Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月11日(2018.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示パネルと、
前記表示パネルを背面側から照明する光源ユニットと、
前記表示パネルと前記光源ユニットの間に配置される光学シートと、
前記表示パネルと前記光源ユニットと前記光学シートとを収容する筐体と、
を備え、
前記光学シートは、前記光学シートの４辺のうち少なくとも１つの支持辺に沿った領域に、１又は複数の孔部を備え、
前記４辺のうち前記支持辺と平行な他の辺と前記筐体との間に間隙が設けられ、
前記筐体は、前記孔部に係合し、前記支持辺に対して垂直の方向の前記光学シートの移動を制限する位置決め手段が設けられ、
前記光学シートは、前記４辺のうち前記他の辺に沿った領域に、前記位置決め手段と係合するための前記孔部を持たないことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記光学シートは、前記支持辺が前記筐体の内壁に接触した状態で保持される請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記孔部は、前記筐体の内壁に平行な内壁を有する直方体形状である請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記位置決め手段は、前記筐体に設けられる凸形状の部材であり、前記凸形状の部材は、前記孔部の前記筐体の内壁に平行な内壁のうち前記筐体の内壁に近い側の内壁に接触する請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記孔部の前記筐体の内壁に垂直の内壁と前記凸形状の部材との間隙の寸法は、基準温度から所定の温度上昇又は温度下降があった場合に前記孔部の内壁が前記凸形状の部材と接触しないように定められる請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記凸形状の部材は、円柱形状の部材、又は、前記孔部の前記筐体の内壁に平行な内壁に接触する面が円弧である部材である請求項４または請求項５に記載の表示装置。
【請求項７】
表示パネルと、
前記表示パネルを背面側から照明する光源ユニットと、
前記表示パネルと前記光源ユニットの間に配置される光学シートと、
前記表示パネルと前記光源ユニットと前記光学シートとを収容する筐体と、
を備え、
前記光学シートは、前記光学シートの４辺のうち第１支持辺および前記第１支持辺に垂直な第２支持辺の交点の近傍に孔部を有し、
前記光学シートの前記４辺のうち、前記第１支持辺および前記第２支持辺でない他の辺と前記筐体との間に、間隙が設けられ、
前記筐体は、前記孔部に係合し、前記筐体の内壁に垂直の方向の前記光学シートの移動を制限する位置決め手段を有し、
前記光学シートは、前記光学シートにおいて前記第１支持辺および前記第２支持辺の交点の対角の近傍に、前記位置決め手段と係合するための前記孔部を有しないことを特徴とする表示装置。
【請求項８】
前記光学シートは、前記第１支持辺および前記第２支持辺が前記筐体の内壁に接触した状態で保持される請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記位置決め手段は、前記筐体に設けられる凸形状の部材であり、
前記孔部は、前記表示パネルの表示面に垂直な方向の円柱形状である請求項７または請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記孔部は、前記光学シートのうち前記表示パネルの画像表示範囲の外側の周縁部に設けられる請求項１〜９のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記光学シートの４辺のうち支持辺ではない辺と前記筐体の内壁との間隙の寸法は、基準温度から所定の温度上昇又は温度下降があったときに当該支持辺ではない辺が前記筐体の内壁に接触しないように定められる請求項１〜１０のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記光学シートは、前記支持辺が前記筐体の内壁に設けられる保持手段に接触した状態で保持される請求項１に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記光学シートの前記支持辺と前記保持手段との間の摩擦抵抗は、前記光学シートの前記支持辺と前記筐体の内壁との間の摩擦抵抗より小さい請求項１２に記載の表示装置。
【請求項１４】
前記光学シートは、前記支持辺に設けられた保持手段が前記筐体の内壁に接触した状態で保持される請求項１に記載の表示装置。
【請求項１５】
前記保持手段と前記筐体の内壁との間の摩擦抵抗は、前記光学シートの前記支持辺と前記筐体の内壁との間の摩擦抵抗より小さい請求項１４に記載の表示装置。
【請求項１６】
前記保持手段は、円弧状の凸形状である請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１７】
前記光学シートは、支持辺が前記筐体の内壁に接触した状態で保持され、前記光学シートの当該支持辺と前記筐体の内壁との少なくともいずれかは、接触する箇所において、他の箇所よりも表面粗さを細かくする処理が施されている請求項１または請求項７に記載の表示装置。
【請求項１８】
前記光学シートの支持辺は、前記光学シートと前記筐体の内壁との間に設けられる摺動
部材又は回動部材により保持される請求項１または請求項７に記載の表示装置。
【請求項１９】
前記位置決め手段は、支持辺に平行な方向の前記光学シートの変形を許容し、
前記光学シートの変形は、膨張又は収縮による変形である請求項１〜１８のいずれか１項に記載の表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、表示パネルと、
前記表示パネルを背面側から照明する光源ユニットと、
前記表示パネルと前記光源ユニットの間に配置される光学シートと、
前記表示パネルと前記光源ユニットと前記光学シートとを収容する筐体と、
を備え、
前記光学シートは、前記光学シートの４辺のうち少なくとも１つの支持辺に沿った領域に、１又は複数の孔部を備え、
前記４辺のうち前記支持辺と平行な他の辺と前記筐体との間に間隙が設けられ、
前記筐体は、前記孔部に係合し、前記支持辺に対して垂直の方向の前記光学シートの移動を制限する位置決め手段が設けられ、
前記光学シートは、前記４辺のうち前記他の辺に沿った領域に、前記位置決め手段と係合するための前記孔部を持たないことを特徴とする表示装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、表示パネルと、
前記表示パネルを背面側から照明する光源ユニットと、
前記表示パネルと前記光源ユニットの間に配置される光学シートと、
前記表示パネルと前記光源ユニットと前記光学シートとを収容する筐体と、
を備え、
