(57)【要約】  本発明は表示基板及びその製造方法、表示装置を提供するものであって、表示技術分野に属し、従来の、レーザ転写技術によりカラーフィルタを形成する過程における、転写材料によって生じた気体による製品の歩留まり低下という問題を解決できる。本発明の表示基板は、ベースと前記ベースの上方に位置するカラーフィルタと補助部とを含み、前記カラーフィルタと前記補助部は一体成形され、前記補助部内に空気孔が設けられる。
2020502550.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースと、前記ベースの一方側に位置する複数の画素領域とを含み、少なくとも１つの画素領域にカラーフィルタと、補助部とが設けられ、前記カラーフィルタと前記補助部は一体成形され、前記補助部内に空気孔が設けられる表示基板。
【請求項２】
前記補助部が前記カラーフィルタの周辺領域に設けられる、請求項１に記載の表示基板。
【請求項３】
少なくとも２つ隣接する画素領域間に遮光パターンが設けられる、請求項１に記載の表示基板。
【請求項４】
前記遮光パターンがブラックマトリクスを含む、請求項３に記載の表示基板。
【請求項５】
前記ブラックマトリクスに空気孔が設けられる、請求項４に記載の表示基板。
【請求項６】
少なくとも３つ隣接する画素領域に異なる色のカラーフィルタが設けられ、異なる色の前記カラーフィルタはレッドフィルタ、グリーンフィルタ、ブルーフィルタを含み、前記遮光パターンは順次積層された第１部分、第２部分、第３部分を含み、
前記レッドフィルタと前記第１部分が同時に形成され、且つ材料が同一であり、
前記グリーンフィルタと前記第２部分が同時に形成され、且つ材料が同一であり、
前記ブルーフィルタと前記第３部分が同時に形成され、且つ材料が同一である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の表示基板。
【請求項７】
前記第１部分、前記第２部分、前記第３部分にいずれも空気孔が設けられる、請求項６に記載の表示基板。
【請求項８】
前記第１部分は、これに隣接する、レッドフィルタと一体成形された補助部である、請求項７に記載の表示基板。
【請求項９】
前記空気孔が溝または貫通孔である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の表示基板。
【請求項１０】
前記ベースと前記カラーフィルタとの間において、ベース上に絶縁層、第１電極、有機発光ダイオード、第２電極、平坦化層が順次設けられる、請求項１〜９のいずれか１項に記載の表示基板。
【請求項１１】
前記有機発光ダイオードが白色光有機発光ダイオードである、請求項１０に記載の表示基板。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表示基板を含む表示装置。
【請求項１３】
ベースの上方に一次パターニングにより前記カラーフィルタと前記補助部を形成することで、前記補助部内に空気孔を形成する、請求項１に記載の表示基板の製造方法。
【請求項１４】
ベースの上方に一次パターニングにより前記カラーフィルタと前記補助部を形成することで、前記補助部内に空気孔を形成する前記ステップは、
前記ベースの上方にカラーフィルタ材料、転写犠牲層、転写基板を順次設け、前記転写基板の予め設定された位置に、光線が通過できる中空パターンと光線が通過できない突起とを設けるステップと、
光線が前記転写基板を介して前記転写犠牲層の対応位置に照射されるステップと、
前記転写犠牲層が熱を受けて溶解することで、前記中空パターンに対応するカラーフィルタ材料を前記ベースの上方の予め設定された位置に転写させて、カラーフィルタと補助部を形成し、且つ前記突起により前記補助部内に空気孔を形成するステップと、を含む、請求項１３に記載の製造方法。
【請求項１５】
ベースの上方に一次パターニングにより前記カラーフィルタと前記補助部を形成することで、前記補助部内に空気孔を形成する前記ステップは、
前記ベースの上方にカラーフィルタ材料、光熱転換層、転写基板を順次設け、前記転写基板の予め設定された位置に、光線が通過できる中空パターンを設け、前記光熱転換層上の予め設定された位置に、光線が通過できない突起を設けるステップと、
光線が前記転写基板を介して前記光熱転換層の対応位置に照射されるステップと、
前記光熱転換層が前記光線を熱に変換することで、前記中空パターンに対応するカラーフィルタ材料を前記ベースの上方の予め設定された位置に転写させて、カラーフィルタと補助部を形成し、且つ前記突起により前記補助部内に空気孔を形成するステップと、を含む、請求項１３に記載の製造方法。
