(57)【要約】  本発明は、表示基板及びその製造方法、表示パネルに関する。該表示基板は、ベース基板（１０）と、ベース基板（１０）上に設けられる配向膜（２０）とを含む。ベース基板（１０）は、有効表示領域（１１０）と有効表示領域（１１０）の周辺に位置する周辺領域（１２０）とを含む画素ユニット（１００）を複数含み、周辺領域（１２０）に位置する配向膜（２０）は、配向後の液晶分子を作動中に偏向させないように配置され、有効表示領域（１１０）に位置する配向膜（２０）は、配向後の液晶分子を作動中に偏向させるように配置される。通電後、表示基板の周辺領域（１２０）に位置する液晶分子が偏向せず、即ち黒画面を提示し、一般的なブラックマトリクスの遮光機能を果たすことによって、ブラックマトリクスのサイズを小さくさせ、画素の開口率を向上させるとともに、表示基板の透過率を向上させることができる。
2020505622.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効表示領域と前記有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを含む画素ユニットが複数区切られるベース基板と、
前記ベース基板上に設けられ、前記画素ユニットの前記有効表示領域と前記周辺領域に位置する配向膜とを含み、
前記周辺領域に位置する前記配向膜は、配向後の液晶分子を作動中に偏向させないように配置され、前記有効表示領域に位置する前記配向膜は、配向後の液晶分子を作動中に偏向させるように配置されることを特徴とする表示基板。
【請求項２】
前記周辺領域は、前記画素ユニットの第１方向に沿って延びる第１周縁に位置する第１周辺領域と、前記画素ユニットの第２方向に沿って延びる第２周縁に位置する第２周辺領域と、を含み、前記第１方向と前記第２方向は互いに交差し、前記第１周辺領域に位置する前記配向膜の配向方向は、前記第１周縁に垂直な第１配向方向であり、前記第２周辺領域に位置する前記配向膜の配向方向は、前記第２周縁に垂直な第２配向方向であることを特徴とする請求項１に記載の表示基板。
【請求項３】
前記有効表示領域に位置する前記配向膜の配向方向は、前記第１配向方向または前記第２配向方向と同一方向の第３配向方向であることを特徴とする請求項２に記載の表示基板。
【請求項４】
前記有効表示領域に位置する前記配向膜の配向方向は、前記第１配向方向と前記第２配向方向とのいずれにも平行とならない第３配向方向であることを特徴とする請求項２に記載の表示基板。
【請求項５】
前記表示基板はアレイ基板であり、前記アレイ基板の前記周辺領域は、前記第１方向に沿って延びる複数本の走査ラインと、前記第２方向に沿って延びる複数本のデータラインと、をさらに含み、前記データラインと前記走査ラインは交差して互いに絶縁されることを特徴とする請求項２から４のいずれかに記載の表示基板。
【請求項６】
前記有効表示領域は共通電極と画素電極とを含み、前記共通電極と前記画素電極のうちの少なくとも一方は、複数の電極ストリップを含むことを特徴とする請求項５に記載の表示基板。
【請求項７】
前記第１周辺領域は、
前記第１方向に沿って延びる複数本の共通電極線をさらに含むことを特徴とする請求項５または６に記載の表示基板。
【請求項８】
前記表示基板はカラーフィルム基板であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の表示基板。
【請求項９】
前記第１方向と前記第２方向は互いに垂直となることを特徴とする請求項２から７のいずれかに記載の表示基板。
【請求項１０】
前記配向膜は光配向膜であることを特徴とする請求項１から９のいずれかに記載の表示基板。
【請求項１１】
ベース基板において、有効表示領域と前記有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを含む画素ユニットを複数区切る工程と、
前記ベース基板において、前記画素ユニットの前記有効表示領域と前記周辺領域に位置する配向膜を形成する工程と、を含み、
前記周辺領域に位置する前記配向膜を、前記周辺領域に位置する液晶分子を作動中に偏向させないように配向し、前記有効表示領域に位置する前記配向膜を、前記有効表示領域に位置する液晶分子を作動中に偏向させるように配向することを特徴とする表示基板の製造方法。
【請求項１２】
前記周辺領域は、前記画素ユニットの第１方向に沿って延びる第１周縁に位置する第１周辺領域と、前記画素ユニットの第２方向に沿って延びる第２周縁に位置する第２周辺領域と、を含み、前記第１方向と前記第２方向は互いに交差し、前記周辺領域に位置する前記配向膜を配向する工程は、前記第１周辺領域に位置する前記配向膜を配向して前記第１周縁に垂直な第１配向方向を形成する工程と、第２周辺領域に位置する前記配向膜を配向して前記第２周縁に垂直な第２配向方向を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項１１に記載の表示基板の製造方法。
【請求項１３】
前記第１周辺領域に位置する前記配向膜を配向する工程は、
第１マスクにより、前記有効表示領域と前記第２周辺領域に位置する前記配向膜を遮蔽し、次に前記配向膜に光を照射することで、前記第１周縁に垂直な前記第１配向方向を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１２に記載の表示基板の製造方法。
【請求項１４】
前記第２周辺領域に位置する前記配向膜を配向する工程は、
第２マスクにより、前記有効表示領域と前記第１周辺領域に位置する前記配向膜を遮蔽し、次に前記配向膜に光を照射することで、前記第２周縁に垂直な前記第２配向方向を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１２または１３に記載の表示基板の製造方法。
【請求項１５】
前記有効表示領域に位置する前記配向膜を配向する工程は、
第３マスクにより、前記周辺領域を遮蔽し、次に前記配向膜に光を照射することで、前記第１配向方向と前記第２配向方向とのいずれにも平行とならない第３配向方向を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１２から１４のいずれかに記載の表示基板の製造方法。
【請求項１６】
形成された前記有効表示領域に位置する前記配向膜の配向方向は、前記第１配向方向または前記第２配向方向と同一方向の第３配向方向であることを特徴とする請求項１２から１４のいずれかに記載の表示基板の製造方法。
【請求項１７】
前記表示基板はアレイ基板であり、前記アレイ基板を形成する工程は、前記周辺領域内に、前記第１方向に沿って延びる複数本の走査ラインを形成する工程と、前記周辺領域内に、第２方向に沿って延びる複数本のデータラインを形成する工程と、を含み、前記データラインと前記走査ラインは交差して互いに絶縁されることを特徴とする請求項１２から１６のいずれかに記載の表示基板の製造方法。
【請求項１８】
前記アレイ基板を形成する工程は、前記有効表示領域内に共通電極と画素電極とを形成する工程をさらに含み、形成された前記共通電極と前記画素電極のうちの少なくとも一方は、複数の電極ストリップを含むことを特徴とする請求項１７に記載の表示基板の製造方法。
【請求項１９】
前記アレイ基板を形成する工程は、前記第１周辺領域内に、前記第１方向に沿って延びる複数本の共通電極線を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１７または１８に記載の表示基板の製造方法。
【請求項２０】
前記表示基板はカラーフィルム基板であることを特徴とする請求項１１から１６のいずれかに記載の表示基板の製造方法。
【請求項２１】
有効表示領域と前記有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを含む画素ユニットを複数含み、
電圧が印加されていない場合にノーマリーブラック表示モードになるように配置され、第１表示基板と、前記第１表示基板に対向して配置される第２表示基板とを含み、
