【事件の表示】
　平成　７年特許願第３４２９３２号「パターン寸法測定方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年　７月１５日出願公開、特開平　９−１８４７１４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は平成７年１２月２８日の出願であって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という）は、平成１３年２月２３日付け手続補正書、平成１３年８月２７日付け手続補正書、平成１４年２月１日付け手続補正書、及び平成１６年１２月１７日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「プローブによって試料を所定の走査ピッチで走査し、試料から得られる走査信号を用いて被測定パターン位置決め用の試料画像を形成し、前記試料画像中の被測定パターンの所定部分を前記プローブで走査し、得られる走査信号を所定の測長アルゴリズムに従って処理して前記所定部分の寸法を求めるパターン寸法測定方法において、
　パターン寸法測定時に、前記試料画像の観察倍率にかかわらず、走査ピッチが前記プローブの径と同程度になる所定の倍率に切り換え、前記走査ピッチを試料画像形成時とパターン寸法測定時とで変更することを特徴とするパターン寸法測定方法。」
　　
２．当審の拒絶理由
　一方、当審において平成１６年１０月１５日付けで通知した拒絶の理由の概要は、本願発明は、本願出願前の平成６年４月２８日に頒布された「特開平６−１２０３１０号公報」（以下、「引用刊行物Ａ」という。）、同じく、本願の出願前の平成７年９月１９日に頒布された「特開平７−２４３８３３号公報」（以下、「引用刊行物Ｂ」という。）、同じく、本願の出願前の平成７年１月３１日に頒布された「特開平７−２９５３９号公報」（以下、「引用刊行物Ｃ」という。）、同じく、本願の出願前の平成１年９月２５日に頒布された「「走査電子顕微鏡の基礎と応用」、第６８頁〜７０頁、日本電子顕微鏡学会関東支部編、共立出版株式会社（１９８９年９月２５日、初版３刷発行）（以下、「引用刊行物Ｄ」という。）、同じく、本願の出願前の昭和６４年１月１９日に頒布された「特開昭６４−１４８５４号公報」（以下、「引用刊行物Ｅという。）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることできたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、とういうものである。
　　　
３．引用刊行物記載の発明
　上記引用刊行物Ａには、
（Ａ−１）「本発明による位置合わせ方法の一実施例が適用される走査型電子顕微鏡方式の測長装置につき・・・説明する。図２は本例の走査型電子顕微鏡方式の測長装置の構成を示し、・・・電子銃５から射出された電子ビームは、電子レンズ６により試料８上で所定のビームスポットに集束されると共に、偏向コイル７により試料８上で２次元的に走査される。・・・制御回路９が偏向コイル７に供給する信号を変えることにより、試料８上を走査する電子ビームの位置及び観察画像の倍率を変えることができる。・・・試料８への電子ビームの照射によって発生した荷電粒子、例えば二次電子を、検出器１０によって電気信号に変換し、・・・電気信号は随時ＣＲＴディスプレイ１２に供給され、ＣＲＴディスプレイ１２上には、試料８への電子ビームの照射によって発生した荷電粒子の強度をその電子ビームの走査位置に応じて・・・試料８上の観察領域の画像が表示される。」（段落番号【００１１】、【００１２】）こと、
（Ａ−２）「本例の測長装置は、半導体ウエハ等の複数の試料を順次自動的に交換しながら、試料上の予め指定したパターンの位置で線幅等を自動的に測長するための装置である。その測長動作の途中で予め指定したパターンの位置合わせが行われる・・・　先ず、１番目の試料が図２のステージ１５上に搬入されたら、図１のステップ１０１において、オペレータがステージ１５をマニュアルで操作して１番目の試料８上の測長対象物を電子ビームの走査範囲内に移動し、倍率を調整して測長対象物の画像を含む観察画像が得られるようにする。このときのオペレータの操作は全て制御回路９内のシーケンス記憶用のメモリに記憶しておく。・・・それにより図３（ａ）に示す観察画像１が得られるものとして、観察画像１内で、測長対象物、即ち位置合わせ対象物の画像を画像２とする。」（段落番号【００１４】〜【００１６】）こと、
