(57)【要約】式（Ｉ）2005082905.tif 000143［式中、Ｒ１は水素原子等を表し、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一または異なって水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル等を表し、Ｙは窒素原子またはＣＲ５（式中、Ｒ５は水素原子等を表す）等を表し、ＸはＮＲ１１（式中、Ｒ１１は水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル等を表す）、酸素原子等を表し、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は同一または異なってＣＲ１２（式中、Ｒ１２は水素原子等を表す）等を表し、Ｗは置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル等を表す］で表される二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩等を提供する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
2005082905.tif 000123
〈式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン、アミノ、ニトロ、シアノ、カルボキシ、モノまたはジ低級アルキルアミノ、低級アルキルスルホニル、低級アルコキシカルボニルアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の脂環式複素環基または置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表し、
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、同一または異なって水素原子、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く。なお該置換もしくは非置換の芳香族複素環基は、その芳香族複素環内の炭素原子で母核に結合する）または置換もしくは非置換のアロイルを表し、
Ｙは窒素原子またはＣＲ５〔式中、Ｒ５は水素原子、ホルミル、低級アルキル、以下の置換基群Ａから選ばれる同一のまたは異なる１〜３の置換基で置換された低級アルキル［置換基群Ａ：ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシ、シアノ、ホルミル、トリフルオロメチル、ビニル、スチリル、フェニルエチニル、アロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環基、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）］、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲＨ１ＲＨ２［式中、ＲＨ１及びＲＨ２は同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、またはＲＨ１及びＲＨ２が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成する］、式（Ａ１）
2005082905.tif 000124
｛式中、Ｑ−−−ＶはＣＲ７＝ＣＲ８［式中、Ｒ７及びＲ８は同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表す］またはＣ≡Ｃを表し、Ｒ６は水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）または−Ｃ（＝Ａ３）−ＮＲＡ１ＲＡ２［式中、Ａ３は酸素原子または硫黄原子を表し、ＲＡ１及びＲＡ２は同一または異なって水素原子、ホルミル、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環基、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）または−Ｃ（＝Ａ４）−（ＣＨ２）ｎａ−Ｃ（ＲＢ１）（ＲＢ２）−ＮＲＣ１ＲＣ２（式中、ｎａは０〜３の整数を表し、Ａ４は酸素原子または硫黄原子を表し、ＲＢ１及びＲＢ２は同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、ＲＢ１及びＲＢ２が一緒になって酸素原子または硫黄原子を表すか、ＲＢ１及びＲＢ２が隣接する炭素原子と一緒になって飽和脂肪族環を形成するか、あるいはＲＢ１またはＲＢ２が隣接する炭素原子、該炭素原子に隣接する窒素原子及びＲＣ１またはＲＣ２と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成し、ＲＣ１及びＲＣ２は同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、ＲＣ１及びＲＣ２が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成するか、あるいはＲＣ１またはＲＣ２が隣接する窒素原子、該窒素原子に隣接する炭素原子及びＲＢ１またはＲＢ２と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成する）を表すか、またはＲＡ１及びＲＡ２が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成する］を表す｝
または式（Ｂ１）
2005082905.tif 000125
［式中、ｎｂは０〜３の整数を表し、
Ｒ９ａ及びＲ９ｂは、同一または異なって水素原子、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、Ｒ９ａ及びＲ９ｂが隣接する炭素原子と一緒になって飽和脂肪族環を形成するか、またはＲ９ａ及びＲ９ｂが一緒になって酸素原子または硫黄原子を表し、
Ｒ１０は水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表す。但し、Ｒ９ａ及びＲ９ｂが一緒になって酸素原子を表す場合は、Ｒ１０は水素原子ではない］〕を表すか、またはＹがＷ、及びＹとＷの間に位置する炭素原子と一緒になって
2005082905.tif 000126
｛式中、ｎｋは０または１を表し、
Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ及びＲｄは、同一または異なって水素原子、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、Ｒａ及びＲｂならびに／もしくはＲｃ及びＲｄが隣接する炭素原子と一緒になって飽和脂肪族環または脂環式複素環を形成するか、またはＲａ及びＲｂならびに／もしくはＲｃ及びＲｄが一緒になって酸素原子または硫黄原子を表し、
Ｖａは酸素原子またはＮＲｅ［式中、Ｒｅは水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環基または置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表す］を表す｝または
2005082905.tif 000127
（式中、ｎｋ、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ及びＶａはそれぞれ前記と同義である）を表し、
ＸはＮＲ１１［式中、Ｒ１１は水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表す］、酸素原子または硫黄原子を表し、
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は同一または異なって、窒素原子またはＣＲ１２［式中、Ｒ１２は水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表す］を表し、
Ｗはニトロ、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルケニル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、アリール、以下の置換基群Ｂから選ばれる同一のまたは異なる１〜３の置換基で置換されたアリール｛置換基群Ｂ：ハロゲン、ニトロ、シアノ、ホルミル、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル、アラルキルオキシ、芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイル、−Ｃ（＝Ｒ１３）ＮＲ１４ａＲ１４ｂ［式中、Ｒ１３は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂは、同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環基または置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、またはＲ１４ａとＲ１４ｂが隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成する］、−Ｃ（＝Ｒ１５）ＯＲ１６（式中、Ｒ１５は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ１６は前記Ｒ１０と同義である）、−ＮＲ１７ａＲ１７ｂ（式中、Ｒ１７ａ及びＲ１７ｂはそれぞれ前記Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂと同義である）｝、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環基、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル（該芳香族複素環カルボニルの芳香族複素環基部分はテトラゾリルではない）、−ＮＲ１８ａＲ１８ｂ（式中、Ｒ１８ａ及びＲ１８ｂはそれぞれ前記Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂと同義である）、式（Ａ２）
2005082905.tif 000128
（式中、Ｅ−−−Ｆ及びＲ２１は、それぞれ前記Ｑ−−−Ｖ及びＲ６と同義である）、
−Ｃ（＝Ａ１）−ＮＲ２２ａＲ２２ｂ（式中、Ａ１は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ２２ａ及びＲ２２ｂはそれぞれ前記Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂと同義である）または
−Ｃ（＝Ａ２）−ＯＲ２３（式中、Ａ２及びＲ２３はそれぞれ前記Ａ１及びＲ１０と同義である。但し、Ａ２が酸素原子を表す場合は、Ｒ２３は水素原子ではない）を表すか、またはＷがＹ、及びＷとＹの間に位置する炭素原子と一緒になって
2005082905.tif 000129
（式中、ｎｋ、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ及びＶａはそれぞれ前記と同義である）または
2005082905.tif 000130
（式中、ｎｋ、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ及びＶａはそれぞれ前記と同義である）を表す。
但し、（１）Ｙが窒素原子であり、ＸがＮＲ１１（式中、Ｒ１１は前記と同義である）であり、Ｒ１１が置換ベンジルである場合、該置換ベンジルのベンゼン環上の置換基はシアノ、カルボキシまたは低級アルカノイルオキシではなく、
（２）ＹがＣＨであり、ＸがＮＲ１１（式中、Ｒ１１は前記と同義である）である場合、Ｒ１１は置換もしくは非置換のベンゾイルまたは置換もしくは非置換のベンジルではなく、
（３）ＹがＣＲ５（式中、Ｒ５は前記と同義である）であり、Ｘが酸素原子である場合、Ｗはアリールではなく、
（４）Ｙが窒素原子であり、ＸがＮＲ１１（式中、Ｒ１１は前記と同義である）である場合、Ｒ１１は置換メチルではない〉で表される二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項２】
ＹがＣＲ５であり、Ｒ５が式（Ａ１）
2005082905.tif 000131
（式中、Ｑ−−−Ｖ及びＲ６はそれぞれ前記と同義である）であり、Ｒ６が式（Ｄ１）
2005082905.tif 000132
（式中、ｎｃは０〜３の整数を表し、Ｒ２４ａ、Ｒ２４ｂ、Ｒ２５ａ及びＲ２５ｂはそれぞれ前記Ｒ９ａ、Ｒ９ｂ、Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂと同義である）である請求の範囲１記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項３】
Ｒ２５ａ及びＲ２５ｂの少なくとも一方が、同一または異なって式（Ｅ１）
2005082905.tif 000133
［式中、ｎｄ及びｎｅは同一または異なってそれぞれ０〜３の整数を表し、
Ｒ２６ａ及びＲ２６ｂは、同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、Ｒ２６ａ及びＲ２６ｂが隣接する炭素原子と一緒になって飽和脂肪族環を形成するか、またはＲ２６ａ及びＲ２６ｂが一緒になって酸素原子または硫黄原子を表し、
Ｒ２７ａ及びＲ２７ｂは、同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、Ｒ２７ａ及びＲ２７ｂが隣接する炭素原子と一緒になって飽和脂肪族環を形成するか、Ｒ２７ａ及びＲ２７ｂが一緒になって酸素原子または硫黄原子を表すか、またはＲ２７ａもしくはＲ２７ｂがＲ２８ｂもしくはＲ２８ｂ、ならびにそれぞれが隣接する炭素原子及び窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成し、
Ｒ２８ａ及びＲ２８ｂは、同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、Ｒ２８ａ及びＲ２８ｂが隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成するか、またはＲ２８ａもしくはＲ２８ｂがＲ２７ａもしくはＲ２７ｂ、ならびにそれぞれが隣接する炭素原子及び窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成する］である請求の範囲２記載の二環性複素化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項４】
ＹがＣＲ５ａ（式中、Ｒ５ａは水素原子または低級アルキルを表す）である請求の範囲１記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項５】
ＹがＣＨである請求の範囲１記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項６】
Ｙが窒素原子である請求の範囲１記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項７】
ＸがＮＲ１１（式中、Ｒ１１は前記と同義である）である請求の範囲１〜６のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項８】
ＸがＮＨである請求の範囲１〜６のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項９】
Ｘが酸素原子である請求の範囲１〜６のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１０】
Ｚ１がＣＲ１２ａ（式中、Ｒ１２ａは水素原子または置換もしくは非置換の低級アルキルを表す）である請求の範囲１〜９のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１１】
Ｚ１がＣＨである請求の範囲１〜９のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１２】
Ｗが式（Ｄ２）
2005082905.tif 000134
（式中、ｎｆ、Ｒ２２ｃ、Ｒ２２ｄ、Ｒ２９ａ及びＲ２９ｂはそれぞれ前記ｎａ、Ｒ２２ａ、Ｒ２２ｂ、Ｒ９ａ及びＲ９ｂと同義である）である請求の範囲１〜１１のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩
【請求項１３】
Ｗが式（Ｄ３）
2005082905.tif 000135
（式中、Ｒ２２ａ及びＲ２２ｄはそれぞれ前記と同義である）である請求の範囲１〜１１のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１４】
Ｗが式（Ｂ２）
2005082905.tif 000136
（式中、ｎｇ、Ｒ２３ａ、Ｒ３０ａ及びＲ３０ｂはそれぞれ前記ｎａ、Ｒ２３、Ｒ９ａ及びＲ９ｂと同義である。但し、Ｒ３０ａ及びＲ３０ｂが一緒になって酸素原子を表す場合は、Ｒ２３ａ水素原子ではない）である請求の範囲１〜１１のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１５】
Ｗが式（Ａ２）
2005082905.tif 000137
（式中、Ｅ−−−Ｆ及びＲ２１はそれぞれ前記と同義である）である請求の範囲１〜１１のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１６】
Ｅ−−−ＦがＣＨ＝ＣＨである請求の範囲１５記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１７】
Ｗが式（Ａ３）
2005082905.tif 000138
（式中、ＲＤ１及びＲＤ２はそれぞれ前記ＲＡ１及びＲＡ２と同義である）である請求の範囲１〜１１のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１８】
Ｗが式（Ａ４）
2005082905.tif 000139
（式中、ＲＥ１及びＲＥ２は同一または異なって水素原子、低級アルコキシまたは置換もしくは非置換の低級アルキルを表すか、またはＲＥ１及びＲＥ２が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成する）である請求の範囲１〜１１のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１９】
Ｗが式（Ｃ１）
2005082905.tif 000140
［式中、ｎｈは０〜３の整数を表し、ｎｉは１〜４の整数を表し、
Ｌ−−−ＭはＣＲ２０−ＣＨ２（式中、Ｒ２０は水素原子、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシ、シアノ、トリフルオロメチル、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルカノイルまたは低級アルコキシカルボニルを表す）またはＣ＝ＣＨを表し、
Ｒ１９は水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表す］である請求の範囲１〜１１のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項２０】
Ｗが式（Ａ５）
2005082905.tif 000141
（式中、ｎｊは１〜３の整数を表し、ＲＦ１及びＲＦ２はそれぞれ前記ＲＥ１及びＲＥ２と同義である）である請求の範囲１〜１１のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項２１】
Ｗが
2005082905.tif 000142
（式中、ＲＧ１及びＲＧ２はそれぞれ前記ＲＥ１及びＲＥ２と同義である）である請求の範囲１〜１１のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項２２】
Ｒ１が水素原子である請求の範囲１〜２１のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項２３】
Ｒ１が置換もしくは非置換の低級アルコキシである請求の範囲１〜２１のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項２４】
Ｒ１がメトキシである請求の範囲１〜２１のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項２５】
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４が、同一または異なって水素原子または置換もしくは非置換の低級アルキルである請求の範囲１〜２４のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項２６】
Ｚ２、Ｚ３及びＺ４が、それぞれＣＨである請求の範囲１〜２５のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項２７】
請求の範囲１〜２６のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬。
【請求項２８】
請求の範囲１〜２６のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する好中球性炎症疾患の予防及び／または治療剤。
【請求項２９】
請求の範囲１〜２６のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するＧＰＲ４受容体の機能亢進に由来する疾患の予防及び／または治療剤。
【請求項３０】
請求の範囲１〜２６のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するＧＰＲ４受容体拮抗剤。
【請求項３１】
請求の範囲１〜２６のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与する工程を含む、好中球性炎症疾患の予防及び／または治療方法。
【請求項３２】
請求の範囲１〜２６のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与する工程を含む、ＧＰＲ４受容体の機能亢進に由来する疾患の予防及び／または治療方法。
【請求項３３】
好中球性炎症疾患の予防及び／または治療剤の製造のための、請求の範囲１〜２６のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩の使用。
【請求項３４】
ＧＰＲ４受容体の機能亢進に由来する疾患の予防及び／または治療剤の製造のための、請求の範囲１〜２６のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩の使用。
【請求項３５】
ＧＰＲ４受容体拮抗剤の製造のための、請求の範囲１〜２６のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、ＧＰＲ４受容体拮抗作用等を有し、好中球性炎症疾患の予防及び／または治療等に有用な二環性複素環化合物に関する。
【背景技術】  好中球は、炎症部位に浸潤し、スーパーオキサイドアニオン、炎症性サイトカインである腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）−α等を産生し、炎症を促進する作用を有している。慢性閉塞性肺疾患（ＣＯＰＤ）、関節炎、敗血症、虚血再還流障害、肺線維症等の種々の炎症性疾患で好中球の関与が示唆されている［ラボラトリー・インベスティゲーション（Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ  Ｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｉｏｎ）、２０００年、８０巻、ｐ．６１７−６５３］。好中球の浸潤は、好中球遊走因子により誘導される。したがって、好中球遊走因子の産生、及び好中球の浸潤を抑制することが、これらの疾患の治療に重要であると考えられている。
ＧＰＲ４は、Ｇ蛋白質共役型レセプター蛋白質（ＧＰＣＲ）であり、脂質であるスフィンゴシルホスホリルコリン（ＳＰＣ）やリゾホスファチジルコリン（ＬＰＣ）と結合し、シグナルを伝達すること及びＧＰＲ４発現細胞の遊走を誘導することが報告されている［ジャーナル・オブ・バイオロジカル・ケミストリー（Ｊ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．）、２００１年、２７６巻、ｐ．４１３２５−４１３３５］。
一方、二環性複素環化合物としては、血圧降下作用を有するベンズアゾール誘導体（特開平６−７３０５１、ＥＰ５２０７２３）、ベンゾイミダゾール誘導体（ＥＰ５６０３３０、特開平４−３６０８７４）、インドール誘導体（ＵＳ５１５１４３５、ＥＰ５２０７２４、ＥＰ４２９２５７）、ベンゾフラン誘導体（ＥＰ５４６４４９、ＥＰ５１４１９７、ＵＳ５７８９４１５）及び抗頭痛作用を有するインドールまたはベンゾフラン誘導体（ＷＯ９３／２３３９６）が知られている。
【発明の開示】
本発明は、以下の（１）〜（３５）に関する。
（１）式（Ｉ）
2005082905.tif 000002
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン、アミノ、ニトロ、シアノ、カルボキシ、モノまたはジ低級アルキルアミノ、低級アルキルスルホニル、低級アルコキシカルボニルアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の脂環式複素環基または置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表し、
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、同一または異なって水素原子、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く。なお該置換もしくは非置換の芳香族複素環基は、その芳香族複素環内の炭素原子で母核に結合する）または置換もしくは非置換のアロイルを表し、
Ｙは窒素原子またはＣＲ５〔式中、Ｒ５は水素原子、ホルミル、低級アルキル、以下の置換基群Ａから選ばれる同一のまたは異なる１〜３の置換基で置換された低級アルキル［置換基群Ａ：ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシ、シアノ、ホルミル、トリフルオロメチル、ビニル、スチリル、フェニルエチニル、アロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環基、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）］、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲＨ１ＲＨ２［式中、ＲＨ１及びＲＨ２は同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、またはＲＨ１及びＲＨ２が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成する］、式（Ａ１）
2005082905.tif 000003
｛式中、Ｑ−−−ＶはＣＲ７＝ＣＲ８［式中、Ｒ７及びＲ８は同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表す］またはＣ≡Ｃを表し、Ｒ６は水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）または−Ｃ（＝Ａ３）−ＮＲＡ１ＲＡ２［式中、Ａ３は酸素原子または硫黄原子を表し、ＲＡ１及びＲＡ２は同一または異なって水素原子、ホルミル、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環基、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）または−Ｃ（＝Ａ４）−（ＣＨ２）ｎａ−Ｃ（ＲＢ１）（ＲＢ２）−ＮＲＣ１ＲＣ２（式中、ｎａは０〜３の整数を表し、Ａ４は酸素原子または硫黄原子を表し、ＲＢ１及びＲＢ２は同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、ＲＢ１及びＲＢ２が一緒になって酸素原子または硫黄原子を表すか、ＲＢ１及びＲＢ２が隣接する炭素原子と一緒になって飽和脂肪族環を形成するか、あるいはＲＢ１またはＲＢ２が隣接する炭素原子、該炭素原子に隣接する窒素原子及びＲＣ１またはＲＣ２と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成し、ＲＣ１及びＲＣ２は同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、ＲＣ１及びＲＣ２が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成するか、あるいはＲＣ１またはＲＣ２が隣接する窒素原子、該窒素原子に隣接する炭素原子及びＲＢ１またはＲＢ２と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成する）を表すか、またはＲＡ１及びＲＡ２が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成する］を表す｝
または式（Ｂ１）
2005082905.tif 000004
［式中、ｎｂは０〜３の整数を表し、
Ｒ９ａ及びＲ９ｂは、同一または異なって水素原子、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、Ｒ９ａ及びＲ９ｂが隣接する炭素原子と一緒になって飽和脂肪族環を形成するか、またはＲ９ａ及びＲ９ｂが一緒になって酸素原子または硫黄原子を表し、
Ｒ１０は水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表す。但し、Ｒ９ａ及びＲ９ｂが一緒になって酸素原子を表す場合は、Ｒ１０は水素原子ではない］〕を表すか、またはＹがＷ、及びＹとＷの間に位置する炭素原子と一緒になって
2005082905.tif 000005
｛式中、ｎｋは０または１を表し、
Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ及びＲｄは、同一または異なって水素原子、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、Ｒａ及びＲｂならびに／もしくはＲｃ及びＲｄが隣接する炭素原子と一緒になって飽和脂肪族環または脂環式複素環を形成するか、またはＲａ及びＲｂならびに／もしくはＲｃ及びＲｄが一緒になって酸素原子または硫黄原子を表し、
Ｖａは酸素原子またはＮＲｃ［式中、Ｒｃは水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環基または置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表す］を表す｝または
2005082905.tif 000006
（式中、ｎｋ、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ及びＶａはそれぞれ前記と同義である）を表し、
ＸはＮＲ１１［式中、Ｒ１１は水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表す］、酸素原子または硫黄原子を表し、
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は同一または異なって、窒素原子またはＣＲ１２［式中、Ｒ１２は水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表す］を表し、
Ｗはニトロ、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルケニル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、アリール、以下の置換基群Ｂから選ばれる同一のまたは異なる１〜３の置換基で置換されたアリール｛置換基群Ｂ：ハロゲン、ニトロ、シアノ、ホルミル、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル、アラルキルオキシ、芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイル、−Ｃ（＝Ｒ１３）ＮＲ１４ａＲ１４ｂ［式中、Ｒ１３は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂは、同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環基または置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、またはＲ１４ａとＲ１４ｂが隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成する］、−Ｃ（＝Ｒ１５）ＯＲ１５（式中、Ｒ１５は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ１６は前記Ｒ１０と同義である）、−ＮＲ１７ａＲ１７ｂ（式中、Ｒ１７ａ及びＲ１７ｂはそれぞれ前記Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂと同義である）｝、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環基、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル（該芳香族複素環カルボニルの芳香族複素環基部分はテトラゾリルではない）、−ＮＲ１８ａＲ１８ｂ（式中、Ｒ１８ａ及びＲ１８ｂはそれぞれ前記Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂと同義である）、式（Ａ２）
2005082905.tif 000007
（式中、Ｅ−−−Ｆ及びＲ２１は、それぞれ前記Ｑ−−−Ｖ及びＲ６と同義である）、
−Ｃ（＝Ａ１）−ＮＲ２２ａＲ２２ｂ（式中、Ａ１は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ２２ａ及びＲ２２ｂはそれぞれ前記Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂと同義である）または
−Ｃ（＝Ａ２）−ＯＲ２３（式中、Ａ２及びＲ２３はそれぞれ前記Ａ１及びＲ１０と同義である。但し、Ａ２が酸素原子を表す場合は、Ｒ２３は水素原子ではない）を表すか、またはＷがＹ、及びＷとＹの間に位置する炭素原子と一緒になって
2005082905.tif 000008
（式中、ｎｋ、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ及びＶａはそれぞれ前記と同義である）または
2005082905.tif 000009
（式中、ｎｋ、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ及びＶａはそれぞれ前記と同義である）を表す。
但し、（ｉ）Ｙが窒素原子であり、ＸがＮＲ１１（式中、Ｒ１１は前記と同義である）であり、Ｒ１１が置換ベンジルである場合、該置換ベンジルのベンゼン環上の置換基はシアノ、カルボキシまたは低級アルカノイルオキシではなく、
（ｉｉ）ＹがＣＨであり、ＸがＮＲ１１（式中、Ｒ１１は前記と同義である）である場合、Ｒ１１は置換もしくは非置換のベンゾイルまたは置換もしくは非置換のベンジルではなく、
（ｉｉｉ）ＹがＣＲ５（式中、Ｒ５は前記と同義である）であり、Ｘが酸素原子である場合、Ｗはアリールではなく、
（ｉｖ）Ｙが窒素原子であり、ＸがＮＲ１１（式中、Ｒ１１は前記と同義である）である場合、Ｒ１１は置換メチルではない〉で表される二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（２）ＹがＣＲ５であり、Ｒ５が式（Ａ１）
2005082905.tif 000010
（式中、Ｑ−−−Ｖ及びＲ６はそれぞれ前記と同義である）であり、Ｒ６が式（Ｄ１）
2005082905.tif 000011
（式中、ｎｃは０〜３の整数を表し、Ｒ２４ａ、Ｒ２４ｂ、Ｒ２５ａ及びＲ２５ｂはそれぞれ前記Ｒ９ａ、Ｒ９ｂ、Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂと同義である）である前記（１）記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（３）Ｒ２５ａ及びＲ２５ｂの少なくとも一方が、同一または異なって式（Ｅ１）
2005082905.tif 000012
［式中、ｎｄ及びｎｅは同一または異なってそれぞれ０〜３の整数を表し、
Ｒ２６ａ及びＲ２６ｂは、同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、Ｒ２６ａ及びＲ２６ｂが隣接する炭素原子と一緒になって飽和脂肪族環を形成するか、またはＲ２６ａ及びＲ２６ｂが一緒になって酸素原子または硫黄原子を表し、
Ｒ２７ａ及びＲ２７ｂは、同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、Ｒ２７ａ及びＲ２７ｂが隣接する炭素原子と一緒になって飽和脂肪族環を形成するか、Ｒ２７ａ及びＲ２７ｂが一緒になって酸素原子または硫黄原子を表すか、またはＲ２７ａもしくはＲ２７ｂがＲ２８ｂもしくはＲ２８ｂ、ならびにそれぞれが隣接する炭素原子及び窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成し、
Ｒ２８ａ及びＲ２８ｂは、同一または異なって水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表すか、Ｒ２８ａ及びＲ２８ｂが隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成するか、またはＲ２８ａもしくはＲ２８ｂがＲ２７ａもしくはＲ２７ｂ、ならびにそれぞれが隣接する炭素原子及び窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成する］である前記（２）記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（４）ＹがＣＲ５ａ（式中、Ｒ５ａは水素原子または低級アルキルを表す）である前記（１）記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（５）ＹがＣＨである前記（１）記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（６）Ｙが窒素原子である前記（１）記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（７）ＸがＮＲ１１（式中、Ｒ１１は前記と同義である）である前記（１）〜（６）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（８）ＸがＮＨである前記（１）〜（６）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（９）Ｘが酸素原子である前記（１）〜（６）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（１０）Ｚ１がＣＲ１２ａ（式中、Ｒ１２ａは水素原子または置換もしくは非置換の低級アルキルを表す）である前記（１）〜（９）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（１１）Ｚ１がＣＨである前記（１）〜（９）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（１２）Ｗが式（Ｄ２）
2005082905.tif 000013
（式中、ｎｆ、Ｒ２２ｃ、Ｒ２２ｄ、Ｒ２９ａ及びＲ２９ｂはそれぞれ前記ｎａ、Ｒ２２ａ、Ｒ２２ｂ、Ｒ９ａ及びＲ９ｂと同義である）である前記（１）〜（１１）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（１３）Ｗが式（Ｄ３）
2005082905.tif 000014
（式中、Ｒ２２ｃ及びＲ２２ｄはそれぞれ前記と同義である）である前記（１）〜（１１）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（１４）Ｗが式（Ｂ２）
2005082905.tif 000015
（式中、ｎｇ、Ｒ２３ａ、Ｒ３０ａ及びＲ３０ｂはそれぞれ前記ｎａ、Ｒ２３、Ｒ９ａ及びＲ９ｂと同義である。但し、Ｒ３０ａ及びＲ３０ｂが一緒になって酸素原子を表す場合は、Ｒ２３ａは水素原子ではない）である前記（１）〜（１１）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（１５）Ｗが式（Ａ２）
2005082905.tif 000016
（式中、Ｅ−−−Ｆ及びＲ２１はそれぞれ前記と同義である）である前記（１）〜（１１）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（１６）Ｅ−−−ＦがＣＨ＝ＣＨである前記（１５）記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（１７）Ｗが式（Ａ３）
2005082905.tif 000017
（式中、ＲＤ１及びＲＤ２はそれぞれ前記ＲＡ１及びＲＡ２と同義である）である前記（１）〜（１１）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（１８）Ｗが式（Ａ４）
2005082905.tif 000018
（式中、ＲＥ１及びＲＥ２は同一または異なって水素原子、低級アルコキシまたは置換もしくは非置換の低級アルキルを表すか、またはＲＥ１及びＲＥ２が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基を形成する）である前記（１）〜（１１）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（１９）Ｗが式（Ｃ１）
2005082905.tif 000019
［式中、ｎｈは０〜３の整数を表し、ｎｉは１〜４の整数を表し、
Ｌ−−−ＭはＣＲ２０−ＣＨ２（式中、Ｒ２０は水素原子、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシ、シアノ、トリフルオロメチル、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルカノイルまたは低級アルコキシカルボニルを表す）またはＣ＝ＣＨを表し、
Ｒ１９は水素原子、ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表す］である前記（１）〜（１１）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（２０）Ｗが式（Ａ５）
2005082905.tif 000020
（式中、ｎｊは１〜３の整数を表し、ＲＦ１及びＲＦ２はそれぞれ前記ＲＥ１及びＲＥ２と同義である）である前記（１）〜（１１）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（２１）Ｗが
2005082905.tif 000021
（式中、ＲＧ１及びＲＧ２はそれぞれ前記ＲＥ１及びＲＥ２と同義である）である前記（１）〜（１１）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（２２）Ｒ１が水素原子である前記（１）〜（２１）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（２３）Ｒ１が置換もしくは非置換の低級アルコキシである前記（１）〜（２１）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（２４）Ｒ１がメトキシである前記（１）〜（２１）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（２５）Ｒ２、Ｒ３及びＲ４が、同一または異なって水素原子または置換もしくは非置換の低級アルキルである前記（１）〜（２４）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（２６）Ｚ２、Ｚ３及びＺ４が、それぞれＣＨである前記（１）〜（２５）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩。
（２７）前記（１）〜（２６）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬。
（２８）前記（１）〜（２６）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する好中球性炎症疾患の予防及び／または治療剤。
（２９）前記（１）〜（２６）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するＧＰＲ４受容体の機能亢進に由来する疾患の予防及び／または治療剤。
（３０）の前記（１）〜（２６）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するＧＰＲ４受容体拮抗剤。
（３１）前記（１）〜（２６）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与する工程を含む、好中球性炎症疾患の予防及び／または治療方法。
（３２）前記（１）〜（２６）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与する工程を含む、ＧＰＲ４受容体の機能亢進に由来する疾患の予防及び／または治療方法。
（３３）好中球性炎症疾患の予防及び／または治療剤の製造のための、前記（１）〜（２６）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩の使用。
（３４）ＧＰＲ４受容体の機能亢進に由来する疾患の予防及び／または治療剤の製造のための、前記（１）〜（２６）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩の使用。
（３５）ＧＰＲ４受容体拮抗剤の製造のための、前記（１）〜（２６）のいずれかに記載の二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩の使用。
以下、式（Ｉ）で表される化合物を化合物（Ｉ）という。他の式番号の化合物についても同様である。
化合物（Ｉ）の各基の定義において、
ハロゲンとしてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素の各原子が挙げられる。
低級アルキルとしては、例えば直鎖状または分岐状の炭素数１〜１０のアルキル、より具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル等が挙げられる。
低級アルコキシ、低級アルカノイル、低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボニルアミノ、モノまたはジ低級アルキルアミノ及び低級アルキルスルホニルの低級アルキル部分は、前記低級アルキルと同義である。
低級シクロアルキルとしては、例えば炭素数３〜８のシクロアルキル、より具体的にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。
低級シクロアルキルカルボニルの低級シクロアルキル部分は前記低級シクロアルキルと同義である。
低級アルケニルとしては、例えば直鎖状または分岐状の炭素数２〜１０のアルケニル、より具体的にはビニル、アリル、２−ブテニル、３−ブテニル、４−ペンテニル、４−ヘキセニル、６−ヘプテニル、７−オクテニル、８−ノネニル、９−デセニル等が挙げられる。
低級シクロアルケニルとしては、例えば炭素数４〜８のシクロアルケニル、より具体的にはシクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロオクテニル等が挙げられる。
スチリルとしては、１−フェニルビニル及び２−フェニルビニルが挙げられる。
低級アルキニルとしては、例えば直鎖状または分岐状の炭素数２〜１０のアルキニル、より具体的にはエチニル、プロパルギル、３−ブチニル、３−ヘキシニル、４−メチル−２−ペンチニル、５−ヘキシニル、６−ヘプチニル、７−オクチニル、８−ノニニル、９−デシニル等が挙げられる。
隣接する炭素原子と一緒になって形成される飽和脂肪族環としては、例えば炭素数３〜８の飽和脂肪族環、より具体的にはシクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環等が挙げられる。
アリールとしては、例えば炭素数６〜１４のアリールが挙げられ、より具体的にはフェニル、ナフチル、インデニル、アントリル等が挙げられる。
アリールオキシ及びアロイルのアリール部分は前記アリールと同義である。
アラルキル及びアラルキルオキシのアリール部分は前記アリールと同義であり、アルキレン部分は前記低級アルキルから水素原子を１つ除去したものと同義である。さらにアラルキル及びアラルキルオキシのアリール部分としては前記アリールの例示で挙げた基に加え、例えば芳香族環とシクロアルカンとが縮合した縮合環から水素原子を一つ除いた基も挙げられ、より具体的にはインダニル、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル、６，７，８，９−テトラヒドロ−５Ｈ−ベンゾシクロヘプチル等が挙げられる。
脂環式複素環基としては、例えば窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む５員または６員の単環性脂環式複素環基、３〜８員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む縮環性脂環式複素環基等が挙げられ、より具体的にはピロリジニル、ピロリニル、ピペリジノ、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリノ、モルホリニル、チオモルホリノ、チオモルホリニル、ホモピペリジノ、ホモピペリジル、ホモピペラジニル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロキノリル、テトラヒドロイソキノリル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロピラニル、ジヒドロベンゾフラニル、キヌクリジニル、インドリニル、イソインドリニル、ジヒドロオキサゾリル、ジヒドロチアゾリル等が挙げられる。
芳香族複素環基としては、例えば窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む５員または６員の単環性芳香族複素環基、３〜８員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む縮環性芳香族複素環基等が挙げられ、より具体的にはフリル、チエニル、ピロリル、ピリジル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリミジニル、トリアジニル、インドリル、キノリル、プリニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、チアジアゾリル、ベンゾイミダゾリル、ピリドニル、オキサジアゾリル、ピラジニル、ピリダジニル等が挙げられる。
芳香族複素環カルボニルの芳香族複素環基部分は前記芳香族複素環基と同義である。
隣接する窒素原子と一緒になって形成される複素環基としては、隣接する窒素原子と一緒になって形成される脂環式複素環基、隣接する窒素原子と一緒になって形成される芳香族複素環基等が挙げられ、隣接する窒素原子と一緒になって形成される脂環式複素環基としては例えば少なくとも１個の窒素原子を含む５員または６員の単環性脂環式複素環基（該単環性脂環式複素環基は、他の窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい）、３〜８員の環が縮合した二環または三環性で少なくとも１個の窒素原子を含む縮環性脂環式複素環基（該縮環性脂環式複素環基は、他の窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい）等が挙げられ、より具体的にはピロリジニル、ピロリニル、ピペリジノ、ピペラジニル、モルホリノ、チオモルホリノ、ホモピペリジノ、ホモピペラジニル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロキノリル、テトラヒドロイソキノリル、インドリニル、イソインドリニル等が挙げられ、隣接する窒素原子と一緒になって形成される芳香族複素環基としては、例えば少なくとも１個の窒素原子を含む５員または６員の単環性芳香族複素環基（該単環性芳香族複素環基は、他の窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい）、３〜８員の環が縮合した二環または三環性で少なくとも１個の窒素原子を含む縮環性芳香族複素環基（該縮環性芳香族複素環基は、他の窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい）等が挙げられ、より具体的にはピロリル、イミダゾリル、インドリル、インダゾリル、カルバゾリル等が挙げられる。
隣接する炭素原子及び窒素原子と一緒になって形成される複素環基としては、隣接する炭素原子及び窒素原子と一緒になって形成される脂環式複素環基等が挙げられ、隣接する炭素原子及び窒素原子と一緒になって形成される脂環式複素環基としては例えば少なくとも１個の窒素原子を含む５員または６員の単環性脂環式複素環基（該単環性脂環式複素環基は、他の窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい）、３〜８員の環が縮合した二環または三環性で少なくとも１個の窒素原子を含む縮環性脂環式複素環基（該縮環性脂環式複素環基は、他の窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい）等が挙げられ、より具体的にはピロリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、ホモピペリジル、ホモピペラジニル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロキノリル、テトラヒドロイソキノリル、インドリニル、イソインドリニル等が挙げられる。
隣接する炭素原子と一緒になって形成される脂環式複素環としては、例えば窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む５員または６員の単環性脂環式複素環、３〜８員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む縮環性脂環式複素環等が挙げられ、より具体的にはピロリジン環、ピロリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、ホモピペリジン環、ホモピペラジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、ジヒドロピラン環、ジヒドロベンゾフラン環、キヌクリジン環、インドリン環、イソインドリン環、ジヒドロオキサゾリン環、ジヒドロチアゾリン環等が挙げられる。
置換低級アルキル、置換メチル、置換低級アルコキシ、置換低級アルカノイル、置換低級シクロアルキル、置換低級シクロアルキルカルボニル、置換低級アルコキシカルボニル、置換低級アルケニル、置換低級シクロアルケニル及び置換低級アルキニルにおける置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはハロゲン、ニトロ、ヒドロキシ、シアノ、ホルミル、トリフルオロメチル、ビニル、スチリル、フェニルエチニル、低級アルコキシカルボニル、低級アルカノイルアミノ、カルバモイル、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アロイル、脂環式複素環カルボニル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル（該置換低級シクロアルキルにおける置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはヒドロキシ、低級アルコキシ等が挙げられる）、置換もしくは非置換の低級アルコキシ（該置換低級アルコキシにおける置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはヒドロキシ、低級アルコキシ等が挙げられる）、置換もしくは非置換の低級アルカノイル（該置換低級アルカノイルにおける置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはアリール等が挙げられる）、置換もしくは非置換の脂環式複素環基（該置換脂環式複素環基における置換基は後記の置換脂環式複素環基における置換基と同義である）、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く。なお、該置換芳香族複素環基における置換基は後記の置換芳香族複素環基における置換基と同義である）、モノまたはジ（置換もしくは非置換の低級アルキル）アミノ［該モノまたはジ置換低級アルキルアミノにおける置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはハロゲン、ヒドロキシ、アリール、脂環式複素環基、芳香族複素環基等が挙げられる］、モノまたはジ（置換もしくは非置換の低級アルキル）アミノカルボニル［該モノまたはジ置換低級アルキルアミノカルボニルにおける置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはハロゲン、ヒドロキシ、アリール、脂環式複素環基、芳香族複素環基等が挙げられる］等が挙げられる。なお、置換低級シクロアルキル及び置換低級シクロアルケニルにおける置換基は前記の置換基に加え、オキソ、メチレンジオキシまたはエチレンジオキシであってもよい。また、ジ（置換もしくは非置換の低級アルキル）アミノ及びジ（置換もしくは非置換の低級アルキル）アミノカルボニルにおける２つの置換もしくは非置換の低級アルキル部分はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。さらに、置換低級アルコキシ、置換低級アルカノイル、置換低級シクロアルキル、置換低級シクロアルキルカルボニル、置換低級アルコキシカルボニル、置換低級アルケニル、置換低級シクロアルケニル及び置換低級アルキニルにおける置換基は、前記の置換基に加え置換もしくは非置換のアリール（該置換アリールにおける置換基は後記の置換アリールにおける置換基と同義である）であってもよい。
前記置換低級アルキル、置換メチル、置換低級アルコキシ、置換低級アルカノイル、置換低級シクロアルキル、置換低級シクロアルキルカルボニル、置換低級アルコキシカルボニル、置換低級アルケニル、置換低級シクロアルケニル及び置換低級アルキニルにおける置換基の定義において、ハロゲン、スチリル、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル、低級アルカノイル、低級アルカノイルアミノ、モノまたはジ（低級アルキル）アミノ及びモノまたはジ（低級アルキル）アミノカルボニルの低級アルキル部分、低級シクロアルキル、アリール、アリールオキシ及びアロイルのアリール部分、アラルキルオキシのアリール部分及び低級アルキレン部分、脂環式複素環基ならびに芳香族複素環基はそれぞれ前記と同義であり、脂環式複素環カルボニルにおける脂環式複素環基部分は前記脂環式複素環基と同義である。
置換アリール、置換アラルキル、置換ベンジル、置換アロイル、置換ベンゾイル、置換脂環式複素環基、置換芳香族複素環基及び置換芳香族複素環カルボニルにおける置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはハロゲン、ニトロ、ヒドロキシ、シアノ、ホルミル及びその等価体（該ホルミルの等価体としては、例えば１，３−ジオキソラン−２−イル等が挙げられる）、カルバモイル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイル、低級シクロアルキルカルボニル、アリール、アラルキル、アロイル、脂環式複素環基、芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）、置換もしくは非置換の低級アルキル（該置換低級アルキルにおける置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはハロゲン、ヒドロキシ等が挙げられる）、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル（該置換低級アルキルにおける置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはハロゲン、ヒドロキシ等が挙げられる）、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル（該置換低級アルコキシカルボニルにおける置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはハロゲン、ヒドロキシ等が挙げられる）、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルオキシカルボニル（該置換低級シクロアルキルオキシカルボニルにおける置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはハロゲン、ヒドロキシ等が挙げられる）、置換もしくは非置換のアリールオキシ（該置換アリールオキシにおける置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはハロゲン等が挙げられる）、置換もしくは非置換のアラルキルオキシ（該置換アラルキルオキシにおける置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはハロゲン等が挙げられる）等が挙げられる。また、置換脂環式複素環基における置換基は、前記の置換基に加えオキソであってもよい。
前記置換アリール、置換アラルキル、置換ベンジル、置換アロイル、置換ベンゾイル、置換脂環式複素環基、置換芳香族複素環基及び置換芳香族複素環カルボニルにおける置換基の定義において、ハロゲン、低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル及び低級アルカノイルの低級アルキル部分、低級シクロアルキルカルボニル及び低級シクロアルキルオキシカルボニルの低級シクロアルキル部分、アリール、アリールオキシ及びアロイルのアリール部分、アラルキル及びアラルキルオキシのアリール部分及びアルキレン部分、脂環式複素環基ならびに芳香族複素環基はそれぞれ前記と同義である。
隣接する窒素原子と一緒になって形成される置換複素環基ならびに隣接する炭素原子及び窒素原子と一緒になって形成される置換複素環基における置換基としては、例えば同一または異なって置換数１〜３の、より具体的にはハロゲン、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、カルバモイル、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル、低級アルカノイル、低級アルキルスルホニル、低級シクロアルキルカルボニル、芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の低級アルキル（該置換低級アルキルにおける置換基は前記置換低級アルキルにおける置換基と同義である）、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル（該置換低級シクロアルキルにおける置換基は前記置換低級シクロアルキルにおける置換基と同義である）、置換もしくは非置換のアリール（該置換アリールにおける置換基は前記置換アリールにおける置換基と同義である）、置換もしくは非置換のアラルキル（該置換アラルキルにおける置換基は前記置換アラルキルにおける置換基と同義である）、置換もしくは非置換の脂環式複素環基（該置換脂環式複素環基における置換基は前記置換脂環式複素環基における置換基と同義である）、置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く。なお、該置換芳香族複素環基における置換基は前記置換芳香族複素環基における置換基と同義である）、−ＮＲ３１ａＲ３１ｂ［式中、Ｒ３１ａ及びＲ３１ｂは、同一または異なって、水素原子、低級アルカノイル、低級シクロアルキルカルボニル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルスルホニル、芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の低級アルキル（該置換低級アルキルにおける置換基は前記置換低級アルキルにおける置換基と同義である）、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル（該置換低級シクロアルキルにおける置換基は前記置換低級シクロアルキルにおける置換基と同義である）、置換もしくは非置換のアリール（該置換アリールにおける置換基は前記置換アリールにおける置換基と同義である）、置換もしくは非置換のアラルキル（該置換アラルキルにおける置換基は前記置換アラルキルにおける置換基と同義である）、置換もしくは非置換の脂環式複素環基（該置換脂環式複素環基における置換基は前記置換脂環式複素環基における置換基と同義である）または置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く。なお、該置換芳香族複素環基における置換基は前記置換芳香族複素環基における置換基と同義である）を表すか、またはＲ３１ａとＲ３１ｂが隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環基（該隣接する窒素原子と一緒になって形成される置換複素環基における置換基は前記置換脂環式複素環基における置換基と同義である）を形成する］等が挙げられる。
前記隣接する窒素原子と一緒になって形成される置換複素環基ならびに隣接する炭素原子及び窒素原子と一緒になって形成される置換複素環基における置換基の定義において、ハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル、低級アルカノイル及び低級アルキルスルホニルの低級アルキル部分、低級シクロアルキル及び低級シクロアルキルカルボニルの低級シクロアルキル部分、アリール、アラルキルのアリール部分及びアルキレン部分、脂環式複素環基、芳香族複素環基及び芳香族複素環カルボニルの芳香族複素環基部分ならびに隣接する窒素原子と一緒になって形成される複素環基はそれぞれ前記と同義である。
化合物（Ｉ）の薬理学的に許容される塩としては、薬理学的に許容される金属塩、アンモニウム塩、有機アミン付加塩、アミノ酸付加塩、酸付加塩等が挙げられる。薬理学的に許容される金属塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、亜鉛塩等が挙げられ、薬理学的に許容されるアンモニウム塩としては、アンモニウム、テトラメチルアンモニウム等の塩が挙げられ、薬理学的に許容される有機アミン付加塩としては、モルホリン、ピペリジン等の付加塩が挙げられ、薬理学的に許容されるアミノ酸付加塩としては、リジン、グリシン、フェニルアラニン等のアミノ酸の付加塩が挙げられ、薬理学的に許容される酸付加塩としては、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の有機酸塩が挙げられる。
化合物（Ｉ）には、位置異性体、幾何異性体、光学異性体または互変異性体のような異性体が存在し得るものもあるが、これらを含め可能な全ての異性体及び該異性体のいかなる比率における混合物も本発明に包含される。
また、化合物（Ｉ）またはその薬理学的に許容される塩は、水または各種溶媒との付加物の形で存在することもあるが、これらの付加物も本発明に包含される。
