【事件の表示】
　平成８年特許願第３１３４３６号「基板洗浄装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年６月９日出願公開、特開平１０−１５４６７９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は、平成８年１１月２５日の特許出願であって、同１４年７月１２日付けで拒絶の理由が通知され、その指定期間内の同年９月９日に意見書と共に明細書について手続補正書が提出されたが、同年９月３０日付けで拒絶をすべき旨の査定がされ、同年１１月６日に本件審判の請求がされ、その後、同年１１月２７日に明細書について再度手続補正書が提出されたものである。
　
第２　平成１４年１１月２７日付けの補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１４年１１月２７日付けの補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
［理由］
１　補正の内容の概要
　本件補正は、特許請求の範囲を補正すると共にそれに関連して発明の詳細な説明の一部を補正するものであって、特許請求の範囲の請求項１について補正前後の記載を補正箇所に下線を付して示すと以下のとおりである。
（１）補正前の請求項１
　基板の表面を下方に向けた状態で回転支持手段により基板を回転させ、前記回転支持手段の上方から前記基板の裏面に向けて第１の洗浄液供給手段により洗浄液を供給して前記基板の裏面を洗浄する基板洗浄装置において、
　前記第１の洗浄液供給手段が、洗浄液に超音波振動を印加する超音波振動印加手段を備えているとともに、
　前記基板の下方からその表面の周縁部に向けて洗浄液を供給し、全周にわたって中空状の洗浄液の膜を形成する液膜形成手段を備えていることを特徴とする基板洗浄装置。
（２）補正後の請求項１
　
塗布被膜が形成された
　前記第１の洗浄液供給手段が、洗浄液に超音波振動を印加する超音波振動印加手段を備えているとともに、
　前記基板の下方からその表面の周縁部に向けて洗浄液を供給し、全周にわたって中空状の洗浄液の膜を形成する液膜形成手段を備えていることを特徴とする基板洗浄装置。
２　補正の適否　　　
　本件補正のうち特許請求の範囲の請求項１についての補正は、基板について「塗布被膜が形成された」点を限定するものであり、特許請求の範囲の減縮を目的とすることが明らかであるので、さらに、補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「補正発明」という。）が特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか否かについて検討する。
（１）補正発明
　補正発明は、本件補正により補正された明細書（以下「補正明細書」という。）及び願書に最初に添付した図面の記載からみて、１（２）に示す特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりの「基板洗浄装置」であると認める。
（２）引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された本件出願前に日本国内において頒布された刊行物である特開平８−６４５６８号公報 （以下「引用例」という。）には以下の事項が記載されている。
ア　段落【０００１】
「【０００１】
【産業の利用分野】本発明は、半導体基板であるウェーハを洗浄するウェーハ洗浄装置に関し、特に、ウェーハを片面ずつ洗浄するウェーハ洗浄装置の改良に関する。」
イ　段落【０００８】〜【００１０】
「【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、枚葉洗浄では、ウェーハ１０１の一方の面を洗浄した後、ウェーハ１０１を反転して他方の面を洗浄しなければならない。
【０００９】このため、片面の洗浄中に他の面に洗浄液が回り込み、洗浄している面はきれいになるが、他の面は汚れを含む洗浄液によって汚染されてしまう不具合が生じる。
【００１０】よって、本発明は、ウェーハの枚葉洗浄における洗浄液のウェーハの非洗浄面への回り込みによる汚染を防止し得るウェーハ洗浄装置を提供することを目的とする。」
ウ　段落【００１３】〜【００１６】
「【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する。図１は、本発明の第１の実施例を示しており、ウェーハ１が載置台２に載せられている。載置台２は、ロート状（すり鉢状）の構造をしており、その中空の回転軸３が、プーリー４、ベルト５を介してモータ６によって駆動される。回転軸３の端部は、軸受７によって回転自在に軸支されると共に、アルゴンＡｒや窒素等の不活性ガスの供給を受ける。また、ウェーハ１の状態（条件）により、空気であっても良い。例えば、窒素ガスＮ2 が、図示しないガスボンベから、圧力調整器、流量計８を経て回転軸３の端部に供給される。窒素ガスＮ2 は、中空の回転軸を経て載置台２の上面中央部の吹出口からウェーハ１の裏側に吹出す。ガスの吹出量は上記圧力調整器によって設定される。載置台２の上面は、ロート状の傾斜面となっており、窒素ガスＮ2 はこの面に沿って、載置台２の中心から外周方向に向って流れる。このガスの流れによってウェーハ１が載置面から僅かに浮上がる。また、ウェーハ１の裏面中央部付近には負圧が生じ、非接触でウェーハ１を固定可能となる。ここで、前述したガスボンベ、圧力調整器、流量計８、中空回転軸３、載置台の傾斜面（流体通過面）等は、ガス流形成手段に対応する。載置台２の外形はウェーハ１よりも僅かに大きく、載置台２の外周部には、幾つかの、例えば３個以上のガイドピン９が設けられる。このガイドピン９は、ウェーハ１の外周の端部に当り、載置台２の回転に共なって回転するウェーハ１が載置台２から飛出さないように支える。
