(57)【要約】  検出器の較正に供されるパターンであって、列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントを備え、セグメントは、パターン上の任意の点の絶対位置が、点を備えるパターンの窓部分から判別可能であり、窓部分は最小の所定数のセグメントからなり、最小の所定数のセグメントは、列内のセグメントの総数よりも少ない。
2020523611.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検出器の較正に供されるパターンであって、直線状の列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントを備え、
前記セグメントは、前記パターン上の任意の点の絶対位置が、前記パターンの窓部分から検出器によって判別可能であるように配置されており、前記窓部分は前記点を含み、前記窓部分は所定数のセグメントを備え、最小の前記所定数のセグメントは、前記列内のセグメントの総数よりも少ない、パターン。
【請求項２】
前記セグメントは、矩形形状であり、長さ及び幅を有する、請求項１に記載のパターン。
【請求項３】
少なくとも１つのセグメントの幅は、少なくとも第２のセグメントの幅と同一でない、請求項１又は２に記載のパターン。
【請求項４】
少なくとも１つのセグメントは、前記少なくとも１つのセグメントの長さに沿って不均一な幅を有する、請求項３に記載のパターン。
【請求項５】
検出器較正システムであって、
先行請求項のいずれか１項に記載のパターンが適用されるターゲットを備える、検出器較正システム。
【請求項６】
前記システムは、前記窓部分が前記検出器によって観視されるときに前記検出器に対する前記ターゲットの絶対位置及び方位が判別可能であるように、配置されている、請求項５に記載の検出器較正システム。
【請求項７】
前記検出器によって観視される前記パターンの前記明コントラストおよび暗コントラストのセグメントのうちの少なくとも１つの間の遷移は、グレースケール遷移を含む、請求項６に記載の検出器較正システム。
【請求項８】
前記明コントラストおよび暗コントラストのセグメントのうちの少なくとも１つの間の遷移は、正弦曲線状のグレースケール遷移である、請求項７に記載の検出器較正システム。
【請求項９】
前記システムは、さらに、前記ターゲットに対する前記検出器のフォーカスが、前記パターンの明セグメントおよび暗セグメントの検出された強度の標準偏差から判別可能であるように、配置されている、請求項６に記載の検出器較正システム。
【請求項１０】
前記システムは、さらに、前記ターゲットに対する前記検出器のフォーカスが、明セグメントの検出強度と暗セグメントの検出強度との差の比較から判別可能であるように、配置されている、請求項８に記載の検出器較正システム。
【請求項１１】
前記検出器は、ラインスキャンカメラを備える、請求項５に記載の検出器較正システム。
【請求項１２】
前記ターゲットに対する前記ラインスキャンカメラの垂直位置及び角度が、前記ラインスキャンカメラのスキャンラインと前記パターンの中心線との間の角度から判別可能であるように配置されている、請求項１１に記載の検出器較正システム。
【請求項１３】
直線状の列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントを備えるパターンを生成する方法であって、前記列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントを、１のビットが明セグメントに対応し、かつ０のビットが暗セグメントに対応するように、線形フィードバックシフトレジスタ（ＬＦＳＲ）の生成された二値出力に対応させて配置することを含む、方法。
【請求項１４】
前記パターンは、直線状の列をなすｍ個のセグメントを備え、前記ＬＦＳＲの前記二値出力は、
ｍ≦２n−１＋ｎ−１となるように値ｎを選択し、
サイズｎの最長ＬＦＳＲを選択し、
ＬＦＳＲ開始状態を選択し、
選択された前記ＬＦＳＲ開始状態から開始する、長さｍの二値シーケンスを作成することによって、生成される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
さらに、前記ＬＦＳＲの前記二値出力にマンチェスタ符号化を適用することを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記直線状の列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントは、１のビットが明セグメントに対応し、かつ０のビットが暗セグメントに対応するように、前記二値出力
１０１０１０１０１００１１０１００１１００１０１１００１１００１１０１０１０１００１１００１０１１００１１００１０１０１１００１１０１０１０１０１００１０１０１１００１１００１０１１０１００１０１０１１００１０１０１０１０１０１０１１０１０１００１０１１００１０１１０１００１０１０１０１０１１０１００１１０１００１０１１００１１０１００１０１０１０１０１０１１００１１０１００１０１１００１０１０１１００１１０１００１１００１１００１１００１０１０１０１１００１０１１００１０１０１１００１１００１１０１０１００１０１０１１００１０１１０１０１００１１００１１００１１０１００１０１０１１００１０１１００１１０１００１０１０１１０１００１０１１０１００１１００１１０１００１１０１００１１００１０１１０１００１０１０１０１１００１１０１００１１０１０１０１００１０１１０１００１０１０１１００１１０１００１１０１００１０１０１１００１１０１０１００１１０１０１００１０１１０１０１００１０１０１１０１００１１０１０１００１１００１１０１００１０１０１１０１０１０１０１００１１０１０１００１１００１０１１０１０１００１０１０１１００１１０１００１０１０１０１１０１０１０１００１１０１０１０１００１１００１０１０１１０１０１０１００１０１１０１０１００１１００１０１０１０１０１０１１０１０１０１００１０１１００１０１０１０１１００１１０１００１０１０１１００１１００１０１０１０１０１１０１０１０１０１００１０１１００１１０１０１０１０１００１１０１０１０１００１０１１００１１００１１００１０１０１０１０１１００１０１１００１１００１０１１０１０１００１１００１０１１０１００１１００１１００１０１０１０１０１０１１００１０１１０１０１０１０１０１００１０１０１０１０１１００１０１１０１００１０１１００１１００１１０１００１１０１００１０１１００１０１０１０１１０１００１
