【事件の表示】
　平成１１年特許願第２２３８１３号「薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　２月２３日出願公開、特開２００１−　５２３０９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯、本願発明
　本願は、平成１１年８月６日の出願であって、その請求項１ないし４に係る発明は、平成１４年７月５日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、本願特許請求の範囲の請求項１ないし４に記載された事項により特定されるとおりのものであるところ、その請求項１に記載された発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりである。
　「【請求項１】　下部コア層と、上部コア層と、記録媒体との対向面で前記下部コア層と上部コア層との間に位置し且つトラック幅方向の寸法が規制されたトラック幅規制部とを有し、
　前記トラック幅規制部は、下部コア層と連続する下部磁極層と、非磁性金属材料からなるギャップ層と、上部コア層と連続する上部磁極層が下から順に連続メッキ形成されたものであって、前記トラック幅規制部のトラック幅方向端部は直線状に形成され、しかも前記トラック幅規制部の幅寸法は前記上部コア層の先端部の幅寸法より小さくなっており、
　前記トラック幅規制部と上部コア層との接合面を基準平面としたときに、
　前記下部コア層と前記上部コア層に記録磁界を誘導するコイル層が、前記トラック幅規制部よりもハイト方向の後方に位置し、且つコイル層の上面が前記基準平面よりも下部コア層側に位置し、前記下部コア層上に上面が前記基準平面と同一面となる絶縁層が設けられて、前記コイル層が前記絶縁層の内部に埋め込まれ、しかも前記絶縁層が、コイル層を構成する各導体部のピッチ間に位置する有機絶縁層と、前記ピッチ間以外の領域を埋める無機絶縁層とで構成されており、
　前記絶縁層の上に直接にまたは他の層を介して、前記コイル層と電気的に接続された第２のコイル層が形成され、トラック幅規制部の上面から前記第２のコイル層を覆う絶縁層の上に前記上部コア層が形成され、前記上部コア層の基端部が下部コア層上に磁気的に接続されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。」
　
２　引用例
（１）　原査定の拒絶の理由で引用された特開昭６０−１１９６１３号公報（以下「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。
　（ア）「上部ヘッドコア、下部ヘッドコアと呼ばれる二層の軟磁性膜でヘッド磁路が構成され、該上、下部ヘッドコアの間に薄膜コイルが設けられている薄膜磁気ヘッドにおいて下部ヘッドコア全てと上部ヘッドコアの動作ギャップ形成部をセンダスト膜で構成したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。」（公報の特許請求の範囲請求項１）
　（イ）「第３図は本発明の一実施例を示す薄膜ヘッドの構造を示すもので１は非磁性基板で１３は下部ヘッドコアとなるセンダスト膜、６はギャップスペーサ膜、１４，１４’は上部ヘッドコアの一部となるセンダスト膜、５は絶縁膜、４は薄膜コイルで７は薄膜コイル部を平坦化するためのＳｉＯ２ 層、１５はセンダスト膜と共に上部ヘッドコアを構成するパーマロイ膜、１６は保護膜である。
　第４図は第３図に示した薄膜ヘッドの作成手順である。鏡面仕上げされ十分に洗浄された非磁性基板１上に所定厚さのセンダスト膜１３をスパッタリング法で付着させ所定形状にパターンエッチングして多数個分のヘッドチップを作成する（第４図Ａ）。然る後に動作ギャップを形成する部分に所定厚さのギャップスペーサ膜（ＳｉＯ２　膜）６を付着させる。次に薄膜コイル作成部をマスクして上部ヘッドコアの一定となるセンダスト膜１４，１４’を所定の厚さだけスパッタリング法により付着させ、不要部分をエッチングで除去してセンダスト膜を成形する（第４図Ｂ）。」（公報３頁左下欄１１行〜右下欄１０行）
