(57)【要約】  本願は、ニッケルめっき炭素繊維膜、その製造方法、シールド構造及びその作製方法を提供する。このニッケルめっき炭素繊維膜は、表面に金属コロイド粒子が付着している炭素繊維基布と、炭素繊維基布の露出面、および、金属コロイド粒子の炭素繊維基布から離れた表面に設けられるニッケル金属層と、を含む。このニッケルめっき炭素繊維膜は、粘着性を有する金属コロイド粒子が炭素繊維基布に付着しているため、ニッケル金属層が炭素繊維基布によりよく付着し、ニッケルめっき炭素繊維膜の電磁シールド性能をさらに向上させ、これにより、該ニッケルめっき炭素繊維膜は、良好な機械的特性及び物理的特性を持つだけでなく、電磁シールド性能にも優れている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニッケルめっき炭素繊維膜（３）であって、
表面に金属コロイド粒子（３２）が付着している炭素繊維基布（３１）と、
前記炭素繊維基布（３１）の露出面、および、前記金属コロイド粒子（３２）の前記炭素繊維基布（３１）から離れた表面に設けられるニッケル金属層（３３）と、
を含むことを特徴とするニッケルめっき炭素繊維膜。
【請求項２】
前記金属コロイド粒子（３２）はＰｂコロイド粒子又はＡｇコロイド粒子である、ことを特徴とする請求項１に記載のニッケルめっき炭素繊維膜。
【請求項３】
少なくとも１つのシールドユニットを備えるシールド構造であって、前記シールドユニットは、請求項１または２に記載のニッケルめっき炭素繊維膜（３）を含むことを特徴とするシールド構造。
【請求項４】
前記シールドユニットは、
一方の側面に前記ニッケルめっき炭素繊維膜（３）が設けられている少なくとも１つの炭素繊維布（１）をさらに含み、
好ましくは１つ又は複数の前記炭素繊維布（１）の厚みが０．１３〜１．０ｍｍである、
ことを特徴とする請求項３に記載のシールド構造。
【請求項５】
前記シールドユニットは、
前記ニッケルめっき炭素繊維膜（３）と前記炭素繊維布（１）との間に設けられる金網（２）、をさらに含み、
好ましくは前記金網（２）が銅網であり、更に好ましくは前記金網（２）の厚みが０．００５〜０．０１５ｍｍである、
ことを特徴とする請求項４に記載のシールド構造。
【請求項６】
前記シールドユニットは、
前記ニッケルめっき炭素繊維膜（３）の前記金網（２）から離れた表面に設けられるパーマロイ層（４）をさらに含み、
好ましくは前記パーマロイ層（４）の厚みが０．０５〜０．２０ｍｍであり、更に好ましくは前記シールドユニットは、合計厚みが０．７〜１．２ｍｍである重畳して設けられた複数の前記ニッケルめっき炭素繊維膜（３）を含む、
ことを特徴とする請求項５に記載のシールド構造。
【請求項７】
重畳して設けられた複数の前記シールドユニットを含み、
任意の隣り合う２つの前記シールドユニット間、および、それぞれの前記シールドユニットにおける任意の隣り合う２つの構造層間に設けられる粘着剤層をさらに含み、
好ましくは前記粘着剤層の原料は、エポキシ樹脂８０〜１２０部、硬化剤６０〜８０部、促進剤０．５〜２．５部を含み、更に好ましくは前記硬化剤がメチルテトラヒドロ無水フタル酸であり、前記促進剤が三フッ化ホウ素エチルアミンである、
ことを特徴とする請求項３に記載のシールド構造。
【請求項８】
ニッケルめっき炭素繊維膜の製造方法であって、
炭素繊維基布を提供するステップＳ１と、
前記炭素繊維基布に金属コロイド粒子を設けるステップＳ３と、
前記炭素繊維基布の露出面、および、前記金属コロイド粒子の前記炭素繊維基布から離れた表面にニッケル金属層を設けるステップＳ４と、
を含むことを特徴とする製造方法。
【請求項９】
前記ステップＳ１と前記ステップＳ３との間に、
前記炭素繊維基布の表面の有機物を除去するように前記炭素繊維基布の表面を処理するステップＳ２、をさらに含む、
ことを特徴とする請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記ステップＳ２は、
アセトンを使用して前記炭素繊維基布を浸漬することと、
フッ化水素酸と強酸との混合溶液を使用して前記アセトンに浸漬された後の前記炭素繊維基布を浸漬することと、
水を使用して浸漬後の前記炭素繊維基布を洗浄することと、を含む、
ことを特徴とする請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記強酸は硫酸、塩酸又は硝酸であり、好ましくは前記フッ化水素酸と前記強酸とのモル比が１：３〜１：１であり、更に好ましくは前記混合溶液の体積濃度が５〜１５％であり、より更に好ましくは前記ステップＳ２において前記混合溶液を使用して前記炭素繊維基布を浸漬する時間が５〜３０ｍｉｎである、
ことを特徴とする請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記ステップＳ３は、
還元性金属塩の希酸溶液を使用して前記炭素繊維基布を浸漬するステップＳ３１と、
酸化性金属塩の希酸溶液を使用して前記ステップＳ３１で処理された後の前記炭素繊維基布を活性化処理して、前記金属コロイド粒子を生成し、好ましくは前記酸化性金属塩がＰｄＣｌ２又はＡｇＮＯ３であり、更に好ましくは前記還元性金属塩がＳｎＣｌ２であるステップＳ３２と、を含む、
ことを特徴とする請求項８に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記ステップＳ３１における希酸溶液は第１の塩酸溶液であり、かつ前記第１の塩酸溶液において、前記ＳｎＣｌ２の重量濃度が４〜８％であり、好ましくは前記ステップＳ３１の浸漬温度が２５〜４０℃であり、浸漬時間が２０〜５０ｍｉｎである、
ことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記酸化性金属塩はＰｄＣｌ２であり、前記ステップＳ３２における希酸溶液は第２の塩酸溶液であり、かつ前記第２の塩酸溶液において、前記ＰｄＣｌ２の重量濃度が０．０２〜０．０４％であり、好ましくは前記ＰｄＣｌ２の希酸溶液の温度が２５〜４０℃であり、前記活性化処理の時間が１０〜５０ｍｉｎである、
ことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１５】
ＳｎＣｌ２の希酸溶液を使用して前記炭素繊維基布を浸漬した後、前記ステップＳ３１は、
水を使用して前記炭素繊維基布を洗浄することをさらに含み、
前記酸化性金属塩はＰｄＣｌ２であり、ＰｄＣｌ２の希酸溶液を使用して前記炭素繊維基布を活性化処理した後、前記ステップＳ３２は、
水を使用して前記炭素繊維基布を洗浄することをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１６】
前記ステップＳ４は、
めっき液を使用して、化学ニッケルめっき法により前記ニッケル金属層を設けることを含み、
好ましくは前記めっき液はニッケル塩４０〜６０部、還元剤４０〜６０部、錯化剤８０〜１２０部、緩衝剤４０〜６０部、及び界面活性剤０．１５〜０．２５部を含み、更に好ましくは前記めっき液のｐＨ値が１０〜１１である、
ことを特徴とする請求項８に記載の製造方法。
【請求項１７】
前記ニッケル塩は硫酸ニッケルを含み、前記還元剤は次亜リン酸ナトリウムを含み、前記錯化剤はクエン酸ナトリウムを含み、前記緩衝剤は塩化アンモニウムを含み、前記界面活性剤はドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含み、好ましくは前記めっき液の温度が４０〜６０℃であり、更に好ましくは前記化学ニッケルめっき法の実施時間が２０〜５０ｍｉｎである、
ことを特徴とする請求項１６に記載の製造方法。
【請求項１８】
少なくとも１つのシールドユニットの製造過程を含むシールド構造の作製方法であって、前記製造過程は、請求項８乃至１７のうちのいずれか一項に記載のニッケルめっき炭素繊維膜の製造方法を含むことを特徴とする作製方法。
【請求項１９】
前記製造過程は、
炭素繊維布を提供することと、
前記炭素繊維布に金網と前記ニッケルめっき炭素繊維膜を順次重畳して設けることと、をさらに含み、
好ましくは前記製造過程は、
前記ニッケルめっき炭素繊維膜の前記金網から離れた表面にパーマロイ層を設けてプレシールドユニットを形成すること、をさらに含む、
ことを特徴とする請求項１８に記載の作製方法。
【請求項２０】
前記プレシールドユニットを熱間プレス成形するか、或いは、複数の重畳された前記プレシールドユニットを熱間プレス成形して、前記シールド構造を形成すること、をさらに含む、
ことを特徴とする請求項１９に記載の作製方法。
【請求項２１】
前記熱間プレス成形の過程は、
事前に熱間プレス成形を行う隣り合う構造層間に粘着剤を設け、事前熱間プレス構造を形成することと、
前記事前熱間プレス構造を圧着することと、
圧着され後の前記事前熱間プレス構造における粘着剤を硬化させることと、を含み、
好ましくは前記粘着剤は、エポキシ樹脂８０〜１２０部、硬化剤６０〜８０部、促進剤０．５〜２．５部を含み、好ましくは前記硬化剤はメチルテトラヒドロ無水フタル酸であり、前記促進剤は三フッ化ホウ素エチルアミンであり、
更に好ましくは前記圧着の圧力が０．４〜０．８ＭＰａであり、
より更に好ましくは前記硬化が熱硬化であり、かつ前記熱硬化の温度が１２０〜１５０℃であり、前記熱硬化の温度が１〜３ｈである、
