【事件の表示】
　平成　７年特許願第２０２９９４号「プラズマ処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成９年２月１８日出願公開、特開平９−５０８９７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯及び本願発明
　本願は、平成７年８月９日の出願であって、平成１４年８月２９日付けで拒絶査定がなされ、平成１４年１０月２４日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成１４年１１月２０日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１４年１１月２０日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１４年１１月２０日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、
「【請求項１】ベース（１）に形成した開口（２）
に上方から断面アングル状をなすアルミニウム合金製の排気リング（６）が嵌め付けられ、この排気リング（６）上に前記開口（２）を覆うチャンバー（７）を固設し、前記開口（２）
アルミニウム合金製の排気リング（６）
　上記補正は、本件補正前の請求項１の「開口（２）に下方から被処理物を載置するステージ兼下部電極（３）を臨ませ、前記開口（２）を覆うようにベース（１）上にチャンバー（７）を固設し、」を「開口（２）に上方から断面アングル状をなすアルミニウム合金製の排気リング（６）が嵌め付けられ、この排気リング（６）上に前記開口（２）を覆うチャンバー（７）を固設し」と補正し、さらに補正前の構成要件である「内周部」を「アルミニウム合金製の排気リング（６）の内周部」に限定したもので、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）引用刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用された特開平７−１２２５３８号公報（以下、「刊行物１」という。）には、次の（ａ１）〜（ａ２）の事項が記載されている。
（ａ１）「【０００２】
【従来の技術】半導体ウェーハ等の被処理物表面のエッチング等に用いるプラズマ処理装置として、特開昭６３−２６００３０号公報に開示されるものが知られている。このプラズマ処理装置は図１１に示すように、ベース１００に開口１０１を形成し、この開口１０１に下方から被処理物Ｗを載置するステージ兼下部電極１０２を臨ませ、また前記開口１０１を覆うようにベース１００上に石英チャンバー１０３を固設し、この石英チャンバー１０３の小径となった上部に高周波電源に接続される筒状上部電極１０４を設け、更に開口１０１の内周部に排気リング１０５を取り付け、この排気リング１０５の上面を石英製の絶縁リング１０６で覆っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述したプラズマ処理装置の排気リング１０５はアルミニウム合金等の金属からなり、また下部電極１０２も同様に金属製である。このため、チャンバー１０３内で発生したプラズマは被処理物Ｗを避けて下部電極１０２と排気リング１０５との間の排気孔に向かって飛びやすく、ここに異常放電が生じる傾向がある。
【０００４】また、排気リング１０５上面は絶縁リング１０６で覆われているが、石英チャンバーの内側にあるため、排気リング１０５と石英チャンバー１０３との間に僅かな隙間ができ、この隙間の部分で異常放電が生じやすい。そして、上記の異常放電が生じると、安定した放電が得られないばかりか、被処理物Ｗにダメージを与え、歩留まりが低下する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本願の第１発明は、プラズマ処理装置のチャンバー内で且つ下部電極の周囲には排気リングを設けるとともに、前記チャンバーの下部外周にリング状のグランド電極を設けた。
【０００６】また本願の第２発明は、プラズマ処理装置の下部電極の周囲に排気リングを設けるとともに、この排気リングを径方向外方に延長し、この延長した部分にチャンバーを取り付けた。
【０００７】更に本願の第３発明は、プラズマ処理装置の下部電極の上面で且つ被処理物の周縁部がかかる部分に絶縁リングを設けた。」（段落【０００２】〜【０００７】）
（ａ２）「【０００９】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。ここで、図１は本発明に係るプラズマ処理装置の断面図であり、プラズマ処理装置はアルミニウム合金製のベース１に開口２を形成し、この開口２に下方から半導体ウェーハ等の被処理物Ｗを載置するステージを兼用するアースされた下部電極３を臨ませている。
【００１０】また、開口２の内周部にはアルミニウム合金製の排気リング４を取り付けている。この排気リング４は筒部と径方向外方に延長されるフランジ部を備え、フランジ部には排気孔５が形成され、またフランジ部には石英チャンバー６が設置されている。このように排気リング４のフランジ部を延長して、この上に石英チャンバー６を設置することで、排気リング外端面と石英チャンバー内端面との間に形成されていた従来の隙間がなくなり、異常放電が発生しにくくなる。
【００１１】石英チャンバー６は略ベルジャー型をなし、上半部を小径部とし、この小径部外周に高周波電源につながる筒状の上部電極７を設けている。尚、上部電極７としては半割形状とし、一方の電極を高周波電源に、他方の電極をアースに接続するようにしてもよい。
【００１２】また、前記排気リング４の上面にはその外周端が石英チャンバー６の内周面に当接する石英製の絶縁リング８を取り付け、排気リング４の上面に異常放電が発生しないようにしている。
【００１３】更に、石英チャンバー６の下部外周面にはリング状のグランド電極９を設けている。このような構成とすると、プラズマが排気孔等に飛ぶ前にグランド電極９に飛ぶので、異常放電が防止される。
【００１４】一方、前記下部電極３の上面で被処理物Ｗの周縁部がかかる部分にも石英製の絶縁リング１０を設けている。これにより、スパッタリング現象が防止でき、被処理物Ｗへのデポジションがなくなり、被処理物Ｗの中心部と周縁部における加工形状のバラツキがなくなり、均一な処理を行うことができる。」（段落【０００９】〜【００１４】）
