Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月10日(2018.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】評価方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学系の光学特性の評価方法であって、
前記光学特性を評価するための複数のパターンに関連する情報を使用して、前記光学系の状態が変化したときの光学特性の変動量を、前記複数のパターンごとに求めることと、
前記複数のパターンごとに求められた前記変動量を用いて、前記複数のパターンから前記光学系又は他の光学系の前記光学特性を評価するために使用する１以上の前記パターンを評価用パターンとして選択することと、
を含む評価方法。
【請求項２】
前記選択することは、前記複数のパターンごとに求められた前記変動量を複数のグループに分類することを含む請求項１に記載の評価方法。
【請求項３】
前記複数のグループに分類することは、前記複数のパターンごとに求められた前記変動量の類似度を用いて分類する請求項２に記載の評価方法。
【請求項４】
前記選択することは、前記分類されたグループに属する前記パターンから少なくとも１つのパターンを前記評価用パターンとして選択する請求項２又は３に記載の評価方法。
【請求項５】
前記変動量の類似度の閾値を設定することをさらに含み、
前記複数のパターンから前記複数の評価用パターンを選択することは、
前記複数のパターンのそれぞれに関連する前記変動量のうち、前記類似度が前記閾値内となるように、前記複数のパターンを複数のグループに分けることと、を含む請求項３に記載の評価方法。
【請求項６】
前記複数のパターンから前記複数の評価用パターンを選択することは、
前記変動量の類似度に応じて、前記複数のパターンを複数のグループに分けることと、
前記複数のグループからそれぞれ一つの前記評価用パターンを選択することと、を含む請求項３又は５に記載の評価方法。
【請求項７】
複数の評価用パターンを選択することは、複数の前記変動量の差分を用いて算出される前記類似度に応じて、前記複数のパターンを複数のグループに分けることを含む請求項３又は５に記載の評価方法。
【請求項８】
前記変動量の類似度は、前記変動量の差分の絶対値を含む請求項３及び５乃至７のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項９】
前記光学系は少なくとも１つの光学部材を備え、
前記変動量を前記複数のパターンごとに求めることは、
前記少なくとも１つの光学部材の状態が第１の状態から第２の状態に変化したときの、前記複数のパターンのうちの第１パターンについての前記光学系の光学特性の第１変動量を求めることと、
前記少なくとも１つの光学部材の状態が第１の状態から第２の状態に変化したときの、前記複数のパターンのうちの第２パターンについての前記光学特性の第２変動量を求めることとを含む請求項１乃至８のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項１０】
前記複数の評価用パターンに関連する情報を用いて他の光学系の前記光学特性を評価することを含む請求項１乃至９のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項１１】
前記光学特性は、前記光学系によって形成される前記評価用パターンの像に関連する特性である請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の評価方法。
【請求項１２】
前記像に関連する特性は、前記像の強度分布である請求項１１に記載の評価方法。
【請求項１３】
前記光学系は、露光による基板上のレジストのパターンニング工程で用いられ、
前記像に関連する特性は、前記パターンニング工程及び現像工程を経て得られるレジストパターンのプロファイル又は該レジストパターンの線幅である請求項１１に記載の評価方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月6日(2018.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対物レンズと、該対物レンズによって形成される物体像を正立像とする像反転手段と、該正立像を拡大する接眼レンズとを有し、該接眼レンズで拡大された物体像を観察するための観察光学系において、
前記対物レンズは物体側から観察側へ順に配置された、像ぶれ補正に際して不動であり正の屈折力の第１レンズ群、像ぶれ補正に際して移動する負の屈折力の第２レンズ群、像ぶれ補正に際して不動であり正の屈折力の第３レンズ群より構成され、
前記第１レンズ群は、正の屈折力の前方群と、該前方群の観察側に、光軸方向で最も広い空気間隔を隔てて配置された正の屈折力の後方群より構成され、
像ぶれ補正に際して前記第２レンズ群は光軸に対して直交方向の成分を持つように移動し、
前記第２レンズ群の横倍率をβ２、前記第２レンズ群の最も観察側のレンズ面の曲率半径をＧ２Ｒ２、前記第３レンズ群の最も物体側のレンズ面の曲率半径をＧ３Ｒ１、前記前方群と前記後方群の間隔をｄ１−２、前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１とするとき、
２．０≦｜β２｜≦１０．０
−０．５≦（Ｇ３Ｒ１＋Ｇ２Ｒ２）／（Ｇ３Ｒ１−Ｇ２Ｒ２）≦０．５
ｄ１−２／ｆ１＞０．１
なる条件式を満足することを特徴とする観察光学系。
【請求項２】
前記第２レンズ群は、１枚の負レンズより構成され、
前記負レンズの材料のｄ線に対する屈折率をｎｄ、ｄ線を基準としたアッベ数をνｄとするとき、
ｎｄ≧１．５８
νｄ≧４０．０
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１に記載の観察光学系。
【請求項３】
前記第１レンズ群は光軸に対して直交方向に移動して光軸平行出し調整を行うレンズ群であり、
前記第１レンズ群の最も観察側のレンズ面の曲率半径をＧ１Ｒ２、前記第２レンズ群の最も物体側のレンズ面の曲率半径Ｇ２Ｒ１とするとき、
−１．５≦（Ｇ２Ｒ１＋Ｇ１Ｒ２）／（Ｇ２Ｒ１−Ｇ１Ｒ２）≦１．５
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１又は２に記載の観察光学系。
【請求項４】
前記第２レンズ群は、両凹形状の負レンズより構成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の観察光学系。
【請求項５】
前記第３レンズ群は、物体側より観察側へ順に配置された、負レンズ、正レンズより構成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の観察光学系。
【請求項６】
