(57)【要約】  金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法であって、（ｉ）金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、３価の元素Ｘおよび酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００〜２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程とを含み、Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数であり、Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎの１種または複数であり、Ｍは、元素周期表の第７族〜第１２族の遷移金属である、方法。
2020521704.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法であって、
（ｉ）金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、３価の元素Ｘおよび酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００〜２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と
を含み、Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数であり、
Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎの１種または複数であり、
Ｍは、元素周期表の第７族〜第１２族の遷移金属である、方法。
【請求項２】
Ｍが、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数、好ましくはＦｅおよびＣｕの１種または複数、より好ましくはＣｕである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、Ｍを、元素Ｍとして計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して０．１〜５質量％の範囲、好ましくは０．２〜４質量％の範囲、より好ましくは０．５〜３質量％の範囲の量で含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、４価の元素Ｙを追加的に含むフレームワーク構造を有し、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料の好ましくは少なくとも９５質量％、より好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％、より好ましくは少なくとも９９．５質量％が、Ｙ、Ｘ、Ｏ、Ｍ、およびＨからなる、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
ＸがＡｌであり、ＹがＳｉである、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、フレームワークタイプＣＨＡ、ＦＡＵ、ＬＴＡ、ＭＯＲ、ＭＦＩ、またはＢＥＡ、好ましくはＣＨＡまたはＦＡＵを有する、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
（ｉ）に従ってゼオライト系材料を用意する工程が、
（ｉ．１）金属Ｍを含まず、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、３価の元素Ｘおよび酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉ．２）金属Ｍを（ｉ．１）において用意されたゼオライト系材料に担持させる工程であって、好ましくは
（ｉ．２．１）（ｉ．１）に従って用意されたゼオライト系材料、金属Ｍの供給源、金属Ｍの供給源のための溶媒、および任意に酸、好ましくは有機酸を含む混合物を製造する工程であって、溶媒は、好ましくは水を含み、金属Ｍの供給源は、好ましくは金属Ｍの塩を含み、酸は、好ましくは酢酸を含む、工程と、
（ｉ．２．２）（ｉ．２．１）において製造された混合物を、３０〜９０℃の範囲、好ましくは４０〜８０℃の範囲の温度に加熱する工程と、
（ｉ．２．３）（ｉ．２．２）から得られた混合物を好ましくは冷却し、より好ましくは急速冷却する工程と、
（ｉ．２．４）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｉ．２．２）または（ｉ．２．３）、好ましくは（ｉ．２．４）から得られた混合物から分離する工程であって、好ましくは金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄することを含む工程と、
（ｉ．２．５）好ましくは、（ｉ．２．４）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは９０〜２００℃の範囲、より好ましくは１００〜１５０℃の範囲のガス雰囲気温度で乾燥する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と、
（ｉ．２．６）好ましくは、（ｉ．２．４）または（ｉ．２．５）、好ましくは（ｉ．２．５）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは３５０〜６００℃の範囲、より好ましくは４００〜５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と
を含む工程と
を含む、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
ＹがＳｉであり、（ｉｉ）による４価の元素Ｙの供給源が、湿式法シリカ、乾式法シリカ、およびコロイダルシリカの１種または複数、好ましくはコロイダルシリカを含み、ＡＥＩフレームワーク構造剤が、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物を含み、１種または複数のホスホニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋含有化合物を含み、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は互いに独立して、任意に置換されたおよび／または任意に分枝状の（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、好ましくは（Ｃ１〜Ｃ５）アルキル、より好ましくは（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、より好ましくは（Ｃ２〜Ｃ３）アルキル、さらにより好ましくは任意に置換されたメチルまたはエチルを表し、さらにより好ましくはＲ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、任意に置換されたエチル、好ましくは非置換エチルを表し、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＮ，Ｎ−ジアルキル−ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ３）ジアルキル−（Ｃ１〜Ｃ３）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、より好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物を含み、より好ましくは、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、Ｎ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−２，６−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−３，５−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ−ジメチル−２，６−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ−ジメチル−３，５−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ−ジメチル−２，６−ジメチルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ−ジメチル−３，５−ジメチル−ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群から選択され、
１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、好ましくはハロゲン化物、好ましくは塩化物および／または臭化物、より好ましくは塩化物；水酸化物；硫酸塩；硝酸塩；リン酸塩；酢酸塩；ならびにそれらの２種以上の混合物からなる群、より好ましくは塩化物、水酸化物、硫酸塩、およびそれらの２種以上の混合物からなる群から選択される塩であり、より好ましくは、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、水酸化物および／または塩化物、さらにより好ましくは水酸化物であり、
ＡＥＩフレームワーク構造指向剤が、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３，５−ジメチルピペリジニウム水酸化物を好ましくは含み、より好ましくはそれである、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の４価の元素Ｙの供給源に対する質量比が、ＹＯ２として計算して１．０：１〜３．０：１の範囲、好ましくは１．５：１〜２．５の範囲、より好ましくは２．０：１〜２．２：１の範囲であり、ゼオライト系材料の水に対する質量比が、０．００５：１〜０．０３０：１の範囲、好ましくは０．０１０：１〜０．０２５：１の範囲、より好ましくは０．０１５：１〜０．０２０：１の範囲であり、ゼオライト系材料のＡＥＩフレームワーク構造指向剤に対する質量比が、０．１：１〜３：１の範囲、好ましくは０．２：１〜２：１の範囲、より好ましくは０．３：１〜０．７：１の範囲、より好ましくは０．４：１〜０．５：１の範囲である、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、塩基の供給源、好ましくは水酸化物の供給源を追加的に含み、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の塩基の供給源に対する質量比が、好ましくは０．１：１〜１．０：１の範囲、より好ましくは０．２：１〜０．８：１の範囲、より好ましくは０．３：１〜０．６：１の範囲である、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
水熱合成温度が、１１０〜１７５℃の範囲、好ましくは１２０〜１５０℃の範囲であり、水熱合成条件が、水熱合成時間、好ましくは２〜１２０時間の範囲、より好ましくは２０〜１００時間の範囲、より好ましくは４０〜８０時間の範囲を含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０〜５０℃の範囲、より好ましくは２０〜３５℃の範囲の温度に冷却する工程と、
（ｖ）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程と、
（ｖｉ）（ｖ）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を、好ましくは４００〜６００℃の範囲、好ましくは４５０〜５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程と
をさらに含み、
（ｖ）は、好ましくは
（ｖ．１）（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）好ましくは、（ｖ．１）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．１）または（ｖ．２）、好ましくは（ｖ．２）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を、好ましくは８０〜１７５℃の範囲、好ましくは１００〜１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥する工程と
を含む、請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料であって、請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法で得られうるもしくは得られたまたは製造されうるもしくは製造され、Ｍを、元素Ｍとして計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して０．１〜５質量％の範囲、好ましくは０．２〜４質量％の範囲、より好ましくは０．５〜３質量％の範囲の量で含むゼオライト系材料。
【請求項１４】
酸性部位の全量が１．０〜２．０ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、酸性部位の全量は、アンモニアの昇温脱離に従って決定して、ゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの全モル量と定義され、ゼオライト系材料の中酸性部位の量が０．１〜０．８ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、中酸性部位の量は、２５０〜５００℃の温度範囲におけるアンモニアの昇温脱離に従って決定して、ゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの量と定義される、請求項１３に記載のゼオライト系材料。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載のゼオライト系材料を触媒活性材料、触媒、または触媒成分として、好ましくは排ガス流、より好ましくはディーゼルエンジンからの排ガス流中の酸化窒素の選択的接触還元のために、またはＣ１化合物から１種もしくは複数のオレフィンへの転換、より好ましくはメタノールから１種もしくは複数のオレフィンへの転換、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスから１種もしくは複数のオレフィンへの転換のために使用する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法に関する。さらに、本発明は、前記方法によって得られうるまたは得られた、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料に関し、さらに、前記ゼオライト系材料を触媒活性材料として使用する方法にも関する。
【背景技術】
【０００２】
