【事件の表示】
　平成　６年特許願第２４４２４４号「有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法及びその装置」拒絶査定不服審判事件〔平成　８年　４月３０日出願公開、特開平　８−１１１２８５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成６年１０月７日の出願であって、平成１５年６月１１日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年７月１７日審判請求がなされるとともに、同年８月１８日に手続補正がなされたものである。        
　
２．平成１５年８月１８日付け手続補正についての補正却下の決定　
　
［補正却下の決定の結論］　
　平成１５年８月１８日付け手続補正を却下する。　
　
［理由］
（１）本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、次のとおりに補正された。　
　「有機エレクトロルミネセンス素子の少なくとも一部の複数の層状部分を、真空槽と同時に真空にされ真空槽の周辺に形成された複数の作業用真空室において、一作業用真空室内で順次一層毎に成膜し、保護膜の形成後に外部に取出すようにしたことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法。」　　
　
　上記補正は、請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「作業用真空室において」の「成膜」について「一作業用真空室内で」及び「一層毎」との限定を付加するものであって、平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１７条の２第３項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。　
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際に独立して特許をうけることができるものであるか（平成６年法律第１１６号による改正前の特許法１７条の２第４項において読み替えて準用する同法１２６条第３項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願日前である平成５年２月１２日に頒布された特開平５−３６４７５号公報（以下「刊行物１」という。）、同じく平成６年８月１９日に頒布された特開平６−２３１８８１号公報（以下「刊行物２」という。）、平成６年４月１５日に頒布された特開平６−１０４１７８号公報（以下「刊行物３」という。）には、それぞれ以下の記載がある。
　
刊行物１　
（ａ１）「【０００９】　
　以下、本発明を詳細に説明する。　
　本発明の方法は、上述のように、互いに対向する２つの電極間に蛍光性の有機固体からなる発光層が少なくとも介在してなる積層構造体の外表面に保護層を設け、この保護層の外側にシールド層を設けることにより、有機ＥＬ素子を封止するものである。ここで、上記積層構造体の構成としては下記１〜４（原文は丸数字）
　　１（原文は丸数字）電極（陰極）／発光層／正孔注入層／電極（陽極）
　　２（原文は丸数字）電極（陽極）／発光層／電子注入層／電極（陰極）
　　３（原文は丸数字）電極（陽極）／正孔注入層／発光層／電子注入層／　　　　　　　　　　　電極（陰極）
　　４（原文は丸数字）電極（陽極または陰極）／発光層／電極（陰極また　　　　　　　　　　　は陽極）
があるが、本発明の方法はいずれの構成の積層構造体を有する有機ＥＬ素子に対しても適用することができる。また、これらの積層構造体の形状、大きさ、材質、製造方法等は有機ＥＬ素子の用途等に応じて適宜選択されるものであるが、本発明の方法では積層構造体の形状、大きさ、材質、製造方法等は問わない。ただし、長寿命の有機ＥＬ素子を得るうえからは、積層構造体の形成過程での発光層の特性劣化をできるだけ抑止することが望ましく、そのためには、発光層の形成から対向電極の形成までを一連の真空環境下で行うことが特に好ましい。」（【０００９】）
　
（ａ２）「【００４２】‥（中略）‥
　【実施例】
　以下、本発明の実施例について図面を用いて説明する。
　実施例１
