(57)【要約】  本発明は、レンズのコーティングのための装置、方法および使用に関し、コーティングされるべきレンズは、１対ずつ互いに平行な管状ターゲットの上方に配置される。ターゲットの相互距離および／またはレンズに対するターゲットの距離は、個別的調節が可能であるように変えられる。さらに、レンズは、両側からコーティングされる。
2020502363.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズ（２）、好ましくは眼鏡レンズをスパッタリング、特にマグネトロンスパッタリングによってコーティングする装置（１）であって、
少なくとも２つのターゲット（４）と、
コーティングされるべき少なくとも１枚のレンズ（２）を保持するキャリヤ（１０）とを有し、
前記ターゲット（４）は、細長くまたは管状に設計されている、装置において、
前記ターゲット（４）は、コーティングされるべき前記少なくとも１枚のレンズ（２）までの距離（Ｚ，Ｆ）および／または前記ターゲット（４）の相互離隔距離を変化させるよう調節可能であり、かつ／あるいは
前記装置（１）は、コーティングされるべき前記少なくとも１枚のレンズ（２）の両面コーティングが可能であるように設計されている、装置。
【請求項２】
前記装置（１）は、前記ターゲット（４）の特に共通調節を可能にする調節駆動装置（１３）を有する、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記ターゲット（４）は、中央平面（Ｍ）に対して斜めにかつ／あるいは対称に調節可能である、請求項１または２記載の装置。
【請求項４】
前記ターゲット（４）は各々、制限式案内装置、好ましくはスロット付き案内（１４）内で調節可能に案内される、請求項１〜３のうちいずれか一に記載の装置。
【請求項５】
前記ターゲット（４）および／または該ターゲットの回転軸線（Ｄ）は、互いに平行に延びている、請求項１〜４のうちいずれか一に記載の装置。
【請求項６】
前記ターゲット（４）は、前記レンズ（２）および／または前記キャリヤ（１０）の互いに反対側に配置されている、請求項１〜５のうちいずれか一に記載の装置。
【請求項７】
２つのターゲット（４）が前記レンズ（２）および／または前記キャリヤ（１０）の一方の側に配置され、２つのターゲット（４）は、前記レンズ（２）および／または前記キャリヤ（１０）の反対側に配置されている、請求項１〜６のうちいずれか一に記載の装置。
【請求項８】
レンズ（２）、好ましくは眼鏡レンズの湾曲した表面をスパッタリング、特にマグネトロンスパッタリングによってコーティングするための２つの細長くかつ／あるいは管状の互いに平行なターゲット（４）の使用において、
前記ターゲット（４）は、前記コーティングの挙動を前記レンズ（２）に適合させるために、コーティングされるべき少なくとも１枚のレンズ（２）までの距離（Ｚ，Ｆ）および／または前記ターゲット（４）の相互離隔距離を変化させるよう調節される、使用。
【請求項９】
レンズ（２）、好ましくは眼鏡レンズをスパッタリング、特にマグネトロンスパッタリングによってコーティングする方法であって、
少なくとも１枚のレンズ（２）が装置（１）および／またはコーティングチャンバ（７）内でコーティングされる、方法において、
前記コーティングの挙動を前記レンズ（２）に適合させるために、少なくとも１つのターゲット（４）を、前記ターゲット（４）と前記レンズ（２）との間の距離（Ｚ）の特に個別的な適合を可能にする調節駆動装置（１３）によって、前記レンズ（２）に対して調節するとともに／あるいは前記レンズ（２）の両面を互いに反対側に配置されたターゲット（４）によって前記装置（１）および／またはコーティングチャンバ（７）内でコーティングする、方法。
【請求項１０】
前記コーティング中における前記ターゲット（４）の相互離隔距離（Ｆ）は、一定のままである、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記コーティング中における少なくとも１つのターゲット（４）までの前記レンズ（２）の距離（Ｚ）は、一定のままである、請求項９または１０記載の方法。
【請求項１２】
前記コーティングを前記レンズ（２）が前記ターゲット（４）に対して静止した状態で実施する、請求項９〜１１のうちいずれか一に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の前提部に記載されたレンズのコーティング装置、請求項１８の前提部に記載されたレンズをコーティングするための２つのターゲットの使用、ならびに請求項９の前提部に記載されたレンズのコーティング方法に関する。
【０００２】
本発明は、一般に、カソードスパッタリングとも呼ばれるスパッタリングによるレンズのコーティングに関する。この関係で、高エネルギーイオンの衝突によって、原子が固体、いわゆるターゲットからはじき出され、そして気相になる。特に、本発明は、印加される電界に加えて、カソードおよび／またはターゲットの後ろに磁界もまた配置されるいわゆるマグネトロンスパッタリングに関する。
【背景技術】
【０００３】
実際には、たとえスパッタリングのための多くの種々の装置および方法が技術の現状から知られていても、コーティングされるべきレンズの一様なコーティングを達成することは困難である。
【０００４】
