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【手続補正書】
【提出日】平成30年11月1日(2018.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回動する複数のアームを有するマニピュレーターを備えたロボットであって、
前記複数のアームは、第ｎ（ｎは１以上の整数）回動軸周りに回動する第ｎアームと、
前記第ｎアームに設けられ、前記第ｎ回動軸の軸方向と異なる軸方向である第（ｎ＋１）回動軸周りに回動する第（ｎ＋１）アームと、を有し、
前記第（ｎ＋１）回動軸の軸方向から見て、前記第ｎアームと前記第（ｎ＋１）アームとが重なることが可能であり、
前記マニピュレーターを動作させる場合、前記複数のアームのうちの少なくとも１つの前記アームの回動角度が制限されることを特徴とするロボット。
【請求項２】
前記第ｎアームの長さは、前記第（ｎ＋１）アームの長さよりも長い請求項１に記載のロボット。
【請求項３】
前記第ｎアーム（ｎは１である）は基台に設けられている請求項１または２に記載のロボット。
【請求項４】
前記マニピュレーターの先端または前記マニピュレーターに設けられたエンドエフェクターの先端が侵入することを禁止する禁止領域を有する請求項１ないし３のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項５】
前記禁止領域は、前記第（ｎ＋１）アームの回動角度に基づいて設定される請求項４に記載のロボット。
【請求項６】
前記複数のアームは、前記第（ｎ＋１）アームに設けられ、第（ｎ＋２）回動軸周りに回動する第（ｎ＋２）アームを有し、
前記禁止領域は、前記第（ｎ＋２）アームの回動角度に基づいて設定される請求項４または５に記載のロボット。
【請求項７】
前記マニピュレーターの先端または前記マニピュレーターに設けられたエンドエフェクターの先端を、第１位置から前記第１位置と異なる第２位置に移動させる場合、前記第１位置または前記第２位置に基づいて、前記複数のアームのうちの少なくとも１つのアームの回動角度が制限される請求項１ないし６のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項８】
前記マニピュレーターの先端または前記マニピュレーターに設けられたエンドエフェクターの先端を、前記第１位置から前記第２位置に移動させる場合、前記第１位置および前記第２位置に基づいて、前記複数のアームのうちの少なくとも１つのアームの回動角度が制限される請求項７に記載のロボット。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載のロボットの動作を制御することを特徴とする制御装置。
【請求項１０】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載のロボットと、
前記ロボットの動作を制御する制御装置と、を備えることを特徴とするロボットシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月9日(2018.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
図２は、ねじ切り加工において、主軸１の回転速度である主軸回転速度が工具パス（パス）単位で変更される例が示される説明図である。１つのパスは、主軸１（チャック２）によって回転しているワーク３に対して工具８を径方向へ切り込ませてワーク３の軸方向へ移動させた後、径方向へ逃がすといったものであり、工作機械１７にあってはかようなパスが適宜繰り返される。図２では、最初の（加工開始から数えて１番目の）パスが１と表示され、次のパスが２と表示され、同様にそれ以降のパスが示されている。演算部１３は、主軸回転速度の基準回転速度Ｓの現在の設定値である基準回転速度設定値Ｓ０や、基準回転速度設定値Ｓ０からの変更度合を示す変更幅Ｗ（％）の現在の設定値である変更幅設定値Ｗ０といったパラメータに基づいて、記憶部１２に記憶された下記［数１］を参照し、主軸回転速度を変更した場合の主軸回転速度の最大値である変更最大速度ＳＨと、主軸回転速度の最小値である変更最小速度ＳＬとを算出する。そして、工作機械制御部１０は、主軸回転速度を、パス単位で、算出された変更最大速度ＳＨと変更最小速度ＳＬの何れかに変更するよう主軸制御部９に指令を送るようになっている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
上記工作機械１７は、軸状のワーク３を把持する主軸１のチャック２と、ワーク３に対してその径方向及び軸方向へ移動可能な工具８と、ワーク３と工具８とを相対的にワーク３の軸線周りに回転させながら、ワーク３に対して工具８を径方向へ切り込ませてワーク３の軸方向へ移動させた後、工具８を径方向へ逃がすといった工具パスを繰り返してねじ切り加工を行う送り軸制御部と、ワーク３と工具８の相対的な回転速度に相当する主軸回転速度を工具パス単位で変更可能な主軸制御部９と、工具パス毎の主軸回転速度を演算する工作機械制御部１０とを備えており、主軸制御部９は、主軸回転速度を、基準回転速度Ｓの設定値である基準回転速度設定値Ｓ０から変更幅Ｗの設定値である変更幅設定値Ｗ０分高い速度である変更最大速度ＳＨと、変更幅設定値Ｗ０分低い速度である変更最小速度ＳＬとで変更すると共に、びびり振動が抑制されるものとして予め記憶された基準回転速度Ｓと変更幅Ｗの条件を示す速度条件情報を参照して、基準回転速度設定値Ｓ０及び前記変更幅設定値Ｗ０の少なくとも一方が速度条件情報の条件を満たさない場合には、条件を満たすように基準回転速度設定値Ｓ０及び変更幅設定値Ｗ０の少なくとも一方の変更を促す表示を表示部１４において行う。よって、びびり振動を効率的に抑制可能な回転速度やその変更幅等を容易に設定し得る工作機械１７を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月5日(2018.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物体を把持するロボットの動作を制御するロボット制御装置であって、
前記対象物体の位置および姿勢に関する情報を取得する取得手段と、
前記対象物体の撮像画像に基づいて、複数の把持モードの中から、１つの把持モードを選択する選択手段と、
前記取得手段が取得した位置および姿勢に関する情報と、前記選択手段が選択した把持モードとに基づいて、前記ロボットの把持動作を規定する把持動作データを生成する生成手段と、
を備えることを特徴とするロボット制御装置。
【請求項２】
前記取得手段は、前記対象物体の撮像画像に基づいて、前記位置および姿勢に関する情報を取得し、
