不均一な電力レベルのこともあり得る。これは、不均一および非最小化のどちらかまたは両方のこともある電気的パラメータ値の間の所定の関係をもたらす。
【００５４】
上記の議論は、統合制御を提供する一例として負荷電力を使用した。コンセプトは、最小化コスト関数における負荷電力変数の代わりに、異なる電気的パラメータまたは変数を使用する統合制御の目的のために拡張可能である。これらの電気的パラメータ変数は、測定される電圧、電流、インピーダンス、周波数、電力、または位相を含むこともあり得る。位相は、電圧と電流との間の位相差、または測定される電圧もしくは測定される電流の位相を含むこともあり得る。さらなる拡張は、これらの変数の関数を含んでもよい、これらの関数は、これらの測定される値の組から導き出されるプラズマパラメータを含むこともあり得る。例えば、イオン質量/束ならびにプラズマ密度および電子温度は、共通分析モジュールの測定結果から決定することができる。
【００５５】
以下の議論は、いろいろな異なる測定パラメータを制御するためのスキームの一般化を述べる。前に述べられた例は、負荷電力に頼った。負荷電力は、他の測定値またはそれらの値の関数の電気的パラメータを示す、一般変数χと置き換えられてもよい。我々は、我々の前のコスト関数で始め、それらを一般的用語、
min(Δχj) = ξ - (α1χ1 + α2χ2 +・・・αKχK) = 0     (8)
【００５６】
【数５】
2020532826.tif 000007
【００５７】
で定義する。我々は、第1の最小化方程式において、ξが前にPDAに割り当てられたことに留意する。一般化された場合については、ξは、E[χ]の代わりに代替定義を採用してもよい。これらのコスト関数は、それらのそれぞれの等価行列形式、
【００５８】
【数６】
2020532826.tif 000008
【００５９】
および
【００６０】
【数７】
2020532826.tif 000009
【００６１】
を有する。
【００６２】
前に示されたように、これは、
α = (ΛTΛ)-1ΛTξ     (12)
によって決定される最適αを用いた等化方程式を有する。αjは、新しい設定点、
χj(n + 1) = αjχj(n)     (13)
を決定するために使用され、それは、共通分析モジュールからのアナログ出力信号を介してまたはデジタル通信インターフェースを介してそれぞれの電力配送システムに伝えられる。系統的便益のためのオフセットはその後、新しい設定点に追加されてもよい。定期的な間隔において、αは、プラントにおける動的効果を説明するために再計算される。
【００６３】
図10a〜図10cは、バランスまたはブリッジ回路32の様々な実施形態を示す。図2、図4、図6において、バランス回路32は、並列LC回路として示される。図10aは、直列LC回路を含むバランス回路32の実施形態を示す。図10bは、キャパシタとして実施されるバランス回路32を示す。図10cは、インダクタとして実施されるバランス回路32を示す。バランス回路32のこれらの様々な4つの構成は、具体的設計検討および要件に従って選択されてもよい。
【００６４】
様々なノード出力に対してRF電力をバランスさせるための分配スキームは、製造するとき、複数プラズマチャンバを含有する単一プロセスツール上に複数目標を含み、ワークピースは、プロセスツールと関連するすべてのRFプラズマチャンバについて均一な処理時間中に同じ電力量にさらされてもよい。本開示のシステムは、電力を電極間で均一にかつインピーダンスを分離のために高く保つためのブリッジ回路を用いて電極間での負荷共有を可能にする。単一分析モジュールは、ツール全体にわたって統合制御を達成するために複数RFセンサを分析するように構成されてもよい。
【００６５】
ブリッジ要素は、並列共振回路を通じて高インピーダンスソースから導き出される。並列回路の要素の1つは、電極間の電力同調を可能にするために可変である。
【００６６】
統合制御は、ツール上の活性チャンバに配送される均一電力を用いて成し遂げられてもよい。プラズマ処理ツールの動的利用は、チャンバのすべてを同時に使用しなくてもよい。共通分析モジュールは、RFセンサに結合するので、制御は、ツール上で活性であるそれらのRFプラズマチャンバだけに委ねられてもよい。
【００６７】
分析モジュールまたはコントローラは、統合パラメータ、例えば配送される電力に対応する作動信号を提供することができる。同様に、制御信号は、デジタルリンク、例えばRS-232を介して伝えられてもよく、またはイーサネット(登録商標)を介してネットワークスキームを通じて成し遂げられてもよい。
【００６８】
本明細書で述べられるコントローラ手法は、区別できる活性プラズマチャンバを最小負荷電力誤差に集中させるのに最適である。
【００６９】
前述の記述は、本来は単に説明に役立つだけであり、決して本開示、その適用、または使用を限定することを目的としていない。本開示の広い教示は、いろいろな形で実施されてもよい。従って、この開示は、特定例を含むが、他の変更は、図面、明細書、および添付の特許請求の範囲を調査すると明らかになることになるので、本開示の真の範囲は、そのように限定されるべきでない。方法内の1つまたは複数のステップは、本開示の原理を変更することなく、異なる順序で(または同時に)実行されてもよいことを理解すべきである。さらに、実施形態の各々が、ある特徴を有するとして上で述べられるけれども、本開示の任意の実施形態に関して述べられるそれらの特徴の任意の1つまたは複数は、たとえその組み合わせが、明確に述べられなくても、他の実施形態のいずれかにおいて実施されかつ/または他の実施形態のいずれかの特徴と組み合わされてもよい。言い換えれば、述べられる実施形態は、互いに排他的でなく、1つまたは複数の実施形態の互いとの置換は、この開示の範囲内にとどまる。
