(57)【要約】  本発明は、一般式（ＩＩ）：［（ＨＲｂ）Ｓｉ（ＩＩ）Ｃｐ］のケイ素（ＩＩ）化合物と、一般式（ＩＩＩ）：（Ｒｃ３Ｃ＋）ａＸａ−のカルボカチオン性化合物との反応により、一般式（Ｉ）：（［Ｓｉ（ＩＩ）Ｃｐ］＋）ａＸａ−のカチオン性ケイ素（ＩＩ）中心を有する化合物を製造する方法であって、Ｃｐはπ結合しており、負の形式電荷を有している、非置換の又は置換されたシクロペンタジエニル基を表し、Ｘａ−はａ価のアニオンを表し、ａは１、２又は３の値を表し、Ｒｃは非置換であってもハロゲン原子で置換されていてもよい一価の芳香族基、又は互いに結合して縮合環を形成していてもよい一価又は多価の有機基を表し、ＨＲｂは請求項１に記載の定義を有する方法に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式ＩＩ：
［（ＨＲｂ）Ｓｉ（ＩＩ）Ｃｐ］                        （ＩＩ）
のケイ素（ＩＩ）化合物と、一般式（ＩＩＩ）：
（Ｒｃ３Ｃ＋）ａＸａ−                        （ＩＩＩ）
のカルボカチオン性化合物との反応により、一般式Ｉ：
（［Ｓｉ（ＩＩ）Ｃｐ］＋）ａＸａ−                        （Ｉ）
のカチオン性ケイ素（ＩＩ）中心を有する化合物を製造する方法であって、
Ｃｐは、π結合しており、負の形式電荷を有している、非置換の又は置換されたシクロペンタジエニル基を表し、
Ｘａ−は、ａ価のアニオンを表し、
ａは、１、２又は３の値を表し、
ＨＲｂは、Ｒｘ基で置換されており、負の形式電荷を有している、一般式Ｖ：
【化１】
2020516641.tif 000004
のシクロペンタジエニル基を表し、
Ｒｘは、互いに独立して、水素、直鎖状又は分枝鎖状かつ非環状又は環状の飽和又はモノ−若しくはポリ不飽和Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、或いはＣ６〜Ｃ２０アリール基を表すが、但し、基Ｒｘの１以上は基ＣＨＲ１Ｒ２を表し、
Ｒ１及びＲ２は、互いに独立して、水素、直鎖状又は分枝鎖状かつ非環状又は環状の飽和又はモノ−若しくはポリ不飽和Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、或いはＣ６〜Ｃ２０アリール基を表し、
Ｒｃは、非置換であってもハロゲン原子で置換されていてもよい一価の芳香族基、又は互いに結合して縮合環を形成していてもよい一価又は多価の有機基を表す、方法。
【請求項２】
基Ｃｐが、一般式ＩＶ：
【化２】
2020516641.tif 000005
［式中、
Ｒｙは、互いに独立して、水素、直鎖状又は分枝鎖状かつ非環状又は環状の飽和又はモノ−若しくはポリ不飽和Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、或いはＣ６〜Ｃ２０アリール基を表す。］
を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｘａ−が、
［ＣｌＯ４］−、
［ＯＴｆ］−、
［ＦＳＯ３］−、及び
ホウ素元素、アルミニウム元素、ガリウム元素、ゲルマニウム元素、スズ元素、リン元素、ヒ素元素及びアンチモン元素のハロゲン化合物から選択されるアニオンであって、１又は複数のハロゲン置換基が炭素含有基で置換されていてもよいアニオン、及び
カルボランアニオンから選択される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
Ｒ１及びＲ２が、互いに独立して、水素又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表す、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
基Ｒｃが、非置換の又はハロゲン原子で置換されたフェニル、トリル、キシリル、メシチレニル及びエチルフェニル基から選択される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
ＲｘがＣ１〜Ｃ３アルキル基を表す、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
