【事件の表示】
　平成１０年特許願第１０５９８７号「ガス放電パネル及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年１１月　５日出願公開、特開平１１−３０６９６１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯
  本願は、平成１０年４月１６日の出願であって、平成１４年１１月１２日付け（発送日；同年１１月１９日）で拒絶査定がなされ、これに対して、同年１２月１９日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成１５年１月１７日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１５年１月１７日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１５年１月１７日付けの手続補正を却下する。
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正は、補正前の特許請求の特許請求の範囲（以下、「旧請求範囲」といい、その請求項１乃至１８を「旧請求項１乃至１８」という。）
「【請求項１】内表面上に隔壁が形成された支持基板と、前記隔壁を介して対向配置されかつ誘電体層と保護層を有するフィルム状基板を備え、前記支持基板と前記フィルム状基板とは隔壁の最上端に設けられた接合部材を介して接合されたガス放電パネル。
【請求項２】支持基板とフィルム状基板とが張り合わされて外囲器が構成される請求項１記載のガス放電パネル。
【請求項３】フィルム状基板が０．０３ｍｍ以上０．５ｍｍ以下である請求項１記載のガス放電パネル。
【請求項４】フィルム状基板がガラスである請求項３記載のガス放電パネル。
【請求項５】支持基板と、前記支持基板上に形成された隔壁と、前記隔壁を介して対向配置された内表面上に無機薄膜と誘電体層と保護層とが形成された有機フィルム基板を備え、前記支持基板と前記有機フィルム基板とが張り合わされるように、前記支持基板と有機フィルム上に形成された前記無機薄膜の外周端縁同士を封止してなるガス放電パネル。
【請求項６】支持基板とフィルム状基板とが張り合わされて外囲器が構成される請求項５記載のガス放電パネル。
【請求項７】支持基板と有機フィルム基板上の無機薄膜とは隔壁を介して接合されている請求項５記載のガス放電パネル。
【請求項８】有機フィルム基板が、透明である請求項５または７記載のガス放電パネル。
【請求項９】有機フィルム基板が、０．０３ｍｍ以上１ｍｍ以下である請求項５または７記載のガス放電パネル。
【請求項１０】支持基板が、ガラスまたは金属またはセラミックスである請求項１〜９のいずれかに記載のガス放電パネル。
【請求項１１】請求項１、３、４または請求項１０のいずれかに記載のガス放電パネルの製造方法であって、支持基板上の電極、誘電体、隔壁などのすべての形成物が厚膜形成技術を用いて形成され、かつ、フィルム状基板上の電極、誘電体薄膜、保護層などのすべての形成物が薄膜形成技術を用いて形成されることを特徴とするガス放電パネルの製造方法。
【請求項１２】薄膜形成技術が減圧下で行われる請求項１１記載のガス放電パネルの製造方法。
【請求項１３】請求項５〜１０のいずれかに記載のガス放電パネルの製造方法であって、支持基板上の電極、誘電体、隔壁などのすべての形成物が厚膜形成技術を用いて形成され、かつ、有機フィルム基板上の無機誘電体薄膜、電極、誘電体薄膜、保護層などのすべての形成物が薄膜形成技術を用いて形成されることを特徴とするガス放電パネルの製造方法。
【請求項１４】請求項５〜１０のいずれかに記載のガス放電パネルの製造方法であって、有機フィルム基板上にまず全面に無機薄膜を形成した後、所定の形成物を形成することを特徴とするガス放電パネルの製造方法。
【請求項１５】薄膜形成技術が減圧下で行われる請求項１３または１４記載のガス放電パネルの製造方法。
【請求項１６】支持基板上に厚膜形成方法で複数種類の形成体を連続して形成する工程と、形成体が形成されたフィルム状基板と前記支持基板とを封止する工程とを少なくとも含む請求項１１記載のガス放電パネルの製造方法。
【請求項１７】有機フィルム基板に薄膜形成方法で複数種類の形成体を連続して形成する工程と、形成体が形成された支持基板と前記フィルム状基板とを封止する工程を少なくとも含む請求項１３記載のガス放電パネルの製造方法。
【請求項１８】内表面上に隔壁が形成された支持基板と、前記隔壁を介して対向配置されたフィルム状基板とが張り合わされたパネルであって、前記パネル外部からパネルを保持した請求項１〜１７いずれかに記載のガス放電パネル。」
