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【手続補正書】
【提出日】平成30年5月22日(2018.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像面が湾曲可能に構成された撮像手段と、
前記撮像手段の撮像面を湾曲させる駆動手段と、
撮影条件に応じて、前記撮像面の曲率における消費電力が所定の消費電力の状態を満たすようにするか否かを異ならせるように前記駆動手段を駆動して前記撮像面の曲率を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記撮影条件に応じて、前記撮像面の曲率が、撮像光学系の焦点距離において生じる像面湾曲収差を低下させる曲率であって前記所定の消費電力の状態を満たさない第１の曲率、又は、前記第１の曲率より曲率が小さく且つ消費電力が低い曲率であって前記所定の消費電力の状態を満たす第２の曲率になるように制御する、ことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記制御手段は、像面湾曲収差の影響が低下する所定の撮影条件である場合に、前記撮像面の曲率が前記第２の曲率になるように制御する、ことを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記制御手段は、
被写体輝度が予め定められた輝度値以上である場合、前記第１の曲率になるように制御し、
被写体輝度が前記予め定められた輝度値より低い場合、前記第２の曲率になるように制御する、ことを特徴とする請求項２または３に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記撮像手段は、絞りを更に有し、
前記制御手段は、
前記絞りの絞り値が予め定められた絞り値以上である場合、前記第１の曲率になるように制御し、
前記絞りの絞り値が前記予め定められた絞り値より小さい場合、前記第２の曲率になるように制御する、ことを特徴とする請求項２または３に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記制御手段は、
撮像された被写体の動き量又は画面全体の動き量が予め定められた動き量以下である場合、前記第１の曲率になるように制御し、
前記動き量が前記予め定められた動き量より大きい場合、前記第２の曲率になるように制御する、ことを特徴とする請求項２または３に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記駆動手段を駆動するための電力を前記駆動手段に供給することにより、前記撮像面の曲率を制御する、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記撮像手段は、前記制御手段により制御された前記撮像面の曲率を用いて撮像した映像データを出力し、
前記出力された映像データを記録する記録手段を更に有する、ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記撮像手段は、前記制御手段により制御された前記撮像面の曲率を用いて撮像した映像データを出力し、
前記出力された映像データを表示する表示手段を更に有する、ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
撮像面が湾曲可能に構成された撮像手段を備える撮像装置の制御方法であって、
駆動手段が、前記撮像手段の撮像面を湾曲させる駆動工程と、
制御手段が、撮影条件に応じて、前記撮像面の曲率における消費電力が所定の消費電力の状態を満たすようにするか否かを異ならせるように前記駆動手段を駆動して前記撮像面の曲率を制御する制御工程と、
を有することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項１１】
コンピュータを、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の撮像装置の制御手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この課題を解決するため、例えば本発明の撮像装置は以下の構成を備える。すなわち、撮像面が湾曲可能に構成された撮像手段と、撮像手段の撮像面を湾曲させる駆動手段と、撮影条件に応じて、撮像面の曲率における消費電力が所定の消費電力の状態を満たすようにするか否かを異ならせるように駆動手段を駆動して撮像面の曲率を制御する制御手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月2日(2018.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース部と、
前記ベース部上に配置されている機能部品と、
前記機能部品を収納している内部空間を前記ベース部とともに構成している蓋部と、
前記内部空間にて前記ベース部との間に空隙を有して前記ベース部上に配置されているゲッター材と、
を備えることを特徴とする電子デバイス。
【請求項２】
前記内部空間にて前記ベース部との間に空隙を有して前記ベース部上に配置されていて、前記ゲッター材を加熱可能な発熱部を備える請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項３】
前記ゲッター材と前記発熱部とは、積層されている請求項２に記載の電子デバイス。
【請求項４】
前記ゲッター材が２層あり、前記２層のゲッター材の間に前記発熱部がある請求項３に記載の電子デバイス。
【請求項５】
前記発熱部と前記ベース部とを接続している導電性端子を備える請求項２ないし４のいずれか１項に記載の電子デバイス。
【請求項６】
前記発熱部および前記ベース部は、前記導電性端子によって支持されている請求項５に記載の電子デバイス。
【請求項７】
前記機能部品の温度を調節する温度調節手段を備える請求項１ないし６のいずれか１項に記載の電子デバイス。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の電子デバイスを備え、
前記機能部品は、金属原子を収納している原子セル、前記金属原子に共鳴する光を出射する光源部、および、前記原子セルを通過した前記光を検出する受光部を有する原子セルユニットを含むことを特徴とする量子干渉装置。
【請求項９】
前記内部空間にて前記ベース部との間に空隙を有して前記ベース部上に配置されていて、前記ゲッター材を加熱可能な発熱部を備え、
前記ベース部と前記原子セルとの間の距離よりも前記ベース部と前記発熱部との間の距離の方が小さい請求項８に記載の量子干渉装置。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の量子干渉装置を備えることを特徴とする原子発振器。