前記第１表示基板は、前記第１表示基板が前記第２表示基板に臨まれる側に設けられる第１配向膜を含み、前記第２表示基板は、前記第２表示基板が前記第１表示基板に臨まれる側に設けられる第２配向膜を含み、前記周辺領域に位置する前記第１配向膜と前記第２配向膜は、配向後の液晶分子を、電圧が印加された場合に偏向させないように配置され、前記有効表示領域に位置する前記第１配向膜と前記第２配向膜は、配向後の液晶分子を、電圧が印加された場合に偏向させるように配置されることを特徴とする表示パネル。
【請求項２２】
前記周辺領域は、前記画素ユニットの第１方向に沿って延びる第１周縁に位置する第１周辺領域と、前記画素ユニットの第２方向に沿って延びる第２周縁に位置する第２周辺領域と、を含み、前記第１方向と前記第２方向は互いに交差し、前記第１周辺領域に位置する前記第１配向膜と前記第２配向膜の配向方向は、いずれも前記第１周縁に垂直な配向方向であり、前記第２周辺領域に位置する前記第１配向膜と前記第２配向膜の配向方向は、いずれも前記第２周縁に垂直な配向方向であることを特徴とする請求項２１に記載の表示パネル。
【請求項２３】
前記第１表示基板はアレイ基板であり、前記第２表示基板はカラーフィルム基板であり、前記有効表示領域に位置する前記第１配向膜の配向方向は、前記有効表示領域に位置する前記第２配向膜の配向方向に平行となることを特徴とする請求項２２に記載の表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１つの実施例が、表示基板及びその製造方法、表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ（ＴＦＴ−ＬＣＤ）は、解像度が高くて軽くて薄いなどのメリットがあり、液晶テレビ、携帯電話、コンピュータのスクリーン等に広く用いられる。しかしながら、非自発光型の表示モードに制限されるため、液晶表示パネルの透過率は低く、ディスプレイのエネルギー消費は高い。一般的な液晶ディスプレイは、アレイ基板と、カラーフィルム基板と、両基板の間に位置する液晶層とを含む。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、少なくとも１つの実施例が、表示基板及びその製造方法、表示パネルを提供する。通電後、表示基板の周辺領域に位置する液晶分子が偏向せず、即ち、表示基板の周辺領域に位置する液晶分子が黒表示効果を提示し、一般的なブラックマトリクスの遮光機能を果たすことによって、ブラックマトリクスのサイズを小さくさせ、画素の開口率を向上させるとともに、表示基板の透過率を向上させることができる。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、少なくとも１つの実施例が、ベース基板と、ベース基板上に設けられる配向膜とを含む表示基板を提供する。ベース基板において、有効表示領域と有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを含む画素ユニットが複数区切られ、配向膜は画素ユニットの有効表示領域と周辺領域に位置し、周辺領域に位置する配向膜は、配向後の液晶分子を作動中に偏向させないように配置され、有効表示領域に位置する配向膜は、配向後の液晶分子を作動中に偏向させるように配置される。
【０００５】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板において、周辺領域は、画素ユニットの第１方向に沿って延びる第１周縁に位置する第１周辺領域と、画素ユニットの第２方向に沿って延びる第２周縁に位置する第２周辺領域と、を含み、第１方向と第２方向は互いに交差し、第１周辺領域に位置する配向膜の配向方向は、第１周縁に垂直な第１配向方向であり、第２周辺領域に位置する配向膜の配向方向は、第２周縁に垂直な第２配向方向である。
【０００６】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板において、有効表示領域に位置する配向膜の配向方向は、第１配向方向または第２配向方向と同一方向の第３配向方向である。
【０００７】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板において、有効表示領域に位置する配向膜の配向方向は、第１配向方向と第２配向方向とのいずれにも平行とならない第３配向方向である。
【０００８】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板において、表示基板はアレイ基板であり、アレイ基板の周辺領域は、第１方向に沿って延びる複数本の走査ラインと、第２方向に沿って延びる複数本のデータラインと、をさらに含み、データラインと走査ラインは交差して互いに絶縁される。
【０００９】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板において、有効表示領域は共通電極と画素電極とを含み、共通電極と画素電極のうちの少なくとも一方は、複数の電極ストリップを含む。
【００１０】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板において、第１周辺領域は、第１方向に沿って延びる複数本の共通電極線をさらに含む。
【００１１】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板において、表示基板はカラーフィルム基板である。
【００１２】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板において、第１方向と第２方向は互いに垂直となる。
【００１３】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板において、配向膜は光配向膜である。
【００１４】
本発明は、少なくとも１つの実施例が、ベース基板において、有効表示領域と有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを含む画素ユニットを複数区切る工程と、ベース基板において、画素ユニットの有効表示領域と周辺領域に位置する配向膜を形成する工程と、を含み、周辺領域に位置する配向膜を、周辺領域に位置する液晶分子を作動中に偏向させないように配向し、有効表示領域に位置する配向膜を、有効表示領域に位置する液晶分子を作動中に偏向させるように配向する表示基板の製造方法を提供する。
【００１５】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、周辺領域は、画素ユニットの第１方向に沿って延びる第１周縁に位置する第１周辺領域と、画素ユニットの第２方向に沿って延びる第２周縁に位置する第２周辺領域と、を含み、第１方向と第２方向は互いに交差し、周辺領域に位置する配向膜を配向する工程は、第１周辺領域に位置する配向膜を配向して第１周縁に垂直な第１配向方向を形成する工程と、第２周辺領域に位置する配向膜を配向して第２周縁に垂直な第２配向方向を形成する工程とを含む。
【００１６】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、第１周辺領域に位置する配向膜を配向する工程は、
第１マスクにより、有効表示領域と第２周辺領域に位置する配向膜を遮蔽し、次に配向膜に光を照射することで、第１周縁に垂直な第１配向方向を形成する工程を含む。
【００１７】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、第２周辺領域に位置する配向膜を配向する工程は、
第２マスクにより、有効表示領域と第１周辺領域に位置する配向膜を遮蔽し、次に配向膜に光を照射することで、第２周縁に垂直な第２配向方向を形成する工程を含む。
【００１８】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、有効表示領域に位置する配向膜を配向する工程は、
第３マスクにより、周辺領域を遮蔽し、次に配向膜に光を照射することで、第１配向方向と第２配向方向とのいずれにも平行とならない第３配向方向を形成する工程を含む。
