【手続補正書】
【提出日】平成30年4月9日(2018.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマを用いて試料が処理される処理室と、前記プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、前記試料を静電吸着させる電極が配置され前記試料が載置される試料台と、前記電極に直流電圧を印加する直流電源とを備えるプラズマ処理装置において、
プラズマ処理された試料を前記試料台の上方に上昇させた後、前記試料の電位が小さくなるように前記直流電源の出力を制御する制御装置をさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
プラズマを用いて試料が処理される処理室と、前記プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、前記試料を静電吸着させる電極が配置され前記試料が載置される試料台と、前記電極に直流電圧を印加する直流電源とを備えるプラズマ処理装置において、
静電吸着した試料を前記試料台から離脱させるためのプラズマをオフさせた後、前記プラズマをオフさせる前の前記直流電圧から正の方向へ前記直流電圧をシフトさせるように前記直流電源の出力を制御する制御装置をさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、前記プラズマ処理された試料を前記試料台の上方に上昇させた後、前記静電吸着した試料を前記試料台から離脱させるためのプラズマをオフさせることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記直流電圧の正の方向へのシフト量は、前記試料台の上方に上昇させられた試料と前記試料台の表面との間の静電容量および前記プラズマの浮遊電位に基づいて求められていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項５】
請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記プラズマのオフ後の直流電圧は、０Ｖであることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項６】
請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記プラズマのオフから前記直流電圧を正の方向へシフトさせるまでの時間は、０．１〜１．０秒の範囲内の時間であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項７】
請求項４に記載のプラズマ処理装置において、
前記試料の電位のシフト量は、＋１０〜＋２０Ｖの範囲内の値であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項８】
請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記直流電圧の正の方向へのシフト量は、前記試料台から離脱させた試料の電位と前記直流電圧との相関関係に基づいて求められることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項９】
請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記直流電圧の正方向へのシフト量は、前記直流電圧の正方向へのシフト量と前記試料の電位のシフト量との比が静電容量比と等しくなるような値として求められ、
前記静電容量比は、前記試料台の上方に上昇させられた試料と前記試料台の表面との間の静電容量と、前記試料台から前記試料を上方へ上昇させる離脱機構を介した地表に対する試料の静電容量と、の比であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項１０】
請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、前記プラズマをオフさせる前の前記直流電圧から正の方向へ前記直流電圧をシフトさせた後、前記プラズマ処理された試料を前記処理室から搬出させることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項１１】
静電吸着させるための電極に直流電圧を印加することにより試料を静電吸着させる試料台からプラズマ処理された試料を離脱させる試料の離脱方法において、
前記プラズマ処理された試料を前記試料台の上方に上昇させた後、前記試料の電位が小さくなるように前記直流電圧を制御することを特徴とする試料の離脱方法。
【請求項１２】
静電吸着させるための電極に直流電圧を印加することにより試料を静電吸着させる試料台からプラズマ処理された試料を離脱させる試料の離脱方法において、
前記静電吸着した試料を前記試料台から離脱させるためのプラズマをオフさせた後、前記プラズマをオフさせる前の前記直流電圧から正の方向へ前記直流電圧をシフトさせることを特徴とする試料の離脱方法。
【請求項１３】
請求項１１に記載の試料の離脱方法において、
前記プラズマ処理された試料を前記試料台の上方に上昇させた後、前記静電吸着した試料を前記試料台から離脱させるためのプラズマをオフすることを特徴とする試料の離脱方法。
【請求項１４】
請求項１２に記載の試料の離脱方法において、
前記試料台の上方に上昇させられた試料と前記試料台の表面との間の静電容量および前記プラズマの浮遊電位に基づいて前記直流電圧の正の方向へのシフト量を求めることを特徴とする試料の離脱方法。
【請求項１５】
請求項１２に記載の試料の離脱方法において、
前記プラズマのオフ後の直流電圧を０Ｖとすることを特徴とする試料の離脱方法。
【請求項１６】
請求項１２に記載の試料の離脱方法において、
前記プラズマのオフから前記直流電圧を正の方向へシフトさせるまでの時間を０．１〜１．０秒の範囲内の時間とすることを特徴とする試料の離脱方法。
【請求項１７】
請求項１４に記載の試料の離脱方法において、
前記試料の電位のシフト量を＋１０〜＋２０Ｖの範囲内の値とすることを特徴とする試料の離脱方法。
【請求項１８】
請求項１２に記載の試料の離脱方法において、
前記試料台から離脱させた試料の電位と前記直流電圧との相関関係に基づいて前記直流電圧の正の方向へのシフト量を求めることを特徴とする試料の離脱方法。
【請求項１９】
請求項１２に記載の試料の離脱方法において、
前記直流電圧の正方向へのシフト量と前記試料の電位のシフト量との比が静電容量比と等しくなるように前記直流電圧の正方向へのシフト量を求め、
前記静電容量比は、前記試料台の上方に上昇させられた試料と前記試料台の表面との間の静電容量と、前記試料台から前記試料を上方へ上昇させる離脱機構を介した地表に対する試料の静電容量と、の比であることを特徴とする試料の離脱方法。
【請求項２０】
請求項１２に記載の試料の離脱方法において、
前記プラズマをオフさせる前の前記直流電圧から正の方向へ前記直流電圧をシフトさせた後、前記試料がプラズマ処理される処理室から前記プラズマ処理された試料を搬出することを特徴とする試料の離脱方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明は、プラズマを用いて試料が処理される処理室と、前記プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、前記試料を静電吸着させる電極が配置され前記試料が載置される試料台と、前記電極に直流電圧を印加する直流電源とを備えるプラズマ処理装置において、プラズマ処理された試料を前記試料台の上方に上昇させた後、前記試料の電位が小さくなるように前記直流電源の出力を制御する制御装置をさらに備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明は、プラズマを用いて試料が処理される処理室と、前記プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、前記試料を静電吸着させる電極が配置され前記試料が載置される試料台と、前記電極に直流電圧を印加する直流電源とを備えるプラズマ処理装置において、静電吸着した試料を前記試料台から離脱させるためのプラズマをオフさせた後、前記プラズマをオフさせる前の前記直流電圧から正の方向へ前記直流電圧をシフトさせるように前記直流電源の出力を制御する制御装置をさらに備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
さらに本発明は、静電吸着させるための電極に直流電圧を印加することにより試料を静電吸着させる試料台からプラズマ処理された試料を離脱させる試料の離脱方法において、前記プラズマ処理された試料を前記試料台の上方に上昇させた後、前記試料の電位が小さくなるように前記直流電圧を制御することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明は、静電吸着させるための電極に直流電圧を印加することにより試料を静電吸着させる試料台からプラズマ処理された試料を離脱させる試料の離脱方法において、前記静電吸着した試料を前記試料台から離脱させるためのプラズマをオフさせた後、前記プラズマをオフさせる前の前記直流電圧から正の方向へ前記直流電圧をシフトさせることを特徴とする。