(57)【要約】本発明は、ビームパターンが、複数の光源（１０）から放出された光ビーム（１２）からまたは少なくとも１つの光源（１０）から放出された少なくとも１つの光ビーム（１２）の部分ビーム（１６）から、光投影面（１８）の少なくとも１つの部分上におよび／または光投影面（１８）の少なくとも１つの部分周辺内に放射可能なように、光ビーム（１２）を放出するようにそれぞれが形成されている少なくとも１つの光源（１０）を含み、および放射されたビームパターンの反射により、放射されたビームパターン内への物体の可能な侵入を決定しかつ場合により物体警告信号を出力するように設計された検出装置を含む、光投影面（１８）用物体検出装置に関する。同様に、本発明は、ビームパターンを、光投影面（１８）の少なくとも１つの部分上におよび／または光投影面（１８）の少なくとも１つの部分周辺内に放射すること、および放射されたビームパターンの反射により、物体が、放射されたビームパターン内に侵入したか否かを決定することによる、物体の侵入に関する光投影面（１８）のモニタ方法に関する。【選択図】図１ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビームパターンが、複数の光源（１０）から放出された光ビーム（１２）からまたは少なくとも１つの光源（１０）から放出された少なくとも１つの光ビーム（１２）の部分ビーム（１６）から、光投影面（１８）の少なくとも１つの部分上におよび／または光投影面（１８）の少なくとも１つの部分周辺内に放射可能なように、光ビーム（１２）を放出するようにそれぞれが形成されている少なくとも１つの光源（１０）と、
放射されたビームパターンの反射により、放射されたビームパターン内への物体の可能な侵入を決定しかつ場合により物体警告信号を出力するように設計された検出装置と、
を含む、光投影面（１８）用物体検出装置。
【請求項２】
物体検出装置は、装置が、物体警告信号により、少なくとも、光投影面（１８）上に投影される少なくとも１つの走査ビームの光強度を低減するかまたは光投影面（１８）上への少なくとも１つの走査ビームの投影を少なくとも短時間遮断するように操作可能であることにより、少なくとも１つの走査ビームを光投影面（１８）上に投影する装置と協働するように形成されている、請求項１に記載の物体検出装置。
【請求項３】
物体検出装置は、ビームパターンが、部分ビーム（１６）から、光投影面（１８）の少なくとも１つの部分上におよび／または光投影面（１８）の少なくとも１つの部分周辺内に放射可能なように、少なくとも１つの光源（１０）から放出された光ビーム（１２）がそれにより複数の部分ビーム（１６）に分割可能なビームスプリッタ装置（１４）を有する、請求項１または２に記載の物体検出装置。
【請求項４】
ビームスプリッタ装置（１４）は、少なくとも１つの回折光学素子および／または少なくとも１つのホログラフィック素子を含む、請求項３に記載の物体検出装置。
【請求項５】
少なくとも１つの回折光学素子はプリズムおよび／または光学格子である、請求項４に記載の物体検出装置。
【請求項６】
物体検出装置は複数の光源（１０）を含み、この場合、ビームスプリッタ装置（１４）は、部分ビーム（１６）の列（１６ａ、１６ｂ）の各々が光投影面（１８）の少なくとも１つの付属された投影面条（１８ａ、１８ｂ）の上に出現するように、光源（１０）から放出された光ビーム（１２）の各々を、部分ビーム（１６）のそれぞれ１つの列（１６ａ、１６ｂ）に分割するように設計されている、請求項３〜５のいずれか一項に記載の物体検出装置。
【請求項７】
物体検出装置は、光投影面（１８）を列状に走査する走査ビームがそれぞれの光源（１０）に付属された投影面条（１８ａ、１８ｂ）の上に出現する直前および／または出現する間においてのみそれぞれの光源（１０）が作動されているように、光源（１０）の各々を他の光源（１０）とは無関係に作動させるように設計された制御装置を含む、請求項６に記載の物体検出装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の物体検出装置を含む、少なくとも１つの走査ビームを光投影面（１８）上に投影するように設計された装置。