【００１９】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、形成された有効表示領域に位置する配向膜の配向方向は、第１配向方向または第２配向方向と同一方向の第３配向方向である。
【００２０】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、表示基板はアレイ基板であり、アレイ基板を形成する工程は、周辺領域内に、第１方向に沿って延びる複数本の走査ラインを形成する工程と、周辺領域内に、第２方向に沿って延びる複数本のデータラインを形成する工程と、を含み、データラインと走査ラインは交差して互いに絶縁される。
【００２１】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、アレイ基板を形成する工程は、有効表示領域に共通電極と画素電極とを形成する工程をさらに含み、形成された共通電極と画素電極のうちの少なくとも一方は、複数の電極ストリップを含む。
【００２２】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、アレイ基板を形成する工程は、第１周辺領域内に、第１方向に沿って延びる複数本の共通電極線を形成する工程をさらに含む。
【００２３】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、表示基板はカラーフィルム基板である。
【００２４】
本発明は、少なくとも１つの実施例が、有効表示領域と有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを含む画素ユニットを複数含み、電圧が印加されていない場合にノーマリーブラック表示モードになるように配置され、第１表示基板と、第１表示基板に対向して配置される第２表示基板とを含み、第１表示基板は、第１表示基板が第２表示基板に臨まれる側に設けられる第１配向膜を含み、第２表示基板は、第２表示基板が第１表示基板に臨まれる側に設けられる第２配向膜を含み、周辺領域に位置する第１配向膜と第２配向膜は、配向後の液晶分子を、電圧が印加された場合に偏向させないように配置され、有効表示領域に位置する第１配向膜と第２配向膜は、配向後の液晶分子を、電圧が印加された場合に偏向させるように配置される表示パネルを提供する。
【００２５】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示パネルにおいて、周辺領域は、画素ユニットの第１方向に沿って延びる第１周縁に位置する第１周辺領域と、画素ユニットの第２方向に沿って延びる第２周縁に位置する第２周辺領域と、を含み、第１方向と第２方向は互いに交差し、第１周辺領域に位置する第１配向膜と第２配向膜の配向方向は、いずれも第１周縁に垂直な配向方向であり、第２周辺領域に位置する第１配向膜と第２配向膜の配向方向は、いずれも第２周縁に垂直な配向方向である。
【００２６】
例えば、本発明の１つの実施例が提供する表示パネルにおいて、第１表示基板はアレイ基板であり、第２表示基板はカラーフィルム基板であり、有効表示領域に位置する第１配向膜の配向方向は、有効表示領域に位置する第２配向膜の配向方向に平行となる。
【００２７】
本発明の実施例をより明確に説明するために、以下、実施例の図面について簡単に説明する。明らかなように、以下の図面は、本発明をそれに限定するものではなく、本発明の一部の実施例に係るものにすぎない。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１ａ】図１ａは、本発明の１つの実施例に係る表示基板を示す図である。
【図１ｂ】図１ｂは、図１ａに示すベース基板における１つの画素ユニットと、その上に設けられる配向膜とを示す図である。
【図２ａ】図２ａは、本発明の１つの実施例に係るアレイ基板上における１つの画素ユニットを示す図である。
【図２ｂ】図２ｂは、図２ａに示す画素ユニットに設けられる配向膜を示す図である。
【図３】図３は、本発明の１つの実施例に係る表示基板の製造方法を示す図である。
【図４ａ】図４ａは、本発明の１つの実施例に係る、マスクにより第１周辺領域に位置する配向膜に対して光配向を行う工程を示す図である。
【図４ｂ】図４ｂは、図４ａに示す配向膜に形成される第１配向方向を示す図である。
【図５ａ】図５ａは、本発明の１つの実施例に係る、マスクにより第２周辺領域に位置する配向膜に対して光配向を行う工程を示す図である。
【図５ｂ】図５ｂは、図５ａに示す配向膜に形成される第２配向方向を示す図である。
【図６ａ】図６ａは、本発明の１つの実施例に係る、マスクにより有効表示領域に位置する配向膜に対して光配向を行う工程を示す図である。
【図６ｂ】図６ｂは、図６ａに示す配向膜に形成される第３配向方向を示す図である。
【図７ａ】図７ａは、本発明の１つの実施例に係る、マスクにより第２周辺領域と有効表示領域に位置する配向膜に対して光配向を行う工程を示す図である。
【図７ｂ】図７ｂは、図７ａに示す配向膜に形成される配向方向を示す図である。
【図８ａ】図８ａは、本発明の１つの実施例に係る、マスクにより第１周辺領域と有効表示領域に位置する配向膜に対して光配向を行う工程を示す図である。
【図８ｂ】図８ｂは、図８ａに示す配向膜に形成される配向方向を示す図である。
【図９】図９は、本発明の１つの実施例に係る表示パネルの断面を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
本発明の実施例の目的、技術案と利点をよりはっきりさせるに、以下、実施例の図面を結合し、本発明の実施例の技術案をはっきりで全面的に説明する。明らかなように、本発明に記載の実施例は、全ての実施例ではなく、一部の実施例にすぎない。本発明に記載の実施例に基づき、当業者が創造的な労働を払わずに得られる全ての他の実施例は、本発明の保護範囲に含まれる。
【００３０】
特に定義しない限り、本発明に記載の技術用語または科学用語は、当業者が理解できる一般的な意味を指す。本発明に記載の「第１」、「第２」及び類似した用語は、順序、数量または重要性を示すものではなく、異なる組成部分を区分するためのものにすぎない。「備える」または「含む」などの類似した用語は、この用語の前に記載された素子または部材が、この用語の後に挙げられる素子または部材及びそれらと同等のものを含むことを指し、他の素子または部材を除外することではない。「上」、「下」、「左」、「右」等は、相対的な位置関係を指すだけであり、説明の対象の絶対的な位置が変化することに応じて、該相対的な位置関係も変化する可能性がある。
【００３１】
本発明は、少なくとも１つの実施例が、ベース基板と、ベース基板上に設けられる配向膜とを含む表示基板及びその製造方法、表示パネルを提供する。ベース基板において、有効表示領域と有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを含む画素ユニットが複数区切られ、配向膜は画素ユニットの有効表示領域と周辺領域に位置し、周辺領域に位置する配向膜は、周辺領域に位置する液晶分子を作動中に偏向させないように配置され、有効表示領域に位置する配向膜は、有効表示領域に位置する液晶分子を作動中に偏向させるように配置される。第１周辺領域に位置する配向膜の配向方向は、第１周縁に垂直な第１配向方向であり、第２周辺領域に位置する配向膜の配向方向は、第２周縁に垂直な第２配向方向である。第１周辺領域に位置する液晶分子は、配向膜の表面における分子と相互作用するため、液晶分子の長軸は第１配向方向に平行となり、同様に、第２周辺領域に位置する液晶分子の長軸は第２配向方向に平行となる。通電後、該表示基板の周辺領域に位置する液晶分子は、液晶分子の長軸方向に平行となる電界の作用を受けるため、該領域の液晶分子が偏向せず、即ち、周辺領域に位置する液晶分子が黒表示効果を提示し、一般的なブラックマトリクスの遮光機能を果たすことによって、ブラックマトリクスのサイズを小さくさせ、画素の開口率を向上させるとともに、表示基板の透過率を向上させることができる。
