【事件の表示】
　特許第５７５９９５７号発明「フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第５７５９９５７号の請求項１ないし１０に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許５７５９９５７号の請求項１〜１０に係る特許（以下、「本件特許」という。）についての出願は、平成２４年６月２９日（優先権主張２０１１年７月１日（日本国），２０１２年３月１５日（日本国））を国際出願日とする出願である特願２０１２−５３００１５号の一部を平成２４年１１月６日に新たな特許出願（特願２０１２−２４４８４９号）としたものであって、平成２７年６月１２日に特許権の設定登録がなされ、その後、その特許に対して、特許異議申立人 斉藤洋子 により特許異議の申立てがなされたものである。
第２　本件特許発明
　本件特許は、それぞれ、その特許請求の範囲の請求項１〜１０に記載された事項により特定されるとおりのものであるところ、独立形式請求項である請求項１，５，６に係る特許は、次のとおりのものである（以下、請求項１〜１０に係る特許を、それぞれ「本件特許発明１」〜「本件特許発明１０」といい、まとめて「本件特許発明」という）。
「【請求項１】
SiO2  52〜78質量%、
Al2O3 3〜25質量%、
B2O3 3〜15質量%、
RO(但し、ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量) 3〜20質量%、
R2O(但し、R2OはLi2O、Na2O及びK2Oの合量) 0.01〜0.8質量%を含有し、
Sb2O3 0〜0.3質量%、
かつAs2O3は実質的に含有せず、CaO/ B2O3は0.92以上であり、かつ歪点が680℃以上のガラスからなり、
昇降温速度が10℃／min、550℃で2時間保持の熱処理が施された後の下記式で示される熱収縮率が75ppm以下である、
ディスプレイ用ガラス基板。
(式)
熱収縮率（ppm）＝｛熱処理前後でのガラスの収縮量／熱処理前のガラスの長さ｝×106　」
「【請求項５】
SiO2　57〜75質量%、
Al2O3  8〜25質量%、
B2O3  3〜15質量%、
RO(但し、ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量)  3〜25質量%、　
MgO  0〜15質量%、
CaO  1〜20質量%、
SrO＋BaO  0〜3.4質量%未満、
Sb2O3 0〜0.3質量%、
R2O(但し、R2OはLi2O、Na2O及びK2Oの合量) 0.01〜0.8質量%を含有し、
質量比CaO/RO  0.65以上であり、
かつAs2O3は実質的に含有しないガラスからなる
ディスプレイ用ガラス基板。」
「【請求項６】
SiO2　57〜75質量%、
Al2O3  8〜25質量%、
B2O3  3〜11質量%未満、
RO(但し、ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量)  3〜25質量%、
MgO  0〜15質量%、
CaO  1〜20質量%、
SrO＋BaO  0〜3.4質量%未満、
R2O(但し、R2OはLi2O、Na2O及びK2Oの合量) 0.01〜0.8質量%を含有し、
質量比CaO/RO  0.65以上であり、
Sb2O3は実質的に含有せず、かつAs2O3は実質的に含有しないガラスからなるディスプレイ用ガラス基板。」
第３　特許異議申立て理由の概要
　特許異議申立人は、証拠として下記甲第１〜３号証、及び参考資料１，２を提出し、上記特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反（以下、「取消理由１」という。）してされたものであり、また、同法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない（以下、「取消理由２」という。）特許出願に対してされたものであるから、取り消すべきものである旨主張している。 
  
 甲第１号証：特開２００２−３２４０号公報 
 甲第２号証：特表２００９−５２５９４２号公報 
 甲第３号証：特開２００９−２８６６８９号公報
 参考資料１：Material Information 2006年 Corning Incorporated 発行
 参考資料２：英国特許第８４５９８１号明細書
第４　当審の判断
１．取消理由１（特許法第２９条第２項）の検討
（１）各証拠に記載された事項
