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【手続補正書】
【提出日】平成29年12月19日(2017.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータ（８０）のロータ（８５）を構成するモータシャフトであって、
薄肉筒状の外側部（１１）と、
前記外側部の内部に設けられており、前記外側部と同じ材料から当該外側部と一体に形成されており、互いに結合している複数の支持部（２４）からなる構造体であり、複数の前記支持部間に区画された空隙（２５）を有する内側部（１２）と、
を備えており、
前記内側部は、前記モータシャフトの径方向の内側にいくほど嵩密度が大きいモータシャフト。
【請求項２】
モータ（８０）のロータ（８５）を構成するモータシャフトであって、
薄肉筒状の外側部（１１、７１）と、
前記外側部の内部に設けられており、前記外側部と同じ材料から当該外側部と一体に形成されており、互いに結合している複数の支持部（２４、３２、４２、４３、６２、７５）からなる構造体であり、複数の前記支持部間に区画された空隙（２５、３３、４４、６３、７６）を有する内側部（１２、３１、４１、６１、７２）と、
を備えており、
前記外側部は、筒部（１３）と、当該筒部の一端を液密に封止している一端部（１４）と、前記筒部の他端を液密に封止している他端部（１５）とを有するモータシャフト。
【請求項３】
モータ（８０）のロータ（８５）を構成するモータシャフトであって、
薄肉筒状の外側部（５１）と、
前記外側部の内部に設けられており、前記外側部と同じ材料から当該外側部と一体に形成されており、互いに結合している複数の支持部（４２、４３）からなる構造体であり、複数の前記支持部間に区画された空隙（４４）を有する内側部（４１）と、
を備えており、
前記外側部は、内部に前記内側部が設けられている筒部（１３）、前記筒部の一端に設けられている一端部（５２）、および、前記筒部の他端に設けられている他端部（５４）を有しており、
前記一端部および前記他端部は通孔（５３、５５）を有しており、
前記空隙は、前記一端部の前記通孔と前記他端部の前記通孔とを連通させており、
前記通孔の内径は、前記筒部の内径よりも小さいモータシャフト。
【請求項４】
モータ（８０）のロータ（８５）を構成するモータシャフトであって、
薄肉筒状の外側部（１１）と、
前記外側部の内部に設けられており、前記外側部と同じ材料から当該外側部と一体に形成されており、互いに結合している複数の支持部（２４）からなる構造体であり、複数の前記支持部間に区画された空隙（２５）を有する内側部（１２）と、
を備えており、
前記内側部は、前記モータシャフトの径方向へ延びる板状の前記支持部が複数集まってなるとともに、軸心部から放射状へ延びる複数の中空柱の集合体から構成されるハニカム構造体であり、
前記空隙は、前記中空柱内部の空洞部分を含むモータシャフト。
【請求項５】
前記支持部は、径方向の内側にいくほど厚みが厚い請求項４に記載のモータシャフト。
【請求項６】
モータ（８０）のロータ（８５）を構成するモータシャフトであって、
薄肉筒状の外側部（１１）と、
前記外側部の内部に設けられており、前記外側部と同じ材料から当該外側部と一体に形成されており、互いに結合している複数の支持部（３２）からなる構造体であり、複数の前記支持部間に区画された空隙（３３）を有する内側部（３１）と、
を備えており、
前記内側部は、前記モータシャフトの軸心（ＡＸ）まわりに回転しながら軸方向へ延びるように螺旋状に形成された板状の前記支持部が複数集まってなるハニカム構造体であるモータシャフト。
【請求項７】
モータ（８０）のロータ（８５）を構成するモータシャフトであって、
薄肉筒状の外側部（１１、５１、７１）と、
前記外側部の内部に設けられており、前記外側部と同じ材料から当該外側部と一体に形成されており、互いに結合している複数の支持部（４２、４３、６２、７５）からなる構造体であり、複数の前記支持部間に区画された空隙（４４、６３、７６）を有する内側部（４１、６１、７２）と、
を備えており、
前記内側部は、棒状の前記支持部が複数集まってなる格子構造体であり、
複数の前記支持部のうち少なくとも半分は、前記モータシャフトの径方向に対して交差する方向へ延びているモータシャフト。
【請求項８】
モータ（８０）のロータ（８５）を構成するモータシャフトであって、
薄肉筒状の外側部（７１）と、
前記外側部の内部に設けられており、前記外側部と同じ材料から当該外側部と一体に形成されており、互いに結合している複数の支持部（７５）からなる構造体であり、複数の前記支持部間に区画された空隙（７６）を有する内側部（７２）と、
を備えており、
前記外側部の外壁には、前記モータシャフトの軸方向へ延びるキー溝（７３）が形成されており、
前記内側部は、前記キー溝の延伸方向に交差する方向へ延びる板状の前記支持部が複数集まってなるハニカム構造体であるモータシャフト。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明によるモータシャフトは、薄肉筒状の外側部と、外側部の内部に設けられている内側部とを備える。内側部は、外側部と同じ材料から当該外側部と一体に形成されており、互いに結合している複数の支持部からなる構造体であり、複数の支持部間に区画された空隙を有する。
本発明の第１態様では、内側部は、モータシャフトの径方向の内側にいくほど嵩密度が大きい。
本発明の第２態様では、外側部は、筒部と、筒部の一端を液密に封止している一端部と、筒部の他端を液密に封止している他端部とを有する。
本発明の第３態様では、外側部は、内部に内側部が設けられている筒部、筒部の一端に設けられている一端部、および、筒部の他端に設けられている他端部を有している。一端部および他端部は通孔を有している。空隙は、一端部の通孔と他端部の通孔とを連通させている。通孔の内径は、筒部の内径よりも小さい。
本発明の第４態様では、内側部は、モータシャフトの径方向へ延びる板状の支持部が複数集まってなるとともに、軸心部から放射状へ延びる複数の中空柱の集合体から構成されるハニカム構造体である。空隙は、中空柱内部の空洞部分を含む。
本発明の第５態様では、内側部は、モータシャフトの軸心まわりに回転しながら軸方向へ延びるように螺旋状に形成された板状の支持部が複数集まってなるハニカム構造体である。
本発明の第６態様では、内側部は、棒状の支持部が複数集まってなる格子構造体である。複数の支持部のうち少なくとも半分は、モータシャフトの径方向に対して交差する方向へ延びている。
本発明の第７態様では、外側部の外壁には、モータシャフトの軸方向へ延びるキー溝が形成されている。内側部は、キー溝の延伸方向に交差する方向へ延びる板状の支持部が複数集まってなるハニカム構造体である。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月30日(2018.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
