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【手続補正書】
【提出日】平成29年12月6日(2017.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、
数値を報知する第１数値報知と、数値を報知する第２数値報知とを実行可能な数値報知実行手段を備え、
前記第２数値報知は、有利状態に関する報知であり、
前記第１数値報知の実行に基づいて、前記第２数値報知の実行を制限し、
所定条件が成立するまで実行される前記第１数値報知の実行中に、特定期間に亘って実行される前記第２数値報知の実行が決定された場合は、該特定期間における前記第１数値報知と重ならない期間については該第２数値報知を制限することなく実行可能であり、
有利状態に関する演出であって、前記第２数値報知とは異なる所定演出を実行可能である、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
（Ａ）上記目的を達成するため、本発明に係る遊技機は、
遊技者にとって有利な有利状態（例えば、大当り遊技状態など）に制御可能な遊技機（例えば、パチンコ遊技機１など）であって、
数値を報知する第１数値報知（例えば、特定演出前演出など）と、数値を報知する第２数値報知（例えば、先読みカウントダウン予告など）とを実行可能な数値報知実行手段（例えば、ステップＳ１６８の特定演出前演出処理とステップＳ１６６の先読み予告設定処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）を備え、
前記第２数値報知は、有利状態に関する報知であり、
前記第１数値報知の実行に基づいて、前記第２数値報知の実行を制限し（例えば、ステップＳ７５７〜Ｓ７５９の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）、
所定条件が成立するまで実行される前記第１数値報知の実行中に、特定期間に亘って実行される前記第２数値報知の実行が決定された場合は、該特定期間における前記第１数値報知と重ならない期間については該第２数値報知を制限することなく実行可能であり（例えば、図３４に示す変形例２のパチンコ遊技機１では、特定演出前演出において先読みカウントダウン予告が当選した場合であっても先読みカウントダウン予告のうちで特定演出前演出と重ならない後半部分については実行可能など）、
有利状態に関する演出であって、前記第２数値報知とは異なる所定演出を実行可能である。
このような構成によれば、数値報知演出（例えば、特定演出前演出、先読みカウントダウン予告など）が分かり難くなることを防止でき、遊技の違和感を与えることを低減できる。
また、遊技の進行を制御する遊技制御手段（例えば、主基板１１など）と、
前記遊技制御手段から送信されるコマンドに基づいて、演出制御を行う演出制御手段（例えば、演出制御基板１２など）と、
可変表示を行うためのデータを保留記憶として記憶する保留記憶手段（例えば、第１特図保留記憶部１５１Ａと、第２特図保留記憶部１５１Ｂなど）と、
前記保留記憶手段の保留記憶に基づいて、先読み演出として前記第２数値報知を実行するか否かを判定する先読み判定手段（例えば、ステップＳ７５６の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、
を備える、ようにしてもよい。
（Ｂ）また、他の観点に係る遊技機は、
遊技が可能な遊技機（例えば、パチンコ遊技機１など）であって、
数値を報知する第１数値報知演出（例えば、特定演出前演出など）と、数値を報知する第２数値報知演出（例えば、先読みカウントダウン予告など）とを実行可能な数値報知演出実行手段（例えば、ステップＳ１６８の特定演出前演出処理とステップＳ１６６の先読み予告設定処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）を備え、
前記第１数値報知演出と前記第２数値報知演出とを同一期間にて実行するときに、前記第１数値報知演出と前記第２数値報知演出の少なくとも一方の実行態様を、該同一期間以外の期間で実行するときとは異なる態様にて実行する。
このような構成によれば、数値報知演出（例えば、特定演出前演出、先読みカウントダウン予告など）が分かり難くなることを防止でき、遊技の違和感を与えることを低減できる。
（１）また、他の観点に係る遊技機は、
遊技が可能な遊技機（例えば、パチンコ遊技機１など）であって、
数値を報知する第１のカウント演出（例えば、特定演出前演出など）と、数値を報知する第２のカウント演出（例えば、先読みカウントダウン予告など）とを実行可能なカウント演出実行手段（例えば、ステップＳ１６８の特定演出前演出処理とステップＳ１６６の先読み予告設定処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）を備え、
前記第１のカウント演出の実行に基づき、当該第１のカウント演出と前記第２のカウント演出の少なくとも一方の実行を制限する（例えば、ステップＳ７５７〜Ｓ７５９の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）。
このような構成によれば、カウント演出（例えば、特定演出前演出、先読みカウントダウン予告など）が分かり難くなることを防止でき、遊技の違和感を与えることを低減できる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月26日(2018.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面を遊技球が流下する遊技盤と、
前記遊技盤の前面に開口し、複数の遊技球が入賞可能な入賞口と、
前記入賞口の内側に設けられ、遊技球が１つずつ通過する内部取込口と、
前記入賞口の内側に設けられ、前記遊技球を前記内部取込口へと転動させる内部転動面と、
前記入賞口を閉塞する板状をなして、下縁部に沿った回転中心軸を中心に回動可能に支持される開閉扉とを有し、
前記開閉扉は、通常は、起立姿勢をなして前記入賞口への遊技球の入賞を規制し、予め設定された開放条件の成立に起因して前傾姿勢になって、前記開閉扉の内面にて、上方から流下してくる遊技球を受けて前記入賞口へと案内する遊技機において、
前記回転中心軸を前記開閉扉の下面から上方に離れた位置に配置し、前記内部転動面のうち少なくとも前記内部取込口の近傍部分に対し、前記前傾姿勢の前記開閉扉の前記内面が上方に位置するように構成したことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記前傾姿勢の前記開閉扉の外面と前記入賞口の下側開口縁との間に遊技球１球未満の隙間が形成される請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記回転中心軸は、前記開閉扉の厚さ方向における外面寄りに配置されている請求項１又は２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するためになされた請求項１の発明は、前面を遊技球が流下する遊技盤と、前記遊技盤の前面に開口し、複数の遊技球が入賞可能な入賞口と、前記入賞口の内側に設けられ、遊技球が１つずつ通過する内部取込口と、前記入賞口の内側に設けられ、前記遊技球を前記内部取込口へと転動させる内部転動面と、前記入賞口を閉塞する板状をなして、下縁部に沿った回転中心軸を中心に回動可能に支持される開閉扉とを有し、前記開閉扉は、通常は、起立姿勢をなして前記入賞口への遊技球の入賞を規制し、予め設定された開放条件の成立に起因して前傾姿勢になって、前記開閉扉の内面にて、上方から流下してくる遊技球を受けて前記入賞口へと案内する遊技機において、前記回転中心軸を前記開閉扉の下面から上方に離れた位置に配置し、前記内部転動面のうち少なくとも前記内部取込口の近傍部分に対し、前記前傾姿勢の前記開閉扉の前記内面が上方に位置するように構成したことを特徴とする遊技機である。
