(57)【要約】  セメント質パネル（１０）の製造システム（５０）および製造方法の実施形態が使用されて、多層空気／水バリア膜アセンブリ（１８）を有するセメント質パネル（１０）を生成し得る。膜（１８）の層（２１、２２、２３）は、例えば、ロールコーティングを使用して流体組成物を塗布する一連の塗布器ステーション（７２、７５、７８）を介して形成され得る。塗布器ステーション（７２、７５、７８）間で、流体組成物の塗布層は、赤外線加熱を介する乾燥条件にさらされ得る。赤外線加熱の有害な影響から保護するのに役立てるために、セメント質パネル（１０）は、各乾燥セクション（９２、１０２、１１２）の後に冷却トンネル（９３、１０３、１１３）を通って搬送され得る。【選択図】図３
2020526470.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セメント質パネルの製造システムであって、前記セメント質パネルが、セメント質コア、前記セメント質コアに接触するカバーシート、および前記カバーシートと一体的に接続された空気／水バリア膜アセンブリを含み、前記カバーシートが、前記セメント質コアと前記空気／水バリア膜アセンブリとの間に介在するようになっており、前記空気／水バリア膜アセンブリが、積み重ねられた配置で複数の層を含み、前記システムが、
コンベアであって、前記セメント質パネルを機械方向に沿って第１の塗布器ステーションから積み重ね位置に搬送するように適合されており、前記コンベアが、前記第１の塗布器ステーションと前記積み重ね位置との間に、前記機械方向に沿って配置される第１の乾燥器セクション、第２の塗布器ステーション、および第２の乾燥器セクションを含む、コンベアと、
第１の塗布器であって、前記第１の塗布器ステーションに位置し、流体組成物の第１の層を前記カバーシートに塗布するように適合されている、第１の塗布器と、
第１の乾燥器であって、前記機械方向に沿って前記第１の塗布器ステーションの下流の第１の乾燥器セクションに位置し、前記第１の乾燥器が、流体組成物の前記第１の層を乾燥させて、第１の膜層を形成するように適合された第１の赤外線放射体システムを有する、第１の乾燥器と、
第２の塗布器であって、前記機械方向に沿って前記第１の乾燥器セクションの下流の前記第２の塗布器ステーションに位置し、流体組成物の第２の層を前記第１の膜層上に塗布するように適合されている、第２の塗布器と、
第２の乾燥器であって、前記機械方向に沿って前記第２の塗布器ステーションの下流の前記第２の乾燥器セクションに位置し、前記第２の乾燥器が、流体組成物の前記第２の層を乾燥させて、第２の膜層を形成するように適合された第２の赤外線放射体システムを有する、第２の乾燥器と、を備え、
前記第１の乾燥器セクションが、第１のゾーンおよび第２のゾーンを含み、前記第２のゾーンが、前記機械方向に沿って前記第１のゾーンの下流に配置され、前記第１の赤外線放射体システムが、前記第１のゾーンに配置された第１の赤外線放射体サブアセンブリ、および前記第２のゾーンに配置された第２の赤外線放射体サブアセンブリを有し、前記第１の赤外線放射体サブアセンブリが、第１の出力密度最大動作値を有し、前記第２の赤外線放射体サブアセンブリが、第２の出力密度最大動作値を有し、前記第２の出力密度最大動作値が、前記第１の出力密度最大動作値とは異なる、セメント質パネルの製造システム。
【請求項２】
前記第１の出力密度最大動作値が、前記第２の出力密度最大動作値よりも大きい、請求項１に記載のセメント質パネルの製造システム。
【請求項３】
前記第１の赤外線放射体サブアセンブリが、中波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されており、前記第２の赤外線放射体サブアセンブリが、長波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されている、請求項２に記載のセメント質パネルの製造システム。
【請求項４】
前記第１の赤外線放射体サブアセンブリが、電気赤外線加熱器を備え、前記第２の赤外線放射体サブアセンブリが、ガス触媒赤外線加熱器を備える、請求項３に記載のセメント質パネルの製造システム。
【請求項５】
前記第２の赤外線放射体システムが、第３の出力密度最大動作値を有し、前記第３の出力密度最大動作値が、前記第１の出力密度最大動作値よりも小さい、請求項２〜請求項４のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造システム。
【請求項６】
第１の冷却器であって、前記機械方向に沿って前記第１の乾燥器と前記第２の塗布器との間に、前記コンベアに沿って位置し、前記第１の冷却器が、前記セメント質パネルの表面温度を低減させるように適合されている、第１の冷却器、をさらに備える、請求項１または請求項２に記載のセメント質パネルの製造システム。
【請求項７】
前記第１の冷却器が、前記第１の膜層全域に当たる空気流を方向付けするように適合されたファンを有する対流冷却室を備える、請求項６に記載のセメント質パネルの製造システム。
【請求項８】
前記コンベアが、前記第２の乾燥器ステーションと前記積み重ね位置との間に、前記機械方向に沿って配置された、第３の塗布器ステーションおよび第３の乾燥器セクションを含み、前記システムが、
第２の冷却器であって、前記機械方向に沿って前記第２の乾燥器の下流端部に隣接して、前記コンベアに沿って位置し、前記第２の冷却器が、前記セメント質パネルの前記表面温度を低減させるように適合されている、第２の冷却器と、
第３の塗布器であって、前記第３の塗布器ステーションに位置し、流体組成物の第３の層を前記第２の膜層上に塗布するように適合されている、第３の塗布器と、第３の乾燥器であって、前記機械方向に沿って前記第３の塗布器ステーションの下流の前記第３の乾燥器セクションに位置し、前記第３の乾燥器が、流体組成物の前記第３の層を乾燥させて、第３の膜層を形成するように適合された第３の赤外線放射体システムを有する、第３の乾燥器と、をさらに備え、
前記第２の赤外線放射体システムが、第３の出力密度最大動作値を有し、前記第３の赤外線放射体システムが、第４の出力密度最大動作値を有し、前記第３の出力密度最大動作値および前記第４の出力密度最大動作値がいずれも、前記第１の出力密度最大動作値よりも小さく、
前記第１の赤外線放射体サブアセンブリが、中波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されており、前記第２の赤外線放射体サブアセンブリ、前記第２の赤外線放射体システム、および前記第３の赤外線放射体システムがそれぞれ、長波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されている、請求項７に記載のセメント質パネルの製造システム。
【請求項９】
第３の冷却器であって、前記機械方向に沿って前記第３の乾燥器の下流端部に隣接して、前記コンベアに沿って位置し、前記第３の冷却器が、前記セメント質パネルの前記表面温度を低減させるように適合されている、第３の冷却器、をさらに備える、請求項８に記載のセメント質パネルの製造システム。
【請求項１０】
セメント質パネルの製造方法であって、前記セメント質パネルが、セメント質コアおよび前記セメント質コアに接触するカバーシートを含み、前記方法が、
第１の塗布ステーションで、流体組成物の第１の層を前記カバーシートに塗布することと、
前記第１の層を、第１の出力密度プロファイルを用いる第１の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらして、第１の膜層を形成することと、
前記第１の層を、前記第１の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらした後、前記セメント質パネルを、第１の冷却セクションにおける冷却条件にさらして、前記セメント質パネルの表面温度を低減させることであって、前記第１の冷却セクションにおける冷却条件が、前記第１の膜層全域に当たる空気流を介する対流冷却を介して生成され、前記第１の膜層全域に当たる前記空気流が、前記第１の冷却セクションに隣接する周囲空気温度よりも低い温度、および前記第１の冷却セクションに隣接する周囲湿度レベルよりも低い湿度レベルでの空気を含む、低減させることと、
前記セメント質パネルを、第１の冷却セクションにおける冷却条件にさらした後、第２の塗布ステーションで流体組成物の第２の層を前記第１の膜層上に塗布することであって、前記第２の塗布ステーションが、前記第１の塗布ステーションに対して間隔をあけて配置され、前記第１の乾燥ゾーンが、それらの間に介在する、塗布することと、
前記第２の層を、第２の出力密度プロファイルを用いる第２の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらして、第２の膜層を形成することであって、前記第２の出力密度プロファイルが、前記第１の出力密度プロファイルとは異なる、形成することと、を含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
本開示は、概して、建築外装セメント質パネルに関し、より具体的には、一体型空気／水バリア膜、ならびにその作製システムおよび方法を含む外装セメント質パネルに関する。
【０００２】
石膏板およびセメント板などのセメント質物品は、様々な用途に有用であり、その一部にはある程度の耐水性が必要である。従来の紙表面セメント質物品は、高水分条件下または屋外にさらされたときに常に十分に機能するとは限らない。したがって、そのような用途では、紙ではなくガラスまたはポリマー系の繊維マットで表面加工されるセメント質パネルを使用することが多くの場合望ましい。セメント質コアは、コア材料自体の耐水性を改善する添加剤を含み得る。
【０００３】
セメント質物品の製造プロセスには、過剰な水が乾燥プロセス中にセメント質スラリーから除去され得るように、表面材料が十分に透過性であることが多くの場合必要である。しかし、繊維マット表面材料の透過性は、パネルが外装用途に設置された後、水がマットに浸透してセメント質コアに接触するため、セメント質パネルの耐水性も低減させる。
【０００４】
空気／水バリアは、空気、水、および他の要素の、建築囲いに出入りする意図しない通過を停止するという望ましい効果のために、建築外囲バリアシステムの一部として含まれている。しかし、外装空気／水バリアシート（「ハウスラップ」とも称される）は、設置が困難な場合がある。最初の問題として、パネルが建築構造として組み立てられた後、シートの設置が現場で行われる。環境条件（例えば、風、温度、雨など）は、シート材料の設置を成功させるために重大な障害を引き起こし得る。さらに、シートの裏材は通常、他の建設材料に対する不十分な結合表面を提供し、それによってシートを付着させることを困難にする。
【０００５】
流体塗布空気／水バリア膜は、シート膜バリア製品の代替として、建築アセンブリの一部であるセメント質パネルにもその場で塗布されている。流体塗布膜バリア製品は、スプレー、手動ローラー、またはこて塗りされることによって塗布することができ、現場でのシート膜バリア製品よりも迅速に設置することができる。通常の設置要員の要件は、シート膜バリア設置よりも小さい。流体塗布膜は、通常、現場でスプレー塗布され、シートの適用と比較して生産率が大幅に向上する。しかし、塗布器のエラー、装置の問題、および／または環境条件（例えば、風、温度、雨など）に起因する不正確な材料量の塗布などの、塗布に関する問題が発生し得る。そのような問題は、空気／水バリアの設置の品質と耐久性に影響を与えるだけでなく、過剰なスプレーの結果としてバリアの塗布に隣接する品目の損傷を浄化および修復するために要するかなりの追加コストも発生させ得る。
【０００６】
また、セメント質パネルを設置した要員とは異なる設置者の別個の要員が、バリア膜の設置に頻繁に使用される。別個の設置要員の使用によって、人件費が増加し、遅延が発生し、建設プロセス中の物流の複雑さが増加し得る。空気／水バリアを設置する従来の方法には、最初に外装を設置し、次いで接合を仕上げ、次いで耐水バリアおよび空気バリアをさらに次の別個の繰り返しに設置する別個の要員が必要である。
【０００７】
当該技術分野において、セメント質パネルの使用を高めるためのさらなる解決策を提供するための継続的な必要性が存在する。例えば、耐透水性を有するそのような物品を調製するための技術の継続的な必要性が存在する。複雑性および／または人件費を低減させて便利に設置される空気／水バリアを有する建築システムを提供する必要性が継続的に存在する。
【０００８】
この背景の説明は読み手を助けるために本発明者らによって作成されたものであり、示される問題のうちのいずれもそれら自体が当該技術分野において理解されたという指示としてみなされるものではないことが理解されるであろう。記載された原理は、いくつかの態様および実施形態では、他のシステムに固有の問題を軽減し得るが、保護される革新性の範囲が、任意の開示された特色の能力によって限定されないか、または制約されず、本明細書で言及される任意の特定の問題を解決することが理解されるであろう。
【発明の概要】
【０００９】
一態様では、本開示は、多層空気／水バリア膜アセンブリを含むセメント質パネルの実施形態に関する。別の態様では、本開示は、多層空気／水バリア膜アセンブリを含むセメント質パネルの製造システムの実施形態を説明する。さらに別の態様では、本開示は、多層空気／水バリア膜アセンブリを含むセメント質パネルの製造方法の実施形態に関する。
【００１０】