【００３２】
以下、図面を結合して本発明の実施例が提供する表示基板及びその製造方法、表示パネルについて説明する。
【００３３】
実施例１
【００３４】
本実施例は表示基板を提供し、図１ａは、ベース基板及び配向膜を含む表示基板の斜視図である。図１ａに示すように、該表示基板は、ベース基板１０と、ベース基板１０上に設けられる配向膜２０を含む。ベース基板１０において、有効表示領域１１０と有効表示領域１１０の周辺に位置する周辺領域１２０とを含む画素ユニット１００が複数区切られる。図１ａにおいて、複数の画素ユニット１００は点線で区切られる。なお、本実施例が提供する表示基板は、液晶表示パネルにおけるアレイ基板であってもよく、カラーフィルム基板であってもよく、本実施例はこれについて限定しない。表示基板がアレイ基板である場合に、ベース基板は、互いに交差する電極線（データラインと走査ライン）により複数の画素ユニット１００に区切られ、表示基板がカラーフィルム基板である場合に、複数の画素ユニット１００は、カラーフィルム基板に対向して配置されるアレイ基板上における複数の画素ユニットのカラーフィルム基板における正投影である。
【００３５】
例えば、図１ｂの左図は、図１ａに示すベース基板におけるベース基板１０上の１つの画素ユニット１００を示す図であり、図１ｂの右図は、図１ｂの左図に示す画素ユニット１００上に設けられる配向膜２０を示す図である。図１ｂに示すように、周辺領域１２０は、画素ユニット１００のＸ方向（第１方向）に沿って延びる第１周縁１０１に位置する第１周辺領域１２１と、画素ユニット１００のＹ方向（第２方向）に沿って延びる第２周縁１０２に位置する第２周辺領域１２２と、を含み、第１方向と第２方向は互いに交差するが、本実施例はこれに限られるものではなく、第１方向と第２方向が交換されてもよい。例えば、第１方向と第２方向は互いに垂直となるが、本実施例はこれに限られるものではない。
【００３６】
例えば、周辺領域１２０は、それぞれ有効表示領域１１０のＹ方向における両側に位置する２つの第１周辺領域１２１と、それぞれ有効表示領域１１０のＸ方向における両側に位置する２つの第２周辺領域１２２とを含む。本実施例の２つの第１周辺領域１２１及び２つの第２周辺領域１２２はそれぞれ、図１ｂの左図における画素ユニット１００上に示す点線矩形フレームで示され、図１ｂの右図における配向膜２０上に示す点線矩形フレームは、画素ユニット１００上の２つの第１周辺領域１２１及び２つの第２周辺領域１２２の位置に対応される。
【００３７】
図１ｂに示すように、配向膜２０は、画素ユニット１００の有効表示領域１１０と周辺領域１２０に位置し、第１周辺領域１２１に位置する配向膜２０の配向方向は、第１周縁１０１に垂直な第１配向方向２１０であり、第２周辺領域１２２に位置する配向膜２０の配向方向は、第２周縁１０２に垂直な第２配向方向２２０である。本実施例において、第１配向方向２１０は、図１ｂに示すＹ方向に反対される配向方向に限らず、Ｙ方向と同一の配向方向であってもよく、即ち、第１配向方向２１０は、Ｘ方向に垂直な２つの配向方向を含む。同様に、第２配向方向２２０は、Ｙ方向に垂直な２つの配向方向を含む。なお、本実施例においては、第１周辺領域１２１が図１ｂに示すようなものであり、即ち、第１周辺領域１２１が第１周縁１０１と第２周縁１０２とが交差する部分を含むことを例として説明するが、本実施例はこれに限られるものではなく、実際の状況に応じて、第１周縁と第２周縁とが交差する部分を、第１周辺領域もしくは第２周辺領域内に含めるようにしてもよい。
【００３８】
例えば、表示基板はアレイ基板であり、アレイ基板の周辺領域は、第１方向に沿って延びる複数本の走査ラインと、第２方向に沿って延びる複数本のデータラインと、をさらに含み、複数本のデータラインと複数本の走査ラインは周辺領域の周縁に位置するとともに、互いに絶縁して交差し、複数の画素ユニットを限定する。例えば、アレイ基板の第１周辺領域は、第１方向に沿って延びる複数本の共通電極線を含む。
【００３９】
例えば、図２ａは、本発明の１つの実施例に係るアレイ基板１０上における１つの画素ユニット１００を示す図である。図２ａに示すように、画素ユニット１００の周辺領域１２０は、Ｘ方向に沿って延びる２本の走査ライン１３０と、Ｙ方向に沿って延びる２本のデータライン１４０と、をさらに含み、データライン１４０と走査ライン１３０は交差して互いに絶縁される。例えば、アレイ基板の画素ユニット１００の第１周辺領域１２１は、Ｘ方向に沿って延びる共通電極線１５０をさらに含む。例えば、画素ユニット１００は、薄膜トランジスタ１６０をさらに含む。
【００４０】
例えば、図２ａに示すように、画素ユニット１００の有効表示領域１１０は共通電極１１１と画素電極１１２とを含み、共通電極１１１と画素電極１１２のうちの少なくとも一方は、複数の電極ストリップを含む。本実施例は、共通電極１１１が平面電極であり、画素電極１１２がスリット電極であることを例として説明し、共通電極１１１と、そのＸ方向における両側のデータライン１４０との間に、第２電界方向１２２０（Ｘ方向に平行となる）を有する電界が形成され、即ち、画素ユニット１００における第２周辺領域１２２の中に、Ｘ方向に平行となる電界が形成され、該第２電界方向１２２０は、第２周辺領域１２２における配向膜の第２配向方向２２０に平行となり（図１ｂを参照）、共通電極１１１（または共通電極線１５０）と、走査ライン１３０との間に、第１電界方向１２１０（Ｙ方向に平行となる）を有する電界が形成され、即ち、画素ユニット１００における第１周辺領域１２１の中に、Ｙ方向に平行となる電界が形成され、該第１電界方向１２１０は、第１周辺領域１２１における配向膜の第１配向方向２１０に平行となる（図１ｂを参照）。なお、図２ａに示す第１周辺領域１２１が、第１周縁と第２周縁が交差する部分を含むが、本実施例はこれに限らず、第２周辺領域及び、共通電極線を含む第１周辺領域が、第１周縁と第２周縁が交差する部分を含んでもよい。
【００４１】
配向膜がベース基板から離れた側の液晶分子は、配向膜の表面における分子と相互作用し、液晶分子の長軸方向を配向方向に平行とならせ、即ち、第１周辺領域に位置する液晶分子の長軸は第１配向方向に平行となり、同様に、第２周辺領域に位置する液晶分子の長軸は第２配向方向に平行となる。通電後、該表示基板の周辺領域に位置する液晶分子は、該領域に位置する配向膜の配向方向に平行となる電界の作用を受けて、即ち、該表示基板の周辺領域１２０に位置する液晶分子は、図２ａに示すように第２電界方向１２２０を有する電界や第１電界方向１２１０を有する電界の作用を受けるため、該領域の液晶分子は偏向せず、つまり、周辺領域に位置する液晶分子は黒表示効果を提示し、一般的なブラックマトリクスの遮光機能を果たすことによって、ブラックマトリクスのサイズを小さくさせ、画素の開口率を向上させるとともに、表示基板の透過率を向上させることができる。
【００４２】
なお、本実施例が提供する表示基板の表示モードは、インプレインスイッチング（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ、ＩＰＳ）表示モードであり、例えば、高級超次元スイッチング（Ａｄｖａｎｃｅｄ−Ｓｕｐｅｒ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ、ＡＤＳ）モード、フリンジ電界スイッチング（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ、ＦＦＳ）モードなどであってもよい。
【００４３】
例えば、本実施例が提供するアレイ基板１０において、有効表示領域１１０内の共通電極１１１と画素電極１１２はいずれも透明導電材料であり、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化インジウムガリウム（ＩＧＯ）の組み合わせもしくはそのうちの少なくとも１種を含んでもよく、本実施例はこれについて限定しない。本実施例において、有効表示領域１１０内の共通電極１１１と画素電極１１２の形状や分布は、図２ａに示す例に限られるものではなく、例えば、共通電極１１１と画素電極１１２は異なる層に分布されてもよく、即ち、一方の電極が平面電極であり、他方の電極がスリット電極であってもよいし、両方の電極がいずれもスリット電極であってもよい。例えば、共通電極１１１と画素電極１１２は同じ層に分布され、いずれもスリット電極であってもよく、本実施例はこれについて限定しない。そのため、有効表示領域に位置する配向膜の第３配向方向は、共通電極１１１と画素電極１１２の形状及び分布に応じて決定される。