請求項２の発明は、請求項１に記載の遊技機において、前記前傾姿勢の前記開閉扉の外面と前記入賞口の下側開口縁との間に遊技球１球未満の隙間が形成される遊技機である。
請求項３の発明は、請求項１又は２に記載の遊技機において、前記回転中心軸は、前記開閉扉の厚さ方向における外面寄りに配置されている遊技機である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
本実施形態の遊技機１０の構成に関する説明は以上である。なお、本実施形態では、第２大入賞口６１が本発明の「入賞口」に、第２開閉扉８１が本発明の「開閉扉」に、それぞれ相当する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
（５）上記実施形態では、本発明の「入賞口」が、入球によって遊技者に賞球を付与可能な入賞口で構成されていたが、例えば、入球した遊技球を使用して演出等を行う演出用役物の入球口で構成されてもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０６】
１０    遊技機
６０    第２大入賞部
６１    第２大入賞口（入賞口）
６２    第２入賞部屋
６４    陥没部
６４Ａ    球排出孔（内部取込口）
６５    サイド転動部（内部転動面）
６７    中間壁
８１    第２開閉扉（開閉扉）
Ｒ２    排出領域
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月29日(2018.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技盤を設けてなる遊技機本体と、
当該遊技機本体に対し前記遊技盤の盤面側にて開閉可能に支持される前扉と、
前記遊技盤にその裏側から設けられる裏部品と、
前記遊技盤に形成してなる盤面部品取り付け用開孔部にその前側から対向するように前記遊技盤の盤面に設けられる盤面部品とを備え、
前記前扉は、前記遊技盤の盤面に対向可能な透明板を設けてなる遊技機において、
前記遊技盤の前記盤面部品取り付け用開孔部に対向するように前記裏部品に支持される磁気センサと、
電源が遮断されても少なくとも所定の期間の間記憶内容を保持するメモリと、
操作に応じて操作信号を発生する操作手段と、
前記電源が投入された後、前記操作手段が前記操作信号を発生したことに基づいて前記メモリの記憶内容をクリアしてメモリクリア信号を発生するメモリクリア手段と、
情報を出力可能な複数の端子を備えて、前記メモリクリア手段が前記メモリクリア信号を発生したとき当該メモリクリア信号を前記複数の端子のうちの一端子を介しホールコンピュータに出力する外部端子盤と、
前記磁気センサが磁石の磁気を検出したことに基づいて、磁気エラーが発生したか否かを判定するエラー判定手段と、
当該エラー判定手段が前記磁気エラーの発生と判定したことに伴い、磁気エラー出力信号を前記外部端子盤に出力する出力手段とを備えて、
前記外部端子盤は、前記一端子を介し、前記出力手段からの前記磁気エラー出力信号を前記ホールコンピュータに出力することを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題の解決にあたり、本発明に係る遊技機は、請求項１の記載によれば、
遊技盤（１０）を設けてなる遊技機本体（Ｂ）と、
当該遊技機本体に対し遊技盤の盤面側にて開閉可能に支持される前扉（Ｄ）と、
遊技盤にその裏側から設けられる裏部品（８０、９０）と、
遊技盤に形成してなる盤面部品取り付け用開孔部（１２〜１４）にその前側から対向するように遊技盤の盤面に設けられる盤面部品（３０、４０、６０ｂ〜６０ｄ、７０）とを備え、
前扉は、遊技盤の盤面に対向可能な透明板（Ｄａ）を設けてなるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
このように、磁気センサが遊技盤の盤面部品取り付け用開孔部に対向するように裏部品に支持される。ここで、盤面部品取り付け用開孔部の前後両側においては、盤面部品が存在するのみで、他の構成部品やベニヤ板の積層体等の密集した構成を伴うことなく、簡単な構成となっている。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月20日(2017.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装身具又は宝飾品を構成する金属製の母材どうしをレーザー溶接するに際し、被溶接部に開先（ｘ）を形成し、直径が０．３ｍｍ未満のワイヤ状の溶加材（１）を用い、開先（ｘ）内に位置した溶加材先端部（１０）にレーザービーム（２）を照射して溶着させる操作を、開先（ｘ）の長手方向に沿って複数回繰り返すことにより、開先（ｘ）の長手方向に沿って溶接ビード（３）を形成し、この溶接を複数パス行うことで、開先（ｘ）に溶接ビード（３）が多層盛りされた溶接部（ｙ）を形成することを特徴とする装身具又は宝飾品の溶接方法。
【請求項２】
溶接を複数パス行うに際し、各パスの溶接進行方向を前回パスと逆方向とすることを特徴とする請求項１に記載の装身具又は宝飾品の溶接方法。
【請求項３】
主成分の金属種が同じである母材どうしを溶接する際に、母材の主成分と同じ金属種を主成分とする溶加材（１）を用いることを特徴とする請求項１又は２に記載の装身具又は宝飾品の溶接方法。
【請求項４】
主成分の金属種が異なる母材どうしを溶接する際に、一方の母材の主成分と同じ金属種を主成分とする溶加材（１）を用いることを特徴とする請求項１又は２に記載の装身具又は宝飾品の溶接方法。
【請求項５】
同芯状に並列したリング状の母材どうしを母材周方向で溶接することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の装身具又は宝飾品の溶接方法。
【請求項６】
母材（Ａ），（Ｂ）どうしをレーザー溶接するに際し、
被溶接部の表面側と裏面側のうちの一方の面側に第１の開先（ｘ１）を形成し、この第１の開先（ｘ１）に前記複数パスの溶接を行うことで、溶接ビード（３）が多層盛りされた第１の溶接部（ｙ１）を形成し、
次いで、被溶接部の表面側と裏面側のうちの他方の面側において、一方の母材（Ａ）に、溶接部（ｙ１）の溶接金属に沿った第２の開先（ｘ２）を形成し、この第２の開先（ｘ２）に前記複数パスの溶接を行うことで、溶接ビード（３）が多層盛りされた第２の溶接部（ｙ２）を形成し、さらに、他方の母材（Ｂ）に、溶接部（ｙ１）の溶接金属に沿った第３の開先（ｘ３）を形成し、この第３の開先（ｘ３）に前記複数パスの溶接を行うことで、溶接ビード（３）が多層盛りされた第３の溶接部（ｙ３）を形成することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の装身具又は宝飾品の溶接方法。
