(57)【要約】  ステージの熱源が光学的な位置測定に与える影響を抑えることのできるステージ装置を提供する。そのために、本発明のステージ装置は、物体を支持し、少なくとも１つの所定方向に移動可能な支持台（１７Ｘ）と、前記支持台に固定され、前記支持台の前記所定方向への移動時に後方から投光される位置測定用の光束を反射する反射面（１８Ｘ）と、前記支持台に固定され、前記支持台の前記所定方向への移動時に前記反射面の後側の空間に生じる気流を整流する表面形状をしたカウル部（１９）とを備える。この整流された気流（規則的な気流）が、支持台の下部などに存在する高温な気体の巻き込みを防ぐ。【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体を支持し、少なくとも１つの所定方向に移動可能な支持台と、
前記支持台に固定され、前記支持台の前記所定方向への移動時に後方から投光される位置測定用の光束を反射する反射面と、
前記支持台に固定され、前記支持台の前記所定方向への移動時に前記反射面の後側の空間に生じる気流を整流する表面形状をしたカウル部と
を備えたことを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
請求項１に記載のステージ装置において、
少なくとも前記支持台の前記所定方向への移動時に、温調された気体を導入すると共にその気体を前記カウル部の表面に沿って吹き出す導気管をさらに備えた
ことを特徴とするステージ装置。
【請求項３】
請求項２に記載のステージ装置において、
前記導気管は、
少なくとも前記支持台の前記所定方向への移動時に前記気体を噴流化する機能を有している
ことを特徴とするステージ装置。
【請求項４】
請求項３に記載のステージ装置において、
前記導気管は、
導入口と、前記カウル部の表面近傍に吹出口とを設けており、
前記吹出口のサイズは、
前記導入口のサイズよりも小さく設定されている
ことを特徴とするステージ装置。
【請求項５】
請求項３に記載のステージ装置において、
前記導気管は、
温調された気体を送風する送風器に導入口を連結し、前記カウル部の表面近傍に吹出口を設けている
ことを特徴とするステージ装置。
【請求項６】
投影光学系と、
請求項１〜請求項５の何れか一項に記載のステージ装置とを備えた
ことを特徴とする投影露光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の投影露光装置において、
露光方式として、前記ステージ装置の前記支持台を前記所定方向に移動させつつ露光を行うスキャン方式が適用されている
ことを特徴とする投影露光装置。
【請求項８】
物体を支持し、所定平面内を移動可能な支持台を備えるステージ装置であって、
前記支持台は、
前記所定平面と平行に延在し前記所定平面と略直交する反射面を有する反射部と、
前記反射部に沿って該反射部より凸に形成された曲面部と
を備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項９】
前記曲面部は、
前記所定平面と前記反射面とに平行な軸を中心軸とする円筒面の一部を含む
ことを特徴とする請求項８記載のステージ装置。
【請求項１０】
前記支持台は、前記物体を支持する支持面を有し、
前記曲面部は、前記支持面と実質的に連続する曲面を有する
ことを特徴とする請求項８記載のステージ装置。
【請求項１１】
前記反射部と前記曲面部とは、同一の反射部材に形成されている
ことを特徴とする請求項８記載のステージ装置。
【請求項１２】
前記所定平面上に載置され、前記支持台を保持して移動可能な可動部を備え、
前記支持台は、前記可動部よりも張り出して載置されている
ことを特徴とする請求項８記載のステージ装置。
【請求項１３】
露光光により物体上にパターンを形成する露光装置であって、
前記物体を支持して移動するステージ装置として請求項８〜請求項１２の何れか一項に記載のステージ装置を用いる
ことを特徴とする露光装置。
【請求項１４】
前記ステージ装置が移動する前記所定平面に対して略直交する方向から前記所定平面に向かって温調された気体を供給する気体供給装置を備える
ことを特徴とする請求項１３記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投影露光装置のウエハステージなど、精密な位置測定の必要なステージ装置、特に、光学的な位置測定が適用されたステージ装置に関する。また、本発明は、そのステージ装置を備えた投影露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
投影露光装置においてウエハを載置するステージ（支持台）は、測長干渉計により精密に位置測定される（特許文献１，特許文献２など）。
