【事件の表示】
　特願２００３−　８４８２６「膜体形成装置、レンズの製造方法、カラーフィルタの製造方法および有機ＥＬ装置の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　１月　８日出願公開、特開２００４−　　　９２１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本願は、平成１５年３月２６日の出願（優先権主張平成１４年４月２６日）であって、平成１７年２月４日付けで拒絶査定がなされ、平成１７年３月１０日に拒絶査定に対する審判請求がされるとともに、平成１７年４月８日付けで手続補正がなされたものである。
　
第２．平成１７年４月８日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１７年４月８日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１．補正後の本願発明
　平成１７年４月８日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）により、本願の明細書における特許請求の範囲の請求項１は、
　「【請求項１】　機能液を導入したインクジェットヘッドである機能液滴吐出ヘッドの走査に伴う、ワークへの液滴吐出を、ワークテーブルにセットした前記ワークの全周縁部を越える位置まで行って、前記ワークの表面に膜体を形成する膜体形成装置であって、
　前記ワークテーブルに固定され、前記ワークの全周縁部からはみ出した前記機能液を受けると共に、上端開放部が前記ワークの周縁部の直下に臨むように環状に形成された樋状受け部材と、
　前記樋状受け部材の下流端に配管接続され、前記樋状受け部材から排出された機能液を貯留する廃機能液貯留手段と、
　前記樋状受け部材の溝内に洗浄液を通液して当該溝内を洗浄する洗浄手段と、を備えたことを特徴とする膜体形成装置。」
と補正された。
　これは、補正前（平成１６年１２月２８日付けの手続補正）の、択一的に請求項３を引用する請求項５に記載した発明を特定する事項である「ワークへの液滴吐出を、前記ワークの縁部からはみ出すように行って」なる事項を、「ワークへの液滴吐出を、ワークテーブルにセットした前記ワークの全周縁部を越える位置まで行って」なる事項と限定し、補正前の同「前記機能液滴吐出ヘッドから吐出され、前記ワークからはみ出した前記機能液を受ける樋状受け部材」は、「その上端開放部に前記ワークの周縁部が臨むように環状に形成されている」なる事項を、「前記ワークの全周縁部からはみ出した前記機能液を受けると共に、上端開放部が前記ワークの周縁部の直下に臨むように環状に形成された樋状受け部材」なる事項と限定するものである。また、補正前の請求項１からみても、本件補正の特許請求の範囲の請求項１は、補正前の請求項１に記載した発明を特定する事項を限定するものである。よって、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下「本願補正発明」という。）が、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて、以下に検討する。
　
２．引用文献記載の発明
２−１．引用文献１
（１）原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された刊行物である特開平７−４７３２４号公報（以下、「引用文献１」という。）には、次の事項が記載されている。
　
　ア．「【請求項１】  被塗布物表面の塗布液を載せ、この塗布液を被塗布物表面に対しスキャナープレートで薄く押し拡げるようにして塗布すると共に、この塗膜を該スキャナープレートの直ぐ後に追従するスリット状ノズルから吹き出すエア圧で塗布物表面に均等に押圧することを特徴とする塗布方法。
