(57)【要約】  エアロゾルで軟土地盤を攪乱処理する方法であって、排水体（１）、下敷（２）及び排水溝（３）、ケーシング又は穿孔通路（４）を設置した後、噴射管（８）にケーシング又は穿孔通路（４）を通り抜けさせて、エアロゾル発生装置（７）中の液体又は固体エアロゾル原材料を霧化してエアロゾルを形成して、土体の内部に高圧噴射する。
2020514574.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エアロゾルで軟土地盤を攪乱処理する方法であって、
処理すべき軟土地盤を≪建築地盤処理技術仕様≫の要件に従って測定・墨出し、処理面積の決定、用地の平坦化を行い、次に複数の垂直な排水体（１）を軟土中に打設し、前記排水体（１）の最上部を前記軟土地盤の表層に露出させ、前記排水体を排水通路と総称するという排水通路を垂直に設置するステップ（１）と、
ステップ（１）に記載の排水体の設置を完了した後、排水体の最上部を被覆するように処理すべき軟土地盤の表層に下敷（２）を均一に敷設し、水を用地から排出するように処理すべき軟土地盤の周りに排水溝（３）を掘設するという下敷を設置し及び排水溝を掘設するステップ（２）と、
ステップ（２）に記載の下敷及び排水溝の設置を完了した後、下敷を通り抜けて処理すべき軟土地盤中にケーシングを埋設し、
又は、ステップ（２）に記載の下敷及び排水溝の設置を完了した後、下敷上に堆積体（５）を敷設し、次に穿孔工程で堆積体、下敷を通り抜けて処理すべき軟土地盤中に穿孔通路（４）を打設するというケーシング又は穿孔通路を設置するステップ（３）と、
ステップ（３）におけるケーシング又は穿孔通路の設置を完了した後、噴射管（８）にケーシング又は穿孔通路を通り抜けさせて、処理すべき軟土地盤中に押し込み又は潜り込むという噴射配管（８）を設置するステップ（４）と、
噴射管（８）の吸気口をエアロゾル発生装置（７）の材料排出口に接続し、次に固体又は液体形態のエアロゾル原材料に水を加えてエアロゾル溶液に調製した後、エアロゾル発生装置に入れ、エアロゾル発生装置及びエアロゾル噴射装置のスイッチをオンにして、エアロゾル溶液がエアロゾル発生装置で高圧作用によってエアロゾルを形成し、エアロゾルを圧力作用によって噴射管に導入し、噴射管が処理すべき軟土地盤にエアロゾルを高圧噴射し、噴射が設計範囲に達して、噴射設計時間に達した後、噴射配管を次の設計深度に持ち上げて噴射し続け、すべての噴射作業が完了するまで、低いから高いまで１段ずつ噴射するというエアロゾルを噴射するステップ（５）と、を含むことを特徴とするエアロゾルで軟土地盤を攪乱処理する方法。
【請求項２】
ステップ（１）では、複数の前記排水体を三角形に配列又は正方形に配列し、各排水体同士の距離Ｌを０．７−１．５ｍとし、前記排水体をプラスチック製排水板又は袋詰サンドドレーンとし、前記袋詰サンドドレーンの直径ｄｗを７０ｍｍ〜１２０ｍｍとし、前記プラスチック製排水板の直径を等価直径ｄｐとし、ｄｐ＝２（ｂ＋δ）／л、ｂがプラスチック製排水板の幅であり、δがプラスチック製排水板の厚さであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ステップ（２）では、前記下敷（２）を二層とし、下層下敷の厚さを３０ｃｍとし、二層の下敷の総厚さを少なくとも５０ｃｍとし、前記排水体の最上部を下層下敷から延出して水平面以上では少なくとも５０ｃｍとし、前記下敷を砂下敷又は砕石下敷とし、前記排水溝（３）の深さを少なくとも１．０ｍとすることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ステップ（３）では、ケーシングを設置するとき、前記ケーシングは、長さが下敷を通り抜けて、少なくとも軟土地盤に５０ｃｍ入るように確保し、直径が１０−１５ｃｍであり、又は、穿孔通路を設置するとき、前記穿孔通路は、深さが堆積体及び下敷を通り抜けて、少なくとも軟土地盤に５０ｃｍ入るように確保し、直径が１０−１５ｃｍであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ステップ（３）では、前記堆積体（５）は堆積予圧方式を用いるとき、材質をスラグとし、又は、真空予圧を用いるとき、堆積体の材質が密封膜を用いることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ステップ（４）では、軟土地盤中の前記噴射管を３−５ｍおきに１本設置し、前記噴射管の管壁に噴射孔を均一に配置し、噴射孔の直径を２−５ｍｍとし、噴射管の長さ≦排水体の軟土中に埋入された深さにすることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
排水体を軟土地盤中に三角形又は正方形に配置し、前記噴射管を排水体の外部に位置して三角形又は正方形の内部に位置することを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
ステップ（５）では、前記エアロゾル原材料をポリアクリルアミドとし、前記エアロゾル溶液では、エアロゾル原材料の質量濃度を６／１００００−９／１００００とすることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記噴射管（８）をエアロゾル噴射装置（６）に接続し、次に噴射管の吸気口を配管によってエアポンプの排気口に接続して、エアポンプの吸気口をエアロゾル発生装置（７）の材料排出口に接続することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
ステップ（５）では、前記エアロゾルを少なくとも０．６ＭＰａの圧力作用によって噴射管に導入し、前記噴射管が処理すべき軟土地盤にエアロゾルを高圧噴射するとき、噴射速度を２ｓ／回転以下とし、噴射半径を少なくとも３ｍとし、噴射時間を少なくとも６００秒／孔とすることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は地盤処理方法に関し、軟土地盤の処理に適用し、具体的にエアロゾルで軟土地盤を攪乱処理する方法に関し、土木工事技術分野に属する。
【背景技術】
【０００２】
軟土は中国では東南沿海に多く存在しており、地質起源によって、軟土は更に臨海環境堆積、海陸移行環境堆積（三角州堆積）、河川環境堆積、湖沼環境堆積及び沼沢環境堆積に分けられる。人間社会の発展及び人口密度の持続増加に従って、ますます多くの軟土が建物の地盤とされていく。軟土は地盤又は他の用途とされるとき、補強処理を施す必要があり、軟土が高含水量、高間隙比及び高可塑性等の性質を有するため、現在、このような工程に対して、排水固結法はよく使用される地盤処理方法である。その原理は、サンドドレーン又はプラスチック製排水板等の垂直な排水体を設置することにより、土層中の間隙水を主に水平方向から垂直な排水体を通って排出させ、それにより土層の排水手段を追加し、排水距離を短縮し、荷重作用によって、土体の排水固結を加速し、土体を短時間に大幅に沈降させ、それにより土体強度を向上させ、施工後沈降を低減するという目的を実現することである。
【０００３】
堆積（真空）予圧排水固結法は、比較的経済的且つ効果的な軟土地盤処理方法であるが、より大きく制限されており、主に以下のように表現される。
【０００４】
