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【手続補正書】
【提出日】平成30年2月22日(2018.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】酸化物半導体膜
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インジウムと、元素Ｍと、亜鉛と、を有する酸化物半導体膜であって、
前記元素Ｍは、アルミニウム、ガリウム、イットリウム、または、スズの元素のうちの、少なくとも一つであり、
前記酸化物半導体膜が有する、インジウム、元素Ｍ及び亜鉛の原子数の比は、インジウム：元素Ｍ：亜鉛＝ｘ：ｙ：ｚを満たし、
前記ｘ、前記ｙ及び前記ｚは前記インジウム、前記元素Ｍ及び前記亜鉛の３つの元素を頂点とした平衡状態図において、第１の座標（ｘ：ｙ：ｚ＝８：１４：７）と、第２の座標（ｘ：ｙ：ｚ＝２：４：３）と、第３の座標（ｘ：ｙ：ｚ＝２：５：７）と、第４の座標（ｘ：ｙ：ｚ＝５１：１４９：３００）と、第５の座標（ｘ：ｙ：ｚ＝４６：２８８：８３３）と、第６の座標（ｘ：ｙ：ｚ＝０：２：１１）と、第７の座標（ｘ：ｙ：ｚ＝０：０：１）と、第８の座標（ｘ：ｙ：ｚ＝１：０：０）と、前記第１の座標と、を順番に線分で結んだ範囲内の原子数の比を有し、前記範囲は、前記第１の座標乃至前記第６の座標を含み、前記第７の座標及び前記第８の座標を含まず、
プローブ径の半値幅が１ｎｍである電子線を前記酸化物半導体膜に対して照射し、前記酸化物半導体膜に対する前記電子線の照射位置を移動させながら電子回折パターンを観測した場合に、
互いに異なる前記電子線の照射位置において観測される複数の電子回折パターンのうち、第１の電子回折パターンを有する割合と第２の電子回折パターンを有する割合の和が１００％であり、前記第１の電子回折パターンを有する割合は５０％以上であり、
前記第１の電子回折パターンは、対称性を有さない観測点または円を描くように配置された複数の観測点を有し、
前記第２の電子回折パターンは、六角形の頂点に位置する観測点を有する、ことを特徴とする酸化物半導体膜。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月3日(2018.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に第１の半導体を形成し、
前記第１の半導体上に接する第２の半導体を形成し、
前記第２の半導体上に第１の層を形成し、
前記第１の層を形成後、酸素プラズマ処理を行い、
前記酸素プラズマ処理後、前記第１の層を除去して前記第２の半導体の表面の少なくとも一部を露出させ、
前記第２の半導体上に接する第３の半導体を形成し、
前記第３の半導体上に接する第１の絶縁体を形成し、
前記第１の絶縁体上に第１の導電体を形成する半導体装置の作製方法。
【請求項２】
基板上に第１の半導体を形成し、
前記第１の半導体上に接する第２の半導体を形成し、
前記第２の半導体の上面に接する一対の導電体を形成し、
前記一対の導電体の上面及び前記第２の半導体の上面に接する第１の層を形成し、
前記第１の層を形成後、酸素プラズマ処理を行い、
前記酸素プラズマ処理後、前記第１の層を除去して前記第２の半導体の表面の少なくとも一部を露出させ、
前記一対の導電体の上面及び前記第２の半導体の上面に接する第３の半導体を形成し、
前記第３の半導体上に接する第１の絶縁体を形成し、
前記第１の絶縁体上に第１の導電体を形成する半導体装置の作製方法。
【請求項３】
基板上に第１の半導体を形成し、
前記第１の半導体上に接する第２の半導体を形成し、
前記第２の半導体の上面の少なくとも一部に接する第１の層を形成し、
前記第１の層を形成後、酸素プラズマ処理を行い、
前記酸素プラズマ処理後、前記第１の層を除去して前記第２の半導体の表面の少なくとも一部を露出させ、
前記第２の半導体の上面の少なくとも一部に接する一対の導電体を形成し、
前記一対の導電体の上面及び前記第２の半導体の上面に接する第３の半導体を形成し、
前記第３の半導体上に接する第１の絶縁体を形成し、
前記第１の絶縁体上に第１の導電体を形成する半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３において、
前記第１の層は、前記第１の半導体または前記第３の半導体よりも高い水素透過性を有する半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月12日(2018.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に半導体を形成し、
前記半導体上に、第１の導電体を成膜し、
前記第１の導電体上に第１の絶縁体を成膜し、
前記第１の絶縁体上にレジストを成膜し、
前記レジストを露光および現像することで、前記レジストの第２の領域および第３の領域を残存させて前記第１の絶縁体の一部を露出し、
前記基板の上面に垂直な方向のバイアスを印加し、かつ炭素およびハロゲンを有するガスによってプラズマを生成し、前記プラズマによって、前記第２の領域の側面、前記第３の領域の側面及び前記第１の絶縁体の露出部への有機物の堆積と、前記有機物のエッチングとが同時に行なわれ、
前記有機物、前記第２の領域および前記第３の領域をマスクとして前記第１の絶縁体をエッチングすることで、第２の絶縁体および第３の絶縁体を形成し、かつ前記第１の導電体を露出させ、
前記第２の絶縁体および前記第３の絶縁体をマスクとして前記第１の導電体をエッチングすることで、第２の導電体および第３の導電体を形成し、かつ前記半導体を露出させ、
前記有機物、前記第２の領域および前記第３の領域を除去し、
前記半導体の露出部上に第４の絶縁体を成膜し、
前記第４の絶縁体上に第４の導電体を形成し、
前記有機物は、前記第１の絶縁体の前記露出部においてはエッチング速度が堆積速度を上回り、前記第２の領域及び前記第３の領域の側面においては堆積速度がエッチング速度を上回ることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第２の導電体と前記第３の導電体との間の距離が、前記第２の領域と前記第３の領域との間の距離の８０％以下であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月6日(2018.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、第２の基板と、第１の層と、を有する表示装置の作製方法であって、
前記第１の基板は、第１の面と、第２の面と、を有し、
前記第２の基板は、第３の面と、第４の面と、を有し、
前記第１の面側または記第３の面側の少なくとも一方の面側に素子を形成する第１の工程と、
前記第１の面と前記第３の面を向かい合わせて、前記第１の基板と前記第２の基板を互いに重ねる第２の工程と、
構造体の凹部に第１の充填材を入れた後、前記第１の充填材を硬化させて第２の層を形成する第３の工程と、
前記第２の面または前記第４の面の一方を前記第２の層と向かい合わせ、前記第１の基板と前記第２の基板を前記第２の層上に配置する第４の工程と、
