【手続補正書】
【提出日】平成30年4月17日(2018.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の式Ａ：
【化１】
2017125017.tif 000001
（式中、Ｒ１は、直鎖または分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル基、直鎖または分枝のＣ３〜Ｃ１０アルケニル基、直鎖または分枝のＣ３〜Ｃ１０アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ１０環状アルキル基、およびＣ５〜Ｃ１０アリール基から選択され、
Ｒ２は、直鎖または分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル基、直鎖または分枝のＣ３〜Ｃ１０アルケニル基、直鎖または分枝のＣ３〜Ｃ１０アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ１０環状アルキル基、およびＣ５〜Ｃ１０アリール基から選択され、
ただし、式Ａ中の各々のＲ１Ｒ２Ｎ基においてＲ１とＲ２はお互いに結合してＲ１とＲ２とＮからなる環状官能基であって、３〜１０個の炭素原子と、少なくとも１個の窒素原子または少なくとも１個の窒素原子及び少なくとも１個の酸素原子の両方と、を有する環状官能基を形成してもよく、前記環状官能基において一部の原子は環状官能基の置換基として存在してもよく、
Ｒ３は、直鎖または分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキレン基、直鎖または分枝のＣ３〜Ｃ６アルケニレン基、直鎖または分枝のＣ３〜Ｃ６アルキニレン基、Ｃ３〜Ｃ１０環状アルキレン基、Ｃ３〜Ｃ１０ヘテロ環状アルキレン基、Ｃ５〜Ｃ１０アリーレン基、およびＣ５〜Ｃ１０ヘテロアリーレン基から選択され、
ｎは１に等しく、ｍは０または１に等しく、そして、
Ｒ１及びＲ２の前記環状アルキル基は、３〜１０個の炭素原子からなる非ヘテロ環状アルキル基であるか、もしくは、３〜１０個の炭素原子と、少なくとも１個の酸素原子または窒素原子またはその両方と、を有するヘテロ環状アルキル基であり、前記環状アルキル基において一部の原子はその環状アルキル基において置換基として存在してもよい、
Ｒ１及びＲ２の前記アリール基は、５〜１０個の炭素原子からなる非ヘテロアリール基であるか、もしくは、５〜１０個の炭素原子と、少なくとも１個の酸素原子または窒素原子またはその両方と、を有するヘテロアリール基であり、前記アリール基において一部の原子はそのアリール基において置換基として存在してもよく、
Ｒ３の前記環状アルキレン基、前記ヘテロ環状アルキレン基、前記アリーレン基及び前記ヘテロアリーレン基のそれぞれを構成する原子の一部はそれらの環状アルキレン基、ヘテロ環状アルキレン基、アリーレン基及びヘテロアリーレン基において置換基として存在してもよい。）
によって表される、有機アミノシラン。
【請求項２】
Ｒ１が、直鎖または分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル基から選択され、Ｒ２が、直鎖または分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル基から選択され、Ｒ３が、直鎖または分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキレン基から選択され、ｎ＝１、およびｍ＝０である、請求項１に記載の有機アミノシラン。
【請求項３】
Ｒ１およびＲ２が、同じであり、そしてメチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、およびｓｅｃ−ブチルからなる群から選択され、そしてＲ３が、メチレンおよびエチレンからなる群から選択され、ｎ＝１、およびｍ＝０である、請求項１に記載の有機アミノシラン。
【請求項４】