開示される原理のさらなる代替の態様および特色は、以下の詳細な説明および添付の図面から理解されるであろう。理解されるように、本明細書に開示される、多層空気／水バリア膜アセンブリを含むセメント質パネル、およびパネル自体の、製造システムおよび技術は、他の異なる実施形態で実行および使用することができ、様々な点で変更することができる。したがって、前述の概要および以下の詳細な説明はいずれも、例示的かつ説明的であるにすぎず、本明細書に開示される原理の範囲を制限するものではないことを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本開示の原理に従って構築されるセメント質パネルの一実施形態の断片的な概略横断面図である。
【図２】図１のセメント質パネルの多層空気／水バリア膜アセンブリを示す、長方形ＩＩで示される図１からの拡大詳細図である。
【図３】本開示の原理に従って構築される多層空気／水バリア膜アセンブリを含むセメント質パネルの製造システムの実施形態の概略図であり、システムは、多層空気／水バリア膜アセンブリをセメント質パネルに適用するための手段の実施形態を含む。
【００１２】
図面は必ずしも縮尺通りではなく、開示される実施形態は概略的におよび部分図で示されることを理解されたい。特定の場合では、本開示を理解するのに必ずしも必要ではない、または他の詳細を認識することを困難にする詳細は、省略されている。本開示は、本明細書で説明される特定の実施形態に限定されないことを理解されたい。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本開示は、例えば、建築の様々な外装の建設に関連して使用され得る、多層空気／水バリア膜アセンブリを適用するための手段および工程を含む、セメント質パネルの製造システムおよび方法の様々な実施形態を提供する。本開示の原理に従うセメント質パネルの製造システムおよび方法の実施形態では、塗布器、乾燥器、冷却器を含む、一連の層生成サブアセンブリそれぞれが使用されて、空気／水バリア膜アセンブリの層を迅速に連続して付着させて、生産環境においてセメント質パネルの即製を促進する。
【００１４】
本開示は、建築アセンブリに設置される前に、空気／水バリア膜アセンブリと一体化される外装セメント質パネルの様々な実施形態を提供する。実施形態では、空気／水バリア膜アセンブリは、カバーシートが、パネルのセメント質コアと空気／水バリア膜アセンブリとの間に介在するように、セメント質パネルの少なくとも１つのカバーシートと一体的に接続される。実施形態では、空気／水バリア膜アセンブリは、積み重ねられた配置で複数の乾燥層を含む。
【００１５】
一体型空気／水バリア膜アセンブリを有するセメント質パネルは、セメント質パネルの群を建築アセンブリに組み立てた後、現場で別個の耐空気および耐水バリアを連続的に設置する必要性を排除する、単一パネルの容易な設置を提供し得る。そうすることで、建築外囲を完成させるために必要な工程の数が低減し、建築囲い用の空気／水バリアシステムの性能要件を満たすために必要な時間と労力を実質的に低減させる。本開示はまた、制御された生産環境において、空気／水バリア膜アセンブリを有するセメント質パネルが、均一かつモノリシックなバリア特性を有して生成され、それによって、現場で不十分な量のバリア材料が塗布されることに関連する問題を低減する方法に関する実施形態も提供する。さらに、本開示で提供されるような制御された自動化工場環境において、外装セメント質パネルに空気／水バリア膜アセンブリを適用することによって、膜アセンブリが一定の様式で適用されることが確実になるのに役立ち、それによって、空気／水バリア膜アセンブリとセメント質パネル基材との間の良好な付着結合を有する一定の最小コーティング厚さを提供することに役立つ。
【００１６】
本開示の原理に従って構築されるセメント質パネルの製造システムの実施形態では、システムは、コンベア、第１の塗布器、第１の乾燥器、第２の塗布器、および第２の乾燥器を含む。システムは使用されて、本開示の原理に従うセメント質パネルを製造し得る。
【００１７】
コンベアは、セメント質パネルを機械方向に沿って第１の塗布器ステーションから積み重ね位置に搬送するように適合されている。コンベアは、第１の塗布器ステーションと積み重ね位置との間に、機械方向に沿って配置された第１の乾燥器セクション、第２の塗布器ステーション、および第２の乾燥器セクションを含む。
【００１８】
第１の塗布器は、第１の塗布器ステーションに位置し、流体組成物の第１の層をカバーシートに塗布するように適合されている。第１の乾燥器は、機械方向に沿って第１の塗布器ステーションの下流の第１の乾燥器セクションに位置する。第１乾燥器は、流体組成物の第１の層を乾燥させて、第１の膜層を形成するように適合された第１の赤外線放射体システムを有する。
【００１９】
第２の塗布器は、機械方向に沿って第１の乾燥器セクションの下流の第２の塗布器ステーションに位置し、流体組成物の第２の層を第１の膜層上に塗布するように適合されている。第２の乾燥器は、機械方向に沿って第２の塗布器ステーションの下流の第２の乾燥器セクションに位置する。第２乾燥器は、流体組成物の第２の層を乾燥させて、第２の膜層を形成するように適合された第２の赤外線放射体システムを有する。
【００２０】
第１の乾燥器セクションは、第１のゾーン、および機械方向に沿って第１のゾーンの下流に配置された第２のゾーンを含む。第１の赤外線放射体システムは、第１のゾーンに配置された第１の赤外線放射体サブアセンブリ、および第２のゾーンに配置された第２の赤外線放射体サブアセンブリを有する。第１の赤外線放射体サブアセンブリは、第１の出力密度最大動作値を有し、第２の赤外線放射体サブアセンブリは、第１の出力密度最大動作値とは異なる第２の出力密度最大動作値を有する。
【００２１】
本開示の原理に従うセメント質パネルの製造方法の実施形態では、方法は、第１の塗布ステーションで、流体組成物の第１の層をセメント質パネルのカバーシートに塗布することを含む。第１の層は、第１の出力密度プロファイルを用いる第１の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらされて、第１の膜層を形成する。
【００２２】
流体組成物の第２層は、第２の塗布ステーションで、第１の膜層の上に塗布される。第２の塗布ステーションは、第１の塗布ステーションに対して間隔をあけて配置され、第１の乾燥ゾーンが、それらの間に介在する。第２の層は、第２の出力密度プロファイルを用いる第２の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらされて、第２の膜層を形成する。第２の出力密度プロファイルは、第１の出力密度プロファイルとは異なる。
【００２３】
図については、本開示の原理に従って構築されるセメント質パネル１０の実施形態が、図１に示される。図示されたセメント質パネル１０は、第１のカバーシート１１、第２のカバーシート１２、セメント質コア１４、および空気／水バリア膜アセンブリ１８を含む。セメント質コア１４は、第１および第２のカバーシート１１、１２の間に介在する。空気／水バリア膜アセンブリ１８は、第１のカバーシート１１が、セメント質コア１４と一体型空気／水バリア膜アセンブリ１８との間に介在するように、第１のカバーシート１１に一体的に取り付けられる。
【００２４】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される外装セメント質パネルは、パネルの少なくとも１つの表面に付着した流体塗布空気／水バリア膜アセンブリを含む。実施形態では、第２のカバーシート１２が省略され得る。
【００２５】
実施形態では、セメント質パネルは、外装用途向けの任意の好適な無機コア材料を含み得る。特に、セメント質コア１４は、任意の好適な添加剤とともに、任意の好適なセメント質材料、物質、または組成物を含み得る。セメント質コアに使用され得る材料の非限定的な例としては、ポルトランドセメント、スイバセメント、スラグセメント、フライアッシュセメント、カルシウムアルミナセメント、水溶性硫酸カルシウム硬石膏、硫酸カルシウムα半水和物、硫酸カルシウムβ半水和物、天然、合成、または化学変性された硫酸カルシウム半水和物、硫酸カルシウム二水和物（「石膏」、「硬化石膏」、または「水和石膏」）、およびこれらの組み合わせが挙げられる。本明細書で使用される場合、「硫酸カルシウム材料」という用語は、上記で言及した硫酸カルシウムの形態のうちのいずれかを指す。特定の好ましい実施形態では、セメント質コアは、硫酸カルシウム材料、ポルトランドセメント、またはこれらの混合物を含む。いくつかの実施形態では、セメント質コア１４は、石膏を含む。本開示の実施形態で使用するのに好適なセメント質パネルの例としては、例えば、イリノイ州シカゴのＵｎｉｔｅｄ  Ｓｔａｔｅｓ  Ｇｙｐｓｕｍ  Ｃｏｒｐ．から、商品名ＳＨＥＥＴＲＯＣＫ（登録商標）、ＳＨＥＥＴＲＯＣＫ  ＦＩＲＥＣＯＤＥ（登録商標）、ＳＥＣＵＲＯＣＫ（登録商標）、ＦＩＢＥＲＯＣＫ（登録商標）、およびＤＵＲＯＣＫ（登録商標）で市販されているものが挙げられる。
【００２６】
セメント質コア１４は、当業者に既知であるようなセメント質物品（例えば、石膏ボードまたはセメントボード）を生成するために使用される任意の好適な添加剤などの添加剤を含み得る。好適な添加剤としては、鉱物ウール、連続またはチョップドガラス繊維（ガラス繊維とも称される）、パーライト、粘土、バーミキュライト、炭酸カルシウム、ポリエステル、紙繊維などの構造添加剤が挙げられるが、これらに限定されない。化学添加物としては、例えば、発泡剤、充填剤、促進剤、糖、増強剤（例えば、ホスフェート、ホスホネート、ボレート）、抑制剤、バインダ（例えば、デンプンおよびラテックス）、着色剤、殺菌剤、および殺生物剤が挙げられる。特定の実施形態では、セメント質コア１４は、金属繊維、セルロース繊維、鉱物繊維、ガラス繊維、ポリマー繊維、炭素繊維、またはこれらの組み合わせをさらに含む。これらのいくつかの添加剤および他の添加物の使用例は、例えば、開示がそれぞれ参照により本明細書に組み込まれる、米国特許第６，３４２，２８４号、同第６，４１０，１１８号、同第６，６３２，５５０号、同第６，８００，１３１号、同第５，６４３，５１０号、同第５，７１４，００１号、および同第６，７７４，１４６号、ならびに米国特許出願公開第２００４／０２３１９１６号、同第２００２／００４５０７４号、同第２００５／００１９６１８号、および同第２０１４／０２６１９５４号に記載されている。
【００２７】
実施形態では、セメント質コア１４は、少なくとも１つの基材１１によって被覆され、いくつかの実施形態では、その対向面上のコア１４に対して重なる様式で２つの基材１１、１２によって被覆される。言い換えれば、実施形態では、セメント質コア１４は、２つの基材の間に挟まれる。基材は、例えば、紙カバーシートまたはマットなどのカバーシートであり得る。実施形態では、当業者に既知のような様々な種類の紙カバーシート（例えば、マニラ、クラフト、ポリマーなど）が、本発明で使用され得る。多層紙が使用され得る。実施形態では、紙カバーシートは、化学的または物理的添加剤で処理されて、防水性、耐火性、抗真菌性、および／または抗菌特性などの特性を付与し得る。実施形態では、カバーシートは、約４０〜約６５ポンド／ｍｓｆ（千平方フィート）の重量を有する紙カバーシートである。
【００２８】
他の実施形態では、カバーシート１１、１２は、当業者に既知であるように、繊維マットを含む。マットは、任意の好適な種類のポリマー繊維、鉱物繊維、またはこれらの組み合わせを含み得る。好適な繊維の非限定的な例としては、ガラス繊維、ポリアミド繊維、ポリアラミド繊維、ポリプロピレン繊維、ポリエステル繊維（例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））、ポリビニルアルコール（ＰＶＯＨ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｃ）、セルロース繊維（例えば木綿、レーヨンなど）、およびそれらの組み合わせを含む。さらに、マットの繊維は、疎水性または親水性、およびコーティングまたは非コーティングであり得る。実施形態では、マットタイプのカバーシート１１、１２に使用される繊維は、セメント質外装パネル１０が使用される用途の種類に少なくとも部分的に基づいて選択され得る。例えば、セメント質パネル１０が、耐熱性または耐火性が望まれる用途で使用される場合、適切な耐熱性および／または耐火性繊維が、繊維マットに含まれ得る。
【００２９】
実施形態では、カバーシート１１、１２に使用される繊維マットは、織られていても織られていなくてもよい。カバーシート１１、１２に使用される不織マットは、バインダによって結合される繊維を含み得る。バインダは、マット業界で一般的に使用されている任意のバインダであり得る。好適なバインダは、限定されないが、尿素ホルムアルデヒド、メラミンホルムアルデヒド、ステアリン酸メラミンホルムアルデヒド、ポリエステル、アクリル類、ポリ酢酸ビニル、ポリ酢酸ビニルまたはアクリル、スチレンアクリルポリマー類により変性またはブレンドされた尿素ホルムアルデヒドまたはメラミンホルムアルデヒドおよびそれらの組み合わせを含む。カバーシート１１、１２に使用される好適な繊維マットは、当業者に既知であるように、セメント質パネルの表面材料として使用される市販のマットを含み得る。
【００３０】
図１および図２を参照すると、実施形態では、空気／水バリア膜アセンブリ１８は、上下に連続して構成される複数の膜層２１、２２、２３を含む。空気／水バリア膜アセンブリ１８の膜層２１、２２、２３は、協同して、完成したセメント質パネル１０に一体化モノリシックバリア膜を生成する。
【００３１】
図示された実施形態では、空気／水バリア膜アセンブリ１８は、それぞれ実質的に同じ厚さである３つの膜層２１、２２、２３を含む。他の実施形態では、空気／水バリア膜アセンブリ１８は、異なる数の膜層２１、２２、２３を有し得る。実施形態では、空気／水バリア膜アセンブリ１８は、少なくとも２つの膜層２１、２２を含み得る。実施形態では、空気／水バリア膜アセンブリ１８は、その少なくとも１つの他の層とは異なる厚さを有する少なくとも１つの層を含み得る。実施形態では、空気／水バリア膜アセンブリ１８の膜層２１、２２、２３の厚さは、所望の総厚仕様（例えば、０．０２０インチ厚）を満たすように構築され得る。
