(57)【要約】  ２．８ｍｍより大きい直径を有し、オーステナイト微細構造を有する複数の加熱されたスチールワイヤの連続制御冷却方法、および、スチールワイヤのパーライト微細構造への変態方法。その方法は以下のステップを含む。ａ）第１の冷媒液を備える第１の冷媒槽を提供するステップ。第１の冷媒液は水と安定化添加物とを備える。ｂ）第１の冷媒槽に含有される第１の冷媒液を通して個別の経路に沿って互いに平行に複数の予め加熱されたスチールワイヤを導き、特定の長さＬにわたってスチールワイヤのそれぞれの方へ第１の冷媒槽内部に浸入した衝突液体を向けるステップ。衝突液体は、複数のスチールワイヤのそれぞれのまわりの蒸気膜の厚さを減少、または、蒸気膜を不安定化させ、前記長さＬにわたる冷却の速度を加速させる。衝突液体の強度は、各個別のスチールワイヤに対して、または、複数のスチールワイヤのサブセットに対して、個々に設定および／または制御される。ｃ）さらなる冷却のために空気を通して互いに平行に複数のスチールワイヤを導くステップ。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
オーステナイト微細構造を有する複数の加熱されたスチールワイヤの連続制御冷却方法、および、前記スチールワイヤのパーライト微細構造への変態方法において、前記複数のスチールワイヤが、２．８ｍｍより大きい直径を有するスチールワイヤを備え、好ましくは、２．８ｍｍより大きい直径を有するスチールワイヤから構成されており、
ａ）第１の冷媒槽を提供するステップであって、前記第１の冷媒槽が第１の冷媒液を備え、前記第１の冷媒液は水と安定化添加物とを備える、ステップと、
ｂ）前記第１の冷媒槽に含有される前記第１の冷媒液を通して個別の経路に沿って互いに平行に前記複数の予め加熱されたスチールワイヤを導き、特定の長さＬにわたって前記スチールワイヤのそれぞれの方へ前記第１の冷媒槽内部に浸入した衝突液体を向けるステップであって、前記衝突液体が、前記複数のスチールワイヤのそれぞれのまわりの蒸気膜の厚さを減少、または、前記蒸気膜を不安定化させ、それによって、前記長さＬにわたる冷却の速度を加速させ、前記衝突液体の強度が、各個別のスチールワイヤに対して、または、前記複数のスチールワイヤのサブセットに対して、個々に設定および／または制御される、ステップと、
ｃ）さらなる冷却のために空気を通して互いに平行に前記複数のスチールワイヤを導くステップと
を含む方法。
【請求項２】
前記衝突液体によって前記第１の冷媒槽の前記複数のスチールワイヤを冷却した後に、第２の冷媒槽を通して互いに平行な個別の経路に沿って前記複数のスチールワイヤを導くさらなるステップを含み、
前記第２の冷媒槽が第２の冷媒液を備え、
前記第２の冷媒液は水と安定化添加物とを備える、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
空隙が、前記第１の冷媒槽と前記第２の冷媒槽との間に設けられ、それにより、前記複数のスチールワイヤが、前記第１の冷媒槽と前記第２の冷媒槽との間の空気によって冷却される、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の冷媒槽および前記第２の冷媒槽が同じ槽である、
請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記衝突液体の前記強度が、
前記衝突液体を作成する液体流れの流量を設定および／または制御することによって、
たとえば、前記衝突液体のための前記液体流れを作成するポンプ（単数または複数）の流量を制御することによって、あるいは、たとえば、１つまたは複数の弁またはオリフィスを制御または設定することによって、
前記複数のスチールワイヤの前記サブセットに対しての各個別のスチールワイヤに対して、個々に設定および／または制御される、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
１つまたは複数のセンサが設けられ、
