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【手続補正書】
【提出日】平成30年11月14日(2018.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
続いて、同じチャンバ内において、ドーパントガス（ジボランガス）の供給を停止した状態で、モノゲルマンガスを含む選択エピタキシャル成長法により、導電型不純物を含有しないノンドープの真性ゲルマニウム層ＩＧＬを、開口部ＯＰの底面から露出するｐ型ゲルマニウム層ＰＧＬを起点として、ｐ型ゲルマニウム層ＰＧＬ上に形成する。このとき、真性ゲルマニウム層ＩＧＬは、開口部ＯＰの内部から絶縁膜ＩＦの上面ＵＳにはみ出すように形成される。すなわち、本実施の形態１において、真性ゲルマニウム層ＩＧＬは、絶縁膜ＩＦの側面ＳＳ（開口部ＯＰの内壁面）と接触し、かつ、絶縁膜ＩＦの上面ＵＳと接触するように形成される。この結果、本実施の形態１において形成される真性ゲルマニウム層ＩＧＬの断面形状は、マッシュルーム形状（キノコ形状）となる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年9月12日(2018.9.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
この目的は、電子回路基板を受け入れるか取り囲むハウジングにおいて複数の接触部に接触した電子回路基板を設定する方法にしたがって達成され、電子回路基板はハウジングに受け入れられ、電子回路基板は、複数の接触凹部を含み、接触要素はハウジングの外側の第１の端部及びハウジングの内側の第２の端部を含み、接触要素のそれぞれは、第２の端部において、第１の静止位置及び第２の接触位置に位置付けられることができる少なくとも一つの柔軟な延長部を含み、この方法は、
接触要素の第２の端部が接触凹部に対向して位置し、柔軟な延長部が第１の位置に位置するように、電子回路基板がハウジングに対して位置付けられる第１のステップと、
電子回路基板が、一方で複数の接触凹部、他方で接触要素の第２の端部の柔軟な延長部によって電気的に接続され、柔軟な延長部は第２の位置に位置付けられる第２のステップとを含んでいる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
この発明は、電子回路を接触する接触部を有するハウジングであって、電子回路基板を受け取るか又は取り囲み、複数の接触凹部を含み、接触要素はハウジングの外側の第１の端部とハウジングの内側の第２の端部とを含み、接触要素のそれぞれは、第２の端部の位置において、少なくとも一つの柔軟な延長部が第１の静止位置及び第２の接触位置に位置することができ、電子回路は、一方で、複数の接触凹部、他方で、接触要素の第２の端部の延長部によって電気的に接触し、柔軟な延長部は第２の位置に位置しているものにも関する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
電子回路基板（４）を受け入れるか又は取り囲むためのハウジング（１３）において複数の接触要素（５）に接触する電子回路基板（４）を設置する方法であって、
前記電子回路基板（４）は、前記ハウジング（１３）に受け入れられ、
前記電子回路基板（４）は、導電性の表面を有する複数の接触凹部（１２）を含み、
前記接触要素（５）は、前記ハウジング（１３）の外側の第１の端部（８）及び前記ハウジング（１３）の内側の第２の端部（９）を含み、
前記接触要素（５）のそれぞれは、前記第２の端部（９）の位置において、第１の静止位置及び第２の接触位置に位置することができる少なくとも一つの柔軟な延長部（１０）を含み、
この方法は、
前記電子回路基板（４）が、前記接触要素（５）の第２の端部（９）が前記接触凹部（１２）に対向するように、前記ハウジング（１３）に対して位置決めされ、前記柔軟な延長部（１０）が、それらの第１の位置に位置決めされている第１のステップと、
前記電子回路基板（４）が、一方で、前記複数の接触凹部（１２）の導電性の表面、他方で、前記接触要素（５）の第２の端部（９）の柔軟な延長部（１０）によって電気的に接触され、前記柔軟な延長部（１０）が、それらの第２の位置に位置決めされている第２のステップとを
含み、各接触要素（５）は、その第２の端部（９）の位置において、二つの柔軟な翼型の延長部（１０）を含み、前記柔軟な延長部（１０）は、それらの第２の位置にあり、少なくとも一部はそれらの第２の位置で曲げられたことを特徴とする方法。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項３】
電子回路基板（４）と接触する接触要素（５）を有するハウジング（１３）であって、前記ハウジング（１３）は電子回路基板（４）を受け入れるか又は取り囲み、
前記電子回路基板（４）は、導電性の表面を有する複数の接触凹部（１２）を含み、
前記接触要素（５）は、前記ハウジング（１３）の外側の第１の端部（８）及び前記ハウジング（１３）の内側の第２の端部（９）を含み、
前記接触要素（５）のそれぞれは、その第２の端部（９）の位置において、第１の静止位置及び第２の接触位置に位置決めすることができる少なくとも一つの柔軟な延長部（１０）を含み、その第２の端部（９）の位置において、二つの柔軟な翼型の延長部（１０）を含み、
前記電子回路基板（４）は、一方で、前記複数の接触凹部（１２）の導電性の表面によって、他方で、前記接触要素（５）の前記第２の端部（９）の前記柔軟な延長部（１０）によって、電気的に接続され、前記柔軟な延長部（１０）は、それらの第２の位置にあり、少なくとも一部はそれらの第２の位置で曲げられるように構成されたことを特徴とするハウジング（１３）。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月14日(2018.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を形成する光形成部と、
前記光形成部からの光を透過する出射窓を有し、前記光形成部を取り囲むように配置される保護部材と、を備え、
前記光形成部は、
ベース部材と、
前記ベース部材上に搭載される半導体発光素子と、
前記ベース部材上に搭載され、前記半導体発光素子から出射される光のスポットサイズを変換するレンズと、
前記ベース部材と前記レンズとの間に配置され、前記ベース部材に対して前記レンズを支持する、紫外線硬化性樹脂からなる第１の支持部材と、を含み、
前記第１の支持部材は、前記紫外線硬化性樹脂が硬化した固形芯部を含むくびれ部を有し、
前記くびれ部は、前記第１の支持部材の厚み方向に垂直な断面において、前記レンズに接触する領域および前記ベース部材に接触する領域よりも断面積が小さい領域を有する、光モジュール。
【請求項２】
前記ベース部材は、前記第１の支持部材を保持する第１の保持部を有する、請求項１に記載の光モジュール。
【請求項３】
前記第１の保持部は、前記ベース部材から突出した突出部である、請求項２に記載の光モジュール。
【請求項４】
前記第１の支持部材の厚みは、３０μｍ以上７０μｍ以下である、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光モジュール。
【請求項５】