　以上の（ａ１）〜（ａ２）の記載及び明細書に添付の図面から、刊行物１には、「ベース１に開口２が形成され、開口２に下方から被処理物Ｗを載置するステージを兼用する下部電極３が配置され、該開口２の内周部にはアルミニウム合金製のフランジ部を備えるアルミニウム合金製の排気リング４が取り付けられ、また、フランジ部にはベルジャー型の石英チェンバーが設置され、該チェンバーの上半部の小径部には筒状の上部電極が設けられたプラズマ処理装置において、チェンバー６内の上部に設置された上部電極と下部電極の間にプラズマが生成されるとともに、異常放電の発生を防止するために排気リング４の上面に石英製の絶縁リング８が設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置」についての発明が記載されているものと認められる。
　
　同じく、原査定の拒絶の理由に引用された特開平７−７４２３１号公報（以下、「刊行物２」という。）には、次の（ｂ１）の事項が記載されている。
(ｂ１)「【００１６】上記下部電極２８は、載置面２８Ａの表面が例えば４０μｍ程度の厚みでアルマイト処理された板状のアルミニウムよりなり、この表面に、誘電体よりなる被処理体として例えば４０ｃｍ×３０ｃｍの大きさのＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）基板Ｓが載置されることになる。この下部電極２８は、上記基板２２上に例えばセラミックス等よりなる絶縁体４４を介して固定されると共に、この下部電極２８の下面には給電板４６が取り付けられる。この給電板４６は、絶縁状態になされた給電線４８により給電用スイッチ５０を介してプラズマ発生用の例えば１３．５６ＭＨｚの高周波電源５２に接続されており、この電源より下部電極２８に対して高周波電圧を印加することにより、両電極間にプラズマを立てるように構成されている。」（段落【００１６】）
　
（３）本願補正発明と刊行物１に記載された発明との対比
　本願補正発明と刊行物１に記載された発明とを対比すると、刊行物１に記載の「排気リング４」は、その形状から断面アングル状をなすものであるから、両者は、「ベースに形成した開口に上方から断面アングル状をなすアルミニウム合金製の排気リングが嵌め付けられ、この排気リング上に前記開口を覆うチャンバーを固設し、前記開口に下方から被処理物を載置するステージ兼下部電極を臨ませ、また、前記チャンバーの上部の内側又は外側に前記下部電極との間でプラズマを発生する上部電極（８）を設けたプラズマ処理装置」である点で一致し、次の点で相違する。
相違点；本願補正発明では、ステージ兼下部電極（３）の上面の少なくとも外周部には上面より２０μｍ〜１００μｍの厚さで硬質アルマイト層（４）が設けられ、且つアルミニウム合金製の排気リング（６）の内周部であって硬質アルマイト層（４）に対向する部分には絶縁リング（９）が設けられているているのに対し、刊行物１に記載の発明にはその点の記載がない点。
　
（４）当審の判断
相違点について；
　刊行物２には、ステージを兼用する下部電極２８が板状のアルミニウムからなり、その載置面２８Ａの表面が例えば４０μｍ程度の厚みでアルマイト処理されることが記載されている。そして、刊行物１の上記摘記事項（ａ１）によれば、刊行物１には、下部電極と排気リングとの間に異常放電が生じやすいこと、及び異常放電が発生しやすい箇所に絶縁部材を設けること、が開示されており、また、アルマイト層は硬質で高絶縁性を有していることは技術常識といえるものであるから、異常放電の発生しやすい下部電極と排気リングとの間の間隙に面する部材、すなわちステージ兼下部電極の上面の少なくとも外周部を硬質アルマイト層とし、もう一方の部材、すなわち排気リングの前記間隙に面する箇所、いいかえればアルマイト層に対抗する部分に絶縁リングを設けることすることは、当業者が、刊行物１及び２に記載された発明に基づけば容易に想到することができたものである。
　また、刊行物１に開示のアルマイト層は、その厚みが４０μｍ程度であり、本願補正発明に係るアルマイト層の厚み２０μｍ〜１００μｍと重複するものであって、本願補正発明の数値範囲の上限下限に格別な技術的意義は認められないから、結局、本願補正発明のように硬質アルマイトの厚みを規定することは、当業者が、適宜、採用することができたものである。
　そして、本願補正発明の作用効果も上記刊行物１及び２から当業者が予測できる範囲のものでる。
  
　したがって、本願補正発明は刊行物１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
（１）本願発明
　平成１４年１１月２０日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成１４年５月１０日付けの手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）。
「【請求項１】ベース（１）に形成した開口（２）に下方から被処理物を載置するステージ兼下部電極（３）を臨ませ、前記開口（２）を覆うようにベース（１）上にチャンバー（７）を固設し、また、前記チャンバー（７）の上部の内側又は外側に前記下部電極との間でプラズマを発生する上部電極（８）を設けたプラズマ処理装置において、前記ステージ兼下部電極（３）の上面の少なくとも外周部には上面より２０μｍ〜１００μｍの厚さで硬質アルマイト層（４）が設けられ、且つ前記開口（２）の内周部であって硬質アルマイト層（４）に対向する部分には絶縁リング（９）が設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置。」
　
（２）刊行物１
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１及び２の記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（３）対比・判断
　本願発明は、前記２．で認定した本願補正発明に係る構成要件である「開口（２）に上方から断面アングル状をなすアルミニウム合金製の排気リング（６）が嵌め付けられ」との構成要件を省き、さらに「アルミニウム合金製の排気リング（６）の内周部」から「アルミニウム合金製の排気リング（６）の」との限定を省いたものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、上記刊行物１及び２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、刊行物１及び２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（４）むすび
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１及び２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
  よって、結論のとおり審決する。