(57)【要約】  本開示の実施形態は、既存の表示パネルにおいて輝点欠陥を修復した後にダークスポットが発生する問題を少なくとも部分的に解消又は解決することができる表示パネルと表示パネルの修復方法を提供することであり、表示パネルの修復の技術の分野に属する。本開示の表示パネルの輝点欠陥の修復方法が適用される表示パネルは、基板に配置されたカラーフィルタ膜をそれぞれ含み、少なくとも一部が輝点欠陥を有する表示用の複数の画素を包含し、前記輝点欠陥は、単一の画素領域内に位置する常に明るい点である。前記方法は、前記輝点欠陥が位置する前記画素及び前記画素における前記輝点欠陥の位置を決定することと、前記画素における前記輝点欠陥を含む領域であり、面積が単一の画素領域の面積よりも小さい修復区を設定することと、その真下方から出射された光が前記表示パネルの表示面を離れることを防止するための黒色材料層を前記修復区に形成することと、を含む。
2020526779.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示用の複数の画素を含む表示パネルを修復する方法であって、
各画素は、基板に配置されたカラーフィルタ膜をそれぞれ含み、少なくとも一部の前記画素が輝点欠陥を有し、前記輝点欠陥は、単一の画素領域内に位置する常に明るい点であり、
前記方法は、
前記輝点欠陥が位置する前記画素及び前記画素における前記輝点欠陥の位置を決定することと、
前記画素における前記輝点欠陥を含む領域であり、面積が単一の画素領域の面積よりも小さい修復区を設定することと、
その真下方から出射された光が前記表示パネルの表示面を離れることを防止するための黒色材料層を前記修復区に形成することと、を含む、
方法。
【請求項２】
前記複数の画素は互いに離間して配置され、隣接する前記画素の前記カラーフィルタ膜の間にブラックマトリクスが配置され、前記修復区の少なくとも一側が前記ブラックマトリクスに接続されて、前記黒色材料層を前記修復区に形成するのは、
前記修復区内の前記カラーフィルタ膜と前記基板との間にレーザにより間隙を形成し、且つ前記修復区に接続された前記ブラックマトリクスをレーザにより部分的に粒子化してブラックマトリクス粒子を形成することと、
前記ブラックマトリクス粒子を前記間隙に入り込ませることと、を含む、
請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記修復区に接続された前記ブラックマトリクスをレーザにより部分的に粒子化して前記ブラックマトリクス粒子を形成するステップは、前記修復区内の前記カラーフィルタ膜と前記基板との間にレーザにより前記間隙を形成する前に実施される、請求項2に記載の方法。
【請求項４】
前記修復区内の前記カラーフィルタ膜と前記基板との間に前記間隙を形成するためのレーザのエネルギーは、前記修復区に接続された前記ブラックマトリクスを部分的に粒子化するためのレーザのエネルギーよりも高い、請求項2に記載の方法。
【請求項５】
前記修復区内の前記カラーフィルタ膜と前記基板との間に前記間隙を形成するためのレーザのパラメータは、赤色フィルタ膜に対して波長349nm、エネルギー1035〜1125nJ、動作速度60〜80μm/s、周波数40〜60Hz、緑色フィルタ膜に対して波長349nm、エネルギー765〜855nJ、動作速度60〜80μm/s、周波数40〜70Hz、青色フィルタ膜に対して波長349nm、エネルギー540〜810nJ、動作速度70〜90μm/s、周波数50〜70Hzを含み、
前記修復区に接続された前記ブラックマトリクスを部分的に粒子化するためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー200〜400nJ、動作速度150〜300μm/s、周波数40〜60Hzを含む、
請求項4に記載の方法。
【請求項６】
前記修復区内の前記カラーフィルタ膜と前記基板との間にレーザにより前記間隙を形成し、前記修復区に接続された前記ブラックマトリクスをレーザにより部分的に粒子化して前記ブラックマトリクス粒子を形成する前、前記修復区内の前記カラーフィルタ膜及び前記修復区に接続された前記ブラックマトリクスをレーザによりエージングすることを更に含む、請求項2に記載の方法。
【請求項７】
前記エージングするためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー200〜400nJ、動作速度150〜300μm/s、周波数40〜60Hzを含む、請求項6に記載の方法。
【請求項８】
前記ブラックマトリクス粒子を前記カラーフィルタ膜と前記基板との間の前記間隙に入り込ませた後、前記間隙内の前記ブラックマトリクス粒子をレーザにより均一に拡散させることを更に含む、請求項2に記載の方法。
