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【手続補正書】
【提出日】平成29年12月8日(2017.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査対象を含む所定の空間に気体を加圧導入した後、前記空間を密閉し、密閉後の前記空間の圧力を圧力計で測定して前記検査対象に漏れがあるか否かを判定するリーク検査装置において、
前記空間を構成する管路が行き止まりになる箇所に滞留する気体を外部に排出する滞留気体排出部を設けた
ことを特徴とするリーク検査装置。
【請求項２】
前記滞留気体排出部は、
前記圧力計の検出口に至る管路の前記検出口の近傍に設けられた掃気口と、
前記掃気口を開閉すると共に、掃気する際に開かれる開閉弁と、
を有する
ことを特徴とする請求項１に記載のリーク検査装置。
【請求項３】
前記圧力計は、第１検出口と第２検出口とを備え、これらに加わる圧力差を検出する差圧計であり、
前記空間は、前記差圧計の前記第１検出口側の第１空間と前記第２検出口側の第２空間であり、
前記検査対象は、前記第１空間に含まれ、
前記第１空間と前記第２空間を個別に前記密閉し、
前記掃気口として、前記第１空間の一部であって前記第１検出口に至る第１管路のうちの前記第１検出口の近傍に設けられた第１掃気口と、前記第２空間の一部であって前記第２検出口に至る第２管路のうちの前記第２検出口の近傍に設けられた第２掃気口を備える
ことを特徴とする請求項２に記載のリーク検査装置。
【請求項４】
前記第１掃気口と前記第２掃気口を連通させる接続管路を備え、
前記開閉弁は、前記接続管路を開通状態と閉鎖状態に切り替えるサブ開閉弁と、前記接続管路を外部に連通させるか否かを切り替えるメイン開閉弁とを備え、
これらの開閉弁を開くときは、前記サブ開閉弁を開いてから前記メイン開閉弁を開き、閉じるときは、前記メイン開閉弁を閉じてから前記サブ開閉弁を閉じる
ことを特徴とする請求項３に記載のリーク検査装置。
【請求項５】
前記サブ開閉弁として、第１サブ開閉弁と第２サブ開閉弁を備え、
前記メイン開閉弁は、前記第１サブ開閉弁と前記第２サブ開閉弁の間の前記接続管路に設けられ、
これらの開閉弁を開くときは、前記第１サブ開閉弁と第２サブ開閉弁を開いてから前記メイン開閉弁を開き、閉じるときは、前記メイン開閉弁を閉じてから前記第１サブ開閉弁と前記第２サブ開閉弁を閉じる
ことを特徴とする請求項４に記載のリーク検査装置。
【請求項６】
前記第２管路の途中に貫通型の容器を設けた
ことを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１つに記載のリーク検査装置。
【請求項７】
前記滞留気体排出部は、排気弁に向かう管路の途中の分岐箇所であって分岐した分岐管が前記加圧導入の際に行き止まりになる分岐箇所に設けられ、上流から到来する気体が前記分岐管に流れ込み、前記分岐管内に滞留している気体を巻き込んで排気弁側の管路に出ていくような気体の流れを生成する滞留防止機構であり、
前記空間を、加圧もしくは掃気する際に、前記排気弁から気体を逃がしながら加圧もしくは掃気を行う
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１つに記載のリーク検査装置。
【請求項８】
検査対象を含む所定の空間に気体を加圧導入した後、前記空間を密閉し、密閉後の前記空間の圧力を圧力計で測定して前記検査対象に漏れがあるか否かを判定するリーク検査方法であって、
前記空間を構成する管路が行き止まりになる箇所に滞留気体排出部を設けて、前記行き止まりになる箇所に滞留する気体を外部に排出する
ことを特徴とするリーク検査方法。
【請求項９】
前記滞留気体排出部は、前記圧力計の検出口に至る管路の前記検出口の近傍に設けられた掃気口と、前記掃気口を開閉する開閉弁を有し、
前記空間を掃気する際に前記開閉弁を開く
ことを特徴とする請求項８に記載のリーク検査方法。
【請求項１０】
前記滞留気体排出部は、排気弁に向かう管路の途中の分岐箇所であって分岐した分岐管が前記加圧導入の際に行き止まりになる分岐箇所に設けられ、上流から到来する気体が前記分岐管に流れ込み、前記分岐管内に滞留している気体を巻き込んで排気弁側の管路に出ていくような気体の流れを生成する滞留防止機構であり、
前記空間を、加圧もしくは掃気する際に、前記排気弁から気体を逃がしながら加圧もしくは掃気を行う
ことを特徴とする請求項８または９に記載のリーク検査方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
［５］前記サブ開閉弁として、第１サブ開閉弁と第２サブ開閉弁を備え、
前記メイン開閉弁は、前記第１サブ開閉弁と前記第２サブ開閉弁の間の前記接続管路に設けられ、
これらの開閉弁を開くときは、前記第１サブ開閉弁と第２サブ開閉弁を開いてから前記メイン開閉弁を開き、閉じるときは、前記メイン開閉弁を閉じてから前記第１サブ開閉弁と前記第２サブ開閉弁を閉じる
ことを特徴とする［４］に記載のリーク検査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月29日(2018.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＧＰＳ測位情報を取得するＧＰＳ情報取得手段と、
前記ＧＰＳ情報取得手段によって取得された前記ＧＰＳ測位情報を地図情報におけるリンクにマップマッチングするマップマッチング手段と、
前記マップマッチング手段によって前記ＧＰＳ測位情報がマッチングされるリンクが変わった場合に、当該リンクが変わる前後に取得された前記ＧＰＳ測位情報に基づいて、当該リンクが変わる前後に取得された前記ＧＰＳ測位情報のマッチング位置を補正する位置補正手段と、
を備えることを特徴とする電子機器。
【請求項２】
前記マップマッチング手段によって前記ＧＰＳ測位情報がマッチングされるリンクが変わった場合に、当該リンクが変わる前後に取得された前記ＧＰＳ測位情報に基づいて、当該リンクが変わる前後に取得された前記ＧＰＳ測位情報のマッチング位置を補正するための位置補正情報を取得する位置補正情報取得手段を更に備え、
前記位置補正手段は、前記位置補正情報取得手段によって取得された前記位置補正情報に基づいて、前記ＧＰＳ測位情報のマッチング位置を補正することを特徴とする請求項１に記載の電子機器。
【請求項３】
前記位置補正情報取得手段は、
前記マップマッチング手段によって前記ＧＰＳ測位情報がマッチングされるリンクが変わった場合に、当該リンクが変わる前後に取得された前記ＧＰＳ測位情報の差分から移動成分を算出し、当該移動成分に基づく位置関係を維持したまま、前記リンクが変わる前後に取得された前記ＧＰＳ測位情報に基づく各位置を前記リンクが変わる前後の各リンク上に平行移動させ、その移動方向及び移動量を前記位置補正情報として取得することを特徴とする請求項２に記載の電子機器。
【請求項４】
前記位置補正情報取得手段によって取得された前記位置補正情報によって、前記マップマッチング手段による前記リンクが変わる前のマップマッチング結果を修正する履歴修正手段を備えることを特徴とする請求項２又は３に記載の電子機器。
