【事件の表示】
　平成　７年特許願第３３３３７６号「半導体装置の製造システム」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年　７月１１日出願公開、特開平　９−１８０９８０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．経緯
　本願は、平成７年１２月２１日の出願であって、原審において、平成１４年１２月２７日付けで拒絶査定され、審判請求された後、当審において拒絶の理由が通知され、その指定期間内に提出された平成１６年１２月７日付け手続補正書によって補正されたものである。
　本願請求項１に係る発明（以下、「本願第１発明」という。）は、明細書及び図面の記載からみて、請求項１に記載された次のとおりのものである。
　請求項１
　顧客の仕様要求によって露光パターンが変更される露光工程を含む複数の工程によって製造される半導体装置の製造システムであって、
　各顧客のオフィス内またはその近くに設けられ、対応の顧客によって要求された前記半導体装置の仕様、数量などを含む情報を入力するための入力端末、
　前記入力端末に入力された情報に基づいて、前記露光工程に必要なビーム描画用データと、前記半導体装置の生産および品質管理に必要なデータとを生成し伝送する演算処理装置、および
　前記演算処理装置から伝送されたデータに従って前記半導体装置を製造する製造ラインを備え、
　前記入力端末、前記演算処理装置および前記製造ラインの各間は通信回線によって接続され、
　前記製造ラインは、
　電子またはイオンビームを出射するビーム出射装置、および
　前記演算処理装置から伝送された前記ビーム描画用データに従って、前記ビーム出射装置から出射されたビームを半導体ウェハ表面に走査し該半導体ウェハに前記露光パターンを描画するための走査装置を含む、半導体装置の製造システム。　　
　
２．当審の拒絶の理由に引用した引用例
　引用例１　特開平５−３６５７９号公報
　
２．１ 引用例１の記載内容
　引用例１の【０００２】ないし【００２４】段落には、
「【０００２】
【従来の技術】
　例えば、半導体装置の製造においては、細く絞ったイオンビ−ムを半導体ウェハに照射することにより、半導体ウェハのプロセス処理を行なう装置が用いられている。これがＦＩＢ…装置である。…。
【０００３】
　この文献に記載されているＦＩＢ装置は、主に、制御ファイル、入出力装置、中央処理装置、処理チャンバの夫々から構成されている。前記制御ファイル、入出力装置、中央処理装置および処理チャンバ制御インターフェイスは、制御部を構成する。…。
【０００７】
　一方、前記のＦＩＢ装置は、オペレータによって操作される。オペレータは、工務計画表に基づいて種々の操作を実行する。この工務計画表には、例えば、各半導体ウェハに対応した処理工程毎に描画すべきパターンデータの種別、処理チャンバ内へ搭載し、所定時刻に描画すべき半導体ウェハの種別などが記載されている。オペレータは送られてきた半導体ウェハの種別、完了した処理工程を判断し、工務計画表に基づいてその段階で必要な処理を入力装置から指定する。
【０００８】
　また、これらのオペレータの操作、つまり工務計画表の内容を指定や半導体集積回路の専門知識を前提として、各半導体ウェハに対応した処理の条件の指定、イオンビーム装置の調整条件の指定に関しても入力装置から行なう。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
　ところが、前記文献に記載された従来技術には、以下の問題があることを本発明者は見出した。
【００１０】
　すなわち、前記のＦＩＢ装置の場合には、入力装置から入力すべき情報は、処理チャンバでの処理に関するものの他に工務計画表の内容を指定や半導体集積回路の専門知識を前提とした各半導体ウェハに対応した処理の条件の指定、イオンビーム装置の調整条件の指定などがある。つまり、装置のオペレータとしては、入力装置を用いて、半導体ウェハ処理のための一定の単純操作だけでなく、場合によっては、種々の専門知識が必要となる。
…。
【００１２】
　そこで、本発明の目的は、操作者の習熟度にかかわらず操作エラーを低減することのできる技術を提供することにある。
…。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
　本願に於いて開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記の通りである。
【００１５】
