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【手続補正書】
【提出日】平成30年4月24日(2018.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
疼痛症状の処置において、オピオイドと組み合わせて、ヒトまたは動物に用いるための医薬であって、該オピオイドと別に、連続してまたは組合せで投与される、非微粒子化形態、微粒子化形態(PEA-m)、超微粒子化形態(PEA-um)またはその混合物のパルミトイルエタノールアミドを含む、医薬。
【請求項２】
該パルミトイルエタノールアミドが、患者におけるオピオイド耐性の発現を遅延させる、オピオイドと組み合わせて鎮痛剤として患者に用いるための、請求項１記載の医薬。
【請求項３】
該非微粒子化パルミトイルエタノールアミドが、50.0〜100.0μmの粒子サイズを有し; 該微粒子化パルミトイルエタノールアミドが2.0〜10.0μmの粒子サイズを有し、該超微粒子化パルミトイルエタノールアミドが0.8〜6.0μmの粒子サイズを有する、請求項１または２記載の医薬。
【請求項４】
該オピオイドがオピエートとも称される天然アルカロイドまたは合成もしくは半合成化合物から選択される、請求項１〜３のいずれかに記載の医薬。
【請求項５】
該オピオイドが、モルヒネ、ヘロイン、エトルフィン、ヒドロモルホン、オキシモルホン、レボルファノール、コデイン、ヒドロコドン、オキシコドン、ナルメフェン、ナロルフィン、ナロキソン、ナルトレキソン、ブプレノルフィン、ブトルファノール、ナルブフィン、メチルナルトレキソン、フェンタニルおよびメサドンから選択される、請求項４記載の医薬。
【請求項６】
該オピオイドがモルヒネである、請求項５記載の医薬。
【請求項７】
オピオイドでの処置が開始する１日前から開始して、または、該オピオイドでの処置が開始する前に１０日間の前処置が行われて、毎日ヒトまたは動物に投与される、請求項１〜６のいずれかに記載の医薬。
【請求項８】
パルミトイルエタノールアミドの一日の用量が、患者の体重１kgあたり3〜50 mgまたは体重１kgあたり20〜30 mgである、請求項１〜７のいずれか記載の医薬。
【請求項９】
パルミトイルエタノールアミドの投与を、好ましくは８〜１０時間の間隔を開けて、１日２回の処置に分ける、請求項８記載の使用のためのパルミトイルエタノールアミド。
【請求項１０】
パルミトイルエタノールアミドによる毎日の処置が、オピオイドでの処置期間を通して維持される、請求項１〜９のいずれかに記載の医薬。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の医薬と、薬学的に許容される賦形剤とを含む、経口経路、舌下経路および直腸経路から選択される投与経路に適用される、医薬用もしくは動物用医薬用組成物。
【請求項１２】
錠剤、硬質ゼラチンカプセル、油性のビヒクル中の軟質ゼラチンカプセル、舌下で用いるための顆粒剤、経口使用のための乳剤、発泡性錠剤、坐剤または微小浣腸剤の医薬形態である、請求項１１記載の医薬用または動物用医薬用組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、疼痛症状の処置において、オピオイドと組み合わせてヒトまたは動物に用いるための、パルミトイルエタノールアミド (PEA), またはその非微粒子化形態(非微粒子化PEA)、微粒子化形態 (PEA-m)、超微粒子化形態(PEA-um)またはその混合物のパルミトイルエタノールアミドに関し、ここで、該パルミトイルエタノールアミドは、該オピオイドと別々に、連続的に、または組み合わせて投与される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
具体的には、本発明は、オピオイドと組み合わせて、鎮痛剤として患者に用いるための、パルミトイルエタノールアミド (PEA)、あるいは非微粒子化形態(非微粒子化PEA)、微粒子化形態(PEA-m)、超微粒子化形態(PEA-um)、その混合物のパルミトイルエタノールアミド、またはそれを含む医薬組成物に関し、ここで、該パルミトイルエタノールアミドは、該患者におけるオピオイド耐性の発現を遅延させる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月8日(2018.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロボットを制御する方法であって、
ユーザープログラムを起動して前記ロボットを第１の連続的なプログラムされた経路に沿って運動させることによって、実際の工具中心点の位置を表す第１軌跡を生成するステップと、
前記第１の連続的なプログラムされた経路と前記第１軌跡との間の経路のずれを演算するステップと、
前記ユーザープログラムを演算された経路のずれの量だけ調節することによって、補正済みのユーザープログラムを生成するステップと、
実際の工具中心点の位置を表す前記第１軌跡をメモリ装置に保存するステップと、
前記補正済みのユーザープログラムを起動して前記ロボットを第２の連続的なプログラムされた経路に沿って運動させることによって、実際の工具中心点の位置を表す第２軌跡を生成するステップと、
前記第１軌跡及び前記第２軌跡を表示するステップと、を含む方法。
【請求項２】
ユーザーが前記第１軌跡及び前記第２軌跡のうちの１つを所望の連続的な経路として選択することが許可されている、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
操作者が、容認可能な所望の連続的な経路を複数の軌跡から選択するようになっている、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
操作者が容認可能な所望の連続的な経路を選択するまでに、
前記ユーザープログラムを演算された経路のずれの量だけ調節して補正済みのユーザープログラムを生成するステップと、
前記補正済みのユーザープログラムを起動して前記ロボットを第２の連続的なプログラムされた経路に沿って運動させることによって実際の工具中心点の位置を表す第２軌跡を生成するステップと、
が前記操作者によって繰り返し実行させられることを可能にするステップを更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の連続的なプログラムされた経路は、標準的な幾何学的形状である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第１の連続的なプログラムされた経路は、ＣＡＤデータによって定義されている、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第１軌跡及び前記第２軌跡のうちの少なくとも１つは、所望の連続的な経路の表示を更に含んでいる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記ユーザープログラムを調節するステップは、プロセスの速度、許容誤差、及び向きのうちの１つを自動的に調節している、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
