(57)【要約】本開示は、材料（１２）内にホログラフィック構造（１４）を形成するための方法およびシステムを記載する。ホログラフィック構造（１４）は、レーザー（１６）によるホログラフィック構造（１４）の照明の下で、選択されたターゲット画像（２２）を遠方のフィールドに投影するように構成される。方法は、ターゲット画像（２２）を投影するためのホログラフィック構造（１４）の内部に固有の識別子をコード化するホログラフィック構造１４のための修正されたデザイン（２８）を計算する。方法は、ホログラフィック構造（１４）を形成するように、修正されたデザイン（２８）に対応する特徴を材料（１２）内にマッピングすることによって、材料（１２）を修正する。材料（１２）の真正性の基本的照合は、ターゲット画像（２２）の投影された複製（２０）が予期された通りであるかどうか照合することによって行われる。材料（１２）の真正性のより詳細な照合は、ホログラフィック構造（１４）内の特徴を直接的に検査することによって行われる。
2020537769.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
材料内にホログラフィック構造を形成するための方法であって、前記ホログラフィック構造は、前記ホログラフィック構造の照明の下で遠方のフィールドにターゲット画像を投影するように構成され、前記方法は、
前記ターゲット画像を投影するための前記ホログラフィック構造のためのデザインを計算する工程、
前記ターゲット画像を投影するための前記ホログラフィック構造の内部に識別子をコード化するために前記デザインを修正する工程、および
前記修正されたデザインに対応する特徴を前記材料内にマッピングすることによって前記材料を修正する工程、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記修正されたデザインによってコード化された前記識別子は、前記識別子が、前記投影されたターゲット画像において、実質的に隠されているか、マスクされているか、またはさもなければ実質的に識別不可能であるようなものであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記デザインを計算する工程および／または修正する工程のうちの少なくとも１つは、前記修正されたデザインを計算するためにアルゴリズムの一部として前記識別子を使用する工程を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記識別子を使用する工程は、前記識別子に依存して前記アルゴリズムの少なくとも１つの特徴を選択する工程、任意選択的に、前記アルゴリズムのパラメータ値、反復回数、シードまたは開始点のうちの少なくとも１つに依存して前記識別子を選択する工程を含むことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記デザインを計算する工程は、前記ターゲット画像を投影するための位相値および／または振幅値のマップを計算する工程を含み、前記デザインの各特徴は、前記位相値および／または振幅値のうちの１つに対応することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記デザインを修正する工程は、前記修正されたデザインに基づく前記ホログラフィック構造によって投影される前記ターゲット画像が前記デザインの修正前に投影される前記ターゲット画像と区別できないように、少なくとも１つの異なる位相値および／または振幅値を含むマップを計算する工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記方法は、前記異なる位相値および／または振幅値のマップを計算するために前記識別子を使用する工程を含むことを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記ターゲット画像を投影するための前記位相値および／または振幅値のマップを計算する工程は、前記ターゲット画像を投影するための関連する位相値および／または振幅値を有する特徴のセットまたは配列を計算する工程を含み、各特徴は、前記マップ内の異なる位置にあり、および前記マップ内の各位置は、少なくとも２つの位相値および／または振幅値のうちの１つを有することを特徴とする請求項５から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記マップ内の各位置は、少なくとも３つの位相値および／または振幅値のうちの１つを有することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記マップの前記特徴のうちの少なくとも１つのための前記位相値および／または振幅値のうちの少なくとも１つを選択するために前記識別子を使用する工程を含むことを特徴とする請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
前記マップの前記特徴のうちの少なくとも１つを選択するために前記識別子を使用する工程、および前記特徴（１つまたは複数）に、前記デザインの元の位相値と同等である、少なくとも１つの異なる位相値を割り当てることによって、前記デザインを修正する工程を含むことを特徴とする請求項８から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記デザインを計算する工程および修正する工程のうちの少なくとも１つは、
前記ターゲット画像を投影するための前記ホログラフィック構造の初期デザインを得る工程、および前記デザインを修正するために前記特徴のうちの少なくとも１つのための異なる位相値および／または振幅値を選択する工程を含み、前記修正されたデザインは、前記初期デザインに対応する前記ホログラフィック構造によって投影可能なターゲット画像と区別できないかまたは少なくとも類似するターゲット画像を投影することを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記初期デザインは、前記マップの少なくとも一部にわたる一定の位相値および／または振幅値、前記マップの少なくとも一部にわたるランダムな位相値および／または振幅値、および前記マップの少なくとも一部にわたる位相値および／または振幅値の定義されたパターン、のうちの少なくとも１つを含む位相値および／または振幅値のマップであることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記初期デザインは、前記識別子に対応する少なくとも１つの特徴を含む位相値および／または振幅値のマップを含むことを特徴とする請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記識別子は、前記デザインのための前記特徴のマップを決定論的に生成するための初期シードを含むことを特徴とする請求項１から１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記デザインの少なくとも１つの部分を選択する工程および前記選択された部分（１つまたは複数）を前記デザインの少なくとも１つの他の部分と交換する工程を含むことを特徴とする請求項１から１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記ホログラフィック構造の前記修正されたデザインが、前記修正されていないデザインに対応するホログラフィック構造によって投影されるターゲット画像と区別できないかまたは少なくとも類似するターゲット画像を投影するように構成されているかどうかを検証する工程を含むことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記選択された部分および前記少なくとも１つの他の部分は、実質的に同一または同様のターゲット画像を個々に投影するが、少なくとも部分的に異なるマップを含むかまたは表す部分であることを特徴とする請求項１６または１７に記載の方法。
【請求項１９】
第１のシードおよび／または第１の反復回数を用いて、前記選択された部分によって含まれるかまたは表される前記マップを生成する工程、および
第２の、異なるシードおよび／または第２の、異なる反復回数を用いて、前記少なくとも１つの他の部分によって含まれるかまたは表される前記マップを生成する工程、を含むことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記材料の表面のレベルを変更する工程、および前記材料の屈折率を修正する工程、のうちの少なくとも１つによって前記材料を修正する工程を含むことを特徴とする請求項１から１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記材料を溶融する、アブレートする、移動させる、堆積させる、または別の方法で分布させるのうちの少なくとも１つのために放射線を用い、および前記材料の化学的性質を変更することによって、前記材料を修正する工程を含むことを特徴とする請求項１から２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
前記識別子は、シリアル番号、固有のコード、部品番号、署名、ロゴ、画像、写真、名称、商標、コード、シンボル、文字のセット、ワンタイム入力、または任意の形態の識別子を含むことを特徴とする請求項１から２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
前記材料内に複数のホログラフィック構造を形成する工程を含み、前記方法は、前記材料内に前記ホログラフィック構造をタイル表示する工程を含むことを特徴とする請求項１から２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】
前記複数のホログラフィック構造は、ホログラフィック構造のセットを含み、前記ホログラフィック構造のセットは、サブホログラムの少なくとも１つのサブセットを含み、前記方法は、前記ホログラフィック構造のセットの内部の所定のパターンに前記サブホログラムの少なくとも１つのサブセットを配置する工程を含むことを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記ホログラフィック構造を、透かし、ＱＲコード（登録商標）デザイン、バーコードまたは他のパターンのような別のパターンと組み合わせて、パターン化されたホログラフィック構造を生成する工程を含むことを特徴とする請求項１から２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】
ホログラフィック構造の照明の下で遠方のフィールドにターゲット画像を投影するためのホログラフィック構造であって、前記ホログラフィック構造は、
前記ターゲット画像を投影するための前記ホログラフィック構造の内部に識別子をコード化する修正されたデザインに基づく特徴
を含むことを特徴とするホログラフィック構造。
【請求項２７】
前記修正されたデザインによってコード化される前記識別子は、前記投影されたターゲット画像において、前記識別子が隠され、マスクされ、またはさもなければ識別不可能であるようであることを特徴とする請求項２６に記載のホログラフィック構造。
【請求項２８】
前記特徴は、前記ターゲット画像を投影するための位相値および／または振幅値のマップを含み、前記デザインの各特徴は、前記位相値および／または振幅値のうちの１つに対応することを特徴とする請求項２６または２７に記載のホログラフィック構造。
【請求項２９】
前記マップは、前記ターゲット画像を投影するための関連する位相値および／または振幅値を有する特徴のセットまたは配列を含み、各特徴は、前記マップ内の異なる位置にあり、および前記マップ内の各位置は、少なくとも２つの位相値および／または振幅値のうちの１つを有することを特徴とする請求項２８に記載のホログラフィック構造。
【請求項３０】
前記マップ内の各位置は、少なくとも３つの位相値および／または振幅値のうちの１つを有することを特徴とする請求項２９に記載のホログラフィック構造。
【請求項３１】
複数のタイル表示されたホログラフィック構造を含むことを特徴とする請求項２９から３０のいずれか一項に記載のホログラフィック構造。
【請求項３２】
前記複数のタイル表示されたホログラフィック構造は、ホログラフィック構造のセットを含み、前記ホログラフィック構造のセットは、サブホログラムの少なくとも１つのサブセットを含み、前記サブホログラムの少なくとも１つのサブセットは、前記ホログラフィック構造のセットの内部の所定のパターンに配置されることを特徴とする請求項３１に記載のホログラフィック構造。
【請求項３３】
前記ホログラフィック構造は、パターン化されたホログラフィック構造を生成するために、透かし、ＱＲコード（登録商標）デザイン、バーコードまたは他のパターンのような別のパターンと組み合わされると組み合わされることを特徴とする請求項２６から３２のいずれか一項に記載のホログラフィック構造。
【請求項３４】
請求項２６から３３のいずれか一項に記載のホログラフィック構造を含むことを特徴とする製品。
【請求項３５】
処理システムまたは制御ユニットによって実行されるときに、前記処理システムまたは制御ユニットに、請求項１から２５のいずれか一項に記載の方法を少なくとも部分的に実施させることを特徴とするコンピュータプログラム製品。
【請求項３６】
請求項１から２５のいずれか一項に記載の方法を少なくとも部分的に実施することは、
前記ターゲット画像を投影するための前記ホログラフィック構造のためのデザインを計算する工程、および
前記ターゲット画像を投影するための前記ホログラフィック構造の内部に識別子をコード化するために前記デザインを修正する工程、
のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項３５に記載のコンピュータプログラム製品。
【請求項３７】
前記修正されたデザインに対応する特徴を前記材料内にマッピングする工程によって材料を修正するためのレーザーシステムを制御する工程を含むことを特徴とする請求項３６に記載のコンピュータプログラム製品。
【請求項３８】
材料内にホログラフィック構造を形成するためのシステムであって、
前記ホログラフィック構造のためのデザインを修正するために、請求項１から２５のいずれか一項に記載の方法を実行するための制御システム、および
前記デザインにより前記材料を修正するためのレーザーシステム、
を含むことを特徴とするシステム。
【請求項３９】
請求項１から２５のいずれか一項に記載の方法によって形成されるホログラフィック構造を含む材料の真正性を決定するための方法であって、前記方法は、
前記ホログラフィック構造のデザインを決定するために前記ホログラフィック構造の少なくとも一部を検査する工程、および