前記前方群は１枚の正レンズより構成され、前記後方群は負レンズと正レンズより構成されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の観察光学系。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項の観察光学系を有することを特徴とする観察装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の観察光学系は、対物レンズと、該対物レンズによって形成される物体像を正立像とする像反転手段と、該正立像を拡大する接眼レンズとを有し、該接眼レンズで拡大された物体像を観察するための観察光学系において、
前記対物レンズは物体側から観察側へ順に配置された、像ぶれ補正に際して不動であり正の屈折力の第１レンズ群、像ぶれ補正に際して移動する負の屈折力の第２レンズ群、像ぶれ補正に際して不動であり正の屈折力の第３レンズ群より構成され、
前記第１レンズ群は、正の屈折力の前方群と、該前方群の観察側に、光軸方向で最も広い空気間隔を隔てて配置された正の屈折力の後方群より構成され、
像ぶれ補正に際して前記第２レンズ群は光軸に対して直交方向の成分を持つように移動し、
前記第２レンズ群の横倍率をβ２、前記第２レンズ群の最も観察側のレンズ面の曲率半径をＧ２Ｒ２、前記第３レンズ群の最も物体側のレンズ面の曲率半径をＧ３Ｒ１、前記前方群と前記後方群の間隔をｄ１−２、前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１とするとき、
２．０≦｜β２｜≦１０．０
−０．５≦（Ｇ３Ｒ１＋Ｇ２Ｒ２）／（Ｇ３Ｒ１−Ｇ２Ｒ２）≦０．５
ｄ１−２／ｆ１＞０．１
なる条件式を満足することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
図３、図４は実施例１の横収差図である。図３は、像ぶれ補正を行っていない場合の横収差を表したものであり、図３（ａ）は画角（撮像画角）ω＝０°、図３（ｂ）は半画角ω＝１．５°の場合である。図４は像ぶれ補正に際して、第２レンズ群を光軸に対して１．５ｍｍシフト（補正角１°相当）させた場合の横収差図であり、（ａ），（ｂ），（ｃ）はそれぞれ画角ω＝０°、半画角ω＝１．５°，−１．５°の場合を示している。実施例１では、実視界画角は６°までであるため、半画角ω＝１．５°，−１．
５°は、半画角５割までを示している。この点についても、以後同じである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図５は本発明の実施例２のレンズ断面図である。図６は実施例２の収差図である。図６において（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）はそれぞれ球面収差、非点収差、歪曲収差、倍率色収差をあらわしている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
図７、図８は実施例２の横収差図である。図７は像ぶれ補正を行っていない場合の横収差を表したものであり、図７（ａ）は画角（撮像画角）ω＝０°、図７（ｂ）は半画角ω＝１．５°の場合である。図８は像ぶれ補正に際して、第２レンズ群を光軸に対して１．５ｍｍシフト（補正角１°相当）させた場合の横収差図であり、（ａ），（ｂ），（ｃ）はそれぞれ画角ω＝０°、半画角ω＝１．５°，−１．５°の場合を示している。実施例２では、実視界画角は６°までであるため、半画角ω＝１．５°，−１．５°は、半画角５割までを示している。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
１０２は対物レンズ１０１で形成される被写体（物体）の像面位置を示している。第１レンズ群１０１aは、正の屈折力の前方群101afと、該前方群101afの観察側に、光軸方向で最も広い空気間隔を隔てて配置された正の屈折力の後方群101arより構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月24日(2018.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の態様に係るパターン描画方法およびパターン描画装置について、好適な実施の形態を掲げ、添付の図面を参照しながら以下、詳細に説明する。なお、本発明の態様は、これらの実施の形態に限定されるものではなく、多様な変更または改良を加えたものも含まれる。つまり、以下に記載した構成要件（機構、構造、機能）には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれ、以下に記載した構成要件（機構、構造、機能）は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成要件（機構、構造、機能）の種々の省略、置換または変更を行うことができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
露光ヘッド１４は、同一構成の複数の走査ユニットＵｎ（Ｕ１〜Ｕ６）を配列した、いわゆるマルチビーム型の露光ヘッドとなっている。露光ヘッド１４は、回転ドラムＤＲの外周面（円周面）で支持されている基板Ｐの一部分に、複数の走査ユニットＵｎ（Ｕ１〜Ｕ６）によってパターンを描画する。露光ヘッド１４は、基板Ｐに対して電子デバイス用のパターン露光を繰り返し行うことから、パターンが露光される露光領域（電子デバイス形成領域）Ｗは、基板Ｐの長尺方向に沿って所定の間隔をあけて複数設けられている（図４参照）。複数の走査ユニットＵｎ（Ｕ１〜Ｕ６）は、所定の配置関係で配置されている。複数の走査ユニットＵｎ（Ｕ１〜Ｕ６）は、中心面Ｐｏｃを挟んで基板Ｐの搬送方向に２列に千鳥配列で配置される。奇数番の走査ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５は、中心面Ｐｏｃに対して基板Ｐの搬送方向の上流側（−Ｘ方向側）で、且つ、Ｙ方向に沿って所定の間隔だけ離して１列に配置されている。偶数番の走査ユニットＵ２、Ｕ４、Ｕ６は、中心面Ｐｏｃに対して基板Ｐの搬送方向の下流側（＋Ｘ方向側）で、Ｙ方向に沿って所定の間隔だけ離して１列に配置されている。中心軸ＡＸｏが延びるＹ軸と垂直なＸＺ面内で見たとき、奇数番の走査ユニットＵ１、Ｕ３、Ｕ５と、偶数番の走査ユニットＵ２、Ｕ４、Ｕ６とは、中心面Ｐｏｃに対して対称に設けられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
各走査ユニットＵｎ（Ｕ１〜Ｕ６）は、少なくともＸＺ平面において、各ビームＬＢｎが回転ドラムＤＲの中心軸ＡＸｏに向かって進むように、各ビームＬＢｎを基板Ｐに向けて照射する。これにより、各走査ユニットＵｎ（Ｕ１〜Ｕ６）から基板Ｐに向かって進むビームＬＢｎの光路（ビーム中心軸）は、ＸＺ平面において、基板Ｐの被照射面の法線と平行となる。また、各走査ユニットＵｎ（Ｕ１〜Ｕ６）は、描画ラインＳＬｎ（ＳＬ１〜ＳＬ６）に照射するビームＬＢｎが、基板Ｐの被照射面に対して垂直となるように、ビームＬＢｎを基板Ｐに向けて照射する。すなわち、被照射面でのスポット光ＳＰの主走査方向に関して、基板Ｐに投射されるビームＬＢｎ（ＬＢ１〜ＬＢ６）はテレセントリックな状態で走査される。ここで、各走査ユニットＵｎ（Ｕ１〜Ｕ６）によって規定される所定の描画ラインＳＬｎ（ＳＬ１〜ＳＬ６）の各中点を通って基板Ｐの被照射面と垂直な線（または光軸とも呼ぶ）を、照射中心軸Ｌｅｎ（Ｌｅ１〜Ｌｅ６）と呼ぶ。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３４】
