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【手続補正書】
【提出日】平成30年9月5日(2018.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
材料粉末を溶融および再固化することによって構成要素を修復する方法であって、前記方法は、
ａ．前記材料粉末の層において経路に沿って集中エネルギー源を用いて走査することであって、前記経路は、所望の形状にわたって前記集中エネルギー源を用いて走査するように選択される、ことと、
ｂ．前記集中エネルギー源の下で前記材料粉末の溶融プールを維持することと
を含む、方法。
【請求項２】
前記経路に沿って前記集中エネルギー源を用いて走査することは、前記溶融プールを形成するために、前記集中エネルギー源のパワーを増加させながら所定の半径の円形を繰り返して走査することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記経路に垂直な方向で前記集中エネルギー源を発振させることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記溶融プールは、前層からの材料を含み、前記方法は、前記前層上に材料粉末の層を堆積することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記集中エネルギー源は、前記経路に沿って連続的に前記所望の形状を走査する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記経路は、前記所望の形状内においてネオイドパターンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記経路は、前記所望の形状内においてサイクロイドパターンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記集中エネルギー源を制御することにより、完成した部品の中の孔隙が減少されるように溶融された材料粉末の流動を維持することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記集中エネルギー源を制御することは、
ａ．前記集中エネルギー源の走査速度と、
ｂ．前記集中エネルギー源の走査間隔と、
ｃ．前記集中エネルギー源のエネルギー出力と
のうちの少なくとも１つを制御することを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
ａ．５×１０−３トル（６．６７×１０−１Ｐａ）〜１×１０−７トル（１．３３×１０−５Ｐａ）の範囲の真空で前記材料粉末の層を維持することと、
ｂ．前記材料粉末の層を５００℃〜７００℃の温度まで加熱することと
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
材料粉末を溶融および再固化することによって構成要素を修復するための修復システムであって、前記システムは、
撮像センサと、
集中エネルギー源と、
プロセッサと、
命令を含むメモリと
を備え、前記命令は、前記プロセッサによって実行されると、
前記材料粉末の層において経路に沿って走査するように前記集中エネルギー源を制御することであって、前記経路は、所望の形状にわたって前記集中エネルギー源を用いて走査するように選択される、ことと、
前記集中エネルギー源の下で前記材料粉末の溶融プールを維持するように前記集中エネルギー源を制御することと
を行うように前記プロセッサを制御する、システム。
【請求項１２】
前記経路に沿って前記集中エネルギー源を用いて走査することは、前記溶融プールを形成するために、前記集中エネルギー源のパワーを増加させながら所定の半径の円形を繰り返して走査することを含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記命令は、前記プロセッサによって実行されると、前記経路に垂直な方向で発振するように前記集中エネルギー源を制御するように前記プロセッサをさらに制御する、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記溶融プールは、前層からの材料を含み、
前記命令は、前記プロセッサによって実行されると、前記前層上に材料粉末の層を堆積することを制御するように前記プロセッサをさらに制御する、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１５】
前記命令は、前記プロセッサによって実行されると、前記経路に沿って連続的に前記所望の形状を走査するように前記集中エネルギー源を制御するように前記プロセッサを制御する、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１６】
前記経路は、前記所望の形状内においてネオイドパターンを含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１７】
前記経路は、前記所望の形状内においてサイクロイドパターンを含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１８】
前記命令は、前記プロセッサによって実行されると、完成した部品の中の孔隙が減少されるように溶融された材料粉末の流動を維持するように前記集中エネルギー源を制御するように前記プロセッサをさらに制御する、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１９】
前記集中エネルギー源を制御することは、
ａ．前記集中エネルギー源の走査速度と、
ｂ．前記集中エネルギー源の走査間隔と、
ｃ．前記集中エネルギー源のエネルギー出力と
のうちの少なくとも１つを制御することを含む、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
前記命令は、前記プロセッサによって実行されると、
ａ．５×１０−３トル（６．６７×１０−１Ｐａ）〜１×１０−７トル（１．３３×１０−５Ｐａ）の範囲の真空で前記材料粉末の層を維持することと、
ｂ．前記材料粉末の層を５００℃〜７００℃の温度まで加熱するように前記集中エネルギー源を制御することと
を行うように前記プロセッサをさらに制御する、請求項１１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月28日(2018.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂層と、前記樹脂層上に形成された磁性金属体とを備えた蒸着マスクの製造方法であって、
（Ａ）少なくとも１つの第１開口部を有する磁性金属体を用意する工程と、
（Ｂ）基板を用意する工程と、
（Ｃ）前記基板の表面に樹脂材料を含む溶液または樹脂材料のワニスを付与した後、熱処理を行うことによって樹脂層を形成する工程と、
（Ｄ）前記基板に形成された前記樹脂層を、前記磁性金属体上に、前記少なくとも１つの第１開口部を覆うように固定する工程と、
（Ｅ）前記樹脂層に、複数の第２開口部を形成する工程と、
（Ｆ）前記工程（Ｄ）および前記工程（Ｅ）の後、前記樹脂層から前記基板を剥離する工程と
を包含する、蒸着マスクの製造方法。
【請求項２】
前記工程（Ｅ）は、前記工程（Ｄ）の後で行われ、
前記複数の第２開口部は、前記樹脂層のうち前記磁性金属体の前記少なくとも１つの第１開口部内に位置する領域に形成される、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記工程（Ｅ）は、前記工程（Ｃ）と前記工程（Ｄ）との間に行われる、請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