各個別のスチールワイヤに対するまたは複数のスチールワイヤのサブセットに対する衝突液体の強度の制御が、各個別のスチールワイヤに対するまたは各個別のスチールワイヤでの、あるいは、前記複数のスチールワイヤのサブセットに対するまたは前記複数のスチールワイヤのサブセットでの、前記１つまたは複数のセンサによる測定によって、かつ、測定された信号および制御装置を使用した、前記衝突液体を作成する前記液体流れの前記流量の設定またはフィードバック制御によって、提供される、
請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記センサ（単数または複数）が圧力センサまたは流量センサを備え、
前記圧力センサが、前記衝突液体を作成するノズルでの液圧の測定のために設けられ、または、前記流量センサが、前記衝突液体を作成するノズルでの流れの測定のために設けられ、
センサ測定値が、前記衝突液体を作成する前記液体流れの流量の設定またはフィードバック制御のために使用される、
請求項６に記載の方法。
【請求項８】
１つまたは複数の磁気センサが、１つの前記スチールワイヤまたは前記スチールワイヤのサブセットの磁気応答を測定するために設けられ、閉ループで適応するフィードバックを提供するために、前記第１の冷媒槽において前記衝突液体を制御する、
請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記スチールワイヤのまわりの前記蒸気膜が前記衝突液体によって影響を受ける前記スチールワイヤの全長に沿った前記第１の冷媒槽の前記スチールワイヤまたは前記スチールワイヤのサブセットを分離する仕切壁が前記第１の冷媒槽に設けられる、
請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記衝突液体が、各個別の経路に沿って各スチールワイヤ自体の下に浸入する、
または、
前記衝突液体が、それらの個別の経路に沿った前記複数のスチールワイヤのうちのいくつかの下に部分的に浸入する、
請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の冷媒槽を通るかつ／または前記第２の冷媒槽を通る前記スチールワイヤのそれぞれの前記個別の経路の前記長さが調整可能である、
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記スチールワイヤの直径および／または合金組成の関数として前記スチールワイヤのそれぞれの前記変態を最適化するために、連続的な工程を通して前記スチールワイヤの速度が個々に調整可能である、
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記スチールワイヤのそれぞれのまわりに前記第２の冷媒槽で作成される前記蒸気膜が乱されていない、
請求項２〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記スチールワイヤのそれぞれが前記第１の冷媒槽を通過する長さが同じである、
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法を実行するための設備において、
第１の冷媒液を備えるための第１の冷媒槽と、
前記第１の冷媒槽に含有される前記冷媒液を通して個別の経路に沿って互いに平行に複数の予め加熱されたスチールワイヤを導くための手段と、
前記第１の冷媒槽内部に浸された衝突液体生成器であって、前記衝突液体生成器が特定の長さＬにわたって前記スチールワイヤの方へ衝突液体を導くように適合された、衝突液体生成器と、
各個別のスチールワイヤのために、または、前記複数のスチールワイヤのサブセットのために前記衝突液体の強度を個々に設定または制御するための手段と、
さらなる冷却のために空気を通して互いに平行に前記複数のスチールワイヤを導くための手段と
を備える設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、冷媒液として水を備える冷媒槽が使用される、スチールワイヤのパテンティングのための方法および設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
