Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月28日(2018.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両に搭載される他の装置（１１）を操作するため車両用操作装置（１０）であって、
操作され、前記他の装置を制御するための制御パラメータの設定値を段階的に入力するための操作部（２２，４０）と、
前記他の装置と通信して、前記操作部が操作された操作量を含む操作情報を前記他の装置に送信し、前記他の装置の前記設定値を受信する通信部（３４）と、
前記通信部が受信した前記設定値をデジタル表示する表示部（２３）と、
前記通信部が受信した前記設定値を用いて、前記表示部に表示される画像を制御する制御部（３２）と、を含み、
前記制御部が操作による変化を段階的に表示する場合、所定の設定時間内の前記操作量が所定の設定操作量以上のときには前記操作量が前記設定操作量未満のときに比べて、前記設定値の段階的な変化の幅を大きくして表示し、
前記制御部は、前記操作部が操作されてから前記通信部が情報を取得するまでの間は、操作前の前記設定値から操作後の前記設定値に段階的に変化させて表示するように前記表示部を制御する車両用操作装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記設定値を段階的に変化させて表示する場合、現在表示している前記設定値と次に表示する前記設定値とを同時に表示するコマ画像を用いてアニメーションで表示する請求項１に記載の車両用操作装置。
【請求項３】
車両に搭載される他の装置（１１）を操作するため車両用操作装置（１０）であって、
操作され、前記他の装置を制御するための制御パラメータの設定値を段階的に入力するための操作部（２２，４０）と、
前記他の装置と通信して、前記操作部が操作された操作量を含む操作情報を前記他の装置に送信し、前記他の装置の前記設定値を受信する通信部（３４）と、
前記通信部が受信した前記設定値をデジタル表示する表示部（２３）と、
前記通信部が受信した前記設定値を用いて、前記表示部に表示される画像を制御する制御部（３２）と、を含み、
前記制御部が操作による変化を段階的に表示する場合、所定の設定時間内の前記操作量が所定の設定操作量以上のときには前記操作量が前記設定操作量未満のときに比べて、前記設定値の段階的な変化の幅を大きくして表示し、
前記制御部は、
前記設定値を段階的に変化させて表示する場合、現在表示している前記設定値と次に表示する前記設定値とを同時に表示するコマ画像を用いてアニメーションで表示し、
操作による変化を段階的に表示する場合、前記操作量が大きくなるにつれて前記アニメーションで表示する時間を長くし、
前記操作量が所定の操作量以上の場合には、前記アニメーションで表示する時間を所定の最大時間に固定する車両用操作装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記操作部が操作されてから前記通信部が情報を取得するまでの間は、操作前の前記設定値から操作後の前記設定値に段階的に変化させて表示するように前記表示部を制御する請求項３に記載の車両用操作装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記コマ画像を複数用いてアニメーションで表示し、前記アニメーションで表示する時間に応じて表示するコマ画像を調節する請求項３または４に記載の車両用操作装置。
【請求項６】
前記通信部は、所定の通信周期に従って定期的に前記他の装置と通信し、
前記制御部は、前記操作部が操作されてから前記通信周期が経過後に、前記操作後の前記設定値を表示する請求項１〜５のいずれか１つに記載の車両用操作装置。
【請求項７】
前記制御部は、現在表示している前記設定値と、前記通信部が取得した前記設定値との差が大きくなるにつれて、前記設定値の段階的な変化の幅が大きくなるように調節する請求項６に記載の車両用操作装置。
【請求項８】
前記操作部は、回転操作されるロータリースイッチ（２２）である請求項１〜７のいずれか１つに記載の車両用操作装置。
【請求項９】
前記操作部は、タッチ操作されるスライドスイッチ（４０）である請求項１〜７のいずれか１つに記載の車両用操作装置。
【請求項１０】
前記他の装置は、車両用空調装置（１１）であり、
前記設定値は、前記車両用空調装置を制御するための制御パラメータの設定値である請求項１〜９のいずれか１つに記載の車両用操作装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、制御部（３２）は、制御部が操作による変化を段階的に表示する場合、所定の設定時間内の操作量が所定の設定操作量以上のときには操作量が設定操作量未満のときに比べて、設定値の段階的な変化の幅を大きくして表示し、制御部は、設定値を段階的に変化させて表示する場合、現在表示している設定値と次に表示する設定値とを同時に表示するコマ画像を用いてアニメーションで表示し、操作による変化を段階的に表示する場合、操作量が大きくなるにつれてアニメーションで表示する時間を長くし、操作量が所定の操作量以上の場合には、アニメーションで表示する時間を所定の最大時間に固定する車両用操作装置である。
また本発明は、制御部が操作による変化を段階的に表示する場合、所定の設定時間内の操作量が所定の設定操作量以上のときには操作量が設定操作量未満のときに比べて、設定値の段階的な変化の幅を大きくして表示し、制御部は、設定値を段階的に変化させて表示する場合、現在表示している設定値と次に表示する設定値とを同時に表示するコマ画像を用いてアニメーションで表示し、操作による変化を段階的に表示する場合、操作量が大きくなるにつれてアニメーションで表示する時間を長くし、操作量が所定の操作量以上の場合には、アニメーションで表示する時間を所定の最大時間に固定する車両用操作装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月24日(2018.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータによって実現されるサービスシステムのサービス方法であって、
ターゲット建築物の内部の出発位置から目的位置までの移動経路情報を生成する段階と、
前記移動経路情報を含むカードビューをそれぞれの階別に構成する段階と、
前記ターゲット建築物の内部に位置するユーザ端末から前記ユーザ端末周辺の無線アクセスポイントに関する情報を受信する段階と、
前記ターゲット建築物の各地点別に収集された周辺の無線アクセスポイントに関する第１信号強度と前記ユーザ端末周辺の無線アクセスポイントに関する第２信号強度との類似度に基づいて前記ユーザ端末の室内位置を決める段階と、
前記ユーザ端末の室内位置に基づいて前記ユーザ端末が位置する階のカードビューを前記ユーザ端末に提供する段階と、
を含み、
前記移動経路情報は、前記出発位置から前記目的位置に移動可能な経路上に含まれる階間移動手段に関する情報を考慮して生成され、
前記類似度は、前記第１信号強度及び前記第２信号強度の差分値を用いた所定の計算式に基づいて算出され、
前記カードビューは、前記ユーザ端末が位置する階の階間移動手段に関する情報を含むことを特徴とする、サービス方法。
