(57)【要約】本発明は、ウィンドウと、ウィンドウのいずれか一方の面上に偏光層とタッチセンサ層とを含む光学積層体を提供する。光学積層体は、柔軟性および機械的信頼性を有し、フレキシブルディスプレイを含む画像表示装置のウィンドウ基板として効果的に適用することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウィンドウと、
前記ウィンドウのいずれか一方の面上に偏光層とタッチセンサ層とを含む、光学積層体。
【請求項２】
前記ウィンドウは、一方の面および他方の面を含み、
前記偏光層及び前記タッチセンサ層は、前記一方の面上に積層され、前記他方の面は視認側に配置される、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
下記数式１を満たす、請求項１に記載の光学積層体。
[数式１]
３００Ｍｐａ％≦修正靭性
（数式１中、前記修正靭性は、ウィンドウ積層体の応力−ひずみ曲線（stress−strain curve）の破壊点における応力（Ｍｐａ）とひずみ（％）の積である。）
【請求項４】
前記修正靭性は４００Ｍｐａ％以上である、請求項３に記載の光学積層体。
【請求項５】
前記修正靭性は１，０００Ｍｐａ％以下である、請求項３に記載の光学積層体。
【請求項６】
前記ウィンドウは、高分子材質の光学基材を含む、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項７】
前記ウィンドウは、前記光学基材の一方の面または両面上にハードコート層をさらに含む、請求項６に記載の光学積層体。
【請求項８】
前記ウィンドウは、前記光学基材の一方の面または両面上に機能層をさらに含む、請求項６に記載の光学積層体。
【請求項９】
前記機能層は、紫外線遮断層、飛散防止層または指紋防止層の少なくとも一つを含む、請求項８に記載の光学積層体。
【請求項１０】
前記ウィンドウの前記一方の面の外郭部上に遮光パターンをさらに含む、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項１１】
前記遮光パターンは、前記偏光層又は前記タッチセンサ層と同じレベルに位置する、請求項１０に記載の光学積層体。
【請求項１２】
前記ウィンドウの修正靭性は１０，０００Ｍｐａ％以上である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項１３】
前記ウィンドウは、３８０ｎｍの紫外線波長に対して１５％以下の透過率を有する、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項１４】
前記ウィンドウは、１ｋｇ荷重において３Ｈ以上の鉛筆硬度を有する、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項１５】
前記ウィンドウのマルテンス硬度は、１０ｍＮ荷重において２００Ｎ／ｍｍ２以上である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項１６】
前記ウィンドウは、下記数式２を満たす、請求項１に記載の光学積層体。
[数式２]
（摩擦係数／水接触角）*１，０００≦２．５／ｄｅｇｒｅｅ（°）
【請求項１７】
前記偏光層は、延伸型またはコーティング型の偏光子を含む、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項１８】
前記偏光層は、前記偏光子の一方の面または前記一方の面と対向する他方の面の少なくともいずれか一方の面上に保護フィルムをさらに含む、請求項１７に記載の光学積層体。
【請求項１９】
前記保護フィルムは、位相差フィルムを含む、請求項１８に記載の光学積層体。
【請求項２０】
前記保護フィルムは、前記偏光子の両面上にそれぞれ形成される第１の保護フィルム及び第２の保護フィルムを含み、
前記第２の保護フィルムは、前記位相差フィルムである、請求項１９に記載の光学積層体。
【請求項２１】
前記コーティング型偏光子は、液晶層を含む、請求項１７に記載の光学積層体。
【請求項２２】
前記液晶層は、前記ウィンドウと接触する、請求項２１に記載の光学積層体。
【請求項２３】
前記コーティング型偏光子は、前記ウィンドウと前記液晶層との間に配向膜をさらに含む、請求項２１に記載の光学積層体。
【請求項２４】
前記コーティング型偏光子は、前記液晶層上にオーバーコート層をさらに含む、請求項２１に記載の光学積層体。
【請求項２５】
前記偏光層の偏光度は９５％以上である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項２６】
前記偏光層の光透過率は４２％以上である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項２７】
前記偏光層の収縮力は１．５Ｎ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項２８】
前記タッチセンサ層は、電極を含む、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項２９】
前記タッチセンサ層は、基材をさらに含み、
前記電極は、前記基材の上面に形成される、請求項２８に記載の光学積層体。
【請求項３０】
前記電極は、前記ウィンドウまたは前記偏光層上に直接形成される、請求項２８に記載の光学積層体。
【請求項３１】
前記電極は、互いに交差する方向に配列される第１の電極及び第２の電極を含む、請求項２８に記載の光学積層体。
【請求項３２】
前記第１の電極は、前記偏光層の上面上に配置され、
前記第２の電極は、前記偏光層の下面上に配置される、請求項３１に記載の光学積層体。
【請求項３３】
前記電極は、５００Ω／□以下の面抵抗を有する、請求項２８に記載の光学積層体。
【請求項３４】
前記電極は、１．５ｎｍ以下の表面粗さを有する、請求項２８に記載の光学積層体。
【請求項３５】
前記電極の屈折率は、１．３〜２．５である、請求項２８に記載の光学積層体。
【請求項３６】
前記タッチセンサ層の光透過率は８５％以上である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３７】
前記偏光層及び前記タッチセンサ層は、前記ウィンドウの前記一方の面から順次配置される、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３８】
前記タッチセンサ層及び前記偏光層は、前記ウィンドウの前記一方の面から順次配置される、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３９】
前記ウィンドウと前記偏光層との間、前記ウィンドウと前記タッチセンサ層との間、または前記偏光層と前記タッチセンサ層との間の少なくとも一つに配置された粘接着層をさらに含む、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項４０】
請求項１〜３９のいずれか一項に記載の光学積層体を含む、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光層及びタッチセンサ一体型光学積層体、並びにそれを含む画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、画像イメージを含む情報を表示できる表示装置が活発に開発されている。前記表示装置は、液晶表示（liquid crystal display：ＬＣＤ）装置、有機発光表示（organic light emitting display：ＯＬＥＤ）装置、プラズマ表示（plasma display panel：ＰＤＰ）装置、および電界放出表示（field emission display：ＦＥＤ）装置などを含む。
【０００３】
前記表示装置では、例えば、ＬＣＤパネル及びＯＬＥＤパネルなどの表示パネルの上部に、外部環境から前記表示パネルを保護するためのウィンドウ基板が配置され得る。前記ウィンドウ基板は、ガラス材料で形成され、最近のフレキシブルディスプレイの開発に伴い、前記ウィンドウ基板として透明プラスチック材料が活用されている。
【０００４】
また、前記ウィンドウ基板と前記表示パネルとの間には、偏光板、タッチスクリーンパネルのような表示装置の追加部材を配置することができる。前記偏光板によって、例えば、前記表示パネルの電極パターンから反射された外光を遮断することができる。また、前記タッチスクリーンパネルによって、ユーザのコマンドを画面を通して入力することができる。
【０００５】
しかし、前記表示パネル上に前記偏光板、タッチスクリーンパネル、ウィンドウ基板などの複数の層または構造物が積層されることによって、フレキシブル特性の向上、薄型化のような最近の表示装置に求められる要件を十分に実現するには限界がある。また、前記複数の層または構造物が積層されることによって、機械的強度および安定性を維持しつつ十分な柔軟性を容易に確保することができなくなる。