ステージには、測長干渉計の移動鏡が固定される。移動鏡は、測長干渉計から投光されるレーザ光（位置測定用の光束）を反射する。測長干渉計は、反射されたその光束に基づきステージの位置測定をする。【０００３】
特に、露光方式としてスキャン方式が適用された投影露光装置では、１ショット分の露光を、ステージを移動させながら行うため、その位置測定に対し要求される精度は高い。
【特許文献１】特開平５−６８５０号公報
【特許文献２】特開平５−２８３３１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、ステージが移動すると、モータ等のステージの熱源から発生する熱により、ステージの雰囲気に温度揺らぎが生じる。この温度揺らぎが位置測定用の光束の光路にまで及ぶと、光路の屈折率が不安定となり、位置測定の精度が低下する。
特に、スキャン方式が適用された投影露光装置においては、この位置測定の精度低下は露光精度の低下に直結するので深刻である。【０００５】
そこで本発明は、ステージの熱源が光学的な位置測定に与える影響を抑えることのできるステージ装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、露光精度が高く保たれた投影露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のステージ装置は、物体を支持し、少なくとも１つの所定方向に移動可能な支持台と、前記支持台に固定され、前記支持台の前記所定方向への移動時に後方から投光される位置測定用の光束を反射する反射面と、前記支持台に固定され、前記支持台の前記所定方向への移動時に前記反射面の後側の空間に生じる気流を整流する表面形状をしたカウル部とを備えたことを特徴とする。【０００７】
このステージ装置には、少なくとも前記支持台の前記所定方向への移動時に、温調された気体を導入すると共にその気体を前記カウル部の表面に沿って吹き出す導気管がさらに備えられてもよい。
また、前記導気管は、少なくとも前記支持台の前記所定方向への移動時に前記気体を噴流化する機能を有していてもよい。【０００８】
また、前記導気管は、導入口と、前記カウル部の表面近傍に吹出口とを設けており、前記吹出口のサイズは、前記導入口のサイズよりも小さく設定されてもよい。
また、前記導気管は、温調された気体を送風する送風器に導入口を連結し、前記カウル部の表面近傍に吹出口を設けてもよい。
また、本発明の投影露光装置は、投影光学系と、本発明の何れかのステージ装置とを備えたことを特徴とする。【０００９】
この投影露光装置の露光方式として、前記ステージ装置の前記支持台を前記所定方向に移動させつつ露光を行うスキャン方式が適用されてもよい。
また、本発明の別のステージ装置は、物体を支持し、所定平面内を移動可能な支持台を備えるステージ装置であって、前記支持台は、前記所定平面と平行に延在し前記所定平面と略直交する反射面を有する反射部と、前記反射部に沿って該反射部より凸に形成された曲面部とを備えることを特徴とする。【００１０】
この場合において、前記曲面部を、前記所定平面と前記反射面とに平行な軸を中心軸とする円筒面の一部を含むものとすることができる。
また、前記支持台は、前記物体を支持する支持面を有し、前記曲面部は、前記支持面と実質的に連続する曲面を有するものとしてもよい。
また、前記反射部と前記曲面部とは、同一の反射部材に形成されているものとすることもできる。【００１１】
さらに、本発明のステージ装置において、前記所定平面上に載置され、前記支持台を保持して移動可能な可動部を備え、前記支持台は、前記可動部よりも張り出して載置されたものとすることができる。
また、本発明の露光装置は、露光光により物体上にパターンを形成する露光装置であって、前記物体を支持して移動するステージ装置として本発明の何れかのステージ装置を用いることを特徴とする。【００１２】
この場合において、この露光装置は、前記ステージ装置が移動する前記所定平面に対して略直交する方向から前記所定平面に向かって温調された気体を供給する気体供給装置を備えるものとしてもよい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のステージ装置では、整流された気流（規則的な気流）が、支持台の下部に存在する高温気体の光路への巻き込みを防ぐ。また、その他の箇所に存在する高温気体の光路への巻き込みを防止するという効果も期待できる。
したがって、本発明によれば、ステージの熱源が光学的な位置測定に与える影響を抑えることのできるステージ装置が実現する。【００１４】
また、本発明の投影露光装置は、そのステージ装置を適用している。
したがって、本発明によれば、露光精度が高く保たれた投影露光装置が実現する。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】第１実施形態の投影露光装置の構成図である。
