【手続補正書】
【提出日】平成30年9月7日(2018.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の表面の洗浄処理と、前記洗浄処理後に前記表面を乾燥させる乾燥処理と、を含み、
前記乾燥処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第２の液体の蒸気中に前記ガラス基板を配して、前記ガラス基板の表面に液滴を形成させながら、前記ガラス基板の液滴の少なくとも一部を前記ガラス基板から滴下させるとともに、前記ガラス基板を乾燥させる処理であり、
前記第２の液体は、前記水溶性溶剤を主成分として含み、前記水を１．０重量％超含む、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記第２の液体の水の含有率は、５．０重量％以下である、請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記洗浄処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第１の液体に、前記ガラス基板を浸漬する第１の液体処理を含む、請求項１または２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記第１の液体の水の含有率は、３．０重量％以上である、請求項３に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の表面の洗浄処理と、前記洗浄処理後に前記表面を乾燥させる乾燥処理と、を含み、
前記洗浄処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第１の液体に、前記ガラス基板を浸漬する第１の液体処理を含み、
前記第１の液体は、前記水溶性溶剤を主成分として含み、前記水を３．０重量％以上含む、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記乾燥処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第２の液体の蒸気中に前記ガラス基板を配して、前記ガラス基板の表面に液滴を形成させながら、前記ガラス基板の液滴の少なくとも一部を前記ガラス基板から滴下させるとともに、前記ガラス基板を乾燥させる処理である、請求項５に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
ガラス基板の表面の洗浄処理と、前記洗浄処理後に前記表面を乾燥させる乾燥処理と、を含み、
前記洗浄処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第１の液体に、前記ガラス基板を浸漬する第１の液体処理を含み、
前記乾燥処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第２の液体の蒸気中に前記ガラス基板を配して、前記ガラス基板の表面に液滴を形成させながら、前記ガラス基板の液滴の少なくとも一部を前記ガラス基板から滴下させるとともに、前記ガラス基板を乾燥させる処理であり、
前記第２の液体の水の含有率は、前記第１の液体の水の含有率よりも低い、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記洗浄処理は、前記ガラス基板を水に浸漬して前記表面を洗浄する水処理を含み、
前記水処理、前記第１の液体処理、及び前記乾燥処理の順番で前記ガラス基板を処理する、請求項３〜７のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
前記水溶性溶剤はイソプロピルアルコールである、請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって得られた磁気ディスク用ガラス基板の表面に少なくとも磁性膜を成膜することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【請求項１１】
ガラス基板の洗浄装置であって、
前記ガラス基板を洗浄する洗浄槽と、
水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第２の液体と、前記第２の液体の上方にある前記第２の液体の蒸気を含んだ空間と、を備える乾燥処理槽と、を備え、
前記乾燥処理槽は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第２の液体の蒸気中に前記ガラス基板を配して、前記ガラス基板の表面に液滴を形成させながら、前記ガラス基板の液滴の少なくとも一部を前記ガラス基板から滴下させるとともに、前記ガラス基板を乾燥させるように構成され、
前記第２の液体は、前記水溶性溶剤を主成分として含み、前記水を１．０重量％超含む、ことを特徴とする洗浄装置。
【請求項１２】
前記第２の液体の水の含有率は、５．０重量％以下である、請求項１１に記載の洗浄装置。
【請求項１３】
前記洗浄槽は、前記ガラス基板を浸漬するための、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第１の液体を貯留する、請求項１１に記載の洗浄装置。
【請求項１４】
前記第１の液体の水の含有率は、３．０重量％以上である、請求項１３に記載の洗浄装置。
【請求項１５】
ガラス基板の洗浄装置であって、
前記ガラス基板を浸漬するために、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第１の液体を貯留した洗浄槽を備え、
前記第１の液体は、前記水溶性溶剤を主成分として含み、水を３．０重量％以上含む、ことを特徴とする洗浄装置。
【請求項１６】
水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第２の液体と、前記第２の液体の上方にある前記第２の液体の蒸気を含んだ空間と、を備える乾燥処理槽を備え、  前記乾燥処理槽では、前記第２の液体の蒸気中に前記ガラス基板を配して、前記ガラス基板の表面に液滴を形成させながら、前記ガラス基板の液滴の少なくとも一部を前記ガラス基板から滴下させるとともに、前記ガラス基板を乾燥させるように構成される、請求項１５に記載の洗浄装置。
【請求項１７】
ガラス基板の洗浄装置であって、
前記ガラス基板を浸漬するために、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第１の液体を貯留した洗浄槽と、
水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第２の液体と、前記第２の液体の上方にある前記第２の液体の蒸気を含んだ空間と、を備える乾燥処理槽と、を備え、
前記乾燥処理槽は、前記第１の液体に浸漬された前記ガラス基板を乾燥させるために、前記第１の液体に浸漬された前記ガラス基板を前記第２の液体の蒸気中に配することにより、前記ガラス基板の表面に液滴を形成させながら、前記ガラス基板の液滴の少なくとも一部を前記ガラス基板から滴下させるように前記空間は構成され、
前記第２の液体の水の含有率は、前記第１の液体の水の含有率よりも低い、ことを特徴とする洗浄装置。
【請求項１８】