前記選択手段は、前記取得手段が取得した前記位置および姿勢に関する情報に対応する把持モードを選択することを特徴とする請求項１に記載のロボット制御装置。
【請求項３】
前記取得手段は、前記対象物体の撮像画像に基づいて、複数の前記位置および姿勢に関する情報を取得可能であり、
前記選択手段は、前記取得手段が取得した前記位置および姿勢に関する情報の種類に応じて、前記把持モードを選択することを特徴とする請求項２に記載のロボット制御装置。
【請求項４】
前記取得手段は、１つの種類の前記位置および姿勢に関する情報を取得し、
前記選択手段が前記１つの種類の位置および姿勢に関する情報に対応する把持モードを選択することができた場合には、前記生成手段は前記１つの種類の位置および姿勢に関する情報を用いて、前記把持動作データを生成し、
前記選択手段が前記１つの種類の位置および姿勢に関する情報に対応する把持モードを選択することができなかった場合には、前記取得手段は他の種類の位置および姿勢に関する情報を取得することを特徴とする請求項３に記載のロボット制御装置。
【請求項５】
前記取得手段は、１つの種類の前記位置および姿勢に関する情報を取得し、
前記選択手段が前記１つの種類の位置および姿勢に関する情報に対応する把持モードを選択することができた場合には、前記生成手段は前記１つの種類の位置および姿勢に関する情報を用いて、前記把持動作データを生成し、
前記選択手段が前記１つの種類の位置および姿勢に関する情報に対応する把持モードを選択することができなかった場合には、前記選択手段は、他の把持モードを選択することを特徴とする請求項３に記載のロボット制御装置。  
【請求項６】
前記対象物体を計測する計測手段をさらに備え、前記選択手段は前記計測手段により計測された値を用いて前記把持モードを選択することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のロボット制御装置。
【請求項７】
前記位置および姿勢に関する情報は、前記対象物体の位置および姿勢を特定する情報を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のロボット制御装置。
【請求項８】
前記位置および姿勢に関する情報は、前記対象物体の取り得る位置および姿勢の範囲を示す情報を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のロボット制御装置。
【請求項９】
前記位置および姿勢に関する情報は、所定の領域内において前記対象物体が存在することを示す情報を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のロボット制御装置。
【請求項１０】
前記撮像画像に基づいて、前記対象物体の位置および姿勢を特定することができた場合、前記選択手段は、前記対象物体の当該位置および姿勢に基づいて把持モードを選択することを特徴とする請求項２に記載のロボット制御装置。
【請求項１１】
前記撮像画像に基づいて、前記対象物体の位置および姿勢を特定することができず、前記対象物体の取り得る位置および姿勢の範囲を検出できた場合は、前記選択手段は、前記対象物体の当該取り得る位置および姿勢の範囲に基づいて把持モードを選択することを特徴とする請求項２に記載のロボット制御装置。
【請求項１２】
前記撮像画像に基づいて、前記対象物体の位置および姿勢を特定できず且つ前記対象物体の取り得る位置および姿勢の範囲を検出できず、所定の領域内において前記対象物体が存在することを検出できた場合は、前記選択手段は、所定の領域の情報に基づいて把持モードを選択することを特徴とする請求項２に記載のロボット制御装置。
【請求項１３】
前記選択手段が選択した把持モードが、前記取得手段が取得した情報のいずれにも対応しない場合、前記生成手段は、前記対象物体の位置および姿勢に関する情報を用いずに把持動作データを生成することを特徴とする請求項３に記載のロボット制御装置。
【請求項１４】
前記複数の位置および姿勢に関する情報の中から、前記取得手段が取得すべき位置および姿勢に関する情報を決定する決定手段をさらに備えることを特徴とする請求項３記載のロボット制御装置。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載のロボット制御装置と、前記対象物体を把持するロボットと、を備えるロボットシステム。
【請求項１６】
対象物体を把持するロボットの動作を制御するロボット制御装置の制御方法であって、
前記ロボット制御装置を用いて、前記対象物体の位置および姿勢に関する情報を取得する取得工程と、
前記ロボット制御装置を用いて、前記対象物体の撮像画像に基づいて、複数の把持モードの中から、１つの把持モードを選択する選択工程と、
前記ロボット制御装置を用いて、前記取得工程で取得した位置および姿勢に関する情報と、前記選択工程で選択した把持モードとに基づいて、前記ロボットの把持動作を規定する把持動作データを生成する生成工程と、
を備えることを特徴とするロボット制御装置の制御方法。
【請求項１７】
コンピュータを、対象物体を把持するロボットの動作を制御するロボット制御装置であって、
前記対象物体の位置および姿勢に関する情報を取得する取得手段と、
前記対象物体の撮像画像に基づいて、複数の把持モードの中から、１つの把持モードを選択する選択手段と、
前記取得手段が取得した位置および姿勢に関する情報と、前記選択手段が選択した把持モードとに基づいて、前記ロボットの把持動作を規定する把持動作データを生成する生成手段と、
を備えるロボット制御装置として機能させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の１つの態様によるロボット制御装置は、対象物体を把持するロボットの動作を制御するロボット制御装置であって、前記対象物体の位置および姿勢に関する情報を取得する取得手段と、前記対象物体の撮像画像に基づいて、複数の把持モードの中から、１つの把持モードを選択する選択手段と、前記取得手段が取得した位置および姿勢に関する情報と、前記選択手段が選択した把持モードとに基づいて、前記ロボットの把持動作を規定する把持動作データを生成する生成手段と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月1日(2018.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転する砥石をＸ方向に移動する砥石台と、ワークを支持して回転させる主軸と、Ｘ方向に直交するＺ方向に前記主軸と前記砥石の相対位置を変更して研削を行う円筒研削盤による加工法であって、
ワーク端面の仕上がり形状に基づいて、前記主軸に支持されたワークが一回転する間の回転位相に対応して、ワーク端面への切り込み深さを指定し、
