Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月13日(2018.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明に係る制御装置は、
複数の処理実行装置を制御する制御装置であって、
前記複数の処理実行装置に対して、共通である所定の処理の実行を要求する処理実行要求手段と、
前記複数の処理実行装置に対して、省電力状態への移行、及び当該省電力状態からの復帰を要求する省電力要求手段と、
前記処理実行要求手段と、前記省電力要求手段と、を制御して、前記複数の処理実行装置のうちの一台が前記所定の処理を実行している状態では、他の処理実行装置が省電力状態となるように制御する第１の制御と、当該複数の処理実行装置の全てが前記所定の処理を順次実行するように制御する第２の制御と、を行う制御手段と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、本発明に係る処理実行装置は、
制御装置に制御される処理実行装置であって、
前記制御装置から出力される所定の処理の実行要求を受けたことに応じて、当該所定の処理を実行する実行手段と、
前記実行手段による前記所定の処理の実行が終了したことに応じて、前記所定の処理の実行要求を出力して省電力状態へ移行した前記制御装置に対して、当該省電力状態からの復帰を要求する要求手段と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の処理実行装置を制御する制御装置であって、
前記複数の処理実行装置に対して、共通である所定の処理の実行を要求する処理実行要求手段と、
前記複数の処理実行装置に対して、省電力状態への移行、及び当該省電力状態からの復帰を要求する省電力要求手段と、
前記処理実行要求手段と、前記省電力要求手段と、を制御して、前記複数の処理実行装置のうちの一台が前記所定の処理を実行している状態では、他の処理実行装置が省電力状態となるように制御する第１の制御と、当該複数の処理実行装置の全てが前記所定の処理を順次実行するように制御する第２の制御と、を行う制御手段と、
を備えることを特徴とする制御装置。
【請求項２】
当該制御装置を省電力状態へ移行、及び当該省電力状態から復帰させる省電力実行手段を、更に備え、
前記省電力実行手段により当該制御装置が省電力状態へ移行することに応じて、前記制御手段は、前記第１の制御を開始することを特徴とする請求項１に記載の制御装置。
【請求項３】
前記省電力実行手段は、前記複数の処理実行装置のうちの一台が前記所定の処理を開始し、他の処理実行装置が省電力状態へ移行したことに応じて、当該制御装置を省電力状態に移行させることを特徴とする請求項２に記載の制御装置。
【請求項４】
前記省電力実行手段は、前記複数の処理実行装置のうちの一台が前記所定の処理を終了した際に出力する要求に応じて、当該制御装置を省電力状態から復帰させ、
前記制御手段は、その一台を除く他の処理実行装置のうちの一台が省電力状態から復帰して前記所定の処理を実行するようにして、前記第１の制御と前記第２の制御とを行うことを特徴とする請求項３に記載の制御装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記複数の処理実行装置のうちの一台が前記所定の処理を終了したことに応じて、その一台を除く他の処理実行装置のうちの一台が省電力状態から復帰して前記所定の処理を実行するようにして、前記第１の制御と前記第２の制御とを行うことを特徴とする請求項１に記載の制御装置。
【請求項６】
前記所定の処理は、前記処理実行装置が備える撮像手段により撮影した画像を、外部装置に転送する処理であることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の制御装置。
【請求項７】
前記処理実行装置に撮影の実行を要求する撮影要求手段を、更に備え、
前記所定の処理は、前記撮影要求手段による要求に応じて、前記処理実行装置が撮影した画像を、外部装置に転送する処理であることを特徴とする請求項６に記載の制御装置。
【請求項８】
制御装置に制御される処理実行装置であって、
前記制御装置から出力される所定の処理の実行要求を受けたことに応じて、当該所定の処理を実行する実行手段と、
前記実行手段による前記所定の処理の実行が終了したことに応じて、前記所定の処理の実行要求を出力して省電力状態へ移行した前記制御装置に対して、当該省電力状態からの復帰を要求する要求手段と、
を備えることを特徴とする処理実行装置。
【請求項９】
省電力状態から復帰した前記制御装置から出力される省電力状態へ移行する要求を受けたことに応じて、当該処理実行装置を省電力状態へ移行させる省電力実行手段を、更に備えることを特徴とする請求項８に記載の処理実行装置。
【請求項１０】
複数の処理実行装置を制御する制御装置で実行される制御方法であって、
前記複数の処理実行装置に対して、共通である所定の処理の実行を要求する処理実行要求処理と、
前記複数の処理実行装置に対して、省電力状態への移行、及び当該省電力状態からの復帰を要求する省電力要求処理と、
前記処理実行要求処理と、前記省電力要求処理と、を制御して、前記複数の処理実行装置のうちの一台が前記所定の処理を実行している状態では、他の処理実行装置が省電力状態となるように制御する第１の制御と、当該複数の処理実行装置の全てが前記所定の処理を順次実行するように制御する第２の制御と、を行う制御処理と、
を含むことを特徴とする制御方法。
【請求項１１】
制御装置に制御される処理実行装置で実行される処理実行方法あって、
前記制御装置から出力される所定の処理の実行要求を受けたことに応じて、当該所定の処理を実行する実行処理と、
前記実行処理による前記所定の処理の実行が終了したことに応じて、前記所定の処理の実行要求を出力して省電力状態へ移行した前記制御装置に、当該省電力状態からの復帰を要求する要求処理と、
を含むことを特徴とする処理実行方法。
【請求項１２】
制御装置によって複数の処理実行装置を制御する制御システムであって、
前記制御装置は、
前記複数の処理実行装置に対して、共通である所定の処理の実行を要求する処理実行要求手段と、
前記複数の処理実行装置に対して、省電力状態への移行、及び当該省電力状態からの復帰を要求する省電力要求手段と、
前記処理実行要求手段と、前記省電力要求手段と、を制御して、前記複数の処理実行装置のうちの一台が前記所定の処理を実行している状態では、他の処理実行装置が省電力状態となるように制御する第１の制御と、当該複数の処理実行装置の全てが前記所定の処理を順次実行するように制御する第２の制御と、を行う制御手段と、
を備え、
前記複数の処理実行装置の各々は、
前記制御装置から出力される前記所定の処理の実行要求を受けたことに応じて、当該所定の処理を実行する実行手段と、
前記実行手段による前記所定の処理の実行が終了したことに応じて、前記所定の処理の実行要求を出力して省電力状態へ移行した前記制御装置に対して、当該省電力状態からの復帰を要求する要求手段と、
