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【手続補正書】
【提出日】平成30年5月30日(2018.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポンプケースと、
前記ポンプケース内に配置されるプランジャバレルと、
前記プランジャバレル内で軸心方向に沿って移動自在に支持されるプランジャと、
前記プランジャバレルと前記プランジャとにより燃料圧縮室を区画すると共に外部からの燃料を前記燃料圧縮室に吸入可能な吸入弁と、
を備え、
前記プランジャバレルと前記吸入弁は、前記ポンプケース内で長手方向に沿って直線状に配置されると共に、外壁面が前記ポンプケースの内壁面に支持され、
前記プランジャは、リターンスプリングにより前記燃料圧縮室から離間する第１方向に付勢支持され、前記リターンスプリングは、前記ポンプケースと前記プランジャとの間に配置される圧縮コイルばねであり、一端部が前記ポンプケースにおけるばね受け部に弾圧し、他端部が前記プランジャのばね受け部材に弾圧する、
ことを特徴とする燃料噴射ポンプ。
【請求項２】
前記燃料圧縮室の燃料を外部に吐出可能な吐出弁を更に備え、前記プランジャバレルは、前記ポンプケースの内壁面に設けられたストッパにより前記第１方向への移動が拘束され、前記吸入弁と前記吐出弁が直線状に密着して配置された状態で、押え部材により圧縮保持されることを特徴とする請求項１に記載の燃料噴射ポンプ。
【請求項３】
前記プランジャバレルと前記吸入弁と前記吐出弁は、最大外径寸法が同寸法に設定されることを特徴とする請求項２に記載の燃料噴射ポンプ。
【請求項４】
前記吸入弁は、外径が前記ポンプケースの内径より小さい小径部が設けられることで、前記小径部と前記ポンプケースとの間に燃料給排室が形成され、前記燃料給排室は、燃料吸入通路を介して前記燃料圧縮室に連通されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の燃料噴射ポンプ。
【請求項５】
内燃機関の燃焼室に燃料を噴射する燃料噴射弁と、
前記燃料噴射弁に燃料を供給する請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の燃料噴射ポンプと、
前記燃料噴射ポンプにおける前記プランジャの作動を制御する蓄圧管制弁装置と、
を備えることを特徴とする燃料噴射装置。
【請求項６】
請求項５に記載の燃料噴射装置を備えることを特徴とする内燃機関。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月5日(2018.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直列に接続される複数の分岐桁と、
前記分岐桁を移動してモノレール車両の進路を転換する駆動装置と、
からなるモノレール用分岐器であって、
前記駆動装置は、
水平面内で旋回するアームと、
前記アームの先端に備えられるローラと、
を有しており、
前記分岐桁の下面にはその長手方向に沿って前記ローラが係合する溝部が備えられるモノレール用分岐器において、
前記溝部の長手方向の一方の端部に前記ローラの進行を弾性変形によって妨げるストッパが備えられること
を特徴とするモノレール用分岐器。
【請求項２】
請求項１に記載されるモノレール用分岐器において、
前記ストッパは、
円柱状の受圧部と、
前記受圧部を支持する基部と、
から構成されていること
を特徴とするモノレール用分岐器。
【請求項３】
請求項２に記載されるモノレール用分岐器において、
前記溝部の内壁には前記ローラに押圧される一対の当て板が備えられており、
前記受圧部と前記当て板との間に、前記受圧部の弾性変形を阻害しない隙間が備えられること
を特徴とするモノレール用分岐器。
【請求項４】
請求項３に記されるモノレール用分岐器において、
前記ローラが前記受圧部に当接する時、前記ローラが前記当て板に干渉しないように前記当て板の一方の端部がテーパ状に成形されること
を特徴とするモノレール用分岐器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は上記課題を解決するため、次のような手段を採用した。本発明によるモノレール分岐器は、直列に接続される複数の分岐桁と、分岐桁を移動してモノレール車両の進路を転換する駆動装置と、からなるモノレール用分岐器であって、駆動装置は、水平面内で旋回するアームと、このアームの先端に備えられるローラと、を有しており、分岐桁の下面にはその長手方向に沿ってローラが係合する溝部が備えられており、溝部の長手方向の一方の端部にローラの進行を弾性変形によって妨げるストッパが備えられることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
ローラ８は溝９に備えられる当て板９ａの表面（側壁）を押圧しながらガイド９に沿って転動する過程において、分岐桁３ｃをその長手方向に交差する方向に移動する。当て板９ａの長手方向１１０の端部は、ローラ８（アーム７）が所定の場所で停止しなかった際に、軌跡２００に沿って過剰に移動するローラ８が当て板９ａの端部と干渉しないように、テーパ部９ｂが備えられる。テーパ部９ｂを備えることによって、後述する不具合が生じた場合に、ローラ８が当て板９ａに衝突（干渉）することを抑制できるので、駆動装置に大きな衝撃が生じることを回避できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
以上の構成によって、駆動装置６のブレーキ装置の不具合や、駆動装置６を制御する制御装置等が故障した場合でも、駆動装置６がその内部に内蔵する歯車等の駆動機構や、アーム７およびローラ８が破損することを抑制することができるモノレール用分岐装置を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月7日(2018.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部の給水源と接続された給水管を介して、トイレに供給される水の給水及び止水を切り換える給水弁と、
前記トイレの給水又は排水の状態を検出するセンサと、
前記センサの検出結果に基づいて漏水を判定する漏水判定手段と、
前記漏水の判定結果に基づき、前記給水弁を制御して止水させる給水制御手段と、
ネットワークに接続され、前記漏水の判定結果に基づき、当該漏水の情報を前記ネットワークを介して所定のコンピュータに送信する通信手段と、
を有するトイレシステム。
【請求項２】
前記センサが、前記トイレへ水を供給する給水管若しくは前記トイレから水を排出する排水管の外面又は前記トイレ内の床面において水の存在を検出する請求項１に記載のトイレシステム。
【請求項３】
前記センサが、電気的に離間して対向配置した一対の電極を備え、前記電極の間の空隙に前記漏水が浸入した場合の前記電極の間における電気的特性の変化を漏水の状態として検出し、
