(57)【要約】  カラーフィルム基板及びその製造方法、表示パネルと表示装置を提供する。該カラーフィルム基板は、サブ画素（０１０３）を複数含み、各サブ画素（０１０３）はカラーフィルタ層（１０３）を含み、前記カラーフィルタ層（１０３）は該サブ画素（０１０３）を透過した光が１種の色を表示させるように配置され、色の異なる少なくとも２つの隣接サブ画素（０１０３）の間に隔壁（１０５）が設置されており、前記隔壁（１０５）はそれに仕切られているサブ画素間に連続的に延在している。該カラーフィルム基板は、漏れた光の光線による隣接するサブ画素の光色への影響を抑制できる。
2020521990.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルム基板であって、サブ画素を複数含み、各前記サブ画素はカラーフィルタ層を含み、前記カラーフィルタ層は該サブ画素を透過する光に１種の色を表示させるように配置され、色の異なる少なくとも２つの隣接サブ画素間に隔壁が設置されており、前記隔壁はそれにより仕切られているサブ画素間に連続的に延在しているカラーフィルム基板。
【請求項２】
前記隔壁の側壁に反射層が設置されている請求項１に記載のカラーフィルム基板。
【請求項３】
前記隔壁は不透光性樹脂材料を採用する請求項１又は２に記載のカラーフィルム基板。
【請求項４】
少なくとも２つの隔壁を含み、前記少なくとも２つの隔壁は略同じ高さを有する請求項１〜３のいずれか１項に記載のカラーフィルム基板。
【請求項５】
さらにベース基板を含み、
前記隔壁は台形状の断面を有し、前記台形は、上底辺が前記下底辺よりも前記ベース基板から離れており、前記下底辺の長さが前記上底辺の長さより大きい請求項１〜４のいずれか１項に記載のカラーフィルム基板。
【請求項６】
前記複数のサブ画素はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素は第１方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素は第２方向に沿って配列され、前記第１方向と前記第２方向は交差しており、前記隔壁は前記第１方向に沿って連続的に延在している請求項１〜５のいずれか１項に記載のカラーフィルム基板。
【請求項７】
前記複数のサブ画素はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素は第１方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素は第２方向に沿って配列され、前記第１方向と前記第２方向は交差しており、前記第１方向において、前記隔壁は、異なるサブ画素間に間隔を有する請求項１〜５のいずれか１項に記載のカラーフィルム基板。
【請求項８】
さらに支持体を含み、
前記支持体は、同一色のサブ画素間に設置され、高さが前記隔壁の高さ以上である請求項１〜７のいずれか１項に記載のカラーフィルム基板。
【請求項９】
さらにカラーフィルム積層を含み、
前記カラーフィルム積層は、色の異なる複数のカラーフィルムサブ層を含み、高さが前記カラーフィルタ層の高さより大きい請求項１〜７のいずれか１項に記載のカラーフィルム基板。
【請求項１０】
前記隔壁は、前記カラーフィルム積層に設置され、前記カラーフィルム基板での正投影が前記カラーフィルム積層の前記カラーフィルム基板での正投影内に位置する請求項９に記載のカラーフィルム基板。
【請求項１１】
カラーフィルム基板の製造方法であって、
サブ画素を複数形成することを含み、
各サブ画素はカラーフィルタ層を含み、前記カラーフィルタ層は該サブ画素を透過する光に１種の色を表示させるように配置され、色の異なる少なくとも２つの隣接サブ画素間に隔壁が形成されており、前記隔壁はそれにより仕切られているサブ画素間に連続的に延在しているカラーフィルム基板の製造方法。
【請求項１２】
前記隔壁の側壁に反射層を形成することをさらに含む請求項１１に記載のカラーフィルム基板の製造方法。
【請求項１３】
前記隔壁は不透光性樹脂材料を採用する請求項１１又は１２に記載のカラーフィルム基板の製造方法。
【請求項１４】
前記カラーフィルム基板は、少なくとも２つの隔壁を含み、前記少なくとも２つの隔壁は略同じ高さを有する請求項１１〜１３のいずれか１項に記載のカラーフィルム基板の製造方法。
【請求項１５】
さらにベース基板を含み、
前記隔壁は台形状の断面を有し、前記台形は、上底辺が下底辺よりも前記ベース基板から離れ、前記下底辺の長さが前記上底辺の長さより大きい請求項１１〜１４のいずれか１項に記載のカラーフィルム基板の製造方法。
【請求項１６】
前記複数のサブ画素はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素は第１方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素は第２方向に沿って配列され、前記第１方向と前記第２方向は交差しており、前記隔壁は第１方向に沿って連続的に延在している請求項１１〜１５のいずれか１項に記載のカラーフィルム基板の製造方法。