【請求項７】
母材（Ａ），（Ｂ）間に継ぎ足し用の母材（Ｃ）を挟み込み、母材（Ａ），（Ｃ）どうしと、母材（Ｂ），（Ｃ）どうしをそれぞれレーザー溶接するに際し、
被溶接部の表面側と裏面側のうちの一方の面側において、母材（Ａ），（Ｃ）間と母材（Ｂ），（Ｃ）間にそれぞれ第１の開先（ｘ１ａ），（ｘ１ｂ）を形成し、これら第１の開先（ｘ１ａ），（ｘ１ｂ）に前記複数パスの溶接を行うことで、溶接ビード（３）が多層盛りされた第１の溶接部（ｙ１ａ），（ｙ１ｂ）をそれぞれ形成し、
次いで、被溶接部の表面側と裏面側のうちの他方の面側において、一方の母材（Ａ）に、溶接部（ｙ１ａ）の溶接金属に沿った第２の開先（ｘ２）を形成し、この第２の開先（ｘ２）に前記複数パスの溶接を行うことで、溶接ビード（３）が多層盛りされた第２の溶接部（ｙ２）を形成し、さらに、他方の母材（Ｂ）に、溶接部（ｙ１ｂ）の溶接金属に沿った第３の開先（ｘ３）を形成し、この第３の開先（ｘ３）に前記複数パスの溶接を行うことで、溶接ビード（３）が多層盛りされた第３の溶接部（ｙ３）を形成することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の装身具又は宝飾品の溶接方法。
【請求項８】
指輪の径を小さくするサイズ直し修理において、リング周方向の１箇所を切断してリングの一部を切除し、その切断端部を母材（Ａ），（Ｂ）とすることを特徴とする請求項６に記載の装身具又は宝飾品の溶接方法。
【請求項９】
指輪の径を大きくするサイズ直し修理において、リング周方向の１箇所を切断し、その切断端部を母材（Ａ），（Ｂ）とすることを特徴とする請求項７に記載の装身具又は宝飾品の溶接方法。
【請求項１０】
レーザービーム（２）を、溶接進行方向に向かって斜め上方から溶加材先端部（１０）に照射することを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の装身具又は宝飾品の溶接方法。
【請求項１１】
作業者が被溶接材を手で保持するとともに、開先（ｘ）内の必要な箇所に溶加材先端部（１０）を位置させた状態で、下記（i）、（ii）、（iii）をこの順に行う操作を繰り返し行うことにより、開先（ｘ）の長手方向に沿って溶接ビード（３）を形成することを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の装身具又は宝飾品の溶接方法。
（i）溶加材先端部（１０）をレーザービーム（２）の焦点位置に合わせて静止させる。
（ii）レーザービーム（２）を短時間照射して少量の溶加材（１）を溶着させる。
（iii）被溶接材をレーザービーム（２）の焦点位置に対して開先（ｘ）の長手方向に少しだけ移動させる。
【請求項１２】
開先（ｘ）の長手方向に沿って溶接ビード（３）を形成する際に、レーザー照射による溶加材先端部（１０）の溶着を、開先長手方向での距離１ｍｍ当たり５〜２０回行うことにより、溶加材（１）を開先（ｘ）の長手方向に沿って少量ずつ溶着させて溶接ビード（３）を形成することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の装身具又は宝飾品の溶接方法。
【請求項１３】
１つの開先（ｘ）に対して１００〜３００パスの溶接を行うことにより、溶接ビード（３）が多層盛りされた溶接部（ｙ）を得ることを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の装身具又は宝飾品の溶接方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれかに記載の溶接方法を用いて材料を溶接することを特徴とする装身具又は宝飾品の製造方法。
【請求項１５】
装身具又は宝飾品を構成する金属製の母材に形成された開先（ｘ）に、その長手方向に沿って形成された溶接ビード（３）が多層盛りされた溶接部（ｙ）を有し、該溶接部（ｙ）は溶融した母材金属を含む溶接金属で構成され、
各溶接ビード（３）は、溶加材が開先長手方向に沿って少量ずつ溶着することで形成された、開先長手方向での距離１ｍｍ当たり５〜２０個の溶着部からなることを特徴とする装身具又は宝飾品。
【請求項１６】
溶接部（ｙ）を構成する多層盛りされた溶接ビード（３）の層数が１００〜３００層であることを特徴とする請求項１５に記載の装身具又は宝飾品。
【請求項１７】
同芯状に並列した複数のリング状の母材が接合されることで構成された指輪であって、
隣接するリング状の母材は、主成分の金属種が異なり、
隣接するリング状の母材間の周方向に溶接部（ｙ）を有するとともに、該溶接部（ｙ）を構成する溶接金属は、一方の母材の主成分と同じ金属種を主成分とすることを特徴とする請求項１５又は１６に記載の装身具又は宝飾品。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月14日(2018.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
速度センサであって、
感知アセンブリであって、当該感知アセンブリは、磁場を発生させるための磁石およびワイヤコイルと、前記ワイヤコイルに電気的に接続された複数の導電性のピンと、前記ボビンに取付けられ、前記導電性のピンと複数の第１の導電性の端子との間に電気的な接続を提供するリードフレームとを含む、前記感知アセンブリと、
前記感知アセンブリにオーバーモールドされた第１のハウジングであって、当該第１のハウジングは、上側の開口端に近接する上側のフランジを含み、前記第１の導電性の端子が前記上側の開口端から突出する、前記第１のハウジングと、
下側の開口端に近接する下側のフランジを有する第２のハウジングであって、下側のフランジが第１のハウジングの上側のフランジに接合されて複数の溶接窓を形成し、前記第２のハウジングは、前記下側の開口端と前記第１の導電性の端子に近接する複数の第２の導電性の端子を含み、これにより、前記溶接窓は、前記第１の導電性の端子が前記第２の導電性の端子に溶接されることを可能にする開口を提供する、前記第２のハウジングと、
前記第１のハウジングを前記第２のフランジに封止し、かつ前記溶接窓を充填するように、前記上側のフランジと前記下側のフランジの双方にフランジオーバーモールドを接合するように動作可能な第１の開口を含む、前記フランジオーバーモールドと、
を有する速度センサ。
【請求項２】
前記フランジオーバーモールドは、前記第１の開口からオフセットされた第２の開口を含み、当該第２の開口は、前記フランジオーバモールドを搭載するように動作可能である、請求項１に記載の速度センサ。
【請求項３】
前記第２のハウジングは、前記下側の開口端に近接する複数のリッジを含み、当該リッジは、前記第１のハウジングを前記第２のハウジングにアライメントする、請求項１に記載の速度センサ。
【請求項４】
前記ボビンは、前記導電性のピンに垂直に延在する複数の固定ピンを含み、当該固定ピンは前記ボビン内に前記導電性のピンを固定する、請求項１に記載の速度センサ。
【請求項５】
前記磁石は、ワイヤコイルによって形成された環状のリング内に配置される、請求項１に記載の速度センサ。
【請求項６】
前記磁石は、前記環状のリングの上部開口から実質的に突出し、かつ前記環状のリングの底部開口から僅かに突出する、請求項５に記載の速度センサ。