【図２】第１実施形態のステージ装置１７の斜視図である。
【図３】第１実施形態のＸステージ１７Ｘの後端部の断面図（ＺＸ平面で切断した断面図）である。
【図４】（ａ）は、従来のＸステージ１７Ｘの後端部の周辺の気流を説明する断面図（ＺＸ平面で切断した断面図）である。（ｂ）は、第１実施形態のＸステージ１７Ｘの後端部の周辺の気流を説明する断面図（ＺＸ平面で切断した断面図である。）
【図５】カウル部１９に窓材１９ｂを設けたＸステージ１７Ｘを示す断面図（ＺＸ平面で切断した断面図）である。
【図６】カウル部１９’が透明な材料で形成されたＸステージ１７Ｘを示す断面図（ＺＸ平面で切断した断面図）である。
【図７】第２実施形態のＸステージ１７Ｘの後端部の断面図（ＺＸ平面で切断した断面図）である。
【図８】第２実施形態のＸステージ１７Ｘの後端部の斜視図である。
【図９】第２実施形態のＸステージ１７Ｘの後端部の周辺の気流を説明する断面図（ＺＸ平面で切断した断面図）である。
【図１０】第３実施形態のＸステージ１７Ｘの後端部の概略断面図（ＺＸ平面で切断した断面図）である。
【図１１】（ａ）は、第３実施形態のＸステージ１７Ｘの後端部の斜視図である。（ｂ）は、カウル部１９に複数の微小な吹出口３０ａ’を設けたＸステージ１７Ｘの後端部を示す斜視図である。
【図１２】カウル部１９”のアール状の表面部分に２つの吹出口４０ａ−１，４０ａ−２を設けたＸステージ１７Ｘの後端部を示す概略断面図（ＺＸ平面で切断した断面図）である。
【図１３】第４実施形態のステージ装置１７を説明する図である。
【図１４】左右の面と連続する滑らかな表面を有したカウル部５９が設けられたＸステージ５７Ｘの斜視図である。
【図１５】（ａ）は、Ｘステージ５７Ｘの周辺の気流を説明する斜視図である。（ｂ）は、Ｘステージ６７Ｘの外形とその周辺の気流を説明する斜視図である。（ｃ）は、Ｘステージ７７Ｘの外形とその周辺の気流を説明する斜視図である。
【図１６】（ａ）は、図１４（ａ）に示したカウル部５９を前後双方に設けたＸステージ（円柱型のステージ）の斜視図である。（ｂ）は、図１４（ｂ）に示したカウル部６９を前後双方に設けたＸステージ（キャタピラ型のステージ）の斜視図である。（ｃ）は、図１４（ｃ）に示したカウル部７９を前後双方に設けたＸステージ（カプセル型のステージ）の斜視図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
［第１実施形態］
以下、図１、図２、図３、図４、図５、図６を参照して本発明の第１実施形態について説明する。
本実施形態は、投影露光装置の実施形態である。【００１７】
先ず、投影露光装置の構成について説明する。
投影露光装置には、図１に示すように、光源１１、フライアイレンズ１２、ダイクロイックミラー１３、コンデンサレンズ１４などが備えられる。これらの光学系が照明光学系である。また、投影露光装置には、レチクル１５、投影光学系１６、ステージ装置１７が備えられる。ステージ装置１７上にウエハＷが配置される。この投影露光装置の全体の雰囲気（空気）は、温調されている。特に、ステージ装置１７を収納する空間は、測長干渉計２０Ｘ、２０Ｙ（２０Ｙは図１には不図示。図２参照。詳細後述）の計測精度の悪化を招く空気揺らぎを抑制するため、気体供給装置ＡＣにより精密に温調（空調）されている。【００１８】
光源１１から射出した照明光は、フライアイレンズ１２、ダイクロイックミラー１３、コンデンサレンズ１４を介してレチクル１５をケーラー照明する。この状態で投影光学系１６は、レチクル１５の像をウエハＷ上に結像する。これにより、ウエハＷの表面の一部の領域Ｅが露光する。
領域Ｅ（露光領域）のウエハＷの表面上における位置を制御するため、ステージ装置１７は、投影光学系１６の光軸ＡＸに対し垂直な平面内でウエハＷを移動させる（以下、図示したとおり、光軸ＡＸの方向をＺ方向とし、この平面をＸＹ平面としたＸＹＺ直交座標系を用いて説明する。）。そして、ウエハＷの露光動作を含む投影露光装置の稼働中は、気体供給装置ＡＣがステージ装置１７に向けてＺ方向上部からＺ方向に沿って温調された気体を供給する、いわゆるダウンフロー方式で空調を行っている。なお、ウエハＷはＺ方向にも移動可能であるが、その方向へ移動するための機構の説明は省略する。【００１９】
次に、ステージ装置１７の構成について説明する。
ステージ装置１７には、図１、図２に示すように、Ｙステージ１７Ｙ、Ｘステージ１７Ｘ、測長干渉計２０Ｘ、２０Ｙ、移動鏡１８Ｘ、１８Ｙなどが備えられる。また、図２に示すように、ガイドレールＧＹ、ＧＸなども備えられる。
ガイドレールＧＹは、不図示の架台上に設けられる。【００２０】