　（ウ）「上述したセンダスト膜の熱処理が完了した後、薄膜コイル形成部に絶縁膜５を所定の厚さ付着させ薄膜コイル材のＡｌを蒸着し、所定形状にパターンニングする。然る後、薄膜コイル４による凹凸を解消するために薄膜コイル形成部に、ＳｉＯ２ を基板電極にＲＦバイアスを印加してスパッタリングする（第４図Ｃ）。薄膜コイル部分の平坦化が完了した後、既に上部ヘッドコアの一部となるセンダスト膜１４，１４’を接続しヘッド磁路を形成するためのパーマロイ膜１５を薄膜コイル形成部の上部と上記センダスト膜１４，１４’の一部に重るようにスパッタリング法で所定の厚さ形成し所定形状にパターンニングを行う。次に保護膜１６を所定厚さだけスパッタリング法によって形成し薄膜ヘッドの基本的な構成要素の作成が完了する。」（公報３頁右下欄１６行〜４頁左上欄１１行）
　（エ）「薄膜コイル形成部の平坦化はＳｉＯ２でなくても有機樹脂でも可能である。本実施例では薄膜コイル４は単層巻きとなっているが、巻数を増やすために２層巻きにしてもかまわない。」（公報４頁右上欄１行〜４行）
　（オ）「７・・・平坦化層、（中略）１４・・・動作ギャップ部の上部ヘッドコア用センダスト膜、１４’・・・上、下部ヘッドコア接合部の上部ヘッドコア用センダスト膜」（公報図面の簡単な説明、４頁左下欄１６行〜２０行）
　（カ）第３図及び第４図には、薄膜コイル４が、動作ギャップ形成部を構成する上部ヘッドコア用センダスト膜１４よりも、テープ摺動面に対して垂直方向の後方に位置し、コイルの上面が、動作ギャップ形成部を構成する上部ヘッドコア用センダスト膜１４の上面よりも、下部ヘッドコア１３側に位置し、下部ヘッドコア上に平坦化層７が設けられ、薄膜コイルが平坦化層の内部に埋め込まれ、平坦化層の上面と、動作ギャップ形成部を構成する上部ヘッドコア用センダスト膜の上面とが、平坦化により同一面となっていることが、図示されている。
　
（２）　同じく原査定の拒絶の理由で引用された特開平８−７２２２号公報（以下「引用例２」という。）には、次の事項が記載されている。
　（サ）「【００２１】　本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し、膜内亀裂、及び膜内空洞の発生を抑制し、コイルの高密度高アスペクト比化を実現した薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供することにある。
　【００２２】【課題を解決するための手段】　上記問題を解決するために本発明は、軟磁性薄膜よりなる上部磁気コア、及び下部磁気コアの間に挾設したコイル間に生じる隙間に、一層目の絶縁層として塗布型絶縁材による絶縁層（以下、第１の絶縁層と称す）を形成し、次いでその上に二層目の絶縁層としてスパッタと真空蒸着等の薄膜形成型絶縁材による絶縁層（以下、第２の絶縁層と称す）を形成する。
　【００２３】　この時、塗布型絶縁材としては、例えば流動性シリカの如き塗布型ガラス系無機絶縁材、或いは耐熱性の大なるポリイミド系有機絶縁材等が実用的に好ましい材料として用いられる。
　【００２４】　また、薄膜形成型絶縁材としては、例えばアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、フォルステライト（２ＭｇＯ・ＳｉＯ２）、ステアタイト（ＭｇＯ・ＳｉＯ２）等が好ましい材料として用いられる。」（公報段落２１ないし２４）
　（シ）「【００４３】　次に、図１（ｃ）に示すように、第１の絶縁層１０上に、スパッタにより、二酸化珪素（ＳｉＯ２）で構成される第２の絶縁層１１を８μｍの層厚で形成する。そして、スパッタによる第２の絶縁層１１上の凹凸を、イオンミリング法により平坦化し、１層目のコイル及びコイル間の隙間を埋める絶縁層の形成が完了する。
　【００４４】　以下、２層目のコイルも１層目のコイルと同様に形成される。すなわち、図１（ｄ）に示すように、２層目のコイルをフォトリソグラフィ技術で形成した後、図１（ｂ）に示すように、塗布型ガラス系無機絶縁材による第１の絶縁層を形成する。そして、図１（ｃ）に示すように、この第１の絶縁層上にスパッタによる第２の絶縁層を形成して、２層目のコイルを無機絶縁材で埋め込み、２層コイルの薄膜磁気ヘッドを作製する。」（公報段落４３、４４、図１）
　
３　対比・判断
（１）対比
　本願発明と引用例１に記載された発明とを対比する。
　引用例１には、上記２（１）に摘示した記載事項によれば、