前記ガラス基板の水洗浄を行うために設けられ、前記ガラス基板を浸漬する水が貯留された水洗浄槽を備え、  前記ガラス基板は、前記水洗浄槽、前記洗浄槽、及び前記乾燥処理槽の順番に配されるように構成されている、請求項１１〜１７のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項１９】
前記水溶性溶剤はイソプロピルアルコールである、請求項１１〜１７のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項２０】
前記ガラス基板は磁気ディスク用のガラス基板である、請求項１１〜１９のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、および洗浄装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、および洗浄装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
そこで、本発明は、磁気ディスク用ガラス基板を製造するとき、ガラス基板の主表面において、洗浄シミの発生を抑制することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、洗浄装置、および上記磁気ディスク用ガラス基板を用いた磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
［形態１］
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の表面の洗浄処理と、前記洗浄処理後に前記表面を乾燥させる乾燥処理と、を含み、
前記乾燥処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第２の液体の蒸気中に前記ガラス基板を配して、前記ガラス基板の表面に液滴を形成させながら、前記ガラス基板の液滴の少なくとも一部を前記ガラス基板から滴下させるとともに、前記ガラス基板を乾燥させる処理であり、
前記第２の液体は、前記水溶性溶剤を主成分として含み、前記水を１．０重量％超含む、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
［形態２］
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の表面の洗浄処理と、前記洗浄処理後に前記表面を乾燥させる乾燥処理と、を含み、
前記洗浄処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第１の液体に、前記ガラス基板を浸漬する第１の液体処理を含み、
前記第１の液体は、前記水溶性溶剤を主成分として含み、前記水を３．０重量％以上含む、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
［形態３］
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
ガラス基板の表面の洗浄処理と、前記洗浄処理後に前記表面を乾燥させる乾燥処理と、を含み、
前記洗浄処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第１の液体に、前記ガラス基板を浸漬する第１の液体処理を含み、
前記乾燥処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第２の液体の蒸気中に前記ガラス基板を配して、前記ガラス基板の表面に液滴を形成させながら、前記ガラス基板の液滴の少なくとも一部を前記ガラス基板から滴下させるとともに、前記ガラス基板を乾燥させる処理であり、
前記第２の液体の水の含有率は、前記第１の液体の水の含有率よりも低い、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
［形態４］
前記磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって得られた磁気ディスク用ガラス基板の表面に少なくとも磁性膜を成膜することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
［形態５］
ガラス基板の洗浄装置であって、
前記ガラス基板を洗浄する洗浄槽と、
水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第２の液体と、前記第２の液体の上方にある前記第２の液体の蒸気を含んだ空間と、を備える乾燥処理槽と、を備え、
前記乾燥処理槽は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第２の液体の蒸気中に前記ガラス基板を配して、前記ガラス基板の表面に液滴を形成させながら、前記ガラス基板の液滴の少なくとも一部を前記ガラス基板から滴下させるとともに、前記ガラス基板を乾燥させるように構成され、
前記第２の液体は、前記水溶性溶剤を主成分として含み、前記水を１．０重量％超含む、ことを特徴とする洗浄装置。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
［形態６］
ガラス基板の洗浄装置であって、
前記ガラス基板を浸漬するために、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第１の液体を貯留した洗浄槽を備え、
前記第１の液体は、前記水溶性溶剤を主成分として含み、水を３．０重量％以上含む、ことを特徴とする洗浄装置。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
［形態７］
ガラス基板の洗浄装置であって、
前記ガラス基板を浸漬するために、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第１の液体を貯留した洗浄槽と、
水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第２の液体と、前記第２の液体の上方にある前記第２の液体の蒸気を含んだ空間と、を備える乾燥処理槽と、を備え、
前記乾燥処理槽は、前記第１の液体に浸漬された前記ガラス基板を乾燥させるために、前記第１の液体に浸漬された前記ガラス基板を前記第２の液体の蒸気中に配することにより、前記ガラス基板の表面に液滴を形成させながら、前記ガラス基板の液滴の少なくとも一部を前記ガラス基板から滴下させるように前記空間は構成され、
前記第２の液体の水の含有率は、前記第１の液体の水の含有率よりも低い、ことを特徴とする洗浄装置。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上述の磁気ディスク用基板の製造方法、洗浄装置、および磁気ディスクの製造方法では、磁気ディスク用ガラス基板を製造するとき、ガラス基板の主表面において、洗浄シミの発生を抑制することができる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
以上、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、洗浄装置、および磁気ディスクの製造方法について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態及び実施例に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。