【請求項２】
前記ユーザ端末が位置する階が変更された場合、前記ユーザ端末が移動した階の新たなカードビューを前記ユーザ端末に提供することを特徴とする、請求項１に記載のサービス方法。
【請求項３】
前記ユーザ端末が移動した階の新たなカードビューを前記ユーザ端末に提供することは、前記ユーザ端末からの要請に関係なく、前記ユーザ端末が移動した階の新たなカードビューを前記ユーザ端末に提供することである請求項２に記載のサービス方法。
【請求項４】
前記移動経路情報を生成する段階は、前記階間移動手段に関する情報を前記ユーザ端末に提供し、前記階間移動手段のうち前記ユーザ端末で選択された階間移動手段が含まれるように前記移動経路情報を生成することを特徴とする、請求項１に記載のサービス方法。
【請求項５】
前記移動経路情報を生成する段階は、前記階間移動手段を経由する移動経路別に移動時間を算出し、前記算出された移動時間に基づいて前記移動経路情報を生成することを特徴とする、請求項１に記載のサービス方法。
【請求項６】
前記各地点別に収集された周辺の無線アクセスポイントに関する情報は、前記各地点周辺に位置する無線アクセスポイントそれぞれのＭＡＣ（Ｍｅｄｉａ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）アドレスおよび信号強度を含み、
前記ユーザ端末の室内位置を決める段階は、前記各地点別に収集された周辺の無線アクセスポイントおよび前記ユーザ端末周辺の無線アクセスポイントそれぞれのＭＡＣアドレスに基づいて前記各地点別に収集された周辺の無線アクセスポイントの信号強度と前記ユーザ端末周辺の無線アクセスポイントの信号強度との類似度を計算し、前記類似度が最も高い地点を前記ユーザ端末の室内位置として決めることを特徴とする、請求項１に記載のサービス方法。
【請求項７】
前記各地点別に収集された周辺の無線アクセスポイントに関する情報は、前記ターゲット建築物の内部で等間隔に収集されることを特徴とする請求項１に記載のサービス方法。
【請求項８】
前記階間移動手段は、エレベータ、エスカレータ、および階段のうち少なくとも１つを含むことを特徴とする、請求項１に記載のサービス方法。
【請求項９】
請求項１〜８のうちいずれか一項に記載のサービス方法をコンピュータに実行させるためのプログラムが記録されていることを特徴とする、コンピュータで読み取り可能な記録媒体。
【請求項１０】
請求項１〜８のうちいずれか一項に記載のサービス方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１１】
コンピュータによって実現されるサービスシステムであって、
ターゲット建築物の内部の出発位置から目的位置までの移動経路情報を生成する移動経路情報生成部と、
前記ターゲット建築物の内部に位置するユーザ端末から前記ユーザ端末周辺の無線アクセスポイントに関する情報を受信する無線アクセスポイント情報受信部と、
前記ターゲット建築物の各地点別に収集された周辺の無線アクセスポイントに関する第１信号強度と前記ユーザ端末周辺の無線アクセスポイントに関する第２信号強度との類似度に基づいて前記ユーザ端末の室内位置を決める室内位置決定部と、
前記移動経路情報を含むカードビューをそれぞれの階別に構成し、前記ユーザ端末の位置に基づいて前記ユーザ端末が位置する階のカードビューを前記ユーザ端末に提供する移動経路情報提供部と、
を備え、
前記移動経路情報は、前記出発位置から前記目的位置に移動可能な経路上に含まれる階間移動手段に関する情報を考慮して生成され、
前記類似度は、前記第１信号強度と前記第２信号強度の差分値を用いた所定の計算式に基づいて算出され、
前記カードビューは、前記ユーザ端末が位置する階の階間移動手段に関する情報を含むことを特徴とする、サービスシステム。
【請求項１２】
前記移動経路情報生成部は、前記階間移動手段に関する情報をユーザ端末に提供し、前記階間移動手段のうち前記ユーザ端末で選択された階間移動手段が含まれるように前記移動経路情報を生成することを特徴とする、請求項１１に記載のサービスシステム。
【請求項１３】
前記移動経路情報生成部は、前記階間移動手段を経由する移動経路別に移動時間を算出し、前記算出された移動時間に基づいて前記移動経路情報を生成することを特徴とする、請求項１１に記載のサービスシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月16日(2018.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、再生器３０において発生した水蒸気は凝縮器４０に至り凝縮器４０において大気との熱交換により摂氏３８℃まで冷却されて液化する（点Ｊ２参照）。その後、液体冷媒である水は蒸発器１０に供給されて気化する（点Ｋ２参照）。これにより、冷房用の冷水を得ることとなる。気化した水は吸収器２０において６０％濃度（臭化リチウム水溶液相当、蒸気圧と浸透圧に関して）の第１吸収液に吸収される（点Ｂ２参照）。以後、水は上記した点Ｃ２、符号Ｅ２、点Ｈ２、点Ｉ２、点Ｆ２を経て、再度点Ｊ２の状態に至り、上記を繰り返すこととなる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
また、再生器３０において発生した水蒸気は凝縮器４０に至り凝縮器４０において大気との熱交換により摂氏５０℃まで冷却されて液化する（点Ｊ３参照）。その後、液体冷媒である水は蒸発器１０に供給されて気化する（点Ｋ３参照）。これにより、冷房用の冷水を得ることとなる。気化した水は吸収器２０において６３％濃度（臭化リチウム水溶液相当、蒸気圧と浸透圧に関して）の第１吸収液に吸収される（点Ｂ３参照）。以後、水は上記した点Ｃ３、符号Ｅ３、点Ｈ３、点Ｉ３、点Ｆ３を経て、再度点Ｊ３の状態に至り、上記を繰り返すこととなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
また、高温再生器３１において発生した水蒸気は高温凝縮器４１に至り高温凝縮器４１においてＴ（ＨＣＯＮ）℃まで冷却されて液化する（点Ｌ５参照）。また、低温再生器３２において発生した水蒸気は低温凝縮器４２に至り低温凝縮器４２においてＴ（ＬＣＯＮ）℃まで冷却されて液化する（点Ｍ５参照）。その後、これらの液体冷媒である水は蒸発器１０に供給されて気化する（点Ｎ５参照）。これにより、冷房用の冷水を得ることとなる。気化した水は吸収器２０において６０％濃度（臭化リチウム水溶液相当、蒸気圧と浸透圧に関して）の第１吸収液に吸収される（点Ｂ５参照）。以後、水は上記した点Ｃ５、符号Ｅ５、点Ｊ５、点Ｋ５、点Ｆ５、点Ｇ５、点Ｈ５、点Ｍ５を経て、再度点Ｎ５の状態に至り、上記を繰り返すこととなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2018013277.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2018013277.tif 000002
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2018013277.tif 000003