【００７０】
要素の間の(例えば、モジュール、回路要素、半導体層、その他の間の)空間的関係および機能的関係は、「接続される(connected)」、「係合される(engaged)」、「結合される(coupled)」、「隣接する(adjacent)」、「隣にある(next to)」、「上部にある(on top of)」、「上方に(above)」、「下方に(below)」、および「配置される(disposed)」を含む、様々な用語を使用して述べられる。「直接的(direct)」であると明確に述べられない限り、第1の要素と第2の要素との間の関係が、上記の開示において述べられるとき、その関係は、他の介在する要素が第1の要素と第2の要素との間に存在しない直接的関係とすることができるが、しかしまた1つまたは複数の介在する要素が第1の要素と第2の要素との間に存在する(空間的にまたは機能的に)間接的関係とすることもできる。本明細書で使用される場合、語句A、B、およびCの少なくとも1つは、非排他的論理ORを使用する、論理(A OR B OR C)を意味すると解釈すべきであり、「Aの少なくとも1つ、Bの少なくとも1つ、およびCの少なくとも1つ」を意味すると解釈すべきでない。
【００７１】
図において、矢尻によって示されるような、矢印の方向は一般に、説明図に対して関心のある情報(データまたは命令などの)の流れを明示する。例えば、要素Aおよび要素Bが、いろいろな情報を交換するが、しかし要素Aから要素Bに伝達される情報が、説明図に関連するとき、矢印は、要素Aから要素Bを指してもよい。この一方向の矢印は、他の情報が要素Bから要素Aに伝達されないことを暗示しない。さらに、要素Aから要素Bに送られる情報について、要素Bは、情報の要求、または情報の受信確認を要素Aに送ってもよい。
【００７２】
以下の定義を含む、この出願では、用語「モジュール」または用語「コントローラ」は、用語「回路」と置き換えられてもよい。用語「モジュール」は、特定用途向け集積回路(ASIC)、デジタル、アナログ、もしくは混合アナログ/デジタルディスクリート回路、デジタル、アナログ、もしくは混合アナログ/デジタル集積回路、組み合わせ論理回路、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)、コードを実行するプロセッサ回路(共有、専用、もしくはグループ)、プロセッサ回路によって実行されるコードを記憶するメモリ回路(共有、専用、もしくはグループ)、述べられる機能性を提供する他の適切なハードウェアコンポーネント、またはシステムオンチップにおけるなどの、上記のいくつかもしくはすべての組み合わせを指す、それらの一部である、またはそれらを含んでもよい。
【００７３】
モジュールは、1つまたは複数のインターフェース回路を含んでもよい。いくつかの例では、インターフェース回路は、ローカルエリアネットワーク(LAN)、インターネット、広域ネットワーク(WAN)、またはそれらの組み合わせに接続される有線または無線インターフェースを含んでもよい。本開示の任意の所与のモジュールの機能性は、インターフェース回路を介して接続される複数モジュールの間で分配されてもよい。例えば、複数モジュールは、負荷バランスを可能にしてもよい。さらなる例では、サーバー(またリモート、またはクラウドとしても知られている)モジュールは、クライアントモジュールに代わっていくつかの機能性を成し遂げてもよい。
【００７４】
モジュールのいくつかのまたはすべてのハードウェア特徴は、IEEE規格1364-2005(一般に「Verilog」と呼ばれる)およびIEEE規格1076-2008(一般に「VHDL」と呼ばれる)などの、ハードウェア記述のための言語を使用して定義されてもよい。ハードウェア記述言語は、ハードウェア回路を製造しかつ/またはプログラムするために使用されてもよい。いくつかの実装形態では、モジュールのいくつかのまたはすべての特徴は、以下で述べられるようなコードおよびハードウェア記述の両方を包含する、IEEE1666-2005(一般に「システムC」と呼ばれる)などの、言語によって定義されてもよい。
【００７５】
上で使用されるような、用語コードは、ソフトウェア、ファームウェア、および/またはマイクロコードを含んでもよく、プログラム、ルーチン、機能、クラス、データ構造、および/またはオブジェクトを指してもよい。用語共有プロセッサ回路は、複数モジュールからのいくつかのまたはすべてのコードを実行する単一プロセッサ回路を包含する。用語グループプロセッサ回路は、追加のプロセッサ回路と組み合わせて、1つまたは複数のモジュールからのいくつかのまたはすべてのコードを実行するプロセッサ回路を包含する。複数プロセッサ回路への言及は、個別のダイ上の複数プロセッサ回路、単一ダイ上の複数プロセッサ回路、単一プロセッサ回路の複数コア、単一プロセッサ回路の複数スレッド、または上記の組み合わせを包含する。用語共有メモリ回路は、複数モジュールからのいくつかのまたはすべてのコードを記憶する単一メモリ回路を包含する。用語グループメモリ回路は、追加のメモリと組み合わせて、1つまたは複数のモジュールからのいくつかのまたはすべてのコードを記憶するメモリ回路を包含する。