【請求項７】
前記第１のハウジングは、前記環状のリングの底部開口に近接した位置でより厚い、請求項６に記載の速度センサ。
【請求項８】
前記フランジオーバーモールドはさらに、当該フランジオーバーモールドが前記溶接窓に流れ込み空気を押し出すように、前記溶接窓を封止するように動作可能である、請求項１に記載の速度センサ。
【請求項９】
前記第１のハウジングは、前記上側の開口端に近接する複数の第１のリブを含み、
前記第２のハウジングは、前記下側の開口端に近接する複数の第２のリブを含み、
前記フランジオーバーモールドの第１の開口は、前記第１のリブと前記第２のリブとを接合するように動作可能である、請求項１に記載の速度センサ。
【請求項１０】
長手方向の軸に沿って実質的に延在し、速度センサの外側の物体の動きに関連する信号を発生する感知アセンブリであって、当該感知アセンブリは、前記信号を転送するため上側の端部に近接して複数の第１の導電性の端子を有する、前記感知アセンブリと、
前記長手方向の軸に沿って延在し、かつ前記感知アセンブリにオーバーモールドされた第１のハウジングであって、当該第１のハウジングは、前記上側の端部に近接して上側のフランジを有し、前記第１の導電性の端子が前記上側の端部から突出する、前記第１のハウジングと、
前記長手方向の軸に沿って延在氏、かつ下側の端部に近接して下側のフランジを有する第２のハウジングであって、当該下側のフランジは、前記第１のハウジングの上側のフランジに接合されて複数の溶接窓を形成し、前記第２のハウジングは、前記下側の端部と前記第１の導電性の端子に近接する複数の第２の導電性の端子を含み、前記溶接窓は、前記第１の導電性の端子が前記第２の導電性の端子に溶接されることを可能にするための開口を提供する、前記第２のハウジングと、
短手方向の軸に沿って延在するフランジオーバーモールドであって、当該フランジオーバーモールドは、前記第１のハウジングと前記第２のハウジングと前記溶接窓とを封止するため、当該オーバーモールドを前記上側のフランジおよび前記下側のフランジの双方に接合するよう動作可能である第１の開口と、前記フランジオーバーモールドを搭載するため、前記短手方向の軸に沿いかつ前記第１の開口からオフセットされた第２の開口を含む、前記フランジオーバーモールドと、
を有する速度センサ。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月26日(2018.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
振動板と、一つ以上の圧電素子と、
前記圧電素子に電圧を印加する電源と、
前記電圧の周波数を制御する制御回路とを備えた塵埃除去装置であって、
前記圧電素子は、電極と圧電材料を有し、
前記圧電材料は、第一の結晶相から第二の結晶相への相転移温度Ｔが−４０℃≦Ｔ≦８５℃の範囲にあり、
前記周波数は、第一の周波数から第二の周波数まで掃引し、
前記掃引中に可聴振動が発生する周波数をｆｎｓ、可聴振動が終了する周波数をｆｎｅとし、前記掃引中のｆｎｓからｆｎｅまでの変化時間をΔｔｎとしたときに、
Δｔｎ≦１０ｍｓの関係を満たすことを特徴とする塵埃除去装置。
【請求項２】
前記Δｔｎにおける前記掃引中の可聴振動の変化速度Ｖｆは｜ｆｎｓ−ｆｎｅ｜／Δｔｎで表され、前記可聴振動の変化速度Ｖｆは５×１０５Ｈｚ／秒以上３×１０６Ｈｚ／秒以下であることを特徴とする請求項１に記載の塵埃除去装置。
【請求項３】
前記Δｔｎにおける可聴振動の発生から終了する間に発生する可聴音の音波の振動周波数をｆｈとしたときに、Δｔｎ≦１／ｆｈの関係を満たすことを特徴とする請求項１または２に記載の塵埃除去装置。
【請求項４】
前記Δｔｎの可聴振動の終了時から、次に発生する可聴振動の周波数がｆｎｓになるまでの時間をΔｔｎｉとしたときに、Δｔｎｉ≧２Δｔｎの関係を満たすことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の塵埃除去装置。
【請求項５】
前記第一の周波数が前記第二の周波数よりも高いことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の塵埃除去装置。
【請求項６】
前記第一の周波数ｆ１と、前記第二の周波数ｆ２と、可聴振動が発生する周波数ｆｎｓと、可聴振動が終了する周波数をｆｎｅとしたときに、ｆ１≧ｆｎｓ＞ｆｎｅ≧ｆ２の関係を満たすことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の塵埃除去装置。
【請求項７】
前記第一の周波数ｆ１１と、前記第二の周波数ｆ２２と、可聴振動が発生する周波数ｆｎｓと、可聴振動が終了する周波数をｆｎｅとしたときに、ｆ１１≦ｆｎｓ＜ｆｎｅ≦ｆ２２の関係を満たすことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の塵埃除去装置。
【請求項８】
前記圧電材料の第一の結晶相および前記第二の結晶相は、いずれも強誘電性結晶相であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の塵埃除去装置。
【請求項９】
前記圧電材料の鉛の含有量が１０００ｐｐｍ未満であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の塵埃除去装置。
【請求項１０】
前記圧電材料が下記一般式（１）
一般式（１）
（Ｂａ１−ｘＣａｘ）ａ（Ｔｉ１−ｙＺｒｙ）Ｏ３  （１．００≦ａ≦１．０２、０．０２≦ｘ≦０．３０、０．０２０≦ｙ≦０．０９５）
で表わされるペロブスカイト型金属酸化物を主成分とし、前記金属酸化物にＭｎが含有されており、前記Ｍｎの含有量が前記金属酸化物１００重量部に対して金属換算で０．０２重量部以上０．４０重量部以下であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の塵埃除去装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の塵埃除去装置と撮像素子ユニットとを少なくとも有する装置であって、前記塵埃除去装置の振動板を前記撮像素子ユニットの受光面側に設けたことを特徴とする装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】塵埃除去装置およびその塵埃除去装置を備えた装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
前記の課題を解決するための塵埃除去装置は、
振動板と、一つ以上の圧電素子と、
前記圧電素子に電圧を印加する電源と、
前記交番電圧の周波数を変化させる制御回路とを備えた塵埃除去装置であって、
前記圧電素子は、電極と圧電材料を有し、
前記圧電材料は、第一の結晶相から第二の結晶相への相転移温度Ｔが−４０℃≦Ｔ≦８５℃の範囲にあり、
前記周波数は、第一の周波数から第二の周波数まで掃引し、
前記掃引中に可聴振動が発生する周波数をｆｎｓ、可聴振動が終了する周波数をｆｎｅとし、
前記掃引中のｆｎｓからｆｎｅまでの変化時間をΔｔｎとしたときに、Δｔｎ≦１０ｍｓの関係を満たすことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月12日(2018.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変データデジタル画像形成システムにおいて画像再形成可能面をクリーニングする方法であって、
