【事件の表示】
　特許第５７６６１７２号発明「熱線遮蔽フィルム」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第５７６６１７２号の請求項１〜２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第５７６６１７２号の請求項１〜２に係る特許についての出願は、平成２４年１１月１５日にされ、平成２７年６月２６日にその特許権の設定登録がされ、その後、その特許について、特許異議申立人小原淳史（以下、「申立人」という。）により特許異議の申立てがされ、当審において平成２８年４月４日付けで取消理由を通知し、その指定期間内である平成２８年６月６日に意見書が提出されたものである。
２．特許異議の申立てについて
（１）請求項１〜２に係る発明
　請求項１〜２に係る発明（以下、「本件発明１」等という。）は、次の事項により特定されるとおりのものである。
「【請求項１】
プラスチックフィルムの一方の面に、少なくとも熱線反射層と表面保護層とをこの順に備えた熱線遮蔽フィルムであって、前記表面保護層は、プラズマＣＶＤ法で形成した炭素を含有する酸化珪素の層であり、かつ、その組成を一般式ＳｉＯｘＣｙで表したとき、ｘの値が１．５〜２．０の範囲であり、ｙの値が０．０１〜０．３０の範囲であることを、特徴とする熱線遮蔽フィルム。
【請求項２】
前記プラスチックフィルムの他方の面に、粘着剤層を備えたことを特徴とする請求項１に記載の熱線遮蔽フィルム。」
（２）取消理由の概要
　本件特許に対して、特許権者に通知した取消理由の概要は以下のとおりである。
［理由］
１．本件特許の下記の請求項に係る発明は、その出願前日本国内または外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
２．本件特許は、特許請求の範囲の記載が下記の点で不備のため、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　記
甲第１号証：実願昭５５−１３７７７１号（実開昭５７−５９６２４号）のマイクロフィルム 
甲第２号証：特開２０１２−６１６７１号公報 
甲第３号証：特開２０１２−２１８３２５号公報 
  
［理由１］ 
　請求項１、２に係る発明は、甲第１号証〜甲第３号証に記載されたものに基づき、この発明の属する分野において通常の知識を有する者が容易に想到し得た程度のものである。 
　特に、甲第３号証の段落［００９２］〜［００９３］の記載から、熱線を遮断する層である金属薄膜に、熱、光、水蒸気などに対する耐久性が必要とされることが一般的な課題であったことが把握されるところ、甲第１号証に記載の熱線反射フィルムの保護膜として、甲第２号証に記載の水蒸気バリア性に優れるプラズマＣＶＤ法で形成されたガスバリア層の構成を採用することに困難性は認められない。 
  
［理由２］ 
　請求項１、２は、「熱線遮蔽フィルム」という物の発明であるが、請求項１の「プラズマＣＶＤ法で形成した」との記載は、製造に関して技術的な特徴や条件が付された記載がある場合に該当するため、当該請求項にはその物の製造方法が記載されているといえる。 
　ここで、物の発明に係る特許請求の範囲にその物を製造方法が記載されている場合において、当該特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第２号にいう「発明が明確であること」という要件に適合するといえるのは、出願時において当該物をその構造又は特性により直接特定することが不可能であるか、又はおよそ実際的でないという事情（以下「不可能・非実際的事情」という）が存在するときに限られると解するのが相当である。 
　しかしながら、本願明細書等には不可能・非実際的事情について何ら記載がなく、当業者にとって不可能・非実際的事情が明らかであるとも言えない。 
　したがって、請求項１及びこれを引用する請求項２に係る発明は明確でない。
（３）甲号証の記載
　甲第１号証には、以下の発明（以下、「甲１発明」という。）が記載されている。