前記光学シートは、前記光学シートの４辺のうち第１支持辺および前記第１支持辺に垂直な第２支持辺の交点の近傍に孔部を有し、
前記光学シートの前記４辺のうち、前記第１支持辺および前記第２支持辺でない他の辺と前記筐体との間に、間隙が設けられ、
前記筐体は、前記孔部に係合し、前記筐体の内壁に垂直の方向の前記光学シートの移動を制限する位置決め手段を有し、
前記光学シートは、前記光学シートにおいて前記第１支持辺および前記第２支持辺の交点の対角の近傍に、前記位置決め手段と係合するための前記孔部を有しないことを特徴とする表示装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月2日(2018.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｐＨ＝５〜６及び有効塩素濃度１００〜１，０００ｍｇ／Ｌの次亜塩素酸水溶液である第１薬剤を、カビが発生した建築物の内外装及び調度品・備品などの処理対象物の処理対象領域表面に噴霧する第１薬剤噴霧工程と、
前記第１薬剤噴霧工程後にこの噴霧した領域を風乾する第１風乾工程と、
前記第１風乾工程後に、前記処理対象領域表面に、ｐＨ＝７〜８及び有効塩素濃度１００〜１，０００ｍｇ／Ｌのモノクロラミン水溶液である第２薬剤を噴霧する第２薬剤噴霧工程と、
前記第２薬剤噴霧工程後にこの噴霧した領域を風乾する第２風乾工程と、
を有することを特徴とする有色カビの除去方法。
【請求項２】
前記第１薬剤噴霧工程と、前記第１風乾工程と、前記第２薬剤噴霧工程と、第２風乾工程とを汚れの程度に応じ複数回繰り返すことを特徴とする請求項１に記載の有色カビの除去方法。
【請求項３】
前記第２風乾工程後に、前記第１薬剤を前記処理対象領域が湿る程度に噴霧した後、前記第１薬剤を浸み込ませた布又はペーパータオルで浮き出た有色のカビ残渣を清拭する清拭工程を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有色カビの除去方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月9日(2018.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートクッション、シートバックおよびヘッドレストを備え、シートバックには、シートバックフレームに連結部材を介して後退移動可能に連結された受圧部材と、受圧部材の少なくとも前面およびシートバックフレームを覆うシートバックパッドとが設けられた乗物用シートであって、
前記シートバックフレームは、左右に離間して配置された一対のサイドフレームと、前記一対のサイドフレームの下部同士をつなぐ下部フレームとを有し、
前記シートバックパッドは、乗員の上体背部に対面する中央部の左右両側に乗員の上体側部に対面する左右の側部が連続する形態を有し、その中央部と左右の側部との境界部分にそれぞれ溝が形成されており、
各前記溝の底部には、スロット孔が貫通状態で形成されると共に、
前記スロット孔は、前側から見て、前記下部フレームを避けた位置に配置されていることを特徴とする乗物用シート。
【請求項２】
前記スロット孔は、前記下部フレームよりも上方に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の乗物用シート。
【請求項３】
前記スロット孔は、前側から見て、前記受圧部材を避けた位置に配置されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の乗物用シート。
【請求項４】
前記スロット孔は、前記シートバックの左右方向において、前記受圧部材よりも外側の位置に配置されていることを特徴とする請求項３に記載の乗物用シート。
【請求項５】
前記スロット孔は、上下方向において、前記受圧部材の上端と下端の間の位置に配置されていることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の乗物用シート。
【請求項６】
エアバッグの展開方向を規制する力布を前記シートバックフレームに取り付けるための力布取付部を備え、
前記スロット孔は、前側から見て、前記力布取付部を避けた位置に配置されるスロット孔を含むことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の乗物用シート。
【請求項７】
エアバッグの展開方向を規制する力布を前記シートバックフレームに取り付けるための力布取付部を備え、
前記スロット孔は、前記力布取付部よりも前記シートバックの左右方向中央に近い位置に配置されるスロット孔を含むことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の乗物用シート。
【請求項８】
エアバッグの展開方向を規制する力布を前記シートバックフレームに取り付けるための力布取付部を備え、
前記スロット孔は、上下方向において、前記力布取付部と異なる位置に配置されるスロット孔を含むことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の乗物用シート。
【請求項９】
前記スロット孔は、各前記溝に複数形成されていることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の乗物用シート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
前述した課題を解決する本発明の乗物用シートは、シートクッション、シートバックおよびヘッドレストを備え、シートバックには、シートバックフレームに連結部材を介して後退移動可能に連結された受圧部材と、受圧部材の少なくとも前面およびシートバックフレームを覆うシートバックパッドとが設けられた乗物用シートであって、前記シートバックフレームは、左右に離間して配置された一対のサイドフレームと、前記一対のサイドフレームの下部同士をつなぐ下部フレームとを有し、前記シートバックパッドは、乗員の上体背部に対面する中央部の左右両側に乗員の上体側部に対面する左右の側部が連続する形態を有し、その中央部と左右の側部との境界部分にそれぞれ溝が形成されており、各前記溝の底部には、スロット孔が貫通状態で形成されると共に、前記スロット孔は、前側から見て、前記下部フレームを避けた位置に配置されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に係る乗物用シートでは、乗物の後面衝突時に乗員の上体からシートバックに後退移動荷重が作用すると、乗員の上体がシートバックに沈み込む。その際、乗員の上体背部に対面するシートバックパッドの中央部は、スロット孔が貫通状態で形成された溝を境界として、左右の側部に対し容易かつ充分に後退移動する。このため、乗員の上体が充分にシートバックに沈み込むようになり、その結果、乗員の頭部の後傾が充分に抑制されて頸部に加わる衝撃が充分に緩和される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記した乗物用シートにおいて、前記スロット孔は、前記下部フレームよりも上方に配置されている構成とすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