【請求項２】  被塗布物を支持する支持手段と、この被塗布物表面に塗布液を供給する塗布液供給手段と、被塗布物表面に対し小間隙を存し移動して前記塗布液を被塗布物表面に薄く押し拡げるように塗布するスキャナープレートと、このスキャナープレートの直ぐ後に追従する状態に移動しながらエア圧により塗膜を被塗布物表面に均等に押圧するスリット状ノズルとを備えてなる塗布装置。」（特許請求の範囲）
　
　イ．「【０００１】【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体やＬＣＤ基板などの製造工程において、ウエハやガラス板にレジスト膜などの薄膜を塗布形成するのに利用される塗布方法及びその装置に関する。」（段落０００１）
　
　ウ．「【００２４】こうのような半導体処理システム２０に組み込まれた前記レジスト塗布装置１２の構成を図１により述べる。なお、図中矢印Ｘが前方を、矢印Ｙが後方を示している。このレジスト塗布装置２１は筐体状の外囲フレーム３５を備え、この内部に一般にカップと称される塗布ケース３６が設けられ、その内部にウエハＷを支持する支持手段として載置台３７が設置されている。
【００２５】前記塗布ケース３６は、載置台３７外周を覆う大径なカップ形状で、底壁３６ａが前下がりに傾斜し、この斜降側部（前端側部）に余剰レジスト液を排出する廃液管２８が接続されている。
【００２６】前記載置台３７は、ウエハＷより少し小径な円盤状をなし、脚３７ａにより固定支持されている。この載置台３７上面に外囲フレーム３５の例えば背面側から前記図５に示した移載アーム２３により搬入されて来るウエハＷを真空チャックして水平状態に位置決め保持する。なお、ウエハＷは載置台３７上に前記移載アーム２３によりオリフラ合わせして常に一定向きで同心位置に移載される。つまり、例えば図３に示す如くウエハＷのオリフラ部Ｆと直交する中心線ＯがＸ，Ｙで示す前後方向と平行となる向きで載置台３７と同心位置に載置される。
【００２７】前記外囲フレーム３５内の前面側には、塗布液供給手段として、塗布液であるレジスト液を溶解する溶媒を収容したソルベントバスを有するノズル待機部４０が設けられ、このノズル待機部４０に複数種の滴下ノズル４１がそれぞれ脱着可能に差し込んだ状態に載置されている。
【００２８】これら各滴下ノズル４１には塗布液供給ホース４２がそれぞれ接続され、このホース４２を介し図示しない塗布液貯溜源より必要に応じてレジスト液を供給できるようになっている。また、その滴下ノズル４１を移動せしめる移動機構４３が設けられている。
【００２９】この移動機構４３はアーム先端にノズル把持部を有すると共に、図示しない駆動モータを介しガイドレールに沿って前後方向に往復移動する構成で、前記ノズル待機部４０上の複数種の塗布液滴下ノズル４１を選択的に一個ずつ把持して前記ウエハＷ上に移動させたり、元のノズル待機部４０上に戻したりする。
【００３０】なお、この移動機構４３にはウエハＷの存否並びにオリフラ部Ｆ位置を検出する光センサー等の検知器４４が設けられ、この検知信号を制御器で受けて該移動機構４３を制御し、滴下ノズル４１を載置台３７上のウエハＷのオリフラ部Ｆ（後端）近傍位置上方に移動してレジスト液を図１及び図３に符号Ｐで示す如く液盛り状態に所要量滴下させるようになている。
【００３１】一方、前記塗布ケース３６の上側にはウエハＷ表面に対し小間隙を存し移動して前記レジスト液Ｐを該ウエハＷ表面に薄く押し拡げるように塗布するスキャナープレート４５と、このスキャナープレート４５の直ぐ後に追従する状態に移動しながらエア圧により塗膜（レジスト膜）ＴをウエハＷ表面に均等に押圧するスリット状ノズル４６とが備えてられている。」（段落００２４から００３１。「廃液管２８」は、廃液管３８の誤り。「こうのような」は、このようなの誤り。「備えてられている」は、備えられているの誤り。）
　
　エ．「【００４０】ここで、前記レジスト塗布装置２１におけるレジスト膜の塗布作用・方法について説明する。まず図１に示す移動機構４３が前方（Ｘ方向）に退避すると共に、スキャナープレート４５とスリット状ノズル４６とがスキャン機構５０により後方（Ｙ方向）後退した状態で、載置台３７上面に前記移載アーム２３によりウエハＷがオリフラ合わせ並びに中心合わせして移載されて、真空チャックにより位置決め保持される。
