【手続補正書】
【提出日】平成30年1月11日(2018.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜用に実装されたチャンバに使用するためのキャリアリングであって、
外縁側とウエハ縁側とを伴う環状の円板形状を有する前記キャリアリングであって、前記外縁側から前記ウエハ縁側へ広がる上部側を有し、前記ウエハ縁側は、
キャリアリング上面よりも低いキャリアリング下面と、
複数の接触サポート構造であって、それぞれ、前記キャリアリング下面の縁に位置付けられ、前記キャリアリング下面の上方に広がり前記キャリアリング上面よりも低い高さを有し、先細の縁と隅とを有する、複数の接触サポート構造と、
前記キャリアリング上面と前記キャリアリング下面との間の段差と、
を含む、キャリアリングを備え、
前記接触サポート構造のそれぞれの頂部は、ウエハを持ち上げる及び下降させる及び移動させるために前記ウエハの底縁面に接触するように構成される、キャリアリング。
【請求項２】
請求項１に記載のキャリアリングであって、
前記ウエハ縁側は、更に、前記キャリアリング下面と前記接触サポート構造のそれぞれとの間の各移行部に内方接触縁を含む、キャリアリング。
【請求項３】
請求項１に記載のキャリアリングであって、
前記接触サポート構造の前記先細の縁及び隅は、鋭い隅を有さない実質的に湾曲した表面を有する、キャリアリング。
【請求項４】
請求項１に記載のキャリアリングであって、
成膜に使用される前記チャンバは、
ウエハサポート領域と、前記ウエハサポート領域を取り囲むキャリアサポート表面とを有する台座であって、前記キャリアサポート表面は、前記ウエハサポート領域から一段下がっている、台座と、
前記台座の第１の側部周りに配置される第１のアームと、前記台座の第２の側部周りに配置される第２のアームとを有するフォークと、
を含み、
前記第１のアーム及び前記第２のアームは、それぞれ、前記キャリアリングの上面に接触しない非係合状態にあるときは、前記キャリアサポート表面の下方に位置付けられ、係合状態にあるときは、前記ウエハを持ち上げるために前記キャリアリングの前記上面に接触する、キャリアリング。
【請求項５】
請求項４に記載のキャリアリングであって、
前記ウエハは、前記ウエハサポート領域の上に配されたときに前記キャリアサポート表面の一部の上に張り出すように構成され、各接触サポート構造は、前記ウエハの前記張り出しの下に配置されるように構成される、キャリアリング。
【請求項６】
請求項５に記載のキャリアリングであって、
前記非係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と各接触サポート構造の頂部との間に非接触分離距離が定められる、キャリアリング。
【請求項７】
請求項６に記載のキャリアリングであって、
前記係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と前記接触サポート構造のそれぞれの頂部との間に接触がなされ、前記各接触サポート構造の頂部を覆う成膜材料は、前記係合状態で接触がなされるときに前記各接触サポート構造の頂部を覆う状態に実質的に維持される、キャリアリング。
【請求項８】
請求項１に記載のキャリアリングであって、
前記チャンバは、更に、
動作時に台座の上に配置されるように構成されたシャワーヘッドであって、前記ウエハ上への成膜を可能にするためにプロセスガスを提供するように構成されたシャワーヘッドと、
整合回路網を通して前記台座に接続された高周波（ＲＦ）電力供給部であって、更に、動作時に前記ウエハ上への前記成膜を可能にするＲＦ電力供給部と、
を含む、キャリアリング。
【請求項９】
請求項８に記載のキャリアリングであって、
前記成膜される膜は、後続のエッチング動作においてエッチングストップとして使用されるアッシング可能ハードマスク（ＡＨＭ）である、キャリアリング。
【請求項１０】
請求項８に記載のキャリアリングであって、更に、
前記チャンバ内に形成されたステーション群であって、各ステーションは、台座、フォーク、及びキャリアリングを含む、ステーション群と、
前記ステーション群の各ステーションの各フォークの動きを同時に制御するように構成された機構であって、前記動きは、
前記キャリアリングをそれぞれ持ち上げる又は下降させることと、
前記キャリアリングをそれぞれ前記ステーション群の別のステーションへ回転させることと、
を含む、機構と、
備えるキャリアリング。
【請求項１１】