ここで、光源装置ＬＳａ（ＬＳｂ）は、スポット光ＳＰの走査中に、基板Ｐの被照射面上の寸法Ｐｘｙの１画素に対して、スポット光ＳＰが主走査方向に沿ってＮ個（本第１の実施の形態では、Ｎ＝８とする）投射されるように、ビームＬＢａ（ＬＢｂ）を射出する。この光源装置ＬＳａ（ＬＳｂ）から射出されるビームＬＢａ（ＬＢｂ）は、信号発生部２２ａが発生するクロック信号ＬＴＣのクロックパルスに応答して発生する。したがって、寸法Ｐｘｙの１画素に対してスポット光ＳＰをＮ個（Ｎは２以上の整数）投射するためには、主走査方向におけるスポット光ＳＰの基板Ｐに対する相対的な走査速度をＶｓとしたとき、信号発生部２２ａは、Ｐｘｙ／（Ｎ×Ｖｓ）またはＰｙ／（Ｎ×Ｖｓ）で決まる基準周期Ｔａ（＝１／Ｆａ）でクロック信号ＬＴＣのクロックパルスを発生する必要がある。すなわち、スポット光ＳＰの走査速度Ｖｓと画素の寸法Ｐｘｙ（又はＰｙ）との比Ｖｓ／Ｐｘｙ（又はＶｓ／Ｐｙ）で決まる周波数に対してＮ倍高い周波数のクロック信号ＬＴＣを生成すれば良いことになる。例えば、実効的な描画ラインＳＬｎの長さを３０ｍｍとし、１回の走査時間Ｔｓｐを２００μｓｅｃとすると、スポット光ＳＰの走査速度Ｖｓは、１５０ｍ／ｓｅｃとなる。そして、画素の寸法Ｐｘｙ（ＰｘおよびＰｙ）がスポット光ＳＰの実効的なサイズと同じ３μｍであって、Ｎが８個の場合は、基準周期Ｔａ＝３μｍ／（８×１５０ｍ／ｓｅｃ）＝０．００２５μｓｅｃとなり、その周波数Ｆａ（＝１／Ｔａ）は、４００ＭＨｚとなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２１５】
また、上記第１の実施の形態では、画素の寸法Ｐｘと寸法Ｐｙとは同じ長さ（例えば、３μｍ）としたが、寸法Ｐｘと寸法Ｐｙとの長さを異ならせてもよい。要は、クロック発生部６０は、Ｐｙ／（Ｎ×Ｖｓ）で決まる基準周期Ｔａを有し、スポット光ＳＰの走査中に１画素の寸法Ｐｙ当りＮ個のクロックパルスを有するクロック信号ＬＴＣを生成すればよい。換言すれば、スポット光ＳＰの走査速度Ｖｓと画素の主走査方向の寸法Ｐｙとの比Ｖｓ／Ｐｙで決まる周波数に対してＮ倍高い周波数のクロック信号ＬＴＣを生成することを意味する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月14日(2018.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板と対向して配置されている可動部と、
前記可動部を、前記基板に対して前記基板の厚さ方向に変位可能に支持する弾性変形可能な梁部と、を有し、
前記基板と前記可動部との間に形成される静電力よりも前記梁部の復元力が大きい範囲で前記可動部が前記基板側へ変位することを特徴とする振動子。
【請求項２】
前記基板の側面視にて、
前記静電力と前記復元力とが等しくなる位置を可動臨界としたとき、
前記可動部は、前記可動臨界を超える前に前記基板と接触する請求項１に記載の振動子。
【請求項３】
前記可動臨界は、前記基板の前記可動部と対向する面に対して、前記可動部と反対側に位置する請求項２に記載の振動子。
【請求項４】
前記基板は、前記可動部と対向して配置されている電極と、前記電極を支持するベース基板と、を有している請求項１ないし３のいずれか１項に記載の振動子。
【請求項５】
前記可動部は、前記基板の面内方向に沿う回動軸まわりに回動する請求項１ないし４のいずれか１項に記載の振動子。
【請求項６】
前記可動部は、先端部から先端側へ突出する突出部を有している請求項５に記載の振動子。
【請求項７】
前記基板は、前記可動部の先端部と対向する位置に設けられ、前記可動部と反対側へ凹む段差部を有している請求項５または６に記載の振動子。
【請求項８】
前記基板の前記可動部と接触し得る箇所には、凹凸が形成されている請求項１ないし７のいずれか１項に記載の振動子。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の振動子を有することを特徴とする電子機器。
【請求項１０】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の振動子を有することを特徴とする移動体。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月6日(2018.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上蓋部材と、受け部材と、前記上蓋部材及び前記受け部材の間に挟まれるダイアフラムと、を含むパワーエレメントと、
入口ポートと、前記入口ポートに連通する弁室と、前記弁室に連通する弁孔と、前記弁孔に連通する出口ポートと、前記弁孔の前記弁室側の開口部に形成された弁座と、パワーエレメント取付部と、を含む弁本体と、
前記弁座に接触配置される弁部材と、
前記パワーエレメントに取り付けられて前記弁部材を駆動する弁棒と、
を備え、
前記受け部材が前記パワーエレメント取付部に取り付けられており、
前記パワーエレメント取付部は、前記弁本体の一部或いは前記弁本体とは別体の部材により構成され前記パワ−エレメントと当接する構造体を含むと共に、前記パワーエレメント取付部の少なくとも一部は、前記構造体の形状または材料により低熱伝達構造として構成されることを特徴とする膨張弁。
【請求項２】
前記低熱伝達構造は、前記構造体の形状により構成される、前記パワーエレメント取付部の円周方向の少なくとも一部に形成された凹部である
ことを特徴とする請求項１に記載の膨張弁。
【請求項３】
前記凹部は、前記パワーエレメント取付部の円周方向の全周にわたって形成されていることを特徴とする請求項２に記載の膨張弁。
【請求項４】
前記パワーエレメントの外周面を囲繞するように、外装部材がさらに配置されていることを特徴とする請求項３に記載の膨張弁。
【請求項５】
前記低熱伝達構造は、前記弁本体とは別体の部材としての円環状のスペーサであり、前記受け部材に対向する側の面に、前記円環状のスペーサの中心側に向けて徐々に厚さが小さくなる形状を備える
ことを特徴とする請求項１に記載の膨張弁。
【請求項６】
前記円環状のスペーサは、前記受け部材に対向する側の面に、複数の切欠部が形成されている
ことを特徴とする請求項１又は５に記載の膨張弁。
【請求項７】
前記円環状のスペーサは、断熱材料で形成されている
ことを特徴とする請求項５又は６に記載の膨張弁。
【請求項８】
前記円環状のスペーサは、硬質ゴムで形成されている
