(57)【要約】  本願の配線構造は、導電ワイヤーを含む第１の領域と金属ナノワイヤーを含む第２の領域とを有し、前記第１の領域は前記第２の領域と互いに接続され、前記第２の領域に生じる応力は前記第１の領域に生じる応力より大きい。金属ナノワイヤーは好適な導電性能を有するだけでなく好適な延性（耐折り曲げ特性）を有するため、大きな応力が生じる第２の領域に破断しにくい金属ナノワイヤーが設けられ、前記第２の領域が折り曲げられる過程で破断することを防止でき、前記配線構造の力学的信頼性を効果的に向上させる。前記配線構造を含む表示基板を表示装置に適用することにより、表示装置の信頼性を向上させることができる。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線構造であって、導電ワイヤーを含む第１の領域と、金属ノナワイヤーを含む第２の領域と、を含み、
前記第１の領域は前記第２の領域と互いに接続され、前記第２の領域に生じる応力は、前記第１の領域に生じる応力より大きい配線構造。
【請求項２】
前記配線構造は、折れ線構造であり、前記第２の領域は、折れ線の変曲点に位置する請求項１に記載の配線構造。
【請求項３】
前記第２の領域に生じる応力は、前記第１の領域に生じる応力の１.２倍以上である請求項１に記載の配線構造。
【請求項４】
前記第２の領域のパターンは、四角形、五角形、六角形、円弧形、Ｖ字形のいずれか１種類または２種類以上であり、前記Ｖ字形の挟角は、鋭角、直角、または鈍角である請求項１に記載の配線構造。
【請求項５】
前記導電ワイヤーの材料は、金ワイヤー、銀ワイヤーまたは銅ワイヤーを含み、前記金属ナノワイヤーの材料は、銀ナノワイヤー、金ナノワイヤー、白金ナノワイヤー、銅ナノワイヤー、コバルトナノワイヤーまたはパラジウムナノワイヤーを含む請求項１に記載の配線構造。
【請求項６】
前記配線構造は直線構造である請求項１に記載の配線構造。
【請求項７】
表示基板であって、基底と、基底に設けられる前記配線構造とを含む表示基板。
【請求項８】
前記基底はフレキシブル基底であり、前記フレキシブル基底の材料としては、アクリル、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾイミダゾールポリブテン、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテトラフルオロエチレン、ポリエチレンオキサイド、ポリグリコール酸、ポリメチルペンテン、ポリオキシメチレン、ポリフェニレンエーテル、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデンおよびスチレン−アクリロニトリルなどのいずれか１種類または２種類以上が挙げられる請求項７に記載の表示基板。
【請求項９】
表示基板の作製方法であって、基底を提供するステップと、
前記基底に互いに接続される第１の領域と第２の領域を含む配線構造を形成するステップと、を含み、
前記第２の領域に生じる応力は、前記第１の領域に生じる応力より大きい表示基板の作製方法。
【請求項１０】
前記基底に配線構造を形成するステップは、前記基底に前記配線構造の第１の領域を構成する導電ワイヤーパターンを形成するステップと、および前記基底に前記配線構造の第２の領域を構成する金属ナノワイヤーパターンを形成し、前記金属ナノワイヤーパターンと前記導電ワイヤーパターンと接続されるステップとを含む請求項９に記載の作製方法。
【請求項１１】
前記基底に導電ワイヤーパターンを形成するステップは、前記基底に金属薄膜を形成するステップと、前記導電ワイヤーパターンを形成するように、前記金属薄膜をエッチングするステップとを含む請求項１０に記載の作製方法。
【請求項１２】
前記基底に金属ナノワイヤーパターンを形成するステップは、前記導電ワイヤーパターンと露出した前記基底を覆う金属ナノ層を塗布するステップと、前記金属ナノワイヤーパターンを形成するように、一部の金属ナノ層を除去するステップとを含む請求項１０に記載の作製方法。