成膜用に実装されたチャンバに使用するためのキャリアリングであって、外縁側とウエハ縁側とを伴う環状の円板形状を有し、前記外縁側から前記ウエハ縁側へ広がる上部側を有し、前記キャリアリングは、
前記キャリアリングの前記ウエハ縁側に近いところに配され、前記キャリアリングの前記外縁側に近いところに配されたキャリアリング上面よりも低い、キャリアリング下面と、
前記キャリアリングから形成された、前記キャリアリングの前記ウエハ縁側の縁に沿って配された複数の接触サポート構造であって、前記複数の接触サポート構造は、それぞれ、前記キャリアリング下面の上方と前記キャリアリング上面の下方とに広がる高さを有し、各接触サポート構造は、先細の縁と隅とを有する、複数の接触サポート構造と、
を含む、キャリアリング。
【請求項１２】
請求項１１に記載のキャリアリングであって、更に、
前記キャリアリング上面と前記キャリアリング下面との間に段差を備える、キャリアリング。
【請求項１３】
請求項１２に記載のキャリアリングであって、
前記接触サポート構造のそれぞれの頂部は、ウエハの底縁面に接触するように構成され、前記複数の接触サポート構造は、前記ウエハを持ち上げる、下降させる、又は移動させるために使用される、キャリアリング。
【請求項１４】
請求項１１に記載のキャリアリングであって、
前記ウエハ縁側は、更に、前記キャリアリング下面と前記接触サポート構造のそれぞれとの間の各移行部に内方接触縁を含む、キャリアリング。
【請求項１５】
請求項１１に記載のキャリアリングであって、
前記接触サポート構造の前記先細の縁及び隅は、鋭い隅を有さない実質的に湾曲した表面を有する、キャリアリング。
【請求項１６】
請求項１１に記載のキャリアリングであって、
前記キャリアリングは、前記チャンバのウエハサポートを取り囲むキャリアサポート表面と嵌め合うように構成される複数の延長部を伴う底面を有する、キャリアリング。
【請求項１７】
請求項１１に記載のキャリアリングであって、
前記キャリアリングの前記上部側は、前記キャリアリング上面及び少なくとも前記キャリアリングの下面を含み、
前記キャリアリングの前記上部側は、前記複数の接触サポート構造の頂部を含む、キャリアリング。
【請求項１８】
請求項１１に記載のキャリアリングであって、
成膜に使用される前記チャンバは、
ウエハサポート領域と、前記ウエハサポート領域を取り囲むキャリアサポート表面とを有する台座であって、前記キャリアサポート表面は、前記ウエハサポート領域から一段下がっている、台座と、
前記キャリアサポート表面に沿って配された係合場所と嵌め合うように構成される複数の延長部を伴う底面を有する前記キャリアリングと、
を備える、キャリアリング。
【請求項１９】
請求項１８に記載のキャリアリングであって、
ウエハは、前記ウエハサポート領域の上に配されたときに前記キャリアサポート表面の一部の上に張り出すように構成され、各接触サポート構造は、前記ウエハの前記張り出しの下に配置されるように構成される、キャリアリング。
【請求項２０】
請求項１９記載のキャリアリングであって、
非係合状態では、前記ウエハの底縁面と各接触サポート構造の頂部との間に非接触分離距離が定められ、
係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と前記接触サポート構造のそれぞれの頂部との間に接触がなされる、キャリアリング。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
以上の発明は、理解を明瞭にする目的で幾らか詳細に説明されてきたが、添付の特許請求の範囲内で特定の変更及び修正が加えられてよいことが明らかである。したがって、これらの実施形態は、例示的であって限定的ではないと見なされ、本明細書で与えられる詳細に限定されず、添付の特許請求の範囲及びそれらの均等物の範囲内で変更されてよい。例えば、本発明は以下の適用例としても実施可能である。
［適用例１］成膜用に実装されたチャンバに使用するためのキャリアリングであって、
外縁側とウエハ縁側とを伴う環状の円板形状を有するキャリアリングであって、前記外縁側から前記ウエハ縁側へ広がるキャリアリング上面を有し、前記ウエハ縁側は、
前記キャリアリング上面よりも低いキャリアリング下面と、
複数の接触サポート構造であって、それぞれ、前記キャリアリング下面の縁に位置付けられ、前記キャリアリング下面と前記キャリアリング上面との間の高さを有し、先細の縁と隅とを有する、複数の接触サポート構造と、