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2018013277.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月20日(2018.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部にポンプ室が区画されるポンプ部と、前記ポンプ部に連なる筒部と、を有するハウジングと、
所定の回転軸を中心に回転可能であって、前記ポンプ室に配置されるベーンを直径方向に往復動可能に支持するロータ本体と、前記ロータ本体に連なり前記筒部の径方向内側に配置される軸部と、を有するロータと、
前記ポンプ室に潤滑油を供給する第一の油路と、
を備えるベーンポンプであって、
第一の前記油路は、前記筒部を径方向に貫通する第一区間と、前記軸部に配置され前記第一区間の下流側に連なる第二区間と、前記第一区間と前記第二区間との境界に配置され前記ロータの回転に伴って前記油路を周期的に開閉する開閉部と、を有し、
さらに、前記ロータ本体の内部に区画される筒内空間に前記潤滑油を供給する第二の油路を備え、
前記ロータ本体は、筒状の周壁部と、前記周壁部の軸方向一端側の開口を封止し前記軸部に連なる底壁部と、を有し、
前記周壁部は、直径方向に対向して配置され、前記ベーンを保持する一対のロータ溝部を有し、
前記筒内空間において、前記ベーンと前記底壁部との間には隙間が区画されており、
第二の前記油路は前記隙間に開口していることを特徴とするベーンポンプ。
【請求項２】
前記第二区間の下流側に連なり、前記ハウジングと前記ロータとの境界に沿って延在し前記ポンプ室に開口する第三区間を有する請求項１に記載のベーンポンプ。
【請求項３】
前記第三区間の少なくとも一部は、前記ハウジングに配置されている請求項２に記載のベーンポンプ。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月6日(2018.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一つの吐出管と二つの吸入パイプが設けられた密閉容器と、
該密閉容器内に設けられ、回転軸を回転させる電動機と、
該電動機の下方に設けられ、前記回転軸の回転により駆動される二つの回転圧縮要素と、
該二つの回転圧縮要素を仕切る仕切り板と、
を具備する密閉形回転圧縮機であって、
各回転圧縮要素は、吸入通路を介して前記吸入パイプと連通するシリンダ室を備えたシリンダと、前記シリンダ室に偏心回転自在に収納されるローラと、前記シリンダ室を吸込室と圧縮室に区画するベーンと、前記シリンダ室で圧縮された作動流体を前記密閉容器内に吐き出す吐出弁装置と、を有し、
下側の回転圧縮要素は、圧縮運転を休止する休筒機構と、前記シリンダ室に侵入した潤滑油を吸い上げるシリンダ油流通路を有し、
前記仕切り板には、下側の回転圧縮要素の吸込室と上側の回転圧縮要素の吸込室を連通する仕切り板油流通路を配設し、
前記シリンダ油流通路は前記シリンダの下端部に開口していることを特徴とする密閉形回転圧縮機。
【請求項２】
一つの吐出管と二つの吸入パイプが設けられた密閉容器と、
該密閉容器内に設けられ、回転軸を回転させる電動機と、
該電動機の下方に設けられ、前記回転軸の回転により駆動される二つの回転圧縮要素と、
該二つの回転圧縮要素を仕切る仕切り板と、
を具備する密閉形回転圧縮機であって、
各回転圧縮要素は、吸入通路を介して前記吸入パイプと連通するシリンダ室を備えたシリンダと、前記シリンダ室に偏心回転自在に収納されるローラと、前記シリンダ室を吸込室と圧縮室に区画するベーンと、前記シリンダ室で圧縮された作動流体を前記密閉容器内に吐き出す吐出弁装置と、を有し、
下側の回転圧縮要素は、圧縮運転を休止する休筒機構と、前記シリンダ室に侵入した潤滑油を吸い上げるシリンダ油流通路を有し、
前記仕切り板には、下側の回転圧縮要素の吸込室と上側の回転圧縮要素の吸入通路を連通する仕切り板油流通路を配設し、
前記シリンダ油流通路は前記シリンダの下端部に開口していることを特徴とする密閉形回転圧縮機。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の密閉形回転圧縮機において、
前記下側の回転圧縮要素は、
前記ベーンの先端部を前記ローラの外周に弾性的に押圧した状態で圧縮運転を行い、前記ベーンの先端部を前記ローラの外周から離間させた状態で休筒運転を行うロータリー圧縮機であり、
前記上側の回転圧縮要素は、
前記ベーンの先端部を前記ローラの外周に弾性的に押圧した状態で圧縮運転を行うロータリー圧縮機、
または、前記ベーンと一体化させた前記ローラを用いて圧縮運転を行うスイング圧縮機
であることを特徴とする密閉形回転圧縮機。
【請求項４】
請求項１から３何れか一項に記載の密閉形回転圧縮機において、
前記仕切り板油流通路では、前記下側の回転圧縮要素から前記上側の回転圧縮要素に向けて潤滑油が流通することを特徴とする密閉形回転圧縮機。
【請求項５】
請求項１から４何れか一項に記載の密閉形回転圧縮機において、
前記仕切り板油流通路の通路面積を、前記吸入通路の通路面積よりも小さく形成したことを特徴とする密閉形回転圧縮機。
【請求項６】
請求項１から４何れか一項に記載の密閉形回転圧縮機において、
前記作動流体はＲ３２であることを特徴とする密閉形回転圧縮機。
【請求項７】
密閉形回転圧縮機、凝縮器、膨張装置、及び蒸発器を冷媒配管で接続した冷凍サイクルを備えた冷凍空調装置であって、
前記密閉形回転圧縮機は、請求項１から４何れか一項に記載の密閉形回転圧縮機であることを特徴とする冷凍空調装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月29日(2018.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明は、第１の観点からすると、第１の偏光方向の直線偏光を、シート状の対象物の表面に、該表面の法線方向に対して傾斜した入射方向から照射する照射系と、前記対象物で第１の方向に拡散反射された光の光路上に配置された第１の光検出器と、前記対象物で第２の方向に拡散反射された光の光路上に配置された第２の光検出器と、を備え、前記対象物で正反射される方向を正反射方向として、前記入射方向と前記対象物で前記第２の光検出器へ向けて反射される光の反射方向との成す角は、前記入射方向と前記正反射方向との成す角よりも小さく、かつ前記入射方向と前記対象物で前記第１の光検出器へ向けて反射される光の反射方向との成す角よりも大きく、少なくとも前記第１の光検出器及び前記第２の光検出器のいずれかと前記対象物との間の光路上に、前記第１の偏光方向に直交する第２の偏光方向の直線偏光成分を分離させる光学素子が配置されている光学センサである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の偏光方向の直線偏光を、シート状の対象物の表面に、該表面の法線方向に対して傾斜した入射方向から照射する照射系と、
前記対象物で第１の方向に拡散反射された光の光路上に配置された第１の光検出器と、
前記対象物で第２の方向に拡散反射された光の光路上に配置された第２の光検出器と、を備え、