好中球性炎症疾患としては、例えば慢性閉塞性肺疾患（ＣＯＰＤ）、肺気腫、慢性気管支炎、急性呼吸窮迫症候群（ＡＲＤＳ）、急性肺損傷（ＡＬＩ）、鼻炎、サルコイドーシス、間質性肺炎、肺線維症、敗血症、関節リウマチ、ベーチェット病、シェーングレン症候群、強皮症、乾癬、アトピー性皮膚炎、接触性皮膚炎、蕁麻疹、血管炎、紅斑、結膜炎、好酸球増多症、ブドウ膜炎、円形脱毛症、湿疹、扁平苔癬、水疱症、天疱症、直腸炎、好酸球性胃腸炎、肥満細胞症、クローン病、潰瘍性大腸炎、食物アレルギー、多発性硬化症、アテローム性動脈硬化症、後天性免疫不全症候群（ＡＩＤＳ）、全身性エリテマトーデス、橋本病、ネフローゼ症候群、重症筋無力症、Ｉ型糖尿病、好酸球性筋膜炎、高ＩｇＥ血漿、ライ病、紫斑病、移植片拒絶、扁平上皮がん、肺がん、嚢胞性線維症、脳卒中、心臓及び末梢肢における再灌流障害、痛風、過敏性腸症候群等が挙げられる。
次に、化合物（Ｉ）の製造法について説明する。
なお、以下の製造法で得られる化合物［例えば化合物（ＩＨ）等］には、一部化合物（Ｉ）の範囲に含まれない化合物が含まれる場合もあるが、便宜上これらの化合物番号で示すこととする。
なお、以下に示した製造法において、定義した基が反応条件下変化するか、または方法を実施するのに不適切な場合、有機合成化学で常用される方法、例えば官能基の保護、脱保護等［例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス  第三版（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，ｔｈｅ  ｔｈｉｒｄ  ｅｄｉｔｉｏｎ）、グリーン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ）、ワッツ（Ｐｅｔｅｒ  Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ）著、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．）（１９９９年）］の手段に付すことにより容易に製造を実施することができる。また、必要に応じて置換基導入等の反応工程の順序を変えることもできる。また、以下の製造法において、Ｂｏｃはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルを、ＴＢＳはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルを表す。
製造法１
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、ＣＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ２２ａＲ２２ｂである化合物（ＩＨ−ａ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000022
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ２２ａ、Ｒ２２ｂ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１
化合物（ＩＩＩ）は、化合物（ＩＩ）を溶媒中、１〜１０当量、好ましくは１〜３当量の脱保護剤と、０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは０〜８０℃で反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、ジクロロメタン、水、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＴＨＦを用いることができる。
脱保護剤としては、例えばテトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）、フッ化水素、フッ化水素ピリジン塩、フッ化セシウム、フッ化カリウム、三フッ化ホウ素エーテル錯体等を用いることができ、好ましくはＴＢＡＦを用いることができる。
化合物（ＩＩ）はＷＯ０２／３２８６１記載の方法によって合成することができる。
工程２
化合物（Ｖ）は、化合物（ＩＩＩ）をＵＳ５１５１４３５記載の方法またはそれに準じた方法により化合物（ＩＶ）と反応させることによって合成することができる。
化合物（ＩＶ）は特開平３−９５１８１記載の方法またはそれに準じた方法によって合成することができる。
工程３
化合物（ＶＩ）は、化合物（Ｖ）を溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の塩基及び大過剰量のドライアイスと−１００℃から室温、好ましくは−１００〜０℃で１分間から４８時間、好ましくは１分間から１時間反応させることによって合成することができる。
塩基としては、例えばリチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）、カリウムジイソプロピルアミド、ナトリウムジイソプロピルアミド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、マグネシウム、ナトリウム、リチウム、カリウム、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウム等を用いることができ、好ましくはＬＤＡ、カリウムジイソプロピルアミドまたはナトリウムジイソプロピルアミドを用いることができる。
溶媒としては、例えばＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ヘキサン、ジエチルエーテル、エチレングリコール、グライム、ジグライム、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン等を用いることができ、好ましくはＴＨＦ、ジエチルエーテルまたはヘキサンを用いることができる。
工程４
化合物（ＶＩＩ）は、化合物（ＶＩ）を溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは３当量から大過剰量の酸の存在下、０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは１０〜１００℃で１０分間から４８時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えば酢酸エチル、メタノール、エタノール、ジクロロメタン、クロロホルム、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）、ニトロメタン、１，４−ジオキサン、アセトニトリル、ＴＨＦ、水、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはエタノール、ＴＨＦ、酢酸エチルまたはそれらと水の混合溶媒を用いることができる。
酸としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、ＴＦＡ、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、塩化アルミニウム、四塩化チタン、三フッ化ホウ素エーテル錯体、四塩化スズ、シリカゲル、臭化亜鉛等を用いることができ、好ましくは塩酸、酢酸またはＴＦＡを用いることができる。
工程５
化合物（ＶＩＩ）を塩基性溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは１〜２０当量のハロゲン化剤と、−１０〜１００℃、好ましくは室温で１０分間から２４時間反応させることによって相当する酸ハロゲン化物を合成することができる。
塩基性溶媒としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンもしくはそれらの混合溶媒等、またはジクロロメタン、クロロホルム、酢酸エチル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、キシレン等の溶媒にピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等を混合したものを用いることができ、好ましくはピリジンを用いることができる。
ハロゲン化剤としては、例えば塩化チオニル、オキサリルクロリド、オキシ塩化リン等を用いることができ、好ましくは塩化チオニルを用いることができる。
続いて、得られた酸ハロゲン化物を溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の化合物（ＶＩＩＩ）と、必要により１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の塩基存在下、−３０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは０℃から室温で１分間から２４時間、好ましくは３０分間から２時間反応させることによって化合物（ＩＨ−ａ）を合成することができる。
塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等を用いることができ、好ましくはピリジンまたはトリエチルアミンを用いることができる。
本工程はペプチド化学で常用される手法を用いて行うこともできる。すなわち、化合物（ＩＨ−ａ）は、化合物（ＶＩＩ）を溶媒中、０．５〜１０当量の縮合剤存在下、１〜１０当量の化合物（ＶＩＩＩ）と、０〜５０℃で１０分間から７０時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトニトリル、酢酸エチル、ピリジン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等を用いることができ、好ましくはＤＭＦまたはＴＨＦを用いることができる。
縮合剤としては、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、３−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−１−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）、３−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−１−エチルカルボジイミド結合ポリスチレンレジン（ＥＤＣレジン）等を用いることができる。ＥＤＣレジンは文献［テトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ）、３４巻、４８号、７６８５頁（１９９３年）］記載の方法で製造した。また必要により、例えばＮ−ヒドロキシこはく酸イミド、３，４−ジヒドロ−３−ヒドロキシ−４−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアジン、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、好ましくは１−ヒドロキシベンゾトリアゾール等の添加剤を加えることもできる。
製造法２
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＨ（式中、ＲＨは置換もしくは非置換の低級アルキルを表し、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＰ−ａ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲＡ３ＲＡ４（式中、ＲＡ３及びＲＡ４はそれぞれ前記ＲＡ１及びＲＡ２と同義であり、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＰ−ｂ）、ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、ＣＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲＡ３ＲＡ４（式中、Ｒ７、Ｒ８、ＲＡ３及びＲＡ４はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＨ−ｂ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000023
（式中、Ｄはヨウ素原子、臭素原子または塩素原子を表わし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８、ＲＡ３、ＲＡ４、ＲＨ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程６
化合物（ＩＸ）は、化合物（Ｖ）を溶媒中、必要により１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の塩基、ルイス酸または酸化剤の存在下、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量のハロゲン化剤と、０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは０〜１００℃で、１０分間から４８時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばＴＨＦ、ヘプタン、ペンタン、ヘキサン、アセトニトリル、ＤＭＳＯ、ジエチルエーテル、クロロホルム、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、四塩化炭素、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＴＨＦ、ジエチルエーテルまたはジクロロメタンを用いることができる。
ハロゲン化剤としては、例えばヨウ素、臭素、塩素、Ｎ−ヨードスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−クロロスクシンイミド、１，２−ジヨードエタン、ブロモジメチルスルホニウムブロミド、臭化水素酸ピリジン塩−臭素錯体、臭素−キノリン錯体、テトラブチルアンモニウムブロミド、塩化チオニル、１，２−ジブロモ−１，１，２，２−テトラフルオロエタン、臭素−ピリジン錯体、塩化ヨウ素、ヨウ化ナトリウム等を用いることができ、好ましくはヨウ素、臭素または１，２−ジヨードエタンを用いることができる。
塩基としては、例えばジイソプロピルアミン、ＬＤＡ、カリウムジイソプロピルアミド、ナトリウムジイソプロピルアミド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、マグネシウム、ナトリウム、リチウム、カリウム、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用いることができ、好ましくはＬＤＡ、カリウムジイソプロピルアミドまたはｔｅｒｔ−ブチルリチウムを用いることができる。
ルイス酸としては、例えばジブチルマグネシウム、三フッ化ホウ素エーテル錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、臭化亜鉛、ビストリフルオロ酢酸水銀等を用いることができ、好ましくはジブチルマグネシウムまたは塩化アルミニウムを用いることができる。
酸化剤としては、例えば過酸化水素、過塩素酸リチウム等を用いることができる。
工程７
化合物（ＩＰ−ａ）は、化合物（ＩＸ）及び１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の化合物（Ｘ）を溶媒中、触媒量のパラジウム化合物と、必要により触媒量から１当量の有機リン化合物存在下、０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは室温から１４０℃で１０分間から４８時間反応させることによって合成することができる。この行程は必要により、０．２〜５当量、好ましくは１当量の塩または塩基を添加して行うこともできる。
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＤＭＳＯ、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸メチル、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、ヘキサン等を用いることができ、好ましくはＴＨＦ、ＤＭＦまたはトルエンを用いることができる。
パラジウム化合物としては、例えば塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、塩化［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム（ＩＩ）、塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）及びそのクロロホルム付加物等を用いることができ、好ましくは塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）またはテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）を用いることができる。
有機リン化合物としては、例えばトリフェニルホスフィン、トリオルトトルイルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフリルホスフィン、２，２−ビスジフェニルホスフィノ−１，１−ビナフチル、１，１，−ビスジフェニルホスフィノフェロセン、亜リン酸トリメチル等を用いることができ、好ましくはトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンまたはトリフリルホスフィンを用いることができる。
塩としては、例えば塩化リチウム、塩化カリウム、酸化銀、酸化銅、硝酸銀、酢酸銀等を用いることができ、塩基としては、例えばトリエチルアミン、ナトリウムエトキシド、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等を用いることができる。
工程８
化合物（ＸＩ）は、化合物（ＩＰ−ａ）を溶媒中、０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは室温から１００℃で、１当量から大過剰量の塩基存在下、１〜４８時間、好ましくは１〜３時間処理することにより得ることができる。
塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、ナトリウムメトキシド等を用いることができ、好ましくは水酸化ナトリウムを用いることができる。
溶媒としては、例えば水、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、メタノール、エタノール、プロパノール、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＴＨＦ、メタノールまたはそれらと水の混合溶媒を用いることができる。
工程９
化合物（ＩＰ−ｂ）は、化合物（ＸＩ）を製造法１の工程５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１０
化合物（ＩＨ−ｂ）は、化合物（ＩＰ−ｂ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法３
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＰ−ｃ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、ＣＨ及び置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＨ−ｃ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000024
［式中、Ｒ３２は置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表し、Ｔはトリブチルスタニル、トリメチルスタニル、トリフェニルスタニル、ジ低級アルキルボラニルまたはジ低級シクロアルキルボラニルを表わし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｄ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である。ジ低級アルキルボラニルの低級アルキル部分及びジ低級シクロアルキルボラニルの低級シクロアルキル部分は、それぞれ前記低級アルキル及び低級シクロアルキルと同義であり、ジ低級アルキルボラニルの２つの低級アルキル部分及びジ低級シクロアルキルボラニルの２つの低級シクロアルキル部分は、それぞれ同一でも異なっていてもよい］
工程１１
化合物（ＩＰ−ｃ）は、化合物（ＩＸ）及び１〜１０当量、好ましくは１〜３当量の化合物（ＸＩＩＩ）を溶媒中、触媒量のパラジウム化合物及び必要により触媒量から１当量の有機リン化合物存在下、室温から１４０℃で、１０分間から４８時間反応させることによって合成することができる。この工程は必要により、０．２〜５当量、好ましくは１当量の塩または塩基を添加して行うこともできる。
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＤＭＳＯ、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸メチル、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、ヘキサン、水等を用いることができ、好ましくはＴＨＦ、ＤＭＦ、水を用いることができる。
パラジウム化合物としては、例えば塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、塩化［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム（ＩＩ）、塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）及びそのクロロホルム付加物等を用いることができ、好ましくは塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）またはテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）を用いることができる。
有機リン化合物としては、例えばトリフェニルホスフィン、トリオルトトルイルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフリルホスフィン、２，２−ビスジフェニルホスフィノ−１，１−ビナフチル、１，１’−ビスジフェニルホスフィノフェロセン、亜リン酸トリメチル等を用いることができ、好ましくはトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンまたはトリフリルホスフィンを用いることができる。
塩としては、例えば塩化リチウム、塩化カリウム、酸化銀、酸化銅、硝酸銀、酢酸銀等を用いることができる。塩基としては、例えばトリエチルアミン、ナトリウムエトキシド、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等を用いることができ、好ましくは炭酸ナトリウムを用いることができる。
工程１２
化合物（ＩＰ−ｃ）は、化合物（ＸＩＩ）及び１〜１０当量、好ましくは１〜３当量の化合物（ＸＩＶ）を、工程１１と同様な反応に付すことによっても合成することができる。
化合物（ＸＩＩ）は、文献（ＷＯ０２／３２８６１）記載の方法によって合成することができる。
工程１３
化合物（ＩＨ−ｃ）は、化合物（ＩＰ−ｃ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法４
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ、Ｎ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ１６（式中、Ｒ１６は前記と同義である）で置換されたアリールである化合物（ＩＰ−ｄ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、ＣＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１４ａＲ１４ｂ（式中、Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂはそれぞれ前記と同義である）で置換されたアリールである化合物（ＩＨ−ｄ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000025
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ａ、Ｒ１４ｂ、Ｒ１６、Ｄ、Ｔ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１４
化合物（ＩＰ−ｄ）は、化合物（ＩＸ）及び化合物（ＸＶ）を製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１５
化合物（ＩＰ−ｄ）は、化合物（ＸＩＩ）及び化合物（ＸＶＩ）を製造法３の工程１２と同様な反応に付すことによっても合成することができる。
工程１６
化合物（ＸＶＩＩ）は、化合物（ＩＰ−ｄ）を製造法２の工程８と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１７
化合物（ＸＶＩＩＩ）は、化合物（ＸＶＩＩ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１８
化合物（ＩＨ−ｄ）は、化合物（ＸＶＩＩＩ）を製造法１の工程５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法５
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ、Ｎ−Ｂｏｃ、ＣＨ及びホルミルで置換されたアリールである化合物（ＩＰ−ｅ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂと同義である）で置換されたアリールである化合物（ＩＰ−ｆ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、ＣＨ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換されたアリールである化合物（ＩＨ−ｅ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000026
（式中、Ｒ３３はホルミルまたは１，３−ジオキソラン−２−イル等のホルミル等価体を表わし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ、Ｄ、Ｔ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１９
化合物（ＩＰ−ｅ）は、化合物（ＩＸ）及び化合物（ＸＩＸ）を、製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。なお、本工程において、化合物（ＸＩＸ）のＲ３３がホルミル等価体である場合は、必要により、１〜５０当量、好ましくは３〜５当量の塩酸、酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の酸を添加してもよい。
工程２０
化合物（ＩＰ−ｅ）は、化合物（ＸＩＩ）及び化合物（ＸＸ）を製造法３の工程１２と同様な反応に付すことによっても合成することができる。なお、本工程において、化合物（ＸＸ）のＲ３３がホルミル等価体である場合は、必要により、１〜５０当量、好ましくは３〜５当量の塩酸、酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の酸を添加してもよい。
工程２１
化合物（ＩＰ−ｆ）は、化合物（ＩＰ−ｅ）及び１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の化合物（ＶＩＩＩｃ）を、溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは１〜３当量の還元剤の存在下、−７８〜１００℃、好ましくは０〜５０℃で、１０分間から２４時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ＤＭ、ＤＭＡ、アセトニトリル、ヘキサン、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＴＨＦまたはジクロロメタンを用いることができる。
還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素ナトリウム等を用いることができ、好ましくはトリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムを用いることができる。
この行程は、必要により、触媒量から大過剰量、好ましくは０．５〜５当量の酸を添加して行ってもよい。酸としては、例えばギ酸、酢酸、ＴＦＡ、プロピオン酸、塩酸等を用いることができ、好ましくは酢酸を用いることができる。
工程２２
化合物（ＩＨ−ｅ）は、化合物（ＩＰ−ｆ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法６
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ３４（式中、Ｒ３４は置換もしくは非置換の低級アルキルまたは置換もしくは非置換の低級シクロアルキルを表す）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＰ−ｇ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、ＣＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＨ−ｆ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000027
｛式中、Ｈｅｔはヘテロアリレン［該ヘテロアリレンは前記芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）から水素原子を１つ除いたものと同義である］を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ、Ｒ３４、Ｄ、Ｔ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である｝
工程２３
化合物（ＩＰ−ｇ）は、化合物（ＩＸ）及び化合物（ＸＸＩ）を製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程２４
化合物（ＩＰ−ｇ）は、化合物（ＸＩＩ）及び化合物（ＸＸＩＩ）を製造法３の工程１２と同様な反応に付すことによって合成することもできる。
工程２５
化合物（ＸＸＩＩＩ）は、化合物（ＩＰ−ｇ）を製造法２の工程８と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程２６
化合物（ＸＸＩＶ）は、化合物（ＸＸＩＩＩ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程２７
化合物（ＩＨ−ｆ）は、化合物（ＸＸＩＶ）を製造法１の工程５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法７
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及びホルミルで置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＰ−ｈ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＰ−ｉ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、ＣＨ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＨ−ｇ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000028
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ、Ｒ３３、Ｄ、Ｔ、Ｚ１及びＨｅｔはそれぞれ前記と同義である）
工程２８
化合物（ＩＰ−ｈ）は、化合物（ＩＸ）及び化合物（ＸＸＶ）を製造法５の工程１９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程２９
化合物（ＩＰ−ｈ）は、化合物（ＸＩＩ）及び化合物（ＸＸＶＩ）を製造法５の工程２０と同様な反応に付すことによって合成することもできる。
工程３０
化合物（ＩＰ−ｉ）は、化合物（ＩＰ−ｈ）を製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程３１
化合物（ＩＨ−ｇ）は、化合物（ＩＰ−ｉ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法８
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＣＨ３）ＯＣＨ３である化合物（ＩＰ−ｊ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル（該芳香族複素環カルボニルの芳香族複素環基部分はテトラゾリルではない）である化合物（ＩＰ−ｋ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、ＣＨ及び置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル（該芳香族複素環カルボニルの芳香族複素環基部分はテトラゾリルではない）である化合物（ＩＨ−ｈ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000029
［式中、Ｒ３５は置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表わし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｄ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である］
工程３２
化合物（ＩＰ−ｊ）は、化合物（ＶＩ）及びＮ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミンを、製造法１の工程５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程３３
化合物（ＩＰ−ｋ）は、化合物（ＩＰ−ｊ）を溶媒中、１〜２０当量、好ましくは２〜５当量の化合物（ＸＸＶＩＩ）または化合物（ＸＸＶＩＩＩ）と、−１００〜５０℃、好ましくは−７８〜２５℃で１分間から４８時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、ジクロロメタン、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＴＨＦまたはジエチルエーテルを用いることができる。
工程３４
化合物（ＩＨ−ｈ）は、化合物（ＩＰ−ｋ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法９
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及びホルミルである化合物（ＩＰ−ｌ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＰ−ｍ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、ＣＨ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）である化合物（Ｉｈ−ｉ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000030
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程３５
化合物（ＩＰ−ｌ）は、化合物（Ｖ）を溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の塩基及び大過剰量のホルミル化剤と、−１００℃から室温、好ましくは−１００〜０℃で、１分間から４８時間、好ましくは１分間から１時間反応させることによって合成することができる。
塩基としては、例えばＬＤＡ、カリウムジイソプロピルアミド、ナトリウムジイソプロピルアミド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、マグネシウム、ナトリウム、リチウム、カリウム、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウム等を用いることができ、好ましくはＬＤＡ、カリウムジイソプロピルアミドまたはナトリウムジイソプロピルアミドを用いることができる。
ホルミル化剤としては、例えばＤＭＦ、Ｎ−ホルミルピペラジン、Ｎ−ホルミルモルホリン、オルトギ酸エチル、エトキシメチレンアニリン、ギ酸エチル、ギ酸無水物、ギ酸リチウム、Ｎ−ホルミル−Ｎ−メチルアニリン等を用いることができ、好ましくはＤＭＦ、Ｎ−ホルミルピペラジンまたはオルトギ酸エチルを用いることができる。
溶媒としては、例えばＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、エチレングリコール、グライム、ジグライム、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン等を用いることができ、好ましくはＴＨＦを用いることができる。
工程３６
化合物（ＩＰ−ｍ）は、化合物（ＩＰ−ｌ）を製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程３７
化合物（ＩＨ−ｉ）は、化合物（ＩＰ−ｍ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法１０
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＯＨ（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＰ−ｎ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨＯ（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＰ−ｏ）、Ｘ、Ｙ及びＷが、それぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＰ−ｐ）ならびにＸ、Ｙ及びＷが、それぞれＮＨ、ＣＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＨ−ｊ）は、例えば以下の工程で製造することができる。
2005082905.tif 000031
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ、ＲＨ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程３９
製造法２の工程７で得られる化合物（ＩＰ−ａ）を溶媒中、２〜４当量の還元剤と、−７８〜４０℃で、１０分間から２４時間、好ましくは１〜３時間反応させることによって化合物（ＩＰ−ｎ）を合成することができる。
溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、アセトニトリル、メタノール、エタノール、プロパノール、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはメタノール、ＴＨＦまたはトルエンを用いることができる。
還元剤としては、例えば水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、ジイソプロピル水素化アルミニウムリチウム等を用いることができ、好ましくは水素化ホウ素ナトリウムまたはジイソプロピル水素化アルミニウムリチウムを用いることができる。
工程４０
化合物（ＩＰ−ｏ）は、化合物（ＩＰ−ｎ）を溶媒中、１当量から大過剰量の酸化剤と、０〜１００℃、好ましくは室温で、１０分間から２４時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＤＭＳＯ、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ＴＦＡ、水、ピリジン、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＤＭＦを用いることができる。
酸化剤としては、例えば二酸化マンガン、クロム酸、クロロクロム酸ピリジニウム、ニクロム酸ピリジニウム、過マンガン酸カリウム、三酸化硫黄−ピリジン、オキソン（登録商標）等を用いることができ、好ましくは二酸化マンガンを用いることができる。
工程４１
化合物（ＩＰ−ｐ）は、化合物（ＩＰ−ｏ）を製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程４２
化合物（ＩＨ−ｊ）は、化合物（ＩＰ−ｐ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法１１
Ｘ、Ｙ及びＷが、それぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及びヒドロキシメチルである化合物（ＩＰ−ｑ）、Ｘ、Ｙ及びＷが、それぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び置換もしくは非置換のアリールオキシメチルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシメチル（テトラゾリルオキシメチルを除く）である化合物（ＩＰ−ｒ）ならびにＸ、Ｙ及びＷが、それぞれＮＨ、ＣＨ及び置換もしくは非置換のアリールオキシメチルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシメチル（テトラゾリルオキシメチルを除く）である化合物（ＩＨ−ｋ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000032
［式中、Ｒ３６は置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＺ１はそれぞれ前記と同義である］
工程４３
化合物（ＩＰ−ｑ）は、化合物（ＩＰ−ｋ）を製造法１０の工程３９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程４４
化合物（ＩＰ−ｒ）は、化合物（ＩＰ−ｑ）を溶媒中、１〜１０当量、好ましくは１〜３当量の酸素原子受容体及び水素原子受容体の存在下、１〜１０当量、好ましくは１〜３当量の化合物（ＸＸＩＸ）と反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、ジクロロメタン、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＴＨＦを用いることができる。
酸素原子受容体としては、例えばトリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等を用いることができ、水素原子受容体としては、例えばジエチルアゾジカルボキシレート（ＤＥＡＤ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルアザジカルボキサミド、１，１’−（アザジカルボニル）ジピペラジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルアザジカルボキサミド等を用いることができ、好ましくはトリフェニルホスフィン及びＤＥＡＤを組み合わせて用いることができる。さらに上記の試薬の代わりに（シアノメチレン）トリブチルホスホランを単独で用いることもできる。
工程４５
化合物（ＩＨ−ｋ）は、化合物（ＩＰ−ｒ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法１２
Ｘ、Ｙ及びＷが、それぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＯＲ３６（式中、Ｒ３６は前記と同義である）である化合物（ＩＰ−ｓ）ならびにＸ、Ｙ及びＷが、それぞれＮＨ、ＣＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＯＲ３６（式中、Ｒ３６は前記と同義である）である化合物（ＩＨ−１）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000033
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ３６及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程４６
化合物（ＩＰ−ｓ）は、化合物（ＩＰ−ｎ）を製造法１１の工程４４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程４７
化合物（ＩＨ−１）は、化合物（ＩＰ−ｓ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法１３
Ｘ、Ｙ及びＷが、それぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び式（Ｃ２）
2005082905.tif 000034
（式中、ｎｈ及びｎｉはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＰ−ｔ）、Ｘ、Ｙ及びＷが、それぞれＮＨ、ＣＨ及び式（Ｃ３）
2005082905.tif 000035
（式中、ｎｈ及びｎｉはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＨ−ｍ）ならびにＸ、Ｙ及びＷが、それぞれＮＨ、ＣＨ及び式（Ｃ４）
2005082905.tif 000036
［式中、Ｒ３７は置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表し、ｎｈ及びｎｉはそれぞれ前記と同義である］である化合物（ＩＨ−ｎ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000037
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ３７、ｎｈ、ｎｉ、Ｄ、Ｔ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程４８
化合物（ＩＰ−ｔ）は、化合物（ＩＸ）及び化合物（ＸＸＸ）を、製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程４９
化合物（ＩＨ−ｍ）は、化合物（ＩＰ−ｔ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程５０
化合物（ＩＨ−ｎ）は、化合物（ＩＨ−ｍ）及び化合物（ＸＸＸＩ）を、製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法１４
Ｘ、Ｙ及びＷがＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−Ｃ≡Ｃ−Ｒ２１（式中、Ｒ２１は前記と同義である）である化合物（ＩＰ−ｕ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがＮＨ、ＣＨ及び−Ｃ≡Ｃ−Ｒ２１（式中、Ｒ２１は前記と同義である）である化合物（ＩＨ−ｏ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000038
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ２１、Ｄ、Ｔ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程５１
化合物（ＩＰ−ｕ）は、化合物（ＩＸ）及び化合物（ＸＸＸＩＩ）を、製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程５２
化合物（ＩＨ−ｏ）は、化合物（ＩＰ−ｕ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法１５
Ｘ及びＹが、それぞれＮＲ１１（式中、Ｒ１１は前記と同義である）及びＣＨである化合物（ＩＢ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000039
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１１、Ｄ、Ｗ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程５３
化合物（ＩＢ）は、化合物（ＩＨ）を無溶媒もしくは溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の塩基存在下、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の化合物（ＸＸＸＩＩＩ）と、０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは室温から１２０℃で１０分間から４８時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトニトリル、酢酸エチル、ピリジン、テトラリン、それらの混合溶媒等を用いることができる。
塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、炭酸カリウム、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）等を用いることができ、好ましくはトリエチルアミン、ピリジンまたはＤＢＵを用いることができる。
化合物（ＩＨ）は、製造法１〜１４等に記載の方法によって合成することができる。
製造法１６
Ｘ及びＹがそれぞれＮＨ及び窒素原子であるか、またはＸ及びＹがそれぞれ窒素原子及びＮＨである化合物（ＩＣ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000040
（式中、Ｒ３８は前記Ｒ１０と同義であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｗ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程５４
化合物（ＸＸＸＶＩＩ）は、市販の化合物（ＸＸＸＩＶ）を無溶媒もしくは溶媒中、１当量から大過剰量の酸存在下、１当量から大過剰量の化合物（ＸＸＸＶ）と０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは室温から２００℃で、１０分間から４８時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトニトリル、水、それらの混合溶媒等を用いることができる。酸としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ポリリン酸等を用いることができ、好ましくはポリリン酸を用いることができる。
また、化合物（ＸＸＸＶＩＩ）は、化合物（ＸＸＸＩＶ）及び化合物（ＸＸＸＶ）を用いて以下のように段階的に合成することもできる。すなわち、化合物（ＸＸＸＩＶ）及び化合物（ＸＸＸＶ）を用い製造法１の工程５と同様な反応を行い、その後、無溶媒もしくは溶媒中、１当量から大過剰量の酸存在下、０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは室温から２００℃で１０分間から４８時間反応させることによって化合物（ＸＸＸＶＩＩ）を合成することができる。なお、酸の代わりに１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の塩基を用いることもできる。
溶媒としては、例えばＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトニトリル、水、それらの混合溶媒等を用いることができる。
酸としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ポリリン酸、酢酸、ＴＦＡ、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ギ酸、パラトルエンスルホン酸、二塩化スズ、四塩化スズ、塩化アルミニウム等を用いることができ、好ましく塩酸、ＴＦＡまたはメタンスルホン酸を用いることができる。
塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、トリエチルアミン、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ＤＢＵ等を用いることができ、好ましくはナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドまたは水酸化リチウムを用いることができる。
工程５５
化合物（ＸＸＸＶＩＩ）は、化合物（ＸＸＸＩＶ）を溶媒中、必要により触媒量から大過剰量の酸存在下、１当量から大過剰量の化合物（ＸＸＸＶＩ）と、０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは室温から２００℃で、１０分間から４８時間反応させることによっても合成することができる。なお、本反応は必要により酸化剤を添加して行ってもよい。
溶媒としては、例えばＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトニトリル、エタノール、メタノール、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、水、それらの混合溶媒等を用いることができる。
酸としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ポリリン酸、酢酸、ＴＦＡ、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ギ酸、パラトルエンスルホン酸、二塩化スズ、四塩化スズ、塩化アルミニウム等を用いることができ、好ましくは塩酸または酢酸を用いることができる。
酸化剤としては、例えば塩化鉄（ＩＩＩ）、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ）、硝酸セリウム（ＩＶ）アンモニウム（ＣＡＮ）、ヘキサシアノ鉄（ＩＩＩ）カリウム、酸素等を用いることができ、好ましくは塩化鉄（ＩＩＩ）、ヘキサシアノ鉄（ＩＩＩ）カリウムまたはＤＤＱを用いることができる。
工程５６
化合物（ＸＸＸＶＩＩＩ）は、化合物（ＸＸＸＶＩＩ）を製造法１０の工程３９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程５７
化合物（ＩＣ）は、化合物（ＸＸＸＶＩＩＩ）を製造法１の工程２と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法１７
Ｘ及びＹがそれぞれＮＲ３９［式中、Ｒ３９は水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）を表す］及び窒素原子であるか、またはＸ及びＹがそれぞれ窒素原子及びＮＲ３９（式中、Ｒ３９は前記と同義である）である化合物（ＩＤ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000041
（式中、Ｊはフッ素原子、塩素原子または臭素原子を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ３９、Ｗ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程５８
化合物（ＸＸＸＸＩ）は、市販の化合物（ＸＸＸＩＸ）を無溶媒もしくは溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の塩基存在下、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の化合物（ＸＸＸＸ）と０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは室温から１２０℃で、１０分間から４８時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトニトリル、酢酸エチル、ピリジン、テトラリン、それらの混合溶媒等を用いることができる。
塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、炭酸カリウム、ＤＢＵ等を用いることができ、好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたはＤＢＵを用いることができる。
工程５９
化合物（ＸＸＸＸＩＩ）は、化合物（ＸＸＸＸＩ）を製造法１の工程２と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程６０
化合物（ＸＸＸＸＩＩＩ）は、化合物（ＸＸＸＸＩＩ）を溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の還元剤存在下、必要により触媒量から大過剰量の無機化合物または酸存在下、０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは室温から１２０℃で、１０分間から４８時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトニトリル、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはメタノールまたはエタノールを用いることができる。
還元剤としては、例えばスズ（０）、塩化スズ（ＩＩ）、塩化チタン（ＩＩＩ）、塩化クロム（ＩＩ）、亜鉛、鉄、ニッケル、ヒドラジン、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素リチウム等を用いることができ、好ましくは塩化スズ（ＩＩ）、塩化チタン（ＩＩＩ）または鉄を用いることができる。
無機化合物としては、例えば塩化ニッケル（ＩＩ）、ラネーニッケル、塩化コバルト（ＩＩ）等が挙げられる。
酸としては、例えば塩酸、硫酸、酢酸等を用いることができ、好ましくは塩酸を用いることができる。
化合物（ＸＸＸＸＩＩＩ）は、化合物（ＸＸＸＸＩＩ）を溶媒中、１〜５気圧の水素雰囲気下、触媒量から１当量の触媒存在下、０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは室温から１２０℃で、１０分間から４８時間反応させることによっても合成することができる。
溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトニトリル、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはメタノールまたはエタノールを用いることができる。
触媒としては、例えばパラジウム−炭素、ラネーニッケル、酸化白金、ロジウム、ニッケル、ルテニウム等を用いることができ、好ましくはパラジウム−炭素またはラネーニッケルを用いることができる。
工程６１
化合物（ＩＤ）は、化合物（ＸＸＸＸＩＩＩ）を製造法１６の工程５４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法１８
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＲ３９（式中、Ｒ３９は前記と同義である）、窒素原子及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲＡ３ＲＡ４（式中、Ｒ７、Ｒ８、ＲＡ３及びＲＡ４はそれぞれ前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＲ３９（式中、Ｒ３９は前記と同義である）及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲＡ３ＲＡ４（式中、Ｒ７、Ｒ８、ＲＡ３及びＲＡ４はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＤ−ｂ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000042
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ３９、ＲＡ３、ＲＡ４、ＲＨ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程６２
化合物（ＸＸＸＸＩＶ）は、化合物（ＩＤ−ａ）を、製造法２の工程８と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程６３
化合物（ＩＤ−ｂ）は、化合物（ＸＸＸＸＩＶ）を製造法１の工程５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法１９
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＲ３９（式中、Ｒ３９は前記と同義である）、窒素原子及び−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ２２ａＲ２２ｂ（式中、Ｒ２２ａ及びＲ２２ｂはそれぞれ前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＲ３９（式中、Ｒ３９は前記と同義である）及び−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ２２ａＲ２２ｂ（式中、Ｒ２２ａ及びＲ２２ｂはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＤ−ｃ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000043
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ２２ａ、Ｒ２２ｂ、Ｒ３９及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程６４
化合物（ＸＸＸＸＶＩ）は、化合物（ＸＸＸＸＶ）を、製造法１の工程３と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程６５
化合物（ＩＤ−ｃ）は、化合物（ＸＸＸＸＶＩ）を製造法１の工程５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法２０
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＲ３９（式中、Ｒ３９は前記と同義である）、窒素原子及び置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＲ３９（式中、Ｒ３９は前記と同義である）及び置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＤ−ｄ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000044
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ３２、Ｒ３９及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程６６
化合物（ＸＸＸＸＶＩＩ）は、化合物（ＸＸＸＸＶ）を、製造法２の工程６と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程６７
化合物（ＩＤ−ｄ）は、化合物（ＸＸＸＸＶＩＩ）を製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法２１
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ１６（式中、Ｒ１６は前記と同義である）で置換されたアリールであるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ１６（式中、Ｒ１６は前記と同義である）で置換されたアリールである化合物（ＩＤ−ｅ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、窒素原子及び−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１４ａＲ１４ｂ（式中、Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂはそれぞれ前記と同義である）で置換されたアリールであるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１４ａＲ１４ｂ（式中、Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂはそれぞれ前記と同義である）で置換されたアリールである化合物（ＩＣ−ｂ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000045
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ａ、Ｒ１４ｂ、Ｒ１６、Ｄ、Ｔ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程６８
化合物（ＩＤ−ｅ）は、化合物（ＸＸＸＸＶＩＩＩ）及び化合物（ＸＶ）を製造法４の工程１４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程６９
化合物（ＩＤ−ｅ）は、化合物（ＸＸＸＸＩＸ）及び化合物（ＸＶＩ）を製造法４の工程１５と同様な反応に付すことによっても合成することができる。
工程７０
化合物（ＸＸＸＸＸ）は、化合物（ＩＤ−ｅ）を製造法２の工程８と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程７１
化合物（ＸＸＸＸＸＩ）は、化合物（ＸＸＸＸＸ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程７２
化合物（ＩＣ−ｂ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＩ）を製造法１の工程５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法２２
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及びホルミルで置換されたアリールであるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及びホルミルで置換されたアリールである化合物（ＩＤ−ｆ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換されたアリールであるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換されたアリールである化合物（ＩＤ−ｇ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、窒素原子及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換されたアリールであるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＨ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換されたアリールである化合物（ＩＣ−ｃ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000046
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ、Ｒ３３、Ｄ、Ｔ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程７３
化合物（ＩＤ−ｆ）は、化合物（ＸＸＸＸＶＩＩＩ）及び化合物（ＸＩＸ）を製造法５の工程１９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程７４
化合物（ＩＤ−ｆ）は、化合物（ＸＸＸＸＩＸ）及び化合物（ＸＸ）を製造法５の工程２０と同様な反応に付すことによっても合成することができる。
工程７５
