【事件の表示】
　平成１１年特許願第　５４１３６号「反射型液晶表示装置及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年　９月１４日出願公開、特開２０００−２５００２７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本願は、平成１１年３月２日の出願であって、平成１５年４月３０日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年６月５日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年６月１６日に手続補正がなされたものである。
　　
２．平成１５年６月１６日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１５年６月１６日付の手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
［理由］
（１）本件補正後の本件発明について 
 　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、
「相互に対向する一対の基板を有し、該一対の基板相互間に液晶が封入され、前記一対の基板の一方に、光を散乱させるための散乱層が設けられた反射型液晶表示装置において、
　前記散乱層が、表面に凹凸を有する有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜と、絶縁膜を覆う光反射性を有する金属材料膜との積層構造により構成され、
　前記有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜が、インクジェット方式によって
形成され、インクジェットノズルからの噴出される絶縁性物質の供給量を調整することで、表面に凹凸が
　
　上記補正は、その請求項１の発明を特定するために必要な事項である「有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜」について、「インクジェットノズルからの噴出される絶縁性物質の供給量を調整することで、表面に凹凸が形成されている」との限定を付加するものであるから、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。　
　
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本件補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するか）について以下に検討する。 
 
（２）引用例の記載事項 
 　原査定の理由で引用された引用例１（特開平１０−１８６３４９号公報）には、次の事項が記載されている。
ａ．「【００２７】【発明の実施の形態】（実施の形態１）本発明のカラーフィルタを使用した液晶表示素子の実施の形態１を図１、図２を参照しながら説明する。なお、本実施の形態で説明するスイッチング素子は一般的なＴＦＴにより行う。
　　　【００２８】図１は本発明にかかるアクティブマトリクス型液晶表示素子の簡略化した平面図であり、図２は図１に示したＡ−Ａ線断面図である。スイッチング基板は、主に絶縁性基板１上にマトリクス配列したＴＦＴ３とそれらのＴＦＴのオン・オフによって作動する画素電極４で構成されている。
　　　【００２９】ガラス等から成る絶縁性基板１上に、タンタル（Ｔａ）等から成るゲート電極５が形成され、・・・このように作製されたスイッチング素子を覆うように、例えばポリイミド（ＰＩ）膜から成る配向膜が形成され、液晶を並べるためにラビング等による配向処理が配向膜表面に施されている。
　　　【００３０】一方、対向基板は、絶縁性基板上に、例えばＩＴＯから成る共通電極が形成され、その共通電極上に例えばＰＩから成る配向膜が形成され、液晶を並ばせるために配向膜表面に配向処理が施されている。
　　　【００３１】　以上のようにして作製したスイッチング基板及び対向基板を、基板間の間隙を一定に保つために、スペーサを介してシール剤で貼り合わせ、シールの一部に設けられた注入口から液晶を注入して、液晶の注入完了後に注入口を封止することによって、液晶表示素子が構成される。
　　　【００３２】この液晶表示素子に後方から光を照射して、透過光の制御をすることにより、透過型液晶表示装置として使用することができる。」（【００２７】〜【００３２】） 
　
ｂ．「【００６４】（実施の形態３）本実施の形態３では、図５を用いて反射型カラー液晶表示素子について説明する。
　　　【００６５】以下、反射型カラー液晶表示素子のスイッチング基板側の製造方法について説明するが、スイッチング素子、ゲートバス配線及びソースバス配線の作製までについては実施の形態１と同様に行う。
　　　【００６６】まず、実施の形態１と同様にして、ゲートバス配線、ソースバス配線上に高分子電着膜を堆積させ凸状壁を形成し、各画素部のパターンに準ずる凹部を形成する。なお、ＣＦ１１と絶縁性基板１の間に反射層２４を形成するため、高分子電着膜の膜厚は反射層等の膜厚を加味して設定される。
　　　【００６７】次に、各画素部に反射板を形成する。反射板は、例えば特開平６−７５２３７号公報に示されている方法により作製することができる。
　　　【００６８】まず、画素部を含む基板上全面に感光性樹脂としてフォトレジストＯＦＰＲ−８００（東京応化社製）を０．１２μｍの厚さに塗布し、大きさが不規則な水玉模様のフォトマスクを用いてパターン化して、凸部２０を各画素部に形成する。
　　　【００６９】次いで、この上にポリイミド膜を１μｍの厚さになるよう塗布し、フォトリソグラフィ法及びドライエッチング法を用いて、フォトレジストの凸部２０を反映させた樹脂による凸パターン２３を各画素部に形成する。
　　　【００７０】次に、アルミニウムからなる金属薄膜を堆積させ、レジストの塗布、露光、現像、アルミニウムのエッチング、レジストの剥離を行い、画素パターンに準じた反射層２４を形成した。なお、画素パターンに準じたパターンに反射層２４として例えばアルミニウム（Ａｌ）を形成すると指向性が低く、反射強度の高い反射板を作製することができる。
　　　【００７１】次に、反射層２４の上にＣＦ１１を形成する。ＣＦ１１は、実施の形態１または実施の形態２に説明した方法により形成することができ、この後の工程についても、実施の形態１及び実施の形態２と同様にして行い、反射型カラー液晶表示素子を作製することができる。」（【００６４】〜【００７１】）
　 
ｃ．「【００７３】また、反射板を形成する際、各画素部に凸部２０を形成するためのフォトレジストの塗膜方法としては、インクジェット装置を使用することも可能である。」（【００７３】） 
　