【請求項９】
前記間隙内の前記ブラックマトリクス粒子を均一に拡散させるためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー650〜675nJ、動作速度100〜150μm/s、周波数40〜60Hzを含む、請求項8に記載の方法。
【請求項１０】
前記黒色材料層を前記修復区に形成するのは、
前記修復区内の前記カラーフィルタ膜をレーザにより炭化することを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項１１】
前記炭化するためのレーザのパラメータは、
赤色及び緑色フィルタ膜に対して波長446nm、エネルギー1050〜1350nJ、動作速度60〜80μm/s、青色フィルタ膜に対して波長446nm、エネルギー1350〜1590nJ、動作速度60〜80μm/sを含む、請求項10に記載の方法。
【請求項１２】
前記修復区内の前記カラーフィルタ膜を炭化する前、前記修復区内の前記カラーフィルタ膜をレーザにより改質することを更に含む、請求項10に記載の方法。
【請求項１３】
前記改質するためのレーザのパラメータは、
波長349nm、エネルギー200〜400nJ、動作速度150〜300μm/s、周波数40〜60Hzを含み、動作速度はレーザ装置の走行速度である、請求項12に記載の表示パネルの輝点欠陥の修復方法。
【請求項１４】
前記表示パネルは、液晶表示パネルである、請求項1に記載の方法。
【請求項１５】
表示用の複数の画素を含む表示パネルであって、
各画素は、基板に配置されたカラーフィルタ膜をそれぞれ含み、少なくとも一部の前記画素の前記カラーフィルタ膜が不透明領域を有し、前記不透明領域が単一の画素領域よりも小さく、
前記不透明領域は、その真下方から出射された光が前記表示パネルの表示面を離れることを防止するための黒色材料層を含む、
表示パネル。
【請求項１６】
前記複数の画素は互いに離間して配置され、隣接する前記画素の前記カラーフィルタ膜の間にブラックマトリクスが配置され、前記不透明領域の少なくとも一側が前記ブラックマトリクスに接続されて、
前記黒色材料層は、前記不透明領域に接続された前記ブラックマトリクスをレーザにより部分的に粒子化して得られたブラックマトリクス粒子を含む、請求項15に記載の表示パネル。
【請求項１７】
前記黒色材料層は、前記カラーフィルタ膜を炭化して得られた炭化カラーフィルタ膜を含む、請求項15に記載の表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本願は2017年7月7日に出願された出願番号が201710549833.7である中国特許出願の優先権を主張するものであり、上記の中国特許出願に開示された内容を引用して本願の一部とする。
【０００２】
本開示は表示パネルの修復の技術の分野に属し、具体的には、表示パネルを修復する方法と表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００３】
液晶表示パネルの作製工程では、必然的にパーティクルが発生することがある。これらのパーティクルが画素（すなわち、実際に表示が行われる領域）内に落下した場合には、液晶の偏向に影響を及ぼし、その位置が常に明るい点（輝点）になり、輝点欠陥を招く。
【０００４】
輝点欠陥の問題を解決するために、一般的に、対応する画素のデータ入力を遮断し、画素全体を表示されないダークスポットにすることがある。この場合、人間の目はダークスポットに対する感受性が低いので、一般的にダークスポットの存在に容易に気づかれない。
【０００５】
しかしながら、ダークスポットは何と言っても表示効果に影響を与えるので、各種の液晶表示パネル製品はダークスポットの数に対して制限があり、一部のハイエンド製品でさえダークスポットの存在を許容しない。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の実施形態に、表示用の複数の画素を含む表示パネルを修復する方法であって、各画素は、基板に配置されたカラーフィルタ膜をそれぞれ含み、少なくとも一部の前記画素が輝点欠陥を有し、前記輝点欠陥は、単一の画素領域内に位置する常に明るい点であり、前記方法は、前記輝点欠陥が位置する前記画素及び前記画素における前記輝点欠陥の位置を決定することと、前記画素における前記輝点欠陥を含む領域であり、面積が単一の画素領域の面積よりも小さい修復区を設定することと、その真下方から出射された光が前記表示パネルの表示面を離れることを防止するための黒色材料層を前記修復区に形成することと、を含む方法が提供されている。
【０００７】