ことを特徴とする請求項２０に記載の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、シールド材の分野に関し、具体的には、ニッケルめっき炭素繊維膜、その製造方法、シールド構造及びその作製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
シールド効果が電磁シールド複合材の能力を評価するための基準であることはよく知られている。一般的には、産業用の電子機器はシールド効果が３０ｄＢよりも大きいことが求められ、一方、精密機器のシールド材は５０ｄＢ乃至６０ｄＢ以上のシールド効果が要求されるとともに、その材料は、電子機器が様々な環境下で安定して稼働できるように、良好な環境使用安定性を有するものでなければならない。
【０００３】
多くの報道によると、現在、様々な導電性高分子材料は高い物理的や機械的特性を実現するものの、そのシールド効果が使用要求に応えることが難しく、一方、導電性フィラーを多くドーピングした複合材はその物理的や機械的特性が実際の使用を満足することができない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本願の主な目的は、従来技術におけるニッケルめっき炭素繊維膜は良好な機械的特性、力学的特性及びシールド性能を兼ね備えることができないという課題を解決するように、ニッケルめっき炭素繊維膜、その製造方法、シールド構造及びその作製方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本願の一態様によれば、表面に金属コロイド粒子が付着している炭素繊維基布と、上記炭素繊維基布の露出面、および、上記金属コロイド粒子の上記炭素繊維基布から離れた表面に設けられるニッケル金属層と、を含むニッケルめっき炭素繊維膜を提供する。
【０００６】
さらに、上記金属コロイド粒子はＰｂコロイド粒子又はＡｇコロイド粒子である。
【０００７】
上記目的を達成するために、本願の他の一態様によれば、少なくとも１つのシールドユニットを備えるシールド構造であって、上記シールドユニットは、上述したニッケルめっき炭素繊維膜を含むシールド構造を提供する。
【０００８】
さらに、上記シールドユニットは、一方の側面に上記ニッケルめっき炭素繊維膜が設けられている少なくとも１つの炭素繊維布をさらに含み、好ましくは１つ又は複数の上記炭素繊維布の厚みが０．１３〜１．０ｍｍである。
【０００９】
さらに、上記シールドユニットは、上記ニッケルめっき炭素繊維膜と上記炭素繊維布との間に設けられる金網をさらに含み、好ましくは上記金網が銅網であり、更に好ましくは上記金網の厚みが０．００５〜０．０１５ｍｍである。
【００１０】
さらに、上記シールドユニットは、上記ニッケルめっき炭素繊維膜の上記金網から離れた表面に設けられるパーマロイ層をさらに含み、好ましくは上記パーマロイ層の厚みが０．０５〜０．２０ｍｍであり、更に好ましくは上記シールドユニットは、合計厚みが０．７〜１．２ｍｍである重畳して設けられた複数の上記ニッケルめっき炭素繊維膜を含む。
【００１１】
さらに、上記シールド構造は、重畳して設けられた複数の上記シールドユニットをさらに含み、上記シールド構造は、任意の隣り合う２つの上記シールドユニット間、および、それぞれの上記シールドユニットにおける任意の隣り合う２つの構造層間に設けられる粘着剤層をさらに含み、好ましくは上記粘着剤層の原料は、エポキシ樹脂８０〜１２０部、硬化剤６０〜８０部、促進剤０．５〜２．５部を含み、更に好ましくは上記硬化剤がメチルテトラヒドロ無水フタル酸であり、上記促進剤が三フッ化ホウ素エチルアミンである。
【００１２】
上記目的を達成するために、本願の更なる態様によれば、ニッケルめっき炭素繊維膜の製造方法であって、炭素繊維基布を提供するステップＳ１と、上記炭素繊維基布に金属コロイド粒子を設けるステップＳ３と、上記炭素繊維基布の露出面、および、上記金属コロイド粒子の上記炭素繊維基布から離れた表面にニッケル金属層を設けるステップＳ４と、を含む製造方法を提供する。
【００１３】
さらに、上記ステップＳ１と上記ステップＳ３との間に、上記製造方法は、上記炭素繊維基布の表面の有機物を除去するように上記炭素繊維基布の表面を処理するステップＳ２、をさらに含む。
【００１４】
さらに、上記ステップＳ２は、上記炭素繊維基布をアセトンに浸漬することと、フッ化水素酸と強酸との混合溶液を使用して上記アセトンに浸漬された後の上記炭素繊維基布を浸漬することと、水を使用して浸漬後の上記炭素繊維基布を洗浄することと、を含む。
【００１５】
さらに、上記強酸は硫酸、塩酸又は硝酸であり、好ましくは上記フッ化水素酸と上記強酸のモル比が１：３〜１：１であり、更に好ましくは上記混合溶液の体積濃度が５〜１５％であり、より更に好ましくは上記ステップＳ２において上記混合溶液を使用して上記炭素繊維基布を浸漬する時間が５〜３０ｍｉｎである。
【００１６】
さらに、上記ステップＳ３は、還元性金属塩の希酸溶液を使用して上記炭素繊維基布を浸漬するステップＳ３１と、酸化性金属塩の希酸溶液を使用して上記ステップＳ３１で処理された上記炭素繊維基布を活性化処理して、上記金属コロイド粒子を生成し、好ましくは上記酸化性金属塩はＰｄＣｌ２又はＡｇＮＯ３であり、更に好ましくは上記還元性金属塩はＳｎＣｌ２であるステップＳ３２と、を含む。
【００１７】
さらに、上記ステップＳ３１における希酸溶液は第１の塩酸溶液であり、かつ上記第１の塩酸溶液において、上記ＳｎＣｌ２の重量濃度が４〜８％であり、好ましくは上記ステップＳ３１の浸漬温度が２５〜４０℃であり、浸漬時間が２０〜５０ｍｉｎである。
【００１８】
さらに、上記酸化性金属塩はＰｄＣｌ２であり、上記ステップＳ３２における希酸溶液は第２の塩酸溶液であり、かつ上記第２の塩酸溶液において、上記ＰｄＣｌ２の重量濃度が０．０２〜０．０４％であり、好ましくは上記ＰｄＣｌ２の希酸溶液の温度が２５〜４０℃であり、上記活性化処理の時間が１０〜５０ｍｉｎである。
【００１９】
さらに、ＳｎＣｌ２の希酸溶液を使用して上記炭素繊維基布を浸漬した後、上記ステップＳ３１は、水を使用して上記炭素繊維基布を洗浄することをさらに含み、上記酸化性金属塩はＰｄＣｌ２であり、ＰｄＣｌ２の希酸溶液を使用して上記炭素繊維基布を活性化処理した後、上記ステップＳ３２は、水を使用して上記炭素繊維基布を洗浄することをさらに含む。
【００２０】
さらに、上記ステップＳ４は、めっき液を使用して、化学ニッケルめっき法により上記ニッケル金属層を設けることを含み、好ましくは上記めっき液は、ニッケル塩４０〜６０部、還元剤４０〜６０部、錯化剤８０〜１２０部、緩衝剤４０〜６０部、及び界面活性剤０．１５〜０．２５部を含み、更に好ましくは上記めっき液のｐＨ値が１０〜１１である。
【００２１】
さらに、上記ニッケル塩は硫酸ニッケルを含み、上記還元剤は次亜リン酸ナトリウムを含み、上記錯化剤はクエン酸ナトリウムを含み、上記緩衝剤は塩化アンモニウムを含み、上記界面活性剤はドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含み、好ましくは上記めっき液の温度が４０〜６０℃であり、更に好ましくは上記化学ニッケルめっき法の実施時間が２０〜５０ｍｉｎである。
【００２２】
本願の他の態様によれば、少なくとも１つのシールドユニットの製造過程を含むシールド構造の作製方法であって、上記製造過程は、上述したニッケルめっき炭素繊維膜の製造方法のいずれかを含む作製方法を提供する。
【００２３】
さらに、上記製造過程は、炭素繊維布を提供することと、上記炭素繊維布に金網と上記ニッケルめっき炭素繊維膜を順次重畳して設けることと、をさらに含み、好ましくは上記製造過程は、上記ニッケルめっき炭素繊維膜の上記金網から離れた表面にパーマロイ層を設け、プレシールドユニットを形成することをさらに含む。
【００２４】
さらに、上記作製方法は、上記プレシールドユニットを熱間プレス成形するか、或いは、複数の重畳された上記プレシールドユニットを熱間プレス成形して、上記シールド構造を形成することをさらに含む。
【００２５】
さらに、上記熱間プレス成形の過程は、事前に熱間プレス成形を行う隣り合う構造層間に粘着剤を設け、事前熱間プレス構造を形成することと、上記事前熱間プレス構造を圧着することと、圧着された後の上記事前熱間プレス構造における粘着剤を硬化させることと、を含み、好ましくは上記粘着剤は、エポキシ樹脂８０〜１２０部、硬化剤６０〜８０部、促進剤０．５〜２．５部を含み、好ましくは上記硬化剤はメチルテトラヒドロ無水フタル酸であり、上記促進剤は三フッ化ホウ素エチルアミンであり、更に好ましくは上記圧着の圧力が０．４〜０．８ＭＰａであり、より更に好ましくは上記硬化が熱硬化であり、かつ上記熱硬化の温度が１２０〜１５０℃であり、上記熱硬化の温度が１〜３ｈである。
【発明の効果】
【００２６】
本願の技術的構成によれば、該ニッケルめっき炭素繊維膜は、粘着性を有する金属コロイド粒子が炭素繊維基布に付着しているため、ニッケル金属層が炭素繊維基布によりよく付着し、ニッケルめっき炭素繊維膜の電磁シールド性能をさらに向上させ、これにより、該ニッケルめっき炭素繊維膜は、良好な機械的特性及び物理的特性を持つだけでなく、電磁シールド性能にも優れている。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
本願の一部を構成する図面は本願をさらに理解させるためのものであり、本願における模式的実施例及びその説明は本願を説明するものであり、本願を不適当に限定するものではない。図面において、