【請求項１１】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の電子デバイスを備えることを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子デバイス、量子干渉装置、原子発振器および電子機器
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、電子デバイス、量子干渉装置、原子発振器および電子機器に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の目的は、長期にわたり優れた特性を発揮することができる電子デバイスを提供すること、また、かかる電子デバイスを備える量子干渉装置、原子発振器および電子機器を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
【図１】本発明の第１実施形態に係る電子デバイス（原子発振器）を示す概略図である。
【図２】アルカリ金属のエネルギー状態を説明するための図である。
【図３】光出射部からの２つの光の周波数差と、光検出部での検出強度との関係を示すグラフである。
【図４】図１に示す電子デバイスの概略構成を示す断面図である。
【図５】図４に示す機能部品およびゲッター材の配置を示す平面図である。
【図６】図５に示すゲッター材、発熱部および導電性端子を説明するための図であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）中のＡ−Ａ線断面図である。
【図７】図４に示すゲッター材の使用方法（電子デバイスの製造方法）を説明するための図である。
【図８】図４に示すゲッター材の使用方法（電子デバイスの製造方法）を説明するための図である。
【図９】本発明の第２実施形態に係るゲッター材、発熱部および導電性端子を説明するための図であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）中のＡ−Ａ線断面図である。
【図１０】本発明の第３実施形態に係る電子デバイス（水晶発振器）の概略構成を示す断面図である。
【図１１】本発明の第４実施形態に係る電子デバイス（心磁計）の概略構成を示す断面図である。
【図１２】ＧＰＳ衛星を利用した測位システムに発振器を用いた場合の概略構成を示す図である。
【図１３】発振器を備える移動体（自動車）の構成を示す斜視図である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
以下、本発明の電子デバイス、量子干渉装置、原子発振器および電子機器を添付図面に示す実施形態に基づいて詳細に説明する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
温度センサー２６としては、特に限定されず、サーミスタ、熱電対等の公知の各種温度センサーを用いることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４３】
（電子デバイスの製造方法）
以下、電子デバイスの製造方法について、前述した原子発振器１を製造する場合を例に説明する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９３】
２．電子機器
以上説明したような発振器は、各種電子機器に組み込むことができる。このような発振器を備える電子機器は、優れた信頼性を有する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９４】
以下、発振器を備える電子機器の一例について説明する。
図１２は、ＧＰＳ衛星を利用した測位システムに発振器を用いた場合の概略構成を示す図である。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９９】
３．移動体
また、前述したような発振器は、各種移動体に組み込むことができる。このような発振器を備える移動体は、優れた信頼性を有する。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２００】
以下、移動体の一例について説明する。
図１３は、発振器を備える移動体（自動車）の構成を示す斜視図である。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０３】
以上、本発明の電子デバイス、量子干渉装置、原子発振器および電子機器について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではなく、例えば、前述した実施形態の各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月20日(2017.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
他の装置までの通信経路に応じて特定された当該通信経路において一度に送信可能な第１のデータ量に基づいて定まる、前記他の装置との接続において一度に送信可能なデータ量に関する第２のデータ量を更新する更新手段と、
前記接続において信号の送信と受信とが行われていない時間が所定時間以上となるまでは、前記第１のデータ量の有効期限が切れていても前記更新手段による前記第２のデータ量の更新を制限する制限手段と、
を有することを特徴とする通信装置。
【請求項２】
前記制限手段は、前記時間が所定時間以上となるまでは、前記更新手段による前記第２のデータ量の更新を行わないように制御することを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
前記制限手段は、前記時間が所定時間以上となるまでは、前記第２のデータ量を小さくする場合には前記更新手段による当該第２のデータ量の更新を行い、前記第２のデータ量を大きくする場合には前記更新手段による当該第２のデータ量の更新を行わないように制御することを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項４】
前記更新手段は、前記時間が所定時間以上となった場合に、前記第２のデータ量の更新を行うことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項５】
前記更新手段は、更新した後の前記第２のデータ量のデータを有する信号を前記他の装置へ宛てて送信して、当該信号が前記他の装置に届かなかった場合、前記第２のデータ量を小さくするように、さらなる当該第２のデータ量の更新を行うことを特徴とする請求項４に記載の通信装置。
【請求項６】
前記信号は、前記接続が生存しているかを確認するためのパケットであることを特徴とする請求項５に記載の通信装置。
