(57)【要約】基板の表面における選択された領域に熱転写印刷する方法及び装置を開示する。この方法は、以下のステップ、すなわち、a) 画像化表面を有する転写部材を準備するステップと、b) 前記転写部材の前記画像化表面に、熱塑性ポリマー（重合体）で形成若しくはコーティングした個別粒子をコーティングするステップと、c) 前記画像化表面に直接的に接触しないほぼすべての粒子を除去して、前記画像化表面上に均一で単層の粒子コーティングを残すステップと、d) 前記選択された領域における前記粒子を加熱して粘着性のあるものとするよう、前記コーティングした画像化表面の選択された領域にエネルギーを印加するステップと、及びe) 前記エネルギー印加中又はエネルギー印加後のいずれかで、前記コーティングした画像化表面及び前記基板の表面を互いに押し合わせ、粘着性のあるものにされた前記粒子コーティングの領域のみにおける前記基板の表面に転写させるステップと、を備える。前記ステップb)及びc)を繰り返して、先に塗布した単層コーティングが前記基板の表面に転写された前記選択された領域に新たな粒子の単層コーティングを塗布し、前記画像化表面を再び粒子の単層で均一にコーティングされた状態にし、その後の基板の表面への印刷を可能にすることができる。【選択図】図８Ａ
2020513355.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板表面における選択された領域に熱転写印刷する方法であって、以下のステップ、すなわち、
a)  画像化表面を有する転写部材を準備するステップと、
b)  前記転写部材の前記画像化表面に、熱可塑性ポリマーで形成又はコーティングした個別粒子をコーティングするステップと、
c)  前記画像化表面に直接的に接触しないほぼすべての粒子を除去して、前記画像化表面上に均一で単層の粒子コーティングを残すステップと、
d)  コーティングした前記画像化表面の選択された領域にエネルギーを印加し、また前記選択された領域内で前記粒子を加熱し、また粘着性のあるものにするステップと、並びに
e)  エネルギーの印加中又は印加後のいずれかで、コーティングした前記画像化表面の少なくとも一部分及び前記基板表面の対応部分を互いに押し合わせ、粘着性のあるものとされた前記粒子コーティングの前記領域のみを前記基板表面に転写させるステップと、
を備える、方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、粒子を前記選択された領域から第１基板表面に転写することに続いて、後続の基板表面上に印刷するため、前記ステップb)及びc)を繰り返して、先に塗布した単層コーティングがステップe)で前記基板表面に転写された少なくとも前記選択された領域に新たな粒子の単層コーティングを塗布して、前記画像化表面を再び粒子の単層で均一にコーティングされた状態が残るようにするステップを備える、方法。
【請求項３】
請求項１又は２記載の方法において、ステップb)は、
(i)   前記粒子を搬送するガスジェットを前記画像化表面又は中間アプリケータに指向させるステップ、又は
(ii)  前記画像化表面及び前記粒子は疎水性であるものを選択し、また前記粒子を含む液体ジェットを前記画像化表面に又は中間アプリケータに指向させる指向ステップであって、前記ジェットの液体は前記画像化表面を濡らさないよう選択したものである、該指向ステップ
を含む、方法。
【請求項４】
請求項１〜３のうちいずれか一項記載の方法において、さらに、前記画像化表面を前記粒子でコーティングする前、若しくはコーティング中に前記画像化表面の少なくとも一部分を冷却するステップ、及び／又は前記画像化表面を前記粒子でコーティングした後で前記画像化表面の少なくとも一部分を加熱するステップを備える、方法。
【請求項５】
請求項１〜４のうちいずれか一項記載の方法において、前記エネルギーは前記転写部材の裏面側に印加する、方法。
【請求項６】
請求項１〜５のうちいずれか一項記載の方法において、印加エネルギーはＥＭ放射からなるものとする、方法。
【請求項７】
請求項６記載の方法が請求項５に従属するときの方法において、前記転写部材は前記ＥＭ放射に対して透過性を示す、方法。
【請求項８】
基板表面における選択された領域に熱転写印刷する印刷装置であって、
a)  画像化表面を有する可動の転写部材と、
b)  熱可塑性ポリマーで作製又はコーティングした粒子を前記画像化表面に塗布するコーティングステーションであって、前記画像化表面には直接接触しない粒子を前記画像化表面から除去する、又は付着できないようにし、これにより均一な単層粒子コーティングが前記画像化表面上に形成されるようにする、該コーティングステーションと、
c)  コーティングした前記画像化表面の選択された領域にエネルギーを印加し、前記選択された領域内で前記粒子を粘着性のあるものとする画像化ステーションと、
d)  エネルギーの印加中又は印加後のいずれかで、コーティングした前記画像化表面の少なくとも一部分及び前記基板表面の対応部分を互いに押し合わせ、粘着性のあるものとされた粒子コーティングの前記領域のみを前記基板表面に転写させる印象ステーションと、
を備える、印刷装置。
【請求項９】
請求項８記載の印刷装置において、前記転写部材は無端であり、動作中、粒子が消尽された前記画像化表面の領域に新たな粒子を塗布することによって、前記画像化表面上の前記粒子コーティングを補充して再び均一な単層を生じ、これにより後続の印刷サイクルのために転写部材を準備するよう、前記転写部材の少なくとも一部分が前記画像化ステーション及び印象ステーションを通過した後に、前記転写部材は前記コーティングステーションに帰還する、印刷装置。
【請求項１０】
請求項８又は請求項９記載の印刷装置において、前記コーティングステーションは、前記粒子を前記画像化表面に塗布することができる中間アプリケータを有する、印刷装置。
【請求項１１】
請求項７〜１０のうちいずれか一項記載の印刷装置において、前記画像化表面は疎水性を示す及び／又は帯電したものであり、前記粒子は疎水性を示す及び／又は帯電したものである、印刷装置。
【請求項１２】
請求項８〜１１のうちいずれか一項記載の印刷装置において、前記コーティングステーションは、
・  前記粒子が懸濁する流体流を直接的又は間接的に前記画像化表面に塗布する少なくとも１つのスプレーヘッドと、
・  前記スプレーヘッドを包囲し、また前記流体流を閉じ込める内部プレナムを画定し、前記画像化表面に隣接するリムを有するハウジングであって、前記リムは、前記ハウジングの前記リムとコーティングすべき表面との間に画定される封止ギャップから粒子が流出するのを阻止するよう構成された、該ハウジングと、及び
・  前記ハウジングに接続された吸引源であって、スプレーされた流体及び前記スプレーされた流体に懸濁する粒子を前記プレナムから抽出する、該吸引源と、
を有し、
前記吸引源は、前記表面に直接接触しない粒子のほとんどすべてを抽出し、前記印刷装置から退出する際には前記表面に付着する単一粒子層のみが残るように動作する、印刷装置。
【請求項１３】
請求項８〜１２のうちいずれか１項記載の印刷装置において、前記エネルギーは前記転写部材の裏面側に印加する、印刷装置。
【請求項１４】
請求項８〜１３のうちいずれか一項記載の印刷装置において、印加エネルギーはＥＭ放射からなるものとする、印刷装置。
【請求項１５】
請求項１４記載の印刷装置が請求項１３に従属する印刷装置において、前記転写部材は前記ＥＭ放射に対して透過性を示す、印刷装置。
【請求項１６】
請求項８〜１５のうちいずれか一項記載の印刷装置において、前記画像化ステーションは、前記画像化表面が画像化装置に対して基準のＸ方向に移動するとき、前記画像化表面上に個別制御可能なレーザービームを投射する前記画像化装置を有し、前記画像化装置は、それぞれが複数個のレーザービーム発光素子を有する半導体チップであって、支持体に備え付けた、該半導体チップを複数個有し、この備え付けは、前記画像化表面が前記画像化ステーションに対して相対移動する間にすべてのレーザービーム発光素子を連続的に作動させるとき、発生したレーザービームは、前記画像化表面にわたり前記Ｘ方向に延在し、またＹ方向にほぼ均一に離間する平行なラインのセットをトレースするように行う、印刷装置。
【請求項１７】
請求項１６記載の印刷装置において、各半導体チップの個別制御可能な前記レーザービーム発光素子は、Ｍ行及びＮ列である２次元の主アレイに配列し、各行における素子は均一間隔Ａｒを有し、各列における素子は均一間隔ａｃを有し、前記チップは支持体に備え付け、この備え付けは、公称的に配置するとき、前記Ｘ方向に交差する基準のＹ方向に互いに隣接する各チップ対が、前記Ｘ方向に互いにオフセットし、またすべてのレーザービーム発光素子が連続的に作動するとき、前記対における２つの前記チップで発生した前記レーザービームが、２×Ｍ×Ｎ個の平行なラインを前記画像化表面上でトレースし、各チップにおける前記レーザービームが他方のチップにおけるラインの前記セットとはオーバーラップしないＭ×Ｎ個のラインのセットをトレースするように行い、前記主アレイにおける素子が前記Ｍ行及び前記Ｎ列であることの他に、各チップは、前記主アレイの少なくとも一方の側方サイドに少なくとも１つの付加的な列を有し、付加的な列のそれぞれは、前記支持体における隣接チップの相対位置決めに関する前記Ｙ方向のいかなる誤整列をも補償できる少なくとも１つの選択的に動作可能なレーザー発光素子であって、前記補償は、２つのＭ×Ｎ個のラインセット間に存在する少なくとも１つの付加的ラインをトレースすることによって行う、該レーザー発光素子を含む、印刷装置。
【請求項１８】
請求項１７記載の印刷装置において、前記各チップの前記主アレイの各行における前記素子は前記Ｙ方向に平行なライン上に存在し、また各チップの前記主アレイの各列における前記素子は前記Ｘ方向に角度をなすよう傾斜する直線的ライン上に存在する、印刷装置。
【請求項１９】
請求項１７又は請求項１８記載の印刷装置において、前記チップは前記支持体上で行の対として配列し、２つの行それぞれにおける前記チップすべての対応のレーザー発光素子は前記Ｙ方向に互いに一列に整列する、印刷装置。
【請求項２０】
請求項１９記載の印刷装置において、前記対の前記２つの行における前記チップの整列は、前記Ｘ方向及びＹ方向における３つの互いに隣接するチップの任意なグループの対応素子の各中心が、公称的に合同な正三角形の頂点に位置するように整列するものである、印刷装置。
【請求項２１】
請求項１４〜２０のうちいずれか１項記載の印刷装置において、各チップに対して、関連する前記チップのすべての素子が発生するレーザービームを前記画像化表面上に合焦する対応のレンズを設ける、印刷装置。
【請求項２２】
請求項２１記載の印刷装置において、各レンズは、(i) 単一ＧＲＩＮロッド又は(ii) 互いに傾斜する２つ又はそれ以上の一連のＧＲＩＮロッドのいずれかによって形成され、一連の各ＧＲＩＮロッドからの光は、ミラー又はプリズムからなる反射素子によって次のＧＲＩＮロッドに指向される、印刷装置。
【請求項２３】
請求項２１又は請求項２２記載の印刷装置において、各レンズ又は一連のレンズは、＋１又は−１の倍率を有する、印刷装置。
【請求項２４】
請求項１３記載の印刷装置が請求項２２に従属するときの印刷装置において、前記ＧＲＩＮロッドは、２×Ｎ×Ａｒに等しい直径を有し、Ａｒは各行の隣接チップにおける対応素子間の距離である、印刷装置。
【請求項２５】
請求項１４〜２４のうちいずれか一項記載の印刷装置において、各チップは、主アレイにおけるレーザービーム発光素子と等しい数の行数及び列数を有する、印刷装置。
【請求項２６】
請求項１４〜２５のうちいずれか一項記載の印刷装置において、支持体は流体冷却される、印刷装置。
【請求項２７】
請求項１４〜２６のうちいずれか一項記載の印刷装置において、支持体は剛体金属若しくはセラミック構体で形成され、及び／又は
前記支持体の表面は電気絶縁体で形成若しくはコーティングされ、また薄いフィルム導体が電気絶縁表面上に形成され、電気信号及び電力をチップに供給できるようにする、印刷装置。
【請求項２８】
請求項１４〜２７のうちいずれか一項記載の印刷装置において、チップは、垂直キャビティ面発光レーザー（ＶＣＳＥＬ）チップアレイである、印刷装置。
【請求項２９】
請求項８〜１３のうちいずれか一項記載の印刷装置において、前記画像化ステーションは、転写部材における粒子がコーティングされる前記画像化表面とは反対側の裏面サイドに熱接触し、前記転写部材における熱伝導によって前記画像化表面における前記粒子にエネルギーを供給するよう動作する熱印刷用熱源を有する、印刷装置。
【請求項３０】
請求項８〜２９のうちいずれか一項記載の印刷装置において、さらに、前記画像化表面の前記粒子によるコーティング前、コーティング中、又はコーティング後に、前記画像化表面の温度を変更する冷却器及び／又はヒーターを備える、印刷装置。
【請求項３１】
インク粒子を受け止め、インク画像として前記インク粒子を印刷基板に転写する転写部材において、
a)  支持層と、
b)  前記支持層上に配置されかつ支持層に対して付着性のある画像化層と
を備え、前記画像化層は、
i)    前記支持層の遠位側における剥離層、
ii)   前記剥離層を含むシリコーン母材、及び
iii)  最大でも１００ｎｍの平均一次粒径（Ｄ５０）を有するカーボンブラック粒子
を含み、
前記カーボンブラック粒子は前記シリコーン母材内に分散しており、この分散は、平均測定粒径（Ｄ５０）が最大でも４００ｎｍであり、前記シリコーン母材内での前記カーボンブラック粒子の濃度が少なくとも０.０１重量％であるように行うものであり、
前記カーボンブラック粒子は、以下の構造的特性、すなわち、
i)  前記カーボンブラック粒子に対する少なくとも５重量％の揮発性物質含有量、
ii) 少なくとも４％の酸素含有量、
のうち少なくとも１つを有するものである、転写部材。
【請求項３２】
請求項３１記載の前記インク粒子を受け止める転写部材において、前記インク粒子は、熱可塑性ポリマーで作製又はコーティングしたものであり、請求項８〜請求項３０のうちいずれか１項記載の印刷装置に使用する、転写部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、基板表面の選択された領域に熱塑性材料の薄膜（フィルム）をコーティングする印刷方法及び装置に関する。これに関連する組成物及びこの組成物を製造する方法も開示する。
【背景技術】
【０００２】
ポリマー製のインク薄膜（フィルム）を担持するリボンを採用する熱転写タイプライターは既知である。リボンは、普通のタイプライターで使用されるインクリボンに相当するものであり、しかし、インクは固形インクであり、また衝撃ではなく、インクをペーパーに転写すべきリボンの領域のみを加熱する感熱プリントヘッドによってインクリボンから基板（通常はペーパー）に転写される。文字が印刷された後、基板を支持するキャリッジは次の文字を印刷するよう前進し、またリボンも前進する。
【０００３】
このようなタイプライターは、高品質の印刷を達成するがムダが多く、したがって、運用にコストがかかり、これはすなわち、リボンを廃棄することが必要な時点で表面の大部分が印刷基板に転写されずにいたインクでコーティングされたままだからである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示の目的は、とりわけ、１つ又はそれ以上の熱塑性粒子又は薄膜（フィルム）形成粒子で形成されるインク薄膜を印刷基板に転写するのと同一原理で動作するが、ムダが少なく、高品質画像を印刷できる印刷装置及び方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一態様によれば、本明細書で基板の表面における選択された領域に熱転写印刷する方法を開示し、この方法は、以下のステップ、すなわち、
a)  画像化表面を有する転写部材を準備するステップと、
b)  前記転写部材の前記画像化表面に、熱塑性ポリマーで形成若しくはコーティングした個別粒子をコーティングするステップと、
c)  前記画像化表面に直接的に接触しないほぼすべての粒子を除去して、前記画像化表面上に均一で単層の粒子コーティングを残すステップと、
d)  前記コーティングした画像化表面の選択された領域にエネルギーを印加し、また前記選択された領域内で前記粒子を加熱し、また粘着性のあるものにするステップと、並びに
e)  前記エネルギーの印加中又は印加後のいずれかで、前記コーティングした画像化表面の少なくとも一部分及び前記基板表面の対応部分を互いに押し合わせ、粘着性のあるものとされた前記粒子コーティングの領域のみを前記基板表面に転写させるステップと、
を備える。
【０００６】
一実施形態において、連続印刷を可能にするため、粒子を前記選択された領域から第１基板表面に転写することに続いて、後続の基板表面上に印刷するため、前記ステップb)及びc)を繰り返して、先に塗布した単層コーティングがステップe)で前記基板表面に転写された前記選択された領域に新たな粒子の単層コーティングを塗布して、前記画像化表面を再び粒子の単層で均一にコーティングされた状態が残るようにするステップを備える。
【０００７】
異なる実施形態において、ステップb)及びc)は、
・  前記粒子を搬送するガスジェットを前記画像化表面に指向させるステップ、
・  布、ブラシ、又は塗布ローラを使用して前記画像化表面上の粒子を擦るステップ、
・  前記画像化表面及び前記粒子を疎水性であるもので形成し、また前記粒子を含む液体ジェットを前記画像化表面に指向させ、前記ジェットの液体は前記画像化表面を濡らさないものを選択したものであるステップ、
・  中間アプリケータに前記粒子を含むガス又は液体ジェットを指向させるステップであって、前記アプリケータは前記粒子を受け取りかつこの粒子を画像化表面に転写できるものである、該ステップ、又は
・  上述した技術及び構造の任意の適当な組合せ
を有することができる。
【０００８】
本発明の第２態様によれば、基板の表面における選択された領域に熱転写印刷する印刷装置を提供し、この装置は、
a)  画像化表面を有する循環移動可能な無端の転写部材と、
b)  熱塑性ポリマーで作製若しくはコーティングした粒子を前記画像化表面に塗布するコーティングステーションであって、前記画像化表面には直接接触しない粒子を前記画像化表面から除去する、又は付着できないようにし、これによりほぼ均一な単層粒子コーティングが前記画像化表面上に形成されるようにする、該コーティングステーションと、
c)  前記コーティングした画像化表面の選択された領域にエネルギーを印加し、前記選択された領域内で前記粒子を粘着性のあるものとする画像化ステーションと、並びに
d)  前記エネルギーの印加中又は印加後のいずれかで、前記コーティングした画像化表面の少なくとも一部分及び前記基板表面の対応部分を互いに押し合わせ、前記単層粒子コーティングのエネルギー放射に対する被曝によって前記画像化表面の選択された領域に形成された粘着性のある薄膜（フィルム）を転写させる印象ステーションと、を備える。
【０００９】
動作中、前記画像化表面が前記コーティングステーションに復帰する際、画像化ステーション及び印象ステーションを通過した後、少なくとも粒子が消尽された前記画像化表面の領域に新たな粒子を塗布することによって、前記画像化表面における前記粒子コーティングが均一な単層を生ずるよう補充される。
【００１０】
本開示において、上述の装置は印刷装置又は印刷システムとも互換的に称することができる。画像化表面もドナー表面と称されまた認識することもでき、またドラム又は無端ベルトに配置することができる。
【００１１】
本明細書に使用する用語「粘着性のある（tacky）」及び「十分に粘着性のある（sufficiently tacky）」は、粒子コーティングが、必ずしも接触に対して粘着性を示すことを意味するだけではなく、印象ステーション１８で基板に圧着するとき基板の表面に付着できるに十分なように柔軟化されるものも意味することを意図する。粘着性のある粒子又は粘着性のあるものにされた粒子の領域は、後に印刷基板に転写される個別のフィルム（薄膜）又は連続フィルムを形成することができ、これらフィルムは、随意的に、画像化表面（又はそのセグメント）が基板（又はそれに対応するセグメント）に接触する際に加わる圧力の結果として、及び／又は転写されたフィルムの随意的な他の処理（例えば、乾燥、硬化等）の結果として薄いフィルムを生ずる。
【００１２】
幾つかの実施形態において、コーティングステーションにおいて、粒子は、例えば、１つ又はそれ以上のスプレーヘッドを用いるジェット噴射によって画像化表面に直接塗布することができる。代替的実施形態において、粒子は、中間アプリケータに、そしてこの中間アプリケータから画像化表面に塗布することができる。後者のタイプの塗布は間接的と言え、また粒子の画像化表面への直接的及び間接的の双方による塗布も本開示に包含される。画像化表面への粒子の直接的又は間接的な塗布は、画像化表面を個別粒子の単層で初期コーティングするため、又は選択した領域（例えば、転写によって先に消尽した領域）における単層の補充のため、又はその双方のために行うと理解されたい。
【００１３】
各印象後に画像化表面における粒子コーティングを修復し易くするために、粒子が互いに付着するよりも画像化表面に対してより一層強力に付着する粒子を利用する。この結果、ほぼ個別粒子の単層である塗布された層は、あったとしても僅かなオーバーラップとなり、したがって、単層の厚さは、１個の粒子の厚さの分の深さのみであり、粒子全部でなくとも大部分が画像化表面に少なくとも若干の直接接触をする。
【００１４】
例えば、平面状の面の大部分にわたり画像化表面に接触する（例えば、ほぼ平行になる）板状粒子を考慮すると、単層の結果としての厚さ（表面に直交する方向の）は、粒子の厚さにほぼ対応する。粒子が球体形状である場合、単層の厚さは、球体の直径と同等となる。したがって、画像化表面のコーティングの時点における単層の平均厚さは、形状に基づいて単層を形成する個別粒子の平均厚さ又は相当粒径に近似し得る。
【００１５】
しかし、隣接粒子間で部分的なオーバーラップが存在することがあり得るため、単層の厚さは、オーバーラップのタイプ、例えば、粒子相互が互いになし得る相対角度、及び／又は画像化表面に対する相対角度、及び／又はオーバーラップの程度及び／又はパッキングの程度等に基づいて構成する粒子の寸法の低位倍数の値となることができる。したがって、単層は、幾つかの領域でのみ、含まれる粒子に対して最小寸法特性の約１倍、又は約２倍、又は約３倍又は任意な中間値に対応する最大厚さ（Ｔ）を有することができる（例えば、フレーク状粒子では粒子の厚さの３倍にまで達し、また球体に近い粒子では粒子相当粒径の２倍まで達する）。
【００１６】
単層の生成は、粘着テープが表面からのパウダーをピックアップするのに使用されるとき、粘着テープがパウダー粒子を１層のみピックアップするのと同じ理由で生ずる。粘着テープが新鮮であるとき、パウダーは、テープ表面全体をカバーするまで粘着面に付着する。しかし、粘着面がパウダー粒子でカバーされた後には、テープを使用してより多くのパウダーをピックアップすることができず、これはすなわち、パウダー粒子は粒子相互間で強力に付着することがなく、また単にテープからブラシで払い落とされる又は吹き飛ばされるからである。同様に、本明細書記載の単層は、画像化表面に対して十分に接触する粒子から形成され、またそれ故に代表的に単一粒子厚さとなる。粒子がコーティングステーションの出口で、例えば、以下により詳細に説明するように後続の余剰物抽出ステップ、乾燥ステップ、又は任意な他の同様なステップで、画像化表面に付着した状態のままでいることができるとき、接触は十分であると言える。
【００１７】
単層は画像化表面に直接接触している粒子からほぼ形成されると考えられるが、画像化表面に直接接触しない場合であっても隣接粒子によって緊密に詰め込まれた幾つかの粒子がコーティング装置の出口側で単層の一部のままでいて、層から軽度に突出し得ることを排除できない。ことによると、表面に接触しない粒子のこのような少数部分は異なり放射吸収を行い得るものであり、また隣接粒子との密着度の結果として最終的に印刷基板に転写されてしまい、このことは意図した「エネルギー線量」又は受容放射効果よりも大きな程度まで被曝することになる。幾つかの実施形態において、任意な部分又は視野において、画像化表面に接触する粒子数から外れる、画像化表面に直接接触しない粒子のパーセンテージは、１５％以下、又は１０％以下、又は５％以下である。
【００１８】
幾つかの実施形態において、画像化表面における個別粒子の単層は十分に連続した粒子の層を形成する。画像化ステーションにおける放射被曝の際に隣接粒子が溶融して転写可能なフィルムを形成できる場合、単層は十分に連続的である。このような実施形態において、また単層を形成する粒子のサイズ及び形状に基づいて、少なくとも約４０％、及び多くとも約５０％、又は多くとも約６０％、又は多くとも約７０％までもの面積被覆率が十分であり得る。より小さい粒子及び／又はエネルギー放射に対する被曝の際に半径方向に拡張する能力が比較的低い粒子に関しては、画像化表面における粒子の単層はほぼ連続した層を形成する必要があり得る。「ほぼ連続した」は、その面積の少なくとも７０％、又は少なくとも８０％、少なくとも９０％、又は少なくとも９５％までもが、粒子によってカバーされることを意味する。
【００１９】
例えば、粒子が直径２μｍの理想球体であると見なして説明すると、このような粒子は、したがって、４.１９μｍ３の内部体積、及び約３.１４μｍ２の平面投影を有する。エネルギー印加の際にこのような粒子が溶融して厚さ約０.５μｍの同一体積の円盤を形成すると仮定すると、このような円盤は約８.３８μｍ２の面積をカバーする約３.３μｍの直径を有する。
【００２０】
説明を分かり易くするため、フィルムの実際の厚さは融合した液化粒子の空気に対する表面張力特性によって律則されるとすると、この液体の画像化表面に対するぬれ特性は、以下の等式、すなわち、
ｔ＝（２γｌａ（１−ｃｏｓθ）／ｇρ）１／２    （式１）
に従い、ここでｔは結果として生ずるフィルム厚さ、γｌａは液化粒子と空気との間の表面張力、θは融合した液化粒子の画像化表面に対するぬれ角、ｇは重力定数、及びρはこの液体の濃度である。表面張力及びぬれ角の双方とも液体の温度に依存すると理解されたい。
【００２１】
例示的実施例を用いて、またこの場合において説明を分かり易くするため、１００μｍ２の面積を有する正方形の表面を仮定すると、約１２個のこのような溶融した粒子は、（ほぼ均一に分布すると仮定すると）このような表面上に厚さ約０.５μｍの連続フィルムを形成する必要がある。エネルギー放射に対する曝露前の元々の形状では、これら１２個の粒子は正方形の約３８％をカバーするだけである。これら値及び計算は、簡単な説明のために挙げたものであり、またフィルム形成ポリマーにおける当業者であれば、動作状況に影響を与え得る要因は容易に理解できるであろう。
【００２２】