表１の結果から、試料１の回路構成体は２．０ｋＶまで絶縁破壊が生じず、ＤＣ２ｋＶ以上の高い電気絶縁性を有していた。これに対し、試料２の回路構成体は１．８ｋＶで絶縁破壊が生じ、試料１に比較して絶縁破壊電圧が低く、電気絶縁性が低下した。これは、試料１では、ビアホールに穴埋め樹脂が充填され、穴埋め樹脂が充填されたビアホールを覆うようにレジスト層が形成されていることで、レジスト層と粘着シートによって電気絶縁性が十分に確保されたものと考えられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
試料３の回路構成体は２．０ｋＶまで絶縁破壊が生じず、試料１と同様に高い電気絶縁性を有していた。しかし、試料３では、熱圧着する必要があるため、試料１に比較して作業が煩雑で生産性に劣っていた。また、試料３では、接着シートの基材に高価なポリイミドフィルムを用いているため、接着シートの価格が高い。これに対し、試料１では、粘着シートの基材がセルロース製不織布であり、粘着シートは接着シートに比べて安価であるため、部材費を削減できた。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月23日(2018.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータ（１０）と、
前記モータの駆動力が伝達される出力軸（１５）と、
シフトレンジに応じた谷部（２１１〜２１４）が形成され、前記出力軸と一体に回転する谷部形成部材（２１）と、
付勢部材（２５）により前記谷部に嵌まり込む方向に付勢されており、目標シフトレンジに応じた前記谷部である目標谷部に嵌まり合う係合部材（２６）と、
前記モータの駆動を制御するモータ制御部（５０）と、
を備え、
前記モータの回転軸であるモータ軸（１０５）と前記出力軸との間には、遊びが形成されており、
前記モータ制御部は、前記係合部材が前記目標谷部の中心より駆動方向における手前側に位置制御幅の半分ずれた位置となるように、前記モータ目標位置を決定し、制御誤差範囲内であって最も駆動方向側に進んだ位置にて前記モータが停止した場合、前記係合部材が前記目標谷部の中心にて停止するように前記モータの駆動を制御するシフトレンジ切替装置。
【請求項２】
モータ（１０）と、
前記モータの駆動力が伝達される出力軸（１５）と、
シフトレンジに応じた谷部が形成され、前記出力軸と一体に回転する谷部形成部材（２１）と、
付勢部材（２５）により前記谷部に嵌まり込む方向に付勢されており、目標シフトレンジに応じた前記谷部である目標谷部に嵌まり合う係合部材（２６）と、
前記モータの駆動を制御するモータ制御部（５０）と、
を備え、
前記モータの回転軸であるモータ軸（１０５）と前記出力軸との間には、遊びが形成されており、
前記モータ制御部は、前記モータがモータ目標位置を含む制御誤差の範囲内にて停止した後、前記モータが停止する前の回転方向とは反対方向に前記モータを駆動する反転制御を行うものであって、
前記モータ目標位置は、前記係合部材が前記目標谷部の中心となるように設定され、
固定相通電を通電継続時間継続して前記モータを停止させた後、前記反転制御に切り替えるシフトレンジ切替装置。
【請求項３】
前記出力軸の回転角を検出する出力軸センサ（１６）を備え、
前記モータ制御部は、前記出力軸センサの検出値に基づいて前記出力軸が停止したと判定された場合、前記反転制御を終了する請求項２に記載のシフトレンジ切替装置。
【請求項４】
前記遊びは、前記モータの駆動制御に係る制御誤差に応じた前記係合部材の位置制御幅より大きい請求項１〜３のいずれか一項に記載のシフトレンジ切替装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
第１の発明では、モータ制御部は、係合部材が目標谷部の中心より駆動方向における手前側に位置制御幅の半分ずれた位置となるように、モータ目標位置を決定し、制御誤差範囲内であって最も駆動方向側に進んだ位置にてモータが停止した場合、係合部材が目標谷部の中心にて停止するようにモータの駆動を制御する。
第２の発明では、モータ制御部は、モータがモータ目標位置を含む制御誤差の範囲内にて停止した後、モータが停止する前の回転方向とは反対方向にモータを駆動する反転制御を行う。モータ目標位置は、係合部材が目標谷部の中心となるように設定される。固定相通電を通電継続時間継続してモータを停止させた後、反転制御に切り替える。
これにより、モータとして、例えばＤＣモータ等のコギングトルクが生じるものを用いた場合であっても、付勢部材の付勢力により、係合部材を目標谷部の中心に嵌め込むことができる。したがって、シフトレンジを適切に切り替え可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月26日(2018.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
a) 偏光方向が互いに異なる2つの直線偏光を生成する2つの半導体偏光光源と、
b) 前記2つの半導体偏光光源で発生される直線偏光を時分割で試料に入射する時分割部と、
c) 試料を透過した光が通過する位置に置かれた、前記2つの直線偏光の偏光方向とは異なる偏光方向を有する検光子から成る検光部と
を備えることを特徴とする偏光測定装置。
【請求項２】
前記2つの直線偏光の偏光方向が互いに90度異なることを特徴とする請求項１に記載の偏光測定装置。
【請求項３】
前記検光子の偏光方向が前記2つの直線偏光の偏光方向と45度異なることを特徴とする請求項２に記載の偏光測定装置。
【請求項４】
前記時分割部が、前記2つの半導体偏光光源の発光時間を制御するものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の偏光測定装置。
【請求項５】
さらに、回転方向が異なる2つの円偏光を生成する2つの半導体円偏光光源を有し、
前記時分割部が、前記2つの半導体偏光光源で発生される直線偏光及び前記2つの半導体円偏光光源で発生される円偏光を時分割で試料に入射する
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の偏光測定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月30日(2018.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学素子と、該光学素子を保持する保持手段とを有する光学機器であって、
前記光学素子は、無機材料から成る第１の光学要素と、該第１の光学要素に接合された有機物から成る第２の光学要素と、該第２の光学要素に接合された無機材料から成る第３の光学要素とを含み、
光軸を含む断面内において、前記第１の光学要素の最小径をφｈ、前記第１乃至第３の光学要素の各接合面のうち径が最小の接合面の径をφｃ、前記第２の光学要素の最大径をφｒとするとき、
φｈ＜φｃ≦φｒ
なる条件式を満足し、
前記第１の光学要素は、前記断面内において、光学面が他の面と成す頂点を除き、内角が９０°を超える頂点を有し、
前記第１の光学要素の径は、前記頂点に対して光軸方向における前記第２の光学要素の側で最大径になり、前記第２の光学要素とは反対の側では前記最大径よりも小さく、
前記第１の光学要素の最大径は、前記径φｒ及び前記第３の光学要素の最大径よりも小さく、
