【手続補正書】
【提出日】平成30年7月12日(2018.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光の入射光角度により透過光量が変化する異方性光学フィルムであって、
該異方性光学フィルムは、少なくとも１層の異方性光拡散層を有し、
該異方性光拡散層は、
複数のルーバーロッド構造体と、マトリックス領域と、を有し、
該ルーバーロッド構造体の柱軸方向に直交する断面形状が、二本の略平行線の各両端を、略円弧にて結んだ略角丸長方形であり、
前記二本の略平行線の平行線幅をＬ、前記略角丸長方形の最大幅である略長径線の長径線幅をＹとし、（Ｙ−Ｌ）／２を角丸半径幅であるｒとした場合、数式２ｒ＜Ｌ＜１０ｒを満たすことを特徴とする異方性光学フィルム。
【請求項２】
前記ｒの長さが、０．０１μｍ以上０．４μｍ未満の範囲内にあることを特徴とする請求項１に記載の異方性光学フィルム。
【請求項３】
前記Ｙが、０．５μｍ〜５０．０μｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１または２に記載の異方性光学フィルム。
【請求項４】
前記Ｙに対し、垂直な方向の前記略角丸長方形幅である短径線幅をＳとし、該Ｓを前記ｒで除した値が、０．４〜１０．０の範囲内にあることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の異方性光学フィルム。
【請求項５】
前記ルーバーロッド構造体が、前記柱軸方向で１つの傾きを有しており、該傾きが、前記異方性光拡散層の平面に対する法線方向を０°としたとき、±７０°の範囲内にあることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の異方性光学フィルム。
【請求項６】
前記ルーバーロッド構造体が、前記柱軸方向で屈曲して延存しており、その屈曲角が、１０°〜４０°の範囲内にあることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の異方性光学フィルム。
【請求項７】
前記異方性光拡散層の厚さが、１０μｍ〜１００μｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の異方性光学フィルム。
【請求項８】
前記異方性光拡散層の直線透過率が最大となる入射光角度で異方性光拡散層に入射させた光の直線透過率である最大直線透過率が、３５％〜９５％の範囲にあり、前記異方性光拡散層の直線透過率が最小となる入射光角度で異方性光拡散層に入射させた光の直線透過率である最小直線透過率が、２５％以下の範囲にあることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の異方性光学フィルム。
【請求項９】
前記最大直線透過率と、前記最小直線透過率との中間値となる直線透過率に対する２つの入射光角度値の入射光角度範囲の幅である拡散幅が、３０°〜８０°の範囲内にあることを特徴とする請求項８に記載の異方性光学フィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
〔ルーバーロッド構造体〕
図１に示す本発明の異方性光拡散層１内の複数のルーバーロッド構造体２は、その柱軸方向に直交する断面形状が、略角丸長方形を有していることを特徴とする。
略角丸長方形は、具体的には図２に示すように、平行線幅がＬである二本の略平行線の各両端を、略円弧にて結んだ形状である。略角丸長方形の最大幅である略長径線の長径線幅Ｙと、平行線幅Ｌは、異方性光拡散層（異方性光学フィルム）を光学顕微鏡で観察することによって確認することができる。
また、図２に示すように、略角丸長方形の長径線幅Ｙに対して、垂直な方向の略角丸長方形幅であるＳのことを、以下、短径線幅と称すこととする。
略角丸長方形の形状は、後述する規定、および数式を満足するものであればよく、略角丸長方形外周部の直線形状や曲線形状が、別形状、例えば波打ち形状や傾斜形であったり、各形状が混在しているものであってもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
（ＹとＳとの関係）
本発明においては、複数のルーバーロッド構造体の柱軸方向に直交する断面形状が、略角丸長方形であるために、長径線幅Ｙと、短径線幅Ｓとの関係は、Ｓ＜Ｙである必要がある。加えて、長径線幅Ｙは、０．５μｍ〜５０．０μｍであることが好適であり、より好適には、１．０μｍ〜１０．０μｍであり、さらに好適には、１．０μｍ〜５．０μｍである。０．５μｍ未満の場合、フォトマスクのパターンを、異方性光拡散層の未硬化樹脂組成物層上に忠実に照射できなくなる、光学近接効果の影響を受けやすくなるおそれがあり、５０．０μｍ超の場合、光の干渉によるギラツキが生じやすくなるおそれがある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