転写可能なフィルム、できれば連続したフィルムが最終的に形成されるのに必要とされる初期面積被覆率は、明らかに、とくに、粒子のサイズ分布、粒子に使用される特定材料、例えば温度依存表面張力、粘性及び一時的流体挙動等のような特定の流動学的パラメータ、並びに粒子自体の化学的及び／又は物理的な特性に依存する同様な因子に左右される。画像化表面の特性も、この問題（例えば、近接への十分な接触及び／又は拡散を促進又は阻害すること）に関与し得る。さらに、コーティングステーションの動作条件、画像化表面上における粒子の分布（ほぼ均一であることが有利である）、画像化ステーションで粒子及び／又は画像化表面が受け取る放射のエネルギー密度、印象ステーションの転写ポイントにおける圧力のような特定プロセスパラメータも、目標とする結果（例えば、所望厚さのフィルムを生ずるよう被照射粒子の拡散及び／又は融合を促進すること）に影響を及ぼし、したがって、前提条件を変更することができる。
【００２３】
特定標的表面からの粒子によってカバーされる面積パーセンテージ（％被覆率）は、できれば既知の被覆ポイントの較正曲線の確立との組合せで光学的濃度の決定による、粒子若しくは基板のいずれかが十分透明である場合の透過光測定による、又は逆に、例えば粒子が反射性である（例えば、熱塑性ポリマーによってコーティングされた反射性材料を有する）場合に反射光の測定によることを含めて、当業者に既知である多くの方法によって評価することができる。
【００２４】
本明細書に使用されるように、粒子によってカバーされる関心対象表面の百分率面積を決定する好適な方法は以下の通りである。１ｃｍ端縁を有する正方形サンプルを研究されている表面から（例えば、画像化表面から、又は印刷された基板から）カットする。このサンプルは、顕微鏡法（レーザー共焦点顕微鏡（オリンパス(登録商標)製LEXT OLS301SU）又は１００倍にも達する倍率（少なくとも約128.9μｍ×128.6μｍの視野を生ずる）の光学顕微鏡（オリンパス(登録商標)製BX61 U-LH100-3）のいずれかを使用）によって解析することができる。少なくとも３つの代表的画像を、反射率モードで不透明基板（例えば、ペーパー）を有する各サンプルに関して取得する。取得した画像は、アメリカ合衆国の国立衛生研究所（ＮＩＨ）が開発した公有財産のＪａｖａ(登録商標)画像処理プログラムであるＩｍａｇｅＪを用いて解析することができる。画像は８ビットグレー階調で表示し、プログラムは反射性粒子（明るいピクセル）と、付近又は隣接の粒子間に存在する隙間（暗いピクセルとして見える空所）との間に違いを付ける反射率閾値を提示するよう指示されている。熟練したオペレータは、必要であれば、提示された閾値を調整することができるが、一般的にはそれを追認する。この画像解析プログラムは、次に粒子を表すピクセル量及び粒子間空所におけるカバーされていない面積を表すピクセル量の測定ステップに進み、このステップから面積被覆率を容易に計算することができる。同一サンプルにおける異なる画像区域で行った測定を平均化する。サンプルが透明基板上である（例えば、半透明プラスチックフォイル上に印刷される）とき、同様な解析を透過率モードで行うことができ、この場合、粒子は暗いピクセル、空所は明るいピクセルを呈する。このような方法、又は当業者に既知の任意なほぼ同様の解析技術によって得られた結果は、パーセント又は比で表現することができる光学的表面被覆率と称される。
【００２５】
幾つかの実施形態において、放射に対する被曝によって粒子が単層に転換することから生ずるポリマーフィルムは、２μｍ以下、又は１μｍ以下、又は７５０ｎｍ未満ですらもの厚さを有する。他の実施形態において、ポリマーフィルムの厚さは、１００ｎｍ以上、又は２００ｎｍを超える、又は３００ｎｍを超えるものですらある。ポリマーフィルムの厚さは、３００ｎｍ〜１,０００ｎｍの範囲内、又は５００ｎｍ〜１,５００ｎｍの範囲内、又は６００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内、又は７００ｎｍ〜１,０００ｎｍの範囲内であり得る。
【００２６】
熱塑性粒子は、１０μｍ未満、若しくは５μｍ未満、若しくは１μｍ未満、又は１００ｎｍ〜４μｍの範囲内、若しくは３００ｎｍ〜１μｍの範囲内、若しくは５００ｎｍ〜１.５μｍの範囲内の粒径を有する。
【００２７】
基板の選択された領域におけるパターン印刷を可能にするためには、エネルギー印加／加熱された粘着性粒子の親和性は、画像化表面よりも基板に対する方が一層大きいものとする必要がある。さらに、選択された領域における基板に対するこの粘着性粒子の相対的に高い親和性は、粘着性があるものにされていない粒子に対する素（bare）の基板の親和性よりも大きいものとすべきである。この文脈において、基板に本発明方法又は装置によって印刷されるべき任意な所望の画像パターンがない場合に、基板は「素」であると称される。素の基板は、大部分の目的のために熱塑性粒子に対する親和性はほとんど持たないが、粘着性粒子の選択的親和性を可能にするため、幾分の残留親和性は許容することができる（例えば、視覚的な発見は不能である場合に）、又は特別な印刷効果にとっては望ましいものでさえある。素の基板面域に対する望ましくない転写は、寄生又は寄生性転写とも称される。
【００２８】
粒子（加熱前及び加熱後）、原粒子を搬送する流体、画像化表面、印刷基板、方法の任意のこのような素子間におけるこのような親和性勾配は、適当な材料又は特徴、例えば、疎水性、親水性、電荷、極性、任意な２つの素子間における相互作用に影響を及ぼすことが既知である任意のこのような特性を選択することによって変調させることができる。
【００２９】
粒子の粘着性フィルムを画像化表面から基板に転写するのを支援するため、画像化表面を疎水性にすることができる。
【００３０】
有利には、画像化表面は、所望の選択領域を加熱するための画像化ステーションによって間欠的に印加されるエネルギーと共存（両立）可能である。共存可能である（compatible）とは、例えば、エネルギーがレーザービームのような電磁（ＥＭ）放射エネルギーである場合、画像化表面が、照射周波数／波長レンジでの放射に対して比較的耐性がある及び／又は不活性である、及び／又は放射を吸収若しくは反射できる、及び／又は放射によって発生し得る熱を伝導若しくは絶縁できることを意味する。
【００３１】
幾つかの実施形態において、熱塑性粒子自体を疎水性とすることができる。このような場合、異なる状態にある粒子と画像化表面との間における相対親和性は、疎水性-疎水性相互作用に基づくものであり得る。
【００３２】
幾つかの実施形態において、熱塑性粒子及び／又は画像化表面は、代案的及び付加的に、電荷をベースとする相互作用によって、互いに対する（及び本発明教示による印刷プロセスに適した任意な他の流体又は表面に対する）所望の相対親和性を獲得することができる。例えば、正に帯電した粒子は負に帯電した表面を好むことができる。このような場合、異なる状態にある粒子と画像化表面との間における相対親和性は、電荷-電荷相互作用に基づくものであり得る。
【００３３】
前記コーティングステーションは、好適には、
・  前記熱塑性粒子が懸濁する流体流を直接的又は間接的に前記画像化表面に塗布する少なくとも１つのスプレーヘッドと、
・  前記スプレーヘッドを包囲し、また前記流体流を閉じ込める内部プレナムを画定し、前記画像化表面に隣接するリムを有するハウジングであって、前記リムは、前記ハウジングのリムと前記コーティングすべき表面との間に画定される封止ギャップから粒子が流出するのを阻止するよう構成された、該ハウジングと、及び
・  前記ハウジングに接続された吸引源であって、スプレーされた前記流体及び前記スプレーされた流体に懸濁する前記粒子を前記プレナムから抽出する、該吸引源と、を有し、前記吸引源は、前記画像化表面に直接接触しない粒子のほとんどすべてを抽出し、前記装置から退出する際には前記表面に付着する単一粒子層のみが残るように動作する。
【００３４】
前記コーティングステーションは、随意的に、さらに、画像化表面の温度を望ましいように調整するよう、ヒーター及び／又は冷却器のような温度制御素子を有することができる。
【００３５】
一実施形態において、画像化表面の温度は周囲の温度よりも高く上昇させることができ、この温度上昇はほぼヒーターによってもたらす。幾つかの実施形態において、ヒーターはコーティングステーションの出口側又は下流に配置する。このような実施形態において、画像化表面の外表面の温度は、３０℃を超える、又は４０℃を超える、又は５０℃すらも超える温度とすることができるが、代表的には８０℃よりも低い又は７０℃さえ超えない温度とすることができる。
【００３６】
幾つかの実施形態において、画像化表面の温度は低下させることができ、この温度低下は、例えば、冷気ブロワ又は冷温プレートのような冷却器によってほぼもたらされる。冷却器はコーティングステーションの入口側又は上流に配置することができる。このような実施形態において、画像化表面の外表面の温度は、４０℃未満、又は３０℃未満、又は２０℃未満ですらもなり得るが、代表的には０℃よりも高い又は１０℃さえ超えるものとすることができる。
【００３７】
幾つかの実施形態において、画像化表面はコーティングステーションに到達する前に冷却し、またコーティングステーションを退去した後に加熱する。
【００３８】
本明細書において、用語「懸濁した（suspended）」及びその変化形は、任意の特別なタイプの同一相又は異なる相である材料の混合物に言及するものではなく、より全般的に「搬送される（carried）」及び同様の用語として解すべきである。
【００３９】
前記画像化ステーションは、前記画像化表面が画像化装置に対して基準のＸ方向に移動するとき、前記画像化表面上に個別制御可能なレーザービームを投射する、該画像化装置を有することができ、前記画像化装置は、支持体に備え付けた半導体チップを複数個有し、この備え付けは、連続的に作動するとき、発生したレーザービームは、前記画像化表面にわたり前記Ｘ方向に延在し、またＹ方向にほぼ均一に離間する平行なラインのセットをトレースするように行う。
【００４０】
幾つかの実施形態において、前記画像化装置における各半導体チップは、Ｍ行及びＮ列である２次元の主アレイに配列した複数個のレーザービーム発光素子を有し、各行における素子は均一間隔Ａｒを有し、各列における素子は均一間隔ａｃを有し、前記画像化装置は、さらに、発生したレーザービームを粒子でコーティングされた画像化表面上に合焦するレンズ系を有する。レンズ系は複数個のレンズ素子を有することができ、各レンズ素子は、対応のチップに各個に関連させ、また幾つかの実施形態において屈折率分布型（ＧＲＩＮ：Gradient-Index）ロッドを有することができる。
【００４１】
幾つかの実施形態において、前記チップは支持体に備え付け、この備え付けは、公称的に配置されるとき、前記Ｘ方向に交差する基準のＹ方向に互いに隣接する各チップ対が、前記Ｘ方向に互いにオフセットし、また各対における双方チップの主アレイからのレーザービーム発光素子の中心が、隣接チップのビーム発光素子間でＹ方向にオーバーラップすることなく、公称的にＹ方向に均一に離間するように行う。換言すれば、公称的に配置された隣接チップの対におけるすべてのレーザービーム発光素子が連続的に動作され、かつチップ及び画像化表面がＸ方向に相対運動するとした場合、対における２つのチップの対応する主アレイによる発生したレーザービームは、前記画像化表面上でＸ方向に延在し、またＹ方向に公称的に均一に離間する平行なラインのセットをトレースする。第１チップの発光素子がトレースできるラインは、第２チップの発光素子がトレースできるラインとは交絡しない。
【００４２】
絶対整列精度は高額であり、またしばしば実用的ではないため、配置用語が画像化装置から及び印刷装置から得られる満足のいく結果を可能にする所定公差範囲内における所望位置決めに関連するものであることを実現するのは重要である。したがって、用語「公称的に（nominally）」は、チップ又は他の関連素子がそれらの意図された配置場所に配置されるときの所望の空間的関係性を示すものと解すべきである。しかし、本発明の異なる態様は、このような公差範囲内の公称位置から外れる変位を可能にし、またこのような変位を補償可能にする。同様に、空間的関係性を示すのに使用されるとき、用語「ビーム（beam）」は、明示しない限り又は文脈から明らかである限り、主にビームの中心に関連するものと見なすべきである。したがって、例えば、均一間隔Ａｒ及びａｃは、レーザービーム発光素子の中心間距離に関連する。
【００４３】
幾つかの実施形態において、僅かな誤整列を補償するため、前記主アレイにおける素子が前記Ｍ行及び前記Ｎ列であることの他に、各チップは、前記主アレイの少なくとも一方の側方サイドに少なくとも１つの付加的な列を有し、このような付加的な列のそれぞれは、２つのＭ×Ｎ個のラインセット間に存在する少なくとも１つの付加的ラインをトレースするために位置された少なくとも１つの選択的に動作可能なレーザー発光素子を含む。付加素子又は整列素子とも称されるこの素子は、したがって、前記支持体における隣接チップの相対位置決めに関する前記Ｙ方向の幾分の誤整列を補償できる。隣接チップが適正に整列している場合、付加列における素子は冗長であり、また付勢されない。しかし、ギャップが隣接チップによってトレースされるライン間に残存する場合、付加素子は、Ｍ×Ｎアレイによってトレースされるラインの均一間隔に近似する位置においてギャップを埋める付加ラインを導入することができる。
【００４４】
主アレイのレーザービーム発光素子におけるＭ行及びＮ列が一般的に冗長である素子を何ら含まないと仮定すると、セット内における隣接ライン間の間隔は、Ａｒ／Ｍ、すなわち、各行における隣接素子の間隔を行数で割った値に等しい。さらに、本開示の幾つかの実施形態においては、任意な２つの隣接チップによってトレースされるＭ×Ｎの２つのセット間に意図的なオーバーラップが設けられていないことに起因して、２つのチップによってトレースされるラインの総数は、２×Ｍ×Ｎ、すなわち、チップは行及び列の数がそれぞれ等しい場合、各チップにおける行数と列数との積の２倍に等しくなる。
【００４５】
画像化表面が隣接レーザー素子によって発せられたレーザービームに対して移動する場合、Ｘ方向にトレースされる各ライン上に中心があるレーザー放射は、不均一なエネルギープロファイルを有するが、このプロファイルは、一般的には必ずしもガウス強度分布には近似しない。トレースされるスポットサイズは、１つのレーザー素子によってトレースされるエネルギーが隣接素子によってトレースされる面積にオーバーラップするほど十分大きくなることができ、２つのビームの強度複合並びに一方又は双方のビームにおける振幅に対する制御は複合強度プロファイルをもたらし、この複合強度プロファイルの最大値は、相対強度及び／又はタイミングを制御することにより２つのトレースされるライン間で移動することができ、これによりトレースされる中間ラインを２つの原初ラインの中心間における選択可能な位置に配置することができる。この効果は、隣接スポットが有限時間内に互いに照射されると仮定すると、この効果は動的かつ加法的であることに留意されたい。換言すれば、画像化表面は、２つのレーザーパルス間におけるインターバル内で第１レーザーパルスのエネルギーが消散する時間を持たないようにすべきである。
【００４６】
隣接チップの素子によってトレースされるＭ×Ｎ個のラインの２セット間で不慮のオーバーラップが存在する場合、主アレイのうち幾つかの素子をスイッチオフする、また必要であれば、付加列における素子に置換して、均一に離間したラインを有するラスター外観を維持することができる。主アレイ内の近接レーザー素子からのエネルギー相互作用は、素子間ギャップにおける欠けている又は動作不能素子を補償するのにも同様に使用することができる。
【００４７】
１つのチップによって発せられたレーザービームのすべては、絶対値が１以上である倍率Ｍ０を有する共通単一レンズ又は順次に配列したレンズの共通セットによって画像化表面上に合焦するのが、とくに有利であることが分かっているが、絶対値が１より小さい倍率も勿論考えられる。高解像度系用であっても、レーザー素子がチップ上で適切に離間できるのを確実にする上で、倍率Ｍ０がほぼ＋１に等しいものである場合により有利であることが分かった。換言すれば、画像化表面におけるレーザー素子アレイの画像（すなわち、ドットアレイ）はチップ上のアレイと同一サイズを有するが、これは−１の倍率で反転することができる。とりわけ、ＧＲＩＮロッド（Gradient-Index）のようなレンズの僅かな誤整列がレンズの光軸に直交するＸＹ平面上に存在する場合であっても、画像化表面における照明されるレーザースポットの位置は不変のままとなり、その位置はレーザーアレイチップにおけるレーザービーム発光素子の位置にのみ依存するからである。前者の素子は、標準半導体製造技術を用いてすべてのレーザーアレイチップ上に極めて高精度に位置決めすることができる。
【００４８】
ＧＲＩＮロッドで例示した画像化装置のレンズ素子は一体型を使用することができ、このことは、レーザー光がレーザー光源から画像化表面に至る光路において単一素子を通過することを意味する。代案として、各光路は順次に配列した２つ又はそれ以上のレンズ素子を有することができ、別個の素子をミラー又はプリズムのような反射素子によって互いに結合し、レンズ素子と同一効果を生ずるようにすることができる。多重レンズ素子の使用によれば、パッケージングを簡素化するよう光路を折り曲げることができ、この折り曲げは、レーザー素子によって発せられるビームがほぼ個別にコリメートされる空間内にある。このことを理由として、個別の素子は、一般的に直線ライン上で互いに整列しない。換言すれば、チップ上の同一素子から発せられたレーザービームは、一体型レンズ素子（例えば、単一「直線型」ＧＲＩＮロッド）又は一連のレンズ素子（光が「折れ曲がり」、また関連する又は共通の反射素子によって各素子から次の素子に指向させられる２つ又はそれ以上のＧＲＩＮロッド）のいずれで変換されるかに係わらず、画像化表面上の同様場所を標的とすることができる。
【００４９】
折れ曲がり光路の実施形態において、随意的にすべてのチップに共通するプリズム又はミラーのような反射部材は、各一連の素子列において１つのＧＲＩＮロッド素子から次のＧＲＩＮロッド素子にレーザービームを指向させるよう作用することができる。このような折れ曲がり光路の実施形態において、反射部材は、代表的には、ＧＲＩＮロッドにおける最高屈折率よりも高い屈折率を有するガラスのような材料で作製した折り曲げプリズムのカット面上に存在するのが望ましい。プリズムの高屈折率はコリメートされたビームの角度発散を制限し、また順次のＧＲＩＮロッドセグメント間における離間量をより大きくすることができる。適切な光路折り曲げプリズムは、例えば、直角プリズムとすることができ、このプリズムの折り曲げ面は反射表面である。他タイプの反射部材及び折り曲げ角度は、系のジオメトリ及び一連のビーム列に与えられる方向に基づいて使用することができる。
【００５０】
画像化表面とコーティングステーションとの間の相対移動は画像化表面の移動と同等であると見なされる。
【００５１】
上述の印刷方法及び装置に適した画像化表面及び転写部材も開示する。
【００５２】
本発明の他の態様によれば、本明細書において、インク粒子を受け止め、インク画像として前記インク粒子を印刷基板に転写する転写部材を開示し、この転写部材は、
a)  支持層と、及び
b)  前記支持層上に配置されかつ支持層に対して付着性のある画像化層と
を備え、前記画像化層は、
I)    前記支持層の遠位側における剥離層、
II)   前記剥離層を含むシリコーン母材、及び
III)  最大でも１００ｎｍの平均一次粒径（Ｄ５０）を有するカーボンブラック粒子
を含み、
前記カーボンブラック粒子は前記シリコーン母材内に分散しており、この分散は、平均測定粒径（Ｄ５０）が最大でも４００ｎｍであり、前記シリコーン母材内でのカーボンブラック粒子の濃度が少なくとも０.０１重量％であるように行うものである。
【００５３】
幾つかの実施形態では、シリコーン母材は添加硬化シリコーン母材である。
幾つかの実施形態では、シリコーン母材は濃縮硬化シリコーン母材である。
【００５４】
幾つかの実施形態において、前記カーボンブラック粒子は、以下の構造的特性、すなわち、
A)  前記カーボンブラック粒子に対する少なくとも５重量％の揮発性物質含有量、
B)  少なくとも４％の酸素含有量、
のうち少なくとも一方、又は好適には双方を有するものである。
【００５５】
本明細書における酸素含有量は、カーボンブラック粒子の重量あたりの重量で表現し、また係数０.７５を掛け合わせることによって原子百分率に変換することができる。
【００５６】
幾つかの実施形態において、カーボンブラック粒子の少なくとも８０％は、剥離表面から、少なくとも０.０５μｍ、少なくとも０.１μｍ、少なくとも０.２μｍ、少なくとも０.３μｍ、少なくとも０.５μｍ、又は少なくとも１.０μｍの法線方向距離に配置される。
【００５７】
幾つかの実施形態において、転写部材は不透明である。
幾つかの実施形態において、画像化層は、さらに、「適合可能層（conformable layer）」を有する。
幾つかの実施形態において、適合可能層は直接支持層に付着する。
幾つかの実施形態において、画像化層は適合可能層を含み、この適合可能層は直接支持層に対して付着性を示す又は支持層に対して直接付着する。
幾つかの実施形態において、適合可能層は５０ショアＡまでの硬度を有する。
幾つかの実施形態において、適合可能層は、５〜５０ショアＡの範囲、１０〜３０ショアＡの範囲、１０〜４０ショアＡの範囲、１０〜５０ショアＡの範囲、１５〜５０ショアＡの範囲、２０〜４０ショアＡの範囲、又は２０〜５０ショアＡの範囲における硬度を有する。
幾つかの実施形態において、支持層は圧縮可能層を含む。
幾つかの実施形態において、圧縮可能層は画像化層と支持層におけるベース層との間に配置する。
幾つかの実施形態において、圧縮可能層は圧縮可能エラストマーを含む。
幾つかの実施形態において、圧縮可能層はスポンジ状構造又は発泡体構造を有する。
幾つかの実施形態において、転写部材は、画像化層に直交する方向に１００μｍ〜５００μｍ、１００μｍ〜４００μｍ、１００μｍ〜３００μｍ、１５０μｍ〜３００μｍ、又は１５０μｍ〜２５０μｍの圧縮性を有するように適合させ、また寸法決めする。
幾つかの実施形態において、圧縮可能層は、圧縮可能層の大表面に直交する方向に１０〜８０％の圧縮性を有する。
幾つかの実施形態において、転写部材はほぼ透明とする。
幾つかの実施形態において、シリコーン母材はスズ（錫）を含む。
幾つかの実施形態において、シリコーン母材はプラチナ（白金）を含む。
【００５８】
本発明の他の態様によれば、本明細書において硬化可能組成物を開示し、この硬化可能組成物は、
a)  反応性の硬化可能シリコーンエラストマーと、及び
b)  カーボンブラック粒子と
を備え、
前記カーボンブラック粒子は、最大でも１００ｎｍの平均一次粒径（Ｄ５０）を有し、
前記カーボンブラック粒子は前記エラストマー内に分散されており、この分散は、平均測定粒径（Ｄ５０）が最大でも４００ｎｍであるように行われており、
前記組成物における前記カーボンブラック粒子の濃度は少なくとも０.０１重量％であり、
前記カーボンブラック粒子は、以下の構造的特性、すなわち、
I)    前記カーボンブラック粒子重量に対する少なくとも５重量％の揮発性物質含有量、
II)   ２.５〜４.５の範囲内におけるカーボンブラック粒子のｐＨ、
III)  少なくとも４％の酸素含有量、
のうち少なくとも１つを有するものである。
【００５９】
本発明の他の態様によれば、本明細書において硬化可能組成物を開示し、この硬化可能組成物は、
a)  硬化可能シリコーンエラストマーと、
b)  カーボンブラック粒子と、
c)  前記硬化可能シリコーンエラストマーと混和性を有するシリコーン界面活性剤であって、前記カーボンブラック粒子の前記硬化可能シリコーンエラストマー内における分散を促進する、該シリコーン界面活性剤と、
を備え、
前記カーボンブラック粒子は、最大でも１００ｎｍの平均一次粒径（Ｄ５０）を有し、
前記カーボンブラック粒子は前記エラストマー内に分散されており、この分散は、平均測定粒径（Ｄ５０）が最大でも４００ｎｍであるように行われており、
前記組成物における前記カーボンブラック粒子の濃度は少なくとも０.０１重量％であり、
前記カーボンブラック粒子は、以下の構造的特性、すなわち、
I)    前記カーボンブラック粒子重量に対する少なくとも５重量％の揮発性物質含有量、
II)   ２.５〜４.５の範囲内におけるカーボンブラック粒子のｐＨ、
III)  少なくとも４％の酸素含有量、
のうち少なくとも１つを有するものである。
【００６０】
本発明の他の態様によれば、本明細書において硬化可能組成物を開示し、この硬化可能組成物は、
a)  硬化可能シリコーンエラストマーと、
b)  カーボンブラック粒子と、
c)  前記硬化可能シリコーンエラストマーと混和性を有するシリコーン界面活性剤であって、前記カーボンブラック粒子の前記硬化可能シリコーンエラストマー内における分散を促進する、該シリコーン界面活性剤と、
を備え、
前記カーボンブラック粒子は、最大でも１００ｎｍの平均一次粒径（Ｄ５０）を有し、前記カーボンブラック粒子は前記エラストマー内に分散されており、この分散は、平均測定粒径（Ｄ５０）が最大でも４００ｎｍであるように行われており、
前記組成物における前記カーボンブラック粒子の濃度は少なくとも０.０１重量％であり、
前記シリコーン界面活性剤は、アミノシリコーン及びアクリル酸シリコーンよりなるグループから好ましく選択された材料を含むものである。
【００６１】
幾つかの実施形態において、シリコーン界面活性剤はアミノシリコーンを含むものである。
幾つかの実施形態において、シリコーン界面活性剤におけるアミノシリコーンは８〜４０の範囲内におけるアミン価を有する。
幾つかの実施形態において、アミン価は、少なくとも１０、少なくとも１２、少なくとも１５、少なくとも２０、又は少なくとも２５である。
幾つかの実施形態において、アミン価は、多くとも３７、多くとも３５、多くとも３２、又は多くとも３０である。
幾つかの実施形態において、アミノシリコーンは、モノアミン末端のアミノシリコーンを含む。
幾つかの実施形態において、シリコーン界面活性剤はアクリル酸シリコーンを含有する。
幾つかの実施形態において、シリコーン界面活性剤内のアクリル酸塩濃度は少なくとも０．５重量％である。
幾つかの実施形態において、アクリル酸塩濃度は、０.５％〜７５％の範囲内、０.５％〜６０％の範囲内、０.５％〜５０％の範囲内、０.５％〜２０％の範囲内、２.５％〜７５％の範囲内、２.５％〜６０％の範囲内、２.５％〜４０％の範囲内、５％〜７５％の範囲内、５％〜６０％の範囲内、又は５％〜４０％の範囲内である。
幾つかの実施形態において、硬化可能シリコーンエラストマーは添加硬化可能シリコーンエラストマーである。
幾つかの実施形態において、硬化可能シリコーンエラストマーは濃縮硬化可能シリコーンエラストマーである。
