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　平成　８年特許願第１２４２０６号「有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年１１月２８日出願公開、特開平　９−３０６６６５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成８年５月２０日の出願であって、平成１５年４月１１日付けで拒絶査定がなされ、平成１５年５月１５日付けで審判請求がなされたものである。
　本願の請求項１に係る発明は、平成１４年１２月６日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。（以下、「本願発明」という。）
「正孔注入電極が形成された基板と、前記基板上に形成された有機薄膜層と、前記有機薄膜層上に形成された電子注入電極と、前記正孔注入電極及び前記電子注入電極を駆動するための前記基板上に実装された電極駆動用ＩＣと、前記正孔注入電極及び前記電子注入電極と前記電極駆動用ＩＣを接続するための前記基板上に配設されたリード線を備えた有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子であって、前記リード線が正孔注入電極と同一材料からなる下地層と、前記下地層上に形成された前記下地層よりも導電率の高い導電層を備え、前記導電層が、銅、銀、金、アルミニウム、鉄、ニッケル、モリブデン、白金の内のいずれか１種類以上又はこれらの合金、あるいは、これらの金属を含む合金からなることを特徴とする有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子。」
　
２．刊行物
　本願出願前に頒布され、原査定に引用された特開平４−８２１９７号公報（以下、「引用刊行物」という。）には、
「１．少なくとも一方が透明な二つの電極間に有機発光層を備えた薄膜ＥＬ素子において、少なくとも一方の電極は最小の幅が１ｍｍ以下の線状に形成されており、一方の前記電極と前記有機発光層とをはさんでこれに対向する他方の電極が重なる一つの画素を流れる電流が、前記薄膜ＥＬ素子の全ての前記画素について、同一電圧を印加したときに少なくとも±１０％以内の範囲で一定であることを特徴とする薄膜ＥＬ素子。
２．請求項１において、透明な電極が、最小の幅が１ｍｍ以下の線状に形成されており、前記透明な電極と電気的に接触して、金属の電極が配設されている薄膜ＥＬ素子。」（特許請求の範囲）
「電流値のばらつきを生じる原因は、ＥＬ素子の配線抵抗である、特に、透明電極は抵抗が大きいので、透明電極に接して、金属線を設けることで抵抗を低減した。」（第２頁右上欄第１０〜１３行）
「ガラス基板１上に陽極（透明電極）２として、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜をスパッタリング法により、１ｍｍの幅で約２００ｎｍの厚さに形成する。次に、陽極の低抵抗化のため、金属電極３として、Ａｌ膜を蒸着法により、０．５ｍｍの幅で、約２００ｎｍの厚さに形成した。ＩＴＯ膜とＡｌ膜とは電気的に接触していれば、上下に積層、あるいは、平面上で並置されていても良い。この上に、正孔注入層として、トリフエニルアミン誘導体、発光層として、８−ヒドロキシＡｌ錯体を、それぞれ、５００Åの膜厚に蒸着法により形成した。最後に陰極６としてＩｎ膜を蒸着法により１ｍｍの幅で約２００ｎｍの厚さに形成した。電極の長さはＩＴＯ、Ｉｎともに１５ｃｍである。
　陰極６に用いたＩｎは体積抵抗率が８×１０−8Ω・ｃｍと低抵抗であるのに対し、陽極３に用いたＩＴＯの抵抗率は１×１０−4Ω・ｃｍと桁違いに大きい。このため、陽極としてＩＴＯ膜のみを用いた場合、配線抵抗による電圧低下が生じ、第５図に示すように、接続端子と画素との間の距離ｌが長くなるにつれて画素の相対光量が減少する。これに対して、本発明の、透明電極２と金属電極３を組み合わせた構造の素子の場合は、金属電極３として用いたＡｌの抵抗率が３×１０−5Ω・ｃｍと小さいため、陽極での配線抵抗による電圧低下を防ぐことができる。このため、図に示したように、接続端子と画素との間の距離ｌによらず一定の光量の発光が得られる。」（第３頁右上欄第１１行〜同頁左下欄第１８行）
