(57)【要約】部分電離ガス混合物を含むコールドプラズマ刺激を発生させ、かつコールドプラズマ刺激を有する生体表面を暴露するように構成されたコールドプラズマアセンブリと、１つ以上の標的細菌叢種を含む細菌叢播種アセンブリであって、１つ以上の標的細菌叢種を生体表面に送達するように構成されている、細菌叢播種アセンブリと、を含む、皮膚細菌叢調節デバイス。【選択図】図３
2020518559.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
部分電離ガス混合物を含むコールドプラズマ刺激を発生させ、かつ前記コールドプラズマ刺激で生体表面を暴露するように構成されたコールドプラズマアセンブリと、
１つ以上の標的細菌叢種を含む細菌叢播種アセンブリであって、前記１つ以上の標的細菌叢種を前記生体表面に送達するように構成されている、前記細菌叢播種アセンブリと、を備える、皮膚細菌叢調節デバイス。
【請求項２】
前記コールドプラズマアセンブリが、帯電粒子、非帯電粒子、電子、イオン、及び分子のうちの１つ以上を有するコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている、請求項１に記載の皮膚細菌叢調節デバイス。
【請求項３】
前記コールドプラズマアセンブリが、アルゴン、ヘリオックス、ヘリウム、窒素、及び酸素のうちの１つ以上を有するコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている、請求項１に記載の皮膚細菌叢調節デバイス。
【請求項４】
前記コールドプラズマアセンブリが、大気圧プラズマジェット、誘電体バリア放電プラズマアクチュエータ、滑走アークデバイス、圧電直接放電プラズマデバイス、プラズマアクチュエータ、プラズマニードル、及びプラズマペンシルのうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の皮膚細菌叢調節デバイス。
【請求項５】
前記コールドプラズマアセンブリが、前記生体表面での皮膚細菌叢の活性を調節する特徴を有するコールドプラズマ刺激を、前記活性を調節するのに十分な持続時間にわたって発生させるように構成されている、請求項１に記載の皮膚細菌叢調節デバイス。
【請求項６】
前記コールドプラズマアセンブリが、照射時に６０℃未満であるコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている、請求項１に記載の皮膚細菌叢調節デバイス。
【請求項７】
前記コールドプラズマアセンブリが、照射時に４０℃未満であるコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている、請求項１に記載の皮膚細菌叢調節デバイス。
【請求項８】
前記コールドプラズマアセンブリが、０．１％未満の電離プラズマを有するコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている、請求項１に記載の皮膚細菌叢調節デバイス。
【請求項９】
前記細菌叢播種アセンブリが、前記生体表面に対する前記コールドプラズマ刺激暴露が完了したという１つ以上の入力に応じて、前記１つ以上の標的細菌叢種を前記生体表面に送達するように構成されている、請求項１に記載の皮膚細菌叢調節デバイス。
【請求項１０】
前記細菌叢播種アセンブリが、ＶｆのＬＰＳ；乳酸菌（ＣＮＣＭ  Ｉ−１２２５  ｇｏｌｄ  ＣＮＣＭ  １−２１１６）；皮膚グラム陽性細菌；以下の属の酵母：Ｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ、Ｙａｒｒｏｗｉａ、Ｋｌｕｙｖｅｒｏｍｙｃｅｓ、Ｓｏｌａｒｉｚｅｄ、Ｓｃｈｉｚｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ  ｐｏｍｂｅ、Ｄｅｂａｒｏｍｙｃｅｓ、Ｐｉｃｈｉａ、Ｃａｎｄｉｄａ、Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ、及びＰｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ；ならびに以下の属の細菌：Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ、Ｂａｃｔｅｒｏｉｄｅｓ、Ｆｕｓｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ、Ｍｅｌｉｓｓｏｃｏｃｃｕｓ、Ｐｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ、Ｅｎｔｅｒｏｃｏｃｃｕｓ、Ｌａｃｔｏｃｏｃｃｕｓ、Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ、Ｐｅｐｔｏｓｔｒｅｐｏｃｏｃｃｕｓ、Ｂａｃｉｌｌｕｓ、Ｐｅｄｉｏｃｏｃｃｕｓ、Ｍｉｃｒｏｃｏｃｃｕｓ、Ｌｅｕｃｏｎｏｓｔｏｃ、Ｗｅｉｓｓｅｌｌａ、Ａｅｒｏｃｏｃｃｕｓ、Ｏｅｎｏｃｏｃｃｕｓ、及びＬａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ、ならびにそれらの混合物；以下の属種：Ｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ  ｃｅｒｅｖｉｓｅａｅ、ｌｉｐｏｌｉｔｉｃａ  Ｙａｒｒｏｗｉａ、Ｋｌｕｙｖｅｒｏｍｙｃｅｓ  ｌａｃｔｉｓ、Ｓｏｌａｒｉｚｅｄ、Ｓｃｈｉｚｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ  ｐｏｍｂｅ、Ｃａｎｄｉｄａ、Ｐｉｃｈｉａ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｂｉｆｉｄｕｍ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｂｒｉｅｆ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｌｏｎｇｕｍ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｎｉｍａｌｉｓ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｌａｃｔｉｓ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｉｎｆａｎｔｉｓ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｄｏｌｅｓｃｅｎｔｉｓ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｐｓｅｕｄｏｃａｔｅｎｕｌａｔｕｍ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ａｃｉｄｏｐｈｉｌｕｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ａｌｉｍｅｎｔａｒｉｕｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃａｓｅｉ亜種、Ｃａｓｅｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃａｓｅｉ  Ｓｈｉｒｏｔａ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｐａｒａｃａｓｅｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃｕｒｖａｔｕｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｄｅｌｂｒｕｃｋｉｉ亜種、Ｌａｃｔｉｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｇａｓｓｅｒｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｊｏｈｎｓｏｎｉｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｒｅｕｔｅｒｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｒｈａｍｎｏｓｕｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｓａｋｅ、Ｌａｃｔｏｃｏｃｃｕｓ  ｌａｃｔｉｓ、Ｓｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ  ｔｈｅｒｍｏｐｈｉｌｅｓ、Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｃｕｓ  ｃａｒｎｏｓｕｓ、及びＳｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ  ｘｙｌｏｓｕｓ、ならびにそれらの混合物；Ｎｅｉｓｓｅｒｉａｃｅａｅ科の細菌；ならびに温泉水で増殖した細菌のうちの１つ以上を送達するように構成されている、請求項１に記載の皮膚細菌叢調節デバイス。
