【手続補正書】
【提出日】平成30年2月1日(2018.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハ状の物品を処理する装置であって、
ウエハ状の物品を保持し、回転軸を中心に回転させるスピンチャックと、
ウエハ状の物品の少なくとも１つの面の上に流体を供給する少なくとも１つのディスペンサと、
前記スピンチャックを囲み、処理流体を回収する回収体であって、異なる回収体レベルで流体を個別に回収するための少なくとも２つの回収体レベルを有する回収体と、
を備え、
各前記少なくとも２つの回収体レベルは、それぞれの排出ガス導管に通じる排出ガス回収チャンバを備え、
前記排出ガス導管の少なくとも１つは、前記排出ガス導管を前記回収体の外の周囲環境に開きながら、また逆も同様にして、その結合された排出ガス導管からの排出ガス流を相互に制限する弁機構を備える、装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置であって、
前記排出ガス導管の１つは、前記排出ガス導管の前記１つから別の前記排出ガス導管に排出ガスを送るよう動作可能なバイパス弁を備える、装置。
【請求項３】
請求項１に記載の装置であって、
前記弁機構は、前記排出ガス導管が外側環境に対して密封されながら、その結合された排出ガス導管からの排出ガスが通過できるチャンバ位置と、前記排出ガス導管が前記弁機構の上流の排出ガスを閉じ込めるように密封されながら、回収体の外の周囲大気が通過できる周囲位置との間で、移動可能なフラップ弁を備える、装置。
【請求項４】
請求項１に記載の装置であって、
前記回収体は、少なくとも３つの前記回収体レベルを備え、少なくとも２つの前記回収体レベルの排出ガス導管はそれぞれ、対応する前記弁機構を備える、装置。
【請求項５】
請求項４に記載の装置であって、
前記排出ガス導管の１つは、排出ガスを前記排出ガス導管の前記１つから２つ目の前記排出ガス導管に送るよう動作可能な第１のバイパス弁と、排出ガスを前記排出ガス導管の前記１つから３つ目の前記排出ガス導管に送るよう動作可能な第２のバイパス弁とを備える、装置。
【請求項６】
請求項１に記載の装置であって、
前記弁機構を動作させる制御装置をさらに備え、前記弁機構は、前記回収体に対して１つの回収体レベルから別の回収体レベルに移動する前記スピンチャックに応じて動作する、装置。
【請求項７】
請求項１に記載の装置であって、
前記回収体レベルは、前記スピンチャックの回転軸に沿って垂直に重ねられる、装置。
【請求項８】
請求項７に記載の装置であって、
前記回収体は３つの回収体レベルを備え、前記３つの回収体レベルのうち最も上のレベルの排出ガス導管は、排出ガスを前記排出ガス導管から前記３つの回収体レベルのうち最も下のレベルの排出ガス導管に迂回させるよう動作可能な第１のバイパス弁と、排出ガスを前記排出ガス導管から前記３つの回収体レベルのうち真ん中のレベルの排出ガス導管に迂回させるよう動作可能な第２のバイパス弁と、前記第１および前記第２のバイパス弁の下流にある前記最も上の回収体レベルの前記排出ガス導管に配置される前記弁機構と、を備える、装置。
【請求項９】
請求項１に記載の装置であって、
前記回収体は３つの回収体レベルを備え、各対応する排出ガス導管はそれぞれの弁機構を備える、装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の装置であって、
前記弁機構は、その結合された排出ガス導管における前記弁機構の動作が、前記少なくとも２つの回収体レベルの他のものにおいて、２０Ｐａ未満の気圧変動を引き起こすように動作可能である、装置。
【請求項１１】
請求項１に記載の装置であって、
前記回収体は３つの回収体レベルを備え、各対応する排出ガス導管はそれぞれの弁機構を備える、装置。
【請求項１２】
請求項１に記載の装置であって、
前記排出ガス導管の前記少なくとも１つはさらに、前記弁機構の上流に配置されたバイパス弁を備え、前記バイパス弁は、排出ガスを前記排出ガス導管の前記少なくとも１つから別の前記排出ガス導管に送るよう動作可能である、装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の装置であって、
前記バイパス弁の下流の位置で前記少なくとも１つの排出ガス導管を外側環境に開きながら、チャンバ排気路に対して前記少なくとも１つの排出ガス導管を密封するために前記弁機構を動作させると同時に、前記バイパス弁が排出ガスを前記少なくとも１つの排出ガス導管から前記別の排出ガス導管に迂回させるよう動作するように、前記弁機構および前記バイパス弁は制御装置によって操作される、装置。
