【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年10月15日(2018.10.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クランクシャフトのジャーナルの表面に対するレーザ硬化の方法であって、前記ジャーナルは、硬化されるべき表面エリアを備え、前記表面エリアは、前記クランクシャフトの回転軸と平行な第１の方向及び前記ジャーナルの周方向に対応する第２の方向に延在し、前記表面エリアは、少なくとも１つの高感熱性サブエリア及び少なくとも１つの低感熱性サブエリアを備え、前記少なくとも１つの高感熱性サブエリアは、前記クランクシャフトの潤滑油孔隣接エリアを含み、
前記表面エリアに２次元エネルギー分布を有する有効レーザスポットを生成すべく、レーザ源からのレーザビームを前記表面エリアに投射する段階であって、前記有効レーザスポットは、前記第１の方向において、前記ジャーナルの５０％よりも多くの部分にわたって延在する、段階と、
その後、前記周方向において前記有効レーザスポットを前記表面エリアの複数の異なる部分に投射すべく、前記周方向において前記クランクシャフトの前記表面と前記レーザ源との間の相対移動を生じさせる段階と、
前記潤滑油孔隣接エリアに対する過熱を回避すべく、前記低感熱性サブエリアを加熱する場合の前記２次元エネルギー分布が前記潤滑油孔隣接エリアを含む前記高感熱性サブエリアを加熱する場合の前記２次元エネルギー分布と異なるように前記２次元エネルギー分布を調整する段階と
を備える方法。
【請求項２】
前記有効レーザスポットを前記表面エリアに適用する時間の少なくとも５０％の間、前記有効レーザスポットは、前記周方向において、少なくとも５ｍｍの幅を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記有効レーザスポットは、前記レーザビームを前記表面エリアに投射することによって前記表面エリア上に生成されるレーザスポットが、あるスキャン速度で動かされるスキャンパターンに繰り返し従って、前記レーザビームを前記第１の方向及び前記第２の方向にスキャンすることによって得られるものと等価なレーザスポットであり、それ故に、スキャンサイクル中の前記２次元エネルギー分布は、前記スキャン速度、前記スキャンパターン、前記レーザスポットのサイズ、前記レーザビームのパワー及び前記レーザビーム内のパワー分布によって決定される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記潤滑油孔隣接エリアに対する過熱を回避すべく、前記低感熱性サブエリアを加熱する場合の前記２次元エネルギー分布が前記潤滑油孔隣接エリアを含む前記高感熱性サブエリアを加熱する場合の前記２次元エネルギー分布と異なるように、前記スキャン速度、前記スキャンパターン、前記レーザスポットの前記サイズ、前記レーザビームの前記パワー及び前記レーザビーム内の前記パワー分布のうちの少なくとも１つを調整することで前記２次元エネルギー分布の調整を実行する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記レーザビームの前記パワーを調整することによって、前記２次元エネルギー分布の調整を実行する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記レーザスポットをスキャンパターンに沿ってスキャンする間に、前記レーザビームを、毎秒少なくとも３００回、毎秒少なくとも６００回、毎秒少なくとも１，０００回、毎秒少なくとも５，０００回、または毎秒少なくとも１０，０００回選択的に、複数の適用可能なパワー状態のうちの１つに設定することで、前記レーザビームの前記パワーを選択的に調整することによって前記２次元エネルギー分布を制御する、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
前記スキャンパターンは、複数のセグメントを備え、前記複数のセグメントの各々は、それに割り当てられた前記複数の適用可能なパワー状態のうちの１つを有し、前記低感熱性サブエリアを加熱する間における、前記複数のセグメントのうちの少なくとも１つに割り当てられた前記パワー状態は、前記潤滑油孔隣接エリアを含む前記高感熱性サブエリアを加熱する間における前記パワー状態と異なる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記レーザスポットを前記スキャンパターンに沿ってスキャンする間に前記スキャン速度を調整することによって、前記２次元エネルギー分布の調整を実行する、請求項４から７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記有効レーザスポット内の複数の点における温度変動が、極大温度とそれに続く極小温度との間で２００℃より小さい振幅を有するように、前記レーザスポットを十分に高いスキャン速度で前記スキャンパターンに沿ってスキャンする、請求項３から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記有効レーザスポットの前記２次元エネルギー分布は、前記有効レーザスポットの前記第１の方向における中央よりも、前記有効レーザスポットの前記第１の方向における複数の端部に向けてより大きいエネルギーが適用されるように調整される、請求項１から９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記有効レーザスポットによって走査されたエリアが、最初により高い平均パワーでレーザ照射を受け、その後、より低い平均パワーでレーザ照射を受けるように、前記２次元エネルギー分布は、前記有効レーザスポットの移動方向における前記有効レーザスポットの先端部分において、前記移動方向における前記有効レーザスポットの終端部分より高いエネルギー密度を有する、請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
潤滑油孔の前記第１の方向における両方の側において、前記有効レーザスポットを前記表面エリアに適用する段階を備え、