【請求項１３】
前記導電ワイヤーパターンは、複数の交差しない直線形の金属ワイヤーを含む請求項１０に記載の作製方法。
【請求項１４】
前記導電ワイヤーパターンは、前記第１の方向に平行に配列された第１の金属ワイヤーパターンと、前記第２の方向に交互に配列された第２の金属ワイヤーパターンとを含み、前記第１の方向と前記第２の方向は互いに直交する請求項１３に記載の作製方法。
【請求項１５】
前記金属ナノワイヤーパターンは、前記第１の金属ワイヤーパターンと前記第２の金属ワイヤーパターンとを接続する請求項１４に記載の作製方法。
【請求項１６】
前記第１の金属ワイヤーパターンと前記第２の金属ワイヤーパターンの少なくとも一方は、ストライプ状構造である請求項１０に記載の作製方法。
【請求項１７】
前記金属ナノワイヤーパターンは銀ナノワイヤーパターンである請求項１０に記載の作製方法。
【請求項１８】
前記金属ナノ層を塗布する方式はインクジェット、散布、凹版印刷、凸版印刷、フレキソ印刷、ナノインプリント、スクリーン印刷、ドクターブレード塗布、スピンコート塗布、スタイラスコーティング（ｓｔｙｌｕｓ  ｐｌｏｔｔｉｎｇ)、スリットコート塗布またはフローコート塗布などを含む請求項１２に記載の作製方法。
【請求項１９】
一部の前記金属ナノ層を除去する方式はレーザーエッチングまたは機械的スクラッチを含む請求項１２に記載の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、表示の技術分野に関し、特に配線構造、表示基板及びその作製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フレキシブル表示装置は、携帯しやすく、可撓性、自由な変形等の利点があり、現在、フレキシブル表示技術がますます熟達になり、フレキシブルスクリーンも徐々に日常生活の主なツールとなり、業界でまもなくフレキシブル携帯機器が従来の携帯機器（携帯電話、タブレット等）に取って代わることが予想される。
【０００３】
フレキシブル表示装置において、配線構造はフレキシブル表示装置におけるコア機構の一つであり、例えば、薄膜トランジスタアレイ電極の配線構造、有機発光層電極の配線構造、及びタッチパネルにおけるタッチ電極の配線構造のような配線構造、前記配線構造は現実の電極間の電気的な導通または電気的な引き出しに用いられる。しかしながら、フレキシブル表示装置の配線構造が破断しやすくなり、フレキシブル表示装置の故障を招いてしまう。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本願が解決しようとする課題は、どのように配線構造の破断しやすいことを回避することにより、配線構造の力学的信頼性を向上させ、配線構造を含む表示装置の信頼性を向上させるように、配線構造、表示基板およびその作製方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記課題を解決するために、本願の実施形態は、導電ワイヤーを含む第１の領域と、金属ナノワイヤーを含む第２の領域と含む配線構造を提供し、前記第２の領域に生じる応力は前記第１の領域に生じる応力より大きい。
【０００６】
さらに、前記配線構造において、前記配線構造は折り線構造であり、前記第２の領域は折り線の変曲点に位置する。
【０００７】
さらに、前記配線構造において、前記第２の領域に生じる応力は前記第１の領域に生じる応力の１.２倍以上である。
【０００８】
また、前記配線構造において、前記第２の領域のパターンは四角形、五角形、六角形、円弧形、Ｖ字形のいずれか１種類または２種類以上であり、前記Ｖ字形の挟角は、鋭角、直角、あるいは鈍角であってもよい。
【０００９】
また、前記配線構造において、前記導電ワイヤーの材料は金ワイヤー、銀ワイヤーまたは銅ワイヤーを含み、前記金属ナノワイヤーの材料は銀ナノワイヤー、金ナノワイヤー、白金ナノワイヤー、銅ナノワイヤー、コバルトナノワイヤーまたはパラジウムナノワイヤーを含んでもよい。