を以下のように補正する補正事項を含むものである。
「【請求項１】内表面上に、電極、誘電体、隔壁などのすべての形成物が薄膜形成技術で形成された形成物を備えた支持基板と、前記隔壁を介して対向配置され、かつ電極、誘電体層、保護層などのすべての形成物が薄膜形成技術で形成された形成物を備え、かつ厚みが０．０３ｍｍ以上０．５ｍｍ以下のガラスからなるフィルム状基板を備え、前記支持基板と前記フィルム状基板とは隔壁の最上端に設けられた接合部材を介して接合されたガス放電パネル。
【請求項２】支持基板とフィルム状基板とが張り合わされて外囲器が構成される請求項１記載のガス放電パネル。
【請求項３】電極、誘電体、隔壁などのすべての形成物が薄膜形成技術で形成された形成物を備えた支持基板と、前記支持基板上に形成された隔壁と、前記隔壁を介して対向配置された内表面上に無機薄膜、電極、誘電体層、保護層などのすべての形成物が薄膜形成技術で形成された形成物を備え、かつ厚みが０．０３ｍｍ以上１ｍｍ以下である有機フィルム基板を備え、前記支持基板と前記有機フィルム基板とが張り合わされるように、前記支持基板と有機フィルム上に形成された前記無機薄膜の外周端縁同士を封止してなるガス放電パネル。
【請求項４】支持基板と有機フィルム状基板とが張り合わされて外囲器が構成される請求項３記載のガス放電パネル。
【請求項５】支持基板と有機フィルム基板上の無機薄膜とは隔壁を介して接合されている請求項３記載のガス放電パネル。
【請求項６】有機フィルム基板が、透明である請求項３または５記載のガス放電パネル。
【請求項７】内表面上に隔壁が形成された支持基板と、前記隔壁を介して対向配置されたフィルム状基板とが張り合わされたパネルであって、前記パネル外部からパネルを保持した請求項１〜６のいずれかに記載のガス放電パネル。」
（上記の補正後の特許請求の範囲を、以下、「新請求範囲」といい、その請求項１乃至７を「新請求項１乃至７」という。）
　上記新請求項１及び３に記載された「電極、誘電体、隔壁などのすべての形成物が
薄膜
　上記新請求項１は、旧請求項４の発明の、発明を特定するために必要な事項である「支持基板」、「フィルム状基板」について、その上の形成物が、それぞれ、厚膜形成技術、薄膜形成技術で形成されるものとの限定を附加するとともに、他の請求項を引用しない独立請求項として記載したものであり、また、上記新請求項２は、上記新請求項１の発明に旧請求項２の「支持基板とフィルム状基板とが張り合わされて外囲器が構成される」点の限定を附加し、新請求項１を引用して記載したものであり、特許請求の範囲の減縮に相当するものと認められる。
  上記新請求項３は、旧請求項９の発明中、旧請求項５を引用して記載された発明の発明を特定するために必要な事項である「支持基板」、「有機フィルム基板」について、その上の形成物がそれぞれ厚膜形成技術、薄膜形成技術で形成されるものとの限定を附加するとともに、他の請求項を引用しない独立請求項として記載したものであり、また、上記新請求項４、５は、上記新請求項３の発明に、それぞれ、旧請求項６の「支持基板とフィルム状基板とが張り合わされて外囲器が構成される」点、旧請求項７の「支持基板と有機フィルム基板上の無機薄膜とは隔壁を介して接合されている」点の限定を附加し、新請求項３を引用して記載したものであり、特許請求の範囲の減縮に相当するものと認められる。
　上記新請求項６は、上記新請求項３または５の発明に旧請求項８の「有機フィルム基板が、透明である」点の限定を附加し、新請求項３または５を引用して記載したものであり、特許請求の範囲の減縮に相当するものと認められる。
　上記新請求項７は、上記新請求項１〜６の発明に旧請求項１８の「内表面上に隔壁が形成された支持基板と、前記隔壁を介して対向配置されたフィルム状基板とが張り合わされたパネルであって、前記パネル外部からパネルを保持した」点の限定を附加し、新請求項１〜６を引用して記載したものであり、特許請求の範囲の減縮に相当するものと認められる。
　また、上記補正に伴い、旧請求項１０並びにガス放電パネルの製造法に関する旧請求項１１乃至１７は、新請求範囲から削除されている。