前記保持手段は、前記第３の光学要素のみを介して前記光学素子を保持することを特徴とする光学機器。
【請求項２】
０．５＜φｈ／φｒ＜０．９８
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１に記載の光学機器。
【請求項３】
前記第２の光学要素の光軸上及び前記径φｃにおける光軸方向の厚さを各々ｔｒｃ、ｔｒｅとするとき、
０．０００５＜ｔｒｅ／ｔｒｃ＜０．９５
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１又は２に記載の光学機器。
【請求項４】
前記第２の光学要素の光軸上及び前記径φｃにおける光軸方向の厚さを各々ｔｒｃ、ｔｒｅとするとき、
１．０５＜ｔｒｅ／ｔｒｃ＜１００００
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学機器。
【請求項５】
前記第１の光学要素の最大径及び前記径φｈにおける光軸方向の厚さを各々ｔｅ、ｔｈ０とするとき、
０．００５＜ｔｅ／ｔｈ０＜０．９
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光学機器。
【請求項６】
前記頂点は、径方向において前記径φｈの位置に存在することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光学機器。
【請求項７】
前記第２の光学要素と前記頂点との光軸方向の距離をｔｈ、前記第１の光学要素の前記径φｈにおける光軸方向の厚さをｔｈ０とするとき、
０．００５＜ｔｈ／ｔｈ０＜０．９
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光学機器。
【請求項８】
前記第１の光学要素の最大径における光軸方向の厚さをｔｅ、前記第２の光学要素の前記径φｃにおける光軸方向の厚さをｔｒｅ、前記第１及び第２の光学要素を構成する材料のヤング率を［ＧＰａ］単位で表した無次元の数値を各々Ｅｈ、Ｅ２とするとき、
０．０１＜ｔｒｅ×ｌｏｇＥ２／（ｔｅ×ｌｏｇＥｈ）＜１０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光学機器。
【請求項９】
前記第１の光学要素の最大径における光軸方向の厚さをｔｅ、前記第２の光学要素の前記径φｃにおける光軸方向の厚さをｔｒｅ、前記第１及び第２の光学要素を構成する材料の線膨張係数を［１０−７／℃］単位で表した無次元の数値を各々αｈ、α２とするとき、
０．０１＜ｔｒｅ×ｌｏｇα２／（ｔｅ×ｌｏｇαｈ）＜１０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学機器。
【請求項１０】
前記各接合面は、連続な曲面であることを特徴とする請求項９に記載の光学機器。
【請求項１１】
前記第１の光学要素の最大径は、前記径φｃと同じであることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光学機器。
【請求項１２】
前記第１の光学要素は、負の屈折力を有することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の光学機器。
【請求項１３】
前記第１の光学要素と前記第３の光学要素とは、互いに異なる符号の屈折力を有することを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の光学機器。
【請求項１４】
前記光学素子からの光を受光する受光素子を有することを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の光学機器。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月28日(2017.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にEUV光を反射する多層反射膜が形成されている多層反射膜付き基板の製造方法であって、
前記多層反射膜付き基板に、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されており、
前記多層反射膜付き基板に対して欠陥検査を行い、前記基準マークを基準とした欠陥情報を取得し、
電子線描画機の基準座標に変換可能な座標計測器で前記基準マークの形成位置を特定し、
前記基準マークを形成した前記多層反射膜付き基板と、前記基準マークの形成位置情報及び前記欠陥情報とを対応付けることを特徴とする多層反射膜付き基板の製造方法。
【請求項２】
前記多層反射膜上に保護膜が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の多層反射膜付き基板の製造方法。
【請求項３】
前記基準マークは、前記多層反射膜に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の多層反射膜付き基板の製造方法。
【請求項４】
前記基準マークは、前記保護膜に形成されていることを特徴とする請求項２又は３に記載の多層反射膜付き基板の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の多層反射膜付き基板の製造方法によって製造された前記基準マークを形成した前記多層反射膜付き基板における前記多層反射膜上に、EUV光を吸収する吸収体膜が形成されている反射型マスクブランクと、前記基準マークの形成位置情報とを対応付けることを特徴とする反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項６】
基板上にEUV光を反射する多層反射膜と、前記多層反射膜上にEUV光を吸収する吸収体膜が形成されている反射型マスクブランクの製造方法であって、
前記反射型マスクブランクに、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されており、
前記反射型マスクブランクに対して欠陥検査を行い、前記基準マークを基準とした欠陥情報を取得し、
電子線描画機の基準座標に変換可能な座標計測器で前記基準マークの形成位置を特定し、
前記基準マークを形成した前記反射型マスクブランクと、前記基準マークの形成位置情報及び前記欠陥情報とを対応付けることを特徴とする反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項７】
前記多層反射膜と吸収体膜の間に保護膜が形成されていることを特徴とする請求項６に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項８】
前記基準マークは、前記多層反射膜に形成されていることを特徴とする請求項６又は７に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項９】
前記基準マークは、前記保護膜に形成されていることを特徴とする請求項７又は８に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項１０】