【００１０】
また、前記配線構造は直線構造であってもよい。
【００１１】
本願の別の側面によれば、本願の実施形態は、基底と、基底に設けられる前記配線構造とを含む表示基板をさらに提供する。
【００１２】
また、前記基底はフレキシブル基底であり、前記フレキシブル基底の材料としては、アクリル、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾイミダゾールポリブテン、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテトラフルオロエチレン、ポリエチレンオキサイド、ポリグリコール酸、ポリメチルペンテン、ポリオキシメチレン、ポリフェニレンエーテル、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデンおよびスチレン−アクリロニトリルなどのいずれか１種類または２種類以上が挙げられる。
【００１３】
本願の別の側面によれば、本願の実施形態は、基底を提供するステップと、前記基底に互いに接続される第１の領域と第２の領域とを含む配線構造を形成するステップとを含む表示基板の作製方法をさらに提供し、前記第２の領域に生じる応力は前記第１の領域に生じる応力より大きい。
【００１４】
また、前記基底に配線構造を形成するステップは、前記基底に前記配線構造の第１の領域を構成する導電ワイヤーパターンを形成するステップと、および前記基底に前記配線構造の第２の領域を構成する金属ナノワイヤーパターンを形成し、前記金属ナノワイヤーパターンと前記導電ワイヤーパターンと接続されるステップとを含んでもよい。
【００１５】
さらに、前記基底に導電ワイヤーパターンを形成するステップは、前記基底に金属薄膜を形成するステップと、前記導電ワイヤーパターンを形成するように、前記金属薄膜をエッチングすることを含む。
【００１６】
さらに、前記基底に金属ナノワイヤーパターンを形成するステップは、前記導電ワイヤーパターンと露出した前記基底を覆う金属ナノ層を塗布するステップと、前記金属ナノワイヤーパターンを形成するように、一部の金属ナノ層を除去するステップとを含む。
【００１７】
また、前記導電ワイヤーパターンは複数の交差しない直線形の金属ワイヤーを含んでもよい。
【００１８】
また、前記導電ワイヤーパターンは、前記第１の方向に平行に配列された第１の金属ワイヤーパターンと、前記第２の方向に交互に配列された第２の金属ワイヤーパターンとを含み、前記第１の方向と前記第２の方向は互いに直交してもよい。
【００１９】
また、前記金属ナノワイヤーパターンは、前記第１の金属ワイヤーパターンと前記第２の金属ワイヤーパターンとを接続してもよい。
【００２０】
また、前記第１の金属ワイヤーパターンと前記第２の金属ワイヤーパターンの少なくとも一方は、ストライプ状構造であってもよい。
【００２１】
また、前記金属ナノワイヤーパターンは銀ナノワイヤーパターンであってもよい。
【００２２】
また、前記金属ナノ層を塗布する方式としては、インクジェット、散布、凹版印刷、凸版印刷、フレキソ印刷、ナノインプリント、スクリーン印刷、ドクターブレード塗布、スピンコート塗布、スタイラスコーティング（ｓｔｙｌｕｓ  ｐｌｏｔｔｉｎｇ)、スリットコート塗布またはフローコート塗布などが挙げられてもよい。
【００２３】
また、一部の前記金属ナノ層を除去する方式は、レーザーエッチングまたは機械的スクラッチを含んでもよい。
【発明の効果】
【００２４】
本願は、従来技術に比べて、以下の効果を有する。