ことを特徴とする請求項５〜７のいずれか一項に記載の膨張弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明による膨張弁は、上蓋部材と、受け部材と、前記上蓋部材及び前記受け部材の間に挟まれるダイアフラムと、を含むパワーエレメントと、入口ポートと、前記入口ポートに連通する弁室と、前記弁室に連通する弁孔と、前記弁孔に連通する出口ポートと、前記弁孔の前記弁室側の開口部に形成された弁座と、パワーエレメント取付部と、を含む弁本体と、前記弁座に接触配置される弁部材と、前記パワーエレメントに取り付けられて前記弁部材を駆動する弁棒と、を備え、前記受け部材が前記パワーエレメント取付部に取り付けられており、前記パワーエレメント取付部は、前記弁本体の一部或いは前記弁本体とは別体の部材により構成され前記パワ−エレメントと当接する構造体を含むと共に、前記パワーエレメント取付部の少なくとも一部は、前記構造体の形状または材料により低熱伝達構造として構成されることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明による膨張弁の一実施例において、前記低熱伝達構造は、前記構造体の形状により構成される、前記パワーエレメント取付部の円周方向の少なくとも一部に形成された凹部である。
このとき、前記凹部は、前記パワーエレメント取付部の円周方向の全周にわたって形成されている。
また、前記パワーエレメントの外周面を囲繞するように、外装部材がさらに配置されていてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明による膨張弁の他の実施例において、前記低熱伝達構造は、前記弁本体とは別体の部材としての円環状のスペーサであり、前記受け部材に対向する側の面に、前記円環状のスペーサの中心側に向けて徐々に厚さが小さくなる形状を備える。
また、前記円環状のスペーサは、前記受け部材に対向する側の面に、複数の切欠部が形成されてもよい。
さらに、前記円環状のスペーサは、断熱材料、特に硬質ゴムで形成されてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月12日(2018.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
取得した外部エネルギーによって吸収液を加熱し、前記吸収液から冷媒を蒸発させて蒸気冷媒を生成する再生器と、
前記再生器により生成された蒸気冷媒を冷却して液体化し、液体冷媒を生成する凝縮器と、
前記凝縮器により生成された蒸気冷媒を気化することにより蒸気冷媒を生成し、その気化熱によって対象物を冷却する蒸発器と、
前記蒸発器により生成された液体冷媒を前記吸収液に吸収させる吸収器と、を有する熱交換装置であって、
互いに対向配置される板状部材である第１カバー部材及び第２カバー部材を有し、
前記蒸発器は、前記第１カバー部材と前記第２カバー部材との間の空間のうち前記第２カバー部材側の空間から、前記第２カバー部材を通じて吸熱するものであり、
前記吸収器は、前記第１カバー部材と前記第２カバー部材との間の空間うち前記第１カバー部材側の空間側から、前記第１カバー部材を通じて放熱するものである
ことを特徴とする熱交換装置。
【請求項２】
前記第１カバー部材及び前記第２カバー部材の双方が光透過性を有する
ことを特徴とする請求項１に記載の熱交換装置。
【請求項３】
前記吸収器は、前記第１カバー部材と前記第２カバー部材との間の空間側から、前記第１カバー部材の所定領域を通じて放熱するものであり、
前記凝縮器は、前記第１カバー部材と前記第２カバー部材との間の空間側から、前記所定領域を除く他の領域を通じて放熱するものであり、
前記吸収器及び凝縮器は、外部動力を用いることなく前記冷媒及び前記吸収液を循環させる
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の熱交換装置。
【請求項４】
取得した外部エネルギーに基づき熱媒を加熱して前記熱媒と吸収液との熱交換により当該吸収液を加熱可能な集熱器と、
前記熱媒の流路を第１流路と第２流路とに切り替える切替弁とを更に有し、
前記第１流路に切り替えられた際に前記熱媒は前記吸収液との熱交換によって前記吸収液を加熱し、
前記第２流路に切り替えられた際に前記熱媒は前記吸収液との熱交換を行うことなく前記第２カバー部材を介して放熱されるか、又は外部に設けられた放熱部に導かれる
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の熱交換装置。
【請求項５】
前記第２カバー部材の近傍における温度を検知する温度センサを更に有し、
前記切替弁は、前記温度センサにより検知された温度が所定温度以上の場合に前記熱媒の流路を自動的に前記第１流路に切り替え、かつ、
前記温度センサにより検知された温度が所定温度未満の場合に前記熱媒の流路を自動的に前記第２流路に切り替える
ことを特徴とする請求項４に記載の熱交換装置。
【請求項６】
前記第１カバー部材と、前記第２カバー部材と、前記再生器と、を気密状態に覆ってその内部を真空に維持するガスバリア層を更に有する
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の熱交換装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月29日(2018.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、クライアント装置１は、入力装置１１と、表示装置１２と、記憶装置１３と、プロセッサ１４とを備えている。そして、プロセッサ１４には、データ取得部１４１と、データ処理部１４２と、インデックス変換部１４３とが設けられている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
次に、図２に、ネットワークストレージ３やデータサーバ４に格納されるテーブルデータセットを示す。
図２ａは、テーブルＡのテーブルデータセットを、図２ｂは、テーブルＢのテーブルデータセットを表したものである。
図示するように、テーブルＡ２００のテーブルデータセットに含まれるテーブルＡ２００は、複数のフィールド（図２ａでは、「性別」と「サイズ」）を持つレコードを行とする表であり、各レコードにはテーブルＡ２００中の当該レコードの行の（図２ａでは、0から5の）順番を示すレコード番号が付与されている。なお、レコード番号は０から始まる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
以上、本発明の第１実施形態について説明した。
