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【手続補正書】
【提出日】平成30年5月23日(2018.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱硬化性成分として熱硬化性化合物及び熱硬化剤と、複数のはんだ粒子とを含み、
前記熱硬化性化合物が、重量平均分子量が５０００以上、５００００以下である熱硬化性化合物と、結晶性熱硬化性化合物とを含み、
前記はんだ粒子は、中心部分及び導電性の外表面のいずれもがはんだである粒子である、導電フィルム。
【請求項２】
前記結晶性熱硬化性化合物が２５℃で固体である、請求項１に記載の導電フィルム。
【請求項３】
前記結晶性熱硬化性化合物の融点が８０℃以上、１５０℃以下である、請求項１又は２に記載の導電フィルム。
【請求項４】
前記結晶性熱硬化性化合物の分子量が３００以上、５００以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電フィルム。
【請求項５】
前記結晶性熱硬化性化合物は、ベンゾフェノン型エポキシ化合物である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の導電フィルム。
【請求項６】
前記はんだ粒子の平均粒子径が０．５μｍ以上、４０μｍ以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の導電フィルム。
【請求項７】
前記はんだ粒子の含有量が１０重量％以上、９０重量％以下である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の導電フィルム。
【請求項８】
少なくとも１つの第１の電極を表面に有する第１の接続対象部材と、
少なくとも１つの第２の電極を表面に有する第２の接続対象部材と、
前記第１の接続対象部材と、前記第２の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、
前記接続部の材料が、請求項１〜７のいずれか１項に記載の導電フィルムであり、
前記第１の電極と前記第２の電極とが、前記接続部中のはんだ部により電気的に接続されている、接続構造体。
【請求項９】
前記第２の接続対象部材が、半導体チップ、樹脂フィルム、フレキシブルプリント基板、フレキシブルフラットケーブル又はリジッドフレキシブル基板である、請求項８に記載の接続構造体。
【請求項１０】
前記第１の電極と前記接続部と前記第２の電極との積層方向に前記第１の電極と前記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、前記第１の電極と前記第２の電極との対向し合う部分の面積１００％中の５０％以上に、前記接続部中のはんだ部が配置されている、請求項８又は９に記載の接続構造体。
【請求項１１】
前記第１の電極と前記接続部と前記第２の電極との積層方向と直交する方向に前記第１の電極と前記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、前記第１の電極と前記第２の電極との対向し合う部分に、前記接続部中のはんだ部の７０％以上が配置されている、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の接続構造体。
【請求項１２】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の導電フィルムを用いて、少なくとも１つの第１の電極を表面に有する第１の接続対象部材の表面上に、前記導電フィルムを配置する工程と、
前記導電フィルムの前記第１の接続対象部材側とは反対の表面上に、少なくとも１つの第２の電極を表面に有する第２の接続対象部材を、前記第１の電極と前記第２の電極とが対向するように配置する工程と、
前記はんだ粒子の融点以上かつ前記熱硬化性成分の硬化温度以上に前記導電フィルムを加熱することで、前記第１の接続対象部材と前記第２の接続対象部材とを接続している接続部を、前記導電フィルムにより形成し、かつ、前記第１の電極と前記第２の電極とを、前記接続部中のはんだ部により電気的に接続する工程とを備える、接続構造体の製造方法。
【請求項１３】
前記第２の接続対象部材を配置する工程及び前記接続部を形成する工程において、加圧を行わず、前記導電フィルムには、前記第２の接続対象部材の重量が加わるか、又は、
前記第２の接続対象部材を配置する工程及び前記接続部を形成する工程の内の少なくとも一方において、加圧を行い、かつ、前記第２の接続対象部材を配置する工程及び前記接続部を形成する工程の双方において、加圧の圧力が１ＭＰａ未満である、請求項１２に記載の接続構造体の製造方法。
【請求項１４】
前記第２の接続対象部材が、半導体チップ、樹脂フィルム、フレキシブルプリント基板、フレキシブルフラットケーブル又はリジッドフレキシブル基板である、請求項１２又は１３に記載の接続構造体の製造方法。
【請求項１５】
前記第１の電極と前記接続部と前記第２の電極との積層方向に前記第１の電極と前記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、前記第１の電極と前記第２の電極との対向し合う部分の面積１００％中の５０％以上に、前記接続部中のはんだ部が配置されている接続構造体を得る、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の接続構造体の製造方法。
【請求項１６】
前記第１の電極と前記接続部と前記第２の電極との積層方向と直交する方向に前記第１の電極と前記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、前記第１の電極と前記第２の電極との対向し合う部分に、前記接続部中のはんだ部の７０％以上が配置されている接続構造体を得る、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の接続構造体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月15日(2017.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対してプラズマ処理を行うための真空容器内に前記基板を載置するために設けられる載置台において、
基板が載置される載置面を備え、当該載置面の外周にフランジを設けない構造の金属製の載置台本体と、
前記載置面の外周において、その上面が前記プラズマ処理空間に臨み、前記載置台本体を囲むように設けられた絶縁材からなるリング部材と、
前記リング部材の下方側にて前記載置台本体を囲むように設けられ、前記載置台本体の側周面に圧接して設けられた側部絶縁部材と、を備えたことを特徴とする載置台。
【請求項２】
前記側部絶縁部材は、ネジ部材により外周面側から前記載置台本体の側周面に向かって締め付けられていることを特徴とする請求項１記載の載置台。
【請求項３】
前記ネジ部材は金属製であり、
前記ネジ部材の頭部は前記側部絶縁部材のネジ孔に配置され、
前記ネジ孔は絶縁材の蓋部により覆われていることを特徴とする請求項２記載の載置台。
