(57)【要約】  エンドレスストリップ（２）を構造化して不動態化する方法が示され、それにおいてエンドレスストリップ（２）が少なくとも２つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）の間に張りわたされ、かつ構造化して不動態化するためのマスクが、ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）によってデジタルのビームプリント方法においてエンドレスストリップ（２）上へ塗布される。マスクの塗布は、１つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）の領域内で行われる。少なくとも部分的に光によって硬化可能なマスク材料からなるマスクは、他のステップにおいて硬化に適した光源（７）によって照射されて、硬化される。さらに、方法を実施するための装置（１、１０１．．１０３）が開示される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンドレスストリップ（２）を構造化して不動態化する方法であって、以下のステップ：
−少なくとも２つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）の間にエンドレスストリップ（２）を張りわたし、前記方向変換ローラの少なくとも１つが駆動され、
−エンドレスストリップ（２）を構造化して不動態化するためにノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）を用いてデジタルのビームプリント方法においてエンドレスストリップ上にマスクを塗布し、塗布されたマスクが、光によって硬化可能なマスク材料からなり、あるいは少なくともこの種の成分を有しており、かつ
−塗布後に、硬化に適した光源（７）によってマスクを少なくとも部分的に照射する、
ものにおいて、
−エンドレスストリップ（２）上へのマスクの塗布が、方向変換ローラ（３、４、９、１０）の領域内で行われる、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
−マスク材料が紫外線光によって硬化可能であって、光源（７）が紫外線光を放射し、あるいは
−マスク材料が赤外線光によって硬化可能であって、光源（７）が赤外線光を放射する、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が、ラインに沿って配置されて、互いに対してノズル間隔（ｄ）で離隔した複数のノズル（１１）を有し、前記ノズルが個々に駆動される、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が、互いに対してノズル間隔（ｄ）で離隔した複数のノズル（１１）を有しており、前記ノズルがマトリクスの形式で配置されて、個々に駆動される、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
エンドレスストリップ（２）が、マスクの塗布の間、少なくとも１つの駆動される方向変換ローラ（３、４、９、１０）によってｘ方向に移動され、かつノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）がそれに対して横方向にｙ方向に移動される、ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
エンドレスストリップ（２）が、マスクの照射の間、少なくとも１つの駆動される方向変換ローラ（３、４、９、１０）によってｘ方向に移動され、かつ光源（７）がそれに対して横方向にｙ方向に移動される、ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
マスクの塗布とマスクの照射が、同時に行われる、ことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
マスクの塗布とマスクの照射が、異なる場所で行われる、ことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
マスクが、ｘ方向に延びる行（Ａ、Ａ１．．Ａ３）において塗布される、ことを特徴とする請求項５から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
マスクが、ｙ方向に延びる行（Ｂ）において塗布される、ことを特徴とする請求項５から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
行（Ａ、Ｂ）が、重なり合わずに並べて塗布される、ことを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
行（Ａ、Ａ１、．．Ａ３、Ｂ）が互いに重なり合って塗布される、ことを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
行送りが、ノズル間隔（ｄ）の整数倍である、ことを特徴とする請求項９から１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
行送りが、ノズル間隔（ｄ）の非整数倍である、ことを特徴とする請求項９から１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
−エンドレスストリップ（２）の実際長さ及び／又は実際幅が定められ、かつ
−多数の個別の同一の構造（Ｄ）がエンドレスストリップ（２）上に列をなして塗布され、エンドレスストリップ（２）の実際長さ及び／又は実際幅が、個々の構造（Ｄ）の目標長さ及び／又は目標幅によって割り算されて、次に個々の構造（Ｄ）の実際長さ及び／又は実際幅が、エンドレスストリップ（２）の実際長さ及び／又は実際幅の整数の一部分に適合され、すなわち比例的に変更される、
ことを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
マスクの塗布が、駆動状態において予測されるエンドレスストリップ（２）の伸張を考慮して行われる、ことを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
マスクの塗布が、エンドレスストリップ（２）の後の駆動において予測される、後の引っ張り負荷と実質的に等しいエンドレスストリップ（２）の引っ張り負荷において行われる、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
マスクの塗布が、エンドレスストリップ（２）の後の駆動において予測される引っ張り負荷とは異なる、エンドレスストリップ（２）の引っ張り負荷において行われ、かつ２つの状態におけるエンドレス（２）の異なる伸張が、マスクを塗布する際に考慮される、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
プレスストリップの伸張が、エンドレスストリップ（２）の横断面を用いて計算される、ことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
マスクを塗布する前に、位置マーク及び／又はエンドレスストリップ（２）の長さに適合された材料メジャー（Ｃ）がエンドレスストリップ（２）上へ取り付けられる、ことを特徴とする請求項１から１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
マスク材料が、有機モノマーからなる、ことを特徴とする請求項１から２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
エンドレスストリップ（２）の表面を構造化する方法において、
エンドレスストリップ（２）の表面が、請求項１から２１のいずれか１項に記載の方法を実施した後に、化学的に処理される、ことを特徴とする方法。
【請求項２３】
エンドレスストリップ（２）の周回速度が１０〜２０ｍ／ｍｉｎの間である、ことを特徴とする請求項１から１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
光源（７）が、連続的に発光し、あるいは非連続的に光を送出する、ことを特徴とする請求項１から２３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２５】
光源（７）から放射された光の少なくとも９０％がエンドレスストリップ（２）によって吸収される、ことを特徴とする請求項１から２４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２６】
光源（７）によって照射された場合に、塗布されたマスクの色及び／又は透明度が変化する、ことを特徴とする請求項１から２５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２７】
光源（７）の放出されるスペクトル内の放射最大値の波長が、エンドレスストリップ（２）の最大のスペクトル吸収の波長に合わせられている、ことを特徴とする請求項１から２６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２８】
エンドレスストリップ（２）を構造化して不動態化する装置（１、１０１．．１０３）であって、
−少なくとも２つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）を有し、前記方向変換ローラの少なくとも１つが駆動され、かつ前記方向変換ローラの間にエンドレスストリップ（２）を張りわたすことができ、
−ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）を有し、前記ノズルヘッド／プリントヘッドがデジタルのビームプリント方法においてエンドレスストリップ（２）上にマスクを塗布するように形成されており、かつ
−１つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）の領域内、あるいは複数の方向変換ローラ（３、４、９、１０）の間に配置された光源（７）を有する、
ものにおいて、
−ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が、１つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）の領域内に配置されている、
ことを特徴とする装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項２９】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が、方向変換ローラ（３、４、９、１０）の頂点の領域内に配置されており、かつノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）のビーム方向が、水平方向を中心に±１０°の領域内に方向づけされている、ことを特徴とする請求項２８に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３０】
光源（７）が方向変換ローラ（３、４、９、１０）の領域内に配置されており、かつ中央の発光方向が、垂直方向を中心に±１０°の領域内に方向づけされている、ことを特徴とする請求項２８又は２９に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３１】
エンドレスストリップ（２）に対するノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）の間隔が、１〜５ｍｍの間、かつエンドレスストリップ（２）に対する光源（７）の間隔が１０〜１００ｍｍの間である、ことを特徴とする請求項２８から３０のいずれか１項に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３２】