【請求項１６】
ベースの上方に一次パターニングにより前記カラーフィルタと前記補助部を形成することで、前記補助部内に空気孔を形成する前記ステップは、
前記ベースの上方にカラーフィルタ材料、光熱転換層、転写基板、転写マスクプレートを順次設け、前記転写基板は透明な材料を用いて作製され、前記転写マスクプレートの予め設定された位置に、光線が通過できる中空パターンを設け、前記光熱転換層の予め設定された位置に、光線が通過できない突起を設けるステップと、
光線が前記転写マスクプレートと前記転写基板を介して前記光熱転換層の対応位置に照射されるステップと、
前記光熱転換層が前記光線を熱に変換することで、前記中空パターンに対応するカラーフィルタ材料を前記ベースの上方の予め設定された位置に転写させて、カラーフィルタと補助部を形成し、且つ前記突起により前記補助部内に空気孔を形成するステップと、を含む、請求項１３に記載の製造方法。
【請求項１７】
少なくとも２つ隣接するカラーフィルタの間に遮光パターンを形成するステップをさらに含む、請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１８】
前記遮光パターンがブラックマトリクスを含み、任意の２つ隣接する画素領域に異なる色のカラーフィルタを設け、
少なくとも２つ隣接するカラーフィルタの間に遮光パターンを形成する前記ステップは、
レーザ転写技術を用いて前記ブラックマトリクスを形成することで、前記ブラックマトリクス内に空気孔を形成するステップを含む、請求項１７に記載の製造方法。
【請求項１９】
任意の３つ隣接する画素領域に異なる色のカラーフィルタを設け、前記異なる色のカラーフィルタはレッドフィルタ、グリーンフィルタ、ブルーフィルタを含み、前記遮光パターンは順次積層された第１部分、第２部分、第３部分を含み、
少なくとも２つ隣接するカラーフィルタの間に遮光パターンを形成する前記ステップは、ベースの上方に一次パターニングにより前記カラーフィルタと前記補助部を形成することで、前記補助部内に空気孔を形成する前記ステップと同期して行われ、
前記レッドフィルタと前記第１部分を一次レーザ転写により形成し、且つ前記第１部分内に空気孔を形成することと、
前記グリーンフィルタと前記第２部分を一次レーザ転写により形成し、且つ前記第２部分内に空気孔を形成することと、
前記ブルーフィルタと前記第３部分を一次レーザ転写により形成し、且つ前記第３部分内に空気孔を形成することと、を含む、請求項１７に記載の製造方法。
【請求項２０】
前記空気孔は溝または貫通孔である、請求項１３〜１９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２１】
ベースの上方に一次パターニングにより前記カラーフィルタと前記補助部を形成することで、前記補助部内に空気孔を形成する前記ステップの前に、
前記ベース上に絶縁層、第１電極、有機発光ダイオード、第２電極、平坦化層を順次設けるステップをさらに含む、請求項１３〜１９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２２】
前記有機発光ダイオードが白色光有機発光ダイオードである、請求項２１に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本願は、２０１６年１２月２３日に提出された中国特許出願Ｎｏ．２０１６１１２０７６８０．Ｘの優先権を主張し、その内容を参照により全て本願に援用する。
【０００２】
本発明は表示技術分野に属し、具体的に表示基板及びその製造方法、表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００３】
シリコンベース有機発光ダイオード（シリコンベースＯＬＥＤ）マイクロディスプレイは単結晶シリコンチップをベースとし、シリコンベースＯＬＥＤの画素寸法は従来の表示デバイスの画素寸法の十分の一しかないため、製造過程における精細度は従来の表示デバイスよりもはるかに高い。例えば、シリコンベースＯＬＥＤにおける各画素間の距離は１μｍしかないため、カラーシリコンベースＯＬＥＤディスプレイのカラーフィルムを製造する際の加工技術の難易度は高い。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の少なくとも１つの実施例は、シリコンベースＯＬＥＤデバイス製品の歩留まりを向上させる表示基板及びその製造方法、表示装置を提供する。
【０００５】
本発明の実施例における表示基板は、ベースと、前記ベースの一方側に位置する複数の画素領域とを含み、少なくとも１つの画素領域にカラーフィルタと、補助部とが設けられ、前記カラーフィルタと前記補助部は一体成形され、前記補助部内に空気孔が設けられる。
