(57)【要約】  カプセルコンパートメントおよび圧力印加要素を備えたネイルポリッシュ塗布装置により使用されるネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルであって、ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する容器であって、開口が摺動ガスケットで封止された上面と、下面と、を備え、圧力印加により摺動ガスケットが下面に向けて摺動した場合に、リザーバの容積が小さくなり、リザーバの内圧が高くなる、容器と、容器を受容して収容するように形状設定された本体部と、本体部の下側に機械的に固定された近位端を有する１つまたは複数の搬送トンネルと、搬送トンネルの遠位端からネイルポリッシュ液を受け取り、ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するように取り付けられたネイルポリッシュ塗布要素と、を備えた容器ハウジングと、を備えた、カプセルである。【選択図】  図１Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
カプセルコンパートメントおよび圧力印加要素を備えたネイルポリッシュ塗布装置により使用されるネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルであって、
ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する容器であって、
開口が摺動ガスケットで封止された上面と、
下面と、
を備え、圧力印加により前記摺動ガスケットが前記下面側に摺動した場合に、前記リザーバの容積が小さくなり、前記リザーバの内圧が高くなる、容器と、
前記容器を受容して収容するようにサイズ設定および形状設定された本体部と、
前記本体部の下側に機械的に固定された近位端を有する少なくとも１つの搬送トンネルと、
前記少なくとも１つの搬送トンネルの遠位端から前記ネイルポリッシュ液を受け取り、前記ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するように取り付けられたネイルポリッシュ塗布要素と、
を備えた容器ハウジングと、
を備えた、カプセル。
【請求項２】
前記容器が前記容器ハウジングから分離して設けられたキットとして提供された、請求項１に記載のカプセル。
【請求項３】
前記ネイルポリッシュ液が、ネイルポリッシュ液、ベースコート液、トップコート液、乾燥材料、ネイルアートポリッシュ液、および医療用ネイルトリートメント液から成る群から選択される１つである、請求項１に記載のカプセル。
【請求項４】
前記爪表面が、人間の手指の爪表面および人間の足指の爪表面から成る群の１つである、請求項１に記載のカプセル。
【請求項５】
前記容器が、気密封止された、請求項１に記載のカプセル。
【請求項６】
前記本体部が、前記容器を受容するチャンバを形成する逆さになったカップ形状の本体として構成された、請求項１に記載のカプセル。
【請求項７】
前記本体部に、前記本体部の上端周りのフランジ状リムが構成された、請求項１に記載のカプセル。
【請求項８】
前記圧力印加の結果としての前記内圧により前記下面が破砕された場合に、前記ネイルポリッシュ液が、前記容器から前記本体部へと解放される、請求項１に記載のカプセル。
【請求項９】
前記下面が、前記下面の脆弱表面で破砕され、前記脆弱表面は、前記内圧により自動的に破られる、請求項８に記載のカプセル。
【請求項１０】
前記下面に位置付けられた弁であって、前記弁が閉鎖される第１の状態および前記弁が開放される第２の状態を有する弁を開放することによって前記下面が破砕され、前記弁が、前記内圧下で前記第１の状態から前記第２の状態へ自動的に遷移する、請求項８に記載のカプセル。
【請求項１１】
前記下面が、前記本体部の内側に位置付けられた少なくとも１つの内部貫通要素によって破砕され、前記圧力印加により前記本体部において前記容器が前記本体部の下側に向かって下方摺動した場合に、前記内部貫通要素が、前記容器を貫通する、請求項８に記載のカプセル。
【請求項１２】
前記下面が、前記カプセルから分離された少なくとも１つの外部貫通要素によって破砕される、請求項１に記載のカプセル。
【請求項１３】
前記容器を収容する前記本体部の上側を封止する上部シールをさらに備え、前記上部シールが、前記圧力印加によって破壊される、請求項１に記載のカプセル。
【請求項１４】
前記本体部の円周方向側壁部と前記容器の円周方向側壁部との間に配設された少なくとも１つの円周方向封止要素をさらに備えた、請求項１に記載のカプセル。
【請求項１５】
前記本体部が、前記圧力が印加された場合に前記容器を静止位置に係止するように構成された停止要素をさらに備えた、請求項１に記載のカプセル。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの搬送トンネルを通る前記ネイルポリッシュ液の流量を制御する動的調節可能シャッターをさらに備えた、請求項１に記載のカプセル。
【請求項１７】
前記ネイルポリッシュ塗布要素が、複数の毛束、弾性管、中実パイプ、スポンジ、ワイパー、およびこれらのうちの少なくとも２つの組み合わせから成る群の少なくとも１つを備えた、請求項１に記載のカプセル。
【請求項１８】
前記中実パイプが、前記ネイルポリッシュ液を注射針のネイルポリッシュ塗布先端に搬送する中空内部トンネルを有する前記注射針として形状設定された、請求項１７に記載のカプセル。
【請求項１９】
前記内部トンネルの直径が、０．１ｍｍ〜３ｍｍの範囲であり、前記注射針の外径、前記ネイルポリッシュ液の粘度、および前記先端と前記爪表面との間隙から成る群の１つである少なくとも１つのネイルポリッシュ塗布パラメータに従って適応された、請求項１８に記載のカプセル。
【請求項２０】
前記少なくとも１つの搬送トンネルが、前記少なくとも１つの搬送トンネルの遠位端に位置付けられた少なくとも１つの噴霧出口を含む、請求項１に記載のカプセル。
【請求項２１】
前記少なくとも１つの搬送トンネルが、細長ストリップとして構成された、請求項１に記載のカプセル。
【請求項２２】
前記ネイルポリッシュ塗布要素が、前記少なくとも１つの搬送トンネルの垂直軸と一致して取り付けられた、請求項１に記載のカプセル。
【請求項２３】
前記ネイルポリッシュ塗布要素が、前記少なくとも１つの搬送トンネルの垂直軸に対して傾いた位置に取り付けられた、請求項１に記載のカプセル。
【請求項２４】
少なくとも前記ネイルポリッシュ塗布要素上に配置された取り外し可能なカバーをさらに備えた、請求項１に記載のカプセル。
【請求項２５】
前記リザーバが、１〜２０の範囲の個数の爪表面に対する前記ネイルポリッシュ液の１回の塗布に十分な量の前記ネイルポリッシュ液を含むように構成された、請求項１に記載のカプセル。
【請求項２６】
前記リザーバの内側に配設され、前記容器が振られた場合に前記ネイルポリッシュ液を撹拌する少なくとも１つの撹拌物体をさらに備えた、請求項１に記載のカプセル。
【請求項２７】
前記リザーバが、前記リザーバに画定された別個のチャンバに含まれる少なくとも２種類の前記ネイルポリッシュ液を含み、前記少なくとも２種類の前記ネイルポリッシュ液が、前記容器から解放された後、前記本体部において混ざり合う、請求項１に記載のカプセル。
【請求項２８】
カプセルコンパートメントおよび圧力印加要素を備えたネイルポリッシュ塗布装置により使用されるネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルであって、
ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する本体部であって、開口が摺動ガスケットで封止された上面を有する、本体部と、
前記本体部の下側に機械的に固定された近位端を有する少なくとも１つの搬送トンネルと、
前記少なくとも１つの搬送トンネルの遠位端から前記ネイルポリッシュ液を受け取り、前記ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するように取り付けられたネイルポリッシュ塗布要素と、
を備え、
圧力印加により前記摺動ガスケットが前記下側に向けて摺動した場合に、前記リザーバの容積が小さくなり、前記リザーバの内圧が高くなる、カプセル。
【請求項２９】
前記本体部が、気密封止された、請求項２８に記載のカプセル。
【請求項３０】
前記ネイルポリッシュが、前記カプセルから分離された少なくとも１つの外部貫通要素により貫通された少なくとも１つの開口を通じて、前記リザーバから前記少なくとも１つの搬送トンネルへと解放され、前記少なくとも１つの開口が、前記本体部の下側および前記少なくとも１つの搬送トンネルの内側の一方に貫通された、請求項２８に記載のカプセル。
【請求項３１】
前記ネイルポリッシュが、前記内圧により開放された少なくとも１つの開口を通じて、前記リザーバから前記少なくとも１つの搬送トンネルへと解放され、前記少なくとも１つの開口が、前記本体部の下側および前記少なくとも１つの搬送トンネルの内側の少なくとも一方に位置付けられた、請求項３０に記載のカプセル。
【請求項３２】
前記少なくとも１つの開口が、前記内圧により自動的に破られる脆弱表面として利用される、請求項３１に記載のカプセル。
【請求項３３】
前記少なくとも１つの開口が、閉鎖される第１の状態および開放される第２の状態を有する弁によって利用され、前記弁が、前記内圧により前記第１の状態から前記第２の状態へ自動的に遷移する、請求項３１に記載のカプセル。
【請求項３４】
前記ネイルポリッシュが、前記少なくとも１つの搬送トンネルの内側に配設されて前記ネイルポリッシュ液を含む内部脆弱表面を破壊することにより前記リザーバから解放され、前記少なくとも１つの搬送トンネルを流れ、前記内部脆弱表面は、前記少なくとも１つの搬送トンネルを変形させる外圧によって破壊される、請求項２８に記載のカプセル。
【請求項３５】
前記リザーバが、前記本体部の一部を占有し、前記リザーバの少なくとも１つの面が、前記本体部の内側に配設された膜表面により画定され、
前記膜表面が、前記本体部の内側に位置付けられた少なくとも１つの内部貫通要素によって破砕され、前記内圧により前記膜表面が前記少なくとも１つの内部貫通要素を押圧する場合に、前記内部貫通要素が、前記膜表面を貫通する、請求項２８に記載のカプセル。
【請求項３６】
前記ネイルポリッシュ液が、前記本体部の内側に配設された内側容器に含まれ、前記内圧が、前記内側容器を破砕することにより前記ネイルポリッシュ液を前記本体部へと解放する、請求項２８に記載のカプセル。
【請求項３７】
前記内側容器が、前記内側容器の脆弱表面で破砕され、前記脆弱表面は、前記内圧により自動的に破られる、請求項３６に記載のカプセル。
【請求項３８】
前記内側容器が、少なくとも１つの貫通要素によって破砕され、前記少なくとも１つの貫通要素が、前記本体部の内側に位置付けられた内部貫通要素および前記カプセルから分離された外部貫通要素から成る群の１つである、請求項３７に記載のカプセル。
【請求項３９】
前記本体部の内側に配設され、前記カプセルが振られた場合に前記ネイルポリッシュ液を撹拌する少なくとも１つの撹拌物体をさらに備えた、請求項２８に記載のカプセル。
【請求項４０】
前記本体部が、前記本体部中の別個のチャンバに含まれる少なくとも２種類の前記ネイルポリッシュ液を含み、前記少なくとも２種類の前記ネイルポリッシュ液が、前記別個のチャンバから解放された後に混ざり合う、請求項２８に記載のカプセル。
【請求項４１】
前記摺動ガスケットが、誘導磁場に反応して前記圧力を印加する少なくとも１つの磁気要素を含み、前記反応が、引力および反発力から成る群の１つである、請求項２８に記載のカプセル。
【請求項４２】
カプセルコンパートメントおよび圧力印加要素を備えたネイルポリッシュ塗布装置により使用されるネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルであって、
ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する本体部であって、前記本体部の少なくとも１つの高弾性面が前記本体部の他の面の弾性係数よりも大きな弾性係数を有し、前記少なくとも１つの高弾性面が上面、下面、および円周方向側面から成る群の１つである、本体部と、
前記本体部の下側に機械的に固定された近位端を有する少なくとも１つの搬送トンネルと、
前記少なくとも１つの搬送トンネルの遠位端から前記ネイルポリッシュ液を受け取り、前記ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するように取り付けられたネイルポリッシュ塗布要素と、
を備え、
前記他の面のうちの少なくとも１つへの圧力印加により前記少なくとも１つの高弾性面が折れ曲がることによって前記本体部が変形した場合に、前記リザーバの容積が小さくなり、前記リザーバの内圧が高くなる、カプセル。
【請求項４３】
カプセルコンパートメントおよび圧力印加要素を備えたネイルポリッシュ塗布装置により使用されるネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルであって、
ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する本体部であって、前記本体部の中心軸周りに配設された少なくとも１つの環状のひだで構成された円周方向側壁部を有する管状本体部として構成された、本体部と、
前記本体部の下側に機械的に固定された近位端を有する少なくとも１つの搬送トンネルと、
前記少なくとも１つの搬送トンネルの遠位端から前記ネイルポリッシュ液を受け取り、前記ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するように取り付けられたネイルポリッシュ塗布要素と、
を備え、
前記本体部の上面への圧力印加により前記少なくとも１つのひだが折れ曲がった場合に、前記リザーバの容積が小さくなり、前記リザーバの内圧が高くなる、カプセル。
【請求項４４】
カプセルコンパートメントおよび圧力印加要素を備えたネイルポリッシュ塗布装置により使用されるネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルであって、
ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する本体部と、
前記本体部の下側に機械的に固定された近位端を有する少なくとも１つの搬送トンネルであって、前記少なくとも１つの搬送トンネルの少なくとも１つの長手方向面の少なくとも一部が蠕動ポンプにより印加される圧力下で折れ曲がるように構成された高い弾性係数を有する、少なくとも１つの搬送トンネルと、
前記少なくとも１つの搬送トンネルの遠位端から前記ネイルポリッシュ液を受け取り、前記ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するように取り付けられたネイルポリッシュ塗布要素と、
を備え、
前記少なくとも１つの搬送トンネルにおいて前記蠕動ポンプにより変位運動が誘発された場合に、前記リザーバの容積が小さくなり、前記リザーバの内圧が高くなる、カプセル。
【請求項４５】
高い弾性係数を有する前記本体部の少なくとも１つの面が、前記変位運動の結果として折れ曲がることにより、前記容積が小さくなる、請求項４４に記載のカプセル。
【請求項４６】
少なくとも１つの開口が前記本体部に貫通されて、前記変位運動により前記本体部から押し出されたネイルポリッシュ液を空気で置き換え可能となる、請求項４４に記載のカプセル。
【請求項４７】
カプセルコンパートメントおよび圧力印加要素を備えたネイルポリッシュ塗布装置により使用されるネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルであって、
ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する本体部と、
前記本体部の下側に機械的に固定された近位端を有する少なくとも１つの搬送トンネルと、
前記少なくとも１つの搬送トンネルの遠位端から前記ネイルポリッシュ液を受け取り、前記ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するように取り付けられたネイルポリッシュ塗布要素と、
を備え、
前記本体部に貫通された少なくとも１つの開口を通じて前記本体部に高圧で注入される圧縮材料によって、前記リザーバの内圧が高くなる、カプセル。
【請求項４８】
前記圧縮材料が、気体および液体から成る群の１つである、請求項４７に記載のカプセル。
【請求項４９】
ネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルを製造する方法であって、
ネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する本体部を作製することと、
少なくとも１つの搬送トンネルを有する吐出ノズルを作製することと、
ネイルポリッシュ塗布要素を作製することと、
前記吐出ノズルの近位端を前記本体部の下側に機械的に結合することと、
前記ネイルポリッシュ塗布要素を前記吐出ノズルの遠位端に機械的に結合することと、
前記ネイルポリッシュ液を前記本体部に挿入することと、
前記本体部を封止することと、
を含む、方法。
【請求項５０】
前記本体部および前記吐出ノズルが、単一の部品として作製される、請求項４９に記載の方法。
【請求項５１】
前記本体部、前記吐出ノズル、および前記ネイルポリッシュ塗布要素が、単一の部品として作製される、請求項４９に記載の方法。
【請求項５２】
前記本体部が、少なくとも１つの材料から作製され、前記少なくとも１つの材料が、ポリマー、金属、ガラス、およびセラミック材料から成る群の１つである、請求項４９に記載の方法。
【請求項５３】
前記本体部の少なくとも１つの高弾性面が、前記本体部の他の面の弾性係数よりも大きな弾性係数を有し、前記少なくとも１つの高弾性面が、上面、下面、および円周方向側面から成る群の１つである、請求項４９に記載の方法。
【請求項５４】
前記本体部が、前記本体部の中心軸周りに配設された少なくとも１つの環状のひだで構成された円周方向側壁部を有する管状本体部として構成された、請求項４９に記載の方法。
【請求項５５】
前記本体部に収容されるように構成された容器を作製することをさらに含み、前記容器が、前記ネイルポリッシュ液を含むように構成された前記リザーバを画定し、前記挿入することが、前記ネイルポリッシュ液を前記容器に挿入することをさらに含む、請求項４９に記載の方法。
【請求項５６】
前記容器が、少なくとも１つの材料から作製され、前記少なくとも１つの材料が、ポリマー、金属、ガラス、およびセラミック材料から成る群の１つである、請求項５５に記載の方法。
【請求項５７】
前記ネイルポリッシュ液を含むように構成された前記リザーバを画定する内側容器を作製することをさらに含み、前記挿入することが、前記内側容器を前記本体部の内側に配設することと、前記ネイルポリッシュ液を前記内側容器に挿入することと、前記内側容器および前記本体部を封止することと、をさらに含む、請求項４９に記載の方法。
【請求項５８】
前記内側容器が、少なくとも１つの材料から作製され、前記少なくとも１つの材料が、ポリマー、金属、ガラス、および金属箔から成る群の１つである、請求項５７に記載の方法。
【請求項５９】
少なくとも１つの貫通要素を前記本体部の内側に配設することをさらに含む、請求項４９に記載の方法。
【請求項６０】
前記ネイルポリッシュ塗布要素が、複数の毛束、少なくとも１つの弾性管、中実パイプ、スポンジ、ワイパー、およびこれらのうちの少なくとも２つの組み合わせから成る群の少なくとも１つを備えた、請求項４９に記載の方法。
【請求項６１】
前記ネイルポリッシュ塗布要素が、複数の毛束を前記吐出ノズルにステープリングすることによって作製される、請求項４９に記載の方法。
【請求項６２】
前記ネイルポリッシュ塗布要素および前記吐出ノズルを通じて、少なくとも１つの中空ウェッジを前記本体部に挿入することをさらに含み、前記少なくとも１つのウェッジが、前記少なくとも１つの搬送トンネルを構成する、請求項４９に記載の方法。
【請求項６３】
前記少なくとも１つの中空ウェッジが、前記本体部に画定されたリザーバを貫通する貫通要素として機能する、請求項６２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、そのいくつかの実施形態において、ネイルポリッシュ液の保管・分注カプセルに関し、より詳細には、一体化されたブラシを備えたネイルポリッシュ液の使い捨て保管・分注カプセルに関するが、これに限定されない。
【背景技術】
【０００２】
ネイルポリッシュを手指の爪および／または足指の爪に塗布することは、古代から実行されている。多くの人々、特に女性がネイルポリッシュを塗布して手指の爪および／または足指の爪を装飾しているように、現代でも、手指および／または足指の爪を装飾することが依然として流行している。
【０００３】
ネイルポリッシュは、爪表面に塗布されると乾燥して、爪表面に固体層を形成するラッカー液である。
【０００４】
現在は、手作業でネイルポリッシュを塗布することが最も一般的な方法である。手作業でネイルポリッシュを塗布するには、いくらかの専門知識、スキル、および／または経験が必要となる場合があり、時間が掛かる場合もある。また、手作業でネイルポリッシュを自身の爪に塗布することは、両手に技術を習得する必要があることから、身体的に負担となる可能性があるとともに、足指の爪の場合は、都合良く効率的に足指に達するのが困難となる可能性がある。多くの個人が手作業でネイルポリッシュを自身に塗布する技術を習得しているものの、ネイルポリッシュの塗布は通常、それを本職とするマニキュアリストおよび／またはペディキュアリストにより実行され得る。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の態様によれば、カプセルコンパートメントおよび圧力印加要素を備えたネイルポリッシュ塗布装置により使用されるネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルであって、
ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する容器であって、開口が摺動ガスケットで封止された上面と、下面と、を備え、圧力印加により摺動ガスケットが下面に向けて摺動した場合に、リザーバの容積が小さくなり、リザーバの内圧が高くなる、容器と、
容器を受容して収容するようにサイズ設定および形状設定された本体部と、
本体部の下側に機械的に固定された近位端を有する１つまたは複数の搬送トンネルと、
１つまたは複数の搬送トンネルの遠位端からネイルポリッシュ液を受け取り、ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するように取り付けられたネイルポリッシュ塗布要素と、
を備えた容器ハウジングと、
を備えた、カプセルが提供される。
【０００６】
本発明の第２の態様によれば、カプセルコンパートメントおよび圧力印加要素を備えたネイルポリッシュ塗布装置により使用されるネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルであって、
ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する本体部であって、開口が摺動ガスケットで封止された上面を有する、本体部と、
本体部の下側に機械的に固定された近位端を有する１つまたは複数の搬送トンネルと、