を備えることを特徴とする制御システム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月11日(2018.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置、表示装置、表示モジュール及び電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のゲート電極と、
前記第１のゲート電極上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜と電気的に接続された、ソース電極と、
前記酸化物半導体膜と電気的に接続された、ドレイン電極と、
前記酸化物半導体膜上、前記ソース電極上、及び前記ドレイン電極上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の第２のゲート電極と、を有し、
前記第２の絶縁膜は、酸素を有し、
前記第２のゲート電極は、前記酸化物半導体膜が有する金属元素の少なくとも一つと共通した金属元素を有し、且つ前記酸化物半導体膜よりも膜厚が小さい領域を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
第１のゲート電極と、
前記第１のゲート電極上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜と電気的に接続された、ソース電極と、
前記酸化物半導体膜と電気的に接続された、ドレイン電極と、
前記酸化物半導体膜上、前記ソース電極上、及び前記ドレイン電極上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の第２のゲート電極と、を有し、
前記第２のゲート電極は、前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜に設けられた第１の開口部、及び前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜に設けられた第２の開口部を介して、前記第１のゲート電極と電気的に接続され、
前記第２の絶縁膜は、酸素を有し、
前記第２のゲート電極は、前記酸化物半導体膜が有する金属元素の少なくとも一つと共通した金属元素を有し、且つ前記酸化物半導体膜よりも膜厚が小さい領域を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
第１のゲート電極と、
前記第１のゲート電極上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜の第３の開口部を介して、前記酸化物半導体膜と電気的に接続された、ソース電極と、
前記第２の絶縁膜の第４の開口部を介して、前記酸化物半導体膜と電気的に接続された、ドレイン電極と、
前記第２の絶縁膜上の第２のゲート電極と、を有し、
前記第２の絶縁膜は、酸素を有し、
前記第２のゲート電極は、前記酸化物半導体膜が有する金属元素の少なくとも一つと共通した金属元素を有し、且つ前記酸化物半導体膜よりも膜厚が小さい領域を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
第１のゲート電極と、
前記第１のゲート電極上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜の第３の開口部を介して、前記酸化物半導体膜と電気的に接続された、ソース電極と、
前記第２の絶縁膜の第４の開口部を介して、前記酸化物半導体膜と電気的に接続された、ドレイン電極と、
前記第２の絶縁膜上の第２のゲート電極と、を有し、
前記第２のゲート電極は、前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜に設けられた第１の開口部、及び前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜に設けられた第２の開口部を介して、前記第１のゲート電極と電気的に接続され、
前記第２の絶縁膜は、酸素を有し、
前記第２のゲート電極は、前記酸化物半導体膜が有する金属元素の少なくとも一つと共通した金属元素を有し、且つ前記酸化物半導体膜よりも膜厚が小さい領域を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記第３の開口部は、前記第１の開口部より大きく、
前記第３の開口部は、前記第２の開口部より大きく、
前記第４の開口部は、前記第１の開口部より大きく、
前記第４の開口部は、前記第２の開口部より大きい、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一つにおいて、
前記第２のゲート電極の膜厚は、５ｎｍ以上３５ｎｍ以下である、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一つにおいて、
前記酸化物半導体膜は、
酸素と、Ｉｎと、Ｚｎと、Ｍ（Ｍは、Ｔｉ、Ｇａ、Ｓｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、またはＨｆ）とを有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一つにおいて、
前記酸化物半導体膜は、結晶部を有し、
前記結晶部は、ｃ軸配向性を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８に記載のいずれか一つの半導体装置と、
表示素子と、
を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の表示装置と、
タッチセンサと、
を有することを特徴とする表示モジュール。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項８に記載のいずれか一つの半導体装置、請求項９に記載の表示装置、または請求項１０に記載の表示モジュールと、
操作キーまたはバッテリと、
を有することを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月26日(2018.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体基板の作製方法及び半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板上に第１の酸化物半導体を形成し、
前記第１の酸化物半導体上に第１の絶縁体を形成し、
前記第１の絶縁体上から、前記第１の酸化物半導体中の第１の領域にイオンを注入し、
絶縁表面を有する第２基板を準備し、
前記第２の基板の前記絶縁表面と、前記第１の基板の前記第１の絶縁体とを貼り合わせ、
前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせた状態で熱処理を行い、前記第１の領域において前記第１の基板を分離し、前記第２の基板上に前記第１の基板から分離された酸化物半導体を形成する半導体基板の作製方法。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体基板を用いた半導体装置の作製方法であって、