光源（７）から放出された光ビーム（ｓ）が、ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）のノズル（１１）内へ直接案内されず、あるいはエンドレスストリップ（２）において１回反射した後に案内される、ことを特徴とする請求項２８から３１のいずれか１項に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３３】
光源（７）から放出された各光ビーム（ｓ）が、エンドレスストリップ（２）上へ当接する、ことを特徴とする請求項３２に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３４】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）の中央のビーム方向と光源（７）の中央のビーム方向が、少なくとも４５°の角度（β）を形成する、ことを特徴とする請求項２８から３４のいずれか１項に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３５】
放出されたスペクトル内の光源（７）の放射最大が、エンドレスストリップ（２）の最大の吸収を中心とする領域内の波長に合わせられている、ことを特徴とする請求項２８から３４のいずれか１項に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３６】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）のプリントアウト周波数が、５ｋＨｚ〜４０ｋＨｚの間である、ことを特徴とする請求項２８から３５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３７】
光源（７）が発光ダイオード、水銀蒸気ランプ、キセノンランプ、レーザーダイオードとして、あるいはレーザーとして、形成されている、ことを特徴とする請求項２８から３６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３８】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が第１の方向変換ローラ（３、９）の領域内に、そして光源（７）が第１の方向変換ローラ（３、９）から離隔した第２の方向変換ローラ（４、１０）の領域内に配置されている、ことを特徴とする請求項２８から３９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３９】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）と光源（７）が、同一の方向変換ローラ（４）の領域内に配置されている、ことを特徴とする請求項２８から３９のいずれか１項に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エンドレスストリップ、特に金属のエンドレスストリップを構造化して不動態化する方法（ein Verfahren zum strukturierten Passivieren）に関するものであって、それにおいてエンドレスストリップが少なくとも２つの方向変換ローラ（そのうちの少なくとも１つは駆動される）の間に張りわたされ、かつエンドレスストリップを構造化して不動態化（Passivieren）するために、その上にノズルヘッド／プリントヘッドを用いてデジタルのビームプリント方法においてマスクが塗布される。塗布されたマスクは、光によって硬化可能なマスク材料からなり、あるいは少なくともこの種の成分を有している。マスクの塗布後に、他のステップにおいて、硬化に適した光源を用いてマスクの少なくとも部分的な照射が行われる。さらに、本発明は上述した方法を実施する装置に関する。したがって装置は、少なくとも２つの方向変換ローラ（そのうちの少なくとも１つが駆動される）を有し、それらの間にエンドレスストリップを張りわたすことができ、ノズルヘッド／プリントヘッドを有し、それはエンドレスストリップ上にデジタルのビームプリント方法によってマスクを塗布するように形成されており、かつ方向変換ローラの領域内、あるいは方向変換ローラの間に配置された光源を有している。
【背景技術】
【０００２】
上述した種類の方法と装置は、原則的に知られている。それについてたとえば特許文献１（国際公開第２００２／０９４５８０（Ａ１）号）は、エンドレスのストリップ、特にスチールストリップを構造化する方法を開示しており、その場合にストリップの外側面上にコーティングが設けられる。コーティングは、個々の滴によって形成され、それらの滴がストリップの外側面上へ吹き付けられて、その上に残留する。面を覆うコーティングを設けることもでき、そのコーティングが熱的に働くビームの作用によって、好ましくは点状に、解体かつ／又は除去される。このようにして得られたエンドレスストリップは、たとえばプレス、好ましくはダブルストリッププレス内で、使用することができる。
【０００３】
特許文献２（国際公開第２００７／１４７３７６（Ａ１）号）は、さらに、プレスシート又はエンドレスストリップの表面を構造化する方法を開示しており、その場合に部分的に不動態化するためのマスクを塗布することによって表面構造が定められて、次の化学的な表面加工によって形成される。その場合にプレスシート又はエンドレスストリップは、マスクを塗布して硬化するために、平坦な表面を有する作業テーブル上に支承され、かつ、部分的に不動態化するために、硬化可能なＵＶ樹脂からなるマスクがデジタルのプリント方法によって塗布される。塗布直後に、他のステップにおいて、マスクを硬化させるためにＵＶ光源による照射が行われる。
【０００４】
特許文献３（国際公開第２０１４／０１５３５５（Ａ１）号）は、金属からなるプレスストリップを構造化する他の方法を開示しており、そのプレスストリップは３次元の刻印構造を備えた表面領域を有する。その場合にプレスストリップの外表面上にデジタル制御されるプリント方法によってコーティングが塗布される。その後、プレスストリップのコーティングされていない領域の材料を除去し、あるいは塗布することによって刻印構造が形成される。その場合に刻印構造の長さと幅は、駆動状態において予測されるプレスストリップの伸張を考慮して、定められる。
【０００５】
そして、特許文献４（国際公開第２０１５／０５４７１５（Ａ２）号）は、エンドレスストリップ上にデジタルのプリント方法を用いてマスク形状のコーティングを設ける方法を開示しており、その場合にエンドレスストリップ上に材料メジャー（MaBverkorperung）が取り付けられて、センサによってその位置及び／又は周期的な分布が検出される。その後、センサによって検出された材料メジャーの位置が目標位置に相当する場合、かつ／又はセンサが材料メジャーの分割周期の終端又は始端を検出した場合に、コーティング材料の滴がエンドレスストリップ上へ塗布される。
【０００６】
特に特許文献１（国際公開第２００２／０９４５８０（Ａ１）号）もしくは特許文献２（国際公開第２００７／１４７３７６（Ａ１）号）には、エンドレスストリップを加工するためにノズルヘッド／プリントヘッドと光源が好ましくはどこに配置されているか、が開示されておらず、もしくは開示された位置がそれに好ましくなく、あるいは不適である、という欠点がある。さらに、従来技術においては、それぞれエンドレスストリップを構造化して不動態化する部分的な視点しか扱われておらず、統合された解決が欠けている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第２００２／０９４５８０（Ａ１）号
【特許文献２】国際公開第２００７／１４７３７６（Ａ１）号
【特許文献３】国際公開第２０１４／０１５３５５（Ａ１）号
【特許文献４】国際公開第２０１５／０５４７１５（Ａ２）号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって本発明の課題は、エンドレスストリップを構造化して不動態化するための改良された方法及び改良された装置を提供することである。特にエンドレスストリップを加工するために好ましい、ノズルヘッド／プリントヘッドと光源の位置を示そうとしている。特に、示される方法と示される装置は、エンドレスストリップを構造化して不動態化するための統合された解決も提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の課題は、冒頭で挙げた種類の方法によって解決され、それにおいて、特に金属（特殊鋼）からなる、エンドレスストリップ上のマスクの塗布は、方向変換ローラの領域内で行われる。
【００１０】
同様に本発明の課題は、冒頭で挙げた種類の装置によって解決され、それにおいてノズルヘッド／プリントヘッドは方向変換ローラの領域内に配置されている。
【００１１】
エンドレスストリップは、方向変換ローラの領域内では比較的静かに走行し、かつエンドレスストリップ内の振動は、方向変換ローラの領域内のエンドレスストリップの位置へ影響を与えず、あるいはわずかな影響しか与えない。それによってマスクの塗布は、高い精度で行うことができる。他の利点は、方向変換ローラの領域内でエンドレスストリップの位置が定められていることによって、ノズルヘッド／プリントヘッドとエンドレスストリップとの間の間隔も、実際にはエンドレスストリップ内の振動に影響を受けないことにおいても、理由づけられる。したがって提案される装置は、根本において、ノズルヘッド／プリントヘッドとエンドレスストリップとの間の間隔を調節するための調節可能性を持つことを必要とせず、装置は構造的に固定して設けることができる。それにもかかわらず、調節可能性、たとえば手動の調節可能性又は動力の調節可能性（特に間隔閉ループ制御と結合された、動力の調節可能性）を、設けることができる。さらに、光源のための位置も示される。光源が同様に方向変換ローラの領域内に配置されていると、特に効果的である。というのは、その場合には上でノズルヘッド／プリントヘッドについて説明した利点が、光源についても同様に当てはまるからである。原則的に、光源は方向変換ローラの間に配置することもできる。というのは、塗布されたマスク材料が硬化する場合の間隔変動は、マスク材料を塗布する場合よりも、得られる最終結果にずっと小さい影響しかもたないからである。マスクの塗布が連続的に、あるいはほぼ連続的に行うことができ、かつ作業テーブル上で金属ストリップを繰り返し張りわたして方向づけしないで済むことも、提示された方法の利点である。
【００１２】
マスク材料は、たとえば紫外線光によって硬化可能もしくは架橋化可能であり、その場合に光源はマスク材料を硬化／架橋化するために紫外線光を放射する。しかしまた、マスク材料が赤外線光によって硬化可能／架橋化可能であり、したがって光源が赤外線光を放出することも、考えられる。特に、照射が部分エリアの照射によって次々と行われる場合でも、マスク材料によって覆われるエンドレスストリップの完全な表面が光によって照射される。
【００１３】
ノズルヘッド／プリントヘッドは、ラインに沿って、特に直線に沿って配置されて、互いに対してノズル間隔で離隔した複数のノズルを有することができ、それらが個々に駆動される。しかしノズルは、マトリクスの形式で配置することもできる。特に２つの場合において、ノズル間隔は２５μｍとすることができる。
【００１４】
本発明の他の形態と展開が、下位請求項から、かつ図面に関連する説明から、明らかにされる。
【００１５】
提案される方法の好ましい実施変形例において、エンドレスストリップはマスクの塗布の間、少なくとも１つの駆動される方向変換ローラによってｘ方向に移動され、ノズルヘッド／プリントヘッドはそれに対して横方向、特にそれに対して直角に、ｙ方向に移動される。したがってノズルヘッド／プリントヘッドは根本において１つの次元内で移動すれば済み、それによってノズルヘッド／プリントヘッドを移動させるための機構の構造が簡単になる。しかし原則的に、ノズルヘッド／プリントヘッドはｘ方向において、特にエンドレスストリップよりも短い長さの区間にわたって、移動することもできる。
【００１６】