本願の配線構造は、導電ワイヤーを含む第１の領域と、金属ナノワイヤーを含む第２の領域とを有し、前記第１の領域は前記第２の領域と互いに接続され、前記第２の領域に生じる応力は前記第１の領域に生じる応力より大きい。金属ナノワイヤーは好適な導電性能を有するだけでなく、好適な延性（耐折り曲げ特性）を有するため、大きな応力が生じる第２の領域に破断しにくい金属ナノワイヤーを設けることにより、前記第２の領域が折り曲げられる過程で破断することを防止し、前記配線構造の力学的信頼性を効果的に向上させることができる。前記配線構造を含む表示基板を表示装置に適用することにより、表示装置の信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】表示基板の平面構造を示す概略図である。
【図２】本願の実施形態に係る表示基板の作製方法のフローチャートである。
【図３】本願の実施形態における配線構造を形成するステップのフローチャートである。
【図４】本出願の一実施形態における前記表示基板の作製方法における各ステップに対応する平面構造を示す概略図である。
【図５】本出願の一実施形態における前記表示基板の作製方法における各ステップに対応する平面構造を示す概略図である。
【図６】本出願の一実施形態における前記表示基板の作製方法における各ステップに対応する平面構造を示す概略図である。
【図７】本出願の一実施形態における前記表示基板の作製方法における各ステップに対応する平面構造を示す概略図である。
【図８】本出願の一実施形態における前記表示基板の作製方法における各ステップに対応する平面構造を示す概略図である。
【図９】本願の別の実施形態における前記表示基板の平面構造を示す概略図である。
【図１０】本願の別の実施形態における前記表示基板の平面構造を示す概略図である。
【図１１】本願の別の実施形態における前記表示基板の平面構造を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
図１はフレキシブル表示装置における表示基板の構造を示す平面図である。図１に示すように、表示基板は、フレキシブル基底１０と、フレキシブル基底１０上に形成された配線構造１１とを含む。前記配線構造１１は折れ線構造であり、前記折れ線構造は複数本の首尾が接続される金属ワイヤーで形成され、隣接する二本の前記金属ワイヤーの接続箇所を前記配線構造１１の変曲点Ａとし、前記隣接する二本の金属ワイヤーの変曲点Ａでの挟角Ａは直角であってもよく（図１に示す）、前記挟角Ａはさらに鈍角または鋭角であってもよい。しかしながら、出願人は、前記表示基板をフレキシブル表示装置に適用し、前記フレキシブル表示装置は曲げ歪みを生じる場合、前記配線構造１１のいくつかの領域（例えば、複数の変曲点Ａ等）に応力集中という現象が発生しやすくなり（すなわち、前記変曲点Ａに生じる応力は他の領域に生じる応力より大きい）、前記複数の変曲点Ａを含む配線構造が破断しやすく、フレキシブル表示装置の故障を招くおそれがあると見出した。
【００２７】
また、前記配線構造の金属ワイヤーのパターンは直線形である場合、前記フレキシブル表示装置は曲げ歪みを生じる過程において、前記配線構造において異なる領域に生じる応力も異なり、応力が集中する領域も破断するおそれがある。
【００２８】
以上の知見に基づき、本願の実施形態は、導電ワイヤーを含む第１の領域と、金属ノナワイヤーを含む第２の領域とを含む配線構造を提供し、前記第１の領域と前記第２の領域と互いに接続され、前記第２の領域に生じる応力は前記第２の領域は記第１の領域に生じる応力より大きい。
【００２９】
これに対して、本願の別の側面によれば、本願の実施形態は、基底と、基底に設けられる前記配線構造とを含む表示基板を提供する。
【００３０】
また、本願の別の側面によれば、本願の実施形態は、表示基板の作製方法をさらに提供し、図２に示すように、前記方法は、基底を提供するステップＳ１と、前記基底に互いに接続される第１の領域と第２の領域とを有する配線構造を形成し、前記第２の領域に生じる応力は前記第１の領域に生じる応力より大きいステップＳ２とを含む。
【００３１】
なお、前記基底に前記配線構造を形成するステップは、図３に示すように、前記基底に前記配線構造の第１の領域を構成する導電ワイヤーパターンを形成するステップＳ２１と、および、前記基底に前記配線構造の第２の領域を構成する金属ナノワイヤーパターンを形成し、前記金属ノナワイヤーパターンは前記導電ワイヤーパターンと接続されるステップＳ２２とを含む。
