【事件の表示】
　特許第５６９２９６９号発明「収差補正方法，この収差補正方法を用いたレーザ加工方法，この収差補正方法を用いたレーザ照射方法，収差補正装置，及び，収差補正プログラム」の特許異議申立事件について，次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第５６９２９６９号の請求項１ないし１０に係る特許を維持する。
【理　由】
１　手続の経緯
　特許第５６９２９６９号の請求項１ないし１０に係る特許についての出願は，平成２１年５月２５日（優先権主張平成２０年９月１日）に特許出願され，平成２７年２月１３日にその特許権の設定登録がされ，その後，その特許について，特許異議申立人　土屋 篤志により特許異議の申立てがされ，平成２８年２月１２日付けで取消理由が通知され，その指定期間内である平成２８年４月１８日に意見書の提出があったものである。
２　本件発明
本件の請求項１ないし１０に係る発明（以下，それぞれ「本件発明１」ないし「本件発明１０」という。）は，その特許請求の範囲の請求項１ないし請求項１０に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
「【請求項１】
　光透過性を有する媒質内部にレーザ光を集光するレーザ照射装置であって，前記媒質内部にレーザ光を集光するための集光手段と，前記レーザ光の収差を補正するための空間光変調器とを備える当該レーザ照射装置の収差補正方法において，
　前記媒質内部における集光位置を設定し，
　前記レーザ光の集光点が，収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する範囲に位置するように，前記媒質の相対移動量を設定し，
　前記集光位置に前記レーザ光が集光するように算出された補正波面を前記空間光変調器に表示し，
　前記媒質と前記集光手段との距離が前記相対移動量となるように，前記集光位置を相対的に移動し，
　前記レーザ光を前記媒質における集光位置へ照射する，
収差補正方法。
【請求項２】
　前記媒質の屈折率をｎ，前記媒質の屈折率ｎが前記集光手段雰囲気媒質の屈折率に等しいと仮定した場合における前記媒質の入射面から前記集光手段の焦点までの深さをｄ，前記媒質によって発生する縦収差の最大値をΔｓと定義すると，
　前記レーザ光の集光点が前記媒質の入射面からｎ×ｄより大きく，ｎ×ｄ＋Δｓより小さい範囲に位置するように，前記レーザ光の集光点を設定する，
請求項１に記載の収差補正方法。
【請求項３】
　前記レーザ照射装置は，前記集光手段として前記媒質内部にレーザ光を集光するための集光レンズを備えており，
　前記集光レンズの入射部に対応する前記空間光変調器上の任意の画素における位相変調量と，前記画素に隣接する画素における位相変調量との位相差が位相折り畳み技術を適用できる位相範囲以下であることを特徴とする，
請求項１に記載の収差補正方法。
【請求項４】
　補正波面の位相値が極大点及び極小点を有するように，前記レーザ光の集光点を設定することを特徴とする，請求項１に記載の収差補正方法。
【請求項５】
　レーザ光を生成する光源と，前記光源からのレーザ光の位相を変調するための空間光変調器と，前記空間光変調器からのレーザ光を加工対象物内部における加工位置に集光するための集光レンズとを備えるレーザ加工装置のレーザ加工方法において，
　前記加工対象物内部における前記加工位置を設定し，
　前記加工位置が，収差を補正しないときに前記加工対象物内部で縦収差が存在する範囲に位置するように，前記加工対象物の相対移動量を設定し，
　前記加工位置に前記レーザ光が集光するように補正波面を算出して，前記空間光変調器に表示し，
　前記加工対象物と前記集光レンズとの距離が前記相対移動量となるように，前記加工位置を相対的に移動し，
　前記光源からのレーザ光を前記加工対象物における加工位置へ照射する，
レーザ加工方法。
【請求項６】
　レーザ光を生成する光源と，前記光源からのレーザ光の位相を変調するための空間光変調器と，前記空間光変調器からのレーザ光を媒質内部の所定の集光位置に集光するための集光レンズとを備える媒質内レーザ集光装置のレーザ照射方法において，
　前記媒質内部における前記集光位置を設定し，
　前記集光位置が，収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する範囲に位置するように，前記媒質の相対移動量を設定し，
　前記集光位置に前記レーザ光が集光するように補正波面を算出して，前記空間光変調器に表示し，
　前記媒質と前記集光レンズとの距離が前記相対移動量となるように，前記集光位置を相対的に移動し，
　前記光源からのレーザ光を前記媒質における集光位置へ照射する，
レーザ照射方法。
【請求項７】
　光透過性を有する媒質内部にレーザ光を集光するレーザ照射装置であって，前記媒質内部にレーザ光を集光するための集光手段と，前記レーザ光の収差を補正するための空間光変調器とを備える当該レーザ照射装置の収差補正方法において，
　前記レーザ光の集光点が，収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する範囲に位置するように，前記レーザ光の収差を補正するための補正波面であって，前記媒質内部の複数の加工位置にそれぞれ対応する複数の当該補正波面と，前記媒質内部の複数の加工位置にそれぞれ対応する複数の媒質表面から媒質がないときの集光点の位置までの距離とを求める第１の補正波面生成ステップと，
　前記複数の媒質表面から媒質がないときの集光点の位置までの距離の高次多項式近似を行うことによって第１の高次多項式を求める第１の多項式近似ステップと，
　前記複数の補正波面の高次多項式近似をそれぞれ行うことによって複数の第２の高次多項式を求める第２の多項式近似ステップと，
　前記複数の第２の高次多項式における同一次数項の係数からなる複数の係数列の高次多項式近似をそれぞれ行うことによって，加工位置をパラメータとする複数の第３の高次多項式を求める第３の多項式近似ステップと，
　前記第１の高次多項式における複数の次数項の係数と，前記複数の第３の高次多項式における複数の次数項の係数とを記憶する記憶ステップと，
　前記第１の高次多項式における複数の次数項の係数と，前記第１の高次多項式と，前記複数の第３の高次多項式における複数の次数項の係数及び前記複数の第３の高次多項式を用いて，任意の加工位置に対する前記媒質の相対移動量を求めると共に，前記複数の第２の高次多項式に相当する前記任意の加工位置の第２の高次多項式を求め，当該第２の高次多項式を用いて前記任意の加工位置の補正波面を求める第２の補正波面生成ステップと，
　前記任意の加工位置の補正波面を前記空間光変調器に表示するステップと，
　前記媒質と前記集光手段との距離が前記任意の加工位置に対する前記媒質の相対移動量となるように，前記加工位置を相対的に移動するステップと，
を含むことを特徴とする，収差補正方法。