【請求項７】
前記更新手段は、さらに、前記時間が所定時間以上となった場合であって、前記第１のデータ量の有効期限が切れている場合、前記第１のデータ量を更新することを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項８】
前記制限手段は、前記時間が所定時間以上となった場合であっても、前記接続の継続時間が第２の所定時間に達していない場合には、前記更新手段による前記第２のデータ量の更新を制限する、ことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項９】
他の装置までの通信経路に応じて特定された当該通信経路において一度に送信可能な第１のデータ量に基づいて定まる、前記他の装置との接続において一度に送信可能なデータ量に関する第２のデータ量を更新する更新手段を有する通信装置の制御方法であって、
前記接続において信号の送信と受信とが行われていない時間が所定時間以上となるまでは、前記第１のデータ量の有効期限が切れていても前記更新手段による前記第２のデータ量の更新を制限する工程を有することを特徴とする制御方法。
【請求項１０】
他の装置までの通信経路に応じて特定された当該通信経路において一度に送信可能な第１のデータ量に基づいて定まる、前記他の装置との接続において一度に送信可能なデータ量に関する第２のデータ量を更新する更新手段を有する通信装置に備えられたコンピュータに、
前記接続において信号の送信と受信とが行われていない時間が所定時間以上となるまでは、前記第１のデータ量の有効期限が切れていても前記第２のデータ量の前記更新手段による更新を制限する工程を実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月29日(2017.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
目標画像の加工条件を含む目標条件を取得する目標条件取得部と、
撮像部による被写体の撮像条件を取得する撮像条件取得部と、
前記撮像部により撮影された画像を加工するための加工条件の内、前記撮像条件に依存する特定加工条件について、前記撮像条件と対応づけてアシスト情報を記憶するアシスト情報記憶部と、
前記特定加工条件に対応する前記アシスト情報を前記撮像条件によって前記アシスト情報記憶部から読み出すアシスト情報取得部と、
該アシスト情報取得部により取得されたアシスト情報を提示する表示部とを備える撮像補助装置。
【請求項２】
被写体を撮影して画像を取得する撮像部と、
請求項１に記載の撮像補助装置と、
前記撮像部により撮影された画像を加工するための加工条件の内、前記撮像条件に依存しない共通加工条件により、前記撮像部により取得された画像を加工する加工部とを備え、
前記表示部が、前記アシスト情報および前記加工部により加工された画像を提示する撮像装置。
【請求項３】
前記撮像部により取得され複数の加工条件によって加工された画像をその加工条件と対応づけて複数記憶する画像記憶部を備え、
前記目標条件取得部が、前記画像記憶部に記憶されているいずれかの画像を目標画像としてその加工条件を取得する請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記目標条件取得部が、複数の加工条件によって加工された画像をその加工条件と対応づけて複数記憶する外部記憶部から読み取る請求項２に記載の撮像装置。
【請求項５】
目標画像の加工条件を含む目標条件を取得するステップと、
被写体を撮像するときの撮像条件を取得するステップと、
撮像された画像を加工するための加工条件の内、前記撮像条件に依存する特定加工条件について、前記特定加工条件と前記撮像条件とを対応づけたアシスト情報を記憶するステップと、
前記特定加工条件に対応する前記アシスト情報を前記撮像条件に基づいて読み出すステップと、
読み出した前記アシスト情報を提示するステップと、を有する撮像補助方法。
【請求項６】
被写体を撮影して画像を取得する撮像部と、
目標条件を取得する目標条件取得部と、
撮像部による被写体の撮像条件を取得する撮像条件取得部と、
前記撮像部により撮影された画像を加工するための加工条件の内、前記撮像条件に依存する特定加工条件について、前記撮像条件と対応づけてアシスト情報を記憶するアシスト情報記憶部と、
前記特定加工条件に対応する前記アシスト情報を前記撮像条件によって前記アシスト情報記憶部から読み出すアシスト情報取得部と、
該アシスト情報取得部により取得されたアシスト情報を提示する表示部と、
前記撮像部により撮影された画像を加工するための加工条件の内、前記撮像条件に依存しない共通加工条件により、前記撮像部により取得された画像を加工する加工部と、を備え、
前記表示部が、前記アシスト情報および前記加工部により加工された画像を提示する撮像システム。
【請求項７】
目標画像の加工条件を含む目標条件と、被写体を撮影して画像を取得する撮像部による被写体の撮像条件と、前記撮像部により撮影された画像を加工するための加工条件の内、前記撮像条件に依存する特定加工条件と、に基づいて、ユーザの撮影をアシストするための、前記撮像条件と対応づけたアシスト情報を生成する撮像補助装置。
【請求項８】
目標画像の加工条件を含む目標条件と、被写体を撮影して画像を取得する撮像部による被写体の撮像条件と、前記撮像部により撮影された画像を加工するための加工条件とを取得し、
前記撮像部により撮影された画像を加工するための加工条件の内、前記撮像条件に依存する特定加工条件について、前記撮像条件と対応づけてアシスト情報を生成し、
前記アシスト情報を外部に送信する撮像補助装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月9日(2018.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体部と、前記本体部の上面に立設された放熱部とが一体に形成されてなる基体部と、
第１開口部と、前記本体部の上面側に前記第１開口部と連通して形成され、前記第１開口部よりも平面形状が小さく形成された第２開口部とを有し、前記本体部を厚さ方向に貫通する貫通孔と、
前記貫通孔に挿通され、前記第１開口部を充填する封止材により封着されたリードと、
前記リードと電気的に接続される導体パターンと、半導体素子が搭載される搭載部とを有し、前記放熱部の搭載面に接合された配線基板と、を有し、
前記放熱部は、前記第１開口部の一部と平面視で重なる位置であって、前記第２開口部と平面視で重ならない位置に設けられ、
前記第２開口部には、前記封止材よりも比誘電率の小さい被覆材が充填されていることを特徴とする半導体装置用ステム。
【請求項２】
前記第２開口部の内側面には、前記第１開口部の上部において、前記第１開口部の内側に突出する突出部が形成され、