【請求項９】
装置は、投影機、画像投影機または光学走査装置である、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
ビームパターンを、光投影面（１８）の少なくとも１つの部分上におよび／または光投影面（１８）の少なくとも１つの部分周辺内に放射するステップ（Ｓ１）と、
放射されたビームパターンの反射により、物体が、放射されたビームパターン内に侵入したか否かを決定するステップ（Ｓ２）と、
を含む、物体の侵入に関する光投影面（１８）のモニタ方法。
【請求項１１】
少なくとも１つの光源（１０）から放出された少なくとも１つの光ビーム（１２）は、ビームパターンが、少なくとも１つの光源（１０）から放出された少なくとも１つの光ビーム（１２）の部分ビーム（１６）から、光投影面（１８）の少なくとも１つの部分上におよび／または光投影面（１８）の少なくとも１つの部分周辺内に放射されるように、複数の部分ビーム（１６）に分割される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
複数の光源（１０）から放出された光ビーム（１２）の各々は、部分ビーム（１６）の列（１６ａ、１６ｂ）の各々が、光投影面（１８）の付属された投影面条（１８ａ、１８ｂ）の上に出現するように、部分ビーム（１６）のそれぞれ１つの列（１６ａ、１６ｂ）に分割される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
投影面（１８）を列状に走査する走査ビームがそれぞれの光源（１０）に付属された投影面条（１８ａ、１８ｂ）の上に出現する直前および／または出現する間においてのみそれぞれの光源（１０）が作動されているように、光源（１０）の各々は他の光源（１０）とは無関係に作動される、請求項１２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光投影面用物体検出装置に関する。同様に、本発明は、少なくとも１つの走査ビームを光投影面上に投影するように設計された装置に関する。さらに、本発明は、物体の侵入に関する光投影面のモニタ方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来技術から、例えば独国特許出願公開第１０２０１４２１７１８０号明細書に記載のヘッドアップディスプレイ用画像発生装置のような投影機が既知である。画像発生装置は、光投影面の走査により画像を光投影面上に投影するように設計されている。対応技術は、少なくとも１つの走査ビームを用いて光投影面を走査することにより光投影面の特性を検出する光学走査装置によってもまた使用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】独国特許出願公開第１０２０１４２１７１８０号明細書
【発明の概要】
【０００４】
本発明は、請求項１の特徴を有する、光投影面用物体検出装置、請求項８の特徴を有する、少なくとも１つの走査ビームを投影面上に投影するように設計された装置、および請求項１０の特徴を有する、物体の侵入に関する光投影面のモニタ方法を提供する。
【０００５】
本発明は、例えば投影機／画像投影機または光学走査装置の光投影面のような光投影面内への物体の侵入の迅速かつ信頼できる認識に対する可能性を提供する。これにより、光投影面内、ないしは光投影面上に投影された少なくとも１つの走査ビーム／レーザビーム内に人が侵入した場合、当事者の目に対する傷害リスクの恐れがないことが早期に応答可能である。したがって、本発明は、投影機／画像投影機または光学走査装置の使用における安全基準の改善に寄与する。
【０００６】
物体検出装置は、装置が、物体警告信号により、少なくとも、光投影面上に投影される少なくとも１つの走査ビームの光強度を低減するかまたは光投影面上への少なくとも１つの走査ビームの投影を少なくとも短時間遮断するように操作可能であることにより、少なくとも１つの走査ビームを光投影面上に投影する装置と協働するように形成されていることが好ましい。これは、それぞれの装置の安全基準を向上させる。