前記第２の層、前記第１の基板、および前記第２の基板を前記構造体から分離する第５の工程と、
前記構造体の前記凹部に第２の充填材を入れる第６の工程と、
前記第２の面または前記第４の面の他方を前記第２の充填材と向かい合わせ、前記第１の基板、前記第２の基板、および前記第２の層を前記第２の充填材上に配置する第７の工程と、
前記第２の充填材を硬化させて、前記第２の充填材と前記第２の層が一体化した前記第１の層を形成する第８の工程と、
を有する表示装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の層のヤング率は、前記第１の基板および前記第２の基板のヤング率よりも小さいことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第１の基板および前記第２の基板のヤング率は、１ＧＰａ以上１００ＧＰａ以下であることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記第１の層のヤング率は、前記第１の基板および前記第２の基板のヤング率の５０分の１以下であることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記第１の層は、シリコーンゴムであることを特徴とする表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月11日(2018.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】二次電池
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集電体と、
前記集電体と接する活物質層と、
前記活物質層に接する電解液と、
を有し、
前記活物質層は、膜厚の厚い領域と、膜厚の薄い領域とを有し、
前記膜厚の薄い領域は、前記集電体上に線状に配置されていることを特徴とする二次電池。
【請求項２】
集電体と、
前記集電体と接する複数の活物質層と、
前記集電体及び前記複数の活物質層に接する電解液と、
を有し、
前記複数の活物質層はそれぞれ、膜厚の厚い領域と、膜厚の薄い領域とを有することを特徴とする二次電池。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、前記活物質層は、正極活物質、或いは負極活物質を含むことを特徴とする二次電池。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、前記活物質層は、リチウムを含むことを特徴とする二次電池。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、前記集電体を複数重ねて有し、フィルムを用いた外装体で包囲することを特徴とする二次電池。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、前記集電体は、金、白金、鉄、ニッケル、銅、アルミニウム、チタン、タンタル、またはマンガンのいずれか一を含む金属箔であることを特徴とする二次電池。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、前記二次電池の端部に可動域を有することを特徴とする二次電池。
【請求項８】
集電体と、
前記集電体と接する複数の活物質層と、
前記集電体及び前記複数の活物質層に接する電解液と、
を有し、
前記集電体の上面形状は、蛇行部を有し、
前記蛇行部において幅が細い部分を有し、
前記複数の活物質層のうち隣り合う第１の活物質層と第２の活物質層との間の領域は、前記幅が細い部分と重なることを特徴とする二次電池。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月29日(2018.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の正極集電体と、第１の負極集電体と、第２の正極集電体と、第２の負極集電体と、を有し、
前記第１の正極集電体は、一方の面に正極活物質層を有し、他方の面に正極活物質層を有さず、
前記第１の負極集電体は、一方の面に負極活物質層を有し、他方の面に負極活物質層を有さず、
前記第２の正極集電体は、一方の面に正極活物質層を有し、他方の面に正極活物質層を有さず、
前記第２の負極集電体は、一方の面に負極活物質層を有し、他方の面に負極活物質層を有さず、
前記第１の負極集電体の前記他方の面と、前記第２の負極集電体の前記他方の面と、が接し、
前記第１の正極集電体の一方の面と前記第１の負極集電体の一方の面との間、および前記第２の正極集電体の一方の面と前記第２の負極集電体の一方の面との間にゲル電解質及びセパレータを有し、
前記ゲル電解質は、ポリマー、電解質および溶媒を有し、
前記第１の正極集電体、前記第１の負極集電体、前記第２の正極集電体、前記第２の負極集電体、前記ゲル電解質および前記セパレータは、外装体に覆われ、
前記第１の正極集電体、前記第１の負極集電体、前記第２の正極集電体、前記第２の負極集電体、前記セパレータおよび前記外装体は、可撓性を有する二次電池。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の負極集電体の他方の面と、前記第２の負極集電体の他方の面と、の静摩擦係数が０．８０以下である二次電池。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記ポリマーは、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）である二次電池。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月10日(2018.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】剥離方法及び発光装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板上に剥離層を形成する第１の工程と、
前記剥離層上に被剥離層を形成する第２の工程と、
前記被剥離層と第２の基板とを、接着層を用いて貼り合わせ、前記接着層を硬化する第３の工程と、
前記剥離層及び前記接着層と重なる前記被剥離層の一部を除去する第４の工程と、
前記第１の基板と前記被剥離層とを分離する第５の工程と、を有し、
前記第５の工程で前記第１の基板と前記被剥離層とを分離する力は、前記第１の基板と前記被剥離層とを分離するために要する力以上であり、