ロボットを制御する方法であって、
経路学習制御プログラムを実行するロボットコントローラによって、ロボットを第１の連続的なプログラムされた経路に沿って運動させるステップであって、前記ロボットが被加工品に対する動作を実行することなく運動する、ステップと、
前記第１の連続的なプログラムされた経路に沿った前記ロボットの実際の運動を記録するステップと、
前記第１の連続的なプログラムされた経路を反復的に調節することによって１つ又は複数の修正済みの連続的なプログラムされた経路を生成するステップと、
前記経路学習制御プログラムを実行する前記ロボットコントローラによって、前記ロボットを前記１つ又は複数の修正済みの連続的なプログラムされた経路に沿って運動させるステップであって、前記ロボットが前記被加工品に対する動作を実行することなく運動する、ステップと、
前記１つ又は複数の修正済みの連続的なプログラムされた経路に沿った前記ロボットの実際の運動を記録するステップと、
前記第１の連続的なプログラムされた経路及び前記１つ又は複数の修正済みの連続的なプログラムされた経路に沿った前記ロボットの記録済みの実際の運動の複数の軌跡を表示するステップと、
前記第１のプログラムされた連続的な経路及び前記１つ又は複数の修正済みの連続的なプログラムされた経路の複数の軌跡のうちの１つを操作者が所望の連続的な経路として選択できるようにするステップと、
前記ロボットコントローラによって前記ロボットを前記所望の連続的な経路に沿って運動させるステップであって、前記ロボットが前記被加工品に対する前記動作を実行しながら運動する、ステップと、を含む方法。
【請求項１０】
前記第１の連続的なプログラムされた経路は、標準的な幾何学的形状である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の連続的なプログラムされた経路は、ＣＡＤデータによって定義されている、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
表示される軌跡の少なくとも１つは、所望の連続的な経路の表示を更に含んでいる、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記ユーザープログラムを調節するステップは、プロセスの速度、許容誤差、及び向きのうちの１つを自動的に調節している、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月2日(2018.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にタングステンを堆積する方法であって、
還元剤および水素に前記基板を曝露させるステップと、
塩化タングステンに前記基板を曝露させて前記タングステンを堆積するステップと、
前記還元剤および前記水素に前記基板を曝露させる前記ステップと、前記塩化タングステンに前記基板を曝露させて前記タングステンを堆積する前記ステップとを繰り返すステップと
を含み、
前記還元剤および前記水素に前記基板を曝露させているステップにおいて、前記水素の流量と前記還元剤の流量との比が、約１０：１〜約１００：１の間である
方法。
【請求項２】
前記塩化タングステンが、ＷＣｌ2、ＷＣｌ4、ＷＣｌ5、ＷＣｌ6、およびそれらの混合物からなる群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記還元剤が、ボラン類、シラン類、およびゲルマン類からなる群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記タングステンが、約４５０℃〜約６５０℃の間の温度で堆積される請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記還元剤の前記流量が、約１００ｓｃｃｍ〜約５００ｓｃｃｍの間である請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記基板が、約０．２５〜約１０秒の間の期間にわたって前記還元剤に曝露される請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
基板上のフィーチャ内にタングステンを堆積する方法であって、
バルクタングステン層を堆積する前に、希釈された還元剤と五塩化タングステンとに、前記フィーチャを交互に短時間ずつ曝露させることによってタングステン核生成層を形成するステップ
を含む方法。
【請求項８】
前記短時間に交互に曝露するサイクル当たりに堆積されるタングステンの量が、少なくとも約１００Åである請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記還元剤が、ボラン類、シラン類、およびゲルマン類からなる群から選択される請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記還元剤が、水素を流すことによって希釈され、水素の流量と還元剤の流量との比が、約１０：１〜約１００：１の間である請求項７から請求項９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
さらに、タングステン含有前駆体を使用して、化学気相成長によって前記タングステン核生成層上にバルクタングステン層を堆積するステップを含む請求項７から請求項９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記タングステン含有前駆体が、ＷＦ6、ＷＣｌ2、ＷＣｌ4、ＷＣｌ5、ＷＣｌ6、およびそれらの混合物からなる群から選択される請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
半導体基板上にタングステンを堆積する方法であって、
五塩化タングステンと還元剤とを短時間曝露させ、前記還元剤の分解を緩和することによって、タングステン核生成層を堆積するステップと、
五塩化タングステンを使用して、化学気相成長によってタングステンバルク層を堆積するステップと
を含む方法。
【請求項１４】
前記還元剤の分解が、前記還元剤の流れを希釈することによって緩和される請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記還元剤の分解が、前記還元剤の流量の少なくとも約１０倍の流量で水素ガスを導入することによって緩和される請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記還元剤の分解が、前記五塩化タングステンを短時間曝露させるときの温度よりも低い温度で前記還元剤を短時間曝露させることによって緩和される請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
