(57)【要約】  エラグ酸又は誘導体のイオントフォレシスによる投与は、エラグ酸又は誘導体が投与されることになる第1の電極と、第2の電極とを有するデバイスに、電位を印加する工程を含み、エラグ酸組成物は、0.01質量%から30質量%のエラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオンと、1質量から99質量%の、水を含めた極性溶媒とを含む。次いで第1及び第2の電極間に電流を伝導させ、この電流は、エラグ酸組成物を通過し、その結果、電流密度の極性及び大きさは、エラグ酸イオン又はイオン又は両方を少なくとも皮膚内に輸送するのに十分になる。電流密度プロファイルは、一定直流、パルス電流、及び直流をパルス電流と組み合わせたものを含む。一実施形態では、エラグ酸組成物は、様々な波形で使用されるように配合される。
2020503349.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
a.  少なくとも1つの電極及びエラグ酸組成物を含み、前記エラグ酸組成物が、エラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数を含む、電極アセンブリと、
b.  前記電極アセンブリに動作可能に連結された且つ少なくとも連続直流刺激及びパルス電流刺激を第1の電極で同時に発生させるように構成された回路であって、前記連続直流刺激及び前記パルス電流刺激が、生物対象に前記エラグ酸組成物を経皮的に送達するのに十分な特性のものであり且つ十分な持続時間にわたるものである回路と
を含む、イオントフォレシスデバイス。
【請求項２】
前記電極アセンブリが、
a.  約0.01質量%から約30質量%の範囲の量で存在する、エラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数と、
b.  約0.01質量%から約99質量%の範囲の量で存在する極性溶媒と
を含むエラグ酸組成物を保持する少なくとも1つのリザーバを含み、前記電極アセンブリは、好ましくは、
c.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するアクリレート/C10〜30アルキルアクリレートクロスポリマー、
d.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するセチルアルコール、
e.  約20質量%から約60質量%の範囲の量で存在する脱イオン水、
f.  約0質量%から約9質量%の範囲の量で存在するセバシン酸ジイソプロピル、
g.  約0質量%から約5質量%の範囲の量で存在するジメチコン、
h.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するエチルパラベン、
i.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する香料、
j.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するイチョウ(Ginkgo Biloba)抽出物、
k.  約0質量%から約14質量%の範囲の量で存在するグリセリン、
l.  約0質量%から約3質量%の範囲の量で存在するステアリン酸グリセリル及びポリエチレングリコール-100ステアレート、
m.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するスペインカンゾウ(Glycyrrhiza Glabra)根抽出物、
n.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するヘリアンタス・アヌス(Helianthus Annuus)種子抽出物、
o.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する加水分解大豆粉、
p.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するセイヨウハッカ(Mentha Piperita)抽出物、
q.  約0質量%から約6質量%の範囲の量で存在するメチルグルセス-20、
r.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するメチルパラベン、
s.  約0質量%から約4質量%の範囲の量で存在するオクチルドデカノール、
t.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するフェノキシエタノール、
u.  約0質量%から約2質量%の範囲の量で存在するポリアクリルアミド及びC13〜14イソパラフィン及びラウレス-7、
v.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するポリプロピレングリコール-5-セテス-20、
w.  約0質量%から約20質量%の範囲の量で存在するプロピレングリコール、
x.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するロサ・ケンティフォリア(Rosa Centifolia)花抽出物、
y.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するサリチル酸、
z.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する水酸化ナトリウム、
aa.  約0質量%から約2質量%の範囲の量で存在するステアリン酸、
bb.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するエチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩、
cc.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するトコフェロール、
dd.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するキサンタンガム、
ee.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する酵母抽出物
のうち1つ又は複数を更に含むエラグ酸組成物を保持する少なくとも1つのリザーバを含む、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項３】
前記連続直流刺激が、約0.01mA/cm2から約0.5mA/cm2の範囲の平均電流密度を含み、前記連続直流刺激が、好ましくは約0.2mA/cm2の平均電流密度を含む、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項４】
前記パルス電流刺激が、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の平均電流密度、約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス幅、及び約1ヘルツから約2000ヘルツの範囲のパルス周波数、及び約1%から約90%の範囲のパルスのデューティサイクルを含むか、又は前記パルス電流刺激が、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の平均電流密度、約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス幅、2から20パルスを有する少なくとも1つのパルス列、約0.1ヘルツから約500ヘルツの範囲のパルス周波数、及び1%から90%の範囲のデューティサイクルを含むか、又は前記パルス電流刺激が、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の平均電流密度、約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス幅、及び極性が交番する約2から約20パルスの少なくとも1つのパルス列、約0.1ヘルツから約500ヘルツの範囲のパルス周波数、及び約1%から約90%の範囲のパルスのデューティサイクルを含むか、又は前記パルス電流刺激が、約0.2mA/cm2の振幅電流密度、約500マイクロ秒の交互パルス持続時間、及び約200ヘルツのパルス周波数を含む、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項５】
前記電極アセンブリが、エラグ酸組成物を保持する少なくとも1つのリザーバを含む、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項６】
前記電極アセンブリが、エラグ酸組成物を保持するリザーバに電気的に連結される少なくとも1つの活性電極を含み、前記電極アセンブリは、前記連続直流刺激及び前記パルス電流刺激を同時に発生させるように構成された回路からの1つ又は複数の入力に応答して、生物対象に、前記エラグ酸組成物を経皮的に送達するように動作可能である、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項７】
前記電極アセンブリが、少なくとも1つの電源に電気的に連結される、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項８】
前記電極アセンブリが、少なくとも1つの活性電極アセンブリ及び少なくとも1つの対電極アセンブリを含む、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項９】
a.  下記のように構成された回路を備える電流波形発生器
を含むイオントフォレシスアセンブリであって、前記電流波形発生器は、
b.  最大で0.5mA/cm2の電流密度で最長30分間、直流を印加するように、又は
c.  最大で1mA/cm2の振幅で最長30分間、パルス波形電流密度を印加するように、又は
d.  最大で0.5mA/cm2の平均電流密度で最長30分間、直流波形及びパルス波形を同時に印加するように、若しくはそれらの組合せを逐次、最長120分の休止期間をおいて若しくはおかずに印加するように
構成されており、前記パルス波形は、好ましくは、最大振幅と最小振幅との間に一定勾配を有する単相パルスを含むか、又は第1の電流方向における最大振幅と第2の電流方向における最大振幅との間に一定勾配を有する二相パルスを含み、前記アセンブリは、好ましくは、デバイス内にエラグ酸組成物を更に含み、前記エラグ酸組成物は、0.01質量%から30質量%のエラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオンと、0.1質量%から99質量%の、水を含めた有機極性溶媒とを含む、イオントフォレシスアセンブリ。
【請求項１０】
イオントフォレシス方法であって、
a.  生物対象に連続直流及びパルス電流を同時に送出する工程であり、前記連続直流及び前記パルス電流が、エラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、エラグ酸誘導体のイオン、又はこれらの混合物の少なくとも1種を含むエラグ酸組成物を経皮的に送達するのに十分な特性のものであり且つ十分な持続時間にわたるものである工程を含み、生物対象に前記連続直流及び前記パルス電流を同時に送出する工程が、好ましくは、約0.01mA/cm2から約0.5mA/cm2の範囲の平均電流密度を有する連続直流刺激を発生させることを含むか、又は生物対象に前記連続直流及び前記パルス電流を同時に送出する工程が、好ましくは、約0.2mA/cm2の平均電流密度を有する連続直流刺激を発生させることを含むか、又は生物対象に前記連続直流及び前記パルス電流を同時に送出する工程が、好ましくは、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の振幅電流密度、約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス持続時間、及び約0.1ヘルツから約500ヘルツの範囲のパルス周波数、及び1%から90%の範囲のデューティサイクルを有するパルス電流刺激を発生させることを含むか、又は生物対象に約0.2mA/cm2の平均電流密度を有する連続直流及びパルス電流を同時に送出する工程が、好ましくは、約0.2mA/cm2の振幅電流密度、約500マイクロ秒のパルス持続時間、及び約200ヘルツのパルス周波数を有するパルス交流刺激を発生させることを含むか、又は前記パルス電流刺激が、好ましくは、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の平均電流密度、約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス幅、約2から約20パルスを有する少なくとも1つのパルス列、約0.1ヘルツから約500ヘルツの範囲のパルス周波数、及び1%から90%の範囲のデューティを含むか、又は前記パルス電流刺激が、好ましくは、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の平均電流密度、約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス幅、極性が交番する約2から20パルスを有する少なくとも1つのパルス列、約0.1ヘルツから約500ヘルツの範囲のパルス周波数、及び1%から90%の範囲のデューティサイクルを含み、
b.  生物対象に前記連続直流及び前記パルス電流を同時に送出する工程が、好ましくは、正弦波波形、非正弦波波形、又はこれらの組合せを有するパルス電流を発生させることを含むか、又は生物対象に前記連続直流及び前記パルス電流を同時に送出する工程が、好ましくは、周期的矩形波形、方形波形、鋸歯波形、スパイク波形、台形波形、三角波形、指数関数的減衰、又はこれらの組合せを有するパルス電流を発生させることを含み、
c.  前記イオントフォレシス方法は、好ましくは更に、
d.  エラグ酸組成物を経皮的に送達する工程を含み、エラグ酸組成物は、
e.  約0.01質量%から約30質量%の範囲の量で存在するエラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数と、
f.  約0.1質量%から約99質量%の範囲の量で存在する極性溶媒と
を含む、イオントフォレシス方法。
【請求項１１】
a.  約0.01質量%から約30質量%の範囲の量で存在するエラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数と、
b.  約0.1質量%から約99質量%の範囲の量で存在する極性溶媒と
を含む、イオントフォレシス組成物。
【請求項１２】
a.  約0.01質量%から約10質量%の範囲の量の、1種又は複数のアニオン性、カチオン性、非イオン性、又は両性ポリマー、
b.  好ましくは約0.01質量%から約30質量%の範囲の量の、1種又は複数のアニオン性、カチオン性、非イオン性、又は両性界面活性剤、
c.  0.1質量%から約30質量%の範囲の量の、1種又は複数の浸透剤、
d.  0.01質量%から約5質量%の範囲の量の、1種又は複数の保存剤、
e.  0.01質量%から約10質量%の範囲の量の、1種又は複数の緩衝剤、
f.  0.1質量%から約10質量%の範囲の量の、1種又は複数の角質除去剤
を更に含む、請求項11に記載のイオントフォレシス組成物。
【請求項１３】
a.  約20質量%から約60質量%の範囲の量で存在する脱イオン水、
b.  約0質量%から約20質量%の範囲の量で存在するプロピレングリコール、及び
c.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する水酸化ナトリウム
を更に含む、請求項11に記載のイオントフォレシス組成物。
【請求項１４】