前記対象物で正反射される方向を正反射方向として、前記入射方向と前記対象物で前記第２の光検出器へ向けて反射される光の反射方向との成す角は、前記入射方向と前記正反射方向との成す角よりも小さく、かつ前記入射方向と前記対象物で前記第１の光検出器へ向けて反射される光の反射方向との成す角よりも大きく、
少なくとも前記第１の光検出器及び前記第２の光検出器のいずれかと前記対象物との間の光路上に、前記第１の偏光方向に直交する第２の偏光方向の直線偏光成分を分離させる光学素子が配置されている光学センサ。
【請求項２】
前記第１の光検出器と前記対象物との間の光路上に前記光学素子が配置されていることを特徴とする請求項１に記載の光学センサ。
【請求項３】
前記第２の光検出器と前記対象物との間の光路上に前記光学素子が配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学センサ。
【請求項４】
前記複数の光検出器は、前記第１及び第２の方向に挟まれる第３の方向に拡散反射された光の光路上に配置された第３の光検出器を更に含み、
前記第３の光検出器と前記対象物との間の光路上には前記光学素子が配置されていないことを特徴とする請求項１又は３に記載の光学センサ。
【請求項５】
前記第１の光検出器は、前記対象物の表面の法線方向に拡散反射された光の光路上に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学センサ。
【請求項６】
前記第１の光検出器の出力と前記第２の光検出器の出力とに基づいて、前記対象物を特定する処理部を備えていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学センサ。
【請求項７】
前記対象物で正反射される方向を正反射方向として、前記入射方向と前記対象物で前記第２の光検出器へ向けて反射される光の反射方向との成す角及び前記入射方向と前記対象物で前記第３の光検出器へ向けて反射される光の反射方向との成す角は、前記入射方向と前記正反射方向との成す角よりも小さく、かつ前記入射方向と前記対象物で前記第１の光検出器へ向けて反射される光の反射方向との成す角よりも大きいことを特徴とする請求項４に記載の光学センサ。
【請求項８】
前記対象物で正反射される方向を正反射方向として、前記入射方向と前記対象物で前記第３の光検出器へ向けて反射される光の反射方向との成す角は、前記入射方向と前記対象物で前記正反射方向との成す角よりも小さく、かつ前記入射方向と前記対象物で前記第１の光検出器へ向けて反射される光の反射方向との成す角よりも大きいことを特徴とする請求項４に記載の光学センサ。
【請求項９】
前記照射系は、光源と、該光源からの光束の光路を前記入射方向に曲げる光路変更素子とを含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学センサ。
【請求項１０】
前記対象物で反射された光の光路を少なくとも１つの前記光検出器に向かう方向に曲げる光路変更素子を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の光学センサ。
【請求項１１】
前記照射系は、面発光レーザを含むことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学センサ。
【請求項１２】
記録媒体上に画像を形成する画像形成装置において、
前記記録媒体を対象物とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の光学センサを備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１３】
前記光学センサの出力に基づいて前記記録媒体の銘柄を特定し、該特定された銘柄に応じて画像形成条件を調整する調整装置を備えることを特徴とする請求項１２に記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月26日(2018.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
端末放熱器と接続されて温水暖房装置を構成し、水熱媒を昇温させて前記端末放熱器に搬送する温水熱源機であって、
前記水熱媒を前記温水熱源機と前記端末放熱器との間で循環させる水熱媒循環部と、
前記水熱媒循環部の下流側に配置されて前記水熱媒を加熱する加熱部と、
一端が往き内部配管を介して前記加熱部の下流側に接続されるとともに他端が往き外部配管を介して前記端末放熱器の上流側に接続されて、前記一端から前記他端に向かう前記水熱媒の流れである往き主流の方向に前記水熱媒が流れる中空状の往き流路を有する往き配管接続部と、
一端が戻り外部配管を介して前記端末放熱器の下流側に接続されるとともに他端が戻り内部配管を介して前記水熱媒循環部の上流側に接続されて、前記一端から前記他端に向かう前記水熱媒の流れである戻り主流の方向に前記水熱媒が流れる中空状の戻り流路を有する戻り配管接続部と、
前記往き流路と前記戻り流路とを連通させて接続するバイパス管と、
を備え、
前記往き配管接続部は、
前記往き主流の方向が鉛直下向き方向であり、
前記往き主流の方向に対する分流角度が１８０°とされた往き第１バイパス流路を有すること、
を特徴とする温水熱源機。
【請求項２】
前記往き配管接続部は、前記往き第１バイパス流路に対して屈曲して接続されて前記往き第１バイパス流路と前記バイパス管とを連通させる往き第２バイパス流路を有すること、
を特徴とする請求項１に記載の温水熱源機。
【請求項３】
前記戻り配管接続部は、
前記戻り主流の方向が鉛直上向き方向であり、
前記戻り主流の方向に対する合流角度が１８０°とされた戻り第１バイパス流路を有すること、
を特徴とする請求項１または２に記載の温水熱源機。
【請求項４】
前記戻り配管接続部は、前記戻り第１バイパス流路に対して屈曲して接続されて前記戻り第１バイパス流路と前記バイパス管とを連通させる戻り第２バイパス流路を有すること、
を特徴とする請求項３に記載の温水熱源機。
【請求項５】
前記戻り配管接続部において前記戻り主流の方向に流れる前記水熱媒と、前記戻り第１バイパス流路から前記戻り流路に流出した前記水熱媒と、が混合された混合水熱媒の温度を検知する水熱媒温度検知部と、
前記水熱媒温度検知部における検知結果に基づいて前記加熱部における前記水熱媒の加熱を制御する制御部と、
を有することを特徴とする請求項３または４に記載の温水熱源機。
【請求項６】
前記往き配管接続部と前記戻り配管接続部とが、同じ形状を有すること、
を特徴とする請求項１から５のいずれか１つに記載の温水熱源機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
戻り配管接続部１３は、水熱媒の流路として、一端から他端に向かう水熱媒の流れである戻り主流の方向に水熱媒が流れる中空状の戻り流路１３ａを有する。戻り配管接続部１３は、戻り流路１３ａを流れる水熱媒の戻り主流の方向が鉛直上向き方向となるように、一端を下側するとともに他端を上側にして配置されている。また、戻り配管接続部１３は、鉛直方向における高さ位置が往き配管接続部１２と同じ位置とされて、戻り配管接続部１３の外周部と往き配管接続部１２の外周部とが、後述するバイパス管１７により接続されている。戻り配管接続部１３の詳細については、後述する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