前記封止材は、前記突出部の下面に接するように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置用ステム。
【請求項３】
前記被覆材は空気からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体装置用ステム。
【請求項４】
前記第１開口部の開口径及び前記第２開口部の開口径は、前記リードの特性インピーダンスが所望の値となるように設定されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の半導体装置用ステム。
【請求項５】
前記放熱部の前記搭載面は、前記第１開口部の一部と平面視で重なる位置であって前記第２開口部と平面視で重ならない位置において、前記本体部の上面に連続して形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の半導体装置用ステム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の半導体装置用ステムと、
前記搭載部に搭載され、前記導体パターンと電気的に接続された半導体素子と、
前記本体部に接合されたキャップと、
を有することを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月6日(2018.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の第１面に実装され、かつ、前記第１面の面内方向に光を射出する半導体発光素子と、
前記半導体発光素子から射出された光が入射する窓部と、
前記窓部を透過した光が入射し、かつ、当該窓部を透過した光を前記第１面から離れる方向に折り曲げるプリズムと、
前記プリズムによって折り曲げられた光を集光する集光部と、
を含み、
前記窓部は、前記プリズムの材料よりも前記半導体発光素子が射出する光の波長に対する耐光性が高い材料によって形成されている、ことを特徴とする光源装置。
【請求項２】
前記窓部の光入射面には、前記半導体発光素子から射出された光を集光するレンズ面が形成されている、ことを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項３】
前記窓部の光入射面には、前記半導体発光素子から射出された光を集光する回折光学素子が形成されている、ことを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項４】
前記プリズムの反射面は、凹面である、ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項５】
前記集光部は、回折光学素子である、ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項６】
前記プリズムと前記集光部とは、一体に構成されている、ことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項７】
前記窓部の光入射面の垂線は、前記第１面の垂線方向から見て、前記半導体発光素子の光射出面の垂線に対して傾いている、ことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項８】
前記半導体発光素子は、
電流が注入されて光を発生させる活性層と、
前記活性層を挟む第１クラッド層および第２クラッド層と、
を有し、
前記活性層は、光を導波させる光導波路を構成し、
前記光導波路は、前記活性層と前記第１クラッド層との積層方向から見て、前記半導体発光素子の光射出面の垂線に対して傾いて設けられ、
前記半導体発光素子から射出された光は、前記窓部の光入射面で屈折して、前記半導体発光素子の光射出面の垂線に沿って進行する、ことを特徴とする請求項７に記載の光源装置。
【請求項９】
前記半導体発光素子は、
電流が注入されて光を発生させる活性層と、
前記活性層を挟む第１クラッド層および第２クラッド層と、
を有し、
前記活性層は、光を導波させる光導波路を構成し、
前記光導波路は、前記活性層と前記第１クラッド層との積層方向から見て、前記半導体発光素子の光射出面の垂線に沿って設けられている、ことを特徴とする請求項７に記載の光源装置。
【請求項１０】
前記窓部の材質は、無機材料である、ことを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１１】
前記プリズムの材質は、樹脂材料である、ことを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１２】
基板と、
前記基板の第１面に実装され、かつ、前記第１面の面内方向に光を射出する半導体発光素子と、
前記半導体発光素子から射出された光を、前記第１面から離れる方向に折り曲げるプリズムと、
前記プリズムによって折り曲げられた光を集光する集光部と、
を含み、
前記プリズムは、前記集光部の材料よりも前記半導体発光素子が射出する光の波長に対する耐光性が高い材料によって形成されている、ことを特徴とする光源装置。
【請求項１３】
前記集光部は、回折光学素子である、ことを特徴とする請求項１２に記載の光源装置。
【請求項１４】
前記プリズムの光入射面には、前記半導体発光素子から射出された光を集光するレンズ面が形成されている、ことを特徴とする請求項１２または１３に記載の光源装置。
【請求項１５】
前記プリズムの光入射面には、前記半導体発光素子から射出された光を集光する回折光学素子が形成されている、ことを特徴とする請求項１２または１３に記載の光源装置。
【請求項１６】
前記プリズムの反射面は、凹面である、ことを特徴とする請求項１２ないし１５のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１７】
前記プリズムの材質は、無機材料である、ことを特徴とする請求項１２ないし１６のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１８】
前記集光部の材質は、樹脂材料である、ことを特徴とする請求項１２ないし１７のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１９】
請求項１ないし１８のいずれか１項に記載の光源装置と、
前記光源装置から射出された光を画像情報に応じて変調する光変調装置と、
前記光変調装置によって形成された画像を投射する投射装置と、
を含む、ことを特徴とするプロジェクター。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月5日(2017.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の面に搭載された第１の半導体チップと、前記一方の面と前記第１の半導体チップとの間に形成されて前記第１の半導体チップの外形よりも外側に延出した樹脂と、平面視において前記樹脂の外側に配置された第１のパッドと、を備えた第１の基板と、