前記第２の基板上に形成された酸化物半導体を有する半導体素子を形成する半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月7日(2018.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】二次電池及び電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムを有する二次電池であって、
前記フィルムで囲まれた領域において、第１の集電体と、第１の活物質層と、第２の集電体と、第２の活物質層と、保護材と、を有し、
前記第１の集電体と前記第２の集電体とは、互いに一部重なる領域を有し、
前記第１の集電体と前記保護材とは、互いに一部重なる領域を有し、
前記第１の集電体は、前記第１の活物質層と接する第１の領域と、前記第１の活物質層の端面から突出した第２の領域とを有し、
前記第２の集電体は、前記第２の活物質層と接する第３の領域と、前記第２の活物質層の端面から突出した第４の領域とを有し、
前記保護材は、少なくとも前記第２の領域と互いに重なることを特徴とする二次電池。
【請求項２】
フィルムを有する二次電池であって、
前記フィルムで囲まれた領域において、第１の集電体と、第１の活物質層と、第２の集電体と、第２の活物質層と、第１の保護材と、第２の保護材と、を有し、
前記第１の集電体と前記第２の集電体とは、互いに一部重なる領域を有し、
前記第１の保護材と前記第２の保護材とは、互いに一部重なる領域を有することを特徴とする二次電池。
【請求項３】
請求項２において、
前記第１の集電体は、前記第１の活物質層と接する第１の領域と、前記第１の活物質層の端面から突出した第２の領域とを有し、
前記第２の集電体は、前記第２の活物質層と接する第３の領域と、前記第２の活物質層の端面から突出した第４の領域とを有し、
前記第１の保護材と前記第２の保護材との間に、前記第２の領域が配置されることを特徴とする二次電池。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の二次電池と、
表示装置、筐体、スピーカ、マイク、または、操作ボタンと、を有する電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月14日(2018.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】二次電池及び電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムを有する二次電池であって、
前記フィルムで囲まれた領域において、正極と、負極と、第１の緩衝材と、セパレータと、を有する二次電池。
【請求項２】
フィルムを有する二次電池であって、
前記フィルムで囲まれた領域において、正極と、負極と、第１の緩衝材と、第２の緩衝材と、セパレータと、を有し、
前記第１の緩衝材と前記第２の緩衝材との間に前記正極、前記負極及び前記セパレータが配置されることを特徴とする二次電池。
【請求項３】
フィルムを有する二次電池であって、
前記フィルムで囲まれた領域において、正極と、負極と、第１の緩衝材と、セパレータと、を有し、
前記第１の緩衝材はプラスチックフィルムであり、
前記第１の緩衝材の面積は、前記正極と前記負極とが重なる面積よりも広いことを特徴とする二次電池。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記第１の緩衝材は、前記セパレータよりも厚いことを特徴とする二次電池。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記正極及び前記負極は、少なくとも四つの辺を有する形状を有し、
前記第１の緩衝材は、前記正極が有する三つの辺と重なり、
前記第１の緩衝材は、前記負極が有する三つの辺と重なることを特徴とする二次電池。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の二次電池と、
表示装置、筐体、スピーカ、マイク、または、操作ボタンと、を有する電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月6日(2018.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カチオン性基含有共重合体を含む抗菌剤であって、
該共重合体は、水溶性であり、カチオン性基含有単量体由来の構造単位と疎水性単量体由来の構造単位とを有し、
該カチオン性基含有単量体由来の構造単位の割合が、全構造単位１００質量％に対して３６〜９９．９質量％であり、
重量平均分子量が４０００〜２０万であり、
該カチオン性基含有単量体は、下記式（５−３）；
【化１】
2018150310.tif 000001
（式中、Ｒ８〜Ｒ１０は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。Ｒ５〜Ｒ７は、同一又は異なって、炭素数１〜３の炭化水素基を表す。Ｘは、直接結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、又は、下記式（６）若しくは（７）；
【化２】
2018150310.tif 000002
（式（６）中、ｍは、０〜１２の整数を表す。式（７）中、ｅは、０〜４の整数を表す。）で表される構造を表す。で表される構造を表す。Ｙ−は、陰イオンを表す。）で表される構造であり、
該疎水性単量体は、単独重合体の溶解性パラメータが１５以下である（但し、カチオン性基含有共重合体の原料である単量体成分からエチレン、フッ素含有（メタ）アクリレート、エチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、及び、下記式；
【化３】
2018150310.tif 000003
（式中、Ｒ１１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ１２は、水素原子又は炭素数１〜２２のアルキル基又はアルケニル基を表す。ＡＯは、同一又は異なって、オキシエチレン基又はオキシプロピレン基を表す。ｐは、オキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、１〜５０の数である。）で表される単量体を除く。）ことを特徴とするカチオン性基含有共重合体を含む抗菌剤。
【請求項２】
前記カチオン性基含有共重合体は、共重合体を形成する構造単位の総量１００質量％に対して、前記疎水性単量体由来の構造単位を０．０１〜６４質量％の割合で有することを特徴とする請求項１に記載の抗菌剤。
【請求項３】
前記疎水性単量体は、少なくとも１種の（メタ）アクリル酸エステルを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の抗菌剤。
【請求項４】
前記抗菌剤は、化粧料用途に用いられることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の抗菌剤。
【請求項５】
前記抗菌剤は、食品添加物用途に用いられることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の抗菌剤。
