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【手続補正書】
【提出日】平成29年12月19日(2017.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低電圧系が接地された車体から電気的に絶縁され、バッテリが接続された高電圧系の地絡を検出する車両用地絡検出装置において、
前記低電圧系と前記高電圧系との間の直流成分の遮断を行うトランスと、
前記低電圧系に配置され、前記トランスの１次側コイルに接続される発振回路と、
前記高電圧系に配置され、前記トランスの２次側コイルに接続される分圧抵抗と
を備え、
前記発振回路が発生する交流電圧に応じて前記トランスの２次側コイルに誘起される電圧によって前記分圧抵抗に発生した電圧の正のピーク値である前記分圧抵抗のピーク電圧を測定し、
前記分圧抵抗のピーク電圧に基づいて、前記高電圧系の地絡を検出することを特徴とする車両用地絡検出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の車両用地絡検出装置において、
第１の所定値と前記分圧抵抗のピーク電圧とを比較して前記分圧抵抗のピーク電圧の方が低い場合、前記高電圧系の地絡を検出することを特徴とする車両用地絡検出装置。
【請求項３】
請求項２に記載の車両用地絡検出装置において、
第２の所定値と前記分圧抵抗のピーク電圧とを比較して前記分圧抵抗のピーク電圧の方が低い場合、前記トランスの２次側コイルと前記分圧抵抗との間の配線が断線したとして判定し、
前記第２の所定値は、前記第１の所定値より低い値であることを特徴とする車両用地絡検出装置。
【請求項４】
請求項１〜３いずれか１項に記載の車両用地絡検出装置において、
前記高電圧系に含まれるセル監視ＩＣに、
前記分圧抵抗のピーク電圧を測定させ、
測定結果を前記低電圧系に含まれる低電圧系制御回路と前記セル監視ＩＣとの間に設けられた配線を通じて前記低電圧系に含まれる低電圧系制御回路に送信させることを特徴とする車両用地絡検出装置。
【請求項５】
請求項４に記載の車両用地絡検出装置において、
前記セル監視ＩＣに、さらに、
前記分圧抵抗のピーク電圧に基づいて、前記高電圧系の地絡を検出させ、
検出結果を前記低電圧系に含まれる低電圧系制御回路と前記セル監視ＩＣとの間に設けられた配線を通じて前記低電圧系に含まれる低電圧系制御回路に送信させることを特徴とする車両用地絡検出装置。
【請求項６】
請求項１〜３いずれか１項に記載の車両用地絡検出装置において、
前記分圧抵抗のピーク電圧の測定結果を、前記トランスを通じて前記低電圧系に含まれる低電圧系制御回路に送信することを特徴とする車両用地絡検出装置。
【請求項７】
請求項４又は６に記載の車両用地絡検出装置において、
前記低電圧系制御回路に、前記分圧抵抗のピーク電圧に基づいて、前記高電圧系の地絡を検出させることを特徴とする車両用地絡検出装置。
【請求項８】
請求項１〜７いずれか１項に記載の車両用地絡検出装置において、
前記発振回路は正負の電圧をそれぞれ出力する回路を組み合わせた差動回路として構成されることを特徴とする車両用地絡検出装置。
【請求項９】
請求項１〜８いずれか１項に記載の車両用地絡検出装置において、
前記トランスの２次側コイルの巻数は、前記トランスの１次側コイルの巻数よりも多いことを特徴とする車両用地絡検出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の第１の観点に係る車両用地絡検出装置は、
低電圧系が接地された車体から電気的に絶縁され、バッテリが接続された高電圧系の地絡を検出する車両用地絡検出装置において、
前記低電圧系と前記高電圧系との間の直流成分の遮断を行うトランスと、
前記低電圧系に配置され、前記トランスの１次側コイルに接続される発振回路と、
前記高電圧系に配置され、前記トランスの２次側コイルに接続される分圧抵抗と
を備え、
前記発振回路が発生する交流電圧に応じて前記トランスの２次側コイルに誘起される電圧によって前記分圧抵抗に発生した電圧の正のピーク値である前記分圧抵抗のピーク電圧を測定し、
前記分圧抵抗のピーク電圧に基づいて、前記高電圧系の地絡を検出することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
本実施形態に係る車両用地絡検出装置１の分圧判定回路４２は、判定結果を低電圧系制御回路７に送信する。送信方法は、種々考えられるが、好ましくは、車両用地絡検出装置１と低電圧系制御回路７とを結ぶ専用の配線を設け、当該配線を用いて送信する。また好ましくは、トランス２の２次側コイル２２に電圧信号を入力し、トランス２の１次側コイル２１に誘起される電圧信号を発振電圧測定回路３１が検出することによって、低電圧系制御回路７に当該電圧信号を送信する。このようにトランス２を１次側と２次側との間で相互に電圧信号を伝達するように用いることで、部品点数を増やさず、電圧信号を伝達することができる。また好ましくは、判定結果を受信した低電圧系制御回路７は、判定結果に応じて車両の制御を行う。高電圧系が地絡したと判定した場合や分圧抵抗４を接続する配線が断線したと判定した場合、好ましくは、充電禁止とするためにスイッチ８２をオフにして、バッテリ８１と充電器８３との間を遮断したり、車両の走行を停止したりする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
発振回路３が、周波数２Ｈｚの矩形波であり、その電圧のピーク値が−５Ｖ〜＋５Ｖである交流電圧を出力する場合の動作を説明する。なおトランス２の１次側コイル２１に印加される電圧の符号は、第１の電圧出力回路３２に接続されている端子の電圧が、第２の電圧出力回路３３に接続されている端子の電圧よりも高い場合を正とする。まず、最初の０．２５秒間は、第１の電圧出力回路３２の出力端子が接地され、第２の電圧出力回路３３が＋５Ｖの直流電圧を出力する。この場合、トランス２の１次側コイル２１には−５Ｖの電圧が印加される。次の０．２５秒間は、第２の電圧出力回路３３の出力端子が接地され、第１の電圧出力回路３２が＋５Ｖの直流電圧を出力する。この場合、トランス２の１次側コイル２１には＋５Ｖの電圧が印加される。さらに次の０．２５秒間は、第１の電圧出力回路３２の出力端子が接地され、第２の電圧出力回路３３が−５Ｖの直流電圧を出力し、次の０．２５秒間は、第２の電圧出力回路３３の出力端子が接地され、第１の電圧出力回路３２が＋５Ｖの直流電圧を出力する。この動作を繰り返すことにより、トランス２の１次側コイル２１には、図３又は図４の破線で示すような交流電圧、すなわち、周波数２Ｈｚの矩形波であり、その電圧のピーク値が−５Ｖ〜＋５Ｖである交流電圧が入力される。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月15日(2017.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
