(57)【要約】  本発明は、低放射硝子に関し、硝子基板、前記硝子基板上に形成されている第１誘電体層、前記第１誘電体層上に形成されている金属層、前記金属層上に形成されている吸収層、前記吸収層上に形成されている第２誘電体層、及び前記第２誘電体層上に形成されている、Ｚｒを含むコーティング層を含むことにより、取扱い性及び長期保管性が良好で、優れた低放射硝子を提供する。
2020522454.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硝子基板、
前記硝子基板上に形成されている第１誘電体層、
前記第１誘電体層上に形成されている金属層、
前記金属層上に形成されている吸収層、
前記吸収層上に形成されている第２誘電体層、及び
前記第２誘電体層上に形成されている、Ｚｒを含むコーティング層を含む、低放射硝子。
【請求項２】
前記コーティング層は、Ｚｒ、またはＺｒとＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｂ及びＮｂからなる群から選択される少なくとも一つの複合金属をさらに含む、請求項１に記載の低放射硝子。
【請求項３】
前記コーティング層は、Ｚｒ、またはＺｒ複合金属の窒化物、酸化物及び窒素酸化物を含むものである、請求項１または請求項２に記載の低放射硝子。
【請求項４】
前記コーティング層は、ＺｒＮｘ（０．５≦ｘ≦２）、ＳｉＺｒＮｘ（０．５≦ｘ≦２）、ＳｉＺｒＴｉＯｘ（０．５≦ｘ≦３）、ＳｉＺｒＡｌＮｘ（０．５≦ｘ≦２）及びＺｒＴｉＯｘＮｙ（０．５≦ｘ≦３、０．５≦ｙ≦２）からなる群から選択される少なくとも一つである、請求項１に記載の低放射硝子。
【請求項５】
前記コーティング層の厚さが１〜２０ｎｍである、請求項１に記載の低放射硝子。
【請求項６】
前記第１誘電体層及び前記第２誘電体層の少なくとも一つは、メイン誘電体層と、選択的に前記メイン誘電体層の上部または下部に形成されている少なくとも一つのサブ誘電体層とをさらに含む、請求項１に記載の低放射硝子。
【請求項７】
前記第１誘電体層と前記金属層の間に吸収層をさらに含む、請求項６に記載の低放射硝子。
【請求項８】
前記吸収層と前記第２誘電体層の間に、誘電体層、金属層及び吸収層が順次含まれている多層構造を少なくとも一つ含む、請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載の低放射硝子。
【請求項９】
前記誘電体層は、メイン誘電体層と、選択的に前記メイン誘電体層の上部または下部に形成されている少なくとも一つのサブ誘電体層とをさらに含む、請求項８に記載の低放射硝子。
【請求項１０】
前記多層構造のうち少なくとも一つは、前記誘電体層と前記金属層の間に少なくとも一つの吸収層をさらに含む、請求項９に記載の低放射硝子。
【請求項１１】
前記サブ誘電体層は、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｔｉ及びＮｉからなる群から選択される１種以上の元素が含有されたＺｎ系酸化物からなるものであり、前記メイン誘電体層は、Ａｌ、Ｂ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｓｎ及びＭｏから選択される一つ以上の元素が含有されたＳｉ系窒化物または窒素酸化物からなるものである、請求項６または請求項９に記載の低放射硝子。
【請求項１２】
前記金属層は、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌ及びＰｔからなる群から選択される１種以上のものである、請求項１に記載の低放射硝子。
【請求項１３】
前記吸収層は、前記金属層に接した層であって、Ｎｉ、ＣｒまたはＮｉ−Ｃｒ合金を含む、請求項１に記載の低放射硝子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐久性、取扱い性及び長期保管性に優れた低放射硝子に関する。
【背景技術】
【０００２】
低放射硝子は、硝子の表面に特殊コーティングされることで、夏には太陽輻射熱を反射させ、冬には室内暖房器から発生する赤外線を室内に保存させることにより、建築物のエネルギーを節減するという効果を増加させる。
【０００３】
