(57)【要約】プロジェクター等の光学装置及び光源の小型高輝度化に伴い、実用的なリフレクターの耐熱性を確保するために、リフレクターの耐熱性無機基材の凹内面に耐熱性に優れる誘電体交互積層反射膜を被覆する。反射膜被覆手段に拘わらず、耐熱性無機基材の凹内面に被覆された上記反射膜の引っ掻き耐力が０．０２ｋｇｆ以上であるとき、従来にない５００℃以上の高耐熱性に優れるリフレクターが得られ、光学装置の小型高輝度化への対応が可能となる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹面を有する耐熱性無機基材と、上記凹面に被覆された誘電体交互積層膜からなる反射膜とを備え、上記反射膜が０．０２ｋｇｆ以上の引っ掻き耐力を有することを特徴とするリフレクター。
【請求項２】
上記無機基材が、耐熱性ガラスである請求項１に記載のリフレクター。
【請求項３】
上記耐熱性ガラスが焼結シリカガラスである請求項１あるいは請求項２に記載のリフレクター。
【請求項４】
上記焼結シリカガラスが２％以下の吸水率をもつ請求項３に記載のリフレクター。
【請求項５】
上記反射膜がＴｉＯ２及びＳｉＯ２の積層膜からなる請求項１に記載のリフレクター。
【請求項６】
上記反射膜がＴａ２Ｏ５及びＳｉＯ２の積層膜からなる請求項１に記載のリフレクター。
【請求項７】
上記請求項１から請求項６のいずれかに記載されたリフレクターを搭載することを特徴とした光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】本発明は、光源を構成するリフレクター及びこれを搭載した光学装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】光学装置の一つであるプロジェクターは画像を拡大投影する装置であり、パソコン等で作製された画像を直接プロジェクターで接続投影できるために、会議用のプレゼンテーションツールとして発達してきた。最近では、リアプロジェクションＴＶやホームシアターなど家庭用の光学装置として普及しつつある。これら光学装置には光源が必要である。光源は、ランプとランプの光を効率よく反射するリフレクターから構成される。リフレクターの凹内面には誘電体交互積層型の薄膜（以下反射膜）が形成されており、ランプから発せられた光は分光的に制御されて反射する。
例えばプロジェクターには、年々小型軽量化及び投影画像の明るさ向上が求められている。投影画像の明るさを増すには、光源のランプを明るくする必要がある。ランプには高輝度化を図るために高圧水銀ランプが採用され、またその出力も増大傾向にある。ランプに入力されるエネルギーの大半は光と熱で消費される。つまりランプは光と同時に熱を発生するので、ランプを明るくすることは即ち、ランプの温度上昇を伴うことを意味し、また、小型で高輝度光源を実現可能とする時には、例えば、口径が小さなリフレクターが使用されることになるが、この際、高温になるランプとリフレクターとの距離が近くなり、リフレクターの耐熱温度が大きな問題となる。このように、光源の熱対策、特にランプからの光や熱を直接受けて厳しい高温度環境に曝されるリフレクターの熱対策が、光学装置上の重要な技術課題となっている。
リフレクターは、凹（お茶碗）形状をした基材と基材凹内面に形成される反射膜から構成されている。このような構成のリフレクターの熱対策として、特許文献１には、半透明のシリカ焼結体を基材として用いることで、基材の熱線透過性を制御する熱対策が記載されている。また、特許文献２には、熱対策として耐熱性に優れるセラミック基材を採用することが記載されているが、この場合にはセラミック基材と反射膜の熱膨張特性の違いから反射膜が剥離するので、基材からの放熱性を良くするために基材外面に放熱フィンを一体的に設けた形状に限定されている。
ランプからの熱は、反射膜と基材に伝えられる。上記二つの文献に開示されるように、現状は基材の耐熱性あるいは放熱性を改善する方向に向けられており、反射膜自体の耐熱性向上は全く成されていない状況にある。つまり光源の小型化、高出力化に伴うリフレクターの熱対策特に、反射膜の熱劣化対策は全く行われていないのが現状である。【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１６０３０３