スチールワイヤのパテンティングは、炉におけるまたは他の加熱手段による、スチールワイヤのオーステナイトへの変換と、制御された方法でのオーステナイトスチールワイヤのパーライト組織への冷却とを含む。好ましくは、得られるパーライト組織は、ソルバイトとも呼ばれる微細パーライト組織である。好ましくは、パーライト組織は、スチールワイヤの断面にわたって均一である。パーライト組織にはベイナイトまたはマルテンサイトがないことが好ましい。パーライト組織は、スチールワイヤをより細い直径に引き抜くことを可能にする。
【０００３】
伝統的に、スチールワイヤのパテンティングの冷却ステップは溶融鉛槽で実行され、その冷却ステップはオーステナイトの微細パーライトへの恒温変態を可能にする。環境問題および健康問題のため、鉛パテンティングは、代替的な冷却技術にますます置き換えられており、水系冷媒槽の使用はその１つの例である。
【０００４】
欧州特許出願公開第０５２４６８９Ａ１号明細書は、２．８ｍｍより小さい直径を有する少なくとも１本のスチールワイヤをパテンティングする工程を開示している。冷却は、１つまたは複数の水冷期間の水中での、および、１つまたは複数の空冷期間の空気中での膜沸騰によって交互に行われる。水冷期間は空冷期間の直後に続き、その逆も同じである。水中での冷却速度は速く、一方、空気中で冷却速度は非常に遅い。水中での冷却速度の速さは、２．８ｍｍより小さい直径を有するワイヤに深刻な危険をもたらす。水中冷却セクション間の空気中での冷却は、スチールワイヤの冷却を減速させるために実行される。水冷期間の数、空冷期間の数、および各水冷期間の長さは、マルテンサイトまたはベイナイトの形成を回避するように選択される。
【０００５】
「Ｆｏｒｃｅｄ  ｗａｔｅｒ  ｃｏｏｌｉｎｇ  ｏｆ  ｔｈｉｃｋ  ｓｔｅｅｌ  ｗｉｒｅｓ」と題された国際公開第２０１４／１１８０８９Ａ１号パンフレットは、５ｍｍより大きい直径を有する直線状のスチールワイヤに対する強制冷却工程を開示している。冷媒槽内部に浸入した衝突液体は、加熱されたスチールワイヤの冷却速度を加速するために、スチールワイヤに向けられる。冷媒槽のこの「強制」冷却帯に、乱されていない（これはワイヤのまわりの沸騰膜上に衝突液体がないことを意味する）沸騰膜がワイヤをさらに冷却する冷却帯が続く。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様は、オーステナイト微細構造を有する複数の加熱されたスチールワイヤの連続制御冷却方法、および、スチールワイヤのパーライト微細構造への変態方法である。複数のスチールワイヤは、２．８ｍｍより大きい直径を有するスチールワイヤを備え、好ましくは、２．８ｍｍより大きい直径を有するスチールワイヤから構成される。その方法は以下のステップを含む。
ａ）第１の冷媒槽を提供するステップ。第１の冷媒槽は第１の冷媒液を備える。第１の冷媒液は水と安定化添加物とを備える。好ましくは、第１の冷媒槽の第１の冷媒液は８０℃より高い温度を有する。
ｂ）第１の冷媒槽に含有される第１の冷媒液を通して個別の経路に沿って互いに平行に複数の予め加熱されたスチールワイヤを導き、特定の長さＬにわたってスチールワイヤのそれぞれの方へ第１の冷媒槽内部に浸入した衝突液体を向けるステップ。衝突液体は、複数のスチールワイヤのそれぞれのまわりの蒸気膜の厚さを減少、または、蒸気膜を不安定化させ、前記長さＬにわたる冷却の速度を加速させる。衝突液体の強度は、各個別のスチールワイヤに対して、または、複数のスチールワイヤのサブセットに対して、個々に設定および／または制御される。
ｃ）さらなる冷却のために空気を通して互いに平行に複数のスチールワイヤを導くステップ。
【０００７】
パテンティング工程における冷却に必要なパラメータは、スチールワイヤの直径、および、合金鋼に依存する。鉛槽を使用して冷却するとき、鉛槽の特性のため、オーステナイトからパーライトへの変態は恒温で行われるので、パラメータはあまり重要ではない。水系冷却媒体を使用するとき、これはもはや当てはまらない。したがって、異なる直径および／または異なる合金鋼のスチールワイヤを同時に処理するときに、微細パーライトへの適切な変態を得るために、パラメータ設定はなおさら重要になる。異なる直径および／または異なる合金鋼のスチールワイヤを、同時に、それぞれ最適の微細構造にパテンティングすることができることは、本発明の利益である。スチールワイヤのそれぞれの微細構造がワイヤの長さにわたってより安定していることはさらなる利益である。