同様に、エンドレスストリップがマスクの照射の間、少なくとも１つの駆動される方向変換ローラによってｘ方向に移動され、光源がそれに対して横方向、特にそれに対して直角に、ｙ方向に移動される場合も、効果的である。したがって光源は、根本において１つの次元内で移動すれば済み、それによって光源を移動させるための機構の構造が同様に簡単になる。しかし原則的に、光源はｘ方向に、特にエンドレスストリップよりも短い長さの区間にわたって、移動することもできる。
【００１７】
マスクの塗布とマスクの照射が同時に行われる場合も、効果的である。それによってエンドレスストリップの不動態化は、比較的迅速に行うことができる。
【００１８】
提案される方法の他の好ましい変形例において、マスクの塗布とマスクの照射は、異なる場所において、特に同じｘ位置であるが、異なるｙ位置において、あるは異なるｘ位置であるが、同じｙ位置において、あるいは異なるｘ位置と異なるｙ位置において、行われる。したがってノズルヘッド／プリントヘッドと光源は、ｘ位置及び／又はｙ位置に関して変位して移動することができる。それによって、光源から放射された光ビームがエンドレスストリップを介してノズルヘッド／プリントヘッド内へ戻るように反射されて、そこでノズル内にあるマスク材料が硬化し、したがってノズルを詰まらせることが、回避される。
【００１９】
一般的に、ノズルヘッド／プリントヘッド及び／又は光源の制御は、たとえばメモリプログラミング可能な制御（ＳＰＳ制御）を介して行われ、その場合に運動パラメータ（ノズルヘッド／プリントヘッド及び／又は光源の速度、位置、ステップ幅など）、プリントパラメータ（ノズルヘッド／プリントヘッドの放出される材料の量、プリント周波数など）及び／又は露光パラメータ（光源の発光強度、パルス−休止−比）も、制御可能とすることができる。
【００２０】
マスクが、ｘ方向に延びる行において塗布されると、効果的である。すなわち長手方向もしくはエンドレスストリップの移動方向に延びる行がストリップ上に塗布される。したがって好ましくは、ノズルヘッド／プリントヘッドは１つの箇所に比較的長く留まることができ、さらに移動されるのはまれである。
【００２１】
しかしまたマスクが、ｙ方向に延びる行において塗布される場合も、効果的である。すなわち横方向もしくはエンドレスストリップの移動方向に対して横方向に延びる行内でストリップ上に塗布される。したがって好ましくはエンドレスストリップは、１つの箇所に比較的長く留まることができ、さらに移動されるのはまれである。
【００２２】
提案される方法の他の好ましい変形例において、行は、重なりあわずに互いに並べて塗布される。その場合に行送りは、特にノズル間隔の整数倍である。それによってマスクは、金属ストリップ上に比較的迅速に塗布することができる。
【００２３】
しかしまた、行が互いに重なり合って塗布される場合も、特に効果的である。その場合には行送りは、特にノズル間隔の非整数倍となる。それによって互いに密に接するマスク点をエンドレスストリップ上に塗布することができ、それによって一方でマスク内の隙間を良好に回避することができるが、他方では塗布する際の解像度を高めることができ、かつノズルヘッド／プリントヘッドの元々の解像度、したがってノズル間隔に相当する解像度におけるよりも、細かい構造をエンドレスストリップ上へ塗布することができる。たとえば行送りは、行高さの３分の１とすることができる。しかし他の値、たとえば１／２、１／４なども、もちろん可能である。
【００２４】
上に関連して、プリント周波数もしくは放出周波数が行送りの逆数に上昇される場合も、効果的である。行送りが、たとえば１／３である場合に、プリント周波数／放出周波数は、行の重ならない塗布に対して３倍に上昇される。重ならない行が、たとえば５ｋＨｚのプリント周波数／放出周波数で塗布される場合に、行送りが１／３になると、塗布は好ましくは１５ｋＨｚのプリント周波数／放出周波数で行われる。このようにして塗布速度及びそれに伴って、マスク材料の塗布からその硬化までに経過する時間は等しいままである。
【００２５】
さらに、
−エンドレスストリップの実際長さ及び／又は実際幅が定められ、かつ
−多数の個別の同じ構造が互いに列をなしてエンドレスストリップ上に塗布されると、効果的であって、その場合にエンドレスストリップの実際長さと実際幅が個々の構造の目標長さ及び／又は目標幅によって割り算されて、次に個々の構造の目標長さ及び／又は目標幅がエンドレスストリップの実際長さ及び／又は実際幅の整数部分に適合され、すなわち比例的に変化される。
エンドレスストリップを継目なしで覆うためには、目標構造が短すぎ、かつ／又は細すぎる場合が生じ得る。したがって目標構造はその長さ及び／又は幅に関して、実際構造がエンドレスストリップを継目なしに覆うように、適合され、すなわち延長／短縮又は拡幅／縮幅される。
【００２６】
提案される方法の他の好ましい変形例において、マスクの塗布は、駆動状態において予測されるエンドレスストリップの伸張を考慮して行われる。すなわちエンドレスストリップは、後にたとえばストリップ鋳造設備内又はダブルストリッププレス内で使用され、それにおいてエンドレスストリップは部分的に比較的高い引っ張り応力にさらされ、したがって伸張する。エンドレスストリップ上に取り付けられた構造の伸張もそれに伴い、その伸張は、場合によっては望ましくない。したがってエンドレスストリップ上にマスクを塗布する際に、予測すべき後の駆動状態を考慮することができる。
【００２７】
これに関連して、マスクの塗布が、エンドレスストリップの後の駆動において予測すべき後の引っ張り負荷と実質的に等しいエンドレスストリップの引っ張り負荷においておこなわれると、特に効果的である。すなわち引っ張り負荷およびそれに伴ってエンドレスストリップの伸張は、マスクを塗布する場合と後の駆動においてほぼ等しく、それによってマスクはエンドレスストリップ上に、後の駆動においても生じるような形状で塗布することができる。
【００２８】
しかしまた、マスクの塗布が、エンドレスストリップの後の駆動において予測すべき後の引っ張り負荷とは異なる、エンドレスストリップの引っ張り負荷において行われ、２つの状態におけるエンドレスストリップの異なる伸張がマスクを塗布する際に考慮される場合も、特に効果的である。したがって、マスクを塗布する際の引っ張り負荷とそれに伴ってエンドレスストリップの伸張が、後の駆動におけるよりも大きい場合には、塗布する際にマスクが少し引き伸ばされ、あるいは、マスクを塗布する際の引っ張り負荷とそれに伴ってエンドレスストリップの伸張が、後の駆動におけるよりも小さい場合には、塗布する際にマスクが少し短縮される。これに関連して、プレスストリップの伸張が、エンドレスストリップの横断面を用いて計算されると、効果的である。
【００２９】
さらに、マスクを塗布する前に、エンドレスストリップ上に、特にエンドレスストリップの端縁領域内に、位置マーク及び／又はエンドレスストリップの長さに適合された材料メジャーが取り付けられると、特に効果的である。材料メジャーは、たとえば測定量の所定の個々の値又は測定量の値の連続を表すスケールである。本発明の枠内において、たとえば長さスケールがエンドレスストリップ上に取り付けられる。その場合に分割は、メートル法で、あるいはインチ法に従って行うことができるが、エンドレスストリップに固有の単位で行うこともできる。材料メジャーは、マスクの塗布前にエンドレスストリップ上に取り付けられ、かつマスクの塗布の間のエンドレスストリップの過渡的な長さ変化を認識して、補償することができるようにするために、用いられる。この種の長さ変化は、方向変換ローラの駆動によってもたらされることがあり得る。たとえば、ギア機構のあそび及び／又は駆動閉ループ制御によってもたらされるトルク衝撃が金属ストリップ内へ振動を誘起することがあり、その振動が結果として所望の目標マスクからの塗布されたマスクの偏差をもたらすことがある。所望の目標マスクからの実際マスクの偏差の他の原因は、エンドレスストリップが駆動される方向変換ローラ上で滑ることに裏付けられることもある。材料メジャー及び材料メジャーを検出するための（光学的な）センサを用いて、上述した長さ変化を認識することができ、ノズルヘッド／プリントヘッドはそれに応じてｘ方向及び／又はｙ方向にわずかにスライドすることができる。材料メジャーは、特にエンドレスストリップの長さに適合させることができるので、この材料メジャーはエンドレスであり、もしくは継目なしである。材料メジャーの代わりに、あるいはそれに加えて、エンドレスストリップ上に一義的な位置を特徴づけるための個々の位置マークを取り付けることもできる。材料メジャー／位置マークは、たとえばマスク材料からなることができるが、他のテクノロジーによって、たとえばレーザーグラビアにより、あるいは光学的又は磁気的な測定細片を取り付ける（たとえば接着する）ことによって、エンドレスストリップ上に取り付けることもできる。
【００３０】
上述した場合において、方法は特に以下のステップを有する：
−少なくとも２つの方向変換ローラの間にエンドレスストリップを張りわたし、それらの方向変換ローラの少なくとも１つが駆動されており；
−少なくとも１つの材料メジャーをエンドレスストリップ上に、特にエンドレスストリップの表面上に、取り付け及び／又は転写し；
−少なくとも１つのセンサを用いて材料メジャー及び／又は材料メジャーの周期的な分割の位置を検出し；
−少なくとも１つのセンサによって検出された、エンドレスストリップの表面上の材料メジャーの位置が、目標位置に相当する場合、かつ／又は少なくとも１つのセンサが材料メジャーの分割周期の終端又は始端を検出した場合に、マスクを塗布するための信号を生成し、かつノズルヘッド／プリントヘッドへ伝達し；
−信号を得た後にノズルヘッド／プリントヘッドによってエンドレスストリップの外側面上にマスク材料の滴を放出する。
【００３１】
さらに、マスク材料が有機のモノマーから、特に顔料とＵＶ硬化する成分とを有するワックスからなると、効果的である。この材料は、一方でビームプリント方法においてエンドレスストリップ上へ良好に塗布することができ、しかしまた、場合によっては後にエンドレスストリップの処理が行われる場合に良好な付着性も有している。
【００３２】
さらに、マスクの塗布と硬化後に、エンドレスストリップの表面が化学的に処理され、特に塩化鉄（ＩＩＩ）によってエッチングされ、その後マスクが除去されると、効果的である。それによってエンドレスストリップの表面内に３次元の構造を形成することができる。特に構造化された不動態化及び次の化学的処理が回帰的に繰り返されて、複数の通過において実施され、それによってかなり複雑な３次元の構造も形成可能である。マスクは、様々な通過において互いに異なることができる。
【００３３】
提案される方法の他の好ましい変形例において、エンドレスストリップの周回速度は１０と２０ｍ／ｍｉｎの間、特に大体において１５ｍ／ｍｉｎである。これらの値は、実験において、提案された方法に特に適していることが、明らかにされている。
【００３４】
さらに、光源が連続的に発光し、あるいは非連続的に、特に脈動し、あるいは閃光の形式で、光を放出すると、効果的である。それによってマスク材料の硬化が良好に調節可能であり、かつ様々なマスク材料も硬化させることができる。
【００３５】
さらに、光源から放出された光の少なくとも９０％がエンドレスストリップによって吸収されると、特に効果的である。それによって、光源から放射される光が最適に利用される。
【００３６】
光源によって照射した場合に、塗布されたマスクの色及び／又は透明度が変化する場合も、効果的である。マスクの色は、たとえばより暗くなることができ、それによって観察者による塗布の視認性と判断性が改良される。
【００３７】
さらに、光源の放出されたスペクトル内の放射最大値の波長が、エンドレスストリップの最大のスペクトル吸収の波長に合わせられていると、特に効果的である。それによって光源から放射される光が、最適に利用される。
【００３８】