前記磁性金属体の周縁部にフレームを設ける工程をさらに包含する、請求項１から３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
前記工程（Ｃ）において、前記熱処理は、前記樹脂層に、層面内方向に室温で０．２ＭＰａより大きい引張応力を生成させる条件で行われる、請求項１から４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】
前記工程（Ｆ）において、前記基板を剥離した後、前記磁性金属体は、前記樹脂層から圧縮応力が付与される、請求項１から５のいずれかに記載の製造方法。
【請求項７】
前記工程（Ｄ）は、
前記樹脂層の一部上に接着層を形成する工程（Ｄ１）と、
前記接着層を介して前記樹脂層を前記磁性金属体に接合する工程（Ｄ２）と
を包含する、請求項１から６のいずれかに記載の製造方法。
【請求項８】
前記接着層は金属層であり、
工程（Ｄ２）は、前記金属層を前記磁性金属体に溶接することによって、前記金属層を介して、前記樹脂層を前記磁性金属体に接合する工程である、請求項７に記載の製造方法。
【請求項９】
前記少なくとも1つの第１開口部の幅は３０ｍｍ以上であり、前記樹脂層のうち前記磁性金属体の前記少なくとも１つの第１開口部内に位置する領域には磁性金属が存在していない、請求項１から８のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１０】
前記磁性金属体はオープンマスク構造を有する、請求項１から９のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１１】
フレームと、
前記フレームに支持された、少なくとも１つの第１開口部を含む磁性金属体と、
前記磁性金属体上に配置された、前記少なくとも１つの第１開口部を覆う樹脂層と、
前記樹脂層と前記磁性金属体との間に位置し、前記樹脂層と前記磁性金属体とを接合する接着層と
を備え、
前記樹脂層は、層面内方向に引張応力を有し、
前記磁性金属体は、前記樹脂層から面内方向に圧縮応力を受けており、
前記樹脂層の室温における引張応力は、３ＭＰａより大きい、蒸着マスク。
【請求項１２】
請求項１１に記載の蒸着マスクを用いて、ワーク上に有機半導体材料を蒸着する工程を包含する、有機半導体素子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月13日(2018.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
慢性呼吸器障害またはその他の慢性補体介在性障害の治療を必要とする対象の治療に使用するための、補体阻害剤を含む医薬であって、
その他の慢性補体介在性障害が、筋骨格系または神経系を冒す障害であり、
該治療が、該補体阻害剤の複数回投与を、平均で（i）該補体阻害剤の血漿中濃度が、前回の投与後に達した最高血漿中濃度の２０％以下に減少して少なくとも２週間後に、または（ii）該補体阻害剤の終末血漿中半減期の少なくとも３倍に等しい間隔で、次の投与を実施する投与スケジュールに従って、該対象に実施することを含み、
該補体阻害剤が、呼吸器経路で投与され、および
該補体阻害剤が、
(i)Ｃ５と結合する抗体を含むか、または
(ii)コンプスタチンに対して４位に１−メチル−トリプトファンまたは１−ホルミル−トリプトファンを含み、コンプスタチンに対して９位にアラニンを含む、コンプスタチン類似体を含む、医薬。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月24日(2018.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）分子量が５０〜１２０、融点が５０〜３５０℃であって、コリンまたはその誘導体である塩基性官能基含有化合物と、
ｂ）ＬｏｇＰが−４〜７．３である酸性官能基含有化合物
との等モル塩を含み、
ｂ）酸性官能基含有化合物が、アミノ酸、カルボン酸、ヒドロキシ酸、置換基を有していてもよい炭素数が１２〜２０の長鎖脂肪酸、及び糖酸からなる群から選択される１種である、経皮吸収促進助剤又は経皮吸収促進剤。
【請求項２】
ｂ）酸性官能基含有化合物のＬｏｇＰが２．５〜７．３である、請求項１に記載の経皮吸収促進助剤又は経皮吸収促進剤。
【請求項３】
ｂ）酸性官能基含有化合物が、ヒスチジン、グリコール酸、乳酸塩、マロン酸、酢酸、マレイン酸、コハク酸、グルタル酸、安息香酸、カプリン酸、オレイン酸、リノール酸、及び、イソステアリン酸からなる群から選択される１種である、請求項１又は２に記載の経皮吸収促進助剤又は経皮吸収促進剤。
【請求項４】
ａ）塩基性官能基含有化合物が、コリンである、請求項３に記載の経皮吸収促進助剤又は経皮吸収促進剤。
【請求項５】
ｂ）酸性官能基含有化合物が、カプリン酸、オレイン酸、リノール酸、イソステアリン酸から選択される１種である、請求項４に記載の経皮吸収促進助剤又は経皮吸収促進剤。
【請求項６】
活性成分、及び、請求項１〜５いずれか一項に記載の経皮吸収促進助剤又は経皮吸収促進剤を含む経皮製剤。
【請求項７】
前記活性成分の分子量が１万以下、ＬｏｇＰが３．５以下である、請求項６に記載の経皮製剤。
【請求項８】
前記活性成分の分子量が１万以下、ＬｏｇＰが０．５以下である、請求項６に記載の経皮製剤。
【請求項９】
前記活性成分が塩ではない、請求項６〜８いずれか一項に記載の経皮製剤。
【請求項１０】
前記活性成分が、ウイルス感染症治療薬、または免疫抑制剤である、請求項６〜９いずれか一項に記載の経皮製剤。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月18日(2018.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
このように構成されるエキサイタ２０のボイスコイル２７に、図２に示す音源機器３０によって音響信号が供給されると、音響信号の周波数に合わせて、ボビン２６が振動する。より詳細には、外側ヨーク２３が、ダンパー部２２を介してフレーム部２１に近接離反する方向（図３の上下方向）に、ボビン２６が振動されることになる。このボビン２６の振動が、フレーム部２１を介して、振動伝達部材１０へと伝達されることになる。振動伝達部材１０への振動は、振動伝達部材１０の棒状部材における延伸方向（延設方向）に対して加えられる。このように、エキサイタ２０を介して振動伝達部材１０の延伸方向へと振動を伝達させることによって、車両用シート２の前後方向に対して振動を伝達することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月30日(2018.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記請求項１又は２に記載のベンゾオキサジン樹脂組成物を硬化した物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
項４  前記項１又は２に記載のベンゾオキサジン樹脂組成物を硬化した物。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月5日(2018.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】その試験結果をグラフにして図１に示す。それによると、塗布しないものは当然ながら終始一貫して全く減少せず、１８ｐｐｍに止まったままであるが、対照例（Ｂ）ではかなり大きく低減しており、本発明の塗料（Ａ）ではさらにそれを下回っており、特に１時間以後毎の比率においては約１５〜２０分の１にもなっており、しかも再現性のあることが解る。