【請求項１７】
前記複数のサブ画素はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素は第１方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素は第２方向に沿って配列され、前記第１方向と前記第２方向は交差しており、前記第１方向において、前記隔壁は、異なるサブ画素間に間隔を有する請求項１１〜１５のいずれか１項に記載のカラーフィルム基板の製造方法。
【請求項１８】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載のカラーフィルム基板を備える表示パネル。
【請求項１９】
さらにアレイ基板を含み、
前記アレイ基板と前記カラーフィルム基板は張り合わせられ、
前記隔壁の高さが、前記アレイ基板と前記カラーフィルム基板で形成されたセルのセルギャップより小さい請求項１８に記載の表示パネル。
【請求項２０】
請求項１８〜１９のいずれか１項に記載の表示パネルを備える表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
［関連出願の相互参照］
本特許出願は、２０１７年５月１８日に提出した中国特許出願第２０１７１０３５３５４５．４号の優先権を主張し、ここで、上記中国特許出願に開示されている全内容を本発明の例示の一部として引用する。
【０００２】
本発明の少なくとも一実施例は、カラーフィルム基板及びその製造方法、表示パネルと表示装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ―Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）デバイスは、液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）に比べて、自己発光が可能で、応答速度が高く、広視野角を有し、高輝度で、色が鮮やかで、軽量化や薄型化が実現される等の利点を有し、次の世代のディスプレイ技術であると考えられている。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の少なくとも一実施例は、漏れた光の光線による隣接するサブ画素の光色への影響を抑制できる、カラーフィルム基板及びその製造方法、表示パネルに関する。
【０００５】
本発明の少なくとも一実施例は、サブ画素を複数含み、各サブ画素はカラーフィルタ層を含み、前記カラーフィルタ層は該サブ画素を透過する光に１種の色を表示させるように配置され、色の異なる少なくとも２つの隣接サブ画素間に隔壁が設置されており、前記隔壁はそれにより仕切られているサブ画素間に連続的に延在している、カラーフィルム基板を提供する。
【０００６】
本発明の少なくとも一実施例は、サブ画素を複数形成することを含み、各サブ画素はカラーフィルタ層を含み、前記カラーフィルタ層は該サブ画素を透過する光に１種の色を表示させるように配置され、色の異なる少なくとも２つの隣接サブ画素間に隔壁が形成されており、前記隔壁はそれにより仕切られているサブ画素間に連続的に延在している、カラーフィルム基板の製造方法をさらに提供する。
【０００７】
本発明の少なくとも一実施例は、本発明の少なくとも一実施例によるいずれかのカラーフィルム基板を備える表示パネルをさらに提供する。
【０００８】
本発明の少なくとも一実施例は、本発明の少なくとも一実施例によるいずれかの表示パネルを備える表示装置をさらに提供する。
【０００９】
本発明の実施例の技術案を明瞭に説明するために、以下、実施例の図面を簡単に説明するが、勿論、以下の説明における図面は本発明の一部の実施例に関するものに過ぎず、本発明を限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】トップエミッションＯＬＥＤ表示パネルの断面模式図である。
【図２】トップエミッションＯＬＥＤ表示パネルのアレイ基板の平面視模式図である。
【図３】図２のアレイ基板に対応したカラーフィルム基板の平面視模式図である。
【図４】別のトップエミッションＯＬＥＤ表示パネルのアレイ基板の平面視模式図である。
【図５】図４のアレイ基板に対応したカラーフィルム基板の平面視模式図である。
【図６】本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の平面視模式図である。
【図７】本発明の一実施例による、図６に示されるカラーフィルム基板を備える表示パネルの断面模式図（図６に示されるカラーフィルム基板のＡＢ部分断面図）である。
【図８】本発明の一実施例による、図６に示されるカラーフィルム基板を備える表示パネルの断面模式図（図６に示されるカラーフィルム基板のＣＤ部分断面図）である。
【図９】一実施例によって提供された本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の断面模式図である。
【図１０】本発明の一実施例による、反射層を含むカラーフィルム基板で形成された表示パネルの漏れ光を減少させた場合の模式図である。
