Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月6日(2018.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
夫々が複数の反射面を備える第１及び第２の結像光学系と、
前記第１及び第２の結像光学系の夫々における少なくとも一つの反射面を保持する共通の鏡筒部材を有することを特徴とするステレオ光学系。
【請求項２】
前記鏡筒部材は樹脂材料またはガラス材料で構成されていることを特徴とする請求項１に記載のステレオ光学系。
【請求項３】
前記鏡筒部材は金属材料で構成されていることを特徴とする請求項１に記載のステレオ光学系。
【請求項４】
前記第１及び第２の結像光学系の夫々における物体側から数えたときの面番号が奇数または偶数となる反射面のうち、一方の反射面を保持する第１の鏡筒部材と、他方の反射面を保持する第２の鏡筒部材を有することを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載のステレオ光学系。
【請求項５】
前記鏡筒部材は、前記第１及び第２の結像光学系の夫々における複数の反射面を保持することを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載のステレオ光学系。
【請求項６】
前記第１及び第２の結像光学系の夫々は、複数の反射面から成ることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載のステレオ光学系。
【請求項７】
前記第１及び第２の結像光学系の夫々は、正レンズを有することを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載のステレオ光学系。
【請求項８】
前記第１及び第２の結像光学系の夫々は、負レンズと正レンズが接合されて成る正の屈折力の接合レンズを有することを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載のステレオ光学系。
【請求項９】
前記第１及び第２の結像光学系の夫々は、物体の中間像を形成することを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項に記載のステレオ光学系。
【請求項１０】
前記鏡筒部材には前記第１及び第２の結像光学系の夫々に入射する光を通過させる第１及び第２の開口が設けられており、該第１及び第２の開口は楕円形であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載のステレオ光学系。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか一項に記載のステレオ光学系と、前記第１及び第２の結像光学系の夫々からの光を受光する第１及び第２の撮像素子を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１２】
前記第１及び第２の撮像素子の夫々は、前記鏡筒部材により保持されていることを特徴とする請求項１１に記載の撮像装置。
【請求項１３】
前記第１及び第２の撮像素子の夫々は、可視領域及び近赤外領域の光を用いた撮像が可能であることを特徴とする請求項１１または１２に記載の撮像装置。
【請求項１４】
前記鏡筒部材には前記第１及び第２の結像光学系の夫々に入射する光を通過させる第１及び第２の開口が設けられており、該第１及び第２の開口の中心間の距離をＤ、前記第１及び第２の撮像素子の夫々の撮像面の中心間の距離をｄとするとき、
ｄ≦Ｄ
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１１乃至１３の何れか一項に記載の撮像装置。
【請求項１５】
前記鏡筒部材には前記第１及び第２の結像光学系の夫々に入射する光を通過させる第１及び第２の開口が設けられており、該第１及び第２の開口の中心間の距離をＤ、前記第１の開口の中心から前記第１の撮像素子の撮像面の中心までの基準軸上での長さをＯｄとするとき、
Ｄ＜Ｏｄ×２
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１１乃至１４の何れか一項に記載の撮像装置。
【請求項１６】
前記鏡筒部材には前記第１及び第２の結像光学系の夫々に入射する光を通過させる第１及び第２の開口が設けられており、該第１及び第２の開口の中心間の距離をＤ、前記第１の開口の中心から前記第１の撮像素子の撮像面の中心までの基準軸上での長さをＯｄとするとき、
０．１０＜Ｄ／（Ｏｄ×２）＜１．５０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１１乃至１４の何れか一項に記載の撮像装置。
【請求項１７】
前記鏡筒部材には前記第１の結像光学系に入射する光を通過させる第１の開口が設けられており、該第１の開口の中心から前記第１の撮像素子の撮像面の中心までの基準軸を含む断面における半画角をωＨ、前記断面に垂直な断面における半画角をωＶとするとき、
ωＶ＜ωＨ
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１１乃至１６の何れか一項に記載の撮像装置。
【請求項１８】
前記鏡筒部材には前記第１及び第２の結像光学系の夫々に入射する光を通過させる第１及び第２の開口が設けられており、該第１及び第２の開口の中心間の距離をＤ、前記第１及び第２の撮像素子の夫々の撮像面の対角長をＳｄとするとき、
３．０＜Ｄ／Ｓｄ＜５０．０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１１乃至１７の何れか一項に記載の撮像装置。
【請求項１９】
前記鏡筒部材には前記第１及び第２の結像光学系の夫々に入射する光を通過させる第１及び第２の開口が設けられており、前記第１の開口部、前記第１の結像光学系における複数の反射面、及び前記第１の撮像素子の撮像面の何れかと、前記第２の開口部、前記第２の結像光学系における複数の反射面、及び前記第２の撮像素子の撮像面の何れかとの間隔のうち最小の間隔をαｄ、前記第１及び第２の撮像素子の夫々の撮像面の対角長をＳｄとするとき、