なる記載があり、薄膜ＥＬ素子の平面図と断面図が第１図として記載されている。
　これより、引用刊行物には、
「陽極が形成されたガラス基板と、前記基板上に形成された正孔注入層と発光層と、前記正孔注入層と発光層上に形成された陰極とを備えた薄膜ＥＬ素子であって、前記陽極は透明電極上に金属電極を積層したもので、金属電極がＡｌ層からなることを特徴とする薄膜ＥＬ素子。」
なる発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
　また、本願出願前に頒布された実願昭５９−２５４０２号（実開昭６０−１４００８８号）の明細書及び図面を撮影したマイクロフィルム（以下、「周知文献１」という。）には、
「第３図は本考案を適用した表示装置１１の断面図で、図中、１２は基板、１３は表示部、１４はＩＣドライバ（一般的には駆動回路、制御回路等の回路素子要素）、１５は保護封止用の樹脂膜である。表示部１３は、基板１２上に形成されたＸ側電極１６と、その上に形成されたＥＬ層１７と、その上に形成されたＹ側電極１８とよりなる。なお、ＥＬ層１７の上下には、詳細図示を省略したが絶縁層が形成される。この表示部１３と基板１２は表示パネルを構成する。ＩＣドライバ１４は、表示部１３の外側の基板１２の周辺上に複数個搭載され、それぞれ対応する電極の引き出し線に直接接続されている。このように実装されるＩＣドライバは、チップキャリアやフラットパッケージに搭載したものでも良いし、あるいは裸チップを用いても良い。」（第４頁第４〜２０行）
なる記載があり、これにより「基板上にＸ側電極とＥＬ層とＹ側電極およびＩＣドライバを搭載した表示装置」が知られている。
　
　そして、原審において周知技術が記載された刊行物として示された特開平３−２３９２２６号公報（以下、「周知文献２」という。）には、
「透明基板に、少なくとも第１の電極、第２の電極及び液晶から成る液晶表示手段と、前記第１及び第２の電極を制御する半導体素子と、前記液晶表示手段及び半導体素子の間を接続する配線手段とを具備し、前記配線手段は、第１の電極又は第２の電極から延在された配線パターンから成り、前記液晶表示手段の視野領域以外の配線パターン部に金属膜が設けられていることを特徴とする液晶表示装置。」（特許請求の範囲（１））
「第２図（Ａ）、（Ｂ）は、本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の構成図であり、同図（Ａ）はその断面図を示している。同図（Ａ）において、第１の液晶表示装置は透明基板（１１）に、ＣＯＧ−ＬＣＤ素子（１２）とＬＳＩ（１３）が設けられて成る。」（第３頁右上欄第１〜６行）
「同図（Ｂ）は配線パターン（１４）の上面図を示している。図において、配線パターン（１４）は第２の電極（１２Ｂ）から延在された配線パターン（１２Ｂ）から成る。これまでは、従来例と同様であるが本発明では次の点で異なっている。すなわち、（１５）は金属膜であり、ＣＯＧ−ＬＣＤ素子（１２）の視野領域以外の配線パターン部に設けられている。金属膜（１５）は、導電率の良いニッケル（Ｎｉ）等を配線パターン（１２Ｂ）のパターニング工程に引き続いて積層形成される。その形成方法はメタルマスクＬＣＤ製造方法により、例えば、ＩＴＯ上にＮｉを成長することにより行われる。」（第３頁右上欄第１８行〜同頁左下欄第１０行）
「このため、第２の電極（１２Ｂ）から延在されたＩＴＯ系の配線パターン（１４）の抵抗値のバラツキを導電率の高いＮｉ膜（１５）により補償することができる。」（第３頁右下欄第１〜４行）
「これにより、液晶表示手段及び半導体素子間の点灯条件が同等になることで、コントラストむら等が極力回避され、液晶画面の表示品質の向上及び当該装置の信頼度の向上を図ることが可能となる。」（第４頁右上欄第１５〜１９行）
なる記載があることから、
「ＣＯＧ−ＬＣＤ素子において液晶表示手段及び半導体素子の間を接続する配線手段が第１または第２の電極から延在する視野領域以外の配線パターンに導電率の良いニッケルを積層することによりコントラストむら等を回避して表示品質が向上すること」が知られている。
　
３．対比
