【事件の表示】
　平成　９年特許願第　５６８５５号「有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法および製造装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年　９月１１日出願公開、特開平１０−２４１８５８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
  本願は、平成９年２月２５日の出願であって、平成１５年８月８日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年９月１１日審判請求がなされるとともに、同年９月１１日付けで手続補正がなされたものである。        
　
２．平成１５年９月１１日付け手続補正についての補正却下の決定　
　
［補正却下の決定の結論］　
　平成１５年９月１１日付け手続補正を却下する。　
　
［理由］
（１）本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、次のとおりに補正された。　
　「有機エレクトロルミネッセンス積層構造体が、その基板とシールド部材とによって形成された気密空間内に配置され、かつこの気密空間内に、不活性ガス導入用の封入口を必要とせずに、実質的に不活性ガスのみが充填されている有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、
　有機エレクトロルミネッセンス積層構造体を、内部に保持搬送手段を有する真空槽を有し、この真空槽の周囲に成膜方法別に個別に配置されている真空チャンバーで真空雰囲気を維持したまま連続で成膜する積層構造体成膜工程、この積層構造体成膜工程で形成された有機エレクトロルミネッセンス積層構造体を大気に曝すことなく、真空または有機エレクトロルミネッセンス表示装置の気密空間に充填する不活性ガスであって水分含有量が１００ppm以下の不活性ガスを搬送雰囲気として次の工程に搬送する搬送工程、および
　前記搬送工程により、搬送されてきた有機エレクトロルミネッセンス積層構造体を大気に曝すことなくこれを受け、この有機エレクトロルミネッセンス積層構造体に対しシールド部材を組み付けるシールド部材組み付け工程を有し、
　このシールド部材組み付け工程で用いられる作業空間と前記搬送工程とを接続する気密前室がこのシールド部材組み付け工程で用いられており、
　このシールド部材組み付け工程で用いられる気密前室および作業空間が、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の気密空間に充填する不活性ガスであって水分含有量が１００ppm以下０．１ppm以上の不活性ガス雰囲気とすることができ、気密前室内に搬入された有機エレクトロルミネッセンス積層構造体およびシールド部材をこの雰囲気下におき、その後、気密前室および作業空間をこの不活性ガス雰囲気にして、これらを作業空間に搬入し、作業空間のこの不活性ガス雰囲気内で、基板とシールド部材とを接着剤で貼り合わせることにより、前記気密空間内に前記不活性ガスを閉じ込めて、シールド部材に不活性ガス導入用の封入口を必要としない気密空間内の不活性ガスの水分含有量が１００ppm以下０．１ppm以上の有機エレクトロルミネッセンス表示装置を得る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。」　　
　
　上記補正は、まず、請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「積層構造体成膜工程」の実施装置に関して、「内部に保持搬送手段を有する真空槽を有し」及び真空チャンバーが「この真空槽の周囲に配置されている」という限定を付加するものである。
　また、シールド部材組み付け工程に関して、「このシールド部材組み付け工程で用いられる作業空間と前記搬送工程とを接続する気密前室がこのシールド部材組み付け工程で用いられて」いること、この気密前室が作業室と同等の「不活性ガス雰囲気とすることができ」ること及び「気密前室内に搬入された有機エレクトロルミネッセンス積層構造体およびシールド部材をこの雰囲気下におき、その後、気密前室および作業空間をこの不活性ガス雰囲気にして、これらを作業空間に搬入」することを付加したものであって、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際に独立して特許をうけることができるものであるか（特許法１７条の２第５項において準用する同法１２６条第４項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）．引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願日前である平成８年４月３０日に頒布された特開平８−１１１２８５号公報（以下「刊行物１」という。）、同じく平成８年１１月１９日に頒布された特開平８−３０２３４０号公報（以下「刊行物２」という。）には、それぞれ以下の記載がある。
　
刊行物１　
（ａ１）「【請求項１】　有機エレクトロルミネセンス素子の少なくとも一部の複数の層状部分を、真空槽の周辺に形成された複数の作業用真空室において順次成膜し、保護膜の形成後に外部に取出すようにしたことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法。」（【特許請求の範囲】【請求項１】）
　
（ａ２）「【０００１】