化合物（ＩＤ−ｇ）は、化合物（ＩＤ−ｆ）を製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程７６
化合物（ＩＣ−ｃ）は、化合物（ＩＤ−ｇ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法２３
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ３４（式中、Ｒ３４は前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ３４（式中、Ｒ３４は前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＤ−ｈ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、窒素原子及び−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＣ−ｄ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000047
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ、Ｒ３４、Ｄ、Ｔ、Ｚ１及びＨｅｔはそれぞれ前記と同義である）
工程７７
化合物（ＩＤ−ｈ）は、化合物（ＸＸＸＸＶＩＩＩ）及び化合物（ＸＸＩ）を製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程７８
化合物（ＩＤ−ｈ）は、化合物（ＸＸＸＸＩＸ）及び化合物（ＸＸＩＩ）を製造法３の工程１２と同様な反応に付すことによっても合成することができる。
工程７９
化合物（ＸＸＸＸＸＩＩ）は、化合物（ＩＤ−ｈ）を製造法２の工程８と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程８０
化合物（ＸＸＸＸＸＩＩＩ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＩＩ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程８１
化合物（ＩＣ−ｄ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＩＩＩ）を製造法１の工程５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法２４
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及びホルミルで置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及びホルミルで置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＤ−ｉ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＤ−ｊ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、窒素原子及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＨ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＣ−ｅ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000048
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ、Ｒ３３、Ｄ、Ｔ、Ｚ１及びＨｅｔはそれぞれ前記と同義である）
工程８２
化合物（ＩＤ−ｉ）は、化合物（ＸＸＸＸＶＩＩＩ）及び化合物（ＸＸＶ）を製造法５の工程１９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程８３
化合物（ＩＤ−ｉ）は、化合物（ＸＸＸＸＩＸ）及び化合物（ＸＸＶＩ）を製造法５の工程２０と同様な反応に付すことによって合成することもできる。
工程８４
化合物（ＩＤ−ｊ）は、化合物（ＩＤ−ｉ）を製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程８５
化合物（ＩＣ−ｅ）は、化合物（ＩＤ−ｊ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法２５
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＣＨ３）ＯＣＨ３であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＣＨ３）ＯＣＨ３である化合物（ＩＤ−ｋ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル（該芳香族複素環カルボニルの芳香族複素環基部分はテトラゾリルではない）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル（該芳香族複素環カルボニルの芳香族複素環基部分はテトラゾリルではない）である化合物（ＩＤ−ｌ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、窒素原子及び置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル（該芳香族複素環カルボニルの芳香族複素環基部分はテトラゾリルではない）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＨ及び置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル（該芳香族複素環カルボニルの芳香族複素環基部分はテトラゾリルではない）である化合物（ＩＣ−ｆ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000049
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ３５、Ｄ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程８６
化合物（ＩＤ−ｋ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＩＶ）及びＮ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミンを、製造法１の工程５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程８７
化合物（ＩＤ−ｌ）は、化合物（ＩＤ−ｋ）及び化合物（ＸＸＶＩＩ）または化合物（ＸＸＶＩＩＩ）を製造法８の工程３３と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程８８
化合物（ＩＣ−ｆ）は、化合物（ＩＤ−ｌ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法２６
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及びホルミルであるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及びホルミルである化合物（ＩＤ−ｍ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＤ−ｎ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、窒素原子及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＨ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＣ−ｇ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000050
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程８９
化合物（ＩＤ−ｍ）は、製造法１７の工程６１に準じて得られる化合物（ＸＸＸＸＸＶ）を製造法９の工程３５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程９０
化合物（ＩＤ−ｎ）は、化合物（ＩＤ−ｍ）を製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程９１
化合物（ＩＣ−ｇ）は、化合物（ＩＤ−ｎ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法２７
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＯＨ（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＯＨ（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＤ−ｏ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨＯ（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨＯ（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＤ−ｐ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＤ−ｑ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、窒素原子及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＣ−ｈ）は、例えば以下の工程で製造することができる。
2005082905.tif 000051
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ、ＲＨ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程９２
化合物（ＩＤ−ｏ）は、製造法１７の工程６１に準じて得られる化合物（ＩＤ−ａ）を製造法１０の工程３９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程９３
化合物（ＩＤ−ｐ）は、化合物（ＩＤ−ｏ）を製造法１０の工程４０と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程９４
化合物（ＩＤ−ｑ）は、化合物（ＩＤ−ｐ）を製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程９５
化合物（ＩＣ−ｈ）は、化合物（ＩＤ−ｑ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法２８
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及びヒドロキシメチルであるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及びヒドロキシメチルである化合物（ＩＤ−ｒ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び置換もしくは非置換のアリールオキシメチルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシメチル（テトラゾリルオキシメチルを除く）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び置換もしくは非置換のアリールオキシメチルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシメチル（テトラゾリルオキシメチルを除く）である化合物（ＩＤ−ｓ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、窒素原子及び置換もしくは非置換のアリールオキシメチルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシメチル（テトラゾリルオキシメチルを除く）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＨ及び置換もしくは非置換のアリールオキシメチルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシメチル（テトラゾリルオキシメチルを除く）である化合物（ＩＣ−ｉ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000052
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ３６及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程９６
化合物（ＩＤ−ｒ）は、化合物（ＩＤ−ｍ）を製造法１０の工程３９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程９７
化合物（ＩＤ−ｓ）は、化合物（ＩＤ−ｒ）及び化合物（ＸＸＩＸ）を製造法１１の工程４４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程９８
化合物（ＩＣ−ｉ）は、化合物（ＩＤ−ｓ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法２９
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＯＲ３６（式中、Ｒ３６は前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＯＲ３６（式中、Ｒ３６は前記と同義である）である化合物（ＩＤ−ｔ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、窒素原子及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＯＲ３６（式中、Ｒ３６は前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＯＲ３６（式中、Ｒ３６は前記と同義である）である化合物（ＩＣ−ｊ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000053
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ３６及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程９９
化合物（ＩＤ−ｔ）は、製造法１７の工程６１に準じて得られる化合物（ＩＤ−ｏ）を製造法１１の工程４４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１００
化合物（ＩＣ−ｊ）は、化合物（ＩＤ−ｔ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法３０
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び式（Ｃ２）
2005082905.tif 000054
（式中、ｎｈ及びｎｉはそれぞれ前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び式（Ｃ２）
2005082905.tif 000055
（式中、ｎｈ及びｎｉはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＤ−ｕ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、窒素原子及び式（Ｃ３）
2005082905.tif 000056
（式中、ｎｈ及びｎｉはそれぞれ前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＨ及び式（Ｃ３）
2005082905.tif 000057
（式中、ｎｈ及びｎｉはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＣ−ｋ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、窒素原子及び式（Ｃ４）
2005082905.tif 000058
（式中、Ｒ３７、ｎｈ及びｎｉはそれぞれ前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＨ及び式（Ｃ４）
2005082905.tif 000059
（式中、Ｒ３７、ｎｈ及びｎｉはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＣ−ｌ）は以下の工程で製造することができる。
2005082905.tif 000060
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ３７、ｎｈ、ｎｉ、Ｄ、Ｔ及び、Ｚ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１０１
化合物（ＩＤ−ｕ）は、化合物（ＸＸＸＸＶＩＩＩ）及び化合物（ＸＸＸ）を、製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１０２
化合物（ＩＣ−ｋ）は、化合物（ＩＤ−ｕ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１０３
化合物（ＩＣ−ｌ）は、化合物（ＩＣ−ｋ）及び化合物（ＸＸＸＩ）を、製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法３１
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び−Ｃ≡Ｃ−Ｒ２１（式中、Ｒ２１は前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び−Ｃ≡Ｃ−Ｒ２１（式中、Ｒ２１は前記と同義である）である化合物（ＩＤ−ｖ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、窒素原子及び−Ｃ≡Ｃ−Ｒ２１（式中、Ｒ２１は前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＨ及び−Ｃ≡Ｃ−Ｒ２１（式中、Ｒ２１は前記と同義である）である化合物（ＩＣ−ｍ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000061
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ２１、Ｄ、Ｔ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１０４
化合物（ＩＤ−ｖ）は、化合物（ＸＸＸＸＶＩＩＩ）及び化合物（ＸＸＸＩＩ）を、製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１０５
化合物（ＩＣ−ｍ）は、化合物（ＩＤ−ｖ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法３２
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、窒素原子及び−ＮＲ１８ａＲ１８ｂ（式中、Ｒ１８ａ及びＲ１８ｂはそれぞれ前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、Ｎ−Ｂｏｃ及び−ＮＲ１８ａＲ１８ｂ（式中、Ｒ１８ａ及びＲ１８ｂはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＤ−ｗ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、窒素原子及び−ＮＲ１８ａＲ１８ｂ（式中、Ｒ１８ａ及びＲ１８ｂはそれぞれ前記と同義である）であるか、またはＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ窒素原子、ＮＨ及び−ＮＲ１８ａＲ１８ｂ（式中、Ｒ１８ａ及びＲ１８ｂはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＣ−ｎ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000062
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１８ａ、Ｒ１８ｂ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１０６
化合物（ＸＸＸＸＸＶＩＩ）は、製造法１７の工程６０に準じて得られる化合物（ＸＸＸＸＸＶＩ）を溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは１〜３当量の１，１’−カルボニルジイミダゾールと０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは室温から１００℃で１０分間から４８時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトニトリル、酢酸エチル、ピリジン、テトラリン、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＴＨＦまたはＤＭＦを用いることができる。
工程１０７
化合物（ＩＤ−ｗ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＶＩＩ）を無溶媒もしくは溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の塩基存在下、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の酸無水物と、０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは０〜１００℃で、１０分間から４８時間反応させた後、溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の塩基存在下、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の化合物（ＶＩＩＩｄ）と０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは０〜１００℃で１０分間から４８時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトニトリル、酢酸エチル、ピリジン、テトラリン、それらの混合溶媒等を用いることができる。
塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、炭酸カリウム、ＤＢＵ等を用いることができ、好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたはＤＢＵを用いることができる。
酸無水物としては、例えば無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸、安息香酸無水物、メタンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、ｐ−トルエンスルホン酸無水物等を用いることができる。
工程１０８
化合物（ＩＣ−ｎ）は、化合物（ＩＤ−ｗ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法３３
Ｘ及びＹがそれぞれＮＲ１１（式中、Ｒ１１は前記と同義である）及び窒素原子であるか、またはＸ及びＹがそれぞれ窒素原子及びＮＲ１１（式中、Ｒ１１は前記と同義である）である化合物（ＩＥ）は以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000063
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１１、Ｄ、Ｗ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１０９
化合物（ＩＥ）は、化合物（ＩＣ）を製造法１５の工程５３と同様な反応に付すことによって合成することができる。
化合物（ＩＣ）は、製造法２１〜３２に記載の方法等によって合成することができる。
製造法３４
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ１０（式中、Ｒ１０は前記と同義である）である化合物（ＩＦ−ａ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ２２ａＲ２２ｂ（式中、Ｒ２２ａ及びＲ２２ｂはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＦ−ｂ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000064
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１０、Ｒ２２ａ、Ｒ２２ｂ、Ｄ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１１０
化合物（ＸＸＸＸＸＸ）は、市販の化合物（ＸＸＸＸＸＶＩＩＩ）を溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の塩基存在下、１当量から大過剰量、好ましくは１〜３当量の化合物（ＸＸＸＸＸＩＸ）と、０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは室温から７０℃で、１０分間から４８時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトニトリル、酢酸エチル、ピリジン、テトラリン、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＴＨＦまたはＤＭＦを用いることができる。
塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、トリエチルアミン、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ＤＢＵ等を用いることができ、好ましくは炭酸カリウムまたはＤＢＵを用いることができる。
工程１１１
化合物（ＸＸＸＸＸＸＩ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸ）を製造法１０の工程３９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１１２
化合物（ＩＦ−ａ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＩ）を製造法１の工程２と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１１３
化合物（ＸＸＸＸＸＸＩＩ）は、化合物（ＩＦ−ａ）を製造法２の工程８と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１１４
化合物（ＩＦ−ｂ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＩＩ）を製造法２の工程９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法３５
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＦ−ｃ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000065
（式中、Ｒ４０は低級アルキルを表わし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ３２、Ｄ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１１５
化合物（ＸＸＸＸＸＸＩＩＩ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＩＩ）を無溶媒もしくは溶媒中、１当量から大過剰量の無機化合物及び１当量から大過剰量のキノリンと、室温から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは１００〜２００℃で１〜４８時間反応することによって合成することができる。溶媒としては、例えばＤＭＦ、ＮＭＰ、トルエン、キシレン等を用いることができる。
無機化合物としては、例えば銅（０）、酸化銅（Ｉ）等を用いることができる、好ましくは銅（０）を用いることができる。
工程１１６
化合物（ＸＸＸＸＸＸＶ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＩＩＩ）を溶媒中、１〜１０当量、好ましくは１〜３当量の塩基と、−１００〜０℃、好ましくは−１００〜−６０℃で、１分間から１時間反応させ、その後、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の化合物（ＸＸＸＸＸＸＩＶ）と、−１００℃から室温、好ましくは−７８℃から室温で１分間から３時間、好ましくは１０分間から１時間反応させることによって合成することができる。
塩基としては、例えばＬＤＡ、カリウムジイソプロピルアミド、ナトリウムジイソプロピルアミド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、マグネシウム、ナトリウム、リチウム、カリウム、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウム等を用いることができ、好ましくはＬＤＡ、カリウムジイソプロピルアミド、ブチルリチウムを用いることができる。
溶媒としては、例えばＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ヘキサン、ジエチルエーテル、エチレングリコール、グライム、ジグライム、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン等を用いることができ、好ましくはＴＨＦ、ヘキサン、ジエチルエーテルを用いることができる。
工程１１７
化合物（ＩＦ−ｃ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＶ）を製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法３６
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及びＣ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＨ（式中、Ｒ７、Ｒ８及びＲＨはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＦ−ｄ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及びＣ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲＡ３ＲＡ４（式中、Ｒ７、Ｒ８、ＲＡ３及びＲＡ４はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＦ−ｅ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000066
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８、ＲＡ３、ＲＡ４、ＲＨ、Ｄ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１１８
化合物（ＸＸＸＸＸＸＶＩ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＩＩＩ）を製造法２の工程６と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１１９
化合物（ＩＦ−ｄ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＶＩ）を製造法２の工程７と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１２０
化合物（ＸＸＸＸＸＸＶＩＩ）は、化合物（ＩＦ−ｄ）を製造法２の工程８と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１２１
化合物（ＩＦ−ｅ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＶＩＩ）を製造法１の工程５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法３７
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ１６（式中、Ｒ１６は前記と同義である）で置換されたアリールである化合物（ＩＦ−ｆ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１４ａＲ１４ｂ（式中、Ｒ１４ａ及びＲ１４ｂはそれぞれ前記と同義である）で置換されたアリールである化合物（ＩＦ−ｇ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000067
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ａ、Ｒ１４ｂ、Ｒ１６、Ｄ、Ｔ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１２２
化合物（ＩＦ−ｆ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＶＩ）及び化合物（ＸＶ）を製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１２３
化合物（ＸＸＸＸＸＸＶＩＩＩ）は、化合物（ＩＦ−ｆ）を製造法２の工程８と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１２４
化合物（ＩＦ−ｇ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＶＩＩＩ）を製造法１の工程５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法３８
Ｘ、Ｙ及びＷが、それぞれ酸素原子、ＣＨ及びホルミルで置換されたアリールである化合物（ＩＦ−ｈ）ならびにＸ、Ｙ及びＷが、それぞれ酸素原子、ＣＨ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換されたアリールである化合物（ＩＦ−ｉ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000068
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ、Ｒ３３、Ｄ、Ｔ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１２５
化合物（ＩＦ−ｈ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＶＩ）及び化合物（ＸＩＸ）を、製造法５の工程１９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１２６
化合物（ＩＦ−ｉ）は、化合物（ＩＦ−ｈ）を、製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法３９
Ｘ、Ｙ及びＷが、それぞれ酸素原子、ＣＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ３４（式中、Ｒ３４は前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＦ−ｊ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＦ−ｋ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000069
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ、Ｒ３４、Ｄ、Ｚ１及びＨｅｔはそれぞれ前記と同義である）
工程１２７
化合物（ＩＦ−ｊ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＶＩ）及び化合物（ＸＸＩ）を製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１２８
化合物（ＸＸＸＸＸＸＩＸ）は、化合物（ＩＦ−ｊ）を製造法２の工程８と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１２９
化合物（ＩＦ−ｋ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＩＸ）を製造法１の工程５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法４０
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及びホルミルで置換された芳香族複素環（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＦ−ｌ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）で置換された芳香族複素環基（テトラゾリルを除く）である化合物（ＩＦ−ｍ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000070
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ、Ｒ３３、Ｄ、Ｔ、Ｚ１及びＨｅｔはそれぞれ前記と同義である）
工程１３０
化合物（ＩＦ−ｌ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＶＩ）及び化合物（ＸＸＶ）を製造法５の工程１９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１３１
化合物（ＩＦ−ｍ）は、化合物（ＩＦ−ｌ）を製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法４１
Ｘ、Ｙ及びＷが、それぞれ酸素原子、ＣＨ及び−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＣＨ３）ＯＣＨ３である化合物（ＩＦ−ｎ）ならびにＸ、Ｙ及びＷが、それぞれ酸素原子、ＣＨ及び置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニルである化合物（ＩＦ−ｏ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000071
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ３５、Ｄ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１３２
化合物（ＩＦ−ｎ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＩＩ）を、製造法８の工程３２と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１３３
化合物（ＩＦ−ｏ）は、化合物（ＩＦ−ｎ）及び化合物（ＸＸＶＩＩ）または化合物（ＸＸＶＩＩＩ）を製造法８の工程３３と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法４２
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及びホルミルである化合物（ＩＦ−ｐ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＦ−ｑ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000072
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１３４
化合物（ＩＦ−ｐ）は、（ＸＸＸＸＸＸＩＩＩ）を製造法９の工程３５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１３５
化合物（ＩＦ−ｑ）は、化合物（ＩＦ−ｐ）を製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法４３
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＯＨ（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＦ−ｒ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨＯ（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＦ−ｓ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＮＲ１４ｃＲ１４ｄ（式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１４ｃ及びＲ１４ｄはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＦ−ｔ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000073
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１４ｃ、Ｒ１４ｄ、ＲＨ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１３６
化合物（ＩＦ−ｒ）は、化合物（ＩＦ−ｄ）を製造法１０の工程３９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１３７
化合物（ＩＦ−ｓ）は、化合物（ＩＦ−ｒ）を製造法１０の工程４０と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１３８
化合物（ＩＦ−ｔ）は、化合物（ＩＦ−ｓ）を製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法４４
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及びヒドロキシメチルである化合物（ＩＦ−ｕ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び置換もしくは非置換のアリールオキシメチルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシメチル（テトラゾリルオキシメチルを除く）である化合物（ＩＦ−ｖ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000074
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ３６及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１３９
化合物（ＩＦ−ｕ）は、化合物（ＩＦ−ｐ）を製造法１０の工程３９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１４０
化合物（ＩＦ−ｖ）は、化合物（ＩＦ−ｕ）及び化合物（ＸＸＩＸ）を製造法１１の工程４４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法４５
Ｘ、Ｙ及びＷが、それぞれ酸素原子、ＣＨ及び−Ｃ（Ｒ７）＝Ｃ（Ｒ８）−ＣＨ２ＯＲ３６（式中、Ｒ７、Ｒ８及びＲ３６はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＦ−ｗ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000075
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ３６及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１４１
化合物（ＩＦ−ｗ）は、化合物（ＩＦ−ｒ）を製造法１１の工程４４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法４６
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び式（Ｃ２）
2005082905.tif 000076
（式中、ｎｈ及びｎｉはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＦ−ｘ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び式（Ｃ３）
2005082905.tif 000077
（式中、ｎｈ及びｎｉはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＦ−ｙ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び式（Ｃ４）
2005082905.tif 000078
（式中、Ｒ３７、ｎｈ及びｎｉはそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＦ−ｚ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000079
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ３７、ｎｈ、ｎｉ、Ｄ、Ｔ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１４２
化合物（ＩＦ−ｘ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＶＩ）及び化合物（ＸＸＸ）を、製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１４３
化合物（ＩＦ−ｙ）は、化合物（ＩＦ−ｘ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１４４
化合物（ＩＦ−ｚ）は、化合物（ＩＦ−ｙ）及び化合物（ＸＸＸＩ）を、製造法５の工程２１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法４７
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれ酸素原子、ＣＨ及び−Ｃ≡Ｃ−Ｒ２１（式中、Ｒ２１は前記と同義である）である化合物（ＩＦ−ｚａ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000080
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ２１、Ｄ、Ｔ及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１４５
化合物（ＩＦ−ｚａ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＶＩ）及び化合物（ＸＸＸＩＩ）を、製造法３の工程１１と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法４８
Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及びＣＲ４１Ｒ４２ＯＨ（式中、Ｒ４１及びＲ４２は同一または異なって水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルまたは置換もしくは非置換のアリールを表す）である化合物（ＩＰ−ｖ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、ＣＨ及び−ＣＲ４１Ｒ４２ＯＨ（式中、Ｒ４１及びＲ４２はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＨ−ｐ）、Ｘ、Ｙ及びＷがそれぞれＮ−Ｂｏｃ、ＣＨ及び−ＣＯＲ４１（式中、Ｒ４１は前記と同義である）である化合物（ＩＰ−ｗ）ならびにＸ、Ｙ及びＷがそれぞれＮＨ、ＣＨ及び−ＣＯＲ４１（式中、Ｒ４１は前記と同義である）である化合物（ＩＨ−ｑ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000081
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４１、Ｒ４２及びＺ１はそれぞれ前記と同義である）
工程１４６
化合物（ＩＰ−ｖ）は、化合物（Ｖ）を溶媒中、必要により１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の塩基存在下、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の化合物（ＸＸＸＸＸＸＸ）と、−７８℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは−７８〜０℃で、１０分間から４８時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばＴＨＦ、ヘプタン、ペンタン、ヘキサン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＴＨＦ、ジエチルエーテルまたはヘキサンを用いることができる。
塩基としては、例えばジイソプロピルアミン、ＬＤＡ、カリウムジイソプロピルアミド、ナトリウムジイソプロピルアミド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、マグネシウム、ナトリウム、リチウム、カリウム、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムブロミド等を用いることができ、好ましくはＬＤＡ、カリウムジイソプロピルアミドまたはｔｅｒｔ−ブチルリチウムを用いることができる。
工程１４７
化合物（ＩＨ−ｐ）は、化合物（ＩＰ−ｖ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
Ｒ４２が水素原子である場合は、下記の工程１４８及び工程１４９によって、化合物（ＩＰ−ｗ）及び化合物（ＩＨ−ｑ）を製造することができる。
工程１４８
化合物（ＩＰ−ｗ）は、化合物（ＩＰ−ｖ）を溶媒中、１当量から大過剰量、好ましくは１〜１０当量の酸化剤と、０〜１００℃、好ましくは室温で１０分間から２４時間反応させることによって合成することができる。
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、ジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＤＭＳＯ、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸、プロピオン酸、酪酸、トリフルオロ酢酸、水、ピリジン、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＤＭＦを用いることができる。
酸化剤としては、例えばオキザリルクロリド／ＤＭＳＯ、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎペルヨージナン（ＤＭＰ）、二酸化マンガン、クロム酸、クロロクロム酸ピリジニウム、二クロム酸ピリジニウム、過マンガン酸カリウム、三酸化硫黄−ピリジン／ＤＭＳＯ、オキソン（登録商標）等を用いることができ、好ましくはオキザリルクロリド／ＤＭＳＯ、ＤＭＰまたは二酸化マンガンを用いることができる。
工程１４９
化合物（ＩＨ−ｑ）は、化合物（ＩＰ−ｗ）を製造法１の工程４と同様な反応に付すことによって合成することができる。
化合物（ＸＸＸＸＸＶ）及び化合物（ＸＸＸＸＸＸＩＩＩ）に対して、製造法４８と同様の方法を適用することで、対応する化合物を製造することができる。
製造法４９
ＹがＣ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ４３（式中、Ｒ４３は水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキルまたは置換もしくは非置換のアリールを表す）である化合物（ＩＧ−ｂ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000082
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４３、Ｘ、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４及びＷはそれぞれ前記と同義である）
工程１５０
化合物（ＩＧ−ｂ）は、化合物（ＩＧ−ａ）をアシル化することにより合成することができる。芳香族化合物のアシル化には多くの方法［第４版実験化学講座、第２２巻、２７８頁（１９９０年）丸善］が知られており、それらの方法に準じて、化合物（ＩＧ−ｂ）を製造することができる。例えば、化合物（ＩＧ−ａ）を溶媒中、１当量から大過剰の酸クロリドまたは酸無水物と、１当量から大過剰量の酸存在下、−５０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度で、５分間から４８時間反応させることにより、化合物（ＩＧ−ｂ）を得ることができる。
溶媒としては、例えばＤＭＦ、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素、ベンゼン、トルエン、ニトロベンゼン、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、二硫化炭素、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＤＭＦまたはジクロロメタンを用いることができる。
酸としては、例えばメタンスルホン酸、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化スズ、四塩化チタン、塩化亜鉛、塩化第二鉄等を用いることができ、好ましくは四塩化チタンまたは塩化アルミニウムを用いることができる。
また、化合物（ＩＧ−ｂ）でＲ４３が水素原子である化合物（ＩＧ−ｃ）は、化合物（ＩＧ−ａ）のホルミル化によって製造することができる。芳香族化合物のホルミル化には多くの方法［第４版実験化学講座、第２１巻、１０６頁（１９９０年）丸善参照］が知られており、それらの方法に準じて、化合物（ＩＧ−ｃ）を製造することができる。例えば、化合物（ＩＧ−ａ）を溶媒中、１当量から大過剰量の酸存在下、−５０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度で５分間から４８時間、１当量から大過剰量のジクロロメチルエーテルで処理することにより、化合物（ＩＧ−ｃ）を得ることができる。
溶媒としては、例えばＤＭＦ、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素、ベンゼン、トルエン、ニトロベンゼン、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、二硫化炭素、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＤＭＦまたはジクロロメタンを用いることができる。
酸としては、例えばメタンスルホン酸、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化スズ、四塩化チタン、塩化亜鉛、塩化第二鉄等を用いることができ、好ましくは四塩化チタンまたは塩化アルミニウムを用いることができる。
さらに、化合物（ＩＧ−ａ）を溶媒中、１当量から大過剰量の活性化剤存在下、−５０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度で、５分間から４８時間、１当量から大過剰量のホルミル化剤で処理することによっても、化合物（ＩＧ−ｃ）を得ることができる。
活性化剤としては、塩化ホスホリル、塩化チオニル、塩化ピロホスホリル、塩化オキザリル、無水トリフルオロメタンスルホン酸、二臭化トリフェニルホスフィン等を用いることができ、好ましくは塩化ホスホリルを用いることができる。
ホルミル化剤としては、例えばＤＭＦ、Ｎ−メチルホルムアニリド（ＭＦＡ）等のＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド等を用いることができ、好ましくはＤＭＦまたはＭＦＡを用いることができる。
溶媒としては、例えばＤＭＦ、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素、ベンゼン、トルエン、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくはＤＭＦを用いることができる。
製造法５０
ＹがＣ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲＨ１ＲＨ２（式中、ＲＨ１及びＲＨ２はそれぞれ前記と同義である）である化合物（ＩＧ−ｅ）は、例えば以下の工程によって製造することができる。
2005082905.tif 000083
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ＲＨ１、ＲＨ２、Ｘ、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４及びＷはそれぞれ前記と同義である）
工程１５１
化合物（ＩＧ−ｃ）を溶媒中、０〜８０℃で、２〜４当量の硝酸銀、酸化銀（Ｉ）、酸化銀（ＩＩ）、クロム酸、クロロクロム酸ピリジニウム、二クロロクロム酸ピリジニウム、過マンガン酸カリウム、過ヨウ素酸ナトリウム、過塩素酸ナトリウム、過酸化水素等の酸化剤、好ましくは硝酸銀または過塩素酸ナトリウムで、１０分間から２４時間、好ましくは１〜３時間処理することにより化合物（ＩＧ−ｄ）を製造することができる。この際、添加剤として、０．１〜４当量の酢酸、硫酸、スルファミン酸、酸化ルテミウム等の無機物を加えてもよい。
溶媒としては、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＤＭＳＯ、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸メチル、メチルエチルケトン、塩酸、酢酸、無水酢酸、硫酸、水、それらの混合溶媒等を用いることができ、好ましくは酢酸または水を用いることができる。
工程１５２
化合物（ＩＧ−ｅ）は、化合物（ＩＧ−ｄ）を製造法１の工程５と同様な反応に付すことによって合成することができる。
製造法５１
Ｘ及びＹがそれぞれＮＨ及びＣＨである化合物（ＩＪ）は、以下の方法によって合成することもできる。
2005082905.tif 000084
（式中、Ｊはハロゲンまたはトリフルオロメタンスルホニルを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４４、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４及びＷはそれぞれ前記と同義である）
製造法５２
工程１５３
化合物（ＸＸＸＸＸＸＸＩ）及び１〜１０当量の化合物（ＸＸＸＸＸＸＸＩＩ）を溶媒中、触媒量のパラジウム化合物、０．２〜５当量、好ましくは１当量の無機化合物、及び０．２〜５当量の塩基の存在下、室温から用いる溶媒の沸点の間の温度で、１０分間から４８時間反応させることにより化合物（ＸＸＸＸＸＸＸＩＩＩ）を得ることができる。
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＤＭＳＯ、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸メチル、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、ヘキサン等を用いることができ、好ましくはＴＨＦまたはＤＭＦを用いることができる。
パラジウム化合物としては、例えば塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、塩化［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム（ＩＩ）、塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）等を用いることができ、好ましくは塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）、またはテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）を用いることができる。
無機化合物としては、例えばヨウ化銅（Ｉ）、塩化リチウム、塩化カリウム、酸化銀、酸化銅、硝酸銀、酢酸銀等を用いることができ、好ましくはヨウ化銅（Ｉ）を用いることができる。
塩基としては、例えばトリエチルアミン、ブチルアミン、ＤＢＵ、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ナトリウムエトキシド、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等を用いることができ、好ましくはトリエチルアミンを用いることができる。
工程１５４
化合物（ＸＸＸＸＸＸＸＩＩＩ）を溶媒中、０．０１当量から大過剰量の無機または有機金属試薬存在下、室温から用いる溶媒の沸点の間の温度で、１０分間から７２時間反応させることにより、化合物（ＸＸＸＸＸＸＸＩＶ）を得ることができる。
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＤＭＳＯ、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸メチル、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、ヘキサン等を用いることができ、好ましくはＤＭＦ、メタノールまたはブタノールを用いることができる。
無機または有機金属試薬としては、例えば酢酸銀（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）、塩化銅（ＩＩ）、銅トリフルオロメタンスルホネート（ＩＩ）、塩化パラジウム（ＩＩ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、酢酸銅（ＩＩ）、塩化亜鉛（ＩＩ）、塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）等を用いることができ、好ましくは酢酸銀（Ｉ）、塩化パラジウム（ＩＩ）または銅トリフルオロメタンスルホネート（ＩＩ）を用いることができる。
また、化合物（ＸＸＸＸＸＸＸＩＶ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＸＩＩＩ）を溶媒中、１当量から大過剰量の塩基存在下、−７０℃から用いる溶媒の沸点の間の温度で、１０分間から４８時間反応させることによっても得ることができる。
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、Ｎ−メチルピロリジノン（ＮＭＰ）、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ＤＭＦ、ＤＭＡ等を用いることができ、好ましくはＴＨＦ、ＮＭＰ、エタノールまたはｔｅｒｔ−ブタノールを用いることができる。
塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、テトラアンモニウムフルオリド、トリエチルアミン、ＤＢＵ、ジイソプロピルエチルアミン等を用いることができ、好ましくは水素化カリウムまたはカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドを用いることができる。
工程１５５
化合物（ＸＸＸＸＸＸＸＶ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＸＩＶ）を製造法１０の工程３９と同様な反応に付すことによって合成することができる。
工程１５６
化合物（ＩＪ）は、化合物（ＸＸＸＸＸＸＸＶ）及び化合物（ＩＶａ）を、ＷＯ９１／１１９９９記載の方法またはそれに準じた方法に付すことによって合成することができる。
化合物（Ｉ）及び原料化合物における各官能基の変換及び置換基に含まれる官能基の変換は、上記工程以外にも公知の他の方法［例えば、コンプリヘンシブ・オーガニック・トランスフォーメーションズ第二版（Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ，ｓｅｃｏｎｄ  ｅｄｉｔｉｏｎ）、Ｒ．Ｃ．ラロック（Ｌａｒｏｃｋ）著、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレーティッド（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．）（１９９９年）に記載の方法］等によっても行うことができる。
上記の方法等を適宜組み合わせて実施することにより、所望の位置に所望の官能基を有する化合物（Ｉ）を得ることができる。
上記製造法における生成物の単離、精製は、通常の有機合成で用いられる方法、例えばろ過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、結晶化、各種クロマトグラフィー等を適宜組み合わせて行うことができる。さらに一般的な並列合成法で常用される精製法、例えば、スカベンジャーレジン、イオン交換レジンを用いて精製することができる。また、中間体においては、特に精製することなく次の反応に供することもできる。
化合物（Ｉ）の塩を取得したい場合には、化合物（Ｉ）の塩が得られるときはそのまま精製すればよく、また化合物（Ｉ）が遊離の形で得られるときは化合物（Ｉ）を適当な溶媒に溶解または懸濁し、酸または塩基を加えて単離・精製すればよい。
以下、第１表〜第２４表に本発明の化合物（Ｉ）の具体例を示すが、本発明はこれらの化合物に限定されることはない。
【表１（１）】
2005082905.tif 000085
【表１（２）】
2005082905.tif 000086
【表２（１）】
2005082905.tif 000087
【表２（２）】
2005082905.tif 000088
【表２（３）】
2005082905.tif 000089
【表２（４）】
2005082905.tif 000090
【表２（５）】
2005082905.tif 000091
【表２（６）】
2005082905.tif 000092
【表２（７）】
2005082905.tif 000093
【表２（８）】
2005082905.tif 000094
【表３】
2005082905.tif 000095
【表４】
2005082905.tif 000096
【表５（１）】
2005082905.tif 000097
【表５（２）】
2005082905.tif 000098
【表５（３）】
2005082905.tif 000099
【表５（４）】
2005082905.tif 000100
【表５（５）】
2005082905.tif 000101
【表６】
2005082905.tif 000102
【表７】
2005082905.tif 000103
【表８】
2005082905.tif 000104
【表９】
2005082905.tif 000105
【表１０】
2005082905.tif 000106
【表１１】
2005082905.tif 000107
【表１２】
2005082905.tif 000108
【表１３】
2005082905.tif 000109
【表１４】
2005082905.tif 000110
【表１５】
2005082905.tif 000111
【表１６】
2005082905.tif 000112