に対応する、請求項１に記載のパターン。
【請求項１７】
前記窓部分は１３ビットからなる、請求項１６に記載のパターン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、検出器較正に関し、特に、複数の方向におけるカメラ及びラインスキャンカメラの較正に関する。
【背景技術】
【０００２】
カメラなどの検出器及び他の機器の較正は、検出器によって捕捉される画像及び他のデータが正確に記録及び解釈されることを確保するために非常に重要である。誤較正は、画像及び取得されたデータの誤解釈を招き得る。検出器機器の較正は、時間の掛かる作業であることが多く、複数の工程を必要とし、検出器の位置及びフォーカスの評価基準である複数の較正ターゲット又は位置合わせターゲットを頻繁に必要とする。
【０００３】
種々のものの仕分け機が必要とすることは、検出器の使用により画像が生成され、次いで画像が解析されて、例えば、仕分けされるアイテムが処理ワークフローに引き継がれることを拒否すべきか、又は許容すべきかを決定することである。
【０００４】
検出器（又は他のセンサ）からのデータに基づいて、拒否されたアイテムを正しく方向付けるためには、各画素について、検出器が見ている、分類ベルト又は分類シュート上の正確な位置を知ることが必要である。ベルト上の画素の位置を知る別の理由は、検出器に対する幾何学的な較正を可能にすることである。
【０００５】
特定のベルトタイプの仕分け機には、検出器のスキャンラインにおける仕分けベルト上に較正ルーラが配置されている。このルーラは、高強度セグメントと低強度セグメントとの交互パターンを備えている。これにより、検出器の拒否割当ておよび幾何学的較正のいくつかの手段を実行することが可能である。
【０００６】
しかしながら、このようなシステムは、多数の欠点を有する。例えば、スキャンラインが複数の検出器にわたって分割されている場合に、中間の検出器（複数可）はルーラの中間部を見る。ベルト上の正確な位置を捕捉するために、操作者は、通常、各検出器の視野内の第１のセグメントを計数し、これをパラメータとしてソフトウェアに設定しなければならない。あるいは、ルーラ上のセグメントと視野内のセグメントとの一致を確認するためのマーカがルーラ上に配置され、確認後にルーラ上でずれが計数され得る。これは、煩わしく、誤りを生じやすい作業であり得る。特許文献１は、スキャンラインカメラに対する較正パターンを記載している。しかしながら、この特許は、パターン上の同じ単一の固定位置に対する位置合わせを提供するにすぎない。特許文献２は、位置合わせ処理を記載しているが、その適用はマトリクスカメラに限定されている。非特許文献１のルーナ（Ｌｕｎａ）等は、ラインスキャンカメラの較正について記載している。しかしながら、この作業には、カメラにターゲット全体が見えるようにすることが必要である。
【０００７】
したがって、上記の技術を向上させる、より効率的な検出器較正を提供することが望ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】米国特許公報第５４６３４２９Ａ号
【特許文献２】米国特許公報第４５５７５９９Ａ号
【非特許文献】
【０００９】
【非特許文献１】ルーナ（Ｌｕｎａ）等、アイトリプルイー  トランザクション  インストゥルメンテーション  アンド  メジャーメント（ＩＥＥＥ  Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ  ｏｎ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔａｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ）（第５９巻、第８号、２０１０年８月）
【発明の概要】
【００１０】
本発明は、検出器の較正に供されるパターンを提供し、パターンは、直線状の列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントを備え、セグメントは、パターン上の任意の点の絶対位置が、パターンの窓部分から検出器によって判別可能であるように配置されており、窓部分は点を含み、窓部分は所定数のセグメントを備え、最小の所定数のセグメントは、列内のセグメントの総数よりも少ない。
【００１１】
このことは、それが、パターンの窓化された部分を調べることによってパターン上の絶対位置を検出器が判別し得ることをもたらすことから、有利である。窓部分は、全パターン内の位置が判別され得るように、十分な数のパターンセグメントを備えるように寸法設定されている。このことは、例えば較正技術において必要とされるルーラの物理的マーキングの必要性をそれが回避することから、例えばカメラなどの検出器の較正に特に有利である。それは、さらに、複数の検出器との使用に供される複数のパターンの必要性を回避する。それは、さらに、検出器の幾何学的較正を提供し、色収差に適合する。ゆえに、窓部分内のパターンは一意であり、全パターン長にわたって同じ窓サイズが繰り返されない。
【００１２】
パターンのセグメントは、矩形形状であって長さ及び幅を有してもよい。少なくとも１つのセグメントの幅は、少なくとも第２のセグメントの幅と同一でなくてもよい。
このことは、矩形形状のセグメントが様々な検出器タイプによって容易に識別可能であることから、有利である。さらには、同一でない幅を有するセグメントを設けることにより、パターン内の水平位置の識別がもたらされる。
【００１３】
パターンの少なくとも１つのセグメントは、この少なくとも１つのセグメントの長さに沿って不均一な幅を有してもよい。このことは、セグメントの長さに沿って不均一な幅を有するセグメントを設けることにより、パターン内の垂直位置の識別がもたらされることから、有利である。
【００１４】
検出器較正システムは、このパターンが適用されたターゲットを備えてもよい。検出器較正システムは、窓部分が検出器によって観視されるときに検出器に対するターゲットの絶対位置及び方位が判別可能であるように、配置されていてもよい。このようなシステムは、システム内の検出器位置の迅速な較正及び確認を可能にするという利点をもたらす。
【００１５】
検出器によって観視される、パターンの明コントラスト及び暗コントラストのセグメントのうちの少なくとも１つの間の遷移は、グレースケール遷移を含んでもよい。明コントラスト及び暗コントラストのセグメントのうちの少なくとも１つの間の遷移は、正弦曲線状のグレースケール遷移を含んでもよい。このことは、それが、ターゲットに対する検出器位置のサブ画素精度が判別され得ることをもたらすことから、有利である。