‥(中略)‥　洗浄後の透明支持基板を市販の真空蒸着装置［日本真空技術（株）製］の基板ホルダーに固定し、モリブデン製抵抗加熱ボートにＮ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス−（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン（以下、ＴＰＤＡという）を２００ｍｇ入れ、他のモリブデン製抵抗加熱ボートに昇華精製されたトリス（８−キノリノール）アルミニウム（以下、Ａｌｑ．という）を２００ｍｇ入れて、真空チャンバー内を１×１０-4Ｐａまで減圧した。
【００４３】
　次に、ＴＰＤＡを入れた前記抵抗加熱ボートを２１５〜２２０℃まで加熱して、ＴＰＤＡを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓでＩＴＯ膜上に堆積させて、膜厚６０ｎｍの正孔注入層を成膜した。このときの基板温度は室温であった。次いで、正孔注入層が成膜された透明支持基板を基板ホルダーに固定したまま、Ａｌｑ．を入れたモリブデン製抵抗加熱ボートを２７５℃まで加熱して、Ａｌｑ．を蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／ｓで正孔注入層上に堆積させて、膜厚６０ｎｍの発光層を成膜した。このときの基板温度も室温であった。　次に、マグネシウム１ｇを予め入れておいたモリブデン製抵抗加熱ボートと銀５００ｍｇを予め入れておいたモリブデン製抵抗加熱ボートとをそれぞれ加熱し、マグネシウムを約１．５ｎｍ／ｓの蒸着速度で蒸着させ、同時に銀を約０．１ｎｍ／ｓの蒸着速度で蒸着させて、マグネシウムと銀との混合金属からなる膜厚１５０ｎｍの電極（対向電極）を発光層上に設けた。ガラス基板上にＩＴＯ膜（電極）、正孔注入層、発光層、および対向電極を設けたことで有機ＥＬ素子が得られた。
【００４４】
　この後、ガラス基板上に設けられたＩＴＯ膜、正孔注入層、発光層、および対向電極からなる積層構造体の外表面に、積層構造体の形成に用いた真空蒸着装置と同じ装置を用いて、正孔注入層および発光層の形成からの一連の真空環境下で、以下の要領で保護層を設けた。　‥（中略）‥」
【００４５】
　次に、保護層を設けた有機ＥＬ素子（以下、保護層付素子ということがある）を真空チャンバーから取り出して、保護層の外側に以下の要領でシールド層を設けた。」（【００４２】〜【００４５】）
　
（ａ３）「【００４６】
実施例２
　実施例１と全く同様にして有機ＥＬ素子を作製した後、積層構造体の形成に用いた真空蒸着装置の真空環境を一旦破ってから、積層構造体の形成に用いた真空蒸着装置と同じ装置を用いて、有機ＥＬ素子の積層構造体の外表面に以下の要領で保護層を設けた。‥（後略）‥。」（【００４６】）
　
（ａ４）「【００４７】‥（中略）‥
実施例３
　図１に示すように、２５×７５×１．１ｍｍのサイズのガラス板１［ＨＯＹＡ（株）製の白板ガラス］上に、１０ｍｍ×７５ｍｍ×１００ｎｍのＩＴＯ膜２ａおよび２ｂが成膜されたものを透明支持基板３として用いて、以下の要領で保護層付素子を得た。　
　まず、ＩＴＯ膜２ａにマスクをかけた後に実施例１と全く同様にして、正孔注入層と発光層とを成膜した。次いで、蒸着装置に付いているマスク自動交換機構を用いて、ＩＴＯ膜２ａにかけたマスクを外した。次に、上記機構でもってＩＴＯ膜２ａの長手方向の外側縁部に幅５ｍｍに亘ってマスクをかけた後、実施例１と全く同様にして対向電極と保護層とを設けて保護層付素子を得た。図２に示すように、このようにして得られた保護層付素子４では、２つのＩＴＯ膜２ａおよび２ｂの間のガラス板１表面上からＩＴＯ膜２ｂの主表面上にかけて正孔注入層５が設けられており、この正孔注入層５上に発光層６が設けられている。そして、この発光層６上とＩＴＯ膜２ａの内側半分の主表面上とには対向電極７が設けられており、対向電極７の主表面上には保護層８が設けられている。この保護層付素子４では、ＩＴＯ電極２ｂ、正孔注入層５、発光層６、および対向電極７により積層構造体９が形成されている。これで、正孔注入層から保護層までが全て、一連の真空環境下で作製された。」（【００４７】）
　
刊行物２
（ｂ１）「【００２１】‥(中略)‥ 
実施例１
膜厚約１００ｎｍのＩＴＯを設けた５０ｍｍ角で厚さ１．１ｍｍのガラスを基板とし、該基板を抵抗加熱蒸着装置内に載置し、前記図１に示すように正孔注入層３、発光層４、背面電極６、有機保護層７と順次成膜した。正孔注入層３には化学式Ｉ−１に示される有機化合物を用い、ボート温度３００℃にて成膜速度０．２ｎｍ／ｓとして６０ｎｍ厚さに形成した。続けて発光層４として前記化学式II−１に示される有機化合物を用いボ−ト温度約２００℃にて加熱し、成膜速度を約０．２ｎｍ／ｓとして６０ｎｍ厚さに形成した。この後、背面電極６としてＭｇ／Ｉｎ（１０：１の重量比率）を１００ｎｍ厚さに形成した。最後に有機保護層７を前記化学式II−１に示される有機化合物を用いて１００ｎｍ厚さに形成した。以上の成膜は、真空槽内圧を１〜５×１０-5Ｐａに維持して連続形成した。」（【００２１】）