　すなわち、被制御装置を制御するための制御プログラムを格納する制御ファイルと、前記被制御装置の処理状態を出力する出力装置と、前記被制御装置の処理内容を指定する入力装置とを備え、前記制御プログラムに基づいて中央処理装置により前記被制御装置を制御可能な自動処理装置において、その処理状態に対応して異なる内容の表示画面を前記出力装置へ出力する表示手段と、前記各表示画面の内容に対応して設けられる複数種類の操作用入力スイッチと、前記出力装置へ出力される前記表示画面の内容に対応して前記操作用入力スイッチの一部または全部の切り替え或いは変更を行う制御手段とを設けるようにしている。
…。
【００２０】
　本実施例の電子線露光装置は、被制御装置（例えば、処理チャンバ）１、制御ファイル２（例えば、集積回路パターンなどのデータ）、中央処理装置（例えば、ワークステーションを用いるが、以下においてはＣＰＵと表記する）３、入出力装置（例えば、入力関係ではキーボードやマウス、出力関係はＣＲＴなどによる表示装置）４、記憶装置５、システムバス６（例えば、イーサバス）、汎用Ｉ／Ｏインターフェイス７、制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８（例えば、真空機器、ウェハ台駆動機構などの駆動制御用）、及び通信用Ｉ／Ｏインターフェイス９（専用回線、電話線を通しての外部との通信用）の夫々から構成されている。
【００２１】
　なお、制御ファイル２、ＣＰＵ３、入出力装置４、記憶装置５、システムバス６、複数の制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８、通信用Ｉ／Ｏインターフェイス９の夫々によって制御部が構成される。制御ファイル２、記憶装置５、汎用Ｉ／Ｏインターフェイス７及び制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８の各々と、ＣＰＵ３とはシステムバス６を介して接続される。また、制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８の各々には被制御装置１が接続される。
【００２２】
　制御ファイル２には、被制御装置１での処理内容を規定する描画データ（パターンデータ、露光位置データ、露光条件データなどを含むデータ）が、複数格納されている。ＣＰＵ３には、汎用Ｉ／Ｏインターフェイス７、システムバス６を介して、入出力装置４からの入力が入力される。このＣＰＵ３は、入出力装置４からの入力に対応して、制御ファイル２からシステムバス６を介して描画データを読み込む。そして、この描画データに基づいて、システムバス６、制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８を介して、被制御装置１を制御する。…。
【００２４】
　ＣＰＵ３の制御プログラムは、被制御装置１の処理状態に対応して、記憶装置５に記憶されている情報をシステムバス６を介してＣＰＵ３へ読み込み、この読み込んだ情報を入出力装置４に出力する。また、記憶装置５に記憶されている情報に従って、入出力装置４から入力した情報は、システムバス６を介してＣＰＵ３に読み込まれ、被制御装置１の処理内容を規定する。…。」
と記載されている。
　
２．２ 引用例１の記載の発明
　引用例１の記載の発明は、被制御装置１、制御ファイル２、中央処理装置３、入出力装置４、記憶装置５、システムバス６、汎用Ｉ／Ｏインターフェイス７、制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８及び通信用Ｉ／Ｏインターフェイス９から構成されるものであって、
　制御ファイル２、記憶装置５、汎用Ｉ／Ｏインターフェイス７及び制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８と、ＣＰＵ３とはシステムバス６を介して接続され、また、制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８の各々には被制御装置１が接続され、
　制御ファイル２には、被制御装置１での処理内容を規定する描画データが複数格納され、
　ＣＰＵ３には、汎用Ｉ／Ｏインターフェイス７、システムバス６を介して、入出力装置４からの入力が入力され、このＣＰＵ３は、入出力装置４からの入力に対応して、制御ファイル２からシステムバス６を介して描画データを読み込み、この描画データに基づいて、システムバス６、制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８を介して、被制御装置１を制御し、
　記憶装置５に記憶されている情報に従って、入出力装置４から入力した情報は、システムバス６を介してＣＰＵ３に読み込まれ、被制御装置１の処理内容を規定する電子線露光装置である。
　
３．対比
　本願第１発明と引用例１記載の発明を対比する。