式Ａを有する化合物を含み、該化合物は、１−ジメチルアミノ−１，３−ジシラプロパン、１−ジイソプロピルアミノ−１，３−ジシラプロパン、１−ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ−１，３−ジシラプロパン、１−ジイソブチルアミノ−１，３−ジシラプロパン、１−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルアミノ−１，３−ジシラプロパン、１−ジエチルアミノ−１，３−ジシラプロパン、１−ジメチルアミノ−１，４−ジシラブタン、１−ジエチルアミノ−１，４−ジシラブタン、１−ジイソプロピルアミノ−１，４−ジシラブタン、１，３−ビス（ジメチルアミノ）−１，３−ジシラプロパン、１，３−ビス（ジイソプロピルアミノ
）−１，３−ジシラプロパン、１，３−ビス（ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ）−１，３−ジシラプロパン、１，３−ビス（ジイソブチルアミノ−１，３−ジシラプロパン、１，３−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルアミノ）−１，３−ジシラプロパン、１，３−ビス（ジエチルアミノ）−１，３−ジシラプロパン、１，４−ビス（ジメチルアミノ）−１，４−ジシラブタン、１，４−ビス（ジエチルアミノ）−１，４−ジシラブタン、１，４−ビス（ジイソプロピルアミノ）−１，４−ジシラブタン、１，４−ビス（ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ）−１，４−ジシラブタン、１，４−ビス（ジイソブチルアミノ）−１，４−ジシラブタン、１，４−ビス（イソプロピル−ｎ−プロピルアミノ）−１，４−ジシラブタン、１，３−ビス（エチルメチルアミノ）−１，３−ジシラプロパン、１，４−ビス（エチルメチルアミノ）−１，４−ジシラブタン、１−エチルメチルアミノ−１，４−ジシラブタン、１−ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ−１，４−ジシラブタン、１−フェニルメチルアミノ−１，４−ジシラブタン、２，６−ジメチルピペリジノ−１，４−ジシラブタン、１−フェニルエチルアミノ−１，４−ジシラブタン、１−エチルメチルアミノ−１、３−ジシラプロパン、１−フェニルメチルアミノ−１，３−ジシラプロパン、２，６−ジメチルピペリジノ−１，３−ジシラプロパン、およびフェニルエチルアミノ−１，３−ジシラプロパンからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１に記載の有機アミノシラン。
【請求項５】
（ａ）請求項１〜４のいずれか一項で規定された少なくとも１種の有機アミノシランと、
（ｂ）溶媒であって、該溶媒が沸点を有し、そして該溶媒の沸点と該少なくとも１種の有機アミノシランの沸点との違いが４０℃以下であり、該溶媒がエーテル、第三級アミン、アルキル炭化水素、芳香族炭化水素、および第３級アミノエーテルからなる群から選択される少なくとも１種を任意選択的に含む、溶媒と、
を含む組成物。
【請求項６】
堆積プロセスによって基材の少なくとも１つの表面上にケイ素含有膜を形成する方法であって、該方法が：
反応チャンバー中に該基材の該少なくとも１つの表面を提供する工程と、
請求項１〜４のいずれか一項で規定された少なくとも１種の有機アミノシラン前駆体を導入する工程と、
を含む、方法。
【請求項７】
該堆積プロセスが、化学気相堆積、低圧蒸着、プラズマ増強化学気相堆積、サイクリック化学気相堆積、プラズマ増強サイクリック化学気相堆積、原子層堆積、およびプラズマ増強原子層堆積からなる群から選択される少なくとも１種である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
該反応チャンバー中に窒素含有源を導入する工程であって、該少なくとも１種の有機アミノシラン前駆体および該窒素含有源が反応して該少なくとも１つの表面上に膜を形成する、工程を含み、該膜が窒化ケイ素および炭窒化ケイ素からなる群から任意選択的に選択される、請求項６または請求項７に記載の方法。
【請求項９】
該窒素含有源が、アンモニア、ヒドラジン、モノアルキルヒドラジン、ジアルキルヒドラジン、窒素、窒素／水素、アンモニアプラズマ、窒素プラズマ、窒素／アルゴンプラズマ、窒素／ヘリウムプラズマ、窒素／水素プラズマ、有機アミン、有機アミンプラズマ、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
基材上に酸化ケイ素または炭素ドープされた酸化ケイ素膜を形成するための請求項６または請求項７に記載の方法であって、酸素含有源と、少なくとも１種の有機アミノシラン前駆体と、を堆積プロセスにおいて反応させて、該基材上に該膜を形成させる、方法。