いくつかの実施形態において、前記複数の画素は互いに離間して配置され、隣接する前記画素の前記カラーフィルタ膜の間にブラックマトリクスが配置され、前記修復区の少なくとも一側が前記ブラックマトリクスに接続されて、前記黒色材料層を前記修復区に形成するのは、前記修復区内の前記カラーフィルタ膜と前記基板との間にレーザにより間隙を形成し、且つ前記修復区に接続された前記ブラックマトリクスをレーザにより部分的に粒子化してブラックマトリクス粒子を形成することと、前記ブラックマトリクス粒子を前記間隙に入り込ませることと、を含む。
【０００８】
更に、いくつかの実施形態において、前記修復区に接続された前記ブラックマトリクスをレーザにより部分的に粒子化して前記ブラックマトリクス粒子を形成するステップは、前記修復区内の前記カラーフィルタ膜と前記基板との間にレーザにより前記間隙を形成する前に実施される。
【０００９】
いくつかの実施形態において、前記修復区内の前記カラーフィルタ膜と前記基板との前記間に間隙を形成するためのレーザのエネルギーは、前記修復区に接続された前記ブラックマトリクスを部分的に粒子化するためのレーザのエネルギーよりも高い。
【００１０】
いくつかの実施形態において、前記修復区内の前記カラーフィルタ膜と前記基板との間に前記間隙を形成するためのレーザのパラメータは、赤色フィルタ膜に対して波長349nm、エネルギー1035〜1125nJ、動作速度60〜80μm/s、周波数40〜60Hz、緑色フィルタ膜に対して波長349nm、エネルギー765〜855nJ、動作速度60〜80μm/s、周波数40〜70Hz、青色フィルタ膜に対して波長349nm、エネルギー540〜810nJ、動作速度70〜90μm/s、周波数50〜70Hzを含み、前記修復区に接続された前記ブラックマトリクスを部分的に粒子化するためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー200〜400nJ、動作速度150〜300μm/s、周波数40〜60Hzを含む。
【００１１】
いくつかの実施形態において、前記方法は、前記修復区内の前記カラーフィルタ膜と前記基板との間にレーザにより前記間隙を形成し、前記修復区に接続された前記ブラックマトリクスをレーザにより部分的に粒子化して前記ブラックマトリクス粒子を形成する前、前記修復区内の前記カラーフィルタ膜及び前記修復区に接続された前記ブラックマトリクスをレーザによりエージングすることを更に含む。
【００１２】
いくつかの実施形態において、前記エージングするためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー200〜400nJ、動作速度150〜300μm/s、周波数40〜60Hzを含む。
【００１３】
いくつかの実施形態において、前記方法は、前記ブラックマトリクス粒子を前記カラーフィルタ膜と前記基板との間の前記間隙に入り込ませた後、前記間隙内の前記ブラックマトリクス粒子をレーザにより均一に拡散させることを更に含む。
【００１４】
いくつかの実施形態において、前記間隙内の前記ブラックマトリクス粒子を均一に拡散させるためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー650〜675nJ、動作速度100〜150μm/s、周波数40〜60Hzを含む。
【００１５】
いくつかの実施形態において、前記黒色材料層を前記修復区に形成するのは、前記修復区内の前記カラーフィルタ膜をレーザにより炭化することを含む。
【００１６】
いくつかの実施形態において、前記炭化するためのレーザのパラメータは、赤色及び緑色フィルタ膜に対して波長446nm、エネルギー1050〜1350nJ、動作速度60〜80μm/s、青色フィルタ膜に対して波長446nm、エネルギー1350〜1590nJ、動作速度60〜80μm/sを含む。
【００１７】
いくつかの実施形態において、前記方法は、前記修復区内の前記カラーフィルタ膜を炭化する前、前記修復区内の前記カラーフィルタ膜をレーザにより改質することを更に含む。
【００１８】
いくつかの実施形態において、前記改質するためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー200〜400nJ、動作速度150〜300μm/s、周波数40〜60Hzを含む。
【００１９】
更に、前記実施形態における前記表示パネルは、液晶表示パネルを含むが、これに限定されるものではない。
【００２０】
本開示の他の実施形態に、表示用の複数の画素を含む表示パネルであって、各画素は、基板に配置されたカラーフィルタ膜をそれぞれ含み、少なくとも一部の前記画素の前記カラーフィルタ膜が不透明領域を有し、前記不透明領域が単一の画素領域よりも小さく、前記不透明領域は、その真下方から出射された光が前記表示パネルの表示面を離れることを防止するための黒色材料層を含む表示パネルが提供されている。