（１−１）甲第１号証（特開２００２−３２４０号公報）
　甲第１号証には、次の事項が記載されている。
（1a）「【請求項１】  歪点が６７０℃以上、３０〜３８０℃の範囲における熱膨張係数が３０〜５０×１０−７／℃、密度が２．６ｇ・ｃｍ３以下、ヤング率／密度が２９ＧＰａ／ｇ・ｃｍ−３以上であり、質量百分率でＳｉＯ２  ５７〜７０％、Ａｌ２Ｏ３ １４〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０．１〜９％、ＭｇＯ  ０〜１０．０％、ＣａＯ  ３〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  １〜９％、ＺｎＯ  ０〜５％、Ｐ２Ｏ５  ０〜５％の組成を有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないことを特徴とする液晶ディスプレイ用ガラス基板。」　
（1b）「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイの基板として用いられるガラス基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＴＦＴ（Thin  Film  Transister）型アクティブマトリックス液晶ディスプレイ等に用いられる液晶ディスプレイの基板として、ガラス基板が広く使用されている。このガラス基板には、以下に示すような種々の特性が要求される。
（１）ガラス中にアルカリ金属酸化物が含有されていると、熱処理中にアルカリイオンが成膜された半導体物質中に拡散し、膜特性の劣化を招くため、実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないこと。
　・・・　」
（1c）「【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
熱収縮を起こさないガラス基板材料としては、石英ガラスが存在するが、これで大寸法の基板を作製することは困難であり、しかも材料費が非常に高いという問題がある。
【０００７】そのため一般には石英ガラスに比べてかなり安価で大型の基板を製造することが可能な無アルカリガラスが使用されている。
　・・・」
（1d）「【００１４】また本発明のガラス基板は、・・・　耐薬品性、溶融性等に優れている。しかも、実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないため、膜特性の劣化を起こすこともない。」
（1e）「【００２５】本発明においては、上記の成分以外にも、特性を損なわない範囲で他の成分を添加させることも可能であり、例えば清澄剤として、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３　・・・等を各々３％まで添加することが可能である。ただし、Ａｓ２Ｏ３は環境上問題となる成分であるため、できるだけ添加を避けるべきである。また前記した理由からアルカリ金属酸化物（Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ）の添加は避けなければならない。
　・・・　」
（1f） 表１の「実施例７」には、
　「ガラス組成（ｗｔ％）が、ＳｉＯ２ ６２．８　Ａｌ２Ｏ３ １７．４　Ｂ２Ｏ３　４．９　ＭｇＯ ０．３　ＣａＯ １０．３　ＳｒＯ ０．９　ＢａＯ ２．４　Ａｓ２Ｏ３ ０　Ｓｂ２Ｏ３ ０ であり、歪点７１７℃　熱収縮率　０ｐｐｍ 」のガラス基板が記載されている。
 
（１−２）甲第２号証（特表２００９−５２５９４２号公報）
　甲第２号証には、次の事項が記載されている。
（2a）「【請求項１】
  酸化物基準においてモルパーセントで、
          ＳｉＯ２           ６４．０−７２．０
          Ａｌ２Ｏ３            ９．０−１６．０
          Ｂ２Ｏ３              １．０−５．０
          ＭｇＯ＋Ｌａ２Ｏ３    １．０−７．５
          ＣａＯ              ２．０−７．５
          ＳｒＯ              ０．０−４．５
          ＢａＯ              １．０−７．０
を含み、ここで、Σ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋３Ｌａ２Ｏ３）／（Ａｌ２Ｏ３）≧１．１５であり、式中、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＬａ２Ｏ３が、各酸化物成分のモルパーセントを表すことを特徴とするアルカリを含まないガラス。