このような低放射硝子は、大きく二つの方式で製造されている。一つは、硝子の製造過程上で熱い硝子リボンの上に半導体前駆体を均一に塗布し、硝子の熱により前駆体が分解してコーティングされる方式であり、他の一つは、真空チャンバで金属ターゲットのスパッタリングを介してコーティングされる方式である。
【０００４】
前者の場合は、主にＳｎＯ２：Ｆ物質をコーティングすることで製造しており、高い温度での蒸着及び相対的に安定した酸化物の使用によってコーティング膜のコーティング程度が非常に強い特性を示すものの、低い低放射特性を有している。後者の場合、金属をコーティングすることで膜形態に製造しており、かかる金属には、価格、色相、低放射特性を考慮して主に銀を用いている。また、耐久性が低い銀の特性により、低放射硝子は硝子基板／誘電体／銀／誘電体／保護層の形態に製造されているが、物理的蒸着及び相対的に不安定な銀を用いるので、コーティング層が弱くて耐久性が足りないという特性を有している。
【０００５】
これに伴い、低放射硝子のコーティング層の改善を目的に多様な方法が提案されてきたが、その例として、欧州登録特許第１，０８０，２４５号の場合、誘電体としてＺｎ酸化物にＳｎを添加して用い、銀保護層としてＴｉ層を用い、更なる最上部保護層を用いた。米国登録特許第５，８３４，１０３号では、誘電体としてＺｎ酸化物、銀保護層としてＴｉ、最上部保護層としてＳｉ窒化物を用いた。米国登録特許第６，０１０，６０２号では、誘電体としてＺｎ−Ｓｎ酸化物を用い、銀保護層としてＴｉを、最上部保護層としてＴｉＯ２を用いた。このように、金属基盤の低放射硝子に対する耐久性を向上させるために多様な材料及び多様な構造の発明がなされているが、高温多湿の雨季がある地域では耐久性、特に耐湿性が不良なので、高温多湿地域で長時間保管するとき、コーティング膜の変質などによってきらめく欠陥及び色の変化などが発生するという問題点を解決するための研究が必要な実情である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、耐久性を含め、耐寒性、耐酸性などの取扱い性と長期保管性に優れた低放射硝子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するため、本発明は、硝子基板、前記硝子基板上に形成されている第１誘電体層、前記第１誘電体層上に形成されている金属層、前記金属層上に形成されている吸収層、前記吸収層上に形成されている第２誘電体層、及び前記第２誘電体層上に形成されている、Ｚｒを含むコーティング層を含む低放射硝子を提供する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の低放射硝子は、取扱い性、長期保管性及び機械的耐久性に優れ、ＴｉＯｘＮｙを利用していた従来に比べて蒸着率に優れ、安定したスパッタリングが可能であるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本明細書の次の図等は、本発明の好ましい実施形態を例示するものであり、前述した発明の内容とともに本発明の技術思想をさらに理解させる役割を担うものなので、本発明は、かかる図に記載されている事項にだけ限定して解釈されてはならない。
【図１】本発明の単一低放射硝子の積層構造を示した図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、図１の単一低放射硝子の積層構造に対する具体例を示した図である。
【図３】本発明の多重低放射硝子の積層構造を示した図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は、図３の多重低放射硝子の積層構造に対する具体例を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図を参照しつつ、本発明の好ましい実施形態等を詳しく説明する。しかし、本発明は、本明細書で説明される実施形態等に限定されない。各図の場合、層及び領域等の厚さは、明確性を期するために誇張されたものであってよく、明細書全体にかけて同一の図面符号は同一の構成を表す。さらに、下記で本発明を説明するにあたり、関連の公知機能または構成に対する具体的な説明が本発明の要旨を不要に曖昧にし得ると判断される場合は、その詳細な説明は省略する。