（Ａ−３）「次に、ステップ１０４において、オペレータは位置合わせ対象物の画像２内の測長対象を指定し、ステップ１０５において、マニュアル操作でその測長対象の位置を電子ビームの走査範囲（観察画面）の中央に移動して、倍率を測長時の倍率に変更する。これにより、図４に示すように、位置合わせ対象物の倍率が変更された画像２Ｂを含む観察画像１８が得られ、この観察画像１８の縦方向（Ｙ方向）の中央部を横方向（Ｘ方向）に横切る線分Ｐ１の中央部、即ち観察画像１８の中央部に測長対象が設定される。例えば測長対象としては、その線分Ｐ１に沿う画像２Ｂの幅がある。そして、ステップ１０６において、その測長対象の測長が行われる。このときのオペレータの操作も全て制御回路９内のシーケンス記憶用のメモリに記憶しておく。」（段落番号【００１７】）こと、
（Ａ−４）「次に、動作はステップ１０７に移行して、２番目以降の試料に対する測長が行われる。具体的にステージ１５上に搬入された２番目以降の試料に対して、ステップ１０５での動作を繰り返すことにより、測長位置への移動が行われる。通常は、測長対象が観察画面の中央に来るはずであるが、実際には搬入誤差やステージ１５の位置決め誤差があるので、図５（ａ）に示すように、必ずしも測長対象が観察画面４の中央に来るとは限らない。・・・そこで、動作はステップ１０９から１１０へ移行して、ステージ１５を駆動して測長対象が観察画面の中央に移動される。その後、倍率を測長時の倍率に変更して測長が行われ（ステップ１１１）、試料がまだ残っている場合には動作はステップ１１２から１０７に移行して、次の試料の測長が行われる。」（段落番号【００１８】、【００１９】）こと、
（Ａ−５）「観察画面１９から位置合わせ対象物の画像２の特徴部が外れていると、・・・走査型電子顕微鏡の観察倍率をより低い倍率に変更した上で、位置合わせ対象物を含む広い領域の画像を図６（ａ）に示すような観察画像２０として撮り直す。・・・次に、ステップ１１６から１１７へ移行して、そのずれ量（Ｘ１，Ｙ１）分を打ち消すようにステージ１５を移動して、観察画像の倍率を元の倍率（即ち、ステップ１０８での倍率）に戻して観察画像を撮り直す。・・・　この場合には、測長対象物の画像は必ず観察画像の中央に来るので、サーチ対象が確実に検出される。従って、自動測長を継続することができる。」（段落番号【００２０】〜【００２２】）ことが記載され、
　さらには、
（Ａ−６）図４を参照すると、図４には図３（ａ）のテンプレート３の領域が高倍率で拡大された観察画像１８が描かれている。
　以上の記載からすると、上記引用刊行物Ａには、
「電子ビームによって試料８を調整された所定の倍率で走査し、試料８から発生した荷電粒子を検出器１０で電気信号に変換してＣＲＴディスプレイ上で測長対象物パターンの位置合わの画像を観察画像１内に形成し、観察画像１内中の測長対象物パターンの測長対象（画像２Ｂの幅）を電子ビームで走査して得られた電気信号から測長対象物パターンの測長対象（画像２Ｂの幅）を測長する方法において、測長対象物パターンの測長対象（画像２Ｂの幅）の測長時に、調整された倍率で測長対象物パターンの観察画像を形成して測長対象物パターンの位置合わせを行い、測長対象物パターンの測長対象（画像２Ｂの幅）の測長時には測長時の高倍率変更して測長を行う測長対象物パターンの測長対象（画像２Ｂの幅）を測長する方法。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものと認める。
　また、上記引用刊行物Ｂには、
（Ｂ−１）「(A) 濃淡値を有するディジタル画像上の１つの線分上のプロフィールから対象物の寸法を測定する場合の寸法測定法には、以下のようなものがある。　
　(1) しきい値ＴＨを用いる方法
　(2) 面積Ｓを用いる方法
　(3) 極値（極大値または極小値）ＰＫを用いる方法
　(4) フィッティング法」（段落番号【００２８】）こと、
（Ｂ−２）「対象物の画像を選択し寸法測定のメニューにすると、上記(A) ・・・の寸法測定法を装置が自動的に選択して最適の寸法測定実行メニューで自動的に所望の範囲の寸法測定を行う場合を示す。　
　(D) 濃淡値を有するディジタル画像上に少なくともの１つの線分を設定し、設定された線分に応じて寸法測定実行メニューの内の１つを指定して測定計画を作成し、これを登録可能とするとともに、登録されている測定計画の中から１つを呼び出し、呼び出された測定計画の設定されている線分ごとに指定された寸法測定実行メニューに基づいて寸法測定を実行することが可能である。」（段落番号【００２９】）ことが記載されている。
　さらに、上記引用刊行物Ｃには
（Ｃ）「観察対象領域を縦方向に略等間隔で複数の小領域に分割し、別途指定された拡大倍率に基づいて走査線の走査幅および走査ピッチを決定する。」（段落番号【００２３】）ことが記載されている。
　さらに、また、上記引用刊行物Ｄには
