【事件の表示】
　平成７年特許願第２０８７４７号「電極板」拒絶査定不服審判事件〔平成９年３月７日出願公開、特開平９−６３７９６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、平成７年８月１６日の出願であって、平成１５年８月２１日付けで拒絶査定がなされ、平成１５年１０月１６日付けで審判請求がなされるとともに、平成１５年１１月１７日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１５年１１月１７日付け手続補正についての補正却下の決定
[補正却下の決定の結論]
　平成１５年１１月１７日付け手続補正を却下する。
[理由］
（１）補正後の本願発明
　平成１５年１１月１７日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１は、
「プラズマ反応チャンバー内に配設されてこのチャンバー内に供給される反応ガスをプラズマ励起させる電極板であって、前記電極板は前記反応ガスの通路を遮断して配設され、前記電極板には前記反応ガスを通過させる多数の小孔が貫通形成されており、これら各小孔の少なくともガス出口側端縁部がほぼ同一寸法のＲ形状もしくは面取りを有しており、前記電極板がアルミ板からなり、前記多数の小孔が貫通形成され且つ前記各小孔の少なくともガス出口側端縁部にＲ形状もしくは面取りが形成された後、前記多数の小孔の内面を含む前記電極板の表面がアナダイズ処理されて作られ、前記アナダイズ処理されて形成される酸化アルミニウムの結晶が前記Ｒ形状もしくは面取りが形成された部分においてもほぼ規則正しく整列して形成されていることを特徴とする電極板。」と補正された。
　上記補正は、補正前の「前記電極板の表面がアナダイズ処理されて作られ」を「前記多数の小孔の内面を含む前記電極板の表面がアナダイズ処理されて作られ」と補正し（以下、「補正１」という。）、また補正前の「前記電極板の表面がアナダイズ処理されて作られている」を「前記電極板の表面がアナダイズ処理されて作られ、前記アナダイズ処理されて形成される酸化アルミニウムの結晶が前記Ｒ形状もしくは面取りが形成された部分においてもほぼ規則正しく整列して形成されている」と補正（以下、「補正２」という。）するものであり、本件補正が特許法第１７条の２第４項に規定する補正の目的に該当するかを検討する。
　
　補正１は、願書に最初に添付した明細書又は図面（以下、「当初明細書」という。）の段落【００２１】における「この小孔１１の内表面１１ａを含んで電極板１０の表面がアナダイズ処理され」なる記載に基づき、電極板のアナダイズ処理される電極板の表面を、多数の小孔の内面を含むと限定したものである。
　
　補正２は、当初明細書の段落【００２１】における「アルミニウム素材１０ａの表面に酸化アルミニウム層１０ｂが形成されている。このとき、小孔１１の端縁部１２はＲ形状に形成されているため、酸化アルミニウムの結晶がＲ形状に沿ってほぼ規則正しく整列し、マイクロクラックが発生し難く、もしくは非常に小さなマイクロクラックが発生するだけである。」なる記載に基づき補正したものである。
　なお、補正前の請求項１に「電極板がアルミ板からなり」と記載されているので、電極板がアナダイズ処理されることにより、その表面には、酸化アルミニウムの結晶が形成されることは明らかであるので、補正２は、アルミ板からなる電極板の表面に形成される酸化アルミニウムの結晶について、酸化アルミニウムの結晶が形成される電極の表面の個所を特定し、かつ、酸化アルミニウムの結晶の配列状況を具体的に限定したものである。
　
　したがって、本件補正は、当初明細書の記載に基づき、補正前の特許請求の範囲を限縮するものであり、特許法第１７条の２第４項第２号に規定する補正の目的に該当する。
　
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第４項の規定に適合するか）について検討する。
　
（２）刊行物に記載された発明
　本願出願前に頒布され、原査定の理由に引用された特開平６−２０４１８１号公報（以下、「引用刊行物１」という。）には、「プラズマエッチング用電極板」の発明に関して、以下の事項が記載されている。
　
＜記載事項１＞
「プラズマエッチング装置のチャンバ内の下部に取り付けられた基板を載置する下部電極と対向して同チャンバ内の上部に取りつけられ、外部の反応ガス供給源から供給管を介して供給される反応ガスを通過させてチャンバ内に導く多数の小孔を備えた円板形状のプラズマエッチング用電極板において、
前記小孔の開口の周縁部に面取り加工を施したことを特徴とするプラズマエッチング用電極板。」（第２ページ左欄第１４〜２１行）
＜記載事項２＞
「以下、本発明の一実施例を図面により説明する。図１は、本発明を適用したプラズマエッチング装置を正面断面図により概略的に示したものである。このプラズマエッチング装置は、円筒形状の金属製のチャンバ１０を備えており、チャンバ１０は円板形状の台１１とその上に載置された円筒形の容器１２とを設けている。」（第３ページ左欄第１８〜２３行）
＜記載事項３＞
「容器１２の内壁上面には、円筒形の上部電極部材１６が取り付けられている。上部電極部材１６の底面には、反応ガス流通用の凹部１６ａが設けられており、この凹部１６ａを被覆するようにして上部電極部材１６の底面に、図１に示すように、円板状の電極板２０がボルト止めされている。」（第３ページ左欄第３８〜４３行）