【０００６】
そのうち、前記補助部は前記カラーフィルタの周辺領域に設けられる。
【０００７】
そのうち、少なくとも２つ隣接する画素領域間に遮光パターンが設けられる。
【０００８】
そのうち、前記遮光パターンはブラックマトリクスを含む。
【０００９】
そのうち、前記ブラックマトリクスに空気孔が設けられる。
【００１０】
そのうち、少なくとも３つ隣接する画素領域に異なる色のカラーフィルタが設けられ、異なる色の前記カラーフィルタはレッドフィルタ、グリーンフィルタ、ブルーフィルタを含み、前記遮光パターンは順次積層された第１部分、第２部分、第３部分を含み、
前記レッドフィルタと前記第１部分が同時に形成され、且つ材料が同一であり、
前記グリーンフィルタと前記第２部分が同時に形成され、且つ材料が同一であり、
前記ブルーフィルタと前記第３部分が同時に形成され、且つ材料が同一である。
【００１１】
そのうち、前記第１部分、前記第２部分、前記第３部分にいずれも空気孔が設けられる。
【００１２】
そのうち、前記第１部分は、これに隣接する、レッドフィルタと一体成形された補助部である。
【００１３】
そのうち、前記ベースに単結晶シリコンチップを含む。
【００１４】
そのうち、前記空気孔は溝または貫通孔である。
【００１５】
そのうち、前記ベースと前記カラーフィルタとの間において、ベース上に絶縁層、第１電極、有機発光ダイオード、第２電極、平坦化層が順次設けられる。
【００１６】
そのうち、前記有機発光ダイオードは白色光有機発光ダイオードである。
【００１７】
もう１つの技術案として、本発明は上記のいずれか１項に記載の表示基板を含む表示装置をさらに提供する。
【００１８】
もう１つの技術案として、本発明は上記のような表示基板の製造方法をさらに提供し、ベースの上方に一次パターニングにより前記カラーフィルタと前記補助部を形成することで、前記補助部内に空気孔を形成するステップを含む。
【００１９】
そのうち、ベースの上方に一次パターニングにより前記カラーフィルタと前記補助部を形成することで、前記補助部内に空気孔を形成する前記ステップは、
前記ベースの上方にカラーフィルタ材料、転写犠牲層、転写基板を順次設け、前記転写基板の予め設定された位置に、光線が通過できる中空パターンと光線が通過できない突起とを設けるステップと、
光線が前記転写基板を介して前記転写犠牲層の対応位置に照射されるステップと、
前記転写犠牲層が熱を受けて溶解することで、前記中空パターンに対応するカラーフィルタ材料を前記ベースの上方の予め設定された位置に転写させて、カラーフィルタと補助部を形成し、且つ前記突起により前記補助部内に空気孔を形成するステップと、を含む。
【００２０】
そのうち、ベースの上方に一次パターニングにより前記カラーフィルタと前記補助部を形成することで、前記補助部内に空気孔を形成する前記ステップは、
前記ベースの上方にカラーフィルタ材料、光熱転換層、転写基板を順次設け、前記転写基板の予め設定された位置に、光線が通過できる中空パターンを設け、前記光熱転換層上の予め設定された位置に、光線が通過できない突起を設けるステップと、
光線が前記転写基板を介して前記光熱転換層の対応位置に照射されるステップと、
前記光熱転換層が前記光線を熱に変換することで、前記中空パターンに対応するカラーフィルタ材料を前記ベースの上方の予め設定された位置に転写させて、カラーフィルタと補助部を形成し、且つ前記突起により前記補助部内に空気孔を形成するステップと、を含む。
【００２１】
そのうち、ベースの上方に一次パターニングにより前記カラーフィルタと前記補助部を形成することで、前記補助部内に空気孔を形成する前記ステップは、
前記ベースの上方にカラーフィルタ材料、光熱転換層、転写基板、転写マスクプレートを順次設け、前記転写基板は透明な材料を用いて作製され、前記転写マスクプレートの予め設定された位置に、光線が通過できる中空パターンを設け、前記光熱転換層の予め設定された位置に、光線が通過できない突起を設けるステップと、
光線が前記転写マスクプレートと前記転写基板を介して前記光熱転換層の対応位置に照射されるステップと、
前記光熱転換層が前記光線を熱に変換することで、前記中空パターンに対応するカラーフィルタ材料を前記ベースの上方の予め設定された位置に転写させて、カラーフィルタと補助部を形成し、且つ前記突起により前記補助部内に空気孔を形成するステップと、を含む。
【００２２】
そのうち、前記製造方法は、
任意の２つ隣接するカラーフィルタの間に遮光パターンを形成するステップをさらに含む。
【００２３】
