【事件の表示】
　特願２０００−　　６２６３「光ディスク用基板の製造方法、光ディスクの作製装置及び光ディスク用基板」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　７月１９日出願公開、特開２００１−１９５７８０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１２年１月１２日の出願であって、平成１２年１０月４日付け及び平成１２年１２月４日付けで手続補正がなされた後、平成１４年４月１２日付け拒絶理由通知に応答して平成１４年５月１５日付けで手続補正がなされが、平成１５年９月１９日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年１０月２日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同日付で手続補正がなされたものである。
　
２．平成１５年１０月２日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　　平成１５年１０月２日付の手続補正を却下する。
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲は下記の請求項１〜１４と補正された。
　「【請求項１】表面に凹凸のある、主鎖に酸素原子をもつプラスチック材料を有する光ディスク用基板に、酸素を含むガスを流し、前記光ディスク用基板と紫外線光源との間に発生するオゾンの濃度が０．１ｐｐｍ以下となるような紫外線を照射して、前記プラスチック材料の表面改質を行うことを特徴とする光ディスク用基板の製造方法。
　【請求項２】前記紫外線の波長は、２５４ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の光ディスク用基板の製造方法。
　【請求項３】前記プラスチック材料は、ポリカーボネイトであることを特徴とする請求項１記載の光ディスク用基板の製造方法。
　【請求項４】光ディスク用基板の表面処理を行う光ディスク用基板の作製装置において、酸素を含むガスを流したときに、前記光ディスク用基板との間に発生するオゾンの濃度が０．１ｐｐｍ以下となるような紫外線光源と、前記光ディスク用基板と前記紫外線光源との距離を相対的に変化させる手段とを有することを特徴とする光ディスク用基板の作製装置。
　【請求項５】前記紫外線の波長は、２５４ｎｍであることを特徴とする請求項４記載の光ディスク用基板の作製装置。
　【請求項６】光ディスク用基板の表面処理を行う光ディスク用基板の作製装置において、酸素を含むガスを流したときに、前記光ディスク用基板との間に発生するオゾンの濃度が０．１ｐｐｍ以下となるような紫外線光源と、前記光ディスク用基板と前記紫外線光源とを相対的に運動させる手段とを有することを特徴とする光ディスク用基板の作製装置。
　【請求項７】前記紫外線の波長は、２５４ｎｍであることを特徴とする請求項６記載の光ディスク用基板の作製装置。
　【請求項８】光ディスク用基板の表面処理を行う光ディスク用基板の作製装置において、酸素を含むガスを流したときに、前記光ディスク用基板との間に発生するオゾンの濃度が０．１ｐｐｍ以下となるような紫外線光源と、前記光ディスク用基板への前記紫外線光源からの紫外線照射時間を制御する手段とを有することを特徴とする光ディスク用基板の作製装置。
　【請求項９】前記紫外線の波長は、２５４ｎｍであることを特徴とする請求項６記載の光ディスク用基板の作製装置。
　【請求項１０】プラスチック材料からなり、波長３００ｎｍ以上３７５ｎｍ以下の範囲のうちのいずれかの波長で、透過率が５０％以下であることを特徴とする光ディスク用基板。
　【請求項１１】前記光ディスク用基板の表面の凹凸の平均面粗さ（Ｒａ）は、０．８ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１０に記載の光ディスク用基板。
　【請求項１２】前記光ディスク用基板の表面から０．５μｍ迄の範囲の硬度が、表面及び裏面から１００μｍを除く残りの範囲より５０％以上８０％以下高いことを特徴とする請求項１０に記載の光ディスク用基板。
　【請求項１３】前記０．５μｍ迄の範囲の硬度は、１４０Ｎ／ｍｍ2以上であることを特徴とする請求項１２に記載の光ディスク用基板。
　【請求項１４】プラスチック材料から成る光ディスク用基板の表面から２０μｍまでの範囲の平均分子量のポリスチレン換算量が、前記光ディスク用基板の両側の表面から１００μｍを除く残りの重量平均分子量より、４％以上２２％以下小さいことを特徴とする光ディスク用基板。」
　
（２）補正の適否
　本件補正は、特許法第１７条の２第１項第３号において準用する同法第１２１条第１項の審判を請求する場合において、その審判の請求の日から３０日以内にするときになされたものであるところ、同法第１７条の２第４項において、同条第１項第３号に掲げる場合において特許請求の範囲についてする補正は、同項第１号乃至第４号に掲げる事項（請求項の削除、特許請求の範囲の減縮、誤記の訂正、明りようでない記載の釈明）を目的とするものに限るとされているので、その規定を満たすか否かを検討する。
　
　本件補正前の特許請求の範囲の記載は、平成１４年５月１５日付け手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりである（なお、該補正は、特許請求の範囲の変更による補正であって、請求項１の補正ではない点に留意されたい。）。