【０００７】
例えば、物体検出装置は、ビームパターンが、部分ビームから、光投影面の少なくとも１つの部分上におよび／または光投影面の少なくとも１つの部分周辺内に放射可能なように、少なくとも１つの光源から放出された光ビームがそれにより複数の部分ビームに分割可能なビームスプリッタ装置を有してもよい。これは、構造的に軽量に形成可能である。
【０００８】
物体検出装置の有利な実施形態において、ビームスプリッタ装置は、少なくとも１つの回折光学素子および／または少なくとも１つのホログラフィック素子を含む。例えば、少なくとも１つの回折光学素子はプリズムおよび／または光学格子であってもよい。
【０００９】
これにより、ビームスプリッタ装置を形成するために、コスト的に有利でかつ比較的小さい構造空間を必要とする光学素子が使用される。
他の有利な実施形態において、物体検出装置は複数の光源を含み、この場合、ビームスプリッタ装置は、部分ビームの列の各々が光投影面の少なくとも１つの付属された投影面条の上に出現するように、光源から放出された光ビームの各々を、部分ビームのそれぞれ１つの列に分割するように設計されている。このような物体検出装置は、比較的簡単にかつコスト的に有利に形成されている。
【００１０】
物体検出装置は、この場合、光投影面を列状に走査する走査ビームがそれぞれの光源に付属された投影面条の上に出現する直前および／または出現する間においてのみそれぞれの光源が作動されているように、光源の各々を他の光源とは無関係に作動させるように設計された制御装置を含むことが好ましい。物体検出装置のこの実施形態は、比較的少ないエネルギーを必要とするにすぎない。
【００１１】
前記の利点は、このような物体検出装置を含む、少なくとも１つの光ビームを光投影面上に投影するように設計された装置においてもまた得られる。例えば、装置は、投影機、画像投影機または光学走査装置であってもよい。装置は、物体検出装置の上記実施形態に応じて変更可能である。
【００１２】
さらに、物体の侵入に関する光投影面の対応モニタ方法の実行もまた、上記の利点を提供する。物体の侵入に関する光投影面のモニタ方法もまた、物体検出装置の上記の実施形態に応じて変更可能である。
【００１３】
本発明の他の特徴および利点が以下に図面により説明される。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１ａ】図１ａは、物体検出装置の第１実施形態の略図を示す。
【図１ｂ】図１ｂは、物体検出装置の第１実施形態により発生可能なビームパターンを示す。
【図２】図２は、物体検出装置の第２実施形態により発生可能なビームパターンを示す。
【図３】図３は、物体検出装置の第３実施形態により発生可能なビームパターンを示す。
【図４】図４は、物体検出装置の第４実施形態により発生可能なビームパターンを示す。
【図５】図５は、物体検出装置の第５実施形態により発生可能なビームパターンを示す。
【図６】図６は、物体検出装置の第６実施形態により発生可能なビームパターンを示す。
【図７】図７は、物体検出装置の第７実施形態により発生可能なビームパターンを示す。
【図８】図８は、物体の侵入に関する光投影面のモニタ方法の実施形態を説明するための流れ図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図１ａおよび１ｂは、物体検出装置の第１実施形態の略図およびこれにより発生可能なビームパターンを示す。