そのうち、前記遮光パターンはブラックマトリクスを含み、任意の２つ隣接する画素領域に異なる色のカラーフィルタが設けられる。
【００２４】
少なくとも２つ隣接するカラーフィルタの間に遮光パターンを形成する前記ステップは、
レーザ転写技術を用いて前記ブラックマトリクスを形成することで、前記ブラックマトリクス内に空気孔を形成するステップを含む。
【００２５】
そのうち、任意の３つ隣接する画素領域に異なる色のカラーフィルタを設け、前記異なる色のカラーフィルタはレッドフィルタ、グリーンフィルタ、ブルーフィルタを含み、前記遮光パターンは順次積層された第１部分、第２部分、第３部分を含む。
【００２６】
任意の２つ隣接するカラーフィルタの間に遮光パターンを形成する前記ステップは、ベースの上方に一次パターニングにより前記カラーフィルタと前記補助部を形成することで、前記補助部内に空気孔を形成する前記ステップと同期して行われ、
前記レッドフィルタと前記第１部分を一次レーザ転写により形成し、且つ前記第１部分内に空気孔を形成することと、
前記グリーンフィルタと前記第２部分を一次レーザ転写により形成し、且つ前記第２部分内に空気孔を形成することと、
前記ブルーフィルタと前記第３部分を一次レーザ転写により形成し、且つ前記第３部分内に空気孔を形成することと、を含む。
【００２７】
そのうち、ベースの上方に一次パターニングによりカラーフィルタと補助部を形成し、前記補助部内に空気孔を形成する前記ステップの前に、
前記ベースにおいて単結晶シリコンチップを形成するステップをさらに含む。
【００２８】
そのうち、前記空気孔は溝または貫通孔である。
【００２９】
そのうち、ベースの上方に一次パターニングにより前記カラーフィルタと前記補助部を形成することで、前記補助部内に空気孔を形成する前記ステップの前に、
前記ベース上に絶縁層、第１電極、有機発光ダイオード、第２電極、平坦化層を順次設けるステップをさらに含む。
【００３０】
そのうち、前記有機発光ダイオードは白色光有機発光ダイオードである。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】図１は本発明実施例１の表示基板の上面図である。
【図２】図２は本発明実施例１の表示基板の第１の例の構造概念図である。
【図３】図３は本発明実施例１の表示基板の第２の例の構造概念図である。
【図４】図４は本発明実施例１の表示基板の第３の例の構造概念図である。
【図５】図５は本発明実施例３の表示基板の製造方法のフローチャート図である。
【図６】図６は本発明実施例３の表示基板の製造方法においてステップＳ０１とステップＳ０２に係る構造概念図である。
【図７】図７は本発明実施例３の表示基板の製造方法においてステップＳ１の第１の例に係る第１の構造概念図である。
【図８】図８は本発明実施例３の表示基板の製造方法においてステップＳ１の第１の例に係る第２の構造概念図である。
【図９】図９は本発明実施例３の表示基板の製造方法においてステップＳ１の第１の例に係る第３の構造概念図である。
【図１０】図１０は本発明実施例３の表示基板の製造方法においてステップＳ２に係る構造概念図である。
【図１１】図１１は本発明実施例３の表示基板の製造方法においてステップＳ１とＳ２の第２の例に係る第１の構造概念図である。
【図１２】図１２は本発明実施例３の表示基板の製造方法においてステップＳ１とＳ２の第２の例に係る第２の構造概念図である。
【図１３】図１３は本発明実施例３の表示基板の製造方法においてステップＳ１とＳ２の第２の例に係る第３の構造概念図である。
【図１４】図１４は本発明実施例３の表示基板の製造方法においてステップＳ１とＳ２の第３の例に係る構造概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
当業者が本発明の技術案をより良く理解できるように、以下では図面と具体的な実施の形態を組み合わせて本発明についてさらに詳細に説明する。
【００３３】
図１〜４を参照すると、本実施例は表示基板を提供し、ベース５と、ベース５の上方に位置する複数の画素領域とを含み、各画素領域にカラーフィルタ１と、これに対応する補助部２とが設けられ、カラーフィルタ１と補助部２は一体成形され、補助部２内に空気孔３が設けられる。
【００３４】
