【手続補正書】
【提出日】平成30年6月28日(2018.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微粒子の製造方法であって、
前記製造方法が、重合性単量体組成物を水系媒体中に分散し、ミニエマルション重合する工程を有し、
前記重合性単量体組成物が、
重量平均分子量が４００以上２０００以下のシロキサン構造を有するモノマー、
複数の重合性官能基を有するモノマー、および
イオン性基を有するモノマー、
を含有する
ことを特徴とする微粒子の製造方法。
【請求項２】
前記複数の重合性官能基を有するモノマーの重量平均分子量が、２００以上２０００以下である請求項１に記載の微粒子の製造方法。
【請求項３】
前記重合性単量体組成物が、さらにポリエステルを含有する請求項１または２に記載の微粒子の製造方法。
【請求項４】
前記ポリエステルが、ラジカル重合性の不飽和炭素結合を有する請求項３に記載の微粒子の製造方法。
【請求項５】
前記重合性単量体組成物の質量をＷ２とし、前記複数の重合性官能基を有するモノマーの質量をＷ１としたとき、Ｗ１およびＷ２が、下記式（１）を満たす請求項１〜４のいずれか１項に記載の微粒子の製造方法。
０．００５≦Ｗ１／Ｗ２≦０．０８  （１）
【請求項６】
前記重合性単量体組成物の質量をＷ２とし、前記イオン性基を有するモノマーの質量をＷ３としたとき、Ｗ２およびＷ３が、下記式（２）を満たす請求項１〜５のいずれか１項に記載の微粒子の製造方法。
０．０２≦Ｗ３／Ｗ２≦０．１５  （２）
【請求項７】
シロキサン構造に由来するケイ素原子を含有する微粒子であって、
前記微粒子中のケイ素原子の含有量が、前記微粒子に対して５．０質量％以上１５．０質量％以下であり、
水中で測定される前記微粒子の体積平均粒径（ｎｍ）をＤｗｖ（ｎｍ）とし、水中で測定される前記微粒子の個数平均粒径（ｎｍ）をＤｗｎ（ｎｍ）とし、溶剤Ｓ中で測定される前記微粒子の体積平均粒径（ｎｍ）をＤｓｖ（ｎｍ）としたとき、Ｄｗｖ、ＤｗｎおよびＤｓｖが、下記式（３）〜（５）を満たし、
Ｄｗｖ／Ｄｗｎ≦１．５  （３）
５０ｎｍ≦Ｄｗｖ≦５００ｎｍ  （４）
Ｄｓｖ／Ｄｗｖ≦１．５  （５）
前記微粒子が、前記溶剤Ｓおよび疎水性溶剤Ｘに難溶または不溶であり、
前記溶剤Ｓが、アセトンおよびテトラヒドロフランの少なくとも一方であり、
前記疎水性溶剤Ｘが、超臨界状態もしくは液体状態の二酸化炭素、ヘキサンおよびヘキサデカンの少なくとも１つである
ことを特徴とする微粒子。
【請求項８】
前記微粒子が、イオン性基を有するモノマーに由来する部位を有する請求項７に記載の微粒子。
【請求項９】
前記微粒子が、ポリエステル部位を有する請求項７または８に記載の微粒子。
【請求項１０】
樹脂粒子の製造方法であって、
前記製造方法が、樹脂Ｒ、溶剤Ｓおよび分散剤を含む混合物に、疎水性溶剤Ｘを添加および攪拌して、樹脂粒子を形成する工程を有し、
前記分散剤が、請求項７〜９のいずれか１項に記載の微粒子であり、
前記溶剤Ｓが、アセトンおよびテトラヒドロフランの少なくとも一方であり、
前記疎水性溶剤Ｘが、超臨界状態もしくは液体状態の二酸化炭素、ヘキサンおよびヘキサデカンの少なくとも１つである
ことを特徴とする樹脂粒子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、その一態様では、
微粒子の製造方法であって、
前記製造方法が、重合性単量体組成物を水系媒体中に分散し、ミニエマルション重合する工程を有し、
前記重合性単量体組成物が、
重量平均分子量が４００以上２０００以下のシロキサン構造を有するモノマー、
複数の重合性官能基を有するモノマー、および
イオン性基を有するモノマー、
を含有する
ことを特徴とする微粒子の製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明は、他の態様によれば、
シロキサン構造に由来するケイ素原子を含有する微粒子であって、
前記微粒子中のケイ素原子の含有量が、前記微粒子に対して５．０質量％以上１５．０質量％以下であり、
水中で測定される前記微粒子の体積平均粒径（ｎｍ）をＤｗｖ（ｎｍ）とし、水中で測定される前記微粒子の個数平均粒径（ｎｍ）をＤｗｎ（ｎｍ）とし、溶剤Ｓ中で測定される前記微粒子の体積平均粒径（ｎｍ）をＤｓｖ（ｎｍ）としたとき、Ｄｗｖ、ＤｗｎおよびＤｓｖが、下記式（３）〜（５）を満たし、