【０００８】
本方法において、スチールワイヤは、互いに平行である、複数のサブセットを備えることができる。ワイヤの各サブセットは、特定の直径および特定の合金のワイヤから構成することができる。複数のスチールワイヤのサブセットごとに衝突液体の強度を設定および／または制御することによって、各サブセットのスチールワイヤを最適にパテンティングすることができる。
【０００９】
各個別のスチールワイヤに対して衝突液体の強度を設定および制御することさえ可能である。このような実施形態は、異なる直径および／または合金のより多くのスチールワイヤを同時にパテンティングすることができるという点で、本方法の高い柔軟性を可能にする。さらに、各スチールワイヤは、同じ直径および同じ合金のスチールワイヤでさえ、ワイヤ位置、設備、および、前の工程ステップ（たとえば、加熱炉、ピックリングなど）の違いを考慮して、最適にパテンティングすることができる。
【００１０】
安定化添加物は、スチールワイヤのまわりの気体／蒸気膜の安定性を向上させるために提供される。安定化添加物は、石鹸などの界面活性剤、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコールなどの安定化ポリマー、および／あるいは、アルカリポリアクリレートまたはポリアクリル酸ナトリウムなどのポリマー焼入剤を備えてもよい。添加剤は、スチールワイヤのまわりで気体膜の厚さおよび安定性を増加させるのに使用される。
【００１１】
好ましくは、衝突液体は、第１の冷媒槽の冷媒液と同じ組成を有する。
【００１２】
好ましくは、衝突液体は第１の冷媒槽から出る。より好ましくは、衝突液体は、ポンプおよび流量制御システムによって連続的に再循環および制御される。
【００１３】
好ましくは、スチールワイヤのそれぞれの直径は２．８ｍｍ〜２０ｍｍである。
【００１４】
一例として、衝突液体は、第１の冷媒槽内で水平にかつスチールワイヤの下に設けられる板のノズル開口を介して提供することができる。
【００１５】
好ましくは、本方法は、衝突液体によって第１の冷媒槽の複数のスチールワイヤを冷却した後に、第２の冷媒槽を通して互いに平行な個別の経路に沿って複数のスチールワイヤを導くさらなるステップを含む。第２の冷媒槽は第２の冷媒液を備える。第２の冷媒液は水と安定化添加物とを備える。好ましくは、乱流は第２の冷媒槽に存在しない。好ましくは、スチールワイヤのそれぞれのまわりに第２の冷媒槽で作成される蒸気膜は乱されていない。
【００１６】
好ましくは、第１の冷媒槽の第１の冷媒液の温度は、第２の冷媒槽の第２の冷媒液の温度と略同じである。
【００１７】
好ましくは、第１の冷媒液の組成は第２の冷媒液の組成と同じである。
【００１８】
好ましくは、第２の冷媒槽に、第２の冷媒液の層流が存在する。第２の冷媒液は、たとえば、層流による新しい第２の冷媒液の越流および供給を介して新しくすることができる。より好ましくは、第２の冷媒液は連続的に再循環される。
【００１９】
好ましい実施形態において、空隙は、第１の冷媒槽と第２の冷媒槽との間に設けられ、それにより、複数のスチールワイヤは、第１の冷媒槽と第２の冷媒槽との間の空気によって冷却される。
【００２０】
好ましい実施形態において、第１の冷媒槽および第２の冷媒槽は同じ槽である。スチールワイヤは、第１の冷媒槽と第２の冷媒槽との間の空隙を通過しないが、同じ槽である第１の冷媒槽から第２の冷媒槽へ移動するとき、冷媒液に連続的に浸されることを意味する。
【００２１】
好ましくは、衝突液体の強度は、衝突液体を作成する液体流れの流量を設定および／または制御することによって、複数のスチールワイヤのサブセットに対しての各個別のスチールワイヤに対して、個々に設定および／または制御される。これは、たとえば、衝突液体のための液体流れを作成するポンプ（単数または複数）の流量を制御することによって、あるいは、１つまたは複数の弁またはオリフィスを制御または設定することによって、実装することができる。
【００２２】