【００１６】
検出器較正システムは、さらに、ターゲットに対する検出器のフォーカスが、パターンの明セグメントおよび暗セグメントの検出された強度の標準偏差から判別可能であるように、配置されていてもよい。このことは、それが、検出器の取得すべき初期フォーカス又は粗フォーカスをもたらすことから、有利である。
【００１７】
検出器較正システムは、さらに、ターゲットに対する検出器のフォーカスが、明セグメントの検出強度と暗セグメントの検出強度との差の比較から判別可能であるように、配置されていてもよい。このことは、それが、検出器の取得すべき二次フォーカス又は微細フォーカスをもたらすことから、有利である。
【００１８】
検出器較正システムは、ラインスキャンカメラを備えてもよい。検出器較正は、ターゲットに対するラインスキャンカメラの垂直位置及び角度が、ラインスキャンカメラのスキャンラインとパターンの中心線との間の角度から判別可能であるように、配置されていてもよい。このことは、それが、ターゲットに対するカメラの位置合わせ及び較正をもたらすことから、有利である。
【００１９】
本発明は、さらに、直線状の列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントを備えるパターンを生成する方法であって、列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントを、１のビットが明セグメントに対応し、かつ０のビットが暗セグメントに対応するように、線形フィードバックシフトレジスタ（ｌｉｎｅａｒ  ｆｅｅｄｂａｃｋ  ｓｈｉｆｔ  ｒｅｇｉｓｔｅｒ，ＬＦＳＲ）の生成された二値出力に対応させて配置することを含む方法を提供する。
【００２０】
このような方法は、それが、ＬＦＳＲの二値出力に基づいて物理的パターンを生成することをもたらすことから、有利である。実際には、二値出力は、検出器によって観視できる、列をなす明セグメント及び暗セグメントに変換される。
パターンは、直線状の列をなすｍ個のセグメントを備えてもよく、ＬＦＳＲの二値出力は、
ｍ≦２n−１＋ｎ−１となるように値ｎを選択し、
サイズｎの最長ＬＦＳＲを選択し、
ＬＦＳＲ開始状態を選択し、
選択されたＬＦＳＲ開始状態から開始する、長さｍの二値シーケンスを作成することによって、生成される。
本方法によって生成されるパターンは、検出器の較正に使用されてもよい。
【００２１】
方法は、さらに、ＬＦＳＲの二値出力にマンチェスタ符号化を適用することを含んでもよい。このことは、それが、パターン内の３つ以上の連続するビットが同じにならないことをもたらすことから、有利である。このことは、パターン上の絶対位置が非マンチェスタ符号化出力と比較して向上した精度で判別され得るように、十分なエッジ密度、すなわち明コントラストセグメントと暗コントラストセグメントとの間の十分な遷移をもたらす。
【００２２】
直線状の列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントは、１のビットが明セグメントに対応し、かつ０のビットが暗セグメントに対応するように、二値出力
１０１０１０１０１００１１０１００１１００１０１１００１１００１１０１０１０１００１１００１０１１００１１００１０１０１１００１１０１０１０１０１００１０１０１１００１１００１０１１０１００１０１０１１００１０１０１０１０１０１０１１０１０１００１０１１００１０１１０１００１０１０１０１０１１０１００１１０１００１０１１００１１０１００１０１０１０１０１０１１００１１０１００１０１１００１０１０１１００１１０１００１１００１１００１１００１０１０１０１１００１０１１００１０１０１１００１１００１１０１０１００１０１０１１００１０１１０１０１００１１００１１００１１０１００１０１０１１００１０１１００１１０１００１０１０１１０１００１０１１０１００１１００１１０１００１１０１００１１００１０１１０１００１０１０１０１１００１１０１００１１０１０１０１００１０１１０１００１０１０１１００１１０１００１１０１００１０１０１１００１１０１０１００１１０１０１００１０１１０１０１００１０１０１１０１００１１０１０１００１１００１１０１００１０１０１１０１０１０１０１００１１０１０１００１１００１０１１０１０１００１０１０１１００１１０１００１０１０１０１１０１０１０１００１１０１０１０１００１１００１０１０１１０１０１０１００１０１１０１０１００１１００１０１０１０１０１０１１０１０１０１００１０１１００１０１０１０１１００１１０１００１０１０１１００１１００１０１０１０１０１１０１０１０１０１００１０１１００１１０１０１０１０１００１１０１０１０１００１０１１００１１００１１００１０１０１０１０１１００１０１１００１１００１０１１０１０１００１１００１０１１０１００１１００１１００１０１０１０１０１０１１００１０１１０１０１０１０１０１００１０１０１０１０１１００１０１１０１００１０１１００１１００１１０１００１１０１００１０１１００１０１０１０１１０１００１
に対応してもよい。
【００２３】
パターンの窓部分は１３ビットからなっていてもよい。このことは、パターン上の絶対位置を判別できるようにする実行的な最小窓サイズをもたらす。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】マスク００１１を有する、４ビットのサイズを有する線形フィードバックシフトレジスタを表したものである。
【図２】４ビットのサイズを有する最長線形フィードバックシフトレジスタを表したものである。
【図３】マスク１００１を用いて線形フィードバックシフトレジスタから生成されたサンプルシーケンスを表したものである。
【図４】本発明によるパターンの二値表現である。
【図５】本発明によるマンチェスタ符号化されたパターンの二値表現である。
【図６】本発明によるパターンである。
【図７】本発明によるパターンのセグメントを表したものである。
【図８】本発明によるパターンのセグメントを表したものである。
【図９】本発明による不均一なセグメント幅を有するパターンを表したものである。
【図１０】サブ画素フィッティングを表したものである。
【図１１】サブ画素フィッティングを表したものである。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
ここで、添付図面を参照して本発明を記載する。検出器較正に供されるパターンは、直線状の列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントを備え、セグメントは、パターン上の任意の点の絶対位置が、パターンの窓部分から判別可能であり、窓部分は点を含み、窓部分は所定数のセグメントを備え、最小の所定数のセグメントは、列内のセグメントの総数よりも少ない。