第一としては、軟土の性質が変化しない。
【０００５】
関連研究及びエンジニアリング実践によれば、軟土の浸透係数が極めて低く、そのオーダが１０−７〜１０−８であり、その主な影響は、
深層土体が排水できず、堆積による追加応力が深さに従って変化する指数減少関数であるため、排水固結法の有効処理深さが１０ｍ以下であり、
工期がより長く、上部堆積を完了した後、長時間予圧しなければ支持力に対する要件を満足できず、
施工後沈降がより大きく、施工後に建物の荷重作用を受け、深層土体が長期間圧縮されるため、クリープ沈降が生じることである。
【０００６】
第二としては、水平な排水通路を増設しない。
【０００７】
排水板が垂直な排水体であり、砂下敷が水平な排水体であるが、地下軟土中に水平な排水層がない。
【０００８】
第三としては、堆積後に排水施設を強化することが困難である。
【０００９】
排水板の打設及び砂下敷の敷設が完了し、堆積し始めた後、排水施設が故障すれば、補修しにくい。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の解決しようとする技術的問題は、従来技術における排水固結堆積予圧法の欠陥に対して、エアロゾルで軟土地盤を攪乱処理する方法を提供することであり、該方法は、軟土地盤の深層土体内にエアロゾルを噴射することにより、土体の固結速度を加速し、土体の処理深さを増加し、土体の長期間クリープを低減することができる。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を実現するために、本発明は以下の技術案を用いる。
【００１２】
エアロゾルで軟土地盤を攪乱処理する方法は、
処理すべき軟土地盤を≪建築地盤処理技術仕様≫の要件に従って測定・墨出し、処理面積の決定、用地の平坦化を行い、次に複数の垂直な排水体を必要な深さまで打設し、前記排水体（１）の最上部を前記軟土地盤の表層に露出させ、複数の排水体を三角形に配列又は正方形に配列し、すべての排水体の設置を完了すれば、排水通路の設置を完了し、すべての排水体を排水通路と総称し、
前記排水体をプラスチック製排水板又は袋詰サンドドレーンとし、
前記袋詰サンドドレーンの直径（ｄｗ）を７０ｍｍ〜１２０ｍｍとし、前記プラスチック製排水板の直径を等価直径ｄｐ（つまり水力半径に等しい円管直径）とし、ｄＰ＝２（ｂ＋δ）／π、ｄｐがプラスチック製排水板の等価換算直径（ｍｍ）であり、ｂがプラスチック製排水板の幅（ｍｍ）であり、δがプラスチック製排水板の厚さ（ｍｍ）であり、
前記排水体の有効排水直径をｄｅとし、排水体は、等辺三角形に配列されるとき、ｄｅ＝１．０５Ｌ、正方形に配列されるとき、ｄｅ＝１．１３Ｌ、Ｌが排水体同士の距離であり、Ｌを好ましくは０．７−１．５ｍとし、
前記排水体のサンドドレーンの有効作動半径とサンドドレーン半径との比率ｎ＝ｄｅ／ｄｗ（ｎ＝１５〜２２）、ｄｗが排水体の直径であり、プラスチック製排水板に対して、ｄｗ＝ｄｐにするという排水通路を垂直に設置するステップ（１）と、
ステップ（１）に記載の排水体の設置を完了した後、排水体の最上部を被覆するように処理すべき軟土地盤の表層に二層の下敷を均一に敷設し、下層下敷の厚さを３０ｃｍとし、二層の下敷の総厚さを少なくとも５０ｃｍとし、前記下敷を曲げて砂下敷中に埋めるように前記排水体の最上部を下層下敷から延出して水平面以上の長さを少なくとも５０ｃｍとし、水を用地から排出するように処理すべき軟土地盤の周りに排水溝を掘設し、
前記下敷を砂下敷又は砕石下敷とし、前記砂下敷中の砂を中粗砂とし、粘土含有量≦３％（砂材料に少量の５０ｍｍ以下の粒径の砂礫を含有してもよい）、前記砂下敷の乾燥密度＞１．５ｔ／ｍ３、浸透係数＞１×１０−２ｃｍ／ｓ、