【請求項１１】
コールド大気圧プラズマ（ＣＡＰ）処置を使用者の外側身体部分に施すことと、
前記ＣＡＰ処置後にプレ／プロまたはポストバイオティクス化合物を前記使用者の前記身体部分に照射することと、を含む、方法。
【請求項１２】
コールド大気圧プラズマ（ＣＡＰ）処置を使用者の外側身体部分に施すように構成されたＣＡＰ照射デバイスと、
前記ＣＡＰ処置後にプレ／プロまたはポストバイオティクス化合物を前記使用者の前記身体部分に照射するように構成されたアプリケーターと、を備える、システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願は、全内容が参照により本明細書に組み込まれる、２０１７年５月８日出願の米国仮出願第６２／５０２，９５０号の優先権の利益を主張する。
【背景技術】
【０００２】
コールド大気圧プラズマ（ＣＡＰ）技術（別名、非熱または非平衡プラズマ）は、その抗菌効果のために使用され得る。この技術は、医学的用途（異なる種類の皮膚疾患の治療等）における有用性が見出されており、様々な寄生虫及び体外から侵入する生物の不活性化に有効であると見なされている。
【０００３】
微生物に対するＣＡＰの一般的な能力は、制御された実験室条件下で確立されている。ＣＡＰが、多くの異なる団体によって、グラム陰性細菌、グラム陽性細菌、胞子、生物膜形成細菌、ウイルス、及び真菌に対して非常に有効であることが示されている［Ｐｌａｓｍａ  ｍｅｄｉｃｉｎｅ：ａｎ  ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｏｒｙ  ｒｅｖｉｅｗ，Ｍ  Ｇ  Ｋｏｎｇ，Ｎｅｗ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｈｙｓｉｃｓ１１（２００９）１１５０１２（３５ｐｐ）を参照のこと］。
【発明の概要】
【０００４】
本出願人は、化学または有機化合物が皮膚またはケラチン基質の微生物環境に有益に作用することができると認識した。例えば、プレバイオティクス及びプロバイオティクスは、皮膚細菌叢に選択的に作用することができる。それらは、有害な生物を抑制すると同時に、有益な細菌を保存及び／または増殖することができる。
【０００５】
一態様では、本開示は、とりわけ、ケラチン基質細菌叢（例えば、皮膚細菌叢）の改変に良い影響を与え、アトピー、乾癬、座瘡、体臭、脂性肌、酒さ、乾燥肌、汚染、及びふけ等の皮膚障害と闘うための、コールド大気圧プラズマ処置及び化学または有機化合物（プレ／プロまたはポストバイオティクス等）処置の両方に関連する技術及び方法論を対象とする。
【０００６】
一態様では、本開示は、とりわけ、ケラチン基質細菌叢（例えば、皮膚、頭皮、または毛髪）を改変し、アトピー、乾癬、座瘡、体臭、脂性肌、酒さ、乾燥肌、汚染、及びふけ等の皮膚障害と戦う助けとなるための、コールド大気圧プラズマ処置及び化学または有機化合物処置（例えば、プレ／プロ／ポストバイオティクス）の両方に関連する方法及びシステムを対象とする。
【０００７】
１つの可能な処置関連は、局所化学または有機化合物処置（例えば、プレ／プロまたはポストバイオティクス）を施す前に前処置として最初にケラチン基質領域をコールド大気圧プラズマで処置することである。
【０００８】
その逆である、コールド大気圧プラズマ処置が局所的な化学または有機化合物による処置（例えば、プレ／プロまたはポストバイオティクス）後に後処置として施され得ることも想定される。前処置として使用されるコールド大気圧プラズマ（ＣＡＰ）が、全体的な細菌濃度及び／またはバランスを低下させ、それと同時に、化学物質及び／または有機化合物を含むプレ／プロまたはポストバイオティクスでの前処置が、皮膚上に天然に存在する選択された微生物（内在性細菌）の増殖を助ける。ＣＡＰ処置後に、各ＯＴＵ（操作的分類単位、平均細菌種）の増殖速度に応じて、我々は、細菌像が提示後数時間にわたって進化することを容易に理解することができる。プレ／プロ／ポストバイオティクスの添加により、全体的な細菌の分布に異なる影響が及ぼされる。例えば、グラム陰性細菌は、グラム陽性細菌よりも脆弱であり、エネルギーを供給するＣＡＰは、グラム陽性／グラム陰性バランスに影響を及ぼす。
【０００９】
コールド大気圧プラズマ及び化学または有機化合物の同時処置も想定され得る。
【００１０】
一実施形態では、部分電離ガス混合物を含むコールドプラズマ刺激を発生させ、かつコールドプラズマ刺激で生体表面を暴露するように構成されたコールドプラズマアセンブリと、１つ以上の標的細菌叢種を含む細菌叢播種アセンブリであって、１つ以上の標的細菌叢種を生体表面に送達するように構成されている、細菌叢播種アセンブリと、を備える皮膚細菌叢調節デバイスが提供される。
【００１１】
一実施形態では、コールドプラズマアセンブリは、帯電粒子、非帯電粒子、電子、イオン、分子、及び同様のもののうちの１つ以上を有するコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている。
【００１２】
一実施形態では、コールドプラズマアセンブリは、紫外線（ＵＶ）照射、可視光（ＶＩＳ）照射、赤外線（ＩＲ）照射、及び同様のもののうちの１つ以上を有するコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている。
【００１３】
一実施形態では、コールドプラズマアセンブリは、アルゴン、ヘリオックス、ヘリウム、窒素、酸素、及び同様のもののうちの１つ以上を有するコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている。
【００１４】
一実施形態では、コールドプラズマアセンブリは、紫外線（ＵＶ）照射、可視光（ＶＩＳ）照射、赤外線（ＩＲ）照射、フリーラジカル、帯電粒子、非帯電粒子、電子、イオン、分子、ガス流、及び同様のもののうちの１つ以上を生体表面に送達するように構成されている。
【００１５】
一実施形態では、コールドプラズマアセンブリは、大気圧プラズマジェット、誘電体バリア放電プラズマアクチュエータ、滑走アークデバイス、圧電直接放電プラズマデバイス、プラズマアクチュエータ、プラズマニードル、プラズマペンシル、及び同様のもののうちの少なくとも１つを含む。
【００１６】
一実施形態では、コールドプラズマアセンブリは、生体表面での皮膚細菌叢の活性を調節する特徴を有するコールドプラズマ刺激を、その活性を調節するのに十分な持続時間にわたって発生させるように構成されている。
【００１７】
一実施形態では、コールドプラズマアセンブリは、組織を損傷することなく生体表面での皮膚細菌叢の活性を調節するのに十分な持続時間にわたってコールドプラズマ刺激を送達するように構成されている。
【００１８】
一実施形態では、コールドプラズマアセンブリは、照射時に４０℃未満であるコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている。一実施形態では、コールドプラズマアセンブリは、照射時に約２６℃〜約６０℃の範囲の温度を有するコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている。一実施形態では、コールドプラズマアセンブリは、照射時に約３０℃〜約５０℃の範囲の温度を有するコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている。一実施形態では、照射時のコールドプラズマ刺激の温度は、コールドプラズマ刺激に関連する持続時間、強度、周波数、熱伝達係数、及び同様のものによって部分的に決定される。