【００３２】
空気／水バリア膜アセンブリ１８は、任意の好適な方法によって調製され得る。一般に、流体組成物の一連の層は、外装セメント質パネルの少なくとも１つの表面（例えば、外装表面）に連続的に塗布され得る。流体組成物は、任意の好適な組成物であってもよく、いくつかの実施形態では液体ポリマー配合物の形態である。塗布工程は、液体ポリマー配合物を外装パネルの表面に塗布する任意の好適な方法を含み得る。そのような方法は、当技術分野で既知であり、例えば、スプレー、ローリング（例えば、圧力ローリング）、こて塗り、ブラッシング、ワイピング、短時間浸漬、長時間浸漬、および／またはパネルの表面への流体組成物の含浸を含む。流体組成物が層状に塗布されると、流体組成物は、表面で乾燥して（乾燥、固化、硬化、および／または養生を含む）、気密性および／または防湿性を有するアセンブリ１８の膜層を提供する。乾燥工程は、指定された時間、赤外線乾燥システムを使用して実行されて、各膜層の乾燥を促進して、所望の粘着性レベルを達成し得る。乾燥工程の後に冷却工程が実行されて、膜アセンブリ１８の連続層を受け取るためにセメント質パネルを準備し得る、かつ／または製造施設の積み重ねステーションで積み重ねられ得る。実施形態では、乾燥後、液体ポリマー配合物は、セメント質パネル１０の少なくとも１つの外側表面上にゴム化（エラストマー）膜アセンブリ１８を形成する。
【００３３】
実施形態では、空気／水バリア膜アセンブリ１８を生成するために使用される流体組成物は、この参照により本明細書に組み込まれる、米国特許出願公開第ＵＳ２０１４／０２７２４０４号に記載されているものなど、流体塗布膜に使用される任意の好適な組成物であり得る。実施形態では、空気／水バリア流体組成物用の好適な配合物は、ＣＡＮ／ＵＬＣ−Ｓ７４１（「空気バリア材料の標準−仕様（Ｓｔａｎｄａｒｄ  ｆｏｒ  Ａｉｒ  Ｂａｒｒｉｅｒ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ−Ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎ）」）に記載されている最小要件を満たしているか、または超えており、ＡＳＴＭ  Ｅ２１７８（「建築材料の空気透過性の標準試験方法（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ａｉｒ  Ｐｅｒｍｅａｎｃｅ  ｏｆ  Ｂｕｉｌｄｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）」）に従って試験される。そのような配合物は、一体型空気／水バリア膜アセンブリ１８を有する外装セメント質パネル１０を通る空気侵入／漏出および水の浸透を防止または抑制するものを含み、一方でパネルは依然として水蒸気透過性のままである。他の好適な空気／水バリア膜配合物には、パネル１０を通る空気の浸透／漏出を防止または抑制するもの、および水蒸気に対するパネルの透過性を抑制するものも含まれる。
【００３４】
実施形態では、空気／水バリア膜アセンブリ１８の膜層２１、２２、２３の少なくとも１つの流体組成物の配合物は、その膜層２１、２２、２３の少なくとも１つの他のものとは異なる。実施形態では、空気／水バリア膜アセンブリ１８の膜層２１、２２、２３のそれぞれは、それらの他の層２１、２２、２３とは異なる配合物を有する流体組成物から作製される。
【００３５】
実施形態では、流体組成物は、ポリマーバインダとして機能し、流体組成物が乾燥した後に自己ガスケット効果を提供する１つ以上の材料（例えば、ポリマー）を有する液体ポリマー配合物を含む。本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０に好適な液体ポリマー配合物の非限定的な例としては、ポリアクリレート（例えば、メタクリレート、エチルアクリレート、エチルメチルアクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、２−クロロエチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルアクリレート、およびヒドロキシエチルメタクリレートに基づくポリマーおよびコポリマー）、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ（ブタジエンｃｏ−スチレン）、ポリイソプレン、ポリアクリロニトリルブタジエン、ポリクロロプレン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、シリコーンエマルジョン、およびこれらの組み合わせが挙げられる。流体塗布膜の例は、例えば、米国特許第８，１５１，５３７号および同第７，６６２，２２１号に例示されており、これらの開示は参照により本明細書に組み込まれる。
【００３６】
特定の実施形態では、空気／水バリア膜アセンブリ１８で使用される流体組成物の配合物は、水性エラストマーエマルジョン（例えば、水性アクリルエマルジョン）または油性エラストマーエマルジョン（例えば、ゴム化（エラストマー）エマルジョン）などの、液体エマルジョン（例えば、液体ポリマーエマルジョン）形態である。エマルジョンに使用される溶媒は、水、有機溶媒、またはこれらの組み合わせであり得る。好適な有機溶媒の例としては、ミネラルスピリット、鉱油、キシレン、およびナフサが挙げられる。
【００３７】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、アクリルエマルジョンを含む配合物から調製された多層膜を含む。少なくともいくつかの実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、ポリアクリレートを５〜８０重量％含む配合物から調製される膜層を含む。少なくともいくつかの実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、ポリアクリレートを３０〜７０重量％含む配合物から調製される膜層を含む。少なくともいくつかの実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、ポリアクリレートを４０〜６０重量％含む配合物から調製される膜層を含む。
【００３８】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、ポリウレタンを含む配合物から調製される膜層を含む。少なくともいくつかの実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、ポリウレタンを５〜５０重量％含む配合物から調製される膜層を含む。少なくともいくつかの実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、ポリウレタンを１０〜４０重量％含む配合物から調製される膜層を含む。少なくともいくつかの実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、ポリウレタンと、以下のシリコーンおよびポリアクリレートのうちの少なくとも１種から選択される別のポリマーとの組み合わせを含む配合物から調製される膜層を含む。少なくともいくつかの実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、スチレンコポリマーを含む配合物から調製される膜層を含む。
【００３９】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、アクリルラテックス、アクリルスチレンコポリマー、および／またはスチレン−ブタジエン分散液を含む配合物から調製される膜層を含む。実施形態では、これらのポリマーバインダは、流体組成物の配合物中に３０〜７０重量％の量で使用され得る。いくつかの実施形態では、ポリマーバインダは、以下の市販のバインダ、ＯｍｎｏｖａのＰＬＩＯＴＥＣ  ＥＬ−２５（アクリルエラストマーラテックス）、ＢＡＳＦのＡＣＲＯＮＡＬ  Ｓ４００（アクリル酸エステルおよびスチレンの水性可塑剤フリーコポリマー分散液）、ＤＯＷのＵＣＡＲ  ９１７６（スチレンアクリルコポリマー）、ＤＯＷのＲＨＯＰＬＥＸ  ２６２０（１００％アクリルポリマー）、またはＢＡＳＦのＢＵＴＯＮＡＬ  ＮＳ  １７５（高固形分、低温重合陰イオン性スチレン−ブタジエン分散液）から選択され得る。
【００４０】
いくつかの実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、ポリマーエマルジョンおよび分散液を含む配合物から調製される膜層を含む。実施形態では、ポリビニルアルコール、セルロースおよびその誘導体、ビニルピロリドン含有コポリマー、エトキシル化モノ、ジ、およびトリアルキルフェノール、エトキシル化脂肪アルコール、ならびに硫酸の硫酸アルキルのアルカリ金属およびアンモニウム塩、エトキシル化アルカノール、ならびにアルキルスルホン酸およびアルキルアリールスルホン酸のエトキシル化アルキルフェノールのモノエステル、ドデシルベンゼンスルホン酸のアルカリ金属および／またはアンモニウム塩、ならびにエトキシル化ドデカノールの硫酸モノエステルのアルカリ金属および／またはアンモニウム塩などの様々な分散剤が、エマルジョンを安定化させるために使用され得る。実施形態では、分散剤は、流体組成物の配合物中の約０〜１０重量％（例えば、約１〜９重量％、約２〜７重量％、３〜６重量％など）の量で流体組成物の配合物に添加され得る。
【００４１】
実施形態では、膜アセンブリ１８の少なくとも１つの膜層を形成するために使用される流体組成物の配合物に好適な分散剤としては、顔料親和性基を有する高分子量ブロックコポリマーの溶液、アクリレートコポリマーのアンモニウム塩の溶液、陰イオン性高分子電解質、トリポリリン酸カリウムおよび酸性基を有するコポリマーのアルキロールアンモニウム塩が挙げられる。これらの分散剤は、流体組成物の配合物中に０〜１０重量％、好ましくは０．１〜５重量％の量で使用され得る。いくつかの実施形態では、分散剤は、以下の市販の分散剤、ＢＹＫのＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１９０（顔料親和性基を有する高分子量ブロックコポリマーの溶液）、ＢＹＫのＢＹＫ−１５６（アクリレートコポリマーのアンモニウム塩の溶液）、ＤＯＷのＴＡＭＯＬ  ８５１（陰イオン性高分子電解質）、ＩＮＮＯＰＨＯＳのトリポリリン酸カリウム（三リン酸、五カリウム塩）、ＢＹＫのＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８０（酸性基を有するコポリマーのアルキロールアンモニウム塩）から選択され得る。
【００４２】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、バリア材料の性能をさらに高めるために１種以上の添加剤を含む配合物から調製される膜層を含む。好適な添加剤としては、例えば、石油アスファルト、石灰石、炭酸カルシウム、シラン（例えば、ジアミノシラン、トリメトキシビニルシラン）、グリコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル）、粘着付与剤（例えば、ロジンまたはウッドロジンなどのロジン誘導体、テルペンまたは変性テルペン、脂肪族、脂環式、または芳香族樹脂）、接着促進剤、硬化触媒、架橋剤、殺シロアリ剤、真菌増殖抑制剤（例えば、２−（４−チアゾリル）ベンズイミダゾール、銀ゼオライト、酸化亜鉛、および亜鉛ピリチオン）、充填剤（例えば、カオリン粘土、雲母、重晶石、タルク、砂、石英粉、チョーク、二酸化チタン、シリカ、フライアッシュ）、および／または相変化材料が挙げられる。
【００４３】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、上記の高分子バインダ、および流体組成物の配合物の２０〜５０重量％の量で使用され得る炭酸カルシウムを含む配合物から調製される膜層を含む。炭酸カルシウムの好適な商業的供給源としては、Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  ＭｉｎｅｒａｌｓのＴＨＩＸＯ−ＣＡＲＢ  ５００（商標）（軽質炭酸カルシウム）、Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  ＭｉｎｅｒａｌｓのＵＬＴＲＡＦＬＥＸ１００（商標）（軽質炭酸カルシウム）、Ｈｕｂｅｒ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ  ＭａｔｅｒｉａｌｓのＨＵＢＥＲＣＡＲＢ  Ｑ６（商標）（炭酸カルシウム）、ＯｍｙａのＯＭＹＡＣＡＲＢ  １００−ＰＴ（商標）（炭酸カルシウム）、Ｈｕｂｅｒ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ  ＭａｔｅｒｉａｌｓのＨＵＢＥＲＣＡＲＢ  Ｑ３２５（商標）（炭酸カルシウム）、および竹原化学工業株式会社のＮＥＯＬＩＧＨＴ  ＳＳ（商標）（軽質被覆炭酸カルシウム）が挙げられるが、これらに限定されない。
【００４４】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、上記のような高分子バインダ、炭酸カルシウム、ならびに消泡剤、顔料、増粘剤、防腐剤、ｐＨ調整剤、エマルション安定剤、湿潤剤およびレベリング剤、および架橋剤などのうちの少なくとも１種以上の添加剤を含む配合物から調製される膜層を含む。
【００４５】