【０００６】
例えば、韓国公開特許第２０１２−００７６０２６号には、偏光板を含むタッチスクリーンパネルを含む透明基板が開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、機械的信頼性およびフレキシブル特性が向上した光学積層体を提供することである。
【０００８】
また、本発明の課題は、機械的信頼性およびフレキシブル特性が向上した光学積層体を含む画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
１．ウィンドウと、前記ウィンドウのいずれか一方の面上に偏光層とタッチセンサ層とを含む、光学積層体。
【００１０】
２．前記項目１において、前記ウィンドウは、一方の面および他方の面を含み、前記偏光層及び前記タッチセンサ層は、前記一方の面上に積層され、前記他方の面は視認側に配置される、光学積層体。
【００１１】
３．前記項目１において、下記数式１を満たす光学積層体。
[数式１]
３００Ｍｐａ％≦修正靭性
（数式１中、前記修正靭性は、ウィンドウ積層体の応力−ひずみ曲線（stress−strain curve）の破壊点における応力（Ｍｐａ）とひずみ（％）の積である。）
【００１２】
４．前記項目３において、前記修正靭性は４００Ｍｐａ％以上である、光学積層体。
【００１３】
５．前記項目３において、前記修正靭性は１，０００Ｍｐａ％以下である、光学積層体。
【００１４】
６．前記項目１において、前記ウィンドウは、高分子材質の光学基材を含む、光学積層体。
【００１５】
７．前記項目６において、前記ウィンドウは、前記光学基材の一方の面または両面上にハードコート層をさらに含む、光学積層体。
【００１６】
８．前記項目６において、前記ウィンドウは、前記光学基材の一方の面または両面上に機能層をさらに含む、光学積層体。
【００１７】
９．前記項目８において、前記機能層は、紫外線遮断層、飛散防止層または指紋防止層の少なくとも一つを含む、光学積層体。
【００１８】
１０．前記項目１において、前記ウィンドウの前記一方の面の外郭部上に遮光パターンをさらに含む、光学積層体。
【００１９】
１１．前記項目１０において、前記遮光パターンは、前記偏光層又は前記タッチセンサ層と同じレベルに位置する、光学積層体。
【００２０】
１２．前記項目１において、前記ウィンドウの修正靭性は１０，０００Ｍｐａ％以上である、光学積層体。
【００２１】
１３．前記項目１において、前記ウィンドウは、３８０ｎｍの紫外線波長に対して１５％以下の透過率を有する、光学積層体。
【００２２】
１４．前記項目１において、前記ウィンドウは、１ｋｇ荷重において３Ｈ以上の鉛筆硬度を有する、光学積層体。
【００２３】
１５．前記項目１において、前記ウィンドウのマルテンス硬度は、１０ｍＮ荷重において２００Ｎ／ｍｍ２以上である、光学積層体。
【００２４】
１６．前記項目１において、前記ウィンドウは、下記数式２を満たす、光学積層体。
[数式２]
（摩擦係数／水接触角）*１，０００≦２．５／ｄｅｇｒｅｅ（°）
【００２５】
１７．前記項目１において、前記偏光層は、延伸型またはコーティング型の偏光子を含む、光学積層体。
【００２６】
１８．前記項目１７において、前記偏光層は、前記偏光子の一方の面または前記一方の面と対向する他方の面の少なくともいずれか一方の面上に保護フィルムをさらに含む、光学積層体。
【００２７】
１９．前記項目１８において、前記保護フィルムは、位相差フィルムを含む、光学積層体。
【００２８】
２０．前記項目１９において、前記保護フィルムは、前記偏光子の両面上にそれぞれ形成された第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルムを含み、前記第２の保護フィルムは、前記位相差フィルムである、光学積層体。
【００２９】
２１．前記項目１７において、前記コーティング型偏光子は、液晶層を含む、光学積層体。
【００３０】
２２．前記項目２１において、前記液晶層は、前記ウィンドウと接触する、光学積層体。
【００３１】
２３．前記項目２１において、前記コーティング型偏光子は、前記ウィンドウと前記液晶層との間に配向膜をさらに含む、光学積層体。
【００３２】
２４．前記項目２１において、前記コーティング型偏光子は、前記液晶層上にオーバーコート粘着層をさらに含む、光学積層体。
【００３３】
２５．前記項目１において、前記偏光層の偏光度は４２％以上である、光学積層体。
【００３４】
２６．前記項目１において、前記偏光層の光透過率は９５％以上である、光学積層体。
【００３５】
２７．前記項目１において、前記偏光層の収縮力は１．５Ｎ以下である、光学積層体。
【００３６】
２８．前記項目１において、前記タッチセンサ層は、電極を含む、光学積層体。
【００３７】
２９．前記項目２８において、前記タッチセンサ層は、基材をさらに含み、前記電極は、前記基材の上面に形成される、光学積層体。
【００３８】
３０．前記項目２８において、前記電極は、前記ウィンドウまたは前記偏光層上に直接形成される、光学積層体。
【００３９】
３１．前記項目２８において、前記電極は、互いに交差する方向に配列される第１の電極及び第２の電極を含む、光学積層体。
【００４０】
３２．前記項目３１において、前記第１の電極は、前記偏光層の上面上に配置され、前記第２の電極は、前記偏光層の下面上に配置される、光学積層体。
【００４１】
３３．前記項目２８において、前記電極は、５００Ω／□以下の面抵抗を有する、光学積層体。
【００４２】
３４．前記項目２８において、前記電極は、１．５ｎｍ以下の表面粗さを有する、光学積層体。
【００４３】
３５．前記項目２８において、前記電極の屈折率は１．３〜２．５である、光学積層体。
【００４４】
３６．前記項目１において、前記タッチセンサ層の光透過率は８５％以上である、光学積層体。
【００４５】
３７．前記項目１において、前記偏光層及び前記タッチセンサ層は、前記ウィンドウの前記一方の面から順次配置される、光学積層体。
【００４６】
３８．前記項目１において、前記タッチセンサ層及び前記偏光層は、前記ウィンドウの前記一方の面から順次配置される、光学積層体。
【００４７】
３９．前記項目１において、前記ウィンドウと前記偏光層との間、前記ウィンドウと前記タッチセンサ層との間、または前記偏光層と前記タッチセンサ層との間の少なくとも一つに配置される粘接着層をさらに含む、光学積層体。
【００４８】
４０．前記項目１〜３９のいずれか一つに記載の光学積層体を含む、画像表示装置。
【発明の効果】
【００４９】
本発明の実施形態に係る光学積層体は、ウィンドウ、偏光層およびタッチセンサ層を一体に結合して画像表示装置に適用することができる。これにより、フレキシブルディスプレイに適用される各層の機械的物性を一括して制御することができ、破断、クラックなどの発生が抑制され、好適な柔軟性を有する光学積層体を容易に高信頼性で実現することができる。
【００５０】
例示的な実施形態によると、前記光学積層体は、特定の数値以上の破壊点における応力とひずみの積で定義される修正靭性を有することができる。これにより、曲げ、フォールディングなどの動作を繰り返したときにも層間剥離、クラック、破れなどの不具合を抑制することができる。
【００５１】
また、前記光学積層体は、前記偏光層及び前記タッチセンサ層を一体化することにより、薄型のフレキシブルディスプレイに効果的に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】図１は、本発明の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図２ａ】図２ａは、本発明の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図２ｂ】図２ｂは、本発明の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図３】図３は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図４】図４は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図５】図５は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図６】図６は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図７】図７は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図８】図８は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図９】図９は、一部の例示的な実施形態に係るタッチセンサ層の構造を示す概略断面図である。
