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　平成　８年特許願第１０６１４７号「凸欠陥修正方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年１０月１４日出願公開、特開平　９−２６９５９２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成８年４月１日の出願であって、平成１５年５月２９日付けで拒絶査定がなされ、平成１５年７月８日付けで審判請求がなされるとともに、平成１５年８月１日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１５年８月１日付けの手続補正についての補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　　平成１５年８月１日付けの手続補正を却下する。
［理由］
（１）補正後の本願発明
　平成１５年８月１日付けの手続補正により、特許請求の範囲の請求項１は、
「レーザ光の照射領域をサイズ可変の円形アパーチャにて円形状に整形して決め、レーザ光を欠陥部に照射して欠陥部を除去する方式のレーザ修正装置を用いて、フオトマスクの遮光膜の凸欠陥部、位相シフトマスクの遮光膜の凸欠陥部もしくはシフタ膜の凸欠陥部をレーザ光を照射して除去する凸欠陥修正方法であって、凸欠陥のサイズが１．０μｍ□以下の微細な凸欠陥部であり、円形状のレーザ光照射領域内の外側部に近い程、回折光の影響は少なく、外側部から離れるにしたがい回折光の影響は大きくなり、照射領域の外側部はどこでも同じ光強度を示す、という性質を利用し、円形状に整形された照射領域の外側部を正規のパターン側に向けて、正規のパターンとほぼ点接触させた状態にして、正規のパターンから一体となり突出している凸欠陥部ないし正規のパターンに近接している凸欠陥部の、少なくとも一部にレーザ光の照射領域を合わせて、レーザ光の照射を行い、該凸欠陥部の除去を行うもので、且つ、レーザ光の照射領域の外側部において残渣が残らない光強度となるように、円形状の照射領域のサイズを、所定のサイズ以上としてあることを特徴する凸欠陥修正方法。」
と補正された。
　上記補正は、補正前の請求項１の「レーザ光の照射領域をアパーチャにて整形して決め、レーザ光を欠陥部に照射して欠陥部を除去する方式のレーザ修正装置を用いて、フオトマスクの遮光膜の凸欠陥部、位相シフトマスクの遮光膜の凸欠陥部もしくはシフタ膜の凸欠陥部をレーザ光を照射して除去する凸欠陥修正方法であって、レーザ光の照射領域を円形状に整形し、円形状に整形された照射領域の外側部を正規のパターン側に向けて、正規のパターンとほぼ点接触させた状態にして、正規のパターンから一体となり突出している凸欠陥部ないし正規のパターンに近接している凸欠陥部の、少なくとも一部にレーザ光の照射領域を合わせて、レーザ光の照射を行い、該凸欠陥部の除去を行うもので、且つ、レーザ光の照射領域の外側部において残渣が残らない光強度となるように、円形状の照射領域のサイズを、所定のサイズ以上としてあることを特徴する凸欠陥修正方法。」に対し、請求項２の「請求項１において、凸欠陥のサイズが１．０μｍ□以下の微細な凸欠陥部であることを特徴とする凸欠陥修正方法。」にもとづいて「欠陥部のサイズが１．０μｍ□以下の微細な凸欠陥部である」との限定（以下、「限定ａ」という。）を行うとともに、「アパーチャ」を「サイズ可変の円形アパーチャ」と限定（以下、「限定ｂ」という。）し、さらに、「円形状に整形」されたレーザ光に対し、「照射領域内の外側部に近い程、回折光の影響は少なく、外側部から離れるにしたがい回折光の影響は大きくなり、照射領域の外側部はどこでも同じ光強度を示す、という性質を利用し」との限定（以下、「限定ｃ」という。）を行っている。
　ここで、限定ａは、補正前の請求項２記載の内容による限定であるし、限定ｂは出願時の請求項３の記載に基づく限定であり、限定ｃは、出願当初の明細書中の段落【０００９】の記載に基づく限定であり、共に特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的としたものに該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するか）について検討する。