ノズルヘッド／プリントヘッドが方向変換ローラの頂点の領域内に配置されており、かつノズルヘッド／プリントヘッドのビーム方向が水平の方向を中心に±１０°の領域内に方向づけされていると、特に効果的である。好ましくはノズルヘッド／プリントヘッドは、検査作業の場合に持ち上げて外す必要がなく、水平にスライドさせるだけで済む。さらに滴下するノズルヘッド／プリントヘッドがエンドレスストリップを汚して、場合によっては使えなくしてしまうことはない。そしてエンドレスストリップは、方向変換ローラのこの箇所において、作用する力に基づいて、特に良好にこの方向変換ローラ上に載置される。したがってエンドレスストリップとノズルヘッド／プリントヘッドの間の間隔は、特に良好に定められている。この配置のすべての利点にもかかわらず、ノズルヘッド／プリントヘッドは他のように配置することもできる。たとえばそれは、垂直に対して約４５°で傾斜して、下方へ向けて方向づけすることができ、あるいは垂直の方向を中心に±１０°の領域内で、特に下方へ向けて、方向づけすることができる。
【００３９】
光源が方向変換ローラの領域内に配置されており、かつ中央の発光方向が垂直方向を中心に±１０°の領域内に、特に上方へ向かって、方向づけされている場合も、同様に特に効果的である。この配置においては、場合によっては装置から流出する光は、かなり低く、通常目の高さのずっと下方に位置するので、流出した光によって目が損傷する確率は低く、作業安全性が改良される。しかしそれにもかかわらず、光源は、他のように配置することもできる。たとえば光源は、下方へ向かって発光することができ、あるいは水平に、又は水平に対して４５°だけ傾斜して方向づけすることもできる。
【００４０】
提案される装置の他の好ましい実施変形例において、エンドレスストリップに対するノズルヘッド／プリントヘッドの間隔は、１と５ｍｍの間であり、エンドレスストリップに対する光源の間隔は、１０と１００ｍｍの間にある。これらの値は、実験において、提案された装置のために特に好ましいことが明らかにされている。
【００４１】
さらに、光源から放出された光ビームがノズルヘッド／プリントヘッドのノズル内へ直接案内されず、あるいはエンドレスストリップにおいて１回反射された後に案内されると、特に効果的である。それによって、光源から放出された光ビームがエンドレスストリップを介してノズルヘッド／プリントヘッド内へ反射されて戻り、そこでノズル内にあるマスク材料を硬化させて、したがってノズルを詰まらせることが、回避される。
【００４２】
さらに、光源から放出される各光ビームがエンドレスストリップ上へ当接して、特にすべてがエンドレスストリップの表面によって吸収されると、特に効果的である。それによって同様に、光源から出た光ビームがエンドレスストリップを介して反射されて戻り、そこでノズル内にあるマスク材料を硬化させて、それに伴ってノズルを詰まらせることが、回避される。さらに、光源から放射される光が最適に利用される。エンドレスストリップによって光が完全に、あるいはほぼ完全に吸収される場合には、装置から光が流出して、たとえば装置の領域内にいる人を損傷させ、あるいは健康を害することも、回避される。したがって作業安全性も改良される。
【００４３】
提案される装置の他の好ましい実施変形例において、ノズルヘッド／プリントヘッドの中央のビーム方向と光源の中央のビーム方向は、少なくとも４５°の角度を形成する。他の好ましい値は、少なくとも９０°、少なくとも１３５°及び実質的に１８０°、すなわち少なくとも１７０°である。それによって同様に、光源から出る光ビームがエンドレスストリップを介してノズルヘッド／プリントヘッド内へ反射されて戻り、そこでノズル内にあるマスク材料を硬化させ、それに伴ってノズルを詰まらせることが、回避される。
【００４４】
また、放射されるスペクトル内の光源の放射最大値が、エンドレスストリップによる最大の吸収を中心とする領域内の波長に合わせられていると、効果的である。それによって光源から放射される光が、最適に利用される。
【００４５】
さらに、ノズルヘッド／プリントヘッドのプリントアウト周波数が５ｋＨｚと４０ｋＨｚの間、特に実質的に１０ｋＨｚであると、効果的である。これらの値は、実験において、提案される装置のために特に適していることが明らかにされている。
【００４６】
光源が、発光ダイオード、水銀蒸気ランプ、キセノンランプ、レーザーダイオードとして、あるいはレーザーとして形成されていると、効果的である。これらの光源は、実証済みであり、かつ比較的容易に提供可能な手段である。したがって提案される装置は、比較的わずかな技術的手間で実際に具現化することができ、かつさらに信頼もできる。
【００４７】
ノズルヘッド／プリントヘッドが第１の方向変換ローラの領域内に配置され、光源が、第１の方向変換ローラから離隔した第２の方向変換ローラの領域内に配置されている場合も、効果的である。それによって同様に、光源から出た光がエンドレスストリップを介してノズルヘッド／プリントヘッド内へ反射されて戻り、そこでノズル内にあるマスク材料を硬化させ、それに伴ってノズルを詰まらせることが、回避される。というのは、それらの方向変換ローラは、大体において互いに対してずっと離隔して配置されているからである。
【００４８】
そして、ノズルヘッド／プリントヘッドと光源が、同じ方向変換ローラの領域内に配置されている場合も、効果的である。このようにしてマスクは、塗布後に迅速に照射され、それに伴って硬化することができる。というのは、ノズルヘッド／プリントヘッドと光源の間の間隔は、比較的小さいからである。
【００４９】
ここで、提示された装置を表す実施変形例及びそれからもたらされる利点は、意味に従って、開示された方法についても適用され、かつその逆でもあることも、記録しておく。
【００５０】
本発明をさらによく理解するために、以下の図を用いて本発明を詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】エンドレスストリップを構造化して不動態化するための、図式的に示される装置の第１の例を示す側面図であって、ノズルヘッド／プリントヘッドと光源は、異なる方向変換ローラの領域内に配置されている。
【図２】エンドレスストリップを構造化して不動態化するための装置の第２の例を示しており、ノズルヘッド／プリントヘッドと光源は、中央に配置された方向変換ローラの領域内に設けられている。
【図３】エンドレスストリップを構造化して不動態化するための装置の他の例を示しており、ノズルヘッド／プリントヘッドと光源は、同じ方向変換ローラの領域内に配置されている。
【図４】図３の装置を示す下面図である。
【図５】互いに変位した行を使用する、マスクの構造の例を示している。
【図６】マトリクス状に配置されたノズルを有するノズルヘッド／プリントヘッドの例を示している。
【図７】図３と図４に示す装置の一部を詳細に示しており、光源が方向変換ローラによって陰になることが示されている。
【図８】材料メジャーを有するエンドレスストリップの例を示している。
【図９】互いに列をなして繰り返されるマスク構造を有するエンドレスストリップの例を示している。
【発明を実施するための形態】
【００５２】
最初に記録しておくが、異なるように記載される実施形態において、同一の部分には同一の参照符号ないし同一の構成部分名称が設けられており、その場合に説明全体に含まれる開示は、同一の参照符号ないし同一の構成部分名称を有する同一の部分へ意味に従って移し替えることができる。また、説明内で選択される、たとえば上、下、側方などのような位置記載は、直接説明され、かつ示される図に関するものであって、この位置記載は位置が変化した場合には意味に従って新しい位置へ移し替えられる。さらに、図示され、かつ説明される様々な実施例からの個別特徴または特徴の組合せも、それ自体自立した、進歩的または発明に基づく解決を表すことができる。
【００５３】
図１は、エンドレスストリップ２を構造化して不動態化するための、図式的に示される装置１０１を側面図で示している。装置１０１は、第１の方向変換ローラ３と第２の方向変換ローラ４を有しており、そのうちの少なくとも１つが駆動されており、かつそれらの間にエンドレスストリップ２が張りわたされている。具体的な例において、第１の方向変換ローラ３が電動駆動されるものとする。しかしまた、第２の方向変換ローラ４が駆動されてもよく、あるいは両方の方向変換ローラ３、４が駆動されてもよい。
【００５４】
さらに装置１０１は、ノズルヘッド／プリントヘッド５を有しており、それは、デジタルのビームプリント方法においてエンドレスストリップ２上にマスクを塗布するように形成されており、かつ第２の方向変換ローラ３の領域内に配置されている。この例においてノズルヘッド／プリントヘッド５は、エンドレスストリップ２の移動方向に対して横方向に延びる第１のレール６に沿って走行可能である（これについて図４も比較）。そして装置１０１は光源７も有しており、その光源は光を照射することによって塗布されたマスクを硬化させるように形成されており、かつこの例において第２の方向変換ローラ４の領域内に配置されている。この例において光源７は、エンドレスストリップ２の移動方向に対して横方向に延びる第２のレール８に沿って走行可能である（これについて図４も比較）。
【００５５】
図２は、エンドレスストリップ２を構造化して不動態化するための他の装置１０２を示しており、この装置は図１に示す装置１０１にきわめて似ている。しかしそれとは異なり、エンドレスストリップ２は他の２つの方向変換ローラ９と１０を介して案内されており、その場合に巻き付き角度は、方向変換ローラ３と４における巻き付き角度よりもずっと小さい。ノズルヘッド／プリントヘッド５は、第３の方向変換ローラ９の領域内に、そして光源７は、第３の方向変換ローラ９から離隔した第４の方向変換ローラ１０の領域内に配置されている。
【００５６】
図３は、エンドレスストリップ２を構造化して不動態化する装置１０３の他の例を示しており、この装置は図１と図２に示される装置１０１、１０２に類似している。それらに対する差として、ノズルヘッド／プリントヘッド５と光源７は、ここでは唯一の方向変化ローラの領域内、ここでは第２の方向変換ローラ４の領域内に配置されている。具体的には、ノズルヘッド／プリントヘッド５は第２の方向変換ローラ４の頂上領域内に配置されており、ノズルヘッド／プリントヘッド５のビーム方向は水平の方向に方向づけされている。光源７の中心の発光方向は、垂直の方向に、上方へ向かって方向づけされている。
【００５７】
図４は、図３に示す装置１０３を下から図式的に示している。エンドレスストリップ２の移動方向に対して横方向に方向づけされたレール６と８が、はっきりと見られ、そのレールに沿ってノズルヘッド／プリントヘッド５もしくは光源７が移動することができる。
【００５８】
エンドレスストリップ２を構造化して不動態化する方法の例は、以下のように遂行される：
【００５９】
第１のステップにおいて、エンドレスストリップ２が方向変化ローラ３と４の間（図１及び３と４に示す例において）、もしくは方向変換ローラ３、４、９及び１０の間（図２に示す例において）に張りわたされる。次のステップにおいて、マスクがノズルヘッド／プリントヘッド５によってエンドレスストリップ２上に塗布される。塗布は、インクジェットプリンタを用いて画像を印刷するのと同様に、デジタルのビームプリント方法において行われる。しかし紙上にインクを塗布する代わりに、マスク材料がエンドレスストリップ上に塗布される。マスクは、光によって硬化可能なマスク材料からなり、あるいは少なくとも光によって硬化可能なその種の成分を有している。他のステップにおいてマスクが、マスク材料の硬化に適した光源７によって照射される。
【００６０】
マスクの塗布と硬化後に、エンドレスストリップ２の表面が、化学的に処理され、特に塩化鉄（ＩＩＩ）によってエッチングされる。その後マスクは、除去することができ、かつエンドレスストリップ２の表面は加工することもできる。たとえば、エンドレスストリップ２が金属からなる場合には、エンドレスストリップ２の表面はクロムメッキすることができる。ダイヤモンド状の炭素による、あるいはホウ化チタンによるコーティングも、考えられる。
【００６１】
マスクの除去は、超音波によって支援すること、あるいはもたらすこともできる。マスク塗布の準備のために、機械的な清掃及びイソプロパノール、エタノール又はアルコールによるエンドレスストリップ２のクリーニング、かつ／又はプライマーによる、たとえば有機のシリル化合物による処理を行うことができる。マスクの塗布前に、エンドレスストリップ２の表面をエッチングすることもできる。特に、光反射を回避するために、エンドレスストリップ２の光沢のない表面を形成することもできる。
【００６２】