【００６２】
幾つかの実施形態において、前記組成物における前記カーボンブラック粒子の濃度は、少なくとも０.０３重量％、少なくとも０.１重量％、少なくとも０.２５重量％、少なくとも０.５重量％、少なくとも１重量％、少なくとも１.５重量％、少なくとも２重量％、又は少なくとも３重量％である。
【００６３】
幾つかの実施形態において、前記組成物における前記カーボンブラック粒子の濃度は、多くとも３０重量％、多くとも２０重量％、多くとも１５重量％、多くとも１２重量％、多くとも１０重量％、多くとも８重量％、多くとも６重量％、多くとも５重量％、又は多くとも４重量％である。
【００６４】
幾つかの実施形態において、前記組成物における前記カーボンブラック粒子の濃度は、０.１％〜２５％の範囲内、０.１％〜２０％の範囲内、０.１％〜１５％の範囲内、０.１％〜１０％の範囲内、０.３％〜２５％の範囲内、０.３％〜１０％の範囲内、０.５％〜１５％の範囲内、０.５％〜１２％の範囲内、又１％〜１５％の範囲内である。
【００６５】
幾つかの実施形態において、平均測定粒径（Ｄ５０）は、最大でも３５０ｎｍ、最大でも３００ｎｍ、最大でも２５０ｎｍ、最大でも２００ｎｍ、最大でも１５０ｎｍ、最大でも１２０ｎｍ、又は最大でも１００ｎｍである。
幾つかの実施形態において、揮発性物質含有量は、前記カーボンブラック粒子重量に対して少なくとも７重量％、少なくとも１０重量％、少なくとも１２重量％、少なくとも１５重量％、又は少なくとも２０重量％である。
幾つかの実施形態において、揮発性物質含有量は、前記カーボンブラック粒子重量に対して多くとも４０重量％、多くとも３５重量％、多くとも３０重量％、多くとも２７重量％、又は多くとも２５重量％である。
幾つかの実施形態において、カーボンブラック粒子の揮発性物質含有量は、５重量％〜４０重量％の範囲内、５重量％〜３０重量％の範囲内、５重量％〜２５重量％の範囲内、７重量％〜３０重量％の範囲内、１０重量％〜３０重量％の範囲内、又は１０重量％〜２５重量％の範囲内である。
幾つかの実施形態において、カーボンブラック粒子の酸素含有量は、少なくとも５％、少なくとも６％、少なくとも７％、少なくとも８％、又は少なくとも１０％である。
幾つかの実施形態において、カーボンブラック粒子の酸素含有量は、多くとも２５％、多くとも２０％、多くとも１８％、多くとも１５％、又は多くとも１３％である。
【００６６】
本発明の他の態様によれば、本明細書において硬化可能組成物を開示し、この硬化可能組成物は、
a)  シリコーン母材と、
b)  前記シリコーン母材に配置したカーボンブラック粒子と、
を備え、
前記カーボンブラック粒子は、最大でも１００ｎｍの平均一次粒径（Ｄ５０）を有し、
前記カーボンブラック粒子は前記エラストマー内に分散されており、この分散は、平均測定粒径（Ｄ５０）が最大でも４００ｎｍであるように行われており、
前記組成物における前記カーボンブラック粒子の濃度は少なくとも０.０１重量％であり、
前記カーボンブラック粒子は、以下の構造的特性、すなわち、
I)    少なくとも５重量％の揮発性物質含有量、
II)   少なくとも４％の酸素含有量、
のうち少なくとも１つを有するものである。
【００６７】
本発明の他の態様によれば、本明細書において硬化組成物を調製する方法を開示し、この方法は、
a)  初期カーボンブラック粒子をシリコーン界面活性剤の第１部分の存在の下でサイズ減少させ、サイズ減少カーボンブラック粒子を含む初期分散混合物を得るステップと、
b)  随意的にサイズ減少カーボンブラック粒子を前記シリコーン界面活性剤の第２部分と混合して中間分散混合物を生じさせるステップと、
c)  前記初期分散混合物又は前記中間分散混合物を硬化可能なシリコーンエラストマーと混合させて最終分散混合物を生じさせるステップであって、この第２の分散混合物内における前記サイズ減少カーボンブラック粒子は最大でも４００ｎｍの平均測定粒径（Ｄ５０）を維持するものである、ステップと、
d)  前記最終分散混合物を硬化させるステップと、
e)  随意的に、ステップd)の前に、所望厚さの層を形成するよう、又は成形型内で該型にほぼ適合する形状を有する物体を形成するよう、表面上に前記最終分散混合物を塗布するステップと
を備える。
【００６８】
幾つかの実施形態において、前記硬化は添加硬化である。
幾つかの実施形態において、前記硬化は濃縮硬化である。
【００６９】
幾つかの実施形態において、前記初期カーボンブラック粒子は、いかの構造的特性、すなわち、
A)  前記カーボンブラック粒子に対する少なくとも５重量％の揮発性物質含有量、
B)  ２.５〜４.５の範囲内におけるカーボンブラック粒子のｐＨ、
C)  少なくとも４％の酸素含有量、
のうち少なくとも１つ、好適には少なくとも２つ、又は３つすべてを有する。
【００７０】
幾つかの実施形態において、前記硬化可能組成物は、さらに、添加硬化反応を触媒し得るプラチナ（白金）触媒を含み、これにより反応性硬化可能シリコーンエラストマーがカーボンブラック粒子を含有するポリマー母材（マトリクス）を形成する。
【００７１】
幾つかの実施形態において、前記硬化可能組成物は、さらに、濃縮硬化反応を触媒し得るスズ（錫）触媒を含み、これにより反応性硬化可能シリコーンエラストマーがカーボンブラック粒子を含有するポリマー母材（マトリクス）を形成する。
【００７２】
幾つかの実施形態において、カーボンブラック粒子は適合性があり、またシリコーン界面活性剤は、少なくとも２カ月、少なくとも３カ月、少なくとも４カ月、少なくとも６カ月、又は少なくとも１２カ月の時間経過にわたり、平均測定粒径濃度（Ｄ５０）が１０％以内に維持されるものを選択する。
【００７３】
幾つかの実施形態において、カーボンブラック粒子の平均測定粒径濃度（Ｄ５０）は、少なくとも２カ月、少なくとも３カ月、少なくとも４カ月、少なくとも６カ月、又は少なくとも１２カ月の時間経過にわたり、８％以内、６％以内、４％以内、又は２％以内に維持される
【００７４】
幾つかの実施形態において、本発明方法は、平均測定粒径濃度（Ｄ５０）を１０％以内、８％以内、６％以内、４％以内、又は２％以内に維持する間に、少なくとも６カ月、少なくとも９カ月、少なくとも１２カ月、少なくとも１８カ月、又は少なくとも２４カ月にわたり分散をエイジングさせるステップを備える。
【００７５】
上述のカーボンブラック含有組成物又はこの組成物を調製する方法は、様々な産業分野（例えば、ＣＢを、機械的特性、その熱伝導特性、その導電性、及びこの材料のこのような任意の既知である特性として使用することができる分野）において広範囲の用途があり得る。幾つかの実施形態において、カーボンブラック含有組成物又はこの組成物を調製する方法は、デジタル的又は伝統的に係わらず印刷産業用の転写部材の調製に使用することができる。特別な実施形態において、カーボンブラック含有組成物又はこの組成物を調製する方法は、本発明教示による印刷方法及び装置のための、放射吸収層又は転写部材の画像化表面の調製に使用することができる。
【００７６】
画像化装置の幾つかの実施形態を以下に添付図面につき説明する。図面とともにこれらの記載は、当業者に対して非限定的な実施例として本発明の教示をどのように実施するかを明らかにするであろう。図面は説明的詳述目的であり、また本発明の基本的理解に必要以上に実施形態の構造的詳細を細密に示そうとするものではない。分かり易く簡潔にするため、図面に示される幾つかの対象物は縮尺通りに描かれてはいない。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】印刷システムの第１実施形態を概略的に示す。
【図２】印刷システムの第２実施形態を概略的に示す。
【図３】一実施形態による支持体に備え付けた１組のＶＣＳＥＬチップのセットを備える画像化装置の一部を示す。
【図４】２つのＶＣＳＥＬチップにおけるレーザー発光素子、及び相対的に移動する画像化表面上でトレースできるラインを示す概略図である。
【図５】１対の行において、ＶＣＳＥＬチップと、発生したレーザービームを画像化表面上に合焦させるレンズとして使用するＧＲＩＮロッドとの間における整列状態を示す概略図である。
【図６】図１及び図２に示す本発明の幾つかの実施形態による印刷システムに使用することができるレーザー発光素子の放射に対して「非透過性である」転写部材を概略的に示す。
【図７】本発明の幾つかの実施形態によるレーザー発光素子の放射に対して「透過性である」転写部材を概略的に示す。
【図８Ａ】図７に示す転写部材を使用するデジタル印刷システムの概略図である。
【図８Ｂ】図８Ａにおけるシステムの一部として示した印象（impression）ニップの拡大詳細図を示す。
【図９】図８に例示したようなデジタル印刷システムの代案的実施形態の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００７８】
例示的な印刷システムの概説
図１は画像化表面として作用する外表面１２を有するドラム１０を示す。ドラムが矢印で示すように時計方向に回転するとき、微粒子の単層コーティングを取得するコーティングステーション１４の下方を通過する。コーティングステーション１４を退出した後、画像化表面１２は画像化ステーション１６の下方を通過し、この画像化ステーション１６において、画像化表面１２の選択された領域にエネルギーが印加され、画像化表面１２の選択された領域における粒子コーティングを粘着性のあるものにする。図１の実施形態において、エネルギーは、画像化表面１２の選択された領域をレーザー放射に被曝させることによって印加される。代案的な実施形態において、例えば、熱転写プリンタに使用されるタイプの感熱プリントヘッドを用いて、熱を画像化表面に加えることができ、この感熱プリントヘッドは、ドラム１０の裏側、すなわち、粒子がコーティングされる画像化表面側とは反対側に接触する。このような感熱プリントヘッドは、転写部材に熱を伝導することによってエネルギーを印加する。以下にさらに説明するように、他の実施形態において、転写部材を放射に対して透過性を示す材料で作製する場合、放射エネルギーを転写部材の裏側に印加することができる。
【００７９】
次に、画像化表面１２は、基板（サブストレート）２０がドラム１０と圧胴（印象シリンダ）２２との間で圧迫され、矢印で示されるニップを有する印象ステーション１８を通過する。印象ステーション１８で加わる圧力は、画像化ステーション１６におけるレーザー放射に対する被曝によって粘着性のあるものにされた画像化表面１２のコーティングにおける選択された領域を画像化表面１２から基板２０に転写させる。結果として基板に転写される選択した粘着性のエリアに対応する画像化表面１２における領域は、粒子転写によって消尽して露出することになる。この後画像化表面１２は、コーティングステーション１４に復帰することによってそのサイクルを完了することができ、このコーティングステーション１４において、新たな単層粒子コーティングが、先に塗布された粒子が印象ステーション１８で基板２０に転写されて露出した領域にのみ塗布される。後に詳述するように、印刷基板とも称される基板は種々の材料（例えば、ペーパー、厚紙、プラスチック、織物等）で作製することができ、基板のうち幾つかは、随意的に、所望の特性に基づいてコーティングされた形態及び未コーティングの形態で存在することができ、また異なる形態（例えば、シート又は連続ウェブ）で印象ステーションに供給できる。
【００８０】
基板に転写されるよう選択的に加熱される熱塑性ポリマー粒子は、フィルム（薄膜）、又は以下にさらに詳述するようにポリマーフィルムを形成すると言える。本明細書で使用する用語「フィルム」は、画像化表面上で被曝した粒子の各スポットが材料の薄層又はコーティングを形成でき、少なくとも印象ステーションで基板に転写されるまで可撓性を有し得るものであることを示す。用語「フィルム」は、画像化ステーションで加熱された隣接粒子のスポットが連続的コーティングとして集合的に転写されることを意味すると捉えられるべきではない。画像化表面上に形成された薄いフィルム（すなわち、レーザービームに十分に被曝した１つ以上の隣接粒子による）は、たかだか粒子厚さを保持する、又は印象の際により薄くさえなり得ると考えられる。したがって、本発明の教示による印刷装置及び方法によれば、有利にも粘着性のあるものにされた粒子の薄い層を基板上に印刷できる。幾つかの実施形態において、印刷されたフィルムは、１マイクロメートル以下、８００ｎｍ以下、又は６００ｎｍ以下、又は４００ｎｍ以下、又は２００ｎｍ以下、又は１００ｎｍ以下さえもの厚さを有することができる。
【００８１】
コーティングステーション
コーティングステーション１４は複数個のスプレーヘッド１４０１を備え、これらスプレーヘッド１４０１はドラム１０の軸線に沿って互いに整列し、したがって、図１の断面では１個のスプレーヘッドのみが見えている。スプレーヘッドのスプレー１４０２は、ベル状のハウジング１４０３内に閉じ込められ、ハウジングの下側リム１４０４は、画像化表面に対してぴったり合う形状にし、ベル状のハウジング１４０３とドラム１０との間に狭いギャップのみが残るようにする。スプレーヘッド１４０１は共通の供給レール１４０５に接続し、この供給レール１４０５はスプレーヘッド１４０１に加圧流体キャリヤ（ガス状又は液体）を供給し、この加圧流体キャリヤ内には、画像化表面１２をコーティングするのに使用すべき微粒子を懸濁させる。必要であれば、懸濁粒子は、とくに、スプレーヘッドへの供給前に定期的又は絶え間なく混合させることができる。粒子は、ほぼ５０リットル／分を越えない任意の適当な流量で、例えば、０.１〜１０リットル／分又は０.３〜３リットル／分の流量範囲においてコーティング装置内で循環させることができる。ハウジング１４０３の内部空間によって形成されるプレナム１４０６内に閉じ込められるスプレーヘッド１４０１からの流体及び余剰粒子は、矢印で示される適当な吸引源に接続される出口パイプ１４０７から抽出され、またスプレーヘッド１４０１に戻る再循環をさせることができる。本明細書でスプレーヘッドに言及したが、共通供給パイプ又は導管に沿って流体懸濁粒子を供給できる任意な他のタイプのノズル又はオリフィスも含まれる。
【００８２】
流体及び懸濁粒子を画像化表面上に直接的にスプレーする上述の実施形態の代替案として、図２に示すコーティングステーションは、流体及び懸濁粒子を画像化表面上に擦り付けるよう動作する回転アプリケータ１４２０を有することができる。アプリケータ１４２０は、例えば、円筒形スポンジとする、又は回転心軸から半径方向に突出する可撓性の複数の細条片を有することができる。スポンジローラ又は細条片の材料は、画像化表面１２上に粒子を擦り付けるよう選択され、画像化表面上に形成される被覆の完全性に影響を与えることがない、換言すれば、粒子の層に擦過痕がないようにする「比較的柔軟な」のものとする。アプリケータ、又はブラシ毛若しくは細条片の表面は、好適には、閉じた細胞状発泡体（例えば、閉じた細胞状ポリエチレン、閉じた細胞状ＰＶＡ、若しくは閉じた細胞状シリコーン）を有する、又は比較的柔らかい開いた細胞状発泡体（ポリウレタン発泡体のような）、又は綿、絹、若しくは超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）の布地のような布地を有することができる。
【００８３】
懸濁粒子を含む流体は、このようなアプリケータ１４２０に外部から図２に示すように、ノズル１４０１からのスプレー又はジェット１４２０として供給することができ、ノズル１４０１はパイプ壁における孔によって簡単に実施化することができるが、より精密な及び／又は均一分配する支持形態も考えられる。代案として、懸濁粒子を含む流体は内部から供給できる。このような実施形態において、流体は、アプリケータ内で、例えば、心軸１４２１内又は軸線に平行に位置決めした供給ダクト又はスプレーによって供給でき、またアプリケータ１４２０の材料を経由して外部表面に向けて拡散することができる。
【００８４】
粒子供給システムは、必要とされる粒子を供給する導管であり、また印刷装置の内部若しくはこの印刷装置内のコーティングハウジングの内部に実装することができる、又は適切な粒子をコーティング装置に移送する外部供給システムとして実装することができる。
【００８５】
アプリケータは、画像化表面に直接的に接触しないいかなる粒子をも少なくとも部分的に除去し、また随意的に、単層として表面にコーティングされる粒子を少なくとも部分的に平坦化するよう作用し得る。
【００８６】
有利にも、粒子の単層は、画像化ステーションのレーザー素子が発生したレーザー光によって粒子が加熱される実施形態において、放射の標的化送達を促進する。このことは、選択的に照射された粒子が単一の規定層に存在するとき、レーザー放射を合焦するのが容易であって、画像化装置の制御を容易にし、基板への転写の際にほぼ均一な厚さ及び／又は比較的規定された輪郭のドットを形成することができる。
【００８７】
単層を有することの他の利点は、粒子と粒子がコーティングされる画像化表面との間に良好な熱結合が得られる点である。画像化表面は熱吸収性基板とすることができる、又は適当な熱吸収材料で形成することができ、これにより画像化表面からのエネルギーをポリマー粒子に転移させ、ポリマー粒子が粘着性のあるものにするのを容易にする。粒子の極めて小さい厚さに起因して、レーザーエネルギーの大部分が吸収されることなく粒子を通過することができる。粒子を直接加熱する代わりに、レーザー放射が画像化表面を加熱する傾向にあり、また粒子は間接的に加熱される。
【００８８】
中間アプリケータ１４２０（例えば、ローラ又はブラシ）が軸線の周りに回転するとき、ドラム１０の画像化表面１２と接触する際にこの画像化表面１２に粒子を塗布する。アプリケータの外表面は画像化表面と同一の線形速度を有する必要はなく、例えば、約１０倍高い速度に達するまでの速度とすることができる。アプリケータはドラム１０と同一方向又は反対方向に回転することができる。アプリケータは、モータにより独立的に駆動する、又はギア、ベルト、摩擦等を介してドラム１０によって駆動することができる。
【００８９】
幾つかの実施形態において、表面に直接的に接触しないいかなる粒子をも除去するよう作用する余剰物抽出システムは、アプリケータと同様に構成される。このような場合、アプリケータに類似した余剰物抽出素子に外部から又は内部から供給され、過剰粒子リムーバとして作用する流体は、それ自体何ら懸濁する粒子を持たない。クリーニング装置としても見なすことができる余剰物抽出システムの流体は、塗布装置用に粒子が懸濁される流体と同一又は異なるものとすることができる。例えば、粒子は、水又は任意な他の水性媒体に懸濁させて塗布することができ、またその余剰物は同一水性媒体によって、又は異なる流体、例えば空気流によって除去することができる。
【００９０】
ハウジング１４０３と画像化表面１２との間に有効なシールを達成し、ハウジング１４０３とドラム１０の画像化表面１２との間に維持される狭いギャップから粒子搬送流体及び微粒子が漏れ出るのを防止できるようにすることは重要である。このようなシールを達成する異なるやり方を図面で概略的に示す。
【００９１】
シールの最も簡単な形態はワイパーブレード１４０８である。このようなシールは、画像化表面と物理的に接触し、またハウジング１４０３の出口側、すなわち、スプレーヘッド１４０１の下流側に使用する場合、塗布されたコーティングに擦り痕を付けることがあり得る。この理由から、このようなシールを用いる場合、スプレーヘッド１４０１の上流側及び／又はハウジング１４０３の軸線方向端部のみに配置するのが好ましい。本明細書に使用する用語「上流」及び「下流」は、異なるステーションを通過して循環するとき、画像化表面１２におけるポイントを基準にする。
【００９２】
図１及び２は、さらに、画像化表面１２に接触する部材なしに、どのようにして粒子が懸濁した流体のハウジング１４０３とドラム１０との間における封止ギャップからの流出を阻止できるかを示す。図示においてハウジング１４０３の周囲全体にわたり延在するギャラリー（屋根付き通路）１４０９は、ハウジング１４０３のリム全体にわたり延在してギャラリー１４０９と封止ギャップとの間で流体連通を確立する１組の微小通路１４１０のセットによって接続される。
【００９３】
第１実施形態において、ギャラリー１４０９は、余剰物抽出システムの吸引源に接続し、この吸引源は、出口１０７に接続するのと同一の吸引源又は異なる吸引源とすることができる。この場合、ギャラリー１４０９は、ハウジング１４０３を退去する前にギャップを通過する流体を抽出する作用を行う。低圧でも画像化表面１２に直接接触しない如何なる粒子をもドラム１０から吸引し、またスプレーされる流体が液体である場合、余剰液体を吸引して、コーティングステーション１４から退去する前にコーティングを少なくとも部分的に乾燥させる。余剰液体は、コーティング装置の出口側に配置した液体抽出ローラ（例えば、液体吸収表面を有する）によって代替的かつ付加的に取り除くことができる。粒子コーティングを乾燥することに向けられる任意のこのような素子（例えば、ブロワ、ヒーター、液体抽出器等）は、もしあるとすれば、コーティング装置１４の内部（すなわち、ハウジング１４０３のプレナム１４０６内）に存在させる、又はコーティングがほぼ乾燥状態であることが必要であるステーションの上流に留まる限り、代替的にコーティングステーションの下流に配置することができる。乾燥素子は、もしあるとすれば、粒子層と共存可能であることが有利であり、例えば、粒子及び／又は粒子から形成される層の完全性に悪影響を及ぼさないものとする。
【００９４】
代替的実施形態において、ギャラリー１４０９はプレナム１４０６内の圧力よりも高い圧力のガス源に接続する。スプレーヘッド１４０１を経由するプレナムへの流体供給流率又は他の粒子供給方法、及び出口１４０７を経由する抽出流率に基づいて、プレナム１４０６は周囲大気圧より高い又は低いかのいずれかの圧力であるものとすることができる。
【００９５】
プレナムが大気圧より低い圧力に維持される場合、ギャラリー１４０９は周囲大気圧で十分である、又は実際的にギャラリーは存在させる必要がない。この場合、封止ギャップ内の圧力はプレナム１４０６内の圧力を超えているため、ギャップ経由のガスフローは、流体流出のリスクなくハウジング内部に向かう。
【００９６】
プレナムが大気圧より高い圧力である場合、ギャラリー１４０９は加圧したガス源、好適にはプレナム圧力よりも高い圧力に加圧された空気源に接続することができる。この場合、空気は加圧下で封止ギャップに通路１４１０経由で強制的に送り込み、また２つの流れに分れる。一方の流れは、プレナム１４０６に向かって流れ、また粒子が懸濁する流体の流出を阻止する。その流れは画像化表面に直接接触していない粒子を除去及び／又は同伴し、またキャリヤ流体が液体である場合、コーティングを少なくとも部分的に乾燥するのを補助する。第２の流れは、何ら懸濁粒子がないクリーンな空気だけであるため何の問題もなくコーティングステーションから抜け出る。第２ガス流は、さらに、コーティングステーション１４を退出する前に画像化表面１２上の粒子コーティングを乾燥するのを補助する。所望に応じて、ガス流はこのような乾燥を促進するよう加熱することができる。
【００９７】
代替的実施形態において、上述のギャラリー１４０９は、プレナム１４０６を側面全体で封止するようハウジングの全周にわたり延在させないでおく。「部分的」ギャラリーとする、又はスプレーヘッド及び／若しくはアプリケータの下流又は上流のいずれかでドラム軸線に平行に配置した、及び／若しくはドラム軸線に直交する方向にスプレーヘッド／若しくはアプリケータの側端縁に配置した１つ又はそれ以上のエアナイフ（負又は正のフローを有する）の組合せとすることができる。出口側の「部分的」ギャラリーは、幾つかの実施形態において、付加的又は代替的に粒子の乾燥を促進するガスブロワ（例えば、冷たい又は熱い空気）として作用し、この場合、通路１４１０は、十分な流率を生ずるのに適合させることができる。
【００９８】
一実施形態において、また画像化表面１２に塗布される懸濁粒子を搬送する流体タイプとは無関係に、コーティング装置１４の出口側、代表的には図１及び２に示すように、外部下流位置に、粒子層及び画像化表面の温度を、画像化ステーション１６に達する前に上昇させることができるヒーターを設ける。粒子及び画像化表面の温度は、このようにして、周囲温度から３０℃又は４０℃を超える又は５０℃さえも超える温度に上昇させることができ、粒子を粘着性があるものにするのに必要なレーザーエネルギーのような更なるエネルギー量を低減することができる。しかし、ヒーター１４２４によって与えられる加熱それ自体は粒子を粘着性があるものにするのではなく、８０℃又は７０℃を超えることもあり得る温度まで上昇させるものであってはならない。粒子及び画像化表面のこのような加熱は、上昇した温度の流体キャリヤを用いることによって一層促進することができる。
【００９９】
幾つかの実施形態において、コーティング装置１４の入口側、代表的には図１及び２に示すように、外部上流位置に、粒子層の先に露出した領域に補充される前に画像化表面１２の温度を低下させることができる冷却器１４２２を設けることができる。４０℃未満又は３０℃未満の温度、又は２０℃すらよりも低い温度、しかし、代表的には０℃より高い、又は１０℃すらよりも高い温度の画像化表面は、露出した領域に隣接する粒子の温度を低下させることができ、これにより画像化表面が補充される時までにこのように冷却された粒子は、「残留」粘着性がない、又は減少したものとなることができる、すなわち、後続ステップ（例えば、印刷基板への転写）には不十分な部分的軟化状態となる。冷却されたコーティングは、粒子が新たに画像化表面の露出領域に堆積されるのと同一の挙動をする。このようにして、本明細書記載のような画像化装置のチップにおける任意のレーザー素子によって選択的に直接的及び／又は間接的な標的とされる粒子のみが、印刷基板への転写に十分な粘着性のあるものとなる。この文脈において、粒子の間接的な標的化とは、レーザービーム発光素子又は任意な他の熱エネルギー源が標的とされた粒子の下側の放射吸収層又は画像化表面を標的化できることを意味する。粒子及び画像化表面のこのような冷却は、低下した温度の流体キャリヤを用いることによって一層促進することができる。
【０１００】
コーティング装置１４の入口側の冷却器１４２２及び出口側のヒーター１４２４の双方を設け、各冷却器及びヒーターを上述のように動作させることができる。さらに、ドラム１０は、ドラムの内部における適当な冷却器／ヒーターによって温度制御することができ、このような温度制御構成は、もしあるとすれば、画像化表面の外表面を任意な所望温度に維持できるように動作させる。
【０１０１】
コーティング粒子
コーティング粒子の形状及び組成は、実際には、基板２０の表面に塗布される効果の性質に依存する。印刷システムにおいて、粒子は、好都合には着色熱塑性ポリマーで形成することができ、これは以下にポリマー粒子とも称する。レーザービーム発光素子の照射波長に対する応答として温度上昇及び軟化できるポリマー及び／又はポリマーに関連する顔料が好適である。これに限定すると解する必要はなく、なぜなら、代替的（及び付加的）に、粒子が塗布される画像化表面の温度上昇の結果としてレーザー素子によって粒子は粘着性のあるものにされ得るからである。