１つまたは複数の搬送トンネルの遠位端からネイルポリッシュ液を受け取り、ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するように取り付けられたネイルポリッシュ塗布要素と、
を備え、
圧力印加により摺動ガスケットが下側に摺動した場合に、リザーバの容積が小さくなり、リザーバの内圧が高くなる、カプセルが提供される。
【０００７】
本発明の第３の態様によれば、カプセルコンパートメントおよび圧力印加要素を備えたネイルポリッシュ塗布装置により使用されるネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルであって、
ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する本体部であって、本体部の１つまたは複数の高弾性面が本体部の他の面の弾性係数よりも大きな弾性係数を有し、１つまたは複数の高弾性面が上面、下面、および円周方向側面から成る群の１つである、本体部と、
本体部の下側に機械的に固定された近位端を有する１つまたは複数の搬送トンネルと、
１つまたは複数の搬送トンネルの遠位端からネイルポリッシュ液を受け取り、ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するように取り付けられたネイルポリッシュ塗布要素と、
を備え、
他の面のうちの１つまたは複数への圧力印加により１つまたは複数の高弾性面が折れ曲がることによって本体部が変形した場合に、リザーバの容積が小さくなり、リザーバの内圧が高くなる、カプセルが提供される。
【０００８】
本発明の第４の態様によれば、カプセルコンパートメントおよび圧力印加要素を備えたネイルポリッシュ塗布装置により使用されるネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルであって、
ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する本体部であって、本体部の中心軸周りに配設された１つまたは複数の環状のひだで構成された円周方向側壁部を有する管状本体部として構成された、本体部と、
本体部の下側に機械的に固定された近位端を有する１つまたは複数の搬送トンネルと、
１つまたは複数の搬送トンネルの遠位端からネイルポリッシュ液を受け取り、ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するように取り付けられたネイルポリッシュ塗布要素と、
を備え、
本体部の上面への圧力印加により１つまたは複数のひだが折れ曲がった場合に、リザーバの容積が小さくなり、リザーバの内圧が高くなる、カプセルが提供される。
【０００９】
本発明の第５の態様によれば、カプセルコンパートメントおよび圧力印加要素を備えたネイルポリッシュ塗布装置により使用されるネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルであって、
ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する本体部と、
本体部の下側に機械的に固定された近位端を有する１つまたは複数の搬送トンネルであって、１つまたは複数の搬送トンネルの１つまたは複数の長手方向面の少なくとも一部が蠕動ポンプにより印加される圧力下で折れ曲がるように構成された高い弾性係数を有する、１つまたは複数の搬送トンネルと、
１つまたは複数の搬送トンネルの遠位端からネイルポリッシュ液を受け取り、ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するように取り付けられたネイルポリッシュ塗布要素と、
を備え、
１つまたは複数の搬送トンネルにおいて蠕動ポンプにより変位運動が誘発された場合に、リザーバの容積が小さくなり、リザーバの内圧が高くなる、カプセルが提供される。
【００１０】
本発明の第６の態様によれば、カプセルコンパートメントおよび圧力印加要素を備えたネイルポリッシュ塗布装置により使用されるネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルであって、
ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する本体部と、
本体部の下側に機械的に固定された近位端を有する１つまたは複数の搬送トンネルと、
１つまたは複数の搬送トンネルの遠位端からネイルポリッシュ液を受け取り、ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するように取り付けられたネイルポリッシュ塗布要素と、
を備え、
本体部に貫通された１つまたは複数の開口を通じて本体部に高圧で注入される圧縮液によって、リザーバの内圧が高くなる、カプセルが提供される。
【００１１】
本発明の第７の態様によれば、ネイルポリッシュ塗布要素と一体化されたカプセルを製造する方法であって、
ネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する本体部を作製することと、
１つまたは複数の搬送トンネルを有する吐出ノズルを作製することと、
ネイルポリッシュ塗布要素を作製することと、
吐出ノズルの近位端を本体部の下側に機械的に結合することと、
ネイルポリッシュ塗布要素を吐出ノズルの遠位端に機械的に結合することと、
ネイルポリッシュ液を本体部に挿入することと、
本体部を封止することと、
を含む、方法が提供される。
【００１２】
本発明の第１および／または第７の態様を参照して、第１の実施態様によれば、このカプセルは、容器が容器ハウジングから分離して設けられたキットとして提供される。
【００１３】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または第１の実施態様を参照して、第２の実施態様によれば、ネイルポリッシュ液は、ネイルポリッシュ液、ベースコート液、トップコート液、乾燥液、ネイルアートポリッシュ液、および医療用ネイルトリートメント液から成る群から選択される１つである。
【００１４】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第３の実施態様によれば、爪表面は、人間の手指の爪表面および人間の足指の爪表面から成る群の１つである。
【００１５】
本発明の第１および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第４の実施態様によれば、容器は、気密封止される。
【００１６】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第５の実施態様によれば、本体部は、逆さになったカップ形状の本体として構成される。
【００１７】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第６の実施態様によれば、本体部には、当該本体部の上端周りのフランジ状リムが構成される。
【００１８】
本発明の第１および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第７の実施態様によれば、圧力印加の結果としての内圧により下面が破砕された場合に、ネイルポリッシュ液は、容器から本体部へと解放される。
【００１９】
本発明の第１および／もしくは第７の態様ならびに／または第７の実施態様を参照して、第８の実施態様によれば、圧力印加の結果としての内圧により下面が破砕された場合に、ネイルポリッシュ液は、容器から本体部へと解放される。
【００２０】
本発明の第１および／もしくは第７の態様ならびに／または第７および／もしくは第８の実施態様を参照して、第９の実施態様によれば、下面がその脆弱表面で破砕された場合に、ネイルポリッシュ液は、解放される。脆弱表面は、内圧により自動的に破られる。
【００２１】
本発明の第１および／もしくは第７の態様ならびに／または第７、第８、および／もしくは第９の実施態様を参照して、第１０の実施態様によれば、下面に位置付けられた弁であって、弁が閉鎖される第１の状態および弁が開放される第２の状態を有する弁を開放することによって、当該下面が破砕される。弁は、内圧下で第１の状態から第２の状態へ自動的に遷移する。
【００２２】
本発明の第１および／もしくは第７の態様ならびに／または第７、第８、および／もしくは第９の実施態様を参照して、第１０の実施態様によれば、下面は、当該下面に位置付けられた弁であり、閉鎖される第１の状態および開放される第２の状態を有する、弁を開放することによって破砕される。弁は、内圧下で第１の状態から第２の状態へ自動的に遷移する。
【００２３】
本発明の第１および／もしくは第７の態様ならびに／または第７、第８、第９、および／もしくは第１０の実施態様を参照して、第１１の実施態様によれば、下面は、本体部の内側に位置付けられた１つまたは複数の内部貫通要素によって破砕される。圧力印加により本体部において容器が本体部の下側に向かって下方摺動した場合に、内部貫通要素は、容器を貫通する。
【００２４】
本発明の第１および／もしくは第７態様ならびに／または第７、第８、第９、第１０、および／もしくは第１１の実施態様を参照して、第１２の実施態様によれば、下面は、カプセルから分離された１つまたは複数の外部貫通要素によって破砕される。
【００２５】
任意選択として、本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第１３の実施態様によれば、上部シールが本体部の上側を封止する。上部シールは、圧力印加および／またはネイルポリッシュ塗布装置のユーザによって破壊される。
【００２６】
任意選択として、本発明の第１および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第１４の実施態様によれば、本体部の円周方向側壁部と容器の円周方向側壁部との間に１つまたは複数の円周方向封止要素が配設される。
【００２７】
任意選択として、本発明の第１および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第１５の実施態様によれば、カプセルに含まれる１つまたは複数の停止要素が、圧力が印加された場合に容器を静止位置に係止するように構成される。
【００２８】
任意選択として、本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第１６の実施態様によれば、１つまたは複数の搬送トンネルを通るネイルポリッシュ液の流量を制御する動的調節可能シャッターがカプセルに含まれる。
【００２９】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第１７の実施態様によれば、ネイルポリッシュ塗布要素は、複数の毛束、弾性管、中実パイプ（たとえば、注射針等）、スポンジ、ワイパー、およびこれらのうちの少なくとも２つの組み合わせから成る群の１つまたは複数を備える。
【００３０】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第１８の実施態様によれば、搬送トンネルのうちの１つまたは複数は、当該１つまたは複数の搬送トンネルの遠位端に位置付けられた１つまたは複数の噴霧出口を含む。
【００３１】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第１９の実施態様によれば、搬送トンネルのうちの１つまたは複数は、細長ストリップとして構成される。
【００３２】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第２０の実施態様によれば、ネイルポリッシュ塗布要素は、１つまたは複数の搬送トンネルの垂直軸と一致して取り付けられる。
【００３３】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第２１の実施態様によれば、ネイルポリッシュ塗布要素は、１つまたは複数の搬送トンネルの垂直軸に対して傾いた位置に取り付けられる。
【００３４】
任意選択として、本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第２２の実施態様によれば、このカプセルは、少なくともネイルポリッシュ塗布要素上に配置された取り外し可能なカバーを備える。
【００３５】
任意選択として、本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第２３の実施態様によれば、リザーバは、１〜２０の範囲の個数の爪表面に対するネイルポリッシュ液の１回の塗布に十分な量のネイルポリッシュ液を含むように構成される。
【００３６】
任意選択として、本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第２４の実施態様によれば、１つまたは複数の撹拌物体がリザーバの内側に配設され、容器が振られた場合にネイルポリッシュ液を撹拌する。
【００３７】
任意選択として、本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第２５の実施態様によれば、リザーバは、当該リザーバに画定された別個のチャンバに含まれる２種類以上のネイルポリッシュ液を含む。２種類以上のネイルポリッシュ液は、容器から解放された後、本体部において混ざり合う。
【００３８】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第２６の実施態様によれば、リザーバは、１〜２０の範囲の個数の爪表面に対するネイルポリッシュ液の１回の塗布に十分な量のネイルポリッシュ液を含むように構成される。
【００３９】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第２７の実施態様によれば、本体部は、気密封止される。
【００４０】
本発明の第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第２８の実施態様によれば、ネイルポリッシュは、当該カプセルから分離された１つまたは複数の外部貫通要素により貫通された１つまたは複数の開口を通じて、リザーバから１つまたは複数の搬送トンネルへと解放され、１つまたは複数の開口は、本体部の下側および１つまたは複数の搬送トンネルの内側の一方に貫通される。
【００４１】
本発明の第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第２９の実施態様によれば、ネイルポリッシュは、内圧により開放された１つまたは複数の開口を通じて、リザーバから１つまたは複数の搬送トンネルへと解放される。１つまたは複数の開口は、本体部の下側および１つまたは複数の搬送トンネルの内側のうちの１つまたは複数に位置付けられる。
【００４２】
本発明の第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または第２９の実施態様を参照して、第３０の実施態様によれば、１つまたは複数の開口は、内圧により自動的に破られる脆弱表面として利用される。
【００４３】
本発明の第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または第２９の実施態様を参照して、第３１の実施態様によれば、１つまたは複数の開口は、弁が閉鎖される第１の状態および弁が開放される第２の状態を有する弁によって利用される。弁は、内圧により第１の状態から第２の状態へ自動的に遷移する。
【００４４】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第３２の実施態様によれば、ネイルポリッシュは、１つまたは複数の搬送トンネルの内側に配設されてネイルポリッシュ液を含む内部脆弱表面を破壊することによりリザーバから解放され、１つまたは複数の搬送トンネルを流れる。内部脆弱表面は、１つまたは複数の搬送トンネルを変形させる外圧によって破壊される。
【００４５】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第３３の実施態様によれば、リザーバは、本体部の一部を占有する。本体部の内側に配設された膜表面によって、リザーバの１つまたは複数の面が画定される。膜表面は、本体部の内側に位置付けられた１つまたは複数の内部貫通要素によって破砕される。内圧により膜が１つまたは複数の内部貫通要素を押圧する場合に、内部貫通要素は、膜表面を貫通する。
【００４６】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第３４の実施態様によれば、ネイルポリッシュ液は、本体部の内側に配設された内側容器に含まれる。内圧は、内側容器を破砕することによりネイルポリッシュ液を本体部へと解放する。
【００４７】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または第３４の実施態様を参照して、第３５の実施態様によれば、内側容器は、当該内側容器の脆弱表面で破砕される。脆弱表面は、内圧により自動的に破られる。
【００４８】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または第３４の実施態様を参照して、第３６の実施態様によれば、内側容器は、１つまたは複数の貫通要素によって破砕される。１つまたは複数の貫通要素は、本体部の内側に位置付けられた内部貫通要素および当該カプセルから分離された外部貫通要素から成る群の１つである。
【００４９】
任意選択として、本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第３７の実施態様によれば、１つまたは複数の撹拌物体がリザーバの内側に配設され、カプセルが振られた場合にネイルポリッシュ液を撹拌する。
【００５０】
任意選択として、本発明の第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第３８の実施態様によれば、本体部は、当該本体部中の別個のチャンバに含まれる２種類以上のネイルポリッシュ液を含む。２種類以上のネイルポリッシュ液は、別個のチャンバから解放された後に混ざり合う。
【００５１】
任意選択として、本発明の第１、第２、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第３９の実施態様によれば、摺動ガスケットは、誘導磁場に反応して圧力を印加する１つまたは複数の磁気要素を含む。反応は、引力および反発力から成る群の１つである。
【００５２】
本発明の第５および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第４０の実施態様によれば、高い弾性係数を有する本体部の１つまたは複数の面が変位運動の結果として折れ曲がることにより、容積が小さくなる。
【００５３】
本発明の第５および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第４１の実施態様によれば、１つまたは複数の開口が本体部に貫通されて、変位運動により本体部から押し出されたネイルポリッシュ液を空気で置き換え可能となる。
【００５４】
本発明の第６および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第４２の実施態様によれば、圧縮液は、気体および液体から成る群の１つである。
【００５５】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第４３の実施態様によれば、本体部および吐出ノズルは、単一の部品として作製される。
【００５６】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第４４の実施態様によれば、本体部、吐出ノズル、およびネイルポリッシュ塗布要素は、単一の部品として作製される。
【００５７】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第４５の実施態様によれば、本体部は、１つまたは複数の材料から作製され、１つまたは複数の材料は、ポリマー、金属、ガラス、およびセラミック液から成る群の１つである。
【００５８】
本発明の第３、第５、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第４６の実施態様によれば、本体部の１つまたは複数の高弾性面は、本体部の他の面の弾性係数よりも大きな弾性係数を有する。１つまたは複数の高弾性面は、上面、下面、および円周方向側面から成る群の１つである。
【００５９】
本発明の第３、第５、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第４６の実施態様によれば、本体部の１つまたは複数の高弾性面は、本体部の他の面の弾性係数よりも大きな弾性係数を有する。１つまたは複数の高弾性面は、上面、下面、および円周方向側面から成る群の１つである。
【００６０】
本発明の第４および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第４７の実施態様によれば、本体部は、当該本体部の中心軸周りに配設された１つまたは複数の環状のひだで構成された円周方向側壁部を有する管状本体部として構成される。
【００６１】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第４８の実施態様によれば、本体部は、１つまたは複数の材料から作製され、１つまたは複数の材料は、ポリマー、金属、ガラス、およびセラミック液から成る群の１つである。
【００６２】
任意選択として、本発明の第１、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第４９の実施態様によれば、本体部に収容されるように構成された容器が作製される。容器は、ネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する。挿入することは、ネイルポリッシュ液を容器に挿入することをさらに含む。
【００６３】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または第４９の実施態様を参照して、第５０の実施態様によれば、容器は、１つまたは複数のから作製される。１つまたは複数の材料は、ポリマー、金属、ガラス、およびセラミック液から成る群の１つである。
【００６４】
任意選択として、本発明の第１、第２、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第５１の実施態様によれば、内側容器が作製される。内側容器は、ネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する。挿入することは、内側容器を本体部の内側に配設することと、ネイルポリッシュ液を内側容器に挿入することと、内側容器および本体部を封止することと、をさらに含む。
【００６５】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または第５１の実施態様を参照して、第５２の実施態様によれば、内側容器は、１つまたは複数の液から作製され、１つまたは複数の液は、ポリマー、金属、ガラス、および金属箔から成る群の１つである。
【００６６】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第５３の実施態様によれば、１つまたは複数の貫通要素が本体部の内側に配設される。