前記光形成部は、
前記ベース部材上に搭載される複数の前記半導体発光素子と、
前記ベース部材上に搭載され、前記複数の半導体発光素子のそれぞれに対応して配置される複数の前記レンズと、
前記ベース部材上に搭載され、前記複数の半導体発光素子からの光を合波するフィルタと、を含む、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の光モジュール。
【請求項６】
前記ベース部材と前記フィルタとの間に配置され、前記ベース部材に対して前記フィルタを支持する、紫外線硬化性樹脂からなる第２の支持部材をさらに含み、
前記第２の支持部材は、前記第２の支持部材の厚み方向に垂直な断面において、前記フィルタに接触する領域および前記ベース部材に接触する領域よりも断面積が小さいくびれ部を有する、請求項５に記載の光モジュール。
【請求項７】
前記ベース部材は、前記第２の支持部材を保持する第２の保持部を有する、請求項６に記載の光モジュール。
【請求項８】
前記第２の保持部は、前記ベース部材から突出した突出部である、請求項７に記載の光モジュール。
【請求項９】
前記第２の支持部材の厚みは、３０μｍ以上７０μｍ以下である、請求項６〜請求項８のいずれか１項に記載の光モジュール。
【請求項１０】
前記複数の半導体発光素子は、赤色の光を出射する前記半導体発光素子、緑色の光を出射する前記半導体発光素子および青色の光を出射する前記半導体発光素子を含む、請求項５〜請求項９のいずれか１項に記載の光モジュール。
【請求項１１】
前記半導体発光素子はレーザダイオードである、請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載の光モジュール。
【請求項１２】
複数の第１の支持部材をさらに含み、
前記複数の第１の支持部材に含まれる各第１の支持部材は前記ベース部材と前記対応するレンズとの間に配置され、前記ベース部材に対して前記レンズを支持する、紫外線硬化性樹脂からなる、請求項５〜請求項１１のいずれか１項に記載の光モジュール。
【請求項１３】
前記ベース部材は、複数の第１の保持部を有し、前記複数の第１の保持部に含まれる各第１の保持部は、対応する前記第１の支持部材を保持する、請求項１２に記載の光モジュール。
【請求項１４】
前記第２の支持部材の前記くびれ部は、前記紫外線硬化性樹脂が硬化した固形芯部を有する、請求項６〜請求項１３のいずれか１項に記載の光モジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月5日(2017.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光電変換素子および第１半導体素子が配された第１半導体基板と、
第２半導体素子が配され、前記第１半導体基板に重なる第２半導体基板と、
前記第１半導体基板と前記第２半導体基板との間に配された配線構造と、を備える撮像装置であって、
前記配線構造は、前記第１半導体素子に接続された第１配線、第２配線、および、前記第２半導体素子に接続された第３配線を含み、
外部端子が接続されるパッドが、複数の箇所で前記第２配線に接続されていることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記第１配線および前記第２配線を含む配線層が、前記第１半導体基板と前記第２半導体基板との間に配されている、請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記第２配線、および、前記第３配線を含む配線層が、前記第１半導体基板と前記第２半導体基板との間に配されている、請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記第２配線は前記パッドと前記第３配線との間に位置する、請求項１または２に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記パッドの主成分はアルミニウムであり、前記第２配線の主成分は銅である、前記請求項１乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記第１半導体基板は前記第２配線に重なる開口を有する、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記第２配線は、前記第１半導体基板に重なる部分と、前記開口に重なる部分とを有する、請求項６に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記第３配線および前記第２半導体素子は、前記開口に重なる、請求項７に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記開口には膜が配されている、請求項６乃至８のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記第２半導体基板は前記第２配線に重なる開口を有する、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記第１半導体基板の厚さは前記第２半導体基板の厚さよりも小さい、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記第２半導体素子は保護回路に含まれる、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１３】
前記第１半導体基板にはソースフォロワ回路のトランジスタが配されている、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１４】
前記第１半導体素子は前記光電変換素子に接続されており、
前記第２半導体基板には信号処理回路のトランジスタが配されている、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の撮像装置と、
前記撮像装置から出力された信号を処理する処理部と、を有する撮像システム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月16日(2018.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理装置であって、
第１ユーザの頭部に装着された第１ヘッドマウントディスプレイの姿勢に応じて視線方向を動かすカメラにより撮影され、ネットワーク経由で第１ヘッドマウントディスプレイに送信されるとともに、当該処理装置にも送信される画像データであって、視線方向を示すベクトル情報を付加された画像データを記録する記録部と、
第２ユーザの頭部に装着された第２ヘッドマウントディスプレイの姿勢を検出した姿勢情報を取得する取得部と、
姿勢情報から、仮想カメラの視線方向を決定する視線方向決定部と、
仮想カメラの視線方向と、前記記録部に記録された画像データに付加されたベクトル情報とにもとづいて、第２ユーザに提供する画像データを決定する画像決定部と、
前記画像決定部が決定した画像データを第２ヘッドマウントディスプレイに提供する提供部と、
を備えることを特徴とする処理装置。
【請求項２】
前記画像決定部は、仮想カメラの視線方向に対応するベクトル情報を付加された画像データを、提供する画像データとして決定する、