【請求項６】
前記抗菌剤は、洗濯洗浄剤又は柔軟剤用途に用いられることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の抗菌剤。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月29日(2018.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(I)の化合物、又はその医薬として許容し得る塩もしくは立体異性体:
【化１】
2018150349.tif 000001
(式中、
nは、2、3、又は4であり;
Wは、O、NR5、又はCH2であり;
Xは、N又はCHであり;
Yは、Nであり;
各々のR10及び各々のR11は、独立に、H、F、OH、又は(C1-C4)アルキルであり;
(i)R1は、アミド、スルホンアミド、任意に置換されたイミダゾリル、もしくは任意に置換されたピラゾリルであり;かつR2は、H、ハロゲン、CN、(C1-C4)アルキル、もしくは(C1-C3)アルコキシルであるか;又は(ii)R1及びR2は、それらが結合している炭素原子と一緒に、その各々が1〜3個のR6で任意に置換されている、5、6、もしくは7員アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、もしくはヘテロシクリル環を形成し;
R3及びR4は、それらが結合している窒素原子と一緒に、任意に置換されたヘテロシクリルQを形成し;
Qは、
【化２】
2018150349.tif 000002
であり;
R5は、H又は(C1-C3)アルキルであり;
各々のR6は、独立に、OH、ケト、ハロゲン、CN、(C1-C3)アルキル、又は(C1-C3)アルコキシルであり;
R7は、1〜3個の置換基で各々任意に置換された、5〜10員アリール又はヘテロアリールであり;かつ
環Arは、1〜3個の置換基で各々任意に置換された、ベンゾ、ピラゾロ、ピリド、チエノ、ピリミド、ピラジノ、フラノ、ピリダジノ、チアゾロ、又はイミダゾロ環であり;
但し:
(i)Qが
【化３】
2018150349.tif 000003
である場合、
【化４】
2018150349.tif 000004
は、
【化５】
2018150349.tif 000005
ではなく;
(ii)XがNである場合、
【化６】
2018150349.tif 000006
は、
【化７】
2018150349.tif 000007
ではなく;
(iii)式(I)が式(II-b)：
【化８】
2018150349.tif 000008
である場合、
【化９】
2018150349.tif 000009
は、
【化１０】
2018150349.tif 000010
ではなく;かつ
(iv)Qが
【化１１】
2018150349.tif 000011
である場合、
【化１２】
2018150349.tif 000012
は、
【化１３】
2018150349.tif 000013
ではない)。
【請求項２】
nが4である、請求項1記載の化合物。
【請求項３】
WがOである、請求項1又は2記載の化合物。
【請求項４】
R10及びR11がHである、請求項1〜3のいずれか一項記載の化合物。
【請求項５】
R1が、
【化１４】
2018150349.tif 000014
であり;ここで、R8が、(C1-C5)アルキル又は任意に置換されたフェニルである、請求項1〜4のいずれか一項記載の化合物。
【請求項６】
【化１５】
2018150349.tif 000015
が、
【化１６】
2018150349.tif 000016
である、請求項1〜4のいずれか一項記載の化合物。
【請求項７】
Qが、
【化１７】
2018150349.tif 000017
である、請求項1〜6のいずれか一項記載の化合物。
【請求項８】
Qが、
【化１８】
2018150349.tif 000018
である、請求項1〜6のいずれか一項記載の化合物。
【請求項９】
請求項1〜8のいずれか一項記載の化合物、又はその医薬として許容し得る塩もしくは立体異性体を含む、医薬組成物。
【請求項１０】
1種以上の追加の活性剤をさらに含む、請求項9記載の医薬組成物。
【請求項１１】
請求項1〜8のいずれか一項記載の化合物、又はその医薬として許容し得る塩もしくは立体異性体を含む、CNS障害又は神経学的障害を治療、予防、又は管理するための、医薬組成物。
【請求項１２】
前記障害が、パーキンソン病、運動障害、運動失調症、筋失調症、本態性振戦、ハンチントン病、多系統萎縮症、ミオクローヌス、進行性核上まひ、レット症候群、続発性パーキンソニズム、痙直、遅発性ジスキネジア、ウィルソン病、ジスキネジア、又はレストレスレッグ症候群である、請求項11記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記障害が、統合失調症、精神病、統合失調症関連障害、統合失調症スペクトラム障害、急性統合失調症、慢性統合失調症、NOS統合失調症、統合失調感情障害、統合失調症様障害、パラフレニー、妄想性パーソナリティ障害、スキゾイドパーソナリティ障害、統合失調型パーソナリティ障害、妄想性障害、精神病の要素を有する疾患、精神病性障害、短期精神病性障害、アルツハイマー病性精神病、パーキンソン病性精神病、共有精神病性障害、物質誘発性精神病性障害、一般的な医学的疾患による精神病性障害、精神病性情動障害、攻撃性、せん妄、興奮性精神病、トゥレット症候群、躁障害、器質性精神病、又はNOS精神病である、請求項11記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記障害が、情動障害;鬱病;軽度、中等度、もしくは重度型の大鬱病エピソード;躁病性もしくは混合性気分エピソード;軽躁病性気分エピソード;非定型の特徴を伴う鬱病エピソード;メランコリアの特徴を伴う鬱病エピソード;緊張病の特徴を伴う鬱病エピソード;分娩後の発症を伴う気分エピソード;卒中後鬱病;大鬱病性障害;単極性鬱病;治療抵抗性鬱病;気分変調症性障害;小鬱病性障害;月経前不快気分障害;統合失調症の精神病後鬱病性障害;精神病性障害に併発する大鬱病性障害;双極性障害;双極I型障害;双極II型障害;気分循環性障害;季節性情動障害;注意欠陥障害;又は注意欠陥多動性障害である、請求項11記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記障害が、中毒又は物質乱用もしくは依存である、請求項11記載の医薬組成物。
【請求項１６】
前記障害が、心的外傷後ストレス障害、行動障害、神経変性疾患、アルツハイマー病、認知症、気分障害、不安症、強迫性障害、目眩、疼痛、神経因性疼痛、神経因性疼痛を伴う感作、炎症性疼痛、線維筋痛、片頭痛、認知障害、認知機能障害、統合失調症と関連する認知機能障害、アルツハイマー病における認知欠陥、パーキンソン病における認知欠陥、多発性硬化症、睡眠障害、摂食障害、又は自閉症である、請求項11記載の医薬組成物。
【請求項１７】