【特許文献２】特開平１１−２７３４３２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】  本発明が解決しようとする課題は、プロジェクター等の光学装置の光源を構成するリフレクターの熱対策であって、特にリフレクターが高温に曝されても反射膜に剥離や結晶化等が生じず、反射膜の反射特性が劣化しない実用的なリフレクター及びそれを搭載した光学装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】  かかる課題を解決するために、本発明は、凹面を有する耐熱性無機基材と、上記凹面に被覆された誘電体交互積層膜からなる反射膜とを備え、上記反射膜が０．０２ｋｇｆ以上の引っ掻き耐力を有することを特徴とするリフレクターを提供する。本発明のリフレクターにおいては、上記無機基材は、耐熱性ガラスであることが望ましく、また、上記耐熱性ガラスは焼結シリカガラスであることが望ましい。典型的には、上記反射膜はＴｉＯ２及びＳｉＯ２の積層膜、またはＴａ２Ｏ５及びＳｉＯ２の積層膜で構成される。
【発明の効果】
【０００６】本発明による引っ掻き耐力に優れる反射膜を基材の凹内面に被覆したリフレクターを用いることで、プロジェクター等の光学装置及び光源の小型高輝度化に十分に対応できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】  本発明者は、耐熱性に優れるリフレクターを開発している際に、反射膜が硬い程、反射膜の耐熱性が向上することを偶然に発見した。同じ材料成分、同じ積層数の反射膜であっても、０．０２ｋｇｆ以上の力で反射膜表面を直線的に引っ掻いた際に傷が入らない反射膜は、従来から実用的とされている反射膜の耐熱性４５０〜５００℃に比べて飛躍的に高い５００℃以上の耐熱性を有すことを見出した。以下に本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。【０００８】  リフレクター基材の凹内面に施される反射膜は、ランプから発せられる光のうち概ね４００ｎｍ〜７００ｎｍ程度の可視光波長のみを選択的に反射し、赤外光及び紫外光を透過するように設計すると良い。このような光の選択的な反射特性は、互いに屈折率の異なる二種類の誘電体薄膜（以下単層膜とする）を交互に積層することで実現できる。この場合、光の反射効率は、用いる二種類の単層膜間の屈折率の差が大きいほど高くなる。つまり、屈折率の差が大きいと積層する単層膜の数が少なくても光を効率よく反射することが可能となり、逆に屈折率の差が小さい場合は、目的とする反射効率を得るための積層数が多く必要となり、結果として反射膜全体の厚みが厚くなる。このことは、反射膜を作製する時間が長くなることを意味し、製造コストのアップとなり経済性に劣る。【０００９】  単層膜の屈折率は、反射膜の積層数、ひいては反射膜のトータル厚みを決定する一つの重要な因子であり、そして屈折率は用いる誘電体の成分に強く依存する。例えば、誘電体成分として、ＴｉＯ２及びＳｉＯ２を用いて反射膜を構成する場合は、積層数は概ね２４層〜４０層、膜全体の厚みは概ね１．２μｍ〜２．２μｍで十分である。同様に、Ｔａ２Ｏ５及びＳｉＯ２、あるいはＢｉ２Ｏ３又はＮｂ２Ｏ５をドープしたＴａ２Ｏ５及びＳｉＯ２で構成する反射膜の場合は、積層数３０層〜６０層で膜の全厚みは概ね１．５μｍ〜２．８μｍで十分である。膜の厚みが必要以上に厚くなると、経済的に不利となるばかりでなく、膜の均一性を確保することが製造上困難となり、反射効率が低下する場合が生じる。このように本発明では、反射膜を構成する誘電体交互積層膜は、要求される反射効率を満足する様にその成分や積層数及び全膜厚を適宜選択するとよい。【００１０】  反射膜は、基材の凹内面にその形状に沿って被覆されるが、プロジェクター等の光学装置用リフレクターにおいて、基材凹内面は、ランプの光を集光あるいは平行な光で反射するように設計される。具体的には、集光の場合は凹内面が光軸断面形状で回転楕円面、平行光の場合は回転放物面で設計すると良い。