前記潤滑油孔が前記両方の側のうちの第１の側の下ではなく、前記両方の側のうちの第２の側の下で延在するように、前記潤滑油孔は、傾斜した態様で内側に向かって延在し、前記有効レーザスポットは、前記第２の側より大きいエネルギーを前記第１の側に適用するように調整される、請求項１から１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記有効レーザスポットは、前記低感熱性サブエリアにおいて第１の形状を有し、（ｉ）前記クランクシャフトが前記回転軸周りで一の方向に回転する場合は、潤滑油孔に到達した際にＵ形状を有し、かつ、前記潤滑油孔を離れる際に逆Ｕ形状を有し、または、（ｉｉ）前記クランクシャフトが前記回転軸周りで他の方向に回転する場合は、潤滑油孔に到達した際に逆Ｕ形状を有し、かつ、前記潤滑油孔を離れる際にＵ形状を有する、請求項１から１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記有効レーザスポットが、前記ジャーナルの中心から外された態様で、前記ジャーナルに投射される、請求項１から１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記有効レーザスポットが、前記第１の方向において、前記ジャーナルの７５％よりも多くの部分にわたって延在する、請求項１から１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記有効レーザスポットが、前記表面エリアの以前に硬化された部分に到達した場合に、前記有効レーザスポットの移動方向における前記有効レーザスポットの先端部分でエネルギー密度を減少させる段階を備える、請求項１から１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記有効レーザスポットが、前記表面エリアの以前に硬化された部分に到達した場合に、前記有効レーザスポットの移動方向における前記有効レーザスポットの先端部分において、前記有効レーザスポットの移動を阻害する段階を備える一方、前記移動方向における前記有効レーザスポットの終端部分は、前記移動方向に移動し続け、それにより、前記有効レーザスポットが消滅するまで前記有効レーザスポットの前記移動方向におけるサイズを徐々に減少させる、請求項１から１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
クランクシャフトのジャーナルの表面を硬化するためのシステムであって、レーザ源と、前記クランクシャフトの前記ジャーナルの前記表面と前記レーザ源との間で相対移動を生じさせるための手段とを備え、前記システムは、前記システムの動作を制御するための電子制御手段をさらに備え、
前記電子制御手段は、請求項１から１７のいずれか１項に記載の方法を実行するために前記システムを動作させる、システム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
本発明のいくつかの実施形態では、方法は、潤滑油孔の第１の方向における両方の側において、有効レーザスポットを表面エリアに適用する段階を備え、潤滑油孔が複数の側のうちの第１の側の下を延在せず、複数の側のうちの第２の側の下を延在するように、潤滑油孔は、傾斜した態様で内側に向かって延在し、有効レーザスポットは、複数の側のうちの第１の側に、複数の側のうちの第２の側より大きいエネルギーを適用するように適合される。複数の側のうちの第２の側の下における潤滑油孔の存在に起因して、ヒートシンク効果は、当該側においてより低い。従って、好ましくは、より小さなエネルギーが、このような潤滑油孔が存在しないことによってより好適に放熱することが可能な他の側よりも、当該側に適用されなければならない。このように、加熱エネルギーの使用が最適化され、過熱リスクが最小化される。すなわち、これらの本発明の複数の実施形態によれば、複数の潤滑油孔に対応するワークピースにおいて、硬化されるべき表面にだけではなく、表面下の構造にも注意が払われる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
本発明のいくつかの実施形態では、方法は、潤滑油孔の第１の方向における両方の側において、表面エリアを加熱するためにエネルギーを適用する段階を備え、潤滑油孔が複数の側のうちの第１の側の下を延在せず、複数の側のうちの第２の側の下を延在するように、潤滑油孔は、傾斜した態様で内側に向かって延在し、方法は、複数の側のうちの第２の側より大きいエネルギーを複数の側のうちの第１の側に適用する段階を備える。それにより、上述されたように、エネルギー利用は最適化され、過熱リスクは最小化される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１３】
本発明のいくつかの実施形態では、装置は、有効レーザスポットの複数のセグメントを生成することによって、有効レーザスポットを生成するように構成され、複数のセグメントは、少なくとも６つのセグメントを備え、制御システムは、複数のセグメントに割り当てられた複数のパラメータ値に従って、複数のセグメントにおけるエネルギー密度及び／または分布（すなわち、スキャンパターンの複数のセグメントの場合、スキャンサイクルのような特定の時間間隔の間、各セグメントに対応するエネルギー）を選択的に変更することによって、２次元エネルギー分布を変更するように構成され、複数のパラメータ値は、制御システムのメモリに格納される。上述されたように、セグメント化アプローチは、例えば、表面エリアに対する加熱を表面エリアの複数の特性に適応させるために、複数の異なるエネルギー分布パターンを生成可能とする柔軟性及び簡潔さに起因する、複数の重要な利点を示唆する。例えば、各々が３つのセグメントを備える２行で構成された６つのセグメントを有する単純なパターンを用いる場合、有効レーザスポットが、硬化されているクランクシャフトのジャーナルの中央に配置された潤滑油孔に近づく場合に、複数の中央のセグメントのうち１つまたは両方のパワーを減少させることにより、潤滑油孔と隣接して適用されるエネルギーを、ジャーナル表面の複数の周辺部分に適用されるエネルギーと比べて減少させ、それにより、潤滑油孔と隣接するエリアに対する過熱リスクを減少させる一方で、潤滑油孔からもさらに離れて、例えば、潤滑油孔の複数の境界から離れた潤滑油孔の複数の側において、表面の適切な硬化を維持することができる。多数のセグメントは、硬化されている表面の複数の感熱性特性に対する２次元エネルギー分布の非常に正確な調整を可能とする。複数のセグメントは、例えば、複数のセグメントの複数の行及び複数の列を有する配列において、構成可能である。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１８０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１８０】