前記第１の基板と前記被剥離層とを分離するために要する力は、前記被剥離層と前記第３の工程で硬化した前記接着層との間で界面破壊を生じさせるために要する力よりも小さいことを特徴とする剥離方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記被剥離層と前記第３の工程で硬化した前記接着層との間で界面破壊を生じさせるために要する力は、０．１４Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする剥離方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記第３の工程で硬化した前記接着層の凝集破壊を生じさせるために要する力は、０．１４Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする剥離方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記第５の工程で前記第１の基板と前記被剥離層とを分離する力は、０．１０Ｎ／２５ｍｍ以下であることを特徴とする剥離方法。
【請求項５】
第１の可撓性基板、第２の可撓性基板、第１の接着層、第２の接着層、第１の絶縁層、及び第１の機能層を有し、
前記第１の接着層は、前記第１の可撓性基板と前記第１の絶縁層の間に位置し、
前記第２の接着層は、前記第２の可撓性基板と前記第１の機能層の間に位置し、
前記第１の接着層と前記第２の接着層は、前記第１の絶縁層及び前記第１の機能層を介して互いに重なる部分を有し、
前記第１の機能層は、発光素子を有し、
前記第２の接着層と前記第１の機能層との間、又は、前記第２の接着層と前記第２の可撓性基板との間で界面破壊を生じさせるために要する力は、０．１４Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記第２の接着層の凝集破壊を生じさせるために要する力は、０．１４Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
第１の可撓性基板、第２の可撓性基板、第１の接着層、第２の接着層、第３の接着層、第１の絶縁層、第２の絶縁層、第１の機能層、及び第２の機能層を有し、
前記第１の接着層は、前記第１の可撓性基板と前記第１の絶縁層の間に位置し、
前記第２の接着層は、前記第２の可撓性基板と前記第２の絶縁層の間に位置し、
前記第３の接着層は、前記第１の機能層と前記第２の機能層の間に位置し、
前記第１の接着層と前記第３の接着層は、前記第１の絶縁層及び前記第１の機能層を介して互いに重なる部分を有し、
前記第２の接着層と前記第３の接着層は、前記第２の絶縁層及び前記第２の機能層を介して互いに重なる部分を有し、
前記第１の機能層は、発光素子を有し、
前記第２の機能層は、着色層を有し、
前記第３の接着層と前記第１の機能層の間、又は、前記第３の接着層と第２の機能層の間で界面破壊を生じさせるために要する力は、０．１４Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項７において、
前記第３の接着層の凝集破壊を生じさせるために要する力は、０．１４Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月27日(2018.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受信回路と、駆動回路と、表示部と、を有する表示装置であって、
前記受信回路は、画像信号を受信することができる機能を有し、
前記駆動回路は、前記表示部に前記画像信号を供給することができる機能を有し、
前記表示部は、静止画表示期間において、フレーム周波数を１Ｈｚ以下として画像を表示することができる機能を有し、
前記受信回路は、前記静止画表示期間において、一部の動作を停止することができる機能を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記受信回路はオペアンプを有し、
前記受信回路は、前記静止画表示期間において、前記オペアンプへのバイアス電流の供給を停止することができる機能を有することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記駆動回路は、前記静止画表示期間において、動作を停止することができる機能を有することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記静止画表示期間中に、前記駆動回路へのクロック信号の供給が停止することを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記表示部は、トランジスタと、表示素子と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記トランジスタは、酸化物半導体を有することを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６に記載のいずれか一の表示装置と、タッチセンサ、操作スイッチ、マイク、または、スピーカの少なくとも一つと、を有することを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月2日(2018.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
撮像手段と、
所定の物体に取り付けられたセンサにより得られた当該物体の動きを示すデータを受信する受信手段と、
前記受信手段により受信されたデータに基づいて、前記撮像手段により撮像される画像の記録フレームレートを制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像手段と、
所定の物体に取り付けられたセンサにより得られた当該物体の動きを示すデータを受信する受信手段と、
前記受信手段により受信されたデータに基づいて、前記撮像手段により撮像される画像の記録フレームレートを制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記受信手段によって受信された前記物体の動きを示すデータに基づいて、前記物体の動きの状態を取得する取得手段を更に備え、
前記制御手段は、前記取得手段により取得された前記物体の動きの状態に基づいて、前記記録フレームレートを制御する、
ことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記物体の動きを示すデータから当該物体の行動を推定する推定手段を更に備え、
前記取得手段は、前記推定手段によって推定された前記物体の行動に基づいて、前記物体の動きの状態を取得する、
ことを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記推定手段は、前記撮像手段による撮像処理のタイミングに基づいて、前記物体の動きを示すデータから前記物体の行動を推定する、
ことを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記推定手段は、前記物体の動きを示すデータから当該物体の行動に関連する予備動作を推定し、
前記制御手段は、前記推定手段によって推定された前記予備動作から予測される次の撮影目的となる動作に基づいて、前記記録フレームレートを制御する、
ことを特徴とする請求項３又は４に記載の撮像装置。
【請求項６】
記憶手段への連続した複数画像の記憶処理を制御する記憶制御手段を更に備え、