ここで、以上の実施形態では、単位変換処理において、VLCを作成してインデックスに含め、データ処理部１４２において、VLCが格納されていないインデックスについてはVLを用いて各処理を行い、VLCが格納されているインデックスについては、VLに代えてVLCを用いて、すなわち、VLCをVLと見なして用いて各処理を行うようにしたが、これは、単位変換処理において、作成したVLCをインデックスに含める代わりに、作成したVLCを新たなVLとして、新たなVLでインデックス中のVLを置換するようにしてもよい。このようにすることにより、VLCが格納されているインデックスは無くなり、データ処理部１４２は、各インデックスを同様に取り扱って各種処理を行うことができるようになる。すなわち、この場合には、上述したUNIONにおける各レコード番号のフィールドの値の算定や、特定のフィールドに特定の値を持つレコードのレコード番号の算定などを、VLを用いて、VLの各エントリの値が単位変換の対象とならなかった他のインデックスと同様に行うことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
すなわち、本第２実施形態では、インデックス変換部１４３は、データ処理部１４２が記憶装置１３に格納したインデックスのうち、インデックスのVLに登録されている値の単位がローカル単位系の単位と異なる図６ａに示すようなインデックスについて、図６ｂに示すように、当該インデックス中に、インデックスのVLのエントリ数と同数のエントリを持つCFと、インデックスのVLのエントリ数と同数のエントリを持つ VLCを作成する。また、CFの各エントリに0を登録する。ここで、この段階では、インデックスのVLCの各エントリへの値の登録は行わない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
次に、テーブルＢ２５０のフィールド「サイズ」のインデックスが図８ｂに示す状態にある場合、テーブルＢ２５０のレコード番号3のレコードのフィールド「サイズ」の値の取得は次のように行われる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月10日(2018.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円周面を有する回転操作部材と、
前記回転操作部材の前記円周面に固定されたシート部材と、
前記シート部材と対向する位置に設けられ、前記シート部材に向けて光を当てて、前記シート部材からの反射光を検知する検知手段とを備え、
前記シート部材には、第１の反射率を有する第１の領域と、前記第１の反射率より低い第２の反射率を有する第２の領域と、凸形状部とが形成されており、
前記回転操作部材には、前記凸形状部が係合可能な凹形状部が形成されており、
前記シート部材は、前記凸形状部が前記凹形状部に係合し、かつ前記第１の領域と前記第２の領域とが前記円周面の周方向に交互に並ぶように、前記円周面に固定されている
ことを特徴とする電子機器。
【請求項２】
前記凸形状部の周方向の端部と、前記凹形状部の周方向の端部とが係合するように、前記シート部材が前記円周面に固定されている
ことを特徴とする請求項１に記載の電子機器。
【請求項３】
前記回転操作部材には、前記回転操作部材が回転操作されたときにクリック感を発生させるクリック感発生部が形成されている
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電子機器。
【請求項４】
前記クリック感発生部には、周方向に複数の切り欠き部が形成されているとともに、球形状部材が当接し、
前記回転操作部材が回転操作されたとき、前記球形状部材と前記切り欠き部とが係合する状態と係合しない状態とが繰り返すことによって、前記クリック感が発生する
ことを特徴とする請求項３に記載の電子機器。
【請求項５】
第１および第２の前記検知手段を備え、
前記第１および第２の検知手段と前記シート部材とは、前記球形状部材と前記切り欠き部とが係合する状態になる毎に、前記第２の検知手段が前記第１の領域に位置し、前記第１の検知手段が前記第１の領域と前記第２の領域の境界に位置するように配置される
ことを特徴とする請求項４に記載の電子機器。
【請求項６】
前記シート部材は、周方向に、第１の端部と、前記第１の端部と反対側の端部である第２の端部とを有し、
前記凸形状部は、前記第１の端部の近傍に形成されている
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項７】
前記回転操作部材が回転操作されたときにクリック感を発生させるクリック感発生部が、前記回転操作部材に環状板部材を固定することで形成されており、
前記回転操作部材に対して前記環状板部材を位置規制する位置規制部と、前記シート部材の前記第２の端部とが、近傍に位置している
ことを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項８】
前記第１の端部と前記第２の端部とは、前記第２の領域で構成され、
前記シート部材が前記回転操作部材の前記円周面に固定された状態で、前記第１の端部と前記第２の端部との間には、前記第１の領域と同一幅の隙間がある
ことを特徴とする請求項６または請求項７に記載の電子機器。
【請求項９】
前記第１の端部と前記第２の端部との間の隙間には、前記回転操作部材の前記円周面が露出し、
前記露出した前記円周面は、前記検知手段により反射光が検知可能なレベルに光を反射するように表面処理されている
ことを特徴とする請求項８に記載の電子機器。
【請求項１０】
前記第１の端部は、前記第１の領域で構成され、
前記第２の端部は、前記第２の領域で構成され、
前記シート部材が前記回転操作部材の前記円周面に固定された状態で、前記第２の端部は、前記第１の端部に前記第１の領域が残るように前記第１の端部と重複して固定されている
ことを特徴とする請求項６または請求項７に記載の電子機器。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の電子機器として機能する撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一実施形態の電子機器は、円周面を有する回転操作部材と、前記回転操作部材の前記円周面に固定されたシート部材と、前記シート部材と対向する位置に設けられ、前記シート部材に向けて光を当てて、前記シート部材からの反射光を検知する検知手段とを備え、前記シート部材には、第１の反射率を有する第１の反射領域と、前記第１の反射率より低い第２の反射率を有する第２の反射領域と、凸形状部とが形成されており、前記回転操作部材には、前記凸形状部が係合可能な凹形状部が形成されており、前記シート部材は、前記凸形状部が前記凹形状部に係合し、かつ前記第１の反射領域と前記第２の反射領域とが前記円周面の周方向に交互に並ぶように、前記円周面に固定されている。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月7日(2018.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