　「ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる透明基体の一方の面に、透明金属薄膜と保護膜とをこの順に備えた熱線反射フィルムであって、前記保護膜は、公知の真空皮膜形成法等で形成した酸化珪素の層であり、他方の面に、接着剤層を備えた熱線反射フィルム。」
　甲第２号証には、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用プラスチック基板に用いるガスバリア性積層フィルムであって、プラスチックフィルムからなる基材層の少なくとも片面に、ＳｉＯｘＣｙで表される酸化珪素からなるガスバリア層を形成し、ｘの値が１．５≦ｘ≦２．０であり、ｙの値が０．０５≦ｙ≦０．５であることが記載されている。
　甲第３号証には、高い透明性、日射遮断性を有する透明積層フィルムであって、反射層を構成する金属薄膜として、水蒸気などの環境に対する耐久性のある銀合金が良いことが記載されている。
（４）判断
（ア）理由１（特許法第２９条第２項）について
　本件発明１と甲１発明とを対比すると、少なくとも以下の点で相違している。
　相違点：本件発明１では、表面保護層は炭素を含有する酸化珪素の層であり、かつ、その組成を一般式ＳｉＯｘＣｙで表したとき、ｘの値が１．５〜２．０の範囲であり、ｙの値が０．０１〜０．３０の範囲であるのに対し、甲１発明では酸化珪素からなる保護層を有するものの、炭素を含有するものではなく、本件発明１とは組成が異なる点。
　上記相違点について検討する。
　本件発明１は、水蒸気に対する高いバリア性を有するとともに、熱貫流率を小さくすることができる、炭素を含有する酸化珪素の層を、表面保護層に用いることで、優れた耐候性能および高い断熱性能を有する熱線遮蔽フィルムを得るものである（段落［０００９］、［００１１］）。
　一方、甲第２号証には、炭素を含有する酸化珪素の層を設けることについての記載があるものの、当該層はガスバリア性の向上を意図したものであり、断熱性の向上については記載がないし、そもそも、甲第２号証に記載のものは、ＦＰＤ用プラスチック基板に用いることを想定したものであって、断熱性を考慮する必要性はないものである。
　また、甲第３号証には、熱線を遮蔽する透明積層フィルムの熱線反射をする層である金属薄膜について水蒸気に対する耐久性が必要とされることの記載があるものの、金属薄膜自体の耐久性を向上しようとするものであって、保護層の水蒸気バリア性によって金属薄膜を保護することについては記載も示唆もない。
　そうすると、甲第１号証〜甲第３号証には、いずれも、熱線遮蔽フィルムの表面保護層が、「炭素を含有する酸化珪素の層であり、かつ、その組成を一般式ＳｉＯｘＣｙで表したとき、ｘの値が１．５〜２．０の範囲であり、ｙの値が０．０１〜０．３０の範囲である」ことについての記載がなく、甲１発明に甲第２号証に記載のガスバリア層を採用する動機もない。
　そして、本件発明１は、相違点に係る構成を備えることにより、優れた耐候性能および高い断熱性を有する熱線遮蔽フィルムとなるという特有の効果を有するものである。
　よって、本件発明１は、各甲号証に記載のものに基づき容易に想到し得たものとはいえない。
　本件発明２は、本件発明１を引用し、すべての発明特定事項を包含するものであるから、上記の判断と同様に、本件発明２は、各甲号証に記載のものから容易に想到し得たとはいえない。
（イ）理由２（特許法第３６条第６項第２号）について
　プラズマＣＶＤ法は薄膜形成方法として周知の手法であるところ、特許権者が意見書で主張するとおり、プラズマＣＶＤ法により形成する薄膜のパラメータを、その都度測定することについては、不可能・非実際的事情があるものと理解できる。
　そうすると、「プラズマＣＶＤ法で形成した」との特定があることによって、本件発明１、２が不明確となっているとまではいえない。
３．むすび
　以上のとおりであるから、上記取消理由によっては、本件発明１〜２に係る特許を取り消すことはできない。また、他に本件発明１〜２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成２８年８月２日（２０１６．８．２）