【００３２】
本願の配線構造は、導電ワイヤーを含む第１の領域と、金属ナノワイヤーを含む第２の領域とを有し、前記第１の領域と前記第２の領域と互いに接続され、前記第２の領域に生じる応力は前記第１の領域に生じる応力より大きい。金属ナノワイヤーは好適な導電性能を有するだけでなく、好適な延性（耐折り曲げ特性）を有するため、大きな応力が生じる第２の領域に破断しにくい金属ナノワイヤーを設けることにより、前記第２の領域が折り曲げられる過程で破断することを防止し、前記配線構造の力学的信頼性を効果的に向上させることができる。前記配線構造を含む表示基板を表示装置に適用することにより、表示装置の信頼性を向上させることができる。
【００３３】
以下、本願の配線構造、表示基板およびその作製方法について、フローチャートおよび概略図を参照して、より詳細に説明する。なお、本願の好ましい実施例を示し、本願の内容は以下の実施形態に限定されるものではなく、当業者の一般的な技術的解決手段による改善も本願の技術的思想の範囲内にある。
【００３４】
まず、基底を提供するステップＳ１を実行する。好適には、前記基底はフレキシブル基底２０を含み、図４に示すように、前記フレキシブル基底２０の材料としては、アクリル、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリベンゾイミダゾールポリブテン（ＰＢ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、ポリエチレンオキサイド、ポリグリコール酸（ＰＧＡ）、ポリメチルペンテン（ＰＭＰ）、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＥ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）およびスチレン−アクリロニトリルの１種類または２種類以上が挙げられる。本実施形態では、前記フレキシブル基底２０の材料はＰＩである。
【００３５】
次に、前記基底に、第１の領域と第２の領域とを有する配線構造を形成し、前記第１の領域と前記第２の領域と互いに接続され、前記第２の領域に生じる応力が前記第１の領域に生じる応力より大きいステップＳ２を実行する。具体的には、従来のプロセス条件で、実際の需要を満たすために、前記配線構造を多種構造形態に設計してもよく、例えば、前記配線構造は、直線構造、円弧構造、Ｖ字構造のいずれか１種類または２種類以上であってよい。前記配線構造を含む表示パネルに曲げ歪みが生じる場合、前記配線構造において異なる領域に生じる応力は差が存在する。本願の実施形態では、前記配線構造において応力集中が生じやすい領域をまとめて前記第２の領域と言い、応力集中が生じにくい領域をまとめて前記第１の領域と言い、前記第２の領域に生じる応力は前記第１の領域に生じる応力より大きい。さらに、本実施形態では、前記第２の領域に生じる応力は前記第１の領域に生じる応力の１.２倍以上である。
【００３６】
折り曲げ過程において、前記第２の領域に生じる応力が大きいので、前記配線構造の力学的信頼性を向上させ、前記配線構造の破断現象を防止するために、前記基底に前記配線構造を形成するステップは、前記基底に前記配線構造の第１の領域を構成する導電ワイヤーパターンを形成するステップＳ２１を実行することを含む。また、前記導電ワイヤーパターンの材料は金ワイヤー、銀ワイヤーまたは銅ワイヤー等のような金属である。具体的には、まず、前記フレキシブル基底２０に金属薄膜２１を形成し、図５に示すように、前記金属薄膜２１は蒸着やスパッタリング等のような物理的気相成長法（ＰＶＤ）により作製し得られ、これに限定されない。前記金属薄膜２１の材料は金、銀または銅であってもよいが、これらに限定されない。そして、フォトリソグラフィプロセスおよびエッチングプロセスにより、前記金属薄膜２１に必要な導電ワイヤーパターン２１’を形成し、前記導電ワイヤーパターン２１’は前記配線構造における第１の領域を構成する。フォトリソグラフィープロセス及びエッチングプロセスは従来のフォトリソグラフィプロセス及びエッチングプロセスを用いて得ることができ、なお、詳細な説明を省略する。また、本実施形態では、前記配線構造は折れ線構造である場合、前記配線構造に変曲点が存在し、前記変曲点は前記配線構造の第２の領域であり、他の部分は前記第１の領域である。