前記記憶制御手段は、連続した複数画像の撮影の場合には、前記物体の動きに対応した連続した複数画像の記録フレームレートとなるように、撮影した動画から動画を構成するフレーム画像を間引いて、最終的な連続した複数画像の記憶フレームレートを変更して前記記憶手段への連続した複数画像の記憶処理を制御する、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記物体の動きに対応した最終的な動画の記録フレームレートになるように前記撮像手段から出力されるフレーム画像の取得間隔を変更する、
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記物体の動きに応じて前記撮像手段のシャッタスピードを制御する、
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記物体の動きに応じて撮像フレームレートを変更することで、前記記録フレームレートを制御する、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記センサは、加速度センサ又はジャイロセンサである、
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記受信手段は、前記センサにより当該物体の動きを示すデータを受信するアンテナ部材を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１２】
所定の物体に取り付けられるセンサと、
前記センサにより前記物体の動きを示すデータを取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された前記物体の動きを示すデータに基づいて、記録フレームレートの情報を外部に送信する送信手段と、
を備えたことを特徴とする情報送信装置。
【請求項１３】
前記取得手段により取得された前記物体の動きに関するデータから、当該物体の動きの状態を特定する特定手段を更に備え、
前記送信手段は、前記特定手段により特定された前記物体の動きの状態に対応する前記記録フレームレートの情報を送信する、
ことを特徴とする請求項１２に記載の情報送信装置。
【請求項１４】
前記取得手段によって取得された前記物体の動きを示すデータから当該物体の行動を推定する推定手段を更に備え、
前記取得手段は、前記推定手段によって推定された前記物体の行動に基づいて、前記物体の動きの情報を取得する、
ことを特徴とする請求項１３に記載の情報送信装置。
【請求項１５】
前記取得手段は、撮像処理の前の時点、同時時点、及び後の時点の少なくとも何れかのタイミングで前記物体の動きを示すデータを取得する、
ことを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれか１項に記載の情報送信装置。
【請求項１６】
撮像手段を備える撮像装置で実行される撮像制御方法であって、
所定の物体に取り付けられたセンサにより得られた当該物体の動きを示すデータを受信する受信ステップと、
前記受信ステップにより受信されたデータに基づいて、前記撮像手段により撮像される画像の記録フレームレートを制御する制御ステップと、
を含むことを特徴とする撮像制御方法。
【請求項１７】
撮像手段を備える撮像装置で実行される撮像制御方法であって、
所定の物体に取り付けられたセンサにより得られた当該物体の動きを示すデータを受信する受信ステップと、
前記受信ステップにより受信されたデータに基づいて、前記撮像手段のシャッタスピードを制御する制御ステップと、
を備えることを特徴とする撮像制御方法。
【請求項１８】
記録フレームレートの情報を送信する情報送信方法であって、
所定の物体に取り付けられたセンサにより当該物体の動きを示すデータを取得する取得ステップと、
前記取得ステップにより取得された前記物体の動きに関するデータに基づいて、記録フレームレートの情報を外部に送信する送信ステップと、
を含むことを特徴とする情報送信方法。
【請求項１９】
コンピュータを、
所定の物体に取り付けられたセンサにより得られた当該物体の動きを示すデータを受信する受信手段、
前記受信手段により受信されたデータに基づいて、撮像手段により撮像される画像の記録フレームレートを制御する制御手段、
として機能させることを特徴とするプログラム。
【請求項２０】
コンピュータを、
所定の物体に取り付けられたセンサにより当該物体の動きを示すデータを取得する取得手段、
前記取得手段により取得された前記物体の動きに関するデータに基づいて、記録フレームレートの情報を外部に送信する送信手段、
として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月28日(2018.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
請求項９に記載の二板式白黒撮像装置の画像処理方法において、
前記第一固体撮像素子から前記第一の受光信号を取得すると同時並列に、前記第二固体撮像素子から前記第二の受光信号を取得する読み出し工程と、
前記読み出した各信号を、前記第一の受光信号と、前記第二の受光信号と、で互いに斜めに１／２画素分ずらしてハニカム状画素配列の一枚の画像データとして合成する工程と、
前記合成した画像データについて、ハニカム状画素配列の画素補間処理を遂行する工程と、を有する
ことを特徴とする二板式白黒撮像装置の画像処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
請求項１０に記載の二板式白黒撮像装置の画像処理方法において、
前記第一固体撮像素子から前記第一の受光信号を取得すると同時並列に、前記第二固体撮像素子から前記第二の受光信号を取得する読み出し工程と、
前記読み出した各信号を、前記第一の受光信号と、前記第二の受光信号と、で互いに縦または横に１／２画素分ずらして正方画素配列の一枚の画像データとして合成する工程と、
前記合成した画像データについて、正方画素配列の画素補間処理を遂行する工程と、を有する
ことを特徴とする二板式白黒撮像装置の画像処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月15日(2018.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚の硬質板を互いに貼合する粘着剤層を形成するための、活性エネルギー線の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性粘着剤であって、
前記活性エネルギー線硬化性粘着剤を厚み６００μｍの粘着剤層としたときに、
前記粘着剤層の表面を、５ｍｍ×５ｍｍの面積において６ｍｍ／分の速さで深さ５００μｍまで押し込んだ１０秒後における押し込み応力が、
前記粘着剤層に対し活性エネルギー線を照射する前において、４．０〜７．０Ｎであり、
前記粘着剤層に対し活性エネルギー線を照射した後において、７．０〜１５．０Ｎであり、