０．１＜αｄ／Ｓｄ＜３．０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１１乃至１８の何れか一項に記載の撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ステレオ光学系および撮像装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、監視カメラや車載カメラにおいて被写体までの距離を測定する、もしくは３次元形状取得カメラで形状を取得するために適して用いられる広角な結像光学系を有したステレオ光学系および撮像装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の目的は、製造容易で小型なステレオ光学系および撮像装置を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明に係るステレオ光学系は、夫々が複数の反射面を備える第１及び第２の結像光学系と、前記第１及び第２の結像光学系の夫々における少なくとも一つの反射面を保持する共通の鏡筒部材を有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明に係る撮像装置は、上記ステレオ光学系と、前記第１及び第２の結像光学系の夫々からの光を受光する第１及び第２の撮像素子を有することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明によれば、製造容易で小型でかつ結像性能が高いステレオ光学系および撮像装置を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月3日(2018.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
〈磁性キャリア及び磁性キャリア芯材の体積平均粒径（Ｄ５０）の測定方法〉
粒度分布などは、レーザー回折・散乱方式の粒度分布測定装置（商品名：マイクロトラックＭＴ３３００ＥＸ、日機装（株）製）を用いて測定を行った。
磁性キャリア、磁性キャリア芯材の体積平均粒径（Ｄ５０）の測定には、乾式測定用の試料供給機（商品名：ワンショットドライ型サンプルコンディショナー  Ｔｕｒｂｏｔｒａｃ、日機装（株）製）を装着して行った。Ｔｕｒｂｏｔｒａｃの供給条件として、真空源として集塵機を用い、風量３３ｌ／秒、圧力１７ｋＰａとした。制御は、ソフトウェア上で自動的に行った。粒径は、体積平均の累積値である５０％粒径（Ｄ５０）を求めた。制御及び解析は、付属ソフト（バージョン１０．３．３−２０２Ｄ）を用いて行った。測定条件は、以下のとおりである。
Ｓｅｔ  Ｚｅｒｏ時間：１０秒
測定時間：１０秒
測定回数：１回
粒子屈折率：１．８１
粒子形状：非球形
測定上限：１４０８μｍ
測定下限：０．２４３μｍ
測定環境：温度２３℃／湿度５０％ＲＨ 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
＜電界強度２０００Ｖ／ｃｍにおける比抵抗（Ω・ｃｍ）の測定＞
電界強度２０００Ｖ／ｃｍにおける比抵抗は、図５に概略される測定装置を用いて測定する。
抵抗測定セルＡは、断面積２．４ｃｍ2の穴の開いた円筒状容器（ＰＴＦＥ樹脂製）１７、下部電極（ステンレス製）１８、支持台座（ＰＴＦＥ樹脂製）１９、上部電極（ステンレス製）２０から構成される。支持台座１９上に円筒状容器１７を載せ、試料（磁性キャリア又はキャリアコア）２１を厚さ約１ｍｍになるように充填し、充填された試料２１に上部電極２０を載せ、試料の厚みを測定する。図５（ａ）に示す如く、試料のないとき
の間隙をｄ１とし、図５（ｂ）に示す如く、厚さ約１ｍｍになるように試料を充填したときの間隙ｄ２とすると、試料の厚みｄは下記式で算出される。
ｄ＝ｄ２−ｄ１（ｍｍ）
この時、試料の厚みｄが０．９５ｍｍ以上１．０４ｍｍ以下となるように試料の質量を適宜変える。
電極間に直流電圧を印加し、そのときに流れる電流を測定することによって試料の比抵抗を求めることができる。測定には、エレクトロメーター２２（ケスレー６５１７Ａ  ケスレー社製）及び制御用に処理コンピュータ２３を用いる。
制御用の処理コンピュータにナショナルインスツルメンツ社製の制御系と制御ソフトウエア（ＬａｂＶＩＥＷ  ナショナルインスツルメンツ社製）を用いた。
測定条件として、試料と電極との接触面積Ｓ＝２．４ｃｍ2、試料の厚み０．９５ｍｍ以上１．０４ｍｍ以下になるように実測した値ｄを入力する。また、上部電極の荷重２７０ｇとする。
比抵抗（Ω・ｃｍ）＝（印加電圧（Ｖ）／測定電流（Ａ））×Ｓ（ｃｍ2）／ｄ（ｃｍ）
電界強度（Ｖ／ｃｍ）＝印加電圧（Ｖ）／ｄ（ｃｍ）
磁性キャリア及びキャリアコアの上記電界強度における比抵抗は、グラフ上の上記電界強度における比抵抗をグラフから読み取る。また、ブレイクダウンポイントについては、得られたグラフにおいて、ブレイクダウンする直前の測定値を採用する。 
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
〈実施例２０〉
実施例２０では、被覆量が少ない例であり、Ｎ／Ｌでの帯電上昇で、環境安定性や放置前後の画像濃度差に影響が出ている。評価結果を表６、７に示す。
〈実施例２１〉
実施例２１では、被覆量が多い例であり、アミノ基含有のプライマー化合物の効果が得られにくくなり、放置前後の画像濃度差に影響が出易くなる。評価結果を表６、７に示す。
〈実施例２２〉
実施例２２では、芯材の樹脂成分にメラミン樹脂を使用した例である。プライマー化合物との反応性が低く、濃度変動や画像の飛び散り性に影響が出易くなる。評価結果を表６、７に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月10日(2018.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
励起光を光合成サンプルに照射することで該光合成サンプルから発生する遅延発光の経時変化を示す測定データを受け付ける受付部と、
前記光合成サンプルを評価するために用いられる、裾の重い分布を示すモデル関数を決定する決定部と
を備え、
前記決定部が、
前記受付部により受け付けられた測定データを、前記遅延発光が最初に測定された時点を含む第１の時間帯における第１のデータと、該第１の時間帯よりも後ろの第２の時間帯における第２のデータとに分割し、
前記第２のデータよりも前記第１のデータの方に重みを付けた関数フィッティングを実行することで、前記第１のデータにフィッティングする前記モデル関数を決定する、
光合成サンプルの評価システム。
【請求項２】
前記決定部が、単一の前記モデル関数を決定する、
請求項１に記載の評価システム。
【請求項３】
前記決定部が、前記遅延発光の発光量または経過時間に基づいて前記第１のデータを選択する、
請求項１または２に記載の光合成サンプルの評価システム。
【請求項４】
前記決定部が、前記遅延発光の発光量が初期値の１／ｅｎまで減衰する時間範囲を前記第１の時間帯として設定することで前記第１のデータを選択し、ここでｎ≧１である、
請求項３に記載の光合成サンプルの評価システム。
【請求項５】
前記決定部が、