より好ましくは、１つまたは複数のセンサが設けられる。各個別のスチールワイヤに対するまたは複数のスチールワイヤのサブセットに対する衝突液体の強度の制御は、各個別のスチールワイヤに対するまたは各個別のスチールワイヤでの、あるいは、複数のスチールワイヤのサブセットに対するまたは複数のスチールワイヤのサブセットでの、１つまたは複数のセンサによる測定によって提供される。衝突液体を作成する液体流れの流量の設定またはフィードバック制御は、測定された信号および制御装置を使用して実行される。
【００２３】
さらにより好ましくは、センサ（単数または複数）は、圧力センサを備える、または、圧力センサから構成される。圧力センサは、衝突液体を作成するノズルでの液圧の測定のために設けられ、センサ測定値は、衝突液体を作成する液体流れの流量の設定またはフィードバック制御のために使用される。圧力センサの代替として、または圧力センサに加えて、センサ（単数または複数）は、流量センサを備える、または、流量センサから構成される。流量センサは、衝突液体を作成するノズルでの流れの測定のために設けられ、センサ測定値は、衝突液体を作成する液体流れの流量の設定またはフィードバック制御のために使用される。
【００２４】
好ましくは、１つまたは複数の磁気センサは、１つのスチールワイヤまたはスチールワイヤのサブセットの磁気応答を測定するために設けられ、閉ループで適応するフィードバックを提供するために、第１の冷媒槽において衝突液体を制御する。
【００２５】
好ましくは、スチールワイヤのまわりの蒸気膜が衝突液体によって影響を受けるスチールワイヤの全長に沿った第１の冷媒槽のスチールワイヤまたはスチールワイヤのサブセットを分離する仕切壁が第１の冷媒槽に設けられる。このように、第１のスチールワイヤ上の衝突液体は、第２のスチールワイヤのまわりの蒸気膜に影響を与えない。このように、スチールワイヤの冷却に対する影響は、隣接するスチールワイヤまたはワイヤの隣接するサブセットの衝突液体からは得られないので、衝突液体についての設定または制御は、より効果的である。一例として、衝突液体は、第１の冷媒槽内で水平にかつスチールワイヤの下に設けられる板のノズル開口を介して提供することができ、仕切壁は、垂直に設けられ、板上に位置付けられ、好ましくは板上に取り付けられる。
【００２６】
好ましくは、衝突液体は、各個別の経路に沿って各スチールワイヤ自体の下に浸入する、または、衝突液体は、それらの個別の経路に沿った複数のスチールワイヤのうちのいくつかの下に部分的に浸入する。
【００２７】
好ましくは、第１の冷媒バッチを通るかつ／または第２の冷媒槽を通るスチールワイヤのそれぞれの個別の経路の長さは調整可能である。
【００２８】
好ましくは、スチールワイヤの直径および／または合金組成の関数としてスチールワイヤのそれぞれの変態を最適化するために、連続的な工程を通してスチールワイヤの速度は個々に調整可能である。
【００２９】
好ましくは、スチールワイヤのそれぞれが第１の冷媒槽を通過する長さは同じである。
【００３０】
好ましくは、スチールワイヤのそれぞれのまわりに第２の冷媒槽で作成される蒸気膜は乱されていない。
【００３１】
第２の冷媒槽が設けられるとき、好ましくは、スチールワイヤは第２の冷媒槽から外に導かれて、空気中で室温までさらに冷却される。
【００３２】
本発明の第２の態様は、本発明の第１の態様の方法を実行するための設備である。本設備は、
第１の冷媒液を備えるための第１の冷媒槽と、
第１の冷媒槽に含有される冷媒液を通して個別の経路に沿って互いに平行に複数の予め加熱されたスチールワイヤを導くための手段と、
第１の冷媒槽内部に浸された衝突液体生成器であって、衝突液体生成器が特定の長さＬにわたってスチールワイヤの方へ衝突液体を導くように適合された、衝突液体生成器と、
各個別のスチールワイヤのために、または、複数のスチールワイヤのサブセットのために衝突液体の強度を個々に設定または制御するための手段と、
さらなる冷却のために空気を通して互いに平行に複数のスチールワイヤを導くための手段と
を備える。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の例を示す。