　したがって、上記補正は、特許法等の一部を改正する法律（平成１５年法律第４７号）附則第２条第７項の規定によりなお従前の例によるものとされた同法［第１条の規定］による改正前の特許法（以下、「平成１５年改正前特許法」という。）１７条の２第４項第１号の請求項の削除及び第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（上述したように、明らかな誤記と認められる「薄膜」を「厚膜」と読み替えた「内表面上に、電極、誘電体、隔壁などのすべての形成物が厚膜形成技術で形成された形成物を備えた支持基板と、前記隔壁を介して対向配置され、かつ電極、誘電体層、保護層などのすべての形成物が薄膜形成技術で形成された形成物を備え、かつ厚みが０．０３ｍｍ以上０．５ｍｍ以下のガラスからなるフィルム状基板を備え、前記支持基板と前記フィルム状基板とは隔壁の最上端に設けられた接合部材を介して接合されたガス放電パネル」を、以下、「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１５年改正前特許法第１７条の２第５項において読み替えて準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）引用刊行物 
（２−１）刊行物１
　原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前に頒布された刊行物である特開平８−１８５８０２号公報（以下、「刊行物１」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている。
１ａ．「【特許請求の範囲】
【請求項１】　第１平板と、該第１平板から所定距離離隔して平行に配置される第２平板と、所定の封着温度で処理されることにより、該第１平板および該第２平板の周縁部を互いに接合して気密空間を形成するための封着部材と、該第１平板および該第２平板の一方の対向面に立設されて該気密空間内に複数の放電空間を形成する隔壁とを備える形式の放電表示装置であって、
　前記第１平板および前記第２平板の他方の対向面と前記隔壁の頂部との間に備えられ、前記封着部材と同等或いは高い軟化点を有し且つ前記封着温度で軟化する材料から構成されることにより、該第１平板および該第２平板の他方と該隔壁の頂部との間で与えられる押圧力に従って、厚さが変化させられる隔壁高さ調整層を、含むことを特徴とする放電表示装置。」
１ｂ．「【０００４】また、前記のＰＡＬＣパネルは、画面の応答速度やコントラストの点で優れたアクティブマトリックス駆動方式の液晶表示装置（以下、ＬＣＤという）の一例である。アクティブマトリックス駆動方式としては、ＴＦＴ（Thin-Film Transistor）駆動が一般的に行われているが、画素数に応じた多数の非線型素子（トランジスタ）を薄膜形成する必要があって大面積で製造することが困難であることから、それに代わる大面積用ＬＣＤとして提案されているものである。このＰＡＬＣパネルにおいては、前記第１，第２平板が何れも透光性材料で構成され且つその他方は比較的薄い誘電体層（例えば厚さ50μm 程度の薄板ガラス）として形成されており、第１，第２平板の一方の対向面に立設されて互いに平行な複数本の長手状の放電空間を形成する隔壁と、その放電空間内で放電を発生させるためにその隔壁と平行に設けられた複数本の放電電極と、第１，第２平板の他方（誘電体層）の放電空間とは反対の一面側に設けられて上記複数本の放電空間に直交し且つ互いに平行な複数本のＩＴＯ等の透明電極と必要に応じてカラーフィルタが備えられた第２の薄板と、それら誘電体層と第２の薄板との間に備えられた液晶層とが設けられている。」
１ｃ．「【００３６】図４は、本発明の放電表示装置の他の実施例であるカラーＰＡＬＣパネル４０の構造を前面板４２側と背面板４４側とを分離して示す図である。カラーＰＡＬＣパネル４０は、一面にカラーフィルタ４６および透明電極４８が順次積層形成された透明ガラスから成る前面板４２と、その透明電極４８との間に液晶層５０を形成する薄板ガラス５２と、一面に複数の隔壁５４が形成された透明ガラスから成る背面板４４とを備えており、上記薄板ガラス５２および背面板４４が、図示しない周縁部において気密接合されることにより、隔壁５４により形成され且つ放電用希ガスが封入された長手状の放電空間５６を有して構成されている。なお、前面板１６と背面板２４のそれぞれ上記一面とは反対側の他面には互いに直交する偏向板５８，６０が配されている。本実施例においては、上記薄板ガラス５２が第１平板および第２平板の他方に、背面板４４が第１平板および第２平板の一方にそれぞれ相当する。」
