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　特願２００２−２４２８０３「パターン露光方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　４月２５日出願公開、特開２００３−１２４１１２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯・本願発明  
　本願は、平成４年１月７日出願の特願平４−７５７号の一部を平成１３年５月２１日に新たな特許出願とした特願２００１−１５０３００号の一部をさらに平成１４年８月２３日に新たな特許出願としたものであって、平成１５年７月１０日付けで拒絶の査定がなされ、平成１５年８月１２日付で審判請求がなされた。本願の請求項４に係る発明は、平成１５年５月２６日付の手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項４に記載されたとおりのものであり、請求項４記載の発明は  
「露光装置の光源から発射した露光光をマスクまたはレチクルに照射し、前記露光装置の縮小投影光学系を介して前記マスクまたはレチクル上のパタ−ンの縮小投影光学像により、前記露光装置のステージ上に載置されている既にパタ−ンが形成されたウエハを重ね露光するパタ−ン露光方法であって、前記重ね露光中に前記露光装置の複数の箇所の前記縮小投影光学系の光軸に垂直な面内での位置を非接触で計測して前記露光装置の複数の箇所のそれぞれの位置の前記縮小投影光学系の光軸に垂直な面内での変位を検出し、該検出した前記露光装置の複数の箇所のそれぞれの前記縮小投影光学系の光軸に垂直な面内での変位の情報を用いて前記パタ−ンの前記縮小投影光学系を介して前記ウェハ上に投影される縮小投影光学像とウエハとの間の相対位置の変位量を求め、該求めた変位量の情報に応じて前記縮小投影光学像とウエハとの間の前記縮小投影光学系の光軸に垂直な面内での相対位置を補正しながら前記既にパタ−ンが形成されているウエハ上に０．５μｍ以下の線幅の回路パターンの縮小投影光学像を重ね露光することを特徴とするパタ−ン露光方法。」
である請求項３記載の発明を引用する
「前記露光装置は、前記ウェハを載置するステージをステップアンドリピートで移動させ、前記ウェハを載置するステージをステップ移動後に、該ウェハを載置するステージに微小振動が残留している状態で該ウェハを載置するステージ上に載置されているウェハを露光することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のパターン露光方法。」
なる発明にあるものと認める（以下、「本願発明」という。）。
　  
２．引用例  
　これに対して、原査定の拒絶理由に引用された特開昭６０−３２０５０号公報（以下、「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。  
　  
（１）「本発明は、露光装置に関する。  
　マスク或いはレチクルに形成された微細パターンを・・・投影光学系を用いて、感光体であるウェハ上に転写する露光装置・・・においては、・・・投影像を空間を通して感光体に露光するので、装置自体の、或いは外乱による振動により、投影像と感光体との位置ずれが問題となる。  
　・・・装置自体が発生する振動に対しては、これを極力小さくおさえるために、装置の可動部の慣性質量を小さくしたり、あるいは動作速度を低くおさえるなどの処置をして、投影像が感光体上の所定の位置に露光され得るようにしている。」（公報第１頁右欄１２行−第２頁左上欄１１行）  
（２）「本発明は、上記従来例の欠点に鑑み、投影像と感光体との位置ズレを検知するための振動検知手段を設けた露光装置を提供することにある。  
　従って本発明に係る縮小投影型の半導体露光装置では、ウェーハ面上に投影されたレチクルパターンの像と、ウェーハ上の存在しているパターンあるいはウェーハ自体との振動による相対位置ずれ量をリアル・タイムで計測し、相対位置ずれの振幅が転写する像に影響しなくなった時点で次の動作にうつる指令を出すという方法を取ることができる。」（公報第２頁右上欄７行−１７行）  
（３）「第１図は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の光学系の構成図である。  
　照明装置１は、光源、反射ミラー、コンデンサレンズ等により構成され、回路パターンが形成されたレチクル２を均一に照明する。」（公報第２頁左下欄７行−１１行）  
（４）「レチクル２はレチクルホルダ３上に固定され、更にレチクルホルダ３上には、レチクル２の振動を検知するための第１の加速度計９が固定されている。」（公報第２頁左下欄１１行−１４行）  