（Ｄ）「熱電子銃の通常の装置では，ＣＲＴ面で，５０００倍以下の低倍率のことであって，これ以上の高い倍率にしたときには，プローブの試料面走査時の重複などがあって，実際には解像度は向上していないことになる。」（第７０頁第３〜５行）ことが記載されている。
　そして、上記引用刊行物Ｅには
（Ｅ）「電子顕微鏡の倍率を上げれば上げるほど検出精度が上がるので、適当な倍率に設定すればよい。」（第４頁左下欄第１〜４行）ことが記載されている。　　
　　
４．対比
　そこで、本願発明と上記引用発明とを比較する。
　引用発明の「電子ビーム」、「電気信号」、「観察画像１」、「測長対象（画像２Ｂの幅）」、「測長対象物パターンの測長対象（画像２Ｂの幅）を測長する方法」が、それぞれ、本願発明の「プローブ」、「走査信号」、「被測定パターン位置決め用の試料画像」、「所定部分の寸法」、「パターン寸法測定方法」に相当する。
　そして、引用刊行物Ａには「オペレータがステージ１５をマニュアルで操作して１番目の試料８上の測長対象物を電子ビームの走査範囲内に移動し、倍率を調整して測長対象物の画像を含む観察画像が得られるようにする。」（上記（Ａ−２）参照））と記載があるから、上記引用発明の「測長対象物パターンの観察画像」の調整された倍率は測長対象物の画像が含まれるような任意の倍率であるものと解され、さらに、引用刊行物Ａには「オペレータがマニュアル操作でその測長対象の位置を電子ビームの走査範囲（観察画面）の中央に移動して、倍率を測長時の倍率に変更したときのオペレータの操作も全て制御回路９内のシーケンス記憶用のメモリに記憶しておく。」（上記（Ａ−３）参照）ことが記載されているから、次の２番目以降の試料の測長対象も、記憶された１番目の試料の測長対象の測長時のオペレータの操作に基づいて測長時の倍率に変更されて測長されるものであって、測長時の倍率はオペレータによって設定された所定の高倍率であると解され、引用発明においても「測長対象物パターンの観察画像」の倍率にかかわらず、測長時の設定された所定の高倍率で測長対象物の測定対象（画像２Ｂの幅）を測定しているものと認められる。
　一方、本願発明の走査ピッチについて、本願明細書には、図５に関して「 図５に、そのメカニズムを模式的に示す。・・・ラインプロファイルとして描かれているのは、その走査ピッチでサンプリングしたデータによって作られたラインプロファイルである。倍率として記した数字は参考のためのものである。（ａ）に示されているように、低倍率の時にはラインプロファイルの波形鈍りが大きく、ラインプロファイルに現れるパターンの大きさＷは実際のパターン１９より大きくなる。（ｂ），（ｃ），（ｄ）と順に倍率を上げるに従って、ラインプロファイルに現れるパターンの大きさＷが変化していく。」と記載されていることから、本願発明の走査ピッチは倍率に対応したものと認められる。
　そうすると、本願発明にいう「パターン寸法測定時の走査ピッチがプローブの径と同程度になる」まで走査ピッチを細かくすることは、高倍率にすることを意味するものであるから、本願発明と引用発明はともにパターン寸法測定時に、前記試料画像の観察倍率にかかわらず、所定の高倍率に切り換え、前記倍率を試料画像形成時とパターン寸法測定時とで変更するものであるといえる。
　したがって、本願発明と上記引用発明とは、
「プローブによって試料を所定の倍率で走査し、試料から得られる走査信号を用いて被測定パターン位置決め用の試料画像を形成し、前記試料画像中の被測定パターンの所定部分を前記プローブで走査し、得られる走査信号を処理して前記所定部分の寸法を求めるパターン寸法測定方法において、
　パターン寸法測定時に、前記試料画像の観察倍率にかかわらず、所定の高倍率に切り換え、前記倍率を試料画像形成時とパターン寸法測定時とで変更することを特徴とするパターン寸法測定方法。」である点で一致し、下記の相違点（イ）、（ロ）で相違する。
・相違点（イ）
　所定の部分の寸法を求める際に、本願発明では、「得られる走査信号を所定の測長アルゴリズムに従って処理して所定部分の寸法を求める」構成を有するのに対して、引用発明では、特定の測長アルゴリズムに従って処理して所定部分の寸法を求める構成を欠く点。
・相違点（ロ）
　本願発明では、所定の高倍率を、パターン寸法測定時の走査ピッチがプローブの径と同程度になる所定の倍率となるように構成するのに対して、引用発明ではそのような構成を欠く点。
　　
５．当審の判断
　上記相違点について検討する。
・相違点（イ）について