＜記載事項４＞
「電極板２０は、円板状の高純度黒鉛基材の表面に熱分解炭素被膜のコーティングされたもので、図２に示すように、直径約２００ｍｍφの円板である。この電極板２０は、中心から１５０φの範囲内に一定のピッチで小孔ｈが設けられており、・・・また、上記各小孔ｈは、図５に示すように、開口の端部ｅが０．２ｍｍ程度の範囲で面取り加工が施され、曲面状にされている。」（第３頁右欄第３〜１３行）
＜記載事項５＞
「そして、高周波電源１５を通電させ、上部電極部材１６及び下部電極部材１４間に高周波電圧を加えることにより、両電極部材間にグロー放電を起こさせる。この放電により反応ガスＣＦ4 が電離して、電子，イオン，ラジカル等の生成物の混在するプラズマ状態が形成される。」（第３ページ右欄第４５〜５０行）
＜記載事項６＞
「なお、上記実施例においては、電極板の材料として高純度黒鉛基材の表面に熱分解炭素被膜のコーティングされたものを用いているが、熱分解炭素被膜のコーティングしないもの、高純度ガラス状カーボン又は高純度アルミニウム板等を用いるようにしてもよい。」（第４ページ右欄第１８〜２２行）
　
　上記記載事項１〜６並びに参照されている図１、２、及び５に基づけば、引用刊行物１には、
「金属製のチャンバ内に配設されてこのチャンバ内に供給される反応ガスをプラズマ状態にする円板状の電極板であって、前記電極板は前記反応ガス流通用凹部が設けられた上部電極部材の底面を被覆して配設され、上記電極板には前記反応ガスを通過させる多数の小孔が設けられており、これら各小孔の開口の端部が面取りを有しており、前記電極板がアルミ板からなることを特徴とする電極板。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
　また、本願出願前に頒布され、原査定の理由に引用された特開平４−２３９１３０号公報（以下、「引用刊行物２」という。）には、「プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法」の発明に関して、以下の事項が記載されている。
＜記載事項７＞
「本発明は、半導体基体のような試料にプラズマエッチングやプラズマＣＶＤのようなプラズマ処理を施すためのプラズマ装置及びプラズマ処理方法に関するものである。」（第２ページ左欄第２０〜２３行）
＜記載事項８＞
「本例では、反応容器１をアルミニウムで構成し、その内壁表面を陽極酸化処理により酸化アルミニウム皮膜６を形成する。また、放電電極２及び３もアルミニウムで構成し、これら電極の互いに対向する表面に酸化アルミニウム皮膜７及び８をそれぞれ形成する。」（第３ページ左欄第３７〜４２行）
＜記載事項９＞
「図２は本発明によるプラズマ処理装置の変形例を示す。本例では、流量調整系１０により、酸素ガス、反応ガス及びＨｅ希釈ガスの供給量を調整し、反応容器１１内に酸素を含む反応ガスを供給する。そして、対向電極１２には多数の孔を形成し、ＲＦ電極１３上にプラズマ処理される半導体基体１４を配置する。本例でも、反応容器の内壁表面及び電極の対向する表面にそれぞれアルミニウム酸化膜１５及び１６を形成する。また、反応容器の排気孔に真空ポンプ１７を接続して反応容器内の圧力を適切に調節する。」（第３ページ左欄第４６行〜同右欄第第５行）
　
（３）対比
　本願補正発明と引用発明とを比較する。
　引用発明における「金属製のチャンバ内」、「反応ガスをプラズマ状態にする」、「前記反応ガス流通用凹部が設けられた上部電極部材の底面を被覆して」、「小孔が設けられており」、及び「各小孔の開口の端部」は、本願補正発明における「プラズマ反応チャンバ内」、「反応ガスをプラズマ励起させる」、「前記反応ガスの通路を遮断して」、「小孔が貫通形成されており」、及び「各小孔の少なくともガス出口側端縁部」にそれぞれ相当するので、
両者は、「プラズマ反応チャンバー内に配設されてこのチャンバー内に供給される反応ガスをプラズマ励起させる電極板であって、前記電極板は前記反応ガスの通路を遮断して配設され、前記電極板には前記反応ガスを通過させる多数の小孔が貫通形成されており、これら各小孔の少なくともガス出口側端縁部が面取りを有しており、前記電極板がアルミ板からなることを特徴とする電極板。」の点で一致するが、以下の点で相違する。
　
（相違点１）
　各小孔のガス出口側端縁部に関して、本願補正発明は、ほぼ同一寸法のＲ形状もしくは面取りを有しているのに対して、引用発明は、面取りを有しているとのみ規定している点。
（相違点２）
　反応ガスを通過させる多数の小孔が貫通形成され、小孔の少なくともガス出口側端縁部が面取りを有するアルミ板からなる電極板に関して、本願補正発明は、多数の小孔が貫通形成され且つ前記各小孔の少なくともガス出口側端縁部にＲ形状もしくは面取りが形成された後、前記多数の小孔の内面を含む前記電極板の表面がアナダイズ処理されて作られているのに対して、引用発明は、そのような限定がなされていない点。
（相違点３）
　本願補正発明は、アナダイズ処理されて形成される酸化アルミニウムの結晶がＲ形状もしくは面取りが形成された部分においてもほぼ規則正しく整列して形成されているのに対して、引用発明は、そのような限定がなされていない点。
