【事件の表示】
　特許第５７３１０８５号発明「成膜装置」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第５７３１０８５号の請求項１ないし５に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第５７３１０８５号の請求項１〜５に係る特許についての出願は、平成２５年８月３０日（パリ条約による優先権主張２０１３年２月５日、日本国）を国際出願日とする出願であって、平成２７年４月１７日にその特許権の設定登録がされ、その後、その特許について、特許異議申立人河久保清により特許異議の申立てがされ、当審において平成２８年３月４日付けで取消理由を通知し、平成２８年５月９日付けで意見書が提出されたものである。
　　
２．取消理由の概要
　当審において通知した取消理由は、要旨次のとおりである。
　　
　本件発明の課題を解決するためには、第２ターゲット電極を複数の第１ターゲット電極の隙間に設ける必要があるが、本件請求項１〜４に係る発明では第２ターゲット電極をどこに設けるかについて記載されていないため、本件請求項１〜４に係る発明は、発明の詳細な説明において発明の課題が解決できることを当業者が認識できる範囲を超えていると認められ、本件明細書の記載及び本件出願時の技術常識に照らしても、発明の詳細な説明に開示された内容を、本件請求項１〜４に係る発明にまで拡張ないし一般化できるといえない。よって、本件特許１〜４は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。 
　　
３．判断
  本件請求項１〜４に係る発明（以下、まとめて、「本件発明」という。）が、本件の発明の詳細な説明において、発明の課題を解決できることを当業者が認識できる範囲のものであるか否か検討する。
　　
　本件の発明の詳細な説明をみると、次の事項が記載されていると認められる（なお、「(第１ターゲット電極)」、「(第２ターゲット電極)」、及び、下線は、当審で付したものである。）。
　　　
　本件発明は、「真空容器のサイズや数に影響することなく、ゲッタリング効果のある材料を装置内に成膜できる成膜装置を提供すること」（段落【０００６】）を発明の課題とするものであるところ、「成膜用のターゲットを取り付け可能な第１取り付け部を備える複数の第１ターゲット電極と、前記複数の第１ターゲット電極に対向する位置で基板を保持する基板ホルダーと、ゲッタリング用のターゲットを取り付けるための、前記第１取り付け部よりも小さい第２取り付け部を備える第２ターゲット電極と、を備えること」（段落【０００７】）によって、「成膜に用いるターゲット電極(第１ターゲット電極)の取付け位置の隙間に、ゲッタリング効果が高いチタンやタンタルをターゲットＧとして搭載する小型のターゲット電極(第２ターゲット電極)が設けられている」ため「ターゲットＧとして搭載する小型のターゲット電極(第２ターゲット電極)は、複数設けられた成膜用のターゲット電極(第１ターゲット電極)の隙間に設けられるサイズに調整されているので、真空容器のサイズを大きくしたり、真空容器の数を増加したりする必要がなく、成膜装置のフットプリントを抑えられる」（段落【０００８】）こと、すなわち、
第２ターゲット電極が、複数の第１ターゲット電極の隙間に設けられる小さなサイズに調整されているので、真空容器のサイズを大きくしたり、真空容器の数を増加したりする必要がないこと
　また、複数の第１ターゲット電極の隙間に第２ターゲット電極が設けらた構造の例が図示されるとともに、その説明において、「ターゲット電極４１(第２ターゲット電極)の取り付け部は、ターゲット電極３５〜３８(第１ターゲット電極)のそれと比べて小型であるため、ターゲット電極４１に取付けるターゲットＧも成膜用のターゲットＡ〜Ｄに比べて小さい」「ため、ターゲット電極３５〜３８(第１ターゲット電極)の取り付け位置の隙間にターゲット電極４１(第２ターゲット電極)を取り付けることができる」（段落【００２１】）ことが記載され、「例えば、ターゲット電極４１の第２ターゲット電極は、ターゲット電極３５〜３８のそれぞれの第１ターゲット電極のうち、隣接する任意の２つのターゲット電極の間に取り付けることができる。」（段落【００２１】）と、
第２ターゲット電極を複数の第１ターゲット電極の隙間に設ける例として、例えば、第２ターゲット電極を隣接する任意の２つの第１ターゲット電極の間に取り付ける
