【事件の表示】
　平成　８年特許願第１９４２７７号「有機エレクトロルミネセンス素子」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年　２月１３日出願公開、特開平１０−　４１０６７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成８年７月２４日の出願であって、平成１５年４月１７日付けで拒絶査定がなされ、平成１５年５月２２日付けで審判請求がなされたものである。
　本願の請求項１に係る発明は、平成１４年１２月２日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。（以下、「本願発明」という。）
「基板と、前記基板上に積層された正孔注入電極と有機薄膜層と電子注入電極と、を備えた積層構造体であって、前記積層構造体の外表面に形成された保護膜を有し、前記保護膜が前記絶縁性化合物層と、前記絶縁性化合物層上に形成された金属層とを備え、前記保護膜の膜厚が３μｍ〜３０μｍであることを特徴とする有機エレクトロルミネセンス素子。」
　
２．刊行物
　本願出願前に頒布され、原査定に引用された特開平７−２１１４５５号公報（以下、「引用刊行物」という。）には、「有機ＥＬデバイス」の発明が開示され、
「【００１１】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の有機ＥＬデバイスは、上述したように有機ＥＬ素子の外側に特定の保護層を設けたものである。ここで、前記有機ＥＬ素子は有機発光材料を含有する有機固体層を互いに対向する２つの電極（陽極と陰極）の間に介在させてなる積層構造体を基板上に形成したものであればよく、有機ＥＬ素子として機能するものであればその層構成および材質は特に限定されるものではない。」
「【００１４】上述した有機ＥＬ素子の外側に設ける保護層は、前述したように、吸水率１％以上の吸水性物質と吸水率０．１％以下の防湿性物質とからなり、かつ、気相成膜法により形成された層である。ここで、本発明でいう「吸水率」はＡＳＴＭＤ５７０−８１（２４ｈ試験）に基づいて決定される。本発明の有機ＥＬデバイスを構成する保護層の成分である前記吸水性物質の具体例としては、下記（Ａ）〜（Ｇ）のものが挙げられる。
（Ａ）活性炭，ゼオライト（吸水率２０％），モレキュラーシーブス，シリカゲル（吸水率２０％），活性アルミナ（吸水率１５％）等の表面積の大きな無機物。
（Ｂ）ＮｂＳ3 ，ＮｂＳｅ2 ，ＴａＳｅ2 等の遷移金属ダイカルコゲナイトやグラファイトのような層状物質。
（Ｃ）ＧｅＯ，ＣａＯ等の不飽和酸化物。
（Ｄ）ＣｕＳＯ4 ，ＮｉＳＯ4 ，ＬｉＣｌＯ4 ，パラトルエンスルホン酸ナトリウム，酢酸ナトリウム，クエン酸ナトリウム等、結晶水をもつ化合物。」
「【００１７】一方、本発明の有機ＥＬデバイスを構成する保護層の他の成分である前記防湿性物質の具体例としては下記（ａ）〜（ｄ）のものが挙げられる。
（ａ）ソーダガラス，白板ガラス，青板ガラス，石英ガラス，アモルファスカーボン，アモルファスシルコン等の無機非晶質物質。
（ｂ）Ａｌ，Ａｕ等の金属。
（ｃ）ポリエチレン（ＰＥ；吸水率０．０１５％以下），ポリプロピレン（吸水率０．０１％以下），ポリ塩化ビニリデン（吸水率０．０２％），エチレン酢酸ビニル共重合体（吸水率０．０３％），ポリメチルペンテン（吸水率０．０１％），ポリスチレン（吸水率０．０４％），ポリパラキシレン，パラフィン，ワックス等の有機物。」
「【００２２】吸水性物質からなる層と防湿性物質からなる層とにより保護層を形成する場合、吸水性物質からなる層は前述した吸水性物質の１種からなる単層または複数層構造であってもよいし、前述した吸水性物質の複数種からなる単層または複数層構造であってもよい。防湿性物質からなる層も同様に、前述した防湿性物質の１種からなる単層または複数層構造であってもよいし、前述した防湿性物質の複数種からなる単層または複数層構造であってもよい。さらに、吸水性物質からなる層と防湿性物質からなる層との総計は最低２であればよく、必要に応じて総計３以上の層を形成してもよい。この場合、防湿性物質からなる層を最外層として配置したほうがより好ましい。吸水性物質からなる層の厚さは１ｎｍ〜５００μｍの範囲から適宜選択可能であり、好ましい厚さは１０ｎｍ〜１００μｍ、さらに好ましい厚さは１００ｎｍ〜５０μｍである。また、防湿性物質からなる層の厚さは５ｎｍ〜１０００μｍの範囲から適宜選択可能であり、好ましい厚さは１００ｎｍ〜５００μｍ、さらに好ましい厚さは１μｍ〜１００μｍである。」
「【００２４】上述した保護層は有機ＥＬ素子の外側に設けられるわけであるが、具体的には基板上に順次積層された第１の電極、有機発光材料を含有する有機固体層、および第２の電極を被覆するように設けられる。ここで、防湿性物質として金属等の電気伝導性物質を用いた場合には、保護層と有機ＥＬ素子との間にポリエチレン，ポリスチレン，ポリプロピレン，ポリパラキシレン等の電気絶縁性高分子や、酸化アルミニウム，酸化マグネシウム，酸化ゲルマニウム，窒化ホウ素，窒化アルミニウム等の電気絶縁性無機物等からなる電気絶縁層を設ける必要がある。電気絶縁層の厚さは１ｎｍ以上であれば問題ないが、実用上は１００ｎｍ程度が望ましい。この電気絶縁層の成膜方法は特に限定されるものではないが、保護層と同じく気相成膜法を適用すると、有機ＥＬ素子から電気絶縁層、保護層まで一貫した真空下で形成することができるので好ましい。なお、防湿性物質として金属等の電気伝導性物質を使用しない場合には、前記電気絶縁層は不要である。」