ｄ．【図５】には、反射型液晶表示装置の画素部を含む一方の基板上全面にフォトレジストを塗布し、フォトマスクを用いてパターン化した「凸部」と、凸部を覆うように形成された表面に凹凸を有するポリイミド樹脂による「凸パターン」と、該凸パターンを覆う金属薄膜の「反射層」との積層構造により構成されている「スイッチング基板」が示されている。 
　
（３）対比・判断 
　引用例１に記載された「スイッチング基板」と「対向基板」とは、相互に対向する一対の基板として貼り合わせた後、基板相互間に液晶が封入され、反射型液晶表示装置が構成される（同引用例【００７１】、【００２７】〜【００３２】）。
　
　また、本件補正発明において、「有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜が、インクジェット方式によって形成されている」とは、「インクジェット方式によってアクリル樹脂（有機系絶縁膜）よりなる凸部が形成され、ＰＲ（フォトリソ）工程、およびエッチング工程によって、該凸部を覆うように絶縁膜が形成されている」ことを含むことは、本件明細書の【実施例２】の記載に照らし明らかである（同明細書【００３７】〜【００３８】参照。なお、同【請求項１】と【請求項２】の各記載も参照。）。
　一方、引用例１においては、表面に凹凸を有するポリイミド膜の「凸パターン」を形成する際、その下地層である「凸部」の形成に、インクジェット方式が用いられることを記載しており（同引用例【００７３】）、これを本件補正発明に準じて考察すれば、上記「凸パターン」は、「インクジェット方式によって形成されている」と云うことができる。　
　
　したがって、引用例１には、「相互に対向する一対の基板を有し、該一対の基板相互間に液晶が封入され、前記一対の基板の一方に、光を散乱させるための反射層が設けられた反射型液晶表示装置において、
　前記反射層が、表面に凹凸を有するポリイミド膜の凸パターンと、該凸パターンを覆う光反射性を有する金属薄膜との積層構造により構成され、前記ポリイミド膜の凸パターンが、インクジェット方式によって形成されていることを特徴とする反射型液晶表示装置。」（以下、「引用例発明」という。）が記載されている。
 
 　そこで、本件補正発明と引用例発明とを対比すると、引用例発明の「反射層」、「表面に凹凸を有するポリイミド膜の凸パターン」、「該凸パターンを覆う光反射性を有する金属薄膜」は、本件補正発明の「散乱層」、「表面に凹凸を有する有機系絶縁膜」、「絶縁膜を覆う光反射性を有する金属材料膜」にそれぞれ相当する。
　したがって、両者は、「相互に対向する一対の基板を有し、該一対の基板相互間に液晶が封入され、前記一対の基板の一方に、光を散乱させるための散乱層が設けられた反射型液晶表示装置において、
　前記散乱層が、表面に凹凸を有する有機系絶縁膜と、絶縁膜を覆う光反射性を有する金属材料膜との積層構造により構成され、
　前記有機系絶縁膜が、インクジェット方式によって形成されていることを特徴とする反射型液晶表示装置。」の点で一致し、
　本件補正発明が、有機系絶縁膜について、「インクジェットノズルからの噴出される絶縁性物質の供給量を調整することで、表面に凹凸が形成され」るのに対し、引用例発明は、ポリイミド膜の凸パターンについて、上記の様な凹凸形成法を規定していない点で、一応相違している。
　
　上記相違点について検討する。
　一般に、インクジェット方式の成膜法において、インクジェットノズルへの供給量を調整することによって、噴出物の表面の凹凸形状を調整することは、同方式を用いた成膜法における基本技術であり（例えば、特開平１０−２５８５０６号公報【００５１】、特開平８−３２７８１７号公報【請求項８】等。）、引用例発明においても、インクジェット方式を用いてポリイミド膜の凸パターンを形成するに際し、「ノズルへのポリイミドの供給量を調整することによって、凸パターンの凹凸形状を調整すること」は当然行われることと認められるから、両者は、この点で実質的に差異がないと云うべきである。
　 
　したがって、上記相違点は実質的なものではなく、本件補正発明は、上記引用例１に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号に規定する発明に該当するものであるから、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 
　
（４）むすび 
 　以上のとおり、本件補正は、平成１５年改正前の特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するから、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
 　 
３．本件発明について 
 平成１５年６月１６日付の手続補正は、上記のとおり却下されたので、本件の請求項に係る発明は、平成１５年４月１０日付の手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜８に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という）は、以下のとおりである。 
「相互に対向する一対の基板を有し、該一対の基板相互間に液晶が封入され、前記一対の基板の一方に、光を散乱させるための散乱層が設けられた反射型液晶表示装置において、
　前記散乱層が、表面に凹凸を有する有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜と、絶縁膜を覆う光反射性を有する金属材料膜との積層構造により構成され、前記有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜がインクジェット方式によって形成されていることを特徴とする反射型液晶表示装置。」
　 
（１）引用例記載の発明
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１および、その記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（２）対比・判断 
　本件発明は、前記「２．」で検討した本件補正発明から、「有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜」に係る限定事項である「インクジェットノズルからの噴出される絶縁性物質の供給量を調整することで、表面に凹凸が形成されている」との構成を省いたものである。
　
　そうすると、本件発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本件補正発明が、前記「２．（３）」に記載したとおり、引用例１に記載された発明であるから、本件発明も、同様の理由により、引用例１に記載された発明であると云える。 
 　 
（３）むすび 
 　したがって、本件発明は、特許法第２９条第１項第３号に規定する発明に該当するものであるから、特許を受けることができない。
 　よって、結論のとおり審決する。