前記排水溝の深さを少なくとも１．０ｍとし、溝底部で極細粒径のスラグを埋め戻し、埋め戻し深さを少なくとも５０ｃｍとするという下敷を設置し及び排水溝を掘設するステップ（２）と、
ステップ（２）に記載の下敷及び排水溝の設置を完了した後、下敷を通り抜けて処理すべき軟土地盤中にケーシングを埋設し、
又は、ステップ（２）に記載の下敷及び排水溝の設置を完了した後、下敷上に堆積体を敷設し、次に穿孔工程で堆積体、下敷を通り抜けて処理すべき軟土地盤中に穿孔通路を打設し、
前記ケーシングは、長さが下敷を通り抜けて、少なくとも軟土地盤に５０ｃｍ入るように確保し、直径が１０−１５ｃｍであり、
前記穿孔通路は、深さが堆積体及び下敷を通り抜けて、少なくとも軟土地盤に５０ｃｍ入るように確保し、直径が１０−１５ｃｍであり、
前記堆積体（５）は、堆積予圧方式を用いるとき、一般的にスラグとし、一層目を敷設するとき、一般的に極細粒径スラグを用い、含泥率＜５％、且つ締固め度＞９０％のように要求し、その総堆積高さを地盤処理支持力の要件、工期によってチェック・計算し、計算式を
【００１３】
【数１】
2020514574.tif 000003
【００１４】
とし、
【００１５】
【数２】
2020514574.tif 000004
【００１６】
がｔ時間の地盤の平均固結度であり、
【００１７】
【数３】
2020514574.tif 000005
【００１８】
がｉ段荷重の載荷速度（ｋＰａ／ｄ）であり、ΣΔｐが各段荷重の累加値（ｋＰａ）であり、Ｔｉ、Ｔｉ−１がそれぞれｉ段荷重の載荷開始時間及び終了時間（夜中の１２時から計時し、単位をｄとする）であり、α、βがパラメータであって、地盤土の排水固結条件に基づいて計算・選択使用され、真空予圧を用いるとき、堆積体が密封膜を選択使用し、一回で最大圧力まで連続真空排気する載荷方式を用いてもよく、真空予圧された膜下真空度を８６．７ｋＰａ（６５０ｍｍＨｇ）以上に安定して維持すべきであり、密封膜が耐老化性に優れ、靱性に優れ、耐破壊性に優れた気密材料を用いるべきであり、
総堆積高さの計算式は計算しにくいため、一般的に設計・計算時に常にエンジニアリング経験によるものであり、そして、α、βパラメータに関わる公式及びパラメータが多いというケーシング又は穿孔通路を設置するステップ（３）と、
ステップ（３）におけるケーシング又は穿孔通路の設置を完了した後、噴射管にケーシング又は穿孔通路を通り抜けさせて、処理すべき軟土地盤中に押し込み又は潜り込み、噴射管を３−５ｍおきに１本設置し、噴射管を排水体の外部に位置し、排水体を軟土地盤中に三角形又は正方形に配置し、噴射管を排水体の外部に位置するが、三角形又は正方形の内部に位置し、好ましくは中央に位置し、
前記噴射管の材質を剛性材料とし、管壁上に噴射孔を均一に配置し、一般的に噴射孔の直径を２−５ｍｍとし、その大きさ及び配置密度を設計によって自発的に調整でき、設計要件に従って噴射管の長さ≦排水体の軟土中に埋入された深さにするという噴射配管（８）を設置するステップ（４）と、
噴射管をエアロゾル噴射装置に接続し、次に噴射管の吸気口を配管によってエアポンプの排気口に接続して、エアポンプの吸気口をエアロゾル発生装置の材料排出口に接続し、次に固体又は液体形態のエアロゾル原材料に水を加えてエアロゾル溶液に調製した後、エアロゾル発生装置に入れ、エアロゾル発生装置及びエアロゾル噴射装置のスイッチをオンにして、エアロゾル溶液がエアロゾル発生装置で高圧作用によってエアロゾルを形成し、エアロゾルを圧力作用によって噴射管に導入し、噴射管が処理すべき軟土地盤にエアロゾルを高圧噴射し、噴射が設計範囲に達して、噴射設計時間に達した後、噴射配管を次の設計深度に持ち上げて噴射し続け、すべての噴射作業が完了するまで、低いから高いまで１段ずつ噴射し、