前記漏水判定手段は、前記センサによる前記電気的特性の変化が第一の閾値を超えた場合に、前記漏水が有ると判定し、
前記漏水が有ると判定された場合に、前記通信手段が、当該漏水の情報を送信する請求項１又は２に記載のトイレシステム。
【請求項４】
前記漏水判定手段は、前記センサによる前記電気的特性の変化が第二の閾値を超えた場合に、前記漏水が所定量以上有ると判定し、
前記漏水が所定量以上有ると判定された場合に、前記給水制御手段が、前記給水弁を制御して止水させる請求項３に記載のトイレシステム。
【請求項５】
前記漏水判定手段は、前記センサによる前記電気的特性の変化が第一の閾値を超えてから第二の閾値を超えるまでの時間に基づいて緊急度を判定する請求項４に記載のトイレシステム。
【請求項６】
前記給水管から便器へ洗浄水を放出するフラッシュバルブを備え、
前記給水制御手段が、所定の検査タイミングで前記給水弁を閉じるように制御し、前記フラッシュバルブを開いて洗浄水が流れるか否かに基づいて前記給水弁が正常に動作するか否かを検査する請求項１から５の何れか一項に記載のトイレシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図４、図５に示すように床下に排水管６２（排水細管６２３、排水枝管６２２）を設けた場合、この排水管６２に流量計や水位計を設け、この排水管６２（排水細管６２３、排水枝管６２２）に排水が流れたことを流量計や水位計検出した場合に漏水が有ると検出して制御装置６に入力しても良い。これにより、便器等から床に水が溢れて排水管６２（排水細管６２３、排水枝管６２２）に流れた場合に、漏水として検出できる。なお、床下に排水管６２に設けた流量計や水位計は、床に水を流して掃除する際は漏水の検出をＯＦＦにし、掃除以外で排水が流れて水位や水量を検出した場合に漏水として検出しても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月30日(2018.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構成部材としての異形鋼管の異形断面形状に合致するように加工したジョイントの端部を、当該構成部材の端部に嵌め込むことで構成部材同士を接合して成る建設機械用キャブの製造方法において、
厚板を除去加工して前記ジョイントを形成することを特徴とする建設機械用キャブの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】建設機械用キャブの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は十分な構造強度を確保しながら外観性の向上と製造コストの抑制を図ることができる建設機械用キャブの製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明はこのような問題に鑑み、十分な構造強度を確保しながら外観性の向上と製造コストの抑制を図ることができる建設機械用キャブの製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の建設機械用キャブの製造方法は、構成部材としての異形鋼管の異形断面形状に合致するように加工したジョイントの端部を、当該構成部材の端部に嵌め込むことで構成部材同士を接合して成る建設機械用キャブの製造方法において、厚板を除去加工して前記ジョイントを形成することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明は、十分な構造強度を確保しながら外観性の向上と製造コストの抑制を図ることができる建設機械用キャブの製造方法に関するものであり、産業上の利用可能性を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月25日(2018.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
樹脂粒子であるトナー粒子を含有するトナーの製造方法であって、
前記トナー粒子が、結着樹脂および着色剤を含有し、
前記製造方法が、請求項１から１０のいずれか一項に記載の樹脂粒子の製造方法によって前記トナー粒子を製造する工程を有する
ことを特徴とするトナーの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明は、樹脂粒子であるトナー粒子を含有するトナーの製造方法であって、
前記トナー粒子が、結着樹脂および着色剤を含有し、
前記製造方法が、上記樹脂粒子の製造方法によって前記トナー粒子を製造する工程を有する
ことを特徴とするトナーの製造方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月23日(2018.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸気口と、排気口と、前記吸気口と前記排気口との間に設けられた複数段の圧縮空間とを有する多段式容積移送型のメインポンプと、
前記メインポンプの中段又は最終段の圧縮空間に接続され、吸気口と排気口とを有する補助ポンプ装置と、
前記メインポンプ又は前記補助ポンプ装置に接続され、前記メインポンプ又は前記補助ポンプ装置にバラストガスを導入するバラストガス導入ラインと、
前記メインポンプの排気口に接続された第１の流路に設けられ、前記メインポンプ側から大気側への方向を順方向とする逆止弁と
を具備する
真空排気装置。
【請求項２】
請求項１に記載の真空排気装置であって、
前記バラストガス導入ラインは、前記メインポンプの中段又は最終段の圧縮空間に接続される
真空排気装置。
【請求項３】
請求項１に記載の真空排気装置であって、
前記補助ポンプ装置は、前記補助ポンプ装置の吸気口と前記中段又は最終段の圧縮空間とを接続する第２の流路を含み、
前記バラストガス導入ラインは、前記第２の流路に接続される
真空排気装置。
【請求項４】
請求項１に記載の真空排気装置であって、
前記補助ポンプ装置は、
前記メインポンプに接続された第１の補助ポンプと、
第２の補助ポンプと、
前記第１の補助ポンプと前記第２の補助ポンプとを互いに接続する第３の流路と、を含み、
前記バラストガス導入ラインは、前記第３の流路に接続される
真空排気装置。
【請求項５】
請求項４に記載の真空排気装置であって、
前記補助ポンプ装置は、
第３の補助ポンプと、
前記第２の補助ポンプと前記第３の補助ポンプとを互いに接続する第４の流路と、をさらに含み、
前記バラストガス導入ラインは、前記第４の流路に接続される
真空排気装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一つに記載の真空排気装置であって、
前記補助ポンプ装置は、前記補助ポンプ装置の排気口に取り付けられるフィルターを含む
真空排気装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一つに記載の真空排気装置であって、