【請求項８】
　光透過性を有する媒質内部にレーザ光を集光するレーザ照射装置であって，前記媒質内部にレーザ光を集光するための集光手段と，前記レーザ光の収差を補正するための空間光変調器とを備える当該レーザ照射装置のための収差補正装置において，
　前記レーザ光の集光点が，収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する範囲に位置するように，前記レーザ光の収差を補正するための補正波面であって，前記媒質内部の複数の加工位置にそれぞれ対応する複数の当該補正波面と，前記媒質内部の複数の加工位置にそれぞれ対応する複数の媒質表面から媒質がないときの集光点の位置までの距離とを求める第１の補正波面生成手段と，
　前記複数の媒質表面から媒質がないときの集光点の位置までの距離の高次多項式近似を行うことによって第１の高次多項式を求める第１の多項式近似手段と，
　前記複数の補正波面の高次多項式近似をそれぞれ行うことによって複数の第２の高次多項式を求める第２の多項式近似手段と，
　前記複数の第２の高次多項式における同一次数項の係数からなる複数の係数列の高次多項式近似をそれぞれ行うことによって，加工位置をパラメータとする複数の第３の高次多項式を求める第３の多項式近似手段と，
　前記第１の高次多項式における複数の次数項の係数と，前記複数の第３の高次多項式における複数の次数項の係数とを記憶する記憶手段と，
　前記第１の高次多項式における複数の次数項の係数と，前記第１の高次多項式と，前記複数の第３の高次多項式における複数の次数項の係数及び前記複数の第３の高次多項式を用いて，任意の加工位置に対する前記媒質の相対移動量を求めると共に，前記複数の第２の高次多項式に相当する前記任意の加工位置の第２の高次多項式を求め，当該第２の高次多項式を用いて前記任意の加工位置の補正波面を求める第２の補正波面生成手段と，
を備え，
　これにより，前記レーザ照射装置では，
　前記任意の加工位置の補正波面を前記空間光変調器に表示し，
　前記媒質と前記集光手段との距離が前記任意の加工位置に対する前記媒質の相対移動量となるように，前記加工位置を相対的に移動する，
収差補正装置。
【請求項９】
　光透過性を有する媒質内部にレーザ光を集光するレーザ照射装置であって，前記媒質内部にレーザ光を集光するための集光手段と，前記レーザ光の収差を補正するための空間光変調器とを備える当該レーザ照射装置のための収差補正プログラムにおいて，
　コンピュータを，
　前記レーザ光の集光点が，収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する範囲に位置するように，前記レーザ光の収差を補正するための補正波面であって，前記媒質内部の複数の加工位置にそれぞれ対応する複数の当該補正波面と，前記媒質内部の複数の加工位置にそれぞれ対応する複数の媒質表面から媒質がないときの集光点の位置までの距離とを求める第１の補正波面生成手段と，
　前記複数の媒質表面から媒質がないときの集光点の位置までの距離の高次多項式近似を行うことによって第１の高次多項式を求める第１の多項式近似手段と，
　前記複数の補正波面の高次多項式近似をそれぞれ行うことによって複数の第２の高次多項式を求める第２の多項式近似手段と，
　前記複数の第２の高次多項式における同一次数項の係数からなる複数の係数列の高次多項式近似をそれぞれ行うことによって，加工位置をパラメータとする複数の第３の高次多項式を求める第３の多項式近似手段と，
　前記第１の高次多項式における複数の次数項の係数と，前記複数の第３の高次多項式における複数の次数項の係数とを記憶する記憶手段と，
　前記第１の高次多項式における複数の次数項の係数と，前記第１の高次多項式と，前記複数の第３の高次多項式における複数の次数項の係数及び前記複数の第３の高次多項式を用いて，任意の加工位置に対する前記媒質の相対移動量を求めると共に，前記複数の第２の高次多項式に相当する前記任意の加工位置の第２の高次多項式を求め，当該第２の高次多項式を用いて前記任意の加工位置の補正波面を求める第２の補正波面生成手段と，
として機能させ，
　これにより，前記レーザ照射装置では，
　前記任意の加工位置の補正波面を前記空間光変調器に表示し，
　前記媒質と前記集光手段との距離が前記任意の加工位置に対する前記媒質の相対移動量となるように，前記加工位置を相対的に移動する，
収差補正プログラム。
【請求項１０】
　光透過性を有する媒質内部に照射光を集光する光照射装置であって，前記媒質内部に照射光を集光するための集光手段と，前記照射光の収差を補正するための空間光変調器とを備える当該光照射装置の収差補正方法において，
　前記媒質内部における集光位置を設定し，
　前記照射光の集光点が，収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する範囲に位置するように，前記媒質の相対移動量を設定し，
　前記集光位置に前記照射光が集光するように算出された補正波面を前記空間光変調器に表示し，
　前記媒質と前記集光手段との距離が前記相対移動量となるように，前記集光位置を相対的に移動し，
　前記照射光を前記媒質における集光位置へ照射する，
収差補正方法。」
３　取消理由の概要
　請求項１ないし１０に係る特許に対して平成２８年２月１２日付けで特許権者に通知した取消理由は，要旨次のとおりである。
（１）理由１
　請求項１，４，５，６及び１０に係る発明は，甲第１号証に記載された発明であり，特許法第２９条第１項第３号に該当するから，同項に係る特許は，特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものである。（以下「理由１」という。）
（２）理由２
　請求項２に係る発明は，甲第２号証に記載された事項を考慮して，甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから，同項に係る特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。（以下「理由２」という。）
（３）理由３
　請求項３，７，８及び９に係る発明は，甲第３号証に記載された事項を考慮して，甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから，同項に係る特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。（以下「理由３」という。）
４　各甲号証の記載
（１）甲第１号証の記載
ア　甲第１号証（特開２００４−３４１３９４号公報）には，図とともに以下の記載がある（下線は当審が付した。以下同様。）。
（ア）「【請求項１】
光源と，前記光源から発する照明光に任意の波面変換を与える波面変換素子と，前記波面変換素子から発する波面変換後の照明光を互いに直交する方向に走査する光束走査手段と，前記光束走査手段によって進行方向を変えた照明光を物体に集光する対物レンズと，前記物体から発する信号光を検出する検出器とを備え，