慣性センサーを搭載したセンサーモジュールと、
底壁、側壁および開口を有する箱状をなしており、前記センサーモジュールを収容する第１ケースと、を備え、
前記底壁は、第１底壁と、第２底壁と、を含み、
前記側壁は、第１側壁と、第２側壁と、を含み、
前記第１底壁は、前記第１側壁と接し、
前記第２底壁は、前記第１側壁および前記第２側壁と接し、かつ前記第１底壁の法線方向において前記第１底壁よりも前記開口側に配置され、
前記センサーモジュールは、前記第１ケースよりも弾性率の小さい材料からなる接合部材を介して前記第２の底壁に接合されていることを特徴とするセンサーユニット。
【請求項２】
前記センサーモジュールの露出面と前記第１底壁の外壁との距離は、前記第１底壁の法線方向における前記第１ケースの厚さより小さいことを特徴とする請求項１に記載のセンサーユニット。
【請求項３】
前記第１ケースと前記センサーモジュールとは、前記底壁に設けられた貫通孔から挿入される締結部材により締結されていることを特徴とする請求項１〜２のいずれか一項に記載のセンサーユニット。
【請求項４】
前記接合部材は、前記第１ケースの前記側壁に接触していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のセンサーユニット。
【請求項５】
前記センサーモジュールは、
前記慣性センサーと、
前記慣性センサーが実装された基板と、
前記基板が搭載された第２ケースと、を含んで構成され、
前記第２ケースの、前記第２の底壁と対向している面には、前記接合部材が接触している接合面が形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のセンサーユニット。
【請求項６】
前記基板は、前記第２ケースに対して、固化状態において弾性を有する接着剤で接着されていることを特徴とする請求項５に記載のセンサーユニット。
【請求項７】
前記基板には、コネクターが実装されており、
前記第２ケースには、前記第１ケースの前記開口から前記コネクターが露出するように開口部が形成されていることを特徴とする請求項５または６に記載のセンサーユニット。
【請求項８】
前記接合部材は、ゴム、エラストマー、多孔質部材、および接着剤のいずれかであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載のセンサーユニット。
【請求項９】
前記接合部材は、複数配置されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載のセンサーユニット。
【請求項１０】
前記第１ケースには、被装着体に固定するための固定部が形成されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載のセンサーユニット。
【請求項１１】
前記慣性センサーは、複数あり、加速度センサーと、角速度センサーとを含んでいることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載のセンサーユニット。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載のセンサーユニットを備えた電子機器。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載のセンサーユニットを備えた移動体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月6日(2017.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のパッチが一の方向に沿って配置されたカラーチャートに光のスポットを照射するとともに、当該スポットによる反射光から、前記複数のパッチの各々を測色する測色部と、
前記測色部が搭載されたキャリッジと、
前記キャリッジを、前記カラーチャートに対して前記一の方向に相対的に移動させる相対移動部と、
を備え、
前記測色部は、
初期化処理後に、前記測色を開始し、
前記カラーチャートは、
パッチ間移動区間と、前記初期化処理が実行される初期化区間と、を有し、前記パッチ間移動区間と前記初期化区間とが重複し、
前記パッチ間移動区間は、
前記複数のパッチのうちの第１のパッチと前記複数のパッチのうちの第２のパッチとの境界から、前記一の方向であって前記第２のパッチの側に前記一の方向に対する前記スポットの長さの半分の地点と、前記境界から、前記一の方向とは逆の方向であって前記第１のパッチの側に前記長さの半分の地点と、の間の区間である
ことを特徴とする測色装置。
【請求項２】
前記初期化区間において、前記初期化処理が実行されているときに前記スポットが移動する
ことを特徴とする請求項１に記載の測色装置。
【請求項３】
前記パッチ間移動区間および前記初期化区間は、いずれか一方が他方を含む
ことを特徴とする請求項１または２に記載の測色装置。
【請求項４】
前記測色部は、
互いに対向する反射膜間のギャップを第１値から第２値まで制御される波長可変干渉フィルターを含み、
前記初期化処理は、前記ギャップを前記第１値に制御して、当該前記ギャップを前記第１値に対する閾値内に収束させる
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の測色装置。
【請求項５】
複数のパッチを一の方向に沿って配置させたカラーチャートを印刷する印刷部と、
前記カラーチャートに光のスポットを照射するとともに、当該スポットによる反射光から、前記複数のパッチの各々を測色する測色部と、
前記測色部が搭載されたキャリッジと、
前記キャリッジを、前記カラーチャートに対して前記一の方向に相対的に移動させる相対移動部と、
を備え、
前記測色部は、
初期化処理後に、前記測色を開始し、
前記スポットが前記カラーチャートのパッチ間移動区間内に位置するとき、前記初期化処理を実行し、
前記パッチ間移動区間は、
前記複数のパッチのうちの第１のパッチと前記複数のパッチのうちの第２のパッチとの境界から、前記一の方向であって前記第２のパッチの側に前記一の方向に対する前記スポットの長さの半分の地点と、前記境界から、前記一の方向とは逆の方向であって前記第１のパッチの側に前記長さの半分の地点と、の間の区間である
ことを特徴とする印刷装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月6日(2017.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のパッチが第１方向と前記第１方向とは異なる第２方向に沿って配列するカラーチャートを印刷する印刷部と、