【表１７】
2005082905.tif 000113
【表１８】
2005082905.tif 000114
【表１９】
2005082905.tif 000115
【表２０】
2005082905.tif 000116
【表２１】
2005082905.tif 000117
【表２２】
2005082905.tif 000118
【表２３】
2005082905.tif 000119
【表２４】
2005082905.tif 000120
次に化合物（Ｉ）の薬理作用について試験例で説明する。
好中球性炎症疾患治療剤のスクリーニング法に用いる動物は特に限定されないが、例えばヒトを除く哺乳動物等が挙げられる。気管支肺胞洗浄液（ｂｒｏｎｃｈｏａｌｖｅｏｌａｒ  ｌａｖｅｇｅ  ｆｌｕｉｄ；ＢＡＬＦ）中の好中球浸潤を誘発する物質としては、特に限定されないが、リソホスファチジルコリン（Ｌｙｓｏｐｈｏｓｐｈａｔｉｄｙｌｃｈｏｌｉｎｅ；ＬＰＣ）等が挙げられる。
試験例１：ＧＰＲ４受容体拮抗作用
ＷＯ０３／０８７３６６記載の方法に準じて、ヒトＧＰＲ４のアッセイ細胞の構築を行った。本アッセイ細胞を用いることにより、ヒトＧＰＲ４の構成活性をレポーター（ホタル・ルシフェラーゼの活性で検出することができる。
ヒトＧＰＲ４誘導発現プラスミドｐＡＧａｌ９−ＧＰＲ４（２μｇ：ＷＯ０３／０８７３６６）及びレポータープラスミドｐＡＣＲＥｐｌｕｃ（２μｇ；ＷＯ０３／０８７３６６）を、エレクトロポレーション法により、６×１０６細胞のＫＪＭＧＥＲ８（ＷＯ０３／０８７３６６）に共導入した。該形質転換株を８ｍＬのＲＰＭＩ１６４０・ＩＴＰＳＧ培地〔６ｍｍｏｌ／Ｌ  Ｌ−グルタミン（インビトロジェン社製、１００ｕｎｉｔｓ／ｍｌペニシリン（インビトロジェン社製）、１００μｇ／ｍｌストレプトマイシン（インビトロジェン社製）、１０ｍｍｏｌ／Ｌ  Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン−Ｎ’−２−エタンスルホン酸（ＨＥＰＥＳ）（ナカライテスク製）、３μｇ／ｍｌインシュリン（シグマ社製、５μｇ／ｍｌトランスフェリン（シグマ社製）、５ｍｍｏｌ／Ｌピルビン酸ナトリウム（和光純薬製）、１２５ｎｍｏｌ／Ｌ亜セレン酸（ナカライテスク製）１ｍｇ／ｍｌガラクトース（ナカライテスク製）を含むＲＰＭＩ培地（日水製薬社製）〕に懸濁し、ＣＯ２インキュベーター中、３７℃で２４時間培養した。培養後、ブラストサイジンＳ（フナコシ製、２．０μｇ／ｍｌ）、ハイグロマイシンＢ（和光純薬製、３００μｇ／ｍｌ）及びジェネティシン（ナカライテスク製、５００μｇ／ｍｌ）を添加し、さらに１４日間培養して安定形質転換株（ＧＰＲ４アッセイ細胞と呼ぶ）を取得した。該形質転換株を、ブラストサイジンＳ（フナコシ製、２．０μｇ／ｍｌ）、ハイグロマイシンＢ（和光純薬製、３００μｇ／ｍｌ）及びジェネティシン（ナカライテスク製、５００μｇ／ｍｌ）を含むＲＰＭＩ１６４０・ＩＴＰＳＧ培地で継代した。
同様にして、コントロールプラスミドｐＡＧａｌ９−ｎｄ（２μｇ；ＷＯ０３／０８７３６６）及びレポータープラスミドｐＡＣＲＥｐｌｕｃ（２μｇ；ＷＯ０３／０８７３６６）をＫＪＭＧＥＲ８に共導入し、安定形質転換株（コントロール細胞と呼ぶ）を取得した。
得られたヒトＧＰＲ４のアッセイ細胞（該アッセイ細胞は１７β−エストラジオールの刺激によりＧＰＲ４を発現する）を白色プレートに１ウェル当たり１０５個播種し、反応液中１０ｎｍｏｌ／Ｌになるように１７β−エストラジオール（１７β−ｅｓｔｒａｄｉｏｌ、シグマ社製）を培地で希釈したものと試験化合物（１μｍｏｌ／Ｌ）を加え、３７℃、５％ＣＯ２インキュベーター中で６時間反応させた。その後、Ｓｔｅａｄｙ  Ｇｌｏ  Ｌｕｃｉｆｅｒａｓｅ  Ａｓｓａｙ  Ｓｙｓｔｅｍ（Ｐｒｏｍｅｇａ社製）溶液を加えて反応を停止し、トップカウント（Ｐａｃｋａｒｄ，Ｍｅｒｉｄｅｎ，ＣＴ，ＵＳＡ）で１秒間の発光量を測定した。
試験化合物の活性（拮抗作用）は、下式に示す通り１７β−エストラジオール添加時と非添加時のカウント数（ｃｏｕｎｔ  ｐｅｒ  ｓｅｃｏｎｄ）をもとに算出した阻害率で表した。
2005082905.tif 000121
式中、Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ以下の数値を表す。
Ａ：１７β−エストラジオール及び試験化合物を添加時のカウント数
Ｂ：１７β−エストラジオール及び試験化合物の両方とも非添加時のカウント数
Ｃ：１７β−エストラジオールのみ添加時のカウント数
結果を第２５表に示す。
【表２５】
2005082905.tif 000122
以上の結果より、化合物（Ｉ）が、ＧＰＲ４受容体拮抗剤として有用であることが示された。
試験例２：ＬＰＣ誘発気道内好中球浸潤に対する抑制作用
７週齢の雄性ＢＡＬＢ／ｃマウスに０．１％牛血清アルブミン水溶液に溶解した１ｍｇ／ｍＬ  ＬＰＣ溶液もしくは０．１％牛血清アルブミン水溶液（陰性対照群）０．１ｍＬを気管内投与して、６時間後に肺胞洗浄を行い、回収したＢＡＬＦ中の好中球浸潤を評価した。０．５％メチルセルロース水溶液（溶媒）に化合物１を懸濁し、ＬＰＣ投与１時間前に１００ｍｇ／ｋｇを経口投与した。また陽性対照群には化合物１懸濁液の代わりに溶媒を投与した。好中球の浸潤は、回収したＢＡＬＦ中の総細胞数を自動血球数測定装置（Ｃｅｌｌｔａｃ  α  ＭＥＫ−６１５８；日本光電、東京）で測定した後、塗沫標本をＣｙｔｏｓｐｉｎ３（Ｓｈａｎｄｏｎ，Ｉｎｃ．，Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇｈ，ＰＡ，ＵＳＡ）で作製し、顕微鏡下に好中球数をカウントした。好中球数は総細胞数に好中球の百分率を乗じて算出した。試験は、陰性対照群では１１匹、陽性対照群では１０匹、化合物１投与群では１１匹で実施した。
結果を図１に示す。
陽性対照群と比べ、化合物１投与群では好中球数の増加が７２％抑制された。
試験例３：ＬＰＣ誘発気道内好中球浸潤に対する抑制作用
７週齢の雄性ＢＡＬＢ／ｃマウスに０．１％牛血清アルブミン水溶液に溶解した１ｍｇ／ｍＬ  ＬＰＣ溶液もしくは０．１％牛血清アルブミン水溶液（陰性対照群）０．１ｍＬを気管内投与して、６時間後に肺胞洗浄を行い、回収したＢＡＬＦ中の好中球浸潤を評価した。０．５％メチルセルロース水溶液（溶媒）に化合物１０２、化合物１６１または化合物２０１を懸濁し、ＬＰＣ投与１時間前に１０ｍｇ／ｋｇを経口投与した。また陽性対照群には試験化合物懸濁液の代わりに溶媒を投与した。好中球の浸潤は、回収したＢＡＬＦ中の総細胞数を自動血球数測定装置（Ｃｅｌｌｔａｃ  α  ＭＥＫ−６１５８；日本光電、東京）で測定した後、塗沫標本をＣｙｔｏｓｐｉｎ３（Ｓｈａｎｄｏｎ，Ｉｎｃ．，Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇｈ，ＰＡ，ＵＳＡ）で作製し、顕微鏡下に好中球数をカウントした。好中球数は総細胞数に好中球の百分率を乗じて算出した。
結果を図２、３または４に示す。
陽性対照群と比べ、化合物１０２投与群、化合物１６１投与群、化合物２０１投与群では好中球数の増加がそれぞれ５２％、６０％、５１％抑制された。
本発明に関わる医薬製剤は、活性成分として化合物（Ｉ）またはその薬理学的に許容される塩を単独で、あるいは任意の他の治療のための有効成分との混合物として含有することができる。また、それら医薬製剤は、活性成分を薬理学的に許容される一種またはそれ以上の担体と一緒に混合し、製剤学の技術分野においてよく知られている任意の方法により製造される。
化合物（Ｉ）またはその薬理上許容される塩は、例えば錠剤、カプセル剤、顆粒剤等の剤形に調製して経口的に、または注射剤等の剤形に調製して静脈内等の非経口的に投与することができる。
使用する担体としては、例えば白糖、ゼラチン、ラクトース、マンニトール、グルコース、ヒドロキシプロピルセルロース、微結晶性セルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸、タルク、クエン酸ナトリウム、炭酸カルシウム、リン酸水素カルシウム、デンプン、ポリビニルピロリドン、メタケイ酸アルミン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、繊維素グルコール酸カルシウム、尿素、シリコーン樹脂、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、注射用蒸留水、生理食塩水、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、オリーブ油、エタノール等が挙げられる。
化合物（Ｉ）またはその薬理上許容される塩の投与量及び投与回数は、患者の年令、体重、症状、治療効果、投与方法、処理時間等により異なるが、通常、成人１人あたり、１回につき０．１〜１００ｍｇの範囲で、１日１回から数回経口または非経口投与される。
【図面の簡単な説明】  図１は、化合物１のＬＰＣ誘発気道内好中球浸潤に対する抑制作用を示す図である。
＃＃＃：ｐ＜０．０００１（陽性対照群の陰性対照群対比；Ａｓｐｉｎ−ｗｅｌｃｈ  ｔｅｓｔ）
＊＊＊：ｐ＜０．０００１（化合物１投与群の陽性対照群対比；Ｓｔｕｄｅｎｔ’ｓ  ｔ−ｔｅｓｔ）
図２は、化合物１０２のＬＰＣ誘発気道内好中球浸潤に対する抑制作用を示す図である。
※※：ｐ＝０．００１３（陽性対照群の陰性対照群対比；Ａｓｐｉｎ−ｗｅｌｃｈ  ｔｅｓｔ）
＋：ｐ＜０．０１３６（化合物１０２投与群の陽性対照群対比；Ｓｔｕｄｅｎｔ’ｓ  ｔ−ｔｅｓｔ）
図３は、化合物１０６のＬＰＣ誘発気道内好中球浸潤に対する抑制作用を示す図である。
♭♭♭：ｐ＝０．０００１（陽性対照群の陰性対照群対比；Ａｓｐｉｎ−ｗｅｌｃｈ  ｔｅｓｔ）
‡‡：ｐ＝０．００２４（化合物１６１投与群の陽性対照群対比；Ｓｔｕｄｅｎｔ’ｓ  ｔ−ｔｅｓｔ）
図４は、化合物２０１のＬＰＣ誘発気道内好中球浸潤に対する抑制作用を示す図である。
†††：ｐ＜０．０００１（陽性対照群の陰性対照群対比；Ａｓｐｉｎ−ｗｅｌｃｈ  ｔｅｓｔ）
＆＆＆：ｐ＜０．０００１（化合物２０１投与群の陽性対照群対比；Ｓｔｕｄｅｎｔ’ｓ  ｔ−ｔｅｓｔ）
以下に、参考例及び実施例により、本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【発明を実施するための最良の形態】  プロトン核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ  ＮＭＲ）は、特に指示がない限りは２７０ＭＨｚで測定されたものである。また１Ｈ  ＮＭＲにおいて化合物及び測定条件によっては交換性プロトンが明瞭には観測されないことがある。なお、ｂｒは巾広いシグナルを意味する。質量分析は、大気圧化学イオン化法（ＡＰＣＩ）またはエレクトロスプレーイオン化法（ＥＳＩ）を用いて行った。
参考例１：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物Ｐ１）
工程１
５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（ＷＯ０２／３２８６１）（２０．４ｇ，５６．４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１００ｍＬ）に溶解し、１ｍｏｌ／Ｌ  ＴＢＡＦ−ＴＨＦ溶液（６２ｍＬ，６２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）にて精製し、５−ヒドロキシメチルインドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１３．６ｇ，５５．０ｍｍｏｌ，収率９８％）を得た。
工程２
工程１で得られた５−ヒドロキシメチルインドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（６．９４ｇ，２８．１ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１４０ｍＬ）に溶解し、ピリジン（６．８１ｍＬ，８４．２ｍｍｏｌ）及びメタンスルホン酸無水物（７．３３ｇ，４２．１ｍｍｏｌ）を加え、０℃で３０分間攪拌した。反応混合物にジエチルエーテルを加えてろ過し、ろ液を減圧濃縮した。残渣のＤＭＦ（４０ｍＬ）溶液を、予め水素化ナトリウム（油性，６０％，１．４６ｇ，３６．５ｍｍｏＬ）をＤＭＦ（１００ｍＬ）に懸濁し、２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（ＵＳ５４２４４３２）（７．３７ｇ，４２．１１ｍｍｏｌ）を加えて５０℃で３０分間攪拌して調製した溶液に０℃で加え、室温で８時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水及び飽和重曹水を加え、酢酸エチルで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）にて精製し、得られた目的化合物を２−プロパノールから結晶化し、化合物Ｐ１（４．８８ｇ，１２．１ｍｍｏｌ，収率４３％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．６５（ｓ，９Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６４（ｓ，３Ｈ），２．７７（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．５５（ｓ，２Ｈ），６．４５（ｄｄ，Ｊ＝３．７，０．６Ｈｚ，１Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），７．１１（ｄｄ，Ｊ＝８．３，１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２４（ｍ，１Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例２：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−２−カルボン酸塩酸塩（化合物Ｐ２）
化合物Ｐ１（４．８８ｇ，１２．１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１２０ｍＬ）に溶解し、−７８℃にて２ｍｏｌ／Ｌ  ＬＤＡ−ＴＨＦ溶液（９．６ｍＬ，１９．３ｍｍｏｌ）を加えて５分間攪拌し、ドライアイス（５．０ｇ）を加えて室温まで昇温した。反応混合物をクロロホルムで希釈し、飽和食塩水及び１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をクロロホルム（６０ｍＬ）に溶解し、４ｍｏｌ／Ｌ塩化水素−酢酸エチル溶液（６０ｍＬ）を加え、室温で１．５時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、残渣をエタノール−水（９：１）に溶解し、活性炭（０．６ｇ）を加えて室温で１時間攪拌した。これをろ過し、ろ液を減圧濃縮し、残渣にエタノール−ジエチルエーテル（１：２）を加えて室温で１時間攪拌し、析出した結晶をろ取した。得られた結晶を水に懸濁し、１００℃で２０分間攪拌し、その後室温に冷却して析出した結晶をろ取して化合物Ｐ２（３．１９ｇ，８．３０ｍｍｏｌ，収率６９％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３４９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２４（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），２．５２（ｓ，３Ｈ），２．６５（ｓ，３Ｈ），３．１６（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．７３（ｓ，２Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２３（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３５（ｓ，１Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．５９（ｓ，１Ｈ），１１．８５（ｓ，１Ｈ）．
参考例３：１−｛５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−２−カルボニル｝ピペリジン−４−カルボン酸（化合物Ｐ３）
化合物２３（０．７６２ｇ，０．１５６ｍｏｌ）をエタノール（１．０ｍＬ）に懸濁し、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加えて室温で１５分間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えてｐＨを５から６に調整した。析出物をろ過し、水で洗浄した後、減圧乾燥させた。粗結晶をエタノールから再結晶し、化合物Ｐ３（０．０６０ｇ，０．１３ｍｍｏｌ，収率８３％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４６０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．５２（ｍ，２Ｈ），１．８８（ｍ，２Ｈ），２．５１（７Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．１３（ｂｒｓ，１Ｈ），４．２７（ｍ，２Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．７１（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），１１．５６（ｓ，１Ｈ）．
参考例４：［４−｛５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−２−カルボニル｝ピペラジン−１−イル］酢酸（化合物Ｐ４）
化合物２４を用い、参考例３と同様の方法により化合物Ｐ４を得た（収率９３％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），２．５１（ｓ，６Ｈ），２．５８（ｂｒｓ，４Ｈ），２．７７（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．１９（ｓ，２Ｈ），３．７２（ｂｒｓ，４Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．７２（ｓ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｂｒｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），１１．６（ｓ，１Ｈ）．
参考例５：１−｛５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−２−カルボニル｝ピペリジン−３−カルボン酸（化合物Ｐ５）
化合物２５を用い、参考例３と同様の方法により化合物Ｐ５を得た（収率７６％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４６０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．４９（ｍ，１Ｈ），１．６８（ｍ，２Ｈ），１．９８（ｍ，１Ｈ），２．５１（７Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．１７（ｍ，１Ｈ），３．４２（ｍ，１Ｈ），４．１１（ｍ，１Ｈ），４．３４（ｍ，１Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．７１（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．０５（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），１１．６０（ｓ，１Ｈ），１２．４３（ｓ，１Ｈ）．
参考例６：｛３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−２−カルボニル］アミノ｝プロピオン酸（化合物Ｐ６）
化合物２６を用い、参考例３と同様の方法により化合物Ｐ６を得た（収率６３％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４２０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），２．５１（８Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．４９（ｍ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４０（ｓ，１Ｈ），８．４９（ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ），１１．５７（ｓ，１Ｈ），１２．２７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
参考例７：（Ｅ）−３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］アクリル酸（化合物Ｐ７）
工程１
４−フルオロ−３−ニトロベンジルアルコール（１０．０ｇ，５９．０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１００ｍＬ）に溶解し、ピリジン（１１．５ｍＬ，１４２ｍｍｏｌ）を加え０℃に冷却した。その後、メタンスルホン酸無水物（１２．０ｇ，７０．８ｍｍｏｌ）を加え室温で４０分間攪拌した。反応混合物に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え反応を停止し、クロロホルムで３回抽出した。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。得られた残渣のＴＨＦ（５０ｍＬ）溶液を、予め水素化ナトリウム（３．３５ｇ，７６．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１２０ｍＬ）に溶解し、２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（１０．３ｇ，５９．１ｍｍｏｌ）を加えて０℃で２０分間攪拌して調製した溶液に、０℃にて１５分間滴下しながら加え、室温で２時間攪拌した。反応混合物に氷を加えて反応を停止させた後、減圧濃縮し、水を加えて酢酸エチルで３回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）にて精製し、２−エチル−３−（４−フルオロ−３−ニトロベンジル）−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（１２．３ｇ，３７．４ｍｍｏｌ，収率６３％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），２．５８（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．８１（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．４７（ｓ，２Ｈ），６．９２（ｓ，１Ｈ），７．１８−７．２５（ｍ，１Ｈ），７．３７−７．４１（ｍ，１Ｈ），７．９５−７．９９（ｍ，１Ｈ）．
工程２
工程１で得られた２−エチル−３−（４−フルオロ−３−ニトロベンジル）−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（６．００ｇ，１８．３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（４５ｍＬ）に懸濁し、ジイソプロピルエチルアミン（４．００ｍＬ，２２．９ｍｍｏｌ）及び７ｍｏｌ／Ｌアンモニア−メタノール溶液（４５ｍＬ）を加え封菅中、９０℃で２４時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液及びクロロホルムを加え１時間攪拌した。反応混合物をクロロホルムで３回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をアセトンから結晶化し、４−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−ニトロアニリン（５．４５ｇ，１６．８ｍｍｏｌ，収率９２％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３４（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６２（ｓ，３Ｈ），２．８２（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．３４（ｓ，２Ｈ），６．０９（ｓ，２Ｈ），６．７０（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ）．
工程３
工程２で得られた４−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−ニトロアニリン（５．３５ｇ，１６．４ｍｍｏｌ）をメタノール（１００ｍＬ）に溶解し、塩化スズ（ＩＩ）２水和物（１６．７ｇ，７３．８ｍｍｏｌ）及び水（３．００ｍＬ，１６４ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で４時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨを１４に調節し、セライトでろ過した。ろ液をクロロホルムで３回抽出し、有機層を無水炭酸カリウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンから結晶化し、４−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１，２−フェニレンジアミン（３．３８ｇ，１１．５ｍｍｏｌ，収率７０％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２９（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），２．５８（ｓ，３Ｈ），２．６１（ｓ，３Ｈ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．３４（ｓ，４Ｈ），５．２９（ｓ，２Ｈ），６．４０（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），６．４８（ｄｄ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，１Ｈ），６．５８（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），６．８６（ｓ，１Ｈ）．
工程４
工程３で得られた４−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１，２−フェニレンジアミン（３．３８ｇ，１１．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１００ｍＬ）に溶解し、１−ヒドロキシベンズトリアゾール水和物（１．７２ｇ，１２．７ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ（２．６５ｇ，１３．８ｍｍｏｌ）及びフマル酸モノエチルエステル（１．８３ｇ，１２．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をトルエン（１５ｍＬ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（１５ｍＬ）を加え８０℃で４．５時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨを８に調節し、クロロホルムで３回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）にて精製し、３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］アクリル酸エチルエステル（１．８６ｇ，４．６３ｍｍｏｌ，収率４０％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．２７（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），２．５２（ｓ，６Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），４．２２（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），５．５６（ｓ，２Ｈ），６．８４（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ），６．９６（ｓ，１Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｓ，１Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ）．
工程５
工程４で得られた３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］アクリル酸エチルエステル（１．８６ｇ，４．６３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解し、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）を加え１時間加熱還流した。反応混合物を減圧濃縮した後、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を用いｐＨを５に調節し、析出した結晶をろ取した。得られた結晶を４５℃で減圧乾燥し、化合物Ｐ７（１．２２ｇ，３．２６ｍｍｏｌ，収率７０％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），２．５２（ｓ，６Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．５６（ｓ，２Ｈ），６．７９（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ），６．９６（ｓ，１Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２９（ｓ，１Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例８：３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］安息香酸（化合物Ｐ８）
３−シアノ安息香酸を用い、参考例７の工程４及び工程５と同様の方法により化合物Ｐ８を得た（収率１７％）。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，８０℃）δ（ｐｐｍ）：１．２３（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．８２（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），５．５５（ｓ，２Ｈ），６．９３（ｓ，１Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｂｒｓ，１Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５７（ｄｄ，Ｊ＝７．６，７．３Ｈｚ，１Ｈ），８．００（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），８．２６（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），８．７０（ｓ，１Ｈ）．
参考例９：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−７−メトキシベンゾフラン−２−カルボン酸１塩酸塩（化合物Ｐ９）
工程１
５−ホルミル−３−メトキシサリチルアルデヒド（１５．０ｇ，８３．３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（５００ｍＬ）に溶解し、炭酸カリウム（３８．０ｇ，２７５ｍｍｏｌ）及びヨウ化カリウム（６．９１ｇ，４１．６ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて１０分間攪拌した。これにブロモ酢酸エチル（１３．９ｍＬ，１２５ｍｍｏｌ）を１５分間かけて０℃で滴下した後、室温で２時間、さらに８０℃で３８時間攪拌した。反応混合物をろ過し、ろ液を減圧濃縮した。残渣を酢酸エチル（５００ｍＬ）に溶解し、これを０℃に冷却した１ｍｏｌ／Ｌ塩酸に滴下した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）にて精製し、５−ホルミル−７−メトキシベンゾフラン−２−カルボン酸エチルエステル（８．２３ｇ，３３．２ｍｍｏｌ，収率４０％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４３（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），４．０８（ｓ，３Ｈ），４．４６（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｓ，１Ｈ），７．８０（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ），１０．０２（ｓ，１Ｈ）．
工程２
工程１で得られた５−ホルミル−７−メトキシベンゾフラン−２−カルボン酸エチルエステル（７．８５ｇ，３１．６ｍｍｏｌ）をエタノール（２００ｍＬ）に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム（１．２０ｇ，３１．６ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル（２００ｍＬ）に溶解し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し、５−ヒドロキシメチル−７−メトキシベンゾフラン−２−カルボン酸エチルエステル（６．４２ｇ，２５．７ｍｍｏｌ，収率８１％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４２（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），２．０３（ｂｒｓ，１Ｈ），４．０１（ｓ，３Ｈ），４．４１（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），４．７５（ｂｒｓ，２Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．２０（ｓ，１Ｈ），７．４６（ｓ，１Ｈ）．
工程３
工程２で得られた５−ヒドロキシメチル−７−メトキシベンゾフラン−２−カルボン酸エチルエステル（６．２０ｇ，２４．８ｍｍｏｌ）をクロロホルム（１００ｍＬ）に溶解し、塩化チオニル（３．６２ｍＬ，４９．６ｍｍｏｌ）を加え６０℃で１時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、さらにトルエン（１００ｍＬ）を加えて共沸した後、ＤＭＦ（２５ｍＬ）に溶解した。この溶液を、予め水素化ナトリウム（２．１８ｇ，５４．６ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１００ｍＬ）に溶解し、２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（４．３５ｇ，２４．８ｍｍｏｌ）を加えて０℃で３０分間攪拌して調製した溶液に、０℃にて１５分間滴下しながら加え、室温で２時間攪拌した。その後、０℃にて１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え反応を停止させた後、減圧濃縮し水を加え酢酸エチルで３回抽出した。有機層を飽和食塩水及び飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し、５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−７−メトキシベンゾフラン−２−カルボン酸エチルエステル（１．４８ｇ，３．６４ｍｍｏｌ，収率１５％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３２（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），１．４０（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６４（ｓ，３Ｈ），２．８３（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．９２（ｓ，３Ｈ），４．４１（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．９０−６．９２（ｍ，３Ｈ），７．４０（ｓ，１Ｈ）．
工程４
工程３で得られた５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−７−メトキシベンゾフラン−２−カルボン酸エチルエステル（１．３８ｇ，３．３９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２４ｍＬ）に溶解し、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１２ｍＬ）を加えて８０℃で２時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、これに室温にて１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（３０ｍＬ）を加えて得られた固体をろ過し、化合物Ｐ９（１．１０ｇ，２．６５ｍｍｏｌ）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２４（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），２．５２（ｓ，３Ｈ），２．８３（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，１Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｓ，１Ｈ），１３．６０（ｂｒｓ，１Ｈ）．
参考例１０：２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物Ｐ１０）
２，３−ジアミノ−４，６−ジメチルピリジン（２５．０ｇ，０．１８２ｍｏｌ）をポリリン酸（４６５ｇ）に懸濁し、酢酸（３１．３ｍＬ，０．５４７ｍｏｌ）を加えて１００℃にて３時間攪拌した。反応混合物を氷水中へ移し、次いで攪拌しながら炭酸ナトリウム（３４５ｇ）を少しずつ加えた。その後２８％アンモニア水溶液を加えてｐＨ＝９に調節し、そのまま１時間攪拌した。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、４０℃にて一晩真空乾燥し、化合物Ｐ１０（２６．２ｇ，８９％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １６２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．６８（ｓ，３Ｈ），２．７０（ｓ，３Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），８．１５（ｓ，１Ｈ），１３．８（ｂｒｓ，１Ｈ）．
参考例１１：５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物Ｐ１１）
２，３−ジアミノ−４，６−ジメチルピリジン（１３．７ｇ，１００ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１５０ｍＬ）に溶解し、オルトギ酸トリエチル（１５３ｍＬ，１０００ｍｍｏｌ）及び濃硫酸（０．５３ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を加え１００℃にて１時間攪拌した。反応混合物を氷水中へ移し、次いで１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加えて塩基性にし、クロロホルムにて抽出した。有機層を炭酸カリウムで乾燥させ、減圧濃縮し褐色固体を得た。得られた固体をアセトンでトリチュレーションし、化合物Ｐ１１（１０．８ｇ，７３％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １４８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．６２（ｓ，３Ｈ），２．６７（ｓ，３Ｈ），２．７２（ｓ，３Ｈ），６．８９（ｓ，１Ｈ），７．２６（ｂｒｓ，１Ｈ）．
参考例１２：２，３−ジアミノ−４−メチルピリジン（化合物Ｐ１２）
市販の２−アミノ−４−メチル−３−ニトロピリジン（１０．０ｇ，６５．３ｍｍｏｌ）をエタノール（４５０ｍＬ）に懸濁し、フラスコ内をアルゴンで置換した。１０％  Ｐｄ−Ｃ（１３．９ｇ，５０％含水）を加え、水素気流下室温にて一晩攪拌した。固形物をセライトろ過で除き、これをエタノールにて洗浄した。ろ液を減圧濃縮し、化合物Ｐ１２（７．８１ｇ，９７％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １２４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．１７（ｓ，３Ｈ），３．２７（ｂｒｓ，２Ｈ），４．１６（ｂｒｓ，２Ｈ），６．５３（ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ），７．５５（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例１３：２−エチル−７−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物Ｐ１３）
化合物Ｐ１２（１．８０ｇ，１４．６ｍｍｏｌ）をポリリン酸（３８ｇ）に懸濁し、プロピオン酸（３．２７ｍＬ，４３．８ｍｍｏｌ）を加えて１００℃にて３時間攪拌した。反応混合物を氷水中へ移し、次いで攪拌しながら炭酸ナトリウム（２７．９ｇ）を少しずつ加えた。その後２８％アンモニア水溶液を加えてｐＨ＝９に調節し、そのまま１時間攪拌した。反応混合物をクロロホルムにて２回抽出し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝５０：１）にて精製し、化合物Ｐ１３（２．２４ｇ，９６％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １６２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．５３（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，３Ｈ），２．６８（ｓ，３Ｈ），３．０８（ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，２Ｈ），７．０２（ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１Ｈ），１４．１（ｂｒｓ，１Ｈ）．
参考例１４：４−アミノ−２，６−ジメチル−５−ニトロピリミジン（化合物Ｐ１４）
公知の方法（ＵＳ２００３／０９９５３１）で得られた４−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−５−ニトロピリミジン（２．７０ｇ，１６．０ｍｍｏｌ）をオキシ塩化リン（８０ｍＬ）に溶解し、ジエチルアニリン（５．０８ｍＬ，３１．９ｍｍｏｌ）を加えて１００℃にて３．５時間攪拌した。反応混合物を濃縮した後、残渣を氷水中に移し、クロロホルムにて３回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮した。続いて、残渣をＴＨＦ（２５ｍＬ）に溶解し、７ｍｏｌ／Ｌアンモニア−メタノール溶液（２５ｍＬ）を加えて３時間攪拌した。反応混合物を濃縮した後、クロロホルムにて希釈し、水及び飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）にて精製し、化合物Ｐ１４（１．６１ｇ，６０％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １６９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．４７（ｓ，３Ｈ），２．７２（ｓ，３Ｈ）．
参考例１５：４，５−ジアミノ−２，６−ジメチルピリミジン（化合物Ｐ１５）
化合物Ｐ１４（１．６１ｇ，９．５７ｍｍｏｌ）をエタノール（１００ｍＬ）に溶解し、フラスコ内をアルゴンで置換した。１０％Ｐｄ−Ｃ（２．０３ｇ，５０％含水）を加え、水素気流下室温にて４．５時間攪拌した。固形物をセライトろ過により除き、エタノールにて洗浄した後、ろ液を濃縮し、化合物Ｐ１５（１．３２ｇ，定量的収率）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １３９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．０８（ｓ，３Ｈ），２．１５（ｓ，３Ｈ），４．２０（ｓ，２Ｈ），６．０６（ｓ，２Ｈ）．
参考例１６：８−エチル−２，６−ジメチルプリン（化合物Ｐ１６）
化合物Ｐ１５（１．３２ｇ，９．５５ｍｍｏｌ）をポリリン酸（２５ｇ）に懸濁し、プロピオン酸（２．１４ｍＬ，２８．７ｍｍｏｌ）を加えて１００℃にて４時間攪拌した。反応混合物を氷水中へと移した後に、攪拌しながら炭酸ナトリウム（１８．２ｇ）を少しずつ加えた。２８％アンモニア水溶液を加えてｐＨ＝７に調節し、クロロホルムにて５回抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝２５：１）にて精製し、化合物Ｐ１６（１．４０ｇ，８３％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １７７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４９（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），２．８３（ｓ，３Ｈ），２．８５（ｓ，３Ｈ），３．０６（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），１３．０７（ｓ，１Ｈ）．
参考例１７：２，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物Ｐ１７）
化合物Ｐ１２（７．１１ｇ，５７．７ｍｍｏｌ）をポリリン酸（１６３ｇ）に懸濁し、酢酸（９．９０ｍＬ，０．１７２ｍｏｌ）を加えて１００℃にて３時間攪拌した。反応混合物を氷水中へと移した後に、攪拌しながら炭酸ナトリウム（１１５ｇ）を少しずつ加えた。その後２８％アンモニア水溶液を加えてｐＨ＝９に調節し、そのまま１時間攪拌した。クロロホルムにて５回抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１５：１）にて精製した後、メタノール（５０ｍＬ）に溶解し、活性炭（０．２８４ｇ）を加え、室温にて３０分間攪拌した。固形物をろ別し、ろ液を減圧濃縮した後、残渣をエタノールから再結晶し、化合物Ｐ１７（４．１ｇ，４８％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １４８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．６８（ｓ，３Ｈ），２．７４（ｓ，３Ｈ），７．０２（ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例１８：５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）インドール−１，２−ジカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物Ｐ１８）
公知の方法（ＷＯ０２／３２８６１）で得られた５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（６．００ｇ，１６．６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１００ｍＬ）に溶解し、フラスコ内をアルゴンで置換した。−７８℃に冷却した後、Ｎ，Ｎ−テトラメチルエチレンジアミン（５．５１ｍＬ，３６．５ｍｍｏｌ）及びＬＤＡ（２．０ｍｏｌ／Ｌヘプタン／ＴＨＦ／エチルベンゼン溶液，１８．２ｍＬ，３６．４ｍｍｏｌ）を加え、そのまま−７８℃にて３０分間攪拌し、その後ドライアイス片を加えて室温まで昇温した。反応の終結を薄層クロマトグラフィーで確認した後、反応混合物に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムにて２回抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール：２ｍｏｌ／Ｌアンモニア−メタノール溶液＝４０：１：１）にて精製し、化合物Ｐ１８（６．１９ｇ，９２％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４０６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．１０（ｓ，６Ｈ），０．９４（ｓ，９Ｈ），１．５２（ｓ，９Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），７．２４（ｓ，１Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｓ，１Ｈ），７．９０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例１９：５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）インドール−１，２−ジカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチルエステル−２−メチルエステル（化合物Ｐ１９）
化合物Ｐ１８（６．１９ｇ，１５．７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１３０ｍＬ）に溶解し、ヨウ化メチル（１．４３ｍＬ，２３．０ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（３．１６ｇ，２２．９ｍｍｏｌ）を加え、室温にて終夜攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、酢酸エチルにて希釈し、水、飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、減圧濃縮し、化合物Ｐ１９（６．０５ｇ，９５％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４２０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．１１（ｓ，６Ｈ），０．９５（ｓ，９Ｈ），１．６２（ｓ，９Ｈ），３．９１（ｓ，３Ｈ），４．８２（ｓ，２Ｈ），７．０９（ｓ，１Ｈ），７．３８（ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例２０：５−ヒドロキシメチルインドール−１，２−ジカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチルエステル−２−メチルエステル（化合物Ｐ２０）
化合物Ｐ１９（１３．２ｇ，３１．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３００ｍＬ）に溶解し、酢酸（０．５４ｍＬ，９．４３ｍｍｏｌ）及び１．０ｍｏｌ／Ｌ  ＴＢＡＦ−ＴＨＦ溶液（４７．１ｍＬ，４７．１ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）にて精製し、化合物Ｐ２０（９．３９ｇ，９８％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３０６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．５９（ｓ，９Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），４．７０（ｓ，２Ｈ），６．９９（ｓ，１Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．５０（ｓ，１Ｈ），７．９８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例２１：５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−１，２−ジカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチルエステル−２−メチルエステル（化合物Ｐ２１）
化合物Ｐ２０（０．９１０ｇ，２．９８ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（２０ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後、トリエチルアミン（１．０４ｍＬ，７．４５ｍｍｏｌ）及びメタンスルホニルクロリド（０．３４６ｍＬ，４．４７ｍｍｏｌ）を加え、そのまま０℃にて０．５時間攪拌した。反応混合物をクロロホルムにて希釈した後、有機層を飽和重曹水、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ減圧濃縮した。次いで残渣をＤＭＦ（１０ｍＬ）に溶解し、化合物Ｐ１０（０．５７５ｇ，３．５７ｍｍｏｌ）及び５５％水素化ナトリウム（０．１５６ｇ，３．５７ｍｍｏｌ）を含むＤＭＦ溶液（１０ｍＬ）に０℃にて滴下し、室温にて２．５時間攪拌した。続いて飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝５：１）にて精製し、化合物Ｐ２１（０．８４４ｇ，６３％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４４９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６４（ｓ，９Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），２．６４（ｓ，３Ｈ），２．６６（ｓ，３Ｈ），３．９４（ｓ，３Ｈ），５．５６（ｓ，２Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝０．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２８（ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３４（ｂｒｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例２２：５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−カルボン酸（化合物Ｐ２２）
化合物Ｐ２１（０．８３０ｇ，１．８５ｍｍｏｌ）をエタノール（１５ｍＬ）に溶解し、３ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１２．０ｍＬ，３６．０ｍｍｏｌ）を加え、室温にて終夜攪拌した。反応混合物を濃縮した後、水で希釈し、攪拌しながら１ｍｏｌ／Ｌ塩酸をｐＨ＝６になるまで加えた。析出した粗結晶をろ取した後、水で洗浄し化合物Ｐ２２（０．４４７ｇ，７２％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３３５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．４４（ｓ，３Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），５．４７（ｓ，２Ｈ），６．９２（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｓ，１Ｈ），７．１１（ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｂｒｄ，１Ｈ），１１．７（ｓ，１Ｈ）．
参考例２４：５−（５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−カルボン酸（化合物Ｐ２４）
化合物２３３（０．２８３ｍｇ，０．８４５ｍｍｏｌ）をエタノール（５ｍＬ）に溶解し、３ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（２．８０ｍＬ，８．４０ｍｍｏｌ）を加え、室温にて終夜攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、水で希釈し、攪拌しながら１ｍｏｌ／Ｌ塩酸をｐＨ＝６になるまで加えた。析出した結晶をろ取し水で洗浄した後、減圧乾燥し、化合物Ｐ２４（０．２４６ｇ，９１％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３２１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．４９（ｓ，３Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），５．４８（ｓ，２Ｈ），６．９６（ｓ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２５（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｓ，１Ｈ），８．３８（ｓ，１Ｈ）．
参考例２５：５−（２−エチル−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−１，２−ジカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチルエステル−２−メチルエステル（化合物Ｐ２５）
化合物Ｐ２０（０．９１０ｇ，２．９８ｍｍｏｌ）及び化合物Ｐ１３（０．５７５ｇ，３．５７ｍｍｏｌ）を用い、参考例２１と同様の方法により化合物Ｐ２５（０．５３８ｇ，４０％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４４９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３１（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．６０（ｓ，９Ｈ），２．７０（ｓ，３Ｈ），２．８６（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．９０（ｓ，３Ｈ），５．５７（ｓ，２Ｈ），６．９７（ｓ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１Ｈ），７．２３（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｓ，１Ｈ），８．００（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．２２（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例２６：５−（２−エチル−７−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−カルボン酸（化合物Ｐ２６）
化合物Ｐ２５（０．５０５ｇ，１．１２ｍｍｏｌ）を用い、参考例２２と同様の方法により化合物Ｐ２６（０．２８４ｇ，７６％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３３５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２１（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），２．５５（ｓ，３Ｈ），２．８２（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），７．０９（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７，４２（ｓ，１Ｈ），８．１６（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），１１．７（ｓ，１Ｈ）．
参考例２７：５−（８−エチル−２，６−ジメチルプリン−９−イルメチル）インドール−１，２−ジカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチルエステル−２−メチルエステル（化合物Ｐ２７）
化合物Ｐ２０（０．８００ｇ，２．６２ｍｍｏｌ）及び化合物Ｐ１６（０．５５３ｇ，３．１４ｍｍｏｌ）を用い、参考例２１と同様の方法により化合物Ｐ２７（０．７１４ｇ，５９％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４６４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３０（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），１．６０（ｓ，９Ｈ），２．７７（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．７８（ｓ，３Ｈ），２．８２（ｓ，３Ｈ），３．９１（ｓ，３Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９８（ｄ，Ｊ＝０．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｂｒｓ，１Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例２８：５−（８−エチル−２，６−ジメチルプリン−９−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−カルボン酸（化合物Ｐ２８）
化合物Ｐ２７（０．７１４ｇ，１．５４ｍｍｏｌ）を用い、参考例２２と同様の方法により化合物Ｐ２８（０．４６７ｇ，８７％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３５０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．６４（ｓ，３Ｈ），２．７９（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），５．４７（ｓ，２Ｈ），７．０３（ｓ，１Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｓ，１Ｈ）．
参考例２９：５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２−［２−（メトキシカルボニル）ビニル］インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物Ｐ２９）
工程１
５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１．００ｇ，２．４７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解し、ＬＤＡ（１．８ｍｏｌ／Ｌヘプタン／ＴＨＦ／エチルベンゼン溶液，３．０８ｍＬ，５．５３ｍｍｏｌ）を−７８℃で加え、そのまま３０分間攪拌した。その後、１，２−ジヨードエタン（１．７１ｇ，６．０８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（６ｍＬ）溶液を加え、−７８℃で１時間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝９０：１０）にて精製し、５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２−ヨードインドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１．２８ｇ，２．６３ｍｍｏｌ，９５．０％）を得た。
工程２
工程１で得られた５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２−ヨードインドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１．２８ｇ，２．６３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１５ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（１．１０ｍＬ，７．８８ｍｍｏｌ）、アクリル酸メチル（０．７１０ｍＬ，７．８８ｍｍｏｌ）及びトリ−ｏ−トリルホスフィン（１６０ｍｇ，０．５２５ｍｍｏｌ）を加え、反応系を脱気し、酢酸パラジウム（５９ｍｇ，０．２６３ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下で２時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に飽和重曹水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝９０：１０）にて精製し、化合物Ｐ２９（９００ｍｇ，２．０２ｍｍｏｌ，７６．９％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４４６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．１１（ｓ，６Ｈ），０．９５（ｓ，９Ｈ），１．７０（ｓ，９Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），４．８１（ｓ，２Ｈ），６．３６（ｄ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．２８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．５１（ｓ，１Ｈ），８．１０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），８．２８（ｄ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例３０：５−ヒドロキシメチル−２−［２−メトキシカルボニル）ビニル］インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物Ｐ３０）
化合物Ｐ２９（２．５４ｇ，５．７０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３０ｍＬ）に溶解し、酢酸（０．０９８０ｍＬ，１．７１ｍｍｏｌ）及び１．０ｍｏｌ／Ｌ  ＴＢＡＦ−ＴＨＦ溶液（１７．１ｍＬ，１７．１ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。その後、酢酸エチルにて希釈し、水及び飽和食塩水にて洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）にて精製し、化合物Ｐ３０（１．４８ｇ，７８％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３３２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６８（ｓ，９Ｈ），３．７９（ｓ，３Ｈ），４．７５（ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ），６．３４（ｄ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ，１Ｈ），６．９１（ｓ，１Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝０．８Ｈｚ，１Ｈ），８．１０（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．２５（ｄｄ，Ｊ＝０．８，１６．０Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例３１：２−［２−（メトキシカルボニル）ビニル］−５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物Ｐ３１）