　本願の明細書の段落番号【０００８】には「ラインプロファイルからパターン寸法を求める測長アルゴリズムには各種有るが、一般的には図２に示す閾値法、最大傾斜値法、直線近似法などが用いられる」と記載されており、この記載によれば、本願発明にいう「測長アルゴリズム」とは寸法を求める際の各種の手法を意味するものである。そして、寸法を求める際にこのような各種の手法を用いることは上記引用刊行物Ｂに記載されている（上記（Ｂ−１）、（Ｂ−２）参照）ことから、引用発明においても上記引用刊行物Ｂの構成を採用して本願発明のごとく所定の測長アルゴリズムを用いて寸法を測定することは当業者であれば容易になし得るものである。
・相違点（ロ）について、
 　集束イオンビームのプローブを用いて試料を走査して観察画像を得る際に観察画像の倍率と試料を走査する走査ピッチとが対応関係にあることは上記引用刊行物Ｃの上記（Ｃ）に記載されており、上記引用刊行物Ｄの上記（Ｄ）には高倍率に設定してもプローブの試料面走査時の重複があると解像度が向上しないことが記載されており、これらの記載の意味するところは、プローブの試料面走査時の重複は走査ピッチがプローブの径と同程度より細かくなると生じ、解像度が向上しない、即ち、精度が向上しないことを意味し、走査ピッチがプローブの径と同程度にすることが精度の上限であるものと解される。
　一方、高倍率にするほど精度が向上することは上記引用刊行物Ｅの上記（Ｅ）に記載されているごとく良く知られた事項であり、また、測長する際にできる限り高精度に測長しようとすることは測長分野での当然必要とされる課題であることから、引用発明においても測長対象（画像２Ｂの幅）を測長する際にできるだけ高倍率で高精度に測長しようとすることは当業者であれば自然なことである。
　したがって、引用発明における測長対象物パターンの測長対象（画像２Ｂの幅）を高倍率に切り換えて測長する際に、倍率を走査ピッチに対応させて表現すると共に測長時の精度を向上させる課題解決のために、精度向上の上限である走査ピッチがプローブの径と同程度なる所定の高倍率を選択して本願発明の如く構成することも当業者であれば容易になし得るものである。
　そして、本願発明によってもたらされる効果は、上記引用発明および引用刊行物Ｂ〜Ｅに記載された発明から予測される範囲内のものである。
　したがって、本願発明は、引用発明及び引用刊行物Ｂ〜Ｅに記載された発明に基づき当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。　
　なお、審判請求人は平成１６年１２月１７日付け意見書において、「しかしながら、これは本願発明に規定される「前記試料画像の観察倍率にかかわらず、走査ピッチが前記プローブの径と同程度になる所定の倍率に切り換え、」を意図するものではありません。当然の如く、測長倍率は測定対象物の大きさによって決定されるべきものであり、測長対象物の大きさが異なれば測長倍率は異なります。引用刊行物Ａで言うところの「測長時の倍率」とは、観察対象、観察条件等に応じて決定される「任意の倍率」であり、引用刊行物Ａには、この「任意の倍率」を制御回路等に記憶し、自動シーケンスを行うことが開示されているにすぎません。よって、拒絶理由通知書の第５頁に説明されている、本願発明と引用発明との一致点「…パターン寸法測定時に、前記試料画像の観察倍率にかかわらず、所定の高倍率に切り換え…」は、「…パターン寸法測定時に、前記試料画像の観察倍率にかかわらず、任意の高倍率に切り換え…」と解されるべきであると思料いたします。それに対し、本願発明は、測長対象物の大きさに関わらず、ほぼ一定の倍率となるように、前記走査ピッチを切り換えることを規定しており、審判官殿の認定には誤りがあると思料いたします。本願発明は、測長対象の大きさ（≒被測定パターン位置決め用の試料画像）の大きさに関わらず、走査ピッチがプローブ径と同程度になる所定の倍率に切り換えることを規定しており、明らかに引用刊行物Ａとその技術思想を異にしています。仮に走査ピッチとプローブの径を同程度とすることが知られていたとしても、被測定パターンの大きさに依らず、所定の倍率に測長倍率を設定することまでは、いずれの引用刊行物にも記載されていません。」旨の主張している。
　しかしながら、本願明細書または図面には測定対象の大きさに応じて電子ビーム径（＝プローブ径）を変化させ、つねに電子ビームの走査領域となるＳＥＭ像内に測定対象が入るようにしてパターン寸法を測定することも記載されていないことから、結局のところ、本願発明はパターン寸法測定時に、走査ピッチがプローブ径と同程度になる所定の高倍率に切り換えたときのＳＥＭ像内に測長対象の大きさが存在する場合のパターン寸法測定方法であるから、本願明細書または図面のいずれにも審判請求人が主張するところの「
測長対象の大きさ（≒被測定パターン位置決め用の試料画像）の大きさに関わらず
　　
６．むすび
　したがって、本願は、当審で通知した上記拒絶の理由によって拒絶すべきものである。
　
　よって、上記結論のとおり審決する。