前記カラーチャートに光のスポットを照射するとともに、当該スポットによる反射光を用いて、前記複数のパッチの各々を測色する測色部と、
前記印刷部と測色部とが搭載されたキャリッジと、
前記キャリッジを、前記カラーチャートに対して相対的に移動させる相対移動部と、
を備え、
前記複数のパッチの各々における前記第１方向の幅Ｗp（ｍ）が、次式で表される
ことを特徴とする印刷装置。
Ｄ＋｛（Ｄ・Ｔm／Ｔnl）・（Ｗ−Ｄ）｝１／２≦Ｗp≦１．１[Ｄ＋｛（Ｄ・Ｔm／Ｔnl）・（Ｗ−Ｄ）｝１／２]
ただし、
Ｄは、前記スポットにおける前記第１方向に沿った幅（ｍ）であり、
Ｔmは、前記キャリッジが前記カラーチャートに対し前記第１方向に相対移動して、前記複数のパッチのうち、１つのパッチを測色するのに要する時間（秒）であり、
Ｔnlは、前記キャリッジが前記第２方向に前記複数のパッチの１行分相対移動するのに要する時間（秒）であり、
Ｗは、前記カラーチャートにおける前記第１方向に沿った幅（ｍ）である。
【請求項２】
前記測色部は、前記反射光を複数の波長の光に分光する
ことを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
前記測色部は、前記複数の波長の光の各々を１つの受光部で受光する
ことを特徴とする請求項２に記載の印刷装置。
【請求項４】
前記測色部は、
互いに対向する反射膜間のギャップをＱ（Ｑは複数）段階で制御される波長可変干渉フィルターと、
前記波長可変干渉フィルターの透過光を受光する受光部と、
を備え、
前記時間Ｔmが次式で表される
ことを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
Ｔm＝Ｔe（Ｑ−１）＋Ｔr・Ｑ
ただし、
Ｔeは、前記ギャップのＱ段階の制御において１回のギャップ変動に要する平均時間（秒）であり、
Ｔrは、前記受光部が前記透過光を受光する時間（秒）である。
【請求項５】
複数のパッチが第１方向と前記第１方向とは異なる第２方向に沿って配列するカラーチャートを印刷する印刷部と、
前記カラーチャートに光のスポットを照射するとともに、当該スポットによる反射光を用いて、前記複数のパッチの各々を測色する測色部と、
前記印刷部と測色部とが搭載されたキャリッジと、
前記キャリッジを、前記カラーチャートに対して相対的に移動させる相対移動部と、
を備え、
前記複数のパッチの各々における前記第１方向の幅をＷp（ｍ）としたとき、
前記複数のパッチの測色に要する時間Ｔall（秒）が、次式で表され、
前記パッチの幅が当該時間Ｔallを最小にする値である
ことを特徴とする印刷装置。
Ｔall＝（Ｎall・Ｗp・Ｔm）（Ｗ−Ｄ）／｛Ｗ（Ｗp−Ｄ）｝
＋Ｔnl｛（Ｎall・Ｗp／Ｗ）−１｝
ただし、
Ｎallは、前記パッチの全個数であり、
Ｔmは、前記キャリッジが前記カラーチャートに対し前記第１方向に相対移動して、前記複数のパッチのうち、１つのパッチの測色に要する時間（秒）であり、
Ｗは、前記カラーチャートにおける前記第１方向に沿った幅（ｍ）であり、
Ｄは、前記スポットにおける前記第１方向に沿った幅（ｍ）であり、
Ｔnlは、前記キャリッジが前記第２方向に前記複数のパッチの１行分相対移動するのに要する時間（秒）である。
【請求項６】
複数のパッチが第１方向と前記第１方向とは異なる第２方向に沿って配列するカラーチャートであって、
前記複数のパッチの各々における前記第１方向の幅Ｗp（ｍ）が、次式で表される
ことを特徴とするカラーチャート。
Ｄ＋｛（Ｄ・Ｔm／Ｔnl）・（Ｗ−Ｄ）｝１／２≦Ｗp≦１．１[Ｄ＋｛（Ｄ・Ｔm／Ｔnl）・（Ｗ−Ｄ）｝１／２]
ただし、
Ｄは、前記複数のパッチの各々を測色するとき、前記カラーチャートに測色部から照射される光のスポットにおける前記第１方向に沿った幅（ｍ）であり、
Ｔmは、前記測色部が搭載されたキャリッジが前記カラーチャートに対し前記第１方向に相対移動して、前記複数のパッチのうち、１つのパッチを測色するのに要する時間（秒）であり、
Ｔnlは、前記キャリッジが前記第２方向に前記複数のパッチの１行分相対移動するのに要する時間（秒）であり、
Ｗは、前記カラーチャートにおける前記第１方向に沿った幅（ｍ）である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月20日(2017.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
一般的に，ラジアル荷重試験機で行う保持器の耐摩耗試験は，試験機の回転軸に保持器を固定し，一体回転させて保持器に試験荷重を負荷し，保持器の外径面と試験機外輪の内周面とをすべり接触させることにより試験を行っている。保持器がエンジン実機内に組み込まれた場合のように撓まないと，保持器は外輪に非常に小さな面積で押接されることになる。保持器の外周面にエンジン実機内よりも高い接触面圧が作用して，そのため保持器の外周面の表面処理皮膜が剥がれ，エンジン実機の条件を想定した耐摩耗試験を行えなかった。また，上記特許文献１の試験機では，大きな遠心荷重を負荷するには，回転数を上げるとともに，公転速度を上げるため試料軸受を取り付ける支持ブラケットの腕の長さを長くして装置を大きくする必要があった。また，上記試験機では，ニードルケージの保持器の外周面をすべり接触させる耐摩耗試験を行ったが，試料軸受用の外輪が太陽輪の内周面に沿って転がり，公転運動しながら自転運動を行うので，保持器のすべり速度がエンジン実機と比べて非常に大きくなってしまう。すべり速度をエンジン実機と同程度まで下げながら，大きな遠心荷重を負荷するには支持ブラケットの腕の長さを短くして，主軸の回転数を上げる必要があった。また，上記特許文献１の試験機では，試料の軸受に遠心荷重を負荷しているが，主として，２サイクルエンジンの潤滑条件で耐久試験を行っていたものであり，公転と自転が複合した大きな遠心力をニードルケージに負荷していたが，保持器を試験機のトラック面（太陽輪の内周面）に押接できず，そのためエンジン実機に近い条件で，保持器の表面処理皮膜の耐摩耗試験が行えなかった。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月23日(2018.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線検出装置であって、
放射線に基づく電気信号を取得する素子を二次元のアレー状に配置し、照射された放射線を検出する平面状の検出手段と、
前記素子のそれぞれにおける前記電気信号を出力させるためのスイッチを駆動させる駆動回路と、
前記スイッチが駆動されることに応じて、前記素子のそれぞれにおける前記電気信号を取得する取得回路と、
前記駆動回路および前記取得回路が配置される支持基台と、
前記駆動回路のグランドおよび前記取得回路のグランドと電気的に接続される導電性部材と、を有し、
放射線を照射する放射線源から見て、前記導電性部材、前記検出手段、前記支持基台の順に配置されていることを特徴とする放射線検出装置。