前記遅延発光の発光量が初期値の１／ｅａまで減衰する初期時間範囲を前記第１の時間帯として設定した場合に、該第１の時間帯に対応する前記遅延発光の測定値の個数が所定数以下であれば、前記遅延発光の発光量が初期値の１／ｅｂまで減衰する拡張時間範囲において関数フィッティングを実行し、ここでａ＜ｂであり、
前記拡張時間範囲における関数フィッティングで得られた係数値を初期値とする関数フィッティングを前記初期時間範囲に対して実行することで、前記モデル関数を決定する、
請求項４に記載の光合成サンプルの評価システム。
【請求項６】
前記第２のデータよりも前記第１のデータの方に重みを付けた前記関数フィッティングが、前記第１のデータにおける寄与度を前記第２のデータにおける前記寄与度よりも大きくする関数フィッティングであり、ここで、前記寄与度が、モデル関数から得られるモデルデータと前記測定データとの差を該モデル関数の調整に寄与させる度合いである、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の光合成サンプルの評価システム。
【請求項７】
前記第２のデータよりも前記第１のデータの方に重みを付けた前記関数フィッティングが、前記第２のデータを用いることなく前記第１のデータのみを用いた関数フィッティングである、
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光合成サンプルの評価システム。
【請求項８】
前記決定部により決定されたモデル関数を用いて前記光合成サンプルを評価する評価部を更に備える請求項１〜７のいずれか一項に記載の光合成サンプルの評価システム。
【請求項９】
前記モデル関数が、測定された遅延発光の初期値と、遅延発光の発光量が１／ｅまで減衰するまでの時間を示す減衰速度と、裾の重さとを用いて表される関数であり、
前記評価部が、前記減衰速度および前記裾の重さの少なくとも一つを用いて前記光合成サンプルを評価する、
請求項８に記載の光合成サンプルの評価システム。
【請求項１０】
前記評価部が、前記決定部により決定されたモデル関数で示されるモデルデータと前記測定データとの差スペクトルを用いて前記光合成サンプルを評価する、
請求項８または９に記載の光合成サンプルの評価システム。
【請求項１１】
前記評価部が、前記差スペクトルのピーク高さ、ピーク位置、および差の積分値の少なくとも一つを用いて前記光合成サンプルを評価する、
請求項１０に記載の光合成サンプルの評価システム。
【請求項１２】
プロセッサを備える評価システムにより実行される光合成サンプルの評価方法であって、
励起光を光合成サンプルに照射することで該光合成サンプルから発生する遅延発光の経時変化を示す測定データを受け付ける受付ステップと、
前記光合成サンプルを評価するために用いられる、裾の重い分布を示すモデル関数を決定する決定ステップと
を含み、
前記決定ステップが、
前記受付ステップにおいて受け付けられた測定データを、前記遅延発光が最初に測定された時点を含む第１の時間帯における第１のデータと、該第１の時間帯よりも後ろの第２の時間帯における第２のデータとに分割するステップと、
前記第２のデータよりも前記第１のデータの方に重みを付けた関数フィッティングを実行することで、前記第１のデータにフィッティングする前記モデル関数を決定するステップと
を含む、
光合成サンプルの評価方法。
【請求項１３】
励起光を光合成サンプルに照射することで該光合成サンプルから発生する遅延発光の経時変化を示す測定データを受け付ける受付ステップと、
前記光合成サンプルを評価するために用いられる、裾の重い分布を示すモデル関数を決定する決定ステップと
をコンピュータに実行させ、
前記決定ステップが、
前記受付ステップにおいて受け付けられた測定データを、前記遅延発光が最初に測定された時点を含む第１の時間帯における第１のデータと、該第１の時間帯よりも後ろの第２の時間帯における第２のデータとに分割するステップと、
前記第２のデータよりも前記第１のデータの方に重みを付けた関数フィッティングを実行することで、前記第１のデータにフィッティングする前記モデル関数を決定するステップと
を含む、
光合成サンプルの評価プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月17日(2018.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二酸化珪素からなる中間層を介して、シリコンからなる支持層とシリコンからなるデバイス層とが積層された積層基板の前記デバイス層に、酸化膜を形成する酸化膜形成工程と、
前記酸化膜形成工程において形成された酸化膜の表側面に、時計の駆動機構を構成する時計部品の形状に基づく第１のパタンの第１のレジストパタンを形成する第１のパタン形成工程と、
前記酸化膜および前記デバイス層に対して、前記第１のパタン形成工程において形成された第１のレジストパタン部分を残して残余を除去するエッチング加工をおこなう第１のエッチング工程と、
前記支持層の裏側面に、当該支持層の厚さ方向において前記第１のパタンと一部が重複し当該第１のパタンを含む所定領域の内側に配置され、当該支持層の厚さ方向に貫通する複数の貫通孔または溝を含む第２のパタンの第２のレジストパタンを形成する第２のパタン形成工程と、
前記支持層に対して、前記第２のパタン形成工程において形成された第２のレジストパタン部分を残して残余を除去するエッチング加工をおこなう第２のエッチング工程と、
前記所定領域の内側における前記中間層および前記酸化膜を除去する除去工程と、
を含むことを特徴とする時計部品の製造方法。
【請求項２】
前記第２のレジストパタンは、前記所定領域の外側の部分を覆う外枠部と、前記複数の貫通孔または溝の位置を避けて前記所定領域の内側を覆うパタン部と、前記外枠部と前記パタン部との境界位置を開放する開放部と、からなることを特徴とする請求項１に記載の時計部品の製造方法。
【請求項３】
前記開放部は、前記外枠部と前記パタン部とを接続する接続部を含むことを特徴とする請求項２に記載の時計部品の製造方法。
【請求項４】
前記第１のレジストパタンは、前記所定領域の外側の部分を覆う部品外枠部と、前記時計部品の形状をなす部品形状部と、当該部品形状部と前記部品外枠部とを接続する部品接続部と、からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の時計部品の製造方法。
【請求項５】
前記部品接続部は、前記部品形状部との境界位置において細くなる形状であることを特徴とする請求項４に記載の時計部品の製造方法。
【請求項６】