前記基準マークは、前記吸収体膜に形成されていることを特徴とする請求項６乃至９のいずれかに記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項１１】
前記基準マークは、前記保護膜が露出するように前記吸収体膜を除去して形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項１２】
前記基準マークは、前記吸収体膜を途中まで除去して形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項１３】
前記基準マークは、前記吸収体膜及び前記保護膜を除去して前記多層反射膜が露出するように形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項１４】
請求項５乃至１３のいずれかに記載の反射型マスクブランクの製造方法によって製造された反射型マスクブランクにおける前記吸収体膜を前記欠陥情報に基づいてパターニングすることを特徴とする反射型マスクの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法及び反射型マスクの製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月20日(2017.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、EUV光を反射する多層反射膜およびEUV光を吸収する吸収体膜が形成されている反射型マスクブランクであって、
前記吸収体膜の上には電子線描画用レジスト膜が形成され、
前記反射型マスクブランクに、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されており、
前記基準マークの形成箇所を含む領域上には前記吸収体膜及び前記レジスト膜が形成されていないことを特徴とする反射型マスクブランク。
【請求項２】
前記基準マークは、前記欠陥位置の基準点を決定するためのメインマークを有し、
前記メインマークは、点対称の形状であって、且つ、電子線又は欠陥検査光の走査方向に対して２００ｎｍ以上１０μｍ以下の幅の部分を有することを特徴とする請求項１に記載の反射型マスクブランク。
【請求項３】
前記レジスト膜は、前記吸収体膜上の転写パターンが形成されるパターン形成領域を含む領域に形成され、前記基準マークは、前記パターン形成領域の外側に設けられた外周部に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射型マスクブランク。
【請求項４】
前記基準マークは、前記多層反射膜を構成する一部の膜を除去することにより形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の反射型マスクブランク。
【請求項５】
大きさが６インチ角の反射型マスクブランクの周縁部において、外周端から０．５ｍｍ乃至５．０ｍｍの範囲の領域上には前記レジスト膜が形成されていないことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の反射型マスクブランク。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の反射型マスクブランクの製造方法であって、前記基板上に、EUV光を反射する多層反射膜が形成された多層反射膜付き基板を準備する工程と、前記多層反射膜に欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークを形成する基準マーク形成工程と、前記基準マークを基準として多層反射膜付き基板の欠陥情報を取得する多層反射膜付き基板欠陥情報取得工程と、前記多層反射膜上に吸収体膜を形成する吸収体膜形成工程と、前記吸収体膜上の転写パターンが形成されるパターン形成領域を含む領域と、前記基準マークの形成箇所を含む領域にレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、前記基準マークの形成箇所を含む領域の前記レジスト膜及び前記吸収体膜を除去する除去工程と、を有することを特徴とする反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項７】
前記基準マークを基準として反射型マスクブランクの欠陥情報を取得する反射型マスクブランク欠陥情報取得工程をさらに有することを特徴とする請求項６に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項８】
前記多層反射膜付き基板の欠陥情報、及び／又は前記反射型マスクブランクの欠陥情報と、反射型マスクブランクとを対応させる工程を有することを特徴とする請求項６又は７に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至５のいずれかに記載の反射型マスクブランクにおける前記吸収体膜をパターニングして、転写パターンが形成された吸収体膜を有することを特徴とする反射型マスク。
【請求項１０】
請求項１乃至５のいずれかに記載の反射型マスクブランクを用いて、電子線描画及び現像によってレジストパターンを形成する工程と、形成されたレジストパターンをマスクにして前記吸収体膜をパタ−ニングする工程と、欠陥検査装置による検査工程とを有することを特徴とする反射型マスクの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】反射型マスクブランク及びその製造方法、並びに反射型マスク及びその製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月29日(2018.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電層を有する筒状の回転体と、
前記回転体の内部に配置され、螺旋軸が前記回転体の母線方向と略平行である螺旋形状部を有し、前記導電層を電磁誘導発熱させる交番磁界を形成するためのコイルと、
前記螺旋形状部の中に配置され、前記母線方向に延びて前記回転体の外側でループを形成しないコアであって、前記交番磁界の磁力線を誘導するためのコアと、
を備え、画像が形成された記録材を加熱し画像を記録材に定着する定着装置において、
前記コアの一方の長手端部から出て前記導電層の外側を通過し前記コアの他方の長手端部に戻る磁力線によって誘導された誘導電流によって前記導電層は主に発熱することを特徴とする定着装置。
【請求項２】
前記導電層は、銀と、アルミニウムと、オーステナイト系ステンレスと、銅と、のうち少なくとも一つで形成されていることを特徴とする請求項１に記載の定着装置。
【請求項３】
前記コイルに流す交流電流の周波数は、２１ｋＨｚ以上１００ｋＨｚ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の定着装置。
【請求項４】
前記母線方向において、前記最大通過領域は前記導電層と前記コアとがオーバラップする領域に含まれることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の定着装置。