回転位相に対応して指定された切り込み深さに基づいて、回転する前記ワークに対して、前記砥石が相対移動するように同期制御をすることにより、前記ワーク端面への切り込みを行う加工方法であり、
さらに前記加工方法は、
前記砥石台による砥石の切り込み送り移動を行わない状態で前記砥石を回転させ、
前記砥石に対して前記ワークがＺ方向に相対移動を行わない状態で前記主軸を回転させ、
任意点を中心に前記主軸の回転軸をＸＺ面内で揺動可能とし、
前記ワークが一回転する間の回転位相に対応して指定された切り込み深さを、前記任意の一点と前記砥石の研削面との間の距離を用いて前記主軸の回転軸に対する揺動角度αに換算し、
前記換算した角度αにより前記一点を中心に前記主軸の回転軸をＸＺ面内で揺動させることにより、前記主軸の回転軸の方向へ前記ワーク端面を切り込ませることを特徴とする円筒研削盤による端面部形状の加工方法。
【請求項２】
回転する砥石をＸ方向に移動する砥石台と、ワークを支持して回転させる主軸と、Ｘ方向に直交するＺ方向に前記主軸と前記砥石の相対位置を変更して研削を行う円筒研削盤による加工方法であって、
ワーク端面の仕上がり形状に基づいて、前記主軸に支持されたワークが一回転する間の回転位相に対応して、ワーク端面への切り込み深さを指定し、
回転位相に対応して指定された切り込み深さに基づいて、回転する前記ワークに対して、前記砥石が相対移動するように同期制御をすることにより、前記ワーク端面への切り込みを行う加工方法であり、
さらに前記加工方法は、
前記砥石台による砥石の切り込み送り移動を行わない状態で前記砥石を回転させ、
前記砥石に対して前記ワークがＺ方向に相対移動を行わない状態で前記主軸を回転させ、
任意一点を中心に前記砥石を揺動可能とし、
前記ワークが一回転する間の回転位相に対応して指定された切り込み深さを、前記任意の一点から前記砥石の研削先端までの距離を用いて前記砥石に対する揺動角度βに換算し、
前記換算した角度βにより前記任意一点を中心に前記砥石を揺動させることにより、前記主軸の回転軸の方向へ前記ワーク端面を切り込ませることを特徴とする円筒研削盤による端面部形状の加工方法。
【請求項３】
回転する砥石をＸ方向に移動する砥石台と、ワークを支持して回転させる主軸と、Ｘ方向に直交するＺ方向に前記主軸と前記砥石の相対位置を変更して研削を行う円筒研削盤による加工方法であって、
ワーク端面の仕上がり形状に基づいて、前記主軸に支持されたワークが一回転する間の回転位相に対応して、ワーク端面への切り込み深さを指定し、
回転位相に対応して指定された切り込み深さに基づいて、回転する前記ワークに対して、前記砥石が相対移動するように同期制御をすることにより、前記ワーク端面への切り込みを行う加工方法であり、
さらに前記加工方法は、
Ｘ方向に対する回転軸Ｃｍの方向の角度を固定し、かつ前記砥石をＸ方向に固定して、
前記回転位相に対応して指定された切り込み深さに基づいて、前記Ｚ方向に前記砥石と前記ワークを相対移動することにより、前記主軸の回転軸の方向へ前記ワーク端面を切り込ませることを特徴とする円筒研削盤による端面部形状の加工方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月27日(2018.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記角度ずれ量算出手段は、前記分割されている前記ライン群ごとに前記角度θadjを求めて、前記ライン群ごとに求めた前記角度θadjの平均値を求める請求項８に記載のインクジェット印刷装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
第９態様は、第８態様のインクジェット印刷装置において、角度ずれ量算出手段は、分割されているライン群ごとに角度θadjを求めて、ライン群ごとに求めた角度θadjの平均値を求める構成とすることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
Ｐ６＝ ２１．２ ＋ ｄ７ − ｄ６ ≒ ２１．２ + ２ −（−２）＝ ２５．２ [μｍ]
…  式（３）
しかし、図９を見れば明らかなように、本来は、ノズル番号６とノズル番号７のθｚ回転によるＸ方向の相対的な移動量は、むしろ互いに近づく方向であることがわかる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２６】
ステップＳ２２では、インクジェットヘッド１００を現在の角度ずれの状態にした場合に、各ノズルのノズル位置がθz＝０の状態からみて、どれくらい移動しているのかを計算する。ステップＳ２２の工程は「第３演算工程」の一形態に相当する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月20日(2018.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材となるプラスチックフィルムと、
前記プラスチックフィルム上に形成された第１の非晶質炭素系薄膜と、
前記第１の非晶質炭素系薄膜上に形成され、酸化ケイ素を主成分とする第１の酸化ケイ素系薄膜と、
前記第１の酸化ケイ素系薄膜上に形成された第２の非晶質炭素系薄膜と、を含み、
前記第１の酸化ケイ素系薄膜は、大気圧プラズマＣＶＤ法により形成され、直径１０〜２００ｎｍの範囲のピンホールを有している、薄膜積層フィルム。
【請求項２】
前記第２の非晶質炭素系薄膜が前記第１の酸化ケイ素系薄膜の前記ピンホールの内部に嵌入している、請求項１に記載の薄膜積層フィルム。
【請求項３】
前記第２の非晶質炭素系薄膜上に形成された第２の酸化ケイ素系薄膜と、前記第２の酸化ケイ素系薄膜上に形成された第３の非晶質炭素系薄膜をさらに備える、請求項１又は２に記載の薄膜積層フィルム。
【請求項４】
前記第２の非晶質炭素系薄膜の膜厚が前記ピンホールのないところで１層あたり１０〜１５０ｎｍであり、前記第１の酸化ケイ素系薄膜の膜厚が前記ピンホールのないところで１層あたり５〜１００ｎｍである、請求項１〜３のいずれか一つに記載の薄膜積層フィルム。
【請求項５】
前記第１の非晶質炭素系薄膜及び前記第２の非晶質炭素系薄膜は、大気圧プラズマＣＶＤ法により形成される、請求項１〜４のいずれか一つに記載の薄膜積層フィルム。
【請求項６】
基材となるプラスチックフィルムの少なくとも一方の表面に、酸化ケイ素系薄膜及び非晶質炭素系薄膜を１層ずつ積層又は合計３層以上交互に積層してなり、かつ、前記酸化ケイ素系薄膜の上に前記非晶質炭素系薄膜が形成されていることを１組とする積層単位を少なくとも一つ含む薄膜積層フィルムの製造方法であって、