図１２Ａ−１２Ｃは、有効レーザスポットのエネルギー分布が、潤滑油孔に対応するために適合可能である態様を示す。潤滑油孔１００３は、クランクシャフトのジャーナルの表面に配置され、当該表面は、クランクシャフトの回転軸と平行な第１の方向、及び第２の周方向Ｗに延在する。図１２Ａでは、高パワー密度の先端部分２Ｅと低パワー密度の末端部分２Ｆとを有する、実質的に矩形の等価な有効レーザスポット５が用いられる。しかしながら、図１２Ｂに示されるように、例えば、クランクシャフトがその長さ方向軸周りに回転することに起因する、クランクシャフトの表面とレーザ源との間の相対移動に起因して、潤滑油孔１００３が有効レーザスポットに近づく場合、潤滑油孔１００３隣接エリアに対する過熱を回避するために、パワーまたはエネルギー密度を先端部分２Ｅの中央に向かって減少させることによって、エネルギー分布は、実質的に適応される。ここで、有効レーザスポットは、実質的にＵ形状である。その後、潤滑油孔１００３が先端部分２Ｅを一度通ると、末端部分の中央に向かってエネルギーまたはパワー密度を減少させることによって、先端部分における元のエネルギー分布が回復される一方で、末端部分２Ｆにおけるエネルギー分布は、潤滑油孔１００３に対応するように適合される。ここで、有効レーザスポット５は、（本発明のいくつかの実施形態において、図６Ｄのものと一致するセグメント化またはピクセル化を用いて、かつ、有効レーザスポットの対応する複数の形状を与えるために、複数の異なるセグメントに割り当てられた複数のパワー状態を適応させることで得られる）逆Ｕ形状を実質的に採用する。すなわち、一方で、潤滑油孔は、有効レーザスポットを通過し、エネルギー分布は、潤滑油孔と隣接する高感熱性エリアに、潤滑油孔から離れた硬化されるべき表面に適用されるものより小さいエネルギーを適用するために、適合される。潤滑油孔周りのエリアは、潤滑油孔と隣接する高感熱性サブエリアに損傷を与えることなく硬化されてもよい。Ｕ形状の有効レーザスポットの複数の側方部分は、潤滑油孔の複数の側における複数のエリアを硬化させるために機能する。図１２Ａ−１２Ｃに示されたエネルギー分布の変化は、例えば、スキャンパターンを適応させることによって、及び／または（例えば、スキャンパターンの複数の異なるセグメントの間で、レーザビームがオン及びオフ切り替えされる態様を適応させることによって）ビームパワーがスキャンパターンに沿って分布する態様を適応させることによって、及び／またはスキャンパターンの複数の異なるセグメントに対応するスキャン速度を適応させること等によって得られる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０２０４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０２０４】
一方で、本発明は、本明細書に記載された特定の実施形態に限定されるものではなく、あらゆる当業者によって考慮され得る（例えば、材料、寸法、成分、構成等の選択に関する）あらゆるバリエーションを特許請求の範囲において定義された本発明の全般的な範囲に属するものとしてカバーすることは明らかである。
［項目１］
クランクシャフトの軸頸の表面に対するレーザ硬化の方法であって、前記軸頸は、硬化されるべき表面エリアを備え、前記表面エリアは、前記クランクシャフトの回転軸と平行な第１の方向及び前記軸頸の周方向に対応する第２の方向に延在し、前記表面エリアは、少なくとも１つの高感熱性サブエリア及び少なくとも１つの低感熱性サブエリアを備え、前記少なくとも１つの高感熱性サブエリアは、前記クランクシャフトの潤滑油孔隣接エリアを含み、
前記表面エリアに有効レーザスポットを生成するために、レーザ源からのレーザビームを前記表面エリアに投影する段階であって、前記有効レーザスポットは、前記第１の方向において、前記硬化されるべき表面エリアの主要部分にわたって延在する、段階と、
その後、前記周方向において、前記有効レーザスポットを前記表面エリアの複数の異なる部分に投影するために、前記周方向において、前記クランクシャフトの前記表面と前記レーザ源との間の相対移動を生じさせる段階とを備え、
前記有効レーザスポットは、２次元エネルギー分布を有し、
前記潤滑油孔隣接エリアに対する過熱を回避するために、前記エネルギー分布が、前記低感熱性サブエリアを加熱する場合に、前記潤滑油孔隣接エリアを含む高感熱性サブエリアを加熱する場合と異なるように、前記方法は、前記エネルギー分布を適応させる段階を備える、方法。
［項目２］
前記有効レーザスポットを前記表面エリアに適用する時間の少なくとも５０％の間、前記有効レーザスポットは、周方向において、少なくとも５ｍｍ、好ましくは少なくとも７ｍｍより好ましくは少なくとも１０ｍｍ、さらにより好ましくは少なくとも１５ｍｍ、２０ｍｍ、３０ｍｍまたはそれより大きく、例えば少なくとも５０ｍｍの幅を有する、請求項１に記載の方法。
［項目３］
前記有効レーザスポットは、スキャンサイクル中の前記２次元エネルギー分布が、スキャン速度、スキャンパターン、レーザスポットのサイズ、前記レーザビームのパワー及び前記レーザビーム内のパワー分布によって決定されるように、前記レーザビームを前記第１の方向及び前記第２の方向にスキャンし、前記レーザスポットがスキャン速度で移動するスキャンパターンに繰り返し従うことによって得られた等価なレーザスポットである、請求項１または２に記載の方法。
［項目４］
前記潤滑油孔隣接エリアに対する過熱を回避するために、前記エネルギー分布が、前記低感熱性サブエリアを加熱する場合に、前記潤滑油孔隣接エリアを含む高感熱性サブエリアを加熱する場合と異なるように、前記エネルギー分布の適応は、前記スキャン速度、前記スキャンパターン、前記レーザスポットのサイズ、前記レーザビームのパワー及び前記レーザビーム内の前記パワー分布のうちの少なくとも１つを適応させることによって実行される、請求項３に記載の方法。
［項目５］
前記エネルギー分布の適応は、前記レーザスポットを前記スキャンパターンに沿ってスキャンする間に、前記レーザビームの前記パワーを適応させる、例えば、前記レーザビームをオン及びオフにすることによって、実行される、請求項４に記載の方法。
［項目６］
前記レーザビームを、毎秒少なくとも３００回、好ましくは毎秒少なくとも６００回、より好ましくは毎秒少なくとも１，０００回、より好ましくは毎秒少なくとも５，０００回、さらにより好ましくは毎秒少なくとも１０，０００回、複数の適用可能なパワー状態のうちの１つに選択的に設定するために、前記エネルギー分布は、前記レーザスポットを前記スキャンパターンに沿ってスキャンする間に、前記レーザビームの前記パワーを選択的に適応させることによって制御される、請求項３に記載の方法。
［項目７］
前記スキャンパターンは、複数のセグメントを備え、前記複数のセグメントの各々は、それに割り当てられた前記複数の適用可能なパワー状態のうちの１つを有し、前記複数のセグメントのうちの少なくとも１つに割り当てられた前記パワー状態は、前記低感熱性サブエリアを加熱する間、前記潤滑油孔隣接エリアを含む高感熱性サブエリアを加熱する間と異なる、請求項６に記載の方法。
［項目８］
前記エネルギー分布の適応は、前記レーザスポットを前記スキャンパターンに沿ってスキャンする間に、前記スキャン速度を適応させることによって実行される、請求項４から７のいずれか１項に記載の方法。
［項目９］
前記有効レーザスポット内の複数の点における温度変動が、極大、及びそれに続く極小温度の間で、２００℃より小さく、好ましくは１５０℃より小さく、より好ましくは１００℃より小さく、さらにより好ましくは５０℃より小さい振幅を有するように、前記スキャンは、十分に高いスキャン速度で実行される、請求項３から８のいずれか１項に記載の方法。
［項目１０］
前記有効レーザスポットの前記エネルギー分布は、前記有効レーザスポットの前記第１の方向における中央よりも、前記有効レーザスポットの前記第１の方向における複数の端部に向けてより大きいエネルギーが適用される、請求項１から９のいずれか１項に記載の方法。