前記した乗物用シートにおいて、前記スロット孔は、前側から見て、前記受圧部材を避けた位置に配置されている構成とすることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
前記した乗物用シートにおいて、前記スロット孔は、前記シートバックの左右方向において、前記受圧部材よりも外側の位置に配置されている構成とすることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
前記した乗物用シートにおいて、前記スロット孔は、上下方向において、前記受圧部材の上端と下端の間の位置に配置されている構成とすることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
前記した乗物用シートにおいては、エアバッグの展開方向を規制する力布を前記シートバックフレームに取り付けるための力布取付部を備え、前記スロット孔は、前側から見て、前記力布取付部を避けた位置に配置されるスロット孔を含む構成とすることができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
前記した乗物用シートにおいては、エアバッグの展開方向を規制する力布を前記シートバックフレームに取り付けるための力布取付部を備え、前記スロット孔は、前記力布取付部よりも前記シートバックの左右方向中央に近い位置に配置されるスロット孔を含む構成とすることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
前記した乗物用シートにおいては、エアバッグの展開方向を規制する力布を前記シートバックフレームに取り付けるための力布取付部を備え、前記スロット孔は、上下方向において、前記力布取付部と異なる位置に配置されるスロット孔を含む構成とすることができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
前記した乗物用シートにおいて、前記スロット孔は、各前記溝に複数形成されている構成とすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月22日(2017.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
後輪を駆動する電動モータと、
コネクタを有し、前記電動モータに電力を供給する、車体に対して脱着可能なバッテリと、
前記バッテリを収容し、上方に開口しているバッテリ収容部と、
前記バッテリ収容部に配置され、前記バッテリの下面を支持している弾性部材と、
前記バッテリの上面を覆う、開閉可能なカバーと、
前記バッテリ収容部内に配置され、前記バッテリの前記コネクタと電気的に接続するためのコネクタと、を備え、
前記バッテリ収容部の前記コネクタと前記バッテリの前記コネクタのうち一方のコネクタの端子はピン状であり、他方のコネクタの端子の内側に嵌合するよう構成され、
前記バッテリ収容部の前記コネクタは、前記一方のコネクタの端子が前記他方のコネクタの端子の内側に嵌合し前記他方のコネクタの端子に接続している状態で、前記バッテリの前記コネクタと一体的に上下動するように構成されている
ことを特徴とする鞍乗型電動車両。
【請求項２】
前記バッテリ収容部の前記コネクタは、前記バッテリ収容部の底部に設けられ、上下動可能となっている
ことを特徴とする請求項１に記載の鞍乗型電動車両。
【請求項３】
前記バッテリ収容部は、その底部に、前記バッテリ収容部の前記コネクタを支持する部材有し、前記バッテリ収容部の前記コネクタと前記部材の縁との間には水平方向の隙間が形成されている
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の鞍乗型電動車両。
【請求項４】
前記バッテリ収容部の前記コネクタは、前記バッテリの揺れに追従した動きが許容されるアンロック状態と、その動きが規制されるロック状態との間で切り換えられるように構成されている
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の鞍乗型電動車両。
【請求項５】
後輪を駆動する電動モータと、
コネクタを有し、前記電動モータに電力を供給する、車体に対して脱着可能なバッテリと、
前記バッテリを収容し、上方に開口しているバッテリ収容部と、
前記バッテリ収容部に配置され、前記バッテリの下面を支持している弾性部材と、
前記バッテリの上面を覆う、開閉可能なカバーと、
前記バッテリ収容部内に配置され、前記バッテリの前記コネクタと電気的に接続するためのコネクタと、を備え、
前記バッテリは、前記バッテリの前記コネクタが前記バッテリ収容部の前記コネクタに接続している状態で、前記バッテリ収容部内において上下動可能となっており、
前記カバーを閉じた状態で前記弾性部材から前記バッテリに作用する力を調整するためのアジャスター機構が設けられている
ことを特徴とする鞍乗型電動車両。
【請求項６】
前記アジャスター機構は前記カバーに設けられている
ことを特徴とする請求項５に記載の鞍乗型電動車両。
【請求項７】
前記カバーには、カバーを開閉可能に支持する軸部と、車体に設けられている被係合部に引っ掛かり、前記カバーを閉じた状態でロックするための係合部とが設けられ、
前記軸部と、前記被係合部と、前記係合部のうち少なくとも１つの高さを調整するアジャスター機構が設けられている
ことを特徴とする請求項５又は６に記載の鞍乗型電動車両。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月24日(2017.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式ＩＩにより表される、線維芽細胞活性化タンパク質（ＦＡＰ）活性化プロテアソーム阻害剤：
【化１】
2018016629.tif 000001
式中、
Ｒ1−（Ｃ＝Ｏ）−はアシルＮ末端封鎖基を表し；
Ｒ2は、Ｈ、低級アルキル、もしくはモノ−またはジ−ヒドロキシ置換低級アルキルを表し；
Ｒ3は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、またはｔｅｒｔ−ブチルを表し；
Ｒ4は、存在しないか、もしくは低級アルキル、−ＯＨ、−ＮＨ2またはハロゲンを表し；
Ｒ5は、大きい疎水性アミノ酸側鎖を表し；
Ｒ11は、Ｈまたは低級アルキルを表し；および
該ＦＡＰ活性化プロテアソーム阻害剤は、ＦＡＰにより開裂されて、
【化２】
2018016629.tif 000002
により表されるプロテアソーム阻害剤を放出する。
【請求項２】
【化３】
2018016629.tif 000003
が、
【化４】
2018016629.tif 000004
からなる群より選択される、請求項１記載のＦＡＰ活性化プロテアソーム阻害剤。
【請求項３】
下記式ＩＩＩにより表される、請求項１記載のＦＡＰ活性化プロテアソーム阻害剤：
