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【手続補正書】
【提出日】平成30年5月23日(2018.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波発振回路からの高周波クロックを計数し、所定数のクロックを計数するごとに出力を変化させて分周し、所望の周波数の矩形発振信号を出力するカウンタと、
前記矩形発振信号に結合され、測定対象物の有無によって共振周波数が変化する共振回路と、
前記矩形発振信号を与えた時の共振回路の出力信号を、直接または間接的に取り出し、その振幅に基づいて測定対象物の有無を検出する検出回路と、
測定対象物が無い状態または有る状態において初期設定を行う際に、前記カウンタの分周のための所定数を変化させて、矩形発振信号の周波数をスイープし、検出回路によって検出される検出信号の振幅が最大または最小となるように矩形発振信号の周波数を選択して設定する周波数設定手段と、
を備えた対象物検出センサ。
【請求項２】
高周波発振回路からの高周波クロックを計数し、所定数のクロックを計数するごとに出力を変化させて分周し、所望の周波数の矩形発振信号を出力するカウンタと、前記矩形発振信号に結合され、測定対象物の有無によって共振周波数が変化する共振回路に前記矩形発振信号を与えた時の出力信号を、直接または間接的に取り出し、その振幅に基づいて測定対象物の有無を検出する検出回路とをＣＰＵによって制御して対象物検出センサを実現するためのセンサプログラムであって、ＣＰＵを、
測定対象物が無い状態または有る状態において初期設定を行う際に、前記カウンタの分周のための所定数を変化させて、矩形発振信号の周波数をスイープし、検出回路によって検出される検出信号の振幅が最大または最小となるように矩形発振信号の周波数を選択して設定する周波数設定手段として機能させるためのセンサプログラム。
【請求項３】
請求項１の対象物検出センサまたは請求項２のセンサプログラムにおいて、
前記カウンタは、第１の所定数での分周による周波数と、第１の所定数に隣接する第２の所定数での分周による周波数との間の周波数を実現するために、第１の所定数での分周による信号と、第２の所定数での分周による信号とを所定の比率で時間的に混在させて、矩形発振信号を出力し、
前記周波数設定手段は、前記分周のための所定数と、前記混在の比率とに基づいて、周波数を変化させることを特徴とする対象物検出センサまたはセンサプログラム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかの対象物検出センサまたはセンサプログラムにおいて、
前記周波数設定手段は、前記初期設定の際に、
i)検出信号がしきい値を超えなければ第１の速度で発振信号の周波数を変化させ、検出信号がしきい値を越えると前記第１の速度よりも遅い第２の速度で発振信号の周波数を変化させて、検出信号の振幅が最大となるように発振信号の周波数を選択し、または
ii)検出信号がしきい値を下まわらなければ第１の速度で発振信号の周波数を変化させ、検出信号がしきい値を下まわると前記第１の速度よりも遅い第２の速度で発振信号の周波数を変化させて、検出信号の振幅が最小となるように発振信号の周波数を選択することを特徴とする対象物検出センサまたはセンサプログラム。
【請求項５】
請求項４の対象物検出センサまたはセンサプログラムにおいて、
前記周波数設定手段は、発振信号の周波数のスイープ中において、今回取得した検出信号の振幅がスイープ開始からの最大値または最小値であれば、第２の速度よりもさらに遅い第３の速度で発振信号の周波数を変化させることを特徴とする対象物検出センサまたはセンサプログラム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかの対象物検出センサまたはセンサプログラムにおいて、
前記周波数設定手段は、前記初期設定の際に、高い周波数から低い周波数へとスイープさせることを特徴とする対象物検出センサまたはセンサプログラム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかの対象物検出センサまたはセンサプログラムにおいて、
前記発振信号は正弦波でない周期波形であることを特徴とする対象物検出センサまたはセンサプログラム。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかの対象物検出センサまたはセンサプログラムにおいて、
前記周波数設定手段は、スイープ開始周波数からスイープ終了周波数まで発振信号の周波数を離散的に変化させ、スイープを複数回実行し、所定回数連続して検出信号の振幅が最大または最小となる周波数が同一であった場合に、当該周波数を選択して設定周波数とすることを特徴とする対象物検出センサまたはセンサプログラム。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかの対象物検出センサまたはセンサプログラムにおいて、
前記周波数設定手段は、周波数ごとに検出信号を複数回取得し、その振幅の平均値を検出信号の振幅とすることを特徴とする対象物検出センサまたはセンサプログラム。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかの対象物検出センサまたはセンサプログラムにおいて、
動作モードを表示するための連続して配置された発光部によって検出信号のレベルを表示することを特徴とする対象物検出センサまたはセンサプログラム。
【請求項１１】
請求項１０の対象物検出センサまたはセンサプログラムにおいて、
前記連続して配置された発光部において、前記検出信号のレベルと異なる表示形態にて、検出回路の出力をオンとするしきい値を併せて表示するようにしたことを特徴とする対象物検出センサまたはセンサプログラム。
【請求項１２】
請求項１１の対象物検出センサまたはセンサプログラムにおいて、
前記検出信号のレベルは連続点灯によって表示し、前記しきい値は点滅によって表示することを特徴とする対象物検出センサまたはセンサプログラム。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかの対象物検出センサまたはセンサプログラムにおいて、
温度変化による前記共振回路の共振周波数の変動に追従するように、前記共振回路近傍の温度を検出する温度検出器による検出温度に対応して、前記発振回路の発振信号の周波数を変化させることを特徴とする対象物検出センサまたはセンサプログラム。
【請求項１４】
請求項１３の対象物検出センサまたはセンサプログラムにおいて、
前記検出回路は、温度補償用のコンデンサを有しており、