【請求項１１】
以下のステップを含むケイ素含有膜を形成させる請求項６または請求項７に記載の方法であって、該方法が：
ａ．反応器中に基材を置く工程と、
ｂ．少なくとも１種の有機アミノシラン前駆体を導入する工程と、
ｃ．任意選択的にバージガスを使用して未反応の少なくとも１種の有機アミノシラン前駆体を追い出す工程と、
ｄ．該反応器中に還元剤を提供して、吸収された有機アミノシランと少なくとも部分的に反応させる工程と、
ｅ．任意選択的になんらかの未反応の還元剤を追い出す工程と、
を含み、
所望の厚さが得られるまで該ステップｂ〜ステップｅが繰り返される、方法。
【請求項１２】
該還元剤が、水素、水素プラズマ、または塩化水素からなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
ケイ素含有膜の堆積のための前駆体を送達するために使用される容器であって、該容器が：請求項１〜４のいずれか一項で規定された少なくとも１種の有機アミノシラン前駆体を含み、
該前駆体の純度が９８％以上である、容器。
【請求項１４】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機アミノシランを調製する方法であって、
該方法が、
式：Ｒ１Ｒ２ＮＨを有するアミンと、
式：
【化２】
2017125017.tif 000002
の化合物を含むケイ素源とを、
該ケイ素源の少なくとも一部分と該アミンの少なくとも一部分とが反応して該有機アミノシランを提供するのに充分な反応条件において触媒の存在下で反応させる、
（上記２つの式中、Ｒ１は、直鎖または分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル基、直鎖または分枝のＣ３〜Ｃ１０アルケニル基、直鎖または分枝のＣ３〜Ｃ１０アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ１０環状アルキル基、およびＣ５〜Ｃ１０アリール基から選択され、
Ｒ２は、直鎖または分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル基、直鎖または分枝のＣ３〜Ｃ１０アルケニル基、直鎖または分枝のＣ３〜Ｃ１０アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ１０環状アルキル基、およびＣ５〜Ｃ１０アリール基から選択され、
ただし、式：Ｒ１Ｒ２ＮＨにおいてＲ１とＲ２はお互いに結合してＲ１とＲ２とＮからなる環状官能基であって、３〜１０個の炭素原子と、少なくとも１個の窒素原子または少なくとも１個の窒素原子及び少なくとも１個の酸素原子の両方と、を有する環状官能基を形成してもよく、前記環状官能基において一部の原子は環状官能基の置換基として存在してもよく、
Ｒ３は、直鎖または分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキレン基、直鎖または分枝のＣ３〜Ｃ６アルケニレン基、直鎖または分枝のＣ３〜Ｃ６アルキニレン基、Ｃ３〜Ｃ１０環状アルキレン基、Ｃ３〜Ｃ１０ヘテロ環状アルキレン基、Ｃ５〜Ｃ１０アリーレン基、およびＣ５〜Ｃ１０ヘテロアリーレン基から選択され、そして
Ｒ１及びＲ２の前記環状アルキル基は、それぞれ独立して、３〜１０個の炭素原子からなる非ヘテロ環状アルキル基であるか、もしくは、３〜１０個の炭素原子と、少なくとも１個の酸素原子または窒素原子またはその両方と、を有するヘテロ環状アルキル基であり、前記環状アルキル基において一部の原子はその環状アルキル基において置換基として存在してもよい、
Ｒ１及びＲ２の前記アリール基は、それぞれ独立して、５〜１０個の炭素原子からなる非ヘテロアリール基であるか、もしくは、５〜１０個の炭素原子と、少なくとも１個の酸素原子または窒素原子またはその両方と、を有するヘテロアリール基であり、前記アリール基において一部の原子はそのアリール基において置換基として存在してもよく、
Ｒ３の前記環状アルキレン基、前記ヘテロ環状アルキレン基、前記アリーレン基及び前記ヘテロアリーレン基のそれぞれを構成する原子の一部はそれらの環状アルキレン基、ヘテロ環状アルキレン基、アリーレン基及びヘテロアリーレン基において置換基として存在してもよい。）
ステップを含む、方法。