【図１１】一実施例によって提供された本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の平面視模式図である。
【図１２】本発明の一実施例による表示パネルの断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の実施例の目的、技術案及び利点をより明瞭にするために、以下、本発明の実施例の図面を参照しながら、本発明の実施例の技術案を明瞭且つ完全に説明する。勿論、説明される実施例は、本発明の一部の実施例に過ぎず、すべての実施例ではない。説明される本発明の実施例に基づいて、当業者が創造的な労働をしない前提で得られるすべての他の実施例は、いずれも本発明の保護範囲に入る。
【００１２】
本発明に使用されている技術用語又は科学技術用語は、特別に定義されていない場合、当業者が理解できる一般的な意味を有する。本発明に使用されている「第１」、「第２」及び類似する用語は、異なる構成要素を区別するためのものに過ぎず、順番、数量又は重要度を示すものではない。同様に、「含む」又は「備える」等の類似する用語は、該用語の前に記載された素子又は部品が該用語の後に挙げられる素子又は物体及びそれらと同等のものをカバーするが、ほかの素子又は物体を排除しないことを意味する。「接続」又は「連結」等の類似する用語は、物理的又は機械的接続に限定されず、直接接続されるか間接的に接続されるかを問わず、電気的接続を含んでもよい。「上」、「下」、「左」、「右」等は、相対的な位置関係を示すだけであり、説明された対象の絶対的な位置が変わると、該相対的な位置関係も対応に変わる可能性がある。
【００１３】
ＯＬＥＤデバイスは、一般的に、陽極、発光機能層２１３及び陰極からなり、発光面に応じてボトムエミッションとトップエミッションの２種があり、トップエミッションデバイスは、大きな開口率を実現できるため、近年、盛んに研究されている。
【００１４】
トップエミッションＯＬＥＤデバイスでは発光機能層（ＥＬ）の各膜層の厚さについて均一性が要求されるため、インクジェット印刷ＯＬＥＤデバイスの場合は、トップエミッションのものが製造されにくく、トップエミッションデバイスの色域をさらに向上させるために、ＯＬＥＤデバイスが、対応したカラーフィルタ（Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ、ＣＦ）層で対応した不純をフィルタリングされた後、特定のスペクトルを保留して、ＯＬＥＤデバイスの単色の色純度を向上させ、さらにＯＬＥＤデバイスの色域を向上させる、ＯＬＥＤとカラーフィルタの組み合わせる技術（ＯＬＥＤ＋ＣＦ）が開発されている。
【００１５】
ところで、図１に示されるように、カラーフィルム基板１０の第１ベース基板１０１にブラックマトリックス１０２とカラーフィルタ層１０３とが設置されてもよく、各サブ画素０１０３はカラーフィルタ層１０３を含み、カラーフィルタ層１０３は、該サブ画素を透過する光が１種の色を表示させるように配置され、カラーフィルタ層１０３は、赤色フィルタ層１０３１、緑色フィルタ層１０３２及び青色フィルタ層１０３３を含んでもよい。光がサブ画素を透過して示す色に応じて、サブ画素０１０３は、赤色サブ画素、緑色サブ画素及び青色サブ画素を含んでもよい。アレイ基板２０は、発光ユニット２００２を含み、発光ユニット２００２は、第１電極２１０を含んでもよく、第１電極２１０は第２ベース基板２０１に設置されてもよい。第１電極２１０は、透明導電性酸化物、たとえば酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）を採用してもよくが、それに限定されない。図１では、発光ユニット２００２の全構造が示されていない。
【００１６】
図１に示されるように、トップエミッションＯＬＥＤデバイスにおいて、アレイ基板２０及びカラーフィルム基板１０が張り合わせられた後、両者の間に隙間があるため、各サブ画素（たとえば赤、緑、青）０１０３同士間が発光するときに光漏れが発生しやすくなって、色の干渉を引き起こす。本発明の実施例では、１つの画素に赤色、緑色及び青色の三原色のサブ画素が含まれることを例にして説明したが、それに限定限定されない。サブ画素はほかの色を採用してもよい。
【００１７】
図１に示されるように、アレイ基板２０とカラーフィルム基板１０の間に隙間が存在するため、光漏れが発生する。θ１が入射角、θ２が出射角、空気の屈折率が１．０、ガラスの屈折率が１．５（第１ベース基板１０１をガラス基板にする場合を例に）であり、このように、θ１が４１°であるとき、θ２は９０°となり、つまり、入射角θ１＞４１°の場合は、光線が出射できず、光漏れが発生することがなく、入射角θ１が４１°より小さい場合は、光が出射でき、光漏れが発生する。
【００１８】