【図１０】図１０は、一部の例示的な実施形態に係るタッチセンサ層の構造を示す概略断面図である。
【図１１】図１１は、一部の例示的な実施形態に係るタッチセンサ層の電極配列を示す概略断面図である。
【図１２】図１２は、本発明の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す断面図である。
【図１３】図１３は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図１４】図１４は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図１５】図１５は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図１６】図１６は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図１７】図１７は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【図１８】図１８は、例示的な実施形態に係る光学積層体の修正靭性を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００５３】
本発明は、その実施形態によると、ウィンドウと、前記ウィンドウのいずれか一方の面上に偏光層とタッチセンサ層とを含む光学積層体を提供する。前記光学積層体は、偏光層及びタッチセンサ層を一体化し、例えば、特定の閾値以上の修正靭性を有し、向上した柔軟性および耐久性を有することができる。本発明の実施形態はまた、前記光学積層体を含む画像表示装置を提供する。
【００５４】
以下、図面を参照して、本発明をより具体的に説明する。本発明の好適な実施例を提示するが、これらの実施例は本発明を例示するものに過ぎず、添付の特許請求の範囲を制限するものではない。これらの実施例に対し、本発明の範疇および技術思想の範囲内で種々の変更および修正を加えることが可能であることは当業者にとって明らかであり、これらの変形および修正が添付の特許請求の範囲に属することも当然のことである。
【００５５】
＜光学積層体＞
図１、図２ａ及び図２ｂは、本発明の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。前記光学積層体は、例えば、フレキシブルディスプレイなどの画像表示装置のウィンドウ積層体として適用することができる。
【００５６】
図１を参照すると、前記光学積層体は、ウィンドウ１００、並びにウィンドウ１００の一方の面上に配置された偏光層１１０及びタッチセンサ層１３０を含むことができる。
【００５７】
ウィンドウ１００は、前記光学積層体のウィンドウフィルムまたは光学基材として提供することができる。前記光学基材は、例えば、ＬＣＤ装置、ＯＬＥＤ装置、タッチスクリーンパネル（ＴＳＰ）などに適用され、外部衝撃に対する耐久性、ユーザが視認できる透明性を有する材質を含むことができる。また、前記光学基材は、所定の柔軟性を有するプラスチック材質、または高分子材質を含むことができる。この場合、前記光学積層体が適用された表示装置は、フレキシブルディスプレイで提供することができる。
【００５８】
例えば、前記光学基材は、ポリイミド（polyimide：ＰＩ）、ポリエーテルスルホン（polyethersulphone：ＰＥＳ）、ポリアクリレート（polyacrylate：ＰＡＲ）、ポリエーテルイミド（polyetherimide：ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタレート（polyethyelenen napthalate：ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、polyethyelene terepthalate）、ポリフェニレンスルファイド（polyphenylene sulfide：ＰＰＳ）、ポリアリレート（polyallylate）、ポリカーボネート（ＰＣ、polycarbonate）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（cellulose acetate propionate：ＣＡＰ）などを含むことができる。これらは、単独であるいは２以上を組み合わせて使用することができる。
【００５９】
ウィンドウ１００は、一方の面１００ｂおよび他方の面１００ａを含む。例えば、一方の面１００ｂおよび他方の面１００ａは、それぞれウィンドウ１００の上面および下面に相当し得る。
【００６０】
ウィンドウ１００の他方の面１００ａは、前記光学積層体が画像表示装置に適用される場合、ユーザの視認側に配置することができる。例えば、ウィンドウ１００の他方の面１００ａ側でユーザに画像が具現され、ユーザのコマンド（例えば、タッチにより）を入力することができる。ウィンドウ１００の一方の面１００ｂは、例えば表示パネルと対向し、一方の面１００ｂ上に前記光学積層体の追加の膜及び／又は構造物を積層または配置することができる。
【００６１】
図１に示すように、ウィンドウ１００の一方の面１００ｂ上に偏光層１１０を配置し、偏光層１１０上にタッチセンサ層１３０を配置することができる。
【００６２】
偏光層１１０は、延伸型またはコーティング型の偏光子を含むことができる。偏光層１１０上にはタッチセンサ層１３０を接合することができる。タッチセンサ層１３０は、ウィンドウ１００の他方の面１００ａを通して入力されたユーザのタッチ信号を電気信号に変換するための電極パターンを含むことができる。タッチセンサ層１３０の構成の詳細については、図９及び図１０を参照して後述する。
【００６３】
例示的な実施形態によると、偏光層１１０とウィンドウ１００との間、またはタッチセンサ層１３０と偏光層１１０との間の少なくとも一つに粘接着層を形成することができる。
【００６４】
本発明で使用される用語「粘接着層」は、粘着層および接着層を包括する意味で使用される。粘接着層は、感圧性の粘接着剤（pressure sensitive adhesive：ＰＳＡ）組成物または光学透明粘接着剤（optically clear adhesive：OCA）組成物を用いて形成することができる。
【００６５】
一部の実施形態では、図６に示すように、偏光層１１０とウィンドウ１００との間に第１の粘接着層１２０ａを形成することができる。一実施形態では、第１の粘接着層１２０ａをウィンドウ１００の一方の面１００ｂ上に形成した後、偏光層１１０を第１の粘接着層１２０ａを介してウィンドウ１００と接合することができる。一実施形態では、偏光層１１０上に第１の粘接着層１２０ａを形成した後、ウィンドウ１００と接合することもできる。
【００６６】
一部の実施形態において、タッチセンサ層１３０は、図８に示すように第２の粘接着層１２０ｂを介して偏光層１１０と接合することができる。
【００６７】
前記粘接着層は、前記光学積層体に屈曲があったときに剥離、気泡などが発生しないように、適切な粘着力を有するとともに、フレキシブルディスプレイに適用可能な粘弾性特性を有することができる。一部の実施形態では、前述の側面を考慮して、前記粘接着層は、アクリレート系のＰＳＡ組成物を用いて形成することができる。例えば、前記ＰＳＡ組成物は、（メタ）アクリル酸エステル共重合体、架橋剤および溶剤を含むことができる。
【００６８】
前記架橋剤の種類は、特に制限されるものではなく、当該技術分野で常用されるものを適宜選択して使用することができる。例えば、前記架橋剤は、ポリイソシアネート化合物、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ジアルデヒド類、メチロールポリマーなどを含むことができ、好ましくは、ポリイソシアネート化合物を用いることができる。
【００６９】
前記溶剤は、樹脂組成物の分野で使用される通常の溶媒を含むことができ、例えば、アルコール系（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールメトキシアルコールなど）、ケトン系（メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトンなど）、アセテート系（メチルアセテート、エチルアセテート、ブチルアセテート、プロピレングリコールメトキシアセテートなど）、セロソルブ系（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブなど）、炭化水素系（ノーマルヘキサン、ノーマルヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど）などの溶媒を使用することができる。これらは、単独であるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００７０】