前記エアロゾル原材料をポリアクリルアミド系の化学材料とし、
前記エアロゾル溶液では、エアロゾル原材料の質量濃度を６／１００００−９／１００００とし、
前記エアロゾル発生装置を本分野の従来技術における又は市販されるエアロゾル発生機能を有するエアロゾル発生装置とし、好ましくは工業用高圧霧化容器とし、
前記エアロゾル噴射装置を本分野の従来技術における又は市販されるエアロゾル噴射機能を有する装置とし、好ましくは高圧ジェットグラウトによる施工設備とし、
前記エアロゾルを圧力作用によって噴射管に導入し、圧力を少なくとも０．６ＭＰａとし、好ましくは０．８−１ＭＰａとし、
前記噴射管がエアロゾルを噴射するとき、噴射速度を２ｓ／回転以下とし、噴射半径を少なくとも３ｍとし、噴射時間を少なくとも６００秒／孔とし、噴射速度を好ましくは１−１．５ｓ／回転とし、噴射半径を好ましくは４−５ｍとし、噴射時間を好ましくは６５０−７００秒／孔とするというエアロゾルを噴射するステップ（５）と、を含む。
【００１９】
本発明方法において、エアロゾルを噴射するとき、２つの噴射範囲がある程度重なる必要があり、それにより噴射領域全体をすべて噴射して（図面では、大円が噴射範囲を示し、小円が２つの噴射範囲の重なりを示す）、噴射深さを排水体の深さ以下にするように確保する。
【００２０】
本発明方法において、エアロゾルが元々固体又は液体形態の化学材料（例えばポリアクリルアミド）であり、設計濃度で溶液に調製し（最大飽和濃度で調製するように勧める）、一定量の無機高カチオン性材料が沈泥に接触した後、その表面に中和反応が起こり得て、沈泥が硬化していない構造を形成し、初期微小隙間を提供し、機能性材料系の両親媒性高分子ポリマー材料は沈泥の表面性質を変化させ、沈泥を親水性から疎水性に変え、沈泥中の微小排水表面を形成し、それらが相互作用し、沈泥の微小表面排水系を効率的に形成し、見掛けの現象は沈泥の浸透係数が増加し、土体強度が向上することである。
【００２１】
本発明方法は、土体内に噴射すべき液体を霧化してエアロゾルを形成して、土体の内部に高圧噴射する。このプロセスの作用は、ガス内の化学成分を噴射範囲内の土体に均一に作用して化学反応が起こる一方、土体中に微小厚さの水平切断面を形成し、水平な排水通路を増設し、排水距離を短縮し、迅速に排水する効果を実現することである。
【発明の効果】
【００２２】
本発明方法は従来技術に比べて、以下の利点を有する。
【００２３】
第一としては、元の軟土を別種の「土」に変え、一定量の無機高カチオン性材料が沈泥に接触した後、その表面に中和反応が起こり得て、沈泥が硬化していない構造を形成し、初期微小隙間を提供し、機能性材料系の両親媒性高分子ポリマー材料は沈泥の表面性質を変化させ、沈泥を親水性から疎水性に変え、沈泥中の微小排水表面を形成し、それらが相互作用し、沈泥の微小表面排水系を効率的に形成し、それにより沈泥の浸透係数を増加させ、土体強度を向上させる。
【００２４】
エアロゾルは、更に、
グリーンで環境にやさしく、環境を破壊せず、沈泥に一定方向で吸着した後、最終的に土壌中に存在し、水中に残ることがなく、プロセスが安全で環境にやさしく、
製造プロセスが簡単であり、製品の品質が制御されやすくて安定し、
水中に溶解しやすくて、溶解度がより高く、
効率的で、添加量が極めて少なく、低コストを確保でき、
機能性材料を加えることにより、土体の浸透性を迅速に向上させ、土体強度を向上させることができ、迅速で安定し、施工工期を延長せず、施工後沈降を増加しないという特徴を有する。
【００２５】