国際公開第０３／０２３８１３（Ａ１）号パンフレットは、パルスマグネトロンスパッタリングによってレンズをコーティングする装置を開示しており、レンズは、互いに平行に延び、この場合、回転も行う２つの管状ターゲットの長手方向広がりに沿って直線的に動かされる。この場合、レンズの一様なコーティングを達成することができずまたはともかく達成できるとしても多大な困難を必ず伴う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第０３／０２３８１３（Ａ１）号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、レンズをコーティングするための装置、方法および使用を提供し、単純な構造および／または単純な装填で行われる特にレンズの湾曲した表面の極めて一様なかつ／あるいは効率的なコーティングが可能になるようにすることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の目的は、請求項１に記載された装置、請求項８に記載された使用、または請求項９に記載された方法によって達成される。有利な別の改造例は、従属形式の請求項の内容である。
【０００８】
本発明の一観点によれば、レンズをコーティングするための装置は、好ましくは、コーティングされるべき少なくとも１枚のレンズからの距離および／またはターゲットの相互離隔距離を調節しまたは適合させるためにターゲットを調節することができるように設計されている。かくして、特にコーティングされるべき表面もまた考慮に入れて、コーティング挙動をそれぞれの場合においてコーティングされるべきレンズに極めて容易に適合させることができる。例えば、このようにして、表面が凸面であるかまたは凹面であるかおよび／または表面がどれほど湾曲しているかを考慮に入れることができる。その結果、コーティングされるべき表面またはレンズ上にできるだけ一様であるコーティングの作製を可能にしまたは少なくとも容易にする。
【０００９】
ターゲットまたはターゲットを備えたスパッタリング源は、好ましくは、制限方式で案内され、特にスロット付き案内内で調節可能に案内され、その目的は、定められた調節を容易にしまたは保証することにある。これは、レンズの定められたコーティングにとって好都合である。
【００１０】
ターゲットまたはスパッタリング源は、好ましくは、装置またはターゲットの中央平面に対称に調節可能である。これは、定められたコーティングにとって好都合であり、と言うのは、特に、コーティングされるべきレンズもまた、特に好ましくはターゲットの共通平面に平行な平面内において、コーティングのためのこの中央平面に対称に配置されているからである。
【００１１】
ターゲットまたはスパッタリング源は、好ましくは、装置またはターゲットの中央平面に斜めに調節可能である。これは、定められた調節およびかくして定められたコーティング挙動にとって好都合である。
【００１２】
ターゲットまたはスパッタリング源は、好ましくは、調節駆動装置によって調節可能であり、かくして、特にモータにより駆動される。これは、特にコーティングされるべきそれぞれのレンズに応じて、定められたかつさらに必要ならば迅速な調節にとって好都合である。
【００１３】
特に好ましくは、２つのターゲットまたはスパッタリング源の共通調節のための共通調節駆動装置が複数のターゲットまたは２つのターゲットに割り当てられる。
【００１４】
レンズの湾曲した表面のコーティングのための２つの好ましくは細長くかつ／あるいは管状の互いに平行なターゲットの提案対象の使用は、コーティング挙動を特にコーティングされるべきレンズに適合させることができるようにするために、特に、ターゲットがコーティングされるべき少なくとも１枚のレンズからの距離および／またはターゲットの相互離隔距離を変化させるために調節されることを特徴としている。これにより、これに対応した利点が得られる。
【００１５】
本発明の別の、これまた別個独立に達成可能な観点によれば、１つまたは２つ以上のターゲットがコーティング挙動を特に好ましくはコーティングされるべき１枚または複数のそれぞれのレンズに個別的に適合させるためにコーティングされるべき少なくとも１枚のレンズおよび／またはレンズ相互に対して調節駆動装置によって特に一緒に調節される。これにより、これに対応した利点が得られる。
【００１６】
本発明の別の、これまた別個独立に達成可能な観点によれば、提案対象の装置および提案対象の方法は、（同一の）装置またはコーティングチャンバ内で被覆されるべき少なくとも１枚のレンズの両面コーティングを特にターゲットが互いに反対側に配置された状態で実施することを特徴としている。これは、極めて簡単かつ／あるいは効率的なコーティングにとって好都合である。
【００１７】
好ましくは、この装置は、少なくとも１つの細長いまたは管状のターゲットを有し、コーティングされるべきレンズをターゲットに対して静止している軸線回りに回転させることができる。
【００１８】
特に、コーティング中、レンズを直線的に動かすことができないが、これとは異なり、レンズは、好ましくは、静止配置状態であり、ターゲットおよびレンズは、好ましくは、静止軸線回りにそれぞれ回転する。かくして、少ない構成上の労力でレンズの特に一様なコーティングを達成することができる。
【００１９】
好ましくは、コーティングされるべきレンズを、好ましくはターゲットの移動レート（または速度）プロフィールの第１の少なくとも本質的に均一の領域と第２の不均一の領域の両方において、ターゲットの上方に保持し、それと同時に回転させる。かくして、特にレンズの湾曲した表面の特に一様なコーティングが可能である。
【００２０】
特に、コーティングされるべきレンズは、細長いまたは管状のターゲット上で端部領域内にまたはその付近に保持される。かくして、具体的に言えばターゲットの端に向かって増大するエミッションレートの特に良好な利用およびかくして噴霧化ターゲット材料の改良された利用を行うことができる。
【００２１】
好ましくは、２つの細長くかつ／あるいは管状の、特に互いに平行なターゲットが好ましくはレンズの湾曲面のコーティングのために用いられ、レンズは、ターゲット上で１対ずつ配置され、好ましくは静止軸線回りに各々回転する。これにより、単純でコンパクトな構造の実現が可能になり、この場合、レンズの極めて一様なコーティングを達成することができる。
【００２２】