ことを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記画像決定部は、前記記録部に記録された複数の画像データを用いて、仮想カメラにより撮影される画像を合成して画像データを生成する、
ことを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項４】
画像データには、撮影開始点からの経過時間を示す撮影時間情報が付加されており、
前記画像決定部は、複数の画像データのうち重複する部分については、遅い撮影時間情報をもつ画像データを用いて、合成画像を生成する、
ことを特徴とする請求項３に記載の処理装置。
【請求項５】
処理装置において、
第１ユーザの頭部に装着された第１ヘッドマウントディスプレイの姿勢に応じて視線方向を動かすカメラにより撮影され、ネットワーク経由で第１ヘッドマウントディスプレイに送信されるとともに、当該処理装置にも送信される画像データであって、視線方向を示すベクトル情報を付加された画像データを記録した記録部から、画像データを読み出して、第２ユーザに提供する画像を決定する方法であって、
第２ユーザの頭部に装着された第２ヘッドマウントディスプレイの姿勢を検出した姿勢情報を取得するステップと、
姿勢情報から、仮想カメラの視線方向を決定するステップと、
仮想カメラの視線方向と、記録部に記録された画像データに付加されたベクトル情報とにもとづいて、第２ユーザに提供する画像データを決定するステップと、
画像データを第２ヘッドマウントディスプレイに提供するステップと、
を備えることを特徴とする画像決定方法。
【請求項６】
コンピュータに、
第１ユーザの頭部に装着された第１ヘッドマウントディスプレイの姿勢に応じて視線方向を動かすカメラにより撮影され、ネットワーク経由で第１ヘッドマウントディスプレイに送信されるとともに、当該処理装置にも送信される画像データであって、視線方向を示すベクトル情報を付加された画像データを記録した記録部から、画像データを読み出して、第２ユーザに提供する画像を決定する機能を実現させるためのプログラムであって、
第２ユーザの頭部に装着された第２ヘッドマウントディスプレイの姿勢を検出した姿勢情報を取得する機能と、
姿勢情報から、仮想カメラの視線方向を決定する機能と、
仮想カメラの視線方向と、記録部に記録された画像データに付加されたベクトル情報とにもとづいて、第２ユーザに提供する画像データを決定する機能と、
画像データを第２ヘッドマウントディスプレイに提供する機能と、
を実現させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月1日(2018.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エラストマー組成物からなるシート状の第１誘電層と、導電材料を含有する導電性組成物からなり、前記第１誘電層の表面及び裏面のそれぞれに前記第１誘電層を挟んで少なくとも一部が対向するよう形成された第１電極層及び第２電極層とを有し、前記第１電極層及び第２電極層の対向する部分を検出部とし、前記誘電層の表裏面の面積が変化するように可逆的に変形するセンサ本体と、
前記センサ本体に一体化された布生地とを備え、
前記布生地は、易伸縮方向と難伸縮方向と有し、伸縮異方性を呈する布生地であり、
前記検出部は、前記布生地の前記易伸縮方向と同方向に伸長するように変形する、ことを特徴とする静電容量型センサシート。
【請求項２】
前記センサ本体は、更に、前記第１電極層上に積層された第２誘電層と、前記第２誘電層の前記第１電極層が形成された側と反対側の面に形成された第３電極層とを備える、請求項１に記載の静電容量型センサシート。
【請求項３】
前記センサ本体の最大使用伸長率において、前記布生地のモジュラスは、前記センサ本体のモジュラスよりも大きい、請求項１又は２に記載の静電容量型センサシート。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の静電容量型センサシートと、
前記検出部における静電容量の変化を計測する計測器と、
を備えるセンサ装置あって、
前記第１電極層は、前記計測器の検出ブロックに接続され、
前記第２電極層は、測定対象物に近接し、かつ前記計測器のＧＮＤ側に接続される
ことを特徴とするセンサ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月30日(2018.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本第一の開示の情報システムは、端末装置と、サーバ装置と、ナビゲーション装置とを備える情報システムであって、端末装置は、目的地を示す情報である目的地情報が格納される端末格納部と、目的地情報を受け付ける端末受付部と、端末受付部が受け付けた目的地情報を、端末格納部に蓄積する端末蓄積部と、目的地情報を送信する指示である目的地送信指示を受信する端末受信部と、端末受信部による目的地送信指示の受信に応じて、端末格納部に格納されている目的地情報を、サーバ装置に送信する端末送信部とを備え、サーバ装置は、端末装置から目的地情報を受信するサーバ受信部と、サーバ受信部が受信した目的地情報を、ナビゲーション装置に送信するサーバ送信部とを備え、ナビゲーション装置は、地図を示す情報である地図情報が格納されるナビ地図情報格納部と、現在位置を示す情報であるナビ位置情報を取得するナビ位置情報取得部と、目的地送信指示を送信するナビ送信部と、サーバ装置から目的地情報を受信するナビ受信部と、ナビ受信部による目的地情報の受信に応じて、地図情報と、ナビ位置情報取得部が取得したナビ位置情報と、目的地情報とを用いて、ナビ位置情報が示す現在位置から、目的地情報が示す目的地までの経路を探索し、経路を示す情報である経路情報を取得するナビ経路探索部と、ナビ経路探索部が取得した経路情報を出力するナビ出力部とを備える情報システムである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、本第二の開示の情報システムは、第一の開示に対して、端末送信部は、端末受信部による目的地送信指示の受信に応じて、端末格納部に格納されている目的地情報であり、サーバ装置に未送信である目的地情報を、サーバ装置に送信する情報システムである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本第三の開示の情報システムは、第二の開示に対して、サーバ送信部は、サーバ受信部による目的地情報の受信に応じて、目的地情報を、ナビゲーション装置に送信する情報システムである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本第四の開示の情報システムは、第二の開示に対して、ナビ送信部は、目的地情報を要求する指示である目的地要求指示をサーバ装置に送信し、サーバ受信部は、ナビゲーション装置から目的地要求指示を受信し、サーバ送信部は、サーバ受信部による目的地要求指示の受信に応じて、サーバ受信部が受信した目的地情報を、ナビゲーション装置に送信する情報システムである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本第五の開示の情報システムは、第一から第四いずれか１つの開示に対して、目的地送信指示は、非可聴音であり、端末受信部は、非可聴音である目的地送信指示を、マイクにより受信する情報システムである。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月18日(2018.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒径が１００ｎｍ以下のカーボンナノチューブを水に分散させるカーボンナノチューブ分散工程と、造粒機中のカーボンブラック粉体に前記カーボンナノチューブ分散工程で得られたカーボンナノチューブ分散液を混合し造粒する造粒工程と、前記造粒工程で得られたカーボンの造粒物を乾燥する乾燥工程と、を備えたことを特徴とする嵩密度の異なったカーボンの造粒方法