可変データデジタル画像形成システム内の画像形成部材の画像再形成可能面とクリーニングニップで接触するクリーニングローラを供給するステップと、
液体成分および前記液体成分中で浮遊する固体成分を含む溶剤で、前記クリーニングローラを別個にクリーニングするクリーニング面部材を湿らすステップと、
前記クリーニング面部材と前記クリーニングローラの表面との間のクリーニングニップで、前記クリーニングローラの前記表面を前記湿らされたクリーニング面部材に接触させるステップであって、前記クリーニング面部材が、前記クリーニングローラの前記表面上に前記溶剤の層を残すステップと、
前記クリーニングローラの前記表面が、前記画像再形成可能面と前記クリーニングニップで接触する前に、前記溶剤の前記液体成分を気化させて、前記クリーニングローラの前記表面上に前記溶剤の前記固体成分で形成される剥離層を残すステップと、
前記画像再形成可能面の前記クリーニングローラとの前記クリーニングニップでの接触を通して、前記画像再形成可能面からインクを取り除くステップと、
前記クリーニングローラの前記表面が、前記画像再形成可能面から前記インクを回収する前記クリーニングニップを通過した後、前記クリーニング面部材を用いて、前記クリーニングローラの前記表面上の前記剥離層を再度湿らせて、前記クリーニングローラの前記表面から前記インクを取り除き易くするステップと、
前記クリーニング面部材との接触を通して、前記クリーニングローラの前記表面をクリーニングするステップと、を含む方法。
【請求項２】
前記溶剤の前記液体成分が自然に気化する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記クリーニング面部材が、前記クリーニングローラの前記表面と接触する位置から処理方向に下流に配置され、前記溶剤の前記液体成分を能動的に気化させる気化装置を利用するステップをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記気化装置はエアーナイフである請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記クリーニングローラは滑らかで硬い表面を有する請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記クリーニング面部材はウェブ材料を含み、当該ウェブ材料は、供給ローラから、圧力ローラを回って、当該ウェブ材料と前記クリーニングローラとの間のクリーニングニップを経て、巻き取りローラにまで通過する請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記クリーニング面部材はローラ部材上のスポンジ面を含む請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記溶剤の前記液体成分は水である請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記溶剤の前記固体成分は、ホウ砂、食塩、重曹、アルコノックス（登録商標）の中の少なくとも一つである請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月5日(2018.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
層状構造を備えるターボ機械構成要素を含むシステムであって、
前記層状構造が、
第１の合体層と、
第２の合体層と、
前記第１および第２の合体層の間に配置された中間層と
を備え、
前記第１および第２の合体層が、前記中間層よりも高い合体度を有し、
前記中間層が、前記第１の合体層の少なくとも第１の部分と前記第２の合体層の第２の部分との間の熱バリア、音響バリア、またはそれらの組み合わせとして機能するように構成された空状態領域を備える、システム。
【請求項２】
前記ターボ機械構成要素が、タービンノズル、タービンフレーム、シール、燃焼器ライナ、燃焼器キャップ、燃料ノズル、圧縮機ブレード、タービンブレード、圧縮機ホイール、タービンホイール、シュラウドセグメント、ガスプレミキサ、液体燃料噴射器、燃焼器−タービントランジションピース、またはそれらの任意の組み合わせである、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記システムが、回転機械システム、高温ガス流路機械システム、またはそれらの組み合わせを備える、請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記第１の合体層、前記第２の合体層、または前記中間層のうちの少なくとも１つが、傾斜機能材料を含む、請求項１乃至３のいずれかに記載のシステム。
【請求項５】
前記中間層が、部分的に合体したコバルトクロム、ステンレス鋼、チタン、クロム−ニッケル基合金、またはニッケル基合金のうちの少なくとも１つを含む、請求項１乃至４のいずれかに記載のシステム。
【請求項６】
前記第１の合体層、前記第２の合体層、前記中間層、またはそれらの任意の組み合わせが、複数のそれぞれの領域を有し、前記複数の領域の各々の領域が、異なる合体度を有する、請求項１乃至５のいずれかに記載のシステム。
【請求項７】
前記第１の合体層、前記第２の合体層、または前記中間層のうちの少なくとも１つが、前記層状構造の少なくとも一部にわたって変化する断面厚さを有する、請求項１乃至６のいずれかに記載のシステム。
【請求項８】
前記第１の合体層が、前記中間層を通過する１つまたは複数の延長部によって前記第２の合体層に直接接続された、請求項１乃至７のいずれかに記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】層状構造を有するシステム
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月22日(2018.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中間転写体上に反応液を付与する工程と、前記反応液が付与された中間転写体上にインクを付与して中間画像を形成する工程と、前記中間画像を記録媒体に転写する工程とを有する画像記録方法に用いる中間転写体であって、
前記中間転写体の表面が、平均高さが３．０μｍ以下である凸状構造を有し、
中間転写体の表面の単位面積当たりの表面積の平均比率をＲ、中間転写体の表面の単位面積当たりの凸状構造上部の総表面積の平均比率をＳとしたとき、下記式（１）を満たすことを特徴とする中間転写体。
Ｓ≦１／２４・（１０Ｒ−１３）      （１）
（但し、Ｒ≧１．３、０≦Ｓ≦１である）
【請求項２】
前記凸状構造の平均高さが、１．０μｍ以下である請求項１に記載の中間転写体。
【請求項３】
前記凸状構造が、柱状、錐状、モスアイ状又は錐台状の形状を有する請求項１又は２に記載の中間転写体。
【請求項４】
前記中間転写体の表面の平滑面における水との静的接触角が、９０°以上である請求項１から３の何れか１項に記載の中間転写体。
【請求項５】
前記中間転写体の表面が、フッ素化合物又はシリコーン化合物を含有する請求項１から４の何れか１項に記載の中間転写体。
