【手続補正書】
【提出日】平成30年4月13日(2018.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理されるべき標的を収容するための真空チャンバ（３０）と、
ビームを生成し、前記標的に前記ビームを投影するための、前記真空チャンバ内の投影コラム（４６）と、
前記真空チャンバ（３０）内の機器と、
前記投影コラム（４６）を前記真空チャンバ（３０）の外部の対応する電子機器（２２）と接続するための導管（２６，３７，６０）と、
前記電子機器を前記真空チャンバ（３０）の外部の対応する電子機器（２２）と接続するための、前記導管（２６，３７，６０）とは異なるさらなる導管（１１０）と、
を備えた標的処理ユニットであって、
前記導管（２６，３７，６０）は、前記真空チャンバの上方側部を通って延在し、前記さらなる導管（１１０）は、前記真空チャンバの下方側部を通って延在する、標的処理ユニット。
【請求項２】
前記真空チャンバ内の前記機器は、標的（３１）を支持するための位置決めシステム（１１４）を備え、前記位置決めシステムは、前記投影コラムに対して可動的に構成され、前記位置決めシステム及び前記投影コラムは、前記真空チャンバの空間的に別個の部分を占めている、請求項１に記載の標的処理ユニット。
【請求項３】
前記真空チャンバ（３０）は、第１の壁部と第１の壁部の対向側の第２の壁部とを画定する真空ケーシング（３９）を備え、前記第１の壁部および前記第２の壁部は、前記真空チャンバ内に及び前記真空チャンバから前記投影コラム（４６）を挿入および除去するための開口を有する前方チャンバ側部を共に画定し、前記第１の壁部は、前記真空チャンバの前記上方側部を形成し、前記第２の壁部は、前記真空チャンバの前記下方側部を形成する、請求項１又は２に記載の標的処理ユニット。
【請求項４】
前記さらなる導管（１１０）は、前記真空チャンバの前記下方側部へ前記真空チャンバの側方壁部に沿って案内されている、請求項１ないし３のいずれか一項に記載の標的処理ユニット。
【請求項５】
前記さらなる導管（１１０）を案内するために、第２の導管ガイドアセンブリ（１２０、１４０）が、前記真空チャンバの前記上方側部から前記下方側部に延在する前記真空チャンバの前記側方壁部（１４４）に沿って設けられている、請求項４に記載の標的処理ユニット。
【請求項６】
前記導管が、前記対応する電子機器（２２）を着脱可能に接続するための、前記真空チャンバの外部に少なくとも部分的に配置されているアクセスポート（３６）に案内されている、請求項１ないし５のいずれか一項に記載の標的処理ユニット。
【請求項７】
前記導管が、投影コラム（４６）の１つ又は複数のパーツ（５０、９０、９６、１００）を着脱可能に接続するための、前記真空チャンバの内部に配置されているコネクタパネル（４８）に案内されている、請求項１ないし６のいずれか一項に記載の標的処理ユニット。
【請求項８】
前記アクセスポート（３６）及び前記コネクタパネル（４８）が、１つ又は複数の中間導管（３７）を介して振動／運動が分断されるように接続され、前記導管が、１つ又は複数の中間導管（３７）からなる、請求項６に従属する請求項７に記載の標的処理ユニット。
【請求項９】
前記中間導管（３７）は、動作中に前記アクセスポート（３６）と前記コネクタパネル（４８）との間に電気信号結合及び／又は光信号結合を供給するように構成され、前記中間導管は、前記アクセスポート（３６）と前記コネクタパネル（４８）との間に振動／運動の分断を与えるように構成された湾曲状の可撓性中間導管部分（３７ａ、３７ｂ）を備える、請求項８に記載の標的処理ユニット。
【請求項１０】
前記真空チャンバ（３０）は、
キャリアケーシング（４１）を支持するように構成された真空ケーシング（３９）内の支持ケーシング（４０）と、
前記投影コラム（４６）を支持するように構成された前記支持ケーシング（４０）内の前記キャリアケーシング（４１）とを備え、
前記コネクタパネル（４８）は、前記キャリアケーシング（４１）の内方側部に装着され、
第２の装着部材（３４ｂ）が前記キャリアケーシング（４１）の外方側部に連結され、前記１つ又は複数の中間導管（３７）が、前記コネクタパネル（４８）から起始し、前記第２の装着部材（３４ｂ）に案内され、
第１の装着部材（３４ａ）が前記支持ケーシング（４０）の内方側部に装着され、ここにおいて、前記１つ又は複数の中間導管（３７）の第１の可撓性中間導管部分（３７ａ）が、前記第１の装着部材（３４ａ）と前記第２の装着部材（３４ｂ）との間に延在しており、
前記アクセスポート（３６）は、前記真空ケーシング（３９）の外方側に設けられ、ここにおいて、前記１つ又は複数の中間導管（３７）の第２の可撓性中間導管部分（３７ｂ）が、前記第１の装着部材（３４ａ）と前記アクセスポート（３６）との間に延在している、請求項８又は９に記載の標的処理ユニット。
【請求項１１】
真空チャンバ（３０）を備えた標的処理ユニットであって、
