【事件の表示】
　平成　９年特許願第３５８７８３号「磁気ヘッドスライダ」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年　７月１３日出願公開、特開平１１−１９１２７７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成９年１２月２６日の出願であって、平成１４年４月３日付けで拒絶査定がなされ、平成１４年５月９日に拒絶査定に対する審判請求がされるとともに、同年６月７日に手続補正がなされたものである。
　
２．平成１４年６月７日付けの手続補正についての補正却下の決定
　
　［補正却下の決定の結論］
　平成１４年６月７日付けの手続補正を却下する。
　
　［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、
「ウエハ上に薄膜工程を利用して電磁変換素子を形成した後、該ウエハを切り離して磁極側の切断面に浮力発生用の浮上レールを形成した磁気ヘッドスライダであって、
　浮上レールは空気流流入端近傍に磁気ディスク側に突出する突起を備えるとともに、空気流流出端近傍において両側縁が掘り込まれて幅狭とされて浮上レール上に幅狭部が形成され、
　磁気ディスク回転停止時に突起と浮上レールの幅狭部が磁気ディスクに接触する磁気ヘッドスライダ。」
と補正された。
　
　上記補正は、請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「浮上レール」について、「浮上レール上に幅狭部が形成され」との限定を付加するものであって、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するか）否かについて以下に検討する。
　
（２）引用例
　原査定の拒絶理由に引用された特開平８−６９６７４号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面とともに、
「【特許請求の範囲】
　【請求項１】  ディスク対向面の左右両端に、ディスク回転時の浮上力発生とディスク回転停止時の接触支持のための平坦なレール面を有する一対のレールを形成した磁気ヘッドスライダにおいて、
前記一対のレールの空気流流入端部のレール面上に一対の突起を設け、
ディスク回転停止時に該突起とレールの空気流流出端部のみディスクに接触させるようにしたことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。」
「【００１３】
　【発明が解決しようとする課題】従来の磁気ディスク装置では次に示すような問題があった。まず、高密度化に伴いディスク表面は平滑化する傾向にあるが、対向する面が互いに平滑になればなるほど接触面積は増大して吸着力が大きくなるため、ディスクとスライダのレール面との吸着が起こりやすくなる傾向にある。
　【００１４】また、装置の小型化進展と共にディスクを回転させるスピンドルモータのトルクは小さくなり、吸着発生時にスピンドルモータのトルク不足から起動できない場合が生じてくる。起動できた場合でも、吸着が解除されずにスライダの支持機構の変形やディスク記録層の破壊を伴う重大な障害を引き起こす可能性がある。
　【００１５】クラウン加工したスライダは吸着防止には有効であるが、加工精度のばらつきが大きく磁気ヘッドスライダがコスト高となり量産に向かないという問題がある。
　【００１６】更に、スライダ浮上面の長手方向にクラウン加工をするため、流出端部に形成されている電磁変換素子（ヘッド素子部）の高さよりも、スライダのレール面がディスクに近くなってしまうため、スペーシングロスが発生するという問題がある。
　【００１７】本発明はこのような点に鑑みて成されたものであり、その目的とするところは簡単な構造でスライダとディスクとの吸着の発生を有効に低減することのできる磁気ヘッドスライダを提供することである。」
「【００２４】
　【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明第１実施例の磁気ヘッドスライダの概略形状を示している。図１（Ａ）に示すように、磁気ヘッドスライダ２の両サイドには平坦なレール面を有する一対のレール４が形成されており、一方のレール４の空気流の流出端部には電磁変換素子（ヘッド素子）６が形成されている。
　【００２５】各レール４の空気流流入端部には薄膜の突起８が形成されている。突起８はダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の固い材料の薄膜からなり、薄膜プロセスにより密着層である５ｎｍ以下の厚さのＳｉＣ層を介してレール４の空気流流入端部に形成される。突起８の高さはスライダ２の浮上に悪影響を及ぼさない３０ｎｍ程度が適当である。
