(57)【要約】【課題】コーティングされた基材を提供する。【解決手段】コーティングされた基材を形成するために、ホスホネート化学を介して、ホスホネート、ホスホン酸又はそれらの誘導体を有機又は無機基材（例えば、金属酸化物基材）に付着させる。【選択図】図１【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｘ）、一般式（Ｘｂ）、又は一般式（Ｘ）と一般式（Ｘｂ）の組み合わせ
【化１】
2020537042.tif 000066
（式中、Ｚ、Ｚ１、及びＺ２は、それぞれ有機又は無機基材であり、Ｊ２は、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２、−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨ、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化２】
2020537042.tif 000067
又は
【化３】
2020537042.tif 000068
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。）又はそれらの塩を含むコーティングされた基材。
【請求項２】
Ｊ２は、−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−（ＣＨ２）６ＮＨ２、−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）６Ｒ４又は−（ＣＨ２）９Ｒ４である、請求項１に記載のコーティングされた基材。
【請求項３】
Ｊ２は−（ＣＨ２）６Ｒ４である、請求項１に記載のコーティングされた基材。
【請求項４】
Ｊ２は−（ＣＨ２）９Ｒ４である、請求項１に記載のコーティングされた基材。
【請求項５】
Ｊ２は−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３である、請求項１に記載のコーティングされた基材。
【請求項６】
Ｊ２は−（ＣＨ２）６ＮＨ２である、請求項１に記載のコーティングされた基材。
【請求項７】
Ｊ２は−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨである、請求項１に記載のコーティングされた基材。
【請求項８】
Ｊ２は−（ＣＨ２）６Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化４】
2020537042.tif 000069
である、請求項１に記載のコーティングされた基材。
【請求項９】
Ｊ２は−（ＣＨ２）９Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化５】
2020537042.tif 000070
である、請求項１に記載のコーティングされた基材。
【請求項１０】
Ｒ４は、
【化６】
2020537042.tif 000071
である、請求項１に記載のコーティングされた基材。
【請求項１１】
Ｒ４は、
【化７】
2020537042.tif 000072
である、請求項１に記載のコーティングされた基材。
【請求項１２】
一般式（Ｘ）、一般式（Ｘｂ）、又は一般式（Ｘ）と一般式（Ｘｂ）の組み合わせ
【化８】
2020537042.tif 000073
（式中、Ｚ、Ｚ１、及びＺ２は、それぞれ有機又は無機基材であり、Ｊ２は、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２、又は−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨである。）又はそれらの塩を含むコーティングされた基材を調製する方法であって、
１）一般式（Ｘａ）又は（Ｘｂ）を含むコーティングされた基材が形成されるように、Ｚ又はＺ１及びＺ２を一般式（Ｖ）で表される化合物
【化９】
2020537042.tif 000074
（Ｖ）
（式中、Ｒ１は−Ｃ１−２０−アルキル−Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２、−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨである。）又はその塩と接触させること、
を含む、方法。
【請求項１３】
Ｒ１及びＪ２は、−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−（ＣＨ２）６ＮＨ２、又は、−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
Ｊ２は−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２であり、
一般式（ＩＸ）、一般式（ＩＸｂ）、又は一般式（ＩＸ）と一般式（ＩＸｂ）の組み合わせ
【化１０】
2020537042.tif 000075
（式中、Ｚ、Ｚ１、及びＺ２は、それぞれ有機又は無機基材であり、Ｊ２は−Ｃ１−２０−アルキル−Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化１１】
2020537042.tif 000076
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。）又はそれらの塩を含むコーティングされた基材を形成するために、
２）一般式（Ｘ）又は（Ｘｂ）を一般式（ＸＸ）で表される化合物
【化１２】
2020537042.tif 000077
（ＸＸ）