前記還元剤が、シラン類、ボラン類、およびゲルマン類からなる群から選択される請求項１３から請求項１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
基板上にタングステンを堆積する方法であって、
（ａ）第１の温度で、還元剤および水素に前記基板を曝露させるステップと、
（ｂ）第２の温度で、フッ素を含有しないタングステン前駆体に前記基板を曝露させるステップとを含み、
前記第１の温度が、前記第２の温度よりも低い
方法。
【請求項１９】
基板を処理するための装置であって、
（ａ）基板を保持するように構成されたペデスタルを備える少なくとも１つのプロセスチャンバと、
（ｂ）真空に結合するための少なくとも１つの出口と、
（ｃ）１つまたは複数のプロセスガス源に結合された１つまたは複数のプロセスガス入口と、
（ｄ）前記装置での操作を制御するための制御装置と
を備える装置であって、前記制御装置が、機械可読命令を備え、前記機械可読命令が、
（ｉ）還元剤および水素を前記プロセスチャンバに導入し、
（ｉｉ）フッ素を含有しないタングステン前駆体を前記プロセスチャンバに導入し、
（ｉｉｉ）第１のステージで操作（ｉ）〜（ｉｉ）を繰り返してタングステン核生成層を堆積するための命令であり、
操作（ｉ）中、水素の流量と還元剤の流量との比が、約１０：１〜約１００：１の間である装置。
【請求項２０】
前記フッ素を含有しないタングステン前駆体が、ＷＣｌ2、ＷＣｌ4、ＷＣｌ5、ＷＣｌ6、およびそれらの混合物からなる群から選択される請求項１９に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板上にタングステンを堆積する方法およびその装置
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月8日(2017.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、
前記有利状態に制御するか否かを決定する決定手段と、
前記決定手段による決定前に、前記有利状態に制御されるか否かを判定する判定手段と、
遊技の進行に応じて態様が変化する特定演出を実行する場合に、前記判定手段の判定結果に対応する可変表示が開始される以前に、所定態様まで前記特定演出の態様を変化させる第１変化手段と、
前記第１変化手段によって前記特定演出の態様が前記所定態様まで変化した後に、前記判定手段の判定結果に対応する可変表示中に、該所定態様から続けて前記特定演出の態様を変化させる第２変化手段とを備え、
前記第１変化手段は、前記所定態様として、前記特定演出を実行する起因となった前記判定手段の判定結果に対応する可変表示に基づき前記有利状態に制御されるか否かに応じて異なる割合で、複数態様のうちいずれかの態様まで前記特定演出の態様を変化させる
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、パチンコ遊技機等の遊技機に係り、詳しくは、可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（Ａ）上記目的を達成するため、本願発明に係る遊技機は、可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態（例えば大当り遊技状態など）に制御可能な遊技機（例えばパチンコ遊技機１など）であって、前記有利状態に制御するか否かを決定する決定手段（例えばステップＳ２３３の処理を実行する遊技制御用マイクロコンピュータ１００のＣＰＵ１０３など）と、遊技の進行に応じて態様が変化する特定演出を実行する場合に、前記判定手段の判定結果に対応する可変表示が開始される以前に、所定態様まで前記特定演出の態様を変化させる第１変化手段（例えばステップＳ５５３の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、前記第１変化手段によって前記特定演出の態様が前記所定態様まで変化した後に、前記判定手段の判定結果に対応する可変表示中に、該所定態様から続けて前記特定演出の態様を変化させる第２変化手段（例えばステップＳ５５７の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）とを備え、前記第１変化手段は、前記所定態様として、前記特定演出を実行する起因となった前記判定手段の判定結果に対応する可変表示に基づき前記有利状態に制御されるか否かに応じて異なる割合で、複数態様のうちいずれかの態様まで前記特定演出の態様を変化させる（例えばステップＳ６１０の処理を実行することなど）。
このような構成によれば、特定演出を実行する場合に、判定手段の判定結果に対応する可変表示が開始される以前に所定態様まで特定演出の態様を変化させ、その所定態様から続けて特定演出の態様を変化させることで、特定演出の実行時間を十分に確保して遊技興趣を向上させることができる。
（１）あるいは、遊技領域に設けられた始動領域（例えば第１始動入賞口６Ａ、第２始動入賞口６Ｂなど）を遊技媒体（例えば遊技球など）が通過した後に可変表示の開始を許容する開始条件（例えばステップＳ２３２にて変動特図データが読み出されたことなど）が成立したことに基づいて各々が識別可能な複数種類の識別情報（例えば特別図柄、飾り図柄など）の可変表示を行い表示結果を導出する可変表示手段（例えば第１特別図柄表示装置４Ａ、第２特別図柄表示装置４Ｂ、画像表示装置５など）に予め定められた特定表示結果（例えば大当り図柄となる確定特別図柄、大当り組合せを構成する確定飾り図柄など）が導出されたときに、遊技者にとって有利な特定遊技状態（例えば大当り遊技状態など）に制御される遊技機（例えばパチンコ遊技機１など）であって、前記始動領域を遊技媒体が通過したにもかかわらず未だ開始されていない可変表示の保留記憶情報を所定の上限記憶数（例えば「４」など）の範囲内で記憶する保留記憶手段（例えば特図保留記憶部１５１など）と、前記開始条件の成立に基づいて、前記特定遊技状態に制御するか否かを、識別情報の表示結果が導出される以前に決定する事前決定手段（例えばステップＳ２３３の処理を実行する遊技制御用マイクロコンピュータ１００のＣＰＵ１０３など）と、遊技の進行に応じて態様が変化する第１演出（例えば「メーター変化」の先読み予告、メーター演出など）と、該第１演出の態様が特定態様に変化することで、該第１演出に続いて第２演出（例えば対戦報知演出など）を実行する演出実行手段（例えばステップＳ５５３、Ｓ５５７の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