【００２１】
いくつかの実施形態において、前記複数の画素は互いに離間して配置され、隣接する前記画素の前記カラーフィルタ膜の間にブラックマトリクスが配置され、前記不透明領域の少なくとも一側が前記ブラックマトリクスに接続されて、前記黒色材料層は、前記不透明領域に接続された前記ブラックマトリクスをレーザにより部分的に粒子化して得られたブラックマトリクス粒子を含む。
【００２２】
いくつかの実施形態において、前記黒色材料層は、前記カラーフィルタ膜を炭化して得られた炭化カラーフィルタ膜を含む。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本開示の実施形態の表示パネルの修復方法が適用される前の表示パネルを示す概略平面図である。
【図２】図1の線A-A'に沿った概略断面図である。
【図３】図2のブラックマトリクスが粒子化された後の構成を示す概略図である。
【図４】図3のカラーフィルタ膜と基板との間に間隙が形成された後の構成を示す概略図である。
【図５】図4のブラックマトリクス粒子が均一拡散した後の構成を示す概略図である。
【図６】図2のカラーフィルタ膜の一部が炭化された後の構成を示す概略構造図である。
【００２４】
ここで、参考符号は以下のようになる：1画素、11修復区、2カラーフィルタ膜、21間隙、22炭化カラーフィルタ膜、3ブラックマトリクス、31ブラックマトリクス粒子、８輝点欠陥、9基板。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
当業者が本開示の構成をよりよく理解できるように、以下、本開示の実施形態について、図面および実施例を参照してさらに詳細に説明する。
【００２６】
図1〜図5に示すように、本発明の実施形態は、表示を行うための複数の画素1を含む表示パネルの輝点欠陥8の修復方法を提供し、各画素1は、基板9上に設けられたカラーフィルタ膜2を有し、少なくとも一部の画素１に輝点欠陥8を有し、輝点欠陥8は、画素1に位置する常に明るい点である。
【００２７】
本実施形態の方法は、表示パネルの輝点欠陥8の修復に用いられ、その表示パネルは表示用の複数の画素1を有し、各画素1には対応する色のカラーフィルタ膜2が設けられている。輝点欠陥8は、表示パネルが動作している時に画素1における常時に発光する部分領域を指す。この画素1の部分領域は発光可能であるが、表示すべき輝度や所望の輝度に応じて発光することができない。例えば、この画素1の部分領域は、常時に一定の輝度を維持していることもあるし、その輝度が表示すべき輝度からずれていることもあるので、輝点欠陥8は常に明るい点になる。また、上記輝点欠陥8は、画素1の部分領域のみに存在するものである。すなわち、1つの輝点欠陥8の大きさは画素1よりも小さく、画素1の輝点欠陥8以外の部分は正常に表示することができる。
【００２８】
各図において、輝点欠陥8は、単にその位置を模式的に示すものであり、輝点欠陥8の形状を表すものでもなく、輝点欠陥8が2つの基板間にあることを表すものでもないことが理解すべきである。
【００２９】
本開示の実施形態において、上記表示パネルは、液晶表示パネルを含む。
【００３０】
輝点欠陥8は、一般的に、表示パネル内のパーティクルによるものである。液晶表示パネルは液晶の偏向によって表示を行い、且つパーティクルの存在が液晶の偏向に影響を与えるため、液晶表示面は輝点欠陥8を最も生じやすいものになる。本開示の実施形態による方法は、他のタイプの表示パネルに存在する輝点欠陥8の修復に適用することもできる。
【００３１】
以下、本開示の実施形態による表示パネルの修復方法について、具体的な実施例により具体的に説明する。
【００３２】
一実施例では、表示パネルの修復方法は、以下のステップを含む。
【００３３】
S101において、輝点欠陥8が位置する画素1と画素1における輝点欠陥8の位置を決定する。
【００３４】
例えば、顕微鏡観察等の検出手段により、輝点欠陥8を有する画素1を検出すると共に、画素1における輝点欠陥8の位置を決定することができる。
【００３５】
S102において、修復区11を設定する。修復区11は、画素1における輝点欠陥8を含む領域であるが、画素1の全領域を含まない。すなわち、画素１の部分領域は、修復区11に属さないものである。
【００３６】
つまり、該ステップでは、輝点欠陥8を有する画素1において修復区11が決定される。当該修復区11は、輝点欠陥8を含むが、画素1全体を占めない。すなわち、画素1の一部が修復区11に属していない。