なお、より長時間（１０日間）におけるホルムアルデヒドの分解辞去持続性性能試験も行った。すなわち、ガラスシャーレに試料を１ｍｌ塗布し風乾した後、１０
2017019982.tif 000001
入し、暗所に放置した。このテドラーバッグ内のホルムアルデヒドの濃度を１０日経過後に検知管法で測定した。そして直ちに２０ｐｐｍのホルムアルデヒド濃度に戻してから再度１０日間、すなわち２０日後の濃度を測定した。
2017019982.tif 000002
のテドラーバッグに入れ、同様に測定した。その結果を図２のグラフで示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
【図１】本発明のホルムアルデヒド分解除去持続性試験結果を示すグラフ
【図２】本発明のホルムアルデヒド分解除去持続性試験結果を示すグラフ
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】追加
【補正の内容】
【図２】
2017019982.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月21日(2018.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロース由来の炭素数６のオレフィン分を１〜２０ｖｏｌ％含むことを特徴とするガソリン組成物。
【請求項２】
前記オレフィン分が、１−ヘキセンを含む請求項１記載のガソリン組成物。
【請求項３】
前記オレフィン分が、さらに２−ヘキセン、及び３−ヘキセンを含む請求項２記載のガソリン組成物。
【請求項４】
前記オレフィン分中、１−ヘキセンが１〜１５ｖｏｌ％、２−ヘキセンが５５〜８０ｖｏｌ％、及び３−ヘキセンが１０〜４０ｖｏｌ％である請求項３記載のガソリン組成物。
【請求項５】
オレフィン分を１７ｖｏｌ％以上、及び芳香族分を１５ｖｏｌ％以上含み、
１５℃における密度が０．７０００ｇ／ｃｍ３以上、蒸気圧が４４．０ｋＰａ以上９３．０ｋＰａ以下、１０％留出温度が７０．０℃以下、５０％留出温度が７５．０℃以上、９０％留出温度が１８０．０℃以下、酸化安定性が２４０分以上、及びオクタン価が９０．０以上である請求項１乃至４いずれかに記載のガソリン組成物。
【請求項６】
セルロースから得られたヘキサノールを脱水して製造したセルロース由来の炭素数６のオレフィン分を１〜２０ｖｏｌ％混合する工程を含むことを特徴とするガソリン組成物の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ガソリン組成物及びその製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月1日(2018.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギ発生素子、該エネルギ発生素子に電力を供給するための配線、および液体を供給するための供給口が形成された基板上に、前記エネルギ発生素子に前記供給口より供給された液体を導くための流路が形成された流路形成部材が積層されて成る液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記基板上に前記流路となる領域を形成するための樹脂を塗布することによって樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に対し、平滑化部材を押圧させることにより、前記樹脂層の厚みが第１の厚みとなるように前記樹脂層の表面を平滑化する第１の平滑化工程と、
前記第１の平滑化工程によって平滑化された前記樹脂層より一部の樹脂を除去することにより、前記樹脂層に凹部を形成する凹部形成工程と、
前記凹部形成工程によって前記凹部が形成された前記樹脂層に対し、前記平滑化部材を押圧させることにより、前記樹脂層の厚みが前記第１の厚みよりも薄い第２の厚みとなるように前記樹脂層の表面を平滑化する第２の平滑化工程と
を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記凹部形成工程は、前記凹部の複数を前記樹脂層に一様な密度で形成する請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記第２の平滑化工程の後に前記凹部形成工程と前記第２の平滑化工程をさらに繰り返すことにより、前記樹脂層の膜厚を段階的に低減させていく請求項１または２に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記凹部形成工程を繰り返すたびに、形成する前記凹部の大きさおよび間隔を段階的に小さくする請求項３に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記樹脂は感光性樹脂であり、
前記凹部形成工程では、前記凹部を形成する位置に穴を有するマスクを介して前記樹脂層を露光し現像することにより、前記凹部を前記樹脂層に形成する請求項１ないし４のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記凹部形成工程では、ドライエッチング法を採用して、前記凹部を前記樹脂層に形成する請求項１ないし４のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記平滑化部材は、前記樹脂層に接触するための平滑な面を有するモールド部材である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記第１および第２の平滑化工程では、前記樹脂層に対し前記平滑化部材を加熱しながら押圧する請求項１ないし７のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記第２の平滑化工程の後に行われる工程として、
前記流路となる領域のみの前記樹脂層を残すことにより前記基板上に流路型パターンを形成する工程と、
前記流路型パターンの上に、前記流路形成部材となる樹脂を塗布し硬化させた後、液滴を吐出するための吐出口を形成する工程と、
前記流路型パターンを除去する工程と
を有する請求項１ないし８のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記凹部形成工程では複数の凹部が形成され、前記凹部の数と大きさは、前記第１の厚みと前記第２の厚みの差に対応づけられている請求項１から９のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
基板上の樹脂層の表面を平滑化する樹脂層の表面の平滑化方法であって、
前記基板上に流路となる領域を形成するための樹脂を塗布することによって樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に対し、平滑化部材を押圧させることにより、前記樹脂層の厚みが第１の厚みとなるように前記樹脂層の表面を平滑化する第１の平滑化工程と、
前記第１の平滑化工程によって平滑化された前記樹脂層より一部の樹脂を除去することにより、前記樹脂層に凹部を形成する凹部形成工程と、
前記凹部形成工程によって前記凹部が形成された前記樹脂層に対し、前記平滑化部材を押圧させることにより、前記樹脂層の厚みが前記第１の厚みよりも薄い第２の厚みとなるように前記樹脂層の表面を平滑化する第２の平滑化工程と