【請求項４】
前記ネジ部材は絶縁材であることを特徴とする請求項２記載の載置台。
【請求項５】
前記側部絶縁部材の外周面に面接触し、その外周面から見て前記ネジ部材の配置領域が見通せないように補助絶縁部材が設けられていることを特徴とする請求項３または４に記載の載置台。
【請求項６】
前記側部絶縁部材と前記補助絶縁部材との間の隙間がプラズマ処理空間から見てラビリンスを形成するように構成されていることを特徴とする請求項５記載の載置台。
【請求項７】
前記側部絶縁部材の外周面は、上部側から順に、前記載置台本体の側周面に平行な第１の面、当該側周面に垂直な第２の面、当該側周面に平行な第３の面が連続していると共に第１の面が第２の面よりも外側に位置して部位を備え、
前記補助絶縁部材は、ネジ部材により、前記第２の面に面接触する面から、当該補助絶縁部材を下方側から支持する支持部材に向かって締め付けられていることを特徴とする請求項６記載の載置台。
【請求項８】
基板に対してプラズマ処理を行うための真空容器内に前記基板を載置するために設けられる載置台において、
基板が載置され、上面から下面に至るまでの側周面が平坦な柱状の金属製の載置台本体と、
その上面が前記プラズマ処理空間に臨み、前記載置台本体を囲むように設けられた絶縁材からなるリング部材と、
前記リング部材の下方側にて前記載置台本体を囲むように設けられ、前記載置台本体の側周面に圧接して設けられた側部絶縁部材と、を備えたことを特徴とする載置台。
【請求項９】
前記側部絶縁部材は、ネジ部材により外周面側から前記載置台本体の側周面に向かって締め付けられ、
前記側部絶縁部材の外周面に面接触し、その外周面から見て前記ネジ部材の配置領域が見通せないように補助絶縁部材が設けられ、
前記側部絶縁部材と前記補助絶縁部材との間の隙間がプラズマ処理空間から見てラビリンスを形成するように構成されていることを特徴とする請求項８記載の載置台。
【請求項１０】
前記載置台本体の上部側は、上面及び側周面が絶縁性の溶射膜により被覆された静電チャックにより構成され、
前記側部絶縁部材における載置台本体の側周面に圧接されている面は、前記溶射膜により被覆されている部位から、当該部位の下方側に位置する、溶射膜が被覆されていない部位に亘って伸びていることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか一項に記載の載置台。
【請求項１１】
真空容器内に設けられ、請求項１ないし１０のいずれか一項に記載の載置台と、
前記真空容器内にプラズマ化するための処理ガスを供給するガス供給部と、
真空容器内に電界を発生させて前記処理ガスをプラズマ化するためのプラズマ発生部と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項１２】
前記載置台本体は、前記処理容器の下面側から前記処理容器の底面を貫通するネジ部材により固定されていることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の載置台は、基板に対してプラズマ処理を行うための真空容器内に前記基板を載置するために設けられる載置台において、
基板が載置される載置面を備え、当該載置面の外周にフランジを設けない構造の金属製の載置台本体と、
前記載置面の外周において、その上面が前記プラズマ処理空間に臨み、前記載置台本体を囲むように設けられた絶縁材からなるリング部材と、
前記リング部材の下方側にて前記載置台本体を囲むように設けられ、前記載置台本体の側周面に圧接して設けられた側部絶縁部材と、を備えたことを特徴とする。
また本発明の載置台は、基板に対してプラズマ処理を行うための真空容器内に前記基板を載置するために設けられる載置台において、
基板が載置され、上面から下面に至るまでの側周面が平坦な柱状の金属製の載置台本体と、
その上面が前記プラズマ処理空間に臨み、前記載置台本体を囲むように設けられた絶縁材からなるリング部材と、
前記リング部材の下方側にて前記載置台本体を囲むように設けられ、前記載置台本体の側周面に圧接して設けられた側部絶縁部材と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月25日(2017.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像における部分的な領域である注目領域の大きさに関する情報を取得するサイズ取得手段と、
前記サイズ取得手段によって取得された前記注目領域の大きさに関する情報に基づいて、前記注目領域のためのフレームレートを決定する決定手段と、
前記決定手段によって決定されたフレームレートに従って、前記画像における部分的な領域である前記注目領域に対応する符号化データを取得してその注目領域に対応する符号化データを復号する復号手段と
を有することを特徴とする画像復号装置。
【請求項２】
前記画像復号装置によって復号される符号化データは、１以上の画像を含む動画像を複数の時間階層を用いて階層符号化した符号データであり、
前記階層符号化における前記複数の時間階層に対応する、前記動画像のフレームレートに関する情報を取得するフレームレート情報取得手段を更に有し、
前記決定手段は、前記フレームレート情報取得手段によって取得された前記各階層に対応するフレームレートに関する情報と、前記サイズ取得手段によって取得された前記注目領域の大きさに関する情報とに基づいて、前記注目領域のフレームレートを決定する
ことを特徴とする請求項１記載の画像復号装置。
【請求項３】
前記サイズ取得手段は、前記注目領域の大きさに関する情報として、前記注目領域に含まれるタイルの数を取得する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像復号装置。
【請求項４】
前記画像復号装置が単位時間内に処理可能なタイルの数を取得する第３の取得手段を有し、
前記サイズ取得手段は、前記注目領域の大きさに関する情報として、前記注目領域に含まれるタイルの数を取得し、
前記決定手段は、前記フレームレート情報取得手段によって取得された前記複数の時間階層に対応するフレームレートのうち、前記注目領域に含まれるタイルの数と前記画像復号装置が単位時間内に処理可能なタイル数とから算出されたフレームレート以下のフレームレートを、前記注目領域のフレームレートとして決定する
ことを特徴とする請求項２に記載の画像復号装置。
【請求項５】
前記復号手段は、前記決定手段によって決定されたフレームレートに対応する時間階層に基づいて、前記注目領域を復号する
ことを特徴とする請求項２に記載の画像復号装置。
【請求項６】
前記決定手段は、前記フレームレート情報取得手段によって取得された前記複数の階層に対応するフレームレートのいずれかを、前記復号され得る画像の全体を表示する全体表示又は前記注目領域を表示する部分表示におけるフレームレートとして決定する
ことを特徴とする請求項２に記載の画像復号装置。
【請求項７】
前記決定手段は、前記注目領域が指定されていない場合に、前記全体表示におけるフレームレートを決定し、前記注目領域が指定されている場合であって、前記復号され得る画像の全体ではない一部の領域が前記注目領域として指定されている場合に、前記部分表示におけるフレームレートを決定する