【請求項５】
前記位置補正手段は、前記位置補正情報取得手段によって取得された前記位置補正情報を、前記ＧＰＳ測位情報がマッチングされる前記リンクが次に変わるまで維持することを特徴とする請求項２から４のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項６】
前記位置補正情報取得手段は、前記マップマッチング手段によって前記ＧＰＳ測位情報がマッチングされる前記リンクが設定時間以上変わらない場合、取得された前記位置補正情報を減少させることを特徴とする請求項２から５のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項７】
前記履歴修正手段は、前記位置補正情報取得手段によって取得された前記位置補正情報を時間軸上又は距離上で分配して、前記マップマッチング結果を修正することを特徴とする請求項４に記載の電子機器。
【請求項８】
電子機器で実行される位置補正方法であって、
ＧＰＳ測位情報を取得するＧＰＳ情報取得ステップと、
前記ＧＰＳ情報取得ステップにおいて取得された前記ＧＰＳ測位情報を地図情報におけるリンクにマップマッチングするマップマッチングステップと、
前記マップマッチングステップにおいて前記ＧＰＳ測位情報がマッチングされるリンクが変わった場合に、当該リンクが変わる前後に取得された前記ＧＰＳ測位情報に基づいて、当該リンクが変わる前後に取得された前記ＧＰＳ測位情報のマッチング位置を補正する位置補正ステップと、
を含むことを特徴とする位置補正方法。
【請求項９】
電子機器を制御するコンピュータに、
ＧＰＳ測位情報を取得するＧＰＳ情報取得機能と、
前記ＧＰＳ情報取得機能によって取得された前記ＧＰＳ測位情報を地図情報におけるリンクにマップマッチングするマップマッチング機能と、
前記マップマッチング機能によって前記ＧＰＳ測位情報がマッチングされるリンクが変わった場合に、当該リンクが変わる前後に取得された前記ＧＰＳ測位情報に基づいて、当該リンクが変わる前後に取得された前記ＧＰＳ測位情報のマッチング位置を補正する位置補正機能と、
を実現させることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明の一態様の電子機器は、
ＧＰＳ測位情報を取得するＧＰＳ情報取得手段と、
前記ＧＰＳ情報取得手段によって取得された前記ＧＰＳ測位情報を地図情報におけるリンクにマップマッチングするマップマッチング手段と、
前記マップマッチング手段によって前記ＧＰＳ測位情報がマッチングされるリンクが変わった場合に、当該リンクが変わる前後に取得された前記ＧＰＳ測位情報に基づいて、当該リンクが変わる前後に取得された前記ＧＰＳ測位情報のマッチング位置を補正する位置補正手段と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月11日(2018.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
建物の構造骨組部に沿って設置される断熱下地部材であって、
前記構造骨組部の断熱対象部分に沿って配置される断熱板と、
前記断熱板を補強する下地補強部材と、を備え、
前記断熱板は、前記断熱対象部分の正面に対向する主覆部と、前記主覆部の両側縁から屈曲して設けられると共に、前記断熱対象部分の両側面に対向する一対の側覆部と、を備え、
前記下地補強部材は、前記断熱板の前記断熱対象部分側となる内表面に設けられると共に、一方の前記側覆部から前記主覆部を超えて他方の前記側覆部まで連続して配置されていることを特徴とする断熱下地部材。
【請求項２】
前記下地補強部材は、厚さが０．４ｍｍ以上で、且つ１．２ｍｍ以下の金属板である請求項１に記載の断熱下地部材。
【請求項３】
前記断熱板の外表面に沿って設けられた不燃板を更に備える請求項１又は２に記載の断熱下地部材。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載の断熱下地部材と、
前記構造骨組部と、を備えた断熱下地構造。
【請求項５】
前記構造骨組部は、鉄骨柱又は鉄骨梁であり、
前記鉄骨柱又は前記鉄骨梁に隣設する構造下地を有し、
前記下地補強部材は、前記構造下地に対して固定されている請求項４に記載の断熱下地構造。
【請求項６】
前記建物は、外壁板を有し、
前記構造下地は、前記外壁板に固定されている請求項５に記載の断熱下地構造。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月5日(2018.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
躯体天井部から垂下する複数の吊りボルト間に架設される複数の野縁受けや振れ止めなどのチャンネル状の天井下地材に対して、その上面側又は下面側に直交させて配設されるチャンネル状の耐震用補強下地材を連結固定するための下地材固定金具であって、
該下地材固定金具は、直交する下地材の開口側から配設されるよう、下側下地材の裏面側上面部と上側下地材の下面部に跨って支持受けする略矩形状の下面支持片を有する下面固定部材と、上側下地材の裏面側下面部と下側下地材の上面部に跨って支持受けする略矩形状の上面支持片を有する上面固定部材とを組みとして上下一対に備えると共に、
前記下面支持片に、上側下地材の側面部に係合してビス固定される立上り固定片を折曲形成する一方、前記上面支持片に、下側下地材の側面部に係合してビス固定される垂下固定片を折曲形成せしめて、
前記下面支持片と上面支持片とを、挿通された締結手段の締め付け操作によって挟み込み挟持させた状態で、対面する下地材の上面部と下面部同士を互いに圧着させて挟持固定可能に構成し、
直交する下地材同士を、前記下面固定部材と上面固定部材とによる前記挟持固定状態で組み付け調整を行いつつ、前記立上り固定片と垂下固定片とをそれぞれビス固定することにより位置ズレ規制可能に構成されていることを特徴とする下地材固定金具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明の下地材固定金具は、躯体天井部から垂下する複数の吊りボルト間に架設される複数の野縁受けや振れ止めなどのチャンネル状の天井下地材に対して、その上面側又は下面側に直交させて配設されるチャンネル状の耐震用補強下地材を連結固定するための下地材固定金具であって、該下地材固定金具は、直交する下地材の開口側から配設されるよう、下側下地材の裏面側上面部と上側下地材の下面部に跨って支持受けする略矩形状の下面支持片を有する下面固定部材と、上側下地材の裏面側下面部と下側下地材の上面部に跨って支持受けする略矩形状の上面支持片を有する上面固定部材とを組みとして上下一対に備えると共に、前記下面支持片に、上側下地材の側面部に係合してビス固定される立上り固定片を折曲形成する一方、前記上面支持片に、下側下地材の側面部に係合してビス固定される垂下固定片を折曲形成せしめて、前記下面支持片と上面支持片とを、挿通された締結手段の締め付け操作によって挟み込み挟持させた状態で、対面する下地材の上面部と下面部同士を互いに圧着させて挟持固定可能に構成し、直交する下地材同士を、前記下面固定部材と上面固定部材とによる前記挟持固定状態で組み付け調整を行いつつ、前記立上り固定片と垂下固定片とをそれぞれビス固定することにより位置ズレ規制可能に構成されていることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態を好適な実施の形態として例示する耐震用の補強下地材の下地材固定金具を図面に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明の実施形態に係る天井下地の要部斜視図である。