　【００２６】図１（Ｂ）はディスク回転停止時のスライダ２とディスク面１０との関係を示しており、図１（Ａ）に示すようにスライダ２はレール４の流出端エッジ５と突起８の後端エッジ９でディスク面１０に接触する。
　【００２７】レール４の前方（空気流流入端側）に突起８を設けたことにより、ディスク回転停止時にはこれら２つの突起８の後端エッジ９とレール４の流出端エッジ５のみがディスクに接触する。ここで、液体（潤滑剤）を間に介して接触する２つの面間に働く吸着力は接触面積が小さくなるほど小さくなる。
　【００２８】従って、レール４の流入側端部に突起８を設けることにより、ディスクとスライダとの接触面積が従来のレール全面での接触に比較して小さくなるため、吸着力は低減され吸着は起こりにくくなる。
　【００２９】また、ディスク回転停止時のスライダの姿勢が図１（Ｂ）に示すように前方（流入端側）が持ち上がった状態となるため、起動時にスライダ２が浮き上がり易くなり、ディスクとスライダの摺動距離を小さくすることができ、ディスクの磨耗を低減することができる。
　【００３０】次に、図２及び図３を参照して上述した実施例のスライダの製造方法について説明する。図３（Ａ）に示すウエハ２０には複数の電磁変換素子６が形成されている。ウエハ２０からＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ基板１２をバー形状に切り出す。
　【００３１】そして、図２（ａ）に示すように基板１２上にスパッタリングでＳｉＣからなる密着層１４を約２ｎｍの厚さに形成する。次いで、密着層１４上にプラズマＣＶＤ法によりＤＬＣ層１６を約３０ｎｍの厚さに形成する。ＳｉＣ層１４は電磁変換素子６の絶縁保護及びＤＬＣ層１６の密着層の役目をする。
　【００３２】次いで、図２（ｂ）に示すようにＤＬＣ層１６上にフォトレジスト１８を塗布し、図２（ｃ）に示すように所定パターンのマスクを用いてフォトレジスト１８を露光・現像する。
　【００３３】次いで、図２（ｄ）に示すようにイオンミリングでエッチングして複数のレール４を形成する。この状態が図３（Ｂ）の斜視図に示されている。次いで再び、フォトレジスト１８′を塗布して、図２（ｅ）に示すように突起パターンに露光し、図２（ｆ）に示すようにイオンミリングで突起以外のＤＬＣ層１６をエッチングにより除去する。
　【００３４】これにより、各レール４上にＤＬＣからなる突起８が形成される。この状態が、図３（Ｃ）の斜視図に示されている。図２（ｇ）の点線に沿って切断することにより、図２（ｈ）に示す個々のスライダ２を得ることができる。このようにして形成したスライダ２が図３（Ｄ）に斜視図に示されている。」
　図３（Ｂ）には、電磁変換素子６の磁極側の切断面にレール４が図示されている。
　
　これらの記載、特に【００３０】乃至【００３４】の磁気ヘッドスライダの製造方法及び図面を参照すると、引用例１には、
「ウエハ上に電磁変換素子を形成した後、ウエハをバー形状に切り出して磁極側の切断面に一対のレールを形成し、次いで個々に切断して得た磁気ヘッドスライダであって、
　一対のレールの空気流流入端部のレール面上に一対の突起が形成され、
　ディスク回転停止時に突起とレールの空気流流出端部のみディスクに接触する磁気ヘッドスライダ。」の発明（以下、「引用例１の発明」という。）が開示されていると認めることができる。
　
　同じく、原査定の拒絶の理由に引用された特開昭６３−２５５８８３号公報（以下、「引用例２」という。）には、図面とともに、
「磁気変換素子として第１図に示すように略コの字型をしたバルク材１３を用いて構成するとき、記録再生ギヤツプ１４が側レールの後方にある場合、巻線を巻回するための溝１２は負圧部の後方まで食い込んで加工することが必要となる。即ち溝１２の加工前、負圧部５の後端５ａは第３図の破線で示した位置であるが、溝１２の加工により実線で示した位置まで後退するのである。このため負圧部５の面積が狭くなり、必要な荷重が得られなくなつてしまう。そこで本実施例では側レール２，３の後方部の幅の狭い部分２ａ，３ａを形成することにより正圧部の面積を微少量減少させ、巻き線のための溝の加工によつて負圧部が減少しても正圧・負圧のバランスが崩れないようにしている。具体的な加工としては前記幅狭部の端部２ｂ，３ｂが段差部５の端部５ａと同一線上に位置するように加工し、しかもその幅狭部の幅をトラツク幅程度にすることによりこの部分が正圧に殆ど影響を及ぼさないようにするのである（第３図参照）。」（第２頁右下欄第１１行〜第３頁左上欄第１０行）と記載されていることが認められる。
　
（３）対比
　そこで、本願補正発明と引用例１の発明とを比較する。
　引用例１の発明と本願補正発明は、「磁気ヘッドスライダ」の発明で一致し、
　引用例１の発明の「レール」は、本願補正発明の「浮上レール」に相当する。
　引用例１の発明の「空気流流入端部のレール面上」にある一対の「突起」は、本願補正発明の「空気流流入端近傍に磁気ディスク側に突出」する「突起」に相当する。