前記対物レンズの中で最も物体側にある光学素子が物体に対して位置を固定され
（イ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，走査型光学顕微鏡に関し，特に，波面変換素子を用いたレーザー走査型顕微鏡等の走査型光学顕微鏡に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来，例えばＬＳＭ（レーザー走査型顕微鏡）において，観測する物体の三次元像を得るためには，その物体又は対物レンズを機械的に光軸方向に移動させて，物体内部の各面における光学像を順次取り込んでいく必要があった。しかし，この方法は機械的駆動を必要とするために，位置制御を高い精度と再現性で実現することは困難である。また，物体を移動させる方法においては，物体が大きい場合には高速走査ができない等の問題があった。
【０００３】
さらに，生体物体を観察する際に，
対物レンズを物体に直接接触させるか，あるいは，物体を培養液に浸した状態で対物レンズを走査すると，その振動による悪影響を観察する物体に与える
【０００４】
これらの問題点を解決する方法として，特許文献１記載のアダプティブ光学装置がある。特許文献１のアダプティブ光学装置は，パワーを変化させることのできる光学素子（波面変換素子）を備えた顕微鏡であって，図１６，図１７にその構成図を示す。この先行例では，観察光路及び／又は照明光路内に波面変換素子を有し，その波面変換素子を用いて光学系の焦点距離を変化させると共に，この焦点距離変化に伴って生じる収差も補正するものである。こうすることによって，対物レンズと物体との距離を変えることなく，物体空間での焦点の形成と移動，さらに収差補正を行うことができる。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１１−１０１９４２号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記の従来技術において，物体で焦点移動を行い，さらに収差補正を行う場合に，対物レンズの軸上での収差を補正するように波面変換素子を変調すると，対物レンズの軸外では収差が生じてしまう。焦点移動を行わない場合には，対物レンズが軸外の光束に対しても，ある程度収差が補正されるように設計されているので，軸上と軸外の光束に対しても収差が補正される場合もある。しかし，焦点の移動が行われると，その移動量に応じて軸上の収差と軸外の収差の違いが大きくなるために，対物レンズの軸上の光束を補正するために変調していると，軸外の収差を十分に補正できず，軸から離れた位置，つまり，物体高が高い所では十分な性能が確保できない場合が多い。
【０００７】
本発明は従来技術のこのような問題点を解決するためになされたものであり，その目的は，軸外での性能劣化が少なく，観察する物体に影響を及ぼすことの少ない，波面変換素子を用いたレーザー走査型顕微鏡（ＬＳＭ）等の走査型光学顕微鏡を提供することにある。」
（ウ）「【０００８】
【課題を解決するための手段】
　・・・（中略）・・・
【００１１】
本発明においては，対物レンズの中で最も物体側にある光学素子が物体に対して位置を固定され，対物レンズは物体に対して移動するレンズを含み，その移動と同期して，波面変換素子を変調するように構成したので，
焦点調節と収差補正を移動するレンズと波面変換素子に分担させることができ，補正能力が高まると共に，波面変換素子の変調量が少なくてすむようになり，軸外での性能劣化が少なく，観察する物体に影響を及ぼすことの少ない走査型光学顕微鏡を提供することができる
（エ）「【００１２】
【発明の実施の形態】
以下に，本発明の走査型光学顕微鏡の実施形態を示す。なお，以下の説明に用いる図中において，繰り返し用いられる同一の要素には同一の記号を付し，重複する説明は行わない。また，光束が入射してくる方向を前側，出射していく方向を後側とし，
光源としてレーザー発振器を用いたレーザ走査型顕微鏡
【００１３】
図１〜図１５を参照して本発明の１実施形態を説明する。
【００１４】
図１はこの実施形態のＬＳＭの全体の構成を示す図であり，この図において，光源としてのレーザー光源１１は照明光を発し，その照明光はコリメータレンズ１２によって平面波に変換される。次に，この照明光はダイクロイックミラー５１を透過した後に，波面変換素子２に入射する。この波面変換素子２は，ミラーの反射面が電気的制御によって制御可能な形状可変ミラー２２で構成され，この形状可変ミラー２２では，後述する所定の波面変換が行われる。波面変換素子２によって波面変換が施された照明光は，その前側焦平面が波面変換素子２と略一致するように配置されている第三のリレー光学系７１に入射する。第三のリレー光学系７１を透過した照明光は，次に第二のリレー光学系７２を透過し，その後側焦平面に配置してある光束走査手段３に入射する。ここで，第三のリレー光学系７１の後側焦平面と第二のリレー光学径７２の前側焦平面が略一致するように配置されているので，光束走査手段３と波面変換素子２とは共役な面となる。
【００１５】
光束走査手段３は互いに直交する２つの軸で回転が可能なジンバルミラーからなり，ジンバルミラーで適切に照明光の向きを変えることで，物体面で互いに直行するｘ方向及びｙ方向に入射する照明光を走査できるようにする。
【００１６】
光束走査手段３で特定の角度に反射された照明光は，第一のリレーレンズ７３に入射し，次に結像レンズ７４に入射し，最後に対物レンズ４を透過することで，物体Ｏに集光する。この対物レンズ４では，対物レンズ４中のレンズの一部が波面変換素子２と連動して移動することで，集光する位置を変化させる。ここで，第一のリレーレンズ７３，結像レンズ７４，対物レンズ４はテレセントリックな光学系で形成され，それぞれの前側焦平面と後側焦平面が略同一となるようになっている。
【００１７】
照明光が集光した物体Ｏからは測定すべき反射光束が発生し，その光束は照明光が通ってきたのと逆向きの光路を進み，対物レンズ４，結像レンズ７４，第一のリレーレンズ７３，光束走査手段３，第二のリレーレンズ７２，第三のリレーレンズ７１と通過し，波面変換素子２で反射される。波面変換素子２で反射された光束は，次にダイクロイックミラー５１で検出すべき特定の波長のみが反射され，集光レンズ５２に入射する。集光レンズ５２の後側焦平面には検出器５３が配置され，目的とする波長が検出される。
【００１８】
本実施形態で用いた第三のリレーレンズ７１，第二のリレーレンズ７２，第一のリレーレンズ７３及び結像レンズ７４，対物レンズ４の具体例の数値データを後記の表１に，さらに，それらの光学系の詳細を図２，特に対物レンズ４については図３に示す。
【００１９】
　・・・（中略）・・・
【００２０】