、前記事前決定手段による決定前に、前記始動領域を遊技媒体が通過したことに基づいて、前記保留記憶手段に記憶される保留記憶情報に対応する識別情報の可変表示中に前記第１演出が実行されるか否かと、前記第１演出に続いて前記第２演出が実行されるか否かとを判定する始動時判定手段（例えばステップＳ２１１の処理を実行するＣＰＵ１０３など）とを備え、前記演出実行手段は、前記始動時判定手段によって前記第１演出または前記第２演出が実行されると判定されたときに、該判定結果に対応する識別情報の可変表示が開始される以前に、前記特定態様に達する前の所定態様まで前記第１演出の態様を変化させる前段態様変化手段（例えばステップＳ５５３の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、前記前段態様変化手段によって前記第１演出の態様が前記所定態様まで変化した後に、該所定態様まで変化させる起因となった前記始動時判定手段の判定結果に対応する識別情報の可変表示中に該所定態様から続けて前記第１演出の態様を変化させる後続態様変化手段（例えばステップＳ５５７の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）とを含む。
このような構成によれば、識別情報の可変表示が開始される以前に特定態様に達する前の所定態様まで第１演出の態様を変化させ、その所定態様から続けて第１演出の態様を変化させることで、第１演出や第２演出の実行時間を十分に確保して遊技興趣を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月3日(2018.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄液で濡らされることができるか、または洗浄液を吸収することができるフィルタ本体を有する少なくとも１つの排気スクラバー；および
洗浄液を保持する洗浄液容器
を含む家畜小屋の排気浄化装置であって、
前記少なくとも１つの排気スクラバーが移動装置上に配置され、
前記移動装置が、前記少なくとも１つの排気スクラバーを洗浄液容器中の洗浄液に完全または部分的に浸漬させるように、設計および配置されており、
前記少なくとも１つの排気スクラバーが複数個の洗浄液溜め部を含み、
該洗浄液溜め部が、前記洗浄液容器から洗浄液を吸収し、かつ洗浄液を前記フィルタ本体の方向に放出するように、配置および設計されている、排気浄化装置。
【請求項２】
移動装置上に配置される複数個の排気スクラバーをさらに含み、
前記移動装置が、前記複数の排気スクラバーを連続して洗浄液容器中の洗浄液に完全または部分的に浸漬させるように、設計および配置されている、請求項１に記載の排気浄化装置。
【請求項３】
前記移動装置が、前記排気スクラバーを、閉じた移動路に沿って移動させるように、設計および配置されている、請求項１に記載の排気浄化装置。
【請求項４】
前記閉じた移動路が、円形状、楕円形状またはレーストラック形状の移動路のいずれかを含む、請求項３に記載の排気浄化装置。
【請求項５】
前記移動装置が、前記排気スクラバーを垂直方向の下方で洗浄液に浸漬させるように、設計および配置されている、請求項１に記載の排気浄化装置。
【請求項６】
前記閉じた移動路は、前記少なくとも１つの排気スクラバーが前記洗浄液に浸漬される範囲内に、水平移動部分を含む、請求項３に記載の排気浄化装置。
【請求項７】
前記移動装置が、ドラム、ローラー、上昇コンベア、エレベータ、コンベアベルトまたは縦方向搬送装置のいずれかを含む、請求項１に記載の排気浄化装置。
【請求項８】
前記移動装置が、駆動装置を含み、
該駆動装置は、前記移動装置を一動作方向で駆動させるように設計されている、請求項１に記載の排気浄化装置。
【請求項９】
前記駆動装置が回転式駆動装置またはラチェット式駆動装置のいずれかを含む、請求項８に記載の排気浄化装置。
【請求項１０】
前記移動装置を一動作方向で駆動させるとき、排気が前記排気浄化装置を一流れ方向で流れ、前記少なくとも１つの排気スクラバーを通る排気の前記流れ方向が、前記洗浄液を通る前記少なくとも１つの排気スクラバーの移動路の水平移動部分と実質的に同一の方向性である、請求項６に記載の排気浄化装置。
【請求項１１】
前記駆動装置が、前記移動装置を、前記動作方向か、または前記動作方向の反対となる清浄化方向のどちらかで駆動させるように、設計されている、請求項８に記載の排気浄化装置。
【請求項１２】
空気取り入れ口および空気出口を有するハウジングおよび前記空気取り入れ口から前記空気出口への排気の流路をさらに含む、請求項１に記載の排気浄化装置であって、
前記複数の排気スクラバーは、前記流路に沿って流れる前記排気が少なくとも１つのフィルタ本体を通過するように、前記移動装置上に配置されている、排気浄化装置。
【請求項１３】
前記複数の排気スクラバーは、前記流路に沿って流れる前記排気が少なくとも２つのフィルタ本体を通過するように、前記移動装置上に配置されており、
前記少なくとも２つのフィルタ本体は前記移動路に沿って互いに隣に配置されていない、請求項１２に記載の排気浄化装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月8日(2017.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変表示を行い表示結果を導出表示する可変表示手段に予め定められた特定表示結果が導出表示されたときに、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、
前記有利状態に制御するか否かを、表示結果が導出表示される以前に決定する事前決定手段と、
前記事前決定手段の決定結果にもとづいて、前記可変表示手段において可変表示が開始されてから表示結果を導出表示する以前に一旦仮停止させてから可変表示を再開する再可変表示を所定回実行する再可変表示実行手段と、
リーチ演出を実行可能なリーチ演出実行手段とを備え、
前記再可変表示実行手段は、
第１回数目の前記再可変表示を実行するときには、前記リーチ演出実行手段によってリーチ演出が開始された後のタイミングを含む所定数設けられたタイミングのいずれかで仮停止を実行可能である一方、
前記第１回数目より後の第２回数目の前記再可変表示を実行するときには、前記所定数より少ない数設けられたタイミングにおいて仮停止を実行可能である