化合物Ｐ３０（１．４８ｇ，４．４７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（３０ｍＬ）に溶解し、０℃にて塩化リチウム（０．７６ｇ，１７．９ｍｍｏｌ）、２，４，６−トリメチルピリジン（３．５４ｍＬ，２６．８ｍｍｏｌ）及び塩化メタンスルホニル（１．３８ｍＬ，１７．８ｍｍｏｌ）を加え、室温にて５時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルにて希釈し、水、０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ減圧濃縮した。次いで残渣をＤＭＦ（１０ｍＬ）に溶解し、化合物Ｐ１０（１．０８ｇ，６．７０ｍｍｏｌ）及び５５％水素化ナトリウム（０．３１１ｇ，７．１２ｍｍｏｌ）を含むＤＭＦ溶液（２５ｍＬ）に０℃にて滴下し、室温にて３時間攪拌した。その後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：１）にて精製し、化合物Ｐ３１（１．４７ｇ，６９％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．５８（ｓ，９Ｈ），２．３８（ｓ，３Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），２．５３（ｓ，３Ｈ），３．７１（ｓ，３Ｈ），５．４３（ｓ，２Ｈ），６．２３（ｄ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ，１Ｈ），６．７３（ｓ，１Ｈ），６．８１（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１Ｈ），７．９６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．１３（ｄｄ，Ｊ＝０．８，１５．９Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例３２：３−［５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］アクリル酸（化合物Ｐ３２）
化合物Ｐ３１（１．４６ｇ，３．０８ｍｍｏｌ）をエタノール（１５ｍＬ）に溶解し、３ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１０．３ｍＬ，３０．９ｍｍｏｌ）を加え、５５℃にて２時間攪拌した。反応混合物を濃縮した後、水で希釈し、攪拌しながら１ｍｏｌ／Ｌ塩酸をｐＨ＝６になるまで加えた。析出した結晶をろ取し、水で洗浄することにより化合物Ｐ３２（０．８４６ｇ，７６％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３６１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．４３（ｓ，３Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），５．４６（ｓ，２Ｈ），６．４３（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ），６．７８（ｓ，１Ｈ），６．９１（ｓ，１Ｈ），７．０３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２９（ｓ，１Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ），１１．６（ｓ，１Ｈ）．
参考例３３：２−［２−（メトキシカルボニル）ビニル］−５−（２−エチル−７−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物Ｐ３３）
化合物Ｐ３０（０．７９ｇ，２．４９ｍｍｏｌ）及び化合物Ｐ１３（０．５００ｇ，３．１０ｍｍｏｌ）を用い、参考例３１と同様の方法により化合物Ｐ３３（０．３１０ｇ，３６％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３１（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．６７（ｓ，９Ｈ），２．７０（ｓ，３Ｈ），２．８６（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），５．５６（ｓ，２Ｈ），６．３０（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），６．８２（ｓ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１５（ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２６（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），８．２１（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），８．２６（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例３４：３−［５−（２−エチル−７−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］アクリル酸（化合物Ｐ３４）
化合物Ｐ３３（０．２６０ｇ，０．５４７ｍｍｏｌ）を用い、参考例３２と同様の方法により化合物Ｐ３４（０．１２３ｇ，６３％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３６１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２２（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），２．５６（ｓ，３Ｈ），２．８４（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），５．５２（ｓ，１Ｈ），６．４２（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ），６．７８（ｓ，１Ｈ），７．０５（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．９Ｈｚ，１Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｓ，１Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．５（ｓ，１Ｈ）．
参考例３５：２−［２−（メトキシカルボニル）ビニル］−５−（２，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物Ｐ３５）
化合物Ｐ３０（０．５７６ｇ，１．８１ｍｍｏｌ）及び化合物Ｐ１７（０．３４９ｇ，２．３７ｍｍｏｌ）を用い、参考例３１と同様の方法により化合物Ｐ３５（０．１８３ｇ，２２％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４６１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６７（ｓ，９Ｈ），２．５６（ｓ，３Ｈ），２．６８（ｓ，３Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．２０（ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈｚ，１Ｈ），６．７１（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．０３（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｓ，１Ｈ），８．２３（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例３６：３−［５−（２，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］アクリル酸（化合物Ｐ３６）
化合物Ｐ３５（０．１８３ｇ，０．３９８ｍｍｏｌ）を用い、参考例３２と同様の方法により化合物Ｐ３６（８８．５ｍｇ，６４％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３４７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．４９（ｓ，３Ｈ），２．５４（ｓ，３Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．４２（ｄ，Ｊ＝１６．３Ｈｚ，１Ｈ），６．８０（ｓ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１Ｈ），７．０８（ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３８（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），８．１６（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．６（ｓ，１Ｈ）．
参考例３７：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−ヨードインドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物Ｐ３７）
化合物Ｐ１（１．００ｇ，２．４７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２５ｍＬ）に溶解し、ＬＤＡ（２ｍｏｌ／Ｌヘプタン／ＴＨＦ／エチルベンゼン溶液，３．１ｍＬ，６．２ｍｍｏｌ）を−７８℃で加え、そのまま１０分間攪拌した。その後、ジヨードエタン（１．６２ｇ，７．３２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３ｍＬ）溶液を加え、−７８℃で２時間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、クロロホルムで３回抽出した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝６０：４０）にて精製し、化合物Ｐ３７（６４０ｍｇ，１．２１ｍｍｏｌ，４８．８％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ５３１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．６９（ｓ，９Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６４（ｓ，３Ｈ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．８７（ｓ，１Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），７．０２（ｄｄ，Ｊ＝８．７，１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．１５（ｂｒｓ，１Ｈ），７．９８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例３８：（Ｅ）−５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−［２−（メトキシカルボニル）ビニル］インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物Ｐ３８）
化合物Ｐ３７（４９６ｍｇ，０．９３５ｍｍｏｌ）をＴＨＦに溶解し、トリエチルアミン（０．３９２ｍＬ，２．８１ｍｍｏｌ）、アクリル酸メチル（０．２５３ｍＬ，２．８１ｍｍｏｌ）及びトリ−ｏ−トリルホスフィン（５６．９ｍｇ，０．１８７ｍｍｏｌ）を加え、反応系を脱気し、酢酸パラジウム（２１．０ｍｇ，０．０９３５ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下で６時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に飽和重曹水を加えて酢酸エチルで３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝５０：５０）にて精製し、化合物Ｐ３８（３８７ｍｇ，０．７９２ｍｍｏｌ，８４．７％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４８９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．６７（ｓ，９Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６４（ｓ，３Ｈ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），５．５３（ｓ，２Ｈ），６．３１（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），６．８３（ｓ，１Ｈ），６．９１（ｓ，１Ｈ），７．１５（ｄｄ，Ｊ＝８．７，１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２３（ｍ，１Ｈ），８．０５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），８．２４（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ）．
参考例３９：（Ｅ）−３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］アクリル酸（化合物Ｐ３９）
化合物Ｐ３８（３５７ｍｇ，０．７３１ｍｍｏｌ）をエタノール（３．７ｍＬ）に溶解し、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（３．７ｍＬ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。反応混合物に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えてｐＨを６付近に調整し、析出した粗結晶をろ取し減圧乾燥した後、エタノール−ＤＭＦ（２：１）から再結晶し、化合物Ｐ３９（２２３ｍｇ，０．５９６ｍｍｏｌ，８１．５％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３７５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７７（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．４２（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），６．７９（ｓ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．０３（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２８−７．３３（ｍ，２Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．５４（ｓ，１Ｈ），１２．３０（ｂｒｓ，１Ｈ）．
参考例４０：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−カルボアルデヒド（化合物Ｐ４０）
工程１
化合物Ｐ２及びＮ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミンを用い、実施例１と同様の方法により５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシインドール−２−カルボキサミドを得た（収率７５％）。
工程２
水素化リチウムアルミニウム（１６０ｍｇ，４．２１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３５ｍＬ）に懸濁し、−１０℃にて工程１で得られた５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシインドール−２−カルボキサミドを数回に分けて加えた。−１０℃で２時間攪拌した後、反応混合物に水（０．１６ｍＬ）、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．１６ｍＬ）、水（０．５４ｍＬ）を順次加えた。沈殿した無機塩をろ別し、酢酸エチルで数回洗浄した後、ろ液を減圧濃縮した。残渣をエタノール−ジイソプロピルエーテル（３：１）から再結晶し、化合物Ｐ４０（５８２ｍｇ，１．７５ｍｍｏｌ，９１．４％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３３３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），２．６１（ｓ，３Ｈ），２．６５（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），５．５４（ｓ，２Ｈ），６．９１（ｓ，１Ｈ），７．１５（ｄｄ，Ｊ＝２．１，１．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｄｄ，Ｊ＝８．６，２．１Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｂｒｓ，１Ｈ），９．１９（ｂｒｓ，１Ｈ），９．８１（ｓ，１Ｈ）．
参考例４１：２−［α−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジル］−５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）ベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物Ｐ４１ａ）及び２−［α−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジル］−６−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）ベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物Ｐ４１ｂ）
工程１
３，４−ジアミノトルエン（５００ｍｇ，４．１０ｍｍｏｌ）にオルトギ酸トリメチル（１０ｍＬ）及びｐ−トルエンスルホン酸１水和物（７８ｍｇ，０．４１ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜攪拌した。飽和重曹水で反応を停止し、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝９０：１０）にて精製し、５−メチルベンズイミダゾール（５４３ｍｇ，４．１０ｍｍｏｌ，１００％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．４８（ｓ，３Ｈ），７．１２（ｄｄ，Ｊ＝１．１，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｓ，１Ｈ），７．５７（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．１１（ｓ，１Ｈ）．
工程２
工程１で得られた５−メチルベンズイミダゾール（３．４６ｇ，２６．１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（３０ｍＬ）に、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（６．２６ｇ，２８．７ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（３１９ｍｇ，２．６１ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間攪拌した。水を加えて反応を停止し、クロロホルムで３回抽出した。有機層を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８０：２０）にて精製し、５−メチルベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル及び６−メチルベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルの混合物（１：１）（５．３６ｇ，２３．１ｍｍｏｌ，８８％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ２３３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６９（ｓ，９Ｈ），２．４７（ｓ，１．５Ｈ），２．５０（ｓ，１．５Ｈ），７．１２−７．２２（ｍ，１Ｈ），７．５６（ｓ，０．５Ｈ），７．６５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．５Ｈ），７．８２（ｓ，０．５Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．５Ｈ），８．３４（ｓ，０．５Ｈ），８．３８（ｓ，０．５Ｈ）．
工程３
工程２で得られた５−メチルベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル及び６−メチルベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルの混合物（１：１）（１．００ｇ，４．３０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４０ｍＬ）に−７８℃でＬＤＡ（１．８ｍｏｌ／Ｌヘプタン／ＴＨＦ／エチルベンゼン溶液，３．４０ｍＬ，６．８８ｍｍｏｌ）を加えた。３０分間攪拌した後、ベンズアルデヒド（０．５２５ｍＬ，５．１６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５ｍＬ）を加えた。−７８℃で２時間攪拌した後、水を加えて反応を停止した。反応混合物を酢酸エチルで３回抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）にて精製し、２−［α−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジル］−５−メチルベンズイミダゾール−１−カルボン酸（９００ｍｇ，２．６５ｍｍｏｌ，６２％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３３９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４２（ｓ，９Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ），６．７０（ｓ，１Ｈ），６．９９（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｓ，１Ｈ），７．３４−７．４３（ｍ，４Ｈ），７．４７−７．５０（ｍ，２Ｈ）．
工程４
工程３で得られた２−［α−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジル］−５−メチルベンズイミダゾール（１００ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（３ｍＬ）にジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（７８．６ｍｇ，０．３６ｍｍｏｌ）及びＤＭＡＰ（３．７ｍｇ，０．０３ｍｍｏｌ）を加え室温で終夜攪拌した。水を加えて反応を停止し、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ減圧濃縮し、２−［α−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジル］−５−メチルベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル及び２−［α−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジル］−６−メチルベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルの混合物（１：１）（１１３ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ，８６％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４３９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４９（ｓ，９Ｈ），１．６１（ｓ，９Ｈ），２．４７（ｓ，１．５Ｈ），２．４８（ｓ，１．５Ｈ）７．１５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３２−７．３８（ｍ，４Ｈ），７．５０−７．５２（ｍ，２Ｈ），７．７０（ｍ，１Ｈ）．
工程５
工程４で得られた２−［α−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジル］−５−メチルベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル及び２−［α−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジル］−６−メチルベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルの混合物（１：１）（１１３ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ）の四塩化炭素溶液（５ｍＬ）にＮ−ブロモスクシンイミド（５５．２ｍｇ，０．３１ｍｍｏｌ）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（４．３ｍｇ，０．０２６ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下５．５時間攪拌した。水を加えて反応を停止し、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０）にて精製し、５−ブロモメチル−２−［α−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジル］ベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル及び６−ブロモメチル−２−［α−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジル］ベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルの混合物（１：１）（８０．６ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ，６０％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ５１７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４８（ｓ，９Ｈ），１．６２（ｓ，４．５Ｈ），１．６６（ｓ，４．５Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），７．３１−７．３８（ｍ，６Ｈ），７．４９−７．５１（ｍ，２Ｈ），７．７５−７．８３（ｍ，１Ｈ）．
工程６
工程５で得られた５−ブロモメチル−２−［α−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジル］ベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル及び６−ブロモメチル−２−［α−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジル］ベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルの混合物（１：１）（３６５ｍｇ，０．７００ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（７ｍＬ）に溶解し、２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（１３７ｍｇ，０．７８ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム１水和物（３８．２ｍｇ，０．９１０ｍｍｏｌ）を加えて室温で３時間攪拌した。水を加え反応を停止し、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）にて精製し、化合物Ｐ４１ａ及び化合物Ｐ４１ｂの混合物（１：１）（１８１ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ，４２％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ６１２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２６（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．４６（ｓ，９Ｈ），１．５９（ｓ，４．５Ｈ），１．６６（ｓ，４．５Ｈ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ），５．５５−５．５８（ｍ，２Ｈ），７．３０−７．３５（ｍ，５Ｈ），７．４７−７．５１（ｍ，２Ｈ），７．７２−７．７６（ｍ，１Ｈ）．
参考例４２：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イルピリジン−４−イルメチル−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物Ｐ４２）
工程１
参考例７の工程３で得られた４−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１，２−フェニレンジアミン（０．４００ｇ，１．３５ｍｍｏｌ）にオルトギ酸トリメチル（３．０ｍｌ）及びパラトルエンスルホン酸１水和物（０．０２６６ｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を加え、３０分間攪拌した。飽和重曹水を加え反応を停止した後、酢酸エチルで３回抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ減圧濃縮した。残渣のジクロロメタン溶液にジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボナート（０．３２５ｇ，１．４９ｍｍｏｌ）及びＤＭＡＰ（０．０１７１ｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を加え室温で３．５時間攪拌した。水を加えて反応を停止し、クロロホルムで３回抽出した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）にて精製し５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（０．２９８ｇ，０．７４ｍｍｏｌ，５４％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４０５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２９（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），１．５１（ｓ，６Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），５．５７（ｓ，０．７Ｈ），５．６０（ｓ，１．３Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），７．１９−７．２１（ｍ，１Ｈ），７．５５−７．６２（ｍ，１Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，０．６６Ｈ），７．８９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，０．３４Ｈ），８．４１（ｓ，１Ｈ）．
工程２
アルゴン雰囲気下、工程１で得られた５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（０．２００ｇ，０．４９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液に−７８℃でＬＤＡ（０．５００ｍＬ，０．８８ｍｍｏｌ）を加え、３０分間攪拌した。次いでピリジン−４−カルボアルデヒド（５６．３μＬ，０．５９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（０．５０ｍＬ）を加え、−７８℃で１時間攪拌し、水を加えて反応を停止した。反応混合物を酢酸エチルで３回抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１９：１）にて精製し、化合物Ｐ４２（０．１５０ｇ，０．２９ｍｍｏｌ，６０％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ５１３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２１（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ），２．５０（ｓ，６Ｈ），２．７７（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．９１（ｓ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２４（ｓ，１Ｈ），７．４１（ｄ，Ｊ＝５．８，２Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．５７（ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ）．
参考例４３：５−クロロ−２，７−ジメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物Ｐ４３）
ＷＯ９８／０２４４２記載の方法に従って合成した２−アミノ−６−クロロ−４−メチル−３−ニトロピリジン（１．２ｇ，６．４０ｍｍｏｌ）をエタノール（６５ｍＬ）に溶解し、塩化スズ・２水和物（４．３３ｇ，１９．２ｍｍｏｌ）を加えて７５℃にて２時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルにて希釈した後、３ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加え、析出した不溶物をセライトろ過し、酢酸エチルにて洗浄した。ろ液を水、飽和食塩水の順で分液洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧下で濃縮した。続いて、残渣にポリリン酸（１５．３ｇ）及び酢酸（１．７２ｍＬ，３０．０ｍｍｏｌ）を加えて８０℃にて３時間攪拌した。反応混合物を氷水中へと移した後に、攪拌下にて炭酸ナトリウム（１１．４ｇ，０．１０８ｍｏｌ）を少しずつ加えた。その後２８％アンモニア水溶液を加えてｐＨ＝９に調節し、そのまま１時間攪拌した。析出した粗結晶をろ取し、水で洗浄した後、得られた結晶を４０℃にて一晩真空乾燥させることにより化合物Ｐ４３（３９５ｍｇ，３４％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １８２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．４９（ｓ，３Ｈ），３．３３（ｓ，３Ｈ），７．０７（ｓ，１Ｈ），１２．７４（ｂｒｓ，０．５Ｈ），１２．７６（ｂｒｓ，０．５Ｈ）．
参考例４４：５−メトキシ−２，７−ジメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物Ｐ４４）
ＷＯ９８／０２４４２記載の方法に従って合成した２−アミノ−６−メトキシ−４−メチル−３−ニトロピリジン（９２５ｍｇ，５．０５ｍｍｏｌ）をエタノール（４０ｍＬ）及び酢酸エチル（１０ｍＬ）に溶解し、１０％パラジウム炭素（５０％含水、１．０７ｇ，０．５０５ｍｍｏｌ）を加え、水素ガス気流下室温にて１時間攪拌した。固形物をセライトろ過した後、ろ液を減圧下で濃縮した。続いて、残渣にポリリン酸（１２．９ｇ）及び酢酸（１．４５ｍＬ，２５．２ｍｍｏｌ）を加えて８０℃にて３時間攪拌した。反応混合物を氷水中へと移した後に、攪拌下にて炭酸ナトリウム（９．６３ｇ，９０．８ｍｍｏｌ）を少しずつ加えた。その後２８％アンモニア水溶液を加えてｐＨ＝９に調節し、そのまま１時間攪拌した。析出してきた粗結晶をろ取し、水で洗浄した後、得られた結晶を４０℃にて一晩真空乾燥させることにより化合物Ｐ４４（４９０ｍｇ，５５％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １７８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．４０（ｓ，３Ｈ），２．４１（ｓ，３Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），６．３９（ｓ，１Ｈ），１２．３０（ｂｓ，０．５Ｈ），１２．４７（ｂｓ，０．５Ｈ）．
参考例４５：２−メトキシ−５，７−ジメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物Ｐ４５）
２，３−ジアミノ−４，６−ジメチルピリジン（３．００ｇ，２１．９ｍｍｏｌ）を、酢酸（３．５ｍＬ）及びテトラメトキシメタン（３．５ｍＬ）中に懸濁させ、８０℃にて３．５時間攪拌した。析出物をろ過、水で洗浄し、ろ液にクロロホルムを加えて分液した。水層に飽和重曹水を加えて中和した後、析出した結晶をろ過、水で洗浄することにより化合物Ｐ４５（９３０ｍｇ，２４％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １７８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．５４（ｓ，３Ｈ），２．６２（ｓ，３Ｈ），４．１９（ｓ，３Ｈ），６．７９（ｓ，１Ｈ），１３．３２（ｂｒｓ，１Ｈ）．
参考例４６：２，５−ジメチル−７−トリフルオロメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物Ｐ４６）
ＵＳ５４４６１６０記載の方法に準じ、エチルアセトイミデート塩酸塩（１．２４ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン（５０ｍＬ）に懸濁し、１，１，１−トリフルオロ−２，４−ペンタジオン（３．６４ｍＬ，３０．０ｍｍｏｌ）、アミノアセトニトリル塩酸塩（９２．５ｍｇ，１０．０ｍｍｏｌ）及びジイソプロピルエチルアミン（５．２３ｍＬ，３０．０ｍｍｏｌ）を加えて６時間加熱還流した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に１．０ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加えて液性をｐＨ＝７に調節した。クロロホルムで４回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝５：９５）で精製し、得られた固体をエタノール−ジイソプロピルエーテルから再結晶し、化合物Ｐ４６（６５３ｍｇ，３．０３ｍｍｏｌ，収率３０％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ２１６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．７９（ｓ，６Ｈ），７．３２（ｓ，１Ｈ），１２．６（ｂｒｓ，１Ｈ）．
参考例４７：７−メトキシ−２，５−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物Ｐ４７）
［ケミカル・アンド・ファーマシューティカル・ブリティン（Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ）、１９８３年、３１巻、ｐ．２２８８−２２９５］記載の方法によって合成した７−クロロ−２，５−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（２１８ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）をメタノール（２．０ｍＬ）に懸濁し、２８％ナトリウムメトキシド−メタノール溶液（３．０ｍＬ）を加えて、マイクロ波合成装置を用いて１５５℃で３時間反応させた。反応液に１．０ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えて液性をｐＨ＝９に調節し、塩化ナトリウムを加えてクロロホルムで５回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝３：９７）で精製し、化合物Ｐ４７（８８．９ｍｇ，０．０５０２ｍｍｏｌ，収率４２％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １７８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．４１（ｓ，３Ｈ），２．４４（ｓ，３Ｈ），３．９８（ｂｒｓ，３Ｈ），６．６０（ｂｒｓ，１Ｈ），１２．４（ｂｒｓ，１Ｈ）．
【実施例】実施例１：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−［２−（ピロリジン−１−イル）エチル］インドール−２−カルボキサミド（化合物１）
化合物Ｐ２（３８５ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）をＴＨＦ−ＤＭＦ（２：１）（９．０ｍＬ）に溶解し、１−（２−アミノエチル）ピロリジン（１８８μＬ，１．５０ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ（３８３ｍｇ，２．００ｍｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物（１５３ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水及び飽和重曹水を加えてクロロホルムで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２０：１）にて精製し、さらにエタノールから再結晶し、化合物１（２２６ｍｇ，０．５０８ｍｍｏｌ，収率５０．８％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４４５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２７（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），１．７８（ｍ，４Ｈ），２．５４（ｍ，４Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．６９（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．５６（ｍ，２Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．７４（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ），６．８９（ｓ，１Ｈ），７．０２−７．０７（ｍ，２Ｈ），７．２８（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），９．８７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
融点：２４９−２５１℃（分解）
実施例２：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−（２−メチルプロピル）インドール−２−カルボキサミド（化合物２）
イソブチルアミンを用い、実施例１と同様の方法により化合物２を得た。得られた化合物２をエタノールから再結晶させた（収率６２％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４０４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８９（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６Ｈ），１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．８４（ｍ，１Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７９（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．０９（ｍ，２Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．００（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．０６（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４１（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），１１．５６（ｂｒｓ，１Ｈ）．
融点：２５４−２５７℃
実施例３：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−［３−（ピロリジン−１−イル）プロピル］インドール−２−カルボキサミド（化合物３）
１−（３−アミノプロピル）ピロリジンを用い、実施例１と同様の方法により化合物３を得た（収率５９％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２８（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），１．７５−１．９５（ｍ，６Ｈ），２．５９（ｍ，４Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．７１（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．５９（ｍ，２Ｈ），５．５４（ｓ，２Ｈ），６．６０（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｓ，１Ｈ），８．７０（ｂｒｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），９．６１（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例４：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−［４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン−１−イルカルボニル］インドール（化合物４）
４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジンを用い、実施例１と同様の方法により化合物４を得た（収率６７％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４８５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．５９（ｍ，２Ｈ），１．８１（ｍ，４Ｈ），２．００（ｍ，２Ｈ），２．３２（ｍ，１Ｈ），２．５９（ｍ，４Ｈ），２．６１（ｓ，３Ｈ），２．６４（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．１７（ｍ，２Ｈ），４．５６（ｍ，２Ｈ），５．５５（ｓ，２Ｈ），６．６４（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），７．０９（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２７−７．３３（ｍ，２Ｈ），８．０２（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例５：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−（１−エチルピロリジン−２−イルメチル）インドール−２−カルボキサミド（化合物５）
１−エチル−２−（アミノエチル）ピロリジンを用い、実施例１と同様の方法により化合物５を得た（収率６３％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．０３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），１．１９（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），１．６０（ｍ，３Ｈ），１．７８（ｍ，１Ｈ），２．１１（ｍ，１Ｈ），２．２７（ｍ，１Ｈ），２．８８（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．８２（ｍ，１Ｈ），２．９９−３．１５（ｍ，２Ｈ），３．４０（ｍ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｓ，１Ｈ），８．２９（ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），１１．０６（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例６：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−（１−メチルピペリジン−４−イル）インドール−２−カルボキサミド（化合物６）
４−メチルアミノ−１−メチルピペリジンを用い、実施例１と同様の方法により化合物６を得た（収率２９％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．５９（ｍ，２Ｈ），１．８９（ｍ，４Ｈ），２．１５（ｓ，３Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），２．８１（ｍ，２Ｈ），３．０１（ｂｒｓ，３Ｈ），４．２３（ｂｒｓ，１Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．７４（ｂｒｓ，１Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２９（ｓ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１１．５２（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例７：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−｛３−（ジメチルアミノ）プロピル｝インドール−２−カルボキサミド（化合物７）
３−（ジメチルアミノ）プロピルアミンを用い、実施例１と同様の方法により化合物７を得た（収率３９％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４３３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．６５（ｍ，２Ｈ），２．１２（ｓ，６Ｈ），２．２５（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．２８（ｍ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），６．９８−７．０３（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４０（ｓ，１Ｈ），８．４６（ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ），１１．５８（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例８：１−｛５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−２−カルボニル｝ピペリジン−４−カルボキサミド（化合物８）
イソニペコタミドを用い、実施例１と同様の方法により化合物８を得た（収率２９％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．５１（ｍ，２Ｈ），１．７７（ｂｒｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），２．４１（ｍ，１Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．０２（ｂｒｓ，２Ｈ），４．３８（ｂｒｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ，２Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．７０（ｓ，１Ｈ），６．８０（ｂｒｓ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２７−７．３７（ｍ，３Ｈ），１１．５６（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例９：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−（ピリジン−４−イルメチル）インドール−２−カルボキサミド（化合物９）
４−（アミノメチル）ピリジンを用い、実施例１と同様の方法により化合物９を得た（収率３１％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４３９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），４．５２（ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ，２Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．０２（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｓ，１Ｈ），７．２９−７．４３（ｍ，４Ｈ），８．５０（ｍ，２Ｈ），９．１０（ｔ，Ｊ＝３．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．６７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例１０：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−［４−（１−メチルピペリジン−４−イル）ピペラジン−１−イルカルボニル］インドール（化合物１０）
１−（１−メチルピペリジン−４−イル）ピペラジンを用い、実施例１と同様の方法により化合物１０を得た（収率３３％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ５１４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．４０（ｍ，２Ｈ），１．６４−１．８７（ｍ，４Ｈ），２．１１（ｓ，３Ｈ），２．１５（ｍ，１Ｈ），２．５１（１０Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７２−２．８２（ｍ，４Ｈ），３．６８（ｍ，４Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．７１（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１１．５７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例１１：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−（４−ヒドロキシピペリジン−１−イルカルボニル）インドール（化合物１１）
４−ヒドロキシピペリジンを用い、実施例１と同様の方法により化合物１１を得た（収率５４％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４３２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．３５（ｍ，２Ｈ），１．７８（ｍ，２Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．３８（ｍ，２Ｈ），３．８５（ｍ，１Ｈ），４．０４（ｍ，２Ｈ），４．８０（ｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ，１Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．７０（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１１．５５（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例１２：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−｛２−（ジメチルアミノ）エチル｝インドール−２−カルボキサミド（化合物１２）
Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミンを用い、実施例１と同様の方法により化合物１２を得た（収率５４％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４１９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），２．１７（ｓ，６Ｈ），２．３９（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．３０（ｍ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），６．９８−７．０３（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４０（ｓ，１Ｈ），８．３２（ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ），１１．５５（ｓ，１Ｈ）．
実施例１３：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−｛２−（ジエチルアミノ）エチル｝インドール−２−カルボキサミド（化合物１３）
Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミンを用い、実施例１と同様の方法により化合物１３を得た（収率５０％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４４７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．９６（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，６Ｈ），１．１９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），２．５１（８Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．３０（ｍ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），６．９８−７．０３（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｓ，１Ｈ），８．３１（ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ），１１．５６（ｓ，１Ｈ）．
実施例１４：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−［４−（１−メチルピペリジン−３−イルメチル）ピペラジン−１−イル］インドール（化合物１４）
１−（１−メチルピペリジン−３−イルメチル）ピペラジンを用い、実施例１と同様の方法により化合物１４を得た（収率３１％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ５２８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８２（ｍ，１Ｈ），１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．４０−１．８５（ｍ，６Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），２．１４（ｍ，２Ｈ），２．３５（ｍ，４Ｈ），２．５１（１０Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．６１（ｍ，１Ｈ），２．７３−２．８２（ｍ，３Ｈ），３．７０（ｂｒｓ，４Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．７０（ｓ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１１．５７（ｓ，１Ｈ）．
実施例１５：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−［（４−モルホリノピペリジン−１−イル）カルボニル］インドール（化合物１５）
４−（ピペリジン−４−イル）モルホリンを用い、実施例１と同様の方法により化合物１５を得た（収率２３％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ５０１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．３７（ｍ，２Ｈ），１．８２（ｍ，２Ｈ），２．４５（ｍ，４Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７７（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．００（ｂｒｓ，２Ｈ），３．２９（ｍ，１Ｈ），３．５６（ｍ，２Ｈ），４．３９（ｂｒｄ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．７０（ｓ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２６（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），１１．５４（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例１６：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−（２−フルオロエチル）インドール−２−カルボキサミド（化合物１６）
化合物Ｐ２（１１７ｍｇ，０．３０４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１．５ｍＬ）に溶解し、２−フルオロエチルアミン塩酸塩（４５．４ｍｇ，０．４５６ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ（８７．４ｍｇ，０．４５６ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物（４６．５ｍｇ，０．３０４ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（８４．７μＬ，０．６０８ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水及び飽和重曹水を加えてクロロホルムで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２０：１）にて精製し、さらにエタノールから再結晶し、化合物１６（６２．４ｍｇ，０．１５９ｍｍｏｌ，収率５２．１％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３９４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．５０−３．６５（ｍ，２Ｈ），４．５４（ｄｔ，Ｊ＝４７．０，１０．１Ｈｚ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），６．９９−７．０７（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４１（ｓ，１Ｈ），８．６５（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．６０（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例１７：ｔｒａｎｓ−５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−（２−ヒドロキシシクロヘキシル）インドール−２−カルボキサミド（化合物１７）
ｔｒａｎｓ−２−アミノシクロヘキサノール塩酸塩を用い、実施例１６と同様の方法により化合物１７を得た（収率３５％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４４６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．２３（ｍ，４Ｈ），１．６４（ｂｒｓ，２Ｈ），１．８９（ｍ，２Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．４０（ｍ，１Ｈ），３．６１（ｓ，１Ｈ），４．６１（ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），６．９９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｓ，１Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４４（ｓ，１Ｈ），８．０４（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），１１．５２（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例１８：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−［１−（１−ヒドロキシ）シクロヘキシルメチル］インドール−２−カルボキサミド（化合物１８）