　・・・
【請求項９】
  請求項１、２、３または５記載のガラスを含むことを特徴とする液晶ディスプレイ基板。」
（2b）「【００４７】
  ガラス組成物は、概してアルカリを含まないが、ガラスはある程度のアルカリ汚染物質を含む可能性がある。ＡＭＣＬＤ用途においては、アルカリレベルを、０．１モルパーセント未満に保って、ガラスから、ＴＦＴのシリコンへのアルカリイオンの拡散により、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）性能に悪影響を及ぼさないようにするのが望ましい。本明細書で用いる「アルカリを含まないガラス」は、０．１モルパーセント以下の合計アルカリ濃度を有するガラスである。合計アルカリ濃度は、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２ＯおよびＬｉ２Ｏ濃度の合計である。一態様において、合計アルカリ濃度は、０．０７モルパーセント以下である。」
（2c）表１の「実施例６」には、
　「ガラス組成（モル％）が、ＳｉＯ２  ６８．９０　Ａｌ２Ｏ３ １２．０２　Ｂ２Ｏ３　３．８２　ＭｇＯ ４．１５　ＣａＯ ５．７８　ＳｒＯ １．０４　ＢａＯ ４．２９　Ａｓ２Ｏ３ ０．００　Ｓｂ２Ｏ３ ０．００　であり、　ひずみ点７０５℃　」のガラスが記載されている。
（上記ガラス組成を、質量％に換算すると、 
 「ガラス組成（質量％）　ＳｉＯ２  ６０．１　Ａｌ２Ｏ３ １７．８　Ｂ２Ｏ３３．９　ＭｇＯ ２．４　ＣａＯ ４．７　ＳｒＯ １．６　ＢａＯ ９．５　Ａｓ２Ｏ３ ０．００　Ｓｂ２Ｏ３ ０．００　」である。）
（１−３）甲第３号証（特開２００９−２８６６８９号公報）
　甲第３号証には、次の事項が記載されている。
（3a）「【請求項１】
  約９０，０００ポアズ以上の液相線粘度を有する無アルカリガラスであって、酸化物基準のモルパーセントで表して、６４≦ＳｉＯ２≦６８．２；１１≦Ａｌ２Ｏ３≦１３．５；５≦Ｂ２Ｏ３≦９；２≦ＭｇＯ≦９；３≦ＣａＯ≦９；および１≦ＳｒＯ≦５となるようにＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯおよびＳｒＯを含むことを特徴とする無アルカリガラス。
　・・・
【請求項１０】　　
  多結晶質シリコン薄膜トランジスタを担持した平らな透明ガラス基板を備えたフラットパネルディスプレイ装置であって、前記ガラス基板が請求項１から９いずれか１項記載の無アルカリガラスから構成されることを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置。」　
（3b）「【００２１】　
  ここに用いたように、「無アルカリ」は、ガラスが、(i)例えば、ガラスからのアルカリイオンの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のシリコン中への拡散により、ＴＦＴ性能が悪影響を受ける可能性を避けるために、意図的に加えられるアルカリ金属酸化物を実質的に含まない；(ii)合計で約０．１モル％未満しかアルカリ金属酸化物を含有しない；または(iii)それらの両方であることを意味する。」
（3c）「【００３２】
  上述したように、本発明のガラスは「無アルカリ」である。また上述したように、本発明の無アルカリガラスは、そのガラスが、(i)意図的に加えられるアルカリ金属酸化物を実質的に含まない；(ii)合計で約０．１モル％未満しかアルカリ金属酸化物を含有しない；または(iii)それらの両方であることを条件として、アルカリ酸化物（例えば、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏなど）を含んでも差し支えない。例えば、ガラスが薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）用基板として使用すべき場合には、アルカリ酸化物の意図的な含有は、ＴＦＴの性能への悪影響のために、望ましくないと一般にみなされる。ある実施の形態において、本発明の無アルカリガラスは、意図的に加えられるアルカリ酸化物を含むが、その無アルカリガラスが１０００質量ｐｐｍ未満（例えば、７００ｐｐｍ未満、５００ｐｐｍ未満、２００ｐｐｍ未満、１００ｐｐｍ未満、５０ｐｐｍ未満など）しかアルカリ酸化物を含有しないような量（例えば、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、およびＫ２Ｏの合計が１０００質量ｐｐｍ未満であるような量）である。ある実施の形態において、本発明の無アルカリガラスは、意図的に加えられるアルカリ酸化物を含まず、その無アルカリガラスは、合計で約０．１モル％未満しかアルカリ金属酸化物を含有しない。」