実施形態では、少なくとも１つの膜層を形成するために使用される流体組成物の配合物での使用に好適な消泡剤としては、パラフィン系鉱油と疎水性成分との混合物、強化された鉱油系に配合された分子、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンの溶液、および泡破壊性ポリシロキサンと疎水性固体のポリグリコール中の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。これらの消泡剤は、流体組成物の配合物中に０．１〜５重量％の量で使用され得る。消泡剤の好適な商業的供給源としては、ＢＹＫのＢＹＫ０３３（商標）（パラフィン系鉱油と疎水性成分との混合物）、ＢＡＳＦのＦＯＡＭＳＴＡＲ  ＳＴ  ２４１０（商標）、別名ＦＯＡＭＳＴＡＲ  Ａ１０（商標）（強化された鉱油系に配合された分子）、ＢＹＫのＢＹＫ０１９（商標）（ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンの溶液）、ＢＹＫのＢＹＫ−０２１（商標）（泡破壊性ポリシロキサンと疎水性固体のポリグリコール中の混合物）が挙げられる。
【００４６】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、二酸化チタン、酸化亜鉛、カーボンブラック、微粉化沈降シリカ、タルク、およびこれらの組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない好適な顔料を含む配合物から調製される膜層を含む。実施形態では、顔料は、流体組成物の配合物中に０．１重量％〜１０重量％の量で使用され得る。顔料の好適な商業的供給源としては、Ｍａｒｏｏｎ  Ｉｎｃ．のＨＵＮＴＳＭＡＮ  ＴＲ９３（商標）（二酸化チタン）、Ｚｏｃｈｅｍ  Ｉｎｃ．のＺＯＣＯ  １０１（商標）（酸化亜鉛）、Ｓｏｌｔｅｘ、Ｉｎｃ．のＳＯＬＴＥＸ  ＡＣＥ  ＢＬＡＣＫ（商標）（カーボンブラック）、Ｈｕｂｅｒ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ  ＭａｔｅｒｉａｌｓのＺＥＯＴＨＩＸ  ２６５（商標）（微粉化沈降シリカ）、およびＩｍｅｒｙｓ  ＧｒｏｕｐのＳＩＥＲＲＡＬＩＴＥ  ４０２Ｓ（商標）（タルク）が挙げられる。
【００４７】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、以下の、ヒドロキシエチルセルロース、アクリル系増粘剤、陰イオン性逆エマルジョン増粘剤、ＨＡＳＥ、および疎水性変性アルカリ膨潤性アクリルエマルジョンのうちの少なくとも１種が挙げられるが、これらに限定されない好適な増粘剤を含む配合物から調製される膜層を含む。増粘剤は、流体組成物の配合物中に０．１重量％〜５重量％の量で流体組成物の配合物中に使用され得る。増粘剤の好適な商業的供給源としては、Ａｓｈｌａｎｄ  Ｉｎｃ．のＮＡＴＲＯＳＯＬ  ２５０  ＨＢＲ（商標）（ヒドロキシエチルセルロース）、ＤＯＷのＡＣＲＹＳＯＬ  ＡＳＥ−９５ＮＰ（商標）（アルカリ可溶性、アクリル系増粘剤）、Ｓｃｏｔｔ  Ｂａｄｅｒ  Ｃｏ．Ｌｔｄ．のＴＥＸＩＰＯＬ  ６３−５１０（商標）（アニオン性逆エマルジョン増粘剤）、Ａｒｋｅｍａ  ＧｒｏｕｐのＰＯＬＹＰＨＯＢＥ  １０６ＨＥ（商標）（ＨＡＳＥ）、およびＬｕｂｒｉｚｏｌ  Ｃｏｒｐ．のＳＯＬＴＨＩＸ  Ａ１００（商標）（疎水性変性アルカリ膨潤性アクリルエマルジョン）が挙げられる。
【００４８】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、以下の、２［（ヒドロキシメチル）アミノ］−２−メチルプロパノール、３−ヨード−２−プロピニルブチルカルバメート、ｎ−（３，４−ジクロロフェニル）−ｎ、ｎ−ジメチル尿素、１，２ベンズイソチアゾリン−３−オン、およびテトラクロロイソフタロニトリルのうちの少なくとも１種が挙げられるが、これらに限定されない好適な防腐剤を含む配合物から調製される膜層を含む。実施形態では、増粘剤は、流体組成物の配合物中に０．１重量％〜５重量％の量で使用され得る。増粘剤の好適な商業的供給源としては、Ｔｒｏｙ  ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＴＲＯＹＳＡＮ  １３６（商標）（２［（ヒドロキシメチル）アミノ］−２−メチルプロパノール）、Ｔｒｏｙ  ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＰＯＬＹＰＨＡＳＥ  ＡＦ１（商標）（３−ヨード−２−プロピニルブチルカルバメート）、Ｔｒｏｙ  ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＰＯＬＹＰＨＡＳＥ  ６６３（商標）（ｎ−（３，４−ジクロロフェニル）−ｎ、ｎ−ジメチル尿素）、Ｔｒｏｙ  ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＭＥＲＧＡＬ  ７５８（商標）（１，２ベンゾイソチアゾリン−３−オン）、およびＡｓｈｌａｎｄ  Ｉｎｃ．のＮＵＯＣＩＤＥ  ４０４Ｄ（商標）（テトラクロロイソフタロニトリル）が挙げられる。
【００４９】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、以下の、水酸化カルシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、３０％アンモニア水、および２−アミノ−２−メチル−１−プロパノールのうちの少なくとも１種が挙げられるが、これらに限定されない好適なｐＨ調整剤を含む配合物から調製される膜層を含む。ｐＨ調整剤は、流体組成物の配合物中に０．１重量％〜５重量％の量で使用され得る。ｐＨ調整剤の好適な商業的供給源としては、Ｊｏｓｔ  Ｃｈｅｍｉｃａｌの水酸化カルシウム（水酸化カルシウム）、ＯＸＹＣｈｅｍの苛性ソーダ（水酸化ナトリウム溶液）、Ｃｈｅｍ  Ｏｎｅ  Ｌｔｄ．の水酸化カリウム（水酸化カリウム）、Ｔａｎｎｅｒ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓの水酸化アンモニウム溶液（３０％アンモニア水）、およびＡｎｇｕｓ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．のＡＭＰ  ９５（２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール）が挙げられる。
【００５０】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、以下の、ベントナイト粘土、アクリル酸およびＣ１０〜Ｃ３０アルキルアクリレートの高分子量架橋コポリマー、非イオン性オクチルフェノールエトキシレート界面活性剤、トール油樹脂、および天然樹脂抽出物のうちの少なくとも１種が挙げられるが、これらに限定されない好適なエマルジョン安定剤を含む配合物から調製される膜層を含む。エマルジョン安定剤は、流体組成物の配合物中に０．１重量％〜５重量％の量で使用され得る。エマルジョン安定剤の好適な商業的供給源としては、ＢＹＫのＯＰＴＩＧＥＬ  ＬＸ（商標）（ベントナイト粘土）、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ  Ｃｏｒｐ．のＰＥＭＵＩＥＮ  １６２２（商標）（アクリル酸およびＣ１０〜Ｃ３０アルキルアクリレートの高分子量架橋コポリマー）、ＤＯＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ＣｏｍｐａｎｙのＴＲＩＴＯＮ  Ｘ４０５（商標）（非イオン性オクチルフェノールエトキシレート界面活性剤）、Ａｒｉｚｏｎａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．，ＬＬＣのＳＹＬＶＡＲＯＳ（商標）ＮＣＹ（トールオイル樹脂）、Ｐｉｎｎｏｖａ  Ｉｎｃ．のＶＩＮＳＯＬ（商標）ＳＯＡＰ（天然樹脂抽出物）が挙げられる。
【００５１】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、以下の、スルホコハク酸塩、ポリエーテル変性シロキサン、尿素変性ポリウレタン、アクリレートコポリマーの変性尿素アンモニウム塩のうちの少なくとも１種が挙げられるが、これらに限定されない好適な湿潤剤および／またはレベリング剤を含む配合物から調製される膜層を含む。湿潤剤および／またはレベリング剤は、流体組成物の配合物中に０．１重量％〜５重量％の量で使用され得る。湿潤剤およびレベリング剤の好適な商業的供給源としては、Ｃｙｔｅｃ  ＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓのＡＥＲＯＳＯＬ（商標）ＬＦ−４（独自のスルホコハク酸ブレンド）、ＢＹＫのＢＹＫ−３４９（ポリエーテル変性シロキサン）、ＢＹＫ−４２５（尿素変性ポリウレタン）、ＢＹＫ−４２０（変性尿素）、およびＢＹＫ−１５４（アクリレートコポリマーのアンモニウム塩）が挙げられる。
【００５２】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、以下の、酸化亜鉛、亜鉛金属イオン、陰イオン性ヒドロキシル化ジルコニウムポリマーを含有する安定化炭酸アンモニウムジルコニウム、およびエポキシ官能性シランのうちの少なくとも１種が挙げられるが、これらに限定されない好適な架橋剤を含む配合物から調製される膜層を含む。架橋剤は、流体組成物の配合物中に０．１重量％〜５重量％の量で使用され得る。架橋剤の好適な商業的供給源としては、ＵＳ  Ｚｉｎｃの酸化亜鉛（酸化亜鉛）、ＭｕｎｚｉｎｇのＺＩＭＰＬＥＸ（商標）１５（亜鉛金属イオン）、Ｍｅｌｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｉｎｃ．のＢＡＣＯＴＥ（商標）２０（陰イオン性ヒドロキシル化ジルコニウムポリマーを含有する安定化炭酸アンモニウムジルコニウムの透明アルカリ溶液）、Ｂｕｈｌｅｒ  ＧｒｏｕｐのＯＸＹＬＩＮＫ（商標）３４０４（酸化亜鉛を含む無機粒子の水性配合物）、およびＭｏｍｅｎｔｉｖｅ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｉｎｃ．のＳＩＬＡＮＥ（商標）Ａ−１８７（エポキシ官能性シラン）が挙げられる。
【００５３】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、２−（４−チアゾリル）ベンズイミダゾール、銀ゼオライト、酸化亜鉛、および亜鉛ピリチオンから選択されるものが挙げられるが、これらに限定されない抗菌剤および／または抗真菌剤を含む配合物から調製される膜層を含む。抗菌剤および／または抗真菌剤は、流体組成物の配合物中に、例えば約１〜約１０重量％または約３〜約７重量％を含む様々な量で使用され得る。
【００５４】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、顔料を含む配合物から調製される膜層を含む。黒色、茶色、青色、緑色、赤色、黄色、オレンジ色、または白色の顔料を提供する化学化合物を含む様々な顔料が使用され得る。
【００５５】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、上記のような好適なポリマーと、以下の添加剤、石油アスファルト、石灰岩、炭酸カルシウム、カオリン粘土、雲母、重晶石、タルク、砂、石英粉、チョーク、二酸化チタン、シリカ、フライアッシュ、石膏、またはこれらの添加物のうちの少なくとも２種の組み合わせのうちの少なくとも１種と、を含む配合物から調製される複数の膜層を含む。実施形態では、非ポリマー材料の総計は、例えば、２０〜８０重量％、２５〜７５重量％、および３０〜６０重量％の量を含む、異なる量であり得る。実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、ポリアクリレートと、以下の添加剤、石油アスファルト、石灰岩、炭酸カルシウム、カオリン粘土、雲母、重晶石、タルク、砂、石英粉、チョーク、二酸化チタン、シリカ、フライアッシュ、石膏、またはこれらの添加物のうちの少なくとも２種の組み合わせのうちの少なくとも１種と、を含む配合物から調製される少なくとも２つの膜層２１、２２を含む。
【００５６】
実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、市販の流体組成物から調製される複数の膜層を含む。流体塗布空気／水バリア膜用の市販の流体組成物の例としては、ＥＸＯＡＩＲ（商標）（Ｔｒｅｍｃｏ）、ＴＹＶＥＫ（商標）（ＤｕＰｏｎｔ）、Ｒ−ＧＵＡＲＤ（商標）（Ｐｒｏｓｏｃｏ）、ＡＩＲ−ＳＨＩＥＬＤ（商標）（Ｗ．Ｒ．Ｍｅａｄｏｗｓ）、ＳＴＯＧＵＡＲＤ（商標）（Ｓｔｏ  Ｃｏｒｐ．）、およびＡＩＲ  ＢＬＯＣ（商標）（Ｈｅｎｒｙ  Ｃｏ．）の商品名で販売されているものが挙げられる。いくつかの実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、この参照により本明細書に組み込まれる、米国特許出願公開第ＵＳ２０１４／０２７２４０４号に記載されている配合物から調製される膜層を含む。
【００５７】
いくつかの実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、膜アセンブリ１８の総厚さを制御する方法によって製造される。厚さは、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０が、パネルを通しての空気侵入／漏出および水の浸透を低減させるように、制御され得る。実施形態では、本開示の原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、パネルを通しての空気侵入／漏出および水の浸透を、他の実施形態では、少なくとも５０％、少なくとも７０％、さらに他の実施形態では、少なくとも８０％低減させる。