【図１】本願による一実施例に提供されるニッケルめっき炭素繊維膜の構造模式図を示す。
【図２】図１における一部の構造の電子顕微鏡による拡大模式図を示す。
【図３】本願の一実施例に提供されるシールド構造の構造模式図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下の詳細な説明はいずれも例示的なものであり、本願をさらに説明するためであることは、指摘されるべきである。特別な説明がない限り、本文に使用されるすべての技術的及び科学的用語は、当業者が通常に理解した意味と同じである。
【００２９】
ここに使用される用語は、あくまでも具体的な実施形態を説明するためのものであり、本願による例示的な実施形態を限定することを意図していないことに注意が必要である。ここに使用されるように、文脈上、そうでないとする明確な指示がない限り、単数形が使用されていても、複数形を含むものとする。また、本明細書に「含む」及び／又は「有する」といった用語が使用される場合、特徴、ステップ、操作、デバイス、アセンブリー及び／又はそれらの組み合わせがあることを示す。
【００３０】
ある要素（例えば、層、膜、領域、又は基板）が他の要素の「上」にあると記述されている場合、該要素が該他の要素上に直接存在することが可能であれば、中間要素が存在することも可能であることは、理解されるべきである。また、明細書及び特許請求の範囲において、ある要素が他の要素に「接続」されると記述されている場合、該要素が該他の要素に「直接接続」されるか、或いは、第３の要素を介して該他の要素に「電気的に接続」されることができる。
【００３１】
背景技術欄に紹介されたように、従来技術におけるニッケルめっき炭素繊維膜は、良好な機械的特性、力学的特性及びシールド性能を兼ね備えることができず、上記のような技術的課題を解決するために、本願は、ニッケルめっき炭素繊維膜、その製造方法、シールド構造及びその作製方法を提案した。
【００３２】
本願の代表的な実施形態において、ニッケルめっき炭素繊維膜が提供される。図１に示すように、該ニッケルめっき炭素繊維膜は、炭素繊維基布３１とニッケル金属層３３とを含み、上記炭素繊維基布３１の表面に金属コロイド粒子３２が付着しており、該金属コロイド粒子とは、粘着性を有する金属粒子である。ニッケル金属層３３が上記炭素繊維基布３１の露出面であって上記金属コロイド粒子３２の上記炭素繊維基布３１から離れた表面に設けられている。図２の部分拡大模式図に示すように、炭素繊維３１０にニッケル金属層３３が付着している。
【００３３】
本願のニッケルめっき炭素繊維膜は、粘着性を有する金属コロイド粒子が炭素繊維基布に付着しているため、ニッケル金属層が炭素繊維基布によりよく付着し、ニッケルめっき炭素繊維膜の電磁シールド性能をさらに向上させ、これにより、該ニッケルめっき炭素繊維膜は、良好な機械的特性及び物理的特性を持つだけでなく、電磁シールド性能にも優れている。
【００３４】
該ニッケル金属層が金属コロイド粒子付近によりよく付着し、さらに炭素繊維基布によりよく付着し、そのうえ、ニッケルめっき炭素繊維膜の電磁シールド性能を高めることをさらに保証するために、本願の一実施例において、上記金属コロイド粒子３２は、Ｐｂコロイド粒子又はＡｇコロイド粒子である。
【００３５】
もちろん、本願の金属コロイド粒子は、上述した２種類の粒子に限られず、当業者は、実際の状況に応じて、他の適切な金属コロイド粒子、例えば、銅、ニッケル及びコバルトのうちの１種又は複数種を選択してもよい。
【００３６】
本願の上記炭素繊維基布は、表面の有機物が表面処理により除去されたものであることが好ましく、具体的な表面処理について、後文における表面処理に関する説明を参照することができる。
【００３７】
本願の他の代表的な実施形態において、シールド構造が提供される。図３に示すように、上記シールド構造は、少なくとも１つのシールドユニットを備え、上記シールドユニットは、上述したニッケルめっき炭素繊維膜３のいずれかを含む。
【００３８】
該シールド構造は、上述したニッケルめっき炭素繊維膜３を含むため、より良好な機械的特性、力学的特性及び電磁シールド性能を持つ。
【００３９】
該シールドユニットの機械的特性及び力学的特性をさらに高めるために、本願の一実施例において、図３に示すように、上記シールドユニットは、少なくとも１つの炭素繊維布１をさらに含み、上記ニッケルめっき炭素繊維膜３が上記炭素繊維布１の一方の側面に設けられている。
【００４０】
シールドユニットの機械的特性及び力学的特性をさらに高めるとともに、該シールドユニットが良好な電磁シールド性能を持つことをさらに保証するために、本願の一実施例において、１つの上記炭素繊維布の厚みは０．１３〜１．０ｍｍであるか、或いは、複数の上記炭素繊維布の合計厚みは０．１３〜１．０ｍｍである。
【００４１】
該シールドユニットと他の電気ユニットとの電気的接続を容易にするために、本願の一実施例において、図３に示すように、上記シールドユニットは、上記ニッケルめっき炭素繊維膜３と上記炭素繊維布１との間に設けられる金網２をさらに含む。
【００４２】
金網の導電性能を高めつつ、該シールドユニットの軽量化を保証するために、本願の一実施例において、上記金網２は銅網であることが好ましい。
【００４３】
シールドユニットの電気的接続性能及び他の性能をさらに保証するために、本願の一実施例において、上記金網２の厚みは０．００５〜０．０１５ｍｍである。シールドユニットの成形時に金属と炭素繊維の熱膨張係数が異なることに起因するデラミネーション欠陥がないことをさらに保証することができる。
【００４４】
シールドユニットの成形時に金属と炭素繊維の熱膨張係数が異なることに起因するデラミネーション欠陥がないことをさらに保証するために、本願の一実施例において、図３に示すように、上記シールドユニットは、上記ニッケルめっき炭素繊維膜３の上記金網２から離れた表面に設けられるパーマロイ層４をさらに含む。
【００４５】
本願の更なる実施例において、上記パーマロイ層４の厚みは０．０５〜０．２０ｍｍであり、このようにして、シールドユニットの成形時に金属と炭素繊維の熱膨張係数が異なることに起因するデラミネーション欠陥がないことをさらに保証することができる。
【００４６】
該シールドユニットが良好な機械的特性、力学的特性及び電磁シールド性能を持つことをさらに保証するために、本願の一実施例において、シールドユニットは、重畳して設けられた複数のニッケルめっき炭素繊維膜３を含み、複数の上記ニッケルめっき炭素繊維膜３の合計厚みは０．７〜１．２ｍｍである。
【００４７】
本願の更なる実施例において、上記シールド構造は、重畳して設けられた複数の上記シールドユニットを含み、上記シールド構造は、任意の隣り合う２つの上記シールドユニット間、および、それぞれの上記シールドユニットにおける任意の隣り合う２つの構造層間に設けられ、異なる構造層間を接着するための粘着剤層をさらに含む。
【００４８】
粘着剤層の材料は、従来技術におけるいずれの利用可能な粘着剤であってもよく、当業者は、実際の状況に応じて、適切な粘着剤を選択することができる。
【００４９】
本願の一実施例において、上記粘着剤層の原料は、エポキシ樹脂８０〜１２０部、硬化剤６０〜８０部、促進剤０．５〜２．５部を含む。該粘着剤は、各構造層間の強固な接着性をさらに保証することができる。
【００５０】
該粘着剤の硬化速度及び硬化効果をさらに高めるために、本願の一実施例において、上記硬化剤はメチルテトラヒドロ無水フタル酸であり、上記促進剤は三フッ化ホウ素エチルアミンである。
【００５１】
本願の更なる代表的な実施形態において、ニッケルめっき炭素繊維膜の製造方法が提供され、上記製造方法は、炭素繊維基布を提供するステップＳ１と、上記炭素繊維基布に金属コロイド粒子を設けるステップＳ３と、上記炭素繊維基布の露出面、および、上記金属コロイド粒子の上記炭素繊維基布から離れた表面にニッケル金属層を設けるステップＳ４と、を含む。
【００５２】
該ニッケルめっき炭素繊維膜の製造方法において、まず、炭素繊維基布に粘着性を有する金属コロイド粒子を設け、そして、炭素繊維基布の露出面、および、上記金属コロイド粒子の上記炭素繊維基布から離れた表面にニッケル金属層を設け、金属コロイド粒子の粘着性によりニッケル金属層が炭素繊維基布によりよく付着し、ニッケルめっき炭素繊維膜の電磁シールド性能をさらに向上させ、これにより、該ニッケルめっき炭素繊維膜は、良好な機械的特性及び物理的特性を持つだけでなく、電磁シールド性能にも優れている。
【００５３】
炭素繊維基布と金属コロイド粒子及びニッケル金属層をさらに向上させるために、本願の一実施例において、上記製造方法は、上記炭素繊維基布の表面の有機物を除去するように上記炭素繊維基布の表面を処理するステップＳ２をさらに含む。これらの有機物は炭素繊維基布上の保護材及び／又はサイジング剤等である。
【００５４】
１つの具体的な実施例において、上記ステップＳ２は、アセトンを使用して上記炭素繊維基布を浸漬することで、炭素繊維基布上の有機物の一部を除去できることと、フッ化水素酸と強酸の混合溶液を使用して、上記アセトンに浸漬された後の上記炭素繊維基布を浸漬し、フッ化水素酸におけるフッ素イオンが炭素繊維基布上の有機物と反応し、さらにこれらの有機物を除去することができるとともに、化学的粗面化を実現し炭素繊維基布の付着能力を向上させることができ、強酸溶液は、フッ素を有機物とより十分に反応させるようにその活性を高めることができることと、水を使用して浸漬後の上記炭素繊維基布を洗浄し、残存する混合溶液を清水で除去することで、該混合溶液が炭素繊維基布本体及び後で炭素繊維に設けられる他の構造に影響することを回避することと、を含む。