【請求項５】
前記回転体は筒状のフィルムであり、前記フィルムとの間に記録材を搬送するニップ部を形成するための対向部材を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の定着装置。
【請求項６】
前記フィルムの内面に接触し前記フィルムを介して前記対向部材と共に前記ニップ部を形成するニップ部形成部材を有することを特徴とする請求項５に記載の定着装置。
【請求項７】
前記フィルムの内部に、前記母線方向に沿って長く、前記ニップ部形成部材を補強するための補強部材を有し、前記補強部材の材質はオーステナイト系ステンレスであることを特徴とする請求項６に記載の定着装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するため本発明の好適な態様は、導電層を有する筒状の回転体と、前記回転体の内部に配置され、螺旋軸が前記回転体の母線方向と略平行である螺旋形状部を有し、前記導電層を電磁誘導発熱させる交番磁界を形成するためのコイルと、前記螺旋形状部の中に配置され、前記母線方向に延びて前記回転体の外側でループを形成しないコアであって、前記交番磁界の磁力線を誘導するためのコアと、を備え、画像が形成された記録材を加熱し画像を記録材に定着する定着装置において、前記コアの一方の長手端部から出て前記導電層の外側を通過し前記コアの他方の長手端部に戻る磁力線によって誘導された誘導電流によって前記導電層は主に発熱することを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月12日(2018.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ズームレンズが含まれる撮影光学系により結像された被写体像を撮像し画像信号を出力する撮像部と、
前記ズームレンズを光軸方向に駆動するズーム駆動部と、
前記ズーム駆動部による光学ズーム操作が可能な第１操作部と、
電子ズームを実行可能な第１処理部と、
前記第１処理部による前記電子ズームの実行中に前記第１操作部に対して為された前記光学ズーム操作に応じて、前記ズームレンズを駆動するように前記ズーム駆動部を制御する第２処理部と、
を備えることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
請求項１に記載の撮像装置において、
前記第１操作部は、前記電子ズームの操作も可能であることを特徴とする撮像装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の撮像装置において、
ユーザにより前記撮影光学系の変倍比を操作可能な第２操作部を備えることを特徴とする撮像装置。
【請求項４】
請求項３に記載の撮像装置において、
前記光学ズーム操作は、前記第１操作部により可能であり、
前記電子ズームの操作は、前記第１操作部および前記第２操作部により可能であることを特徴とする撮像装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の撮像装置において、
前記第２処理部は、前記光学ズーム操作に応じて前記ズームレンズを駆動させた後に前記撮像部から出力された前記画像信号に基づく画像データを、前記第１処理部に出力することを特徴とする撮像装置。
【請求項６】
請求項５に記載の撮像装置において、  前記第２処理部は、前記撮像部により出力された前記画像信号を前記電子ズームに基づいて拡大または縮小した画像データを前記第１処理部に出力し、
前記第１処理部は、前記電子ズームの指令に応じて、前記第２処理部に前記電子ズームの設定値を更新させる電子ズーム制御信号を出力することを特徴とする撮像装置。
【請求項７】
請求項５または６に記載の撮像装置において、
前記第１処理部は、撮影指令を受け付け可能であり、
前記第１処理部は、前記撮影指令に応じて、前記第２処理部に前記撮像部による撮像を行わせる撮影制御信号を出力し、
前記第２処理部は、前記ズームレンズが駆動されていないとき、前記撮影制御信号が入力されたことに応じて前記撮像部に撮像を行わせることを特徴とする撮像装置。
【請求項８】
請求項７に記載の撮像装置において、
前記第２処理部は、前記ズームレンズが駆動されているとき、前記撮影制御信号が入力されても前記撮像部に撮像を行わせないことを特徴とする撮像装置。
【請求項９】
請求項７に記載の撮像装置において、
前記第２処理部は、前記ズームレンズが駆動されているときに前記撮影制御信号が入力されると、前記ズームレンズの駆動が完了した後に前記撮像部に撮像を行わせることを特徴とする撮像装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の撮像装置において、
前記撮影光学系は、フォーカスレンズを含み、
前記フォーカスレンズを光軸方向に駆動するフォーカス駆動部を備え、
前記第１処理部は、焦点調節指令を受け付け可能であり、
前記第１処理部は、前記焦点調節指令に応じて、前記第２処理部に焦点調節を行わせる焦点調節制御信号を出力し、
前記第２処理部は、前記ズームレンズが駆動されていないとき、前記焦点調節制御信号が入力されたことに応じて前記フォーカス駆動部に前記フォーカスレンズを駆動させることを特徴とする撮像装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の撮像装置において、
前記第２処理部は、前記ズームレンズが駆動されているとき、前記焦点調節制御信号が入力されても前記フォーカス駆動部に前記フォーカスレンズを駆動させないことを特徴とする撮像装置。
【請求項１２】
請求項１０に記載の撮像装置において、
前記第２処理部は、前記ズームレンズが駆動されているときに前記焦点調節制御信号が入力されると、前記ズームレンズの駆動が完了した後に前記フォーカス駆動部に前記フォーカスレンズを駆動させることを特徴とする撮像装置。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の撮像装置において、
前記第１処理部は、前記撮像部に撮像を行わせない第１プログラムと、前記撮像部に撮像を行わせる第２プログラムと、を切り替えて実行可能であり、
前記第２処理部は、前記第１処理部が前記第１プログラムを実行している場合、前記第１操作部が操作されても前記ズームレンズを駆動させないことを特徴とする撮像装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の撮像装置において、
前記第１処理部は、前記第１プログラムを実行しているとき、前記第１操作部により前記光学ズーム操作が為されたことを実行中の前記第１プログラムに報知することにより、前記第１プログラムに前記光学ズーム操作に応じた処理を実行させることを特徴とする撮像装置。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載の撮像装置において、
前記第１操作部は、前記光学ズーム操作に応じた操作信号を前記第１処理部および前記第２処理部に出力することを特徴とする撮像装置。
【請求項１６】
請求項１３または１４に記載の撮像装置において、