上述の観点ならびに以下の説明から明らかになる本発明の特徴および観点を互いに別個独立に実現でき、しかしながら任意の組み合わせ状態によっても実現することができる。
【００２３】
本発明の別の観点、別の利点および別の特徴は、特許請求の範囲の記載および図面に基づく好ましい実施形態についての以下の説明から明らかになろう。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】レンズをコーティングする提案対象の装置の概略断面図である。
【図２】本装置の概略平面図である。
【図３】概略的に示したレートプロフィールを有する本装置の概略側面図である。
【図４】図２に対応する装置の概略平面図であるが、レンズが交互に配置された状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
図１は、レンズ２、好ましくは特にプラスチックで作られた光学および／またはオフサルミックレンズおよび／または眼鏡レンズをコーティングする提案対象の装置１を非常に概略的な断面図で示している。
【００２６】
装置１は、特に、カソード（陰極）スパッタリングともよばれるスパッタリングによってレンズ２をコーティングするよう設計されている。特に好ましくは、いわゆるマグネトロンスパッタリングが実施される。電気的に印加される電界に加えて、この場合、磁界もまた用いられるとともに／あるいは印加されるが、これについては以下に詳細に説明する。
【００２７】
特に好ましくは、レンズ２の湾曲した、特に凹状の表面を本発明に従ってコーティングする。図１では、かかる湾曲面が右側に示されているレンズ２について概略的に示されている。しかしながら、原理的には、レンズ２の凸状表面または他の表面もまた、それに応じてコーティングすることができる。
【００２８】
装置１は、少なくとも１つのスパッタリング源３、この場合、好ましくは２つのスパッタリング源３を有する。
【００２９】
装置１またはそれぞれのスパッタリング源３は、物質がコーティングおよび／またはスパッタリング中に移動される１つのターゲット４を有し、このターゲット４は、特にガス雰囲気の他の成分と一緒になって、コーティングされるべきそれぞれのレンズ２またはその表面上に所望のコーティングを形成する。
【００３０】
図２は、装置１またはスパッタリング源３を概略平面図で示している。
【００３１】
図示の実施例では、スパッタリング源３および／またはターゲット４は、好ましくは、少なくとも本質的に細長くかつ／あるいは管状のまたは円筒形に作られている。
【００３２】
ターゲット４は、特に中空の筒体および／または管として作られている。
【００３３】
スパッタリング源３および／またはターゲット４は、好ましくは、互いに平行に配置される。
【００３４】
好ましくは、ターゲット４は、回転軸線Ｄ回りに旋回しまたは回転することができる。回転軸線Ｄは、好ましくは一共通表面内にかつ／あるいは特に図１および図２に示されているように互いに平行に延びているが、変形例として、互いに対して傾けられても良い。回転軸線Ｄは、好ましくは、スパッタリング源３の長手方向軸線に一致する。
【００３５】
特に好ましくは、スパッタリング源３および／またはターゲット４は、同じ仕方でかつ／あるいは同一に構成され、その結果、主として１つのスパッタリング源３および／または１つのターゲット４の構造についてだけ以下において説明する。しかしながら、スパッタリング源３および／またはターゲット４は、原理的には、互いに別構成にしても良い。
【００３６】
スパッタリング源３は、好ましくは、図１に概略的に示されているように上述の磁界を発生させるためのそれぞれのターゲット４およびかくして有向性スパッタリングクラウドＳに割り当てられた磁石構造体５を有する。特に、磁石構造体５は、それぞれのターゲット４の下にかつ／あるいはこの中に配置される。
【００３７】
装置１は、図１に示されているように、スパッタリング源３および／またはターゲット４を特に交互にカソードとして動作させるためにかつ／あるいはスパッタリングのために所要の電圧を特にパルスの形態でスパッタリング源３および／またはターゲット４に印加することができるようにするための電圧源６を有する。
【００３８】
特に好ましくは、スパッタリング源３および／またはターゲット４を動作させるとともに／あるいはスパッタリング源３および／またはターゲット４に直流電流（パルス）を交互に供給する。これは、「バイポーラ（双極性）ＤＣ」とも呼ばれる。変形例として、一方のスパッタリング源３および／または一方のターゲット４をカソードとして用い、他方のスパッタリング源３および／または他方のターゲット４をアノードとして用いる。
【００３９】
変形例として、交流電流による動作または他の何らかの動作を実施することができる。
【００４０】
代替的にまたは追加的に、１つまたは２つ以上の追加のまたは別個のアノードを用いても良いが、ただしこれは、好ましくはない場合がある。
【００４１】
装置１は、好ましくはコーティングチャンバ７を有し、このコーティングチャンバ内で、コーティングが行われるとともに／あるいはスパッタリング源３がこのコーティングチャンバ内に配置される。
【００４２】
カソードおよびアノードとしてのスパッタリング源３および／またはターゲット４の好ましい交互動作により、ハウジング側または固定状態の対向電極が必要ではないという作用効果が得られる。特に、コーティングチャンバ７は、対向電極として用いられることはない。このように、対向電極に対するターゲット材料の望ましくない汚れ（ソイリング）および／または付着を最小限に抑えることができるとともに／あるいは特に安定した方法またはコーティングもまたコーティングチャンバ７の汚れとは無関係に達成することができる。したがって、このようにして、クリーニングおよび保守の所要量を軽減することができる。
【００４３】
さらに、ターゲット４を極めて容易に交換することができる。これまた、点検整備を容易にする。
