【事件の表示】
　平成　９年特許願第２７４２０５号「基板現像方法及びその装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年　４月２３日出願公開、特開平１１−１１１６０３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、平成９年１０月７日の出願であって、平成１５年８月２８日付けで手続補正がなされ、平成１６年１月７日付けで手続補正がなされ、平成１６年１月７日付けの手続補正が平成１６年４月９日付けで補正却下がされるとともに、同日付けで拒絶査定がなされ、平成１６年５月１３日付けで審判請求がなされるとともに、平成１６年６月１１日付けで手続補正がなされ、その後、当審からの審尋に対して平成１７年５月２７日付けで回答書が提出され、さらに平成１７年６月１０日に技術説明を主目的とする面接がなされたものである。
　
２．平成１６年６月１１日付け手続補正についての補正却下の決定
[補正却下の決定の結論]
　平成１６年６月１１日付け手続補正を却下する。
[理由］
（１）補正後の本願発明
　平成１６年６月１１日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１は、
「基板を回転させるとともに現像液を供給して現像処理を施す基板現像方法であって、複数個の吐出孔から現像液を同時に吐出させ、基板の回転中心からの距離が各吐出孔ごとに異なるとともに、前記複数個の吐出孔を２列に、かつ互い違いに配置した状態で、かつ、
各吐出孔の基板上の軌跡が重複しないように、
と補正された。
　平成１６年１月７日付け手続補正が平成１６年４月９日付けで補正却下されているので、上記補正は、平成１５年８月２８日付けの手続補正により補正された請求項１に係る発明に、「各吐出孔の基板上の軌跡が重複しないように」なる限定を付加したものである。
　
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の限縮を目的としたものに該当する。
　　
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について検討する。
　
（２）刊行物に記載された発明
　本願出願前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された特開昭５９−７８３４２号公報（以下、「引用刊行物１」という。）には、「レジスト膜の現像方法」の発明に関して、以下の事項が記載されている。
＜記載事項１＞
「上記従来の現像装置を用いてレジスト膜を現像する場合、（中略）次いで駆動モーター６により前記基板３を所定の速度に回転しつつ、第２図に示すよう基板３の回転中心上のＡに位置するノズル１をノズルア−ム４によって、基板周縁部上のＢと前記Ａ間を往復運（「往復運動」の誤記。）させながら、前記ノズル１よりレジスト膜２（「レジスト膜２を」の誤記。）有する基板３上に現像液を滴下して該レジスト膜２を所定時間現像した後、滴下を停止して前記ノズルアーム４を基板上面外のＣに移動し、」（第１ページ右下欄第１９行〜同第２ページ左上欄第１０行）
＜記載事項２＞
「（ｄ）発明の目的
　本発明の目的はかかる問題点を解消して均一で安定したレジスト膜の現像方法の提供にある」（第２ページ右上欄第４〜６行）
＜記載事項３＞
「本発明は基板上に塗布されたレジスト膜の現像方法であつて、前記基板を回転しつつ、現像液滴下量調整可能なノズルを複数個配列してなるノズルアームを前記基板の回転中心より周縁部に向つて往復運動、或は静止せしめて、該ノズルより現像液を基板上に滴下して前記レジスト膜を現像する工程が含まれてなることを特徴とする。」（第２ページ右上欄第８〜１４行）
＜記載事項４＞
「第４図において複数個のノズルたとえば４個のノズル11・12・１3・14が図示したように所定位置に配列され、又第５図に示すように各ノズルに対応した現像液滴下量調整器111・121・131・141が各現像液供給管112・122・132・142によって連結されている。かかる構造の現像装置を用いて第５図に示すように回転する基板３上に塗布されたレジスト膜２を現像する場合、基板を５００〜１０００rpm回転しつつ、基板表面積との関係によって各ノズル11・12・13・14を所望位置に、ノズルアーム４によって保持し、前述した方法と同様にＡ・Ｂ間を該ノズルアーム４によって往復運動、或は必要に応じて静止して現像を行うが、現像状態によって各ノズルより滴下する現像液の量を各ノズルに配設された前記調整器111・121・131・141によって更に微調整してレジスト膜２の現像を行えば第３図（ａ）に示した良好なレジストパターン２１が基板全体に形成可能となる。」（第２頁左下欄第２〜１９行）