前記キャリアリング上面と前記キャリアリング下面との間の段差であって、前記段差の頂部には上向き縁が配され、前記段差の底部には下方内縁が配される、段差と、
を含む、キャリアリングを備え、
前記接触サポート構造のそれぞれの頂部は、ウエハを持ち上げる及び下降させる及び移動させるために前記ウエハの底縁面に接触するように構成される、キャリアリング。
［適用例２］適用例１に記載のキャリアリングであって、
前記ウエハ縁側は、更に、前記キャリアリング下面と前記接触サポート構造との間の移行部に内方接触縁を含み、
前記上向き縁及び前記下方内縁は、それぞれ、丸みを帯びた鋭くない縁を有する、キャリアリング。
［適用例３］適用例１に記載のキャリアリングであって、
前記接触サポート構造の前記先細の縁及び隅は、鋭い隅を有さない実質的に湾曲した表面を有する、キャリアリング。
［適用例４］適用例１に記載のキャリアリングであって、
成膜に使用される前記チャンバは、
ウエハサポート領域と、前記ウエハサポート領域を取り囲むキャリアサポート表面とを有する台座であって、前記キャリアサポート表面は、前記ウエハサポート領域から一段下がっている、台座と、
前記台座の第１の側部周りに配置される第１のアームと、前記台座の第２の側部周りに配置される第２のアームとを有するフォークと、
を含み、
前記第１のアーム及び前記第２のアームは、それぞれ、前記キャリアリングの上面に接触しない非係合状態にあるときは、前記キャリアサポート表面の下方に位置付けられ、係合状態にあるときは、前記ウエハを持ち上げるために前記キャリアリングの前記上面に接触する、キャリアリング。
［適用例５］適用例４に記載のキャリアアームであって、
前記ウエハは、前記ウエハサポート領域の上に配されたときに前記キャリアサポート表面の一部の上に張り出すように構成され、各接触サポート構造は、前記ウエハの前記張り出しの下に配置されるように構成される、キャリアリング。
［適用例６］適用例５に記載のキャリアリングであって、
前記非係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と各接触サポート構造の頂部との間に非接触分離距離が定められる、キャリアリング。
［適用例７］適用例６に記載のキャリアリングであって、
前記係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と前記接触サポート構造のそれぞれの頂部との間に接触がなされ、前記各接触サポート構造の頂部を覆う成膜材料は、前記係合状態で接触がなされるときに前記各接触サポート構造の頂部を覆う状態に実質的に維持される、キャリアリング。
［適用例８］適用例１に記載のキャリアリングであって、
前記チャンバは、更に、
動作時に前記台座の上に配置されるように構成されたシャワーヘッドであって、前記ウエハ上への成膜を可能にするためにプロセスガスを提供するように構成されたシャワーヘッドと、
整合回路網を通して前記台座に接続された高周波（ＲＦ）電力供給部であって、更に、動作時に前記ウエハ上への前記成膜を可能にするＲＦ電力供給部と、
を含む、キャリアリング。
［適用例９］適用例８に記載のキャリアリングであって、
前記成長される膜は、後続のエッチング動作においてエッチングストップとして使用されるアッシング可能ハードマスク（ＡＨＭ）である、キャリアリング。
［適用例１０］適用例８に記載のチャンバであって、更に、
前記チャンバ内に形成されたステーション群であって、各ステーションは、台座、フォーク、及びキャリアリングを含む、ステーション群と、
前記ステーション群の各ステーションの各フォークの動きを同時に制御するように構成された機構であって、前記動きは、
前記キャリアリングをそれぞれ持ち上げる又は下降させることと、
前記キャリアリングをそれぞれ前記ステーション群の別のステーションへ回転させることと、
を含む、機構と、
備えるチャンバ。
［適用例１１］ウエハ上への成膜を処理するためのチャンバであって、
ウエハサポート領域と、前記ウエハサポート領域を取り囲むキャリアサポート表面とを有する台座であって、前記キャリアサポート表面は、前記ウエハサポート領域から一段下がっている、台座と、
前記台座の第１の側部周りに配置される第１のアームと、前記台座の第２の側部周りに配置される第２のアームとを有するフォークであって、前記第１のアーム及び前記第２のアームは、それぞれ、非係合状態にあるときは、前記キャリアサポート表面の下方に配置され、係合状態にあるときは、前記キャリアサポート表面の上方へ上昇するように構成される、フォークと、