一方の面及び前記一方の面の反対面となる他方の面を有し、前記他方の面に第２のパッドを備え、前記第２のパッド側が前記第１のパッド側と対向するように、前記第１の基板の上方に積層された第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に設けられ、前記第１の基板と前記第２の基板とを電気的に接続する柱状の基板接続部材と、を有し、
前記第２のパッドは、平面視において、前記樹脂と全部又は一部が重複する位置に設けられ、
前記基板接続部材は、柱状のコアと、前記コアの外周面を被覆するはんだめっきと、を備え、
前記基板接続部材は、前記第１のパッドと前記第２のパッドとの間に斜めに配置されて、前記はんだめっきが前記第１のパッド上に延伸して前記基板接続部材の一端が前記第１のパッドと接合され、前記はんだめっきが前記第２のパッド上に延伸して前記基板接続部材の他端が前記第２のパッドと接合されている半導体装置。
【請求項２】
前記コアの一端は前記第１のパッドに接し、他端は前記第２のパッドに接している請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記第２の基板の一方の面に第２の半導体チップが搭載され、
前記第２のパッドと前記第２の半導体チップの電極とは、平面視したときに重なる位置に配置されており、前記第２の基板を貫通する垂直配線を介して電気的に接続されている請求項１又は２記載の半導体装置。
【請求項４】
前記第１の基板の一方の面の、前記第１のパッドと前記樹脂との間に、前記第２の基板側に突起して前記基板接続部材と接する第１の突起部が設けられている請求項１乃至３の何れか一項記載の半導体装置。
【請求項５】
前記第２の基板の他方の面の、前記第２のパッドの周囲で、平面視したときに前記第１の半導体チップと重なる位置とは反対側にあたる位置に、前記第１の基板側に突起して前記基板接続部材と接する第２の突起部が設けられている請求項１乃至４の何れか一項記載の半導体装置。
【請求項６】
前記第１の基板と前記第２の基板との間に充填された第２の樹脂を有する請求項１乃至５の何れか一項記載の半導体装置。
【請求項７】
一方の面に搭載された第１の半導体チップと、前記一方の面と前記第１の半導体チップとの間に形成されて前記第１の半導体チップの外形よりも外側に延出した樹脂と、平面視において前記樹脂の外側に配置された第１のパッドと、を備えた第１の基板を準備する工程と、
一方の面及び前記一方の面の反対面となる他方の面を有し、前記他方の面に第２のパッドを備えた第２の基板を準備する工程と、
前記第２のパッド側が前記第１のパッド側と対向するように、前記第１の基板の上方に前記第２の基板を積層し、前記第１の基板と前記第２の基板とを、柱状のコアと、前記コアの外周面を被覆するはんだめっきと、を備えた基板接続部材を介して電気的に接続する工程と、を有し、
前記第２のパッドは、平面視において、前記樹脂と全部又は一部が重複する位置に設けられ、
前記基板接続部材は、前記第１のパッドと前記第２のパッドとの間に斜めに配置されて、前記はんだめっきが前記第１のパッド上に延伸して前記基板接続部材の一端が前記第１のパッドと接合され、前記はんだめっきが前記第２のパッド上に延伸して前記基板接続部材の他端が前記第２のパッドと接合される半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記第１の基板の一方の面の、前記第１のパッドと前記樹脂との間に、前記第２の基板側に突起して前記基板接続部材と接する第１の突起部を設ける工程を有する請求項７記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記第２の基板の他方の面の、前記第２のパッドの周囲で、平面視したときに前記第１の半導体チップと重なる位置とは反対側にあたる位置に、前記第１の基板側に突起して前記基板接続部材と接する第２の突起部を設ける工程を有する請求項７又は８記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本半導体装置は、一方の面に搭載された第１の半導体チップと、前記一方の面と前記第１の半導体チップとの間に形成されて前記第１の半導体チップの外形よりも外側に延出した樹脂と、平面視において前記樹脂の外側に配置された第１のパッドと、を備えた第１の基板と、一方の面及び前記一方の面の反対面となる他方の面を有し、前記他方の面に第２のパッドを備え、前記第２のパッド側が前記第１のパッド側と対向するように、前記第１の基板の上方に積層された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に設けられ、前記第１の基板と前記第２の基板とを電気的に接続する柱状の基板接続部材と、を有し、前記第２のパッドは、平面視において、前記樹脂と全部又は一部が重複する位置に設けられ、前記基板接続部材は、柱状のコアと、前記コアの外周面を被覆するはんだめっきと、を備え、前記基板接続部材は、前記第１のパッドと前記第２のパッドとの間に斜めに配置されて、前記はんだめっきが前記第１のパッド上に延伸して前記基板接続部材の一端が前記第１のパッドと接合され、前記はんだめっきが前記第２のパッド上に延伸して前記基板接続部材の他端が前記第２のパッドと接合されていることを要件とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月26日(2017.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
貫通孔を有するコア層と、
前記コア層の第１面に配設され、前記貫通孔に対応する第１開口部を有し、フィラーを含まない第１絶縁層と、
前記貫通孔及び前記第１開口部の内部に配設される貫通電極と、
前記第１絶縁層の前記コア層に配設される面とは反対の第１面及び前記貫通電極の端面に積層される第１配線層と
を含み、
前記第１絶縁層の第１面及び前記貫通電極の端面は、平坦化されている、配線基板。
【請求項２】
前記コア層の第２面に配設され、前記貫通孔に対応する第２開口部を有する第２絶縁層と、
前記第２絶縁層の前記コア層に配設される面とは反対の第２面に積層され、前記第２開口部を介して前記貫通電極に接続される第２配線層と
をさらに含み、
前記貫通電極は、前記貫通孔、前記第１開口部、及び前記第２開口部の内部に配設されており、
前記第１配線層は、前記第２配線層よりも微細化された配線層である、請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記第２配線層は、前記第１配線層よりも厚い、請求項２記載の配線基板。
【請求項４】
