【手続補正書】
【提出日】平成30年3月12日(2018.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子ビーム発生器と、
前記荷電粒子ビームをコリメートするための複数の電極を備えるコリメーターシステムと、
高電圧シールド装置内の高電圧から高電圧シールド装置の外部のコンポーネントをシールドするための高電圧シールド装置と、
前記高電圧シールド装置内の空間の圧力を調節するための少なくとも１つの真空ポンプと、を備えた、荷電粒子ビーム発生器であって、
前記少なくとも１つの真空ポンプは、前記高電圧シールド装置の外側のコンポーネントである、荷電粒子ビーム発生器。
【請求項２】
前記少なくとも１つの真空ポンプは、前記高電圧シールド装置の直接となりに位置している、請求項１に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項３】
前記少なくとも１つの真空ポンプは、ゲッターポンプ又はサブリメーションポンプである、請求項１に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項４】
前記コリメーターシステムの少なくとも一部は、前記高電圧シールド装置の内部に位置している、請求項１に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項５】
前記複数の電極の少なくとも１つは、前記高電圧シールド装置の内部に位置している、請求項１に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項６】
前記コリメーターシステムは、収差補正のための、及び／又は後方散乱粒子への斥力を提供するための追加電極を備え、前記コリメーターシステムは、前記追加電極と、前記荷電粒子ビームの上流方向における前記コリメーターシステムの隣接する電極との間にエリアを備え、前記高電圧シールド装置は、前記エリアの周りに位置しており、前記少なくとも１つの真空ポンプは前記エリアの隣であって、前記高電圧シールド装置の直接となりに位置している、請求項１に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項７】
前記コリメーターシステムは、三つの電極を備えているアインツェルレンズを備えている、請求項１に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項８】
前記コリメーターシステムは、その中に空洞を持つ本体を有しており、荷電粒子ビーム発生器は、使用中に前記荷電粒子ビームが通る前記空洞の周囲の前記高電圧シールド装置の背後に配置されている複数の真空ポンプを備える、請求項１に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項９】
前記高電圧シールド装置は、ワイヤーメッシュ構造体を備える、請求項１に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項１０】
前記荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイをさらに備える、請求項１に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項１１】
荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子ビーム発生器と、
前記荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイと、
前記複数のビームレットをターゲットの表面上に投影するためのビームレット投影器と、を備えたターゲットを露出するための荷電粒子リソグラフィシステムであって、
前記荷電粒子ビーム発生器は、
前記荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源と、
前記荷電粒子ビームをコリメートするための複数の電極を備えるコリメーターシステムと、
高電圧シールド装置内の高電圧から高電圧シールド装置の外部のコンポーネントをシールドするための高電圧シールド装置と、
前記高電圧シールド装置内の空間の圧力を調節するための少なくとも１つの真空ポンプと、を備え、
前記少なくとも１つの真空ポンプは、前記高電圧シールド装置の外側のコンポーネントである、荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの真空ポンプは、前記高電圧シールド装置の直接となりに位置している、請求項１１に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの真空ポンプは、ゲッターポンプ又はサブリメーションポンプである、請求項１１に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１４】
前記コリメーターシステムの少なくとも一部は、前記高電圧シールド装置の内部に位置している、請求項１１に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１５】
前記複数の電極の少なくとも１つは、前記高電圧シールド装置の内部に位置している、請求項１１に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１６】
前記コリメーターシステムは、収差補正のための、及び／又は後方散乱粒子への斥力を提供するための追加電極を備え、前記コリメーターシステムは、前記追加電極と、前記荷電粒子ビームの上流方向における前記コリメーターシステムの隣接する電極との間にエリアを備え、前記高電圧シールド装置は、前記エリアの周りに位置しており、前記少なくとも１つの真空ポンプは前記エリアの隣であって、前記高電圧シールド装置の直接となりに位置している、請求項１１に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１７】
前記コリメーターシステムは、三つの電極を備えているアインツェルレンズを備えている、請求項１１に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１８】
前記コリメーターシステムは、その中に空洞を持つ本体を有しており、荷電粒子ビーム発生器は、使用中に前記荷電粒子ビームが通る前記空洞の周囲の前記高電圧シールド装置の背後に配置されている複数の真空ポンプを備える、請求項１１に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１９】