【００６７】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第５４の実施態様によれば、ネイルポリッシュ塗布要素は、複数の毛束、１つまたは複数の弾性管、スポンジ、ワイパー、およびこれらのうちの少なくとも２つの組み合わせから成る群の１つまたは複数を備える。
【００６８】
本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第５５の実施態様によれば、ネイルポリッシュ塗布要素は、複数の毛束を吐出ノズルにステープリングすることによって作製される。
【００６９】
任意選択として、本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または先行実施態様のいずれかを参照して、第５６の実施態様によれば、ネイルポリッシュ塗布要素および吐出ノズルを通じて、１つまたは複数の中空ウェッジが本体部に挿入される。１つまたは複数のウェッジは、１つまたは複数の搬送トンネルを構成する。
【００７０】
任意選択として、本発明の第１、第２、第３、第４、第５、第６、および／もしくは第７の態様ならびに／または第５６の実施態様を参照して、第５７の実施態様によれば、１つまたは複数の中空ウェッジは、本体部に画定されたリザーバを貫通する貫通要素として機能する。
【００７１】
本発明のいくつかの実施形態について、その例示のみを目的として添付の図面を参照して本明細書に記載する。以下、特に図面を詳細に参照して示す細部は、例示を目的とし、また本発明の実施形態の詳細な説明を目的とすることを強調する。同様に、図面と共に説明を見ることで、本発明の実施形態をどのように実践し得るかが当業者には明らかとなる。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの長手方向断面図である。
【図１Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの長手方向断面図である。
【図２Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１の実施形態の長手方向断面図である。
【図２Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１の実施形態の長手方向断面図である。
【図３Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第２の実施形態の長手方向断面図である。
【図３Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第２の実施形態の長手方向断面図である。
【図３Ｃ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第２の実施形態の長手方向断面図である。
【図４Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第３の実施形態の長手方向断面図である。
【図４Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第３の実施形態の長手方向断面図である。
【図４Ｃ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第３の実施形態の長手方向断面図である。
【図５Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第４の実施形態の長手方向断面図である。
【図５Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第４の実施形態の長手方向断面図である。
【図５Ｃ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第４の実施形態の長手方向断面図である。
【図６Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第５の実施形態の長手方向断面図である。
【図６Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第５の実施形態の長手方向断面図である。
【図７Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第６の実施形態の長手方向断面図である。
【図７Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第６の実施形態の長手方向断面図である。
【図７Ｃ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第６の実施形態の長手方向断面図である。
【図８Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第７の実施形態の長手方向断面図である。
【図８Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第７の実施形態の長手方向断面図である。
【図９Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第８の実施形態の長手方向断面図である。
【図９Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第８の実施形態の長手方向断面図である。
【図１０Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第９の実施形態の長手方向断面図である。
【図１０Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第９の実施形態の長手方向断面図である。
【図１１Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１０および第１１の実施形態の長手方向断面図である。
【図１１Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１０および第１１の実施形態の長手方向断面図である。
【図１１Ｃ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１０および第１１の実施形態の長手方向断面図である。
【図１２Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１２の実施形態の長手方向断面図である。
【図１２Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１２の実施形態の長手方向断面図である。
【図１２Ｃ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１３の実施形態の長手方向断面図である。
【図１３Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１４の実施形態の長手方向断面図である。
【図１３Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１４の実施形態の長手方向断面図である。
【図１３Ｃ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１４の実施形態の長手方向断面図である。
【図１４Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１５の実施形態の長手方向断面図である。
【図１４Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１５の実施形態の長手方向断面図である。
【図１４Ｃ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１５の実施形態の長手方向断面図である。
【図１５Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１６の実施形態の長手方向断面図である。
【図１５Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１６の実施形態の長手方向断面図である。
【図１６Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１７および第１８の実施形態の長手方向断面図である。
【図１６Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１７および第１８の実施形態の長手方向断面図である。
【図１７Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、上部シールを備えた例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの長手方向断面図である。
【図１７Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、上部シールを備えた例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの長手方向断面図である。
【図１８】本発明の例示的な一実施形態に係る、調節可能シャッターを備えた例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの長手方向断面図である。
【図１９Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の長手方向断面図である。
【図１９Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の長手方向断面図である。
【図１９Ｃ】本発明の例示的な一実施形態に係る、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の長手方向断面図である。
【図１９Ｄ】本発明の例示的な一実施形態に係る、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の長手方向断面図である。
【図１９Ｅ】本発明の例示的な一実施形態に係る、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の長手方向断面図である。
【図１９Ｆ】本発明の例示的な一実施形態に係る、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の長手方向断面図である。
【図１９Ｇ】本発明の例示的な一実施形態に係る、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の長手方向断面図である。
【図１９Ｈ】本発明の例示的な一実施形態に係る、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の長手方向断面図である。
【図１９Ｉ】本発明の例示的な一実施形態に係る、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の長手方向断面図である。
【図１９Ｊ】本発明の例示的な一実施形態に係る、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の長手方向断面図である。
【図１９Ｋ】本発明の例示的な一実施形態に係る、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の長手方向断面図である。
【図１９Ｌ】本発明の例示的な一実施形態に係る、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の長手方向断面図である。
【図２０】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルを作製する例示的なプロセスのフローチャートである。
【図２１Ａ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルを組み立てる例示的なプロセスの模式図である。
【図２１Ｂ】本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルを組み立てる例示的なプロセスの模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００７３】
本発明は、そのいくつかの実施形態において、ネイルポリッシュ液の保管・分注カプセルに関し、より詳細には、一体化されたブラシを備えたネイルポリッシュ液の使い捨て保管・分注カプセルに関するが、これに限定されない。
【００７４】
本発明のいくつかの実施形態によれば、ネイルポリッシュ液塗布用の塗布要素が一体化された保管・分注カプセルおよび当該カプセルの作製方法が提供される。ネイルポリッシュ液の１回の塗布を意図した使い捨てのカプセルであるこのカプセルは、本発明の範囲に含まれない１つまたは複数のネイルポリッシュ塗布装置（および／またはシステム）と併用されるようになっていてもよい。このカプセルは、ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する本体部と、１つまたは複数の搬送トンネルを有する吐出ノズルと、ネイルポリッシュ液を搬送してネイルポリッシュ液をユーザの爪表面に分注するように構成された一体化ネイルポリッシュ塗布要素とを具備する。
【００７５】
分注カプセルは、ユーザの１つまたは複数の爪表面、特に、人間の手指の爪の爪表面および／または人間の足指の爪表面に対して、ネイルポリッシュ液（たとえば、ポリッシュ液、ベースコート液、トップコート液、乾燥材料、ネイルアートポリッシュ液、医療用ネイルトリートメント液、および／または同等物）を分注するのに用いられるようになっていてもよい。使い捨ての１回塗布カプセルは、１回の塗布に十分な量のネイルアートポリッシュ液を含んでいてもよい。リザーバに含まれるネイルポリッシュの量は、たとえば１つの爪表面、１つの手の爪表面、２つの手の爪表面、２つの手および２つの足の爪表面、ならびに／または同等物への塗布に十分となるように予め規定されていてもよい。ネイルポリッシュ液の爪表面への実際の塗布においては、たとえば位置決め、位置合わせ、圧力印加、および／または同等行為がネイルポリッシュ塗布装置により行われるため、ネイルポリッシュ塗布装置の目的、設計、能力、および／または同等物に依存する可能性があることに留意されたい。
【００７６】
ネイルポリッシュ液のカプセルからの押し出しは、カプセルがネイルポリッシュ塗布装置のカプセルコンパートメントに配置された場合に圧力を本体部に印加する圧力印加要素を有するネイルポリッシュ塗布装置によって行われる。印加圧力によって、本体部により画定されたリザーバの容積が小さくなり、リザーバの内圧が高くなることで、ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するネイルポリッシュ塗布要素に向かって、ネイルポリッシュ液が吐出ノズルの搬送トンネルを通って流れるようになっていてもよい。後述の通り、圧力印加は、１つまたは複数の圧力機構を通じて利用されるようになっていてもよい。
【００７７】
このカプセルは、本発明のいくつかの実施形態において提示する通り、様々な構成、形状、および／または特徴を採用していてもよい。
【００７８】
本発明のいくつかの実施形態において、このカプセルはさらに、ネイルポリッシュ液を含む容器と、本体部およびネイルポリッシュ塗布要素を一体化した吐出ノズルを含む容器ハウジングとで構成される。容器は、容器を受容して収容するように形状設定され得る容器ハウジングに挿入されるようになっていてもよい。ネイルポリッシュ液を含むリザーバを画定する容器は、容器の上面の開口を封止する摺動ガスケットを具備していてもよい。カプセルがカプセルコンパートメントに位置付けられている間に圧力をガスケット上部に印加した場合は、ガスケットが容器の下面に向かって摺動するため、容器により画定されたリザーバの容積が小さくなる。容積の縮小によって、リザーバの内圧が高くなり、ネイルポリッシュ液が吐出ノズルに流れ得る。また、内圧により最初は、容器の下面に１つまたは複数の開口を伴って容器が破砕され、ネイルポリッシュ液が本体部へと解放されるようになっていてもよい。開口は、容器の下面の脆弱表面、弁、本体部に位置付けられた内部貫通要素、および／または同等物を通じて利用されるようになっていてもよい。任意選択として、容器の開口は、外部貫通要素によって貫通される。
【００７９】
本発明のいくつかの実施形態において、ネイルポリッシュ液は、上側の開口を封止する摺動ガスケットを有する本体部に含まれる。カプセルがカプセルコンパートメントに位置付けられている間に圧力をガスケット上部に印加した場合は、ガスケット位置が本体部の底部に向かって下がるため、本体部により画定されたリザーバの容積が小さくなる。容積の縮小によって、リザーバの内圧が高くなり、ネイルポリッシュ液が吐出ノズルに流れ得る。また、内圧により最初は、１つまたは複数の開口を伴って本体部が破砕され、ネイルポリッシュ液が本体部へと解放されるようになっていてもよい。開口は、容器の下面の脆弱表面、弁、本体部に位置付けられた内部貫通要素、および／または同等物を通じて利用されるようになっていてもよい。任意選択として、本体部の開口は、外部貫通要素によって貫通される。任意選択として、開口は、吐出ノズルの搬送トンネルに位置付けられている。
【００８０】
本発明のいくつかの実施形態において、ネイルポリッシュ液は、本体部に含まれており、本体部は、当該本体部のその他の面の弾性係数より大きな弾性係数を特徴とする１つまたは複数の高弾性面を有する。カプセルがカプセルコンパートメントに位置付けられている間に本体部の他の面のうちの１つまたは複数に圧力を印加した場合は、高弾性面が折れ曲がって、本体部が変形するようになっていてもよい。変形した本体部によって、容器により画定されたリザーバの容積が小さくなり、リザーバの内圧が高くなって、ネイルポリッシュ液が吐出ノズルに流れ得る。
【００８１】
本発明のいくつかの実施形態において、ネイルポリッシュ液は、本体部の中心軸周りに配設された１つまたは複数の環状のひだを有する円周方向壁部を備えた管状本体として構成された本体部に含まれる。カプセルがカプセルコンパートメントに位置付けられている間に本体部の上面および／または下面に圧力を印加した場合は、ひだが折れ曲がって、本体部の高さが低くなるようになっていてもよい。低下した高さによって、容器により画定されたリザーバの容積が小さくなり、リザーバの内圧が高くなって、ネイルポリッシュ液が吐出ノズルに流れ得る。
【００８２】
本発明のいくつかの実施形態において、圧力は、ネイルポリッシュ塗布装置の一部である蠕動ポンプによって印加される。カプセルがカプセルコンパートメントに位置付けられている間、蠕動ポンプは、高い弾性係数を有する吐出ノズルの長手方向弾性面に押し付けられる。蠕動ポンプは、搬送トンネル中のネイルポリッシュ液の変位運動によって、ネイルポリッシュ液を搬送トンネルに流すようにしてもよい。
【００８３】
本発明のいくつかの実施形態において、圧力は、気体（たとえば、空気）の本体部への注入によって印加される。ネイルポリッシュ液を含む本体部は、カプセルが分注コンパートメントに位置付けられている間に貫通された１つまたは複数の開口（孔）を有する。気体は、ネイルポリッシュ塗布装置の一部である圧縮機によって、高圧で注入されるようになっていてもよい。注入された気体により、ネイルポリッシュ液内の圧力が高くなって、ネイルポリッシュ液が吐出ノズルに流れ込むようになっていてもよい。
【００８４】
任意選択として、ネイルポリッシュ液は、本体部のその他の内部空間から膜状表面で分割された本体部の部分のみを占有する。膜表面は、本体部により画定されたリザーバ中で高くなった内圧の結果として破砕されるようになっていてもよい。膜表面は、本体部に位置付けられた１つまたは複数の内部貫通要素によって破砕されるようになっていてもよい。任意選択として、膜は、外部貫通要素によって破砕される。
【００８５】
任意選択として、ネイルポリッシュ液は、本体部の内側に配設された封止内側容器に含まれる。本体部により画定されたリザーバの容積が小さくなった場合は、内側容器に伝わった圧力によって内側容器が破砕され、含まれるネイルポリッシュ液が本体部へと解放されるようになっていてもよい。印加された圧力により、ネイルポリッシュ液内の圧力がさらに高くなって、ネイルポリッシュ液が吐出ノズルに流れ込むようになっていてもよい。任意選択として、内側容器は、外部貫通要素によって破砕される。
【００８６】
通常、本体部は、たとえば逆さになったカップ形状の本体、円錐状の形状、および／または同等形状として、吐出ノズル側にネイルポリッシュ液を流し込むように構成されていてもよい。また、本体部は、不使用時にネイルポリッシュ液が空気に触れないように、気密封止されるように設計されていてもよい。任意選択として、本体部は、たとえば取り外し可能なカバー、引き裂き可能な箔、および／または同等物等、カプセルの使用に先立って取り外される取り外し可能なシールで封止される。
【００８７】
本体部、容器、および／または内側容器は、１つまたは複数の材料（たとえば、ポリマー、ガラス、金属、セラミック材料、および／または同等材料）から作製されていてもよい。任意選択として、たとえば本体部、容器、および／または内側容器等、ネイルポリッシュ液を含む部分の作製に用いられる材料は、ネイルポリッシュ液の１つまたは複数の成分（たとえば、溶媒）が容器を通じて拡散することなく、時間とともに蒸発することのないように、低い透過係数を特徴とする。
【００８８】
搬送トンネルは、吐出ノズルの固有構造（たとえば、吐出ノズルの中空本体）により形成されていてもよい。任意選択として、搬送トンネルは、本体部中に達する吐出ノズルに挿通された１つまたは複数の中空ウェッジ（たとえば、中空シャフト、中空ニードル等）を通じて利用される。搬送トンネルは、ネイルポリッシュ液の粘性に従って適応されることにより、ネイルポリッシュ液が吐出ノズルを一定して流れ得るようにしてもよい。
【００８９】
吐出ノズルと一体化されたネイルポリッシュ塗布要素は、真っ直ぐまたは傾くように吐出ノズルに搭載されていてもよい。ネイルポリッシュ塗布要素は、ネイルポリッシュ液が毛束の上方を流れて爪表面にネイルポリッシュ液が分注されるように、毛束を備えていてもよい。この追加および／または代替として、分注ヘッドは、ネイルポリッシュ液を爪表面に分注する１つもしくは複数の弾性管ならびに／または中実パイプ（たとえば、注射針等）を具備していてもよい。また、ネイルポリッシュ塗布要素は、毛束および弾性管の組み合わせを含んでいてもよい。また、ネイルポリッシュ塗布要素は、ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するスポンジ、ワイパー、および／または同等物を具備していてもよい。
【００９０】
任意選択として、このカプセルは、搬送トンネルを通るネイルポリッシュ液の流れを制御する動的調節可能シャッターを具備する。シャッターは、本体部または吐出ノズルに位置付けられていてもよい。
【００９１】
任意選択として、このカプセルは、少なくともネイルポリッシュ塗布要素を保護する取り外し可能なカバーを具備する。カバーは、カプセルのカプセルコンパートメントへの挿入に先立って取り外される。
【００９２】
任意選択として、このカプセルは、ネイルポリッシュ液の爪表面への塗布に先立って開放された封止パッケージに設けられる。たとえば、このカプセルは、当該カプセルの使用に先立ってユーザによる開放、引き裂き、取り外し、および／または同等行為が可能な封止ボックス、バッグ、および／または同等物に納められていてもよい。