炭化水素、塩化炭化水素、エーテル、ニトリル、オルガノシラン又はオルガノシロキサンから選択される非プロトン性溶媒で実施される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カチオン性Ｓｉ（ＩＩ）化合物を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物は、高い反応性を示す化合物であり、それらの電子構造のために、特に触媒目的において産業的に有益である。特に、合成容易性の欠如は、現在まで、この化合物群の使用の障害となっている。例えば、化合物（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−は、Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２０１４，２０，９１９２に記載のように、シリコセン（Ｃ５Ｍｅ５）２Ｓｉと特定のプロトン酸（Ｃ５Ｈ２Ｍｅ５）＋Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−との反応によって、シリコセンから排他的に製造可能である。上記プロトン酸は、Ｓｃｉｅｎｃｅ，２００４，３０５，８４９と併せてＯｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ  ２０００，１９，１４４２のとおり、非常に複雑で、折に触れて安全を最重視すべき、７段階の低温合成によってのみ取得可能である。より容易に取得可能なプロトン酸は、Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．１９９３，４４６，１３９に記載のように、四価のケイ素を有する付加化合物の形成を伴う酸化的付加を常に引き起こす。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
したがって、カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物を取得可能な、より単純な方法が必要であった。
【課題を解決しようとする手段】
【０００４】
本発明は、一般式ＩＩ：
［（ＨＲｂ）Ｓｉ（ＩＩ）Ｃｐ］                        （ＩＩ）
のケイ素（ＩＩ）化合物と、一般式（ＩＩＩ）：
（Ｒｃ３Ｃ＋）ａＸａ−                        （ＩＩＩ）
のカルボカチオン性化合物との反応により、一般式Ｉ：
（［Ｓｉ（ＩＩ）Ｃｐ］＋）ａＸａ−                        （Ｉ）
のカチオン性ケイ素（ＩＩ）中心を有する化合物を製造する方法であって、
Ｃｐは、π結合しており、負の形式電荷を有している、非置換の又は置換されたシクロペンタジエニル基を表し、
Ｘａ−は、ａ価のアニオンを表し、
ａは、１、２又は３の値を表し、
ＨＲｂは、Ｒｘ基で置換されており、負の形式電荷を有している、一般式Ｖ：
【０００５】
【化１】
2020516641.tif 000002
のシクロペンタジエニル基を表し、
Ｒｘは、互いに独立して、水素、直鎖状又は分枝鎖状かつ非環状又は環状の飽和又はモノ−若しくはポリ不飽和Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、或いはＣ６〜Ｃ２０アリール基を表すが、但し、基Ｒｘの１以上は基ＣＨＲ１Ｒ２を表し、
Ｒ１及びＲ２は、互いに独立して、水素、直鎖状又は分枝鎖状かつ非環状又は環状の飽和又はモノ−若しくはポリ不飽和Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、或いはＣ６〜Ｃ２０アリール基を表し、
Ｒｃは、非置換であってもハロゲン原子で置換されていてもよい一価の芳香族基、又は互いに結合して縮合環を形成していてもよい一価又は多価の有機基を表す、方法を提供する。
【発明の効果】
【０００６】
驚くことに、カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物を、負に帯電した水素原子である水素化物イオンを一般式ＩＩＩのカルボカチオン性化合物へと転移することにより製造できることが見出された。この反応において、負に帯電した水素原子である水素化物イオンは、ＨＲｂ中の基Ｒｘの基ＣＨＲ１Ｒ２から、カルボカチオンＲｃ３Ｃ＋へと選択的に転移される。このとき、所望のカチオン性Ｓｉ（ＩＩ）化合物［Ｓｉ（ＩＩ）Ｃｐ］＋に加えて、化合物Ｒｃ３Ｃ−Ｈが生成する。反応後、カルボカチオンＲｃ３Ｃ＋の対アニオンＸａ−が、一般式Ｉのカチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物の対アニオンを形成する。