前記高電圧シールド装置は、ワイヤーメッシュ構造体を備える、請求項１１に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項２０】
荷電粒子ビーム発生器のコリメーターシステムの冷却装置であって、前記コリメーターシステムは、前記荷電粒子ビーム発生器によって生成された荷電粒子ビームをコリメートするための複数の電極を備え、
前記冷却装置は、冷却液の流れを収容するための１つ以上の冷却チャネルを備え、前記１つ以上の冷却チャネルは、前記コリメーターシステムの前記複数の電極の少なくとも１つの中に配置されている、冷却装置。
【請求項２１】
前記コリメーターシステムは、５００ｅＶよりも高い電圧で動作するように配置されている、請求項２０に記載の冷却装置。
【請求項２２】
前記荷電粒子ビーム発生器は、ハウジングを備え、前記コリメーターシステムは、前記ハウジングの中に収容され、冷却装置が、前記ハウジングの外側に、前記１つ以上の冷却チャネルに前記冷却液を供給し除去するための接続をさらに備える、請求項２０に記載の冷却装置。
【請求項２３】
前記接続は、前記ハウジングの外側の、流体供給導管の入口と流体除去導管の出口とを含み、前記流体供給導管及び前記流体除去導管は、前記１つ以上の冷却チャネルと流体接続されている、請求項２２に記載の冷却装置。
【請求項２４】
冷却流体の流れを冷却装置の異なる部分に分割するために、前記ハウジングの外側に、１つ以上のチューブスプリッターをさらに備える、請求項２２に記載の冷却装置。
【請求項２５】
前記コリメーターシステムは、前記荷電粒子ビームの方向からみて、上側電極、中央電極、及び下側電極を有するアインツェルレンズを備え、冷却装置の前記異なる部分は、前記上側電極を冷却するための上側セグメント、前記下側電極を冷却するための中央セグメントのうちの少なくとも１つを含む、請求項２４に記載の冷却装置。
【請求項２６】
前記コリメーターシステムは、収差補正のための、及び／又は後方散乱粒子への斥力を提供するための追加電極を備え、前記追加電極は、前記荷電粒子ビームの方向からみて、前記荷電粒子ビームをコリメートするための電極の下に位置しており、前記コリメーターシステムの前記追加電極の中に冷却チャネルが配置されている、請求項２０に記載の冷却装置。
【請求項２７】
前記コリメーターシステムは、前記荷電粒子ビームの方向からみて、上側電極、中央電極、及び下側電極を有するアインツェルレンズを備え、前記コリメーターシステムは、収差補正のための、及び／又は後方散乱粒子への斥力を提供するための追加電極を備え、前記追加電極は、前記アインツェルレンズの下に位置しており、冷却装置の前記異なる部分は、前記上側電極を冷却するための上側セグメント、前記下側電極を冷却するための中央セグメント、又は前記追加電極を冷却するための下側セグメントのうちの少なくとも１つを含む、請求項２４に記載の冷却装置。
【請求項２８】
前記コリメーターシステムは、前記荷電粒子ビームの方向からみて、上側電極、中央電極、及び下側電極を有するアインツェルレンズを備え、冷却チャネルが、前記上側電極の中に配置され、前記中央電極の中には冷却チャネルは配置されず、前記下側電極の中にも冷却チャネルは配置されない、請求項２０に記載の冷却装置。
【請求項２９】
前記コリメーターシステムは、前記荷電粒子ビームの方向からみて、上側電極、中央電極、及び下側電極を有するアインツェルレンズを備え、前記１つ以上の冷却チャネルが、前記上側電極と下側電極の中に配置され、前記中央電極の中には冷却チャネルが配置されない、請求項２０に記載の冷却装置。
【請求項３０】
前記１つ以上の冷却チャネルは、前記少なくとも１つの電極の中に溝として形成されている、請求項２０に記載の冷却装置。
【請求項３１】
前記溝は、前記少なくとも１つの電極の中に、レーザードリル、レーザー溶接、又はろう付けにより作られたものである、請求項３０に記載の冷却装置。
【請求項３２】
前記溝にはカバーが設けられている、請求項３０に記載の冷却装置。
【請求項３３】
前記１つ以上の冷却チャネルは、チューブによって形成されている、請求項２０に記載の冷却装置。
【請求項３４】
前記１つ以上の冷却チャネルは、前記少なくとも１つの電極の中に配置され、前記冷却液が前記電極の周囲に前記荷電粒子ビームの方向に対して垂直な平面で、実質水平方向に進むようになっている、請求項２０に記載の冷却装置。
【請求項３５】
前記電極の周囲に沿って、供給チャネル、除去チャネル、及び複数の側方チャネルが配置され、
冷却装置が、前記供給チャネルから複数の側方チャネルのそれぞれを介して前記除去チャネルへ前記冷却液の部分を供給するように配置され、
各側方チャネルは、前記荷電粒子ビームの方向に平行な、第１の実質鉛直方向に前記冷却液が進むために配置された第１の部分と、次いで、
前記供給チャネルにおける流れの方向と実質的に反対の方向で、前記第１の実質鉛直方向と垂直で、実質水平な方向に前記冷却液が進むために配置された第２の部分と、次いで、
前記第１の実質鉛直方向と反対で第２の実質鉛直方向に前記冷却液が進むために配置された第３の部分と、次いで、
径方向内向きで前記第２の実質鉛直方向に垂直な方向に前記冷却液が進むために配置された第４の部分と、次いで、
前記第２の実質鉛直方向に前記冷却液が進むために配置された第５の部分と、次いで、
前記第２の実質鉛直方向に垂直で、径方向外側に前記冷却液が進むために配置された第６の部分と、を備える、請求項３３に記載の冷却装置。
【請求項３６】
前記荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源と、
前記荷電粒子ビームをコリメートするための複数の電極を備えるコリメーターシステムと、を備え、
前記コリメーターシステムは、請求項２０に記載の冷却装置を備える、荷電粒子ビーム発生器。
【請求項３７】
荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子ビーム発生器と、
前記荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイと、
前記複数のビームレットをターゲットの表面上に投影するためのビームレット投影器と、を備えたターゲットを露出するための荷電粒子リソグラフィシステムであって、
前記荷電粒子ビーム発生器は、
前記荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源と、
前記荷電粒子ビームをコリメートするための複数の電極を備えるコリメーターシステムと、を備え、
前記コリメーターシステムは、請求項２０に記載の冷却装置を備える、荷電粒子リソグラフィシステム。