図１を参照すると、カラーフィルタ１と補助部２はつながっており、補助部２はカラーフィルタ１の周辺領域に設けられ、カラーフィルタ１と一体成形されており、即ち、カラーフィルタ１と補助部２を製造する材料は同一であり、補助部２内に空気孔３が設けられ、レーザ転写技術によりカラーフィルタ１と補助部２を形成する過程において、当該空気孔３は生じた気体を排出することができ、これにより、形成されたカラーフィルタ１に均一でないという現象が生じることを回避し、さらには製品の歩留まりを向上させる。一方、従来のコーティングするという方法を用いた場合、各色のカラーフィルタ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が重なりやすくなることに加え、形成されたカラーフィルタの材料は一般的に有機材料であることから、カラーフィルタを形成する過程において気体が生じ、当該気体はカラーフィルタ内に残って排出することができず、製品の歩留まりの低下を招く。
【００３５】
勿論、本発明において、補助部２の形状と大きさはこれに限らず、その内部に空気孔３を形成するだけでよく、ここでは改めて言及しない。本実施例において、レーザ転写技術を用いてカラーフィルタ１と補助部２を形成する理由は、レーザ転写技術では予め設定した位置に転写板を用いてカラーフィルタ１と補助部２を形成することができ、これにより各色のカラーフィルタ１間に重なりが発生することを回避できるためである。
【００３６】
そのうち、任意の２つ隣接する画素（即ち、カラーフィルタ）の間に遮光パターン４が設けられる。
【００３７】
図１から見て取れるように、隣接する２つの画素の間に遮光パターン４が設けられるため、隣接する２つのカラーフィルタ１の間に光の漏れまたは色の混合が起きることを回避する。
【００３８】
任意で、図２を参照すると、遮光パターン４はブラックマトリクス４１を含む。
【００３９】
ブラックマトリクス４１は一般的に黒の樹脂材料で作製されるため、ブラックマトリクス４１もレーザ転写技術によって形成できると理解できる。
【００４０】
そのうち、ブラックマトリクス４１に空気孔３が設けられる。
【００４１】
ブラックマトリクス４１に空気孔３を設ける理由は、同様に、レーザ転写技術によりブラックマトリクス４１を形成する過程において、生じた気体を排出させるためである。
【００４２】
任意で、図３を参照すると、異なる色のカラーフィルタ１はレッドフィルタ１１、グリーンフィルタ１２、ブルーフィルタ１３を含み、遮光パターン４は順次積層された第１部分４２、第２部分４３、第３部分４４を含み、レッドフィルタ１１と第１部分４２が同一の層に設けられ、且つ材料が同一であり、グリーンフィルタ１２と第２部分４３が同一の層に設けられ、且つ材料が同一であり、ブルーフィルタ１３と第３部分４４が同一の層に設けられ、且つ材料が同一である。
【００４３】
具体的に、遮光パターン４は下から上に順次積層された第１部分４２、第２部分４３、第３部分４４を含み、レッドフィルタ１１、グリーンフィルタ１２、ブルーフィルタ１３の間にはいずれも積層された第１部分４２、第２部分４３、第３部分４４が設けられ、第１部分４２、第２部分４３、第３部分４４が積層された後、ブラックマトリクスと類似する構造を形成することができるため、隣接する２つのカラーフィルタ間の位置を遮り、隣接する２つのカラーフィルタ間の位置に光の漏れまたは色の混合が起きることを回避する。そのうち、レッドフィルタ１１と第１部分４２が同一の層に設けられ、且つ材料が同一であり、即ち、レッドフィルタ１１と第１部分４２は同時に形成することができ、レッドフィルタ１１と異なるのは、グリーンフィルタ１２と第２部分４３が同一の層に設けられ、且つ材料が同一であるということであるが、ここで言う「同一の層に設けられる」とは、両者が巨視的に同一の層に設けられるということを指すのではなく、両者が一次パターニングにより形成されるということを指し、即ち、グリーンフィルタ１２と第２部分４３は同時に形成することができるが、巨視的に異なる層に位置しており、ここで言う「一次パターニング」とは、マスクプレートを用いて一次露光を経てから、露出、レジスト剥離などの過程を行うことを指す。同様に、ブルーフィルタ層１３と第３部分４４が同一の層に設けられ、且つ材料が同一であり、即ち、ブルーフィルタ層１３と第３部分４４も同時に形成してよく、巨視的に異なる層に位置するだけである。従って、第１部分４２、第２部分４３、第３部分４４を形成する単独のステップを設ける必要はないため、表示基板の製造工程を簡略化し、製造効率を高めることができる。
【００４４】
図３に示す実施例において、第２部分４３は第１部分４２に設けられ、第３部分４４は第２部分４３に設けられる。そのうち、第１部分４２、第２部分４３、第３部分４４にいずれも空気孔３が設けられる。第１部分４２、第２部分４３、第３部分４４にいずれも空気孔３を設ける理由は、レーザ転写技術により上記の３つを形成する過程において、生じた気体を排出させて、製品の歩留まりを高めるためである。
【００４５】