【００４１】この状態で、移動機構４３がノズル待機部４０上の所定の滴下ノズル４１を把持し、そのまま該滴下ノズル４１を載置台３７上のウエハＷのオリフラ部Ｆ（後端）近傍位置上方に移動させ、そこで滴下ノズル４１によりウエハｗ上面後端より部にレジスト液Ｐを図１乃至図４に示す如く液盛り状態に所要量滴下する。
【００４２】そして、その滴下ノズル４１は移動機構４３と共に素早く退避すべう前方（Ｘ方向）に移動すると同時に、後方（Ｙ方向）から互いに一体化されたスキャナープレート４５とスリット状ノズル４６とがスキャン機構５０により所定の速度でＸ方向に前進移動すると共に、そのスリット状ノズル４６からエアを連続して吹き出す。
【００４３】これにて、前記ウエハＷ上面の液盛り状態のレジスト液Ｐが、図４に示す如く、スキャナープレート４５の下端エッジ部により該ウエハＷ表面に薄く押し拡げられて塗布されて行くと共に、この塗膜（レジスト膜）Ｔが該スキャナープレート４５の直ぐ後に追従するスリット状ノズル４６のスリット状吹出口４６ｄから真下に吹き出すエア圧でウエハＷ表面に均等に押圧されて更に押し伸ばされながら乾燥されて行く。これで、レジスト膜ＴはウエハＷ表面に多数整列するチップＣなどの如く段差が付いている場合でも、図５（ａ）に示す如く全面に亘り略均一な膜厚となり、図５（ｂ）に示す従来の回転遠心力でレジスト液を拡散塗布する方式による塗膜Ｔと比べ、膜厚の均一性の大幅な向上が図れるようになる。」（段落００４０から００４３）
　
　オ．「【００４５】また、ウエハＷ周囲に押し出された余剰レジスト液は塗布ケース３６内底部の廃液管３８より図示しないミストトラップを介して外部に排出処理する。」（５頁８列７行から同８列９行）
　
　カ．図１において、３７と表示された部材上で、両端部がはみ出すようにして載置されたＷと表示された部材は、３６と表示された部材の上端開放部の内部に位置している。（図１）
　
（２）ここで、上記記載事項ア．ないしカ．及び第１ないし６図、１０図から、次のことがわかる。
　レジスト塗布装置２１は筐体状の外囲フレーム３５を備え、この内部に一般にカップと称される塗布ケース３６が設けられ、その内部にウエハＷを支持する支持手段として載置台３７が設置されている。載置台３７は、ウエハＷより少し小径な円盤状をなしている。前記塗布ケース３６は、載置台３７外周を覆う大径なカップ形状で、底壁３６ａが前下がりに傾斜し、この斜降側部（前端側部）に余剰レジスト液を排出する廃液管３８が接続されている。前記塗布ケース３６の上側にはウエハＷ表面に対し小間隙を存し移動して前記レジスト液Ｐを該ウエハＷ表面に薄く押し拡げるように塗布するスキャナープレート４５と、このスキャナープレート４５の直ぐ後に追従する状態に移動しながらエア圧により塗膜（レジスト膜）ＴをウエハＷ表面に均等に押圧するスリット状ノズル４６とが備えられている。
　被塗布物であるウエハＷ表面に、塗布液であるレジスト液Ｐを載せ、この塗布液を被塗布物表面に対しスキャナープレート４５で薄く押し拡げるようにして塗布すると共に、この塗膜を該スキャナープレート４５の直ぐ後に追従するスリット状ノズル４６から吹き出すエア圧で塗布物表面に均等に押圧し、ウエハＷ周囲に押し出された余剰レジスト液は塗布ケース３６内底部の廃液管３８よりミストトラップを介して外部に排出処理する。
　塗布ケース３６は、載置台３７外周を覆う大径なカップ形状で、余剰レジスト液を排出することと、載置台３７は、ウエハＷより少し小径な円盤状をなしていることと、上記記載事項カ．から、塗布ケース３６の上端開放部はウエハＷの周縁部を覆うように形成されていることがわかる。
　
（３）引用文献１記載の発明
　上記記載事項（２）より、引用文献１には次の発明が記載されていると認められる。