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）又はその塩と接触させること、
をさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
Ｊ２は−（ＣＨ２）６ＮＨ２である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
Ｊ２は−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨであり、
一般式（ＩＸ）、一般式（ＩＸｂ）、又は一般式（ＩＸ）と一般式（Ｘｂ）の組み合わせ
【化１３】
2020537042.tif 000078
（式中、Ｚ、Ｚ１、及びＺ２は、それぞれ有機又は無機基材であり、Ｊ２は−Ｃ１−２０−アルキル−Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化１４】
2020537042.tif 000079
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。）又はそれらの塩を含むコーティングされた基材を形成するために、
２）一般式（Ｘ）、（Ｘｂ）、又は一般式（Ｘ）と（Ｘｂ）の組み合わせを一般式（ＸＸＩ）で表される化合物
【化１５】
2020537042.tif 000080
（ＸＸＩ）
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）又はその塩と接触させること、
をさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
Ｊ２は−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨである、請求項１６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の相互参照）
本願は、２０１７年１０月１１日に出願された米国仮特許出願第６２/５７０,８５２号の優先権を主張し、その開示の全体を参照により本明細書に援用する。
【０００２】
（技術分野）
コーティングされた基材、及び、ホスホネート化学を介して、ホスホネート、ホスホン酸又はそれらの誘導体を有機又は無機基材に付着させるための方法を説明する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本明細書に提供されているのは、コーティングされた基材（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）である。そしてまた、本明細書に提供されているのは、コーティングされた基材を形成するために、ホスホネート化学を介して、ホスホネート、ホスホン酸又はそれらの誘導体を有機又は無機基材（例えば、金属酸化物基材）に付着させるための方法である。
【図面の簡単な説明】
【０００４】
【図１】有機及び無機基材を官能基化にするための結合分子として、本明細書で利用できる各種のホスホネート（及び誘導体）の構成を示す。
【図２】異なる結合様式を介した金属酸化物基材へのホスホン酸の−Ｐ−Ｏ−Ｍ−結合の一般的な表現を示す。
【図３】ホスホリルコリン誘導体（例えば、ＬＩＰＩＤＵＲＥ ＮＨ０１）のその後のグラフト化のための中間結合分子となる１１−ホスホノウンデカン酸を示す。
【図４】ホスホリルコリン誘導体（例えば、ＬＩＰＩＤＵＲＥＡＣ０１）のその後のグラフト化のための中間結合分子となる６−アミノヘキシルホスホン酸を示す。
【図５】金属酸化物表面の改質のための直接結合分子となるホスホコリンを示す。
【発明を実施するための形態】
【０００５】
本明細書に提供されているのは、ホスホネートコーティングされた素材、及びその調製方法である。
【０００６】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、金属ホスホネート化合物の調製に用いられる。いくつかの実施形態において、ホスホン酸は、Ｐ−Ｏ−Ｍ結合を介した金属酸化物との共有結合によって、リガンド又は高分子鎖をグラフト化することによるハイブリッド素材の合成に用いられる。いくつかの実施形態において、これらグラフト化されたリガンド又は高分子鎖は、中間結合分子又は末端結合分子のどちらかとなる。
【０００７】
（組成物）
いくつかの態様において、本明細書に提供されているのは、ホスホネート又はホスホン酸、又はそれらの塩である。
【０００８】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、一般式（Ｉ）又はその塩である。
【化１】
2020537042.tif 000002
（Ｉ）
【０００９】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、一般式（ＩＩ）又はその塩である。
【化２】
2020537042.tif 000003
（ＩＩ）
【００１０】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、一般式（ＩＩＩ）又はその塩である。
【化３】
2020537042.tif 000004
（ＩＩＩ）
【００１１】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、一般式（ＩＶ）又はその塩である。
【化４】
2020537042.tif 000005
（ＩＶ）
【００１２】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、一般式（Ｖ）又はその塩である。
【化５】
2020537042.tif 000006
（Ｖ）