図１ａに略図で示した物体検出装置は、それぞれが光ビーム１２を放出するように形成された少なくとも１つの光源１０を含む。さらに、物体検出装置は、ビームパターンが、（少なくとも１つの光源１０から放出された少なくとも１つの光ビーム１２の）部分ビーム１６から、光投影面１８の少なくとも１つの部分上におよび／または光投影面１８の少なくとも１つの部分周辺内に放射可能である／放射されているように、少なくとも１つの光源１０から放出された光ビーム１２がそれにより複数の部分ビーム１６に分割可能なビームスプリッタ装置１４を有する。図１ａの実施形態において、例として、さらに、少なくとも１つの光源１０とビームスプリッタ装置１４の間にコリメータ２０が配置されている。しかしながら、これは単なる例として解釈されるべきである。さらに、少なくとも１つの光源１０から放出された少なくとも１つの光ビーム１２の光路内に他の光学素子が配置されていてもよいことは当然である。ビームパターンを部分ビーム１６から描写するためにもまた、他の光学素子が使用されてもよく、しかしながら、ここではそれに関しては説明されない。
【００１６】
物体検出装置は、放射されたビームパターンの反射により、放射されたビームパターン内への（図示されていない）物体の可能な侵入を決定するように設計された（図示されていない）検出装置もまた有する。検出装置が、（例えば放射されたビームパターンの反射の突然の変化に基づいて、）物体が明らかに放射されたビームパターン内に侵入したことを決定した／確認したかぎりにおいて、検出装置は対応物体警告信号を出力する。
【００１７】
物体警告信号は、少なくとも１つの走査ビームを光投影面１８に投影する（図示されていない）装置の制御に出力される。少なくとも１つの走査ビームを光投影面１８に投影する装置は、例えば、投影機／画像投影機または光学走査装置であってもよい。したがって、制御は、早期に、光投影面１８上に投影される少なくとも１つの走査ビームの光強度を低減することまたは光投影面１８上への少なくとも１つの走査ビームの投影を（少なくとも短時間）遮断することが有利であることに関して通知されることが可能である。これにより、光投影面１８内に（ないしは少なくとも１つの走査ビームを送出する装置と光投影面１８の間に）（物体としての）人が侵入した場合、人の目が少なくとも１つの走査ビームにより損傷されることを恐れる必要はない。したがって、物体検出装置は、少なくとも１つの走査ビームを光投影面１８上に投影するそれぞれの装置の安全基準の向上に寄与する。特に、例えば携帯電話のような携帯装置内の投影機／画像投影機および／または光学走査装置の危険のない使用が、ここに記載の物体検出装置により可能となる。
【００１８】
例えば投影機、画像投影機または光学走査装置のような光ビームを送出する装置は、しばしば、それらに付属された光投影面１８を少なくとも１つの走査ビームで列状に走査する／スキャンするように設計され、このようにして、画像を光投影面１８上に投影可能または光投影面１８の少なくとも１つの特性を検出可能である。一般的に、この場合、光投影面１８内に（ないしは少なくとも走査ビームを送出する装置と光投影面１８の間に）侵入した人の目もまた少なくとも１つの走査ビームにより「共に走査される」というリスクが存在する。しかしながら、この一般的なリスクは、ここに記載の物体検出装置により確実に回避可能である。特に、光投影面１８のスキャン／走査に対して部分ビーム１８からのビームパターンの発生により、光投影面１８内への（ないしは少なくとも走査ビームを送出する装置と光投影面１８の間への）物体／人の侵入が、その時から認識可能な検出時間／認識時間が著しく短縮されている。したがって、最高の光強度で放射された少なくとも１つの走査ビームによる目の走査が回避されるように、より早期に応答可能である。
【００１９】
少なくとも１つの走査ビームを光投影面１８上に放射する装置と物体検出装置の協働は、光投影面１８内への（ないしは少なくとも１つの走査ビームを送出する装置と光投影面１８の間への）人の気づかれない侵入に基づく損傷リスクを恐れることなく、光投影面１８上に投影される少なくとも１つの走査ビームの比較的高い光強度もまた可能にする。物体検出装置とそれぞれの装置の協働による、光投影面１８上に投影される少なくとも１つの走査ビームの問題なく上昇可能な光強度により、それぞれの装置の機能性もまた上昇可能である。これにより、物体検出装置は、本質的に、例えば投影機／画像投影機または光学走査装置のような装置の受入の増大に寄与する。
【００２０】