前記第２絶縁層は、フィラーを含まない、請求項２又は３記載の配線基板。
【請求項５】
前記第２絶縁層の厚さは、前記第１絶縁層の厚さよりも厚い、請求項２乃至４のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項６】
前記第２配線層に積層される、絶縁層をさらに含む、請求項２乃至５のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項７】
前記第１絶縁層は、樹脂のみによって構成される、請求項１乃至６のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項８】
前記第１絶縁層の第１面は、研磨された面であり、
前記貫通電極の端面は、研磨された面である、請求項１乃至６のいずれか一項記載の配線基板。
【請求項９】
コア層の第１面に、フィラーを含まない第１絶縁層を形成する工程と、
前記コア層及び前記第１絶縁層を厚さ方向に貫通する貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に貫通電極を形成する工程と、
前記第１絶縁層の前記コア層側の面とは反対の第１面に第１めっき層を形成する工程と、
前記第１めっき層を研磨して除去し、さらに前記第１絶縁層の第１面を研磨することにより、前記第１絶縁層の第１面及び前記貫通電極の端面を平坦化する工程と、
前記第１面及び前記貫通電極の端面に、第１配線層を形成する工程と
を含む、配線基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月22日(2018.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融はんだを収容可能な溶融はんだ槽と、
幅方向に関して複数間隔をあけて並ぶリード端子を含む半導体装置を保持可能な半導体装置保持機構と、
前記溶融はんだの液面を下降させることにより、前記リード端子を前記溶融はんだ外に相対的に引き上げる液面下降機構とを備え、
前記溶融はんだ槽に対して前記半導体装置保持機構を相対的に移動させるように駆動可能である、はんだ被膜形成装置。
【請求項２】
前記液面下降機構は前記半導体装置の幅よりも狭い幅を有し、前記半導体装置保持機構に保持された前記半導体装置の幅方向に沿って移動しながら、複数の前記リード端子のうち隣り合う１対のリード端子に挟まれた領域における前記溶融はんだの液面を漸次、前記リード端子の最下部であるリード端面よりも上方の位置から前記リード端面よりも下方の位置へ下降させる、請求項１に記載のはんだ被膜形成装置。
【請求項３】
前記液面下降機構は前記半導体装置の幅よりも狭い幅を有し、前記半導体装置保持機構に保持された前記半導体装置の幅方向に沿って複数並び、複数の前記液面下降機構が前記半導体装置の幅方向に沿って順次、前記溶融はんだの液面を前記リード端子の最下部であるリード端面よりも上方の位置から前記リード端面よりも下方の位置へ下降させる、請求項１に記載のはんだ被膜形成装置。
【請求項４】
前記液面下降機構は、複数の前記リード端子のうち隣り合う１対のリード端子に挟まれた複数の領域のすべてにおける前記溶融はんだの液面を前記リード端子の最下部であるリード端面よりも上方の位置から前記リード端面よりも下方の位置へ同時に下降させることが可能である、請求項１に記載のはんだ被膜形成装置。
【請求項５】
前記液面下降機構は前記半導体装置の幅よりも狭い幅を有し、前記半導体装置保持機構に保持された前記半導体装置の幅方向に沿って複数並び、前記溶融はんだの液面を前記リード端子の最下部であるリード端面よりも上方の位置から前記リード端面よりも下方の位置へ下降させることにより、前記溶融はんだの液面を下降させている前記液面下降機構の数が漸次増加する、請求項１に記載のはんだ被膜形成装置。
【請求項６】
前記液面下降機構は、前記溶融はんだの液面に対し気体を吹き付けることにより前記溶融はんだの液面を下降させる吹付部である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のはんだ被膜形成装置。
【請求項７】
前記液面下降機構は、前記溶融はんだの液面に対して下方に押しつけることにより前記溶融はんだの液面を下降させる液面下降ブロックである、請求項１〜５のいずれか１項に記載のはんだ被膜形成装置。
【請求項８】
溶融はんだ内に、半導体装置において幅方向に関して複数間隔をあけて並ぶように含まれるリード端子のうち前記溶融はんだ側のリード端面を含む少なくとも一部を、浸漬する工程と、
複数の前記リード端面の、前記浸漬する工程を行なう前の前記溶融はんだの初期液面高さに対する上下方向の高さを調整する工程と、
前記リード端面の上下方向の高さが調整された状態で、液面下降機構を用いて前記溶融はんだの液面を下降させることにより、前記リード端子を前記溶融はんだ外に相対的に引き上げる工程とを備える、はんだ被膜形成方法。
【請求項９】
前記調整する工程は、複数の前記リード端子を前記溶融はんだに対して相対的に上方に持ち上げる工程を含み、
前記持ち上げる工程においては、前記リード端面が前記浸漬する工程を行なう前の前記溶融はんだの前記初期液面高さよりも高く、かつ複数の前記リード端子のうち隣り合う１対のリード端子に挟まれたすべての領域において前記溶融はんだが存在可能な位置まで、複数の前記リード端面が、上下方向に関して持ち上げされる、請求項８に記載のはんだ被膜形成方法。
【請求項１０】
前記引き上げる工程においては、前記半導体装置の幅よりも狭い幅を有する前記液面下降機構が前記半導体装置の幅方向に沿って移動しながら、前記１対のリード端子に挟まれた領域における前記溶融はんだの液面を順次、前記リード端面よりも上方の位置から前記リード端面よりも下方の位置へ下降させる、請求項９に記載のはんだ被膜形成方法。
【請求項１１】
前記引き上げる工程においては、前記半導体装置の幅よりも狭い幅を有する前記液面下降機構が前記半導体装置の幅方向に沿って複数並び、複数の前記液面下降機構が前記半導体装置の幅方向に沿って順次、前記溶融はんだの液面を前記リード端面よりも上方の位置から前記リード端面よりも下方の位置へ下降させる、請求項９に記載のはんだ被膜形成方法。
【請求項１２】
前記調整する工程においては、前記リード端面が前記浸漬する工程を行なう前の前記溶融はんだの前記初期液面高さよりも低い位置となるように複数の前記リード端面の位置が調整される、請求項８に記載のはんだ被膜形成方法。
【請求項１３】
前記引き上げる工程においては、前記液面下降機構が、複数の前記リード端子のうち隣り合う１対のリード端子に挟まれたすべての領域における前記溶融はんだの液面を同時に前記リード端面よりも上方の位置から前記リード端面よりも下方の位置へ下降させる、請求項１２に記載のはんだ被膜形成方法。
【請求項１４】