【００４４】
例えば、図２ｂは、図２ａに示す画素ユニットに設けられる配向膜を示す図であり、図２ｂの左図に示すように、有効表示領域１１０に位置する配向膜の第３配向方向２３０は第２配向方向２２０と同一であるが、本実施例はこれに限らず、第３配向方向２３０は第１配向方向２１０と同一であってもよい。図２ｂの右図に示すように、有効表示領域１１０に位置する配向膜の第３配向方向２３０は、第１配向方向２１０と第２配向方向２２０とのいずれにも平行とならず、本実施例における第３配向方向２３０は、図２ｂの右図に示す方向に限らない。
【００４５】
なお、通電後、有効表示領域に位置する液晶分子が電界の作用を受けて回転可能で、透光モードになるように確保するために、有効表示領域内の電界の方向は第３配向方向に平行とならず、即ち、有効表示領域に位置する液晶の長軸方向は電界の方向に平行とならない。そのため、有効表示領域内の電界の方向が、第１周辺領域内の電界の方向と第２周辺領域内の電界の方向とのいずれにも平行とならない場合に、配向膜の第３配向方向２３０が第１配向方向２１０または第２配向方向２２０と同一であってもよく、有効表示領域内の電界の方向が、第１周辺領域または第２周辺領域内の電界の方向に平行となる場合に、配向膜の第３配向方向２３０が第１配向方向２１０と第２配向方向２２０とのいずれにも平行とならなくてもよいが、本実施例はこれに限らず、例えば、有効表示領域内の電界の方向が、第１周辺領域内の電界の方向に平行となる場合に、配向膜の第３配向方向は第２配向方向と同一であってもよい。
【００４６】
例えば、配向膜が光配向膜であり、即ち、紫外光で材料が紫外光感光性重合単量体である配向膜を照射し、配向膜は光配向反応（二量化反応、分解反応、異性化反応、光再配向反応など）により異方性が生じ、液晶分子が配向膜の表面分子と相互作用し、エネルギーが最小である安定状態に達するために、液晶分子は、光配向によって規定される最大な力が受けられる方向に沿って配列される。
【００４７】
例えば、表示基板はカラーフィルム基板であり、カラーフィルム基板の１つの画素ユニット上の配向膜は図２ｂに示すようである。例えば、カラーフィルム基板の第１周辺領域（または第２周辺領域）における配向膜の第１配向方向２１０（または第２配向方向２２０）は、Ｙ方向と同一（またはＸ方向と同一）な配向方向であり、あるいは、Ｙ方向と反対（またはＸ方向と反対）な配向方向であり、即ち、第１配向方向２１０（または第２配向方向２２０）は、Ｘ（またはＹ）方向に垂直な２つの配向方向である。
【００４８】
例えば、カラーフィルム基板の有効表示領域における配向膜の第３配向方向２３０は、第１配向方向２１０または第２配向方向２２０と同一であってもよく、例えば、カラーフィルム基板の有効表示領域における配向膜の第３配向方向２３０は、第１配向方向２１０と第２配向方向２２０とのいずれにも平行とならなくてもよく、この場合、通電後、有効表示領域に位置する液晶分子が電界の作用を受けて回転可能で、透光モードになるように実現するために、カラーフィルム基板の有効表示領域における配向膜の第３配向方向は、アレイ基板における配向膜の第３配向方向に平行となるとともに、２つの配向膜の第３配向方向がいずれも有効表示領域における電界の方向に平行とならないように確保する必要がある。
【００４９】
カラーフィルム基板の第１周辺領域と第２周辺領域に位置する液晶分子は、該領域の配向膜の表面における分子と相互作用するため、液晶分子の長軸は第１配向方向または第２配向方向に平行となり、第１配向方向または第２配向方向はそれぞれ２つの領域内に形成された電界の方向に平行となる。よって、周辺領域に位置する液晶分子が電界の作用を受けて偏向せず、即ち、周辺領域に位置する液晶分子が黒表示効果を提示し、一般的なブラックマトリクスの遮光機能を果たすので、カラーフィルム基板の一部のブラックマトリクスを代替することができ、ブラックマトリクスのサイズを小さくさせ、画素の開口率を向上させる効果を実現する。
【００５０】
実施例２
【００５１】
本実施例は、表示基板の製造方法を提供し、図３に示すように、該製造方法は下記のステップＳ２０１〜Ｓ２０３を含む。
【００５２】
Ｓ２０１：ベース基板において、有効表示領域と有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを含む画素ユニットを複数区切る。
【００５３】
例えば、図１ｂの左図に示すベース基板上の１つの画素ユニット１００において、有効表示領域１１０の周辺に位置する周辺領域１２０は、画素ユニット１００のＸ方向（第１方向）に沿って延びる第１周縁１０１に位置する第１周辺領域１２１と、画素ユニット１００のＹ方向（第２方向）に沿って延びる第２周縁１０２に位置する第２周辺領域１２２と、を含むが、本実施例はこれに限られるものではなく、第１方向と第２方向を交換してもよい。例えば、第１方向と第２方向は互いに交差して垂直となり、本実施例はこれに限られるものではない。なお、本実施例が提供する表示基板は、液晶表示パネルにおけるアレイ基板であってもよいし、カラーフィルム基板であってもよく、本実施例はこれについて限定しない。
【００５４】
例えば、表示基板はアレイ基板であり、アレイ基板の周辺領域を形成する工程は、ベース基板に、第１方向に沿って延びる複数本の走査ラインを形成する工程と、ベース基板に、第２方向に沿って延びる複数本のデータラインを形成する工程と、を含み、データラインと走査ラインは互いに絶縁されるとともに、互いに交差して複数の画素ユニットを限定する。例えば、アレイ基板の第１周辺領域を形成する工程は、ベース基板に、第１方向に沿って延びる複数本の共通電極線を形成する工程をさらに含む。
【００５５】
例えば、アレイ基板の有効表示領域を形成する工程は、共通電極と画素電極とを形成する工程を含み、形成された共通電極と画素電極のうちの少なくとも一方は、複数の電極ストリップを含む。例えば、本実施例においては共通電極が平面電極であることを例として説明し、共通電極と、第１方向における両側のデータラインとの間に、第１方向に平行となる電界が形成され、即ち、画素ユニットの第２周辺領域に、第１方向に平行となる電界が形成され、共通電極（または共通電極線）と、走査ラインとの間に、第２方向に平行となる電界が形成され、即ち、画素ユニットの第１周辺領域に、第２方向に平行となる電界が形成されるが、本実施例はこれに限られるものではない。
【００５６】
例えば、共通電極及び画素電極は異なる層に位置してもよく、即ち、一方の電極が平面電極であり、他方の電極がスリット電極であってもよく、両方の電極がいずれもスリット電極であってもよい。例えば、共通電極及び画素電極は同じ層に位置し、いずれもスリット電極であってもよく、本実施例はこれについて限定しない。なお、本実施例が提供する表示基板の表示モードは、インプレインスイッチング（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ、ＩＰＳ）表示モードであり、例えば、高級超次元スイッチング（Ａｄｖａｎｃｅｄ−Ｓｕｐｅｒ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ、ＡＤＳ）モード、フリンジ電界スイッチング（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ、ＦＦＳ）モードなどであってもよい。
【００５７】