また、後述するように、当該計測方法を、セメント製造設備が備えるロータリキルン内の被加熱物（クリンカ）を被測定物として計測を実施する場合は、キルンシェルの出口側端部に設けられた、放射率が０．８程度の落口金物を当該物体とすることも可能である。落口金物は黒体空洞と比較すると放射率が低く、また、セメント製造設備を運転している時の温度も１０００℃程度までしか下がらないため、黒体空洞等を用いる場合に比べ若干計測精度は劣るものの、装置の改良等の必要はなく、容易に実施可能な点で優れる。また、キルンシェルとともに回転する落口金物の外周と回転しないキルンフッドの内壁の間に隙間が存在する場合は、その隙間を物体として用いることもできる。当該隙間は、落口金物を冷却するための空気が流入しているため温度が低く、更に、深さを有するため、入射した放射光が反射や吸収を繰り返すことで、放射率が高くなり、計測精度を高めることができる。また、計測精度については、上述のように、使用する波長の選択等、他の手段との併用により向上させることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
そして、上記式（１２）で表わされるＬ2-1，λと上記式（１３）で表わされるＬ2-2，λの差をＬ2-1，2-2，λとし、被測定物５０より低温の物体５１ｂの温度を、被測定物５０より高温の物体５１ａの温度より十分低いと仮定すると、Ｌh，λ＞＞Ｌl，λとみなせるため、下記式（１４）が得られる。このように差を取ることで、粉塵からの放射輝度の影響を排除できるだけでなく、高温の物体５１ａと低温の物体５１ｂの両物体以外、例えば、被測定物、炉内壁面等からの放射輝度が直接又は粉塵で散乱して上記第２放射輝度計２２ａ、２２ｂに入射する影響を排除することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
＜実施例１＞
図２に示すように、第１放射輝度計２１により、キルンシェル１１ａの出口側端部に存在するクリンカ５０ａの放射輝度を測定するとともに、第２放射輝度計２２により、物体５１の放射輝度を測定した。なお、この実施例では、上記キルンシェル１１ａ出口外周の外側であって、キルンフッド１２の内壁に設置した黒体空洞を物体５１とした。また、物体５１の測定位置と被測定物（クリンカ５０ａ）の測定位置との距離は１００ｃｍ、第１放射輝度計２１と第２放射輝度計２２の距離は３０ｃｍとした。ここで測定位置とは、放射輝度計の光軸と物体５１或いは被測定物（クリンカ５０ａ）との交点とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
＜実施例２＞
図２に示すように、第１放射輝度計２１により、キルンシェル１１ａの出口側端部に存在するクリンカ５０ａの放射輝度を測定するとともに、第２放射輝度計２２により、物体５１の放射輝度を測定した。なお、この実施例２では、落口金物１１ｃを物体５１として用いた。また、物体５１の測定位置と被測定物（クリンカ５０ａ）の測定位置との距離は８０ｃｍ、第１放射輝度計２１と第２放射輝度計２２の距離は３０ｃｍとした。ここで測定位置とは、放射輝度計の光軸と物体５１或いは被測定物（クリンカ５０ａ）との交点とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０９】
＜実施例３＞
図４に示すように、第１放射輝度計２１により、キルンシェル１１ａの出口側端部に存在するクリンカ５０ａの放射輝度を測定するとともに、第２放射輝度計２２ａ、２２ｂにより、それぞれ物体５１ａ、５１ｂの放射輝度を測定した。なお、この実施例では、落口金物１１ｃを、クリンカ５０ａより低温の物体５１ｂとし、一方、バーナ１６の火炎を、クリンカ５０ａより高温の物体５１ａとした。低温の物体５１ｂの測定位置と被測定物（クリンカ５０ａ）の測定位置との距離は８０ｃｍ、高温の物体５１ａの測定位置と被測定物（クリンカ５０ａ）の測定位置との距離は１５０ｃｍ、第１放射輝度計２１と第２放射輝度計２２ｂの距離は３０ｃｍ、第１放射輝度計２１と第２放射輝度計２２ａの距離は７０ｃｍとした。ここで測定位置とは、放射輝度計の光軸と物体５１ａ、５１ｂ或いは被測定物（クリンカ５０ａ）との交点とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2017058370.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2017058370.tif 000002
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2017058370.tif 000003
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2017058370.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月6日(2018.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標本に照明光を照射する照明光学系と、
前記照明光の波面を調整する波面調整部と、
前記標本の表面形状を検出する表面検出部と、
前記表面検出部の検出結果を使って、前記照明光の収差を算出する収差算出部と、
前記収差算出部の算出結果に基づいて、前記波面調整部を制御する制御部と、
前記波面調整部が制御された状態で前記標本からの光を検出する検出部と、を備える顕微鏡装置。
【請求項２】
前記収差算出部は、前記照明光学系における複数の位置それぞれから前記標本に向かう光線を追跡し、前記照明光の収差を算出する、請求項１に記載の顕微鏡装置。
【請求項３】
前記複数の位置は、前記照明光学系の光軸から離れるにつれて密になるように配置される、請求項２に記載の顕微鏡装置。
【請求項４】
前記複数の位置は、前記波面調整部と共役な位置である、請求項２または請求項３に記載の顕微鏡装置。
【請求項５】
前記収差算出部は、前記表面検出部の検出結果から算出される前記標本の表面形状を表す数式をもとに、前記収差を算出する、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
【請求項６】
前記表面検出部は、前記標本の画像に基づいて、前記標本の表面を検出する、請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
【請求項７】
前記照明光学系は、対物レンズを備え、
前記波面調整部は、前記対物レンズの後側焦点位置と共役な位置に配置される、請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
【請求項８】
前記収差算出部は、前記算出した収差に基づいてツェルニケ係数を算出する、請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
【請求項９】
前記収差算出部は、前記算出した収差に基づいて波面を算出する、請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
【請求項１０】
前記算出された表面形状又は前記波面を表示する表示部をさらに有する請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