【化５】
2018016629.tif 000005
式中、
Ｒ1−（Ｃ＝Ｏ）−はアシルＮ末端封鎖基を表し；
Ｒ2は、Ｈ、低級アルキル、もしくはモノ−またはジ−ヒドロキシ置換低級アルキルを表し；
Ｒ3は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、またはｔｅｒｔ−ブチルを表し；
Ｒ4は、存在しないか、もしくは低級アルキル、−ＯＨ、−ＮＨ2またはハロゲンを表し；
Ｒ5は、大きい疎水性アミノ酸側鎖を表し；
Ｒ6は、アルキル、シクロアルキル、アリール、複素環または−（ＣＨ2）n−Ｒ7を表し；
Ｒ7は、アリール、アラルキル、シクロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、−ＯＨまたは−ＳＨを表し；
Ｒ11は、Ｈまたは低級アルキルを表し；
Ｗは、−ＣＮ、エポキシケトン、−ＣＨ＝ＮＲ8、
【化６】
2018016629.tif 000006
を表し；
Ｒ8は、Ｈ、アルキル、アルケニル、アルキニル、−Ｃ（Ｘ1）（Ｘ2）Ｘ3、−（ＣＨ2）m−Ｒ9、−（ＣＨ2）n−ＯＨ、−（ＣＨ2）n−Ｏ−アルキル、−（ＣＨ2）n−Ｏ−アルケニル、−（ＣＨ2）n−Ｏ−アルキニル、−（ＣＨ2）n−Ｏ−（ＣＨ2）m−Ｒ9、−（ＣＨ2）n−ＳＨ、−（ＣＨ2）n−Ｓ−アルキル、−（ＣＨ2）n−Ｓ−アルケニル、−（ＣＨ2）n−Ｓ−アルキニル、−（ＣＨ2）n−Ｓ−（ＣＨ2）m−Ｒ9、−Ｃ（＝Ｏ）Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（＝Ｏ）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ10を表し；
Ｒ9は、各存在について独立して、置換または未置換のアリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、または複素環を表し；
Ｒ10は、各存在について独立して、水素、もしくは置換または未置換のアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、または複素環を表し；
Ｙ1およびＹ2は、独立してまたは共に、ＯＨであるか、もしくはＹ1とＹ2が、環構造に５から８の原子を有する環を介して接続されている環状誘導体を含む、ヒドロキシル基に加水分解されることのできる基であり；
Ｒ50は、ＯまたはＳを表し；
Ｒ51は、Ｎ3、ＳＨ2、ＮＨ2、ＮＯ2または−ＯＲ10を表し；
Ｒ52は、水素、低級アルキル、アミン、−ＯＲ10、または薬学的に許容される塩を表すか、もしくはＲ51とＲ52は、それらが結合したリン原子と一緒に、環構造に５から８の原子を有する複素環を完成し；
Ｘ1はハロゲンであり；
Ｘ2およびＸ3は各々、Ｈまたはハロゲンを表し； 
ｍは、ゼロまたは１から８の範囲の整数であり；および
ｎは１から８の範囲の整数である。
【請求項４】
前記アシルＮ末端封鎖基が、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル、スクシニル、およびメトキシスクシニルからなる群より選択される、請求項１から３いずれか１項記載のＦＡＰ活性化プロテアソーム阻害剤。
【請求項５】
前記アシルＮ末端封鎖基が、式−Ｃ（＝Ｏ）−（ＣＨ2）1-10−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨにより表される、請求項１から３いずれか１項記載のＦＡＰ活性化プロテアソーム阻害剤。
【請求項６】
前記アシルＮ末端封鎖基がスクシニルである、請求項１から３いずれか１項記載のＦＡＰ活性化プロテアソーム阻害剤。
【請求項７】
Ｗが
【化７】
2018016629.tif 000007
である、請求項３から６いずれか１項記載のＦＡＰ活性化プロテアソーム阻害剤。
【請求項８】
請求項１から７いずれか１項記載のＦＡＰ活性化プロテアソーム阻害剤、および薬学的に許容される賦形剤を含む、医薬組成物。
【請求項９】
効果量の請求項１から７いずれか１項記載のＦＡＰ活性化プロテアソーム阻害剤を含む、細胞におけるプロテアソーム機能を阻害するための組成物。
【請求項１０】
効果量の請求項１から７いずれか１項記載のＦＡＰ活性化プロテアソーム阻害剤を含む、細胞における抗原提示を阻害するための組成物。
【請求項１１】
治療的効果量の請求項１から７いずれか１項記載のＦＡＰ活性化プロテアソーム阻害剤を含む、癌、乾癬、再狭窄、または他の細胞増殖性疾患を治療するための医薬組成物。
【請求項１２】
治療的効果量の化学療法薬と同時投与される、請求項１１記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記化学療法薬が、ドセタキセル、パクリタキセル、メシル酸イマチニブ、ゲムシタビン、シスプラチン、カルボプラチン、５−フルオロウラシル、ペメトレキセド、メトトレキサート、ドキソルビシン、レナリドミド、デキサメタゾン、またはモノメチルオーリスタチンである、請求項１２記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記化学療法薬が、ドセタキセル、ゲムシタビン、カルボプラチン、またはドキソルビシンである、請求項１２記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記化学療法薬が、ＭＧ−１３２、ＰＳＩ、フェルタミドＢ、ボルテゾミブ、ＣＥＰ−１８７７０、ＭＬＮ−２２３８、ＭＬＮ−９７０８、エポキソミシン、カルフィルゾミブ（ＰＲ−１７１）、ＮＣ−００５、ＹＵ−１０１、ＬＵ−００５、ＹＵ−１０２、ＮＣ−００１、ＬＵ−００１、ＮＣ−０２２、ＰＲ−９５７（ＬＭＰ７）、ＣＰＳＩ（β５）、ＬＭＰ２−ｓｐ−ｅｋ、ＢＯＤＩＰＹ−ＮＣ−００１、アジド−ＮＣ−００２、ＯＮＸ−０９１２、オムラリド、ＰＳ−５１９、マリゾミブ、ベラクトシンＡ、125Ｉ−ＮＩＰ−Ｌ3ＶＳ、ＮＣ−００５−ＶＳまたはＭＶ１５１である、請求項１２記載の医薬組成物。
【請求項１６】
治療的効果量の請求項１から７いずれか１項記載のＦＡＰ活性化プロテアソーム阻害剤を含む、哺乳類におけるＨＩＶ感染を阻害するための医薬組成物。
【請求項１７】
治療的効果量の請求項１から７いずれか１項記載のＦＡＰ活性化プロテアソーム阻害剤を含む、線維芽細胞活性化タンパク質（ＦＡＰ)＋間質細胞により媒介される局所免疫抑制および／または腫瘍サポート活性を低減するための医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月25日(2017.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
医療用ガスおよび保存液のエアロゾル雰囲気下で、生体材料を保存する保存工程を含み、
前記医療用ガスが、酸素を含み、
前記酸素の分圧が、０．０７〜０．３５ＭＰａの範囲であり、
前記エアロゾルの粒子径が、１００μｍ以下であることを特徴とする、生体材料の保存方法。
【請求項２】