１ｄ．「【００３８】上記隔壁５４は、例えば低軟化点ガラスおよび適当な充填剤を含む厚膜絶縁ペーストを厚膜スクリーン印刷にて積層形成したものであり、その頂部には前記ＡＣ型カラーＰＤＰ１０と同様に隔壁高さ調整層６４が備えられている。この隔壁高さ調整層６４も、前記隔壁高さ調整層３２と同様に、隔壁５４を構成する低軟化点ガラスよりも軟化点の低い低軟化点ガラスから成るガラスペーストを、隔壁５４の頂部上に厚膜スクリーン印刷して形成されたものである。したがって、本実施例においても、隔壁５４の高さと隔壁高さ調整層６４の厚さとの和は、カラーＰＡＬＣパネル４０の全面において略均一とされている。
【００３９】一方、放電電極６２は、隔壁５４を形成する過程において、焼成後 5〜数10μm の高さになる位置まで上記厚膜絶縁ペーストを印刷積層した後、例えばNi，Al，金属系酸化物等の電極用導体ペーストを焼成後に上記の厚さになるように、上記と共通のスクリーン（版）を用いた厚膜スクリーン印刷にて積層形成したものである。導体ペーストを所定の厚さになるまで積層した後に再び厚膜絶縁ペーストを印刷積層し、その後、例えば 500〜 6百数十℃程度の所定の温度で焼成することにより、高さ方向の中間部に放電電極６２が設けられた隔壁５４が形成されるのである。」
１ｅ．「【００４２】・・・上記薄板ガラス５２は、例えば50μm 程度の厚さであって、有機系接着剤によって上記前面板４２に接合されている。この薄板ガラス５２は、後述するように電荷を蓄える役割を果たすと共に、下記の放電ガスを封入するための密閉空間を形成するものである。すなわち、本実施例においては、この薄板ガラス５２が誘電体層に相当する。
【００４３】カラーＰＡＬＣパネル４０は、薄板ガラス５２と背面板４４とを、図示しない周縁部において、例えば、前述の実施例の図３(c) に示すようにスペーサガラス３４および封着部材３６を用いて所定の封着温度で処理することにより接合し、更に、例えばそのスペーサガラス３４および封着部材３６の上側の位置において、薄板ガラス５２と透明電極４８等が設けられた前面板４２とを低軟化点ガラス等によって接合した後に、複数本の放電空間５６内に、Ne等の放電用希ガスを例えば数100Torr(数10kPa)程度の圧力で封入することで製造される。本実施例においても、封着部材３６は、隔壁高さ調整層６４よりも更に軟化点が低く、且つ、その溶融温度において隔壁高さ調整層６４が軟化するものが用いられる。」
　
（２−２）刊行物２
　原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前に頒布された刊行物である特開平９−２２３４６５号公報（以下、「刊行物２」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている。
２ａ．「【請求項２】プラスチック基材（Ｂ）の片面または両面に、１層以上のガスバリヤ層（Ｃ）を有する放電型ディスプレイ用プラスチック基材。
【請求項３】ガスバリヤ層（Ｃ）が、金属酸化物及びまたは金属フッ化物からなることを特徴とする請求項２記載の放電型ディスプレイ用プラスチック基材。
【請求項４】ガスバリヤ層（Ｃ）が、けい素酸化物と、金属フッ化物及びまたはマグネシウム酸化物とからなり、真空薄膜形成技術によって形成されることを特徴とする請求項３記載の放電型ディスプレイ用プラスチック基材。」（「特許請求の範囲」）
２ｂ．「【００１４】さらに、機械強度の向上，加工性の向上，コストの低減等を目的として、ガスバリヤ層（Ｃ）の上に他の材料を積層し複合化することができる。プラスチック基材（Ｂ）にガスバリヤ層（Ｃ）を形成する方式としては、グラビア法，ディップ法，押出し法，溶融塗工等の一般的な塗工技術やゾル−ゲル法及び真空薄膜形成技術等が用いられるが、特に金属酸化物及びまたは金属フッ化物からなるガスバリヤ層（Ｃ）を形成する場合は、真空薄膜形成技術によると、薄膜化が容易，混入不純物が少ない，焼成工程が必要ない等の点において有利である。」
２ｃ．「【００１７】本発明の放電型ディスプレイ用プラスチック基材を用いて放電型ディスプレイを作成するには、プラスチック基材に透明電極膜を設けた表示側プラスチック基材と導電性金属膜を設けた背面側プラスチック基材との１対のプラスチック基材の間に、スペーサーを配し放電空間を設けて電極を対抗配置し、対向する電極内の放電セルを発光可能に構成する。放電空間には、例えばＮｅ（ネオン）に少量のＸｅ（キセノン）を加えた混合ガスが放電ガスとして充填される。このとき放電型ディスプレイ用プラスチック基材としては、密着力向上などの必要に応じて積層構造としたものを用いても構わない。