【００９３】
ブラシ一体化保管・分注カプセルは、ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布する既存のデバイス、システム、および／または方法と比較して、大きな利益を提示可能である。まず、最も一般的な方法と考えられる従来の手作業でネイルポリッシュ液を塗布することとは対照的に、相補的なネイルポリッシュ塗布装置に用いられるカプセルは、自動化されたネイルポリッシュ液の塗布を容易化する。手作業でネイルポリッシュ液を塗布することは、非常に多くの時間を必要とし、スキル、専門知識、および／または経験を要すると考えられるものの、自動化されたネイルポリッシュ液の塗布によれば、如何なるユーザも、関連するスキル、知識、専門知識、および／または経験を持たなくても、ネイルポリッシュ液を容易に塗布することができる。また、自動化されたネイルポリッシュ液の塗布によれば、塗布プロセスの時間が大幅に短縮されるとともに、ユーザは、ネイルポリッシュ液を自分の手指および／または足指の爪表面に塗布しながら、他の活動に従事することさえ可能となる。
【００９４】
ネイルポリッシュ液を自動的に塗布するいくつかのデバイスおよび／またはシステムが存在し得るものの、相補的なネイルポリッシュ塗布装置に用いられるカプセルによれば、便利で使いやすいソリューションが提供される。ユーザは、既存のデバイスでは必要となり得るネイルポリッシュ液、ブラシ、および／または同等物の取り扱いの必要性から解放され得る。また、ネイルポリッシュ液をネイルポリッシュ塗布装置から分離することにより、ネイルポリッシュ塗布装置の保守が大幅に削減され得る。たとえば、保管コンパートメント、搬送管、分注管、ブラシ、および／または同等物等、ネイルポリッシュ液に接触するネイルポリッシュ塗布装置の部分の洗浄および／または交換の必要性が回避および／または抑制される。ネイルポリッシュ塗布装置の取り扱いおよび／または保守の削減および／または簡素化によって、初心者ユーザは、知識、経験、および／もしくはトレーニングなしの状態ならびに／または最小限の知識、経験、および／もしくはトレーニングを受けた状態でネイルポリッシュ塗布装置を効果的に使用可能となり得るため、ネイルポリッシュ塗布装置が家庭用として非常に適することになる。さらに、ネイルポリッシュ液をネイルポリッシュ塗布装置から分離することにより、ネイルポリッシュ塗布装置の部品がネイルポリッシュ液に接触しなくなるため、ネイルポリッシュ塗布装置の設計および／または動作の複雑性を大幅に抑えることができる。この結果、ネイルポリッシュ塗布装置のコストが低下し、使い捨てカプセルと結合されたネイルポリッシュ塗布装置は、それを本職としない普通のユーザにとって十分に手頃で利用しやすいものとなり得る。
【００９５】
さらに、カプセルがサポートする様々なネイルポリッシュ液の押し出し機構によれば、カプセルは、様々な圧力印加機構を採用する複数のネイルポリッシュ塗布装置に嵌入するように、容易に適応可能となり得る。また、圧力印加動作の直進的な性質によれば、ネイルポリッシュ塗布装置の設計、動作、および／または保守がさらに簡素化されて、ネイルポリッシュ塗布装置のコストがさらに低下し得る。
【００９６】
さらに、このカプセルは、複数回塗布の実施態様を採用する既存のデバイスで起こり得るように、現在の塗布に用いられるネイルポリッシュ液が過去の塗布で残ったネイルポリッシュ液残留物による混合および／または劣化を受けることがないようにしてもよい。このカプセルが利用する使い捨ての１回塗布式ネイルポリッシュ塗布要素は、時間の経過および／またはネイルポリッシュの複数回の塗布とともに劣化を受ける既存のデバイスとは対照的に、塗布の品質、効率、および／または動作における劣化を防止可能である。
【００９７】
別の大きな利益は、爪表面への塗布後のネイルポリッシュ液の乾燥に関する。既存の方法および／またはデバイスを用いた塗布後のネイルポリッシュの乾燥期間は、空気に露出した場合の早期乾燥を防止するようにネイルポリッシュ液に添加された１つまたは複数の材料（たとえば、溶媒）のため、重要となり得る。ネイルポリッシュ液は、１回の塗布を意図した封止ネイルポリッシュカプセルに保管されているため、ネイルポリッシュ液に添加される乾燥防止剤の大幅な減少および／または完全な回避が考えられる。これにより、ネイルポリッシュへの適用後、ネイルポリッシュ液は、既存のデバイスが通常使用するネイルポリッシュ液よりも著しく高速に乾燥するため、ネイルポリッシュ塗布プロセス全体が大幅に短縮され得る。
【００９８】
本発明の少なくとも１つの実施形態を詳細に説明する前に、本発明は、必ずしもその用途が、以下の記載に示す、および／または図面および／または実施例で例示する、構成の詳細および要素の配置および／または方法に限定されるものではないことを理解するべきである。本発明は、他の実施形態が可能であり、また、さまざまな手段で実施または実行することが可能である。
【００９９】
本明細書に記載の本発明の保管・分注カプセルは、ネイルポリッシュを爪に塗布するネイルポリッシュ塗布装置により用いられるようになっていてもよい。ただし、当業者であれば、複数の他の成膜用途（たとえば、色付け、保護層の塗布、耐液および／もしくは耐水層の塗布、ならびに／または同等行為）に用いられるカプセルに対して、本発明の全体に記載の同じ考え方を使用可能である。
【０１００】
以下、ネイルポリッシュ液の保管・分注カプセルの複数の実施形態を説明する。ただし、提示の実施形態は、何ら限定とは解釈されないものとする。当業者であれば、本発明の全体に記載の同じ考え方を採用する複数の他の実施態様、構造、形状、作製方法等によって、このカプセルおよび／またはその一部を実施、構成、配置、および／または作製可能である。さらに、実施形態のうちの１つまたは複数について、カプセルの特徴のうちの１つまたは複数を以下に説明可能であるが、これらの特徴は、明示的な記載がなくても、他の実施形態にも同様に適用可能となり得る。
【０１０１】
ここで図面を参照して、図１Ａおよび図１Ｂは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの長手方向断面図である。例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００は、ユーザの爪表面（たとえば、手指の爪および／または足指の爪）へのネイルポリッシュの１回の塗布を意図した使い捨てカプセルである。カプセル１００は、実際のネイルポリッシュ塗布プロセスを制御する１つまたは複数のネイルポリッシュ塗布装置と併用されるようになっていてもよい。ネイルポリッシュ塗布装置は、本発明の範囲ではない。カプセル１００は、本体部１０３および吐出ノズル１０８を備える。
【０１０２】
本体部１０３は、ネイルポリッシュ液１０６（たとえば、ポリッシュ液、ベースコート液、トップコート液、乾燥材料、ネイルアートポリッシュ液、医療用ネイルトリートメント液、および／または同等物）を含むように構成されたリザーバを画定する。本体部１０３は、複数の形状のうちの１つ（たとえば、円筒形、円錐形、三角錐形、箱形、および／または同等形状）に構成されていてもよい。本体部１０３は、たとえば逆さになったカップ形状の本体、円錐状の形状の本体、および／または同等形状として、吐出ノズル１０８側にネイルポリッシュ液１０６を流し込むようにさらに形状設定されていてもよい。本体部１０３に含まれるネイルポリッシュ液１０６の量は、１つまたは複数の爪表面（たとえば１つの爪表面、１つの手の爪表面、２つの手の爪表面、２つの手および２つの足の爪表面、ならびに／または同等物）へのネイルポリッシュ液１０６の１回の塗布に十分となるように予め規定されていてもよい。本体部１０３は、当該本体部１０３の上端の外周を画定するフランジ状リム１１４を具備していてもよい。フランジ状リム１１４は、ネイルポリッシュ塗布装置のカプセルコンパートメントにおけるカプセル１００のガイド、位置決め、および／または係止を補助するようになっていてもよい。
【０１０３】
任意選択として、本体部１０３の内側には、１つまたは複数の撹拌物体１１８（たとえば、ボール、リング、および／または同等物）が配設されていてもよい。カプセル１００を振った場合に、撹拌物体１１８が本体部１０３の内側で移動して、ネイルポリッシュ液１０６を撹拌するようになっていてもよい。これにより、ネイルポリッシュ液１０６の組成の均一な分布が向上し得る。カプセル１００を振ることは、カプセル１００を分注コンパートメントに配置する前にユーザが手作業で行うようにしてもよい。任意選択として、ネイルポリッシュ塗布装置がカプセル１００を自動的に振るようにしてもよい。ネイルポリッシュ塗布装置は、カプセル１００を分注コンパートメントおよび／または分注コンパートメントに配置する前に、カプセル１００を振るようにしてもよい。
【０１０４】
吐出ノズル１０８は、１つまたは複数の搬送トンネル１１２および一体化されたネイルポリッシュ塗布要素１１０を備える。搬送トンネル１１２は、ネイルポリッシュ液１０６を本体部１０３からネイルポリッシュ塗布要素１１０に搬送するように構成されている。搬送トンネル１１２の直径は、一定流のネイルポリッシュ液１０６をネイルポリッシュ塗布要素１１０に搬送するため、ネイルポリッシュ液１０６の粘性に従って適応されていてもよい。たとえば、搬送トンネル１１２の直径は、０．１〜３ミリメートルの範囲であってもよい。
【０１０５】
任意選択として、本体部１０３および吐出ノズル１０８は、単一の部品として構成および作製される。
【０１０６】
吐出ノズル１０８と一体化されたネイルポリッシュ塗布要素１１０は、ネイルポリッシュ塗布要素１１０が吐出ノズル１０８と一致するか、または吐出ノズル１０８に対して傾斜するように、吐出ノズルに搭載されていてもよい。ネイルポリッシュ塗布要素１１０は、ネイルポリッシュ液１０６が毛束の上方を流れて爪表面にネイルポリッシュ液１０６が分注されるように、毛束を備えていてもよい。この追加および／または代替として、分注ヘッド１１０は、ネイルポリッシュ液１０６を爪表面に分注する１つもしくは複数の弾性管ならびに／または中実パイプ（たとえば、注射針）を具備していてもよい。また、ネイルポリッシュ塗布要素１１０は、ネイルポリッシュ液１０６を爪表面に塗布するスポンジ、ワイパー、および／または同等物を具備する。ネイルポリッシュ塗布要素１１０は、毛束、弾性管、パイプ、スポンジ、および／またはワイパーのうちの２つ以上の組み合わせをさらに含んでいてもよい。任意選択として、ネイルポリッシュ塗布要素１１０は、本体部１０３および／または吐出ノズル１０８から分離して設けられている。ユーザは、ネイルポリッシュ塗布要素１１０を吐出ノズル１０８に手作業で取り付けるようにしてもよい。ネイルポリッシュ塗布要素１１０の吐出ノズル１０８への取り付けには、１つまたは複数の組み立て法（たとえば、締め付け、ねじ止め、押圧、クリッピング、および／または同等方法）を採用してもよい。
【０１０７】
いくつかの実施形態において、カプセル１００は、容器ハウジング１０２および容器１０４で構成される。容器ハウジング１０２は、本体部１０３および吐出ノズル１０８を備える一方、容器１０４は、ネイルポリッシュ液１０６を含むように構成されたリザーバを画定する。容器１０４の上面には、摺動ガスケット１０５で封止された開口を有する。摺動ガスケット１０５は、容器１０４の上面の開口の封止を可能にする高い膨張能力を有する１つまたは複数の材料（たとえば、ゴム、シリコン、および／または同等物）で作製されていてもよい。容器１０４のほか、容器１０４を受容して収容するように構成された本体部１０３は、複数の形状のうちの１つ（たとえば、円筒形、円錐形、三角錐形、箱形、および／または同等形状）に構成されていてもよい。容器ハウジング１０２および容器１０４で構成されたカプセル１００は、容器１０４が容器ハウジング１０２に挿入されるように、組み立て済みで提供されるようになっていてもよい。
【０１０８】
任意選択として、容器１０４および容器ハウジング１０２は、当該容器１０４および容器ハウジング１０２が分離されたキットとして設けられる。容器１０４は、ネイルポリッシュ塗布装置のカプセルコンパートメントへのカプセル１００の挿入に先立って、ユーザにより手作業で容器ハウジング１０２に挿入されるようになっていてもよい。任意選択として、容器１０４は、たとえば容器ハウジング１０２がカプセルコンパートメントに配置された後、ネイルポリッシュ塗布装置によって自動的に容器ハウジング１０２に挿入されるようになっていてもよい。別の例において、ネイルポリッシュ塗布装置は、容器ハウジング１０２のカプセルコンパートメントへの配置および組み立てられたカプセルのカプセルコンパートメントへの配置に先立って、容器１０４を容器ハウジング１０２に自動的に挿入するようにしてもよい。
【０１０９】
任意選択として、容器１０４の内側には、撹拌物体１１８等の１つまたは複数の撹拌物体が配設されている。容器１０４を振った場合に、撹拌物体１１８が容器１０４の内側で移動して、ネイルポリッシュ液１０６を撹拌するようになっていてもよい。容器１０４が容器ハウジング１０２から分離して設けられている場合、容器１０４を振ることは、容器１０４を容器ハウジング１０２に挿入する前に行われるようになっていてもよい。容器１０４が容器ハウジング１０２に予め設置されている場合は、容器１０４に含まれるネイルポリッシュ液１０６を撹拌物体１１８が撹拌するように、カプセル１００全体が振られるようになっていてもよい。カプセル１００および／または容器１０４を振ることは、カプセル１００を分注コンパートメントに配置する前にユーザが手作業で行うようにしてもよい。任意選択として、ネイルポリッシュ塗布装置がカプセル１００を自動的に振るようにしてもよい。ネイルポリッシュ塗布装置は、カプセル１００を分注コンパートメントおよび／または分注コンパートメントに配置する前に、カプセル１００を振るようにしてもよい。
【０１１０】
本体部１０３、吐出ノズル１０８、および／または容器１０４は、１つまたは複数の材料（たとえば、ポリマー、ガラス、金属、セラミック材料、および／または同等材料）から作製されていてもよい。本体部１０３および／または容器１０４は、ネイルポリッシュ液１０６が空気に触れないように、気密封止されていてもよい。さらに、本体部１０３、吐出ノズル１０８、および／または容器１０４は、ネイルポリッシュ液の１つまたは複数の成分（たとえば、溶媒）が拡散することなく、時間とともに蒸発することのないように、低い透過係数を特徴とする１つまたは複数の材料から作製されていてもよい。
【０１１１】
任意選択として、カプセル１００は、少なくともネイルポリッシュ塗布要素１１０を保護するカバー１１６を具備する。カバー１１６は、カプセル１００が不使用すなわちネイルポリッシュ塗布装置のカプセルコンパートメントに配置されていない間、容器ハウジング１０２に取り付けられていてもよい。カバー１１６は、１つまたは複数の機構（たとえば、配置、ねじ止め、接着、押し付け、および／または同等機構）によって、容器ハウジング１０２に取り付けられていてもよい。カバー１１６は、カプセル１００の分注コンパートメントへの配置に先立って取り外されるようになっていてもよい。カバー１１６は、ユーザにより手作業で取り外されるようになっていてもよい。任意選択として、カバー１１６は、カプセル１００を分注コンパートメントおよび／または分注コンパートメントに配置する前に、ネイルポリッシュ塗布装置によって自動的に取り外される。
【０１１２】
任意選択として、ポリッシュ塗布装置は、ネイル塗布プロセス中に、カバー１１６を取り外すとともに、カバー１１６上に戻す。たとえば、ユーザがネイルポリッシュ塗布プロセスを開始して、塗布プロセスを中断したい場合（すなわち、ネイルポリッシュ塗布装置が中断モードに入る場合）、ネイルポリッシュ塗布装置は、カバー１１６をカプセル１００上に戻して、ネイルポリッシュ塗布ヘッド１１０に存在するネイルポリッシュ液１０６の乾燥を防止することにより、ネイルポリッシュ塗布ヘッド１１０を保護するようにしてもよい。これにより、搬送トンネル１１２の内側に存在するネイルポリッシュ液１０６の乾燥も防止され得る。ユーザが塗布プロセスを再開した場合、ネイルポリッシュ塗布装置は再び、カプセル１００からカバー１１６を取り外すようにしてもよい。ネイルポリッシュ塗布プロセスの初期化中は、ネイルポリッシュ液１０６をネイルポリッシュ塗布要素１１０に一様に分注するため、カバー１１６が用いられるようになっていてもよい。
【０１１３】
いくつかの実施形態において、カバー１１６は、ネイルポリッシュ塗布要素１１０から滴り得るネイルポリッシュ液１０６を収集するバケツとして機能するようになっていてもよい。このような滴下は、リザーバにおいて高くなった内圧により、ネイルポリッシュ液１０６の少なくとも一部を搬送トンネル１１２およびネイルポリッシュ塗布要素１１０に通す十分な圧力が依然として印加され得るために発生すると考えられる。カバー１１６は、ネイルポリッシュ塗布プロセスの最後に配設されるようになっていてもよい。
【０１１４】
任意選択として、カプセル１００は、ネイルポリッシュ液１０６の爪表面への塗布に先立って開放された封止パッケージに設けられる。たとえば、カプセル１００は、当該カプセル１００の使用に先立ってユーザによる開放、引き裂き、取り外し、および／または同等行為が可能な封止ボックス、バッグ、および／または同等物に納められていてもよい。
【０１１５】
上述の通り、カプセル１００および／またはその一部は、本発明の全体に記載の同じ考え方を採用する複数の他の実施態様、構造、形状、作製方法等によって、設計、構成、および／または作製可能である。図１Ｂに示すように、容器ハウジング等のネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１５０が細長管（たとえば、円筒形、箱形、三角錐形、および／または同等形状）として構成されていてもよい。吐出ノズル１０８、特に搬送トンネル１１２は、本体部１０３の形状に適応された単一の部品として、本体部１０３と一体化されていてもよい。当然のことながら、容器１０４は、容器ハウジング１０２の形状に適応されていてもよい。容器１０４を具備せず、本体部１０３がネイルポリッシュ液１０６を含むカプセル１００の構成にも同じことが当てはまる。
【０１１６】
ここで図２Ａおよび図２Ｂを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１の実施形態の長手方向断面図である。ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ａは、容器ハウジング１０２のような容器ハウジング１０２Ａと、摺動ガスケット１０５のような摺動ガスケット１０５Ａで封止された容器１０４のような容器１０４Ａとを含む。容器ハウジング１０２Ａは、本体部１０３のような本体部１０３Ａと、搬送トンネル１１２のような１つまたは複数の搬送トンネルおよびネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を含む吐出ノズル１０８のような吐出ノズルとを備える。容器１０４Ａは、ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する。
【０１１７】
図２Ａに示すように、カプセル１００Ａは、ネイルポリッシュ塗布装置のカプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。本体部１０３Ａは、カプセルコンパートメント２０２の外形に適合することにより、カプセル１００Ａをカプセルコンパートメント２０２においてガイドおよび／または位置決めするように適応可能なフランジ状リム１１４のようなフランジ状リムを具備していてもよい。さらに、ネイルポリッシュ塗布装置は、カプセル１００Ａがカプセルコンパートメント２０２に配置された後、フランジ状リム１１４をカプセルコンパートメント２０２に押し付けることにより、本体部１０３Ａをカプセルコンパートメント２０２において固定し得る係止機構２０６を適用するようにしてもよい。係止機構２０６（たとえば、外周リング）は、カプセル１００Ａがカプセルコンパートメント２０２に配置された後、フランジ状リム１１４上に固定されていてもよい。ネイルポリッシュ塗布装置の圧力印加要素２０４（たとえば、ピストン、プレス、送りねじ、移動要素、および／または同等物）が摺動ガスケット１０５Ａの上側に圧力を印加するようにしてもよい。
【０１１８】
容器１０４Ａの円周方向側壁部と本体部１０３Ａの円周方向側壁部との間には、１つまたは複数の円周方向封止要素２１０（たとえば、２１０Ａおよび／または２１０Ｂ）が配設されていてもよい。円周方向封止要素２１０は、１つまたは複数の封止材料（たとえば、ゴム、シリコン、および／または同等物）で構成されていてもよい。円周方向封止要素２１０は、容器１０４Ａの一部および／または本体部１０３Ａの一部として構成されていてもよい。任意選択として、封止要素２１０は、別個の部分（たとえば、容器１０４Ａ上に載置されたバンド）であってもよい。
【０１１９】
本体部１０３Ａは、当該本体部１０３の内側に配設され、当該本体部１０３の内側に容器１０４Ａをしっかりと係止する１つまたは複数の停止要素２１２を具備していてもよい。停止要素２１２は、本体部１０３Ａの固有形状の一部（たとえば、本体部１０３Ａの下側に向かう容器１０４Ａの移動を阻止するように適応された突起、棚、表面、および／または同等形状）として構成されていてもよい。停止要素２１２は、本体部１０３Ａの円周方向側壁部の内面の外周全体に沿って配設されていてもよい。任意選択として、停止要素２１２は、本体部１０３Ａの円周方向側壁部の内面に沿った１つまたは複数の場所にのみ位置付けられていてもよい。
【０１２０】
容器１０４Ａは、当該容器１０４Ａの下面に位置付けられた１つまたは複数の開口２１４を含む。開口２１４は、２つの動作状態を有し、初期状態である第１の状態では、開口２１４が閉鎖されて、ネイルポリッシュ液１０６の容器１０４Ａからの流出が防止される。第２の状態においては、開口２１４が開放されて、ネイルポリッシュ液１０６が容器１０４Ａから本体部１０３Ａへと解放される。開口２１４は、容器１０４Ａにより画定されたリザーバの内圧が高くなった場合、第１の状態から第２の状態へ自動的に遷移する。任意選択として、開口２１４は、単向性であるため、ネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ａに再び進入することを防止しつつ、ネイルポリッシュ液１０６の本体部１０４Ａからの流出を可能にする。一例において、開口２１４は、容器１０４Ａの下面の脆弱表面エリアにより利用されるようになっていてもよい。脆弱表面は、カプセル１００Ａが不使用時（すなわち、第１の状態）の容器１０４Ａの封止下面を構成していてもよく、ネイルポリッシュ液１０６の容器１０４Ａからの流出を防止する。脆弱表面エリアは、容器１０４Ａにより画定されたリザーバで高くなった内圧下で自動的に破壊され、ネイルポリッシュ液１０６を本体部１０３Ａへと解放するようにしてもよい。別の例示的な実施態様において、開口２１４は、２つの動作状態を有する機械的弁によって利用される。初期設定では、無圧力下で機械的弁が閉鎖され、ネイルポリッシュ液１０６の容器１０４Ａからの流出が防止される。機械的弁は、リザーバの内圧が高くなった場合に自動的に開放され、第２の状態に遷移して、ネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ａへと解放されるようになっていてもよい。
【０１２１】