前記補助ポンプ装置は、排気ガスと直接接触する領域である接ガス領域を有し、
前記補助ポンプ装置は、前記接ガス領域を前記排気ガス中の凝縮性反応ガスの固化温度よりも高い温度に加熱する加熱器を含む
真空排気装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一つに記載の真空排気装置であって、
前記補助ポンプ装置は、ダイアフラムポンプである
真空排気装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一つに記載の真空排気装置であって、
前記バラストガス導入ラインは、前記バラストガスを排気ガス中の凝縮性反応ガスの固化温度よりも高い温度に加熱する加熱器を含む
真空排気装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一つに記載の真空排気装置であって、
前記バラストガスは、不活性ガスである
真空排気装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一つに記載の真空排気装置であって、
前記補助ポンプ装置の排気口に接続され、排気ガス中の凝縮性反応ガスを固体化する回収装置をさらに具備する
真空排気装置。
【請求項１２】
多段式容積移送型のメインポンプの吸気口から導入された流体を排気口側の最終段の圧縮空間まで圧縮しながら移送し、
前記メインポンプの中段又は最終段の圧縮空間に接続された補助ポンプ装置により前記圧縮空間を減圧し、
前記メインポンプ又は前記補助ポンプ装置に接続されたバラストガス導入ラインにより前記メインポンプ又は前記補助ポンプ装置にバラストガスを導入する
真空排気装置の運転方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月25日(2018.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンジン作業機（１）であって、
エンジンユニット（２）と、ハウジング（４）と、羽根付きロータ（６）と、を有し、  前記エンジンユニット（２）は、クランクケース（１０）と、前記クランクケース（１０）のドライブ側から延びるドライブ側シャフト（１６ａ）と、前記クランクケース（１０）のマグネト側から延びるマグネト側シャフト（１６ｂ）と、前記クランクケース（１０）と前記ドライブ側シャフト（１６ａ）及び前記マグネト側シャフト（１６ｂ）との間をシールするオイルシール（１８ａ、１８ｂ）を含み、
前記ハウジング（４）は、第１の壁（２０）と、ドライブ側において前記クランクケース（１０）に隣接して設けられた第２の壁（２２ａ）と、マグネト側において前記クランクケース（１０）に隣接して設けられた第３の壁（２２ｂ）と、を含み、
前記羽根付きロータ（６）は、前記第３の壁（２２ｂ）を越えて延びる前記マグネト側シャフト（１６ｂ）に固定され且つ前記第３の壁（２２ｂ）を越えたところに配置され、
前記クランクケース（１０）と前記第１の壁（２０）との間に、空気通路（２４）が設けられ、前記空気通路（２４）は、前記ドライブ側シャフト（１６ａ）のオイルシール（１８ａ）の近傍に設けられた入口開口（３２）と、前記羽根付きロータ（６）に面するように前記第３の壁（２２ｂ）に設けられた出口開口（３４）と、を有し、
前記羽根付きロータ（６）の回転により、前記入口開口（３２）から前記空気通路（２４）を通って前記出口開口（３４）に流れる空気流を生じさせることを特徴とするエンジン作業機（１）。
【請求項２】
さらに、前記第２の壁（２２ａ）に取付けられ且つ前記ドライブ側シャフト（１６ａ）を少なくとも部分的に包囲する要素（２８）を有することを特徴とする請求項１に記載のエンジン作業機（１）。
【請求項３】
前記要素は、オイルポンプ（２８）又はリコイルケースであることを特徴とする請求項２に記載のエンジン作業機（１）。
【請求項４】
前記入口開口（３２）は、第１の壁（２０）又は第２の壁（２２ａ）に設けられることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のエンジン作業機（１）。
【請求項５】
前記入口開口（３２）は、第１の壁に設けられ、且つ、前記ドライブ側シャフト（１６ａ）のオイルシール（１８ａ）の軸線方向位置と同じ軸線方向位置に設けられることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のエンジン作業機（１）。
【請求項６】
前記出口開口（３４）は、前記羽根付きロータ（６）の羽根（６ｂ）と同じ方向に傾斜する細長い孔であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のエンジン作業機（１）。
【請求項７】
前記第１の壁（２０）は、前記入口開口（３２）の近くに配置され且つ前記ドライブ側シャフト（１６ａ）を横断する方向に延びるリブ（３６）を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のエンジン作業機（１）。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月5日(2018.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サムターンを有する錠の開錠補助装置であって、
前記サムターンを覆う凹部と、
前記凹部内で前記サムターンのつまみを収容する収容部材と、
前記収容部材を回転させる駆動部と
を備えることを特徴とする開錠補助装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月6日(2017.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
励振電極が配置されている振動領域を含む振動片と、
前記振動片と前記基板との間を接合している第１接合部材および第２接合部材と、
を含み、
前記第１接合部材および前記第２接合部材は、平面視で前記第１接合部材の第１接合中心と前記第２接合部材の第２接合中心とが、第１方向に沿って並んでおり、
前記第１接合中心と前記第２接合中心との距離をＬ１、
平面視で前記振動領域の中心から、前記第１接合中心と前記第２接合中心とを結ぶ仮想線におろした垂線の長さをＬ２、
としたとき、
０＜Ｌ１／Ｌ２≦０．９７
を満足することを特徴とする振動デバイス。
【請求項２】
請求項１において、
前記振動片は、
一方の主面および他方の主面に交差する方向を厚さとし、
第１の厚さを有する第１領域と、
前記第１の厚さよりも薄い厚さを有する第２領域と、
を含み、
前記振動領域は、前記第１領域に配置されていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項３】
請求項２において、