a.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する、アクリレート/C10〜30アルキルアクリレートクロスポリマー、
b.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するセチルアルコール、
c.  約0質量%から約9質量%の範囲の量で存在するセバシン酸ジイソプロピル、
d.  約0質量%から約5質量%の範囲の量で存在するジメチコン、
e.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するエチルパラベン、
f.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する香料、
g.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するイチョウ抽出物、
h.  約0質量%から約14質量%の範囲の量で存在するグリセリン、
i.  約0質量%から約3質量%の範囲の量で存在するステアリン酸グリセリル及びポリエチレングリコール-100ステアレート、
j.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するスペインカンゾウ根抽出物、
k.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するヘリアンタス・アヌス種子抽出物、
l.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する加水分解大豆粉、
m.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するセイヨウハッカ抽出物、
n.  約0質量%から約6質量%の範囲の量で存在するメチルグルセス-20、
o.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するメチルパラベン、
p.  約0質量%から約4質量%の範囲の量で存在するオクチルドデカノール、
q.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するフェノキシエタノール、
r.  約0質量%から約2質量%の範囲の量で存在するポリアクリルアミド及びC13〜14イソパラフィン及びラウレス-7、
s.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するポリプロピレングリコール-5-セテス-20、
t.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するロサ・ケンティフォリア花抽出物、
u.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するサリチル酸、
v.  約0質量%から約2質量%の範囲の量で存在するステアリン酸、
w.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するエチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩、
x.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するトコフェロール、
y.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するキサンタンガム、及び
z.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する酵母抽出物
を更に含む、請求項13に記載のイオントフォレシス組成物。
【請求項１５】
約4から約8の範囲のpHを更に含む、請求項11に記載のイオントフォレシス組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオンの新規な組成物を、イオントフォレシス(iontophoresis)を使用して皮膚に送達するための、1つ又は複数の方法又は技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
エラグ酸(国際純正応用化学連合(International Union of Pure and Applied Chemistry)名、2,3,7,8-テトラヒドロキシ-クロメノ[5,4,3-cde]クロメン-5,10-ジオン)には、多くの治療上の用途がある。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００３】
一態様において、本開示はとりわけ、少なくとも1つの電極とエラグ酸組成物とを有する電極アセンブリを含む、イオントフォレシスデバイスを対象とする。実施形態では、エラグ酸組成物は、エラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数を含む。実施形態では、電極アセンブリは、約0.01質量%から約30質量%の範囲の量で存在するエラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数と;約0.1質量%から約95質量%の範囲の量で存在する極性溶媒とを含むエラグ酸組成物を保持する少なくとも1つのリザーバを含む。実施形態では、イオントフォレシスデバイスは、電極アセンブリに動作可能に連結された且つ第1の電極で少なくとも連続直流刺激及びパルス電流刺激を同時に発生させるように構成された、回路を含む。実施形態では、連続直流刺激及びパルス電流刺激は、生物対象にエラグ酸組成物を経皮的に送達するのに十分な特性のものであり且つ十分な持続時間にわたるものである。実施形態では、デバイスは、DC、一方向電流を印加することによって皮膚を通してエラグ酸を電気化学的に送達するように構成される。実施形態では、デバイスは、皮膚を通してエラグ酸を送達するのに十分な特性のものであり且つ十分な持続時間にわたるものである、一方向直流を印加するように構成された回路を含む。
【０００４】
一態様において、本開示はとりわけ、生物対象に連続直流及びパルス電流を同時に送出する工程を含むイオントフォレシス方法を対象とし、エラグ酸組成物を経皮的に送達するのに十分な特性のものであり且つ十分な持続時間にわたるものであるこれら連続直流及びパルス電流は、エラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、エラグ酸誘導体のイオン、又はこれらの混合物の少なくとも1つを含む。一実施形態では、イオントフォレシス方法は、約0.01質量%から約30質量%の範囲の量で存在するエラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数と;約0.1質量%から約99質量%の範囲の量で存在する極性溶媒とを含むエラグ酸組成物を、経皮的に送達する工程を含む。
【０００５】
一態様において、本開示はとりわけ、約0.01質量%から約30質量%の範囲の量で存在するエラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数と;約0.1質量%から約99質量%の範囲の量で存在する極性溶媒とを含む、イオントフォレシス組成物を対象とする。一実施形態では、イオントフォレシス組成物は、約4から約7.4の範囲のpHを含む。
【０００６】
多くの異なる態様及び実施形態が可能である。それらの態様及び実施形態のいくつかについて、以下に記述する。本明細書を読んだ後、当業者なら、それらの態様及び実施形態が単なる例示であり、本発明の範囲を制限するものではないことが理解されよう。一実施形態は、以下に列挙するような項目の何れか1つ又は複数によるものであってもよい。
【０００７】
項目1. a.  少なくとも1つの電極及びエラグ酸組成物を含み、このエラグ酸組成物が、エラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数を含む、電極アセンブリと;
b.  電極アセンブリに動作可能に連結された且つ少なくとも連続直流刺激及びパルス電流刺激を第1の電極で同時に発生させるように構成された回路であって、前記連続直流刺激及び前記パルス電流刺激が、生物対象にエラグ酸組成物を経皮的に送達するのに十分な特性のものであり且つ十分な持続時間にわたるものである回路と
を含む、イオントフォレシスデバイス。
【０００８】
項目2.  電極アセンブリが、
a.  約0.01質量%から約30質量%の範囲の量で存在する、エラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数と;
b.  約0.01質量%から約99質量%の範囲の量で存在する極性溶媒と
を含むエラグ酸組成物を保持する少なくとも1つのリザーバを含む、項目1のイオントフォレシスデバイス。
【０００９】
項目3.  電極アセンブリが、
a.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するアクリレート/C10〜30アルキルアクリレートクロスポリマー;
b.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するセチルアルコール;
c.  約20質量%から約60質量%の範囲の量で存在する脱イオン水;
d.  約0質量%から約9質量%の範囲の量で存在するセバシン酸ジイソプロピル;
e.  約0質量%から約5質量%の範囲の量で存在するジメチコン;
f.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するエチルパラベン;
g.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する香料;
h.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するイチョウ(Ginkgo Biloba)抽出物;
i.  約0質量%から約14質量%の範囲の量で存在するグリセリン;
j.  約0質量%から約3質量%の範囲の量で存在するステアリン酸グリセリル及びポリエチレングリコール-100ステアレート;
k.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するスペインカンゾウ(Glycyrrhiza Glabra)根抽出物;
l.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するヘリアンタス・アヌス(Helianthus Annuus)種子抽出物;
m.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する加水分解大豆粉;
n.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するセイヨウハッカ(Mentha Piperita)抽出物;
o.  約0質量%から約6質量%の範囲の量で存在するメチルグルセス-20;
p.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するメチルパラベン;
q.  約0質量%から約4質量%の範囲の量で存在するオクチルドデカノール;
r.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するフェノキシエタノール;
s.  約0質量%から約2質量%の範囲の量で存在するポリアクリルアミド及びC13〜14イソパラフィン及びラウレス-7;
t.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するポリプロピレングリコール-5-セテス-20;
u.  約0質量%から約20質量%の範囲の量で存在するプロピレングリコール;
v.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するロサ・ケンティフォリア(Rosa Centifolia)花抽出物;
w.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するサリチル酸;
x.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する水酸化ナトリウム;
y.  約0質量%から約2質量%の範囲の量で存在するステアリン酸;
z.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するエチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩;
aa.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するトコフェロール;
bb.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するキサンタンガム;
cc.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する酵母抽出物
のうち1つ又は複数を更に含むエラグ酸組成物を保持する少なくとも1つのリザーバを含む、項目2のイオントフォレシスデバイス。
【００１０】
項目4.  連続直流刺激が、約0.01mA/cm2から約0.5mA/cm2の範囲の平均電流密度を含む、項目1のイオントフォレシスデバイス。
【００１１】
項目5.  連続直流刺激が約0.2mA/cm2の平均電流密度を含む、項目1のイオントフォレシスデバイス。
【００１２】
項目6.  パルス電流刺激が、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の平均電流密度;約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス幅;及び約1ヘルツから約2000ヘルツの範囲のパルス周波数;及び約1%から約90%の範囲のパルスのデューティサイクルを含む、項目1のイオントフォレシスデバイス。
【００１３】
項目7.  パルス電流刺激が、0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の平均電流密度;約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス幅;2から20パルスを有する少なくとも1つのパルス列;約0.1ヘルツから約500ヘルツの範囲のパルス周波数;及び1%から90%の範囲のデューティサイクルを含む、項目1のイオントフォレシスデバイス。
【００１４】
項目8.  パルス電流刺激が、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の平均電流密度;約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス幅;及び極性が交番する約2から約20パルスの少なくとも1つのパルス列;約0.1ヘルツから約500ヘルツの範囲のパルス周波数;及び約1%から約90%の範囲のパルスのデューティサイクルを含む、項目1のイオントフォレシスデバイス。
【００１５】
項目9.  パルス電流刺激が、約0.2mA/cm2の振幅電流密度;約500マイクロ秒の交互パルス持続時間;及び約200ヘルツのパルス周波数を含む、項目1のイオントフォレシスデバイス。
【００１６】
項目10.  電極アセンブリが、エラグ酸組成物を保持する少なくとも1つのリザーバを含む、項目1のイオントフォレシスデバイス。
【００１７】
項目11.  電極アセンブリが、エラグ酸組成物を保持するリザーバに電気的に連結される少なくとも1つの活性電極を含み;電極アセンブリは、連続直流刺激及びパルス電流刺激を同時に発生させるように構成された回路からの1つ又は複数の入力に応答して、生物対象に、エラグ酸組成物を経皮的に送達するように動作可能である、項目1のイオントフォレシスデバイス。
【００１８】