マスク材料は、たとえば紫外線によって硬化可能とすることができる。この目的のために、光源７が紫外線を放出する。特にマスク材料は、有機のモノマーから、たとえば顔料とＵＶ硬化する成分とを有するワックスからなり、かつ減少された溶剤成分を含んでいる。
【００６３】
しかしマスク材料は、赤外線によって硬化可能であることもできる。したがって光源７は、マスクを硬化させるために赤外線を放出する。
【００６４】
マスクの硬化は、好ましくは塗布後６０秒までの期間内に行うことができる。マスク材料は、さらに、塗布前に、好ましくは５０℃から１００℃に、特に６５℃から７５℃に加熱することもできる。
【００６５】
光源７は、たとえば発光ダイオード、水銀蒸気ランプ、キセノンランプ、レーザーダイオードとして、あるいはレーザーとして、形成することができる。光源７は、連続的に発光することができ、あるいは不連続で、特に脈動し、あるいは閃光の形式で、光を送出することができる。光源７の露光時間は、自由に制御することができる。
【００６６】
光源７によって照射する場合に塗布されたマスクの色及び／又は透明度が変化する場合も、効果的である。マスクの色は、たとえばより暗くなることができ、それによって観察者による視認性と判断性が改良される。
【００６７】
ノズルヘッド／プリントヘッド５は、ラインに沿って、特に直線に沿って配置されて、互いに対してノズル間隔で離隔している複数のノズル１１を有することができ、それらが個々に駆動される（図５も比較）。特にノズル間隔は、ｄ＝２５μｍとすることができる。しかしノズルヘッド／プリントヘッド５は、互いに対してノズル間隔ｄで離隔した複数のノズル１１を有することもでき、それらはマトリクスの形式で配置されており、かつ個々に駆動可能である（図６も参照）。特にここでは、ノズル間隔はｄ＝２５μｍである。ノズルヘッド／プリントヘッド５のプリント周波数は、特に５ｋＨｚと４０ｋＨｚの間、特に実質的に１０ｋＨｚとすることができる。
【００６８】
エンドレスストリップ２に対するノズルヘッド／プリントヘッド５の間隔は、特に１と５ｍｍの間とすることができる。エンドレスストリップ２に対する光源７の間隔は、特に１０と１００ｍｍの間とすることができる。エンドレスストリップ２に対するノズルヘッド／プリントヘッド５の間隔及び／又はエンドレスストリップ２に対する光源７の間隔は、固定でもよく、あるいは自動的なレベリング装置を設けることができ、それがノズルヘッド／プリントヘッド５及び／又は光源７をエンドレスストリップ２に対して選択された、特に可変の間隔で案内する。
【００６９】
本発明の好ましい変形例において、エンドレスストリップ２はマスクの塗布の間、駆動される方向変換ローラ３によってｘ方向に移動され、ノズルヘッド／プリントヘッド５はそれに対して横方向に、図４に示すように特にそれに対して直角に、ｙ方向に移動される。まったく同様にしてエンドレスストリップ２は、マスクの照射の間駆動される方向変換ローラ３によってｘ方向に移動され、光源７はそれに対して横方向に、図示の例においてはここでも特にそれに対して直角に、ｙ方向に移動される。エンドレスストリップ２は、マスクを塗布する際にノズルヘッド／プリントヘッド５の下方かつ光源７の下方を通って移動する。エンドレスストリップ２の周回速度は、特に１０と２０ｍ／ｍｉｎの間であり、好ましくは実質的に１５ｍ／ｍｉｎとすることができる。光源７は、ストリップ移動方向において、一般的に、ノズルヘッド／プリントヘッド５の後方に配置されている。
【００７０】
マスクの塗布（及びその照射も）は、ｘ方向に延びる行Ａ内で、すなわち図４に示すエンドレスストリップ２の右の領域内に象徴されるように、行うことができる。しかし、マスクの塗布（及びその照射も）は、ｙ方向に延びる行Ｂ内で、すなわち図４に示すエンドレスストリップ２の中央の領域内に象徴されるように、行うこともできる。
【００７１】
マスクの塗布とマスクの照射は、好ましくは同時に、特に異なる場所において、行われる。たとえばマスクの塗布とマスクの照射は、同じｘ位置であるが、異なるｙ位置で、あるいは異なるｘ位置であるが、同じｙ位置で、あるいは異なるｘ位置と異なるｙ位置で行うことができる。後者の場合が図４に示されており、ノズルヘッド／プリントヘッド５は光源７に対してやや変位して、エンドレスストリップ２の移動方向ｘに対して横方向ｙに走行する。
【００７２】
一般に、行Ａ、Ｂは、重ならないように並べて塗布することができる。その場合に行送りは、ノズル間隔ｄの整数倍となる。
【００７３】
しかしまた行Ａ、Ｂが、図５に示すように、互いに重なり合うように塗布されることも、考えられる。この例において重なりは行高さｈの約３分の２であり、もしくは行送りは行高さｈの約３分の１である。具体的には、第１の通過においてマスクの第１の行Ａ１が、図５に実線で象徴されるように、塗布される。その場合にノズルヘッド／プリントヘッド５１は、図５において左に示す位置にある。
【００７４】
第２の通過において、ノズルヘッド／プリントヘッド５１は、行の高さｈの３分の１プラスノズル１１のノズル間隔ｄの３分の１だけ移動される。したがって行送りはノズル間隔ｄの整数倍とはならない。その場合にノズルヘッド／プリントヘッド５１は、図５の中央に示す位置にある。この位置において他の行Ａ２が塗布され、それは第１の行Ａ１に対して変位されており、かつ図５に破線で示されている。
【００７５】
第３の通過においてノズルヘッド５１は、行の高さｈのさらに３分の１プラスノズル１１のノズル間隔ｄのさらに３分の１だけ移動ｄされる。その場合にノズルヘッド／プリントヘッド５１は、図５の右に示す位置にある。この位置において他の行Ａ３が塗布され、それは第１の行Ａ２に対して変位しており、かつ図５において点線で示されている。
【００７６】
図５において、ノズルヘッド／プリントヘッド５１は、細い線でも示されている。この位置は、マスクの塗布が連続的なプロセスであることを示唆するために、より前の時点のノズルヘッド／プリントヘッド５１を表している。図５においては、ｘ方向に延びる列Ａ１．．Ａ３のための行構造が説明された。もちろん同じようにして、ｙ方向に延びる列Ｂも塗布することができる。ノズルヘッド／プリントヘッド５１のノズル１１は、一般的に同時に、あるいは次々と作動させることができる。
【００７７】
行Ａ、Ｂが重なり合うように塗布される場合に、プリント周波数もしくは放出周波数が行送りの逆数へ高められると、効果的である。行送りがたとえば１／３である場合に、プリント周波数／放出周波数は、行Ａ、Ｂの重ならない塗布に対して３倍に上昇する。重ならない行Ａ、Ｂが、たとえば５ｋＨｚのプリント周波数／放出周波数で塗布される場合に、行送りが１／３になると、塗布は好ましくは１５ｋＨｚのプリント周波数／放出周波数において行われる。このようにして塗布速度及びそれに伴ってマスク材料の塗布からその硬化までに経過する時間は、変わらない。
【００７８】
図６は、マトリクス形状に配置されたノズル１１を有するノズルヘッド／プリントヘッド５２の例を示している。これは、たとえば図５について説明された方法のためのノズルヘッド／プリントヘッド５２の代わりに使用することができる。ノズル１１は、ここでも一般的に、同時にあるいは次々と作動させることができる。
【００７９】
一般的に、マスクのあらかじめ定められた点を塗布するためにマトリクスからノズル１１のランダムな選択が行われることも、考えられ、その場合にこのノズル１１は、それが塗布領域を通過する時に点をプリントする。ランダムに選択された１つより多いノズル１１が、同じ点上にマスク材料を塗布することもできる。
【００８０】
さらに、ノズル１１が様々なマスク材料を塗布することも考えられ、それは特に、マトリクス形状のノズルヘッド／プリントヘッド５２を適用する場合に良好に可能である。たとえば第１の列のノズル１１が第１のマスク材料を塗布し、第２の列のノズル１１が第２のマスク材料を塗布し、そしてそのように続く。
【００８１】
図７は、図３と図４に示す装置１０３の一部を詳細に示している。具体的には、図７には光源７から放射された光ビームｓの開口角度αが記入されている。図７から明らかなように、光源７から放出される光ビームｓはノズルヘッド／プリントヘッド５のノズル１１内へ直接案内されず、あるいはエンドレスストリップ２において１回反射された後に案内される。その純粋な例として、光源７から角度α／２で放出される光ビームｓが、図７に記入されている。
【００８２】
それには、ノズルヘッド／プリントヘッド５の中央の放射方向と光源７の中央の放射方向が、この例において角度β＝９０°を形成する状況も寄与している。ノズルヘッド／プリントヘッド５を光源７から空間的に分離することによって、マスク材料が意図せずにノズルヘッド／プリントヘッド５内ですでに硬化されることが、防止される。しかしそのために、９０°の角度は絶対的なものではない。少なくとも４５°、少なくとも１３５°及び実質的に１８０°、すなわち少なくとも１７０°も、他の好ましい値である。
【００８３】
光源７の領域内にカバー又はシールドを設けて、エンドレスストリップ２の望ましくないエリアの照明、保護された領域からの光の流出及び／又はノズルヘッド／プリントヘッド５の照明を防止することもできる。
【００８４】
これに関連して、ノズルヘッド／プリントヘッド５がエンドレスストリップ２上にマスク材料を塗布する場合にのみ、光源７が光を放出する場合も、効果的である。マスク材料を連続的に放出することによって、光源７に由来する漂遊光による硬化は、実際には排除されている。
【００８５】
光源７は、ノズルヘッド／プリントヘッド５が近傍にある場合には、オフにして、それによってノズルヘッド／プリントヘッド５内のマスク材料の意図されない硬化を回避することができる。
【００８６】
好ましくは光源７の放出されるスペクトル内の放射最大値の波長は、エンドレスストリップ２の最大のスペクトル吸収の波長に合わせられている。特に光源から放出された光の少なくとも９０％は、エンドレスストリップ２によって吸収することができ、かつ／又は光源７から放射された光ビームｓの各々はエンドレスストリップ２上へ入射し、特にエンドレスストリップ２の表面によって全部が吸収されることができる。
【００８７】
必要なスペクトル分配を有する光源７が提供されず、あるいは技術的に実現が困難である場合には、フィルタを設けることもでき、光スペクトルを望むやり方で適合させるために、光源から放射された光がそのフィルタを通過する。特に、短波の光を通過させない光フィルタを使用することができ、その場合に吸収エッジは、通過する光がエンドレスストリップ２の材料によって完全に吸収されるように、選択されている。
【００８８】
図８は、端縁領域に塗布又はプリントされた材料メジャーＣを有するエンドレスストリップ２の例を示している。この材料メジャーＣは、エンドレスストリップ２上にマスクを塗布する前に塗布され、かつマスクを塗布する間のエンドレスストリップ２の過渡的な長さ変化を認識して、補償することができるようにするために、用いられる。この種の長さ変化は、方向変換ローラ３の駆動によってもたらされることがある。たとえばギア機構のあそび及び／又は駆動閉ループ制御によってもたらされるトルク衝撃が金属ストリップ２内へ振動を誘起し、それの結果、塗布された実際マスクが所望の目標マスクからずれることが起こり得る。所望の目標マスクから実際マスクがずれる偏差の他の原因は、エンドレスストリップ２が駆動される方向変換ローラ３上で滑ることにも原因があり得る。
【００８９】
材料メジャーＣ及び材料メジャーＣを検出するための（光学的な）センサを用いて、上述した長さ変化を認識することができ、したがってノズルヘッド／プリントヘッド５は、ｘ方向及び／又はｙ方向にわずかにスライドさせることができる。材料メジャーＣは、特にエンドレスストリップ２の長さに適合させることができるので、エンドレスもしくは継目なしである。材料メジャーＣの代わりに、あるいはそれに加えて、エンドレスストリップ２上に一義的な位置を特徴づける個々の位置マークを取り付けることもできる。
【００９０】
上の場合において、方法は特に以下のステップを有する：
−方向変換ローラ３、４、９、１０の間にエンドレスストリップ２を張りわたし、
−少なくとも１つの材料メジャーＣをエンドレスストリップ２上に、特にエンドレスストリップ２の１つの表面上に取りつけ、かつ／又は転写し、