図１では、第１電極２１０に画素定義層（Ｐｉｘｅｌ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ、ＰＤＬ）が設置されてもよい。たとえば、図１に示されるように、インクジェット印刷デバイスの場合、画素定義層は第１サブ画素定義層（第１サブＰＤＬ）２１１と第２サブ画素定義層（第２サブＰＤＬ）２１２の二層構造を含んでもよく、第１サブＰＤＬ２１１は、発光ユニット２００２の実際発光面積を定義することに用いられ、高表面エネルギー材料、たとえばＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４等を使用してもよい。第２サブＰＤＬ２１２はインクジェット印刷デバイスのインクを収納するものとして機能し、インクのサブ画素外への流出を防止するために、表面に高疎水性が具備する材料を使用してもよい。第２サブＰＤＬ２１２は、フッ素含有アクリル樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂等の材料を採用してもよい。
【００１９】
蒸着デバイスの場合、特殊な表面特性を必要としないため、第２サブＰＤＬ２１２は、ポリイミド、アクリル樹脂、ＳｉＯ２、セラミック等の材料を採用してもよい。
【００２０】
図２に示されるように、アレイ基板は、薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）２００１と、ＯＬＥＤサブ画素領域と、第１サブＰＤＬ２１１と、第２サブＰＤＬ２１２とを含む。内部補償回路の要求に応じて、２Ｔ１Ｃ、３Ｔ２Ｃ、３Ｔ１Ｃ等の構造が設置されてもよい。図２に示されるように、ＴＦＴ２００１はサブ画素の長手方向に設置されてもよく、図２中、各サブ画素の長手方向に沿って３つのＴＦＴ２００１が設置される場合が示されている。ＯＬＥＤサブ画素領域は、サブ画素の発光形状、位置及び大きさを定義することに用いられている。
【００２１】
たとえば、ＰＤＬが形成された後、第１電極２１０に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔ブロッキング層、電子ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層等のうちの１層又は複数層を含んでなる発光機能層２１３が形成される。ＯＬＥＤは、白色光を発光してカラーフィルタ層でカラーフィルタリングしてカラー表示をすることが可能である。
【００２２】
たとえば、第２サブＰＤＬ２１２の幅は、５〜３０μｍ、好ましくは１０μｍ、第２サブＰＤＬ２１２の厚さは、１〜５μｍ、好ましくは１．５μｍ、第２サブＰＤＬ２１２の傾きは、４０〜６０°、好ましくは４５°であってもよい。
【００２３】
図３に示されるように、カラーフィルム基板１０に柱状の支持体０１０５が設置されてもよく、支持体０１０５は各サブ画素０１０３の四隅に設置されてもよい。
【００２４】
たとえば、アレイ基板２０とカラーフィルム基板１０の間の隙間は、設備のラミネート能力によるが、１０〜１５μｍ、好ましくは１０μｍ程度であってもよく。
【００２５】
たとえば、サブ画素の短手方向から見ると、隙間が１５μｍ、第１サブＰＤＬ２１１の幅が１３μｍである場合、θ１の角度は約４１°となり、このように、漏れた光の光線が出射できない程度である。設備の位置合わせの誤差が±５μｍであることを考慮に入れると、θ１角度を＞４１°にするには、第２サブＰＤＬ２１２の幅が１８μｍより大きいことが必要であり、実際にサブ画素を設計するにあたり、開口率をできるだけ向上させるために、短手方向における第２サブＰＤＬ２１２の幅ができるだけ狭く設計され、光漏れを低減させるために、サブ画素の短手方向において、第２サブＰＤＬ２１２の最小幅は１８μｍであってもよい。
【００２６】
勿論、開口率の向上と光漏れの低減を両立させることが不可能であるが、高解像度ＯＬＥＤデバイスでは、光漏れと開口率をバランスよく考慮しなければならない。
【００２７】
図４に示されるように、アレイ基板２０において、ＴＦＴ２００１はサブ画素の短手方向に沿って設置され、図５は、図４に対応したカラーフィルム基板１０の平面模式図である。カラーフィルム基板１０に柱状の支持体０１０５が設置され、支持体０１０５は各サブ画素０１０３の四隅に設置されてもよい。カラーフィルム基板１０において、各サブ画素０１０３はアレイ状に配列されてもよい。
【００２８】
たとえば、図４に示されるように、サブ画素の長手方向から見ると、ＴＦＴ寸法が約幅５０μｍであり、１８μｍより大きいため、光漏れのリスクがなく、光漏れが発生しても、同一色のサブ画素であるため、色ズレの懸念がない。
【００２９】
本発明の少なくとも一実施例はカラーフィルム基板を提供しており、図６に示されるように、複数のサブ画素０１０３を含み、各サブ画素０１０３は光を透過してもよくに配置されるカラーフィルタ層１０３を含む。カラーフィルタ層１０３は、該サブ画素０１０３を透過する光に１種の色を表示させるように配置され、色の異なる少なくとも２つの隣接サブ画素０１０３の間に隔壁１０５が設置されており、隔壁１０５はそれにより仕切られているサブ画素０１０３の間に連続的に延在している。隔壁は支持と遮光の役割を果たすことができる。図６中、８個のサブ画素０１０３が示されるが、本発明の実施例では、サブ画素の数はそれに限定されない。隔壁１０５はそれにより仕切られているサブ画素０１０３の間に連続的に延在しているとは、たとえば、それにより仕切られている少なくとも１つのサブ画素０１０３の間に連続的に延在していることであり、連続的に延在しているとは、たとえば間隔／断続がないことを意味する。