【請求項１４】
ウエハ状の物品を処理する方法であって、
ウエハ状の物品を保持して、スピンチャック上で回転軸を中心に回転させることと、
前記ウエハ状の物品の少なくとも１つの面の上に第１の流体を供給することと、
前記スピンチャックを囲む回収体の少なくとも２つの処理レベルで処理流体を個別に回収することと、
各前記少なくとも２つの回収体レベルは、それぞれの排出ガス導管に通じる排出ガス回収チャンバを備え、
少なくとも１つの前記排出ガス導管と結合した弁機構を操作し、その排出ガス導管を前記回収体の外の周囲環境に開きながら、またその逆も同様にして、その結合した排出ガス導管からの排出ガス流を相互に制限することと、
を含む方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法であって、
さらに、前記排出ガス導管の１つに取り付けられたバイパス弁を操作し、排出ガスをその排出ガス導管から別の排出ガス導管に送ることを含む、方法。
【請求項１６】
請求項１４に記載の方法であって、
前記弁機構は、前記排出ガス導管が外側環境に対して密封されながら、その結合された排出ガス導管からの排出ガスが通過できるチャンバ位置と、前記排出ガス導管が前記弁機構の上流の排出ガスを閉じ込めるよう密封されながら、前記回収体の外の周囲大気が通過できる周囲位置との間で、フラップ弁を移動できるように動作する、方法。
【請求項１７】
請求項１４に記載の方法であって、
前記弁機構は、その結合された排出ガス導管における前記弁機構の動作が、前記少なくとも２つの回収体レベルの他のものにおいて２０Ｐａ未満の気圧変動を引き起こすように動作する、方法。
【請求項１８】
請求項１４に記載の方法であって、
それぞれ異なる成分を有するプロセスガス類は、それぞれの排出ガス導管を通じてそれぞれ排気される、方法。
【請求項１９】
請求項１４に記載の方法であって、
さらに、前記第１の流体と異なる化学成分の第２の流体をウエハ上に供給することと、
第１の処理流体によって生成されたガスが回収される排出ガス導管とは異なる排出ガス導管を通じて、第２の処理流体から生成されたガスを回収することと、を含む方法。
【請求項２０】
請求項１４に記載の方法であって、
排出ガスは、共通排気ユニットによって少なくとも２つの別体の回収体から同時に回収される、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
本発明は、前述したいくつかの好ましい実施形態と関連して説明されてきたが、ここで開示され、添付の特許請求の範囲に定義される本発明の真の範囲および精神から逸脱することなく様々な修正が可能なことは、当業者には理解されよう。本発明は以下の適用例としても実現できる。
［適用例１］
ウエハ状の物品を処理する装置であって、
ウエハ状の物品を保持し、回転軸を中心に回転させるスピンチャックと、
ウエハ状の物品の少なくとも１つの面の上に流体を供給する少なくとも１つのディスペンサと、
前記スピンチャックを囲み、処理流体を回収する回収体であって、異なる回収体レベルで流体を個別に回収するための少なくとも２つの回収体レベルを有する回収体と、
を備え、
各前記少なくとも２つの回収体レベルは、それぞれの排出ガス導管に通じる排出ガス回収チャンバを備え、
前記排出ガス導管の少なくとも１つは、前記排出ガス導管を前記回収体の外の周囲環境に開きながら、また逆も同様にして、その結合された排出ガス導管からの排出ガス流を相互に制限する弁機構を備える、装置。
［適用例２］
適用例１に記載の装置であって、
前記排気導管の１つは、前記排気導管の前記１つから別の前記排気導管に排出ガスを送るよう動作可能なバイパス弁を備える、装置。
［適用例３］
適用例１に記載の装置であって、
前記弁機構は、前記排気導管が外側環境に対して密封されながら、その結合された排気導管からの排出ガスが通過できるチャンバ位置と、前記排気導管が前記弁機構の上流の排出ガスを閉じ込めるように密封されながら、回収体の外の周囲大気が通過できる周囲位置との間で、移動可能なフラップ弁を備える、装置。
［適用例４］
適用例１に記載の装置であって、
前記回収体は、少なくとも３つの前記回収体レベルを備え、少なくとも２つの前記回収体レベルの排気導管はそれぞれ、対応する前記弁機構を備える、装置。
［適用例５］
適用例４に記載の装置であって、
前記排気導管の１つは、排出ガスを前記排気導管の前記１つから２つ目の前記排気導管に送るよう動作可能な第１のバイパス弁と、排出ガスを前記排気導管の前記１つから３つ目の前記排気導管に送るよう動作可能な第２のバイパス弁とを備える、装置。