前記検査されたデザインを予期されるデザインと比較する工程、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項４０】
前記ターゲット画像を投影するための前記ホログラフィック構造のためのデザインを計算する工程、および前記ターゲット画像を投影するための前記ホログラフィック構造内部において前記材料に関連付けられる識別子をコード化するために前記デザインを修正する工程を含み、前記修正されたデザインは、前記予期されるデザインを少なくとも部分的に含むことを特徴とする請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
処理システムまたは制御ユニットによって実行されるときに、前記処理システムまたは制御ユニットに、請求項３９または４０に記載の方法を少なくとも部分的に実施させることを特徴とするコンピュータプログラム製品。
【請求項４２】
請求項１から２５のいずれか一項に記載の方法によって形成されるホログラフィック構造を含む、材料の真正性を決定するためのシステムであって、
前記ホログラフィック構造のデザインを検査するための検査システム、および
前記検査されたデザインを予期されるデザインと比較するための比較システム、
を含むことを特徴とするシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、特に、しかし排他的にでなはく、偽造（counterfeiting）を防止するために材料にマーキングするための方法およびシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
電子機器物品（electronics goods）、機械的部品（mechanical components）などのような製品は、製品の認証（authentication）を提供するため、および製品が流通（distribution）の間に追跡されることを可能にするために、シリアル番号のような固有の識別子（identification）でマーキングされてもよい。
【０００３】
製品をマーキングするための慣用の方法は、シリアル番号、バーコード、二次元コード（2D code）などを製品にエッチングする工程または貼付する工程を含む。これらの方法は、一見すると本物（genuine）と見受けられる固有の識別子で偽造品（counterfeit products）をマーキングするために複製（replicated）される可能性がある。別の方法は、固有の識別子を含むホログラフィックステッカーを製品に取り付ける工程を伴う。ホログラフィック技術は、比較的洗練（sophisticated）されておりおよび複製するのが困難であると考えられている。しかしながら、偽造業者は、ますます洗練され、および偽造品に取り付けるためのホログラフィックステッカーを複製することができる可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１２／０３８７０７号
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Wlodarczyk et al., "Direct CO2 laser-based generation of holographic structures on the surface of glass",Optics Express,Vol. 24, No. 2, pp. 1447-1462, January 2016
【非特許文献２】Wlodarczyk et al., "Laser microsculpting for the generation of robust diffractive security markings on the surface of metals", Journal of Materials Processing Technology 222, pp. 206-218, March 2015
【非特許文献３】Wlodarczyk et al., "Tamper-proof markings for the identification and traceability of high-value metal goods," Optics Express 25 (13), pp. 15216-15230, 2017
【非特許文献４】Wyrowski et al, "Fourier-transform algorithm applied to computer holography", J. Optical Society of America A, Vol. 5, pp. 1058-1065, 1988
【非特許文献５】Wyrowski, "Iterative quantization of digital amplitude holograms", Applied Optics, Vol. 28, pp. 3864-3870, 1989
【非特許文献６】Waedegaard et al, "High- resolution computer-generated reflection holograms with three-dimensional effects written directly on a silicon surface by a femtosecond laser", Optics Express Vol. 19 pp. 3434-3439
【発明の概要】
【０００６】
第１の独立した態様によれば、材料内にホログラフィック構造（holographic structure）を形成するための方法が提供され、ホログラフィック構造は、ホログラフィック構造の照明の下で遠方のフィールド（far field）にターゲット画像（target image）を投影（project）するように構成され、方法は、
ターゲット画像を投影するためのホログラフィック構造のためのデザインを計算する工程、
ターゲット画像を投影するためのホログラフィック構造の内部に識別子をコード化（encode）するためにデザインを修正する工程、および
修正されたデザインに対応する特徴を材料内にマッピングすることによって材料を修正する工程、
を含む。
【０００７】
使用において、方法によって形成されたホログラフィック構造は、ホログラフィック構造でマーキングされた製品の偽造の可能性（likelihood）を低減させるためのようなセキュリティマーキング（security marking）として使用されてもよい。ホログラフィック構造を照明すること（例えば、レーザーによって生成されてもよいようなコヒーレント放射線などを用いること）は、ターゲット画像を遠方のフィールドに投影してもよい。ターゲット画像は、ユーザーまたは製造業者の規格（specification）などによって選択されてもよい。ターゲット画像は、シリアル番号、固有のコード、部品番号（part number）、署名（signature）、ロゴ、画像、写真、名称、商標（brand）、コード、シンボル、文字のセット（set of characters）などのような任意の画像を含んでいてもよい。放射線によって照明されると、ホログラフィック構造は、画像が遠方のフィールドに形成されるように放射線を回折することができ、これは、ターゲット画像の複製（replica）に対応してもよい。ターゲット画像の複製は、ターゲット画像の近似（approximation）であってもよい。ホログラフィック構造は、ターゲット画像の複製を遠方のフィールドに近似的に形成するのに十分な情報を含んでいてもよい（例えば、特徴の数は情報の量に対応していてもよい）。特徴の数、サイズ、密度、分布および／または位置など、および／またはホログラフィック構造を照明する放射線の特性（properties）は、ターゲット画像の複製がターゲット画像自体にいかに忠実に（closely）対応するかを少なくとも部分的に定義してもよい。
【０００８】
投影されたターゲット画像は、照明された特徴からの０次の回折および／または透過（transmission）だけでなくホログラフィック構造における１次またはより高次の回折効果および／または対称性（symmetry）に起因してもよい、１つまたは複数の画像を含んでいてもよい。方法は、識別子、例えば固有のまたは隠された識別子を、投影されたターゲット画像ではなくホログラフィック構造それ自体を検査するときにのみ識別可能になってもよいホログラフィック構造に挿入するために使用されてもよい。ホログラフィック構造のための修正されたデザインは、修正されていないデザインに対応するホログラフィック構造によって投影されるターゲット画像と区別できないかまたは少なくとも類似するターゲット画像を投影してもよい。
【０００９】
エンドユーザー、製造業者、販売業者（dealer）、流通業者（distributer）、偽造業者などは、ホログラフィック構造を含む材料または製品の真正性（authenticity）の基本試験を、レーザーなどを用いてホログラフィック構造からターゲット画像を投影することによって行う可能性がある。しかしながら、この状況において、ホログラフィック構造が識別子を含む可能性があることは明らかでない場合がある。ホログラフィック構造を照合（checking）するための適切な機器だけでなく識別子の知識を持つ製品の製造業者または他の認定されたユーザーのようなユーザーだけが、製品が本物であるかどうか決定することができる可能性がある。
【００１０】
用語「材料（material）」は、材料、製品、材料を含む製品などを指していてもよいことは理解されよう。また、「材料」への言及はすべて、製品、材料を含む製品などに言及していてもよい。方法は、製品を直接的に修正するために使用されてもよく、および／または別の製品または材料に取り付けるために材料または他の製品を修正するために使用されてもよい。ホログラフィック構造は、製品または材料に直接的に適用されてもよいので、ホログラフィック構造は、不正加工防止性（tamper-proof）、汎用性（versatile）が比較的高く、および／または、製品または材料への適用が比較的容易である可能性がある。
【００１１】
ホログラフィック構造の検査は、顕微鏡、位相差顕微鏡（phase contrast microscope）、白色光干渉計（white light interferometer）、触針式表面形状測定装置（stylus profilometer）（例えば、Ｄｅｋｔａｋ（登録商標）など）、原子間力顕微鏡（atomic force microscope）、またはホログラフィック構造の特徴の構造を決定するための実に任意の適当な機器または光学系を使用して実施されてもよい。偽造業者は、理論上、ホログラフィック構造自体を検査しおよび続いて製品の偽造されたバージョンに同一のホログラフィック構造を再生するために多大な努力を必要とし得るが、必要とされる努力、複雑さおよび費用のレベルは、相当なもの（substantial）になる可能性がある。そのときでさえ、認定されたユーザーは、同一の「識別子」を備える１つを超える製品が追跡された場合に、依然として、市場に偽造のパターンが存在するかどうかを決定することができる。
【００１２】
識別子は、投影されたターゲット画像において識別子が実質的に隠されているかマスクされているかまたはさもなければ（otherwise）実質的に識別不可能であるように、修正されたデザインによってコード化されてもよい。識別子は、投影されたターゲット画像において、人間の観察者、例えば人間の観察者の補助されない視覚（unassisted vision）にとって、隠されているか、マスクされているか、またはさもなければ実質的に識別不可能であってもよい。
【００１３】
デザインを計算する工程および修正する工程のうちの少なくとも１つは、修正されたデザインを計算するためのアルゴリズムの一部として識別子を使用する工程を含んでいてもよい。
【００１４】
方法は、ターゲット画像を投影するホログラフィック構造のためのデザインを計算するためのアルゴリズムを使用する工程を含んでいてもよい。アルゴリズムは、デザインを計算するための反復フーリエ変換（iterative Fourier-transform）アルゴリズム（ＩＦＴＡ）または任意の他の適当なアルゴリズムを含んでいてもよい。方法は、識別子を選択する工程およびデザインを計算するためのアルゴリズムの一部として識別子を使用する工程を含んでいてもよい。識別子を使用する工程は、その中に識別子をコード化する修正されたデザインをもたらしてもよい。アルゴリズムの少なくとも１つの特徴は、識別子に依存して（in dependence on）選択されてもよい。例えば、アルゴリズムのパラメータ値、反復回数（number of iterations）、シードまたは開始点のうちの少なくとも１つは、識別子に依存して選択されてもよい。
【００１５】
ホログラフィック構造デザインは、位相値（phase values）（位相ホログラム）のマップ、または振幅値（amplitude values）（振幅ホログラム）のマップ、または位相および振幅値のマップから成っていてもよい。簡潔さのために、以下の記載は、主に、位相値のマップとしてホログラフィックデザインを表すことに言及されるが、そのような言及は、位相値または振幅値または位相および振幅値の組み合わせのマップとしてホログラフィックデザインを表すことに及ぶとみなされるべきである。特定の位相値（例えば、０、±π／４、±π／２、±３π／４、±π、または任意の他の位相値）が言及される場合、これらは、対応する振幅値（例えば、０、０．２５、０．５、０．７５、１、または任意の他の振幅値）によって置き換えられ得る。
【００１６】
デザインを計算する工程は、ターゲット画像を投影するための位相値および／または振幅値のマップを計算する工程を含んでいてもよい。デザインの各特徴は、位相値および／または振幅値のうちの１つに対応していてもよい。
【００１７】
マップは、特徴のセットまたは配列（array）を含んでいてもよい。各特徴は、マップ内部の異なる位置にあってもよい。各特徴は、関連する位相値を有していてもよく、これは、ゼロであってもよくまたは非ゼロであってもよい。位相値は、相対的な位相値に対応していてもよい（例えば、ホログラフィック構造を含む材料の表面または平面（plane）などを参照して）。位相値または相対的な位相値は、特徴の深さおよび／または高さまたは相対的な深さおよび／または高さに対応していてもよい（例えば、表面または平面を参照して）。位相値または相対的な位相値は、屈折率値または屈折率値の差に対応していてもよい。位相値または相対的な位相値は、光学的長さ（optical length）または光学的長さの差に対応していてもよい。付加的にまたは代替的に、各特徴は、関連する振幅値または振幅応答（amplitude response）を有していてもよい。例えば、特徴は、特徴からの／を通した反射および／または透過時に、振幅を変更するように構成されていてもよい（例えば、入射放射線の振幅値は、最初は１であってもよく、および次いで、特徴（１つまたは複数）での反射および／または透過時に、０、０．２５、０．５、０．７５、１、または任意の他の振幅値に変更されてもよい）。各特徴は、関連する振幅 および／または位相応答を有していてもよい。