Ｙステージ１７Ｙは、ガイドレールＧＹの上をＸＹ平面内の所定方向（以下、Ｙ方向とする。）に移動可能である。
ガイドレールＧＸは、Ｙステージ１７Ｙの上に設けられる。
Ｘステージ１７Ｘは、ガイドレールＧＸの上をＸＹ平面内においてＹ方向に直交する所定方向（以下、Ｘ方向とする。）に移動可能である。【００２１】
このようなＸステージ１７Ｘは、Ｙステージ１７Ｙと共にＹ方向に移動可能であり、かつ、Ｙステージ１７Ｙとは独立に、Ｘ方向に移動可能である。このＸステージ１７Ｘが、請求項における支持台に対応する。
Ｘステージ１７Ｘ上には、ウエハホルダＷＨが固定される。ウエハホルダＷＨは、ウエハＷを保持する。【００２２】
なお、ガイドレールＧＹ、ＧＸの内部には、リニアモータを構成する不図示のコイルが配置され、Ｙステージ１７Ｙ、Ｘステージ１７Ｘの内部（ガイドレールＧＹ，ＧＸ側）には、リニアモータを構成する不図示の磁石が配置されている。
Ｘステージ１７ＸとＹステージ１７ＹとをＹ方向に移動させる際には、ガイドレールＧＹ内のコイルに対し必要な量の駆動信号が与えられ、Ｘステージ１７ＸをＸ方向に移動させる際には、ガイドレールＧＸ内のコイルに対し必要な量の駆動信号が与えられる。【００２３】
このＸステージ１７ＸのＹ方向の位置、Ｘ方向の位置は、不図示の架台上に配置された測長干渉計２０Ｙ、２０Ｘによってそれぞれ測定される。
測長干渉計２０Ｙは、Ｘステージ１７ＸのＹ方向の端部（以下、＋Ｙ側の端部とする。）に向けて位置測定用の光束（レーザ光）ＬＹを投光する。
Ｘステージ１７Ｘ上の＋Ｙ側の端部には、光束ＬＹを反射する移動鏡１８Ｙが設けられる。【００２４】
測長干渉計２０Ｙは、移動鏡１８Ｙが反射した光束ＬＹに基づき位置測定を行い、Ｘステージ１７ＸのＹ方向の位置を示す信号を生成する。
測長干渉計２０Ｘは、Ｘステージ１７ＸのＸ方向の端部（以下、＋Ｘ側の端部とする。）に向けて位置測定用の光束（レーザ光）ＬＸを投光する。
Ｘステージ１７Ｘ上の＋Ｘ側向の端部には、光束ＬＸを反射する移動鏡１８Ｘが設けられる。【００２５】
測長干渉計２０Ｘは、移動鏡１８Ｘが反射した光束ＬＸに基づき位置測定を行い、Ｘステージ１７ＸのＸ方向の位置を示す信号を生成する。
なお、図２に示すとおり、移動鏡１８ＹのＸ方向の長さは、Ｘステージ１７ＸのＸ方向のストロークの分だけ確保され、移動鏡１８ＸのＹ方向の長さは、Ｘステージ１７ＸのＹ方向のストロークの分だけ確保される。【００２６】
ここで、本実施形態の投影露光装置には、スキャン方式が適用されており、１ショットＳの露光時間における露光領域Ｅの移動方向は、＋Ｘ方向又は−Ｘ方向である。このときＸステージ１７Ｘは移動する（この移動を、以下、「ステージスキャン」という。）。ステージスキャンの方向は、−Ｘ方向又は＋Ｘ方向である（因みに、ウエハＷ上の全域に各ショットの露光をする際のＸステージ１７Ｘの移動方向は、例えば図２中の矢印のとおりである。）。【００２７】
よって、移動鏡１８Ｘの設けられた箇所は、−Ｘ方向へのステージスキャン中のＸステージ１７Ｘの後端部に相当する。光束ＬＸの光路は、このときの移動鏡１８Ｘの後側に位置する。
以下、−Ｘ方向へのステージスキャン中のＸステージ１７Ｘに着目し、−Ｘ方向を前、＋Ｘ方向を後、＋Ｙ方向を右、−Ｙ方向を左、＋Ｚ方向を上、−Ｚ方向を下とみなして説明する。【００２８】
本実施形態では、図２及び図３に示すとおり、Ｘステージ１７Ｘの後側にカウル部１９が設けられている。
カウル部１９の外形は、角度９０°の略扇状の底面を有した柱状をしている。
カウル部１９の設けられる位置及び姿勢は、長手方向（柱の高さに相当する方向）がＹ方向に向き、かつアール状（略円柱側面状）の滑らかな表面部分が移動鏡１８Ｘの上面と連続するように設定される。【００２９】
このようなカウル部１９は、移動鏡１８Ｘの後面と上面とで形成されるエッジを円滑化する。
また、図３に示すとおり、カウル部１９において光束ＬＸの光路ＥＬとなるべき領域、つまり光束ＬＸが入射し得る移動鏡１８Ｘの反射面Ｍの対向領域には、間隙が設けられている。【００３０】
このような間隙の開口１９ａの形状は、図２に示すとおりＹ方向に長いスリット状である。
また、カウル部１９の材料は、少なくともＸステージ１７Ｘの移動中に変形しない程度の剛性を有し、かつＸステージ１７Ｘの移動速度及び移動量に制限を与えない程度に軽量な材料である。また、カウル部１９の外形を適当な形状に成形するのに適した材料である（樹脂材料など）。【００３１】
次に、本実施形態の効果について説明する。
図４（ａ）には、比較のため、従来の投影露光装置のＸステージ１７Ｘの後端部周辺を示した。図４（ｂ）が、本実施形態の投影露光装置のＸステージ１７Ｘの後端部周辺を示す図である。従来の投影露光装置と本実施形態の投影露光装置との相違点は、カウル部１９の有無のみとする（スキャン方式が適用された点やステージスキャン方向などは同じとする。）。【００３２】