　
（２）刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用されている特開平７−０６４２７５号公報（以下、「刊行物１」という。）には、
「【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のフオトマスクの凸欠陥修正方法は、従来から使用されている、ＹＡＧ（Ｎｂ）等のレーザ光の照射領域を矩形アパーチャにてきめる方式の残留欠陥修正用のレーザ修正装置により、クロムやモリブデンシリサイド等のレーザを吸収する膜を主成分とする、フオトマスクの遮光膜や位相シフトフオトマスクの遮光膜もしくはシフタの凸欠陥部を、レーザ光を照射して除去する凸欠陥修正方法であり、レーザ光の照射領域の角部を、正規のパターン側に向けて、正規のパターンから突出している凸欠陥部のすくなくとも一部にレーザ光照射領域を目合わせし、且つ、矩形アパーチャのサイズを、該レーザ光照射領域にて残渣が残らないように設定し、レーザ照射を行い、凸欠陥部の除去をおこなうものである。本発明のフオトマスクの凸欠陥修正方法は、１．０μｍ□以下の微小な凸欠陥を修正する場合にとくに有効な方法で、微小凸欠陥を修正する際にも、矩形アパーチャのサイズを、照射領域にて残渣が残らない程度に設定しており、レーザ光の回折を利用したもので、アパーチャ像観察にてきめたレーザ光照射領域の外側にも光が回り、欠陥部を除去するものであり、矩形アパーチャのサイズを大きくしたり小さくしたりすることにより、又、レーザ光の単位照射領域へのエネルギー密度を大としたり小とすることにより、光の回りこみ量を調整できる。アパーチャ像観察にてきめたレーザ光照射領域の角部に近い程、回折光の影響は少なく、角部から離れるにしたがい回折光の影響は大きくなり、レーザ照射によって除去される領域も角部から離れるにしたがい、アパーチャ像観察にてきめたレーザ光照射領域よりも大きくなっているが、この度合を矩形アパーチャのサイズやレーザ光の単位照射領域へのエネルギー密度で調整している。欠陥のサイズが大の場合には、上記のようにして、アパーチャによる照射領域を欠陥に合わせ、除去しながら、順次正規のパターンに沿い移動させ修正しても良い。このようにすることにより、レーザの照射位置の目あわせズレによるエグレ不良に対応でき、ズレてもエグレがきわめて小となる。尚、アパーチャの角部の角度を変えることによっても、凸欠陥除去可能領域を調整できる。」
「【０００８】
【実施例】本発明の実施例を以下、図１にそって説明する。図１は実施例の修正工程を示すものである。（ａ）はクロムの凸欠陥を有するフオトマスクの平面図であり、透明なシリカガラス基板１の上にクロムを主成分とする膜厚１００ｎｍの遮光層パターン２をリソグラフイー技術により作成したもので、フオトマスク作成後に本来あるべきでない、約０．５μｍ×１．０μｍサイズの凸欠陥部３を残存させたものである。以下、この欠陥部３をＹＡＧレーザの第二高長波（５３０ｎｍ）を用いたレーザ修正装置にて、除去した工程を示す。先ず、（ｂ）のように、アパーチャ像にて設定したレーザの直接照射領域４を略３μｍ□領域とし、直接照射領域の角部を正規のパターン側に向けて、角先端が正規パターン部端に接するようにして、レーザ照射をし、欠陥を除去した。結果は（ｃ）のように、修正後の凸欠陥部箇所５は、凸欠陥部３は除去され、残渣もなく、正規のパターンへのエグレもなく、欠陥修正はされた。この修正パターンを用い、ステッパーにてデバイスパターンを転写作成してみたが、修正後の凸欠陥部箇所５については、特に問題はなく、実用に耐える欠陥修正方法であると判断された。」
との記載があり、【図１】（ｂ）には、レーザ照射領域の角先端が正規パターンにほぼ点接触するようにした図が示されている。
　これより、刊行物１には、
