【手続補正書】
【提出日】平成30年3月8日(2018.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気または水を殺菌する方法であって、
法線方向から見たときの２次元的な大きさが２０ｎｍ超５００ｎｍ未満である複数の第１の凸部を有する表面を備える合成高分子膜を有し、前記合成高分子膜は予め決められた形状に配置されており、前記予め決められた形状の配置において、前記表面の法線の傾きは、前記表面上の位置に依存して変化しており、かつ、前記表面の反対側の面の法線の傾きは、前記反対側の面上の位置に依存して変化しており、前記表面は、複数のスペーサ部をさらに有し、前記複数のスペーサ部は、前記合成高分子膜の前記表面上に空間を形成するように設けられている、殺菌フィルターを用意する工程と、
前記合成高分子膜の前記表面の少なくとも一部に、前記空気または前記水を接触させる工程と
を包含する、殺菌方法。
【請求項２】
前記複数のスペーサ部の高さは、１μｍ以上である、請求項１に記載の殺菌方法。
【請求項３】
前記複数のスペーサ部は、柱状である、請求項１または２に記載の殺菌方法。
【請求項４】
前記殺菌フィルターは、スペーサをさらに有し、前記スペーサは、前記合成高分子膜の前記表面上に空間を形成するように配置されている、請求項１から３のいずれかに記載の殺菌方法。
【請求項５】
前記スペーサは、糸状である、請求項４に記載の殺菌方法。
【請求項６】
前記合成高分子膜は、前記複数の第１の凸部に重畳して形成された複数の第２の凸部をさらに有し、前記複数の第２の凸部の２次元的な大きさは、前記複数の第１の凸部の２次元的な大きさよりも小さく、かつ、１００ｎｍを超えない、請求項１から５のいずれかに記載の殺菌方法。
【請求項７】
空気または水を殺菌する方法であって、
法線方向から見たときの２次元的な大きさが２０ｎｍ超５００ｎｍ未満である複数の第１の凸部を有する表面を備える合成高分子膜を有し、前記合成高分子膜は予め決められた形状に配置されており、前記予め決められた形状の配置において、前記表面の法線の傾きは、前記表面上の位置に依存して変化しており、かつ、前記表面の反対側の面の法線の傾きは、前記反対側の面上の位置に依存して変化しており、スペーサをさらに有し、前記スペーサは、前記合成高分子膜の前記表面上に空間を形成するように配置されている、殺菌フィルターを用意する工程と、
前記合成高分子膜の前記表面の少なくとも一部に、前記空気または前記水を接触させる工程と
を包含する、殺菌方法。
【請求項８】
前記スペーサは、糸状である、請求項７に記載の殺菌方法。
【請求項９】
前記合成高分子膜は、前記複数の第１の凸部に重畳して形成された複数の第２の凸部をさらに有し、前記複数の第２の凸部の２次元的な大きさは、前記複数の第１の凸部の２次元的な大きさよりも小さく、かつ、１００ｎｍを超えない、請求項７または８に記載の殺菌方法。
【請求項１０】
空気または水を殺菌する方法であって、
法線方向から見たときの２次元的な大きさが２０ｎｍ超５００ｎｍ未満である複数の第１の凸部を有する表面を備える合成高分子膜を有し、前記合成高分子膜は予め決められた形状に配置されており、前記予め決められた形状の配置において、前記表面の法線の傾きは、前記表面上の位置に依存して変化しており、かつ、前記表面の反対側の面の法線の傾きは、前記反対側の面上の位置に依存して変化しており、前記合成高分子膜は、前記複数の第１の凸部に重畳して形成された複数の第２の凸部をさらに有し、前記複数の第２の凸部の２次元的な大きさは、前記複数の第１の凸部の２次元的な大きさよりも小さく、かつ、１００ｎｍを超えない、殺菌フィルターを用意する工程と、
前記合成高分子膜の前記表面の少なくとも一部に、前記空気または前記水を接触させる工程と
を包含する、殺菌方法。
【請求項１１】
前記予め決められた形状の配置において、前記合成高分子膜の断面は、少なくとも１つの環を形成する、請求項１から１０のいずれかに記載の殺菌方法。
【請求項１２】
前記予め決められた形状の配置において、前記合成高分子膜の断面は渦巻きを形成する、請求項１から１０のいずれかに記載の殺菌方法。
【請求項１３】
前記予め決められた形状は、蛇腹状である、請求項１から１０のいずれかに記載の殺菌方法。