【請求項６】
請求項１から５の何れか１項に記載の中間転写体と、
前記中間転写体上に反応液を付与可能な反応液付与手段と、
前記中間転写体上にインクを付与して中間画像を形成可能なインク付与手段と、
前記中間画像を記録媒体に転写する転写手段と、
を有することを特徴とする画像記録装置。
【請求項７】
中間転写体上に反応液を付与する工程と、
前記反応液が付与された中間転写体上にインクを付与して中間画像を形成する工程と、前記中間画像を記録媒体に転写する工程と、
を有し、
前記中間転写体の表面が、平均高さが３．０μｍ以下である凸状構造を有し、
中間転写体の表面の単位面積当たりの表面積の平均比率をＲ、中間転写体の表面の単位面積当たりの凸状構造上部の総表面積の平均比率をＳとしたとき、下記式（１）を満たすことを特徴とする画像記録方法。
Ｓ≦１／２４・（１０Ｒ−１３）      （１）
（但し、Ｒ≧１．３、０≦Ｓ≦１である）
【請求項８】
前記凸状構造の平均高さが、１．０μｍ以下である請求項７に記載の画像記録方法。
【請求項９】
前記凸状構造が、柱状、錐状、モスアイ状又は錐台状の形状を有する請求項７又は８に記載の画像記録方法。
【請求項１０】
前記中間転写体の表面の平滑面における水との静的接触角が、９０°以上である請求項７から９の何れか１項に記載の画像記録方法。
【請求項１１】
前記中間転写体の表面が、フッ素化合物又はシリコーン化合物を含有する請求項７から１０の何れか１項に記載の画像記録方法。
【請求項１２】
前記反応液が、前記中間転写体の表面の平滑面における静的接触角が４０°以下となる請求項７から１１の何れか１項に記載の画像記録方法。
【請求項１３】
前記反応液が、フッ素系界面活性剤を前記反応液の全質量に対して１質量％以上１５質量％以下、含有する請求項７から１２の何れか１項に記載の画像記録方法。
【請求項１４】
前記反応液が、インクを高粘度化させる成分を含有する請求項７から１３の何れか１項に記載の画像記録方法。
【請求項１５】
前記インクを高粘度化させる成分は、多価の金属イオン又は有機酸である請求項７から１４の何れか１項に記載の画像記録方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月10日(2018.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
間接的な印刷装置であって、
中間転写体と；
少なくとも１つの親水性ポリマー、
少なくとも１つの吸湿性可塑剤、
少なくとも１つの界面活性剤、および
水を含む、
前記中間転写体の上の犠牲コーティングと；
前記中間転写体の上に前記犠牲コーティングを生成するためのコーティング機構と；
前記犠牲コーティングを乾燥させるための乾燥ステーションと；
前記中間転写体に近接して配置され、前記中間転写体の上に作られた前記犠牲コーティングの上にインク液滴を吐出するように構成された、少なくとも１つのインクジェットノズルと；
前記中間転写体の上に作られた前記犠牲コーティングの上にあるインクを少なくとも部分的に乾燥させるように構成されたインク処理ステーションと；
前記中間転写体と接触させて基材を移動するための基材転写機構とを含む、間接的な印刷装置。
【請求項２】
前記中間転写体が、ブランケットであり、前記犠牲コーティングが、前記ブランケットの主要な外側表面の少なくとも一部を覆う、請求項１に記載の間接的な印刷装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つの親水性ポリマーは、３０００〜３００，０００の範囲の重量平均分子量を有する、請求項１に記載の間接的な印刷装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つの親水性ポリマーのＤＩ水の溶液の２０℃での粘度は、３ｃＰ〜８００ｃＰの範囲であり、前記溶液は、前記少なくとも１つの親水性ポリマーおよび前記ＤＩ水の合計重量に対して５重量％の親水性ポリマーを含む、請求項１に記載の間接的な印刷装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの親水性ポリマーが、ポリ（ビニルピロリドン）（ＰＶＰ）、ポリ（エチレンオキシド）、ヒドロキシエチルセルロース、酢酸セルロース、ポリ（エチレングリコール）、ポリ（エチレングリコール）のコポリマー、ポリ（エチレングリコール）のジブロックコポリマー、ポリ（エチレングリコール）のトリブロックコポリマー、ポリビニルアルコール（ＰＶＯＨ）、ＰＶＯＨのコポリマー、ポリアクリルアミド（ＰＡＭ）、ポリ（Ｎ−イソプロピルアクリルアミド）（ＰＮＩＰＡＭ）、ポリ（アクリル酸）、ポリメタクリレート、アクリルポリマー、無水マレイン酸コポリマー、スルホン酸化ポリエステルおよびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の間接的な印刷装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つの吸湿性可塑剤が、グリセロール、ソルビトール、エチレンビニルアルコールを含むビニルアルコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ブチレングリコール、キシリトール、マルチトール、ポリデキストロースを含むポリマーポリオール、グリセリルトリアセテート、尿素、およびα−ヒドロキシ酸（ＡＨＡ）からなる群から選択される、請求項１に記載の間接的な印刷装置。
【請求項７】
前記少なくとも１つの界面活性剤が、４〜１４の範囲のＨＬＢ値を有するイオン系界面活性剤またはアニオン系界面活性剤を含む、請求項１に記載の間接的な印刷装置。
【請求項８】
間接的な印刷プロセスであって、
中間転写体を含むインクジェット印刷装置にインク組成物を提供することと；
前記中間転写体に液体コーティング材料を塗布し、この液体コーティング材料が、
少なくとも１つの親水性ポリマー、
少なくとも１つの吸湿性可塑剤、
少なくとも１つの界面活性剤、および
水を含むことと；
前記液体コーティング材料を乾燥させ、犠牲コーティングを生成することと；
前記犠牲コーティングの上にインクの液滴を画像状のパターンになるように放出することと；
前記インクを少なくとも部分的に乾燥させ、前記中間転写体の上に実質的に乾燥したインクパターンを作成することと；
前記実質的に乾燥したインクパターンおよび前記犠牲コーティングを両方とも前記中間転写体から最終的な基材へと転写することとを含む、間接的な印刷プロセス。
【請求項９】
前記少なくとも１つの親水性ポリマーが、ポリ（ビニルピロリドン）（ＰＶＰ）、ＰＶＰのコポリマー、ポリ（エチレンオキシド）、ヒドロキシエチルセルロース、酢酸セルロース、ポリ（エチレングリコール）、ポリ（エチレングリコール）のコポリマー、ポリ（エチレングリコール）のジブロックコポリマー、ポリ（エチレングリコール）のトリブロックコポリマー、ポリビニルアルコール（ＰＶＯＨ）、ＰＶＯＨのコポリマー、ポリアクリルアミド（ＰＡＭ）、ポリ（Ｎ−イソプロピルアクリルアミド）（ＰＮＩＰＡＭ）、ポリ（アクリル酸）、ポリメタクリレート、アクリルポリマー、無水マレイン酸コポリマー、スルホン酸化ポリエステルおよびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項８に記載の間接的な印刷プロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】間接的な印刷装置および印刷プロセス