ランプは楕円面あるいは放物面の焦点に配置され、ランプから発せられる光は、反射膜を被覆した基材凹内面で反射し、その後、各種レンズや光フィルター及び液晶パネルやＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバイス）の光学素子を通り、最終的に拡大画像として投影される。従って、反射膜を被覆する基材凹内面の形状が、設計値通りに作製されないときには、投影画像の明るさが低下する等の問題が生じるので、リフレクターを構成する基材には凹内面に高い形状精度が要求される。【００１１】  本発明で用いられる基材は、上述した凹内面の形状精度を満足するように作製された耐熱無機基材であれば基本的に全て使用できる。例えば、アルミニウム、ステンレス鋼、ニッケル及びニッケル合金等の金属材料、アルミナ、ムライト（Ｍｕｌｌｉｔｅ）、コーディライト（Ｃｏｒｄｉｅｒｉｔｅ）、窒化珪素、窒化アルミニウム、炭化珪素等の緻密なセラミック材料、パイレックス（Ｐｙｒｅｘ：米国Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｇｌａｓｓ社の登録商標名）に代表されるホウケイ酸ガラス材料、あるいは基本結晶構造としてβ−スポデュメン（β−Ｓｐｏｄｍｅｎｅ）あるいはβ−ユークリプタイト（β−Ｅｕｃｒｙｐｔｉｔｅ）を持つ結晶相がガラス中に分散してなる″ＬＡＳ″系ガラスセラミックス（Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２）あるいはキータイト（Ｋｅａｔｉｔｅ）を基本構造とする結晶相がガラス中に分散してなる″ＡＳ″系ガラスセラミックス（Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２）（以下ガラスセラミックスを結晶化ガラスと呼ぶ）、あるいはシリカ（ＳｉＯ２）ガラス等のガラス材料が適宜選択して用いられる。【００１２】  基材の製造方法は、基本的に特に限定されず、用いる材料の特性と経済性を考慮して選択するとよい。例えば、金属基材では、素材を冷間プレスする方法が好ましく、ガラス基材では、ガラス融体をダイレクトにプレスする方法が好ましい。結晶化ガラス基材ではプレス成形後のガラスを、更に熱処理し、結晶相を析出させると良い。シリカガラス基材は原理的にはダイレクトプレス成形が可能であるが、材料自体の融点が高いために、セラミック基材と同じように粉末で所定の形状に成形後、焼結する、所謂、粉末焼結法を適応することが好ましい。粉末焼結法においての成形手段は、一般的な成形手段が全て適応できる。具体的には、スリップキャスト法、乾式プレス法、インジェクション法、自己硬化法等が利用できる。このような成形手段を用いる際のポイントは、焼結時の緻密化を十分に促進させ、且つ焼結時の収縮を極力小さくするように成形体の密度を十分に高めることにある。成形体の密度が低い場合は、緻密化が十分に進行せず基材が多孔質になるか、あるいは、特に基材凹内面に微細な気孔が存在するようになり、基材の表面状態をそのまま転写する反射膜の欠陥となるからである。また、焼結時の収縮が大きいと設計される基材凹内面の理想形状からのずれが大きくなり、リフレクターとしての反射機能を損ねるからである。緻密性の指標となる吸水率は、概ね２％以下、好ましくは１％以下で良い。また成形密度（成形体を構成する粉末粒子の充填率）は６０体積％以上、好ましくは７０体積％以上、更に好ましくは７４体積％以上あれば、実用的に緻密な凹内面状態を持ち且つ形状精度に優れる焼結シリカガラスあるいは焼結セラミック基材が製造できる。【００１３】  一方、反射膜には、ランプの光を効率的に反射するように平滑性が必要となる。平滑性が無い場合は、誘電体を交互に積層してもランプの光を乱反射し、反射膜としての機能を果たさなくなる。反射膜は、基材の表面状態を忠実に転写して被覆される。つまり、反射膜の平滑性は用いる基材凹面の表面粗さが支配する。従って、反射膜を被覆する基材の凹内面は鏡面レベルに平滑にする必要がある。