【００５５】
上記ステップＳ２における強酸溶液は、従来技術におけるいずれか１種の強酸溶液又は２種類の強酸溶液を混合したものであってもよく、強酸溶液は、硫酸、塩酸又は硝酸であり、当業者は、実際の状況に応じて、適切な強酸溶液をフッ化水素酸溶液と混合させることができる。
【００５６】
フッ化水素酸におけるフッ素イオンの活性をよりよく強めるために、本願の一実施例において、上記フッ化水素酸と上記強酸とのモル比は１：３〜１：１である。
【００５７】
本願の他の実施例において、上記混合溶液の体積濃度は５〜１５％であり、このようにして、炭素繊維基布の他の構造に影響することなく、炭素繊維基布上の有機物をよりよく除去することができる。
【００５８】
有機物の除去効果をさらに保証すると同時に、該炭素繊維基布の他の構造が壊れないことを保証するために、本願の一実施例において、上記ステップＳ２では、上記混合溶液を使用して上記炭素繊維基布を浸漬する時間は５〜３０ｍｉｎである。
【００５９】
炭素繊維基布上の有機物の一部をさらに予め除去するために、本願の一実施例において、上記ステップＳ２では、アセトンを使用して炭素繊維基布を浸漬する時間は２０〜４０ｍｉｎである。
【００６０】
本願の更なる実施例において、上記ステップＳ３は、炭素繊維基布に還元作用を有する還元性液体膜を１層形成するように、還元性金属塩の希酸溶液を使用して上記炭素繊維基布を浸漬し、即ち、増感を行うステップＳ３１と、酸化性金属塩の希酸溶液を使用して、上記ステップＳ３１で処理された上記炭素繊維基布を活性化処理して、還元性金属塩を酸化性金属塩と還元反応させ、酸化性金属塩における金属が置換され、活性中心を生成し、即ち、上記金属コロイド粒子を生成するステップＳ３２と、を含む。
【００６１】
上記酸化性金属塩の選択は、対応する金属が後工程のニッケルめっきを円滑に行うことに有利となるように要求される。還元性金属塩は、他の不純物イオンを導入することなく酸化性金属塩と反応できるように要求される。当業者は、上述した要求に応じて、適切な還元性金属塩及び酸化性金属塩を選択することができる。
【００６２】
一実施例において、上記酸化性金属塩はＰｄＣｌ２又はＡｇＮＯ３であり、これら両者は、還元により生成した金属単体が一定の粘着性を有すること、即ち、得られた金属コロイド粒子がより良好な粘着性を有することを保証することができ、さらに、ニッケル金属層を炭素繊維基布によりよく粘着させることができる。
【００６３】
本願の一実施例において、上記酸化性金属塩はＰｄＣｌ２であり、Ｐｄは還元剤によって十分に還元され、炭素繊維基布の表面に堆積して活性化点を形成し、後でめっきされたニッケルは該活性化点を中心として、点から面にわたってニッケル金属層を形成する。
【００６４】
他の不純物を導入することなく酸化性金属塩をよりよく還元するように、本願の一実施例において、上記還元性金属塩はＳｎＣｌ２であり、ＳｎＣｌ２は、一定の条件下でその還元能力を長時間にわたって保持することができるとともに、その還元反応の速度を制御することができる。
【００６５】
上記ステップＳ３１における希酸溶液は、ＳｎＣｌ２と反応しないとともに炭素繊維基布の構造に影響しないものであれば、従来技術におけるいずれの酸溶液であってもよく、その作用は、Ｓｎ２＋の活性を強化することである。同様に、上述したステップＳ３２における希酸溶液は、ＳｎＣｌ２と反応しないとともに炭素繊維基布の構造に影響しないものであれば、従来技術におけるいずれの酸溶液であってもよく、その作用は、Ｐｄ２＋の活性を強化することである。
【００６６】
本願の一実施例において、上記ステップＳ３１における希酸溶液は第１の塩酸溶液であり、かつ上記第１の塩酸溶液において、上記ＳｎＣｌ２の重量濃度は４〜８％であり、このようにして、該希酸溶液に他の不純物イオンを導入しないことをさらに保証することができるとともに、Ｓｎ２＋の活性をよく強化することができる。
【００６７】
炭素繊維基布の表面に還元性液体膜を１層形成することをさらに保証し、さらに、後続の酸化還元反応の進みに有利となり、後続のニッケルめっきに有利となるために、本願の一実施例において、上記ステップＳ３１の浸漬温度は２５〜４０℃であり、浸漬時間は２０〜５０ｍｉｎである。
【００６８】
本願の他の実施例において、上記酸化性金属塩はＰｄＣｌ２であり、上記ステップＳ３２における希酸溶液は第２の塩酸溶液であり、上記第２の塩酸溶液において、上記ＰｄＣｌ２の重量濃度は０．０２〜０．０４％である。このようにして、該希酸溶液に他の不純物イオンを導入しないことをさらに保証することができるとともに、Ｐｄ２＋の活性をよりよく強化することができる。
【００６９】
該活性化過程がより良好な活性化効果を有することをさらに保証するために、本願の一実施例において、上記ＰｄＣｌ２の希酸溶液の温度は２５〜４０℃であり、上記活性化処理の時間は１０〜５０ｍｉｎである。
【００７０】
本願の更なる実施例において、ＳｎＣｌ２の希酸溶液を使用して上記炭素繊維基布を浸漬した後、上記ステップＳ３１は、水を使用して上記炭素繊維基布を洗浄することをさらに含み、このようにして、主として炭素繊維基布に物理吸着されたＳｎＣｌ２の希酸溶液中の酸を除去し、それによる炭素繊維基布の構造への不良影響ことを防止する。
【００７１】
炭素繊維基布に物理吸着されたＰｄＣｌ２の希酸溶液をさらに除去するために、本願の一実施例において、上記酸化性金属塩はＰｄＣｌ２であり、ＰｄＣｌ２の希酸溶液を使用して上記炭素繊維基布を活性化処理した後、上記ステップＳ３２は、水を使用して上記炭素繊維基布を洗浄することをさらに含む。
【００７２】
本願の更なる実施例において、上記ステップＳ４は、めっき液を使用して、化学ニッケルめっき法により上記ニッケル金属層を設けることを含み、炭素繊維基布の表面で電磁機能が強化され、ニッケルの導電性により電磁波に渦電流損が発生するとともに、ニッケルがさらに持つ強磁性により電磁波が消費される。このような化学ニッケルめっき法は、形成されたニッケル金属層をより均一かつ緻密なものにすることができ、ニッケル金属層が良好な電磁シールド性能を有することをさらに保証するとともに、該ニッケルめっき炭素繊維膜が良好な電磁シールド性能、力学的特性及び機械的特性を持つことを保証する。
【００７３】
より緻密かつ均一なニッケル金属層を形成するとともに、ニッケル金属層の形成速度を大きくすることを保証するために、本願の一実施例において、上記めっき液は、ニッケル塩４０〜６０部、還元剤４０〜６０部、錯化剤８０〜１２０部、緩衝剤４０〜６０部、及び界面活性剤０．１５〜０．２５部を含む。
【００７４】
ニッケル金属の堆積速度をさらに高めるために、本願の一実施例において、上記めっき液のｐＨ値は１０〜１１である。
【００７５】
上記めっき液におけるニッケル塩は、従来技術におけるいずれの利用可能なニッケル塩であってもよく、当業者は、実際の状況に応じて、適切なニッケル塩を選択することができる。例えば、塩化ニッケル、酢酸ニッケル又は硫酸ニッケルなどを選択することができる。
【００７６】
上記めっき液における還元剤は、従来技術におけるニッケル塩を還元可能ないずれの還元剤であってもよく、当業者は、実際の状況に応じて、適切な還元剤を選択することができ、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、ボラン又は次亜リン酸ナトリウムを選択することができる。
【００７７】
上記めっき液における錯化剤は、従来技術における化学ニッケルめっきに利用可能ないずれの錯化剤であってもよく、当業者は、実際の状況に応じて、適切な錯化剤を選択することができ、例えば、酢酸塩、グリシン塩又はクエン酸塩を選択することができる。
【００７８】
本願における緩衝剤は、従来技術における化学ニッケルめっきに利用可能ないずれの緩衝剤であってもよく、当業者は、実際の状況に応じて、適切な緩衝剤を選択することができ、例えば、ホウ酸又は塩化アンモニウムを選択することができる。
【００７９】
本願の界面活性剤は、従来技術における化学ニッケルめっきに利用可能ないずれの界面活性剤であってもよく、当業者は、実際の状況に応じて、適切な界面活性剤を選択することができ、例えば、ポリエチレングリコール、ツイーン又はドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを選択することができる。
【００８０】
他の不純物イオンを導入しないとともに、化学ニッケルめっきの反応過程をより安定にし、さらに得られた金属ニッケル層をより緻密かつ均一にするために、本願の一実施例において、上記ニッケル塩は硫酸ニッケルを含み、上記還元剤は次亜リン酸ナトリウムを含み、上記錯化剤はクエン酸ナトリウムを含み、上記緩衝剤は塩化アンモニウムを含み、上記界面活性剤はドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む。
【００８１】
反応速度をさらに向上させると同時に副反応の発生を避けるために、本願の一実施例において、上記めっき液の温度は４０〜６０℃である。
【００８２】
化学ニッケルめっき反応をより充分に行うとともに、得られたニッケル金属層をより緻密にするために、本願の一実施例において、上記化学ニッケルめっき法の実施時間は２０〜５０ｍｉｎである。
【００８３】