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料は、工業用途における燃焼排ガスを処理する、例えば排ガス流中の酸化窒素（ＮＯｘ）を転換するための触媒または触媒成分として潜在的に有効であることが知られている。合成ＡＥＩゼオライト系材料は通常、ケイ素の供給源やアルミニウムの供給源などゼオライトフレームワークを構築する元素の供給源を含む合成混合物からゼオライト系材料の結晶を沈降させることによって生成される。さらに、ＡＥＩゼオライト系材料は、好適な後処理工程によってゼオライト系材料に通常組み込まれる１種または複数の金属Ｍを追加的に含むことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１３／０６８９７６号
【特許文献２】国際公開第２０１３／１８２９７４号
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｄｉｎｎｅｂｉｅｒ，Ｒ．Ｅ．、Ｂｉｌｌｉｎｇｅ  Ｓ．Ｊ．Ｌ．（編）「Ｐｏｗｄｅｒ  ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ：ｔｈｅｏｒｙ  ａｎｄ  ｐｒａｃｔｉｃｅ」中のＭａｄｓｅｎ，Ｉ．Ｃ．、Ｓｃａｒｌｅｔｔ，Ｎ．Ｖ．Ｙ．（２００８年）「Ｑｕａｎｔｉｔａｔｉｖｅ  ｐｈａｓｅ  ａｎａｌｙｓｉｓ」、Ｔｈｅ  Ｒｏｙａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ、２９８〜３３１頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、本発明の目的は、金属Ｍを含むＡＥＩゼオライト系材料を製造する新規で有利な方法を提供することであった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によれば、この目的は、ゼオライトフレームワーク転換によって達成することができ、その転換に従って、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有する好適なゼオライト系材料であり、金属Ｍを含む出発物質は好適に反応して、フレームワークタイプＡＥＩを有し、金属Ｍを含むゼオライト系材料が得られることが判明した。本方法によれば、ＡＥＩゼオライト系材料の合成時に、金属Ｍの追加の供給源を使用する必要はなく、金属Ｍを組み込むための後処理も必要ない。
【０００７】
したがって、本発明は、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法であって、
（ｉ）金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、３価の元素Ｘおよび酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００〜２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と
を含み、Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数であり、
Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎの１種または複数であり、
Ｍは、元素周期表の第７族〜第１２族の遷移金属である、方法に関する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施例１によるＣｕ含有ゼオライト系材料のＸＲＤパターンを示す図である。
【図２】実施例１によるＣｕ含有ゼオライト系材料のＳＥＭ写真を示す図である。
【図３】実施例２によるＣｕ含有ゼオライト系材料のＸＲＤパターンを示す図である。
【図４】実施例３に従う試験の結果、特に（高荷重ディーゼル用途をシミュレートする）６５０℃でエージングしたそれぞれの材料の結果を示す図である。ｘ軸は、転換温度２００°Ｎにおけるそれぞれの材料のＮＯｘの転換率を示し、ｙ軸は、転換温度２００℃におけるそれぞれの材料のＮＯｘの転換率を示す。白三角の記号は、参照材料のテンプレートフリーＣＨＡゼオライトを表し、黒四角は、実施例１によるゼオライト系材料を表し、黒丸は、実施例２によるゼオライト系材料を表す。
【図５】実施例３に従う試験の結果、特に（低荷重ディーゼル用途をシミュレートする）８００℃でエージングしたそれぞれの材料の結果を示す図である。ｘ軸は、転換温度２００°Ｎにおけるそれぞれの材料のＮＯｘの転換率を示し、ｙ軸は、転換温度２００℃におけるそれぞれの材料のＮＯｘの転換率を示す。白三角の記号は、参照材料のテンプレートフリーＣＨＡゼオライトを表し、黒四角は、実施例１によるゼオライト系材料を表し、黒丸は、実施例２によるゼオライト系材料を表す。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
一般に、Ｍは、元素周期表の第７族〜第１２族の遷移金属である。好ましくは、Ｍは、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数、より好ましくはＦｅおよびＣｕの１種または複数である。より好ましくは、ＭはＣｕである。
【００１０】
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料に含まれている金属Ｍの量に関して、特定の限定は存在しない。例えば、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料は、元素Ｍとして計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して０．０１〜１０質量％の範囲、または０．０２〜８質量％の範囲、または０．０５〜６質量％の範囲の量で含むことができる。好ましくは、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料は、Ｍを、元素Ｍとして計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して０．１〜５質量％の範囲、好ましくは０．２〜４質量％の範囲、より好ましくは０．５〜３質量％の範囲の量で含む。
【００１１】
好ましくは、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料は、４価の元素Ｙを追加的に含むフレームワーク構造を有する。（ｉ）において用意されたゼオライト系材料の好ましくは少なくとも９５質量％、より好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％、より好ましくは少なくとも９９．５質量％は、Ｙ、Ｘ、Ｏ、Ｍ、およびＨからなる。
【００１２】
一般に、Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数である。好ましくは、ＹはＳｉである。一般に、Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａの１種または複数である。好ましくは、ＸはＡｌである。より好ましくは、ＸはＡｌであり、ＹはＳｉである。より好ましくは、ＹはＳｉであり、ＸはＡｌであり、ＳｉのＡｌに対するモル比は、３：１〜５０：１の範囲、好ましくは５：１〜３０：１の範囲、より好ましくは８：１〜２５：１の範囲である。
【００１３】
ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有する（ｉ）において用意されたゼオライト系材料に関して、一般に、特定の限定は存在しない。フレームワークタイプは、ＡＢＷ、ＡＣＯ、ＡＥＩ、ＡＥＬ、ＡＥＮ、ＡＥＴ、ＡＦＧ、ＡＦＩ、ＡＦＮ、ＡＦＯ、ＡＦＲ、ＡＦＳ、ＡＦＴ、ＡＦＶ、ＡＦＸ、ＡＦＹ、ＡＨＴ、ＡＮＡ、ＡＰＣ、ＡＰＤ、ＡＳＴ、ＡＳＶ、ＡＴＮ、ＡＴＯ、ＡＴＳ、ＡＴＴ、ＡＴＶ、ＡＶＬ、ＡＷＯ、ＡＷＷ、ＢＣＴ、ＢＥＡ、ＢＥＣ、ＢＩＫ、ＢＯＦ、ＢＯＧ、ＢＯＺ、ＢＰＨ、ＢＲＥ、ＢＳＶ、ＣＡＮ、ＣＡＳ、ＣＤＯ、ＣＦＩ、ＣＧＦ、ＣＧＳ、ＣＨＡ、−ＣＨＩ、−ＣＬＯ、ＣＯＮ、ＣＳＶ、ＣＺＰ、ＤＡＣ、ＤＤＲ、ＤＦＯ、ＤＦＴ、ＤＯＨ、ＤＯＮ、ＥＡＢ、ＥＤＩ、ＥＥＩ、ＥＭＴ、ＥＯＮ、ＥＰＩ、ＥＲＩ、ＥＳＶ、ＥＴＲ、ＥＵＯ、＊−ＥＷＴ、ＥＺＴ、ＦＡＲ、ＦＡＵ、ＦＥＲ、ＦＲＡ、ＧＩＳ、ＧＩＵ、ＧＭＥ、ＧＯＮ、ＧＯＯ、ＨＥＵ、ＩＦＯ、ＩＦＲ、−ＩＦＵ、ＩＦＷ、ＩＦＹ、ＩＨＷ、ＩＭＦ、ＩＲＮ、ＩＲＲ、−ＩＲＹ、ＩＳＶ、ＩＴＥ、ＩＴＧ、ＩＴＨ、＊−ＩＴＮ、ＩＴＲ、ＩＴＴ、−ＩＴＶ、ＩＴＷ、ＩＷＲ、ＩＷＳ、ＩＷＶ、ＩＷＷ、ＪＢＷ、ＪＮＴ、ＪＯＺ、ＪＲＹ、ＪＳＮ、ＪＳＲ、ＪＳＴ、ＪＳＷ、ＫＦＩ、ＬＡＵ、ＬＥＶ、ＬＩＯ、−ＬＩＴ、ＬＯＳ、ＬＯＶ、ＬＴＡ、ＬＴＦ、ＬＴＪ、ＬＴＬ、ＬＴＮ、ＭＡＲ、ＭＡＺ、ＭＥＩ、ＭＥＬ、ＭＥＰ、ＭＥＲ、ＭＦＩ、ＭＦＳ、ＭＯＮ、ＭＯＲ、ＭＯＺ、＊ＭＲＥ、ＭＳＥ、ＭＳＯ、ＭＴＦ、ＭＴＮ、ＭＴＴ、ＭＴＷ、ＭＶＹ、ＭＷＦ、ＭＷＷ、ＮＡＢ、ＮＡＴ、ＮＥＳ、ＮＯＮ、ＮＰＯ、ＮＰＴ、ＮＳＩ、ＯＢＷ、ＯＦＦ、ＯＫＯ、ＯＳＩ、ＯＳＯ、ＯＷＥ、−ＰＡＲ、ＰＡＵ、ＰＣＲ、ＰＨＩ、ＰＯＮ、ＰＯＳ、ＰＳＩ、ＰＵＮ、ＲＨＯ、−ＲＯＮ、ＲＲＯ、ＲＳＮ、ＲＴＥ、ＲＴＨ、ＲＵＴ、ＲＷＲ、ＲＷＹ、ＳＡＦ、ＳＡＯ、ＳＡＳ、ＳＡＴ、ＳＡＶ、ＳＢＥ、ＳＢＮ、ＳＢＳ、ＳＢＴ、ＳＥＷ、ＳＦＥ、ＳＦＦ、ＳＦＧ、ＳＦＨ、ＳＦＮ、ＳＦＯ、ＳＦＳ、＊ＳＦＶ、ＳＦＷ、ＳＧＴ、ＳＩＶ、ＳＯＤ、ＳＯＦ、ＳＯＳ、ＳＳＦ、＊−ＳＳＯ、ＳＳＹ、ＳＴＦ、ＳＴＩ、＊ＳＴＯ、ＳＴＴ、ＳＴＷ、−ＳＶＲ、ＳＶＶ、ＳＺＲ、ＴＥＲ、ＴＨＯ、ＴＯＬ、ＴＯＮ、ＴＳＣ、ＴＵＮ、ＵＥＩ、ＵＦＩ、ＵＯＳ、ＵＯＶ、ＵＯＺ、ＵＳＩ、ＵＴＬ、ＵＷＹ、ＶＥＴ、ＶＦＩ、ＶＮＩ、ＶＳＶ、ＷＥＩ、−ＷＥＮ、ＹＵＧ、ＺＯＮの１種または複数であると考えられる。好ましくは、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有する（ｉ）において用意されたゼオライト系材料は、フレームワークタイプＣＨＡ、ＦＡＵ、ＬＴＡ、ＭＯＲ、ＭＦＩ、またはＢＥＡ、より好ましくはＣＨＡまたはＦＡＵを有する。
【００１４】
したがって、さらに好ましくは、本発明は、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法、好ましくは実施形態１から１０のいずれか一形態に記載の方法であって、
（ｉ）金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、１００〜２００℃の範囲の水熱合成温度を含む水熱合成条件にかけ、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む混合物を得る工程と
を含み、ＹはＳｉであり、ＸはＡｌであり、ＭはＣｕであり、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料は、フレームワークタイプＣＨＡまたはＦＡＵを有する、方法に関する。
【００１５】
一般に、金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料は、いずれか考えられる方法に従って（ｉ）において用意することができる。好ましくは、（ｉ）に従ってゼオライト系材料を用意する工程は、
（ｉ．１）金属Ｍを含まず、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、３価の元素Ｘおよび酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉ．２）金属Ｍを（ｉ．１）において用意されたゼオライト系材料に担持させる工程であって、好ましくは
（ｉ．２．１）（ｉ．１）に従って用意されたゼオライト系材料、金属Ｍの供給源、金属Ｍの供給源のための溶媒、および任意に酸、好ましくは有機酸を含む混合物を製造する工程であって、溶媒は、好ましくは水を含み、金属Ｍの供給源は、好ましくは金属Ｍの塩を含み、酸は、好ましくは酢酸を含む、工程と、
（ｉ．２．２）（ｉ．２．１）において製造された混合物を、３０〜９０℃の範囲、好ましくは４０〜８０℃の範囲の温度に加熱する工程と、
（ｉ．２．３）（ｉ．２．２）から得られた混合物を好ましくは冷却し、より好ましくは急速冷却する工程と、
（ｉ．２．４．）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｉ．２．２）または（ｉ．２．３）、好ましくは（ｉ．２．４）から得られた混合物から分離する工程であって、好ましくは金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄することを含む工程と、
（ｉ．２．５）好ましくは、（ｉ．２．４）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは９０〜２００℃の範囲、より好ましくは１００〜１５０℃の範囲のガス雰囲気温度で乾燥する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と、
（ｉ．２．６）好ましくは、（ｉ．２．４）または（ｉ．２．５）、好ましくは（ｉ．２．５）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは３５０〜６００℃の範囲、より好ましくは４００〜５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と
を含む工程と
を含む。
【００１６】
前述のように、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料は、好ましくはフレームワークタイプＣＨＡまたはＦＡＵを有する。したがって、金属Ｍを含まず、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有するゼオライト系材料は、フレームワークタイプＣＨＡまたはＦＡＵを有することが好ましい。フレームワークタイプＣＨＡを有する場合、（ｉ．１）において用意された、金属Ｍを含まず、フレームワークタイプＣＨＡを有し、３価の元素Ｘおよび酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料は、テンプレートフリー（ＴＦ）−ＣＨＡであることが好ましく、例えば、ＴＦ−ＣＨＡは、参照により本明細書に組み込まれる国際公開第２０１３／０６８９７６号、例えば６頁４〜２０行目に記載されているテンプレートフリー合成方法に従って製造することができ、その４０〜４７頁には、具体例も記載されている。ＴＦ−ＣＨＡは、より好ましくは国際公開第２０１３／０６８９７６号、実施例２の４３頁２９行目〜４４頁８行目に記載されているテンプレートフリー合成方法に従って製造される。
【００１７】
好ましくは、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料は、か焼ゼオライト系材料、より好ましくはガス雰囲気中、３５０〜６００℃の範囲、好ましくは４００〜５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼されたゼオライト系材料である。好ましくは、ガス雰囲気は、酸素を含む。より好ましくは、ガス雰囲気は、空気、希薄空気、または工業用窒素などの窒素、より好ましくは空気を含む。より好ましくは、ガス雰囲気は、空気である。
【００１８】
一般に、ゼオライト系材料は、そのアンモニウムの形、その水素の形（Ｈの形）、またはそのナトリウムの形などいずれか他の好適なカチオンの形で提供されることが考えられうる。好ましくは、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料は、その水素（Ｈ）の形である。
【００１９】
本発明の方法の工程（ｉｉ）の文脈において、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、好ましくはフレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含まない。より好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系シード材料を含まない。