【産業上の利用分野】　本発明は有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）素子の製造方法及びその装置に係り、特に有機エレクトロルミネセンス素子の製造に際し、基板上に透明電極を形成した後の工程から保護膜形成の工程までを、外気の酸化雰囲気から隔離して連続して真空室中に行い、保護膜形成後、外気中に取出すようにしたものに関する。」（【０００１】）
　
（ａ３）「【０００７】
【作用】　先ず、ガラス基板に透明電極を形成してこれをパターニングした有機ＥＬウェーハ４を後述する保持板に保持させたあと、これを基板挿入取出部１０を開き、真空室１１内のロボット２の保持部３に保持させる。このようにして有機ＥＬウェーハ４を保持させたあと、これを真空槽１内に入れ、真空にする。
【０００８】　それから作業用真空室１１のゲート２０を開き、有機ＥＬウェーハ４をその支持部６に保持させて正孔注入輸送層を蒸着させる。次にロボット２はこの有機ＥＬウェーハ４を作業用真空室１２の支持部６に保持させ、発光層を蒸着させる。このようにして作業用真空室１３にて電子注入輸送層を蒸着し、作業用真空室１４にて陰極を蒸着し、作業用真空室１５にてＳｉ層をスパッタリングし、作業用真空室１６にて保護膜をスパッタリングで形成したあと、真空槽１を常圧に戻し、基板挿入取出部１０から有機ＥＬ素子を取出すことができる。」（「【０００７】〜【０００８】」）
　
（ａ４）「【００１９】Ｓｉ層３６は陰極３５をコーティングしてその酸化を防止するものであり、Ｓｉをスパッタリングすることで成膜される。保護膜３７は陰極３５の酸化防止のみならず、正孔注入輸送層３２〜電子注入輸送層３４の酸化を防止し、有機ＥＬ素子が長時間発光できるようにするものであり、例えばＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等をスパッタリングすることにより形成される。」（【００１９】）
　
（ａ５）「【００４５】
【発明の効果】請求項１に記載された本発明によれば、真空を破らない、いわゆるクラスタツール方式で有機ＥＬ素子を製造するので、一度真空にすれば工程が終わるまでこれを保持すればよく、工程毎に真空状態にする必要がないので効率的である。しかも保護膜を形成したあとで大気中に取出すので、各層が酸化雰囲気に露出されることがないので、各層が酸化されないため、発光寿命の長いものを提供することができる。」（【００４５】）
　　
刊行物２
（ｂ１）「【請求項１】少なくとも一方が透明または半透明である一対の陽極および陰極からなる電極間に、少なくとも発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、‥（中略）‥該有機エレクトロルミネッセンス素子が、陽極表面からの間隔または陰極表面からの間隔が１μｍ以上２ｍｍ以下である２枚の透明または半透明の板またはフィルムにより挟まれ、かつ外気と接触しないように隔絶されてなり、該素子と該板またはフィルムとの間の空間は不活性な気体で満たされてなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。」（【特許請求の範囲】【請求項１】）
　
（ｂ２）「【請求項４】不活性な気体中で、透明または半透明な板またはフィルム上に作製した有機エレクトロルミネッセンス素子を囲むように、透明または半透明な板またはフィルム上に１μｍ以上２ｍｍ以下のスペーサーを置き、この上から別の透明または半透明な板またはフィルムをのせ、スペーサーと２枚のそれぞれの透明または半透明な板またはフィルムとの接合部を光硬化型または熱硬化型接着剤で接合し、該接合部を光硬化または熱硬化させ、２枚の透明または半透明な板またはフィルムを接合することを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。」（【特許請求の範囲】【請求項４】）
　
（ｂ３）「【００２６】該素子と該板またはフィルムとの間の空間、例えば該素子と該被覆体との間の空間は不活性な気体で満たされている。不活性な気体としては、窒素、アルゴン、ヘリウムまたは二酸化炭素が好ましく、アルゴン、窒素がさらに好ましい。　なお、不活性な気体中の水分量は、素子の劣化を防ぐため１０００ｐｐｍ以下が好ましく、１００ｐｐｍ以下がさらに好ましい。」（【００２６】）
　
（ｂ４）「【００４２】　次に、本発明における有機ＥＬ素子の保護層の製造方法の１例について図１に基づいて説明する。以下の操作を不活性な気体中で行なうことにより、該有機ＥＬ素子と透明または半透明な板またはフィルムとの間の空間、すなわち該有機ＥＬ素子と被覆体との間の空間が不活性な気体９で満たされる。まず、前記のように透明または半透明な板またはフィルム１（基板を兼ねる。）上に作製した有機エレクトロルミネッセンス素子を囲むように、透明または半透明な板またはフィルム１（基板を兼ねる。）上に１μｍ以上２ｍｍ以下のスペーサー３を置き、この上から別の透明または半透明な板またはフィルム１０をのせる。次に、スペーサー３と２枚のそれぞれの透明または半透明な板またはフィルムとの接合部を光硬化型または熱硬化型接着剤２で接合し、該接合部を光硬化または熱硬化させ、２枚の透明または半透明な板またはフィルムを接合する。これにより、有機ＥＬ素子は外気と遮断される。」（【００４２】）
　
　(ａ１)〜(ａ５)の記載及び図面からみて、刊行物１には、
