【手続補正書】
【提出日】平成30年8月17日(2018.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】デバイス形成装置およびパターン形成装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、可撓性のシート基板に対して電子デバイスを形成するための所定の処理を施すデバイス形成装置およびパターン形成装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の第２の態様は、可撓性を有する長尺のシート基板上に長尺方向に沿って連続して電子デバイスのパターンを形成するパターン形成装置であって、所定半径の円筒状の外周面を有し、前記シート基板の一部を前記外周面で支持して回転することで前記シート基板を前記長尺方向に移動させる回転ドラムと、前記回転ドラムの回転に伴って円筒状に移動する前記シート基板の一部分に、前記電子デバイスのパターンを形成するための処理を施す処理ユニットと、前記回転ドラムと同軸に回転するように設けられたスケール部の目盛の移動を検出するヘッド部からの検出信号に基づいて、前記シート基板の移動量に応じて変化する第１の計数値を計測すると共に、前記回転ドラムの１回転毎に前記第１の計数値を初期値にリセットする第１計数部と、前記ヘッド部からの前記検出信号に基づいて、前記シート基板の移動量に応じて変化する第２の計数値を、前記回転ドラムの１回転以上の所定回転数に渡って計数する第２計数部と、前記第１計数部による前記第１の計数値に基づいて前記回転ドラムの回転駆動源を制御すると共に、前記第２計数部による前記第２の計数値に基づいて前記シート基板上に形成される前記パターンの位置を設定するように前記処理ユニットを制御する制御部と、を備える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有する長尺のシート基板上に長尺方向に沿って複数の電子デバイスを形成するデバイス形成装置であって、
所定半径の円筒状の外周面を備え、前記シート基板の一部を前記外周面で支持して回転することで前記シート基板を前記長尺方向に移動させる回転ドラムと、
前記回転ドラムの外周面で支持された前記シート基板の部分領域に、前記電子デバイスを形成するための処理を施す処理ユニットと、
前記回転ドラムとともに回転するスケール部に形成された目盛を読み取るヘッド部と、前記読み取られた前記目盛の移動量を計数するとともに、前記回転ドラムの１回転毎に計数した値を初期値にリセットする第１計数部と、を有する回転計測システムと、
前記回転ドラムの１回転分に対応して前記第１計数部で計数される第１の計数範囲よりも大きな第２の計数範囲で、前記目盛の移動量を計数する第２計数部と、
前記シート基板の前記部分領域に対して前記処理ユニットが処理を開始する前に、前記第２計数部に所定値をプリセットするとともに、プリセットされた後の前記第２計数部の計数値に基づいて、前記処理ユニットによる処理を制御する制御ユニットと、
を備える、デバイス形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載のデバイス形成装置であって、
前記処理ユニットは、前記シート基板の前記部分領域に、前記電子デバイス用のパターンを形成するためにエネルギービームを投射し、
前記制御ユニットは、前記第２計数部の計数値に基づいて、前記シート基板の前記長尺方向における前記エネルギービームの投射位置を制御する、デバイス形成装置。
【請求項３】
請求項２に記載のデバイス形成装置であって、
前記エネルギービームの走査方向を行方向とし、前記シート基板の移動方向を列として、マトリックス状に２次元に分解された複数の画素の単位で前記パターンの設計情報を記憶する記憶部を備え、
前記処理ユニットは、前記エネルギービームを前記シート基板の幅方向に沿って１次元に繰り返し走査するビーム走査ユニットと、前記エネルギービームの強度を前記設計情報に基づいて変調させる強度変調部と、を有し、
前記制御ユニットは、前記第２計数部の計数値に応じて、前記記憶部に記憶された前記設計情報の列を選択し、該選択した列に含まれる複数の画素の各々に対応して記憶された論理情報が前記強度変調部に送出されるように前記記憶部を制御する、デバイス形成装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のデバイス形成装置であって、
前記第２の計数範囲は、１つの前記電子デバイスの前記長尺方向の長さに対応した前記目盛の移動量で計数される第３の計数範囲と、前記第１の計数範囲との和以上に設定される、デバイス形成装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のデバイス形成装置であって、
前記制御ユニットは、前記第１計数部の計数値に基づいて、前記回転ドラムの制御、または、前記回転ドラムによって搬送されている前記シート基板の位置検出を行う、デバイス形成装置。
【請求項６】
可撓性を有する長尺のシート基板上に長尺方向に沿って連続して電子デバイスのパターンを形成するパターン形成装置であって、
所定半径の円筒状の外周面を有し、前記シート基板の一部を前記外周面で支持して回転することで前記シート基板を前記長尺方向に移動させる回転ドラムと、
前記回転ドラムの回転に伴って円筒状に移動する前記シート基板の一部分に、前記電子デバイスのパターンを形成するための処理を施す処理ユニットと、
前記回転ドラムと同軸に回転するように設けられたスケール部の目盛の移動を検出するヘッド部からの検出信号に基づいて、前記シート基板の移動量に応じて変化する第１の計数値を計測すると共に、前記回転ドラムの１回転毎に前記第１の計数値を初期値にリセットする第１計数部と、
前記ヘッド部からの前記検出信号に基づいて、前記シート基板の移動量に応じて変化する第２の計数値を、前記回転ドラムの１回転以上の所定回転数に渡って計数する第２計数部と、
前記第１計数部による前記第１の計数値に基づいて前記回転ドラムの回転駆動源を制御すると共に、前記第２計数部による前記第２の計数値に基づいて前記シート基板上に形成される前記パターンの位置を設定するように前記処理ユニットを制御する制御部と、
を備える、パターン形成装置。
【請求項７】
請求項６に記載のパターン形成装置であって、
前記制御部は、前記シート基板に対して前記処理ユニットが前記パターンの形成を開始する前に、前記第２計数部に所定値をプリセットすると共に、プリセットされた値から前記第２計数部によって計数される前記第２の計数値に基づいて、前記処理ユニットを制御する、パターン形成装置。
【請求項８】
請求項７に記載のパターン形成装置であって、
前記処理ユニットは、前記シート基板に前記電子デバイスの前記パターンに応じたエネルギービームを投射し、
前記制御部は、前記第２計数部の前記第２の計数値に基づいて、前記シート基板の前記長尺方向における前記エネルギービームの投射位置を制御する、パターン形成装置。
【請求項９】
請求項８に記載のパターン形成装置であって、
前記エネルギービームの走査方向を行方向とし、前記シート基板の移動方向を列として、マトリックス状に２次元に分解された複数の画素の単位で前記パターンの設計情報を記憶する記憶部を、さらに備え、
前記処理ユニットは、前記エネルギービームを前記シート基板の幅方向に沿って１次元に繰り返し走査するビーム走査ユニットと、前記エネルギービームの強度を前記設計情報に基づいて変調させる強度変調部と、を有し、
前記制御部は、前記第２計数部の前記第２の計数値に応じて、前記記憶部に記憶された前記設計情報の列を選択し、該選択した列に含まれる複数の画素の各々に対応して記憶された論理情報が前記強度変調部に送出されるように前記記憶部を制御する、パターン形成装置。
【請求項１０】
請求項７〜９のいずれか１項に記載のパターン形成装置であって、
前記第２計数部で計数可能な計数範囲は、前記シート基板上に形成される前記電子デバイスの前記長尺方向の長さに対応した前記スケール部の前記目盛の移動量で計数される計数範囲と、前記第１計数部で計数可能な前記回転ドラムの１回転分の計数範囲との和以上に設定される、パターン形成装置。