［項目１１］
前記有効レーザスポットによって走査されたエリアが、最初により高い平均パワーでレーザ照射を受け、その後、より低い平均パワーでレーザ照射を受けるように、前記エネルギー分布は、前記有効レーザスポットの先端部分において、前記有効レーザスポットの末端部分より高いエネルギー密度を有する、請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法。
［項目１２］
前記有効レーザスポットを、潤滑油孔の前記第１の方向における両方の側の前記表面エリアに適用する段階を備え、前記潤滑油孔が前記側のうちの第１の側の下ではなく、前記側のうちの第２の側の下で延在するように、前記潤滑油孔は、傾斜した態様で内側に向かって延在し、前記有効レーザスポットは、前記側のうちの前記第１の側に、前記側のうちの前記第２の側より大きいエネルギーを適用するように適合される、請求項１から１１のいずれか１項に記載の方法。
［項目１３］
前記有効レーザスポットは、前記低感熱性サブエリアにおいて第１の形状を有し、潤滑油孔に到達した際に実質的にＵ形状を有し、かつ、前記潤滑油孔を離れる際に実質的に逆Ｕ形状を有し、逆もまた同様であり、前記第１の形状は、任意に、実質的に矩形または三角形状である、請求項１から１２のいずれか１項に記載の方法。
［項目１４］
クランクシャフトの軸頸の表面に対するレーザ硬化の方法であって、前記軸頸は、硬化されるべき表面エリアを備え、前記表面エリアは、前記クランクシャフトの回転軸と平行な第１の方向及び前記軸頸の周方向に対応する第２の方向に延在し、前記表面エリアは、少なくとも１つの高感熱性サブエリア及び少なくとも１つの低感熱性サブエリアを備え、前記少なくとも１つの高感熱性サブエリアは、潤滑油孔隣接エリアを含み、前記方法は、
レーザ源からのレーザビームを前記表面エリアに投影する段階と、
前記硬化されるべき表面エリアの周方向セグメントを硬化させるべく、その後、周方向において、前記レーザビームを前記表面エリアの複数の異なる部分に投影するために、前記周方向において、前記クランクシャフトの前記表面と前記レーザ源との間の相対移動を生じさせる段階と、
前記硬化されるべき表面エリアの硬化が完了するまで、前記周方向セグメントの前記第１の方向における拡張を増大させるために、前記レーザビームを前記第１の方向に変位させる段階とを備え、
前記潤滑油孔隣接エリアに対する過熱を回避するべく、潤滑油孔隣接エリアを含む前記高感熱性サブエリアに対応して、前記低感熱性サブエリアより小さいエネルギーを適用するために、エネルギーが、前記レーザ源と前記クランクシャフトの前記表面との間の前記相対移動と同期して、前記レーザビームによって前記クランクシャフトに適用される態様を適応させる段階を備える、方法。
［項目１５］
前記周方向において、前記クランクシャフトの前記表面と前記レーザ源との間の相対移動を生じさせる段階は、前記クランクシャフトを、例えば３０００ｒｐｍを超える速度、６０００ｒｐｍを超える速度のような高速で回転させる段階を含む、請求項１４に記載の方法。
［項目１６］
前記軸頸の周方向セグメントの複数のセクションを、複数の有効レーザスポットの各々で同時に加熱するために、前記表面エリアに対して、１つより多くのレーザビームを同時に適用する段階を備える、請求項１４または１５に記載の方法。
［項目１７］
前記表面エリアを、潤滑油孔の前記第１の方向における両方の側で加熱するために、エネルギーを適用する段階を備え、前記潤滑油孔が前記側のうちの第１の側の下ではなく、前記側のうちの第２の側の下で延在するように、前記潤滑油孔は、傾斜した態様で内側に向かって延在し、前記方法は、前記側のうちの前記第１の側に、前記側のうちの前記第２の側より大きいエネルギーを適用する段階を備える、請求項１４から１６のいずれか１項に記載の方法。
［項目１８］
前記軸頸の硬化された周方向セグメントのサイズを徐々に増大させるべく、前記軸頸の周方向部分を繰り返し加熱するために、前記軸頸の周方向において第１の速度で、有効レーザスポットの移動を与える段階と、前記有効レーザスポットを、前記第１の速度より低い第２の速度で前記第１の方向に移動させ、それにより、複数の新たな周方向部分を加熱する一方で、自己焼き入れを与えるために、複数の以前に加熱された周方向部分の冷却を可能とする段階とを備える、請求項１４から１７のいずれか１項に記載の方法。
［項目１９］
有効レーザスポットが、中心から外された態様で、前記軸頸に投影される、請求項１４から１８のいずれか１項に記載の方法。
［項目２０］
ワークピース表面に対するレーザ硬化の方法であって、前記ワークピースは、少なくとも１つの硬化されるべき表面エリアを備え、前記表面エリアは、少なくとも１つの高感熱性サブエリア及び少なくとも１つの低感熱性サブエリアを備え、
前記エリアにレーザスポットを生成するために、レーザ源からのレーザビームを前記表面エリアに投影する段階と、
前記ワークピースの前記表面と前記レーザ源との間の相対移動を生じさせ、それにより、その後、前記レーザスポットが、前記表面エリアの複数の異なる部分に投影されることを可能にする段階と、
２次元の等価な有効レーザスポットを前記表面エリアに生成するために、前記相対移動の間、前記レーザビームを、前記表面エリアの各部分にわたって２次元で繰り返しスキャンする段階であって、前記有効レーザスポットは、エネルギー分布を有する、段階とを備え、
前記高感熱性サブエリアの過熱を防止するために、前記エネルギー分布は、高感熱性サブエリアにおいて、低感熱性サブエリアと異なるように適合される、方法。
［項目２１］
前記レーザビームを、前記有効レーザスポット内でスキャンパターンに沿ってスキャンする段階と、前記エネルギー分布を得るために、任意に、スキャンパターンに沿って前記レーザビームをオン及びオフにすることによって、前記レーザビームのパワーを、前記スキャンパターンに沿って変更する段階とを備える、請求項２０に記載の方法。
［項目２２］
毎秒少なくとも３００回、より好ましくは毎秒少なくとも６００回、より好ましくは毎秒少なくとも１，０００回、より好ましくは毎秒少なくとも５，０００回、さらにより好ましくは毎秒少なくとも１０，０００回、前記レーザビームを複数の適用可能なパワー状態のうちの１つに選択的に設定するために、前記エネルギー分布は、前記レーザスポットをスキャンパターンに沿ってスキャンする間に、前記レーザビームの前記パワーを選択的に適応させることによって制御される、請求項２０に記載の方法。
［項目２３］
前記スキャンパターンは、複数のセグメントを備え、前記複数のセグメントの各々は、それに割り当てられた前記複数の適用可能なパワー状態のうちの１つを有し、前記複数のセグメントのうちの少なくとも１つに割り当てられた前記パワー状態は、前記低感熱性サブエリアにおいて、前記高感熱性サブエリアと異なる、請求項２２に記載の方法。
［項目２４］
前記有効レーザスポット内で、前記レーザビームに対して、前記高感熱性サブエリアにおいて、前記低感熱性サブエリアと比べて異なるスキャンパターンを用いる段階を備える、請求項２０から２３のいずれか１項に記載の方法。