−少なくとも１つのセンサによって、材料メジャーＣ及び／又は材料メジャーＣの周期的分割の位置を検出し、
−少なくとも１つのセンサによって検出された、エンドレスストリップ２の表面上の材料メジャーＣの位置が目標位置に相当する場合、かつ／又は少なくとも１つのセンサが材料メジャーＣの分配周期の終端又は始端を検出した場合に、マークを塗布するための信号を形成して、ノズルヘッド／プリントヘッド５へ伝達し、
−信号の受信後にノズルヘッド／プリントヘッド５を用いてエンドレスストリップ２の外表面へマスク材料の滴を放出する。
【００９１】
図９に示すように、エンドレスストリップ２上に多数の個別の同じ構造Ｄが互いに列をなして塗布されることも、考えられる。これに関連して、特に効果的であるのは、
−エンドレスストリップ２の実際長さ及び／又は実際幅が定められる場合、及び
−エンドレスストリップ２上に多数の個別の同じ構造Ｄが列をなして塗布される場合であって、その場合にエンドレスストリップ２の実際長さ及び／又は実際幅が個々の構造Ｄの目標長さ及び／又は目標幅によって割り算されて、次に個々の構造Ｄの実際長さ及び／又は実際幅が、エンドレスストリップ２の実際長さ及び／又は実際幅の整数の一部分に適合され、すなわち比例的に変化される。図９に示す例において、エンドレスストリップ２を継目なしでカバーするためには、目標構造Ｄは短かすぎ、かつ細すぎる。したがって目標構造Ｄは、図９に矢印で象徴されるように、実際構造がエンドレスストリップ２を継目なしでカバーするように、延長され、かつ拡幅される。図９において、目標構造Ｄは、延長され、かつ拡幅されている。もちろんこの目標構造が短縮され、かつ／又はその幅が減少されることも、考えられる。
【００９２】
マスクが、駆動状態におけるエンドレスストリップ２の予測される伸張を考慮して塗布される場合も、特に効果的である。エンドレスストリップ２は、後にそれぞれストリップ鋳造設備内、あるいはダブルストリッププレス内で使用され、それにおいてエンドレスストリップは一部、比較的高い引っ張り負荷にさらされ、したがって伸張する。エンドレスストリップ２上に塗布された構造Ｄの伸張もそれに伴い、場合によってはそれは望ましくない。したがってエンドレスストリップ２上にマスクを塗布する際に、予測される後の駆動状態を考慮することができる。
【００９３】
たとえばこれは、エンドレスストリップ２の後の駆動において予測される、後の引っ張り負荷と実質的に等しいエンドレスストリップ２の引っ張り負荷において、マスクの塗布が行われることによって、行うことができる。すなわち引っ張り負荷とエンドレスストリップ２の伸張は、マスクを塗布する場合及び後の駆動においてほぼ等しい。しかしまた、マスクの塗布が、エンドレスストリップ２の後の駆動において予測される後の引っ張り負荷とは異なるエンドレスストリップ２の引っ張り負荷において行われ、かつマスクを塗布する際に、２つの状態におけるエンドレスストリップ２の異なる伸張が考慮されることも、考えられる。したがってマスクを塗布する際のエンドレスストリップ２の伸張が、後の駆動におけるよりも大きい場合には、マスクは塗布する際に少し引っ張って長くされ、あるいは、マスクを塗布する際の引っ張り負荷とそれに伴ってエンドレスストリップ２の伸張が、後の駆動におけるよりも小さい場合には、マスクは塗布する際に幾分短縮される。エンドレスストリップ２の伸張は、たとえばその横断面を用いて計算することができる。
【００９４】
図においてエンドレスストリップ２は水平に方向づけされており、すなわち方向変換ローラ３と４は互いに対して水平に離隔している。もちろん方向変換ローラ３と４が互いに垂直に離隔しており、エンドレスストリップ２が垂直に方向づけされることもできる。
【００９５】
さらに、図に示す実施例において光源７は、たとえば１つの方向変換ローラ４、１０の領域内に配置されている。これは、光源７とエンドレスストリップ２の間の間隔が、特殊な措置なしで実質的に一定であるので、本発明にとって好ましいことではあるが、光源７は２つの方向変換ローラ３、４、９、１０の間に配置することもできる。エンドレスストリップ２は、この領域内では特に原則的に移動し、もしくは振動することがあり、それによって光源７とエンドレスストリップ２の間の間隔は、自動的に一定とはならず、変化するが、わずかな間隔変化は、マスク材料の硬化にとって何ら役割を果たさず、果たしたとしてもわずかである。
【００９６】
例においてはさらに、方向変換ローラ３、４、９、１０の巻きつき角度は０°よりも大きい。これは、図２に示す例についても当てはまる。しかしまた、図２に示す例において巻きつき角度が０°であり、かつ狭い意味において支援ローラは１つだけ存在することも考えられる。その場合に光源７は、１つの支援ローラの領域内で、方向変換ローラ３と４の間に配置される。
【００９７】
実施例は、本発明に係る装置１、１０１．．．１０３の可能な実施変形例を示しており、その場合にここで記録しておくが、本発明は具体的に図示されたその実施変形例に限定されるものではなく、他の実施変形例も可能であって、それを導き出すことはこの技術分野で活動する当業者の裁量の範囲内にある。
【００９８】
保護領域は、請求項によって定められている。しかし明細書と図面は、請求項を解釈するために利用される。図示され、かつ記述された様々な実施例に基づく個別特徴又は特徴の組合せは、それ自体自立した進歩的解決をあらわす。自立した進歩的解決の基礎となる課題は、明細書から読み取ることができる。
【００９９】
たとえばこの開示の枠内において、塗布されたマスクは光によって硬化可能なマスク材料からなり、あるいは少なくともその種の成分を有している。しかし、個々の視点はこれらの制限なしで適用することができ、独立した発明の基礎を形成することもできる。特にこれは、請求項３−５、９−２３、２９、３１あるいは３６及びそれらの組合せによって開示される特徴に関する。
【０１００】
同様なことが、方向変換ローラ３、４、９、１０の領域内のノズルヘッド／プリントヘッド５、５１、５２についても該当する。開示の個々の視点は、これらの制限なしで適用することができ、かつ独立した発明の基礎を形成することができる。特にこれは、請求項２−２７と３０−３７内及びその組合せによって開示された特徴に関する。
【０１０１】
開示の個々の特徴は、ノズルヘッド／プリントヘッド５、５１、５２の使用なしでも完全に適用可能であり、もしくは独立した発明の基礎を形成することができる。特にこれは、請求項２、６−１２、１５−２７及び３０、３１、３３、３５及び３７と、その組合せによって開示された特徴に関する。
【０１０２】
特に、図示される配置は、実際には示されたものより多い、あるいは少ない構成部分を有することができ、かつ図において時には著しく簡略化して示されていることを、記録しておく。
【０１０３】
最後に形式的に指摘しておくが、図示される装置とその構成部分は、その構造をさらによく理解するために、一部縮尺どおりではなく、かつ／又は拡大及び／又は縮小して示されている。
【符号の説明】
【０１０４】
１、１０１．．１０３  エンドレスストリップを構造化して不動態化する装置
２     エンドレスストリップ
３     第１の方向変換ローラ
４     第２の方向変換ローラ
５、５１、５２  ノズルヘッド／プリントヘッド
６     ノズルヘッド／プリントヘッド用のレール
７     光源
８     光源用のレール
９     第３の方向変換ローラ
１０   第４の方向変換ローラ
１１   ノズル
ｄ     ノズル間隔
ｈ     行高さ
ｓ     光ビーム
Ａ     エンドレスストリップの長手方向に延びる行
Ｂ     エンドレスストリップの横方向に延びる行
Ｃ     材料メジャー
Ｄ     構造
α     光源の開口角度
β     ノズルヘッド／プリントヘッドと光源の間の角度
【図１】
2020503167.tif 000003
【図２】
2020503167.tif 000004
【図３】
2020503167.tif 000005
【図４】
2020503167.tif 000006
【図５】
2020503167.tif 000007
【図６】
2020503167.tif 000008
【図７】
2020503167.tif 000009
【図８】
2020503167.tif 000010
【図９】
2020503167.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月17日(2018.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンドレスストリップ（２）を構造化して不動態化する方法であって、以下のステップ：
−少なくとも２つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）の間にエンドレスストリップ（２）を張りわたし、前記方向変換ローラの少なくとも１つが駆動され、
−エンドレスストリップ（２）を構造化して不動態化するためにノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）を用いてデジタルのビームプリント方法においてエンドレスストリップ上にマスクを塗布し、塗布されたマスクが、光によって硬化可能なマスク材料からなり、あるいは少なくともこの種の成分を有しており、かつ
−塗布後に、硬化に適した光源（７）によってマスクを少なくとも部分的に照射する、
ものにおいて、
−エンドレスストリップ（２）上へのマスクの塗布が、方向変換ローラ（３、４、９、１０）の領域内で行われ、かつ
−マスクを塗布する前に、位置マーク及び／又はエンドレスストリップ（２）の長さに適合された材料メジャー（Ｃ）がエンドレスストリップ（２）上へ取り付けられる、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
−マスク材料が紫外線光によって硬化可能であって、光源（７）が紫外線光を放射し、あるいは
−マスク材料が赤外線光によって硬化可能であって、光源（７）が赤外線光を放射する、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が、ラインに沿って配置されて、互いに対してノズル間隔（ｄ）で離隔した複数のノズル（１１）を有し、前記ノズルが個々に駆動される、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が、互いに対してノズル間隔（ｄ）で離隔した複数のノズル（１１）を有しており、前記ノズルがマトリクスの形式で配置されて、個々に駆動される、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
エンドレスストリップ（２）が、マスクの塗布の間、少なくとも１つの駆動される方向変換ローラ（３、４、９、１０）によってｘ方向に移動され、かつノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）がそれに対して横方向にｙ方向に移動される、ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
エンドレスストリップ（２）が、マスクの照射の間、少なくとも１つの駆動される方向変換ローラ（３、４、９、１０）によってｘ方向に移動され、かつ光源（７）がそれに対して横方向にｙ方向に移動される、ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
マスクの塗布とマスクの照射が、同時に行われる、ことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
マスクの塗布とマスクの照射が、異なる場所で行われる、ことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
マスクが、ｘ方向に延びる行（Ａ、Ａ１．．Ａ３）において塗布される、ことを特徴とする請求項５から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
マスクが、ｙ方向に延びる行（Ｂ）において塗布される、ことを特徴とする請求項５から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