前記接続部と前記部品接続部は、平面視で異なる位置に配置されていることを特徴とする請求項４または５に記載の時計部品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、この発明にかかる時計部品の製造方法は、上記の発明において、前記第１のレジストパタンが、前記所定領域の外側の部分を覆う部品外枠部と、前記時計部品の形状をなす部品形状部と、当該部品形状部と前記部品外枠部とを接続する部品接続部と、からなることを特徴とする。また、この発明にかかる時計部品の製造方法は、上記の発明において、前記部品接続部は、前記部品形状部との境界位置において細くなる形状であることを特徴とする。また、この発明にかかる時計部品の製造方法は、上記の発明において、前記接続部と前記部品接続部は、平面視で異なる位置に配置されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月17日(2018.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係る電子機器は、
使用者の人体に装着される形態を有する機器ケースと、
前記人体との接触を検知する少なくとも一つの接触検知センサと、
特定の機能を実行する機能を有する特定機能部と、
前記接触検知センサにより前記人体との接触が検知されない場合は、前記特定機能部の前記特定の機能を実行しないように制御する演算回路部と、
を有することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用者の人体に装着される形態を有する機器ケースと、
前記人体との接触を検知する少なくとも一つの接触検知センサと、
特定の機能を実行する機能を有する特定機能部と、
前記接触検知センサにより前記人体との接触が検知されない場合は、前記特定機能部の前記特定の機能を実行しないように制御する演算回路部と、
を有することを特徴とする電子機器。
【請求項２】
前記演算回路部は、前記接触検知センサにより前記人体との接触が検知された場合は、前記特定機能部の前記特定の機能を実行するように制御することを特徴とする請求項１に記載の電子機器。
【請求項３】
前記機器ケースの前記人体に接触しない側の面の一部に設けられ、前記使用者が操作する入力操作部を、さらに有し、
前記演算回路部は、前記接触検知センサにより前記人体との接触が検知された場合であって、且つ、前記入力操作部に対して操作が行われたと判定されたときに、前記特定機能部の前記特定の機能を実行するように制御することを特徴とする請求項１又は２に記載の電子機器。
【請求項４】
前記機器ケースの動きの状態を検出するモーションセンサを、さらに有し、
前記演算回路部は、前記接触検知センサにより前記人体との接触が検知された場合であって、且つ、前記モーションセンサにより前記機器ケースに動きが生じたと判定されたときに、前記特定機能部の前記特定の機能を実行するように制御することを特徴とする請求項１又は２に記載の電子機器。
【請求項５】
前記機器ケースの前記人体に接触しない側の面の一部に設けられ、前記使用者が操作する入力操作部を、さらに有し、
前記演算回路部は、前記接触検知センサにより前記人体との接触が検知され、前記入力操作部に対して操作が行われたと判定され、前記モーションセンサにより前記機器ケースに動きが生じたと判定されたときに、前記特定機能部の前記特定の機能を実行するように制御することを特徴とする請求項４に記載の電子機器。
【請求項６】
前記演算回路部は前記接触検知センサにより前記人体との接触が検知された場合に、前記接触検知センサの検知感度を、前記接触検知センサにより前記人体との接触が検知されたときの前記接触検知センサの検知感度より低く設定することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電子機器。
【請求項７】
前記接触検知センサを複数有し、
前記演算回路部は、
前記複数の前記接触検知センサの各々を順次スキャンし、
前記接触検知センサにより前記人体との接触が検知されない場合に、前記複数の接触検知センサをスキャンする動作の周期を、前記接触検知センサにより前記人体との接触が検知されたときに前記複数の接触検知センサをスキャンする動作の周期より長く設定することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の電子機器。
【請求項８】
前記特定機能部は、前記特定の機能として、前記使用者の活動量の計測、前記使用者の移動距離の計測、前記使用者の移動速度の計測、前記使用者の心拍数の計測、前記使用者の脈拍数の計測、前記使用者に対する情報の表示、及び、外部の機器との通信、の少なくとも何れかを実行することを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の電子機器。
【請求項９】
電子機器の制御方法であって、
前記電子機器は、使用者の人体に装着される形態を有する機器ケースと、前記機器ケースと前記人体との接触を検知する少なくとも一つの接触検知センサと、特定の機能を実行する機能を有する特定機能部と、を備え、
前記接触検知センサによる前記人体との接触の有無を検知し、
前記接触検知センサにより前記人体との接触が検知されないとき、前記特定機能部の前記特定の機能を実行しないように制御する、
ことを特徴とする電子機器の制御方法。
【請求項１０】
電子機器の制御プログラムであって、
前記電子機器は、使用者の人体に装着される形態を有する機器ケースと、前記機器ケースと前記人体との接触を検知する少なくとも一つの接触検知センサと、特定の機能を実行する機能を有する特定機能部と、を備え、
前記接触検知センサにより前記人体との接触の有無を検知させ、
前記接触検知センサにより前記人体との接触が検知されないとき、前記特定機能部の前記特定の機能を実行しないように制御させる、
ことを特徴とする電子機器の制御プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月31日(2018.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子部品が配置される電子部品載置部材と、
前記電子部品載置部材が載置され、前記電子部品を冷却する冷却部材と、
前記電子部品を加熱する加熱部材と、を有し、
前記冷却部材は、前記電子部品載置部材と前記加熱部材との間に配置される電子部品搬送装置。
【請求項２】
前記冷却部材は、第１部材と第２部材とにて構成される請求項１に記載の電子部品搬送装置。
【請求項３】
前記冷却部材は、冷媒が流れる溝を有し、
前記溝は、前記第１部材に設けられる請求項２に記載の電子部品搬送装置。
【請求項４】
前記第１部材と前記第２部材との間に封止部材が配置される請求項３に記載の電子部品搬送装置。
【請求項５】
前記第２部材は、前記第１部材と前記加熱部材との間に配置される請求項２ないし４のいずれか１項に記載の電子部品搬送装置。