項目12.  電極アセンブリが、少なくとも1つの電源に電気的に連結される、項目1のイオントフォレシスデバイス。
【００１９】
項目13.  電極アセンブリが、少なくとも1つの活性電極アセンブリ及び少なくとも1つの対電極アセンブリを含む、項目1のイオントフォレシスデバイス。
【００２０】
項目14. a.  下記のように構成された回路を備える電流波形発生器
を含むイオントフォレシスアセンブリであって、前記電流波形発生器は、
b.  最大で0.5mA/cm2の電流密度で最長30分間、直流を印加するように、又は
c.  最大で1mA/cm2の振幅で最長30分間、パルス波形電流密度を印加するように、又は
d.  最大で0.5mA/cm2の平均電流密度で最長30分間、直流波形及びパルス波形を同時に印加するように、若しくはそれらの組合せを逐次、最長120分の休止期間をおいて若しくはおかずに印加するように
構成されている、イオントフォレシスアセンブリ。
【００２１】
項目15.  パルス波形が、最大振幅と最小振幅との間に一定勾配を有する単相パルスを含む、又は第1の電流方向における最大振幅と第2の電流方向における最大振幅との間に一定勾配を有する二相パルスを含む、項目9のイオントフォレシスアセンブリ。
【００２２】
項目16.  デバイス内にエラグ酸組成物を更に含み、このエラグ酸組成物が、0.01質量%から30質量%のエラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオンと、0.1質量%から99質量%の、水を含めた有機極性溶媒とを含む、項目9のイオントフォレシスアセンブリ。
【００２３】
項目17. a.  生物対象に連続直流及びパルス電流を同時に送出する工程であり、連続直流及びパルス電流が、エラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、エラグ酸誘導体のイオン、又はこれらの混合物の少なくとも1つを含むエラグ酸組成物を経皮的に送達するのに十分な特性のものであり且つ十分な持続時間にわたるものである工程を含む、イオントフォレシス方法。
【００２４】
項目18.  生物対象に連続直流及びパルス電流を同時に送出する工程が、約0.01mA/cm2から約0.5mA/cm2の範囲の平均電流密度を有する連続直流刺激を発生させることを含む、項目10のイオントフォレシス方法。
【００２５】
項目19.  生物対象に連続直流及びパルス電流を同時に送出する工程が、約0.2mA/cm2の平均電流密度を有する連続直流刺激を発生させることを含む、項目10のイオントフォレシス方法。
【００２６】
項目20.  生物対象に連続直流及びパルス電流を同時に送出する工程が、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の振幅電流密度;約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス持続時間;及び約0.1ヘルツから約500ヘルツの範囲のパルス周波数;及び1%から90%の範囲のデューティサイクルを有するパルス電流刺激を発生させることを含む、項目10のイオントフォレシス方法。
【００２７】
項目21.  生物対象に約0.2mA/cm2の平均電流密度を有する連続直流及びパルス電流を同時に送出する工程が、約0.2mA/cm2の振幅電流密度;約500マイクロ秒のパルス持続時間;及び約200ヘルツのパルス周波数を有するパルス交流刺激を発生させることを含む、項目10のイオントフォレシス方法。
【００２８】
項目22.  パルス電流刺激が、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の平均電流密度;約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス幅;約2から約20パルスを有する少なくとも1つのパルス列;約0.1ヘルツから約500ヘルツの範囲のパルス周波数;及び1%から90%の範囲のデューティを含む、項目10のイオントフォレシス方法。
【００２９】
項目23.  パルス電流刺激が、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の平均電流密度;約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス幅;極性が交番する約2から20パルスを有する少なくとも1つのパルス列;約0.1ヘルツから約500ヘルツの範囲のパルス周波数;及び1%から90%の範囲のデューティサイクルを含む、項目10のイオントフォレシス方法。
【００３０】
項目24.  生物対象に連続直流及びパルス電流を同時に送出する工程が、正弦波波形、非正弦波波形、又はこれらの組合せを有するパルス電流を発生させることを含む、項目10のイオントフォレシス方法。
【００３１】
項目25.  生物対象に連続直流及びパルス電流を同時に送出する工程が、周期的矩形波形、方形波形、鋸歯波形、スパイク波形、台形波形、三角波形、指数関数的減衰、又はこれらの組合せを有するパルス電流を発生させることを含む、項目10のイオントフォレシス方法。
【００３２】
項目26. a.  エラグ酸組成物を経皮的に送達する工程を更に含み、エラグ酸組成物が、
b.  約0.01質量%から約30質量%の範囲の量で存在するエラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数と;
c.  約0.1質量%から約99質量%の範囲の量で存在する極性溶媒と
を含む、項目10のイオントフォレシス方法。
【００３３】
項目27. a.  約0.01質量%から約30質量%の範囲の量で存在するエラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数と;
b.  約0.1質量%から約99質量%の範囲の量で存在する極性溶媒と
を含む、イオントフォレシス組成物。
【００３４】
項目28. a.  約0.01質量%から約10質量%の範囲の量の、1種又は複数のアニオン性、カチオン性、非イオン性、又は両性ポリマー;
b.  好ましくは約0.01質量%から約30質量%の範囲の量の、1種又は複数のアニオン性、カチオン性、非イオン性、又は両性界面活性剤;
c.  0.1質量%から約30質量%の範囲の量の、1種又は複数の浸透剤;
d.  0.01質量%から約5質量%の範囲の量の、1種又は複数の保存剤;
e.  0.01質量%から約10質量%の範囲の量の、1種又は複数の緩衝剤;
f.  0.1質量%から約10質量%の範囲の量の、1種又は複数の角質除去剤
を更に含む、項目11のイオントフォレシス組成物。
【００３５】
項目29. a.  約20質量%から約60質量%の範囲の量で存在する脱イオン水;
b.  約0質量%から約20質量%の範囲の量で存在するプロピレングリコール;及び
c.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する水酸化ナトリウム
を更に含む、項目11のイオントフォレシス組成物。
【００３６】
項目30. a.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する、アクリレート/C10〜30アルキルアクリレートクロスポリマー;
b.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するセチルアルコール;
c.  約0質量%から約9質量%の範囲の量で存在するセバシン酸ジイソプロピル;
d.  約0質量%から約5質量%の範囲の量で存在するジメチコン;
e.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するエチルパラベン;
f.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する香料;
g.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するイチョウ抽出物;
h.  約0質量%から約14質量%の範囲の量で存在するグリセリン;
i.  約0質量%から約3質量%の範囲の量で存在するステアリン酸グリセリル及びポリエチレングリコール-100ステアレート;
j.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するスペインカンゾウ根抽出物;
k.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するヘリアンタス・アヌス種子抽出物;
l.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する加水分解大豆粉;
m.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するセイヨウハッカ抽出物;
n.  約0質量%から約6質量%の範囲の量で存在するメチルグルセス-20;
o.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するメチルパラベン;
p.  約0質量%から約4質量%の範囲の量で存在するオクチルドデカノール;
q.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するフェノキシエタノール;
r.  約0質量%から約2質量%の範囲の量で存在するポリアクリルアミド及びC13〜14イソパラフィン及びラウレス-7;
s.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するポリプロピレングリコール-5-セテス-20;
t.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するロサ・ケンティフォリア花抽出物;
u.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するサリチル酸;
v.  約0質量%から約2質量%の範囲の量で存在するステアリン酸;
w.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するエチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩;
x.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するトコフェロール;
y.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するキサンタンガム;及び
z.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する酵母抽出物
を更に含む、項目13のイオントフォレシス組成物。
【００３７】
項目31. a.  約4から約8の範囲のpH
を更に含む、項目11のイオントフォレシス組成物。
【００３８】
この概要は、以下の発明を実施するための形態において更に記述される単純化された形態の概念の選択を導入するために提供される。この概要は、特許請求の範囲に記載される対象の重要な特徴を特定するものでもなく、又は特許請求の範囲に記載される対象の範囲を決定する補助として使用するものでもない。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】一実施形態によるイオントフォレシスシステムの概略図である。
【図２】一実施形態による波形をプロットした図である。
【図３】一実施形態による波形をプロットした図である。
【図４】一実施形態による波形をプロットした図である。
【図５】一実施形態によるエラグ酸投与に関する異なるpH組成を比較したグラフである。
【図６】一実施形態によるエラグ酸投与を比較する(受動拡散対イオントフォレシス)グラフである。
【図７】一実施形態によるエラグ酸投与に関する種々の波形の実施形態を比較するグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
本発明の前述の態様及び付随する利点の多くは、添付図面と併せて解釈されるときに下記の詳細な記述を参照することによってより良く理解されることになるので、より容易に認識されよう。
【００４１】
エラグ酸(国際純正応用化学連合(International Union of Pure and Applied Chemistry)名、2,3,7,8-テトラヒドロキシ-クロメノ[5,4,3-cde]クロメン-5,10-ジオン)には、多くの治療上の用途がある。本開示は、エラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオンの新規な組成物を皮膚に送達する電流を使用するための、1つ又は複数の方法又は技術を含む。一実施形態では、エラグ酸が投与された対象の皮膚には、任意の哺乳動物の皮膚が含まれる。一実施形態では、エラグ酸の投与は、生きている人間で実行される。一実施形態では、方法は、任意の哺乳動物、ヒト、又はその他のものに適用される。
【００４２】
本開示は、エラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオンの新規な組成物を、イオントフォレシスを使用して皮膚に送達するための、1つ又は複数の方法又は技術も含む。イオントフォレシスは、分子を生物対象の皮膚内に輸送するために電流を伝導させるプロセスである。一実施形態では、当該技法は、荷電分子が電極から離れ且つ皮膚に入るのを推進させる反発作用が生成されるように、対象となる分子と同様に帯電した電極を使用することによる、荷電分子への電流の印加を含む。一実施形態では、単純なイオン化(エレクトロマイグレーション)の効果は、イオントフォレシスがその輸送特性を生成する主なメカニズムである。しかし、電流によってもたらされる電気浸透及び電気穿孔と呼ばれる追加のメカニズムがある。電気浸透は、アノードからカソードへの方向で、非荷電粒子を運ぶ溶媒の流れを誘発させる。電気穿孔は、角質層内及び個々の皮膚細胞膜内に存在するもの等の脂質二重層の透過率を増大させ、その結果、脂質二重層に形成された可逆的微小孔が得られ、より高い電圧で皮膚の透過率が少し増大する。一実施形態では、「イオントフォレシス」は、分子の輸送がエレクトロマイグレーション、電気浸透、又は電気穿孔を介するか否かとは無関係に、分子を皮膚に送達するのに電流を使用する技法である。
【００４３】
スキンケア組成物中の多くの活性分子はイオンの形をとるので、イオントフォレシスは、これらの活性分子を投与するのに有効なツールとすることができる。
【００４４】
図1は、例えば水性エラグ酸組成物を使用者の皮膚に輸送する等、1つ又は複数の方法又は技術を実施することができる、イオントフォレシスシステムを示す。一実施形態では、イオントフォレシスシステムは、電源102、電流波形発生器104、第1の(活性)電極114、少なくとも1つの第2の(戻り)電極116、プランジャ112、及び第1の電極の端部にあるリザーバ120を含むアセンブリを有する、イオントフォレシスデバイスを含む。イオントフォレシスデバイスは、追加のフィーチャ又はより少ないフィーチャで利用可能であることを理解されたい。したがってその他のデバイスは、図示されていない多くのその他の構成要素を含んでいてもよく、又は図示されている構成要素のいくつかを除外してもよい。図1の目的は、本明細書に開示されるエラグ酸の適用に関する方法の様々な実施形態の1つ又は複数を実施するのに使用される、イオントフォレシスデバイスの主な機能的構成要素のいくつかを例示し記述することである。図1に暗示され本来備わっているものは、イオントフォレシスデバイスの機能を実施するのに使用される多くの電気構成要素及び回路であることを理解されたい。一実施形態では、イオントフォレシスデバイスは、処置中に片手で持つのに適した手持ち式デバイスとして包装される。手持ち式デバイスを使用する処置は、活性電極114が、接触しながら皮膚の表面を端から端まで移動するように、イオントフォレシスデバイスを皮膚上で絶えず移動させることを含む。一実施形態では、イオントフォレシスデバイスは固定式デスクトップデバイスとして包装され、活性電極114は固定式であり、且つ接着剤等を通して皮膚上の単一箇所に適用される。イオントフォレシスデバイスの主な機能的構成要素について、次に記述する。