図２Ｂに示すように、圧力印加要素２０４は、容器１０４Ａの下面に向かって下方摺動する摺動ガスケット１０５Ａを押し下げる。停止要素２１２は、圧力印加要素２０４が摺動ガスケット１０５Ａを押圧している間、容器１０４Ａを適所に固定するようにしてもよい。摺動ガスケット１０５Ａが本体部１０３Ａの下側に向かって移動する結果、容器１０４Ａにより画定されたリザーバの容積が小さくなるため、リザーバの内圧が高くなる。内圧によって容器１０４Ａが破砕され、開口２１４の自動的な開放すなわち第１の状態から第２の状態への自動的な遷移によって、容器１０４Ａに含まれるネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ａへと解放されるようになっていてもよい。さらに、内圧により解放されたネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ａに流れ込み、搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０に達するようになっていてもよい。封止要素２１０は、解放されたネイルポリッシュ液１０６が容器１０４Ａの円周方向側壁部と本体部１０３Ａの円周方向側壁部との間に流れ込まないようにすることができる。この追加および／または代替として、停止要素２１２は、容器１０４Ａの円周方向側壁部と本体部１０３Ａの円周方向側壁部との間隙を封止する。間隙を封止することにより、停止要素２１２は、解放されたネイルポリッシュ液１０６が容器１０４Ａの円周方向側壁部と本体部１０３Ａの円周方向側壁部との間に流れ込まないようにすることができる。
【０１２２】
任意選択として、カプセルコンパートメント２０２は、カプセル１００Ａが当該カプセルコンパートメント２０２の適所に適正に挿入・係止された場合に、ネイルポリッシュ塗布装置を使用するユーザの爪表面に対してネイルポリッシュ塗布ヘッド１１０が傾斜するように、カプセル１００Ａを受け入れるように構成されていてもよい。この傾斜位置決めにより、ネイルポリッシュ塗布ヘッド１１０によるネイルポリッシュ液１０６の塗布が改善され得る。たとえば、爪表面の側部は湾曲している場合があるため、ある角度から爪表面に接近することによって、ネイルポリッシュ塗布ヘッド１１０は、ネイルポリッシュ液１０６を良好に爪表面へ分注可能となり得る。
【０１２３】
ここで図３Ａ、図３Ｂ、および図３Ｃを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第２の実施形態の長手方向断面図である。ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｂは、容器ハウジング１０２のような容器ハウジング１０２Ｂと、摺動ガスケット１０５のような摺動ガスケット１０５Ｂで封止された容器１０４のような容器１０４Ｂとを含む。容器ハウジング１０２Ｂは、本体部１０３のような本体部１０３Ｂと、搬送トンネル１１２のような１つまたは複数の搬送トンネルおよびネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を含む吐出ノズル１０８のような吐出ノズルとを備える。容器１０４Ｂは、ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する。カプセル１００Ｂは、封止要素２１０のような１つもしくは複数の封止要素および／または停止要素２１２のような１つもしくは複数の停止要素をさらに具備していてもよい。また、本体部１０３Ｂは、カプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに適応されたフランジ状リム１１４のようなフランジ状リムを具備していてもよい。
【０１２４】
本体部１０３Ｂは、容器１０４Ｂの下面の直下で当該本体部１０３Ｂの内側に配設された１つまたは複数の内部貫通要素３０４をさらに具備する。内部貫通要素３０４は、たとえば鋭い隆起、鋭い突起、尖った延伸部、および／または同等形状として形状設定されていてもよい。
【０１２５】
その初期状態において、カプセル１００Ｂには、内部貫通要素３０４と接触しないように本体部１０３Ｂの最上部の上昇位置に配置された容器１０４Ｂが設けられている。容器１０４Ｂは、容器１０４Ｂの円周方向側壁部と本体部１０３Ｂの円周方向側壁部との間の摩擦力により上昇位置に保持されていてもよい。任意選択として、本体部１０３Ｂは、容器１０４Ｂを上昇位置に保持可能な１つまたは複数の脆弱保持要素３０２を具備する。
【０１２６】
図３Ａに示すように、カプセル１００Ｂは、カプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。カプセルコンパートメント２０２は、フランジ状リム１１４を用いてカプセル１００Ｂを係止する係止機構２０６のような係止機構を具備していてもよい。図示のように、容器１０４Ｂは、上昇位置に位置付けられている。
【０１２７】
図３Ｂに示すように、圧力印加要素２０４のような圧力印加要素が摺動ガスケット１０５Ｂの上側に圧力を印加するようにしてもよい。圧力印加要素２０４により印加された圧力によって、容器１０４Ｂが本体部１０３Ｂの下側に向かって下方に押されるようになっていてもよい。容器１０４Ｂが封止されていることから、圧力印加要素２０４により印加された圧力によって、摺動ガスケット１０５Ｂが容器１０４Ｂの内側で下方摺動することはないものの、押された容器１０４Ｂが一体となって本体部１０３Ｂ中を下方に摺動する可能性がある。圧力により誘発される力の大きさが容器１０４Ｂの円周方向側壁部と本体部１０３Ｂの円周方向側壁部との間の摩擦力よりも大きいと考えられるため、容器１０４Ｂは、停止要素２１２によって適所に係止されるまで下方に摺動する可能性がある。本体部１０３Ｂが脆弱保持要素３０２を具備する場合は、圧力により誘発される力によって、脆弱保持要素３０２が破壊されるため、停止要素２１２によって適所に係止されるまで容器１０４Ｂが下方に摺動可能となる。
【０１２８】
任意選択として、圧力印加要素２０４は、最初に圧力を容器１０４Ｂ全体および／または少なくとも容器１０４Ｂの円周方向側壁部に印加して、停止要素２１２により適所に係止されるまで、本体部１０３Ｂにおいて容器１０４Ｂ全体を下方に押すように構成されている。容器１０４Ｂが適所（動作位置）に係止された後、圧力印加要素２０４は、圧力を摺動ガスケット１０５Ｂに印加するようにしてもよい。たとえば、圧力印加要素２０４は、容器１０４Ｂの上面のサイズに適合するように構成された第１のサイズならびに摺動ガスケット１０５Ｂおよび／もしくはその一部の上面に適合するように構成された第２のサイズという２つの表面サイズおよび／または直径で調整可能であってもよい。任意選択として、容器１０４Ｂは、カプセル１００Ｂの上面を覆う上部カバーおよび／または上部シールに取り付けられている。上部カバーおよび／または上部シールがカプセル１００Ｂから取り外されて、停止要素２１２により適所に係止されるまで容器１０４Ｂが下方摺動し得るように、容器１０４Ｂが解放されるようになっていてもよい。上部カバーおよび／または常備シールは、カプセルコンパートメント２０２における配置前および／または配置後に、ユーザによる手作業での取り外しおよび／またはネイルポリッシュ塗布装置による自動での取り外しが行われるようになっていてもよい。
【０１２９】
容器１０４Ｂが本体部１０３Ｂの下側に向かって押される間に、容器１０４Ｂの下面は、内部貫通要素３０４により貫通されるようになっていてもよい。容器１０４Ｂの下面の貫通場所は、内部貫通要素３０４により容易に貫通される脆弱エリアとして適応されていてもよい。容器１０４Ｂが貫通されると、容器１０４Ｂに含まれるネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ｂへと解放される。容器１０４Ｂは、停止要素２１２により適所に係止されるまで、下方に押されるようになっていてもよい。
【０１３０】
図３Ｃに示すように、圧力印加要素２０４は、容器１０４Ｂの下面に向かって下方摺動する摺動ガスケット１０５Ｂを押し下げる。摺動ガスケット１０５Ｂが本体部１０３Ｂの下側に向かって移動する結果、容器１０４Ｂにより画定されたリザーバの容積が小さくなるため、リザーバの内圧が高くなる。内圧により解放されたネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ｂに流れ込み、搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０に達するようになっていてもよい。
【０１３１】
ここで図４Ａ、図４Ｂ、および図４Ｃを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第３の実施形態の長手方向断面図である。ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｃは、容器ハウジング１０２のような容器ハウジング１０２Ｃと、摺動ガスケット１０５のような摺動ガスケット１０５Ｃで封止された容器１０４のような容器１０４Ｃとを含む。容器ハウジング１０２Ｃは、本体部１０３のような本体部１０３Ｃおよび吐出ノズル１０８のような吐出ノズル１０８Ｃを備える。吐出ノズル１０８Ｃは、搬送トンネル１１２として機能する鋭い搬送トンネル４０２（たとえば、先の尖った中空ウェッジ、中空ニードル、および／または同等物）を実装する。吐出ノズル１０８Ｃは、ネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素をさらに具備する。容器１０４Ｃは、ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する。カプセル１００Ｃは、封止要素２１０のような１つもしくは複数の封止要素および／または停止要素２１２のような１つもしくは複数の停止要素をさらに具備していてもよい。また、本体部１０３Ｃは、カプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに適応されたフランジ状リム１１４のようなフランジ状リムを具備していてもよい。
【０１３２】
その初期状態において、カプセル１００Ｃには、容器１０４Ｃが鋭い搬送トンネル４０２と接触しないように本体部１０３Ｃの最上部の上昇位置に配置された容器１０４Ｃが設けられている。容器１０４Ｃは、容器１０４Ｃの円周方向側壁部と本体部１０３Ｃの円周方向側壁部との間の摩擦力により上昇位置に保持されていてもよい。任意選択として、本体部１０３Ｃは、容器１０４Ｃを上昇位置に保持し得る脆弱保持要素３０２のような１つまたは複数の脆弱保持要素を具備する。
【０１３３】
図４Ａに示すように、カプセル１００Ｃは、カプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。カプセルコンパートメント２０２は、フランジ状リム１１４を用いてカプセル１００Ｃを係止する係止機構２０６のような係止機構を具備していてもよい。図示のように、容器１０４Ｃは、上昇位置に位置付けられている。
【０１３４】
図４Ｂに示すように、圧力印加要素２０４のような圧力印加要素が摺動ガスケット１０５Ｃの上側に圧力を印加するようにしてもよい。圧力印加要素２０４により印加された圧力によって、容器１０４Ｃが本体部１０３Ｃの下側に向かって下方に押されるようになっていてもよい。カプセル１００Ｃは、カプセル１００Ｂに関して記載したのと同じ機構および技術を適用して、容器１０４Ｃを本体部１０３Ｃの内側に押すようにしてもよい。
【０１３５】
容器１０４Ｃが本体部１０３Ｃの下側に向かって押される間、容器１０４Ｃの下面は、鋭い搬送トンネル４０２により貫通されるようになっていてもよい。容器１０４Ｃの下面の貫通場所は、鋭い搬送トンネル４０２により容易に貫通される脆弱エリアとして適応されていてもよい。容器１０４Ｃが貫通されると、容器１０４Ｃに含まれるネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ｃへと解放される。容器１０４Ｃは、停止要素２１２により適所に係止されるまで、下方に押されるようになっていてもよい。
【０１３６】
図４Ｃに示すように、圧力印加要素２０４は、容器１０４Ｃの下面に向かって下方摺動する摺動ガスケット１０５Ｃを押し下げる。摺動ガスケット１０５Ｃが本体部１０３Ｃの下側に向かって移動する結果、容器１０４Ｃにより画定されたリザーバの容積が小さくなるため、リザーバの内圧が高くなる。内圧により解放されたネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ｃに流れ込み、鋭い搬送トンネル４０２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０に達するようになっていてもよい。
【０１３７】
ここで図５Ａ、図５Ｂ、および図５Ｃを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第４の実施形態の長手方向断面図である。ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｄは、容器ハウジング１０２のような容器ハウジング１０２Ｄと、摺動ガスケット１０５のような摺動ガスケット１０５Ｄで封止された容器１０４のような容器１０４Ｄとを含む。容器ハウジング１０２Ｄは、本体部１０３のような本体部１０３Ｄと、搬送トンネル１１２のような１つまたは複数の搬送トンネルおよびネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を含む吐出ノズル１０８のような吐出ノズルとを備える。容器１０４Ｄは、ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する。カプセル１００Ｄは、封止要素２１０のような１つもしくは複数の封止要素および／または停止要素２１２のような１つもしくは複数の停止要素をさらに具備していてもよい。また、本体部１０３Ｄは、カプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに適応されたフランジ状リム１１４のようなフランジ状リムを具備していてもよい。
【０１３８】
図５Ａに示すように、カプセル１００Ｄは、カプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。カプセルコンパートメント２０２は、フランジ状リム１１４を用いてカプセル１００Ｄを係止する係止機構２０６のような係止機構を具備していてもよい。容器１０４Ｄは、停止要素２１２により適所に係止されるように、カプセルハウジング１０３Ｄに配置されている。
【０１３９】
図５Ｂに示すように、容器１０４Ｄの下面の貫通には、外部貫通要素５０２が用いられる。外部貫通要素５０２は、たとえば搬送トンネル１１２に挿通されて、容器１０４Ｄの下面を穿孔するようにしてもよい。容器１０４Ｄの下面の貫通場所は、外部貫通要素５０２により容易に貫通される脆弱エリアとして適応されていてもよい。別の例において、外部貫通要素５０２は、カプセル１００Ｄの上部から挿入されるようになっていてもよい。外部貫通要素５０２は、ガスケット１０５Ｄに挿通されて、容器１０４Ｄの下面を穿孔するようにしてもよい。ガスケット１０５Ｄは、外部貫通要素５０２が容器１０４Ｄから引き出された後、容器１０４Ｄの上面の開口を再封止して、ガスケット１０５Ｄに穿孔された開口をネイルポリッシュ液１０６が流れないように、高い弾性係数を有する材料で作製されていてもよい。ネイルポリッシュ塗布装置の一部と考えられる外部貫通要素５０２は、カプセル１００Ｄがカプセルコンパートメント２０２に挿入される間に容器１０４Ｄを貫通するのに用いられるようになっていてもよい。任意選択として、外部貫通要素５０２は、たとえば貫通コンパートメントおよび／または同等領域において、カプセル１００Ｄのカプセルコンパートメント２０２への挿入に先立ち、容器１０４を貫通するのに用いられるようになっていてもよい。容器１０４Ｄが貫通された後、容器１０４Ｄに含まれるネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ｄへと解放される。
【０１４０】
図５Ｃに示すように、圧力印加要素２０４のような圧力印加要素は、容器１０４Ｄの下面に向かって下方摺動する摺動ガスケット１０５Ｄを押し下げる。摺動ガスケット１０５Ｄが本体部１０３Ｄの下側に向かって移動する結果、容器１０４Ｄにより画定されたリザーバの容積が小さくなるため、リザーバの内圧が高くなる。内圧により解放されたネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ｄに流れ込み、搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０に達するようになっていてもよい。
【０１４１】
ここで図６Ａおよび図６Ｂを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第５の実施形態の長手方向断面図である。ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｅは、本体部１０３のような本体部１０３Ｅと、搬送トンネル１１２のような１つまたは複数の搬送トンネルおよびネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を含む吐出ノズル１０８のような吐出ノズルとを含む。ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する本体部１０３Ｅは、摺動ガスケット１０５のような摺動ガスケット１０５Ｅで封止される。また、本体部１０３Ｅは、カプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに適応されたフランジ状リム１１４のようなフランジ状リムを具備していてもよい。カプセル１００Ｅは、開口２１４のような１つまたは複数の封止開口６０２をさらに含む。開口６０２は、たとえば搬送トンネル１１２の内側に位置付けられて、ネイルポリッシュ液１０６がネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れないようにしていてもよい。別の例において、開口６０２は、搬送トンネル１１２が本体部１０３Ｅにつながる本体部１０３Ｅの下側に位置付けられていてもよい。
【０１４２】
図６Ａに示すように、カプセル１００Ｅは、カプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。カプセルコンパートメント２０２は、フランジ状リム１１４を用いてカプセル１００Ｅを係止する係止機構２０６のような係止機構を具備していてもよい。
【０１４３】
図６Ｂに示すように、圧力印加要素２０４のような圧力印加要素は、本体部１０３Ｅの下側に向かって下方摺動する摺動ガスケット１０５Ｅを押し下げる。摺動ガスケット１０５Ｅが本体部１０３Ｅの下側に向かって移動する結果、本体部１０３Ｅにより画定されたリザーバの容積が小さくなるため、リザーバの内圧が高くなる。内圧によって本体部１０３Ｅが破砕され、開口６０２の自動的な開放すなわち第１の状態から第２の状態への自動的な遷移によって、本体部１０３Ｅに含まれるネイルポリッシュ液１０６が解放されるようになっていてもよい。さらに、内圧によって、ネイルポリッシュ液１０６が搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れるようになっていてもよい。
【０１４４】
任意選択としては、開口６０２が外部貫通要素５０２のような外部貫通要素により開放されて、ネイルポリッシュ液１０６が搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れるようになっていてもよい。
【０１４５】
ここで図７Ａ、図７Ｂ、および図７Ｃを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第６の実施形態の長手方向断面図である。ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｆは、本体部１０３のような本体部１０３Ｃおよび吐出ノズル１０８Ｃのような吐出ノズル１０８Ｆを備える。摺動ガスケット１０５Ｅのような摺動ガスケット１０５Ｆによって、本体部１０３Ｆの上面の開口が封止される。吐出ノズル１０８Ｆは、鋭い搬送トンネル４０２のような鋭い搬送トンネルと、ネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素とを具備する。また、本体部１０３Ｆは、カプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに適応されたフランジ状リム１１４のようなフランジ状リムを具備していてもよい。
【０１４６】
ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する本体部１０３Ｆは、内部膜表面７０２をさらに含む。膜表面７０２は、ネイルポリッシュ液１０６を本体部１０３Ｆの上部に限定する。膜表面７０２は、鋭い搬送トンネル４０２と接触しないように、本体部１０３Ｆ中に配設されている。
【０１４７】
図７Ａに示すように、カプセル１００Ｆは、カプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。膜表面７０２は、鋭い搬送トンネル４０２と接触しない。カプセルコンパートメント２０２は、フランジ状リム１１４を用いてカプセル１００Ｆを係止する係止機構２０６のような係止機構を具備していてもよい。
【０１４８】
図７Ｂに示すように、圧力印加要素２０４のような圧力印加要素は、本体部１０３Ｆの下側に向かって下方摺動する摺動ガスケット１０５Ｆを押し下げる。本体部１０３Ｆの下側に向かって移動する摺動ガスケット１０５Ｆにより、本体部１０３Ｆの上部の内圧が高くなって、本体部１０３Ｆの上部に含まれるネイルポリッシュ液１０６が膜表面７０２を鋭い搬送トンネル４０２側へと押圧するようにしてもよい。
【０１４９】
図７Ｃに示すように、膜表面７０２は、鋭い搬送トンネル４０２により破砕されるまで、鋭い搬送トンネル４０２に押圧される。膜表面７０２が破砕されると、ネイルポリッシュ液１０６は、本体部１０３Ｆの上部から解放される。摺動ガスケット１０５Ｆが本体部１０３Ｆの下側に向かって摺動し続けると、本体部１０３Ｆにより画定されたリザーバの容積が小さくなってリザーバの内圧が高くなり、解放されたネイルポリッシュ液１０６が鋭い搬送トンネル４０２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０まで流れる。
【０１５０】
任意選択として、カプセル１００Ｆの構成には、カプセル１００Ｂに関して記載した構造および技術を採用する。このような実施形態において、本体部１０３Ｆは、内部貫通要素３０４のような１つまたは複数の内部貫通要素を具備する。膜表面７０２は、内部貫通要素３０４と接触しないように、本体部１０３Ｆ中に配設されている。このような実施形態において、カプセル１００Ｆは、吐出ノズル１０８のような吐出ノズルを利用するようにしてもよい。
【０１５１】
任意選択として、膜表面７０２は、外部貫通要素５０２のような外部貫通要素により破砕されて、ネイルポリッシュ液１０６が搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れ得る封止表面である。
【０１５２】
任意選択として、撹拌要素１１８のような１つまたは複数の撹拌要素が本体部１０３Ｆに配設されている場合、撹拌要素１１８は、膜表面７０２の破砕の補助に用いられるようになっていてもよい。カプセル１００Ｆを振って本体部１０３Ｆに含まれるネイルポリッシュ液１０６を撹拌した場合、撹拌要素１１８は、鋭い搬送トンネル４０２および／または内部貫通要素３０４に対して膜表面７０２を押圧するようにしてもよい。これにより膜表面７０２が破砕され、ネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ｆの上部から解放されるようになっていてもよい。