【００２０】
一般に、（ｉｉ）によれば、４価の元素Ｙのいずれか好適な供給源を使用することができる。特にＹがＳｉである場合、Ｙの供給源は、湿式法シリカ、乾式法シリカ、およびコロイダルシリカの１種または複数を含み、より好ましくはそれらの１種または複数である。コロイダルシリカは、好ましくはアルカリ性および／またはアンモニア性溶液、より好ましくはアンモニア性溶液として、とりわけ、例えばＬｕｄｏｘ（登録商標）、Ｓｙｔｏｎ（登録商標）、Ｎａｌｃｏ（登録商標）またはＳｎｏｗｔｅｘ（登録商標）として市販されている。「湿式法」シリカは、とりわけ、例えばＨｉ−Ｓｉｌ（登録商標）、Ｕｌｔｒａｓｉｌ（登録商標）、Ｖｕｌｃａｓｉｌ（登録商標）、Ｓａｎｔｏｃｅｌ（登録商標）、Ｖａｌｒｏｎ−Ｅｓｔｅｒｓｉｌ（登録商標）、Ｔｏｋｕｓｉｌ（登録商標）またはＮｉｐｓｉｌ（登録商標）として市販されている。「乾式法」シリカは、とりわけ、例えばＡｅｒｏｓｉｌ（登録商標）、Ｒｅｏｌｏｓｉｌ（登録商標）、Ｃａｂ−Ｏ−Ｓｉｌ（登録商標）、Ｆｒａｎｓｉｌ（登録商標）またはＡｒｃＳｉｌｉｃａ（登録商標）として市販されている。本発明によれば、とりわけ、コロイダルシリカのアンモニア性溶液を使用することができる。より好ましくは、ＹがＳｉである場合、（ｉｉ）による４価の元素Ｙの供給源は、コロイダルシリカを含み、好ましくはそれである。
【００２１】
（ｉｉ）によれば、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤は、（ｉｉｉ）に従ってフレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造するいずれかの作用剤でありうる。好ましくは、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤は、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物を含む。
【００２２】
好ましくは、１種または複数のホスホニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋含有化合物を含み、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は互いに独立して、任意に置換されたおよび／または任意に分枝状の（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、より好ましくは（Ｃ１〜Ｃ５）アルキル、より好ましくは（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、より好ましくは（Ｃ２〜Ｃ３）アルキル、好ましくは任意に置換されたメチルまたはエチルを表し、より好ましくは、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、任意に置換されたエチル、好ましくは非置換エチルを表す。
【００２３】
好ましくは、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＮ，Ｎ−ジアルキル−ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、より好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ３）ジアルキル−（Ｃ１〜Ｃ３）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、より好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物を含み、より好ましくは、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、Ｎ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−２，６−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−３，５−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ−ジメチル−２，６−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ−ジメチル−３，５−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ−ジメチル−２，６−ジメチルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ−ジメチル−３，５−ジメチル−ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群から選択される。
【００２４】
好ましくは、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、塩、好ましくはハロゲン化物、より好ましくは塩化物および／または臭化物、より好ましくは塩化物；水酸化物；硫酸塩；硝酸塩；リン酸塩；酢酸塩；ならびにそれらの２種以上の混合物からなる群、より好ましくは塩化物、水酸化物、硫酸塩、およびそれらの２種以上の混合物からなる群から選択される塩であり、より好ましくは、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、水酸化物および／または塩化物、より好ましくは水酸化物である。
【００２５】
より好ましくは、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤は、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３，５−ジメチルピペリジニウム水酸化物を含み、好ましくはそれである。
【００２６】
好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の４価の元素Ｙの供給源に対する質量比は、ＹＯ２として計算して１．０：１〜３．０：１の範囲、より好ましくは１．５：１〜２．５の範囲、より好ましくは２．０：１〜２．２：１の範囲である。本発明の考えられる実施形態によれば、ゼオライト系材料の４価の元素Ｙの供給源に対する質量比は、無限大でありうる。これは、Ｙを含むゼオライト系材料以外に、４価の元素の別の供給源は、（ｉｉ）における合成混合物中に含まれないことを意味する。
【００２７】
好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の水に対する質量比は、０．００５：１〜０．０３０：１の範囲、より好ましくは０．０１０：１〜０．０２５：１の範囲、より好ましくは０．０１５：１〜０．０２０：１の範囲である。
【００２８】
好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料のＡＥＩフレームワーク構造指向剤に対する質量比は、０．１：１〜０．９：１の範囲、好ましくは０．３：１〜０．７：１の範囲、より好ましくは０．４：１〜０．５：１の範囲である。
【００２９】
（ｉｉ）において製造された合成混合物のｐＨは、いずれの特定の値にも限定されない。好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、塩基の供給源、より好ましくは水酸化物の供給源を追加的に含む。
【００３０】
好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、ナトリウム、リチウム、カリウムなどのアルカリ金属およびマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムなどのアルカリ土類金属、より好ましくはアルカリ金属の１種または複数の供給源、より好ましくはナトリウムを追加的に含む。
【００３１】
より好ましくは、塩基の供給源は、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源、好ましくはアルカリ金属塩基、より好ましくはアルカリ金属水酸化物、より好ましくは水酸化ナトリウムである。
【００３２】
（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、混合物中に含まれる成分のいずれの特定の質量比にも限定されない。好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の塩基の供給源に対する質量比は、０．１：１〜１．０：１の範囲、好ましくは０．２：１〜０．８：１の範囲、より好ましくは０．３：１〜０．６：１の範囲である。
【００３３】
好ましくは、（ｉｉ）において製造され、（ｉｉｉ）にかけられる合成混合物は、金属Ｍを含むゼオライト系材料以外の金属Ｍの供給源を含まない。好ましくは、（ｉｉ）において製造され、（ｉｉｉ）にかけられる合成混合物の少なくとも９５質量％、好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％は、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤、好ましくは塩基の供給源ならびにアルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源からなる。
【００３４】
本発明の方法の工程（ｉｉｉ）は、（ｉｉ）において製造された合成混合物を水熱合成条件にかける工程を含む。
【００３５】
好ましくは、水熱合成は、自生圧力下に、好ましくはオートクレーブ中で実施される。好ましくは、（ｉｉ）において製造された合成混合物は、オートクレーブ中、０．５〜４Ｋ／分の範囲、より好ましくは１〜３Ｋ／分の範囲の加熱速度で水熱合成温度に加熱される。好ましくは、混合物が加熱される水熱合成温度は、１１０〜１７５℃の範囲、好ましくは１２０〜１５０℃の範囲である。好ましくは、水熱合成条件は、合成時間の少なくとも一部分の間に合成混合物を撹拌する工程をさらに含む。好ましくは、水熱合成条件は、２〜１２０時間の範囲、より好ましくは２０〜１００時間の範囲、より好ましくは４０〜８０時間の範囲の水熱合成時間をさらに含む。したがって、（ｉｉｉ）によれば、（ｉｉ）において用意された混合物は、１１０〜１７５℃の範囲、好ましくは１２０〜１５０℃の範囲の温度に加熱され、この温度で２〜１２０時間の範囲の時間保持されることが好ましい。したがって、（ｉｉｉ）によれば、（ｉｉ）において用意された混合物は、１１０〜１７５℃の範囲、好ましくは１２０〜１５０℃の範囲の温度に加熱され、この温度で２０〜１２０時間の範囲の時間保持されることがさらに好ましい。したがって、（ｉｉｉ）によれば、（ｉｉ）において用意された混合物は、１１０〜１７５℃の範囲、好ましくは１２０〜１５０℃の範囲の温度に加熱され、この温度で４０〜８０時間の範囲の時間保持されることがさらに好ましい。
【００３６】
（ｉｉｉ）による水熱合成から、水熱合成温度でその母液中に懸濁しているフレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含む混合物が得られる。水熱合成が自生圧力下に実施されるので、（ｉｉｉ）は、混合物を減圧する工程をさらに含むことが好ましい。減圧の前、中、または後に、本発明の方法は、好ましくは、
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を冷却する工程
をさらに含む。
【００３７】
特定の限定はないが、混合物を１０〜５０℃の範囲、より好ましくは２０〜３５℃の範囲の温度に冷却することが好ましい。
【００３８】
前述のように、その母液中に懸濁しているフレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含む混合物が（ｉｉｉ）から得られるので、本発明の方法は、
（ｖ）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物、好ましくは（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程
をさらに含むことがさらに好ましい。
【００３９】
金属Ｍを含むゼオライト系材料が分離され得る方法について特定の限定はない。好ましくは、前記分離工程（ｖ）は、
（ｖ．１）（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）好ましくは、（ｖ．１）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．１）または（ｖ．２）、好ましくは（ｖ．２）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を乾燥する工程と
を含む。
【００４０】
（ｖ．１）について、噴霧方法は、噴霧乾燥または噴霧顆粒化を含むことができる。（ｖ．２）が実施される場合、ゼオライト系材料は、洗浄剤としての水で好ましくは洗浄水の伝導率が最大でも５００マイクロジーメンス、好ましくは最大でも２００マイクロジーメンスになるまで洗浄されることが好ましい。（ｖ．３）について、ゼオライト系材料は、８０〜１７５℃の範囲、より好ましくは１００〜１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥されることが好ましい。好ましくは、ガス雰囲気は酸素を含み、より好ましくは空気、希薄空気、または合成空気を含み、より好ましくはそれである。
【００４１】
好ましくは、本発明の方法は、
（ｖｉ）（ｖ）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をか焼する工程
をさらに含む。
【００４２】
工程（ｖｉ）が実施される場合、金属Ｍを含むゼオライト系材料は、好ましくは４００〜６００℃の範囲、より好ましくは４５０〜５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼される。好ましくは、ガス雰囲気は酸素を含み、より好ましくは空気、希薄空気、または合成空気を含み、より好ましくはそれである。
【００４３】
したがって、さらに好ましくは、本発明は、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法であって、
（ｉ）金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、１００〜２００℃の範囲の水熱合成温度を含む水熱合成条件にかけ、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む混合物を得る工程と、
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０〜５０℃の範囲、より好ましくは２０〜３５℃の範囲の温度に冷却する工程と、
（ｖ）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程であって、
（ｖ．１）（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）（ｖ．１）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．２）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を、８０〜１７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥する工程と
