(57)【要約】  エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル及びその製造方法、表示装置であって、該エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル０１は、ベース基板１０と、ベース基板１０に設置された画素構造２０と、画素構造２０に設置された封止層とを備え、画素構造２０はアレイ状に配列され、アレイとして配列された複数のサブ画素２１０を含み、該画素構造アレイは交差する第１方向と第２方向を有し、サブ画素２１０のエッジが、第１方向に沿う直線から徐々に離れていく第１部分を含み、第１部分の延伸方向が第２方向と重ならない。本開示の実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルは、有機フィルムの広がり効果を向上させ、よって、封止信頼性を向上させ、さらにその表示品質を向上させることができる。
2020510952.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルであって、
ベース基板と、
前記ベース基板に設置された画素構造と、
前記画素構造に設置された封止層とを備え、
前記画素構造はアレイ状に配列され、アレイとして配列された複数のサブ画素を含み、前記画素構造アレイは交差する第１方向と第２方向を有し、前記サブ画素のエッジが、前記第１方向に沿う直線から徐々に離れていく第１部分を含み、前記第１部分の延伸方向が前記第２方向と重ならない、エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項２】
前記第１部分は略曲線である請求項１に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項３】
前記サブ画素の形状は、円形、楕円形及び前記第１方向に蛇行している四角形のうちの少なくとも１種を含む請求項２に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項４】
前記サブ画素のエッジの形状は、角数が４個より多い多角形を含む請求項１に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項５】
前記第１方向に、隣接する前記サブ画素は前記第２方向に沿う直線に対して対称的に設置され、前記第２方向に、隣接する前記サブ画素は前記第１方向に沿う直線に対して対称的に設置される請求項１〜４のいずれか１項に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項６】
前記封止薄膜は、積層して設置された無機絶縁層と有機絶縁層を少なくとも含む請求項１〜５のいずれか１項に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項７】
前記無機絶縁層は、前記有機絶縁層と前記画素構造との間に設置された第１無機絶縁層、及び前記有機絶縁層に設置された第２無機絶縁層を含む請求項６に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項８】
前記有機絶縁層の材料はアクリル樹脂又はポリメチルメタクリレート樹脂のうちの少なくとも１種を含む請求項６に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項９】
前記画素構造は、積層して設置された第１電極、有機材料機能層及び第２電極を含む請求項１〜８のいずれか１項に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項１０】
隣接する前記画素構造の間に設置された画素区画層をさらに備え、前記サブ画素は前記画素区画層により限定された開口領域に対応し、前記画素区画層の厚さが１μｍ〜１．５μｍである請求項１〜９のいずれか１項に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項１１】
前記エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルはフレキシブルディスプレイパネルである請求項１〜１０のいずれか１項に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルを備える表示装置。
【請求項１３】
ベース基板に有機エレクトロルミネッセンスダイオード画素構造を形成するステップと、
前記画素構造に前記画素構造を被覆する封止薄膜を形成するステップとを含み、
前記画素構造はアレイ状に配列され、アレイとして配列された複数のサブ画素を含み、前記画素構造アレイは交差する第１方向と第２方向を有し、前記サブ画素が前記第１方向に沿う直線から徐々に離れていく第１部分を含み、前記第１部分の延伸方向が前記第２方向と重ならない、エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】
前記封止薄膜は、積層して設置された無機絶縁層と有機絶縁層を少なくとも含み、前記封止薄膜の形成は、コーティング、インクジェットプリント又は印刷の方式で前記有機絶縁層を形成するステップを少なくとも含む請求項１３に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、２０１７年３月２日に出願した中国特許出願第２０１７１０１２１１４４．６号の優先権を主張し、ここで、上記中国特許出願に開示されている全内容が本願の一部として援用される。
【０００２】
本開示の実施例はエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル及びその製造方法、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