前記補償手段は、温度補償用コンデンサによる温度補償のずれを補うために、温度変化に対して所定の関係にて矩形発振信号の周波数を変化させ、
前記所定の関係は、共振周波数に応じて設定されることを特徴とする対象物検出センサまたはセンサプログラム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年8月3日(2018.8.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
ａ．１つまたは複数の有機ポリマーを含む基体を提供する工程；
ｂ．基本的に硫酸、１つまたは複数の有機酸およびＭｎ（ＩＩ）イオンおよびＭｎ（ＩＩＩ）イオンから成る酸性水溶液を提供する工程；ならびに
ｃ．前記基体の１つまたは複数の有機ポリマーを前記酸性水溶液と接触させ、前記基体の前記１つまたは複数の有機ポリマーをエッチングする工程
を含む方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明の方法は、１つまたは複数の有機ポリマーを含む基体を提供する工程；基本的に硫酸、１つまたは複数の有機酸およびＭｎ（ＩＩ）イオンおよびＭｎ（ＩＩＩ）イオンから成る酸性水溶液を提供する工程；ならびに、１つまたは複数の有機ポリマーを含む基体を酸性水溶液と接触させ、基体の１つまたは複数のポリマーをエッチングする工程を含む。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
この方法および酸性水溶液は、メタライゼーションの前にクロムフリー酸性水溶液を用いて、つまり、有害で環境にとって望ましくない化合物を排除して、基体の１つまたは複数のポリマーをエッチングする。この方法および酸性水溶液は、Ｃｒ（ＶＩ）の代わりに溶解Ｍｎ（ＩＩＩ）イオンをエッチング剤として用い、１つまたは複数のポリマーを粗面化する。Ｍｎ（ＩＩＩ）イオンは、酸性水溶液中でＭｎ（ＶＩＩ）イオン種よりも安定しており、Ｍｎ（ＶＩＩ）のように容易に不溶性ＭｎＯ２を生成せず、また、エッチング工程でＭｎ（ＩＩ）イオンに還元されるＭｎ（ＩＩＩ）イオンが容易に再生され得る。硫酸と１つまたは複数の有機酸との混合により、Ｍｎ（ＩＩ）イオン源およびＭｎ（ＩＩＩ）イオン源の溶解性が向上し、その結果、１つまたは複数のＭｎ（ＩＩ）イオン源およびＭｎ（ＩＩＩ）イオン源が、実質的に完全に酸性水溶液に溶解して、溶液中に十分なＭｎ（ＩＩＩ）酸化剤濃度をもたらし、生産条件下で標準的な溶液循環およびろ過システムを用いて機能する。さらに、硫酸の含有量が高い溶液は、硫酸の吸湿性により、大気中の水分を吸収しやすいことが知られている。硫酸の一部を１つまたは複数の有機酸に置き換えることで、水分吸収が低減または防止され、それにより良好なエッチング性能が維持できる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
１つまたは複数の有機ポリマーを含む基体を酸性水溶液中に浸すか、または、基体に溶液を噴霧する。有機ポリマーのエッチングは、１０℃〜１３５℃、好ましくは２０℃〜１００℃、より好ましくは３０℃〜８０℃の溶液温度で行う。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
有機ポリマーを含む基体を、溶液で１０秒〜３０分間、好ましくは２分〜１５分間処理する。基体の有機ポリマーをエッチングした後で、基体を水で洗い、それから、メタライゼーションに備えて、通常の方法で処理する。その後で、通常の金属めっき工程、および無電解ニッケルや無電解銅などの金属めっき浴を用いてメタライゼーションを行う。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月13日(2018.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、第２の基板と、第１の層と、を有し、
前記第１の基板と前記第２の基板は、表示素子を介して互いに重なる領域を有し、
前記第１の層は、
前記第１の基板上の、前記第１の基板と前記第２の基板が互いに重なる領域と、
前記第２の基板上の、前記第１の基板と前記第２の基板が互いに重なる領域と、
前記第１の基板の側面と、前記第２の基板の側面と、
を覆うことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
第１の基板と、第２の基板と、第１の層と、を有し、
前記第１の基板と前記第２の基板は、表示素子を介して互いに重なる領域を有し、
前記第１の層は、
前記第１の基板上の、前記第１の基板と前記第２の基板が互いに重なる領域と、
前記第２の基板上の、前記第１の基板と前記第２の基板が互いに重なる領域と、
前記第１の基板及び前記第２の基板の少なくとも一方の基板の側面と、
を覆うことを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記第１の基板および前記第２の基板のヤング率は、１ＧＰａ以上１００ＧＰａ以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第１の層のヤング率は、前記第１の基板および前記第２の基板のヤング率よりも小さいことを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記第１の層のヤング率は、前記第１の基板および前記第２の基板のヤング率の５０分の１以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記第１の層は、継ぎ目が無いことを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、
前記第１の層は、シリコーンゴムであることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記第１の基板と前記第２の基板は、トランジスタを介して重畳し、
前記トランジスタは、チャネルが形成される半導体層に、酸化物半導体を用いることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月9日(2018.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】積層構造物
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基材と、第２の基材と、を有し、
第１の領域と、第２の領域と、第３の領域と、第４の領域と、第５の領域と、を有し、
前記第２の領域は、前記第１の領域を囲むように配置され、
前記第３の領域は、前記第２の領域を囲むように配置され、