前記粘着剤層に活性エネルギー線を照射する前の前記押し込み応力に対する、前記粘着剤層に活性エネルギー線を照射した後の前記押し込み応力の比が、１．３０〜２．５０である
ことを特徴とする活性エネルギー線硬化性粘着剤。
【請求項２】
前記活性エネルギー線硬化性粘着剤の２３℃における貯蔵弾性率が、
前記活性エネルギー線硬化性粘着剤に対し活性エネルギー線を照射する前において、０．０１〜０．２ＭＰａであり、
前記活性エネルギー線硬化性粘着剤に対し活性エネルギー線を照射した後において、０．０２〜０．５ＭＰａである
ことを特徴とする請求項１に記載の活性エネルギー線硬化性粘着剤。
【請求項３】
前記粘着剤層に活性エネルギー線を照射する前の２３℃における貯蔵弾性率に対する、前記粘着剤層に活性エネルギー線を照射した後の２３℃における貯蔵弾性率の比が、１．１〜２．５であることを特徴とする請求項２に記載の活性エネルギー線硬化性粘着剤。
【請求項４】
前記活性エネルギー線硬化性粘着剤の８５℃における貯蔵弾性率が、
前記活性エネルギー線硬化性粘着剤に対し活性エネルギー線を照射する前において、０．０１〜０．１ＭＰａであり、
前記活性エネルギー線硬化性粘着剤に対し活性エネルギー線を照射した後において、０．０２〜０．２ＭＰａである
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性粘着剤。
【請求項５】
前記粘着剤層に活性エネルギー線を照射する前の８５℃における貯蔵弾性率に対する、前記粘着剤層に活性エネルギー線を照射した後の８５℃における貯蔵弾性率の比が、１．１〜３．５であることを特徴とする請求項４に記載の活性エネルギー線硬化性粘着剤。
【請求項６】
２枚の剥離シートと、
前記２枚の剥離シートの剥離面と接するように前記剥離シートに挟持された粘着剤層と
を備えた、２枚の硬質板を互いに貼合するための粘着シートであって、
前記粘着剤層は、請求項１〜５のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性粘着剤からなる
ことを特徴とする粘着シート。
【請求項７】
２枚の硬質板と、
前記２枚の硬質板を互いに貼合する粘着剤層と
を備えた積層体であって、
前記粘着剤層は、請求項１〜５のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性粘着剤を、活性エネルギー線の照射により硬化させたものである
ことを特徴とする積層体。
【請求項８】
前記硬質板の少なくとも１つは、前記粘着剤層側の面に段差を有することを特徴とする請求項７に記載の積層体。
【請求項９】
前記段差は、印刷層による段差であることを特徴とする請求項８に記載の積層体。
【請求項１０】
前記硬質板の少なくとも１つが、偏光板を含むことを特徴とする請求項７〜９のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項１１】
前記２枚の硬質板の一方が、表示体モジュールまたはその一部であり、
前記２枚の硬質板の他方が、前記粘着剤層側の面に額縁状の段差を有する保護板である
ことを特徴とする請求項７〜９のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項１２】
前記粘着剤層の全光線透過率が８０％以上であることを特徴とする請求項７〜１１のいずれか一項に記載の積層体。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月19日(2018.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トナー樹脂エマルションを製造するためのプロセスであって、
第１の触媒存在下、有機ジオールと環状アルキレンカーボネートとを反応させることによって、ポリアルコキシジオールを作成することと；
エステル化反応において、第２の触媒存在下、前記ポリアルコキシジオールと１つ以上の二酸試薬とを反応させることと；
エステル化反応から製造された得られた混合物の酸価を監視することと；
その後、得られた混合物を不飽和二酸で重縮合し、不飽和ポリエステル樹脂を作成することと；
有機溶媒に前記不飽和ポリエステル樹脂を溶解して溶液を作成することと；
ポリエステル樹脂の溶液を中和することと；
中和した溶液に十分な量の水を加え、樹脂エマルションを作成することと；
樹脂エマルション中の有機溶媒を除去することとを含む、プロセス。
【請求項２】
ジオールは、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、ペンチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジフェノール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（２−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（５−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＡ、エトキシル化ビスフェノールＡ、プロポキシル化ビスフェノールＡ、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エタン、ｃｉｓ−１，４−ジヒドロキシ−シクロヘキサン、ｔｒａｎｓ−１，４−ジヒドロキシ−シクロヘキサン、ｃｉｓ−１，２−ジヒドロキシ−シクロヘキサン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジヒドロキシ−シクロヘキサン、ｔｒａｎｓ−１，３−ジヒドロキシ−シクロヘキサン、ｃｉｓ−１，３−ジヒドロキシ−シクロヘキサンおよびこれらの混合物からなる群から選択され、ジオールは、場合により、利用する不飽和二酸の約１モル当量を基準として０．９０モル当量〜１．１モル当量の量になるように選択される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
第１の触媒は、利用する出発物質の有機ジオールを基準として、０．００１モル％〜０．５モル％の量で存在する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
第１の触媒は、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸ルビジウム、炭酸セシウム、炭酸ベリリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸ベリリウム、炭酸マンガン、炭酸バリウムおよびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
第２の触媒は、チタン酸テトラアルキル、ジアルキルスズオキシド、例えば、ジブチルスズオキシド、テトラアルキルスズ、例えば、ジブチルスズジラウレートおよびジアルキルスズオキシド水酸化物、例えば、ブチルスズオキシド水酸化物、アルミニウムアルコキシド、アルキル亜鉛、ジアルキル亜鉛、酸化亜鉛、酸化第一スズ、またはこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】