【００７６】
用語メモリ回路は、用語コンピュータ可読媒体のサブセットである。用語コンピュータ可読媒体は、本明細書で使用される場合、媒体を通って伝搬する(搬送波上などの)一時的な電気的または電磁気的信号を包含せず、用語コンピュータ可読媒体は従って、有形でかつ非一時的と考えられてもよい。非一時的コンピュータ可読媒体の限定されない例は、不揮発性メモリ回路(フラッシュメモリ回路、消去可能なプログラマブル読み出し専用メモリ回路、またはマスク読み出し専用メモリ回路などの)、揮発性メモリ回路(スタティックランダムアクセスメモリ回路またはダイナミックランダムアクセスメモリ回路などの)、磁気記憶媒体(アナログもしくはデジタル磁気テープまたはハードディスクドライブなどの)、および光記憶媒体(CD、DVD、またはブルーレイディスクなどの)である。
【００７７】
この出願において述べられる装置および方法は、コンピュータプログラム内に埋め込まれた1つまたは複数の特定の機能を実行するために汎用コンピュータを構成することによって創出される専用コンピュータによって部分的にまたは完全に実施されてもよい。上で述べられる機能ブロックおよびフローチャート要素は、ソフトウェア仕様としての機能を果たし、それは、熟練した専門家またはプログラマの通常業務によってコンピュータプログラムに翻訳されてもよい。
【００７８】
コンピュータプログラムは、少なくとも1つの非一時的コンピュータ可読媒体上に記憶されるプロセッサ実行可能な命令を含む。コンピュータプログラムはまた、記憶されたデータを含むまたはそれに頼ってもよい。コンピュータプログラムは、専用コンピュータのハードウェアと相互作用する基本入力/出力システム(BIOS)、専用コンピュータの特定のデバイスと相互作用するデバイスドライバ、1つまたは複数のオペレーティングシステム、ユーザアプリケーション、バックグラウンドサービス、バックグラウンドアプリケーション、その他を包含してもよい。
【００７９】
コンピュータプログラムは、(i)HTML(ハイパーテキストマークアップ言語)、XML(拡張マークアップ言語)、またはJSON(ジャバスクリプトオブジェクト表記法:JavaScript Object Notation)などの、解析されるべき説明文、(ii)アセンブリコード、(iii)コンピュータによってソースコードから生成されるオブジェクトコード、(iv)インタープリタによる実行のためのソースコード、(v)ジャストインタイムコンパイラによるコンパイルおよび実行のためのソースコード、その他を含んでもよい。例だけとして、ソースコードは、C、C++、C#、Objective-C、Swift、Haskell、Go、SQL、R、Lisp、Java(登録商標)、Fortran、Perl、Pasacal、Curl、OCaml、Javascript(登録商標)、HTML5(ハイパーテキストマークアップ言語第5版)、Ada、ASP(アクティブサーバーページ)、PHP(ハイパーテキストプリプロセッサ)、Scala、Eiffel、Smalltalk、Erlang、Ruby、Flash(登録商標)、Visual Basic(登録商標)、Lua、MATLAB、SIMULINK、およびPython(登録商標)を含む言語から構文を使用して書かれてもよい。
【００８０】
請求項に列挙される要素のどれも、要素が、語句「〜のための手段(means for)」を使用して明確に列挙されない限り、または語句「〜のための動作(operation for)」もしくは「〜のためのステップ(step for)」を使用する方法の請求項の場合に、35U.S.C.§112(f)の意味内の手段プラス機能の要素であることを目的としていない。
【符号の説明】
【００８１】
10  バランスおよび制御システム
12  RF発生器、RF電力発生器
14  整合ネットワーク
16  スプリッタ
18  プラズマチャンバアセンブリ
20  プラズマチャンバまたは電極
20a  電極またはチャンバ、インピーダンスZ1
20b  電極またはチャンバ、インピーダンスZ2
20c  電極またはチャンバ、インピーダンスZ3
20n  電極またはチャンバ、インピーダンスZn
22  センサ
22a  センサ、センサ1
22b  センサ、センサ2
22c  センサ、センサ3
22d  センサ、センサ4
22n  センサ、センサn
24  コントローラ
30a  分岐またはレグ
30b  分岐またはレグ
30c  分岐またはレグ
30n  分岐またはレグ
32  バランスまたはブリッジ回路
32a  バランスまたはブリッジ回路
32b  バランスまたはブリッジ回路
32n-1  バランスまたはブリッジ回路
32n  ブリッジ回路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０ａ】
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【図１０ｂ】
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【図１０ｃ】
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【国際調査報告】
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