図２ａを参照すると、ウィンドウ１００は、ハードコート層１０４をさらに含むことができる。例示的な実施形態によると、ウィンドウ１００は、前述した光学基材１０２およびハードコート層１０４の積層構造を含むことができる。
【００７１】
例えば、光学基材１０２は、一方の面１０２ｂおよび他方の面１０２ａを含み、ハードコート層１０４は、光学基材１０２の他方の面１０２ａ上に形成することができる。この場合には、ユーザの視認側にハードコート層１０４の表面が露出し得る。偏光層１１０およびタッチセンサ層１３０は、光学基材１０２の一方の面１０２ｂ上に積層することができる。
【００７２】
ハードコート層１０４は、光硬化性化合物、光開始剤および溶剤を含むハードコート組成物を用いて形成し、これにより、ウィンドウ１００の優れた柔軟性、耐摩耗性、表面硬度をさらに確保することができる。
【００７３】
前記光硬化性化合物は、例えば、シロキサン系化合物、アクリレート系化合物、（メタ）アクリロイル基またはビニル基を有する化合物などを含むことができる。これらは、単独であるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００７４】
前記シロキサン系化合物の例としては、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）系化合物を含むことができる。前記シロキサン系化合物は、グリシジル基のようなエポキシ基を含有することができる。これにより、光照射によってエポキシ開環による架橋または硬化反応を促進することができる。
【００７５】
前記アクリレート系化合物の例としては、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、オキシエチレン基を含む（メタ）アクリレート、エステル（メタ）アクリレート、エーテル（メタ）アクリレート、およびエポキシ（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００７６】
前記（メタ）アクリロイル基またはビニル基を有する化合物の例としては、（メタ）アクリル酸エステル、Ｎ−ビニル化合物、ビニル−置換芳香族化物、ビニルエーテル、およびビニルエステルなどが挙げられる。
【００７７】
前記光開始剤は、例えば、可視光線、紫外線、Ｘ線または電子線などの活性エネルギー線の照射により、イオン、ルイス酸またはラジカルを発生して前記光硬化性化合物の重合反応を開始するものであれば特に制限されない。前記光開始剤の例としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩などのオニウム塩、アセトフェノン類化合物、ベンゾイン類化合物、ベンゾフェノン類化合物、チオキサントン類化合物などが挙げられる。
【００７８】
前記溶剤としては、前記ＰＳＡ組成物で使用されたものと実質的に同一または類似の溶媒を使用することができ、特に制限されるものではない。
【００７９】
一部の実施形態において、前記ハードコート組成物は、紫外線吸収剤をさらに含んでいてもよい。前記紫外線吸収剤は、約３８０ｎｍ以下の紫外線波長を吸収できる化合物であれば、特に制限なく使用することができる。一部の実施形態において、前記紫外線吸収剤は、ベンゾオキサジノン（benzoxazinone）系化合物、トリアジン（triazine）系化合物、ベンゾトリアゾール（benzotriazole）系化合物、またはベンゾフェノン（benzophenone）系化合物を含むことができる。これらは、単独であるいは２以上を組み合わせて使用することができる。これにより、ハードコート層１０４によって紫外線透過率が減少し、前記光学積層体の光学特性、可視光線透過度を向上することができる。
【００８０】
図１及び図２ａに示すように、ウィンドウ１００として、光学基材１０２の単層構造を適用してもよく、ハードコート層１０４および光学基材１０２の複層構造を適用してもよい。
【００８１】
一部の実施形態において、ウィンドウ１００は、光学基材１０２の一方の面１０２ｂ上に形成された追加的なハードコート層をさらに含んでもよい。この場合、ウィンドウ１００は、第１のハードコート層−基材フィルム−第２のハードコート層の積層構造を含むことができる。
【００８２】
図２ｂを参照すると、ウィンドウ１００は、紫外線遮断層、飛散防止層、指紋防止層などの画像表示装置に適用される少なくとも１種の機能層をさらに含んでもよい。一部の実施形態では、光学基材１００の他方の面１０２ａ上に、図２ａに示すハードコート層１０４および機能層１０４ａを含む積層構造を配置することもできる。
【００８３】
図３〜図７は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【００８４】
図３を参照すると、偏光層はコーティング型偏光子を含むことができる。例えば、偏光層は、液晶層１１０ａを含むことができる。
【００８５】
一部の実施形態において、液晶層１１０ａは、液晶コーティング用組成物をウィンドウ１００の一方の面１００ｂ上に塗布して形成することができる。この場合には、液晶層１１０ａは、ウィンドウ１００と直接接触することができる。前記液晶コーティング用組成物は、反応性液晶化合物および二色性染料を含むことができる。
【００８６】
前記反応性液晶化合物は、液晶性を発現できる反応性メソゲン（Reactive Mesogen：ＲＭ）、および重合可能な末端官能基を含み、熱または光による架橋反応後、液晶相を有する単量体分子を含むことができる。前記反応性液晶化合物が光または熱によって重合されると、液晶配列を維持しつつ高分子ネットワークを形成することができる。前述した反応性液晶化合物を用いることにより、液晶の光学異方性や誘電率特性を維持しつつ、機械的、熱的安定性が向上した薄膜状の偏光子を形成することができる。
【００８７】
前記二色性染料は、液晶コーティング用組成物に含まれて偏光特性を付与する成分であり、分子の長軸方向での吸光度と短縮方向での吸光度とが異なる性質を持つ。前記二色性染料の非限定的な例としては、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素、アントラキノン色素などが挙げられる。これらは、単独であるいは２以上を組み合わせて使用することができる。
【００８８】
前記液晶コーティング用組成物は、前記反応性液晶化合物および前記二色性染料を溶解できる溶剤をさらに含み、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、キシレンおよびクロロホルムなどを使用できる。前記液晶コーティング用組成物は、コーティング膜の偏光特性を阻害しない範囲内でレベリング剤、重合開始剤などをさらに含むことができる。
【００８９】
図４を参照すると、偏光層１１０は、液晶層１１０ａおよび配向膜１１０ｂを含むことができる。例えば、液晶層１１０ａは、配向膜１１０ｂ上に形成することができる。
【００９０】
例えば、ウィンドウ１００上に配向性高分子、光重合開始剤および溶剤を含む配向膜コーティング用組成物を塗布及び硬化して前記配向膜を形成した後、前記配向膜上に前記液晶コーティング用組成物を塗布及び硬化して、配向膜１１０ｂおよび液晶層１１０ａを含む偏光層１１０を形成することができる。
【００９１】
前記配向性高分子は、例えば、ポリアクリレート系樹脂、ポリアミック酸樹脂、ポリイミド系樹脂、シンナメート基を含む高分子などを含むことができる。
【００９２】
図５を参照すると、偏光層１１０は、オーバーコート層１１１をさらに含むことができる。例えば、オーバーコート層１１１は、液晶層１１０ａの上面に形成され、配向膜１１０ｂと向き合うことができる。
【００９３】
一部の実施形態では、図５に示すように、オーバーコート層１１１上に保護フィルム１１３を積層することができる。この場合には、偏光層１１０は、配向膜−液晶層−オーバーコート層−保護フィルムの積層構造を含み、透過率を維持しつつ機械的耐久性をさらに向上することができる。
【００９４】
オーバーコート層１１１は、実質的に保護フィルム１１３を接合するための粘接着層として共に機能することもできる。一実施形態では、オーバーコート層１１１と保護フィルム１１３との間に粘接着層を追加的に形成することもできる。
【００９５】
一部の実施形態において、保護フィルム１１３は、光学機能層を含むことができる。前記光学機能層の例としては、位相差フィルムが挙げられる。前記位相差フィルムは、液晶層１１０ａを通過した光の位相を遅延させる機能層として含むことができる。前記位相差フィルムの材質は、特に限定されず、傾斜延伸樹脂フィルム、液晶コート層などを含むことができる。
【００９６】