【００１１】
以下、本発明に対する理解を深めるため、本発明をさらに詳細に説明する。
【００１２】
本明細書及び特許請求の範囲に用いられた用語や単語は、通常的や辞書的な意味に限定して解釈されてはならず、発明者は自身の発明を最良の方法で説明するために用語の概念を適宜定義することができるという原則に則って、本発明の技術的思想に適合する意味と概念として解釈されなければならない。
【００１３】
図１は、本発明の単一低放射硝子の積層構造を示した図である。
【００１４】
図１に示されている通り、本発明の低放射硝子は、硝子基板１０と前記硝子基板１０上に形成されている第１誘電体層２０、前記第１誘電体層２０上に形成されている金属層３０、前記金属層３０上に形成されている吸収層４０、前記吸収層４０上に形成されている第２誘電体層２１、及び前記第２誘電体層２１上に形成されている、Ｚｒを含むコーティング層５０を含む。
【００１５】
前記硝子基板１０は、低放射硝子のベース基材の役割を担う。このような硝子基板１０には、例えば、建築用あるいは自動車用として用いられているソーダライム硝子、低鉄分硝子、グリーン（ｇｒｅｅｎ）円盤硝子またはブルー（ｂｌｕｅ）円盤硝子などの通常の硝子が用いられてよい。さらに、使用の目的に従って２ｍｍ〜１２ｍｍの厚さを有する硝子を自在に用いることができ、例えば、５ｍｍあるいは６ｍｍ厚さの透明ソーダライム硝子を用いることができる。
【００１６】
前記第１誘電体層２０は、前記硝子基板１０上に形成され、強化、曲げなどの熱処理時に前記金属層３０に伝えられる酸素またはイオンを遮断する役割を担うものであって、メイン誘電体層２０ａを含み、選択的に前記メイン誘電体層２０ａの上部または下部にサブ誘電体層２０ｂが形成されてよい。本発明の一具現例によれば、前記サブ誘電体層２０ｂは、図２の（ａ）及び（ｂ）に示されている通り、前記メイン誘電体層２０ａの上部、すなわち、前記メイン誘電体層２０ａと金属層３０の間に形成されてよい。
【００１７】
前記メイン誘電体層２０ａは、Ａｌ、Ｂ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｓｎ及びＭｏから選択される一つ以上の元素が含有されたＳｉ系窒化物または窒素酸化物からなってよく、前記サブ誘電体層２０ｂは、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｔｉ及びＮｉからなる群から選択される１種以上の元素が含有されたＺｎ系酸化物からなってよい。
【００１８】
本発明の一具現例によれば、前記メイン誘電体層２０ａはＳｉＡｌＮｘであってよい。ここでｘは、１．３≦ｘ≦１．５であり、ｘが前記数値の範囲を外れると、窒素（Ｎ２）の過剰による蒸着率の低下が発生し得る。前記サブ誘電体層２０ｂはＺｎＡｌＯｘであってよい。ここでｘは、０．５≦ｘ≦３であり、ｘが前記数値の範囲を外れると、酸素（Ｏ２）の過剰による蒸着率の低下が発生し得る。
【００１９】
前記メイン誘電体層２０ａ及びサブ誘電体層２０ｂの厚さは、それぞれ独立して、５〜５０ｎｍであってよい。具体的に、前記メイン誘電体層２０ａの厚さは３０〜５０ｎｍであってよく、サブ誘電体層２０ｂの厚さは５〜２０ｎｍであってよい。もし前記メイン誘電体層２０ａの厚さが３０ｎｍ未満であるか、前記サブ誘電体層２０ｂの厚さが５ｎｍ未満であれば、耐久性が低下する問題が発生することがあり、前記メイン誘電体層２０ａの厚さが５０ｎｍ超であるか、前記サブ誘電体層２０ｂの厚さが２０ｎｍ超であれば、透過率が減少し得る。
【００２０】
本発明の一具体例によれば、図２の（ｂ）及び（ｃ）に示されている通り、前記第１誘電体層２０と前記金属層３０の間に吸収層４０ａがさらに含まれてよい。
【００２１】
前記金属層３０は、太陽輻射線を選択的に反射させて高い遮蔽能を提供するとともに低放射を具現する役割を担う。前記金属層３０には伝導性に優れた金属が用いられてよく、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌ及びＰｔからなる群から選択される１種以上が用いられてよい。本発明の一具体例によれば、前記金属層３０として用いられる金属は銀（Ａｇ）であってよい。