【００１３】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、一般式（ＶＩ）又はその塩である。
【化６】
2020537042.tif 000007
（ＶＩ）
【００１４】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、一般式（ＶＩＩ）又はその塩である。
【化７】
2020537042.tif 000008
（ＶＩＩ）
【００１５】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、一般式（Ｖ）又はその塩である。
【化８】
2020537042.tif 000009
（Ｖ）
（式中、Ｒ１は、−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−（ＣＨ２）６ＮＨ２、−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）６Ｒ４、又は−（ＣＨ２）９Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化９】
2020537042.tif 000010
又は
【化１０】
2020537042.tif 000011
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。）
【００１６】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、一般式（Ｖ）又はその塩である。
【化１１】
2020537042.tif 000012
（Ｖ）
（式中、Ｒ１は、−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３である。）
【００１７】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、一般式（Ｖ）又はその塩である。
【化１２】
2020537042.tif 000013
（Ｖ）
（式中、Ｒ１は、−（ＣＨ２）６ＮＨ２である。）
【００１８】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、一般式（Ｖ）又はその塩である。
【化１３】
2020537042.tif 000014
（Ｖ）
（式中、Ｒ１は、−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨである。）
【００１９】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、一般式（Ｖ）又はその塩である。
【化１４】
2020537042.tif 000015
（Ｖ）
（式中、Ｒ１は、−（ＣＨ２）６Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化１５】
2020537042.tif 000016
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。）
【００２０】
いくつかの実施形態において、ホスホネート又はホスホン酸は、一般式（Ｖ）又はその塩である。
【化１６】
2020537042.tif 000017
（Ｖ）
（式中、Ｒ１は、−（ＣＨ２）９Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化１７】
2020537042.tif 000018
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。）
【００２１】
いくつかの態様において、本明細書に提供されているのは、一般式（ＶＩＩＩ）又はその塩を含むコーティングされた基材である。
ＺＪ１
（ＶＩＩＩ）
（式中、Ｚは、有機又は無機基材であり、Ｊ１は、−ＯＨである。）
【００２２】
いくつかの態様において、本明細書に提供されているのは、一般式（ＩＸ）又はその塩を含むコーティングされた基材である。
【化１８】
2020537042.tif 000019
（ＩＸ）
（式中、Ｚは、有機又は無機基材であり、Ｊ２は、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２、−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨ、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化１９】
2020537042.tif 000020
又は
【化２０】
2020537042.tif 000021
（ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。）
【００２３】
いくつかの態様において、本明細書に提供されているのは、一般式（ＩＸ）及び／又は（ＩＸｂ）又はそれらの塩を含むコーティングされた基材である。
【化２１】
2020537042.tif 000022
（式中、Ｚ、Ｚ１、及びＺ２は、それぞれ有機又は無機基材であるか、同じ有機又は無機基材であってもよく、及び／又は、基材の同じ位置に結合してもよく、Ｊ２は、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２、−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨ、又は−Ｃ１−２０−アルキル−Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化２２】
2020537042.tif 000023
又は
【化２３】
2020537042.tif 000024
