【手続補正書】
【提出日】平成30年2月16日(2018.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマチャンバ内のエッジ領域に関連する予め定められた要素を達成するための方法であって、
第１インピーダンス整合回路を介して前記プラズマチャンバ内のメイン電極に高周波（ＲＦ）信号を供給する工程であって、前記ＲＦ信号は、第１ＲＦ発生器の動作周波数に基づいて生成される、工程と、
第２インピーダンス整合回路を介して前記プラズマチャンバ内のエッジ電極に別のＲＦ信号を供給する工程であって、前記別のＲＦ信号は、前記第１ＲＦ発生器の前記動作周波数に基づいて生成される、工程と、
前記第１インピーダンス整合回路の出力に関連する変数の第１測定値を受信する工程と、
前記第２インピーダンス整合回路の出力に関連する前記変数の第２測定値を受信する工程と、
前記第１測定値および前記第２測定値に基づいて、前記別のＲＦ信号の位相を修正する工程と、
前記予め定められた要素を達成するように、第２ＲＦ発生器に関連する変数の大きさを変更する工程と、
を備える、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記大きさを変更する工程は、前記別のＲＦ信号が生成された後および前記別のＲＦ信号の前記位相が修正された後に実行される、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、前記別のＲＦ信号の前記位相を修正する工程は、前記第２測定値の位相から予め定められた範囲内にある前記第１測定値の位相を達成するように、前記位相を修正する工程を含む、方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、前記第２ＲＦ発生器に関連する前記変数は、前記第１および第２インピーダンス整合回路の前記出力に関連する前記変数とは異なる、方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法であって、前記第１測定値を受信する工程は、前記第１インピーダンス整合回路の前記出力から前記第１測定値を受信する工程を含み、前記第２測定値を受信する工程は、前記第２インピーダンス整合回路の前記出力から前記第２測定値を受信する工程を含む、方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、前記メイン電極は、基板を支持して、前記プラズマチャンバ内の中央領域で前記基板を処理するよう構成され、前記エッジ電極は、前記エッジ領域で前記基板を処理するよう構成される、方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、前記メイン電極はチャックであり、前記エッジ電極はエッジリングまたは結合リングである、方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法であって、前記メイン電極は上側電極であり、前記エッジ電極は上側電極延長部である、方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法であって、前記第２ＲＦ発生器は、前記第１ＲＦ発生器の前記動作周波数の予め定められた範囲内にある動作周波数を有するように制御される、方法。
【請求項１０】
エッジ領域に関連する予め定められた要素を達成するためのシステムであって、
メイン電極およびエッジ電極を有するプラズマチャンバと、
前記メイン電極に接続された第１インピーダンス整合回路と、
前記エッジ電極に接続された第２インピーダンス整合回路と、
前記第１インピーダンス整合回路を介して前記メイン電極にＲＦ信号を供給するために前記第１インピーダンス整合回路に接続された第１高周波（ＲＦ）発生器であって、前記ＲＦ信号は、前記第１ＲＦ発生器の動作周波数に基づいて生成される、第１ＲＦ発生器と、
前記第２インピーダンス整合回路を介して前記エッジ電極に別のＲＦ信号を供給するために前記第２インピーダンス整合回路に接続された第２ＲＦ発生器であって、前記別のＲＦ信号は、前記第１ＲＦ発生器の前記動作周波数に基づいて生成される、第２ＲＦ発生器と、
を備え、
前記第２ＲＦ発生器は、前記第１インピーダンス整合回路の出力に関連する変数の第１測定値を受信するよう構成され、
前記第２ＲＦ発生器は、前記第２インピーダンス整合回路の出力に関連する前記変数の第２測定値を受信するよう構成され、
前記第２ＲＦ発生器は、前記第１測定値および前記第２測定値に基づいて、前記別のＲＦ信号の位相を修正するよう構成され、
前記第２ＲＦ発生器は、前記予め定められた要素を達成するように前記第２ＲＦ発生器に関連する変数の大きさを変更するよう構成される、システム。
【請求項１１】
請求項１０に記載のシステムであって、前記大きさは、前記別のＲＦ信号が生成された後および前記別のＲＦ信号の前記位相が修正された後に変更される、システム。