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、可変表示を行い表示結果を導出表示する可変表示手段に予め定められた特定表示結果が導出表示されたときに、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（手段１）本発明による遊技機は、可変表示を行い表示結果を導出表示する可変表示手段（例えば、第１特別図柄表示器８ａまたは第２特別図柄表示器８ｂ）に予め定められた特定表示結果（例えば、大当り図柄）が導出表示されたときに、遊技者にとって有利な有利状態（例えば、大当り遊技状態）に制御可能な遊技機であって、有利状態に制御するか否かを、表示結果が導出表示される以前に決定する事前決定手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップＳ６１を実行する部分）と、事前決定手段の決定結果にもとづいて、可変表示手段において可変表示が開始されてから表示結果を導出表示する以前に一旦仮停止させてから可変表示を再開する再可変表示を所定回実行する再可変表示実行手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００における、所定の変動パターンコマンドを受信した場合にステップＳ８００６，Ｓ８１０５を実行する部分）と、リーチ演出を実行可能なリーチ演出実行手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００におけるＳ８００６，Ｓ８１０５を実行する部分）とを備え、再可変表示実行手段は、第１回数目（例えば、１回目）の再可変表示を実行するときには、リーチ演出実行手段によってリーチ演出が開始された後のタイミング（例えば、第３タイミング）を含む所定数設けられたタイミングのいずれかで仮停止を実行可能（例えば、３つ設けられた仮停止タイミングのうち変動パターンコマンドに対応した仮停止タイミングで仮停止を実行可能）である一方、第１回数目より後の第２回数目（例えば、２回目）の再可変表示を実行するときには、所定数より少ない数設けられたタイミングにおいて仮停止を実行可能（例えば、２つ設けられた仮停止タイミングのうち変動パターンコマンドに対応した仮停止タイミングで仮停止を実行可能）であることを特徴とする。そのような構成によれば、再び仮停止されるか否かについて注目すべきタイミングが絞られることで、遊技者を混乱させてしまうことを防止するとともに、興趣の向上を図ることができる。また、第１回数目の再可変表示を実行するときに、リーチ後にも仮停止の期待を持たせることができ、興趣を向上させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（手段３）手段１または手段２において、再可変表示実行手段は、事前決定手段により有利状態に制御すると決定された場合の方が、有利状態に制御しないと決定された場合よりも多い回数の再可変表示を実行し易く（例えば、再変動回数が多い程、大当りに対する信頼度が高い）、第１回数目の再可変表示が実行された場合において有利状態に制御される割合（例えば、再変動回数が１回である変動パターン選択時における大当り期待度Ｐ２＝０．１７％（図１０（ａ）参照））と、第１回数目の再可変表示が実行されない場合において有利状態に制御される割合（例えば、再変動回数が０回である（すなわち、再変動しない）変動パターン選択時における大当り期待度Ｐ１＝０．０７％（図１０（ａ）参照））との差（例えば、０．１０ポイント）よりも、第２回数目の再可変表示が実行された場合において有利状態に制御される割合（例えば、再変動回数が２回である変動パターン選択時における大当り期待度Ｐ３＝２．２９％（図１０（ａ）参照））と、第２回数目より１回前の再可変表示が実行された場合において有利状態に制御される割合（例えば、再変動回数が１回である変動パターン選択時における大当り期待度Ｐ２＝０．１７％（図１０（ａ）参照））との差（例えば、２．１２ポイント）の方が大きいこととしてもよい。そのような構成によれば、期待度がより高まる第２回数目の仮停止がされるか否かについて注目すべきタイミングが絞られることで、興趣を向上させることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（手段５）手段１から手段４のいずれかにおいて、再可変表示実行手段は、第１回数目より後の第２回数目の再可変表示を実行するときに、リーチ演出実行手段によってリーチ演出が開始された後のタイミングを含む所定数より少ない数設けられたタイミングにおいて仮停止を実行可能であることとしてもよい。そのような構成によれば、リーチ後にも仮停止の期待を持たせることができ、興趣を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月20日(2018.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円偏光の光渦を、アミノ酸飽和溶液に照射して、前記アミノ酸飽和溶液中にアミノ酸の結晶を形成する、アミノ酸結晶の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】アミノ酸結晶の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、アミノ酸結晶の製造方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月8日(2018.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
中和剤は、中和剤水溶液の状態で加水分解処理を施した排液の水相と接触させることが好ましく、この場合、中和剤水溶液中の中和剤の濃度は、０．３〜０．７ｍｏｌ／ｌであることが好ましく、０．３５〜０．６５ｍｏｌ／ｌであることがより好ましく、０．４０〜０．６０ｍｏｌ／ｌであることがさらに好ましく、０．４５〜０．５５ｍｏｌ／ｌであることが一層好ましい。
中和剤水溶液中の中和剤濃度が上記範囲内にあることにより、加水分解処理を施した排液中のｐＨを容易に所望範囲に制御することができる。中和剤濃度が０．７ｍｏｌ／ｌを超えると加水分解処理を施した排液中のｐＨを制御し難くなり、０．３ｍｏｌ／ｌ未満であると、円滑な中和処理を行い難くなる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
中和剤は、中和剤水溶液の状態で、一次中和処理を施した処理液と接触させることが好ましく、この場合、中和剤水溶液中の中和剤の濃度は、０．３０〜０．７０ｍｏｌ／ｌであることが好ましく、０．４０〜０．６０ｍｏｌ／ｌであることがより好ましく、０．４５〜０．５５ｍｏｌ／ｌであることがさらに好ましい。
中和剤水溶液中の中和剤の濃度が上記範囲内にあることにより、一次中和処理を施した処理液中のｐＨを容易に所望範囲に制御することができる。中和剤の濃度が０．７０ｍｏｌ／ｌを超えると一次中和処理を施した処理液中のｐＨを制御し難くなり、０．３０ｍｏｌ／ｌ未満であると、円滑な中和処理を行い難くなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
（実施例１）
図１に示す処理フローを用いて、チタン化合物を含む排液から酸化チタンを得た。