【００１４】こうして、ウェーハ１は載置台２の上面に接触せずに、かつガイドピント９とは最小の接触面積で載置台上に保持される。
【００１５】載置台２と共に回転するウェーハ１の上面に対してノズル２１から洗浄液２２が滴下される。ノズル２１は、複数個設けることが出来る。ノズル２１は、モータ２３、移動機構２４等からなる移動手段によって、ウェーハ１の半径方向に直線的に、あるいはウェーハの中心を通る円弧を描くように、往復動可能である。洗浄のためには、中心から外側に向ってノズル２１を移動するのが具合よい。これによって、洗浄の均一化が図られ、例えば、洗浄液を同じ部分に滴下する洗浄によって酸化膜の一部が他よりも薄くなること等が防止される。勿論、ノズル２１をウ
ェーハの中心部に固定的に置くことが出来る。また、ノズル２１及び移動機構２４相互間の角度の制御が可能となっている。このため、ウェーハ１に対する洗浄液２２の滴下角度も調整可能である。滴下角度は、洗浄特性を決定するパラメータの１つである。従って、ノズル２１を首振り動作させながら、ノズル２１をウェーハ１の径方向に移動することが出来る。前述したように、ノズル２１は複数設けることが出来、各ノズルの動きを独立にあるいは連携させて洗浄を行わせることができる。ノズルを複数用いると、洗浄の均一化、作業時間の短縮化の点で有利である。
洗浄液２２は、薬品タンク２５から、ポンプ２６、バルブ２７を経てノズル２１に供給される。洗浄液２２は、前述したように、薬剤や純水である。
【００１６】ウェーハ１表面に滴下された洗浄液２２は、遠心力によって径方向に流れ、ウェーハ１の外周に集る。しかし、ウェーハ１の裏面からウェーハの外周をガスがウェーハの中心から外周に向う方向で吹付けるので、洗浄液２２のウェーハ裏面への回り込みは抑制される。洗浄液２２はウェーハの外周から遠心力によって吹飛ばされる。この結果、自身の洗浄液で裏面を汚すことがない。」
エ　段落【００２３】〜【００２４】
「【００２３】図５は、載置台２の第３の構成例を示す断面図である。同図において、図３と対応する部分には同一符号を付し、かかる部分の説明は省略する。
【００２４】この例では、載置台２の上面が、中心部が凹状となる環状に形成され、凹状部分に載置台カバー６１が設けられている。この構成によれば、整流手段たる載置台カバー６１と載置台２の環状部分との隙間がガスの吹出口となり、ウェーハ１の外周に向けてガスが環状に吹出されて都合がよい。」（当審注：図５中に参照数字「６１」は見当たらず、図３との対応からみてこの「６１」は「３０」の誤記であると考えられる。）
オ　段落【００２９】
「【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のウェーハ洗浄装置によれば、ウェーハの枚葉洗浄において、ウェーハの非洗浄面（裏面）側からウェーハの外周に向ってガスを吹付けるので、洗浄液の非洗浄面への回り込みが防止され、非洗浄面の汚染が防止される。・・・後略・・・。」
　これらの記載事項を補正発明に照らして整理すると引用例には下記の発明が記載されていると認めることができる。
「基板の一方の面を下方に向けた状態で回転支持用のガイドピンを備えた載置台により基板を回転させ、前記載置台の上方から前記基板の他方の面に向けて洗浄液供給用のノズルにより洗浄液を供給して前記基板の他方の面を洗浄する基板洗浄装置において、
　前記基板の下方からその一方の面の周縁部に向けて不活性ガスを供給し、周縁部全周にわたって当該ガスを環状に吹出す手段を備えている基板洗浄装置。」
（３）対比
　補正発明と引用例記載の発明とを対比すると、引用例記載の発明の「回転支持用のガイドピンを備えた載置台」及び「洗浄液供給用のノズル」は、それぞれ補正発明の「回転支持手段」及び「第１の洗浄液供給手段」に相当する。
　また、補正発明の「塗布被膜が形成された基板の表面」及び「基板の裏面」は、基板の一方の面及び他方の面であるという限りで、引用例記載の発明の基板のそれぞれ対応する面と共通している。
　さらに、引用例記載の発明の「不活性ガス」は、流体であるという限りで、補正発明における基板の下方からその表面の周縁部に向けて供給される「洗浄液」と共通している。そして、引用例記載の発明において不活性ガスを環状に吹出すことは、中空状の流体の膜を形成することに外ならず、引用例記載の発明の「周縁部全周にわたって当該ガスを環状に吹出す手段」は、全周にわたって中空状の流体の膜を形成する手段であるという限りで、補正発明の「液膜形成手段」と共通している。
　したがって、補正発明と引用例記載の発明とは、次の点で一致しているということができる。
　基板の一方の面を下方に向けた状態で回転支持手段により基板を回転させ、前記回転支持手段の上方から前記基板の他方の面に向けて第１の洗浄液供給手段により洗浄液を供給して前記基板の他方の面を洗浄する基板洗浄装置において、
　前記基板の下方からその一方の面の周縁部に向けて流体を供給し、全周にわたって中空状の流体の膜を形成する手段を備えている基板洗浄装置、である点。
　そして、補正発明と引用例記載の発明とは、以下の３点で相違している。
ア　相違点１