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月19日(2018.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像信号を処理する方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像信号を処理する方法であって、
前記画像信号は、前記方法を実行するためのプロセッサが実行可能なプログラムが記憶された非一時的コンピュータ可読記憶媒体に接続された入力インターフェースによって入力され、前記方法は、
前記入力インターフェースに接続された前記プロセッサが、前記画像信号からグラフを構築するステップであって、前記画像信号は、少なくとも１つのセンサによって取得される、構築するステップと、
前記プロセッサが、対応するグラフ周波数成分の大きさを調整することによって前記グラフおよび前記画像信号からグラフ行列を求めるステップと、
前記プロセッサが、前記グラフ行列および前記画像信号に基づいてクリロフベースの部分空間を求めるステップと、
前記プロセッサが、前記クリロフベースの部分空間のフィルターを決定するステップであって、前記フィルターは、前記画像信号を変換して、フィルタリングされた画像信号を生成する、決定するステップと、
前記フィルタリングされた画像信号を、前記プロセッサに接続された出力インターフェースを介して、出力するステップと、
を含み、
前記フィルタリングされた画像信号に含まれるノイズは、前記画像信号に含まれるノイズよりも少なく、改善された信号処理を提供する、画像信号を処理する方法。
【請求項２】
前記クリロフベースの部分空間は、近似クリロフ部分空間と、有理クリロフ部分空間と、近似有理クリロフ部分空間と、それらの組合せとからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記フィルターは、グラフ行列関数および近似グラフ行列関数からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記グラフ行列関数は、行列多項式と、近似多項式と、行列有理関数と、近似行列有理関数と、それらの組合せとからなる群から選択される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記行列多項式は、区間における前記画像信号のグラフフーリエスペクトル成分を最適に抑制する一方で、前記区間の外側の前記グラフフーリエスペクトル成分を強調する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記行列多項式は、１つまたは複数の非インターレース区間における前記画像信号のグラフフーリエスペクトル成分を抑制する一方で、前記１つまたは複数の非インターレース区間の外側の前記グラフスペクトル成分を強調する多項式の組合せである、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
チェビシェフ多項式の根および前記チェビシェフ多項式の再帰式の１つまたは複数の組合せを用いて、チェビシェフ反復法に基づいて前記フィルターを決定するステップをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項８】
前記行列有理関数は、前記グラフ行列の逆行列に基づく、請求項４に記載の方法。
【請求項９】
クリロフ部分空間反復法に基づいて前記フィルターを決定するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
共役勾配反復法に基づいて前記クリロフ部分空間反復法を求めるステップをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記グラフ行列関数は、該グラフ行列の部分固有値問題を解く反復法に基づき、前記部分固有値問題は、固有値の一部を計算する問題であり、前記反復法の反復数は閾値によって決まる、請求項３に記載の方法。
【請求項１２】
前記反復法は、クリロフ部分空間法および有理クリロフ部分空間反復法のうちの一方またはそれらの組合せに基づく、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記クリロフ部分空間反復法は、ランチョシュ法および共役勾配法のうちの一方またはそれらの組合せに基づく、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記グラフ行列は、グラフ隣接性、ランダムウォークおよびラプラシアン行列のうちの１つまたは組合せに基づき、前記グラフ行列のエントリは、前記グラフのエッジの重みによって決まる、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記フィルターは、前記画像信号に適応し、前記フィルターは、ローパスフィルターである、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記関数は、前記画像信号に適応する、請求項３に記載の方法。
【請求項１７】
前記多項式は、前記画像信号に適応する、請求項５に記載の方法。
【請求項１８】
前記画像信号は、画像と、画像内のパッチと、画像の集合と、ビデオシーケンスと、ビデオシーケンス内のパッチと、奥行きマップと、奥行きマップのパッチと、それらの組合せからなる群から選択され、前記グラフは、ノードおよびエッジを含み、前記方法は、
個々の画像ピクセルもしくは個々のビデオボクセルまたは画像ピクセル群もしくはビデオボクセル群において、前記画像信号を表すグラフ頂点を求めるステップと、
前記画像信号を用いて前記グラフのエッジの重みを求めるステップと、
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記画像信号は、画像と、画像内のパッチと、画像の集合と、ビデオシーケンスと、ビデオシーケンス内のパッチと、それらの組合せとからなる群から選択される第１の画像信号によって求められ、前記グラフは、ノードおよびエッジを含み、前記方法は、
画像の第２の集合と、第２のビデオシーケンスと、前記第２のビデオシーケンス内のパッチとから選択される奥行き信号および第２の画像信号にアクセスするステップと、
奥行き画像ベースのレンダリングを用いて、前記第２の画像信号を前記第１の画像信号の視点にワープするステップと、
前記ワープ画像信号を用いて前記グラフのエッジの重みを求めるステップと
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記画像信号は、ノイズがあって、第１の歪みを有し、
前記フィルタリングされた画像信号は、前記画像信号の前記第１の歪みよりも小さい第２の歪みを有する、
請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月27日(2018.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
近接場トランスデューサ（ＮＦＴ）構造の少なくとも一部を形成する工程と；