　「上部ヘッドコア、下部ヘッドコアと呼ばれる二層の軟磁性膜でヘッド磁路が構成され、該上、下部ヘッドコアの間に薄膜コイルが設けられている薄膜磁気ヘッドであって、      下部ヘッドコア用軟磁性膜と、ギャップスペーサ膜と、動作ギャップ形成部の上部ヘッドコア用膜と、上・下部ヘッドコア接合部の上部ヘッドコア用膜と、薄膜コイルと、平坦化層と、上部ヘッドコア用軟磁性膜とを備え、
　ヘッド磁路を形成するために、上部ヘッドコア用軟磁性膜は、平坦化層により平坦化された薄膜コイル形成部の上部と、動作ギャップ形成部の上部ヘッドコア用膜及び上・下部ヘッドコア接合部の上部ヘッドコア用膜とに重なるように形成され、
　薄膜コイルが、動作ギャップ形成部の上部ヘッドコア用膜よりも、テープ摺動面に対して垂直方向の後方に位置し、薄膜コイルの上面が動作ギャップ形成部の上部ヘッドコア用膜の上面よりも下部ヘッドコア側に位置し、下部ヘッドコア上に平坦化層が設けられ、薄膜コイルが平坦化層の内部に埋め込まれ、平坦化層の上面と、動作ギャップ形成部の上部ヘッドコア用膜の上面とが、同一面であり、
　薄膜コイルが２層巻きである薄膜磁気ヘッド。」
　の発明が記載されている。
　引用例１に記載された発明の「上部ヘッドコア」「下部ヘッドコア」は、「軟磁性膜」であるので、それぞれ本願発明の「上部コア層」「下部コア層」に相当している。
　引用例１に記載された発明の「薄膜コイル」「テープ摺動面に対して垂直方向」「ギャップスペーサ膜」は、それぞれ本願発明の「コイル層」「ハイト方向」「ギャップ層」に相当している。
　引用例１に記載された発明の「平坦化層」は、ＳｉＯ２や有機樹脂で形成され、コイル層の絶縁機能を備えることを前提としていることは明らかであるから、本願発明の「絶縁層」に相当している。
　引用例１に記載された発明の「動作ギャップ形成部の上部ヘッドコア用膜」は、本願発明の「上部コア層と連続する上部磁極層」に相当している。
　引用例１に記載された発明は、「２層巻き」であるので、１層目のコイル層と電気的に接続された「第２のコイル層」を備えているといえる。
　引用例１に記載された発明では、「ヘッド磁路を形成するために、上部ヘッドコア用軟磁性膜は」、「上・下部ヘッドコア接合部の上部ヘッドコア用膜」「に重なるように形成され」ているので、引用例１に記載された発明の「上・下部ヘッドコア接合部」は、本願発明の「基端部」に相当し、引用例１に記載された発明は、「上部コア層の基端部が下部コア層上に磁気的に接続されている」構成を備えている。
　引用例１に記載された発明の「ギャップスペーサ膜と動作ギャップ形成部の上部ヘッドコア用膜」からなる「動作ギャップ形成部」は、記録媒体との対向面で下部コア層と上部コア層との間に位置し所定のトラック幅方向の寸法を備えているので、引用例１の「動作ギャップ形成部」と本願発明の「トラック幅規制部」とは、ギャップを形成し所定のトラック幅方向の寸法を備えている動作ギャップ形成部である点で、対応している。
　引用例１に記載された発明では、「上部ヘッドコア用軟磁性膜」は、「動作ギャップ形成部の上部ヘッドコア用膜」に重ねて形成され、「薄膜コイルの上面が動作ギャップ形成部の上部ヘッドコア用膜の上面よりも下部ヘッドコア側に位置し」、「平坦化層の上面と、動作ギャップ形成部の上部ヘッドコア用膜の上面とが、同一面」であるので、「動作ギャップ形成部と上部コア層との接合面を基準平面としたときに」、「コイル層の上面が前記基準平面よりも下部コア層側に位置し、前記下部コア層上に上面が前記基準平面と同一面となる絶縁層が設けられ」ている構成を備えている。
　してみると、本願発明と引用例１に記載された発明は、
　「下部コア層と、上部コア層と、記録媒体との対向面で下部コア層と上部コア層との間に位置し且つ所定のトラック幅方向の寸法を備える動作ギャップ形成部とを有し、
　動作ギャップ形成部と上部コア層との接合面を基準平面としたときに、
　下部コア層と上部コア層に記録磁界を誘導するコイル層が、動作ギャップ形成部よりもハイト方向の後方に位置し、且つコイル層の上面が基準平面よりも下部コア層側に位置し、下部コア層上に上面が基準平面と同一面となる絶縁層が設けられて、コイル層が絶縁層の内部に埋め込まれ、
　コイル層と電気的に接続された第２のコイル層が形成され、上部コア層の基端部が下部コア層上に磁気的に接続されている薄膜磁気ヘッド。」
　である点で一致しており、以下の点で相違している。