　　「【請求項１】表面に凹凸のある、主鎖に酸素原子をもつプラスチック材料を有する光ディスク用基板に、酸素を含むガスを流し、前記光ディスク用基板と光源の間でのオゾン濃度が０．１ｐｐｍとなるように紫外線を照射して、前記プラスチック材料の表面改質を行うことを特徴とする光ディスク用基板の製造方法。」
　
　してみると、本件補正は、少なくとも、１の請求項を１４の請求項（方法の発明のみならず作製装置の発明や基板の発明をも含む）に増加させるものであって、これら補正は、特許法第１７条の２第４項で規定する請求項の削除、特許請求の範囲の減縮、誤記の訂正又は明りょうでない記載の釈明を目的とするものと言えないことが明らかである。
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第４項に違反するので、同法第１５９条第１項の規定で準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１５年１０月２日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は、平成１４年５月１５日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。　
　「【請求項１】表面に凹凸のある、主鎖に酸素原子をもつプラスチック材料を有する光ディスク用基板に、酸素を含むガスを流し、前記光ディスク用基板と光源の間でのオゾン濃度が０．１ｐｐｍとなるように紫外線を照射して、前記プラスチック材料の表面改質を行うことを特徴とする光ディスク用基板の製造方法。」
　
（１）原査定の理由
　　原査定の理由は、
　「この出願については、平成１４年４月１２日付け拒絶理由通知書に記載した理由によって、拒絶すべきものである。　・・・中略・・・
備考
　特許出願人は、補正の根拠について「明細書の【００５０】欄の「紫外線照射６００秒後の原盤又は基板と光源の間でのオゾン濃度を測定したところ０．１ｐｐｍ以下であった。」という記載に基づいている。」と主張しているが、該記載をそのまま解釈すればオゾン濃度は０．１ｐｐｍ以下であったというだけで、０．０１ｐｐｍであったかもしれないし、０．００１ｐｐｍだったのかもしれない。要するにオゾン濃度は不明であり、該記載は「前記光ディスク用基板と光源の間でのオゾン濃度が０．１ｐｐｍとなるように紫外線を照射して、」という事項の根拠にはなりえない。
　よって、依然として拒絶理由は解消していない。」
とされている。
　そして、当該拒絶理由通知書に記載された理由は、
　「平成１２年１２月４日付けでした手続補正は、下記の点で願書に最初に添付した明細書または図面に記載した事項の範囲内においてしたものではないから、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない。
　記（・・中略・・）
　請求項１に「前記光ディスク用基板に発生するオゾン濃度が０．１ｐｐｍ以下となるような紫外線を照射して、」と記載されているが、出願時の明細書に補正の根拠を見いだせない。オゾン濃度について実施例においても測定すらされていない。」
とされている。
　
（２）判断
　そこで、それに応答して補正された本願発明が、願書に最初に添付した明細書または図面（以下、「当初明細書等」ともいう。）に記載された発明かどうか検討する。
　本願の当初明細書等には、オゾン濃度に関して、実施例におけるなお書きとして、
　「【００５０】なお、紫外線照射６００秒後の原盤または基板と光源の間でのオゾン濃度を測定したところ０．１ｐｐｍ以下であった。」（段落【００５０】参照）との記載があるものの他にオゾン濃度の数値を記載した箇所はないが、
　「【０００８】射出成形で作製された光ディスク用基板はプラスチック材料から成っているため、エネルギーの高い短波長の紫外線を照射することにより、基板表面からわずか数μｍ程度の深さ範囲では化学結合が切断されるため、波長２８０ｎｍから４００ｎｍの紫外線域での基板の光吸収率が増加し、基板表面は削られ平滑になる。この時、照射する紫外線光源の主波長が、
オゾンを生じさせない２５４ｎｍのもの
紫外線で光源の近くにオゾンが発生
　しかしながら、段落【００５０】における「オゾン濃度を測定したところ０．１ｐｐｍ以下であった」との記載は、０．１ｐｐｍ以下であったというだけで、
０．１ｐｐｍのオゾン濃度が測定されたことを意味するわけではなく
　そうであるから、本願発明の「オゾン濃度が０．１ｐｐｍとなるように紫外線を照射して」との構成は、自明な事項ということができず、願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたものではない。
　
　なお、当初明細書等の記載では、紫外線光源の近くに「オゾンを生じさせない２５４ｎｍ」の紫外線波長を用いることは言及（段落【０００８】参照）されているものの、オゾン濃度の数値としては、「紫外線照射６００秒後の原盤または基板と光源の間でのオゾン濃度を測定したところ０．１ｐｐｍ以下であった」（段落【００５０】参照）ことがたまたま記載されているだけであるから、それだけでは、任意の条件（酸素濃度、照射時間など）下において「光ディスク用基板上に発生するオゾン濃度が０．１ｐｐｍ以下となるような紫外線」（原査定の拒絶の理由に引用された拒絶理由の指摘箇所）との概念は、当初明細書等において何ら開示されていたものといえない。
　
（３）むすび
　したがって、本願は、明細書についてした手続補正が特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていないから、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。