前記ＮＦＴの一部の少なくとも一方の表面上に材料を堆積させて金属含有層を形成する工程と；
前記金属含有層に、前記ＮＦＴの一部の少なくとも一方の表面内への前記材料の少なくとも一部の拡散を引き起こす条件を施す工程と
を含む方法。
【請求項２】
前記金属含有層に、拡散を引き起こす条件を施す工程が、アニールを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記アニールが、オーブンアニールまたはレーザーアニールを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
近接場トランスデューサ（ＮＦＴ）構造の少なくとも一部を形成する工程と；
前記ＮＦＴの少なくとも空気ベアリング表面上に材料を堆積させて金属含有層を形成する工程と；
前記金属含有層に、前記ＮＦＴの一部の少なくとも一方の表面内への前記材料の少なくとも一部の拡散を引き起こす条件を施す工程と；
前記金属含有層の少なくとも一部を取り除く工程と；および
オーバーコート層を適用する工程と
を含む方法。
【請求項５】
近接場トランスデューサ（ＮＦＴ）構造の少なくとも一部を形成する工程と；
前記ＮＦＴの少なくとも空気ベアリング表面上に材料を堆積させて金属含有層を形成する工程と；
前記ＮＦＴの空気ベアリング表面上にはない金属含有層の一部を取り除く工程と；
前記金属含有層に、前記ＮＦＴの一部の少なくとも一方の表面内への前記材料の少なくとも一部の拡散を引き起こす条件を施す工程と；
前記金属含有層の少なくとも一部を取り除く工程と；および
オーバーコート層を適用する工程
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月8日(2018.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
液晶パネルは、一対の基板のうち、一方の基板において画素毎に画素電極がマトリクス状に配列し、他方の基板においてコモン電極が各画素にわたって共通となるように設けられ、画素電極とコモン電極とで液晶を挟持した構成となっている。このような構成において、画素電極とコモン電極との間に、階調レベルに応じた電圧を印加・保持させると、液晶分子の配向状態が画素毎に規定され、これにより、透過率又は反射率が制御される。従って、上記の構成では、液晶分子に作用する電界のうち、画素電極からコモン電極に向かう方向（またはその反対方向）、すなわち基板面に対して垂直方向（以下、縦方向という。）の成分だけが、表示制御に寄与する、ということができる。
現在、液晶パネルを備える液晶表示装置には、高解像度化が求められている。そこで、液晶表示装置の一例であるプロジェクターにおいては、製造コストや製造容易性も鑑みて、液晶パネル自体の解像度を変更することなく、より高解像度な表示画像を得るための技術が種々提案されている（例えば特許文献１及び特許文献２参照）。
この種の技術を適用したプロジェクターでは、仮に、１フレーム期間を第１フィールド期間と第２フィールド期間とに等分割し、第１フィールド期間においては第１の画像を液晶パネルに表示させ、第２フィールド期間においては第１の画像に対して１画素ピッチだけ（１画素分だけ）所定方向にシフトさせた第２の画像を液晶パネルに表示させる場合、第２フィールド期間においては、光路シフト素子を用いて０．５画素ピッチだけ前記所定方向の逆方向に第２の画像をシフトさせて投射する。これにより、スクリーン上では当該１フレーム期間において、人間の目の残像効果によって互いに０．５画素ピッチだけずれた第１の画像と第２の画像とが重畳されて視認されるため、擬似的に画素数が増加して高解像度化された表示画像が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月27日(2018.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影手段が点検対象物を撮影した画像を解析し、上記点検対象物の表面劣化の度合いを示すスコアを算出する画像解析手段を備え、
上記スコアを表示手段に表示させることを特徴とする点検情報管理システム。
【請求項２】
上記画像解析手段が算出したスコアを格納する過去情報格納手段を備え、
上記画像解析手段が算出したスコアと、当該スコアが算出されるより前に上記画像解析手段が同じ点検対象物を撮影した画像から算出し、上記過去情報格納手段に格納されたスコアとを並べて表示手段に表示させることを特徴とする請求項１記載の点検情報管理システム。
【請求項３】
上記点検対象物の情報を格納する点検対象情報格納手段を備えたことを特徴とする請求項１または請求項２記載の点検情報管理システム。
【請求項４】
上記点検対象物の点検結果に基づいて、上記点検対象物の将来の劣化予測を行う劣化予測算出装置を備えたことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項記載の点検情報管理システム。
【請求項５】
上記点検対象物の点検結果に基づいて、上記画像解析手段で上記スコアの算出に用いられるスコア算出ルールを見直す画像解析処理改善装置を備えたことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項記載の点検情報管理システム。
【請求項６】
上記点検対象物を撮影する上記撮影手段と、
上記スコアを表示する上記表示手段と
を備えたことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項記載の点検情報管理システム。
【請求項７】
点検対象物を撮影する撮影手段と、
上記撮影手段によって撮影された画像から算出された表面劣化の度合いを示すスコアを表示する表示手段を備えたことを特徴とする携帯端末。
【請求項８】
上記表示手段は、上記撮影手段によって撮影された画像から算出されたスコアと、当該スコアが算出されるより前に上記撮影手段によって撮影された画像から算出されたスコアとを並べて表示することを特徴とする請求項７記載の携帯端末。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】点検情報管理システム及び携帯端末
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
この発明は、土木・建築構造物の点検を支援する点検情報管理システム及び携帯端末に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この発明は、上述のような課題を解決するためになされたものであり、点検対象物の点検を効率よく行えるようにした点検情報管理システム及び携帯端末を得ることを目的にする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明に係わる点検情報管理システムにおいては、撮影手段が点検対象物を撮影した画像を解析し、点検対象物の表面劣化の度合いを示すスコアを算出する画像解析手段を備え、スコアを表示手段に表示させるものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明によれば、撮影手段が点検対象物を撮影した画像を解析し、点検対象物の表面劣化の度合いを示すスコアを算出する画像解析手段を備え、スコアを表示手段に表示させるので、点検作業を効率的に行うことができる。