【請求項２】
前記支持基台は、前記支持基台と前記検出手段との間の距離が、前記検出手段と前記導電性部材との間の距離より大きくなる位置に配置される、
ことを特徴とする請求項１に記載の放射線検出装置。
【請求項３】
前記支持基台のインピーダンスが、前記導電性部材のインピーダンスよりも高い、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の放射線検出装置。
【請求項４】
前記駆動回路には、前記スイッチをオフにするための駆動オフバイアスが入力され、
前記駆動オフバイアスと前記駆動回路のグランドとの間には、コンデンサが接続される、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項５】
前記コンデンサは、１．３μＦから１．０ｍＦの容量を有する、
ことを特徴とする請求項４に記載の放射線検出装置。
【請求項６】
前記駆動回路のグランドと前記取得回路のグランドとの少なくともいずれかが、前記支持基台と電気的に接続されないように構成される、
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項７】
前記導電性部材の一部は、前記検出手段を覆う薄膜の部分を有する、
ことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項８】
前記導電性部材は、前記駆動回路のグランドと前記取得回路のグランドとの少なくともいずれかと、複数個所において電気的に接続される、
ことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載の放射線検出装置と、
前記放射線検出装置に放射線を照射する放射線源と、
前記取得回路が取得した前記電気信号に基づいて、放射線撮像画像を形成する形成装置と、
を有することを特徴とする放射線撮像システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の放射線検出装置は、放射線に基づく電気信号を取得する素子を二次元のアレー状に配置し、照射された放射線を検出する平面状の検出手段と、前記素子のそれぞれにおける前記電気信号を出力させるためのスイッチを駆動させる駆動回路と、前記スイッチが駆動されることに応じて、前記素子のそれぞれにおける前記電気信号を取得する取得回路と、前記駆動回路および前記取得回路が配置される支持基台と、前記駆動回路のグランドおよび前記取得回路のグランドと電気的に接続される導電性部材と、を有し、放射線を照射する放射線源から見て、前記導電性部材、前記検出手段、前記支持基台の順に配置されている。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月5日(2017.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４６】
本発明の基本的な原理から逸脱することなく、上記の実施態様及び実施例が様々に変更可能であることは当業者に明らかである。また、本発明の様々な改良及び変更が本発明の趣旨及び範囲から逸脱せずに実施できることは当業者には明らかである。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［１３］に記載する。
［１］
再帰性反射層と、
ポリウレタン表面保護層と
を含む再帰性反射シートであって、
前記表面保護層は、少なくともポリエステル骨格又はポリカーボネート骨格のいずれかを有するポリオールと、三官能以上の脂肪族イソシアネートとの反応物を含み、
前記表面保護層のガラス転移温度Ｔｇが５０℃以上であり、１２０℃における損失正接ｔａｎδが０．１以下である、再帰性反射シート。
［２］
前記再帰性反射層がキューブコーナー素子を含む、項目１に記載の再帰性反射シート。
［３］
前記脂肪族イソシアネートは、イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体、アダクト体、又はこれらの両方を含有する、項目１又は２のいずれかに記載の再帰性反射シート。
［４］
前記再帰性反射層と前記表面保護層との間に着色層を有し、前記着色層は少なくとも塩化ビニル単位及び酢酸ビニル単位を含む共重合体樹脂と、顔料とを含む熱可塑性インク組成物から形成される、項目１〜３のいずれか一項に記載の再帰性反射シート。
［５］
赤外線吸収剤をさらに含む、項目１〜４のいずれか一項に記載の再帰性反射シート。
［６］
前記赤外線吸収剤がセシウムタングステン酸化物を含む、項目５に記載の再帰性反射シート。
［７］
再帰反射係数が４５ｃｄ／ｌｘ／ｍ２以上である、項目１〜６のいずれか一項に記載の再帰性反射シート。
［８］
項目１〜７のいずれか一項に記載の再帰性反射シートを含むライセンスプレート。
［９］
再帰性反射層を提供する工程と、
前記再帰性反射層の上又はその上方に、少なくともポリエステル骨格又はポリカーボネート骨格のいずれかを有するポリオールと、三官能以上の脂肪族イソシアネートとの反応物を含むポリウレタン表面保護層を形成する工程と
を含む再帰性反射シートの製造方法であって、
前記表面保護層形成前の再帰性反射シートの再帰反射係数を１００％とした場合の前記表面保護層形成後の再帰性反射シートの再帰反射係数が４５％以上である、再帰性反射シートの製造方法。
［１０］
前記再帰性反射層がキューブコーナー素子を含む、項目９に記載の再帰性反射シートの製造方法。
［１１］
前記表面保護層を形成する工程が、８０〜１２０℃の温度で１０分以下加熱することを含む、項目９又は１０のいずれかに記載の再帰性反射シートの製造方法。
［１２］
ベースプレートを提供する工程と、
前記ベースプレートの上に再帰性反射層を積層して、再帰性反射積層プレートを形成する工程と、
前記再帰性反射積層プレートをエンボス加工又はデボス加工する工程と、
エンボス加工又はデボス加工された前記再帰性反射積層プレートの凸部又は凹部に着色層を形成する工程と、
前記再帰性反射層及び前記着色層を覆うようにポリウレタン表面保護層を形成する工程であって、前記表面保護層は、少なくともポリエステル骨格又はポリカーボネート骨格のいずれかを有するポリオールと、三官能以上の脂肪族イソシアネートとの反応物を含む、工程とを含む、ライセンスプレートの製造方法。
［１３］
前記再帰性反射層がキューブコーナー素子を含む、項目１２に記載のライセンスプレートの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
再帰性反射層と、
ポリウレタン表面保護層と
を含む再帰性反射シートであって、
前記表面保護層は、少なくともポリエステル骨格又はポリカーボネート骨格のいずれかを有するポリオールと、三官能以上の脂肪族イソシアネートとの反応物を含み、