有機エレクトロルミネッセンスデバイス（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）は、自己発光が可能で、バックライトを必要とせず、コントラストが高く、厚さが小さく、広視野角を有し、応答速度が高く、フレキシブルパネルに利用でき、使用温度範囲が広範で、構造及びプロセスがシンプルである等の優れた特性を同時に備えるため、表示技術分野において幅広く応用されている。
【０００４】
ＯＬＥＤデバイスの寿命の問題がその産業化を制限し、ＯＬＥＤデバイスを製造する過程において、ベース基板に画素区画領域を製作して、次に真空蒸着方法で有機発光材料を画素区画領域内に蒸着する必要があり、有機発光材料が水、酸素ガスに対して高感度であるため、蒸着完了後、ＯＬＥＤデバイスの寿命短縮を防止するために、薄膜封止又はエッジコーティング方法による封止を行わなければならない。現在、封止方法として、薄膜封止とエッジコーティングの２種の方法があり、そのうち、薄膜封止構造は有機層と無機層を複数層積層した構造であり、有機層と無機層を複数層積層した構造では、無機層は水や酸素を遮断する役割を果たすことができ、有機層は平坦化の役割を果たすことができ、エッジコーティング方法は、たとえば、非表示領域にシート状の乾燥剤を添加するか、又はディスプレイのエッジに乾燥剤を一回り塗布することであり、上記エッジコーティング方法は狭額縁化設計から好ましくない。
【発明の概要】
【０００５】
本開示の少なくとも一実施例はエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルを提供し、該エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルは、ベース基板と、前記ベース基板に設置された画素構造と、前記画素構造に設置された封止薄膜とを備え、前記画素構造はアレイ状に配列され、アレイとして配列された複数のサブ画素を含み、前記画素構造アレイは交差する第１方向と第２方向を有し、前記サブ画素のエッジが、前記第１方向に沿う直線から徐々に離れていく第１部分を含み、前記第１部分の延伸方向が前記第２方向と重ならない。
【０００６】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、前記第１部分は略曲線である。
【０００７】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、前記サブ画素のエッジの形状は、円形、楕円形及び前記第１方向に蛇行している四角形のうちの少なくとも１種を含む。
【０００８】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、前記サブ画素に対応した開口領域の形状は、角数が４個より多い多角形を含む。
【０００９】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、前記第１方向に、隣接する前記サブ画素は前記第２方向に沿う直線に対して対称的に設置され、前記第２方向に、隣接する前記サブ画素は前記第１方向に沿う直線に対して対称的に設置される。
【００１０】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、各前記ＯＬＥＤ画素構造はいずれも第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素を含む。
【００１１】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、前記封止薄膜は、積層して設置された無機絶縁層と有機絶縁層を少なくとも含む。
【００１２】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、前記無機絶縁層は、前記有機絶縁層と前記ＯＬＥＤ画素構造との間に設置された第１無機絶縁層、及び前記有機絶縁層に設置された第２無機絶縁層を含む。
【００１３】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、前記有機絶縁層の材料はアクリル樹脂又はポリメチルメタクリレート樹脂のうちの少なくとも１種を含む。
【００１４】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、前記第１無機絶縁層と前記第２無機絶縁層の材料はいずれも窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、二酸化チタン又はアルミナのうちの少なくとも１種を含む。
【００１５】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、前記ＯＬＥＤ画素構造は、積層して設置された第１電極、有機材料機能層及び第２電極を含む。
【００１６】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、前記有機材料機能層は、発光層、電子注入層、電子輸送層、正孔注入層及び正孔輸送層を含む。
【００１７】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルは、隣接する前記ＯＬＥＤ画素構造の間に設置された画素区画層をさらに備え、前記サブ画素は前記画素区画層の開口領域に対応し、前記画素区画層の厚さが１μｍ〜１．５μｍである。
【００１８】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、前記エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルはフレキシブルディスプレイパネルである。
【００１９】
本開示の少なくとも一実施例は、上記のいずれかのエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルを備える表示装置をさらに提供する。
【００２０】
本開示の少なくとも一実施例はエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法をさらに提供し、ベース基板に画素構造を形成するステップと、前記画素構造に前記画素構造を被覆する封止薄膜を形成するステップとを含み、前記画素構造はアレイ状に配列され、アレイとして配列された複数のサブ画素を含み、前記画素構造アレイは交差する第１方向と第２方向を有し、前記サブ画素のエッジが、前記第１方向に沿う直線から徐々に離れていく第１部分を含み、前記第１部分の延伸方向が前記第２方向と重ならない。
【００２１】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る製造方法において、前記封止薄膜は、積層して設置された無機絶縁層と有機絶縁層を少なくとも含む。
【００２２】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る製造方法において、前記無機絶縁層は、前記有機絶縁層と前記画素構造との間に設置された第１無機絶縁層、及び前記有機絶縁層に設置された第２無機絶縁層を含む。
【００２３】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る製造方法において、前記封止薄膜の形成は、コーティング、インクジェットプリント又は印刷の方式で前記有機絶縁層を形成するステップを少なくとも含む。
【００２４】
たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る製造方法は、隣接する前記画素構造の間に画素区画層を形成するステップをさらに含み、前記サブ画素は前記画素区画層の開口領域に対応し、前記画素区画層の厚さが１μｍ〜１．５μｍである。
【００２５】
本開示の実施例の技術案をより明瞭に説明するために、以下、実施例の図面を簡単に説明するが、勿論、以下の説明における図面は本開示の一部の実施例に関するものに過ぎず、本開示を制限するものではない。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】図１は画素のエッジ形態の平面構造模式図である。
【図２】図２は有機絶縁材料をコーティングした平面構造模式図である。
【図３】図３は有機絶縁材料をコーティングした断面構造模式図である。
【図４】図４は有機絶縁材料のレベリング過程の断面構造模式図である。
【図５】図５は有機絶縁材料を硬化させた断面構造模式図である。
【図６】図６は本開示の一実施例に係る画素のエッジ形態の平面構造模式図である。
【図７】図７は本開示の一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの断面構造模式図である。
【図８】図８は本開示の一実施例に係る別の画素のエッジ形態の平面構造模式図である。
【図９】図９は本開示の一実施例に係るさらに別の画素のエッジ形態の平面構造模式図である。
【図１０】図１０は本開示の一実施例に係るさらに別の画素のエッジ形態の平面構造模式図である。
【図１１】図１１は本開示の一実施例に係るＯＬＥＤ画素構造の断面構造模式図である。
【図１２】図１２は本開示の一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本開示の実施例の目的、技術案及び利点をより明瞭にするために、以下、本開示の実施例の図面を参照しながら、本開示の実施例の技術案を明瞭且つ完全に説明する。勿論、説明される実施例は、本開示の一部の実施例に過ぎず、すべての実施例ではない。説明される本開示の実施例に基づいて、当業者が創造的な努力を必要とせずに想到し得るすべての他の実施例は、本開示の保護範囲に属する。
【００２８】
特に定義しない限り、本開示に使用されている技術用語又は科学用語は当業者が理解できる通常の意味を有する。本開示に使用されている「第１」、「第２」及び類似する用語は、順序、数量又は重要性を示すものではなく、異なる構成要素を区別するためのものにすぎない。「含む」又は「備える」等の類似する用語は、「含む」又は「備える」の前に記載された素子又は部材が、「含む」又は「備える」の後に挙げられる素子又は部材及びその同等物を含むが、ほかの素子又は部材を排除しないことを意味する。「接続」又は「連結」等の類似する用語は、物理的又は機械的接続に限定されず、直接接続されるか間接的に接続されるかに関わらず、電気的接続を含んでもよい。「上」、「下」、「左」、「右」等は、相対位置関係を示すだけであり、説明対象の絶対位置が変わると、該相対位置関係も変わる。
【００２９】
有機エレクトロルミネッセンスデバイス（ＯＬＥＤ）の有機発光材料の蒸着が完了した後、通常、薄膜封止を行う必要がある。薄膜封止過程は、通常、無機膜層の一回目の堆積、有機膜層の製作及び無機膜層の二回目の堆積を含む。有機膜層の製作過程は、有機絶縁材料のコーティング、有機絶縁材料のレベリング及び有機絶縁材料の硬化による有機膜の成膜を含む。
【００３０】
なお、レベリング（ｌｅｖｅｌｉｎｇ）とは、有機絶縁材料をコーティングした後、有機絶縁材料が乾燥して成膜する前に、コーティングした有機液滴を広げて、一部の溶剤を発揮させる過程である。
【００３１】