なお、本実施例において採用する空気孔３は溝であってよく、即ち、空気孔３の深さは補助部２、第１部分４２、第２部分４３または第３部分４４の厚みよりも小さい。若しくは、空気孔３は貫通孔であってもよく、即ち、空気孔３の深さは補助部２、第１部分４２、第２部分４３または第３部分４４の厚みと等しい。どの形式を採用するかに関わらず、製造過程において生じた気体を排出させることができるだけで良く、ここでは改めて言及しない。
【００４６】
好ましくは、第１部分４２は、これに隣接する、レッドフィルタ１１と一体成形された補助部２である。
【００４７】
本実施例において、第１部分４２とレッドフィルタ１１は同時に形成されるため、レッドフィルタ１１に隣接する位置に形成される第１部分４２はレッドフィルタ１１と一体成形することができる。この時、当該第１部分４２は当該レッドフィルタ１１に接続された補助部２であり、即ち、第１部分４２において空気孔３を形成するだけでよいため、製造工程を簡素化し、製造効率を高めることができる。
【００４８】
図４を参照すると、ベース５は単結晶シリコンチップを含む。つまり、本実施例の表示基板はシリコンベースの表示基板である。
【００４９】
そのうち、ベース５とカラーフィルタ１との間には、下から上に絶縁層６、第１電極７、有機発光ダイオード８、第２電極９、平坦化層１０が順次設けられる。
【００５０】
そのうち、有機発光ダイオード８は白色光有機発光ダイオードである。このように設ける理由は、平坦化層１０の上方にレッドフィルタ１１、グリーンフィルタ１２、ブルーフィルタ１３が設けられるため、有機発光ダイオード８が白色光を出射することができれば、表示基板を正常に使用することができる。有機発光ダイオード８にアノード、カソード、アノードとカソードとの間に位置する発光層が設けられると理解でき、ここでは改めて言及しない。
【００５１】
本実施例の表示基板は、ベース５と、ベース５の上方に位置するカラーフィルタ１と、補助部２とを含み、カラーフィルタ１と補助部２は一体成形され、補助部２内に空気孔３が設けられる。カラーフィルタ１と補助部２は一体成形されるため、カラーフィルタ１と補助部２を形成する際に、転写材料がカラーフィルタ１と補助部２を転写する過程において生じた気体を、補助部２内に設けられた空気孔３を介して排出させることができ、これにより、形成されたカラーフィルタ１をより均一にし、さらには製品の歩留まりを高める。
【００５２】
本実施例は実施例１の表示基板を含む表示装置を提供する。表示装置は、液晶ディスプレイパネル、電子ペーパー、携帯電話、タブレットＰＣ、テレビ、ディスプレイ、ノートパソコン、デジタルフォトフレーム、ナビゲーション装置等、表示機能を有するあらゆる製品または部材であってよい。
【００５３】
本実施例の表示装置は実施例１の表示基板を含み、カラーフィルタと補助部は一体成形されるため、カラーフィルタと補助部を形成する際に、転写材料がカラーフィルタと補助部を転写形成する過程において生じた気体を、補助部内に設けられた空気孔を介して排出させることができ、これにより、形成されたカラーフィルタをより均一にし、さらには製品の歩留まりを高める。
【００５４】
図５〜１３を参照すると、本実施例は表示基板の製造方法を提供し、
ステップＳ０１、単結晶シリコンチップのベース５を提供するステップを含む（図６を参照）。
【００５５】
ステップＳ０２、ベース５上に絶縁層６、第１電極７、有機発光ダイオード８、第２電極９、平坦化層１０を順次設ける（図６を参照）。
【００５６】
そのうち、有機発光ダイオード８は白色光有機発光ダイオードである。
【００５７】
上記構造を形成するステップは従来技術と材料を用いてなされてよいと理解でき、ここでは詳しく説明しない。
【００５８】
ステップＳ１：平坦化層上に一次パターニングによりカラーフィルタと補助部を形成することで、補助部内に空気孔を形成する。
【００５９】
そのうち、ステップＳ１は、
ベースの上方にカラーフィルタ材料２０、転写犠牲層３０、転写基板４０が順次設けられ、転写基板４０の予め設定された位置に中空パターン４０１と突起４０２が設けられ、光線が中空パターン４０１と突起４０２を通過して転写犠牲層３０の対応位置に照射され、転写犠牲層３０が受熱して溶解することで、中空パターン４０１に対応するカラーフィルタ材料２０をベースの上方の予め設定された位置に転写させて、カラーフィルタと補助部を形成し、且つ突起４０２により補助部内に空気孔を形成するステップを含む。
【００６０】
