【手続補正書】
【提出日】平成30年3月14日(2018.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トップリング本体と、
前記トップリング本体との間に複数のエリアを形成する第１面と、前記第１面とは反対側にあって基板を保持可能な第２面と、を有する弾性膜と、
前記複数のエリアのうちの第１エリアに連通し、前記第１エリアを加圧することが可能な第１ラインと、
前記第１エリアに連通し、前記第１エリアから排気することが可能な第２ラインと、
前記第１エリアの流量に基づいて測定値が変化する測定器と、
前記複数のエリアのうちの前記第１エリアとは異なる第２エリアに連通し、前記第２エリアを加圧または減圧することが可能な第３ラインと、を備える基板保持装置。
【請求項２】
前記測定器は、前記第２ラインの流量を計測可能な流量計である、請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項３】
前記測定器は、前記第１ラインまたは前記第２ラインの圧力を計測可能な圧力計である、請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記測定値に基づいて、前記第２面に前記基板が吸着されたか否かを判定する判定部を備える、請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項５】
前記基板が前記第２面に吸着される際に、前記第３ラインを介して前記第２エリアを減圧し、前記第１ラインを介して前記第１エリアを加圧するとともに前記第２ラインを介して流体を流通する制御部を備え、
前記判定部は、前記基板が前記第２面に吸着される際に、前記測定値に基づいて、前記第２面に前記基板が吸着されたか否かを判定する、請求項４に記載の基板保持装置。
【請求項６】
前記判定部は、前記第２エリアの減圧開始から所定時間経過した後に、前記測定器で計測される測定値に基づいて、前記第２面に前記基板が吸着されたか否かを判定する、請求項５に記載の基板保持装置。
【請求項７】
前記測定値に基づいて、前記第３ラインを介して前記第２エリアの圧力を制御する制御部を備える、請求項１乃至６のいずれかに記載の基板保持装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記測定値が所定範囲に収まるよう、前記第２エリアの圧力を制御する、請求項７に記載の基板保持装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記第２面に保持された基板をリリースする際、前記第１ラインを介して前記第１エリアを加圧するとともに前記第２ラインを介して前記第１エリアに流体を流通し、前記測定値に基づいて、前記第３ラインを介して前記第２エリアの圧力を制御する、請求項７または８に記載の基板保持装置。
【請求項１０】
前記制御部は、リリースノズルから所定位置に流体が噴射されるよう、前記第２エリアの圧力を制御する、請求項７乃至９のいずれかに記載の基板保持装置。
【請求項１１】
前記所定位置は、前記第２面と前記保持された基板との間である、請求項１０に記載の基板保持装置。
【請求項１２】
前記弾性膜には孔が形成されていない、請求項１乃至１１のいずれかに記載の基板保持装置。
【請求項１３】
前記第２エリアは前記第１エリアと隣接していない、請求項１乃至１２のいずれかに記載の基板保持装置。
【請求項１４】
前記弾性膜の外周に設けられたリテーナリングを備える、請求項１乃至１３のいずれかに記載の基板保持装置。
【請求項１５】
前記リテーナリングは、内側リングと、その外側に設けられた外側リングと、を有する、請求項１４に記載の基板保持装置。
【請求項１６】
請求項１乃至１５の何れかに記載の基板保持装置と、
前記基板保持装置に保持された基板を研磨するように構成された研磨テーブルと、を備える基板研磨装置。
【請求項１７】
基板保持装置におけるトップリング本体と弾性膜の第１面との間に形成された第２エリアを減圧しつつ、前記トップリング本体と前記弾性膜の第１面との間に形成された、前記第２エリアとは異なる第１エリアを加圧するとともに前記第１エリアに連通する第２ラインを介して流体を流通し、
前記第１エリアの流量に応じた測定値に基づいて、前記弾性膜の、前記第１面とは反対側にある第２面に基板が吸着されたか否かを判定する、基板保持装置における基板吸着判定方法。
【請求項１８】
基板保持装置におけるトップリング本体と弾性膜の第１面との間に形成された第１エリアを加圧するとともに前記第１エリアに連通する第２ラインを介して流体を流通し、
前記第１エリアの流量に応じた測定値に基づいて、前記トップリング本体と前記弾性膜の第１面との間に形成された、前記第１エリアとは異なる第２エリアの圧力を制御する、基板保持装置における圧力制御方法。
【請求項１９】
第１部分の外側および内側にそれぞれ第１孔および第２孔が設けられたトップリング本体とともに用いられて基板保持装置を構成する弾性膜であって、
前記第１部分と係合可能な第２部分が設けられ、前記トップリング本体との間に複数のエリアを形成する第１面と、前記第１面とは反対側にあって基板を保持可能な第２面と、を備える弾性膜。
【請求項２０】
前記第１部分は凹部であり、前記第２部分は凸部であるか、
前記第１部分は凸部であり、前記第２部分は凹部である、請求項１９に記載の弾性膜。
【請求項２１】
第１部分の外側および内側にそれぞれ第１孔および第２孔が設けられたトップリング本体と、
前記第１部分と係合可能な第２部分が設けられ、前記トップリング本体との間に複数のエリアを形成する第１面と、前記第１面とは反対側にあって基板を保持可能な第２面と、を有する弾性膜と、
前記第１孔は前記複数のエリアのうちの第１エリアに位置しており、前記第１孔を介して前記第１エリアを加圧することが可能な第１ラインと、
前記第２孔は前記第１エリアに位置しており、前記第２孔を介して前記第１エリアから排気することが可能な第２ラインと、
前記第１エリアの流量に基づいて測定値が変化する測定器と、
前記複数のエリアのうちの前記第１エリアとは異なる第２エリアに連通し、前記第２エリアを加圧または減圧することが可能な第３ラインと、を備える基板保持装置。
【請求項２２】
前記トップリング本体の前記第１エリアに対応する部分には、放射状に広がる溝が設けられる、請求項２１に記載の基板保持装置。
【請求項２３】
前記第１ラインと前記第２ラインとをバイパスするバイパスラインと、
前記バイパスライン上に設けられたバルブと、を備える、請求項２１または２２に記載の基板保持装置。
【請求項２４】
前記第１面に、前記トップリング本体に向かう凸部が設けられている、請求項１乃至１５のいずれかに記載の基板保持装置。
【請求項２５】
前記トップリング本体に、前記第１面に向かう凸部が設けられている、請求項１乃至１５のいずれかに記載の基板保持装置。
【請求項２６】
前記凸部は環状に形成されており、前記トップリング本体の前記第１ラインと連通する穴より外側に対応する位置にあり、前記トップリング本体の前記第２ラインと連通する穴より内側に対応する位置にある、請求項２４に記載の基板保持装置。
【請求項２７】
前記凸部は環状に形成されており、前記トップリング本体の前記第１ラインと連通する穴より外側にあり、前記トップリング本体の前記第２ラインと連通する穴より内側にある、請求項２５の基板保持装置。
【請求項２８】
前記弾性膜の第１面に設けられた凸部が前記トップリング本体と密着して、前記第１エリアをシールする、請求項１７に記載の基板吸着判定方法。
【請求項２９】
前記弾性膜の第１面が前記トップリング本体に設けた凸部と密着して、前記第１エリアをシールする、請求項１７に記載の基板吸着判定方法。