従来、図４（ａ）に示すとおり−Ｘ方向へのステージスキャン中には（白抜き矢印参照）、Ｘステージ１７Ｘの前方から後方に向けて気流が生じる。このとき、移動鏡１８Ｘの後面と上面とで形成されるエッジの影響で、移動鏡１８Ｘの後側の空間には、例えば矢印で示すような乱れた気流が生じる。
また、Ｘステージ１７Ｘの下部の領域ＥＨには、上述したとおりリニアモータのコイルが配置されている。ステージ装置１７の全体の雰囲気は温調されているものの、ステージ装置１７が駆動される度にコイルでは熱が発生するので、この領域ＥＨの気体の温度は、他の領域の気体の温度よりも高くなる傾向にある（少なくとも、光束ＬＸの光路ＥＬの温度よりも高い。）。【００３３】
このため、移動鏡１８Ｘの後側に乱れた気流が生じると、温度の高い領域ＥＨの気体が巻き上げられ、光束ＬＸの光路ＥＬに温度揺らぎが生じる。このとき、測長干渉計２０Ｘ（図１、図２参照）による位置測定の精度が低下する。
このように測長干渉計２０Ｘの位置測定の精度が低下すると、−Ｘ方向へのステージスキャン中におけるＸ方向の位置測定の精度が低下し、投影露光装置の露光精度が低下する。【００３４】
一方、本実施形態でも、図４（ｂ）に示すとおり−Ｘ方向へのステージスキャン中には（白抜き矢印参照）、Ｘステージ１７Ｘの前方から後方に向けて気流が生じる。しかし、Ｘステージ１７Ｘの後側にはカウル部１９が設けられているので、このとき、矢印で示すように、Ｘステージ１７Ｘの前方から上方を経由して移動鏡１８Ｘの後方に回り込む規則的な気流が生じる。【００３５】
よって、温度の高い領域ＥＨの気体の巻き上げ及び光路ＥＬへの巻き込みは、防止される。したがって、光束ＬＸの光路ＥＬの温度揺らぎは低減され、測長干渉計２０Ｘ（図１、図２参照）による位置測定の精度は保たれる。
このように測長干渉計２０Ｘの位置測定の精度が保たれれば、−Ｘ方向へのステージスキャン中におけるＸ方向の位置測定の精度が保たれ、投影露光装置の露光精度も保たれる。【００３６】
なお、カウル部１９には上記したごとく間隙が設けられるが（図４（ｂ）参照）、その間隙のＺ方向の幅は光束ＬＸの光路ＥＬの幅程度に十分に狭く設定され、−Ｘ方向へのステージスキャン中にその間隙に対し気体は流入しないとする。よって、上記規則的な気流が乱されることは無いとみなせる。
以上、本実施形態のステージ装置１７は、カウル部１９を設けているので、熱源（ここではリニアモータのコイル）が測長干渉計２０Ｘに与える影響は抑えられる。また、本実施形態の投影露光装置は、このようなステージ装置１７を備えるので、その露光精度が高く保たれる。【００３７】
（その他）
本実施形態のカウル部１９には間隙が設けられたが、図５に示すように、間隙の開口１９ａは、光束ＬＸに対し透明な窓材１９ｂで封止されていてもよい。
窓材１９ｂの表面の形状は、カウル部１９の表面の形状と連続するよう滑らかに整えられている。【００３８】
窓材１９ｂの材料には、一般の光学素子に用いられる保護フィルム、ガラス、樹脂など、気体の流入を防止（少なくともステージ装置１７の雰囲気として用いられている種類の気体の流入を防止）し、かつ光束ＬＸを透過する材料が適用される。その材料は、少なくともＸステージ１７Ｘの移動中に変形しない程度の剛性を有し、かつＸステージ１７Ｘの移動速度及び移動量に制限を与えない程度に軽量である。【００３９】
窓材１９ｂの屈折率及び厚さ（これらは光路ＥＬの特性を決定するパラメータである。）は、少なくともＹ方向にかけて一様である。
このような窓材１９ｂで間隙が封止されていれば、間隙の幅（開口１９ａの幅）が多少広くとも、上記規則的な気流の乱れは、確実に防止される。
なお、窓材１９ｂの挿入により光路ＥＬの特性が変化するので、測長干渉計２０Ｘは別途校正される必要がある。【００４０】
また、窓材１９ｂを用いる代わりに、窓材１９ｂと同様の材料で間隙の全部を埋めてもよい。
また、本実施形態のカウル部１９には間隙が設けられたが、図６に示すように、カウル部の全体を光束ＬＸに対し透明な材料で形成し、間隙を無くしてもよい（カウル部１９’）。【００４１】
このようなカウル部１９’の材料には、一般の光学素子に用いられるガラス、樹脂など、気体の流入を防止し、かつ光束ＬＸを透過する材料が適用される。
なお、このように間隙を無くすと光路ＥＬの特性が変化するので、測長干渉計２０Ｘは別途校正される必要がある。或いは、ステージ装置１７のＺ方向位置と姿勢（Ｘ軸まわり及び／又はＹ軸まわりの回転）との少なくとも一方に基づいて、計測値を補正するようにしてもよい。【００４２】
また、軽量化のため、カウル部１９，１９’の内部には、空洞が設けられていてもよい。
［第２実施形態］
以下、図７、図８、図９を参照して本発明の第２実施形態について説明する。