第二の活性剤をさらに含む、請求項11〜16のいずれか一項記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月1日(2018.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（ＩＩ）の構造を有する化合物または医薬的に許容可能なその塩
【化１】
2018150331.tif 000001
（式中、
ＲＡはＨまたはＦであり；
ＲＣはＨ、ＣｌまたはＦであり；
Ｈｅｔは、環窒素がＲＢと置換されているアゼチンジニルであり；そして
ＲＢは、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルキレン−Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、または、フェニル環がメチルで任意に置換されているＣ１〜Ｃ３アルキレン−フェニルである）。
【請求項２】
ＲＡがＨである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
ＲＡがＦである、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
ＲＢがＣ１−Ｃ３アルキレン−Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルである、上記請求項１乃至３のいずれかに記載の化合物。
【請求項５】
ＲＢがＣＨ２シクロプロピルである、請求項４に記載の化合物。
【請求項６】
ＲＢがＣ１−Ｃ６ヒドロキシアルキルである、上記請求項１−３のいずれかに記載の化合物。
【請求項７】
ＲＢがＣＨ２Ｃ（ＯＨ）（ＣＨ３）２である、請求項６に記載の化合物。
【請求項８】
ＲＣがＨである、上記請求項１−７のいずれかに記載の化合物。
【請求項９】
ＲＣがＦである、上記請求項１−７のいずれかに記載の化合物。
【請求項１０】
ＲＣがＣｌである、上記請求項１−７のいずれかに記載の化合物。
【請求項１１】
ＲＣがＨｅｔ置換基に対してオルト位にある、請求項９又は１０に記載の化合物。
【請求項１２】
ＲＣがＨｅｔ置換基に対してメタ位にある、請求項９又は１０に記載の化合物。
【請求項１３】
【化２】
2018150331.tif 000002
から成る群より選択される化合物又は医薬的に許容可能なその塩。
【請求項１４】
上記請求項１乃至１３のいずれかに記載の化合物又は医薬的に許容可能な塩と、医薬的に許容可能な担体とを含む医薬組成物。
【請求項１５】
上記請求項１乃至１３のいずれかに記載の化合物又は医薬的に許容可能なその塩、あるいは請求項１４に記載の組成物を有効量、in vitroで細胞に接触させるステップを含む、ＨＤＡＣ１、ＨＤＡＣ２、又はＨＤＡ３を選択的に阻害する方法。
【請求項１６】
対象においてＨＤＡＣ１、ＨＤＡＣ２、又はＨＤＡＣ３により媒介される疾患又は障害を処置する医薬の製造における、上記請求項１乃至１３のいずれかに記載の化合物又は医薬的に許容可能なその塩、あるいは請求項１４に記載の組成物の使用。
【請求項１７】
フリードライヒ運動失調症、筋緊張性ジストロフィー、脊髄性筋萎縮症、脆弱Ｘ症候群、ハンチントン病、脊髄小脳失調症、ケネディ病、筋萎縮性側索硬化症、ニーマン・ピック病、ピット・ホプキンス症候群、球脊髄性筋萎縮症、及びアルツハイマー病から成る群より選択される神経障害；癌；炎症性疾患；記憶障害状態；又は薬物中毒を処置する医薬の製造における、上記請求項１乃至１３のいずれかに記載の化合物又は医薬的に許容可能なその塩、あるいは請求項１４に記載の組成物の使用。
【請求項１８】
前記神経障害がフリードライヒ運動失調症である、請求項１７に記載の使用。
【請求項１９】
ＨＤＡＣ１、ＨＤＡＣ２、又はＨＤＡＣ３により媒介される疾患又は障害；フリードライヒ運動失調症、筋緊張性ジストロフィー、脊髄性筋萎縮症、脆弱Ｘ症候群、ハンチントン病、脊髄小脳失調症、ケネディ病、筋萎縮性側索硬化症、球脊髄性筋萎縮症、及びアルツハイマー病から成る群より選択される神経障害；ウィルス感染を含む感染症；癌；炎症性疾患；記憶障害状態；又は薬物中毒を処置するための、上記請求項１乃至１３に記載の化合物又は医薬的に許容可能なその塩。
【請求項２０】
ＨＤＡＣ１、ＨＤＡＣ２、又はＨＤＡＣ３により媒介される疾患又は障害；フリードライヒ運動失調症、筋緊張性ジストロフィー、脊髄性筋萎縮症、脆弱Ｘ症候群、ハンチントン病、脊髄小脳失調症、ケネディ病、筋萎縮性側索硬化症、ニーマン・ピック病、ピット・ホプキンス症候群、球脊髄性筋萎縮症、及びアルツハイマー病から成る群より選択される神経障害；癌；炎症性疾患；記憶障害状態；又は薬物中毒を処置又は防止する医薬の製造における、上記請求項１乃至１３に記載の化合物又は医薬的に許容可能なその塩の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月21日(2018.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タイヤで走行する車両本体と、
前記車両本体の前方向の障害物を検出する外界認識装置と、
前記タイヤと障害物との接触を判定する接触判定部と、
前記タイヤに接触した障害物の情報を記録する記憶部と、
を備え、
前記外界認識装置で検出した障害物のうち、前記接触判定部で前記タイヤに接触したと判定された障害物の情報を前記記憶部に記録することを特徴とする車両。
【請求項２】
請求項１に記載の車両において、
前記外界認識装置で検出した障害物の中から記憶部に記録する障害物の大きさを選択するしきい値を有し、前記しきい値を車両の速度に応じて変えることを特徴とする車両。
【請求項３】
請求項１に記載の車両は鉱山で使用される鉱山用運搬車両であって、
接触した障害物の情報を、管制センタ又は鉱山を走行する他車両に送信することを特徴とする鉱山用運搬車両。
【請求項４】
請求項１に記載の車両において、
障害物と接触した自車両の位置を特定し、障害物の情報として記録することを特徴とする車両。
【請求項５】
請求項４に記載の車両は鉱山で使用される鉱山用運搬車両であり、前記鉱山用運搬車両を運用するシステムにおいて、
記録した障害物の情報を他の車両に通報するようにしたことを特徴とする鉱山用運搬車両の運用システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の車両は、タイヤで走行する車両本体と、前記車両本体の前方向の障害物を検出する外界認識装置と、前記タイヤと障害物との接触を判定する接触判定部と、前記外界認識装置で検出した障害物のうち、前記接触判定部で前記タイヤに前記接触した障害物の情報を記録する記憶部と、を備え、前記外界認識装置で検出した障害物のうち、前記接触判定部で前記タイヤに接触したと判定された障害物の情報を前記記憶部に記録する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月6日(2018.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
左右一対の側壁部を有するコンソール本体と、
該コンソール本体の左右一対の側壁部間に設置される収納容器部と、
前記コンソール本体の上部に対して開閉可能に設けられる蓋部と、を備えたコンソールボックスにおいて、