前記第４の領域は、前記第３の領域を囲むように配置され、
前記第５の領域は、前記第４の領域を囲むように配置され、
前記第１の領域と、前記第２の領域と、前記第３の領域と、前記第４の領域と、前記第５の領域とにおいて、前記第１の基材と前記第２の基材とは重なる領域を有し、
前記第１の領域と前記第３の領域と前記第５の領域は、前記第１の基材と前記第２の基材の間に、複数のスペーサを有し、
前記第２の領域と前記第４の領域は、前記第１の基材と前記第２の基材の間に、スペーサを有さず、
前記第１の領域乃至前記第５の領域は、前記第１の基材と前記第２の基材の間に接合層を備え、
前記接合層は、前記第１の基材と前記第２の基材を貼り合せる機能を備え、
前記第４の領域において、前記接合層は、前記第１の基材と前記第２の基材に接する積層構造物。
【請求項２】
前記第１の領域乃至前記第３の領域が、前記第１の基材と前記スペーサの間に絶縁層を備え、
前記第５の領域が、前記第１の基材と前記スペーサの間に絶縁層を備え、
前記第５の領域の前記絶縁層が、前記スペーサと重ならない部分に前記スペーサと重なる部分より薄い領域を備える、請求項１に記載の積層構造物。
【請求項３】
第６の領域を有し、
前記第６の領域は、前記第４の領域と前記第５の領域の間に配置され、
前記第１の領域が、発光素子を備え、
前記第１の領域乃至前記第４の領域および第６の領域が、前記発光素子と電気的に接続される配線を備え、
前記第１の領域乃至前記第３の領域が、前記配線と接する絶縁層を備え、
前記第６の領域が、前記配線と電気的に接続される端子を備える、請求項１または請求項２に記載の積層構造物。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月17日(2018.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】剥離方法、発光装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に剥離層を形成する第１の工程と、
前記剥離層の表面にプラズマ処理を行う第２の工程と、
前記剥離層上に被剥離層を形成する第３の工程と、
前記剥離層と前記被剥離層を加熱する第４の工程と、
前記剥離層と前記被剥離層を分離する第５の工程と、を有し、
前記プラズマ処理は、窒素、酸素、珪素、及び水素を含む雰囲気下で行う剥離方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記プラズマ処理は、亜酸化窒素及びシランを含む雰囲気下で行う剥離方法。
【請求項３】
請求項１において、
前記プラズマ処理は、亜酸化窒素、シラン、及びアンモニアを含む雰囲気下で行う剥離方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記第２の工程では、前記プラズマ処理を行うことで、前記剥離層の表面に酸化物層を形成し、
前記酸化物層は、前記剥離層に含まれる材料の少なくとも一つを含む剥離方法。
【請求項５】
請求項４において、
前記第１の工程では、タングステンを含む前記剥離層を形成し、
前記第２の工程では、前記プラズマ処理を行うことで、タングステン及び酸素を含む前記酸化物層を形成する剥離方法。
【請求項６】
第１の基板と、前記第１の基板上の第１の接着層と、前記第１の接着層上の第１の酸化物層と、前記第１の酸化物層上の第１の絶縁層と、前記第１の絶縁層上の素子層と、を有し、
前記第１の基板は、可撓性を有し、
前記素子層は、発光素子を有し、
前記第１の基板、前記第１の接着層、前記第１の酸化物層、及び前記第１の絶縁層が積層されている部分における波長４５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲の光の透過率の平均値が７０％以上１００％以下である発光装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記第１の酸化物層の前記第１の接着層側の面に対して行うＸ線光電子分光分析で求められる、Ｗ４ｆ軌道に帰属される第１のピークは、Ｗ４ｆ軌道に帰属される第２のピークの０．６０倍以上１．０倍以下の強度を有し、
前記第１のピークは、ＷＯｘ（２≦ｘ＜３）で表される酸化タングステン及びタングステン窒化物に由来するピークのうち最も強度の高いピークであり、
前記第２のピークは、酸化タングステン（ＶＩ）に由来するピークのうち最も強度の高いピークである発光装置。
【請求項８】
請求項６又は７において、
前記第１の酸化物層の前記第１の接着層側の面に対して行うＸ線光電子分光分析で求められる、Ｗ４ｆ軌道に帰属される第３のピークは、Ｗ４ｆ軌道に帰属される第４のピークよりも高い強度を有し、
前記第３のピークは、ＷＯｘ（２≦ｘ＜３）で表される酸化タングステン及びタングステン窒化物に由来するピークのうち最も強度の高いピークであり、
前記第４のピークは、酸化タングステン（ＶＩ）に由来するピークのうち２番目に強度の高いピークである発光装置。
【請求項９】
請求項６乃至請求項８のいずれか一項において、
前記第１の酸化物層は、厚さが１ｎｍ以上５ｎｍ未満である部分を有する発光装置。
【請求項１０】
請求項６乃至請求項９のいずれか一項において、
前記第１の酸化物層の抵抗率は、１．０×１０４Ω・ｍ以上１．０×１０１５Ω・ｍ以下である発光装置。
【請求項１１】
請求項６乃至請求項１０のいずれか一項において、
前記第１の絶縁層は、二次イオン質量分析法で検出される水素濃度が、１．０×１０２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上１．０×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下である領域を含む発光装置。
【請求項１２】
請求項６乃至請求項１１のいずれか一項において、
前記第１の絶縁層は、二次イオン質量分析法で検出される窒素濃度が、５．０×１０２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上１．０×１０２３ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下である領域を含む発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月20日(2018.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ又は複数のメモリユニットと、
前記１つ又は複数のメモリユニットと通信可能に連結されるとともに、関心視野を形成する複数の視野のうちの各視野に関して、