を含む工程と、
（ｖｉ）（ｖ）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を、４００〜６００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程と
を含む方法に関する。
【００４４】
一般に、本発明の方法によれば、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を生じる上記の転換方法は、本質的に完全な転換であり、得られた材料は、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料から本質的になる可能性がある。しかし、転換は部分不完全な転換であり、得られた材料には、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料だけでなく、１種または複数の他の材料、好ましくは金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプ、好ましくはフレームワークタイプＦＡＵ、ＬＴＡ、ＭＯＲ、ＭＦＩ、またはＢＥＡを有する１種または複数のゼオライト系材料、より好ましくはフレームワークタイプＣＨＡまたはＦＡＵを有するゼオライト系材料も含まれている可能性がある。好ましくは、そのようなそれぞれ得られた組成物について、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む前記組成物の５０質量％超、より好ましくは少なくとも６０質量％、より好ましくは少なくとも７０質量％が、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料からなる。より好ましくは、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物の少なくとも８０質量％、より好ましくは８０〜１００質量％が、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料からなる。より好ましくは、組成物の少なくとも９０質量％、より好ましくは少なくとも９５質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％が、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料と、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料とからなる。金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含む前記組成物を導くそのような部分不完全な転換は、例えば組成物を製造する方法を対象とする本発明の第２の好ましい実施形態群として考慮される。完全を期すために、これらの実施形態についても、転換が完全である場合、組成物は、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料からなるものと理解されるべきであると言及される。いずれの場合でも、転換が部分不完全な転換である場合でさえ、それにもかかわらず本発明は、例えば金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造する方法を対象とする。というのは、このゼオライト系材料が前記組成物中に強制的に含められているからである。
【００４５】
ゼオライト系材料を使用する所期の方法に応じて、材料、好ましくは（ｖｉ）から得られた材料をそのようなものとして使用することができる。さらに、このゼオライト系材料を１個または複数の別の後処理工程にかけることが考えられる。例えば、最も好ましくは粉末として得られるゼオライト系材料を、押出、打錠、噴霧など（に限定されない）を含めていずれか好適な方法で成形体または造形体に好適に加工することができる。好ましくは、造形体は、長方形、三角形、六角形、四角形、楕円形もしくは円形断面を有することがあり、および／または好ましくは星、錠剤、球体、円柱、撚糸、もしくは中空円柱の形をとる。造形体を製造するとき、造形体を使用する所期の方法に従って選択することができる１種または複数の結合剤を使用することができる。利用可能な結合剤材料としては、グラファイト、シリカ、チタニア、ジルコニア、アルミナ、ならびにケイ素、チタンおよびジルコニウムの２種以上の混合酸化物が挙げられるが、これらに限定されない。ゼオライト系材料の結合剤に対する質量比は、一般にいかなる特定の限定も受けておらず、例えば１０：１〜１：１０の範囲でありうる。例えば、排ガス流、例えばエンジンの排ガス流を処理するための触媒または触媒成分としてゼオライト系材料が使用される別の例によれば、ゼオライト系材料は、壁面流フィルターなどの好適な基材に塗布されるウォッシュコートの成分として使用される可能性がある。
【００４６】
本発明はさらに、本明細書に記載された方法で得られうるもしくは得られたまたは製造されうるもしくは製造された、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料にも関する。
【００４７】
好ましくは、元素Ｍとして計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して０．１〜５質量％の範囲、より好ましくは０．２〜４質量％の範囲、より好ましくは０．５〜３質量％の範囲の量で前記ゼオライト系材料は金属Ｍを含んでいる。Ｍは、元素周期表の第７族〜第１２族の遷移金属、好ましくはＦｅまたはＣｕ、より好ましくはＣｕである。好ましくは、金属Ｍを含む前記ゼオライト系材料は、酸性部位の全量が１．０〜２．０ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、酸性部位の全量は、本明細書の参考例１．６に記載されているアンモニアの昇温脱離（ＮＨ３−ＴＰＤ）に従って決定された、ゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの全モル量と定義され、ゼオライト系材料は、中酸性部位の量が０．１〜０．８ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、中酸性部位の量は、２５０〜５００℃の温度範囲で本明細書の参考例１．６に記載されているアンモニアの昇温脱離（ＮＨ３−ＴＰＤ）に従って決定されたゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの量と定義される。
【００４８】
金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料は、吸収剤、吸着剤、モレキュラーシーブ、触媒、触媒担体または１種もしくは複数のそれらを製造するための中間体を含めて考えられるいかなる目的にも使用することができるが、これらに限定されない。好ましくは、本発明の金属Ｍを含むゼオライト系材料は、触媒活性材料、触媒、または触媒成分として、より好ましくは、排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素の選択的接触還元のための、より好ましくは、Ｃ１化合物から１種もしくは複数のオレフィンへの転換、好ましくはメタノールから１種もしくは複数のオレフィンへの転換、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスから１種もしくは複数のオレフィンへの転換のための、より好ましくは触媒活性材料として使用される。
【００４９】
さらに、本発明は、排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元する方法であって、本発明による方法で得られうるもしくは得られたまたは製造されうるもしくは製造された、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料と前記排ガス流とを接触させる工程を含む方法、あるいはＣ１化合物を１種または複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種もしくは複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素および水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに変換する方法であって、本発明による方法で得られうるもしくは得られたまたは製造されうるもしくは製造された、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料と前記Ｃ１化合物とを接触させる工程を含む方法に関する。
【００５０】
本発明を、示される依存関係および後方参照関係に起因する以下の実施形態群および実施形態の組合せによりさらに説明する。特に、ある範囲の実施形態が記載されているそれぞれの場合、例えば「実施形態１から４のいずれか一形態に記載の方法」などの用語の文脈では、この範囲のあらゆる実施形態は、当業者にとって明確に開示されていることになっており、すなわち、この用語の表現は、当業者によって「実施形態１、２、３、および４のいずれか一形態に記載の方法」と同義であると理解されるものとすることが認められている。
【００５１】
１．金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法であって、
（ｉ）金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、３価の元素Ｘおよび酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００〜２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と
を含み、Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数であり、
Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎの１種または複数であり、
Ｍは、元素周期表の第７族〜第１２族の遷移金属である、方法。
【００５２】
２．Ｍが、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数、好ましくはＦｅおよびＣｕの１種または複数である、実施形態１に記載の方法。
【００５３】
３．ＭがＣｕである、実施形態１に記載の方法。
【００５４】
４．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、Ｍを、元素Ｍとして計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して０．１〜５質量％の範囲、好ましくは０．２〜４質量％の範囲、より好ましくは０．５〜３質量％の範囲の量で含む、実施形態１から３のいずれか一形態に記載の方法。
【００５５】
５．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、４価の元素Ｙを追加的に含むフレームワーク構造を有する、実施形態１から４のいずれか一形態に記載の方法。
【００５６】
６．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料の少なくとも９５質量％、好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％、より好ましくは少なくとも９９．５質量％が、Ｙ、Ｘ、Ｏ、Ｍ、およびＨからなる、実施形態１から５のいずれか一形態に記載の方法。
【００５７】
７．ＸがＡｌである、実施形態１から６のいずれか一形態に記載の方法。
【００５８】
８．ＹがＳｉである、実施形態１から７のいずれか一形態に記載の方法。
【００５９】
９．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料において、ＹがＳｉであり、ＸがＡｌであり、元素Ｓｉとして計算したＳｉの、元素Ａｌとして計算したＡｌに対する、モル比Ｓｉ：Ａｌが、３：１〜５０：１の範囲、好ましくは５：１〜３０：１の範囲、より好ましくは８：１〜２５：１の範囲である、実施形態１から８のいずれか一形態に記載の方法。
【００６０】
１０．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、フレームワークタイプＣＨＡ、ＦＡＵ、ＬＴＡ、ＭＯＲ、ＭＦＩ、またはＢＥＡ、好ましくはＣＨＡまたはＦＡＵを有する、実施形態１から９のいずれか一形態に記載の方法。
【００６１】
１１．金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法、好ましくは実施形態１から１０のいずれか一形態に記載の方法であって、
（ｉ）金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、１００〜２００℃の範囲の水熱合成温度を含む水熱合成条件にかけ、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む混合物を得る工程と
を含み、ＹはＳｉであり、ＸはＡｌであり、ＭはＣｕであり、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料は、フレームワークタイプＣＨＡまたはＦＡＵを有する、方法。
【００６２】
１２．（ｉ）に従ってゼオライト系材料を用意する工程が、
（ｉ．１）金属Ｍを含まず、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、３価の元素Ｘおよび酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉ．２）金属Ｍを（ｉ．１）において用意されたゼオライト系材料に担持させる工程であって、好ましくは
（ｉ．２．１）（ｉ．１）に従って用意されたゼオライト系材料、金属Ｍの供給源、金属Ｍの供給源のための溶媒、および任意に酸、好ましくは有機酸を含む混合物を製造する工程であって、溶媒は、好ましくは水を含み、金属Ｍの供給源は、好ましくは金属Ｍの塩を含み、酸は、好ましくは酢酸を含む、工程と、
（ｉ．２．２）（ｉ．２．１）において製造された混合物を、３０〜９０℃の範囲、好ましくは４０〜８０℃の範囲の温度に加熱する工程と、
（ｉ．２．３）（ｉ．２．２）から得られた混合物を好ましくは冷却し、より好ましくは急速冷却する工程と、
（ｉ．２．４．）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｉ．２．２）または（ｉ．２．３）、好ましくは（ｉ．２．４）から得られた混合物から分離する工程であって、好ましくは金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄することを含む工程と、
（ｉ．２．５）好ましくは、（ｉ．２．４）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは９０〜２００℃の範囲、より好ましくは１００〜１５０℃の範囲のガス雰囲気温度で乾燥する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と、
（ｉ．２．６）好ましくは、（ｉ．２．４）または（ｉ．２．５）、好ましくは（ｉ．２．５）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは３５０〜６００℃の範囲、より好ましくは４００〜５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と