第２の触媒は、利用する出発物質の二酸またはジエステルを基準として、０．０１モル％〜５モル％の量で存在する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項７】
前記反応は、１２０〜２５０℃の第１の重合温度で行われる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項８】
前記重縮合は、１５０〜３００℃の第２の重合温度で行われる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項９】
前記反応は、５〜６００ＲＰＭの速度での混合で行なわれる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記重縮合は、５〜６００ＲＰＭの速度での混合で行なわれる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記不飽和二酸を添加する前に前記反応の混合物を冷却する工程を更に含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記不飽和ポリエステル樹脂は、低レベルの未反応出発物質を有する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記不飽和ポリエステル樹脂は、低レベルの不飽和二酸を有する、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記不飽和二酸は、３１Ｐ  ＮＭＲ分析において１．５より少ない量で存在する、請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記有機溶媒は、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、イソプロパノール、及びそれらの混合物からなる群から選ばれる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記中和することは、前記ポリエステル樹脂の溶液に塩基の水溶液を添加することによってなされる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１７】
トナーエマルションを製造するためのプロセスであって、
第１の触媒存在下、有機ジオールと環状アルキレンカーボネートとを反応させることによって、ポリアルコキシジオールを作成し、第１の触媒が、利用する出発物質の有機ジオールを基準として０．００１モル％〜０．５モル％の量で存在することと；
エステル化反応において、第２の触媒存在下、前記ポリアルコキシジオールと１つ以上の二酸試薬とを反応させることと；
エステル化反応から製造された得られた混合物の酸価を監視することと；
その後、得られた混合物を不飽和二酸で重縮合し、酸価が１０．０ｍｇ（ＫＯＨ）／ｇ（樹脂）より大きな不飽和ポリエステル樹脂を作成することと；
有機溶媒に前記不飽和ポリエステル樹脂を溶解して溶液を作成することと；
ポリエステル樹脂の溶液を中和することと；
中和した溶液に十分な量の水を加え、樹脂エマルションを作成することと；
樹脂エマルション中の有機溶媒を除去することとを含む、プロセス。
【請求項１８】
トナーを製造するためのプロセスであって、
第１の触媒存在下、有機ジオールと環状アルキレンカーボネートとを反応させることによって、ポリアルコキシジオールを作成することと；
エステル化反応において、第２の触媒存在下、前記ポリアルコキシジオールと１つ以上の有機二酸試薬とを反応させることと；
エステル化反応から製造された得られた混合物の酸価を監視することと；
その後、得られた混合物を不飽和二酸で重縮合し、酸価が１０．０ｍｇ（ＫＯＨ）／ｇ（樹脂）より大きな不飽和ポリエステル樹脂を作成することと；
有機溶媒にアモルファスポリエステル樹脂を溶解して溶液を作成することと；
ポリエステル樹脂の溶液を中和することと；
中和した溶液に十分な量の水を加え、樹脂エマルションを作成することと；
樹脂エマルションから有機溶媒を除去することと；
エマルションを凝集させてトナー粒子を作成することと；
トナー粒子を融着させてトナーを作成することとを含む、プロセス。
【請求項１９】
請求項１８に記載のプロセスによって製造されるトナー。
【請求項２０】
１５〜８０μＣ／グラムの電荷を有する、請求項１９に記載のトナー。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月22日(2018.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被試験用トランジスタのゲートに第１の電位を与え、
前記被試験用トランジスタの第１の端子と、第１のトランジスタの第１の端子が電気的に接続されるノードに、前記第１のトランジスタを介して電荷を蓄積させ、
前記第１のトランジスタを非導通にし、
前記ノードと電気的に接続する読み出し回路の出力端子の第２の電位と、前記第１の電位を定期的に測定し、
前記第２の電位から前記第１の電位を差し引いた値の時系列を作成し、
前記時系列の傾きから、前記被試験用トランジスタの電流値を算出することを特徴とする電流測定方法。
【請求項２】
被試験用トランジスタのゲートに第１の電位を与え、
前記被試験用トランジスタの第１の端子と、第１のトランジスタの第１の端子が電気的に接続されるノードに、前記第１のトランジスタを介して電荷を蓄積させ、
前記第１のトランジスタを非導通にし、
前記ノードと電気的に接続する読み出し回路の出力端子の第２の電位と、前記第１の電位を定期的に測定し、
前記第２の電位から前記第１の電位の定数倍を差し引いた値の時系列を作成し、
前記時系列を近似する回帰直線を作成し、
前記回帰直線の傾きから、前記被試験用トランジスタの電流値を算出することを特徴とする電流測定方法。
【請求項３】
請求項２において、
前記回帰直線の決定係数が最大になるように、前記第１の電位の定数倍を決定することを特徴とする電流測定方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
測定環境を恒温状態にして測定する電流測定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月13日(2018.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クロマトカラムをＦＩＤ内側バーナに適合させる方法であって、
（ｉ）内径を有するクロマトカラムを提供するステップと、
（ｉｉ）クロマトカラムに最適な移動相流量を決定するステップと、
（ｉｉｉ）カラムの内径および流量と組み合わせられて最適な検出器性能をもたらす、内側バーナの最適な内径を、数式２
【数１】
2015206787.tif 000001
にしたがってＦＩＤ内側バーナの最適な内径を計算することによって、計算するステップであって、ここでｄはｍｍ単位のＦＩＤ内側バーナの内径、μはｍＬ／ｍｉｎ単位の減圧された最適な移動相流量、および定数１７５はｍＬ／（ｍｉｎ・ｍｍ）の単位である、ステップと、