【請求項２】
前記水に分散媒として水溶性有機溶媒が３０質量％以下添加されていることを特徴とする請求項１に記載の嵩密度の異なったカーボンの造粒方法
【請求項３】
前記カーボンブラックに対し、前記カーボンナノチューブが１質量％〜４０質量％混合されていることを特徴とする請求項１に記載の嵩密度の異なったカーボンの造粒方法
【請求項４】
前記水に、分散剤が添加されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の嵩密度の異なったカーボンの造粒方法
【請求項５】
前記カーボンナノチューブ分散液中の前記カーボンナノチューブの分散粒径が１〜１００μｍであることを特徴とする請求項１に記載の嵩密度の異なったカーボンの造粒方法
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１のカーボンの造粒方法で製造された嵩密度の異なったカーボンの造粒物であって、平均粒径が０.３〜３ｍｍであることを特徴とする嵩密度の異なったカーボンの造粒物
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれか１のカーボンの造粒方法で製造された嵩密度の異なったカーボンの造粒物であって、前記カーボンの造粒物の１．０ｍｍ粒径の硬度が５〜１５ｇ／粒であることを特徴とする嵩密度の異なったカーボンの造粒物
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、嵩密度が著しく異なるカーボンブラック粉体(以下、ＣＢ粉体という  。)とカーボンナノチューブ粉体(以下、ＣＮＴ粉体という。)からなる嵩密度の  異なったカーボンの造粒物の製造方法及びその方法で得られたカーボンの造粒物に  関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記課題を解決するために本発明の嵩密度の異なったカーボンの造粒物の製造方法及びその方法で得られたカーボンの造粒物は以下の構成を有している。
本件発明では、湿式造粒法の中の撹拌機による方法をベースとしている。この方式は撹拌ブレードの回転により湿潤下粉体が転動と混合作用を受け、凝集して粒子になる方法である。
このメカニズムをさらに細かく述べると、（ａ）液体（バインダー）により穏やかな粒子集団の形成、（ｂ）ブレードによる破砕、（ｃ）圧力による粒子核の形成と緻密化、（ｄ）衝突による粘着結合、（ｅ）（ｂ）〜（ｄ）の繰り返し、（ｆ）整流及び緻密化、の工程を経て造粒物ができると考えられている。
本発明の請求項１に記載の嵩密度の異なったカーボンの造粒方法は、粒径が１００ｎｍ以下のＣＮＴを水に分散させるＣＮＴ分散工程と、分散機中のＣＢ粉体に前記ＣＮＴ分散工程で得られたＣＮＴ分散液を混合し造粒する造粒工程と、前記造粒工程で得られたカーボンの造粒物を乾燥する乾燥工程と、を備えた構成を有している。
この構成により、以下の作用が得られる。
（１）ＣＮＴ分散液中のＣＮＴの粒径が１００μｍ以下なので、上記（ａ）の工程において、ＣＢの凝集塊内部に浸透しやすい。
（２）ＣＮＴの分散粒径が１００μｍ以下であるので、上記（ｂ）と（ｃ）の工程において、粉体と粉体のブレンド造粒に比べ、ＣＢ粉体との均一混合性が向上するだけでなく造粒粒子核の形成も多くなると考えられている。
（３）このようにＣＢとＣＮＴの均一混合性が向上しているので、上記（ｄ）工程における衝突による粘着結合性も高くなることから、嵩密度の高いか（対策）の硬いミリオーダーレベルの球状に近い緻密な造粒物を得ることができる。
（４）角度を変えて言うと、本件発明は、造粒工程においても飛散が大で取り扱いにくいＣＢ粉体やＣＮＴ粉体を直接混合し造粒するのではなく、ＣＢ粉体よりも疎水性でありまた、嵩密度も小さく飛散しやすいＣＮＴ粉体を予め水に分散させながらＣＮＴ分散液を調整し、それをＣＢ粉体の造粒バインダーとして添加するので、ＣＮＴがＣＢの凝集塊ちゅうに容易に浸透し均一混合物ができるため、ＣＮＴ粉体単独の造粒物に比べ、嵩密度や硬度の高い緻密な造粒物を得ることができる。
（５）ＣＢ凝集塊の内部や表面に分散液中で解膠し微粒子化したＣＮＴが均一に浸透し付着されているので、ＣＢとＣＮＴが一体化した状態にあり、分散液に分散する場合でもＣＮＴ比率の高い高導電性のカーボンの造粒物を得ることができる。
（６）飛散しやすく取り扱い難いＣＢ粉体やＣＮＴ粉体どうしを混合するのではなく、疎水性表面を有し嵩密度が小さく飛散しやすいＣＮＴ粉体を先に水に分散させたＣＮＴ分散液を調整し、ついで、ＣＢ粉体を混合するので、ＣＮＴがＣＢの凝集塊中に容易に浸透し易く、その結果、ＣＮＴ粉体に比べて著しく嵩密度を大きくすることができる
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
連続造粒工程としては、ピン型造粒機を例にとると撹拌速度５００〜３０００ｒｐｍ、好ましくは１０００〜２０００ｒｐｍで回転している装置に、（１）ＣＢ粉体を投入口から定量装入し、（２）投入口後段にある注入口からＣＮＴ分散液を添加して造粒し、（３）排出口から造粒物を取り出し、（４）乾燥工程で乾燥させる。造粒性能は、造粒機内での滞留時間と回転数で調整される。回転数を遅くし滞留時間を長くするほど球状に近い造粒物が得られる。
一方バッチ式の場合は、ヘンシェル型造粒機を例にとると、ＣＢ紛体を造粒機に所定量挿入した後、約３００〜１５００ｒｐｍ好ましくは５００〜１０００ｒｐｍで撹拌し、そこにＣＮＴ分散液を少量ずつ添加し、造粒状態を確認しながら場合によっては水を追加していき、所望の粒度になったところを見計らい、取り出して乾燥し、造粒物が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月5日(2018.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性酸化チタン層、および
前記導電性酸化チタン層上に形成された結晶性ニオブ酸窒化物膜
を具備し、
前記結晶性ニオブ酸窒化物膜は前記導電性酸化チタン層に接している、
光半導体電極。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体電極であって、
前記導電性酸化チタン層は、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ａｌ、Ｉ、Ｙ、Ａｇ、Ｃｄ、およびＭｏからなる群から選択される少なくとも１種によりドープされている。