１−アミノメチル−１−シクロヘキサノール塩酸塩を用い、実施例１６と同様の方法により化合物１８を得た（収率７７％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４６０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．３０−１．６０（ｍ，８Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．２７（ｍ，２Ｈ），４．３５（ｓ，１Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．００（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１０（ｓ，１Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４１（ｓ，１Ｈ），８．１１（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ），１１．６０（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例１９：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−（１−アザビシクロ［２．２．２］オクト−３−イル）インドール−２−カルボキサミド（化合物１９）
３−アミノキヌクリジン２塩酸塩を用い、実施例１６と同様の方法により化合物１９を得た（収率４５％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．３１（ｍ，１Ｈ）１．５８（ｍ，２Ｈ），１．７８−１．８６（ｍ，２Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．６８−２．３９（ｍ，７Ｈ），３．１１（ｍ，１Ｈ），３．９５（ｂｒｓ，１Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．００（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１８（ｓ，１Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｓ，１Ｈ），８．１５（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．５３（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例２０：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−（４，４−ジフルオロピペリジン−１−イルカルボニル）インドール（化合物２０）
４，４−ジフルオロピペリジンを用い、実施例１６と同様の方法により化合物２０を得た（収率６５％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），２．０６（ｍ，４Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．８０（ｂｒｓ，４Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．８０（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１１．６１（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例２１：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−｛４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペラジン−１−イルカルボニル｝インドール（化合物２１）
１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペラジンを用い、実施例１と同様の方法により化合物２１を得た（収率８１％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ５１７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．４１（ｓ，９Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．４０（ｂｒｓ，４Ｈ），３．７０（ｂｒｓ，４Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．７７（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２６（ｓ，１Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１１．６０（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例２２：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−（ピペラジン−１−イルカルボニル）インドール（化合物２２）
化合物２１（１２７ｍｇ，０．２４９ｍｍｏｌ）をクロロホルム（１．５ｍＬ）に溶解し、４ｍｏｌ／Ｌ塩化水素−酢酸エチル溶液（１．０ｍＬ）を加えて室温で１時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に３％アンモニア水を加えてクロロホルムで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をエタノール−ジイソプロピルエーテルから再結晶し、化合物２２（６５．６ｍｇ，０．１５７ｍｍｏｌ，収率６４．１％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４１７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．６８−２．８２（ｍ，６Ｈ），３．６２（ｍ，４Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．６９（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２６（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），１１．５５（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例２３：１−｛５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−２−カルボニル｝ピペリジン−４−カルボン酸エチルエステル（化合物２３）
イソニペコチン酸エチルを用い、実施例１と同様の方法により化合物２３を得た（収率５９％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４８８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２３−１．３０（ｍ，６Ｈ），１．８０（ｍ，２Ｈ），２．０１（ｍ，２Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６２（ｍ，１Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．２４（ｂｒｓ，２Ｈ），４．１６（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），４．５０（ｍ，２Ｈ），５．５５（ｓ，２Ｈ），６．６５（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），７．３１（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２６−７．３３（ｍ，２Ｈ），９．１７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例２４：［４−｛５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−２−カルボニル｝ピペラジン−１−イル］酢酸エチルエステル（化合物２４）
（ピペラジン−１−イル）酢酸エチルを用い、実施例１と同様の方法により化合物２４を得た（収率６１％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ５０３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２７（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．６５（ｂｒｓ，４Ｈ），２．７９（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．２６（ｓ，２Ｈ），３．９５（ｂｒｓ，４Ｈ），４．１９（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），５．５３（ｓ，２Ｈ），６．６３（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），６．８９（ｓ，１Ｈ），７．０５（ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２６（ｓ，１Ｈ），９．７２（ｓ，１Ｈ）．
実施例２５：１−｛５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−２−カルボニル｝ピペリジン−３−カルボン酸エチルエステル（化合物２５）
ニペコチン酸エチルを用い、実施例１と同様の方法により化合物２５を得た（収率６３％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４８８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２１−１．３１（ｍ，６Ｈ），１．６３（ｍ，１Ｈ），１．８３（ｍ，２Ｈ），２．１３（ｍ，１Ｈ），２．５８（ｍ，１Ｈ），２．６１（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．２８（ｍ，１Ｈ），３．４４（ｍ，１Ｈ），４．１５（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），４．３１（ｍ，１Ｈ），４．５４（ｍ，１Ｈ），５．５４（ｓ，２Ｈ），６．７１（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２６−７．３３（ｍ，２Ｈ），９．２９（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例２６：［３−｛５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−２−カルボニル｝アミノ］プロピオン酸エチルエステル（化合物２６）
β−アラニンエチルエステル塩酸塩を用い、実施例１６と同様の方法により化合物２６を得た（収率８０％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４４８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１４−１．２１（ｍ，６Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．５８（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．４９（ｍ，２Ｈ），４．０６（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４１（ｓ，１Ｈ），８．５２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ），１１．６０（ｓ，１Ｈ）．
実施例２７：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−（３−オキソブチル）インドール−２−カルボキサミド（化合物２７）及び５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−（３−ヒドロキシ−３−メチルブチル）インドール−２−カルボキサミド（化合物２８）
化合物２６（８１．６ｍｇ，０．１８２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（５．５ｍＬ）に溶解し、０℃で臭化メチルマグネシウム−ＴＨＦ溶液（１ｍｍｏｌ／Ｌ，１．１ｍＬ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、クロロホルムで３回抽出した。有機層を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２０：１）にて精製した。先に溶出した目的物を含むフラクションの濃縮残渣をエタノール−ジイソプロピルエーテルから再結晶し、化合物２７（１５．０ｍｇ，０．０３５９ｍｍｏｌ，収率１３％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４１８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．６９−２．８２（ｍ，４Ｈ），３．４４（ｍ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．００（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４０（ｓ，１Ｈ），８．４１（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），１１．５７（ｓ，１Ｈ）．
また、後に溶出した目的物を含むフラクションの濃縮残渣をエタノール−ＤＭＦから再結晶し、化合物２８（３０．９ｍｇ，０．０７１３ｍｍｏｌ，収率３９％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４３４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１４（ｓ，６Ｈ），１．１９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．６４（ｍ，２Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．３２（ｍ，２Ｈ），４．３４（ｓ，１Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９３−７．０２（ｍ，３Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３８（ｓ，１Ｈ），８．３３（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），１１．５４（ｓ，１Ｈ）．
実施例２８：（Ｓ）−５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−｛２−［２−（ヒドロキシメチル）ピロリジン−１−イル］エチル｝インドール−２−カルボキサミド（化合物２９）
工程１
市販の２−ヒドロキシエチルカルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１．５０ｇ，９．３０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１００ｍＬ）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（１．９５ｍＬ，１４．０ｍｍｏｌ）及びメタンスルホニルクロリド（１．０８ｍＬ，１４．０ｍｍｏｌ）を加え、同温度で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。次いで残渣をジクロロメタン（５０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（１．９５ｍＬ，１４．０ｍｍｏｌ）、Ｌ−プロリノール（２．７５ｍＬ，２７．９ｍｍｏｌ）及びテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヨージド（５．１５ｇ，１４．０ｍｍｏｌ）を加え、室温にて終夜攪拌した。反応混合物をクロロホルムで希釈し、水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール：２ｍｏｌ／Ｌアンモニア−メタノール溶液＝４０：１：１）にて精製し、｛２−［２−（ヒドロキシメチル）ピロリジン−１−イル］エチル｝カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１．８８ｇ，収率８３％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４１（ｓ，９Ｈ），１．６１−１．９０（ｍ，４Ｈ），２．３２（ｍ，１Ｈ），２．４８（ｍ，１Ｈ），２．６８（ｍ，１Ｈ），２．８９（ｍ，１Ｈ），３．１９（ｍ，２Ｈ），３．３２（ｍ  １Ｈ），３．４２（ｄｄ，Ｊ＝３．３，１１．０Ｈｚ，１Ｈ），３．５８（ｄｄ，Ｊ＝３．８，１１．０Ｈｚ，１Ｈ），５．０２（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程２
工程１で得られた｛２−［２−（ヒドロキシメチル）ピロリジン−１−イル］エチル｝カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（０．９５ｇ，３．８８ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（３０ｍＬ）に溶解し、４ｍｏｌ／Ｌ塩化水素−１，４−ジオキサン溶液（３０ｍＬ）を加え、室温にて５時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、［１−（２−アミノエチル）ピロリジン−２−イル］メタノール２塩酸塩を得た。この化合物は精製することなく次の反応に用いた。
工程３
５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−カルボン酸（１００ｍｇ，２６０μｍｏｌ）をＴＨＦ（４ｍＬ）及び酢酸（２ｍＬ）に溶解し、工程２で得られた［１−（２−アミノエチル）ピロリジン−２−イル］メタノール２塩酸塩（１７０ｍｇ，７８３μｍｏｌ）、ＥＤＣ（１００ｍｇ，５２１μｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物（４０．０ｍｇ，２９６μｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１０９μＬ，７８１μｍｏｌ）を加え、室温にて終夜攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、クロロホルムで希釈した。これを水、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール：２ｍｏｌ／Ｌアンモニア−メタノール溶液＝３０：１：１）にて精製し、化合物２９（８９ｍｇ，収率７２％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），１．４９−１．８１（ｍ，４Ｈ），２．２１（ｑ，Ｊ＝８．６，１６．０Ｈｚ，１Ｈ），２．４５（ｍ，１Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），２．５２（ｓ，３Ｈ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．９４（ｍ，１Ｈ，３．０９（ｍ，１Ｈ），３．２４（ｍ，１Ｈ），３．３９−３．４７（ｍ，４Ｈ），４．３８（ｂｒｓ，１Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．００（ｓ，１Ｈ），７．０３（ｂｒｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３８（ｓ，１Ｈ），８．３４（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．５（ｓ，１Ｈ）．
実施例２９：化合物３０〜化合物９８の合成
化合物Ｐ２（１９ｍｇ，０．０５０ｍｏｌ）をＤＭＦ（０．９０ｍＬ）に溶解し、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物のＤＭＦ溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ，０．０７５ｍＬ）、相当する１級アミンまたは２級アミンのクロロホルム溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ，０．１０ｍＬ）及びＥＤＣレジン（約１．４ｍｍｏｌ／ｇ，１４０ｍｇ，ポリマーラボラトリーズ社製）を加え、室温で２０時間攪拌した。反応の終結を薄層クロマトグラフィーで確認した後、反応混合物中のレジンをろ別し、溶媒を留去した。残渣にＤＭＦ（０．８０ｍＬ）、Ｎ−メチルイサト酸無水物ポリスチレン（約２．０ｍｍｏｌ／ｇ，１５０ｍｇ，ノババイオケム社製）及びトリス（２−アミノエチル）アミンポリスチレン（１％ジビニルベンゼン共重合体，約３．４０ｍｍｏｌ／ｇ，４４ｍｇ，ノババイオケム社製）を加え、室温で終夜攪拌した。反応混合物中のレジンをろ別し、残渣をイオン交換クロマトグラフィー（ボンデシルＳＣＸ，バリアン社製；２ｍｏｌ／Ｌアンモニア−メタノール溶液で溶出）にて精製し、化合物３０〜化合物９８を得た。
化合物の構造と分析値（ＡＰＣＩ−ＭＳ）は第２表（１）〜（８）に記した。
実施例３０：２−シクロペンチル−５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール（化合物９９）
３，４−ジアミノ安息香酸メチルエステル（１．７６ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１００ｍＬ）に溶解し、０℃にてシクロペンタンカルボン酸クロリド（５．３４ｍＬ，４４．０ｍｍｏｌ）及び４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン（ＤＭＡＰ）（４．８８ｇ，４０．０ｍｍｏｌ）を加え、室温にて３６時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（２００ｍＬ）を加え、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をメタノール（２００ｍＬ）でトリチュレーションして３，４−ビス（シクロペンタンカルボニルアミノ）安息香酸メチルエステル（５．８０ｇ，１６．２ｍｍｏｌ，収率８１％）を得た。
得られた３，４−ビス（シクロペンタンカルボニルアミノ）安息香酸メチルエステル（４．３８ｇ，１２．２ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（６６ｍＬ）に溶解し、２８％ナトリウムメトキシド−メタノール溶液（９．４３ｇ，４８．９ｍｍｏｌ）を加え８５℃で１６時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル（１００ｍＬ）及び水（５０ｍＬ）に溶解し、有機層を分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し、２−シクロペンチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール−５−カルボン酸メチルエステル（１．３７ｇ，５．６１ｍｍｏｌ，収率４６％）を得た。
得られた２−シクロペンチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール−５−カルボン酸メチルエステル（１．３７ｇ，５．６１ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（１．８８ｍＬ，１３．５ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（０．０６８５ｇ，０．５６１ｍｍｏｌ）及びジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（１．５５ｍＬ，６．７３ｍｍｏｌ）を加えて室温にて１時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（１００ｍＬ）及び水（１０ｍＬ）を加え有機層を分離した。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）にて精製し、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−シクロペンチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール−５−カルボン酸メチルエステル及び１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−シクロペンチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール−６−カルボン酸メチルエステルの混合物（１．８３ｇ，５．３１ｍｍｏｌ，収率９５％）を得た。
得られた１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−シクロペンチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール−５−カルボン酸メチルエステル及び１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−シクロペンチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール−６−カルボン酸メチルエステルの混合物（２．２７ｇ，６．５９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３５ｍＬ）に溶解し、−７８℃にて攪拌した。これに水素化ジイソブチルアルミニウム（１．０１ｍｏｌ／Ｌトルエン溶液、１９．６ｍＬ，１９．８ｍｍｏｌ）を−７８℃にて滴下し、その後、室温で１時間攪拌した。続いて反応混合物にロッシェル塩水溶液（１００ｍＬ）及び酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−シクロペンチル−５−ヒドロキシメチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール及び１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−シクロペンチル−６−ヒドロキシメチル−１Ｈ−ベンズイミダゾールの混合物（１．９５ｇ，６．１６ｍｍｏｌ，収率９４％）を得た。
１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−シクロペンチル−５−ヒドロキシメチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール及び１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−シクロペンチル−６−ヒドロキシメチル−１Ｈ−ベンズイミダゾールの混合物（０．７４０ｇ，２．３４ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（２０ｍＬ）に溶解し、ピリジン（０．４９２ｍＬ，６．０８ｍｍｏｌ）及びメタンスルホン酸無水物（０．５３０ｇ，３．０４ｍｍｏｌ）を加え、０℃で３０分間攪拌した。反応混合物にジエチルエーテルを加え、析出物をろ過し、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣のＴＨＦ（１０ｍＬ）溶液を、予め水素化ナトリウム（油性，６０％，０．２０４ｇ，４．６８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１２ｍＬ）に懸濁し、２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（０．４１０ｇ，２．３４ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間攪拌して調製した溶液に０℃にて加え、室温で２時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水及び飽和重曹水を加え、酢酸エチルで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）にて精製し、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−シクロペンチル−５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イル）メチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール及び１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−シクロペンチル−６−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イル）メチル−１−１Ｈ−ベンズイミダゾールの混合物（０．３００ｇ，０．６３４ｍｍｏｌ，収率２７％）を得た。
１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−シクロペンチル−５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イル）メチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール及び１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−シクロペンチル−６−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イル）メチル−１Ｈ−ベンズイミダゾールの混合物（０．２７６ｇ，０．５８２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（４ｍＬ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（３ｍＬ）及び４ｍｏｌ／Ｌ塩化水素−１，４−ジオキサン溶液（１２ｍＬ）を加え室温にて１２時間攪拌した。反応混合物にメタノール（２ｍＬ）を加え６０℃で１時間攪拌し、その後、減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル（５０ｍＬ）及び５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（５ｍＬ）に溶解し、有機層を分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）にて精製し、化合物９９（０．１７３ｇ，０．４６３ｍｍｏｌ，収率８０％）で得た。得られた化合物９９をエタノールから再結晶させた。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３７４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，７０℃）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），１．５０−１．９０（ｍ，６Ｈ），１．９１−２．０８（ｍ，２Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．７５（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．２０（ｔｔ，Ｊ＝７．８，７．８Ｈｚ，１Ｈ），５．４８（ｓ，２Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１１（ｂｒｓ，１Ｈ），７．３５（ｂｒｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．８８（ｂｒｓ，１Ｈ）．
融点：２１２．９−２１３．１℃
実施例３１：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−フェニル−１Ｈ−ベンズイミダゾール（化合物１００）
シクロペンタンカルボン酸クロリドの代わりにベンゾイルクロリドを用い、実施例３０と同様な方法により化合物１００（０．２４０ｇ，０．６２９ｍｍｏｌ）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３８２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，７０℃）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．７６（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．２４（ｓ，１Ｈ），７．４０−７．６０（ｍ，５Ｈ），８．０６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例３２：１−｛３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］ベンゾイル｝−４−メチルピペラジン２塩酸塩（化合物１０１）
１−（２−アミノエチル）ピロリジンの代わりに４−メチルピペラジンを用い、実施例１と同様な方法により、化合物Ｐ８（０．１４７ｇ，０．３４６ｍｍｏｌ）から、３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］安息香酸４−メチルピペラジニルアミド（０．１３５ｇ，０．２７０ｍｍｏｌ，収率７８％）を得た。次いで、この化合物を酢酸エチル（２ｍＬ）に溶解し、４ｍｏｌ／Ｌ塩化水素−酢酸エチル溶液を加え、析出した結晶をろ取し、化合物１０１（０．０８９３ｇ，０．１５４ｍｍｏｌ）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ５０８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，７０℃）δ（ｐｐｍ）：１．３０（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，３Ｈ），２．６２（ｓ，３Ｈ），２．６５（ｓ，３Ｈ），２．７９（ｓ，３Ｈ），３．１３（ｑ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），３．２０−３．５３（ｍ，４Ｈ），３．５３−３．６３（ｍ，２Ｈ），４．０７−４．３１（ｍ，３Ｈ），５．８１（ｓ，２Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．６５−７．７８（ｍ，４Ｈ），８．４４（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），８．５１（ｓ，１Ｈ）．
実施例３３：（Ｅ）−３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］−Ｎ−［２−（ピロリジン−１−イル）エチル］アクリルアミド（化合物１０２）
化合物Ｐ７（１．３８ｇ，３．６６ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（２０ｍＬ）に溶解し、１−（２−アミノエチル）ピロリジン（０．７０ｍＬ，５．４９ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ（１．４０ｇ，７．３２ｍｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンズトリアゾール水和物（０．４９ｇ，３．６６ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応混合物に飽和重曹水を加え反応を停止させた後、クロロホルムで３回抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：２ｍｏｌ／Ｌアンモニア−メタノール溶液＝９５：５）にて精製し、さらにエタノールから再結晶を行い化合物１０２（０．５９ｇ，１．２５ｍｍｏｌ，収率３４％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２２（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．６８（ｔｔ，Ｊ＝３．１，３．７Ｈｚ，４Ｈ），２．５４（ｓ，６Ｈ），２．５４−２．５７（ｍ，２Ｈ），２．８１（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．３１（ｑ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ），６．９２（ｓ，１Ｈ），６．９９（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２８（ｓ，１Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）．
融点：１９５−１９６℃（分解）
実施例３４：３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］−Ｎ−［２−（ピロリジン−１−イル）エチル］プロピオンアミド１フマル酸塩（化合物１０３）
化合物１０２（０．６００ｇ，１．２７ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（３０ｍＬ）に溶解し、１０％パラジウム／炭素（０．１００ｇ，０．０９４ｍｍｏｌ）を加えて水素雰囲気下、６０℃で３０分間攪拌した。反応混合物をセライトでろ過し、次いでろ液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：２ｍｏｌ／Ｌアンモニア−メタノール溶液＝９５：５）にて精製し、３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］−Ｎ−［２−（ピロリジン−１−イル）エチル］プロピオンアミド（０．４５０ｇ，０．９５１ｍｍｏｌ，収率６９％）得た。この化合物をＴＨＦ（７．５ｍＬ）に溶解し、フマル酸（０．１３２ｇ，１．１４ｍｍｏｌ）を加え、析出した結晶をろ取して化合物１０３（０．３１３ｇ，０．５３１ｍｍｏｌ）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２１（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），１．６３−１．７０（ｍ，４Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．５５−２．６８（ｍ，８Ｈ），２．７９（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），２．９９（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），３．１７−３．２６（ｍ，２Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．５８（ｓ，２Ｈ），６．９１（ｓ，１Ｈ），６．９７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例３５：（Ｅ）−３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］−Ｎ−［４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン−１−イルメチル］アクリルアミド（化合物１０４）
４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジンを用い、実施例３３と同様の方法により化合物１０４を得た。得られた化合物１０４をエタノールから再結晶させた。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ５１２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２２（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），１．８４−１．８８（ｍ，２Ｈ），２．２５−２．３５（ｍ，１Ｈ），２．５２（ｓ，６Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），４．００−４．２０（ｍ，２Ｈ），５．５４（ｓ，２Ｈ），６．９３（ｓ，１Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１Ｈ）．
融点：１５０−１５３℃
実施例３６：（Ｅ）−３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］−Ｎ−（１−エチルピロリジン−２−イルメチル）アクリルアミド（化合物１０５）
１−エチル−２−（アミノメチル）ピロリジンを用い、実施例３３と同様な方法により化合物１０５を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４８６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．０７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），１．２２（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．５０−１．６２（ｍ，１Ｈ），１．６７−１．７３（ｍ，２Ｈ），１．８０−１．８９（ｍ，１Ｈ），２．２５−２．５０（ｍ，２Ｈ），２．５２（ｓ，６Ｈ），２．７３−２．９２（ｍ，４Ｈ），３．０９−３．１６（ｍ，２Ｈ），３．３８−３．４３（ｍ，１Ｈ），５．５３（ｓ，２Ｈ），６．９３（ｓ，１Ｈ），７．０３（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．０８（ｓ，１Ｈ），７．２８（ｓ，１Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例３７：（Ｅ）−３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］−Ｎ−イソブチルアクリルアミド（化合物１０６）
イソブチルアミンを用い、実施例３３と同様な方法により化合物１０６を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４３１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，６Ｈ），１．２２（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．７８（ｔｑ，Ｊ＝６．６，６．３Ｈｚ，１Ｈ），２．５２（ｓ，６Ｈ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．０３（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），５．５４（ｓ，２Ｈ），６．９３（ｓ，１Ｈ），７．０２（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．０５−７．０８（ｍ，１Ｈ），７．２９（ｓ，１Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例３８：（Ｅ）−３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］−Ｎ−（４−ヒドロキシピペリジン−１−イル）アクリルアミド（化合物１０７）
４−ヒドロキシピペリジンを用い、実施例３３と同様な方法により化合物１０７を得た。得られた化合物１０７をエタノールから再結晶させた。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．３６−１．４０（ｍ，２Ｈ），１．７４−１．７６（ｍ，２Ｈ），２．４９（ｓ，６Ｈ），２．７６（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．１８−３．３６（ｍ，２Ｈ），３．７０−３．７３（ｍ，１Ｈ），３．８０−３．９５（ｍ，２Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．６０（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ）．
融点：２７５−２７７℃
実施例３９：（Ｅ）−３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］−Ｎ−ピロリジン−４−イルメチルアクリルアミド（化合物１０８）
４−（アミノメチル）ピリジンを用い、実施例３３と同様な方法により化合物１０８を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４６６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１７（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），２．４９（ｓ，６Ｈ），２．７５（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），４．４１（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．９２（ｓ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．４８（ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例４０：（Ｅ）−３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルアクリルアミド（化合物１０９）
Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミンを用い、実施例３３と同様な方法により化合物１０９を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４１９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），２．４９（ｓ，６Ｈ），２．７７（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．２０（ｓ，３Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２４（ｓ，１Ｈ），７．４０（ｓ，２Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例４１：化合物１１０〜化合物１６０の合成
化合物Ｐ９（０．０２１ｇ，０．０５０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（０．５０ｍＬ）に溶解し、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物のＤＭＦ溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ，０．０７５ｍＬ）、相当する１級または２級アミンのクロロホルム溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ，０．１０ｍＬ）及びＥＤＣレジン（約１．４ｍｍｏｌ／ｇ、０．１４０ｇ、ポリマーラボラトリーズ社製）を加え、室温で２０時間攪拌した。反応の終結を薄層クロマトグラフィーで確認した後、反応混合物中のレジンをろ別し、溶媒を留去した。残渣にＤＭＦ（０．８０ｍＬ）、Ｎ−メチルイサト酸無水物ポリスチレン（約２．０ｍｍｏｌ／ｇ、０．１５０ｇ、ノババイオケム社製）及びトリス（２−アミノエチル）アミンポリスチレン（１％ジビニルベンゼン共重合体、約３．４０ｍｍｏｌ／ｇ、０．０４４ｇ、ノババイオケム社製）を加え、室温で終夜攪拌した。反応混合物中のレジンをろ別し、残渣をイオン交換クロマトグラフィー（ボンデシルＳＣＸ、バリアン社製、２ｍｏｌ／Ｌアンモニア−メタノール溶液で溶出）にて精製し、化合物１１０〜化合物１６０を得た。
化合物の構造と分析値（ＡＰＣＩ−ＭＳ）は第５表（１）〜（５）に記した。
実施例４２：（Ｅ）−３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］−Ｎ−［２−（ピロリジン−１−イル）エチル］アクリルアミド（化合物１６１）
化合物Ｐ３９（１９７ｍｇ，０．５２６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ−ＤＭＦ（４：１）（５ｍＬ）に懸濁し、１−（２−アミノエチル）ピロリジン（０．１００ｍＬ，０．７８９ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ（２０２ｍｇ，１．０５ｍｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物（８０．５ｍｇ，０．５２６ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水及び飽和重曹水を加えクロロホルムで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をエタノールから再結晶し、化合物１６１（１５７ｍｇ，０．３３４ｍｍｏｌ，収率６３．４％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．６７（ｍ，４Ｈ），２．４３−２．５３（１０Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．２８（ｍ，４Ｈ），５．４８（ｓ，２Ｈ），６．５０（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），６．６７（ｓ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），６．９８（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２６−７．３２（ｍ，２Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ），１１．４６（ｓ，１Ｈ）．
融点：２３９−２４３℃（分解）
実施例４３：（Ｅ）−１−｛３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］アクリロイル｝−４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン（化合物１６２）
４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジンを用い、実施例４２と同様の方法により化合物１６２を得た。得られた化合物１６２を２−プロパノール−ジイソプロピルエーテル（１：１）から再結晶させた（収率８３％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ５１１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．３２（ｍ，２Ｈ），１．６７（ｍ，４Ｈ），１．８９（ｍ，２Ｈ），２．２５（ｍ，１Ｈ），２．５１（１０Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７９（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），２．８６（ｍ，１Ｈ），３．３３（ｍ，１Ｈ），４．０８（ｍ，１Ｈ），４．２６（ｍ，１Ｈ），５．４８（ｓ，２Ｈ），６．７２（ｓ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．００（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．１８（ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２９−７．３３（ｍ，２Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ，１Ｈ），１１．４７（ｓ，１Ｈ）．
融点：１３９−１４４℃
実施例４４：（Ｅ）−３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］−Ｎ−イソブチルアクリルアミド（化合物１６３）
イソブチルアミンを用い、実施例４２と同様の方法により化合物１６３を得た（収率７４％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４３０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８６（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６Ｈ），１．２０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．７５（ｍ，１Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．００（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），５．４８（ｓ，２Ｈ），６．５２（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），６．６７（ｓ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），６．９８（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２４−７．３２（ｍ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），８．１１（ｂｒｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ），１１．４８（ｓ，１Ｈ）．
実施例４５：（Ｅ）−３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］−Ｎ−（ピリジン−４−イルメチル）アクリルアミド（化合物１６４）
４−（アミノメチル）ピリジンを用い、実施例４２と同様の方法により化合物１６４を得た（収率７３％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４６５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），２．５１（６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．７８（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），４．４２（ｂｒｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．５８（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），６．７１（ｓ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．００（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２４−７．３４（ｍ，４Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），８．５０（ｍ，２Ｈ），８．７３（ｂｒｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．５５（ｓ，１Ｈ）．
実施例４６：（Ｅ）−３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルアクリルアミド（化合物１６５）
化合物Ｐ３９（４８５ｍｇ，１．３０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ−ＤＭＦ（４：１）（１０ｍＬ）に懸濁し、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（１８９ｍｇ，１．９４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．３６１ｍＬ，２．５９ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ（３７２ｍｇ，１．９４ｍｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物（１９９ｍｇ，１．３０ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水及び飽和重曹水を加えてクロロホルムで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をエタノールから再結晶し、化合物１６５（４３０ｍｇ，１．０３ｍｍｏｌ，収率７９．５％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４１８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３２（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），２．６３（ｓ，１Ｈ），２．６８（ｓ，１Ｈ），２．８３（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．２５（ｓ，３Ｈ），３．４１（ｓ，３Ｈ），５．４４（ｓ，２Ｈ），６．５４（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．５Ｈｚ，１Ｈ），６．６０−６．６４（ｍ，２Ｈ），６．８９（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），１０．２３（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例４７：（Ｅ）−４−｛３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］アクリロイル｝モルホリン（化合物１６６）
モルホリンを用い、実施例４２と同様の方法により化合物１６６を得た（収率６６％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４４４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．５０−３．８０（ｍ，８Ｈ），５．４８（ｓ，２Ｈ），６．７５（ｓ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．００（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｓ，１Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１Ｈ），１１．４５（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例４８：（Ｅ）−１−｛３−［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］アクリロイル｝−４−ヒドロキシピペリジン（化合物１６７）
４−ヒドロキシピペリジンを用い、実施例４２と同様の方法により化合物１６７を得た（収率５０％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２１（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），１．２０−１．３０（ｍ，２Ｈ），１．７０−１．８０（ｍ，２Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．１３（ｍ，１Ｈ），３．２０−３．５０（ｍ，２Ｈ），３．７５（ｍ，１Ｈ），３．９０−４．１０（ｍ，２Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．７３（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｓ，１Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，１Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ，１Ｈ），１１．５０（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例４９：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−［２−（ピロリジン−１−イル）エチルアミノメチル］−１Ｈ−インドール（化合物１６８）
化合物Ｐ４０（１１０ｍｇ，０．３３１ｍｍｏｌ）をジクロロエタン（３．３ｍＬ）に懸濁し、酢酸（０．０７６ｍＬ）、１−（２−アミノエチル）ピロリジン（０．０６３ｍＬ）及びトリアセトキシ水素化ほう素ナトリウム（１０５ｍｇ，０．４９６ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応混合物に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加え、ジクロロメタンで３回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：トリエチルアミン：クロロホルム＝２：１：１５）で精製し、得られた目的化合物を２−プロパノール−ジイソプロピルエーテルから再結晶し、化合物１６８（９３．４ｍｇ，０．２１７ｍｍｏｌ，６５．５％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４３１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｅ），１．４６−１．６１（ｍ，２Ｈ），１．７０−１．８９（ｍ，６Ｈ），１．９３−２．０７（ｍ，３Ｈ），２．５４（ｍ，４Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），２．８３（ｍ，２Ｈ），３．５９（ｓ，２Ｈ），５．５３（ｓ，２Ｈ），６．２１（ｓ，１Ｈ），６．８８（ｓ，１Ｈ），６．９６（ｄｄ，Ｊ＝８．３，１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２１−７．２６（ｍ，２Ｈ），８．６０（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例５０：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２（イソブチルアミノメチル）−１Ｈ−インドール（化合物１６９）
イソブチルアミンを用い、実施例４９と同様の方法により化合物１６９を得た（収率４５％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３９０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．９０（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，６Ｈ），１．２８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．７４（ｏｃｔｅｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ），２．４３（ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．９１（ｓ，２Ｈ），５．５３（ｓ，２Ｈ），６．２１（ｓ，１Ｈ），６．８８（ｓ，１Ｈ），６．９４（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２６（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），８．５５（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例５１：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−［４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン−１−イルメチル］−１Ｈ−インドール（化合物１７０）
４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジンを用い、実施例４９と同様の方法により化合物１７０を得た（収率６１％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．４６−１．６１（ｍ，２Ｈ），１．７０−１．８９（ｍ，６Ｈ），１．９３−２．０７（ｍ，３Ｈ），２．５４（ｍ，４Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），２．８３（ｍ，２Ｈ），３．５９（ｓ，２Ｈ），５．５３（ｓ，２Ｈ），６．２１（ｓ，１Ｈ），６．８８（ｓ，１Ｈ），６．９６（ｄｄ，Ｊ＝８．３，１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２１−７．２６（ｍ，２Ｈ），８．６０（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例５２：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−（４−ヒドロキシピペリジン−１−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物１７１）
４−ヒドロキシピペリジンを用い、実施例４９と同様の方法により化合物１７１を得た（収率４７％）。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４１８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２９（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．５７（ｍ，２Ｈ），１．７８−１．９７（ｍ，３Ｈ），２．１７（ｍ，２Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．７２（ｍ，２Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．６１（ｓ，２Ｈ），３．７３（ｍ，１Ｈ），３．５２（ｓ，２Ｈ），６．２１（ｓ，１Ｈ），６．８８（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２６（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），８．５８（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例５３：５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−｛３−［４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン−１−イル］−１−プロペニル｝−１Ｈ−インドール（化合物１７２）
水素化リチウムアルミニウム（１４．９ｍｇ，０．３９３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１．０ｍＬ）に懸濁し、０℃で塩化アルミニウム（２６．３ｍｇ，０．１９７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（０．５ｍＬ）溶液を加え、０℃で５分間攪拌した。その後、化合物１６２（５０．２ｍｇ，０．０９８３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２．５ｍＬ）懸濁液を加え、０℃で１５分間攪拌した。反応混合物に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をエタノール（０．１ｍＬ）−ジイソプロピルエーテル（１．０ｍＬ）から再結晶し、化合物１７２（２９．９ｍｇ，０．０６０２ｍｍｏｌ，６１．２％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４９７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．６０（ｍ，２Ｈ），１．７７−２．０９（ｍ，９Ｈ），２．６０（ｍ，４Ｈ），２．６１（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．７９（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），２．９４−３．００（ｍ，２Ｈ），３．１４（ｄｄ，Ｊ＝６．７，１．０Ｈｚ，２Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．０９（ｄｔ，Ｊ＝１６．１，６．７Ｈｚ，１Ｈ），６．３２（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．５０（ｄｔ，Ｊ＝１６．１，１．０Ｈｚ，１Ｈ），６．８９（ｓ，１Ｈ），６．９２（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．１４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２３（ｂｒｓ，１Ｈ），８．４３（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例５４：［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］フェニルメタノール（化合物１７３）