図７を参照すると、転写基板４０は光が通過できない材料で作製され、転写基板４０における中空パターン４０１だけが光線を通過させることができ、各中空パターン４０１の対応位置にいずれも一つの突起４０２が設けられ、当該突起４０２は光線が通過できない。この時、カラーフィルタ材料２０はレッドフィルタ材料であり、光線（矢印に示す通り）が転写基板４０に照射され、中空パターン４０１の対応位置だけが光線の通過を許容し、光線が転写犠牲層３０に照射され、転写犠牲層３０の材料は光（または熱）を受けて溶解し、中空パターン４０１に対応するレッドフィルタ材料が併せて平坦化層１０に転写され、その後、さらに光照射または溶解などの手段により転写犠牲層３０の材料を除去することで、平坦化層１０上の予め設定された位置にレッドフィルタ１１と、これと一体成形された補助部とを形成する。また、突起４０２の対応位置のレッドフィルタ材料は平坦化層１０に転写されることはないため、補助部に空気孔が形成される。
【００６１】
図８を参照すると、その後、ベース上方にグリーンフィルタ材料のカラーフィルタ材料２０を設け、上記と同一のステップにより、平坦化層１０上にグリーンフィルタ１２と、これと一体成形された補助部及び空気孔を形成する。
【００６２】
図９を参照すると、その後、ベース上方にブルーフィルタ材料のカラーフィルタ材料２０を設け、上記と同一のステップにより、平坦化層１０上にブルーフィルタ１３と、これと一体成形された補助部及び空気孔を形成する。
【００６３】
なお、図７〜９はカラーフィルタの形成過程を例示的に説明するためのものに過ぎず、補助部及び空気孔の具体的な構造は示していない。本実施例で形成された突起４０２は転写犠牲層３０の厚み全体を貫通し、このような場合、形成される空気孔は溝であり、突起は転写犠牲層３０とカラーフィルタ材料２０の厚み全体を同時に貫通してもよく、このような場合、形成される空気孔は貫通孔である。
【００６４】
ステップＳ２：任意の２つ隣接するカラーフィルタの間に遮光パターンを形成する。
【００６５】
そのうち、遮光パターンはブラックマトリクス４１を含み、ステップＳ２の具体的な内容は、
図１０を参照すると、レーザ転写技術を用いてブラックマトリクス４１を形成し、ブラックマトリクス４１内に空気孔を形成するというものである。カラーフィルタ形成と同一の方法を用いてブラックマトリクス４１とブラックマトリクス４１内に位置する空気孔を形成することができ、カラーフィルタ材料２０をブラックマトリクス材料に変更するだけでよく、ここでは改めて言及しない。
【００６６】
なお、ステップＳ１とステップＳ２の順序はこれに限らず、前後の順序を変更することができるが、ここでは改めて言及しない。
【００６７】
明らかに、本実施例のカラーフィルタ層、補助部、遮光パターンを製造するステップは各種変化をさらになしてもよく、例えば、ステップＳ１は、
ベースの上方にカラーフィルタ材料２０、光熱転換層５０、転写基板４０を順次設け、転写基板４０の予め設定された位置に中空パターン４０１を設け、光熱転換層５０に突起４０２を設け、光線が中空パターン４０１を介して光熱転換層５０の対応位置に照射され、光熱転換層５０が光線を熱に変換することで、中空パターン４０１に対応するカラーフィルタ材料２０をベースの上方の予め設定された位置に転写させて、カラーフィルタと補助部を形成し、且つ突起４０２により補助部内に空気孔を形成することを含む。
【００６８】
そのうち、カラーフィルタはレッドフィルタ１１、グリーンフィルタ１２、ブルーフィルタ１３を含み、遮光パターンは互いに積層された第１部分４２、第２部分４３、第３部分４４を含む。
【００６９】
ステップＳ１とステップＳ２は同時に行ってもよく、
レッドフィルタ１１と第１部分４２が一次レーザ転写によって形成され、且つ第１部分４２内に空気孔を形成することを含む（図１１を参照）。
【００７０】
具体的に、転写基板４０は光が通過できない材料で作製され、転写基板４０における中空パターン４０１だけが光線を通過させることができ、光熱転換層５０上の各中空パターン４０１に対応する位置にいずれも突起４０２が設けられ、当該突起４０２は光線が通過できない。この時、カラーフィルタ材料２０はレッドフィルタ材料であり、光線（矢印に示す通り）は転写基板４０に照射され、中空パターン４０１に対応する位置だけが光線の通過を許容し、光線が光熱転換層５０に照射される。光熱転換層５０は光を熱に変換し、中空パターン４０１に対応するレッドフィルタ材料を平坦化層１０に転写させて、平坦化層１０上の予め設定された位置にレッドフィルタ１１と、これと一体成形された補助部と第１部分４２とを形成する。また、突起４０２の対応位置のレッドフィルタ材料は平坦化層１０に転写されることはないため、補助部と第１部分４２に空気孔が形成される。
【００７１】
任意で、第１部分４２は、これに隣接する、レッドフィルタ１１と一体成形された補助部２である。
【００７２】