【０１０２】
高品質印刷のためには、粒子はできる限り微細であり、塗布される単層コーティングの粒子相互間の隙間を最小化するものが望ましい。粒径は所望解像度に依存し、また幾つかの用途では、１０マイクロメートル（μｍ）又はできればそれ以上でさえもの粒径が適切であることが分かっている。しかし、改善された画像品質を得るためには、粒径は２、３マイクロメートル、及びより好適には、約１μｍ未満であるのが好ましい。幾つかの実施形態において、適当な粒子は、１００ｎｍ〜４μｍの間、３００ｎｍ〜１μｍの間、とくには５００ｎｍ〜１.５μｍの間における平均直径を有することができる。このような粒子を生産する方法に基づいて、粒子はほぼ球形であり得るが、このことは必須ではなく、血小板のような形状にもなり得る。
【０１０３】
このように、粒子選択及び理想的サイズ決定は、粒子の意図する用途、求められる効果（例えば、印刷の場合での視覚的効果）、並びに関連のコーティングステーション及び画像化ステーションにおける動作条件に依存する。パラメータの最適化は、経験的、日常の実験、当業者によって行うことができる。
【０１０４】
粒子形態学に基づいて、粒子（例えば、以下に説明するような画像を形成するよう作用する熱塑性粒子、転写部材を製造するのに供される強化粒子若しくは任意な他の充填材、ＣＢのような放射吸収粒子、及び本開示の他の章で詳述されるような任意な同様の粒子）は、長さ、幅、厚さ、直径又はＸ、Ｙ及びＺ方向寸法における任意のこのような代表的測定値によって特徴付けることができる。代表的には、このようなサイズは、粒子母集団の平均として得られ、また顕微鏡法及び動的光散乱（ＤＬＳ：Dynamic Light Scattering）法のような任意な従来既知の技術によって決定することができる。ＤＬＳ技術において、粒子は、相当挙動を有する球体に近似し、またサイズは流体力学直径の観点から得ることができる。ＤＬＳは、さらに、母集団のサイズ分布を評価することができる。本明細書で使用するように、例えば、１０μｍ以下のサイズを有する粒子は、１０μｍよりも小さい少なくとも一方向寸法を有し、また可能であれば、形状に基づいて２つ又は３つの方向寸法を有することができる。
【０１０５】
必須ではないが、粒子は均一形状及び／又は母集団の中央値に対して対称的分布内及び／又は比較的狭いサイズ分布内にあるのが好ましい。
【０１０６】
粒径分布（ＰＳＤ）は、以下の条件、すなわち、
Ａ）  粒子における９０％の流体力学直径と粒子における１０％の流体力学直径との間における差が１５０ｎｍ以下、又は１００ｎｍ以下、又は５０ｎｍ以下であり、数学的に（Ｄ９０−Ｄ１０）≦１５０ｎｍ等々で表現できる条件、及び／又は
Ｂ）  a)粒子における９０％の流体力学直径と粒子における１０％の流体力学直径との間における差と、b)粒子における５０％の流体力学直径と、の間における比が２.０以下、又は１.５以下、又は１.０以下であり、数学的に（Ｄ９０−Ｄ１０）／Ｄ５０≦２.０等々で表現できる条件
のうち少なくとも一方が適用される場合、比較的狭いと言える。
【０１０７】
Ｄ１０、Ｄ５０及びＤ９０は、母集団における粒子数であって、ＤＮ１０、ＤＮ５０及びＤＮ９０として規定することができる粒子数によって評価することができ、又は粒子体積であって、ＤＶ１０、ＤＶ５０及びＤＶ９０として規定することができる粒子体積によって評価することができる。上述した測定結果は、検討すべきサンプルが適切にも流体であるとき、ＤＬＳ技術によって取得することができる。しかし、検討下にある粒子が粘性媒体内又は硬化した母材内にあるとき、代表的にはこのような測定結果は顕微鏡法によって実施される。本明細書で使用されるように、「平均測定粒径」とも称することができるＤ５０は、考慮されている粒子に最も適した測定方法及び粒子媒体に基づいて、ＤＶ５０又は粒子スケールで分析するのに適合した顕微鏡視野内で見られる粒子の体積平均サイズのいずれかに言及することができる。Ｄ５０の測定結果は、適用可能であるとき、一次粒径又は二次粒径に関連することができる。
【０１０８】
上述したように、このような比較的均一な分布は若干の用途には必須ではない。例えば、比較的不均一に分布したコーティング粒子母集団を有することは、比較的より小さい粒子が比較的より大きい粒子によって形成される隙間に存在することができる。
【０１０９】
粒子は、任意の適当なアスペクト比、すなわち、形状に関連するものとして、粒子の最小寸法と、この最小寸法に直交する最大平面における最大寸法又は相当直径との間の寸法比によって、特徴付けることができる。相当直径（Ｄｅｑ）は、例えば、最大直交平面における最長寸法と最短寸法との間の算術平均とすることができる。ほとんど球形の形状を有する粒子は、ほぼ１：１のアスペクト比によって特徴付けられ、一方ロッド状粒子はより高いアスペクト比を有し、またフレーク状粒子は少なくとも１：１００のアスペクト比すら有することができる。
【０１１０】
このような寸法は、概してこのような粒子のサプライヤによって提供され、また顕微鏡法のような従来既知の方法によって代表的粒子の個数に対して評価することができ、顕微鏡法としては、とくに、数ミクロン又は約２００ｎｍの推定寸法にまでも小さい粒子用の光学顕微鏡による、２００ｎｍ未満の寸法を有するより小さい粒子用の走査型電子顕微鏡ＳＥＭによる（ＳＥＭはとくに平面状寸法に好適である）、及び／又は合焦イオンビームＦＩＢ（とくに、ナノ粒子の厚さ及び長さ（長い）寸法に好適である）による方法がある。代表的粒子又は代表的粒子群（グループ）を選択して、母集団を正確に特徴付ける（例えば、粒子の直径、最長寸法、厚さ、アスペクト比、及び同様の特徴付け尺度によって）ことができるとともに、当然のことながら、より統計学的手法が望ましい場合があり得る。粒径特徴付け用に顕微鏡法を用いるとき、画像取得機器（例えば、光学顕微鏡、ＳＥＭ、ＦＩＢ-ＳＥＭ等）の視野が全体として分析される。典型的には、倍率は、少なくとも５個の粒子、少なくとも１０個の粒子、少なくとも２０個の粒子、又は少なくとも５０個の粒子が単一視野内に配置されるように、調整される。当然、視野は、顕微分析における当業者によって評価される代表的視野とすべきである。このような視野内におけるこのような粒子群を特徴付ける平均値は、体積平均化によって得られる。このような場合、ＤＶ５０＝Σ［（Ｄｅｑ（ｍ））３／ｍ］１／３であり、ここでｍは視野内における粒子数を表し、また総和はｍ個の粒子すべてに対して実施される。上述したように、このような方法が、検討すべき粒子のスケールに対する又は粒子媒体の観点での選択技術であるとき、このような測定結果はＤ５０と称することができる。
【０１１１】
粒子組成及び粒子が受ける加工（例えば、ミリング、リサイクリング、バニシ仕上げ等）に基づいて、コーティング粒子は、親水性がある場合には異なる程度の親水性とともに、疎水性であるものとすることができる。時間とともに粒子の疎水性と親水性との間のバランスはシフトするため、粒子の疎水性の性質が優位である場合、プロセスは効率的である状態を維持することが期待される。本発明において、このような粒子は疎水性又はほぼ疎水性であると言える。粒子は、画像化表面上又は中間アプリケータにスプレーされるときガス状流体又は液状流体のいずれかによって搬送することができることが予想される。コスト低減及び環境汚染最小化の双方のため、粒子が液体に懸濁するとき、液体は水性であることが望ましい。このようなケースにおいて、使用するポリマー（重合体）又は材料は疎水性の粒子を形成するのが望ましく、これにより粒子コーティングに対するガス流の吹き付けは、画像化表面に直接接触しない粒子を脱落及び／又は同伴させること、及び画像化表面上の粒子コーティングを少なくとも部分的に乾燥することの双方の作用をする。
【０１１２】
フォイル・ブロッキングに類似の効果を基板２０に適用することができ、この場合、基板に転写される印刷画像は金属に類似の反射性を有する。これは、金属又は金属に類似するもの（例えば、金属的外観を有するポリマー材料又はセラミック材料）であり、透明な熱塑性ポリマーでコーティングした粒子を使用することによって得られる。金属粒子を生産する方法（一般的にはミリング）に基づいて、粒子は平坦な板状体となる傾向があり、このことは必須ではないが、ミラーに近似する品質の高反射性コーティングを得ることができる。このような粒子は、それ自体バニシ仕上げ又は光沢仕上げされた状態であり、このことは、粒子が画像化表面１２上に存在する間にスプレー中に高圧を使用すること又はバニシ仕上げローラのいずれかによって実施し得る。図面には示さないが、バニシ仕上げローラはスプレーヘッドの下流に配置することができる。バニシ仕上げは、コーティング装置のスプレーヘッドを比較的低圧で動作させるとき、及び／又は中間アプリケータを設けるときに、とくに有利である。バニシ仕上げ機は、上述したのと同一のハウジング又は別個のハウジング内に配置することができる。粒子の単層のバニシ仕上げは、所望されるとき、コーティングが画像化ステーションに達する前に、すなわち、粒子が依然として画像化表面上に存在する間に実施するのが有利であるが、このことは、印刷システムが基板への転写に続く粒子のバニシ仕上げから恩恵を受ける場合があるので、必ずしも必要ではない。バニシ仕上げは、乾いたローラ又は濡れたローラ（粒子媒剤、例えば水で含浸及び／又は洗浄されている）で実施することができる。中間アプリケータを使用する場合、粒子を画像化表面に塗布することの他にさらに少なくとも部分的に粒子をバニシ仕上げする。
【０１１３】
随意的なバニシ仕上げローラの外面は、ドラム及び／又はもし存在する場合での中間アプリケータの画像化表面の線形速度とは異なる線形速度で回転することができる。バニシ仕上げローラは、ドラムと同一方向又は反対方向に回転することができる。
【０１１４】
粒子キャリヤ
コーティング粒子が懸濁する流体と言える粒子キャリヤは、液体又はガスのいずれかとすることができる。液体である場合キャリヤは水をベースとするのが好ましく、またガス状である場合キャリヤは空気とするのが好ましい。経済性を考慮する場合、ハウジングのプレナム内部から抽出（吸引）される余剰粒子は供給源及び／又はアプリケータ装置に再循環させることができる。
【０１１５】
画像化表面
幾つかの実施形態において、画像化表面１２は、代表的にはエラストマーで作製した疎水性表面とし、この表面は、概してシリコーンをベースとした材料から調合し、本明細書に記載の特性を有するよう調整することができる。シリコーンをベースとする母材及びこの母材からの層は、意図された粒子と結合するのに適した任意の厚さ及び／又は硬さを有することができる。適当な硬さは、コーティングステーション１４で粒子を画像化表面１２に塗布するときに粒子に対して強力な結合を生じ、この結合は、粒子相互が付着する傾向よりも強力であるような硬さとする。比較的薄い画像化表面（例えば、１００μｍ以下の厚さ）に関しては、シリコーンをベースとする材料は中位から低位にかけての硬度を有することができるとともに、比較的厚い画像化表面（例えば、約１ｍｍまでもの厚さ）に関しては、シリコーンをベースとする材料は比較的高位の硬度を有することができると考えられる。幾つかの実施形態において、約６０ショアＡ〜約８０ショアＡの間における比較的高位の硬度が画像化表面にとって好適である。他の実施形態において、６０、５０、４０、３０、２０ショアＡ未満又は１０ショアＡ未満でさえもの中・低硬度が満足のいくものである。特別な実施形態において、画像化表面は約３０〜４０ショアＡの硬度を有し、より低い硬度は球形粒子にとって好適であると考えられる。この硬度は少なくとも５ショアＡである。
【０１１６】
疎水性は、粒子を放射に対して被曝させることによって生じた粘着性フィルムを分裂することなくきれいに基板に転写できるようにする。表面は、基準液体が一般的には蒸留水である液体／空気／固体の界面におけるメニスカスによって形成される、ぬれ角又は接触角とも称される角度が９０゜を超えるとき疎水性であると言える。普通はゴニオメータ又は液滴形状アナライザを用いて測定され、またコーティングプロセスの動作条件に関連する所定温度及び圧力で評価できるこのような条件の下で、水はビードになる傾向があり、表面に対してぬれを生ずることがなく、したがって、付着することがない。
【０１１７】
有利には、本明細書に記載する印刷システムに使用するのに適した画像化表面は、ドラムに備え付けるのに十分な可撓性があり、ベルトとして備え付ける場合には適切な伸張性又は非伸張性があり、十分な耐摩耗性及び／又は弾性を有し、採用する粒子及び／又は流体に対して不活性であり、及び／又は関連するいかなる動作条件（照射、圧力、熱、張力等）にも耐性を有するものとすることができる。
【０１１８】
とくに、以下に剥離層と称する画像化表面の外側被覆を形成する組成は、レーザー発光素子の波長で放射エネルギーを吸収することができる。例えば、放射が約８００〜２,０００ｎｍ内おける近赤外（ＮＩＲ）レンジの任意な部分で発せられる場合、剥離層はＮＩＲスペクトルにおける少なくともこのような部分にわたり吸収するのが好ましい。このような場合、画像化表面の最外側層を温度上昇させることは、最外側層に配置された粒子の軟化を促進することができ、十分な加熱は粒子を印象の際に印刷基板に転写するのに適正な粘着性のあるものにする。上述したように、幾つかの実施形態において、所望の粘着性は、画像化装置のレーザー素子の波長に対して、レーザーに対する被曝の際に直接温度上昇及び軟化するよう調整したポリマー（重合体）及び／又は顔料を有する粒子を使用すること、及び適正な画像化表面を選択することによって、得ることができる。
【０１１９】
有利には、所望の粘着性が画像化表面の適切な選択によって促進、向上又は獲得されるとき、表面の外側被覆を形成する材料は、レーザー吸収の微小なものであってもそれぞれが最終的に異なるサブレンジを有する異なるタイプの粒子にも共存可能なレーザー波長の比較的広いレンジにわたって吸収することができる材料とする。広域吸収性を有し、またＮＩＲ帯域での強力な吸収体であるカーボンブラック（ＣＢ）を使用して、画像化表面の吸収層に所望の対応特性を付与することができる。カーボンブラックをシリコーンベースの層内に組み込むことは、さらに、画像化表面の熱伝導率に寄与し、また所望に応じて熱伝導率を変調することができる。ＣＢを含むシリコーンベースのエラストマー、及びこのエラストマーを調製する方法は、以下の章で詳述する。
【０１２０】
図面における画像化表面１２はドラム１０の外表面であり、この外表面はドラム上に直接一体成形することができる、又は別個に製造したスリーブとして備え付けることができる。しかし、これは必須ではなく、なぜなら、代案として、少なくともコーティングステーションを通過する間に案内ローラ上で案内され、また適切な張力の下に維持されるベルト形態の無端転写部材の表面とすることができるからである。付加的構造により、画像化表面１２及びコーティングステーション１４は互いに相対移動することができる。例えば、画像化表面は、静的コーティングステーションの下方を反復して通過することができる可動プラテンを形成する、又は画像化表面全体にわたり粒子をカバーできるようコーティングステーションがプラテンの一方の端縁から他方の端縁に反復的に移動する静的プラテンを形成することができる。ことによれば、画像化表面及びコーティングステーションの双方が間隙を介して互いに対してまた静的ポイントに対して移動することができ、コーティングステーションによって分配される粒子で画像化表面全体のコーティングを得る時間を短縮できるようにする。画像化表面のこのような形態のすべては、任意のこのような画像化表面が粒子でコーティングされる（又は露出した領域に粒子が補充される）コーティングステーションに対して可動（例えば、回転可能に、周期的に、無限的に、反復的に移動可能等）であると言える。
【０１２１】
ドラム上のスリーブ又は案内ローラ上のベルトのいずれかとして形成される転写部材は、画像化表面の他にさらに、剥離層とは反対側に本体を有することができる。転写部材の本体は、それぞれが転写部材全体に対して、機械耐性、熱伝導率、圧縮率（例えば、画像化表面と印象シリンダとの間における「顕微鏡的」接触を改善する）、適合可能性（例えば、印象シリンダ上における画像化表面と印刷基板との間の「顕微鏡的」接触を改善する）及び印刷転写部材における当業者には容易に理解される任意のこのような特性から選択した１つ又はそれ以上の所望特性を付与する異なる層を有することができる。
【０１２２】
画像化表面は、照射された粘着性のある熱塑性粒子が転写できるようにする剥離性、及び照射を選択的に受けた粒子を粘着性のあるものにするプロセスを促進できる放射関連機能（例えば、放射吸収特性）以外により多くのものを持つことができる。画像化表面は、例えば、十分な適合可能性（conformability）を付与し、「適合可能層（conformable layer）」機能又は「適合構造層（conformational layer）」機能を「剥離層」機能及び「放射吸収層」機能に一体化する材料で作製することができる。逆に、後者の２つの機能は２つの明確に異なる層、すなわち、剥離層（粒子に接触する）及びその下側の放射吸収層によって得ることができる。このようにして、画像化表面は、少なくとも剥離及び放射由来の双方の機能を包含し、随意的に印象（インプレッション）中に適合構造能力が追補される単一／固有層とすることができる。代案として、画像化層は、剥離層、放射吸収層及び適合可能層よりなるグループから選択される少なくとも２つの明確に異なる層で形成することができる。画像化表面が上述した３つのタイプの層（それらの優勢機能によって名付けられる）からなる画像化表面の場合、剥離層が粒子に接触することができ、放射吸収層が次にきて（画像化表面外側における粒子との距離を縮める）、また適合構造層が最後となるように順序付けするのが好ましくあり、適合構造層は、一般的には支持体に取り付け可能とする、又は取り付ける。上述した支持体は、剛性（例えば、ドラムの表面又は任意な同様の機械的部分）又は可撓性（例えば、ベルトの本体）とすることができる。
【０１２３】
さらに、転写部材は、転写部材に印加されるエネルギー源における波長に対してほぼ透過性（透明性）又は非透過性（不透明性）を示すことができる。比較的広いレンジの発光を有するレーザービームが好適であるとき、転写部材は、有利には、類似のレンジにわたり「透明」又は「不透明」である。例えば、８００ｎｍ〜２,０００ｎｍ又はその一部分のレンジで発光しているレーザーであって、この放射源が転写部材の画像化表面側とは反対側の「裏面側」に位置決めされているレーザーを仮定すると、「透明」部材はこのようなビームを裏側から部材厚さをわたって、又は少なくともこのようなビームが少なくとも同一レンジ部分にわたり転写部材の放射吸収層に達するまで十分な伝播を可能にする。逆に、「不透明」部材は、このようなビーム伝播を、放射吸収層がもはや粒子を転写に十分な粘着性を呈するポイントまで軟化できない程度までブロック又は減少する。裏面側から照射されるときに不透明である転写部材は、前面側とも称することができる画像化表面側から照射を受けるとき透明性を示すことができる。転写部材の層間での異なる屈折率は、このような部材の転写特性を決定することもできる。裏面側からの照射の文脈でそれぞれ透明性又は透明性に欠けていることが考慮される透明及び不透明な転写部材の特性を以下に詳細に説明する。
【０１２４】
不透明転写部材
不透明転写部材６００を図６にその層にわたる例示的断面によって概略的に示す。便宜上、分かり易くするため縮尺通りには描いていない照射源６４０及び単一粒子６５０は、転写部材６００が本発明の幾つかの実施形態による印刷システムにどのように使用できるかを図解するよう示されている。図において、最上側層６０２は、粒子が剥離のために選択的に軟化されるまで粒子を一時的に保持できる剥離層を示し、層６０４は、粒子を軟化できる放射の収集を可能にする層（例えば、放射吸収層）を示し、層６０６は、印象ステーションでの転写中に剥離層及び粒子と印刷基板の表面のトポグラフィとの間における接触を促進することができる適合構造層であり、層６０８は、転写部材と印刷基板との間における接触を促進できる圧縮可能層を示し、層６１０は、上述した層がともに所望の不透明転写部材６００を形成できるようにする支持層を示す。
【０１２５】
上述したように図６では個別の層として示したが、画像化表面１２は、層６０２、６０４の機能、又は層６０２、６０４及び６０６の機能を統合する単一の画像化層６２０で形成することができ、残りの層が不透明転写部材６００の本体６３０を形成する。概して、画像化層６２０又は個別である場合のその構成層における硬度は比較的低い。幾つかの実施形態において、層６０２、６０４、６０６及び６２０の各々は、５０ショアＡ以下、４０ショアＡ以下、３０ショアＡ以下、２０ショアＡ以下、及び少なくとも５ショアＡの硬度を有することができる。
【０１２６】
剥離層６０２は、幾つかの実施形態において、３μｍ以下、２μｍ以下、又は０.５μｍ〜１.５μｍの間における厚さを有することができる。
【０１２７】
剥離層６０２は、原初（粘着性のない）粒子を十分付着させ、また照射で軟化した粒子を選択的に転写するに十分な剥離性を付与できる任意な材料で作製することができる。高剥離性エラストマーは広範囲な好適候補を提供し、これら候補としては、以下に限定しないが、液体シリコーン樹脂（ＬＳＲ）、室温加硫（ＲＴＶ）シリコーン、例えば、官能基化されたシリコーンを生ずるため、必要であれば、所望反応基（例えば、シリコーン分野で既知のような、アミン基、ビニル基、シラン若しくはシラノール基、アルコキシ基、アミド基、アクリレート基等々、及びそれらの組合せ）によってさらに官能基化することができるポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を含むポリジアルキルシロキサン（ＰＤＡＳ）がある。本明細書に使用される用語「シリコーン」は、他に明示しない限り、このような官能基化されたシリコーンを包含するよう幅広い意味で使用される。用語「シリコーン」によって概括されるが、このような官能基化されたシリコーンは、「シリコーンベースの（silicone-based）」ポリマー（重合体）と称することもできる。幾つかの官能基は架橋可能部分とすることができるとともに、他の官能基は異なる所望の特性をエラストマーに付与することができる。さらに、エラストマーの官能基は、非反応性であり、またフッ素のような元素をベースとすることができる。これらエラストマーは、添加硬化可能シリコーン及び濃縮硬化可能シリコーンに分類することができ、幾つかの化学族は双方の硬化方法を可能にする。有利には、幾つかの実施形態において、剥離層は付加的に寄生転写を減少又は阻止することができる。不透明な転写部材６００の剥離層６０２は、剥離層から形成される転写部材が受ける放射レンジにわたる放射吸収層６０４におけるＣＢ粒子の活性に干渉し得る充填材がない又はほとんどないことが好ましい。類似の「受動的」挙動は、同様に透明な転写部材７００の剥離層７０２にとっても望ましい。剥離層は、幾つかの実施形態において、付加的に非散乱特性からも恩恵を受けることができる。
【０１２８】
添加硬化可能シリコーン（ＡＣＳ）の非限定的例としては、更なる官能基化がされているか、又はされていないかに係わらず、ＬＳＲ、並びに添加硬化可能ＲＴＶ、ＰＤＡＳ及びＰＤＭＳシリコーンがある。ＡＣＳエラストマーは、架橋剤、及びポリマー（重合体）の架橋を促進する任意のこのような媒剤（例えば、白金触媒）の存在の下に架橋されて母材を形成し、すべてのこのような媒剤は、本明細書中「添加硬化」剤と称される。一実施形態において、ＡＣＳは、その材料にとって好適な任意の硬化条件で少なくとも１つの添加硬化剤の存在の下に硬化し得るビニル-官能基化シリコーンである。
【０１２９】
濃縮硬化可能シリコーン（ＣＣＳ）の非限定的例としては、更なる官能基化がされているか、又はされていないかに係わらず、濃縮硬化可能なＲＴＶ、ＰＤＡＳ及びＰＤＭＳシリコーンがある。ＣＣＳエラストマーは、添加架橋剤が存在しない状況下で架橋されて母材を形成することができ、このような効果は、シリコーンの主鎖における適当な部分又は官能基によってもたらされる。幾つかの実施形態において、濃縮硬化は、さらに、触媒（例えば、錫（スズ）触媒）及びポリマーの適当な部分の濃縮を促進する任意のこのような媒剤を必要とする場合があり、すべてのこのような媒剤は、本明細書中「濃縮硬化」剤と称される。一実施形態において、ＣＣＳはシラノール-官能基化シリコーンであり、特別な実施形態ではシラノール末端シリコーンである。シラノール-官能基化ＣＣＳは、その材料にとって好適な任意の硬化条件で少なくとも１つの濃縮硬化剤の存在の下に硬化することができる。一実施形態において、ＣＣＳは反応性アミノシリコーンである。それぞれＡＣＳ及びＣＣＳエラストマーの硬化に適する添加硬化剤及び濃縮硬化剤は既知であり、したがって、本明細書でこれ以上説明する必要はない。同様に、このような材料の硬化条件は当業者には既知であり、また必要であれば、任意の特定用途に対して日常実験によって容易に最適化することができる。
【０１３０】
触媒の存在は、既知の分析的な方法、例えば、誘導結合プラズマ質量分光分析法（ＩＣＰ）によって錫（ＣＣＳ用）又は白金（ＡＣＳ用）の痕跡分析をすることで検出することができる。
【０１３１】
放射吸収層６０４は、幾つかの実施形態において、２５μｍ以下、又は２μｍ〜２０μｍの間、又は２μｍ〜１０μｍの間における厚さを有することができる。
【０１３２】
放射吸収層６０４は、画像化装置のレーザー素子が発生する放射を吸収することができ、十分な熱を発生する及び／又は熱を画像化表面とその表面上の粒子に満足のいく伝達をするに十分な持続時間にわたり発熱できる任意な粉末又はエラストマー材料で作製することができる。好適には、このような層及びより全体的には転写部材を形成する材料は、画像化装置によるエネルギー印加で発生した熱が時点及び／又は地点特異的である熱塑性粒子を加熱するのに十分迅速に放散させることができる（例えば、所望ピクセルの形成を可能にする）。黒色シリコーンゴムのような関連レンジで高吸収能力（例えば、＞０.１Ａｂｓ／μｍ）を有するエラストマーは、製造の観点から有利であると考えられる。剥離層で説明したのと同一のシリコーン樹脂（例えば、官能基化されている又はされていないに係わらず、ＡＣＳ又はＣＣＳシリコーン）を使用することができ、これらシリコーンには、カーボンブラック及び類似の化合物のようなＩＲ吸収材料を補充することができる。一実施形態において、放射吸収層は、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、シリコンカーバイド、酸化鉄、色素レーザー等々を装荷したＰＤＭＳで作製することができる。
【０１３３】
適合構造層６０６は、幾つかの実施形態において、１００μｍ〜１５０μｍの間、又は１２０μｍ〜１５０μｍの間、又は１３０μｍ〜１４０μｍの間における厚さを有することができる。