本実施形態では，図３に示す対物レンズ４中のレンズ間隔ｄ３９とｄ４１が変化し，その間隔間に位置するレンズ４１が移動する。したがって，物体Ｏと直接接しているレンズは移動しないので，レンズ４１の移動に伴う物体Ｏへの影響はほとんどない。
【００２１】
　・・・（中略）・・・
【００２３】
ここで，ΔＺの符号は対物レンズ４の焦平面より，対物レンズ４に近い方をマイナス，遠ざかる方向をプラスにとることにする（図３）。また，照明光はｚ’，ｙ’平面内でｚ’軸に対して−４５°の方向から入射するものとする（図２）。また，使用波長は４８８ｎｍとしている。
【００２４】
ΔＺ＝０の位置が対物レンズ４の焦点位置であるために，ΔＺ＝０の位置に照明光を集光させるには，波面変換素子２を平面にしておき，平面波が第三のリレーレンズ７１に入射すればよい。しかし，ΔＺが０でない場合には，第三リレーレンズ７１に入射させる照明光は平面波でなく，補正した波面を入射させる必要がある。波面変換素子２のみを変調して，ΔＺ＝−２５μｍの物体面で，ｙ＝０．０ｍｍ（ｙは物体高となる。）の位置に照明光を収差なく集光させる場合を考える。この場合に，図２に示すＳ１面（波面変換素子２と４５°をなす平面）における仮想的な波面形状のｙ方向の断面は図４（ａ）のようになる。同様に，ΔＺ＝−２５μｍの物体面でｙ＝０．０ｍｍの位置に照明光を収差なく集光させるときに，対物レンズ４中のレンズ４１を，後記の表２に示す値で移動させた場合では，Ｓ１面において必要になる仮想的な波面の形状は図５（ａ）となる。図４（ａ），図５（ａ）から明らかなように，必要となる波面の光路差が波面変換素子２のみを用いる場合には９μｍである。一方，本実施形態で用いている対物レンズ４中のレンズ４１を移動させる場合には，デフォーカス成分をレンズ移動で補っているため，必要となる波面の光路差は０．５μｍと大変小さくなっている。したがって，波面変換素子２（本実施形態では，形状可変ミラー２２）に大きな変調量が必要ではなくなることが分かる。
【００２５】
次に，物体面でｙ＝０．０ｍｍの位置に収差なく集光させる波面と，それ以外のｙ（物体高）の位置で収差なく集光させるための波面との違いについて，Ｓ１面のｙ方向での違いを平方和として求めた。その結果，波面変換素子２のみを用いた場合を図４（ｂ）に，対物レンズ４中のレンズ４１を移動させた場合を図５（ｂ）に示す。これらのグラフから，波面変換素子２のみを用いて変調を行う場合には，ｙが０から離れる程ｙ＝０．０ｍｍで必要な波面との間の光路差が生じることが分かる。例えばｙ＝０．０８ｍｍでは，波面変換素子２のみの場合には，ｙ＝０．０ｍｍとの平行和は，０．７４×１０−６ｍｍ２　に対して，対物レンズ４中のレンズ４１を移動させた場合には，０．４１×１０−６ｍｍ２　と小さくなっている。これは，対物レンズ４中のレンズ４１を用いてデフォーカス成分を取り除いているので，焦点の位置ずれに伴うその他の収差も小さくすることができるからである。
【００２６】
ΔＺ＝２５μｍの物体面で，ｙ＝０．０ｍｍの位置に照明光を集光させる場合について，波面変換素子２のみを用いて変調するときに，Ｓ１面で必要とされる波面形状のｙ方向の断面を図６（ａ）に，対物レンズ４中のレンズ４１を移動させた場合にＳ１面で必要な波面形状の断面図を図７（ａ）に示す。さらに，ｙ＝０．０ｍｍで必要な波面とその他の領域で必要な波面の違いをぞれぞれ図６（ｂ），図７（ｂ）に示す。これら，図６，図７からも，対物レンズ４中のレンズ４１を移動させた場合の方が，補正すべき波面の光路差が小さく，補正すべき波面の量も小さいことが分かる。
【００２７】
したがって，対物レンズ４中のレンズ４１の移動と連動して波面変換素子２の変調を適切に行うことで，物体面で広い範囲にわたって収差の補正が可能であることが分かる。また，波面変換素子２の変調と対物レンズ４中のレンズ４１の移動が連動しているので，波面変換素子２に必要とされる変調量が小さく，当然その制御も容易となる。
【００２８】
　・・・（中略）・・・
【００３０】
同様に，ΔＺ＝２５μｍの位置に焦点を合わせた場合について説明する。対物レンズ４中のレンズ４１を移動せずに，波面変換素子２である形状可変ミラー２２を最適化した場合の形状可変ミラー２２の形状を同様の図である図１０（ａ１）〜（ａ３）に示す。また，対物レンズ中４のレンズ４１を連動して移動する場合のミラー形状を同様の図である図１０（ｂ１）〜（ｂ３）に示す。さらに，物体面でのｙ軸方向におけるＳｔｒｅｈｌ比を図１１に示す。図１０を見れば明らかなように，ΔＺ＝−２５μｍの場合と同様で，対物レンズ４中のレンズ４１を移動させない場合には，形状可変ミラー２２の変位量が少なくとも１０μｍ程度必要となる。対物レンズ４の中のレンズ４１を形状可変ミラー２２の変調と連動させて移動する場合には，ミラーの変位量は３．５μｍ程度ですむことが分かる。Ｓｔｒｅｈｌ比に関しては，対物レンズ４の中のレンズ４１を移動させない場合と移動させた場合では，物体面でのｙ軸方向全域にわたって常にレンズ４１の移動を行った方の性能が上であることが分かる。これは，形状可変ミラー２２の変形面として，上述したような自由曲面の関数としているので，補正できる収差についても限界がある。対物レンズ４中のレンズ４１を移動させない場合だと，ΔＺ＝２５μｍの位置に焦点位置を合わせるための形状可変ミラー２２の変形が難しく，その他の収差補正まで十分にできないためである。一方，対物レンズ４中のレンズ４１を連動して移動させると，焦点位置も移動する。したがて，形状可変ミラー２２では主に他の収差について補正を行えばよいことになり，補正能力がレンズ４１を移動させない場合より上回る。
【００３１】
なお，本実施形態における対物レンズ４中のレンズ４１の移動量，及び，形状可変ミラー２２の変形に関する係数は表２に示しておく。
【００３２】
次に，
対物レンズ４中の移動するレンズ４１と形状可変ミラー２２の駆動方法について説明
【００３３】
図１において，
初めに，物体Ｏとして蛍光ビーズを配置しておく。形状可変ミラー２２を平面にし，次に，予め計測に必要な焦平面の位置に物体Ｏである蛍光ビーズを移動させ，検出器５３で検出される光量が最大となるように対物レンズ４中のレンズ４１を移動させる。次に，形状可変ミラー２２を用いて検出器５３で検出される光量が最大となるように形状可変ミラー２２の形状を最適化する。このようにして，観測に必要なΔＺに対する対物レンズ４中のレンズ４１の移動量と，形状可変ミラー２２の形状データ（パラメータＣ
ｊ　
）をコントローラ６１にテーブルとして記憶させておく。実際の計測の際には，このテーブルに従ってレンズ４１の移動量と形状可変ミラー２２の形状を同期させて変調を行う
イ　以上の記載によれば，甲第１号証には以下の発明（以下「甲１発明」という。）が記載されていると認められる。