前記収納容器部の両側部に車両前後方向に沿って複数のスリット部を形成することにより、スリット部間に、前記蓋部へ上方からの緊急荷重が入力された時に破断される複数の桟部を設け、
前記コンソール本体の各側壁部の上縁部に、内折り形状の内方屈曲縁部を形成すると共に、
前記収納容器部の両側部に、前記内方屈曲縁部の裏面に沿って立ち上がる立上壁部を延設し、
更に、前記立上壁部に、前記内方屈曲縁部の裏面側へ向けて横方向へ突出する当リブを形成し、
該当リブと前記内方屈曲縁部の裏面側との間に隙間を形成したことを特徴とするコンソールボックス。
【請求項２】
左右一対の側壁部を有するコンソール本体と、
該コンソール本体の左右一対の側壁部間に設置される収納容器部と、
前記コンソール本体の上部に対して開閉可能に設けられる蓋部と、を備えたコンソールボックスにおいて、
前記収納容器部の両側部に車両前後方向に沿って複数のスリット部を形成することにより、スリット部間に、前記蓋部へ上方からの緊急荷重が入力された時に破断される複数の桟部を設け、
前記コンソール本体の各側壁部の上縁部に、内折り形状の内方屈曲縁部を形成すると共に、
前記収納容器部の両側部に、前記内方屈曲縁部の裏面に沿って立ち上がる立上壁部を延設し、
更に、前記内方屈曲縁部の裏面側に、前記立上壁部へ向けて横方向へ突出する当リブを形成し、
該当リブと前記立上壁部との間に隙間を形成したことを特徴とするコンソールボックス。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のコンソールボックスであって、
前記当リブが、前記立上壁部または内方屈曲縁部の裏面側における、前記桟部または前記スリット部の端部の近傍に対して設けられたことを特徴とするコンソールボックス。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のコンソールボックスであって、
前記当リブが、前記立上壁部または内方屈曲縁部の裏面側における、前記緊急荷重の入力予定部に近い位置に対して部分的に設けられたことを特徴とするコンソールボックス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明は、
左右一対の側壁部を有するコンソール本体と、
該コンソール本体の左右一対の側壁部間に設置される収納容器部と、
前記コンソール本体の上部に対して開閉可能に設けられる蓋部と、を備えたコンソールボックスにおいて、
前記収納容器部の両側部に車両前後方向に沿って複数のスリット部を形成することにより、スリット部間に、前記蓋部へ上方からの緊急荷重が入力された時に破断される複数の桟部を設け、
前記コンソール本体の各側壁部の上縁部に、内折り形状の内方屈曲縁部を形成すると共に、
前記収納容器部の両側部に、前記内方屈曲縁部の裏面に沿って立ち上がる立上壁部を延設し、
更に、前記立上壁部に、前記内方屈曲縁部の裏面側へ向けて横方向へ突出する当リブを形成し、
該当リブと前記内方屈曲縁部の裏面側との間に隙間を形成したことを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月24日(2018.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギー発生素子が設けられた基板と、前記基板に重なるように配置された吐出口形成部材と、前記吐出口形成部材の前記基板に対向する面と反対側に設けられた凹状部分と、前記吐出口形成部材の前記基板に対向する面に設けられた、前記凹状部分に対応する凸状部分と、前記凹状部分の内部に設けられており前記吐出口形成部材を貫通する吐出口と、前記吐出口形成部材と前記基板との間に介在し、圧力室の側壁を構成する流路形成部材と、を有し、
前記吐出口と前記基板に設けられている供給路とは前記圧力室を介して連通しており、
前記流路形成部材と前記基板との間に介在する、開口部を有する段差パターンをさらに有し、前記吐出口形成部材が前記段差パターンの前記開口部の内部に向かって部分的に変形している、液体吐出ヘッド。
【請求項２】
前記吐出口形成部材の前記凹状部分における厚さと、前記凹状部分以外の部分における厚さが等しい、請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項３】
エネルギー発生素子が設けられた基板と、前記基板に重なるように配置された吐出口形成部材と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法において、
前記基板の上に、開口部を有する段差パターンを形成する工程と、
前記段差パターンの上に吐出口形成部材を形成する工程と、
前記吐出口形成部材を加熱して前記吐出口形成部材を部分的に前記開口部の内部に向けて変形させることによって、前記吐出口形成部材の前記基板に対向する面と反対側の面に凹状部分を形成する工程と、
前記凹状部分の内部に、前記吐出口形成部材を貫通する吐出口を形成する工程と、
を含む液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記段差パターンの前記開口部の容積によって、前記凹状部分の形状及び大きさを制御する、請求項３に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記段差パターンの上に流路形成部材を形成する工程と、前記凹状部分を形成した後に、前記流路形成部材の一部を除去して、前記凹状部分に対向する位置に前記吐出口と連通する圧力室を形成する工程と、をさらに含み、
吐出口形成部材を形成する工程では、前記段差パターンの上に前記流路形成部材を介して前記吐出口形成部材を形成し、
前記凹状部分を形成する工程では、前記流路形成部材と前記吐出口形成部材とを加熱して、前記流路形成部材と前記吐出口形成部材をそれぞれ部分的に前記開口部の内部に向けて変形させる、請求項３または４に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記流路形成部材を形成する工程と前記吐出口形成部材を形成する工程はそれぞれ減圧環境下で行われる、請求項５に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記流路形成部材を形成する工程は前記流路形成部材の軟化点以下の温度で行われる、請求項５または６に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記凹状部分を形成する工程では、前記流路形成部材と前記吐出口形成部材を、前記流路形成部材と前記吐出口形成部材のそれぞれの軟化点以上の温度に加熱する、請求項５から７のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記段差パターンは前記基板と前記流路形成部材との密着性向上層である、請求項５から８のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
エネルギー発生素子が設けられた基板と、前記基板に重なるように配置された吐出口形成部材と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法において、