前記非晶質炭素系薄膜を形成するための工程は、不活性ガスからなる希釈ガスと炭化水素ガスとが混合された炭素系原料ガスに、大気圧下において高周波パルス電圧を印加して該炭素系原料ガスを放電プラズマ化し、該放電プラズマ化された炭素系原料ガスを成膜の対象となる表面に接触させて、該表面に前記非晶質炭素系薄膜を形成する工程を含み、
前記酸化ケイ素系薄膜を形成するための工程は、不活性ガスからなる希釈ガスと蒸気化されたケイ素を含む有機金属化合物と酸素ガスとが混合された金属酸化物原料ガスに、大気圧下において高周波パルス電圧を印加して該金属酸化物原料ガスを放電プラズマ化し、該放電プラズマ化された金属酸化物原料ガスを成膜の対象となる表面に接触させて、該表面に前記酸化ケイ素系薄膜を形成する工程を含む、薄膜積層フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記有機金属化合物は、トリメチルシラン（ＴｒＭＳ）、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）及びヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）よりなる群のうち少なくとも１種である、請求項６に記載の薄膜積層フィルムの製造方法。
【請求項８】
基材となる帯状のプラスチックフィルムの少なくとも一方の表面に、大気圧プラズマＣＶＤ法によって少なくとも２種以上の薄膜を積層して成膜する薄膜積層フィルムの製造装置であって、
該製造装置は、並べて配置された少なくとも２つ以上のチャンバーと、高周波パルス電源を有し、
前記各チャンバーは、前記帯状のプラスチックフィルムが、チャンバー内部を往復して通過するための出入り口を有し、
前記各チャンバーの内部空間には、往路にある前記帯状のプラスチックフィルムの非成膜面が接触し、かつ自らの軸線まわりに回転して該帯状のプラスチックフィルムを搬送する複数のロール電極からなる第１ロール電極群と、復路にある前記帯状のプラスチックフィルムの非成膜面が接触し、かつ自らの軸線まわりに回転して該帯状のプラスチックフィルムを搬送する複数のロール電極からなる第２ロール電極群とが、前記往路にある帯状のプラスチックフィルムの被成膜面と前記復路にある帯状のプラスチックフィルムの被成膜面とが隙間をもって平行となる位置に配置されており、かつ、前記薄膜の１層を形成するための原料ガスを吹き出す原料ガスノズルが配置されており、
前記第１ロール電極群の複数のロール電極は、互いに接触し合わず、ロール外周に誘電体層を有し、
前記第２ロール電極群の複数のロール電極は、互いに接触し合わず、ロール外周に誘電体層を有し、
前記第１ロール電極群及び前記第２ロール電極群は、いずれか一方が前記高周波パルス電源から大気圧下において高周波パルス電圧が印加され、他方が接地されており、前記第１ロール電極群と前記第２ロール電極群との間の空間は、前記高周波パルス電圧の印加によって放電空間となり、
前記原料ガスノズルは、前記放電空間に向けて前記原料ガスを吹き出し、
隣り合う前記チャンバーの前記原料ガスノズルは、互いに異種の前記原料ガスを流す、薄膜積層フィルムの製造装置。
【請求項９】
不活性ガスからなる希釈ガスと炭化水素ガスとが混合された炭素系原料ガスに、大気圧下において高周波パルス電圧を印加して該炭素系原料ガスを放電プラズマ化し、該放電プラズマ化された炭素系原料ガスをプラスチックフィルムの一方の表面に接触させて第１の非晶質炭素系薄膜を形成する工程と、
不活性ガスからなる希釈ガスと蒸気化されたケイ素を含む有機金属化合物と酸素ガスとが混合された金属酸化物原料ガスに、大気圧下において高周波パルス電圧を印加して該金属酸化物原料ガスを放電プラズマ化し、該放電プラズマ化された金属酸化物原料ガスを、前記第１の非晶質炭素系薄膜の一方の表面に接触させて、直径１０〜２００ｎｍの範囲のピンホールを有する第１の酸化ケイ素系薄膜を形成する工程と、
不活性ガスからなる希釈ガスと炭化水素ガスとが混合された炭素系原料ガスに、大気圧下において高周波パルス電圧を印加して該炭素系原料ガスを放電プラズマ化し、該放電プラズマ化された炭素系原料ガスを前記第１の酸化ケイ素系薄膜の一方の表面に接触させて第２の非晶質炭素系薄膜を形成する工程と、
を含む薄膜積層フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記金属酸化物原料ガスにおける前記有機金属化合物の濃度は、１０〜２００ｐｐｍ（体積比）であり、前記金属酸化物原料ガスにおける前記酸素ガスの濃度は、１〜１０体積％である、請求項９に記載の薄膜積層フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記第１の酸化ケイ素系薄膜を形成する工程の後に０〜６０秒の範囲の時間内に前記第２の非晶質炭素系薄膜を形成する工程を行う、請求項９又は１０に記載の薄膜積層フィルムの製造方法。
【請求項１２】
前記第２の非晶質炭素系薄膜の膜厚が前記ピンホールのないところで１層あたり１０〜１５０ｎｍであり、前記第１の酸化ケイ素系薄膜の膜厚が前記ピンホールのないところで１層あたり５〜１００ｎｍである、請求項９〜１１のいずれか一つに記載の薄膜積層フィルムの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月18日(2018.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を収容可能で、収容された液体の量に応じて支軸を中心に回動可能な揺動体を有した液体収容容器を搭載可能であり、前記液体収容容器に収容された液体を吐出する液体吐出装置であって、
前記支軸は、前記揺動体に設けられた貫通穴に通されており、前記支軸の延在する方向と垂直な方向において、前記支軸の先端部である止め部の面積は、前記貫通穴の開口面積よりも広いことを特徴とする液体吐出装置。
【請求項２】
前記揺動体は、前記液体収容容器に収容された液体の量に応じて位置を変位させるフロート部と、
前記フロート部の位置に対応して移動し、前記液体収容容器の外部から位置を検知され得るように設けられた検知部と、を備えている請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項３】
前記検知部を検知するセンサを備え、前記センサからの情報によって前記液体収容容器の液体残量を検知可能である請求項２に記載の液体吐出装置。
【請求項４】
前記液体収容容器には、前記フロート部の移動を制限する支柱が設けられている請求項２または請求項３に記載の液体吐出装置。
【請求項５】
前記液体収容容器の液体を収容する部分の一部は、可撓性のフィルムによって形成されている請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の液体吐出装置。
【請求項６】