　「載置台３７にセットした被塗布物であるウエハＷ表面に、塗布液であるレジスト液Ｐを載せ、この塗布液を被塗布物表面に対しスキャナープレート４５で薄く押し拡げるようにして塗布して、被塗布物表面に塗膜を形成する塗布装置であって、被塗布物の周縁部からはみ出した塗布液を受けると共に、上端開放部が被塗布物の周縁部に臨むように形成された塗布ケース３６と、塗布ケース３６の内底部に配管接続され、塗布ケース３６から塗布液を排出する手段とを備えた塗布装置。」（以下、「引用文献１記載の発明」という。）
　
２−２．引用文献２
（１）原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された刊行物である特開平９−２７０３７６号公報（以下、「引用文献２」という。）には、次の事項が記載されている。
　
　ア．「【請求項１】  基板の上面に塗布液を塗布する回転塗布装置において、前記基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、前記回転台を取り囲むように配置され、前記塗布液の飛散を防止するカップと、前記カップ内に前記塗布液を溶解する洗浄液を貯溜させる洗浄液貯溜手段と、を備えたことを特徴とする回転塗布装置。
【請求項２】  請求項１に記載の回転塗布装置において、前記洗浄液貯溜手段によりカップ内に貯溜された洗浄液をカップ外へ排出する洗浄液排出手段を備えたことを特徴とする回転塗布装置。
【請求項３】  請求項１または請求項２に記載の回転塗布装置において、前記カップの内壁に前記洗浄液を供給する洗浄液供給手段を備えたことを特徴とする回転塗布装置。
【請求項４】  請求項３に記載の回転塗布装置において、前記洗浄液供給手段は、洗浄液がカップの内壁に沿って流れ落ちるように洗浄液を供給することを特徴とする回転塗布装置。」（特許請求の範囲）
　
　イ．「【０００１】【発明の属する技術分野】本発明は、回転塗布装置および回転塗布方法に関し、特に塗布液の洗浄機構を備えた回転塗布装置およびこの回転塗布装置において洗浄を伴う回転塗布方法に関する。
【０００２】【従来の技術】液晶表示装置の液晶用ガラス基板（以下、単に基板という。）の基板表面には回転塗布装置いわゆるコーターによりフォトレジスト薄膜が塗布される。フォトレジスト薄膜は基板表面に形成される導電性パターンや絶縁性パターンをパターンニングするエッチングマスクとして使用される。」（２頁２列６行から１７行）
　
　ウ．「【００１７】【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態である回転塗布装置（コーター）について説明する。図１は本発明の実施形態に係るコーターの概略断面図、図２はコーターの概略平面図である。本実施形態に係るコーター１は回転台（チャック）２および飛沫フォトレジストの外部への飛散を防止するカップ５を備える。
【００１８】前記コーター１の回転台２は下側回転板２Ａ、リングスペーサー２Ｂおよび上側回転板２Ｃを備え、下側回転板２Ａ、リングスペーサー２Ｂおよび上側回転板２Ｃで形成される収納スペース内に基板（液晶用ガラス基板）８が保持される。下側回転板２Ａは回転軸３を介して回転駆動装置３１に連結され、この回転駆動装置により下側回転板２Ａを回転させることができる。下側回転板２Ａと回転軸３との間には連結ボス４が配設され、この連結ボス４により双方の連結が行われる。上側回転板２Ｃは開閉可能な機構を備える。すなわち、上側回転板２Ｃは、塗布液供給管１２Ａが待機位置（カップ５の外方位置）と下側回転板２Ａに保持された基板８の中央上方の滴下位置との間を移動する際に、上方に向かって開く。そして、上側回転板２Ｃは、下側回転板２Ａに保持された静止状態の基板８の基板表面の中央に塗布液供給管１２Ａからフォトレジストが滴下された後に、下方に向かって閉まる。リングスペーサー２Ｂは、下側回転板２Ａと上側回転板２Ｃとの間において下側回転板２Ａの周辺部分に配設され、基板８を収納する収納スペースを形成する。リングスペーサー２Ｂは上側回転板２Ｃが閉じた際にこの上側回転板２Ｃを固定保持する。リングスペーサー２Ｂと下側回転板２Ａとの間には排出用スペース（特に拡大図としての図４（Ａ）参照）２Ｓが確保されており、この排出用スペース２Ｓにおいては基板８に塗布されるフォトレジストのうち余分でかつ飛散した飛沫フォトレジストが回転台２の内部から外部に排出できる。」（段落００１７から００１８）