【００１９】
一実施形態では、プラズマの電離度（α）は、中性粒子及びイオンを含む全粒子数に対する荷電粒子の割合を構成する。一実施形態では、プラズマの電離度（α）は、α＝ｎ＋／（ｎ  ＋  ｎ＋）を構成し、式中、ｎが中性粒子の数であり、ｎ＋が荷電粒子の数である。一実施形態では、コールドプラズマアセンブリは、０．１％未満の電離プラズマを有するコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている。
【００２０】
一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、コールドプラズマ刺激送達事象を示す１つ以上の入力に応じて、１つ以上の標的細菌叢種を生体表面に送達するように構成されている。
【００２１】
一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、細菌叢播種アセンブリは、ＶｆのＬＰＳ；乳酸菌（ＣＮＣＭ  Ｉ−１２２５  ｇｏｌｄ  ＣＮＣＭ  １−２１１６）；皮膚グラム陽性細菌；以下の属の酵母：Ｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ、Ｙａｒｒｏｗｉａ、Ｋｌｕｙｖｅｒｏｍｙｃｅｓ、Ｓｏｌａｒｉｚｅｄ、Ｓｃｈｉｚｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ  ｐｏｍｂｅ、Ｄｅｂａｒｏｍｙｃｅｓ、Ｐｉｃｈｉａ、Ｃａｎｄｉｄａ、Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ、及びＰｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ；ならびに以下の属の細菌：Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ、Ｂａｃｔｅｒｏｉｄｅｓ、Ｆｕｓｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ、Ｍｅｌｉｓｓｏｃｏｃｃｕｓ、Ｐｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ、Ｅｎｔｅｒｏｃｏｃｃｕｓ、Ｌａｃｔｏｃｏｃｃｕｓ、Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ、Ｐｅｐｔｏｓｔｒｅｐｏｃｏｃｃｕｓ、Ｂａｃｉｌｌｕｓ、Ｐｅｄｉｏｃｏｃｃｕｓ、Ｍｉｃｒｏｃｏｃｃｕｓ、Ｌｅｕｃｏｎｏｓｔｏｃ、Ｗｅｉｓｓｅｌｌａ、Ａｅｒｏｃｏｃｃｕｓ、Ｏｅｎｏｃｏｃｃｕｓ、及びＬａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ、ならびにそれらの混合物；以下の属種：Ｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ  ｃｅｒｅｖｉｓｅａｅ、ｌｉｐｏｌｉｔｉｃａ  Ｙａｒｒｏｗｉａ、Ｋｌｕｙｖｅｒｏｍｙｃｅｓ  ｌａｃｔｉｓ、Ｓｏｌａｒｉｚｅｄ、Ｓｃｈｉｚｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ  ｐｏｍｂｅ、Ｃａｎｄｉｄａ、Ｐｉｃｈｉａ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｂｉｆｉｄｕｍ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｂｒｉｅｆ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｌｏｎｇｕｍ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｎｉｍａｌｉｓ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｌａｃｔｉｓ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｉｎｆａｎｔｉｓ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｄｏｌｅｓｃｅｎｔｉｓ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｐｓｅｕｄｏｃａｔｅｎｕｌａｔｕｍ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ａｃｉｄｏｐｈｉｌｕｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ａｌｉｍｅｎｔａｒｉｕｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃａｓｅｉ亜種、Ｃａｓｅｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃａｓｅｉ  Ｓｈｉｒｏｔａ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｐａｒａｃａｓｅｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃｕｒｖａｔｕｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｄｅｌｂｒｕｃｋｉｉ亜種、Ｌａｃｔｉｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｇａｓｓｅｒｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｊｏｈｎｓｏｎｉｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｒｅｕｔｅｒｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｒｈａｍｎｏｓｕｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｓａｋｅ、Ｌａｃｔｏｃｏｃｃｕｓ  ｌａｃｔｉｓ、Ｓｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ  ｔｈｅｒｍｏｐｈｉｌｅｓ、Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｃｕｓ  ｃａｒｎｏｓｕｓ、及びＳｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ  ｘｙｌｏｓｕｓ、ならびにそれらの混合物；Ｎｅｉｓｓｅｒｉａｃｅａｅ科の細菌；ならびに温泉水で増殖した細菌のうちの１つ以上を送達するように構成されている。
【００２２】
一実施形態では、コールド大気圧プラズマ（ＣＡＰ）処置を使用者の外側身体部分に施すことと、ＣＡＰ処置後にプレ／プロまたはポストバイオティクス化合物を使用者の身体部分に照射することと、を含む、方法が提供される。
【００２３】
一実施形態では、コールド大気圧プラズマ（ＣＡＰ）処置を使用者の外側身体部分に施すように構成されたＣＡＰ照射デバイスと、ＣＡＰ処置後にプレ／プロまたはポストバイオティクス化合物を使用者の身体部分に適用するように構成されたアプリケーターと、を備える、システムが提供される。
【００２４】
本発明の前述の態様及び付随する利点の多くは、添付の図面と併せて以下の詳細な説明を参照することによってより良く理解されるときに、より容易に理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】一実施形態に従う、コールド大気圧プラズマ（ＣＡＰ）照射デバイス及びプレ／プロまたはポストバイオティクス化合物アプリケーターを含むシステムを示す。