　有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極、正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層、陰極といった各層（以下「機能層」という）が積層され、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4といった材料からなる保護層が成膜される有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、内部に搬送ロボットを有する真空槽を有し、この真空槽の周囲に配置されている作業用真空室で真空雰囲気を維持したまま連続で陰極までの機能層を成膜し、これを大気に曝すことなく、真空槽の真空搬送雰囲気下で保護層形成用の作業室真空室に搬送し、搬送されてきた有機エレクトロルミネッセンス素子を大気に曝すことなく保護層形成用の作業室真空室で受け、この有機エレクトロルミネッセンス素子に対し保護膜を形成する工程を有する製造方法が記載されている。　なお、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4といった材料からなる保護層の形成によってＥＬ素子の封止をおこなうことが周知であり（特開平７−１９２８６７号公報（【０００４】の記載参照）、特開平４−７３８８６号公報参照）、刊行物１における保護層も封止を行うものであることは明らかである。
　　
　(ｂ１)〜(ｂ４)の記載及び図面からみて、刊行物２には、
　陽極、陰極及びこの電極間の発光層が基板上に形成され、当該基板ともう一枚の板をスペーサを介して接着剤で接合し、この基板と板との間の空間を水分量が１００ppm以下の不活性気体を満たした有機エレクトロルミネッセンス素子の形成方法であって、当該不活性気体の中に基板を起き、この基板上に、スペーサと板を載せ接着することで、不活性気体の導入用の封入口を必要とせずに、実質的に不活性気体のみが充填される方法が記載されている。
　なお、当該不活性気体中で基板上に板をのせ接着することで不活性気体を充填可能としている以上、当該気体雰囲気とされている閉じた空間が存在しており、当該空間は内部の空気が引かれ、その後所定の不活性気体が充填されるものであることは当業者にとって自ずと明らかである。
　
（３）．対比
　刊行物１に記載のものと本願補正発明とを比較検討すると、刊行物１に記載の発明における、「機能層が積層されたもの」、「ロボット」、「作業用真空室」がそれぞれ「有機エレクトロルミネッセンス積層構造」、「保持搬送手段」、「真空チャンバー」に相当するから
　有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
　有機エレクトロルミネッセンス積層構造体が、内部に保持搬送手段を有する真空槽を有し、この真空槽の周囲に成膜方法別に個別に配置されている真空チャンバーで真空雰囲気を維持したまま連続で成膜する積層構造体成膜工程、この積層構造体成膜工程で形成された有機エレクトロルミネッセンス積層構造体を大気に曝すことなく、真空を搬送雰囲気として次の工程に搬送する搬送工程、および
　前記搬送工程により、搬送されてきた有機エレクトロルミネッセンス積層構造体を大気に曝すことなくこれを受け、この有機エレクトロルミネッセンス積層構造体に大気との接触を遮断する手段を講じた点で一致し、以下の点で相違する。
　
相違点１
　刊行物１に記載のものが、大気との接触を遮断する手段を保護膜とし、この保護膜を作業用真空室内で成膜しているのに対し、本願補正発明はシールド部材を用い、基板とシールド部材とによって形成された気密空間内に実質的に不活性ガスのみが充填されるようにし、
　その際に、有機エレクトロルミネッセンス積層構造体に対しシールド部材を組み付けるシールド部材組み付け工程を有し、このシールド部材組み付け工程で用いられる作業空間と前記搬送工程とを接続する気密前室がこのシールド部材組み付け工程で用いられており、このシールド部材組み付け工程で用いられる気密前室および作業空間が、有機エレクトロルミネッセンス素子の気密空間に充填する不活性ガスであって水分含有量が１００ppm以下０．１ppm以上の不活性ガス雰囲気とすることができ、気密前室内に搬入された有機エレクトロルミネッセンス積層構造体およびシールド部材をこの雰囲気下におき、その後、気密前室および作業空間をこの不活性ガス雰囲気にして、これらを作業空間に搬入し、作業空間のこの不活性ガス雰囲気内で、基板とシールド部材とを接着剤で貼り合わせることにより、気密空間内に不活性ガスを閉じ込めている点。
　
相違点２
　本願補正発明が表示装置であるのに対して、刊行物１には素子とあるのみで、表示装置との記載がない点。
　
（４）．判断
相違点１について検討する。
　まず、大気との接触を遮断する、すなわち封止の方法の一つとして、有機エレクトロルミネッセンス素子基板とシールド部材とによって形成された気密空間内に不活性ガスのみを充填することが従来周知であり、刊行物１に記載の発明における保護膜形成に代え、この周知手段を採用することは当業者が適宜なし得ることである。
　そして、文献２をみるよう、有機エレクトロルミネッセンス素子において基板ともう一枚の板による気密空間に充填する不活性気体を水分含有量が１００ppmとすること、さらには、この充填する不活性気体と同じ雰囲気とされた空間内で、基板上にもう一枚の板を載せ接着剤で貼り合わせることにより、基板ともう一枚の板との間の気密空間内に当該不活性気体を閉じ込めて、導入用の封入口を必要とせず、気密空間内の不活性気体の水分含有量が１００ppm以下の有機エレクトロルミネッセンス素子とすることが公知であり、本願補正発明において不活性ガスの水分含有量に０．１ppmという下限値を設定したことに格別な技術的意味が認められないから、有機エレクトロルミネッセンス積層構造体に対しシールド部材を組み付けるシールド部材組み付け工程を有し、このシールド部材組み付け工程で用いられる作業空間が、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の気密空間に充填する不活性ガスであって水分含有量が１００ppm以下０．１ppm以上の不活性ガス雰囲気とすることができるものとし、作業空間をこの不活性ガス雰囲気にして、作業空間のこの不活性ガス雰囲気内で、基板とシールド部材とを接着剤で貼り合わせることにより、気密空間内に不活性ガスを閉じ込めることにより実現することは、刊行物２及び周知技術から当業者が容易に成し得ることである。