【０１３４】
適合構造層６０６は、任意の適当なエラストマーで作製することができ、これらエラストマーとしては、例えば、上述した官能基化されている又はされていないに係わらず、ＬＳＲ、ＲＴＶ、ＰＤＡＳ及びＰＤＭＳシリコーンがある。
【０１３５】
画像化表面１２が個別の剥離層６０２、放射吸収層６０４及び適合構造層６０６で形成されている実施形態においては、各層は、エラストマー及び隣接層のエラストマー組成と共存可能な組成物で作製される。層の組成は、第１層を構成する材料が隣接する第２層の形成又は機能を阻害又は他の影響を与えないものであるとき、共存可能であると見なされる。例えば、添加硬化又は濃縮硬化のいずれかで調製した層は、同一硬化方法で調製した層と共存可能である可能性が高い。転写部材が添加硬化で調製した層と濃縮硬化で調製した隣接層とを含む場合、このような層は、相互に悪影響し合うことを防止する遮蔽層によって分離する。
【０１３６】
層組成は、さらに、第１層を構成する材料が第２層を構成する材料に対して良い相互作用できる場合、例えば、２つの隣接する層の組成が界面における何らかの架橋を促進して相互の付着を容易にする場合、より一層共存可能であり得る。しかし、後者の共存可能性は必須ではなく、これはすなわち、明確に異なる層は適当な接着剤又は促進組成物によって互いに付着し合うことができるからである。透明な転写部材に関しては、隣接層を結合することができる接着組成物は透明であることが好ましい。幾つかの実施形態において、画像化表面を形成する明確に異なる個別層は、同一族の異なる化合物を使用する場合であっても、同一化学族のシリコーンで作製する。例えば、多数の層は、架橋可能なＰＤＡＳ又はＰＤＭＳシリコーンを有することができるが、架橋可能な官能基化、架橋可能な官能基の数又は分子単位、分子量、硬度及びこのようなポリマーを全体的に特徴付ける任意のこのようなパラメータには変動がありうる。
【０１３７】
画像化表面１２が層６０２及び６０４を組み合わせる単一／固有の画像化層６２０の形態である実施形態において、このような画像化層６２０は、一実施形態において、５μｍ〜２５μｍの間、又は５μｍ〜２０μｍの間、又は５μｍ〜１０μｍの間における厚さを有することができる。画像化表面１２が層６０２、６０４及び６０６を組み合わせる単一／固有の画像化層６２０の形態である実施形態において、このような画像化層６２０は、幾つかの実施形態において、１００μｍ〜１５０μｍの間、又は１２０μｍ〜１５０μｍの間、又は１３０μｍ〜１５０μｍの間における厚さを有することができる。このような層は、本発明の幾つかの実施形態で上述した「構成」層に適した材料を同様な量又は割合で組み入れる。
【０１３８】
不透明な転写部材に戻って説明すると、圧縮可能層６０８は、幾つかの実施形態において、３００μｍ〜４００μｍの間、又は３００μｍ〜３５０μｍの間、又は３００μｍ〜３２０μｍの間における厚さを有することができる。このような層が不透明転写部材６００に与えることができる圧縮率は、典型的には、少なくとも５０μｍ、少なくとも１００μｍ、少なくとも１５０μｍ、又は少なくとも２００μｍである。幾つかの実施形態において、この圧縮率は、転写部材の全体厚さの２５０μｍを超える必要はない。
【０１３９】
圧縮可能層６０８は、スポンジ又は発泡体状の構造を付与するような任意の適当な圧縮可能エラストマーで作製することができる。
【０１４０】
圧縮可能層は、転写部材の所望圧縮可能能力の少なくとも一部分を付与し、粘着性がある粒子の基板への転写を改善する。上述したように、圧縮可能層は、画像化層と基板との間における接触を改善することができ、この改善は、画像化表面を基板の固有の局所的変動に適合させることによって得られる。幾つかの実施形態において、圧縮可能層の圧縮率は、Ｐ＝０.２ＭＰａ（２バール）の荷重の下で少なくとも１０％である。
【０１４１】
圧縮可能層は、転写部材の操作性に適した機械的な又は随意的に熱的な特性を有する任意の適当な圧縮可能材料又は圧縮可能材料の組合せで作製する。幾つかの実施形態において、圧縮可能層は、室温加硫ＲＴＶ及びＲＴＶ２、液体シリコーンＬＳＲ、ビニルメチルシリコーン（ＶＭＱ）、フェニルシリコーンゴム（ＰＭＱ、ＰＶＭＱ）、フルオロシリコーンゴム（ＦＭＱ、ＦＭＶＱ）、アルキルアクリレート共重合体（ＡＣＭ）、エチレンプロピレンジエン単量体（ＥＰＤＭ）ゴム、ニトリルゴム、空洞を有する水素化ニトリル・ブタジエン・ゴム、Ｓ硬化及び／又は過酸化物硬化したゴム、オープンセルゴム、飽和オープンセルゴム、クローズドセルゴム、及びこれらの組合せよりなるグループから選択される材料を含む（又はそれら材料からなるものでさえある）。幾つかの実施形態において、ゴムは４０〜６０％（体積）の小空洞を有するニトリルゴムである。幾つかの実施形態において、ニトリルゴムは空洞を有する水素化ニトリル・ブタジエン・ゴム（ＨＮＢＲ）である。
【０１４２】
幾つかの実施形態において、上述した層６０２、６０４、６０６、６２０及び６０８は、剛性支持体（例えば、ドラム）に備え付ける又は一体成形することができるが、代案的実施形態においてこのような支持体は可撓性とすることができる。図６に示すこのような事例においては、支持層６１０は、幾つかの実施形態において、２５０μｍ〜３５０μｍの間、又は２５０μｍ〜３００μｍの間、又は２５０μｍ〜２７０μｍの間における厚さを有することができる。
【０１４３】
代案的実施形態において、不透明な転写部材は圧縮可能層がないものとすることができる。このような事例において、印象ニップで望ましい圧縮率は転写部材の外部素子によって与えられる。例えば、圧縮可能層がない転写部材は、外側圧縮可能表面のような層を有する圧胴（印象シリンダ）又は任意な他の圧力ローラに関連して使用することができる。
【０１４４】
画像化表面の実施例
上述の原理によって調製した画像化表面は、添加硬化によって架橋されるシリコーン重合体を有するエラストマーで作製した疎水性表面とした。剥離及び適合構造特性に加えて放射吸収能力を組み合わせるとき、この外側表面を形成するエラストマー組成には、放射（例えば、レーザービームからの放射）を吸収し、これにより発生した熱を、画像化表面に表面上に位置決めされた熱塑性粒子を軟化して、選択的に印刷基板に転写させるのに十分な粘着性があるものにする程度まで十分な効率で伝達することができる吸収材料又は吸収充填材を含有させた。このような放射吸収層を含む画像化表面のための例示的流体組成は、以下に詳述するような共存可能なシリコーンベースのポリマー（重合体）にカーボンブラック（ＣＢ）を分散させることによって調合した。
【０１４５】
エラストマー調合における当業者には理解できるように、任意の特定組成又は調合のための１組の「共存可能」材料のセットは、任意のこのような共存可能化合物の存在が調製における任意なステップのための又は最終組成における任意な他の化合物の有効性に悪影響を与えないことを意味する。共存可能性は化学的、物理的又はその双方であり得る。例えば、カーボンブラックを硬化可能シリコーン流体内に分散させるのに適した界面活性剤は、カーボンブラック材料及び硬化すべきシリコーンポリマー（並びにこのような硬化を完全にするのに必要とされ、総称的に「シリコーン媒体」と称される任意な他の媒剤）の双方に対して共存可能である。以下の説明において幾つかの分散方法を開示するが、これら分散方法に限定することを意味しない。適当な機器としては、幾つか例を挙げると、超音波分散装置、サンドミル、磨砕媒体粉砕ミル、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、ディスペンサー、水平攪拌ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３ロールミル、及びプレス混錬装置があり得る。
【０１４６】
カーボンブラック
様々なＣＢ材料は、幾つかある機能のうちとりわけ、本発明教示による画像化表面のための吸収材料として適していると考えられる。炭素原子の表面における酸素原子の含有量を５〜２０原子百分率の範囲内に選択若しくは調整することによって、又はカーボンブラックにおける揮発性成分の含有量が粉末重量の約１０％〜２５％になるよう選択若しくは調整することによって、ＣＢの分散性及び／又は分散の安定性を目覚ましく改善することができる。安定的に分散したＣＢは、表面全体にわたりほぼ均一な吸収能力が得られるよう画像化表面又は吸収層の調製を容易にし、このことは、吸収が実際には最外側表面の下側で生じ、また公称吸収が転写部材の深さ／厚さに沿って変化する場合であっても言える。転写部材の均等な挙動（例えば、放射吸収する、熱エネルギーを吸収する、熱伝達する等）は、高品質印刷を得る上で望ましい。
【０１４７】
表面酸素に対する用語「原子百分率（原子％）」は、炭素原子（Ｃ）の数に対する酸素原子（Ｏ）の数の比に関連し、（Ｏ／Ｃ）×１００％がカーボンブラック粒子表面（粒子の内部部分におけるあらゆる検出可能な深さも含む）に存在する。概して、このような値はＣＢ製造業者によって提供されるが、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、フーリエ変換赤外線分光法（ＦＴＩＲ）、有機元素分析、又は化学分析用電子分光法（ＥＳＣＡ）のような既知の方法によって独立的に決定することができる。
【０１４８】
ＣＢ材料は表面上に酸素の原子百分率を増加させるよう酸化処理することができる。適当な酸化剤の例としては、気体又は液体に係わらず、オゾン、過酸化水素、硝酸、及び次亜塩素酸がある。カーボンブラックは、例えば、外気温度のオゾン又はオゾン含有ガスで酸化することができる。さらに、湿式酸化法もあり、この方法ではカーボンブラックを次亜塩素酸塩に曝し、この次亜塩素酸塩としては、例えば、次亜塩素酸ナトリウム及び次亜塩素酸カリウムがある。
【０１４９】
例えば、典型的な調製には、カーボンブラック粉末を、好適には水媒体内で、次亜ハロゲン酸又はその塩と混合し、この混合物を１〜２４時間にわたり室温から約９０℃にいたるまでの上昇温度で攪拌することが含まれ、上昇温度は５０℃又はそれ以上が有利である。次に粉末をスラリーから分離し、未反応酸化剤を除去するよう洗浄し、また乾燥させる。酸化の度合いは酸化剤の濃度、カーボンブラック対酸化剤の比、酸化温度、酸化時間、攪拌速度等々を調整して制御することができる。ＣＢ表面上の酸素量は、分散安定性の観点から、好適には、５原子％以上、７.５原子％以上、又は１０原子％以上である。
【０１５０】
５原子％未満の酸素量を有する、したがって、適切となるよう酸化処理することで利され得るカーボンブラックの例は、接触法、炉式法、又は熱的方法のような既知の方法によって製造されるカーボンブラックがある。
【０１５１】
このような低表面酸素量ＣＢの特別な例としては、Raven 5750、Raven 5250、Raven 2000、Raven 1500、Raven 1250、Raven 1200、Raven 1190 ULTRAII、Raven 1170、Raven 1255、Raven 1080、Raven 1060、及びRaven 700（すべてコロンビアン・ケミカルズ社により製造されたもの）、Regal 400R、Regal 300R、Regal 660R、Mogul L、Black Pearls L、Monarch 700、Monarch 800、Monarch 880、Monarch 900、Monarch 1000、Monarch 1100、Monarch 1300、及びMonarch 1400（すべてカボット社により製造されたもの）、Color Black FW1（pH3.5、ＢＥＴ表面積320m２/g）、Color Black 18、Color Black S150、Color Black S160、Color Black S170、Printex 35、Printex U、Printex V、Printex 140U、Printex 140V、NiPex（登録商標）1８0-IQ、NiPex（登録商標）170-IQ（すべてエヴォニック・デグッサ社により製造されたもの）、No. 25、No. 33、No. 40、No. 45、No. 47、No. 52、No. 900、No. 2200B、No. 2300、No. 990、No. 980、No. 970、No. 960、No. 950、No. 850、MCF-88、MA 600、MA 7、MA 8、及びMA 100（すべて三菱ケミカル株式会社により製造されたもの）がある。
【０１５２】
５原子％以上の表面酸素量を有するカーボンブラックは、上述した酸化処理で調製することに加えて、市販の製品とすることができる。このような特別な例としては、Color Black FW2（揮発性物質含有量１６.５重量％(Wt.%)、ＯＡＮ 155cc/100g、pH2.5、ＢＥＴ 350m２/g、ＰＰＳ 13nm）、Colour Black FW182（表面酸素量１２原子％、揮発性物質含有量２０重量％、ＯＡＮ 142cc/100g、pH2.5、ＢＥＴ 550m２/g、ＰＰＳ 15nm）、Colour Black FW200（表面酸素量１２原子％、揮発性物質含有量２０重量％、ＯＡＮ 160cc/100g、pH2.5、ＢＥＴ 550m２/g、ＰＰＳ 13nm）、NiPex（登録商標）150（揮発性物質含有量１０重量％、ＯＡＮ 120cc/100g、pH4.0、ＢＥＴ 175m２/g、ＰＰＳ 25nm）、Special Black 4又は4A（揮発性物質含有量１４重量％、ＯＡＮ100〜115cc/100g、pH3.0、ＢＥＴ 180m２/g、ＰＰＳ 25nm）、Special Black 5（揮発性物質含有量１５重量％、ＯＡＮ 130cc/100g、pH2.5、ＢＥＴ 240m２/g、ＰＰＳ 20nm）、Special Black 6（表面酸素量１１原子％、揮発性物質含有量１８重量％、ＯＡＮ 170cc/100g、pH2.5、ＢＥＴ 300m２/g、ＰＰＳ 17nm）、（上述したのものはすべてオリオン・エンジニアード・カーボン社から入手可能である）、Raven 5000 ULTRAII又はULTRAIII（揮発性物質含有量10.5重量％、ＯＡＮ 95cc/100g、pH3.0〜3.5、ＢＥＴ 583m２/g、ＰＰＳ 8nm、コロンビアン・ケミカルズ社により製造されたもの）、及びFuji Jet Black（表面酸素量１2原子％、三菱ケミカル株式会社により製造されたもの）がある。これら例示的カーボンブラックの異なる特性に関する情報は、それぞれの製造業者によって提供された。
【０１５３】
ＣＢ材料の酸化レベルは、ラマン分光法（例えば、堀場サイエンティフィック株式会社のLabRAM HR Evolutionを使用する）によって推定することができる。この技術は、所定励起レーザー波長（例えば、４８８ｎｍ〜６４７ｎｍのレンジにおける）、レーザー出力（例えば、４０ｍＷ）及び積分時間（例えば、１０ｓ〜１２０ｓ）に対する検討下にある化合物のＤバンド及びＧバンドのピークを決定することができる。温度はブラックノイズを減少するよう制御することができる（例えば、検出器を冷却することによって）。ラマンピーク強度を取得することができ、統合ソフトウェアはさらに基準線（ベースライン）補正を可能にする。この後、Ｄバンド及びＧバンドそれぞれのラマンピーク強度ＩＤ及びＩＧの強度比を計算することができる。スペクトル挙動及び結果として生ずるバンド比（ＩＤ／ＩＧ）は、経験的に元素状である炭素（カーボン）材料の酸化レベルと相関付けることができる。Ｄバンド対Ｇバンドの比較的低い比は、そのＣＢが比較的高いＤバンド対Ｇバンド比を有するＣＢよりも酸化が少なく、ＣＢのすべての他の構造特性も同様であることを示す。例えば、０.８以上、１.０以上、１.２以上のＩＤ／ＩＧ比は、ＣＢ材料が、本発明の幾つかの実施形態において望まれるように、比較的酸化されていることを示す。このようなラマンスペクトルは、関心対象バンドで幾つかのエラストマー母材（とくに、ＰＤＭＳ）によって影響を受けずにいることができ、これによりこの方法は、有利にも、硬化済み組成内におけるＣＢ特徴を評価する非破壊的技術を提供する。
【０１５４】
画像化表面におけるＣＢ粒子の含有量は、有利には、所望の放射吸収、熱伝達、粒子の選択的粘着性を得るのに十分であるものにすることができ、この効果は、このような転写部材を使用する印刷システムの様々な動作条件に依存することができる。典型的には、カーボンブラックは、画像化表面を形成する層又は放射吸収層において、硬化層重量に対して、０.５重量％(Wt.%)〜２０重量％、又は１重量％〜１５重量％、又は２重量％〜１０重量％、又は１重量％〜７.５重量％、又は５重量％〜２０重量％、又は１０重量％〜２０重量％、又は１５重量％〜２０重量％の間の濃度で存在する。印刷システム用の転写部材の調製以外に使用するため、エラストマー母材におけるＣＢの所望量は、所望効果に従って変化し得る。例えば、０.０１重量％〜３重量％ほどの低濃度、又は０.０５重量％〜１.５重量％の範囲でさえもの低濃度は母材に対する電気伝導をもたらすのに十分であり、ただし、バルクＣＢ材料がこのような電気伝導を行うのに適していることを前提とする。
【０１５５】
ＣＢの水分散液のｐＨは、２５℃で決定するとして、好適には、酸性から中性の範囲程度、例えば、ｐＨ２.０〜ｐＨ８.５、ｐＨ２.５〜ｐＨ７.５とすることができ、有利には、ｐＨ２.０〜ｐＨ５.５、又はｐＨ２.０〜ｐＨ４.５、又はｐＨ２.５〜ｐＨ４.０、又はｐＨ２.０〜ｐＨ３.５の比較的酸性の範囲とすることができる。所定濃度のＣＢ分散液のｐＨは、任意の適当な較正済みｐＨ計器により、例えば、ＩＳＯ787-9に従って測定することができる。手短に言えば、４重量％のＣＢ分散液（１：１で希釈した水：メタノール）は、予較正済みｐＨ電極を被検分散液に浸漬させたまま、磁気攪拌器により５分間、約６００〜１,０００ｒｐｍで攪拌することができる。ｐＨ値の読取りは、攪拌器のスイッチをオフにした後１分経ってから行う。
【０１５６】
ＣＢ材料のジブチルフタレート（ＤＢＰ）吸収値は、とくに限定しないが、典型的には、約５０ｍＬ／１００ｇ〜約２００ｍＬ／１００ｇ、又は約１００ｍＬ／１００ｇ〜約２００ｍＬ／１００ｇ、又は約１５０ｍＬ／１００ｇ〜約２００ｍＬ／１００ｇである。概して、このようなＤＢＰ値、又は同様のオイル吸収係数（ＯＡＮ）はＣＢ製造業者によって提供されるが、ＪＩＳ K6621 A方法又はＡＳＴＭ D 2414-65Tに従うような既知の方法によって独立的に決定することができる。
【０１５７】
カーボンブラック粒子は、さらに、比表面積測定によって特徴付けすることができ、最も関連する方法としては、臭化セチルトリメチルアンモニウム吸着（ＣＴＡＢ）、ヨウ素吸着及び窒素吸着がある。ＣＴＡＢ方法は、ＡＳＴＭ D3765に記述されている。ヨウ素吸着法は、ＡＳＴＭ D1510に記述されており、この結果、ヨウ素価が割り当てられる。
【０１５８】
ＣＢ材料の比表面積は、とくに限定されないが、ＢＥＴ窒素吸収技術によって決定されるとき、好適には、５０ｍ２／ｇ〜６５０ｍ２／ｇ又は１００ｍ２／ｇ〜５５０ｍ２／ｇである。概して、このようなＢＥＴ値はＣＢ製造業者によって提供されるが、ＡＳＴＭ D 3037に従うような既知の方法によって独立的に決定することができる。
【０１５９】
本明細書で上述したほぼ一様な分散／均一吸収能力は、１マイクロメートル未満の平均粒径を有する形成層にＣＢを用いることによって促進することができる。このような寸法は、一次粒径（ＰＰＳ）に関してだけでなく、このような一次粒径の集塊化（agglomeration）の結果として生じ得る二次粒径（ＳＰＳ）にとっても好適である。発生ビームの波長の半分未満の平均粒径を有する一次及び二次双方の粒子は、これに応じて散乱が減少するとき、一層好適である。したがって、５００ナノメートル（ｎｍ）未満、４００ｎｍ未満、３００ｎｍ未満、又は２００ｎｍ未満の平均粒径を有するＣＢ粒子が好ましい。平均サイズ、代表的に一次粒径（ＰＰＳ）が１００ｎｍ以下であるＣＢ粒子は、ナノレンジにあると見なされ、平均サイズが８０ｎｍ以下、６０ｎｍ以下、４０ｎｍ以下、３０ｎｍ以下である一次粒子は、とくに、密集粒子詰め状態と称される。概して、ＣＢ粒子は、５ｎｍ以上、又は１０ｎｍ以上、又は１５ｎｍ以上の平均ＰＰＳを有する。一次粒子が優勢である粒子のサイズは、エラストマー内に密に詰まる能力に影響を及ぼすことができ、比較的小さい粒子は、比較的大きい対応部分よりも高い密集密度を可能にする。有利にも、少量の比較的小さい粒子は、より多い量の比較的大きい粒子と同様のＣＢ密度を得ることができる。それらのサイズ、及び加えてとりわけエラストマーの粘性、硬化の条件及び持続時間、硬化している層の厚さ、並びに当業者に既知のこのような製造要因に基づいて、粒子は、層厚にわたり分離し、また勾配付き分布を形成することができる。より大きいＣＢ二次粒子は層の底部に向ってより迅速に移動及び集積するとともに、比較的小さい粒子は、より緩慢なペースで層の上側区域に比較的高い濃度で留まろうとする傾向に従うことができる。この文脈において、層の「底部」及び「頂部」区域は、硬化中の向きに関連し、必ずしも印刷システムにおける設置時及び動作中での向きではない。画像化表面の深さに沿う粒子分布の内部階層を形成する粒子のこのような分離は、十分な厚さの上側区域がほとんどＣＢ粒子のない状態になる場合に、有利となり得る。この「頂部階層」は剥離層として作用することができ、粒子がないことは平滑性を向上させる。幾つかの事例において、画像化層の剥離表面における比較的高い平滑性は望ましいものであり得る。平滑表面は、一般的には１マイクロメートル未満の算術平均偏差Ｒａを示す。幾つかの実施形態において、画像化表面の表面粗さＲａは、０.５μｍ未満、又は０.２μｍ未満、又は０.１μｍ未満である。
【０１６０】
製造業者は、概して、例えばＡＳＴＭ D 3849に従って評価されるようなＣＢ材料の平均一次粒径を提供する。ＤＬＳか又は顕微鏡的技術で評価される粒径分布は材料の一次粒径（ＰＰＳ）に関する、及び二次粒径（ＳＰＳ）、すなわち、例えば集塊体（agglomerates）を形成する一次粒子による集合体のサイズに関する情報を提供することができる。
【０１６１】
ＣＢ粒子は、任意の適当なアスペクト比、すなわち、粒子の最小寸法と、この最小寸法に直交する最大平面における最大寸法との間における寸法比を有することができる。幾つかの実施形態において、カーボンブラック一次粒子は、ほぼ球形であり、また０.２：１〜１：５、又は０.５：１〜１：２の範囲におけるアスペクト比を有することができる。一次粒子から集塊化し得るＣＢの二次粒子は、必ずしも球形ではないが、それらのアスペクト比は、依然として０.１：１〜１：１０、又は０.２：１〜１：５、又は０.５：１〜１：２の範囲内にあり得る。
【０１６２】
必須ではないが、カーボンブラック一次粒子は、好適には、均一な形状である及び／又は母集団における中央値に対して対称的な分布内にあり得る。幾つかの実施形態において、カーボンブラック二次粒子は比較的狭い粒径分布内にあり、このような狭いＰＳＤは有利にも硬化済みシリコーンエラストマー内に維持される。
【０１６３】
第1例示的手順
粉砕ステップ
良好な熱安定性及びジメチルシリコーン流体に対する共存可能性を有するシリコーン界面活性剤を、回転３ロールミル式製粉機（チャンゾウ・ロンギン・マシナリー社製造の型番JRS230）内に注入し、また約１時間にいたるまで室温（およそ２３℃）で動作させた。速度は、ミリング（粉ひき）プロセスが進行するにつれペーストの粘性に適合させ、速度はＣＢ添加とともに１００〜８００ｒｐｍの範囲に減速した。１つのこのような界面活性剤は、アミン価８及び２５℃で約３７００ｃＳｔの粘性を有する機能性ペンダントアミン／ジメチルシリコーン重合体（ジェネシー・ポリマーズ社のＧＰ-３４２）であり、この界面活性剤は総組成重量に対する３７.５重量％となるように３７５グラム（ｇ）の量で添加した。カーボンブラックナノパウダー（Colour Black FW 182、オリオン・エンジニアード・カーボンズ社製、CAS No. 1333-86-4、揮発性物質２０重量％、ｐＨ２.５、５５０ｍ２／ｇＢＥＴ表面、ＰＰＳ１５ｎｍ）を、少なくとも２時間にわたり１２０℃で乾燥させた。２５０ｇの乾燥済みＣＢパウダーをシリコーン流体にゆっくりと添加し、このようなＣＢ量が最終組成の２５重量％を構成するようにした。ＣＢ材料は約１５ｎｍの一次粒径に起因してナノ範囲内であると定義されるとともに、初期的に界面活性剤と混合されるパウダーは、主に、顕微鏡技術で推定されるような約５μｍ、又は１０μｍより大きいことさえあるサイズを有するＣＢのより大きい集塊体（agglomerates）、凝集体（aggregates）又は団塊物（chunks）を構成することに留意されたい。ＣＢ-界面活性剤の混合物は、ＣＢパウダーが十分にサイズ減少してシリコーン流体内に均一に分散し、また黒色高粘性塊が得られるまで、ミリング処理した。このようなサイズ減少（並びにプロセスの任意な他のステップ）は、採用される材料の最大感熱性に適した温度に制御された温度環境の下で実施された。この事例においては、アミノシリコーンは、約７０℃以上の温度でその活性を失うこのような感熱性閾値をセットする。したがって、アミノシリコーン界面活性剤を伴うサイズ減少ステップは、約５０℃の制御された温度の下で実施した。ＣＢ一次粒子はほぼ球形の集塊体を形成し、またこのステップに続くこのようなＣＢ二次粒子の平均サイズ（例えば、直径）は、後で光学顕微鏡の下で得られる硬化済み層の画像解析によって推定されるように、約２００〜４００ナノメートルであった。走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ；トンネリングモードで動作するFEI MagellanTM 400）によって頂部からの写真を撮り、熟練技師によってＣＢ母集団の大部分を表していると見なされた少なくとも１０個の粒子であり、代表的集合を形成するこのような粒子が測定された。任意の特別な理論に拘泥するつもりはないが、アミノ-シリコーン界面活性剤のアミン基は、カーボンブラックのカルボキシ部分に結合し、ＣＢ粒子を十分包み込み、それらの集塊化を少なくする又は阻止すると考えられる。カーボンブラックは、その表面に吸収された酸素が同様に挙動するため、必ずしも有機カルボン酸で官能基化する必要はない。
【０１６４】
少量の同一ＧＰ-342界面活性剤を含有するビニル官能性ポリジメチルシロキサン（ポリマーXP RV 5000、Evonik（登録商標）Hanse、ＣＡＳ No. 68083-18-1）の混合物（それぞれ９：１の重量比）を高剪断ホモジナイザー（Ｒ５０の攪拌シャフトＩＫＡ(登録商標)を装備したT 50 digital Ultra-Turrax(登録商標)、ベルケ社製）によって別個に調製し、このホモジナイザーは、約２０分間にわたり２０℃の制御温度及び１０,０００ｒｐｍで動作させた。硬化可能流体における追加の界面活性剤の存在は、このアミンシリコーン重合体のカーボン粒子からビニル官能性ＰＤＭＳへの移動を阻止又は少なくし、拡散が過剰に広がる場合には、カーボンブラック粒子の望ましくない集塊化（agglomeration）／凝集（aggregation）／フロキュレーション（floculation）を生ぜしめることになると考えられる。ビニル官能性ＰＤＭＳを含む混合物は、組成の残りの３７.５重量％を生ずるよう、黒色塊に約３７５ｇの量で添加した。この添加は、黒色塊が高濃度カーボンブラックを有する高粘性で光沢のある黒色ペーストになるまで（代表的には１時間以内で）、同一の連続ミリング処理の下で段階的に実施した。