【図２】一実施形態に従う、例示的なＣＡＰデバイスの詳細を示す。
【図３】一実施形態に従う、プレ／プロまたはポストバイオティクス化合物の照射後のＣＡＰ処置のためのプロセスを示す。
【図４Ａ】異なる型のＣＡＰデバイスを使用して評価した異なる菌株を示す。
【図４Ｂ】異なる型のＣＡＰデバイスを使用して評価した異なる菌株を示す。
【図５Ａ】評価に使用したｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤ  ＣＡＰデバイスの構成を示す。
【図５Ｂ】評価に使用したＰｌａｓｍａＤｅｒｍ  ＣＡＰデバイスの構成を示す。
【図５Ｃ】評価に使用したＰｌａｓｍａ  Ｏｎｅ  ＣＡＰデバイスの構成を示す。
【図６Ａ】試験した各菌株のｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤ結果を示す。
【図６Ｂ】試験した各菌株のｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤ結果を示す。
【図６Ｃ】試験した各菌株のｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤ結果を示す。
【図７Ａ】試験した各菌株のＰｌａｓｍａＤｅｒｍ結果を示す。
【図７Ｂ】試験した各菌株のＰｌａｓｍａＤｅｒｍ結果を示す。
【図８Ａ】試験した各菌株のＰｌａｓｍａ  Ｏｎｅ結果を示す。
【図８Ｂ】結果試験した各菌株のＰｌａｓｍａ  Ｏｎｅを示す。
【図８Ｃ】試験した各菌株のＰｌａｓｍａ  Ｏｎｅ結果を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
図１は、コールド大気圧プラズマ（ＣＡＰ）照射デバイス１１０及びプレ／プロまたはポストバイオティクス化合物アプリケーター１２０を含むシステム１００を示す。
【００２７】
図２Ａ〜２Ｂは、コールドプラズマアセンブリとも称されるＣＡＰデバイス１１０の２つの例をより詳細に示す。プラズマは、電子、正または負に荷電したイオン粒子、中性原子、及び中性分子から成る電離ガスである。プラズマは、多くの場合、固体、液体、またはガス状態よりも活性の高い第４の物質状態に同化する。プラズマは、ガスを加熱するか、またはガスを強電磁場に供することによって作成され得、エネルギーは、原子からの電子の抽出に成功するようなものである。選択されたデバイスは、大気圧で誘電体バリア放電（ＤＢＤ）技術を使用してコールドプラズマ（皮膚での使用と適合する）を発生させる。
【００２８】
一実施形態では、コールド大気圧プラズマ（ＣＡＰ）照射デバイス１１０は、作業ガス源、プラズマ発生器、及び制御装置を含む。一実施形態では、プラズマ発生器は、高電圧を作業ガス源に印加して、コールドプラズマ流を生成する。
【００２９】
一実施形態では、ＣＡＰ照射デバイス１１０は、要求される無線周波数パワーを生成し、同調共振器を駆動して高周波プラズマ放電を生成するために、スイッチング増幅器回路でパワーＭＯＳＦＥＴを用いる高周波プラズマ発生器を含み得る。例えば、Ｔｕｄｏｒａｎ，Ｃ．Ｄ．"ＨＩＧＨ  ＦＲＥＱＵＥＮＣＹ  ＰＯＲＴＡＢＬＥ  ＰＬＡＳＭＡ  ＧＥＮＥＲＡＴＯＲ  ＵＮＩＴ  ＦＯＲ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＴＲＥＡＴＭＥＮＴ  ＥＸＰＥＲＩＭＥＮＴＳ"Ｒｏｍ．Ｊｏｕｒｎ．Ｐｈｙｓ．，Ｖｏｌ．５６，Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ，Ｐ．１０３−１０８，Ｂｕｃｈａｒｅｓｔ，２０１１（ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｎｉｐｎｅ．ｒｏ／ｒｊｐ／２０１１＿５６＿Ｓｕｐｐｌ／０１０３＿０１０８．ｐｄｆ）を参照されたい。一実施形態では、コールドプラズマは、固定子と回転子との間の高電圧によって発生、作業ガスを使用してノズルヘッドを通して送達される。
【００３０】
コールドプラズマ技術及び方法論の非限定的な例としては、大気圧放電プラズマ、誘電体バリア放電プラズマ、マイクロ波放電プラズマ、パルス放電プラズマ、及び同様のものが挙げられる。例えば、Ｒｕｍａ，Ｍ．Ａｈａｓａｎ  Ｈａｂｉｂ  ａｎｄ  Ｒａｎｉｐｅｔ  Ｈａｆｅｅｚ  Ｂａｓｈａ，Ａ  Ｓｕｒｖｅｙ  ｏｆ  Ｎｏｎ−ｔｈｅｒｍａｌ  Ｐｌａｓｍａ  ａｎｄ  ｔｈｅｉｒ  Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ  Ｍｅｔｈｏｄｓ，Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｒｅｎｅｗａｂｌｅ  Ｅｎｅｒｇｙ  ａｎｄ  Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ，Ｖｏｌ．４，Ｎｏ．１，２０１６．（ｈｔｔｐ：／／ｂａｓｈａｒｅｓｅａｒｃｈ．ｃｏｍ／ＩＪＲＥＥＥ／５０４０１０２．ｐｄｆ）を参照されたい。コールドプラズマを発生させるためのさらなる非限定的な技術及び方法論としては、大気圧プラズマジェット、誘電体バリア放電、直流（ＤＣ）グロー放電、電気的放電プラズマ、マイクロ波放電、パルスパワー放電、無線周波数（ＲＦ）放電、及び同様のものが挙げられる。
【００３１】
一実施形態では、ＣＡＰ照射デバイス１１０は、帯電粒子、非帯電粒子、電子、イオン、及び分子、ならびに同様のもののうちの１つ以上を有するコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている。一実施形態では、ＣＡＰ照射デバイス１１０は、紫外線（ＵＶ）照射、可視光（ＶＩＳ）照射、赤外線（ＩＲ）照射、及び同様のもののうちの１つ以上を有するコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている。一実施形態では、ＣＡＰ照射デバイス１１０は、アルゴン、ヘリオックス、ヘリウム、窒素、及び酸素、ならびに同様のもののうちの１つ以上を有するコールドプラズマ刺激を発生させるように構成されている。
【００３２】
一実施形態では、ＣＡＰ照射デバイス１１０は、紫外線（ＵＶ）照射、可視光（ＶＩＳ）照射、赤外線（ＩＲ）照射、フリーラジカル、帯電粒子、非帯電粒子、電子、イオン、分子、ガス流、及び同様のもののうちの１つ以上を生体表面に送達するように構成されている。
【００３３】
図２Ａは、プラズマ「ジェット」または間接プラズマ型のＣＡＰデバイスと見なされるＣＡＰデバイスを示す。この型のデバイスの一例は、ｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤ（Ｎｅｏｐｌａｓｔ  Ｔｏｏｌ社製）である。プラズマは、ペンの２つの電極間に励起されるアルゴン供給ガスからデバイスの「ペン」で発生する。その後、励起ガスが膨張して毛細管ノズルの端部で周囲空気になり、プラズマジェットとしてそこに現れる。図２Ａに示されるこの型のデバイスは、従来、医学分野で適用されており、特に感染している治癒不良な創傷及び病原体によって誘発される皮膚疾患に有効な処置法であると見なされている。
【００３４】
図２Ｂは、直接誘電体バリア放電（直接ＤＢＤ）技術に基づくＣＡＰデバイス１１０を示す。この型のデバイスの一例は、ＰｌａｓｍａＤｅｒｍ（Ｃｉｎｏｇｙ社製）である。これは、誘電体バリアに包囲された活性電極に電圧を印加することを基礎とする。処置されたゾーン（皮膚またはアガロースゲルプレート）は、このシステムの対極の役割を果たす。プラズマは、間に存在する空気を励起することによって誘電体バリアと処置されたゾーンとの間に発生する。図２Ｂに示されるこの型のデバイスは、従来、静脈及び動脈潰瘍、褥瘡、ならびに糖尿病性足症候群等の慢性創傷治癒障害を治療するために使用されている。
【００３５】