【０００７】
一般式ＩＩＩのカルボカチオンは、非常に容易に合成的に取得可能である。そのため、この方法において、カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物の合成容易性は、大幅に単純化される。さらに有利なことに、反応は高収率で達成される。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
上記方法の反応過程は、一般式ＩＩを有する化合物におけるＣｐ−ＣＨＲ１Ｒ２として定義される好ましいシクロペンタジエニル基ＨＲｂと、一般式ＩＩＩの化合物における好ましいカルボカチオン、特にトリチリウムカチオンＰｈ３Ｃ＋とを使用する例によって説明される。上記方法において、水素化物イオンは、Ｐｈ３Ｃ＋へと転移されて、トリフェニルメタン、Ｐｈ３Ｃ−Ｈ及び化合物Ｃｐ＝ＣＲ１Ｒ２（Ｒｂに相当）が反応式１：
［（Ｃｐ−ＣＨＲ１Ｒ２）Ｓｉ（ＩＩ）Ｃｐ］＋Ｐｈ３Ｃ＋Ｘ−⇒
Ｃｐ＝ＣＲ１Ｒ２＋（Ｓｉ（ＩＩ）Ｃｐ）＋＋ＨＣＰｈ３＋Ｘ−          （１）
により生成する。
【０００９】
ＨＲｂから水素化物イオンを開裂（cleave）することによって、ケイ素中心は正の電荷を獲得する。
【００１０】
化合物Ｘ−は、カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物（ＣｐＳｉ）＋の対イオンを形成する。
【００１１】
一般式Ｉを有する化合物のＣｐ基は、好ましくは、一般式ＩＶ：
【００１２】
【化２】
2020516641.tif 000003
を有する。
【００１３】
基Ｒｙは、好ましくは互いに独立して、好ましくは水素、直鎖状又は分枝鎖状かつ非環状又は環状の飽和又はモノ−若しくはポリ不飽和Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、或いはＣ６〜Ｃ２０アリール基、特に好ましくはＣ１〜Ｃ３アルキル基、特に一層好ましくはメチル基を表す。
【００１４】
基Ｒｙの例は、アルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基（例えば、ｎ−ヘキシル基等）、ヘプチル基（例えば、ｎ−ヘプチル基等）、オクチル基（例えば、ｎ−オクチル基等）、イソオクチル基（例えば、２，４，４−トリメチルペンチル基等）、ノニル基（例えば、ｎ−ノニル基等）、デシル基（例えば、ｎ−デシル基等）、ドデシル基（例えば、ｎ−ドデシル基等）、ヘキサデシル基（例えば、ｎ−ヘキサデシル基等）、オクタデシル基（例えば、ｎ−オクタデシル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル基及びメチルシクロヘキシル基等））、アリール基（例えば、フェニル、ナフチル、アントリル及びフェナントリル基等）、アルカリル基（例えば、ｏ−、ｍ−及びｐ−トリル、キシリル、メシチレニル並びにｏ−、ｍ−及びｐ−エチルフェニル基等）、及びアラルキル基（例えば、ベンジル基、α−及びβ−フェニルエチル基等）である。
【００１５】
Ｘａ−は、無機又は有機のいずれであってもよいａ価のアニオンを表す。ａは、好ましくは１及び２、特に１の値である。
【００１６】
Ｘａ−は、好ましくは［ＣｌＯ４］−、［ＯＴｆ］−、［ＦＳＯ３］−、或いは、ホウ素元素、アルミニウム元素、ガリウム元素、ゲルマニウム元素、スズ元素、リン元素、ヒ素元素及びアンチモン元素のハロゲン化合物から選択されるアニオン（好ましくは無機アニオン、好ましくは錯アニオン）であって、１又は複数のハロゲン置換基が炭素含有基、好ましくは非置換の又はハロゲン原子で置換されたＣ１〜Ｃ２０の炭化水素又は炭化水素オキシ（hydrocarbonoxy）基、特にアルキル、アリール又はアルコキシ基、特に好ましくはフッ素化又は塩素化された炭化水素基で置換されていてもよいアニオン、或いは好ましくはカルボランアニオン（carborate anion）である。
【００１７】
当業者に知られているように、そのような好ましいアニオンＸａ−は、弱配位性アニオン（ＷＣＡ：weakly coordinating anion）と呼ばれており、それらは反応性のカチオン性構造体に弱い親和性を有するためである。この主題の概説は、Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｒｅｖ．２０１６，４５，７８９−８９９において、Ｉ．Ｋｒｏｓｓｉｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，による論文に記載されている。
