【手続補正書】
【提出日】平成30年7月17日(2018.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鏡面に研磨されたガラス基板の表面にアルカリ性の洗浄液を接触させて洗浄する洗浄処理を含むガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板はガラス成分中にナトリウムとカリウムの少なくとも一方の成分を含有し、
前記洗浄処理に用いる洗浄液は以下の一般式Iで表される有機アルカリを含有し、前記洗浄処理において、前記ガラス基板から溶出したナトリウムイオンまたはカリウムイオンによる洗浄液中に含まれるナトリウムイオン及びカリウムイオンの含有量の増加を、アルカリ金属イオンを捕捉するキレート剤の添加、水希釈又は洗浄液の交換により抑制しながら前記洗浄処理を行うことを特徴とするガラス基板の製造方法。
一般式I
[(Ｒ)４Ｎ]＋ＯＨ−
（但し、Ｒはアルキル基を示し、Ｎ原子と結合する４つのアルキル基のうち少なくとも一つは、ヒドロキシル基（ＯＨ基）を一つ以上有する。）
【請求項２】
前記有機アルカリにおいて、Ｎ原子と結合する４つのＲのうち少なくとも一つは、Ｎ原子と結合していない側の末端にヒドロキシル基を有する直鎖アルキル基であることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記有機アルカリにおいて、前記Ｎ原子と結合していない側の末端にヒドロキシル基を有する直鎖アルキル基は、Ｎ原子とヒドロキシル基の間に２つ以上の炭素原子を有する直鎖アルキル基であることを特徴とする請求項２に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの総量を４ミリモル／Ｌ以下に抑えながら前記洗浄処理を行うことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。
【請求項５】
鏡面に研磨されたガラス基板の表面にアルカリ性の洗浄液を接触させて洗浄する洗浄処理を含むガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板はガラス成分中にナトリウムとカリウムの少なくとも一方の成分を含有し、
前記洗浄処理に用いる洗浄液は以下の一般式Iで表される有機アルカリを含有し、
前記洗浄処理において、前記ガラス基板から溶出したナトリウムイオンまたはカリウムイオンによる洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの総量が４ミリモル／Ｌ以下となるように、アルカリ金属イオンを捕捉するキレート剤の添加、水希釈又は洗浄液の交換により前記総量を抑制しながら前記洗浄処理を行うことを特徴とするガラス基板の製造方法。
一般式I
[(Ｒ)４Ｎ]＋ＯＨ−
（但し、Ｒはアルキル基を示し、Ｎ原子と結合する４つのアルキル基のうち少なくとも一つは、ヒドロキシル基（ＯＨ基）を一つ以上有する。）
【請求項６】
鏡面に研磨されたガラス基板の表面にアルカリ性の洗浄液を接触させて洗浄する洗浄処理を含むガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板はガラス成分中にナトリウムとカリウムの少なくとも一方の成分を含有し、
前記洗浄処理に用いる洗浄液は以下の一般式Iで表される有機アルカリを含有し、
前記洗浄処理前に対する前記洗浄処理後のガラス基板主表面の表面粗さ（Ｒａ）の増大量と、前記洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの総量との関係を予め求めておき、求めた前記関係に基づき、前記表面粗さ（Ｒａ）の増大量が０．０５ｎｍ以下となる前記洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの総量を決定し、前記洗浄処理において、前記ガラス基板から溶出したナトリウムイオンまたはカリウムイオンによる洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの総量が前記決定した総量以下となる条件を維持するように、アルカリ金属イオンを捕捉するキレート剤の添加、水希釈又は洗浄液の交換により前記洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの総量を抑制しながら前記洗浄処理を行うことを特徴とするガラス基板の製造方法。
一般式I
[(Ｒ)４Ｎ]＋ＯＨ−
（但し、Ｒはアルキル基を示し、Ｎ原子と結合する４つのアルキル基のうち少なくとも一つは、ヒドロキシル基（ＯＨ基）を一つ以上有する。）
【請求項７】
前記洗浄液は、さらにＮ，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン、及びＮ，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミンの誘導体から選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。
【請求項８】
鏡面に研磨されたガラス基板の表面にアルカリ性の洗浄液を接触させて洗浄する洗浄処理を含むガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板はガラス成分中にナトリウムとカリウムの少なくとも一方の成分を含有し、
前記洗浄処理に用いる洗浄液は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、Ｎ，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン、及びＮ，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミンの誘導体から選ばれる少なくとも一種のアルカリ剤を含有し、
前記洗浄処理による前記ガラス基板表面の荒れを低減すべく、前記洗浄処理において、前記ガラス基板から溶出したナトリウムイオンまたはカリウムイオンによる洗浄液中に含まれるナトリウムイオン及びカリウムイオンの含有量の増加を、アルカリ金属イオンを捕捉するキレート剤の添加、水希釈又は洗浄液の交換により抑制しながら前記洗浄処理を行うことを特徴とするガラス基板の製造方法。
【請求項９】
前記洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの総量を４ミリモル／Ｌ以下に抑えながら前記洗浄処理を行うことを特徴とする請求項８に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
鏡面に研磨されたガラス基板の表面にアルカリ性の洗浄液を接触させて洗浄する洗浄処理を含むガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板はガラス成分中にナトリウムとカリウムの少なくとも一方の成分を含有し、
前記洗浄処理に用いる洗浄液は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、Ｎ，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン、及びＮ，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミンの誘導体から選ばれる少なくとも一種のアルカリ剤を含有し、
前記洗浄処理において、前記ガラス基板から溶出したナトリウムイオンまたはカリウムイオンによる洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの総量が４ミリモル／Ｌ以下となるように、アルカリ金属イオンを捕捉するキレート剤の添加、水希釈又は洗浄液の交換により前記総量を抑制しながら前記洗浄処理を行うことを特徴とするガラス基板の製造方法。
【請求項１１】
鏡面に研磨されたガラス基板の表面にアルカリ性の洗浄液を接触させて洗浄する洗浄処理を含むガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板はガラス成分中にナトリウムとカリウムの少なくとも一方の成分を含有し、
前記洗浄処理に用いる洗浄液は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、Ｎ，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン、及びＮ，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミンの誘導体から選ばれる少なくとも一種のアルカリ剤を含有し、
前記洗浄処理前に対する前記洗浄処理後のガラス基板主表面の表面粗さ（Ｒａ）の増大量と、前記洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの総量との関係を予め求めておき、求めた前記関係に基づき、前記表面粗さ（Ｒａ）の増大量が０．０５ｎｍ以下となる前記洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの総量を決定し、前記洗浄処理において、前記ガラス基板から溶出したナトリウムイオンまたはカリウムイオンによる洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの総量が前記決定した総量以下となる条件を維持するように、アルカリ金属イオンを捕捉するキレート剤の添加、水希釈又は洗浄液の交換により前記洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの総量を抑制しながら前記洗浄処理を行うことを特徴とするガラス基板の製造方法。
【請求項１２】
前記洗浄処理後のガラス基板主表面の表面粗さ（Ｒａ）と、前記洗浄処理直前のガラス基板主表面の表面粗さ（Ｒａ）との差が、０．０５ｎｍ以内であることを特徴とする請求項１乃至５、７乃至１０のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１３】
前記洗浄処理は、シリカ研磨砥粒を含有する酸性域に調整された研磨液を用いて前記ガラス基板の主表面を研磨する研磨工程の後に行う洗浄処理であることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれかに記載のガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板上に、少なくとも磁気記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法