すなわち、この方法によれば、上記光源４と検出器５との間にサンプルを配置し、サンプルの回転軸Ｐを中心軸として、サンプルを回転させながら、光源４からのサンプルへの入射光角度毎に直線透過光量および直線透過率｛直線透過率＝（サンプルが有る場合の検出器の直線透過光量／サンプルがない場合の検出器の直線透過光量）×１００｝を検出器５で測定する。得られたデータより光学プロファイルが得られ、この光学プロファイルから最大直線透過率および最小直線透過率を求める。なお、上記Ａ−Ａ線と直交する軸を図３に示す回転軸Ｐと一致させるようにして、入射光角度毎に直線透過光量および直線透過率を測定した場合、図４に示すように入射光角度によらず、ゼロ付近の直線透過光量を示す。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
異方性光拡散層を形成する材料にもよるが、複数のルーバーロッド構造体が光を強く拡散する角度は、ルーバーロッド構造体の柱軸方向、つまり拡散中心軸の傾きと、該ルーバーロッド構造体内入射光の進行方向の傾きと、の差が概ね±１０°の範囲にあるときである。
また、該柱軸方向にルーバーロッド構造体を屈曲させて延存させた場合、光を強く拡散する領域をより広げることができる。これは屈曲させることにより、ルーバーロッド構造体において、光を強く拡散する角度範囲を該柱軸方向に複数有することとなるからである。
加えて上記屈曲を複数有する場合、光を強く拡散する領域を、上記柱軸方向に連続して形成することができるため、光の強さを略一定に保った状態で、より光の拡散および集光性を高めることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
ルーバーロッド構造体の柱軸方向が屈曲する場合の角度（屈曲角）は、光を強く拡散する十分な領域を得るため、１０°〜４０°であることが好適である。
また屈曲角が１５°〜２５°である場合、光を強く拡散する領域をより広げることができるため、より好適である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
さらに、ルーバーロッド構造体の柱軸方向が複数の傾きを有する場合、それぞれの該傾きは、異方性光拡散層の平面に対する法線方向を０°としたとき、±７０°の範囲にあることが好適である。該複数の傾きの数は制限されないが、２〜５の間にあることが好適である。傾きの数が多くなると、傾きを形成するために異方性光拡散層の厚さが増すこととなり、生産性が下がるためである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
〔その他の層〕
異方性光拡散層の一方の面に他の層を設けた異方性光学フィルムとしてもよい。他の層としては、例えば、粘着層、偏光層、光拡散層、低反射層、防汚層、帯電防止層、紫外線や近赤外線（ＮＩＲ）吸収層、ネオンカット層、電磁波シールド層等を挙げることができる。
また他の層を順次積層してもよい。さらに異方性光拡散層の両方の面に、他の層を積層してもよい。両方の面に積層される他の層は、同一の機能を有する層であってもよいし、別の機能を有する層であってもよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
なお、上記カチオン重合性化合物は、各単体で用いてもよく、また、複数混合して用いてもよい。
さらに光硬化性化合物は、上記に限定されるものではない。加えて十分な屈折率差を生じさせるべく、上記光硬化性化合物には、低屈折率化を図るため、フッ素原子（Ｆ）を導入しても良く、高屈折率化を図るため、硫黄原子（Ｓ）、臭素原子（Ｂｒ）、各種金属原子を導入してもよい。また、特許第４４２３０４０号に開示されるように、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化錫（ＳｎＯｘ）等の高屈折率の金属酸化物からなる超微粒子の表面に、アクリル基やメタクリル基、エポキシ基等の光重合性官能基を導入した機能性超微粒子を上記光硬化性化合物に添加することも有効である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
［光開始剤］
ラジカル重合性化合物を重合させることのできる光開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンジル、ミヒラーズケトン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパノン−１、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）フェニル］チタニウム、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。また、これらの化合物は、各単体で用いてもよく、複数混合して用いてもよい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