本実施例において、第１部分４２はレッドフィルタ１１と同時に形成されるため、レッドフィルタ１１と隣接する位置に形成される第１部分４２はレッドフィルタ１１と一体成形することができる。この時、当該第１部分４２は当該レッドフィルタ１１に接続された補助部２であり、つまり、第１部分４２内に空気孔３を形成すればよく、これにより製造工程を簡素化し、製造効率を高めることができる。
【００７３】
図１２を参照すると、グリーンフィルタ１２と第２部分４３は一次レーザ転写によって形成され、第２部分４３内に空気孔を形成する。この時、カラーフィルタ材料２０はグリーンフィルタ材料であり、上記と同一のステップにより、平坦化層１０にグリーンフィルタ１２、これと一体成形された補助部、第２部分４３、空気孔を形成する。
【００７４】
図１３を参照すると、ブルーフィルタ１３と第３部分４４は一次レーザ転写によって形成され、第３部分４４内に空気孔を形成する。この時、カラーフィルタ材料２０はブルーフィルタ材料であり、上記と同一のステップにより、平坦化層１０にブルーフィルタ１３、これと一体成形された補助部、第３部分４４、空気孔を形成する。
【００７５】
また、例えば、そのうち、ステップＳ１は、
ベースの上方にカラーフィルタ材料２０、光熱転換層５０、転写基板４０、転写マスクプレート６０を設け、転写基板４０は透明な材料で作製され、転写マスクプレート６０の予め設定された位置に中空パターン４０１が設けられ、光熱転換層５０に突起が設けられ、光線が中空パターン４０１と中空パターンに対応する転写基板４０を介して光熱転換層５０の対応位置に照射され、光熱転換層５０が光線を熱に変換することで、中空パターン４０１に対応するカラーフィルタ材料２０をベースの上方の予め設定された位置に転写させて、カラーフィルタと補助部を形成し、且つ突起により補助部内に空気孔を形成する。
【００７６】
上記方法は前出のステップＳ１との相違点は、転写基板４０が透明で、光線を通過させることができ、中空パターン４０１が転写基板４０上方の転写マスクプレート６０に設けられ、光線が中空パターン４０１と中空パターン４０１に対応する転写基板４０を介して光熱転換層５０の対応位置に照射されることで、中空パターン４０１に対応するカラーフィルタ材料２０をベースの上方の予め設定された位置に転写させるという点である。
【００７７】
本実施例の表示基板の製造方法は、実施例１の表示基板の製造に用いられ、詳細な説明は実施例１の表示基板を参照することができ、ここでは改めて言及しない。
【００７８】
本実施例の表示基板の製造方法は、実施例１の表示基板の製造に用いられ、カラーフィルタと補助部が一体成形されるため、カラーフィルタと補助部を形成する際に、転写材料がカラーフィルタと補助部を転写形成する過程において生じた気体を、補助部内に設けられた空気孔を介して排出させることができ、これにより、形成されたカラーフィルタをより均一にし、さらには製品の歩留まりを向上させる。
【００７９】
上記の通り、本発明の表示基板及びその製造方法、表示装置において、当該表示基板はベースと、ベースの上方に位置するカラーフィルタと、補助部とを含み、カラーフィルタと補助部は一体成形され、補助部内に空気孔が設けられる。カラーフィルタと補助部が一体成形されるため、カラーフィルタと補助部を形成する際に、転写材料がカラーフィルタと補助部を転写形成する過程において生じた気体を、補助部内に設けられた空気孔を介して排出させることができ、これにより、形成されたカラーフィルタをより均一にし、さらには製品の歩留まりを向上させる。
【００８０】
上述した実施形態は本発明の原理を説明するための例示に過ぎず、本発明はこれに限定されない。当業者にとって、本発明の精神や主旨を逸脱しない範囲で種々の変形と改良が可能であり、本発明の請求範囲には、それらの変形と改良も含まれる。
【符号の説明】
【００８１】
１、カラーフィルタ  １１、レッドフィルタ  １２、グリーンフィルタ  １３、ブルーフィルタ
２、補助部  ３、空気孔  ４、遮光パターン  ４１、ブラックマトリクス  ４２、第１部分  
４３、第２部分  ４４、第３部分  ５、ベース  ６、絶縁層  ７、第１電極  ８、有機発光ダイオード  ９、第２電極  １０、平坦化層  ２０、カラーフィルタ材料  ３０、転写犠牲層  ４０、転写基板  ４０１、中空パターン  ４０２、突起  ５０、光熱転換層  ６０、転写マスクプレート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【国際調査報告】
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