【００４４】
コーティングチャンバ７を特にこの場合、概略的にしか示されていない機器８、例えば連結部、真空ポンプなどによって所望の仕方で好ましくは高真空におよび／または０．１Ｐａ未満の圧力状態に排気することができる。
【００４５】
機器または真空ポンプ８は、特にキャリヤ１０および／またはレンズ２から遠ざかる方向に向いたスパッタリング源３および／またはターゲット４の側にかつ／あるいは好ましくは装置１および／またはコーティングチャンバ７またはターゲット４の中央平面Ｍ内に配置される。
【００４６】
装置１および／またはコーティングチャンバ７は、好ましくは、特にコーティングチャンバ中に延びるガスランス（gas lance）の形態をした概略的に指示されているガス供給源９を有する。
【００４７】
ガス供給源９は、好ましくは、スパッタリング源３および／またはターゲット４の下にかつ／あるいはこれら相互間に、特に好ましくは装置１および／またはコーティングチャンバ７の中央平面Ｍ内に配置される。
【００４８】
ガス供給源９は、好ましくは、管状にかつ／あるいはロッド状に設計されるとともに／あるいは好ましくは一連の状態に配置されるとともに／あるいは上方を向いたガス出口を備えている。
【００４９】
装置１は、好ましくは、図１に示されているようにレンズ２を保持するキャリヤ１０を保持する。
【００５０】
図２において、さらに別の図において、キャリヤ１０は、説明上の理由で、示されていない。
【００５１】
コーティングされるべきレンズ２は、好ましくは各々、軸線Ａ回りに旋回可能または回転可能である。装置１および／またはキャリヤ１０は、レンズ２の対応した回転可能な保持および特に対応した駆動が可能であるように設計されている。特に、装置１は、好ましくはキャリヤ１０のレンズ２を全て一緒に駆動するために図１に概略的に示されているに過ぎない対応の回転駆動装置１１を有する。
【００５２】
キャリヤ１０は、好ましくは、装置１および／またはコーティングチャンバ７内で同時にコーティングされた少なくとも２枚のレンズ２または全てのレンズ２もしくはこの場合４枚のレンズ２と一緒に交換可能である。
【００５３】
特にキャリヤ１０は、レンズ２を特にこれら自体のかつ／あるいは互いに異なる軸線Ａ回りに回転可能に保持し、特に好ましくはレンズ２を回転可能に結合された状態で保持する。特に好ましくは、キャリヤ１０は、図１に概略的に示されているように例えば対応の歯車を介する回転カップリング１２を有する。
【００５４】
好ましくは、キャリヤ１０それ自体をコーティング中に動かさず、キャリヤ１０上に保持されたレンズ２だけを回転させる。装置１および／またはコーティングチャンバ７中へのキャリヤ１０の挿入時または摺動時、キャリヤ１０を好ましくは、駆動装置または歯車によって、特に装置１の回転駆動装置１１などに自動的に結合することができる。
【００５５】
キャリヤ１０により、コーティングされるべきレンズ２を装置１および／またはコーティングチャンバ７に迅速に装填することができるとともに／あるいはコーティング済みレンズ２を迅速に取り出すことができる。
【００５６】
装置１および／またはコーティングチャンバ７には好ましくは、コーティングされるべきレンズ２およびキャリヤ１０を図示されていない接近開口部を経て装填するのが良い。接近開口部は、好ましくはキャリヤ１０によってまたは図示していないクロージャによって特にガス密状態に封止するのが良い。
【００５７】
コーティングのために、コーティングチャンバ７は、好ましくは、ガス密状態に密閉されるのが良い。
【００５８】
キャリヤ１０は、好ましくは、一般にレンズ２をコーティングする装置内で、特にまた、スパッタリング以外のコーティング方法の場合にも使用できる。
【００５９】
ターゲット４の回転軸線Ｄおよび／または長手方向広がりＬは、好ましくは、共通平面内で、特に好ましくは垂直または水平面内で延びる。
【００６０】
レンズ２は、好ましくは、上述した平面の上方にまたはこの側部上に配置される。
【００６１】
好ましくは、各レンズ２は、割り当てられたターゲット４上に配置される。「〜上」という用語は、割り当てられたターゲット４に対して垂直高さに関する場合があるとともに／あるいはコーティングされるべきレンズ２の表面がターゲット４と交差する少なくとも１本の表面法線および特に好ましくはその回転軸線Ｄを有することを示す場合がある。
【００６２】
好ましくは、レンズ２は、スパッタリング源３および／またはターゲット４に１対ずつ割り当てられる。
【００６３】
特に、２枚のレンズ２が図２に示されるとともに図３の概略側面図に示されているようにそれぞれ共通ターゲット４上に配置される。
【００６４】
特に好ましくは、装置１および／またはキャリヤ１０は、２つの対をなすレンズ２、すなわち全部で４枚のレンズ２を受け入れるよう設計されており、２枚のレンズ２は、それぞれ共通のスパッタリング源３および／または共通のターゲット４に割り当てられる。以下において、共通のターゲット４に割り当てられるかかる１対のレンズ２の好ましい配置および向きについて以下に詳細に説明する。これらの記述および説明は、特に、他の対をなすレンズ２に対応関係をなして当てはまる。と言うのは、装置１および／または装置１内におけるレンズ２の配置状態は、特に好ましくは、図１および図２の中央平面Ｍに関して可能な限り対称であり、中央平面Ｍは、図面の平面（紙面）に垂直である。
【００６５】
共通ターゲット４に割り当てられているレンズ２は、好ましくは、ターゲット４の長手方向広がりＬおよび／または回転軸線Ｄに平行な方向にオフセットした状態で配置されている。この方向は、特に、図３に概略的に示されている図では、Ｘ方向またはＸ軸とも呼ばれる。
【００６６】
レンズ２および／またはこれらの軸線Ａは、好ましくはターゲット４の長手方向広がりＬに関して対称に配置されるとともに／あるいは軸方向またはＸ方向に見てターゲット４のそれぞれの端からオフセットまたは距離Ｅを有する。