回転ディスクを、各セクションが異なる焦点距離を有する前記回転ディスクの複数のセクションのうちの第１のセクションに対応する第１の位置に配置し、
前記回転ディスクが前記第１の位置にあった間に獲得された、第１の視野を表す第１の画像を受け取り、
空間光変調器上の複数の鏡を調整するかどうかを判定するために、前記第１の画像を分析し、
前記分析に基づいて前記複数の鏡を調整し、
前記回転ディスクを、前記複数のセクションのうちの第２のセクションに対応する第２の位置に配置し、
前記回転ディスクが前記第２の位置にあった間に獲得された、前記第１の視野を表す第２の画像を受け取り、
少なくとも前記第１の画像及び前記第２の画像を使用して前記視野の距離画像を生成し、
前記距離画像を使用して目標物までの距離を測定するように動作可能である１つ又は複数のプロセッサとを備える、システム。
【請求項２】
前記回転ディスクの前記複数のセクションのうちの各セクションが異なる厚さを有している、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記回転ディスクの前記複数のセクションのうちの各セクションが異なる屈折率を有している、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記プロセッサが、前記第１の画像を、前記第１の画像と関連付けられた輝度のレベルを判定することにより分析するように更に動作可能である、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記複数の視野のうちの少なくとも１つに関して、前記回転ディスクが前記複数のセクションのそれぞれに複数回配置される、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記回転ディスクが、前記回転ディスクのセクションの数に対応する回数配置されるとともに、前記複数の鏡が、前記回転ディスクが配置される場合ごとに調整される、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記目標物が飛行物体である、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
ロジックを含む非一時的なコンピュータ読み取り可能記憶媒体であって、前記ロジックが、プロセッサにより実行される場合に、関心視野を形成する複数の視野のうちの各視野に関して、
回転ディスクを、各セクションが異なる焦点距離を有する前記回転ディスクの複数のセクションのうちの第１のセクションに対応する第１の位置に配置し、
前記回転ディスクが前記第１の位置にあった間に獲得された、第１の視野を表す第１の画像を受け取り、
空間光変調器上の複数の鏡を調整するかどうかを判定するために、前記第１の画像を分析し、
前記分析に基づいて前記複数の鏡を調整し、
前記回転ディスクを、前記複数のセクションのうちの第２のセクションに対応する第２の位置に配置し、
前記回転ディスクが前記第２の位置にあった間に獲得された、前記第１の視野を表す第２の画像を受け取り、
少なくとも前記第１の画像及び前記第２の画像を使用して前記視野の距離画像を生成し、
前記距離画像を使用して目標物までの距離を測定するように動作可能である、コンピュータ読み取り可能記憶媒体。
【請求項９】
前記回転ディスクの前記複数のセクションのうちの各セクションが異なる厚さを有している、請求項８に記載のコンピュータ読み取り可能記憶媒体。
【請求項１０】
前記回転ディスクの前記複数のセクションのうちの各セクションが異なる屈折率を有している、請求項８に記載のコンピュータ読み取り可能記憶媒体。
【請求項１１】
前記ロジックが、前記第１の画像を、前記第１の画像と関連付けられた輝度のレベルを判定することにより分析するように更に動作可能である、請求項８に記載のコンピュータ読み取り可能記憶媒体。
【請求項１２】
前記複数の視野のうちの少なくとも１つに関して、前記回転ディスクが前記複数のセクションのそれぞれに複数回配置される、請求項８に記載のコンピュータ読み取り可能記憶媒体。
【請求項１３】
前記回転ディスクが、前記回転ディスクのセクションの数に対応する回数配置されるとともに、前記複数の鏡が、前記回転ディスクが配置される場合ごとに調整される、請求項８に記載のコンピュータ読み取り可能記憶媒体。
【請求項１４】
前記目標物が飛行物体である、請求項８に記載のコンピュータ読み取り可能記憶媒体。
【請求項１５】
関心視野を形成する複数の視野のうちの各視野に関して、
回転ディスクを、各セクションが異なる焦点距離を有する前記回転ディスクの複数のセクションのうちの第１のセクションに対応する第１の位置に配置するステップと、
前記回転ディスクが前記第１の位置にあった間に獲得された、第１の視野を表す第１の画像を受け取るステップと、
空間光変調器上の複数の鏡を調整するかどうかを判定するために、前記第１の画像を分析するステップと、
前記分析に基づいて前記複数の鏡を調整するステップと、
前記回転ディスクを、前記複数のセクションのうちの第２のセクションに対応する第２の位置に配置するステップと、
前記回転ディスクが前記第２の位置にあった間に獲得された、前記第１の視野を表す第２の画像を受け取るステップと、
少なくとも前記第１の画像及び前記第２の画像を使用して前記視野の距離画像を生成するステップと、
前記距離画像を使用して目標物までの距離を測定するステップとを含む、方法。
【請求項１６】
前記回転ディスクの前記複数のセクションのうちの各セクションが異なる厚さを有している、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記回転ディスクの前記複数のセクションのうちの各セクションが異なる屈折率を有している、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１の画像を分析する前記ステップが、前記第１の画像と関連付けられた輝度のレベルを判定するステップを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
前記複数の視野のうちの少なくとも１つに関して、前記回転ディスクが前記複数のセクションのそれぞれに複数回配置される、請求項１５に記載の方法。
【請求項２０】
前記回転ディスクが、前記回転ディスクのセクションの数に対応する回数配置されるとともに、前記複数の鏡が、前記回転ディスクが配置される場合ごとに調整される、請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月13日(2018.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応槽内で、非可食バイオマス資源を原料として、溶媒及び触媒の存在下に反応を行い、得られた反応液から糖液を抽出して、フルフラール製造原料用糖液を製造する方法において、