物体検出装置の少なくとも１つの光源１０として、例えば、特にＶＣＳＥＬ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ−Ｃａｖｉｔｙ  Ｓｕｒｆａｃｅ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ「垂直空洞面放出レーザ」）のようなレーザが使用されていてもよい。（検出装置として）組込ホトダイオードを有する自己干渉レーザエミッタが、少なくとも１つの光源１０として使用されていてもよい。組込ホトダイオードの利点は、特定の波長に対するその感度の限界であり、これにより、例えば太陽入射光のような他の光源により検出原理は妨害されない／ほとんど妨害されない。
【００２１】
ビームスプリッタ装置１４は、少なくとも１つの回折光学素子を含んでもよい。回折光学素子は、塵埃または回折光学素子の表面の局部変化に対して比較的丈夫である。さらに、回折光学素子は、その直接の周辺内のバイブレーション／振動に対して高い剛性を有する。したがって、物体検出装置が少なくとも１つの回折光学素子を備えていることは、物体検出装置をより強固にしかつ特に携帯装置のような装置内へのこの組込もまた容易にする。
【００２２】
特に、少なくとも１つの回折光学素子は、プリズムおよび／または光学格子であってもよい。このような回折光学素子は、比較的コスト的に有利であるばかりでなく、少なくとも１つの光ビーム１２の部分ビーム１６への分割／スプリット、ないしは部分ビーム１６からのビームパターンもまた可能にする。しかしながら、ここに記載のビームスプリッタ装置１４の形成可能性は単なる例として解釈されるべきであることを指摘しておく。さらに、ビームスプリッタ装置１４は少なくとも１つのホログラフィック素子を有してもよい。物体検出装置の形成可能性はその検出装置の特定の形成に限定されないので、検出装置はここではさらに詳細に説明されない。
【００２３】
図１ａの物体検出装置は複数の光源１０を含み、この場合、ビームスプリッタ装置１４は、光源１０から放出された光ビーム１２の各々を、部分ビーム１６のそれぞれ１つの（水平に／ホリゾンタルに配向された）列１６ａおよび１６ｂに分割するように設計されている。部分ビーム１６の列１６ａおよび１６ｂの各々は、光投影面１８の少なくとも１つの付属された（水平に／ホリゾンタルに配向された）投影面条１８ａおよび１８ｂの上に出現する。（したがって、それぞれの投影面条１８ａまたは１８ｂは、部分ビーム１６の付属された列１６ａおよび１６ｂの下記の「検出領域」により少なくとも部分的に／完全に覆われる。）特に、投影面条１８ａおよび１８ｂの全てが光投影面１８を完全に覆うことが可能である。代替態様として、物体検出装置は、光源１０から放出された光ビーム１２の各々を、部分ビーム１６の（垂直に／バーチカルに配向された）それぞれ１つの列に分割するように設計されていてもよい。この場合、部分ビームの列の各々は、光投影面１８の付属された少なくとも１つの（垂直に／バーチカルに配向された）投影面条の上に出現し、この場合、（垂直に／バーチカルに配向された）投影面条の全てが光投影面１８を完全に覆うことが好ましい。（この場合もまた、それぞれの投影面条は、付属された垂直に／バーチカルに配向された部分ビーム１６の列の「検出領域」により少なくとも部分的に／完全に覆われていてもよい。）
図１ｂは、物体検出装置により光投影面１８上に放射されたビームパターンを示す。部分ビーム１６の各々に、１００ｍｍの検出直径ｄを有する「検出領域」（仮想測定領域）が付属されてもよい。（部分ビーム１６の図示されていないビーム直径は、例えば０．５ｍｍと２ｍｍの間のようなミリメートル範囲内に位置してもよい。）「検出領域」は、約１００ｍｍの大きさを有する物体（例えば小児の頭）以外は、それぞれの部分ビーム１６により検出されることなく侵入可能ではない領域を与える。
【００２４】
部分ビーム１６の同一列１６ａまたは１６ｂの隣接する光点／光スポットの中心点Ｍ間の第１水平／ホリゾンタル間隔ａ１は水平方向に７０ｍｍより小さい。部分ビーム１６の並列に位置する列１６ａおよび１６ｂの隣接する光点／光スポットの中心点Ｍ間の第２垂直／バーチカル間隔ａ２もまた７０ｍｍより小さい。これは、隣接する光点／光スポットの中心点Ｍ間の最大間隔ａｍａｘもまた１００ｍｍより小さいことを保証する。したがって、光投影面１８の最小１００ｍｍの直径を有する面は覆われない／モニタリングされないままであることはない。したがって、ＩＥＣ６０８２５−１Ｅｄ３の規格の前提条件は確実に満たされている。
