【手続補正書】
【提出日】平成30年9月12日(2018.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水平方向又は水平方向に対する斜め方向に中心軸が延びる筒状をなし、処理対象である粉粒体が収容されるか又は通過する処理空間を内側に有する中空絶縁部材と、
前記処理空間内にプラズマを発生させるための電圧が印加される第１プラズマ生成電極及び第２プラズマ生成電極と、を備えるプラズマ処理装置において、
前記第２プラズマ生成電極が前記中空絶縁部材の内部に配される一方、前記第１プラズマ生成電極が前記中空絶縁部材の周方向のうち下側に配されるか、又は、前記第２プラズマ生成電極と前記第１プラズマ生成電極とが共に前記中空絶縁部材の周方向のうち下側に配されているプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記第２プラズマ生成電極は、螺旋羽根形状をなして、前記中空絶縁部材の内部で回転可能に備えられている請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記中空絶縁部材は、水平方向に対する斜め方向に延び、
前記第２プラズマ生成電極は、前記処理対象を下から上へ送給するように回転し、
前記中空絶縁部材の内部に収容されて前記処理対象と共に移動し、前記処理対象を粉砕する処理媒体と、
前記中空絶縁部材の上端部から排出される前記処理対象と前記処理媒体とを分別する分別部と、
前記中空絶縁部材の側方に設けられ、前記分別部により分別された前記処理媒体を前記中空絶縁部材の下端部に送る媒体戻しシュートと、を備える請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記第１プラズマ生成電極は、前記中空絶縁部材の周方向における下側のうち、前記第２プラズマ生成電極の回転方向の前方寄り部分を覆っている請求項２又は３に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記中空絶縁部材は、外部から動力を受けて前記中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器である請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記筒形回転容器の周方向に並べられて互いに絶縁された複数の分割電極と、
それら複数の分割電極のうち前記筒形回転容器の下側に位置している一部の分割電極であってかつ互いに異なる分割電極に接触して通電する第１及び第２の接触電極と、を有し、
第１の接触電極と接触して通電された前記分割電極が前記第１プラズマ生成電極として機能する一方、第２の接触電極と接触して通電された前記分割電極が前記第２プラズマ生成電極として機能する請求項５に記載のプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するためになされた請求項１の発明は、水平方向又は水平方向に対する斜め方向に中心軸が延びる筒状をなし、処理対象である粉粒体が収容されるか又は通過する処理空間を内側に有する中空絶縁部材と、前記処理空間内にプラズマを発生させるための電圧が印加される第１プラズマ生成電極及び第２プラズマ生成電極と、を備えるプラズマ処理装置において、前記第２プラズマ生成電極が前記中空絶縁部材の内部に配される一方、前記第１プラズマ生成電極が前記中空絶縁部材の周方向のうち下側に配されるか、又は、前記第２プラズマ生成電極と前記第１プラズマ生成電極とが共に前記中空絶縁部材の周方向のうち下側に配されているプラズマ処理装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項２の発明は、前記第２プラズマ生成電極は、螺旋羽根形状をなして、前記中空絶縁部材の内部で回転可能に備えられている請求項１に記載のプラズマ処理装置である