を有することを特徴とする樹脂層の表面の平滑化方法。
【請求項１２】
前記凹部形成工程は、前記凹部の複数を前記樹脂層に一様な密度で形成する請求項１１に記載の平滑化方法。
【請求項１３】
前記第２の平滑化工程の後に前記凹部形成工程と前記第２の平滑化工程をさらに繰り返すことにより、前記樹脂層の膜厚を段階的に低減させていく請求項１１または１２に記載の平滑化方法。
【請求項１４】
前記凹部形成工程を繰り返すたびに、形成する前記凹部の大きさおよび間隔を段階的に小さくする請求項１３に記載の平滑化方法。
【請求項１５】
前記樹脂は感光性樹脂であり、
前記凹部形成工程では、前記凹部を形成する位置に穴を有するマスクを介して前記樹脂層を露光し現像することにより、前記凹部を前記樹脂層に形成する請求項１１ないし１４のいずれか１項に記載の平滑化方法。
【請求項１６】
前記凹部形成工程では、ドライエッチング法を採用して、前記凹部を前記樹脂層に形成する請求項１１ないし１４のいずれか１項に記載の平滑化方法。
【請求項１７】
前記平滑化部材は、前記樹脂層に接触するための平滑な面を有するモールド部材である請求項１１ないし１６のいずれか１項に記載の平滑化方法。
【請求項１８】
前記第１および第２の平滑化工程では、前記樹脂層に対し、前記平滑化部材を加熱しながら押圧する請求項１１ないし１７のいずれか１項に記載の平滑化方法。
【請求項１９】
前記第２の平滑化工程の後に行われる工程として、
前記流路となる領域のみの前記樹脂層を残すことにより前記基板上に流路型パターンを形成する工程と、
前記流路型パターンの上に、流路形成部材となる樹脂を塗布し硬化させた後、液滴を吐出するための吐出口を形成する工程と、
前記流路型パターンを除去する工程と
を有する請求項１１ないし１８のいずれか１項に記載の平滑化方法。
【請求項２０】
前記凹部形成工程では複数の凹部が形成され、前記凹部の数と大きさは、前記第１の厚みと前記第２の厚みの差に対応づけられている請求項１１から１９のいずれか１項に記載の平滑化方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そのために本発明は、エネルギ発生素子、該エネルギ発生素子に電力を供給するための配線、および液体を供給するための供給口が形成された基板上に、前記エネルギ発生素子に前記供給口より供給された液体を導くための流路が形成された流路形成部材が積層されて成る液体吐出ヘッドの製造方法であって、前記基板上に前記流路となる領域を形成するための樹脂を塗布することによって樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に対し、平滑化部材を押圧させることにより、前記樹脂層の厚みが第１の厚みとなるように前記樹脂層の表面を平滑化する第１の平滑化工程と、前記第１の平滑化工程によって平滑化された前記樹脂層より一部の樹脂を除去することにより、前記樹脂層に凹部を形成する凹部形成工程と、前記凹部形成工程によって前記凹部が形成された前記樹脂層に対し、前記平滑化部材を押圧させることにより、前記樹脂層の厚みが前記第１の厚みよりも薄い第２の厚みとなるように前記樹脂層の表面を平滑化する第２の平滑化工程とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月4日(2018.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギ発生素子、該エネルギ発生素子に電力を供給するための配線、および液体を供給するための供給口が形成された基板上に、前記エネルギ発生素子に前記供給口より供給された液体を導くための流路が形成された流路形成部材が積層されて成る液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記基板上に前記流路となる領域を形成するための樹脂を付与することによって樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に、凹部となる開口パターンを形成する開口パターン形成工程と、
前記開口パターンが形成された前記樹脂層に対し、平滑化部材を所定の圧力で接触させることにより、前記樹脂層の表面を平滑化する平滑化工程と
を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記開口パターン形成工程は、前記樹脂層の凹凸によって形成される空間の体積が、複数の単位領域でほぼ等しくなるように前記開口パターンを前記樹脂層に形成する請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記平滑化工程が行われた後において、前記樹脂層の凹凸によって形成される空間の体積の前記単位領域の間のばらつきは１％以下である請求項２に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記樹脂は感光性樹脂であり、
前記開口パターン形成工程では、前記開口パターンを形成する位置に穴を有するマスクを介して前記樹脂層を露光し現像することにより、前記開口パターンを前記樹脂層に形成する請求項１ないし３のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記開口パターン形成工程では、ドライエッチング法によって前記開口パターンを前記樹脂層に形成する請求項１ないし３のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記開口パターン形成工程では、前記開口パターンと同型の凸部を有する部材を前記樹脂層に当接し加圧することにより、前記開口パターンを前記樹脂層に形成する請求項１ないし３のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記平滑化部材は、前記樹脂層に接触するための平滑な面を有するモールド部材である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記平滑化工程では、前記樹脂層に対し、加熱された前記平滑化部材を所定の圧力で接触させる請求項１ないし７のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記平滑化工程の後に行われる工程として、
前記流路となる領域のみの前記樹脂層を残すことにより前記基板上に流路型パターンを形成する工程と、
前記流路型パターンの上に、前記流路形成部材となる樹脂を塗布し硬化させた後、液滴を吐出するための吐出口を形成する工程と、
前記流路型パターンを除去する工程と
を有する請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
基板上の樹脂層の表面を平滑化する樹脂層の表面の平滑化方法であって、
前記基板上に樹脂を付与することによって樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に、凹部となる開口パターンを形成する開口パターン形成工程と、
前記開口パターンが形成された前記樹脂層に対し、平滑化部材を所定の圧力で接触させることにより、前記樹脂層の表面を平滑化する平滑化工程と
を有することを特徴とする樹脂層の表面の平滑化方法。
【請求項１１】
前記開口パターン形成工程は、前記樹脂層の凹凸によって形成される空間の体積が、複数の単位領域でほぼ等しくなるように前記開口パターンを前記樹脂層に形成する請求項１０に記載の平滑化方法。
【請求項１２】
前記平滑化工程が行われた後において、前記樹脂層の凹凸によって形成される空間の体積の前記単位領域の間のばらつきは１％以下である請求項１１に記載の平滑化方法。