　
（ｂ２）「【００２３】‥(中略)‥ 
実施例３
膜厚約１００ｎｍのＩＴＯを設けた５０ｍｍ角で厚さ１．１ｍｍのガラスを基板とし、該基板を抵抗加熱蒸着装置内に載置し、前記図３に示すように発光層４、電子注入層５、背面電極６、有機保護層７と順次成膜した。発光層４として前記化学式II−１に示される有機化合物を用いボート温度約２００℃にて加熱し、成膜速度を約０．２ｎｍ／ｓとして６０ｎｍ厚さに形成した。電子注入層５には化学式III−１に示される有機化合物を用い、ボート温度３００℃にて成膜速度０．２ｎｍ／ｓとして６０ｎｍ厚さに形成した。続けて背面電極６として　Ｍｇ／Ｓｃ合金（９：１の重量比率）を電子ビーム法で１００ｎｍ厚さに形成した。最後に有機保護層７を前記化学式III−１に示される有機化合物を用いて１００ｎｍ厚さに形成した。以上の成膜は、真空槽内圧を１〜５×１０-5Ｐａに維持して連続形成した。」(【００２３】）
　
（ｂ３）「【００２４】‥（中略）‥
実施例４
膜厚約１００ｎｍのＩＴＯを設けた５０ｍｍ角で厚さ１．１ｍｍのガラスを基板とし、該基板を抵抗加熱蒸着装置内に載置し、前記図４に示すように正孔注入層３、発光層４、電子注入層５、背面電極６、有機保護層７と順次成膜した。正孔注入層３として前記化学式Ｉ−１で示される有機化合物を用いて６０ｎｍ厚さに形成した。発光層４として前記化学式II−１に示される有機化合物を用いボ−ト温度約２００℃にて加熱し、成膜速度を約０．２ｎｍ／ｓとして６０ｎｍ厚さに形成した。電子注入層５には化学式III−１に示される有機化合物を用い、ボート温度３００℃にて成膜速度０．２ｎｍ／ｓとして６０ｎｍ厚さに形成した。続けて背面電極６として　Ｍｇ／Ｓｃ合金（９：１の重量比率）を電子ビーム法で１００ｎｍ厚さに形成した。最後に有機保護層７を前記化学式III−１に示される有機化合物を用いて１００ｎｍ厚さに形成した。以上の成膜は、真空槽内圧を１〜５×１０-5Ｐａに維持して連続形成した。」（【００２４】）
　
刊行物３
（ｃ１）「【００１３】
【実施例】　以下、本発明をその実施例について図面を参照して詳細に説明する。
【００１４】
　図１は本発明のマルチチャンバからなる真空処理室１００の平面図である。この装置は、搬送室１のまわりに真空処理室２、３、４、５、６がゲートバルブ９、１０、１１、１２、１３によって連結され、さらに導入室７と搬出室８がゲートバルブ１５および１６によって連結されている。‥（中略）‥【００１５】
　次に本装置の運転方法を説明する。搬送室１及び２、３、４、５、６の各真空処理室はそれぞれの室に備えられた真空ポンプ１８、２２、２６、３１、３５、３９によってあらかじめ十分低いベース圧力になるまで真空排気される。」（【００１３】〜【００１５】）
　
　これら記載からみて、刊行物１，２には次の事項が記載されている。　
　
刊行物１
　有機エレクトロルミネセンス素子の複数の層状部分を真空チャンバー内で順次成膜し、保護層の形成後に外部に取出すようにした有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法。
　
刊行物２
　有機エレクトロルミネセンス素子の複数の層状部分を抵抗加熱蒸着装置の真空槽で順次成膜し、保護層の形成後に外部に取出すようにした有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法。
　
（３）対比
　刊行物１あるいは２に記載のものと本願補正発明とを比較すると、両者は、有機エレクトロルミネセンス素子の少なくとも一部の複数の層状部分を、真空の室内において順次成膜し、保護膜の形成後に外部に取出すようにした点で一致し、次の点で相違する。
　
相違点１
　本願補正発明が、真空槽と同時に真空にされ真空槽の周辺に形成された複数の作業用真空室において、一作業用真空室内で順次一層毎に成膜するのに対して、刊行物１、２にはこの点について記載がない点。
　
（４）判断
　相違点１について検討する。