【０１６５】
希釈ステップ
黒色ペースト（２５重量％ＣＢ）の流動性を増加させ、またコーティング後の自然な自己水平化を容易にするために、詳細に上述したように調製した黒色シリコーンペーストを５重量％ＣＢ以下の濃度まで希釈した。希釈は以下のように調整した「シリコーンプレミックス（予混合物）」で実施し、このプレミックスは、約５０重量％の量にしたビニル末端ポリジメチルシロキサン５０００ｃＳｔ（DMS V35、Gelest(登録商標)、CAS No. 68083-19-2）、末端ビニル基及びペンダントビニル基の双方を含む約２１.４重量％の量にしたビニル官能性ポリジメチルシロキサン（ポリマーXP RV 5000、Evonik（登録商標）Hanse、ＣＡＳ No. 68083-18-1）、及び約２８.６重量％の量にした分岐構造ビニル官能性ポリジメチルシロキサン（VQM Resin-146、Gelest(登録商標)、CAS No. 68584-83-8）を、高剪断Ｔ５０digital Ultra-Turrax(登録商標)ホモジナイザーにより約２０分間にわたり２０℃の制御温度及び１０,０００ｒｐｍで動作させて混合した。
【０１６６】
濃縮した黒色ペーストはシリコーンプレミックスと混合し、ＣＢ濃度を以下のようにして５重量％ＣＢまで減少させた、すなわち、ＧＰ-３４２をシリコーンプレミックスに添加し、それぞれの濃度が最終希釈組成物の８重量％及び７２重量％となるようにした。濃縮した黒色ペーストは希釈済み組成の２０重量％を構成するよう添加し、すべてのこれら添加は、高剪断ホモジナイザー（T 50 digital Ultra-Turrax(登録商標)、ＩＫＡ）による約２０分間にわたり２０℃の制御温度及び１０,０００ｒｐｍでの連続攪拌の下で実施した。攪拌は、希釈済み黒色ＰＤＭＳシリコーン混合物が均質になる（例えば、黒色の団塊物又は凝集体が観測されなくなる）まで、ほぼ２時間にわたり維持した。カーボンブラックの異なる最終濃度は、上述した原料流体又はペーストの量を相応的に調整することによって同様に調製した。
【０１６７】
硬化ステップ
上述したような希釈済み黒色ＰＤＭＳシリコーン混合物は、以下のものの添加によって硬化可能にすることができ、すなわち、代表的には総硬化可能組成物の約０.０００５重量％〜０.２重量％、又は約０.０５重量％〜約０.２重量％の量にした少なくとも１種類の触媒と、硬化条件及び硬化進行をよりよく制御するための、代表的には約０.１重量％〜１０重量％、又は約１重量％〜１０重量％の量にした少なくとも１種類の遅延剤又は硬化防止剤と、及び最後に、代表的には約０.５重量％〜１５重量％、又は約５重量％〜１５重量％の量にした少なくとも１種類の反応性架橋剤と、を添加することによって硬化可能にすることができ、この反応性架橋剤の添加は、黒色ＰＤＭＳ混合物の添加硬化を開始することができる。
【０１６８】
上述した５重量％ＣＢ希釈の黒色ＰＤＭＳシリコーン混合物は、約０.１重量％の量にした白金ジビニルテトラメチル・ジシロキサン錯体（ＳＩＰ 6831.2、Gelest(登録商標)、CAS No. 68478-92-2）のような白金触媒と、約３.７重量％の量にしたEvonik（登録商標）Hanseのインヒビター６００のような遅延剤と、及び最後に、総硬化可能組成物における約８.７重量％の量にしたメチル・ヒドロシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体（ＨＭＳ 301、Gelest(登録商標)、CAS No. 68037-59-2）のような反応性架橋剤と、を添加することによって硬化可能にした。
【０１６９】
この添加硬化可能組成物は、その直後に望ましい機械的支持体上（例えば、透明又は不透明の本体上）に自動薄膜層アプリケータ（型番ＢＧＤ281、Shanghai Jiuran Instrument Equipment Co., Ltd.）により塗布し、このアプリケータは５〜１００ｍｍ／ｓのドローダウン速度で動作させ、そのように塗布された層は５〜２００マイクロメートルの範囲における所定厚さを形成した。
【０１７０】
透明本体の例として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、ジョリバー社からの１００及び１５０マイクロメートル厚さ）のシートを使用し、このような支持体は、随意的ではあるが、さらにその支持体に対する放射吸収層を含む材料の付着を行うための前処理（例えば、コロナによって又は下塗り物質で）を施した。コロナ処理は、本体に加えるとき、約２０分間ＵＶ照射（ＵＶＯＣＳ(登録商標)社によって供給された紫外線オゾンクリーニングシステムT10X10/OES/E）に対する被曝を行った。下塗り物質は、本体の前処理に使用されるとき、２.５重量％のテトラ-ｎ-プロピルケイ酸塩（CAS No. 682-01-9、コルコート社）、２.５重量％のビニルトリメトキシシラン（Evonik(登録商標)社製、Dynasylan(登録商標)VTMOのような）、５重量％のチタン・ジイソプロポシ（bis-2,4-ペンタンジオナート）（Gelest(登録商標)社製、Tyzor AKT855のような）、２.５重量％の白金-ジビニル・テトラメチル（Gelest(登録商標)社製、SIP 6831.2のような、CAS No. 68478-92-2）、を含むことができ、これらすべては、純メタノールＡＲ（CAS No. 67-56-1、Ｂｉｏ-Ｌａｂ社製）内に含有させることができる。下塗り物質は、下塗り流体を含侵させた清潔な実験室用布地で被塗布層／本体の表面を掃過させることによって塗布することができる。
【０１７１】
透明支持体は、任意な光学的に澄んだ適当な材料で作製することができ、例えば、ポリシロキサンのようなシリコーン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）のようなポリエチレン、ポリ（メチルアクリレート）（ＰＭＡ）及びポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）のようなポリアクリレート、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール及びポリ酢酸ビニルのようなポリビニル類、ポリエステル、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体、ポリオレフィン（ＰＯ）、フッ素重合体類、ポリアミド類、ポリスルホン類等を含むポリスチレン、それらの共重合体類又はそれらの混和物（ブレンド）類で作製することができる。材料は、光が散乱することなく材料を通過できる（理想的には１００％透過）場合に光学的に澄んでいると言える。透明度は一般的には可視光に関して評価されるが、本発明の文脈においては、任意の特別なシステムで使用される発生ビームに関連する波長に対して、少なくとも８５％、少なくとも９０％、又は少なくとも９５％の透明性／透過性を有する場合、材料は適切に透明である。透明度は、関連の波長レンジにわたり分光光度計を用いて材料の所望薄さのサンプル（１ｃｍ端縁及び０.２〜２ｍｍの厚さを有する平坦正方形、又は所望に応じて転写部材の外部素子）における光学的透過を測定することによって評価することができる。約１.３５〜１.４５の屈折率（ＲＩ）は、光学的に澄んだ／透明な材料であることを示す。放射が進行する透明な転写部材の各層は、類似又は同一のＲＩ値及び／又は透明度を有するべきであり、これによりその厚さにわたり一様なこのような特徴を有する多層転写部材を構成することができる。このような特性は、±５％以内、又は±２％以内、又は±０.５％以内であれば類似していると見なされる。
【０１７２】
材料の屈折率（ＲＩ）は、概して、製造業者によって提供されるが、当業者には既知の方法によって独立的に評価することができる。流体材料（例えば、未硬化／硬化前シリコーン）に関してはＡＳＴＭ Ｄ1218で説明したような方法が好適であるとともに、固形材料はＡＳＴＭ Ｄ542に従って検査することができる。
【０１７３】
説明したように、透明な転写部材及び裏側照射を用いるときは、内部圧縮可能層の代わりに、転写部材の外部に圧縮可能素子を使用することができる。このような事例では、圧縮可能素子は少なくとも同程度に透明であることが必要である。透明な支持体、支持体の層又は外部素子は、好適には、１以下の黄色度指数を有する。
【０１７４】
黒色ポリジメチルシロキサン混合物は、塗布が前処理された本体上か又は前処理されていない本体上に係わらず、２時間にわたり７０℃にされる換気オーブン（UT 12 P、Thermo Scientific Heraeus(登録商標)、加熱及び乾燥オーブン）内で硬化され、この後、１２０〜１４０℃で１時間の後硬化が続き、これにより層の支持体に対する完全な硬化及び安定結合が得られる。
【０１７５】
ＣＢをサイズ減少した様態でシリコーン母材内に分散させるアミノシリコーン重合体の適合性は、とくに、ＣＢ材料が比較的極性を有するときには、予期されないものであることに留意されたい。通例として、シリコーンにおけるカーボンブラックのナノ粒子の分散は、粒子及びシリコーン媒剤が類似の極性を有するときでさえ達成するのが困難である。このような粒子は、一次粒径で均質に分散されたまま、又はこの分散ステップで得られる任意な比較的小さい二次粒径のままでいるよりも、互いに集塊化する傾向を有する。この問題を解決するため、従来の製造方法は、シリコーン媒剤の相対的極性を増加させることを目的とし、したがって、濃縮硬化可能シリコーン重合体及び関連の試薬を使用し、濃縮硬化はこのようなＣＢ含有シリコーンの調製モードである。
【０１７６】
これとは対照的に、本発明の教示によるこの実施例において、ＣＢ粒子のこのような分散は、ＰＤＭＳシリコーンの添加硬化を使用し、かつ常識にそぐわないと考えられていたアミノシリコーンを分散剤として使用して達成した。これで得られた比較的無極性である環境は、ＣＢの比較的「サイズ安定性」分散に対して「悪影響」を及ぼすことが予期された。さらに、アミノシリコーンの使用は常識にそぐわないと見なされ、これはすなわち、アミン部分は、結合されておらず自由に相互作用するものであるとき、シリコーン母材の添加硬化を阻止又は悪影響を及ぼすと知られていることにさらに留意すべきである。したがって、本発明者らは、ＣＢ投入シリコーン母材の調製中に存在するアミノシリコーン量に関する微妙なバランスを見出した。一方で、その量は、ＣＢ粒子を包み込み、またそれらの集塊化／凝集を防止、減少又は遅延させるに十分な量であるべきであり、他方で、過剰な量は、このような未結合アミノシリコーンが持っている添加硬化作用に対する悪影響を阻止、減少又は遅延させるのに利用できないことになる。適切なアミノシリコーンの濃度は、ＣＢ粒子及びシリコーン媒剤のタイプ、並びにカーボンブラック及び硬化可能シリコーンの相対濃度に依存することができる。この濃度は日常実験によって決定することができる。幾つかの実施形態において、カーボンブラックと分散剤（例えば、アミノシリコーン、アクリル酸シリコーン、等々）との間における重量対重量比（weight-per-weight ratio）は、０.４：１〜２：１、０.７：１〜１.８：１、又は０.９：１〜１.６：１、又はほぼ１：１若しくは１：１.５である。
【０１７７】
アミン部分の比較的低い数値（低アミン価に関連する）アミノシリコーンは、このバランスを獲得するのに有利であり得る。モノアミンは、とくにアミン部分が末端に位置するときに好ましい。任意の特別な理論に拘泥したくはないが、カーボンブラックに付着した後、末端モノアミンは阻害され、またひいては硬化に悪影響を及ぼすのに利用できないと考えられる。
【０１７８】
アミノシリコーンの驚くべき有効性は、さらに、上述したのと同様の、アミノシリコーンを、ＣＢとの予期された安定性をもたらすことに関して既知である異なる化学族、すなわち、信越化学株式会社によって供給されるポリグリセリン変性シリコーンＫＦ-6106の分散に取って替えた、第１比較調合物の調製で補強された。この都合のよい界面活性剤は、この調合物のＣＢ粒子を満足のいく分散をさせることに失敗した。
【０１７９】
第２比較例において、市販の濃縮ＣＢペースト（Akrosperse 20-MI-005、５０重量％ＣＢ、アクロケム(Akrochem)社製）を同一ＡＣＳ ＰＤＭＳ（ＤＭＳ Ｖ３５）と対応量にして混合し、５重量％最終ＣＢ濃度となるようにした。このＣＢペーストは、任意なタイプの任意な界面活性剤を添加することなく、供給されたままの状態で使用した。混合物は、同様に動作する回転３ロールミルを用いて分散させた。この制御プロセスに従うと、ＣＢは比較的大きな凝集（顕微鏡的に評価すると約０.５〜１.５μｍ）を示し、これは本発明による調合物及び方法を用いて形成される二次粒子よりも少なくとも２倍大きいものであった。
【０１８０】
カーボンブラック自己集塊化／自己凝集の防止に関する同一論拠（界面活性剤包皮の形成による）に従うと、アミノシリコーンのアミン機能に加えて、アクリル酸シリコーンのアクリレート（アクリル酸塩）機能が同様のＣＢ分散を達成できることが分かった。例示的アクリル酸シリコーン（シリコーンアクリレート）は、詳細に上述したようにＰＤＭＳ母材内で僅かな変更を加えて調合し、この僅かな変更としては、カーボンブラックの量を上述した５重量％の代わりに、３重量％のみにした。信越化学株式会社によって供給されたＫＰ-５７８、Evonik(登録商標)インダストリーズ社によって供給されたTego(登録商標) RC 711（約１％アクリレート）及びTego(登録商標) RC 902（約４％アクリレート）が検査ＣＢ濃度で満足のいくＣＢ分散を達成した。
【０１８１】
アクリル酸シリコーン（シリコーン・アクリレート）の場合、シリコーン界面活性剤内における少なくとも０.５重量％のアクリレート（アクリル酸塩）含有量は満足のいくものであると考えられ、５重量％を超えるより多い含有量が好ましいものであると見なされる。界面活性剤の任意な所定主鎖における活性部分がより多くの量で存在することは、同一量のＣＢ粒子の分散に必要な界面活性剤の量を減少することができる。シリコーン界面活性剤におけるアクリレート含有量は、一般的にはサプライヤによって提供されるが、標準測定手順により決定することができる。
【０１８２】
例示的第２手順
後で画像化表面を形成するできる放射吸収層又はこれを含む画像化層を調製する上述した方法は、添加した揮発性有機溶媒がほとんどないものであったが、以下の代案的手順はこのような液体を活用する。このような溶媒は、意図したシリコーン流体と共存可能であるとき、被塗布層又は支持体への層調製又は塗布における幾つかの段階を容易にすることができ、比較的高い揮発度は、最終転写部材におけるこれら溶媒の存在を減少又は排除する点で有利である。
【０１８３】
この実施例において、５０ｇのＣＢ（Colour Black FW 182、オリオン・エンジニアード・カーボンズ社製）を、５０ｇのアミノシリコーン界面活性剤（ＢＹＫアディティブズ＆インスツルメンツ社製の約３５のアミン価を有するBYK LP X 21879）に対して、２００ｇのキシレンＡＲ（約１３８.４℃の沸点を有する、CAS No. 1330-20-7、Ｂｉｏ-Ｌａｂ社製）の下で混合させた。上述の実施例と同様に、ＣＢ粉末を１２０℃で少なくとも２時間にわたり乾燥してからシリコーン界面活性剤と混合させた。約４.７６ｍｍのステンレス鋼ビーズ（SS 302 3/6インチのビーズ、グレン・ミルズ社製）を有する磨砕ビードミル（Attritor HD-1、ユニオン・プロセス(登録商標)社）を７００ｒｐｍで動作させて、最終的にＣＢ粒子が１００ｎｍ未満、概して、約７０ｎｍの平均ＳＰＳ（例えば、Ｄ５０によって評価）に達するまで分散を実施したが、一般的にはバッチサイズに基づいて約１.５〜２.５時間かかる。サイズ減少は５０℃の制御温度の下で実施した。サイズ分布は、約０.１重量％のＣＢを含むサンプルに対してＤＬＳ（マルヴァーン・ゼータサイザー・ナノＳ）によって評価し、また界面活性剤分散ＣＢ粒子はナノレンジ範囲で見られた（約４８ｎｍのＤＶ１０、約７４ｎｍのＤＶ５０、及び約１３９ｎｍのＤＶ９０を有する）。
【０１８４】
ＣＢ分散は２パートＬＳＲシリコーン流体に添加したが、添加分散の相対量は母材におけるＣＢの所望最終量に依存する。この一連の実験セットにおいて、最終母材の重量（揮発性溶媒を含む）当たりのＣＢ濃度は、約２.４重量％、約４.５重量％、約６.５重量％、約８.３重量％、約１１.５重量％及び約１４.３重量％であった。ＣＢ分散の相応重量（すなわち、約６ｇ、１２ｇ等々）を、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社による２０ｇのSilopren(登録商標)ＬＳＲ2540（パートＡ）に添加し、穏やかに手で混合し、次に２０ｇのSilopren(登録商標)ＬＳＲ2540（パートＢ）内に注入した。ＬＳＲのパートＡ及びパートＢによるプレミックスに対するＣＢ材料を添加することも満足のいくものであることが分かった点に留意されたい。結果として得られたＣＢシリコーン流体は、さらに、遊星歯車式遠心ミキサー（Thinky ARE-250、シンキー社製）内において周囲温度、２,０００ｒｐｍで約３分間混合し、また他の３分間にわたり単独の同一遠心条件の下で消泡させることができた。サンプルは１４０℃で約２時間にわたり硬化した。シリコーン母材内におけるＣＢ粒子の分散パターンは、詳細に上述したように光学顕微鏡検査法で評価され、またＬＳＲ成分の硬化期間にわたり安定していることが分かった。
【０１８５】
上述したＣＢ分散ＬＳＲシリコーン流体の塗布を容易にするため、その原料を多量の揮発性溶媒、この場合はキシレン内で希釈したが、代表的には少なくとも１：４の重量対重量比、例えば、１：９重量／重量にした。希釈シリコーン母材内におけるＣＢ粒子は、光学顕微鏡検査法で評価されたように、安定して分散した状態に留まることが見られた。
【０１８６】
希釈したＣＢ-ＬＳＲ-キシレン懸濁液は滑らかな剥離可能支持体（例えば、未処理ＰＥＴシート）に対して空圧ブラシを用いるスプレーコーティングにより塗布した。代案的塗布方法も可能である（例えば、ロッドコーティング等）。シリコーン母材の部分硬化が１２０℃で進行する（層厚に基づいて約０.５〜１時間かかる）が、このようなステップは、温度を上昇させることによって速める（例えば、１４０℃で硬化させる場合、硬化時間を約２０分に短縮する）ことができる。この後、澄んだシリコーン層（適合構造層として作用することに起因する）が、このような部分硬化放射吸収層／画像化層の頂面に成形された。１つのこのようなシリコーン上塗りは、クアンタム・シリコーンズ社から市販されている２成分透明液体シリコーン、QSil 213であった。この結果として得られたＰＥＴで支持された層を、さらに、約１００℃でほぼ１〜２時間にわたり部分的に硬化した。次に、ＰＥＴ支持体を剥がし去り、反転させた２つの層が、上向きのＣＢ装荷放射吸収層及び下向きの澄んだ適合構造層となるようにし、この後、後者を任意の適当な方法によって所望の支持体（例えば、透明支持体）に付着した。幾つかの実施形態において、このような層の支持体への付着は、画像化表面の硬化完了に寄与した。
【０１８７】
この代案的手順によれば、上述した方法と同様にサブミクロンレンジにおける及び圧倒的にナノレンジでさえもあることの利点を有するカーボンブラック粒子を相当高い装荷量で有するシリコーン母材の調製を可能にする。
【０１８８】
例示的第３手順
放射吸収層又はこれを含む画像化層を調製する上述の方法は架橋可能な添加硬化シリコーンの添加硬化に基づくものであったが、この手順は、代替的に架橋可能な濃縮硬化シリコーンの濃縮硬化に関与する。
【０１８９】
第１ステップにおいて、ＣＢ材料を乾燥した（１２０℃で少なくとも２時間、次にシリコーン界面活性剤の存在の下でサイズ減少した）。この実施例において、５０ｇのＣＢ（Colour Black FW 182）を、１００ｇのヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ；約１０１℃の沸点を有する、CAS No. 107-46-0、シグマ-アルドリッチ社製）内で５０ｇのアミノシリコーン界面活性剤（BYK LP X 21879）と混合させた。この分散は、（上述したような）約４.７６ｍｍのステンレス鋼ビーズを有する磨砕ビードミル内において７００ｒｐｍで動作させて、ＣＢ粒子がＤＬＳによって評価されるような約９０ｎｍの平均ＳＰＳ（例えば、Ｄ５０によって評価）に達するまで、４時間にわたり実施した。サイズ減少は２０℃の制御温度の下で実施した。
【０１９０】
次に、サイズ分布は、約０.１重量％のＣＢを含むサンプルに対してＤＬＳ（マルヴァーン・ゼータサイザー・ナノＳ）によって評価し、また界面活性剤分散ＣＢ粒子はナノレンジ範囲で見られた（約５２ｎｍのＤＶ１０、約９１ｎｍのＤＶ５０、及び約２１１ｎｍのＤＶ９０を有する）。
【０１９１】
第２ステップにおいて、ＣＢ分散はシラノール末端ポリジメチルシロキサンに添加したが、添加分散の相対量は母材におけるＣＢの所望最終量に依存する。この一連の実験セットにおいて、最終母材の重量当たりのＣＢ濃度は、約５.５重量％、約１２.５重量％及び約２１.４重量％であった。ＣＢ分散の相応重量（すなわち、約４０ｇ、８０ｇ、及び１２０ｇ）を、シラノール末端ＰＤＭＳ（DMS S-27、700〜800 cSt、Gelest(登録商標)社製）のそれぞれの１６０ｇ、１２０ｇ及び８０ｇｒの対応量に添加した。結果として得られたＣＢシリコーン流体は、磨砕機内において同一条件の下で（７００ｒｐｍ及び２０℃）約９０分間混合し、この結果として、濃縮硬化可能ＰＤＭＳの黒色塊が得られた。
【０１９２】
硬化可能シリコーン内の９ｇＣＢ分散に対して、１ｇの架橋剤（Gelest(登録商標)社製のエチルポリシリケート ＰＳＩ023又はColcoat社製エチルシリケート４８）及び０.０５ｇの錫（スズ）触媒（ジオクチル錫bis(アセチルアセトネート)Tin Kat(登録商標)、CAS No. 54068-28-9、ＴＩＢ社製）を添加した。硬化可能混合物を消泡させ、また所望の支持体に塗布した。消泡済み混合物を塗布する前に、透明ＰＥＴをオゾンで前処理し、また下塗り層（SS4120、モメンティブ社製）をコーティングした。シリコーン層は、ロッドワイヤによって約４０μｍ（５μｍ及び２０μｍの層を含めて）に達するまでの所定厚さになるよう塗布し、約１２〜２４時間にわたり周囲条件（約２３℃及び３０〜６０％ＲＨ）で硬化させることができた。部分的硬化構造は、オーブンに移送し、２時間にわたり１２０〜１４０℃で後硬化させた。濃縮硬化シリコーン母材内におけるＣＢ粒子の分散パターンは、詳細に上述したように光学顕微鏡検査法で評価され、また安定していることが分かった。
【０１９３】
ＣＢを含むシリコーンは市販されているが、そのＣＢ内容物をこのような所望粒径範囲までサイズ減少しようとする試みは極めて困難であることが分かっている。比較例において、市販ＣＢペースト（Akrosperse 20-MI-005、５０重量％ＣＢ、アクロケム(Akrochem)社製）を同一CＣＳ ＰＤＭＳ（ＤＭＳ S-27）と対応量にして混合し、５重量％最終ＣＢ濃度となるようにした。このＣＢペーストは、任意なタイプの任意な界面活性剤を添加することなく、供給されたままの状態で使用した。混合物は、第1実験手順で上述したように動作する回転３ロールミルを用いて分散させた。この制御プロセスに従うと、ＣＢは比較的大きな凝集（顕微鏡的に評価すると約０.５〜１.５μｍ）を示し、これはＡＣＳ制御で先に観測されたように、本発明による調合物及び方法を用いて形成される二次粒子よりも少なくとも２倍大きいものであった。
【０１９４】
任意の特別な理論に拘泥したくはないが、従来の調合物は、任意のこのようなミリング処理中に過渡的に得られる一次粒子の再集塊化（reagglomeration）を防止できる、適当な特性、及び／又は適切な量、及び／又は適当な媒剤を有するＣＢ粒子が欠けていると考えられる。
【０１９５】
光学的測定
上述した方法によって調製した放射吸収層又は画像化表面の幾つかの光学的特性を評価した。他に明記しない限り、関心対象サンプルを、ガラススライドのような平滑支持体上に流延（キャスティング）し、またロッドコーティングにより既知の厚さに平準化し、また硬化させたが、硬化済み層は、共焦点顕微鏡法によって立証されるような少なくとも２μｍの厚さをほぼ有するものであった。
【０１９６】
硬化済み層は、流延支持体から徐々に分離し、また後の測定のために適当な薄膜ホルダに配置した。このようなサンプルの光学的吸収度は、少なくとも３００ｎｍ〜１２００ｎｍのレンジにわたり分光光度計（アギレント・テクノロジーズ社からのCary 5000、UV-Vis-NIR分光光度計）で測定した。薄膜の２つの側面間での吸収低下を検査サンプルの厚さに正規化し、また厚さ１マイクロメートルあたりのこのような層の吸収度（Ａｂｓ／μｍ）を計算した。アミノシリコーン界面活性剤に分散させたＣＢ粒子を含む層に対する選択した波長における代表的結果は、以下に掲げた表に示し、この表において、カーボンブラックを装荷した母材に対して報告される値は、単独ＣＢ粒子の効果に関連する（それぞれの母材の基礎値は除外されている）。
【０１９７】
【表１】
2020513355.tif 000003
（wt.%＝重量％）
【０１９８】
上述の表で分かるように、本明細書に記載した種々の方法によって分散したＣＢ粒子は、層の１マイクロメートル深さあたりの比較可能な吸収特性をもたらし、このような吸収度は、概して、波長が増加するにつれ減少している。上記の例において調製方法及びこの結果として得られる層は、３つのタイプのシリコーン重合体（ポリマー）、２つのタイプの硬化方法及び２つのタイプのアミノシリコーンについて例示した（項目１〜３はACS PDMSの添加硬化、項目６〜１１はACS LSRの添加硬化、及び項目１２〜１３はCCS PDMSの濃縮硬化参照）。これら実施例は、さらに、シリコーン界面活性剤とＣＢ粒子との間における異なるタイプの相互作用を表している。アミノシリコーン界面活性剤は酸をベースとする関係性又はアミン-エポキシ樹脂の相互作用を形成することが予想される。アクリル酸シリコーン界面活性剤は、双極子：双極子の相互作用を形成すると考えられる。
【０１９９】
本発明の教示により調製したＣＢ粒子分散を埋設するシリコーン母材の例示的実施形態を表すすべての項目は、目視で評価される、透き通った（すなわち、曇り／濁りがない）サンプルを形成した。このような結果は、シリコーン界面活性剤の硬化可能シリコーンエラストマーとの共存可能性を、それとの混和性を含めて裏付ける。このような共存可能性は、事前にカーボンブラック粒子がない状態で実施されるこのような材料のスクリーニング方法でも評価することもできる。