　
（相違点１）　「動作ギャップ形成部」の構成が、本願発明では、「下部コア層と連続する下部磁極層と、非磁性金属材料からなるギャップ層と、上部コア層と連続する上部磁極層が下から順に連続メッキ形成されたもの」であって、「トラック幅方向端部は直線状に形成され」、「幅寸法は上部コア層の先端部の幅寸法より小さく」構成した「トラック幅規制部」であるのに対し、引用例１に記載された発明では、「ギャップスペーサ膜と動作ギャップ形成部の上部ヘッドコア用膜」である点。
（相違点２）　「絶縁層」について、本願発明は、「コイル層を構成する各導体部のピッチ間に位置する有機絶縁層と、前記ピッチ間以外の領域を埋める無機絶縁層とで構成され」と特定しているのに対し、引用例１に記載された発明は、特定していない点。
（相違点３）　「第２のコイル層」について、本願発明は、「絶縁層の上に直接にまたは他の層を介して」形成され、「トラック幅規制部の上面から」「第２のコイル層を覆う絶縁層の上に」「上部コア層が形成され」ると特定しているのに対して、引用例１に記載された発明では、特定していない点。
　
（２）相違点についての判断
（相違点１について）
　動作ギャップ形成部の構成として、下部コア層と連続する下部磁極層と、非磁性金属材料からなるギャップ層と、上部コア層と連続する上部磁極層が下から順に連続メッキ形成され、トラック幅方向端部は直線状に形成され、その幅寸法が上部コア層の先端部の幅寸法より小さい構造としたトラック幅規制部は、狭トラック化を実現し、位置ずれをなくし、トラック幅を厳密に制御しうる作用効果を奏する薄膜磁気ヘッド技術として、周知の技術である。例えば、特開平６−２８６２６号公報、特開平１０−２６９５２３号公報（従来例）、特開平１０−３３４４１０号公報に示されている。
　よって、引用例１に記載された発明の薄膜磁気ヘッドの動作ギャップ形成部に、狭トラックの幅寸法が厳密に制御されるように、薄膜磁気ヘッドの上記周知の技術を適用することは、当業者が容易に想到しうることである。
　なお、請求人は、請求の理由で、幅寸法が上部コア層の先端部の幅寸法より小さく、下部磁極層、ギャップ層、上部磁極層の連続メッキによって形成されるトラック幅規制部は、本願の明細書に従来例として記載されてはいても、本願の出願人が独自に発明したものであり、本願出願時には公開されていないと主張しているが、上記のとおり周知の技術であるのて、請求人の主張は失当である。
（相違点２について）
　引用例２には、上記２（２）（サ）（シ）で摘示した事項によれば、薄膜磁気ヘッドにおいて絶縁層に生じる亀裂及び空洞の発生を抑制するために、軟磁性薄膜よりなる上部磁気コア、及び下部磁気コアの間に挾設したコイル間に生じる隙間に、一層目の絶縁層としてポリイミド系有機絶縁材等の塗布型絶縁材による絶縁層を形成し、次いでその上に二層目の絶縁層としてアルミナや二酸化珪素等の無機材料の絶縁層を形成する絶縁層構造が記載されている。
　よって、引用例１に記載された発明の薄膜磁気ヘッドのコイル形成部の絶縁層として、上記引用例２に記載された上記絶縁層構造を採用することは、当業者であれば、適宜なし得ることである。
（相違点３について）
　２層巻きのコイルの第２のコイル層が、１層目のコイルが埋め込まれた絶縁層の上に形成され、第２のコイル層を覆う絶縁層の上に、上部コア層が形成されることは、薄膜磁気ヘッドのコイル形成部構造として周知の技術であり、例えば、引用例２（上記２（２）（シ）図１、図３及び図７）にも記載されている。
　よって、引用例１に記載された発明の薄膜磁気ヘッドにおける第２のコイル層に関連する構造として、上記周知のコイル形成部構造を採用することは、当業者が適宜なし得ることである。
　そして、上記相違点１乃至３を総合的に検討するに、本願発明の効果は、引用例１及び２に記載された発明並びに薄膜磁気ヘッド分野において周知の技術から、当業者であれば予測することができる程度のものにすぎず、格別顕著なものではない。
　
４　むすび
　したがって、本願発明は、本願出願前に頒布された引用例１及び２に記載された発明並びに周知の技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。他の請求項を検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。