この図に示す天井下地には、躯体天井部から所定の間隔を存して垂下される複数の吊りボルト１と、複数の吊りボルト１間に野縁受けハンガー２１を介して吊りボルト１の下端部に支持される野縁受け２（下側天井下地材）と、野縁受け２の上面側や、必要において躯体天井部と野縁受け２との間に図示しない振れ止め固定金具を介して水平状に架設される振れ止め（下側天井下地材）に対し、直交させて配設される耐震用の補強下地材３（上側天井下地材）が含まれている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
叙述の如く構成された本発明の実施の形態において、いま、天井部の下地施工において、耐震用の補強下地材３を下地材固定金具４を介して野縁受け２や振れ止めに直交配設させて取り付けるのであるが、本発明にかかる下地材固定金具４は、直交する下地材の開口側から配設されるよう、下側下地材（野縁受け２や振れ止め）の裏面側上面部と上側下地材（補強下地材３）の下面部に跨って支持受けする略矩形状の下面支持片４１１を有する下面固定部材４１と、上側下地材の裏面側下面部と下側下地材の上面部に跨って支持受けする略矩形状の上面支持片４２１を有する上面固定部材４２とを組みとして上下一対に備えると共に、下面支持片４１１に、上側下地材の側面部に係合してビス固定される立上り固定片４１２を折曲形成する一方、上面支持片４２１に、下側下地材の側面部に係合してビス固定される垂下固定片４２２を折曲形成せしめて、下面支持片４１１と上面支持片４２１とを、挿通された締結手段５（角根丸頭ボルト５ａとナット５ｂ）の締め付け操作によって挟み込み挟持させた状態で、対面する下地材の上面部と下面部同士を互いに圧着させて挟持固定可能に構成し、直交する下地材同士を、下面固定部材４１と上面固定部材４２とによる前記挟持固定状態で組み付け調整を行いつつ、立上り固定片４１２と垂下固定片４２２とをそれぞれビス固定することにより位置ズレ規制可能に構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月21日(2017.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配置面に立設される支柱と、
一方の面を正面として方形状に形成され前記支柱に一方の側部を支持されるフェンスと、
前記フェンスの前記一方の側部の上部で前記支柱側に突出して設けられ前記フェンスの前記正面と同じ側の前記支柱の正面側外面の半周分を支承する上側凹状係合部と、
前記フェンスの前記一方の側部の下部で前記支柱側に突出して設けられ前記支柱の前記正面側外面の半周分を支承する下側凹状係合部と、
前記上側凹状係合部と前記下側凹状係合部との間の前記一方の側部で前記支柱側に突出して設けられ、前記フェンスの前記正面側と反対の前記フェンスの裏面側と同じ側の前記支柱の裏面側外面を支承する中間受部と、
を備える組立式フェンス。
【請求項２】
前記フェンスは、二本の前記支柱の間に設けられ、
一方の前記支柱には、前記フェンスと前記フェンスに隣接する一方の隣接フェンスとが支持され、
前記上側凹状係合部、前記下側凹状係合部および前記中間受部は、前記フェンスおよび前記一方の隣接フェンスの両側の側部に夫々設けられ、
前記一方の支柱に前記フェンスと前記一方の隣接フェンスとが支持されたとき、前記フェンスの前記一方の側部に設けられた前記上側凹状係合部、前記下側凹状係合部および前記中間受部と、前記一方の隣接フェンスの他方の側部に設けられた前記上側凹状係合部、前記下側凹状係合部および前記中間受部とは、干渉しないように上下にずれた高さ位置に夫々設けられる
請求項１記載の組立式フェンス。
【請求項３】
また、各前記支柱の外面には、前記支柱の軸線方向に対して直角な方向に沿って突出する係止部を夫々備え、
前記一方の支柱における前記係止部は、前記一方の支柱に支持された前記フェンスの前記一方の側部に設けられた前記上側凹状係合部、前記下側凹状係合部および前記中間受部のうちのいずれかの下端部を支持し、
他方の前記支柱における前記係止部は、前記フェンスに前記他方の支柱側で隣接する他方の隣接フェンスの前記一方の側部に設けられた前記上側凹状係合部、前記下側凹状係合部７ｂおよび前記中間受部のいずれかの下端部を支持し、前記他方の支柱に支持された前記他方の隣接フェンスの前記一方の側部に設けられた前記上側凹状係合部、前記下側凹状係合部および前記中間受部のいずれかは、前記フェンスの前記他方の側部に設けられた前記上側凹状係合部、前記下側凹状係合部および前記中間受部のうちのいずれかの下端部を支持する
請求項２に記載の組立式フェンス。
【請求項４】
前記支柱の先端には、水平面上において、前記上側凹状係合部の凹状内壁が形成する内接円の曲率半径よりも大きな半径となる外接円を外周に有する頭部が、前記支柱の先端に対して夫々着脱可能に設けられている請求項１乃至３のいずれか１項に記載の組立式フェンス。
【請求項５】
前記支柱の下部には、前記配置面に差し込み可能な差込部が設けられている請求項１乃至４のいずれか１項に記載の組立式フェンス。
【請求項６】
前記支柱の下部には、前記差込部に対して平行な方向に沿って延在する第二の差込部が並設されている請求項５に記載の組立式フェンス。
【請求項７】
前記支柱の下端部には、前記配置面に載置され前記支柱を支持する台座が設けられ、
前記フェンスにおける両側の側部における前記上側凹状係合部、前記下側凹状係合部および前記中間受部が、所定の間隔で立設された二本の前記支柱に夫々係合された状態において、
前記フェンスの下端隅部は、前記台座との間に所定隙間を介して配置される形状に形成され、
前記フェンスの下端は、前記台座が載置された前記配置面との間に所定の下端隙間を設けて配置される形状に形成されている請求項２乃至４のいずれか１項に記載の組立式フェンス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
これによって、一方の支柱３は、正面側外面３ａｆが、第一上側凹状係合部７ａ、第二上側凹状係合部８ａ、第一下側凹状係合部７ｂおよび第二下側凹状係合部８ｂに支承され、一方の支柱３は、裏面側外面３ａｒが、第一中間受部７ｃおよび第二中間受部８ｃに支承される。その結果、フェンス５の一方の側部５１Ｒおよび一方の隣接フェンス６Ｒの他方の側部５１Ｌと、一方の支柱３とは、一方の支柱３が正面側外面３ａｆと裏面側外面３ａｒから挟持された状態で強固に係合する。