（3d）表１の「実施例４２」には、
 「ガラス組成（モル％）　ＳｉＯ２  ６７．２４　Ａｌ２Ｏ３ １２．１８　Ｂ２Ｏ３　７．０９　ＭｇＯ ３．３２　ＣａＯ ８．８４　ＳｒＯ １．２２　であり、　歪み点６９７℃　」のガラスが記載されている。
 （上記ガラス組成を、質量％に換算すると、
　「ガラス組成（質量％）　ＳｉＯ２  ６１．９　Ａｌ２Ｏ３ １９．０　Ｂ２Ｏ３　７．６　ＭｇＯ ２．１　ＣａＯ ７．６　ＳｒＯ １．９」である。）
（１−４）参考資料１（Material Information 2006年 Corning Incorporated 発行）
　参考資料１には、次の事項が記載されている。
（4a）「Corning EAGLE XG
　　　  AMLCD Glass Substrates
        Material Information 」
　（特許異議申立人による訳：コーニングEAGLE XG
      AMLCDガラス基板　　
　　  マテリアルインフォメーション　）
（4b）「Glass Type - Alkaline Earth Boro-Aluminosilicate 
        Forms Available - Fusion drawn sheet 
        Principal Users - Substrates for Active Matrix flat panel displays 」
　（特許異議申立人による訳：ガラス系-アルカリ土類ボロアルミノシリケ　　ート
　　成形方法-フュージョンドローシート
　　主要用途：アクティブマトリクスフラットパネルディスプレイ用基板）（4c） 「Chemical 
           ・・・
　　　　 Total alkali content is approximately:0.1 wt%
         (Typical ＜0.05wt%) 」
 　（特許異議申立人による訳：化学的
　　　・・・
　　　全アルカリ量は約：０．１重量％
　　　（典型的＜０．０５重量％））
（１−５）参考資料２（英国特許第８４５９８１号明細書）
　参考資料２には、次の事項が記載されている。
(5a）「The present invention relates to a method of melting or refining glass and to a furnace for performing this method of the kind wherein the glass is heated by the passage of an electric current therethrough between horizontally spaced electrodes.」（１ページ左欄９行〜１４行）
　（特許異議申立人による訳：「本発明は、ガラスを溶融又は清澄する方法に関し、そして水平方向に配置された電極間に電流を流すことによりガラスを加熱するこの種の方法を実施するための炉に関する。」
(5b)「Further the specific electric conductivity of the glass relatively to that of the side and bottom walls of the furnace may be artificially increased by adding to the glass a salt or compound of an alkali metal which will dissociate electrolytically of such composition and in such quantity as not to impair the useful properties of the glass produced by the method.
 For borosilicate glass this salt may be salt of lithium, sodium or potassium; I have found sodium chloride and lithium carbonate to be suitable.