【請求項１２】
請求項１０に記載のシステムであって、前記第１測定値は、前記第１インピーダンス整合回路の前記出力から受信され、前記第２測定値は、前記第２インピーダンス整合回路の前記出力から受信される、システム。
【請求項１３】
請求項１０に記載のシステムであって、前記第２ＲＦ発生器は、前記第２測定値の位相から予め定められた範囲内にある前記第１測定値の位相を達成するように、前記別のＲＦ信号の前記位相を修正するよう構成される、システム。
【請求項１４】
請求項１０に記載のシステムであって、前記第２ＲＦ発生器に関連する前記変数は、前記第１および第２インピーダンス整合回路の前記出力に関連する前記変数とは異なる、システム。
【請求項１５】
請求項１０に記載のシステムであって、前記第２ＲＦ発生器は、前記第１ＲＦ発生器の前記動作周波数の予め定められた範囲内にある動作周波数を有するように制御される、システム。
【請求項１６】
請求項１０に記載のシステムであって、前記メイン電極は、基板を支持して、前記プラズマチャンバ内の中央領域で前記基板を処理するようによう構成され、前記エッジ電極は、前記エッジ領域で前記基板を処理するよう構成される、システム。
【請求項１７】
請求項１０に記載のシステムであって、前記メイン電極はチャックであり、前記エッジ電極はエッジリングまたは結合リングである、システム。
【請求項１８】
請求項１０に記載のシステムであって、前記メイン電極は上側電極であり、前記エッジ電極は上側電極延長部である、システム。
【請求項１９】
プラズマチャンバ内のエッジ領域に関連する予め定められた要素を達成するためのプログラム命令を含む非一時的なコンピュータ読み取り可能媒体であって、コンピュータシステムの１または複数のプロセッサによる前記プログラム命令の実行により、前記１または複数のプロセッサが、
第１インピーダンス整合回路を介して前記プラズマチャンバ内のメイン電極に高周波（ＲＦ）信号を供給する動作であって、前記ＲＦ信号は、第１ＲＦ発生器の動作周波数に基づいて生成される、動作と、
第２インピーダンス整合回路を介して前記プラズマチャンバ内のエッジ電極に別のＲＦ信号を供給する動作であって、前記別のＲＦ信号は、前記第１ＲＦ発生器の前記動作周波数に基づいて生成される、動作と、
前記第１インピーダンス整合回路の出力に関連する変数の第１測定値を受信する動作と、
前記第２インピーダンス整合回路の出力に関連する前記変数の第２測定値を受信する動作と、
前記第１測定値および前記第２測定値に基づいて、前記別のＲＦ信号の位相を修正する動作と、
前記予め定められた要素を達成するように、第２ＲＦ発生器に関連する変数の大きさを変更する動作と、
を実行する、非一時的なコンピュータ読み取り可能媒体。
【請求項２０】
請求項１９に記載の非一時的なコンピュータ読み取り可能媒体であって、前記大きさを変更する動作は、前記別のＲＦ信号が生成された後および前記別のＲＦ信号の前記位相が修正された後に実行される、非一時的なコンピュータ読み取り可能媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
電力量を受信すると、ｘＭＨｚＲＦ発生器またはｘ１ｋＨｚＲＦ発生器は、その電力量を有するＲＦ信号を生成し、ＲＦケーブル１２６を介してＩＭＣ１０８へ供給する。ＩＭＣ１０８は、ＩＭＣ１０８に接続された負荷のインピーダンスとＩＭＣ１０８に接続されたソースのインピーダンスとを整合して、ｘＭＨｚＲＦ発生器またはｘ１ｋＨｚＲＦ発生器から受信したＲＦ信号から変調ＲＦ信号を生成する。変調ＲＦ信号は、ＲＦフィルタ２０８、ＲＦフィルタ２０８に接続された供給リング、および、同軸ケーブル２２０を介して、電極２０２に供給される。電極２０２とエッジリング１１０の下面との間のキャパシタンスは、エッジ領域１０２内のプラズマのインピーダンスを変化させて、さらに、エッジ領域１０２内のイオン束の方向を変えるために、電極２０２が変調ＲＦ信号を受信した時に変化する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
ＤＣバイアスセンサ３５２の一部は、エッジリング１１０の開口部を通してエッジリング１１０内に伸びており、ＤＣバイアスセンサ３５２の残りの部分は、絶縁リング２２８の開口部を通して絶縁リング２２８内に伸びている。ＤＣバイアスセンサ３５２は、ケーブル３５６を介して測定センサ３５４へ接続されている。測定センサ３５４は、エッジリング１１０のＲＦ電力によって生成されたＤＣバイアス（例えば、ＤＣバイアス電圧など）の測定値を提供する。エッジリング１１０のＲＦ電力は、エッジ領域１０２内のプラズマのＲＦ電力に基づく。測定センサ３５４は、転送ケーブル３１０を介してホストコンピュータシステム３０６に接続されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