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項３の発明は、前記中空絶縁部材は、水平方向に対する斜め方向に延び、前記第２プラズマ生成電極は、前記処理対象を下から上へ送給するように回転し、前記中空絶縁部材の内部に収容されて前記処理対象と共に移動し、前記処理対象を粉砕する処理媒体と、前記中空絶縁部材の上端部から排出される前記処理対象と前記処理媒体とを分別する分別部と、前記中空絶縁部材の側方に設けられ、前記分別部により分別された前記処理媒体を前記中空絶縁部材の下端部に送る媒体戻しシュートと、を備える請求項２に記載のプラズマ処理装置である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項４の発明は、前記第１プラズマ生成電極は、前記中空絶縁部材の周方向における下側のうち、前記第２プラズマ生成電極の回転方向の前方寄り部分を覆っている請求項２又は３に記載のプラズマ処理装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項５の発明は、前記中空絶縁部材は、外部から動力を受けて前記中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器である請求項１に記載のプラズマ処理装置である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項６の発明は、前記筒形回転容器の周方向に並べられて互いに絶縁された複数の分割電極と、それら複数の分割電極のうち前記筒形回転容器の下側に位置している一部の分割電極であってかつ互いに異なる分割電極に接触して通電する第１及び第２の接触電極と、を有し、第１の接触電極と接触して通電された前記分割電極が前記第１プラズマ生成電極として機能する一方、第２の接触電極と接触して通電された前記分割電極が前記第２プラズマ生成電極として機能する請求項５に記載のプラズマ処理装置である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３５５】
本発明は、産業分野を主としているが、これらを家電製品等の民生用品分野、漁業・農業等の分野、航空・宇宙等の分野など、他の分野に用いてもよい。
なお、本実施形態を概念化すると、以下の[１]〜[４０]の発明となる。
［１］
処理対象が収容されるか又は通過する処理空間を内側に有する中空絶縁部材と、
前記中空絶縁部材の外側に配置された第１プラズマ生成電極と、
前記処理空間の外部又は内部に、前記処理空間の少なくとも一部を挟んで前記第１プラズマ生成電極と対向配置され、前記処理空間内にプラズマを発生させるための電圧が前記第１プラズマ生成電極との間に印加される第２プラズマ生成電極と、を備えたプラズマ処理装置。
［２］
前記中空絶縁部材としての絶縁パイプを備え、
前記第１及び第２のプラズマ生成電極は、ともに帯状をなし、前記絶縁パイプの外面に、互いに平行した螺旋状に巻き付けられている［１］に記載のプラズマ処理装置。
［３］
前記中空絶縁部材としての絶縁パイプを備え、
前記第１プラズマ生成電極は、帯状をなし、前記絶縁パイプの外面に螺旋状に巻き付けられ、
前記第２プラズマ生成電極は、棒状をなし、前記絶縁パイプの内部に収容されている［１］に記載のプラズマ処理装置。
［４］
前記第１プラズマ生成電極は、２つの帯状の金属シートを互いに平行に巻き付けた第１螺旋電極と第２螺旋電極とを有し、
前記第１及び第２の螺旋電極には、前記第２プラズマ生成電極との間に電圧が交互に印加される［３］に記載のプラズマ処理装置。
［５］
前記中空絶縁部材としての絶縁パイプを備え、
前記第１及び第２のプラズマ生成電極は、ともにリング状をなし、前記絶縁パイプの外面に、複数ずつ交互に巻き付けられている［１］に記載のプラズマ処理装置。
［６］
前記中空絶縁部材としての絶縁パイプを備え、
前記第１プラズマ生成電極は、リング状をなし、前記絶縁パイプの外面に複数巻き付けられ、
