【手続補正書】
【提出日】平成30年1月9日(2018.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着マスクであって、
前記蒸着マスクは、樹脂マスクと金属マスクが積層されており、
前記樹脂マスクは、蒸着パターンを形成するために必要な複数の開口部を有し、
前記金属マスクは、蒸着パターンを形成するために必要な全ての前記複数の開口部と重なっている１つの貫通孔を有し、
前記１つの貫通孔と重なる位置に対応する前記樹脂マスク上に、複数の金属凸部が設けられている、
蒸着マスク。
【請求項２】
前記樹脂マスクが四辺形であり、
前記蒸着マスクを前記金属マスク側から平面視したときに、前記複数の金属凸部の少なくとも１つは、前記複数の開口部を通る前記樹脂マスクの各辺のうちの少なくとも１つの辺と平行な直線上に位置していない、
請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項３】
前記樹脂マスクが四辺形であり、
前記蒸着マスクを前記金属マスク側から平面視したときに、前記複数の金属凸部の少なくとも１つは、前記複数の開口部を通る前記樹脂マスクの全ての辺と平行な直線上に位置していない、
請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項４】
前記樹脂マスクが四辺形であり、
前記蒸着マスクを前記金属マスク側から平面視したときに、前記複数の開口部を通る前記樹脂マスクの全ての辺と平行な直線上に位置している前記金属凸部の個数が、前記直線上に位置していない前記金属凸部の個数よりも少ない、
請求項１乃至３の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項５】
前記金属凸部の高さが、前記金属マスクの高さよりも低い、
請求項１乃至４の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項６】
前記金属凸部の高さと前記金属マスクの高さが等しい、
請求項１乃至４の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項７】
前記金属凸部の高さが、０．１μｍ以上４０μｍ以下の範囲である、
請求項１乃至６の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項８】
前記金属凸部の高さが、０．５μｍ以上３０μｍ以下の範囲である、
請求項１乃至６の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項９】
前記蒸着マスクを前記金属マスク側から平面視したときの、前記複数の金属凸部の少なくとも１つは、その寸法が、隣接する前記開口部間のピッチよりも短い寸法である、
請求項１乃至８の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項１０】
前記複数の金属凸部の少なくとも１つは、その表面の一部分が、前記樹脂マスクに埋没している、
請求項１乃至９の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項１１】
前記蒸着マスクを前記金属マスク側から平面視したときに、前記複数の金属凸部の少なくとも１つの周辺には、当該金属凸部の中心から等距離に４つの開口部が位置している、
請求項１乃至１０の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項１２】
前記蒸着作成するパターンに対応する前記複数の開口部が、４００ｐｐｉを超える画面を形成するための開口部の集合体である、
請求項１乃至１１の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項１３】
前記金属凸部が、何れかの前記開口部の間に設けられている、
請求項１乃至１２の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項１４】
前記蒸着マスクが有する、前記蒸着パターンを形成するために必要な複数の開口部が、
２以上の画面分の蒸着パターンを同時に形成するために必要な開口部である、
請求項１乃至１３の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項１５】
１画面分の蒸着パターンを形成するために必要な開口部と、他の１画面分の蒸着パターンを形成するために必要な開口部との間の距離のうちその距離が最も短くなるものを画面間の距離としたときに、前記画面間の距離が、１画面分の蒸着パターンを形成するために必要な開口部において隣接する各開口部間の距離よりも長い、
請求項１４に記載の蒸着マスク。
【請求項１６】
前記画面間の距離が、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下の範囲である、
請求項１５に記載の蒸着マスク。
【請求項１７】
前記蒸着マスクが有する、前記蒸着パターンを形成するために必要な複数の開口部が、  １画面分の蒸着パターンを形成するために必要な開口部である、
請求項１乃至１３の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項１８】
前記樹脂マスクの厚みが、４μｍ以上８μｍ以下の範囲である、
請求項１乃至１７の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項１９】
前記開口部の大きさが、５００μｍ2以上１０００μｍ2以下の範囲である、
請求項１乃至１８の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項２０】
前記樹脂マスクが、溝を有する、
請求項１乃至１９の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項２１】
前記溝が、何れかの前記開口部の間に位置している、
請求項２０に記載の蒸着マスク。
【請求項２２】
前記複数の開口部が、縦方向及び、横方向の両方に並んで配置されている、
請求項１乃至２１の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項２３】
前記複数の開口部が、縦方向及び、横方向の何れか一方にのみに並んで配置されている、
請求項１乃至２１の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項２４】
前記複数の開口部が、縦方向に並んで複数列あり、隣り合う列同士の開口部が、互いに縦方向にずれて配置されているか、又は、横方向に並んで複数行あり、隣り合う行同士の開口部が、互いに横方向にずれて配置されている、
請求項１乃至２１の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項２５】
請求項１乃至２４の何れか１項に記載の蒸着マスクが、フレームに固定されてなる、
フレーム付き蒸着マスク。
【請求項２６】
請求項１乃至２４の何れか１項に記載の蒸着マスクを製造するための蒸着マスクの製造方法であって、
金属マスク側からレーザーを照射して、前記蒸着パターンを形成するために必要な複数の開口部を形成する、
蒸着マスクの製造方法。
【請求項２７】
蒸着マスクの製造方法であって、
樹脂板と金属マスクとが積層された、樹脂板付き金属マスクを準備する工程と、
前記樹脂板付き金属マスクの前記樹脂板に、前記蒸着パターンを形成するために必要な複数の開口部を形成する工程、を含み、
前記金属マスクは、前記樹脂板に形成される蒸着パターンを形成するために必要な全ての前記複数の開口部と重なる、１つの貫通孔を有しており、
前記樹脂板が、前記１つの貫通孔と重なる位置に、複数の金属凸部を有している、
蒸着マスクの製造方法。
【請求項２８】
前記複数の金属凸部を、蒸着法により形成する、
請求項２７に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項２９】
前記複数の金属凸部を、メッキ法により形成する、
請求項２７に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項３０】
前記金属マスクを、金属板をエッチングして形成する、
請求項２７乃至２９の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項３１】
前記樹脂板付き金属マスクを、
樹脂板と金属板の積層体を準備し、
前記積層体の前記金属板をエッチング加工し、当該金属板から前記複数の金属凸部、及び前記１つの貫通孔を形成する、
請求項２７に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項３２】
金属板に対して樹脂層をコーティングして、前記樹脂板と金属板の積層体を得る、
請求項３１に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項３３】
樹脂板と金属板とを貼り合せて、前記樹脂板と金属板の積層体を得る、
請求項３１に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項３４】
請求項１乃至２４の何れか１項に記載の蒸着マスクを製造するために用いられる蒸着マスク準備体であって、
樹脂板と、金属マスクとが積層され、
前記金属マスクが、前記樹脂板に形成される前記蒸着パターンを形成するために必要な全ての前記複数の開口部と重なる前記１つの貫通孔を有し、
前記１つの貫通孔と重なる位置に対応する前記樹脂板上に、複数の金属凸部が設けられた、
蒸着マスク準備体。
【請求項３５】
蒸着で作製されるパターンの形成方法であって、
請求項１乃至２４の何れか１項に記載の蒸着マスク、又は請求項２５に記載のフレーム付き蒸着マスクを使用する、
パターンの形成方法。
【請求項３６】
有機半導体素子の製造方法であって、
請求項１乃至２４の何れか１項に記載の蒸着マスク、又は請求項２５に記載のフレーム付き蒸着マスクを使用する、
有機半導体素子の製造方法。