本実施形態は、第１実施形態のステージ装置１７に代えて投影露光装置に適用可能なステージ装置の実施形態である。ここでは、第１実施形態のステージ装置１７との相違点についてのみ説明する。【００４３】
相違点は、Ｘステージ１７Ｘにある。本実施形態のＸステージ１７Ｘには、図７に示すように、カウル１９に加えて導気管２１が設けられる。
ここでも、−Ｘ方向へのステージスキャン中のＸステージ１７Ｘに着目し、−Ｘ方向を前、＋Ｘ方向を後、＋Ｙ方向を右、−Ｙ方向を左、＋Ｚ方向を上、−Ｚ方向を下とみなして説明する。【００４４】
導気管２１の導入口２１ｂは、Ｘステージ１７Ｘの前端部に設けられ、導気管２１の吹出口（ノズル）２１ａは、カウル部１９の表面（アール状の表面）の近傍に設けられる（図７では、移動鏡１８Ｘの上面に設けられている。）。
導気管２１のうち導入口２１ｂ及び吹出口２１ａを除く殆どの部分は、移動時にＸステージ１７Ｘの周囲の気流をなるべく乱さないよう、Ｘステージ１７Ｘの近傍に設置される（図７では、Ｘステージ１７Ｘの内部に埋設されている。）。【００４５】
吹出口２１ａの吹き出し方向は、カウル部１９の表面（アール状の表面）又は移動鏡１８Ｘの上面の接線方向に一致している（図７では、移動鏡１８Ｘの上面の接線方向に一致している。）。
導入口２１ｂの導入方向は、Ｘステージ１７Ｘの前後方向である。
吹出口２１ａのサイズは、導入口２１ｂのサイズよりも小さい。【００４６】
吹出口２１ａの形状は、図８に示すとおり、Ｙ方向に長いスリット状である。吹出口２１ａのＹ方向の長さは、少なくともカウル部１９の開口１９ａのＹ方向の長さと同じだけ確保される。
次に、本実施形態の効果について説明する。
図９に示すとおり−Ｘ方向へのステージスキャン中には（白抜き矢印参照）、Ｘステージ１７Ｘの前方の気体が、導入口２１ｂから導気管２１の内部に導入される。導気管２１に導入された気体は、導気管２１の内部を後側へ向けて流れ（矢印参照）、その後、吹出口２１ａから移動鏡１８Ｘの上面の接線方向に吹き出される。【００４７】
ここで、吹出口２１ａのサイズは導入口２１ｂのサイズより小さいので、導気管２１は、導入した気体を噴流化する（流速を速める）働きを有する。
この働きにより、吹出口２１ａからは噴流が吹き出す。その噴流によってコアンダ効果が生じ、図９に矢印で示すように、移動鏡１８Ｘの上面、及びカウル部１９の表面（アール状の表面）に吸い寄せられるような速度の速い気流が生じ、温度の高い領域ＥＨの気体の巻き上げ及び光路ＥＬへの巻き込みは、確実に防止される。したがって、光束ＬＸの光路ＥＬの温度揺らぎは確実に低減され、測長干渉計２０Ｘ（図１、図２参照）による位置測定の精度は確実に保たれる。【００４８】
以上、本実施形態のステージ装置１７は、カウル部１９及び導気管２１を設けているので、熱源（ここでは、リニアモータのコイル）が測長干渉計２０Ｘに与える影響は、確実に抑えられる。
（その他）
なお、図７，図９に示した導気管２１は、Ｘステージ１７Ｘの内部に埋設されているが、Ｘステージ１７Ｘの周囲の気流を乱さないように設置されているのであれば、埋設されていなくてもよい。【００４９】
本実施形態のカウル部１９の間隙についても、第１実施形態のカウル部１９と同様、図５、図６などに示すように変形することができる。
［第３実施形態］
以下、図１０、図１１、図１２を参照して本発明の第３実施形態について説明する。
本実施形態は、第２実施形態のステージ装置に代えて投影露光装置に適用可能なステージ装置の実施形態である。ここでは、第２実施形態のステージ装置との相違点についてのみ説明する。【００５０】
相違点は、Ｘステージ１７Ｘにある。本実施形態のＸステージ１７Ｘには、導気管２１に代えて導気管３０及びブロア（送風器）３１が設けられる。
ここでも、−Ｘ方向へのステージスキャン中のＸステージ１７Ｘに着目し、−Ｘ方向を前、＋Ｘ方向を後、＋Ｙ方向を右、−Ｙ方向を左、＋Ｚ方向を上、−Ｚ方向を下とみなして説明する。【００５１】
導気管３０の導入口３０ｂは、ブロア３１に連結され、導気管３０の吹出口（ノズル）３０ａは、カウル部１９の表面（アール状の表面）の近傍に設けられる（図１０では、移動鏡１８Ｘの上面に設けられている。）。
吹出口３０ａの吹き出し方向は、カウル部１９の表面（アール状の表面）又は移動鏡１８Ｘの上面の接線方向に一致している（図１０では、移動鏡１８Ｘの上面の接線方向に一致している。）。【００５２】
吹出口３０ａの形状は、図１１（ａ）に示すとおり、Ｙ方向に長いスリット状である。吹出口３０ａのＹ方向の長さは、少なくともカウル部１９の開口１９ａのＹ方向の長さと同じだけ確保される。
なお、ブロア３１の固定箇所は、Ｘステージ１７Ｘ、Ｙステージ１７Ｙ、不図示の架台の何れでもよい。【００５３】