【００３７】
一実施例において、図1及び図2に示すように、より良い修復効果を確保するために、当該修復区11は、輝点欠陥8よりもわずかに大きく、矩形などの規則的な形状を有するものであってもよい。
【００３８】
上記のステップは、画素1における輝点欠陥8を検出すると共に決定し、輝点欠陥8に応じて画素1に対する修復区11を設定するものだけであり、表示パネルに対する実際の動作に関わらないものであると理解すべきである。
【００３９】
S103において、修復区11におけるカラーフィルタ膜2を黒色に変換させる。
【００４０】
つまり、このステップにおいて、上記の修復区11内のカラーフィルタ膜2は、ある手段により黒色に変換され、修復区11から光を出射することができなく、すなわち輝点欠陥8において光を出射することができないようになることにより、修復が完了する。
【００４１】
本実施形態の表示パネルの修復方法では、輝点欠陥8の位置に対応するカラーフィルタ膜2を黒色に変換し、輝点欠陥8において光を出射することができないようになる。これにより、画素内の輝点欠陥8に対応する領域が発光できず、すなわち、ブラックフィルタ膜によりその真下方から出射された光が表示パネルの表示面を離れることが防止されるようになる。人間の目は暗い物体に対する感受性が低いので、修復される位置（すなわち、輝点欠陥8に対応する画素領域）は一般的に気づかれない。これと同時に、修復では、画素1における輝点欠陥8を有する部分領域のみが暗くなり、画素1のそれ以外の部分が正常に表示することができるので、表示パネルに完全な黒点が発生せず、表示効果への影響が小さくなる。本開示の実施形態による修復方法は、修復点の数に制限がなく、適用範囲が広く、修復効率が高いものである。
【００４２】
いくつかの実施形態では、表示パネルにおいて複数の画素1が互いに間隔を置いて配置されており、隣接する画素1が対応するカラーフィルタ膜2の間にブラックマトリクス3が設けられている。修復区11は、少なくとも一側がブラックマトリクス3に接続されるように配置される。
【００４３】
図1に示すように、表示パネルにおいて複数の画素1が互いに間隔を置いて配置されている。この間隔には、表示が行わないでリードなどの駆動構造を配置するので、遮光用のブラックマトリクス3が配置される必要がある。当該ブラックマトリクス3は、隣接する画素1が対応するカラーフィルタ膜2の間に位置するので、カラーフィルタ膜2の側面がブラックマトリクス3に隣接している。勿論、図2〜図5に示すように、実際のプロセス等の原因で、ブラックマトリクス3とそれに隣接するカラーフィルタ膜2とが重なり部分を有する場合もあるが、この時にもブラックマトリクス3は隣接する画素1が対応するカラーフィルタ膜2の間に位置する。
【００４４】
この場合、図1および図2に示すように、修復区11は、ブラックマトリクス3に接続されている。すなわち、修復区11は、画素1の中央に隔離して位置されるものではなく、画素1の端まで延びているものである。
【００４５】
この場合、上記のステップS103は、以下のステップを含んでいてもよい。
【００４６】
S103-1において、修復区11内のカラーフィルタ膜2及び修復区11に接続されたブラックマトリクス3がレーザによりエージングされる。
【００４７】
実施例では、修復区11内のカラーフィルタ膜2及び修復区11に接続されたブラックマトリクス3をレーザで照射することにより予熱しエージングして、次のステップに適したものにしてもよい。
【００４８】
一実施形態では、修復区11内のカラーフィルタ膜2及び修復区11に接続されたブラックマトリクス3を照射するためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー200〜400nJ、動作速度150〜300μm/s、周波数40〜60Hzになる。例えば、一実施例では、修復区11内のカラーフィルタ膜及び修復区に接続されたブラックマトリクスを照射するためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー350nJ、動作速度200μm/s、周波数50Hzになる。本明細書では、レーザの波長の例示的な値（例えば349nm）について言及しているが、他の波長のパラメータを有するレーザも可能であり、本発明にレーザの波長のパラメータが制限されていない。また、エネルギー減衰器によって、同じ波長のパラメータを有するレーザ源に対しても異なるエネルギーを得ることができる。
【００４９】
本開示の実施形態におけるレーザのパラメータは、画素1の部分領域を処理するのに特に適している。画素1が全体として処理されると、使用されるレーザのパラメータは必然的にそれと違うものになる。
【００５０】