前記第１方向に直交する第２方向から見たとき、前記第１接合部材および前記第２接合部材は、前記第１領域の前記第１方向に沿った幅の範囲内にあることを特徴とする振動デバイス。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記励振電極は、
前記振動片の一方の主面側に配置されている第１励振電極と、
前記振動片の他方の主面側に配置されている第２励振電極と、
を含み、
前記振動片は、
前記第１励振電極と接続しており、平面視で前記第１接合部材と重なっている部分を含む第１接続電極と、
前記第２励振電極と接続しており、平面視で前記第２接合部材と重なっている部分を含む第２接続電極と、
を含み、
前記第１接合中心は、平面視で前記第１接続電極の前記第１接合部材と重なっている部分の中心であり、
前記第２接合中心は、平面視で前記第２接続電極の前記第２接合部材と重なっている部分の中心であることを特徴とする振動デバイス。
【請求項５】
請求項４において、
前記振動片は、
前記第１励振電極と前記第１接続電極とを繋いでいる第１引出電極と、
前記第２励振電極と前記第２接続電極とを繋いでいる第２引出電極と、
を含んでいることを特徴とする振動デバイス。
【請求項６】
請求項５において、
前記第１方向に直交する第２方向から見たとき、前記第１引出電極および前記第２引出電極は、前記第１領域の前記第１方向に沿った幅の範囲内にあることを特徴とする振動デバイス。
【請求項７】
請求項５または６において、
平面視で、前記第１引出電極と前記第２引出電極との間に、
前記一方の主面および前記他方の主面に交差する方向の厚さが、前記第１引出電極が配置された部分および前記第２引出電極が配置された部分よりも薄い箇所を有することを特徴とする振動デバイス。
【請求項８】
請求項５または６において、
平面視で、前記第１引出電極と前記第２引出電極との間に、
前記一方の主面から前記他方の主面に貫通している孔を有することを特徴とする振動デバイス。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項において、
前記励振電極は、
前記振動片の主面側から順に、下地層および上層を含み、
前記下地層は、ニッケル、およびタングステンのうち少なくとも１つの金属を含み、
前記上層は、金、白金、銀、アルミニウム、および銅のうち少なくとも１つの金属を含むことを特徴とする振動デバイス。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれか一項において、
０＜Ｌ１／Ｌ２≦０．８５
の関係を満足することを特徴とする振動デバイス。
【請求項１１】
請求項１乃至８のいずれか一項において、
０．１８５＜Ｌ１／Ｌ２≦０．９７
を満足することを特徴とする振動デバイス。
【請求項１２】
請求項１乃至８のいずれか一項において、
０．４２５＜Ｌ１／Ｌ２≦０．９７
を満足することを特徴とする振動デバイス。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか一項において、
前記第１接合部材および前記第２接合部材は、導電性を有することを特徴とする振動デバイス。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか一項において、
前記第１接合部材および前記第２接合部材の少なくとも一方は、金属バンプで構成されていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の振動デバイスを備えていることを特徴とする電子機器。
【請求項１６】
請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の振動デバイスを備えていることを特徴とする移動体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月18日(2017.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画像を取得する画像取得手段と、
前記画像取得手段により取得された複数の画像から、新たな動画像を生成する動画像生成手段と、
前記画像取得手段により取得された複数の画像から、特定の画像を取得する特定画像取得手段と、
前記動画像生成手段により生成された前記新たな動画像と、前記特定画像取得手段により取得された前記特定の画像とを関連付けて記憶手段に記憶させる記憶制御手段と、
を備えたことを特徴とする画像生成装置。
【請求項２】
前記画像取得手段により取得された前記複数の画像を１つの画像内に合成し、新たな画像を生成する画像生成手段と、
を更に備え、
前記特定画像取得手段は、前記画像生成手段により生成された前記新たな画像を特定の画像として取得する、
ことを特徴とする請求項１に記載の画像生成装置。
【請求項３】
前記画像取得手段により取得された前記複数の画像から、当該複数の画像の総数より少ない数の画像を選択する画像選択手段と、
を更に備え、
前記動画像生成手段は、前記画像選択手段により選択された前記複数の画像から、前記新たな動画像を生成し、
前記特定画像取得手段は、前記画像選択手段により選択された前記複数の画像から、前記特定の画像を取得する、
ことを特徴とする請求項２に記載の画像生成装置。
【請求項４】
前記画像取得手段により取得された前記複数の画像を、当該複数の画像の夫々の使用情報に基づいて評価する評価手段と、
を更に備え、
前記画像選択手段は、前記評価手段による評価結果に基づいて、前記評価手段により評価された前記複数の画像から、相対的に評価の高い画像を複数枚選択する、
ことを特徴とする請求項３に記載の画像生成装置。
【請求項５】
前記評価手段は、前記使用情報として当該複数の画像に関する再生回数やお気に入り情報に基づいて、前記画像取得手段により取得された複数の画像を評価する、
ことを特徴とする請求項４に記載の画像生成装置。
【請求項６】
前記画像生成手段は、前記画像選択手段により選択された前記複数の画像を１つの画像内に合成し、新たな画像を生成する、
ことを特徴とする請求項３から５の何れか１項に記載の画像生成装置。
【請求項７】
前記画像生成手段は、前記画像選択手段により選択された前記複数の画像を前記評価結果が相対的に高い画像を前記評価結果が相対的に低い画像よりも大きい画像サイズで表示するように１つの画像内に合成し、新たな画像を生成する、
ことを特徴とする請求項４又は５に記載の画像生成装置。
【請求項８】
前記画像生成手段により生成される画像のサイズの情報を取得する情報取得手段と、
前記情報取得手段により取得された画像のサイズの情報に応じて前記１つの画像内に合成する画像の枚数を決定する決定手段と、
を更に備え、
前記画像生成手段は、前記決定手段により決定された画像の枚数で、前記新たな画像を生成し、
前記画像選択手段は、前記画像取得手段により取得された複数の画像から前記決定手段によって決定された枚数の画像を選択する、
ことを特徴とする請求項６に記載の画像生成装置。
【請求項９】