図５は、本発明の実施の形態における合流角度βを説明する概念図である。合流角度βは、加熱部１１に向かう戻り主流の方向Ｅの下流側と、合流部３２１で主流に合流するバイパス流の方向Ｆと、のなす角度である。合流部３２１で主流に合流するバイパス流の方向Ｆは、加熱部１１に向かう戻り主流の方向Ｅに対して、合流角度βが１８０°とされている。すなわち、戻り垂直方向流路３２２を流れるバイパス流の方向Ｆは、加熱部１１に向かう戻り主流の方向Ｅに対して、１８０°反転した方向とされている。これは、戻り配管接続部１３の戻り流路１３ａの伸長方向に対する戻り垂直方向流路３２２の曲げ角度が１８０°とされていると換言できる。また、戻り垂直方向流路３２２の流路径、すなわち戻り垂直方向流路３２２を構成する戻りバイパス部３２の中空部の内径は、戻り配管接続部１３の戻り流路１３ａの内径と比べて縮小されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
温水熱源機１においてバイパス流路に流れる流量を１．０Ｌ／ｍｉｎとする場合には、往き垂直方向流路３１２、往き水平方向流路３１３、戻り水平方向流路３２３および戻り垂直方向流路３２２の流路径を直径２．０ｍｍとすることで、流量を確保することが可能である。なお、往き主流の流量とバイパス流の流量との間には相関関係があり、図８に示すように主流の流量が増えるほどバイパス流の流量は減少する。したがって、主流の流量を調整することにより、バイパス流の流量を調整することが可能である。図８は、本発明の実施の形態にかかる温水熱源機における主流の流量とバイパス流の流量との関係を示す特性図である。図８においては、主流の流量とバイパス流の流量以外の条件を同一とした場合の主流の流量とバイパス流の流量との関係を示している。また、図８では、水熱媒循環部１５のポンプの揚程が相対的に高い場合のプロットＡと、水熱媒循環部１５のポンプの揚程が相対的に低い場合のプロットＢとを示している。図８から分かるように、水熱媒循環部１５のポンプの揚程が高くなるほどバイパス流の流量は増加する。したがって、ポンプの揚程を調整することにより、バイパス流の流量を調整することが可能である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
異物がバイパス流路に付着および堆積した場合には、バイパス流路に流れる水熱媒の流量が減少し、さらにはバイパス流路が閉塞するおそれがある。端末放熱器２を含む温水循環回路が閉状態となった場合に、バイパス流路に流れる水熱媒の流量が減少すると加熱部１１は空運転に近い状態となり、さらにバイパス流路が閉塞すると加熱部１１は空運転となる。加熱部１１が空運転となると、温水熱源機１が焼損するといった不具合に至る可能性がある。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月5日(2017.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスタービンエンジン（１０）用のタービンバケット（８０、１００、２００）であって、
プラットフォーム（８６、１０６、２０６）と、
前記プラットフォーム（８６、１０６、２０６）から半径方向外側に延在するエーロフォイル（８２、１０２、２０２）と、前記プラットフォーム（８６、１０６、２０６）と前記エーロフォイル（８２、１０２、２０２）内に少なくとも部分的に各々画定される複数の冷却通路（９４、１１４、２１４）であって、少なくとも１つの前記冷却通路（１１４、２１４）が、前記タービンバケット（１００、２００）の先端部（１１０、２１０）から半径方向内側に、前記エーロフォイル（１０２、２０２）の外面内に画定される出口（１１８、２１８）まで直線経路に沿って半径方向に延在する、複数の冷却通路（９４、１１４、２１４）と
を備えるタービンバケット（８０、１００、２００）。
【請求項２】
前記プラットフォーム（８６、１０６）から半径方向内側に延在するシャンク（８４、１０４）を更に備え、前記少なくとも１つの前記冷却通路（９４、１１４）が、前記シャンク（８４、１０４）の外面内に画定される入口（９６、１１６）から前記出口（１１８、２１８）まで前記直線経路に沿って半径方向に延在する、請求項１に記載のタービンバケット（８０、１００、２００）。
【請求項３】
前記プラットフォーム（２０６）から半径方向内側に延在するシャンク（２０４）と、前記シャンク内（２０４）に少なくとも部分的に画定される冷却空洞（２１６）とを更に備え、前記少なくとも１つの前記冷却通路（２１４）が、前記冷却空洞（２１６）から前記出口（１１８、２１８）まで前記直線経路に沿って半径方向に延在する、請求項１または２に記載のタービンバケット（８０、１００、２００）。
【請求項４】
前記少なくとも１つの前記冷却通路（２１４）が、前記プラットフォーム（２０６）内に配置された境界面で前記冷却空洞（２１６）と流体連通する、請求項３に記載のタービンバケット（８０、１００、２００）。
【請求項５】
前記少なくとも１つの前記冷却通路（１１４、２１４）の前記出口（１１８、２１８）が、前記エーロフォイル（１０２、２０２）の圧迫側面内に画定される、請求項１乃至４のいずれかに記載のタービンバケット（８０、１００、２００）。
【請求項６】
前記少なくとも１つの前記冷却通路（１１４、２１４）の前記出口（１１８、２１８）が、前記エーロフォイル（１０２、２０２）の吸込み側面内に画定される、請求項１乃至５のいずれかに記載のタービンバケット（８０、１００、２００）。
【請求項７】
各前記冷却通路（１１４、２１４）が、前記タービンバケット（８０、１００、２００）の前記先端部（１１０、２１０）から半径方向内側に、前記エーロフォイル（１０２、２０２）の前記外面内に画定される出口（１１８、２１８）まで前記直線経路に沿って半径方向に延在する、請求項１乃至６のいずれかに記載のタービンバケット（８０、１００、２００）。
【請求項８】
前記少なくとも１つの前記冷却通路（１１４、２１４）の前記出口（１１８、２１８）が、前記プラットフォーム（１０６、２０６）から前記エーロフォイル（１０２、２０２）の半径方向の長さの５０％と７０％との間の位置に、前記エーロフォイル（１０２、２０２）の前記外面内に画定される、請求項１乃至７のいずれかに記載のタービンバケット（８０、１００、２００）。
【請求項９】
前記プラットフォーム（１０６、２０６）から前記エーロフォイル（１０２、２０２）の前記半径方向の長さの７０％と１００％との間に延在する前記エーロフォイル（１０２、２０２）の部分が、中実である、請求項８に記載のタービンバケット（８０、１００、２００）。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの前記冷却通路（１１４、２１４）の前記出口（１１８、２１８）から半径方向外側に延在する前記エーロフォイル（１０２、２０２）の部分が、中実である、請求項１乃至９のいずれかに記載のタービンバケット（８０、１００、２００）。
【請求項１１】