　刊行物３に一例をみるように、気相成長法による成膜などの真空処理（以下、単に「真空処理」という。）を同一基板に対して複数回実施する際、この真空処理を実施する室（刊行物３においては「真空処理室」と表記。以下、単に「真空処理室」という。）を複数、基板の真空処理室間の移動に使用される真空室（刊行物３においては「搬送室」と表記。以下、単に「真空室」という。）の周りに配置し、基板を真空処理室に次々と通し、この真空処理室毎に、基板に対し順次真空処理を施すこと自体は従来周知であるから（必要ならば、特開平４−２４０７２１号公報、特開平５−２９１１５４号公報、特開平５−９８４３４号公報も参照のこと）、基板上に気相成長法等によって正孔注入層、発光層、電子注入層、電極（陰極）（以下単に「有機ＥＬ機能層」という。）といった層を順次成膜するものである有機ＥＬの製造において、真空室としての真空槽とその周辺に配置された真空処理室としての作業用真空室を利用した成膜方法を採用することは当業者が容易に想起し得ることであり、その際に、真空槽と各作業用真空室が同時に真空とされるものとすることも刊行物３から当業者が容易になし得ることである。
　また、複数の作業用真空室を用意する際、成膜材料あるいは成膜方法の相違に応じて作業用真空室を用意すればよいことは当業者にとって自ずと明らかであり、異なる材料からなる有機ＥＬ機能層毎に作業用真空室を割り当てることは当業者が適宜なし得ることであるから、真空槽と各作業用真空室を利用した成膜方法を採用する際に、一作業用真空室内で一層毎成膜となすこともまた、当業者が容易になし得ることである。
　よって、上記相違点の構成とすることは刊行物３あるいは周知技術から当業者が容易になし得たことである。
　そして、請求項１に記載の事項による本願補正発明の効果も、各刊行物に記載の発明及び従来周知の技術から当業者が予測可能な範囲のものである。
　したがって、本願補正発明は、刊行物１−３に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
　なお、出願人は刊行物３の発明に関して、本願補正発明における有機ＥＬ層の蒸着には使用できないものであり、有機ＥＬ素子の製造に使用可能なものでないと主張しているが、請求項１には「蒸着」という限定はなく、この主張は、請求項１の記載に基づかない主張である。
　また、仮にＥＬ素子の製造が蒸着に限定されたとしても、刊行物３に記載された、搬送室とその周辺に形成され複数の真空処理室による真空処理方法までもが有機ＥＬ素子の製造に適用できないものであると当業者に認識させることになるとは認められない。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１７条の２第４項において読み替えてで準用する同法第１２６条第３項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項の規定で読み替え準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　
（１）本願発明
　平成１５年８月１８日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成１４年７月１７日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
 「有機エレクトロルミネセンス素子の少なくとも一部の複数の層状部分を、真空槽と同時に真空にされ真空槽の周辺に形成された複数の作業用真空室において順次成膜し、保護膜の形成後に外部に取出すようにしたことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法。」（以下、「本願発明」という。）
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１−３、及びその記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（３）対比・判断
　本願発明は、前記２．で検討した本願補正発明から「作業用真空室において」の「成膜」についての限定事項である「一作業用真空室内で」及び「一層毎」との構成を省いたものである。
　そうすると、本願発明の構成要件をすべて含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、刊行物１−３に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、刊行物１−３に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（４）むすび
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１−３に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。