「レーザー発振器を用いた光源と，前記光源から発する照明光に任意の波面変換を与える波面変換素子である形状可変ミラー２２と，前記波面変換素子から発する波面変換後の照明光を互いに直交する方向に走査する光束走査手段と，前記光束走査手段によって進行方向を変えた照明光を物体に集光する対物レンズ４と，前記物体から発する信号光を検出する検出器５３とを備え，前記対物レンズの中で最も物体側にある光学素子が物体に対して位置を固定され，前記対物レンズは物体に対して移動するレンズ４１を含み，その移動と同期して，形状可変ミラー２２を変調するように構成したレーザ走査型光学顕微鏡にあって，
　初めに，物体Ｏとして蛍光ビーズを配置して，形状可変ミラー２２を平面にし，次に，予め計測に必要な焦平面の位置に物体Ｏである蛍光ビーズを移動させ，検出器５３で検出される光量が最大となるように対物レンズ４中のレンズ４１を移動させ，次に，形状可変ミラー２２を用いて検出器５３で検出される光量が最大となるように形状可変ミラー２２の形状を最適化し，このようにして，観測に必要なΔＺに対する対物レンズ４中のレンズ４１の移動量と，形状可変ミラー２２の形状データ（パラメータＣｊ　）をコントローラ６１にテーブルとして記憶させ，実際の計測の際には，このテーブルに従ってレンズ４１の移動量と形状可変ミラー２２の形状を同期させて変調を行うものであり，
　焦点調節と収差補正を移動するレンズと波面変換素子に分担させることができ，補正能力が高まると共に，波面変換素子の変調量が少なくてすむようになり，軸外での性能劣化が少なく，
　対物レンズ４を物体に直接接触させるか，あるいは，物体を培養液に浸した状態で対物レンズ４を走査する際の振動による観察する物体への悪影響を少なくできる，
　レーザ走査型光学顕微鏡のレンズ４１と形状可変ミラー２２の駆動方法。」
（２）甲第２号証の記載
　甲第２号証（「光学」久保田 広 著，岩波書店，１９７９年９月２５日第１０刷発行，第１２８ページ〜第１３０ページ）には，平行平板状の硝子板を光学系に挿入した場合に球面収差が発生することが，図及び数式とともに記載されている。
（３）甲第３号証の記載
ア　甲第３号証（特開２００４−３４８０５３号公報）には，図とともに以下の記載がある。
（ア）「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，光の球面収差を補正する球面収差補正素子及びそれを備えた光ピックアップ装置に関し，特に詳しくは，レンズの開口数（ＮＡ：Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ　Ａｐｅｒｔｕｒｅ）が０．６を超える高ＮＡのレンズと４００ｎｍ帯の短波長を用いて高密度の記録・再生を行う光情報記録・再生装置に用いて好適な球面収差補正素子及びそれを備えた光ピックアップ装置に関するものである。」
（イ）「【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで，従来の光ピックアップ装置（１）では，対物レンズが単一モールドのレンズの場合には，レーザダイオード（ＬＤ）からのレーザ光の波長変動により生じる球面収差が非常に大きく，これらのレンズ群だけでは球面収差を補正しきれないという問題点があった。
また，従来の光ピックアップ装置（２）では，回折光学素子に単一ホログラムパターンを有するホログラム素子を用いているために，単一モールドの対物レンズの球面収差を，レーザダイオード（ＬＤ）の実使用波長帯域である４００〜４１５ｎｍの波長帯域全体に亘って補正しきれないという問題点があった。
【０００６】
また，従来の光ピックアップ装置（３）では，対物レンズの中心と液晶補正素子の中心との間の位置ずれによりコマ収差が生じる。この場合，このコマ収差を生じさせないためには，液晶補正素子を対物レンズを移動させるアクチュエータ内に設置する必要があるが，通常の装置では，この様な設置スペースが無く，この様な構成の液晶補正素子を用いることができないという問題点があった。
【０００７】
本発明は，上記の事情に鑑みてなされたものであって，レンズの開口数（ＮＡ：Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ　Ａｐｅｒｔｕｒｅ）が０．６を超える高ＮＡのレンズと，４００ｎｍ帯の短波長の光を用いた場合であっても，この光の波長の変化に起因する対物レンズの球面収差を補正することができ，さらには，ディスク自体の厚みのむら，あるいは光ディスクの記録面を覆っている保護膜の厚みのむら等に起因する対物レンズの球面収差を補正することができ，その結果，大容量の情報を高密度で記録・再生することを可能とする球面収差補正素子及びそれを備えた光ピックアップ装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために，本発明は次のような球面収差補正素子及びそれを備えた光ピックアップ装置を提供した。
すなわち，請求項１記載の球面収差補正素子は，光の球面収差を補正する素子であって，光軸上に平凹レンズ及び回折光学素子を配置し，これら平凹レンズ及び回折光学素子の少なくとも一方は，前記光軸に沿って移動自在かつ任意の位置に固定可能とされていることを特徴とする。
【０００９】
この球面収差補正素子では，前記光軸に沿って光が入射する場合に，平凹レンズ及び回折光学素子の少なくとも一方を前記光軸に沿って移動することにより，前記光軸に沿って入射した光が平凹レンズ及び回折光学素子を順次通過する間に，この光の初期の波長のばらつきに起因する球面収差を補正することが可能になる。」
（ウ）「【００３３】
「第２の実施形態」
図４は本発明の第２の実施形態の光ピックアップ装置の球面収差補正素子を示す概略構成図であり，この球面収差補正素子３１が，第１の実施形態の球面収差補正素子６と異なる点は，第１の実施形態のホログラム素子２２を，ホログラム素子と液晶補正素子を一体化した補正素子３２に替えた点である。
この補正素子３２は，一対のガラス基板（透明基板）３３，３４と，これらガラス基板３３，３４に挟持される液晶３５とにより構成される液晶補正素子３６と，このガラス基板３３の対物レンズ側の主面に形成されたホログラム素子３７とにより構成されている。そして，ガラス基板３３，３４各々には，液晶３５に所定の電圧を印加するための平板状の電極３８，３９が形成されている。
【００３４】
この球面収差補正素子３１は，これら平凹レンズ２１及び補正素子３２間の距離Ｄを調整することで球面収差を補正するようになっている。
通常では，液晶補正素子は，図５に示すように，光学系に発生する球面収差を相殺するように，これと反対の球面収差，すなわち量が同じで符号が逆の球面収差を発生させる。図中，Ａはゼルニケ係数第４項（以下，Ｚ［４］と表記）のデフォーカス状の収差，Ｂはゼルニケ係数第９項（以下，Ｚ［９］と表記）のデフォーカス状の収差である。
なお，これらのゼルニケ係数は，規格化半径をｒ，係数をＡ４（第４項の場合）またはＡ９（第９項の場合）とすると，
Ｚ［４］＝Ａ４（２ｒ２−１）
Ｚ［９］＝Ａ９（６ｒ４−６ｒ２＋１）
と表すことができる。」
（エ）「【００４５】
「第４の実施形態」