前記表面保護層のガラス転移温度Ｔｇが５０℃以上であり、１２０℃における損失正接ｔａｎδが０．１以下である、再帰性反射シート。
【請求項２】
前記再帰性反射層がキューブコーナー素子を含む、請求項１に記載の再帰性反射シート。
【請求項３】
前記脂肪族イソシアネートは、イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体、アダクト体、又はこれらの両方を含有する、請求項１又は２のいずれかに記載の再帰性反射シート。
【請求項４】
前記再帰性反射層と前記表面保護層との間に着色層を有し、前記着色層は少なくとも塩化ビニル単位及び酢酸ビニル単位を含む共重合体樹脂と、顔料とを含む熱可塑性インク組成物から形成される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の再帰性反射シート。
【請求項５】
赤外線吸収剤をさらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の再帰性反射シート。
【請求項６】
前記赤外線吸収剤がセシウムタングステン酸化物を含む、請求項５に記載の再帰性反射シート。
【請求項７】
再帰反射係数が４５ｃｄ／ｌｘ／ｍ２以上である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の再帰性反射シート。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の再帰性反射シートを含むライセンスプレート。
【請求項９】
再帰性反射層を提供する工程と、
前記再帰性反射層の上又はその上方に、少なくともポリエステル骨格又はポリカーボネート骨格のいずれかを有するポリオールと、三官能以上の脂肪族イソシアネートとの反応物を含むポリウレタン表面保護層を形成する工程と
を含む再帰性反射シートの製造方法であって、
前記表面保護層形成前の再帰性反射シートの再帰反射係数を１００％とした場合の前記表面保護層形成後の再帰性反射シートの再帰反射係数が４５％以上である、再帰性反射シートの製造方法。
【請求項１０】
ベースプレートを提供する工程と、
前記ベースプレートの上に再帰性反射層を積層して、再帰性反射積層プレートを形成する工程と、
前記再帰性反射積層プレートをエンボス加工又はデボス加工する工程と、
エンボス加工又はデボス加工された前記再帰性反射積層プレートの凸部又は凹部に着色層を形成する工程と、
前記再帰性反射層及び前記着色層を覆うようにポリウレタン表面保護層を形成する工程であって、前記表面保護層は、少なくともポリエステル骨格又はポリカーボネート骨格のいずれかを有するポリオールと、三官能以上の脂肪族イソシアネートとの反応物を含む、工程とを含む、ライセンスプレートの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月14日(2017.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
態様の一例では、互いに異なる音高が割り当てられた複数の演奏操作子の操作状態を特定する特定部と、前記操作状態に基づいて、第１及び第２のいずれかの状態に移行する状態移行部と、前記第１の状態に移行した場合に、前記操作状態に基づいて歌詞を決定する歌詞決定部と、前記第２の状態に移行した場合に、前記操作状態に基づいて音高を決定する音高決定部と、前記決定した歌詞を前記決定した音高で発音させる発音データを生成する発音生成部と、を備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに異なる音高が割り当てられた複数の演奏操作子の操作状態を特定する特定部と、
前記操作状態に基づいて、第１及び第２のいずれかの状態に移行する状態移行部と、
前記第１の状態に移行した場合に、前記操作状態に基づいて歌詞を決定する歌詞決定部と、
前記第２の状態に移行した場合に、前記操作状態に基づいて音高を決定する音高決定部と、
前記決定した歌詞を前記決定した音高で発音させる発音データを生成する発音生成部と、
を備えた歌唱生成装置。
【請求項２】
前記操作状態は、前記複数の演奏操作子のうちのいずれの操作子が操作されたか、操作された複数の演奏操作子の組み合わせ、操作された演奏操作子の数、演奏操作子が操作されたタイミング、のうちのいずれかの操作の状態を含む、
請求項１に記載の歌唱生成装置。
【請求項３】
前記歌詞決定部は、前記第１の状態に移行した場合に、前記移行の判定に用いた前記操作状態に基づいて歌詞を決定し、
前記音高決定部は、前記第２の状態に移行した場合に、前記移行の判定に用いた前記操作状態に基づいて音高を決定する、
請求項１または２に記載の歌唱生成装置。
【請求項４】
前記第２の状態に移行した場合に、前記歌詞決定部により既に決定された歌詞を、前記音高決定部により決定された音高で歌唱させるための歌唱データを生成する歌唱生成部、を更に備え、
前記発音生成部は、前記歌唱生成部にて生成された歌唱データに基づいて発音させる発音データを生成する、
請求項３に記載の歌唱生成装置。
【請求項５】
前記歌詞決定部はさらに、前記決定された歌詞を順次メモリに記憶させ、
前記歌唱生成部は、前記音高決定部にて音高が決定される毎に、前記メモリに記憶されている歌詞を予め記憶された順に読み出すとともに、前記読み出された歌詞を前記決定された音高で歌唱させる歌唱データを生成する、請求項４に記載の歌唱生成装置。
【請求項６】
前記状態移行部は、予め定められた期間内に操作が行われた前記演奏操作子の数に基づいて、前記第１の状態及び前記第２の状態のいずれかの状態に移行する、
請求項１乃至５のいずれかに記載の歌唱生成装置。
【請求項７】
前記状態移行部は、予め定められた期間内に前記演奏操作子が複数同時に操作された場合に前記第１の状態に移行し、前記予め定められた期間内に前記演奏操作子を単数操作した場合に前記第２の状態に移行する、請求項６に記載の歌唱生成装置。
【請求項８】
前記操作状態は、演奏操作子の操作が終了したタイミングを含み、
前記状態移行部は、前記操作の終了を判別する毎に、第１及び第２のいずれか一方の状態から他方の状態に移行する、
請求項１乃至５のいずれかに記載の歌唱生成装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の歌唱生成装置と、
複数の演奏操作子と、
前記歌唱生成装置からの発音データに基づいて歌唱音を発音する発音部と、
を備えた電子楽器。
【請求項１０】
装置が、
互いに異なる音高が割り当てられた複数の演奏操作子の操作状態を特定する特定処理と、
前記操作状態に基づいて、第１及び第２のいずれかの状態に移行する状態移行処理と、
前記第１の状態に移行した場合に、前記操作状態に基づいて歌詞を決定する歌詞決定処理と、
前記第２の状態に移行した場合に、前記操作状態に基づいて音高を決定する音高決定処理と、