【００２６】
パターンの、列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントは、線形フィードバックシフトレジスタ（ＬＦＳＲ）の二値出力に対応して配置されている。よって、列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントを備えるパターンを生成する方法であって、列をなす明コントラスト及び暗コントラストを、１のビットが明セグメントに対応し、かつ０のビットが暗セグメントに対応するように、線形フィードバックシフトレジスタ（ＬＦＳＲ）の生成された二値出力に対応させて配置することを含む方法が提供される。本方法によって生成されるパターンは、検出器の較正に使用され得る。さらなる実施形態において、１のビットが暗セグメントに対応してもよく、０のビットが明セグメントに対応してもよい。
【００２７】
（フィードバック関数）
パターンを導出するために使用される線形フィードバック関数は、ＸＯＲゲートネットワークに入力供給するタップのセットによって定義される。タップは、マスクとして表現できる。例えば、１番目、３番目、及び４番目のビット上にタップが存在する場合に、マスクは１１０１である（１番目のビットは右側にあることに注意されたい）。
特定の入力シーケンスについて所与のマスクにより定義されるフィードバック関数の結果は、マスクされた入力シーケンス内の１の数が偶数であるか、又は奇数であるかに応じて、０又は１のいずれかである。
【００２８】
実施例：
【００２９】
【表１】
2020523611.tif 000003
【００３０】
【表２】
2020523611.tif 000004
【００３１】
マスクは、二進数として表現できる。ただし、大きいマスクについては、これを十進数又は十六進数に変換するほうが容易である。したがって、上記のマスクは、０ｂ１１０１又は１３又は０ｘＤである。
【００３２】
（線形フィードバックシフトレジスタ）
線形フィードバックシフトレジスタ（ＬＦＳＲ）は、その（ビットの）状態のサイズと、１のビットを返す線形フィードバック関数とによって定義される。線形フィードバックシフトレジスタは、レジスタ内の特定の値から開始して、値を１ビットだけシフトさせ、続いてこの値を元の値に加えることによって、新たなレジスタ値を計算するように、実装される。シフト中、ビット窓から外れるビットは破棄される。
【００３３】
実施例：
【００３４】
値１１０１が与えられると、マスク００１１を有するフィードバック関数は１を返し、シフトされた値にこの１が加えられる。
【００３５】
【表３】
2020523611.tif 000005
【００３６】
したがって、新たな値は１０１１となる。
【００３７】
図１は、４ビットのサイズを有するＬＦＳＲの状態空間の実施例を示し、この場合に、フィードバック関数は、第１のビットと第２のビットとをＸＯＲ演算することを含む。図１内の各値について、矢印は、マスク００１１を有するＬＦＳＲを用いて次の値となる値を示す。
【００３８】
本発明のＬＦＳＲは、ビット位置のサブセットにおいてビットをＸＯＲ演算するフィードバック関数として役立ち得る。これらのタイプのＬＦＳＲは、フィボナッチＬＦＳＲと呼ばれる。所与のビットサイズｎを有する多数のＬＦＳＲは、最長ＬＦＳＲと呼ばれる。このようなＬＦＳＲは、２n−１個の状態（これは、全てがゼロである状態を除く全ての取り得る状態である）を内包するループを有する。図２は、マスク１００１又は０ｘ９を有する、４ビットの状態サイズを有する最長ＬＦＳＲを示す。周期内の値の数は１５である。長さ２のＬＦＳＲについて、最長ＬＦＳＲを結果として生じるマスクは０ｘ３の１つのみであり、同じことが長さ３のＬＦＳＲについて言え、０ｘ６である。長さ４のＬＦＳＲについて、マスク０ｘ９及び０ｘＣを有する、２つの最大ＬＦＳＲが存在する。長さ５のＬＦＳＲについて、マスク０ｘ１２、０ｘ１４、０ｘ１７、０ｘ１Ｂ、０ｘ１Ｄ、０ｘ１Ｅを有する６つの最大ＬＦＳＲが存在する。
【００３９】
（パターン生成及び絶対位置測位）
本発明によるパターンを生成するために、フィードバック関数からの結果を、列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントとして表す。例えば、上記に示したような、マスク１００１を有する４ビットＬＦＳＲを使用すると、以下となる。
０００１から開始して結果が１であるため、パターンは１として開始する。
次の状態は、結果としての１を伴う００１１となるため、パターンは１１となる。
次の状態は、結果としての１を伴う０１１１となるため、パターンは１１１となる。
次の状態は、結果としての０を伴う１１１１となるため、パターンは１１１０となる
【００４０】
パターン１１１０は、３つの１を表す３つの明セグメントと、０を表す暗セグメントとして表され得る。
【００４１】
ＬＦＳＲのｎビットの各状態は、１つ前の状態と重なる（それらは共通のｎ−１ビットを有する）ことから、状態は、長いシーケンスのビットで連鎖し得る。このシーケンスは、全ての生成されたビットの連鎖である。マスク１００１及び開始状態０００１を有する、上記に概説した最長ＬＦＳＲの実施例の場合、次のシーケンス、０００１１１１０１０１１００１０００が生成される。最後のｎ−１ビットが最初のｎ−１の周囲のラップを内包する、長さ２n−１＋（ｎ−１）のシーケンスが作成され得る。シーケンスが任意の所与の状態で開始し得るため、２n−１個の異なるシーケンスが生成され得ることに注意されたい。
【００４２】
このシーケンスの構成は、シーケンス内の４ビットの各サブシーケンスが一意であるようになっている。ループ内の各状態にインデックス位置を割り当てることによって、サブシーケンスから位置上へのマッピングが作成できる。以下の表４は、本実施例のシーケンス０００１１１１０１０１１００１０００に対するルックアップテーブルを与える。４ビットの各サブシーケンス（ｉｉ）は二進数として解釈され、結果として生じる数はテーブル内のインデックス（ｉ）として使用される。テーブル内のさらなる値（ｉｉｉ）は、そのサブシーケンスのシーケンス内の位置である。
【００４３】
【表４】
2020523611.tif 000006
【００４４】
こうして、直線状の列をなすｍ個のセグメントを備えるパターンについて、シーケンスは、
・ｍ≦２n−１＋（ｎ−１）であるように値ｎを選択し、
・サイズｎの最長ＬＦＳＲを選択し、