前記第２プラズマ生成電極は、棒状をなし、前記絶縁パイプの内部に収容されている［１］に記載のプラズマ処理装置。
［７］
前記第１プラズマ生成電極と前記第２プラズマ生成電極とは、互いに対向する平板状をなし、
前記処理空間は、前記第１プラズマ生成電極と前記第２プラズマ生成電極との間の扁平空間内で、渦巻き状に巻かれるか又は蛇行している［１］に記載のプラズマ処理装置。
［８］
前記中空絶縁部材としての絶縁パイプを備え、
前記第２プラズマ生成電極は、前記絶縁パイプの内部に収容されて回転駆動される螺旋羽根を有している［１］に記載のプラズマ処理装置。
［９］
前記絶縁パイプは、水平方向又は水平方向に対する斜め方向に延び、
前記第１プラズマ生成電極は、前記絶縁パイプの周方向のうち下側に偏在している［８］に記載のプラズマ処理装置。
［１０］
前記絶縁パイプは、水平方向又は水平方向に対する斜め方向に延び、
前記第２プラズマ生成電極の前記螺旋羽根の外端面と前記絶縁パイプの内面との間に隙間を有し、
前記隙間に収容される粉粒体である前記処理対象を、プラズマ発生時の衝撃によって移動させる［８］又は［９］に記載のプラズマ処理装置。
［１１］
前記絶縁パイプは、水平方向に対する斜め方向に延び、
前記螺旋羽根は、前記処理対象を下から上へ送給するように回転し、
前記絶縁パイプの内部に収容されて前記処理対象と共に移動し、前記処理対象を粉砕する処理媒体と、
前記絶縁パイプの上端部から排出される前記処理対象と前記処理媒体とを分別する分別部と、
前記絶縁パイプの側方に設けられ、前記分別部により分別された前記処理媒体を前記絶縁パイプの下端部に送る媒体戻しシュートと、を備える［１０］に記載のプラズマ処理装置。
［１２］
前記中空絶縁部材としての絶縁パイプと、
前記絶縁パイプの内部に配され、前記絶縁パイプの軸方向に直動可能な前記第２プラズマ生成電極と、を備え、
前記第１及び第２のプラズマ生成電極は、前記第２プラズマ生成電極が前記絶縁パイプの軸方向の一方に移動するときには電圧が印加される一方、前記第２プラズマ生成電極が前記絶縁パイプの軸方向の他方に移動するときには電圧が印加されない［１］に記載のプラズマ処理装置。
［１３］
前記第１プラズマ生成電極は、前記中空絶縁部材の外面の少なくとも一部を覆い、
前記第２プラズマ生成電極は、前記中空絶縁部材の内部に収容され、前記中空絶縁部材のうち前記第１プラズマ生成電極に覆われている部分の内面に向けて突出した突出部を有している［１］に記載のプラズマ処理装置。
［１４］
前記第１及び第２のプラズマ生成電極と絶縁された状態で前記第１プラズマ生成電極と前記第２プラズマ生成電極との間に配置され、前記第１プラズマ生成電極と前記第２プラズマ生成電極との間のプラズマ発生を誘発する始動電極を有する［１］に記載のプラズマ処理装置。
［１５］
前記始動電極は、粉粒体である前記処理対象を粉砕する処理媒体である［１４］に記載のプラズマ処理装置。
［１６］
前記第１及び第２のプラズマ生成電極と絶縁された状態で前記第１プラズマ生成電極と前記第２プラズマ生成電極との間に配置された中継電極を有し、
前記第１プラズマ生成電極と前記第２プラズマ生成電極との間に前記中継電極を介したプラズマを発生させる［１］に記載のプラズマ処理装置。
［１７］
前記中空絶縁部材としての絶縁パイプと、
前記絶縁パイプを挟んで互いに対向する前記第１及び第２のプラズマ生成電極と、
前記絶縁パイプに複数埋設された前記中継電極と、を備え、
前記中継電極を介して前記絶縁パイプの内面に沿ってプラズマを発生させる［１７］に記載のプラズマ処理装置。
［１８］
前記第１及び第２のプラズマ生成電極は、平行な状態で対向し、
前記中空絶縁部材は、平坦面の一部に窪みを有する第１平板に、前記窪みを閉塞するように第２平板を重ねてなりかつ全体が、前記第１プラズマ生成電極と前記第２プラズマ生成電極との間に側方から挿抜される板状をなすと共に、前記窪みが閉塞されて前記処理空間になっている［１］に記載のプラズマ処理装置。