但し、ブロア３１がＹステージ１７Ｙに固定される場合には、導気管３０は、フレキシブル（管の少なくとも一部が湾曲自在）であり、かつ少なくともＸステージ１７ＸのＸ方向のストロークの分だけ余裕を持った長さに設定される。また、ブロア３１が不図示の架台上に固定される場合には、導気管３０は、フレキシブルであり、かつ少なくともＸステージ１７ＸのＸ方向及びＹ方向のストロークの分だけ余裕を持った長さに設定される。【００５４】
ブロア３１は、少なくとも−Ｘ方向へのステージスキャン中に駆動される。このとき、ブロア３１は、Ｘステージ１７Ｘの雰囲気として用いられた気体と同種、かつその気体と同じ温度に温調された気体を、導気管３０の導入口３０ｂに対し一定の流速で流入する。
このようなブロア３１の働きにより、導気管３０の吹出口３０ａからは噴流が吹き出す。その噴流によってコアンダ効果が生じ、移動鏡１８Ｘの上面、及びカウル部１９の表面（アール状の表面）に吸い寄せられるような速度の速い気流が生じる。【００５５】
したがって、本実施形態においても、光束ＬＸの光路ＥＬの温度揺らぎは確実に低減され、測長干渉計２０Ｘ（図１、図２参照）による位置測定の精度は確実に保たれる。
以上、本実施形態のステージ装置１７は、カウル部１９、導気管３０、及びブロア３１を設けているので、熱源（ここではリニアモータのコイル）が測長干渉計２０Ｘに与える影響は確実に抑えられる。【００５６】
（その他）
なお、スリット状の吹出口３０ａを有した導気管３０（図１１（ａ））に代えて、図１１（ｂ）に示すように、Ｙ方向に一定間隔で並べられた複数の微小な吹出口３０ａ’を有した導気管３０’が用いられてもよい。それぞれの吹出口３０ａ’からは噴流が吹き出すので、導気管３０（図１１（ａ））を用いた場合と同等の効果が得られる。なお、このような複数の微小な吹出口は、第２実施形態の導気管２１（図７，図８参照）にも同様に適用可能である。【００５７】
また、吹出口の設けられる位置は、例えば図１２に符号４０ａ−１，４０ａ−２で示すように、カウル部（図１２では符号１９”）のアール状の表面部分であってもよい。
また、導気管は、図１２に符号４０−１，４０−２で示すように複数化されてもよい。なお、図１２には、２つの導気管４０−１，４０−２と、カウル部１９”のアール状の表面部分に設けられた２つの吹出口４０ａ−１，４０ａ−２とを示した。【００５８】
因みに、図１２に示した例では、カウル部１９”の間隙の開口１９ａを挟むようにして、上流側から順に２つの吹出口４０ａ−１，４０ａ−２が並べられている。
上流側に位置する吹出口４０ａ−１からの噴流は、下流側に位置する吹出口４０ａ−２からの噴流に引きずられるので、図中矢印で示すようなコアンダ効果による気流は、開口１９ａの近傍で何ら乱されることなく、連続的になると予想される。【００５９】
［第４実施形態］
以下、図１３を参照して本発明の第４実施形態について説明する。
本実施形態は、上記各実施形態のステージ装置１７に代えて投影露光装置に適用可能なステージ装置の実施形態である。なお、前記各実施形態と同様の構成については同じ符号を付し、説明を省略する。【００６０】
本実施形態のステージ装置１７は、図１３（ａ）に示すように、支持台１７ａと、可動部としてのＸＹステージ１７ｂとから主に構成されている。支持台１７ａは、ウエハＷを載置するための支持面を有するウエハホルダＷＨを備えており、ウエハホルダＷＨの支持面は、支持台１７ａの上面と略同一に形成されている。また、支持台１７ａの周縁にはカウル部（曲面部）１９が設けられており、ウエハホルダＷＨの支持面から支持台１７ａの上部、カウル部１９に渡って外表面がほぼ連続面となっている。また、支持台１７ａにおいて測長干渉計２０Ｘ，２０Ｙと対向する面（測長干渉計２０Ｘ，２０Ｙからの光を受ける位置）には、それぞれ反射面（移動鏡）が設けられている。カウル部１９としては既に説明した様々な形態のものを適用することができる。【００６１】
なお、各実施形態では、支持台１７ａ、ウエハホルダＷＨ、カウル部１９、反射面Ｍ（移動鏡１８Ｘ，１８Ｙ）を別部材として形成してそれらを組み立てて一体とする例を説明したが、これらの一部又は全てを同一の部材として一体的に形成しても構わない。因みに、図１３では、移動鏡が支持台１７ａと同一の部材で形成された例を示した。
ＸＹステージ１７ｂは、図１３（ｂ）に示すように、ＸＹ平面と平行な基準平面ＢＰ上に不図示のエアベアリングを介して二次元移動可能に非接触で設置され、基準平面ＢＰに沿って不図示のリニアモータによって移動可能である。ＸＹステージ１７ｂのＸＹ平面視外形は円柱状に形成されている。ＸＹステージ１７ｂは、支持台１７ａよりも小さく形成されているので、支持台１７ａを載置した場合に支持台１７ａがＸＹ平面に沿って張り出すことになる。【００６２】