前記保存液が、生理的食塩水、Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ  ｏｆ  Ｗｉｓｃｏｎｓｉｎ（ＵＷ）液、ｈｉｓｔｉｄｉｎｅ−ｔｒｙｐｔｏｐｈａｎ−ｋｅｔｏｇｌｕｔａｒａｔｅ（ＨＴＫ）液、Ｃｅｌｓｏｉｒ液、ＥＴ−Ｋｙｏｔｏ液、細胞外液（輸液）、ＩＧＬ−１液、Ｐｏｌｙｓｏｌ液およびＥｕｒｏ−Ｃｏｌｌｉｎｓ液からなる群から選択された少なくとも１つを含む、請求項１記載の保存方法。
【請求項３】
前記保存液のエアロゾルが、超音波式、液体噴霧式、ノズル噴霧式、スチーム式、気化式および遠心式からなる群から選択された少なくとも１つの方法により供給されたエアロゾルを含む、請求項１または２記載の保存方法。
【請求項４】
前記医療用ガスが、水素、一酸化窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、硫化水素、オゾン、ヘリウム、キセノン、アルゴン、クリプトン、窒素、亜酸化窒素、空気、メタン、エタン、プロパン、フルオロメタン、ジフルオロメタン、四フッ化炭素および酸化エチレンからなる群から選択された少なくとも１つを含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の保存方法。
【請求項５】
前記医療用ガスが、一酸化炭素、二酸化炭素、酸素、およびヘリウムを含む混合ガス、酸素および亜酸化窒素を含む混合ガス、酸素およびキセノンを含む混合ガス、酸素およびアルゴンを含む混合ガス、酸素および一酸化窒素を含む混合ガス、または酸素および硫化水素を含む混合ガスである、請求項１から４のいずれか一項に記載の保存方法。
【請求項６】
前記医療用ガスの分圧が、０．０１〜０．７ＭＰａの範囲である、請求項１から５記載の保存方法。
【請求項７】
前記一酸化炭素の分圧が、０．０１〜０．７ＭＰａの範囲である、請求項４または５記載の保存方法。
【請求項８】
前記生体材料が、生体の一部、臓器、および細胞からなる群から選択された少なくとも１つである、請求項１から７のいずれか一項に記載の保存方法。
【請求項９】
前記生体の一部が、四肢、指、顔面、骨、筋、毛根、歯および歯根膜からなる群から選択された少なくとも１つを含む、請求項８記載の保存方法。
【請求項１０】
前記臓器が、眼球、角膜、肺、心臓、肝臓、腎臓、脾臓、膵臓、胆嚢、食道、胃、小腸、大腸、精巣、卵巣、中枢神経、末梢神経、血管および皮膚からなる群から選択された少なくとも１つを含む、請求項８記載の保存方法。
【請求項１１】
前記細胞が、精子、卵子、ＥＳ細胞、ｉＰＳ細胞、刺激惹起性多能性獲得（ＳＴＡＰ）細胞、細胞シート、赤血球、白血球、血小板および培養細胞からなる群から選択された少なくとも１つを含む、請求項８記載の保存方法。
【請求項１２】
生産された生体材料を保存する材料保存工程を含み、
前記材料保存工程が、請求項１から１１のいずれか一項に記載の保存方法で実施されることを特徴とする、生体材料の生産方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月17日(2018.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
上記ハイドロタルサイト型粉体として特に好ましくは、下記一般式（１）：
｛（Ｍｇ）ｘ（Ｚｎ）ｙ｝（Ａｌ）ｚ（ＯＨ）２（Ａｎ−）ｚ／ｎ・ｍＨ２Ｏ    （１）
（式中、Ａｎ−は、ｎ価の層間アニオンを表す。ｘ、ｙ及びｚは、０＜ｘ＜１、０≦ｙ＜１、０．２≦ｚ≦０．４、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たす数である。ｎ及びｍは、それぞれ１≦ｎ≦４、及び、０≦ｍを満たす数である。）で表されるものである。これにより、耐熱性や熱安定性がより向上する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月13日(2018.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ．  イソシアネート成分と、
Ｂ．  イソシアネート反応性成分との、
Ｃ．  ２５℃で約３０００〜約１２０００ｃｐｓの粘度を有し且つ
（１）  ポリオール成分と
（２）  第二のイソシアネート成分との、イソシアネート指数約１０〜約７０での反応生成物を含む、ポリウレタンゲル
の存在下での反応生成物を含む単層軟質フォームであって、前記単層軟質フォームが、前記ポリウレタンゲルから形成され且つ前記単層軟質フォーム内に不均一に分散された複数の凝集されたゲル基材を含む、前記単層軟質フォーム。
【請求項２】
前記イソシアネート反応性成分（Ｂ）がポリオールを含み、前記単層軟質フォームが単層ポリウレタン軟質フォームとしてさらに定義される、請求項１に記載の単層軟質フォーム。
【請求項３】
スラブ材の粘弾性記憶単層ポリウレタン軟質フォームまたは高レジリエンスの単層ポリウレタン軟質フォームとしてさらに定義される、請求項１または２に記載の単層軟質フォーム。
【請求項４】
前記ポリウレタンゲルが、前記単層ポリウレタン軟質フォーム１００質量部あたり約３０質量部までの量で存在する、請求項１から３までのいずれか１項に記載の単層軟質フォーム。
【請求項５】
前記複数の凝集されたゲル基材が、前記単層ポリウレタン軟質フォーム中に不均質なパターンで不均一に分散されている、請求項１から４までのいずれか１項に記載の単層軟質フォーム。
【請求項６】
前記ポリオール成分が、約２０〜約２００ｍｇ  ＫＯＨ／ｇのヒドロキシル数を随意に有するトリオールを含む、請求項１から５までのいずれか１項に記載の単層軟質フォーム。
【請求項７】
前記ポリウレタンゲルが、前記単層ポリウレタン軟質フォーム１００質量部あたり約５〜約１５質量部の量で存在し、且つ、前記単層ポリウレタン軟質フォームが３０℃未満のガラス転移温度を有する、請求項１から３までのいずれか１項に記載の単層軟質フォーム。
【請求項８】
前記イソシアネート反応性成分（Ｂ）が、複合金属シアン化物触媒の存在下で形成されるトリオールとしてさらに定義され、前記単層軟質フォームが単層ポリウレタン軟質フォームとしてさらに定義され、その際、前記複数の凝集されたゲル基材が前記単層ポリウレタン軟質フォーム中に不均質なパターンで不均一に分散され、前記ポリウレタンゲルが前記単層ポリウレタン軟質フォーム１００質量部あたり約５〜１５質量部の量で存在し、且つ、前記単層ポリウレタン軟質フォームが３０℃未満のガラス転移温度を有する、請求項１に記載の単層軟質フォーム。
【請求項９】
単層軟質フォームの形成方法であって、以下の段階
（Ｉ）  イソシアネート成分（Ａ）を提供する段階、
（ＩＩ）  イソシアネート反応性成分（Ｂ）を提供する段階、
（ＩＩＩ）  ポリウレタンゲル（Ｃ）を提供する段階、および
（ＩＶ）  ポリウレタンゲル（Ｃ）と、（Ａ）および（Ｂ）とを混合して、（Ａ）および（Ｂ）が（Ｃ）の存在下で反応して軟質フォームを形成する段階
を含み、ポリウレタンゲル（Ｃ）が２５℃で約３０００〜約１２０００ｃｐｓの粘度を有し、且つ、ポリオール成分（１）と、第二のイソシアネート成分（２）とのイソシアネート指数約１０〜約７０での反応生成物を含み、且つ、