外縁側とウエハ縁側とを伴う環状の円板形状を有するキャリアリングであって、前記外縁側から前記ウエハ縁側へ広がるキャリアリング上面を有し、前記ウエハ縁側は、
前記キャリアリング上面よりも低いキャリアリング下面と、
複数の接触サポート構造であって、それぞれ、前記キャリアリング下面の縁に位置付けられ、前記キャリアリング下面と前記キャリアリング上面との間の高さを有し、先細の縁と隅とを有する、複数の接触サポート構造と、
を含む、キャリアリングと、
を備え、
前記接触サポート構造のそれぞれの頂部は、前記ウエハを上昇させる及び移動させるために前記フォークが前記キャリアリングを持ち上げるときに前記ウエハの底縁面に接触するように構成される、チャンバ。
［適用例１２］適用例１１に記載のチャンバであって、
前記ウエハ縁側は、更に、前記キャリアリング上面が上向き縁において下向きに移行するところが先細であり、前記上向き縁は、前記台座の前記ウエハサポート領域の上にあるときの前記ウエハの縁と向かい合うように位置付けられるように構成される、チャンバ。
［適用例１３］適用例１１に記載のチャンバであって、
前記ウエハ縁側は、
前記キャリアリング上面と前記キャリアリング下面との間の段差であって、前記段差の頂部には上向き縁が配され、前記段差の底部には下方内縁が配される、段差を含み、
前記上向き縁及び前記下方内縁は、それぞれ、丸みを帯びた鋭くない縁を有する、チャンバ。
［適用例１４］適用例１３に記載のチャンバであって、
前記ウエハ縁側は、更に、前記キャリアリング下面と前記接触サポート構造との間の移行部に内方接触縁を含む、チャンバ。
［適用例１５］適用例１１に記載のチャンバであって、
前記接触サポート構造の前記先細の縁及び隅は、鋭い隅を有さない実質的に湾曲した表面を有する、チャンバ。
［適用例１６］適用例１１に記載のチャンバであって、
前記ウエハは、前記ウエハサポート領域の上に配されたときに前記キャリアサポート表面の一部の上に張り出すように構成され、各接触サポート構造は、前記ウエハの前記張り出しの下に配置されるように構成される、チャンバ。
［適用例１７］適用例１６記載のチャンバであって、
前記非係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と各接触サポート構造の頂部との間に非接触分離距離が定められる、チャンバ。
［適用例１８］適用例１７に記載のチャンバであって、
前記係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と前記接触サポート構造のそれぞれの頂部との間に接触がなされ、前記各接触サポート構造の頂部を覆う成膜材料は、前記係合状態で接触がなされるときに前記各接触サポート構造の頂部を覆う状態に実質的に維持される、チャンバ。
［適用例１９］適用例１１に記載のチャンバであって、更に、
動作時に前記台座の上に配置されるように構成されたシャワーヘッドであって、前記ウエハ上への成膜を可能にするためにプロセスガスを提供するように構成されたシャワーヘッドと、
整合回路網を通して前記台座に接続された高周波（ＲＦ）電力供給部であって、更に、動作時に前記ウエハ上への前記成膜を可能にするＲＦ電力供給部と、
を備えるチャンバ。
［適用例２０］適用例１９に記載のチャンバであって、
前記成長される膜は、後続のエッチング動作においてエッチングストップとして使用されるアッシング可能ハードマスク（ＡＨＭ）である、チャンバ。
［適用例２１］適用例１９に記載のチャンバであって、更に、
前記チャンバ内に形成されたステーション群であって、各ステーションは、台座、フォーク、及びキャリアリングを含む、ステーション群と、
前記ステーション群の各ステーションの各フォークの動きを同時に制御するように構成された機構であって、前記動きは、
前記キャリアリングをそれぞれ持ち上げる又は下降させることと、
前記キャリアリングをそれぞれ前記ステーション群の別のステーションへ回転させることと、
を含む、機構と、
備えるチャンバ。
［適用例２２］適用例２１に記載のチャンバであって、
前記ステーションは、それぞれ、前記台座の少なくとも１つにリフトピンを含み、前記リフトピンは、エンドエフェクタが前記チャンバのステーションにおいてウエハを取り上げる又は降ろすことを可能にするために前記ウエハを上昇させるために使用される、チャンバ。
［適用例２３］適用例２１に記載のチャンバであって、
動作時に前記機構、前記プロセスガス、及び前記ＲＦ電力供給部を管理するためのコントローラにインターフェース接続されたチャンバ。