ここでいう鏡面とは、ＪＩＳ（Ｊａｐａｎｅｓｅ  Ｉｎｄｕ��ｔｒｉａｌ  Ｓｔａｎｄａｒｄｓ）Ｂ０６０１の中心線表面粗さＲａ（Ａｒｉｔｈｍｅｔｉｃａｌ  ｍｅａｎ  ｄｅｖｉａｔｉｏｎ）表示で０．０５μｍ以下をいう。上記耐熱無機基材における凹内面の鏡面性は、それぞれの基材の製造方法で異なった形で実現できる。プレス成形では、基材凹内面に相当する凸型の金型表面を鏡面で作製し、プレスするとよい。このようにしてプレス成形すると金型の鏡面を転写した平滑性に優れる金属あるいはガラス基材が得られる。金属基材の場合は、基材の凹内面に相当する素材表面を予め鏡面に研磨しておくとプレス後の鏡面性は更に確保できる。また、結晶化ガラス基材の場合は、熱処理で析出する結晶相によって表面が粗面化するので、例えば、熱処理条件及び基材を構成する成分調整等の既存の手段を用いて結晶粒を小さくして粗面化を防止してもよいし、あるいは最終的に鏡面になるように機械研磨するとよい。焼結シリカガラスやセラミック基材においては、成形体を構成する粉末粒子に由来する凹凸が必ず存在するので、焼結後の基材凹内面を機械研磨で鏡面にするとよい。機械研磨する際に用いる研磨材は、一般的に使用さているダイヤモンド、炭化珪素、セリア（Ｃｅｒｉａ）等を水に分散させたスラリーを使用するとよい。【００１４】  以上説明したような耐熱性無機基材の凹面に誘電体交互積層膜からなる反射膜を被覆したリフレクターの基本構成において、本発明者は、リフレクターの耐熱性の評価と改善を行っていたところ、被覆される反射膜の引っ掻き耐力が０．０２ｋｇｆ以上と硬い程、反射膜の耐熱性が従来の４００℃〜５００℃に比べて飛躍的に向上することを偶然に発見した。ここでいう引っ掻き耐力とは、先端断面が９０度、頂点に０．０５ｍｍのＲが付いた円錐形状のダイヤモンド製触針に力をかけて、速度７５ｍｍ／分の速度で直線的に反射膜を引っ掻く引っ掻き試験において、反射膜へ傷が入らないときの印加力である。また反射膜の耐熱性とは、プロジェクター等の光学装置でのランプのオンオフをシュミレーションした熱サイクル試験において、試験後の反射膜が基材から浮く（以下膜浮き）あるいは剥離する、このような現象が見られない試験温度を意味する。耐熱試験方法は、所定の温度に加熱保持された電気炉中に反射膜を被覆した基材を直接投入して１５分間電気炉内で保持後、素早く電気炉から取り出し３０分間室温で放冷する熱サイクル試験とし、この作業を３回繰り返す条件で行うものである。以下実施例をあげて説明する。
【実施例１】
【００１５】Ｒａ（中心線表面粗さ）で０．０３μｍに研磨した大きさ２０ｍｍ×２０ｍｍ、厚み３ｍｍの各種基材の片面に、ＴｉＯ２とＳｉＯ２を交互に３２層積層させた反射膜をＥＢ（電子ビーム）蒸着法で被覆した各種試験片を作製した。新東科学株式会社（日本）製のＰｅｅｌｉｎｇ  Ｓｌｉｐｐｉｎｇ  Ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ  Ｔｅｓｔｅｒ（型式ＨＥＩＤＯＮ−１４Ｓ）を用い、反射膜の引っ掻き試験を行い、更に５００℃で耐熱試験を行った結果を表１に示した。尚、引っ掻き試験は、先端断面が９０度、頂点に０．０５ｍｍのＲが付いた円錐形状のダイヤモンド製触針に所定の力を印加して、速度７５ｍｍ／分の速度で直線的に反射膜を引っ掻いた。表１から明らかなように、基材の種類に関係なく、引っ掻き力が０．０２ｋｇｆ以上で傷が入らない硬い反射膜は、５００℃の高い耐熱温度でも反射膜の剥離や膜浮き現象が観察されず、良好な耐熱性を示した。これに対し、引っ掻き力が０．０２ｋｇｆで傷が入った反射膜は膜剥離や膜浮きなどの欠陥が生じた。【００１６】
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【実施例２】