［項目２５］
前記有効レーザスポットの少なくとも一部で、前記エネルギー分布が、前記高感熱性サブエリアにおいて前記低感熱性サブエリアと比べて異なるようにスキャン速度を適応させることによって、前記エネルギー分布を適応させる段階を備える、請求項２０から２４のいずれか１項に記載の方法。
［項目２６］
前記有効レーザスポットは、前記ワークピースの表面部分を硬化温度に加熱するために選択されたエネルギー分布及び密度を有する先端部分と、加熱された表面部分の冷却を、焼き入れのために可能にするべく選択されたエネルギー分布及び密度を有する中間部分と、その焼き戻しを生成するべく、前記焼き入れされた部分を加熱するために選択されたエネルギー分布及び密度を有する末端部分とを備える、請求項２０から２５のいずれか１項に記載の方法。
［項目２７］
前記有効レーザスポットは、複数の線を備えるパターンに従う前記ワークピースにわたって、前記レーザビームを繰り返しスキャンすることによって確立され、前記複数の線は、好ましくは実質的に平行であり、前記スキャンは、スキャン周波数で繰り返され、前記複数の線の各々は、複数のセグメントを備え、前記レーザビームの出力パワーを、前記複数のセグメントのうちのいくつかにおいて、前記複数のセグメントのうちの他のものと異なるレベルに選択的に設定するために、前記方法は、所定のレーザビームパワー値を前記複数のセグメントの各々に割り当てる段階を備える、請求項２０から２６のいずれか１項に記載の方法。
［項目２８］
前記スキャン周波数は、少なくとも５０Ｈｚ、好ましくは少なくとも１００Ｈｚであり、前記複数の線は、少なくとも２つの線、好ましくは少なくとも３つの線、より好ましくは少なくとも４つの線、例えば５−１０の線を備え、各線は、少なくとも３つのセグメント、好ましくは少なくとも５つのセグメント及びより好ましくは少なくとも１０のセグメント、例えば１０−２０のセグメントを備える、請求項２７に記載の方法。
［項目２９］
前記レーザビームのスキャンは、前記レーザスポットが複数のセグメントを備えるスキャンパターンに繰り返し従うように実行され、前記エネルギー分布に影響する少なくとも１つのパラメータ値は、前記複数のセグメントの各々と関連付けられ、前記少なくとも１つのパラメータ値が、前記複数のセグメントのうちの少なくとも１つに対して、前記有効レーザスポットが前記高感熱性サブエリアを加熱する場合に、前記低感熱性サブエリアを加熱する場合と異なるように、動作中に、前記少なくとも１つのパラメータ値が動的に適合される、請求項３または２０に記載の方法。
［項目３０］
前記少なくとも１つのパラメータ値は、スキャン速度、前記レーザスポットのサイズ、前記レーザビームのパワー、前記レーザビーム内のパワー分布、対応するセグメントの長さ及び対応するセグメントの方向のうちの少なくとも１つを示す、請求項２９に記載の方法。
［項目３１］
前記少なくとも１つのパラメータ値は、前記セグメントに対応する前記レーザビームのパワーを示す、請求項２９に記載の方法。
［項目３２］
各セグメントに対して、対応する少なくとも１つのパラメータ値をメモリに格納する段階を備え、少なくとも１つのセグメントに対して、少なくとも２つの異なる複数のパラメータ値が前記メモリに格納され、第１のパラメータ値は、前記低感熱性サブエリアを加熱する場合に用いられ、第２のパラメータ値は、前記高感熱性サブエリアを加熱する場合に適用される、請求項２９から３１のいずれか１項に記載の方法。
［項目３３］
前記スキャンは、毎秒少なくとも３００セグメント、好ましくは毎秒少なくとも６００セグメント、より好ましくは毎秒少なくとも１，０００セグメント、より好ましくは毎秒少なくとも５，０００セグメント、さらにより好ましくは毎秒少なくとも１０，０００セグメントの平均速度で実行される、請求項２９から３２のいずれか１項に記載の方法。
［項目３４］
有効レーザスポットが、前記表面エリアの以前に硬化された部分、例えば、前記有効レーザスポットをクランクシャフトの軸頸周りで周方向に変位させることによって硬化された前記軸頸の、以前に硬化された部分に到達した場合に、前記有効レーザスポットの先端部分でエネルギー密度を減少させる段階を備える、請求項２９から３３のいずれか１項に記載の方法。
［項目３５］
有効レーザスポットが、前記表面エリアの以前に硬化された部分、例えば、前記有効レーザスポットをクランクシャフトの軸頸周りで周方向に変位させることによって硬化された前記軸頸の以前に硬化された部分に到達した場合に、前記有効レーザスポットの先端部分において、前記有効レーザスポットの移動を阻害する段階を備え、前記有効レーザスポットの末端部分は、前記周方向に移動し続け、それにより、前記有効レーザスポットが消滅するまで前記有効レーザスポットの前記周方向におけるサイズを徐々に減少させる、請求項２９から３４のいずれか１項に記載の方法。
［項目３６］
ワークピース表面に対するレーザ硬化の方法であって、前記ワークピースは、少なくとも１つの硬化されるべき表面エリアを備え、前記表面エリアは、少なくとも１つの高感熱性サブエリア及び少なくとも１つの低感熱性サブエリアを備え、
前記エリアにレーザスポットを生成するために、レーザ源からのレーザビームを前記表面エリアに投影する段階と、
前記ワークピースの前記表面と前記レーザ源との間の相対移動を生じさせ、それにより、その後、前記レーザスポットが、前記表面エリアの複数の異なる部分に投影されることを可能にする段階と、
前記相対移動の間、前記エリアの各部分にわたって、前記レーザビームをスキャンする段階とを備え、
前記スキャンは、前記レーザスポットが前記表面エリアにおいてスキャンパターンに従うように実行され、
前記高感熱性サブエリアにおいて前記ワークピースの過熱を回避するために、
（ｉ）スキャン速度、
（ｉｉ）レーザビームパワー及び
（ｉｉｉ）レーザスポットサイズのうちの少なくとも１つは、前記スキャンパターンの１つの部分において、他の前記スキャンパターンの部分と異なる、方法。
［項目３７］
前記スキャンパターンは、複数のセグメントを備え、前記複数のセグメントの各々に対し、
（ｉ）スキャン速度、
（ｉｉ）レーザビームパワー及び
（ｉｉｉ）レーザスポットサイズのうちの少なくとも１つが割り当てられ、
これにより、前記スキャン速度、前記レーザビームパワー及び前記レーザスポットサイズのうちの少なくとも１つは、前記複数のセグメントのうちの少なくとも１つに対して、前記複数のセグメントのうちの少なくとも他のものと比べて異なるように選択される、請求項３６に記載の方法。
［項目３８］
前記スキャン速度は、高感熱性サブエリアにより近いセグメントにおいて、前記感熱性サブエリアからさらに離れた２つの隣接セグメントより高くなるように選択される、請求項３７に記載の方法。
［項目３９］
前記レーザビームパワーは、高感熱性サブエリアにより近いセグメントにおいて、前記感熱性サブエリアからさらに離れた２つの隣接セグメントより低くなるように選択される、請求項３７または３８に記載の方法。
［項目４０］