前記単層軟質フォームが、ポリウレタンゲルから形成され且つ前記単層軟質フォーム内に不均一に分散された複数の凝集されたゲル基材を含む、前記単層軟質フォームの形成方法。
【請求項１０】
前記ポリオール成分が、約２０〜約２００ｍｇ  ＫＯＨ／ｇのヒドロキシル数を随意に有し、且つ複合金属シアン化物触媒の存在下で随意に形成されるトリオールを含む、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月29日(2018.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．０ｗｔ％〜３０ｗｔ％の研磨剤、
０．０１ｗｔ％〜５ｗｔ％の活性剤含有粒子、
過酸素酸化剤、
０〜１０ｗｔ％のｐＨ調節剤、
を含み、残部が水である、タングステン化学機械平坦化（ＣＭＰ）スラリーであって、
該タングステンＣＭＰスラリーはｐＨが４〜１０の範囲にある、タングステン化学機械平坦化（ＣＭＰ）スラリー。
【請求項２】
タングステンを有する少なくとも１つの表面を含む半導体基材の化学機械平坦化のための方法であって、
タングステンを研磨パッドと接触させること、
タングステンを有する少なくとも１つの表面に研磨スラリーをデリバリーすること、ここで、前記研磨スラリーは、
ｉ．０．０ｗｔ％〜３０ｗｔ％の研磨剤、
ｉｉ．０．０１ｗｔ％〜５ｗｔ％の活性剤含有粒子、
ｉｉｉ．過酸素酸化剤、
ｉｖ．０〜１０ｗｔ％のｐＨ調節剤、
を含み、ｖ．残部が水であり、
該研磨スラリーはｐＨが４〜１０の範囲にある、及び、
タングステンを有する少なくとも１つの表面を前記研磨スラリーにより研磨すること、
の工程を含む、方法。
【請求項３】
ａ．タングステンを有する少なくとも１つの表面を含む半導体基材、
ｂ．研磨パッド、
ｃ．ｉ．０．０ｗｔ％〜３０ｗｔ％の研磨剤、
ｉｉ．０．０１ｗｔ％〜５ｗｔ％の活性剤含有粒子、
ｉｉｉ．過酸素酸化剤、
ｉｖ．０〜１０ｗｔ％のｐＨ調節剤、
を含み、ｖ．残部が水である、研磨スラリーであって、
ｐＨが４〜１０の範囲にある、研磨スラリー、
を含み、そして、
タングステンを有する少なくとも１つの表面は研磨パッド及び研磨スラリーと接触される、化学機械平坦化（ＣＭＰ）のためのシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月20日(2018.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムを長手方向に巻き出す巻出部と、
成膜部が前記基材フィルムの長手方向に複数配列された成膜室ユニットと、
前記成膜室ユニットにて薄膜が形成された基材フィルムを巻き取る巻取部と、
少なくとも何れか１つの前記成膜室ユニットの後に設けられ、前記基材フィルムが長手方向に連続的に供給され、該基材フィルム上に形成された前記薄膜の幅方向の光学特性のうち反射特性を測定する測定部と、
前記基材フィルムの幅方向に複数のガスノズルが設けられ、ターゲット近傍に反応性ガスを供給する供給部と、
前記測定部における幅方向の前記反射特性に基づいて、前記複数のガスノズルから噴出する前記反応性ガスの流量を制御する制御部と、を備え、
前記測定部には、前記基材フィルム上の前記薄膜に対して光を照射する投光部と、前記基材フィルム上の前記薄膜からの反射光を受光する受光部を有する光学ヘッドと、前記基材フィルムを透過する前記投光部からの光を吸収する光吸収面を有する測定ロールが設けられる薄膜形成装置。
【請求項２】
前記測定ロールは、ブラックロールである請求項１に記載の薄膜形成装置。
【請求項３】
前記成膜部は、前記ターゲットに電圧を印加するスパッタ電極と、成膜中における前記基材フィルムの幅方向のプラズマの発光スペクトルを測定するプラズマ測定部とを備え、
前記制御部は、前記測定部における幅方向の光学特性及び前記プラズマ測定部における前記発光スペクトルに基づいて、前記複数のガスノズルから噴出する前記反応性ガスの流量及び前記ターゲットに印加する電圧を制御する請求項１又は２に記載の薄膜形成装置。
【請求項４】
前記投光部と前記受光部とが同軸上に配置される請求項１乃至３の何れか１項に記載の薄膜形成装置。
【請求項５】
前記投光部は、前記基材フィルム上の薄膜に対して斜め方向から光を照射し、
前記受光部は、前記斜め方向から照射された光の反射光を受光する請求項１乃至４の何れか１項に記載の薄膜形成装置。
【請求項６】
前記光学ヘッドは、前記投光部から照射される光を偏光する偏光板を有する請求項１乃至５の何れか１項に記載の薄膜形成装置。
【請求項７】
前記ガスノズルは、前記反応性ガスとキャリアガスとを混合して噴出する請求項１に記載の薄膜形成装置。
【請求項８】
前記ガスノズルは、複数の開口と、内部に反応性ガス用のガス管とキャリアガス用のガス管と混合室とを備え、混合室で前記反応性ガスと前記キャリアガスとを混合し、前記複数の開口から混合ガスを噴出する請求項７に記載の薄膜形成装置。
【請求項９】
前記反応性ガス用のガス管は、ガスを導入する連結部と、前記連結部から管の開口が等間隔となるようにトーナメント状に分岐された配管とを備え、
前記制御部は、前記連結部にマスフローコントローラを介してガスを導入し、前記複数のガスノズルから噴出するガスの流量を制御する請求項８に記載の薄膜形成装置。
【請求項１０】
前記請求項１〜９の何れか１項に記載の薄膜形成装置を用いて、多層の光学膜を製造する光学膜の製造方法において、
基材フィルムを長手方向に第１の速度で連続的に供給し、各層について単層の薄膜を形成し、前記基材フィルムの幅方向の光学厚み分布を所定範囲に調整する調整工程と、
前記基材フィルムを長手方向に第１の速度よりも速い第２の速度で連続的に供給し、多層の薄膜を形成する光学膜形成工程と、を有する光学膜の製造方法。
【請求項１１】
前記調整工程では、各層について単層の幅方向の反射スペクトルのピーク波長又はボトム波長が±１５ｎｍ以内となるように調整することにより、前記基材フィルムの幅方向の光学厚み分布を所定範囲に調整する請求項１０に記載の光学膜の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】薄膜形成装置、及び光学膜の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、スパッタリングにより薄膜を形成する薄膜形成装置、及び光学膜の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、このような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、幅方向に均一な厚みの薄膜を形成することができる薄膜形成装置、及び光学膜の製造方法を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月24日(2018.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の表面及び前記第１の表面に対する第２の表面を含む脆性材料基板にスクライブラインを形成するスクライブ方法であって、前記スクライブ方法は、