（５）「レチクルホルダ３の下方には、露光装置の構造体５に固定された投影レンズ４が配置されており、投影レンズ４はレチクル３の回路パターン像をウェハ６の面上に投影する。」（公報第２頁左下欄１４行−１８行）  
（６）「投影レンズ４の上方及び下方側面にはそれぞれ第２ならびに第３の加速度計１０、１１が固定され、加速度計１０、１１は、投影レンズ４の振動を検知する。」（公報第２頁左下欄１８行−右下欄１行）  
（７）「ウェハ６は真空チャックなどでウェハチャック７上に固定され、ウェハチャック７上には、ウェハ６の振動を検知するための第４の加速度計１２が固定されている。８は、ウェハステージであり、ウェハ６及びウェハチャック７を移動する。尚、加速度計１２は、ウェハステージ８に設けてウェハ６の振動を検知してもよい。」（公報第２頁右下欄１行−８行）  
（８）「また図中では、レチクル３，投影レンズ１０の上部及び下部側面、ウェハ６の振動を一軸方向のみ検知するために、それぞれ１つの加速度計９、１０、１１、１２を設けているが、それぞれｘ方向、ｙ方向、ｚ方向の振動を検知するために３つの加速度計を設ければ更に振動に対する露光装置の信頼性が向上する。」（公報第２頁右下欄８行−右上欄１４行）  
（９）「第２図は、本発明の一実施例の電気系のブロック図であり、第１の演算装置１３は、加速度計９、１０、１１からの加速度信号をそれぞれ積分して移動変位に変換し、更にウェハ６の面上に投影されるレチクル２のパターン像の絶対ぶれ量を計算する。」（公報第２頁右下欄１７行−第３頁左上欄２行）  
（１０）「第３の演算装置１４は、ウェハ６の振動を検知する加速度計１２からの信号を積分して移動変位に変換して演算装置１５に出力する。演算装置１５は、演算装置１３の出力と演算装置１４の出力とを引算して、レチクル２のパターン像とウェハ６との相対的なずれ量を演算し、その信号を比較・指令装置１６に出力する。比較・指令装置１６には、要求されるパターン精度に応じて許容値が入力されており、従ってこの装置１６は、この許容値と、演算装置１５からのパターン像とウェハとの相対的ずれ量とを比較し、相対的ずれ量が許容値より小さい場合に指令信号を発生する。この指令信号は、次の動作すなわち転写を開始する信号である。」（公報第３頁左上欄１３行−右上欄６行）  
（１１）「前記実施例においては、パターン像とウェハとの相対的ずれ量を検出するために加速度計９、１０、１１を用いているが、代りに微小変位計を使用することも可能であるし、また一般的な露光装置において投影レンズとウェハステージの位置合わせのために用いられているレーザ干渉計や、定盤とウェハステージの位置合わせのために用いられているスケールによりウェハの絶対ずれ量を検出してもよい。」（公報第３頁右上欄７行−１５行）
　  
　これらの記載事項によると、引用例１には
「縮小投影型の露光装置の光源から発射した照明をレチクルに照射し、前記露光装置の投影光学系を介して前記レチクル上の回路パタ−ンを投影した回路パターン像により、前記露光装置のステージ上にウエハチャックを介して固定されているウエハを露光する回路パタ−ン露光方法であって、ウェハステージ、投影レンズ、およびレチクルホルダのそれぞれの位置を加速度計を用いて計測して、ウェハステージ、投影レンズ、およびレチクルホルダのそれぞれの位置の変位を加速度計からの信号を積分して移動変位に変換演算することにより検出し、該検出したウェハステージ、投影レンズ、およびレチクルホルダのそれぞれの変位の情報を用いて前記回路パタ−ンの前記投影光学系を介して前記ウエハ上に投影される回路パターン像とウエハとの間の相対的なずれ量を求め、該求めた相対的なずれ量の情報に応じて前記投影した回路パターン像とウエハとの間の相対的ずれ量を要求されるパターン精度に応じた許容値と比較し、相対的ずれ量が小さい場合に露光を開始する回路パタ−ン露光方法であって、前記露光装置は、可動部が移動するものであり、前記可動部移動後に振動している状態で相対位置ずれ量を計測するパターン露光方法。」  
の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。  
　  
　同じく引用された特開昭５８−６４０２６号公報（以下、「引用例２」という。）には、次の事項が記載されている。  
　  
（１２）「本発明は、露光中にマスクと被検出物との相対的な変位を検出する手段と、上記の変位を検出した信号を入力されてその変位を零にする方向に微動ステージを制御する手段とを設けたことを特徴とする。」（公報第２頁右上欄１５行−１９行）  
（１３）「露光を行っているとき・・・レーザ測長器２２と微小変位計２４とによって露光中にマスク１と被処理物であるウエハ３との相対的な変位が検出され、コントローラ２５は上記の相対的変位を入力されてこれを零ならしめるように微動ステージ５を制御する。」（公報第３頁左上欄５行−１１行）  