【００１８】
デザインは、ホログラフィック構造がターゲット画像を投影するように構成されるように、位置、サイズ、密度などの観点で分散されるいくつかの（a number of）特徴を含んでいてもよい。デザインを計算する工程および／または修正する工程は、ターゲット画像を投影する特徴の各々および／または特徴の分散のための位相値および／または振幅値を計算してもよい。
【００１９】
特徴（１つまたは複数）は、ホログラフィック構造のピクセルに対応していてもよい。特徴（１つまたは複数）は、例えば、照明の下で０次の反射／透過を反射および／または透過してもよい。特徴の形状は、特徴のどれくらいの量が照明される可能性があるかに影響を与える可能性があり、これは、反射／透過および／または回折の効率に影響を与える可能性がある。
【００２０】
デザインを修正する工程は、修正されたデザインに基づくホログラフィック構造によって投影されるターゲット画像がデザインの修正前に投影されたターゲット画像と区別できないように、少なくとも１つの異なる（different）位相値および／または振幅値を含むマップを計算する工程を含んでいてもよい。
【００２１】
方法は、デザインの各特徴のための位相値および／または振幅値を計算する工程を含んでいてもよい。方法は、デザインの各特徴のための位相値のうちの少なくとも１つを修正する工程を含んでいてもよい。マップの少なくとも１つの特徴が異なる位相値を含むようにデザインを修正する工程は、デザインの修正前の位相値と同等である、特徴（１つまたは複数）のための異なる位相値を選択する工程を含んでいてもよい。デザインの修正前の位相値と同等である少なくとも１つの位相値を含むマップは、デザインの修正前に投影されたターゲット画像と同一のまたは同様のターゲット画像を投影してもよい。例えば、位相値０は、位相値２πなどと同等であってもよい。方法は、少なくとも１つの特徴の位相値を、置き換えられる位相値と同等である異なる位相値と置き換える工程を含んでいてもよい。ホログラフィック構造の検査それ自体は、投影されたターゲット画像から明らかでない可能性のある異なる位相値を明らかにしてもよい。
【００２２】
方法は、異なる位相値および／または振幅値のマップを計算するために識別子を使用する工程を含んでいてもよい。
【００２３】
異なる位相値および／または振幅値のマップを計算する工程は、ホログラフィック構造を検査することによってのみ明らかになりまたは識別可能になってもよい識別子を提供してもよい。ターゲット画像を投影することのできるホログラフィック構造のために利用可能な位相値および／または振幅値の多くの異なる可能なマップが存在していてもよい。方法は、繰り返し可能なまたは少なくとも決定論的な（deterministic）方法で、異なる位相値および／または振幅値のマップ内に識別子をコード化する方法を提供してもよい。
【００２４】
修正されたデザインは、識別子、使用されるアルゴリズム、およびアルゴリズムにおける少なくとも１つの工程の反復回数のうちの少なくとも１つに基づいて決定論的に（deterministically）計算されてもよい。修正されたデザインを決定論的に計算するアルゴリズムを使用することによって、認定されたユーザーは、ホログラフィック構造がホログラフィック構造内の特徴の予期されたパターンを有するかどうかを、および任意選択的にホログラフィック構造内の特徴のパターンに関する完全な情報を有することを必ずしも必要とせずに、識別することができてもよい。例えば、認定されたユーザーは、ホログラフィック構造のための特徴の予期されたパターンを決定論的に計算するために識別子を使用してもよく（例えば、シリアル番号などに基づいて）、ホログラフィック構造の少なくとも一部を検査してもよく（例えば、ホログラフィック構造を含む製品の）、および特徴の検査されたパターン（例えば製品の）が特徴の予期されたパターン（例えば計算されたデザイン）に対応するかどうかを決定してもよい。
【００２５】
ターゲット画像を投影するための位相値および／または振幅値のマップを計算する工程は、ターゲット画像を投影するための関連する位相値および／または振幅値を有する特徴のセットまたは配列を計算する工程を含んでいてもよく、各特徴は、マップ内の異なる位置にあり、およびマップ内の各位置は、少なくとも２つの位相値および／または振幅値のうちの１つを有する。
【００２６】
デザインを計算する工程は、位相値および／または振幅値のうちの１つを、マップ内の異なる位置にある特徴の各々に割り当てる（assignining）工程を含んでいてもよい。位相値および／または振幅値は、あらかじめ定められていてもよく、例えば、位相値および／または振幅値は、材料内にホログラフィック構造を形成するためのパラメータの所与のセットに関する予期される位相値および／または振幅値を計算するアルゴリズムに従って計算されてもよい。
【００２７】
例において、位相値のうちの１つは、ゼロであってもよい。位相値のうちの少なくとも１つの他のものは、非ゼロであってもよい。位相値のうちの１つは、位相値のうちの少なくとも１つの他のものと同等であってもよい。例えば、位相値ゼロは、非ゼロの整数値ｍのための位相値±２πｍと同等であってもよい。
【００２８】
マップ内の各位置は、少なくとも３つの位相値のうちの１つを有していてもよい。代替的に、位相および／または振幅の任意の他の適当な数の所定の値が使用されてもよい。例えば、マップ内の各位置は、位相および／または振幅の４、５、６またはより大きい所定の値のうちのそれぞれの選択された１つを有していてもよい。
【００２９】
マップの位相値および／または振幅値の各々のためのそれぞれの位相値および／または振幅値は、位相値および／または振幅値のセットから選択されてもよい。位相値および／または振幅値のセットは、２つの異なる位相値および／または振幅値から成っていてもよく、または３つの異なる位相値および／または振幅値から成っていてもよく、または３つを超える位相値および／または振幅値から成っていてもよい。
【００３０】
デザイン内の位相値および／または振幅値の数は、ホログラフィック構造のレベルの数を定義してもよい。２つの異なる位相値および／または振幅値を含むホログラフィック構造は、２レベルのホログラフィック構造を定義してもよい。３つ以上の異なる位相値および／または振幅値を含むホログラフィック構造は、それぞれ、３以上のレベルのホログラフィック構造を定義してもよい。
【００３１】
特徴のうちの少なくとも１つは、位相値および／または振幅値のうちの１つを有していてもよく、および特徴のうちの少なくとも１つの他のものは、位相値および／または振幅値のうちの少なくとも１つの他のものを有していてもよい。
【００３２】
位相値のうちの１つは、０であってもよく、これは、無修正の（unmodified）材料表面、材料の表面レベル、材料の平均表面レベル、ホログラフィック構造の平面などに対応してもよい。位相値のうちの少なくとも１つの他のものは、材料の表面レベル、材料の平均表面レベル、ホログラフィック構造の平面などに関して、位相値の相対的な差を定義してもよい。位相値のうちの少なくとも１つの他のものは、±π／４、±π／２、±３π／４、±π、±３π／２、±２π、または実に任意の他の適当な位相値のうちの少なくとも１つから選択されてもよく、これは、それぞれの特徴間の位相の相対的な差を定義してもよい。
【００３３】
特徴は、ホログラフィック構造から／を通して反射されおよび／または透過される（transmitted）放射線に関して相対的な位相および／または振幅差を与えるための任意の適当な性質を有していてもよい。例えば、特徴間のレベル、高さなどの相対的な差は、ホログラフィック構造から反射される放射線の異なる空間成分が、異なる位相値および／または振幅値を有することを引き起こしてもよい。特徴間の屈折率（refractive index）および／または光学的長さおよび／または散乱（scattering）および／または吸収の相対的な差は、ホログラフィック構造を通して透過される放射線の異なる空間成分が、異なる位相値および／または振幅値を有することを引き起こしてもよい。特徴の位相値および／または振幅値の相対的な差は、干渉パターンが遠方のフィールドに投影されることを引き起こしてもよく、干渉パターンは、ターゲット画像に対応してもよい。
【００３４】
代替的にまたは付加的に、マルチレベルの位相および／または振幅のホログラフィック構造を実施（implement）することが可能であってもよい。マルチレベルの位相および／または振幅のホログラフィック構造は、例えば、３、４、またはそれを超えるレベルまたは値の位相および／または振幅を含んでいてもよい。例えば、ホログラフィック構造の特徴は、適当なアルゴリズムによって計算されてもよい関連する位相値および／または振幅値を有していてもよい。マルチレベルの位相および／または振幅のホログラフィック構造は、少なくとも１つの回折次数を抑制することができてもよい。例えば、２レベルの位相のホログラフィック構造は、二重像（twin image）（例えば、２つの同一の投影画像（projected images））の形の２つの回折次数を生成する可能性があり、一方、３レベルの位相のホログラフィック構造は、１つの回折次数だけを生成することができ、次数のうちの１つが抑制されていてもよい。二重像の形成を完全に防止することはできないが、３レベルのホログラフィック構造の場合に、異なる回折次数間に目に見えて区別可能な差があってもよいことは理解されよう。異なる位相値は、マルチレベルのホログラフィック構造を生成するために使用されてもよい。付加的にまたは代替的に、異なる振幅値は、マルチレベルのホログラフィック構造を生成するために使用されてもよい。
【００３５】
照明の位相は、０から２πの間に拘束されていてもよい。バイナリまたは２レベルのホログラフィック構造のような例において、マップの少なくとも１つの特徴は、０ラジアンの位相遅延を導入してもよく、およびマップの少なくとも１つの他の特徴は、例えばπラジアンの相対的な位相遅延を導入してもよい。３レベルのホログラフィック構造（これは、マルチレベルのホログラフィック構造のタイプを定義してもよい）のような例において、例えば２πの位相遅延を提供する第３のレベルがあってもよく、これは、遠方のフィールドに０ラジアンの位相遅延と同じ干渉効果を有していてもよい。３レベルおよび２レベルのホログラフィック構造は、照明の下で実質的に同じターゲット画像を投影してもよい。顕微鏡の下でまたは任意の適当な機器を使用することによって３レベルの例を検査することによって、例えば０およびπの位相値差に対応する特徴を有する２レベルの例と区別可能である、例えば０、πおよび２πの位相値差を導入する特徴間の物理的または光学的な差を識別することが可能であってもよい。しかしながら、２および３レベルの例の両方において遠方のフィールドに投影されるターゲット画像は、区別できないかまたは少なくとも同様であってもよい。２πの位相遅延を有する特徴（１つまたは複数）は、０の位相遅延を有する特徴（１つまたは複数）よりも低い回折効率を有していてもよい。例えば、特徴の形状は、異なる位相遅延の特徴の領域が異なっていてもよいように、異なっていてもよい。例において、より低い回折効率をもたらす特徴の数が比較的小さく保たれている場合（例えば、より高い回折効率を提供する特徴と比べて）、回折効率全体は、著しくは低減されない可能性がある。任意の回折効率は適当であってもよく、および位相値間の相対的な位相遅延は回折効率に影響を与えてもよくまたは与えなくてもよいことは理解されよう。
【００３６】
方法は、マップの特徴のうちの少なくとも１つに関して、少なくとも位相値および／または振幅値のうちの１つを選択することによって識別子を使用する工程を含んでいてもよい。
【００３７】
方法は、マップの特徴のうちの少なくとも１つを選択するために識別子を使用する工程、および、特徴（１つまたは複数）に、デザインの元の（original）位相値と同等である、少なくとも１つの異なる位相値を割り当てることによってデザインを修正する工程を含んでいてもよい。
【００３８】
異なる位相値および／または振幅値（１つまたは複数）は、ホログラフィック構造によって投影されるターゲット画像を実質的に変更しなくてもよい。しかしながら、異なる位相値および／または振幅値（１つまたは複数）は、ホログラフィック構造を検査することによって識別されてもよい。
【００３９】
方法は、どの特徴（１つまたは複数）が元々計算されたような元の位相値および／または振幅値を保持してもよく、およびどの特徴（１つまたは複数）が少なくとも１つの異なる位相値および／または振幅値を割り当てられてもよいかを定義するために、例えばシリアル番号、固有のコード、部品番号、署名、ロゴ、画像、写真、名称、商標、コード、シンボル、文字のセット、ワンタイム入力、または識別の任意の形態にリンクされるアルゴリズムを使用する工程を含んでいてもよい。
【００４０】
元の位相値は、０であるように選択されてもよく、および異なる位相値は、２πの相対的な位相値差に対応してもよい。位相値０および２πの位相値差を有する特徴（１つまたは複数）は、同様の方法でホログラフィック構造の照明の下で遠方のフィールドに形成されるターゲット画像に寄与してもよい。
【００４１】
計算する工程、およびデザインを修正する工程のうちの少なくとも１つは、ターゲット画像を投影するためのホログラフィック構造の初期デザインを得る工程、およびデザインを修正するために特徴のうちの少なくとも１つに関して異なる位相値および／または振幅値を選択する工程を含んでいてもよく、修正されたデザインは、初期デザインに対応するホログラフィック構造によって投影されるターゲット画像と区別できないかまたは少なくとも類似するターゲット画像を投影する。
【００４２】
初期デザインは、デザインのための初期の推測を含んでいてもよくまたはデザインのための初期の推測に対応していてもよい。初期デザインは、識別子が、異なる位相値および／または振幅値のマップの内部にコード化されてもよいように修正されてもよいように、位相値および／または振幅値のマップを含むかまたはそれに対応していてもよい。初期デザインは、任意の適当なアルゴリズム、例えばＩＦＴＡアルゴリズムなどによって、計算されてもよい。
【００４３】
初期デザインは、マップの少なくとも一部にわたる一定の位相値および／または振幅値、マップの少なくとも一部にわたるランダムな位相値および／または振幅値、およびマップの少なくとも一部にわたる定義されたパターンの位相値および／または振幅値、のうちの少なくとも１つを含む位相値および／または振幅値のマップを含んでいてもよい。
【００４４】