【００３０】
本発明の少なくとも一実施例はカラーフィルム基板を提供しており、サブ画素０１０３の間に連続的に延在している隔壁が設置されることによって、発光ユニットから発光する光を特定のサブ画素に限定することができ、漏れた光の光線による隣接サブ画素の光色への影響を抑制することができ、異なるサブ画素同士間の色の干渉を回避できる。
【００３１】
たとえば、図６に示されるように、カラーフィルタ層１０３は、赤色フィルタ層１０３１、緑色フィルタ層１０３２及び青色フィルタ層１０３３を含んでもよいが、これらに限定されない。
【００３２】
たとえば、隔壁１０５はストリップ状に分布してもよい。隔壁１０５は、光を遮断させる作用を果たすように、データラインの上方に設置されてもよい。たとえば、データラインはＴＦＴに電気信号を印加するように配置されてもよい。たとえば、隔壁１０５の高さは、５〜１０μｍであってもよく、第２サブＰＤＬ２１２の幅とフォトレジスト露光能力によって決定されるが、張り合わせ時に所望したセルギャップに応じて決定できる。隔壁１０５はストリップ状になるため、発光を特定のサブ画素内に効果的に限定させることができ、色の干渉が生じるリスクを解消できる。高さはたとえば第１ベース基板に垂直な方向での厚さを意味する。
【００３３】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板は、図６に示されるように、柱状（点状）の支持体０１０５をさらに含んでもよく、支持体０１０５は同一色のサブ画素０１０３の間に設置されてもよい。たとえば、より確実に支持するように、支持体０１０５は隣接サブ画素間における隔壁１０５が設置されていない位置に位置する。たとえば、支持体０１０５と隔壁１０５はそれぞれサブ画素の異なる辺に位置されてもよい。たとえば、点状の支持体０１０５は、ＴＦＴ領域の上方に設置されてもよく、できるだけ大きな支持体０１０５を設置することが可能として、セルギャップを安定化させる作用を果たす。支持体０１０５の高さは隔壁１０５の高さより大きいであってもよく、これにより、支持体０１０５は主支持作用を果たし、隔壁１０５は補助的な支持作用を果たし、このように、カラーフィルム基板とアレイ基板とのラミネート過程での隔壁１０５の変形を防止することができる。
【００３４】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板では、図６に示されるように、複数のサブ画素０１０３はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素０１０３は第１方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素０１０３は第２方向に沿って配列され、第１方向において、隔壁１０５は、異なるサブ画素０１０３の間に間隔が有する。隔壁１０５の分離部位は間隔となる。カラーフィルム基板とアレイ基板とのラミネート過程に、隔壁１０５の受ける力にムラが生じると変形しやすくなり、間隔が設置されると、ラミネート力を放出したり分散させたりすることができ、変形が発生しても、局所に限定されることができる。たとえば、第１方向は第２方向に垂直である。たとえば、第１方向は紙面に沿って垂直な方向であり、第２方向は紙面に沿って水平な方向である。
【００３５】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板は、図７に示されるように、第１ベース基板１０１をさらに含み、隔壁１０５は台形状の断面を有し、台形は、上底辺が下底辺よりも第１ベース基板１０１から離れ、下底辺の長さが上底辺の長さより大きい。台形状の断面を有する隔壁１０５は、カラーフィルム基板とアレイ基板とのラミネート際に、倒壊しにくい。
【００３６】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板では、隔壁１０５は不透光性樹脂材料（吸光材料）を採用してもよい。それによって、漏れた光の光線が隔壁１０５を通過するときに吸収されて、隣接するサブ画素からの発光をなくす。光利用率をさらに向上させるために、隔壁１０５は高反射率材料を選択してもよい。
【００３７】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板は、図７に示されるように、少なくとも２つの隔壁１０５を含み、且つセルギャップに対する支持に寄与するように、略同じ高さを有する。たとえば、カラーフィルム基板は、異なる位置に位置する少なくとも２つの隔壁１０５を含む。たとえば、各隔壁１０５は略同じ高さを有する。略同じ高さは、たとえば、同じ高さの場合、又は高さ差と平均高さとの比が５％より小さいである場合を含む。たとえば、セルギャップに対する支持寄与するように、支持体０１０５と隔壁１０５も略同じ高さを有してもよい。支持体０１０５と隔壁１０５は、同じ材料を採用し、且つ同様な製造プロセスにより得られてもよい。なお、支持体０１０５の高さは隔壁１０５の高さより大きくてもよい。