【００１８】
Ｘａ−として、以下のアニオンが特に好ましい：
［ＣｌＯ４］−、［ＯＳＯ２ＣＦ３］−、［ＦＳＯ３］−、［ＢＦ４］−、［Ｂ（ＣＦ３）４］−、［ＢＰｈ４］−、［Ｂ（ＡｒＣＦ３）４］−、［Ｂ（ＡｒＣｌ）４］−、［ＨＢ（Ｃ６Ｆ５）３］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４］−、［ＭｅＢ（Ｃ６Ｆ５）３］−、［ＭｅＢ（Ｃ１２Ｆ９）３］−、［ＡｌＣｌ４］−、［ＡｌＢｒ４］−、［ＡｌＩ４］−、［Ａｌ（ＯＲＰＦ）４］−、［Ａｌ（ＯＲＨＦ）４］−、［Ａｌ（ＯＲＭＦ）４］−、［Ｃｌ｛Ａｌ（ＯＲＰＦ）３｝２］−、［ＣｌＡｌ（ＯＲＰＦ）３］−、［（ＲＰＦＯ）３Ａｌ−Ｆ−Ａｌ（ＯＲＰＦ）３］−、［ＦＡｌ｛ＯＣ６Ｆ１０（Ｃ６Ｆ５）｝３］−、［Ａｌ２Ｂｒ７］−、［ＧａＣｌ４］−、［Ｇａ２Ｃｌ７］−、［Ｃｌ２Ｇａ（ＦＰ）２］−、［Ｇａ（Ｃ６Ｆ５）４］−、［ＧｅＢｒ３］−、［ＧｅＣｌ３］−、［ＧｅＦ６］２−、［ＳｎＣｌ３］−、［ＳｎＢｒ３］−、［ＳｎＣｌ６］２−、［ＰＦ６］−、［ＡｓＦ６］−、［Ａｓ２Ｆ１１］−、［ＳｂＦ６］−、［Ｓｂ２Ｃｌ８］２−、［Ｓｂ２Ｆ１１］−、［Ｓｂ３Ｆ１６］−、［Ｓｂ４Ｆ２１］−（上記式中、ＡｒＣＦ３は、３，５−（ＣＦ３）２Ｃ６Ｈ３を表し、ＡｒＣｌは、ペンタクロロフェニルを表し、ＯＲＭＦは、−ＯＣ（ＣＨ３）（ＣＦ３）２を表し、ＯＲＰＦは、−ＯＣ（ＣＦ３）３を表し、ＯＲＨＦは、−ＯＣ（Ｈ）（ＣＦ３）２を表す。）、［ＣＢ１１Ｈ１２］−、［ＣＨＢ１１Ｈ５Ｃｌ６］−、［ＣＨＢ１１Ｈ５Ｂｒ６］−、［ＣＨＢ１１Ｆ１１］−、［Ｃ（Ｅｔ）Ｂ１１Ｆ１１］−、［ＣＢ１１（ＣＦ３）１２］−、［ＨＣＢ１１Ｃｌ１１］−、［ＨＣＢ１１Ｉ１１］−、［ＨＣＢ９Ｈ４Ｂｒ５］−、［ＨＣＢ１１Ｈ５Ｂｒ６］−、［ＨＣＢ１１Ｈ５Ｃｌ６］−、［ＣＢ１１Ｍｅ５Ｂｒ６］−、［ＨＣＢ１１Ｍｅ５Ｃｌ６］−、［ＣＢ１１Ｈ６Ｘ６］−（式中、Ｘ＝Ｃｌ、Ｂｒ又は［Ｂ１２Ｃｌ１２］２−である。）
【００１９】
基Ｒｘの例は、アルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基（例えば、ｎ−ヘキシル基等）、ヘプチル基（例えば、ｎ−ヘプチル基等）、オクチル基（例えば、ｎ−オクチル基等）、イソオクチル基（例えば、２，４，４−トリメチルペンチル基等）、ノニル基（例えば、ｎ−ノニル基等）、デシル基（例えば、ｎ−デシル基等）、ドデシル基（例えば、ｎ−ドデシル基等）、ヘキサデシル基（例えば、ｎ−ヘキサデシル基等）、オクタデシル基（例えば、ｎ−オクタデシル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル基及びメチルシクロヘキシル基等））、アリール基（例えば、フェニル、ナフチル、アントリル及びフェナントリル基等）、アルカリル基（例えば、ｏ−、ｍ−及びｐ−トリル、キシリル、メシチレニル並びにｏ−、ｍ−及びｐ−エチルフェニル基等）、及びアラルキル基（例えば、ベンジル基、α−及びβ−フェニルエチル基等）である。
【００２０】
一般式Ｖの化合物における基Ｒｘは、互いに独立して、好ましくは水素、特に好ましくはＣ１〜Ｃ３アルキル基、特に一層好ましくはメチル基を表す。
【００２１】
基Ｒ１及びＲ２は、互いに独立して、好ましくは水素、特に好ましくはＣ１〜Ｃ３アルキル基、特に一層好ましくはメチル基を表す。
【００２２】
好ましい基Ｒｃは、非置換の又はハロゲン原子で置換されたフェニル、トリル、キシリル、メシチレニル及びエチルフェニル基である。
【００２３】
特に好ましい基Ｒｃは、フェニル、ペンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニル、ｏ−、ｍ−及びｐ−トリル、キシリル、メシチレニル並びにｏ−、ｍ−及びｐ−エチルフェニル基である。
【００２４】
一般式Ｉを有する化合物の好ましい例は、Ｐｈ３Ｃ＋Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−、Ｐｈ３Ｃ＋ＢＦ４−、Ｐｈ３Ｃ＋ＰＦ６−、Ｐｈ３Ｃ＋［ＨＣＢ１１Ｃｌ１１］−及びＰｈ３Ｃ＋ＣｌＯ４−である。
【００２５】
反応式１による反応中、化合物ＨＣＰｈ３が生成し、さらに、例示的な反応式１のとおりＣｐ＝ＣＲ１Ｒ２の定義を有する開裂産物（cleavage product）Ｒｂが生成する。開裂産物Ｒｂは、反応混合物中に残しておいてもよいし、或いは、これが有利である場合、例えば、Ｒｂが化合物Ｉの使用を妨害する場合には、分離除去してもよい。