行（Ａ、Ｂ）が、重なり合わずに並べて塗布される、ことを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
行（Ａ、Ａ１、．．Ａ３、Ｂ）が互いに重なり合って塗布される、ことを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
行送りが、ノズル間隔（ｄ）の整数倍である、ことを特徴とする請求項９から１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
行送りが、ノズル間隔（ｄ）の非整数倍である、ことを特徴とする請求項９から１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
−エンドレスストリップ（２）の実際長さ及び／又は実際幅が定められ、かつ
−多数の個別の同一の構造（Ｄ）がエンドレスストリップ（２）上に列をなして塗布され、エンドレスストリップ（２）の実際長さ及び／又は実際幅が、個々の構造（Ｄ）の目標長さ及び／又は目標幅によって割り算されて、次に個々の構造（Ｄ）の実際長さ及び／又は実際幅が、エンドレスストリップ（２）の実際長さ及び／又は実際幅の整数の一部分に適合され、すなわち比例的に変更される、
ことを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
マスクの塗布が、駆動状態において予測されるエンドレスストリップ（２）の伸張を考慮して行われる、ことを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
マスクの塗布が、エンドレスストリップ（２）の後の駆動において予測される、後の引っ張り負荷と実質的に等しいエンドレスストリップ（２）の引っ張り負荷において行われる、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
マスクの塗布が、エンドレスストリップ（２）の後の駆動において予測される引っ張り負荷とは異なる、エンドレスストリップ（２）の引っ張り負荷において行われ、かつ２つの状態におけるエンドレス（２）の異なる伸張が、マスクを塗布する際に考慮される、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
プレスストリップの伸張が、エンドレスストリップ（２）の横断面を用いて計算される、ことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
マスク材料が、有機モノマーからなる、ことを特徴とする請求項１から１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
エンドレスストリップ（２）の表面を構造化する方法において、
エンドレスストリップ（２）の表面が、請求項１から２０のいずれか１項に記載の方法を実施した後に、化学的に処理される、ことを特徴とする方法。
【請求項２２】
エンドレスストリップ（２）の周回速度が１０〜２０ｍ／ｍｉｎの間である、ことを特徴とする請求項１から１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
光源（７）が、連続的に発光し、あるいは非連続的に光を送出する、ことを特徴とする請求項１から２２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
光源（７）から放射された光の少なくとも９０％がエンドレスストリップ（２）によって吸収される、ことを特徴とする請求項１から２３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２５】
光源（７）によって照射された場合に、塗布されたマスクの色及び／又は透明度が変化する、ことを特徴とする請求項１から２４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２６】
光源（７）の放出されるスペクトル内の放射最大値の波長が、エンドレスストリップ（２）の最大のスペクトル吸収の波長に合わせられている、ことを特徴とする請求項１から２５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２７】
エンドレスストリップ（２）を構造化して不動態化する装置（１、１０１．．１０３）であって、
−少なくとも２つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）を有し、前記方向変換ローラの少なくとも１つが駆動され、かつ前記方向変換ローラの間にエンドレスストリップ（２）を張りわたすことができ、
−ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）を有し、前記ノズルヘッド／プリントヘッドがデジタルのビームプリント方法においてエンドレスストリップ（２）上にマスクを塗布するように形成されており、かつ
−１つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）の領域内、あるいは複数の方向変換ローラ（３、４、９、１０）の間に配置された光源（７）を有する、
ものにおいて、
−ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が、１つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）の領域内に配置されており、かつ
−エンドレスストリップ（２）上に取り付けられた位置マーク及び／又はエンドレスストリップ（２）の長さに適合された材料メジャー（Ｃ）を検出するためのセンサが設けられている、
ことを特徴とする装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項２８】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が、方向変換ローラ（３、４、９、１０）の頂点の領域内に配置されており、かつノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）のビーム方向が、水平方向を中心に±１０°の領域内に方向づけされている、ことを特徴とする請求項２７に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項２９】
光源（７）が方向変換ローラ（３、４、９、１０）の領域内に配置されており、かつ中央の発光方向が、垂直方向を中心に±１０°の領域内に方向づけされている、ことを特徴とする請求項２７又は２８に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３０】
エンドレスストリップ（２）に対するノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）の間隔が、１〜５ｍｍの間、かつエンドレスストリップ（２）に対する光源（７）の間隔が１０〜１００ｍｍの間である、ことを特徴とする請求項２７から２９のいずれか１項に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３１】
光源（７）から放出された光ビーム（ｓ）が、ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）のノズル（１１）内へ直接案内されず、あるいはエンドレスストリップ（２）において１回反射した後に案内される、ことを特徴とする請求項２７から３０のいずれか１項に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３２】
光源（７）から放出された各光ビーム（ｓ）が、エンドレスストリップ（２）上へ当接する、ことを特徴とする請求項３１に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３３】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）の中央のビーム方向と光源（７）の中央のビーム方向が、少なくとも４５°の角度（β）を形成する、ことを特徴とする請求項２７から３３のいずれか１項に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３４】
放出されたスペクトル内の光源（７）の放射最大が、エンドレスストリップ（２）の最大の吸収を中心とする領域内の波長に合わせられている、ことを特徴とする請求項２７から３３のいずれか１項に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３５】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）のプリントアウト周波数が、５ｋＨｚ〜４０ｋＨｚの間である、ことを特徴とする請求項３７から３４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３６】
光源（７）が発光ダイオード、水銀蒸気ランプ、キセノンランプ、レーザーダイオードとして、あるいはレーザーとして、形成されている、ことを特徴とする請求項２７から３５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３７】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が第１の方向変換ローラ（３、９）の領域内に、そして光源（７）が第１の方向変換ローラ（３、９）から離隔した第２の方向変換ローラ（４、１０）の領域内に配置されている、ことを特徴とする請求項２７から３６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３８】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）と光源（７）が、同一の方向変換ローラ（４）の領域内に配置されている、ことを特徴とする請求項２７から３６のいずれか１項に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月16日(2019.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンドレスストリップ（２）を構造化して不動態化する方法であって、以下のステップ：
−少なくとも２つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）の間にエンドレスストリップ（２）を張りわたし、前記方向変換ローラの少なくとも１つが駆動され、
−エンドレスストリップ（２）を構造化して不動態化するためにノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）を用いてデジタルのビームプリント方法においてエンドレスストリップ上にマスクを塗布し、塗布されたマスクが、光によって硬化可能なマスク材料からなり、あるいは少なくともこの種の成分を有しており、かつ
−塗布後に、硬化に適した光源（７）によってマスクを少なくとも部分的に照射する、
ものにおいて、
−エンドレスストリップ（２）上へのマスクの塗布が、方向変換ローラ（３、４、９、１０）の領域内で行われ、かつ
−マスクを塗布する前に、位置マーク及び／又はエンドレスストリップ（２）の長さに適合された材料メジャー（Ｃ）がエンドレスストリップ（２）上へ取り付けられる、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
−マスク材料が紫外線光によって硬化可能であって、光源（７）が紫外線光を放射し、あるいは
−マスク材料が赤外線光によって硬化可能であって、光源（７）が赤外線光を放射する、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が、ラインに沿って配置されて、互いに対してノズル間隔（ｄ）で離隔した複数のノズル（１１）を有し、前記ノズルが個々に駆動される、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が、互いに対してノズル間隔（ｄ）で離隔した複数のノズル（１１）を有しており、前記ノズルがマトリクスの形式で配置されて、個々に駆動される、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