ことを特徴とする請求項６に記載の画像復号装置。
【請求項８】
画像における部分的な領域である注目領域の大きさに関する情報を取得するサイズ取得工程と、
前記サイズ取得工程において取得された前記注目領域の大きさに関する情報に基づいて、前記注目領域のためのフレームレートを決定する決定工程と、
前記決定工程において決定されたフレームレートに従って、前記画像における部分的な領域である前記注目領域に対応する符号化データを取得してその注目領域に対応する符号化データを復号する復号工程と、
を有することを特徴とする画像復号方法。
【請求項９】
コンピュータを、
画像における部分的な領域である注目領域の大きさに関する情報を取得するサイズ取得手段、
前記サイズ取得手段によって取得された前記注目領域の大きさに関する情報に基づいて、前記注目領域のためのフレームレートを決定する決定手段、
前記決定手段によって決定されたフレームレートに従って、前記画像における部分的な領域である前記注目領域に対応する符号化データを取得してその注目領域に対応する符号化データを復号する復号手段、
として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上述の課題を解決するため、本発明の画像復号装置は、以下の構成を有する。即ち、画像における部分的な領域である注目領域の大きさに関する情報を取得するサイズ取得手段と、前記サイズ取得手段によって取得された前記注目領域の大きさに関する情報に基づいて、前記注目領域のためのフレームレートを決定する決定手段と、前記決定手段によって決定されたフレームレートに従って、前記画像における部分的な領域である前記注目領域に対応する符号化データを取得してその注目領域に対応する符号化データを復号する復号手段とを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月19日(2017.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するために、請求項１記載の撮像装置は、撮像手段と、前記撮像手段における撮像設定を調整する撮像準備手段と、ユーザからの指示を受け付けるタッチディスプレイと、前記タッチディスプレイに対するタッチダウン操作に応じて、前記撮像準備手段に、撮像設定の調整を行なわせ、前記タッチダウン操作に続いて特定のタッチ操作がなされた場合に、前記撮像準備手段による前記調整が行われる前の撮像設定に戻すように制御する制御手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像手段と、
前記撮像手段における撮像設定を調整する撮像準備手段と、
ユーザからの指示を受け付けるタッチディスプレイと、
前記タッチディスプレイに対するタッチダウン操作に応じて、前記撮像準備手段に、撮像設定の調整を行なわせ、前記タッチダウン操作に続いて特定のタッチ操作がなされた場合に、前記撮像準備手段による前記調整が行われる前の撮像設定に戻すように制御する制御手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記調整が行われる前の撮像設定に戻した後、前記特定のタッチ操作に対応する処理を実行するように制御することを特徴とする請求項１記載の撮像装置。
【請求項３】
前記撮像準備手段は、前記タッチダウン操作があった位置に表示されている被写体に基づいて、撮像設定を調整することを特徴とする請求項１又は２記載の撮像装置。
【請求項４】
前記撮像準備手段は、前記被写体が動体の場合、前記被写体が前記タッチディスプレイに表示されている間中、前記撮像設定を前記被写体に基づいて調整することを特徴とする請求項３記載の撮像装置。
【請求項５】
前記タッチダウン操作によって特定される第１の被写体と前記特定のタッチ操作によって特定される第２の被写体とを同定する同定手段を、更に有し、
前記同定手段による同定の結果、前記第１及び第２の被写体が同じ被写体である場合、前記制御手段は、前記撮像準備手段による前記調整が行われる前の撮像設定に戻す動作、及び前記調整が行われる前の撮像設定に戻した後に行われる前記特定のタッチ操作に対応する処理を実行しないように制御することを特徴とする請求項３又は４記載の撮像装置。
【請求項６】
前記撮像設定は、フォーカス、露出及びホワイトバランスのうち少なくとも１つであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記撮像設定の回復には、前記撮像設定における特定の設定値を回復させること、又は前記撮像設定が特定の被写体に適合するように回復させることが含まれることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記特定のタッチ操作は、特定の第１の処理に対応するタッチジェスチャー操作又は特定の第２の処理に対応するマルチタッチ操作であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記タッチジェスチャー操作は、前記タッチダウン操作に続いて、ユーザが、前記タッチディスプレイにタッチしたままタッチダウン位置を所定の距離以上移動させる操作であることを特徴とする請求項８記載の撮像装置。
【請求項１０】
撮像工程と、
撮像準備手段が、前記撮像工程における撮像設定を調整する撮像準備工程と、
ユーザからの指示を受け付けるタッチディスプレイ工程と、
前記タッチディスプレイ工程におけるタッチダウン操作に応じて、前記撮像準備手段に対し、撮像設定の調整を行なわせ、前記タッチダウン操作に続いて特定のタッチ操作がなされた場合に、前記撮像準備手段による前記調整が行われる前の撮像設定に戻すように制御する制御工程と、
を有することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項１１】
撮像装置の制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
前記撮像装置の制御方法は、
撮像工程と、
撮像準備手段が、前記撮像工程における撮像設定を調整する撮像準備工程と、
ユーザからの指示を受け付けるタッチディスプレイ工程と、
前記タッチディスプレイ工程におけるタッチダウン操作に応じて、前記撮像準備手段に対し、撮像設定の調整を行なわせ、前記タッチダウン操作に続いて特定のタッチ操作がなされた場合に、前記撮像準備手段による前記調整が行われる前の撮像設定に戻すように制御する制御工程と、
を有することを特徴とするプログラム。
【請求項１２】
請求項１１記載のプログラムを格納することを特徴とするコンピュータで読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月20日(2018.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明の実施形態は、延長管が接続される掃除機本体に集塵装置を備えた電気掃除機に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