フェンス５と他方の支柱４との係合についても同様である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
（１）まず、組立作業者は、一方の隣接フェンス６Ｒの上部を一方の隣接フェンス６Ｒの裏面側に傾け、一方の隣接フェンス６Ｒの第二下側凹状係合部８ｂが、フェンス５の第一下側凹状係合部７ｂと第一中間受部７ｃとの間の支柱３の正面側外面３ａｆに来るように位置決めする（図９）。
（２）次に、一方の隣接フェンス６Ｒの第二上側凹状係合部８ａが一方の支柱３の上端の上を通過するようにしながら、一方の隣接フェンス６Ｒを垂直に立てる（図１０）。このとき、一方の隣接フェンス６Ｒの第二下側凹状係合部８ｂが一方の支柱３の正面側外面３ａｆに、第二中間受部８ｃが一方の支柱３の裏面側外面３ａｒに夫々接触した状態となる。
（３）次に、一方の隣接フェンス６Ｒを下方にスライドさせ、一方の隣接フェンス６Ｒの第二上側凹状係合部８ａの下端部をフェンス５の第一上側凹状係合部７ａの上端に係止させる。最後に、組立作業者は、頭部３ｂをボルト３ｂ２で組み付ける。
これによって、一方の支柱３は、正面側外面３ａｆが、第一上側凹状係合部７ａ、第二上側凹状係合部８ａ、第一下側凹状係合部７ｂおよび第二下側凹状係合部８ｂに支承され、裏面側外面３ａｒが、第一中間受部７ｃおよび第二中間受部８ｃに支承される。その結果、フェンス５の一方の側部５１Ｒおよび一方の隣接フェンス６Ｒの他方の側部５１Ｌと、一方の支柱３とは、一方の支柱３が正面側外面３ａｆと裏面側外面３ａｒから挟持された状態で強固に係合する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
１…組立式フェンス、３…一方の支柱（支柱）、３ａｆ…正面側外面、３ａｒ…裏面側外面、３ｂ…頭部、３ｃ…係止部、３ｄ…差込部、３ｅ…第二の差込部、４…他方の支柱、４ａｆ…正面側外面、４ａｒ…裏面側外面、４ｃ…係止部、５…フェンス、５ｆ…正面、５ｒ…裏面、５１Ｌ…他方の側部、５１Ｒ…一方の側部、６Ｌ…他方の隣接フェンス、６Ｒ…一方の隣接フェンス、７ａ…第一上側凹状係合部（上側凹状係合部）、７ｂ…第一下側凹状係合部（下側凹状係合部）、７ｃ…第一中間受部（中間受部）、８ａ…第二上側凹状係合部（上側凹状係合部）、８ｂ…第二下側凹状係合部（下側凹状係合部）、８ｃ…第二中間受部（中間受部）、２１…組立式フェンス、２２…台座、２２ｈ…支持穴、２３…一方の支柱（支柱）、２４…他方の支柱（支柱）、２５…フェンス、２５ａ…下端隅部、２５ｂ…下端、ｔ１…所定隙間、ｔ２…下端隙間。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月20日(2018.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
旋回体と、
該旋回体に取り付けられたアタッチメントと、
該アタッチメントの姿勢を検出する姿勢センサと、
前記アタッチメントの操作をガイダンスするガイダンス装置と
を有し、
前記ガイダンス装置は、
前記旋回体の旋回速度と前記姿勢センサの検出値とに基づいて前記アタッチメントの高さを算出する、ショベル。
【請求項２】
旋回体と、
該旋回体に取り付けられたアタッチメントと、
該アタッチメントの姿勢を検出する姿勢センサと、
前記旋回体に取り付けられた傾斜センサと、
前記アタッチメントの操作をガイダンスするガイダンス装置と
を有し、
前記ガイダンス装置は、
前記姿勢センサの検出値に基づいて、前記アタッチメントの高さを算出し、
予め設定された目標高さを前記旋回体の旋回速度に基づいて補正してから出力し、
前記算出された高さと、前記補正された目標高さとを比較し、
比較結果に基づいてガイダンスを行なう、ショベル。
【請求項３】
請求項１又は２記載のショベルであって、
前記旋回体の旋回速度として、旋回速度センサにより検出した旋回速度を用いる、ショベル。
【請求項４】
請求項１又は２記載のショベルであって、
前記旋回体の旋回速度として、メインポンプの吐出流量から推定した旋回速度を用いる、ショベル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そこで、本発明は、旋回体が旋回中であっても旋回による影響を除去できるショベルを提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上述の目的を達成するために、本発明の一実施形態によれば、旋回体と、該旋回体に取り付けられたアタッチメントと、該アタッチメントの姿勢を検出する姿勢センサと、前記アタッチメントの操作をガイダンスするガイダンス装置とを有し、前記ガイダンス装置は、前記旋回体の旋回速度と前記姿勢センサの検出値とに基づいて前記アタッチメントの高さを算出する、ショベルが提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月10日(2018.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
運動器具を用いたスイングを解析する運動解析装置であって、
運動器具のシャフト部の軸の回りに発生する角速度を取得する取得部と、
スイングにおける打球のインパクトを検出する検出部と、
前記インパクトに発生する前記角速度に基づいて、運動器具の打球部の打球面に設定した基準位置から打球の位置までの距離を算出する算出部と、
を有し、
前記算出部は、予め取得された、インパクトに発生する角速度と基準位置から打球の位置までの距離との相関関係を示した関係情報を参照して、前記距離を算出する、
ことを特徴とする運動解析装置。
【請求項２】
請求項１に記載の運動解析装置であって、
前記関係情報の角速度は、予め取得された、運動器具の打球部のインパクト時のスピードで除算されており、
前記算出部は、前記インパクトに発生する前記角速度を、スイングされた運動器具の打球部のインパクト時のスピードで除算し、除算して得られた値に基づいて前記関係情報を参照して、前記距離を算出する、
ことを特徴とする運動解析装置。
【請求項３】
請求項１に記載の運動解析装置であって、
前記関係情報は、予め運動器具の打球部の形状に応じて取得され、
前記算出部は、スイングされた運動器具の打球部の形状に応じた前記関係情報を参照して前記距離を算出する、
ことを特徴とする運動解析装置。
【請求項４】
請求項１に記載の運動解析装置であって、
前記関係情報の角速度は、予め取得されたテークバック距離で除算されており、
前記算出部は、前記インパクトに発生する前記角速度を、スイングされた運動器具のテークバック距離で除算し、除算して得られた値に基づいて前記関係情報を参照して、前記距離を算出する、
ことを特徴とする運動解析装置。
【請求項５】
請求項１に記載の運動解析装置であって、
前記関係情報の角速度は、予め取得されたテークバック角度で除算されており、
前記算出部は、前記インパクトに発生する前記角速度を、スイングされた運動器具のテークバック角度で除算し、除算して得られた値に基づいて前記関係情報を参照して、前記距離を算出する、