例えば、表示基板がカラーフィルム基板であり、形成された複数の画素ユニットは、カラーフィルム基板に対向して配置されるアレイ基板上における画素ユニットのカラーフィルム基板における正投影である。例えば、形成された画素ユニットは、エッチング・現像などの工程により形成されるブラックマトリックス及び有彩色着色層意匠を含み、例えば赤色層意匠、緑色層意匠、青色層意匠などを含むが、本実施例はこれに限られるものではない。
【００５８】
Ｓ２０２：ベース基板において、画素ユニットの有効表示領域と周辺領域に位置する配向膜を形成する。
例えば、ローラーによる塗布方式で配向膜を形成してもよいが、本実施例はこれに限られるものではない。
【００５９】
例えば、配向膜がポリイミド、あるいは、他の適宜な光配向材料のような配向材料で構成されてもよいが、本実施例はこれに限られるものではなく、例えば、ポリイミド材料に接着性の優れた添加剤を添加し、接着性の優れた配向膜を形成するようにしてもよい。
【００６０】
Ｓ２０３：周辺領域に位置する配向膜を、周辺領域に位置する液晶分子を作動中に偏向させないように配向し、有効表示領域に位置する配向膜を、有効表示領域に位置する液晶分子を作動中に偏向させるように配向する。
【００６１】
例えば、第１周辺領域に位置する配向膜を、第１周縁に垂直な第１配向方向を形成するように配向し、第２周辺領域に位置する配向膜を、第２周縁に垂直な第２配向方向を形成するように配向する。
【００６２】
例えば、図１ｂの右図に示す１つの画素ユニット１００上の配向膜２０には、第１周辺領域１２１に位置する配向膜２０を、第１周縁１０１に垂直な第１配向方向２１０を形成するように配向し、第２周辺領域１２２に位置する配向膜２０を、第２周縁１０２に垂直な第２配向方向２２０を形成するように配向する。例えば、第１配向方向２１０と第２配向方向２２０は互いに垂直となるが、本実施例はこれに限られるものではない。なお、配向膜に対して配向処理を行わなければ、液晶分子の配列を有効的にコントロールすることができず、配向技術は主にラビング配向技術と非ラビング配向技術との二種類がある。非ラビング配向により、機械的な摩擦による配向膜の不良の発生を避けることができ、非ラビング配向技術は、光配向技術やイオンビーム配向技術などを含み、例えば、本実施例においては、光配向技術により配向膜に対して配向処理を行うことを例として説明する。
【００６３】
例えば、図４ａは、本実施例に係る、マスクにより第１周辺領域に位置する配向膜に対して光配向を行う工程を示す図であり、図４ａはベース基板と、配向膜と、マスクとを含むことを示す斜視図であり、図４ｂは、図４ａに示す配向膜に形成される第１配向方向を示す図である。図４ａ及び４ｂに示すように、第１周辺領域に位置する配向膜２０に、第１周縁に垂直な第１配向方向２１０を形成する工程は、第１マスク３００により、有効表示領域と第２周辺領域に位置する配向膜２０を遮蔽し、次に配向膜２０に光を照射することで、Ｘ方向（第１周縁がＸ方向に延出する）に垂直な第１配向方向２１０を形成する工程を含む。
【００６４】
例えば、図４ａに示すように、直線偏光紫外光８００により配向膜２０に対して光配向処理を行い、Ｘ方向に垂直な配向方向を形成してもよいが、本実施例はこれに限られるものではなく、例えば、非直線偏光紫外光などを用いてもよい。例えば、光配向処理を行うときに照射する紫外光の波長は、２７０ｎｍ〜３６０ｎｍであってもよいが、本実施例はこれに限られるものではない。
【００６５】
例えば、図４ｂに示すように、第１マスク３００は、有効表示領域と第２周辺領域に位置する配向膜を遮蔽しているので、紫外光８００は第１周辺領域に位置する配向膜２０のみに対して光配向処理を行い、Ｘ方向に垂直な第１配向方向２１０を形成する。
【００６６】
例えば、表示基板がアレイ基板であることを例として説明すると、配向膜２０がベース基板から離れた側の液晶分子は、配向膜の表面における分子と相互作用し、液晶分子の長軸方向を配向方向に平行とならせ、即ち、第１周辺領域に位置する液晶分子の長軸は第１配向方向２１０に平行となる。通電後、アレイ基板の第１周辺領域における電界の方向がＸ方向に垂直となり、即ち、該領域における配向膜２０の第１配向方向２１０に平行となるので、表示基板の第１周辺領域に位置する液晶分子は電界の作用により回転せず、即ち、第１周辺領域に位置する液晶分子は黒表示効果を提示し、つまり一般的なブラックマトリクスの遮光機能を果たすことによって、ブラックマトリクスのサイズを小さくさせ、画素の開口率を向上させるとともに、表示基板の透過率を向上させることができる。
【００６７】
例えば、図５ａは、本実施例に係る、マスクにより第２周辺領域に位置する配向膜に対して光配向を行う工程を示す図であり、図５ａはベース基板と、配向膜と、マスクとを含むことを示す斜視図であり、図５ｂは、図５ａに示す配向膜に形成される第２配向方向を示す図である。図５ａ及び５ｂに示すように、第２周辺領域に位置する配向膜２０に、第２周縁に垂直な第２配向方向２２０を形成する工程は、第２マスク４００により、有効表示領域と第１周辺領域に位置する配向膜を遮蔽し、次に配向膜２０に光を照射することで、Ｙ方向（第２周縁がＹ方向に延出する）に垂直な第２配向方向２２０を形成する工程を含む。
【００６８】
例えば、図５ａに示すように、直線偏光紫外光８００により配向膜２０に対して光配向処理を行い、Ｙ方向に垂直な配向方向を形成してもよいが、本実施例はこれに限られるものではない。
【００６９】
例えば、図５ｂに示すように、第２マスク４００は、有効表示領域と第１周辺領域に位置する配向膜を遮蔽しているので、紫外光８００は第２周辺領域に位置する配向膜のみに対して光配向処理を行い、Ｙ方向に垂直な第２配向方向２２０を形成する。配向膜２０がベース基板から離れた側の液晶分子は、配向膜の表面における分子と相互作用し、第２周辺領域に位置する液晶分子の長軸方向を第２配向方向２２０に平行とならせる。例えば、通電後、アレイ基板の第２周辺領域における電界の方向がＹ方向に垂直となり、即ち、該領域における配向膜２０の第２配向方向２２０に平行となるので、表示基板の第２周辺領域に位置する液晶分子は電界の作用により回転せず、即ち、第２周辺領域に位置する液晶分子は黒表示効果を提示し、つまり一般的なブラックマトリクスの遮光機能を果たすことによって、ブラックマトリクスのサイズを小さくさせ、画素の開口率を向上させるとともに、表示基板の透過率を向上させることができる。
【００７０】
有効表示領域に位置する配向膜の第３配向方向２３０は、共通電極と画素電極の形状及び分布に応じて決定されるため、通電後、有効表示領域に位置する液晶分子が電界の作用を受けて回転可能で、透光モードになるように実現するために、第３配向方向２３０は、共通電極と画素電極との間に形成された電界の方向に平行とならないように確保する必要がある。
【００７１】
例えば、図６ａは、本実施例に係る、マスクにより有効表示領域に位置する配向膜に対して光配向を行う工程を示す図であり、図６ａはベース基板と、配向膜と、マスクとを含むことを示す斜視図であり、図６ｂは、図６ａに示す配向膜に形成される第３配向方向を示す図である。図６ａ及び６ｂに示すように、有効表示領域に位置する配向膜に、第３配向方向２３０を形成する工程は、第３マスク５００により周辺領域を遮蔽し、次に配向膜２０に光（例えば紫外光８００）を照射することで、第１配向方向２１０と第２配向方向２２０とのいずれにも平行とならない第３配向方向２３０を形成する工程を含む。本実施例には、図６ｂに示す第３配向方向２３０に限らず、例えば、第１配向方向２１０と第２配向方向２２０とのいずれにも平行とならないとともに、有効表示領域内の電界の方向にも平行とならない第３配向方向２３０であってもよい。
【００７２】
例えば、図６ｂに示すように、第３マスク５００は、周辺領域に位置する配向膜を遮蔽しているので、紫外光８００は有効表示領域に位置する配向膜２０のみに対して光配向処理を行い、第３配向方向２３０を形成する。
【００７３】
なお、ここでは、図４ａ〜６ｂに示す各領域における配向膜に対して配向処理を行う順序について限定しない。
【００７４】