初期デザインは、マップの領域（area）のような少なくとも１つの部分を有するマップを含んでいてもよい。部分のうちの少なくとも１つは、一定の位相値（例えば、０、±π／４、±π／２、±３π／４、±π、または任意の他の位相値）を定義する特徴を含んでいてもよい。部分のうちの少なくとも１つは、ランダムな位相値および／または振幅値、例えば、部分（１つまたは複数）における特徴のうちの少なくとも１つに割り当てられるランダムな位相値および／または振幅値、を定義する特徴を含んでいてもよい。部分のうちの少なくとも１つは、特定パターンの位相値および／または振幅値、例えば、部分（１つまたは複数）における特徴のうちの少なくとも１つに割り当てられる定義された位相値および／または振幅値、を定義する特徴を含んでいてもよい。定義されたパターンの位相値および／または振幅値は、特徴のうちの少なくとも１つのための同一の位相値および／または振幅値、および特徴のうちの少なくとも１つのための異なる位相値および／または振幅値、のうちの少なくとも１つを含んでいてもよい。識別子は、定義されたパターンの位相値および／または振幅値を決定するために使用されてもよい。
【００４５】
初期デザインは、識別子に対応する少なくとも１つの特徴を含む位相値および／または振幅値のマップを含んでいてもよい。
【００４６】
識別子は、デザインのための特徴のマップを決定論的に生成するための初期シードを含んでいてもよい。
【００４７】
初期シードは、初期デザインを提供するために使用されてもよく、または初期デザインを決定するための計算の一部として使用されてもよい。初期シードは、シリアル番号、識別子、コードまたは材料の識別子と相関するワンタイムパッド（one-time pad）からのエントリーなどのうちの少なくとも１つを含んでいてもよい。
【００４８】
計算する工程、およびデザインを修正する工程のうちの少なくとも１つは、デザインを修正するためのアルゴリズムを実行する工程を含んでいてもよく、任意選択的に、アルゴリズムの少なくとも一部は、定義された反復回数だけ実行される。
【００４９】
決定論的に生成された特徴のマップは、例えば、同一の初期シードおよび／または定義された反復回数（１または複数）を用いることによって、繰り返し可能であってもよい。開始点（例えば、初期シード）、デザインを計算するためのアルゴリズム、および反復回数（１または複数）のうちの少なくとも１つの知識を持つユーザーは、検査中のホログラフィック構造が予期される（expected）（例えば、正しい）特徴を有しているかどうかを決定することが可能であってもよい。ユーザーは、予期されるホログラフィック構造の正確な形態をあらかじめ知る必要がなくてもよいが、アルゴリズムと併せて初期シードを使用することにより、ユーザーは、製品が本物であるかどうかを決定するために、検査中のホログラフィック構造の特徴のうちの少なくとも１つが予期されるかどうかを決定することができてもよい。初期シード、アルゴリズムおよび／または反復回数（１または複数）のうちの少なくとも１つは、ホログラフィック構造を含む製品の真正性を照合する認定されたユーザーが、デザインがどのように計算されおよび／または修正されるかに関して完全な詳細を知ることなく、予期される構造を決定することができてもよいように、秘密であってもよい。初期シードは、初期デザインを定義しまたは初期デザインに少なくとも部分的に対応してもよい。
【００５０】
選択された初期シード、アルゴリズムおよび／または反復回数に関して、ホログラフィック構造は、同一のターゲット画像を投影してもよい。しかしながら、特徴のマップは、照明の下で同一のまたは同様のターゲット画像を投影するホログラフィック構造にもかかわらず、異なる初期シードまたは初期条件（initial conditions）のセットを使用して生成された可能性のあるマップとは異なっていてもよい。顕微鏡または他の適当な機器の下でホログラフィック構造を検査する工程は、ユーザー、製造業者、販売業者、修理業者（repairer）、または任意の他の認定されたユーザーが、観察された特徴のマップを、同一の初期条件下で計算された特徴のマップと相関させることを可能にしてもよく、および相関が、必要とされる基準未満である場合、認定されたユーザーは、マーキングされたアイテムを疑わしいとしてフラグを立ててもよい。
【００５１】
方法は、デザインの少なくとも１つの部分を選択する工程および選択された部分（１つまたは複数）をデザインの少なくとも１つの他の部分と交換する工程を含んでいてもよい。
【００５２】
交換するために選択される部分は、個々に、実質的に同一または同様のターゲット画像（例えば、回折像（diffractive image）など）を投影または生成するが、少なくとも部分的に異なるマップを含むかまたは表す部分を含んでいてもよい。少なくとも部分的に異なる前記マップは、異なるシードおよび／または異なる反復回数（例えば、ＩＦＴＡなどの）を使用して生成されるマップを含んでいてもよい。
【００５３】
デザインは、部分の配列を含んでいてもよく、その各々は、個々に、同一のまたは同様のターゲット画像（例えば、回折像など）を配列の各他の部分として投影または生成するように構成される。配列の少なくとも１つの部分は、配列の少なくとも１つの他の部分によって含まれるかまたは表されるマップとは少なくとも部分的に異なるマップを含むかまたは表していてもよい。部分は、関心のある領域をタイル表示するように配置されるタイル部分を含んでいてもよい。
【００５４】
方法は、第１のシードおよび／または第１の反復回数を用いて、選択された部分によって含まれるかまたは表されるマップを生成する工程、および第２の、異なるシードおよび／または第２の、異なる反復回数を用いて、前記少なくとも１つの他の部分によって含まれるかまたは表されるマップを生成する工程を含んでいてもよい。
【００５５】
方法は、ホログラフィック構造の修正されたデザインが、修正されていないデザインに対応するホログラフィック構造によって投影されるターゲット画像と区別できないかまたは少なくとも類似するターゲット画像を投影するように構成されているかどうかを検証する工程を含んでいてもよい。
【００５６】
修正されたデザインを検証する工程は、識別子に対応する情報が、交換するプロセスの間にスクランブルされないことを保証してもよい。
【００５７】
選択された部分は、デザイン内の領域（area）、タイル、列（column）、行（row）、または任意の他の適当な形状のうちの少なくとも１つを含んでいてもよく、および交換された部分（１つまたは複数）はそれぞれ、デザイン内の領域、タイル、列、行、または任意の他の適当な形状のうちの少なくとも１つの他のもの、それぞれ、例えば、実質的に同一または同様の回折像を個々に生成するデザインの部分を含んでいてもよい。
【００５８】
例において、デザインのタイル、列、行、または他の適当な部分は、デザインの別のタイル、列、行、または他の適当な部分と交換されてもよい。交換は、修正されたホログラフィック構造によって投影されるターゲット画像に何ら変化を引き起こさないか、または少なくとも実質的な変化を引き起さないようであってもよい。
【００５９】
ホログラフィック構造は、選択された数のコンピュータ生成ホログラム（ＣＧＨ）、例えば１６個の異なるＣＧＨ（例えば、４×４配列にまたは任意の他の適当なタイル表示配列（tiled array）にタイル表示される）、を含んでいてもよい。ＣＧＨの任意の他の適当な数および配置が使用されてもよい。各ＣＧＨは、異なっていてもよい。これは、異なるシードおよび／または反復回数を使用することによってＣＧＨデザインを計算することによって達成されてもよい。ＣＧＨの各々は、同一のまたは同様の投影されたターゲット画像を生成してもよい。個々のＣＧＨの交換（swapping）および／またはシャッフル（shaffling）は、投影されたターゲット画像（例えば、回折像など）の外観に実質的に影響を及ぼさないようなものであってもよい。
【００６０】
代替的にまたは付加的に、全ホログラフィック構造（これは、例えば、タイル表示されたＣＧＨの配列を含んでいてもよい）の部分（例えば、少なくとも１つのＣＧＨ）は、ホログラムデザイン内部で左から右におよび／または上から下に（など）シフトされてもよい。例えば、ホログラフィック構造の左（または上）側のＣＧＨの列（または行）は、ホログラフィック構造の右（または下）側に移動させられてもよい。行および／または列および／または構造の他の部分の任意の他の適当なシフト（shifting）および／または交換は、他の実施形態に提供されていてもよい。全ホログラフィック構造は、サブホログラム（sub-holograms）（例えば、各サブホログラムは、個々のＣＧＨを含んでいてもよい）のセットに分割されてもよく、およびサブホログラムのサブセットは、シャッフルされまたは交換されてもよい。サブホログラムのセットのサブセットをシャッフルまたは交換することによって、投影されたターゲット画像は、交換またはシャッフルによって実質的に影響が及ぼされなくてもよい。
【００６１】
方法は、材料の表面のレベルを変更する工程、および材料の屈折率を修正する工程、および材料の表面の光散乱特性を変更する工程、および材料の表面の吸収特性を変更する工程、のうちの少なくとも１つによって材料を修正する工程を含んでいてもよい。
【００６２】
表面のレベルを変更する工程は、表面に対して高められたまたは低められた特徴を設ける工程を含んでいてもよい。方法は、高められたおよび／または低められた特徴が材料の表面またはホログラフィック構造によって定義される平面に対して異なる位相値を定義するように、材料内に特徴をマッピングする工程を含んでいてもよい。表面のレベルを変更する工程および／または屈折率を修正する工程は、表面の一部を溶融（melting）する工程、材料を切除（ablating）する工程、材料の一部を移動させる工程、表面に材料を堆積（depositing）させる工程、材料を別の方法で分布（otherwise distributing）させる工程、および材料の部分を化学的に変更（chemically changing）する工程などのうちの少なくとも１つを含んでいてもよい。
【００６３】
高められた特徴は、突起（protrusion）、隆起部（bump）、突出部（projection）または表面から外に少なくとも部分的に延びる任意の他の特徴を含むかまたは定義してもよい。低められた特徴は、キャビティ、クレーター、または表面の中に少なくとも部分的に延びる任意の他の特徴を含むかまたは定義してもよい。材料の屈折率を修正する工程は、材料の修正された部分の光学的長さを修正してもよい。
【００６４】
散乱特徴は、局在化されたレーザーアブレーションを介して（例えば、超短パルスレーザー（ultrashort pulsed laser）を用いることによって）粗い表面を作り出すことを含んでいてもよい。吸収特徴（absorbing feature）は、化学的修正、例えば、局在化された加熱によって引き起こされる表面に対する酸化、を含んでいてもよい。
【００６５】
方法は、材料を溶融する（melt）、アブレートする（ablate）、移動させる（move）、堆積させる（deposit）、または別の方法で分布させる（otherwise distribute）のうちの少なくとも１つのために放射線を用い、および材料の化学的性質を変更することによって材料を修正する工程を含んでいてもよい。
【００６６】
放射線は、レーザー、コヒーレント光源（coherent light source）、部分的にコヒーレントな光源（partially coherent light source）、非コヒーレント光源（noncoherent light source）、パルスレーザー（pulsed laser）、連続波レーザー（continuous wave laser）、または材料を修正するかまたは別の方法で材料と相互作用することのできる任意の他の適当な放射線源によって生成されてもよい。材料の選択に応じて、適当な放射線源が選択されてもよい。材料を修正するために、放射線の任意の適当なパラメータが選択されてもよく、または変更されてもよい。
【００６７】
方法は、特徴の形成を制御するために放射線の少なくとも１つのパラメータを制御する工程を含んでいてもよい。例において、材料を修正するためにレーザーが使用されてもよい。方法は、材料を制御可能に修正するために、レーザーの任意のパラメータを制御する工程を含んでいてもよい。材料の修正に少なくとも部分的に影響を与える可能性のある、レーザーのパラメータまたはレーザーを制御するための機器のパラメータは、レーザー最大出力（laser peak power）、平均レーザー出力、波長、強度、レーザービームスポットサイズ、レーザービームの質、波長（１つまたは複数）、パルス持続時間（pulse duration）、パルス繰り返し率（pulse repetition rate）、分散、レーザーシャッター持続時間（laser shutter duration）などを含んでいてもよいが、それらに限定されない。
【００６８】
例において、ガラスのような材料は、ＣＯ2レーザーを用いて修正されてもよい。ＣＯ2レーザーを使用してグラスを修正するための例の手順は、非特許文献１に概説されており、その内容は、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる。
【００６９】
例において、金属のような材料は、パルスＵＶレーザー（pulsed UV laser）を用いて修正されてもよい。パルスＵＶレーザーを用いて金属を修正するための例の手段は、非特許文献２および非特許文献３に概説されており、その内容は、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる。
【００７０】
方法は、金属、ガラスなどのような材料を含む製品を修正するために使用されてもよい。金属は、ステンレス鋼（例えば、ＳＴ３０４ＬＤなど）、ニッケル、真鍮、およびニッケルクロムＩｎｃｏｎｅｌ（登録商標）合金（例えば、Ｉｎｃｏｎｅｌ  ６２５、Ｉｎｃｏｎｅｌ  ７１８、Ｉｎｃｏｎｅｌ  Ｘ７５０および同様のもの）などを含んでいてもよい。任意の適当な材料、金属、ガラスなどは、方法によって修正されてもよいことは理解されよう。
【００７１】
適当な材料上に形成されるホログラフィック構造は、複製するのが難しい（hard- to-replicate）、不正加工防止性がある（tamper-proof）、表面摩耗に耐性がある（resistant to surface abrasion）および／または汎用性がある（versatile）、のうちの少なくとも１つであってもよい。例えば、ステンレス鋼のような金属に形成されたホログラフィック構造を引っ掻くことは、複製の質に実質的な劣化を引き起こさずおよび／または問題の材料または製品のための識別子を示すために検査され得る特徴の破壊を引き起こす可能性があることは実証されている。