（ｉｖ）計算された最適な内径と実質的に等しい内径を有するＦＩＤ内側バーナを提供するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
ＦＩＤ内側バーナを提供するステップが、計算された最適な内径の±５０％以内の内径を有する市販のＦＩＤ内側バーナを選択するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
最適な移動相流量を決定するステップが、クロマトカラムに対するファンディームターの式によって決定される最も低い最小プレート高を有する流量を決定するステップを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
移動相が二酸化炭素を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
移動相が、ヘリウム、窒素、およびこれらの組合せの群から選択される物質を含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
クロマトカラムの内径が、約０．０５ｍｍから約５０．０ｍｍの間である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
ＦＩＤ内側バーナの内径が、約０．１ｍｍから約１３．０ｍｍの間である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
固定ＦＩＤ外側バーナの中にＦＩＤ内側バーナを装着するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
クロマトカラムをＦＩＤ内側バーナに適合させる方法であって、
（ｉ）内径を有するクロマトカラムを提供するステップと、
（ｉｉ）複数のＦＩＤ内側バーナの異なる内径のそれぞれについての安定した減圧された最大の移動相流量を実験的に決定するステップと、
（ｉｉｉ）定数ｋを決定するステップであって、ｋは、対応するＦＩＤ内側バーナの内径に対する安定した減圧された最大の移動相流量をプロットすることによって形成される線形回帰プロットの傾きである、ステップと、
（ｉｖ）クロマトカラムに最適な移動相流量を決定するステップと、
（ｖ）カラムの内径および流量と組み合わせられて最適な検出器性能をもたらす、内側バーナの最適な内径を、数式３
【数２】
2015206787.tif 000002
にしたがって内側バーナの最適な内径を決定することによって、計算するステップであって、ここでｄは最適な内側バーナの内径、ｋは定数ｋ、およびμは減圧された最適な移動相流量である、計算するステップと、
（ｖｉ）計算された最適な内径と実質的に等しい内径を有するＦＩＤ内側バーナを提供するステップと、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月28日(2018.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水性インク組成物の調製方法であって、
前記水性インク組成物は、水、共溶媒、および、ワックスのシェルにより囲まれた着色剤コアを含む複数の着色剤ワックス粒子を含む水性サブミクロン着色剤ワックス分散液を含み、前記着色剤ワックス粒子が、１５０ナノメートルから３００ナノメートル未満の粒径分布を示し、
（ａ）乾燥着色剤と少なくとも１種のワックスとを溶融および混合して着色剤濃縮物を形成するステップであって、前記着色剤濃縮物が少なくとも２５重量％の着色剤を含有するステップ、（ｂ）前記ステップ（ａ）の着色剤濃縮物を粉砕して、粉砕着色剤濃縮物を形成するステップ、ならびに（ｃ）前記ステップ（ｂ）の粉砕着色剤濃縮物と、水とを組み合わせて、分散させ、着色剤ワックス分散液を形成するステップを含む、水性サブミクロン着色剤ワックス分散液を調製する工程であって、前記ステップ（ａ）の溶融および混合ならびに前記ステップ（ｂ）の粉砕が、浸漬型メディアミルまたは水平ミルにおいて実施され、前記ステップ（ｃ）の組み合わせが、ピストンホモジナイザーを使用して実施される工程と、
前記水性サブミクロン着色剤ワックス分散液、水および共溶媒を混合する工程と、を含む、
水性インク組成物の調製方法。
【請求項２】
前記着色剤が、２００ナノメートルのＺ平均粒径を有する顔料ワックス粒子を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記水性インク組成物が、２０℃から４０℃の温度において、１．２から１２センチポイズの粘度を有する、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記水性インク組成物が、１５から５０ダイン／センチメートルの表面張力を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記水性インク組成物が、３０℃から４０℃の噴射温度において、２から２０センチポイズの粘度を有する、請求項１または２に記載の方法。
【請求項６】
水性インク組成物の調製方法であって、
前記水性インク組成物は、水；２以上のグリコール共溶媒；および、ワックスのシェルにより囲まれた着色剤コアを含む複数の着色剤ワックス粒子を含む水性サブミクロン着色剤ワックス分散液を含み、前記着色剤ワックス粒子が１５０ナノメートルから３００ナノメートル未満の粒径分布を示し、
（ａ）乾燥着色剤と少なくとも１種のワックスとを溶融および混合して着色剤濃縮物を形成するステップであって、前記着色剤濃縮物が少なくとも２５重量パーセントの着色剤を含むステップ、（ｂ）前記ステップ（ａ）の着色剤濃縮物を粉砕して、粉砕着色剤濃縮物を形成するステップ、ならびに（ｃ）前記ステップ（ｂ）の粉砕着色剤濃縮物と水とを組み合わせて、分散させ、着色剤ワックス分散液を形成するステップを含む、水性サブミクロン着色剤ワックス分散液を調製する工程であって、前記ステップ（ａ）の溶融および混合ならびに前記ステップ（ｂ）の粉砕が、浸漬型メディアミルまたは水平ミルにおいて実施され、前記ステップ（ｃ）の組み合わせが、ピストンホモジナイザーを使用して実施される工程と、
前記水性サブミクロン着色剤ワックス分散液、水および２以上のグリコール共溶媒を混合する工程と、を含む、
水性インク組成物の調製方法。
【請求項７】
前記着色剤が顔料である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記グリコール共溶媒の少なくとも１つがグリセロールである、請求項６または７に記載の方法。
【請求項９】
前記グリコール共溶媒がグリセロールおよび１−３プロパンジオールであり、前記グリセロールおよび前記１−３プロパンジオールが、それぞれ６：１から１：２の比で存在する、請求項６または７に記載の方法。
【請求項１０】