【００３８】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板では、図７及び８に示されるように、カラーフィルム基板１０はブラックマトリックス（Ｂｌａｃｋ  Ｍａｔｒｉｘ、ＢＭ）１０２をさらに含んでもよく、各サブ画素０１０３を仕切るように、ブラックマトリックス１０２は隣接サブ画素０１０３の間に設置されてもよい。
【００３９】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板では、図７及び８に示されるように、カラーフィルム基板１０はカラーフィルム積層１０３０をさらに含んでもよく、カラーフィルム積層１０３０は、色の異なるカラーフィルムサブ層１０３００を複数含み、カラーフィルムサブ層１０３００は、たとえば、赤色サブ層１０３０１、緑色サブ層１０３０２及び青色サブ層１０３０１を含んでもよい。カラーフィルム積層１０３０は、不透光であるため、ブラックマトリックスの効果を奏することができる。カラーフィルム積層１０３０の高さはカラーフィルタ層１０３の高さより大きく、隔壁１０５はカラーフィルム積層１０３０に設置され、隔壁１０５のカラーフィルム基板での正投影がカラーフィルム積層１０３０のカラーフィルム基板１０での正投影内に位置する。カラーフィルム積層１０３０は隣接サブ画素０１０３の間に設置されてもよい。
【００４０】
それにより、カラーフィルム積層１０３０は、一部の隔壁１０５又は一部の支持体０１０５を代替することができ、本実施例によるカラーフィルム基板を備える表示パネルでは、隔壁１０５／支持体０１０５の高さは表示装置のセルギャップより小さくてもよく、これにより、隔壁１０５／支持体０１０５の強度を向上させることができる。たとえば、カラーフィルム積層１０３０の高さは隔壁１０５の高さ以上であってもよい。
【００４１】
たとえば、カラーフィルムサブ層１０３００の厚さ（第１ベース基板１０１に垂直な方向での高さ）は、カラーフィルタ層１０３の厚さ以下であってもよい。たとえば、赤色サブ層１０３０１、緑色サブ層１０３０２及び青色サブ層１０３０１はそれぞれ赤色フィルタ層１０３１、緑色フィルタ層１０３２及び青色フィルタ層１０３３の厚さと同じであってもよいが、それに限定されない。赤色サブ層１０３０１、緑色サブ層１０３０２及び青色サブ層１０３０１はそれぞれ赤色フィルタ層１０３１、緑色フィルタ層１０３２及び青色フィルタ層１０３３の厚さ（第１ベース基板１０１に垂直な方向での高さ）より小さくてもよい。たとえば、赤色サブ層１０３０１と赤色フィルタ層１０３１は、同じ材料を採用し、且つ同様な製造プロセスにより得られてもよく、緑色サブ層１０３０２と緑色フィルタ層１０３２は、同じ材料を採用し、且つ同様な製造プロセスにより得られてもよく、青色サブ層１０３０３と青色フィルタ層１０３３は、同じ材料を採用し、且つ同様な製造プロセスにより得られてもよい。異なる厚さのカラーフィルムサブ層１０３００とカラーフィルタ層１０３を製造する場合、マルチトーンマスクによって実現できる。
【００４２】
図９に示されるように、本発明の一実施例によるカラーフィルム基板では、漏れた光の光線による当該サブ画素の効率の損失を減少させるために、隔壁１０５の側壁に、それに照射される光を反射させるように配置される反射層１０６が設置されている。
【００４３】
たとえば、図１０に示されるように、反射層１０６に照射される光が反射されることで、発光ユニットの出射光の利用率を向上させる。反射層１０６は、隔壁１０５の反射率を向上させて、さらに発光ユニットからの光をこのサブ画素に反射させて出射させるように、反射可能な金属を採用してもよい。たとえば、効率を向上させるために、支持体０１０５の側壁にも反射層１０６が設置されてもよい。あるいは、反射層１０６は照射される光を吸収するように配置される吸光層に変更されてもよい。
【００４４】
図１１に示されるように、本発明の一実施例によるカラーフィルム基板では、光漏れを効果的に減少させるために、複数のサブ画素０１０３はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素０１０３は第１方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素０１０３は第２方向に沿って配列され、隔壁１０５は第１方向に沿って連続的に延在している。すなわち、隔壁１０５は、第１ベース基板１０１の同一表面の一側（一端）から他側（他端）まで延在してもよい。
【００４５】
本発明の少なくとも一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法は、サブ画素０１０３を複数形成することを含み、各サブ画素０１０３は、カラーフィルタ層１０３を含み、カラーフィルタ層１０３は該サブ画素０１０３を透過する光に１種の色を表示させるように配置され、色の異なる少なくとも２つの隣接サブ画素０１０３の間に隔壁１０５が形成されており、隔壁１０５はそれにより仕切られているサブ画素０１０３の間に連続的に延在している。