【０１５３】
ここで図８Ａおよび図８Ｂを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第７の実施形態の長手方向断面図である。ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｇは、本体部１０３のような本体部１０３Ｇと、搬送トンネル１１２のような１つまたは複数の搬送トンネルおよびネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を含む吐出ノズル１０８のような吐出ノズルとを含む。本体部１０３Ｇは、ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する。本体部１０３Ｇの１つまたは複数の高弾性面８０４は、本体部１０３Ｇの他の面８０２の弾性係数よりも大きな弾性係数を有する。カプセル１００Ｇは、開口２１４のような１つまたは複数の封止開口８０６をさらに含んでいてもよい。開口８０６は、たとえば搬送トンネル１１２の内側に位置付けられて、ネイルポリッシュ液１０６がネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れないようにしていてもよい。別の例において、開口８０６は、搬送トンネル１１２が本体部１０３Ｇにつながる本体部１０３Ｇの下側に位置付けられていてもよい。
【０１５４】
図８Ａに示すように、カプセル１００Ｇは、カプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。
【０１５５】
図８Ｂに示すように、圧力印加要素２０４のような圧力印加要素が面８０２を押し下げる。他の例示的な実施形態において、面８０２は、本体部１０３Ｇの側面であってもよく、高弾性面８０４は、本体部１０３Ｇの上面および／または他の側面であってもよい。このような実施形態において、圧力印加要素２０４は、側方から本体部１０３Ｇを押圧するようにしてもよい。当然のことながら、カプセルコンパートメント２０２および圧力印加要素２０４は、高弾性面が本体部１０３Ｇの側面であるカプセル１００Ｇを収容するように構成されていてもよい。
【０１５６】
圧力印加要素２０４が下方に移動すると、高弾性面８０４が折れ曲がるため、本体部１０３Ｇが変形して、本体部１０３Ｇにより画定されたリザーバの容積が小さくなる。容積が小さくなってリザーバの内圧が高くなり、自動的な開放すなわち第１の状態から第２の状態への自動的な遷移が可能な封止開口８０６で本体部１０３Ｇが破砕されて、本体部１０３Ｇに含まれるネイルポリッシュ液１０６が解放されるようになっていてもよい。さらに、内圧により解放されたネイルポリッシュ液１０６が搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れるようになっていてもよい。
【０１５７】
任意選択として、開口８０６は、外部貫通要素５０２のような外部貫通要素により破砕されて、ネイルポリッシュ液１０６が搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れ得る封止表面である。
【０１５８】
ここで図９Ａおよび図９Ｂを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第８の実施形態の長手方向断面図である。ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｈは、本体部１０３のような本体部１０３Ｈと、搬送トンネル１１２のような１つまたは複数の搬送トンネルおよびネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を含む吐出ノズル１０８のような吐出ノズルとを含む。本体部１０３Ｈは、ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する。本体部１０３Ｈは、本体部１０３Ｈの中心軸周りに配設された１つまたは複数の環状のひだ９０２で構成された円周方向側壁部を有する管状本体として構成されている。カプセル１００Ｈは、開口２１４のような１つまたは複数の封止開口９０４をさらに含んでいてもよい。開口９０４は、たとえば搬送トンネル１１２の内側に位置付けられて、ネイルポリッシュ液１０６がネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れないようにしていてもよい。別の例において、開口９０４は、搬送トンネル１１２が本体部１０３Ｈにつながる本体部１０３Ｈの下側に位置付けられていてもよい。
【０１５９】
図９Ａに示すように、カプセル１００Ｈは、カプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。
【０１６０】
図９Ｂに示すように、圧力印加要素２０４のような圧力印加要素が本体部１０３Ｈの上面を押し下げる。圧力印加要素２０４が下方に移動すると、環状のひだ９０２が折れ曲がる（潰れる）ため、本体部１０３Ｈにより画定されたリザーバの容積が小さくなる。容積が小さくなってリザーバの内圧が高くなり、自動的な開放すなわち第１の状態から第２の状態への自動的な遷移が可能な封止開口９０４で本体部１０３Ｈが破砕されて、本体部１０３Ｈに含まれるネイルポリッシュ液１０６が解放されるようになっていてもよい。さらに、内圧により解放されたネイルポリッシュ液１０６が搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れるようになっていてもよい。
【０１６１】
任意選択として、開口９０４は、外部貫通要素５０２のような外部貫通要素により破砕されて、ネイルポリッシュ液１０６が搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れ得る封止表面である。
【０１６２】
ここで図１０Ａおよび図１０Ｂを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第９の実施形態の長手方向断面図である。ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｉは、本体部１０３のような本体部１０３Ｉと、搬送トンネル１１２のような１つまたは複数の搬送トンネルおよびネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を含む吐出ノズル１０８のような吐出ノズルとを含む。本体部１０３Ｉは、ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する。本体部１０３Ｉは、当該本体部１０３Ｉの上面および／または当該本体部１０３Ｉの１つもしくは複数の円周方向側面の上部に位置付け得る１つまたは複数の封止注入開口１００２を含む。本体部１０３Ｉにより画定されたリザーバは、カプセル１００Ｉがカプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに挿入された場合に、本体部１０３Ｉに含まれるネイルポリッシュ液１０６の表面レベルを注入開口１００２が超えるように、何らかの気体１００４（たとえば、空気）を含んでいてもよい。また、本体部１０３Ｉは、カプセルコンパートメント２０２に適応されたフランジ状リム１１４のようなフランジ状リムを具備していてもよい。カプセル１００Ｉは、開口２１４のような１つまたは複数の開口１００６をさらに含んでいてもよい。
【０１６３】
図１０Ａに示すように、カプセル１００Ｉは、カプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。封止注入開口１００２は、ネイルポリッシュ装置の一部である１つまたは複数の貫通要素（たとえば、ニードル、尖った突き出し部、および／または同等物）により開放されるようになっていてもよい。
【０１６４】
図１０Ｂに示すように、ネイルポリッシュ塗布装置の一部である圧縮機１０１０が開放された注入開口１００２を通じて、１つまたは複数の圧縮材料１００８（たとえば、気体（たとえば、気体および／または同等物）、液体（たとえば、水、油および／または同等物）、および／または同等物）を高圧で本体部１０３Ｉに注入するようにしてもよい。注入された圧縮材料１００８によって、本体部１０３Ｉにより画定されたリザーバの内圧が高くなってもよい。リザーバの内圧によって開口１００６で本体部１０３Ｉが破砕され、開口１００６の自動的な開放すなわち第１の状態から第２の状態への自動的な遷移によって、本体部１０３Ｉに含まれるネイルポリッシュ液１０６が解放されるようになっていてもよい。さらに、内圧により解放されたネイルポリッシュ液１０６が搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れるようになっていてもよい。
【０１６５】
任意選択として、開口１００６は、外部貫通要素５０２のような外部貫通要素により破砕されて、ネイルポリッシュ液１０６が搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れ得る封止表面である。
【０１６６】
ここで図１１Ａ、図１１Ｂ、および図１１Ｃを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１０および第１１の実施形態の長手方向断面図である。ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｊは、本体部１０３のような本体部１０３Ｊと、搬送トンネル１１２のような１つまたは複数の搬送トンネル１１２Ｊおよびネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を含む吐出ノズル１０８のような吐出ノズル１０８Ｊとを含む。本体部１０３Ｊは、ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する。搬送トンネル１１２Ｊおよび／またはその一部の１つまたは複数の長手方向面は、高い弾性係数を有する１つまたは複数の材料（たとえば、ポリマー）で構成されている。搬送トンネル１１２Ｊの高弾性の長手方向面は、圧力が印加された場合に屈曲および／または皺折するようになっていてもよい。カプセル１００Ｊは、搬送トンネル１１２Ｊに位置付け得る開口２１４のような１つまたは複数の開口１１０２をさらに含んでいてもよい。
【０１６７】
図１１Ａに示すように、カプセル１００Ｊは、カプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。
【０１６８】
図１１Ｂに示すように、ネイルポリッシュ塗布装置の一部である蠕動ポンプ１１０４が搬送トンネル１１２Ｊに適用されるようになっていてもよい。すなわち、搬送トンネル１１２Ｊの高弾性の長手方向面に押圧されるようになっていてもよい。蠕動ポンプ１１０４は、搬送トンネル１１２Ｊにおいて、ネイルポリッシュ液１０６を本体部１０３Ｊからネイルポリッシュ塗布要素１１０に抜去（吸引）し得る変位運動を含んでいてもよい。本体部１０３Ｊは、空気が本体部１０３Ｊに入って、抜去されたネイルポリッシュ液１０６を置き換えることにより、本体部１０３Ｊの真空を防止するとともに、変位運動によるネイルポリッシュ液１０６の本体部１０３Ｊからの抜去を可能にする１つまたは複数の空気開口１１０６を含んでいてもよい。通常は（すなわち、カプセル１００Ｊの使用前は）閉鎖される空気開口１１０６は、ネイルポリッシュ装置の一部である１つまたは複数の貫通要素（たとえば、ニードル、尖った突き出し部、および／または同等物）により開放されるようになっていてもよい。
【０１６９】
任意選択として、開口１１０２は、外部貫通要素５０２のような外部貫通要素により破砕されて、ネイルポリッシュ液１０６が搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れ得る封止表面である。
【０１７０】
任意選択として、図１１Ｃに示すように、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００のような例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００Ｊ１の本体部１０３Ｋの１つまたは複数の面は、高い弾性係数を有する１つまたは複数の材料で構成された高弾性面である。たとえば、本体部１０３Ｊ１の上部（たとえば、本体部１０３Ｊ１の上面（または、その一部）および／または側面の上部）は、たとえばナイロンで構成されている。高弾性面は、本体部１００Ｊ１により画定されたリザーバの圧力が低い場合に皺折するようになっていてもよい。蠕動ポンプ１１０４が搬送トンネル１１２Ｊの高弾性の長手方向面に押圧されて、搬送トンネル１１２Ｊに変位運動が誘発されるようになっていてもよい。変位運動によって、本体部１０３Ｊ１からネイルポリッシュ塗布要素１１０に向かってネイルポリッシュ液１０６が抜去されるようになっていてもよい。ネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ｊ１から抜去されると、本体部１０３Ｊ１の圧力が低下し、本体部１０３Ｊ１の高弾性面が皺折するため、本体部１０３Ｊ１の真空が防止されるとともに、変位運動によるネイルポリッシュ液１０６の本体部１０３Ｊ１からの抜去が可能となり得る。
【０１７１】
ここで図１２Ａ、図１２Ｂ、および図１２Ｃを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１２および第１３の実施形態の長手方向断面図である。
【０１７２】
図１２Ａおよび図１２Ｂは、本体部１０３のような本体部１０３Ｋおよび吐出ノズル１０８Ｃのような吐出ノズル１０８Ｋを備えたネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｋを表す。摺動ガスケット１０５Ｅのような摺動ガスケット１０５Ｋによって、本体部１０３Ｋの上面の開口が封止される。吐出ノズル１０８Ｋは、鋭い搬送トンネル４０２のような鋭い搬送トンネルと、ネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素とを具備する。また、本体部１０３Ｋは、カプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに適応されたフランジ状リム１１４のようなフランジ状リムを具備していてもよい。ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する本体部１０３Ｋは、本体部１０３Ｋの上部にネイルポリッシュ液を含む膜表面７０２のような内部膜表面１２０２をさらに含む。カプセル１００Ｋは、摺動ガスケット１０５Ｋの上に１つまたは複数の磁気要素１２０４をさらに具備していてもよい。磁気要素１２０４は、印加される磁場に応じて、引き付けおよび／または反発がなされるようになっていてもよい。任意選択として、磁気要素１２０４は、ネイルポリッシュ塗布装置の一部であり、カプセル１００Ｋをカプセルコンパートメント２０２に挿入した後は、磁気要素１２０４は、たとえば本体部１０３Ｋの上面、特に摺動ガスケット１０５Ｋの上に配置される。
【０１７３】
図１２Ａに示すように、カプセル１００Ｋは、カプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。膜表面１２０２は、鋭い搬送トンネル４０２と接触しない。カプセルコンパートメント２０２は、フランジ状リム１１４を用いてカプセル１００Ｆを係止する係止機構２０６のような係止機構を具備していてもよい。カプセルコンパートメント２０２は、１つまたは複数の磁場発生器１２０６（たとえば、ソレノイドおよび／または同等物）をさらに具備していてもよい。磁場発生器１２０６は、たとえば電流が内部に駆動された場合に磁場を発生させるようにしてもよい。発生磁場の方向、大きさ、および／または他の磁場パラメータは、電流特性によって決まり得る。磁場発生器１２０６は、カプセルコンパートメント２０２の底部に位置付けられ、磁場の発生によって、磁気要素１２０４を引き付けるように構成されていてもよい。任意選択として、磁場発生器１２０６は、カプセル１００Ｋの上方に位置付けられ、磁場の発生によって、磁気要素１２０４を引き離すように構成されていてもよい。
【０１７４】
図１２Ｂに示すように、磁場発生器１２０６は、磁気材料１２０４を引き付けて圧力を摺動ガスケット１０５Ｋに印加する磁場を誘発してもよい。任意選択として、磁場発生器１２０６は、摺動ガスケット１０５Ｋの上方に位置付けられている場合、磁気材料１２０４を引き離して圧力を摺動ガスケット１０５Ｋに印加する磁場を誘発してもよい。ガスケット１０５Ｋの上部から印加された圧力が本体部１０３Ｋの下側に向かって摺動ガスケット１０５Ｋを押し下げるようにしてもよい。本体部１０３Ｋの下側に向かって移動する摺動ガスケット１０５Ｋにより、本体部１０３Ｋの上部の内圧が高くなって、本体部１０３Ｋの上部に含まれるネイルポリッシュ液１０６が膜表面１２０２を鋭い搬送トンネル４０２側へと押圧するようにしてもよい。膜表面１２０２は、鋭い搬送トンネル４０２により破砕されるまで、鋭い搬送トンネル４０２に押圧されるようになっていてもよい。膜表面１２０２が破砕されると、ネイルポリッシュ液１０６は、本体部１０３Ｋの上部から解放される。摺動ガスケット１０５Ｋが本体部１０３Ｋの下側に向かって摺動し続けると、本体部１０３Ｋにより画定されたリザーバの容積が小さくなってリザーバの内圧が高くなり、解放されたネイルポリッシュ液１０６が鋭い搬送トンネル４０２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０まで流れる。
【０１７５】
任意選択として、１つまたは複数の鋭い磁気要素が本体部に配設されている。図１２Ｃは、本体部１０３のような本体部１０３Ｌおよび吐出ノズル１０８のような吐出ノズルを備えたネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｌを表す。摺動ガスケット１０５Ｅのような摺動ガスケット１０５Ｌによって、本体部１０３Ｌの上面の開口が封止される。また、本体部１０３Ｌは、カプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに適応されたフランジ状リム１１４のようなフランジ状リムを具備していてもよい。本体部１０３Ｌは、本体部１０３Ｌの上部にネイルポリッシュ液を含む内部膜表面１２０２をさらに含む。カプセル１００Ｌは、摺動ガスケット１０５Ｌの上に配置された１つまたは複数の磁気要素１２０４をさらに具備していてもよい。カプセル１００Ｌは、膜表面１２０２によって本体部１０３Ｌの上部に含まれるネイルポリッシュ液１０６中に配設された１つまたは複数の鋭い磁気要素１２０８をさらに具備する。
【０１７６】
カプセル１００Ｌは、磁場発生器１２０６を有するカプセルコンパートメント２０２に挿入されるようになっていてもよい。磁場発生器１２０６（たとえば、電流により励起）によって磁場が発生した場合、鋭い磁気要素１２０８は、磁場源すなわち磁場発生器１２０６に向かって引き付けられるようになっていてもよい。鋭い磁気要素１２０８は、磁場発生器１２０６に向かって移動する間、膜表面１２０２を押圧することにより、膜表面１２０２を破砕するようにしてもよい。任意選択として、鋭い磁気要素１２０８の１つまたは複数の端部、面、および／または側部に、鋭い磁気要素１２０８の穿孔能力を向上させる先の尖った端部を含む。
【０１７７】
ここで図１３Ａ、図１３Ｂ、および図１３Ｃを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１４の実施形態の長手方向断面図である。ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｍは、本体部１０３のような本体部１０３Ｍおよび吐出ノズル１０８Ｃのような吐出ノズル１０８Ｍを備える。吐出ノズル１０８Ｌは、鋭い搬送トンネル４０２のような鋭い搬送トンネルと、ネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素とを具備する。また、本体部１０３Ｍは、カプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに適応されたフランジ状リム１１４のようなフランジ状リムを具備していてもよい。
【０１７８】
カプセル１００Ｍは、本体部１０３Ｍの内側に配設された内側容器１３０２をさらに具備する。本体部１０３Ｍがリザーバを画定する一方、内側容器１３０２は、ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含む。内側容器１３０２は、鋭い搬送トンネル４０２と接触しないように、本体部１０３Ｍ中に配設されていてもよい。
【０１７９】
カプセル１００Ｍは、上述のカプセル実施形態（たとえば、摺動ガスケット１０５Ｅを有するカプセル１００Ｅ、１つまたは複数の高弾性面を有するカプセル１００Ｇ、１つまたは複数の環状のひだを有するカプセル１００Ｈ、および／または同等カプセル）のうちの１つまたは複数の構成を採用してもよい。簡素化のため、カプセル１００Ｅの機構を説明するが、これは、何ら限定とは解釈されないものとする。上記実施形態においては、摺動ガスケット１０５Ｅのような摺動ガスケット１０５Ｍによって、本体部１０３Ｍの上面の開口が封止される。
【０１８０】
図１３Ａに示すように、カプセル１００Ｍは、カプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。内側容器１３０２は、鋭い搬送トンネル４０２と接触しない。カプセルコンパートメント２０２は、フランジ状リム１１４を用いてカプセル１００Ｍを係止する係止機構２０６のような係止機構を具備していてもよい。
【０１８１】
図１３Ｂに示すように、圧力印加要素２０４のような圧力印加要素は、本体部１０３Ｍの下側に向かって下方摺動する摺動ガスケット１０５Ｍを押し下げる。本体部１０３Ｍの下側に向かって移動する摺動ガスケット１０５Ｍは、鋭い搬送トンネル４０２により破砕されるまで、内側容器１３０２を鋭い搬送トンネル４０２に押圧するようにしてもよい。
【０１８２】
図１３Ｃに示すように、内側容器１３０２が破砕されると、ネイルポリッシュ液１０６が内側容器１３０２から、本体部１０３Ｍにより画定されたリザーバへと解放される。摺動ガスケット１０５Ｍが本体部１０３Ｍの下側に向かって摺動し続けると、本体部１０３Ｍにより画定されたリザーバの容積が小さくなってリザーバの内圧が高くなり、解放されたネイルポリッシュ液１０６が鋭い搬送トンネル４０２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０まで流れる。
【０１８３】
任意選択として、カプセル１００Ｍの構成には、カプセル１００Ｂに関して記載した構造および技術を採用する。このような実施形態において、本体部１０３Ｍは、内部貫通要素３０４のような１つまたは複数の内部貫通要素を具備する。内側容器１３０２は、内部貫通要素３０４と接触しないように、本体部１０３Ｍ中に配設されている。このような実施形態において、カプセル１００Ｍは、吐出ノズル１０８のような吐出ノズルを利用するようにしてもよい。
【０１８４】
任意選択としては、内側容器１３０２が外部貫通要素５０２のような外部貫通要素により破砕されて、ネイルポリッシュ液１０６が搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れるようになっていてもよい。