前記引き上げる工程においては、前記半導体装置の幅よりも狭い幅を有する前記液面下降機構が前記半導体装置の幅方向に沿って複数並び、前記溶融はんだの液面を前記リード端面よりも上方の位置から前記リード端面よりも下方の位置へ下降させることにより、前記溶融はんだの液面を下降させている前記液面下降機構の数が漸次増加する、請求項１２に記載のはんだ被膜形成方法。
【請求項１５】
請求項８に記載のはんだ被膜形成方法により膜厚が２０μｍ以上のはんだ被膜がリード端子上に形成され、
複数の前記リード端子のうち隣り合う１対のリード端子の中心間距離が０．６５ｍｍ未満である、半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月22日(2018.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
比較判定回路２６は、全波整流回路２５の出力と基準電圧とを比較する回路であり、抵抗２６１、オペアンプ２６２、キャパシター２６３、抵抗２６４、及び抵抗２６５を備えている。オペアンプ２６２の一方の入力には全波整流回路２５からの出力が入力され、他方の入力には基準電圧入力電極２０３からの信号が入力される。これにより、励振電流に対応する電圧と基準電圧との差を積分した信号が出力される。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月19日(2018.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バスバ組付け型電流センサであって、
ケーシング、及び、前記ケーシングの複数の端子支持部にそれぞれ支持された複数のバスバを有するバスバモジュールと、
樹脂モールド、及び、複数の前記バスバに対応して前記樹脂モールド内に設けられた複数のセンサ部を有するセンサモジュールと、を備えており、
前記センサモジュールには、それぞれの前記センサ部の近傍に、前記バスバが挿通される挿通孔が同一方向に複数形成され、
前記センサモジュール及び前記バスバモジュールの少なくとも一方に、前記センサモジュールと前記バスバモジュールとを分離可能に仮固定する仮固定部が設けられ、
前記センサモジュール及び前記バスバモジュールに、前記センサモジュール及び前記バスバモジュールを一体的に固定する本固定部がそれぞれ設けられ、
前記センサモジュールおよび前記バスバモジュールは、互いに仮固定されるまでは別体であり、複数の前記センサ部を検査するための複数の検査用バスバをそれぞれ前記挿通孔に挿入可能に構成されていることを特徴とするバスバ組付け型電流センサ。
【請求項２】
前記本固定部が、前記樹脂モールドに形成された、外部装置への固定用のセンサ側連通ネジ孔と、前記ケーシングに形成された、前記外部装置への固定用のバスバ側連通ネジ孔と、を含み、
前記センサ側連通ネジ孔と前記バスバ側連通ネジ孔とは、前記仮固定部によって前記センサモジュールと前記バスバモジュールとが仮固定された状態で連通することを特徴とする請求項１に記載のバスバ組付け型電流センサ。
【請求項３】
前記仮固定部が、前記センサモジュール及び前記バスバモジュールの一方に形成された被係合部と、前記センサモジュール及び前記バスバモジュールの他方に形成された、前記被係合部と係合する係合部と、を含んでいることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のバスバ組付け型電流センサ。
【請求項４】
前記仮固定部が、前記センサ部の近傍に設けられていることを特徴とする請求項１から請求項３の何れか１項に記載のバスバ組付け型電流センサ。
【請求項５】
前記樹脂モールドは、所定方向に延びる梁部を有すると共に、前記梁部の両端に脚部をそれぞれ有しており
複数の前記センサ部は、前記梁部において前記所定方向に配置され、
前記仮固定部は、前記梁部に形成され、
前記本固定部は、前記脚部に形成されていることを特徴とする請求項１から請求項４の何れか１項に記載のバスバ組付け型電流センサ。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月26日(2018.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸方向における第１位置に引き出し可能な巻真と、
前記巻真が前記第１位置に引き出された状態で、前記巻真に連動して回転するカレンダー修正伝え車と、
前記カレンダー修正伝え車に連動して回転するカレンダー修正車と、
前記カレンダー修正伝え車および前記カレンダー修正車を支持する小鉄レバーと、
前記カレンダー修正車に連動して回転するカレンダー車と、を備え、
前記小鉄レバーには、前記カレンダー修正車を回転自在に取り付け可能な第１取付部および第２取付部が設けられ、
前記カレンダー修正車は、前記カレンダー車の種類に応じて、前記第１取付部および前記第２取付部のいずれか一方に取り付けられている
ことを特徴とする時計。
【請求項２】
請求項１に記載の時計において、
前記第１取付部および前記第２取付部は、前記カレンダー修正伝え車を間に挟んで、前記カレンダー修正伝え車の同心円の円弧に沿って設けられ、かつ、前記円弧に沿う方向の一方の端が他方の端に対して前記カレンダー車に近づく方向に位置する長穴で構成され、
前記カレンダー修正車は、
前記第１取付部に取り付けられた場合、
前記カレンダー修正伝え車が第１方向に回転することで、前記第１取付部としての長穴に沿って前記カレンダー車に近づく方向に移動して前記カレンダー車と係合し、前記カレンダー車を前記第１方向とは反対の第２方向に回転させ、
前記カレンダー修正伝え車が前記第２方向に回転することで、前記第１取付部としての長穴に沿って前記カレンダー車から離れる方向に移動して前記カレンダー車と離間し、
前記第２取付部に取り付けられた場合、
前記カレンダー修正伝え車が前記第２方向に回転することで、前記第２取付部としての長穴に沿って前記カレンダー車に近づく方向に移動して前記カレンダー車と係合し、前記カレンダー車を前記第１方向に回転させ、
前記カレンダー修正伝え車が前記第１方向に回転することで、前記第２取付部としての長穴に沿って前記カレンダー車から離れる方向に移動して前記カレンダー車と離間する
ことを特徴とする時計。
【請求項３】
請求項２に記載の時計において、
前記カレンダー修正車と係合可能な曜修正車と、
前記曜修正車に連動して回転する曜車と、を備え、
前記カレンダー修正車は、前記第１取付部に取り付けられ、
前記カレンダー修正伝え車が前記第２方向に回転する場合、前記カレンダー修正車は、前記第１取付部としての長穴に沿って前記カレンダー車から離れる方向に移動して、前記曜修正車と係合する
ことを特徴とする時計。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の時計において、
前記巻真と一体で回転するつづみ車と、