【００６７】
特に、レンズ２は、図１および図２に示されているようにそれぞれのターゲット４の端領域またはその付近に配置されている。
【００６８】
図３の記載は、コーティング中におけるターゲット４の移動レートまたは率Ｒを軸方向位置またはＸ位置の関数として定量的に示している。かくして、Ｘ上の、すなわちターゲット４の長手方向広がりＬの方向におけるレートＲのレートプロフィールＰが作られる。
【００６９】
ターゲット４の中央軸方向領域に、レートプロフィールＰは、第１の少なくとも本質的に均一の領域Ｂ１を有する。レートＲは、かくして、第１の領域Ｂ１では少なくとも本質的に一定でありかつ／あるいはこの領域Ｂ１ではターゲット４の軸方向広がりに沿って変化するが、その変化の度合いは最大でも極めて僅かであり、具体的には５％未満である。好ましくは、本発明における「本質的に一定」という表現は、長手方向軸線Ｌに沿う、この場合、領域Ｂ１にあるレートＲは、５％未満だけ変化することを意味している。
【００７０】
レートプロフィールＰは、さらに、第２の非均一のまたは不均一の領域Ｂ２を有する。この第２の領域Ｂ２では、レートＲは、極めて大きく変化し、特にターゲット４の端に向かって大きく増大し、特に好ましくは、１０％を超えて変化する。
【００７１】
第２の領域Ｂ２内のターゲット４の移動レートＲがターゲット４および／またはそれぞれの磁石構造体５の端に向かって増大することは、磁界強度が端領域で高められることによって、説明できる。
【００７２】
図３は、上述の意味における第２の領域Ｂ２が第１の領域Ｂ１の両側にかつ／あるいはターゲット４のそれぞれの端寄りに隣接して位置することを示している。
【００７３】
レンズ２は、好ましくは各々、この場合、ターゲット４上における軸方向広がりＬおよび／またはＸ方向に、レンズ２がそれぞれ、第１の領域Ｂ１と第２の領域Ｂ２の両方内に配置されまたはこれら領域とオーバーラップするような仕方で配置される。特に好ましくは、それぞれのレンズ２の中心および／または軸線Ａは、第１の領域Ｂ１から第２の領域Ｂ２までの移行部の付近に配置されている。この移行部からの軸線Ａのずれは、好ましくは、レンズ直径の３０％未満、特に２０％未満、特に好ましくは１０％未満である。
【００７４】
コーティング中における軸線Ａ回りのレンズ２の回転を考慮して、第１の領域Ｂ１と第２の領域Ｂ２の両方におけるレンズ２の上述の配置状態によって、特に一様なコーティングを達成することができるということが判明した。
【００７５】
コーティング中におけるレンズ２の回転の中心となる軸線Ａは、好ましくは、静止しておりあるいはターゲット４またはスパッタリング源３もしくは回転軸線Ｄに対して固定されている。コーティング中、レンズ２は、かくして、たとえレンズ２がオプションとしてまたは好ましくは回されているときであっても、このターゲット４または複数のターゲット４に対して静止している。
【００７６】
特に、一方においてスパッタリング源３および／またはターゲット４および／または回転軸線Ｄ相互間、他方においてコーティングされるべき１つまたは複数のレンズ２および／または軸線Ａ相互間の直線運動および／または重心運動、例えば円形運動が回避されまたは不可能になる。これは、特に単純な設計にとって好都合である。
【００７７】
ターゲット４のそれぞれの端からのレンズ２の回転軸線Ａのオフセットまたは距離Ｅは、好ましくは、レンズ直径および／またはターゲット直径の１．０倍または１．５倍を超える。
【００７８】
距離Ｅは、好ましくは固定される。オプションとして、ターゲット４のそれぞれの端からのレンズ２の回転軸線Ａの距離Ｅの適合または調節は、コーティングされるべきレンズ２または表面の直径および／または曲率および／または形状の関数として実施される。
【００７９】
割り当てられたターゲット４からのレンズ２の距離（垂直距離）Ｚが図１に示されており、この距離は、好ましくは、レンズ直径またはターゲット直径の１．０倍を超える。
【００８０】
割り当てられたターゲット４からのレンズ２の距離（垂直距離）Ｚは、好ましくは、約６０ｍｍ以上かつ／あるいは１５０ｍｍ未満、特に１３０ｍｍ未満である。
【００８１】
距離Ｚは、好ましくは固定される。オプションとして、割り当てられたターゲット４からのレンズ２の距離（垂直距離）Ｚの適合または調節は、コーティングされるべきレンズ２または表面の直径および／または曲率および／または形状の関数として実施される。
【００８２】
ターゲット直径は、好ましくは、約７０〜１３０ｍｍである。
【００８３】
好ましくは、ターゲットの直径（外径）は、長さ全体にわたって少なくとも本質的に一定である。
【００８４】
かくして、ターゲット４は、好ましくは筒体にまたは中空の円筒形に作られる。
【００８５】
共通のターゲット４に割り当てられている２枚のレンズ２の軸線Ａは、好ましくは、一共通平面内でかつ特に互いに平行に延びる。
【００８６】
軸線Ａは、好ましくは、ターゲット平面および／または回転軸線Ｄの共通平面および／または割り当てられたターゲット４の回転軸線Ｄに対して横方向にまたは垂直に延びる。
【００８７】
軸線Ａは、これらの共通平面内において、互いに対して傾けられても良く、特に、互いにまたは外側に対してあるいは互いに遠ざかって傾けられても良い。したがって、この場合、レンズ２は、互いに近づけられまたは互いに遠ざけられ、特に必要ならば、コーティングされるべき２枚のレンズ２の表面が互いに向かって幾分傾けられるとともに／あるいはそれぞれのターゲット４の中心の方へ幾分向くようになっている。したがって、回転軸線Ｄに対する軸線Ａの傾斜角度Ｎは、図３に示されているように好ましくは９０°からずれる場合があり、かつ９０°未満であるのが良く、例えば約７０°〜８５°、または９０°を超え、例えば約９５°〜１１０°であるのが良い。
【００８８】