実施形態の電気掃除機は、電動送風機を有する本体部および集塵装置を備えた掃除機本体と、該掃除機本体に接続される延長管と、を具備した電気掃除機である。集塵装置は、含塵空気を吸い込む吸気口と、塵埃が分離された空気を排出する排気口と、を備える。また、本体部は、延長管が接続される本体接続口を備える。また、本体部は、吸気口に対向して開口され本体接続口と吸気口とを連通する第１開口を備える。さらに、本体部は、第１開口に対して本体接続口と反対側で排気口に対向して開口され電動送風機の吸込側と連通する第２開口を備える。そして、電動送風機は、少なくとも一部が延長管の軸線上にあり、かつ、吸込側が第２開口よりも本体接続口側に位置する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
11    電気掃除機
15    掃除機本体
16    延長管
21    本体部
22    集塵装置
34    電動送風機
36 電源部である二次電池
41    本体接続口
54    第１開口としての吸気連通口
55    第２開口としての排気連通口
74    吸気口
75    排気口
Ａ    軸線
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電動送風機を有する本体部および集塵装置を備えた掃除機本体と、該掃除機本体に接続される延長管と、を具備した電気掃除機であって、
前記集塵装置は、含塵空気を吸い込む吸気口と、塵埃が分離された空気を排出する排気口と、を備え、
前記本体部は、
前記延長管が接続される本体接続口と、
前記吸気口に対向して開口され前記本体接続口と前記吸気口とを連通する第１開口と、
該第１開口に対して前記本体接続口と反対側で前記排気口に対向して開口され前記電動送風機の吸込側と連通する第２開口と、を備え、
前記電動送風機は、少なくとも一部が前記延長管の軸線上にあり、かつ、吸込側が前記第２開口よりも前記本体接続口側に位置する
ことを特徴とした電気掃除機。
【請求項２】
前記第２開口は、前記延長管の軸線方向において、前記第１開口よりも前記本体接続口から離れた位置にある
ことを特徴とした請求項１記載の電気掃除機。
【請求項３】
前記第１開口は、前記延長管の軸線に対して反対側に開口される
ことを特徴とした請求項１または２記載の電気掃除機。
【請求項４】
前記第２開口は、前記延長管の軸線に対して反対側に開口される
ことを特徴とした請求項１ないし３いずれか一記載の電気掃除機。
【請求項５】
前記電動送風機の電源となる電源部を有し、
前記電源部は、前記延長管の軸線に対して、前記集塵装置とは反対側に位置する
ことを特徴とした請求項１ないし４いずれか一記載の電気掃除機。
【請求項６】
前記電源部は、前記本体接続口から離れるに連れて、前記延長管の軸線から離れる方向に設けられている
ことを特徴とした請求項１ないし５いずれか一記載の電気掃除機。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月20日(2018.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
実施形態の電気掃除機は、本体部およびこの本体部に着脱可能な集塵装置を備えた掃除機本体と、この掃除機本体に接続される延長管とを具備した電気掃除機である。本体部は、本体接続口と、電動送風機と、電源部と、収容本体部と、収容部とを備える。本体接続口は、延長管が接続される。収容本体部は、電動送風機を収容し、延長管の軸線に沿う。電源部は、電動送風機の電源となる。収容部は、収容本体部に対して本体接続口の反対側に設けられ、電源部を有し、本体接続口から離れるにつれて延長管の軸線から離間するように収容本体部から傾斜する。集塵装置は、収容本体部に対して収容部とは反対側に位置する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
11    電気掃除機
15    掃除機本体
16    延長管
17 床ブラシ
21    本体部
22    集塵装置
28    収容部としての突出部
29    収容本体部としての本体
34    電動送風機
36    電源部である二次電池
41 本体接続口
51    接地面
52 排気口である本体排気口
59 本体排気口
81 着脱機構
Ａ    軸線
Ｆ    載置面
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体部およびこの本体部に着脱可能な集塵装置を備えた掃除機本体と、この掃除機本体に接続される延長管とを具備した電気掃除機であって、
前記本体部は、
前記延長管が接続される本体接続口と、
電動送風機と、
前記電動送風機を収容し、前記延長管の軸線に沿う収容本体部と、
前記電動送風機の電源となる電源部と、
前記収容本体部に対して前記本体接続口の反対側に設けられ、前記電源部を有し、前記本体接続口から離れるに連れて前記延長管の軸線から離間するように前記収容本体部から傾斜する収容部と、を備え、
前記集塵装置は、前記収容本体部に対して前記収容部とは反対側に位置する
ことを特徴とした電気掃除機。
【請求項２】
前記収容部は、前記掃除機本体を載置面に載置した際に、該載置面に対して接触する接地面を備えている
ことを特徴とした請求項１記載の電気掃除機。
【請求項３】
前記接地面に、前記電動送風機の排気側に連通し、該電動送風機からの排気の一部を排出する排気口が設けられている
ことを特徴とした請求項２記載の電気掃除機。
【請求項４】
前記接地面は、円弧形状を有し、
前記排気口が前記円弧形状の前記接地面に沿って形成されている
ことを特徴とした請求項３記載の電気掃除機。
【請求項５】
前記収容本体部に、前記電動送風機の排気側に連通し、該電動送風機からの排気の一部を排出する本体排気口が設けられ、
該本体排気口は、前記掃除機本体を載置面に載置した際に、前記載置面から離間する
ことを特徴とした請求項１ないし４いずれか一記載の電気掃除機。
【請求項６】
前記本体部に前記延長管を介して接続される床ブラシを有し、
前記掃除機本体を載置面に載置した際は、前記床ブラシおよび前記設置面が前記載置面に接触する
ことを特徴とする請求項１ないし５いずれか一記載の電気掃除機。
【請求項７】
前記集塵装置は、その一端側に該集塵装置を前記本体部から取り外すための着脱機構を有し、
前記掃除機本体を載置面に載置した際は、前記集塵装置の前記着脱機構を有する側が鉛直方向上側にある
ことを特徴とした請求項１ないし６いずれか一記載の電気掃除機。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月20日(2018.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
実施形態の電気掃除機は、電動送風機を収容する本体部、および、該本体部に対して着脱可能な集塵装置を備えた電気掃除機である。集塵装置は、着脱機構を備える。着脱機構は、保持係止部、および、対をなす操作部を有する。保持係止部は、本体部に対して装着した状態で集塵装置を保持する。操作部は、互いに接近する方向に操作されることで保持係止部による該集塵装置の本体部への保持を解除する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電動送風機を収容する本体部、および、該本体部に対して着脱可能な集塵装置を備えた電気掃除機であって、