例えば、前記位相差フィルムは、λ／４フィルムを含むことができる。前記位相差フィルムは、例えば、λ／４フィルムおよびλ／２フィルムが積層された多層構造を有することもできる。
【００９７】
一部の実施形態において、保護フィルム１１３上には、位相差フィルムなどの光学機能層をさらに積層してもよい。
【００９８】
図６を参照すると、偏光層１１０は、延伸型偏光子１１４を含むことができる。例えば、偏光層１１０は、第１の保護フィルム１１２および延伸型偏光子１１４を含み、偏光層１１０は、実質的に延伸型偏光板で提供することができる。
【００９９】
第１の保護フィルム１１２は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチル（メタ）アクリレートなどのアクリル系樹脂；環状オレフィン系高分子（ＣＯＰ）などを含むことができる。
【０１００】
延伸型偏光子１１４は、例えば、延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂を含むことができる。前記ポリビニルアルコール系樹脂は、好ましくは、ポリ酢酸ビニル系樹脂を鹸化して得たポリビニルアルコール系樹脂であってもよい。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルとこれと共重合可能な他の単量体との共重合体などが挙げられる。前記他の単量体としては、不飽和カルボン酸系、不飽和スルホン酸系、オレフィン系、ビニルエーテル系、アンモニウム基を有するアクリルアミド系単量体などが挙げられる。また、ポリビニルアルコール系樹脂は、変性されたものであってもよく、例えばアルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールであってもよい。
【０１０１】
例示的な実施形態によると、偏光層１１０の第１の保護フィルム１１２上に第１の粘接着層１２０ａが形成され、第１の粘接着層１２０ａを介して偏光層１１０が基材フィルム１００に接合され得る。
【０１０２】
図７を参照すると、偏光層１１０は、延伸型偏光子１１４の上面に形成された第２の保護フィルム１１６をさらに含むことができる。これにより、偏光層１１０は、第１及び第２の保護フィルム１１２，１１６、並びにこれらの間にサンドイッチされた延伸型偏光子１１４を含む偏光板で提供することができる。
【０１０３】
一実施形態において、第２の保護フィルム１１６は、第１の保護フィルム１１２と実質的に同一または類似の物質を含むことができる。
【０１０４】
一実施形態において、第２の保護フィルム１１６は、光学機能層を含むことができる。前記光学機能層の例としては、前述の位相差フィルムが挙げられる。
【０１０５】
一部の実施形態において、第２の保護フィルム１１６は、第１の保護フィルム１１２と実質的に同一または類似の材質を含み、第２の保護フィルム１１６上に位相差フィルムのような光学機能層をさらに積層することもできる。
【０１０６】
図８は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。図９及び図１０は、一部の例示的な実施形態に係るタッチセンサ層の構造を示す概略断面図である。図１１は、一部の例示的な実施形態に係るタッチセンサ層の電極配列を示す概略断面図である。
【０１０７】
図８を参照すると、タッチセンサ層１３０は、第２の粘接着層１２０ｂを介して偏光層１１０と接合することができる。図９を参照すると、タッチセンサ層１３０は、基材２００と、基材２００上に配置された電極２２０とを含むことができる。また、電極２２０を覆う絶縁層２３０を基材２００上に形成することができる。
【０１０８】
基材２００は、ポリイミドなどの柔軟性樹脂フィルムを含むことができる。電極２２０は、静電容量の変化によりタッチを検知できるように設計されたセンシング電極、および信号伝達のためのパッド電極を含むことができる。
【０１０９】
例えば、電極２２０は、金属、金属ワイヤ（例えば、金属ナノワイヤ）または透明導電性酸化物を含むことができる。
【０１１０】
前記金属は、銀（Ag）、金（Au）、銅（Cu）、アルミニウム（Al）、白金（Pt）、パラジウム（Pd）、クロム（Cr）、チタニウム（Ti）、タングステン（W）、ニオブ（Nb）、タンタル（Ta）、バナジウム（V）、鉄（Fe）、マンガン（Mn）、コバルト（Co）、ニッケル（Ni）、亜鉛（Zn）、またはこれらの合金を含むことができる。これらは、単独であるいは２以上を組み合わせて使用することができる。
【０１１１】
前記透明導電性酸化物の例としては、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＺＴＯ）、カドミウムスズ酸化物（ＣＴＯ）などが挙げられる。
【０１１２】
一実施形態において、電極２２０は、透明金属酸化物−金属ワイヤ、または透明金属酸化物−金属（または金属ワイヤ）−透明金属酸化物のような積層構造を含むことができる。
【０１１３】
一部の実施形態において、タッチセンサ層１３０は、相互静電容量（Mutual−Capacitance）方式で駆動されるタッチセンサを含むことができる。この場合、前記センシング電極は、ユーザのタッチ点をセンシングするために、互いに異なる方向（例えば、Ｘ方向及びＹ方向）に交差するように配列される第１のセンシング電極及び第２のセンシング電極を含むことができる。
【０１１４】
例えば、第１のセンシング電極は、単位パターンが互いに連結されてセンシングラインが定義され、複数の前記センシングラインを配列することができる。第２のセンシング電極は、それぞれ物理的に離隔されている単位パターンを含むことができる。例えば、前記第１のセンシング電極を挟んで互いに隣り合う第２のセンシング電極を電気的に連結するブリッジ電極をさらに含むことができる。この場合には、絶縁層２３０は、前記ブリッジ電極の支持パターンで提供され、前記第１及び第２のセンシング電極を互いに絶縁させるための絶縁パターンを含むことができる。
【０１１５】
一部の実施形態において、タッチセンサ層１３０は、自己静電容量（Self−Capacitance）方式で駆動されるタッチセンサを含むことができる。この場合、電極２２０は、それぞれ物理的に離隔されている単位パターンを含むことができる。前記単位パターンは、それぞれ、トレースまたは配線ラインを介して駆動回路と電気的に接続することができる。
【０１１６】
前記単位パターンは、例えば、メッシュ金属電極を多角形形状にパターニングして形成することができる。
【０１１７】
絶縁層２３０は、基材２００上において電極２２０を覆うことができる。絶縁層２３０は、例えば、シリコン酸化物などの無機絶縁物質、またはアクリル系樹脂などの透明有機物質を含むことができる。
【０１１８】
一実施形態において、タッチセンサ層１３０は、基材２００側に第２の粘接着層１２０ｂを介して偏光層１１０と接合することができる。一実施形態において、タッチセンサ層１３０は、絶縁層１３０側に偏光層１１０と接合することもできる。
【０１１９】
図１０を参照すると、タッチセンサ層１３０は、分離層２０５と、中間層２１０と、電極２２０と、絶縁層２３０とを含むことができる。
【０１２０】
分離層２０５は、高分子有機膜を含むことができ、非限定的な例として、ポリイミド系高分子、ポリビニルアルコール系高分子、ポリアミック酸系高分子、ポリアミド系高分子、ポリエチレン系高分子、ポリスチレン系高分子、ポリノルボルネン系高分子、フェニルマレイミド共重合体系高分子、ポリアゾベンゼン系高分子、ポリフェニレンフタルアミド系高分子、ポリエステル系高分子、ポリメチルメタクリレート系高分子、ポリアリレート系高分子、シンナメート系高分子、クマリン（coumarin）系高分子、フタルイミジン（phthalimidine）系高分子、カルコン（chalcone）系高分子、芳香族アセチレン系高分子などの高分子材質を含むことができる。これらは、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０１２１】
一部の実施形態において、分離層２０５は、ガラス基板などのキャリア基板（図示せず）上に形成され、電極２２０および絶縁層２３０を形成後、前記キャリア基板からの剥離工程を促進するために形成することができる。
【０１２２】
中間層２１０は、タッチセンサ層１３０の電極２２０の保護および電極２２０との屈折率の整合のために形成することができる。例えば、中間層２１０は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物などの無機絶縁物質、または高分子系の有機絶縁物質を含むように形成することができる。
【０１２３】
一部の実施形態において、分離層２０５または中間層２１０のいずれか一つは、省略することもできる。
【０１２４】