【００２２】
前記金属層３０の厚さは５〜２５ｎｍであってよい。前記金属層３０の厚さが５ｎｍ未満であれば、金属層３０の形成が正常になされないため低放射性能が不十分になることがあり、２５ｎｍ超であれば、透過率が低下して反射率が高くなるので、開放感を低下させ得る。
【００２３】
図１及び図２に示されている通り、前記吸収層４０、４０ａ、４０ｂは、金属層３０に接した層であって、金属層３０と誘電体層の間の接着力を向上させる機能を行い、強化、曲げなどの熱処理時に硝子から拡散されるＮａ＋及び空気中のＯ２の移動を妨げる役割、及び金属層３０が高い熱処理温度でも安定した挙動ができるよう金属の融着を助ける役割を担い、最終的に金属層３０に浸透するＯ２を吸収して低放射性能を維持するように助ける役割を担う。
【００２４】
前記吸収層４０、４０ａ、４０ｂにはＮｉ、Ｃｒ及びＮｉ−Ｃｒ合金から選択されるものが用いられてよく、Ｎｉ−Ｃｒ合金が用いられる場合、その合金の組成は、例えば、Ｎｉが７５〜８５ｗｔ％、Ｃｒが１５〜２５ｗｔ％であってよい。本発明の一具現例に係る吸収層４０、４０ａ、４０ｂにＮｉ−Ｃｒ合金が用いられてよい。
【００２５】
前記吸収層４０、４０ａ、４０ｂの厚さは０．１〜１０ｎｍであってよい。前記吸収層４０、４０ａ、４０ｂの厚さが０．１ｎｍ未満であれば、耐久性が低下するか、熱処理及び曲げ工程の後にコーティング膜の曇りが増加する問題があり得、１０ｎｍ超であれば、透過率が低くなるか、熱処理及び曲げ工程の後にコーティング膜の曇りが増加する問題があり得る。
【００２６】
図１及び図２に示されている通り、前記第２誘電体層２１は、強化、曲げなどの熱処理時に金属層３０に伝えられる酸素またはイオンを遮断する役割を担うものであって、第１誘電体層２０と同様にメイン誘電体層２１ａを含み、選択的に前記メイン誘電体層２１ａの上部または下部にサブ誘電体層２１ｂが形成されてよい。本発明の一具現例によれば、前記サブ誘電体層２１ｂは、図２の（ｂ）に示されている通り、前記メイン誘電体層２１ａの下部、すなわち、前記メイン誘電体層２１ａと吸収層４０ｂの間に形成されてよい。
【００２７】
前記メイン誘電体層２１ａは、Ａｌ、Ｂ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｓｎ及びＭｏから選択される一つ以上の元素が含有されたＳｉ系窒化物または窒素酸化物からなってよく、前記サブ誘電体層２１ｂは、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｔｉ及びＮｉからなる群から選択される１種以上の元素が含有されたＺｎ系酸化物からなってよい。本発明の一具現例によれば、前記メイン誘電体層２１ａはＳｉＡｌＮｘであってよい。ここでｘは、１．３≦ｘ≦１．５であり、ｘが前記数値の範囲を外れると、窒素（Ｎ２）の過剰による蒸着率の低下が発生し得る。前記サブ誘電体層２１ｂはＺｎＡｌＯｘであってよい。ここでｘは、０．５≦ｘ≦３であり、ｘが前記数値の範囲を外れると、酸素（Ｏ２）の過剰による蒸着率の低下が発生し得る。
【００２８】
前記メイン誘電体層２１ａ及びサブ誘電体層２１ｂの厚さは、それぞれ独立して、５〜７０ｎｍであってよい。具体的に、前記メイン誘電体層２１ａの厚さは３５〜７０ｎｍであってよく、サブ誘電体層２１ｂの厚さは５〜２０ｎｍであってよい。もし前記メイン誘電体層２１ａの厚さが３５ｎｍ未満であるか、前記サブ誘電体層２１ｂの厚さが５ｎｍ未満であれば、耐久性が低下する問題が発生することがあり、前記メイン誘電体層２１ａの厚さが７０ｎｍ超であるか、前記サブ誘電体層２１ｂの厚さが２０ｎｍ超であれば、透過率が減少し得る。
【００２９】
前記Ｚｒを含むコーティング層５０は、本発明に係る低放射硝子の表面を保護する役割を担い、高い機械的強度、低い表面粗度及び高い透過率を有する材料が用いられてよい。
【００３０】
前記Ｚｒを含むコーティング層５０は、Ｚｒ、またはＺｒとＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｂ及びＮｂからなる群から選択される少なくとも一つの複合金属を含むことができ、前記コーティング層５０は、ＺｒまたはＺｒ複合金属の窒化物、酸化物または窒素酸化物を含むことができる。具体的に、前記コーティング層は、ＺｒＮｘ（例えば、０．５≦ｘ≦２）、ＳｉＺｒＮｘ（例えば、０．５≦ｘ≦２）、ＳｉＺｒＴｉＯｘ（例えば、０．５≦ｘ≦３）、ＳｉＺｒＡｌＮｘ（例えば、０．５≦ｘ≦２）、及びＺｒＴｉＯｘＮｙ（例えば、０．５≦ｘ≦３、０．５≦ｙ≦２）からなる群から選択される少なくとも一つを含むことができる。ここで、ｘまたはｙが前記数値の範囲を外れると、蒸着率及び密度が低下し得る。