前記集塵装置は、前記本体部に対して装着した状態で該集塵装置を保持する保持係止部、および、互いに接近する方向に操作されることで前記保持係止部による該集塵装置の前記本体部への保持を解除する対をなす操作部を有する着脱機構を備えている
ことを特徴とした電気掃除機。
【請求項２】
前記集塵装置は、前記着脱機構に対して離間され、該集塵装置を前記本体部に対して係止して、該集塵装置を前記本体部に対して装着する際の回動支点となる係止部を備え、
前記本体部は、前記集塵装置の回動時に前記着脱機構の前記保持係止部を退避させつつ前記集塵装置を案内するとともに、所定の回動位置で復帰した前記保持係止部が係止される案内部を備えている
ことを特徴とした請求項１記載の電気掃除機。
【請求項３】
前記集塵装置は、前記操作部の操作方向に対して交差する方向に窪んだ凹部を備えている
ことを特徴とした請求項１または２記載の電気掃除機。
【請求項４】
前記集塵装置の重心は、前記操作部間に位置している
ことを特徴とした請求項１ないし３いずれか一記載の電気掃除機。
【請求項５】
前記集塵装置は、前記着脱機構に隣接する部分の外形が円形状に形成されている
ことを特徴とした請求項１ないし４いずれか一記載の電気掃除機。
【請求項６】
前記操作部は、表面が凹凸状である
ことを特徴とした請求項１ないし５いずれか一記載の電気掃除機。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月19日(2017.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
前記光源から出射された光を測定光と参照光とに分割する光分割器と、
前記測定光を被検査物で走査する走査手段と、
前記走査手段を介して前記測定光を前記被検査物に照射する光学系と、
前記被検査物からの前記測定光の戻り光と前記参照光との干渉光を受光する検出器と、
前記検出器の出力信号を処理して、前記被検査物の断層画像を取得する演算処理部と、
を備えた光断層撮像装置において、
前記断層画像の取得範囲の画角を変更するために前記走査手段と前記被検査物との間に画角変更用の光学部材が挿入されたか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段の判定結果に基づいて、前記光断層撮像装置を制御する制御部の制御パラメータ、前記演算処理部の信号処理パラメータ、画像処理パラメータ、及び解析処理パラメータ、のうち少なくとも一つのパラメータの値を切り替える切り替え手段と、
を有することを特徴とする光断層撮像装置。
【請求項２】
前記制御パラメータは前記走査手段の走査速度であり、
前記切り替え手段は、前記画角変更用の光学部材が挿入された場合に、前記走査速度を切り替えることを特徴とする請求項１に記載の光断層撮像装置。
【請求項３】
前記測定光の光路長と前記参照光の光路長との光路長差を変更する光路長差変更手段を更に備え、
前記制御パラメータは前記光路長差であり、
前記切り替え手段は、前記画角変更用の光学部材が挿入された場合に、前記光路長差を切り替えることを特徴とする請求項１又は２に記載の光断層撮像装置。
【請求項４】
前記断層画像を表示手段に表示させる表示制御手段を更に有し、
前記表示制御手段における前記断層画像を表示する際の表示制御パラメータは、前記画角変更用の光学部材が挿入された場合に前記切り替え手段が切り替える前記制御部の制御パラメータに含まれることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項５】
前記信号処理パラメータは、前記干渉光をサンプリングする数であり、
前記切り替え手段は、前記画角変更用の光学部材が挿入された場合に、前記サンプリングする数を切り替えることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項６】
前記信号処理パラメータは、前記検出器の出力信号を処理する際のゲインであり、
前記切り替え手段は、前記画角変更用の光学部材が挿入された場合に、前記出力信号のゲインを切り替えることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項７】
前記解析処理パラメータは、前記断層画像を解析処理する際に前記断層画像に含まれる複数の層の境界の判別に用いる閾値であり、
前記切り替え手段は、前記画角変更用の光学部材が挿入された場合に、前記閾値を前記断層画像における両端部と中央部とで切り替えることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項８】
操作者により前記画角変更用の光学部材が挿入されたことを入力する入力手段を更に有し、
前記判定手段は、前記入力手段による入力に応じて、前記画角変更用の光学部材が挿入されたと判定することを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項９】
前記判定手段は、前記検出器の出力信号に基づいて、前記画角変更用の光学部材が挿入されたか否かを判定することを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項１０】
前記測定光の光路中に挿入された前記画角変更用の光学部材の挿入位置に基づいて、前記少なくとも一つのパラメータの値を決定する決定手段を更に有し、
前記切り替え手段は、前記画角変更用の光学部材が挿入された場合に、前記少なくとも一つのパラメータを前記決定された値に切り替えることを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項１１】
前記画角変更用の光学部材の光学特性に基づいて、前記断層画像における深さ方向における複数の撮像位置における輝度の差が低減するように、前記複数の撮像位置のそれぞれにおける複数の前記断層画像の重ね合わせ枚数を決定する枚数決定手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至１０の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項１２】
前記被検査物は、被検眼であり、
前記画角変更用の光学部材の光学特性と前記被検眼の角膜の光学特性とに基づいて、前記断層画像の歪を補正する補正手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至１１の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項１３】
前記被検査物は、被検眼であり、
前記被検眼の前眼部画像と前記被検眼の眼底画像とのうち少なくとも一つを取得するために前記被検眼からの戻り光を受光する第二の検出部を更に有し、
前記判定手段は、前記第二の検出部の出力信号に基づいて、前記画角変更用の光学部材が挿入されたか否かを判定することを特徴とする請求項１乃至１１の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項１４】