前記画像選択手段は、前記画像取得手段により取得された前記複数の画像と、前記画像生成手段により生成された新たな画像とから複数の画像を選択し、
前記動画像生成手段は、前記画像選択手段により選択された当該複数の画像から、新たな動画像を生成する、
ことを特徴とする請求項３から８の何れか１項に記載の画像生成装置。
【請求項１０】
前記記憶制御手段は、前記特定画像取得手段により取得された前記特定の画像を、前記動画像生成手段により生成された前記新たな動画像のサムネイル画像として表示手段に表示させるように関連付けて前記記憶手段に記憶させる、
ことを特徴とする請求項１から９の何れか１項に記載の画像生成装置。
【請求項１１】
表示手段に表示されるサムネイル画像の表示サイズに関する情報を取得する表示情報取得手段と、
を更に備え、
前記記憶制御手段は、前記表示情報取得手段により取得された表示サイズに関する情報と、前記特定の画像とを、関連付けて前記新たな動画像のサムネイル画像として、前記記憶手段に記憶させる、
ことを特徴とする請求項１から１０の何れか１項に記載の画像生成装置。
【請求項１２】
記憶手段を備える画像生成装置で実行される画像生成方法であって、
複数の画像を取得する画像取得ステップと、
前記画像取得ステップにより取得された複数の画像から、新たな動画像を生成する動画像生成ステップと、
前記画像取得ステップにより取得された複数の画像から、特定の画像を取得する特定画像取得ステップと、
前記動画像生成ステップにより生成された前記新たな動画像と、前記特定画像取得ステップにより取得された前記特定の画像とを関連付けて前記記憶手段に記憶させる記憶制御ステップと、
を含むことを特徴とする画像生成方法。
【請求項１３】
記憶手段を備える画像生成装置を制御するコンピュータを、
複数の画像を取得する画像取得手段、
前記画像取得手段により取得された複数の画像から、新たな動画像を生成する動画像生成手段、
前記画像取得手段により取得された複数の画像から、特定の画像を取得する特定画像取得手段、
前記動画像生成手段により生成された前記新たな動画像と、前記特定画像取得手段により取得された前記特定の画像とを関連付けて前記記憶手段に記憶させる記憶制御手段、
として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月12日(2017.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹部を有する基板と、
前記凹部に収容されている電子素子と、
前記凹部の底面に設けられ、前記電子素子が導電性接合部材を介して接合されている電極パッドと、を備え、
前記電極パッドは、平面視で前記電子素子から露出している部分に、前記電子素子から離れるに従って、前記離れる方向と直交する方向に沿った幅が小さくなっている縮幅部を有することを特徴とする電子デバイス。
【請求項２】
請求項１において、
前記離れる方向に沿った第１辺および第２辺と、前記直交する方向に沿った第３辺および第４辺と、を有する矩形を想定したとき、
前記電極パッドの外縁は、平面視で、前記第１辺、前記第２辺、前記第３辺および前記第４辺に沿った部分と、前記第３辺の両端側にある２つの角部において前記矩形よりも内側にある部分と、を含み、
前記内側にある部分は、前記第１辺および前記第３辺に対して傾斜している第１斜辺と、前記第２辺および前記第３辺に対して傾斜している第２斜辺と、により構成されており、
前記縮幅部は、前記第１斜辺と前記第２斜辺との間の領域であることを特徴とする電子デバイス。
【請求項３】
請求項２において、
前記縮幅部は、前記矩形の前記電子素子から露出している部分に対して、１／２以上、２／３以下の面積となっていることを特徴とする電子デバイス。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか一項において、
前記電子素子は両端部に電極を有し、
前記電極パッドは、それぞれの前記電極に対向して対になって設けられており、
それぞれの前記縮幅部は、前記電極パッド同士を結ぶ方向と直交する方向に沿った幅が前記電極パッド同士が離れるに従って小さくなっていることを特徴とする電子デバイス。
【請求項５】
請求項４において、
前記基板は、平面視で矩形であり、
前記電子素子は、前記電極が並んでいる方向が、前記基板の長辺に対して交差する方向に沿うように、前記凹部に配置されていることを特徴とする電子デバイス。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれか一項において、
前記基板に搭載される振動片を更に備え、
振動子として機能することを特徴とする電子デバイス。
【請求項７】
請求項６において、
前記電子素子は、感温素子であることを特徴とする電子デバイス。
【請求項８】
請求項７において、
前記感温素子は、サーミスターまたは測温用半導体であることを特徴とする電子デバイス。
【請求項９】
請求項１ないし請求項８のいずれか一項に記載の電子デバイスを備えていることを特徴とする電子機器。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項８のいずれか一項に記載の電子デバイスを備えていることを特徴とする移動体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月20日(2017.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々が焦点検出用の信号を出力する複数の焦点検出画素が配された測距行と、
各行に、各々が画像を生成するための信号を出力する複数の撮像画素が配された複数の撮像行と、
各々が、前記焦点検出画素と前記撮像画素の信号が出力される複数の信号処理部とを備え、
前記複数の焦点検出画素および前記複数の撮像画素を含む複数の画素が複数の列に配列され、前記複数の信号処理部のそれぞれが前記複数の列の１つに対応して配されている撮像装置の駆動方法であって、
前記複数の撮像行から前記複数の信号処理部に信号を読み出す第１の動作と、
前記第１の動作の後、あるいは前に、前記測距行から前記複数の信号処理部に信号を読み出す第２の動作とを行い、
前記複数の信号処理部を前記第１および第２の動作の一方において動作状態とし、
前記複数の信号処理部の一部の信号処理部を前記第１および第２の動作の他方において動作抑制状態とすることを特徴とする撮像装置の駆動方法。
【請求項２】
前記第１の動作において複数の列の前記複数の撮像画素の信号を加算し、
加算した信号を処理する前記信号処理部を動作状態とし、他の前記信号処理部を動作抑制状態とし、
前記第２の動作において前記他の信号処理部を動作状態とすることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置の駆動方法。
【請求項３】
前記第２の動作において、測距領域に対応するブロックの画素に対応する前記信号処理部を動作状態とし、他の前記信号処理部を動作抑制状態とし、