【請求項３】
請求項１に記載の半導体電極であって、
前記導電性酸化チタン層は、（１０１）面の配向面を有している。
【請求項４】
請求項１に記載の半導体電極であって、
前記導電性酸化チタン層は、１０（Ω・ｃｍ）未満の抵抗率ρを有する。
【請求項５】
請求項１に記載の半導体電極であって、
前記導電性酸化チタン層は、ルチル構造を有する。
【請求項６】
請求項１に記載の半導体電極であって、
前記導電性酸化チタン層は、化学式ＴｉＯX（１．５＜Ｘ＜２）により表される酸化チタンから形成されている。
【請求項７】
請求項１に記載の半導体電極であって、
前記結晶性ニオブ酸窒化物膜は、（１００）面の配向面を有している。
【請求項８】
光半導体電極を製造する方法であって、以下の工程を具備する：
導電性酸化チタン層上に、スパッタリング法により結晶性ニオブ酸窒化物膜を成長する工程（ａ）。
【請求項９】
請求項８に記載の方法であって、
前記スパッタリング法において、化学式Ｎｂ2Ｏ5により表される酸化ニオブを含有するスパッタリングターゲットが用いられ、
前記結晶性ニオブ酸窒化物膜は、酸素および窒素の混合雰囲気下で成長される。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法であって、
前記結晶性ニオブ酸窒化物膜は、（１００）面の配向面を有している。
【請求項１１】
請求項８に記載の方法であって、
前記導電性酸化チタン層は、（１０１）面の配向面を有している。
【請求項１２】
請求項８に記載の方法であって、
前記導電性酸化チタン層は、１０（Ω・ｃｍ）未満の抵抗率ρを有する。
【請求項１３】
請求項８に記載の方法であって、
前記導電性酸化チタン層は、ルチル構造を有する。
【請求項１４】
請求項８に記載の方法であって、
前記導電性酸化チタン層は、化学式ＴｉＯX（１．５＜Ｘ＜２）により表される酸化チタンから形成されている。
【請求項１５】
水素生成デバイスであって、以下を具備する：
請求項１に記載の光半導体電極、
前記光半導体電極と電気的に接続された対極、
前記結晶性ニオブ酸窒化物膜および前記対極に接する液体、および
前記光半導体電極、前記対極、および前記液体を収容する容器、ここで、
前記液体は水または電解質水溶液であり、かつ
前記結晶性ニオブ酸窒化物膜に光が照射されることによって、水素が前記対極の表面上で生成する。
【請求項１６】
水素を生成する方法であって、以下の工程を具備する：
（ａ）  以下を具備する水素生成デバイスを用意する工程、
請求項１に記載の光半導体電極、
前記光半導体電極と電気的に接続された対極、
前記結晶性ニオブ酸窒化物膜および前記対極に接する液体、および
前記光半導体電極、前記対極、および前記液体を収容する容器、ここで、
前記液体は水または電解質水溶液であり、および
（ｂ）  前記結晶性ニオブ酸窒化物膜に光を照射させ、前記対極の表面上で水素を生成させる工程。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月8日(2018.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素部と、前記画素部を検査する機能を有する回路と、を有し、
前記画素部は、第１のトランジスタと、第１の液晶素子と、を有し、
前記第１の液晶素子は、前記第１のトランジスタを介して第１の配線と電気的に接続され、
前記回路は、第２のトランジスタを有し、
前記第１の配線は、前記第２のトランジスタを介して第２の配線と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタは第１の酸化物半導体層を有し、
前記第２のトランジスタは第２の酸化物半導体層を有し、
前記第１の酸化物半導体層、及び前記第２の酸化物半導体層は、Ｉｎ、Ｇａ、及びＺｎを含む半導体装置の作製方法であって、
前記第１の酸化物半導体層及び前記第２の酸化物半導体層に第１の加熱処理を行う第１の工程と、
前記第１の工程の後、前記第１の酸化物半導体層上及び前記第２の酸化物半導体層上に酸化物絶縁層が接する状態で第２の加熱処理を行う第２の工程と、
前記第２の工程の後、前記酸化物絶縁層上に窒素珪素膜を形成する第３の工程と、
前記第３の工程の後、前記回路を用いて前記画素部を検査する第４の工程と、
を有する半導体装置の作製方法。
【請求項２】
画素部と、前記画素部を検査する機能を有する回路と、を有し、
前記画素部は、第１の画素と、第２の画素と、を有し、
前記第１の画素は、第１のトランジスタと、第１の液晶素子と、を有し、
前記第２の画素は、第２のトランジスタと、第２の液晶素子と、を有し、
前記第１の液晶素子は、前記第１のトランジスタを介して第１の配線と電気的に接続され、
前記第２の液晶素子は、前記第２のトランジスタを介して第２の配線と電気的に接続され、
前記回路は、第３のトランジスタと、第４のトランジスタと、を有し、
前記第３のトランジスタのゲートと、前記第４のトランジスタのゲートとは、互いに電気的に接続され、
前記第１の配線は、前記第３のトランジスタを介して第３の配線と電気的に接続され、
前記第２の配線は、前記第４のトランジスタを介して第４の配線と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタは第１の酸化物半導体層を有し、
前記第２のトランジスタは第２の酸化物半導体層を有し、
前記第３のトランジスタは第３の酸化物半導体層を有し、
前記第４のトランジスタは第４の酸化物半導体層を有し、
前記第１の酸化物半導体層、前記第２の酸化物半導体層、前記第３の酸化物半導体層、及び前記第４の酸化物半導体層は、Ｉｎ、Ｇａ、及びＺｎを含む半導体装置の作製方法であって、
前記第１の酸化物半導体層、前記第２の酸化物半導体層、前記第３の酸化物半導体層、及び前記第４の酸化物半導体層に第１の加熱処理を行う第１の工程と、
前記第１の工程の後、前記第１の酸化物半導体層上、前記第２の酸化物半導体層上、前記第３の酸化物半導体層上、及び前記第４の酸化物半導体層上に酸化物絶縁層が接する状態で第２の加熱処理を行う第２の工程と、
前記第２の工程の後、前記酸化物絶縁層上に窒素珪素膜を形成する第３の工程と、
前記第３の工程の後、前記回路を用いて前記画素部を検査する第４の工程と、
を有する半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月6日(2018.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の回転翼を有する無人航空機と、
長尺状の可撓性部材よりなり、一端である固定端が前記無人航空機に固定され、他端が自由端となった主ワイヤと、
可撓性および伸縮性の少なくとも一方を有する長尺状の部材よりなり、前記主ワイヤの自由端から固定端側に入った位置で、前記主ワイヤに結合され、前記主ワイヤに沿って前記主ワイヤの自由端よりも外側まで延出した補助ワイヤと、を有し、
前記無人航空機は、ホバリングした状態で、前記主ワイヤの先端に貨物を取り付ける作業者が、下向きの成分を有する力を前記主ワイヤに直接印加すると、機体のバランスを崩すものであることを特徴とする運搬装置。
【請求項２】
前記補助ワイヤは、前記主ワイヤよりも高い可撓性および前記主ワイヤよりも高い伸縮性の少なくとも一方を有することを特徴とする請求項１に記載の運搬装置。