【請求項６】
前記第２部材の厚さは、前記第１部材の厚さよりも厚い請求項２ないし５のいずれか１項に記載の電子部品搬送装置。
【請求項７】
前記冷却部材は、流体で冷却される請求項１ないし６のいずれか１項に記載の電子部品搬送装置。
【請求項８】
電子部品が配置される電子部品載置部材と、
前記電子部品載置部材が載置され、前記電子部品を冷却する冷却部材と、
前記電子部品を加熱する加熱部材と、
前記電子部品を検査する検査部と、を有し、
前記冷却部材は、前記電子部品載置部材と前記加熱部材との間に配置される電子部品検査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月3日(2018.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラミナー型ベース上に、
目的電磁波の浸透深さよりも厚い屈折率nmの金属膜が被覆され、
該金属膜の上に該目的電磁波の浸透深さよりも薄い屈折率noの酸化物膜が被覆されており、
1 > no > nmである
ことを特徴とするラミナー型回折格子。
【請求項２】
前記金属膜が金（Au）、白金（Pt）、ニッケル（Ni）のいずれかから成ることを特徴とする請求項１に記載のラミナー型回折格子。
【請求項３】
前記金属膜が２種以上の異種の金属の膜が積層されたものであることを特徴とする請求項１又は２に記載のラミナー型回折格子。
【請求項４】
前記酸化物膜が酸化チタン（TiO2）又は酸化セリウム（CeO2）から成ることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のラミナー型回折格子。
【請求項５】
ラミナー型ベース上に、
目的電磁波の浸透深さよりも厚い屈折率nmの金属膜が被覆され、
該金属膜の上に該目的電磁波の浸透深さよりも薄い屈折率nfのフッ化物膜が被覆されており、
1 > nf > nmである
ことを特徴とするラミナー型回折格子。
【請求項６】
前記金属膜が金（Au）、白金（Pt）、ニッケル（Ni）のいずれかから成ることを特徴とする請求項５に記載のラミナー型回折格子。
【請求項７】
前記金属膜が２種以上の異種の金属の膜が積層されたものであることを特徴とする請求項５又は６に記載のラミナー型回折格子。
【請求項８】
前記フッ化物膜がフッ化リチウム（LiF）から成ることを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載のラミナー型回折格子。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月19日(2018.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銀を主成分とする第１の部材と、
塩化銀を主成分とし前記第１の部材の少なくとも一部と接する第２の部材と、
前記第２の部材の表面に形成された自己組織化単分子膜と、を備えた電極。
【請求項２】
前記自己組織化単分子膜は、前記第２の部材の表面に化学吸着したアルカンチオール誘導体を含む、請求項１に記載の電極。
【請求項３】
前記第２の部材は前記第１の部材の表面に形成された層である、請求項１または２に記載の電極。
【請求項４】
前記電極は基板上に形成されており、前記第１の部材は前記基板の表面に形成された層である請求項１〜３の何れか一項に記載の電極。
【請求項５】
銀を主成分とする第１の部材と、塩化銀を主成分とし前記第１の部材の少なくとも一部と接する第２の部材と、前記第２の部材の表面に形成された自己組織化単分子膜と、を有する参照電極と、
測定対象となる溶液中に含まれる対象物を検出する検出部を備える作用電極と、を備えるセンサー。
【請求項６】
前記対象物は生体分子であり、
前記作用電極は、表面に前記生体分子と反応し得る捕捉部を有し、前記捕捉部における前記生体分子の反応に伴う電位変化を測定することにより前記生体分子を検出する、請求項５に記載のセンサー。
【請求項７】
前記生体分子は核酸であり、
前記捕捉部は検出対象の前記核酸とハイブリダイズし得る配列を有する捕捉プローブを有し、前記捕捉プローブと前記核酸とのハイブリダイズに伴う電位変化を測定することにより前記核酸を検出する、請求項６に記載のセンサー。
【請求項８】
前記捕捉プローブが、検出対象の前記核酸とハイブリダイズし得る配列からなる第１の部分と、二本鎖を形成するステム部と、を有する、請求項７に記載のセンサー。
【請求項９】
前記作用電極の表面には、前記参照電極と同組成の自己組織化単分子膜が形成されている、請求項５〜８の何れか一項に記載のセンサー。
【請求項１０】
検出対象である前記核酸が、ｍｉＲＮＡである、請求項７又は８に記載のセンサー。
【請求項１１】
前記対象物は生体分子であり、
前記生体分子と、前記生体分子と選択的相互作用を示す特異的物質とを反応させ、測定対象となる溶液中に含まれる前記生体分子の存在量に相関させて可溶性物質を反応させ不溶性物質に変換して前記作用電極に沈着させ、沈着させた前記不溶性物質を電気的に検出する請求項５に記載のセンサー。
【請求項１２】
対電極を備え、前記作用電極と前記対電極との間に電位を印加した際の電流値を計測することにより前記不溶性物質の沈着量を測定する請求項１１に記載のセンサー。
【請求項１３】
前記可溶性物質は金属イオンである、請求項１１又は請求項１２に記載のセンサー。
【請求項１４】
請求項５〜１３の何れか一項に記載のセンサーを備える流体デバイス。
【請求項１５】
試料中の前記対象物を抽出する対象物精製部を備える、請求項１４に記載の流体デバイス。
【請求項１６】
前記対象物を含む液を循環させる循環流路を備え、
前記センサーが、前記循環流路に設けられる請求項１４又は１５に記載の流体デバイス。
【請求項１７】
請求項１〜４の何れか一項に記載の電極が形成された電極基板と、
測定対象となる液が流れる流路が形成され、前記流路中に前記電極が配置されるように前記電極基板に積層された流路基材と、
前記電極基板の前記電極を制御する制御回路を有する回路基板と、を備える、流体デバイス。
【請求項１８】
基板の一方の面側に、銀を主成分とする層状の第１の部材を形成する工程と、
前記第１の部材の表面に、塩化銀を主成分とする層状の第２の部材を形成する工程と、
前記第２の部材の表面に、自己組織化単分子膜を形成する工程と、を有する、電極の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一実施態様は、下記（１）〜（４）を提供するものである。
（１）本発明の一実施態様における電極は、銀を主成分とする第１の部材と、塩化銀を主成分とし前記第１の部材の少なくとも一部と接する第２の部材と、前記第２の部材の表面に形成された自己組織化単分子膜と、を備える。