第二としては、処理深さを増加させ、工期を短縮し、施工後沈降を低減し、地盤処理の目標要件に従ってエアロゾルの噴射濃度、圧力、速度、半径、噴射時間を設計してもよいこととは、地盤の処理深さ、工期を自発的に制御できることを意味する。エアロゾルの作用によって、地盤土体の浸透係数を増加させることができ、それにより迅速に排水し、地盤土体の固結を加速することで、工期短縮の目的を実現する。エアロゾルの噴射深さによって地盤の深層土体を処理することができ、処理深さを増加させ、施工後沈降を低減する。
【００２６】
第三としては、水平な排水通路を増設し、エアロゾルを噴射することにより、土体中に微小厚さの水平切断面を形成し、水平な排水通路を増設し、排水距離を短縮し、迅速に排水する効果を実現する。
【００２７】
第四としては、堆積後に排水施設を強化することが困難であり、工期が終了するまで埋設されたケーシングを除去するため、工期内にいつでもエアロゾルによる軟土地盤処理案を修正することができる。
【００２８】
第五としては、コストを制御でき、エアロゾルは効率的で添加量が極めて少なく、コストが低くて施工設備が普及されるため、本発明方法で地盤を処理するコストが制御可能になり、そして、工期の短縮によって地盤の処理コストを大幅に削減することができる。
【００２９】
従って、本発明方法の地盤処理効果は従来方法より遥かに高く、独特な新方法である。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】図１は本発明方法のフローチャートである。
【図２】図２は本発明の実施例１の方法、比較例１の方法で処理された軟土地盤の浸透係数が時間とともに変化する法則の図である。
【図３】図３は本発明の実施例１の方法、比較例１の方法で処理された軟土地盤の孔隙率が変化する法則の図である。
【図４】図４は本発明の実施例１の方法、比較例１の方法で処理された軟土地盤のベーン剪断強度が変化する法則の図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、本発明の技術案の具体的な実施形態を詳しく説明するが、本発明は以下の説明内容に限らない。
【００３２】
本発明方法において、排水体及び下敷がいずれも土中に残され、取り出される必要がなく、一般的に堆積体を取り外して現送せず、立坪を設計標高に平衡化すればよく、ケーシングがエアロゾルの噴射に使用されるものであり、地盤の処理に影響せず、地盤の処理が完了した後に取り出されてもよく、エアロゾルの再噴射に備え、一般的に処理時間を３−４ヶ月とする。
【００３３】
実施例１
ある埋め立て項目における軟土地盤を処理し、その軟土層の厚さが２０−２５ｍに達し、表層が３−５ｍ厚さの吹き埋め土であり、該軟土地盤の設計パラメータは下記表に示される。
【００３４】
【表１】
2020514574.tif 000006
【００３５】
エアロゾルで軟土地盤を攪乱処理する方法は、
地盤箇所の排水通路を≪建築地盤処理技術仕様≫に従って設計し、設計に基づいて測定・墨出しを行い、軟土地盤処理領域を決定し、用地を平らにし、複数の垂直な排水体を設計深度まで打設し、排水体１の最上部を前記軟土地盤の表層に露出させ、
前記排水体がプラスチック製排水板を用い、排水体を軟土地盤に打込した深さを１８ｍとし、排水体の規格をＳＰＢ−Ｂ型とし、プラスチック製排水板の等価直径ｄｐを６６．８ｍｍとし、複数の排水体を正方形に配列し、排水体の有効排水直径ｄｅを１．３５６ｍとし、Ｌを１．２ｍとするという排水通路を垂直に設置するステップ（１）と、