マスクの数を少なくしてマスク配向の回数を低減するために、有効表示領域に位置する配向膜に、第１配向方向または第２配向方向と同一な第３配向方向を形成してもよい。なお、有効表示領域内の電界の方向が、第１周辺領域内の電界の方向に平行となる場合に、有効表示領域に位置する配向膜に、第２配向方向と同一な配向方向を形成する。有効表示領域内の電界の方向が、第２周辺領域内の電界の方向に平行となる場合に、通電後、有効表示領域に位置する液晶分子が電界の作用を受けて回転可能で、透光モードになるように実現するために、有効表示領域に位置する配向膜に、第１配向方向と同一な配向方向を形成し、即ち、有効表示領域に位置する配向膜の配向方向は、共通電極と画素電極との間に形成された電界の方向に平行とならないように確保する必要がある。
【００７５】
例えば、図７ａは、本実施例に係る、マスクにより第２周辺領域と有効表示領域に位置する配向膜に対して光配向を行う工程を示す図であり、図７ａはベース基板と、配向膜と、マスクとを含むことを示す斜視図であり、図７ｂは、図７ａに示す配向膜に形成される配向方向を示す図である。図７ａと７ｂに示すように、第２周辺領域と有効表示領域に位置する配向膜２０を配向し、第２周縁に垂直な配向方向を形成する工程は、第４マスク６００により、第１周辺領域に位置する配向膜を遮蔽し、次に配向膜２０に光（例えば直線偏光紫外光８００）を照射することで、Ｙ方向（第２周縁がＹ方向に延出する）に垂直な第２配向方向２２０及び第３配向方向２３０を形成する工程を含む。なお、本実施例においては、第１周辺領域が第１周縁と第２周縁とが交差する部分を含むことを例として説明するが、本実施例はこれに限られるものではなく、実際の状況に応じて、第１周縁と第２周縁とが交差する部分を、第１周辺領域もしくは第２周辺領域内に含めるようにしてもよい。
【００７６】
例えば、図７ｂに示すように、第４マスク６００は、第１周辺領域に位置する配向膜を遮蔽しているので、紫外光８００は第２周辺領域と有効表示領域に位置する配向膜に対して光配向処理を行い、Ｙ方向に垂直な第２配向方向２２０及び第３配向方向２３０を形成する。配向膜２０がベース基板から離れた側の液晶分子は、配向膜の表面における分子と相互作用し、第２周辺領域（有効表示領域）に位置する液晶分子の長軸方向を第２配向方向２２０（第３配向方向２３０）に平行とならせる。例えば、通電後、アレイ基板の第２周辺領域における電界の方向がＹ方向に垂直となり、即ち、該領域に位置する配向膜２０の第２配向方向２２０に平行となるので、表示基板の第２周辺領域に位置する液晶分子は電界の作用により回転せず、即ち、第２周辺領域に位置する液晶分子は黒表示効果を提示し、つまりブラックマトリクスの遮光機能を果たすことによって、ブラックマトリクスのサイズを小さくさせ、画素の開口率を向上させるとともに、表示基板の透過率を向上させることができる。例えば、通電後、アレイ基板の有効表示領域内の電界の方向は、第３配向方向２３０に平行とならないので、該領域に位置する液晶分子は電界の作用を受けて回転され、透光モードを提示する。
【００７７】
例えば、第２周辺領域及び有効表示領域における配向膜に対して配向処理を行った後に、図４ａに示す第１マスク３００により、第２周辺領域及び有効表示領域を遮蔽し、第１周辺領域に対して配向処理を行うようにしてもよいが、本実施例はこの順序に限らず、例えば、反対となるように、即ち先に第１周辺領域における配向膜に対して配向処理を行ってから、第２周辺領域及び有効表示領域における配向膜に対して配向処理を行うようにしてもよい。
【００７８】
例えば、図８ａは、本実施例に係る、マスクにより第１周辺領域と有効表示領域に位置する配向膜に対して光配向を行う工程を示す図であり、図８ａはベース基板と、配向膜と、マスクとを含むことを示す斜視図であり、図８ｂは、図８ａに示す配向膜に形成される配向方向を示す図である。図８ａと８ｂに示すように、第１周辺領域と有効表示領域に位置する配向膜２０に対して配向処理を行い、第１周縁に垂直な配向方向を形成する工程は、第５マスク７００により、第２周辺領域に位置する配向膜を遮蔽し、次に配向膜２０に光（例えば直線偏光紫外光８００）を照射することで、Ｘ方向（第１周縁がＸ方向に延出する）に垂直な第１配向方向２１０及び第３配向方向２３０を形成することを含む。
【００７９】
例えば、図８ｂに示すように、第５マスク７００は、第２周辺領域に位置する配向膜を遮蔽しているので、紫外光８００は第１周辺領域と有効表示領域に位置する配向膜に対して光配向処理を行い、Ｘ方向に垂直な第１配向方向２１０及び第３配向方向２３０を形成する。配向膜２０がベース基板から離れた側の液晶分子は、配向膜の表面における分子と相互作用し、第１周辺領域（有効表示領域）に位置する液晶分子の長軸方向を第１配向方向２１０（第３配向方向２３０）に平行とならせる。例えば、通電後、アレイ基板の第１周辺領域における電界の方向がＸ方向に垂直となり、即ち、該領域に位置する配向膜２０の第１配向方向２１０に平行となるので、表示基板の第１周辺領域に位置する液晶分子は電界の作用により回転せず、即ち、第１周辺領域に位置する液晶分子は黒表示効果を提示し、つまりブラックマトリクスの遮光機能を果たすことによって、ブラックマトリクスのサイズを小さくさせ、画素の開口率を向上させるとともに、表示基板の透過率を向上させることができる。通電後、アレイ基板の有効表示領域内の電界の方向は、第３配向方向に平行とならないので、該領域に位置する液晶分子は電界の作用を受けて回転され、透光モードを提示する。
【００８０】
例えば、第１周辺領域及び有効表示領域における配向膜に対して配向処理を行った後に、図５ａに示す第２マスク４００により、第１周辺領域及び有効表示領域を遮蔽し、第２周辺領域に対して配向処理を行うようにしてもよいが、本実施例はこの順序に限らず、例えば、反対となるように、即ち先に第２周辺領域における配向膜に対して配向処理を行ってから、第１周辺領域及び有効表示領域における配向膜に対して配向処理を行うようにしてもよい。
【００８１】
例えば、表示基板はカラーフィルム基板であり、カラーフィルム基板の１つの画素ユニット上の第１周辺領域（または第２周辺領域）に位置する配向膜の第１配向方向２１０（または第２配向方向２２０）は図８ｂ（または図７ｂ）に示すようであるが、本実施例はこれについて限定しない。なお、カラーフィルム基板における配向膜の第１配向方向及び第２配向方向は、アレイ基板における配向膜の第１配向方向及び第２配向方向に平行となる。
【００８２】
例えば、カラーフィルム基板の有効表示領域における配向膜の第３配向方向２３０は、第１配向方向２１０または第２配向方向２２０と同一であってもよく（図８ｂまたは図７ｂに示すように）、この場合、カラーフィルム基板における配向膜の第３配向方向は、アレイ基板における配向膜の第３配向方向に平行となる必要がある。例えば、カラーフィルム基板の有効表示領域における配向膜の第３配向方向２３０は、第１配向方向２１０と第２配向方向２２０とのいずれかにも平行とならなくてもよく（図６ｂに示すように）、この場合、通電後、有効表示領域に位置する液晶分子が電界の作用を受けて回転可能で、透光モードになるように実現するために、カラーフィルム基板の有効表示領域における配向膜の第３配向方向は、アレイ基板における配向膜の第３配向方向に平行となるとともに、２つの配向膜の第３配向方向がいずれも有効表示領域における電界の方向に平行とならないように確保する必要がある。
【００８３】
カラーフィルム基板の第１周辺領域と第２周辺領域に位置する液晶分子は、該領域の配向膜の表面における分子との相互作用を受けるため、液晶分子の長軸は第１配向方向または第２配向方向に平行となるが、第１配向方向または第２配向方向はそれぞれ２つの領域内に生じた電界の方向に平行となる。そのため、周辺領域に位置する液晶分子が電界の作用を受けて回転せず、即ち、周辺領域に位置する液晶分子が黒表示効果を提示し、一般的なブラックマトリクスの遮光機能を果たすので、カラーフィルム基板の一部のブラックマトリクスを代替することができ、ブラックマトリクスのサイズを小さくさせ、画素の開口率を向上させる効果を実現する。
【００８４】
実施例３
【００８５】