タッチセンサ層１３０上には粘接着層１２０を形成し、粘接着層１２０上に保護フィルム２４０を貼り付けることができる。例えば、保護フィルム２４０を貼り付けた後、前記キャリア基板を除去することができる。その後、保護フィルム２４０を除去した後、タッチセンサ層１３０を粘接着層１２０を用いて偏光層１１０上に積層することができる。
【０１２５】
一部の実施形態では、保護フィルム２４０とともに粘接着層１２０を除去することもでき、絶縁層２３０上に光学積層体に一体化のための粘接着層を再び形成することもできる。
【０１２６】
一部の実施形態において、前記キャリア基板の剥離後、基材を追加的に分離層２０５側で接合することができる。
【０１２７】
一部の実施形態において、タッチセンサ層１３０は、実質的に無基材のタイプで適用することができる。この場合には、電極２２０は、偏光層１１０上に直接形成することもできる。
【０１２８】
一部の実施形態では、分離層２０５及び／又は中間層２１０が実質的に基材として機能し、光学積層体に一体化することができる。
【０１２９】
図１１を参照すると、タッチセンサ層に含まれている電極は、偏光層１１０の上面及び下面に分散することができる。
【０１３０】
例示的な実施形態によると、偏光層１１０の前記上面上に第１の電極２２０ａを配列し、偏光層１１０の前記下面上に第２の電極２２０ｂを配列することができる。
【０１３１】
例えば、第１の電極２２０ａは、行方向（例えば、ｘ方向）に沿って配列され、センシングラインを形成するセンシング電極を含むことができる。第２の電極２２０ｂは、列方向（例えば、ｙ方向）に沿って配列され、センシングラインを形成するセンシング電極を含むことができる。
【０１３２】
第１の電極２２０ａ及び第２の電極２２０ｂが互いに異なる平面またはレベルに配置されることにより、第１及び第２の電極２２０ａ，２２０ｂを互いに絶縁させるためのブリッジ電極を省略することができる。また、偏光層１１０は、実質的にタッチセンサ層１３０の基材として活用することができる。
【０１３３】
図１２は、本発明の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す断面図である。図１２を参照すると、ウィンドウ１００の一方の面１００ｂから順次にタッチセンサ層１３０および偏光層１１０を配置することができる。
【０１３４】
図２ａ及び図２ｂを参照して説明したように、ウィンドウ１００は、光学基材およびハードコート層、または光学基材および機能層の積層構造を含むことができる。
【０１３５】
図１２に示す実施形態によると、タッチセンサ層１３０は、ユーザの視認側またはタッチ入力面に、より近接して配置することができる。これにより、タッチセンシングおよび信号伝達の感度をより向上することができる。
【０１３６】
図１３及び図１４は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。
【０１３７】
図１３を参照すると、図１２に示すウィンドウ−タッチセンサ層−偏光層の構造において、タッチセンサ層１３０は、第１の粘接着層１２０ａを介してウィンドウ１００と接合することができる。
【０１３８】
図９を参照して説明したように、タッチセンサ層１３０は、基材と、前記基材上に配置された電極とを含むことができる。一部の実施形態において、タッチセンサ層１３０は、実質的に無基材のタイプで製造することができる。この場合には、電極は、ウィンドウ１００上に直接形成することができる。一部の実施形態において、図１０に示すように、分離層２０５および中間層２１０を実質的に基材として提供することができる。
【０１３９】
一実施形態において、図１１に示すように、タッチセンサ層１３０の電極は、偏光層１１０の上面及び下面上に分布することができる。
【０１４０】
偏光層１１０は、図３を参照して説明したように、コーティング型偏光子を含むことができ、例えば、図４に示すように配向膜および液晶層を含むことができる。一部の実施形態において、偏光層１１０は、図５に示すように液晶層上に形成されたオーバーコート層を含むことができる。
【０１４１】
図１４を参照すると、タッチセンサ層１３０と偏光層１１０との間に第２の粘接着層１２０ｂを含むことができる。
【０１４２】
一部の実施形態において、偏光層１１０は、第１の保護フィルム１１２および延伸型偏光子１１４を含む延伸型偏光板であってもよい。
【０１４３】
一部の実施形態において、図７に示すように、偏光層１１０は、延伸型偏光子１１４上に接合された第２の保護フィルム１１６をさらに含んでいてもよい。第２の保護フィルム１１６は、例えば、位相差フィルムのような光学機能層を含むこともできる。前記光学機能層は、第２の保護フィルム１１６上に追加的に積層することもできる。
【０１４４】
図１５〜図１７は、一部の例示的な実施形態に係る光学積層体を示す概略断面図である。例えば、図１５〜図１７は、遮光パターンが含まれている光学積層体の例を示している。
【０１４５】
図１５を参照すると、遮光パターン１０７は、ウィンドウ１００の一方の面１００ｂの外郭部上に形成することができる。例えば、遮光パターン１０７は、光学積層体または画像表示装置のベゼル（bezel）で提供することができる。
【０１４６】
遮光パターン１０７は、ホワイトパターン、ブラックパターンのようなカラーパターンを含み、異なる色の複層のパターンの積層構造を有することもできる。例えば、遮光パターン１０７は、カラーを実現するための顔料及び／又は染料が混合されたアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコン（silicone）などの樹脂物質で形成することができる。
【０１４７】
第１の粘接着層１２０ａは、遮光パターン１０７の表面、およびウィンドウ１００の一方の面１００ｂ上に形成することができる。図１５において、第１の粘接着層１２０ａは上面が平らなものと示されているが、第１の粘接着層１２０ａは、遮光パターン１０７の表面およびウィンドウ１００の一方の面１００ｂに沿ってコンフォーマルに形成することもできる。
【０１４８】
例えば、図６を参照して説明した偏光層１１０は第１の保護フィルム１１２側で第１の粘接着層１２０ａと接合することができ、偏光層１１０上には第２の粘接着層１２０ｂを介してタッチセンサ層１３０を積層することができる。
【０１４９】
図１６を参照すると、遮光パターン１０７は、偏光層１１０と水平的に重畳するか、偏光層１１０と実質的に同じレベルに位置することができる。例えば、偏光層１１０は、液晶層を含むコーティング型偏光子であってもよく、図１６に示すように、遮光パターン１０７の表面およびウィンドウ１００の一方の面１００ｂ上にコーティングすることができる。
【０１５０】
一実施形態において、偏光層１１０は、遮光パターン１０７の側壁およびウィンドウ１００の一方の面１００ｂ上に形成され、遮光パターン１０７の上面上には延長しなくてもよい。
【０１５１】
図１７を参照すると、遮光パターン１０７は、タッチセンサ層１３０と水平的に重畳するか、タッチセンサ層１３０と実質的に同じレベルに位置することができる。
【０１５２】
例えば、偏光層１１０上に遮光パターン１０７が配置され、遮光パターン１０７および偏光層１１０上に粘接着層１２０を形成することができる。タッチセンサ層１３０は、第１の粘接着層１２０を介して、例えば、遮光パターン１０７によって定義される開口部内に挿入することができる。偏光層１１０は、図３〜図５を参照して説明したコーティング型偏光子を含む構造を有してもよく、図６及び図７を参照して説明した延伸型偏光板の構造を有してもよい。
【０１５３】
タッチセンサ層１３０に含まれたパッド、トレースまたは配線は、遮光パターン１０７と垂直方向に重畳し得る。
【０１５４】
前述した本発明の実施形態に係る光学積層体は、偏光子およびタッチセンサがウィンドウまたは光学基材と一体化された構造を有することができる。これにより、前記光学積層体を、例えばフレキシブルＯＬＥＤ装置などのフレキシブルディスプレイに適用時に必要な柔軟性、信頼性、耐久性を確保するための機械的特性を積層体単位で一括して制御または調節することができる。
【０１５５】
従って、前記フレキシブルディスプレイに含まれる個々の構造物の物性を独立して調節するよりも効果的に好ましい柔軟性、硬度、耐剥離性などの特性を確保することができる。
【０１５６】
前述した図１〜図１７を参照して説明した、例示的な実施形態に係る光学積層体において、光学積層体全体の修正靭性（amended touchness）を調整することができる。例示的な実施形態によると、前記光学積層体は、下記の数式１を満たすことができる。
【０１５７】
[数式１]
３００Ｍｐａ％≦修正靭性
【０１５８】
前記数式１において、「修正靭性」は、光学積層体の応力−ひずみ曲線（stress−strain curve）の破壊点における応力（Ｍｐａ）とひずみ（％）の積を意味する。
【０１５９】