【請求項１４】
前記殺菌フィルターは、前記合成高分子膜に接触された少なくとも１つの電極をさらに有する、請求項１から１３のいずれかに記載の殺菌方法。
【請求項１５】
前記合成高分子膜の前記表面の少なくとも一部は、正に帯電している、請求項１から１４のいずれかに記載の殺菌方法。
【請求項１６】
前記合成高分子膜の前記表面の反対側の面の少なくとも一部は、負に帯電している、請求項１から１５のいずれかに記載の殺菌方法。
【請求項１７】
空気または水を殺菌する方法であって、
法線方向から見たときの２次元的な大きさが２０ｎｍ超５００ｎｍ未満である複数の第１の凸部を有する表面を備える合成高分子膜を有し、前記合成高分子膜は予め決められた形状に配置されており、前記予め決められた形状の配置において、前記表面の法線の傾きは、前記表面上の位置に依存して変化しており、かつ、前記表面の反対側の面の法線の傾きは、前記反対側の面上の位置に依存して変化しており、前記予め決められた形状は円筒状であり、前記合成高分子膜は円筒を画定し、前記円筒の内側に、複数の合成高分子膜の小片であって、それぞれが、法線方向から見たときの２次元的な大きさが２０ｎｍ超５００ｎｍ未満である複数の第３の凸部を有する表面を備える複数の合成高分子膜の小片をさらに有する、殺菌フィルターを用意する工程と、
前記合成高分子膜の前記表面の少なくとも一部に、前記空気または前記水を接触させる工程と
を包含する、殺菌方法。
【請求項１８】
前記円筒の内容積１ｃｍ３あたりの、前記合成高分子膜の前記表面の面積と前記複数の合成高分子膜の小片の前記表面の面積との和が４．４ｃｍ２以上である、請求項１７に記載の殺菌方法。
【請求項１９】
前記合成高分子膜は、前記複数の第１の凸部に重畳して形成された複数の第２の凸部をさらに有し、前記複数の第２の凸部の２次元的な大きさは、前記複数の第１の凸部の２次元的な大きさよりも小さく、かつ、１００ｎｍを超えない、請求項１７または１８に記載の殺菌方法。
【請求項２０】
前記合成高分子膜の前記表面のヘキサデカンに対する静的接触角が５１°以下である、請求項１から１９のいずれかに記載の殺菌方法。
【請求項２１】
前記合成高分子膜の前記表面のヘキサデカンに対する静的接触角が３１°以下である、請求項１から２０のいずれかに記載の殺菌方法。
【請求項２２】
前記合成高分子膜の前記表面の水に対する静的接触角が１２．０°以上１３１．２°以下である、請求項１から２１のいずれかに記載の殺菌方法。
【請求項２３】
前記合成高分子膜は、貫通孔を有する、請求項１から２２のいずれかに記載の殺菌方法。
【請求項２４】
前記複数の第１の凸部は略円錐形の部分を含む、請求項１から２３のいずれかに記載の殺菌方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】殺菌作用を有するフィルターを用いた殺菌方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の実施形態による殺菌フィルターは、法線方向から見たときの直径が２０ｎｍ超５００ｎｍ未満である複数の第１の凸部を有する表面を備える合成高分子膜を有し、前記合成高分子膜は予め決められた形状に配置されており、前記予め決められた形状の配置において、前記表面の法線の傾きは、前記表面上の位置に依存して変化しており、かつ、前記表面の反対側の面の法線の傾きは、前記反対側の面上の位置に依存して変化しており、前記表面の少なくとも一部は、気体または液体に接するように構成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
図８（ａ）および（ｂ）に示すように、本実施形態による型の表面は、２次元的な大きさは２０ｎｍ超５００ｎｍ未満の範囲内にある複数の第１の凹部１４ｐａと、複数の第１の凹部１４ｐａに重畳して形成された複数の第２の凹部１４ｐｂをさらに有している。複数の第２の凹部１４ｐｂの２次元的な大きさは、複数の第１の凹部１４ｐａの２次元的な大きさよりも小さく、かつ、１００ｎｍを超えない。第２の凹部１４ｐｂの高さは、例えば、２０ｎｍ超１００ｎｍ以下である。第２の凹部１４ｐｂも、第１の凹部１４ｐａと同様に、略円錐形の部分を含むことが好ましい。