【００２５】
図１ｂのビームパターンにおいて、部分ビーム１６の光点／光スポットの中心点Ｍは、部分ビーム１６の同一列１６ａおよび１６ｂの外側の光点／光スポットの中心点Ｍが光投影面１８の垂直に／バーチカルに配向された端縁上に位置するように、光投影面１８上に位置決めされている。これにより、光投影面１８の側部周辺もまた物体／人の可能な侵入に関して検査可能である。人は一般的に側部から光投影面１８に接近するので、これは有利である。部分ビーム１６の垂直方向外側の光点／光スポットの中心点Ｍは、光投影面１８の隣接端縁まで、「検出領域」（仮想測定領域）の検出直径ｄの１／４より大きい間隔を有する。
【００２６】
図２は、物体検出装置の第２実施形態により発生可能なビームパターンを示す。
図２に略図で示したビームパターンにおいてもまた、部分ビーム１６の同一列１６ａまたは１６ｂの隣接する光点／光スポットの中心点Ｍ間の第１水平／ホリゾンタル間隔ａ１および部分ビーム１６の並列に位置する列１６ａおよび１６ｂの隣接する光点／光スポットの中心点Ｍ間の第２垂直／バーチカル間隔ａ２はそれぞれ７０ｍｍより小さい。それに対応して、隣接する光点／光スポットの中心点Ｍ間の最大間隔ａｍａｘは１００ｍｍより小さい。したがって、光投影面１８の少なくとも１００ｍｍの直径を有する面は覆われない／モニタリングされないままであることはなくかつＩＥＣ６０８２５−１Ｅｄ３の規格の前提条件は満たされている。
【００２７】
しかしながら、図２のビームパターンにおいて、同一列１６ａおよび１６ｂの外側の光点／光スポットの中心点Ｍは、光投影面１８の隣接端縁まで、「検出領域」（仮想測定領域）の検出直径ｄの１／４より大きい間隔を有する。したがって、比較的少ない部分ビーム１４は、既に光投影面１８を完全に覆うために適している。
【００２８】
図３は、物体検出装置の第３実施形態により発生可能なビームパターンを示す。
図３に略図で示したビームパターンは、部分ビーム１６の同一列１６ａまたは１６ｂの隣接する光点／光スポットの中心点Ｍ間の、７０ｍｍより小さい第１水平／ホリゾンタル間隔ａ１、部分ビーム１６の並列に位置する列１６ａおよび１６ｂの隣接する光点／光スポットの中心点Ｍ間の、７０ｍｍより小さい第２垂直／バーチカル間隔ａ２、および隣接する光点／光スポットの中心点Ｍ間の、１００ｍｍより小さい最大間隔ａｍａｘを有する。光投影面１８の少なくとも１００ｍｍの直径を有する面は覆われない／モニタリングされないままであることはなく、このことは、ＩＥＣ６０８２５−１Ｅｄ３の規格の前提条件を満たしている。
【００２９】
さらに、部分ビーム１６の同一列１６ａおよび１６ｂの外側の光点／光スポットの中心点Ｍは光投影面１８の垂直に／バーチカルに配向された端縁上に位置し、および部分ビーム１６の垂直方向外側の光点／光スポットの中心点Ｍは光投影面１８の水平に／ホリゾンタルに配向された端縁上に位置する。したがって、光投影面１８の側部周辺のみならず、光投影面１８の下部周辺および上部周辺もまた、物体／人の可能な侵入に関して検査可能である。特に、人の頭の光投影面１８への接近はより早期に認識可能である。
【００３０】
図４は、物体検出装置の第４実施形態により発生可能なビームパターンを示す。
図４に略図で示したビームパターンもまた、部分ビーム１６の同一列１６ａまたは１６ｂの隣接する光点／光スポットの中心点Ｍ間の、７０ｍｍより小さい第１水平／ホリゾンタル間隔ａ１、部分ビーム１６の並列に位置する列１６ａおよび１６ｂの隣接する光点／光スポットの中心点Ｍ間の、７０ｍｍより小さい第２垂直／バーチカル間隔ａ２、および隣接する光点／光スポットの中心点Ｍ間の、１００ｍｍより大きい最大間隔ａｍａｘを有する。光投影面１８の少なくとも１００ｍｍの直径を有する面は覆われない／モニタリングされないままであることはない（すなわち、ＩＥＣ６０８２５−１Ｅｄ３の規格を満たしている）。