【００４５】
一実施形態では、デバイスは電源102を含む。一実施形態では、デバイスは1つ又は複数の電源102を含む。電源の非限定的な例には、1つ又は複数のボタン電池、化学バッテリーセル、燃料電池、二次電池、リチウムイオン電池、マイクロ電子パッチ、ニッケル金属水素化物電池、銀-亜鉛電池、キャパシタ、スーパーキャパシタ、薄膜二次電池、超キャパシタ、亜鉛-空気電池、又は同様のものが含まれる。電源の、他の非限定的な例には、1つ又は複数の発生器(例えば、発電機、熱エネルギー-電気エネルギー発生器、機械エネルギー-電気エネルギー発生器、マイクロ発生器、ナノ発生器、又は同様のもの)、例えば熱電発電機、圧電発電機、電気機械発電機、又は同様のもの等が含まれる。一実施形態では、電源は、少なくとも1つの再充電可能な電源を含む。一実施形態では、電源102は、1つ又は複数の微小バッテリー、薄膜バッテリー、燃料電池(例えば、バイオ燃料電池、化学燃料電池等)、及び同様のものを含む。一実施形態では、電源102は、1つ又は複数の再充電可能なバッテリーを含む。
【００４６】
一実施形態では、電源102は、様々な回路及びデバイスに電力を与えるため、電流を提供する。一実施形態では、バッテリーは、電源として使用される。更に実施形態では、変圧器に連結された交流電源を、電源102に接続することができる。一実施形態では、イオントフォレシスデバイスは、壁ソケットにプラグ接続される。一実施形態では、電源102は直流を生成する。電源102は、負極及び正極を有する。一般に正極性は、第1の電極114に印加されることになる。しかし、回路及び電気デバイス、例えばスイッチを通して、第1の電極114及び第2の電極116の極性は瞬時に反転して、パルス電流波形を実現させることになる。
【００４７】
一実施形態では、電源102は、電流波形発生器104に接続される。電流波形発生器104は、様々なタイプの電流波形を提供するように機能する。電流発生器104は、第1の電極114及び第2の電極116に接続され、電極の両端に電位を印加して、本明細書に記述される様々な波形で電流を供給することができる。それに向かって、電流波形発生器104はパルス発生器106及び極性スイッチ108を含む。機能的に、パルス発生器106は、制御された振幅及び持続時間の電流のパルスを創出する。機能的に、極性スイッチ108は、第1の電極114及び第2の電極116の極性を制御する。一実施形態では、極性スイッチ108は、第1の電極114及び第2の電極116の極性を不変のまま維持する。一実施形態では、極性スイッチ108は、第1及び第2の電極116をOFFに切り換える。一実施形態では、極性スイッチ108は、予め定められた速度及び持続時間のパルスで第1及び第2の電極116をONに切り換える。一実施形態では、極性スイッチ108は、予め定められた速度又は間隔で、第1の電極114及び第2の電極116の極性を反転させる。一実施形態では、極性スイッチ108は、予め定められた持続時間にわたり、逐次、又は任意の順序で、一定の極性を維持し、パルスを発生させ、又は極性を反転させるように構成される。
【００４８】
一実施形態では、イオントフォレシスデバイスは、電極アセンブリに動作可能に連結された且つ第1の電極で少なくとも連続直流刺激及びパルス電流刺激を同時に発生させるように構成された、回路を含む。一実施形態では、連続直流刺激及びパルス電流刺激は、生物対象にエラグ酸組成物を経皮的に送達するのに十分な特性のものであり且つ十分な持続時間にわたるものである。一実施形態では、回路には、とりわけ1つ又は複数のコンピューティング・デバイス、例えばプロセッサ(例えば、マイクロプロセッサ)、中央処理装置(CPU)、デジタル信号プロセッサ(DSP)、特定用途向け集積回路(ASIC)、フィールドプログラマブル・ゲートアレイ(FPGA)、若しくは同様のもの、又はこれらの任意の組合せが含まれ、個別のデジタル又はアナログ回路要素又はエレクトロニクス、或いはこれらの組合せを含めることができる。一部の実施形態では、回路には、複数の予め定義された論理コンポーネントを有する1つ又は複数のASICが含まれる。一部の実施形態では、回路には、複数のプログラマブル論理コンポーネントを有する1つ又は複数のFPGAが含まれる。
【００４９】
一実施形態では、デバイスは、DC、一方向直流を印加することによって、皮膚を通してエラグ酸を電気化学的に送達するように構成される。一実施形態では、デバイスは、皮膚を通してエラグ酸を送達するのに十分な特性のものであり且つ十分な持続時間にわたるものである、一方向直流を印加するように構成された回路を含む。
【００５０】
一実施形態では、イオントフォレシスデバイスは、制御装置122を含む。機能的に、制御装置122は、ユーザーインターフェース124からの入力を受信することになり、パルス発生器106及び極性スイッチ108と併せて、ユーザー/オペレーターにより入力された仕様で電流密度波形を制御する。一実施形態では、制御装置122、パルス発生器106、及び極性スイッチ108は、アナログ回路、デジタル回路、マイクロプロセッサ、又はそれらの組合せ等のハードウェアコンポーネント、或いはソフトウェアコンポーネントで実施される。
【００５１】
一実施形態では、制御装置122は、適用されることになる波形処理に応じて様々なパラメーターを入力するようユーザーに案内するための命令を有する。ユーザーインターフェース124は、ユーザーに情報を促すことができる。一実施形態では、制御装置122は、一定直流、パルス波、又は一定及びパルス波の両方から、電流密度出力波形に関して出力を選択するようユーザーに要求することになる。制御装置122が1つ又は複数の波タイプの入力を受信すると、制御装置122はユーザーインターフェース上でユーザーに、(1つ又は複数の)選択された波出力タイプに対応するパラメーターを促す。
【００５２】
一実施形態では、イオントフォレシスデバイスは、ユーザーインターフェース124を含む。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、データ入力、データ通信、制御、情報表示等のために使用される。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、英数字キーボード及びディスプレイを含む。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、方向矢印ボタン及びエンターボタンを含む。一実施形態では、英数字キーボードは、タッチスクリーンディスプレイとして実施される。一実施形態では、波パラメーターの入力は、テキストボックスの使用を通す。一実施形態では、波パラメーターの入力は、スクローリングメニューの使用を通す。
【００５３】
一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、ユーザーに情報を入力させる様々なプロンプトを伝達するように構成される。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、処理工程の持続時間にわたって使用を促す。一実施形態では、処理工程の持続時間は、何れか1つ又は複数の波タイプの電流の印加時間の合計であり、パルス波に関して電流がオフであるときの時間を含む。例えば、デューティサイクルが50%であるパルス波の組は、時間の50%の最中で電流がオフであり、各パルスが各パルスサイクルの半分であることを意味する。しかし、処理持続時間は、パルスサイクルのオフ期間を含むことになる。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、電流密度出力が一定直流、パルス、交互パルス、又は任意の組合せになるか否か、及び各波タイプの持続時間を、ユーザーに入力させる選択肢を提供する。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、異なる波タイプが互いに重ね合わされるか否かをユーザーに促す。例えば、パルス波は、直流波上に重ね合わせることができる。
【００５４】
一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、異なる波型が逐次組み合わされるか否かをユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、電流密度の値を入力して各波型に出力するよう、ユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、対応する一定又はパルス電流出力により、正、負、又は両方を含めて第1の電極114で極性を入力するようユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、電極の断面積を入力するようユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、皮膚温度を入力するようユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、パルスの周波数、パルスの最大及び最小振幅、及びパルスの持続時間を入力するようユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、一方向パルスのデューティサイクル%を入力するようユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、それぞれの二相パルスのパーセンテージ(%)を入力するようユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、パルス間の時間を指定するようユーザーに促す。
【００５５】
一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、三角形、四角形、正弦、又は鋸歯を含めたパルス波形状を入力するよう、ユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、処理領域を入力するようユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、処理の持続時間を入力するようユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、負及び正の交互パルスを印加するか否かを指定するようユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、パルスが単相又は二相であるか否かを指定するようユーザーに促す。単相パルスは、パルス電流が一方向に移動することを意味する。二相パルスは、パルス電流が二方向又は可逆方向に移動することを意味する。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、負パルスの正パルスに対する比、又は正パルスの負パルスに対する比を指定するよう、ユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、単一処理で2つ以上の異なる波形を提供するために、任意の直流一定波形と任意のパルスは形とを組み合わせるよう、ユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、2つ以上の波形を同時に又は交互に印加するようユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、各波形の持続時間、及び波形が交互にくる場合には各波形のサイクル時間を入力するよう、ユーザーに促す。一実施形態では、ユーザーインターフェース124は、パルス間隔持続時間ユーザーに促す。
【００５６】
一実施形態では、2つ以上の波形を単一処理で使用するとき、ユーザーインターフェース124は、異なる波形の処理持続時間、及び各波形サイクルがどの程度の頻度であるかを指定するようユーザーに促す。一実施形態では、直流がパルスと組み合わせて使用されるとき、ユーザーインターフェース124は、パルス間の時間間隔を指定するようユーザーに促す。
【００５７】
一実施形態では、制御装置122は、波型情報が入力されるように、ユーザーインターフェース124を導いて適切なプロンプトをユーザーに提示するために、論理ルーチンを実施する。次いで制御装置122は、波型パラメーターを使用して、ユーザーが入力したパラメーターによる適切な波を、パルス発生器106及び極性スイッチ108を介して発生させる。
【００５８】
一実施形態では、活性電極とも呼ばれる第1の電極114は、波形発生器104を通して電源102に接続される。第1の電極114は、エラグ酸組成物を保持するためにリザーバ120をその端部に含む。一実施形態では、リザーバ120は、第1の電極114の端部にある中空圧痕であり、リザーバは、ゲル又はゲル様エラグ酸組成物を収容するために使用される。或いは一実施形態では、リザーバ120は、エラグ酸組成物を含有する吸収剤材料である。一般に、第1の電極114の設計上の配慮は、正極性を有する第1の電極114を企図する。イオントフォレシスデバイスが手持ち式デバイスとして包装される場合、第1の電極114は、ロールオン型アプリケーター、例えばプランジャ112により供給されるボール及びソケットを備えていてもよい。
【００５９】
皮膚118はシステムに対する負荷を表す。
【００６０】
一実施形態では、戻り電極とも呼ばれる第2の電極116は、波形発生器104を通して電源102に接続される。第2の電極116の極性は、波形発生器104によって第1の電極114の極性とは反対に維持される。一般に、第2の電極116の設計上の配慮は、負極性を有する第2の電極116を企図する。一実施形態では、第2の電極116は、処置を受ける人が持つ手持ち式電極である。他の実施形態では、第2の電極116は絶縁カバー及び露出チップを有し、その結果、第2の電極はデバイスのユーザーが保持することができ且つ処置を受ける人の皮膚に当てることができるようになる。
【００６１】
一実施形態では、第1の電極114上のリザーバ120は、プランジャ112に接続される。機能的に、プランジャ112は、リザーバ120内にエラグ酸組成物を補充する。一実施形態では、プランジャ112は、ピストン及びプッシュポッドを円筒状容器内に含む。一実施形態では、プランジャ112は、イオントフォレシスデバイスのユーザーが処置中に動作させるトリガー機構によって、動作することができる。
【００６２】
一実施形態では、イオントフォレシスアセンブリは、活性(ドナー)及び少なくとも1つの戻り(対)電極アセンブリ、皮膚接触層、及び活性剤層を含む。一実施形態では、イオントフォレシスアセンブリは、活性及び少なくとも1つの戻り電極アセンブリであって多層構造を有するものを含む。一実施形態では、イオントフォレシスアセンブリは、受動拡散又はイオントフォレシスを通してエラグ酸組成物を送達するように構成された多層構造を含む。
【００６３】
一実施形態では、イオントフォレシスアセンブリは、活性及び少なくとも1つの戻り電極アセンブリであって、それぞれがポリマーマトリックスの多層により形成されたものを含む。一実施形態では、イオントフォレシスアセンブリは、伝導性樹脂フィルム電極層、親水性ゲルリザーバ層、アルミ箔伝導体層、及び絶縁バッキング層を有する電極アセンブリを含む。
【００６４】
一実施形態では、イオントフォレシスアセンブリは、イオントフォレシスパッチのデザインを含む。一実施形態では、イオントフォレシスアセンブリは、イオントフォレシス多層デザインを含む。一実施形態では、イオントフォレシスアセンブリは、イオントフォレシスフェイスマスクのデザインを含む。一実施形態では、イオントフォレシスアセンブリは、イオントフォレシスフレキシブル基板のデザインを含む。
【００６５】