前記レーザスポットは、高感熱性サブエリアにより近いセグメントにおいて、前記感熱性サブエリアからさらに離れた２つの隣接セグメントよりより大きいエリアを有するように選択される、請求項３７から３９のいずれか１項に記載の方法。
［項目４１］
複数のセグメントのうち１つまたは複数に割り当てられた
（ｉ）スキャン速度、
（ｉｉ）レーザビームパワー及び
（ｉｉｉ）レーザスポットサイズのうちの少なくとも１つが少なくとも一度変更される間に、ワークピースの表面は、前記レーザ源に対して移動する、請求項２８から４０のいずれか１項に記載の方法。
［項目４２］
（ｉ）  少なくとも１つのスキャン速度、
（ｉｉ）少なくとも１つのレーザビームパワー及び
（ｉｉｉ）少なくとも１つのレーザスポットサイズのうちの少なくとも１つを前記複数のセグメントの各々に割り当てることによって、前記レーザビームを制御するための電子制御手段をプログラミングする段階を備える、請求項３７または３８に記載の方法。
［項目４３］
スキャンパターンは、幾何学的形状を有し、前記スキャンパターンの前記幾何学的形状が少なくとも一度変更される間に、前記ワークピースの前記表面は、前記レーザ源に対して移動する、請求項３６から４２のいずれか１項に記載の方法。
［項目４４］
ワークピース表面に対するレーザ硬化の方法であって、前記ワークピースは、少なくとも１つの硬化されるべき表面エリアを備え、前記表面エリアは、少なくとも１つの高感熱性サブエリア及び少なくとも１つの低感熱性サブエリアを備え、
レーザスポットを前記表面エリアに生成するために、レーザ源からのレーザビームを前記表面エリアに投影する段階と、
前記ワークピースの前記表面と前記レーザ源との間の相対移動を生じさせ、それにより、その後、前記レーザスポットが、前記表面エリアの複数の異なる部分に投影されることを可能にする段階と、
前記相対移動の間、前記レーザビームを前記表面エリアの各部分にわたってスキャンする段階とを備え、
前記スキャンは、前記レーザスポットが前記エリアにおいてスキャンパターンに従うように実行され、前記スキャンパターンは、幾何学的構成を有し、
前記スキャンパターンの前記幾何学的構成は、前記相対移動中に前記表面エリアと前記レーザ源との間で少なくとも一度変更される、方法。
［項目４５］
ワークピース表面に対するレーザ硬化の方法であって、前記ワークピースは、少なくとも１つの硬化されるべき表面エリアを備え、前記表面エリアは、少なくとも１つの高感熱性サブエリア及び少なくとも１つの低感熱性サブエリアを備え、
レーザ源からのレーザビームを前記表面エリアに投影し、つまり、レーザスポットを前記表面エリアに生成する段階と、
前記ワークピースの前記表面と前記レーザ源との間の相対移動を生じさせ、それにより、その後、前記レーザスポットが、前記表面エリアの複数の異なる部分に投影されることを可能にする段階と、
前記相対移動の間、前記レーザビームを前記エリアの各部分にわたってスキャンする段階と、
前記レーザビームを変調する段階とを備え、
前記ワークピースの各部分の過熱を防止するために、前記レーザビームは、前記レーザスポットが前記高感熱性サブエリアにある場合に、これが前記低感熱性サブエリアにある場合と異なるように変調され、
Ａ．前記レーザビームのパワーは、変調され、
Ｂ．前記レーザビームのスキャン速度は、変調され、
Ｃ．レーザスポットが前記高感熱性サブエリアに対応する場合に、前記低感熱性サブエリアに対応する場合とは異なるスキャンパターンに従うように、前記レーザビームのスキャンパターンは変調され、及び
Ｄ．レーザスポットサイズが前記高感熱性サブエリアに対応する場合に、前記低感熱性サブエリアに対応する場合とは異なるように、前記レーザビームのレーザスポットサイズは変調される
うちの少なくとも１つが実行される、方法。
［項目４６］
ワークピース表面に対するレーザ硬化の方法であって、前記ワークピースは、少なくとも１つの硬化されるべき表面エリアを備え、
レーザ源からのレーザビームを前記表面エリアに投影し、これによって、レーザスポットを前記表面エリアに生成する段階と、
前記ワークピースの前記表面と前記レーザ源との間で相対移動を生じさせ、それにより、その後、前記レーザスポットが、前記表面エリアの複数の異なる部分に投影されることを可能にする段階と、
前記相対移動の間、前記レーザビームを前記エリアの各部分にわたってスキャンする段階とを備え、
前記レーザビームによって走査されるエリアに入る前記ワークピースの前記表面の部分が、最初により高い平均パワーでレーザ照射を受け、その後、より低い平均パワーでレーザ照射を受けるように加熱が実行される、方法。
［項目４７］
実質的に円形の断面を有するワークピースの部分の表面をレーザ硬化する方法であって、
レーザ源からのレーザビームを前記表面に投影し、これにより、レーザスポットを前記表面に生成する段階と、
前記ワークピースの前記表面と前記レーザ源との間で相対移動を生じさせ、それにより、その後、前記レーザスポットが、前記表面の周に沿って、前記表面の複数の異なる部分に投影されることを可能にする段階とを備え、
前記レーザビームは、中心から外された態様で、前記表面に投影される、方法。
［項目４８］
ワークピースの部分の表面をレーザ硬化する方法であって、
レーザ源からのレーザビームを前記表面に投影し、これにより、レーザスポットを前記表面に生成する段階と、
前記ワークピースの前記表面と前記レーザ源との間で相対移動を生じさせ、それにより、その後、前記レーザスポットが前記表面の複数の異なる部分に投影されることを可能にする段階とを備え、
前記レーザビームは、前記表面と直交しない方向で、好ましくは前記レーザビームと前記表面との間の入射点において、前記表面に対して７０°より小さい角度を形成して、前記表面に投影される、方法。
［項目４９］
ワークピース表面に対するレーザ硬化の方法であって、
レーザ源からのレーザ光を加熱されるべき複数の表面エリアに投影する段階を備え、
前記レーザ光は、第１の表面エリア及び前記第１の表面エリアと実質的に垂直に延在する第２の表面エリアに投影され、
前記方法は、レーザビームをＳ波偏光成分を有する第１のレーザビーム成分及びＰ波偏光成分を有する第２のレーザビーム成分に分割する段階と、前記第１のレーザビーム成分を、前記第１の表面エリアの加熱のために用いる段階と、前記第２のレーザビーム成分を、前記第２の表面エリアの加熱のために用いる段階とを備える、方法。
［項目５０］
ワークピースと前記レーザ源との間で相対移動を生じさせる段階は、レーザ光スポットが前記硬化されるべき表面エリアの周全体にアクセスできるように、前記ワークピースを回転軸周りに回転させる段階を含む、請求項２０から４９のいずれか１項に記載の方法。
［項目５１］
前記ワークピースと前記レーザ源との間で相対移動を生じさせる段階は、前記回転軸と直交する第１の方向及び前記回転軸と直交する第２の方向に相対移動を生じさせる段階を含み、前記第１の方向における移動は、前記ワークピースを変位させることによって生成され、前記第２の方向における移動は、前記レーザ源を変位させることによって生成され、任意に、前記レーザ源は、前記回転軸と平行に移動可能である、請求項５０に記載の方法。
［項目５２］