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。）
【００２４】
いくつかの態様において、本明細書に提供されているのは、一般式（ＩＸ）、一般式（ＩＸｂ）、又は一般式（ＩＸ）と一般式（ＩＸｂ）の組み合わせを含むコーティングされた基材である。
【００２５】
これらの態様のいくつかの実施形態において、Ｊ２は、−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−（ＣＨ２）６ＮＨ２、−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）６Ｒ４、又は−（ＣＨ２）９Ｒ４である。
【００２６】
これらの態様のいくつかの実施形態において、Ｊ２は、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｒ４である。
【００２７】
これらの態様のいくつかの実施形態において、Ｊ２は、−（ＣＨ２）６Ｒ４である。
【００２８】
これらの態様のいくつかの実施形態において、Ｊ２は、−（ＣＨ２）９Ｒ４である。
【００２９】
いくつかの態様において、本明細書に提供されているのは、一般式（Ｘ）又はその塩を含むコーティングされた基材である。
【化２４】
2020537042.tif 000025
（Ｘ）
（式中、Ｚは、有機又は無機基材であり、Ｊ２は、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２、又は−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨである。）
【００３０】
いくつかの態様において、本明細書に提供されているのは、一般式（Ｘ）及び／若しくは（Ｘｂ）又はそれらの塩を含むコーティングされた基材である。
【化２５】
2020537042.tif 000026
（式中、Ｚ、Ｚ１、及びＺ２は、それぞれ有機又は無機基材であるか、又は、同じ有機又は無機基材であってもよく、及び／又は、基材の同じ位置に結合してもよく、Ｊ２は、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２、又は−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨである。）
【００３１】
いくつかの態様において、本明細書に提供されているのは、一般式（Ｘ）、一般式（Ｘｂ）、又は一般式（Ｘ）と一般式（Ｘｂ）の組み合わせを含むコーティングされた基材である。
【００３２】
これらの態様のいくつかの実施形態において、Ｊ２は、−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３である。
【００３３】
これらの態様のいくつかの実施形態において、Ｊ２は、−（ＣＨ２）６ＮＨ２である。
【００３４】
これらの態様のいくつかの実施形態において、Ｊ２は、−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨである。
【００３５】
いくつかの実施形態において、Ｊ２は、−（ＣＨ２）６Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化２６】
2020537042.tif 000027
である。
【００３６】
いくつかの実施形態において、Ｊ２は、−（ＣＨ２）９Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化２７】
2020537042.tif 000028
である。
【００３７】
一般式（Ｉ）−（ＩＸ）のいくつかの実施形態において、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、独立して、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２、−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨ、又は−Ｃ１−２０−アルキル−Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化２８】
2020537042.tif 000029
又は
【化２９】
2020537042.tif 000030
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。
【００３８】
一般式（Ｉ）−（ＩＸ）のいくつかの実施形態において、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、独立して、−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−（ＣＨ２）６ＮＨ２、−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）６Ｒ４、又は−（ＣＨ２）９Ｒ４である。
【００３９】
一般式（Ｉ）−（ＩＸ）のいくつかの実施形態において、Ｒ４は、
【化３０】
2020537042.tif 000031
である。
【００４０】
一般式（Ｉ）−（ＩＸ）のいくつかの実施形態において、Ｒ４は、
【化３１】
2020537042.tif 000032
である。
【００４１】
いくつかの態様において、本明細書に提供されているのは、基材と第１のコーティング層とを含むコーティングされた基材であって、第１のコーティング層が基材と結合されることを特徴とする基材である。
【００４２】