【０１８５】
ここで図１４Ａ、図１４Ｂ、および図１４Ｃを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１５の実施形態の長手方向断面図である。ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｎは、本体部１０３のような本体部１０３Ｎおよび吐出ノズル１０８のような吐出ノズル１０８Ｎを備える。吐出ノズル１０８Ｎは、搬送トンネル１１２のような１つまたは複数の搬送トンネル１１２Ｎと、ネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素とを備える。摺動ガスケット１０５Ｅのような摺動ガスケット１０５Ｎによって、本体部１０３Ｎの上部開口が封止される。搬送トンネル１１２Ｎおよび／またはその一部の１つまたは複数の長手方向面は、高い弾性係数を有する１つまたは複数の材料（たとえば、ポリマー）で構成されている。搬送トンネル１１２Ｎの高弾性の長手方向面は、圧力が印加された場合に屈曲および／または皺折するようになっていてもよい。搬送トンネル１１２Ｎには、１つまたは複数の封止開口１４０２（たとえば、脆弱表面）が配設されている。
【０１８６】
図１４Ａに示すように、カプセル１００Ｎは、カプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに挿入されていてもよい。封止開口１４０２は、本体部１０３Ｎの内側にネイルポリッシュ液１０６を含む障壁を構成する。
【０１８７】
図１４Ｂに示すように、搬送トンネル１１２Ｎの長手方向面のうちの１つまたは複数に対して、ネイルポリッシュ塗布装置の圧力印加要素１４０４が圧力を印加するようにしてもよい。圧力印加要素１４０４により印加された圧力によって、搬送トンネル１１２Ｎが変形（たとえば、屈曲、皺折、および／または同等変形）することにより、搬送トンネル１１２Ｎの内側に配設された封止開口１４０２が破壊されるようになっていてもよい。任意選択として、ネイルポリッシュ塗布装置は、カプセル１００Ｎがカプセルコンパートメント２０２に挿入される前に、圧力印加要素１４０４および／または１つもしくは複数の他の機構を使用して、搬送トンネル１１２Ｎを変形させるようにしてもよい。いくつかの実施形態において、ユーザは、搬送トンネル１１２Ｎを手作業で変形させることにより、封止開口１４０２を破壊するようにしてもよい。ユーザは、カプセル１００Ｎがカプセルコンパートメント２０２に挿入される前および／またはカプセル１００Ｎがカプセルコンパートメント２０２に位置付けられる間に、搬送トンネル１１２Ｎを変形させるようにしてもよい。
【０１８８】
図１４Ｃに示すように、封止開口１４０２が破砕（破壊）されると、ネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ｎの内側容器から解放される。摺動ガスケット１０５Ｎが本体部１０３Ｎの下側に向かって摺動すると、本体部１０３Ｎにより画定されたリザーバの容積が小さくなってリザーバの内圧が高くなり、解放されたネイルポリッシュ液１０６が搬送トンネル１１２Ｎを通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０まで流れる。
【０１８９】
ここで図１５Ａおよび図１５Ｂを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１６の実施形態の長手方向断面図である。ネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｏ（たとえば、カプセル１００Ｏ）は、本体部１０３のような本体部１０３Ｏおよび吐出ノズル１０８のような吐出ノズルを備える。本体部１０３Ｏは、分離壁により互いに分離された１つまたは複数の封止チャンバ（たとえば、１０３Ｏ−１および１０３Ｏ−２）に分割されていてもよい。チャンバ１０３Ｏ−１および１０３Ｏ−２はそれぞれ、ネイルポリッシュ液１０６のような異なる種類のネイルポリッシュ液を含んでいてもよい。たとえば、チャンバ１０３Ｏ−１がネイルポリッシュ液１０６Ａを含み、チャンバ１０３Ｏ−２がネイルポリッシュ液１０６Ｂを含んでいてもよい。チャンバ１０３Ｏ−１および１０３Ｏ−２はそれぞれ、開口２１４のような１つまたは複数の開口１５０２を含んでいてもよい。たとえば、チャンバ１０３Ｏ−１が開口１５０２Ａを含み、チャンバ１０３Ｏ−２が開口１５０２Ｂを含んでいてもよい。任意選択としては、単一の開口１５０２がチャンバ１０３Ｏ−１およびチャンバ１０３Ｏ−２の両者として利用されるようになっていてもよく、たとえば、チャンバ１０３Ｏ−１とチャンバ１０３Ｏ−２との間の１つまたは複数の接点（たとえば、分離壁の直下）に単一の開口１５０２が位置付けられていてもよい。
【０１９０】
図１５Ａに示すように、カプセル１００Ｏは、カプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに挿入されていてもよい。封止開口１５０２Ａおよび１５０２Ｂは、各チャンバ１０３Ｏ−１および１０３Ｏ−２の内側にネイルポリッシュ液１０６を含む障壁を構成する。
【０１９１】
図１５Ｂに示すように、圧力印加要素２０４のような圧力印加要素が本体部１０３Ｏの１つまたは複数の面（たとえば、上面）に圧力を印加する。圧力印加要素２０４が下方に移動すると、本体部１０３Ｏの高弾性面が折れ曲がるため、本体部１０３Ｏが変形して、本体部１０３Ｏにより画定されたリザーバの容積が小さくなる。容積が小さくなってリザーバの内圧が高くなり、自動的な開放すなわち第１の状態から第２の状態への自動的な遷移が可能な開口１５０２Ａおよび１５０２Ｂが破砕されて、チャンバ１０３Ｏ−１および１０３Ｏ−２それぞれに含まれるネイルポリッシュ液１０６Ａおよび１０６Ｂが本体部１０３Ｏの下部へと解放されるようになっていてもよい。２種類のネイルポリッシュ液１０６Ａおよび１０６Ｂは、混ざり合って、混合ネイルポリッシュ液１０６Ｃを構成するようになっていてもよい。さらに、内圧によって、混合ネイルポリッシュ液１０６Ｃが搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れるようになっていてもよい。
【０１９２】
任意選択として、開口１５０２Ａおよび／または１５０２Ｂは、外部貫通要素５０２のような外部貫通要素による破砕によって、ネイルポリッシュ液１０６Ａおよび／または１０６Ｂがチャンバ１０３Ｏ−１および／または１０３Ｏ−２それぞれから本体部１０３Ｏへと解放される封止表面である。圧力印加要素２０４が本体部１０３Ｏをさらに変形させると、本体部１０３Ｏにより画定されたリザーバの内圧が高くなり、混合ネイルポリッシュ液１０６Ｃが搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れるようになっていてもよい。
【０１９３】
ここで図１６Ａおよび図１６Ｂを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的な分注コンパートメントに挿入されたネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的な第１７および第１８の実施形態の長手方向断面図である。
【０１９４】
図１６Ａは、容器ハウジング１０２のような容器ハウジング１０２Ｐと、摺動ガスケット１０５のような摺動ガスケット１０５Ｐで封止された容器１０４のような容器１０４Ｐとを含むネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｐを表す。容器ハウジング１０２Ｐは、本体部１０３のような本体部１０３Ｐと、搬送トンネル１１２のような１つまたは複数の搬送トンネルおよびネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を含む吐出ノズル１０８のような吐出ノズルとを備える。容器１０４Ｐは、ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する。また、本体部１０３Ｐは、カプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに適応されたフランジ状リム１１４のようなフランジ状リムを具備していてもよい。容器１０４Ｐは、当該容器１０４Ｐの上面および／または当該容器１０４Ｐの１つもしくは複数の側面の上端に位置付け得る開口２１４のような１つまたは複数の開口１６０２を含んでいてもよい。本体部１０３Ｐは、当該本体部１０３Ｐの上面に開口を含むことにより、圧力印加要素２０４のような圧力印加要素が摺動ガスケット１０５Ｐの上側に圧力を印加可能であってもよい。本体部１０３Ｐの上面の開口は、開口の外周の周りの１つまたは複数の封止要素と適応されて、圧力印加要素２０４が本体部１０３Ｐの内側で移動している間に本体部１０３Ｐを封止するようにしてもよい。
【０１９５】
カプセル１００Ｐは、カプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに挿入されていてもよい。圧力印加要素２０４は、容器１０４Ｐの下面に向かって下方摺動する摺動ガスケット１０５Ｐを押し下げるようにしてもよい。本体部１０３Ｐは、停止要素２１２のような１つまたは複数の停止要素を具備することにより、圧力印加要素２０４が摺動ガスケット１０５Ｐを押圧している間、容器１０４Ｐを適所に固定するようにしてもよい。摺動ガスケット１０５Ｐが本体部１０３Ｐの下側に向かって移動する結果、容器１０４Ｐにより画定されたリザーバの容積が小さくなるため、リザーバの内圧が高くなる。内圧によって容器１０４Ｐが破砕され、開口１６０２の自動的な開放すなわち第１の状態から第２の状態への自動的な遷移によって、容器１０４Ｐに含まれるネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ｐへと解放されるようになっていてもよい。さらに、内圧により解放されたネイルポリッシュ液１０６が容器１０４Ｐの円周方向壁部と本体部１０３Ｐの円周方向壁部との間に流れ込み、搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０に達するようになっていてもよい。
【０１９６】
図１６Ｂは、容器ハウジング１０２のような容器ハウジング１０２Ｑと、容器１０４のような容器１０４Ｑとを含むネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００の例示的な一実施形態１００Ｑを表す。容器ハウジング１０２Ｑは、本体部１０３のような本体部１０３Ｑと、搬送トンネル１１２のような１つまたは複数の搬送トンネルおよびネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を含む吐出ノズル１０８のような吐出ノズルとを備える。容器１０４Ｑは、ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液を含むように構成されたリザーバを画定する。容器１０４Ｑは、当該容器１０４Ｑの下面に開口を有するとともに、下面の開口を封止する摺動ガスケット１０５のような摺動ガスケット１０５Ｑを有するように構成されている。容器１０４Ｑは、当該容器１０４Ｑの上面に位置付け得る開口２１４のような１つまたは複数の開口１６０２をさらに含んでいてもよい。本体部１０３Ｑは、容器１０４Ｑから解放されたネイルポリッシュ液１０６を搬送トンネル１１２に搬送する１つまたは複数の搬送トンネル１６０４を具備していてもよい。また、本体部１０３Ｑは、カプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントに適応されたフランジ状リム１１４のようなフランジ状リムを具備していてもよい。
【０１９７】
カプセル１００Ｑは、圧力印加要素２０４のような圧力印加要素に、容器１０４Ｑの上面に向かって摺動ガスケット１０５Ｑを押させるように構成されたカプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。本体部１０３Ｑは、停止要素２１２のような１つまたは複数の停止要素を具備することにより、圧力印加要素２０４が摺動ガスケット１０５Ｑを押圧している間、容器１０４Ｑを適所に固定するようにしてもよい。摺動ガスケット１０５Ｑが本体部１０３Ｑの上側に向かって移動する結果、容器１０４Ｑにより画定されたリザーバの容積が小さくなるため、リザーバの内圧が高くなる。内圧によって容器１０４Ｑが破砕され、開口１６０２の自動的な開放すなわち第１の状態から第２の状態への自動的な遷移によって、容器１０４Ｑに含まれるネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ｑへと解放されるようになっていてもよい。さらに、内圧により解放されたネイルポリッシュ液１０６が搬送トンネル１６０４および搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０へと流れるようになっていてもよい。
【０１９８】
任意選択として、本体部１０３Ｑは、当該本体部１０３Ｑの上面の内側に位置付け得る内部貫通要素３０４のような１つまたは複数の内部貫通要素１６０６を具備する。容器１０４Ｑが本体部１０３Ｑの上面に向かって上方に押された場合は、内部貫通要素１６０６が容器１０４Ｑを破砕することにより、容器１０４Ｑに含まれるネイルポリッシュ液１０６が本体部１０３Ｑへと解放されるようになっていてもよい。
【０１９９】
ここで図１７Ａおよび図１７Ｂを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、上部シールを備えた例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの長手方向断面図である。カプセル１００のような例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルは、本体部１０３のような本体部と、搬送トンネル１１２のような１つまたは複数の搬送トンネルおよびネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を含む吐出ノズル１０８のような吐出ノズルとを具備する。さらに、カプセル１００は、容器ハウジング１０２のような容器ハウジングおよび容器１０４のような容器で構成されていてもよい。
【０２００】
カプセル１００は、本体部１０３を封止することにより、空気が空気に触れることを防止するほか、ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液の１つまたは複数の成分の蒸発を防止し得る上部シール１７０２を具備していてもよい。上部シール１７０２は、１つまたは複数の材料（たとえば、ポリマー、金属箔（たとえば、アルミ箔および／または同等物）、セラミック材料、および／または同等物）から作製されていてもよい。任意選択として、上部シール１７０２の作製に用いられる材料は、ネイルポリッシュ液の１つまたは複数の成分（たとえば、溶媒）が上部シール１７０２を通じて拡散することなく、時間とともに蒸発することのないように、低い透過係数を特徴とする。
【０２０１】
上部シール１７０２は、１つまたは複数の制動ジョイント１３０４、特に本体部１０３の外周の周り（たとえば、フランジ状リム１１４のようなフランジ状リムの上方）に配設された制動ジョイントと適応されていてもよい。
【０２０２】
図１７Ａに示すように、カプセル１００Ｅは、カプセルコンパートメント２０２に挿入されていてもよい。カプセルコンパートメント２０２は、フランジ状リム１１４を用いてカプセル１００を係止する係止機構２０６のような係止機構を具備していてもよい。特に、係止機構２０６は、上部シール１７０２の縁部（外周）を押すようにしてもよい。
【０２０３】
図１７Ｂに示すように、圧力印加要素２０４のような圧力印加要素は、本体部１０３の下側に向かって下方摺動する摺動ガスケット１０５を押し下げる。摺動ガスケット１０５が本体部１０３の下側に向かって移動する結果、上部シール１７０２は、破壊、引き裂き、刈り取り、および／または破砕がなされるようになっていてもよい。特に、上部シール１７０２は、制動ジョイント１３０４で破壊されるようになっていてもよい。上部シール１７０２の外周部１７０２Ａが本体部１０３の上部に残されるようになっていてもよく、特に、外周部１７０２Ａがフランジ状リム１１４と係止機構２０６との間に捕らえられる一方、外周部１７０２Ａから引き裂かれる上部シール１７０２の中央部１７０２Ｂが圧力印加要素２０４と摺動ガスケット１０５との間に捕らえられるようになっていてもよい。
【０２０４】
任意選択として、上部シール１７０２は、ユーザにより手作業で取り外される。いくつかの実施形態において、上部シール１７０２は、圧力印加要素２０４の適用に先立って、ネイルポリッシュ塗布装置により自動的に取り外される。
【０２０５】
ここで図１８を参照して、これは、本発明の例示的な一実施形態に係る、調節可能シャッターを備えた例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの長手方向断面図である。カプセル１００のような例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルは、本体部１０３のような本体部と、搬送トンネル１１２のような１つまたは複数の搬送トンネルおよびネイルポリッシュ塗布要素１１０のような一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を含む吐出ノズル１０８のような吐出ノズルとを具備する。カプセル１００は、容器ハウジング１０２および容器１０４でさらに構成されていてもよい。
【０２０６】
カプセル１００は、吐出ノズル１０８に設置された動的調節可能シャッター１８０２を具備していてもよい。シャッター１８０２は、搬送トンネル１１２を通ってネイルポリッシュ塗布要素１１０に至るネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液の流量の制御に用いられるようになっていてもよい。シャッター１８０２は、２つ以上の動作状態に設定可能な遮断要素（たとえば、ねじ、機械的弁、電磁弁、プレスレバー、および／または同等物）を具備していてもよい。第１の状態において、シャッター１８０２は、搬送トンネル１１２を通るネイルポリッシュ液１０６の流れを遮断するようにしてもよい。１つまたは複数の他の状態において、シャッター１８０２は、搬送トンネル１１２を通るネイルポリッシュ液１０６の少なくとも部分的な流れを許可するように調整される。
【０２０７】
シャッター１８０２は、特にねじ、プレスレバー、および／または同等物として利用される場合、ネイルポリッシュ塗布装置のユーザにより動作されるようになっていてもよい。この追加および／または代替として、シャッター１８０２は、特に機械的弁、電磁弁、および／または同等物として利用される場合、ネイルポリッシュ塗布装置により制御されるようになっていてもよい。たとえば、ネイルポリッシュ塗布装置は、電磁弁に磁場を印加することにより、磁場の大きさに対して動作状態間を遷移するようになっていてもよい。別の例において、シャッター１８０２、特にプレスレバーは、たとえばカプセルコンパートメント２０２のようなカプセルコンパートメントにカプセル１００が配置された場合に、ネイルポリッシュ塗布装置のシャッター制御要素を機械的に結合（接続）するように構成されていてもよい。ネイルポリッシュ塗布装置は、シャッター制御要素をシフト、移動、および／または操作して、プレスレバーを開放および／または閉鎖するようにしてもよい。
【０２０８】
任意選択として、シャッター１８０２は、カプセル１００Ｄではなく分注装置の一部である。たとえば、シャッター１８０２は、搬送トンネル１１２を通るネイルポリッシュ液１０６の流れを制御するように調整し得る蠕動ポンプ１１０４のような蠕動ポンプによって利用されるようになっていてもよい。当然のことながら、このような実施形態において、カプセル１００は、カプセル１００Ｊの吐出ノズル１０８Ｊのような吐出ノズルで構成されていてもよい。
【０２０９】
ここで図１９Ａ、図１９Ｂ、図１９Ｃ、図１９Ｄ、図１９Ｅ、図１９Ｆ、図１９Ｇ、図１９Ｈ、図１９Ｉ、図１９Ｊ、図１９Ｋ、および図１９Ｌを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、ネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の長手方向断面図である。図１９Ａ〜図１９Ｊは、カプセル１００のようなネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの吐出ノズル１０８のような吐出ノズルと一体化されたネイルポリッシュ塗布要素１１０のような複数の例示的なネイルポリッシュ塗布要素を表す。ネイルポリッシュ塗布要素１１０の近位端は、吐出ノズル１０８の搬送トンネル１１２のような搬送トンネルにつながる。
【０２１０】
図１９Ａに示すように、例示的なネイルポリッシュ塗布要素１１０の一実施形態１１０Ａは、複数の毛束１９０２を含む。搬送トンネル１１２から出たネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液は、複数の毛束１９０２上を流れて、毛束１９０２が爪表面に沿って移動する際に当該爪表面に塗布されるようになっていてもよい。毛束１９０２は、たとえば合成毛束、有機毛束（たとえば、人間、動物等）、および／またはこれらの組み合わせを含んでいてもよい。
【０２１１】
図１９Ｂに示すように、例示的なネイルポリッシュ塗布要素１１０の一実施形態１１０Ｂは、複数の毛束７０４を含み、搬送トンネル１１２のような搬送トンネル１１２Ａが複数の毛束１９０２に延入して、ネイルポリッシュ液１０６を複数の毛束１９０２上で均一に搬送する。
【０２１２】
図１９Ｃに示すように、例示的なネイルポリッシュ塗布要素１１０の一実施形態１１０Ｃは、複数の毛束１９０２を含む。複数の毛束１９０２に延入する搬送トンネル１１２のような搬送トンネル１１２Ｂが１つまたは複数の噴霧出口１９０４を含むことにより、複数の毛束１９０２へのネイルポリッシュ液１０６の分注の均一性が向上する。噴霧出口１９０４は、たとえば複数の毛束７０４内に位置付けられた搬送トンネル１１２Ｂの遠位端における孔として利用されるようになっていてもよい。さらに、噴霧出口１９０４は、たとえば複数の毛束１９０２に延入する弾性管として利用されるようになっていてもよい。
【０２１３】
図１９Ｄに示すように、例示的なネイルポリッシュ塗布要素１１０の一実施形態１１０Ｄは、複数の毛束１９０２を含む。複数の毛束１９０２に延入する搬送トンネル１１２のような搬送トンネル１１２Ｃの少なくとも１つの遠位開口が細長開口として構成され、ネイルポリッシュ液１０６を複数の毛束１９０２上で均一に搬送する。任意選択として、搬送トンネル１１２Ｃは、複数の毛束１９０２に延入する細長プロファイルを有するストリップ（スロット）として構成される。
【０２１４】
図１９Ｅに示すように、例示的なネイルポリッシュ塗布要素１１０の一実施形態１１０Ｅは、内部分注トンネルを有する１つまたは複数の弾性管１９０６を含む。弾性管１９０６は、搬送トンネル１１２のような搬送トンネル１１２Ｄにつながって、ネイルポリッシュ液１０６を受け取るとともに、爪表面に分注する。弾性管１９０６は、爪表面に沿って移動する際に当該爪表面に適応するように柔軟であってもよい。
【０２１５】