【００５８】
実施形態では、原理に従って構築される空気／水バリア膜アセンブリ１８を有するセメント質パネル１０は、膜アセンブリ１８の外側表面に適用される剥離層を含む。実施形態では、剥離層は、膜アセンブリ１８に少なくとも部分的に埋め込まれている。実施形態では、剥離層は、積み重ねられたセメント質パネル１０が互いに付着（ブロッキング）することを防止するのに役立てるために、膜アセンブリ１８に埋め込まれ得る任意の好適な材料から作製され得る。膜アセンブリの実施形態のゴム化性質を考えると、膜アセンブリ１８の外側表面は、外層２３を乾燥した後でも粘着性のままであり得る。その結果、隣接するセメント質パネル１０が互いに完全に接触することを防止する剥離層が使用されて、積み重ねられたパネル１０への付着および／または損傷を防止し得る。
【００５９】
実施形態では、剥離層は、目の粗い織メッシュを含む。メッシュは、任意の好適な材料から調製され得る。例えば、メッシュは、綿、ジュート、サイザル麻、ウール、麻、亜麻、竹、リネン、ガラス、金属、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル、ポリエステル、炭素繊維、およびこれらの組み合わせなどの、天然または合成材料（例えば、繊維）を含み得る。実施形態では、メッシュ材料は、材料に固有であるか、または化学添加剤および／もしくは処理の結果のいずれかである耐火性、耐カビ性、耐水性、および／または耐アルカリ性などの特定の特性を有し得る。
【００６０】
図３を参照すると、本開示の原理に従って構築されるセメント質パネルの製造システム５０の実施形態が示されている。実施形態では、セメント質パネル製造システム５０は、パネルが、セメント質コア、セメント質コアに接触するカバーシート、およびカバーシートと一体的に接続された空気／水バリア膜アセンブリを含み、カバーシートが、セメント質コアと空気／水バリア膜アセンブリとの間に介在するようになっており、本開示の原理に従うセメント質パネルを生成するために使用され得る。空気／水バリア膜アセンブリは、積み重ねられた配置で複数の層を含む。図示されたセメント質パネル製造システム５０は、コンベア５２、ボード送込みステーション５３、第１の層生成サブアセンブリ５４、第２の層生成サブアセンブリ５５、第３の層生成サブアセンブリ５６、および積み重ね器５９を含む。
【００６１】
コンベア５２は、ボード送込みステーション５３から、層生成サブアセンブリ５４、５５、５６を通り、積み重ね器５９まで、（図３の矢印によって示される）機械方向に沿ってセメント質パネルを搬送するように適合されている。機械方向に沿って移動して、コンベア５２は、ボード送込み位置７１、第１の塗布器ステーション７２、第１の乾燥器セクション７３、第１の冷却セクション７４、第２の塗布器ステーション７５、第２の乾燥器セクション７６、第２の冷却セクション７７、第３の塗布器ステーション７８、第３の乾燥器セクション７９、第３の冷却セクション８０、および積み重ね位置８１を含む。コンベア５２は、セメント質パネルを、ボード送込み位置７１から、第１の塗布器ステーション７２に移動し、層生成サブアセンブリ５４、５５、５６を通って積み重ね位置８１に移動するように適合されている。層生成サブアセンブリ５４、５５、５６は、ボード送込み位置７１と積み重ね位置８１との間に介在する。
【００６２】
図３に示されるように、実施形態では、乾燥器および冷却セクション７３、７４、７６、７７、７９、８０の長さが変更されて、セメント質パネル１０が、特定の層生成サブアセンブリ５４、５５、５６の乾燥または冷却条件にさらされる時間を調整し得る。言い換えれば、特定のセクションの長さは、セメント質パネル１０がその特定のセクションで費やす時間に相関する。
【００６３】
図示された実施形態では、コンベア速度は毎分６０フィートであり、それによってセメント質パネル１０は、長さ３０フィートであるセクションで３０秒、長さ６０フィートであるセクションで６０秒、長さ９０フィートであるセクションで９０秒などを費やす。図示された実施形態では、システム５０の異なる部分の様々な長さが図３に示される（例えば、「３０秒／３０フィート」として示される部分は、３０フィートの長さであり、「６０秒／６０フィート」は、６０フィートの長さであり、「９０秒／９０フィート」は、９０フィートの長さである）。実施形態では、セメント質パネル１０が、所与のセクションに費やす時間は、特定のセクションの長さを調整すること、および／またはコンベア速度を変更することによって変更され得る。実施形態では、乾燥器および冷却セクション７３、７４、７６、７７、７９、８０のうちの１つ以上の長さは、図３の実施形態のものと異なり得る。
【００６４】
実施形態では、コンベア５２は、機械方向が単一の軸に沿って延在するように、線形構成を有し得る。他の実施形態では、コンベア５２は、例えば、直線構成、蛇行構成（例えば、図３に示されるような）、Ｌ字形レイアウト、Ｕ字形レイアウト、または意図された環境に好適な他の好適な構成などの、異なる構成を有し得る。
【００６５】
ボード送込みステーション５３は、それに一体的に適用される空気／水バリア膜アセンブリを有するように準備ができているセメント質パネルを受け取って保持するように適合されている。ボード送込みステーション５３に収容されるセメント質パネルは、上述のような任意の好適な方法に従って構築され得る。
【００６６】
第１、第２、および第３の層生成サブアセンブリ５４、５５、５６は、３つの膜層を含む空気／水バリア膜アセンブリを生成するように適合されている。他の実施形態では、システム５０が使用されて、異なる数の層を有し、対応する数の層生成サブアセンブリを含み得る空気／水バリア膜アセンブリを生成し得る。
【００６７】
第１の層生成サブアセンブリ５４は、第１の塗布器９１、第１の乾燥機９２、および第１の冷却器９３を含む。第１の塗布器９１は、第１の塗布器ステーション７２に位置し、流体組成物の第１の層をセメント質パネルのカバーシートに塗布するように適合されている。実施形態では、第１の塗布器９１は、流体組成物の第１の層をセメント質パネルに塗布するように適合された任意の好適な装置を備え得る。例えば、実施形態では、第１の塗布器９１は、当業者に知られているように、好適なロールコーターアセンブリを備える。
【００６８】
第１の乾燥器９２は、機械方向に沿って第１の塗布器ステーション７２の下流の第１の乾燥器セクション７３に位置する。第１乾燥器９２は、流体組成物の第１の層を乾燥させて、第１の膜層を形成するように適合された第１の赤外線放射体システムを有する。
【００６９】
実施形態では、第１の乾燥器９２は、ハイブリッド赤外線加熱システムを備える。図示された実施形態では、第１の乾燥器セクション７３は、第１のゾーン９５および第２のゾーン９７を含む。第２のゾーン９７は、機械方向に沿って第１のゾーン９５の下流に配置される。図示された実施形態では、第１の赤外線放射体システムは、第１のゾーン９５に配置された第１の赤外線放射体サブアセンブリ９８、および第２のゾーン９７に配置された第２の赤外線放射体サブアセンブリ９９を有する。第１の赤外線放射体サブアセンブリ９８は、第１の出力密度最大動作値を有し、第２の赤外線放射体サブアセンブリ９９は、第２の出力密度最大動作値を有する。実施形態では、第２の出力密度最大動作値は、第１の出力密度最大動作値とは異なる。図示された実施形態では、第１の出力密度最大動作値は、第２の出力密度最大動作値よりも大きい。
【００７０】
実施形態では、第２の第１の出力密度最大動作値に対する第１の出力密度最大動作値の比は、１．５よりも大きい。実施形態では、第２の第１の出力密度最大動作値に対する第１の出力密度最大動作値の比は、１〜２の範囲であり、さらに他の実施形態では、１．５〜２の範囲である。
【００７１】
図示された実施形態では、第１の赤外線放射体サブアセンブリ９８は、中波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されている。実施形態では、第１の赤外線放射体サブアセンブリ９８は、２．３μｍ〜３．３μｍ、他の実施形態では２．３μｍ〜２．８μｍの中波範囲で最大波長を放射する中波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されている。実施形態では、第１の赤外線放射体サブアセンブリ９８は、当業者に理解されるように、中波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合された市販の赤外線放射体システムを含む任意の好適な装置を備える。
【００７２】
図示された実施形態では、
【００７３】
図示された実施形態では、第１の赤外線放射体サブアセンブリ９８は、電気赤外線加熱器を備える。実施形態では、第１の赤外線放射体サブアセンブリ９８は、当業者に理解されるように、中波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合された市販の電気赤外線放射体システムを含む任意の好適な装置を備える。実施形態では、第１の赤外線放射体サブアセンブリ９８は、各抵抗加熱素子が石英管内に収容される中波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合された電気赤外線放射体システムを備える。
【００７４】
図示された実施形態では、第２の赤外線放射体サブアセンブリ９９は、長波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されている。実施形態では、第２の赤外線放射体サブアセンブリ９９は、３．３μｍ〜１０μｍ、他の実施形態では３．３μｍ〜７μｍ、さらに他の実施形態では３．３μｍ〜６μｍの長波範囲で最大波長を放射する長波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されている。実施形態では、第２の赤外線放射体サブアセンブリ９９は、当業者に理解されるように、長波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合された市販の赤外線放射体システムを含む任意の好適な装置を備える。
【００７５】
図示された実施形態では、第２の赤外線放射体サブアセンブリ９９は、ガス触媒赤外線加熱器を備える。実施形態では、第２の赤外線放射体サブアセンブリ９９は、当業者に理解されるように、長波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合された市販のガス触媒赤外線放射体システムを含む任意の好適な装置を備える。実施形態では、第２の赤外線放射体サブアセンブリ９９は、各触媒がガラス繊維ブランケット内に存在する、長波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されたガス触媒赤外線放射体システムを備える。
【００７６】
実施形態では、ガス触媒赤外線放射体サブアセンブリ９９は、同等の赤外線放射体サブアセンブリと比較して、資本コストを低減させ、エネルギーコストを低減させた。実施形態では、ガス触媒赤外線放射体サブアセンブリ９９は、流体組成物の第１の層２１を加熱する際により効率的であり得、（同等の電気赤外線放射体配置と比較して）セメント質コアをそれほど加熱しない。特定の理論に拘束されるものではないが、ガス触媒赤外線放射体サブアセンブリ９９の長波長放射スペクトルは、中波長放射スペクトルと比較してより小さい浸透深さを有し、それによって、第２の赤外線放射体サブアセンブリが、同様の出力密度を有する中波長放射スペクトルを使用した場合よりも、セメント質コア１４を加熱しない。セメント質コア１４の加熱を少なくすることによって、システム５０は、セメント質パネル１０の後続の冷却量を低減させるのに役立ち、パネル１０をより効率的なプロセスのための流体組成物の次の層２２用に準備し、セメント質コア１４に適用される過度の熱の有害な影響を低減させるのに役立つ。
【００７７】
第１の冷却器９３は、機械方向に沿って第１の乾燥器９２と第２の層生成サブアセンブリ５５の第２の塗布器１０１との間のコンベア５２に沿って位置する。第１の冷却器９３は、セメント質パネルの表面温度を低減させるように適合されている。
【００７８】
実施形態では、第１の冷却器９３は、第１の膜層２１を冷却してセメント質パネル１０の表面温度を低減させるのに役立ち、そのセメント質コア１４から熱を奪うのに好適な任意の好適な冷却装置を備え得る。図示された実施形態では、第１の冷却器９３は、第１の膜層２１全域に当たる空気流を方向付けするように適合されたファンを有する対流冷却室を備える。実施形態では、対流冷却室９３は、第１の冷却器９３に隣接する周囲空気温度よりも低い温度の空気を含む、第１の膜層２１全域に当たる空気供給を使用する。実施形態では、対流冷却室９３は、第１の冷却器９３に隣接する周囲湿度レベルよりも低い湿度レベルの空気を含む、第１の膜層２１全域に当たる空気供給を使用する。
【００７９】
第２の層生成サブアセンブリ５５は、第２の塗布器１０１、第２の乾燥機１０２、および第２の冷却器１０３を含む。第２の塗布器１０１は、機械方向に沿って第１の乾燥器セクション７３の下流の第２の塗布器ステーション７５に位置し、流体組成物の第２の層２２を第１の膜層２１上に塗布するように適合されている。実施形態では、第２の塗布器１０１は、第１の塗布器９１のものと同様の構成を有し得る。
【００８０】
第２の乾燥器１０２は、機械方向に沿って第２の塗布器ステーション７５の下流の第２の乾燥器セクション７６に位置する。第２乾燥器１０２は、流体組成物の第２の層を乾燥させて、第２の膜層２２を形成するように適合された第２の赤外線放射体システム１０９を有する。
【００８１】