いくつかの態様において、本明細書に提供されているのは、基材と第１のコーティング層と第２のコーティング層とを含むコーティングされた基材であって、第１のコーティング層が基材と結合し、第２のコーティング層が第１のコーティング層と結合することを特徴とする基材である。
【００４３】
これらの態様のいくつかの実施形態において、第１のコーティング層は、基材と共有結合している。いくつかの実施形態において、第１のコーティング層は、基材と非共有結合している。
【００４４】
いくつかの実施形態において、第２のコーティング層は、第１のコーティング層と共有結合している。いくつかの実施形態において、第２のコーティング層は、第１のコーティング層と非共有結合している。
【００４５】
いくつかの実施形態において、第１のコーティング層が基材と共有結合し、第２のコーティング層が第１のコーティング層と共有結合している。
【００４６】
いくつかの実施形態において、第１のコーティング層は、一般式（ＸＩ）−（ＸＶＩ）の少なくとも一つにより、基材と共有結合している。
【化３２】
2020537042.tif 000033
（式中、Ｊ２は、第１のコーティング層であり、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２、又は−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨであり、Ｚは基材である。）
【００４７】
いくつかの実施形態において、第１のコーティング層は、一般式（ＸＩ）、（ＸＩｂ）、（ＸＩＩ）、（ＸＩＩＩ）、（ＸＩＩＩｂ）、（ＸＩＶ）、（ＸＩＶｂ）、（ＸＶ）、（ＸＶＩ）、及び／又は（ＸＶＩｂ）の少なくとも一つにより、基材と共有結合している。
【化３３】
2020537042.tif 000034
（式中、Ｊ２は、第１のコーティング層であり、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２、又は−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨであり、Ｚ、Ｚ１、Ｚ２、及びＺ３は、それぞれ有機又は無機基材であるか、又は、同じ有機又は無機基材であってもよく、及び／又は、基材の同じ位置に結合してもよい。）
【００４８】
いくつかの実施形態において、第２のコーティング層は、少なくともペプチド結合により、第１のコーティング層と共有結合している。
【００４９】
いくつかの実施形態において、第２のコーティング層は、一般式（ＸＶＩＩ）で表されるように、少なくともペプチド結合により、第１のコーティング層と共有結合している。
【化３４】
2020537042.tif 000035
（ＸＶＩＩ）
（式中、Ｘ１、は第１のコーティング層であり、Ｘ２は、第２のコーティング層である。）
【００５０】
いくつかの実施形態において、第２のコーティング層は、一般式（ＸＶＩＩＩ）で表されるように、少なくともペプチド結合により、第１のコーティング層と共有結合している。
【化３５】
2020537042.tif 000036
（ＸＶＩＩＩ）
（式中、Ｘ１は、第１のコーティング層であり、Ｘ２は、第２のコーティング層である。）
【００５１】
いくつかの実施形態において、基材は、有機基材である。いくつかの実施形態において、基材は、無機基材である。いくつかの実施形態において、基材は、アルミニウム、チタン、亜鉛、白金、タンタル、銅、ニッケル、ロジウム、金、銀、パラジウム、クロム、鉄、インジウム、ルテニウム、オスミウム、錫、イリジウム、又はこれらの組み合わせのような、金属、又は、金属合金であるが、これに限られない。いくつかの実施形態において、基材は、金属合金である。いくつかの実施形態において、金属合金は、金属間化合物合金である。いくつかの実施形態において、金属合金は、ニッケルチタニウム合金（例えば、ニチノール）である。いくつかの実施形態において、金属合金は、電解研磨された金属合金である。いくつかの実施形態において、金属合金は、約２０−５０Ｋの範囲（例えば、約２０Ｋ、２５Ｋ、３０Ｋ、３５Ｋ、４０Ｋ、４５Ｋ、５０Ｋ、又はこれらの２つの値で境界付けられる範囲、例えば、約２０−２５Ｋ、３５−４０Ｋ、３５−５０Ｋ、又は４５−５０Ｋ）の熱ヒステリシスマルテンサイト変態を有する。
【００５２】
いくつかの実施形態において、第１のコーティング層は、親水性、疎水性、又は両親媒性のコーティング層である。いくつかの実施形態において、第２のコーティング層は、親水性、疎水性、又は両親媒性のコーティング層である。
【００５３】
いくつかの実施形態において、第１のコーティング層は、遠位端と近位端を有し、近位端は基材と結合し、遠位端は、ヒドロキシル、一級アミン、二級アミン、三級アミン、四級アミン、カルボン酸、アミド、又はそれらの塩を含む。いくつかの実施形態において、第１のコーティング層は、アルキル層（例えば、Ｃ１−２０−アルキル）である。
【００５４】
いくつかの実施形態において、第１のコーティング層は、−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−（ＣＨ２）６ＮＨ２、又は−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨである。
【００５５】
いくつかの実施形態において、第２のコーティング層は、ＬＩＰＩＤＵＲＥである。いくつかの実施形態において、ＬＩＰＩＤＵＲＥは、ＬＩＰＩＤＵＲＥ ＮＨ０１、又はＬＩＰＩＤＵＲＥ ＡＣ０１である。いくつかの実施形態において、第２のコーティング層は、一般式（ＸＩＸ）である。
【化３６】
2020537042.tif 000037
（ＸＩＸ）
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）
【００５６】
（方法）