前記小鉄レバーに支持され、前記つづみ車に連動し、かつ、前記カレンダー修正伝え車と一体で回転する小鉄車と、
前記小鉄車と係合可能な日の裏車と、を備え、
前記巻真は、軸方向における第２位置に引き出し可能であり、
前記小鉄レバーは、前記時計の厚み方向に沿った揺動軸を備え、前記巻真の軸方向の移
動に連動して前記揺動軸を中心に揺動し、前記巻真が前記第１位置に引き出された場合、第１移動位置に位置し、前記巻真が前記第２位置に引き出された場合、第２移動位置に位置し、
前記小鉄レバーが前記第１移動位置に位置している場合、前記カレンダー修正車は前記カレンダー車と係合可能であり、前記小鉄車は前記日の裏車と離間し、
前記小鉄レバーが前記第２移動位置に位置している場合、前記カレンダー修正車は前記カレンダー車と離間し、前記小鉄車は前記日の裏車と係合する
ことを特徴とする時計。
【請求項５】
請求項４に記載の時計において、
前記小鉄レバーの前記揺動軸は、前記巻真の軸を通る直線と垂直に交わり、かつ、前記小鉄レバーが前記第１移動位置に位置する場合の前記小鉄車の回転軸を通る第１垂直線と、前記巻真の軸を通る直線と垂直に交わり、前記小鉄レバーが前記第２移動位置に位置する場合の前記小鉄車の回転軸を通る第２垂直線との間であって、前記カレンダー車と重なる位置に設けられている
ことを特徴とする時計。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の時計において、
前記カレンダー車の種類には、サイズの異なる第１カレンダー車と第２カレンダー車とがあり、
前記時計が前記第１カレンダー車を備える場合には、前記第１取付部に前記第１カレンダー車に対応した前記カレンダー修正車が取り付けられ、
前記時計が前記第２カレンダー車を備える場合には、前記第２取付部に前記第２カレンダー車に対応した前記カレンダー修正車が取り付けられる
ことを特徴とする時計。
【請求項７】
軸方向における第１位置に引き出し可能な巻真と、前記巻真が前記第１位置に引き出された状態で、前記巻真に連動して回転するカレンダー修正伝え車と、前記カレンダー修正伝え車に連動して回転するカレンダー修正車と、前記カレンダー修正車を支持する小鉄レバーと、前記カレンダー修正車に連動して回転するカレンダー車と、を備え、前記小鉄レバーには、前記カレンダー修正車を回転自在に取り付け可能な第１取付部および第２取付部が設けられている時計の製造方法であって、
前記カレンダー車の種類に応じて、前記第１取付部および前記第２取付部のいずれか一方に前記カレンダー修正車を取り付ける
ことを特徴とする時計の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月6日(2018.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
請求項２に記載のクリープ損傷評価方法であって、
前記非破壊測定装置は、電磁超音波共鳴装置であり、
前記物理量は、共鳴次数ごとの共鳴周波数、音速、減衰係数、音弾性、音響非線形量のうち少なくともいずれかである
ことを特徴とするクリープ損傷評価方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
評価部位の部材の予め求めた損傷量と非破壊測定装置で測定される前記部材の物理量との関係である評価線図データおよびＦＥＭ解析に用いる材料特性データを格納する材料評価データベースと、
実機の状態を監視する監視装置で測定した実機の運転条件履歴、評価部位近傍のセンサの測定値履歴を格納する運転状態データベースと、
前記非破壊測定装置で測定した物理量と前記評価線図データとに基づいて部材のクリープ損傷を１次評価し、前記センサの測定値から評価部位近傍の負荷履歴を推定し、前記負荷履歴を用いて前記ＦＥＭ解析により前記１次評価した損傷となるクリープ特性を推定し、前記クリープ特性から前記評価線図データを推定し、
前記推定された評価線図データから、前記非破壊測定装置で測定した物理量を用いて損傷を２次評価し、前記２次評価した損傷が、前記１次評価した損傷に対し所定の基準値を満たすか否かを判定し、前記２次評価した損傷が前記所定の基準値を満たさない場合、前記負荷履歴を用いて前記ＦＥＭ解析により前記前記２次評価した損傷となるクリープ特性を再度推定して、前記評価部位の部材について損傷の評価を繰り返す損傷評価装置と、を有する
ことを特徴とする損傷評価システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
本実施形態の損傷評価システム１００は、評価部位の部材の予め求めた損傷量と非破壊測定装置１１で測定される部材の物理量との関係である評価線図データ１３１およびＦＥＭ解析に用いる材料特性データ１３２を格納する材料評価データベース１３と、実機の状態を監視する監視装置（例えば、実機状態監視装置１４）で測定した実機の運転条件履歴、評価部位近傍のセンサによる測定値の履歴を格納する運転状態データベース１５と、非破壊測定装置１１で測定した物理量と評価線図データ１３１とに基づいて部材のクリープ損傷を１次評価し（例えば、ステップＳ２）、センサの測定値から評価部位近傍の負荷履歴を推定し（例えば、ステップＳ３）、負荷履歴を用いてＦＥＭ解析により１次評価した損傷となるクリープ特性を推定し（例えば、ステップＳ４）、クリープ特性から評価線図データを推定し（例えば、ステップＳ５）、推定された評価線図データ１３１から、非破壊測定装置１１で測定した物理量を用いて損傷を２次評価し（例えば、ステップＳ６）、２次評価した損傷が、１次評価した損傷に対し所定の基準値を満たすか否かを判定し（例えば、ステップＳ７）、２次評価した損傷が所定の基準値を満たさない場合、負荷履歴を用いてＦＥＭ解析により２次評価した損傷となるクリープ特性を再度推定して（例えば、ステップＳ４）、評価部位の部材について損傷の評価を繰り返す（例えば、ステップＳ５〜ステップＳ７）損傷評価装置１２と、を有する。なお、材料評価データベース１３、運転状態データベース１５は、損傷評価装置１２が有していてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月20日(2018.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
請求項１４に記載の原子炉圧力容器ヘッドの搬出方法において、
前記収納容器の前記原子炉圧力容器ヘッドが位置する側面の一部に開口部を設けると共に、該開口部を塞ぐスライド扉を備え、かつ、前記袋水遮蔽体が複数の独立した袋水遮蔽体から成り、
前記第２の袋水遮蔽体に前記液体を注入した後に、前記スライド扉が開放された前記開口部から前記複数の袋水遮蔽体が、前記収納容器に挿入されて液体が注入され前記原子炉圧力容器ヘッドの側面を押し付けて放射線を遮蔽した状態で前記原子炉圧力容器ヘッドを搬出することを特徴とする原子炉圧力容器ヘッドの搬出方法。