【００７２】
方法は、少なくとも材料の修正の間に使用するためのカバーガスのような物質を提供する工程を含んでいてもよい。カバーガスは、材料を制御可能に修正するように、例えば、少なくとも１つの高められた特徴（例えば、高められた隆起部など）および／または少なくとも１つの低められた特徴（例えば、クレーターなど）を形成するように、放射線および／または材料と相互作用してもよい。０から２πにわたって拘束されていてもよい異なる位相値を持つ特徴を提供することにより、異なる特徴は、特徴のレベルの相対的な差に依存して、同一のまたは同等の位相値に対応してもよい。例えば、高さπの「隆起部」は、深さπの「クレーター」と同等であってもよい（レベルの違いは、２πと等しくてもよい）。マルチレベル（例えば、３またはそれより多いレベル）のホログラフィック構造を提供することは、回折次数の少なくとも１つを抑制してもよい。
【００７３】
例えば、高められた特徴の提供に関して材料の修正の成功のために必要とされるパラメータ制御がより複雑である場合、高められた特徴を含むホログラフィック構造を提供することは、もっぱら低められた特徴を含むホログラフィック構造よりも安全（secure）である可能性がある。適当な機器は、高められた特徴を検査するために使用されてもよい。ホログラフィック構造が高められた特徴および低められた特徴の両方を含む場合、機器は、高められた特徴と低められた特徴とを区別するように構成されてもよい。
【００７４】
識別子は、シリアル番号、固有のコード、部品番号、署名、ロゴ、画像、写真、名称、商標、コード、シンボル、文字のセット、ワンタイム入力、または任意の形態の識別子を含んでいてもよい。
【００７５】
方法は、材料内に複数のホログラフィック構造を形成する工程を含んでいてもよく、方法は、材料内にホログラフィック構造をタイル表示する工程を含む。
【００７６】
複数のホログラフィック構造は、ホログラフィック構造のセットを含んでいてもよい。ホログラフィック構造のセットは、サブホログラムの少なくとも１つのサブセットを含んでいてもよい。方法は、サブホログラムの少なくとも１つのサブセットをホログラフィック構造のセットの内部の所定のパターンに配置する工程を含んでいてもよい。
【００７７】
サブホログラムの性質（nature）に依存して、次いで、サブホログラムは、例えば、同一のターゲット画像であるが２つの異なる配向を持つか、または２つの完全に異なるターゲット画像であって同一のまたは異なる配向を持つか、のいずれかを生成してもよい。
【００７８】
方法は、ホログラフィック構造を、透かし（watermark）、ＱＲコード（登録商標）デザイン、バーコード、または他のパターンのような別のパターンと組み合わせて、パターン化されたホログラフィック構造を生成する工程を含んでいてもよい。
【００７９】
ホログラフィック構造は、任意の適当な相対的な間隔（spacing）および／または配向でタイル表示されてもよい。ホログラフィック構造は、同一のまたは異なるターゲット画像を投影するように構成されてもよい。ホログラフィック構造は、同一のまたは異なる識別子をコード化するように構成されてもよい。ホログラフィック構造は、ロゴ、バーコード、二次元コード、またはＱＲコード（登録商標）などを、材料内に、少なくとも部分的に形成するようにタイル表示されていてもよい。デザインまたはタイル表示のパターンは、材料に関連付けられる識別子を示すものであってもよい。
【００８０】
少なくとも１つのホログラフィック構造は、背景または前景がロゴ、バーコード、またはＱＲコード（登録商標）などの形態であるように、タイル表示されまたはマスクされてもよい。バーコードまたはＱＲコード（登録商標）が埋め込まれている場合、コードは、ホログラフィック構造の写真（picture）（例えば、マイクロレンズの付いたスマートフォンなどによって撮られてもよい）が、例えば、真正性検査などのために、ウェブサイト、サーバーなどに提出されることを可能にするための形態を持つ、ウェブアドレス（web address）、アプリ（app）などにリンクしてもよい。
【００８１】
ホログラフィック構造は、投影されたターゲット画像（１つまたは複数）の質に影響を及ぼすには小さすぎる可能性があるが、顕微鏡、または他の適当な機器の下で検査されるには十分に大きい可能性のある、埋め込まれた小パターンを含んでいてもよい。小パターンは、ロゴ、文字（１つまたは複数）、ＱＲコード（登録商標）などのうちの少なくとも１つを含んでいてもよい。
【００８２】
独立して提供されてもよい、さらなる態様において、ホログラフィック構造の照明の下で遠方のフィールドにターゲット画像を投影するためのホログラフィック構造が提供され、ホログラフィック構造は、
ターゲット画像を投影するためのホログラフィック構造内部において識別子をコード化する修正されたデザインに基づく特徴を含む。
【００８３】
修正されたデザインによってコード化される識別子は、投影されたターゲット画像において、識別子が実質的に隠されているかマスクされているかまたはさもなければ実質的に識別不可能であるようであってもよい。
【００８４】
特徴は、ターゲット画像を投影するための位相値および／または振幅値のマップを含んでいてもよく、デザインの各特徴は、位相値および／または振幅値のうちの１つに対応する。
【００８５】
マップは、ターゲット画像を投影するための関連する位相値および／または振幅値を有する特徴のセットまたは配列を含んでいてもよく、各特徴は、マップ内の異なる位置にあり、およびマップ内の各位置は、少なくとも２つの位相値および／または振幅値のうちの１つを有する。マップ内の各位置は、少なくとも３つの位相値および／または振幅値のうちの１つを有していてもよい。
【００８６】
ホログラフィック構造は、複数のタイル表示されたホログラフィック構造を含んでいてもよい。複数のタイル表示されたホログラフィック構造は、ホログラフィック構造のセットを含んでいてもよい。ホログラフィック構造のセットは、サブホログラムの少なくとも１つのサブセットを含んでいてもよい。サブホログラムの少なくとも１つのサブセットは、ホログラフィック構造のセットの内部の所定のパターンに配置されていてもよい。
【００８７】
ホログラフィック構造は、パターン化されたホログラフィック構造を生成するために、透かし、ＱＲコード（登録商標）デザイン、バーコードまたは他のパターンのような、別のパターンと組み合わされてもよい。
【００８８】
ホログラフィック構造は、２、３、４またはそれより多いレベルのホログラフィック構造を定義してもよい。ホログラフィック構造のレベルの数は、位相値および／または振幅値の数に対応してもよい。各レベルは、位相値および／または振幅値に対応してもよい。
【００８９】
ホログラフィック構造のためのデザインは、本開示の任意の方法の少なくとも１つの特徴、部分、または工程に従って計算および／または修正されてもよい。ホログラフィック構造は、本開示の任意の例に従って、材料内に形成されてもよい。ホログラフィック構造は、本開示の任意のレーザーシステムを用いて、または実に材料または製品においてホログラフィック構造を修正または印刷するための任意の適当な機器を用いて、材料または製品に少なくとも部分的に形成されてもよい。
【００９０】
独立して提供されてもよいさらなる態様によると、特許請求の範囲に記載されまたは本明細書中に記載されるような、ホログラフィック構造を含む製品が提供される。
【００９１】
独立して提供されてもよい別の態様によると、処理システム（processing system）または制御ユニットによって実行されるときに、処理システムまたは制御ユニットに、特許請求の範囲に記載されまたは本明細書中に記載されるような方法を、少なくとも部分的に実施させる、コンピュータプログラム製品が提供される。
【００９２】
方法を少なくとも部分的に実行することは、
ターゲット画像を投影するためのホログラフィック構造のためのデザインを計算する工程、および
ターゲット画像を投影するためのホログラフィック構造内部において識別子をコード化するためにデザインを修正する工程、
のうちの少なくとも１つを含んでいてもよい。
【００９３】
方法は、修正されたデザインに対応する特徴を材料内にマッピングすることによって材料を修正するためのレーザーシステムを制御する工程を含んでいてもよい。
【００９４】
処理システムまたは制御ユニットは、プロセッサおよびメモリを含んでいてもよい。処理システムまたは制御ユニットは、無線および／または有線通信モジュールのような通信モジュール（communications module）を含んでいてもよい。メモリは、コンピュータプログラム製品の少なくとも一部を格納（store）するように構成されていてもよい。制御ユニットは、少なくとも１つの入力デバイスまたはユーザー入力デバイスおよび／または少なくとも１つの出力またはユーザー出力デバイスに結合されまたは連絡していてもよい。適当なユーザー入力デバイスの例は、キーボード、マウス、トラックボール、スイッチ、静電容量式（capacitive）または誘電式（inductive）タッチスクリーンまたは接触パッド（contact pad）のようなタッチスクリーンまたは接触パッド、光学式および／またはカメラベースの入力システムおよび／または同様のもののようなデバイスを含む。適当な出力またはユーザー出力デバイスの例は、ディスプレイ、スクリーン、ＬＥＤ、スピーカー、または他のオーディオ出力、触覚（haptic）出力デバイス、仮想現実（virtual reality）ヘッドセット、データストア、ネットワーク、リモートサーバー、および／または同様のものを含む。
【００９５】
コンピュータプログラム製品は、キャリア媒体（carrier medium）上に設けられていもよい。キャリア媒体は、フラッシュドライブ、メモリスティック、光ディスクまたは光媒体、磁気ディスクまたは磁気媒体、メモリ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、および／または同様なもののような有形の（tangible）非一時的な（non-transient）キャリア媒体であってもよい。キャリア媒体は、電磁波、電子信号または時期信号、デジタルデータおよび／または同様のもののような無形（non- tangible）のキャリア媒体を含むかまたはそれに含まれていてもよい。
【００９６】
加えて、いくつかの実施形態は、実施形態の方法を行うことが実行可能であるコンピュータ読み取り可能指示（computer-readable instructions）を有するコンピュータプログラムによって、ある特徴を実施してもよい一方で、コンピュータプログラムの機能は、ハードウエア（例えば、ＣＰＵによって、または１つまたは複数のＡＳＩＣ（特定用途向け集積回路（application specific integrated circuits）によって）、ＦＰＧＡ（フィールドプログラマブルゲートアレイ（field programmable gate arrays））またはＧＰＵ（グラフィックスプロセッシングユニット（graphic processing units））内に、またはハードウエアとソフトウエアの混合によって、実施され得ることは、同業者によってよく理解されるであろう。
【００９７】
独立して提供されてもよいさらなる態様によると、ホログラフィック構造のためのデザインを修正するために請求項１から２３のいずれか一項に記載の方法を実施するための制御システム、およびデザインに従って材料を修正するためのレーザーシステムを含む、材料内にホログラフィック構造を形成するためのシステムが提供される。
【００９８】
制御システムは、本開示の任意の他の例のコンピュータプログラム製品を含んでいてもよい。
【００９９】
独立して提供されてもよいさらなる態様によると、特許請求の範囲に記載されまたは本明細書中に記載されるような方法によって形成されるホログラフィック構造を含む材料の真正性を決定するための方法が提供され、方法は、
ホログラフィック構造のデザインを決定するためにホログラフィック構造の少なくとも一部を検査する工程と、
検査されたデザインを予期されるデザインと比較する工程と、
を含む。
【０１００】
予期されるデザインは、ユーザーによって提供されてもよく、アルゴリズムに従って計算されるなどしてもよい。
【０１０１】
方法は、ターゲット画像を投影するためのホログラフィック構造のためのデザインを計算する工程、およびターゲット画像を投影するためのホログラフィック構造内部において材料に関連付けられる識別子をコード化するためにデザインを修正する工程、を含んでいてもよく、修正されたデザインは、少なくとも部分的に、予期されるデザインを含む。
【０１０２】
独立して提供されてもよいさらなる態様によると、処理システムまたは制御ユニットによって実行されるときに、処理システムまたは制御ユニットに、特許請求の範囲に記載されまたは本明細書中に記載されるような方法を少なくとも部分的に実施させる、コンピュータプログラム製品が提供される。
【０１０３】
コンピュータプログラム製品は、ホログラフィック構造の検査されたデザインを、ホログラフィック構造のための予期されるデザインと比較するように構成されていてもよい。
【０１０４】
独立して提供されてもよいさらなる態様によると、ホログラフィック構造のデザインを検査するための検査システムおよび検査されたデザインを予期されるデザインと比較するための比較システムを含む、特許請求の範囲に記載されまたは本明細書中に記載されるような方法によって形成されるホログラフィック構造を含む材料の真正性を決定するためのシステムが提供される。
【０１０５】
検査システムは、顕微鏡、位相差顕微鏡、白色光干渉計、触針式表面形状測定装置（例えば、Ｄｅｋｔａｋ（登録商標）など）、原子間力顕微鏡、または、ホログラフィック構造の特徴の構造を決定するための実に任意の適当な機器または光学系を含んでいてもよい。検査システムは、本開示の任意の適当な例のコンピュータプログラム製品を含んでいてもよく、または少なくとも、ホログラフィック構造のデザインを検査するための本開示の任意の適当な方法を少なくとも部分的に実施するように構成されていてもよい。比較システムは、本開示の任意の適当な例のコンピュータプログラム製品を含んでいてもよく、または検査されたデザインを予期されるデザインと比較するための本開示の任意の適当な方法を少なくとも部分的に実施するように構成されてもよい。予期されるデザインは、本開示の任意の例に従って計算されてもよい。
【０１０６】
本開示の任意の例、態様または実施形態の少なくとも１つの特徴は、本開示の任意の例、態様または実施形態の任意の対応する特徴を置き換えてもよい。本開示の任意の例、態様または実施形態の少なくとも１つの特徴は、本開示の任意の他の例、態様または実施形態と組み合わされてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０７】