本明細書に提供されているのは、本明細書に提供されている組成物を調製する方法である。
【００５７】
一つの態様において、本明細書に提供されているのは、コーティングされた基材が形成されるように、本ホスホネート、ホスホン酸、又はそれらの塩を本明細書に提供されている基材に接触させることを含む、本明細書に提供されているコーティングされた基材を調製する方法である。
【００５８】
いくつかの実施形態において、基材は、コーティングされた基材を形成するために、真空オーブン内の加熱下で、ホスホネート、ホスホン酸、又はそれらの塩と接触させられる。
【００５９】
いくつかの実施形態において、基材は、一般式（ＶＩＩＩ）で表される基材である。
【００６０】
いくつかの実施形態において、ホスホネート、ホスホン酸、又はそれらの塩は、一般式（Ｉ）、一般式（ＩＩ）、一般式（ＩＩＩ）、一般式（ＩＶ）、一般式（Ｖ）、一般式（ＶＩ）、又は一般式（ＶＩＩ）である。
【００６１】
いくつかの実施形態において、コーティングされた基材は、一般式（Ｘ）又はその塩を含む。
【化３７】
2020537042.tif 000038
（Ｘ）
（式中、Ｚは、有機又は無機基材であり、Ｊ２は、−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−（ＣＨ２）６ＮＨ２、−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨである。）
【００６２】
いくつかの実施形態において、コーティングされた基材は、一般式（Ｘ）及び／若しくは（Ｘｂ）又はそれらの塩を含む。
【化３８】
2020537042.tif 000039
（Ｚ、Ｚ１、及びＺ２は、それぞれ有機又は無機基材であるか、又は、同じ有機又は無機基材であってもよく、及び／又は、基材の同じ位置に結合してもよく、Ｊ２は、−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−（ＣＨ２）６ＮＨ２、又は−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨである。）
【００６３】
いくつかの態様において、コーティングされた基材は、一般式（Ｘ）、一般式（Ｘｂ）、又は一般式（Ｘ）と一般式（Ｘｂ）の組み合わせを含む。
【００６４】
いくつかの実施形態において、一般式（ＩＸ）
【化３９】
2020537042.tif 000040
（ＩＸ）
（式中、Ｚは、有機又は無機基材であり、Ｊ２は、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｒ４であり、Ｒ４は
【化４０】
2020537042.tif 000041
又は
【化４１】
2020537042.tif 000042
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。）又はその塩を含むコーティングされた基材を形成するために、
コーティングされた基材が、さらに、一般式（ＸＸ）で表される化合物
【化４２】
2020537042.tif 000043
（ＸＸ）
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）又はその塩と接触するか、又は、
コーティングされた基材が、さらに、一般式（ＸＸＩ）で表される化合物
【化４３】
2020537042.tif 000044
（ＸＸＩ）
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である）である。）又はその塩と接触する。
【００６５】
いくつかの実施形態において、一般式（ＩＸ）及び／若しくは（ＩＸｂ）
【化４４】
2020537042.tif 000045
（式中、Ｚ、Ｚ１、及びＺ２は、それぞれ有機又は無機基材であるか、又は、同じ有機又は無機基材であってもよく、及び／又は、基材の同じ位置に結合してもよく、Ｊ２は、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化４５】
2020537042.tif 000046
又は
【化４６】
2020537042.tif 000047
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。）又はそれらの塩を含むコーティングされた基材を形成するために、
コーティングされた基材が、さらに、一般式（ＸＸ）で表される化合物
【化４７】
2020537042.tif 000048
（ＸＸ）
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）又はその塩と接触するか、又は、
コーティングされた基材が、さらに、一般式（ＸＸＩ）で表される化合物
【化４８】
2020537042.tif 000049
（ＸＸＩ）
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である）又はその塩と接触する。
【００６６】
いくつかの態様において、コーティングされた基材は、一般式（ＩＸ）、一般式（ＩＸｂ）、又は一般式（ＩＸ）と一般式（ＩＸｂ）の組み合わせを含む。
【００６７】
当業者は、本明細書に記載された特定の手順、実施形態、特許請求の範囲、及び実施例の多くの均等物を認識または通常の実験に過ぎないものを利用して確認することができる。
【００６８】
値と範囲は常に本明細書に供され、これらの値と範囲、又はこれらの値と範囲の組み合わせにより包含された全ての値と範囲は、本明細書に供された態様及び実施形態の範囲内に包含されることを意味することが理解される。さらに、これらの範囲に属する全ての値もまた、値の範囲の上限または下限と同様に、本出願により意図される。
【００６９】