＜記載事項５＞
　第４、５図には、上記レジスト膜の現像方法を実施するための現像装置において、基板の回転中心からの距離が４個のノズルごとに異なるように配置する点、及び該４個のノズルはノズルを保持するアームの幅方向に分散して配列した点が図示されている。
　
　そして、＜記載事項４＞の「現像状態によって各ノズルより滴下する現像液の量を各ノズルに配設された前記調整器111・121・131・141によって更に微調整してレジスト膜２の現像を行」うとの記載は、各ノズルから同時に現像液を滴下することを前提とした記載であるので、引用刊行物１には、各ノズルから同時に現像液を滴下することが記載されているといえる。
　また、＜記載事項４＞の「各ノズル11・12・13・14を所望位置に、ノズルアーム４によって保持し、前述した方法と同様にＡ・Ｂ間を該ノズルアーム４によって往復運動、或は必要に応じて静止して現像を行う」との記載から、全ノズルを一体的に基板の回転中心より周縁部に向つて往復運動させることが記載されている。
　　
　以上の記載事項に基づけば、引用刊行物１には、
「基板を回転しつつ現像液を基板上に滴下してレジスト膜を現像する現像方法であって、各ノズルから同時に現像液を滴下させ、基板の回転中心からの距離が４個のノズルごとに異なるとともに、４個のノズルが分散して配列した状態で、全ノズルを一体的に基板の回転中心より周縁部に向つて往復運動して移動させるようにしたことを特徴とするレジスト膜の現像方法。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　　
　また、本願出願前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された特開平７−１７１４７９号公報（以下、「引用刊行物２」という。）には、「塗布装置および塗布方法」の発明に関して、以下の事項が記載されている。
＜記載事項６＞
「本発明は、半導体用シリコンウエハや液晶用ガラス角型基板などの基板表面にフォトレジストなどの所定の塗布液を塗布する塗布装置及び塗布方法に関する。」（第１欄第２１〜２４行）
＜記載事項７＞
「なお、上記実施例では、フォトレジスト８を基板表面に供給した後、基板１を回転させるようにしているが、上記実施例と同様にノズルをスキャンさせつつ基板１を低速で回転させて基板表面上の所定の範囲に塗布液を供給し、その後に基板１を高速で回転させて塗布液を基板表面全体に拡散させてよい。」（第４欄第２２〜２７行）
＜記載事項８＞
「また、ノズル５２の配列は一列配置に限定されるものではなく、スキャン方向Ｄに対し直交する方向に並ぶ複数の列状、例えば図６に示すように２列で配列してもよく、この場合ノズルブロック５１の長辺方向により多くのノズル５２を配列することができる。」（第５欄第１２〜１６行）
＜記載事項９＞
　図６には、ノズルブロック５１に８つのノズル５２を２列に、かつ互い違いに配置する点が図示されている。
　
（対比）
　本願補正発明と引用発明とを比較する。
　引用発明における「基板を回転しつつ現像液を基板上に滴下してレジスト膜を現像する現像方法」及び「ノズル」は、本願補正発明における「基板を回転させるとともに現像液を供給して現像処理を施す基板現像方法」及び「吐出孔」に相当するので、両者は、「基板を回転させるとともに現像液を供給して現像処理を施す基板現像方法であって、複数個の吐出孔から現像液を同時に吐出させ、基板の回転中心からの距離が各吐出孔ごとに異なるように配置した状態で、全ての吐出孔を一体的に基板の半径方向に移動させるようにしたことを特徴とする基板現像方法。」の点で一致するが、以下の点で相違する。
[相違点]
イ．複数個の吐出孔が、本願補正発明では、２列に、かつ互い違いに配置しているのに対し、引用発明では、４個のノズルが分散して配列している点で相違する。
ロ．全ての吐出孔を一体的に基板の半径方向に移動させる際、本願補正発明では、吐出孔の基板上の軌跡が重複しないように吐出孔を移動させているのに対し、引用発明では、基板の回転中心より周縁部に向つて吐出孔を往復運動させている点で相違する。
　
（３）当審の判断
　上記[相違点]について検討する。
　相違点イ．について
　引用刊行物２には、処理液を複数の吐出孔から吐出させて基板を処理する場合、複数の吐出孔（ノズル）を２列に、かつ互い違いに配置することが記載されている。
　そして、引用刊行物２に記載された発明は、半導体用の基板に処理液を施す点で本願補正発明と同一の技術分野に属するものであるので、引用刊行物２に記載されたノズルの配置を引用発明に係る現像液のノズルに適用することに困難性はない。
　したがって、相違点イ．に係る発明特定事項は、引用刊行物１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。