を含む工程と
を含む、実施形態１から１１のいずれか一形態に記載の方法。
【００６３】
１３．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、か焼ゼオライト系材料であり、好ましくはゼオライト系材料が、ガス雰囲気中、３５０〜６００℃の範囲、好ましくは４００〜５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼され、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、実施形態１から１２のいずれか一形態に記載の方法。
【００６４】
１４．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、そのＨの形をとる、実施形態１から１３のいずれか一形態に記載の方法。
【００６５】
１５．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含まない、実施形態１から１４のいずれか一形態に記載の方法。
【００６６】
１６．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系シード材料を含まない、実施形態１から１５のいずれか一形態に記載の方法。
【００６７】
１７．ＹがＳｉであり、（ｉｉ）による４価の元素Ｙの供給源が、湿式法シリカ、乾式法シリカ、およびコロイダルシリカの１種または複数を含む、実施形態１から１６のいずれか一形態に記載の方法。
【００６８】
１８．（ｉｉ）による４価の元素の供給源が、コロイダルシリカを含み、好ましくはそれである、実施形態１から１７のいずれか一形態に記載の方法。
【００６９】
１９．ＡＥＩフレームワーク構造剤が、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物を含み、
１種または複数のホスホニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋含有化合物を含み、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は互いに独立して、任意に置換されたおよび／または任意に分枝状の（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、好ましくは（Ｃ１〜Ｃ５）アルキル、より好ましくは（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、より好ましくは（Ｃ２〜Ｃ３）アルキル、さらにより好ましくは任意に置換されたメチルまたはエチルを表し、さらにより好ましくはＲ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、任意に置換されたエチル、好ましくは非置換エチルを表し、
１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＮ，Ｎ−ジアルキル−ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ３）ジアルキル−（Ｃ１〜Ｃ３）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、より好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物を含み、より好ましくは、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、Ｎ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−２，６−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−３，５−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ−ジメチル−２，６−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ−ジメチル−３，５−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ−ジメチル−２，６−ジメチルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ−ジメチル−３，５−ジメチル−ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群から選択され、
１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、塩、好ましくはハロゲン化物、好ましくは塩化物および／または臭化物、より好ましくは塩化物；水酸化物；硫酸塩；硝酸塩；リン酸塩；酢酸塩；ならびにそれらの２種以上の混合物からなる群、より好ましくは塩化物、水酸化物、硫酸塩、およびそれらの２種以上の混合物からなる群から選択される塩であり、より好ましくは、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、水酸化物および／または塩化物、さらにより好ましくは水酸化物である、実施形態１から１８のいずれか一形態に記載の方法。
【００７０】
２０．ＡＥＩフレームワーク構造指向剤が、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３，５−ジメチルピペリジニウム水酸化物を含み、好ましくはそれである、実施形態１から１９のいずれか一形態に記載の方法。
【００７１】
２１．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の４価の元素Ｙの供給源に対する質量比は、ＹＯ２として計算して１．０：１〜３．０：１の範囲、好ましくは１．５：１〜２．５の範囲、より好ましくは２．０：１〜２．２：１の範囲である、実施形態１から２０のいずれか一形態に記載の方法。
【００７２】
２２．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の水に対する質量比が、０．００５：１〜０．０３０：１の範囲、好ましくは０．０１０：１〜０．０２５：１の範囲、より好ましくは０．０１５：１〜０．０２０：１の範囲である、実施形態１から２１のいずれか一形態に記載の方法。
【００７３】
２３．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料のＡＥＩフレームワーク構造指向剤に対する質量比が、０．１：１〜３：１の範囲、好ましくは０．２：１〜２：１の範囲、より好ましくは０．３：１〜０．７：１の範囲、より好ましくは０．４：１〜０．５：１の範囲である、実施形態１から２２のいずれか一形態に記載の方法。
【００７４】
２４．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、塩基の供給源、好ましくは水酸化物の供給源を追加的に含む、実施形態１から２３のいずれか一形態に記載の方法。
【００７５】
２５．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源、好ましくはアルカリ金属、より好ましくはナトリウムを追加的に含む、実施形態１から２４のいずれか一形態に記載の方法。
【００７６】
２６．塩基の供給源が、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源、好ましくはアルカリ金属塩基、より好ましくはアルカリ金属水酸化物、より好ましくは水酸化ナトリウムである、実施形態２４または２５に記載の方法。
【００７７】
２７．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の塩基の供給源に対する質量比が、０．１：１〜１．０：１の範囲、好ましくは０．２：１〜０．８：１の範囲、より好ましくは０．３：１〜０．６：１の範囲である、実施形態２４から２６のいずれか一形態に記載の方法。
【００７８】
２８．（ｉｉ）において製造され、（ｉｉｉ）にかけられる合成混合物が、金属Ｍを含むゼオライト系材料以外の金属Ｍの供給源を含まない、実施形態１から２７のいずれか一形態に記載の方法。
【００７９】
２９．（ｉｉ）において製造され、（ｉｉｉ）にかけられる合成混合物の少なくとも９５質量％、好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％が、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤、好ましくは塩基の供給源ならびにアルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源からなる、実施形態１から２８のいずれか一形態に記載の方法。
【００８０】
３０．水熱合成が、自生圧力下に、好ましくはオートクレーブ中で実施される、実施形態１から２９のいずれか一形態に記載の方法。
【００８１】
３１．（ｉｉ）において製造された合成混合物が、オートクレーブ中、０．５〜４Ｋ／分の範囲、好ましくは１〜３Ｋ／分の範囲の加熱速度で水熱合成温度に加熱される、実施形態１から３０のいずれか一形態に記載の方法。
【００８２】
３２．水熱合成温度が、１１０〜１７５℃の範囲、好ましくは１２０〜１５０℃の範囲である、実施形態１から３１のいずれか一形態に記載の方法。
【００８３】
３３．水熱合成条件が、合成混合物を撹拌する工程を含む、実施形態１から３２のいずれか一形態に記載の方法。
【００８４】
３４．水熱合成条件が、２〜１２０時間の範囲、好ましくは２０〜１００時間の範囲、より好ましくは４０〜８０時間の範囲の水熱合成時間を含む、実施形態１から３３のいずれか一形態に記載の方法。
【００８５】
３５．（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０〜５０℃の範囲、より好ましくは２０〜３５℃の範囲の温度に冷却する工程
をさらに含む、実施形態１から３４のいずれか一形態に記載の方法。
【００８６】
３６．（ｖ）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程
をさらに含む、実施形態１から３４のいずれか一形態に記載の方法。
【００８７】
３７．（ｖ）が、
（ｖ．１）（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）好ましくは、（ｖ．１）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．１）または（ｖ．２）、好ましくは（ｖ．２）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を乾燥する工程と
を含む、実施形態３６に記載の方法。
【００８８】
３８．（ｖ．２）によれば、金属Ｍを含むゼオライト系材料が、水で好ましくは洗浄水の伝導率が最大でも５００マイクロジーメンス、好ましくは最大でも２００マイクロジーメンスになるまで洗浄される、実施形態３７に記載の方法。
【００８９】
３９．（ｖ．３）によれば、金属Ｍを含むゼオライト系材料が、８０〜１７５℃の範囲、好ましくは１００〜１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥される、実施形態３７または３８に記載の方法。
【００９０】
４０．ガス雰囲気が、酸素を含み、好ましくは空気、希薄空気、または合成空気である、実施形態３９に記載の方法。
【００９１】
４１．（ｖｉ）（ｖ）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をか焼する工程
をさらに含む、実施形態３６から４０のいずれか一形態に記載の方法。
【００９２】
４２．（ｖｉ）によれば、金属Ｍを含むゼオライト系材料が、４００〜６００℃の範囲、好ましくは４５０〜５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼される、実施形態４１に記載の方法。
【００９３】
４３．ガス雰囲気が、酸素を含み、好ましくは空気、希薄空気、または合成空気である、実施形態４２に記載の方法。
【００９４】
４４．金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法、好ましくは実施形態１から１０のいずれか一形態に記載の方法であって、
（ｉ）金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、１００〜２００℃の範囲の水熱合成温度を含む水熱合成条件にかけ、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む混合物を得る工程と、
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０〜５０℃の範囲、より好ましくは２０〜３５℃の範囲の温度に冷却する工程と、
（ｖ）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程であって、
（ｖ．１）（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）（ｖ．１）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．２）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を、８０〜１７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥する工程と
を含む工程と、
（ｖｉ）（ｖ）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を、４００〜６００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程と
を含む方法。
【００９５】
４５．ＹがＳｉであり、ＸがＡｌであり、ＭがＣｕであり、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、フレームワークタイプＣＨＡまたはＦＡＵを有する、実施形態４４に記載の方法。
【００９６】
４６．実施形態１から４５のいずれか一形態に記載の方法で得られうるもしくは得られたまたは製造されうるもしくは製造された、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料。
【００９７】
４７．Ｍを、元素Ｍとして計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して０．１〜５質量％の範囲、好ましくは０．２〜４質量％の範囲、より好ましくは０．５〜３質量％の範囲の量で含む、実施形態４６に記載の金属Ｍを含むゼオライト系材料。
【００９８】
４８．ＭがＣｕである、実施形態４７に記載のゼオライト系材料。
【００９９】
４９．酸性部位の全量が１．０〜２．０ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、酸性部位の全量は、本明細書の参考例１．６に記載されているアンモニアの昇温脱離（ＮＨ３−ＴＰＤ）に従って決定された、ゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの全モル量と定義され、ゼオライト系材料の中酸性部位の量が０．１〜０．８ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、中酸性部位の量は、２５０〜５００℃の温度範囲で本明細書の参考例１．６に記載されているアンモニアの昇温脱離（ＮＨ３−ＴＰＤ）に従って決定されたゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの量と定義される、実施形態４６から４８のいずれか一形態に記載のゼオライト系材料。