（実施例）
以下の実施例はさらに、本組成物及び方法の態様を説明する。しかしながら、これらの実施例は、本明細書に記載された教示又は開示を制限するものではない。これらの実施例は、説明目的で供される。
【００７０】
（実施例１）
（中間結合分子としてのホスホネート又はホスホン酸）
ホスホネートを含有するリガンドは、特定の基材のその後の官能基化及び変形のために金属酸化物と共有結合してもよい。電解研磨されたニチノール切取り試片は、超音波処理により洗浄された。切取り試片は、従来のようにＤＩ Ｈ２Ｏ内で沸騰させられ、誘導加熱が金属表面の酸化を増加させることが実証された。ホスホネートを含有するＣＯＯＨ末端は、ＴＨＦ、又はＴＨＦと水の混合物中で定温放置しながら、Ｔ−ＢＡＧ沈殿法を用いて適用された。ニチノール切取り試片は、真空オーブン内で、熱硬化された。ＬＩＰＩＤＵＲＥ ＮＨ０１（アミノ官能基化ホスホリルコリン）は、ペプチド結合の形成を通してホスホネート接合層（ｔｉｅ  ｌａｙｅｒ）にグラフト化された。図３は反応スキームを示す。図４（図３と同様に）は、ホスホネートを含有するアミノ末端が前述のＴ−ＢＡＧ沈殿法を用いて適用される反応スキーム（ＬＩＰＩＤＵＲＥ ＡＣ０１（カルボキシル官能基化ホスホリルコリン）は、ペプチド結合の形成を通してホスホネート接合層にグラフト化された反応スキーム）を示す。
【００７１】
（実施例２）
（末端結合分子としてのホスホネート又はホスホン酸）
ホスホネート及びポリアミド（ＰＡ’ｓ）は、金属酸化物と直接共有結合し得、基材の表面組成を変更する自己集合単分子層の形成することにより、基材の特性を改質してもよい。
【００７２】
電解研磨されたニチノール切取り試片は、超音波処理により洗浄された。切取り試片は、通常のようにＤＩ Ｈ２Ｏ内で沸騰させられ、誘導加熱が金属表面の酸化を増加させることが実証された。ホスホコリンは、前述のＴ−ＢＡＧ沈殿法を用いて適用された。この場合、エタノールが担体溶媒として用いられた。ニチノール切取り試片は、真空オーブン内で、熱硬化された。図５は反応スキーム案を示す。
【００７３】
これらの実施例ではニチノールが使用されているけれども、いくつかの実施形態において、化学的性質は、金属／金属合金の酸化物表面に適用することができる。いくつかの実施形態において、ホスホネート／ホスホン酸（又は誘導体）は、少なくとも一つ（例えば、２、３、４、５、６、７、８、９、又は１０）の官能基化されたリガンドを含む。いくつかの実施形態において、リガンドは、遊離アミノ、カルボキシル、又はチオール類を含む、脂肪族部分、分岐部分、又は環部分を含むが、これに限られない。いくつかの実施形態において、Ｔ−ＢＡＧ沈殿に用いられる担体溶媒は、中間結合分子が可溶又はほぼ可溶（例えば、少なくとも、８０％、９０％、９５％、又は９９％可溶性）な溶媒である。
【００７４】
（結果）
（実施例１及び実施例２）
多種のホスホネート素材が調査された。成功したコーティングは、標準的なステントの実施につき、電解研磨されたニチノールハイポチューブの水接触角試験により決定された（表１）。ホスホネートの適用は、ホスホコリン塩化ナトリウム塩の適用以外ではニチノールの疎水性表面を保持する。それから、ＬＩＰＩＤＵＲＥのホスホネート接合層への接合（ｃｏｎｊｕｇａｔｉｏｎ）は、水接触角を減らす。
表１:ホスホネートのベースコート（例えば、第１のコーティング層）、及びＬＩＰＩＤＵＲＥのトップコート（例えば、第２のコーティング層）の水接触角
【表１】
2020537042.tif 000050
【００７５】
（参照及び均等物による組み込み）
本出願を通して引用される全ての参照の内容（文献の参照、登録特許、公開された特許出願、及び、同時係属中の特許出願を含む）は、その全体が参照により明確に本明細書に組み込まれる。別段の定義がされていない限り、本明細書で用いられている全ての技術及び科学用語は、当業者に一般に知られている意味と一致する。
【００７６】
当業者は、本明細書が提供する特定の実施形態の多くの均等物を認識または通常の実験に過ぎないものを利用して確認することができる。このような均等物は、以下の特許請求の範囲により包含する事を意図する。
【００７７】
［付記１］
一般式（Ｘ）、一般式（Ｘｂ）、又は一般式（Ｘ）と一般式（Ｘｂ）の組み合わせ
【化４９】
2020537042.tif 000051
（式中、Ｚ、Ｚ１、及びＺ２は、それぞれ有機又は無機基材であり、Ｊ２は、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２、−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨ、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化５０】
2020537042.tif 000052
又は
【化５１】
2020537042.tif 000053
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。）又はそれらの塩を含むコーティングされた基材。
【００７８】
［付記２］
Ｊ２は、−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−（ＣＨ２）６ＮＨ２、−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨ、−（ＣＨ２）６Ｒ４又は−（ＣＨ２）９Ｒ４である、付記１に記載のコーティングされた基材。
【００７９】
［付記３］
Ｊ２は−（ＣＨ２）６Ｒ４である、付記１に記載のコーティングされた基材。
【００８０】
［付記４］
Ｊ２は−（ＣＨ２）９Ｒ４である、付記１に記載のコーティングされた基材。
【００８１】