図８は本発明の第４の実施形態の光ピックアップ装置の液晶補正素子の一方の電極を示す平面図であり，この電極５１が，第２の実施形態の電極３９（または３８）と異なる点は，第２の実施形態の電極３９（または３８）が平板状であったのに対し，本実施形態の電極５１は，同心円状の複数の電極部により構成されている点である。なお，この電極５１に対向する電極の形状は，上記の液晶補正素子３６の電極３８（または３９）と同様，平板状である。
【００４６】
この電極５１は，液晶を挟持する一対のガラス基板のうち一方のガラス基板の液晶側の面に形成されたもので，中心部に位置する円形状の電極部５２と，この電極部５２の外側に形成された円環状の電極部５３と，この電極部５３の外側に形成された円環状の電極部５４とにより構成されている。
【００４７】
　・・・（中略）・・・
【００５１】
図９は，この液晶補正素子による位相シフトの一例を示す図であり，電極５１の有効半径を１とした場合の中心からの位置を径方向規格化位置とし，この位置におけるＺ［４］の波形の位相を図示したものである。図中，Ａは位相がシフトされていない場合の波形を，Ｂは位相が３段階にシフトされた場合の波形を，それぞれ示している。
この図によれば，Ａ，Ｂの双方ともに同一の大きさの位相の変化量であるが，Ａの場合では，連続的に位相が変化するために３．４波長分の変化幅が必要になるのに対し，Ｂの場合では，電極部毎に−１×波長分，位相がシフトするので１．５波長分の変化幅でよいことが分かる。
【００５２】
　・・・（中略）・・・
【００５３】
通常，液晶素子では，発生する収差を球面収差ではなくデフォーカス状の収差とすると，このデフォーカス状の収差の方が球面収差よりも大きな位相制御量が必要となる。しかしながら，上記の液晶素子で大きな位相制御量を得ようとすると，液晶の層厚を増大しなければならず，素子厚の増大化，印加電圧の高電圧化を招くことになる。また，素子厚が厚くなると液晶の応答速度が遅延し，高速駆動化の障害となる
【００５４】
一方，光の位相差は，その位相差を波長の整数倍変化させても等価であるという特徴がある。そこで，本実施形態のように，電極５１を電極部５３〜５５の３つに分割し，隣接する電極部間で１波長分戻すようにすれば，全体で電極部の数−１の波長分戻すことになり，位相の変化量の最大値を低く抑えることができる
５　対比・判断
（１）本件発明１について（理由１）
　ア　本件発明１と甲１発明とを比較するにあたり，まず，本件発明１における「収差」について，その技術的意味を検討する。
（ア）本件明細書には，図とともに以下の記載がある。
ａ「【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
　ところで，レーザ加工装置には，更なる微細加工が行えることが望まれている。例えば，光導波路等の改質層を形成する場合には，集光点が極力小さいものが望まれている。しかしながら，
加工位置が深くなると，収差によって集光領域が伸張する
【０００９】
　
そこで，本発明は，媒質に対するレーザ照射位置が深くても，レーザ光の集光度合を高めることが可能な収差補正方法，この収差補正方法を用いたレーザ加工方法，この収差補正方法を用いたレーザ照射方法，収差補正装置，及び，収差補正プログラムを提供することを目的としている
【課題を解決するための手段】
【００１０】
　本願発明者らは，鋭意検討を重ねた結果，媒質に対するレーザ照射位置が深くなると，レーザ光を補正するための波面のＰＶ（peak to valley）値（ＰＶ値とは波面収差の最大値と最小値との差であり，位相変調量の大きさに相当する。）が大きくなり，空間光変調器などの波面を制御する素子の性能を超えるために，収差を十分に補正できなくなることを見出した。
　・・・（中略）・・・
【００１２】
　そこで，本発明の収差補正方法では，光透過性を有する媒質内部にレーザ光を集光するレーザ照射装置の収差補正方法において，レーザ光の集光点が媒質内部に発生する収差範囲の間に位置するように，レーザ光の収差を補正することを特徴とする。ここで，レーザ光の集光点が媒質内部に発生する収差範囲の間に位置するとは，収差を補正しないときに媒質内部で縦収差が存在する範囲の間に位置することを意味する。
【００１３】
　この収差補正方法によれば，レーザ光の集光点が，媒質内部に発生する収差範囲の間に位置するように，すなわち，収差を補正しないときに媒質内部で縦収差が存在する範囲の間に位置するように，レーザ光の収差を補正するので，波面のＰＶ値を低減することができる。その結果，位相変調量に制限がある空間光変調器を用いても，収差補正のための位相変調量を低減させることで，空間光変調器の負担を減らし，高精度な波面制御を可能とする。その結果，媒質に対するレーザ照射位置が深くても，レーザ光の集光度合を高めることができ，良好な加工状態を維持することが可能である。」
ｂ「【００３９】
　図２は，集光光学系に平行平面が挿入された場合のレーザ光の光路を示す図である。図２に示すように，
集光レンズ５０による集光光学系に，平行平面状の光透過性を有する媒質６０が挿入された場合，焦点がＯからＯ’へとδだけずれる。この焦点ずれの値δは，集光レンズ５０に入射する光の入射高Ｈによって変わる。このように入射光によって集光点位置が異なることにより，球面収差が発生することとなる。このとき，近軸光線の集光位置からの光軸方向のズレ量が，縦収差表現された球面収差（longitudinal spherical aberration）となり，最外縁光線でもっとも収差が大きくなる
　・・・（中略）・・・
【００４０】
　図３は，集光点が平行平面内部にある場合のレーザ光の光路を示す図である。図３に示すように，
集光レンズ５０による焦点Ｏが平行平面状の光透過性を有する媒質６０内部にある場合，焦点がＯからＯ’へとδだけずれる。この焦点ずれの値δは，集光レンズ５０に入射する光の入射高Ｈによって変わるので，球面収差が発生することとなる
　ここで，図２及び図３は以下のものである。
【図２】
【図３】
（イ）上記各記載から，本件発明１における「収差」とは，雰囲気（例えば空気）中におかれた，当該雰囲気とは異なる屈折率の光透過性物質に，集光光学系からレーザ光を照射した際に，集光レンズ５０に入射する光の入射高Ｈによって焦点ずれの値δが変わり，このように入射光によって集光点位置が異なることにより発生する球面収差を指し，近軸光線の集光位置からの光軸方向のズレ量が，球面収差を縦収差表現したものと解される。
　それゆえ，本件発明１においては，「媒質」と「レーザ光を集光するための集光手段」との間には，雰囲気（例えば空気）が介されており，それにより，「媒質内部に縦収差が存在する」ものといえる。
イ　上記アを踏まえて，本件発明１と甲１発明とを対比する。
