【手続補正書】
【提出日】平成30年3月16日(2018.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（１）配向膜を有する第１の基板と、配向膜を有する第２の基板の間に液晶を有する液晶表示装置であって、前記液晶は誘電率異方性が負であって、誘電率異方性の絶対値が５以下であり、前記配向膜は、偏光紫外線による光配向処理をうけており、前記配向膜は、前記光配向処理によって配向能力を有し、前記液晶と接する側に存在する第１膜と、前記光配向処理による配向能力が付与されておらず、前記第１の基板あるいは前記第２の基板側に存在する第２膜によって形成され、前記配向膜は、前記第１膜を形成する第１材料と前記第２膜を形成する第２材料の混合材料を前記第１の基板または前記第２の基板に塗布することによって形成され、前記第１材料は前記第１材料と前記第２材料の合計重量に対して１０ｗｔ％よりも大きく、４０ｗｔ％よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（５）前記混合材料はイミド化促進剤を含み、前記イミド化促進剤は、ピコリン、キノリン、イソキノリン、又は、ピリジン骨格を有する第２級又は第３級アミン類、又は、アルコキシカルボニル基を有するアミノ酸であることを特徴とする（１）ないし（４）のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
半導体膜１０３の上にはゲート絶縁膜１０４が形成される。このゲート絶縁膜１０４はＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）によるＳｉＯ２膜である。この膜もＣＶＤによって形成される。その上にゲート電極１０５が形成される。ゲート電極１０５は走査線が兼ねている。ゲート電極１０５は例えば、ＭｏＷ（モリブテン、タングステン）膜によって形成される。ゲート電極１０５あるいは走査線１０の抵抗を小さくする必要があるときはＡｌ合金が使用される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
その後、ゲート電極１０５を覆って第１層間絶縁膜１０６をＳｉＯ２によって形成する。第１層間絶縁膜１０６はゲート電極１０５とコンタクト電極１０７を絶縁するためである。第１層間絶縁膜１０６およびゲート絶縁膜１０４には、半導体層１０３のソース部Ｓをコンタクト電極１０７と接続するためのスルーホール１２０が形成される。第１層間絶縁膜１０６とゲート絶縁膜１０４にスルーホール１２０を形成するためのフォトリソグラフィは同時に行われる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
第１層間絶縁膜１０６の上にコンタクト電極１０７が形成される。コンタクト電極１０７は、スルーホール１３０を介して画素電極１１２と接続する。ＴＦＴのドレインＤは、図示しない部分において映像信号線とスルーホールを介して接続している。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
前述の記載から、配向膜材料及び配向膜は以下のような材料的特徴を有すると好ましい。
配向膜がＴＦＴ基板１００と対向基板２００を接着するシール材と接する場合、配向膜には高い膜強度、及び、シール材に対する強い接着強度が求められる。その場合（化３）あるいは（化４）で示すシランカップリング剤を有すると好ましい。また、他の添加物を含ませても良い。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配向膜を有する第１の基板と、配向膜を有する第２の基板の間に液晶を有する液晶表示装置であって、
前記液晶は誘電率異方性が負であって、誘電率異方性の絶対値が５以下であり、
前記配向膜は、偏光紫外線による光配向処理をうけており、
前記配向膜は、前記光配向処理によって配向能力を有し、前記液晶と接する側に存在する第１膜と、前記光配向処理による配向能力が付与されておらず、前記第１の基板あるいは前記第２の基板側に存在する第２膜によって形成され、
前記配向膜は、前記第１膜を形成する第１材料と前記第２膜を形成する第２材料の混合材料を前記第１の基板または前記第２の基板に塗布することによって形成され、
前記第１材料は前記第１材料と前記第２材料の合計重量に対して１０ｗｔ％よりも大きく、４０ｗｔ％よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１材料は（化１）で表されるポリアミド酸エステルであり、前記第２材料はポリアミド酸を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【化１】
2016066053.tif 000001
化学式（１）において、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又はビニル基（−（ＣＨ２）ｍ−ＣＨ＝ＣＨ２，ｍ＝０，１，２）であり、Ａｒは芳香族化合物である。
【請求項３】
前記第１材料はポリアミド酸エステルであり、
前記ポリアミド酸エステルは、第１ジアミンを前駆体として用いて形成されており、
前記第１ジアミンは、芳香環を有し、かつ、２つのアミノ基中にある窒素原子以外の窒素原子、フッ素原子、及び、酸素原子を有しないジアミンである、請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第２材料はポリアミド酸であり、
前記ポリアミド酸は、第２ジアミンを前駆体として用いて形成されており、
前記第２ジアミンは、２つのアミノ基中にある窒素原子以外の窒素原子、フッ素原子、又は、酸素原子を有するジアミンである、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記混合材料はイミド化促進剤を含み、
前記イミド化促進剤は、ピコリン、キノリン、イソキノリン、又は、ピリジン骨格を有する第２級又は第３級アミン類、又は、アルコキシカルボニル基を有するアミノ酸であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記配向膜材料はさらに、（化３）または（化４）で示すシランカップリング剤を含むことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【化３】
2016066053.tif 000002
【化４】
2016066053.tif 000003
【請求項７】
前記液晶表示装置は、２０ｋＨｚ以下の周波数で液晶を駆動することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
液晶表示装置の配向膜の形成に用いられる配向膜材料であって、
前記配向膜材料は第１材料と第２材料の混合物であり、
前記第１材料は（化１）で表されるポリアミド酸エステルを含み、前記第２材料は（化２）で表されるポリアミド酸を含み、
前記第１材料は前記第１材料と前記第２材料の合計重量に対して１０ｗｔ％よりも大きく、４０ｗｔ％よりも小さいことを特徴とする液晶用配向膜材料。
【化１】
2016066053.tif 000004
化学式（１）において、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ２は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又はビニル基（−（ＣＨ２）ｍ−ＣＨ＝ＣＨ２，ｍ＝０，１，２）であり、Ａｒは芳香族化合物である。
【化２】
2016066053.tif 000005
化学式（２）において、Ｒ２は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又はビニル基（−（ＣＨ２）ｍ−ＣＨ＝ＣＨ２，ｍ＝０，１，２）であり、Ａｒは芳香族化合物である。
【請求項９】
前記ポリアミド酸エステルは、第１ジアミンを前駆体として用いて形成されており、
前記第１ジアミンは、芳香環を有し、かつ、２つのアミノ基中にある窒素原子以外の窒素原子、フッ素原子、及び、酸素原子を有しないジアミンである、請求項８に記載の液晶用配向膜材料。
【請求項１０】
前記ポリアミド酸は、第２ジアミンを前駆体として用いて形成されており、
前記第２ジアミンは、２つのアミノ基中にある窒素原子以外の窒素原子、フッ素原子、又は、酸素原子を有するジアミンである、請求項８又は９に記載の液晶用配向膜材料。
【請求項１１】
イミド化促進剤を含み、
前記イミド化促進剤は、ピコリン、キノリン、イソキノリン、又は、ピリジン骨格を有する第２級又は第３級アミン類、又は、アルコキシカルボニル基を有するアミノ酸であることを特徴とする請求項８ないし１０のいずれか1項に記載の液晶用配向膜材料。
【請求項１２】
前記配向膜材料はさらに、（化３）で示すシランカップリング剤を含むことを特徴とする請求項８ないし１１のいずれか１項に記載の液晶用配向膜材料。
【化３】
2016066053.tif 000006
【化４】
2016066053.tif 000007