「レーザ光の照射領域をサイズ可変の矩形アパーチャにて矩形状に整形して決め、レーザ光を欠陥部に照射して欠陥部を除去する方式のレーザ修正装置を用いて、フオトマスクの遮光膜の凸欠陥部、位相シフトマスクの遮光膜の凸欠陥部もしくはシフタ膜の凸欠陥部をレーザ光を照射して除去する凸欠陥修正方法であって、凸欠陥のサイズが１．０μｍ□以下の微細な凸欠陥部であり、レーザ光照射領域の角部に近い程、回折光の影響は少なく、角部から離れるにしたがい回折光の影響は大きくなるという性質を利用し、レーザ光の照射領域の角部を、正規のパターン側に向けて、角先端が正規のパターン部端にほぼ点接触するようにして、正規のパターンから突出している凸欠陥部のすくなくとも一部にレーザ光照射領域を合わせて、レーザ光の照射を行い、凸欠陥部の除去を行うもので、且つ、該レーザ光照射領域にて残渣が残らないように、矩形アパーチャのサイズを設定し、レーザ照射を行ことを特徴する凸欠陥修正方法。」
なる発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　また、同じく原査定の拒絶の理由に引用された特開平６−２５０１１０号公報（以下、「刊行物２」という。）には、
「フォトマスクの欠陥には、不必要な遮光部が残っている欠陥（黒欠陥）と、必要な遮光部が欠けている欠陥（白欠陥）の二種類がある。黒欠陥の修正はレーザー光を欠陥部に照射することで、不必要な金属薄膜を蒸発除去することで行われる。」（段落【０００５】中）
「欠陥の発生位置、大きさ、形状は一定ではなく、周辺の正常なパターンに影響を及ぼしてはならないため、レーザー光を任意の大きさ、形状に整形しなければならない。」（段落【０００５】中）
「よってスリット１０の開口部の大きさ、形状を変化させることで試料上のビームの大きさ形状を制御することができる。」（段落【０００６】中）
なる記載とともに、【図５】には開口部を円形状とした遮光部が示されている。
　
（３）対比
　本願補正発明と引用発明とを比較すると、引用発明における「角先端」は本願補正発明における「外側部」に相当するので、両者は、
「レーザ光の照射領域をサイズ可変のアパーチャにて整形して決め、レーザ光を欠陥部に照射して欠陥部を除去する方式のレーザ修正装置を用いて、フオトマスクの遮光膜の凸欠陥部、位相シフトマスクの遮光膜の凸欠陥部もしくはシフタ膜の凸欠陥部をレーザ光を照射して除去する凸欠陥修正方法であって、凸欠陥のサイズが１．０μｍ□以下の微細な凸欠陥部であり、レーザ光の照射領域の外側部を正規のパターン側に向けて、正規のパターンとほぼ点接触させた状態にして、正規のパターンから突出している凸欠陥部のすくなくとも一部にレーザ光照射領域を合わせし、且つ、該レーザ光照射領域にて残渣が残らない光強度となるようにアパーチャのサイズを設定し、レーザ照射を行い、凸欠陥部の除去をおこなうことを特徴する凸欠陥修正方法。」
で一致し、以下の点で相違する。
［相違点１］
　本願補正発明では「円形アパーチャ」によりレーザ光を「円形状に整形」するのに対し、引用発明では「矩形アパーチャ」によりレーザ光を「矩形状に整形」する点。
［相違点２］
　本願補正発明では「円形状のレーザ光照射領域内の外側部に近い程、回折光の影響は少なく、外側部から離れるにしたがい回折光の影響は大きくなり、照射領域の外側部はどこでも同じ光強度を示す、という性質を利用」するものであるのに対して、引用発明ではそのような限定がない点。
　
（４）当審の判断
　［相違点１］について検討する。
　刊行物２は、引用発明および本件補正発明と同じ技術分野に属する発明が記載され、フォトマスクの欠陥をレーザー光によって除去する方法において、レーザ光を整形するスリットの開口部を円形状とする発明が開示されている。
　とすれば、引用発明における矩形アパーチャにより整形したレーザ光に代えて、刊行物２記載の円形アパーチャにより円形状に整形したレーザ光を使用することは、当業者が容易に想到し得たものであり、［相違点１］は格別のものではない。
　［相違点２］は円形状のレーザ光照射領域についての一般的な事項であり、円形状のレーザ光照射領域を有するものは、［相違点２］として示されたような性質があることから、引用発明における矩形アパーチャに代えて、刊行物２により開示された円形状に整形されたレーザ光を用いた場合には、相違点２の構成は自ずと実現されるものであり、格別のものではない。