前記決定した歌詞を前記決定した音高で発音させる発音データを生成する発音生成処理と、
を実行する歌唱生成方法。
【請求項１１】
コンピュータに、
互いに異なる音高が割り当てられた複数の演奏操作子の操作状態を特定する特定処理と、
前記操作状態に基づいて、第１及び第２のいずれかの状態に移行する状態移行処理と、
前記第１の状態に移行した場合に、前記操作状態に基づいて歌詞を決定する歌詞決定処理と、
前記第２の状態に移行した場合に、前記操作状態に基づいて音高を決定する音高決定処理と、
前記決定した歌詞を前記決定した音高で発音させる発音データを生成する発音生成処理と、
を実行させるプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月19日(2017.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テキストデータに基づいて、音声素片を選択する選択部と、
前記選択された音声素片を接続することにより接続音声素片を生成する接続部と、
音声データから得られるピッチ列を量子化し、前記量子化されたピッチ列を平滑化し、前記平滑化されたピッチ列から抑揚情報を抽出する抑揚情報抽出部と、
前記接続音声素片に含まれる要素の少なくとも一部を前記抑揚情報に基づいて変更して合成音声を出力する出力部と、
を備える音声合成装置。
【請求項２】
前記出力部は、前記接続音声素片に含まれる要素であるピッチ列を、前記抑揚情報抽出部から抽出された抑揚情報に適応するように変更するピッチ適応部を含む、請求項１に記載の音声合成装置。
【請求項３】
前記平滑化されたピッチ列は、加重移動平均演算することにより平滑化されている、請求項１または２に記載の音声合成装置。
【請求項４】
前記ピッチ適応部はさらに、前記音声データに含まれる韻律情報としてのピッチ列と前記接続音声素片に含まれるピッチ列との時間スケールを調整するとともに、前記韻律情報としてのピッチ列と前記接続音声素片に含まれるピッチ列とのピッチ存在区間を調整する、請求項２または３に記載の音声合成装置。
【請求項５】
前記出力部は、前記接続音声素片に含まれる要素であるパワー列を、前記抑揚情報抽出部から抽出された抑揚情報に適応するように変更するパワー適応部を含む、請求項１に記載の音声合成装置。
【請求項６】
前記抑揚情報抽出部は、前記音声データに含まれる韻律情報としてのパワー列を平滑化し、当該平滑化されたパワー列を前記抑揚情報として抽出し、
前記パワー適応部は、前記接続音声素片に含まれるパワー列を平滑化し、当該平滑化されたパワー列と前記抑揚情報としての平滑化されたパワー列との比の列を算出し、当該比の列に基づいて前記接続音声素片のパワー列を修正する、請求項５に記載の音声合成装置。
【請求項７】
前記平滑化されたパワー列は、前記パワー列に含まれるパワーそれぞれを加重移動平均演算することにより取得する、請求項６に記載の音声合成装置。
【請求項８】
前記パワー適応部はさらに、前記音声データに含まれる韻律情報としてのパワー列及び前記接続音声素片に含まれるパワー列それぞれの時間スケールを調整する、請求項５ないし７のいずれかに記載の音声合成装置。
【請求項９】
音声合成装置に用いられる音声合成方法であって、前記音声合成装置が、
テキストデータに基づいて、音声素片を選択し、
前記選択された音声素片を接続することにより接続音声素片を生成し、
音声データから得られるピッチ列を量子化し、前記量子化されたピッチ列を平滑化し、前記平滑化されたピッチ列から抑揚情報を抽出し、
前記接続音声素片に含まれる要素の少なくとも一部を前記抑揚情報に基づいて変更して合成音声を出力する、音声合成方法。
【請求項１０】
音声合成装置に用いられる音声合成装置として用いられるコンピュータに、
テキストデータに基づいて、音声素片を選択するステップと、
前記選択された音声素片を接続することにより接続音声素片を生成するステップと、
音声データから得られるピッチ列を量子化し、前記量子化されたピッチ列を平滑化し、前記平滑化されたピッチ列から抑揚情報を抽出するステップと、
前記接続音声素片に含まれる要素の少なくとも一部を前記抑揚情報に基づいて変更して合成音声を出力するステップと、
を実行させるプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月11日(2017.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数本の光ビームを、１つの点光源からの光ビームになるように空間的に合波して出力する光ビームの合波器であって、
光ビームの入射端面と出射端面を有する、コア、及び厚み１μｍ以下のクラッドで構成される外径１０μｍ以下の複数本の光ファイバ素線と、
前記光ファイバ素線のそれぞれを固定する複数の固定溝が表面に設けられたチップ型板と、を備え、
前記固定溝は、前記チップ型板の１つの縁に沿ってお互いに間隔をあけて前記入射端面が配置されるように設けられた複数の入射部と、前記チップ型板の他の縁に前記出射端面が配置される出射部と、を備え、前記固定溝は、前記光ファイバ素線のそれぞれを前記入射部から前記出射部まで誘導するように、前記光ファイバ素線のそれぞれに対応して前記チップ型板の表面上に設けられ、
前記複数の固定溝は、前記入射部から前記出射部に進むに連れて互いに近づき、前記出射部において前記複数の固定溝が１つの溝として統合されている、ことを特徴とする光ビームの合波器。
【請求項２】
前記出射部における前記固定溝の溝断面形状は、前記光ファイバ素線の固定のために、溝深さ方向において溝底に向かって溝幅が狭くなる先細り形状になっている、請求項１に記載の光ビームの合波器。
【請求項３】
請求項１または２に記載の光ビームの合波器と、
前記チップ型板の前記１つの縁に沿って前記入射部の位置に対応した位置に配置される、互いに異なる複数の波長の光を発するレーザーダイオード光源と、
前記レーザーダイオード光源及び前記チップ型板を載置する基板と、を備え、
前記レーザーダイオード光源からの光ビームを、レンズを用いて、あるいはレンズを用いることなく直接、前記入射部から前記コアへ入射させる、ことを特徴とするチップ型マルチ波長レーザー光源。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明では、複数本の光ビームを、１つの点光源からの光ビームになるように空間的に合波して出力する光ビームの合波器を提供する。当該合波器は、
光ビームの入射端面と出射端面を有する、コア、及び厚み１μｍ以下のクラッドで構成される外径１０μｍ以下の複数本の光ファイバ素線と、
前記光ファイバ素線のそれぞれを固定する複数の固定溝が表面に設けられたチップ型板と、を備える。