　補正発明では、基板の下方に向けた状態の一方の面が「塗布被膜が形成された基板の表面」であり、洗浄される基板の他方の面が「基板の裏面」であるのに対して、引用例記載の発明では、そのようになっているのかどうか明らかでない点。
イ　相違点２
　補正発明では、第１の洗浄液供給手段が、洗浄液に超音波振動を印加する超音波振動印加手段を備えているのに対して、引用例記載の発明では、そのようになっていない点。
ウ　相違点３
　補正発明では、基板の下方から供給される流体が洗浄液であって、全周にわたって中空状の洗浄液の膜を形成する液膜形成手段を備えているのに対して、引用例記載の発明では、当該流体が不活性ガスであり、全周にわたって中空状の不活性ガスの膜を形成する手段を備えているものの液膜形成手段を備えていない点。
（４）相違点の検討                                                  
ア　相違点１について
　基板の表面に塗布被膜を形成することは、特に例示するまでもなく従来周知であり、また、補正明細書の段落【０００２】【従来の技術】の項に「・・・。特に、基板を搬送する際には基板裏面を当接支持することが多い関係上、基板間の相互汚染を防止するために基板裏面の洗浄処理は重要である。・・・」と記載されているように、基板の裏面を被洗浄面とすることも従来周知である。
　そうしてみると、引用例記載の発明において、塗布被膜が形成された基板の表面を下方に向けた状態とし、上方から基板の裏面に向けて洗浄液を供給して基板の裏面を洗浄するように構成することに格別の困難性は見当たらない。
イ　相違点２について       
　基板洗浄装置において、洗浄液供給手段が、洗浄液に超音波振動を印加する超音波振動印加手段を備えていることも特に例示するまでもなく従来周知であり（特に必要なら、特開平７−２２６３９１号公報、特開平８−１４８４５９号公報等を参照）、この従来周知の事項を引用例記載の発明に適用して補正発明のように構成することは当業者が格別の創意を要することなく容易に想到するところである。
ウ　相違点３について
　補正明細書の段落【０００４】の記載を参照すると、補正発明において基板の下方から洗浄液を供給する目的は、基板の上方から供給された洗浄液が基板の下面に回り込まないようにするためであると認められるところ、２（２）ウ（段落【００１６】）及び同オに摘記したように引用例記載の発明の基板の下方から供給される不活性ガスも同じ目的を達成するものであり、基板の下方から供給される流体を補正発明のように洗浄液とするか、或いは、引用例記載の発明のように不活性ガスとするかは必要に応じて適宜選択すればよい事項にすぎない。
　また、基板洗浄装置において、基板の上方から洗浄液を供給すると共に基板の下方からも洗浄液を供給することは、例えば、特開平８−１２４８４６号公報に示されているように従来周知である。
　そうしてみると、引用例記載の発明において、基板の下方から供給される流体として不活性ガスに代えて洗浄液を採用することに格別の困難性は見当たらず、また、不活性ガスに代えて洗浄液を供給することにより、中空状の不活性ガスの膜を形成する手段は必然的に液膜形成手段となる。
エ　補正発明の効果について
　補正発明によってもたらされる効果も、引用例記載の発明及び上記従来周知の各事項から当業者であれば予測できる程度のものであって格別のものではない。
オ　したがって、補正発明は、引用例記載の発明及び上記従来周知の各事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
３　むすび
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１５年法律第４７号による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するので、その余の補正の要件について検討するまでもなく、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本件発明について
１　本件発明
　平成１４年１１月２７日付けの補正は、上記のとおり却下されたので、本件出願の請求項に係る発明は、平成１４年９月９日け付手続補正書により全文補正された明細書及び願書に最初に添付した図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び請求項２に記載されたとおりのものであると認められるところ、請求項１に係る発明（以下「本件発明」という。）は、第２の１（１）に示す特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりの「基板洗浄装置」であると認める。
２　引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された引用例及びその記載事項は、第２の２（２）に示したとおりである。
３　対比・検討
　本件発明は、第２の２で検討した補正発明の基板について「塗布被膜が形成された」という事項を削除したものである。
　そうすると、本件発明を構成する事項の全てを含み、さらに他の事項を付加する補正発明が第２の２（４）オで示したとおり、引用例記載の発明及び従来周知の各事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明も同様の理由により当業者が容易に発明をすることができたものである。
４　むすび
　したがって、本件発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、本件出願の請求項２に係る発明について検討するまでもなく結論のとおり審決する。