前記被検査物は、被検眼であり、
前記走査手段は、前記被検眼の前眼部と共役な位置に配置され、前記測定光を前記被検眼の眼底で走査することを特徴とする請求項１乃至１３の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項１５】
前記画角変更用の光学部材は、眼鏡、コンタクトレンズ、及び前記光断層撮像装置に備え付けられたアダプターレンズのいずれかであることを特徴とする請求項１乃至１４の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
【請求項１６】
コンピュータを、請求項１乃至１５の何れか一項に記載の光断層撮像装置の前記切り替え手段として機能させることを特徴とするプログラム。
【請求項１７】
光源と、前記光源から出射された光を測定光と参照光とに分割する光分割器と、前記測定光を被検査物で走査する走査手段と、前記走査手段を介して前記測定光を前記被検査物に照射する光学系と、前記被検査物からの前記測定光の戻り光と前記参照光との干渉光を受光する検出器と、前記検出器の出力信号を処理して、前記被検査物の断層画像を取得する演算処理部と、を備えた光断層撮像装置の制御方法において、
前記断層画像の取得範囲の画角を変更するために前記走査手段と前記被検査物との間に画角変更用の光学部材が挿入されたか否かを判定する工程と、
前記判定する工程における判定結果に基づいて、前記光断層撮像装置の制御部の制御パラメータ、前記演算処理部の信号処理パラメータ、画像処理パラメータ、及び解析処理パラメータ、のうち少なくとも一つのパラメータの値を切り替える工程と、
を有することを特徴とする光断層撮像装置の制御方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の光断層撮像装置の制御方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項１９】
光源と、前記光源から出射された光を測定光と参照光に分割する光分割器と、前記測定光を被検眼で走査する走査手段と、前記走査手段を介して前記測定光を前記被検眼に照射する光学系と、前記被検眼からの前記測定光の戻り光と前記参照光との干渉光を受光する検出器と、前記検出器の出力信号を処理して、前記被検眼の断層画像を取得する演算処理部と、を備えた光断層撮像装置と、
前記断層画像の取得範囲の画角を変更するために被検者が装着する画角変更用の光学部材と、を有することを特徴とする光断層撮像システム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月22日(2017.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヤブレツボカビ類に分類される微生物の少なくとも1種を培養し、該微生物にタンナーゼ活性を有するタンパク質を生産させる培養工程を含む、タンナーゼ活性を有するタンパク質の製造方法。
【請求項２】
前記微生物が、アウランチオキトリウム・リマシナム(Aurantiochytrium limacinum)、及びアウランチオキトリウム・マングロベイ(Aurantiochytrium mangrovei)に属する微生物から選択される少なくとも1種である、請求項1の方法。
【請求項３】
前記微生物が、アウランチオキトリウム・リマシナム SR21 ATCC MYA-1381(Aurantiochytrium limacinum SR21 ATCC MYA-1381)株、アウランチオキトリウム・リマシナム mh0186(Aurantiochytriumlimacinum mh0186)株(FERM BP-11311)、アウランチオキトリウム・マングロベイ SEK218(Aurantiochytrium mangrovei SEK218)株、及びアウランチオキトリウム sp. ATCC26185(Aurantiochytrium sp. ATCC26185)株から選択される少なくとも1種である、請求項1の方法。
【請求項４】
前記培養工程が、タンニン酸を含有する培地を用いて前記微生物を培養する工程である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
さらに、タンナーゼ活性を有するタンパク質を塩析する工程を含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
さらに、塩析されたタンナーゼ活性を有するタンパク質を含む溶液を、緩衝液に対して透析する工程を含む、請求項5の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
Aurantiochytrium属に属しタンナーゼ活性を有するタンパク質を生産する能力を有する微生物としては、アウランチオキトリウム・リマシナム(Aurantiochytrium limacinum)又はアウランチオキトリウム・マングロベイ(Aurantiochytrium mangrovei)に属する少なくとも1種が挙げられる。Aurantiochytrium属に属する微生物の具体的な株としては、Aurantiochytrium limacinum SR21 ATCC MYA-1381、Aurantiochytrium limacinum mh0186(受託番号FERM BP-11311)、Aurantiochytrium mangrovei SEK218（受託番号NBRC 103269）、Aurantiochytrium mangrovei SEK243、Aurantiochytrium sp. ATCC20888、又はAurantiochytrium sp. ATCC26185が好ましく用いられる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月4日(2018.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
導電層２８は、第１の方向Ａにおいて圧電体２２の第１の外表面２２Ａに設けられる。導電層２８は、第１の外表面２２Ａの半分以上を覆う。導電層２８は、少なくとも一部が第２の電極層２６との間に圧電体２２の第２の領域Ｒ２を挟んで圧電体２２に設けられる。導電層２８は、導電性を有する。導電層２８は、第１の電極層２４および第２の電極層２６に圧電体２２を介して接続される。導電層２８は、第１の電極層２４、第２の電極層２６、第１の接続部３０、および、第２の接続部３２とは直接的に接触しない。導電層２８の圧電体２２とは反対側の表面は、検出体Ｘ（図１参照）に接触した状態で検出体Ｘに張り付けられる。導電層２８の圧電体２２とは反対側の表面は、接着剤を介して検出体Ｘに張り付けられてもよい。第１の方向Ａの一方Ａ１側の圧電体２２の表面を第２の外表面２２Ｂとし、第１の方向Ａの他方Ａ２側の圧電体２２の表面を第１の外表面２２Ａとする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