すなわち、チーグラーナッタ触媒の製造工場において、オレフィン類重合用固体触媒成分を調製した際に発生する、四塩化チタン、ジエトキシマグネシウム、トルエンおよびヘプタンを含む液温２５℃の排液を処理対象とし、当該排液Ｄを容量２５０ｍ３の受水槽１に送入することで混合し、加水分解を施した。このとき、受水槽中の排液のｐＨが１になるように受水槽中に加水分解用の水Ｗを送入した。
上記加水分解処理された排液の水相を、１０ｍ３／ｈの速度で容量１０ｍ３の一次中和処理槽２に送入し、液温２５℃の１２．５ｇ／ｌ水酸化ナトリウム水溶液を用いて、一次中和処理槽２内に送入された排液のｐＨが２になるように一次中和処理を施した。
次いで、上記一次中和処理を施した排液の水相を、１０ｍ３／ｈの速度で容量１０ｍ３の二次中和処理槽３に送入し、液温２５℃の１２．５ｇ／ｌ水酸化ナトリウム水溶液を用いて、二次中和処理槽３内に送入された排液のｐＨが６．５になるように二次中和処理を施した。
二次中和処理を施した液温２５℃の処理液は、１０ｍ３／ｈの速度で容量１０ｍ３の凝集槽４内に送入して、凝集剤（クリタ・ケミカル北陸（株）製クリファームＰＡ−８３３）を用いて凝集させた後、シックナー５に送入してプレスケーキ化した沈殿物を抜き出し、目的とする酸化チタンを得た。
得られた酸化チタンの結晶構造を、Ｘ’ＰＥＲＴ−ＰＲＯ−ＭＰＤ多目的Ｘ線回析装置（ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ製）を用いて測定した。得られたＸ線回折図を図２に示す。図２より、得られた酸化チタンはルチル型であることが確認できた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
（実施例３）
一次中和処理および二次中和処理に使用する水酸化ナトリウム水溶液の濃度を２５ｇ／ｌとした以外は実施例１と同様の条件で酸化チタンを得た。実施例１で得られた酸化チタンの重量を１００としたときの相対重量を求めたところ、同一重量（１００）であった。また、実施例１と同様の方法で得られた酸化チタンをＸ線解析装置を用いて測定したところ、ルチル型であることが確認できた。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
（実施例４）
一次中和槽のｐＨを１．５とし、一次中和処理および二次中和処理に使用する水酸化ナトリウム水溶液の濃度を２５ｇ／ｌとした以外は、実施例１と同様の条件で酸化チタンを得た。実施例１で得られた酸化チタンの重量を１００としたときの相対重量を求めたところ、同一重量（１００）であった。また、実施例１と同様の方法で得られた酸化チタンをＸ線解析装置を用いて測定したところ、ルチル型であることが確認できた。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
（実施例７）
一次中和処理および二次中和処理に使用する水酸化ナトリウム水溶液の濃度６．５ｇ／ｌとした以外は実施例１と同様の条件で酸化チタンを得た。実施例１で得られた酸化チタンの重量を１００としたときの相対重量を求めたところ、同一重量（１００）であった。また、実施例１と同様の方法で得られた酸化チタンをＸ線解析装置を用いて測定したところ、ルチル型であることが確認できた。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
（比較例３）
一次中和槽のｐＨを４とし、一次中和処理および二次中和処理に使用する水酸化ナトリウム水溶液の濃度を２５ｇ／ｌにした以外は実施例１と同様の条件で酸化チタンを得た。
実施例１で得られた酸化チタンの重量を１００としたときの相対重量を求めたところ、５０．５であった。また、実施例１と同様の方法で得られた酸化チタンをＸ線解析装置を用いて測定したところ、アナターゼ型であることが確認できた。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
（比較例４）
一次中和槽のｐＨを４とし、二次中和槽のｐＨを７．５とし、一次中和処理および二次中和処理に使用する水酸化ナトリウム水溶液の濃度を２５ｇ／ｌにした以外は実施例１と同様の条件で酸化チタンを得た。
実施例１で得られた酸化チタンの重量を１００としたときの相対重量を求めたところ、５０．５であった。また、実施例１と同様の方法で得られた酸化チタンをＸ線解析装置を用いて測定したところ、アナターゼ型であることが確認できた。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
（比較例５）
一次中和槽のｐＨを４とし、一次中和処理および二次中和処理に使用する水酸化ナトリウム水溶液の濃度を６．５ｇ／ｌにした以外は実施例１と同様の条件で酸化チタンを得た。
実施例１で得られた酸化チタンの重量を１００としたときの相対重量を求めたところ、５０．５であった。また、実施例１と同様の方法で得られた酸化チタンをＸ線解析装置を用いて測定したところ、アナターゼ型であることが確認できた。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
【表１】
2018080086.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月30日(2018.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも６０重量パーセントの第一の官能性化プロピレン／エチレンコポリマーであって、５〜１５重量パーセントのエチレンに由来する単位、及び、３〜６重量パーセントの１以上のグラフト化された非無水物の置換に由来する単位であって、ポリオレフィンの骨格上におけるアミン、イミド、およびヒドロキシルからなる群から選択されるグラフト化された非無水物の置換に由来する単位、ただし前記グラフト化された非無水物の置換がヒドロキシルであるときには少なくとも１つのグラフト化されたアミンの非無水物の置換を要する第一の官能性化ポリオレフィン、および、
所望により、固形分の全重量に基づいて５〜４０重量パーセント未満の第二の官能性化ポリオレフィンであって、前記第二の官能性化ポリオレフィンは、プロピレンのホモポリマー、またはプロピレンとヘキセン、オクテンおよび／または他のα−オレフィンとのコポリマーを含み、前記ホモポリマーまたはコポリマーは、ポリプロピレンの骨格上に、単一の不飽和、末端無水コハク酸部位、およびさらなる無水コハク酸置換を有し、ここで、前記無水コハク酸置換は第二の官能性化ポリオレフィンの約５〜約４５重量パーセントの範囲である第二の官能性化ポリオレフィン、
の混合生成物；
１以上の溶媒；および
所望により、１以上の充填剤、１以上のバインダー、および１以上の顔料から選択される、１以上のさらなる成分