前記液体収容容器は枠部を有し、前記止め部の高さは前記枠部の高さよりも高い請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の液体吐出装置。
【請求項７】
前記液体収容容器の液体を収容する部分の一部は、可撓性のフィルムによって形成されており、前記止め部は、前記可撓性のフィルムに溶着されている請求項６に記載の液体吐出装置。
【請求項８】
前記液体収容容器は枠部を有し、前記止め部の高さは前記枠部の高さよりも低い請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の液体吐出装置。
【請求項９】
前記支軸は、前記液体収容容器の外形を形成する部材の一部に形成されている請求項１ないし請求項８のいずれか１項に記載の液体吐出装置。
【請求項１０】
液体を収容可能で、収容された液体の量に応じて支軸を中心に回動可能な揺動体を備え、前記支軸が前記揺動体に設けられた貫通穴に通された液体収容容器の製造方法であって、
前記支軸の一部を溶融して加締めることで、前記支軸の延在する方向と垂直な方向において、前記支軸の先端部である止め部の面積が、前記貫通穴の開口面積よりも広くすることで、前記支軸に前記揺動体を組み付ける組み付け工程を有することを特徴とする液体収容容器の製造方法。
【請求項１１】
前記支軸に所定の幅を備えたスペーサをセットするセット工程と、
前記スペーサを取り除く取り除き工程と、を更に備え、
前記セット工程の後に前記組み付け工程が行われ、前記組み付け工程の後に、前記取り除き工程が行われる請求項１０に記載の液体収容容器の製造方法。
【請求項１２】
前記揺動体よりも溶融点の低い材料から成る前記支軸を形成する工程を有する請求項１０または１１に記載の液体収容容器の製造方法。
【請求項１３】
前記液体収容容器は、枠部と、前記液体収容容器の液体を収容する部分の一部と、を有し、
前記液体収容容器の製造方法は、前記枠部に、前記液体収容容器の液体を収容する部分の前記一部を貼って、液体を貯留する部分の側面を塞ぐ工程を更に有し、
前記液体を貯留する部分の側面を塞ぐ工程は、前記組み付け工程の後に行われる請求項１０ないし１２のいずれか１項に記載の液体収容容器の製造方法。
【請求項１４】
前記液体収容容器への前記揺動体の組み付けは、コンスタントヒータやインパルスヒータを用いて金属ブロックを加熱し、前記支軸の先端部に前記金属ブロックを押し当てることで行う請求項１０ないし１３のいずれか１項に記載の液体収容容器の製造方法。
【請求項１５】
前記液体収容容器への前記揺動体の組み付けは、超音波溶着機やねじり振動溶着機によって前記支軸の先端部に摩擦熱を生じさせることで行う請求項１０ないし１３のいずれか１項に記載の液体収容容器の製造方法。
【請求項１６】
前記液体収容容器は、枠部を有し、
前記液体収容容器の液体を収容する部分の一部は可撓性のフィルムによって形成され、
前記液体収容容器の製造方法は、前記枠部に前記可撓性のフィルムを貼って、液体を貯留する部分の側面を塞ぐ工程を更に有し、
前記液体を貯留する部分の側面を塞ぐ工程は、前記組み付け工程と同時に行う請求項１０ないし１２のいずれか１項に記載の液体収容容器の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液体吐出装置および液体収容容器の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、液体を収容可能であり、液体の残量を検知する検知手段を備えた液体吐出装置および液体収容容器の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
よって本発明は、低コストである液体吐出装置および液体収容容器の製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、液体を収容可能で、収容された液体の量に応じて支軸を中心に回動可能な揺動体を有した液体収容容器を搭載可能であり、前記液体収容容器に収容された液体を吐出する液体吐出装置であって、前記支軸は、前記揺動体に設けられた貫通穴に通されており、前記支軸の延在する方向と垂直な方向において、前記支軸の先端部である止め部の面積は、前記貫通穴の開口面積よりも広いことを特徴とする液体吐出装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明によれば、低コストである液体吐出装置および液体収容容器の製造方法を実現することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月8日(2018.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】圧着シート
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材の少なくとも一方の面に感圧接着層を備え、折部で折られて重なる感圧接着層により圧着される圧着シートにおいて、
前記圧着シートをめくり開く際のきっかけとなるコーナー部もしくはコーナーカット部の基材および感圧接着層が圧縮されていることを特徴とする圧着シート。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明によれば接着力を弱めたコーナー部もしくはコーナーカット部を形成することができるので、本発明の圧着シートをめくり開く際に、コーナー部もしくはコーナーカット部から圧着シートをきれいに剥がすことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月22日(2018.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光体の表面を露光する光の複数のスポット径それぞれに対応する複数の階調補正特性に基づき画素データを補正して、複数の補正データを生成する補正手段と、
前記画素データに対応する画素の前記感光体上のスポット径に基づき比率を設定する設定手段と、
前記比率に基づき、前記複数の補正データをブレンドした階調補正データを生成するブレンド手段とを有する画像処理装置。
【請求項２】
前記補正手段は、
前記光の第一のスポット径に対応する階調補正特性に基づき前記画素データを補正した第一の補正データを生成する手段と、
前記光の第二のスポット径に対応する階調補正特性に基づき前記画素データを補正した第二の補正データを生成する手段とを有する請求項1に記載された画像処理装置。
【請求項３】
前記第一のスポット径は前記感光体の有効主走査範囲の中央部における前記光のスポット径に対応し、前記第二のスポット径は前記有効主走査範囲の端部における前記光のスポット径に対応する請求項2に記載された画像処理装置。
【請求項４】