　
　エ．「【００２１】前記回転台２の周囲にはこの回転台２の周囲を取り囲みかつ周囲を覆うカップ５が配設される。カップ５は下側カップ５Ａおよび上側カップ５Ｂを備える。下側カップ５Ａは回転台２の下側回転板２Ａの下側に沿って配設されこの下側回転板２Ａを主に覆う。下側カップ５Ａには底部分において排気管６および廃液管７がそれぞれ連結される。排気管６は塗布液から蒸発した溶剤ガス、塗布液ミストなどを排気する。廃液管７は洗浄液、この洗浄液で洗い流された飛沫フォトレジストを含む洗浄液などの廃液を排出する。上側カップ５Ｂは回転台２の側面部分に沿って配設されこの回転台２の側面（下側回転板２Ａ、リングスペーサー２Ｂおよび上側回転板２Ｃのそれぞれの側面）を主に覆う。上側カップ５Ｂはメンテナンス作業などの際に下側カップ５Ａから取り外せる。」（段落００２１）
　
　オ．「【００４２】変形例
なお、本発明は、液晶表示装置のカラーフィルタの回転塗布を行うコーターに限定されない。通常の顔料を含まないフォトレジストの滴下塗布を行う場合にも飛沫フォトレジストが効率良く流し落とせるので、本発明に係るコーターは通常のフォトレジスト薄膜の塗布を行う場合にも使用できる。
【００４３】さらに、本発明は、半導体基板（半導体ウエーハ）、プリント配線基板などの基板表面にフォトレジスト薄膜、ガラス薄膜などの塗布液の塗布を行うコーターにも適用できる。」（段落００４２、００４３）
　
　カ．図１は本発明の実施形態に係わるコーターの概略断面図である。図２は本発明の実施形態に係わるコーターの概略平面図である。図１において、２Ａと表示された板状体の端部の紙面下部に、Ｕ字状の５Ａと表示された部材が存在する。図２において、２Ａと表示された円と同心状に、５Ａ、及び５Ｂと表示された円が表示されている。（図面の簡単な説明、図１、２）
　
（２）ここで、上記記載事項２−２．（１）ア．ないしカ．及び図１ないし図４等から、次のことがわかる。
　基板８の上面に塗布液を塗布する回転塗布装置において、前記基板を水平支持した状態で回転させる回転台２と、前記回転台２を取り囲むように配置され、前記塗布液の飛散を防止するカップ５と、カップ５内に貯溜された洗浄液をカップ外へ排出する洗浄液排出手段と、前記カップの内壁に前記洗浄液を供給する洗浄液供給手段を備え、前記洗浄液供給手段は、洗浄液がカップの内壁に沿って流れ落ちるように洗浄液を供給する回転塗布装置である。
　リングスペーサー２Ｂと下側回転板２Ａとの間には排出用スペース２Ｓが確保されており、この排出用スペース２Ｓにおいては基板８に塗布されるフォトレジストのうち余分でかつ飛散した飛沫フォトレジストが回転台２の内部から外部に排出できる。前記回転台２の周囲にはこの回転台２の周囲を取り囲みかつ周囲を覆うカップ５が配設される。カップ５は下側カップ５Ａおよび上側カップ５Ｂを備える。下側カップ５Ａは回転台２の下側回転板２Ａの下側に沿って配設されこの下側回転板２Ａを主に覆う。下側カップ５Ａには底部分において排気管６および廃液管７がそれぞれ連結される。排気管６は塗布液から蒸発した溶剤ガス、塗布液ミストなどを排気する。廃液管７は洗浄液、この洗浄液で洗い流された飛沫フォトレジストを含む洗浄液などの廃液を排出する。
　このことから、次のことがわかる。
　カップ５は、基板を水平支持する下側回転板２Ａの周縁部の直下に臨むように、カップ５である下側カップ５Ａ及び上側カップ５Ｂ、または下側カップ５Ａの上端開放部が形成されており、カップ５は環状に形成されている。下側カップ５Ａには底部分において廃液管７が配管接続され、カップ５から排出された廃液を排出する。回転塗布装置は、カップの内壁に前記洗浄液を供給する洗浄液供給手段を備え、前記洗浄液供給手段は、洗浄液がカップの内壁に沿って流れ落ちるように洗浄液を供給する。
　
（３）引用文献２記載の発明
　上記記載事項２−２．（２）より、引用文献２には次の発明が記載されていると認められる。