前記第１操作部は、前記光学ズーム操作に応じた第１操作信号を前記第２処理部に出力し、
前記第２処理部は、前記第１操作信号の入力に応じた第２操作信号を前記第１処理部に出力することを特徴とする撮像装置。
【請求項１７】
請求項１３または１４に記載の撮像装置において、
前記第１操作部は、前記第１処理部が前記第１プログラムを実行している場合には前記光学ズーム操作に応じた操作信号を前記第１処理部に出力し、前記第１処理部が前記第２プログラムを実行している場合には前記操作信号を前記第２処理部に出力することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
請求項１に記載の撮像装置は、ズームレンズが含まれる撮影光学系により結像された被写体像を撮像し画像信号を出力する撮像部と、前記ズームレンズを光軸方向に駆動するズーム駆動部と、前記ズーム駆動部による光学ズーム操作が可能な第１操作部と、電子ズームを実行可能な第１処理部と、前記第１処理部による前記電子ズームの実行中に前記第１操作部に対して為された前記光学ズーム操作に応じて、前記ズームレンズを駆動するように前記ズーム駆動部を制御する第２処理部と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月13日(2018.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
そして、ピストン１８の軸方向に沿った移動に伴って、移動体２２が第２ピン溝８２の第１溝部８６に沿って軸方向にのみ直線変位し、前記第１溝部８６から周方向に沿って延在した第２溝部８８へと移動することで、該直線変位が規制され回転方向にのみ変位させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月9日(2018.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波信号を第１の周波数範囲にわたって分析して、その中にピークの大きさの周波数応答を有する少なくとも１つの干渉高周波成分を突き止める電子的実装方法であって、
前記方法は、
少なくとも、高速フーリエ変換（ＦＦＴ）を実行することと、前記ＦＦＴに基づいて、周波数の試験範囲内の周波数のサブレンジを有する候補干渉成分を特定することとにより、電子的ハードウエアを用いて前記試験範囲を分析することであって、前記候補干渉成分は、有意性閾値を超える信号強さを有しており、周波数の前記サブレンジは、ピークの大きさの周波数応答を有する高周波成分を含む、ことと、
電子的ハードウエアを用いて前記分析を終了するための条件が満たされたかを決定することと、
前記条件が満たされなかった場合、前記条件が満たされるまで、以前の分析動作において前記候補干渉成分を含むとして特定された周波数の前記サブレンジに対して前記分析および前記決定を反復的に実行することと
を含み、
入力信号をフィルタリングして、周波数成分を周波数の前記試験範囲外に排除するか、または減衰させることを更に含み、
フィルタリング帯域幅は、各反復時に減少される、方法。
【請求項２】
前記ＦＦＴは、Ｎ個のサンプルに対して実行され、Ｎは１６以下の整数である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記分析を終了するための前記条件が満たされたかを決定することは、
１つ以上の周波数成分が所定の精度で特定されたか、または
反復限界に達したか
のうちの少なくとも一方を決定することを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記ＦＦＴを実行することは、信号強度を周波数の関数として推定し、かつ前記信号強度の前記推定を前記試験範囲内の複数のビンの各々に割り当て、前記候補干渉成分は、前記複数のビンのうち、前記ピークの大きさの周波数応答を有するビンに対応する、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記フィルタリングが、前記分析および前記決定の各反復時に重複している周波数範囲にわたって動作するように、周波数の前記試験範囲を周波数変換することを更に含む、請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記フィルタリングは、低域通過フィルタリングまたは帯域通過フィルタリングを含み、周波数の前記試験範囲は、変換されて前記フィルタリングの通過帯域内に位置する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記干渉高周波成分の影響を減少させることを更に含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
フーリエ変換エンジンは、前記ＦＦＴを実行して、信号強度を周波数の関数として推定し、かつ前記強度の推定を周波数の前記試験範囲内の複数の領域の各々に割り当てるために使用される、請求項１〜７のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記フーリエ変換エンジンは、Ｎ個のサンプルに働き、Ｎは１６以下の整数である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記フーリエ変換エンジンは、Ｎ個のサンプルに働き、Ｎは８以下の整数である、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記フーリエ変換エンジンは、Ｎ個のサンプルに働き、Ｎは４以下の整数である、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記フーリエ変換エンジンに提供される前記信号を、各反復で増加される間引き係数により間引くことを更に含む、請求項８〜１１のうちのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
Ｎ点高速フーリエ変換（ＦＦＴ）エンジンを用いて、高周波入力信号の入力高周波範囲を再帰的に検索することであって、Ｎは１６以下の整数である、ことと、
以前のパスでピークの大きさの周波数応答を有する干渉高周波成分を含んでいるとして特定され、かつ前記干渉高周波成分の周波数が所定の精度で推定されるまで続く減少された周波数検索範囲を各パスで検索することと
を行うように配置される電子回路を備え、
前記電子回路は、前記高周波入力信号をフィルタリングして、周波数成分を前記周波数検索範囲外に排除するか、または減衰させるように更に構成され、フィルタリング帯域幅は、各反復時に減少される、主要信号検出装置。
【請求項１４】
周波数検索空間を規定するように配置される検索空間制御装置、およびスペクトル分析エンジンを備え、
前記スペクトル分析エンジンは、前記Ｎ点ＦＦＴエンジンを含む、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記検索空間制御装置は、可変周波数検索範囲を所定の周波数範囲にマッピングするように構成される周波数変換器、および制御可能帯域幅フィルタを備える、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記周波数変換器は、デジタル下方変換器を含む、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記制御可能帯域幅フィルタは、前記制御可能帯域幅フィルタの帯域幅を変更するための帯域幅制御器に応答するデジタルフィルタを含む、請求項１５または１６に記載の装置。