示されていないが、本実施形態でＣＡＰデバイス１１０として使用され得る追加の型のＣＡＰデバイスが存在する。例えば、ＣＡＰデバイスは、直接ＤＢＤに例えられ得る紫光線技術に基づき得る。この型のデバイスの一例は、ＰｌａｓｍａＯｎｅ（Ｐｌａｓｍａ  Ｍｅｄｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）である。プラズマガスは、希ガスを含むガラスバルブ内で発生する。アプリケーターとして使用されるこのガラスバルブは、誘電体バリア（ここではガラス）に包囲された活性電極の役割を果たす。処置されたゾーン（皮膚またはアガロースゲルプレート）は、このシステムの対極の役割を果たす。プラズマは、間に存在する空気を励起することによってガラスバリアと処置されたゾーンとの間に発生する。
【００３６】
図１に示される細菌叢播種アセンブリとも称され得るプレ／プロまたはポストバイオティクス化合物アプリケーター１２０は、当該技術分野で既知のあらゆる種類の局所製剤分注器であり得る。また、化合物は、手で、または適切な場合には任意の器具によって照射され得る。
【００３７】
一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、１つ以上の細菌叢リザーバを含む。一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、１つ以上の取り外し可能な細菌叢リザーバを含む。一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、標的細菌叢種、細菌、プロバイオティクス、微生物、及び同様のもの、またはそれらの組み合わせを有する１つ以上のリザーバを含む少なくとも１つの交換可能なカートリッジを含む。
【００３８】
一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、１つ以上の細菌叢リザーバと、標的組成物（例えば、標的細菌叢組成物、標的細菌組成物、標的プロバイオティクス組成物、標的微生物組成物、及び同様のもの、またはそれらの組み合わせ）をリザーバ内部から外部環境に送達するように構成された少なくとも１つのアクチュエータとを含む。例えば、一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、各々が薄いシール（例えば、薄い金属シール、アルミニウムシール、金シール、チタンシール、ポリマー薄膜シール、及び同様のもの）によってシールされた複数のリザーバを含む。一実施形態では、動作中、電流がシールを融解または穿孔し、複数のリザーバのうちの１つ以上の内部の標的細菌叢組成物の外部環境への放出を引き起こす。一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、標的組成物の送達を助けるように構成された１つ以上の弁、ポート、流動チャネル、流体流動通路、及び同様のものを含む。
【００３９】
一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、少なくとも１つの放出ポートを有する少なくとも１つのリザーバを含む。一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、放出ポートの開閉を制御して少なくとも１つのリザーバ内の標的細菌叢組成物を外部環境に放出するように構成された回路を含む。一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、標的細菌叢組成物の送達に関連する持続時間、流動、強度、量、及び同様のもののうちの少なくとも１つを制御するように構成された回路を含む。
【００４０】
一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、標的組成物（例えば、標的細菌叢組成物、標的細菌組成物、標的プロバイオティクス組成物、標的微生物組成物、及び同様のもの、またはそれらの組み合わせ）の、リザーバ内部からの、弁、ポート、流動チャネル、流体流動通路、及び同様のものを介した、外部環境への送達の作動に関連する少なくとも１つのパラメータを制御する（電気制御、電気機械制御、ソフトウェア実装制御、ファームウェア実装制御、または他の制御、またはそれらの組み合わせ）ように構成された回路を含む。
【００４１】
一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、１つ以上の環境制御リザーバ、コンパートメント、容器、レセプタクル、カートリッジ、及び同様のものを含む。例えば、一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、１つ以上の温度制御細菌叢リザーバを含む。一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、抵抗加熱を使用してリザーバの温度を制御するように動作可能な少なくとも導電性トレースを含む。一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、ガス組成（例えば、１つ以上の構成成分のガスレベル、窒素レベル、酸素レベル、及び同様のもの）を変化させることによってリザーバの大気を制御するための少なくともガス流動システムを含む。
【００４２】
一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、細菌叢リザーバの温度を制御するように動作可能なマイクロクーラー、ペルチェマイクロクーラー、ペルチェ熱電気クーラー、薄膜平面ペルチェマイクロクーラー、Ｍｉｃｒｏｐｅｌｔ社製の熱発生器のうちの少なくとも１つを含む。一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、細菌叢リザーバの温度を制御するように動作可能な少なくとも１つの微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）微小毛細管ポンプ式ループ冷却デバイスを含む。例えば、米国特許第６，９７６，５２７号を参照されたい。一実施形態では、細菌叢播種アセンブリは、リザーバを用いて、栄養素、緩衝液組成物、溶媒、及び同様のものを細菌叢に送達する１つ以上のマイクロ流体構成要素を含む。
【００４３】
図３は、一実施形態に従う、プロセス３００を示す。第１のステップ３１０では、ＣＡＰ処置は、上述のデバイス１１０を使用して開始される。第２のステップ３２０では、プレ／プロまたはポストバイオティクス化合物が適用される。
【００４４】
第１のステップ３１０は、ある特定の微生物または細菌の排除を目的としている。例えば、Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ種またはＰｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｃｎｅｓ、さらにはＣａｎｄｉｄａ種またはＭａｌａｓｓｅｚｉａ種等の酵母等の様々な細菌種が、美容上の問題に関与する。図４Ａ及び図４Ｂは、菌株ならびにそれらのそれぞれの関連障害及び培養条件の非包括的リストを提供する。
【００４５】
［菌株における異なるＣＡＰデバイスの評価］
以下は、図４Ａ及び図４Ｂに示される異なる菌株における異なる型のＣＡＰデバイスを使用して行った評価の記述である。
【００４６】
上述の３つのプラズマデバイス、ｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤ、ＰｌａｓｍａＤｅｒｍ、及びＰｌａｓｍａ  Ｏｎｅを試験した。プラズマ処置は、多くの場合、時間依存的であると文献で説明されている。加えて、それらのプラズマデバイスパラメータの大半はフリーズされている（それらが商用デバイスであるため）。これらの理由により、可変パラメータとして時間を変化させることにした。各デバイスについて、我々は、３つの時間曝露値を決定した。
●時間１：推奨されている公称時間未満の最短時間
●時間２：デバイスの使用者ガイドに推奨されている公称時間
●時間３：デバイスの使用者ガイドに許容されている最長時間
【００４７】
ｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤの場合、他のデバイスとより良く比較するために第４の中間値（時間２ｂｉｓ：１分３０秒）を追加したことに留意されたい（表１）。他のパラメータを使用者ガイドに従って設定する。
【００４８】
【表１】
2020518559.tif 000003
【００４９】