ステップ（１）に記載の排水体の設置を完了した後、排水体の最上部を被覆するように処理すべき軟土地盤の表層に二層の下敷２を均一に敷設し、下層下敷の厚さを３０ｃｍとし、二層下敷の総厚さを６０ｃｍとし、前記排水体の最上部を下層下敷から延出した長さを少なくとも５０ｃｍとし、水を用地から排出するように処理すべき軟土地盤の周りの２〜５ｍ範囲内に排水溝３を掘設し、
前記下敷を砂下敷とし、砂下敷中の砂を中粗砂とし、粘土含有量≦３（砂材料に少量の５０ｍｍ以下の粒径の砂礫を含有してもよい）、前記砂下敷の乾燥密度＞１．５ｔ／ｍ３、浸透係数＞１×１０−２ｃｍ／ｓ、
前記排水溝３の深さを１．５ｍ以上とし、溝底部で極細粒径のスラグを埋め戻し、埋め戻し深さを５０ｃｍとするという下敷を設置し及び排水溝を掘設するステップ（２）と、
ステップ（２）に記載の下敷及び排水溝の施工を完了した後、下敷を通り抜けて処理すべき軟土地盤中にケーシング４を埋設し、ケーシングは、長さが下敷を通り抜けて、軟土地盤に５０ｃｍ入るように確保し、直径が１０ｃｍであるというケーシングを設置するステップ（３）と、
ステップ（３）におけるケーシングの設置を完了した後、噴射管にケーシングを通り抜けさせて、処理すべき軟土地盤中に押し込み又は潜り込み、噴射管を、３−５ｍおきに１本設置し、排水体の外部に位置して正方形の内部に位置し、設計要件に従って噴射管の長さを排水体の軟土中に埋入された深さ以下にし、
前記噴射管の材質を剛性材料とし、管壁上に噴射孔を均一に配置し、一般的に噴射孔の直径を２−５ｍｍとし、その大きさ及び配置密度を設計によって自発的に調整できるという噴射配管８を設置するステップ（４）と、
噴射管８をエアロゾル噴射装置６に接続し、次に噴射管の吸気口を配管によってエアポンプの排気口に接続して、エアポンプの吸気口をエアロゾル発生装置７の材料排出口に接続し、次に固体又は液体形態のエアロゾル原材料に水を加えてエアロゾル溶液に調製した後、エアロゾル発生装置に入れ、エアロゾル発生装置及びエアロゾル噴射装置のスイッチをオンにして、エアロゾル溶液がエアロゾル発生装置で高圧作用によってエアロゾルを形成し、エアロゾルを１．０ＭＰａの圧力作用によって噴射管に導入し、噴射管が処理すべき軟土地盤にエアロゾルを高圧噴射し、噴射速度を１．５ｓ／回転、噴射半径を４ｍ、噴射時間を６５０秒／孔とし、噴射設計時間に達した後、噴射配管を次の設計深度に持ち上げて噴射し続け、すべての噴射作業が完了するまで続き、
前記エアロゾル原材料をポリアクリルアミドとし、エアロゾル溶液では、ポリアクリルアミドの濃度を６／１００００とし、
前記エアロゾル発生装置を工業用高圧霧化容器とし、
前記エアロゾル噴射装置を高圧ジェットグラウトによる施工設備とするというエアロゾルを噴射するステップ（５）と、を含む。
【００３６】
本発明方法で処理された軟土地盤は、浸透係数が２オーダ増加し、間隙比が減少し、ベーン剪断強度が大幅に増加し、各パラメータが時間とともに変化する様子は図２、図３、図４に示される。
【００３７】
領域全体の噴射が完了した後、ケーシングを取り出し、約３−４ヶ月経て、軟土地盤の各項指標が処理要件を満足できる。
【００３８】
実施例２
軟土地盤の処理方法は実施例１と同様であり、相違点は、ステップ（１）では、前記排水体を袋詰サンドドレーンとし、直径ｄｗを１００ｍｍとし、排水体を正方形に配列し、排水体の有効排水直径ｄｅを１．３５６ｍとし、Ｌを１．２ｍとすることである。本発明方法で処理された軟土地盤は、浸透係数が２オーダ増加し、間隙比が減少し、ベーン剪断強度が大幅に増加し、各パラメータが時間とともに変化する様子は実施例１とほぼ同様である。
【００３９】
領域全体の噴射が完了した後、ケーシングを取り出し、約３−４ヶ月経て、軟土地盤の各項指標が処理要件を満足できる。
【００４０】
実施例３