一般的な有機エレクトロルミネッセンスデバイス（ＯＬＥＤ）では、各サブ画素のエッジ形態が矩形であり、たとえば、図１は画素のエッジ形態の平面構造模式図であり、各サブ画素はアレイ構造として配列されており、横方向と縦方向におけるエッジがいずれも直線となる。図１に示される構造に有機膜層を製作するとき、後続のレベリングをした有機膜層べた一面の均一性を確保して、ムラをできるだけ回避するように、有機絶縁材料を均一にコーティングする。たとえば、図２は有機絶縁材料をコーティングした平面構造模式図であり、図２に示されるように、有機絶縁材料からなる液滴がＯＬＥＤに均一に分布している。たとえば、図３は有機絶縁材料をコーティングした断面構造模式図であり、図３に示されるように、画素区画層２４の厚さが大きく、各サブ画素が画素区画層２４によって分割して形成されたスリット領域内に形成され、有機絶縁材料からなる液滴の寸法が大きいため、該有機液滴は画素領域の上に浮遊している。たとえば、図４は有機絶縁材料のレベリング過程の断面構造模式図であり、図４に示されるように、画素区画層２４とサブ画素との境界では、有機絶縁材料からなる液滴が広がりにくくなる。有機絶縁材料からなる液滴の広がり過程について以下に説明する。有機絶縁材料がレベリング過程の初期状態にあるとき、サブ画素のエッジに平行となる横方向と縦方向（縦方向における画素エッジの長さが横方向における画素エッジの長さより大きい）において、有機絶縁材料からなる液滴の広がり速度が同じである。サブ画素のエッジに平行となる横方向において、画素区画層とサブ画素との境界に段差が存在するため、有機絶縁材料からなる液滴は広がり過程にサブ画素のエッジの横方向に障碍に遭われるが、縦方向に前の広がり速度で拡散し、このように、図１に示されるサブ画素に平行となる長手方向に所定方向のムラが生じて、エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの表示効果に悪影響を及ぼす。たとえば、図５は有機絶縁材料を硬化させた断面構造模式図であり、図５から明らかなように、有機絶縁材料が広がってなる有機絶縁層は第１無機絶縁層に敷き均して、平坦化の役割を果たすものの、後続のエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの表示ムラが発生して、表示効果に悪影響を及ぼす。
【００３２】
本開示の少なくとも一実施例はエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルを提供し、該エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルは、ベース基板と、ベース基板に設置された画素構造と、画素構造に設置された封止薄膜とを備え、画素構造はアレイ状に配列され、アレイとして配列された複数のサブ画素を含み、画素構造アレイは交差する第１方向と第２方向を有し、サブ画素のエッジが、第１方向に沿う直線から徐々に離れていく第１部分を含み、第１部分の延伸方向が第２方向と重ならず、該第１方向は、たとえば有機薄膜に対しレベリング操作を行う方向である。本開示の実施例では、サブ画素のエッジ形状に対して微処理を行い、すなわち、サブ画素のエッジを、第１方向に沿う直線から徐々に離れていく第１部分を含み、該第１部分の延伸方向が第２方向と重ならないように設置することによって、発生するムラが規則的に生じることがなくなり、それにより、ムラが目視により視認できないほど、明らかではなくなり、このように、更に視覚的にムラが解消される。
【００３３】
本開示の少なくとも一実施例は、エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルを提供し、たとえば、図６は本開示の一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおける画素のエッジ形態の平面構造模式図であり、図７は本開示の一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの断面構造模式図である。図６及び図７に示されるように、該エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル０１は、ベース基板１０と、ベース基板１０に設置された有機エレクトロルミネッセンスダイオード（ＯＬＥＤ）画素構造２０と、ＯＬＥＤ画素構造２０に設置された封止薄膜３０とを含み、該ＯＬＥＤ画素構造２０はアレイ状に配列され、ＯＬＥＤ画素構造２０はアレイとして配列された複数のサブ画素２１０を含み、該ＯＬＥＤ画素構造２０のアレイは交差する第１方向（たとえば、Ｙ方向）と第２方向（たとえば、Ｘ方向）を有し、該サブ画素２１０のエッジが、第１方向（たとえば、Ｙ方向）に沿う直線から徐々に離れていく第１部分を含み、該第１部分の延伸方向が第２方向（たとえば、Ｘ方向）と重ならない。
【００３４】
たとえば、図６に示されるように、各サブ画素２１０は、少なくとも第１方向（たとえば、Ｙ方向）におけるエッジが曲線である。たとえば、該サブ画素２１０の形状は、円形、楕円形及び第１方向に蛇行している四角形のうちの少なくとも１種を含む。
【００３５】
なお、各サブ画素２１０の平面構造は、図６に示される円形であり、下記図８、図９及び図１０において、各サブ画素２１０の平面構造はそれぞれ楕円形、第１方向に蛇行している四角形及び正六角形であってもよく、サブ画素は発光領域域に対応し、本開示の実施例では、「第１方向における」とは、第１方向に平行となるか又は第１方向に略平行となることを意味する。
【００３６】
図６から明らかなように、各サブ画素２１０のエッジの平面形状は、円形であり、第１方向（Ｙ方向）におけるエッジが略曲線である。図６に示されるように、各サブ画素２１０は、第１方向（Ｙ方向）におけるエッジが曲線である以外、第２方向（Ｘ方向）におけるエッジも曲線であり、このように、ムラの不規則性をより向上させて、表示ムラを弱めひいては解消する。該第１方向は、たとえば、有機薄膜に対して図６中のＹ軸に平行となる方向にレベリング操作をする方向であり、該第２方向は、たとえば、有機薄膜に対して図６中のＸ軸に平行となる方向にレベリング操作をする方向である。