「【００３７】実施例４
保護層の形成に先だって実施例１と同様にして吸水性物質蒸着源および防湿性物質蒸着源を作製した。そして、前述のようにして有機ＥＬ素子を作製した後、素子作製時の真空環境を破ることなく前記吸水性物質蒸着源と前記防湿性物質蒸着源とを真空蒸着装置にしこんだ。この後、吸水性物質を２ｎｍ／秒の蒸着速度で蒸発させて厚さ５μｍの吸水性物質からなる層（ＰＶＡ層）を有機ＥＬ素子の外側に設けた後、防湿性物質を３ｎｍ／秒の蒸着速度で蒸発させて厚さ５μｍの防湿性物質からなる層（無定形共重合体（テフロンＡＦ）層）をＰＶＡ層上に設けた。これにより、吸水性物質からなる層と防湿性物質からなる層との２層構造をとる厚さ１０μｍの保護層が有機ＥＬ素子の外側に形成され、目的とする有機ＥＬデバイスが得られた。」
との記載がある。
　これより引用刊行物には、
（ａ）陽極と陰極の間に有機発光材料を含有する有機固体層を基板上に積層した積層構造体である有機ＥＬ素子の外側に保護層を有すること（【００１１】段落）、
（ｂ）保護層は、吸水性物質と防湿性物質とからなること（【００１４】段落）
（ｃ）防湿性物質として金属を使用すること（【００１７】段落）
（ｄ）防湿性物質として金属等の電気伝導性物質を使用する場合には有機ＥＬ素子との間に電気絶縁層を設けること（【００２４】段落）
が記載されていることから、引用刊行物には、
「基板と、前記基板上に積層された陽極と有機固体層と陰極と、を備えた積層構造体であって、前記積層構造体の外側に形成された保護層を有し、前記保護層が電気絶縁層と、前記電気絶縁層上に形成された電気伝導性物質とを備えることを特徴とする有機ＥＬ素子。」
の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
３．対比
　本願発明と引用発明とを比較すると、引用発明における「陽極」、「有機固体層」、「陰極」、「積層構造体の外側」、「電気絶縁層」、「電気伝導性物質」、「有機ＥＬ素子」はそれぞれ、本願発明における「正孔注入電極」、「有機薄膜層」、「電子注入電極」、「積層構造体の外表面」、「絶縁性化合物層」、「金属層」、「有機エレクトロルミネセンス素子」に相当するので、両者は、
「基板と、前記基板上に積層された正孔注入電極と有機薄膜層と電子注入電極と、を備えた積層構造体であって、前記積層構造体の外表面に形成された保護膜を有し、前記保護膜が前記絶縁性化合物層と、前記絶縁性化合物層上に形成された金属層とを備えることを特徴とする有機エレクトロルミネセンス素子。」
で一致し、本願発明が「保護膜の膜厚が３μｍ〜３０μｍである」とするのに対して、引用発明では膜厚について限定されていない点でのみ相違する。
　
４．当審の判断
　上記相違点について検討する。
　２．で示した引用刊行物の【００２２】段落には、「吸水性物質からなる層と防湿性物質からなる層とにより保護層を形成する場合」に、「吸水性物質からなる層の厚さは１ｎｍ〜５００μｍの範囲から適宜選択可能であり、好ましい厚さは１０ｎｍ〜１００μｍ、さらに好ましい厚さは１００ｎｍ〜５０μｍである。また、防湿性物質からなる層の厚さは５ｎｍ〜１０００μｍの範囲から適宜選択可能であり、好ましい厚さは１００ｎｍ〜５００μｍ、さらに好ましい厚さは１μｍ〜１００μｍである。」と記載されており、吸水性物質からなる層の厚さと防湿性物質からなる層の厚さが保護層の厚さとすると、この記載は「保護層の厚さは、６ｎｍ〜１５００μｍの範囲から適宜選択可能であり、好ましい厚さは１１０ｎｍ〜６００μｍ、さらに好ましい厚さは１．１μｍ〜１５０μｍである。」との記載がされていることに相当する。
　また、同引用刊行物の【００３７】段落には保護層が２層構造をとり、その厚さが１０μｍである実施例４が記載されている。
　さらに、上記引用刊行物には、実施例１乃至３が記載され、そのいずれもが保護層の厚さが１０μｍとされている（【００３４】乃至【００３６】段落参照）。
　とすれば、本願発明における金属層を備えた保護膜の厚さとして、引用発明の６ｎｍ〜１５００μｍ、さらには具体的数値として実施例１乃至４の１０μｍとすることに何ら困難性はなく、相違点の構成は引用刊行物の記載事項に基づき当業者が容易に想到することができたものである。
　
　そして、引用発明との相違点に基づく本願発明の効果も格別のものではなく、本願発明は引用発明に基づき当業者が容易に想到し得たものである。
　
　なお、請求人は、本願発明が特許されるべき理由として、保護膜の膜厚が３μｍ〜３０μｍであることにより内部応力による亀裂発生の不具合をなくすことができ、優位性を有する、との主張を行ったが、引用刊行物にも保護層の厚さに制限があり、３μｍ〜３０μｍの範囲を含む範囲が記載されるとともに、実施例としてその範囲の値の厚さの保護膜が記載されていることから、請求人の主張は採用できない。
　
５．むすび
　したがって、本願発明は、引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。