傾斜角度Ｎは、好ましくは固定される。しかしながら、特に好ましくは、オプションとして、傾斜角度Ｎの適合または調節は、コーティングされるべきレンズ２または表面の直径および／または曲率および／または形状の関数として実施される。
【００８９】
レンズ２の回転軸線Ａはまた、Ｙ方向、すなわち水平方向における回転軸線Ｄに対して横の方向にかつ／あるいはターゲット４の２つの回転軸線Ｄ相互間の中心に向かってシフトされても良く、特に、オフセットまたは距離Ｖが右側に配置されたレンズ２について（当然のことながら、同じことは、好ましくは、左側に配置されたレンズ２にも当てはまる）図１に示されているようにレンズ軸線Ａと割り当てられたターゲットの軸線Ｄとの間に生じる。オフセットまたは距離Ｖは、レンズ直径および／またはターゲット直径の好ましくは２０％未満、特に１０％未満である。
【００９０】
距離Ｖは、好ましくは固定される。オプションとして、レンズ軸線Ａと割り当てられたターゲットの軸線Ｄとの間の距離Ｖの適合または調節は、コーティングされるべきレンズ２または表面の直径および／または曲率および／または形状の関数として実施される。
【００９１】
好ましくは、傾斜角度Ｎおよび／または軸線Ａの位置および／または距離Ｅ、Ｖおよび／またはＺは（もまた）、キャリヤ１０によって定められる。
【００９２】
スパッタリング源３および／またはターゲット４は、好ましくは、共通平面内に位置するとともに／あるいは好ましくは互いに平行に延びる。
【００９３】
スパッタリング源３および／またはターゲット４および／または回転軸線Ｄの相互離隔距離Ｆは、図１に概略的に示されている。距離Ｆは、特に好ましくは可変である。好ましくは、すなわち距離Ｆの適合または調節は、特にレンズの特有の仕方で、特に好ましくはコーティングされるべきレンズ２または表面の直径および／または曲率および／または形状の関数として、かくして個別的に実施される。
【００９４】
特に好ましくは、スパッタリング源３および／またはターゲット４は、コーティングされるべき少なくとも１枚のレンズ２からの距離Ｚおよび／またはターゲット４の相互離隔距離Ｆを変化させるよう調節可能である。
【００９５】
代替例としてまたは追加例として、少なくとも１つのスパッタリング源３および／または１つのターゲット４を距離Ｚおよび／またはＶおよび／またはＥおよび／またはＦの個別的適合のために好ましくは調節駆動装置１３によってレンズ２に対して調節することができる。
【００９６】
この調節は、特に、コーティング挙動を（それぞれの）レンズ２に適合させるのに役立つ。
【００９７】
この調節は、好ましくは、コーティング前に、かくして特にコーティング中ではないときに実施される。しかしながら、原理的には、調節、必要ならば遅い調節もまた、被着されるコーティングを一層一様にするためにコーティング中においても可能である。
【００９８】
調節駆動装置１３は、ステップモータまたはサーボモータから成る。
【００９９】
調節駆動装置１３は、好ましくは、電気的に、空気圧的にまたは油圧的に動作する。
【０１００】
調節駆動装置１３は、歯車、特にレバーギヤ（lever gear）を介して、特に好ましくはそれぞれのスパッタリング源３および／または回転軸線Ｄに係合する。
【０１０１】
特に好ましくは、スパッタリング源３および／またはターゲット４の調節（だけ）が実施される。代替例としてまたは追加例として、レンズ２、特にレンズ２を備えたキャリヤ１０の調節もまた可能である。
【０１０２】
特に好ましくは、調節駆動装置１３は、スパッタリング源３および／またはターゲット４の共通調節のために役立つ。
【０１０３】
提案対象の解決策によれば、「調節」という用語は、特に、一例として左下のスパッタリング源３および／またはそのターゲット４についてのみ図１に示されているように運動Ｇおよび／または位置の変化として理解されるべきである。
【０１０４】
特に好ましくは、スパッタリング源３および／またはターゲット４は、斜めに、直線的に、互いに逆方向にかつ／あるいは中央平面Ｍに対して対称に調節可能である（に過ぎない）。
【０１０５】
特に好ましくは、スパッタリング源３および／またはターゲット４は、特にレバーギヤなどを介して、これらスパッタリング源および／またはターゲットを一緒にしか調節することができずかつ／あるいはこれらスパッタリング源および／またはターゲットが常時互いに平行に差し向けられたままでありかつ／あるいは常時これらの共通平面がキャリヤ３および／レンズ２の主平面に平行な状態で差し向けられたままでありかつ／あるいは互いに平行にしか動くことができないように結合される。
【０１０６】
特に好ましくは、スパッタリング源３および／またはターゲット４は、図１に概略的にしか示されていないように、制限式案内装置、特にスロット付き案内１４によって調節可能な仕方で方向づけられる。
【０１０７】
好ましくは、装置１および提案対象の方法は、レンズ２の２つの面、かくして両面および／または互いに反対側の面をコーティングすることができまたはコーティングするような仕方で設計されている。特に、このために、スパッタリング源３および／またはターゲット４は、最上部に点線で追加的に示されたスパッタリング源３および／またはターゲット４の対によって、図１に概略的に示されているようにキャリヤ１０および／またはコーティングされるべきレンズの互いに反対側の面上に配置される。
【０１０８】
かくして、特に、（同一の）装置１および／またはコーティングチャンバ７内におけるレンズ２の両面コーティングが可能である。
【０１０９】
両面のコーティングを連続的に実施することができまたは選択的に同時に実施することも可能である。
【０１１０】
特に、１対のスパッタリング源３および／またはターゲット４がそれぞれキャリヤ１０および／またはレンズ２の各側に配置され、この場合、各対に関し、上述の記述およびこの後の記述がこの点において繰り返しを省くことができるよう当てはまる。
【０１１１】