【００３７】
たとえば、図８は、本開示の一実施例に係る別の画素のエッジ形態の平面構造模式図である。図８に示されるように、該サブ画素２１０のエッジ形態は、楕円形であり、該サブ画素２１０の第１方向（Ｙ方向）におけるエッジが曲線であり、第２方向（Ｘ方向）におけるエッジも曲線であり、このように、ムラの不規則性もより向上させて、表示ムラを弱めひいては解消する。
【００３８】
たとえば、図９は、本開示の一実施例に係るさらに別の画素のエッジ形態の平面構造模式図である。図９に示されるように、該サブ画素２１０のエッジ形態は、第１方向に蛇行している四角形であり、各サブ画素２１０は、少なくとも第１方向（Ｙ方向）におけるエッジが略曲線である。類似的に、該サブ画素２１０のエッジ形態は、第１方向に蛇行し且つ角数が４個より多い多角形、たとえば、第１方向に蛇行している五角形、六角形又は八角形等、あるいは、第１方向と第２方向のいずれにも蛇行している四角形又は角数が４個より多い多角形、たとえば、第１方向と第２方向のいずれにも蛇行している五角形、六角形又は八角形等であってもよい。
【００３９】
図６、図８及び図９に示される画素のエッジ形態によって、有機絶縁材料からなる液滴は、広がり過程で、第１方向と第２方向での流動状態が異なることによる規則的なムラを防止し、サブ画素の第１方向（Ｙ方向）におけるエッジを曲線として設計することにより、規則的なムラを不規則的にし、ムラを目視により視認できない程度にして、さらに、ムラが視覚的に解消される。
【００４０】
たとえば、各サブ画素２１０のエッジの形状は、角数が４個より多い多角形を含む。たとえば、サブ画素２１０のエッジの形状は、正五角形、正六角形、正八角形等の正多角形、又は、不規則的な五角形、六角形又は八角形等であってもよい。たとえば、図１０は本開示の一実施例に係るさらに別のサブ画素のエッジ形態の平面構造模式図であり、図１０に示されるように、サブ画素２１０のエッジの形状は正六角形である。このように、サブ画素のエッジを、第１方向に沿う直線から徐々に離れていく第１部分を含み、該第１部分の延伸方向が第２方向と重ならないように設置することによって、規則的なムラを不規則的にし、ムラを目視により視認できない程度にして、さらに、ムラが視覚的に解消される。
【００４１】
たとえば、図６に示されるように、該サブ画素２１０は第１サブ画素２１１、第２サブ画素２１２及び第３サブ画素２１３を含む。たとえば、該第１サブ画素２１１、第２サブ画素２１２及び第３サブ画素２１３の色は互いに異なり、且つそれぞれ赤色サブ画素、緑色サブ画素及び青色サブ画素のうちの１種であってもよく、たとえば、該第１サブ画素２１１、第２サブ画素２１２及び第３サブ画素２１３はそれぞれ赤色サブ画素、緑色サブ画素、青色サブ画素である。たとえば、該第１サブ画素２１１、第２サブ画素２１２及び第３サブ画素２１３の色は同じであってもよく、赤色サブ画素、緑色サブ画素及び青色サブ画素のうちのいずれか１種に対応して単色表示を実現し、すなわち、図６に示されるエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルのＯＬＥＤ画素構造は、単色発光構造であってもよく、多色発光構造であってもよい。
【００４２】
たとえば、図６に示されるように、各ＯＬＥＤ画素構造はいずれも第１サブ画素２１１、第２サブ画素２１２及び第３サブ画素２１３を含む。
【００４３】
たとえば、第１方向において、隣接するサブ画素は第２方向に沿う直線に対して軸対称に設置され、第２方向において、隣接するサブ画素は第１方向に沿う直線に対して対称的に設置され、この場合、第１方向に沿う直線と第２方向に沿う直線は互いに垂直となる。
【００４４】
なお、本開示の実施例は、画素配列がＲＧＢを並列させて横縦方向に配列されたエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルに関するものであってもよく、ダイヤモンド構造、菱形構造等のような、横縦方向に配列されないエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルに関するものであってもよい。
【００４５】
たとえば、図７に示されるように、該封止薄膜は、積層して設置された無機絶縁層と有機絶縁層を少なくとも含む。たとえば、該無機絶縁層は、有機絶縁層３１とＯＬＥＤ画素構造２０との間に設置された第１無機絶縁層３２と、有機絶縁層３１に設置された第２無機絶縁層３３とを含む。
【００４６】
たとえば、該有機絶縁層３１の材料は、アクリル樹脂又はポリメチルメタクリレート樹脂のうちの少なくとも１種を含み、なお、該有機絶縁層３１の材料は、上記複数種に制限されず、平坦化要件を満たす有機材料である限り、該有機絶縁層３１の材料として使用できる。
【００４７】
たとえば、該有機絶縁層３１の厚さは１００〜５００ｎｍ、たとえば、１００ｎｍ、２００ｎｍ、３００ｎｍ、４００ｎｍ又は５００ｎｍである。
【００４８】
たとえば、第１無機絶縁層３２と第２無機絶縁層３３の材料としては、いずれも窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）、酸窒化ケイ素（ＳｉＮＯｘ）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）又はアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）のうちの少なくとも１種を含んでもよい。たとえば、該第１無機絶縁層３２と第２無機絶縁層３３は、上記いずれかの材料で形成される単層構造、二層構造又は三層構造であってもよい。