前記第１の動作において、前記第２の動作で動作抑制状態であった前記信号処理部を動作状態とすることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置の駆動方法。
【請求項４】
前記複数の焦点検出画素と前記複数の撮像画素の各々は、光に基づく電荷を生成する光電変換素子と、前記電荷に基づく信号を出力する増幅ＭＯＳトランジスタとを有し、
前記複数の信号処理部の各々は、前記増幅ＭＯＳトランジスタに電流を供給する電流回路を含み、
前記信号処理部の前記動作状態は、前記増幅ＭＯＳトランジスタが前記信号を出力可能なように前記電流回路が前記増幅ＭＯＳトランジスタに電流を供給する状態であって、
前記信号処理部の前記動作抑制状態は、前記電流回路が前記増幅ＭＯＳトランジスタに電流を供給する電流を前記動作状態に比して抑制した状態であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の撮像装置の駆動方法。
【請求項５】
各々が焦点検出用の信号を出力する複数の焦点検出画素が配された測距行と、
各行に、各々が画像を生成するための信号を出力する複数の撮像画素が配された複数の撮像行と、
各々が、前記焦点検出画素と前記撮像画素の信号が出力される複数の信号処理部と、
制御部とを備え、
前記複数の焦点検出画素および前記複数の撮像画素を含む複数の画素が複数の列に配列され、前記複数の信号処理部のそれぞれが前記複数の列の１つに対応して配されており、
前記制御部は、
前記複数の撮像行に、前記複数の信号処理部に信号を読み出す第１の動作を行わせ、
前記第１の動作の後、あるいは前に、前記測距行に、前記複数の信号処理部に信号を読み出す第２の動作を行わせ、
前記複数の信号処理部を前記第１および第２の動作の一方において動作状態とし、
前記複数の信号処理部の一部の信号処理部を前記第１および第２の動作の他方において動作抑制状態とすることを特徴とする撮像装置。
【請求項６】
請求項５に記載の撮像装置と、
前記撮像装置が出力する信号を処理することで画像を生成する出力信号処理部と
を備えることを特徴とする撮像システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の撮像装置の駆動方法は、各々が焦点検出用の信号を出力する複数の焦点検出画素が配された測距行と、各行に、各々が画像を生成するための信号を出力する複数の撮像画素が配された複数の撮像行と、各々が、前記焦点検出画素と前記撮像画素の信号が出力される複数の信号処理部とを備え、前記複数の焦点検出画素および前記複数の撮像画素を含む複数の画素が複数の列に配列され、前記複数の信号処理部のそれぞれが前記複数の列の１つに対応して配されている撮像装置の駆動方法であって、前記複数の撮像行から前記複数の信号処理部に信号を読み出す第１の動作と、前記第１の動作の後、あるいは前に、前記測距行から前記複数の信号処理部に信号を読み出す第２の動作とを行い、前記複数の信号処理部を前記第１および第２の動作の一方において動作状態とし、前記複数の信号処理部の一部の信号処理部を前記第１および第２の動作の他方において動作抑制状態とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
さらに、本発明の撮像装置は、各々が焦点検出用の信号を出力する複数の焦点検出画素が配された測距行と、各行に、各々が画像を生成するための信号を出力する複数の撮像画素が配された複数の撮像行と、各々が、前記焦点検出画素と前記撮像画素の信号が出力される複数の信号処理部と、制御部とを備え、前記複数の焦点検出画素および前記複数の撮像画素を含む複数の画素が複数の列に配列され、前記複数の信号処理部のそれぞれが前記複数の列の１つに対応して配されており、前記制御部は、前記複数の撮像行に、前記複数の信号処理部に信号を読み出す第１の動作を行わせ、前記第１の動作の後、あるいは前に、前記測距行に、前記複数の信号処理部に信号を読み出す第２の動作を行わせ、前記複数の信号処理部を前記第１および第２の動作の一方において動作状態とし、前記複数の信号処理部の一部の信号処理部を前記第１および第２の動作の他方において動作抑制状態とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月27日(2018.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒化珪素で形成された厚さ０．２ｍｍ以上１ｍｍ以下の伝熱領域部分を含む絶縁基板部と、
前記伝熱領域部分の一方の面上に積層された厚さ１．５ｍｍ以上の金属材料により形成されたパッド部を含む配線層部と、
前記パッド部上に接合された半導体素子と、
前記半導体素子を封止する封止構造部と、を備え、
前記伝熱領域部分の他方の面は、冷却媒体と接触することを特徴とする半導体パッケージ。
【請求項２】
前記パッド部の厚さが２ｍｍ以上５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の半導体パッケージ。
【請求項３】
前記絶縁基板部は、前記パッド部が積層されている面と対向した面を内壁面の一部とする筒形状部を有することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の半導体パッケージ。
【請求項４】
前記伝熱領域部分は、前記パッド部が積層されている面と対向した面に複数の突出形状部分を有することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の半導体パッケージ。
【請求項５】
前記絶縁基板部は、前記複数の突出形状部分の各々の端部と連続して形成されている面形状部を更に備えたことを特徴とする請求項４記載の半導体パッケージ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体パッケージ
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
実施形態によれば、窒化珪素で形成された厚さ０．２ｍｍ以上１ｍｍ以下の伝熱領域部分を含む絶縁基板部と、前記伝熱領域部分の一方の面上に積層された厚さ１．５ｍｍ以上の金属材料により形成されたパッド部を含む配線層部と、前記パッド部上に接合された半導体素子と、前記半導体素子を封止する封止構造部と、を備え、前記伝熱領域部分の他方の面は、冷却媒体と接触することを特徴とする半導体パッケージが提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月5日(2018.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウムを主成分とする導電層と、前記導電層上に形成されたバリアメタル層とを有する積層膜を形成する工程と、
前記バリアメタル層上にハードマスク層を形成する工程と、
前記ハードマスク層上にレジストをパターニングする工程と、
