【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年2月22日(2018.2.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
[0005]別の型式は、反射ＴＯＦ  ＭＳの中への直交加速が次に続く連続的ないわゆる「閉鎖型」ＥＩ源を採用しており、例えば、ＬＥＣＯ社によるＴｒｕＴＯＦ及びＰｅｇａｓｕｓ  ＨＲＴ（商標）やＷａｔｅｒｓ社によるＧＣＴ（商標）がある。当該源は、化学的ノイズに対するより高い免疫性を提供することはできるが、緩慢応答を有することが知られており、ＧＣ×ＧＣへの適用は制限されよう。また、その様なシステムは、ＥＩ源と直交加速の間の移送インターフェース内の空間的損失のせいで大凡１００倍のイオン損失を生じさせかねない。イオン損失低減化のために衝突四重極を使用するという試みは、ＥＩスペクトルの歪みを引き起こし、ライブラリスペクトルとの整合が巧くいかない、という結果を招く可能性がある。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
[0019]作動時、分析試料（検体）の蒸気は、単段又は二段ガスクロマトグラフ９内で時間的に分離され、加温されている移送ライン８を経由し、電極１３と電極１５の間に画定されているイオン化空間に入ってゆく。或る実施形では、ターボポンプ２Ｐがガス圧力を標準ヘリウム流量１ｍＬ／ｍｉｎで中度の１Ｅ−５Ｔｏｒｒに持続している。電子エミッタ１４（例えば７０ｅｖで作動）からの連続電子ビームが試料を衝撃させ、それによりイオン化空間内に検体のイオンが発生する。電子ビームは、イオンを引き寄せるのに十分な電位を生成し、相応にイオンをトラップする。そして、周期的に電気パルスが板１３及び１６へ印加されて、電子ビームの透過を遮断し、イオンを加速し、イオンはイオンパケット６としてＴＯＦ  ＭＳ３の中へ射出される。かくして、イオンはミラー４内で反射され、検出器７上へ反射される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
[0022]図２を参照すると、「閉鎖型」イオン源を有するＥＩ−ＴＯＦ  ＭＳ２１が描かれており、当該ＥＩ−ＴＯＦ  ＭＳ２１は反射ＴＯＦ  ＭＳ３との組合せによる連続電子衝撃イオン源２２を提供していて、ＴＯＦ  ＭＳ３にはパルス式電極２８及び２９を使用する直交加速器が具備されている。描かれている様に、閉鎖型の源２２は、密閉されたイオン化室２３、電子エミッタ２４、リペラ２５、及びエクストラクタ２６、を備えている。イオン化室２３は、ＧＣ９からの移送ライン８の封止嵌合のためのポート３０を有している。或る実施形では、源は、大抵は静電レンズと操舵板（図示せず）で構成されている移送イオン光学系２７が次に続いている。イオン源領域２２とＴＯＦ  ＭＳ分析器３は、ターボポンプ２Ｐとターボポンプ３Ｐによって排気されている。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
[0024]連続イオン源直交加速式ＴＯＦ  ＭＳは、連続イオンビームの発散がイオン光学素子２７を使用して切り詰められているので、ＴＯＦ  ＭＳ分析器のより高い質量分解能を提供するのに使用することができる。閉鎖型の源の遥かに高いイオン化効率という利点は、移送イオン光学素子２７内の空間的イオン損失（実験的には１０倍と推定）のせいで、及び制限されたデューティサイクル（典型的には、中間的なｍ／ｚ範囲で１０％程度）のせいで、一部が損なわれるかもしれない。総体的には、イオンパケットの強度は、機器１１と機器２１のどちらについても同等である。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
[0026]次に図３を参照すると、反射ＴＯＦ  ＭＳ３の中へのパルス式軸方向注入のためのパルス式「閉鎖型」イオン源３２の或る実施形が示されている。描かれている様に、パルス式「閉鎖型」イオン源３２は、等温囲い３３、イオン化室３４(又は源)、パルス式リペラ３５、正バイアスの掛けられたスリット３６を有する電子エミッタ３３ｅ、出口開口３７、パルス式加速電極３８、及びＴＯＦ  ＭＳ３の加速電位の連続加速電極３９、を備えている。或る実施形態では、源室３４は、ＧＣ×ＧＣユニット９からの移送ライン８のための封止された入口４０を有しており、反射ＴＯＦ  ＭＳ３は、イオンミラー４、遮蔽されたドリフト空間５、及び検出器７、を備えている。或る実施形では、イオンミラー５と検出器７は平行に整列していてもよく、また加速電極３５、３７、３８、及び３９、を有するイオン源室３４は、イオン軌道６の半角に傾けられていてもよい。或る実施形では、イオンパケット６の軌道の傾きは、イオンが一杯まで加速された後にもう半角分について偏向器１０によって操舵されるようになっていてもよい。