本願のもう１つの代表的な実施形態において、シールド構造の作製方法が提供され、上記作製方法は、少なくとも１つのシールドユニットの製造過程を含み、上記製造過程は、上述したニッケルめっき炭素繊維膜の製造方法のいずれかを含む。
【００８４】
該作製方法は上述した製造方法を含むため、作製方法の効率が高いとともに、得られたシールド構造はより良好な機械的特性、力学的特性及び電磁シールド性能を持つ。
【００８５】
本願のもう１つの実施例において、上記製造過程は、炭素繊維布を提供することと、上記炭素繊維布上に金網と上記ニッケルめっき炭素繊維膜を順次重畳して設けることと、をさらに含む。炭素繊維布を設けることで、該シールドユニットの機械的特性及び力学的特性をさらに向上させることができ、金網を設けることで、該シールドユニットと他の電気ユニットとの電気的接続が容易となる。このように得られたシールドユニットは良好な機械的特性及び力学的特性を持っており、同時に、複数の構造層のシールド原理により、異なる電気特性媒体の構造層を使用して、異なる構造層の設計により、材料に広帯域で優れた電磁シールド性能を持たせることを実現する。
【００８６】
金網の導電性能を向上させながら、該シールドユニットの軽量化を保証するために、本願の一実施例において、上記金網は銅網であることが好ましい。
【００８７】
シールドユニットの成形時に金属と炭素繊維との熱膨張係数が異なることに起因するデラミネーション欠陥がないことをさらに保証するために、本願の一実施例において、上記製造過程は、上記ニッケルめっき炭素繊維膜の上記金網から離れた表面にパーマロイ層を設けることをさらに含む。
【００８８】
シールド構造の各層が接着される信頼性と強固性を向上させるために、本願の一実施例において、上記作製方法は、上記プレシールドユニットを熱間プレス成形するか、或いは、複数の重畳された上記プレシールドユニットを熱間プレス成形して、上記シールド構造を形成することをさらに含む。
【００８９】
一実施例において、上記熱間プレス成形の過程は、事前に熱間プレス成形を行う隣り合う構造層間に粘着剤を設け、事前熱間プレス構造を形成し、シールド構造がシールドユニットを１つしか含まない場合、プレシールドユニットにおける各構造層間に粘着剤を設ければよく、シールド構造が複数のシールドユニットを含む場合、２つのシールドユニット間に粘着剤を設ける必要があることと、上記事前熱間プレス構造を圧着することと、圧着され後の上記事前熱間プレス構造における粘着剤を硬化させることと、を含む。本願の上記構造層とは、単一の炭素繊維布、金網、パーマロイ層又はニッケルめっき炭素繊維膜である。
【００９０】
上述した粘着剤を設ける具体的な過程として、まず粘着剤の各組成を十分に撹拌分散し混合し、炭素繊維布及びニッケルめっき繊維膜並びにパーマロイ層を計量浸漬して、金網にコーティングするようにすることができる。
【００９１】
上記熱間プレス成形に用いる粘着剤は、従来技術におけるいずれの利用可能な粘着剤であってもよく、当業者は、実際の状況に応じて、適切な粘着剤を選択することができる。
【００９２】
本願の他の実施例において、上記熱間プレス成形に用いる粘着剤は、揮発物が少なく、室温下での安定性がよいエポキシ樹脂８０〜１２０部、硬化剤６０〜８０部、促進剤０．５〜２．５部を含む。該粘着剤は、各構造層間の接着強固性をさらに保証することができる。
【００９３】
該粘着剤の硬化速度及び硬化効果をさらに高めるために、本願の一実施例において、上記硬化剤はメチルテトラヒドロ無水フタル酸であり、上記促進剤は三フッ化ホウ素エチルアミンである。
【００９４】
上記圧着の圧力は０．４〜０．８ＭＰａである。このようにして、形成されたシールド構造が良好な強固性を有することをよりよく保証することができる。
【００９５】
上記硬化は、熱硬化であってもよいし、光硬化であってもよく、当業者は、実際の状況に応じて、例えば、具体的な粘着剤の種類に応じて具体的な硬化タイプを選択することができる。
【００９６】
本願の一実施例において、上記硬化は熱硬化であり、かつ、上記熱硬化の温度は１２０〜１５０℃であり、熱硬化の時間は１〜３ｈであることが好ましい。このようにして、接着剤をよりよく硬化させ、さらに各構造層をよりよく接着することができ、これにより、シールド構造が良好な接着強度を有する。
【００９７】
本願における水は、脱イオン水、蒸留水又は水道水などであってもいい。当業者は、実際の状況に応じて、適切な水を選択することができる。
【００９８】
当業者に本願の技術的構成をより明確に理解してもらうように、以下、具体的な実施例を結合して本願の技術的構成を説明する。
【００９９】
（実施例１）
シールド構造の製造ステップは、以下のことを含む。
【０１００】
炭素繊維基布（グレード３ｋ、ｔ７００、面密度２００ｇ）をアセトンに３０ｍｉｎ浸漬し、炭素繊維基布の表面を蒸留水で洗浄した後、ＨＦとＨ２ＳＯ４とのモル比が４：６である１０％（体積濃度）の混合希釈液に１０ｍｉｎ浸漬し、再び蒸留水で洗浄し、炭素繊維基布をＳｎＣｌ２の重量濃度が５％である希ＨＣｌ酸溶液にて３０ｍｉｎ処理し、かつＳｎＣｌ２の希ＨＣｌ酸溶液の温度が３０℃（即ち、浸漬温度）であり、もう一度蒸留水で洗浄し、炭素繊維基布を０．０２５％(重量比)のＰｄＣｌ２の希酸溶液にて活性化処理し、処理時間が２０ｍｉｎであり、かつＰｄＣｌ２の希酸溶液の温度が３０℃（即ち、浸漬温度）であり、この２種類の酸溶液はいずれも希塩酸溶液である。
【０１０１】
めっき液は、硫酸ニッケル５０部、次亜リン酸ナトリウム５０部、クエン酸ナトリウム１００部、塩化アンモニウム５０部、及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．２部を含み、水酸化ナトリウムでめっき液のｐＨ値を１０〜１１に調整するとともに、めっき液を温度が４５℃となるように加熱し、該めっき液を使用して、表面処理された後の炭素繊維基布の表面にニッケル金属層を堆積させ、処理時間が３０ｍｉｎであり、ニッケルめっき炭素繊維膜を得た。
【０１０２】
型内に、合計厚みが０．５４ｍｍの３つの炭素繊維布(各炭素繊維布のグレードが３ｋで、ｔ７００、面密度が２００ｇであり、かつ各炭素繊維布の厚みが０．１８ｍｍである)からなる第１の層と、１５０メッシュかつ厚みが０．０１ｍｍの銅網である第２の層と、合計厚みが０．９ｍｍの５つのニッケルめっき炭素繊維膜（各ニッケルめっき炭素繊維膜の厚みが０．１８ｍｍである）からなる第３の層と、厚みが０．１ｍｍのパーマロイ層（グレード１Ｊ５０）である第４の層と、の構造で積層して、プレシールドユニットを形成した。上記積層過程を６回繰り返した。
【０１０３】
エポキシ樹脂１００部、メチルテトラヒドロ無水フタル酸硬化剤７０部、及び三フッ化ホウ素エチルアミン促進剤１．５部をミキサーに順次加えて混合し、十分に撹拌分散した。計量浸漬するか、或いは各構造層にコーティングした後、型内に置いて圧力０．６ＭＰａで圧着した。その後硬化させ、かつ硬化の温度が１３５℃で、硬化の時間が１．５ｈである。離型すればシールド構造を得た。
【０１０４】
（実施例２）
炭素繊維基布（グレード６ｋ、ｔ７００、面密度３００ｇ）をアセトンに３０ｍｉｎ浸漬し、炭素繊維基布の表面を蒸留水で洗浄した後、ＨＦとＨ２ＳＯ４とのモル比が４：６である１０％の混合希釈液に１０ｍｉｎ浸漬し、再び蒸留水で洗浄し、炭素繊維基布をＳｎＣｌ２の重量濃度が５％である希ＨＣｌ酸溶液にて３０ｍｉｎ処理し、かつＳｎＣｌ２の希ＨＣｌ酸溶液の温度が３０℃（即ち、浸漬温度）であり、もう一度蒸留水で洗浄し、炭素繊維基布を０．０２５％(重量比)のＰｄＣｌ２の希酸溶液にて活性化処理し、処理時間が２０ｍｉｎであり、かつＰｄＣｌ２の希酸溶液の温度が３０℃（即ち、浸漬温度）であり、この２種類の酸溶液はいずれも希塩酸溶液である。
【０１０５】
めっき液は、硫酸ニッケル５０部、次亜リン酸ナトリウム５０部、クエン酸ナトリウム１００部、塩化アンモニウム５０部、及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．２部を含み、かつめっき液のｐＨ値は１０〜１１であり、温度が４５℃であり、該めっき液を使用して、表面処理された後の炭素繊維基布の表面にニッケル金属層を堆積させ、処理時間が３０ｍｉｎであり、ニッケルめっき炭素繊維膜を得た。
【０１０６】
型内に、合計厚みが０．５４ｍｍの３つの炭素繊維布(炭素繊維布のグレードが６ｋで、ｔ７００、面密度が３００ｇであり、かつ各炭素繊維布の厚みが０．１８ｍｍである)からなる第１の層と、１５０メッシュかつ厚みが０．０１ｍｍの銅網である第２の層と、合計厚みが１．１７ｍｍの９つのニッケルめっき炭素繊維膜（各ニッケルめっき炭素繊維膜の厚みが０．１３ｍｍである）からなる第３の層と、厚みが０．１ｍｍのパーマロイ層（グレード１Ｊ５０）である第４の層と、の構造で積層して、プレシールドユニットを形成した。上記積層過程を５回繰り返した。
【０１０７】
エポキシ樹脂１００部、メチルテトラヒドロ無水フタル酸硬化剤８０部、及び三フッ化ホウ素エチルアミン促進剤１．５部をミキサーに順次加えて混合し、十分に撹拌分散した。計量浸漬するか、或いは各構造層にコーティングした後、型内に置いて圧力０．６ＭＰａで圧着した。その後硬化させ、かつ硬化の温度が１３５℃で、硬化の時間が１．５ｈである。離型すればシールド構造を得た。
【０１０８】
（実施例３）
シールド構造の製造ステップは、以下のことを含む。
【０１０９】