化合物Ｐ４１ａ及び化合物Ｐ４１ｂの混合物（１：１）（２１２ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）のクロロホルム溶液（５．０ｍＬ）に４ｍｏｌ／Ｌ塩化水素−酢酸エチル溶液（３．０ｍＬ）を加え、１．５時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、水（２０ｍＬ）を加え、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ＝１０に調整した。クロロホルムで３回抽出した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残渣をエタノール−２−プロパノールから再結晶し、化合物１７３（４６ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ，３２％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４１２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），２．５１（ｓ，６Ｈ），２．７７（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．９１（ｓ，１Ｈ），７．００（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１９−７．２４（ｍ，２Ｈ），７．２９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．３９−７．４５（ｍ，３Ｈ）．
実施例５５：［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］ピリジン−４−イルメタノン（化合物１７４）
化合物Ｐ４２（０．１９９ｇ，０．３９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（１０ｍＬ）にトリフルオロ酢酸（３．０ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮し、残渣をエタノール−イソプロピルエーテルから再結晶し、化合物１７４（０．０６６３ｇ，０．１６ｍｍｏｌ，４１％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４１１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２４（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），２．５４（ｓ，６Ｈ），２．８２（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．６１（ｓ，２Ｈ），６．９６（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｍ，１Ｈ），７．４４（ｍ，１Ｈ），７．７０（ｍ，１Ｈ），８．２９（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），８．８６（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例５６：［５−（２−エチル−５，７−ジメチル−３−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル］フェニルメタノン（化合物１７５）
化合物１７３（０．０６８２ｇ，０．１７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（２．０ｍＬ）に二酸化マンガン（０．０８８６ｇ，１．０２ｍｍｏｌ）を加え、終夜攪拌した。セライトろ過を行った後、ろ液を減圧濃縮した。残渣をエタノール−２−プロパノールで再結晶し、化合物１７５（０．０３７７ｇ，０．０９２ｍｍｏｌ，５４％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４１０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２５（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），２．５４（ｓ，６Ｈ），２．８３（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．６１（ｓ，２Ｈ），６．９６（ｓ，１Ｈ），７．２６（ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４３（ｓ，１Ｈ），７．５７−７．６２（ｍ，２Ｈ），７．６８−７．７４（ｍ，２Ｈ），８．５４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例５７：３−［５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］−Ｎ−（２−モルホリノエチル）アクリルアミド（化合物１７６）
化合物Ｐ３２（０．１００ｇ，０．２８９ｍｍｏｌ）及びＮ−（２−アミノエチルモルホリン（８０．５ｍｇ，０．４２０ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１７６（９８．０ｍｇ，７２％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．４８（ｍ，６Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），２．６１（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），３．４８（ｑ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），３．７０（ｍ，４Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．１６（ｂｒｔ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ），６．２７（ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．６６（ｓ，１Ｈ），６．９１（ｓ，１Ｈ），６．９６（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．１１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２５（ｓ，１Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），８．７７（ｓ，１Ｈ）．
実施例５８：４−モルホリノ−１−｛３−［５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジシ−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］アクリロイル｝ピペリジン（化合物１７７）
化合物Ｐ３２（０．１００ｇ，０．２８９ｍｍｏｌ）及び４−モルホリノピペリジン（７４．０ｍｇ，０．４３４ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１７７（８９．０ｍｇ，６０％）を得た。得られた化合物１７７をエタノール−ジエチルエーテルから再結晶させた。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ５１３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４１（ｍ，２Ｈ），１．８５（ｍ，２Ｈ），２．４２（ｍ，１Ｈ），２．５０（ｍ，４Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），２．６１（ｓ，３Ｈ），２．６４（ｓ，３Ｈ），２．６６（ｍ，１Ｈ），３．０５（ｍ，１Ｈ），３．７１（ｍ，４Ｈ），４．０２（ｍ，１Ｈ），４．８６（ｍ，１Ｈ），５．４７（ｓ，２Ｈ），６．６６（ｓ，１Ｈ），６．８１（ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ，１Ｈ），６．８６（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ），６．９２（ｓ，１Ｈ），７．００（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．１８（ｓ，１Ｈ），７．６６（ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），９．０５（ｓ，１Ｈ）．
融点：１５９℃
実施例５９：４−（ピロリジン−１−イル）−１−｛３−［５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］アクリロイル｝ピペリジン（化合物１７８）
化合物Ｐ３２（０．３００ｇ，０．８３２ｍｍｏｌ）及び４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン（０．１９３ｇ，１．２５ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１７８（０．３７５ｇ，９１％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４９７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３５（ｍ，２Ｈ），１．６７−１．９８（ｍ，６Ｈ），２．１７（ｍ，１Ｈ），２．５１（ｂｒｓ，４Ｈ），２．５２（ｓ，３Ｈ），２．６２（ｓ，３Ｈ），２．６６（ｓ，３Ｈ），２．７９（ｍ，１Ｈ），２．９７（ｍ，１Ｈ），３．８６（ｍ，１Ｈ），４．５６（ｍ，１Ｈ），５．４３（ｓ，２Ｈ），６．５９（ｓ，１Ｈ），６．６３（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．８Ｈｚ，１Ｈ），６．７３（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ，１Ｈ），７．００（ｓ，１Ｈ），７．６８（ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ，１Ｈ），１０．０５（ｓ，１Ｈ）．
実施例６０：３−［５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］−Ｎ−［２−（ピロリジン−１−イル）エチル］アクリルアミド（化合物１７９）
化合物Ｐ３２（０．３００ｇ，０．８３２ｍｍｏｌ）及び１−（２−アミノエチル）ピロリジン（０．１５７ｍＬ，１．２５ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１７９（０．３４２ｇ，９０％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．６６（ｍ，４Ｈ），２．４４（ｓ，３Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｍ，８Ｈ），５．４６（ｓ，２Ｈ），６．５０（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），６．６７（ｓ，１Ｈ），６．９３（ｓ，１Ｈ），７．００（ｓ，１Ｈ），７．２８（ｓ，１Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ），１１．４８（ｓ，１Ｈ）．
実施例６１：５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−［２−（ピロリジン−１−イル）エチル］−１Ｈ−インドール−２−カルボキサミド（化合物１８０）
化合物Ｐ２２（０．１９０ｇ，０．５６８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解し、１−（２−アミノエチル）ピロリジン（０．１０７ｍＬ，０．８５２ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ（０．２１８ｇ，１．１４ｍｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物（０．０８７０ｇ，０．５６８ｍｍｏｌ）を加え、室温にて３時間攪拌した。反応混合物をクロロホルムにて希釈した後、水、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：２ｍｏｌ／Ｌアンモニア−メタノール溶液＝１５：１）にて精製し、化合物１８０（０．２３０ｇ，９４％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４３１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．９０（ｍ，４Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６６（ｍ，４Ｈ），２．７２（ｓ，３Ｈ），２．７３（ｓ，３Ｈ），２．８１（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），３．６７（ｑ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ），５．６３（ｓ，２Ｈ），６．８５（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．０１（ｓ，１Ｈ），７．０７（ｂｒｔ，Ｊ＝４．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２０（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４０（ｓ，１Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），９．７１（ｓ，１Ｈ）．
実施例６２：５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−［４−（ピロリジン−１−イル）ビペリジン−１−イルカルボニル］−１Ｈ−インドール（化合物１８１）
化合物Ｐ２２（０．１９０ｇ，０．５６８ｍｍｏｌ）及び４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン（０．１３１ｇ，０．８４９ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１８１（０．１７１ｇ，６４％）を得た。得られた化合物１８１をエタノールから再結晶させた。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６９（ｄｑ，Ｊ＝４．３，１１．２，２Ｈ），１．９１（ｍ，４Ｈ），２．１０（ｍ，２Ｈ），２．４２（ｔｔ，Ｊ＝４．０，１０．２Ｈｚ，１Ｈ），２．６１（ｓ，３Ｈ），２．７０（ｍ，４Ｈ），２．７２（ｓ，３Ｈ），２．７３（ｓ，３Ｈ），３．２７（ｍ，２Ｈ），４．６７（ｂｒｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，２Ｈ），５．６４（ｓ，２Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４１（ｓ，１Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），９．４６（ｓ，１Ｈ）．
融点：１５１−１５３℃
実施例６３：５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−（４−ヒドロキシピペリジン−１−イルカルボニル）−１Ｈ−インドール（化合物１８２）
化合物Ｐ２２（０．２５０ｇ，０．７４７ｍｍｏｌ）及び４−ヒドロキシピペリジン（０．１１３ｇ，１．１１ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１８２（０．１４８ｇ，４７％）を得た。得られた化合物１８２をエタノール−ジエチルエーテルから再結晶させた。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４１８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．３５（ｍ，２Ｈ），１．７４（ｍ，２Ｈ），２．４３（ｓ，３Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），３．３１（ｍ，２Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），３．７４（ｍ，１Ｈ），４．０２（ｍ  ２Ｈ），４．７８（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），５．４８（ｓ，２Ｈ），６．６８（ｓ，１Ｈ），６．９２（ｓ，１Ｈ），７．０７（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１１．５３（ｓ，１Ｈ）．
融点：２１５−２２１℃
実施例６４：３−［５−（２−エチル−７−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］−Ｎ−（２−モルホリノエチル）アクリルアミド（化合物１８３）
化合物Ｐ３４（６０．０ｍｇ，０．１６０ｍｍｏｌ）及びＮ−（２−アミノエチル）モルホリン（３１．２ｍｇ，０．２４０ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１８３（６８．０ｍｇ，９０％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２３（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），２．３９（ｍ，６Ｈ），２．５６（ｓ，３Ｈ），２．８１（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．３１（ｍ，２Ｈ，Ｈ２Ｏのピークとオーバーラップ），３．５６（ｍ，４Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．４８（ｄ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ，１Ｈ），６．６８（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｄｄ，Ｊ＝１．２，８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０２（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ，１Ｈ），１１．４８（ｓ，１Ｈ）．
実施例６５：（Ｅ）−１−｛３−［５−（２−エチル−７−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］アクリロイル｝−４−モルホリノピペリジン（化合物１８４）
化合物Ｐ３４（６０．０ｍｇ，０．１６０ｍｍｏｌ）及び４−モルホリノピペリジン（４０．８ｍｇ，０．２４０ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１８４（６４．０ｍｇ，７５％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ５１３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３２（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），１．４６（ｍ，２Ｈ），１．８６（ｍ，２Ｈ），２．４３（ｍ，１Ｈ），２．５２（ｍ，４Ｈ），２．７０（ｓ，３Ｈ），２．７１（ｍ，１Ｈ），２．８６（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．０８（ｍ，１Ｈ），３．７０（ｍ，４Ｈ），４．１１（ｍ，１Ｈ），４．６８（ｍ，１Ｈ），５．５３（ｓ，２Ｈ），６．６６（ｓ，１Ｈ），６．７６（ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．９４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），７．６４（ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），８．２３（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），８．７４（ｓ，１Ｈ）．
実施例６６：５−（２−エチル−７−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−［２−（ピロリジン−１−イル）エチル］−１Ｈ−インドール−２−カルボキサミド（化合物１８５）
化合物Ｐ２６（０．１００ｇ，０．２９９ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１８５（０．１０９ｇ，８５％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４３１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．６４（ｍ，４Ｈ），２．４５（ｍ，４Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．５４（ｓ，３Ｈ），３．３５（ｍ，４Ｈ，Ｈ２Ｏのピークとオーバーラップ），５．５１（ｓ，２Ｈ），７．０１（ｓ，１Ｈ），７．０２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４４（ｓ，１Ｈ），８．１６（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），８．３９（ｂｒｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例６７：５−（２−エチル−７−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−［４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン−１−イルカルボニル］−１Ｈ−インドール（化合物１８６）
化合物Ｐ２６（０．２５７ｇ，０．７６８ｍｍｏｌ）及び４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン（０．１７８ｇ，１．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１８６（０．２９８ｇ，８３％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２１（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），１．３６（ｍ，２Ｈ），１．６５（ｍ，４Ｈ），１．８５（ｍ，２Ｈ），２．２３（ｍ，１Ｈ），２．４７（ｍ，４Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．５９（ｓ，３Ｈ），２．８２（ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，２Ｈ），３．１４（ｍ，２Ｈ），４．２２（ｂｒｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，２Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．６８（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｓ，１Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），８．１５（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．５４（ｓ，１Ｈ）．
実施例６８：５−（２−エチル−７−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−（４−ヒドロキシピペリジン−１−イルカルボニル）−１Ｈ−インドール（化合物１８７）
化合物Ｐ２６（０．１００ｇ，０．２９９ｍｍｏｌ）及び４−ヒドロキシピペリジン（４５．３ｍｇ，０．４４８ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１８７（９８．０ｍｇ，７９％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４１８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２２（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．３７（１，２Ｈ），１．７６（１，２Ｈ），２．５５（ｓ，３Ｈ），２．８３（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），３．３０（ｍ，２Ｈ，Ｈ２Ｏのピークとオーバーラップ），３．７４（ｍ，１Ｈ），４．０１（ｍ，２Ｈ），４．７９（ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１Ｈ），５．５２（ｓ，１Ｈ），６．６９（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０８（ｄｄ，Ｊ＝１．３，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．３３（ｓ，１Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．１６（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．５４（ｓ，１Ｈ）．
実施例６９：５−（２−エチル−７−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−（４−モルホリノピペリジン−１−イルカルボニル）−１Ｈ−インドール（化合物１８８）
化合物Ｐ２６（０．２７０ｇ，０．８１０ｍｍｏｌ）及び４−モルホリノピペリジン（０．２０８ｇ，１．２２ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１８８（０．３４２ｇ，８７％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４８７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２３（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．３６（ｂｒｑ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，２Ｈ），１．８２（ｍ，２Ｈ），２．４９（ｂｒｓ，６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．５６（ｓ，３Ｈ），２．８４（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），２．９８（ｍ，１Ｈ），３．５５（ｍ，４Ｈ），４．３９（ｂｒｄ，Ｊ＝１２．７Ｈｚ，２Ｈ），５．５４（ｓ，２Ｈ），６．７１（ｓ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），７．０８（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．３３（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．５５（ｓ，１Ｈ）．
実施例７０：５−（２−エチル−７−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−［４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン−１−イルメチル］−１Ｈ−インドール（化合物１８９）
化合物１８６（０．１６５ｇ，０．３５０ｍｍｏｌ）を用い、実施例７２と同様の方法により化合物１８９（０．１０８ｇ，６８％）を得た。得られた化合物１８９を酢酸エチルから再結晶させた。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３２（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），１．５２（ｂｒｑ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），１．７９−２．０７（ｍ，９Ｈ），２．５７（ｂｒｓ，４Ｈ），２．６９（ｓ，３Ｈ），２．８６（ｍ，４Ｈ），３．５９（ｓ，２Ｈ），５．５５（ｓ，２Ｈ），６．２１（ｓ，１Ｈ），６．９７（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），８．２２（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），８．６６（ｓ，１Ｈ）．
融点：１６８−１７１℃
実施例７１：５−（２−エチル−７−メチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−［４−（モルホリン−４−イル）ピペリジン−１−イルメチル］−１Ｈ−インドール（化合物１９０）
化合物１８８（０．２０６ｇ，０．４２３ｍｍｏｌ）を用い、実施例７２と同様の方法により化合物１９０（７５．０ｍｇ，３８％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２３（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），１．３９（ｂｒｑ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ，２Ｈ），１．７０（ｂｒｄ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ，２Ｈ），１．９２（ｂｒｔ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ，２Ｈ），２．１０（ｍ，１Ｈ），２．４１（ｂｒｓ，４Ｈ），２．５５（ｓ，３Ｈ），２．８４（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．４４（ｍ，６Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．１８（ｓ，１Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ），７．２４（ｓ，１Ｈ），８．１６（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），１０．９８（ｓ，１Ｈ）．
実施例７２：５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−［４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン−１−イルメチル］−１Ｈ−インドール（化合物１９１）
水素化アルミニウムリチウム（６８．０ｍｇ，１．７９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（５ｍＬ）に懸濁し、０℃にて三塩化アルミニウム（１．０８ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌した。次に化合物１８１（０．１６９ｇ，０．３５９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１５ｍＬ）をゆっくりと適下し、室温にて２時間攪拌した。３ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加えて過剰の試薬を分解し、ジクロロメタンにて希釈した後、水及び飽和食塩水にて洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：２ｍｏｌ／Ｌアンモニア−メタノール溶液＝１５：１）にて精製し、化合物１９１（８２．０ｍｇ，５０％）を得た。得られた化合物１９１をエタノール−ジエチルエーテルから再結晶させた。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．５７（ｂｒｑ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，２Ｈ），１．７９−２．０７（ｍ，９Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），２．５８（ｂｒｓ，４Ｈ），２．６１（ｓ，６Ｈ），２．８５（ｂｒｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，２Ｈ），３．６０（ｓ，２Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．２１（ｓ，１Ｈ），６．８８（ｓ，１Ｈ），６．９８（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２６（ｓ，１Ｈ），８．６５（ｓ，１Ｈ）．
融点：１７５−１７９℃
実施例７３：５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−（４−ヒドロキシピペリジン−１−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物１９２）
化合物１８２（８５．０ｍｇ，０．２０３ｍｍｏｌ）を用い、実施例７２と同様の方法により化合物１９２（４８．３ｍｇ，５９％）を得た。得られた化合物１９２をエタノール−ジエチルエーテルから再結晶させた。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４０４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．５５（ｍ，２Ｈ），１．８７（ｍ，２Ｈ），２．２１（ｂｒｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），２．６１（ｓ，６Ｈ），２．７５（ｍ，２Ｈ），３．６２（ｓ，２Ｈ），３．７４（ｍ，１Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．２３（ｓ，１Ｈ），６．８９（ｓ，１Ｈ），７．００（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），８．６５（ｓ，１Ｈ）．
融点：１９１−１９５℃
実施例７４：５−（５，７−ジメチル−３−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−Ｎ−［２−（ピロリジン−１−イル）エチル］−１Ｈ−インドール−２−カルボキサミド（化合物１９３）
化合物Ｐ２４（０．１１０ｇ，０．３４３ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１９３（０．０９００ｇ，６３％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４１７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．８１（ｍ，４Ｈ），２．６０（ｍ，４Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），２．６４（ｓ，３Ｈ），２．７３（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），３．５８（ｑ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．８１（ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），６．７０（ｂｒｔ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５３（ｓ，１Ｈ），７．８６（ｓ，１Ｈ），９．５３（ｓ，１Ｈ）．
実施例７５：５−（５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−（４−ヒドロキシピペリジン−１−イルカルボニル）−１Ｈ−インドール（化合物１９４）
化合物Ｐ２４（０．１１０ｇ，０．３４３ｍｍｏｌ）及び４−ヒドロキシピペリジン（５２．０ｍｇ，０．５１４ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１９４（９２．０ｍｇ，６７％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４０４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６２（ｍ，２Ｈ），１．９７（ｍ，２Ｈ），２．０８（ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ，１Ｈ），２．６２（ｓ，３Ｈ），２．６４（ｓ，３Ｈ），３．５５（ｍ，２Ｈ），４．０３（ｍ，１Ｈ），４．２５（ｍ，２Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．２１（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５３（ｓ，１Ｈ），７．８６（ｓ，１Ｈ），９．５９（ｓ，１Ｈ）．
実施例７６：３−［５−（２，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］−Ｎ−［２−（モルホリン−４−イル）エチル］アクリルアミド（化合物１９５）
化合物Ｐ３６（５３．７ｍｇ，０．１３８ｍｍｏｌ）及びＮ−（２−アミノエチル）モルホリン（２７．３ｍｇ，０．２１０ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１９５（５１．９ｍｇ，８１％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．４５−２．５３（ｍ，６Ｈ），２．５６（ｓ，３Ｈ），２．６８（ｓ，３Ｈ），３．４８（ｑ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），３．７１（ｍ，４Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．１７（ｂｒｔ，Ｊ＝４．３Ｈｚ，１Ｈ），６．２６（ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．６８（ｓ，１Ｈ），７．０２（ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｓ，１Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），８．２３（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），８．６４（ｓ，１Ｈ）．
実施例７７：（Ｅ）−１−｛３−［５−（２，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］アクリロイル｝−４−モルホリノピペリジン（化合物１９６）
化合物Ｐ３６（４８．０ｍｇ，０．１３９ｍｍｏｌ）及び４−モルホリノピペリジン（３５．８ｍｇ，０．２１０ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１９６（６７．４ｍｇ，９６％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４９９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．３１（ｍ，２Ｈ），１．８５（ｍ，２Ｈ），２．４９（ｍ，５Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．５２（ｓ，６Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．６７（ｍ，１Ｈ），３．１２（ｍ，１Ｈ），３．５６（ｍ，４Ｈ），４．２２（ｍ，１Ｈ），４．４９（ｍ，１Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．７４（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｍ，２Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３８（ｓ，１Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ），１１．４８（ｓ，１Ｈ）．
実施例７８：５−（８−エチル−２，６−ジメチルプリン−９−イルメチル）−Ｎ−［２−（ピロリジン−１−イル）エチル］−１Ｈ−インドール−２−カルボキサミド（化合物１９７）
化合物Ｐ２８（０．１２０ｇ，０．３４３ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１９７（０．１０７ｇ，７０％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４４６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．１９（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），１．６６（ｍ，４Ｈ），２．４９（ｍ，４Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．５６（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ），２．６４（ｓ，６Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），３．３４（ｍ，２Ｈ，Ｈ２Ｏのピークとオーバーラップ），５．４７（ｓ，２Ｈ），７．００（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．０２（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４３（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ），１１．５９（ｓ，１Ｈ）．
実施例７９：５−（８−エチル−２，６−ジメチルプリン−９−イルメチル）−２−［４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン−１−イルカルボニル］−１Ｈ−インドール（化合物１９８）
化合物Ｐ２８（０．１２０ｇ，０．３４３ｍｍｏｌ）及び４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン（７９．５ｍｇ，０．５１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１９８（０．１１１ｇ，６７％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４８６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），１．３７（ｍ，２Ｈ），１．６６（ｍ，４Ｈ），１．８６（ｍ，２Ｈ），２．２３（ｍ，１Ｈ），２．４９（ｍ，４Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．６４（ｓ，３Ｈ），２．６５（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），３．１５（ｍ，２Ｈ），４．２２（ｂｒｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，２Ｈ），５．４８（ｓ，２Ｈ），６．７０（ｓ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｓ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１１．５８（ｓ，１Ｈ）．
実施例８０：５−（８−エチル−２，６−ジメチルプリン−９−イルメチル）−２−（４−ヒドロキシピペリジン−１−イルカルボニル）−１Ｈ−インドール（化合物１９９）
化合物Ｐ２８（０．１２０ｇ，０．３４３ｍｍｏｌ）及び４−ヒドロキシピペリジン（５２．１ｍｇ，０．５１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例６１と同様の方法により化合物１９９（０．１１７ｇ，７９％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４３３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２１（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，３Ｈ），１．３７（ｍ，２Ｈ），１．７７（ｍ，２Ｈ），２．６４（ｓ，３Ｈ），２．６５（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），３．３３（ｍ，２Ｈ，Ｈ２Ｏのピークとオーバーラップ），３．７５（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｍ，２Ｈ），４．８０（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），５．４８（ｓ，２Ｈ），６．７０（ｓ，１Ｈ），７．０５（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｓ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１１．５８（ｓ，１Ｈ）．
実施例８１：５−（８−エチル−２，６−ジメチルプリン−９−イルメチル）−２−［４−（ピロリジン−１−イル）ピペリジン−１−イルメチル］−１Ｈ−インドール（化合物２００）
化合物１９８（０．１５０ｇ，０．３０８ｍｍｏｌ）を用い、実施例７２と同様の方法により化合物２００（８４．９ｍｇ，５８％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．３６（ｂｒｑ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），１．６３−１．９８（ｍ，９Ｈ），２．４４（ｂｒｓ，４Ｈ），２．６３（ｓ，６Ｈ），２．７９（ｍ，４Ｈ），３．５１（ｓ，２Ｈ），５．４４（ｓ，２Ｈ），６．１８（ｓ，１Ｈ），６．８７（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２０（ｓ，１Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），１１．００（ｓ，１Ｈ）．
実施例８２：２−（α−ヒドロキシベンジル）−５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２０１）
工程１
公知の方法（ＷＯ０２／３２８６１）で得られた５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−１Ｈ−インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（３．００ｇ，８．３０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（５０ｍＬ）に溶解し、フラスコ内をアルゴンで置換した。−７８℃でＬＤＡ（２．０ｍｏｌ／Ｌヘプタン／ＴＨＦ／エチルベンゼン溶液，７．０５ｍＬ，１４．１ｍｍｏｌ）を加え、次いで３０分間攪拌した後、ベンズアルデヒド（１．４２ｍＬ，１４．１ｍｍｏｌ）を加え２時間攪拌した。その後、−７８℃にて水（１０ｍＬ）を滴下して反応を停止させた。酢酸エチルを用いて抽出し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０）にて精製し、５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２−（α−ヒドロキシベンジル）−１Ｈ−インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（２．３６ｇ，５．０５ｍｍｏｌ，６１％）を得た。
工程２
工程１で得られた５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２−（α−ヒドロキシベンジル）−１Ｈ−インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（２．３６ｇ，５．０５ｍｍｏｌ）をピリジン（２０ｍＬ）に溶解し、無水酢酸（１．４３ｍＬ，１５．１ｍｍｏｌ）及びＤＭＡＰ（６２．０ｍｇ，０．５１ｍｍｏｌ）を加えて室温で２４時間攪拌した。水（５ｍＬ）及び０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸（５ｍＬ）を加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８０：２０）にて精製し、２−（α−アセトキシベンジル）−５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−１Ｈ−インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（２．３２ｇ，４．５５ｍｍｏｌ，９０％）を得た。
工程３
工程２で得られた２−（α−アセトキシベンジル）−５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−１Ｈ−インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（２．３２ｇ，４．５５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解し、１．０ｍｏｌ／Ｌ  ＴＢＡＦ−ＴＨＦ溶液（５．４６ｍＬ，５．４６ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、酢酸エチルにて希釈し、水、飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝５０：５０）にて精製し、２−（α−アセトキシベンジル）−５−ヒドロキシメチル−１Ｈ−インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１．５１ｇ，３．８１ｍｍｏｌ，８４％）を得た。
工程４
工程３で得られた２−（α−アセトキシベンジル）−５−ヒドロキシメチル−１Ｈ−インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（８５０ｍｇ，２．１５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（２０ｍＬ）に溶解し、０℃にてトリエチルアミン（０．６１４ｍＬ，３．２０ｍｍｏｌ）及び塩化メタンスルホニル（０．２５０ｍＬ，３．２ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１時間攪拌した。０℃にて反応混合物に飽和重曹水（１０ｍｌ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ減圧濃縮した。残渣をＤＭＦ（４ｍＬ）に溶解し、参考例２１と同様な方法にて、化合物Ｐ１０（４１６ｍｇ，２．５８ｍｍｏｌ）及び５５％水素化ナトリウム（１１３ｍｇ，２．５８ｍｍｏｌ）から予め調製した溶液に滴下した。室温にて１時間攪拌し、水（５ｍＬ）を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）にて精製し、２−（α−アセトキシベンジル）−５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−１−イルメチル）−１Ｈ−インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（６００ｍｇ，１．１１ｍｍｏｌ，５２％）を得た。
工程５
工程４で得られた２−（α−アセトキシベンジル）−５−（２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−１−イルメチル）−１Ｈ−インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１．２８ｇ，２．３８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解し、０℃にて水素化リチウムアルミニウム（２７０ｍｇ，７．１４ｍｍｏｌ）を加え室温で２時間攪拌した。反応混合物に５．０ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１ｍＬ）を徐々に加え反応を停止させた。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグララィー（酢酸エチル）にて精製し、化合物２０１（５８０ｍｇ，１．４６ｍｍｏｌ，６１％）を得た。得られた化合物２０１をエタノール−ＤＭＦ（５：２）から再結晶させた。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３９７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．４２（ｓ，３Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），５．４３（ｓ，２Ｈ），５．８０（ｓ，１Ｈ），６．１０（ｓ，１Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．９２（ｓ，１Ｈ），７．１６−７．２６（ｍ，３Ｈ），７．３１（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），１１．０１（ｓ，１Ｈ）．
融点：２１８．８−２１９．０℃
実施例８３：２−（１−シクロヘキセニル）−５−（２，５，７−トリメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２０２）
トリフルオロメタンスルホン酸１−シクロヘキセニルエステルを用い、実施例８７と同様の方法にて化合物２０２（５工程収率２７％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３７１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６３（ｍ，２Ｈ），１．７３（ｍ，２Ｈ），２．１５（ｍ，２Ｈ），２．３９（ｍ，２Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．５９（ｓ，６Ｈ），５．４５（ｓ，２Ｈ），６．１４（ｂｒｓ，１Ｈ），６．２８（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，２Ｈ），６．７７（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．８７（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．１７（ｂｒｓ，１Ｈ），８．９１（ｓ，１Ｈ）．
実施例８４：２−シクロヘキシル−５−（２，５，７−トリメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２０３）
化合物２０２（２４．０ｍｇ，０．０６４８ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（３ｍＬ）に溶解し、１０％パラジウム炭素（５０％含水、１４．０ｍｇ，６．４８ｍｍｏｌ）を加え、水素気流下、室温にて１時間攪拌した。固形物をセライトろ過し、ろ液を集めて減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）にて精製することにより化合物２０３（２２．２ｍｇ，９２％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３７３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２１−１．５１（ｍ，５Ｈ），１．７０−１．８４（ｍ，３Ｈ），２．０７（ｍ，２Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．６１（ｓ，６Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．１３（ｓ，１Ｈ），６．８７（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），６．８９（ｓ，１Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２６（ｓ，１Ｈ），８．３９（ｓ，１Ｈ）．
実施例８５：２−（１−シクロペンテニル）−５−（２，５，７−トリメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２０４）
トリフルオロメタンスルホン酸１−シクロペンテニルエステルを用い、実施例８７と同様の方法にて化合物２０４（５工程収率２７％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３５７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．９５（ｍ，２Ｈ），２．４３（ｓ，３Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），２．４７（ｍ，２Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．６２（ｍ，２Ｈ），５．４４（ｓ，２Ｈ），６．２２（ｂｒｓ，１Ｈ），６．２７（ｓ，１Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，１Ｈ），６．９２（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２４（ｓ，１Ｈ），１１．１６（ｓ，１Ｈ）．
実施例８６：２−シクロペンチル−５−（２，５，７−トリメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２０５）
化合物２０４（３５０ｍｇ，０．９８２ｍｍｏｌ）を用い、実施例８４と同様に方法にて化合物２０５（３８２ｍｇ，９２％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３５９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．６０−１．７０（ｍ，６Ｈ），１．９８−２．００（ｍ，２Ｈ），２．４２（ｓ，３Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），３．３０（ｍ，１Ｈ），５．４３（ｓ，２Ｈ），６．０６（ｓ，１Ｈ），６．８３（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．３Ｈｚ，１Ｈ），６．９１（ｓ，１Ｈ），７．１６（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），１０．９（ｓ，１Ｈ）．
実施例８７：２−（ピリジン−２−イル）−５−（２，５，７−トリメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２０６）
工程１
公知の方法（ＷＯ０２／３２８６１）に従って合成した５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）インドール−２−ボロン酸（４００ｍｇ，０．９８７ｍｍｏｌ）と２−ブロモピリジン（１８７ｍｇ，１．１８ｍｍｏｌ）をジオキサン（５ｍＬ）及び水（２．５ｍＬ）に溶解し、炭酸ナトリウム（３１３ｍｇ，２．９５ｍｍｏｌ）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１１４ｍｇ，０．０９８７ｍｍｏｌ）を加え、８０℃にて１時間攪拌した。酢酸エチルにて抽出した後、有機層を水及び飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）にて精製し、５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２−（ピリジン−２−イル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（２５２ｍｇ，５８％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４３９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．１１（ｓ，６Ｈ），０．９５（ｓ，９Ｈ），１．３３（ｓ，９Ｈ），４．８４（ｓ，２Ｈ），６．７５（ｓ，１Ｈ），７．２４（ｄｔ，Ｊ＝１．１，４．９Ｈｚ，１Ｈ），７．２９（ｂｒｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｄｄ，Ｊ＝１．０，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｂｒｓ，１Ｈ），７．７３（ｄｔ，Ｊ＝１．７，７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．１２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．６６（ｂｒｄｄ，Ｊ＝１．０，４．１Ｈｚ，１Ｈ）．
工程２
工程１で得られた５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２−（ピリジン−２−イル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（２５０ｍｇ，０．５７０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（４ｍＬ）に溶解し、１．０ｍｏｌ／Ｌ  ＴＢＡＦ−ＴＨＦ溶液（０．８５５ｍＬ，０．８５５ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルにて希釈した後、水及び飽和食塩水にて洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）にて精製し、５−ヒドロキシメチル−２−（ピリジン−２−イル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１８４ｍｇ，定量的収率）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３２５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３２（ｓ，９Ｈ），３．２８（ｂｒｓ，１Ｈ），４．７２（ｓ，２Ｈ），６．６１（ｓ，１Ｈ），７．２５（ｍ，２Ｈ），７．４１（ｂｒｓ，１Ｈ），７．４６（ｄ，Ｊ＝７．９２，１Ｈ），７．７２（ｄｔ，Ｊ＝１．６，７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．６３（ｄｔ，Ｊ＝０．８，５．０Ｈｚ，１Ｈ）．
工程３
工程２で得られた５−ヒドロキシメチル−２−（ピリジン−２−イル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１８４ｍｇ，０．５６７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（５ｍＬ）に溶解し、塩化リチウム（６０．１ｍｇ，１．４２ｍｍｏｌ）、２，４，６−トリメチルピリジン（０．３００ｍＬ，２．２７ｍｍｏｌ）及び塩化メタンスルホニル（０．１１０ｍＬ，１．４２ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルにて希釈し、水、飽和重曹水及び飽和食塩水にて洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮することにより５−クロロメチル−２−（ピリジン−２−イル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルを得た。この化合物は精製することなく、そのまま次の反応に用いた。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３４３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３２（ｓ，９Ｈ），４．７１（ｓ，２Ｈ），６．７６（ｓ，１Ｈ），７．２７（ｄｔ，Ｊ＝１．７，５．９Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｄｄ，Ｊ＝１．０，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．５９（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｄｔ，Ｊ＝２．０，７．９Ｈｚ，１Ｈ），８．１６（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．６６（ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ）．
工程４
化合物Ｐ１０（１３７ｍｇ，０．８４９ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（５ｍＬ）に溶解し、水素化ナトリウム（５５％，３９．５ｍｇ，０．９０５ｍｍｏｌ）を加え０℃にて３０分間攪拌した。次いで工程３で得られた５−クロロメチル−２−（ピリジン−２−イル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１９４ｍｇ，０．５６５ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（５ｍＬ）を滴下し、その後室温にて２時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：１）にて精製することにより、２−（ピリジン−２−イル）−５−（２，５，７−トリメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１６８ｍｇ，２工程収率６４％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４６８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２７（ｓ，９Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．５８（ｓ，３Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．６１（ｓ，１Ｈ），６．８８（ｓ，１Ｈ），７．１４（ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２１（ｄｔ，Ｊ＝２．６，７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２６（ｓ，１Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６８（ｄｔ，Ｊ＝１，７，７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０７（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．６２（ｄｄ，Ｊ＝０．８，４．８Ｈｚ，１Ｈ）．