ことを特徴とする運動解析装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の運動解析装置であって、
前記算出部は、前記インパクト前の前記角速度の平均値を算出し、前記インパクトに発生する前記角速度から前記平均値を減算した値に基づいて前記距離を算出する、
ことを特徴とする運動解析装置。
【請求項７】
運動器具のシャフト部の軸の回りに発生する角速度を取得する取得工程と、
スイングにおける打球のインパクトを検出する検出工程と、
前記インパクトに発生する前記角速度に基づいて、運動器具の打球部の打球面に設定した基準位置から打球の位置までの距離を算出する算出工程と、
を含み、
前記算出工程は、予め取得された、インパクトに発生する角速度と基準位置から打球の位置までの距離との相関関係を示した関係情報を参照して、前記距離を算出する、
ことを特徴とする運動解析方法。
【請求項８】
運動器具のシャフト部の軸の回りに発生する角速度を取得する取得工程と、
スイングにおける打球のインパクトを検出する検出工程と、
前記インパクトに発生する前記角速度に基づいて、運動器具の打球部の打球面に設定した基準位置から打球の位置までの距離を算出する算出工程と、
をコンピューターに実行させ、
前記算出工程は、予め取得された、インパクトに発生する角速度と基準位置から打球の位置までの距離との相関関係を示した関係情報を参照して、前記距離を算出する、
ことを特徴とするプログラム。
【請求項９】
運動器具のシャフト部の軸の回りの角速度を計測する慣性センサーと、
前記運動器具を用いたスイングを解析する運動解析装置と、を有する運動解析システムであって、
前記運動解析装置は、
前記角速度を取得する取得部と、
スイングにおける打球のインパクトを検出する検出部と、
前記インパクトに発生する前記角速度に基づいて、運動器具の打球部の打球面に設定した基準位置から打球の位置までの距離を算出する算出部と、
を有し、
前記算出部は、予め取得された、インパクトに発生する角速度と基準位置から打球の位置までの距離との相関関係を示した関係情報を参照して、前記距離を算出する、
ことを特徴とする運動解析システム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月1日(2018.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抽選を行う抽選手段と、
前記抽選手段による抽選に用いる抽選テーブルと
を備え、
前記抽選テーブルには、数値データと、ループ変数データとが記憶され、
前記抽選手段は、
前記抽選テーブルからループ変数データを取得可能とし、
前記抽選テーブルに記憶された数値データを用いて所定演算を実行し、
前記所定演算の結果が所定結果とならなかった場合には、ループ変数データを更新し、更新したループ変数データが「１」以上のときは、前記抽選テーブルに記憶された数値データを用いて前記所定演算を実行し、
前記所定演算の結果が前記所定結果となった場合には、ループ変数データに基づいて抽選結果を決定可能に構成されている
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、以下の解決手段によって上述の課題を解決する。なお、かっこ書きで、対応する実施形態の構成を示す。
本発明（第４実施形態）は、
抽選を行う抽選手段（メイン制御基板６０上のＭＰＵによる図３０の抽選処理）と、
前記抽選手段による抽選に用いる抽選テーブル（図２９の前兆遊技回数抽選テーブル（ＴＢＬ＿ＤＡＴＡ２１））と
を備え、
前記抽選テーブルには、数値データ（図２９中の１１個の置数（「６４」、「３２」、「１６」など））と、ループ変数データ（図２９中のループ変数の初期値「１１」）とが記憶され、
前記抽選手段は、
前記抽選テーブルからループ変数データを取得可能とし（図３０のステップＳ５０３）、
前記抽選テーブルに記憶された数値データを用いて所定演算を実行し（図３０のステップＳ５０６）、
前記所定演算の結果が所定結果とならなかった（図３０のステップＳ５０７で「Ｎｏ」の）場合には、ループ変数データを更新し（図３０のステップＳ５０８）、更新したループ変数データが「１」以上（図３０のステップＳ５０４で「Ｎｏ」）のときは、前記抽選テーブルに記憶された数値データを用いて前記所定演算を実行し（図３０のステップＳ５０６）、
前記所定演算の結果が前記所定結果となった（図３０のステップＳ５０７で「Ｙｅｓ」の）場合には、ループ変数データに基づいて抽選結果を決定可能（図３０のステップＳ５０９）に構成されている
ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明によれば、抽選結果（当選番号）を記憶したテーブルを備えることなく、抽選結果（当選番号）を決定することができるので、抽選結果（当選番号）を記憶したテーブルを備えなくて済む分、メモリ容量を削減することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月6日(2017.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
繊維を含む原料を解繊物に解繊する解繊部と、
前記解繊部により解繊された前記解繊物を選別する選別部と、
前記選別部により選別された前記解繊物を堆積させウェブを形成するウェブ形成部と、
前記ウェブの厚さを検出する検出部と、
を有することを特徴とするシート製造装置。
【請求項２】
前記選別部は、
前記解繊物を選別するための複数の開口を有するドラム部と、
前記ドラム部を覆うハウジング部と、
を含み、
前記ウェブ形成部は、
前記選別部よりも重力方向下方に位置し、前記選別部により選別された前記解繊物が堆積されるメッシュベルトと、
前記メッシュベルトの重力方向下方から前記ハウジング部内の空気を吸引する吸引部と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載のシート製造装置。
【請求項３】
前記検出部により検出された厚さに基づいて前記解繊物の流量を導出する導出部を有することを特徴とする請求項１または２に記載のシート製造装置。
【請求項４】
前記ウェブを移送する管と、
前記管に添加物を供給する供給部と、
前記導出部により導出された前記解繊物の流量に基づいて、前記供給部により供給される添加物の量を制御する制御部と、
を有することを特徴とする請求項３に記載のシート製造装置。
【請求項５】
前記シート製造装置内の温度を検出する温度検出部を有し、
前記導出部は、前記温度検出部により検出された温度に基づいて、前記解繊物の流量を導出することを特徴とする請求項３または４に記載のシート製造装置。
【請求項６】
前記シート製造装置内の湿度を検出する湿度検出部を有し、
前記導出部は、前記湿度検出部により検出された湿度に基づいて、前記解繊物の流量を導出することを特徴とする請求項３〜５の何れか１項に記載のシート製造装置。
【請求項７】
繊維を含む原料を解繊物に解繊する工程と、
解繊された前記解繊物を選別する工程と、
選別された前記解繊物を堆積してウェブを形成する工程と、
前記ウェブの厚さを検出する工程と、
前記ウェブを下流に搬送する工程と、