【００１７】Ｒａ（中心線表面粗さ）で０．０３μｍに研磨した大きさ２０ｍｍ×２０ｍｍ、厚み３ｍｍの各種ガラス基材の片面に、Ｔａ２Ｏ５とＳｉＯ２を交互に４０層積層させた反射膜をＥＢ（電子ビーム）蒸着法で被覆した各種試験片を作製した。新東科学株式会社（日本）製のＰｅｅｌｉｎｇ  Ｓｌｉｐｐｉｎｇ  Ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ  Ｔｅｓｔｅｒ（型式ＨＥＩＤＯＮ−１４Ｓ）を用い、反射膜の引っ掻き試験を行い、更に５５０℃で耐熱試験を行った結果を表２に示した。尚、引っ掻き試験は、先端断面が９０度、頂点に０．０５ｍｍのＲが付いた円錐形状のダイヤモンド製触針に所定の力を印加して、速度７５ｍｍ／分の速度で直線的に反射膜を引っ掻いた。表２から明らかなように、基材ガラスの種類に関係なく、引っ掻き力が０．０２ｋｇｆで傷が入らない硬い反射膜は、５５０℃の高い耐熱温度でも反射膜に剥離や膜浮き現象が観察されず、良好な耐熱性を示した。これに対し、引っ掻き力が０．０２ｋｇｆで傷が入った反射膜は膜浮きの欠陥が生じた。
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【実施例３】
【００１８】反射膜の被覆手段としてＥＢ（電子ビーム）真空蒸着法、ＩＢＡＤ（イオンアシスト）真空蒸着法、イオンプレーティング法、スッパッタリング法及びＣＶＤ法を用いて、同じ凹形状を持つ焼結シリカガラス基材凹内面に可視光のみを反射するように設計されたＴｉＯ２とＳｉＯ２の交互２８積層型反射膜をそれぞれ形成したリフレクターを作製し、反射膜の引っ掻き耐力と反射膜の耐熱温度を測定した。尚、反射膜を被覆する前の基材凹内面は、機械研磨でＲａ（中心線表面粗さ）０．０５μｍ以下とした。耐熱試験の評価は、耐熱試験後の反射膜の剥がれや白色化等の変化を実施例１及び実施例２と同様に目視で評価し且つスコッチテープ（３Ｍ社の登録商標）を反射膜に貼り付けて剥がしたときに反射膜が剥離しない温度を耐熱温度として表示した。尚、引っ掻き試験は、新東科学株式会社（日本）製のＰｅｅｌｉｎｇ  Ｓｌｉｐｐｉｎｇ  Ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ  Ｔｅｓｔｅｒ（型式ＨＥＩＤＯＮ−１４Ｓ）を用い、先端断面が９０度、頂点に０．０５ｍｍのＲが付いた円錐形状のダイヤモンド製触針に所定の力を印加して、速度７５ｍｍ／分の速度で直線的に反射膜を引っ掻いた。結果を表３に示す。表３から明らかなように、反射膜の引っ掻き耐力が０．０２ｋｇｆ以上の場合に反射膜の耐熱性は従来の４５０℃〜５００℃に比べ５００℃以上に高くなる事を発見した。これに対し、引っ掻き力が０．０２ｋｇｆで傷が入った反射膜は耐熱温度が５００℃に達しなかった。【００１９】
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【００２０】  以上実施例を挙げて本発明をより具体的に説明したが、本発明では、引っ掻き試験で反射膜の硬さが引っ掻き耐力で０．０２ｋｇｆ以上あれば、理由は明確ではないが、基材や成膜方法に拘わらず反射膜自体の耐熱性が向上する。【００２１】  一般的に、無機基材と反射膜の密着力はそれらに発生する全熱応力より大きいことが要求される。すなわち、無機基材と反射膜の密着力がそれらに発生する全熱応力より大きい場合は、耐熱試験で反射膜が無機基材から剥がれないことが確認されている。反射膜の硬さが引っ掻き耐力で０．０２ｋｇｆ以上の場合、反射膜を構成する微粒子が小さくなってその密度が高まり（つまり、緻密なアモルファス状態になり）、反射膜を構成する微粒子の数が増加して反射膜と無機基材の接触点の数が増え、しかも、アモルファス状態は高温下でも維持されると考えられる。本発明の効果はこのような理由に基づくのではないかと想像される。【００２２】  本発明は、耐熱性に優れるリフレクター及びこれを搭載した光学装置を現実的に構成するために、反射膜の硬さに着目したものである。本発明による引っ掻き耐力が０．０２ｋｇｆ以上を持つ反射膜を基材凹内面に被覆したリフレクターを用いると、実用的な熱サイクル試験によっても５００℃以上と従来に見られない反射膜の耐熱性を確保することが可能となり、プロジェクター等の光学装置の小型化高輝度化を実現するために技術ネックとなるリフレクターの耐熱性を確保できる。【００２３】  本発明はこのように反射膜の引っ掻き耐力を０．０２ｋｇｆ以上にすることに特徴があるが、高い値の引っ掻き耐力、すなわち硬さをもつ反射膜を製造する方法は種々考えられる。