【手続補正書】
【提出日】平成30年5月17日(2018.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理チャンバのガス分配システムのためのフェースプレートアセンブリであって、
第１の面、前記第１の面の反対側の第２の面、および、側面を有するフェースプレート本体と、
前記第１の面から前記第２の面まで伸びる、前記フェースプレート本体の第１の複数の孔と、
前記第１の面から前記第２の面まで伸びる、前記フェースプレート本体の第２の複数の孔と、
前記フェースプレート本体に配置され、空洞の供給部分、排気部分およびガスカーテン部分を規定する第１、第２および第３の環状金属シールと、
を備え、
前記第１の複数の孔の内の少なくとも一部は、前記第１の面と平行な平面に第１のサイズ寸法および第２のサイズ寸法を有し、
前記第１のサイズ寸法は、前記第２のサイズ寸法と直交し、
前記第１のサイズ寸法は、前記プラズマ処理チャンバによって生成されるプラズマのプラズマシース厚さの３倍よりも小さく、
前記第２のサイズ寸法は、前記第１のサイズ寸法の２倍よりも大きく、
前記第２の複数の孔は、基板が処理ガスに暴露された後に、前記処理ガスを排出し、
前記第１の複数の孔は、前記供給部分に配置され、
前記供給部分は、前記第１の環状金属シールの半径方向内側に配置され、
前記排気部分は、前記第１の環状金属シールと前記第２の環状金属シールの間に配置され、
前記第２の複数の孔は、前記排気部分に配置されている、
フェースプレートアセンブリ。
【請求項２】
請求項１に記載のフェースプレートアセンブリであって、前記第１のサイズ寸法は、前記プラズマ処理チャンバによって生成されるプラズマのプラズマシース厚さの２倍よりも小さい、フェースプレートアセンブリ。
【請求項３】
請求項１に記載のフェースプレートアセンブリであって、前記第２のサイズ寸法は、前記第１のサイズ寸法の９倍よりも大きい、フェースプレートアセンブリ。
【請求項４】
請求項１に記載のフェースプレートアセンブリであって、前記第２の複数の孔は、前記第１の複数の孔の半径方向外側に配置されている、フェースプレートアセンブリ。
【請求項５】
請求項４に記載のフェースプレートアセンブリであって、前記第２の複数の孔の内の少なくとも一部は、前記第１のサイズ寸法および前記第２のサイズ寸法を有する、フェースプレートアセンブリ。
【請求項６】
請求項４に記載のフェースプレートアセンブリであって、前記第２の複数の孔の内の少なくとも一部は、円形であり、前記プラズマのプラズマシース厚さの３倍よりも小さい直径を有する、フェースプレートアセンブリ。
【請求項７】
請求項１に記載のフェースプレートアセンブリであって、前記第１の複数の孔の内の少なくとも一部は、円形であり、前記プラズマのプラズマシース厚さの３倍よりも小さい直径を有する、フェースプレートアセンブリ。
【請求項８】
基板を処理するためのプラズマ処理システムであって、
処理チャンバと、
前記処理チャンバ内に配置され、上側部分、フェースプレート、および、前記上側部分と前記フェースプレートとの間の第１の空洞を備えたガス分配装置と、
前記基板を支持するために前記処理チャンバ内に配置された基板支持体と、
前記フェースプレートと前記基板支持体との間にプラズマを生成するためのプラズマ発生器と、
前記第１の空洞に配置され、前記第１の空洞の供給部分、排気部分、および、ガスカーテン部分を規定する第１、第２および第３の環状金属シールと、
を備え、
前記フェースプレートは、第１の面、前記第１の面の反対側の第２の面、および、側面を有するフェースプレート本体と、前記第１の面から前記第２の面まで伸びる前記フェースプレート本体の第１の複数の孔と、を備え、
前記第１の複数の孔の内の少なくとも一部は、スロット形状であり、前記第１の面と平行な平面に第１のサイズ寸法および第２のサイズ寸法を有し、
前記第１のサイズ寸法は、前記第２のサイズ寸法と直交し、
前記第１のサイズ寸法は、前記プラズマ発生器によって生成される前記プラズマのプラズマシース厚さの３倍よりも小さく、
前記第２のサイズ寸法は、前記第１のサイズ寸法の２倍よりも大きく、
前記第１の複数の孔は、前記基板が処理ガスに暴露された後に、前記処理ガスを排出し、
前記フェースプレートは、前記供給部分に配置された第２の複数の孔を備え、
前記供給部分は、前記第１の環状金属シールの半径方向内側に配置され、
前記排気部分は、前記第１の環状金属シールと前記第２の環状金属シールの間に配置され、
前記第１の複数の孔は、前記排気部分に配置されている、
プラズマ処理システム。
【請求項９】
請求項８に記載のプラズマ処理システムであって、前記第１のサイズ寸法は、前記プラズマ発生器によって生成されるプラズマのプラズマシース厚さの２倍よりも小さい、プラズマ処理システム。