前記エーロフォイル（１０２、２０２）から半径方向外側に延在する先端シュラウド（１０８、２０８）を更に備え、前記先端シュラウド（１０８、２０８）が、中実である、請求項１乃至１０のいずれかに記載のタービンバケット（８０、１００、２００）。
【請求項１２】
ガスタービンエンジン（１０）内で使用されるタービンバケット（８０、１００、２００）を冷却する方法であって、
冷却流体の流れを前記タービンバケット（８０、１００、２００）のエーロフォイル（８２、１０２、２０２）とプラットフォーム（８６、１０６、２０６）内に少なくとも部分的に各々画定される複数の冷却通路（９４、１１４、２１４）を通って流すステップであって、少なくとも１つの前記冷却通路（１１４、２１４）が、前記タービンバケット（１００、２００）の先端部（１１０、２１０）から半径方向内側に、前記エーロフォイル（１０２、２０２）の外面内に画定される出口（１１８、２１８）まで直線経路に沿って半径方向に延在する、ステップと、
冷却流体の前記流れを前記少なくとも１つの前記冷却通路（９４、１１４、２１４）の前記出口（９８、１１８、２１８）を通って、高温ガス通路（５４）の中に排出するステップと
を含む方法。
【請求項１３】
圧縮機（１５）と、
前記圧縮機（１５）と流体連通している燃焼器（２５）と、
前記燃焼器（２５）と流体連通しているタービン（４０）と
を備えるガスタービンエンジン（１０）であって、前記タービン（４０）が円周方向の列に配置された複数のタービンバケット（８０、１００、２００）を備え、各前記タービンバケット（８０、１００、２００）が、
プラットフォーム（８６、１０６、２０６）と、
前記プラットフォーム（８６、１０６、２０６）から半径方向外側に延在するエーロフォイル（８２、１０２、２０２）と、
前記プラットフォーム（８６、１０６、２０６）と前記エーロフォイル（８２、１０２、２０２）内に少なくとも部分的に各々画定される複数の冷却通路（９４、１１４、２１４）であって、少なくとも１つの前記冷却通路（１１４、２１４）が、前記タービンバケット（１００、２００）の先端部（１１０、２１０）から半径方向内側に、前記エーロフォイル（１０２、２０２）の外面内に画定される出口（１１８、２１８）まで直線経路に沿って半径方向に延在する、複数の冷却通路（９４、１１４、２１４）と
を備える、ガスタービンエンジン（１０）。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの前記冷却通路（１１４、２１４）の前記出口（１１８、２１８）が、前記プラットフォーム（１０６、２０６）から前記エーロフォイル（１０２、２０２）の半径方向の長さの５０％と７０％との間の位置に、前記エーロフォイル（１０２、２０２）の前記外面内に画定され、
前記少なくとも１つの前記冷却通路（１１４、２１４）の前記出口（１１８、２１８）から半径方向外側に延在する前記エーロフォイル（１０２、２０２）の部分が、中実である、請求項１３に記載のガスタービンエンジン（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月26日(2018.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学系の光軸方向に移動して前記光学系の特性を変化させる第一光学部材と、
ユーザにより操作されると信号を発生する操作部材と、
前記操作部材による単位操作量当たりの前記第一光学部材の移動量である単位移動量を変更可能な変更部と、
前記信号に基づいて前記第一光学部材の目標位置を算出する目標位置算出部と、
前記目標位置が、有効範囲内にあるか否かを判断する判断部と、
を備え、
前記変更部は、前記目標位置が前記有効範囲内にあるか否かに応じて、前記目標位置の算出方法を変更する光学装置。
【請求項２】
前記第一光学部材は、前記光軸方向に移動して前記光学系の合焦距離を変化させ、
前記光学系は、前記光軸方向に移動して前記光学系の焦点距離を変化させる第二光学部材を更に備え、
前記変更部は、前記光学系の焦点距離が変化した場合に、前記単位移動量を変更する請求項１に記載の光学装置。
【請求項３】
前記判断部は、前記光学系の焦点距離が変化した場合に、変化前の前記第一光学部材の前記光軸方向の位置が、変化後の焦点距離では合焦可能範囲内にある位置か否かで前記有効範囲内にあるか否かを判断する請求項１または請求項２に記載の光学装置。
【請求項４】
前記判断部は、前記光学系の焦点距離が変化した場合に、変化前の前記第一光学部材の前記光軸方向の位置が、変化後の焦点距離における最短合焦距離を超える位置か否かで前記有効範囲内にあるか否かを判断する請求項１または請求項２に記載の光学装置。
【請求項５】
前記変更部は、前記目標位置が前記有効範囲内に無い場合に、前記単位移動量の値を零にする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の光学装置。
【請求項６】
前記目標位置算出部は、前記判断部により前記目標位置が前記有効範囲内に無いと判断された場合に、前記目標位置が前記有効範囲の端部に接近するように定める請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の光学装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の光学装置を備える撮像装置。
【請求項８】
前記光学装置は、カメラボディに着脱可能な交換レンズである請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の光学装置。
【請求項９】
光学装置における光学系の光軸方向に移動して前記光学系の特性を変化させる第一光学部材を移動させる駆動方法であって、
ユーザにより操作部材が操作されると信号を発生する段階と、
前記ユーザにより操作されると、前記操作部材による単位操作量当たりの前記第一光学部材の移動量である単位移動量と前記信号とに基づいて前記第一光学部材の目標位置を算出する段階と、
前記目標位置が有効範囲内にあるか否かを判断する段階と、
前記目標位置が前記有効範囲内にあるか否かに応じて、前記目標位置の算出方法を変更する段階とを備える駆動方法。
【請求項１０】
光学系の光軸方向に移動して前記光学系の特性を変化させる第一光学部材と、
ユーザにより操作されると信号を発生する操作部材と、
前記第一光学部材を移動させる駆動部と、
を備えるレンズユニットが着脱可能なカメラボディであって、
前記操作部材による単位操作量当たりの前記第一光学部材の移動量である単位移動量を変更可能な変更部と、
前記信号に基づいて前記第一光学部材の目標位置を算出する算出部と、
前記目標位置が有効範囲内にあるか否かを判断する判断部と、
を備え、
前記変更部は、前記目標位置が前記有効範囲内にあるか否かに応じて、前記目標位置の算出方法を変更するカメラボディ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月27日(2017.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１乃至第４のトランジスタを有し、
前記第１乃至前記第４のトランジスタは、それぞれ、ゲート電極と、前記ゲート電極上に絶縁膜を介して位置する半導体層と、を有し、
前記半導体層はシリコンを有し、