［１９］
前記中空絶縁部材として、筒形をなして中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器を有する［１］に記載のプラズマ処理装置。
［２０］
前記筒形回転容器の外周面に接触して前記筒形回転容器を回転可能に支持する導電性ローラーを備え、
前記導電性ローラーが、前記第１プラズマ生成電極となっている［１９］に記載のプラズマ処理装置。
［２１］
前記筒形回転容器の外周面に固定され、前記筒形回転容器の軸方向に沿って延び、かつ、前記筒形回転容器の周方向に並んだ複数の金属板と、
複数の前記金属板のうち異なる前記金属板にそれぞれ接触可能に配された少なくとも２つの給電装置と、を有し、
前記給電装置に接触している前記金属板が、前記第１又は第２のプラズマ生成電極として機能する［１９］に記載のプラズマ処理装置。
［２２］
処理対象が収容されるか又は通過する処理空間を内側に有する第１プラズマ生成電極と、
前記第１プラズマ生成電極の内部に、前記処理空間の少なくとも一部を挟んで前記第１プラズマ生成電極と対向配置され、前記処理空間内にプラズマを発生させるための電圧が前記第１プラズマ生成電極との間に印加される第２プラズマ生成電極と、を備えたプラズマ処理装置。
［２３］
筒形をなして中心軸回りに回転駆動される第１プラズマ生成電極としての筒形回転容器と、
前記筒形回転容器に接触して前記筒形回転容器に給電する給電装置と、を有する［２２］に記載のプラズマ処理装置。
［２４］
前記給電装置は、前記筒形回転容器の外周面に接触して前記筒形回転容器を回転可能に支持する導電性ローラーを有している［２１］又は［２３］に記載のプラズマ処理装置。
［２５］
前記筒形回転容器の内部に前記処理対象を粉砕又は拡散するための処理媒体が収容され、
前記第１プラズマ生成電極と前記第２プラズマ生成電極との間に前記処理媒体を介したプラズマを発生させる［１９］，［２０］，［２１］，［２３］，［２４］の何れか１の請求項に記載のプラズマ処理装置。
［２６］
液体、粉粒体、又は、それらの混合物である処理対象と、前記処理対象を撹拌するための撹拌子と、が収容される有底の筒形容器と、
前記筒形容器内のうち前記撹拌子の上方に配され、前記筒形容器の底壁と対向する対向面を有する第１プラズマ生成電極と、前記底壁と前記第１プラズマ生成電極との間に配置され、前記筒形容器の中心軸に沿って延びた筒状をなし、その先端面が前記第１プラズマ生成電極の前記対向面と対向する第２プラズマ生成電極と、からなり、前記筒形容器内にプラズマを発生させるための電圧が印加される１対のプラズマ生成電極と、を備えたプラズマ処理装置。
［２７］
前記第１プラズマ生成電極は、下面に前記対向面を有する円板状をなし、
前記第２プラズマ生成電極は、前記第１プラズマ生成電極の外縁部の下方位置から下方に垂下する円筒状をなす［２６］に記載のプラズマ処理装置。
［２８］
前記第１プラズマ生成電極は、下面に前記対向面を有する円板部と、前記円板部の下方に配され、前記円板部よりも小径の円から下方に先細りした円錐部と、を備え、
前記第２プラズマ生成電極は、前記第１プラズマ生成電極の前記円板部の外縁部の下方位置から下方に延び、かつ、前記第１プラズマ生成電極の前記円錐部を囲う円錐台筒状をなす［２６］に記載のプラズマ処理装置。
［２９］
前記第１プラズマ生成電極は、前記対向面が前記処理対象の液面又は粉面よりも上方に位置するように配置され、前記第２プラズマ生成電極は、前記処理対象の液面又は粉面よりも下方に配置された［２６］乃至［２８］の何れか１の請求項に記載のプラズマ処理装置。
［３０］
前記撹拌子をマグネチックスターラで回転駆動する［２６］乃至［２９］の何れか１の請求項に記載のプラズマ処理装置。
［３１］
前記撹拌子をモータで回転駆動する［２６］乃至［２９］の何れか１の請求項に記載のプラズマ処理装置。
［３２］
プラズマ生成ガスが通過するガス通路を内側に有する中空絶縁部材と、