前記第一のスポット径は前記光の最小のスポット径に対応し、前記第二のスポット径は前記光の最大のスポット径に対応する請求項2に記載された画像処理装置。
【請求項５】
前記補正手段は、
前記光の最小のスポット径に対応する階調補正特性に基づき前記画素データを補正した第一の補正データを生成する手段と、
前記光の最大のスポット径に対応する階調補正特性に基づき前記画素データを補正した第二の補正データを生成する手段と、
前記最小および最大のスポット径の中間のスポット径に対応する階調補正特性に基づき前記画素データを補正した第三の補正データを生成する手段とを有する請求項1に記載された画像処理装置。
【請求項６】
前記設定手段は、
スポット径テーブルに基づき、前記感光体上の形成位置に対応するスポット径を取得する第一の取得手段と、
ブレンド比率テーブルに基づき、前記取得されたスポット径に対応する前記比率を取得する第二の取得手段とを有する請求項1から請求項5の何れか一項に記載された画像処理装置。
【請求項７】
前記設定手段は、前記画素データに対応する画素の前記感光体上の形成位置におけるスポット径に基づいて、前記感光体上の形成位置と比率とを対応づけたテーブルを参照して、前記比率を設定する請求項1から請求項6の何れか一項に記載された画像処理装置。
【請求項８】
前記設定手段は、前記形成位置における露光量を制御するために、光強度テーブルに基づき、前記取得されたスポット径に対応する光強度信号を取得する第三の取得手段を有する請求項6に記載された画像処理装置。
【請求項９】
前記光強度テーブルは、前記スポット径が大きくなると光強度信号値が大きくなる特性を有する請求項8に記載された画像処理装置。
【請求項１０】
前記階調補正データに基づき、前記感光体に照射する光を発光する発光素子の駆動信号を生成する手段を有し、前記駆動信号および前記光強度信号は画像形成装置に出力される請求項8または請求項9に記載された画像処理装置。
【請求項１１】
請求項1から請求項10の何れか一項に記載された画像処理装置と、
前記画像処理装置から入力される信号に基づき画像形成を行う画像形成手段とを有する画像形成装置。
【請求項１２】
感光体の表面を露光する光の複数のスポット径それぞれに対応する複数の階調補正特性に基づき画素データを補正して、複数の補正データを生成し、
前記画素データに対応する画素の前記感光体上のスポット径に基づき比率を設定し、
前記比率に基づき、前記複数の補正データをブレンドした階調補正データを生成する画像処理方法。
【請求項１３】
コンピュータを請求項1から請求項11の何れか一項に記載された画像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月29日(2018.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像処理装置であって、
感光体上に露光される光の複数のスポット径に基づいて決定され、前記感光体上の位置によって変化する複数の階調補正特性を保持する保持手段と、
前記感光体上の形成位置を取得する取得手段と、
前記形成位置に基づき、前記保持手段に保持された前記複数の階調補正特性から選択された階調補正特性を設定する設定手段と、
前記設定された階調補正特性に基づき前記形成位置の画素データを補正して、階調補正データを生成する補正手段と、
前記補正手段により生成された前記階調補正データに基づき画像形成を実行する画像形成手段と
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記取得手段は、スポット径テーブルに基づき、前記形成位置をそのスポット径とともに取得し、
前記設定手段は、取得されたスポット径に基づき、前記複数の階調補正特性から前記階調補正特性を設定する
ことを特徴とする請求項１に記載された画像処理装置。
【請求項３】
前記取得手段は、スポット径テーブルに基づき、前記形成位置をそのスポット径とともに取得し、
前記設定手段は、前記複数の階調補正特性から、前記取得されたスポット径を挟む二つスポット径に対応する二つの設定された階調補正特性を選択し、
前記補正手段は、更に、前記二つの階調補正特性が対応するスポット径に基づく比率を算出する
ことを特徴とする請求項１に記載された画像処理装置。
【請求項４】
前記補正手段は、
前記二つの設定された階調補正特性の一方に基づき前記画素データを補正した第一の補正データを生成し、
前記二つの設定された階調補正特性の他方に基づき前記画素データを補正した第二の補正データを生成し、
前記比率に基づき、前記第一および第二の補正データとをブレンドした前記階調補正データを生成する
ことを特徴とする請求項３に記載された画像処理装置。
【請求項５】
前記設定手段は、前記画素データに対応する画素の前記感光体上の形成位置におけるスポット径に基づいて、前記階調補正特性を設定する請求項１から請求項４の何れか一項に記載された画像処理装置。
【請求項６】
前記階調補正データに基づき、前記感光体に照射する光を発光する発光素子の駆動信号を生成する生成手段を更に有し、前記画像形成手段は前記駆動信号に基づき画像形成を実行する請求項２から請求項５の何れか一項に記載された画像処理装置。
【請求項７】
感光体上に露光される光の複数のスポット径に基づいて決定され、前記感光体上の位置によって変化する複数の階調補正特性を保持し、
前記感光体上の形成位置を取得し、
前記形成位置に基づき、前記保持手段に保持された前記複数の階調補正特性から選択された階調補正特性を設定し、
前記設定された階調補正特性に基づき前記形成位置の画素データを補正して、階調補正データを生成し、
生成された前記階調補正データに基づき画像形成を実行する
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項８】
コンピュータを請求項１から請求項６の何れか一項に記載された画像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置及びその方法及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明にかかる画像処理装置は、
感光体上に露光される光の複数のスポット径に基づいて決定され、前記感光体上の位置によって変化する複数の階調補正特性を保持する保持手段と、
前記感光体上の形成位置を取得する取得手段と、
前記形成位置に基づき、前記保持手段に保持された前記複数の階調補正特性から選択された階調補正特性を設定する設定手段と、
前記設定された階調補正特性に基づき前記形成位置の画素データを補正して、階調補正データを生成する補正手段と、