検出された前記ウェブの厚さに応じて前記ウェブを下流に搬送する流量を導出する工程と、
を有することを特徴とするシート製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係るシート製造装置の一態様は、
繊維を含む原料を解繊物に解繊する解繊部と、
前記解繊部により解繊された前記解繊物を選別する選別部と、
前記解繊物が堆積したウェブを形成するウェブ形成部と、
前記ウェブの厚さを検出する検出部と、
ほぐされた前記ウェブを堆積させる堆積部と、
を有する。
また、本発明に係るシート製造装置の一態様は、
繊維を含む原料を解繊物に解繊する解繊部と、
前記解繊部により解繊された前記解繊物を選別する選別部と、
前記選別部により選別された前記解繊物を堆積させウェブを形成するウェブ形成部と、
前記ウェブの厚さを検出する検出部と、
を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明に係るシート製造装置において、
前記ウェブをほぐして前記堆積部に移送する管と、
前記管に添加物を供給する供給部と、
前記導出部により導出された前記解繊物の流量に基づいて、前記供給部により供給され
る添加物の量を制御する制御部と、
を有してもよい。
また、本発明に係るシート製造装置において、
前記ウェブを移送する管と、
前記管に添加物を供給する供給部と、
前記導出部により導出された前記解繊物の流量に基づいて、前記供給部により供給される添加物の量を制御する制御部と、
を有していてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明に係るシート製造方法の一態様は、
繊維を含む原料を解繊物に解繊する工程と、
解繊された前記解繊物を選別する工程と、
選別された前記解繊物を堆積してウェブを形成する工程と、
前記ウェブの厚さを検出する工程と、
ほぐされた前記ウェブを堆積させる工程と、
を有する。
また、本発明に係るシート製造方法の一態様は、
繊維を含む原料を解繊物に解繊する工程と、
解繊された前記解繊物を選別する工程と、
選別された前記解繊物を堆積してウェブを形成する工程と、
前記ウェブの厚さを検出する工程と、
前記ウェブを下流に搬送する工程と、
検出された前記ウェブの厚さに応じて前記ウェブを下流に搬送する流用を導出する工程と、
を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月9日(2018.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同軸的に位置する二つの主軸部と、それら二つの主軸部間において、該主軸部に対して偏心して位置する偏心軸部とを有するクランクシャフトの複数が、それぞれ、その軸方向が互いに平行な状態で所定の間隔を隔てて該二つの主軸部においてフレームに回転可能に支持されると共に、それらクランクシャフトの対応する一方の主軸部がそれぞれ該フレームから外方に突出せしめられ、該主軸部の中心軸を回転中心とする該クランクシャフトの回転に基づく該偏心軸部の変位によって、一端部が該偏心軸部に連結されたコネクションロッドの他端部側に連結されたスライドを往復駆動するプレス機であって、
前記複数のクランクシャフトのうちの一つに入力される回転駆動力を、他のクランクシャフトに伝達して、それら複数のクランクシャフトを互いに同期して回転せしめるための第一の連結レバーが、前記偏心軸部のそれぞれに対して取り付けられている一方、
前記複数のクランクシャフトの前記二つの主軸部のうちの一方における前記フレームから外方に突出せしめられた一端部に、それぞれ、前記主軸部の軸方向に直角な方向に延出する偏心レバーが設けられ、更にそれら偏心レバーに対して、該主軸部に対する前記偏心軸部とは異なる周方向位置において、該主軸部の軸方向と平行な方向に突出し、且つその突出方向の端部が該クランクシャフトの一端部よりも外方に位置するピンが、前記偏心軸部よりも小なる径において、それぞれ設けられると共に、それらピンの突出方向の端部に対して、第二の連結レバーがそれぞれ取り付けられて、かかる第一及び第二の連結レバーの協働作用によって、前記回転駆動力が前記他のクランクシャフトに円滑に伝達せしめられるようになっていることを特徴とするプレス機。
【請求項２】
前記スライドが平面視において長手の矩形形状を呈しており、前記複数のクランクシャフトが、それらの軸方向が該スライドの長手方向に対して直角な方向となるようにして、該スライドの長手方向に互いに間隔を隔てて配置されている請求項１に記載のプレス機。
【請求項３】
前記偏心軸部が、軸方向中央部を構成する大径部と、それを挟むようにして軸方向両端部を構成する小径部と、それら大径部と小径部との間に一体的に形成された仕切板部とから構成され、該大径部に対して前記コネクションロッドが連結されている一方、前記小径部に対して前記第一の連結レバーが取り付けられている請求項１又は請求項２に記載のプレス機。
【請求項４】
前記主軸部の中心軸に対する前記ピンの中心軸の偏心量が、該主軸部の中心軸に対する前記偏心軸部の中心軸の偏心量よりも大きくされている請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載のプレス機。
【請求項５】
前記第一の連結レバーが複数設けられており、それら複数の第一の連結レバーのそれぞれによって、互いに隣り合う前記クランクシャフトの前記偏心軸部同士が連結されていると共に、該複数の第一の連結レバーが、前記コネクションロッドの一端部が連結されている部位を挟んで、それぞれ、該偏心軸部の軸方向において互い違いになるように配設されている請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載のプレス機。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月13日(2018.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
横方向に変化のある大きさと、横方向に変化のある形状と、横方向に変化のある間隔と、のうちの少なくとも１つをもつ表面要素として、表面の複数の区画部分を材料の表面上に画定すること、
要素領域あたり単一量のドーパント材料で、前記表面要素下の前記材料の複数の部分にドーピングすること、及び、
前記表面下の前記材料内で前記ドーパント材料を広げて前記表面下の前記材料内におけるドーパント材料の横方向の勾配を提供すること、
を含む方法。
【請求項２】
前記表面の前記複数の区画部分を画定することが、複数の表面の縞、または、複数の表面のマトリックスセル、の少なくとも１つを画定することを含む、
請求項１の方法。
【請求項３】
前記複数の表面の縞、または、前記複数の表面のマトリックスセル、のうちの前記少なくとも１つは、イオンビーム注入マスクまたは拡散マスクの１つにおける開口を含み、及び、前記材料の前記複数の部分の前記ドーピングは、前記開口を通して前記ドーパント材料を注入することと、または拡散することとの１つを含む、
請求項２の方法。
【請求項４】