炭素繊維基布（グレード３ｋ、ｔ７００、面密度２００ｇ）をアセトンに１０ｍｉｎ浸漬し、炭素繊維基布の表面を蒸留水で洗浄した後、ＨＦとＨ２ＳＯ４とのモル比が１：３である１５％の混合希釈液に３０ｍｉｎ浸漬し、再び蒸留水で洗浄し、炭素繊維基布をＳｎＣｌ２の重量濃度が８％である希ＨＣｌ酸溶液にて２０ｍｉｎ処理し、かつＳｎＣｌ２の希ＨＣｌ酸溶液の温度が４０℃（即ち、浸漬温度）であり、もう一度蒸留水で洗浄し、炭素繊維基布を０．０４％(重量比)のＰｄＣｌ２の希酸溶液にて活性化処理し、処理時間が１０ｍｉｎであり、かつＰｄＣｌ２の希酸溶液の温度が４０℃（即ち、浸漬温度）であり、この２種類の酸溶液はいずれも希塩酸溶液である。
【０１１０】
めっき液は、硫酸４０部、次亜リン酸ナトリウム４０部、クエン酸ナトリウム８０部、塩化アンモニウム４０部、及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．１５部を含み、かつめっき液のｐＨ値は１０〜１１であり（実施例１と同様に、水酸化ナトリウムにより調整した）、温度が６０℃（実施例１と同様に、該温度まで加熱した）であり、該めっき液を使用して、表面処理された後の炭素繊維基布の表面にニッケル金属層を堆積させ、処理時間が５０ｍｉｎであり、ニッケルめっき炭素繊維膜を得た。
【０１１１】
型内に、厚みが０．１３ｍｍ（実際には、１つの炭素繊維布を含む）の炭素繊維布(サブ炭素繊維布のグレードが３ｋで、ｔ７００、面密度が２００ｇである)である第１の層と、１５０メッシュかつ厚みが０．００５ｍｍの銅網である第２の層と、合計厚みが０．７２ｍｍの４つのニッケルめっき炭素繊維膜（各ニッケルめっき炭素繊維膜の厚みが０．１８ｍｍである）からなる第３の層と、厚みが０．０５ｍｍのパーマロイ層（グレード１Ｊ５０）である第４の層と、の構造で積層して、プレシールドユニットを形成した。上記積層過程を７回繰り返した。
【０１１２】
エポキシ樹脂８０部、メチルテトラヒドロ無水フタル酸硬化剤６０部、及び三フッ化ホウ素エチルアミン促進剤０．５部をミキサーに順次加えて混合し、十分に撹拌分散した。計量浸漬するか、或いは各構造層にコーティングした後、型内に置いて圧力０．８ＭＰａで圧着した。その後硬化させ、かつ硬化の温度が１２０℃で、硬化の時間が３ｈである。離型すればシールド構造を得た。
【０１１３】
（実施例４）
シールド構造の製造ステップは、以下のことを含む。
【０１１４】
炭素繊維基布（グレード３ｋ、ｔ７００、面密度２００ｇ）をアセトンに５０ｍｉｎ浸漬し、炭素繊維基布の表面を蒸留水で洗浄した後、ＨＦとＨ２ＳＯ４のモル比が１：１である５％の混合希釈液に５ｍｉｎ浸漬し、再び蒸留水で洗浄し、炭素繊維基布をＳｎＣｌ２の重量濃度が４％である希ＨＣｌ酸溶液にて５０ｍｉｎ処理し、かつＳｎＣｌ２の希ＨＣｌ酸溶液の温度が２５℃（即ち、浸漬温度）であり、もう一度蒸留水で洗浄し、炭素繊維基布を０．０２％（重量比）のＰｄＣｌ２の希酸溶液にて活性化処理し、処理時間が５０ｍｉｎであり、かつＰｄＣｌ２の希酸溶液の温度が２５℃（即ち、浸漬温度）であり、この２種類の酸溶液はいずれも希塩酸溶液である。
【０１１５】
めっき液は、硫酸６０部、次亜リン酸ナトリウム６０部、クエン酸ナトリウム１２０部、塩化アンモニウム６０部、及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．２５部を含み、かつめっき液のｐＨ値は１０〜１１であり（実施例１と同様に、水酸化ナトリウムにより調整した）温度が４０℃であり（実施例１と同様に、該温度まで加熱した）、該めっき液を使用して、表面処理された後の炭素繊維基布の表面にニッケル金属層を堆積させ、処理時間が２０ｍｉｎであり、ニッケルめっき炭素繊維膜を得た。
【０１１６】
型内に、合計厚みが０．９ｍｍの５つの炭素繊維布(炭素繊維布のグレードが３ｋで、ｔ７００、面密度が２００ｇであり、各ニッケルめっき炭素繊維膜の厚みが０．１８ｍｍである)からなる第１の層と、１５０メッシュかつ厚みが０．０１５ｍｍの銅網である第２の層と、合計厚みが０．９ｍｍの５つのニッケルめっき炭素繊維膜（各ニッケルめっき炭素繊維膜の厚みが０．１８ｍｍである）からなる第３の層と、厚みが０．２ｍｍのパーマロイ層（グレード１Ｊ５０）である第４の層と、の構造で積層して、プレシールドユニットを形成した。上記積層過程を６回繰り返した。
【０１１７】
エポキシ樹脂１２０部、メチルテトラヒドロ無水フタル酸硬化剤８０部、及び三フッ化ホウ素エチルアミン促進剤２．５部をミキサーに順次加えて混合し、十分に撹拌分散した。計量浸漬するか、或いは各構造層にコーティングした後、型内に置いて圧力０．８ＭＰａで圧着した。その後硬化させ、かつ硬化の温度が１５０℃で、硬化の時間が１ｈである。離型すればシールド構造を得た。
【０１１８】
（実施例５）
実施例１と比較すると、ＨＦ：Ｈ２ＳＯ４＝６：５(モル比)である点で相違する。
【０１１９】
（実施例６）
実施例１と比較すると、混合希釈液におけるＨＦとＨ２ＳＯ４の体積濃度が４％である点で相違する。
【０１２０】
（実施例７）
実施例１と比較すると、ＨＦとＨ２ＳＯ４の混合希釈液に炭素繊維基布を浸漬する時間が３ｍｉｎである点で相違する。
【０１２１】
（実施例８）
実施例１と比較すると、ＳｎＣｌ２の希ＨＣｌ酸溶液において、ＳｎＣｌ２の重量濃度が３％である点で相違する。
【０１２２】
（実施例９）
実施例１と比較すると、ＳｎＣｌ２の希ＨＣｌ酸溶液の温度が２０℃である点で相違する。
【０１２３】
（実施例１０）
実施例１と比較すると、ＳｎＣｌ２の希ＨＣｌ酸溶液による炭素繊維基布の処理時間が１０ｍｉｎである点で相違する。
【０１２４】
（実施例１１）
実施例１と比較すると、ＰｄＣｌ２の希酸溶液において、ＰｄＣｌ２の重量濃度が０．０１％である点で相違する。
【０１２５】
（実施例１２）
実施例１と比較すると、ＰｄＣｌ２の希ＨＣｌ酸溶液の温度が２０℃である点で相違する。
【０１２６】
（実施例１３）
実施例１と比較すると、ＰｄＣｌ２の希ＨＣｌ酸溶液による炭素繊維基布の処理時間が５ｍｉｎである点で相違する。
【０１２７】
（実施例１４）
実施例１と比較すると、めっき液における硫酸ニッケルが３０部である点で相違する。
【０１２８】
（実施例１５）
実施例１と比較すると、めっき液における次亜リン酸ナトリウムが３０部である点で相違する。
【０１２９】
（実施例１６）
実施例１と比較すると、めっき液におけるクエン酸ナトリウムが７０部である点で相違する。
【０１３０】
（実施例１７）
実施例１と比較すると、めっき液における塩化アンモニウムが３０部である点で相違する。
【０１３１】
（実施例１８）
実施例１と比較すると、めっき液におけるドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムが０．１部である点で相違する。
【０１３２】
（実施例１９）
実施例１と比較すると、めっき液のｐＨ値が８〜９である点で相違する。
【０１３３】
（実施例２０）
実施例１と比較すると、めっき液の温度が３０℃である点で相違する。
【０１３４】
（実施例２１）
実施例１と比較すると、化学ニッケルめっきの処理時間が１０ｍｉｎである点で相違する。
【０１３５】
（実施例２２）
実施例１と比較すると、粘着剤におけるエポキシ樹脂が７０部である点で相違する。
【０１３６】
（実施例２３）
実施例１と比較すると、粘着剤における硬化剤が５０部である点で相違する。
【０１３７】
（実施例２４）
実施例１と比較すると、粘着剤における促進剤が０．３部である点で相違する。
【０１３８】
（実施例２５）
実施例１と比較すると、粘着剤の硬化温度が１１０℃である点で相違する。
【０１３９】
（実施例２６）
実施例１と比較すると、粘着剤の硬化時間が５ｈである点で相違する。
【０１４０】
（実施例２７）
実施例１と比較すると、圧着の圧力が０．３ＭＰａである点で相違する。
【０１４１】
（実施例２８）
実施例１と比較すると、銅網の厚みが０．１ｍｍである点で相違する。
【０１４２】
（実施例２９）
実施例１と比較すると、パーマロイ層の厚みが０．４ｍｍである点で相違する。
【０１４３】
（比較例）
炭素繊維基布（グレード３ｋ、ｔ７００、面密度２００ｇ）をアセトンに３０ｍｉｎ浸漬し、炭素繊維基布の表面を蒸留水で洗浄した後、ＨＦとＨ２ＳＯ４とのモル比が４：６である１０％（体積濃度）の混合希釈液に１０ｍｉｎ浸漬し、再び蒸留水で洗浄した。
【０１４４】
めっき液は、硫酸ニッケル５０部、次亜リン酸ナトリウム５０部、クエン酸ナトリウム１００部、塩化アンモニウム５０部、及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．２部を含み、４５℃まで加熱し、めっき液のｐＨ値を水酸化ナトリウムにより１０〜１１に調整し、該めっき液を使用して、表面処理された後の炭素繊維基布の表面にニッケル金属層を堆積させ、処理時間が３０ｍｉｎであり、ニッケルめっき炭素繊維膜を得た。
【０１４５】
型内に、合計厚みが０．５４ｍｍの３つの炭素繊維布(各炭素繊維布のグレードが３ｋで、ｔ７００、面密度が２００ｇであり、かつ各炭素繊維布の厚みが０．１８ｍｍである)からなる第１の層と、１５０メッシュかつ厚みが０．０１ｍｍの銅網である第２の層と、合計厚みが０．９ｍｍの５つのニッケルめっき炭素繊維膜（各ニッケルめっき炭素繊維膜の厚みが０．１８ｍｍである）からなる第３の層と、厚みが０．１ｍｍのパーマロイ層（グレード１Ｊ５０）である第４の層と、の構造で積層して、プレシールドユニットを形成した。上記積層過程を６回繰り返した。
【０１４６】