パターニングされた前記レジストをマスクとして前記ハードマスク層をドライエッチングし、前記ハードマスク層をパターニングする工程と、
前記ハードマスク層をパターニングする工程の後、前記バリアメタル層の表面を洗浄液で洗浄する工程と、
前記バリアメタル層の表面を洗浄する工程の後、パターニングされた前記ハードマスク層をマスクとして前記積層膜をドライエッチングする工程と
を有し、
前記ハードマスク層をパターニングする工程では、前記バリアメタル層がプロセスガスに曝された状態においては、前記プロセスガスの総流量に対する酸化ガスの流量の比率を１％未満としてドライエッチングすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記ハードマスク層をパターニングする工程では、前記バリアメタル層が前記プロセスガスに曝された状態においては、前記プロセスガスの総流量に対する前記酸化ガスの流量の前記比率を０％としてドライエッチングすることを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記バリアメタル層の表面を洗浄する工程の後、前記積層膜をドライエッチングする工程の前に、前記バリアメタル層の表面を二流体洗浄により洗浄する工程を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記酸化ガスは酸素ガスであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記バリアメタル層の表面を前記洗浄液で洗浄する工程では、前記洗浄液により前記バリアメタル層の一部をウェットエッチングすることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記レジストをパターニングする工程の前に、前記バリアメタル層上に反射防止層を形成する工程を有し、
前記レジストをパターニングする工程では、前記反射防止層上に形成された前記レジストをパターニングし、
前記レジストをパターニングする工程の後、前記ハードマスク層をパターニングする工程の前に、前記反射防止層をドライエッチングする工程を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記反射防止層の厚さをＡ（ｎｍ）、前記反射防止層のエッチングレートをＢ（ｎｍ／分）としたとき、前記反射防止層をドライエッチングする工程を行う時間Ｃ（分）は、Ｃ≧（Ａ／Ｂ）×１．５を満足することを特徴とする請求項６記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記反射防止層をドライエッチングする工程では、酸素ガスを用いて前記反射防止層をドライエッチングすることを特徴とする請求項６又は７に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記積層膜をドライエッチングする工程の後、前記積層膜上に前記ハードマスク層を残したまま、前記積層膜を含む表面上に層間絶縁層を形成する工程を有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記ハードマスク層をパターニングする工程では、ＣＦ４、ＣＨＦ３及びＣ４Ｆ８のうちの少なくとも１つを含むガスを前記プロセスガスに用いて、前記ハードマスク層をドライエッチングすることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
前記バリアメタル層が前記プロセスガスに曝される前の状態における前記プロセスガスの総流量に対する前記酸化ガスの流量の比率は、前記バリアメタル層が前記プロセスガスに曝された状態における前記プロセスガスの総流量に対する前記酸化ガスの流量の比率よりも高いことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
アルミニウムを主成分とする導電層と、前記導電層上に形成されたバリアメタル層とを有する金属配線と、
前記バリアメタル層上に形成されたハードマスク層とを有し、
前記ハードマスク層の下面の幅が、前記バリアメタル層の上面の幅よりも広く、
前記バリアメタル層の下面の幅が、前記バリアメタル層の上面の幅よりも広いことを特徴とする半導体装置。
【請求項１３】
前記バリアメタル層の下面の幅が、前記ハードマスク層の下面の幅よりも広いことを特徴とする請求項１２記載の半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月19日(2017.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
前記光源から出射された光を測定光と参照光とに分割する光分割器と、
前記測定光を被検査物で走査する走査手段と、
前記走査手段を介して前記測定光を前記被検査物に照射する光学系と、
前記被検査物からの前記測定光の戻り光と前記参照光との干渉光を受光する検出器と、
前記検出器の出力信号を処理して、前記被検査物の断層画像を取得する演算処理部と、
を備えた光断層撮像装置において、
前記光学系は前記測定光を前記被検査物にフォーカシングするフォーカスレンズを含み、
前記断層画像の取得範囲の画角を変更するために前記走査手段と前記被検査物との間に画角変更用の光学部材が挿入された際には、前記挿入に伴う前記フォーカスレンズのフォーカス位置の変化を補償する手段を有することを特徴とする光断層撮像装置。
【請求項２】
前記補償する手段は、前記フォーカスレンズの可動範囲における可動中心を前記フォーカス位置の変化に対応してオフセットさせることを特徴とする請求項１に記載の光断層撮像装置。
【請求項３】
前記補償する手段は、前記フォーカスレンズの可動範囲における可動中心をオフセットさせる際に、前記挿入される前記画角変更用の光学部材のディオプターに応じてオフセット量を設定することを特徴とする請求項２に記載の光断層撮像装置。
【請求項４】
前記補償する手段は、前記フォーカス位置の変化を相殺するために前記光学系に挿入される挿脱可能な光学部材を有することを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項５】
前記画角変更用の光学部材の挿入により前記光学系に発生する光の分散を相殺するために前記参照光の光路中に挿入される分散補償手段を有することを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項６】
前記画角変更用の光学部材の挿入により前記光学系に発生する光の分散の影響を低減するように前記検出器の出力信号を補正する手段を有することを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項７】
前記画角変更用の光学部材は、被検者に装着される光学部材であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項８】