前記開口が、前記表面要素を画定し、前記表面要素上へのドーパントビームまたはイオンビームの前記１つが、前記材料の前記表面を貫いて前記ドーパント材料を注入し、及び、前記イオンビーム注入マスクまたは前記拡散マスクの前記１つが、前記ドーパントビームまたは前記イオンビームの前記１つをふるいにかける、
請求項３の方法。
【請求項５】
前記材料が、半導体材料を含む、
請求項１の方法。
【請求項６】
前記半導体材料が、ｐ型半導体材料またはｎ型半導体材料の１つを含む、
請求項５の方法。
【請求項７】
前記ドーパント材料が、ｐ型ドーパント材料またはｎ型ドーパント材料の１つを含む、
請求項５の方法。
【請求項８】
前記半導体材料が、半導体装置に含まれる、
請求項５の方法。
【請求項９】
前記半導体装置が、抵抗器、ＢＪＴ、ＪＦＥＴ、またはＭＯＳＦＥＴの１つである、
請求項８の方法。
【請求項１０】
ドーパント材料の量が、前記半導体装置の横方向チャネルに沿って変化している、
請求項９の方法。
【請求項１１】
前記表面要素下の前記材料の前記複数の部分の前記ドーピングが、前記半導体装置の複数のドープされた領域を形成する、
請求項１０の方法。
【請求項１２】
前記横方向チャネルにおける前記複数のドープされた領域の各々における前記ドーパント材料の量は、前記複数のドープされた領域の前記各々における局所的なドーパント濃度により画定される、
請求項１１の方法。
【請求項１３】
前記横方向チャネルにおける前記複数のドープされた領域が、前記半導体装置のソース電極とドレイン電極との間に形成される、
請求項１２の方法。
【請求項１４】
前記半導体装置の前記ドレイン電極の最も近くにおける局所的なドーパント濃度が、前記半導体装置の前記ソース電極の最も近くにおける局所的なドーパント濃度より大きい、
請求項１３の方法。
【請求項１５】
前記半導体装置の前記ドレイン電極の最も近くにおける前記局所的なドーパント濃度が、一様な濃度の領域を形成し、及び、前記半導体装置の前記ソース電極の最も近くにおける前記局所的なドーパント濃度が、前記ソース電極に向かうドーパントの放射状の勾配により、前記ドレイン電極の最も近くにおける前記局所的なドーパント濃度に比べて低い、
請求項１４の方法。
【請求項１６】
前記半導体装置が、高電圧スイッチング装置であり、前記半導体装置の前記ドレイン電極の最も近くにおける前記局所的なドーパント濃度が、約２５％であり、及び、前記ソース電極の最も近くにおける前記局所的なドーパント濃度が、約５％である、
請求項１５の方法。
【請求項１７】
材料の表面上に形成されたマスク層を使用して、前記表面の複数の区画部分を表面要素として画定することであって、
前記表面要素が、中間調勾配に従った横方向に変化のある密度の開口セルを含む複数の表面のマトリックスセルをもたらすように並べられ、
前記複数の表面のマトリックスセルが、前記中間調勾配に従って複数の中間調領域をもたらすように並べられ、
前記複数の中間調領域における各領域が、前記複数の表面のマトリックスセルにおいて異なる密度の前記開口セルを含み、
前記複数の中間調領域における第１の領域が、第１の密度の前記開口セルを含み、
前記複数の中間調領域における第２の領域が、第２の密度の前記開口セルを含み、
前記複数の中間調領域における第３の領域が、第３の密度の前記開口セルを含み、
前記第１の密度が、前記第２の密度より大きく、
前記第２の密度が、前記第３の密度より大きい、
画定することと、
要素領域あたり単一量のドーパント材料で、前記表面要素下の前記材料の複数の部分にドーピングすることと、
前記表面下の前記材料内で前記ドーパント材料を広げて、前記表面下の前記材料内における前記ドーパント材料の横方向の勾配を提供することと、
半導体デバイスを生成するように前記材料にソース電極とドレイン電極とを形成することであって、
前記材料が、半導体材料であり、
前記半導体デバイスの前記ドレイン電極の最も近くにおける局所的なドーパント濃度が、前記半導体デバイスの前記ソース電極の最も近くにおける局所的なドーパント濃度より大きく、
前記第１の領域が、前記ドレイン電極の最も近くに配設され、
前記第３の領域が、前記ソース電極の最も近くに配設され、
前記第２の領域が、前記第１の領域と前記第３の領域との間に配設される、
前記ソース電極と前記ドレイン電極とを形成することと、
を含む方法。
【請求項１８】
前記複数の表面のマトリックスセルにおける前記開口セルの密度が、前記ドレイン電極から前記ソース電極まで放射状に減少する、
請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
第４の密度の前記開口セルを含む前記複数の中間調領域における第４の領域をさらに含み、
前記第４の領域が、前記第３の領域と前記第２の領域との間に横方向に配設され、
前記第４の密度が、前記第２の密度未満であり、前記第３の密度より大きい、
請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月19日(2017.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物の位置を計測する計測装置であって、
前記対象物に形成されたマークを検出して検出信号を生成する検出部と、
前記検出信号に基づいて前記対象物の位置を得る処理部と、を有し、
前記処理部は、前記対象物に対する計測精度に係る許容条件に関する情報に基づいて限定された前記検出信号のうちの部分に基づいて前記対象物の位置を得ることを特徴とする計測装置。
【請求項２】
前記処理部は、
前記検出信号のうちの複数の部分のそれぞれに関して、位置計測誤差を評価し、
前記情報に基づいて、前記位置計測誤差が許容条件を満たす、前記複数の部分のうちの部分を選択し、該部分に基づいて、前記対象物の位置を得る、
ことを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
【請求項３】
前記処理部は、
前記検出信号のうちの複数の部分のそれぞれに関して、位置計測精度を評価し、
前記情報に基づいて、前記位置計測精度が許容条件を満たす、前記複数の部分のうちの部分を選択し、該部分に基づいて、前記対象物の位置を得る、
ことを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
【請求項４】
前記マークは、第１方向に沿って配列された複数のマーク要素を含み、
前記複数の部分は、前記第１方向に直交する方向において前記マークを分割して得られる複数の領域にそれぞれ対応する、ことを特徴とする請求項２又は３に記載の計測装置。
【請求項５】
前記検出信号に占める前記部分の割合を通知する通知部を有することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項６】
前記マークは、第１方向に沿って配列された複数のマーク要素を含み、
前記処理部は、前記複数のマーク要素のうちの一部のマーク要素に対応する、前記位置計測精度が許容条件を満たす前記部分に基づいて、前記対象物の位置を得ることを特徴とする請求項３に記載の計測装置。
【請求項７】