（２）本発明の一実施態様におけるセンサーは、銀を主成分とする第１の部材と、塩化銀を主成分とし前記第１の部材の少なくとも一部と接する第２の部材と、前記第２の部材の表面に形成された自己組織化単分子膜と、を有する参照電極と、測定対象となる溶液中に含まれる対象物を検出する検出部を備える作用電極と、を備える。
（３）本発明の一実施態様における流体デバイスは、先に記載のセンサーを備える。
（４）本発明の一実施態様における電極の製造方法は、基板の一方の面側に、銀又は銀合金からなる層状の第１の部材を形成する工程と、前記第１の部材の表面に、塩化銀からなる層状の第２の部材を形成する工程と、前記第２の部材の表面に、自己組織化単分子膜を形成する工程と、を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
＜第１実施形態＞
図１は、第１実施形態の電極５０の断面図である。
電極５０は、ベース層５１と、銀を主成分とするＡｇ層（銀層、第１の部材）５２と、塩化銀を主成分とするＡｇＣｌ層（塩化銀層、第２の部材）５３と、ＳＡＭ膜（自己組織化単分子膜）５４と、を有し、基板４１の主面４１ａ側からこの順に形成されている。
なお、本明細書において、銀を主成分とするＡｇ層（第１の部材）および塩化銀を主成分とするＡｇＣｌ層（第２の部材）には、一般的に知られるＡｇ／ＡｇＣｌ電極としての機能を果たす程度に銀および塩化銀が、それぞれ含まれていればよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
基板４１は、ガラス等の絶縁性の無機材料を含む。電極５０は、薄膜であればその形状は特に制限されず、上面視の形状は、円形、楕円形、矩形、三角形、多角形又は不定形でもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また、電極５０は、作用電極として使用してもよい。電極５０を作用電極として用いる場合には、ＳＡＭ膜５４によって電極５０の表面の非特異吸着を抑制することで計測電位を安定させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月21日(2018.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部装置から複数の第１画像信号を入力する複数の第１入力手段と、
前記複数の第１画像信号に係る画像の配置を設定する設定手段と、
前記設定された配置に従って、前記複数の第１画像信号を用いて、表示手段が画像を表示するための表示画像信号を生成する生成手段と、
前記表示画像信号に基づいて画像を表示するように表示手段を制御する制御手段と、
を有し、
前記制御手段は、各第１入力手段を示す第１部分画像が、前記設定された配置に対応するように配置された第１のＯＳＤ画像を前記表示手段に表示することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記複数の第１入力手段のうち、前記第１画像信号が入力された第１入力手段と前記第１画像信号が入力されていない第１入力手段とが、前記第１のＯＳＤ画像において識別可能なように、前記第１のＯＳＤ画像を表示するよう前記表示手段を制御することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記設定手段は、ユーザの操作に応じて前記複数の第１画像信号に係る画像の配置を設定することを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記制御手段は、ユーザの操作に応じて前記第１のＯＳＤ画像を前記表示手段に表示することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記複数の第１入力手段は、それぞれケーブルを介して前記外部装置から前記第１画像信号を入力することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記複数の第１画像信号と異なる方式の複数の第２画像信号を入力する複数の第２入力手段をさらに有し、
前記制御手段は、前記設定された配置に従って、前記複数の第１画像信号もしくは前記複数の第２画像信号を用いて前記表示画像信号を生成し、前記第１のＯＳＤ画像と、各第２入力手段を示す第２部分画像が、前記設定された配置に対応するように配置された第２のＯＳＤ画像とを表示するように、前記表示手段を制御することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１入力手段は、ＤＶＩ−Ｖ端子、コンポジット端子、Ｓ画像端子、Ｄ端子、コンポーネント端子、アナログＲＧＢ端子、およびＤＶＩ−Ｉ端子のいずれかであることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第２入力手段は、ＨＤＭＩ端子であることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項９】
前記表示手段は、前記表示画像信号に基づく画像をスクリーン投影する投影手段であることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１０】
外部装置から複数の第１画像信号を入力する複数の第１入力手段を有する表示装置の制御方法であって、
前記複数の第１画像信号に係る画像の配置を設定する設定ステップと、
前記設定された配置に従って、前記複数の第１画像信号を用いて、表示手段が画像を表示するための表示画像信号を生成する生成ステップと、
前記表示画像信号に基づいて画像を表示するように表示手段を制御する制御ステップと、
を有し、
前記制御ステップにおいては、各第１入力手段を示す第１部分画像が、前記設定された配置に対応するように配置された第１のＯＳＤ画像を前記表示手段に表示することを特徴とする表示装置の制御方法。
【請求項１１】
前記制御ステップにおいては、前記複数の第１入力手段のうち、前記第１画像信号が入力された第１入力手段と前記第１画像信号が入力されていない第１入力手段とが、前記第１のＯＳＤ画像において識別可能なように、前記第１のＯＳＤ画像を表示するよう前記表示手段を制御することを特徴とする請求項１０に記載の表示装置の制御方法。
【請求項１２】
前記設定ステップにおいては、ユーザの操作に応じて前記複数の第１画像信号に係る画像の配置を設定することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の表示装置の制御方法。
【請求項１３】
前記制御ステップにおいては、ユーザの操作に応じて前記第１のＯＳＤ画像を前記表示手段に表示することを特徴とする請求項１０から１２のいずれか１項に記載の表示装置の制御方法。