（Ａ）少なくとも第１の方向及び前記第１の方向と平行でない第２の方向のそれぞれに沿って延伸する複数の分断予定線を、前記脆性材料基板の前記第１の表面に設定する工程と、
（Ｂ）スクライブユニットにより、設定された複数の分断予定線に沿ってスクライブし、前記スクライブユニットに可変荷重をかけることにより、前記第１の方向において少なくとも１本の第１のスクライブラインを形成し、及び前記第１のスクライブラインと交差する第２の方向において少なくとも一本の第２のスクライブラインを形成する工程と、を含み、
前記少なくとも一本の第１のスクライブラインと前記少なくとも一本の第２のスクライブラインは交差して少なくとも１つの交点を形成し、
（Ｃ）前記少なくとも一本の第１のスクライブラインを形成する際に前記スクライブユニットにかかる荷重は、前記スクライブユニットが前記少なくとも１つの交点の近辺領域にない時の荷重がＰ１で、前記スクライブユニットが前記少なくとも１つの交点の近辺領域にある時の荷重がＭ１であり、
（Ｄ）前記少なくとも一本の第２のスクライブラインをスクライブする際に前記スクライブユニットにかかる荷重は、前記スクライブユニットが前記少なくとも１つの交点の近辺領域にない時の荷重がＰ２で、前記スクライブユニットが前記少なくとも１つの交点の近辺領域にある時の荷重がＭ２であり、かつ、
（Ｅ）Ｍ１、Ｍ２は共に、少なくともＰ１とＰ２よりも小さく、かつ、０ではない、脆性材料基板のスクライブ方法。
【請求項２】
Ｐ１＝Ｐ２である、請求項１に記載の脆性材料基板のスクライブ方法。
【請求項３】
Ｐ１＞Ｐ２である、請求項１に記載の脆性材料基板のスクライブ方法。
【請求項４】
Ｐ１＜Ｐ２である、請求項１に記載の脆性材料基板のスクライブ方法。
【請求項５】
前記交点の近辺領域が、２本の交差する前記第１のスクライブラインと前記第２のスクライブラインから０．２ｍｍ〜１．０ｍｍ離れた平行線により定義される菱形領域である、請求項１に記載の脆性材料基板のスクライブ方法。
【請求項６】
前記脆性材料基板の厚さが０．０２５〜４０ｍｍである、請求項１に記載の脆性材料基板のスクライブ方法。
【請求項７】
前記脆性材料基板が、厚さ０．３〜０．７ｍｍの液晶基板である、請求項６に記載の脆性材料基板のスクライブ方法。
【請求項８】
Ｐ１とＰ２の範囲が０．０５ＭＰａ〜０．１１ＭＰａの間にある、請求項１に記載の脆性材料基板のスクライブ方法。
【請求項９】
Ｍ１の範囲が０．０５ＭＰａ〜０．０７ＭＰａの間にあり、Ｍ２の範囲が０．０５ＭＰａ〜０．０９ＭＰａの間にある、請求項１に記載の脆性材料基板のスクライブ方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の脆性材料基板のスクライブ方法により、脆性材料基板をスクライブする、脆性材料基板のスクライブ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月27日(2017.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
α-ナトリウムフェライト又はα-ナトリウムフェライト中のナトリウムの一部がリチウム及び／若しくはカリウムで置換された置換型α-ナトリウムフェライトを含有する炭酸ガス吸収材。
【請求項２】
前記置換型α-ナトリウムフェライトのナトリウムに対するリチウム及び／又はカリウムのモル比は、0.85:0.15〜1未満:0超の範囲であることを特徴とする、請求項１に記載の炭酸ガス吸収材。
【請求項３】
気孔率が３０％〜５０％の多孔質体であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の炭酸ガス吸収材。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の炭酸ガス吸収材と、前記炭酸ガス吸収材を収納し、炭酸ガスを導入するための炭酸ガス導入口とを具備することを特徴とする、炭酸ガス吸収装置。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の炭酸ガス吸収材に、炭酸ガスを反応させて生成した生成物と、前記生成物を加熱し炭酸ガスを放出させるための加熱装置と、前記生成物を収納し、前記炭酸ガスを排出する生成ガス排出口とを具備することを特徴とする、炭酸ガス分離装置。
【請求項６】
γ- Fe2O3及びNaNO3を混合して混合粉末MP1を得る工程(a1)、又はγ- Fe2O3、 NaNO3並びにLiNO3及び／又はKNO3を混合して混合粉末MP2を得る工程(a2)と、
得られた混合粉末MP1又はMP2を570℃〜750℃の温度に加熱してα-ナトリウムフェライト又は置換型α-ナトリウムフェライトを生成させる工程(b1)、又は得られた混合粉末MP1又はMP2を550〜600℃の温度T1に加熱し、次いで、570〜750℃の温度T2(但し、T1<T2)に昇温してさらに加熱してα-ナトリウムフェライト又は置換型α-ナトリウムフェライトを生成させる工程(b2)、
を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の炭酸ガス吸収材の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月21日(2018.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水性インク組成物であって、
水と；
共溶媒と；
封入された樹脂顔料と；
ポリマーラテックスと；
低分子量の保水剤溶質とを含み、
水性インク組成物の合計固形分含有量が、水性インク組成物の合計重量を基準として２〜２５重量％である、水性インク組成物。
【請求項２】
水性インクの合計固形分含有量が、水性インク組成物の合計重量を基準として７〜１５重量％である、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項３】
前記共溶媒は、溶解度パラメータが２７〜３７ＭＰａ１／２の範囲である、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項４】
前記共溶媒が、１，５−ペンタンジオール、２−ピロリドン、グリセロールおよびこれらの混合物からなる群から選択され、
個々の前記共溶媒または前記共溶媒の混合物は、溶解度パラメータが２７〜３３ＭＰａ１／２の範囲である、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項５】
前記共溶媒が、１，５−ペンタンジオールであるか、２−ピロリドンであるか、又は、１，５−ペンタンジオールと２−ピロリドンの混合物である、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項６】
前記封入された樹脂顔料が、Ｚ平均粒径が６０〜２５０ナノメートルの封入された樹脂顔料粒子を含む、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項７】