 The quantity added preferably lies in the range of 0.01% to 0.25% by weight. 」（２ページ左欄１３行〜２７行）
　（特許異議申立人による訳：「更に、炉の側壁、低壁の電気伝導度に対するガラスの特定の電気伝導度は、この方法で製造されるガラスの有用な特性を損なわない量で、電気的に溶解するだろうアルカリ金属の塩又は化合物をガラスに添加することによって、人為的に増加されるかもしれない。
　ボロシリケートガラスにとって、この塩は、リチウム、塩化ナトリウム、炭酸リチウムの塩かもしれない。；私は、塩化ナトリウムと炭酸リチウムが好適であることを見つけた。
　その添加量は、好ましくは0.01〜0.25重量％の範囲内である。」）
(5c)「In carrying out the method of the invention utilising a furnace chamber of the construction and material above described a typical batch for making borosilicate may have the following composition:-
  Sand(SiO2 including water content )　-  -  -  -  -  77.0%
  Alumina hydrate  -  -  -  2.6%
  Boric acid  -  -  - 7.0%
  Dehydrated borax  -  -  -  12.0%
  Nitrate of Soda  -  -  -  1.4%
  In order to increase the specific electrical conductivity of the glass produced by melting these batch materials I preferably add a salt or compoud of an alkali metal, such as sodium chloride or lithium carbonate in the percentages already referrd to.  　Alternatively such salt may be used in substituion for one of the batch constituents.」（３ページ左欄１９行〜３７行）
　（特許異議申立人による訳：「炉の区画構成と既述の物質を利用する発明の方法を実行する際に、ボロシリケートを作製するための典型的なバッチは次の組成を有するかもしれない。
　砂（水量を含むSiO2　) -  -  -  -  -  77.0%
  酸化アルミニウム水和物　  -  -  -  2.6%　　
　ホウ酸  -  -  - 7.0%
　ホウ酸無水和物 -  -  -  12.0% 
　硝酸ナトリウム -  -  -   1.4%
　これらのバッチを溶融することによって作製されるガラスの特定の電気伝導度を増加させるために、私は、好ましくは塩化ナトリウム又は炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属の塩又は化合物を既に言及した%で添加する。選択肢として、そのような塩は、バッチ構成成分の一部に代替して使用されるかもしれない。」）
（２）本件特許発明１，５，６について
　本件特許発明１，５，６のディスプレイ用ガラス基板は、必須成分としてのアルカリ金属を、「Ｒ２Ｏ(但し、Ｒ２ＯはＬｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏの合量) ０．０１〜０．８質量%を含有」する点で共通している。
　一方、甲第１号証に記載のガラスは、記載事項（1a)〜(1e)によれば、アルカリ金属酸化物（Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ）の添加は避けなければならず、実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないものである。
　次に、甲第２号証に記載のガラスは、記載事項（2a）,（2b）によれば、「アルカリを含まないガラス」ではあるが、ある程度のアルカリ汚染物質を含む可能性があることから、０．１モルパーセント以下の合計アルカリ濃度（Ｎａ２Ｏ、Ｋ２ＯおよびＬｉ２Ｏ濃度の合計）を有するものである。
　また、甲第３号証に記載のガラスは、記載事項(3a)〜(3c)によれば、「無アルカリガラス」であって、合計で０．１モル％未満のアルカリ金属酸化物（Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏなど）を含むことは許容するものである。
　そして、甲第１〜３号証において、記載事項（1f),（2c）,（3d)の具体的に開示されたガラス組成では、アルカリ金属成分についての記載はない（なお、特許異議申立書に摘記された甲第１〜３号証の他の実施例等を参照したとしても、同様である。）。　