　「基板８の上面に塗布液を塗布する回転塗布装置において、基板を水平支持する下側回転板２Ａの全周縁部からはみ出した塗布液を受けると共に、上端開放部が下側回転板２Ａの周縁部の直下に臨むように環状に形成されたカップ５と、カップ５の底部分に配管接続され、カップ５から排出された廃液を排出する廃液管７と、カップの内壁に洗浄液を通液して内壁内を洗浄する洗浄液供給手段とを備えた回転塗布装置。」（以下、「引用文献２記載の発明」という。）
　
３．対比
　本願補正発明と引用文献１記載の発明を対比すると、引用文献１記載の発明における「載置台３７」は、本願補正発明における「ワークテーブル」に相当し、引用文献１記載の発明における「被塗布物」、「塗布液」、「塗膜」、「塗布装置」は、膜体形成の限りにおいて本願補正発明における「ワーク」、「機能液」、「膜体」、「膜体形成装置」に相当する。また、引用文献１記載の発明における「塗布ケース３６から排出する手段」は、廃液を排出する限りにおいて、本願補正発明における「廃機能液貯留手段」に相当し、引用文献１記載の発明における「塗布ケース３６」は、受け部材の限りにおいて、本願補正発明における「樋状受け部材」に相当する。
　したがって、両発明は、
　「ワークテーブルにセットしたワークの周縁部まで機能液の塗布を行って、前記ワークの表面に膜体を形成する膜体形成装置であって、前記ワークの周縁部からはみ出した前記機能液を受けると共に、上端開放部が前記ワークの周縁部に臨むように形成された受け部材と、受け部材の下流端に配管接続され、受け部材から排出された機能液を排出する手段とを備えた膜体形成装置。」である点で一致し、次の点において相違している。
　
（１）相違点１
　本願補正発明においては、機能液を導入したインクジェットヘッドである機能液滴吐出ヘッドの走査に伴う、ワークへの液滴吐出を、前記ワークの全周縁部を越える位置まで行って、前記ワークの表面に膜体を形成する膜体形成装置であるのに対し、引用文献１記載の発明においては、被塗布物表面に、塗布液を載せ、この塗布液を被塗布物表面に対しスキャナープレート４５で薄く押し拡げるようにして塗布して、被塗布物表面に塗膜を形成する塗布装置である点。
　
（２）相違点２
　本願補正発明においては、樋状受け部材が、ワークテーブルに固定され、ワークの全周縁部からはみ出した前記機能液を受けると共に、上端開放部が前記ワークの周縁部の直下に臨むように環状に形成され、「前記樋状受け部材から排出された機能液を貯留する廃機能液貯留手段と、前記樋状受け部材の溝内に洗浄液を通液して当該溝内を洗浄する洗浄手段と、を備えた」ものであるのに対し、引用文献１記載の発明においては、受け部材は上端開放部がワークの周縁部に臨むように形成されており、また、受け部材の下流端に配管接続され、受け部材から機能液を排出する手段を備えているものの、受け部材は樋状ではなく、環状に形成されておらず、さらにワークテーブルに固定されておらず、また、機能液を貯留する廃機能液貯留手段と樋状受け部材の溝内に洗浄液を通液して当該溝内を洗浄する洗浄手段を備えていない点。
　
４．判断
　上記相違点について検討する。
（１）相違点１
　インクジェットヘッドの走査によりワークの表面に膜体を形成することは周知技術（特開２００１−１０４８５７号公報の段落００５８、００５９、図６等。特開２００１−２６７３０８号公報）であり、また、ワークへの塗布をワークの縁部を越える位置まで行うことも周知技術（特開２００２−１１０５０６号公報の段落００４６、００４７等。特開２００２−１１０５１２号公報の図１の一筆書き状点線等。特開２００２−５９０６０号公報。特開２００１−１０４８５７号公報の７頁１２列４９ないし５０行等。）である。
　したがって、上記周知技術により、膜体形成装置としては既に周知であるインクジェットヘッドの走査によりワークの表面に膜体を形成する技術を採用し、ワークへの塗布をワークの縁部を越える位置まで行うようにして、引用文献１記載の発明を、上記相違点１に係わる本願補正発明の構成とすることは、当業者が容易になし得る程度の事項にすぎない。
　
（２）相違点２