・ＬＦＳＲ開始状態を選択し、
・長さｍを有し、選択されたＬＦＳＲ開始状態から開始する、二値シーケンスを作成することによって、生成され得る。
【００４５】
（水平位置測位及び方向）
所与のシーケンス内の選択された数のビットは、窓と称し得る。所与のシーケンスについて、左から右へのビット列として読み取られる場合に、右から左へ読み取られる場合のシーケンス内の一致する「ミラー反転された」ビット列を見つける、多数の窓が存在する。例えば、図３に関して、上に表したものの上部にわたって引かれた線は、左から右へ０１１１１０と読み取られる６ビット窓を示す。下に表したものの上部にわたって引かれた線も、右から左へ０１１１１０と読み取られる６ビット窓を示す。こうして、本例では、例えばカメラである検出器が、パターンを左からの向きに見るカメラが、図３の上に表したものにおいて強調表示されたようなシーケンス０１１１１０を読み取り得る一方で、パターンを右からの向きに見るカメラが、図３の下に表したものにおいて強調表示されたようなシーケンス０１１１１０を読み取り得ることから、このシーケンスによって定義されるパターンに対して、いずれの方向を指しているのかを判別できない場合がある。
【００４６】
上記の実施例について、サイズ６の窓が選択される場合に、シーケンスは、窓が、「ミラー反転された」シーケンスとしても生じるサブシーケンスを含むと想定される位置を３つのみ内包する（上部に表したものにおいて左から右へ読み取られるシーケンスが、下部に表したものにおいて右から左へ読み取られるシーケンスに一致する図３を参照）。窓サイズを増加させることは、「ミラー反転された」ビット列が生じる場合を減少させることに役立つ。図３の実施例のシーケンスについて、表５は、所与の窓サイズに対して「ミラー反転された」シーケンスが見つかる場合の数を示す。このように、８の窓サイズにより、検出器の観視の方向が、一致するミラー反転されたシーケンスの存在しないものであると、決定することができる。
【００４７】
【表５】
2020523611.tif 000007
【００４８】
よって、ｍ個の位置の列内において絶対位置を見つけさせるパターンを生成するために、パターンの所与の窓化された視野から、いずれの方向からパターンを観視しているのかを判別することが可能でなければならない。
【００４９】
このようなパターンを生成するために、所与のｎについて、全ての可能な最長フィードバック関数と全ての可能なシーケンス開始状態とが考慮される。こうして生成された各パターンについて、視野の方向を区別するために必要とされる最小窓サイズが決定される。次いで、最小の窓サイズを有するパターンが判別される。
【００５０】
所与のｍについて、式ｍ≦２n−１＋ｎ−１が成立する最初のｎよりも大きいビットサイズが、ＬＦＳＲに対して選択され得る。このことは、所与のシーケンス内のサブシーケンスの位置に対するルックアップテーブルがより大きくなる一方で、方向を判別するためのより小さい窓が結果として生じ得ることを意味する。
【００５１】
（マンチェスタ符号化）
前節に記載した生成されたパターンは、０又は１の長いつながりを有し得る。このことは、パターンにマンチェスタ符号化を適用することによって解消され得る。これによりパターン内のビットの量は２倍になるが、３つ以上の連続するビットが同じになることはないことが保証される。これにより、十分なエッジ密度、すなわち、明コントラストのセグメントと暗コントラストのセグメントとの間の十分な遷移がもたらされ、この結果、パターン上の絶対位置が、マンチェスタ符号化されない出力と比較して向上した精度で判別され得る。例えば、実施例のシーケンス０００１１１１０１０１１００１０００に対するマンチェスタ符号化は、１０１０１００１０１０１０１１００１１００１０１１０１００１１０１０１０である。最初のシーケンス中の複数の１及び０のシーケンスが壊されていることに注意されたい。
【００５２】
（較正システム）
上述したパターンを備える検出器較正システムの実施形態について記載する。以下に記載するもの以外の、パターン及び検出器のさらなる配置が可能である。
【００５３】
検出器較正システムは、上述したパターンが適用されたターゲットを備え得る。ターゲットは、例えば、ルーラであってもよく、パターンは、ルーラの長さに沿って適用されてもよい。検出器較正システムは、ルーラ上のパターンの窓位置が検出器によって観視されるときに、検出器に対するターゲットの絶対位置及び方位が判別可能であるように、配置され得る。
【００５４】
検出器は、例えば、仕分け機と共に使用され得る。ルーラは、仕分け機のコンベアを横断して延在し得る。典型的な寸法を有する仕分け機との使用に好適であるためには、パターンの暗セグメント及び明セグメントの幅が小さすぎてはならない。２．５ｍｍのセグメント幅を有するパターンは、好適であることが分かっている。検出器は、１つ以上のカメラ、例えばラインスキャンカメラであり得る。
【００５５】
２０００ｍｍのカメラスキャンラインは、一連の検出手順に好適であると考えられる。２０００ｍｍのスキャンラインを適合させるために、パターンを備えるルーラは、側部でややより幅広（例えば、各側部５０ｍｍ）とされ、結果として２１００ｍｍのパターン全幅となる。２．５ｍｍのセグメント幅を用いると、これは結果として８４０個のセグメントのパターンを生じ、これは４２０ビットのＬＦＳＲシーケンス（マンチェスタ符号化なし）に相当する。
【００５６】
こうして、長さ４２０のパターンについて絶対位置及び方位の両方を判別するための最小窓サイズに対する探索が実行される。表６は、ＬＦＳＲの種々のサイズに対する結果を示す。
【００５７】
【表６】
2020523611.tif 000008
【００５８】
表６を参照すると、ＬＦＳＲサイズｎは、１番目の列に示されている。窓サイズｗは、２番目の列に示されている。マンチェスタ符号化との使用については、この窓サイズに２の係数を乗じるものとする。
【００５９】
２．５ｍｍのパターンセグメント幅が選択されている。このことは、実効的な高解像度性能、すなわちパターンを極接近して見るカメラ実装の可能化と、実効的な低解像度性能、すなわちパターンを遠方より見るカメラの可能化とをもたらす。
【００６０】
４番目の列は、位置を曖昧さなく検出するための最小窓幅の物理的サイズを示す。例えば、表６内の、値の１番目の行に関して、窓幅は、以上よりｗ×２×２．５（例えば、１６×２×２．５）から導出される。
【００６１】