【０２００】
比較として、本発明教示によるＣＢ粒子がない状態で調製した同様のシリコーン母材は、同一波長レンジにわたり約０.００１Ａｂｓ／μｍ以下のゼロ基準線吸収度に対する非有意性を示し（ＬＳＲ母材の項目５参照）、ＰＤＭＳ母材は添加硬化又は濃縮硬化のいずれで硬化するにしても同様に挙動する。本発明教示により分散したＣＢ粒子の影響が、検査レンジにわたるシリコーン母材におけるＣＢの重量（wt.）濃度と層の吸収能力との間における正相関から分かる。この結果セットに基づいて、各特別な調合に対する吸収度のピーク又は平坦域が、少なくとも１０重量％、少なくとも１５重量％のカーボン装荷で期待され、又は２０重量％を超えるカーボン装荷でも期待され得る。このようなＣＢ濃度に基づくパターンは、最適活性ピーク及び／又は意図した用途のように所望ＣＢ装荷を選出できる当業者によって容易に確立することができる。すべての実用目的にとって、硬化可能な又は硬化したシリコーン組成におけるカーボンブラックの存在は、３０重量％を超える必要はなく、２５重量％を超えないこともよくあると考えられる。
【０２０１】
表に戻って説明すると、比較実験（項目４参照）において、比較層は、同一カーボンブラック材料をミリング（粉挽き）し、項目１〜３と同様にＰＤＭＳ母材内に組み入れることによって調製したが、この方法では何らアミノシリコーン分散がなかった。この結果として得られた層において、ＣＢ粒子は、したがって、０.５〜１.５μｍレンジにおけるより普通の（conventional）サイズであった。この普通ＣＢ（ＣＣＢ）材料を、１０重量％の比較的高い濃度でＰＤＭＳ母材内に埋設した。このような装荷量にも係わらず、ＣＣＢ比較例は、本発明の幾つかの実施形態に従って調製したＣＢ粒子のより低い濃度のものに比べると芳しくない吸収度を示した。この実験例において、ＰＤＭＳ内１０重量％ＣＣＢは、ＰＤＭＳ内２.５重量％ＣＢと匹敵することが分かった（それぞれ項目４及び１参照）。したがって、本発明の方法及び調合物は、同様の吸収度を付与するＣＢ粒子量に関して約４倍も優れている。
【０２０２】
不透明体のための支持層６１０としては、代表的には、任意の適当な固体補強材料、例えば、機械的充填材として作用できる粒子若しくは繊維（ファイバ）で強化したエラストマー、又はこのようなエラストマーを含侵させた布地がある。固体補強材料は、概して、このような支持層重量に対する１０重量％を超えない量である。繊維は、概して、約５０〜約２００μｍの範囲内であるとともに、粒子は、代表的には平均サイズの１０μｍを超えない。補強材料は、１種類の機械的固体充填材から構成される又はほぼ構成されるものとすることができるが、幾つかの実施形態においては、この支持体は、補強粒子及び繊維の双方を任意な所望の割合で含むものとすることができる。
【０２０３】
幾つかの実施形態において、繊維は、有機繊維、メタ・アラミド、パラ・アラミド、ポリアミド、ナイロン繊維、ポリエステル繊維、高密度ポリエチレン繊維、天然繊維、綿繊維、無機繊維、ガラス繊維、炭素ベースの繊維、セラミック繊維、金属繊維及びこれらの組合せよりなるグループから選択される材料を含む。
【０２０４】
幾つかの実施形態において、繊維は表面処理繊維であり、この表面処理は繊維の付着性を高めるものとする。繊維を埋設するエラストマーがシリコーンであるときには、例えば、ビニルシランが繊維を表面処理するのに好適であり得る。繊維を埋設するエラストマーがシリコーン重合体以外のもの、例えば、ポリウレタンであるとき、イソチオシアネートシラン又はポリオールシランが繊維を表面処理するのに好適であり得る。このような例は限定的ではなく、繊維を処理するのに適した材料は既知であり、これ以上詳細に説明する必要はない。
【０２０５】
幾つかの実施形態において、繊維は布地を構成する。幾つかの実施形態において、布地は、５０マイクロメートル未満でなく、かつ２００マイクロメートルを超えない厚さを有する。幾つかの実施形態において、布地は、１プライ又は少なくとも１プライ、幾つかの実施形態においては少なくとも２プライ、幾つかの実施形態においては少なくとも３プライ、及び幾つかの実施形態においては少なくとも４プライである。
【０２０６】
幾つかの実施形態において、細い繊維（例えば、１ｍｍまでの太さ、又は０.８ｍｍまでの太さ、又は０.６ｍｍまでの太さ、又は０.４ｍｍまでの太さ、又は０.２ｍｍまですらさえもの太さ）で作製し、また比較的高い糸密度を有する布地が、特に平滑仕上がり表面を得る上で望ましい。この糸密度は、単位長さあたりの布地における縦糸及び横糸方向のスレッド本数で表現することができる。任意な所定方向におけるスレッド本数は、１ｃｍあたり約１０本程度の少ないもの、及び１ｃｍあたり約２０本程度の又は３０本ですらもの多いものであり得る。各方向におけるスレッド本数は互いに等しいものとすることができる（例えば、１０×１０）、又は等しくないものとすることができる（例えば、９×８、１２×１０、１６×１５、１７×１２、１９×１３、１９×１２、又は１９×１０）。
【０２０７】
幾つかの実施形態において、布地は不織布である。幾つかの実施形態において、布地は織成布（織物）である。
【０２０８】
幾つかの実施形態において、繊維は配向させた繊維である。幾つかの実施形態において、繊維は一方向に配向させた、代表的には伸縮性を減少するよう転写部材の移動方向に平行に配向させる。この方向は、印刷方向とも称することができる。一実施形態において、繊維は、２方向に配向させ、代表的には印刷方向に対して平行（０°）に及び幾分直交させて（９０°）配向させる。幾つかの実施形態において、繊維は、３方向に配向させ、代表的には印刷方向に対して平行（０°）に、幾分直交させ（９０°）、及び幾分４５°又は−４５°のいずれかの角度をなすよう配向させる。幾つかの実施形態において、繊維は、４方向に配向させ、代表的には印刷方向に対して平行（０°）に、幾分直交させて（９０°）、幾分４５°及び−４５°の角度をなすよう配向させる。
【０２０９】
幾つかの実施形態において、繊維は互いに付着し合って不織又は織成の布プライを形成することができる。繊維は、交錯する縦繊維（０°）及び横繊維（９０°）による任意の適当な織成方法によって織成することができる。標準パターンとしては、平織り（各縦繊維が各横繊維の下側及び上側を交互に通過する）、斜子織り（２つ又はそれ以上の縦繊維が２つ又はそれ以上の横繊維に対して交互に交錯する）、及び下側で交差及び通過する繊維の数が典型的には４つである繻子織を含めたあや織り（１つ又はそれ以上の縦繊維が規則的な繰り返しで２つ又はそれ以上の横繊維の上側及び下側に交互に織り込む）がある。平織りは、有利にも、高糸密度及び平滑仕上がり表面を可能にする。
【０２１０】
上述したパラメータの任意なものに基づいて、布地は、さらに、単位面積あたりの重量で特徴付けることができる、典型的には１平方メートルあたりのグラム数で表現することができる。約１８０ｇ／ｍ２〜約１０００ｇ／ｍ２における単位面積あたりの重量を有する布地が不透明体を形成するのに好適であり得る。
【０２１１】
このような固体補強材料を埋設する、又は随意的に材料が布地である場合にそれら材料に含侵させるのに適したエラストマーは、室温加硫ＲＴＶ及びＲＴＶ２シリコーン、液体シリコーンゴムＬＳＲ、ビニルメチルシリコーン（ＶＭＱ）、フェニルシリコーンゴム（ＰＭＱ、ＰＶＭＱ）、フルオロシリコーンゴム（ＦＭＱ、ＦＭＶＱ）、アルキルアクリレート共重合体ゴム（ＡＣＭ）、エチレンプロピレンジエン単量体ゴム（ＥＰＤＭ）、フルオロエラストマー重合体（ＦＫＭ）、ニトリル・ブタジエン・ゴム（ＮＢＲ）、エチレン・アクリルエラストマー（ＥＡＭ）、及び水素化ニトリル・ブタジエン・ゴム（ＨＮＢＲ）よりなるグループから選択することができる。
【０２１２】
支持層として選出されるエラストマーは、任意な特定印刷システムにおける転写部材で作製するための使用に基づいて、付加的に所望摩擦特性を付与することができる。例えば、高摩擦特性は、転写部材をドラムに備え付ける場合に望ましいとともに、低摩擦特性は、転写部材が静止要素上で摺動する場合に好ましいことがあり得る。高摩擦特性は、例えば、シリコーンゴムによって付与することができるとともに、ＦＫＭゴムは、概して、低摩擦表面を生ずる。
【０２１３】
上述したように、接着層（図６には示さない）は転写部材の層に付着させるのに使用することができる。このような層は、比較的平滑な被塗布体のための被塗布層の粗さに基づくことがあり得る厚さを有し、接着層は典型的には１０μｍを超えない厚さを有することができる。任意の適当な接着剤を使用することができ、その組成は、これにより付着されるべき層と共存可能なものとする。さらに、接着層は、転写部材の任意な他の層と同様に、転写部材が印刷システムの動作中に受ける作業条件に適合するのが好ましい。
【０２１４】
接着層は、シリコーン、ポリウレタン、及びこのような既知の可撓性エラストマー接着材料で作製することができる。このような例は限定的なものではなく、エラストマーを互いに接着し合うのに適した材料は既知であり、ここでこれ以上詳細に説明する必要はない。
【０２１５】
代案として、下塗り層を使用することができ、その組成は、結合すべき層に基づく。このような層は典型的には１μｍ以下の厚さを有する。適当な材料としては、シラン、チタン酸塩及び他のこのようなサイズ剤がある。
【０２１６】
幾つかの実施形態において、接着層又は下塗り層は不要であり、１つの層を他の層に付着するのは２つの層の同時硬化によって達成され、少なくとも一方の層は予め部分的に硬化しておく。
【０２１７】
可撓性支持層を含む上述した層の組合せにより形成された不透明転写部材６００は、幾つかの実施形態において、６５０μｍ〜９００μｍの間における厚さ、又は６２０μｍ〜８００μｍの間における厚さ、又は６３０μｍ〜６４０μｍの間における厚さを有することができる。剛性支持体に備え付ける場合、このような範囲は約２５０μｍだけ減少することができる。
【０２１８】
不透明転写部材６００の上述した層６０４〜６３０の任意なものに対して、レーザービームの層への貫入は、関連の波長レンジが剥離層６０２を通過して前側から放射吸収層６０４を「活性化」し、十分な熱を画像化表面に向けて戻す移動を可能にし、所望されるときに転写するのに十分な粘着性があるものにするよう粒子を軟化する限りにおいて、それほどの関心事ではない。したがって、放射伝播に関心がもたれる限りにおいてすべての層は透明（透過）性にすることができるが、それら層は、従来技術において既知の普通の印刷ブランケットに対して通例であるように、一般的には不透明である。
【０２１９】
例示的不透明転写部材６００を以下のようにして調製した。アミノシリコーン界面活性剤とともにＰＤＭＳ内に分散させた５重量％ＣＢを含む画像化表面は、上述したように、第１例示的手順に従って調製した。約５μｍ〜約２０μｍの一連の層をワイヤロッドにより、２００μｍの適合構造層、３５０μｍの圧縮可能層及び３００μｍの布地補強支持層からなる不透明体に塗布した。これら例示的転写部材は本発明の一実施形態による印刷システムに使用した。代替的実験においては、画像化表面はＰＥＴ上に個別に調製し、反転させ、また同一の上述した層から構成する本体に対して先に空気に対面していた表面を介して接着した。
【０２２０】
透明転写部材
透明転写部材を図７にその層にわたる例示的断面によって概略的に示す。便宜上、分かり易くするため縮尺通りには描いていない照射源６４０及び単一粒子６５０は、転写部材７００が本発明の幾つかの実施形態による印刷システムにどのように使用できるかを図解するよう示されている。図において、層７０２は、粒子が剥離のために選択的に軟化されるまで粒子を一時的に保持できる剥離層を示し、この剥離層は、以下に説明する層のように透明である必要はなく、原理的には上述した層６０２と同様のものとすることができる。層７０４は、粒子を軟化できる放射の収集を可能にする層（例えば、放射吸収層）を示し、層７０６は、印象ステーションでの転写中に剥離層及びこの剥離層上の粒子と印刷基板の表面のトポグラフィとの間における接触を促進することができる透明な適合構造層である。上述したように、図７では個別の層として示したが、画像化表面１２は、層７０２、７０４の機能、又は層７０２、７０４及び７０６の機能を統合する単一／固有の画像化層７２０で形成することができ、残りの層７１０が所望の透明転写部材７００を連帯的に形成できるすべての上述した層のための支持層を表す。
【０２２１】
不透明転写部材と同様に、透明転写部材７００における画像化層７２０、又は個別に画像化表面１２を形成する場合のこれら層の硬度は比較的低いものとすることができる。幾つかの実施形態において、層７０２、７０４、７０６及び７２０の各々は、５０ショアＡ以下、４０ショアＡ以下、３０ショアＡ以下、２０ショアＡ以下、及び少なくとも５ショアＡの硬度を有することができる。
【０２２２】
層を経由するレーザービーム伝播がそれほどの関心事ではない不透明転写部材における上述した層６０４〜６３０とは対照的に、透明転写部材７００における層７０４、７０６及び７１０は、転写部材の裏側から放射吸収層７０４を「活性化」するよう関連波長レンジの十分な貫入を可能にし、所望時に粒子を軟化して転写のために十分な粘着性を持たせるよう、熱が画像化表面に向って前方に移動できるようにする必要がある。
【０２２３】
透明転写部材は仮定として透明圧縮可能層を含むことができるが、高い圧縮可能率が知られている材料（比較的多孔質の構造）は概して不透明であり、部材厚さにわたる十分な放射伝播（したがって、画像化表面の操作性）を阻害する。このような材料を透明な材料に置き換えることは、概して、層の相対圧縮率に影響を及ぼし、したがって、転写部材における同様の全体的圧縮率を得るためにはより厚い圧縮可能層を余儀なくする。換言すれば、例えば、多孔質構造の不透明圧縮可能層は、印象ステーションで印加可能な圧力条件の下で１００μｍまで圧縮され得る３００μｍの厚さを有するが、透明圧縮可能層は、透明エラストマーが同一条件の下で約５％圧縮率を有すると仮定して、同様の約２００μｍの圧縮率を可能にするには４ｍｍの厚さを必要とする場合がある。このような透明圧縮可能層の予想される厚さは、結合されるすべての他の層よりも著しく大きくなり得るもので、したがって、このような透明圧縮可能層を設けることは、透明転写部材を透明剛性支持体（例えば、透明ドラム又は透明バー）上に備え付ける又は一体成形する場合にのみ許容できる。しかし、このような厚い圧縮可能層は、透明可撓性支持体に基づく透明部材の可撓性に悪影響を及ぼすおそれがある。
【０２２４】
したがって、可撓性転写部材を考慮するとき、不透明転写部材と透明転写部材との間における第２の相違は、透明性の他に、透明転写部材には圧縮可能層が存在しないことである。この実施形態において、圧縮可能性の機能は転写部材の「外部」にもたせ、このような特性は、図７及び８に示すように、透明転写部材７００に依存する印刷システムにおいて圧縮可能素子７０８によって付与される。本発明教示による印刷システムでの使用において、一般的には、透明潤滑剤７３０を支持層７１０の裏側と圧縮可能素子７０８との間に形成されるギャップに使用する。矢印７４０は、圧力（例えば、印象ステーションにおいて矢印とは反対方向に加わるような）がどのようにして圧縮可能素子７０８の形状に影響を及ぼすかを示し、この影響を破線輪郭で概略的に示す。図示しないが、圧縮可能素子は、印象付け中に転写部材と係合するとき、放射源と印象シリンダ（圧胴）の外表面との間に維持される場合のほぼ一定の距離を確保する剛性裏打ちを有する。剥離層７０２は、幾つかの実施形態において、３μｍを超えない厚さ、概して、１μｍ〜２μｍの厚さを有することができる。
【０２２５】
剥離層７０２は、不透明転写部材につき詳細に上述したのと同一のＡＣＳ又はＣＣＳエラストマーで作製できる。一実施形態において、剥離層７０２は架橋可能なＰＤＡＳ及びＰＤＭＳシリコーンで作製することができ、シリコーンの主鎖は、所望硬化方法に適した任意な部分を担持する。幾つかの実施形態において、このようなシリコーンは、任意の適当な程度までフッ素化させる。不透明剥離層６０２と同様に、透明転写部材の剥離層７０２は、放射吸収層７０４におけるＣＢ粒子の活性に悪影響を及ぼし得る充填材がないことが好ましい。
【０２２６】
放射吸収層７０４は、幾つかの実施形態において、２５μｍを超えない厚さ、概して、１５μｍ〜２０μｍの厚さを有することができる。
【０２２７】
放射吸収層７０４は、不透明転写部材につき詳細に上述したのと同一のＡＣＳ又はＣＣＳエラストマーで作製できる。一実施形態において、剥離層７０２は架橋可能なＰＤＡＳ及びＰＤＭＳシリコーンで作製することができ、シリコーンの主鎖は、所望硬化方法に適した任意な部分を担持する。
【０２２８】
透明適合構造層７０６は、幾つかの実施形態において、１５０μｍを超えない厚さ、概して、１００μｍ〜１２０μｍの間における厚さを有することができる。
【０２２９】
透明適合構造層７０６は、透明なＡＣＳ若しくはＣＣＳ硬化可能シリコーン又はポリウレタンで作製することができる。剥離層６０２及び７０２につき上述したように、透明層を調製するのに適した材料は、画像化装置／印刷システムの動作波長で放射吸収層によるエネルギー吸収を低下又は阻害する充填材がないことが好ましい。異なる表現をすれば、透明適合構造層は、放射吸収層の母材（ＣＢ含有がない状態）におけるＲＩと同一又は同様の（±５％以内、又は±０.５％でさえもある）屈折率を有するべきである。
【０２３０】
画像化表面１２が層７０２及び７０４を組み合わせた単一／固有の画像化層７２０の様態である実施形態において、このような画像化層７２０は、幾つかの実施形態において、１５μｍを超えない厚さ、概して、１μｍ〜１０μｍの間における、又は２μｍ〜５μｍの間における厚さを有することができる。このような層は、「構成」層に適した材料を、本発明の幾つかの実施形態につき説明したのと同様な量又は割合で組み入れ、剥離機能性のためにブレンドされる材料は透明であるのが好ましい。画像化表面１２がさらに、単一／固有の画像化層７２０に層７０６を有する実施形態において、このような画像化層７２０は、幾つかの実施形態において、１００μｍを超えない厚さを有することができる。
【０２３１】
透明支持層７１０は、幾つかの実施形態において、４００μｍ〜６００μｍの間における、又は４５０μｍ〜５５０μｍの間における、又は４８０μｍ〜５２０μｍの間における厚さを有することができる。
【０２３２】
透明支持層７１０は、ＰＥＴ、熱塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）、シリコーン、又は任意な他の適当な材料で作製することができ、このような材料は、放射吸収層の所望操作性に干渉し得る充填材が何らないことが好ましい。
【０２３３】
上述した層の組合せによって形成した透明転写部材７００は、幾つかの実施形態において、５００μｍ〜１０００μｍの間における厚さ、又は５００μｍ〜９００μｍの間における厚さ、又は６００μｍ〜８００μｍの間における厚さを有することができる。
【０２３４】
圧縮可能素子７０８は、幾つかの実施形態において、透明転写部材の外部に設けることができるが、転写部材７００との動作で組み合わさって生ずる圧縮率は、代表的には、少なくとも５０μｍ、少なくとも１００μｍ、少なくとも１５０μｍ、又は少なくとも２００μｍである。圧縮率は、幾つかの実施形態において、５００μｍを超えないことを必要とし、また概して、４００μｍ又は３００μｍより大きくない。
【０２３５】
圧縮可能素子７０８は、シリコーン又はポリウレタンで作製することができる。幾つかの実施形態において、このような材料は、レーザービームが移動する光路に沿ってほぼ均一なＲＩを維持できるよう、物理的に転写部材とは別個である場合でも、転写部材と同様のＲＩとなるように選択される。
【０２３６】
画像化ステーション
図１における画像化ステーション１６は、それぞれがレーザービームを発生できる個別に制御可能なレーザー光源の配列を有するチップ１６０２のアレイを担持する支持体１６０１を備える。幾つかの実施形態においては、レーザービーム発光素子は、ＶＣＳＥＬチップを形成する垂直キャビティ面発光レーザー（ＶＣＳＥＬ：Vertical Cavity Surface Emitting Laser）タイプとすることができるが、他タイプのレーザー光源も同じく利用することができる。例えば、ＣＯ２タイプ及び他タイプのような若干タイプのレーザーが若干の実施形態に対してはよりよい場合があり得る。しかし、便宜上、用語ＶＣＳＥＬは任意のこのようなレーザー光源を包括するものと解すべきである。好適には、チップ１６０２は、レーザービームを画像化表面１２上に合焦する対応レンズ１６０３のアレイに個別又は集合的に関連付けることができる。図３〜５は、本発明の若干実施形態によるチップ、及びチップが支持体に備え付けられまたレンズ１６０３に整列させられる様態をより詳細に提示する。
【０２３７】
幾つかの実施形態において、レーザービーム発光素子は、必要とされる総出力が数１０又は数１００ミリワット（ｍＷ）であり得る高出力タイプとすることができる。例えば、所望印刷速度に基づいて、エネルギービームは、１０ｍＷ、１００ｍＷに達する、及び２５０ｍＷにさえも達する、又はそれ以上高い出力を供給することができる。したがって、素子間における熱的相互作用には注意深く考慮する必要がある。
【０２３８】
幾つかの実施形態において、レーザービーム発光素子は、約４００ｎｍ〜約１２μｍ、又は約１０μｍに達する、又は約８μｍに達する、又は約３μｍに達する、又は約１.４μｍに達する波長レンジでの光をコヒーレントに発生できるものとする。このようなレンジは、概して、近赤外域（ＮＩＲ、約０.７５〜１.４μｍ、２１４〜４００ＴＨｚ、８８６〜１６５３ｍｅＶ）、短波長赤外域（ＳＷＩＲ、約１.４〜３μｍ、１００〜２１４ＴＨｚ、４１３〜８８６ｍｅＶ）、中間赤外（ＩＩＲ、３〜８μｍ、３７〜１００ＴＨｚ、１５５〜４１３ｍｅＶ）とも称される中波長赤外域（ＭＷＩＲ）、熱赤外とも称される長波長赤外域（ＬＷＩＲ、８〜１５μｍ、２０〜３７ＴＨｚ、８３〜１５５ｍｅＶ）、として知られている領域を含む。特別な実施形態において、レーザービーム発光素子はＮＩＲレーザーである。
【０２３９】
様々なレーザービーム発光素子が存在し、その幾つかは特定波長レンジにより一層適している。例えば、半導体レーザーは、スペクトルのＮＩＲ域及びＳＷＩＲ域のほとんどをカバーする３７５ｎｍ〜３,５００ｎｍの波長で発光できるレーザーダイオードとして市販されている。ガスレーザーは、選出したガス及び幾つかの光学的設計に基づいて、スペクトルの様々な領域にわたり発光できる。例えば、市販の二酸化炭素（ＣＯ２）レーザーは、１０.６μｍにおける熱赤外域で数１０,０００ワットを発光することができる。
【０２４０】
図１において、画像化ステーション１６は、印象ステーション１８で基板２０に転写されるよう画像化表面１２に塗布される粒子コーティング領域の選択法を提供する。画像化ステーション１６は、ＶＣＳＥＬチップ１６０２のようなレーザー光源のアレイを担持する支持体１６０１を有し、レーザー光源は、随意的に互いに正確に予め決定される位置に行対をなすようにして（例えば、基板の幅全体に沿ってポイントを標的とするのに適切なレーザー光源を有するよう互い違いにする、互いの公称距離及び公差範囲内、等にして）配列する。チップ１６０２が発生するレーザービームはレンズ１６０３によって合焦し、これらレンズ１６０３は、＋１又は−１の倍率を有するのが好適であるが、１より大きい又は小さい絶対値を有する倍率も当然考慮できる。レンズ系は、ＧＲＩＮ（Gradient-Index）ロッドのレンズによる２つ又はそれ以上の対応の行として構成することができる（各チップ１６０２、及びチップにおけるすべてのレーザー素子は対応の合焦レンズ１６０３に関連する）。１つ又はそれ以上のレーザー素子を作動させるためにチップに供給される信号はドラムの回転に同期させ、これにより発生したレーザービームによって高解像度画像が画像化表面１２上でトレースされるようにすることができる。レーザービームによる各ピクセルの照射効果は、そのピクセルで粒子を粘着性があるようにすることであり、これにより後に印象ステーション１８で基板２０に押し付けられるとき、基板２０に転写される。複数のレーザービーム発光素子が存在することは、種々のピクセル又はピクセルのラインを有する画像形成を容易にする。各レーザーの作動持続時間は、所望画像を形成するよう基板表面に転写すべき、結果として生ずる薄膜のサイズに影響を与え、１個のレーザー素子の間欠的又は連続的な作動は、例えば、相対的運動で画像化表面の画像領域で個別ピクセル又はピクセルラインをそれぞれトレースすることができる。動作にあたり、レーザービーム発光素子は、画像化表面上に必要な画像を付与する上で必要に応じてオン・オフ切替えをすることは明らかであり、すべてのレーザービームの連続動作は、結果としてほぼ均一な照射表面を生ずる。
【０２４１】
図３は、図４につきより詳細に説明するように、互いに正確な所定位置をとるよう２行にして配列されるＶＣＳＥＬチップ１６０２を複数個備え付ける支持体１６０１を示す。
【０２４２】
支持体１６０１は、剛性で少なくとも部分的に中空である細長の本体であり、この本体は、内部キャビティに冷却流体を流してチップ１６０２が発生し得る大量の熱に対処することを可能にするコネクタ１６３４を装着する。若干の実施形態において、支持体の本体は、適当なセラミックのような電気的絶縁材料で作製する、又は金属で作製しかつ少なくともチップ１６０２を備え付ける表面を電気絶縁体でコーティングすることができる。これにより薄膜導体（図面には示されない）で作製した回路板を表面上に形成することができる。チップ１６０２は回路板上における接点パッドにはんだ付けし、また支持体１６０１の下端縁から突出するコネクタ１６３２は制御信号及び電力信号をチップ１６０２に供給することができる。各チップ１６０２のレーザー発光素子１６４０は、個別にアドレス指定可能であり、互いの熱的干渉を最小限にするよう十分広く離間する。
【０２４３】
図４は、Ｙ方向に互いに隣接するが異なる行に配置されるＶＣＳＥＬチップ１６０２ａ及び１６０２ｂにおける２つのレーザー発光素子アレイの相対的位置決めを概略的にまた拡大スケールで示す。各チップは、上述したように、円形ドットで示すＭ×Ｎ個のレーザー発光素子１６４０の主アレイを有する。図示の実施例において、Ｍ及びＮは互いに等しく、９行及び９列である。各チップに行数及び列数を等しくすることによって、光学系の設計を最適化することができる。行における素子間の間隔Ａｒ及び列における素子間の間隔ａｃは、互いに異なるものとして示すが、同一とすることもできる。アレイは、列及び行が互いに直交しないよう僅かに斜めになっているものとして示す。その代わり、行はＹ方向に平行にし、列はＸ方向に対して（すなわち、行に対して）僅かに角度をなすよう配置する。このことにより、連続的にエネルギー付勢される場合に素子１６４０によって画像化表面上にトレースされるライン１６４４のようなラインが互いに十分隣接して、高解像度画像を印刷できるようになる。図４は、各行の端部における素子が、各隣接行の対応素子がトレースするラインから距離Ａｒ／Ｍ離れるラインをトレースし、これらライン間の分離量が画像の解像度Ｉｒであることを示す。このようにして、|１|の倍率を仮定すると、Ａｒ及びＭは、等式Ａｒ＝Ｍ×Ｉｒに基づく所望解像度に従って選択される。用語「対応素子」は、Ｍ×Ｎ主アレイにおける個別レーザービーム発光素子が、それぞれのチップ内における隣接する列及び／又は行の素子に関して同一行及び／又は列を占有することを意味する。隣接するチップの文脈では、対応素子は、それぞれの主アレイ内で同一の行及び列を占有する。