　そうすると、甲第１〜３号証は、いわゆる無アルカリガラスについて開示するものであり、具体的なＬｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏなどのアルカリ金属酸化物の含有量について記載されていない点で共通するものである。
　以上のことから、本件特許発明１，５，６と、甲第１〜３号証に記載された発明とを対比すると、両者は、少なくとも以下の点において相違しているといえる。
　
　相違点
　Ｒ２Ｏ(但し、Ｒ２ＯはＬｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏの合量) の含有量について、
　本件特許発明１，５，６が、Ｒ２Ｏを「０．０１〜０．８質量%」の範囲で含有するものであるのに対し、
　甲第１〜３号証に記載された発明は、当該範囲のＲ２Ｏを含有することは記載されていない点
　上記相違点について検討する。
　本件特許発明の課題の１つは、ガラス基板の歪点やＴｇに代表される低温粘性特性温度を改善するために,ガラス中のＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３の含有量を多くすると、溶融ガラスの比抵抗が上昇する傾向があり、直接通電加熱による熔解槽の熔損の問題があることから、「直接通電加熱による熔解において熔解槽熔損の問題の発生を回避」することである（本件特許明細書 【０００６】〜【０００９】）。　
　そして、上記課題を解決するために、本件特許発明は「Ｒ２Ｏ(但し、Ｒ２ＯはＬｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏの合量) ０．０１〜０．８質量%を含有」するというものである。
　そして、本件特許明細書【００１８】，【００７７】には、「Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２ＯであるＲ２Ｏは、ガラスの塩基性度を高め、清澄剤の酸化を容易にして、清澄性を発揮させる成分である。また、熔解性向上、比抵抗低下させる成分である。従って、Ｒ２Ｏを含有させると、比抵抗が低下し、熔解性が向上すると共に、清澄性が向上する。しかし、Ｒ２Ｏ含有量が多すぎると、ガラス基板から溶出してＴＦＴ特性を劣化させる。また、熱膨張係数が増大する傾向がある。これらの観点から、Ｒ２Ｏの合量であるＬｉ２Ｏ+Ｎａ２Ｏ+Ｋ２Ｏは０．０１〜０．８質量%の範囲 ・・・」である旨、また、同【００６２】には、「 本発明の・・・ガラス基板を構成するガラスは、ガラス融液の比抵抗（１５５０℃における)[Ω・ｃｍ]が、好ましくは５０〜３００Ω・ｃｍ、より好ましくは５０〜２５０Ω・ｃｍ　・・・である。・・・ガラス基板の比抵抗は、主に、本発明のガラス基板の必須成分であるＲＯとＲ２Ｏ含有量をコントロールすることで、上記範囲に調整できる・・・」旨記載されている。
　これに対して、甲第１〜３号証は、上記のとおり、無アルカリガラスについて開示するものであって、積極的にアルカリ金属を添加することは何ら記載されていない。
　すなわち、甲第１号証に記載のガラスは、アルカリ金属酸化物の添加は避けなければならないものである。
　甲第２，３号証に記載のガラスにおいても、積極的にアルカリ金属を添加することは具体的には何ら記載されていない。
　また、参考資料１は、(4a)〜(4c)によれば、コーニング社のEAGLE XGガラスにおいて、全アルカリ量を約０．１重量％含むことが開示されているにとどまり、他の成分の具体的組成は明らかにされていないから、甲第１〜３号証に記載の無アルカリガラスが、参考資料１のガラスと同様に０．１重量％のアルカリを含むということはできない。
　さらに、参考資料２は、(5a)〜(5c)によれば、ボロシリケートガラスの電気伝導度を増加させるために、アルカリ金属塩を添加することは記載されているが、アルカリ金属を避けることを前提とする甲第１〜３号証に記載の発明と組み合わせることはできない。　　
　そうすると、甲号１〜３号証に記載の発明において、ガラス融液の比抵抗を低下させて「直接通電加熱による熔解において熔解槽熔損の問題の発生を回避」するという課題を解決するために、アルカリ金属を積極的に添加するという動機付けは存在せず、甲第１〜３号証、及び参考資料１，２の記載事項を参照しても、「Ｒ２Ｏ(但し、Ｒ２ＯはＬｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏの合量) ０．０１〜０．８質量%を含有」させることは容易になし得るということはできない。　
　そして、本件特許明細書において、Ｒ２Ｏが添加されていない「比較例２」は、比抵抗が「３２６Ω・ｃｍ」であるのに対して、Ｒ２ＯとしてＫ２Ｏを「０．０１〜０．８質量％」の範囲内で添加した「実施例１〜実施例２５」は、比抵抗が「８８〜２８７Ω・ｃｍ」の範囲に改善することが示されているから、本件特許発明１，５，６は、甲第１〜３号証に記載された発明と比較して、「ガラス熔解炉の熔損を抑制または回避しつつ、高歪点ガラスを製造することが可能」（本件特許明細書【００１１】）となるという有利な効果を発揮するものである。