ＴＯＦ  ＭＳ及びイオン源領域は、ターボポンプ２Ｐ及び３Ｐによって排気されるようになっていてもよい。或る実施形では、ＴＯＦ  ＭＳの無電界領域５は浮動であり、かたやイオン化室３４は接地されている。或る実施形態では、加速電極３７、３８、及び３９は、細目メッシュで覆われていてもよい。或る実施形態では、無メッシュのイオン加速用光学素子が使用されている。描かれている様に、多数の市販の閉鎖型源実施形に比べ、コールドスポットを制限し吸着時間を縮めるべくイオン化室３４及び開口３７の壁の１つ又はそれ以上（例えば壁全て）に２５０Ｃ乃至３００Ｃの均一温度を提供するように、等温ケージ３３が実施されている。吸着時間短縮を図るために、或る実施形では、源は、熱伝導性材料（例えばアルミニウム）のケージと（ステンレス鋼又はニッケルの様な）低吸着性材料の内ライナを含んでいる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
[0027]作動時、ＧＣ×ＧＣが１ｍＬ／ｍｉｎのキャリアガス（典型的にはヘリウム）内の検体を分離することになる。検体は、移送ライン８を通るキャリア流れに乗って封止されたポート４０経由でイオン化室３４の中へ供給される。描かれている様に、エミッタ３３ｅからの連続電子ビームが、その後、検体分子をイオン化し、こうして形成されたイオンを電子ビームの静電井戸内に貯蔵する。或る実施形では、正バイアスの掛けられたスリット３６は、電子ビームを運び、ビームに沿ってイオンをはじき、源の中及び反対側のエミッタ上の両方に形成される低速二次電子の排除を支援する。リペラ３５及びエクストラクタ３８へ周期的に印加されるパルスは、イオンパケットを、質量分析のためにＴＯＦ  ＭＳ３の中へ抽出する。イオンパケットは、典型的に広い空間的角度的受容量を有するＴＯＦ  ＭＳの中へ運ばれ、而してイオンパケットはイオン損失無しに検出器へ送達される。検出器へ向けてのイオン操舵とヘリウムイオンのパルス式偏向の両方のために偏向器７が使用されるのが好適である。電極３５の押し出しパルスは変更器７へのイオン飛行中は滞留して、偏向器７の開状態中の源からのヘリウムイオンの漏出が回避されるようにするのが好適である。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
[0033]或る実施形では、示されている様に、パルス式エクストラクタ４３はメッシュで覆われていてもよい。
[0034]或る実施形では、内ライナ４４は、低吸着性材料（例えばステンレス鋼）で構成さていて、電子スリット４６、移送ライン入口４７、及び開口４５、を画定している。或る実施形では、内ライナ４４はメッシュで覆われていてもよい。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
[0035]引き続き図４及び図５を参照して、等温ケージ４８は、例えば、アルミニウム、銅、ニッケル、又は銀の様な、熱伝導性材料を含んでいよう。他の材料が使用されていてもよく、それによって実施形がその様に限定されるというものではない。更に、等温ケージ４８は、移送ポート５０及び内ライナ４４を電子エミッタ５１に対して露出するための開口４９を含んでいる。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
[0043]直接抽出パルス式イオン源の他のパラメータで、ここに参考文献としてそっくりそのまま援用される「蓄積式電子衝撃イオン源を有する飛行時間型質量分析計」という名称の同時係属特許出願（ＰＣＴ／ＵＳ２０１１／０４８１９８）に記載されている著者の実験的研究に基づいて推定できるパラメータはほとんどなさそうである。例えば、彼の同時係属特許出願は、「閉鎖型」の源であって、イオンを電子ビーム内に約６００ｕｓの期間に亘って蓄積し、イオンパケットを放出し、それらに移送光学素子を通過させ、次いでイオンパケットを直交加速器によって多重反射ＴＯＦ  ＭＳの中へと加速する、「閉鎖型」の源を企図している。留意すべきは、記載の装置は、以上に論じられている源からの直接パルス式抽出とは対照的に直交加速を利用していることである。実験は、感度が移送イオン光学素子での大凡１０倍のイオン損失にも関わらず１００イオン／ｆｇと測定されたことを示唆している。電子ビーム貯蔵容量は、６００ｕｓのパルシング期間では大凡１００ｐｇ／ｓｅｃの装入量で飽和していった。よって、直接抽出式「閉鎖型」源の感度は１０００イオン／ｆｇ及び飽和限界は単段反射ＴＯＦの３０ｕｓ期間で２ｎｇ／ｓｅｃと推定できよう。従って、先行技術の「開放型」パルス式源に比べ大凡１００倍優れた「閉鎖型」源の免疫性を勘案してもなお検出限界は化学的背景によって制限されることが予想される。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】