前記基板の上に、圧力室の側壁を構成する流路形成部材を形成する工程と、
前記流路形成部材の上に吐出口形成部材を形成する工程と、
前記吐出口形成部材を加熱して前記吐出口形成部材を部分的に前記圧力室の内部に向けて変形させることによって、前記吐出口形成部材の前記基板に対向する面と反対側に凹状部分を形成する工程と、
前記凹状部分の内部に、前記吐出口形成部材を貫通する吐出口を形成する工程と、
を含む液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
前記流路形成部材を形成する工程は、前記流路形成部材をパターニングして前記圧力室を形成することを含む、請求項１０に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１２】
前記凹状部分を形成する工程における前記吐出口形成部材の加熱温度及び加熱時間によって、前記凹状部分の形状及び大きさを制御する、請求項１０または１１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１３】
前記吐出口形成部材を形成する工程は減圧環境下で行われる、請求項１０から１２のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１４】
前記凹状部分を形成する工程では、前記吐出口形成部材を、該吐出口形成部材の軟化点以上の温度に加熱する、請求項１０から１３のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１５】
前記流路形成部材にはフォトリソグラフィによって圧力室が形成され、前記吐出口形成部材にはフォトリソグラフィによって吐出口が形成され、前記流路形成部材に前記圧力室を形成するための露光量よりも、前記吐出口形成部材に前記吐出口を形成するための露光量の方が小さい、請求項５から１４のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１６】
前記流路形成部材と前記吐出口形成部材は異なる感光波長を有する、請求項５から１５のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１７】
前記流路形成部材を形成する工程と前記吐出口形成部材を形成する工程では、それぞれの材料となる樹脂を、ローラーまたはプレスを用いて圧着させる、請求項５から１６のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の液体吐出ヘッドは、エネルギー発生素子が設けられた基板と、基板に重なるように配置された吐出口形成部材と、吐出口形成部材の基板に対向する面と反対側に設けられた凹状部分と、吐出口形成部材の基板に対向する面に設けられた、凹状部分に対応する凸状部分と、凹状部分の内部に設けられており吐出口形成部材を貫通する吐出口と、吐出口形成部材と基板との間に介在し、圧力室の側壁を構成する流路形成部材と、を有し、吐出口と基板に設けられている供給路とは圧力室を介して連通しており、流路形成部材と基板との間に介在する、開口部を有する段差パターンをさらに有し、吐出口形成部材が段差パターンの開口部の内部に向かって部分的に変形している。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月8日(2018.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アームと、
ハンドと、
前記アームと前記ハンドとの間に設けられた力センサーと、
を備え、
前記ハンドを接触させて把持しているツールを物体に接触させ、
前記力センサーの出力値に基づいて前記ツールと前記物体との位置関係を所定の位置関係に一致させた後、前記ハンドと前記ツールとが接触した状態において、前記ハンドが前記ツールを把持している位置及び姿勢の少なくとも一方を変更する、
ロボット。
【請求項２】
前記位置及び姿勢の少なくとも一方が変更可能になるように、前記ハンドが前記ツールを把持する把持力を小さくする、
請求項１に記載のロボット。
【請求項３】
前記ハンドが前記ツールにより行う作業の後に前記位置及び姿勢の少なくとも一方を変更する、
請求項１又は２に記載のロボット。
【請求項４】
前記物体は、前記ツールを載置する治具である、
請求項１から３のうちいずれか一項に記載のロボット。
【請求項５】
前記物体は、作業台の一部である、
請求項１から３のうちいずれか一項に記載のロボット。
【請求項６】
前記物体は、前記ロボットの一部である、
請求項１から３のうちいずれか一項に記載のロボット。
【請求項７】
前記ハンドが前記ツールにより行う最初の作業を前記ハンドが行う前に、前記位置及び姿勢の少なくとも一方を変更する、
請求項１から６のうちいずれか一項に記載のロボット。
【請求項８】
前記位置及び姿勢の少なくとも一方がずれた場合、前記位置及び姿勢の少なくとも一方を変更する、
請求項１から７のうちいずれか一項に記載のロボット。
【請求項９】
前記アームは、複数あり、
前記ハンドは、前記複数の前記アーム毎に備えられる、
請求項１から８のうちいずれか一項に記載のロボット。
【請求項１０】
前記アームは、前記ハンドを着脱可能である、
請求項１から９のうちいずれか一項に記載のロボット。
【請求項１１】
アームとハンドを備えたロボットに、
前記ハンドが把持しているツールを物体に接触させ、前記ハンドが前記ツールを把持している位置及び姿勢の少なくとも一方を変更させる、
制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明の他の態様は、アームとハンドを備えたロボットに、前記ハンドが把持しているツールを物体に接触させ、前記ハンドが前記ツールを把持している位置及び姿勢の少なくとも一方を変更させる、制御装置である。
この構成により、制御装置は、ロボットに、ハンドが把持しているツールを物体に接触させ、ハンドがツールを把持している位置及び姿勢の少なくとも一方を変更させる。これにより、制御装置は、ロボットに専用エンドエフェクターを用いずに作業を行わせることができ、ロボットの汎用性を向上させることができる。
また、本発明の他の態様は、アームと、ハンドと、前記アームと前記ハンドとの間に設けられた力センサーと、を備え、前記ハンドを接触させて把持しているツールを物体に接触させ、前記力センサーの出力値に基づいて前記ツールと前記物体との位置関係を所定の位置関係に一致させた後、前記ハンドと前記ツールとが接触した状態において、前記ハンドが前記ツールを把持している位置及び姿勢の少なくとも一方を変更する、ロボットである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
図１１は、制御部３６が図６に示したステップＳ１５０において第２アームを動作させる処理の流れの一例を示すフローチャートである。