【０１００】
５０．実施形態４６から４９のいずれか一形態に記載のゼオライト系材料を触媒活性材料、触媒、または触媒成分として使用する方法。
【０１０１】
５１．排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素の選択的接触還元のために使用する、実施形態５０に記載の方法。
【０１０２】
５２．Ｃ１化合物から１種もしくは複数のオレフィンへの転換、好ましくはメタノールから１種もしくは複数のオレフィンへの転換、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスから１種もしくは複数のオレフィンへの転換のために使用する、実施形態５０に記載の方法。
【０１０３】
５３．排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元する方法であって、実施形態４６から４９のいずれか一形態に記載のゼオライト系材料と前記排ガス流とを接触させる工程を含む方法。
【０１０４】
５４．排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元する方法であって、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を実施形態１から４５のいずれか一形態に記載の方法で製造し、前記排ガス流と前記ゼオライト系材料を含む触媒とを接触させる工程を含む方法。
【０１０５】
５５．Ｃ１化合物を１種もしくは複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種もしくは複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに転換する方法であって、実施形態４６から４９のいずれか一形態に記載のゼオライト系材料と前記Ｃ１化合物とを接触させる工程を含む方法。
【０１０６】
５６．Ｃ１化合物を１種もしくは複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種もしくは複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに転換する方法であって、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を実施形態１から４５のいずれか一形態に記載の方法で製造し、前記Ｃ１化合物と前記ゼオライト系材料を含む触媒とを接触させる工程を含む方法。
【０１０７】
５７．触媒、好ましくは排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元するための、あるいはＣ１化合物を１種もしくは複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種もしくは複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに転換するための触媒であって、実施形態４６から４９のいずれか一形態に記載のゼオライト系材料を含む触媒。
【０１０８】
本発明を、示される依存関係および後方参照関係に起因する以下の実施形態群および実施形態の組合せによりさらに説明する。特に、ある範囲の実施形態が記載されているそれぞれの場合、例えば「実施形態１から４のいずれか一形態に記載の方法」などの用語の文脈では、この範囲のあらゆる実施形態は、当業者にとって明確に開示されていることになっており、すなわち、この用語の表現は、当業者によって「実施形態１、２、３、および４のいずれか一形態に記載の方法」と同義であると理解されるものとすることが認められている。
【０１０９】
１．金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物を製造する方法であって、
（ｉ）金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００〜２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含む混合物を得る工程と
を含み、
Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数であり、
Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎの１種または複数であり、
Ｍは、元素周期表の第７族〜第１２族の遷移金属である、方法。
【０１１０】
２．Ｍが、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数、好ましくはＦｅおよびＣｕの１種または複数である、実施形態１に記載の方法。
【０１１１】
３．ＭがＣｕである、実施形態１に記載の方法。
【０１１２】
４．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、Ｍを、元素Ｍとして計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して０．１〜５質量％の範囲、好ましくは０．２〜４質量％の範囲、より好ましくは０．５〜３質量％の範囲の量で含む、実施形態１から３のいずれか一形態に記載の方法。
【０１１３】
５．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、４価の元素Ｙを追加的に含むフレームワーク構造を有する、実施形態１から４のいずれか一形態に記載の方法。
【０１１４】
６．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料の少なくとも９５質量％、好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％、より好ましくは少なくとも９９．５質量％が、Ｙ、Ｘ、Ｏ、Ｍ、およびＨからなる、実施形態１から５のいずれか一形態に記載の方法。
【０１１５】
７．ＸがＡｌである、実施形態１から６のいずれか一形態に記載の方法。
【０１１６】
８．ＹがＳｉである、実施形態１から７のいずれか一形態に記載の方法。
【０１１７】
９．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料において、ＹがＳｉであり、ＸがＡｌであり、元素Ｓｉとして計算したＳｉの、元素Ａｌとして計算したＡｌに対する、モル比Ｓｉ：Ａｌが、３：１〜５０：１の範囲、好ましくは５：１〜３０：１の範囲、より好ましくは８：１〜２５：１の範囲である、実施形態１から８のいずれか一形態に記載の方法。
【０１１８】
１０．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、フレームワークタイプＣＨＡ、ＦＡＵ、ＬＴＡ、ＭＯＲ、ＭＦＩ、またはＢＥＡ、好ましくはＣＨＡまたはＦＡＵを有する、実施形態１から９のいずれか一形態に記載の方法。
【０１１９】
１１．金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物を製造する方法、好ましくは実施形態１から１０のいずれか一形態に記載の方法であって、
（ｉ）金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、１００〜２００℃の範囲の水熱合成温度を含む水熱合成条件にかけ、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む混合物を得る工程と
を含み、ＹはＳｉであり、ＸはＡｌであり、ＭはＣｕであり、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料は、フレームワークタイプＣＨＡまたはＦＡＵを有する、方法。
【０１２０】
１２．（ｉ）に従ってゼオライト系材料を用意する工程が、
（ｉ．１）金属Ｍを含まず、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、３価の元素Ｘおよび酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉ．２）金属Ｍを（ｉ．１）において用意されたゼオライト系材料に担持させる工程であって、好ましくは
（ｉ．２．１）（ｉ．１）に従って用意されたゼオライト系材料、金属Ｍの供給源、金属Ｍの供給源のための溶媒、および任意に酸、好ましくは有機酸を含む混合物を製造する工程であって、溶媒は、好ましくは水を含み、金属Ｍの供給源は、好ましくは金属Ｍの塩を含み、酸は、好ましくは酢酸を含む、工程と、
（ｉ．２．２）（ｉ．２．１）において製造された混合物を、３０〜９０℃の範囲、好ましくは４０〜８０℃の範囲の温度に加熱する工程と、
（ｉ．２．３）（ｉ．２．２）から得られた混合物を好ましくは冷却し、より好ましくは急速冷却する工程と、
（ｉ．２．４．）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｉ．２．２）または（ｉ．２．３）、好ましくは（ｉ．２．４）から得られた混合物から分離する工程であって、好ましくは金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄することを含む工程と、
（ｉ．２．５）好ましくは、（ｉ．２．４）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは９０〜２００℃の範囲、より好ましくは１００〜１５０℃の範囲のガス雰囲気温度で乾燥する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と、
（ｉ．２．６）好ましくは、（ｉ．２．４）または（ｉ．２．５）、好ましくは（ｉ．２．５）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは３５０〜６００℃の範囲、より好ましくは４００〜５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と
を含む工程と
を含む、実施形態１から１１のいずれか一形態に記載の方法。
【０１２１】
１３．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、か焼ゼオライト系材料であり、好ましくはゼオライト系材料が、ガス雰囲気中、３５０〜６００℃の範囲、好ましくは４００〜５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼され、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、実施形態１から１２のいずれか一形態に記載の方法。
【０１２２】
１４．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、そのＨの形をとる、実施形態１から１３のいずれか一形態に記載の方法。
【０１２３】
１５．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含まない、実施形態１から１４のいずれか一形態に記載の方法。
【０１２４】
１６．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系シード材料を含まない、実施形態１から１５のいずれか一形態に記載の方法。
【０１２５】
１７．ＹがＳｉであり、（ｉｉ）による４価の元素Ｙの供給源が、湿式法シリカ、乾式法シリカ、およびコロイダルシリカの１種または複数を含む、実施形態１から１６のいずれか一形態に記載の方法。
【０１２６】
１８．（ｉｉ）による４価の元素の供給源が、コロイダルシリカを含み、好ましくはそれである、実施形態１から１７のいずれか一形態に記載の方法。
【０１２７】
１９．ＡＥＩフレームワーク構造剤が、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物を含み、
１種または複数のホスホニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋含有化合物を含み、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は互いに独立して、任意に置換されたおよび／または任意に分枝状の（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、好ましくは（Ｃ１〜Ｃ５）アルキル、より好ましくは（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、より好ましくは（Ｃ２〜Ｃ３）アルキル、さらにより好ましくは任意に置換されたメチルまたはエチルを表し、さらにより好ましくはＲ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、任意に置換されたエチル、好ましくは非置換エチルを表し、
１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＮ，Ｎ−ジアルキル−ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ３）ジアルキル−（Ｃ１〜Ｃ３）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、より好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物を含み、より好ましくは、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、Ｎ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−２，６−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−３，５−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ−ジメチル−２，６−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ−ジメチル−３，５−（Ｃ１〜Ｃ２）ジアルキル−ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ−ジメチル−２，６−ジメチルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ−ジメチル−３，５−ジメチル−ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群から選択され、
１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、塩、好ましくはハロゲン化物、好ましくは塩化物および／または臭化物、より好ましくは塩化物；水酸化物；硫酸塩；硝酸塩；リン酸塩；酢酸塩；ならびにそれらの２種以上の混合物からなる群、より好ましくは塩化物、水酸化物、硫酸塩、およびそれらの２種以上の混合物からなる群から選択される塩であり、より好ましくは、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、水酸化物および／または塩化物、さらにより好ましくは水酸化物である、実施形態１から１８のいずれか一形態に記載の方法。