【請求項１３】
前記樹脂は感光性樹脂であり、
前記開口パターン形成工程では、前記開口パターンを形成する位置に穴を有するマスクを介して前記樹脂層を露光し現像することにより、前記開口パターンを前記樹脂層に形成する請求項１０ないし１２のいずれか１項に記載の平滑化方法。
【請求項１４】
前記開口パターン形成工程では、ドライエッチング法によって前記開口パターンを前記樹脂層に形成する請求項１０ないし１２のいずれか１項に記載の平滑化方法。
【請求項１５】
前記開口パターン形成工程では、前記開口パターンと同型の凸部を有する部材を前記樹脂層に当接し加圧することにより、前記開口パターンを前記樹脂層に形成する請求項１０ないし１２のいずれか１項に記載の平滑化方法。
【請求項１６】
前記平滑化部材は、前記樹脂層に接触するための平滑な面を有するモールド部材である請求項１０ないし１５のいずれか１項に記載の平滑化方法。
【請求項１７】
前記平滑化工程では、前記樹脂層に対し、加熱された前記平滑化部材を所定の圧力で接触させる請求項１０ないし１６のいずれか１項に記載の平滑化方法。
【請求項１８】
前記平滑化工程の後に行われる工程として、
流路となる領域のみの前記樹脂層を残すことにより前記基板上に流路型パターンを形成する工程と、
前記流路型パターンの上に、流路形成部材となる樹脂を塗布し硬化させた後、液滴を吐出するための吐出口を形成する工程と、
前記流路型パターンを除去する工程と
を有する請求項１０に記載の平滑化方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月9日(2018.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電力状態を有する情報処理装置であって、
センサと、
前記センサの出力が所定値以上の状態で経過した時間及び前記時間と比較される閾値に基づいて、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行する移行手段と、
前記閾値を変更する変更手段と、を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記変更手段は、所定のユーザ操作に従って、前記閾値を変更する、ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記所定のユーザ操作は、前記センサの感度を指定するユーザ操作である、ことを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記センサの感度を指定する画面を表示する表示手段をさらに備え、
前記センサの感度を指定するユーザ操作は、前記画面における前記センサの感度を指定するユーザ操作である、ことを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記画面は、前記センサの感度のレベルを複数の選択肢の中から選択する画面である、ことを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記所定のユーザ操作は、前記経過した時間と比較される時間を指定するユーザ操作である、ことを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記経過した時間と比較される時間を指定する画面を表示する表示手段をさらに備え、
前記経過した時間と比較される時間を指定するユーザ操作は、前記画面における前記経過した時間と比較される時間を指定するユーザ操作である、ことを特徴とする請求項６に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記センサは、複数の赤外線受信素子を含む赤外線アレイセンサであって、
前記移行手段は、前記複数の赤外線受信素子の出力の少なくとも１つが所定値以上の状態で経過した時間及び前記時間と比較される閾値に基づいて、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行する、ことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記移行手段は、前記複数の赤外線受信素子の出力の所定数以上が所定値以上の状態で経過した時間及び前記時間と比較される閾値に基づいて、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行する、ことを特徴とする請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記移行手段は、前記複数の赤外線受信素子の中の所定の１又は複数の赤外線受信素子の少なくとも１つが所定値以上の状態で経過した時間及び前記時間と比較される閾値に基づいて、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行する、ことを特徴とする請求項８又は９に記載の情報処理装置。
【請求項１１】
前記センサは、受信した赤外線に応じた値を出力する赤外線センサである、ことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１２】
前記センサは、受信した音波に応じた値を出力する音波センサである、ことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１３】
前記移行手段は、前記センサの出力が所定値以上の状態で経過した時間及び前記時間と比較される閾値に基づいて、前記情報処理装置の電力状態を第１電力状態から前記第１電力状態より消費電力が大きい第２電力状態に移行する、ことを特徴とする請求項１乃至１２の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１４】
記録媒体に画像を印刷するプリンタ部をさらに備える、ことを特徴とする請求項１乃至１３の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１５】
原稿の画像を読み取り、画像データを出力するスキャナ部をさらに備える、ことを特徴とする請求項１乃至１４の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１６】
センサを備え、複数の電力状態を有する情報処理装置の制御方法であって、
前記センサの出力が所定値以上の状態で経過した時間及び前記時間と比較される閾値に基づいて、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行するステップと、
前記閾値を変更するステップと、を有することを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項１７】
前記閾値を変更するステップは、所定のユーザ操作に従って、実行される、ことを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項１８】
前記所定のユーザ操作は、前記センサの感度を指定するユーザ操作である、ことを特徴とする請求項１７に記載の情報処理装置の制御方法。
【請求項１９】
前記センサの感度を指定する画面を表示するステップをさらに有し、
前記センサの感度を指定するユーザ操作は、前記画面における前記センサの感度を指定するユーザ操作である、ことを特徴とする請求項１８に記載の情報処理装置の制御方法。
【請求項２０】
前記センサは、複数の赤外線受信素子を含む赤外線アレイセンサ、受信した赤外線に応じた値を出力する赤外線センサ、又は、受信した音波に応じた値を出力する音波センサ、である、ことを特徴とする請求項１６乃至１９の何れか１項に記載の情報処理装置の制御方法。