（ア）甲１発明に係る，「レーザー発振器を用いた光源と，前記光源から発する照明光に任意の波面変換を与える波面変換素子である形状可変ミラー２２と，前記波面変換素子から発する波面変換後の照明光を互いに直交する方向に走査する光束走査手段と，前記光束走査手段によって進行方向を変えた照明光を物体に集光する対物レンズ４」からなるものは，「対物レンズ４を物体に直接接触させるか，あるいは，物体を培養液に浸した状態」を想定しているものであるから，本件発明１の「光透過性を有する媒質内部にレーザ光を集光するレーザ照射装置」に相当する。
（イ）甲１発明の「光源から発する照明光に任意の波面変換を与える波面変換素子である形状可変ミラー２２」と，本件発明１の「前記レーザ光の収差を補正するための空間光変調器」とは，「前記レーザ光を補正するための空間光変調器」である点で一致する。
（ウ）甲１発明の「照明光を物体に集光する対物レンズ４」は，本件発明１の「前記媒質内部にレーザ光を集光するための集光手段」に相当する。
（エ）甲１発明の「レーザ走査型光学顕微鏡のレンズ４１と形状可変ミラー２２の駆動方法」は，「補正能力が高まる」方法であることから，当該「駆動方法」と，本件発明１の「収差補正方法」とは，「補正方法」である点で一致する。
（オ）甲１発明の「予め計測に必要な焦平面の位置に物体Ｏである蛍光ビーズを移動させ」ることは，本件発明１の「前記媒質内部における集光位置を設定」することに相当する。
（カ）甲１発明の「検出器５３で検出される光量が最大となるように対物レンズ４中のレンズ４１を移動させ，次に，形状可変ミラー２２を用いて検出器５３で検出される光量が最大となるように形状可変ミラー２２の形状を最適化し，このようにして，観測に必要なΔＺに対する対物レンズ４中のレンズ４１の移動量と，形状可変ミラー２２の形状データ（パラメータＣｊ　）をコントローラ６１にテーブルとして記憶させ，実際の計測の際には，このテーブルに従ってレンズ４１の移動量と形状可変ミラー２２の形状を同期させて変調を行う」ことと，本件発明１の「前記レーザ光の集光点が，収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する範囲に位置するように，前記媒質の相対移動量を設定し，　前記集光位置に前記レーザ光が集光するように算出された補正波面を前記空間光変調器に表示し，　前記媒質と前記集光手段との距離が前記相対移動量となるように，前記集光位置を相対的に移動」することとは，「前記空間光変調器と前記集光手段を設定する」点で一致する。
（キ）甲１発明においては，「照明光を物体に集光する」のであるから，当該構成は，本件発明１の「前記レーザ光を前記媒質における集光位置へ照射する」ことに相当する。
（ク）そうすると，本件発明１と甲１発明は，以下の点で一致する。
「光透過性を有する媒質内部にレーザ光を集光するレーザ照射装置であって，前記媒質内部にレーザ光を集光するための集光手段と，前記レーザ光を補正するための空間光変調器とを備える当該レーザ照射装置の補正方法において，
　前記媒質内部における集光位置を設定し，
　前記空間光変調器と前記集光手段を設定し，
　前記レーザ光を前記媒質における集光位置へ照射する，
補正方法。」
（ケ）一方，両者は以下の各点で相違する。
《相違点１》
　本件発明１は，「収差補正方法」であるのに対して，甲１発明は「レーザ走査型光学顕微鏡のレンズ４１と形状可変ミラー２２の駆動方法」である点。
《相違点２》
　本件発明１は「前記レーザ光の収差を補正するための空間光変調器」を備えるのに対して，甲１発明は「前記レーザ光を補正するための空間光変調器」に対応する構成は備えるものの，「レーザ光の収差を補正するための空間光変調器」であることまでは特定されていない点。
《相違点３》
　本件発明１は，「前記レーザ光の集光点が，収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する範囲に位置するように，前記媒質の相対移動量を設定し，　前記集光位置に前記レーザ光が集光するように算出された補正波面を前記空間光変調器に表示し，　前記媒質と前記集光手段との距離が前記相対移動量となるように，前記集光位置を相対的に移動」する構成を備えるのに対して，甲１発明は，「検出器５３で検出される光量が最大となるように対物レンズ４中のレンズ４１を移動させ，次に，形状可変ミラー２２を用いて検出器５３で検出される光量が最大となるように形状可変ミラー２２の形状を最適化し，このようにして，観測に必要なΔＺに対する対物レンズ４中のレンズ４１の移動量と，形状可変ミラー２２の形状データ（パラメータＣｊ　）をコントローラ６１にテーブルとして記憶させ，実際の計測の際には，このテーブルに従ってレンズ４１の移動量と形状可変ミラー２２の形状を同期させて変調を行う」構成は備えるものの，上記本件発明１に係る構成は備えない点。
ウ　判断
　まず，上記相違点３について検討する。
（ア）相違点３について
　前記アで検討したとおり，本件発明１における「収差」とは，雰囲気（例えば空気）中におかれた，当該雰囲気とは異なる屈折率の光透過性物質に，集光光学系からレーザ光を照射した際に，集光レンズ５０に入射する光の入射高Ｈによって焦点ずれの値δが変わり，このように入射光によって集光点位置が異なることにより発生する球面収差を指し，近軸光線の集光位置からの光軸方向のズレ量が，球面収差を縦収差表現したものと解される。それゆえ，本件発明１においては，「媒質」と「レーザ光を集光するための集光手段」との間には，雰囲気（例えば空気）が介されており，それにより，「
媒質内部に縦収差が存在する
　一方，甲１発明は，「対物レンズ４を物体に直接接触させるか，あるいは，物体を培養液に浸した状態で対物レンズ４を走査する際の振動による観察する物体への悪影響を少なくできる」ものであり，対物レンズ４と「物体」あるいは「培養液」との間に雰囲気（例えば空気）が介されることは想定されていないといえる。
　また，甲１発明に係る駆動方法においては，「初めに，物体Ｏとして蛍光ビーズを配置して，形状可変ミラー２２を平面にし，次に，予め計測に必要な焦平面の位置に物体Ｏである蛍光ビーズを移動させ，検出器５３で検出される光量が最大となるように対物レンズ４中のレンズ４１を移動させ，次に，形状可変ミラー２２を用いて検出器５３で検出される光量が最大となるように形状可変ミラー２２の形状を最適化し，このようにして，観測に必要なΔＺに対する対物レンズ４中のレンズ４１の移動量と，形状可変ミラー２２の形状データ（パラメータＣｊ　）をコントローラ６１にテーブルとして記憶させ，実際の計測の際には，このテーブルに従ってレンズ４１の移動量と形状可変ミラー２２の形状を同期させて変調を行う」構成を備える。しかしながら，この際には，観察時と同様の条件とすべく，「蛍光ビーズを配置」する，あるいは「蛍光ビーズを移動させ」た結果，「蛍光ビーズ」を「物体」内あるいは「培養液」内に置くとともに，前述のごとく，「対物レンズ４を物体に直接接触させるか，あるいは，物体を培養液に浸した状態」とすることが当然といえ，よって，「対物レンズ４」と，「物体」あるいは「培養液」との間に雰囲気（例えば空気）はないといえる。