　結局、上記各相違点は格別のものではなく、それらによる本願補正発明の作用効果も刊行物１及び刊行物２記載と周知技術に基づき当業者が予測できる範囲のものである。
　したがって、本願補正発明は、刊行物１及び刊行物２に記載された発明に基づき当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができるものとは認められない。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１５年８月１日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成１５年５月９日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲第１項に記載された次のとおりのものと認める。（以下、「本願発明」という。）
「レーザ光の照射領域をアパーチャにて整形して決め、レーザ光を欠陥部に照射して欠陥部を除去する方式のレーザ修正装置を用いて、フオトマスクの遮光膜の凸欠陥部、位相シフトマスクの遮光膜の凸欠陥部もしくはシフタ膜の凸欠陥部をレーザ光を照射して除去する凸欠陥修正方法であって、レーザ光の照射領域を円形状に整形し、円形状に整形された照射領域の外側部を正規のパターン側に向けて、正規のパターンとほぼ点接触させた状態にして、正規のパターンから一体となり突出している凸欠陥部ないし正規のパターンに近接している凸欠陥部の、少なくとも一部にレーザ光の照射領域を合わせて、レーザ光の照射を行い、該凸欠陥部の除去を行うもので、且つ、レーザ光の照射領域の外側部において残渣が残らない光強度となるように、円形状の照射領域のサイズを、所定のサイズ以上としてあることを特徴する凸欠陥修正方法。」
　
４．引用刊行物の発明および対比
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１に記載され、先に示した引用発明は、
「レーザ光の照射領域をサイズ可変の矩形アパーチャにて矩形状に整形して決め、レーザ光を欠陥部に照射して欠陥部を除去する方式のレーザ修正装置を用いて、フオトマスクの遮光膜の凸欠陥部、位相シフトマスクの遮光膜の凸欠陥部もしくはシフタ膜の凸欠陥部をレーザ光を照射して除去する凸欠陥修正方法であって、凸欠陥のサイズが１．０μｍ□以下の微細な凸欠陥部であり、レーザ光照射領域の角部に近い程、回折光の影響は少なく、角部から離れるにしたがい回折光の影響は大きくなるという性質を利用し、レーザ光の照射領域の角部を、正規のパターン側に向けて、角先端が正規のパターン部端にほぼ点接触するようにして、正規のパターンから突出している凸欠陥部のすくなくとも一部にレーザ光照射領域を合わせて、レーザ光の照射を行い、凸欠陥部の除去を行うもので、且つ、該レーザ光照射領域にて残渣が残らないように、矩形アパーチャのサイズを設定し、レーザ照射を行ことを特徴する凸欠陥修正方法。」
であり、本願発明との相違点は、照射領域が、本願発明では円形状に整形されているのに対し、引用発明では矩形状に整形されている点（第１相違点）および、引用発明では凸欠陥のサイズについての限定があるが、本願発明にはそのような限定が無い点（第２相違点）である。
　
５．当審の判断
　上記相違点について検討するに、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物２には、円形状の開口部を有するスリットによりレーザ光を整形し、円形状照射領域を正規のパターンにほぼ点接触させるようにすることが記載されているので、引用発明の矩形状の照射領域に代えて円形状照射領域とすることは、当業者が容易に想到し得たものであり、第１相違点は格別のものではない。
　また、本願発明で凸欠陥のサイズについての限定が無いということは、引用発明における凸欠陥のサイズも含むものであるため、第２相違点は実質的な相違点ではない。
　そして、本願発明の作用効果も刊行物１、刊行物２の記載および周知技術から当業者が予測できる範囲のものである。
　
６．むすび
　したがって、本願発明は、刊行物１及び刊行物２に記載された発明に基づき当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。