本実施例は表示パネルを提供し、図９は、本実施例に係る表示パネルの断面を示す図であり、図９に示すように、有効表示領域１１０と有効表示領域の周辺に位置する周辺領域１２０とを含む画素ユニット１００を複数含む表示パネルであり、周辺領域１２０は、画素ユニット１００の第１方向に沿って延びる第１周縁に位置する第１周辺領域と、画素ユニットの第２方向に沿って延びる第２周縁に位置する第２周辺領域と、を含み、第１方向と第２方向は互いに交差する。ここでは、第１周辺領域と第２周辺領域は図１ａと図１ｂに示すようであり、図９には示していない。
【００８６】
図９に示すように、表示パネルは、第１表示基板１１と、第１表示基板１１に対向して配置される第２表示基板１２とを含み、第１表示基板１１は第２表示基板１２における画素ユニット１００に一々対応されるとともに、第１表示基板１１は第２表示基板１２における周辺領域１２０に一々対応される。例えば、第１表示基板１１は、第１表示基板１１が第２表示基板１２に臨まれる側に設けられる第１配向膜２１を含み、第２表示基板１２は、第２表示基板１２が前記第１表示基板１１に望まれる側に設けられる第２配向膜２２を含み、周辺領域１２０に位置する第１配向膜２１と第２配向膜２２は、配向後の液晶分子を、電圧が印加された場合に偏向させないように配置され、有効表示領域１１０に位置する第１配向膜２１と第２配向膜２２は、配向後の液晶分子を、電圧が印加された場合に偏向させるように配置される。
【００８７】
例えば、第１周辺領域に位置する第１配向膜２１と第２配向膜２２の配向方向は、いずれも第１周縁に垂直な配向方向であり、第２周辺領域に位置する第１配向膜２１と第２配向膜２２の配向方向は、いずれも第２周縁に垂直な配向方向である。
【００８８】
なお、本実施例が提供する表示パネルの表示モードは、インプレインスイッチング（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ、ＩＰＳ）表示モードであり、例えば、高級超次元スイッチング（Ａｄｖａｎｃｅｄ−Ｓｕｐｅｒ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ、ＡＤＳ）モード、フリンジ電界スイッチング（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ、ＦＦＳ）モードなどであってもよい。
【００８９】
例えば、表示パネルは、第１表示基板が第２表示基板に背向される側に設けられる第１偏光板（図９に未図示）と、第２表示基板が第１表示基板に背向される側に設けられる第２偏光板（図９に未図示）と、第１表示基板と第２表示基板の間に設けられる液晶層（図９に未図示）とをさらに含む。なお、該表示パネルは、電圧が印加されていない場合にノーマリーブラック表示モードになるように配置され、即ち、第１偏光板の偏光軸は第２偏光板の偏光軸に垂直となる。
【００９０】
例えば、電圧が印加されていない場合に、自然光が第１偏光板に入った後に、液晶分子の長軸に平行となる直線偏光を形成し、偏光方向は回転できず、同じような状態で第２偏光板に入射する。直線偏光は第２偏光板の偏光軸に垂直となるので、直線偏光が第２偏光板によって吸収され、表示がブラックの状態になり、即ち、バックライトは表示パネルを透過できず、該表示パネルはブラック表示モードになる。
【００９１】
例えば、第１周辺領域に位置する液晶分子は、第１配向膜及び第２配向膜の表面における分子と相互作用し、液晶分子の長軸は第１周縁に垂直となり、同様に、第２周辺領域に位置する液晶分子の長軸は第２周縁に垂直となる。通電後、該表示パネルの周辺領域に位置する液晶分子は、液晶分子の長軸方向に平行となる電界の作用を受けるため、該領域の液晶分子が偏向せず、即ち、周辺領域に位置する液晶分子が黒表示効果を提示し、一般的なブラックマトリクスの遮光機能を果たすことによって、ブラックマトリクスのサイズを小さくさせ、画素の開口率を向上させるとともに、表示基板の透過率を向上させることができる。
【００９２】
例えば、図９に示すように、第１表示基板１１はアレイ基板であり、第２表示基板１２はカラーフィルム基板であり、有効表示領域１１０に位置する第１配向膜２１の配向方向は、有効表示領域１１０に位置する第２配向膜２２の配向方向に平行となり、よって、電圧が印加されていない場合に、有効表示領域１１０をノーマリーブラック表示モードにならせる。例えば、有効表示領域１１０に位置する第１配向膜２１の配向方向は、有効表示領域１１０に位置する第２配向膜２２の配向方向と同一であり、あるいは、１８０°異なっている。
【００９３】
本実施例が提供する表示パネルは液晶表示パネルであり、本実施例が提供する表示パネルによれば、ブラックマトリクスのサイズを小さくさせ、画素の開口率を向上させるとともに、表示パネルの透過率を向上させることができる。
【００９４】
なお、以下の点にも注意する必要がある。
【００９５】
（１）特に定義しない限りに、本発明の実施例及び図面には、同じ符号が同じ意味を指す。
【００９６】
（２）本発明の実施例の図面は、本発明の実施例に関する構造のみに関し、他の構造については通常設計を参照してもよい。
【００９７】
（３）明確に説明するように、本発明の実施例を説明するための図面には、層または領域の厚みが拡大される。例えば層、膜、領域または基板などの素子が、他の素子の「上」または「下」に位置すると記載される場合に、該素子が「直接」に他の素子の「上」または「下」に位置してもよく、その間に他の素子が介在されてもよいことは、理解されるべきである。
【００９８】
以上は本発明の具体的な実施形態にすぎず、本発明の保護範囲はこれに限られるものではない。当業者が本発明に開示された技術内容の範囲内に容易に想到できる変更または代替は、本発明の保護範囲に含まれるべきである。そのため、本発明の保護範囲は、前記請求項に記載の保護範囲に準ずるべきである。
【００９９】
本願は、２０１７年１月２３日に出願した第２０１７１００５８４５８．６号中国特許出願に基づく優先権を主張する。ここでは、上記中国特許出願の全文を本願の一部として取り込まれる。
【符号の説明】
【０１００】
１０      ベース基板
１１      第１表示基板
１２      第２表示基板
２０      配向膜
２１      第１配向膜
２２      第２配向膜
１００    画素ユニット
１０１    第１周縁
１０２    第２周縁
１１０    有効表示領域
１１１    共通電極
１１２    画素電極
１２０    周辺領域
１２１    第１周辺領域
１２２    第２周辺領域
１３０    走査ライン
１４０    データライン
１５０    共通電極線
１６０    薄膜トランジスタ
２１０    第１配向方向
２２０    第２配向方向
２３０    第３配向方向
３００    第１マスク
４００    第２マスク
５００    第３マスク
６００    第４マスク
７００    第５マスク
８００    紫外光
１２１０  第１電界方向
１２２０  第２電界方向
【図１ａ】
2020505622.tif 000003
【図１ｂ】
2020505622.tif 000004
【図２ａ】
2020505622.tif 000005
【図２ｂ】
2020505622.tif 000006
【図３】
2020505622.tif 000007
【図４ａ】
2020505622.tif 000008
【図４ｂ】
2020505622.tif 000009
【図５ａ】
2020505622.tif 000010
【図５ｂ】
2020505622.tif 000011
【図６ａ】
2020505622.tif 000012
【図６ｂ】
2020505622.tif 000013
【図７ａ】
2020505622.tif 000014
【図７ｂ】
2020505622.tif 000015
【図８ａ】
2020505622.tif 000016
【図８ｂ】
2020505622.tif 000017
【図９】
2020505622.tif 000018
【国際調査報告】
2020505622.tif 000019
2020505622.tif 000020
2020505622.tif 000021
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