本開示のこれらのおよび他の例は、次に、単に例として、および添付図面を参照して、記載される。
【０１０８】
【図１】材料の真正性を示すための配置の概略図である。
【図２】本開示の例による、ターゲット画像に対応する特徴を材料内にマッピングすることによって材料を修正するためのシステムの概略図である。
【図３】本開示の例による、材料を修正するためのレーザーシステムの概略図である。
【図４ａ】様々なレーザーパルスエネルギーレベルで材料内に形成されたクレーターの斜視図である。
【図４ｂ】様々なレーザーパルスエネルギーレベルで材料内に形成されたクレーターの斜視図である。
【図４ｃ】様々なレーザーパルスエネルギーレベルで材料内に形成されたクレーターの斜視図である。
【図４ｄ】様々なレーザーパルスエネルギーレベルで材料内に形成されたクレーターの斜視図である。
【図５ａ】材料内に形成されたクレーターのマップの隆起した（elevated）視野画像を示す図である。
【図５ｂ】材料内に形成されたクレーターのマップの斜視図画像である。
【図５ｃ】材料内における位置の関数としてのクレーターのレベルを示すグラフである。
【図６】振幅ホログラムの基礎として使用され得る材料の表面に形成された特徴の斜視図画像である。
【図７】表面およびクレーターから反射される放射線の相対位相遅延に寄与するホログラフィック構造の一部として材料内に形成されたクレーターの概略側面図である。
【図８】材料にマーキングしおよび材料の真正性を決定するための方法の概略図（schematic illustration）である。
【図９】本開示の例による、材料内にホログラフィック構造を形成する方法の概略図である。
【図１０】本開示の例による、材料内にホログラフィック構造を形成する方法の概略図である。
【図１１】複数のコンピュータ生成ホログラム（ＣＧＨ）およびＣＧＨのうちのいくつかによって投影される対応する回折像の概略図である。
【図１２】本開示の例による、材料内にホログラフィック構造を形成する方法の概略図である。
【図１３ａ】ＣＧＨおよびＣＧＨによって投影された対応する回折像の異なる例を示す図である。
【図１３ｂ】ＣＧＨおよびＣＧＨによって投影された対応する回折像の異なる例を示す図である。
【図１３ｃ】ＣＧＨおよびＣＧＨによって投影された対応する回折像の異なる例を示す図である。
【図１４】本開示の例による、材料内にホログラフィック構造を形成する方法の概略図である。
【図１５】本開示の例による、材料内にホログラフィック構造を形成する方法の概略図である。
【図１６ａ】２レベルのホログラフィック構造のための、遠方のフィールドにおける、ターゲット画像の投影された複製の画像である。
【図１６ｂ】３レベルのホログラフィック構造のための、遠方のフィールドにおける、ターゲット画像の投影された複製の画像である。
【図１７】パターンに組織化された（organised）複数のタイル表示されたＣＧＨを含むホログラムデザインを描く図である。
【図１８】ＣＧＨをＱＲコード（登録商標）デザインと組み合わせることによって生成されるパターン化されたホログラフィック構造のためのデザインを描く図である。
【図１９】本開示の例による、ホログラフィック構造を形成するためのシステムの例の概略図である。
【図２０】本開示の例によるホログラフィック構造を含む材料の真正性を決定するためのシステムの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【０１０９】
図面の詳細な説明
図１は、本例において材料１２の形態であるものとして示される製品の真正性の基本的照合（basic check）を提供するための配置１０を示す。材料１２は、ホログラフィック構造１４を含むように修正されている。レーザー１６は、反射された放射線１８が遠方のフィールドにターゲット画像２２の複製２０を投影するように（例えば、スクリーン２４上に画像化（imaging）するために）、ホログラフィック構造１４の少なくとも一部を照明するために使用される。スクリーン２４上に画像化された複製２０が予期される通りである限り、ユーザーは、材料１２が本物であるとみなすことができる。本明細書中に説明されるように、情報が複製２０内で明らかにされることなく、材料１２の真正性を示すホログラフィック構造１４内に情報を隠すことができる。製造業者のような認定されたユーザーのみが、ホログラフィック構造１４を直接的に検査しおよびホログラフィック構造１４が予期された通りであるか照合することによって、材料１２が真正であるかどうか決定することができてもよい。
【０１１０】
図２は、材料１２内にホログラフィック構造１４を形成するための方法２６の一部を示す。最初に、ターゲット画像２２は、ホログラフィック構造１４のデザイン２８を計算するために選択されおよび使用される。本例において、デザイン２８の計算は、反復フーリエ変換アルゴリズム（ＩＦＴＡ）および計算された位相分布（phase distributions）３０のタイル表示により行われる。この計算は、非特許文献４および非特許文献５に記載されており、その内容は、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる。その一部のみが図２に示されるレーザーシステム３２は、デザイン２８内の位相値および／または振幅値に対応する特徴３４（例えば、各特徴は、ある位相値および／または振幅値のピクセルに対応してもよい）を材料１２内にマッピングすることによって材料１２を修正するために使用される。マッピングされた特徴は、ホログラフィック構造１４を形成する材料１２内の位相値のマップを定義する。
【０１１１】
図３は、材料１２を修正するために使用されるレーザーシステム３２を示す。レーザーシステム３２は、レーザービーム３６を出力するレーザー３４を含む。レーザービーム３６の平均出力（average power）は、λ／２の波長板（waveplate）４０、分極ビームスプリッタ（polarising beam splitter）４２およびビームダンプ（beam dump）４４を含む出力制御配置３８を使用して制御可能である。出力制御配置３８からのレーザービーム３６は、ビームエキスパンダー４６を用いて拡張され（expanded）およびそれに続いてビーム走査型装置（beam scanning apparatus）４８に向けられる。ビーム走査型装置４８は、レーザービーム３６の方向を変更するための一対のガルボ走査ミラー（galvo-scanning mirrors）５０を含む。レンズ５２（例えば、Ｆシータレンズ（F-theta lens）など）は、材料１２上に変向（changing- direction）レーザービーム３６を収束させ、それ自体はワークピース５４（例えば、移動ステージ（translation stage））上に据え付けられる。収束されたレーザービーム３６は、材料１２においてより高い強度を有し、および材料を修正するために使用され得る。レーザービーム３６の方向を変更することにより、位相値に対応する特徴を材料１２内にマッピングすることが可能である。修正プロセスは、少なくとも、使用される材料およびレーザーシステム３２の光学パラメータに依存する。任意の適当なレーザーベースのプロセス（laser-based process）は、必要に応じて材料を修正するために使用されてもよく、および選択される光学パラメータは、使用される材料の種類および／またはホログラフィック構造１４のための要件に依存してもよいことは理解されよう。
【０１１２】
本例において、レーザーシステム３２は、ホログラフィック構造を形成するように金属の表面にマークを適用するために使用される。本例において、レーザー３４は、波長３５５ｎｍで３５ｎｓの全幅半値（full-width half maximum）（ＦＷＨＭ）のレーザーパルスを生成するように構成される。レンズ５２は、レーザービーム３６を材料１２において１１±２μｍのＦＷＨＭビーム径（その最大強度の１／ｅ2で測定される）に収束させる。レーザーパルスは、例えば自動露出（point- and-shoot）操作の形態で、要求に応じて、材料１２上の、ある場所に送達される。１５，０００を超える特徴を含む１ｍｍ×１ｍｍのホログラフィック構造を生成するためにかかる時間は、７秒である。
【０１１３】
図４ａから図４ｄはそれぞれ、レーザーシステム３２を用いて修正された材料１２の表面５８内の特徴５６をより詳細に示す。本例における特徴５６は、略円形クレーター６０の形態をとり、その寸法は、レーザービーム３６のパルスエネルギーに依存する。図４ａから図４ｄは、それぞれ２．６μＪ、６．２μＪ、７．２μＪおよび１３．５μＪのパルスエネルギーによる、ステンレス鋼（本例においてＳＴ３０４ＬＤ）に形成されたクレーター６０を示す。参考までに、図４ａから図４ｄによって示される材料１２の部分の辺の寸法は、それぞれ、２４μｍ、２０μｍ、２０μｍおよび３０μｍである。クレーターは、また、ニッケル、真鍮、ニッケルクロムインコネル（Inconel）（登録総評）合金（例えば、インコネル６２５、インコネル７１８、およびインコネルＸ７５０、および同様のもの）のような他の金属、および同様のもののの表面に形成され得る。クレーターのような特徴は、ガラスのような他の材料内に形成され得る。ガラスの例において、ＣＯ2レーザーシステムは、ガラス内に特徴を形成するために使用され得る。しかしながら、適当なパラメータを選択することによってなされ得る、多くの異なるレーザーシステムおよび材料１２の選択があることは理解されよう。
【０１１４】
図の各々において、クレーター６０は、クレーター６０の中心６２が表面５８よりも低いレベルにあるように表面５８内に延びる。クレーター６０の縁部６４は、表面５８よりも高いレベルにある隆線（ridge）を画定する。クレーターの形成のプロセスは、多くのパラメータに依存するが、本例において、クレーター６０は、局在化された溶融または溶融および蒸発の組み合わせによって形成されると考えられる。他の種類の光−物質相互作用（例えば、溶融（melting）、アブレーション（ablation）、移動（moving）、堆積（depositing）、または材料の分布、再分布、修正などを引き起こす可能性がある任意の他の形態）は、クレーター６０および／または他の種類の特徴の形成をもたらすか、または少なくとも支配的であってもよいことは理解されよう。クレーター６０または他の種類の特徴の形成は、使用されるレーザーシステムの種類、材料種類、局所的条件、カバーガスの種類、および任意の他の関連するパラメータに依存することは理解されよう。
【０１１５】
所望の種類の特徴に応じて、例えば特許文献１に記載されるように、特徴の形成の間に材料内に高められた特徴または低められた特徴のいずれかを選択的に形成することが可能であってもよい。前に説明されたように、生成される特徴の種類は、多くのパラメータに依存する。高められた特徴の例は、突起、隆起部、突出部または表面から少なくとも部分的に外に延びる任意の他の特徴（例えば、材料など）を含む。低められた特徴の例は、キャビティ、クレーター、または表面内に少なくとも部分的に延びる任意の他の特徴（例えば、材料など）を含む。材料の屈折率を修正する工程は、材料の修正された部分の光学的長さを修正してもよい。
【０１１６】
図５ａから図５ｂそれぞれは、材料１２内に形成されたクレーター６０のマップ６６の隆起した視野画像、および材料１２内に形成されたクレーター６０の別のマップ６６の斜視図画像を示す。図５ｃは、クレーター６０のレベル（例えば、μｍ単位の高さ）を材料１２内における位置（例えば、ｍｍ単位の距離）の関数として示すグラフ６８を示す。各クレーター６０は、２５０ｎｍのおよその深さ（またはレベルの相対的な差）を有し、および光学的に滑らかであるとみなされ得る。図５ｃの例は、ステンレス鋼の表面における２レベルの（またはバイナリ）位相ホログラムを表す。表面５８とクレーター６０の中心６２との間の高さの違いは、表面５８から反射される放射線と中心６２から反射される放射線との間の相対的な位相遅延に寄与する。
【０１１７】
図６は、振幅ホログラムの基準（basis）として使用され得る材料の表面５８に形成された特徴５６の原子間力顕微鏡（atomic force microscopy）（ＡＦＭ）画像の斜視図である。本例において、特徴５６は、クレーター６０の形態である。しかしながら、クレーター６０の内面は、（例えば、不均一のまたは粗い表面を有することによって）成形されて、入射放射線の散乱を引き起こし、したがって、直接的に反射される光の振幅を低減させる。特徴は、クレーター６０を取り囲む表面５８よりも高度に散乱性または吸収性であってもよい。本例において、材料は、３０４グレードのステンレス鋼であり、および各特徴５６は、７０ｍＷの平均出力および４００ｋＨｚのパルス繰り返し周波数（pulse repetition frequency）を用いて、各々３４３ｎｍの波長で６ｐｓの持続期間を持つ８０のレーザーパルスによって生成されている
【０１１８】
図７は、図１に関して記載されるようなターゲット画像の複製を投影するための、矢印６１によって示されるような放射線を用いて照明される材料１２内のクレーター６０を示す。材料１２の表面５８およびクレーター６０を照明するための放射線６１は、矢印６３によって示されるように、同位相（in phase）である。本例において、クレーター６０は、矢印６５によって示されるようにクレーター６０から反射される放射線が、表面５８から反射される光と比較して、矢印６７によって示されるようにλ／２（すなわち、πラジアン）だけ位相６５から外れるように、四分の一波長λ／４（すなわち、π／２ラジアン）と同等である深さを有する。クレーター６０の存在は、遠方のフィールドに複製（図１参照）の形成を引き起こす。クレーター６０から反射される放射線と表面５８から反射される放射線との間の相対的な位相遅延（Δφ）と、クレーター６０の深さ（ｄ）と、の間の関係は、Δφ＝４πｄ／λによって定義される。位相変化（phase change）は０と２πによって束縛される（bounded）ので、２πよりも大きいまたは０未満の位相変化Δφに繋がる深さのいかなる変化も、ΔΦモジュロ２π（Δφmodulo2π）と同様の効果を有する。したがって、２πの位相遅延は、０、４π、および同様のものの位相遅延と同等である。
【０１１９】
図１から図７を参照して、図８は、材料１２を修正しおよび材料１２がマーキングされた後に材料１２の真正性を決定するための方法７０の略図である。方法７０の第１の部分７２において、材料１２は、ホログラフィック構造１４でマーキングされる。最初に、識別子７４、これは本例においてシリアル番号、部品ＩＤ（part ID)または番号の形態である、は、ホログラフィック構造１４のためのホログラム計算（hologram calculation）７６の一部としてデザインを計算または修正するために使用される。方法は、ホログラム計算７６の一部としてターゲット画像２２を投影するためのホログラフィック構造のためのデザインを計算する工程を含む。方法は、ターゲット画像２２を投影するためのホログラフィック構造１４の内部に識別子７４をコード化するためにデザインを修正する工程をさらに含み、これは、また、ホログラム計算７６の一部として行われてもよい。