１３の最小窓サイズが、こうして決定される。２０４８というより小さいルックアップテーブルを有するシーケンスが選択される。これにより、最小窓を有する１９６個のパターンが生じる。選択されたパターンの１番目のビット及び最終ビットが１であることを確保することが好ましい。これにより、シーケンスの２つの端部に対称な終了が生じ、ルーラのエッジにおける観視の処理が簡単になる。よって、１で開始及び終了するマンチェスタ符号化を有するパターンが選択される。パラメータは、
・タップに対するマスク：０×５０３（１２３８）−十六進（十進）
・開始状態：０×２５（３７）−十六進（十進）
【００６２】
生成された完全なパターン（４２０ビット）を、図４に示す。対応するマンチェスタ符号化パターン（８４０ビット）を、図５に示す。
【００６３】
図６は、１：１スケールで２１００ｍｍのパターン全体を表示している（１７．５ｃｍの個片に切断されている）。
【００６４】
（垂直位置測位）
本発明のパターンによるセグメントは、矩形形状であって長さ及び幅を有してもよい。さらには、少なくとも１つのセグメントの幅は、少なくとも第２のセグメントの幅と同一でなくてもよい。さらには、少なくとも１つのセグメントは、この少なくとも１つのセグメントの長さに沿って不均一な幅であってもよい。このような特徴により、判別されるパターン内の垂直位置測位が可能になる（図７及び図８を参照）。
【００６５】
図７を参照すると、パターンの、中心線より下及び中心線より上の領域が示されており、領域の高さは［−１，１］内のΔｙによって定義される。垂直位置は、中心線上でΔｙ＝０、領域の最上部でΔｙ＝１、中心線より下の領域の最下部でΔｙ＝−１として定義される。
【００６６】
厚さＢを有する明セグメント（すなわち、１のシーケンスビット値に対応する）が与えられると、厚さは、Ｂ−Ｂ／２の厚さからＢ＋Ｂ／２の厚さまで、領域内でΔｙに応じて線形に変化し得る。
【００６７】
図８を参照すると、厚さ２Ｂを有する二重の明セグメント（すなわち、さらなる１が続く１のシーケンスビット値に対応する）が与えられると、厚さは、２Ｂ−Ｂ／２から２Ｂ＋Ｂ／２まで、領域内でΔｙに応じて線形に変化し得る。
【００６８】
パターンセグメントは、パターンセグメントの形状に応じて、「奇数」であるか、又は「偶数」であるかのいずれかと称され得る。例えば、図９を参照すると、「奇数」の白セグメントと「偶数」の白セグメントとの間の差が分かる。第１（奇数）の白ラインは、最上部で厚く始まり、最下部で薄く先細る。第２（偶数）の白ラインは、図の最上部で薄く始まり、最下部で厚く終わる。さらに、「奇数」の特性を、図７及び図８に示す。図７において中間部の厚さはＢ（又は図８において２Ｂ）にΔｙＢ／２が加算される。「偶数」のラインについて、挙動は「入れ替わり」、ラインは、最上部で薄く、最下部で厚い。厚さの様式において、符号は、こうして、プラスからマイナスに入れ替わる。よって、奇数のセグメント（１個）の厚さはＢ＋ΔｙＢ／２に等しい一方、偶数のセグメントについて、厚さはＢ−ΔｙＢ／２に等しい。このことは、暗セグメントの厚さが不変のままであることを意味する。ただし、暗セグメントの位置は、Δｙに応じてシフトする。
【００６９】
このように、ベース幅Ｂを有するセグメントについて、奇数の白ラインの幅がＷ＝Ｂ＋ΔｙＢ／２である場合には、高さはΔｙ＝２Ｗ／Ｂ−２として計算され得る。さらには、偶数の白ラインの幅はＷ＝Ｂ−ΔｙＢ／２であり、高さはΔｙ＝２−２Ｗ／Ｂから計算され得る。ベース厚さとして２Ｂを有する白ラインも存在することに注意されたい。
【００７０】
よって、検出器較正システムにおいて、例えばカメラである検出器較正システムが、中心線上でフォーカスされるものとすると、中心線より上又は一方にあるΔｙの計算結果は、中心線からの位置ずれを示すことができ、したがって、それに従って検出器を中心線に再較正すべきことを与える。
【００７１】
動作時に、カメラはパターンを見るように設定されてもよいが、カメラは、必ずしも、パターンの中心線に対して平行に見ている必要がなくてもよい。例えば、ラインスキャンカメラは、物体を横切って撮像する単一ラインの画素を有する。よって、ラインスキャンカメラを使用する場合に、カメラのスキャンラインは、パターンの物理的な中心線に平行でなくてもよい。
したがって、カメラで観視する際に、例えば２つの異なる白セグメント内の、所与の画素高さ位置は、カメラのスキャンラインに対して異なる高さに現れ得る。パターンの各白セグメントについての画素高さが計算され得る。所与の画素高さを計算するために、多数の白セグメントにわたる離散的な点を通って直線状のラインをフィッティングさせ得る。白セグメントが多いほど、フィッティングがより正確になり、それゆえ、パターンに対してマンチェスタ符号化を用いることの別の利点がある。こうして、特定のｘ位置についての高さ（ｙ位置）が、その位置でラインを求めることによって、判別できる。
このことは、また、パターンの中心線とカメラのスキャンラインとの間の角度が計算され得ることをもたらす。よって、カメラのスキャンラインは、特定の位置における角度及び高さという２つの値によって、定義され得る。検出器較正システム内にカメラが設置及び位置合わせされるときに、角度及び高さの両方をゼロに設定することが望ましい。また、例えば２つのカメラが異なる平行なラインを見る必要がある場合に、異なるカメラに対して異なる高さを設定することが望ましい場合がある。図９は、上述した態様でカメラ位置合わせに利用され得る、本発明のパターンの一区分を示す。特定の実施形態において、既述した直線状のスキャンラインではなく、曲線状のスキャンラインが用いられ得る。この設定構成では、カメラ位置情報を与える多数の離散的な点に対して、曲線フィッティングが実行され得る。このように、単一の点ではなく、複数の離散的な点を利用することにより、直線状のスキャンライン及び曲線状のスキャンラインの両方に対して、カメラ位置を判別することが可能になる。
【００７２】
（サブ画素フィッティング）
前節に記載したパターンにおいて、パターン上の位置は、明セグメント及び暗セグメントのエッジロケーションによって判別され、実際に、ポジションデータは、暗セグメントと明セグメントとの間のエッジにおいて符号化される。カメラ又は他のデジタル光学装置を通して観視する場合に、このことにより、位置検出を画素レベルにまで細かくすることが可能になる。ただし、パターンの暗領域内の画素と明領域内の画素とは、それら自体、パターン内の位置を判別するためには用いられない。画素レベルより微細な解像度でセグメントエッジを検出するために、エッジにある画素（２画素）のグレー値を調べてもよい。ただし、通常、このアプローチはノイズを発生しやすい。代替例は、エッジ周辺のグレー階調パターンを定義することである。このことは、サブ画素の精度で局所的なエッジの位置を定義するために、複数の画素の使用をもたらす。