ステップS103-2において、修復区11に接続されたブラックマトリクス3がレーザにより部分的に粒子化されることにより、ブラックマトリクス粒子31が形成される。
【００５１】
図3に示すように、修復区11に接続されたブラックマトリクス3はレーザにより照射され、その分子結合の作用が破壊されることにより、ブラックマトリクス3の一部（例えば、基板9近傍のブラックマトリクス3）が黒色粒子（ブラックマトリクス粒子31）に変換される。
【００５２】
一実施形態では、ブラックマトリクス3を粒子化するためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー200〜400nJ、動作速度150〜300μm/s、周波数40〜60Hzになる。例えば、ブラックマトリクス3を粒子化するためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー350nJ、動作速度200μm/s、周波数50Hzになる。
【００５３】
S103-3において、修復区11内のカラーフィルタ膜2と基板9との間にレーザにより間隙21が形成される。
【００５４】
図4に示すように、修復区11内のカラーフィルタ膜2がレーザにより照射され、微細な収縮を生じることにより、カラーフィルタ膜2と基板9との間に間隙21が形成される。
【００５５】
一実施形態では、カラーフィルタ膜と基板との間に間隙を形成するためのレーザのパラメータは、赤色フィルタ膜に対して波長349nm、エネルギー1035〜1125nJ、動作速度60〜80μm/s、周波数40〜60Hzになり、緑色フィルタ膜に対して波長349nm、エネルギー765〜855nJ、動作速度60〜80μm/s、周波数40〜70Hzになり、青色フィルタ膜に対して波長349nm、エネルギー540〜810nJ、動作速度70〜90μm/s、周波数50〜70Hzになる。他の実施形態では、上述のレーザのパラメータは、赤色フィルタ膜に対して波長349nm、エネルギー1080nJ、動作速度70μm/s、周波数53Hzになり、緑色フィルタ膜に対して波長349nm、エネルギー810nJ、動作速度70μm/s、周波数45Hzになり、青色フィルタ膜に対して波長349nm、エネルギー770nJ、動作速度80μm/s、周波数60Hzになる。
【００５６】
異なる色のカラーフィルタ膜2は、レーザに対する透過率が異なるため、色が異なるカラーフィルタ膜2は、異なるレーザのパラメータ範囲を有してもよい。
【００５７】
上記のようにカラーフィルタ膜2と基板9との間に間隙21を形成するステップ（ステップS103-3）と、ブラックマトリクス3を部分的に粒子化するステップ（ステップS103-2）とは、必然的な順序関係を有しないが、バブルの発生を回避するために、ブラックマトリクスを粒子化するステップを行なった後に、間隙21を形成するステップを行ってもよいことと理解すべきである。
【００５８】
S103-4において、ブラックマトリクス粒子31は、カラーフィルタ膜2と基板9との間の間隙21に移動される。
【００５９】
図4に示すように、ブラックマトリクス粒子31は、ブラックマトリクス3の他の部分から分離されるので、修復区11のカラーフィルタ膜2を黒色に変換させるようにカラーフィルタ膜2と基板9との間の間隙21に自由に移動することができる。勿論、この時、未粒子化のブラックマトリクス3は画素1の間に残っている。
【００６０】
勿論、ブラックマトリクス粒子31の量は、修復区11の大きさに応じて特定されてもよい。ブラックマトリクス粒子31が修復区11の間隙21の全体を充填するのに不足すると、より多くのブラックマトリクスを粒子化し続けてもよい。
【００６１】
S103-5において、別の実施形態では、間隙21内のブラックマトリクス粒子31は、レーザにより均一に拡散される。
【００６２】
図5に示すように、ブラックマトリクス粒子31は、自発的に上記の間隙21に落ちることができるが、その分布は必ずしも均一ではなく、修復区11の全体が十分に覆われない場合がある。従って、間隙21内のブラックマトリクス粒子31をレーザにて照射することで案内し移動させる（レーザが走行する時、ブラックマトリクス粒子はそれに追従し移動する）ことにより、間隙21の全体に亘って均一に拡散させる。
【００６３】
間隙内のブラックマトリクス粒子を均一に拡散させるためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー650〜675nJ、動作速度100〜150μm/s、周波数40〜60Hzを含む。例えば、間隙内のブラックマトリクス粒子を均一に拡散させるためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー660nJ、動作速度120μm/s、周波数50Hzになる。