【０１２８】
２０．ＡＥＩフレームワーク構造指向剤が、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３，５−ジメチルピペリジニウム水酸化物を含み、好ましくはそれである、実施形態１から１９のいずれか一形態に記載の方法。
【０１２９】
２１．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の４価の元素Ｙの供給源に対する質量比は、ＹＯ２として計算して１．０：１〜３．０：１の範囲、好ましくは１．５：１〜２．５の範囲、より好ましくは２．０：１〜２．２：１の範囲である、実施形態１から２０のいずれか一形態に記載の方法。
【０１３０】
２２．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の水に対する質量比が、０．００５：１〜０．０３０：１の範囲、好ましくは０．０１０：１〜０．０２５：１の範囲、より好ましくは０．０１５：１〜０．０２０：１の範囲である、実施形態１から２１のいずれか一形態に記載の方法。
【０１３１】
２３．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料のＡＥＩフレームワーク構造指向剤に対する質量比が、０．１：１〜３：１の範囲、好ましくは０．２：１〜２：１の範囲、より好ましくは０．３：１〜０．７：１の範囲、より好ましくは０．４：１〜０．５：１の範囲である、実施形態１から２２のいずれか一形態に記載の方法。
【０１３２】
２４．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、塩基の供給源、好ましくは水酸化物の供給源を追加的に含む、実施形態１から２３のいずれか一形態に記載の方法。
【０１３３】
２５．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源、好ましくはアルカリ金属、より好ましくはナトリウムを追加的に含む、実施形態１から２４のいずれか一形態に記載の方法。
【０１３４】
２６．塩基の供給源が、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源、好ましくはアルカリ金属塩基、より好ましくはアルカリ金属水酸化物、より好ましくは水酸化ナトリウムである、実施形態２４または２５に記載の方法。
【０１３５】
２７．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の塩基の供給源に対する質量比が、０．１：１〜１．０：１の範囲、好ましくは０．２：１〜０．８：１の範囲、より好ましくは０．３：１〜０．６：１の範囲である、実施形態２４から２６のいずれか一形態に記載の方法。
【０１３６】
２８．（ｉｉ）において製造され、（ｉｉｉ）にかけられる合成混合物が、金属Ｍを含むゼオライト系材料以外の金属Ｍの供給源を含まない、実施形態１から２７のいずれか一形態に記載の方法。
【０１３７】
２９．（ｉｉ）において製造され、（ｉｉｉ）にかけられる合成混合物の少なくとも９５質量％、好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％が、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤、好ましくは塩基の供給源ならびにアルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源からなる、実施形態１から２８のいずれか一形態に記載の方法。
【０１３８】
３０．水熱合成が、自生圧力下に、好ましくはオートクレーブ中で実施される、実施形態１から２９のいずれか一形態に記載の方法。
【０１３９】
３１．（ｉｉ）において製造された合成混合物が、オートクレーブ中、０．５〜４Ｋ／分の範囲、好ましくは１〜３Ｋ／分の範囲の加熱速度で水熱合成温度に加熱される、実施形態１から３０のいずれか一形態に記載の方法。
【０１４０】
３２．水熱合成温度が、１１０〜１７５℃の範囲、好ましくは１２０〜１５０℃の範囲である、実施形態１から３１のいずれか一形態に記載の方法。
【０１４１】
３３．水熱合成条件が、合成混合物を撹拌する工程を含む、実施形態１から３２のいずれか一形態に記載の方法。
【０１４２】
３４．水熱合成条件が、２〜１２０時間の範囲、好ましくは２０〜１００時間の範囲、より好ましくは４０〜８０時間の範囲の水熱合成時間を含む、実施形態１から３３のいずれか一形態に記載の方法。
【０１４３】
３５．（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０〜５０℃の範囲、より好ましくは２０〜３５℃の範囲の温度に冷却する工程
をさらに含む、実施形態１から３４のいずれか一形態に記載の方法。
【０１４４】
３６．（ｖ）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程
をさらに含む、実施形態１から３４のいずれか一形態に記載の方法。
【０１４５】
３７．（ｖ）が、
（ｖ．１）（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかけ、金属Ｍを含むゼオライト系材料を含む組成物を得る工程と、
（ｖ．２）好ましくは、（ｖ．１）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を含む組成物を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．１）または（ｖ．２）、好ましくは（ｖ．２）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料を含む組成物を乾燥する工程と
を含む、実施形態３６に記載の方法。
【０１４６】
３８．（ｖ．２）によれば、組成物が、水で好ましくは洗浄水の伝導率が最大でも５００マイクロジーメンス、好ましくは最大でも２００マイクロジーメンスになるまで洗浄される、実施形態３７に記載の方法。
【０１４７】
３９．（ｖ．３）によれば、組成物が、８０〜１７５℃の範囲、好ましくは１００〜１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥される、実施形態３７または３８に記載の方法。
【０１４８】
４０．ガス雰囲気が、酸素を含み、好ましくは空気、希薄空気、または合成空気である、実施形態３９に記載の方法。
【０１４９】
４１．（ｖｉ）（ｖ）から得られた組成物をか焼する工程
をさらに含む、実施形態３６から４０のいずれか一形態に記載の方法。
【０１５０】
４２．（ｖｉ）によれば、組成物が、４００〜６００℃の範囲、好ましくは４５０〜５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼される、実施形態４１に記載の方法。
【０１５１】
４３．ガス雰囲気が、酸素を含み、好ましくは空気、希薄空気、または合成空気である、実施形態４２に記載の方法。
【０１５２】
４４．金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物を製造する方法、好ましくは実施形態１から１０のいずれか一形態に記載の方法であって、
（ｉ）金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、１００〜２００℃の範囲の水熱合成温度を含む水熱合成条件にかけ、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む混合物を得る工程と、
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０〜５０℃の範囲、より好ましくは２０〜３５℃の範囲の温度に冷却する工程と、
（ｖ）金属Ｍを含むゼオライト系材料を含む組成物を、（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程であって、
（ｖ．１）（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかけ、金属Ｍを含むゼオライト系材料を含む組成物を得る工程と、
（ｖ．２）（ｖ．１）から得られた組成物を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．２）から得られた組成物を、８０〜１７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥する工程と
を含む工程と、
（ｖｉ）（ｖ）から得られた組成物を、４００〜６００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程と
を含む方法。
【０１５３】
４５．ＹがＳｉであり、ＸがＡｌであり、ＭがＣｕであり、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、フレームワークタイプＣＨＡまたはＦＡＵを有する、実施形態４４に記載の方法。
【０１５４】
４６．金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物の５０質量％超、好ましくは少なくとも６０質量％、より好ましくは少なくとも７０質量％が、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料からなる、実施形態１から４５のいずれか一形態に記載の方法。
【０１５５】
４７．金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物の少なくとも８０質量％、好ましくは８０〜１００質量％が、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料からなる、実施形態４６に記載の方法。
【０１５６】
４８．組成物の少なくとも９０質量％、好ましくは少なくとも９５質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％が、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料と、金属Ｍを含み、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料とからなる、実施形態４６または４７に記載の方法。
【０１５７】
４９．実施形態１から４８のいずれか一形態に記載の方法で得られうるもしくは得られたまたは製造されうるもしくは製造された、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物。
【０１５８】
５０．元素Ｍとして計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して０．１〜５質量％の範囲、好ましくは０．２〜４質量％の範囲、より好ましくは０．５〜３質量％の範囲の量でＭを含む、実施形態４９に記載の組成物。
【０１５９】
５１．ＭがＣｕである、実施形態５０に記載の組成物。
【０１６０】
５２．酸性部位の全量が１．０〜２．０ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、酸性部位の全量は、本明細書の参考例１．６に記載されているアンモニアの昇温脱離（ＮＨ３−ＴＰＤ）に従って決定された、ゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの全モル量と定義され、ゼオライト系材料の中酸性部位の量が０．１〜０．８ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、中酸性部位の量は、２５０〜５００℃の温度範囲で本明細書の参考例１．６に記載されているアンモニアの昇温脱離（ＮＨ３−ＴＰＤ）に従って決定された、ゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの量と定義される、実施形態４９から５１のいずれか一形態に記載の組成物。
【０１６１】
５３．実施形態４９から５２のいずれか一形態に記載の組成物を触媒活性材料、触媒、または触媒成分として使用する方法。
【０１６２】
５４．排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素の選択的接触還元のために使用する、実施形態５３に記載の方法。
【０１６３】
５５．Ｃ１化合物から１種もしくは複数のオレフィンへの転換、好ましくはメタノールから１種もしくは複数のオレフィンへの転換、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスから１種もしくは複数のオレフィンへの転換のために使用する、実施形態５３に記載の方法。
【０１６４】
５６．排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元する方法であって、実施形態４９から５２のいずれか一形態に記載の組成物と前記排ガス流とを接触させる工程を含む方法。
【０１６５】
５７．排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元する方法であって、組成物を実施形態１から４８のいずれか一形態に記載の方法で製造し、前記排ガス流と前記組成物を含む触媒とを接触させる工程を含む方法。
【０１６６】
５８．Ｃ１化合物を１種または複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種もしくは複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素および水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに変換する方法であって、実施形態４９から５２のいずれか一形態に記載の組成物と前記Ｃ１化合物とを接触させる工程を含む方法。
【０１６７】
５９．Ｃ１化合物を１種もしくは複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種もしくは複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに転換する方法であって、組成物を実施形態１から４８のいずれか一形態に記載の方法で製造し、前記Ｃ１化合物と前記組成物を含む触媒とを接触させる工程を含む方法。
【０１６８】
６０．触媒、好ましくは排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元するための、あるいはＣ１化合物を１種もしくは複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種または複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに転換するための触媒であって、実施形態４９から５２のいずれか一形態に記載の組成物を含む触媒。
【０１６９】
以下の実施例、比較例、および参考例により、本発明をさらに説明する。
【実施例】
【０１７０】
参考例１．１：結晶化度の決定
本発明によるゼオライト系材料の結晶化度をＸＲＤ分析により決定した。データは、Ｃｕ−Ｘ線供給源およびエネルギー分散点検出器を備えた標準Ｂｒａｇｇ−Ｂｒｅｎｔａｎｏ回折装置を使用して収集した。２°〜７０°の（２θ）角度範囲をステップサイズ０．０２°で走査し、可変発散スリットは一定の開口角０．３°に設定した。次いで、ＴＯＰＡＳ  Ｖ５ソフトウェアを使用して、データを分析した。ここで、ＡＥＩおよびＦＡＵについてはＰＯＮＫＣＳ相を、ＣＨＡについては結晶構造を使用して、シャープな回折ピークをモデル化した。モデルは、Ｍａｄｓｅｎ，  Ｉ．  Ｃ．らに記載されているように製造した。これを、データに適合するように改良した。独立したピークを角度位置２８°に挿入した。これを使用して、非結晶含有量を示した。結晶含有量は、全散乱強度に対する結晶のシグナル強度を示す。モデルには、直線状バックグラウンド、Ｌｏｒｅｎｔｚおよび偏光補正、格子パラメータ、空間群ならびにクリスタリットサイズも含めた。