【図２】図１の線ＩＩ〜ＩＩに沿った断面を示す。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
図１は、本発明による好ましい方法および設備の例を示す。図２は、図１の線ＩＩ〜ＩＩに沿った断面を示す。第１の冷媒槽（ＣＢ１）における衝突液体による冷却長さは固定される。第１の冷媒槽は第１の冷媒液を備える。第１の冷媒液は水と安定化添加物とを備える。第１の冷媒槽の第１の冷媒液は８０℃より高い温度を有する。短い空隙（ＡＧ）は、第１の冷媒槽（ＣＢ１）と第２の冷媒槽（ＣＢ２）とを分離するために加えられた。第２の冷媒槽（ＣＢ２）の長さは調整可能である。第２の冷媒槽は第２の冷媒液を備え、それは本例において、第１の冷媒液と同じ組成および同じ温度を有する。乱流は第２の冷媒槽に存在しない。スチールワイヤのそれぞれのまわりに第２の冷媒槽で作成される蒸気膜は乱されていない。冷媒液の層流は、第２の冷媒槽に存在し、第２の冷媒槽の冷媒液の回復を保証する。第１の冷媒槽には、第１の冷媒槽を異なる「レーン」に分離する仕切壁が設けられる。スチールワイヤの各サブセットは、別々のレーンで（または、レーンごとに１つの単一のスチールワイヤでも）処理される。好ましくは、図１に示されるように、第１の冷媒槽では、各個別の経路に沿った衝突液体生成器および空隙は、固定された長さを有し、第２の冷媒槽の長さは、スチールワイヤのサブセットのそれぞれに対して調整可能である。複数のスチールワイヤは、互いに平行に、同時にパテンティングされる。第１の冷媒槽の衝突液体の強度は、各レーンで、よって、スチールワイヤの各サブセットに対して、個々に設定および制御される。
【００３５】
図１の線ＩＩ〜ＩＩに沿った断面を示す図２に示されるように、スチールワイヤ１０は、約１０００℃の温度Ｔを有する炉１２から導かれる。ワイヤ走行速度は、ワイヤの直径によって調整することができ、たとえば約２０ｍ／分である。炉１２のすぐ下流に、越流式の第１の冷媒槽１４は位置する。スチールワイヤは、第１の冷媒槽の仕切壁の間に導かれる。第１の冷媒槽内部に浸された穿孔板２２の穴２０からの複数の噴流１６が衝突液体を形成しており、その流量は、第１の冷媒槽の外側の循環ポンプおよび制御システム１８によって設定および制御される。冷却速度は、衝突噴流のための液体流れを提供するポンプの制御を介して、噴流の前の圧力によって冷媒流れを最適化することによって調整される。このため、圧力センサは、冷媒液圧を測定するために穿孔板で使用することができる。測定信号は、スチールワイヤのそのサブセットのために液体流れを発生させているポンプの方へ、閉フィードバック制御システムで使用することができる。流量は、スチールワイヤの各サブセットに対して個々に設定することができる。強制冷却のためのジェットの流量および空隙領域の長さは、マルテンサイトまたはベイナイトの形成を回避するように選択される。仕切壁は、垂直に設けることができ、穿孔板上に位置付けることができ、板上に取り付けることができ、レーンのワイヤの１つのサブセットに作用する衝突噴流が、スチールワイヤの別のサブセットを意味する、別のレーンのスチールワイヤ上に存在する蒸気膜に影響を与えることを回避する。穴２０からの圧力下の衝突液体は、スチールワイヤ１０の方へ噴出している。図２に示されるように、第１の長さＬ１は、炉１２の出口から衝突液体までの距離である。第２の長さＬ２は、第１の冷媒槽における強制冷媒冷却工程（強制冷媒冷却長さ）のために使用される長さを示す。次いで、スチールワイヤ１０は、第１の冷媒槽から導かれて、図２に示される長さＬ４を有する空隙領域にさらされる。その後、スチールワイヤ１０は、さらに冷却するために、第２の冷媒槽１７に導かれる。第２の冷媒槽１７のスチールワイヤ１０の浸漬長さは、Ｌ５として示される。長さＬ５は、スチールワイヤ１０の直径および望ましい引張強さに応じて可変である可能性がある。第２の冷媒槽の後、スチールワイヤは、さらに冷却するために、空気を通して導かれる。
【図１】
2020514539.tif 000003
【図２】
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【国際調査報告】
2020514539.tif 000005
2020514539.tif 000006