【００６４】
図1、図2および図6に示すように、本開示の他の実施形態も、上記の実施形態で説明された表示パネルの輝点欠陥8の修復方法と同様の表示パネルの輝点欠陥8の修復方法を提供する。本実施形態は上記の実施形態と比較すると、修復区11内のカラーフィルタ膜2を黒色に変換させる具体的な手段が異なっている。本実施形態では、修復区11内のカラーフィルタ膜2を黒色に変換させるのは以下のようなステップが含まれている。S203-1において、修復区11内のカラーフィルタ膜2がレーザにより改質される。
【００６５】
すなわち、修復区11内のカラーフィルタ膜2はレーザにより照射され、分子構造が変わられることにより、その耐熱性が向上され、次の炭化処理に適するようになっている。
【００６６】
実施形態では、修復区11内のカラーフィルタ膜2を改質するためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー200〜400nJ、動作速度150〜300μm/s、周波数40〜60Hzになる。例えば、修復区内のカラーフィルタ膜を改質するためのレーザのパラメータは、波長349nm、エネルギー350nJ、動作速度200μm/s、周波数50Hzになる。
【００６７】
S203-2において、修復区11内のカラーフィルタ膜2がレーザにより炭化される。
【００６８】
図6に示すように、修復区11内のカラーフィルタ膜2がレーザにより照射されることで直接に炭化されて、炭化カラーフィルタ膜22が形成される。炭は黒色であるため、この炭化カラーフィルタ膜22が直接に黒色になる。すなわち、修復区11内のカラーフィルタ膜2を黒色に変換させることに相当する。
【００６９】
一実施形態では、上記のレーザのパラメータは、赤色及び緑色フィルタ膜に対して波長446nm、エネルギー1050〜1350nJ、動作速度60〜80μm/sになり、青色フィルタ膜に対して波長446nm、エネルギー1350〜1590nJ、動作速度60〜80μm/sになる。例えば、カラーフィルタ膜を直接に炭化して炭化カラーフィルタ膜22を形成するためのレーザのパラメータは、赤色及び緑色フィルタ膜に対して波長446nm、エネルギー1200nJ、動作速度70μm/sになり、青色フィルタ膜に対して波長446nm、エネルギー1500nJ、動作速度70μm/sになる。
【００７０】
すなわち、本実施形態では、カラーフィルタ膜2を直接に炭化して黒色に変換させることにより、修復区11内のカラーフィルタ膜2を黒色に変換させる目的を達成している。したがって、本実施形態では、ブラックマトリクス3を処理することなく、修復区11内のカラーフィルタ膜2のみを処理すればよい。
【００７１】
勿論、上記の様々な実施形態に説明された方法は矛盾していないと理解すべきである。例えば、所望であれば、修復区11内のカラーフィルタ膜2を炭化した後に、ブラックマトリクス粒子31を炭化カラーフィルタ膜22と基板9との間の間隙21に入り込ませてもよい。
【００７２】
勿論、修復区11内のカラーフィルタ膜2を他の方法で黒色に変換させることも可能である。
【００７３】
本開示の他の実施形態は、上記の表示パネルの輝点欠陥8の修復方法によって修復された表示パネルを提供している。
【００７４】
これにより、該表示パネルは、一度輝点欠陥を有するものであり、その輝点欠陥の周辺部分の領域のカラーフィルタ膜がブラックマトリクスの粒子化や炭化などの方法によって黒色に変換されて修復が完了していたものである。
【００７５】
本実施形態は、上記の表示パネルを含む表示装置を提供している。
【００７６】
具体的には、該表示装置は、電子ペーパー、携帯電話、タブレット、テレビ、ディスプレイ、ノートパソコン、デジタルフォトフレーム、ナビゲータなどの表示機能を有する任意の製品または部品であり得る。
【００７７】
上記実施形態は、本発明の原理を説明するための例示的な実施形態にすぎず、本発明はこれに限定されるものではないと理解すべきである。本発明の精神および範囲から逸脱することなく、当業者であれば様々な変更および修正が可能であり、これらの変更および修正も本発明の範囲内にあると考えられる。
【符号の説明】
【００７８】
１  画素
２  カラーフィルタ膜
３  ブラックマトリクス
８  輝点欠陥
９  基板
１１  修復区
２１  間隙
２２  炭化カラーフィルタ膜
３１  ブラックマトリクス粒子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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