一実施形態では、イオントフォレシスアセンブリは、キャビティ、ゲル、ラミネート、膜、多孔質構造、マトリックス、基板、及び同様のもの等の、リザーバに貯蔵された1種又は複数の薬剤を含む。活性剤の非限定的な例には、電気浸透流を介して送達されることが可能な電気的に中性の薬剤、分子、又は化合物が含まれる。一実施形態では、中性の薬剤は、例えば電気泳動中の溶媒の流れによって運ばれる。一実施形態では、イオントフォレシスアセンブリは、電極と、有効量のエラグ酸組成物を含有するリザーバとを含む。
【００６６】
一実施形態では、リザーバは、元素、組成物、化合物、活性剤、医薬組成物、及び同様のものを、液体状態、固体状態、気状状態、混合状態、又は遷移状態で保持するのに用いられる、任意の形又は物体を含む。一実施形態では、リザーバは、元素、組成物、化合物、活性剤、医薬組成物、電解質溶液、及び同様のものを少なくとも一時的に保持することが可能な、1つ又は複数のイオン交換膜、半透過膜、多孔質膜、又はゲルを含む。
【００６７】
一実施形態では、リザーバは、構造によって形成された1つ又は複数のキャビティを含む。一実施形態では、リザーバは、元素、組成物、化合物、活性剤、医薬組成物、電解質溶液、及び同様のものを、生体界面に起電力又は電流によってそのようなものを放出する前に、保持するように働く。一実施形態では、イオントフォレシスアセンブリは、活性剤リザーバと生体界面との間に極性選択バリアとして働くように位置決めされていてもよい、1つ又は複数のイオン交換膜を含む。
【００６８】
一実施形態では、イオントフォレシスアセンブリは、電極と、有効量のエラグ酸組成物を含有するリザーバとを含む。
【００６９】
図2〜図4は、皮膚にエラグ酸を投与するためのイオントフォレシスデバイス及びアセンブリによる、代表的な電流密度波形出力の実施形態を示す。
【００７０】
図2を参照すると、第1の電流密度波形は、イオントフォレシスの使用を介した皮膚へのエラグ酸の投与に関して示される。電流密度波形は、イオントフォレシス処置の持続時間にわたり又は任意の部分にわたり、ほぼ一定の値に制御される。一定値で制御された電流密度波形を、直流と呼ぶ。一実施形態では、「一定電流」、ガルバニ電流、及び「直流」という用語は同義である。一実施形態では、負電流密度は、第1の電極114での極性が負であることを意味する。第2の電極116は、第1の電極が負極性を有するとき、正極性を有する。慣習に従えば、これは電流が第2の正極116から第1の負極114に流れることを意味する。逆に、第1の電極114が正極性を有し且つ第2の電極116が負極性を有するとき、電流は第1の正極114から第2の負極116に流れ、これは電流密度の正の値によりグラフ上に表されることになる。従来通り、電子は、電流とは反対方向に、即ち負極性から正極性に流れると定義されることになる。電流密度は、(活性電極の断面の)面積単位当たりのアンペア単位として定義される。
【００７１】
図2は、ある特定の直流密度の値及び持続時間を示すが、示される値は例であることを理解されるべきである。図2の直流波形の実施形態では、電流密度が一定であり、0.5mA/cm2で又はそれよりも下で制御される。図2の直流波形の実施形態では、電流密度が一定であり、0.2mA/cm2で又はそれよりも下で制御される。図2の直流波形の実施形態では、電流密度が一定であり、0.01mA/cm2から0.5mA/cm2の間で制御される。図2の直流波形の実施形態では、電流密度が一定であり、下記の値、0.01、0.05、0.1、0.15、0.2、0.25、0.3、0.35、0.4、0.45、0.5mA/cm2の何れか1つ、又は端点としての役割をする何れか2つの値の間の範囲内で制御される。図2の直流波形の実施形態では、振幅が上記の値の何れかで一定であり、電流は、少なくとも1分の持続時間にわたり印加される。図2の直流波形の実施形態では、振幅が上記の値の何れかで一定であり、電流は、10から20分の持続時間にわたり印加される。図2の直流波形の実施形態では、振幅が上記の値の何れかで一定であり、電流は、1、1.5、2、2.5、3、3.5、4、4.5、5、5.5、6、6.5、7、7.5、8、8.5、9、9.5、10、10.5、11、11.5、12、12.5、13、13.5、14、14.5、15、15.5、16、16.5、17、17.5、18、18.5、19、19.5、20、20.5、21、21.5、22、22.5、23、23.5、24、24.5、25、25.5、26、26.5、27、27.5、28、28.5、29、29.5、30、30.5、31、31.5、32、32.5、33、33.5、34、34.5、35、35.5、36、36.5、37、37.5、38、38.5、39、39.5、40、40.5、41、41.5、42、42.5、43、43.5、44、44.5、45、45.5、46、46.5、47、47.5、48、48.5、49、49.5、50、50.5、51、51.5、52、52.5、53、53.5、54、54.5、55、55.5、56、56.5、57、57.5、58、58.5、59、59.5、60、又は端点としての役割をする何れか2つの値の間の任意の範囲、又は端点としての役割をする何れか2つの値の間の任意の範囲の持続時間(単位:分)にわたって印加される。図2の直流波形の実施形態では、波形の持続時間にわたり、第1の電極114が正極であり第2の電極116が負極である。
【００７２】
図2の実施形態では、エラグ酸及び/又はエラグ酸誘導体の経皮投与のための方法は、エラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオンを約0.01質量%から約30質量%有するエラグ酸組成物を、イオントフォレシスにより送達する工程を含む。図2の実施形態では、エラグ酸組成物をイオントフォレシスにより送達する工程は、エラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はその両方が投与される第1の皮膚表面に接触する第1の電極と、第2の皮膚表面に接触する第2の電極とを有するデバイスに電位を印加する工程であって、第1の電極が、エラグ酸組成物を含有するリザーバに接続されている工程と;第1及び第2の電極の間に電流を伝導させる工程であって、電流がエラグ酸組成物中を通過し、第1の電極での電流密度の極性及び大きさが、エラグ酸イオン又はエラグ酸誘導体イオン又は両方の経皮輸送を開始するのに十分である工程とを含む。図2の実施形態では、エラグ酸組成物をイオントフォレシスにより送達する工程は、イオントフォレシスアセンブリにより第1の電極で正極性を発生させること、及び最大で0.5mA/cm2の電流密度を少なくとも1分間制御することを含む。図2の実施形態では、エラグ酸組成物をイオントフォレシスにより送達する工程は、0.05mA/cm2から0.5mA/cm2の電流密度を印加することを含む。図2の実施形態では、エラグ酸組成物をイオントフォレシスにより送達する工程は、電流密度を1から30分、印加することを含む。図2の実施形態では、エラグ酸組成物は4.0から8のpHを有する。図2の実施形態では、エラグ酸イオン又はエラグ酸誘導体イオンの経皮輸送は、エラグ酸イオン又はエラグ酸誘導体イオンの、エレクトロマイグレーション若しくは電気浸透又は両方を含む。
【００７３】
図3を参照すると、第2の電流密度波形が、イオントフォレシスの使用を介した皮膚内へのエラグ酸の投与に関して示されている。電流密度波形は、イオントフォレシス処置の持続時間又は任意の部分にわたり、正パルス(極性は、電極114で正である)において制御される。図3のパルスは単相であり、電流が一方向に移動することを意味する。図3のパルスは、最大振幅を有する。パルス波形は、最小振幅から増大し、最大振幅に到達し、次いで最小振幅に減少し、その最小振幅に在り、そのサイクルを繰り返すことになる。パルスを、最小振幅から開始して最大振幅に到達し、次いで最小振幅に戻るまでカウントする。このようにパルスは、最小振幅の期間を含まない。パルスサイクルは、最小振幅でその期間を含まない。パルスサイクルの周波数について述べる場合、最大及び最小振幅の持続時間は変更しない。
【００７４】
一実施形態では、パルス波は、デューティサイクル%を有するように表される。一実施形態では、パルス波に対するデューティサイクル%という表現は、電流が、そのデューティサイクル%に関してオンであることを意味する。例えば、50%のデューティサイクルは、電流が、パルスサイクルの50%でオンであり且つ50%でオフであり、30%のデューティサイクルは、電流が、パルスサイクルの30%でオンであり且つ70%でオフであることを意味する。一実施形態では、一方向パルスのデューティサイクル%は、5、10、15、20、25、30、35、40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95、又は端点としての役割をする何れか2つの値の間の任意の範囲である。一実施形態では、それぞれの二相パルスの%は、5、10、15、20、25、30、35、40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95、又は端点としての役割をする何れか2つの値の間の任意の範囲である。一実施形態では、「オン」の期間を意味するパルスは、時間の単位を有する持続時間として表すことができる。一実施形態では、パルス「オフ」期間は、持続時間として表すことができる。一実施形態では、パルスの周波数はヘルツで表されることになり、秒当たりのサイクル数を意味する。一実施形態では、パルスは、第1及び第2の電極の極性を負と正との間で交互にすることによって、反転させることができる。一実施形態では、二相パルス、交互パルス、二方向パルス、及び反転パルスは、同じ内容を意味する。一実施形態では、負電流密度のパルスの後に、控えめに言っても滞ることなく正電流密度のパルスが続くことになる。正及び負の両方の電流密度パルスを含むパルス波形は、負パルスに関する最大値、正パルスに関する最大値を含むことになり、これらの値は同じである必要はない。更に、一実施形態では、負電流密度パルスの持続時間は、正電流密度パルスと同じ持続時間である必要はない。一実施形態では、パルスの持続時間は、パルスが負であるか正であるかに関係なく、同じ持続時間である必要はない。
【００７５】
一実施形態では、パルス波形は、2つ以上のパルス波形を組み合わせることができる。一実施形態では、パルス波形は、負パルスの後に正パルスを含むことができる。したがって、負パルスに関して最大及び最小振幅を有し、正パルスに関して最大及び最小振幅を有する。
【００７６】
図3は、最大及び最小パルス振幅及びパルス持続時間の、ある特定の電流密度値を示すが、示される値は単なる例示であることを理解されるべきである。図3の電流波形の実施形態では、電流密度はパルスで制御され、各パルスの最大値は最大で0.2mA/cm2で制御され、最小振幅は0である。図3の電流波形の実施形態では、電流密度はパルスで制御され、各パルス最大値は、1mA/cm2で又はそれよりも下で制御され、最小振幅は0である。図3の電流波形の実施形態では、電流密度はパルスで制御され、各パルス最大値は0.2mA/cm2から1mA/cm2の間で制御され、最小振幅は0である。図3の電流波形の実施形態では、電流密度はパルスで制御され、各パルス最大値は0.2mA/cm2で又はそれよりも下で制御され、最小振幅は0である。図3の電流波形の実施形態では、電流密度はパルスで制御され、各パルス最大値は0.01、0.05、0.1、0.15、0.2、0.25、0.3、0.35、0.4、0.45、0.5…mA/cm2で、又は端点としての役割をする何れか2つの値の間の範囲で制御される。
【００７７】
一実施形態では、パルスは、最大振幅まで正の一定勾配(垂直以外)を有し、その後、一定最大振幅で持続時間が続き、その後、0まで負の一定勾配が続き、その後、持続時間0になる。一実施形態では、最小値を0以外にすることができる。一実施形態では、勾配は、指数関数的等の、一定以外にすることができる。図3の電流波形の実施形態では、パルスは三角形ではない。図3の実施形態では、パルスは方形波であり、最大及び最小振幅は、同じ持続時間のものである。図3の電流波形の実施形態では、パルスは方形波ではない。非方形波の一部の実施形態は、正弦、鋸歯、及び三角パルス波、矩形パルス、指数関数的減衰、及び同様のもの、又はそれらの組合せを含む。
【００７８】
図3の実施形態では、パルスの最大振幅の持続時間が、パルス間の最小振幅の持続時間未満である。図3の実施形態では、パルスの最大振幅の持続時間は、パルス間の最小振幅の持続時間よりも長い。図3の電流波形の実施形態では、最小振幅が0mA/cm2(平方センチメートル当たりのミリアンペア)である。図3の実施形態では、最小振幅が0mA/cm2よりも大きい(図3に対して正であることを意味する)。図3の電流波形の実施形態では、最大(及び最小)振幅は、パルスからパルスまで増大させることができる。図3の電流波形の実施形態では、最大(及び最小)振幅を、パルスからパルスまで減少させることができる。図3の電流波形の実施形態では、最大(及び最小)振幅をパルスからパルスまで増大させ、次いでパルスからパルスまで減少させ、繰り返すことができる。図3の電流波形の実施形態では、電流密度は、上記値の何れかでパルスで制御され、パルスの速度は1ヘルツから2000ヘルツである。図3の電流波形の実施形態では、電流密度は上記値の何れかでパルスで制御され、各パルスサイクルは、5マイクロ秒から500ミリ秒の間の持続時間を有する。図3の電流波形の実施形態では、電流密度はパルスで制御され、パルス速度は2000Hzであり、各パルスは250マイクロ秒の持続時間を有する。
【００７９】
図3の電流波形の実施形態では、イオントフォレシス処置を1分から5分の持続時間で適用する。図3の電流波形の実施形態では、イオントフォレシス処置は、1、1.5、2、2.5、3、3.5、4、4.5、5、又は端点としての何れか2つの値の間の任意の範囲の持続時間(単位:分)にわたって適用される。図3のパルス波形の実施形態では、電流は、1、1.5、2、2.5、3、3.5、4、4.5、5、5.5、6、6.5、7、7.5、8、8.5、9、9.5、10、10.5、11、11.5、12、12.5、13、13.5、14、14.5、15、15.5、16、16.5、17、17.5、18、18.5、19、19.5、20、20.5、21、21.5、22、22.5、23、23.5、24、24.5、25、25.5、26、26.5、27、27.5、28、28.5、29、29.5、30、30.5、31、31.5、32、32.5、33、33.5、34、34.5、35、35.5、36、36.5、37、37.5、38、38.5、39、39.5、40、40.5、41、41.5、42、42.5、43、43.5、44、44.5、45、45.5、46、46.5、47、47.5、48、48.5、49、49.5、50、50.5、51、51.5、52、52.5、53、53.5、54、54.5、55、55.5、56、56.5、57、57.5、58、58.5、59、59.5、60、又は端点としての役割をする何れか2つの値の間の任意の範囲、又は端点としての役割をする何れか2つの値の間の任意の範囲の持続時間(単位:分)にわたってパルスで適用される。図3の電流波形の実施形態では、パルスが0を超えて延びるとき、第1の電極114が正極性を有し、第2の電極116が負極性を有する。しかし、パルスが0を超えて延びるとき、第1の電極114は負であり第2の電極116は正である。このように、電流方向の反転が示される。
【００８０】