応力−ひずみ曲線（stress−strain curve）は、高分子材料を含む積層体の引張実験により、前記積層体に加えられた応力（stress）と、前記応力に対応して示される積層体のひずみ（strain）との間の関係を示すグラフである。応力−ひずみ曲線とは、高分子材料のひずみの増加によって、要求される応力の大きさの変化を示す曲線と言える。
【０１６０】
図１８は、例示的な実施形態に係る光学積層体の修正靭性を示すグラフである。図１８を参照すると、ｘ軸はひずみ（％）を示し、ｙ軸はひずみによる応力（Ｍｐａ）を示す。図１８のグラフにおいて円で示される部分は、前記積層体のひずみの増加によって破断または破れが発生する破壊点（fracture point）に該当する。前記数式１の修正靭性は、前記破壊点におけるｘ値（ひずみ）とｙ値（応力）の積であり、太い線で示されている長方形の広さに該当する。図１８は、修正靭性が３８９．７Ｍｐａ％の場合を例として示している。
【０１６１】
例示的な実施形態によると、前記光学積層体の修正靭性を約３００Ｍｐａ％以上に設計することにより、高硬度とともに繰り返される屈曲疲労に対する耐性、耐クラック性、耐剥離性を確保することができる。前記光学積層体の修正靭性が約３００Ｍｐａ％未満であると、十分な柔軟性が確保できず、フレキシブルディスプレイに適用時に層間剥離、クラック等が発生することがある。一部の実施形態において、前記光学積層体の修正靭性は、約４００Ｍｐａ％以上であってもよく、この場合、より向上した柔軟性の確保が実現できる。
【０１６２】
前記修正靭性が高いほど柔軟性の改善効果に優れており、上限は特に限定されないが、経済的な理由で１，０００Ｍｐａ％以下、好ましくは８００Ｍｐａ％以下に調節することができる。
【０１６３】
前述した例示的な実施形態によると、前記光学積層体の各層または各構造物は、下記のような光学的、機械的、電気的物性を有することができる。
【０１６４】
前記光学積層体のウィンドウ１００は、自体的に約１０，０００Ｍｐａ％以上の修正靭性を有することができる。本発明に使用される用語「ウィンドウ」は、例えば、図１を参照して説明した光学基材、または図２ａ及び図２ｂを参照して説明した光学基材１０２、ハードコート層１０４及び／又は機能層１０４ａの積層構造を意味することができる。前述のように、ウィンドウは、光学基材の一方の面および他方の面上にそれぞれ形成される第１のハードコート層及び第２のハードコート層を含むこともできる。
【０１６５】
一実施形態において、前記ウィンドウは、画像表示装置の外表面を保護するために１ｋｇの荷重において３Ｈ以上の鉛筆硬度を有することができる。
【０１６６】
一実施形態において、前記ウィンドウの水接触角は、約１０５度（°）以上であってもよい。前記範囲であると、前記ウィンドウフィルムの耐湿性、防汚性、抗ブロッキング性などを向上することができる。
【０１６７】
一実施形態において、前記ウィンドウの衝撃力は、同じ厚さのガラス基板に対して約７０％以下であってもよい。これにより、前記光学積層体の耐衝撃力が向上し、外部衝撃による割れ現象を抑制することができる。
【０１６８】
一実施形態において、前記ウィンドウは、向上した耐擦傷性を有し、次の数式２を同時に満たすことができる。
【０１６９】
[数式２]
（摩擦係数／水接触角）*１，０００≦２．５／ｄｅｇｒｅｅ（°）
【０１７０】
一実施形態において、前記ウィンドウは、下記数式３を満たすことができる。
【０１７１】
[数式３]
マルテンス硬度（ＨＭ）≧２００Ｎ／ｍｍ２
【０１７２】
数式３において、マルテンス硬度は１０ｍＮ荷重で測定された値を示す。
【０１７３】
一部の実施形態において、前記ウィンドウは、前記数式２及び３を同時に満たす。これにより、前記ウィンドウの表面硬度が向上し、適切なスリップ性を確保して耐擦傷性を向上することができる。
【０１７４】
一実施形態において、前記ウィンドウは、約３８０ｎｍの紫外線波長に対して約１５％以下の透過率を有することができる。本明細書で使用される用語「３８０ｎｍの紫外線波長」は、正確には３８０ｎｍの波長だけでなく、３８０〜３９０ｎｍ未満の紫外線波長を包括することができる。例えば、ハードコート層１０４に含まれる紫外線吸収剤または紫外線遮断層を含む機能層１０４ａにより、前記範囲の紫外線透過率を確保することができる。これにより、ウィンドウ上に配置される偏光層の耐光性を向上させることができる。
【０１７５】
一実施形態において、前記ウィンドウの厚さは約４０〜１５０μｍであってもよい。
【０１７６】
前記光学積層体に含まれる偏光層１１０は、前述のようにコーティング型偏光子または延伸型偏光子を含むことができる。
【０１７７】
一実施形態において、前記偏光層の偏光度（Ｐｙ）は、約９５％以上であってもよく、光透過率は４２％以上であってもよい。また、前記偏光層が延伸型偏光板である場合、偏光層の収縮力は、約１．５Ｎ以下であってもよい。これにより、寸法安定性を確保しつつ、所望の偏光特性を有する高品質の画像を実現することができる。
【０１７８】
例えば、前記収縮力は、幅２ｍｍ×長さ５０ｍｍ（ＭＤ方向）のサンプルについて、８０℃の条件で２時間放置した時に収縮しようとする力の絶対値として測定することができる。例えば、前記収縮力は、ＴＡ−Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社のＱ８００などの機器を用いて測定することができる。
【０１７９】
一実施形態において、前記偏光層の厚さは、約１００μｍ以下であってもよく、例えば約５〜１００μｍであってもよい。
【０１８０】
前記光学積層体に含まれるタッチセンサ層１３０の電極２２０の面抵抗は、約５００Ω／□以下であってもよい。また、前記電極の表面粗さは、約１．５ｎｍ以下であってもよい。これにより、向上したセンシング感度および信号均一性を確保することができる。
【０１８１】
一実施形態において、前記タッチセンサ層の光透過率は約８５％以上であり、好ましくは約８９％以上であってもよい。また、前記タッチセンサ層の電極２２０の屈折率は、約１．３〜２．５であってもよい。これにより、前記タッチセンサ層による光学積層体の光学特性または透過率が低下することなく、電極２２０の視認を防止することができる。
【０１８２】
一実施形態において、前記タッチセンサ層の厚さは、約１〜１００μｍであってもよい。
【０１８３】
前述のように、前記光学積層体は、１以上の粘接着層を含むことができ、各粘接着層の厚さは約５〜１００μｍであってもよい。
【０１８４】
例示的な実施形態によると、前記光学積層体の総厚さは６００μｍ以下に設計することができる。
【０１８５】
＜画像表示装置＞
本発明の実施形態は、前述した光学積層体を含む画像表示装置を提供する。前記光学積層体は、ＯＬＥＤ装置、ＬＣＤ装置などに含まれる表示パネルと結合することができる。前記表示パネルは、基板上に配列された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を含む画素回路、および前記画素回路と電気的に接続される画素部または発光部を含むことができる。
【０１８６】
例えば、図１〜図１７を参照して説明したような、光学積層体を前記表示パネル上に配置することができる。前記光学積層体は、前記画像表示装置の外部に露出するウィンドウ基板またはウィンドウ積層体で提供することができる。
【０１８７】
前記画像表示装置は、フレキシブルディスプレイであってもよく、折り曲げ、曲げなどの動作時にも、前記光学積層体の向上した柔軟性および耐久性の特性によって、クラック、剥離、破断などの機械的な不具合または損傷を抑制することができる。
【０１８８】
以下、具体的な実験例により、本発明の光学積層体の特性についてより詳細に説明するが、これらの実験例に含まれている実施例は本発明を例示するものに過ぎず、添付の特許請求の範囲を制限するものではない。また、比較例は、必ずしも本発明の権利範囲を制限することを意図したものではない。実施例に対し、本発明の範疇および技術思想の範囲内で種々の変更および修正を加えることが可能であることは当業者にとって明らかであり、これらの変形および修正が添付の特許請求の範囲に属することも当然のことである。
【０１８９】
実施例及び比較例
実施例１
（１）ハードコート組成物の製造
光硬化型樹脂としての６官能アクリレート（ＰＵ６２０Ｄ、Miwon Specialty Chemical社製）３５重量部と、ヘキサンジオールジアクリレート１０重量部と、光開始剤としての１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン２．７重量部と、溶媒としてのプロピレングリコールモノメチルエーテル５２重量部と、レベリング剤としてのＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ＢＹＫ）０．３重量部とを攪拌機に入れて混合し、ＰＰ材質のフィルターを用いてろ過し、ハードコート組成物を製造した。
【０１９０】
（２）ウィンドウの製造