　本件出願当時「薄膜工程を利用して電磁変換素子を形成する」ということが技術常識であるので、引用例記載の発明の「電磁変換素子」は、「薄膜工程を利用して電磁変換素子を形成したもの」と解せられ、本願補正発明の「電磁変換素子」に相当するから、両者は「ウエハ上に薄膜工程を利用して電磁変換素子を形成した」点で一致する。
　
　以上のことから、引用例１の発明と本願補正発明は、
「ウエハ上に薄膜工程を利用して電磁変換素子を形成した後、該ウエハを切り離して磁極側の切断面に浮力発生用の浮上レールを形成した磁気ヘッドスライダであって、
　浮上レールは空気流流入端近傍に磁気ディスク側に突出する突起を備え、
　磁気ディスク回転停止時に突起が磁気ディスクに接触する磁気ヘッドスライダ。」で一致し、
　
　以下の点で相違している。
　本願補正発明は、「空気流出端近傍において両側縁が掘り込まれて幅狭とされて浮上レール上に幅狭部が形成され」、磁気ディスク回転停止時に「浮上レールの幅狭部」が磁気ディスクに接触するのに対して、引用例１の発明の空気流出端近傍のレールには、このような形状の幅狭部が形成されていないため、磁気ディスク回転停止時に「レールの空気流流出端部」が磁気ディスクに接触する点。
　
（４）判断
　上記相違点について検討すると、
　引用例２には、浮上スライダのレールの後方を幅狭にする技術が開示されている。また、レール上に幅狭部を形成することは周知（必要とあれば、特開平７−７３６２８号公報：空気ベアリング部１９、特開平９−１０６６３９：レール１０Ａ，１０Ｂ号公報、特開平９−２６５７５０号公報：中央レール１２４）であるから、これらの技術を用いて、引用例１の発明におけるレール上の空気流流出端近傍において両側縁を掘り込んで幅狭部を設けることは、当業者が容易になし得た程度のものであり、その適用により、幅狭部が磁気ディスク回転停止時に磁気ディスクと接触するようにして、磁気ディスクとの接触が大きくならないようにしたことは単なる設計事項にすぎない。そして、この適用により格別な効果も生じない。
　
　なお、請求人は、平成１６年１１月１日付け審尋に対する平成１６年１２月２７日付けの回答書において、「（２）前置報告の内容に対する反論について」で、「かかる幅狭部は、本願明細書の第１１段落や図１（ｃ）に示すように、浮上レールの掘り込み深さを調節することにより、スライダにおいて浮上レールが形成されない底面上ではなく、浮上レール上に形成されるものであります。」と主張する。しかしながら、浮上レール上に幅狭部を形成することは、例として示したように周知技術であり、格別のものではない。また、「（３）その他」では、請求項１について「ウエハ上に薄膜工程を利用して電磁変換素子を形成した後、該ウエハを切り離して磁極側の切断面に浮力発生用の浮上レールを形成した磁気ヘッドスライダであって、浮上レールは
、所定高さを有し、
前記高さの途中まで
　
　したがって、本願補正発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１４年６月７日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は、平成１４年２月１８日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「ウエハ上に薄膜工程を利用して電磁変換素子を形成した後、該ウエハを切り離して磁極側の切断面に浮力発生用の浮上レールを形成した磁気ヘッドスライダであって、
　浮上レールは空気流流入端近傍に磁気ディスク側に突出する突起を備えるとともに、空気流流出端近傍において両側縁が掘り込まれて幅狭とされ、
　磁気ディスク回転停止時に突起と浮上レールの幅狭部が磁気ディスクに接触する磁気ヘッドスライダ。」
　
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例、および、その記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（２）対比・判断
　本願発明は、前記２．で検討した本願補正発明から「浮上レール」の限定事項である「浮上レール上に幅狭部が形成され」との構成を省いたものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらの他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、引用例１，２及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例１，２及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１，２に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。本願のその余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。