【００３７】
また、本実施形態では、前記導電ワイヤーパターン２１'に変曲点が存在しない（図１参照）、前記導電ワイヤーパターン２１'は複数本の交差しない直線形の金属ワイヤーを含む。具体的には、図６に示すように、前記導電ワイヤーパターン２１'は第１の方向に平行に配列される第１の金属ワイヤーパターン２１０’と、第２の方向に交互に配列される第２の金属ワイヤーパターン２１１’を含み、前記第１の金属ワイヤーパターン２１０は前記第２の金属ワイヤーパターン２１１’と交差しておらず、前記第一方向は第２の方向と互いに直交している。図６を参照して、前記第２の金属ワイヤーパターン２１１’は第１の方向に間隔をあけて配置された第１の位置と第２の位置（図６における上側位置と下側位置参照）を有し、前記第２の金属ワイヤーパターン２１１’が第２の方向に交互に配列されることは、第２の金属ワイヤーパターン２１１’が第２の方向に互いに平行かつ交互に第１の位置と第２の位置に位置することを意味する。
【００３８】
例示的に、図６に示すように、前記第１の金属ワイヤーパターン２１０’と前記第２の金属ワイヤーパターン２１１’といずれもストライプ状構造であってもよく、前記第１の金属ワイヤーパターン２１０’と前記第２の金属ワイヤーパターン２１１’を含む前記導電ワイヤーパターン２１’は前記配線構造の前記第１の領域を構成する。具体的には、前記フレキシブル基底２０に前記導電ワイヤーパターン２１’を形成する場合、前記第２の領域（変曲点）の金属薄膜をエッチングして除去する。前記変曲点の金属薄膜のエッチング面積は実際の生じる応力の大きさに応じて決めてもよい。本実施形態では、前記配線構造の変曲点の挟角は直角である例のみを挙げ（すなわち、前記第１の方向と第２の方向は互いに直交する）、他の実施形態では、前記挟角さらに鈍角または鋭角であってもよい。当業者は上記説明に基づいて対応する前記金属ワイヤーパターンの分布状態を容易に取得することができ、なお一々説明しない。
【００３９】
次に、前記基底に前記導電ワイヤーパターンと接続される金属ナノワイヤーパターンを形成し、前記金属ノナワイヤーパターンは前記配線構造の第２の領域を構成するステップＳ２２を実行する。好適には、ナノ銀は、一般的な形態で銀白色金属であり、導電性に優れ、耐折り曲げ性能が強いため、本実施形態では、前記金属ナノワイヤーパターンは、銀ナノワイヤーパターンであることが好ましい。また、前記金属ノナワイヤーパターンは、他の金属ノナワイヤーパターンであってもよく、例えば、ナノ金（Ａｕ）、ナノ白金（ＰＴ）、ナノ銅（Ｃｕ）、ナノコバルト（Ｃｏ）、ナノパラジウム（Ｐｄ）等であってもよい。具体的には、まず、銀ナノワイヤー層２２を塗布して、前記銀ナノワイヤー層２２は、図７に示すように、露出した前記フレキシブル基板２０と前記導電ワイヤーパターン２１’を覆う。前記塗布の方法はインクジェット、散布、凹版印刷、凸版印刷、フレキソ印刷、ナノインプリント、スクリーン印刷、ドクターブレード塗布、スピンコート塗布、スタイラスコーティング（ｓｔｙｌｕｓ  ｐｌｏｔｔｉｎｇ)、スリットコート塗布またはフローコート塗布を含むが、これらに限定されない。そして、前記配線構造における前記第２の領域の分布状態に応じて、図８に示すように、前記第２の領域（変曲点）で銀ナノワイヤーパターン２２’を形成するように、レーザーエッチングまたは機械的スクラッチ等の方法で一部の前記銀ナノワイヤー層を除去する。