【事件の表示】
　平成１０年特許願第５３６４６３号「ポリマー光導波路、光集積回路、光モジュールおよび光通信装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年　８月２７日国際公開、ＷＯ９８／３７４４５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯・本願発明
　本願は、平成９年２月１９日の特許出願であって、平成１６年６月２５日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年８月３日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年８月２０日に手続補正がなされたものである。
　そして、請求項１乃至請求項１２に係る発明は、願書に添付した明細書及び図面、平成１５年１０月３１日付及び、上記平成１６年８月２０日付の手続補正書の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１乃至請求項１２に記載されたとおりのものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりである。
「その表面の少なくとも一部が無機材料である基板と、
　前記基板上に設けられた下部クラッド層および前記下部クラッド層上に設けられたコア層とを有し、
　前記基板と前記下部クラッド層との間には前記基板および前記下部クラッド層に接してバッファ層が設けられ、
　前記下部クラッド層はフッ素を含有するポリマーからなり、
　前記バッファ層はフッ素を実質的に含有しないポリマーからなることを特徴とするポリマー光導波路。」
　
第２　引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用した本願出願前に日本国内において頒布された刊行物である特開平８−１８４７１８号公報（以下「引用例」という。）には、次の事項が記載されている。
「【０００１】
【産業上の利用分野】
　本発明は、高性能な光導波路素子を安価に作製しうる材料および当該光導波路素子の製造方法に関するものである。」、
「【００２３】
　本発明においては、本発明の導波層、クラッド層、接着性増強層を合わせて用いる光導波路素子がとくに好ましく、以下にその製法を示すが、それぞれ通常用いられる他の導波層、クラッド層、接着性増強層組み合わせて用いることももちろん可能である。
【００２４】
　シロキサン変性含フッ素ポリイミド前駆体をガラス、シリコンなどの無機基板上に塗布し、通常の方法でイミド化して、前記一般式VIIで表される繰り返し単位を１種またはそれ以上有するシロキサン変性含フッ素ポリイミドとし、接着性増強層を製造する。これは一般にフッ素の含有量が多くなると無機材との密着性がきわめて悪くなるため、そのような欠点を改良するためのものである。ただし、市販のポリイミドフィルム、ポリカーボネート板等の有機材料を基板とした場合は、このシロキサン変性フッ素化ポリイミド前駆体を接着性増強層として用いる必要はない。
【００２５】
　上記シロキサン変性含フッ素ポリイミド前駆体は、下記式IXで表される繰り返し単位を１種またはそれ以上有する。
【００２６】
【化１７】
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
（式中、Ｒ1は前記式IIと同じ意味を表し、各繰り返し単位のＲ2のうち一部は下記式VIII
【化１８】
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
（式中、Ｒは独立してアルキル基を表す）で表される基であり、他のＲ2は前記式IIIと同じ意味を表す（この場合、Ｘは前記式IVと同じ意味を表し、並びにＲｆ、Ｒ’ｆおよびＲ”ｆは前記式Vと同じ意味を表すが、Ｒ2においてどのＲｆも感光性基ＲOでない場合を含む））
　含フッ素ポリイミド前駆体を上記接着性増強層または有機基板上に塗布し、２００℃以上に加熱してイミド化して、前記一般式VIで表される繰り返し単位を１種またはそれ以上有する含フッ素ポリイミドとし、クラッド層を製造する。
【００２７】
　上記含フッ素ポリイミド前駆体は下記式Xで表される繰り返し単位を１種またはそれ以上有する。
【００２８】
【化１９】
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（式中、Ｒ1は前記式IIと同じ意味を表し、Ｒ2は前記式IIIと同じ意味を表し（ただし、Ｒ2においてどのＲｆも感光性基ＲOでない場合を含む）、Ｘは前記式IVと同じ意味を表し、並びにＲｆ、Ｒ’ｆおよびＲ”ｆは前記式Vと同じ意味を表わす）。
【００２９】
　さらに、この上に感光性フッ素化ポリイミドを塗布し、露光して露光部分と未露光部分との間に屈折率差を生じさせる。このとき、このポリマー溶液にはあらかじめ屈折率差を生じさせるための低分子量の添加剤を加えておき、露光後に加熱によりこの添加剤を蒸発させる。
【００３０】
　さらに、得られた導波チャネル上にさらに前記の含フッ素ポリイミド前駆体を塗布し、加熱によりイミド化し、上記クラッド層を設けることができる。」
　上記記載事項によれば、上記引用例には次の発明が記載されている。
「ガラス、シリコンなどの無機基板と、該無機基板の上に形成されたシロキサン変性含フッ素ポリイミドの接着性増強層と、該接着性増強層の上に形成された含フッ素ポリイミドのクラッド層と、導波層とを有する光導波路素子」
　
第３　対比・判断
　本願発明と引用例記載の発明とを対比すると、
（１）引用例記載の発明における「無機基板」、「クラッド層」、「導波層」、「接着性増強層」は、本願発明における「その表面の少なくとも一部が無機材料である基板」、「下部クラッド層」、「コア層」、「バッファ層」にそれぞれ相当し、
（２）引用例記載の光導波路素子において、導波層はクラッド層上に設けられること並びに、光導波路素子はポリマー光導波路であることはそれぞれ明らかであるので、
　両者は、「その表面の少なくとも一部が無機材料である基板と、前記基板上に設けられた下部クラッド層および前記下部クラッド層上に設けられたコア層とを有し、前記基板と前記下部クラッド層との間には前記基板および前記下部クラッド層に接してバッファ層が設けられ、前記下部クラッド層はフッ素を含有するポリマーからなるポリマー光導波路。」の点で一致し、次の点で相違している。
［相違点］
　本願発明では、バッファ層がフッ素を実質的に含有しないポリマーからなるのに対し、引用例記載の発明では、接着性増強層（バッファ層）はフッ素を含有するポリマーからなる点。
　以下相違点につき検討する。
（１）本願発明及び引用例記載の発明はともに、無機基板とクラッド層との密着性を高めるために、その間にバッファ層（接着性補強層）を介在させた点で軌を一にしている。
（２）上記引用例の段落【００２３】、【００２４】及び【００２６】の記載から、無機材からなる基板、フッ素を含むクラッド層及び、導波層を有するポリマー光導波路素子において、基板とクラッド層の間に設けられるフッ素を含む接着性増強層は、基板とクラッド層との接着性を増強するためのものである。これは一般にフッ素の含有量が多くなると無機材との密着性が悪くなるからであることが理解できる。
（３）クラッド層は光が導波し、導波路損失を抑えるためにフッ素が必要であり、一方、上述のとおり、バッファ層は、無機基板とクラッド層との密着性を高めるためのものであり、光を導波する必要がないことから（本願明細書第２図参照）、導波路損失を抑えるためのフッ素をそもそも必要としないので、上記（２）の、フッ素含有量の大小が無機材料との密着性に影響があるという技術的知見に照らせば、上記引用例の接着性補強層に含まれるフッ素は量的には少なくても良いことが理解できる。
　してみると、上記引用例に記載された接着性補強層（バッファ層）のフッ素含有量を十分に少なくして、実質的にフッ素を含有しないものとすることは、当業者にとって光学素子としての材料選択を行う際、格別困難なこととは認められない。
　そして、その作用効果も、引用例に記載のものから容易に予測できる程度のものである。
　
第４　むすび
　したがって、本願発明は、引用例記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。