ワークピースは、複数の潤滑油孔を有するクランクシャフトである、請求項２０から５１のいずれか１項に記載の方法。
［項目５３］
クランクシャフト表面をレーザ硬化する方法であって、前記クランクシャフトは、主軸頸、複数のロッド軸頸及び複数の潤滑油孔を備え、
レーザ源からのレーザビームを、硬化されるべき軸頸の表面に投影することにより、レーザスポットを前記表面に生成する段階と、前記クランクシャフトを回転させることにより、前記表面を前記レーザ源に対して移動させる段階とを備え、
前記表面を加熱するために、前記クランクシャフトが回転する間、前記レーザビームは、前記軸頸の前記表面の少なくとも一部にわたって、所定のスキャンパターンに従ってスキャンされ、
前記表面において、複数の高感熱性サブエリアに、複数の低感熱性サブエリアより小さいエネルギーを適用するために、前記スキャンは実行される、方法。
［項目５４］
前記表面において、複数の高感熱性サブエリアに、複数の低感熱性サブエリアより小さいエネルギーを適用するために、前記レーザビームのパワーを実質的に一定に維持し、スキャン速度及びスキャンパターンのうちの少なくとも１つを適応させるように、前記スキャンは実行される、請求項５３に記載の方法。
［項目５５］
前記表面において、複数の高感熱性サブエリアに、複数の低感熱性サブエリアより小さいエネルギーを適用するために、例えば、前記スキャンパターンの複数のセグメントに対応して、前記レーザビームのオンオフ状態を動的に適応させることにより、前記スキャンパターンを実質的に一定に維持し、スキャン速度及びビームパワーのうちの少なくとも１つを適応させるように、前記スキャンは実行される、請求項５３に記載の方法。
［項目５６］
前記スキャンパターンは、複数のセグメントを備え、パワー状態に対応するパワーレベルに対して、各セグメントに対応して前記レーザビームの前記パワーを設定するために、ビームパワー状態は、前記複数のセグメントの各々に割り当てられ、前記レーザは、複数の前記ビームパワー状態の要求に応じて、前記レーザビームの前記パワーを変化させ、前記スキャンは、毎秒少なくとも３００セグメント、好ましくは毎秒少なくとも６００セグメント、より好ましくは毎秒少なくとも１，０００セグメント、より好ましくは毎秒少なくとも５，０００セグメント、さらにより好ましくは毎秒少なくとも１０，０００セグメントの率で生じ、前記スキャンパターンは、少なくとも１０Ｈｚ、好ましくは少なくとも５０Ｈｚ、より好ましくは少なくとも１００Ｈｚの周波数で繰り返され、前記複数のセグメントのうちの少なくとも１つに割り当てられた前記パワー状態は、高感熱性サブエリアに対応する場合に、低感熱性サブエリアに対応するものと異なる、請求項５３に記載の方法。
［項目５７］
前記複数の高感熱性サブエリアは、前記クランクシャフトの複数の軸頸の複数の軸方向端部において、前記複数の潤滑油孔と隣接する複数のエリア及び複数のフィレットと隣接する複数のエリアのうちの少なくとも１つを含む、請求項５３から５６のいずれか１項に記載の方法。
［項目５８］
前記レーザ源は、ファイバレーザを備える、請求項１から５７のいずれか１項に記載の方法。
［項目５９］
ワークピースの表面の少なくとも一部を硬化するためのシステムであって、レーザ源と、前記ワークピースの表面と前記レーザ源との間で相対移動を生じさせるための手段とを備え、前記システムは、前記システムの動作を制御するための電子制御手段をさらに備え、
前記電子制御手段は、請求項１から５８のいずれか１項に記載の方法を実行するために前記システムを動作させる、システム。
［項目６０］
請求項５９に記載のシステムにおいて実行された場合に、請求項１から５８のいずれか１項に記載の方法を実行するための複数のプログラム命令を備えるコンピュータプログラム。
［項目６１］
請求項６０に記載のコンピュータプログラムを格納する情報キャリア。
［項目６２］
少なくとも２つの中央に構成された主軸頸と、少なくとも１つのオフセットされたロッド軸頸とを備える、クランクシャフトの複数の軸頸の複数の表面をレーザ硬化するための装置であって、
前記クランクシャフトを支持し、任意に、前記クランクシャフトを前記クランクシャフトの長軸周りに回転させるクランクシャフト支持部と、
レーザスポットを前記軸頸に生成するために、レーザビームを前記クランクシャフトの軸頸に投影する少なくとも１つのレーザ源とを備え、
２次元のスキャンパターンを前記軸頸の前記表面に確立するために、前記レーザ源は、前記レーザビームを２次元でスキャンするための双方向スキャン手段を含む、装置。
［項目６３］
前記クランクシャフト支持部及び前記レーザ源は、長軸に直交する少なくとも２つの異なる方向において、前記クランクシャフトが前記長軸周りに回転する間、ロッド軸頸と前記レーザ源との間が一定距離となるように、互いに対して変位可能であり、前記ロッド軸頸は、前記長軸に対してオフセットされる、請求項６２に記載の装置。
［項目６４］
前記レーザ源は、第１の方向、好ましくは垂直方向に変位可能であり、前記クランクシャフト支持部は、第２の方向、好ましくは水平方向に変位可能であり、前記第１及び第２の方向の両方は、前記長軸に直交する、請求項６３に記載の装置。
［項目６５］
前記レーザ源は、前記クランクシャフトの前記長軸と平行にさらに変位可能である、請求項６４に記載の装置。
［項目６６］
前記スキャンパターンと関連付けられた複数のパラメータ値を格納するメモリを含む制御ユニットを備え、前記スキャンパターンは、前記複数のパラメータ値の複数のセットを含み、前記複数のパラメータ値の第１のセットは、第１の２次元エネルギー分布を前記クランクシャフトの軸頸において決定し、前記複数のパラメータ値の第２のセットは、第２の２次元エネルギー分布を前記軸頸において決定する、請求項６２から６５のいずれか１項に記載の装置。
［項目６７］
前記制御ユニットは、前記クランクシャフトがその長軸周りに回転する間、前記複数のパラメータ値の第１のセット及び前記複数のパラメータ値の第２のセットを選択的に適用し、任意に、前記２次元のスキャンパターンに対応する高感熱性サブエリアの出現と同期して、前記メモリに格納された複数のパラメータ値のさらなるセットを適用することによって、硬化加工を制御する、請求項６６に記載の装置。
［項目６８］
前記スキャンパターンは、複数のセグメントを備えるセグメント化されたスキャンパターンであり、前記複数のパラメータ値のうちの少なくとも１つは、各セグメントに割り当てられ、前記少なくとも１つのパラメータ値は、スキャン速度、前記レーザスポットのサイズ、前記レーザビームのパワー、前記レーザビーム内のパワー分布、対応するセグメントの長さ及び対応するセグメントの方向のうちの少なくとも１つを示す、請求項６６または６７に記載の装置。
［項目６９］
毎秒少なくとも３００セグメント、好ましくは毎秒少なくとも６００セグメント、より好ましくは毎秒少なくとも１，０００セグメント、より好ましくは毎秒少なくとも５，０００セグメント、さらにより好ましくは毎秒少なくとも１０，０００セグメントの平均速度で、前記スキャンを実行する、請求項６８に記載の装置。
［項目７０］