【００２６】
分離は、当業者に知られている方法、例えば、蒸留又は分別結晶によって達成可能である。蒸留法では、化合物Ｒｂは、好ましくは減圧下で蒸留除去されることが好ましい。分離が結晶化によって達成される場合、一般式Ｉの化合物は、好ましくは沈殿剤の添加によって晶出される。このとき、一般式Ｒｂの化合物は、溶液に残存し、例として、濾過によって除去可能である。
【００２７】
一般式ＩＩの化合物の、一般式ＩＩＩのカルボカチオン性化合物に対するモル比は、好ましくは１：１０以上１０：１以下、特に好ましくは１：５以上５：１以下、特に一層好ましくは１：３以上３：１以下である。２種の成分は、ここでどのような所望の順序でも混合可能であり、混合は当業者に知られている方法によって達成される。一般式ＩＩの化合物が、好ましくは一般式ＩＩＩのカルボカチオン性化合物に混合される。
【００２８】
本発明の反応は、１又は複数の追加の成分の存在下で、例として、単一の溶媒又は複数の溶媒の混合物の存在下で、実施してもよい。
【００２９】
一般式ＩＩの化合物若しくは化合物ＩＩＩのいずれか、又は両方の成分は、単一の溶媒又は複数の溶媒の混合物に溶解してもよい。単一の溶媒又は複数の溶媒の混合物の割合は、一般式ＩＩ及びＩＩＩの化合物の総重量を基準として、好ましくは０．１重量％以上１０００倍重量以下、特に好ましくは１０重量％以上１００倍重量以下、特に一層好ましくは３０重量％以上１０倍重量以下である。
【００３０】
使用可能な溶媒の例としては、炭化水素（例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン又はトルエン等）、塩化炭化水素（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン又は１，２−ジクロロエタン等）、エーテル（例えば、ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、アニソール、テトラヒドロフラン又はジオキサン等）又はニトリル（例えば、アセトニトリル又はプロピオニトリル等）が挙げられる。
【００３１】
また、一般式Ｉを有する化合物を生成する本発明の反応は、一般式Ｉの化合物の存在下で反応する成分の存在下でも達成可能である。追加の成分の反応における触媒として作用する一般式Ｉの化合物は、この場合は、反応物の存在下で生成される。
【００３２】
反応は、周囲圧力、又は減圧下若しくは高圧下で実施可能である。
【００３３】
圧力は、好ましくは０．０１ｂａｒ以上１００ｂａｒ以下、特に好ましくは０．１ｂａｒ以上１０ｂａｒ以下であり、反応は、特に一層好ましくは周囲圧力で実施される。
【００３４】
本発明の反応は、好ましくは−１００℃以上＋２５０℃以下、特に好ましくは−２０℃以上＋１５０℃以下、特に一層好ましくは０℃以上＋１００℃以下の温度で達成される。
【００３５】
一般式Ｉのカチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物は、例えばヒドロシリル化の触媒として使用可能である。ヒドロシリル化の例の使用によって示すように、一般式Ｉのケイ素（ＩＩ）化合物によって触媒される過程は、特に均一に、副産物の生成が感知されずに進行する。
【００３６】
上記式の上記符号の全ては、互いに独立してそれぞれ定義される。ケイ素原子は全ての式において四価である。
【００３７】
別段の指示がない限り、全ての量及び百分率は重量を基準として、全ての温度は２０℃である。
【実施例】
【００３８】
全作業工程を、Ａｒ下で実施する。シリコセン（ＣＰ＊２Ｓｉ、Ｃｐ＊＝ペンタメチルシクロペンタジエニル）１０２ｍｇ（０．３４２ｍｍｏｌ）を、ジクロロメタン３．５ｍＬに溶解し、振盪しながら、トリチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸塩（Ｐｈ３Ｃ＋Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−）３１０ｍｇ（０．３３６ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液３．５ｍＬに室温で混合する。均一になった上記溶液に、固形の沈殿物が生成するまで、ｎ−デカンを滴下して混合する。上澄みの溶液をデカントで除去して、固形物を毎回ｎ−ヘキサン１ｍＬで３回洗浄し、減圧下で乾燥する。固形物は、ＣＰ＊２Ｓｉ＋Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−からなる。