該糖液が炭素数５の単糖と炭素数５の単糖を構成成分として有する多糖とを含み、該単糖と多糖の重量平均分子量が２００以上１０００以下である、フルフラール製造原料用糖液の製造方法。
【請求項２】
前記抽出される糖液の炭素数５の単糖の含有量を、０．０５重量％以上８重量％以下に制御する、請求項１に記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
【請求項３】
前記抽出される糖液中の前記多糖のうち２〜４糖類の含有量を、炭素数５の単糖の含有量に対して２０重量％以上に制御する、請求項１又は２に記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
【請求項４】
前記抽出される糖液中の前記多糖のうち２糖類の含有量を、０．０１重量％以上５重量％以下に制御する、請求項１〜３のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
【請求項５】
前記抽出される糖液中の前記多糖のうち４糖類の含有量を、０．００５重量％以上３重量％以下に制御する、請求項１〜４のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
【請求項６】
前記非可食バイオマス資源がバガスである、請求項１〜５のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
【請求項７】
前記触媒が有機酸である、請求項１〜６のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
【請求項８】
前記有機酸が、蟻酸、酢酸、及び乳酸のいずれか１種又は２種以上である、請求項７に記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
【請求項９】
前記溶媒が水である、請求項１〜８のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
【請求項１０】
前記溶媒が水と有機溶媒の混合溶媒である、請求項１〜８のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
【請求項１１】
前記有機溶媒が炭化水素溶媒である、請求項１０に記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法で得られる糖液を用いてフルフラールを製造する、フルフラールの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
［１］  反応槽内で、非可食バイオマス資源を原料として、溶媒及び触媒の存在下に反応を行い、得られた反応液から糖液を抽出して、フルフラール製造原料用糖液を製造する方法において、該糖液が炭素数５の単糖と炭素数５の単糖を構成成分として有する多糖とを含み、該単糖と多糖の重量平均分子量が２００以上１０００以下である、フルフラール製造原料用糖液の製造方法。
［２］  前記抽出される糖液の炭素数５の単糖の含有量を、０．０５重量％以上８重量％以下に制御する、［１］に記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
［３］  前記抽出される糖液中の前記多糖のうち２〜４糖類の含有量を、炭素数５の単糖の含有量に対して２０重量％以上に制御する、［１］又は［２］に記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
［４］  前記抽出される糖液中の前記多糖のうち２糖類の含有量を、０．０１重量％以上５重量％以下に制御する、［１］〜［３］のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
［５］  前記抽出される糖液中の前記多糖のうち４糖類の含有量を、０．００５重量％以上３重量％以下に制御する、［１］〜［４］のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
［６］  前記非可食バイオマス資源がバガスである、［１］〜［５］のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
［７］  前記触媒が有機酸である、［１］〜［６］のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
［８］  前記有機酸が、蟻酸、酢酸、及び乳酸のいずれか１種又は２種以上である、［７］に記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
［９］  前記溶媒が水である、［１］〜［８］のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
［１０］  前記溶媒が水と有機溶媒の混合溶媒である、［１］〜［８］のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
［１１］  前記有機溶媒が炭化水素溶媒である、［１０］に記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法。
［１２］  ［１］〜［１１］のいずれかに記載のフルフラール製造原料用糖液の製造方法で得られる糖液を用いてフルフラールを製造する、フルフラールの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月16日(2018.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
（比較例5）
硫酸銅五水和物15g/L、硫酸コバルト七水和物8.5g/L、硫酸ニッケル六水和物8.6、pH2.5、液温38℃に調整した液に、陽極として白金属酸化物にて表面を被覆したチタンを使用し、陰極としてRzJIS94が0.75μmの12μmの未処理電解銅箔を用いて、45A/dm2で1秒間陰極電解を行い銅−コバルト−ニッケルからなる粗化処理層を形成した。
次いで、硫酸コバルト七水和物10g/L、硫酸ニッケル六水和物 10g/L、ｐＨ3.0、液温30℃に調整した液を使用し陽極として白金属酸化物にて表面を被覆したチタンを使用するとともに、陰極として銅−コバルト−ニッケルからなる粗化処理層を形成した電解銅箔を用いて2A/dm2で5秒間陰極電解を行い粗化処理層上にコバルト−ニッケル合金層を形成した。