たとえば、図１９Ｆに示すように、一実施形態１１０Ｅ１は、ネイルポリッシュ液１０６を搬送トンネル１１２からニードル１９０６＿１のネイルポリッシュ塗布先端１９１２に搬送する中空の内部トンネル（空隙）を有する少なくとも部分的に柔軟な注射針として構成された単一の弾性管１９０６＿１を含んでいてもよい。カプセル１００は、自動化されたネイルポリッシュ塗布装置により移動され、ネイルポリッシュ塗布先端１９１２が爪表面に接触してネイルポリッシュ液１０６を爪表面に塗布し得るように位置決めされていてもよい。ニードル１９０６＿１の内部トンネルの直径は、１つまたは複数のネイルポリッシュ塗布パラメータ（たとえば、ニードル１９０６＿１の外径、ネイルポリッシュ液の粘度、ネイルポリッシュ塗布装置がカプセル１００を移動させる直線速度、および／または同等パラメータ）に従って適応されていてもよい。たとえば、ニードル１９０６＿１の内部トンネルの直径は、０．１ｍｍ〜３ｍｍの範囲であってもよい。
【０２１６】
ニードル１９０６＿１が柔軟であることから、カプセル１００は、ネイルポリッシュ塗布先端１９１２が爪表面にわずかに押圧されるように爪表面に対して柔軟なニードル１９０６＿１を位置決めするように、さらに操作されるようになっていてもよい。したがって、カプセルを移動させてネイルポリッシュ液１０６を爪表面に塗布する場合、ネイルポリッシュ塗布先端１９１２は、ネイルポリッシュ液１０６が現在塗布されている爪表面エリアの形状、外形、曲率、および／または同等特性に対する正確な追従および／または調整がなされるようになっていてもよい。これにより、ネイルポリッシュ塗布の結果が大幅に改善され得る。爪表面の各点に対するネイルポリッシュ塗布先端１９１２の正確な調整により、ネイルポリッシュ液１０６の指定された爪表面エリアへの分配が大幅に改善され得るためである。また、この動的な調整によって、爪表面全体にわたるネイルポリッシュ液１０６の均一なレベリングが大幅に改善され得る。爪表面の各点に対して、実質的に同様の条件で塗布が行われ得るためである。
【０２１７】
図１９Ｇに示すように、例示的なネイルポリッシュ塗布要素１１０の一実施形態１１０Ｆは、１つまたは複数の弾性管１９０６と複数の毛束１９０２との組み合わせを含む。
【０２１８】
図１９Ｈに示すように、例示的なネイルポリッシュ塗布要素１１０の一実施形態１１０Ｇは、弾性ワイパー１９０８として構成される。搬送トンネル１１２から出たネイルポリッシュ液１０６は、ワイパー１９０８の上を流れて、ワイパー１９０８が爪表面に沿って移動する際に当該爪表面に塗布されるようになっていてもよい。任意選択として、ワイパー１９０８は、搬送トンネル１１２から出たネイルポリッシュ液１０６が流れ得る１つまたは複数の内部分注トンネルを具備する。
【０２１９】
図１９Ｉに示すように、例示的なネイルポリッシュ塗布要素１１０の一実施形態１１０Ｈは、１つまたは複数の中実パイプ１９１０で構成される。パイプ１９１０は、搬送トンネル１１２につながって、ネイルポリッシュ液１０６を受け取り、当該パイプ１９１０が爪表面に沿って移動する際に当該爪表面に分注する内部分注トンネルを具備していてもよい。
【０２２０】
たとえば、図１９Ｊに示すように、一実施形態１１０Ｈ１は、ネイルポリッシュ液１０６を搬送トンネル１１２からニードル１９１０＿１のネイルポリッシュ塗布先端１９１４に搬送する中空の内部トンネル（空隙）を有する注射針として構成された単一の中実パイプ１９１０＿１を含んでいてもよい。カプセル１００は、自動化されたネイルポリッシュ塗布装置により移動され、ネイルポリッシュ塗布先端１９１４が爪表面への接触および／または爪表面上の浮揚によってネイルポリッシュ液１０６を爪表面に塗布し得るように位置決めされていてもよい。ニードル１９１０＿１の内部トンネルの直径は、１つまたは複数のネイルポリッシュ塗布パラメータ（たとえば、ニードル１９１０＿１の外径、ネイルポリッシュ液の粘度、ネイルポリッシュ塗布先端１９１４と爪表面との間隙、ネイルポリッシュ塗布装置がカプセル１００を移動させる直線速度、および／または同等パラメータ）に従って適応されていてもよい。たとえば、ニードル１９１０＿１の内部トンネルの直径は、０．１ｍｍ〜３ｍｍの範囲であってもよい。
【０２２１】
爪表面に対するネイルポリッシュ塗布先端１９１４の位置決めは、ネイルポリッシュ塗布の品質に大きな影響を及ぼす可能性がある。位置決めは、たとえばネイルポリッシュ液１０６を所望の爪表面エリアに塗布する精度、塗られるエリア／線の精度、塗られる爪表面エリア上のネイルポリッシュ液１０６の分布、および／または同等対象に影響し得るためである。爪表面に対するネイルポリッシュ液の最良の塗布を実現するため、ネイルポリッシュ塗布先端１９１４は、爪表面上の特定の高さ（間隙）（たとえば、０ｍｍ〜２．５ｍｍの範囲で、最適な間隙は０ｍｍ〜０．７ｍｍの範囲）で位置決めされるようになっていてもよい。ただし、ネイルポリッシュ塗布先端１９１４と爪表面との間隙の精度は、ニードルの内部トンネルの直径によって決まり得る。ネイルポリッシュ塗布先端１９１４と爪表面との間隙を維持する精度は、内部トンネルの直径が小さい場合は重要ではなく、逆もまた同様と考えられる。間隙の精度は、内部トンネルの直径が大きいほど、大幅に高くなるはずである。
【０２２２】
図１９Ｋに示すように、例示的なネイルポリッシュ塗布要素１１０の一実施形態１１０Ｉは、複数の毛束１９０２を含む。搬送トンネル１１２のような搬送トンネル１１２Ｅが斜め方向から複数の毛束１９０２に延入して、爪表面上のネイルポリッシュ液１０６の塗布位置により近い場所で、ネイルポリッシュ液１０６を複数の毛束１９０２に分注する。
【０２２３】
通常、ネイルポリッシュ塗布要素１１０は、垂直位置すなわち吐出ノズル１０８の垂直軸と一致して、吐出ノズル１０８に固定（機械的に結合）されていてもよい。ただし、本発明のいくつかの実施形態においては、吐出ノズル１０８の垂直軸に対する垂直位置で、ブラシアセンブリ１０８が吐出ノズル１０８に機械的に結合されていてもよい。ネイルポリッシュ塗布要素１１０の傾斜位置は、ネイルポリッシュ液１０６を爪の側部および／または湾曲表面に塗布するのに有用となり得る。
【０２２４】
図１９Ｌに示すように、例示的なネイルポリッシュ塗布要素１１０の一実施形態１１０Ｊは、複数の毛束１９０２を含む。ブラシヘッド１１０Ｊは、吐出ノズル１０８の垂直軸、特に、搬送トンネル１１２のような搬送トンネル１１２Ｆの近位端に対する傾斜位置で固定されている。搬送トンネル１１２Ｆは、その遠位端において、複数の毛束１９０２側に屈曲するように構成されていてもよい。
【０２２５】
本明細書の上記提示のネイルポリッシュ塗布要素１１０のいずれか２つ以上の実施形態を一体的に組み合わせ可能であることに留意されたい。さらに、例示的なネイルポリッシュ塗布要素１１０および／またはその組み合わせのいずれも、本発明に記載のカプセル１００の種々実施形態と組み合わせ可能である。
【０２２６】
ここで図２０を参照して、これは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルを作製する例示的なプロセスのフローチャートである。カプセル１００（たとえば、カプセル１００Ａ〜１００Ｒ）のような例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルの作製に、例示的なプロセス２０００が適用されるようになっていてもよい。
【０２２７】
２００２に示すように、プロセス２０００は、本体部１０３のような本体部の作製で開始となる。本体部１０３は、１つまたは複数の作製方法（たとえば、鋳造、３Ｄ印刷、ＣＮＣ機械加工、および／または同等方法）によって、１つまたは複数の材料（たとえば、ポリマー、ガラス、金属、セラミック材料、および／または同等物）から作製されるようになっていてもよい。任意選択として、本体部１０３の作製に用いられる材料のうちの１つまたは複数は、ネイルポリッシュ液の１つまたは複数の成分（たとえば、溶媒）が本体部１０３を通じて拡散することなく、時間とともに蒸発することのないように、低い透過係数を特徴とする。
【０２２８】
２００４に示すように、プロセス２０００は、吐出ノズル１０８のような吐出ノズルの作製に続く。吐出ノズル１０８は、１つまたは複数の作製方法（たとえば、鋳造、３Ｄ印刷、ＣＮＣ機械加工、および／または同等方法）によって、１つまたは複数の材料（たとえば、ポリマー、ガラス、金属、セラミック材料、および／または同等物）から作製されるようになっていてもよい。
【０２２９】
２００６に示すように、プロセス２０００は、ネイルポリッシュ塗布要素１１０のようなネイルポリッシュ塗布要素の作製に続く。ネイルポリッシュ塗布要素１１０は、１つまたは複数の作製方法（たとえば、鋳造、３Ｄ印刷、ＣＮＣ機械加工、および／または同等方法）によって、１つまたは複数の材料（たとえば、ポリマー、金属、毛束、および／または同等物）を用いることにより、上述のような１つまたは複数の構成にて作製されるようになっていてもよい。
【０２３０】
２００８に示すように、ネイルポリッシュ塗布要素１１０は、吐出ノズル１０８に機械的に結合されている。ネイルポリッシュ塗布要素１１０（たとえば、ネイルポリッシュ塗布要素１１０Ａ、１００Ｂ、１１０Ｃ、１１０Ｄ、１００Ｆ、１１０Ｈ、および／または１００Ｉ）が毛束１９０２のような複数の毛束を含む場合、毛束１９０２は、１つまたは複数の方法（たとえば、挟持、圧入、ステープリング、溶接、はんだ付け、接着、および／または同等方法）によって、吐出ノズル１０８に固定されていてもよい。ネイルポリッシュ塗布要素１１０（たとえば、ネイルポリッシュ塗布要素１１０Ｅおよび／または１００Ｆ）が弾性管１９０６のような弾性管を備える場合、弾性管１９０６は、１つまたは複数の方法（たとえば、挟持、圧入、溶接、はんだ付け、接着、および／または同等方法）によって、吐出ノズル１０８に固定されていてもよい。通常、弾性管１９０６は、１つまたは複数の作製方法（たとえば、鋳造、３Ｄ印刷、ＣＮＣ機械加工、および／または同等方法）によって作製された単一の部品を構成する吐出ノズル１０８の一部であってもよい。
【０２３１】
２０１０に示すように、吐出ノズルは、特に当該吐出ノズル１０８の近位端（通常、上端）を本体部１０３の下面に取り付けることによって、本体部１０３に機械的に結合される。この結合は、１つまたは複数の方法（たとえば、挟持、圧入、溶接、はんだ付け、接着、および／または同等方法）により行われるようになっていてもよい。通常、本体部１０３および吐出ノズル１０８は、１つまたは複数の作製方法（たとえば、鋳造、３Ｄ印刷、ＣＮＣ機械加工、および／または同等方法）によって、単一の部品として作製される。
【０２３２】
２０１２に示すように、ネイルポリッシュ液１０６のようなネイルポリッシュ液が本体部１０３に挿入される。
【０２３３】
２０１４に示すように、ネイルポリッシュ液１０６が充填された本体部１０３が封止される。
【０２３４】
任意選択として、カプセル１００が容器ハウジング１０２のような容器ハウジングおよび容器１０４のような容器で構成されている場合は、これら２つの部分が作製される。本体部１０３および吐出ノズル１０８を含む容器ハウジング１０２は、ステップ２００２〜２０１０に記載の通り作製されるようになっていてもよい。容器１０４は、１つまたは複数の作製方法（たとえば、鋳造、３Ｄ印刷、ＣＮＣ機械加工、および／または同等方法）によって、１つまたは複数の材料（たとえば、ポリマー、ガラス、金属、セラミック材料、および／または同等物）から作製されるようになっていてもよい。任意選択として、容器１０４の作製に用いられる材料のうちの１つまたは複数は、ネイルポリッシュ液の１つまたは複数の成分（たとえば、溶媒）が内側容器１３０２を通じて拡散することなく、時間とともに蒸発することのないように、低い透過係数を特徴とする。容器１０４は、ネイルポリッシュ液１０６が充填され、摺動ガスケット１０５のようなガスケットで封止されていてもよい。摺動ガスケット１０５は、１つまたは複数の作製方法（たとえば、鋳造、３Ｄ印刷、ＣＮＣ機械加工、および／または同等方法）によって、１つまたは複数の材料（たとえば、ゴム、スライス、および／または同等物）から作製されるようになっていてもよい。
【０２３５】
任意選択として、内側容器１３０２のような内側容器は、１つまたは複数の作製方法（たとえば、鋳造、３Ｄ印刷、接着、ＣＮＣ機械加工、および／または同等方法）によって、１つまたは複数の材料（たとえば、ポリマー、ガラス、金属箔、セラミック材料、および／または同等物）から作製される。任意選択として、内側容器１３０２の作製に用いられる材料のうちの１つまたは複数は、ネイルポリッシュ液の１つまたは複数の成分（たとえば、溶媒）が内側容器１３０２を通じて拡散することなく、時間とともに蒸発することのないように、低い透過係数を特徴とする。内側容器１３０２は、本体部１０３に配設され、ネイルポリッシュ液１０６が充填されるようになっていてもよい。そして、内側容器１３０２および本体部１０３が封止されるようになっていてもよい。
【０２３６】
任意選択として、上部シール１７０２のような上部シールは、１つまたは複数の材料（たとえば、金属箔、厚紙、ポリマー、および／または同等物）から作製される。上部シール１７０２は、１つまたは複数の方法（たとえば、挟持、圧入、溶接、はんだ付け、接着、および／または同等方法）によって、本体部１０３の上部円周方向縁部に取り付けられていてもよい。
【０２３７】
任意選択として、カバー１１６のような取り外し可能なカバーは、１つまたは複数の材料（たとえば、金属、ポリマー、および／または同等物）から作製される。カバー１１６は、本体部１０３および／または吐出ノズル１０８に対する１つまたは複数の取り付け技術（たとえば、配置、ねじ止め、接着、押圧、および／または同等技術）を採用するようにしてもよい。
【０２３８】
ここで図２１Ａおよび図２１Ｂを参照して、これらは、本発明の例示的な一実施形態に係る、例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセルを組み立てる例示的なプロセスの模式図である。図２１Ａは、プロセス２０００のような作製プロセスによって作製可能なカプセル１００のような分解された例示的なネイルポリッシュ液保管・分注カプセル１００Ｒの部品を表す。カプセル１００Ｒは、容器ハウジング１０２のような容器ハウジング１０２Ｒおよび容器１０４のような容器１０４Ｒを具備する。容器ハウジング１０２Ｒは、本体部１０３のような本体部１０３Ｒおよび吐出ノズル１０８、特に吐出ノズル１０８Ｃのような吐出ノズル１０８Ｒを備える。吐出ノズル１０８Ｒおよび本体部１０３Ｒは、単一の部品を構成するとともに、単一の部品として作製されるようになっていてもよい。搬送トンネル１１２のような搬送トンネルが吐出ノズル１０８Ｒの固有のトンネルとして形成される。ネイルポリッシュ塗布要素１１０のようなネイルポリッシュ塗布要素を構成する毛束１９０２のような複数の毛束は、接合要素２１０２（たとえば、金属ピン、金属ワイヤ、および／または同等物）を用いて吐出ノズル１０８Ｒにステープリングされるようになっていてもよい。鋭い搬送トンネル４０２のような鋭い搬送トンネル（たとえば、先の尖った中空ウェッジ、中空ニードル、および／または同等物）が搬送トンネル１１２に挿通され、ネイルポリッシュ液１０６をネイルポリッシュ塗布要素１１０に搬送するようにしてもよい。容器１０４Ｒは、プロセス１８００に記載の通り作製されるようになっていてもよい。図２１Ｂは、プロセス２０００のようなプロセスによって部品が組み立てられた組み立て後のカプセル１００Ｒを表す。
【０２３９】
「具備する（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「具備している（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」という用語およびその活用形は、「限定されるものではないが、含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ  ｂｕｔ  ｎｏｔ  ｌｉｍｉｔｅｄ  ｔｏ）」を意味する。
【０２４０】
「からなる」という用語は、「含み、限定される」ことを意味する。
【０２４１】
「から実質的になる」という用語は、組成物、方法または構造が追加の成分、工程および／または部分を含み得ることを意味する。但しこれは、追加の成分、工程および／または部分が、請求項に記載の組成物、方法または構造の基本的かつ新規な特性を実質的に変更しない場合に限られる。
【０２４２】
明細書において、単数形を表す「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」は、文脈が明らかに他を示さない限り、複数をも対象とする。例えば、「化合物（a compound）」または「少なくとも１種の化合物」には、複数の化合物が含まれ、それらの混合物をも含み得る。
【０２４３】
本願全体を通して、本発明のさまざまな実施形態は、範囲形式にて示され得る。範囲形式での記載は、単に利便性および簡潔さのためであり、本発明の範囲の柔軟性を欠く制限ではないことを理解されたい。したがって、範囲の記載は、可能な下位の範囲の全部、およびその範囲内の個々の数値を特異的に開示していると考えるべきである。例えば、１〜６といった範囲の記載は、１〜３、１〜４、１〜５、２〜４、２〜６、３〜６等の部分範囲のみならず、その範囲内の個々の数値、例えば１、２、３、４、５および６も具体的に開示するものとする。これは、範囲の大きさに関わらず適用される。
【０２４４】
本明細書において数値範囲を示す場合、それは常に示す範囲内の任意の引用数（分数または整数）を含むことを意図する。第１の指示数と第２の指示数「との間の範囲」という表現と、第１の指示数「から」第２の指示数「までの範囲」という表現は、本明細書で代替可能に使用され、第１の指示数および第２の指示数と、それらの間の分数および整数の全部を含むことを意図する。
【０２４５】
明確さのために別個の実施形態に関連して記載した本発明の所定の特徴はまた、１つの実施形態において、これら特徴を組み合わせて提供され得ることを理解されたい。逆に、簡潔さのために１つの実施形態に関連して記載した本発明の複数の特徴はまた、別々に、または任意の好適な部分的な組み合わせ、または適当な他の記載された実施形態に対しても提供され得る。さまざまな実施形態に関連して記載される所定の特徴は、その要素なしでは特定の実施形態が動作不能でない限り、その実施形態の必須要件であると捉えてはならない。
【０２４６】
本発明をその特定の実施形態との関連で説明したが、多数の代替、修正および変種が当業者には明らかであろう。したがって、そのような代替、修正および変種の全ては、添付の特許請求の範囲の趣旨および広い範囲内に含まれることを意図するものである。
【０２４７】
本明細書で言及した全ての刊行物、特許および特許出願は、個々の刊行物、特許および特許出願のそれぞれについて具体的且つ個別の参照により本明細書に組み込む場合と同程度に、それらの全体が参照により本明細書に組み込まれる。加えて、本願におけるいかなる参考文献の引用または特定は、このような参考文献が本発明の先行技術として使用できることの容認として解釈されるべきではない。また、各節の表題が使用される範囲において、必ずしも限定として解釈されるべきではない。
【０２４８】
関連出願
本願は、米国特許法第１１９条（ｅ）の下、２０１７年１月３１日に出願された米国仮特許出願第６２／４５２，４６１号「Ｂｒｕｓｈ  Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃａｐｓｕｌｅ  ｗｉｔｈ  Ｆｉｌｍ−Ｆｏｒｍｉｎｇ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  ｆｏｒ  Ｎａｉｌ  Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ」の優先権の利益を主張するものであって、そのすべての内容が参照により本明細書に組み込まれている。
【０２４９】
本願は、米国特許法第１１９条（ｅ）の下、２０１７年７月１８日に出願された米国仮特許出願第６２／５３３，７２０号「Ａｕｔｏｍａｔｅｄ  Ｎａｉｌ  Ｐｏｌｉｓｈ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ  Ａｐｐａｒａｔｕｓ」の優先権の利益を主張するものであって、そのすべての内容が参照により本明細書に組み込まれている。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１２Ｃ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１３Ｃ】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１４Ｃ】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１６Ａ】
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【図１６Ｂ】
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【図１７Ａ】
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【図１７Ｂ】
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【図１８】
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【図１９Ａ】
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【図１９Ｂ】
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【図１９Ｃ】
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【図１９Ｄ】
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【図１９Ｅ】
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【図１９Ｆ】
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【図１９Ｇ】
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【図１９Ｈ】
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【図１９Ｉ】
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【図１９Ｊ】
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【図１９Ｋ】
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【図１９Ｌ】
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【図２０】
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【図２１Ａ】
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【図２１Ｂ】
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【国際調査報告】
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