基材の面上に反射膜を形成する成膜方法としては、気相成膜法である物理的堆積法［ＰＶＤ（Ｐｈｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）］および化学的堆積法［ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）］が最適であるが、いずれの成膜方法を用いるにしても、気相化された原子粒子の持つエネルギー（活性度）が高いこと、および基材表面に移動する際に粒子のエネルギーが損失なく高い活性状態を維持できることが基本要件で、これによって基材面上に堆積する反射膜は緻密で高い硬さを持つようになる。【００２４】  これらの基本要件を満たすためには、次のような諸条件を勘案する。すなわち、原料を気相化するための方式（直流、交流、高周波等を用いる加熱による方式やスパッタ方式）、入力されるエネルギー（パワー）量、気相粒子の量、原料の種類（金属、酸化物，有機金属等の種類や結晶等）、成膜中における雰囲気ガスの圧力（真空度）、反応性ガスの導入量や種類、粒子や雰囲気ガスの強制イオン化の有無やイオン化濃度、基材の温度等、の諸条件を勘案する。【００２５】  耐熱性に更に優れるリフレクターを構成する場合は、本発明の引っ掻き耐力がある反射膜を被覆することを基本として、応力の発生原因となる基材の熱膨張を小さい方向で選択し制御するとよい。この観点から、熱膨張が大きい金属基材よりも熱膨脹が小さなガラス基材あるいはセラミック基材を用いることが好ましい。セラミック基材は、前述したように製造上反射膜を被覆する基材凹内面を研磨する必要性が���る。しかもセラミック基材は材料自体が非常に硬く鏡面研磨に時間がかかるので経済性を考慮すると、ガラス基材を用いることが現実的で好ましい。また、ガラス基材の中でもセラミック基材に比べ研磨が容易に可能で且つ高温までの熱膨張がほぼゼロに近いシリカガラス基材が好ましい。更に、成形性や形状自由度を考慮すると粉末を所定の形に成形してこれを焼結して製造される焼結シリカガラス基材が好ましい。【００２６】  また、より耐熱性に優れるリフレクターを構成するためにガラス基材を用いる場合は、本発明を基本として、これに従来の技術、例えば、基材の放熱性を向上させる手段、具体的には、ガラス基材の外表面に冷却用の放熱フィンを一体的に形成させる、あるいは基材の厚みを薄くして基材の見掛けの熱容量を小さくすると共に放熱性を高めること等、物理的な手段を講じたガラス基材が適宜選択して用いられる。ガラス基材の厚みを薄くすることは、リフレクターの熱対策には有効であるが、強度の確保の観点からは不利となる。現実的にリフレクターでは、搭載するランプが破裂する場合がある。この傾向は、ランプの小型高輝度化が進むにつれて増大する。小型高輝度ランプには通常、高圧水銀ランプが使用されるが、ランプの破裂によって基材まで破壊するとランプに封入された水銀がリフレクターの外部、即ち光源外に漏洩することになる。従って、ガラス基材にはランプの破裂に対して破壊しない強度が必要となる。【００２７】  ガラス基材はそもそも材料自体の強度や靭性がないために、特にガラス基材の厚みを薄くする場合は、ランプの破裂による光源外への水銀の漏洩対策が必要となる。水銀漏洩の対策として、ガラス基材の外表面に、例えばシリコンゴムやイミド樹脂あるいはテフロン（Ｄｕ  Ｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ社の登録商標名）等の薄い保護膜を配設したガラス基材を用いることができる。保護膜を配設することで、仮にランプの破裂によってガラス基材が割れても保護膜によってガラス基材の形状が保持され、ランプ中の水銀が光源外へ漏洩することを防止できる。
【産業上の利用可能性】
【００２８】  本発明による引っ掻き耐力が０．０２ｋｇｆ以上ある反射膜を基材に被覆した構成のリフレクターを用いることにより、従来から技術ネックとなっていたリフレクターの実用的な高耐熱性を確保することが可能となり、プロジェクター等の光学装置の小型化高輝度化を促進することが可能となる。
【国際調査報告】
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