【００４９】
たとえば、図７において、上記封止薄膜３０における第１無機絶縁層３２と第２無機絶縁層３３は、水や酸素ガスを遮断する役割を果たすことができ、第１無機絶縁層３２と第２無機絶縁層３３の屈曲性が悪いため、第１無機絶縁層３２と第２無機絶縁層３３を曲げるときに破裂が発生しやすく、第１無機絶縁層３２と第２無機絶縁層３３との間に介在される有機絶縁層３１は、応力を解放する役割を果たすことができ、曲げる過程による第１無機絶縁層３２と第２無機絶縁層３３へのダメージを軽減させるとともに、平坦化の役割を果たすことができる。なお、水、酸素ガスをより効果的に遮断するように、第１無機絶縁層３２と第２無機絶縁層３３のほか、該封止薄膜は積層して設置されたより多層の無機絶縁層をさらに含んでもよい。該第１無機絶縁層３２、第２無機絶縁層３３及び有機絶縁層３１からなる封止薄膜３０は、水や酸素ガスを遮断するとともに平坦化させるだけでなく、ＯＬＥＤディスプレイパネルの狭額縁化を実現しやすい。
【００５０】
たとえば、図７に示されるように、該ＯＬＥＤ画素構造２０は、積層して設置された第１電極２２、有機絶縁材料機能層２３及び第２電極２５を含む。たとえば、図１１は、本開示の一実施例に係るＯＬＥＤ画素構造の断面構造模式図であり、該ＯＬＥＤ画素構造において、有機材料機能層２３は、発光層２３１、電子注入層２３２、電子輸送層２３３、正孔注入層２３４及び正孔輸送層２３５を含んでもよい。
【００５１】
たとえば、該エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルは、隣接するＯＬＥＤ画素構造の間に設置された画素区画層２４をさらに含み、サブ画素は画素区画層２４の開口領域に対応する。
【００５２】
たとえば、該画素区画層２４の厚さは１μｍ〜１．５μｍ、たとえば、１μｍ、１．２μｍ、１．４μｍ又は１．５μｍである。
【００５３】
たとえば、該画素区画層２４は隣接する２つの画素構造を隔てることに用いられることができる。たとえば、画素区画層２４は、通常、有機絶縁材料（たとえば、アクリル系樹脂）又は無機絶縁材料（たとえば、窒化ケイ素ＳｉＮｘ又は酸化ケイ素ＳｉＯｘ）を用いて形成されるものであり、絶縁性質を有する。
【００５４】
たとえば、図１１に示されるように、画素構造における有機材料機能層２３の発光効率を効果的に向上させるために、第１電極２２を陽極とし、第１電極２２と発光層２３１との間に溶液プロセスで形成される正孔輸送層２３５を設置する。第２電極２５を陰極とし、第２電極２５と発光層２３１との間に真空熱蒸着プロセスで形成される電子輸送層２３３を設置する。
【００５５】
たとえば、正孔輸送層２３５の厚さは１０〜１８０ｎｍであり、該正孔輸送層２３５の材料はポリトリフェニルアミンを含む。
【００５６】
たとえば、電子輸送層２３３の厚さは１０〜３５ｎｍであり、該電子輸送層２３３の材料はトリス（８−キノリノラト）アルミニウムである。
【００５７】
たとえば、図１１に示されるように、該有機材料機能層２３は、第２電極２５と電子輸送層２３３との間に設置された電子注入層２３２と、第１電極２２と正孔輸送層２３５との間に設置された正孔注入層２３４とをさらに含んでもよい。
【００５８】
たとえば、正孔注入層２３４の厚さは１０〜１８０ｎｍであり、電子注入層２３２の厚さは１〜５ｎｍである。
【００５９】
たとえば、正孔注入層２３４の材料は、ポリ（３,４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリチオフェン及びポリアニリンのうちのいずれか１種を含む。正孔注入層の材料は、トリス−［４−（５−フェニル−２−チエニル）フェニル］アミン、４,４’,４’’−トリス［２−ナフチル（フェニル）アミノ］トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）、４,４’,４’’−トリス−（３−メチルフェニルアニリノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）又はＴＰＤであってもよい。
【００６０】
たとえば、電子注入層２３２の材料は、ＬｉＦ、８−ヒドロキシキノリン−リチウムのうちのいずれか１種又はそれらの組み合わせを含む。電子注入層はアルカリ金属酸化物、又はその他のアルカリ金属フッ化物等を使用してもよい。アルカリ金属酸化物は、酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ）、メタホウ酸リチウム（ＬｉＢＯ２）、ケイ酸カリウム（Ｋ２ＳｉＯ３）、炭酸セシウム（Ｃｓ２ＣＯ３）等を含み、アルカリ金属フッ化物は、フッ化ナトリウム（ＮａＦ）等を含む。
【００６１】
なお、第１電極２２と第２電極２５は、一方が陽極で、他方が陰極であり、上記第１電極２２を陽極、第２電極２５を陰極とする実施形態以外、第１電極２２を陰極、第２電極２５を陽極としてもよい。陽極としての電極の材料は、インジウムスズ酸化物、酸化亜鉛等の透明導電性材料を含み、陰極としての電極の材料は、アルミニウム、マグネシウム又はその両方からなる合金材料を含む。
【００６２】
たとえば、本開示の実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいては、該エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルはフレキシブルディスプレイパネルであり、なお、本開示の実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルは、任意のタイプのＯＬＥＤパネルであってもく、フレキシブルディスプレイパネルに制限されない。本開示の実施例は、封止薄膜構造における有機絶縁層によるムラを減少させるために画素のエッジ形態を改良するものであるため、一般的に、フレキシブルディスプレイパネルは薄膜封止プロセスを用い、非フレキシブルパネルの場合は、現在、薄膜封止プロセス以外、ガラス粉末焼結プロセスで封止してもよく、そのため、薄膜封止プロセスで製造された非フレキシブルパネルにも適用できる。