［付記５］
Ｊ２は−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３である、付記１に記載のコーティングされた基材。
【００８２】
［付記６］
Ｊ２は−（ＣＨ２）６ＮＨ２である、付記１に記載のコーティングされた基材。
【００８３】
［付記７］
Ｊ２は−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨである、付記１に記載のコーティングされた基材。
【００８４】
［付記８］
Ｊ２は−（ＣＨ２）６Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化５２】
2020537042.tif 000054
である、付記１に記載のコーティングされた基材。
【００８５】
［付記９］
Ｊ２は−（ＣＨ２）９Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化５３】
2020537042.tif 000055
である、付記１に記載のコーティングされた基材。
【００８６】
［付記１０］
Ｒ４は、
【化５４】
2020537042.tif 000056
である、付記１に記載のコーティングされた基材。
【００８７】
［付記１１］
Ｒ４は、
【化５５】
2020537042.tif 000057
である、付記１に記載のコーティングされた基材。
【００８８】
［付記１２］
一般式（Ｘ）、一般式（Ｘｂ）、又は一般式（Ｘ）と一般式（Ｘｂ）の組み合わせ
【化５６】
2020537042.tif 000058
（式中、Ｚ、Ｚ１、及びＺ２は、それぞれ有機又は無機基材であり、Ｊ２は、−Ｃ１−２０−アルキル−Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２、又は−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨである。）又はそれらの塩を含むコーティングされた基材を調製する方法であって、
１）一般式（Ｘａ）又は（Ｘｂ）を含むコーティングされた基材が形成されるように、Ｚ又はＺ１及びＺ２を一般式（Ｖ）で表される化合物
【化５７】
2020537042.tif 000059
（Ｖ）
（式中、Ｒ１は−Ｃ１−２０−アルキル−Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２、−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨである。）又はその塩と接触させること、
を含む、方法。
【００８９】
［付記１３］
Ｒ１及びＪ２は、−（ＣＨ２）２Ｎ（＋）（ＣＨ３）３、−（ＣＨ２）６ＮＨ２、又は、−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨである、付記１２に記載の方法。
【００９０】
［付記１４］
Ｊ２は−Ｃ１−２０−アルキル−ＮＨ２であり、
一般式（ＩＸ）、一般式（ＩＸｂ）、又は一般式（ＩＸ）と一般式（ＩＸｂ）の組み合わせ
【化５８】
2020537042.tif 000060
（式中、Ｚ、Ｚ１、及びＺ２は、それぞれ有機又は無機基材であり、Ｊ２は−Ｃ１−２０−アルキル−Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化５９】
2020537042.tif 000061
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。）又はそれらの塩を含むコーティングされた基材を形成するために、
２）一般式（Ｘ）又は（Ｘｂ）を一般式（ＸＸ）で表される化合物
【化６０】
2020537042.tif 000062
（ＸＸ）
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）又はその塩と接触させること、
をさらに含む、付記１２に記載の方法。
【００９１】
［付記１５］
Ｊ２は−（ＣＨ２）６ＮＨ２である、付記１４に記載の方法。
【００９２】
［付記１６］
Ｊ２は−Ｃ１−２０−アルキル−ＣＯＯＨであり、
一般式（ＩＸ）、一般式（ＩＸｂ）、又は一般式（ＩＸ）と一般式（Ｘｂ）の組み合わせ
【化６１】
2020537042.tif 000063
（式中、Ｚ、Ｚ１、及びＺ２は、それぞれ有機又は無機基材であり、Ｊ２は−Ｃ１−２０−アルキル−Ｒ４であり、Ｒ４は、
【化６２】
2020537042.tif 000064
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）である。）又はそれらの塩を含むコーティングされた基材を形成するために、
２）一般式（Ｘ）、（Ｘｂ）、又は一般式（Ｘ）と（Ｘｂ）の組み合わせを一般式（ＸＸＩ）で表される化合物
【化６３】
2020537042.tif 000065
（ＸＸＩ）
（式中、ｍは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）であり、ｎは、１−１０００（例えば、１−１００、例えば、１−５０、例えば、１−１０）である。）又はその塩と接触させること、
をさらに含む、付記１２に記載の方法。
【００９３】
［付記１７］
Ｊ２は−（ＣＨ２）９ＣＯＯＨである、付記１６に記載の方法。
【図１】
2020537042.tif 000081
【図２】
2020537042.tif 000082
【図３】
2020537042.tif 000083
【図４】
2020537042.tif 000084
【図５】
2020537042.tif 000085
【国際調査報告】
2020537042.tif 000086