前記複数のマーク要素に占める前記一部のマーク要素の割合を通知する通知部を有することを特徴とする請求項６に記載の計測装置。
【請求項８】
対象物の位置を計測する計測装置であって、
前記対象物に形成されたマークを検出して検出信号を生成する検出部と、
前記検出信号に基づいて前記対象物の位置を得る処理部と、を有し、
前記処理部は、前記対象物に対する計測精度に係る許容条件を前記検出信号が満たす場合、前記検出信号に基づいて前記対象物の位置を得ることを特徴とする計測装置。
【請求項９】
前記処理部は、
前記検出信号に関して位置計測誤差を評価し、
前記位置計測誤差が前記計測精度に係る許容範囲内にある場合、前記検出信号に基づいて前記対象物の位置を得る、
ことを特徴とする請求項８に記載の計測装置。
【請求項１０】
前記位置計測誤差を通知する通知部を有することを特徴とする請求項９に記載の計測装置。
【請求項１１】
前記許容条件に関する情報を入力する入力部を有することを特徴とする請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項１２】
対象物に関してパターン形成を行うリソグラフィ装置であって、
前記対象物を保持して可動の保持部と、
前記対象物の位置を計測する請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載の計測装置と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記対象物は、前記パターン形成のための原版及び前記パターン形成を行われる基板のうち少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載のリソグラフィ装置を用いてパターン形成を基板に行う工程と、
前記工程で前記パターン形成を行われた前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月3日(2018.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の下に配置され、第１導電型半導体層、活性層及び第２導電型半導体層を含む発光構造物と、
前記第２導電型半導体層及び前記活性層を貫通して前記第１導電型半導体層を露出させる複数の第１貫通孔と、
前記複数の第１貫通孔に配置され、前記第１導電型半導体層と接続される第１電極と、
前記第２導電型半導体層と接続された第２電極と、
前記第１電極に接続された第１パッドと、
前記第１パッドと前記第２導電型半導体層との間に配置された絶縁層と、
前記絶縁層を貫通する第２貫通孔を介して前記第２電極に接続され、前記第１パッドと電気的に離隔した第２パッドと、を含み、
前記第２パッドは、前記第２電極の一側に形成された複数のスリットを含む平面コーム形状を有し、
前記第１電極は、
前記第１導電型半導体層と接し、前記第１パッドと垂直に重なる第１部分と、
前記第１及び第２パッドと垂直に重ならずに前記第１部分に接続され、前記複数のスリットのいずれか１つに配置された第２部分とを含み、
前記第２パッドは、平面視で、前記第１電極の前記第２部分とギャップをおいて離隔し、
前記ギャップは、
前記複数のスリットのいずれか１つの幅方向に該当する第１方向に形成された第１距離と、
前記第１方向と垂直な第２方向に形成された第２距離とを含み、
前記第１距離及び前記第２距離のうちの少なくとも１つは５μｍ〜２０μｍである、発光素子パッケージ。
【請求項２】
前記第１電極は、平面視でストリップ（ｓｔｒｉｐ）形状を有する、請求項１に記載の発光素子パッケージ。
【請求項３】
前記第１パッドは第１キャビティを含む、請求項１又は２に記載の発光素子パッケージ。
【請求項４】
前記発光素子パッケージは、
前記第１パッドと接続された第１ソルダ部と、
前記第２パッドと接続された第２ソルダ部とをさらに含む、請求項３に記載の発光素子パッケージ。
【請求項５】
前記第１ソルダ部は、前記第１パッドの前記第１キャビティに埋め込まれた、請求項４に記載の発光素子パッケージ。
【請求項６】
前記第１電極の前記第２部分は複数の第２部分を含み、
前記第２貫通孔は、前記第１電極の前記第２部分の間に配置された、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項７】
前記第１導電型半導体層はｎ型半導体層であり、前記第２導電型半導体層はｐ型半導体層である、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項８】
前記複数のスリットのそれぞれの幅は、前記第１電極の前記第２部分の幅以上である、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項９】
前記発光素子パッケージは、
第２キャビティを含むボディーと、
前記ボディーと前記基板との間に配置されるモールディング部材とをさらに含む、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１０】
前記第２パッドは、前記第１電極の前記第２部分の近くに配置された、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１１】
前記第２パッドの下部面は平坦である、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１２】
前記第２電極は反射層を含む、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１３】
前記第１貫通孔の数は、前記第２貫通孔の数よりも多い、請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１４】
前記複数のスリットのそれぞれの幅は、前記第１電極の前記第２部分の幅よりも大きい、請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１５】
前記第１電極の前記第１部分は前記第２電極に取り囲まれた、請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１６】
前記基板上に配置された蛍光体をさらに含む、請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１７】
前記第１導電型半導体層の下部面は段差をもって形成された、請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１８】
前記発光素子パッケージは、
前記第１ソルダ部に接続された第１リードフレームと、
前記第２ソルダ部に接続された第２リードフレームとをさらに含む、請求項４乃至１７のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１９】
前記第１及び第２パッドのそれぞれは、楕円形または多角形の平面形状を有する、請求項１乃至１８のいずれか一項に記載の発光素子パッケージ。
【請求項２０】
請求項１乃至１９のいずれか一項に記載の発光素子パッケージを含む、照明装置。