から実質的になることを特徴とする接着促進剤システム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月25日(2018.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記化学式（１）で表される繰り返し単位を含むポリイミド前駆体と、
１気圧における沸点が３４０℃以上のイミダゾール系化合物を含み、
イミダゾール系化合物の含有量が、ポリイミド前駆体の繰り返し単位１モルに対して４モル未満であることを特徴とするポリイミド前駆体組成物。
【化１】
2018080344.tif 000001
（式中、Ｘ１は芳香族環を有する４価の基であり、Ｙ１は芳香族環を有する２価の基であり、ただし、Ｘ１とＹ１の少なくとも一方はフッ素原子を含有し、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜６のアルキル基、または炭素数３〜９のアルキルシリル基である）
【請求項２】
前記化学式（１）中のＸ１が下記化学式（１−Ｘ）で表される基であり、前記化学式（１）中のＹ１が下記化学式（１−Ｙ）で表される基であることを特徴とする請求項１に記載のポリイミド前駆体組成物。
【化２】
2018080344.tif 000002
【請求項３】
このポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミドが、厚さ１０μｍのフィルムでの波長４００ｎｍの光透過率が７９％以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載のポリイミド前駆体組成物。
【請求項４】
前記イミダゾール系化合物の含有量が、ポリイミド前駆体の繰り返し単位１モルに対して０．０５モル以上２モル以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物。
【請求項５】
前記イミダゾール系化合物が、２−フェニルイミダゾールおよびベンゾイミダゾールから選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物を、最高加熱温度３５０℃以上で加熱処理して、ポリイミド前駆体をイミド化することを特徴とするポリイミドの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物を基材上に塗布する工程と、
基材上のポリイミド前駆体組成物を、最高加熱温度３５０℃以上で加熱処理して、ポリイミド前駆体をイミド化する工程と
を有することを特徴とする請求項６に記載のポリイミドの製造方法。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の方法により製造されるポリイミド。
【請求項９】
厚さ１０μｍのフィルムでの波長４００ｎｍの光透過率が８０％以上であることを特徴とする請求項８に記載のポリイミド。
【請求項１０】
請求項６又は７に記載の方法により製造されるポリイミドフィルム。
【請求項１１】
請求項８又は９に記載のポリイミド、又は請求項１０に記載のポリイミドフィルムを含むことを特徴とするディスプレイ用、タッチパネル用、または太陽電池用の基板。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月14日(2018.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅／二硫化モリブデン複合粉末を含み、前記銅／二硫化モリブデン複合粉末が、前記銅／二硫化モリブデン複合粉末をほぼ固体塊として挙動させるのに十分な圧力下で圧縮されている、圧粉物品であって、前記銅／二硫化モリブデン複合粉末が、一緒に融合して前記複合粉末の個々の実質的に球状の粒子を形成している銅および二硫化モリブデン副粒子の実質的に均質な分散物を含む、前記圧粉物品。
【請求項２】
約４．３ｇ／ｃｃ〜約６．４ｇ／ｃｃの範囲の未処理密度を有する、請求項１に記載の圧粉物品。
【請求項３】
約５重量％〜約９５重量％の範囲の銅含有率を有する、請求項１に記載の圧粉物品。
【請求項４】
以下を含む、圧粉物品の生産方法：
銅／二硫化モリブデン複合粉末を提供し、これに関し、前記銅／二硫化モリブデン複合粉末は、一緒に融合して前記銅／二硫化モリブデン複合粉末の個々の実質的に球状の粒子を形成している銅および二硫化モリブデン副粒子の実質的に均質な分散物を含む；そして、
前記銅／二硫化モリブデン複合粉末を、前記銅／二硫化モリブデン複合粉末をほぼ固体塊として挙動させるのに十分な圧力下で圧縮する。
【請求項５】
前記圧縮が軸加圧を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記軸加圧が、約２４０ＭＰａの圧力を施用することを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記圧縮が、冷間等方圧加圧、温間等方圧加圧および熱間等方圧加圧からなる群より選択される１以上を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
前記圧縮が前記圧粉物品に約４．３ｇ／ｃｃ〜約６．４ｇ／ｃｃの範囲の未処理密度を付与する、請求項４に記載の方法。
【請求項９】
以下を含む、銅／二硫化モリブデン複合粉末の生産方法：
銅金属粉末供給物を提供し；
二硫化モリブデン粉末供給物を提供し；
前記銅金属粉末および前記二硫化モリブデン粉末を液体と組み合わせてスラリーを形成し；
前記スラリーを高温ガス流中にフィードし；そして、
銅／二硫化モリブデン複合粉末を回収する、これに関し、前記銅／二硫化モリブデン複合粉末は、一緒に融合して前記銅／二硫化モリブデン複合粉末の個々の実質的に球状の粒子を形成している銅および二硫化モリブデン副粒子の実質的に均質な分散物を含む。
【請求項１０】
前記スラリーを高温ガス流中にフィードすることが、前記スラリーを霧化し、前記霧化したスラリーを高温ガス流と接触させることを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記スラリーが約１５重量％〜約５０重量％の液体を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
さらに以下を含む、請求項９に記載の方法：
バインダー材料供給物を提供し；そして
前記バインダー材料を、前記銅含有粉末、前記二硫化モリブデン粉末、および前記水と組み合わせて、スラリーを形成する。
【請求項１３】
前記銅含有粉末供給物を約５重量％〜約９５重量％の範囲の量で前記二硫化モリブデン粉末供給物に加えた後、前記銅含有粉末供給物および前記二硫化モリブデン供給物を前記液体と組み合わせて前記スラリーを形成する、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