［適用例６］
適用例１に記載の装置であって、
前記弁機構を動作させる制御装置をさらに備え、前記弁機構は、前記回収体に対して１つの回収体レベルから別の回収体レベルに移動する前記スピンチャックに応じて動作する、装置。
［適用例７］
適用例１に記載の装置であって、
前記回収体レベルは、前記スピンチャックの回転軸に沿って垂直に重ねられる、装置。
［適用例８］
適用例７に記載の装置であって、
前記回収体は３つの回収体レベルを備え、前記３つの回収体レベルのうち最も上のレベルの排気導管は、排出ガスを前記排気導管から前記３つの回収体レベルのうち最も下のレベルの排気導管に迂回させるよう動作可能な第１のバイパス弁と、排出ガスを前記排気導管から前記３つの回収体レベルのうち真ん中のレベルの排気導管に迂回させるよう動作可能な第２のバイパス弁と、前記第１および前記第２のバイパス弁の下流にある前記最も上の回収体レベルの前記排気導管に配置される前記弁機構と、を備える、装置。
［適用例９］
適用例１に記載の装置であって、
前記回収体は３つの回収体レベルを備え、各対応する排気導管はそれぞれの弁機構を備える、装置。
［適用例１０］
適用例１に記載の装置であって、
前記弁機構は、その結合された排気導管における前記弁機構の動作が、前記少なくとも２つの回収体レベルの他のものにおいて、２０Ｐａ未満の気圧変動を引き起こすように動作可能である、装置。
［適用例１１］
適用例１に記載の装置であって、
前記回収体は３つの回収体レベルを備え、各対応する排気導管はそれぞれの弁機構を備える、装置。
［適用例１２］
適用例１に記載の装置であって、
前記排出ガス導管の前記少なくとも１つはさらに、前記弁機構の上流に配置されたバイパス弁を備え、前記バイパス弁は、排出ガスを前記排気導管の前記少なくとも１つから別の前記排気導管に送るよう動作可能である、装置。
［適用例１３］
適用例１２に記載の装置であって、
前記バイパス弁の下流の位置で前記少なくとも１つのガス導管を外側環境に開きながら、チャンバ排気路に対して前記少なくとも１つの排気導管を密封するために前記弁機構を動作させると同時に、前記バイパス弁が排出ガスを前記少なくとも１つの導管から前記別の導管に迂回させるよう動作するように、前記弁機構および前記バイパス弁は制御装置によって操作される、装置。
［適用例１４］
ウエハ状の物品を処理する方法であって、
ウエハ状の物品を保持して、スピンチャック上で回転軸を中心に回転させることと、
前記ウエハ状の物品の少なくとも１つの面の上に第１の流体を供給することと、
前記スピンチャックを囲む回収体の少なくとも２つの処理レベルで処理流体を個別に回収することと、
各前記少なくとも２つの回収体レベルは、それぞれの排出ガス導管に通じる排出ガス回収チャンバを備え、
少なくとも１つの前記排出ガス導管と結合した弁機構を操作し、その排出ガス導管を前記回収体の外の周囲環境に開きながら、またその逆も同様にして、その結合した排出ガス導管からの排出ガス流を相互に制限することと、
を含む方法。
［適用例１５］
適用例１４に記載の方法であって、
さらに、前記排気導管の１つに取り付けられたバイパス弁を操作し、排出ガスをその排気導管から別の排気導管に送ることを含む、方法。
［適用例１６］
適用例１４に記載の方法であって、
前記弁機構は、前記排気導管が外側環境に対して密封されながら、その結合された排気導管からの排出ガスが通過できるチャンバ位置と、前記排気導管が前記弁機構の上流の排出ガスを閉じ込めるよう密封されながら、前記回収体の外の周囲大気が通過できる周囲位置との間で、フラップ弁を移動できるように動作する、方法。
［適用例１７］
適用例１４に記載の方法であって、
前記弁機構は、その結合された排気導管における前記弁機構の動作が、前記少なくとも２つの回収体レベルの他のものにおいて２０Ｐａ未満の気圧変動を引き起こすように動作する、方法。
［適用例１８］
適用例１４に記載の方法であって、
それぞれ異なる成分を有するプロセスガス類は、それぞれの排気導管を通じてそれぞれ排気される、方法。
［適用例１９］
適用例１４に記載の方法であって、
さらに、前記第１の流体と異なる化学成分の第２の流体をウエハ上に供給することと、
前記第１の処理流体によって生成されたガスが回収される排気導管とは異なる排気導管を通じて、第２の処理流体から生成されたガスを回収することと、を含む方法。
［適用例２０］
適用例２０に記載の方法であって、
排出ガスは、共通排気ユニットによって少なくとも２つの別体の回収体から同時に回収される、方法。