【手続補正書】
【提出日】平成29年12月26日(2017.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部を有する樹脂マスクを含む蒸着マスクの製造方法であって、
樹脂板を準備する工程と、
前記樹脂板にレーザーを照射して前記開口部を形成する工程と、を含み、
前記開口部を形成する工程においては、
樹脂板の一方の面を第１面、他方の面を第２面とした場合において、
前記開口部を構成するための内壁面が、厚み方向断面において少なくとも１つの屈折点を有しており、
前記厚み方向断面において、前記第１面と前記内壁面の交点を第１交点とし、前記第２面と前記内壁面との交点を第２交点とし、前記屈折点のうち前記第１交点から第２交点にむかって最初に位置する屈折点を第１屈折点としたときに、
前記第１交点と前記第１屈折点を結ぶ直線と前記第１面とのなす角（θ１）が、前記第１屈折点と前記第２交点を結ぶ直線と前記第２面とのなす角（θ２）よりも大きくなり、且つ、前記内壁面が、厚み方向断面において前記第１面から前記第２面側に向かって広がりをもつ形状となるように、
前記開口部を形成する、蒸着マスクの製造方法。
【請求項２】
前記開口部を形成する工程において、
前記第１交点から第１屈折点までの距離が、前記第１屈折点から第２交点までの距離よりも短くなるように、前記開口部を形成する、
請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項３】
前記開口部を形成する工程において、
前記屈折点が２つ以上存在し、前記屈折点のうち、前記第１交点から第２交点にむかって最初に位置する屈折点を第１屈折点とし、前記第１屈折点の次に位置する屈折点を第２屈折点としたときに、
前記第１交点から第１屈折点までの距離が、前記第１屈折点から第２屈折点までの距離よりも長くなるように、前記開口部を形成する、
請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項４】
前記開口部を形成する工程において、
前記屈折点が２つ以上存在し、前記屈折点のうち、前記第１交点から第２交点にむかって最初に位置する屈折点を第１屈折点とし、前記第１屈折点の次に位置する屈折点を第２屈折点としたときに、
前記第１交点から第１屈折点までの距離が、前記第１屈折点から第２屈折点までの距離よりも短くなるように、前記開口部を形成する、
請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項５】
前記開口部を形成する工程において、
前記屈折点が４つ以上存在し、前記屈折点のうち、前記第１交点から第２交点にむかって最初に位置する屈折点を第１屈折点としたときに、
前記第１交点から第１屈折点までの厚み方向の距離が、前記第１屈折点から第２交点までの厚み方向の距離よりも短くなるように、前記開口部を形成する、
請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項６】
前記開口部を形成する工程において、
前記屈折点が２つ以上存在し、前記屈折点のうち、前記第１交点から第２交点にむかって最初に位置する屈折点を第１屈折点としたときに、
前記第１屈折点以外の屈折点が、前記第１屈折点と前記第２交点を結ぶ直線よりも第１面側に位置するように、前記開口部を形成する、
請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項７】
前記開口部を形成する工程において、
前記第２交点から前記第１面へ垂線をひいたときに、
前記第１交点から前記垂線と前記第一面との交点までの距離が、前記第２交点から前記垂線と前記第一面との交点までの距離よりも短くなるように、前記開口部を形成する、
請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項８】
前記開口部を形成する工程において、
前記第２交点から前記第１面へ垂線をひいたときに、
前記第１交点から前記垂線と前記第一面との交点までの距離が、前記第２交点から前記垂線と前記第一面との交点までの距離よりも長くなるように、前記開口部を形成する、
請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項９】
前記開口部を形成する工程において、
前記第１屈折点と前記第１交点を結ぶ直線と前記第１面とのなす角（θ１）が６０°〜９０°の範囲内となるように、前記開口部を形成する、
請求項１乃至８の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１０】
前記開口部を形成する工程において、
前記第１屈折点と前記第２交点を結ぶ直線と前記第２面とのなす角（θ２）が３０°〜７０°の範囲内となるように、前記開口部を形成する、
請求項１乃至９の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１１】
前記樹脂板として、第２面側に金属部分が設けられた樹脂板を用いる、
請求項１乃至１０の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１２】
前記樹脂板として、コーティングにより形成された樹脂板を用いる、
請求項１乃至１１の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１３】
前記樹脂板として、フレームに樹脂板が固定されたフレーム付き樹脂板を用いる、
請求項１乃至１２の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１４】
前記開口部を形成する工程の後に、
フレームに、前記開口部が形成された樹脂板を固定する工程をさらに含む、
請求項１乃至１２の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１５】
前記開口部を形成する工程において、
複数の前記開口部を形成する、
請求項１乃至１４の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１６】
前記開口部を形成する工程において、
複数の前記開口部が、縦方向、及び横方向の両方に並ぶように形成する、
請求項１５に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１７】
前記開口部を形成する工程において、
複数の前記開口部が、縦方向、及び横方向の何れか一方にのみに並ぶように形成する、
請求項１５に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１８】
前記開口部を形成する工程において、
複数の前記開口部が、縦方向に並んで複数列あり、隣り合う列同士の開口部が、互いに縦方向にずれて配置されるように、又は、横方向に並んで複数行あり、隣り合う行同士の開口部が、互いに横方向にずれて配置されるように、複数の前記開口部を形成する、
請求項１５に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１９】
前記開口部を形成する工程において、
１画面分の蒸着パターンを形成するために必要な、前記開口部を形成する、
請求項１乃至１８の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項２０】
前記開口部を形成する工程において、
複数の画面分の蒸着パターンを形成するために必要な、前記開口部を形成する、
請求項１乃至１８の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項２１】
前記開口部を形成する工程において、
１画面分の蒸着パターンを形成するために必要な開口部と、他の１画面分の蒸着パターンを形成するために必要な開口部との間の距離のうちその距離が最も短くなるものを画面間の距離としたときに、前記画面間の距離が、１画面分の蒸着パターンを形成するために必要な開口部において隣接する各開口部間の距離よりも長くなるように、前記開口部を形成する、
請求項２０に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項２２】
前記開口部を形成する工程において、
前記画面間の距離が、１ｍｍ以上で１００ｍｍ以下の範囲となるように、前記開口部を形成する、
請求項２１に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項２３】
前記樹脂板として、溝が形成された樹脂板を用いる、
請求項１乃至２２の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項２４】
前記樹脂板として、厚みが４μｍ以上で８μｍ以下の樹脂板を用いる、
請求項１乃至２３の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項２５】
前記開口部を形成する工程において、
前記開口部の大きさが、５００μｍ2以上で１０００μｍ2以下の範囲となるように、前記開口部を形成する、
請求項１乃至２４の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項２６】
蒸着で作製されるパターンの形成方法であって、
請求項１乃至２５の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法で製造された蒸着マスクを用いる、
パターンの形成方法。
【請求項２７】
有機半導体素子の製造方法であって、
請求項１乃至２５の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法で製造された蒸着マスクを用いる、
有機半導体素子の製造方法。