前記で製造されたハードコート組成物を８０μｍ厚さの光学用ポリイミドフィルム上に、硬化後の厚さが１０μｍになるようにコートし、８０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプで３００ｍＪ／ｃｍ２の光量で硬化してハードコート層を形成することにより、ウィンドウを製造した。
【０１９１】
（３）ウィンドウ−偏光板積層体の製造
前記ウィンドウの、ハードコート層が形成された面の他方の面に厚さ２５μｍの第１の粘着層を形成した。また、保護フィルムとして８０μｍトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムに厚さ２０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）偏光子を貼り付け、前記第１の粘着層上に前記保護フィルムおよび偏光子の順に配置されるように接合し、ウィンドウ−偏光板積層体を製造した。
【０１９２】
実施例２
光硬化型樹脂としての６官能アクリレート（ＰＵ６２０Ｄ、Miwon Specialty Chemical社製）３５重量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散１５ｎｍ反応性シリカゾル（固形分４０％）１０重量部と、光開始剤としての１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン２．７重量部と、溶媒としてのプロピレングリコールモノメチルエーテル５２重量部と、レベリング剤としてのＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ＢＹＫ）０．３重量部とを攪拌機に入れて混合し、ＰＰ材質のフィルターを用いてろ過し、ハードコート組成物を製造した。
前記ハードコート組成物を用いて、実施例１の（２）及び（３）に記載された工程と同じ工程によりウィンドウ−偏光板積層体を製造した。
【０１９３】
実施例３
光硬化型樹脂として６官能アクリレート（ＰＵ６２０Ｄ、Miwon Specialty Chemical社製）２５重量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散１５ｎｍ反応性シリカゾル（固形分４０％）２０重量部と、光開始剤としての１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン２．７重量部と、溶媒としてのプロピレングリコールモノメチルエーテル５２重量部と、レベリング剤としてのＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ＢＹＫ）０．３重量部とを攪拌機に入れて混合し、ＰＰ材質のフィルターを用いてろ過し、ハードコート組成物を製造した。
前記ハードコート組成物を用いて、実施例１の（２）及び（３）に記載された工程と同じ工程によりウィンドウ−偏光板積層体を製造した。
【０１９４】
実施例４
保護フィルムとして８０μｍポリ（メチル）メタアクリレート（ＰＭＭＡ）フィルムを用いた以外は、前記実施例１に記載された工程と同じ工程によりウィンドウ−偏光板積層体を製造した。
【０１９５】
実施例５
保護フィルムとして５０μｍシクロオレフィン系（ＣＯＰ）フィルムを用いた以外は、前記実施例１に記載された工程と同じ工程によりウィンドウ−偏光板積層体を製造した。
【０１９６】
比較例１
前記実施例１の（２）において、ハードコート層を硬化後の厚さが２０μｍになるように形成した以外は、実施例１に記載された工程と同じ工程によりウィンドウ−偏光板積層体を製造した。
【０１９７】
比較例２
光硬化型樹脂としての６官能アクリレート（ＰＵ６２０Ｄ、Miwon Specialty Chemical社製）１５重量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散１５ｎｍ反応性シリカゾル（固形分４０％）３０重量部と、光開始剤としての１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン２．７重量部と、溶媒としてのプロピレングリコールモノメチルエーテル５２重量部と、レベリング剤としてのＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ＢＹＫ）０．３重量部とを攪拌機に入れて混合し、ＰＰ材質のフィルターを用いてろ過し、ハードコート組成物を製造した。
前記ハードコート組成物を用いて、実施例１の（２）及び（３）に記載された工程と同じ工程によりウィンドウ−偏光板積層体を製造した。
【０１９８】
比較例３
光硬化型樹脂としてのペンタエリスリトールトリアクリレート１５重量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散１５ｎｍ反応性シリカゾル（固形分４０％）３０重量部と、光開始剤としての１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン２．７重量部と、溶媒としてのプロピレングリコールモノメチルエーテル５２重量部と、レベリング剤としてのＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ＢＹＫ）０．３重量部とを攪拌機に入れて混合し、ＰＰ材質のフィルターを用いてろ過し、ハードコート組成物を製造した。
前記ハードコート組成物を用いて、実施例１の（２）及び（３）に記載された工程と同じ工程によりウィンドウ−偏光板積層体を製造した。
【０１９９】
実験例
前記実施例１〜５及び比較例１〜３で製造したウィンドウ−偏光板積層体の偏光子上に、電極として４５ｎｍのＩＴＯパターン、および前記電極を覆うシリコン酸化物絶縁層を含むタッチセンサ層を転写し、光学積層体を製造した。 
前記光学積層体を用いて、長さ５０ｍｍ×幅５ｍｍの試験片を製造した後、ＳＨＩＭＡＺＨＵ社製のＡＵＴＯＧＲＡＰＨ ＡＧ−Ｘ１ＫＮ機器を活用して修正靭性を測定した。具体的には、前記試験片を長さ方向に４ｍｍ／ｍｉｎの一定の引張速度で引っ張り、破壊時までのひずみによる応力を測定することにより、破壊点における応力及びひずみを得ることができる。その後、例えば図１８に示すような応力−ひずみ曲線により、前記[数式１]の修正靭性を計算した。
【０２００】
前記実施例および比較例の光学積層体に対して下記のように柔軟性評価を行った。その評価結果は表１に示す。
【０２０１】
柔軟性の評価
直径３ｍｍの棒を実施例及び比較例の光学積層体の幅の中心上（ハードコート層側）に置き、光学積層体の長さ方向の両隅が当接するまで折り曲げて、元の状態に戻す過程を繰り返し、フィルムが破断する前までの回数を評価した。評価基準は以下の通りである。
Ｓ：２０万回まで破断発生なし
Ａ：１０万回以上２０万回未満で破断発生あり
Ｂ：５万回以上１０万回未満で破断発生あり
Ｃ：５万回未満で破断発生あり
【０２０２】
【表１】
2020512575.tif 000003
【０２０３】
前記表１を参照すると、実施例において、光学積層体の修正靭性が約３００Ｍｐａ％を超える場合は、実質的に破断が発生することなく向上した柔軟性が確保され、約４００Ｍｐａ％を超える場合は、より向上した柔軟性が実現された。
【０２０４】
比較例の場合は、修正靭性が約３００Ｍｐａ％未満に低下して、破断現象が増加し、修正靭性が低下するほど柔軟性の特性がさらに劣化することが分かった。
【図１】
2020512575.tif 000004
【図２ａ】
2020512575.tif 000005
【図２ｂ】
2020512575.tif 000006
【図３】
2020512575.tif 000007
【図４】
2020512575.tif 000008
【図５】
2020512575.tif 000009
【図６】
2020512575.tif 000010
【図７】
2020512575.tif 000011
【図８】
2020512575.tif 000012
【図９】
2020512575.tif 000013
【図１０】
2020512575.tif 000014
【図１１】
2020512575.tif 000015
【図１２】
2020512575.tif 000016
【図１３】
2020512575.tif 000017
【図１４】
2020512575.tif 000018
【図１５】
2020512575.tif 000019
【図１６】
2020512575.tif 000020
【図１７】
2020512575.tif 000021
【図１８】
2020512575.tif 000022
【国際調査報告】
2020512575.tif 000023
2020512575.tif 000024
2020512575.tif 000025
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