【請求項１８】
Ｎは、８以下である、請求項１４〜１７のうちのいずれか一項に記載の装置。
【請求項１９】
Ｎは、４以下である、請求項１４〜１７のうちのいずれか一項に記載の装置。
【請求項２０】
請求項１３〜１９のうちのいずれか一項に記載の主要信号検出装置を備える無線受信機。
【請求項２１】
前記主要信号検出装置は、ブロッカー信号の高調波を捜すように配置され、前記高調波は、デジタル化信号内に生じる、請求項２０に記載の無線受信機。
【請求項２２】
前記干渉高周波成分の影響を減少させるように構成された補正信号発生器を更に備える、請求項２０または２１に記載の無線受信機。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月20日(2018.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面（２１ａ、２７ａ、２８ａ）及び裏面（２１ｂ）を有する板状に構成され、前記裏面の一部が前記表面側に凹んだことで薄肉化された薄肉部（２３）を有し、前記表面のうちの前記薄肉部に対応する部分の上方に流れる流体の流量を検出するように構成されたセンサ部（２０）と、
前記表面のうちの前記薄肉部に対応する部分及び前記薄肉部の外周に対応する外周部（２５）を含んだ露出部（２６）が露出するように、前記センサ部を封止したモールド樹脂部（３０）と、
を備え、
前記センサ部は、
前記外周部に対応する部分に、前記薄肉部を一周囲むと共に、前記外周部の一部が前記裏面側に凹んだ凹部（２１ｃ、２７ｂ、２８ｃ）と、
前記薄肉部が形成された半導体基板（２１）と、
前記薄肉部を覆うように前記半導体基板の上に形成された無機保護膜（２７）と、
を有し、
前記凹部（２７ｂ）は、前記無機保護膜に形成されている流量センサ。
【請求項２】
表面（２１ａ、２７ａ、２８ａ）及び裏面（２１ｂ）を有する板状に構成され、前記裏面の一部が前記表面側に凹んだことで薄肉化された薄肉部（２３）を有し、前記表面のうちの前記薄肉部に対応する部分の上方に流れる流体の流量を検出するように構成されたセンサ部（２０）と、
前記表面のうちの前記薄肉部に対応する部分及び前記薄肉部の外周に対応する外周部（２５）を含んだ露出部（２６）が露出するように、前記センサ部を封止したモールド樹脂部（３０）と、
を備え、
前記センサ部は、
前記外周部に対応する部分に、前記薄肉部を一周囲むと共に、前記外周部の一部が前記裏面側に凹んだ凹部（２１ｃ、２７ｂ、２８ｃ）と、
前記薄肉部が形成された半導体基板（２１）と、
前記薄肉部を覆うように前記半導体基板の上に形成されていると共に撥水性を備える油性溶剤膜（２８）と、
を有し、
前記凹部（２８ｃ）は、前記油性溶剤膜に形成されている流量センサ。
【請求項３】
前記油性溶剤膜は、少なくとも前記外周部に対応する部分の表面に粗化処理が施されている請求項２に記載の流量センサ。
【請求項４】
表面（２１ａ、２７ａ、２８ａ）及び裏面（２１ｂ）を有する板状に構成され、前記裏面の一部が前記表面側に凹んだことで薄肉化された薄肉部（２３）を有し、前記表面のうちの前記薄肉部に対応する部分の上方に流れる流体の流量を検出するように構成されたセンサ部（２０）と、
前記表面のうちの前記薄肉部に対応する部分及び前記薄肉部の外周に対応する外周部（２５）を含んだ露出部（２６）が露出するように、前記センサ部を封止したモールド樹脂部（３０）と、
を備え、
前記センサ部は、
前記外周部に対応する部分に、前記薄肉部を一周囲むと共に、前記外周部の一部が前記裏面側に凹んだ凹部（２１ｃ、２７ｂ、２８ｃ）と、
前記薄肉部が形成された半導体基板（２１）と、
前記表面と、前記凹部を構成する壁面（２１ｄ）と、の上に形成されていると共に撥水性を備える油性溶剤膜（２８）と、
を有し、
前記凹部（２１ｃ）は、前記半導体基板に形成されており、
前記油性溶剤膜は、少なくとも前記外周部に対応する部分の表面に粗化処理が施されている流量センサ。
【請求項５】
前記センサ部は、前記凹部を複数有している請求項１ないし４のいずれか１つに記載の流量センサ。
【請求項６】
前記センサ部は、前記外周部のうち前記凹部よりも外側に、前記凹部を一周囲む有機保護膜（２９）を有している請求項１ないし５のいずれか１つに記載の流量センサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
そして、請求項１に記載の発明では、センサ部は、外周面に対応する部分に、薄肉部を一周囲むと共に、外周面の一部が裏面側に凹んだ凹部（２１ｃ、２７ｂ、２８ｃ）と、薄肉部が形成された半導体基板（２１）と、薄肉部を覆うように半導体基板の上に形成された無機保護膜（２７）と、を有している。凹部（２７ｂ）は、無機保護膜に形成されている。
請求項２に記載の発明では、センサ部は、外周部に対応する部分に、薄肉部を一周囲むと共に、外周部の一部が裏面側に凹んだ凹部（２１ｃ、２７ｂ、２８ｃ）と、薄肉部が形成された半導体基板（２１）と、薄肉部を覆うように半導体基板の上に形成されていると共に撥水性を備える油性溶剤膜（２８）と、を有し、ている。凹部（２８ｃ）は、油性溶剤膜に形成されている。
請求項４に記載の発明では、センサ部は、外周部に対応する部分に、薄肉部を一周囲むと共に、外周部の一部が裏面側に凹んだ凹部（２１ｃ、２７ｂ、２８ｃ）と、薄肉部が形成された半導体基板（２１）と、表面と、凹部を構成する壁面（２１ｄ）と、の上に形成されていると共に撥水性を備える油性溶剤膜（２８）と、を有している。凹部（２１ｃ）は、半導体基板に形成されている。油性溶剤膜は、少なくとも外周部に対応する部分の表面に粗化処理が施されている。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月7日(2018.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
冷蔵温度帯の貯蔵室である冷蔵室および野菜室を有する冷蔵庫において、
ミストを放出するミスト放出部と、前記ミスト放出部に負の電圧を印加する電源装置とを有する静電霧化装置と、
前記ミスト放出部から放出したミストを放出するミスト放出口と、
ミストが通過する多数の孔を有して前記ミスト放出部を覆うように設けられた放出部カバーと、
前記ミスト放出部に給水するための冷却部と、を備え、
前記冷却部は、冷却されることで結露水を発生させ、