【００３９】
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２）：δ＝２．２４（Ｓ，ＣｐのＣＨ３）、１９Ｆ  ＮＭＲ：δ＝−１６７．５（ｍ，２  Ｆ）、−１６３．６（ｍ，１  Ｆ）、−１３３．０（ｍ，２  Ｆ）。
【００４０】
化合物は、３ヶ月以上の期間にわたって周囲温度（２５℃）で安定である。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月12日(2019.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式ＩＩ：
［（ＨＲｂ）Ｓｉ（ＩＩ）Ｃｐ］                        （ＩＩ）
のケイ素（ＩＩ）化合物と、一般式（ＩＩＩ）：
（Ｒｃ３Ｃ＋）ａＸａ−                        （ＩＩＩ）
のカルボカチオン性化合物との反応により、一般式Ｉ：
（［Ｓｉ（ＩＩ）Ｃｐ］＋）ａＸａ−                        （Ｉ）
のカチオン性ケイ素（ＩＩ）中心を有する化合物を製造する方法であって、
Ｃｐは、π結合しており、負の形式電荷を有している、非置換の又は置換されたシクロペンタジエニル基であって、一般式ＩＶ：
【化１】
2020516641.tif 000006
［式中、
Ｒｙは、互いに独立して、水素、直鎖状又は分枝鎖状かつ非環状又は環状の飽和又はモノ−若しくはポリ不飽和Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、或いはＣ６〜Ｃ２０アリール基を表す。］
を有するシクロペンタジエニル基を表し、
Ｘａ−は、ａ価のアニオンを表し、
ａは、１、２又は３の値を表し、
ＨＲｂは、Ｒｘ基で置換されており、負の形式電荷を有している、一般式Ｖ：
【化２】
2020516641.tif 000007
のシクロペンタジエニル基を表し、
Ｒｘは、互いに独立して、水素、直鎖状又は分枝鎖状かつ非環状又は環状の飽和又はモノ−若しくはポリ不飽和Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、或いはＣ６〜Ｃ２０アリール基を表すが、但し、基Ｒｘの１以上は基ＣＨＲ１Ｒ２を表し、
Ｒ１及びＲ２は、互いに独立して、水素、直鎖状又は分枝鎖状かつ非環状又は環状の飽和又はモノ−若しくはポリ不飽和Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、或いはＣ６〜Ｃ２０アリール基を表し、
Ｒｃは、非置換であってもハロゲン原子で置換されていてもよい一価の芳香族基、又は互いに結合して縮合環を形成していてもよい一価又は多価の有機基を表す、方法。
【請求項２】
Ｘａ−が、
［ＣｌＯ４］−、
［ＯＴｆ］−、
［ＦＳＯ３］−、及び
ホウ素元素、アルミニウム元素、ガリウム元素、ゲルマニウム元素、スズ元素、リン元素、ヒ素元素及びアンチモン元素のハロゲン化合物から選択されるアニオンであって、１又は複数のハロゲン置換基が炭素含有基で置換されていてもよいアニオン、及び
カルボランアニオンから選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｒ１及びＲ２が、互いに独立して、水素又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表す、請求項１〜２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４】
基Ｒｃが、非置換の又はハロゲン原子で置換されたフェニル、トリル、キシリル、メシチレニル及びエチルフェニル基から選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
ＲｘがＣ１〜Ｃ３アルキル基を表す、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
炭化水素、塩化炭化水素、エーテル、ニトリル、オルガノシラン又はオルガノシロキサンから選択される非プロトン性溶媒で実施される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【国際調査報告】
2020516641.tif 000008
2020516641.tif 000009