【請求項３】
前記無人航空機に固定され、前記主ワイヤの巻き取りおよび繰り出しを行う巻き揚げ装置をさらに有することを特徴とする請求項１または２に記載の運搬装置。
【請求項４】
前記補助ワイヤには、運搬対象の貨物を支持することができる支持具が備えられることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の運搬装置。
【請求項５】
前記主ワイヤには、運搬対象の貨物を支持することができる支持具が備えられないことを特徴とする請求項４に記載の運搬装置。
【請求項６】
前記補助ワイヤを長手方向に折り畳んで前記主ワイヤに係止することができる係止具をさらに有することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の運搬装置。
【請求項７】
前記主ワイヤの固定端と自由端の間に、飛行中の前記無人航空機から下方に向けて発生する風を受けて前記主ワイヤに張力を与える抵抗部材をさらに備えることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の運搬装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の運搬装置によって貨物を運搬する運搬方法において、運搬対象の貨物を、前記主ワイヤで直接支持せず、前記補助ワイヤで支持し、前記貨物の全荷重を、前記補助ワイヤを介して支持することを特徴とする運搬方法。
【請求項９】
前記無人航空機をホバリングさせた状態で、前記主ワイヤに下向きの成分を有する力を直接印加することなく、前記補助ワイヤに前記貨物を取り付けることを特徴とする請求項８に記載の運搬方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】運搬装置および運搬方法
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月19日(2018.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
又、前記アウタコラム１２の後端寄り部分に固設した変位ブラケット１６を、車体１０に支持した支持ブラケット１７に対して、上下方向及び前後方向の変位を可能に支持している。又、前記変位ブラケット１６に、テレスコピック位置調節方向である、前記アウタコラム１２の軸方向に伸長する、テレスコ調節用長孔１８を形成している。又、前記支持ブラケット１７は、前記変位ブラケット１６を幅方向両側から挟む、１対の支持板部１９を備えている。そして、これら両支持板部１９の互いに整合する部分にそれぞれ、チルト位置調節方向である、上下方向に伸長する、チルト調節用長孔２０を形成している。これら両チルト調節用長孔２０は、一般的には、前記枢軸１１を中心とする円弧状である。そして、前記両チルト調節用長孔２０と前記テレスコ調節用長孔１８とに、調節ロッド２１を挿通している。そして、前記調節ロッド２１の両端部で、前記両支持板部１９の幅方向外側面から突出した部分に、１対の押圧部を設けると共に、調節レバーの操作に基づいて作動する拡縮機構により、前記両押圧部同士の間隔を拡縮可能としている。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月28日(2018.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
処理領域設定部１０５は、後段の処理である側方障害物検知部１０６が処理対象とする、画像上の領域である処理領域Ｃを設定する。処理領域Ｃは、駐車スペース検知部１０３が出力してＲＡＭ１２の駐車スペース情報領域１２ａに保存されている情報、および車両運動取得部１０４の出力、すなわち車両の運動情報に基づき設定される。後述するように、処理領域Ｃが空白、すなわち処理領域Ｃが存在しないと設定されている場合には、側方障害物検知部１０６は処理を行わない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
ステップＳ２１１では、ＲＡＭ１２の駐車スペース情報領域１２ａに保存されている情報を、車両運動取得部１０４により出力された直前の処理周期から現在の処理周期までの車両の移動量を用いて更新する。ただし、現在の処理周期において駐車スペース検知部１０３により検知された駐車スペースは、駐車スペース検知部１０３が出力した駐車スペースに関する情報をそのまま用いる。次にステップＳ２１２に進む。次のステップＳ２１２以降の処理は、駐車スペース情報領域１２ａに保存されている駐車スペースのそれぞれに対して繰り返される。ステップＳ２１２が初回に実行される際は、駐車スペース情報領域１２ａに保存されている先頭のレコードが処理される。
ステップＳ２１２では、駐車スペースと自車両の相対位置・姿勢から、駐車スペースと自車両との距離ｄを計算し、ステップＳ２１３に進む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
ステップＳ２１６では、ステップＳ２１４において計算された予測領域Ｐを処理領域Ｃとして設定する。ここで、駐車スペースの検知位置や車両の移動量、キャリブレーションの誤差を考慮し、予測領域Ｐより広い領域を処理領域Ｃとして設定してもよい。次にステップＳ２１７に進む。
ステップＳ２１７では、ＲＡＭ１２の駐車スペース情報領域１２ａに保存されている情報全てのレコードが処理されたか否かを判断する。全てのレコードが処理されたと判断する場合は図４のフローチャートにより表される処理を終了し、未処理のレコードが残っていると判断する場合はステップＳ２１２に戻る。
たとえば、駐車スペース情報領域１２ａに複数のレコードが保存されている場合は、これらに対応するそれぞれの予測領域Ｐが算出され、それらの全てを合せた領域が処理領域Ｃに設定される場合もある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
上述した第１の実施の形態によれば、次の作用効果が得られる。
（１）障害物検知装置１００は、移動する車両５００に搭載され当該車両の前方を撮影する第１カメラ、すなわち前方カメラ１０１と、車両５００に搭載され車両の左側方を撮影する第２カメラ、すなわち側方カメラ１０２と、第１カメラが撮影して得られた画像に基づき当該車両の駐車スペースを検出する駐車スペース検知部１０３と、駐車スペース検知部１０３が検出する駐車スペースの実空間上の領域を駐車スペース情報領域１２ａに記憶する記憶部、すなわちＲＡＭ１２と、車両５００の挙動に関する情報を取得する車両運動取得部１０４と、側方カメラ１０２が異なる時刻に撮影して得られた複数の画像に基づき駐車スペースの周辺に存在する障害物の情報を算出する障害物算出部、すなわち側方障害物検知部１０６と、記憶部に記憶された駐車スペースの実空間上の領域、および運動取得部が取得する車両５００の運動に関する情報に基づき、障害物算出部における算出を制御する処理領域設定部１０５とを備える。