【００３１】
前記コーティング層５０の厚さは、好ましくは１〜２０ｎｍであってよい。もしコーティング層５０の厚さが１ｎｍ未満であれば、耐久性が低下する虞があり、２０ｎｍ超であれば、透過率が低下するか、曇りを発生させる原因となり得る。
【００３２】
図３は、本発明の多重（例えば、二重または三重）低放射硝子の積層構造を示した図である。
【００３３】
図３に示されている通り、本発明の低放射硝子は、前記図１に示した積層構造における吸収層４０と第２誘電体層２１の間に、誘電体層２２、金属層３０及び吸収層４０が順次含まれている多層構造を少なくとも一つ含むことができる。図１に示した通りの単一積層構造で前記のような多層構造がさらに１個含まれている場合を二重低放射硝子、さらに２個含まれている場合を三重低放射硝子という。
【００３４】
前記誘電体層２２は、前記第１誘電体層２０及び第２誘電体層２１と同様に、強化、曲げなどの熱処理時に金属層３０に伝えられる酸素またはイオンを遮断する役割を担うものであって、図４の（ａ）に示されている通り、第１誘電体層２０及び第２誘電体層２１と同様にメイン誘電体層２２ａを含み、選択的に前記メイン誘電体層２２ａの上部または下部にサブ誘電体層２２ｂが形成されてよい。
【００３５】
前記多層構造のうち少なくとも一つは、図４の（ｂ）及び（ｃ）に示されている通り、前記誘電体層２２と前記金属層３０の間に少なくとも一つの吸収層４０ａをさらに含むことができる。
【００３６】
以下、本発明を実施例によって詳しく説明する。
【００３７】
ただし、下記実施例は本発明を具体的に例示するものであり、本発明の内容が下記実施例によって限定されない。
【実施例】
【００３８】
［実施例］
実施例１
マグネトロン（Ｍａｇｎｅｔｒｏｎ）スパッタコーターを用いて、６ｍｍの透明硝子基板上に下記表１に示した組成及び厚さを有する多層コーティング膜が形成されている低放射硝子を製造した。
【００３９】
第１誘電体層（ＳｉＡｌＮｘ、ｘ＝１．３〜１．５）を窒素／アルゴン（窒素の割合：４０体積％）雰囲気下でコーティングし、吸収層（ＮｉＣｒ合金）をアルゴン１００％雰囲気下でコーティングし、金属層（Ａｇ）をアルゴン１００％雰囲気下でコーティングした。その後、前記金属層（Ａｇ）上に吸収層（ＮｉＣｒ合金）をアルゴン１００％雰囲気下でコーティングし、第２誘電体層（ＳｉＡｌＮｘ、ｘ＝１．３〜１．５）を窒素／アルゴン（窒素の割合：４０体積％）雰囲気下でコーティングし、コーティング層としてＺｒＮ層を、金属ターゲットを用いて窒素／アルゴン（窒素の割合：４０体積％）雰囲気でコーティングすることで低放射硝子を製造した。
【００４０】
実施例２
コーティング層としてＺｒＮ層を、金属ターゲットを用いて窒素１００％雰囲気でコーティングしたことを除き、実施例１と同様の条件で低放射硝子を製造した。
【００４１】
【表１】
2020522454.tif 000003
【００４２】
［比較例］
比較例１
コーティング層としてＴｉＯｘＮｙ（ｘ：ｙ＝３：１）層を、セラミックターゲットを用いて窒素／アルゴン（窒素の割合：４０体積％）雰囲気下でコーティングしたことを除き、実施例１と同様の条件で低放射硝子を製造した。
【００４３】
比較例２
コーティング層としてＺｒＯ層を、セラミックターゲットを用いて酸素／アルゴン（酸素の割合：５０体積％）雰囲気下でコーティングしたことを除き、実施例１と同様の条件で低放射硝子を製造した。
【００４４】
【表２】
2020522454.tif 000004
【００４５】
［実験例］
実施例及び比較例で得られた低放射硝子の物性を下記のような方法によって測定し、その結果を下記表３に示した。
【００４６】
耐湿性
実施例及び比較例で製造された低放射硝子がコーティングされた１個の試料を１００×１００ｍｍの大きさに準備し、恒温恒湿室（相対湿度８０±１０％、温度３０±２℃）に投入する。２４時間硬化後から１日（２４時間）単位で試料を取り出して布で水気を除去した後、ピンホール（Φ）の大きさ、個数、及び下記１）〜３）を満たすのかを確認する。