前記ポリマーラテックスは、スチレン、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸、β−ＣＥＡ（β−カルボキシアクリル酸エチル）および任意成分の界面活性剤の乳化重合から作られるポリマー粒子を含むラテックスエマルションを含む、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項８】
前記ポリマーラテックスは、２０ナノメートルから２００ナノメートル未満の体積平均粒径を有するポリマー粒子を含む、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項９】
前記低分子量の保水剤溶質は、分子量が１００〜３，０００ｇ／ｍｏｌｅである、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項１０】
前記低分子量の保水剤溶質は、ベタイン、ベタイン誘導体、ポリオール、糖類およびこれらの混合物、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項１１】
前記低分子量の保水剤溶質は、５５〜２００℃の融点を有するポリオール溶質である、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項１２】
前記低分子量の保水剤溶質は、ソルビトール、マルチトール、マンニトール、キシリトール、イソソルビドおよびこれらの混合物、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項１３】
前記低分子量の保水剤溶質は、下記式の化合物
【化１】
2016003337.tif 000001
（式中、Ｒは、ココナッツ油から誘導されるアルキル基、又は、パーム核油から誘導される炭素数８から１０のアルキル基をあらわす）、および、下記式の化合物
【化２】
2016003337.tif 000002
（式中、Ｒは、ココナッツ油から誘導されるアルキル基をあらわす）
からなる群から選択される、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項１４】
前記低分子量の保水剤溶質は、下記の化合物
【化３】
2016003337.tif 000003
【化４】
2016003337.tif 000004
およびこれらの混合物、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項１５】
１５〜５０ｍＮ／ｍの表面張力を有する、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項１６】
３０〜４０℃の吐出温度で２〜２０センチポイズの粘度を有する、請求項１に記載の水性インク組成物。
【請求項１７】
水性インク組成物を調製するためのプロセスであって、
（１）ポリマーラテックスを調製することと、
（２）前記ポリマーラテックスと、封入された樹脂顔料、水、共溶媒および低分子量の保水剤溶質とを合わせ、水性インク組成物の合計固形分含有量が水性インク組成物の合計重量を基準として２〜２５重量％である水性インク組成物を作成することと、
（３）場合により、前記水性インク組成物を濾過することとを含む、プロセス。
【請求項１８】
前記水性インク組成物の合計固形分含有量が、前記水性インク組成物の合計重量を基準として７〜１５重量％である、請求項１７に記載のプロセス。
【請求項１９】
共溶媒は、溶解度パラメータが２７〜３７ＭＰａ１／２の範囲である、請求項１７に記載のプロセス。
【請求項２０】
水、共溶媒、封入された樹脂顔料、ポリマーラテックス、および低分子量の保水剤溶質を含み、水性インクの合計固形分含有量が水性インク組成物の合計重量を基準として２〜２５重量％の水性インクをインクジェット印刷装置に組み込むこと；並びに、
インク液滴を中間転写体に画像状のパターンになるように放出し、場合により、画像を加熱し、部分的または完全に溶媒を除去し、画像状のパターンになったインクを中間転写体から最終的な記録基材に転写すること；または
画像状のパターンになったインク液滴を最終的な画像受け入れ基材に直接放出すること；
を含む、プロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】水性インク組成物およびプロセス
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月21日(2018.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メモリセルと、
第１乃至第５の配線と、を有し、
前記メモリセルは、第１のトランジスタと、第２のトランジスタと、第３のトランジスタと、第１の容量素子と、第１の配線と、第２の配線と、第３の配線と、第４の配線と、第５の配線と、を有し、
前記第１のトランジスタのソースおよびドレインの一方は、前記第１の配線と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソースおよびドレインの他方は、前記第１の容量素子の一方の端子と、前記第２のトランジスタのソースおよびドレインの一方と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのゲートは、前記第１の容量素子の他方の端子と、前記第３のトランジスタのソースおよびドレインの一方と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソースおよびドレインの他方は、前記第５の配線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのゲートは、前記第３の配線と電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのソースおよびドレインの他方は、前記第２の配線と電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのゲートは、前記第４の配線と電気的に接続されている半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
第４のトランジスタと、
第５のトランジスタと、
第１の回路と、
第６乃至第８の配線と、を有し、
前記第４のトランジスタのソースおよびドレインの一方は、前記第５の配線と電気的に接続され、
前記第４のトランジスタのソースおよびドレインの他方は、前記第８の配線と電気的に接続され、
前記第４のトランジスタのゲートは、前記第６の配線と電気的に接続され、
前記第５のトランジスタのソースおよびドレインの一方は、前記第１の回路と電気的に接続され、
前記第５のトランジスタのソースおよびドレインの他方は、前記第５の配線と電気的に接続され、
前記第５のトランジスタのゲートは、前記第７の配線と電気的に接続され
前記第１の回路は、前記第５の配線に流れる電流と前記第４のトランジスタに流れる電流とが等しいか否かを検出する機能を有する半導体装置。