図3の実施形態では、エラグ酸及び/又はエラグ酸誘導体の経皮投与のための方法は、エラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオンを約0.01質量%から約30質量%有するエラグ酸組成物を、イオントフォレシスにより送達する工程を含む。図3の実施形態では、エラグ酸組成物をイオントフォレシスにより送達する工程は、エラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又は両方が投与されることになる第1の皮膚表面に接触する第1の電極、及び第2の皮膚表面に接触する第2の電極を有するデバイスに、電位を印加する工程であって、第1の電極が、エラグ酸組成物を含有するリザーバに接続されている工程と;第1及び第2の電極間に電流を伝導する工程であって、電流がエラグ酸組成物中を通過し、第1の電極での電流密度の極性及び大きさが、エラグ酸イオン若しくはエラグ酸誘導体イオン又は両方の経皮輸送を開始するのに十分である工程とを含む。図3の実施形態では、エラグ酸組成物をイオントフォレシスにより送達する工程は、第1の電極で正極性を発生させること、及び電流密度を、少なくとも1分間、最大で1mA/cm2のパルスで制御することを含む。図3の実施形態では、方法は更に、電流密度を0.05mA/cm2から1mA/cm2のパルスで制御する工程を含む。図3の実施形態では、方法は更に、電流密度を1から30分間、パルスで制御する工程を含む。図3の実施形態では、パルスは、最大で2500ヘルツの速度で印加される。図3の実施形態では、パルスは2000ヘルツの速度で印加され、各パルスは0.00025秒である。図3の実施形態では、エラグ酸イオン又はエラグ酸誘導体イオンの経皮輸送は、エラグ酸イオン又はエラグ酸誘導体イオンのエレクトロマイグレーション若しくは電気浸透又は両方を含む。
【００８１】
図4を参照すると、第3の電流密度波形が、イオントフォレシスの使用を介した皮膚へのエラグ酸の投与に関して示されている。一実施形態では、電流密度波形は、正の単相パルス又は二相パルスで及びパルス間で制御される。一実施形態では、電流密度は一定直流として制御される。図4は、2つの波形を印加する同期モードを表す。組み合わされた2つの波形は、イオントフォレシス処置の持続時間又は任意の部分にわたって同期的に印加される。特に、パルス波は、オン及びオフの期間を有する。一定直流の最上部にパルス波を重ね合わせると、電流プロファイルによって、直流定電流の一定値で開始するパルスが示される。パルスは、所定の持続時間にわたり最大値に到達し、次いでプロファイルは0になる。0値からオフ期間後、次のパルスまで一定直流が印加される。このように、波形の電流密度は、第2の振幅のパルスと共に第1の振幅の一定直流を付加することと記述することができ、このパルスは、直流を再び印加する前にオフ期間を有するものである。パルスは、直流振幅から開始して、最大パルス振幅に達し、次いで最小振幅又は0に戻るまでカウントされる。このようにパルスは、0で最小振幅の期間を含まない。パルスサイクルは、最小振幅の期間を含む。パルスサイクルの周波数について述べるとき、最大及び最小振幅の持続時間は同じである。
【００８２】
一実施形態では、パルスは、デューティサイクル%を有すると表現される。一実施形態では、パルス波に対するデューティサイクル%という表現は、電流が、デューティサイクル%に関してオンであることを意味する。例えば、50%のデューティサイクルは、電流がパルスサイクルの50%に関してオンであり且つ50%に関してオフであり、30%のデューティサイクルは、電流がパルスサイクルの30%に関してオンであり且つ70%に関してオフであることを意味する。一実施形態では、一方向パルスのデューティサイクル%は、5、10、15、20、25、30、35、40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95、又は端点としての役割をする何れか2つの値の間の任意の範囲である。一実施形態では、それぞれの二相パルスの%は、5、10、15、20、25、30、35、40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95、又は端点としての何れか2つの値の間の任意の範囲である。一実施形態では、「オン」期間を意味するパルスは、持続時間として表すことができる。一実施形態では、パルス「オフ」期間は、持続時間として表すことができる。一実施形態では、パルス波はヘルツで表すことになり、秒当たりのサイクル数を意味する。一実施形態では、パルスは、負と正との間で第1及び第2の電極の極性を交互にすることによって、反転させることができる。一実施形態では、二相パルス、交互パルス、及び反転パルスは、同じ内容を意味する。一実施形態では、負の電流密度のパルスの後に、控えめに言っても滞ることなく正の電流密度のパルスが続くことになる。負及び正の両方の電流密度パルスを含むパルス波形は、負パルスに関する最大値、正パルスに関する最大値を含むことになり、これらの値は同じである必要はない。更に、一実施形態では、負電流密度パルスの持続時間は、正電流密度パルスと同じ持続時間である必要はない。一実施形態では、パルスの持続時間は、パルスが負であるか正であるかに関わらず、同じ持続時間である必要はない。
【００８３】
一実施形態では、パルス波形は、2つ以上のパルス波形を組み合わせることができる。一実施形態では、パルス波形は、負パルス及びそれに続く正パルスを含むことができる。このように、負パルスに関して最大及び最小振幅を有し、正パルスに関して最大及び最小振幅を有する。
【００８４】
図4は、最大及び最小パルス振幅及びパルス持続時間の、ある特定の電流密度の値を示すが、示される値は単なる例示であることを理解すべきである。図4の電流波形の実施形態では、電流密度はパルスで制御され、各パルス最大値は最大0.2mA/cm2で制御され、最小振幅は0である。これは、パルスを直流に付加した合計が0.4mA/cm2になることを意味する。図4の電流波形の実施形態では、電流密度は、パルスと組み合わせた直流として制御され、各パルス最大値は0.5mA/cm2又はそれよりも低く、最小振幅は0であり、直流は0.5mA/cm2又はそれよりも低く制御される。図4の電流波形の実施形態では、電流密度は、パルスと組み合わせた直流として制御され、各パルス最大値は0.2mA/cm2から0.5mA/cm2の間で制御され、最小振幅は0であり、直流は0.2mA/cm2から0.5mA/cm2の間で制御される。図4の電流波形の実施形態では、電流密度はパルスと組み合わせた直流として制御され、各パルス最大値は0.2mA/cm2又はそれよりも低く制御され、最小振幅は0であり、直流は0.2mA/cm2又はそれよりも低く制御される。図4の電流波形の実施形態では、電流密度はパルスと組み合わせた直流として制御され、直流及び各パルス最大値は、0.01、0.05、0.1、0.15、0.2、0.25、0.3、0.35、0.4、0.45、0.5mA/cm2で、又は端点としての役割をする何れか2つの値の間の範囲で制御される。
【００８５】
図4の実施形態では、パルスは、定められた最大値及び最小値を持つ三角形であり、最大及び最小振幅は、同じ持続時間のものである。特にパルスは、最大振幅に対して正の一定勾配(垂直以外)を有し、その後に一定の最大振幅の期間が続き、その後に、負の一定勾配(垂直以外)が0まで続き、その後に0の期間が続く。一実施形態では、最小値を0以外とすることができる。実施形態では、勾配を、指数関数等の一定以外にすることができる。図4の電流波形の実施形態では、パルスが三角形ではない。パルス波形状の一部の実施形態は、正弦、鋸歯、及び方形パルス波、指数関数的減衰、及び同様のもの、又はこれらの組合せを含む。
【００８６】
図4の実施形態では、パルスの最大振幅の持続時間は、パルス間の最小振幅持続時間未満である。図4の実施形態では、パルスの最大振幅の持続時間は、パルス間の最小振幅の持続時間よりも長い。図4の電流波形の実施形態では、最小振幅が0mA/cm2である。図4の実施形態では、最小振幅が0mA/cm2よりも大きく(図4に対して正であることを意味する)、又は連続電流に比べて負である(連続電流に対して反対の極を意味する)。図4の電流波形の実施形態では、最大(及び最小)振幅は、パルスからパルスまで増大させることができる。図4の電流波形の実施形態では、最大(及び最小)振幅を、パルスからパルスまで減少させることができる。図4の電流波形の実施形態では、最大(及び最小)振幅は、パルスからパルスまで増大させることができ、次いでパルスからパルスまで減少させることができ、繰り返すことができる。
【００８７】
図4の電流波形の実施形態では、電流密度は、上記値の何れかのパルスと組み合わせた直流として制御され、パルスの速度は0.2ヘルツから500ヘルツであり、それに対応するパルス持続時間は0.5秒から0.0025秒である。図4の電流波形の実施形態では、パルス間隔が0.002…1.0、1.5、2、2.5、3.0、3.5、4.0、4.5、又は5.0秒である。図4の電流波形の実施形態では、イオントフォレシス処置は、1分から5分の持続時間にわたり適用される。
【００８８】
図4の電流波形の実施形態では、イオントフォレシス処置は、1、1.5、2、2.5、3、3.5、4、4.5、5、又は端点としての役割をする何れか2つの値の間の任意の範囲の持続時間(単位:分)にわたり適用される。図4の波形の実施形態では、電流は、1、1.5、2、2.5、3、3.5、4、4.5、5、5.5、6、6.5、7、7.5、8、8.5、9、9.5、10、10.5、11、11.5、12、12.5、13、13.5、14、14.5、15、15.5、16、16.5、17、17.5、18、18.5、19、19.5、20、20.5、21、21.5、22、22.5、23、23.5、24、24.5、25、25.5、26、26.5、27、27.5、28、28.5、29、29.5、30、30.5、31、31.5、32、32.5、33、33.5、34、34.5、35、35.5、36、36.5、37、37.5、38、38.5、39、39.5、40、40.5、41、41.5、42、42.5、43、43.5、44、44.5、45、45.5、46、46.5、47、47.5、48、48.5、49、49.5、50、50.5、51、51.5、52、52.5、53、53.5、54、54.5、55、55.5、56、56.5、57、57.5、58、58.5、59、59.5、60、又は端点としての役割をする何れか2つの値の間の任意の範囲、又は端点としての役割をする何れか2つの値の間の任意の範囲の持続時間(単位:分)にわたって直流として且つパルスで適用される。図4の電流波形の実施形態では、パルスが単相パルスである。図4の電流波形の実施形態では、パルスがゼロを超えて延びるとき、第1の電極114は正極正を有し、第2の電極116は負極を有する。しかし、パルスが0よりも下に延びるとき、第1の電極114は負であり第2の電極116は正である。このように、電流方向の反転が示される。
【００８９】
図4の実施形態では、エラグ酸及び/又はエラグ酸誘導体を経皮投与するための方法は、エラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオンを約0.01質量%から約30質量%有するエラグ酸組成物を、イオントフォレシスにより送達する工程を含む。図4の実施形態では、エラグ酸組成物をイオントフォレシスにより送達する工程は、エラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又は両方が投与されることになる第1の皮膚表面に接触する第1の電極、及び第2の皮膚表面に接触する第2の電極を有するデバイスに、電位を印加する工程であって、第1の電極が、エラグ酸組成物を含有するリザーバに接続されている工程と;第1及び第2の電極間に電流を伝導する工程であって、電流がエラグ酸組成物中を通過し、第1の電極での電流密度の極性及び大きさが、エラグ酸イオン若しくはエラグ酸誘導体イオン又は両方の経皮輸送を開始するのに十分である工程とを含む。図4の実施形態では、エラグ酸組成物をイオントフォレシスにより送達する工程は、第1の電極で正極性の適用を発生させること、及び電流を、直流として且つ最大0.5mA/cm2 r.m.s.のパルスで少なくとも1分間、制御することを含む。図4の実施形態では、電流を制御する工程は、電流を直流として且つ0.05mA/cm2 r.m.s.から0.5mA/cm2 r.m.s.のパルスで制御することを含む。図4の実施形態では、電流を制御する工程は、電流を直流として且つ1から30分のパルスで制御することを含む。図4の実施形態では、パルスは、1ヘルツから200ヘルツの速度で印加され、各パルスはそれぞれ1秒から0.005秒である。図4の実施形態では、パルスは200ヘルツの速度で印加され、各パルスは0.005秒である。図4の実施形態では、エラグ酸イオン又はエラグ酸誘導体イオンの経皮輸送は、エラグ酸イオン又はエラグ酸誘導体イオンのエレクトロマイグレーション又は電気浸透又は両方を含む。
【００９０】
一実施形態では、図2、図3、及び図4の電流波形を組み合わせて、イオントフォレシスを介して皮膚にエラグ酸を投与するための波形の組合せを提供することができる。一実施形態では、任意の図2〜図4の電流波形は第1の持続時間にわたり印加され、その後、任意の図2〜図4の異なる電流波形が第2の持続時間にわたり印加され、又はその逆も同様である。一実施形態では、2つ以上の異なる電流波形を、電流処理持続時間全体にわたってサイクルさせることができる。図2〜図4に関して既に記述されたような波形の詳細は、2つ以上の異なる波形を印加する併用処置と同様に適用可能である。即ち、直流波形の実施形態の何れか1つ又は複数は、パルス波形の何れか1つ又は複数と順次若しくは同時に組み合わせることができ、又はOFF期間の間隔と組み合わせることができる。
【００９１】
図2、図3、及び図4の場合、最大ピークのピーク電圧は99ボルトである。一実施形態では、電流を伝導する最大持続時間は、イオントフォレシス処置中の120分である。
【００９２】
図2、図3、及び図4と併せて記述された電流密度波形及び波形の組合せの全ての実施形態は、本明細書に開示されるエラグ酸組成物の全ての実施形態と共に使用することができる。
【００９３】
一実施形態では、イオントフォレシスで使用するため配合された組成物は、0.01質量%から30.0質量%のエラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオンと;0.1質量%から99質量%の、水を含めた有機極性溶媒とを含み、この組成物は、イオントフォレシスで使用するために配合される。イオントフォレシスで使用するために配合された組成物の実施形態では、有機極性溶媒が、組成物の最大で98質量%を構成する。イオントフォレシスで使用するために配合された組成物の実施形態では、エラグ酸及びエラグ酸誘導体及びそれらのイオンは、組成物の最大で30質量%を構成する。イオントフォレシスで使用するために配向された組成物の実施形態では、エラグ酸及びエラグ酸誘導体及びそれらのイオンは、組成物の0.05質量%から0.5質量%を構成する。イオントフォレシスで使用するために配合された組成物の実施形態では、組成物のpHが4.0から8である。イオントフォレシスで使用するために配合された組成物の実施形態では、組成物のpHが少なくとも4.0である。一実施形態では、イオントフォレシスで使用するために配合された組成物は、最大で8のpHを含む。
【００９４】
一実施形態では、イオントフォレシスで使用するために配合された組成物は、0.1質量%から30.0質量%のエラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオン;水を含めた1質量%から99質量%の有機極性溶媒を含む。
【００９５】
一実施形態では、イオントフォレシスで使用するために配合された組成物は、0.1質量%から30.0質量%のエラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオン;水を含めた、1質量%から99質量%の有機極性溶媒を含み、この有機極性溶媒は、組成物の、最大で98質量%を構成する。
【００９６】
一実施形態では、イオントフォレシスで使用するために配合された組成物は、0.1質量%から30質量%のエラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオン;水を含めた、1質量%から95質量%の有機極性溶媒を含み、このエラグ酸及びエラグ酸誘導体及びそれらのイオンは、組成物の、最大で30質量%を構成する。