工程５
工程４で得られた２−（ピリジン−２−イル）−５−（２，５，７−トリメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１６５ｍｇ，０．３５３ｍｍｏｌ）をエタノール（５ｍＬ）に溶解し、３ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（２．３６ｍＬ，７．０８ｍｍｏｌ）を加え６０℃にて一晩攪拌した。１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えて反応混合物を中和し、酢酸エチルにて希釈した後、水及び飽和食塩水にて洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：１）にて精製した後、ジエチルエーテルから結晶化させることにより化合物２０６（１１７ｍｇ，９７％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３６８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．５１（ｓ，３Ｈ），２．６２（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．８９（ｓ，２Ｈ），７．００（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１２（ｄｔ，Ｊ＝１．１，６．２Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３５（ｓ，１Ｈ），７．６６（ｄｔ，Ｊ＝１．５，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），８．５２（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），１０．２４（ｓ，１Ｈ）．
実施例８８：２−（チアゾール−２−イル）−５−（２，５，７−トリメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２０７）
２−ブロモチアゾールを用い、実施例８７と同様の方法にて化合物２０７（５工程収率３３％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３７４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．４６（ｓ，３Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．５３（ｓ，３Ｈ），５：４９（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），６．９９（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．０６（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３４（ｓ，１Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，２Ｈ），７．９０（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，２Ｈ），１０．９２（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例８９：２−［（１−ヒドロキシ）シクロペンチル］−５−（２，５，７−トリメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２０８）
工程１
４−アミノ−３−ヨード安息香酸メチルエステル（５．００ｇ，１８．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（７２ｍＬ）に溶解し、１−エチニル−１−シクロペンタノール（２．１９ｇ，１９．９ｍｍｏｌ）、塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（６６３ｍｇ，０．９０ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（３４３ｍｇ，１．８０ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１０．６ｍＬ，７２．２ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で５時間攪拌した後、反応溶液を酢酸エチルにて抽出した。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２５：７５）にて精製し、４−アミノ−３−（１−ヒドロキシシクロペンチルエチニル）安息香酸メチルエステル（４．４０ｇ，１７．０ｍｍｏｌ，９４％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ２６０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．７０−１．９９（ｍ，４Ｈ），２．００−２．１１（ｍ，４Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），４．６２（ｂｒｓ，１Ｈ），６．６４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．７７（ｄｄ，Ｊ＝２．０，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．９５（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ）．
工程２
工程１で得られた４−アミノ−３−（１−ヒドロキシシクロペンチルエチニル）安息香酸メチルエステル（４．４０ｇ，１７．０ｍｍｏｌ）をメタノール（２００ｍＬ）に溶解し、酢酸銀（３．１２ｇ，１８．９ｍｍｏｌ）を加えて２６時間還流した。反応溶液をセライトろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５０：５０）にて精製し、２−［（１−ヒドロキシ）シクロペンチル］−１Ｈ−インドール−５−カルボン酸メチルエステル（２．００ｇ，７．７１ｍｍｏｌ，４６％）及び２−［（１−メトキシ）シクロペンチル］−１Ｈ−インドール−５−カルボン酸メチルエステル（１．３０ｇ，４．７６ｍｍｏｌ，２８％）を得た。
２−［（１−ヒドロキシ）シクロペンチル］−１Ｈ−インドール−５−カルボン酸メチルエステル
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ２６０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．７０−２．２０（ｍ，８Ｈ），３．９２（ｓ，３Ｈ），６．３８（ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄｄ，Ｊ＝１．０，８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．３１（ｄｄ，Ｊ＝１．０，１．０Ｈｚ，１Ｈ），８．８２（ｂｒｓ，１Ｈ）．
２−［（１−メトキシ）シクロペンチル］−１Ｈ−インドール−５−カルボン酸メチルエステル
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ２７４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．７５−２．０７（ｍ，６Ｈ），２．１３−２．２５（ｍ，２Ｈ），３．０７（ｓ，３Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），６．４７（ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．９８（ｄｄ，Ｊ＝１．０，８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．３３（ｄｄ，Ｊ＝１．０，１．０Ｈｚ，１Ｈ），８．６９（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程３
工程３で得られた２−［（１−ヒドロキシ）シクロペンチル］−１Ｈ−インドール−５−カルボン酸メチルエステル（５２０ｍｇ，２．００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３０ｍＬ）に懸濁させ、１．０ｍｏｌ／Ｌジイソブチル水素化アルミニウムリチウム−トルエン溶液（１０．０ｍＬ，１０．０ｍｍｏｌ）を−５０℃にて加え、同温度で１時間攪拌した。１ｍｏｌ／Ｌロッシェル塩水溶液を同温度で加え、反応を停止させた後、反応溶液を酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタンを用いてトリチュレーションし、２−［（１−ヒドロキシ）シクロペンチル］−５−ヒドロキシメチル−１Ｈ−インドール（４２１ｍｇ，１．８２ｍｍｏｌ，９１％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ２３２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．６５−１．９５（ｍ，８Ｈ），４．５０（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ），４．９１（ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），４．９８（ｓ，１Ｈ），６．１９（ｓ，１Ｈ），６．９６（ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），１０．７７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程４
工程３で得られた２−［（１−ヒドロキシ）シクロペンチル］−５−ヒドロキシメチル−１Ｈ−インドール（２３２ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍＬ）に溶解し、２，５，７−トリメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（４８４ｍｇ，３．００ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（７８３ｍｇ，３．００ｍｍｏｌ）及びアザジカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエステル（６９０ｍｇ，３．００ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１２時間攪拌した。その後、反応溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５０：５０）にて精製し、さらに得られた固体をエタノールより再結晶させることで、化合物２０８（３２ｍｇ，０．０８６ｍｍｏｌ，９％）を無色結晶として得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３７５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．６０−１．９５（ｍ，８Ｈ），２．４３（ｓ，３Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．５２（ｓ，３Ｈ），４．９９（ｓ，１Ｈ），５．４５（ｓ，２Ｈ），６．１６（ｓ，１Ｈ），６．８６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．９３（ｓ，１Ｈ），７．２０（ｓ，１Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１０．８６（ｓ，１Ｈ）．
融点：２１７．５−２１８．０℃
実施例９０：４−［５−（２，５，７−トリメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物２０９）
４−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルを用い、実施例８７と同様の方法にて化合物２０９（５工程収率６４％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４８（ｓ，９Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ），２．５３（ｂｒ−ｓ，２Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６１（ｓ，３Ｈ），３．６１（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），４．０５（ｍ，２Ｈ），５．４６（ｓ，２Ｈ），６．０７（ｂｒｓ，１Ｈ），６．３３（ｓ，１Ｈ），６．７８（ｂｒｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．１６（ｓ，１Ｈ），９．２２（ｂｓ，１Ｈ）．
実施例９１：４−［５−（２，５，７−トリメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−イル］ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（化合物２１０）
化合物２０９（４７５ｍｇ，１．０１ｍｍｏｌ）を用い、実施例８４と同様に方法にて化合物２１０（２５１ｍｇ，５３％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４８（ｓ，９Ｈ），１．５９（ｄｄ，Ｊ＝３．８，１２．１Ｈｚ，２Ｈ），１．９９（ｂｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ，２Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），２．６２（ｓ，６Ｈ），２．８４（ｍ，３Ｈ），４．２０（ｍ，２Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．６１（ｓ，１Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．１８（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２８（ｂｒｓ，１Ｈ），８．２０（ｓ，１Ｈ）．
実施例９２：２−（１−メチルピペリジン−４−イル）−５−（２，５，７−トリメチル−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２１１）
化合物２１０（２００ｍｇ，０．４２２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３ｍＬ）を、塩化アルミニウム（１６９ｍｇ，１．２７ｍｍｏｌ）及び水素化アルミニウムリチウム（８０．１ｍｇ，２．１１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液に０℃にて滴下し、その後室温にて２時間攪拌した。反応終了後、３ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝２０：１）にて精製することにより化合物２１１（１１２ｍｇ，６９％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３８８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．６２−１．６９（ｍ，２Ｈ），１．８８−１．９５（ｍ，４Ｈ），２．１６（ｓ，３Ｈ），２．４２（ｓ，３Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），２．５９（ｍ，１Ｈ），２．８１（ｂｒｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，２Ｈ），５．４３（ｓ，２Ｈ），６．０５（ｓ，１Ｈ），６．８５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），６．９１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），７．１８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１０．９１（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例９３：２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）−５−（２，５，７−トリメチル−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２１２）
トリフルオロメタンスルホン酸３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イルエステルを用い、実施例８７と同様の方法にて化合物２１２（５工程収率４３％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３７３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．３５（ｂｒｓ，２Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ），２．４０（ｓ，３Ｈ），２．４２（ｓ，３Ｈ），３．７１（ｔ，Ｊ＝５．５，２Ｈ），４．１４（ｂｒｓ，２Ｈ），５．３６（ｓ，２Ｈ），６．２４（ｂｒｓ，１Ｈ），６．２８（ｓ，１Ｈ），６．８３（ｓ，１Ｈ），６．８４（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１５（ｂｒｓ，１Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．０７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例９４：２−（テトラヒドロピラン−４−イル）−５−（２，５，７−トリメチル−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２１３）
化合物２１２（７３２ｍｇ，１．９７ｍｍｏｌ）を用い、実施例８４と同様に方法にて化合物２１３（６１７ｍｇ，８４％）を得た。得られた化合物２１３を２−プロパノールから再結晶させた。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３７５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．７６−１．９４（ｍ，４Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．６２（ｓ，６Ｈ），２．９３（ｍ，１Ｈ），３．５５（ｄｔ，Ｊ＝２．６，１１．４Ｈｚ，２Ｈ），４．０７（ｍ，２Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．１９（ｓ，１Ｈ），６．８７（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．９１（ｓ，１Ｈ），７．１０（ｄ，１Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），８．６７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
融点：２４９−１５１℃
実施例９５：２−（テトラヒドロピラン−４−イル）−５−（５−クロロ−２，７−ジメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２１４）
化合物Ｐ４３を用い、実施例９３及び実施例９４と同様の方法にて化合物２１４（６工程収率３０％）を得た。得られた化合物２１４を２−プロパノールから再結晶させた。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３９５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６８（ｄｑ，Ｊ＝３．３，１２．８Ｈｚ，２Ｈ），１．８６（ｂｒｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．５１（ｓ，３Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．９１（ｍ，１Ｈ），３．４３（ｄｄ，Ｊ＝９．９，１１．７Ｈｚ，２Ｈ），３．９０（ｄｔ，Ｊ＝１．８，１１．７Ｈｚ，２Ｈ），５．４４（ｓ，２Ｈ），６．０９（ｓ，１Ｈ），６．８５（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），７．２１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１１．０（ｂｒｓ，１Ｈ）．
融点：２８２℃
実施例９６：２−（テトラヒドロピラン−４−イル）−５−（５−メトキシ−２，７−ジメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２１５）
化合物Ｐ４４を用い、実施例９３及び実施例９４と同様の方法にて化合物２１５（６工程収率５３％）を得た。得られた化合物２１５をエタノールでトリチュレーションした。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３９１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．８４（ｄｄ，Ｊ＝４．０，１２．７Ｈｚ，２Ｈ），１．９５（ｂｒｄ，Ｊ＝１３．３Ｈｚ，２Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），２．５９（ｓ，３Ｈ），２．９７（ｍ，１Ｈ），３．５４（ｄｔ，Ｊ＝２．５，１１．６Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），４．０８（ｂｒｄ，Ｊ＝１０．９Ｈｚ，２Ｈ），５．４５（ｓ，２Ｈ），６．２０（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ），６．４９（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｂｒｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｂｒｓ，１Ｈ），８．１７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
融点：２４４−２４８℃
実施例９７：２−（テトラヒドロピラン−４−イル）−５−（２−メトキシ−５，７−ジメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２１６）
化合物Ｐ４５を用い、実施例９３及び実施例９４と同様の方法にて化合物２１６（６工程収率２２％）を得た。得られた化合物２１６を２−プロパノール−ジイソプロピルエーテルから再結晶させた。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３９１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．８４（ｄｄ，Ｊ＝４．２，１２．９Ｈｚ，２Ｈ），１．９５（ｂｒｄ，Ｊ＝１４．１Ｈｚ，２Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），２．５６（ｓ，３Ｈ），２．８９（ｍ，１Ｈ），３．５０（ｄｔ，Ｊ＝２．６，１１．５Ｈｚ，２Ｈ），４．０４（ｂｒｄ，１０．９Ｈｚ，２Ｈ），４．１５（ｓ，３Ｈ），５．３１（ｓ，２Ｈ），６．１９（ｓ，１Ｈ），６．７８（ｓ，１Ｈ），７．１６（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｓ，１Ｈ），８．１３（ｂｒｓ，１Ｈ）．
融点：２４１℃
実施例９８：２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）−５−（２，５−ジメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２１７）
工程１
トリフルオロメタンスルホン酸３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イルエステルを用い、実施例８７の工程１及び工程２と同様の方法によって得られた２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）−５−ヒドロキシメチル−インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（７５０ｍｇ，２．２７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（２５ｍＬ）に溶解し、塩化リチウム（２９０ｍｇ，６．８３ｍｍｏｌ）、２，４，６−トリメチルピリジン（１．５１ｍＬ，１１．４ｍｍｏｌ）及び塩化メタンスルホニル（０．５２９ｍＬ，６．８３ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルにて希釈し、水、飽和重曹水及び飽和食塩水にて分液洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧下で濃縮した。続いて、残渣をＤＭＦ（１２ｍＬ）に溶解し、アジ化ナトリウム（２９６ｍｇ，４．５５ｍｍｏｌ）を加え、室温にて一晩攪拌した。反応液を酢酸エチルにて希釈後、水及び飽和食塩水にて分液洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）にて精製することにより５−アジドメチル−２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（５３８ｍｇ，６７％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３５５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６８（ｓ，９Ｈ），２．４３（ｂｒｓ，２Ｈ），３．９５（ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，２Ｈ），４．３３（ｍ，２Ｈ），４．４０（ｓ，２Ｈ），５．９０（ｂｒｓ，１Ｈ），６．４３（ｓ，１Ｈ），７．２４（ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）．
工程２
工程１で得られた５−アジドメチル−２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（５３８ｍｇ，１．５２ｍｍｏｌ）をエタノール（１５ｍＬ）に溶解し、５ｗｔ％リンドラー触媒（１６２ｍｇ，０．０７５９ｍｍｏｌ）を加え、水素ガス気流下、室温にて３０分間攪拌した。固形物をセライトろ過し、メタノールにて洗浄し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィーにより粗精製した後、ＴＨＦに溶解し、２−クロロ−３−ニトロ−６−ピコリン（５２３ｍｇ，３．０３ｍｍｏｌ）及びジイソプロピルエチルアミン（０．５２８ｍｍｏｌ，３．０３ｍｍｏｌ）を加えて７０℃にて一晩攪拌した。反応終了後、酢酸エチルにて希釈し、有機層を水及び飽和食塩水にて洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）にて精製することにより２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）−５−［（６−メチル−３−ニトロピリジン−２−イルアミノ）メチル］インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（３１３ｍｇ，４５％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４６５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６５（ｓ，９Ｈ），２．４０（ｂｒｓ，２Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），３．９２（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），４．２９（ｍ，２Ｈ），４．９１（ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，２Ｈ），５．８７（ｂｒｓ，１Ｈ），６．４０（ｓ，１Ｈ），７．３０（ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．２８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．５７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程３
工程２で得られた２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）−５−［（６−メチル−３−ニトロピリジン−２−イルアミノ）メチル］インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（３１３ｍｇ，０．６７２ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍＬ）及び酢酸エチル（１ｍＬ）に溶解し、１０％パラジウム炭素（５０％含水、１４３ｍｇ，０．０６７２ｍｍｏｌ）及びギ酸アンモニウム（８４８ｍｇ，１３．４ｍｍｏｌ）を加え、５０℃にて３０分間攪拌した。反応終了後、固形物をセライトろ過し、酢酸エチルにて洗浄した。ろ液水及び飽和食塩水にて分液洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）にて精製することにより５−［（３−アミノ−６−メチルピリジン−２−イルアミノ）メチル］−２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（２９０ｍｇ，定量的収率）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４３５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６４（ｓ，９Ｈ），２．３８（ｓ，３Ｈ），２．３９（ｂｒｓ，２Ｈ），３．００（ｂｒｓ，２Ｈ），３．９２（Ｊ＝６．２Ｈｚ，２Ｈ），４．３１（ｍ，２Ｈ），４．３６（ｂｒｓ，１Ｈ），４．６８（ｓ，２Ｈ），５．８６（ｂｒｓ，１Ｈ），６．３６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），６．３９（ｓ，１Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）．
工程４
工程３で得られた５−［（３−アミノ−６−メチルピリジン−２−イルアミノ）メチル］−２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（３１０ｍｇ，０．７１３ｍｍｏｌ）をオルト酢酸トリエチル（１０ｍＬ）に溶解し、パラトルエンスルホン酸・１水和物（２７．０ｍｇ，０．１４２ｍｍｏｌ）を加えて７０℃にて４時間攪拌した。反応終了後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：１）にて精製することにより２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）−５−（２，５−ジメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１７４ｍｇ，５３％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６１（ｓ，９Ｈ），２．３６（ｂｒｓ，２Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．６５（ｓ，３Ｈ），３．９１（ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，２Ｈ），４．２９（ｍ，２Ｈ），５．５３（ｓ，２Ｈ），５．８４（ｂｒｓ，１Ｈ），６．３２（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．１０（ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ），７．８３（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．９７（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ）．
工程５
工程４で得られた２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）−５−（２，５−ジメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１７４ｍｇ，０．３７９ｍｍｏｌ）を用い、実施例８７の工程５と同様の方法にて化合物２１７（９２．３ｍｇ，６８％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３５９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．５０（ｓ，３Ｈ），２．５５（ｂｒｓ，２Ｈ），２．６７（ｓ，３Ｈ），３．９３（ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，２Ｈ），４．３２（ｍ，２Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．１１（ｂｒｓ，１Ｈ），６．３８（ｓ，１Ｈ），６．８７（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｂｒｓ，１Ｈ），７．８９（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），９．０３（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例９９：５−（２，５−ジメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−（テトラヒドロピラン−４−イル）−１Ｈ−インドール（化合物２１８）
化合物２１７を用い、実施例８４と同様に方法にて化合物２１８（８３ｍｇ，９０％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３６１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．７６−１．９５（ｍ，４Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．６６（ｓ，３Ｈ），２．９５（ｍ，１Ｈ），３．５３（ｄｔ，Ｊ＝２．４，１１．４Ｈｚ，２Ｈ），４．０５（ｍ，２Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．１８（ｓ，１Ｈ），６．９７（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．２０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．３１（ｓ，１Ｈ），７．８２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例１００：５−（２，５−ジメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−２−（チアゾール−２−イル）−１Ｈ−インドール（化合物２１９）
２−ブロモチアゾールを用い、実施例９８と同様の方法にて化合物２１９（９工程収率７．５％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３６０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ  ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．３６（ｓ，３Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ），５．４０（ｓ，２Ｈ），６．８９（ｓ，１Ｈ），６．９６（ｂｒｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ）７．００（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．２５（ｓ，１Ｈ），７．２７（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．６３（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），１１．８（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例１０１：６−メチル−３−（２−チアゾール−２−イル−１Ｈ−インドール−５−イルメチル）−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物２２０）
２−ブロモチアゾール及び２−クロロ−５−メチル−３−ニトロピリジンを用い、実施例１００と同様にして化合物２２０（５工程収率９％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３４６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．４１（ｓ，３Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），７．０２（ｓ，１Ｈ），７．２３（ｄｄ，Ｊ＝１．４，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５７（ｍ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，１Ｈ），７．８９（ｍ，１Ｈ），７．９０（ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，１Ｈ），８．２４（ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１Ｈ），８．５３（ｓ，１Ｈ），１１．９２（ｓ，１Ｈ）．
実施例１０２：２，６−ジメチル−３−（２−チアゾール−２−イル−１Ｈ−インドール−５−イルメチル）−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物２２１）
２−ブロモチアゾール及び２−クロロ−５−メチル−３−ニトロピリジンを用い、実施例１００と同様の方法により化合物２２１（５工程収率５％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３６０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．４２（ｓ，３Ｈ），２．５２（ｓ，３Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），７．００（ｓ，１Ｈ），７．０９（ｄｄ，Ｊ＝１．４，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４０（ｂｓ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），７．９０（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１Ｈ），１１．９２（ｓ，１Ｈ）．
実施例１０３：５−クロロ−２−メチル−３−（２−チアゾール−２−イル−１Ｈ−インドール−５−イルメチル）−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物２２２）
工程１
２−ブロモチアゾール及び２，６−ジクロロ−３−ニトロピリジンを用い、実施例９８の工程１及び工程２と同様の方法により５−［（６−クロロ−３−ニトロピリジン−２−イルアミノ）メチル］−２−（チアゾール−２−イル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（２工程収率２３％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４８６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４０（ｓ，９Ｈ），４．９１（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ），６．６５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝０．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６１（ｍ，１Ｈ），７．９２（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），８．１９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．６５（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程２
工程１で得られた５−［（６−クロロ−３−ニトロピリジン−２−イルアミノ）メチル］−２−（チアゾール−２−イル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（２０６ｍｇ，０．４２４ｍｍｏｌ）をエタノール（４．２ｍＬ）に溶解し、塩化スズ（ＩＩ）二水和物（２８７ｍｇ，１．２７ｍｍｏｌ）を加えて、８０℃で２．５時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加えた後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝０．５：９９．５）で精製し、５−［（３−アミノ−６−クロロピリジン−２−イルアミノ）メチル］−２−チアゾール−２−イルインドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルを得た。
５−［（３−アミノ−６−クロロピリジン−２−イルアミノ）メチル］−２−（チアゾール−２−イル）インドール−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルにパラトルエンスルホン酸水和物（８．４ｍｇ，０．０４４ｍｍｏｌ）及びオルト酢酸トリエチル（２．２ｍＬ）を加え、８０℃で２日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、飽和重曹水を加えて、クロロホルムで３回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で濃縮した。残渣をエタノール（２．０ｍＬ）に溶解し、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（２．０ｍＬ）を加えて６０℃で１時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、水を加えて、塩化メチレンで３回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２：９８）で精製し、さらにジイソプロピルエーテルでリスラリーして化合物２２２（１２．１ｍｇ，０．０３２ｍｍｏｌ，８％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３８０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．５３（ｓ，３Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），７．０２（ｓ，１Ｈ），７．０７（ｄｄ，Ｊ＝１．４，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．３７−７．４２（ｍ，２Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），７．９０（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），８．０４（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），１１．９５（ｓ，１Ｈ）．
実施例１０４：７−クロロ−２，５−ジメチル−３−［２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）−１Ｈ−インドール−５−イルメチル］−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物２２３）
トリフルオロメタンスルホン酸３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イルエステル、及び［ケミカル・アンド・ファーマシューティカル・ブリティン（Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ）、１９８３年、３１巻、ｐ．２２８８−２２９５］記載の方法によって合成した７−クロロ−２，５−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジンを用い、実施例８７と同様にして、化合物２２３（５工程収率３６％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３９３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．４３（ｍ，２Ｈ），２．５０（３Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．５８（ｓ，３Ｈ），３．８１（ｍ，２Ｈ），４．２４（ｍ，２Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．３３（ｍ，１Ｈ），６．３９（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｄｄ，Ｊ＝１．２，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２４−７．２９（ｍ，３Ｈ），１１．１９（ｓ，１Ｈ）．
実施例１０５：７−クロロ−２，５−ジメチル−３−［２−（テトラヒドロピラン−４−イル）−１Ｈ−インドール−５−イルメチル］−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物２２４）
化合物２２３を用い、実施例８４と同様にして化合物２２４（収率３９％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３９５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．６６（ｄｄｄ，Ｊ＝３．９，１２．２，２４．０Ｈｚ，２Ｈ），１．８７（ｂｒｄ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），２．５０（３Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），２．５８（ｓ，３Ｈ），２．９３（ｍ，１Ｈ），３．４３（ｂｒｔ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ，２Ｈ），３．９２（ｂｒｄ，Ｊ＝１０．９Ｈｚ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．１０（ｓ，１Ｈ），６．８９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２０−７．２９（ｍ，３Ｈ），１０．９７（ｓ，１Ｈ）．
実施例１０６：２−（テトラヒドロピラン−４−イル）−５−（２，５，７−トリメチル−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−３−（モルホリン−４−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２２５）
化合物２１３（１２３ｍｇ，０．３２８ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（４ｍＬ）及び酢酸（１ｍＬ）に溶解し、３７％ホルマリン溶液（０．０７３４ｍＬ，０．９８５ｍｍｏｌ）及びモルホリン（０．０８６２ｍＬ，０．９８５ｍｍｏｌ）を加えて室温にて１．５時間攪拌した。反応混合物をジクロロメタンにて希釈し、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液と飽和食塩水にて分液洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝４０：１）にて精製することにより化合物２２５（１４６ｍｇ，９４％）を得た。得られた化合物２２５を２−プロパノールから再結晶させた。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．７９−１．９３（ｍ，４Ｈ），２．３６（ｍ，４Ｈ），２．５３（ｓ，３Ｈ），２．６１（ｓ，３Ｈ），２．６１（ｓ，３Ｈ），３．１９（ｍ，１Ｈ），３．５３−３．６０（ｍ，８Ｈ），４．０７（ｍ，２Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．８９（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１７（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｓ，１Ｈ），８．０２（ｂｒｓ，１Ｈ）．
融点：２３７℃
実施例１０７：２−シクロペンチル−５−（２，５，７−トリメチル−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−３−（モルホリン−４−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２２６）
化合物２０５（１２７ｍｇ，０．３５４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１０６と同様の方法にて化合物２２６（１５８ｍｇ，９８％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４５８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６４−１．８２（ｍ，６Ｈ），２．０７（ｍ，２Ｈ），２．３７（ｍ，４Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．６１（ｓ，３Ｈ），３．３４（ｍ，１Ｈ），３．５４−３．５７（ｍ，６Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．８７（ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．２Ｈｚ，１Ｈ），６．８９（ｓ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．５１（ｓ，１Ｈ），８．１９（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例１０８：３−トリフルオロアセチル−２−（テトラヒドロピラン−４−イル）−５−（２，５，７−トリメチル−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２２７）
化合物２１３（５０．０ｍｇ，０．１３３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（３ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後、トリフルオロ酢酸無水物（０．０５０ｍＬ，０．３４６ｍｍｏｌ）を加えて室温にて４時間攪拌した。反応終了後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１００：１）にて精製することにより化合物２２７（６２．８ｍｇ，定量的収率）を得た。得られた化合物２２７を２−プロパノールでトリチュレーションした。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４７１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．８５−２．０５（ｍ，４Ｈ），２．４３（ｓ，３Ｈ），２．５９（ｓ，３Ｈ），２．６２（ｓ，３Ｈ），３．６５（ｄｔ，Ｊ＝２．４，１１．４Ｈｚ，２Ｈ），３．９５（ｍ，１Ｈ），４．１２（ｂｒｄｄ，Ｊ＝３．７，１１．５Ｈｚ，２Ｈ），５．５２（ｓ，２Ｈ），６．７３（ｄｄ，Ｊ＝１．３，８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．７９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．９２（ｓ，１Ｈ），７．８３（ｓ，１Ｈ），１０．８１（ｂｒｓ，１Ｈ）．
融点：＞３００℃
実施例１０９：３−ホルミル−２−（テトラヒドロピラン−４−イル）−５−（２，５，７−トリメチル−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２２８）
ＤＭＦ（１．３３ｍＬ，１７．１ｍｍｏｌ）の入ったフラスコに０℃にてオキシ塩化リン（０．３２０ｍＬ，３．４３ｍｍｏｌ）を加え、そのまま０℃にて１５分間攪拌した。これに化合物２１３（３２１ｍｇ，０．８５７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液を滴下し、その後室温にて２．５時間攪拌した。反応終了後、氷水を入れて過剰のオキシ塩化リンを分解し、さらに３ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加えた。酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩水にて洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝５０：１）にて洗浄することにより化合物２２８（３２５ｍｇ，９４％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４０３［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．７２（ｂｒｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，２Ｈ），１．９２（ｄｑ，Ｊ＝４．１，１２．２Ｈｚ，２Ｈ），２．４１（ｓ，３Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），３．４７（ｂｒｔ，Ｊ＝１０．９Ｈｚ，２Ｈ），３．６８（ｍ，１Ｈ），３．９６（ｂｒｄｄ，Ｊ＝３．３，１１．１Ｈｚ，２Ｈ），５．４５（ｓ，２Ｈ），６．９１（ｓ，１Ｈ），６．９８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．９６（ｓ，１Ｈ），１０．１（ｓ，１Ｈ），１１．９（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例１１０：２−（テトラヒドロピラン−４−イル）−５−（２，５，７−トリメチル−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−３−（４−モルホリノカルボニル）−１Ｈ−インドール（化合物２２９）
工程１
化合物２２８（２５５ｍｇ，０．６３３ｍｍｏｌ）をｔｅｒｔ−ブタノール（２０ｍＬ）及び水（５ｍＬ）に溶解させ、ＤＭＳＯ（０．６７４ｍＬ，９．５０ｍｍｏｌ）とリン酸二水素ナトリウム（２２８ｍｇ，１．９０ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を６０℃に加熱し、亜塩素酸ナトリウム（２８６ｍｇ，３．１６７ｍｍｏｌ）の水溶液を滴下し、そのまま６０℃にて７時間攪拌した。反応温度を室温まで下げた後、亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加えてしばらく攪拌した。１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えてｐＨを６付近に調整した後、酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩水にて洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝５０：１）にて精製することにより２−（テトラヒドロピラン−４−イル）−５−（２，５，７−トリメチル−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−３−カルボン酸（５６．０ｍｇ，１９％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４１９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．６９−１．８７（ｍ，４Ｈ），２．４４−３．３２（３Ｓ，９Ｈ，ＤＭＳＯのピークとオーバーラップ），３．４３（ｔ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ，２Ｈ），３．９５（ｍ，３Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），６．９２（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．９３（ｓ，１Ｈ），１１．６（ｓ，１Ｈ），１１．９（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程２
工程１で得られた２−（テトラヒドロピラン−４−イル）−５−（２，５，７−トリメチル−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−３−カルボン酸（０．０４７ｍｇ，０．１１２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２ｍＬ）とＤＭＦ（１ｍＬ）に溶解し、モルホリン（０．０１５０ｍＬ，０．１６８ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール・１水和物（２６．０ｍｇ，０．１６８ｍｍｏｌ）及び１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（３３．０ｍｇ，０．１６８ｍｍｏｌ）を加えて６０℃にて７時間攪拌した。反応液を酢酸エチルにて希釈し、水、飽和重曹水、飽和食塩水の順で分液洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧濃縮し、残渣を分取ＴＬＣにて精製することにより化合物２２９（４５．０ｍｇ，８２％）を得た。得られた化合物２２９をエタノール−ジエチルエーテルから再結晶させた。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４８８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．６６（ｂｒｄ，Ｊ＝１２，６Ｈｚ，２Ｈ），１．８４（ｄｄ，Ｊ＝４．０，１２．６Ｈｚ，２Ｈ），２．４１（ｓ，３Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），３．２３−３．４２（ｍ，１１Ｈ），３．８９（ｂｒｄｄ，Ｊ＝３．１，１１．４Ｈｚ，２Ｈ），５．４９（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，１Ｈ），７．００（ｓ，１Ｈ），７．０２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），１１．４（ｓ，１Ｈ）．
融点：＞３００℃
実施例１１１：２−［（１−メトキシ）シクロペンチル］−５−（２，５，７−トリメチルイミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール（化合物２３０）
実施例８９の工程２で得られた２−［（１−メトキシ）シクロペンチル］−１Ｈ−インドール−５−カルボン酸メチルエステルを用いて、実施例８９の工程３及び工程４と同様な方法で化合物２３０（２工程収率３４％）を得た。これをエタノールから再結晶し、化合物２３０の無色結晶を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３８９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．５０−１．７５（ｍ，４Ｈ），１．８０−１．９５（ｍ，２Ｈ），２．０５−２．１５（ｍ，２Ｈ），２．４３（ｓ，３Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．８５（ｓ，３Ｈ），５．４３（ｓ，２Ｈ），６．２５（ｓ，１Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），６．９２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２０（ｓ，１Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１０．９８（ｓ，１Ｈ）．
融点：２６３−２６４℃（分解）
実施例１１２：２，５−ジメチル−７−トリフルオロメチル−３−［２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）−１Ｈ−インドール−５−イルメチル］−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物２３１）
化合物Ｐ４６及びパラジウムエチレンジアミン錯体／炭素を用い、実施例９３及び実施例９４と同様の方法にて化合物２３１（６工程収率２７％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ４２９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．６７（ｄｄｄ，Ｊ＝２４．６，１２．０，４．０Ｈｚ，２Ｈ），１．８８（ｄｄ，Ｊ＝１２．８，２．２Ｈｚ，２Ｈ），２．５４（ｓ，３Ｈ），２．６８（ｓ，３Ｈ），２．９３（ｔｔ，Ｊ＝１１．６，３．７Ｈｚ，１Ｈ），３．４３（ｔｄ，Ｊ＝１１．６，２．６Ｈｚ，２Ｈ），３．９２（ｄｄ，Ｊ＝１１．５，２．４Ｈｚ，２Ｈ），５．５４（ｓ，２Ｈ），６．１１（ｓ，１Ｈ），６．９１（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２６（ｓ，１Ｈ），７．４６（ｓ，１Ｈ），１０．９８（ｓ，１Ｈ）．
実施例１１３：７−メトキシ−２，５−ジメチル−３−［２−（テトラヒドロピラン−４−イル）−１Ｈ−インドール−５−イルメチル］−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン（化合物２３２）
化合物Ｐ４７及びパラジウムエチレンジアミン錯体／炭素を用い、実施例９３及び実施例９４と同様の方法にて化合物２３２（６工程収率２１％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３９１［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．６６（ｄｄｄ，Ｊ＝２４．６，１２．０，３．９Ｈｚ，２Ｈ），１．８７（ｄｄ，Ｊ＝１２．８，１．７Ｈｚ，２Ｈ），２．３８（ｓ，３Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），２．９２（ｍ，１Ｈ），３．４２（ｔｄ，Ｊ＝１１．６，１．９Ｈｚ，２Ｈ），３．９１（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，２．４Ｈｚ，２Ｈ），４．０３（ｓ，３Ｈ），５．４２（ｓ，２Ｈ），６．０８（ｓ，１Ｈ），６．６８（ｓ，１Ｈ），６．８７（ｄｄ，Ｊ＝８．３，１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．１８（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），１０．９２（ｓ，１Ｈ）．
実施例１１４：５−（５，７−ジメチル−３Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−３−イルメチル）−１Ｈ−インドール−２−カルボン酸メチルエステル（化合物２３３）
化合物Ｐ２０（０．７００ｇ，２．２９ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（２０ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後、トリエチルアミン（０．６４０ｍＬ，４．５９ｍｍｏｌ）及びメタンスルホニルクロリド（０．２６６ｍＬ，３．４４ｍｍｏｌ）を加え、そのまま０℃にて０．５時間攪拌した。反応混合物をクロロホルムにて希釈した後、有機層を飽和重曹水、水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ減圧濃縮した。次いで、残渣をＤＭＦ（２０ｍＬ）に溶解し、化合物Ｐ１１（０．５０６ｇ，３．４４ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム１水和物（０．１４４ｇ，３．４３ｍｍｏｌ）を加え、室温にて５時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルにて希釈した後、水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ減圧濃縮した。次に残渣をメタノール（５ｍＬ）に溶解し、４ｍｏｌ／Ｌ塩化水素−１，４−ジオキサン溶液（１０．０ｍＬ，４０．０ｍｍｏｌ）を加え、室温にて５時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、酢酸エチルにて希釈した後、有機層を飽和重曹水及び飽和食塩水にて洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１００：１）にて精製し、化合物２３３（０．２８５ｇ，３７％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ３３５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．６４（ｓ，３Ｈ），２．６５（ｓ，３Ｈ），３．９４（ｓ，３Ｈ），５．５１（ｓ，２Ｈ），６．９６（ｓ，１Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２３（ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．６０（ｓ，１Ｈ），７．８９（ｓ，１Ｈ）．
【産業上の利用可能性】  本発明により、ＧＰＲ４受容体拮抗作用等を有する二環性複素環化合物またはその薬理学的に許容される塩等が提供される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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