まず、ロボット制御部４７は、第２エンドエフェクターＥ２により電動ドライバーＳＤを治具ＳＢに固定する（ステップＳ１５３）。この一例において、ロボット制御部４７は、図９に示したステップＳ１３５においてすでに、第２エンドエフェクターＥ２に電動ドライバーＳＤを治具ＳＢに載置させている。このため、ロボット制御部４７は、ステップＳ１５３において何もしなくてもよい。ステップＳ１３５の処理を行わない場合、ロボット制御部４７は、ステップＳ１５３においてステップＳ１３５と同じ処理を行い、第２エンドエフェクターＥ２に電動ドライバーＳＤを治具ＳＢに載置させる。ステップＳ１３５の処理を行わない例については、実施形態の変形例において説明する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月26日(2018.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性の被接合部材同士が接合層を介して電気的に接合された導電性接合体であって、
前記被接合部材の少なくとも一つが難はんだ接合性金属からなり、
前記接合層は、主要成分としてバナジウムを含有し副成分としてリン、バリウムおよびタングステンの内の一種以上を含有し390℃以下のガラス転移点を示す酸化物ガラス相と、導電金属相とからなり、
前記被接合部材間の接続抵抗が、1×10-5Ω/mm2未満であることを特徴とする導電性接合体。
【請求項２】
請求項１に記載の導電性接合体において、
前記難はんだ接合性金属は、軽金属または該軽金属を含む複合材であることを特徴とする導電性接合体。
【請求項３】
請求項２に記載の導電性接合体において、
前記軽金属は、アルミニウム、アルミニウム合金、および／またはマグネシウム合金であることを特徴とする導電性接合体。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の導電性接合体において、
前記酸化物ガラス相は、その主要成分としてテルルおよび／または銀を更に含有し、そのガラス転移点が355℃以下であることを特徴とする導電性接合体。
【請求項５】
請求項４に記載の導電性接合体において、
前記酸化物ガラス相は、その副成分として、イットリウム、ランタン、鉄およびアルミニウムの内の一種以上を更に含有し、そのガラス転移点が200℃以下であることを特徴とする導電性接合体。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の導電性接合体において、
前記導電金属相は、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、錫、亜鉛、およびそれらの一を主成分とする合金の内の一種以上からなることを特徴とする導電性接合体。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の導電性接合体において、
前記接合層は、前記導電金属相が10体積％以上95体積％以下であり、残部が前記酸化物ガラス相からなることを特徴とする導電性接合体。
【請求項８】
導電性接合体の製造方法であって、
前記導電性接合体は、導電性の被接合部材同士が接合材を介して電気的に接合されたものであり、
前記被接合部材の少なくとも一つが難はんだ接合性金属からなり、
前記被接合部材間の接続抵抗が1×10-5Ω/mm2未満であり、
前記接合材は酸化物ガラスを含み、
前記酸化物ガラスは、その名目成分を酸化物で表したときに、主要成分として酸化バナジウムを含有し副成分として酸化リン、酸化バリウムおよび酸化タングステンの内の一種以上を含有し、390℃以下のガラス転移点を示すガラスであり、
前記接合材を調合する接合材調合工程と、
前記被接合部材間に前記接合材を介在させて抵抗溶接を行う被接合部材接合処理工程とを有することを特徴とする導電性接合体の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の導電性接合体の製造方法において、
前記被接合部材接合処理工程の抵抗溶接条件は、印加電流密度が80 A/mm2以上360 A/mm2以下であり、通電時間が10 ms以上100 ms以下であることを特徴とする導電性接合体の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の導電性接合体の製造方法において、
前記被接合部材接合処理工程の抵抗溶接条件は、前記被接合部材への加圧応力が8 MPa以上15 MPa以下であることを特徴とする導電性接合体の製造方法。
【請求項１１】
請求項８乃至請求項１０のいずれかに記載の導電性接合体の製造方法において、
前記難はんだ接合性金属は、軽金属または該軽金属を含む複合材であることを特徴とする導電性接合体の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の導電性接合体の製造方法において、
前記軽金属は、アルミニウム、アルミニウム合金、および／またはマグネシウム合金であることを特徴とする導電性接合体の製造方法。
【請求項１３】
請求項８乃至請求項１２のいずれかに記載の導電性接合体の製造方法において、
前記接合材は、前記酸化物ガラスがその主要成分として酸化銀を更に含有し、そのガラス転移点が355℃以下であり、金属粒子が混合されていないことを特徴とする導電性接合体の製造方法。
【請求項１４】
請求項８乃至請求項１２のいずれかに記載の導電性接合体の製造方法において、
前記接合材は、前記酸化物ガラスがその主要成分として酸化テルルを更に含有し、そのガラス転移点が355℃以下であり、かつ金属粒子が混合されていることを特徴とする導電性接合体の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の導電性接合体の製造方法において、
前記金属粒子は、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、錫、亜鉛、およびそれらの一を主成分とする合金の内の一種以上からなり、
前記接合材における前記酸化物ガラスと前記金属粒子との合計体積率を100体積％としたときに、前記金属粒子の比率が10体積％以上95体積％以下であることを特徴とする導電性接合体の製造方法。
【請求項１６】
請求項１３乃至請求項１５のいずれかに記載の導電性接合体の製造方法において、
前記接合材は、前記酸化物ガラスがその副成分として、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化鉄および酸化アルミニウムの内の一種以上を更に含有し、そのガラス転移点が200℃以下であることを特徴とする導電性接合体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月26日(2018.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
レーザ穴明け方式として、ガルバノスキャナの停止に同期してレーザ発振器から出力されたレーザパルスを音響光学変調器（以下ＡＯＭ）で分岐させて被加工物に照射する方式がある。この方式においては、穴間隔の変動に基づいてレーザ発振周期が変化し、それによってＡＯＭに熱レンズ作用の変動が起こり、加工穴形状が不均一となり、加工品質が低下する欠点がある。
この問題を解決するため、特許文献１に開示されているように、穴間隔の変動に合わせて、レーザパルスのデユ―テイが所定の割合になるように、パルス幅を調整する技術が提案されている。