　
　さらには、圧力あるいはガス雰囲気が異なる室の間で処理対象を授受する際に、その室間に小室を設置し、当該小室の圧力あるいはガス雰囲気を一方の室と同等とした後、当該両室間のバルブを開いて、当該小室に処理対象を送り、このバルブを閉鎖した後、当該小室の圧力あるいはガス雰囲気を他方の室と同等なものとし、小室と他方の室との間のバルブを開いて処理対象を他室に送ることは従来周知であるから（特開平８−２１３４４２号公報（バッファチャンバに関する記載参照）、特開平５−３０４１９７号公報（バッファチャンバに関する記載参照）、特開平６−２１１９６号公報（【００４３】【００４４】）の記載参照）参照のこと）、真空槽から不活性ガスが充填された作業用空間へと基板を送る際に、真空槽と同じ雰囲気あるいは作業用空間と同じ雰囲気に切り替え可能な気密前室を両者間に配置することも当業者が適宜なし得ることにすぎない。
　また、シールド部材を基板と同様に、真空槽側から作業用空間へと搬入することも当業者が適宜なし得ることである。
　
　そうしてみると、結局、相違点１の構成とすることは文献２及び周知技術から当業者が容易に成し得ることである。
　
相違点２について検討する。
　有機エレクトロルミネッセンス素子の用途としては光源あるいは表示装置が主なものであり、表示装置とした点は実質的差異ではない。
　
  そして、出願人の主張する本願発明の効果は、刊行物１、２及び周知技術から当業者が予測できる範囲のものである。
　
　したがって、本願補正発明は、刊行物１、２に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
３．本願発明について
　
（１）本願発明
　平成１５年９月１１日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成１５年４月２５日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
　「有機エレクトロルミネッセンス積層構造体が、その基板とシールド部材とによって形成された気密空間内に配置され、かつこの気密空間内に、不活性ガス導入用の封入口を必要とせずに、実質的に不活性ガスのみが充填されている有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、
　有機エレクトロルミネッセンス積層構造体を成膜方法別に個別の真空チャンバーで真空雰囲気を維持したまま連続で成膜する積層構造体成膜工程、この積層構造体成膜工程で形成された有機エレクトロルミネッセンス積層構造体を大気に曝すことなく、真空または有機エレクトロルミネッセンス表示装置の気密空間に充填する不活性ガスであって水分含有量が１００ppm以下の不活性ガスを搬送雰囲気として次の工程に搬送する搬送工程、および前記搬送工程により、搬送されてきた有機エレクトロルミネッセンス積層構造体を大気に曝すことなくこれを受け、この有機エレクトロルミネッセンス積層構造体に対しシールド部材を組み付けるシールド部材組み付け工程を有し、
　このシールド部材組み付け工程で用いられる作業空間が、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の気密空間に充填する不活性ガスであって水分含有量が１００ppm以下０．１ppm以上の不活性ガス雰囲気とされており、この不活性ガス雰囲気内で、基板とシールド部材とを接着剤で貼り合わせることにより、前記気密空間内に前記不活性ガスを閉じ込めて、シールド部材に不活性ガス導入用の封入口を必要としない気密空間内の不活性ガスの水分含有量が１００ppm以下０．１ppm以上の有機エレクトロルミネッセンス表示装置を得る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。」（以下、「本願発明」という。）
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１、２、及びその記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（３）対比・判断
　本願発明は、前記２．で検討した本願補正発明から、「２．（１）」で示した付加された構成を省いたものである。
　そうすると、本願発明の構成要件をすべて含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、刊行物１乃至３に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、刊行物１、２に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（４）むすび
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１、２に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。