障害物検知装置１００では、前方カメラ１０１が撮影して得られた画像から検出される駐車スペースと、車両５００の並進や回転に関する車両運動情報とに基づき、処理領域設定部１０５が側方障害物検知部１０６を制御するようにした。そのため、側方障害物検知部１０６で行われる障害物情報の算出による処理負荷を軽減することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月6日(2018.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転電機と、
内燃機関のクランク軸から動力が伝達される変速機と、
前記変速機から伝達される動力を左右の駆動輪に分配して伝達するディファレンシャル装置と、
前記回転電機と前記ディファレンシャル装置との間で動力を伝達する減速機とを備えた車両用駆動装置であって、
前記変速機は、前記クランク軸に連結され、前記クランク軸の回転方向と同方向に回転する入力軸と、前記入力軸に設けられ、前記入力軸が前記クランク軸の回転方向と反対方向に回転することを規制する第１のワンウェイクラッチと、ファイナルギヤ列を介して前記ディファレンシャル装置に連結されるカウンタ軸と、シフト装置がドライブレンジにシフトされた状態において、前記入力軸から前記カウンタ軸に動力を伝達することにより、前記カウンタ軸を前記入力軸の回転方向と反対方向に回転させる前進用ギヤ列と、前記シフト装置がリバースレンジにシフトされた状態において前記入力軸からリバースアイドラ軸を経由して前記カウンタ軸に動力を伝達することにより、前記カウンタ軸を前記入力軸の回転方向と同方向に回転させる後進用ギヤ列とを有し、
前記減速機は、前記回転電機と前記ディファレンシャル装置との間の動力伝達経路上に設けられた回転軸と、前記ディファレンシャル装置が前記車両の前進方向に回転する場合に前記回転軸の回転を許容し、前記ディファレンシャル装置が前記車両の後進方向に回転する場合に前記回転軸の回転を規制する第２のワンウェイクラッチとを有し、
前記変速機は、前記シフト装置がパーキングレンジにシフトされた状態において、前記後進用ギヤ列によって前記入力軸と前記カウンタ軸とを連結することを特徴とする車両用駆動装置。
【請求項２】
前記減速機は、前記ディファレンシャル装置が前記回転軸と一体で回転するように前記回転軸と前記ディファレンシャル装置とを連結する連結位置および前記ディファレンシャル装置が前記回転軸と独立して回転するように前記回転軸と前記ディファレンシャル装置との連結を解放する解放位置とに切換えられるクラッチ部材を備え、
前記シフト装置がパーキングレンジにシフトされた場合に、前記クラッチ部材が前記連結位置に切換えられ、前記シフト装置が前記リバースレンジにシフトされた場合に、前記クラッチ部材が前記解放位置に切換えられることを特徴とする請求項１に記載の車両用駆動装置。
【請求項３】
前記回転軸は、前記動力伝達経路上で前記ディファレンシャル装置に最も近接する第１の回転軸と、前記第１の回転軸と前記回転電機との間に設けられ、チェーンを介して前記第１の回転軸および前記回転電機に連結される第２の回転軸とを含んで構成され、
前記クラッチ部材が前記第１の回転軸に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の車両用駆動装置。
【請求項４】
前記減速機は、前記回転電機から前記ディファレンシャル装置に向かって、前記回転電機の動力を前記第２の回転軸で減速した後に、前記第２の回転軸の動力を前記第１の回転軸で減速するように構成され、
前記第２のワンウェイクラッチを前記第２の回転軸に設置したことを特徴とする請求項３に記載の車両用駆動装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、回転電機と、内燃機関のクランク軸から動力が伝達される変速機と、 前記変速機から伝達される動力を左右の駆動輪に分配して伝達するディファレンシャル装置と、前記回転電機と前記ディファレンシャル装置との間で動力を伝達する減速機とを備えた車両用駆動装置であって、 前記変速機は、前記クランク軸に連結され、前記クランク軸の回転方向と同方向に回転する入力軸と、前記入力軸に設けられ、前記入力軸が前記クランク軸の回転方向と反対方向に回転することを規制する第１のワンウェイクラッチと、ファイナルギヤ列を介して前記ディファレンシャル装置に連結されるカウンタ軸と、シフト装置がドライブレンジにシフトされた状態において、前記入力軸から前記カウンタ軸に動力を伝達することにより、前記カウンタ軸を前記入力軸の回転方向と反対方向に回転させる前進用ギヤ列と、前記シフト装置がリバースレンジにシフトされた状態において前記入力軸からリバースアイドラ軸を経由して前記カウンタ軸に動力を伝達することにより、前記カウンタ軸を前記入力軸の回転方向と同方向に回転させる後進用ギヤ列とを有し、 前記減速機は、前記回転電機と前記ディファレンシャル装置との間の動力伝達経路上に設けられた回転軸と、前記ディファレンシャル装置が前記車両の前進方向に回転する場合に前記回転軸の回転を許容し、前記ディファレンシャル装置が前記車両の後進方向に回転する場合に前記回転軸の回転を規制する第２のワンウェイクラッチとを有し、 前記変速機は、前記シフト装置がパーキングレンジにシフトされた状態において、前記後進用ギヤ列によって前記入力軸と前記カウンタ軸とを連結する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月1日(2018.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第ｎ（ｎは１以上の整数）回動軸周りに回動する第ｎアームと、前記第ｎアームに設けられ、前記第ｎ回動軸の軸方向と異なる軸方向である第（ｎ＋１）回動軸周りに回動する第（ｎ＋１）アームと、を有するマニピュレーターを備えたロボットであって、
前記マニピュレーターの先端または前記マニピュレーターに設けられたエンドエフェクターの先端を、第１位置から前記第１位置と異なる第２位置へ移動させる場合、前記第ｎアームまたは前記第（ｎ＋１）アームの回動角度を制限して、前記マニピュレーターを動作することを特徴とするロボット。
【請求項２】
前記第（ｎ＋１）回動軸の軸方向から見て、前記第ｎアームと前記第（ｎ＋１）アームとが重なる第１状態になることが可能である請求項１に記載のロボット。
【請求項３】
前記第１状態を経る前記第（ｎ＋１）アームの動作における前記第（ｎ＋１）アームの加速度の制限値は、前記第１状態を経ない前記第（ｎ＋１）アームの動作における前記第（ｎ＋１）アームの加速度の制限値よりも大きい請求項２に記載のロボット。
【請求項４】
前記第ｎアームの長さは、前記第（ｎ＋１）アームの長さよりも長い請求項１ないし３のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項５】
前記第ｎアーム（ｎは１である）は基台に設けられている請求項１ないし４のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項６】
前記マニピュレーターは、前記第（ｎ＋１）アームに設けられ、第（ｎ＋２）回動軸周りに回動する第（ｎ＋２）アームと、
前記第（ｎ＋２）アームに設けられ、第（ｎ＋３）回動軸周りに回動する第（ｎ＋３）アームと、
前記第（ｎ＋３）アームに設けられ、第（ｎ＋４）回動軸周りに回動する第（ｎ＋４）アームと、を有し、