その後、硫酸亜鉛七水和物150g/L、pH3.0、液温50度に調整した液に、陽極として白金属酸化物にて表面を被覆したチタン、陰極として粗化処理層上にコバルト−ニッケル合金層を形成した銅箔を使用して、0.5A/dm2で5秒間陰極電解を行って亜鉛層を形成した。
クロメート層及びシランカップリング剤層は実施例と同じ方法で設けた。全ての表面処理を施した後に、粗度RzJIS94を測定すると1.32μmであった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
＜視認性＞
銅張積層板Aのいずれか一方の面の処理銅箔を完全にエッチング処理を行い、もう一方の面にはエッチングにより各処理銅箔からなる50μm×50μmの四角形(1)を形成した。
各銅張積層板Aを白色のコピー用紙、クリーム色の実験台又は色差計標準板のいずれかの上に四角形(1)を下にして乗せ、CCDラインセンサーカメラPIE-550(モノクロラインセンサー、5150画素(40MHz)／池上通信機株式会社製)を銅張積層板Aの全面にエッチング処理側に70mm離して設置し、5m/minで前記CCDラインセンサーカメラ(6)の下を10回通過させ、50μm×50μmの四角形(1)をCCDラインセンサーカメラが9回以上検出できたものを◎、7〜8回検出できたものを○、6回検出できたものを△、5回以下しか検出できなかったものを×として評価を行った。なお、照明にはメタルハライド照明を使用した。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月29日(2018.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外気との熱交換を行う熱交換器と、前記熱交換器の熱交換を促進させる気流を生成するためのファンと、前記ファンを駆動させるモータと、前記ファン及び前記モータを内部に配置した筐体と、前記筐体内に架設された支持部材と、を備え、
前記支持部材は、気流の方向に形成された基板部と、
前記基板部の下流側から気流の方向に対向して延出された支持板部と、
前記基板部の上流側から気流の方向に対向して延出されると共に、前記支持板部の延出量よりも小さい延出量の対向板部と、を有し、
前記支持部材は、１枚の板金で前記基板部、前記支持板部及び前記対向板部が形成され、断面形状が略Ｕ字状に形成されていることを特徴とする空気調和機の室外機。
【請求項２】
外気との熱交換を行う熱交換器と、前記熱交換器の熱交換を促進させる気流を生成するためのファンと、前記ファンを駆動させるモータと、前記ファン及び前記モータを内部に配置した筐体と、前記筐体内に架設された支持部材と、を備え、
前記支持部材は、気流の方向に形成された基板部と、
前記基板部の下流側から気流の方向に対向して延出された支持板部と、
前記基板部の上流側から気流の方向に対向して延出されると共に、前記支持板部の延出量よりも小さい延出量の対向板部と、を有し、
前記支持部材は、前記対向板部の上流側端部を上流側方向に折り曲げて延出して形成された上流側整流板部を有していることを特徴とする空気調和機の室外機。
【請求項３】
前記支持部材は、前記上流側整流板部の上流側端部を下流側方向に折り曲げて形成されたＲ部と、
前記Ｒ部から下流方向に折り返して形成された折返板部と、を有していることを特徴とする請求項２に記載の空気調和機の室外機。
【請求項４】
前記支持部材は、前記上流側整流板部の上流側端部を前記対向板部に沿うように折り曲げて延出して形成された上流側対向板部を有し、
前記上流側対向板部の延出量は、前記支持板部の延出量、及び、前記対向板部の延出量よりも小さいことを特徴とする請求項２に記載の空気調和機の室外機。
【請求項５】
前記支持部材は、前記支持板部から下流方向に折り曲げられた下流側整流板部を有していることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の空気調和機の室外機。
【請求項６】
前記支持部材は、１枚の金属板を折曲形成して、前記支持板部及び前記対向板部が前記基板部から延出するように形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の空気調和機の室外機。
【請求項７】
前記支持部材は、前記支持板部上に前記モータを載設して下側から支持する複数の部材からなることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の空気調和機の室外機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明に係る空気調和機の室外機は、外気との熱交換を行う熱交換器と、前記熱交換器の熱交換を促進させる気流を生成するためのファンと、前記ファンを駆動させるモータと、前記ファン及び前記モータを内部に配置した筐体と、前記筐体内に架設された支持部材と、を備え、前記支持部材は、気流の方向に形成された基板部と、前記基板部の下流側から気流の方向に対向して延出された支持板部と、前記基板部の上流側から気流の方向に対向して延出されると共に、前記支持板部の延出量よりも小さい延出量の対向板部と、を有し、前記支持部材は、１枚の板金で前記基板部、前記支持板部及び前記対向板部が形成され、断面形状が略Ｕ字状に形成されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
＜送風機＞
図１に示すように、送風機４０は、側板７３，７４及び後板７５の吸引口（図示省略）から吸入した外気を、熱交換器２を介して上方のベルマウス兼シュラウド７８の開口部（図示省略）から外部に噴き戻すための装置である。送風機４０は、上方向に突出したモータ軸５１（図４参照）を有するモータ５と、モータ軸５１の先端部に連結されたファン４と、を備えて構成されている。送風機４０は、室外機１の上部のベルマウス兼シュラウド７８内に配置されている。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月16日(2018.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
管部材を、開口部を有する継ぎ手部材に接続するための接続ナットであって、
前記接続ナットは、前記管部材が前記継ぎ手部材に接続されている状態において、前記接続ナットの壁面の内、少なくとも前記管部材と接触する壁面が、所定の膜で覆われている、ことを特徴とする接続ナット。
【請求項２】
前記接続ナットは、断面が多角形状の外周面を有し、両端が開放された筒状体を成しており、
前記接続ナットは、