【請求項２１】
記録媒体に画像を印刷するステップをさらに有する、ことを特徴とする請求項１６乃至２０の何れか１項に記載の情報処理装置の制御方法。
【請求項２２】
原稿の画像を読み取るステップと、
読み取った原稿の画像の画像データを出力するステップと、をさらに有する、ことを特徴とする請求項１６乃至２１の何れか１項に記載の情報処理装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理装置、及び、情報処理装置の制御方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、センサを備える情報処理装置、及び、情報処理装置の制御方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の画像形成装置は、複数の電力状態を有する情報処理装置であって、センサと、前記センサの出力が所定値以上の状態で経過した時間及び前記時間と比較される閾値に基づいて、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行する移行手段と、前記閾値を変更する変更手段と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月9日(2018.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
温度データを出力する複数の素子を有するセンサを備える情報処理装置であって、
前記複数の素子の中から所定温度以上の温度データを出力する１又は複数の素子を特定する特定手段と、
前記特定手段によって特定された前記１又は複数の素子の中から所定サイズ以上の熱源に対応する複数の素子を選択する選択手段と、
前記選択手段によって選択された複数の素子から構成される領域の特徴点の位置を算出する算出手段と、
前記算出手段によって算出された前記特徴点の位置に基づいて、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行する移行手段と、を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記特定手段は、予め記憶されている背景温度データと前記複数の素子から出力された複数の温度データとに基づいて、前記所定温度以上の温度データを出力する１又は複数の素子を特定する、ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記特徴点の位置は、前記領域のｙ軸方向の上端の位置である、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記移行手段は、前記領域のｙ軸方向の上端の位置が予め定めたエリアに存在することを少なくとも１つの条件として、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行する、ことを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記特徴点の位置は、前記領域のｘ軸方向の重心位置又は中心位置である、ことを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記移行手段は、所定時間での前記領域のｘ軸方向の重心位置又は中心位置の移動範囲が所定範囲以内であることを少なくとも１つの条件として、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行する、ことを特徴とする請求項５に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記特徴点の位置は、前記領域のｙ軸方向の上端の位置、及び、前記領域のｘ軸方向の重心位置又は中心位置であり、
前記移行手段は、前記領域のｙ軸方向の上端の位置が予め定めたエリアに存在すること、及び、前記領域のｘ軸方向の重心位置又は中心位置の移動範囲が所定範囲以内であることを少なくとも２つの条件として、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行する、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記素子は、赤外線を受信する素子である、ことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記センサは、前記複数の素子が格子状に配置されるアレイセンサである、ことを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
記録媒体に画像を印刷するプリンタ部をさらに備える、ことを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１１】
原稿の画像を読み取り、画像データを出力するスキャナ部をさらに備える、ことを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１２】
温度データを出力する複数の素子を有するセンサを備える情報処理装置の電力状態を制御する方法であって、
前記複数の素子の中から所定温度以上の温度データを出力する１又は複数の素子を特定する特定ステップと、
前記特定ステップによって特定された前記１又は複数の素子の中から所定サイズ以上の熱源に対応する複数の素子を選択する選択ステップと、
前記選択ステップによって選択された複数の素子から構成される領域の特徴点の位置を算出する算出ステップと、
前記算出ステップによって算出された前記特徴点の位置に基づいて、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行する移行ステップと、を有することを特徴とする方法。
【請求項１３】
前記特定ステップは、予め記憶されている背景温度データと前記複数の素子から出力された複数の温度データとに基づいて、前記所定温度以上の温度データを出力する１又は複数の素子を特定するステップである、ことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記特徴点の位置は、前記領域のｙ軸方向の上端の位置である、ことを特徴とする請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記移行ステップは、前記領域のｙ軸方向の上端の位置が予め定めたエリアに存在することを少なくとも１つの条件として、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行するステップである、ことを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記特徴点の位置は、前記領域のｘ軸方向の重心位置又は中心位置である、ことを特徴とする請求項１２乃至１５の何れか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記移行ステップは、所定時間での前記領域のｘ軸方向の重心位置又は中心位置の移動範囲が所定範囲以内であることを少なくとも１つの条件として、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行するステップである、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記特徴点の位置は、前記領域のｙ軸方向の上端の位置、及び、前記領域のｘ軸方向の重心位置又は中心位置であり、
