【手続補正書】
【提出日】平成30年9月5日(2018.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
原版または基板を搭載して移動する移動部と、
前記移動部の位置に関する情報を計測し、互いの計測領域が重複する複数の計測部と、前記重複する計測領域にある切替え位置に基づいて、前記移動部の計測に使用する計測部を切替える制御部と、を有し、
前記制御部は、前記原版または前記基板にある複数の処理対象について、１つの前記処理対象に対して複数の処理を行う場合に、前記切替え位置を可変として、前記複数の処理では、同一の前記計測部を使用するように前記計測部を制御する
ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２】
基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
原版または基板を搭載して移動する移動部と、
前記移動部の位置に関する情報を計測し、互いの計測領域が重複する複数の計測部と、
前記重複する計測領域にある切替え位置に基づいて、前記移動部の計測に使用する計測部を切替える制御部と、を有し、
前記制御部は、前記原版、前記基板、または前記移動部にある複数の処理対象について、前記移動部が異なる方向に移動して処理を行う場合に、前記切替え位置を可変として、１つの前記処理対象に対する前記複数の処理では、同一の前記計測部を使用するように前記計測部を制御する
ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記切替え位置を、前記原版または前記基板と前記移動部とのずれ量に基づいて、変更することにより、同一の前記計測部を使用する
ことを特徴とする、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記原版又は前記基板上の複数の処理対象のうちの１つに第１処理と第２処理が行われる場合、前記第１処理が行われた後に前記ずれ量を反映して前記移動部を制御する
ことを特徴とする、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記原版または前記基板に形成されたマークの位置に基づいて、前記ずれ量を取得する
ことを特徴とする、請求項３又は請求項４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記切替え位置を、前記１つの処理対象に対する前記処理を行っている時の移動部の位置に基づいて、変更することにより、同一の前記計測部を使用する
ことを特徴とする、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記移動部が第１方向に移動している状態で前記第１切替え位置に基づき前記計測部を切り替え、前記移動部が第２方向に移動している状態で前記第２切替え位置に基づき前記計測部を切り替え、前記移動部が前記第１方向に移動した後に前記第２方向に移動している状態で前記移動部の前記位置に基づいて前記第２切替え位置を変更する
ことを特徴とする、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記切替え位置を、前記１つの処理対象に対して使用する前記計測部の情報に基づいて、変更することにより、同一の前記計測部を使用する
ことを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記計測部の情報を記憶部に記憶する
ことを特徴とする、請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記処理対象は、前記基板上のショット、前記基板に設けられたアライメントマーク、および前記基板を搭載する前記移動部に設けられた基準マークのいずれかである
ことを特徴とする、請求項１乃至請求項９のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記処理は、フォーカス計測処理、基板処理、基板処理結果の測定処理、アライメント計測処理、および基準マークの計測処理のいずれかである
ことを特徴とする、請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記処理対象は、前記原版に設けられたアライメントマーク、および前記原版を搭載する前記移動部に設けられた基準マークのいずれかである
ことを特徴とする、請求項１乃至請求項９のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記処理は、アライメント計測処理、および基準マークの計測処理のいずれかである
ことを特徴とする、請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
原版または基板を搭載して移動する移動部と、
前記移動部の位置に関する情報を計測し、互いの計測領域が重複する複数の計測部と、前記重複する計測領域において、前記移動部の計測に使用する計測部を切替える制御部と、を有し、
前記制御部は、複数の前記原版または前記基板について、前記原版または前記基板にある複数の処理対象について処理を行う場合に、前記処理対象に対して予め決められた、前記移動部の計測に使用する前記計測部の情報に基づいて、同一の前記計測部を使用するように前記計測部を制御する
ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記制御部は、前記計測部の情報を記憶部に記憶する
ことを特徴とする、請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
基板上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
原版または基板を移動部に搭載して移動する工程と、
前記移動部の位置に関する情報を計測し、互いの計測領域が重複する複数の計測部により前記移動部の位置に関する情報を計測する工程と、
前記重複する計測領域にある切替え位置に基づいて、前記移動部の計測に使用する計測部を切替える工程と、を有し
前記原版または前記基板にある複数の処理対象について、１つの前記処理対象に対して複数の処理を行う場合に、前記切替え位置を可変として、前記複数の処理では、同一の前記計測部を使用する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１７】
基板上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
原版または基板を移動部に搭載して移動する工程と、
前記移動部の位置に関する情報を計測し、互いの計測領域が重複する複数の計測部により前記移動部の位置に関する情報を計測する工程と、
前記重複する計測領域にある切替え位置に基づいて、前記移動部の計測に使用する計測部を切替える工程と、を有し
前記原版、前記基板、または前記移動部にある複数の処理対象について、前記移動部が異なる方向に移動して処理を行う場合に、前記切替え位置を可変として、１つの前記処理対象に対する前記処理では、同一の前記計測部を使用するように前記計測部を制御する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１８】
基板上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
原版または基板を移動部に搭載して移動する工程と、
前記移動部の位置に関する情報を計測し、互いの計測領域が重複する複数の計測部により前記移動部の位置に関する情報を計測する工程と、
前記重複する計測領域おいて、前記移動部の計測に使用する計測部を切替える工程と、を有し、
複数の前記原版または前記基板について、前記原版または前記基板にある複数の処理対象について処理を行う場合に、前記処理対象に対して予め決められた、前記移動部の計測に使用する前記計測部の情報に基づいて、同一の前記計測部を使用するように前記計測部を制御する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１９】
請求項１乃至請求項１５のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を有し、処理された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。