ワークピースの表面エリアを硬化するための装置であって、前記表面エリアは、少なくとも１つの低感熱性サブエリア及び少なくとも１つの高感熱性サブエリアを備え、有効レーザスポットを前記表面エリアに投影するレーザ源と、前記表面エリアの複数の異なる部分を硬化に適した温度にその後徐々に加熱することによって前記有効レーザスポットが２次元エネルギー分布を有するために、前記有効レーザスポットが前記表面エリアに沿って移動させられるように、前記表面エリアと前記有効レーザスポットとの間で相対移動を生じさせるための手段とを備え、前記装置は、前記装置の動作を制御するための制御システムをさらに備え、前記制御システムは、前記高感熱性サブエリアにおいて、前記低感熱性サブエリアと異なるように、前記２次元エネルギー分布を変更する、装置。
［項目７１］
前記少なくとも１つの高感熱性サブエリアは、
−前記表面エリアにおいて、潤滑油孔のような孔と隣接するエリア、
−アンダーカットフィレットのようなフィレット及び
−前記有効レーザスポットがクランクシャフトの円筒状軸頸のような対象の周に沿って、３６０°軌道の端部において到達する部分のような、前記表面エリアの以前に硬化された部分
のうちの少なくとも１つを含む、請求項７０に記載の装置。
［項目７２］
前記有効レーザスポットの前記表面エリアに沿った移動の少なくとも一部、好ましくは少なくとも５０％の間、より好ましくは少なくとも９０％の間、さらにより好ましくは前記有効レーザスポットが前記表面エリアに沿って移動する１００％の間、前記有効レーザスポットによって加熱される前記表面エリア内の複数の部分は、少なくとも０．５秒、好ましくは少なくとも１秒の間加熱されるように、前記有効レーザスポットがサイズを有し、かつ、前記表面エリアに沿って速度で移動するように動作し、前記表面エリアに沿って前記有効レーザスポットが移動する方向において、前記有効レーザスポットの前記サイズは、少なくとも５ｍｍ、好ましくは少なくとも７ｍｍ、より好ましくは少なくとも１０ｍｍ、さらにより好ましくは少なくとも１５ｍｍ、２０ｍｍ、３０ｍｍまたはそれより大きく、例えば少なくとも５０ｍｍである、請求項７０または７１に記載の装置。
［項目７３］
前記有効レーザスポットの複数のセグメントを生成することによって、前記有効レーザスポットを生成し、前記複数のセグメントは、少なくとも６つのセグメントを備え、前記制御システムは、前記複数のセグメントに割り当てられた複数のパラメータ値に従って、前記複数のセグメントにおけるエネルギー密度及び分布のうちの少なくとも１つを選択的に変更することによって、前記２次元エネルギー分布を変更し、前記複数のパラメータ値は、前記制御システムのメモリに格納される、請求項７０から７２のいずれか１項に記載の装置。
［項目７４］
前記レーザ源は、前記レーザ源のレーザビームを２次元でスキャンするためのスキャン手段を備え、前記制御システムは、前記有効レーザスポットを生成するために、前記複数のセグメントを備えるスキャンパターンに従って、前記レーザビームを２次元でスキャンし、前記スキャンパターンは、少なくとも１０Ｈｚ、好ましくは少なくとも５０Ｈｚ、より好ましくは少なくとも１００Ｈｚ、さらにより好ましくは少なくとも２００Ｈｚの反復率で繰り返される、請求項７３に記載の装置。
［項目７５］
前記複数のパラメータ値は、前記スキャンパターンに対応するセグメントに対応して、前記ビームのビームパワーレベル及びスキャン速度のうちの少なくとも１つを示す、請求項７４に記載の装置。
［項目７６］
前記レーザ源は、前記レーザ源のレーザビームを２次元でスキャンするためのスキャン手段を備え、前記制御システムは、スキャンパターンに従う前記有効レーザスポットを生成するために、前記レーザビームを２次元でスキャンし、前記スキャンパターンは、少なくとも１０Ｈｚ、好ましくは少なくとも５０Ｈｚ、より好ましくは少なくとも１００Ｈｚ、さらにより好ましくは少なくとも２００Ｈｚの反復率で繰り返される、請求項７０から７２のいずれか１項に記載の装置。
［項目７７］
クランクシャフトの少なくとも１つの軸頸を硬化するためにプログラムされ、前記装置は、前記有効レーザスポットが前記クランクシャフトの前記軸頸の５０％より多く、好ましくは前記クランクシャフトの前記軸頸の７５％より多くにわたって延在するように、前記有効レーザスポットを生成するためにプログラムされる、請求項７０から７６のいずれか１項に記載の装置。
［項目７８］
前記制御システムは、複数のデータセットを格納するメモリを備え、前記複数のデータセットの各々は、前記有効レーザスポットの２次元エネルギー分布を示すことにより、前記装置が前記有効レーザスポットの前記２次元エネルギー分布を適応させる間に、前記有効レーザスポットが前記低感熱性サブエリアに投影される場合に、前記レーザ源を動作させるために前記複数のデータセットのうちの１つを用いることによって、かつ、前記有効レーザスポットが前記高感熱性サブエリアに投影される場合に、前記レーザ源を動作させるために前記複数のデータセットのうちの少なくとも他の１つを用いることによって、前記有効レーザスポットが前記表面エリアに沿って移動させられる、請求項７０から７７のいずれか１項に記載の装置。
［項目７９］
クランクシャフトのようなワークピースの少なくとも１つの表面エリアをレーザ硬化する方法であって、請求項６８から７６のいずれか１項に記載の装置を用いて、前記ワークピースの前記表面エリアを硬化温度に加熱する段階と、焼き入れを生成するために、前記表面エリアの複数の加熱された部分を冷却可能とする段階とを備える方法。
［項目８０］
複数の軸頸を備えるクランクシャフトであって、前記複数の軸頸のうちの少なくとも１つは、請求項１から５８及び７９のいずれか１項に記載の方法によって硬化された表面を有する、クランクシャフト。
［項目８１］
クランクシャフトの複数の軸頸をレーザ硬化するために、請求項６２から７８のいずれか１項に記載の装置をプログラミングする方法であって、
複数のデータセットを確立するために、レーザビームパワー、スキャン速度、セグメントの長さ及びセグメントの方向のうちの少なくとも１つのような複数のパラメータ値に関するエネルギー分布を複数のセグメントに割り当てる段階であって、各データセットは、硬化されるべき表面エリアに投影され、かつ、前記表面エリアに沿って変位される有効レーザスポットの特定の２次元エネルギー分布に対応する段階と、
前記複数のデータセットを格納する段階と、
前記表面エリアの低感熱性サブエリアを加熱するための前記複数のデータセットのうちの少なくとも１つに従って前記エネルギー分布を適応させることによって、かつ、前記表面エリアの高感熱性サブエリアを加熱するための前記データセットの少なくとも他の１つに従って前記エネルギー分布を適応させることによって、前記有効レーザスポットの前記表面エリアに沿った移動と同期して、前記有効レーザスポットの前記エネルギー分布を適応させるために、前記装置をプログラミングする段階とを備える、方法。
［項目８２］
データセットを確立する段階の後、対応する２次元エネルギー分布をスクリーン上で算出及び可視化する段階を備える、請求項８１に記載の方法。