【請求項１４】
前記複数の第１入力手段は、それぞれケーブルを介して前記外部装置から前記第１画像信号を入力することを特徴とする請求項１０から１３のいずれか１項に記載の表示装置の制御方法。
【請求項１５】
前記表示装置が前記複数の第１画像信号と異なる方式の複数の第２画像信号を入力する複数の第２入力手段をさらに有し、
前記制御ステップにおいては、前記設定された配置に従って、前記複数の第１画像信号もしくは前記複数の第２画像信号を用いて前記表示画像信号を生成し、前記第１のＯＳＤ画像と、各第２入力手段を示す第２部分画像が、前記設定された配置に対応するように配置された第２のＯＳＤ画像とを表示するように、前記表示手段を制御することを特徴とする請求項１０から１４のいずれか１項に記載の表示装置の制御方法。
【請求項１６】
前記第１入力手段は、ＤＶＩ−Ｖ端子、コンポジット端子、Ｓ画像端子、Ｄ端子、コンポーネント端子、アナログＲＧＢ端子、およびＤＶＩ−Ｉ端子のいずれかであることを特徴とする請求項１０から１５のいずれか１項に記載の表示装置の制御方法。
【請求項１７】
請求項１０から１６のいずれか１項に記載の表示装置の制御方法の各ステップをコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置、表示装置の制御方法及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、複数の端子から入力された画像信号を統合し、統合した画像を投影することができる表示装置、表示装置の制御方法及びプログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明に係る表示装置は、外部装置から複数の第１画像信号を入力する複数の第１入力手段と、前記複数の第１画像信号に係る画像の配置を設定する設定手段と、前記設定された配置に従って、前記複数の第１画像信号を用いて、表示手段が画像を表示するための表示画像信号を生成する生成手段と、前記表示画像信号に基づいて画像を表示するように表示手段を制御する制御手段と、を有し、前記制御手段は、各第１入力手段を示す第１部分画像が、前記設定された配置に対応するように配置された第１のＯＳＤ画像を前記表示手段に表示することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月22日(2018.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の目的を達成するため、本発明による光学機器は、被写体を撮像する際、光学素子の光軸に沿った駆動を制御して、前記光学素子を有する撮像光学系を前記被写体に合焦させる光学機器であって、前記光学素子の位置を検出して検出位置情報を得る検出手段と、前記検出手段の検出感度を設定する設定手段と、前記設定手段によって前記検出手段の検出感度が第１の感度に設定された際の前記検出手段で得られた検出位置情報に基づいて、前記設定手段によって前記検出手段の検出感度が前記第１の感度よりも高い第２の感度に設定された際の前記検出手段で得られた検出位置情報を補正する補正手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明による制御方法は、光軸に沿って移動可能な光学素子の位置を検出して検出位置情報を得る検出センサを備え、被写体を撮像する際、前記光学素子を光軸に沿って駆動して前記光学素子を有する撮像光学系を前記被写体に合焦させる光学機器の制御方法であって、前記検出センサの検出感度を設定する設定ステップと、前記設定ステップで前記検出センサの検出感度が第１の感度に設定された際の前記検出センサで得られた検出位置情報に基づいて、前記設定ステップで前記検出センサの検出感度が前記第１の感度よりも高い第２の感度に設定された際の前記検出センサで得られた検出位置情報を補正する補正ステップと、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明による制御プログラムは、光軸に沿って移動可能な光学素子の位置を検出して検出位置情報を得る検出センサを備え、被写体を撮像する際、前記光学素子を光軸に沿って駆動して前記光学素子を有する撮像光学系を前記被写体に合焦させる光学機器で用いられる制御プログラムであって、前記光学機器が備えるコンピュータに、前記検出センサの検出感度を設定する設定ステップと、前記設定ステップで前記検出センサの検出感度が第１の感度に設定された際の前記検出センサで得られた検出位置情報に基づいて、前記設定ステップで前記検出センサの検出感度が前記第１の感度よりも高い第２の感度に設定された際の前記検出センサで得られた検出位置情報を補正する補正ステップと、を実行させることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体を撮像する際、光学素子の光軸に沿った駆動を制御して、前記光学素子を有する撮像光学系を前記被写体に合焦させる光学機器であって、
前記光学素子の位置を検出して検出位置情報を得る検出手段と、
前記検出手段の検出感度を設定する設定手段と、
前記設定手段によって前記検出手段の検出感度が第１の感度に設定された際の前記検出手段で得られた検出位置情報に基づいて、前記設定手段によって前記検出手段の検出感度が前記第１の感度よりも高い第２の感度に設定された際の前記検出手段で得られた検出位置情報を補正する補正手段と、
を有することを特徴とする光学機器。
【請求項２】
前記検出手段は、印加される駆動電流の大きさに応じて前記検出感度が変化し、
前記設定手段は、前記検出手段に印加する駆動電流の大きさを変更して前記検出感度を変更することを特徴とする請求項１に記載の光学機器。
【請求項３】
前記検出手段は、前記光学素子に設けられた永久磁石と、
前記光軸に沿って所定の間隔をおいて配置された一対のホール素子とを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の光学機器。
【請求項４】
前記光学素子の前記光軸に沿った駆動を制御する駆動制御手段を備え、
前記駆動制御手段によって前記光学素子が駆動制御されている間に、前記設定手段は前記検出手段の検出感度を変更することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学機器。
【請求項５】
前記設定手段によって前記検出手段の感度が前記第１の感度に設定されると、前記駆動制御手段は、前記光学素子を前記光軸に沿って駆動して、前記撮像光学系を介して得られた画像に応じたコントラスト評価値が最大となる位置を通過すると前記光学素子の駆動を停止することを特徴とする請求項４に記載の光学機器。