　
　相違点ロ．について
　引用発明も、現像液を複数の吐出孔から回転する基板上に供給するとともに、全ての吐出孔を一体的に基板の半径方向に移動させることにより、現像液を一カ所に集中させることなく、基板全体にわたって現像液を均一に供給し、現像の均一化の向上を図るものである。
　確かに、引用刊行物１には、各吐出孔の基板上の軌跡を重複させないように移動させる旨の記載が記載されていない。
　しかるに、引用発明において、回転する基板の回転中心から基板周縁部へ吐出孔を基板の半径方向に移動させている時、又は該基板周縁部から上記回転中心へ吐出孔を基板の半径方向に移動させている時のいずれの場合でも、吐出孔から滴下した現像液の基板上の軌跡が重複すれば、基板上の現像液の分布にムラが生じ、均一性の向上が図れない点は明らかであり、また、本願出願前において知られた事項でもあるので（特開平９年２５１９５３号公報の段落【００１４】参照）、現像液が基板上の一箇所に集中することなく、また、ムラが生じないようにするためには、吐出孔の基板の回転中心から上記基板周縁部への移動時、及び上記基板周縁部から該回転中心への移動時の各々において、吐出孔から滴下した現像液の基板上の軌跡が重複しないように、基板の半径方向に吐出孔を移動させることは当業者にとって容易に予測し得る事項である。
　そして、吐出孔から滴下した現像液の基板上の軌跡は、該吐出孔の基板上の軌跡と、ほぼ一致するので、上記目的達成のために、吐出孔の基板上の軌跡が重複しないように基板の半径方向に吐出孔を移動させることも、当業者にとって容易に予測し得る事項であるといえる。
　なお、引用発明においても、基板の回転速度と複数の吐出孔の移動速度を適宜調節すれば、そのような軌跡を描くことが可能であることは、簡単な実験又はシュミレーション計算等により当業者が容易に見いだすことができるものである。
　してみれば、相違点ロ．に係る発明特定事項は、引用刊行物１記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。
　
　そして、本願補正発明の効果は、引用刊行物１及び引用刊行物２の記載から当業者が予測し得る範囲内のものである。
　
　よって、本願補正発明は、引用刊行物１及び引用刊行物２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができない。　
　
（４）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項において読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである
　
３．本願発明について
　平成１６年６月１１日付け手続補正は上記のとおり却下され、さらに平成１６年１月７日付けの手続補正は平成１６年４月９日付けで却下されているので、本願の請求項１は、平成１５年８月２８日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものと認める。
「基板を回転させるとともに現像液を供給して現像処理を施す基板現像方法であって、複数個の吐出孔から現像液を同時に吐出させ、基板の回転中心からの距離が各吐出孔ごとに異なるとともに、前記複数個の吐出孔を２列に、かつ互い違いに配置した状態で、かつ、全ての吐出孔を一体的に基板の半径方向に移動させるようにしたことを特徴とする基板現像方法。」（以下、「本願発明」という。）
　
４．引用刊行物に記載された発明
　原査定の拒絶の理由に引用された引用刊行物１及び引用刊行物２の記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
５．対比・判断
　本願発明は、前記「２（１）」で認定した本願補正発明から同「２（１）」に記載した「各吐出孔の基板上の軌跡が重複しないように」なる限定を省いたものである。
　そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、さらに上記限定を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（３）」に記載したとおり、引用刊行物１及び引用刊行物２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、本願発明も、同様な理由により、引用刊行物１及び引用刊行物２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用刊行物１及び引用刊行物２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。