電力量を受信すると、ｘＭＨｚＲＦ発生器またはｘ１ｋＨｚＲＦ発生器は、その電力量を有するＲＦ信号を生成し、ＲＦケーブル１２６を介してＩＭＣ１０８へ供給する。ＩＭＣ１０８は、ＩＭＣ１０８に接続された負荷のインピーダンスとＩＭＣ１０８に接続されたソースのインピーダンスとを整合して、ｘＭＨｚＲＦ発生器またはｘ１ｋＨｚＲＦ発生器から受信したＲＦ信号から変調ＲＦ信号を生成する。変調ＲＦ信号は、ＲＦフィルタ２０８、ＲＦフィルタ２０８に接続された供給リング、および、同軸ケーブル２２０を介して、電極２０２に供給される。電極２０２とエッジ領域１０２との間のキャパシタンスは、エッジ領域１０２内のプラズマのインピーダンスを変化させて、さらに、エッジ領域１０２内のイオン束の方向を変えるために、電極２０２が変調ＲＦ信号を受信した時に変化する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
ＲＦ発生器１００２およびマスタＲＦ発生器１０１４は、ＲＦ信号を生成する。マスタＲＦ発生器１０１４によって生成されるＲＦ信号は、マスタＲＦ発生器１０１４の動作周波数から予め定められた限度内にある（例えば、同じである、予め格納された限度内にある、など）周波数を有する。マスタＲＦ発生器１０１４によって生成されたＲＦ信号は、ＲＦケーブル１０３６および入力１０４０を介してＩＭＣ１０８へ供給される。同様に、ＲＦ発生器１００２によって生成されたＲＦ信号は、ＲＦケーブル１０３４および入力１０３８を介してＩＭＣ１０８へ供給される。ＩＭＣ１０８は、ＩＭＣ１０８の出力１００８に接続された負荷（例えば、伝送線路１２４およびチャック１１４など）のインピーダンスを、ＩＭＣ１０８の入力１０３４および１０３６に接続されたソース（例えば、ＲＦケーブル１０３４および１０３６、ならびに、ＲＦ発生器１００２および１０１４など）のインピーダンスと整合して、変調ＲＦ信号を生成する。変調ＲＦ信号は、プラズマチャンバ１０４（図１）内でプラズマを生成または維持するために、処理ガスの内の１または複数と共に、ＲＦ伝送線路１２４を介してチャック１１４へ供給する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７０】
さらに、ＲＦ伝送線路１２２を介して送られる変調ＲＦ信号が、スレーブＲＦ発生器１０１２Ｂによって生成された状態Ｓ２に対する予め定められた範囲内の周波数を有するＲＦ信号に基づいて生成されると、ＤＳＰ１１１４は、状態Ｓ２に対して、転送ケーブル１０３０を介して出力１００８に関連する状態Ｓ２に対する変数を受信し、転送ケーブル１０３２を介して出力１０１０に関連する状態Ｓ２に対する変数を受信する。出力１００８に関連する状態Ｓ２に対する変数は、出力１００８に関連する変数の位相を含み、出力１０１０に関連する状態Ｓ２に対する変数は、出力１００８に関連する変数の位相を含む。一例として、状態Ｓ２に対する出力１００８に関連する変数の位相は、状態Ｓ１に対する出力１００８に関連する変数の位相とは異なる（例えば、より小さい、より大きい、など）。別の例として、状態Ｓ２に対する出力１００８に関連する変数の位相は、状態Ｓ１に対する出力１００８に関連する変数の位相と同じである。一例として、状態Ｓ２に対する出力１０１０に関連する変数の位相は、状態Ｓ１に対する出力１０１０に関連する変数の位相とは異なる（例えば、より小さい、より大きい、など）。別の例として、状態Ｓ２に対する出力１０１０に関連する変数の位相は、状態Ｓ１に対する出力１０１０に関連する変数の位相と同じである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７７】
図１４は、マスタＲＦ発生器１０１４Ｂ（図１３）によって生成されたＲＦ信号１４０２、スレーブＲＦ発生器１０１２Ｂ（図１３）によって生成されたＲＦ信号１４０４、および、ＴＴＬ信号１４０６の複数の状態を示すタイミング図の一実施形態の図である。グラフ１４０８は、ＴＴＬ信号１４０４の論理レベル（例えば、０および１、高および低、など）を時間ｔに対してプロットしている。１つの論理レベルが状態Ｓ１に対応し、別の論理レベルが状態Ｓ２に対応する。さらに、グラフ１４１０は、状態Ｓ１およびＳ２のためにマスタＲＦ発生器１０１４Ｂによって生成されたＲＦ信号１４０２の電力レベルを時刻ｔに対してプロットしており、グラフ１４１２は、状態Ｓ１およびＳ２のためにスレーブＲＦ発生器１０１２Ｂによって生成されたＲＦ信号１４０４の電力レベルを時刻ｔに対してプロットしている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３Ｃ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３Ｃ】
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