両面コーティングのため、キャリヤ１０は、好ましくは、これに対応して両側が開かれ、その結果、キャリヤ上に保持されているレンズ２を所望の仕方で、特に把持具合または取り付け具合を変えることなく、両側からコーティングすることができるようになっている。例えば、この目的のため、キャリヤ１０は、その反対の側に、対応した開口部を備えている。例えば、環状歯車および／または周囲でレンズ２を保持する保持要素または他の要素が用いられ、この場合、これらの要素は、好ましくは、回転カップリング１２を同時に形成しまたは具体化することができる。
【０１１２】
オプションとして、各側および／または互いに反対側に配置されているスパッタリング源３および／またはターゲット４は各々、別個のガス供給源９および／または別個の機器または真空ポンプ８、電圧源６、および／または調節機構体、例えば保持駆動装置１３を有する。しかしながら、原理的には、例えば電圧源６または真空ポンプ８のようなコンポーネントまたは部品もまた、一緒にまたは択一的に使用することも可能である。
【０１１３】
コーティング中に生じるスパッタリングクラウドＳ、すなわちスパッタリングされたターゲット材料は、それぞれ、上述の磁界および／または磁石構造体５によって少なくとも本質的に所望の方向に案内される。図１に破線で示されているスパッタリングクラウドＳの膨張のこの主要な方向Ｈに磁石構造体５の対応の配置または向きによって影響を及ぼすことができ、特に、かかる主要方向Ｈを磁石構造体５の対応の配置および／または向きによって定めることができる。
【０１１４】
図示の実施例では、回転軸線Ｄおよび／または２つのターゲット４に垂直な断面平面内における主要方向Ｈは、好ましくは、互いにかつ／あるいは角度Ｗ（平行な向きから始まる）だけ傾けられる。好ましくは、角度Ｗを特に磁石構造体５の対応の調節または制御によって調節することができまたは適合させることができる。
【０１１５】
角度Ｗは、好ましくは、１０°未満、特に７°未満、特に好ましくは５°未満である。
【０１１６】
上述したように、２つのスパッタリングクラウドＳの主要方向Ｈはまた、互いに平行にかつ／あるいはターゲット４の広がり平面および／または回転軸線Ｄを含む平面に垂直に延びるのが良い。
【０１１７】
好ましくは、主要方向Ｈは、垂直方向上方に延びまたはかかる一方向成分を含む。変形例として、主要方向Ｈの水平方向づけが起こる。レンズ２およびスパッタリング源３および／またはターゲット４の配置は、この場合、当然のことながらそれに応じて選択されなければならない。
【０１１８】
好ましくは、提案対象の装置１および提案対象の方法におけるレンズ２は、各々、第１の領域Ｂ１と第２の領域Ｂ２の両方の中に保持され、そして同時に回される。このようにして、特に均一のコーティングを達成することができる。
【０１１９】
特に好ましくは、レンズ２は、それぞれ、１対ずつコーティングされ、特に、２対のレンズ２がそれぞれ同時にコーティングされる。しかしながら、原理的には、提案対象の解決策としての装置１内で１対のレンズ２だけをコーティングすることもまた可能である。この目的のため、この場合、２枚のレンズを好ましくは共通のターゲット４上にかつ／あるいは一変形構成例において図４に概略的に示されているように２つのターゲット４相互間に配置する。
【０１２０】
好ましくは、レートプロフィールＰは、装置１および／またはコーティングチャンバ７内における分布スクリーンなどによっては影響を受けずまたは均一化されない。これは、特にかかるスクリーン上の望ましくない付着に対して有利である。
【０１２１】
本発明の別個独立に実施することも可能な観点によれば、ターゲット４の外径は、図３において２点鎖線またはターゲット表面Ｔによって概略的に示されているように、軸方向広がりもしくは長さまたは長手方向広がりＬにわたって変化するのが良い。
【０１２２】
特に、ターゲット４は、端領域上よりも中央において厚く作られるのが良くかつ／あるいは例えば樽形に作られるのが良い。
【０１２３】
レンズ２の中央部および／またはレンズ２の回転軸線Ａ相互間および／または領域Ｂ２（もしそうでない場合に生じる）相互間において、ターゲット４の外径は、好ましくは、少なくとも本質的に一定でありかつ／あるいは例えば、図３に示されているようにターゲット４の端の直径よりも４％を超えて大きい。
【０１２４】
特に、外径をそれぞれ、特に領域Ｂ２内におけるターゲット４の端領域寄りでのみ減少させまたは縮小させるのが良くかつ／あるいはターゲット４の長さＬの２５％未満だけ端領域でのみ減少させまたは縮小させるのが良い。
【０１２５】
原理的には、長手方向広がりＬにおける外周部は、任意の外形を有しても良く、必要ならば、（部分的に）凸状、凹状、または波形であっても良い。
【０１２６】
好ましくは、ターゲット４の外径は、ターゲット４の長手方向広がりまたは長さＬにわたって４％を超えて変化する。
【０１２７】
特に好ましくは、レートプロフィールＰは、ターゲット４の長さＬにわたる外径の変化によって所望の仕方で変更され、例えば、一様に作られる。
【０１２８】
外径の変化について代替的にまたは追加的に、磁石構造体５の磁界および／または磁界強度もまた、ターゲット４および／またはスパッタリング源３の長さＬにわたって変化しても良く、特に、それぞれ端に向かって減少しても良くかつ／あるいは中央の領域で特に４％を超えて大きくても良く、その目的は、レートプロフィールＰを所望の仕方で変更し、特に好ましくは一様にするとともに／あるいはターゲット４の外径が変化している場合であっても、特にオプションとして漸変する外径を考慮に入れてターゲット表面上の磁界のある特定のかつ／あるいは所望のかつ／あるいは少なくとも本質的に一定の強度を達成することにある。
【０１２９】