　本願発明と引用発明とを比較すると、引用発明における「陽極」、「ガラス基板」、「正孔注入層と発光層」、「陰極」、「薄膜ＥＬ素子」、「透明電極」および「金属電極」は、それぞれ本願発明における「正孔注入電極」、「基板」、「有機薄膜層」、「電子注入電極」、「有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子」、「下地層」および「導電率の高い導電層」に相当し、更に引用発明における「金属電極がＡｌ膜からなる」は本願発明における「導電層が、銅、銀、金、アルミニウム、鉄、ニッケル、モリブデン、白金の内のいずれか１種類以上又はこれらの合金、あるいは、これらの金属を含む合金からなる」に相当するので、両者は、
「正孔注入電極が形成された基板と、前記基板上に形成された有機薄膜層と、前記有機薄膜層上に形成された電子注入電極とを備えた有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子であって、下地層上に形成された前記下地層よりも導電率の高い導電層を備え、前記導電層が、銅、銀、金、アルミニウム、鉄、ニッケル、モリブデン、白金の内のいずれか１種類以上又はこれらの合金、あるいは、これらの金属を含む合金からなることを特徴とする有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子。」
である点で一致し、以下の点で相違する。
（相違点１）
　本願発明では、正孔注入電極及び電子注入電極を駆動するための電極駆動用ＩＣが基板上に実装されている構成を有するのに対し、引用発明ではそのような構成がない点。
（相違点２）
　本願発明では、正孔注入電極及び電子注入電極と電極駆動用ＩＣを接続するための基板上に配設されたリード線が正孔注入電極と同一材料からなる下地層と、下地層上に形成された下地層よりも導電率の高い導電層を備えるのに対し、引用発明では、正孔注入電極に相当する陽極が下地層と、下地層上に形成された下地層よりも導電率の高い導電層を備えるものである点で相違する。
　
４．当審の判断
　上記相違点について検討する。
（相違点１）について
　２．で示した周知文献１には、「基板上にＸ側電極とＥＬ層とＹ側電極およびＩＣドライバを搭載した表示装置」が記載されており、また、同周知文献２には、液晶表示装置において表示基板と同一基板上に電極駆動用ＩＣを搭載した、いわゆるＣＯＧ−ＬＣＤが記載されているので、基板上に表示素子がある表示装置において、同一基板上に電極駆動用ＩＣを搭載する構成は周知のものであり、引用発明に上記周知の構成を付加することに何ら困難性はなく、相違点１は格別のものではない。
　
（相違点２）について
　２．で示した周知文献２に記載されたものは液晶表示装置に関するものであるが、基板上のマトリックス状表示素子を駆動するという点で引用発明の表示素子と同一技術分野に属するものであるので、周知文献２に記載の電極の駆動に関する周知の技術的事項を引用発明に適用することは当業者が容易に想到することができ、また、適用にあたっての阻害要因も見いだせない。
　とするならば、引用発明における薄膜ＥＬ素子に対して、周知文献２記載の構成である同一基板上に電極駆動ＩＣを搭載し、電極と電極駆動用ＩＣを接続する配線を電極から延在するＩＴＯ層上に導電率の高い金属層を積層する構成は適宜採用することができたものであるので、相違点２は格別のものではない。
　
　したがって、相違点１、２はいずれも周知技術に基づき当業者が容易に引用発明に付加することができる構成であり、格別のものではないし、それによる効果も予想される範囲以上のものではない。
　
　なお、請求人は審判請求の理由において、周知技術として引用された引用例２、３に記載された発明は液晶表示装置に関するものであり、有機ＥＬとは発光原理において異なるので引用例１に記載の発明に引用例２、３の発明を組み合わせることができないと主張している。
　しかしながら、電圧駆動である液晶表示装置においてさえ配線抵抗による影響の除去が課題となっていることが周知であるならば、電流駆動である有機ＥＬ素子において配線抵抗を減少させることは当業者にとって自明の課題であり、その課題を解決するために周知技術を適用することは当業者であれば当然想到すべきことであるので、請求人の主張は採用できない。
　
５．むすび
　したがって、本願発明は、引用刊行物に記載された発明および当該技術分野の周知技術に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。