実施形態では、第２の赤外線放射体システム１０９は、第３の出力密度最大動作値を有し、第３の出力密度最大動作値は、第１の出力密度最大動作値よりも小さい。実施形態では、第２の出力密度最大動作値、および第３の出力密度最大動作値はいずれも、第１の出力密度最大動作値よりも小さい。実施形態では、第３の出力密度最大動作値は、第２の出力密度最大動作値と実質的に同じである。
【００８２】
第２の冷却器１０３は、機械方向に沿って第２の乾燥器１０２の下流端部１０５に隣接するコンベア５２に沿って位置する。第２の冷却器１０３は、セメント質パネルの表面温度を低減させるように適合されている。実施形態では、第２の冷却器１０３は、第１の冷却器９３の構成と同様である構成を有し得る。実施形態では、第２の冷却器１０３は、セメント質パネルの少なくとも１つの表面が、流体組成物の第３の層２３が第２の膜層２２に塗布される前に、最大温度量を下回るように、セメント質パネル１０を冷却するように適合され得る。
【００８３】
第３の層生成サブアセンブリ５６は、第３の塗布器１１１、第３の乾燥機１１２、および第３の冷却器１１３を含む。第３の塗布器１１１は、第３の塗布器ステーション７８に位置し、流体組成物の第３の層２３を第２の膜層２２上に塗布するように適合されている。実施形態では、第３の塗布器１１１は、第１の塗布器９１および第２の塗布器１０１のものと同様の構成を有し得る。
【００８４】
第３の乾燥器１１２は、機械方向に沿って第３の塗布器ステーション７８の下流の第３の乾燥器セクション７９に位置する。第３乾燥器１１２は、流体組成物の第３の層を乾燥させて、第３の膜層２３を形成するように適合された第３の赤外線放射体システム１１９を有する。
【００８５】
実施形態では、第３の赤外線放射体システム１１９は、第４の出力密度最大動作値を有する。実施形態では、第４の出力密度最大動作値は、第１の出力密度最大動作値より小さい。図示された実施形態では、第４の出力密度最大動作値は、第３の出力密度最大動作値と実質的に同じである。
【００８６】
実施形態では、第３の赤外線放射体システム１１９は、長波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されている。図示された第３の赤外線放射体システム１１９は、ガス触媒赤外線加熱器を備える。図示された実施形態では、第３の赤外線放射体システム１１９は、第２の赤外線放射体システム１１８と実質的に同じ構成を有する。
【００８７】
第３の冷却器１１３は、機械方向に沿って第３の乾燥器１１２の下流端部１１５に隣接するコンベア５２に沿って位置する。第３の冷却器１１３は、セメント質パネルの表面温度を低減させるように適合されている。実施形態では、第３の冷却器１１３は、セメント質パネルの少なくとも１つの表面が、セメント質パネル１０が、積み重ね器５９での積み重ね配置に配置される前に、最大温度量を下回るように、セメント質パネル１０を冷却するように適合され得る。
【００８８】
積み重ね器５９は、積み重ね位置に位置する。積み重ね器５９は、第３の冷却器１１３から続くコンベア５２の部分からセメント質パネルを受け取るように適合されている。積み重ね器５９は、一連のセメント質パネルが、積み重ね位置での積み重ね配置に配置され得るように、セメント質パネル１０を支持するように適合されている。実施形態では、積み重ね器５９は、当業者に知られているように、任意の好適な積み重ね装置を備え得る。
【００８９】
本開示の原理に従うセメント質パネルの製造方法の実施形態では、本開示の原理に従って構築されるセメント質パネルの製造システムは、本明細書で論じられるように、積み重ねられた配置で複数の層を有する空気／水バリア膜アセンブリを有するセメント質パネルを作製するために使用される。実施形態では、本開示の原理に従うセメント質パネルの製造方法は、本明細書で論じられる原理に従うセメント質パネルの製造システムの任意の実施形態を用いて使用され得る。
【００９０】
さらなる実施形態は、空気／水バリア膜アセンブリを有するセメント質パネルの製造方法を提供する。本方法は、セメント質スラリーを調製する工程と、少なくとも１枚のカバーシートを有するセメント質パネルを製作する工程を含む。セメント質スラリーが硬化して、セメント質コアを形成した後、セメント質パネルは、複数の連続的に塗布された膜層を含む空気／水バリア膜アセンブリでコーティングされる。いくつかの実施形態では、セメント質パネルは、石膏を含むセメント質スラリーを２つのガラス繊維マットの間に挟むことによって製作される。セメント質パネルが硬化した後、空気／水バリア膜アセンブリが、本明細書で論じられる好適な配合物を使用して、流体組成物の連続層でそれに塗布される。流体組成物の各層は、赤外線加熱を使用して乾燥されて、膜層を形成するのに役立ち得る。膜層がセメント質パネルに適用された後、それは、冷却条件にさらされて、流体組成物の別の層を塗布するためのセメント質パネルを準備し、膜アセンブリの総厚さを積み重ね得る、かつ／またはセメント質パネルを準備し、積み重ね器で積み重ね得る。
【００９１】
本開示の原理に従うセメント質パネルの製造方法の実施形態では、方法は、第１の塗布ステーションで、流体組成物の第１の層をセメント質パネルのカバーシートに塗布することを含む。第１の層は、第１の出力密度プロファイルを用いる第１の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらされて、第１の膜層を形成する。実施形態では、第１の層を、第１の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらすことと、流体組成物の第２の層を、第２の塗布ステーションで第１の膜層上に塗布することとの間で、セメント質パネルは、第１の冷却セクションにおける冷却条件にさらされて、セメント質パネルの表面温度を低減させる。
【００９２】
実施形態では、流体組成物の第２層は、第２の塗布ステーションで、第１の膜層の上に塗布される。第２の塗布ステーションは、第１の塗布ステーションに対して間隔をあけて配置され、第１の乾燥ゾーンが、それらの間に介在する。第２の層は、第２の出力密度プロファイルを用いる第２の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらされて、第２の膜層を形成する。第２の出力密度プロファイルは、第１の出力密度プロファイルとは異なる。実施形態では、第２の層を、第２の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらすことと、流体組成物の第３の層を、第３の塗布ステーションで第２の膜層上に塗布することとの間で、セメント質パネルは、第２の冷却セクションにおける冷却条件にさらされて、セメント質パネルの表面温度を低減させ得る。
【００９３】
実施形態では、第３の塗布ステーションで、流体組成物の第３の層が、第２の膜層の上に塗布される。実施形態では、第３の塗布ステーションは、第２の塗布ステーションに対して間隔をあけて配置され、第２の乾燥ゾーンが、それらの間に介在する。第３の層は、第３の出力密度プロファイルを用いる第３の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらされて、第３の膜層を形成する。実施形態では、第３の出力密度プロファイルは、第１の出力密度プロファイルとは異なる。実施形態では、第３の層を、第３の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらした後、セメント質パネルは、第３の冷却セクションにおける冷却条件にさらされて、セメント質パネルの表面温度を低減させ得る。セメント質パネルは、積み重ねステーションの積み重ね位置に配置され得る。
【００９４】
実施形態では、流体組成物の層の塗布は、任意の好適な技術を使用して実行され得る。実施形態では、流体組成物の各層をカバーシートに塗布することは、スプレーコーティング、ロールコーティング、およびフラッドコーティングのうちの少なくとも１つを介して実行される。いくつかの実施形態では、流体組成物の各層は、実質的に同じ様式で塗布される（例えば、ロールコーティングを介して）。
【００９５】
実施形態では、第１の層を乾燥条件にさらすことは、セメント質パネルを第１の乾燥セクションの第１のゾーンおよび次いで第２のゾーンを通して搬送することを含む。第１のゾーンは、第１の出力密度を有することができ、第２のゾーンは、第１の出力密度とは異なる第２の出力密度を有することができる。実施形態では、第２の乾燥セクションは、第３の出力密度を有する第３のゾーンを有し、第３の出力密度は、第１の出力密度とは異なる。実施形態では、第３の乾燥セクションは、第１の出力密度とは異なる第４の出力密度を有する第４のゾーンを有する。実施形態では、第１の出力密度は、第２の出力密度よりも大きく、第２の出力密度は、第３の出力密度および第４の出力密度の両方よりも大きい。実施形態では、第３の出力密度は、第４の出力密度と実質的に等しい。
【００９６】
実施形態では、第１のゾーンの乾燥条件が、電気赤外線加熱を介して生成され、第２のゾーンの乾燥条件が、ガス触媒赤外線加熱を介して生成される。実施形態では、第１の乾燥セクションの第２のゾーンおよび第２の乾燥セクションの第３のゾーンの両方における乾燥条件は、ガス触媒赤外線加熱を介して生成される。実施形態では、第１の乾燥セクションの第２のゾーン、第２の乾燥セクションの第３のゾーン、および第３の乾燥セクションの第４のゾーンの両方における乾燥条件は、ガス触媒赤外線加熱を介して生成される。
【００９７】
実施形態では、第１のゾーンは、中波赤外線放射スペクトルを有し、第２のゾーンは、長波赤外線放射スペクトルを有する。実施形態では、第１のゾーンは、中波赤外線放射スペクトルを有し、第２のゾーンおよび第３のゾーンの両方は、長波赤外線放射スペクトルを有する。実施形態では、第１のゾーンは、中波赤外線放射スペクトルを有し、第２のゾーン、第３のゾーン、および第４のゾーンは全て、長波赤外線放射スペクトルを有する。
【００９８】
実施形態では、第１の出力密度は、第２の出力密度よりも大きい。実施形態では、第１の出力密度は、第２の出力密度および第３の出力密度の両方よりも大きい。実施形態では、第２の出力密度は、第３の出力密度とは異なる。実施形態では、第２の出力密度は、第３の出力密度よりも大きい。実施形態では、第２の出力密度に対する第１の出力密度の比は、１．５よりも大きい。実施形態では、第２の出力密度に対する第１の出力密度の比は、１．５〜２の範囲である。
【００９９】
実施形態では、セメント質パネルは、第１の期間では第１のゾーンに、第１の期間とは異なる第２の期間では第２のゾーンに、同様に第１の期間とは異なる第３の期間では第３のゾーンに、同様に第１の期間とは異なる第４の期間では第４のゾーンに存在する。実施形態では、第２の期間は、第１の期間よりも長い。実施形態では、第２の期間および第３の期間はいずれも、第１の期間よりも長い。実施形態では、第２の期間、第３の期間、および第４の期間はそれぞれ、第１の期間よりも長い。実施形態では、第１の期間と第２の期間の合計は、第３の期間にほぼ等しい。実施形態では、第１の期間と第２の期間の合計は、第３の期間にほぼ等しく、第３の期間は、第４の期間にほぼ等しい。
【０１００】
実施形態では、第１の期間に対する第２の期間の比は、１．５よりも大きい。実施形態では、第１の期間に対する第２の期間の比は、１．５〜３の範囲であり、他の実施形態では、１．５〜２．５の範囲である。一実施形態では、第１の期間に対する第２の期間の比は、約２である。
【０１０１】
実施形態では、所与の膜層を冷却条件にさらすことは、所与の膜層全域に当たる空気流を介する対流冷却を介して冷却条件を生成することを含み得る。実施形態では、特定の膜層全域に当たる空気流は、特定の冷却セクションに隣接する周囲空気温度よりも低い温度の空気を含む。実施形態では、特定の膜層全域に当たる空気流が、所与の冷却セクションに隣接する周囲湿度レベルよりも低い湿度レベルの空気を含む。
【０１０２】
上記の方法には多くの利点が存在する。常に監視および維持されている動作パラメータを含む制御された条件下で実行されると、膜が、膜アセンブリの総厚さの単一層に適用される製造技術と比較して、本方法は、短縮された生産時間で、一定の厚さ、均一性、およびセメント質パネルへの膜アセンブリの均一な付着結合を有する空気／水バリア膜アセンブリを有するセメント質パネルを生成する。
【０１０３】
本書に記載されるセメント質パネルはいずれも、固定されることによって（例えば、ねじ、釘）、建築システムの一部として、外向きの表面を含む一体型空気／水バリア膜を有する、好適な骨組構造（例えば、１つ以上の壁の間柱または天井梁）に組み立てられ得る。２つの隣接するパネルは、好適な接合テープおよび接合化合物を適用すること、ならびに／またはそれらの間への好適なコーキングを適用することなどの、任意の好適な技術を使用して、合わせ目で接合され得る。必要に応じて、追加のフラッシング層が、さらなる空気および水バリアとして追加され得る。被覆材料（例えば、サイディング、屋根板、および石）は、一体型パネルの外装面にさらに付着し得る。システム全体が構築されて、パネルを通しての構造物の内部への空気および水の浸透を抑制するのに役立ち得る。
【０１０４】
実施形態
本開示の原理は、以下の実施形態に組み込まれる。
【０１０５】
実施形態１．セメント質パネルであって、セメント質コア、セメント質コアに接触するカバーシート、カバーシートと一体的に接続された空気／水バリア膜アセンブリを含み、カバーシートは、セメント質コアと空気／水バリア膜アセンブリとの間に介在するようになっており、空気／水バリア膜アセンブリは、積み重ねられた配置で複数の乾燥層を含む、セメント質パネル。
【０１０６】