【００３１】
図４のビームパターンにおいて、外側の部分ビーム１４（ないしは光点／光スポット）は光投影面１８を包囲する「光フレーム」を形成する。これにより、光投影面１８への、物体／人の接近の間に、特に人の頭の接近の間に既に応答可能であり、かつ光投影面１８に投影された少なくとも１つの走査ビームの、物体／人への出現の恐れがない／ほとんどない。さらに、図４のビームパターンにおいて、「光フレーム」／外側の部分ビーム１４により縁取りされた内側の部分ビームの放射は（少なくとも中間時間内に）遮断可能である。
【００３２】
図５は、物体検出装置の第５実施形態により発生可能なビームパターンを示す。
図５により略図で示した物体検出装置もまたＩＥＣ６０８２５−１Ｅｄ３の規格を満たしている。物体検出装置は、複数の光源１０、および光源１０から放出された光ビーム１２の各々がそれによりそれぞれ１つの（水平に／ホリゾンタルに配向された）１６ａおよび１６ｂに分割可能なビームスプリッタ装置１４を有し、これにより、部分ビーム１６の列１６ａおよび１６ｂの各々は、光投影面１８の（水平に／ホリゾンタルに配向された）少なくとも１つの付属された投影面条１８ａまたは１８ｂの上に出現する。物体検出装置は、光投影面１８を（ただ１つの）走査ビームで列状に走査／スキャンする（図示されていない）装置と協働し、この場合、走査ビームは光投影面１８の列ごとに１０μｓを必要としかつこのようにして光投影面１８の全体を１０ｍｓの範囲内で１回走査する／スキャンする。
【００３３】
さらに、物体検出装置は、光投影面１８を列状に走査する走査ビームがそれぞれの光源１０に付属された投影面条１８ａまたは１８ｂの上に出現する直前および／または出現する間においてのみそれぞれの光源１０が作動されているように、光源１０の各々を他の光源１０とは無関係に作動させるように設計された（図示されていない）制御装置を有する。このようにして、エネルギーが節約可能である。
【００３４】
図５は、例として信号Ｓｆ（トリガのセット）およびＳｂ（トリガのリセット）もまた示し、これにより、投影面条１８ａに付属された光源１０が操作される。
図６は、物体検出装置の第６実施形態により発生可能なビームパターンを示す。
【００３５】
図６により略図で示した物体検出装置は、複数の光源１０からなる配置（例えば複数のレーザからなる配置）を有し、これから各々がそれぞれ１つの光ビーム１２を放出するので、ビームパターンは、複数の光源から放出された光ビーム１２から、光投影面１８の少なくとも１つの部分上におよび／または光投影面１３の少なくとも１つの部分周辺内に放射可能である／放射されている。例えば、ビームパターンを描写するために、マイクロ光学レンズシステムが使用されていてもよい。
【００３６】
図６の例において、光源１０の各々に固有の投影面部分１８−ｉが付属されてもよい。（例として、図６に、１つの投影面部分１８−ｉのみが示されている。）したがって、光投影面１８を列状に走査する走査ビームがそれぞれの光源１０に付属された投影面部分１８−ｉ上に出現する直前および／または出現する間においてのみ、光源１０の各々は（他の光源１０とは無関係に）作動可能である。これによってもまたエネルギーが節約可能であることが好ましい。図６は、例として信号Ｓｆ（トリガのセット）およびＳｂ（トリガのリセット）もまた示し、これにより、投影面部分１８−ｉに付属された（ただ１つの）光源１０が操作される。
【００３７】
図７は、物体検出装置の第７実施形態により発生可能なビームパターンを示す。
図７により略図で示した物体検出装置は、近接領域内の光投影面１８上への物体の侵入の検出のために良好に適している。この場合、光投影面１８の方向に放射されたビームパターンの光点／光スポットの中心点Ｍが光投影面１８の周辺にもまた適切に向けられている。中心の光点／光スポットの中心点Ｍのみが光投影面１８内に位置している。側部の光点／光スポットの中心点Ｍは中心の光点／光スポットの中心点Ｍと共通の（水平／ホリゾンタル）線上に位置するが、光投影面１８の外側で光投影面１８の隣接する（水平／ホリゾンタル）端縁まで間隔Δｘを有して位置する。２つの上部光点／光スポットの中心点Ｍおよび２つの下部光点／光スポットの中心点Ｍもまた、光投影面１８の外側で、光投影面１８の隣接する（垂直／バーチカル）端縁まで間隔Δｙを有して位置する。間隔ΔｘおよびΔｙは、それぞれの光点／光スポット内に侵入した物体が確認され、かつ確認された物体が光投影面１８内に侵入する前に、光投影面１８を走査する走査ビームがその光強度において低減され、または（少なくとも短時間内に）遮断されるように選択されている。