【００４６】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法では、隔壁１０５の側壁に、それに照射される光を反射するように配置される反射層１０６が設置される。
【００４７】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法では、隔壁１０５は不透光性樹脂材料を採用する。
【００４８】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法では、隔壁１０５は、各位置で略同じ高さを有する。
【００４９】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法では、第１ベース基板１０１をさらに含み、隔壁１０５は台形状の断面を有し、台形は、上底辺が下底辺よりも第１ベース基板１０１から離れる。たとえば、台形の下底辺の幅は１０〜１５μｍ、台形の上底辺の幅は３〜１０μｍであってもよい。
【００５０】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法では、複数のサブ画素０１０３はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素０１０３は第１方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素０１０３は第２方向に沿って配列され、隔壁１０５は第１方向に沿って連続的に延在している。
【００５１】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法では、複数のサブ画素０１０３はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素０１０３は第１方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素０１０３は第２方向に沿って配列され、第１方向において、隔壁１０５は、異なるサブ画素０１０３の間に間隔を有する。それにより、隔壁１０５は、発光ユニットから発光する光を特定のサブ画素に限定することができ、漏れた光の光線による隣接するサブ画素の光色への影響を抑制することができ、異なるサブ画素間の色の干渉を回避できる。
【００５２】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法は、支持体０１０５を形成することをさらに含み、支持体０１０５は、同一色のサブ画素０１０３の間に設置され、支持体０１０５と隔壁１０５は、略同じ高さを有してもよい。
【００５３】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法は、カラーフィルム積層１０３０をさらに形成することを含み、カラーフィルム積層１０３０は、色の異なるカラーフィルムサブ層１０３００を複数含み、カラーフィルム積層１０３０の高さはカラーフィルタ層１０３の高さより大きい。
【００５４】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法は、下記ステップを含んでもよい。
【００５５】
露光現像プロセスにより、第１ベース基板１０１にＢＭ、カラーフィルタ層（Ｒ／Ｇ／Ｂ）１０３及び平坦層（Ｏｖｅｒ  Ｃｏａｔｉｎｇ）１０４を形成し、次に、平坦層１０４の上方に支持体０１０５と隔壁１０５とを形成する。カラーフィルム基板は、支持体０１０５及び隔壁１０５の形状、高さ、位置を調整することによって、適切な支持、セルギャップ及び高さの均一性を実現できる。すなわち、ＢＭ→Ｒ→Ｇ→Ｂ→ＯＣ→隔壁１０５／支持体０１０５の構造とされてもよい。形成されたカラーフィルム基板は図１２に示されることが可能である。支持体０１０５と隔壁１０５の反射率を向上させるために、反射率の高い樹脂材料を選択してもよく、さらに反射特性を向上させるために隔壁１０５と支持体０１０５の外側に反射層を形成してもよい。
【００５６】
本発明の少なくとも一実施例による表示パネル１２は、図１２に示されるように、本発明の少なくとも一実施例によるいずれかのカラーフィルム基板を備える。
【００５７】
本発明の少なくとも一実施例による表示パネルは、図１２に示されるように、アレイ基板２０をさらに含み、アレイ基板２０とカラーフィルム基板１０は張り合わせられ、隔壁１０５の高さＨはアレイ基板２０とカラーフィルム基板１０で形成されたセルのセルギャップＴより小さい。たとえば、セルギャップＴはサブ画素０１０３に対応した位置でのセルの厚さである。たとえば、カラーフィルム積層１０３０の高さは隔壁１０５の高さ以上にしてもよい。たとえば、カラーフィルム積層１０３０と隔壁１０５の高さの比は１．５以下である。たとえば、セルギャップＴが８μｍである場合、カラーフィルム積層１０３０の高さを６μｍ（それぞれのサブ層は２μｍ）にしてもよく、、セルギャップを支持する役割を果たすのを４μｍにしてもよく、隔壁１０５／支持体０１０５の高さを４μｍにしてもよい。封止接着剤の充填及び調整に寄与するとともに、光漏れを抑制することができるように、セルギャップは構造に応じて調整されてもよい。