　引用文献２記載の発明における「カップ５」、「底部分」、「廃液」、「内壁」、「洗浄液供給手段」は、本願補正発明における「樋状受け部材」、「下流端」、「排出された機能液」、「溝」、「洗浄手段」に相当し、引用文献２記載の発明における「塗布液」、「回転塗布装置」は、膜体形成の限りにおいて本願補正発明における「機能液」、「膜体形成装置」に相当する。そして、引用文献２記載の発明における「下側回転板２Ａ」は処理作業部といえ、「廃液管７」は排出手段といえる。よって、引用文献２記載の発明には、「膜体形成装置において、処理作業部の全周縁部からはみ出した機能液を受けると共に、上端開放部が処理作業部の周縁部の直下に臨むように環状に形成された樋状受け部材と、樋状受け部材の下流端に配管接続され、樋状受け部材から排出された機能液を排出する排出手段と、樋状受け部材の溝内に洗浄液を通液して当該溝内を洗浄する洗浄手段とを備えた」という技術思想（以下、「引用文献２記載の技術思想」という。）が示されている。なお、これは周知技術（特開平６−１０６１２６号公報）でもある。
　また、引用文献２記載の技術思想には、機能液を貯留する廃機能液貯留手段を備えておらず、受け部材がワークテーブルに固定されていないが、廃液処理において、機能液を貯留する廃機能液貯留手段を備えることは慣用手段にすぎず（特開平７−９７１２号公報の部材１８等）、さらに、受け部材をワークテーブルに固定することも当業者が容易になし得る程度の事項にすぎない。
　したがって、引用文献１記載の発明に、引用文献２記載の技術思想、上記慣用手段を適用して、上記相違点２に係わる本願補正発明の構成とすることは、当業者が容易になし得る程度の事項にすぎない。
　また、本願補正発明を全体として検討しても、引用文献１記載の発明、引用文献２記載の技術思想、上記周知技術、上記慣用手段から予測される以上の格別の効果を奏するとも認められない。
　
　以上から、本願補正発明は、引用文献１記載の発明、引用文献２記載の技術思想、上記周知技術、上記慣用手段に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際に独立して特許を受けることができないものである。
　
５．むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１５年改正前の特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するものであり、第１５９条第１項で準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３．本願発明について
１．以上のとおり、平成１７年４月８日付けの手続補正は却下されたため、本願の請求項１に係る発明は、平成１６年１２月２８日付けの手続補正書により補正された明細書及び出願当初の図面の記載からみて、その明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という）は、次のとおりである。
　
　「機能液を導入したインクジェットヘッドである機能液滴吐出ヘッドの走査に伴う、ワークへの液滴吐出を、前記ワークの縁部からはみ出すように行って、前記ワークの表面に膜体を形成する膜体形成装置であって、
　前記機能液滴吐出ヘッドから吐出され、前記ワークからはみ出した前記機能液を受ける樋状受け部材と、
　前記樋状受け部材の下流端に配管接続され、前記樋状受け部材から排出された機能液を貯留する廃機能液貯留手段と、
　前記樋状受け部材の溝内に洗浄液を通液して当該溝内を洗浄する洗浄手段と、
を備えたことを特徴とする膜体形成装置。」
　
２．引用文献１、２記載の発明
　引用文献１、２には、上記第２．２．のとおりのものが記載されている。
　
３．対比、判断
　本願補正発明は、本願発明をさらに限定するものであることから、本願補正発明が、上記のとおり、引用文献１記載の発明、引用文献２記載の技術思想、上記周知技術、上記慣用手段に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。