【００１８】透明電極膜の作成方法としては、導電性金属酸化物単独、導電性金属酸化物と絶縁性金属酸化物の混合物または導電性金属単独をプラスチック基材（Ｂ）に積層する方法が挙げられる。積層は、前述のガスバリヤ層（Ｃ）をプラスチック基材（Ｂ）に積層する方法で行うことができる。導電性金属酸化物としては、Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ（ＩＴＯ），インジウム酸化物，錫酸化物等があげられ、導電性金属としては、アルミニウム，ニッケル等の一般的な金属があげられる。」
　
（３）対比・判断
　刊行物１には、上記（２−１）１ａ．乃至１ｅ．の記載から、以下の発明（以下、「刊行物１記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
「厚膜スクリーン印刷にて隔壁５４，放電電極６２が積層形成された背面板４４と、５０μｍ程度の厚さの薄板ガラス５２と、薄板ガラス５２と隔壁５４の頂部との間に設けられた隔壁高さ調整層６４とを備えた放電表示装置」
　本願補正発明（前者）と上記刊行物１記載の発明（後者）とを対比する。
　後者の「隔壁５４」、「放電電極６２」、、「隔壁高さ調整層６４」、「放電表示装置」は、前者の「隔壁」、「電極」、「隔壁の最上端に設けられた接合部材」、「ガス放電パネル」に相当する。
　後者の「背面板４４」は、厚膜スクリーン印刷にて隔壁５４，放電電極６２が積層形成されたものであり、前者の内表面上に、電極、隔壁などの形成物が厚膜形成技術で形成された形成物を備えた「支持基板」に相当し、また、後者の「薄板ガラス５２」は、厚さが５０μｍ（０．０５ｍｍ）程度であって背面板４４との間に放電空間を形成するものであるから、前者の、厚みが０．０３ｍｍ以上０．５ｍｍ以下の「ガラスからなるフィルム状基板」に相当するものである。
　したがって、両者は、
「内表面上に、電極、隔壁などの形成物が厚膜形成技術で形成された形成物を備えた支持基板と、前記隔壁を介して対向配置され、厚みが０．０３ｍｍ以上０．５ｍｍ以下のガラスからなるフィルム状基板を備え、前記支持基板と前記フィルム状基板とは隔壁の最上端に設けられた接合部材を介して接合されたガス放電パネル」
　の点の構成で一致し、以下の点で相違する。
［相違点］
　前者が、支持基板上に誘電体を含む全ての形成物が厚膜形成技術で形成され、また、フィルム状基板に電極、誘電体層、保護層などのすべての形成物が薄膜形成技術で形成されているのに対し、後者は、この点の記載がない点。
　
　上記相違点について検討する。
　本願明細書には、上記相違点に係る構成を採用した意義に関する次のような記載がある。
「【００５０】このようにして作製されたパネルは、支持基板とその上に形成された形成物とでパネル重さのほとんどを占め、従来のガラスを２枚張り合わせたパネルに比べて大幅に軽量化が達成される。また、表示光の取り出しがフィルム状基板側から行われるため、基板の厚みによる光取り出し量の損失を大幅に改善することができ、パネルの表示性能を大幅に向上させることができる。
【００５１】また、支持基板とフィルム状基板との厚みを変えることで、製造時に生じた基板の歪み、変形をフィルム状基板が吸収し、パネルの割れ、変形を軽減することができる。更に、支持基板上の形成物は厚膜形成技術を用いて一括して形成し、フィルム状基板上の形成物は薄膜形成技術を用いて一括して形成するために、製造設備上、生産管理上での大幅な利点が生じる。」
　しかしながら、
（１）電極を誘電体層で被覆した交流型のプラズマディスプレイパネルは従来周知であり、対向放電型のものは前面基板と背面基板の両者に電極と誘電体層を設けるものである。また、背面基板上に電極、誘電体、隔壁などのすべての形成物を厚膜形成技術で形成すること、背面基板と前面基板を別途製造し貼り合わせることも周知である（例えば、特開平４−１２４３０号公報［特に「従来の技術」］参照）。
（２）刊行物２には、「プラスチック基材（Ｂ）にガスバリヤ層（Ｃ）を形成する方式としては、グラビア法，ディップ法，押出し法，溶融塗工等の一般的な塗工技術やゾル−ゲル法及び真空薄膜形成技術等が用いられるが、特に金属酸化物及びまたは金属フッ化物からなるガスバリヤ層（Ｃ）を形成する場合は、真空薄膜形成技術によると、薄膜化が容易，混入不純物が少ない，焼成工程が必要ない等の点において有利である。」（段落「００１４」）、「放電型ディスプレイを作成するには、プラスチック基材に透明電極膜を設けた表示側プラスチック基材と導電性金属膜を設けた背面側プラスチック基材との１対のプラスチック基材の間に、スペーサーを配し放電空間を設けて電極を対抗配置し、対向する電極内の放電セルを発光可能に構成する。」（段落「００１７」）、「透明電極膜の作成方法としては、導電性金属酸化物単独、導電性金属酸化物と絶縁性金属酸化物の混合物または導電性金属単独をプラスチック基材（Ｂ）に積層する方法が挙げられる。積層は、前述のガスバリヤ層（Ｃ）をプラスチック基材（Ｂ）に積層する方法で行うことができる。」（段落００１８」）、等の記載があり、これらの記載から、放電型ディスプレイの表示側プラスチック基材に特定のガスバリア層、透明電極を形成するのに薄膜形成技術の一種である真空薄膜形成技術を用いること及びその利点が示されているものと認められる。また、一般に、このようなガスバリア基板の厚みは２０μｍ〜１ｍｍ程度で、その上の形成物であるガスバリア膜及び透明導電膜の形成は薄膜形成技術の一種であるスパッタリングで行われているものである（例えば、特開平６−１９２８１９号公報参照）。