　引用例１記載の「パターン」、「被制御装置の処理」、「電子線露光装置」、「入出力装置」、「描画データ」、「ＣＰＵ、制御ファイル及び記憶装置」及び「被制御装置」は、本願第１発明の、「露光パターン」、「露光」、「半導体装置の製造システム」、「入力端末」、「ビーム描画用データ」、「演算処理装置」及び「製造ライン」に相当する。
　また、引用例１記載の発明は、描画データ（パターンデータなどを含むデータ）を複数有するから、当然、露光パターンが変更される露光工程を有している。
　また、半導体装置の製造においては、当然、露光工程を含む複数の工程を有している。
　さらに、引用例１記載の入出力装置、ＣＰＵ、制御ファイル、記憶装置及び被制御装置は、インターフェースを介して他の装置と結びつけられているから、引用例１記載の発明においても、通信回線に相当するものを実質的に有している。
　そうすると、本願第１発明と引用例１記載の発明は、
「露光パターンが変更される露光工程を含む複数の工程によって製造される半導体装置の製造システムであって、
　情報を入力するための入力端末、
　前記入力端末に入力された情報に基づいて、前記露光工程に必要なビーム描画用データを生成し伝送する演算処理装置、および
　前記演算処理装置から伝送されたデータに従って前記半導体装置を製造する製造ラインを備え、
　前記入力端末、前記演算処理装置および前記製造ラインの各間は通信回線によって接続され、
　前記製造ラインは、
　電子またはイオンビームを出射するビーム出射装置、を含む、半導体装置の製造システム。」
において一致し、以下の点で相違する。
　相違点
　本願第１発明は、「顧客の仕様要求によって露光パターンが変更される」構成であるのに対し、引用例１記載の発明では、上記構成の記載がない点で相違（以下、「相違点１」という。）する。
　本願第１発明は、「各顧客のオフィス内またはその近くに設けられ、対応の顧客によって要求された前記半導体装置の仕様、数量などを含む情報を入力するための入力端末」を有する構成であるのに対し、引用例１記載の発明は、この構成の記載がない点で相違（以下、「相違点２」という。）する。
　本願第１発明は、「前記半導体装置の生産および品質管理に必要なデータを生成し伝送する」構成であるのに対し、引用例１記載の発明は、この構成の記載がない点で相違（以下、「相違点３」という。）する。
　本願第１発明は、「前記演算処理装置から伝送された前記ビーム描画用データに従って、前記ビーム出射装置から出射されたビームを半導体ウェハ表面に走査し該半導体ウェハに前記露光パターンを描画するための走査装置」を有する構成であるのに対し、引用例１記載の発明は、この構成の記載がない点で相違（以下、「相違点４」という。）する。
　
４．判断
　相違点１についての検討
　顧客の仕様要求によって露光パターンが変更されることは、半導体装置の製造において慣用手段（例えば、特開平７−５０２４２号公報及び特開平２−６２５４１号公報等参照）にすぎず、相違点１については、単に上記慣用手段を付加することにより当業者が容易に想到できたことにすぎない。
　
　相違点２についての検討
　入力端末を、各顧客に対応して各顧客のオフィス内またはその近くに設けることは、物品の発注手段として周知手段（例えば特開平７−２８２２８２号公報、特開平３−１０５４９６号公報及び特開平２−１９４４６７号公報等参照）にすぎず、また、対応の顧客によって要求された前記半導体装置の仕様、数量などを含む情報を入力することも、上記相違点１についての検討で挙げた慣用手段の範囲のものにすぎないので、相違点２については、上記周知・慣用手段を単に付加したものにすぎず、当業者が容易に想到できたことである。
　
　相違点３についての検討
　生産および品質管理に必要なデータを用いることは、生産技術における慣用手段であり、半導体装置の品質管理に必要なデータとを生成し伝送することは当業者が当然考慮する事項にすぎないから、相違点３については、当業者が容易に想到できたことである。
　
　相違点４についての検討
　引用例１には、「細く絞ったイオンビームを半導体ウェハに照射することにより、半導体ウェハのプロセス処理を行なう」（【０００２】段落）と記載されているから、ビーム出射装置から出射されたビームを半導体ウェハ表面に走査し該半導体ウェハに前記露光パターンを描画するための走査装置を必然的に備えており、相違点４については、実質的な相違ではない。
　
　そして、本願発明の作用効果も、引用例１記載の発明及び周知・慣用手段の作用効果から当業者が予測できる範囲のものである。
　　
５．むすび
　そうすると、本願請求項１に係る発明は、引用例１に記載された発明及び周知・慣用手段に基いて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって結論のとおり審決する。