【請求項６】
前記駆動制御手段によって前記光学素子の駆動が停止されると、前記設定手段によって前記検出手段の感度が前記第２の感度とされ、前記補正手段は、前記第２の感度の検出手段で得られた検出位置情報を第１の検出位置情報として得て、
前記第１の検出位置情報が得られると、前記設定手段によって前記検出手段の感度が前記第１の感度とされ、前記補正手段は、前記第１の感度の検出手段で得られた検出位置情報を第２の検出位置情報として得て、前記第２の検出位置情報で前記第１の検出位置情報を補正することを特徴とする請求項５に記載の光学機器。
【請求項７】
前記光学素子はレンズであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光学機器。
【請求項８】
光軸に沿って移動可能な光学素子の位置を検出して検出位置情報を得る検出センサを備え、被写体を撮像する際、前記光学素子を光軸に沿って駆動して前記光学素子を有する撮像光学系を前記被写体に合焦させる光学機器の制御方法であって、
前記検出センサの検出感度を設定する設定ステップと、
前記設定ステップで前記検出センサの検出感度が第１の感度に設定された際の前記検出センサで得られた検出位置情報に基づいて、前記設定ステップで前記検出センサの検出感度が前記第１の感度よりも高い第２の感度に設定された際の前記検出センサで得られた検出位置情報を補正する補正ステップと、
を有することを特徴とする制御方法。
【請求項９】
光軸に沿って移動可能な光学素子の位置を検出して検出位置情報を得る検出センサを備え、被写体を撮像する際、前記光学素子を光軸に沿って駆動して前記光学素子を有する撮像光学系を前記被写体に合焦させる光学機器で用いられる制御プログラムであって、
前記光学機器が備えるコンピュータに、
前記検出センサの検出感度を設定する設定ステップと、
前記設定ステップで前記検出センサの検出感度が第１の感度に設定された際の前記検出センサで得られた検出位置情報に基づいて、前記設定ステップで前記検出センサの検出感度が前記第１の感度よりも高い第２の感度に設定された際の前記検出センサで得られた検出位置情報を補正する補正ステップと、
を実行させることを特徴とする制御プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月12日(2018.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動部の位置を検出する位置検出部と、
前記位置検出部からの出力に基づいて、前記可動部の変位量を表す数のパルスを含むパルス列信号を生成して外部機器へ出力する処理部と、を有し、
前記処理部は、前記外部機器との間でデータ通信を行い、
前記処理部は、前記可動部の可動範囲の全域に対応する前記パルスの総数が、前記データ通信で規定された前記位置の最大値となるように、前記パルス列信号を生成する、
ことを特徴とする出力装置。
【請求項２】
前記位置検出部は、前記可動部の変位量に対応する数のパルスを含むパルス列信号を生成して出力することを特徴とする請求項１に記載の出力装置。
【請求項３】
前記位置検出部が前記全域に対して出力するパルスの総数は、前記処理部が前記全域に対して出力するパルスの総数より多いことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の出力装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の出力装置と、
前記可動部としての光学部材と、
を有することを特徴とするレンズ装置。
【請求項５】
請求項４に記載のレンズ装置と、
前記外部機器と、
を有することを特徴とするシステム。
【請求項６】
前記外部機器は、前記出力装置からの前記パルス列信号に基づいて前記光学部材の位置を得る処理部を有することを特徴とする請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記外部機器は、前記レンズ装置を介して得られた映像とコンピュータグラフィックスによる映像を合成することを特徴とする請求項４乃至６のうちいずれか１項に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】出力装置、レンズ装置及びシステム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、出力装置、レンズ装置及びシステムに関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、例えば、外部機器での可動部の位置の特定に有利な出力装置を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の位置出力装置は、可動部の位置を検出する位置検出部と、前記位置検出部からの出力に基づいて、前記可動部の変位量を表す数のパルスを含むパルス列信号を生成して外部機器へ出力する処理部と、を有し、前記処理部は、前記外部機器との間でデータ通信を行い、前記処理部は、前記可動部の可動範囲の全域に対応する前記パルスの総数が、前記データ通信で規定された前記位置の最大値となるように、前記パルス列信号を生成する、ことを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明によれば、例えば、外部機器での可動部の位置の特定に有利な出力装置を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月20日(2018.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粉体を貯留する貯留部と、前記貯留部に連設された排出部と、前記排出部に設けられた排出手段と、前記排出部内に気流を供給する気流供給手段と、前記気流の流量を制御する制御手段と、を有する粉体供給装置を用い、
前記気流供給手段から単位時間あたりの気流供給量ｑ１で気流を供給する工程１、及び、
前記気流供給手段から単位時間あたりの気流供給量ｑ２で気流を供給する工程２を含み、
粉体を定量供給する際、所定供給量到達前に工程１から工程２へと工程を切り替え、
前記ｑ１及びｑ２が、ｑ１＞ｑ２を満たすことを特徴とする
粉体供給方法。
【請求項２】
工程１における前記貯留部内の圧力が、（大気圧＋０．０１ｋＰａ）以上（大気圧＋１０ｋＰａ）以下である、請求項１に記載の粉体供給方法。
【請求項３】
前記粉体の平均一次粒径が、２０ｎｍ〜１００μｍである、請求項１又は請求項２に記載の粉体供給方法。
【請求項４】
前記粉体が、トナーである、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の粉体供給方法。