前記移行ステップは、前記領域のｙ軸方向の上端の位置が予め定めたエリアに存在すること、及び、前記領域のｘ軸方向の重心位置又は中心位置の移動範囲が所定範囲以内であることを少なくとも２つの条件として、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行するステップである、ことを特徴とする請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１９】
前記素子は、赤外線を受信する素子である、ことを特徴とする請求項１２乃至１８の何れか１項に記載の方法。
【請求項２０】
前記センサは、前記複数の素子が格子状に配置されるアレイセンサである、ことを特徴とする請求項１２乃至１９の何れか１項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理装置、及び、情報処理装置の電力状態を制御する方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、センサを備える情報処理装置、及び、情報処理装置の電力状態を制御する方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の情報処理装置は、温度データを出力する複数の素子を有するセンサを備える情報処理装置であって、前記複数の素子の中から所定温度以上の温度データを出力する１又は複数の素子を特定する特定手段と、前記特定手段によって特定された前記１又は複数の素子の中から所定サイズ以上の熱源に対応する複数の素子を選択する選択手段と、前記選択手段によって選択された複数の素子から構成される領域の特徴点の位置を算出する算出手段と、前記算出手段によって算出された前記特徴点の位置に基づいて、前記情報処理装置の電力状態を所定の電力状態に移行する移行手段と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月22日(2018.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の方向に搬送される液滴吐出対象物の搬送方向と直交する幅方向に延在し、前記幅方向に移動可能に構成された液滴吐出ヘッドと、
前記幅方向に前記液滴吐出ヘッドを移動させるヘッド駆動手段と、
所定の初期基準位置に位置決めされた前記液滴吐出ヘッドの前記幅方向の位置をずらして調整するように前記ヘッド駆動手段を制御する制御手段と、を備えた液滴吐出装置であって、
前記制御手段は、前記初期基準位置に位置決めする初期駆動動作を実行する前の前記液滴吐出ヘッドが、その液滴吐出ヘッドが移動可能な範囲の一部分に設定された前記初期駆動動作を実行可能な所定の通常移動範囲から外れて位置しているとき、前記初期駆動動作に先だって前記液滴吐出ヘッドを前記通常移動範囲内に移動させるように前記ヘッド駆動手段を制御することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
請求項１の液滴吐出装置において、
前記制御手段は、前記液滴吐出ヘッドが前記通常移動範囲から外れていることによって発生する異常ステータスの有無を検知し、前記異常ステータスの発生を検知したときに、前記液滴吐出ヘッドを前記通常移動範囲内に移動させるように制御することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項３】
請求項１又は２の液滴吐出装置において、
前記液滴吐出ヘッドを前記通常移動範囲内に移動させるときの動作時間を計測する計時手段を更に備え、
前記制御手段は、前記計時手段で計測した動作時間が予め設定した所定の目標時間を経過したときに、前記液滴吐出ヘッドを前記通常移動範囲内に移動させる移動動作を停止するように前記ヘッド駆動手段を制御することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項４】
請求項３の液滴吐出装置において、
前記目標時間は、当該液滴吐出装置について予め評価され記憶手段に記憶されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
請求項３又は４の液滴吐出装置において、
前記制御手段は、前記液滴吐出ヘッドの移動動作を停止したときに、該液滴吐出ヘッドが前記通常移動範囲内に位置していないとき、前記初期駆動動作を中止するように制御することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項６】
請求項５の液滴吐出装置において、
前記初期駆動動作が中止されたことを報知する報知手段を更に備えることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかの液滴吐出装置において、
前記液滴吐出対象物の搬送方向における前記液滴吐出ヘッドの上流側で前記液滴吐出対象物の前記幅方向の位置を検知する対象物位置検出手段を更に備え、
前記制御手段は、前記対象物位置検出手段の検出結果に基づいて、前記液滴吐出ヘッドの初期基準位置に対する位置を調整するように前記ヘッド駆動手段を制御することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項８】
請求項７の液滴吐出装置において、
前記液滴吐出ヘッドは前記液滴吐出対象物の搬送方向に複数配置され、
前記対象物位置検出手段は、前記搬送方向における前記複数の液滴吐出ヘッドそれぞれの上流側で前記液滴吐出対象物の前記幅方向の位置を検出するように複数設けられ、
前記ヘッド駆動手段は、前記複数の液滴吐出ヘッドのうちすべての液滴吐出ヘッド、又は前記搬送方向の最上流側の液滴吐出ヘッド以外の液滴吐出ヘッドについて設けられ、
前記制御手段は、前記複数の対象物位置検出手段の検出結果に基づいて、前記液滴吐出対象物の蛇行量を判断し、前記複数の液滴吐出ヘッドのうち少なくとも前記最上流側の液滴吐出ヘッド以外の液滴吐出ヘッドについて前記初期基準位置に対する位置を調整するように前記ヘッド駆動手段を制御することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかの液滴吐出装置において、
前記通常移動範囲における前記液滴吐出ヘッドの移動限界位置を検知する検知手段を備え、
前記制御手段は、前記検知手段の検知結果に基づいて、前記液滴吐出ヘッドが前記通常移動範囲から外れて位置しているか否かを判断し、前記初期駆動動作を実行することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１０】
画像形成用の液滴が選択的に付着されることで画像が形成される記録媒体を搬送する搬送手段と、
所定方向に搬送されている前記記録媒体に画像形成用の液滴を吐出して画像形成を形成するように前記記録媒体の搬送方向と直交する幅方向に延在し、前記幅方向の位置をずらすように移動可能に構成された液滴吐出ヘッドと、
前記幅方向に前記液滴吐出ヘッドを移動させるヘッド駆動手段と、
所定の初期基準位置に位置決めされた前記液滴吐出ヘッドの前記幅方向の位置をずらして調整するように前記ヘッド駆動手段を制御する制御手段と、を備えた画像形成装置であって、
前記制御手段として、請求項１乃至９のいずれかの制御手段を備えることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月3日(2018.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
母材と、
