【事件の表示】
　平成９年特許願第７３３４３号「有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法およびその製造装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年１０月９日出願公開、特開平１０−２７０１６４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
 　本願は、平成９年３月２６日の出願であって、その請求項１に係る発明は、本願明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める（以下、「本願発明」という）。
「有機物層の蒸着を行う有機物蒸着室および電極の蒸着を行う金属蒸着室を含みかつ互いに連通可能に接続された複数の真空室に基板を搬送しながら前記基板上に有機物層および電極を順次成膜する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、前記基板を配置した真空室とこの真空室に隣接した真空室との圧力差が５×１０-4Ｐａ以下の状態で、前記基板を前記隣接した真空室に搬送することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。」
　
２．引用刊行物
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された特開平８−２２２３６８号公報（以下、「刊行物１」という）には、次の（ａ１）〜（ａ３）の事項が記載されている。
（ａ１）「【００２０】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、真空中で色素を蒸発させる色素蒸発源と、有機化合物の原料モノマーを蒸発させる有機化合物蒸発源と、各蒸発源からの原料の蒸着で少なくとも発光層を備えた膜が形成される基板とを互いに対向して配置した成膜室と、基板上の少なくとも発光層を備えた膜の上に陰極材料を蒸発させる陰極材蒸発源を配置した陰極形成室と、陰極上にポリ尿素の原料モノマーを蒸発させる蒸発源を配置した保護膜形成室と、陰極上のポリ尿素膜に紫外線を照射する紫外線源を配置した紫外線処理室とをゲートバルブを介して連設したことを特徴とする。」
（ａ２）「【００２８】図１は本発明の２層構造の有機ＥＬ素子の構造を示すもので、有機ＥＬ素子１は、例えば無アルカリガラスから成る基板２、例えばＩＴＯ膜から成る陽極３、正孔輸送層（または発光層）４、発光層（または電子輸送層）５、例えばＭｇ−Ａｇ合金から成る陰極６は、ポリ尿素保護膜７、Ａｇから成る取出電極８で構成されている。図２は本発明の有機ＥＬ素子を製造するために用いる装置の１例を示すものであり、陽極形成装置は含まないものである。図中、１１は酸素プラズマ処理室、１２は正孔輸送層、発光層、電子輸送層等の有機化合物膜の成膜室、１３は陰極形成室、１４は保護膜形成室、１５は紫外線処理室を示す。そして酸素プラズマ処理室１１、成膜室１２、陰極形成室１３、保護膜形成室１４、紫外線処理室１５の各室間を開閉自在のゲートバルブ１６で仕切るようにすると共に、各室内に基板２を搬送するトレー式の搬送系１７を配設した。」
（ａ３）「【００４５】次に、成膜室１２と陰極形成室１３との間のゲートバルブ１６を開き、正孔輸送層４と発光層５を成膜した基板２を陰極形成室１３内に搬送系１７で搬送した後、成膜室１２と陰極形成室１３との間のゲートバルブ１６を閉じた。
【００４６】そして、陰極形成室１３内を真空排気系３１により圧力1.33×10-4Pa(1×10-6Torr)を維持した状態で、ヒーター３２で蒸発源３３内のＭｇを450〜480℃に加熱すると共に、蒸発源３４内のＡｇを650〜700℃に加熱し、Ｍｇ：Ａｇ＝１０：１の原子比になるように夫々の蒸発レートを設定後、シャッター３５並びにシャッター３６の開閉操作によりＭｇとＡｇを蒸発させて発光層５上に膜厚2000Å(0.2μm)のＭｇ−Ａｇから成る陰極６を堆積した。
【００４７】次に、陰極形成室１３と保護膜形成室１４との間のゲートバルブ１６を開き、陰極６を形成した基板２を保護膜形成室１４内に搬送系１７で搬送した後、陰極形成室１３と保護膜形成室１４との間のゲートバルブ１６を閉じた。
【００４８】そして、保護膜形成室１４内を真空排気系３７により圧力1.33×10-3Pa(1×10-5Torr)を維持した状態で、蒸発源３９内の原料モノマーＹ（４，４′−ジアミノジフェニルメタン：以下ＭＤＡという）の温度を熱電対４３で測定しながらヒーター３８で100℃に加熱すると共に、蒸発源４０内の原料モノマーＺ（４，４′−ジフェニルメタンジイソシアナート：以下ＭＤＩという）の温度を熱電対４４で測定しながらヒーター３８で70℃に加熱し、ＭＤＡ：ＭＤＩのモノマー組成比が１：１なるように夫々の蒸発レートを設定後、シャッター４１の開閉操作によりＭＤＡとＭＤＩを蒸発させて、膜厚モニター４２により陰極６上に300Å(0.03μm)／分の析出速度で膜厚10000Å(1μm)に堆積させた後、陰極６上で重合させてポリ尿素膜を形成した。」
　上記（ａ１）〜（ａ３）の記載から、刊行物１には「有機ＥＬ素子の製造方法であって、酸素プラズマ処理室１１、正孔輸送層、発光層、電子輸送層等の有機化合物膜の成膜室１２、陰極形成室１３、保護膜形成室１４、紫外線処理室１５がゲートバルブ１６を介してそれぞれ連通可能に接続されており、基板を搬送しながら、真空状態にある上記各室で基板上に有機化合物膜、陰極等を順次成膜することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法」についての発明が記載されている。
　
３．対比
　本願発明と刊行物１に記載された発明とを対比すると、刊行物１に記載の「有機化合物膜の成膜室１２」、「陰極形成室１３」は、いずれも本願発明に係る「真空室」に相当するとともに、それぞれ本願発明に係る「有機物層の蒸着を行う有機物蒸着室」、「電極の蒸着を行う金属蒸着室」に実質的に相当するから、両者は、「有機物層の蒸着を行う有機物蒸着室および電極の蒸着を行う金属蒸着室を含みかつ互いに連通可能に接続された複数の真空室に基板を搬送しながら前記基板上に有機物層および電極を順次成膜する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法」である点で一致し、次の点で相違する。
［相違点］本願発明では、基板を配置した真空室とこの真空室に隣接した真空室との圧力差が５×１０-4Ｐａ以下の状態で、前記基板を前記隣接した真空室に搬送するのに対し、刊行物１に記載の発明ではその構成についての記載がない点。
　
４．当審の判断
［相違点］について
　複数の真空室に基板を搬送し、基板上に薄膜を形成する基板処理方法において、真空室間の圧力差による汚染を防ぐために、基板が搬出入される２つの真空室の圧力差をなくすようにすることは、基板成膜技術において本願出願前周知の技術手段であり（周知例として、原査定の拒絶に理由に引用された特開昭６４−５０４１４号公報、特開平５−９８４３４号公報、及び拒絶査定の備考欄に記載の特開昭６３−１３７１６９号公報等を参照のこと。）、また、本願発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法も基板上に薄膜を形成する点で基板成膜技術といえるものであって、技術分野が類似するとともに、上記周知技術を有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に適用することに格別な阻害要因があるものとも認められない。さらに、圧力差を５×１０-4Ｐａ以下とした点は、本願明細書の記載を参酌しても、その数値が格別な臨界的意義を有するものではなく、単に、圧力差をなくすようにすることを、適当な数値を用いて表現したものに過ぎないものである。
　以上から、本願発明に係る上記相違点の構成は、刊行物１に記載の発明に上記周知技術を適用することにより当業者が容易に想到することができたものである。
　そして、本願発明の作用効果も、刊行物１及び周知技術から当業者が予測できる範囲のものである
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明は、刊行物１に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。