【００３８】
上記の全てのビームパターンは、距離測定に基づいて侵入した物体を認識するために、光投影面１８上にそれぞれ１つの固定光点／光スポットのパターンを形成する。光投影面１８を走査する光ビームによる一般的な距離測定とは異なり、光投影面１８上における固定光点／光スポットのパターンを使用することにより、検出装置から、より強い信号が受信可能である。さらに、光投影面１８上における固定光点／光スポットのパターンを使用することにより、物体認識において、より大きな安定性／信頼性が達成可能である。
【００３９】
図８は、物体の侵入に関する光投影面のモニタ方法の実施形態を説明するための流れ図を示す。
方法ステップＳ１において、光投影面の少なくとも１つの部分上および／または光投影面の少なくとも１つの部分周辺内にビームパターンが放射される。例えば、少なくとも１つの光源から放出された少なくとも１つの光ビームは、ビームパターンが、少なくとも１つの光源から放出された少なくとも１つの部分ビームから、光投影面の少なくとも１つの部分上および／または光投影面の少なくとも１つの部分周辺内に放射されるように、複数の部分ビームに分割される。しかしながら、同様に、複数の光源から放出された光ビームからのビームパターンが、光投影面の少なくとも１つの部分上および／または光投影面の少なくとも１つの部分周辺内に放射されてもよい。このように発生可能なビームパターンに対する例が上で既に記載されている。
【００４０】
他の方法ステップＳ２において、放射されたビームパターンの反射により、放射されたビームパターン内に物体が侵入したか否かが決定される。
放射されたビームパターン内への物体の侵入が確認された場合、光投影面上に投影された少なくとも１つの走査ビームの光強度が低減されるか、または光投影面上への少なくとも１つの走査ビームの投影が少なくとも短時間遮断される（任意の）方法ステップＳ３がさらに実行される。したがって、ここに記載の方法の実行もまた、（物体として）気づかれることなく侵入した人の目に対する損傷リスクが存在することなく、光投影面を介してスキャンされる少なくとも１つの走査ビームの光強度の上昇を可能にする。したがって、ここに記載の方法もまた、コントラストがはっきりした、および／または明るい画像を光投影面１８上に投影するために利用可能である。
【００４１】
方法ステップＳ１において、複数の光源から放出された光ビームの各々は、部分ビームの列の各々が光投影面の付属された少なくとも１つの投影面条の上に出現するように、部分ビームのそれぞれ１つの列内に分割されることが好ましい。この場合、光源の各々は、光投影面を列状に走査する走査ビームがそれぞれの光源に付属された投影面条の上に出現する直前および／または出現する間においてのみそれぞれの光源が作動されているように、他の光源とは無関係に作動可能である。
【符号の説明】
【００４２】
１０  光源
１２  光ビーム
１４  ビームスプリッタ装置
１６  部分ビーム
１６ａ、１６ｂ  列
１８  光投影面
１８ａ、１８ｂ  投影面条
１８−ｉ  投影面部分
２０  コリメータ
ａ１、ａ２  間隔
ａｍａｘ  最大間隔
ｄ  検出直径
Ｍ  中心点
Ｓｂ、Ｓｆ  信号
Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３  方法ステップ
Δｘ、Δｙ  間隔
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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