前記固定溝は、前記チップ型板の１つの縁に沿ってお互いに間隔をあけて前記入射端面が配置されるように設けられた複数の入射部と、前記チップ型板の他の縁に前記出射端面が配置される出射部と、を備え、前記固定溝は、前記光ファイバ素線のそれぞれを前記入射部から前記出射部まで誘導するように、前記光ファイバ素線のそれぞれに対応して前記チップ型板の表面上に設けられ、
前記複数の固定溝は、前記入射部から前記出射部に進むに連れて互いに近づき、前記出射部において前記複数の固定溝が１つの溝として統合されている。
また、本発明では、チップ型マルチ波長レーザー光源を提供する。当該チップ型マルチ波長レーザー光源は、
前記光ビームの合波器と、
前記チップ型板の前記１つの縁に沿って前記入射部の位置に対応した位置に配置される、互いに異なる複数の波長の光を発するレーザーダイオード光源と、
前記レーザーダイオード光源及び前記チップ型板を載置する基板と、を備え、
前記レーザーダイオード光源からの光ビームを、レンズを用いて、あるいはレンズを用いることなく直接、前記入射部から前記コアへ入射させる。
具体的には、Ｎ対１バンドルファイバを用いる合波器において、入力側に横並びになるＮ本ファイバ中の特定な１本に入れられたＮ本の光ビーム中の特定な１本の光は、出力側に束ねたＮ本ファイバ中の該当ファイバの端面からそのまま出射されるので、合波器内部の各々のファイバ中において各々の波長の光ビームのロスは殆どなく、つまり、合波器本体において光学的な効率はほぼ１００％に達している。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月14日(2018.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
出力スペクトル（１１ｓ）の予め決められた第１の主波長（λｄｏｍ，ｆｉｌｔｅｒｄ）を有する赤色スペクトル領域で波長変換された光を供給するための光モジュール（１２）であって、
吸収スペクトルの少なくとも１つの第１の波長（λｐｒｉｍ）を有する励起放射（２４ａ，２４ｂ）を吸収し、放出スペクトル（９ｓ）の少なくとも１つの第２の波長（λｓｅｃ）を有する光（９ａ，９ｂ）に変換し、その光を放出するように構成された変換手段（１８）を備え、前記少なくとも１つの第２の波長（λｓｅｃ）が前記少なくとも１つの第１の波長（λｐｒｉｍ）よりも長く、
前記吸収スペクトル内の１つのスペクトル成分を有する励起放射（２４ａ，２４ｂ）を送出するように構成された励起放射源（２６）を備え、前記励起放射源（２６）によって送出される励起放射（２４ａ，２４ｂ）が少なくとも間接的に前記変換手段（１８）に入射可能であるように、前記励起放射源（２６）が配置された、
光モジュール（１２）において、
前記変換手段（１８）が、赤色スペクトル成分と、第２の主波長（λｄｏｍ，ｃｏｎｖ）と、少なくとも１２０ｎｍの半値幅（ＦＷＨＭ）とを持った放出スペクトル（９ｓ）を有し、
予め決められた限界波長（ＴＧ）を持ったロングパス特性（３０）を有するスペクトルフィルタ（２８）を備え、第２の主波長（λｄｏｍ，ｃｏｎｖ）を有する放出スペクトル（９ｓ）を予め決められた第１の主波長（λｄｏｍ，ｆｉｌｔｅｒｄ）を有する出力スペクトル（１１ｓ）に縮小するように、前記スペクトルフィルタ（２８）が配置されていることを特徴とする光モジュール（１２）。
【請求項２】
前記第２の主波長（λｄｏｍ，ｃｏｎｖ）が、橙赤色スペクトル領域内にあることを特徴とする請求項１記載の光モジュール（１２）。
【請求項３】
前記変換手段が、セリウムをドープしたシリコンガーネット蛍光体として構成されていることを特徴とする請求項１又は２記載の光モジュール（１２）。
【請求項４】
前記シリコンガーネット蛍光体（４９，５８，５０，５９，５１，６０）が、原子番号５７〜７１の元素であるランタノイドのうち、セリウムおよびルテチウムだけを有することを特徴とする請求項３記載の光モジュール（１２）。
【請求項５】
前記励起放射源（２６）が少なくとも１ｋＷ／ｃｍ２の励起放射面積出力密度を有する励起放射（２４ａ，２４ｂ）を前記変換手段（１８）に照射するように構成されていることを特徴とする請求項１から４の１つに記載の光モジュール（１２）。
【請求項６】
前記励起放射源（２６）がレーザ光源（２６ａ）として構成されていることを特徴とする請求項１から５の１つに記載の光モジュール（１２）。
【請求項７】
前記変換手段（１８）が、少なくとも前記励起放射源（２６）に対して固定された支持体上に配置されていることを特徴とする請求項１から６の１つに記載の光モジュール（１２）。
【請求項８】
請求項１から７の１つに記載の光モジュール（１２）を有する投影装置（１５）。
【請求項９】
蛍光体ホイール（１３）を有し、
前記蛍光体ホイール（１３）が該蛍光体ホイールの回転軸（Ａ）を中心に回転可能であり、
少なくとも前記変換手段（１８）が、前記蛍光体ホイール（１３）の回転軸の周りに延在する前記蛍光体ホイール（１３）の環状の領域（１６）の少なくとも１つのセグメントに配置されており、
少なくとも１つの第２の変換手段（２０）が、前記蛍光体ホイール（１３）の回転軸の周りに延在する前記領域（１６）の少なくとも１つの第２のセグメントに配置されていることを特徴とする請求項８記載の投影装置（１５）。
【請求項１０】
前記蛍光体ホイール（１３）が前記回転軸の周りに延在する環状の領域（１６）の少なくとも１つの第３のセグメントに貫通開口（２２）を有し、
前記励起放射源（２６）によって放射された励起放射（２４）が、前記蛍光体ホイール（１３）の回転時に少なくとも間接的に、前記回転軸の周りに延在する前記蛍光体ホイール（１３）の前記領域（１６）の各セグメントに順次入射可能であるように、構成されていることを特徴とする請求項９記載の投影装置（１５）。
【請求項１１】
蛍光体ホイール（１３）を有し、
前記蛍光体ホイール（１３）が該蛍光体ホイール（１３）の回転軸（Ａ）を中心に回転可能であり、前記変換手段（１８）が唯一の変換手段として前記蛍光体ホイール（１３）上に配置されていることを特徴とする請求項８記載の投影装置（１５）。
【請求項１２】
少なくとも前記スペクトルフィルタ（２８）を含むフィルタホイール（１４）を有し、前記スペクトルフィルタ（２８）が前記フィルタホイール（１４）の少なくとも１つの第１の領域に配置されており、
前記フィルタホイール（１４）が、該フィルタホイール（１４）の回転軸を中心に前記蛍光体ホイール（１３）に対して回転可能であり、それにより、前記変換手段（１８）によって放出される第２の主波長（λｄｏｍ，ｃｏｎｖ）を有する光の少なくとも一部が、前記スペクトルフィルタ（２８）が配置されているフィルタホイール（１４）の少なくとも１つの第１の領域に入射可能であることを特徴とする請求項９又は１０記載の投影装置（１５）。
【請求項１３】
前記フィルタホイール（１４）が、前記スペクトルフィルタ（２８）を配置していない少なくとも１つの第２の領域を有し、