　そうすると，甲１発明においては，本件発明１で言う「収差」を補正することは想定されていないと言うべきであるから，相違点３に係る，本件発明１における当該「収差」の補正に係る構成である，「前記レーザ光の集光点が，
収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する
（イ）相違点１及び２について
　上記（ア）において検討したとおり，甲１発明においては，本件発明１で言う「収差」を補正することは想定されていないと言うべきであるから，甲１発明が，本件発明１に係る「前記レーザ光の収差を補正するための空間光変調器」を備えない点，及び，甲１発明に係る方法が，本件発明１に係る「収差補正方法」でない点は，いずれも実質的な相違点である。
エ　小括
　以上のとおりであって，本件発明１は甲１発明ではないから，特許法第２９条第１項第３号に該当するものではない。
（２）本件発明４について（理由１）
　本件発明４は，本件発明１に係る構成を全て備えるところ，上記（１）のとおり，甲１発明は本件発明１に係る構成の全てを備えるものではないから，本件発明４もまた甲１発明であるとはいえない。
　よって，本件発明４は，特許法第２９条第１項第３号に該当するものではない。
（３）本件発明５について（理由１）
　本件発明５は，「前記加工対象物内部における前記加工位置を設定し，　前記加工位置が，収差を補正しないときに前記加工対象物内部で縦収差が存在する範囲に位置するように，前記加工対象物の相対移動量を設定し，　前記加工位置に前記レーザ光が集光するように補正波面を算出して，前記空間光変調器に表示し，　前記加工対象物と前記集光レンズとの距離が前記相対移動量となるように，前記加工位置を相対的に移動」するとの構成を備えるところ，当該「収差」は本件発明１と同じものであって，前記（１）ア及び（１）ウ（ア）において検討したとおり，甲１発明においては補正の対象とすることは想定されていないものであるから，甲１発明が上記本件発明５に係る構成を全て備えるとはいえない。
　また，甲１発明は，「レーザ走査型光学顕微鏡のレンズ４１と形状可変ミラー２２の駆動方法」であって，「観察する物体への悪影響を少なくできる」ものであることから，物体そのものの加工をすることが想定されているとはいえず，この点から見ても，「レーザ加工方法」である本件発明５が，甲１発明であるとはいえない。
　よって，本件発明５は，特許法第２９条第１項第３号に該当するものではない。
（４）本件発明６について（理由１）
　本件発明６は，「前記媒質内部における前記集光位置を設定し，　前記集光位置が，
収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する
　よって，本件発明６は甲１発明ではないから，特許法第２９条第１項第３号に該当するものではない。
（５）本件発明１０について（理由１）
　本件発明１０は，「前記媒質内部における集光位置を設定し，　前記照射光の集光点が，
収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する
　よって，本件発明１０は甲１発明ではないから，特許法第２９条第１項第３号に該当するものではない。
（６）本件発明２について（理由２）
　本件発明２は，本件発明１に係る構成を全て備えるところ，上記（１）のとおり，甲１発明は本件発明１に係る構成の全てを備えるものではなく，また，甲第２号証には，平行平板状の硝子板を光学系に挿入した場合に球面収差が発生することが，図及び数式とともに記載されているものの，前記（１）アにおいて検討したとおり，甲１発明は，本件発明１で言う「収差」を補正することは想定されておらず，また，当該「収差」を補正することは，甲第２号証に記載された事項を考慮しても，甲１発明に基づいて当業者が容易に想到できたものともいえない。
　よって，本件発明２は，甲第２号証の記載を参酌しても，甲１発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではない。
（７）本件発明３について（理由３）
　本件発明３は，本件発明１に係る構成を全て備えるところ，甲１発明は，本件発明３に係る「集光レンズ」に対応する「対物レンズ４」を備えるものの，上記（１）のとおり，本件発明１に係る構成の全てを備えるものではなく，また，甲第３号証には，空間光変調器上の任意の部分における位相変調量と，前記部分に隣接する部分における位相変調量との位相差を位相折り畳み技術を適用できる位相範囲以下とすることが示されているといえるが，前記（１）アにおいて検討したとおり，甲１発明は，本件発明１で言う「収差」を補正することは想定されておらず，また，当該「収差」を補正することは，甲第３号証に記載された事項を考慮しても，甲１発明に基づいて当業者が容易に想到できたものともいえない。
　よって，本件発明３は，甲第３号証に記載された事項を考慮しても，甲１発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではない。
（８）本件発明７について（理由３）
　本件発明７は，「前記レーザ光の集光点が，
収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する
　よって，本件発明７は，甲第３号証に記載された事項を考慮しても，甲１発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではない。
（９）本件発明８について（理由３）
　本件発明８は，「前記レーザ光の集光点が，
収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する
　よって，本件発明８は，甲第３号証に記載された事項を考慮しても，甲１発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではない。
（１０）本件発明９について（理由３）
　本件発明９は，「前記レーザ光の集光点が，
収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する
　よって，本件発明９は，甲第３号証に記載された事項を考慮しても，甲１発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではない。
６　むすび
　以上のとおりであるから，理由１によって本件請求項１，４，５，６及び１０に係る特許を，理由２によって本件請求項２に係る特許を，理由３によって本件請求項３，７，８及び９に係る特許を，それぞれ取り消すことはできない。
　また，他に本件請求項１ないし１０に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって，結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成２８年９月１日（２０１６．９．１）