前記銀ナノワイヤーパターン２２’は第１の金属ワイヤーパターン２１０’と第２の金属ワイヤーパターン２１１’と接続し、形成された前記配線構造は、前記第１の領域の導電ワイヤーパターン２１’と、前記第２の領域の銀ナノワイヤーパターン２２’とを含む。本実施形態では、前記銀ナノワイヤーパターン２２’はＶ字形であり、前記Ｖ字形の挟角Ｐは直角であり、他の実施形態では、前記Ｖ字形の挟角Ｐは鈍角または鋭角であってもよい。また、他の実施形態では、前記銀ナノワイヤーパターン２２’は、四角形（図９に示す）、五角形（図１０に示す）、六角形（概略図省略）、または円孤形（図１１に示す）などであってもよい。そして、前記銀ナノワイヤーパターン２２’は、Ｖ字形、四角形、五角形、六角形、円弧形等における２種類以上の図形の組み合わせであってもよい。
【００４０】
また、前記実施形態は、設計された前記配線構造を折れ線構造とする例であり、別の実施形態では、前記配線構造を直線構造に設計してもよい。前記配線構造の金属ワイヤーのパターンが直線形である場合、折り曲げの過程において、前記配線構造において異なる領域が生じる応力も異なる。曲げ歪みの程度が高ければ高いほど応力が集中する。この場合、生じる応力が大きい領域に金属ノナワイヤーを用いて、他の領域に導電ワイヤーを用いることにより、前記配線構造の力学的信頼性を向上させることができる。当業者は、折れ線構造の配線構造の作製方法により、直線構造の配線構造の作製方法を容易に得ることができ、なお、詳細な説明しない。
【００４１】
前記作製方法により形成される表示基板は、フレキシブル基底２０と前記フレキシブル基底２０に設けられる配線構造を含み、前記配線構造は、前記第１の領域の導電ワイヤーパターン２と前記第２の領域の銀ナノワイヤーパターン２２’を含む。もちろん、本願は、前記作製方法によって前記表示基板を得るものに限定されるものではない。
【００４２】
前記表示基板をフレキシブル表示装置に適用し、前記表示基板の配線構造の力学的信頼性を向上させるし、フレキシブル表示装置の信頼性を向上させることができる。
【００４３】
以上により、本願の配線構造は、相互に接続する応力集中が生じにくい第１の領域と、応力集中が生じやすい第２の領域とを含み、前記第２の領域に生じる応力は、前記第１の領域に生じる応力より大きくて、前記第１の領域は、導電ワイヤーを含み、前記第２の領域は、金属ノナワイヤーを含む。金属ノナワイヤーは好適な導電性能を有するだけでなく、好適な延性（耐折り曲げ特性）を有するため、生じる応力が大きい第２の領域に破断が生じにくい金属ノナワイヤーを設け、前記第２の領域が折り曲げられる過程で破断することを防止し、前記配線構造の力学的信頼性を効果的に向上させることができる。前記配線構造を含む表示基板を表示装置に適用し、表示装置の信頼性を向上させることができる。
【００４４】
明らかに、当業者であれば、本願の精神及び範囲から逸脱しないで本願に様々な修正及び変更できる。このように、本願のこれらの修正および変更が、本発明の請求項およびその均等の技術の範囲に属する場合に、そのような修正および変更を含むことも意図される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【手続補正書】
【提出日】令和2年3月5日(2020.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線構造であって、導電ワイヤーを含む第１の領域と、金属ノナワイヤーを含む第２の領域と、を含み、
前記第１の領域は前記第２の領域と互いに接続され、前記第２の領域に生じる応力は、前記第１の領域に生じる応力より大きい配線構造。
【請求項２】
前記配線構造は、折れ線構造であり、前記第２の領域は、折れ線の変曲点に位置し、あるいは、前記配線構造は、直線構造であり、
前記第２の領域に生じる応力は、前記第１の領域に生じる応力の１.２倍以上である、ことを特徴とする請求項１に記載の配線構造。
【請求項３】