実施形態２．セメント質パネルの製造システムであって、セメント質パネルが、セメント質コア、セメント質コアに接触するカバーシート、およびカバーシートと一体的に接続された空気／水バリア膜アセンブリを含み、カバーシートが、セメント質コアと空気／水バリア膜アセンブリとの間に介在するようになっており、空気／水バリア膜アセンブリが、積み重ねられた配置で複数の層を含み、システムが、コンベアであって、セメント質パネルを機械方向に沿って第１の塗布器ステーションから積み重ね位置に搬送するように適合されており、コンベアが、第１の塗布器ステーションと積み重ね位置との間に、機械方向に沿って配置された第１の乾燥器セクション、第２の塗布器ステーション、および第２の乾燥器セクションを備える、コンベアと、第１の塗布器であって、第１の塗布器ステーションに位置し、流体組成物の第１の層をカバーシートに塗布するように適合されている、第１の塗布器と、第１の乾燥器であって、機械方向に沿って第１の塗布器ステーションの下流の第１の乾燥器セクションに位置し、第１の乾燥器が、流体組成物の第１の層を乾燥させて、第１の膜層を形成するように適合された第１の赤外線放射体システムを有する、第１の乾燥器と、第２の塗布器であって、機械方向に沿って第１の乾燥器セクションの下流の第２の塗布器ステーションに位置し、流体組成物の第２の層を第１の膜層上に塗布するように適合された、第２の塗布器と、第２の乾燥器であって、機械方向に沿って第２の塗布器ステーションの下流の第２の乾燥器セクションに位置し、第２の乾燥器が、流体組成物の第２の層を乾燥させて、第２の膜層を形成するように適合された第２の赤外線放射体システムを有する、第２の乾燥器と、を備え、第１の乾燥器セクションが、第１のゾーンおよび第２のゾーンを含み、第２のゾーンが、機械方向に沿って第１のゾーンの下流に配置され、第１の赤外線放射体システムが、第１のゾーンに配置された第１の赤外線放射体サブアセンブリ、および第２のゾーンに配置された第２の赤外線放射体サブアセンブリを有し、第１の赤外線放射体サブアセンブリが、第１の出力密度最大動作値を有し、第２の赤外線放射体サブアセンブリが、第２の出力密度最大動作値を有し、第２の出力密度最大動作値が、第１の出力密度最大動作値とは異なる、セメント質パネルの製造システム。
【０１０７】
実施形態３．第１の出力密度最大動作値が、第２の出力密度最大動作値よりも大きい、実施形態２に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１０８】
実施形態４．第１の赤外線放射体サブアセンブリが、電気赤外線加熱器を備え、第２の赤外線放射体サブアセンブリが、ガス触媒赤外線加熱器を備える、実施形態２または３に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１０９】
実施形態５．第１の赤外線放射体サブアセンブリが、中波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されており、第２の赤外線放射体サブアセンブリが、長波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されている、実施形態２または３に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１１０】
実施形態６．第１の赤外線放射体サブアセンブリが、電気赤外線加熱器を備え、第２の赤外線放射体サブアセンブリが、ガス触媒赤外線加熱器を備える、実施形態５に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１１１】
実施形態７．第２の赤外線放射体システムが、第３の出力密度最大動作値を有し、第３の出力密度最大動作値が、第１の出力密度最大動作値よりも小さい、実施形態３〜６のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１１２】
実施形態８．第１の冷却器であって、機械方向に沿って第１の乾燥器と第２の塗布器との間に、コンベアに沿って位置し、第１の冷却器が、セメント質パネルの表面温度を低減させるように適合されている、第１の冷却器、をさらに備える、実施形態２〜７のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１１３】
実施形態９．第１の冷却器が、第１の膜層全域に当たる空気流を方向付けするように適合されたファンを有する対流冷却室を備える、実施形態８に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１１４】
実施形態１０．第２の冷却器であって、機械方向に沿って第２の乾燥器の下流端部に隣接して、コンベアに沿って位置し、第２の冷却器が、セメント質パネルの表面温度を低減させるように適合されている、第２の冷却器、をさらに備える、実施形態８または９に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１１５】
実施形態１１．コンベアが、第２の乾燥器ステーションと積み重ね位置との間に、機械方向に沿って配置された、第３の塗布器ステーションおよび第３の乾燥器セクションを含み、システムが、第３の塗布器であって、第３の塗布器ステーションに位置し、流体組成物の第３の層を第２の膜層上に塗布するように適合されている、第３の塗布器と、第３の乾燥器であって、機械方向に沿って第３の塗布器ステーションの下流の第３の乾燥器セクションに位置し、第３の乾燥器が、流体組成物の第３の層を乾燥させて、第３の膜層を形成するように適合された第３の赤外線放射体システムを有する、第３の乾燥器と、をさらに備え、第２の赤外線放射体システムが、第３の出力密度最大動作値を有し、第３の赤外線放射体システムが、第４の出力密度最大動作値を有し、第３の出力密度最大動作値および第４の出力密度最大動作値がいずれも、第１の出力密度最大動作値よりも小さい、実施形態２〜１０のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１１６】
実施形態１２．第３の出力密度最大動作値が、第４の出力密度最大動作値と実質的に同じである、実施形態１１に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１１７】
実施形態１３．第１の赤外線放射体サブアセンブリが、中波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されており、第２の赤外線放射体サブアセンブリ、第２の赤外線放射体システム、および第３の赤外線放射体システムがそれぞれ、長波赤外線放射スペクトルを発生させるように適合されている、実施形態１１または１２に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１１８】
実施形態１４．第１の赤外線放射体サブアセンブリが、電気赤外線加熱器を備え、第２の赤外線放射体サブアセンブリ、第２の赤外線放射体システム、および第３の赤外線放射体システムがそれぞれ、ガス触媒赤外線加熱器を備える、実施形態１１〜１３のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１１９】
実施形態１５．第３の冷却器であって、機械方向に沿って第３の乾燥器の下流端部に隣接して、コンベアに沿って位置し、第３の冷却器が、セメント質パネルの表面温度を低減させるように適合されている、第３の冷却器、をさらに備える、実施形態１１〜１４のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１２０】
実施形態１６．積み重ね器であって、積み重ね位置に位置し、積み重ね器が、第３の冷却器から続くコンベアの部分からセメント質パネルを受け取るように適合されており、積み重ね器が、一連のセメント質パネルが、積み重ね位置での積み重ね配置に配置され得るように、セメント質パネルを支持するように適合されている、積み重ね器をさらに備える、実施形態１５に記載のセメント質パネルの製造システム。
【０１２１】
実施形態１７．セメント質パネルの製造方法であって、セメント質パネルが、セメント質コア、およびセメント質コアに接触するカバーシートを含み、方法が、第１の塗布ステーションで、流体組成物の第１の層をカバーシートに塗布することと、第１の層を、第１の出力密度プロファイルを用いる第１の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらして、第１の膜層を形成することと、第２の塗布ステーションで、流体組成物の第２の層を第１の膜層上に塗布することであって、第２の塗布ステーションが、第１の塗布ステーションに対して間隔をあけて配置され、第１の乾燥ゾーンが、それらの間に介在する、塗布することと、第２の層を、第２の出力密度プロファイルを用いる第２の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらして、第２の膜層を形成することであって、第２の出力密度プロファイルが、第１の出力密度プロファイルとは異なる、形成することと、を含む、セメント質パネルの製造方法。
【０１２２】
実施形態１８．流体組成物の第１の層を第１の塗布ステーションでカバーシートに塗布すること、および流体組成物の第２の層を第２の塗布ステーションで第１の膜層に塗布することが、スプレーコーティング、ロールコーティング、およびフラッドコーティングのうちの少なくとも１つを介して実行される、実施形態１７に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１２３】
実施形態１９．第１の層を乾燥条件にさらすことが、セメント質パネルを第１の乾燥セクションの第１のゾーンおよび次いで第２のゾーンを通して搬送することを含み、第１のゾーンが第１の出力密度を有し、第２のゾーンが第２の出力密度を有し、第２の出力密度が第１の出力密度とは異なる、実施形態１７または１８に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１２４】
実施形態２０．第１の出力密度が第２の出力密度よりも大きい、実施形態１７〜１９のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１２５】
実施形態２１．第２の出力密度に対する第１の出力密度の比が１．５よりも大きい、実施形態２０に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１２６】
実施形態２２．第２の出力密度に対する第１の出力密度の比が１．５〜２の範囲である、実施形態２０に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１２７】
実施形態２３．第１のゾーンの乾燥条件が、電気赤外線加熱を介して生成され、第２のゾーンの乾燥条件が、ガス触媒赤外線加熱を介して生成される、実施形態１７〜２２のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１２８】
実施形態２４．セメント質パネルが、第１の期間では第１のゾーンに存在し、セメント質パネルが、第２の期間では第２のゾーンに存在し、第２の期間が第１の期間とは異なる、実施形態１７〜２３のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１２９】
実施形態２５．第２の期間が第１の期間よりも長い、実施形態２４に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１３０】
実施形態２６．第１の期間に対する第２の期間の比が１．５よりも大きい、実施形態２４に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１３１】
実施形態２７．第１の期間に対する第２の期間の比が１．５〜３の範囲である、実施形態２４に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１３２】
実施形態２８．第１の層を乾燥条件にさらすことが、セメント質パネルを第１の乾燥セクションの第１のゾーンおよび次いで第２のゾーンを通して搬送することを含み、第１のゾーンが中波赤外線放射スペクトルを有し、第２のゾーンが長波赤外線放射スペクトルを有する、実施形態１７〜２７のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１３３】
実施形態２９．第１のゾーンの乾燥条件が、電気赤外線加熱を介して生成され、第２のゾーンの乾燥条件が、ガス触媒赤外線加熱を介して生成される、実施形態２８に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１３４】
実施形態３０．セメント質パネルが、第１の期間では第１のゾーンに存在し、セメント質パネルが、第２の期間では第２のゾーンに存在し、第２の期間が第１の期間とは異なる、実施形態２８または２９に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１３５】
実施形態３１．第２の期間が第１の期間よりも長い、実施形態３０に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１３６】
実施形態３２．第１の期間に対する第２の期間の比が１．５よりも大きい、実施形態３０に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１３７】
実施形態３３．第１の期間に対する第２の期間の比が１．５〜３の範囲である、実施形態３０に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１３８】
実施形態３４．第１の層を乾燥条件にさらすことが、セメント質パネルを第１の乾燥セクションの第１のゾーンおよび次いで第２のゾーンを通して搬送することを含み、第１のゾーンが第１の出力密度を有し、第２のゾーンが第２の出力密度を有し、第２の出力密度が第１の出力密度とは異なる、実施形態２８〜３３のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１３９】