【００７３】
ただし、あらゆるグレー階調パターンが好適であるわけではなく、例えば、暗から明への線形の勾配はあまり情報を付加しない。以下では、正弦曲線に基づいたアプローチについて記載する。図１０を参照すると、ハイとローとの間のエッジは、セグメントの厚さ（Ｂ）にわたって明から暗に（又はその逆に）変化する正弦曲線形状に置き換えられている。セグメントの、エッジよりＢの半分だけ前と、エッジよりＢの半分だけ後ろ。
【００７４】
図１０をさらに参照すると、直線の垂直線及び水平線が、元のパターン画像のグレー値を表している。曲線は、新たな画像のグレー値である。２ビット幅であるセグメントの中央は、完全に明であるか、又は完全に暗であるかのいずれかである（図１０における直線を参照）ことに注意されたい。
【００７５】
画像は、明値と暗値との中央に閾値設定されてもよく（波線を参照）、二値化画像は、元の画像と同じ位置に二値化画像のエッジを有するものとなる。このことは、依然として、画素位置にエッジを生じることとなる。ただし、さらなるステップにおいて、検出されたエッジ画素の周辺の画素の値を通してラインをフィッティングさせ得る。このラインが閾値ラインと交差することにより、エッジに対するサブ画素位置を生じることとなる。
【００７６】
低解像度の場合に、これは良いアプローチである。また、画像内の全てのエッジにわたって位置が平均化されるため、全体の精度が向上する。高解像度の場合（例えば、検出器がパターンのより近くに配置される場合）、すなわち、カメラがより少ないパターンセグメントを観視している際には、平均すべきエッジが少なくなる。ただし、高解像度では、正弦曲線形状はより鮮明であり、ラインに代えて正弦曲線をフィッティングさせることによって、より高精度のエッジ検出が行える。
【００７７】
垂直位置測位について、パターンセグメントの厚さ又は幅は、パターンセグメントの高さに沿って変化する。このことは、明セグメントと暗セグメントとの間のエッジ遷移が幅の変化につれてシフトすることを意味する。エッジがシフトするときに、閾値ラインと正弦曲線形状とは、このエッジにおいて依然として交差するものとなる。したがって、正弦曲線は、また、高さに応じて線形に伸長される。このことを図１１に示す。中央部（垂直線上に「０」と記す）は中心線にあり（シフトなし）、最上部（垂直線上で「１」と記す）及び最下部（「−１」と記す）は、垂直位置整合ストリップの極値（最大のシフト）にある。明セグメントを１及び３で記す一方、暗セグメントを２及び４で記す。
【００７８】
垂直線は、エッジの線形なシフトを示す。例えば、最初の２つの垂直線は明セグメント（１）が狭まることを示した一方、２番目及び３番目の垂直線は、暗セグメント（２）のエッジ位置のシフトを示す。よって、明セグメントの中心が同じ位置に留まりながらセグメントが狭まる、又は広がる一方、暗セグメントは同じ幅を維持するが、中心が位置を変化させる。
【００７９】
（検出器フォーカスの最適化）
検出器較正システムにおける検出器のフォーカスは、まず粗フォーカス指示を与え、続いて微細化フォーカス指示を与えることによって、最適化され得る。
【００８０】
セグメントのパターンに対する検出器フォーカスの粗指示は、検出器から取得された画像又はフレームグラブ内のグレー値の標準偏差を解析することによって達成され得る。例えば、検出器がフォーカスしていない場合に、画像は均一なグレーとなる。１ビット幅のセグメントと２ビット幅のセグメントとの高さの差（最大のグレー階調と最小のグレー階調との差）から、フォーカスの中間指示が取得され得る。よって、検出器のフォーカスが良好なほど、計算される標準偏差は高くなる。検出器フォーカスが、パターンを検出するのに十分に良好である場合に、続く微細化フォーカス指示が利用され得る。
【００８１】
微細化フォーカス指示の第１の実施形態は、パターン内の薄い白セグメントと厚い白セグメントとの存在を利用する。薄いセグメントについて、（上述した正弦曲線状の遷移を用いて）１つの画素のみを最大強度値とする。厚い白セグメントについて、同じ高強度値を有する、完全に安定した画素が存在し得る。カメラがフォーカスしていない場合に、強度値は平滑化されることとなり、薄いセグメントの最高値及び最低値は互いに近づくこととなる。薄いセグメントの最高強度値と最低強度値との差と、厚いセグメントの最高強度値と最低強度値との差との比は、検出器フォーカスの質の指示を与える。比の値が１に近づくほど、フォーカスが良好になる。
【００８２】
微細化フォーカス指示の第２の実施形態は、正弦曲線状の遷移を用いずにセグメントエッジを調べることを利用する。例えば、全ての９番目のエッジは高コントラストエッジであり得る。複数の画素にわたって悪いフォーカスがこの遷移をぼかすことになる場合に、２つの隣接画素間の最高の差は、正弦曲線状の遷移を用いずにセグメントエッジの周辺で測定される。差の値が高くなるほど、フォーカスが良好になる、すなわち、２つの隣接画素にわたる白セグメントから黒セグメントへの強い遷移を示す。微細フォーカス測定値は、安定な指示を得るために、全てのエッジにわたって平均化され得る。このことは、高エッジ密度（すなわち、複数のセグメント）のゆえに、フォーカスが、特定の点においてのみならず全スキャンラインにわたって測定及び最適化され得るという利点をもたらす。
【００８３】
本発明に関連して本明細書で使用される「備える（ｃｏｍｐｒｉｓｅ）／備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」との語と、「有する（ｈａｖｉｎｇ）／含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」との語は、述べられる特徴、整数、ステップ、又は構成要素の存在を特定するために使用されるが、１つ以上の他の特徴、整数、ステップ、構成要素、又はそれらのグループの存在又は追加を排除しない。
【００８４】
明確さのために別々の実施形態の文脈に記載された、本発明の特定の特徴が、また、単一の実施形態において組み合わされて設けられてもよいことは明らかである。逆に、簡便さのために単一の実施形態の文脈に記載された、本発明の様々な特徴が、また、別々に、又は任意の好適なサブコンビネーションで設けられてもよい。
【図１】
2020523611.tif 000009
【図２】
2020523611.tif 000010
【図３】
2020523611.tif 000011
【図４】
2020523611.tif 000012
【図５】
2020523611.tif 000013
【図６】
2020523611.tif 000014
【図７】