前記筒状体の内部の一端部から他端部の手前までに亘り形成された、前記継ぎ手部材の外周面上の雄ねじ部と螺合される雌ねじ部と、
前記他端部に形成された、前記管部材が貫通する貫通部と、
前記貫通部の内周壁面と前記雌ねじ部との間に形成された、前記管部材の端部における漏斗状の傾斜面を前記継ぎ手部材の前記開口部の外周縁部に押圧して連結するための押圧部と、を有しており、
前記所定の膜は、少なくとも、前記貫通部の内周壁面と前記押圧部と前記接続ナットの前記他端部側の外端面とに形成されている、ことを特徴とする請求項１に記載の接続ナット。
【請求項３】
前記接続ナットの材料は、黄銅であり、
前記管部材の材料は、アルミニウム合金であり、
前記所定の膜は、前記アルミニウム合金に比べてイオン化傾向が高い金属材料の粉末と樹脂材料とを含む膜である、ことを特徴とする、請求項１又は２に記載の接続ナット。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の接続ナットと、
前記接続ナットが、両端に配置可能に設けられた前記管部材と、を備え、
前記管部材は、第１の金属を主成分として有し、前記接続ナットは、前記第１の金属とは異なる第２の金属を主成分として有している、ことを特徴とする配管セット。
【請求項５】
前記第１の金属はアルミニウムであり、前記第２の金属は銅である、請求項４に記載の配管セット。
【請求項６】
前記管部材の材料は、アルミニウム合金であり、
前記接続ナットの材料は、黄銅であり、
前記所定の膜は、電気絶縁性を有する膜、または、前記アルミニウム合金に比べてイオン化傾向が高い金属材料の粉末と樹脂材料とを含む膜である、ことを特徴とする、請求項５に記載の配管セット。
【請求項７】
前記管部材は、空気調和機の室外機と室内機とを前記継ぎ手部材及び前記接続ナットを介して連結し冷媒を循環させるための管部材である、ことを特徴とする請求項４〜６の何れか一つに記載の配管セット。
【請求項８】
両方に開口部を有する継ぎ手部材と、
前記継ぎ手部材の前記両方の開口部に、管部材をそれぞれ接続するための接続ナットと、を備えた継ぎ手セットであって、
前記継ぎ手部材の材料と前記接続ナットの材料は、黄銅であり、
前記管部材の材料は、アルミニウム合金であり、
前記接続ナットは、前記管部材が前記継ぎ手部材に接続されている状態において、前記接続ナットの壁面の内、少なくとも前記管部材と接触する壁面が、所定の膜で覆われており、
前記所定の膜は、前記アルミニウム合金に比べてイオン化傾向が高い金属材料の粉末と樹脂材料とを含む膜である、ことを特徴とする継ぎ手セット。
【請求項９】
２つの管部材と、
両方に開口部を有する継ぎ手部材と、
前記継ぎ手部材の前記両方の開口部に、前記管部材をそれぞれ接続するための接続ナットと、を備えた配管セットであって、
前記２つの管部材の材料は、アルミニウム合金であり、
前記継ぎ手部材の材料と前記接続ナットの材料は、黄銅であり、
前記接続ナットは、前記管部材が前記継ぎ手部材に接続されている状態において、前記接続ナットの壁面の内、少なくとも前記管部材と接触する壁面が、所定の膜で覆われており、
前記所定の膜は、前記アルミニウム合金に比べてイオン化傾向が高い金属材料の粉末と樹脂材料とを含む膜である、ことを特徴とする配管セット。
【請求項１０】
２つの管部材と、
両方に開口部を有する継ぎ手部材と、
前記継ぎ手部材の前記両方の開口部の内の一方の開口部に、前記２つの管部材の内の一方の管部材を接続するための第１接続ナットと、
前記継ぎ手部材の前記両方の開口部の内の他方の開口部に、前記２つの管部材の内の他方の管部材を接続するための第２接続ナットと、を備えた配管セットであって、
前記一方の管部材の材料は、アルミニウム合金であり、
前記他方の管部材の材料は、銅を主成分とするものであり、
前記継ぎ手部材の材料、前記第１接続ナットの材料、及び前記第２接続ナットの材料は、黄銅であり、
前記第１接続ナットは、前記一方の管部材が前記継ぎ手部材に接続されている状態において、前記第１接続ナットの壁面の内、少なくとも前記一方の管部材と接触する壁面が、所定の膜で覆われており、
前記所定の膜は、前記アルミニウム合金に比べてイオン化傾向が高い金属材料の粉末と樹脂材料とを含む膜である、ことを特徴とする配管セット。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月28日(2018.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
過給機によってエンジン（１０）に過給される過給吸気と冷却媒体との間で熱交換を行うことで前記過給吸気を冷却するインタークーラであって、
流路管（２１）とフィン（２２）とが積層配置され、前記流路管の内部を流れる前記冷却媒体と、前記流路管の外部を流れる前記過給吸気とを熱交換させる熱交換部（２３）を備え、
前記冷却媒体には、第１冷却媒体と、前記第１冷却媒体より温度が高い第２冷却媒体とが含まれており、
前記流路管内には、前記過給吸気の流れ方向と交差するように前記第１冷却媒体が流れる第１冷却媒体流路（２５）と、前記過給吸気の流れ方向と交差するように前記第２冷却媒体が流れる第２冷却媒体流路（２６）とが形成されており、
前記第２冷却媒体流路は、前記第１冷却媒体流路よりも前記過給吸気の流れ方向の上流側に配置されており、
前記第１冷却媒体流路は、前記第１冷却媒体がＵターンする第１Ｕターン部（２５ｄ）を有し、前記第２冷却媒体流路は、前記第２冷却媒体がＵターンする第２Ｕターン部（２６ｄ）を有しており、
前記第２冷却媒体流路は、前記第２Ｕターン部の下流側となる下流側流路（２６ｆ）が前記第２Ｕターン部の上流側となる上流側流路（２６ｅ）よりも、前記過給吸気の流れ方向の上流側に位置しており、
前記フィンは、少なくとも前記下流側流路の前記過給吸気の流れ方向における最上流部に対応する部位に、前記過給吸気と前記第２冷却媒体との間の熱交換を抑制する熱交換抑制部が設けられており、
前記熱交換抑制部は、少なくとも前記下流側流路の前記第２熱媒体の流れ方向における最下流部に対応する部位に設けられているインタークーラ。
【請求項２】
前記フィンは、波形状の断面を構成する壁部（２２ａ）に複数のルーバ（２２ｃ）が形成されたルーバフィンとして構成されており、
前記熱交換抑制部は、前記ルーバが形成されていない非ルーバ部（２２ｆ）として構成されている請求項１に記載のインタークーラ。
【請求項３】
前記フィンは、波形状の断面を構成する壁部（２２ａ）に複数のルーバ（２２ｃ）が形成されたルーバフィン（２２）と、波形状の断面を構成する壁部（２９ａ）に部分的に切り起こされた切り起こし部（２９ｃ）が形成されたオフセットフィン（２９）とを含んでおり、
前記オフセットフィンは、前記ルーバフィンとは別体に構成されており、