実施形態３５．第１の出力密度が第２の出力密度よりも大きい、請求項３４に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１４０】
実施形態３６．第１の層を、第１の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらすことと、流体組成物の第２の層を、第２の塗布ステーションで第１の膜層上に塗布することとの間で、セメント質パネルを、第１の冷却セクションにおける冷却条件にさらして、セメント質パネルの表面温度を低減させること、をさらに含む、実施形態１７〜３５のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１４１】
実施形態３７．第１の冷却セクションにおける冷却条件が、第１の膜層全域に当たる空気流を介する対流冷却を介して生成される、実施形態３６に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１４２】
実施形態３８．第１の膜層全域に当たる空気流が、第１の冷却セクションに隣接する周囲空気温度よりも低い温度の空気を含む、実施形態３７に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１４３】
実施形態３９．第１の膜層全域に当たる空気流が、第１の冷却セクションに隣接する周囲湿度レベルよりも低い湿度レベルの空気を含む、実施形態３７または３８に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１４４】
実施形態４０．第１の層を乾燥条件にさらすことが、セメント質パネルを第１の乾燥セクションの第１のゾーンおよび次いで第２のゾーンを通して搬送することを含み、第１のゾーンが第１の出力密度を有し、第２のゾーンが第２の出力密度を有し、第２の出力密度が第１の出力密度とは異なり、第２の乾燥セクションが第３の出力密度を有する第３のゾーンを有し、第３の出力密度が第１の出力密度とは異なる、実施形態１７〜３９のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１４５】
実施形態４１．第１の出力密度が第２の出力密度よりも大きい、実施形態４０に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１４６】
実施形態４２．第２の出力密度が第３の出力密度よりも大きい、実施形態４０または４１に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１４７】
実施形態４３．第１の出力密度が第２の出力密度より大きく、第１の出力密度が第３の出力密度よりも大きい、実施形態４０〜４２のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１４８】
実施形態４４．第２の出力密度が第３の出力密度よりも大きい、実施形態４３に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１４９】
実施形態４５．第１の乾燥セクションの第１のゾーンの乾燥条件が、電気赤外線加熱を介して生成され、第１の乾燥セクションの第２のゾーンおよび第２の乾燥セクションの第３のゾーンの両方の乾燥条件が、ガス触媒赤外線加熱を介して生成される、実施形態４０〜４４のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１５０】
実施形態４６．セメント質パネルが、第１の期間では第１のゾーン、第２の期間では第２のゾーン、第３の期間では第３のゾーンに存在し、第２の期間および第３の期間がいずれも、第１の期間とは異なる、実施形態４０〜４５のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１５１】
実施形態４７．第２の期間および第３の期間がいずれも、第１の期間よりも長い、実施形態４６に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１５２】
実施形態４８．第１の期間と第２の期間の合計が第３の期間にほぼ等しい、実施形態４６または４７に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１５３】
実施形態４９．第１の層を乾燥条件にさらすことが、セメント質パネルを第１の乾燥セクションの第１のゾーンおよび次いで第２のゾーンを通して搬送することを含み、第１のゾーンが中波赤外線放射スペクトルを有し、第２のゾーンが長波赤外線放射スペクトルを有し、第２の層を乾燥条件にさらすことが、セメント質パネルを第２の乾燥セクションの第３のゾーンを通して搬送することを含み、第３のゾーンが、長波赤外線放射スペクトルを有する、実施形態１７〜４８のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１５４】
実施形態５０．第１のゾーンの乾燥条件が、電気赤外線加熱を介して生成され、第２のゾーンおよび第３のゾーンの両方の乾燥条件が、ガス触媒赤外線加熱を介して生成される、実施形態４９に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１５５】
実施形態５１．第３の塗布ステーションで、流体組成物の第３の層を第２の膜層上に塗布することであって、第３の塗布ステーションが、第２の塗布ステーションに対して間隔をあけて配置され、第２の乾燥ゾーンが、それらの間に介在する、塗布することと、第３の層を第３の出力密度プロファイルを用いる第３の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらして、第３の膜層を形成することと、をさらに含み、第３の出力密度プロファイルが、第１の出力密度プロファイルとは異なる、実施形態１７〜５０のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１５６】
実施形態５２．第１の層を乾燥条件にさらすことが、セメント質パネルを第１の乾燥セクションの第１のゾーンおよび次いで第２のゾーンを通して搬送することを含み、第１のゾーンが第１の出力密度を有し、第２のゾーンが第２の出力密度を有し、第２の出力密度が第１の出力密度とは異なり、第２の乾燥セクションが第３の出力密度を有する第３のゾーンを有し、第３の出力密度が、第１の出力密度とは異なり、第３の乾燥セクションが、第４の出力密度を有する第４のゾーンを有し、第４の出力密度が、第１の出力密度とは異なる、実施形態５１に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１５７】
実施形態５３．第１の出力密度が第２の出力密度よりも大きく、第２の出力密度が第３の出力密度および第４の出力密度の両方よりも大きい、実施形態５２に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１５８】
実施形態５４．第３の出力密度が第４の出力密度と実質的に等しい、実施形態５２または５３に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１５９】
実施形態５５．第１の乾燥セクションの第１のゾーンの乾燥条件が、電気赤外線加熱を介して生成され、第１の乾燥セクションの第２のゾーン、第２の乾燥セクションの第３のゾーン、および第３の乾燥セクションの第４のゾーンの乾燥条件全てが、ガス触媒赤外線加熱を介して生成される、実施形態５２〜５４のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１６０】
実施形態５６．セメント質パネルが、第１の期間では第１のゾーン、第２の期間では第２のゾーン、第３の期間では第３のゾーン、第４の期間では第４のゾーンに存在し、第２の期間、第３の期間、および第４の期間がそれぞれ、第１の期間とは異なる、実施形態５２〜５５のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１６１】
実施形態５７．第２の期間、第３の期間、および第４の期間はそれぞれ、第１の期間よりも長い、実施形態５６に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１６２】
実施形態５８．第１の期間と第２の期間の合計は、第３の期間にほぼ等しく、第３の期間は、第４の期間にほぼ等しい、実施形態５６または５７に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１６３】
実施形態５９．第１の層を乾燥条件にさらすことが、セメント質パネルを第１の乾燥セクションの第１のゾーンおよび次いで第２のゾーンを通して搬送することを含み、第１のゾーンが中波赤外線放射スペクトルを有し、第２のゾーンが長波赤外線放射スペクトルを有し、第２の層を乾燥条件にさらすことが、セメント質パネルを第２の乾燥セクションの第３のゾーンを通して搬送することを含み、第３のゾーンが長波赤外線放射スペクトルを有し、第３の層を乾燥条件にさらすことが、セメント質パネルを第３の乾燥セクションの第４のゾーンを通して搬送することを含み、第４のゾーンが長波赤外線放射スペクトルを有する、実施形態５１〜５８のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１６４】
実施形態６０．第１のゾーンの乾燥条件が、電気赤外線加熱を介して生成され、第２のゾーン、第３のゾーン、および第４のゾーンのそれぞれの乾燥条件が、ガス触媒赤外線加熱を介して生成される、実施形態５９に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１６５】
実施形態６１．第２の層を、第２の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらすことと、流体組成物の第３の層を、第３の塗布ステーションで第２の膜層上に塗布することとの間で、セメント質パネルを、第２の冷却セクションにおける冷却条件にさらして、セメント質パネルの表面温度を低減させること、をさらに含む、実施形態１７〜６０のいずれか一項に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１６６】
実施形態６２．第３の層を、第３の乾燥セクションにおける赤外線加熱を介する乾燥条件にさらした後、セメント質パネルを、第３の冷却セクションにおける冷却条件にさらして、セメント質パネルの表面温度を低減させること、セメント質パネルを積み重ねステーションの積み重ね位置に配置すること、をさらに含む、実施形態６１に記載のセメント質パネルの製造方法。
【０１６７】
上記は、本開示の原理による実施形態の単なる例であることに留意されたい。他の例示的な実施形態は、本明細書の記載全体から明らかである。これらの実施形態の各々が、本明細書で提供される他の実施形態と様々に組み合わせて使用されてもよいことも、当業者には理解されるであろう。
【０１６８】
本明細書に引用される全ての参考文献は、各参考文献が参照により組み込まれることが個々にかつ具体的に示され、その全体が本明細書に記載されているのと同じ程度まで、参照により本明細書に組み込まれる。
【０１６９】
本発明を説明する文脈において（特に、本明細書の実施形態および特許請求の範囲の文脈において）、「ａ」、および「ａｎ」、および「ｔｈｅ」という用語、ならびに同様の指示対象の使用は、本明細書において別段の指示がない限り、または文脈によって明らかに矛盾しない限り、単数および複数の両方を包含するよう解釈されるべきである。「備えること」、「有すること」、「含むこと」、および「含有すること」という用語は、特に断りのない限り、非限定的な用語（すなわち、「含むがこれに限定されない」を意味する）と解釈されるべきである。本明細書における値の範囲の列挙は、本明細書において別段の指示がない限り、その範囲内にある各個別の値を個々に参照する簡単な方法として役立つことを単に意図し、各個別の値は、あたかも本明細書に個々に列挙されているかのように、本明細書に組み込まれる。本明細書に記載される全ての方法は、本明細書で別途記載のない限り、または文脈で明らかに矛盾しない限り、任意の好適な順序で実施され得る。本明細書に提供されるありとあらゆる例または例示的な用語（例えば、「など」）の使用は、本発明の理解をより容易にすることを単に意図し、特許請求の範囲に別途記載されない限り、本発明の範囲に制限を課さない。本明細書における用語は、特許請求の範囲に記載されていない要素を本発明の実施にとって不可欠であるとして示すものと解釈されるべきではない。
【０１７０】
本発明を実施するための本発明者らに既知の最良の様式を含む、本発明の好ましい実施形態が、本明細書に記載されている。それらの好ましい実施形態の変形は、上記の記載を読むことで当業者に明らかになり得る。本発明者らは、当業者がそのような変形を必要に応じて用いることを期待し、本発明者らは、本発明が、本明細書に具体的に記載されるものとは別の方法で実施されることを意図する。したがって、本発明は、適用される法律によって許容される、本明細書に添付の特許請求の範囲において列挙される主題の全ての修正物および同等物を含む。さらに、全ての可能な変形における上記の要素の任意の組み合わせが、本明細書で別途記載のない限り、または文脈で明らかに矛盾しない限り、本発明によって包含される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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