[0045]更に、或る実施形態では、イオン化室の中へのヘリウム流束を減少させＥＩ分析の全体としてのダイナミックレンジを改善するために、検体流れが希釈されている。
[0046]次に図６を参照すると、封止型試料注入の配列とは対照的に、分子分離を「閉鎖型」パルス式の源の手前で起こさせる配列６２が描かれている。示されている様に、配列は、更に、封止型試料注入用移送ライン６３、入口源スキマー６４、離間型イオン注入用移送ライン６５、及び整列部品６６、を含んでいる。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
[0047]作動時、或る実施形態では、移送ライン６５は、内部ＧＣカラムの軸方向整列のための内インサート（図示せず）を有していて、整列部品６６を使用してスキマー６４と整列されている（例えばどれもが接地電位）。或る実施形態では、移送ライン６５とスキマー６４の間の距離は１−３ｍｍ程度であり、更にスキマー開口は１ｍｍ程度である。その様なスキームは、スキマーへのヘリウム流量を落とし重い検体成分を豊富にすることが予想され、即ち、出現するヘリウム噴流内の検体分子の空間的損失は中性ヘリウムのそれより少なくなると期待される。とはいえ、濃厚化効果の不存在下でさえ、提案されているスキームは、幾つかの恩恵、即ち、（ａ）源内のより低いヘリウム濃度はイオンパルス式抽出でのガス上イオン散乱を低減することができる、（ｂ）より低いヘリウム濃度はイオン貯蔵容量を高めイオンパケット発散を低減することができる、（ｃ）試料の幾分低い流量はマイクロＧＣカラムへの最大装入量（ＧＣカラムの中への大凡１０ｎｇ）と源の拡大された貯蔵限界の間の調和を提供する、及び（ｄ）ＥＩスペクトル図の改善（即ち、その様なスペクトルを標準ＮＩＳＴライブラリスペクトルへより近づける）、を提供するものと期待される。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
[0049]図７を参照して、或る実施形では、ＥＩ源真空室がＴＯＦ  ＭＳ分析器室と組み合わされて単一の真空室３となっている。例えば、５−１０倍低いヘリウム流量（０．１−０．２ｍＬ／ｍｉｎ）では、組み合わされた真空室のガス圧力は１Ｅ−５Ｔｏｒｒ未満となり、これなら０．５−１ｍの短い飛行経路を有するＴＯＦ  ＭＳに適する。或る実施形では、ＧＣ又はＧＣ×ＧＣ９からの移送ライン８経由の過度のヘリウム流れは、二重ポートターボポンプ７８の差動ポート７６によってポンプダウンされ、更に主ポート７７が真空室３を排気するのに使用されている。ヘリウム流れ及び検体流れの一部はＥＩ源７２の入口のスキマー７４を介してサンプリングされる。加えて、機器全体が単一の真空室内に納められていることで、幾つかの機械的制約が軽減される。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
２Ｐ  ターボポンプ
３  反射ＴＯＦ  ＭＳ
３Ｐ  ターボポンプ
４  イオンミラー
５  無電界空間
６  イオンパケット
７  検出器
８  移送ライン
９  ガスクロマトグラフィー
１０  偏向器
１１  パルス式ＥＩイオン源を有するＴＯＦ  ＭＳ
１２  開放型パルス式イオン源
１３  押し出し板
１４  電子エミッタ
１５  接地メッシュ
１６  引き出しメッシュ
１７  加速メッシュ
２１  閉鎖型の源を有するＥＩ−ＴＯＦ  ＭＳ
２２  連続電子衝撃イオン源
２３  イオン化室
２４  電子エミッタ
２５  リペラ
２６  エクストラクタ
２７  移送イオン光学系
２８、２９  パルス式電極
３０  移送ライン用封止ポート
３２  パルス式閉鎖型イオン源
３３  等温囲い
３３ｅ  電子エミッタ
３４  イオン化室
３５  パルス式リペラ
３６  正バイアスの掛けられたスリット
３７  出口開口
３８  パルス式加速電極
３９  連続加速電極
４０  封止された入口
４１  等温閉鎖型パルス式イオン源
４３  パルス式エクストラクタ
４４  内ライナ
４５  開口
４６  電子スリット
４７  移送ライン入口
４８  等温ケージ
４９  開口
５０  移送ポート
５１  一対の正バイアスの掛けられたスリット
５１ｅ  電子エミッタ
５２  リペラ
５３  底ライナ
５４  基部
５５  ヒーター
５６  通気用の開口
５７  隔離体
５８  セラミックスペーサ
５９  ホルダ
６０  真空取付フランジ
６２  分子分離を閉鎖型パルス式源の手前で起こさせる配列
６３  封止型試料注入用移送ライン
６４  入口源スキマー
６５  離間型イオン注入用移送ライン
６６  整列部品
６７  排気室
６８  ポンプ
７２  ＥＩ源
７４  スキマー
７６  差動ポート
７７  主ポート
７８  二重ポートターボポンプ