前記第１のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方は、第１の配線と電気的に接続されており、
前記第１の配線は、前記第１乃至第４のトランジスタを有する回路から出力される信号を伝達する機能を有し、
前記第１のトランジスタのゲート電極としての機能を有する第１の導電層は、前記第３のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方としての機能と、前記第４のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方としての機能とを有する第２の導電層を介して、前記第２のトランジスタのゲート電極としての機能を有する第３の導電層と電気的に接続されており、
前記第２のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方は、前記第３のトランジスタのゲート電極と電気的に接続されており、
前記第２のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、第２の配線に電気的に接続されており、
前記第３のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、前記第２の配線に電気的に接続されており、
前記第４のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、前記第２の配線に電気的に接続されている半導体装置。
【請求項２】
走査線駆動回路と、画素と、を有し、
前記走査線駆動回路は、シフトレジスタを有し、
前記シフトレジスタが有する複数段の回路の一つは、第１乃至第４のトランジスタを有し、
前記第１乃至前記第４のトランジスタは、それぞれ、ゲート電極と、前記ゲート電極上に絶縁膜を介して位置する半導体層と、を有し、
前記半導体層はシリコンを有し、
前記第１のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方は、第１の配線と電気的に接続されており、
前記第１の配線は、前記第１乃至第４のトランジスタを有する回路から出力される信号を伝達する機能を有し、
前記第１のトランジスタのゲート電極としての機能を有する第１の導電層は、前記第３のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方としての機能と、前記第４のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方としての機能とを有する第２の導電層を介して、前記第２のトランジスタのゲート電極としての機能を有する第３の導電層と電気的に接続されており、
前記第２のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方は、前記第３のトランジスタのゲート電極と電気的に接続されており、
前記第２のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、第２の配線に電気的に接続されており、
前記第３のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、前記第２の配線に電気的に接続されており、
前記第４のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方は、前記第２の配線に電気的に接続されている半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月10日(2018.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料がプラズマ処理される処理室と、プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、前記試料を静電吸着させるための電極を具備し前記試料が載置される試料台と、前記電極に直流電圧を印加する直流電源とを備えるプラズマ処理装置において、
前記試料のプラズマ処理後、前記高周波電力を第一の高周波電力から第二の高周波電力に変更させ、
前記第二の高周波電力が供給されている間、前記直流電圧を前記プラズマ処理時の値から所定の値に変更させ、
前記第二の高周波電力の供給が停止された後、前記直流電圧を前記所定の値から概０Ｖに変更させ、
前記直流電圧が概０Ｖに変更された後、プラズマ処理された前記試料を前記試料台から離脱させる制御を行う制御部をさらに備え、
前記第二の高周波電力は、前記試料台に静電吸着した前記試料を前記試料台から離脱させるためのプラズマを生成するための高周波電力であり、
前記所定の値は、前記直流電圧を前記所定の値に変更させた時、前記電極の電位が前記試料の電位と概ね同等となるようにして求められた値であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
前記電極が２個の場合、前記一方の電極に印加される第一の直流電圧と前記他方の電極に印加される第二の直流電圧の平均値が前記所定の値となるようにして求められた前記第一の直流電圧および前記第二の直流電圧が前記電極の各々に印加されることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記所定の値は、前記第二の高周波電力により生成されたプラズマの浮遊電位と概ね同等であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
前記所定の値は、−２０〜−１０Ｖの範囲内の値であることを特徴とプラズマ処理装置。
【請求項５】
請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
前記第二の高周波電力の供給を停止してから所定時間が経過した後、前記直流電圧を前記所定の値から概０Ｖに変更させ、
前記所定時間は、０．１〜３秒の範囲内の時間であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項６】
試料がプラズマ処理された後、前記試料が載置される試料台に静電吸着した前記試料を前記試料台から離脱させる試料の離脱方法において、
前記試料をプラズマ処理した後、プラズマを生成するための高周波電力を第一の高周波電力から第二の高周波電力に変更し、
前記第二の高周波電力を供給している間、前記試料を前記試料台に静電吸着させるための直流電圧を前記プラズマ処理時の値から所定の値に変更し、
前記第二の高周波電力の供給を停止した後、前記直流電圧を前記所定の値から概０Ｖに変更し、
前記直流電圧を概０Ｖに変更した後、プラズマ処理された前記試料を前記試料台から離脱させ、
前記第二の高周波電力は、前記試料台に静電吸着した前記試料を前記試料台から離脱させるためのプラズマを生成するための高周波電力であり、
前記所定の値は、前記直流電圧を前記所定の値に変更した時、前記電極の電位が前記試料の電位と概ね同等となるようにして求められた値であることを特徴とする試料の離脱方法。
【請求項７】
請求項６に記載の試料の離脱方法において、