【００９７】
一実施形態では、イオントフォレシスで使用するために配合された組成物は、0.1質量%から30質量%のエラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオン;水を含めた、1質量%から99質量%の有機極性溶媒を含み、このエラグ酸及びエラグ酸誘導体及びそれらのイオンは、約0.5%で含まれる。
【００９８】
一実施形態では、イオントフォレシスで使用するために配合された組成物は、0.1質量%から30質量%のエラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオン;水を含めた、1質量%から95質量%の有機極性溶媒を含み、この組成物のpHは4.0から8である。
【００９９】
一実施形態では、イオントフォレシスで使用するために配合された組成物は、0.1質量%から30.0質量%のエラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオン;水を含めた、1質量%から99質量%の有機極性溶媒を含み、この組成物のpHは少なくとも4.0である。
【０１００】
一実施形態では、イオントフォレシスで使用するために配合された組成物は、0.1質量%から30質量%のエラグ酸若しくはエラグ酸誘導体又はそれらのイオン;水を含めた、1質量%から99質量%の有機極性溶媒を含み、この組成物のpHは最大で8である。
【０１０１】
エラグ酸組成物の一実施形態で、エラグ酸組成物は、溶媒、保湿剤、皮膚保護剤、保存剤、スキンコンディショナー、キレート剤、角質除去剤、乳化剤、クレンジング剤、エマルジョン安定剤、皮膚軟化剤、抗酸化剤、香料、結合剤、粘度上昇剤、変性剤、pH調節剤、緩衝剤、植物抽出物、藻類抽出物、及び種子抽出物のうち1種又は複数を含むことになる。
【０１０２】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、水及び脱イオン水から選択される1種又は複数の溶媒を含む。
【０１０３】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、1種又は複数の保湿剤を含む。保湿剤の非限定的な例には、グリセリン、プロピレングリコール、メチルグルセス-20、スペインカンゾウ根抽出物、及びカプリリルグリコールが含まれる。
【０１０４】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、グリセリン及びダルス(Palmaria Palmata)抽出物から選択される1種又は複数の皮膚保護剤を含む。
【０１０５】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、フェノキシエタノール、メチルパラベン、及びエチルパラベンから選択される1種又は複数の保存剤を含む。
【０１０６】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、プロピレングリコール、サリチル酸、メチルグルセス-20、トコフェロール、ジメチコン、ロサ・ケンティフォリア花抽出物、加水分解大豆粉、酵母抽出物、ヘリアンタス・アヌス種子抽出物、エラグ酸、カプリリルグリコール、クロレラ(Chlorella Vulgaris)抽出物、及びセイヨウハッカ抽出物のうち1種又は複数のスキンコンディショナーを含む。
【０１０７】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩、及びステアリン酸グリセリル、及びポリエチレングリコール-100から選択される1種又は複数のキレート剤を含む。
【０１０８】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、サリチル酸から選択される1種又は複数の角質除去剤を含む。
【０１０９】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、ステアリン酸グリセリル、及びポリエチレングリコール-100、及びステアリン酸、ポリプロピレングリコール-5-セテス-20、及びポリアクリルアミド、及びC13〜14イソパラフィン及びラウレス-7から選択される1種又は複数の乳化剤を含む。
【０１１０】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、ステアリン酸から選択される1種又は複数のクレンジング剤を含む。
【０１１１】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、セチルアルコール、キサンタンガム、及びアクリレート/C10〜30アルキルアクリレートクロスポリマーから選択される1種又は複数のエマルジョン安定剤を含む。
【０１１２】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、セバシン酸ジイソプロピル、オクチルドデカノール、ジメチコン、及びポリアクリルアミド、及びC13〜14イソパラフィン、及びラウレス-7から選択される1種又は複数の皮膚軟化剤を含む。
【０１１３】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、イチョウ葉抽出物、トコフェロール、スペインカンゾウ根抽出物、及びエラグ酸から選択される1種又は複数の抗酸化剤を含む。
【０１１４】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、キサンタンガム、及びポリアクリルアミド、及びC13〜14イソパラフィン、及びラウレス-7から選択される1種又は複数の結合剤を含む。
【０１１５】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、キサンタンガム、及びアクリレート/C10〜30アルキルアクリレートクロスポリマーから選択される1種又は複数の粘度上昇剤を含む。
【０１１６】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、水酸化ナトリウムから選択される1種又は複数の変性剤を含む。
【０１１７】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムから選択される1種又は複数のpH調節剤を含む。
【０１１８】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムから選択される1種又は複数の緩衝剤を含む。
【０１１９】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、イチョウ葉抽出物、ロサ・ケンティフォリア花抽出物、スペインカンゾウ根抽出物、及びセイヨウハッカ抽出物から選択される1種又は複数の植物抽出物を含む。
【０１２０】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、ダルス及びクロレラ抽出物から選択される1種又は複数の藻類抽出物を含む。
【０１２１】
一実施形態では、エラグ酸組成物は、ヘリアンタス・アヌス種子抽出物から選択される1種又は複数の種子抽出物を含む。
【０１２２】
下記は、イオントフォレシス処置における電流波形の全ての実施形態で使用するのに適切な、約0.5質量%のエラグ酸組成物(エラグ酸製剤1)の代表的な成分である。量を、質量パーセントで示す。成分の名称は、化粧品成分の国際命名法(the International Nomenclature of Cosmetic Ingredients)に従う。
【０１２３】
水(溶媒): 15%(5%から25%の範囲、及びその間の任意の値);
グリセリン(保湿剤及び皮膚保護剤): 7%(0%から14%の範囲、及びその間の任意の値);
フェノキシエタノール(保存剤): 0.5%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
プロピレングリコール(保湿剤及びスキンコンディショナー): 10%(0%から20%の範囲、及びその間の任意の値);
メチルパラベン(保存剤): 0.15%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩(キレート剤): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
イチョウ葉抽出物(抗酸化剤): 0.01%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
サリチル酸(角質除去剤及びスキンコンディショナー): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
メチルグルセス-20(保湿剤及びスキンコンディショナー): 3%(0%から6%の範囲、及びその間の任意の値);
ステアリン酸グリセリル及びポリエチレングリコール-100ステアレート(乳化剤及びキレート剤): 1.45%(0%から3%の範囲、及びその間の任意の値);
ステアリン酸(キレート剤及び乳化剤): 1%(0%から2%の範囲、及びその間の任意の値);
セチルアルコール(安定剤): 0.5%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
セバシン酸ジイソプロピル(皮膚軟化剤): 4.5%(0%から9%の範囲、及びその間の任意の値);
エチルパラベン(保存剤): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
オクチルドデカノール(皮膚軟化剤): 2%(0%から4%の範囲、及びその間の任意の値);
トコフェロール(抗酸化剤及びスキンコンディショナー): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
香料: 0.15%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
香料: .005%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
ジメチコン(皮膚軟化剤及びスキンコンディショナー): 2.5%(0%から5%の範囲、及びその間の任意の値);
キサンタンガム(結合剤、及び安定剤、粘度上昇剤): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
アクリレート/C10〜30アルキルアクリレートクロスポリマー(安定剤及び粘度上昇剤): 0.15%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
水(溶媒): 1%(0%から2%の範囲、及びその間の任意の値);
水酸化ナトリウム(変性剤、pH調節剤、及び緩衝剤): 0.016%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
脱イオン水(溶媒): 42.894%(20%から50%の範囲、及びその間の任意の値);
ロサ・ケンティフォリア花抽出物(スキンコンディショナー): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
加水分解大豆粉(スキンコンディショナー): 0.5%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
酵母抽出物(スキンコンディショナー): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
スペインカンゾウ(リコリス)根抽出物(抗酸化剤及び保湿剤): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
セイヨウハッカ(ペパーミント)抽出物(スキンコンディショナー): 0.05%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
ヘリアンタス・アヌス(ヒマワリ)種子抽出物(スキンコンディショナー): 0.5%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
脱イオン水(溶媒): 5%(0%から10%の範囲、及びその間の任意の値);
ポリプロピレングリコール-5-セテス-20(乳化剤): 0.025%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
エラグ酸(抗酸化剤及びスキンコンディショナー): 0.5%(0.01%から10%の範囲、及びその間の任意の値);
ポリアクリルアミド及びC13〜14イソパラフィン及びラウレス-7(結合剤、皮膚軟化剤、及び乳化剤): 0.8%(0%から2%の範囲、及びその間の任意の値);
pH: 4から8、及びその間の任意の値。
【０１２４】
下記は、イオントフォレシス処置における電流波形の全ての実施形態で使用される、約0.5質量%のエラグ酸組成物(エラグ酸製剤2)の代表的な成分である。量は、質量パーセントで示す。成分の名称は、化粧品成分の国際命名法に従う。
【０１２５】
水(溶媒): 20%(10%から30%の範囲、及びその間の任意の値);
グリセリン(保湿剤及び皮膚保護剤): 7%(0%から14%の範囲、及びその間の任意の値);
フェノキシエタノール(保存剤): 0.5%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
プロピレングリコール(保湿剤及びスキンコンディショナー): 10%(0%から20%の範囲、及びその間の任意の値);
エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩(キレート剤): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
カプリリルグリコール(保湿剤及びスキンコンディショナー): 0.15%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
イチョウ葉抽出物(抗酸化剤): 0.01%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
サリチル酸(角質除去剤及びスキンコンディショナー): 0.2%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
メチルグルセス-20(保湿剤及びスキンコンディショナー): 3%(0%から6%の範囲、及びその間の任意の値);
ステアリン酸グリセリル及びポリエチレングリコール-100ステアレート(乳化剤及びキレート剤): 1.45%(0%から4%の範囲、及びその間の任意の値);
ステアリン酸(キレート剤及び乳化剤): 1%(0%から2%の範囲、及びその間の任意の値);
セチルアルコール(安定剤): 0.75%(0%から2%の範囲、及びその間の任意の値);
セバシン酸ジイソプロピル(皮膚軟化剤): 4.5%(0%から9%の範囲、及びその間の任意の値);
オクチルドデカノール(皮膚軟化剤): 2%(0%から4%の範囲、及びその間の任意の値);
トコフェロール(抗酸化剤及びスキンコンディショナー): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
香料: 0.15%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
香料: 0.005%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
ジメチコン(皮膚軟化剤及びスキンコンディショナー): 2.5%(0%から5%の範囲、及びその間の任意の値);
キサンタンガム(結合剤及び安定剤、粘度上昇剤): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