エポキシ樹脂１００部、メチルテトラヒドロ無水フタル酸硬化剤７０部、及び三フッ化ホウ素エチルアミン促進剤１．５部をミキサーに順次加えて混合し、十分に撹拌分散した。計量浸漬するか、或いは各構造層にコーティングした後、型内に置いて圧力０．６ＭＰａで熱間プレスした。その後硬化させ、かつ硬化の温度が１３５℃で、硬化の時間が１．５ｈである。離型すればシールド構造を得た。
【０１４７】
ＧＢ／Ｔ１４４７−２００５繊維強化プラスチックの引張特性試験方法を用いて各実施例及び比較例のシールド構造の引張強さを評価するとともに、ＧＢ／Ｔ１２１９０−２００６電磁シールドルームのシールド効果の測定方法を用いて各実施例及び比較例のシールド構造の電磁シールド性能を評価し、具体的な評価結果を表１に示す。
【０１４８】
【表１】
2020526029.tif 000003
2020526029.tif 000004
2020526029.tif 000005
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2020526029.tif 000007
2020526029.tif 000008
【０１４９】
上記表の評価結果から分かるように、比較例は、実施例１と比較すると、増感及び活性化のステップが含まれていないので、ニッケル金属層の厚み又は面積が所定の範囲に達していないため、シールド構造のシールド性能が悪化した。各実施例は、良好な力学的特性及び良好なシールド性能を同時に取得できた。実施例１と比較すると、実施例５は、表面処理過程におけるフッ化水素酸と強酸とのモル比が１：３〜１：１ではないため、表面処理効果が悪く、そのうえ、ニッケル金属層の付着力が悪化し、シールドユニットの力学的特性が大幅に低下した。実施例１と比較すると、実施例６は、表面処理過程における混合溶液の体積濃度が低く、５〜１５％ではないため、表面処理効果が悪く、そのうえ、ニッケル金属層の付着力が悪化し、シールドユニットの力学的特性が大幅に低下した。実施例１と比較すると、実施例７は、混合溶液を使用して炭素繊維基布を浸漬する時間が短いため、表面処理効果が悪く、そのうえ、ニッケル金属層の付着力が悪化し、シールドユニットの力学的特性が大幅に低下した。実施例１と比較すると、実施例８は、ＳｎＣｌ２の重量濃度が低いため、活性化中心が少なくなり、形成されたニッケル金属層は所定の面積又は所定の厚みよりも小さく、即ち、めっきが不完全となり、不完全なめっきによってそのシールド性能が低下した。実施例１と比較すると、実施例９は、ＳｎＣｌ２溶液の温度が低いため、シールド構造のシールド性能が低下した。実施例１と比較すると、実施例１０は、ＳｎＣｌ２溶液による浸漬時間が短いため、シールド構造のシールド性能及び力学的特性はいずれも低下した。実施例１と比較すると、実施例１１は、ＰｄＣｌ２の重量濃度が低いため、シールド構造のシールド性能及び力学的特性はいずれも低下した。実施例１と比較すると、実施例１２は、ＰｄＣｌ２の希酸溶液の温度が低いため、シールド構造のシールド性能及び力学的特性はいずれも低下した。実施例１と比較すると、実施例１３は、ＰｄＣｌ２溶液による浸漬時間が短いため、シールド構造のシールド性能が低下した。実施例１と比較すると、実施例１４は、めっき液における硫酸ニッケルの重量部が少なく、ニッケル金属層の厚み又は面積が所定値に達していないため、シールド構造のシールド性能が低下した。実施例１と比較すると、実施例１５は、次亜リン酸ナトリウムが少ないため、シールド構造のシールド性能及び力学的特性はいずれも低下した。実施例１と比較すると、実施例１６において錯化剤であるクエン酸ナトリウムが減少したため、シールド構造のシールド性能及び力学的特性はいずれも低下した。実施例１と比較すると、実施例１７において緩衝剤である塩化アンモニウムが減少したため、シールド構造のシールド性能及び力学的特性はいずれも低下した。実施例１と比較すると、実施例１８において界面活性剤が減少したため、シールド構造のシールド性能及び力学的特性はいずれも低下した。実施例１と比較すると、実施例１９においてめっき液のｐＨ値が低下したため、シールド構造のシールド性能が低下した。実施例１と比較すると、実施例２０のめっき液の温度が低下したため、シールド構造のシールド性能及び力学的特性はいずれも低下した。実施例１と比較すると、実施例２１のニッケルめっき時間が短縮したため、シールド構造のシールド性能が低下した。実施例１と比較すると、実施例２２の粘着剤におけるエポキシ樹脂の含有量が低下したため、ニッケル金属層の付着力が低下し、さらにシールド構造の力学的特性が低下した。実施例１と比較すると、実施例２３の硬化剤の含有量が減少したため、ニッケル金属層の付着力が低下し、さらにシールド構造の力学的特性が低下した。実施例１と比較すると、実施例２４の促進剤が減少したため、ニッケル金属層の付着力が低下し、さらにシールド構造の力学的特性が低下した。実施例１と比較すると、実施例２５の粘着剤の硬化温度が低下したため、ニッケル金属層の付着力が低下し、さらにシールド構造の力学的特性が低下した。実施例１と比較すると、実施例２６の粘着剤の硬化時間が長くなったが、得られたシールド構造の性能が実施例と同様であり、性能が低下しておらず、その理由は、該実施例における硬化時間が経年変化時間よりも短く、粘着剤の硬化時間が所定時間に達していれば硬化が完了することができ、接着性能が最大強度に達し、一方、硬化を続ける時間が経年変化時間を超えてこそ、力学的特性が低下する。実施例１と比較すると、実施例２７は、圧着の圧力が小さいため、ニッケル金属層の付着力が低下し、さらにシールド構造の力学的特性が低下した。実施例１と比較すると、実施例２８は、銅網の厚みが大きいため、シールド構造による一部の帯域の信号のシールド効果が大きくなるとともに、シールド構造の力学的特性が低下した。実施例１と比較すると、実施例２９は、パーマロイ層の厚みが大きいため、シールド構造による一部の帯域の信号のシールド効果が大きくなるとともに、シールド構造の力学的特性が低下した。
【０１５０】
炭素繊維布の厚みの増加により、シールド構造全体の強度が増加され、その結果、引張強さが変化する。ニッケルめっき炭素繊維膜の厚みの増加により、シールド構造の周波率が１４ｋＨｚ以上の信号のシールド効果が大きくなるが、１０ＧＨｚ以上の信号のシールド性能の向上が強く見られない。パーマロイ層及び金網の厚みの増加により、１４ｋＨｚ以下の帯域の信号のシールド効果が大きくなるが、１０ＧＨｚ以上の高周波数信号のシールド効果の向上が強く見られない。シールドユニットの数の増加により、シールド構造による全帯域の信号のシールド効果を向上させることができるが、等しい割合で向上するのではなく、シールドユニットが６以上の場合、向上効果が強く見られない。めっき液の条件の変化は、ニッケルめっき炭素繊維の品質が低下し、シールド効果を損なう結果を招く。粘着剤の成分及び条件の変化は、力学的強度にのみ影響を及ぼす。
【０１５１】
以上の説明から分かるように、本願の上述した実施例は、以下のような技術効果を達成する。
１）本願のニッケルめっき炭素繊維膜は、粘着性を有する金属コロイド粒子が炭素繊維基布に付着しているため、ニッケル金属層が炭素繊維基布によりよく付着し、ニッケルめっき炭素繊維膜の電磁シールド性能をさらに向上させ、これにより、該ニッケルめっき炭素繊維膜は、良好な機械的特性及び物理的特性を持つだけでなく、電磁シールド性能にも優れている。
２）本願のシールド構造は、上述したニッケルめっき炭素繊維膜を含むため、より優れた機械的特性、力学的特性及び電磁シールド性能を持つ。
３）本願のニッケルめっき炭素繊維膜の製造方法では、まず、炭素繊維基布に粘着性を有する金属コロイド粒子を設け、その後、炭素繊維基布の露出面、および、上記金属コロイド粒子の上記炭素繊維基布から離れた表面にニッケル金属層を設け、金属コロイド粒子の粘着性により、ニッケル金属層が炭素繊維基布によりよく付着し、ニッケルめっき炭素繊維膜の電磁シールド性能をさらに向上させ、これにより、該ニッケルめっき炭素繊維膜は、良好な機械的特性及び物理的特性を持つだけでなく、電磁シールド性能にも優れている。
４）本願のシールド構造の作製方法は、上述した製造方法を含むため、作製方法の効率が高いとともに、得られたシールド構造はより優れた機械的特性、力学的特性及び電磁シールド性能を持つ。
【０１５２】
以上は、本願の好適な実施例に過ぎず、本願を限定することは意図していない。当業者であれば、本願に様々な変更や変形が可能である。本願の思想や原則内の如何なる修正、均等の置き換え、改良なども、本願の保護範囲内に含まれるべきである。
【符号の説明】
【０１５３】
１…炭素繊維布、２…金網、３…ニッケルめっき炭素繊維膜、４…パーマロイ層、３１…炭素繊維基布、３２…金属コロイド粒子、３３…ニッケル金属層、３１０…炭素繊維。
【図１】
2020526029.tif 000009
【図２】
2020526029.tif 000010
【図３】
2020526029.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月26日(2019.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニッケルめっき炭素繊維膜（３）であって、
表面に金属コロイド粒子（３２）が付着している炭素繊維基布（３１）と、
前記炭素繊維基布（３１）の露出面、および、前記金属コロイド粒子（３２）の前記炭素繊維基布（３１）から離れた表面に設けられるニッケル金属層（３３）と、
を含むことを特徴とするニッケルめっき炭素繊維膜。