銅含有粉末供給物を提供することが、実質的に金属銅粉末、酸化銅（Ｉ）（酸化第一銅）粉末、および酸化銅（ＩＩ）（酸化第二銅）粉末からなる群より選択される銅含有粉末供給物を提供することを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
銅および二硫化モリブデン副粒子の実質的に均質な分散物を含む銅／二硫化モリブデン複合粉末であって、前記銅および二硫化モリブデン副粒子が、一緒に融合して前記銅／二硫化モリブデン複合粉末の個々の実質的に球状の粒子を形成している、前記銅／二硫化モリブデン複合粉末。
【請求項１６】
５０グラムあたり約５０秒〜５０グラムあたり約１５０秒の範囲のＨａｌｌ流動性を含む、請求項１５に記載の銅／二硫化モリブデン複合粉末。
【請求項１７】
約０．９ｇ／ｃｃ〜約１．２ｇ／ｃｃの範囲のＳｃｏｔｔ密度を有する、請求項１５に記載の銅／二硫化モリブデン複合粉末。
【請求項１８】
約５重量％〜約９５重量％の銅を含む、請求項１５に記載の銅／二硫化モリブデン複合粉末。
【請求項１９】
前記銅／二硫化モリブデン複合粉末生産物を構成する前記個々の粒子が約１μｍ〜約５００μｍの範囲のサイズを有する、請求項１５に記載の銅／二硫化モリブデン複合粉末。
【請求項２０】
以下を含む、圧粉金属物品の生産方法：
顆粒状銅／二硫化モリブデン粉末を提供し、これに関し、前記顆粒状銅／二硫化モリブデン粉末は、一緒に凝集して前記顆粒状銅二硫化モリブデン粉末の個々の粒子を形成している銅および二硫化モリブデン副粒子の実質的に均質な分散物を含む；そして、
前記顆粒状銅／二硫化モリブデン粉末を、前記顆粒状銅／二硫化モリブデン粉末をほぼ固体塊として挙動させるのに十分な圧力下で圧縮する。
【請求項２１】
前記顆粒状銅／二硫化モリブデン粉末供給物を提供することが、さらに以下を含む、請求項２０に記載の方法：
銅含有粉末供給物を提供し；
二硫化モリブデン粉末供給物を提供し；
銅含有粉末および二硫化モリブデン粉末を一緒に混合して、ブレンド粉末混合物を形成し；
該ブレンド粉末混合物を圧粉して圧粉材料を形成し；そして
前記圧粉材料を破壊して、顆粒状銅／二硫化モリブデン粉末を形成する。
【請求項２２】
銅含有粉末供給物を提供することが、実質的に金属銅粉末、酸化銅（Ｉ）（酸化第一銅）粉末、および酸化銅（ＩＩ）（酸化第二銅）粉末からなる群より選択される銅含有粉末供給物を提供することを含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記顆粒状銅／二硫化モリブデン粉末供給物を提供することが、さらに以下を含む、請求項２０に記載の方法：
銅含有粉末供給物を提供し；
二硫化モリブデン粉末供給物を提供し；
顆粒化流体供給物を提供し；
銅含有粉末、二硫化モリブデン粉末、および顆粒化流体を一緒に混合してスラリーを形成し；そして
該スラリーを乾燥して、顆粒状銅／二硫化モリブデン粉末を形成する。
【請求項２４】
銅含有粉末供給物を提供することが、実質的に金属銅粉末、酸化銅（Ｉ）（酸化第一銅）粉末、および酸化銅（ＩＩ）（酸化第二銅）粉末からなる群より選択される銅含有粉末供給物を提供することを含む、請求項２３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月16日(2018.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
異常状態検知部３０ｂは、当該実施形態にあっては、ガスタービンモデル燃焼器１０の異常状態としての吹き消え、及び燃焼振動の発生を検知するものである。
異常状態検知部３０ｂは、ネットワークエントロピー導出部３０ａが逐次導出したネットワークエントロピーｈｈが、上述した吹き消え検知閾値Ｔ１を超えるか否か、及び上述した燃焼振動検知閾値Ｔ２を下回るか否かを監視する。
異常状態検知部３０ｂは、ネットワークエントロピー導出部３０ａが逐次導出したネットワークエントロピーｈｈが吹き消え検知閾値Ｔ１を超える場合、その後、吹き消えが発生する可能性が高いと検知し、ネットワークエントロピー導出部３０ａが逐次導出したネットワークエントロピーｈｈが燃焼振動検知閾値Ｔ２を下回る場合、その後、燃焼振動が発生する可能性が高いと検知する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月2日(2018.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列番号１を含むポリペプチドをコードする核酸分子を含み、組換えポックスウイルスベクターである、ベクター。
【請求項２】
前記ポリペプチドがヒトパピローマウイルス（ＨＰＶ）Ｅ２タンパク質の少なくとも１つのエピトープをさらに含む、請求項１に記載のベクター。
【請求項３】
前記ポリペプチドが、ＤＮＡ結合ドメイン内に欠失または突然変異を有するＨＰＶ１６  Ｅ２タンパク質を含む、請求項２に記載のベクター。
【請求項４】
前記ポリペプチドが配列番号３または配列番号５を含む、請求項３に記載のベクター。
【請求項５】
ワクシニアウイルスベクターである、請求項１〜４のいずれか一項に記載のベクター。
【請求項６】
修飾ワクシニアアンカラ（ＭＶＡ）である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のベクター。
【請求項７】
前記ポリペプチドをコードする配列がプロモーターに作動可能に連結されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載のベクター。
【請求項８】
配列番号１を含むポリペプチドをコードする核酸分子を含み、組換えヒトアデノウイルス血清型２６である、ベクター。
【請求項９】
前記ポリペプチドがヒトパピローマウイルス（ＨＰＶ）Ｅ２タンパク質の少なくとも１つのエピトープをさらに含む、請求項８に記載のベクター。
【請求項１０】
前記ポリペプチドが、ＤＮＡ結合ドメイン内に欠失または突然変異を有するＨＰＶ１６  Ｅ２タンパク質を含む、請求項９に記載のベクター。
【請求項１１】
前記ポリペプチドが配列番号３または配列番号５を含む、請求項１０に記載のベクター。
【請求項１２】
前記ポリペプチドをコードする配列がプロモーターに作動可能に連結されている、請求項８〜１１のいずれか一項に記載のベクター。
【請求項１３】
前記組換えヒトアデノウイルス血清型２６がＥ１を欠損している、請求項８〜１２のいずれか一項に記載のベクター。
【請求項１４】
配列番号２を含む、請求項８〜１３のいずれか一項に記載のベクター。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載のベクター、および薬学的に許容できる賦形剤を含むワクチン組成物。
【請求項１６】
被験者におけるＨＰＶに対する免疫応答を誘導するための、請求項１５に記載のワクチン組成物。
【請求項１７】
前記被験者に２回以上投与される、請求項１６に記載のワクチン組成物。
【請求項１８】
持続性ＨＰＶ感染を治療するための、請求項１６に記載のワクチン組成物。