前記熱交換抑制部は、前記オフセットフィンによって構成されている請求項１に記載のインタークーラ。
【請求項４】
前記フィンは、波形状の断面を構成する壁部（２２ａ）に複数のルーバ（２２ｃ）が形成されたルーバフィン（２２）と、波形状の断面を構成する壁部（３０ａ）が直線的に延びているストレートフィン（３０）とを含んでおり、
前記ストレートフィンは、前記ルーバフィンとは別体に構成されており、
前記熱交換抑制部は、前記ストレートフィンによって構成されている請求項１に記載のインタークーラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明では、過給機によってエンジン（１０）に過給される過給吸気と冷却媒体との間で熱交換を行うことで過給吸気を冷却するインタークーラであって、流路管（２１）とフィン（２２、２９、３０）とが積層配置され、流路管の内部を流れる冷却媒体と、流路管の外部を流れる過給吸気とを熱交換させる熱交換部（２３）を備え、冷却媒体には、第１冷却媒体と、第１冷却媒体より温度が高い第２冷却媒体とが含まれており、流路管内には、過給吸気の流れ方向と交差するように第１冷却媒体が流れる第１冷却媒体流路（２５）と、過給吸気の流れ方向と交差するように第２冷却媒体が流れる第２冷却媒体流路（２６）とが形成されており、第２冷却媒体流路は、
第１冷却媒体流路よりも過給吸気の流れ方向の上流側に配置されており、第１冷却媒体流路は、第１冷却媒体がＵターンする第１Ｕターン部（２５ｄ）を有し、第２冷却媒体流路は、第２冷却媒体がＵターンする第２Ｕターン部（２６ｄ）を有しており、第２冷却媒体流路は、第２Ｕターン部の下流側となる下流側流路（２６ｆ）が第２Ｕターン部の上流側となる上流側流路（２６ｅ）よりも、過給吸気の流れ方向の上流側に位置しており、フィンは、少なくとも下流側流路の過給吸気の流れ方向における最上流部に対応する部位に、過給吸気と第２冷却媒体との間の熱交換を抑制する熱交換抑制部（２２ｆ、２９、３０）が設けられており、熱交換抑制部は、少なくとも下流側流路の第２熱媒体の流れ方向における最下流部に対応する部位に設けられていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月12日(2018.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転可能である容器状の第１回転体（２０）と、
前記第１回転体に収容され、少なくとも１つの係合穴（４３）を有し、回転可能な第２回転体（４０）と、
前記第２回転体に対向して前記第１回転体に収容され、前記第１回転体と前記第２回転体とを回転伝達可能に連結されており、前記第１回転体における軸に対して偏心回転することによって前記第１回転体と前記第２回転体との相対回転位相を変化可能にし、前記第１回転体または前記第２回転体の回転を加減速可能な第３回転体（７０）と、
前記係合穴を介して前記第２回転体と前記第３回転体とを係合する少なくとも１つの係合部材（７４）と、
を備え、
前記係合部材の側面において一方の面を基準側面（８２）とし、
前記基準側面に対向する面を対向側面（８３）とすると、
少なくとも１つの前記係合部材は、前記基準側面と前記対向側面とが前記係合部材における軸方向に対して対称に傾斜する引力面（８０）を有し、
前記第２回転体は、前記第２回転体の内側面において前記引力面と接触する接触面（８１）を有し、
前記接触面は、前記引力面に沿って形成されており、
前記係合部材における最大径（Ｄ１）は、前記係合穴における最小径（Ｄ２）よりも小さい偏心揺動型減速装置。
【請求項２】
前記引力面は、前記第３回転体から前記第２回転体に向かって前記係合部材の径が拡がるように形成されている請求項１に記載の偏心揺動型減速装置。
【請求項３】
前記引力面は、少なくとも一部が湾曲するように形成され、
前記接触面は、前記引力面に沿って湾曲するように形成されている請求項１または２に記載の偏心揺動型減速装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の偏心揺動型減速装置と、
前記第１回転体と連動して回転可能なクランク軸（２）と、
前記第２回転体と連動して回転可能なカム軸（４）と、
を備え、
前記クランク軸からの回転伝達により前記カム軸が開閉する吸気弁（８）および排気弁（９）のうち少なくとも一方のバルブタイミングを調整する内燃機関（１）のバルブタイミング調整装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
係合部材の側面において、一方の面を基準側面（８２）とし、基準側面に対向する側面を対向側面（８３）とする。
少なくとも１つの係合部材は、係合部材における軸方向に対して基準側面と対向側面とが対称に傾斜する引力面（８０）を有する。
第２回転体は、第２回転体の内側面において引力面と接触する接触面（８１）を有する。接触面は、引力面に沿って形成されている。係合部材における最大径（Ｄ１）は、係合穴における最小径（Ｄ２）よりも小さい。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月16日(2018.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンジン（１０）に備えられた発熱体（１７）の温度を制御する発熱体制御装置（３０）であって、
前記発熱体に一定の電力を供給することで前記発熱体の温度を目標温度に制御する温度制御部（Ｓ１４）と、
前記目標温度における前記発熱体の抵抗値を目標抵抗値として取得する抵抗値取得部（Ｓ１６）と、
前記発熱体の抵抗値が前記目標抵抗値に維持されるよう、前記発熱体の抵抗値を制御する抵抗制御部（Ｓ１７）と、を有し、
前記温度制御部は、前記エンジンの始動要求が行われた後、前記エンジンの始動前に前記発熱体に対して前記一定の電力を供給し、
前記抵抗制御部は、
前記発熱体の抵抗値を、前記エンジンの始動前に前記発熱体に対して前記一定の電力を供給することで求められた前記目標抵抗値に維持し、
前記抵抗値取得部が取得する前記発熱体の抵抗値の変化量が所定範囲に収まった場合に、前記発熱体に対する前記抵抗値の制御を実施する、発熱体制御装置。
【請求項２】
前記発熱体は、前記エンジンに複数設けられている、請求項１に記載の発熱体制御装置。
【請求項３】
前記温度制御部は、前記発熱体に対する前記一定の電力の供給前に、前記発熱体を所定時間昇温する、請求項１又は請求項２に記載の発熱体制御装置。
【請求項４】
前記温度制御部は、前記エンジンが停止されてから再始動するまでの期間が短くなるに従い、前記再始動後の前記発熱体を昇温する期間を短くする、請求項３に記載の発熱体制御装置。