　さらに、本件発明では「ターゲット電極４１(第２ターゲット電極)を設けても、ターゲット電極３５〜３８(第１ターゲット電極)の配置を変更する必要がないので、真空容器のサイズを変更する必要」や「真空容器を増設する必要」（段落【００２２】）がないこと、及び、第２ターゲット電極によって真空容器内にゲッタリング膜を形成した場合において「ターゲット電極４１(第２ターゲット電極)をターゲット電極３５〜３８(第１ターゲット電極)の隙間に設けられるサイズにすることで、モジュールサイズに影響を与えることなく、またモジュールの数を増加する必要がないので成膜装置のフットプリントを抑えられ」「ゲッタリング効果で超高真空を得ること」、すなわち、
第２ターゲット電極を複数の第１ターゲット電極の隙間に設けられるような小さなサイズにすることによって、真空装置(モジュール)のサイズや数を変更する必要がないこと
　
　以上の記載事項等からみて、本件の発明の詳細な説明には、成膜装置において、第２ターゲット電極を、複数の第１ターゲット電極の隙間に設けられる小さなサイズに調整することによって、「真空容器のサイズや数に影響することなく、ゲッタリング効果のある材料を装置内に成膜できる成膜装置を提供する」という発明の課題を解決できることが開示されていると認められ、そのような第２ターゲット電極を設置した構造の例として、第２ターゲット電極を隣接する任意の２つの第１ターゲット電極の間に取り付けることが記載されているといえる。
　　
　そして、小さなサイズに調整した第２ターゲット電極を設置するのであれば、複数の第１ターゲット電極の設置されていない部分のスペース、すなわち、第１ターゲット電極の隙間、に設置することが可能となるため、第２ターゲット電極のために、新たに真空容器のサイズや数を増やす必要がないことは、当業者にとって合理的に理解できることと認められる。
　また、複数の第１ターゲット電極の隙間として、隣接する２つの第１ターゲット電極の間以外のスペース（例えば、第１ターゲット電極と、その設置部位の周縁部との間のスペース（必要であれば、平成２８年７月２２日付け応対記録参照。））もあり得ることは、当業者にとって明らかと認められるから、斯かる隙間が隣接する２つの第１ターゲット電極の間のスペースに限定されるものでないことも合理的に理解できる。
（なお、特許権者が平成２８年５月９日付け意見書で主張するように第２ターゲット電極が成膜装置内の何処の箇所に設置されたとしても、ゲッタリング等のターゲットとしての機能自体を果たすことは明らかと認められる。）
　　　
　よって、本件発明は、第２ターゲット電極の設置箇所を特定しないものであっても、本件の発明の詳細な説明において、発明の課題を解決できることを当業者が認識できる範囲のものであって、本件発明に係る特許が特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるとはいえない。
　　
４．申立て理由についての補足
　特許異議申立人は、特許異議申立書において、本件請求項１〜５に係る発明は、下記の甲第１〜５号証（以下、「甲１」〜「甲５」という。）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるという特許法第２９条第２項に係る申立て理由についても主張している。
　しかしながら、当該申立て理由は、甲１に記載された発明のゲッタ(ゲッタリング)効果を有するターゲット電極のサイズを甲２、３の技術的事項に基づいて小さなサイズにすることは当業者にとって容易とするものと認められるところ、甲２は主ターゲットの成膜を補うための補助ターゲットに係るものであってゲッタリング用のターゲットに係るものではないし、甲３は図面上の一見ではゲッタリング用のターゲットが小さなサイズと視認されるものの実施例の記載（主ターゲットと同じサイズ(直径２００ｍｍ)と認められる。）等を参照するとそのようなものと認めることはできないから、甲２、３の技術的事項に基づいて甲１のゲッタ（ゲッタリング）効果を有するターゲットを小さなサイズにすることを当業者が容易になし得たこととはいえないし、甲４、５の技術的事項を考慮しても、当業者が容易になし得たこととはいえない。
　よって、特許異議申立書における特許法第２９条第２項に係る申立て理由は採用の限りでない。
甲第１号証：特開２００９−６５１８１号公報
甲第２号証：特開２００７−３０２９１２号公報
甲第３号証：特開昭６１−３３２３号公報
甲第４号証：特開２０１１−１５９７号公報
甲第５号証：特開２０１０−１０６２９０号公報
　　　　　
５．むすび
　したがって、上記取消理由によって、請求項１〜４に係る特許を取り消すことはできないし、他に請求項１〜５に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成２８年７月２２日（２０１６．７．２２）