（１４）「シャッタ１４を開いて露光を行うが、露光開始とほぼ同時に・・・コントローラ２５に・・・レーザ測長器２２が検出した・・・信号と、非接触形微小変位計２４が検出した・・・信号とが入力される。  
　露光開始後は、・・・位置合わせを完了したときの状態を基準とし、上記の基準状態に比して相対的な変位量・・・をコントローラ２５によって算出し、これを零ならしめるようにドライバ２６を介してピエゾ素子１７に与える駆動電圧を制御せしめる。」（公報第３頁右上欄３行−１６行）  
（１５）「第２図および第３図は、水平な一方向についてのみの制御機構を示したが、水平な直交２軸方向に上述のような制御機構を設けることにより、露光中にウエハ３とマスク１との相対的位置が変位したならばピエゾ素子１７の伸縮によってその変位を零にするよう微動ステージ５の位置が補正され、マスク１とウエハ３との関係位置は位置合わせを完了した時の状態に保持される。」（公報第３頁右上欄１７行−左下欄４行）  
　  
３．対比
　本願発明における「・・・請求項１乃至３のいずれかに記載のパターン露光方法。」のうちの選択的な構成の一つである「・・・請求項３に記載のパターン露光方法。」の構成と、引用発明とを対比する。  
　引用発明の「レチクル」は本願発明の「マスクまたはレチクル」に相当し、引用発明の「縮小投影型の露光装置」の「投影光学系」は本願発明の「縮小投影光学系」に相当し、引用発明の「投影した回路パターン像」は本願発明の「パタ−ンの縮小投影光学像」に相当し、また引用発明で「ウェハ」が「ステージ上にウエハチャックを介して固定されている」ことは本願発明で「ウエハ」が「ステージ上に載置されている」ことに相当し、引用発明で「ウェハステージ、投影レンズ、およびレチクルホルダのそれぞれの位置を加速度計を用いて計測してウェハステージ、投影レンズ、およびレチクルホルダのそれぞれの位置の変位を加速度計からの信号を積分して移動変位に変換演算することにより検出」していることは本願発明で「露光装置の複数の箇所の位置を計測して露光装置の複数の箇所のそれぞれの位置の変位を検出」していることに相当し、引用発明の「投影した回路パターン像とウエハとの間の相対的ずれ量」は本願発明の「縮小投影光学像とウエハとの間の相対位置」に相当する。　  
　したがって、両者は  
「露光装置の光源から発射した露光光をマスクまたはレチクルに照射し、前記露光装置の縮小投影光学系を介して前記マスクまたはレチクル上のパタ−ンの縮小投影光学像により、前記露光装置のステージ上に載置されているウエハを露光するパタ−ン露光方法であって、前記露光装置の複数の箇所の位置を計測して前記露光装置の複数の箇所のそれぞれの位置の変位を検出し、該検出した前記露光装置の複数の箇所のそれぞれの変位の情報を用いて前記パタ−ンの前記縮小投影光学系を介して前記ウェハ上に投影される縮小投影光学像とウエハとの間の相対位置の変位量を求めることを特徴とするパタ−ン露光方法。」である点で一致し、以下の点で相違する。  
　  
相違点１：本願発明では露光は「既にパタ−ンが形成されたウエハを重ね露光」するものと限定されているのに対し、引用発明にはそのような限定はない点。  
　  
相違点２：本願発明では露光される回路パターンは「０．５μｍ以下の線幅」の回路パターンと限定されているのに対し、引用発明にはそのような限定はない点。  
　  
相違点３：本願発明では露光装置の複数の箇所の位置計測・変位検出、及びそれより求められる縮小投影光学像とウエハとの間の相対位置は、「縮小投影光学系の光軸に垂直な面内」においてのものであるのに対し、引用発明には投影光学系の光軸に垂直な面内という限定がない点。  
　  
相違点４：本願発明では露光装置の複数の箇所の位置計測は「非接触」にて行われるのに対し、引用発明では位置計測はそれら複数の箇所に設けた加速度計により行われ、これについて非接触という限定がない点。  
　  
相違点５：本願発明では露光装置は「該ウェハを載置するステージに微小振動が残留している状態で該ウェハを載置するステージ上に載置されているウェハを露光する」ものであって、「露光中」に、位置計測・変位検出と、それより求められる相対位置の「補正」を行うのに対し、引用発明では露光前に、位置計測・変位検出を行いそれより求められる縮小投影光学像とウエハとの間の相対的ずれ量をパターン精度に応じた許容値と比較し、相対的ずれ量が小さい場合に露光を開始する点。 
　 
相違点６：本願発明では露光装置は「ウェハを載置するステージをステップアンドリピートで移動」するものであり、ウェハを載置するステージに微小振動が残留するのも「記ウェハを載置するステージをステップ移動」後と限定されているのに対し、引用発明では、振動は「可動部の移動」により発生するが、その可動部の移動について「ステップアンドリピート」移動であるとの記載は無い点。 
　 
４．当審の判断  
　そこで、上記相違点について検討する。  