前記真空チャンバ（３０）内に真空環境を与えるように構成された真空ケーシング（３９）と、
キャリアケーシング（４１）を支持するように構成された前記真空ケーシング（３９）内の支持ケーシング（４０）と、
投影コラム（４６）を支持するように構成された前記支持ケーシング（４０）内の前記キャリアケーシング（４１）と、
前記投影コラム（４６）の１つ以上のパーツ（５０，９０，９６，１００）を着脱可能に接続するために前記真空チャンバの内部に位置するコネクタパネルとを備え、
前記コネクタパネル（４８）は、前記キャリアケーシング（４１）の内方側部に装着され、
第２の装着部材（３４ｂ）が前記キャリアケーシング（４１）の外方側部に連結され、１つ又は複数の中間導管（３７）が、前記コネクタパネル（４８）から起始し、前記第２の装着部材（３４ｂ）に案内され、
第１の装着部材（３４ａ）が前記支持ケーシング（４０）の内方側部に装着され、ここにおいて、前記１つ又は複数の中間導管（３７）の第１の可撓性中間導管部分（３７ａ）が、前記第１の装着部材（３４ａ）と前記第２の装着部材（３４ｂ）との間に延在しており、
アクセスポート（３６）が、前記真空ケーシング（３９）の外方側に設けられ、ここにおいて、前記１つ又は複数の中間導管（３７）の第２の可撓性中間導管部分（３７ｂ）が、前記第１の装着部材（３４ａ）と前記アクセスポート（３６）との間に延在している、標的処理ユニット。
【請求項１２】
前記中間導管（３７）は、前記コネクタパネル（４８）の後方側部から起始し、前記真空チャンバ（３０）の頂側部（３２）まで大体において鉛直方向の軌道を介して前記真空チャンバ（３０）の内側に案内される、請求項１０又は１１に記載の標的処理ユニット。
【請求項１３】
前記第１の可撓性中間導管部分（３７ａ）及び前記第２の可撓性中間導管部分（３７ｂ）の少なくとも一方が、湾曲状である、請求項１０又は１１に記載の標的処理ユニット。
【請求項１４】
前記電子機器（２２）を収容するためのキャビネット（１２）をさらに備え、前記キャビネット（１２）は、前記真空チャンバ（３０）の上方側部上に配置され、前記第１の壁部（３２）により支持される、請求項３に記載の標的処理ユニット。
【請求項１５】
請求項１ないし１４のいずれか一項に記載の標的処理ユニットで使用するための中間導管アセンブリであって、前記中間導管アセンブリは、導管（２６，３７，６０）と、電子機器（２２）を着脱可能に接続するためのアクセスポート（３６）と、投影コラム（４６）の１つまたは複数のパーツ（５０、９０、９６、１００）を着脱可能に接続するためのコネクタパネル（４８）とを備え、前記アクセスポート（３６）は、前記真空チャンバ（３０）の外部に少なくとも部分的に配置されるように構成され、前記コネクタパネル（４８）は、前記真空チャンバ（３０）の内部に配置されるように構成され、前記アクセスポート（３６）及び前記コネクタパネル（４８）は、前記真空チャンバ（３０）内に設置される場合に、１つ又は複数の中間導管（３７）を介して振動／運動が分断されるように接続され、前記導管（２６，３７，６０）は、前記１つ又は複数の中間導管（３７）からなる、中間導管アセンブリ（１０８）。
【請求項１６】
前記投影コラム（４６）は、標的（３１）に向かうビームを発生させ、成形し、及び配向するように構成され、投影レンズアセンブリ（５０）などの前記投影コラム（４６）の前記１つ又は複数のパーツ（５０、９０、９６、１００）は、前記導管（２６、３７、６０）を介して外部の前記電子機器（２２）に通信接続可能であり、
前記真空チャンバ（３０）は、前記真空チャンバ（３０）内に真空環境を与えるように構成された真空ケーシング（３９）と、キャリアケーシングを支持するように構成された前記真空ケーシング（３９）内の支持ケーシング（４０）と、前記投影コラム（４６）を支持するように構成された前記支持ケーシング（４０）内の前記キャリアケーシング（４１）とを備え、
中間導管アセンブリ（１０８）は、さらに、
前記キャリアケーシング（４１）の内方側部に装着された前記コネクタパネル（４８）、前記キャリアケーシング（４１）の外方側部に接続されるように配置された第２の装着部材（３４ｂ）、及び前記コネクタパネル（４８）から起始し、前記第２の装着部材（３４ｂ）に案内される前記１つ又は複数の中間導管（３７）と、
前記支持ケーシング（４０）の内方側部に装着された第１の装着部材（３４ａ）と、ここにおいて、前記１つ又は複数の中間導管（３７）の第１の可撓性中間導管部分（３７ａ）が、前記第１の装着部材（３４ａ）と前記第２の装着部材（３４ｂ）との間に延在しており、
前記真空ケーシング（３９）の外方側部に設けられた前記アクセスポート（３６）と、ここにおいて、前記１つ又は複数の中間導管（３７）の第２の可撓性中間導管部分（３７ｂ）が、前記第１の装着部材（３４ａ）と前記アクセスポート（３６）との間に延在しており、
を備える、請求項１５に記載の中間導管アセンブリ（１０８）。