前記グリコール共溶媒が、グリセロールおよび１−３プロパンジオールであり、前記グリセロールおよび前記１−３プロパンジオールが、それぞれ２：１から５：１の比で存在し、前記グリコール共溶媒の全量が、前記水性インク組成物の全重量に基づき３５重量パーセント未満であり、前記水性インク組成物の全重量に基づき１０重量パーセントより多い、請求項６または７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】水性インク組成物の調製方法
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月30日(2018.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水性インク組成物を調製するためのプロセスであって、
（１）着色剤濃縮物を調製することと；
（２）着色剤ワックス分散物を調製することであって、（ａ）乾燥着色剤を少なくとも１種類のワックスとともに溶融し、混合して着色剤濃縮物を作製する工程であって、この着色剤濃縮物が、少なくとも２５重量％の着色剤を含有する工程と；（ｂ）工程（ａ）の着色剤濃縮物を粉砕し、粉砕した着色剤濃縮物を作製する工程と；（ｃ）工程（ｂ）の粉砕した着色剤濃縮物と水とを配合し、分散させ、ワックスシェルに囲まれた着色剤コアを含む複数の着色剤ワックス粒子を含む着色剤ワックス分散物を作製する工程とを含み、
前記着色剤ワックス粒子が、１５０ナノメートルから３００ナノメートル未満の粒度分布を示し；
前記工程（ａ）の溶融および混合、並びに前記工程（ｂ）の粉砕は、含浸メディアミルまたは水平型ミルで行われ、前記工程（ｃ）の配合は、ピストンホモジナイザを用いて行われることによる、着色剤ワックス分散物を調製することと；
（３）前記着色剤ワックス分散物と、水性インク媒剤および任意要素のインク添加剤とをブレンドし、水性インク組成物を作製することと；水性インク組成物を濾過することとを含む、プロセス。
【請求項２】
前記着色剤濃縮物が、顔料濃縮物である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記着色剤濃縮物が、染料濃縮物である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記着色剤濃縮物を調製することが、着色剤および任意要素の相乗剤を溶融ワックスで塗らし、分散させるか、または溶解することを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項５】
前記工程（ａ）の溶融および混合、並びに前記工程（ｂ）の粉砕が含浸メディアミルで行われる、請求項１〜４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項６】
前記工程（ａ）の溶融および混合が９０〜１８０℃の温度で行われる、請求項１〜５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項７】
前記工程（ａ）の溶融および混合が１〜４時間行われる、請求項１〜６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記工程（ｂ）の粉砕が９０〜１７０℃の温度で行われる、請求項１〜７のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項９】
前記水性インク媒剤は、スルホラン、メチルエチルケトン、イソプロパノール、２−ピロリジノン、グリコール、グリセロール、ジエチレングリコール、エチレングリコールおよびこれらの混合物からなる群から選択される共溶媒を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記水性インク媒剤は、２種類以上のグリコール型共溶媒から選択される共溶媒を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記着色剤ワックス分散物は、顔料で着色したワックス分散物中の顔料およびワックスの合計重量を基準として、少なくとも２５重量％の顔料を含有するミクロン未満の顔料で着色した水性ワックス分散物である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記ワックスは、ポリオレフィン、カルナバワックス、米ろう、カンデリラろう、木ろう、ホホバ油、みつろう、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、微結晶性ワックス、Ｆｉｓｃｈｅｒ−Ｔｒｏｐｓｃｈワックス、ステアリン酸ステアリル、ベヘン酸ベヘニル、ステアリン酸ブチル、オレイン酸プロピル、グリセリドモノステアレート、グリセリドジステアレート、ペンタエリスリトールテトラベヘネート、ジエチレングリコールモノステアレート、ジプロピレングリコールジステアレート、ジグリセリルジステアレート、トリグリセリルテトラステアレート、ソルビタンモノステアレート、ポリエチレンワックス、エステルワックス、アミドワックス、脂肪酸、脂肪族アルコール、脂肪族アミド、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記（３）のブレンドが共溶媒とのブレンドをさらに含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記着色剤が、Ｚ平均粒径が２００ナノメートルの顔料で着色したワックス粒子を含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記着色剤は、マゼンタ顔料、シアン顔料、イエロー顔料、ブラック顔料およびこれらの混合物およびこれらの組み合わせからなる群から選択される顔料である、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記着色剤ワックス分散物は、相乗剤、分散剤、またはこれらの組み合わせをさらに含む、請求項１〜１５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記水性インク組成物は、２０℃〜４０℃の温度範囲での粘度が１．２〜１２センチポイズである、請求項１〜１６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記水性インク組成物は、１５〜５０ダイン／センチメートルの表面張力を有する、請求項１〜１７のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記水性インク組成物は、３０〜５０℃の吐出温度での粘度が２〜２０センチポイズである、請求項１〜１８のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記工程（ｃ）の配合は、（ｃ１）９０〜１７０℃の温度、１００〜１，０００ｒｐｍ、３００〜１，０００ｐｓｉで０．１〜１．５時間、前均質化することと；次いで、（ｃ２）９０〜１７０℃の温度、１００〜１，０００ｒｐｍ、４，０００〜８，０００ｐｓｉで０．５〜５時間均質化することとを含む、請求項１〜１９のいずれか一項に記載のプロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】水性インク組成物を調製するためのプロセス