【００６３】
たとえば、該ベース基板１０は、酸化物薄膜トランジスタ基板、低温多結晶シリコン基板、ガラス基板又は樹脂材料からなる基板であってもよい。
【００６４】
本開示の少なくとも一実施例は、上記のいずれかのエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルを備える表示装置をさらに提供する。
【００６５】
たとえば、該表示装置は、携帯電話、タブレットコンピュータ、テレビ、ディスプレイ、ノートパソコン、デジタルフォトフレーム、ナビゲータ等の任意の表示機能を有する製品又は部材であってもよい。該表示装置のほかの必要な構成部分はいずれも、当業者が公知するものであるため、ここで詳細な説明を省略し、また、本開示を制限するものではない。該表示装置の実施形態については、上記のいずれかのエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの実施形態を参照すればよく、重複説明を省略する。
【００６６】
本開示の少なくとも一実施例は、エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法をさらに提供し、たとえば、図１２は、本開示の一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造のフローチャートである。図１２に示されるように、該製造過程は、ステップ１０１とステップ１０２を含む。
【００６７】
ステップ１０１、ベース基板に有機エレクトロルミネッセンスダイオード（ＯＬＥＤ）画素構造を形成する。
【００６８】
たとえば、該ベース基板は、酸化物薄膜トランジスタ基板、低温多結晶シリコン基板、ガラス基板又は樹脂材料からなる基板であってもよい。
【００６９】
たとえば、該ＯＬＥＤ画素構造は、積層して設置された第１電極、有機材料機能層及び第２電極を含み、該有機材料機能層は、発光層、電子注入層、電子輸送層、正孔注入層及び正孔輸送層を含んでもよい。
【００７０】
たとえば、該エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法は、隣接するＯＬＥＤ画素構造の間に画素区画層を形成するステップをさらに含み、サブ画素のエッジは画素区画層の開口領域に対応し、該画素区画層の厚さが１μｍ〜１．５μｍである。
【００７１】
たとえば、該第１電極、有機材料機能層、画素区画層、第２電極及び該有機材料機能層において、発光層、電子注入層、電子輸送層、正孔注入層及び正孔輸送層の材料及び厚さの設計について、上記実施例での関連説明を参照すればよく、ここで重複説明を省略する。
【００７２】
ステップ１０２、ＯＬＥＤ画素構造にＯＬＥＤ画素構造を被覆する封止薄膜を形成する。該ＯＬＥＤ画素構造はアレイ状に配列され、アレイとして配列された複数のサブ画素を含み、該ＯＬＥＤ画素構造アレイは交差する第１方向と第２方向を有し、該サブ画素のエッジは、第１方向に沿う直線から徐々に離れていく第１部分を含み、該第１部分の延伸方向が第２方向と重ならない。
【００７３】
たとえば、各サブ画素は、少なくとも第１方向（たとえば、Ｙ方向）におけるエッジが略曲線である。たとえば、該サブ画素のエッジ形状は、円形、楕円形及び第１方向に蛇行している四角形のうちの少なくとも１種を含む。
【００７４】
各サブ画素のエッジの平面形状が円形である場合、第１方向（Ｙ方向）におけるエッジが略曲線である。各サブ画素は、第１方向（Ｙ方向）におけるエッジが曲線である以外、第２方向（Ｘ方向）におけるエッジも曲線であり、このように、ムラの不規則性をより向上させて、表示ムラを弱めひいては解消する。該第１方向は、たとえば、有機フィルムに対してＹ軸に平行となる方向にレベリング操作をする方向であり、該第２方向は、たとえば、有機フィルムに対してＸ軸に平行となる方向にレベリング操作をする方向である。
【００７５】
たとえば、該サブ画素のエッジ形態は、楕円形であり、第１方向（Ｙ方向）におけるエッジが曲線であり、第２方向（Ｘ方向）におけるエッジも曲線であり、このように、ムラの不規則性をより向上させて、表示ムラを弱めひいては解消する。
【００７６】
たとえば、該サブ画素のエッジ形態は、第１方向に蛇行している四角形であり、各サブ画素は、少なくとも第１方向（Ｙ方向）におけるエッジが曲線である。類似的に、該サブ画素のエッジ形態は、第１方向に蛇形し且つ角数が４個より多い多角形、たとえば、第１方向に蛇行している五角形、六角形又は八角形等、あるいは、第１方向と第２方向のいずれにも蛇行している四角形又は角数が４個より多い多角形、たとえば、第１方向と第２方向のいずれにも蛇行している五角形、六角形又は八角形等であってもよい。
【００７７】
たとえば、各サブ画素のエッジ形状は、角数が４個より多い多角形を含み、たとえば、サブ画素のエッジ形状は、正五角形、正六角形、正八角形等の正多角形、又は、不規則的な五角形、六角形又は八角形等であってもよい。
【００７８】
各サブ画素の少なくとも第１方向（Ｙ方向）におけるエッジが略曲線であり、又は、各サブ画素の形状が、角数が４個より多い多角形を含む場合、有機絶縁材料からなる液滴は、広がり過程で、第１方向と第２方向での流動状態が異なることによる規則的なムラを防止し、各サブ画素の第１方向（Ｙ方向）におけるエッジを曲線として又は各サブ画素の形状を角数が４個より多い多角形を含むように設計することにより、規則的なムラを不規則的にし、ムラを目視により視認できない程度にして、さらに、ムラが視覚的に解消される。