本実施形態のステージ装置１７は、支持台１７ａの外表面が略連続面となっているので、ステージ装置１７が移動した場合に、支持台１７ａ上の空気の流れの乱れを抑制することができる。特にスキャン露光時においては、スキャン動作中も常時ステージ装置１７の位置を高い精度で計測する必要があるが、本実施形態のステージ装置１７によれば、ステージ装置１７の移動中においても空気揺らぎを抑えることができるので、測長干渉計２０Ｘ，２０Ｙの計測精度を高く維持することができる。特に、気体供給装置ＡＣ（図１３には不図示。図１参照）によってダウンフロー空調が行われている場合には、支持台１７ａの表面に沿って空気が流れることから、よりコアンダ効果が促進され、空気揺らぎを抑えることができる。【００６３】
また、本実施形態のステージ装置１７は、支持台１７ａがＸＹステージ１７ｂより張り出して構成されているので、基準平面ＢＰ上にある温度の高い領域ＥＨの空気の巻上げによる影響を受けにくい。更に、ＸＹステージ１７ｂは外形が円柱状に形成されているので、ＸＹステージ１７ｂの移動中における領域ＥＨの空気の乱れを抑えることができる。
［その他の実施形態］
以上説明した各図には、移動鏡１８Ｘの上面と連続する滑らかな表面を有したカウル部を示したが、図１４に示すように、Ｘステージの左右の面と連続する滑らかな表面を有したカウル部５９が用いられてもよい。因みに、図１４には、移動鏡、カウル部５９が設けられたＸステージの全体を符号５７Ｘで示した。図１４において、符号Ｍは移動鏡の反射面、符号５９ａは、光束ＬＸを通過させるための開口を示している。【００６４】
−Ｘ方向へのステージスキャン中には、図１５（ａ）に矢印で示すとおり、Ｘステージ５７Ｘの前方からＸステージ５７Ｘの左右を経由して後方に回り込む規則的な気流が生じる。この気流によって、温度の高い領域の気体の巻き上げ及び光路ＥＬへの巻き込み（図４（ａ）参照）は防止される。
また、図１５（ｂ）に示すように、Ｘステージの上面及び下面と連続する滑らかな表面を有したカウル部６９が用いられてもよい。因みに、図１５（ｂ）には、移動鏡、カウル部６９が設けられたＸステージの全体を符号６７Ｘで示した。移動鏡の反射面、開口などは図示省略した。【００６５】
この場合、図１５（ｂ）に矢印で示すとおり、Ｘステージ６７Ｘの前方から上方を経由して後方に回り込む規則的な気流が生じる。この気流によって、温度の高い領域の気体の巻き上げ及び光路ＥＬへの巻き込み（図４（ａ）参照）は防止される。
また、図１５（ｃ）に示すように、Ｘステージの上面及び横面と連続する滑らかな表面を有したカウル部７９が用いられてもよい。因みに、図１５（ｃ）には、移動鏡、カウル部７９が設けられたＸステージの全体を符号７７Ｘで示した。移動鏡の反射面、開口などは図示省略した。【００６６】
この場合、図１５（ｃ）に矢印で示すとおり、Ｘステージ７７Ｘの前方から上方又は左右を経由して後方に回り込む規則的な気流が生じる。この気流によって、温度の高い領域の気体の巻き上げ及び光路ＥＬへの巻き込み（図４（ａ）参照）は防止される。
また、各カウル部は、上述した各条件（剛性、重量などの条件）を満たすのであれば、Ｘステージと別部材であっても同部材であってもよい。【００６７】
また、カウル部の形成箇所としては、Ｘステージの後端部だけでなく、例えば図１６（ａ），（ｂ），（ｃ）に示すようにＸステージの前端部を追加してもよい。
図１６（ａ）に示すのは、図１５（ａ）に示したカウル部５９を前端部と後端部との双方に設けたＸステージ（円柱型のステージ）である。
図１６（ｂ）に示すのは、図１５（ｂ）に示したカウル部６９を前端部と後端部との双方に設けたＸステージ（キャタピラ型のステージ）である。【００６８】
図１６（ｃ）に示すのは、図１５（ｃ）に示したカウル部７９を前端部と後端部との双方に設けたＸステージ（カプセル型のステージ）である。
また、上記各実施形態のＸステージにおいては、移動鏡１８Ｙの光路側にも同様のカウル部が設けられてもよい。このカウル部によると、熱源（ここではリニアモータのコイル）が測長干渉計２０Ｙに与える影響が抑えられる。【００６９】
但し、投影露光装置の露光精度を保つためには、ステージスキャンの方向（ここではＸ方向）の位置測定をする測長干渉計（ここでは測長干渉計２０Ｘ）への影響を抑える必要があるので、移動鏡１８Ｘの光路側にカウル部が設けられる必要がある。
また、各実施形態においてカウル部や導気管の形状（曲面の形状、サイズなど）、及びブロアの駆動条件などについては、気体の粘性（気体の種類，気体の温度などにより決まる。）、ステージ装置１７の各部のサイズ、Ｘステージ１７Ｘの特性（移動に関わる特性）などに応じて適宜選定されることが望ましい。なお、その選定は、実験又は演算により行われる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【国際調査報告】
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