本発明において、上記光開始剤は、光硬化性化合物１００重量部に対して、０．０１重量部〜１０重量部、より好適には０．１重量部〜７重量部、さらに好適には０．１重量部〜５重量部程度配合されることが好適である。これは、０．０１重量部未満では光硬化性が低下し、１０重量部を超えて配合した場合には、表面だけが硬化して内部の硬化性が低下してしまう弊害の他、着色、ルーバーロッド構造体形成の阻害を招くからである。これらの光開始剤は、通常粉体を光硬化性化合物中に直接溶解して使用されるが、溶解性が悪い場合は光開始剤を予め極少量の溶剤に高濃度に溶解させたものを使用することもできる。このような溶剤としては光硬化性であることがより好適であり、具体的には炭酸プロピレン、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。また、光硬化性を向上させるために公知の各種染料や増感剤を添加することも可能である。さらに光硬化性化合物で、熱によっても硬化が可能な化合物の場合、光硬化性化合物を加熱により硬化させることのできる熱硬化開始剤を光開始剤と共に併用することもできる。この場合、光硬化の後に加熱することにより光硬化性化合物の重合・硬化をより促進させることができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
≪工程≫
次に本発明の異方性光学フィルムの製造方法（プロセス）について、図５〜６を用いて説明する。以下の工程を順次経ることで、複数のルーバーロッド構造体と、マトリックス領域とを有し、ルーバーロッド構造体の柱軸方向に直交する断面形状が、二本の略平行線の各両端を、略円弧にて結んだ略角丸長方形形状である異方性光学フィルムを得ることができる。
（１）光硬化性樹脂組成物を基材上に塗工して塗工膜（未硬化樹脂組成物層）を設ける、塗工工程
（２）未硬化樹脂組成物層にフォトマスクを積層させる、フォトマスク積層工程
（３）光源から平行光線を得る、平行光線取得工程
（４）平行光線を未硬化樹脂組成物層上のフォトマスク表面に照射させ、未硬化樹脂組成物層を重合・硬化させる、硬化工程
（５）異方性光拡散層に、その他の層を、用途に応じて積層させる、他の層積層工程（任意）
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
＜フォトマスク積層工程＞
本発明の異方性光学フィルムにおける異方性光拡散層の複数のルーバーロッド構造体の柱軸方向に直交する断面形状を、希望する略角丸長方形として形成させるために、未硬化樹脂組成物層上にフォトマスクを積層させる工程を設けることができる。
フォトマスクは、フォトマスク作製手順に従い、希望する略角丸長方形をパターニングした基板を使用することができる。
具体的なフォトマスク作製手順は、まず、フォトマスクとなるガラス基板全面に、紫外線を遮る遮光膜とするためのクロム膜を成膜する。その後電子線レジスト（感光性材料）を塗布・ベークしてから、電子線描画装置により露光・現像・リンスを行い、クロム膜上の電子線レジストにパターニングを行う。その後不要なクロム膜をエッチングで溶かし、紫外線の透過する穴をあけてから、薬液によりレジストを除去することにより、フォトマスクが完成する。
フォトマスクに使用する基板には、ガラスや合成石英上に、上記のようにクロムを遮光膜として描画図形が形成されるものが多いが、エマルジョンマスクと呼ばれる透明な高分子フィルム上に図形が描かれるものであってもよい。その際にはクロムの代わりに黒化金属銀で遮光膜を作製することが好適である。
フォトマスクのパターン大きさは、条件により異なるが、本発明では、３ｃｍ×３ｃｍの大きさでパターンを作製した。図５は、本発明使用フォトマスクのパターンの一例を示す模式図であり、図６は、本発明使用フォトマスク全体の一例を示す模式図である。
図６では、フォトマスクのサイズが５インチ×５インチであり、パターンは９つのブロックに分かれており、各パターン間のピッチは０．８５ｃｍ、フォトマスク外周と各パターン外周との間隔は１ｃｍである。
本発明ではフォトマスクを使用することで、異方性光拡散層の複数のルーバーロッド構造体の柱軸方向に直交する断面形状を、希望する略角丸長方形形状に作製することができる。しかしながら、フォトマスクのパターン寸法が、未硬化樹脂組成物層に平行光線を照射する際の波長よりも小さくなると、フォトマスクのパターンを未硬化樹脂組成物層上に忠実に照射できなくなる、光学近接効果の影響を受けてしまう場合がある。この対策としてはフォトマスクのマスクパターンにあらかじめ光近接効果補正（ＯＰＣ）を設ける手法が適用できる。
上記フォトマスクを使用することにより、異方性光拡散層の複数のルーバーロッド構造体の柱軸方向に直交する断面形状を、希望する略角丸長方形形状として形成させることができる。
さらにフォトマスクは、未硬化樹脂組成物層の硬化の際、酸素阻害を防ぐ役割も兼ねる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
［実施例１］
厚さ１００μｍ、１５０ｍｍ×１５０ｍｍサイズのＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、商品名：Ａ４１００）を基材として、その縁部全周にディスペンサーを使い光硬化性樹脂組成物で高さ０．０５ｍｍの隔壁を形成した。この隔壁の高さは、おおむね得られる異方性光拡散層の厚さに相当することとなる。この隔壁の中に下記に示す組成の光硬化性樹脂組成物を充填し、未硬化樹脂組成物層を形成し、続いてその未硬化樹脂組成物層表面に、クロム膜によるガラス基板製フォトマスク（厚さ２ｍｍ）を積層した。