外径および／または磁界の上述の変化によって、レートプロフィールＰは、好ましくは、特にターゲット４に対するコーティングされるべきレンズ２の位置決め（例えば、レンズ２の回転軸線Ａの存在場所およびレンズ２の相互離隔距離）を考慮に入れるとともに／あるいはコーティングされるべきレンズ２の表面の形状および／または寸法を考慮に入れて、レンズ２の所望のコーティング、特に一様なまたは他の何らかの仕方で、必要ならば非一様にも定められたコーティングを達成することができまたは達成し、例えば縁に向かって増大する（厚くなる）または減少する（薄くなる）レンズのコーティングを達成することができまたは達成するよう、一様にされ、変更されまたは確立される。
【０１３０】
レンズ２は、好ましくは、それぞれの軸線Ａを中心として、特にレンズ２の幾何学的中心に関して回転する。
【０１３１】
図示されていない変形実施形態によれば、レンズ２は、オプションとして、回転軸線Ａに対して偏心的に回転してもよくかつ／あるいは取り付けられても良い。この場合、偏心度は、好ましくは、レンズ２の半径よりも小さく、所望ならば、これより大きくても良い。
【０１３２】
特に、回転軸線Ａは、かくして、それぞれのレンズ２と交差する。
【０１３３】
軸線Ａは、好ましくは、それぞれのレンズ２の主要平面に垂直に延びる。
【０１３４】
レンズ２の各々は、好ましくは、それ自体の軸線Ａ回りに回転可能である。
【０１３５】
軸線Ａは、好ましくは、割り当てられたターゲット４の長手方向広がりまたは回転軸線Ｄに対して横方向に、オプションとしてこれに垂直に延びる。
【０１３６】
特に、それぞれのレンズ２の回転軸線Ａは、図１に示されているように割り当てられたターゲット４と交差しまたはオプションとして割り当てられたターゲット４の長手方向軸線または回転軸線Ｄと交差する。
【０１３７】
コーティング中および／または回転中、レンズ２は、好ましくは、割り当てられたターゲット４または側部がコーティングされるべき２つの割り当てられたターゲット４の方へ常時向く。
【０１３８】
それぞれのターゲット４の回転軸線Ｄは、好ましくは、コーティングされるべきレンズ２または表面の任意法線または少なくとも１つの表面法線に垂直に延びる。
【０１３９】
レンズ２の光学中心または幾何学的中心の表面法線を回転軸線Ａまたは回転軸線Ｄに対して傾けることができる。
【０１４０】
レンズ中心は、好ましくは、ターゲット４のＸ方向および／または長手方向広がりで見てそれぞれのターゲット４に関して対称に配置される。
【０１４１】
コーティングされるべきレンズ２および／またはこれらの幾何学的中心または光学中心は、好ましくは、少なくとも本質的に共通平面内に配置され、この平面は、特に好ましくは、スパッタリング源３および／またはターゲット４の広がり平面および／または回転軸線Ｄに平行に延びる。
【０１４２】
提案対象の装置１および／または提案対象の方法またはレンズ２のコーティングのための管状の互いに平行なターゲット４の提案対象の使用に関し、好ましくは、０．００１〜２０ｎｍ／ｓ、特に０．００５ｎｍ／ｓ〜２．５ｎｍ／ｓのコーティングレートが達成される。
【０１４３】
レンズ２の回転速度は、好ましくは、１０〜２００ｒｐｍ、特に約４０〜１２０ｒｐｍである。
【０１４４】
レンズ２の直径は、好ましくは、約４０〜８５ｍｍである。
【０１４５】
ターゲット４の回転速度は、好ましくは、約３〜３０ｒｐｍである。
【０１４６】
好ましくは、レンズ２の回転速度は、ターゲット４の回転速度よりも大きく、特に、この回転速度は、ターゲット４の回転速度の２倍または３倍を超える。
【０１４７】
コーティング時間は、好ましくは、約４〜７分である。
【０１４８】
提案対象の装置１または提案対象の方法または提案対象の使用は、好ましくは、１つまたは２つ以上の反射防止層を被着させるために用いられる。
【０１４９】
提案対象の解決策によれば、特に反応性コーティングが実施され、この場合、作業ガス（貴ガス）特にアルゴンへの反応性ガス、例えば窒素、水素および／または酸素の対応の供給によって、ターゲット材料は、このガスと反応することができ、レンズ２上に所望のコーティングを生じさせることができる。
【０１５０】
特に、レンズ２をコーティングするための装置１、方法および使用が提案され、この場合、コーティングされるべきレンズは、これらが各々ターゲット４の均一または非均一の除去領域Ｂ１，Ｂ２の両方とオーバーラップするよう互いに平行な管状ターゲット４上に１対ずつ配置されるとともにレンズ２は、特に一様なコーティングを達成することができるよう回転する。
【符号の説明】
【０１５１】
１  装置
２  レンズ
３  スパッタリング源
４  ターゲット
５  磁石構造体
６  電圧源
７  コーティングチャンバ
８  機器
９  ガス供給源
１０  キャリヤ
１１  回転駆動装置
１２  回転カップリング
１３  調節駆動装置
１４  スロット付き案内
Ａ  レンズの回転軸線
Ｂ１  第１の領域
Ｂ２  第２の領域
Ｄ  ターゲットの回転軸線
Ｅ  レンズ軸線とターゲット端との間の距離
Ｆ  ターゲットまたは回転軸線相互間の距離
Ｇ  調節方向
Ｈ  主要方向
Ｌ  ターゲットの長手方向広がりおよび／または長さ
Ｍ  中央平面
Ｎ  傾斜角度
Ｐ  レートプロフィール
Ｓ  スパッタリングクラウド
Ｔ  ターゲット表面
Ｖ  レンズ軸線とターゲット軸線との間の距離
Ｗ  角度
Ｚ  レンズとターゲットとの間の距離
【図１】
2020502363.tif 000003
【図２】
2020502363.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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2020502363.tif 000008
2020502363.tif 000009
2020502363.tif 000010
2020502363.tif 000011
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