【００７９】
たとえば、第１方向において、隣接するサブ画素は、第２方向に沿う直線に対して対称的に設置され、第２方向において、隣接するサブ画素は、第１方向に沿う直線に対して対称的に設置される。
【００８０】
たとえば、該封止薄膜は、積層して設置された無機絶縁層と有機絶縁層を少なくとも含む。
【００８１】
たとえば、該無機絶縁層は、有機絶縁層と画素構造との間に設置された第１無機絶縁層、及び有機絶縁層に設置された第２無機絶縁層を含む。
【００８２】
たとえば、該封止薄膜における第１無機絶縁層と第２無機絶縁層は、水や酸素ガスを遮断する役割を果たすことができ、第１無機絶縁層と第２無機絶縁層の屈曲性が悪いため、第１無機絶縁層と第２無機絶縁層を曲げるときに破裂が発生しやすく、第１無機絶縁層と第２無機絶縁層との間に介在される有機絶縁層は、応力を解放する役割を果たすことができ、曲げる過程による第１無機絶縁層と第２無機絶縁層へのダメージを軽減させるとともに、平坦化の役割を果たすことができる。なお、水、酸素ガスをより効果的に遮断するように、第１無機絶縁層と第２無機絶縁層のほか、該封止薄膜は積層して設置されたより多層の無機絶縁層をさらに含んでもよい。該第１無機絶縁層、第２無機絶縁層及び有機絶縁層からなる封止薄膜は、水や酸素ガスを遮断するとともに平坦化させるだけでなく、ＯＬＥＤディスプレイパネルの狭額縁化を実現しやすい。
【００８３】
たとえば、本開示の実施例に係る製造方法において、封止薄膜の形成方法は、コーティング、インクジェットプリント又は印刷の方式を少なくとも含む。
【００８４】
たとえば、本開示の実施例に係る製造方法は、真空装置を用いて第１無機絶縁層と第２無機絶縁層を製造するステップをさらに含み、たとえば、プラズマ強化化学気相成長法又はスパッタリング方法で第１無機絶縁層と第２無機絶縁層を形成する。
【００８５】
たとえば、本開示の実施例に係る製造方法は、隣接するＯＬＥＤ画素構造の間に画素区画層を形成するステップをさらに含み、サブ画素は画素区画層の開口領域に対応し、該画素区画層の厚さが１μｍ〜１．５μｍである。
【００８６】
本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル及びその製造方法、表示装置は、以下の少なくとも１つの有益な効果を有する。
【００８７】
（１）本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルは、サブ画素のエッジを、第１方向に沿う直線から徐々に離れていく第１部分を含み、該第１部分の延伸方向が第２方向と重ならないように設置することによって、後続の薄膜封止層の製作過程で、有機薄膜封止層の広がり効果を向上できる。
【００８８】
（２）本開示の少なくとも一実施例に係るエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルは、封止信頼性を向上させ、エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの表示品質を向上できる。
【００８９】
なお、
（１）本開示の実施例の図面は本開示の実施例に関する構造だけに係り、その他の構造について通常設計を参照すればよい。
【００９０】
（２）説明の便宜上、本開示の実施例を説明する図面において、層又は領域の厚さは拡大又は縮小されており、すなわち、これら図面は実際の縮尺で作成するものではない。なお、たとえば、層、膜、領域又は基板のような素子が別の素子「上」又は「下」に位置すると表現する際、該素子は、別の素子「上」又は「下」に「直接に」位置してもよく、又は中間素子が介在されてもよい。
【００９１】
（３）矛盾がない限り、本開示の実施例及び実施例における特徴を互いに組み合わせて新たな実施例を得ることができる。
【００９２】
以上は、本開示の具体的な実施形態に過ぎず、本開示の保護範囲はここに制限されるものではなく、本開示の保護範囲は特許請求の範囲による保護範囲を基準とすべきである。
【符号の説明】
【００９３】
０１  エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル、１０  ベース基板、２０  画素構造、２１０  サブ画素、２１１  第１サブ画素、２１２  第２サブ画素、２１３  第３サブ画素、２２  第１電極、２３  有機絶縁材料機能層、２３１  発光層、２３２  電子注入層、２３３  電子輸送層、２３４  正孔注入層、２３５  正孔輸送層、２４  画素区画層、２５  第２電極、３０  封止薄膜、３１  有機絶縁層、３２  第１無機絶縁層、３３  第２無機絶縁層
【図１】
2020510952.tif 000003
【図２】
2020510952.tif 000004
【図３】
2020510952.tif 000005
【図４】
2020510952.tif 000006
【図５】
2020510952.tif 000007
【図６】
2020510952.tif 000008
【図７】
2020510952.tif 000009
【図８】
2020510952.tif 000010
【図９】
2020510952.tif 000011
【図１０】
2020510952.tif 000012
【図１１】
2020510952.tif 000013
【図１２】
2020510952.tif 000014
【国際調査報告】
2020510952.tif 000015
2020510952.tif 000016
2020510952.tif 000017
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