【請求項１１】
前記検出部は、第１の時間間隔で光を検出し、
前記表面検出部は、第２の時間間隔で前記標本の表面形状を検出する、請求項１から請求項１０のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
【請求項１２】
前記表面検出部は、共焦点法を用いて得られる前記標本の検出結果に基づいて、前記標本の表面形状を検出し、
前記検出部は、多光子励起顕微鏡において、前記標本からの光を検出する、請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
【請求項１３】
前記表面検出部は、共焦点法を用いて得られる前記標本の検出結果に基づいて、前記標本の表面形状を検出し、  前記検出部は、前記共焦点法を用いて、前記標本からの光を検出する、請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
【請求項１４】
前記表面検出部は、前記標本の画像を二値化し、前記標本の表面形状を検出する、請求項１から請求項１３のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
【請求項１５】
標本の表面形状を検出することと、
前記表面形状の検出結果を使って、前記標本に照射される照明光の収差を算出することと、
前記収差の算出結果に基づいて、前記照明光の波面を調整することと、
前記照明光の波面が調整された状態で前記標本からの光を検出することと、を含む観察方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月28日(2018.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測位により位置情報を取得する測位部と、
測位部を有する他の機器が有るか否かを判別する判別処理と、
他の機器がある場合は、前記他の機器と異なるタイミングでかつ、間欠的に前記測位部を動作開始させる周期を設定する周期設定処理と、
前記設定された周期で前記測位部を動作させて位置情報を取得する位置情報取得処理と、
を実行する処理部と、
を有する測位装置。
【請求項２】
前記処理部は、前記位置情報取得処理により取得された前記位置情報を前記他の機器に送信する送信処理を実行する、請求項１に記載の測位装置。
【請求項３】
前記処理部は、前記他の機器から送信された位置情報を受信する受信処理を実行する、請求項１又は２に記載の測位装置。
【請求項４】
前記処理部は、前記判別処理において、送受信可能な範囲にある前記他の機器が有るか否か判別する処理を実行する、請求項１乃至３のいずれかに記載の測位装置。
【請求項５】
前記処理部は、前記判別処理において、送受信可能な範囲にある前記他の機器でかつ、前記測位部が測位可能な状態にある他の機器があるか否か判別する処理を実行する、請求項４に記載の測位装置。
【請求項６】
前記処理部はさらに、送受信可能な他の機器がない場合は、予め定められた周期で間欠的に前記測位部を動作開始させる測位開始処理を実行する、請求項１乃至５のいずれかに記載の測位装置。
【請求項７】
前記処理部は、前記周期設定処理において、送受信可能な他の機器の数に応じて、前記測位部を動作開始させる周期を異ならせて設定する処理を実行する、請求項１乃至６のいずれかに記載の測位装置。
【請求項８】
前記処理部は、前記判別処理においてさらに、送受信可能でかつ測位部を有する他の機器が存在することを判別した後に、前記存在する他の機器の数に変化があったか否かを判別する処理を実行し、
前記存在する他の機器の数に変化があると判別された場合に、前記周期設定処理において、前記設定された周期を変更する処理を実行する、請求項１乃至７のいずれかに記載の測位装置。
【請求項９】
前記処理部はさらに測位により位置情報を取得する測位処理を実行することにより、前記測位部を兼用する、請求項１乃至８のいずれかに記載の測位装置。
【請求項１０】
前記測位部は、ＧＰＳによる測位を行う、請求項１乃至９のいずれかに記載の測位装置。
【請求項１１】
測位により位置情報を取得する測位部と、処理部とを有する測位装置に用いられる測位方法であって、前記測位装置が、
測位部を有する他の機器が有るか否かを判別し、
他の機器がある場合は、前記他の機器と異なるタイミングでかつ、間欠的に前記測位部を動作開始させる周期を設定し、
前記設定された周期で前記測位部を動作させて位置情報を取得する、
測位方法。
【請求項１２】
測位により位置情報を取得する測位部を有する測位装置として用いられるコンピュータに、
測位部を有する他の機器が有るか否かを判別するステップと、
他の機器がある場合は、前記他の機器と異なるタイミングでかつ、間欠的に前記測位部を動作開始させる周期を設定するステップと、
前記設定された周期で前記測位部を動作させて位置情報を取得するステップと、
を実行させるプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明の一態様の測位装置は、
測位により位置情報を取得する測位部と、
測位部を有する他の機器が有るか否かを判別する判別処理と、
他の機器がある場合は、前記他の機器と異なるタイミングでかつ、間欠的に前記測位部を動作開始させる周期を設定する周期設定処理と、
前記設定された周期で前記測位部を動作させて位置情報を取得する位置情報取得処理と、
を実行する処理部と、
を有する測位装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月16日(2018.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射能を帯びた固形分を含む水を容器内のフィルタによってろ過処理するろ過器のフィルタ交換方法において、
前記容器内のフィルタを取り出す際、前記ろ過器によるろ過処理中に前記容器内を遮へいする上蓋に代えて、前記フィルタの大きさに対応した大きさであって前記フィルタと同数の開口部と該開口部のそれぞれを塞ぐプラグとを有する仮蓋を用いて前記容器内を遮へいする工程を含む、
ことを特徴とするろ過器のフィルタ交換方法。
【請求項２】
請求項１に記載のろ過器のフィルタ交換方法において、
前記仮蓋を用いて前記容器内を遮へいした後、該容器内のフィルタのうちの一を取り出す際、該取り出すフィルタに対応した前記プラグのみを該仮蓋から取り外し、該取り出すフィルタに対応した前記開口部から該容器内に掴み冶具を挿入し、該掴み冶具によって該取り出すフィルタを掴んで該フィルタの該容器内への固定を解除して該容器内から取り出す工程を含む、
ことを特徴とするろ過器のフィルタ交換方法。
【請求項３】
請求項２に記載のろ過器のフィルタ交換方法において、
前記容器内からフィルタを取り出す際に、該フィルタを遮蔽カバー内に収納する、
ことを特徴とするろ過器のフィルタ交換方法。
【請求項４】
請求項３に記載のろ過器のフィルタ交換方法において、
前記容器内からフィルタを取り出す際に、該フィルタを電動チェーンブロックによって前記遮蔽カバー内に収納する、