プラズマ発生は、標的の性質に影響されたかもしれない。ｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤデバイス及びＰｌａｓｍａＤｅｒｍデバイスを、いくつかの種類の標的（支持体）を用いて分光法及び電気測定によって特徴付けた。皮膚支持体とアガロースゲル支持体との間で極めて同様の結果が観察され、アガロースゲルがこの研究に良好な基質選択であると結論付けた。Ｐｌａｓｍａ  Ｏｎｅは、この特徴付けには利用不可能であった。
【００５０】
試験した各菌株について、適切なアガロースゲル表面を、１０６ＣＦＵ２／ｍＬの較正懸濁液で満たす（均一な分布を確実にするために過剰な液体で満たす）ことによって播種する。接触の５分後に、過剰な液体を排除する。固体培地におけるアンチバイオグラム技法に似たこの播種技法により、インキュベーション後に均一な細胞マットの可視化が可能になる。プラズマの抗菌効果は、インキュベーション後の増殖阻害ゾーンの出現によって明らかになる。
【００５１】
１０６ＣＦＵ２／ｍＬでの微生物懸濁液の較正を前試験中に有効にして、均一な微生物マットを確実にしたことに留意されたい。ＰｌａｓｍａＤｅｒｍデバイスの評価のために使用したアガロースゲルプレートを大きいペトリ皿に注いで、基質をアプリケーターの寸法に適合させる。
【００５２】
特定の基準をこの評価のために確立した。
●効果なし（阻害ゾーンなし）
●低い効果（いくつかの阻害ゾーン）
●平均的な効果（処置ゾーンが部分的に阻害された）
●高い効果（阻害ゾーンがアプリケーターの寸法以上であった）
【００５３】
これらの基準に従って、菌株を、感受性のより高い試験菌株（ランク１）から感受性のより低い試験菌株（ランク１６）まで分類することができる。
【００５４】
ｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤ：
図５Ａに示されるように、ノズルとアガロースゲルプレートとの間の距離は、使用者ガイドに推奨されているように、スペーサ＋１ｍｍの距離で固定されている。処置は、技術の便宜上、静的である。使用した供給ガスは、５  ｌ／分のガス流のアルゴンである。時間曝露当たりの２つの試験（ｎ＝２）をこのデバイスで行った。
【００５５】
ＰｌａｓｍａＤｅｒｍ：
図５Ｂに示されるように、アプリケーターからの距離は、アプリケーターのスペーサによって決定される。アプリケーターは、皮膚への適用のために特別に設計されている。アプリケーターの（皮膚ではなく）アガロースゲルプレートでの使用に適合させるために、我々は、アプリケーターの修正を開始した。
●アガロースゲルプレートと接触しているプラズマ表面を拡大するために、スペーサコーンの大半を切断した。
●電極をプラスチック外板で補強した。
【００５６】
プラズマの良好な発生を可能にするために、アガロースゲルプレートを接地導電性金属板上に置く。時間曝露当たり１つのみの試験（ｎ＝１）をこのデバイスで行った（技術的及び組織的制約）。
【００５７】
Ｐｌａｓｍａ  Ｏｎｅ：
図５Ｃに示されるように、アプリケーターとアガロースゲルとの間の設定された距離は、アガロースゲルと接触することなくプラズマを発生させるための最小距離である。この距離は、デバイスの使用者ガイドに推奨されているように、約１ｍｍである。プラズマの良好な発生を可能にするために、アガロースゲルプレートを接地導電性金属板上に置く。時間曝露当たりの２つの試験（ｎ＝２）をこのデバイスで行った。
【００５８】
［評価結果］
ｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤ
図６Ａ〜６Ｃは、試験した各菌株のｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤ結果、有効性、及びランク付けを示す（ここに示される結果は、２つの独立した実験を代表するものである）。
【００５９】
全ての評価した種について、ｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤデバイスは、時間曝露について少なくとも１つの阻害領域に抗菌効果を有する。さらに、阻害領域の直径が曝露時間の関数として増加することがこのデバイスで明らかに観察された。阻害領域が処置の３分後にしか出現しないＭａｌａｓｓｅｚｉａ  ｆｕｒｆｕｒを除いて、全ての菌株が１５秒間の処置によって阻害される。
【００６０】
ＰｌａｓｍａＤｅｒｍ：
図７Ａ〜７Ｂは、試験した各菌株のＰｌａｓｍａＤｅｒｍ結果を示す。ＰｌａｓｍａＤｅｒｍは、２つの種、Ｐｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｃｎｅｓ（収集株及び野生株）及びＣａｎｄｉｄａ  ａｌｂｉｃａｎｓに高い抗菌効果を有する。他の試験した菌株について、阻害領域は、それらの菌株に従って、効果なし（Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ  ｆｕｒｕｒ）から平均的な効果（１分３０秒から）（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ  ｅｐｉｄｅｒｍｉｄｉｓ収集株）までの異なる効果レベルで部分的である。かなりの変動がこれらの結果で観察される。１つの可能な根本的原因は、修正を加えたにもかかわらず、アプリケーターの問題であり得る。アプリケーターをアガロースゲルへの照射に特化させたより良好な材料設定により、より良好な結果がもたらされ得る。菌株の選択の標的となる美容上の問題の観点から、このデバイスは、抗座瘡（Ｐｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｃｎｅｓ）及び腋臭（Ｃｏｒｙｎｅｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｘｅｒｏｓｉｓ及びＣｏｒｙｎｅｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｊｅｉｋｅｉｕｍ）用途により適しているように見える。
【００６１】
Ｐｌａｓｍａ  Ｏｎｅ：
図８Ａ〜８Ｃは、試験した各菌株のＰｌａｓｍａ  Ｏｎｅ結果を示す。Ｐｌａｓｍａ  Ｏｎｅによって発生したプラズマは、試験した全ての菌株において、曝露の３０秒以内にかなりの阻害領域を誘発する。抗菌効果は、１６個の菌株のうち１４個の菌株では高く、残り２つの菌株では平均である。Ｐｌａｓｍａ  Ｏｎｅの広範囲の作用により、この試験管内試験の標的となる全ての美容上の問題にとってこのデバイスが興味深い道具になる。Ｐｌａｓｍａ  Ｏｎｅを皮膚に使用している間、過度のまたは不快な加熱感覚が感じられたことは観察されなかった。
【００６２】
［評価観察］
試験条件下で、試験した３つのプラズマ源は、菌株に依存する有効性レベルで抗菌特性を示した。ＰｌａｓｍａＤｅｒｍの潜在能力は、座瘡及び脱臭障害で明らかになり、ｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤの潜在能力は、アトピー及び座瘡の問題で明らかになる。Ｐｌａｓｍａ  Ｏｎｅは、その広範囲の作用により、菌株の選択の標的となる全ての美容上の問題において興味深いものに見える。観察されたｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤの抗菌活性への温度の影響は、依然として決定されていない。抗菌効果が温度ではなくプラズマに起因することを確実にするために、使用者ガイドに推奨されている動的照射でｋＩＮＰｅｎ  ＭＥＤを用いた試験を行うことができる。実際に、動的処置により、処置中のアガロースゲル加熱が回避される。我々のＰｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ  ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ及びＣａｎｄｉｄａ  ａｌｂｉｃａｎｓの結果は、文献（Ａｔｍｏｓｐｈｅｒｉｃ  ｐｒｅｓｓｕｒｅ  ｎｏ  ｔｈｅｒｍａｌ  ｐｌａｓｍａｓ  ｆｏｒ  ｂａｃｔｅｒｉａｌ  ｂｉｏｆｉｌｍ  ｐｒｅｖｅｎｔｉｏｎ  ａｎｄ  ｅｒａｄｉｃａｔｉｏｎ，Ｓｖｅｔｌａｎａ  Ａ．Ｅｒｍｏｌａｅｖａ，２０１５）に記載されるように、コールド大気圧プラズマのこれらの細菌への有効性を裏付ける。次のプラズマ研究は、座瘡及びアトピー用途を標的とする、皮膚再建における複数菌株培養試験をテーマにする。