前記補償する手段は、前記フォーカスレンズの可動範囲における可動中心を前記フォーカス位置の変化に対応してオフセットさせる際に、前記装着される光学部材に応じて前記オフセットのオフセット量を算出し、前記フォーカスレンズの可動範囲の可動中心を前記算出されたオフセット量だけオフセットさせることを特徴とする請求項７に記載の光断層撮像装置。
【請求項９】
前記光学系に対して、前記画角変更用の光学部材を挿脱する手段を有することを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項１０】
前記被検査物は、被検眼であり、
前記画角変更用の光学部材の光学特性と前記被検眼の角膜の光学特性とに基づいて、前記断層画像の歪を補正する補正手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項１１】
前記被検査物は、被検眼であり、
前記走査手段は、前記被検眼の前眼部と共役な位置に配置され、前記測定光を前記被検眼の眼底で走査することを特徴とする請求項１乃至１０の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項１２】
前記画角変更用の光学部材は、凸レンズ、メニスカスレンズ、眼鏡型のレンズ、およびコンタクト型のレンズの何れかであることを特徴とする請求項１乃至１１の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項１３】
光源と、前記光源から出射された光を測定光と参照光とに分割する光分割器と、前記測定光を被検査物で走査する走査手段と、前記走査手段を介して前記測定光を前記被検査物に照射する光学系と、前記被検査物からの前記測定光の戻り光と前記参照光との干渉光を受光する検出器と、前記検出器の出力信号を処理して、前記被検査物の断層画像を取得する演算処理部と、を備えた光断層撮像装置の制御方法において、
前記光学系は前記測定光を前記被検査物にフォーカシングするフォーカスレンズを含み、
前記断層画像の取得範囲の画角を変更するために前記走査手段と前記被検査物との間に画角変更用の光学部材が挿入された際には、前記挿入に伴う前記フォーカスレンズのフォーカス位置の変化を補償する工程を有することを特徴とする光断層撮像装置の制御方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の光断層撮像装置の制御方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月8日(2017.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
計測手段をそれぞれ有する複数のリソグラフィ装置と、
前記複数のリソグラフィ装置のそれぞれの計測手段に対して、異なる計測条件を割り当てる割り当て手段と、
前記複数のリソグラフィ装置のそれぞれの計測手段によって計測された計測結果を用いて、前記複数のリソグラフィ装置のための共通の条件を決定する決定手段と、を有し、
前記複数のリソグラフィ装置は、前記決定された共通の条件を用いて基板上にパターンを形成することを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項２】
前記複数のリソグラフィ装置のそれぞれの計測手段は、並行して計測を行うことを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項３】
前記複数のリソグラフィ装置のそれぞれの計測手段は、前記基板に形成されているマークの位置を計測する計測手段であることを特徴とする請求項１又は２に記載のリソグラフィシステム。
【請求項４】
前記共通の条件は、前記マークの位置を計測する計測条件であることを特徴とする請求項３に記載のリソグラフィシステム。
【請求項５】
前記基板には複数のパターン領域が形成されており、前記共通の条件は、前記パターン領域の形状に応じたパターニング条件であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項６】
前記決定手段は、前記計測結果と前記複数のリソグラフィ装置のそれぞれの計測手段の補正情報とに基づいて前記共通の条件を決定することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項７】
前記割り当て手段は、前記複数のリソグラフィ装置のそれぞれの計測手段に対して複数の計測条件を割り当て、かつ前記複数の計測条件のうち少なくとも一の計測条件を複数の計測手段に割り当てることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のリソグラフィシステム。
【請求項８】
前記複数のリソグラフィ装置は第１のリソグラフィ装置と第２のリソグラフィ装置を含み、
前記割り当て手段は、前記第１のリソグラフィ装置の計測手段に対して割り当てる計測条件の数が、前記第２のリソグラフィ装置の計測手段に対して割り当てる計測条件の数と異なるように、前記計測条件を割り当てることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項９】
前記割り当て手段は、前記複数のリソグラフィ装置のそれぞれに対する基板搬送のスケジュールに基づいて前記計測条件を割り当てることを特徴とする請求項８に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１０】
複数のリソグラフィ装置のそれぞれの計測手段に対して、異なる計測条件を割り当てる割り当てステップと、
前記異なる計測条件で前記複数のリソグラフィ装置のそれぞれの計測手段によって計測された計測結果を用いて、前記複数のリソグラフィ装置のための共通の条件を決定する決定ステップと、
前記決定された共通の条件に従ってパターン形成を行うパターン形成ステップとを有することを特徴とするリソグラフィ方法。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載のリソグラフィシステムを用いて基板上にビームを照射する工程と、
前記基板に対してエッチング処理およびイオン注入処理の少なくともいずれか一方を施す工程とを有することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明のリソグラフィシステムは、計測手段をそれぞれ有する複数のリソグラフィ装置と、前記複数のリソグラフィ装置のそれぞれの計測手段に対して、異なる計測条件を割り当てる割り当て手段と、前記複数のリソグラフィ装置のそれぞれの計測手段によって計測された計測結果を用いて、前記複数のリソグラフィ装置のための共通の条件を決定する決定手段と、を有し、前記複数のリソグラフィ装置は、前記決定された共通の条件を用いて基板上にパターンを形成することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2016127165.tif 000001