　よって、本件特許発明１，５，６は、甲第１〜３号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 
（３）本件特許発明２−４，７−１０について 
 　本件特許発明２−４は、本件特許発明１を直接的又は間接的に引用する発明であり、本件特許発明７−１０は、本件特許発明１，５，６を直接的又は間接的に引用する発明であるから、これらの発明も本件特許発明１，５，６と同様に、甲第１〜３号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。 
  
２．取消理由２（特許法第３６条第６項第２号）の検討 
（１）本件特許発明１について
　特許異議申立人は、本件特許明細書の段落【００５６】によると、熱収縮率は、成形後の冷却条件（徐冷条件）により変動するが、本件特許発明１には、測定試料の冷却条件（徐冷条件）が規定されていないから、本件特許発明１は、本件特許明細書の記載及び出願時の技術常識を考慮しても、請求項１に記載された試験・測定方法を特定できないため不明確であると主張している。
　しかしながら、本件特許発明１は、「昇降温速度が10℃／min、550℃で2時間保持の熱処理が施された後の下記式で示される熱収縮率が75ppm以下である
・・・
(式)
　熱収縮率（ppm）＝｛熱処理前後でのガラスの収縮量／熱処理前のガラスの長さ｝×106   」という事項が特定されているところ、
　本件特許明細書には、
「【００５５】
　尚、熱収縮率は、昇降温速度が10℃／min、550℃で2時間保持の熱処理が施された後の下記式で示される。
熱収縮率（ppm）＝｛熱処理前後のガラスの収縮量／熱処理前のガラスの長さ｝×106
 【００５６】
  本発明の第１の態様のガラス基板の熱収縮率は、熱収縮率の測定対象であるガラス基板を上記熱処理に供した後に測定されるものである。」
と記載されているとおり、本件特許発明１は、少なくとも上記熱処理が施された後に熱収縮率を測定した場合に熱収縮率が７５ｐｐｍ以下となるガラス基板を特定していることが理解できるから、測定試料の冷却条件が記載されていないとしても、この記載自体をもって、本件特許発明１が不明確であるとすることはできない。
　よって、上記特許異議申立人の主張は、採用することはできない。　
 
（２）本件特許発明７について
　特許異議申立人は、本件特許発明７は、「ガラス基板（物の発明）」であるが、当該請求項には、「ダウンドロー法にて成形したものである」という、その物の製造方法が記載されているところ、本件特許明細書には、不可能・非実際的事情が存在することについて記載がなく、また特許権者から、そのような主張・立証がされていないから、本件特許発明７は、請求項が製造方法によって生産物を特定しようとする表現を含むため、不明確であると主張している。
　しかしながら、「ダウンドロー法にて成形した」という特定事項は、経時的な要素の記載があるものではなく、また、「ダウンドロー法」は、平板状ガラスの成形方法として周知慣用技術であるといえる。
　そして、例えば、本件特許明細書の【００８７】に
「[成形工程]
  成形工程では、熔解工程にて熔解した熔融ガラスを平板状ガラスに成形する。平板状ガラスへの成形方法は、例えば、ダウンドロー法、特にオーバーフローダウンドロー法が好適である。・・・ ダウンドロー法を採用することにより、フロート法など他の成形方法を用いた場合に比べ、得られたガラス基板の主表面が熱間成形された表面であるために、極めて高い平滑性を有しており、成形後のガラス基板表面の研磨工程が不要となる・・・　さらに、ダウンドロー法を使用して成形したガラス基板の両主表面は均一な組成を有している　・・・ 加えて、ダウンドロー法を使用して成形することで、マイクロクラックのない表面状態を有するガラス基板を得ることができるため、ガラス基板自体の強度も向上させることができる」
と記載されているように、ガラス技術分野において、「ダウンドロー法にて成形した」平板状ガラスの特性は、よく知られているものにすぎない。
　そうすると、本件特許発明７の当該特定事項は、単にガラス基板の特性を特定しているにすぎないものであって、「物の発明についての請求項にその物の製造方法が記載されている場合」に該当するということはできないから、本件特許発明７は、不明確であるとすることはできない。
  よって、上記特許異議申立人の主張は、採用することはできない。　
 
３．まとめ
　したがって、本件特許は、特許法第２９条第２項、及び同法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものではない。
第５．むすび 
　以上のとおりであるから，特許異議申立て理由及び証拠によっては、本件特許請求の範囲の請求項１〜１０に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に請求項１〜１０に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって，結論のとおり決定する。 
【異議決定日】
平成２８年６月１３日（２０１６．６．１３）