前記電極が２個の場合、前記一方の電極に印加される第一の直流電圧と前記他方の電極に印加される第二の直流電圧の平均値が前記所定の値となるようにして求められた前記第一の直流電圧および前記第二の直流電圧を前記電極の各々に印加することを特徴とする試料の離脱方法。
【請求項８】
請求項６または請求項７に記載の試料の離脱方法において、
前記所定の値は、前記第二の高周波電力により生成されたプラズマの浮遊電位と概ね同等であることを特徴とする試料の離脱方法。
【請求項９】
請求項６に記載の試料の離脱方法において、
前記所定の値は、−２０〜−１０Ｖの範囲内の値であることを特徴と試料の離脱方法。
【請求項１０】
請求項６に記載の試料の離脱方法において、
前記第二の高周波電力の供給を停止してから所定時間が経過した後、前記直流電圧を前記所定の値から概０Ｖに変更し、
前記所定時間は、０．１〜３秒の範囲内の時間であることを特徴とする試料の離脱方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、試料がプラズマ処理される処理室と、プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、前記試料を静電吸着させるための電極を具備し前記試料が載置される試料台と、前記電極に直流電圧を印加する直流電源とを備えるプラズマ処理装置において、前記試料のプラズマ処理後、前記高周波電力を第一の高周波電力から第二の高周波電力に変更させ、前記第二の高周波電力が供給されている間、前記直流電圧を前記プラズマ処理時の値から所定の値に変更させ、前記第二の高周波電力の供給が停止された後、前記直流電圧を前記所定の値から概０Ｖに変更させ、前記直流電圧が概０Ｖに変更された後、プラズマ処理された前記試料を前記試料台から離脱させる制御を行う制御部をさらに備え、前記第二の高周波電力は、前記試料台に静電吸着した前記試料を前記試料台から離脱させるためのプラズマを生成するための高周波電力であり、前記所定の値は、前記直流電圧を前記所定の値に変更させた時、前記電極の電位が前記試料の電位と概ね同等となるようにして求められた値であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明は、試料がプラズマ処理された後、前記試料が載置される試料台に静電吸着した前記試料を前記試料台から離脱させる試料の離脱方法において、前記試料をプラズマ処理した後、プラズマを生成するための高周波電力を第一の高周波電力から第二の高周波電力に変更し、前記第二の高周波電力を供給している間、前記試料を前記試料台に静電吸着させるための直流電圧を前記プラズマ処理時の値から所定の値に変更し、前記第二の高周波電力の供給を停止した後、前記直流電圧を前記所定の値から概０Ｖに変更し、前記直流電圧を概０Ｖに変更した後、プラズマ処理された前記試料を前記試料台から離脱させ、前記第二の高周波電力は、前記試料台に静電吸着した前記試料を前記試料台から離脱させるためのプラズマを生成するための高周波電力であり、前記所定の値は、前記直流電圧を前記所定の値に変更した時、前記電極の電位が前記試料の電位と概ね同等となるようにして求められた値であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月6日(2018.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正極と、
負極と、
非水電解質と
を具備し、
前記正極は、
Ｌｉと、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｏ及びＮｉからなる群より選択される少なくとも一種の遷移金属とを含有する正極活物質粒子を含んだ正極合材層と、
前記正極合材層を少なくとも一方の面に担持した正極集電体と
を具備し、
前記正極合材層は、前記正極集電体に接している第１の面と、前記第１の面から前記正極合材層の厚さだけ離れた第２の面とを含み、
前記正極合材層は、
前記正極合材層の前記厚さの少なくとも２０％の厚さを有し、前記第１の面を含んだ第１の部分と、
前記正極合材層の前記厚さの少なくとも２０％の厚さを有し、前記第２の面を含んだ第２の部分と
を含み、
前記正極合材層の前記第１の部分において、前記正極活物質粒子の表面には、第１の酸化物層が形成されており、前記第１の酸化物層は、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ及びＷからなる群より選択される少なくとも１種の元素を含有し、前記第１の酸化物層の厚さは、０．５ｎｍより大きく且つ１００ｎｍ以下であり、
前記正極合材層の前記第２の部分において、前記正極活物質粒子の表面には、第２の酸化物層が形成されており、前記第２の酸化物層は、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ及びＷからなる群より選択される少なくとも１種の元素を含有し、前記第２の酸化物層の厚さは、０．５ｎｍ以上であり且つ１００ｎｍより小さく、
前記第１の酸化物層の前記厚さは、前記第２の酸化物層の前記厚さよりも大きく、
前記負極は、負極活物質として炭素材料を含む非水電解質電池。
【請求項２】
前記第１の酸化物層の前記厚さの前記第２の酸化物層の前記厚さに対する比が、５以上である請求項１に記載の非水電解質電池。
【請求項３】
前記炭素材料は、黒鉛を含む請求項１又は２に記載の非水電解質電池。
【請求項４】
前記正極合材層は、前記正極活物質粒子以外の活物質を更に含む請求項１〜３の何れか１項に記載の非水電解質電池。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月19日(2018.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
上面に配される電極及び下面に配される電極を有し、前記基板上に、前記下面に配される電極が実装されたベアチップと、
前記上面に配される電極における制御信号用電極に接合される第１の接合部、前記基板上の制御信号用パターンに接合される第２の接合部及び前記第１の接合部と前記第２の接合部とを電気的に接続する接続部を有する導電部と、
を備える半導体モジュールにおいて、
前記接続部には、絶縁部材が設けられており、
前記ベアチップ一つに対して前記制御信号用電極を含む複数の信号用電極を有し、
複数の前記導電部が複数の前記信号用電極にそれぞれ配置され、
複数の前記導電部における各接続部は一つの前記絶縁部材によって固定されていることを特徴とする半導体モジュール。
【請求項２】
前記絶縁部材と前記基板とは面接触していることを特徴とする請求項１に記載の半導体モジュール。
【請求項３】
前記絶縁部材と前記基板とは接着されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体モジュール。
【請求項４】
前記ベアチップが複数備えられ、各ベアチップの上面に配される電極における信号用電極とは別の電極に接合される複数のリードがケースによって一体的に形成され、前記リードと前記別の電極とは接触せずに接合されていることを特徴とする請求項１〜請求項３のうちいずれか１項に記載の半導体モジュール。
【請求項５】
前記リードの接合部はＲ形状を有することを特徴とする請求項４に記載の半導体モジュール。