前記ミスト放出部は、結露させた水をミストとして放出し、その放出したミストを前記放出部カバーの孔および前記ミスト放出口を通して前記冷蔵室および前記野菜室に供給する冷蔵庫。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明の目的は、静電霧化装置への給水を自動化でき、使用者が静電霧化装置へ給水する手間を極力省くことができる冷蔵庫を提供することにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、冷蔵温度帯の貯蔵室である冷蔵室および野菜室を有する冷蔵庫において、ミストを放出するミスト放出部と、前記ミスト放出部に負の電圧を印加する電源装置とを有する静電霧化装置と、前記ミスト放出部から放出したミストを放出するミスト放出口と、ミストが通過する多数の孔を有して前記ミスト放出部を覆うように設けられた放出部カバーと、前記ミスト放出部に給水するための冷却部と、を備え、前記冷却部は、冷却されることで結露水を発生させ、前記ミスト放出部は、結露させた水をミストとして放出し、その放出したミストを前記放出部カバーの孔および前記ミスト放出口を通して前記冷蔵室および前記野菜室に供給することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年2月1日(2018.2.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０９】
【表２】
2017227899.tif 000001
１）幅の中心での面内位相差（Ｒｏ）
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月4日(2018.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変データデジタルリソグラフィー印刷に有用なインク組成物であって、
ａ）着色顔料成分と、
ｂ）連続アクリレート相を形成する、アクリレートモノマー、オリゴマーもしくはポリマー、またはこれらの混合物の少なくとも１つと、
ｃ）Ｉ型光開始剤およびＩＩ型光開始剤の少なくとも１つを含むフリーラジカル光開始剤成分と、
を含むアクリレートインク基剤配合物と；
水および１．０ｐｐｍから２．０ｐｐｍの量で１つの界面活性剤を含む水溶液であって、前記水溶液は、前記アクリレートインク基剤の連続アクリレート相に分散されて、２０℃から５０℃の温度で１Ｅ＋０５センチポイズから１Ｅ＋０６センチポイズの範囲の粘度を有する逆相エマルションインク組成物を与える水溶液を含み、
前記界面活性剤は、前記水の表面張力を低下させて、前記アクリレートインク基剤配合物の表面張力以下とし、
前記アクリレートモノマー、オリゴマーもしくはポリマー、またはこれらの混合物の少なくとも１つは、高粘度２官能アクリレートポリエステルオリゴマーを含む、インク組成物。
【請求項２】
前記アクリレートインク基剤配合物は、
レオロジー調整剤と；
ＵＶ安定化剤とをさらに含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項３】
前記逆相エマルションは、５重量％以下の前記水溶液を含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項４】
前記インク組成物は、１％から１０％の範囲の総含水量で水を含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項５】
前記インク組成物のずり減粘指数（５０／５）は、０．３５から０．６５の範囲である、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項６】
デジタル印刷に使用するためのインク組成物を調製するための方法であって、
ａ）着色顔料成分と、Ｉ型光開始剤およびＩＩ型光開始剤の少なくとも１つを含むフリーラジカル光開始剤成分とを、アクリレートモノマー、アクリレートオリゴマー、アクリレートポリマー、またはこれらの混合物の少なくとも１つと混合することを含み、前記アクリレートモノマー、アクリレートオリゴマー、アクリレートポリマー、またはこれらの混合物の少なくとも１つは連続アクリレート相を形成する、アクリレートインク基剤配合物を調製することと；
ｂ）水および１つの界面活性剤を混合することによって水溶液を調製することと；
ｃ）前記アクリレートインク基剤の前記連続アクリレート相中に前記水溶液を分散させて、２０℃から５０℃の温度で１Ｅ＋０５センチポイズから１Ｅ＋０６センチポイズの範囲の粘度を有する逆相エマルションインク組成物を形成することと、を含み、
前記逆相エマルションは、１％から１０％の範囲の総含水量で水を含み、
前記アクリレートモノマー、オリゴマーもしくはポリマー、またはこれらの混合物の少なくとも１つは、高粘度２官能アクリレートポリエステルオリゴマーを含む、方法。
【請求項７】
前記アクリレートモノマー、アクリレートオリゴマー、アクリレートポリマー、またはこれらの混合物の少なくとも１つは、連続相を構成し、前記水溶液は、この連続相中に乳化した液体として分散する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記アクリレートインク基剤配合物を調製する工程は、さらに、レオロジー調整剤および安定化剤の少なくとも１つを前記アクリレートインク基剤配合物に導入することを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記界面活性剤は、前記水の表面張力を低下させて、前記アクリレートインク基剤配合物の表面張力よりも下げる、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記インク組成物のずり減粘指数（５０／５）は、前記インク組成物から水を蒸発させた後に０．３５から０．６５である、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
可変データデジタルリソグラフィー印刷に有用なインク組成物であって、
ａ）着色顔料成分と、
ｂ）連続アクリレート相を形成する、アクリレートモノマー、オリゴマーもしくはポリマー、またはこれらの混合物の少なくとも１つと、
ｃ）Ｉ型光開始剤およびＩＩ型光開始剤の少なくとも１つを含むフリーラジカル光開始剤成分と、
を含むアクリレートインク基剤配合物と；
水および０．５ｐｐｍから２．０ｐｐｍの量で１つの界面活性剤を含む水溶液であって、前記水溶液は、前記アクリレートインク基剤の連続アクリレート相に分散されて、２０℃から５０℃の温度で１Ｅ＋０５センチポイズから１Ｅ＋０６センチポイズの範囲の粘度を有する逆相エマルションインク組成物を与える水溶液を含み、
前記逆相エマルションは、５重量％以下の前記水溶液を含み、
前記アクリレートモノマー、オリゴマーもしくはポリマー、またはこれらの混合物の少なくとも１つは、高粘度２官能アクリレートポリエステルオリゴマーを含む、インク組成物。
【請求項１２】
前記界面活性剤は、前記水の表面張力を低下させて、前記アクリレートインク基剤配合物の表面張力よりも下げる、請求項１１に記載のインク組成物。
【請求項１３】
前記インク組成物は、１％から１０％の範囲の総含水量で水を含む、請求項１１に記載のインク組成物。
【請求項１４】
前記アクリレートインク基剤配合物は、前記アクリレートモノマー、オリゴマーまたはポリマーの１つ以上を含む、請求項１１に記載のインク組成物。
【請求項１５】
前記高粘度２官能アクリレートポリエステルオリゴマーは、６０℃で少なくとも１１，０００ｃｐｓの粘度を有する、請求項１に記載のインク組成物。