【００５８】
たとえば、アレイ基板は下記方法で製造されてもよい。
（１）ＴＦＴ層の製造
第２ベース基板２０１において、成膜、露光、エッチング、現像プロセスを繰り返して、厚さ１μｍ〜１００μｍのＴＦＴパターンを形成するステップを含む。一般的な成膜プロセスとして、スパッタリング法、プラズマ強化化学気相成長法（Ｐｌａｓｍａ  Ｅｎｈａｎｃｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＥＣＶＤ）、蒸着、スピンコート、ブレードコート、印刷、インクジェット印刷等を含む。図１２に、一代表的なＴＦＴ構造が示されており、第２ベース基板２０１から上へ、緩衝層２０２、ゲート２０３、ゲート絶縁層２０４、活性層２０５、エッチストップ層２０６、ソース・ドレイン層２０７（ソース２０７２とドレイン２０７１を含む）、パッシベーション層２０８、平坦層２０９、第１電極２１０が順に形成されている。
（２）ＰＤＬ層の製造
第１電極２１０に第１サブＰＤＬ２１１と第２サブＰＤＬ２１２とを形成する。
（３）発光機能層２１３の製造
ＷＯＬＥＤ構造
ファインメタルマスク（Ｍａｓｋ）を用いて大寸法ＯＬＥＤパネルを製造することが困難であるため、トップエミッションＯＬＥＤデバイスは一般的にＷＯＬＥＤデバイス構造を採用し、つまり、ＰＤＬ層上に、オープンマスク（Ｏｐｅｎ  Ｍａｓｋ）を用いて、発光機能層２１３と第２電極２１４を順に蒸着して、これにより面状の第２電極２１４を形成する。
【００５９】
勿論、直接ＲＧＢ三原色構造を形成して、次に面状陰極の構造を形成してもよく、成膜方式には、蒸着、インクジェット印刷等が含まれる。
【００６０】
たとえば、発光ユニット２００２は、第１電極２１０と、発光機能層２１３と、第２電極２１４とを含んでもよく、発光ユニット２００２はサブ画素０１０３に一対一対応してもよい。
【００６１】
表示パネルを形成するために、アレイ基板２０とカラーフィルム基板１０とが形成された後、真空ラミネートして張り合わせを行ってもよい。カラーフィルム基板とアレイ基板を真空下で張り合わせることによって、カラーフィルム基板とアレイ基板を正確に位置合わせすることが制御でき、たとえば両方間の位置合わせの誤差が±５μｍ内に制御され、光漏れの発生率を減少させることができる。
【００６２】
本発明の少なくとも一実施例による表示パネルでは、カラーフィルム基板はカラーフィルム積層１０３０をさらに含み、カラーフィルム積層１０３０は、色の異なるカラーフィルムサブ層１０３００を複数含み、カラーフィルム積層１０３０の高さはカラーフィルタ層１０３の高さより大きく、隔壁１０５はカラーフィルム積層１０３０に設置され、隔壁１０５のカラーフィルム基板１０での正投影がカラーフィルム積層１０３０のカラーフィルム基板１０での正投影内に位置する。
【００６３】
本発明の実施例において、カラーフィルム基板及びその製造方法、表示パネルでは、同一又は類似する部分を互いに参照すればよいため、重複説明を省略する。
【００６４】
本発明の少なくとも一実施例は、本発明の少なくとも一実施例によるいずれかの表示パネルを備える表示装置を提供する。
【００６５】
たとえば、表示装置は、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ―Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ、有機発光ダイオード）ディスプレイ等の表示デバイス、及びこれら表示デバイスを備えるテレビ、デジタルカメラ、携帯電話、腕時計、タブレットコンピュータ、ノートパソコン、ナビゲータ等の任意の表示機能を有する製品又は部材であってもよい。
【００６６】
次の点に注意する必要がある。
（１）別段の定義がない限り、本発明の実施例及び図面中、同一符号は同じ意味を有する。
（２）本発明の実施例の図面中、本発明の実施例に関する構造だけが示され、ほかの構造については通常の設計を参照すればよい。
（３）説明の便宜上、本発明の実施例を説明する図面中、層又は領域の厚さは拡大されている。なお、たとえば、層、膜、領域又は基板のような素子は別の素子の「上」又は「下」に位置すると表現する際、該素子は、別の素子の「上」又は「下」に「直接」位置してもよく、又は中間素子が介してもよい。
（４）矛盾がない限り、本発明の同一実施例及び異なる実施例における特徴を互いに組み合わせることができる。
【００６７】
以上は、本発明の実施形態の例示に過ぎず、本発明の保護範囲はそれに限定されず、当業者が、本発明に開示された技術範囲を逸脱することなく、容易に想到し得る変更や置換はすべて本発明の保護範囲に属する。従って、本発明の保護範囲は特許請求の範囲による保護範囲を基準とする。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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