【請求項２】
前記金属コロイド粒子（３２）はＰｂコロイド粒子又はＡｇコロイド粒子である、ことを特徴とする請求項１に記載のニッケルめっき炭素繊維膜。
【請求項３】
少なくとも１つのシールドユニットを備えるシールド構造であって、前記シールドユニットは、請求項１または２に記載のニッケルめっき炭素繊維膜（３）を含むことを特徴とするシールド構造。
【請求項４】
前記シールドユニットは、
一方の側面に前記ニッケルめっき炭素繊維膜（３）が設けられている少なくとも１つの炭素繊維布（１）をさらに含み、
好ましくは１つ又は複数の前記炭素繊維布（１）の厚みが０．１３〜１．０ｍｍである、
ことを特徴とする請求項３に記載のシールド構造。
【請求項５】
前記シールドユニットは、
前記ニッケルめっき炭素繊維膜（３）と前記炭素繊維布（１）との間に設けられる金網（２）、をさらに含み、
好ましくは前記金網（２）が銅網であり、更に好ましくは前記金網（２）の厚みが０．００５〜０．０１５ｍｍである、
ことを特徴とする請求項４に記載のシールド構造。
【請求項６】
前記シールドユニットは、
前記ニッケルめっき炭素繊維膜（３）の前記金網（２）から離れた表面に設けられるパーマロイ層（４）をさらに含み、
好ましくは前記パーマロイ層（４）の厚みが０．０５〜０．２０ｍｍであり、更に好ましくは前記シールドユニットは、合計厚みが０．７〜１．２ｍｍである重畳して設けられた複数の前記ニッケルめっき炭素繊維膜（３）を含む、
ことを特徴とする請求項５に記載のシールド構造。
【請求項７】
重畳して設けられた複数の前記シールドユニットを含み、
任意の隣り合う２つの前記シールドユニット間、および、それぞれの前記シールドユニットにおける任意の隣り合う２つの構造層間に設けられる粘着剤層をさらに含み、
好ましくは前記粘着剤層の原料は、エポキシ樹脂８０〜１２０部、硬化剤６０〜８０部、促進剤０．５〜２．５部を含み、更に好ましくは前記硬化剤がメチルテトラヒドロ無水フタル酸であり、前記促進剤が三フッ化ホウ素エチルアミンである、
ことを特徴とする請求項３に記載のシールド構造。
【請求項８】
ニッケルめっき炭素繊維膜の製造方法であって、
炭素繊維基布を提供するステップＳ１と、
前記炭素繊維基布に金属コロイド粒子を設けるステップＳ３と、
前記炭素繊維基布の露出面、および、前記金属コロイド粒子の前記炭素繊維基布から離れた表面にニッケル金属層を設けるステップＳ４と、
を含むことを特徴とする製造方法。
【請求項９】
前記ステップＳ１と前記ステップＳ３との間に、
前記炭素繊維基布の表面の有機物を除去するように前記炭素繊維基布の表面を処理するステップＳ２、をさらに含む、
ことを特徴とする請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記ステップＳ２は、
アセトンを使用して前記炭素繊維基布を浸漬することと、
フッ化水素酸と強酸との混合溶液を使用して前記アセトンに浸漬された後の前記炭素繊維基布を浸漬することと、
水を使用して浸漬後の前記炭素繊維基布を洗浄することと、を含む、
ことを特徴とする請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記強酸は硫酸、塩酸又は硝酸であり、好ましくは前記フッ化水素酸と前記強酸とのモル比が１：３〜１：１であり、更に好ましくは前記混合溶液の体積濃度が５〜１５％であり、より更に好ましくは前記ステップＳ２において前記混合溶液を使用して前記炭素繊維基布を浸漬する時間が５〜３０ｍｉｎである、
ことを特徴とする請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記ステップＳ３は、
還元性金属塩の希酸溶液を使用して前記炭素繊維基布を浸漬するステップＳ３１と、
酸化性金属塩の希酸溶液を使用して前記ステップＳ３１で処理された後の前記炭素繊維基布を活性化処理して、前記金属コロイド粒子を生成し、好ましくは前記酸化性金属塩がＰｄＣｌ２又はＡｇＮＯ３であり、更に好ましくは前記還元性金属塩がＳｎＣｌ２であるステップＳ３２と、を含む、
ことを特徴とする請求項８に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記ステップＳ３１における希酸溶液は第１の塩酸溶液であり、かつ前記第１の塩酸溶液において、前記ＳｎＣｌ２の重量濃度が４〜８％であり、好ましくは前記ステップＳ３１の浸漬温度が２５〜４０℃であり、浸漬時間が２０〜５０ｍｉｎである、
ことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記酸化性金属塩はＰｄＣｌ２であり、前記ステップＳ３２における希酸溶液は第２の塩酸溶液であり、かつ前記第２の塩酸溶液において、前記ＰｄＣｌ２の重量濃度が０．０２〜０．０４％であり、好ましくは前記ＰｄＣｌ２の希酸溶液の温度が２５〜４０℃であり、前記活性化処理の時間が１０〜５０ｍｉｎである、
ことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１５】
ＳｎＣｌ２の希酸溶液を使用して前記炭素繊維基布を浸漬した後、前記ステップＳ３１は、
水を使用して前記炭素繊維基布を洗浄することをさらに含み、
前記酸化性金属塩はＰｄＣｌ２であり、ＰｄＣｌ２の希酸溶液を使用して前記炭素繊維基布を活性化処理した後、前記ステップＳ３２は、
水を使用して前記炭素繊維基布を洗浄することをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１６】
前記ステップＳ４は、
めっき液を使用して、化学ニッケルめっき法により前記ニッケル金属層を設けることを含み、
好ましくは前記めっき液はニッケル塩４０〜６０部、還元剤４０〜６０部、錯化剤８０〜１２０部、緩衝剤４０〜６０部、及び界面活性剤０．１５〜０．２５部を含み、更に好ましくは前記めっき液のｐＨ値が１０〜１１である、
ことを特徴とする請求項８に記載の製造方法。
【請求項１７】
前記ニッケル塩は硫酸ニッケルを含み、前記還元剤は次亜リン酸ナトリウムを含み、前記錯化剤はクエン酸ナトリウムを含み、前記緩衝剤は塩化アンモニウムを含み、前記界面活性剤はドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含み、好ましくは前記めっき液の温度が４０〜６０℃であり、更に好ましくは前記化学ニッケルめっき法の実施時間が２０〜５０ｍｉｎである、
ことを特徴とする請求項１６に記載の製造方法。
【請求項１８】
少なくとも１つのシールドユニットの製造過程を含むシールド構造の作製方法であって、前記製造過程は、請求項８乃至１７のうちのいずれか一項に記載のニッケルめっき炭素繊維膜の製造方法を含むことを特徴とする作製方法。
【請求項１９】
前記製造過程は、
炭素繊維布を提供することと、
前記炭素繊維布に金網と前記ニッケルめっき炭素繊維膜を順次重畳して設けることと、をさらに含み、
好ましくは前記製造過程は、
前記ニッケルめっき炭素繊維膜の前記金網から離れた表面にパーマロイ層を設けてプレシールドユニットを形成すること、をさらに含む、
ことを特徴とする請求項１８に記載の作製方法。
【請求項２０】
前記プレシールドユニットを熱間プレス成形するか、或いは、複数の重畳された前記プレシールドユニットを熱間プレス成形して、前記シールド構造を形成すること、をさらに含む、
ことを特徴とする請求項１９に記載の作製方法。
【請求項２１】
前記熱間プレス成形の過程は、
事前に熱間プレス成形を行う隣り合う構造層間に粘着剤を設け、事前熱間プレス構造を形成することと、
前記事前熱間プレス構造を圧着することと、
圧着され後の前記事前熱間プレス構造における粘着剤を硬化させることと、を含み、
好ましくは前記粘着剤は、エポキシ樹脂８０〜１２０部、硬化剤６０〜８０部、促進剤０．５〜２．５部を含み、好ましくは前記硬化剤はメチルテトラヒドロ無水フタル酸であり、前記促進剤は三フッ化ホウ素エチルアミンであり、
更に好ましくは前記圧着の圧力が０．４〜０．８ＭＰａであり、
より更に好ましくは前記硬化が熱硬化であり、かつ前記熱硬化の温度が１２０〜１５０℃であり、前記熱硬化の時間が１〜３ｈである、
ことを特徴とする請求項２０に記載の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
さらに、上記熱間プレス成形の過程は、事前に熱間プレス成形を行う隣り合う構造層間に粘着剤を設け、事前熱間プレス構造を形成することと、上記事前熱間プレス構造を圧着することと、圧着された後の上記事前熱間プレス構造における粘着剤を硬化させることと、を含み、好ましくは上記粘着剤は、エポキシ樹脂８０〜１２０部、硬化剤６０〜８０部、促進剤０．５〜２．５部を含み、好ましくは上記硬化剤はメチルテトラヒドロ無水フタル酸であり、上記促進剤は三フッ化ホウ素エチルアミンであり、更に好ましくは上記圧着の圧力が０．４〜０．８ＭＰａであり、より更に好ましくは上記硬化が熱硬化であり、かつ上記熱硬化の温度が１２０〜１５０℃であり、上記熱硬化の時間が１〜３ｈである。
【国際調査報告】
2020526029.tif 000012
2020526029.tif 000013
2020526029.tif 000014
2020526029.tif 000015
2020526029.tif 000016
2020526029.tif 000017
2020526029.tif 000018
2020526029.tif 000019