【手続補正書】
【提出日】平成30年8月6日(2018.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
吐出口を含み、該吐出口からインプリント材を吐出して前記基板にインプリント材を供給する供給手段と、
前記基板の表面の高さ方向の位置に関する情報を計測する計測手段と、を有し、
前記供給手段は、前記計測手段の計測結果から得られた前記吐出口と前記基板との距離の分布に関する情報に基づいて、前記高さ方向に垂直な平面におけるインプリント材の目標供給位置からのずれが低減されるようにインプリント材を供給することを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記基板と前記吐出口とを相対移動させる移動手段を有し、
前記計測手段は、記移動手段が前記基板と吐出口とを相対移動させている間に、前記吐出口から異なるタイミングで吐出され且つ前記基板の少なくとも２箇所に供給されたインプリント材を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段の撮像結果を画像処理することによって、前記吐出口と前記少なくとも２箇所のそれぞれとの距離を算出する算出手段と、を有することを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記供給手段によるインプリント材の供給条件を補正する補正手段を有し、
前記供給手段は、前記補正手段が補正した供給条件でインプリント材を供給することを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記供給条件は、前記基板の少なくとも２箇所にインプリント材を供給する間の前記基板と前記吐出口との相対移動速度と、前記吐出口からのインプリント材の吐出速度と、前記吐出口からのインプリント材の吐出タイミングと、の少なくとも１つであることを特徴とする請求項３に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記供給条件は前記吐出口からのインプリント材の吐出タイミングであって、前記補正手段は、所定の高さよりも低い目標供給位置に供給するインプリント材の吐出タイミングを、前記所定の高さよりも高い目標供給位置に供給するインプリント材の吐出タイミングよりも早くすることを特徴とする請求項３に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記供給条件は前記吐出口からのインプリント材の吐出速度であって、前記補正手段は、所定の高さよりも低い目標供給位置に供給するインプリント材の吐出速度を、前記所定の高さより高い目標供給位置に供給するインプリント材の吐出速度よりも大きくすることを特徴とする請求項３に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記供給条件は、前記基板の少なくとも２箇所にインプリント材を供給する間の前記基板と前記吐出口との相対移動速度であって、前記補正手段は、所定の高さよりも低い目標供給位置にインプリント材を供給するときの前記移動速度を前記所定の高さよりも高い目標供給位置にインプリント材を供給するときの前記移動速度よりも大きくすることを特徴とする請求項３に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記吐出口と前記基板との距離の分布に関する情報は、基準位置の高さとインプリント材の目標供給位置の高さとの差の分布であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記吐出口と前記基板との距離の分布に関する情報、前記吐出口からインプリント材の目標供給位置までの高さ方向の距離の分布であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
前記基板の表面の高さ方向の位置に関する情報を計測する工程と、
前記計測する工程での計測結果から得られた、前記基板に供給するインプリント材を吐出する吐出口と前記基板との距離の分布に関する情報に基づいて、前記高さ方向に垂直な平面におけるインプリント材の目標供給位置からのずれが低減されるようにインプリント材の供給条件を決定する工程と、
前記決定する工程で決定された前記供給条件に基づいて前記基板にインプリント材を供給する工程と、
供給されたインプリント材と前記型とを接触させた状態でインプリント材を硬化する工程と、
前記型と硬化したインプリント材とを引き離す工程と、を有することを特徴とするインプリント方法。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程の後に前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、吐出口を含み、該吐出口からインプリント材を吐出して前記基板にインプリント材を供給する供給手段と、前記基板の表面の高さ方向の位置に関する情報を計測する計測手段と、を有し、前記供給手段は、前記計測手段の計測結果から得られた前記吐出口と前記基板との距離の分布に関する情報に基づいて、前記高さ方向に垂直な平面におけるインプリント材の目標供給位置からのずれが低減されるようにインプリント材を供給することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図２は吐出手段（供給手段）１１５を−Ｚ方向から見た図である。Ｙ軸方向に沿って複数のノズル１１６が配列されている。吐出手段１１５は、ノズル１１６の吐出口（供給口）１１６ａを含み、基板ステージ１１１が基板１０１を所定方向（本実施形態では−Ｘ方向）に移動させている間に吐出口１１６ａからインプリント材１０２を吐出する。固定配置された吐出手段１１５は、インプリント材１０２を所定の時間間隔で所定量ずつ吐出する。このようにして、基板１０１上のパターン領域１２０にインプリント材１０２を供給する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
図５（ａ）は、平坦な基板１０１の傾きを示す図である。基板１０１が所定の高さＨ０にあることを示している。所定の高さは、基板１０１をチャック１１２ａに載置した際の設計の高さである。図５（ｂ）はインプリント材１０２の供給されたパターン領域１２０を＋Ｚ方向から見た図である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
撮像部１２１は、インプリント材１０２の供給された基板１０１を撮像する。図１１（ａ）は、撮像したときの様子を示す。位置３１１は、時刻Ｔ１において吐出口１１６ａから吐出されたインプリント材１０２の位置である。位置３１２は、時刻Ｔ２において吐出口１１６ａから吐出されたインプリント材１０２である。位置３１３は、時刻Ｔ１で吐出口１１６ｂから吐出されたインプリント材１０２である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
位置３１１と位置３１２の距離はＬ’である。距離Ｌ’は、時間Ｔの間に速度Ｖ１で基板ステージ１１１が進む距離Ｌ＝Ｖ１・ＴよりもΔＬ’＝Ｌ’−Ｌ＝Ｌ’−Ｖ１・Ｔだけ長くなっている。これは、基板１０１の表面形状が水平面に対して角度θ傾いている分だけ着弾位置の高さに距離Ｈの差があり、時刻Ｔ１で吐出されたインプリント材１０２の滞空時間ｔ１と、時刻Ｔ２で吐出されたインプリント材１０２の滞空時間ｔ２が異なることに起因している。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
位置３１１のＸ位置と、位置３１３のＸ位置は、距離Ｄ１だけ離れている。これは、基板１０１の表面形状が水平面に対して角度φ傾いている分だけ滞空時間が長くなり、滞空時間が長くなった分だけ基板１０１がＸ軸方向に移動したことに起因している。Ｄ１／Ｖ１＝Ｗ・ｔａｎ（φ）／Ｖ２という関係式が成立する。よって制御部１２２は式（１１）を計算することにより角度φを算出する。
φ＝ｔａｎ−１｛（Ｄ１・Ｖ２／（Ｖ１／Ｗ）｝  ・・・（１１）
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
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