　まず相違点１については、パターン露光において、「重ね露光」、さらにその「重ね露光」において正確な位置合わせが重要であることは当業者にとり周知（特開昭６４−２５４１３号公報及び特開昭６３−３１６４３２号公報に開示）である。したがって、正確な露光位置合わせのための発明である引用発明を「重ね露光」のためのものと限定することは当業者ならば容易に想到し得たことである。  
　次に相違点２については、回路パタ−ンの線幅の微細化要求が進むにつれ線幅「０．５μｍ」以下の時代になりつつあることは、特開平３−１４１３５４号公報（同公報の［従来の技術］欄に「・・・加工寸法は年々微細化されており、最近は０．５μｍ以下の微細加工が研究開発の中心となっている。このような微細加工を実現するために、露光装置の高ＮＡ化、短波長化、レジスト材料の改良等が行われてきており、それぞれ効果を上げている。かかる技術動向の中で、最近は、パターン転写を行う露光マスク（レチクル）を工夫して・・・」と開示）、及び特開昭６２−６７５１４号公報（同公報の［発明の実施例］欄に「・・・縮小投影露光装置を用いた場合について説明する。従来、この装置で解像できる孤立線のウエハ上の最小線幅は約０．５μｍであった。・・・ウエハ上での幅が０．３μｍのパタンを解像することができた。」と開示）に開示されているように当業者にとり周知であったことである。また回路パターンの線幅が微細になれば正確な位置合わせが重要になることは当業者には明らかなので、正確な露光位置合わせのための発明である引用発明を「０．５μｍ」以下の線幅の回路パターンのためのものと限定することは当業者ならば容易に想到し得たことである。
　次に相違点３については、引用例１には先に認定したことに加えて、上記２．（８）で摘記したように、「一軸方向のみ」を計測・検出する構成から、「更に振動に対する露光装置の信頼性が向上する」ように３方向（「ｘ方向、ｙ方向、ｚ方向」）について計測・検出する構成まで取り得ること、すなわち必要に応じて計測・検出する方向を取捨選択し得ることが開示されている。そして引用例２には露光中にマスクとウェハとの相対的変位を検出して、該相対的変位を補正する発明が記載されているが、その中で上記２．（１５）で摘記したように、ずれ量検知・補正の方向として「水平な直交２軸方向」が開示されており、この「水平な直交２軸方向」とは光学系の光軸を基準とした表現で言うならば「光学系の光軸に垂直な面」の直交２軸となることは当業者には明らかである。よって該構成を適用して相違点３にかかる構成とすることは当業者にとり格別の発明力を要するものではない。なおここで、請求人は請求理由において、引用文献（引用例２）がプロキシミティ露光に関するものであることに起因する本願との差異を主張しているが、当該主張によっても、ずれ量検知・補正の方向として引用例２の「水平な直交２軸方向」を適用困難とする理由は見あたらない。  
　次に相違点４については、引用例１には先に認定したことにさらに加えて、上記２．（１１）で摘記したように、加速度計以外にもレーザ干渉計等の種々の計測手段を採用し得ることが開示されている。そして引用例２でも上記２．（１４）で摘記したようにレーザ測長器（「非接触」との明示的記載はないが、当業者ならばレーザ測長器を用いた場合非接触計測を普通に想到し得る。）と「非接触形」微小変位計を採用しており、さらにパターン露光での位置ずれの計測にあたりレーザ測長器を用いることは当業者にとり周知（特開平３−１９８３１９号公報及び特開平２−２２６７１３号公報に開示）であるところ、計測を非接触のものとすることに困難性はない。  
　次に相違点５については、上記２．（１２）乃至（１５）で摘記したように、引用例２には「露光中」にマスクとウェハとの相対的変位を検出して、該相対的変位を補正することが記載されており、この構成を引用発明に適用して当該相違点の構成となすことは当業者にとり容易である。なおここで、上記相違点３に関しても触れたが、請求人は請求理由において、引用文献（引用例２）がプロキシミティ露光に関するものであることに起因する本願との差異を主張している。しかし当該主張によっても、位置ずれを検出・補正を「露光中」に行うという引用例２の構成を適用困難とする理由は見あたらない  
　次に相違点６については、縮小投影の露光装置とステップアンドリピート方式との組み合わせ、及びステップ送り時に振動が生じてしまうことは当業者には周知（特開平２−７４１２号公報に開示）であり、当業者ならば相違点６にかかる限定をすることに困難はない。 
　 
　また、本願発明の効果も各引用例の記載、及び従来周知の技術的事項から予測し得る程度のものである。  
　  
５．むすび  
　したがって、本願発明は、上記引用例１、２に記載された発明及び従来周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。  
　  
　よって、結論のとおり審決する。