圧電層２２Ｘを焼成する第５の工程では、第４の工程によって形成された積層体２５が焼成される。焼成温度は、電極層２４，２６および接続部３０，３２の融点よりも高くなるように設定される。電極層２４，２６および接続部３０，３２が、銀およびパラジウムを含む場合、焼成温度は一例では９５０℃〜１０３０℃に設定される。各圧電層２２Ｘは、焼成によって図１０に示すように一体化して圧電体２２を形成し、第１の電極層２４、第２の電極層２６、第１の接続部３０、および、第２の接続部３２が圧電体２２の内部に埋め込まれた状態になる。図１０において第２の方向Ｂの一方側の複数の貫通孔２２Ｙは１つの孔２７Ａを形成し、孔２７Ａに設けられる各圧電層２２Ｘの第１の接続部３０が連続する。図１０において第２の方向Ｂの他方側の複数の貫通孔２２Ｙは１つの孔２７Ｂを形成し、孔２７Ｂに設けられる各圧電層２２Ｘの第２の接続部３２が連続する。圧電体２２の第１の外表面２２Ａには、第１の電極層２４、第２の電極層２６、第１の接続部３０、および、第２の接続部３２のいずれも露出しない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
直流電圧の印加によって第１の電極層２４と第２の電極層２６との間に挟まれる第１の領域Ｒ１、第２の電極層２６と導電層２８との間に挟まれる第２の領域Ｒ２、および、第１の外部電極層３４と第２の電極層２６との間に挟まれる第３の領域Ｒ３が分極される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
導電層２８が設けられていない圧電素子では、圧電体２２のうちの最も第１の方向Ａの他方Ａ２側の第２の電極層２６よりも他方Ａ２側の領域には直流電圧が印加されないため、分極されない。直流電圧の印加によって圧電体２２のうちの分極される第１の領域Ｒ１には残留変位が生じる。このため、分極されない領域と残留変位を有する第１の領域Ｒ１との間に発生する内部応力が、反りやたわみの原因となるおそれがある。圧電素子２０では、第２の電極層２６と第１の外表面２２Ａとの間に形成される第２の領域Ｒ２にも第１の領域Ｒ１と同様に均一な電圧が印加されて分極される。このため、直流電圧の印加による圧電体２２の第２の方向Ｂの変位が均一になり、反りおよびたわみの発生を抑制することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
・第１の電極層２４を第２の外表面２２Ｂ上に配置することもできる。この場合、第１の電極層２４が第１の外部電極層として機能する。
・第１の電極層２４と第２の電極層２６とを入れ替えることもできる。この場合、導電層２８は最も第１の外表面２２Ａに近い第１の電極層２４との間に圧電体２２の第２の領域Ｒ２を挟んで圧電体２２に設けられる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2017204506.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月20日(2018.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれが基板を処理する第１及び第２の処理部を含む基板処理装置であって、
前記第１及び第２の処理部のうちのいずれかに搬入される基板のプリアライメント状態を調整する調整部と、
前記基板が前記基板処理装置内に搬入された位置から前記調整部までの第１搬送路に沿って前記基板を搬送し、前記調整部から前記基板が前記基板処理装置内から外部に搬出される位置までの第２搬送路に沿って前記基板を搬送する搬送部と、を含み、
前記第１の処理部は前記第１搬送路に沿った位置に配置されており、前記第２の処理部は前記第２搬送路に沿った位置に配置されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記調整部は、前記基板の温度調整を行う温度調整部を含むことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記温度調整部での前記温度調整が済んだ基板を前記調整部から第１及び第２の処理部のうちのいずれかに搬送するように、前記搬送部を制御する制御部を含むことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記調整部は、複数の基板を収納可能な収納部を含むことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記収納部に収納された基板のうち前記調整部での前記調整が済んだ基板を前記収納部から前記第１及び第２の処理部のうちのいずれかに搬送するように、前記搬送部を制御する制御部を含むことを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記第１及び第２の処理部のそれぞれは、パターン形成を基板に行うことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板処理装置を用いてパターン形成を基板に行う工程と、
前記工程で前記パターン形成を行われた前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一側面によれば、それぞれが基板を処理する第１及び第２の処理部を含む基板処理装置であって、前記第１及び第２の処理部のうちのいずれかに搬入される基板のプリアライメント状態を調整する調整部と、前記基板が前記基板処理装置内に搬入された位置から前記調整部までの第１搬送路に沿って前記基板を搬送し、前記調整部から前記基板が前記基板処理装置内から外部に搬出される位置までの第２搬送路に沿って前記基板を搬送する搬送部と、を含み、前記第１の処理部は前記第１搬送路に沿った位置に配置されており、前記第２の処理部は前記第２搬送路に沿った位置に配置されていることを特徴とする基板処理装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月3日(2018.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第1の表面及び第1の表面と対向する第2の表面を有する基板と、
第1の部分と第2の部分を含み、前記基板の前記第1の表面の上に配置されるパッドと、
前記第1の表面の上に配置され、前記パッドの前記第1の部分を被覆し、上面を有する第1の隔離層と、
前記パッドの前記第2の部分の上に配置され、上面を有する相互接続層と、
前記第1の隔離層の前記上面の上と前記相互接続層の前記上面の上に配置される導電性ポストと、を備え、
前記第1の隔離層の前記上面と前記相互接続層の前記上面が、実質的に同一の平面にある、半導体パッケージ。
【請求項２】
前記導電性ポストは、第1部と第2部を含む底面を有し、前記第1部が、前記相互接続層の前記上面に接触し、前記第2部が、前記第1の隔離層の前記上面に接触する、請求項1に記載の半導体パッケージ。
【請求項３】
前記導電性ポストの前記底面の前記第1部の面積は、前記導電性ポストの前記底面の前記第2部の面積に実質的に等しい又はそれよりも大きい、請求項2に記載の半導体パッケージ。
【請求項４】
前記導電性ポストの前記底面の前記第2部は、前記導電性ポストの前記底面の前記第1部を取り囲む、請求項2に記載の半導体パッケージ。
【請求項５】