前記補正手段により生成された前記階調補正データに基づき画像形成を実行する画像形成手段とを有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月7日(2018.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セリア・ジルコニア系複合酸化物であって、４価未満の価数を有する金属イオンが含まれ、イオン伝導率が４００℃で１.０×１０−５Ｓ／ｃｍ以上であることを特徴とする酸素吸放出材料。
【請求項２】
前記セリア・ジルコニア系複合酸化物におけるセリウムとジルコニウムのモル比が、セリウム／（セリウム＋ジルコニウム）で０．８３以下であることを特徴とする請求項１記載の酸素吸放出材料。
【請求項３】
前記セリア・ジルコニア系複合酸化物におけるセリウムとジルコニウムのモル比が、セリウム／（セリウム＋ジルコニウム）で０．３３未満であって、Ｃｅ４＋イオンよりも小さなイオン半径を有する金属イオンが含まれることを特徴とする請求項１または２記載の酸素吸放出材料。
【請求項４】
酸素吸放出速度（ＯＳＣ速度）Δｔ５０が１７.０秒以上であることを特徴とする請求項３記載の酸素吸放出材料。
【請求項５】
前記セリア・ジルコニウム系複合酸化物におけるセリウムとジルコニウムのモル比が、セリウム／（セリウム＋ジルコニウム）で０．３３以上０．８３以下であって、Ｃｅ４＋イオンよりも大きなイオン半径を有する金属イオンが含まれることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の酸素吸放出材料。
【請求項６】
酸素吸放出量（ＯＳＣ量）が３００μｍｏｌ−Ｏ２／ｇ以上であることを特徴とする請求項５記載の酸素吸放出材料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（１）セリア・ジルコニア系複合酸化物であって、４価未満の価数を有する金属イオンが含まれ、イオン伝導率が４００℃で１.０×１０−５Ｓ／ｃｍ以上であることを特徴とする酸素吸放出材料。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
（５）前記セリア・ジルコニウム系複合酸化物におけるセリウムとジルコニウムのモル比が、セリウム／（セリウム＋ジルコニウム）で０．３３以上０．８３以下であって、Ｃｅ４＋イオンよりも大きなイオン半径を有する金属イオンが含まれることを特徴とする上記（１）ないし（４）のいずれかに記載の酸素吸放出材料。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明に関わる酸素吸放出速度の速い材料（セリア・ジルコニア系複合酸化物）は交流インピーダンス法で測定された焼結体のイオン伝導率が４００℃で１．０×１０−５Ｓ／ｃｍ以上であることが望ましい。イオン伝導率の上限は特に限定するものではないが、望ましくは１．０×１０−２Ｓ／ｃｍ以下である。イオン伝導率が高いと、粒子内酸素の移動が起こりやすくなり、浄化性能が高くなる。イオン伝導率が１．０×１０−５Ｓ／ｃｍ未満の場合、粒子内酸素の移動が起こりにくいため、浄化性能が悪い。イオン伝導率を高めるために第三成分を添加するが、第三成分を増やした量だけ酸素吸放出を行うＣｅイオン量が減るために、イオン伝導率が１．０×１０−２Ｓ／ｃｍより高い材料の調製は難しい。したがって、４価未満の価数を有する金属イオンが含まれ、イオン伝導率が４００℃で１．０×１０−５Ｓ／ｃｍ以上とした。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
【表１】
2017087086.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
表１より実施例１〜８で得られたセリア・ジルコニア系複合酸化物は、４価未満の価数を有する金属イオンが含まれ、イオン伝導率が４００℃で１．０×１０−５Ｓ／ｃｍ以上である酸素吸放出材料となっていて、ＯＳＣ速度、ＯＳＣ量に優れた特性を満たしていた。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
一方で、比較例１、２、３で得られたセリア・ジルコニア系複合酸化物のイオン伝導率は１．０×１０−５Ｓ／ｃｍ未満であり、ＯＳＣ速度、ＯＳＣ量が低い値を示しており、酸素吸放出材料の性能は実施例よりも劣っていた。
以上の通り、本発明によれば、ＯＳＣ速度が大きく、そしてＯＳＣ量も大きいセリア・ジルコニア系複合酸化物が得られていることが確認できた。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月5日(2018.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
斜め上下方向に延び、内側を遊技球が流下する傾斜樋と、
前記傾斜樋の内面のうち遊技球に斜め下方から臨む第１傾斜面に開口する分岐開口と、
前記第１傾斜面のうち前記分岐開口の上部開口縁の近傍に位置する回動軸に軸支され、通常は、第１回動位置に保持されて、前記分岐開口への遊技球の進入を規制し、前記保持が解除されると、前記第１回動位置より前記傾斜樋の外側の第２回動位置まで回動可能になって、前記分岐開口への遊技球の進入を許容する開閉部材と、を備えた遊技機において、
前記分岐開口の前記上部開口縁のうち前記分岐開口の下部開口縁に対して水平方向で最も近い位置を基準位置とすると、
前記回動軸は、前記基準位置に対して水平方向で前記傾斜樋の外側に位置し、
前記開閉部材は、前記第１回動位置では、前記基準位置に対して水平方向で一部が前記傾斜樋の内側に位置し、前記第２回動位置では、前記基準位置に対して水平方向で全体が前記傾斜樋の外側に位置する、ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、斜め上下方向に延び、内側を遊技球が流下する傾斜樋を備える遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来、この種の遊技機として、傾斜樋に分岐開口を備え、その分岐開口が開閉部材にて開閉されるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