2020523611.tif 000015
【図８】
2020523611.tif 000016
【図９】
2020523611.tif 000017
【図１０】
2020523611.tif 000018
【図１１】
2020523611.tif 000019
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月3日(2019.5.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学検出器の複数方向の位置較正に供されるパターンであって、直線状の列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントを備え、前記セグメントは、長さ及び幅を有し、少なくとも１つのセグメントの前記幅は、少なくとも第２のセグメントの幅と同一でなく、
前記セグメントは、前記パターン上の任意の点の絶対位置が、前記パターンの窓部分から光学検出器によって観視された場合に判別可能であるように配置されており、前記窓部分は前記点を含み、前記窓部分は所定数のセグメントを備え、最小の前記所定数のセグメントは、前記列内のセグメントの総数よりも少ない、パターン。
【請求項２】
検出器較正システムであって、
請求項１に記載のパターンが適用されるターゲットを備える、検出器較正システム。
【請求項３】
前記システムは、前記窓部分が前記検出器によって観視されるときに前記検出器に対する前記ターゲットの絶対位置及び方位が判別可能であるように、配置されている、請求項２に記載の検出器較正システム。
【請求項４】
前記検出器によって観視される前記パターンの前記明コントラストおよび暗コントラストのセグメントのうちの少なくとも１つの間の遷移は、グレースケール遷移を含む、請求項３に記載の検出器較正システム。
【請求項５】
前記明コントラストおよび暗コントラストのセグメントのうちの少なくとも１つの間の遷移は、正弦曲線状のグレースケール遷移である、請求項４に記載の検出器較正システム。
【請求項６】
前記システムは、さらに、前記ターゲットに対する前記検出器のフォーカスが、前記パターンの明セグメントおよび暗セグメントの検出された強度の標準偏差から判別可能であるように、配置されている、請求項３に記載の検出器較正システム。
【請求項７】
前記システムは、さらに、前記ターゲットに対する前記検出器のフォーカスが、明セグメントの検出強度と暗セグメントの検出強度との差の比較から判別可能であるように、配置されている、請求項５に記載の検出器較正システム。
【請求項８】
前記検出器は、ラインスキャンカメラを備える、請求項２に記載の検出器較正システム。
【請求項９】
前記ターゲットに対する前記ラインスキャンカメラの垂直位置及び角度が、前記ラインスキャンカメラのスキャンラインと前記パターンの中心線との間の角度から判別可能であるように配置されている、請求項８に記載の検出器較正システム。
【請求項１０】
請求項１に係る光学検出器の複数方向の位置較正に供されるパターンを生成する方法であって、前記パターンは、直線状の列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントを備え、前記方法は、前記列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントを、１のビットが明セグメントに対応し、かつ０のビットが暗セグメントに対応するように、線形フィードバックシフトレジスタ（ＬＦＳＲ）の生成された二値出力に対応させて配置することを含む、方法。
【請求項１１】
前記パターンは、直線状の列をなすｍ個のセグメントを備え、前記ＬＦＳＲの前記二値出力は、
ｍ≦２n−１＋ｎ−１となるように値ｎを選択し、
サイズｎの最長ＬＦＳＲを選択し、
ＬＦＳＲ開始状態を選択し、
選択された前記ＬＦＳＲ開始状態から開始する、長さｍの二値シーケンスを作成することによって、生成される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
さらに、前記ＬＦＳＲの前記二値出力にマンチェスタ符号化を適用することを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記直線状の列をなす明コントラスト及び暗コントラストのセグメントは、１のビットが明セグメントに対応し、かつ０のビットが暗セグメントに対応するように、前記二値出力
１０１０１０１０１００１１０１００１１００１０１１００１１００１１０１０１０１００１１００１０１１００１１００１０１０１１００１１０１０１０１０１００１０１０１１００１１００１０１１０１００１０１０１１００１０１０１０１０１０１０１１０１０１００１０１１００１０１１０１００１０１０１０１０１１０１００１１０１００１０１１００１１０１００１０１０１０１０１０１１００１１０１００１０１１００１０１０１１００１１０１００１１００１１００１１００１０１０１０１１００１０１１００１０１０１１００１１００１１０１０１００１０１０１１００１０１１０１０１００１１００１１００１１０１００１０１０１１００１０１１００１１０１００１０１０１１０１００１０１１０１００１１００１１０１００１１０１００１１００１０１１０１００１０１０１０１１００１１０１００１１０１０１０１００１０１１０１００１０１０１１００１１０１００１１０１００１０１０１１００１１０１０１００１１０１０１００１０１１０１０１００１０１０１１０１００１１０１０１００１１００１１０１００１０１０１１０１０１０１０１００１１０１０１００１１００１０１１０１０１００１０１０１１００１１０１００１０１０１０１１０１０１０１００１１０１０１０１００１１００１０１０１１０１０１０１００１０１１０１０１００１１００１０１０１０１０１０１１０１０１０１００１０１１００１０１０１０１１００１１０１００１０１０１１００１１００１０１０１０１０１１０１０１０１０１００１０１１００１１０１０１０１０１００１１０１０１０１００１０１１００１１００１１００１０１０１０１０１１００１０１１００１１００１０１１０１０１００１１００１０１１０１００１１００１１００１０１０１０１０１０１１００１０１１０１０１０１０１０１００１０１０１０１０１１００１０１１０１００１０１１００１１００１１０１００１１０１００１０１１００１０１０１０１１０１００１
に対応する、請求項１に記載のパターン。
【請求項１４】
前記窓部分は１３ビットからなる、請求項１３に記載のパターン。
【国際調査報告】
2020523611.tif 000020
2020523611.tif 000021