前記第1の隔離層と前記導電性ポストを包む第2の隔離層をさらに備える、請求項1に記載の半導体パッケージ。
【請求項６】
前記第2の隔離層は、前記相互接続層を包む、請求項5に記載の半導体パッケージ。
【請求項７】
前記第2の隔離層は、前記パッドに接触する、請求項6に記載の半導体パッケージ。
【請求項８】
前記相互接続層は、実質的な矩形形状をなす請求項1に記載の半導体パッケージ。
【請求項９】
前記相互接続層は、実質的な円形形状をなす請求項1に記載の半導体パッケージ。
【請求項１０】
前記相互接続層は半田材を含む、請求項1に記載の半導体パッケージ。
【請求項１１】
前記半田材は錫を含む、請求項10に記載の半導体パッケージ。
【請求項１２】
第1の表面及び第1の表面と対向する第2の表面を有する基板と、
前記基板の前記第1の表面の上に配置され、第1の部分と、第2の部分と、第3の部分を含む導電性パッドと、
前記導電性パッドの前記第1の部分の上に配置される第1の隔離層と、
前記導電性パッドの前記第2の部分の上に配置され、上面を有する相互接続層と、
前記導電性パッドの前記第3の部分の上に配置される第2の隔離層と、
前記相互接続層の上と前記第2の隔離層の上に配置される導電性ポストと、を備え、
前記相互接続層の前記上面と前記第1の隔離層の上面が、実質的に同一の平面にある、半導体パッケージ。
【請求項１３】
前記導電性ポストは、第1部と第2部を含む底面を有し、前記第1部が、前記相互接続層の前記上面に接触し、前記第2部が、前記第1の隔離層に接触する、請求項12に記載の半導体パッケージ。
【請求項１４】
前記第2の隔離層は、前記第1の隔離層、前記相互接続層、及び前記導電性ポストを包む請求項12に記載の半導体パッケージ。
【請求項１５】
前記相互接続層は、実質的な矩形形状をなす請求項12に記載の半導体パッケージ。
【請求項１６】
前記相互接続層は、実質的な円形形状をなす請求項12に記載の半導体パッケージ。
【請求項１７】
第1の表面及び前記第1の表面と対向する第2の表面を有する基板と、第1の部分と第2の部分を含み、前記第1の表面の上に配置される導電性パッドとを提供する工程と、
前記導電性パッドの前記第1の部分を被覆するように、上面を有する第1の隔離層を形成する工程と、
上面を有する導電層を前記導電性パッドの前記第2の部分の上に配置する工程と、
前記第1の隔離層の前記上面の上と前記導電層の前記上面の上に導電性素子を配置する工程と、を含み、
前記第1の隔離層の前記上面と前記導電層の前記上面が、実質的に同一の平面にある、半導体パッケージを製造する方法。
【請求項１８】
前記第1の隔離層は、前記導電性パッドの前記第2の部分を露出させる開口を区画する請求項17に記載の前記方法。
【請求項１９】
前記導電層を前記導電性パッドの前記第2の部分の上に配置する工程は、前記導電層の前記上面が実質的に前記第1の隔離層の前記上面と同一の平面になるまで、導電性材料で前記開口を充填し、前記導電層を形成する工程をさらに含む、請求項18に記載の前記方法。
【請求項２０】
前記導電性素子は、底面を有し、
前記導電性素子の前記底面は、第1部と第2部を含み、前記第1部が、前記導電層の前記上面に接触し、前記第2部が、前記第1の隔離層の前記上面に接触する、請求項17に記載の前記方法。
【請求項２１】
前記導電性素子の前記底面の前記第1部の面積は、前記導電性素子の前記底面の前記第2部の面積に実質的に等しい又はそれよりも大きい、請求項20に記載の前記方法。
【請求項２２】
前記導電層は半田材を含む、請求項17に記載の前記方法。
【請求項２３】
前記半田材は錫を含む、請求項22に記載の前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月11日(2017.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板及び前記基板上に形成された回路パターンを有する支持部材と、
前記支持部材上に設けられた第一の半導体素子と、
前記第一の半導体素子に接着剤層を介して接着されている第二の半導体素子と、を備える半導体装置を製造するために用いられる、接着剤層を有する接着シートであって、
前記支持部材と前記第一の半導体素子とは接着剤を介して接着されており、
前記回路パターンと前記第一の半導体素子とはワイヤにより電気的に接続されており、
前記第一の半導体素子及び前記ワイヤが前記接着剤層によって封止されている、又は、前記ワイヤの少なくとも一部が前記接着剤層によって封止されており、
前記接着シートが有する前記接着剤層の８０℃における溶融粘度が３００〜３０００Ｐａ・ｓであり、かつ、
前記接着シートが有する前記接着剤層のタック強度が３０℃で０ｇｆ以上８００ｇｆ未満である、接着シート。
【請求項２】
前記接着シートが有する前記接着剤層が、
（Ａ）高分子量成分と、
（Ｂ１）軟化点が５０℃未満の熱硬化性成分と、
（Ｂ２）軟化点が５０℃以上１００℃以下の熱硬化性成分と、
（Ｃ）軟化点が１００℃以下のフェノール樹脂と、を含む樹脂組成物からなり、
当該樹脂組成物１００質量％を基準として、前記（Ａ）高分子量成分を１１〜２２質量％、前記（Ｂ１）軟化点が５０℃未満の熱硬化性成分を１０〜２０質量％、前記（Ｂ２）軟化点が５０℃以上１００℃以下の熱硬化性成分を１０〜２０質量％、前記（Ｃ）軟化点が１００℃以下のフェノール樹脂を１５〜３０質量％含有する、
請求項１に記載の接着シート。
【請求項３】
支持部材、前記支持部材上に設けられた接着剤を介して前記支持部材に接着された第一の半導体素子、及びワイヤに、第二の半導体素子及び接着剤層を有する接着剤層付き半導体素子を、熱圧着により、前記接着剤層を介して接着する工程と、
前記接着剤層に対して１１０〜１２５℃で０．５〜１時間の加熱を行って、前記接着剤層によって前記第一の半導体素子及び前記ワイヤを、又は、前記ワイヤの少なくとも一部を封止する工程と、を備え、
前記支持部材が、基板及び前記基板上に形成された回路パターンを有し、前記回路パターンと前記第一の半導体素子とが前記ワイヤによって電気的に接続されており、
前記第一の半導体素子及び前記ワイヤを、又は、前記ワイヤの少なくとも一部を封止する前の前記接着剤層の８０℃における溶融粘度が３００〜３０００Ｐａ・ｓであり、かつ、
前記第一の半導体素子及び前記ワイヤを、又は、前記ワイヤの少なくとも一部を封止する前の前記接着剤層のタック強度が３０℃で０ｇｆ以上８００ｇｆ未満である、
半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記第一の半導体素子及び前記ワイヤを、又は、前記ワイヤの少なくとも一部を封止する前の前記接着剤層が、
（Ａ）高分子量成分と、
（Ｂ１）軟化点が５０℃未満の熱硬化性成分と、
（Ｂ２）軟化点が５０℃以上１００℃以下の熱硬化性成分と、
（Ｃ）軟化点が１００℃以下のフェノール樹脂と、を含む樹脂組成物からなり、
当該樹脂組成物１００質量％を基準として、前記（Ａ）高分子量成分を１１〜２２質量％、前記（Ｂ１）軟化点が５０℃未満の熱硬化性成分を１０〜２０質量％、前記（Ｂ２）軟化点が５０℃以上１００℃以下の熱硬化性成分を１０〜２０質量％、前記（Ｃ）軟化点が１００℃以下のフェノール樹脂を１５〜３０質量％含有する、
請求項３に記載の半導体装置の製造方法。