Ｄｗｖ／Ｄｗｎ≦１．５  （３）
５０ｎｍ≦Ｄｗｖ≦５００ｎｍ  （４）
Ｄｓｖ／Ｄｗｖ≦１．５  （５）
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記微粒子が、前記溶剤Ｓおよび疎水性溶剤Ｘに難溶または不溶であり、
前記溶剤Ｓが、アセトンおよびテトラヒドロフランの少なくとも一方であり、
前記疎水性溶剤Ｘが、超臨界状態もしくは液体状態の二酸化炭素、ヘキサンおよびヘキサデカンの少なくとも１つである
ことを特徴とする微粒子に関する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明は、別の態様によれば、
樹脂粒子の製造方法であって、
前記製造方法が、樹脂Ｒ、溶剤Ｓおよび分散剤を含む混合物に、疎水性溶剤Ｘを添加および攪拌して、樹脂粒子を形成する工程を有し、
前記分散剤が、上記本発明の微粒子であり、
前記溶剤Ｓが、アセトンおよびテトラヒドロフランの少なくとも一方であり、
前記疎水性溶剤Ｘが、超臨界状態もしくは液体状態の二酸化炭素、ヘキサンおよびヘキサデカンの少なくとも１つである
ことを特徴とする樹脂粒子の製造方法に関する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
本発明の微粒子は、上述したような製造方法によって製造することができる。このような製造方法で得られた微粒子は、以下のような特徴を有する。シロキサン構造に由来するケイ素原子を含有する微粒子であり、微粒子中のケイ素原子の含有量が、微粒子に対して５．０質量％以上１５．０質量％以下であり、水中で測定される前記微粒子の体積平均粒径（ｎｍ）をＤｗｖ（ｎｍ）とし、水中で測定される前記微粒子の個数平均粒径（ｎｍ）をＤｗｎ（ｎｍ）とし、溶剤Ｓ中で測定される前記微粒子の体積平均粒径（ｎｍ）をＤｓｖ（ｎｍ）としたとき、Ｄｗｖ、ＤｗｎおよびＤｓｖが、下記式（３）〜（５）を満たし、微粒子が、溶剤Ｓおよび疎水性溶剤Ｘに難溶または不溶である。
Ｄｗｖ／Ｄｗｎ≦１．５  （３）
５０ｎｍ≦Ｄｗｖ≦５００ｎｍ  （４）
Ｄｓｖ／Ｄｗｖ≦１．５  （５）
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
本発明の微粒子は、シロキサン構造に由来するケイ素原子を含有する。シロキサン構造は、下記式（１）で表わされるシロキサン結合による主骨格を持つ構造であり、疎水性溶剤Ｘに対して親和性を有する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
微粒子のケイ素原子の含有量は、微粒子に対して５．０質量％以上１５．０質量％以下である。ケイ素原子の含有量が５．０質量％より小さい場合、疎水性溶剤Ｘに対する親和性が小さ過ぎるため、微粒子が疎水性溶剤Ｘ中で分散剤として機能し難く、樹脂粒子が凝集しやすい。一方、ケイ素原子の含有量が１５．０質量％より大きい場合、疎水性溶剤Ｘに対する親和性が大き過ぎるため、微粒子の耐溶剤性が低下しやすい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
微粒子に含まれるケイ素原子の含有量は、従来公知の方法によって評価することができ、例えば、蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）法により評価することができる。詳しい測定方法については、以下に詳述する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
＜微粒子に含有されるケイ素原子の質量％の評価方法＞
微粒子に含まれるケイ素原子の質量分率は蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）法により測定する。微粒子をペレット状に形成し、波長分散型蛍光Ｘ線分析装置（ＺＳＸ１００ｅ；リガク社製）を用いて真空中において、ＦＰ法にて発生する特性Ｘ線のエネルギーを求めることにより微粒子に含まれる元素の原子比を測定する。この元素の原子比を質量比に換算することでケイ素原子の質量分率を算出する。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
【表２】
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