【請求項１０】
請求項８に記載のプラズマ処理システムであって、前記第２のサイズ寸法は、前記第１のサイズ寸法の９倍よりも大きい、プラズマ処理システム。
【請求項１１】
請求項８に記載のプラズマ処理システムであって、前記第２の複数の孔は、前記第１の複数の孔の半径方向外側に配置されている、プラズマ処理システム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のプラズマ処理システムであって、前記第２の複数の孔の内の少なくとも一部は、スロット形状であり、前記第１のサイズ寸法および前記第２のサイズ寸法を有する、プラズマ処理システム。
【請求項１３】
請求項１１に記載のプラズマ処理システムであって、前記第２の複数の孔の内の少なくとも一部は、円形であり、前記プラズマ発生器によって生成される前記プラズマのプラズマシース厚さの３倍よりも小さい直径を有する、プラズマ処理システム。
【請求項１４】
請求項８に記載のプラズマ処理システムであって、前記第１の複数の孔の内の少なくとも一部は、円形であり、前記プラズマ発生器によって生成される前記プラズマのプラズマシース厚さの３倍よりも小さい直径を有する、プラズマ処理システム。
【請求項１５】
請求項８に記載のプラズマ処理システムであって、処理ガスが、前記上側部分の第２の空洞、前記フェースプレートを通して、前記第１の空洞の前記供給部分に流れ込む、プラズマ処理システム。
【請求項１６】
請求項８に記載のプラズマ処理システムであって、前記基板が処理ガスに暴露された後に、前記処理ガスは、前記フェースプレート、前記第１の空洞の前記排気部分、および、前記上側部分を通って、戻る、プラズマ処理システム。
【請求項１７】
請求項８に記載のプラズマ処理システムであって、パージガスが、前記上側部分を通して、前記第１の空洞の前記ガスカーテン部分に流れる、プラズマ処理システム。
【請求項１８】
プラズマ処理で用いられるガス分配装置のフェースプレートにおける中空陰極放電を低減するための方法であって、
前記プラズマ処理のプラズマシース厚さを決定する工程と、
第１の面、前記第１の面の反対側の第２の面、および、側面を有するフェースプレート本体を備えた前記フェースプレートを準備する工程と、
前記第１の面から前記第２の面まで伸びる第１の複数の孔を前記フェースプレート本体に形成する工程であって、
前記第１の複数の孔の内の少なくとも一部は、前記第１の面と平行な平面に第１のサイズ寸法および第２のサイズ寸法を有し、
前記第１のサイズ寸法は、前記第２のサイズ寸法と直交し、
前記第１のサイズ寸法は、前記プラズマ処理によって生成されるプラズマのプラズマシース厚さの３倍よりも小さく、
前記第２のサイズ寸法は、前記第１のサイズ寸法の２倍よりも大きい、工程と、
前記第１の面から前記第２の面まで伸びる第２の複数の孔を前記フェースプレート本体に形成する工程であって、
前記第２の複数の孔は、基板が処理ガスに暴露された後に、前記処理ガスを排出する、工程と、
前記フェースプレート本体に配置され、空洞の供給部分、排気部分およびガスカーテン部分を規定する第１、第２および第３の環状金属シール形成する工程であって、
前記第１の複数の孔は、前記供給部分に配置され、
前記供給部分は、前記第１の環状金属シールの半径方向内側に配置され、
前記排気部分は、前記第１の環状金属シールと前記第２の環状金属シールの間に配置され、
前記第２の複数の孔は、前記排気部分に配置されている、工程と、
プラズマ処理チャンバの前記ガス分配装置の上側部分に隣接して、前記フェースプレートを配置する工程と、
プラズマを点火し、前記ガス分配装置の前記フェースプレートを通して処理ガスを流して前記基板を前記処理ガスに暴露させる工程と、
前記基板が処理ガスに暴露された後に、前記第２の複数の孔を介して、前記処理ガスを排出する工程と、
を備える、方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法であって、前記プラズマシース厚さは、プラズマ密度、電子温度、および、印加プラズマ駆動電圧に基づいて決定される、方法。
【請求項２０】
請求項１８に記載の方法であって、前記第２の複数の孔の内の少なくとも一部は、前記第１のサイズ寸法および前記第２のサイズ寸法を有する、方法。
【請求項２１】
請求項１８に記載の方法であって、前記第２の複数の孔の内の少なくとも一部は、円形であり、前記プラズマのプラズマシース厚さの３倍よりも小さい直径を有する、方法。
【請求項２２】
請求項１８に記載の方法であって、前記第１の複数の孔の内の少なくとも一部は、円形であり、前記プラズマのプラズマシース厚さの３倍よりも小さい直径を有する、方法。