しかしながら、上記した従来の遊技機では、開いた状態の分岐開口に遊技球がスムーズに進入しないという問題があり、その改善が求められている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するためになされた請求項１の発明は、斜め上下方向に延び、内側を遊技球が流下する傾斜樋と、前記傾斜樋の内面のうち遊技球に斜め下方から臨む第１傾斜面に開口する分岐開口と、前記第１傾斜面のうち前記分岐開口の上部開口縁の近傍に位置する回動軸に軸支され、通常は、第１回動位置に保持されて、前記分岐開口への遊技球の進入を規制し、前記保持が解除されると、前記第１回動位置より前記傾斜樋の外側の第２回動位置まで回動可能になって、前記分岐開口への遊技球の進入を許容する開閉部材と、を備えた遊技機において、前記分岐開口の前記上部開口縁のうち前記分岐開口の下部開口縁に対して水平方向で最も近い位置を基準位置とすると、前記回動軸は、前記基準位置に対して水平方向で前記傾斜樋の外側に位置し、前記開閉部材は、前記第１回動位置では、前記基準位置に対して水平方向で一部が前記傾斜樋の内側に位置し、前記第２回動位置では、前記基準位置に対して水平方向で全体が前記傾斜樋の外側に位置する遊技機である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本開示の遊技機では、開閉部材が開くと（第２回動位置に配置されると）、開閉部材の全体が傾斜樋の外側に位置するので、開いた状態の分岐開口に遊技球がスムーズに進入するうようになる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【図１】本発明の一実施形態に係るパチンコ遊技機の正面図
【図２】パチンコ遊技機の背面図
【図３】払出装置の分解図
【図４】閉位置における払出装置の断面図
【図５】開位置における払出装置の断面図
【図６】払出装置の側断面図
【図７】払出装置の斜視図
【図８】払出装置の平断面図
【図９】閉位置における払出装置の断面図
【図１０】開位置における払出装置の断面図
【図１１】変形例に係る払出装置の断面図
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月15日(2017.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技機外部に設けられる外部装置が記憶媒体に記憶された有価価値情報を読み込んで、その読み込んだ有価価値情報に対応して遊技機に対して出力される遊技媒体の貸出を遊技機に要求する貸出要求信号に従って遊技媒体を払い出す払出手段を有する遊技機において、
前記外部装置が読み込んだ記憶媒体の有価価値情報に基づいて遊技機に対して出力する外部信号を受信する外部信号受信手段と、
その外部信号受信手段に出力される外部信号の情報に基づいて、前記有価価値情報を判別する有価価値情報判別手段と、
前記遊技媒体を使用して遊技が実行されている状態であるかを判別する遊技実行判別手段と、
その遊技実行判別手段により所定期間の間、前記遊技媒体を使用して遊技が実行されていると判別されている期間に、前記有価価値情報判別手段により判別された有価価値情報が所定値以上変化しているかを判定することにより、前記貸出要求信号に従って前記払出手段により払い出された遊技媒体を使用した遊技である貸出遊技が実行されているかを判定する貸出遊技判定手段と、
その貸出遊技判定手段により前記貸出遊技が実行されていないと判定された場合に、前記貸出遊技による前記遊技媒体を使用した遊技以外の実行が困難な状態であれば、特定信号を遊技機外部に出力可能な出力手段と、を有するものであることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この目的を達成するために請求項１記載の遊技機は、遊技機外部に設けられる外部装置が記憶媒体に記憶された有価価値情報を読み込んで、その読み込んだ有価価値情報に対応して遊技機に対して出力される遊技媒体の貸出を遊技機に要求する貸出要求信号に従って遊技媒体を払い出す払出手段を有し、前記外部装置が読み込んだ記憶媒体の有価価値情報に基づいて遊技機に対して出力する外部信号を受信する外部信号受信手段と、その外部信号受信手段に出力される外部信号の情報に基づいて、前記有価価値情報を判別する有価価値情報判別手段と、前記遊技媒体を使用して遊技が実行されている状態であるかを判別する遊技実行判別手段と、その遊技実行判別手段により所定期間の間、前記遊技媒体を使用して遊技が実行されていると判別されている期間に、前記有価価値情報判別手段により判別された有価価値情報が所定値以上変化しているかを判定することにより、前記貸出要求信号に従って前記払出手段により払い出された遊技媒体を使用した遊技である貸出遊技が実行されているかを判定する貸出遊技判定手段と、その貸出遊技判定手段により前記貸出遊技が実行されていないと判定された場合に、前記貸出遊技による前記遊技媒体を使用した遊技以外の実行が困難な状態であれば、特定信号を遊技機外部に出力可能な出力手段と、を有するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項１記載の遊技機によれば、遊技機外部に設けられる外部装置が記憶媒体に記憶された有価価値情報を読み込んで、その読み込んだ有価価値情報に対応して遊技機に対して出力される遊技媒体の貸出を遊技機に要求する貸出要求信号に従って遊技媒体を払い出す払出手段を有し、前記外部装置が読み込んだ記憶媒体の有価価値情報に基づいて遊技機に対して出力する外部信号を受信する外部信号受信手段と、その外部信号受信手段に出力される外部信号の情報に基づいて、前記有価価値情報を判別する有価価値情報判別手段と、前記遊技媒体を使用して遊技が実行されている状態であるかを判別する遊技実行判別手段と、その遊技実行判別手段により所定期間の間、前記遊技媒体を使用して遊技が実行されていると判別されている期間に、前記有価価値情報判別手段により判別された有価価値情報が所定値以上変化しているかを判定することにより、前記貸出要求信号に従って前記払出手段により払い出された遊技媒体を使用した遊技である貸出遊技が実行されているかを判定する貸出遊技判定手段と、その貸出遊技判定手段により前記貸出遊技が実行されていないと判定された場合に、前記貸出遊技による前記遊技媒体を使用した遊技以外の実行が困難な状態であれば、特定信号を遊技機外部に出力可能な出力手段と、を有するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月3日(2018.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
そして、この状態で、前記各内側ロール５、５を、それぞれ自身の中心軸を中心として、互いに同期して回転駆動すると共に、前記各外側ロール２２、２２を、それぞれ自身の中心軸を中心として、互いに同期して回転駆動する事により、前記リング状部材３を、前記テーブル９の回転中心軸Ｘを中心として回転させる。
尚、本例の場合には、この際の前記各内側ロール５、５の回転方向及び回転速度と前記各外側ロール２２、２２の回転方向及び回転速度とを、前記リング状部材３を所定方向に回転させる事ができ、且つ、前記リング状部材３の内外両周面と前記内側、外側各ロール５、２２の外周面との接触部に滑りが生じない様に規制している。