【０１２０】
識別子７４は、修正されたデザイン内部に隠され、またはさもなければコード化される。例えば、識別子７４は、ホログラフィック構造１４が、デザインが隠されたコード７６を含まないターゲット画像の複製と区別できないかまたは少なくとも類似するターゲット画像２２の複製２０を投影するような方法で、修正されたデザイン内部に隠されたコード７８（シリアル番号、部品ＩＤもしくは番号、または部品ＩＤのシリアル番号に対して記録されたワンタイムパッドなどに由来してもよいような）の形態をとり得る。修正されたデザインにおける計算された位相値に対応する特徴は、材料１２内にレーザーマーキングされたパターンまたはホログラフィック構造１４を形成するためにレーザーシステム３２を用いることによって、材料１２内にマッピングされる。
【０１２１】
方法７０の第２の任意選択的な部分８０において、ユーザーは、図１に関連して概説される手順に従って、ホログラフィック構造１４の真正性の迅速な視覚照合（quick visual check）を行うことができる。第２の部分８０において、ターゲット画像２２の複製２０（例えば、投影されたパターン８１の形態）は、遠方のフィールドに投影される。投影されたパターン８１は、ユーザー（消費者のような）が材料１２の真正性の迅速な視覚照合８２を行うことができるように、隠されていない、シリアル番号、部品ＩＤなどを含んでいてもよい。迅速な視覚照合８２は、コピーすることが難しいが不可能ではないことは理解されよう。しかしながら、消費者または他のユーザーは、材料１２の真正性に関する基本的照合を迅速に行うことができてもよい。
【０１２２】
第３の部分８３において、認定されたユーザーは、材料１２の真正性を決定するためにホログラフィック構造１４を検査する。検査工程８４において、隠されたコード７８は、隠されたコード（例えば、これは、隠されたパターンの形態であってもよい）が秘密の関係によって識別子７４に対応するときに、隠されたコード７８の真正性の最終的照合（definitive check）８５を提供するように顕微鏡、位相差顕微鏡、または特殊化された機器などを用いることによって、決定される。方法７０は、検査されるホログラフィック構造１４を、ホログラフィック構造１４のために予期される特徴と比較する工程８６を含む。
【０１２３】
図９、１０、１２、１４および１５は、それぞれ、図１から図８に関して記載される特徴を参照しながら材料内にホログラフィック構造を形成する方法の略図を示す。
【０１２４】
図９は、材料１２にホログラフィック構造１４を形成するための例の方法９０を示す。方法９０は、ホログラフィック構造１４が、ホログラフィック構造１４の照明の下で、選択されたターゲット画像２２を遠方のフィールドに投影するように構成されるように、ターゲット画像２２を選択する工程９２を含む。方法９０は、ターゲット画像２２を投影するためのホログラフィック構造１４のためのデザイン２８を計算する工程９４をさらに含む。方法は、ホログラフィック構造１４内部に識別子（例えば、シリアル番号、固有のコード、部品番号、署名、ロゴ、画像、写真、名称、商標、コード、シンボル、文字のセット、ワンタイム入力、または任意の形態の識別子など）をコード化するためにデザイン２８を修正する工程９６をさらに含む。方法９０は、修正されたデザイン２８に対応する特徴を材料１２内にマッピングすることによって材料１２を修正する工程９８をさらに含む。
【０１２５】
図１０は、材料１２にホログラフィック構造１４を形成するための例の方法１００を示す。方法１００は、ホログラフィック構造１４が、ホログラフィック構造１４の照明の下で、選択されたターゲット画像２２を遠方のフィールドに投影するように構成されるように、ターゲット画像２２を選択する工程１０２を含む。方法１００は、ターゲット画像２２の複製を投影するためのホログラフィック構造１４のデザイン２８のための初期の推測を行う工程１０４をさらに含む。任意選択的に、方法１００は、デザイン２８のための特徴のマップを決定論的に生成するための初期シードに入る工程１０６を含む。初期シードの例は、例えば工程１０４の一部としてマップを決定論的に生成するための初期条件を決定するために使用されるシリアル番号などを含む。方法１００は、さらに、ターゲット画像２２を投影するためのホログラフィック構造１４内部に識別子をコード化するためにデザイン２８を修正するためにアルゴリズムの少なくとも１回の反復（at least one iteration）を行う工程１０８を含む。方法１００は、修正されたデザイン２８に対応する特徴を材料１２内にマッピングすることによって材料１２を修正する工程１１０をさらに含む。
【０１２６】
図１１は、その各々が例えば図１０の方法１００を用いて計算されてもよい１６の異なるコンピュータ生成ホログラム（ＣＧＨ）から構成されるホログラムデザイン２８を描く。明確性のために、図１１内のＣＧＨは、互いから間隔が空けられた個々のタイルとして描かれている。しかしながら、実際は、個々のタイルは、１６のＣＧＨを含む１つの単一のホログラムデザイン２８を形成するように４×４配列に結合（joined together）されていてもよい。異なるＣＧＨの各々は、同一のまたは非常に類似する複製２０を投影しまたは生成する（例えば、各ＣＧＨは、類似する回折像を投影しまたは生成する）。複製された画像は互いと区別できない（または、少なくとも、各ＣＧＨによって生成される複製２０間の違いを視覚的に識別することはユーザーにとって非常に困難である可能性がある）ので、ＣＧＨのシャッフル（Shuffling）および／または交換（swapping）は、複製２０の外観に影響を及ぼさない可能性がある。本例において、各ＣＧＨは、ＩＦＴＡにおいて異なる反復回数Ｎを用いてデザインされる。図１１によって描かれるように、各ＣＧＨを生成するために使用される反復回数Ｎは、１００回から４７５回の反復の間である（各後続の（subsequent）ＣＧＨ間において２５回の反復によって分けられる）。初期シードは、全１６のＣＧＨをデザインする工程に対して同一であった（例えば、初期位相値は、ゼロを含んでいた）。図１１は、また、Ｎ＝１５０、２７５、３２５および４７５の反復をそれぞれ表すＣＧＨによって生成される４つの複製２０を描く。ＣＧＨは、同様の複製２０を投影または生成するのに十分に類似している。しかしながら、材料１２のホログラフィック構造１４上にマッピングされるときに、１６のＣＧＨ間には、関連する製品が本物であることをホログラムデザイン２８内のＣＧＨのパターンが示すか否かを決定するために検査され得る微妙な（subtle）違いがある。
【０１２７】
図１２は、材料１２にホログラフィック構造１４を形成するための例の方法１２０を示す。方法１２０は、ホログラフィック構造１４が、ホログラフィック構造１４の照明の下で、選択されたターゲット画像２２を遠方のフィールドに投影するように構成されるように、ターゲット画像２２を選択する工程１２２を含む。方法１２０は、ターゲット画像２２を投影するためのホログラフィック構造１４のためのデザイン２８を計算する工程１２４をさらに含む。方法１２０は、デザイン２８を修正するために、デザイン２８の少なくとも１つの部分を選択しおよびその少なくとも１つの部分をデザイン２８の少なくとも１つの他の部分と交換する工程１２６をさらに含む。方法１２０は、修正されたデザイン２８に対応する特徴を材料１２内にマッピングすることによって材料１２を修正する工程１２８をさらに含む。
【０１２８】
図１３ａから図１３ｃは、同一のまたはほぼ同一の複製２０（右の画像）を形成するためにパターン（左の画像）内に配置される１６のＣＧＨを用いて構成されるホログラムデザイン２８（中心画像）の異なる例を描く。図１３ａは、１６の同一のＣＧＨ（各ＣＧＨは、番号「１６」として参照される）を用いて、例えば図１０の方法１００を用いて構成されるホログラムデザイン２８を描く。各ＣＧＨの参照番号は、例えば、ＣＧＨを生成するために使用される反復回数に言及していてもよい。図１３ｂは、１６の異なるＣＧＨ（ＣＧＨの各々は、「１」から「１６」の異なる参照番号を有する）を用いて、例えば図１１の例を参照して図１０の方法１００を用いて構成される代替的なホログラムデザイン２８を描く。図１３ｃは、図１３ｂ内と同一のＣＧＨを用いて構成される代替的なホログラムデザイン２８を描く。しかしながら、ＣＧＨは、例えば、図１２の方法１２０を用いて、左の画像のパターン内に描かれるようにシャッフルされている。図１３ａ、図１３ｂおよび図１３ｃのデザイン２８を用いて投影される複製２０は、区別できない（またはユーザーにとって視覚的に識別することは少なくとも困難である）。
【０１２９】
図１４は、材料１２にホログラフィック構造１４を形成するための例の方法１３０を示す。方法１３０は、ホログラフィック構造１４が、ホログラフィック構造１４の照明の下で、選択されたターゲット画像２２を遠方のフィールドに投影するように構成されるように、ターゲット画像２２を選択する工程１３２を含む。方法１３０は、ターゲット画像２２を投影するためのホログラフィック構造１４のためのデザイン２８を計算する工程１３４をさらに含む。方法１３０は、デザイン２８を修正するために、少なくとも１つの特徴のための初期位相値と同等である、デザインの少なくとも１つの特徴のための異なる位相値を選択する工程１３６をさらに含む。方法１３０は、デザイン２８の計算および／または修正が、初期位相値と異なる位相値との間の相対的な差はｍ≧１（「ｍ」はプラス１より大きいかまたはプラス１と等しい）またはｍ＜−１（「ｍ」は、マイナス１より小さいかまたはマイナス１と等しい）の整数値に関して２πｍ（２×パイ（pi）×ｍ）である、デザイン２８をもたらす工程１３８をさらに含む。方法１３０は、修正されたデザイン２８に対応する特徴を材料１２内にマッピングすることによって材料１２を修正する工程１４０をさらに含む。
【０１３０】
図１５は、材料１２にマルチレベルのホログラフィック構造１４を形成するための例の方法１５０を示す。方法１５０は、ホログラフィック構造１４が、ホログラフィック構造１４の照明の下で、選択されたターゲット画像２２を遠方のフィールドに投影するように構成されるように、ターゲット画像２２を選択する工程１５２を含む。方法１５０は、ターゲット画像２２を投影するためのホログラフィック構造１４のためのデザイン２８を計算する工程１５４をさらに含む。工程１５４において、デザイン２８を計算する工程は、ターゲット画像２２の複製２０を投影するための位相値および／または振幅値のマップを計算する工程を含み、デザイン２８の各特徴は、位相値および／または振幅値のうちの１つに対応する。方法１５０は、マップの特徴のうちの少なくとも１つを選択するために識別子を使用し、および特徴（１つまたは複数）に、デザイン２８の特徴（１つまたは複数）の元の位相値と同等である、少なくとも１つの異なる位相値を割り当てることによって、デザインを修正する工程１５６をさらに含む。方法１５０は、修正されたデザイン２８に対応する特徴を材料１２内にマッピングすることによって材料１２を修正する工程１５８をさらに含む。特徴は、レベルまたは位相値の形態であってもよく、または位相応答を提供してもよい。付加的にまたは代替的に、特徴は、振幅値の形態であってもよく、または振幅応答を提供してもよい。例えば、特徴の少なくとも１つまたは全ては、ホログラフィック構造１４によって反射されおよび／または透過される（transmitted）入射放射線（例えば、特徴（１つまたは複数）において）に位相遅延を与えるために使用されてもよい。付加的にまたは代替的に、特徴の少なくとも１つまたは全ては、ホログラフィック構造１４によって反射されおよび／または透過される入射放射線に振幅応答（例えば、特徴（１つまたは複数）において）を与えるために使用されてもよい。ホログラフィック構造１４は、位相限定応答（phase-only response）（これは、位相ホログラムとして言及されてもよい）、振幅限定応答（amplitude-only response）（これは、振幅ホログラムとして言及されてもよい）、または位相および振幅応答（これは、位相振幅ホログラムとして言及されてもよい）を提供する特徴を含んでいてもよい。
【０１３１】
例において、方法１５０は、マップがホログラフィック構造１４の位相値またはレベルを定義する特徴を含むようにデザイン２８を修正する。図１６ａによって示される例を参照して、２レベルのホログラフィック構造を含むホログラフィック構造１４によって投影された複製１６０が示される。２レベルのホログラフィック構造１４は、鏡のような（mirror-like）画像が投影されるように、遠方のフィールドに「二重像」または「−１次回折画像（-1st diffraction order image）」の突出部をもたらす。また、図１６ｂによって示される例を参照して、３レベルのホログラムを含むホログラフィック構造１４によって投影される複製１６２が示される。３レベルのホログラフィック構造１４は、ホログラフィック構造の対称性を破り、それによって、「二重像」の形成を抑制し、これは、図１６ａおよび図１６ｂを比較することによって観察され得る。代替的にまたは付加的に、ホログラフィック構造１４内に１つを超える振幅値またはレベルを定義することが可能であってもよい。１つを超える振幅値（例えば、３レベルの振幅ホログラムの形態など）を含むそのようなホログラフィック構造１４において、「二重像」の形成を抑制することが可能であってもよい。
【０１３２】
２レベルの複製１６０は、ホログラフィック構造１４の特徴のための２つの可能な公称位相値および／または振幅値を含む。例として、これら２つの位相値は、０ラジアン（例えば、材料の表面レベルに対応する）およびπラジアン（例えば、クレーター６０、または任意の他の適当な特徴に対応する）、または実に任意の他の適当な位相値であり得る。
【０１３３】
３レベルの複製１６２は、ホログラフィック構造１４の特徴のための３つの可能な公称位相値および／または振幅値を含む。例として、これら３つの位相値は、０ラジアン（例えば、材料の表面レベルに対応する）、２π／３ラジアン（例えば、クレーター６０、または材料の表面内に延びる任意の他の適当な特徴に対応する）、および−２π／３ラジアン（例えば、隆起部（不図示）、または材料の表面から外に延びる任意の他の適当な特徴などに対応する)であり得る。別の例において、３つの可能な位相値は、０ラジアン、２π／３ラジアン（例えば、ある深さおよび幅のクレーター６０に対応する）、および４π／３ラジアン（例えば、相対的により深いおよび／またはより幅の広いクレーターに対応するクレーター６０）である。前述されたように、３レベルのホログラフィック構造１４の複製１６２は、遠方のフィールドに抑制された「二重像」を含む。コピーするのがより困難である可能性のある３レベル（またはそれより高い）ホログラフィック構造１４を形成するために、プロセス微調整が必要とされる可能性がある。図１に関して記載される迅速な視覚照合を提供することにより、ユーザーは、材料１２が本物であることを示すことのできる、「二重像」の何らかの抑制（suppression）のための遠方のフィールドに投影される複製１６２を視覚的に検査することによって、真正材料１２を識別することができてもよい。