エンドレスストリップ（２）が、マスクの塗布の間、少なくとも１つの駆動される方向変換ローラ（３、４、９、１０）によってｘ方向に移動され、かつノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）がそれに対して横方向にｙ方向に移動される、ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
エンドレスストリップ（２）が、マスクの照射の間、少なくとも１つの駆動される方向変換ローラ（３、４、９、１０）によってｘ方向に移動され、かつ光源（７）がそれに対して横方向にｙ方向に移動される、ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
マスクの塗布とマスクの照射が、同時に行われる、ことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
マスクの塗布とマスクの照射が、異なる場所で行われる、ことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
マスクが、ｘ方向に延びる行（Ａ、Ａ１．．Ａ３）において塗布される、ことを特徴とする請求項５から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
マスクが、ｙ方向に延びる行（Ｂ）において塗布される、ことを特徴とする請求項５から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
行（Ａ、Ｂ）が、重なり合わずに並べて塗布される、ことを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
行（Ａ、Ａ１、．．Ａ３、Ｂ）が互いに重なり合って塗布される、ことを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
行送りが、ノズル間隔（ｄ）の整数倍である、ことを特徴とする請求項９から１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
行送りが、ノズル間隔（ｄ）の非整数倍である、ことを特徴とする請求項９から１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
−エンドレスストリップ（２）の実際長さ及び／又は実際幅が定められ、かつ
−多数の個別の同一の構造（Ｄ）がエンドレスストリップ（２）上に列をなして塗布され、エンドレスストリップ（２）の実際長さ及び／又は実際幅が、個々の構造（Ｄ）の目標長さ及び／又は目標幅によって割り算されて、次に個々の構造（Ｄ）の実際長さ及び／又は実際幅が、エンドレスストリップ（２）の実際長さ及び／又は実際幅の整数の一部分に適合され、すなわち比例的に変更される、
ことを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
マスクの塗布が、駆動状態において予測されるエンドレスストリップ（２）の伸張を考慮して行われる、ことを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
マスクの塗布が、エンドレスストリップ（２）の後の駆動において予測される、後の引っ張り負荷と実質的に等しいエンドレスストリップ（２）の引っ張り負荷において行われる、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
マスクの塗布が、エンドレスストリップ（２）の後の駆動において予測される引っ張り負荷とは異なる、エンドレスストリップ（２）の引っ張り負荷において行われ、かつ２つの状態におけるエンドレス（２）の異なる伸張が、マスクを塗布する際に考慮される、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
プレスストリップの伸張が、エンドレスストリップ（２）の横断面を用いて計算される、ことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
マスク材料が、有機モノマーからなる、ことを特徴とする請求項１から１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
エンドレスストリップ（２）の表面を構造化する方法において、
エンドレスストリップ（２）の表面が、請求項１から２０のいずれか１項に記載の方法を実施した後に、化学的に処理される、ことを特徴とする方法。
【請求項２２】
エンドレスストリップ（２）の周回速度が１０〜２０ｍ／ｍｉｎの間である、ことを特徴とする請求項１から１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
光源（７）が、連続的に発光し、あるいは非連続的に光を送出する、ことを特徴とする請求項１から２２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
光源（７）から放射された光の少なくとも９０％がエンドレスストリップ（２）によって吸収される、ことを特徴とする請求項１から２３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２５】
光源（７）によって照射された場合に、塗布されたマスクの色及び／又は透明度が変化する、ことを特徴とする請求項１から２４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２６】
光源（７）の放出されるスペクトル内の放射最大値の波長が、エンドレスストリップ（２）の最大のスペクトル吸収の波長に合わせられている、ことを特徴とする請求項１から２５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２７】
エンドレスストリップ（２）を構造化して不動態化する装置（１、１０１．．１０３）であって、
−少なくとも２つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）を有し、前記方向変換ローラの少なくとも１つが駆動され、かつ前記方向変換ローラの間にエンドレスストリップ（２）を張りわたすことができ、
−ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）を有し、前記ノズルヘッド／プリントヘッドがデジタルのビームプリント方法においてエンドレスストリップ（２）上にマスクを塗布するように形成されており、かつ
−１つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）の領域内、あるいは複数の方向変換ローラ（３、４、９、１０）の間に配置された光源（７）を有する、
ものにおいて、
−ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が、１つの方向変換ローラ（３、４、９、１０）の領域内に配置されており、かつ
−エンドレスストリップ（２）上に取り付けられた位置マーク及び／又はエンドレスストリップ（２）の長さに適合された材料メジャー（Ｃ）を検出するためのセンサが設けられている、
ことを特徴とする装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項２８】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が、方向変換ローラ（３、４、９、１０）の頂点の領域内に配置されており、かつノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）のビーム方向が、水平方向を中心に±１０°の領域内に方向づけされている、ことを特徴とする請求項２７に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項２９】
光源（７）が方向変換ローラ（３、４、９、１０）の領域内に配置されており、かつ中央の発光方向が、垂直方向を中心に±１０°の領域内に方向づけされている、ことを特徴とする請求項２７又は２８に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３０】
エンドレスストリップ（２）に対するノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）の間隔が、１〜５ｍｍの間、かつエンドレスストリップ（２）に対する光源（７）の間隔が１０〜１００ｍｍの間である、ことを特徴とする請求項２７から２９のいずれか１項に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３１】
光源（７）から放出された光ビーム（ｓ）が、ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）のノズル（１１）内へ直接案内されず、あるいはエンドレスストリップ（２）において１回反射した後に案内される、ことを特徴とする請求項２７から３０のいずれか１項に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３２】
光源（７）から放出された各光ビーム（ｓ）が、エンドレスストリップ（２）上へ当接する、ことを特徴とする請求項３１に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３３】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）の中央のビーム方向と光源（７）の中央のビーム方向が、少なくとも４５°の角度（β）を形成する、ことを特徴とする請求項２７から３２のいずれか１項に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３４】
放出されたスペクトル内の光源（７）の放射最大が、エンドレスストリップ（２）の最大の吸収を中心とする領域内の波長に合わせられている、ことを特徴とする請求項２７から３３のいずれか１項に記載の装置（１、１０１．．１０３）。
【請求項３５】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）のプリントアウト周波数が、５ｋＨｚ〜４０ｋＨｚの間である、ことを特徴とする請求項２７から３４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３６】
光源（７）が発光ダイオード、水銀蒸気ランプ、キセノンランプ、レーザーダイオードとして、あるいはレーザーとして、形成されている、ことを特徴とする請求項２７から３５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３７】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）が第１の方向変換ローラ（３、９）の領域内に、そして光源（７）が第１の方向変換ローラ（３、９）から離隔した第２の方向変換ローラ（４、１０）の領域内に配置されている、ことを特徴とする請求項２７から３６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３８】
ノズルヘッド／プリントヘッド（５、５１、５２）と光源（７）が、同一の方向変換ローラ（４）の領域内に配置されている、ことを特徴とする請求項２７から３６のいずれか１項に記載の装置。
【国際調査報告】
2020503167.tif 000012
2020503167.tif 000013
2020503167.tif 000014
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