前記中空絶縁部材の外側に配され、前記ガス通路を挟んで対向し、前記ガス通路内にプラズマを発生させるための電圧が印加される第１プラズマ生成電極及び第２プラズマ生成電極と、を備えたプラズマトーチ。
［３３］
前記ガス通路が、処理対象を通過させる対象流路に兼用され、処理対象が前記第１及び第２のプラズマ生成電極の間に挟まれた前記ガス通路を通過し得る［３２］に記載のプラズマトーチ。
［３４］
処理対象を一端側から他端側へ通過させる対象流路を内側に有する直線パイプと、前記直線パイプの前記一端寄り位置から前記一端側に向かって斜め側方に延びた分岐パイプと、を有する、前記中空絶縁部材としての枝付きパイプと、
前記分岐パイプの先端部に設けられ、プラズマ生成ガスが供給されるガス供給口と、
前記ガス供給口から前記分岐パイプ内を延び、前記直線パイプ内を前記他端側へ延びた前記ガス通路と、
前記分岐パイプを挟んで対向した前記第１及び第２のプラズマ生成電極と、を備えた［３２］に記載のプラズマトーチ。
［３５］
直線パイプと、前記直線パイプの一端寄り位置から前記一端側に向かって斜め側方に延びた分岐パイプと、を有する、前記中空絶縁部材としての枝付きパイプと、
前記枝付きパイプのうち前記直線パイプの内部に配された、前記中空絶縁部材の一部としての内側パイプと、
前記枝付きパイプにおける前記直線パイプのうち前記分岐パイプより他端側の部分の外周面を覆う前記第１プラズマ生成電極としての筒形電極と、
金属棒を前記内側パイプにより被覆してなり、前記直線パイプの内部に収容される前記第２プラズマ生成電極としての棒状被覆電極と、
前記分岐パイプの先端部に設けられ、プラズマ生成ガスが供給されるガス供給口と、を有する［３２］に記載のプラズマトーチ。
［３６］
前記中空絶縁部材としての絶縁パイプと、
前記絶縁パイプの内部に配された、前記中空絶縁部材の一部としての内側パイプと、
前記絶縁パイプの外周面を覆う前記第１プラズマ生成電極としての筒形電極と、
金属棒を前記内側パイプにより被覆してなり、前記直線パイプの内部に収容される前記第２プラズマ生成電極としての棒状被覆電極と、
前記絶縁パイプの一端に設けられ、その一端の開口を閉塞する閉塞部材と、
前記閉塞部材に形成され、前記棒状被覆電極の一端が固定される貫通孔と、を備え、
前記棒状被覆電極には、前記貫通孔と前記ガス通路とを連通し、前記プラズマ生成ガスが通過可能なガス流路が形成されている［３２］に記載のプラズマトーチ。
［３７］
下面開口の箱形をなした箱形ケースと、前記箱形ケースの内側に配された複数の内側パイプと、を有する前記中空絶縁部材としての絶縁ケースと、
金属棒を一の前記内側パイプにより被覆してなり、前記箱形ケースの内部に固定される前記第１プラズマ生成電極としての固定電極と、
金属棒を他の前記内側パイプにより被覆してなり、前記箱形ケースの内部に上下動可能に収容される前記第２プラズマ生成電極としての可動電極と、を備え、
前記可動電極の位置により、プラズマ処理範囲を変更可能な［３２］に記載のプラズマトーチ。
［３８］
前記プラズマ生成ガスの流圧により、前記中空絶縁部材の端部からプラズマジェットを噴出する［３２］乃至［３７］の何れか１の請求項に記載のプラズマトーチ。
［３９］
［３２］乃至［３８］の何れか１の請求項に記載のプラズマトーチと、
粉粒体、液体、固体、気体等の処理対象に対して、混合、解砕、造粒、乾燥等の付加処理を行う付加処理部と、を有し、
前記処理対象に対して、前記付加処理と共にプラズマ処理を行うプラズマ処理装置。
［４０］
処理空間内で、粉粒体、液体、固体、気体等の処理対象に対して、混合、解砕、造粒、乾燥等の付加処理を行うための付加処理用構成体と、
前記付加処理用構成体に取り付けられ、前記処理空間を挟んで互いに対向し、前記処理空間内にプラズマを発生させるための電圧が印加される第１プラズマ生成電極及び第２プラズマ生成電極と、を有し、
前記処理対象に対して、前記付加処理と共にプラズマ処理を行うプラズマ処理装置。