ことを特徴とするろ過器のフィルタ交換方法。
【請求項５】
放射能を帯びた固形分を含む水を容器内のフィルタによってろ過処理するろ過器のフィルタ交換方法において、
前記容器内のフィルタは、前記容器内の上部に設けた管板の下方に固定されたものであって、
前記容器内のフィルタを取り出す際、前記ろ過器によるろ過処理中に前記容器内を遮へいする上蓋を該容器から外し、前記管板を上方に引き上げることによって該容器内のフィルタを該管板とともに該容器内から取り出す、
ことを特徴とするろ過器のフィルタ交換方法。
【請求項６】
請求項５に記載のろ過器のフィルタ交換方法において、
前記容器内からフィルタを取り出す際に、該フィルタを遮蔽カバー内に収納する、
ことを特徴とするろ過器のフィルタ交換方法。
【請求項７】
請求項６に記載のろ過器のフィルタ交換方法において、
前記容器内からフィルタを取り出す際に、該フィルタを電動チェーンブロックによって前記遮蔽カバー内に収納する、
ことを特徴とするろ過器のフィルタ交換方法。
【請求項８】
放射能を帯びた固形分を含む水を容器内のフィルタによってろ過処理するろ過器のフィルタ交換システムにおいて、
前記フィルタと前記フィルタを収納する容器と該容器から着脱可能でろ過処理中に前記容器内を遮へいする上蓋とを有するろ過器と、
前記上蓋に代えて前記容器に設置され前記容器内を遮へいする蓋であり、前記フィルタの大きさに対応した大きさであって前記フィルタと同数の開口部と該開口部のそれぞれを塞ぐプラグとを有する仮蓋と、
前記フィルタのうちの一を前記容器内から取り出す際に該取り出すフィルタに取り付けられる掴み冶具と、
前記フィルタのうちの一を前記容器内から取り出す際に該取り出すフィルタに対応した前記開口部を覆うように前記仮蓋の上方に設置され、前記容器内から取り出した前記フィルタの一を収納可能な遮蔽カバーと、
前記仮蓋を用いて前記容器内を遮へいした後、該容器内のフィルタのうちの一を取り出す際、該取り出すフィルタに対応した前記プラグのみを該仮蓋から取り外して表れる前記開口部を介して、該取り出すフィルタに取り付けられた前記掴み治具を引き上げて該フィルタを該容器内から前記仮蓋上の前記遮蔽カバー内に取り出すためのクレーン装置と、
を備えたことを特徴とするフィルタ交換システム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月24日(2018.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面処理加工によって基板上に形成される孔若しくは溝の深さや段差、又は増加若しくは減少する膜層や基板の厚さといった、試料表面に形成される測定対象構造の大きさを測定する表面処理状況モニタリング装置であって、
a) 所定の波長幅と可干渉性を有する光を発する複数の光源であって、発する光の波長帯域が相互に異なる複数の光源と、
b) 前記複数の光源からそれぞれ発せられた照射光を前記試料表面の測定対象構造を含む範囲に照射する照射光学系と、
c) 前記測定対象構造の大きさを規定する２つの部位でそれぞれ反射した光の干渉により生じた干渉光を含む測定光を波長分散して検出する検出部と、
d) 前記検出部からの出力信号に基づき測定光スペクトルを生成するスペクトル生成部と、
e) 前記測定光スペクトルを周波数解析して前記測定対象構造の大きさを決定する構造決定部と
を備えることを特徴とする表面処理状況モニタリング装置。
【請求項２】
前記複数の光源の発光帯域が相互に離間していることを特徴とする請求項１に記載の表面処理状況モニタリング装置。
【請求項３】
前記複数の光源からそれぞれ発せられる照射光の波長帯域の総和が、前記複数の光源から発せられる照射光の波長のうちの最短波長と最長波長で規定される合成波長帯域の半分以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の表面処理状況モニタリング装置。
【請求項４】
前記構造決定部が、前記測定光スペクトルを表面処理加工前の前記試料表面からの反射光のスペクトルにより正規化した後に周波数解析することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の表面処理状況モニタリング装置。
【請求項５】
f) 前記表面処理加工前の前記試料表面からの反射光の強度と前記測定光の強度の関係を表す数式であって前記測定対象構造の大きさをパラメータに含む理論式を用い、該理論式により表される演算スペクトルを前記測定光スペクトルにフィッティングすることにより前記測定対象構造の大きさを推定するフィッティング演算部
を備え、
前記構造決定部が前記周波数解析の結果及び前記フィッティング演算部による推定結果に基づいて前記測定対象構造の大きさを決定することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の表面処理状況モニタリング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月27日(2018.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記局部的な加圧は、ローラーを用いた加圧である
ことを特徴とする請求項１に記載の膨張弁。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月19日(2018.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被乾燥物を加熱して乾燥させる乾燥装置において、
前記被乾燥物が収容される炉体と、
前記被乾燥物に放射熱を加える近赤外線ランプと、
前記近赤外線ランプの電極部が少なくとも放射範囲に含まれるように冷却流体を放射する冷却部と、
を備える乾燥装置。
【請求項２】
前記炉体の外側から内側に近赤外線を透過させることができる近赤外線透過部を更に備え、
前記近赤外線ランプは、前記炉体の外側であって前記近赤外線透過部に近接する配置部位に設置され、前記近赤外線透過部を通じて前記炉体の内側の前記被乾燥物に放射熱を加える請求項１に記載の乾燥装置。
【請求項３】
前記近赤外線ランプは、前記炉体の前記配置部位から離脱可能なランプユニットとして構成される請求項２に記載の乾燥装置。
【請求項４】
前記炉体の中央に位置し、前記被乾燥物を搬送する搬送装置を更に備え、
前記近赤外線ランプは、傾斜面に配置される請求項１から３の何れかに記載の乾燥装置。
【請求項５】
前記近赤外線ランプは、細長く、その長手方向が前記被乾燥物の搬送方向に平行である請求項４に記載の乾燥装置。
【請求項６】
前記近赤外線ランプは、水平面にも配置される請求項４又は５に記載の乾燥装置。
【請求項７】
前記傾斜面に配置される前記近赤外線ランプの数は、前記水平面に配置される前記近赤外線ランプの数よりも多い請求項６に記載の乾燥装置。
【請求項８】
前記搬送装置における前記被乾燥物を固定する部分は、前記近赤外線ランプが配置される前記傾斜面の上方に位置する請求項４に記載の乾燥装置。