（３）刊行物１記載の発明における、背面板４４との間に放電空間を形成する「薄板ガラス５２」は、厚さが５０μｍ（０．０５ｍｍ）程度であり、本願補正発明と同様に基板の歪み、変形を薄板ガラス５２が吸収しているものと解される。
  以上のことから、表示側の基板に電極、誘電体層、保護層などを設けることは、対面放電型の交流型のプラズマディスプレイパネルで周知の事項であり、また、そのすべての形成物を薄膜形成技術で形成することは、上記刊行物２等に示されるようにディスプレイの表示側の薄い基板上に透明導電膜など必要な形成物を薄膜形成技術を用いて形成することが周知であることを勘案すれば、当業者が格別の推考力を要することなくなし得る程度のことと認められる。
  そして、本願補正発明による効果も、刊行物１及び２の記載並びに周知事項から当業者が予測しうる範囲のものにすぎない。
  したがって、本願補正発明は、刊行物１及び２に記載された発明並びに周知事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
 （４）むすび
  以上のとおり、本件補正は、平成１５年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法１２６条第４項の規定に違反するものであり、特許法１５９条第１項において読み替えて準用する同法５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１５年１月１７日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１乃至１８に係る発明は、平成１４年７月２５日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至１８に記載された事項によって特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明は次のとおりのものである。
 「【請求項１】内表面上に隔壁が形成された支持基板と、前記隔壁を介して対向配置されかつ誘電体層と保護層を有するフィルム状基板を備え、前記支持基板と前記フィルム状基板とは隔壁の最上端に設けられた接合部材を介して接合されたガス放電パネル。」
　
４．引用刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１及び２並びにその記載事項は、前記「２．（２）」の（２−１）及び（２−２）に記載したとおりのものである。
　
５．対比・判断
  請求項１に係る発明は、前記２．で検討した本願補正発明から「支持基板」の限定事項である、「その上の形成物が、厚膜形成技術で形成される」ものとの限定を省くとともに、「フィルム状基板」の限定事項である「厚みが０．０３ｍｍ以上０．５ｍｍ以下のガラスで、その上の形成物が、薄膜形成技術で形成される」ものとの限定を省いたものである。
　そうすると、請求項１に係る発明の構成要件を全て含み、更に他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（３）」に記載したとおり引用刊行物記載の発明及び周知事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１に係る発明も、同様の理由により、刊行物１及び２記載の発明並びに周知事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
６．むすび
　以上のとおり、請求項１に係る発明は、刊行物１及び２記載の発明並びに周知事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　そして、請求項１に係る発明が特許を受けることができないものであるから、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。