１）４．０ｍｍ  ≦  Φ  １個以上不許
２）２．０ｍｍ  ≦  Φ  ３個以上不許
３）前面小型ピンホール不許
【００４７】
耐引っかき性
１）一般
実施例及び比較例で製造された低放射硝子がコーティングされた１個の試料を３００×１００ｍｍの大きさに準備し、前記試料のコーティング面が上に向いてブラシ（Ｂｒｕｓｈ）に接するようエルコメーター（Ｅｌｃｏｍｅｔｅｒ）１７２０に位置させる。前記試料のコーティング面に蒸留水を加えた後、機器を作動させる（ブラシの往復回数２００回）。終了後、前記試料の水気を除去してから、目視で確認して等級（Ｌｅｖｅｌ）を記録する。このとき、等級の評価基準は次の通りである。
−  １等級：スクラッチなし
−  ２等級：幅０．１ｍｍ未満の細いスクラッチが５個以下
−  ３等級：幅０．１ｍｍ未満の細いスクラッチが６個以上
−  ４等級：幅０．１ｍｍ以上の太いスクラッチが２個以下
−  ５等級：幅０．１ｍｍ以上の太いスクラッチが３〜５個
−  ６等級：幅０．１ｍｍ以上の太いスクラッチが６個以上、及び幅１．０ｍｍ未満のコーティング膜剥離発生
−  ７等級：幅１．０ｍｍ以上のコーティング膜剥離発生
２）石英（苛酷）
実施例及び比較例で製造された低放射硝子がコーティングされた１個の試料を４００×１００ｍｍの大きさに準備し、前記試料のコーティング面が上に向いてブラシ（Ｂｒｕｓｈ）に接するようエリクセンブラシテスター（Ｅｒｉｃｈｓｅｎ  Ｂｒｕｓｈ  Ｔｅｓｔｅｒ）に位置させる。前記試料のコーティング面に石英パウダー溶液を塗布した後、機器を作動させる（ブラシの往復回数５０回）。終了後、前記試料の水気を除去してから、目視で確認して等級（Ｌｅｖｅｌ）を記録する。このとき、等級の評価基準は前記１）一般と同一である。
【００４８】
耐寒性
実施例及び比較例で製造された低放射硝子がコーティングされた１個の試料を１００×３００ｍｍの大きさに準備し、ピペットを利用して前記試料のコーティング面に準備された人工汗の試薬（ＮａＣｌ（９９％）２．５ｇ、Ｌ−ヒスチジン塩酸塩・１水和物（９９％）、リン酸二水素ナトリウム・１２水和物（９８％）１．２５ｇ、及びＤＩ水（ＤＩ  ｗａｔｅｒ）５００ｍｌを含む）を落とした後、前記試料を恒温恒湿室（相対湿度８０±１０％、温度３０±２℃）に投入する。投入した後、１時間の間隔で試料から５０ｃｍ離れた距離でコーティング膜の状態を確認する。
【００４９】
耐酸性
実施例及び比較例で製造された低放射硝子がコーティングされた１個の試料を５０×１００ｍｍの大きさに準備し、ピペットを利用して実験用プラスチック筒の１／３の地点までＨＣｌ  １Ｎ溶液を満たした後、前記試料を投入する。常温で１時間の間隔で前記試料のコーティング面を蒸留水で水洗した後、布で水気を除去する。前記試料のコーティング面の状態を５０ｃｍ離れた距離から目視で確認する。
【００５０】
クリーブランド
実施例及び比較例で製造された低放射硝子がコーティングされた１個の試料を４００×６００ｍｍの大きさに準備し、前記試料に低放射硝子がコーティングされた面が水分凝縮試験機（水槽の温度を６０±１℃に維持できるもの）の内部に向くように据え付け、クランプを利用して固定する。４時間経過後、１時間単位でコーティング面のピンホール及び損傷の有無を確認する。
【００５１】
【表３】
2020522454.tif 000005
【符号の説明】
【００５２】
１０  硝子基板
２０  第１誘電体層
２１  第２誘電体層
２２  誘電体層
２０ａ，２１ａ，２２ａ  メイン誘電体層
２０ｂ，２１ｂ，２２ｂ  サブ誘電体層
３０  金属層
４０，４０ａ，４０ｂ  吸収層
５０  コーティング層
【図１】
2020522454.tif 000006
【図２】
2020522454.tif 000007
【図３】
2020522454.tif 000008
【図４】
2020522454.tif 000009
【国際調査報告】
2020522454.tif 000010
2020522454.tif 000011
2020522454.tif 000012
2020522454.tif 000013