【０１３４】
図１７は、複数のタイル表示されたＣＧＨ（例えば、タイル表示されたＣＧＨのセット）を含むホログラムデザイン２８を描く。本例において、パターンを形成するように配置されるＣＧＨの２つのサブセットがある（本例において、パターンは、「ＨＩ」のレタリングの形態である）。任意の適当なパターンは、代替的な実施形態、例えば、透かしなどにおいて使用されてもよい。第１のサブホログラム（またはＣＧＨ）は、「＃１」と表示され、およびデザイン２８の背景を形成する。第２のサブホログラム（またはＣＧＨ）は、「＃２」と表示され、およびレタリングを形成する。任意の適当なパターンが設けられ得る。サブホログラム＃１および＃２は、実質的に同一の画像をを生成することができるが、異なる特質（例えば、同一の初期シードを用いるが、ＩＦＴＡアルゴリズムで各々異なる反復回数を用いて生成される、など）を有していてもよい。付加的にまたは代替的に、サブホログラム＃１および＃２は、同一のまたは同様のホログラムを、しかし異なる配向で（例えば、投影される画像は、互いに垂直であってもよいなど）、生成するように構成されてもよい。異なるデザインおよび／またはパターニングを備えるＣＧＨまたはサブホログラムのセットを提供することにより、一貫して複製するのが困難であってもよい。
【０１３５】
図１８は、パターン化されたホログラフィック構造を生成するためのデザイン２８ｂを生成するために別のパターン（本例において、ＱＲコード（登録商標）デザイン２９、しかし、それは、透かし、バーコードまたは他のパターンであり得る）と組み合わせられたホログラムデザイン２８ａを示す。本例における組み合わせは、ＱＲコード（登録商標）デザイン２９内部の異なる位置における振幅値（例えば、１または０）をホログラムデザイン２８ａの対応する位置と掛け合わせることによって実施される。パターン化されたホログラフィック構造は、本明細書中に記載されるように製品の真正性を照合するために使用されるだけでなく、ＱＲコード（登録商標）の機能の機能性を提供することができる。パターン化されたホログラフィック構造を提供することにより、一貫して複製することが困難であってもよい。
【０１３６】
図１９は、材料１２内にホログラフィック構造１４を形成するためのシステム１７０を示す。システム１７０は、ホログラフィック構造１４のためのデザイン２８を修正するために本明細書に記載される任意の例による方法を実行するための制御システム１７２を含む。制御システム１７２は、制御システム１７２の処理システムまたは制御ユニット１７４によって実行されるときに処理システムまたは制御ユニット１７４に特許請求の範囲に記載されまたは本明細書中に記載されるような方法を少なくとも部分的に実施させるコンピュータプログラム製品を含んでいてもよくまたはその形態であってもよい。システム１７０は、デザイン２８による材料１２を修正するめのレーザーシステム１７６をさらに含む。制御システム１７２は、レーザーシステム１７２を制御するために操作可能であり、これは、本例において、材料１２がデザイン２８によるホログラフィック構造１４を含むように修正されるように、図３に関して記載されるレーザーシステム３２を含む。
【０１３７】
図２０は、システム１７０または任意の他の適当なシステムによって形成されるホログラフィック構造１４を含む材料１２の真正性を決定するためのシステム１８０を示す。システム１８０は、材料１２内のホログラフィック構造１４のデザイン２８を検査するための検査システム１８２を含む。検査システム１８２は、顕微鏡、位相差顕微鏡、白色光干渉計、触針式表面形状測定装置、原子間力顕微鏡などを含んでいてもよい。システム１８０は、検査されたデザイン２８を予期されるデザインと比較するための比較システム１８４をさらに含む。検査が、材料１２内のホログラフィック構造１４が予期されるデザイン（例えば、識別子７４に基づいて製造業者、販売業者または修理業者のような認定されたユーザーによって知られまたは計算されるデザイン）と一致しない特徴（例えば、クレーターおよび／または隆起部など）を含むことを明らかにした場合、次いで、材料１２は、偽ものであるとして識別されてもよく、または少なくともさらなる調査を促してもよい。任意選択的に、システム１８０は、認定されたユーザーが予期されるデザインを計算するためにホログラフィック構造１４のためのデザイン２８を修正するために本明細書に記載される任意の例による方法を実行するための図１９の制御システム１７２を含んでいてもよい。
【０１３８】
比較システム１８４は、処理システムまたは制御ユニット１８６によって実行されるときに比較システム１８４が処理システムまたは制御ユニット１８６に特許請求の範囲に記載されまたは本明細書中に記載されるような方法を少なくとも部分的に実施させるコンピュータプログラム製品を含んでいてもよくまたはその形態であってもよい。比較システム１８４は、検査システム１８２がホログラフィック構造１４を検査しおよびホログラフィック構造１４に関する情報を比較システム１８４に送信し得るように、例えば制御ユニット１８６を介して、検査システム１８２を制御しまたは検査システム１８２と相互作用するように操作可能であってもよい。
【０１３９】
位相値の任意の組み合わせは、ポジ（positive）および／またはネガ（negative）(例えば低められた特徴または高められた特徴などに対応する)であろうとなかろうと、特徴のマップを創り出すために使用され得ることは理解されよう。また、ホログラフィック構造における任意の数のレベル、例えば、２、３、４またはそれより多いレベルなどが存在し得ることは理解されよう。
【０１４０】
位相応答を生成する特徴は、付加的にまたは代替的に、振幅応答を生成する特徴を含んでいてもよいことは理解されよう。例えば、本明細書中に記載される任意の適当な例は、位相限定、振幅限定、または位相および振幅ホログラムの形態であるように、実施され、修正され、またはさもなければ適合されてもよい。例えば、位相限定ホログラムへの任意の個々の参照は、振幅限定ホログラム、または位相および振幅ホログラムの形態であるように実施され、修正されまたは適合されてもよい。振幅への任意の参照は、また、強度を参照してもよい。例えば、振幅ホログラムは、強度ホログラムとして参照されてもよい。
【０１４１】
適切な場合には、デザイン、例えば、本明細書に記載されるデザイン２８への任意の参照は、コンピュータ生成されたホログラム（ＣＧＨ）を参照してもよく、またはその逆も同様である。デザインおよび／またはＣＧＨは、例えば、材料１２を修正するためのレーザーシステム１７６または任意の他の適当なシステムを使用してホログラフィック構造１４の形態で実施されてもよい。適切な場合には、複製２０への任意の参照は、スクリーン２４上に形成されまたは遠方のフィールドに投影されるホログラムおよび／または回折像および／または画像を参照してもよい。適切な場合には、ターゲット画像２２は、投影されることが予期される複製２０を代表するコンピュータ生成された画像またはＣＧＨを参照してもよい。当業者は、適切な場合には、任意のこれらの用語への参照は、異なる文脈において修正されまたは使用されてもよいことを理解するであろう。
【０１４２】
本開示の任意の例の少なくとも１つの特徴は、修正され、任意の他の例と組み合わされ、またはさもなければ任意の適当な方法で適合されてもよい。本開示の例は、ホログラフィック構造１４を含む材料１２を参照するが、材料１２が、製品、包装（packaging）、ラベルなどのような任意の物品を含んでもよくまたはその形態であってもよいことは理解されよう。
【０１４３】
本開示の例は、材料１２の表面５８を修正するためのレーザーベースのプロセスを示しおよび説明するが、材料１２または製品の内部（internal part）が、使用される材料１２（またはその表面）の透明性（transparency）に依存してもよい適当なレーザーベースのプロセスを用いて修正されてもよいことは理解されよう。
【０１４４】
本開示の例は、例えば、ホログラフィック構造の表面からのレーザービームを反射することによってホログラフィック構造によって投影される複製の単純な視覚的照合を説明するが、同様の原理は、例えばホログラフィック構造を含む透明な材料のための遠方のフィールドにおける複製の透過ベースの視覚的照合のために適用されてもよいことは理解されよう。このようにして、ホログラフィック構造を通して透過される放射線は、ホログラフィック構造からの反射によって投影される複製の代わりに（またはそれだけではなく）、遠方のフィールドにターゲット画像の複製を形成してもよい。
【０１４５】
本開示の例は、ターゲット画像の複製を投影するための放射線を反射するためのホログラフィック構造を説明するが、ホログラフィック構造は、画像の複製を投影するために放射線を透過してもよいことは理解されよう。ホログラフィック構造は、少なくとも部分的に透明であってもよく、これは、入射放射線が、ターゲット画像の複製を投影するためにホログラフィック構造を通して透過されることを可能にしてもよい。ある量の放射線は、透過されるだけでなく、反射されてもよいことは理解されよう。
【０１４６】
本開示の例は、様々なシステム（例えば、システム１７０および１８０など）を説明するが、そのようなシステムは、本開示の任意の例の少なくとも１つの特徴または要素を含む装置、本開示の任意の例の少なくとも１つの特徴または要素を含む方法、本開示の少なくとも１つの方法を実施するための装置などのうちの少なくとも１つに関連するかまたはそれを含んでもよいことは理解されよう。
【０１４７】
本開示の例は、主に、ホログラフィックデザインを位相値のマップとして表すための様々なシステムを説明するが、技術は、ホログラフィックデザインを、振幅値、またはさらに位相および振幅値の組み合わせのマップとして表すために、全体的に（entirely）類似的に（analogously）拡張され得ることは理解されよう。
【０１４８】
例えば、位相値または相対的な位相値が、屈折率値または屈折率値の差によって、または光学的長さまたは光学的長さの差によって表されてもよい場合には、振幅値または相対的な振幅値は、表面の散乱もしくは吸収またはこれらの組み合わせの差によって表されてもよい。この方法において、同様の振幅ホログラムは、上述される位相を、πの位相が例えば黒に対応しおよびゼロの位相が例えば白に対応するグレースケールと置き換えることによって、生成され得る。そのようなグレースケールマップは、次いで、吸収または散乱領域を生成することによって製品上にコード化され得る。
【０１４９】
振幅ホログラムの例は、その内容は、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる非特許文献６に記載されている。
【図１】
2020537769.tif 000003
【図２】
2020537769.tif 000004
【図３】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
2020537769.tif 000007
【図４ｃ】
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【図４ｄ】
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【図５ａ】
2020537769.tif 000010
【図５ｂ】
2020537769.tif 000011
【図５ｃ】
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【図６】
2020537769.tif 000013
【図７】
2020537769.tif 000014
【図８】
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【図９】
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【図１０】
2020537769.tif 000017
【図１１】
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【図１２】
2020537769.tif 000019
【図１３ａ】
2020537769.tif 000020
【図１３ｂ】
2020537769.tif 000021
【図１３ｃ】
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【図１４】
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【図１５】
2020537769.tif 000024
【図１６ａ】
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【図１６ｂ】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
2020537769.tif 000030
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月2日(2020.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３６】
図１９は、材料１２内にホログラフィック構造１４を形成するためのシステム１７０を示す。システム１７０は、ホログラフィック構造１４のためのデザイン２８を修正するために本明細書に記載される任意の例による方法を実行するための制御システム１７２を含む。制御システム１７２は、制御システム１７２の処理システムまたは制御ユニット１７４によって実行されるときに処理システムまたは制御ユニット１７４に特許請求の範囲に記載されまたは本明細書中に記載されるような方法を少なくとも部分的に実施させるコンピュータプログラム製品を含んでいてもよくまたはその形態であってもよい。システム１７０は、デザイン２８による材料１２を修正するめのレーザーシステム１７６をさらに含む。制御システム１７２は、レーザーシステム１７６を制御するために操作可能であり、これは、本例において、材料１２がデザイン２８によるホログラフィック構造１４を含むように修正されるように、図３に関して記載されるレーザーシステム３２を含む。
【国際調査報告】
2020537769.tif 000031
2020537769.tif 000032
2020537769.tif 000033