前記フィルタホイール（１４）が、前記蛍光体ホイール（１３）に対して回転可能であり、それにより、前記変換手段（１８）によって放出される第２の主波長（λｄｏｍ，ｃｏｎｖ）を有する光の一部が、少なくとも間接的に前記スペクトルフィルタ（２８）が配置されていない前記フィルタホイール（１４）の少なくとも１つの第２の領域に入射可能であることを特徴とする請求項１０記載の投影装置（１５）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この課題は、請求項１記載の光モジュール、ならびに請求項８記載の投影装置によって解決される。格別に有利な実施形態が従属請求項に記載されている。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月20日(2017.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学系で形成された被写体像の振れを補正する方向に前記光学系の一部及び撮像素子の少なくとも１つを駆動させることにより、光学的に補正を行う第１の像振れ補正手段と、前記被写体像の振れを補正する方向に前記撮像素子の読み出し位置を制御することにより、電子的に補正を行う第２の像振れ補正手段と、を制御することで像振れを補正する画像処理装置であって、
撮像装置の振れを検出して振れ信号を出力する振れ検出手段で検出された前記振れ信号に基づいて第１の像振れ補正量を演算する第１の補正量演算手段と、
前記第１の像振れ補正量に基づいて、前記第１の像振れ補正手段の動作のための第２の像振れ補正量を演算する第２の補正量演算手段と、
前記第１の像振れ補正量と、前記第１の像振れ補正手段により駆動される前記光学系の一部及び前記撮像素子の少なくとも１つの位置を示す値を出力する位置検出手段で検出された前記光学系の一部及び前記撮像素子の少なくとも１つの位置を示す値とに基づいて、前記第２の像振れ補正手段の動作のための第３の像振れ補正量を演算する第３の補正量演算手段と、
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記第３の補正量演算手段は、前記第１の像振れ補正量から前記位置検出手段で検出された前記光学系の一部及び前記撮像素子の少なくとも１つの位置を示す値を減算することにより、第３の像振れ補正量を演算することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記撮像素子は画素ラインごとに露光タイミングが異なる露光方式により撮像を行う素子であり、前記露光タイミングの違いによって生じる前記被写体像の歪みを補正する方向に前記撮像素子の読み出し位置を制御することにより、電子的に補正を行う第３の像振れ補正手段をさらに制御する画像処理装置であって、
前記第１の像振れ補正量に基づいて、前記第３の像振れ補正手段のための第４の像振れ補正量を演算する第４の補正量演算手段をさらに備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記第１の像振れ補正手段の可動範囲をＡ、前記第２の像振れ補正手段の可動範囲をＢ、係数ＫをＫ＝Ａ／（Ａ＋Ｂ）とした場合に、前記第４の補正量演算手段は、前記第１の像振れ補正量に係数（１−Ｋ）を乗算することにより前記第４の像振れ補正量を演算することを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記第１の像振れ補正手段の可動範囲をＡ、前記第２の像振れ補正手段の可動範囲をＢ、係数ＫをＫ＝Ａ／（Ａ＋Ｂ）とした場合に、前記第２の補正量演算手段は、前記第１の像振れ補正量に前記係数Ｋを乗算することにより前記第２の像振れ補正量を演算することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記第１の像振れ補正手段のみで像振れ補正を行う第１のモードと、前記第１の像振れ補正手段と前記第２の像振れ補正手段を併用して像振れ補正を行う第２のモードとのうち、いずれかのモードを選択可能なモード選択手段をさらに制御する画像処理装置であって、
前記モード選択手段により前記第１のモードが選択された場合、前記第２の補正量演算手段は、前記第１の像振れ補正量と同じ値を前記第２の像振れ補正量とすることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記撮像装置が静止画像を撮影するための露光期間において、前記第２の補正量演算手段は、前記第１の像振れ補正量と同じ値を前記第２の像振れ補正量とすることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
光学系で形成された被写体像の振れを補正する方向に前記光学系の一部及び撮像素子の少なくとも１つを駆動させることにより、光学的に補正を行う第１の像振れ補正手段と、前記被写体像の振れを補正する方向に前記撮像素子の読み出し位置を制御することにより、電子的に補正を行う第２の像振れ補正手段と、を制御することで像振れを補正する画像処理方法であって、
撮像装置の振れを検出して振れ信号を出力する振れ検出手段で検出された前記振れ信号に基づいて第１の像振れ補正量を演算する第１の補正量演算工程と、
前記第１の像振れ補正量に基づいて、前記第１の像振れ補正手段の動作のための第２の像振れ補正量を演算する第２の補正量演算工程と、
前記第１の像振れ補正量と、前記第１の像振れ補正手段により駆動される前記光学系の一部及び前記撮像素子の少なくとも１つの位置を示す値を出力する位置検出手段で検出された前記光学系の一部及び前記撮像素子の少なくとも１つの位置を示す値とに基づいて、前記第２の像振れ補正手段の動作のための第３の像振れ補正量を演算する第３の補正量演算工程と、
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の一実施形態に係る画像処理装置は、光学系で形成された被写体像の振れを補正する方向に光学系の一部及び撮像素子の少なくとも１つを駆動させることにより、光学的に補正を行う第１の像振れ補正手段と、被写体像の振れを補正する方向に撮像素子の読み出し位置を制御することにより、電子的に補正を行う第２の像振れ補正手段と、を制御することで像振れを補正する画像処理装置であって、撮像装置の振れを検出して振れ信号を出力する振れ検出手段で検出された振れ信号に基づいて第１の像振れ補正量を演算する第１の補正量演算手段と、第１の像振れ補正量に基づいて、第１の像振れ補正手段の動作のための第２の像振れ補正量を演算する第２の補正量演算手段と、第１の像振れ補正量と、前記第１の像振れ補正手段により駆動される前記光学系の一部及び前記撮像素子の少なくとも１つの位置を示す値を出力する位置検出手段で検出された光学系の一部及び撮像素子の少なくとも１つの位置を示す値とに基づいて、第２の像振れ補正手段の動作のための第３の像振れ補正量を演算する第３の補正量演算手段と、を備えることを特徴とする。