アクリレート/C10〜30アルキルアクリレートクロスポリマー(安定剤及び粘度上昇剤): 0.2%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
水酸化ナトリウム(変性剤、pH調節剤、及び緩衝剤): 0.05%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
脱イオン水(溶媒): 36.61%(20%から50%の範囲、及びその間の任意の値);
ロサ・ケンティフォリア花抽出物(スキンコンディショナー): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
加水分解大豆粉(スキンコンディショナー): 0.45%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
酵母抽出物(スキンコンディショナー): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
スペインカンゾウ(リコリス)根抽出物(抗酸化剤及び保湿剤): 0.1%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
セイヨウハッカ(ペパーミント)抽出物(スキンコンディショナー): 0.05%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
ヘリアンタス・アヌス(ヒマワリ)種子抽出物(スキンコンディショナー): 0.5%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
ダルス抽出物(皮膚保護剤): 1%(0%から2%の範囲、及びその間の任意の値);
クロレラ抽出物(スキンコンディショナー): 1%(0%から2%の範囲、及びその間の任意の値);
脱イオン水(溶媒): 5%(0%から10%の範囲、及びその間の任意の値);
ポリプロピレングリコール-5-セテス-20(乳化剤): 0.025%(0%から1%の範囲、及びその間の任意の値);
エラグ酸(抗酸化剤及びスキンコンディショナー): 0.5%(0.01%から10%の範囲、及びその間の任意の値);
ポリアクリルアミド及びC13〜14イソパラフィン及びラウレス-7(結合剤、皮膚軟化剤、及び乳化剤): 0.8%(0%から2%の範囲、及びその間の任意の値);
pH: 4から8、及びその間の任意の値。
【０１２６】
一実施形態では、本明細書のエラグ酸組成物は、指定された成分を「含む」ことができ、その他の指定されていない成分の可能性も開かれたままである。一実施形態では、本明細書のエラグ酸組成物は、特定の成分「からなる」ことができ、組成物が指定された成分のみを含むことを意味する。言い換えれば、指定された成分は、エラグ酸組成物の100質量%を構成する。
【実施例】
【０１２７】
極性溶媒の混合物に配合されたエラグ酸(0.2%で)の挙動を、10及び20分の印加時間で「正のガルバニ電流」(0.3mA/cm2)に設定されたイオントフォレシスを使用して、皮膚浸透に関して調査した。
【０１２８】
図5の結果は、特に20分の処置で、対照と比較した、荷電(イオントフォレシスpH 7.0)及び非荷電形態(イオントフォレシスpH 4.5)の両方に関する浸透の改善を示す。
【０１２９】
興味深いことに、図6に示されるように、エラグ酸製剤1の場合、10分の適用は、20分の適用に比べてエラグ酸のより高い送達を示した。
【０１３０】
次いで水:有機溶媒を4:1の比で含有する(組成物の全質量に対して約78質量%である)エラグ酸製剤2に関するエラグ酸の通過を、異なる電流モード「正のガルバニ電流」を「二層パルス電流」及び/又は「正の単相パルス電流」と組み合わせて印加した後に評価して、「より短い印加時間」及び「低い電流設定」で最良の浸透増強条件であることを決定した(図7)。
【０１３１】
皮膚浸透プロファイルの分析は、0.2mA/cm2で5分の間に印加された正の単相パルスが、その受動的印加から得られる場合に比べてエラグ酸の局所輸送を改善したことを示唆した。方法は主に、容易になった吸収相からなり、好ましくは非荷電形態にあるエラグ酸の浸透が、イオントフォレシス処置によって、おそらくはほとんどの場合電気浸透によって、効率的に増強される。
【０１３２】
例示的な実施形態について図示し記述してきたが、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、そこに様々な変更を行うことができることが理解されよう。
【符号の説明】
【０１３３】
102  電源
104  電流波形発生器
106  パルス発生器
108  極性発生黄
112  プランジャ
114  第1の(活性)電極
116  第1の(戻り)電極
118  皮膚
120  リザーバ
122  制御装置
124  ユーザーインターフェース
【図１】
2020503349.tif 000003
【図２】
2020503349.tif 000004
【図３】
2020503349.tif 000005
【図４】
2020503349.tif 000006
【図５】
2020503349.tif 000007
【図６】
2020503349.tif 000008
【図７】
2020503349.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月23日(2019.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
a.  少なくとも1つの電極及びエラグ酸組成物を含み、前記エラグ酸組成物が、エラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数を含む、電極アセンブリと、
b.  前記電極アセンブリに動作可能に連結された且つ少なくとも連続直流刺激及びパルス電流刺激を第1の電極で同時に発生させるように構成された回路であって、前記連続直流刺激及び前記パルス電流刺激が、生物対象に前記エラグ酸組成物を経皮的に送達するのに十分な特性のものであり且つ十分な持続時間にわたるものである回路と
を含む、イオントフォレシスデバイス。
【請求項２】
前記電極アセンブリが、
a.  約0.01質量%から約30質量%の範囲の量で存在する、エラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数と、
b.  約0.01質量%から約99質量%の範囲の量で存在する極性溶媒と
を含むエラグ酸組成物を保持する少なくとも1つのリザーバを含む、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項３】
前記連続直流刺激が、約0.01mA/cm2から約0.5mA/cm2の範囲の平均電流密度を含む、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項４】
前記パルス電流刺激が、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の平均電流密度、約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス幅、及び約1ヘルツから約2000ヘルツの範囲のパルス周波数、及び約1%から約90%の範囲のパルスのデューティサイクルを含むか、又は前記パルス電流刺激が、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の平均電流密度、約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス幅、2から20パルスを有する少なくとも1つのパルス列、約0.1ヘルツから約500ヘルツの範囲のパルス周波数、及び1%から90%の範囲のデューティサイクルを含むか、又は前記パルス電流刺激が、約0.01mA/cm2から約10mA/cm2の範囲の平均電流密度、約50マイクロ秒から約100ミリ秒の範囲のパルス幅、及び極性が交番する約2から約20パルスの少なくとも1つのパルス列、約0.1ヘルツから約500ヘルツの範囲のパルス周波数、及び約1%から約90%の範囲のパルスのデューティサイクルを含むか、又は前記パルス電流刺激が、約0.2mA/cm2の振幅電流密度、約500マイクロ秒の交互パルス持続時間、及び約200ヘルツのパルス周波数を含む、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項５】
前記電極アセンブリが、エラグ酸組成物を保持する少なくとも1つのリザーバを含む、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項６】
前記電極アセンブリが、エラグ酸組成物を保持するリザーバに電気的に連結される少なくとも1つの活性電極を含み、前記電極アセンブリは、前記連続直流刺激及び前記パルス電流刺激を同時に発生させるように構成された回路からの1つ又は複数の入力に応答して、生物対象に、前記エラグ酸組成物を経皮的に送達するように動作可能である、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項７】
前記電極アセンブリが、少なくとも1つの電源に電気的に連結される、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項８】
前記電極アセンブリが、少なくとも1つの活性電極アセンブリ及び少なくとも1つの対電極アセンブリを含む、請求項1に記載のイオントフォレシスデバイス。
【請求項９】
a.  下記のように構成された回路を備える電流波形発生器
を含むイオントフォレシスアセンブリであって、前記電流波形発生器は、
b.  最大で0.5mA/cm2の電流密度で最長30分間、直流を印加するように、又は
c.  最大で1mA/cm2の振幅で最長30分間、パルス波形電流密度を印加するように、又は
d.  最大で0.5mA/cm2の平均電流密度で最長30分間、直流波形及びパルス波形を同時に印加するように、若しくはそれらの組合せを逐次、最長120分の休止期間をおいて若しくはおかずに印加するように
構成される、イオントフォレシスアセンブリ。
【請求項１０】
イオントフォレシス方法であって、
a.  生物対象に連続直流及びパルス電流を同時に送出する工程であり、前記連続直流及び前記パルス電流が、エラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、エラグ酸誘導体のイオン、又はこれらの混合物の少なくとも1種を含むエラグ酸組成物を経皮的に送達するのに十分な特性のものであり且つ十分な持続時間にわたるものである工程を含む、イオントフォレシス方法。
【請求項１１】
a.  約0.01質量%から約30質量%の範囲の量で存在するエラグ酸、エラグ酸誘導体、エラグ酸のイオン、及びエラグ酸誘導体のイオンのうち1種又は複数と、
b.  約0.1質量%から約99質量%の範囲の量で存在する極性溶媒と
を含む、イオントフォレシス組成物。
【請求項１２】
a.  約0.01質量%から約10質量%の範囲の量の、1種又は複数のアニオン性、カチオン性、非イオン性、又は両性ポリマー、
b.  1種又は複数のアニオン性、カチオン性、非イオン性、又は両性界面活性剤、
c.  0.1質量%から約30質量%の範囲の量の、1種又は複数の浸透剤、
d.  0.01質量%から約5質量%の範囲の量の、1種又は複数の保存剤、
e.  0.01質量%から約10質量%の範囲の量の、1種又は複数の緩衝剤、
f.  0.1質量%から約10質量%の範囲の量の、1種又は複数の角質除去剤
を更に含む、請求項11に記載のイオントフォレシス組成物。
【請求項１３】
a.  約20質量%から約60質量%の範囲の量で存在する脱イオン水、
b.  約0質量%から約20質量%の範囲の量で存在するプロピレングリコール、及び
c.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する水酸化ナトリウム
を更に含む、請求項11に記載のイオントフォレシス組成物。
【請求項１４】
a.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する、アクリレート/C10〜30アルキルアクリレートクロスポリマー、
b.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するセチルアルコール、
c.  約0質量%から約9質量%の範囲の量で存在するセバシン酸ジイソプロピル、
d.  約0質量%から約5質量%の範囲の量で存在するジメチコン、
e.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するエチルパラベン、
f.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する香料、
g.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するイチョウ抽出物、
h.  約0質量%から約14質量%の範囲の量で存在するグリセリン、
i.  約0質量%から約3質量%の範囲の量で存在するステアリン酸グリセリル及びポリエチレングリコール-100ステアレート、
j.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するスペインカンゾウ根抽出物、
k.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するヘリアンタス・アヌス種子抽出物、
l.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する加水分解大豆粉、
m.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するセイヨウハッカ抽出物、
n.  約0質量%から約6質量%の範囲の量で存在するメチルグルセス-20、
o.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するメチルパラベン、
p.  約0質量%から約4質量%の範囲の量で存在するオクチルドデカノール、
q.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するフェノキシエタノール、
r.  約0質量%から約2質量%の範囲の量で存在するポリアクリルアミド及びC13〜14イソパラフィン及びラウレス-7、
s.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するポリプロピレングリコール-5-セテス-20、
t.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するロサ・ケンティフォリア花抽出物、
u.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するサリチル酸、
v.  約0質量%から約2質量%の範囲の量で存在するステアリン酸、
w.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するエチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩、
x.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するトコフェロール、
y.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在するキサンタンガム、及び
z.  約0質量%から約1質量%の範囲の量で存在する酵母抽出物
を更に含む、請求項13に記載のイオントフォレシス組成物。
【請求項１５】
約4から約8の範囲のpHを更に含む、請求項11に記載のイオントフォレシス組成物。
【国際調査報告】
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