前記第２の領域のパターンは、四角形、五角形、六角形、円弧形、Ｖ字形のいずれか１種類または２種類以上であり、前記Ｖ字形の挟角は、鋭角、直角、または鈍角であり、前記導電ワイヤーの材料は、金ワイヤー、銀ワイヤーまたは銅ワイヤーを含み、前記金属ナノワイヤーの材料は、銀ナノワイヤー、金ナノワイヤー、白金ナノワイヤー、銅ナノワイヤー、コバルトナノワイヤーまたはパラジウムナノワイヤーを含む、ことを特徴とする請求項１に記載の配線構造。
【請求項４】
表示基板であって、基底と、前記基底に設けられる請求項１に記載の前記配線構造とを含む表示基板、
あるいは、前記基底はフレキシブル基底であり、前記フレキシブル基底の材料としては、アクリル、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリロニトリルブタジエンスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾイミダゾールポリブテン、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテトラフルオロエチレン、ポリエチレンオキサイド、ポリグリコール酸、ポリメチルペンテン、ポリオキシメチレン、ポリフェニレンエーテル、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデンおよびスチレンアクリロニトリルなどのいずれか１種類または２種類以上が挙げられる表示基板。
【請求項５】
表示基板の作製方法であって、基底を提供するステップと、
前記基底に互いに接続される第１の領域と第２の領域を含む配線構造を形成するステップと、を含み、
前記第２の領域に生じる応力は、前記第１の領域に生じる応力より大きい表示基板の作製方法。
【請求項６】
前記基底に配線構造を形成するステップは、前記基底に前記配線構造の第１の領域を構成する導電ワイヤーパターンを形成するステップと、および前記基底に前記配線構造の第２の領域を構成する金属ナノワイヤーパターンを形成し、前記金属ナノワイヤーパターンと前記導電ワイヤーパターンと接続されるステップとを含む、ことを特徴とする請求項５に記載の作製方法。
【請求項７】
前記基底に導電ワイヤーパターンを形成するステップは、前記基底に金属薄膜を形成するステップと、前記導電ワイヤーパターンを形成するように、前記金属薄膜をエッチングするステップとを含むことを特徴とする請求項６に記載の作製方法。
【請求項８】
前記基底に金属ナノワイヤーパターンを形成するステップは、前記導電ワイヤーパターンと露出した前記基底を覆う金属ナノ層を塗布するステップと、前記金属ナノワイヤーパターンを形成するように、一部の金属ナノ層を除去するステップとを含み、
前記金属ナノ層を塗布する方式はインクジェット、散布、凹版印刷、凸版印刷、フレキソ印刷、ナノインプリント、スクリーン印刷、ドクターブレード塗布、スピンコート塗布、スタイラスコーティング（ｓｔｙｌｕｓ  ｐｌｏｔｔｉｎｇ)、スリットコート塗布またはフローコート塗布などを含み、一部の前記金属ナノ層を除去する方式はレーザーエッチングまたは機械的スクラッチを含む、ことを特徴とする請求項６に記載の作製方法。
【請求項９】
前記導電ワイヤーパターンは、複数の交差しない直線形の金属ワイヤーを含み、あるいは、前記導電ワイヤーパターンは、前記第１の方向に平行に配列された第１の金属ワイヤーパターンと、前記第２の方向に交互に配列された第２の金属ワイヤーパターンとを含み、前記第１の方向と前記第２の方向は互いに直交する、ことを特徴とする請求項６に記載の作製方法。
【請求項１０】
前記金属ナノワイヤーパターンは、前記第１の金属ワイヤーパターンと前記第２の金属ワイヤーパターンとを接続し、前記第１の金属ワイヤーパターンと前記第２の金属ワイヤーパターンの少なくとも一方は、ストライプ状構造である、ことを特徴とする請求項９に記載の作製方法。
【国際調査報告】
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