【０２４４】
素子は列が行に直交する方形アレイとして配置できることを言及すべきである。この場合、チップは支持体に対して斜めに備え付ける必要があり、個別素子をエネルギー付勢する制御信号のタイミングに対して補償を適用する必要がある。
【０２４５】
図４から明らかなように、アレイ１６０２ｂの公称位置決めは、アレイ１６０２ｂの底部左の素子１６４０によってトレースされるラインが、理想的にはアレイ１６０２ａの頂部右の素子によってトレースされるラインからＡｒ／Ｍに等しい距離だけ離間するように行う。したがって、チップのアレイ１６０２ａ及び１６０２ｂ双方のすべての素子１６４０をエネルギー付勢するとき、これら素子は２×Ｍ×Ｎ個のラインをトレースし、これらラインは、すべて隣接ライン間に何らのずれもなく距離Ａｒ／Ｍだけ均等に離間する。
【０２４６】
欠陥素子を補償したい場合、アレイはレーザー発光素子１６４０の行を付加的に設けることができるが、代案として、２つの隣接する平行ラインをトレースするレーザー発光素子によって生ずるレーザービームの強度を増加することによって欠陥素子を補償することができる。
【０２４７】
素子１６４０のＭ×Ｎ個のアレイに加えて、各チップは、主アレイの各側方サイドにＹ方向に沿って配列した少なくとも１つの付加的な列を有し、この付加列はそれぞれに対応する他の素子１６４２を含む。これら他の素子１６４２は、主アレイ素子１６４０から区別できるよう図４で星印によって示す。図５に示すように、幾つかの実施形態において、Ｍ×Ｎ主アレイの各側方サイドにおいてＹ方向に配置された少なくとも１つの列における少なくとも２つのこのような付加列に各1個の付加素子１６４２を設ける。各主アレイの片側サイド又は両側サイドにおける付加列の付加レーザー素子１６４２は、レンズによって画像化表面上に画像化できるトレースされるライン間における間隔の１／２又は１／３の距離に位置決めすることができる。さらに、付加素子は、公称的にＡｒ／Ｍの距離のスパンがある２つのアレイ間のギャップ内に配置することができ、隣接アレイ間の間隔の誤差を補正する点でより高い感度が得られる。
【０２４８】
付加列の付加素子１６４２は、主アレイの端縁素子から任意な所望の距離に列内で位置決めすることができ、Ｙ方向のこの距離は付加素子／付加列の総数に基づくものであり、整列すべきチップ対における主アレイの各２組は隣接する。ｎが正の整数として第１及び第２の主アレイ間にｎ個の付加素子があると仮定すると、各付加素子は、主アレイの端縁素子から、又は互いにＹ方向に、Ａｒ／（ｎ＋１）に等しい、すなわち、各行における隣接素子の間隔をギャップにおける付加素子の数より１だけ多い数によって割った距離に等しい距離だけ離間することができる。Ｘ方向を考慮すると、付加素子は、それぞれの主アレイにおける素子の行に整列するか、又はこのような行の上方又は下方における任意な所望の中間位置に位置決めするかのいずれかとすることができる。好適には、付加素子１６４２の主アレイにおける隣接素子に対する位置決めは熱的干渉を最小限にする。とりわけ、付加素子はチップのＸ方向に沿う任意な位置に配置することができる。
【０２４９】
実際上、主アレイの片方又は双方の側方サイドにおける任意な付加列に位置決めしたｎ個の素子１６４２は、２つの隣接するチップにおける端縁素子間の公称間隔の約１／（ｎ＋１）に達するまでの整列誤差を補正することができる。例えば、２つのチップにおける端縁素子がＹ方向に２０μｍ（マイクロメートル）の距離にあり、かつ各アレイの隣接サイドに単一付加レーザービーム発光素子がある場合、このような素子は、公称間隔の１／３にいたるまでの間隔誤差、例示的ケースでは約７μｍの誤差を補正することができる。チップにおける所望位置（例えば、チップ端縁に対する）、又は１０％を超えない素子間の公称距離からの任意な位置的偏差は、公差範囲内であると見なされるが、これは多くの場合、半導体製造方法の高い精度に起因するものであり、このような誤差は起こりそうもない。
【０２５０】
図４から分かるように、これら素子１６４２は、作動時に２つのチップ１６０２ａ及び１６０２ｂそれぞれの素子１６４０によってトレースされる等間隔平行ライン１６４４ａ及び１６４４ｂの２セット間における２つの付加ライン１６４６をトレースする。
【０２５１】
一方の付加ライン１６４６は、例えば、図４のチップの主アレイ１６０２ａによってトレースされた直近隣接ライン１６４４ａから距離Ａｒ／３Ｍだけ離れ、他方の付加ライン１６４６は、例えば、チップの主アレイ１６０２ｂによってトレースされた第１隣接ライン１６４４ｂから距離Ａｒ／３Ｍだけ離れる。２つのチップ１６０２ａ及び１６０２ｂ間に誤整列がある場合、これら素子１６４２を主アレイにおける素子１６４０に対して付加的に又はそのいくつかの代わりにエネルギー付勢して、アレイ間のいかなる誤整列をも補償することができ、この誤整列は、印刷画像におけるストライプ（縞）を生ずる傾向があり、このストライプはオーバーラップからの結果として生ずるギャップ又は暗線である。
【０２５２】
本開示におけるこの実施形態による２つの付加素子１６４２は図４において２つの個別ライン１６４６をトレースするものとして示すが、これら２つの素子のエネルギーは、画像化表面上で結集されて単一ラインを形成し、この単一ラインの位置は各付加素子１６４６によって発生するエネルギーの適切な設定によって制御することができる。
【０２５３】
図４におけるチップ１６０２ａ及び１６０２ｂを上述したように適正に機能させるため、これらアレイのＹ方向での相対的位置決めは極めて重要である。発生したレーザービームを画像化表面上に合焦させるよう作用するレンズ系の構成を簡素化するためには、１対のチップ行に対応する２つのレンズ行を自己整列させることができる図５に示す形態を採用するのが有利である。
【０２５４】
図５は７つの隣接チップ１６０２を示し、各チップ１６０２はそれぞれに対応のレンズ１６０３と整列させて示す。主アレイの各側方サイドにおける付加レーザー素子１６４２も図において概略的に示す。各レンズ１６０３は、ＧＲＩＮ（Gradient-Index）ロッドとして構成し、このロッドは半径方向に屈折率が段階的に変化するシリンダの形状である既知のタイプのレンズである。図５に示すジオメトリの場合において、任意な２方向に隣接する３つのチップ１６０２の対応素子の中心が公称的に正三角形の頂点に位置し、このような３つの三角形を図面において参照符号１６５０で示す。すべての三角形１６５０は合同であることに留意されたい。この結果、ＧＲＩＮロッドの直径が、正三角形１６５０の側辺長さ又は同一行における隣接ＶＣＳＥＬチップ１６０２の対応するレーザー発光素子間の距離である２×Ｎ×Ａｒに等しいものと選択する場合、最もコンパクトな形態で積み重ねるとき、レンズ１６０３は対応するチップに対して自動的に正確に整列する。このような構成に対して、ロッドレンズ直径Ｄと、画像解像度Ｉｒと、及びレーザー素子のマトリクスサイズとの間における関係性は、Ｄ＝２Ｉｒ×Ｍ×Ｎであり、ここで、|１|の絶対倍率値を仮定して、ＩｒはＸ方向にトレース可能な隣接ライン間におけるＹ方向の間隔であり、またＭは主Ｍ×Ｎアレイにおける行数であり、またＮは列数である。換言すれば、若干の実施形態は、直径Ｄの円形断面を有するＧＲＩＮロッドを利用し、この場合、Ｄ＝２×Ａｒ×Ｎとし、また隙間なく２つの行を詰め込むとき、任意な２つの隣接ＧＲＩＮロッドの中心間距離も２×Ａｒ×Ｎである。
【０２５５】
レンズ１６０３は図１（側面図）及び図５（断面図）では概略的に個別ＧＲＩＮロッドとして示したが、代案的実施形態においては、各チップのレーザービームは一連のレンズによって伝送することができる。図２に示す例示的実施形態においては、単一ＧＲＩＮロッド１６０３は相互に角度をなす２つのＧＲＩＮロッド１６０３ａ及び１６０３ｂに置換し、一方からの光を、図２に示す例示的実施形態においては高屈折率ガラスのプリズム１６０３ｃによって具現化した反射部材によって他方に指向させ、光を折り曲げ経路に追従させる。ミラーのような他の反射部材等を利用できることを付記する。このような形態によれば、カラー印刷システムにおけるコーティングステーションをよりコンパクトな形態で互いに一層接近させて配置することができ、また画像化表面１２のコーティングの照射が印象ステーションのニップ１８により近接して生ずるようにすることができる。このような折り曲げ光路は、倍率及び光透過のすべての要件を満足させつつ、異なる形態を採用することができる。このように光路を分割できるようにするため、ＧＲＩＮロッドの長さは、図２で描かれた光線で示すように光ビームがロッド１６０３ａを出射し、またロッド１６０３ｂに入射する際にコリメートされるよう選択するのが好ましい。
【０２５６】
チップ１６０２から距離ＷＤｏにその基端部が配置されるＧＲＩＮロッド１６０３ａによって案内される放射は、対応するＧＲＩＮロッド１６０３ｂによって捕捉することができ、このＧＲＩＮロッド１６０３ｂは、同一光路上でロッド１６０３ａから出射するコリメートされた光を集光することができ、またその光を第２ＧＲＩＮロッド１６０３ｂの末端部から距離ＷＤｉに合焦することができる。２つのＧＲＩＮロッドを同一材料で作製し、また同一半径方向勾配プロファイルを有し、またＷＤｏ＝ＷＤｉであるとき、Ｍｏ＝＋１又は−１の倍率を得ることができる。とりわけ、直線的又は折れ曲がりの光路では、倍率は±０.５％又は１％若しくは２％でさえもの範囲内で公称値にほぼ等しいと見なされるべきである。
【０２５７】
幾つかの実施形態において、チップの各レーザー素子が発生するレーザービームの強度は、連続的（アナログ的）又は離散段階的（デジタル的）に調整することができる。１つの実施形態において、チップはＤ／Ａコンバータを有し、デジタル制御信号を受け取ることができるようにする。このようにして、レーザービーム強度は、４、８、１６、３２、……等のような複数の個別段階で制御可能に調整することができ、また幾つかの実施形態において、個別レーザービーム源を、４０９６個又はそれ以上のレベルに達するまで発生するよう制御可能に設定することができる。
【０２５８】
最下位エネルギーレベルは個別レーザー素子が不作動である０として定義し、最上位エネルギーレベルは１と定義することができる。これらの間における個別中間レベルは、印刷の分野で「グレーレベル」に類似のものとして考えることができ、各レベルは漸進的個別強度（例えば、着色出力を考慮するときの陰影）をもたらす。例えば、１６の作動レベルを有するレーザービーム発光素子を考慮するとき、レベル０は印象がない（例えば、基板が素のままで残る又はオリジナルが白であれば白）結果となり、レベル１は最大エネルギーで照射された粒子によって形成される粘着性薄膜（フィル）の転写を生ずる（粒子が着色されている場合、フルブラックのドットを形成する）結果となる。上述した実施例において、レベル１／１６、２／１６、３／１６等々は、白（０）と黒（１）との間を構成する徐々に濃くなるグレー陰影に対応する。代表的にはエネルギーレベルは等間隔とする。
【０２５９】
代替的実施形態において、チップの個別制御可能なレーザー素子は、連続的なアナログ式に変調できる可変エネルギーを有するレーザービームを発生することができる。
【０２６０】
このような画像化ステーションを組み込む印刷システム及び方法は、さらに、レーザー素子及びレーザー素子から移動する画像化表面に投射されるビームを個別に制御できる制御装置を有する。
【０２６１】
各ドットのエネルギープロファイルは側面にテーパが付いた対称形状である。分布がガウス曲線、正弦曲線、又は反転Ｖ字曲線でさえもあるとき、正確なプロファイルは重要でない。任意のこのようなプロファイルにおいて、ピーク強度が増加するにつれ、基底が広くなり、粒子コーティングを粘着性のあるものにする閾値を有するプロファイルの交差区域も直径が増加する。このエネルギー分布の因果関係は、任意な１つのレーザー発光素子の中心線に整列しない画像化表面におけるポイントは隣接素子からエネルギーを受け取る。２つの近接する素子は、素子の中心線におけるコーティング粒子を粘着性のあるものとするのに必要なレベル未満までエネルギー付勢するが、２つの中心線間でオーバーラップする領域における蓄積エネルギーに関してはコーティング粒子を粘着性のあるものとするのに必要なレベルより高いレベルに上昇する。このようにして、レーザー素子の中心線に一致するラスター線に対して付加的に又は代替的に、レーザー線の中心線間に潜在的なラスター線を付加的に生ずることができる。隣接素子からのエネルギーを結集するこの能力を利用して、以下に説明するように異なる効果を得る。これら効果は、照射時間の相互間で僅かな相違があるにしても、異なるレーザー素子から受け取るエネルギーを結集する画像化表面の能力に依存する。
【０２６２】
幾つかの実施形態において、２つの隣接するアレイの同一アレイ双方から又は一方から選択された、レーザー素子の少なくとも１対を制御し、この制御は、それらのエネルギーを画像化表面上に結集し、画像化表面上の２つのレーザー素子画像における中心間のポイントで画像化表面の温度を所定閾値よりも高い温度に上昇させ、２つのレーザー素子画像の中心の少なくとも一方における画像化表面の温度を所定閾値よりも高い温度に上昇させることがないように行う。
【０２６３】
画像化表面の領域が粒子を粘着性のあるものにする温度に達した後、それ以上のいかなる温度上昇も基板への転写には何ら影響しない。しかし、レーザー強度が強くなるにつれて、粘着性のあるドッドのサイズも増大することも付記する。
【０２６４】
画像化ステーション１６は、図１及び２に印象ステーションの上流に配置するものとして示し、このような形態を有する実施形態において、画像化表面１２における薄膜（フィルム）が、画像化ステーションと印象ステーションとの間での遷移中に粘着性を喪失しないことを確実にするのは重要である。このことは、画像化ステーションを印象ステーションにできるだけ近接させて位置決めすることによって達成することができる。折り曲げ光路を有する図２の画像化システムはこの点の支援をする。
【０２６５】
代案として、画像化ステーション及び印象ステーションを合体させて、画像化表面を基板に押し付けるのと同時に画像化表面１２を選択的に加熱することができる。このことは、例えば、透明な材料のドラム１０を形成し、またドラム内に又はドラムの外部でドラムを跨ぐよう印象ステーションに「対面する」位置に画像化システム１６を配置することによって達成することができる。用語「透明な」は、ドラム及び／又は画像化表面の材料が選択された粒子の照射に大きな影響を与えない及び／又は粒子を粘着性のあるものとするのに十分なパワー伝達を可能にすることを意味する。
【０２６６】
このような透明の代替的印刷システムの幾つかの実施形態を、図８及び９に概略的に示し、以下に詳細に説明する。
【０２６７】
図１又は図２に示すデジタル印刷システムは、一色で印刷するだけでなく、多色印刷も達成することができ、この多色印刷は、互いに同期する及び／又は互いに整合するコーティングステーション、画像化ステーション及び印象ステーションの多重構成に同一基板を順次通過させ、それぞれが異なる色を印刷することによって達成することができる。このような場合、異なるコーティングステーション間に基板処理ステーションを設けるのが望ましい。処理ステーションは、例えば、先行コーティングステーションの出口で基板の温度を下げることができる冷却器とすることができる。転写されたフィルムは異なる粒子の後続転写を損なう程度の何らかの残留粘着性を保持することがあり得るため、転写されたフィルムを冷却することによってこのような残留粘着性を排除するのが有利である。熱塑性ポリマーに基づいて、いかなる残留粘着性をも排除する、又はプロセスに影響しないレベルまで低下させることは、代案として、硬化ステーションである処理ステーションによって達成することができる。
【０２６８】
さらに、印刷システムは、単色印刷であっても、両面印刷を可能にする両面印刷システムがあり得る。幾つかのケースにおいて、両面印刷は、基板移送システムのレベルで対処することができ、この基板移送システムは、例えば、未だ印刷していない側面に基板を反転させ、また基板の未印刷側面を、第１側面を印刷するよう作用したのと同一の処理ステーション及び印象ステーションに送り込むことができる。他のケースにおいて、２つの個別の印象ステーションを設け（それぞれは上流側ステーション又は下流側ステーションにおける）、各印象ステーションが同一基板の異なる側面に印刷することができるようにする。
【０２６９】
基板
図面に示す印刷システムは、任意の特別な基板タイプには限定されない。基板は、ペーパー又はカードの個別シートとする、又は連続ウェブの形態を有することができる。軟化したポリマー粒子の薄いフィルムを基板に塗布する方法に起因して、フィルムは基板の表面に在留する傾向がある。このことは、高品質の印刷を異なる品質のペーパー上で達成することができる。さらに、基板材料は、繊維質である必要はなく、また任意なタイプの表面、例えば、プラスチックフィルム又は剛性ボードとすることができる。
【０２７０】
印象ステーション
図１及び２に示す印象ステーションは、滑らかな（圧胴）２２のみを有し、この印象シリンダ２２はドラム１０及びドラムの画像化表面１２に押し付ける。これら図において、転写部材は不透明とすることができ（例えば、図６に示した実施例の転写部材６００につき説明したように）、粒子は画像化表面の前面側から放射を受ける。圧胴２２は基板移送システムの一部をなし、この場合、この基板移送システムは個別基板シートの先導端縁に係合するグリッパを装備することができる。デジタル印刷システム以外において、圧胴は、基板２０に転写すべき粒子コーティングの領域を選択するエンボス加工表面を有することができる。
【０２７１】
図８において代案的な形態を概略的に示し、この場合、粒子は、例として図で示した画像化表面の裏面側からレーザー放射のような印加エネルギーを受けることができる。このような形態は、転写部材の裏面に対する直接熱接触によって画像化表面にエネルギーを印加する熱的印刷熱を用いるときにも使用することができる。放射を使用する場合、転写部材は透明であることが必要である（例えば、図７に示した実施例の転写部材７００につき説明したように）。図８Ａに示すように、コーティングステーション１４は、透明転写部材７００（無端ベルトとして示す）の画像化表面に熱塑性粒子をコーティングすることができる。転写部材は、コーティングステーションにおいて上述したドラム１０と同様の目的を果たす駆動ドラム３０上で、及び案内ローラ４０上で連続的（又は間欠的に）に回転することができる。連続ベルトによって形成される周縁内に位置決めされた画像化ステーション１６を概略的に示す。このようなステーションにおいて画像化装置によって発せられたレーザービームは、案内ローラ４０間に形成されるギャップに沿って通過する転写部材の走行部分の裏面側に向けて投射される。画像化装置は、印象ステーションにおける転写部材の裏面側に接触できる固定の圧縮可能素子７０８を備える。この図示において、２個の案内ローラ４０は、画像化装置１６の照射を受けかつ圧縮可能素子７０８に接触させられる転写部材の走行部を区切るが、１つ又はそれ以上の案内ローラに限定するものと解すべきではなく、滑らかなスライダをこの作用に使用することができる。
【０２７２】
図８Ｂは、印象ニップ１８におけるこの例示的印刷システムを拡大スケールで概略的に示す。ニップ１８において、転写部材７００は、印刷基板２０及び印象シリンダ（圧胴）２２に接触することになる。図から分かるように、画像化装置の圧縮可能素子７０８は多層転写部材に接触し、熱塑性粒子（図示せず）は外側の画像化表面（印刷基板に対面する）上に位置決めされる。上述したように、透明な潤滑剤７３０を用いて、転写部材の裏面側が圧縮可能素子７０８上で摺動し易くする。圧縮可能素子７０８の厚さ及びこの圧縮可能素子７０８とともに使用される透明転写部材を形成する層の厚さは、画像化装置のチップにおける任意なレーザー素子が発した放射が、十分な放射吸収を可能にし、またこれに続いて熱塑性粒子に熱を供給することを可能にする放射吸収層７０４又は転写部材の任意な十分隣接する層を標的とすることができる厚さとなるよう選択する。
【０２７３】
図９において、透明転写部材により画像化表面上に位置決めされる粒子の裏面側照射の代替的形態を概略的に示す。透明転写部材７００は、図７で示した実施例と同様のものとすることができる。この実施形態において、図８に参照符号７０８で先に示した圧縮可能素子は、画像化装置１６′には関連付けられず、別個の圧力アプリケータ９０に関連付けられ、参照符号９２として示したその圧縮可能セグメントが、上述した素子７０８と同様の目的を果たす。同様の関心事が適用され、例えば、潤滑剤を用いて圧力アプリケータ９０の圧縮可能セグメント９２上における転写部材裏面側の摺動を容易にすることができるが、圧縮可能セグメント９２は上述の素子７０８における若干の制約からは解放される。例えば、このようなセグメントを形成する圧縮可能材料は、必ずしも透明である必要はなく、広範囲にわたるエラストマーを使用することができる。画像化装置１６′に関しては、転写部材の裏面側に接触するセグメント９４はもはや圧縮可能である必要はなく、主にレーザービームが画像化表面に向って十分伝播できる透明性を有するだけで済む。したがって、セグメント９４は、例えば、ガラス及びアクリルのような透明プラスチックを含む様々な材料で作製することができる。このような材料は、一般的には、選択の範囲及び光学的画像化品質に関する限り、上述の圧縮可能素子７０８を形成する圧縮可能な透明エラストマーが好ましい。図９に示す実施形態において、照射は、印象ニップの直ぐ上流で生ずる。この実施形態は、図８Ａに概略的に示した代替的実施形態よりもコンパクトさに劣るが、画像化装置のレーザービーム発光素子と転写部材内で標的とされる吸収層との間でほぼ一定の光路長をもたらす。このようなほぼ不変の光路長で動作する印刷システムは、より一層均一なスポットアスペクト及びより一層均等な光学的倍率の点からの恩恵が期待され、基板表面上により高い品質の画像が得られる結果となる。
【０２７４】
本発明の幾つかの実施形態に適した透明潤滑剤７３０は、好適には、発生した放射の光路に影響を与えないものとする。有利には、素子の摺動を促進でき、素子に対して不活性であるものとする。例えば、共存可能な潤滑剤は、転写部材、若しくは圧縮可能素子、若しくは圧力ジェネレータの寸法を膨張させない、及び／又はそれらのいずれもが印刷システムで動作不能になるような他の特性を変更させないものとする。
【０２７５】
本明細書の記載及び本発明の特許請求の範囲において、動詞「備える（comprise）」、「含む(include)」及び「有する(have)」のそれぞれ、並びにそれらの変化形を使用して、動詞の目的語が、必ずしも部材、コンポーネント、素子、ステップ又は動詞における主語の一部の完全なリストではないことを示す。これら用語は「からなる」及び「ほぼからなる」を包含する。
【０２７６】
本明細書で使用する単数形「a」、「an」、「the」は複数形があることにも言及し、文脈でそれ以外を明示しない限り、「少なくとも１つ（at least one）」又は「１つ又はそれ以上（one or more）」を意味する。
【０２７７】
位置的又は運動的な用語、例えば、「上側（upper）」、「下側（lower）」、「右（right）」、「左（left）」、「底部（bottom）」、「下方（below）」、「低下した（lowered）」、「低い（low）」、「頂部（top）」、「上方（above）」、「上昇した（elevated）」、「高い（high）」、「垂直方向の（vertical）」、「水平方向の（horizontal）」、「前方の（front）」、「後方の（back）」、「後方に（backward）」、「前方に（forward）」、上流（upstream）」、「下流（downstream）」、並びにそれらの文法的な変化形は、単に例示としての目的のために使用し、若干のコンポーネントの相対的な位置決め、配置又は変位を説明し、その説明における第１及び第２のコンポーネントを示すものである。このような用語は、必ずしも例えば、「底部（bottom）」コンポーネントが「頂部（top）」コンポーネントの下方にあることを示すものではなく、なぜなら、このような方向、コンポーネント又はその双方は、空間内で反転、回転、若しくは移動する、対角線方向の向き若しくは位置に配置される、水平方向若しくは垂直方向に配置される、又は同様の変更を加えられるからである。
【０２７８】
他に明示しない限り、選択の選択肢リストにおける最後の２つの部材間において「及び／又は（and/or）」を使用することは、挙げられた選択肢のうち１つ又はそれ以上の選択が適切であることを示し、またそうすることができる。
【０２７９】
本明細書において、他に明示しない限り、本発明の実施形態における特徴の条件又は関係特性を修飾する「ほぼ（substantially）」及び「約（about）」のような形容詞は、条件又は特性は意図する用途のための実施形態の動作に容認可能な公差範囲内、又は測定を実施することから及び／若しくは使用する測定機器から予想される変動内に規定されることを意味すると理解すべきである。用語「約（about）」が数値に前置されているとき、±１５％又は±１０％、又は単に±５％でさえも示すことを意図し、また幾つかの事例では精密値を示すことを意図する。
【０２８０】
本発明は、若干の実施形態及び全体的に関連した方法につき説明したが、実施形態及び方法を変更及び置換できることは当業者には明らかであろう。本発明は本明細書に記載の特定の実施形態によって限定されるものではないと理解すべきである。
【図１】
2020513355.tif 000004
【図２】
2020513355.tif 000005
【図３】
2020513355.tif 000006
【図４】
2020513355.tif 000007
【図５】
2020513355.tif 000008
【図６】
2020513355.tif 000009
【図７】
2020513355.tif 000010
【図８Ａ】
2020513355.tif 000011
【図８Ｂ】
2020513355.tif 000012
【図９】
2020513355.tif 000013
【国際調査報告】
2020513355.tif 000014
2020513355.tif 000015
2020513355.tif 000016
2020513355.tif 000017
2020513355.tif 000018
2020513355.tif 000019