前記母材の表面に固定された複数のカーボンナノチューブを有し、
前記母材の表面は凹凸または細孔を有し粗面であり、
前記カーボンナノチューブは、前記母材の表面に直接固定されていることを特徴とする複合体。
【請求項２】
前記母材の表面は、算術平均高さ（Ｓａ）が１μｍ以下の表面粗さであることを特徴とする請求項１記載の複合体。
【請求項３】
前記母材の表面に前記カーボンナノチューブとの親和性を高める親和層が形成されていることを特徴とする請求項１または２記載の複合体。
【請求項４】
前記母材の表面に形成された高分子膜を備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の複合体。
【請求項５】
複数のカーボンナノチューブと分散媒とからなる分散液に表面に凹凸または細孔を有する母材を浸漬し、前記分散液に超音波を照射することで、前記分散液中の前記カーボンナノチューブを前記超音波の振動により前記母材の前記表面の凹凸または細孔の内面まで付着させる付着ステップと、
前記分散液から前記母材を取り出して乾燥させることによって前記分散媒を除去する乾燥ステップと
を有する複合体の製造方法。
【請求項６】
前記母材の前記表面に高分子膜を形成する高分子膜形成ステップを備えることを特徴とする請求項５記載の複合体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月20日(2018.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物換算組成の質量％で、Ｂ２Ｏ３成分を５．０％〜３０．０％、Ｌｎ２Ｏ３成分を２５．０〜５０．０％（式中、ＬｎはＬａ、Ｇｄ、Ｙ、Ｙｂからなる群より選択される１種以上）、Ｎｂ２Ｏ５成分を５．０〜３５．０％、質量比（ＴｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３）／（ＷＯ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０超〜１．５含有し、屈折率が１．８８〜２．００であり、アッベ数が２５〜３８であることを特徴とする光学ガラス。
【請求項２】
酸化物換算組成の質量％で、
ＺｎＯ成分  １．０〜２０．０％、
Ｌａ２Ｏ３成分  １５．０〜５０．０％
Ｇｄ２Ｏ３成分  ０〜１５．０％
Ｙ２Ｏ３成分  ０〜１５．０％
Ｙｂ２Ｏ３成分  ０〜１０．０％
ＳｉＯ２成分  ０〜１５．０％、
ＴｉＯ２成分  ０〜１５．０％、
ＺｒＯ２成分  ０〜１５．０％、
ＷＯ３成分  ０〜３０．０％、
ＭｇＯ成分  ０〜１０．０％、
ＣａＯ成分  ０〜１５．０％、
ＳｒＯ成分  ０〜１５．０％、
ＢａＯ成分  ０〜１５．０％、
Ｌｉ２Ｏ成分  ０〜１０．０％
Ｎａ２Ｏ成分  ０〜１０．０％、
Ｋ２Ｏ成分  ０〜１０．０％、
Ｔａ２Ｏ５成分  ０〜１０．０％、
Ｐ２Ｏ５成分  ０〜１０．０％、
ＧｅＯ２成分  ０〜１０．０％、
Ａｌ２Ｏ３成分  ０〜１０．０％、
Ｇａ２Ｏ３成分  ０〜１０．０％、
Ｂｉ２Ｏ３成分  ０〜１０．０％、
ＴｅＯ２成分  ０〜５．０％、及び
ＳｎＯ２成分  ０〜１．０％を含有し
外割りの質量％でＳｂ２Ｏ３成分  ０〜１．０％
である請求項１記載の光学ガラス。
【請求項３】
部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、（−０．００１７×νｄ＋０．６３２４）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１７×νｄ＋０．６５４７）の関係を満たすことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光学ガラス。
【請求項４】
日本光学硝子工業会規格ＪＯＧＩＳ１２−１９９４「光学ガラスの泡の測定方法」の表１に示されている１００ｍｌのガラス中における泡の断面積の総和が級１〜３であり、かつ、日本光学硝子工業会規格ＪＯＧＩＳ１３−１９９４「光学ガラスの異物の測定方法」の表１に示されている１００ｍｌのガラス中における異物の断面積の総和が級１〜３であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の光学ガラス。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか記載の光学ガラスからなる光学素子。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか記載の光学ガラスからなる研磨加工用及び／又は精密プレス成形用のプリフォーム。
【請求項７】
請求項６記載のプリフォームを精密プレスしてなる光学素子。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月29日(2018.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
2017019744.tif 000001
で表される化合物を、溶媒中、トリクロロイソシアヌル酸と反応させることによる、式（２ａ）
2017019744.tif 000002
で表される化合物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月12日(2018.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（０００１）面に対し、傾斜角度が４５°以上１３５°以下で、傾斜方向が＜１０−１０＞方向を中心とする±５°の範囲内の方向であるおもて面と、該おもて面とは反対側の主表面である裏面と、当該基板の中心から見て⊥ｃ方向に位置する第１の側面と、を有するＧａＮ基板であって、
該おもて面または裏面の面方位とのズレが１０°以下の主表面を持つＧａＮシードの該主表面上に成長したバルクＧａＮ結晶で形成されており、
該第１の側面にＸ線を入射したときに｛１１−２０｝面のＸ線回折ピークが得られることを特徴とするＧａＮ基板。
【請求項２】
前記第１の側面にＸ線を入射したときに得られる｛１１−２０｝面のＸ線回折ピークが、Ｘ線としてＣｕＫα1を用い回折Ｘ線の２θ角を｛１１−２０｝面のブラッグ角の２倍に固定しつつ入射Ｘ線の入射角θを変化させるθスキャンを行うことにより得られる回折ピークである、請求項１に記載のＧａＮ基板。
【請求項３】
前記第１の側面とは反対側に第２の側面を有し、該第２の側面にＸ線を入射したときに｛１１−２０｝面のＸ線回折ピークが得られる、請求項１または２に記載のＧａＮ基板。
【請求項４】
前記第２の側面にＸ線を入射したときに得られる｛１１−２０｝面のＸ線回折ピークが、Ｘ線としてＣｕＫα1を用い回折Ｘ線の２θ角を｛１１−２０｝面のブラッグ角の２倍に固定しつつ入射Ｘ線の入射角θを変化させるθスキャンを行うことにより得られる回折ピークである、請求項３に記載のＧａＮ基板。
【請求項５】
前記おもて面が略矩形である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のＧａＮ基板。
【請求項６】
前記バルクＧａＮ結晶は、アルカリ金属およびハロゲンの濃度が１×１０15ｃｍ-3未満かつ４５０ｎｍにおける吸収係数が２ｃｍ-1以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のＧａＮ基板。
【請求項７】
前記バルクＧａＮ結晶の赤外吸収スペクトルの３１００〜３５００ｃｍ−１には、ガリウム空孔−水素複合体（gallium vacancy‐hydrogen complex）に帰属するピークが観察さ
れない、請求項１〜６のいずれか一項に記載のＧａＮ基板。