軟土地盤の処理方法は実施例１と同様であり、相違点は、ステップ（３）では、下敷及び排水溝の設置を完了した後、下敷上に堆積体を敷設し、次に穿孔工程で堆積体、下敷を通り抜けて処理すべき軟土地盤中に穿孔通路を打設し、前記穿孔通路は、深さが埋め戻し土及び下敷を通り抜けて、軟土地盤に５０ｃｍ入るように確保し、直径が１０ｃｍであることである。
【００４１】
前記堆積体は堆積予圧を用い、材質をスラグとし、堆積高さを３ｍとし、二回に分けて堆積し、一層目を１．５ｍ敷設し、極細粒径スラグを用い、含泥率＜５％、且つ締固め度＞９０％のように要求し、その総埋め戻し高さを地盤処理支持力の要件によって計算する。
【００４２】
本発明方法で処理された軟土地盤は、浸透係数が２オーダ増加し、間隙比が減少し、ベーン剪断強度が大幅に増加し、各パラメータが時間とともに変化する様子は実施例１とほぼ同様である。
【００４３】
領域全体の噴射が完了した後、約３−４ヶ月経て、軟土地盤の各項指標が処理要件を満足できる。
【００４４】
実施例４
軟土地盤の処理方法は実施例３と同様であり、相違点は、ステップ（３）では、堆積体を密封膜とし、一回で最大圧力まで連続真空排気し、圧力の大きさを１００ｋＰａとすることである。本発明方法で処理された軟土地盤は、浸透係数が２オーダ増加し、間隙比が減少し、ベーン剪断強度が大幅に増加し、各パラメータが時間とともに変化する様子は実施例１とほぼ同様である。
【００４５】
領域全体の噴射が完了した後、密封膜を引き剥がし、約３−４ヶ月経て、軟土地盤の各項指標が処理要件を満足できる。
【００４６】
比較例１
軟土地盤の処理方法は実施例１と同様であり、相違点は、ステップ（５）では、噴射するエアロゾルを高圧空気で代替し、地盤土攪乱の目的を実現することであり、処理後の軟土地盤は、浸透係数が２オーダ増加し、間隙比が減少し、ベーン剪断強度が増加せず、各パラメータが時間とともに変化する様子は図２、図３、図４に示され、領域全体の噴射が完了した後、ケーシングを取り出し、約６−９ヶ月経て、軟土地盤の各項指標が処理要件を満足できる。
【００４７】
図２、図３、図４から分かるように、沈泥軟土は構造性が高い土であり、攪乱された後、強度を回復するために長時間がかかり、堆積予圧時にそれを攪乱すると、沈降が安定化しにくくなり、沈降量を増加できるが、長時間続く必要がある。しかしながら、エアロゾルを混入することにより、攪乱された土の強度を迅速に回復させることができ、且つ、更に土体強度を大幅に向上させ、沈降を迅速に安定化させることができる。
【００４８】
上記実施例は本発明の技術構想及び技術的特徴を説明するためのものであって、本発明の保護範囲を制限するためのものではない。本発明の本質に基づき行った等価変換や修飾は、いずれも本発明の保護範囲内に含まれるべきである。
【符号の説明】
【００４９】
１  排水体
２  下敷
３  排水溝
４  ケーシング（又は穿孔通路）
５  堆積体
６  エアロゾル噴射装置
７  エアロゾル発生装置
８  噴射管
◇  軟土地盤のデータ
□  比較例１の方法で処理された地盤のデータ
△  実施例１の方法で処理された地盤のデータ
大円が噴射範囲を示し、小円が２つの噴射範囲の重なりを示し、噴射深さを排水体の深さ以下にする
【図１】
2020514574.tif 000007
【図２】
2020514574.tif 000008
【図３】
2020514574.tif 000009
【図４】
2020514574.tif 000010
【国際調査報告】
2020514574.tif 000011
2020514574.tif 000012
2020514574.tif 000013
2020514574.tif 000014