前記第（ｎ＋３）アームまたは前記第（ｎ＋４）アームの回動角度を制限して、前記マニュピレーターを動作する請求項１ないし５のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項７】
前記第ｎアームの回動角度が９０°以下である請求項１ないし６のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項８】
前記第ｎアームまたは前記第（ｎ＋１）アームの回動角度の制限は、前記回動角度を最小にすることである請求項１ないし７のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載のロボットの動作を制御することを特徴とする制御装置。
【請求項１０】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載のロボットと、
前記ロボットの動作を制御する制御装置と、を備えることを特徴とするロボットシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月1日(2018.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基台と、
前記基台に設けられ、第１回動軸周りに回動する第１アームと、
前記第１アームに設けられ、前記第１回動軸の軸方向とは異なる軸方向である第２回動軸周りに回動する第２アームと、
第１慣性センサーと、を備え、
前記第２回動軸の軸方向から見て、前記第１アームと前記第２アームとが重なることが可能であることを特徴とするロボット。
【請求項２】
前記第１アームの長さは、前記第２アームの長さよりも長い請求項１に記載のロボット。
【請求項３】
前記第１慣性センサーは、前記第１アームに設けられている請求項２に記載のロボット。
【請求項４】
前記第２アームに設けられた第２慣性センサーを備える請求項３に記載のロボット。
【請求項５】
前記第２アームに設けられ、前記第２回動軸の軸方向と平行な軸方向である第３回動軸周りに回動する第３アームと、
前記第３アームに設けられた第２慣性センサーと、を備える請求項３に記載のロボット。
【請求項６】
前記第１慣性センサーは、前記第１回動軸の軸方向と平行な軸方向である検出軸を有する請求項５に記載のロボット。
【請求項７】
前記第１慣性センサーは、角速度センサーである請求項６に記載のロボット。
【請求項８】
前記第１慣性センサーは、前記第１回動軸の軸方向と異なる軸方向である検出軸を有する請求項５に記載のロボット。
【請求項９】
前記第１慣性センサーは、加速度センサーである請求項８に記載のロボット。
【請求項１０】
前記第２慣性センサーは、前記第２回動軸の軸方向と平行な軸方向である検出軸を有する請求項５ないし９のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項１１】
前記第２慣性センサーは、前記第２回動軸の軸方向と異なる軸方向である検出軸を有する請求項５ないし９のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項１２】
前記第１慣性センサーは、互いに異なる軸方向である複数の検出軸を有する請求項１ないし１１のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項１３】
前記第１慣性センサーは、３軸角速度センサーである請求項１２に記載のロボット。
【請求項１４】
前記第１慣性センサーの出力に基づいて、振動を低減する請求項１ないし１３のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項１５】
請求項１ないし１４のいずれか１項に記載のロボットの動作を制御することを特徴とする制御装置。
【請求項１６】
請求項１ないし１４のいずれか１項に記載のロボットと、
前記ロボットの動作を制御する制御装置と、を備えることを特徴とするロボットシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月1日(2018.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第ｎ（ｎは１以上の整数）回動軸周りに回動する第ｎアームと、
前記第ｎアームに設けられ、前記第ｎ回動軸の軸方向とは異なる軸方向である第（ｎ＋１）回動軸周りに回動する第（ｎ＋１）アームと、を有するロボットアームを備え、
前記第（ｎ＋１）回動軸の軸方向から見て、前記第ｎアームと前記第（ｎ＋１）アームとが重なることが可能であり、
前記ロボットアームによって、載置装置が有する鉛直方向に並んだ複数の第１載置部に対して対象物を載置することを特徴とするロボット。
【請求項２】
前記第ｎアームの長さは、前記第（ｎ＋１）アームの長さよりも長い請求項１に記載のロボット。
【請求項３】
前記載置装置とは異なる位置に設けられている作業装置が有する作業部において作業する請求項１または２に記載のロボット。
【請求項４】
前記ロボットアームの先端は、水平方向または鉛直方向に沿って移動する請求項１ないし３のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項５】
基台を備え、
前記第ｎアーム（ｎは１である）は、前記基台に設けられている請求項１ないし４のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項６】
前記基台は、前記基台を移動させる移動機構に支持されている請求項５に記載のロボット。
【請求項７】
前記ロボットアームには、前記対象物を撮像する撮像部が設けられている請求項１ないし６のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項８】
前記ロボットアームには、力検出器が設けられている請求項１ないし７のいずれか１項に記載のロボット。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載のロボットと、
前記ロボットに対して水平方向に並んで設けられる、請求項１に記載の載置装置と、を備えることを特徴とするロボットシステム。
【請求項１０】
前記載置装置は、前記対象物を検査する検査部を含む請求項９に記載のロボットシステム。
【請求項１１】
前記載置装置は、前記複数の第１載置部を有する第１載置列と前記鉛直方向に並んだ複数の第２載置部を有する第２載置列とを有し、
前記第１載置列と前記第２載置列は、前記水平方向において前記ロボットと前記載置装置との並び方向とは異なる方向に沿って並んで設けられており、
前記第２載置列は、前記第１載置列よりも前記第ｎ回動軸から離間した位置に設けられ、
前記複数の第２載置部の数は、前記複数の第１載置部の数よりも少ない請求項９または１０に記載のロボットシステム。
【請求項１２】
前記第１載置列および前記第２載置列は、それぞれ、円弧状に配置されている請求項９ないし１１のいずれか１項に記載のロボットシステム。
【請求項１３】
前記ロボットを複数有する請求項９ないし１２のいずれか１項に記載のロボットシスム。
【請求項１４】
前記対象物が供給される供給装置を備える請求項９ないし１３のいずれか１項に記載のロボットシステム。
【請求項１５】
前記載置装置は、前記対象物を供給する供給装置である請求項９ないし１３のいずれか１項に記載のロボットシステム。