【０１７１】
参考例１．２：ＢＥＴ比表面積の決定
ＢＥＴ比表面積は、ＩＳＯ  ９２７７、第２版、２０１０に従って、７７Ｋで窒素物理吸着により決定した。
【０１７２】
参考例１．３：Ｃ値の決定
Ｃ値（ＢＥＴパラメータ）は、ＩＳＯ  ９２７７、第２版、２０１０、７．２節に記載されているように決定した。
【０１７３】
参考例１．４：ＸＲＤパターンの決定
ＸＲＤ回折パターンは、参考例１．１に記載されているように決定した。
【０１７４】
参考例１．５：走査電子顕微鏡法
Ｈｉｔａｃｈｉ  ＴＭ３０００を使用して、ＳＥＭ（走査電子顕微鏡法）写真（１５ｋＶ（キロボルト）の２次電子（ＳＥ）写真）を作製した。
【０１７５】
参考例１．６：アンモニアの昇温脱離（ＮＨ３−ＴＰＤ）
アンモニアの昇温脱離（ＮＨ３−ＴＰＤ）は、熱伝導度検出器を有する自動化学吸着分析ユニット（Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ  ＡｕｔｏＣｈｅｍ  ＩＩ  ２９２０）で実施した。オンライン質量分析計（Ｐｆｅｉｆｆｅｒ  Ｖａｃｕｕｍ社のＯｍｎｉＳｔａｒ  ＱＭＧ２００）を使用して、脱離種の連続分析を行った。試料（０．１ｇ）を石英管に導入し、下記のプログラムを使用して分析した。温度は、石英管中の試料の真上のＮｉ／Ｃｒ／Ｎｉ熱電対によって測定した。分析には、純度５．０のＨｅを使用した。測定の前にはいつも、較正のためにブランク試料を分析した。
【０１７６】
１．製造：記録の開始；１秒当たり１回測定。２５℃にてＨｅ流量３０ｃｍ３／分（室温（約２５℃）および１気圧）で１０分間待つ）；加熱速度２０Ｋ／分で６００℃まで加熱；１０分間保持。Ｈｅ流（３０ｃｍ３／分）下に冷却速度２０Ｋ／分で１００℃に冷却（炉傾斜温度）；Ｈｅ流（３０ｃｍ３／分）下に冷却速度３Ｋ／分で１００℃に冷却（試料傾斜温度）。
【０１７７】
２．ＮＨ３で飽和：記録の開始；１秒当たり１回測定。ガス流を、１００℃でＨｅ中１０％ＮＨ３の混合物（７５ｃｍ３／分；１００℃および１気圧）に変更；３０分間保持。
【０１７８】
３．過剰物の除去：記録の開始；１秒当たり１回測定。ガス流を、１００℃で７５ｃｍ３／分のＨｅ流れ（１００℃および１気圧）に変更；６０分間保持。
【０１７９】
４．ＮＨ３−ＴＰＤ：記録の開始；１秒当たり１回測定。Ｈｅ流（流量：３０ｃｍ３／分）下に加熱速度１０Ｋ／分で６００℃まで加熱；３０分間保持。
【０１８０】
５．測定終了。
【０１８１】
脱離したアンモニアをオンライン質量分析計によって測定し、これから、熱伝導度検出器からのシグナルは脱離したアンモニアによって生じたことが明らかになる。これは、アンモニアの脱離を監視するために、アンモニアに由来するｍ／ｚ＝１６のシグナルを利用するものである。アンモニアの吸着量（試料のｍｍｏｌ／ｇ数）は、水平ベースラインを用いて、ＭｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓソフトウェアによってＴＰＤシグナルを積算することにより確認した。
【０１８２】
参考例２．１：ＣｕＣＨＡの製造
ａ）国際公開第２０１３／０６８９７６号、実施例２の４３頁２９行目〜４４頁８行目に記載されているテンプレートフリー合成方法に従って、ＣＨＡゼオライト系材料（ナトリウム形）を製造した。
【０１８３】
ｂ）４，０００ｇの脱イオン水を容器に満たした。５９０ｇの硝酸アンモニウムを、その中で撹拌下に溶解し、続いてａ）に従って得られた５９０ｇのゼオライト系材料（ナトリウム形）を撹拌下に混和し、次に１９０ｇの脱イオン水ですすいだ。得られた懸濁液を８０℃に加熱し、この温度で２時間維持した。ゼオライト系材料の得られたアンモニウム形を、濾過により懸濁液から分離し、洗浄水が硝酸塩を含まなくなるまで洗浄した。こうして分離されたゼオライト系材料を、対流式オーブン中、１２０℃で終夜乾燥した。
【０１８４】
ｂ）１３０ｇのａ）のゼオライト系材料を、空気下に室温から加熱速度２Ｋ／分で４５０℃に加熱し、空気下にこの温度で１０時間か焼し、ゼオライト系材料のＨ形を得た。
【０１８５】
ｃ）ＣｕＣＨＡの製造
使用材料：
ｂ）から得られたゼオライトＣＨＡ      １２０ｇ
脱イオン水：                          ７８０ｇ
酢酸（水溶液、７０質量％）：          １．３３２ｇ
酢酸Ｃｕ（ＩＩ）一水和物              １７．１６ｇ
【０１８６】
７００ｇの脱イオン水を容器に移し、撹拌下にゼオライトＣＨＡを添加し、次に３０ｇの脱イオン水を添加した。得られた懸濁液を６０℃に加熱し、この温度で、酢酸を添加し、次に酢酸Ｃｕ（ＩＩ）一水和物を添加した。次いで、５０ｇの水を添加した。得られた混合物を、この６０℃の温度で２時間維持した。得られた懸濁液を、５８６ｇの冷蒸留水の添加により急速冷却した。得られた懸濁液を、ヌッチェ型フィルターを使用して濾過し、濾過ケークを、脱イオン水で洗浄水の伝導率が２０マイクロジーメンス未満になるまで洗浄した。こうして洗浄されたゼオライト系材料を、対流式オーブン中、空気下に１２０℃で終夜乾燥し、次に加熱速度２Ｋ／分で５００℃の温度に加熱し、この温度で５時間か焼した。１２４ｇのゼオライト系材料ＣｕＣＨＡが得られた。ゼオライト系材料の元素分析（質量％）：Ｓｉ＝２９．３；Ａｌ＝６．５；Ｎａ＝０．０７；Ｃｕ＝３．１。
【０１８７】
参考例２．２：ＣｕＹの製造
ａ）５０ｇのゼオライトＹのアンモニウム形を用意した（Ｚｅｏｌｙｓｔ社からのＣＢＶ−５００）。ゼオライトＹのキャラクタリゼーション：シリカ：アルミナ比（ＳＡＲ）＝５．２；単位格子サイズ＝２４．５３Å；ＢＥＴ比表面積＝７５０ｍ３／ｇ；Ｎａ２Ｏ含有量＝０．２質量％。
【０１８８】
ｂ）ａ）のゼオライト系材料を、空気下に室温から加熱速度２Ｋ／分で５００℃に加熱し、空気下にこの温度で５時間か焼することによってそのＨ形に転換した。
【０１８９】
ｃ）ＣｕＹの製造
使用材料：
ｂ）から得られたゼオライトＹ        ５１ｇ
脱イオン水：                        ３３２ｇ
酢酸（水溶液、７０質量％）：        ０．６ｇ
酢酸Ｃｕ（ＩＩ）一水和物            ７．３ｇ
【０１９０】
２５０ｇの脱イオン水を容器に移し、撹拌下にゼオライトＹを添加し、次に３０ｇの脱イオン水を添加した。得られた懸濁液を６０℃に加熱し、この温度で、酢酸を添加し、次に酢酸Ｃｕ（ＩＩ）一水和物を添加した。次いで、水の残量を添加した。得られた混合物を、この６０℃の温度で２時間維持した。得られた懸濁液を、２００ｇの冷蒸留水の添加により急速冷却した。得られた懸濁液を、ヌッチェ型フィルターを使用して濾過し、濾過ケークを、脱イオン水で洗浄水の伝導率が２０マイクロジーメンス未満になるまで洗浄した。こうして洗浄されたゼオライト系材料を、対流式オーブン中、空気下に１２０℃で終夜乾燥し、次に加熱速度２Ｋ／分で５００℃の温度に加熱し、この温度で５時間か焼した。４８．６ｇのゼオライト系材料ＣｕＹが得られた。
【０１９１】
ゼオライト系材料の元素分析（質量％）：Ｓｉ＝２７．２；Ａｌ＝９．２；Ｎａ＝０．１１；Ｃｕ＝１．７。
【０１９２】
［実施例１］
ＣｕＣＨＡから出発したＣｕＡＥＩの製造
使用材料：
ＮａＯＨ（水溶液；５０質量％）：                            ７０．７３ｇ
脱イオン水：                                                ７７０．７１ｇ
１，１，３，５−テトラメチルピペリジニウムＯＨ（Ｓａｃｈｅｍ社；水性混合物、１９．７７質量％）：                                            １９６．１８ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標）  ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）：                                                  １９．８０ｇ
上記の参考例２．１によるＣｕＣＨＡゼオライト系材料：        １６．４０ｇ
【０１９３】
ビーカーを６７０．７１ｇの脱イオン水で満たし、撹拌下にＮａＯＨ溶液を添加した。次いで、テンプレート化合物（１，１，３，５−テトラメチルピペリジニウム水酸化物）を撹拌下に添加し、次に、ＣｕＣＨＡゼオライト系材料を撹拌下に添加した。この混合物を１時間さらに撹拌した。次いで、コロイダルシリカ溶液を撹拌下に添加し、得られた混合物をもう０．５時間撹拌した。得られた懸濁液を２．５Ｌのオートクレーブに移し、入り組んだラインを残りの脱イオン水１００ｇですすいだ。次いで、オートクレーブを密閉した。
【０１９４】
１時間以内に、オートクレーブ中の混合物を１４０℃の温度に加熱し、この結晶化温度にて、２５０ｒｐｍで撹拌下に７２時間維持した。圧力を放出し、室温まで冷却した後、得られた懸濁液を、ヌッチェ型フィルターを使用して濾過し、濾過ケークを、脱イオン水で洗浄水の伝導率が２００マイクロジーメンス未満になるまで洗浄した。こうして洗浄されたゼオライト系材料を、対流式オーブン中、空気下に１２０℃で終夜乾燥し、次に加熱速度２Ｋ／分で５００℃の温度に加熱し、この温度で５時間か焼した。２４．０ｇのゼオライト系材料が得られ、空時収量は、６．１５ｋｇ／ｍ３／ｄであった。
【０１９５】
ゼオライト系材料の元素分析（質量％）：Ｓｉ＝３２；Ａｌ＝４．６；Ｎａ＝３．４；Ｃｕ＝２．０。
【０１９６】
結晶化度は、参考例１．１に記載されているように決定して６５％であった。ＢＥＴ比表面積は、参考例１．２に記載されているように決定して５０１ｍ２／ｇであった。Ｃ値は、参考例１．３に記載されているように決定して−６２であった。参考例１．４に記載されているように決定したＸＲＤパターンを図１に示す。参考例１．５に記載されているように決定したＳＥＭ写真を図２に示す。
【０１９７】
結晶材料の８２％は、ＣｕＡＥＩであり、材料の１８％は、ＣｕＣＨＡであった。
【０１９８】
［実施例２］
ＣｕＹから出発したＣｕＡＥＩの製造
使用材料：
ＮａＯＨ（水溶液；５０質量％）：                            ７０．７３ｇ
脱イオン水：                                                ７７０．７１ｇ
１，１，３，５−テトラメチルピペリジニウムＯＨ（Ｓａｃｈｅｍ社；水性混合物、１９．７７質量％）：                                            １９６．１８ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標）  ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）：                                                  １９．８０ｇ
上記の参考例２．２によるＣｕＹゼオライト系材料：            １６．４０ｇ
【０１９９】
ビーカーを６７０．７１ｇの脱イオン水で満たし、撹拌下にＮａＯＨ溶液を添加した。次いで、テンプレート化合物（１，１，３，５−テトラメチルピペリジニウム水酸化物）を撹拌下に添加し、次に、ＣｕＣＨＡゼオライト系材料を撹拌下に添加した。この混合物を１時間さらに撹拌した。次いで、コロイダルシリカ溶液を撹拌下に添加し、得られた混合物をもう０．５時間撹拌した。得られた懸濁液を２．５Ｌのオートクレーブに移し、入り組んだラインを残りの脱イオン水１００ｇですすいだ。次いで、オートクレーブを密閉した。１時間以内に、オートクレーブ中の混合物を１４０℃の温度に加熱し、この結晶化温度にて、２５０ｒｐｍで撹拌下に７２時間維持した。圧力を放出し、室温まで冷却した後、得られた懸濁液を、ヌッチェ型フィルターを使用して濾過し、濾過ケークを、脱イオン水で洗浄水の伝導率が２００マイクロジーメンス未満になるまで洗浄した。こうして洗浄されたゼオライト系材料を、対流式オーブン中、空気下に１２０℃で終夜乾燥し、次に加熱速度２Ｋ／分で５００℃の温度に加熱し、この温度で５時間か焼した。２８．１ｇのゼオライト系材料が得られ、空時収量は、７．２１ｋｇ／ｍ３／ｄであった。
【０２００】
ゼオライト系材料の元素分析（質量％）：Ｓｉ＝３５；Ａｌ＝４．２；Ｎａ＝１．４；Ｃｕ＝０．７１。
【０２０１】
結晶化度は、参考例１．１に記載されているように決定して９４％であった。ＢＥＴ比表面積は、参考例１．２に記載されているように決定して５８３ｍ２／ｇであった。Ｃ値は、参考例１．３に記載されているように決定して−５２であった。参考例１．４に記載されているように決定したＸＲＤパターンを図３に示す。
【０２０２】
結晶材料の８５％はＣｕＡＥＩからなり、結晶材料の１５％はＣｕＹからなるものであった。
【０２０３】
［実施例３］
フレームワークタイプＡＥＩを有する金属Ｍ（Ｃｕ）を含むゼオライト系材料を、酸化窒素を選択的に接触還元するために使用する方法
実施例１から得られたゼオライト系材料（粉末）および実施例２から得られたゼオライト系材料（粉末）から、それぞれの材料と粉砕機にかけたアルミナスラリー（Ｐｕｒａｌｏｘ（登録商標）  ＴＭ  １００／１５０）を混合すること（ゼオライト系材料：アルミナの質量比＝７０：３０）によって成形体を製造した。撹拌下に、成形体を乾燥し、５５０℃で１時間か焼した。次いで、成形体を粉砕し、２５０〜５００マイクロメートルの粒径に篩過した。その後の試験には、それぞれエージングした材料を使用した。エージングには、粉砕および篩過した粒子を、６５０℃で１０質量％の水を含む空気に５０時間付し、次に８００℃で１０質量％の水を含む空気に１６時間任意に付した。これらの粉砕およびエージングした材料を選択的接触還元試験に付した。このために、それぞれエージングした試料（それぞれ１７０ｍｇ）を、試料と同じ粒径を有するコランダム１ｍＬで希釈した。所与の試料をフィード流（５００ｐｐｍ  ＮＯ、５００ｐｐｍ  ＮＨ３、５％Ｈ２Ｏ、１０％Ｏ２、残部Ｎ２）にガス時空間速度８０，０００／時、フィード流温度２００℃および５７５℃で曝露した。得られた結果を図４および５に示す。図４および５に、参照材料の試験結果も示す。
【０２０４】
参照材料は、国際公開第２０１３／１８２９７４号の実施例１、４７頁１〜１８行目に記載されているように製造した、フレームワークタイプＣＨＡを有するゼオライト系材料である。この材料を、本発明の材料として形成し、粉砕し、エージングし、試験した。
【０２０５】
引用文献
−国際公開第２０１３／０６８９７６号
−Ｄｉｎｎｅｂｉｅｒ，Ｒ．Ｅ．、Ｂｉｌｌｉｎｇｅ  Ｓ．Ｊ．Ｌ．（編）「Ｐｏｗｄｅｒ  ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ：ｔｈｅｏｒｙ  ａｎｄ  ｐｒａｃｔｉｃｅ」中のＭａｄｓｅｎ，Ｉ．Ｃ．、Ｓｃａｒｌｅｔｔ，Ｎ．Ｖ．Ｙ．（２００８年）「Ｑｕａｎｔｉｔａｔｉｖｅ  ｐｈａｓｅ  ａｎａｌｙｓｉｓ」、Ｔｈｅ  Ｒｏｙａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ、２９８〜３３１頁
−国際公開第２０１３／１８２９７４号
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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