なお、フォトマスクは図６に示す規格のものを使用し、サイズが５インチ×５インチ、パターンは９つのブロックに分かれており、各パターン間のピッチは０．８５ｃｍ、フォトマスク外周と各パターン外周との間隔は１ｃｍであった。図７はその外観写真である。
また、パターンは図５に示す規格のものを使用し、サイズが３ｃｍ×３ｃｍ、略角丸長方形形状は、長径線幅Ｙが１．５μｍ、平行線幅Ｌが０．９μｍ、角丸半径幅ｒが０．３μｍであり、短径線幅Ｓが０．５μｍ、長径線幅Ｙ方向の各略角丸長方形間のピッチが１．１μｍ、短径線幅Ｓ方向の各略角丸長方形間のピッチが０．４μｍであった。図８はその部分的表面写真である。
・シリコーン・ウレタン・アクリレート（屈折率：１．４６０、重量平均分子量：５，８９０）  ２０重量部
（ＲＡＨＮ社製、商品名：００−２２５／ＴＭ１８）
・ネオペンチルグリコールジアクリレート（屈折率：１．４５０）  ３０重量部
（ダイセル・サイテック株式会社製、商品名：Ｅｂｅｃｒｙｌ１４５）
・ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジアクリレート（屈折率：１．５３６）  １５重量部
（ダイセル・サイテック株式会社製、商品名：Ｅｂｅｃｒｙｌ１５０）
・フェノキシエチルアクリレート（屈折率：１．５１８）  ４０重量部
（共栄社化学株式会社製、商品名：ライトアクリレートＰＯ−Ａ）
・２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン  ４重量部
（ＢＡＳＦ社製、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１）
このフォトマスクを積層した未硬化樹脂組成物層上のフォトマスク表面からＵＶスポット光源（浜松ホトニクス株式会社社製、商品名：Ｌ２８５９−０１）の落射用照射ユニットから出射される平行光線（波長：３６５ｎｍの紫外線）を、照射強度５ｍＷ／ｃｍ２として１分間照射して、さらに、基材側から照射強度２０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射して、完全に硬化させた。そこから、基材とフォトマスクを剥がして、実施例１の異方性光拡散層（異方性光学フィルム）を得た。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
［実施例２］
未硬化樹脂組成物層表面に、クロム膜によるガラス基板製フォトマスク（厚さ２ｍｍ）を積層後、該未硬化樹脂組成物層の基材側を、８０℃に加熱したホットプレートに載せ、フォトマスク表面からは送風機より風を送り冷やした状態にして、該未硬化樹脂組成物層のフォトマスク側から平行光線を照射する他は、実施例１と同様にして、実施例２の異方性光拡散層（異方性光学フィルム）を得た。
また、異方性光拡散層の厚さ方向（異方性光拡散層平面に垂直な方向）を光学顕微鏡で確認したところ、２つの拡散中心軸を有し、異方性光拡散層の厚さ方向を０°とした場合に、それぞれの拡散中心軸の傾きが０°と１５°であり、屈曲角が１５°の屈曲構造を有していた。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
［比較例１］
未硬化樹脂組成物層表面に、クロム膜によるガラス基板製フォトマスクの代わりに、厚さ５０μｍ、１５０ｍｍ×１５０ｍｍサイズのＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、商品名：Ａ４１００）を積層した他は、実施例１と同様にして、比較例１の異方性光拡散層（異方性光学フィルム）を得た。
比較例１の異方性光拡散層では、異方性光拡散層内において、複数のルーバーロッド構造体ではなく、複数のピラー構造体が形成され、複数のピラー構造体の柱軸方向に直交する断面形状は、光学顕微鏡で確認したところ、略円形であった。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
上記結果に示すとおり、実施例１〜４の異方性光拡散層（異方性光学フィルム）は、最大直線透過率、最小直線透過率、拡散幅、ギラツキ、および輝度の急激な変化が良好であり、特に実施例２および３は、より良好な結果となった。これは、異方性光学フィルムの異方性光拡散層において、複数のルーバーロッド構造体の柱軸方向（異方性光拡散層の厚さ方向）に直交する断面の形状を、最適化された略角丸長方形とすることにより、異方性光拡散層の出射光が適度に拡散するレンズ効果を発現し、光の干渉によるギラツキや輝度の急激な変化を抑え、光拡散性を含む光学特性のバランスを最適化することができたためと考えられる。
さらに、実施例１〜４の本発明の異方性光拡散層は、上記で規定された角丸半径幅の範囲内であるので、拡散幅を広くすることができた。
また、実施例３の拡散幅が大きい理由は、上記ルーバーロッド構造体が適度に傾斜していたためであると考えられ、さらに、実施例２の拡散幅が最も大きい理由は、該ルーバーロッド構造体の柱軸方向に屈曲を有しているため、光を強く拡散する領域をより広げ、拡散幅をより大きくすることができるためと考えられる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
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