【００６３】
したがって、上記に基づいて、ステップ３１０は、ＣＡＰデバイスの型及び標的となる菌株に基づいて変化し得る。
【００６４】
ステップ３２０では、アプリケーター１２０は、上述の細菌叢播種アセンブリ構造であり得るが、この構造に限定されない。
【００６５】
使用者の皮膚または頭皮に照射される化合物の種類は、標的処置に基づいて変化する。以下は、本発明者が考慮した化合物要素及び因子のリストである。
【００６６】
温泉水
●例：Ｖｉｃｈｙ、Ｌａ  Ｒｏｃｈｅ−Ｐｏｓａｙ、Ｓｔ  Ｇｅｒｖａｉｓ、及び競合企業
【００６７】
炭素源
●以下の化合物の単糖または複合糖及びそれらのホモまたはヘテロポリマー：アドニトール、アミグダロシド、アラビノース、セロビオース、ズルシトール、エリトリトール、エスクリン、フルクトース、ガラクトース、グルコース、グリセロール、グリコーゲン、イノシトール、イヌリン、ラクトース、マルトース、マンニトール、マンノース、メレジトース、メリビオース、ラフィノース、ラムノース、リボース、サリシン、ソルビトール、ソルボース、デンプン（Ｓｔａｒｃｈ）（デンプン（ｓｔａｒｃｈ））、スクロース（Ｓｕｃｒｏｓｅ）（スクロース（ｓｕｃｒｏｓｅ））、トレハロース、キシロース、ならびにそれらのリン酸誘導体、硫酸化誘導体、またはプロキシランとしてキシロースで置換された誘導体
●二糖、三糖、及び多糖
●グリコーゲン、グルコースポリマー、及び後者の全てのポリマー
●異糖
●及びＣグリコシド
●ハチミツ、メープルシロップ、及び他の天然複合糖
●ポリヒドロキシブチラート及びその単量体
●ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ならびに乳酸及び解糖及びクレブス回路の酸を含む、ならびにＣ１８までの全ての脂肪、飽和または不飽和酸、それらのグリセリン誘導体及び誘導セルロース
●伝統的な類型であるＢｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ種及びＬａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ種、ならびにそれらの加水分解物
●天然皮膚フローラを構成する全細菌、例えば、Ｘａｎｔｈｏｍｏｎａｄａｃｅａｅ科等
●炭水化物及びそれらのポリマーに富んだ植物抽出物
●粒子状大気汚染
【００６８】
窒素源
●アンモニウム及び硝酸／亜硝酸の全ての誘導体
●水素化化合物、例えば、ｌがイオンアンモニウムＮＨ４＋、イオン試薬ＮＨ２−、２ＮＨＲ第一級アミン及び第二級Ｒ２ＮＨ、ＨＮ３、アジ化水素酸ヒドラジンＮ２Ｈ４
●酸素化化合物：ニトロシルＮ４Ｏアジド、亜硝酸窒素Ｎ２Ｏ、一酸化窒素ＮＯ、Ｎ２Ｏ３、二酸化窒素ＮＯ２、その四酸化二窒素二量体Ｎ２Ｏ４、バナジウム窒素Ｎ２Ｏ５、及び三酸化窒素ＮＯ３
●窒素オキソアニオン：イオン硝酸ＮＯ３−及び亜硝酸ＮＯ２−
●タウリン及びそれらのペプチドポリマー（ヘテロまたはホモ）を含む全てのアミノ酸
●貧栄養または富栄養バイオトープの温泉水、鉱水、及び飲用水または海中に含まれている細菌
●酵母、ペプトン（それらの起源及び処置にかかわらず）
●藻（マクロ及びマイクロ）及び植物抽出物
●尿素、インドール及びその誘導体
【００６９】
微量元素及びマクロ元素
●カルシウム、リン、カリウム、硫黄、ナトリウム、塩素、及びマグネシウム
●全ての鉱物誘導体（塩）、ならびに有機炭素、酸素、及び窒素、例えば、ＣａＣｌ２、ＭｇＳＯ４、ＮａＣｌ、ＭｎＳＯ４、リン酸．．．＋炭水化物
●微量元素：Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｍｏ、Ａｇ、ｔｏ、Ｃｄ、Ｓｎ、Ｉ、Ｌｉ、Ｃｌ、Ｈｇ、Ｐｂ、イットリウム、及びランタノン塩、例えば、硫酸塩、硝酸塩、及びリン酸塩、または塩化物塩
【００７０】
ビタミン及び誘導体
●ビタミンＫ、Ｂ８、及びＢ１２、チアミンリボフラビン、ニコチンアミド、パントテン酸、ピリドキシン及び誘導体、ビオチン、葉酸、シアノコバラミン、ならびにアスコルビン酸
●カロチノイド及びそれらの誘導体、レチノール及びその誘導体、カルシトリオール、トコフェロール、トコトリエノール、フィロキノン、メナキノン（ビタミンＫ２）、ならびに補酵素Ｑ８及びＱ１０
●カルニチン、オロチン酸、パラアミノ安息香酸及びその誘導体、ビール酸、ジメチルグリシン、ならびにレアトリル（アミグダリン）
【００７１】
プロバイオティクス、それらの細菌免疫調節及び溶解物
●ＶｆのＬＰＳ
●乳酸菌（ＣＮＣＭ  Ｉ−１２２５  ｇｏｌｄ  ＣＮＣＭ  １−２１１６）
●皮膚グラム陽性細菌
●以下の属の酵母：Ｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ、Ｙａｒｒｏｗｉａ、Ｋｌｕｙｖｅｒｏｍｙｃｅｓ、Ｓｏｌａｒｉｚｅｄ、Ｓｃｈｉｚｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ  ｐｏｍｂｅ、Ｄｅｂａｒｏｍｙｃｅｓ、Ｐｉｃｈｉａ、Ｃａｎｄｉｄａ、Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ、及びＰｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ；ならびに以下の属の細菌：Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ、Ｂａｃｔｅｒｏｉｄｅｓ、Ｆｕｓｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ、Ｍｅｌｉｓｓｏｃｏｃｃｕｓ、Ｐｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ、Ｅｎｔｅｒｏｃｏｃｃｕｓ、Ｌａｃｔｏｃｏｃｃｕｓ、Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ、Ｐｅｐｔｏｓｔｒｅｐｏｃｏｃｃｕｓ、Ｂａｃｉｌｌｕｓ、Ｐｅｄｉｏｃｏｃｃｕｓ、Ｍｉｃｒｏｃｏｃｃｕｓ、Ｌｅｕｃｏｎｏｓｔｏｃ、Ｗｅｉｓｓｅｌｌａ、Ａｅｒｏｃｏｃｃｕｓ、Ｏｅｎｏｃｏｃｃｕｓ、及びＬａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ、ならびにそれらの混合物
●より具体的には、以下の属種：Ｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ  ｃｅｒｅｖｉｓｅａｅ、ｌｉｐｏｌｉｔｉｃａ  Ｙａｒｒｏｗｉａ、Ｋｌｕｙｖｅｒｏｍｙｃｅｓ  ｌａｃｔｉｓ、Ｓｏｌａｒｉｚｅｄ、Ｓｃｈｉｚｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ  ｐｏｍｂｅ、Ｃａｎｄｉｄａ、Ｐｉｃｈｉａ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｂｉｆｉｄｕｍ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｂｒｉｅｆ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｌｏｎｇｕｍ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｎｉｍａｌｉｓ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｌａｃｔｉｓ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｉｎｆａｎｔｉｓ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｄｏｌｅｓｃｅｎｔｉｓ、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｐｓｅｕｄｏｃａｔｅｎｕｌａｔｕｍ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ａｃｉｄｏｐｈｉｌｕｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ａｌｉｍｅｎｔａｒｉｕｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃａｓｅｉ亜種、Ｃａｓｅｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃａｓｅｉ  Ｓｈｉｒｏｔａ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｐａｒａｃａｓｅｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃｕｒｖａｔｕｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｄｅｌｂｒｕｃｋｉｉ亜種、Ｌａｃｔｉｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｇａｓｓｅｒｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｊｏｈｎｓｏｎｉｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｒｅｕｔｅｒｉ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｒｈａｍｎｏｓｕｓ、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｓａｋｅ、Ｌａｃｔｏｃｏｃｃｕｓ  ｌａｃｔｉｓ、Ｓｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ  ｔｈｅｒｍｏｐｈｉｌｅｓ、Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｃｕｓ  ｃａｒｎｏｓｕｓ、及びＳｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ  ｘｙｌｏｓｕｓ、ならびにそれらの混合物
●具体的には、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｊｏｈｎｓｏｎｉｉ（ＣＮＣＭ  Ｉ−１２２５）、Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｐａｒａｃａｓｅｉ（ＣＮＣＭ  Ｉ−２１１６）、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｄｏｌｅｓｃｅｎｔｉｓ（ＣＮＣＭ  Ｉ−２１６８）、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｌｏｎｇｕｍ（ＣＮＣＭ  Ｉ−２１７０）、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｌａｃｔｉｓ（ＣＮＣＭ  Ｉ−３４４６）、Ｂｉｆｉｄｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｌｏｎｇｕｍ（ＢＢ５３６）、及びそれらの混合物
●Ｎｅｉｓｓｅｒｉａｃｅａｅ科の細菌
●温泉水で増殖した細菌（Ｌａ  Ｒｏｃｈｅ−Ｐｏｓａｙ（ｃｆ  ７９２０３）、Ｓａｉｎｔ  ＧｅｒｖａｉｓまたはＶｉｃｈｙ）
【００７２】
考慮すべき物理的要因
●ｐＨ、温度、塩分、ａｗ（塩分、糖、吸湿体、尿素、グリセロールに影響される水（自由水）の活性）、または皮膚の酸素化。我々は、ａｗが０，８３超である場合にＳ．ａｕｒｅｕｓが増殖することができ、ａｗが０，８７超である場合にＳ．ｅｐｉｄｅｒｍｉｄｉｓが増殖することができると認識している。我々がａｗを０，８５で制御した場合、Ｓ．ａｕｒｅｕｓのみが増殖することができるが、我々がａｗを０，８７超に上昇させた場合、Ｓ．ｅｐｉｄｅｒｍｉｄｉｓはＳ．ａｕｒｅｕｓと競合する。同様に、Ｐ．ａｃｎｅｓ等の嫌気性細菌は、酸素なしのガス環境下での増殖をうまく利用する。
【００７３】
上記の方法が２つの別個のデバイスを含むシステムで行われると記載されているが、各デバイス１１０及び１２０の構造的特徴を組み込む単一のデバイスが使用されてもよい。加えて、システム１００の各デバイスが、外部コンピュータ、処理回路、デバイス、またはネットワークに接続されてもよい。
【００７４】
一例では、通信インターフェース（Ｉ／Ｆ）が、クライアントデバイス（外部コンピュータまたはモバイルデバイス等）との通信のための回路及びハードウェアを含み得るシステム内に提供され得る。通信インターフェースは、ネットワークとインターフェースをとるためのＢＣＭ４３３４２  Ｗｉ−Ｆｉ、周波数変調、及びＢｒｏａｄｃｏｍ社製のＢｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）コンボチップ等のネットワーク制御装置を含み得る。ハードウェアは、小型化のために設計され得る。例えば、プロセッサは、当該技術分野で理解されているＣＰＵであり得る。例えば、プロセッサは、Ａｐｐｌｅ  Ｉｎｃ．社製のＡＰＬ０７７８であり得るか、または当業者に認識されるであろう他の種類のプロセッサであり得る。あるいは、ＣＰＵは、ＦＰＧＡ、ＡＳＩＣ、ＰＬＤに実装され得るか、または当業者が認識するであろう別々の論理回路を使用し得る。さらに、ＣＰＵは、上述の発明プロセスの指示の実行と並行して協働する複数のプロセッサとして実装され得る。クライアントデバイスも、上述の同様の回路及びハードウェアを有し得る。
【００７５】
一実施形態では、システムは、システム（または各デバイス）の筐体上の入力ボタンの形態であり得るか、または容量性もしくは抵抗性タッチスクリーンディスプレイ等のコンタクトセンシティブディスプレイの形態であり得るユーザインターフェースを含み得る。
【００７６】
一実施形態では、システムは、スタイリングツールを制御するか、またはユーザデータもしくは他の情報を記憶するためのソフトウェアを格納するメモリを含み得る。
【００７７】
一実施形態では、外部クライアントデバイスのオペレーティングシステムは、複数の機能を実行するように構成されたユーザインターフェースを有し得る。一態様では、クライアントデバイスは、ネットワークと通信しており、インターネット、ならびにモノのインターネット（ＩＯＴ）へのユーザインターフェースアクセスを可能にし得る。理解され得るように、ネットワークは、インターネット等のパブリックネットワーク、またはＬＡＮもしくはＷＡＮネットワーク等のプライベートネットワーク、またはそれらの任意の組み合わせであり得、ＰＳＴＮまたはＩＳＤＮサブネットワークも含み得る。ネットワークは、イーサネット（登録商標）ネットワーク等の有線である場合もあり、またはＥＤＧＥ、３Ｇ、及び４Ｇ無線セルラーシステムを含むセルラーネットワーク等の無線であってもよい。無線ネットワークは、ＷｉＦｉ、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）、または既知の任意の他の通信無線形態である場合もある。一例では、ネットワークは、媒体をホストするサーバ、プロトコル、製品、個人アカウント、記憶された使用データ、及びシステムに関する他のデータにアクセスすることができる。
【００７８】
本開示の原理、代表的な実施形態、及び実施例が、前述の説明に記載されている。しかしながら、保護されるよう意図されている本開示の態様は、開示される特定の実施形態に限定されると解釈されるべきではない。さらに、本明細書に記載の実施形態は、制限するものではなく例証するものと見なされるべきである。本開示の趣旨から逸脱することなく、変化及び変更が他者によって加えられてもよく、等価物が用いられてもよいことが理解される。したがって、全てのかかる変化、変更、及び等価物が、特許請求される本開示の趣旨及び範囲内にあることが明確に意図されている。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【国際調査報告】
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