　
（４）当審の判断
　上記相違点について検討する。
イ．相違点１について検討するに、
　引用発明は、各小孔のガス出口側端縁部に面取りを有している点で本願補正発明と一致しており、面取りの寸法をほぼ同一寸法とすることは単なる設計事項に過ぎない。
　
ロ．相違点２について検討するに、
　引用刊行物２には、記載事項８及び９から、プラズマ反応チャンバに配設され、多数の小孔が貫通形成し、これら各小孔の少なくともガス出口側端縁部に面取りが形成されているアルミニウム製の電極板において、該電極板に陽極酸化処理、即ちアナダイズ処理により酸化アルミニウム膜を施すことが記載されており、引用発明及び引用刊行物２に記載の発明は、共にプラズマエッチングという同一の技術分野に属する発明であるので、引用発明の電極板に対して、アナダイズ処理により酸化アルミニウム膜を施すことに困難性はない。
　また、一般の金属部材の加工において、金属部材を酸化処理等する場合には、金属部材に適宜孔あけ、切削、曲げ等の機械加工がされた後、酸化処理等が通常行われているといえるので、引用発明に引用刊行物２に記載の発明を適用する場合においても、電極板に多数の小孔が貫通形成され且つ前記各小孔の少なくともガス出口側端縁部に面取りが形成された後、前記電極板の表面をアナダイズ処理するのが普通である。その際、多数の小孔が貫通形成された電極板において、多数の小孔の内面が、電極板のその他平面状部分と共にアナダイズ処理されることは明らかである。
　したがって、相違点２に係る発明特定事項は、引用刊行物１及び引用刊行物２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。
　
ハ．相違点３について検討するに、
　相違点３に係る発明特定事項である「アナダイズ処理されて形成される酸化アルミニウムの結晶がＲ形状もしくは面取りが形成された部分においてもほぼ規則正しく整列して形成されている」点は、相違点２に係る発明特定事項である「アルミ板からなる電極板に関して、多数の小孔が貫通形成され且つ前記各小孔の少なくともガス出口側端縁部に面取りが形成された後、前記多数の小孔の内面を含む前記電極板の表面がアナダイズ処理されアナダイズ処理され」た場合当然の結果であり、また相違点２に係る発明特定事項は、上記したように当業者が容易に発明することができたものであるので、格別なことではない。
　
　したがって、上記相違点１ないし相違点３に係る発明特定事項は、当業者が引用刊行物１及び引用刊行物２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。
　そして、本願補正発明の効果は、引用刊行物１及び引用刊行物２の記載から当業者が予測し得る範囲内のものである。
　よって、本願補正発明は、引用刊行物１及び引用刊行物２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
（４）むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１５年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１５年１１月１７日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成１５年７月２８日付け手続補正によって補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。
「プラズマ反応チャンバー内に配設されてこのチャンバー内に供給される反応ガスをプラズマ励起させる電極板であって、前記電極板は前記反応ガスの通路を遮断して配設され、　前記電極板には前記反応ガスを通過させる多数の小孔が貫通形成されており、これら各小孔の少なくともガス出口側端縁部がほぼ同一寸法のＲ形状もしくは面取りを有しており、前記電極板がアルミ板からなり、前記多数の小孔が貫通形成され、且つ前記各小孔の少なくともガス出口側端縁部にＲ形状もしくは面取りが形成された後、前記電極板の表面がアナダイズ処理されて作られていることを特徴とする電極板。」（以下、「本願発明」という。）
　
４．引用刊行物に記載された発明
　原査定の拒絶の理由に引用された引用刊行物１及び引用刊行物２の記載事項は、上記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
５．対比・判断
　本願発明１と引用発明とを比較する。
　本願発明は、上記「２．（１）」で認定した本願補正発明から、「前記多数の小孔の内面を含む」及び「前記アナダイズ処理されて形成される酸化アルミニウムの結晶が前記Ｒ形状もしくは面取りが形成された部分においてもほぼ規則正しく整列して形成されている」なる発明特定事項を削除したものである。
　とすれば、本願発明と引用発明との相違点は上記「２（３）」で示した相違点１及び相違点２となる。
　したがって、上記「２．（４）」で検討した結果に基づき、本願発明は、原審において査定の理由として引用した引用刊行物１及び引用刊行物２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用刊行物１及び引用刊行物２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。