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　特願２００１−　７１６２９「硬質被覆層がすぐれた放熱性を発揮する表面被覆超硬合金製エンドミル」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　９月１７日出願公開、特開２００２−２６３９４１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１３年３月１４日の出願であって、その請求項１に係る発明は、平成１６年１１月８日付手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、次のとおりのものと認められる。
　
「炭化タングステン基超硬合金基体の表面に、
（ａ）０．８〜１０μｍの全体平均層厚で物理蒸着した硬質被覆層が、個々の平均層厚が０．０１〜０．１μｍの第１薄層と第２薄層の交互積層からなり、
（ｂ）上記第１薄層を、アークイオンプレーティング装置にて、Ｔｉ−Ａｌ合金をカソード電極（蒸発源）として用い、窒素ガス、または窒素ガスとメタンガスの反応雰囲気中で形成され、かつ、
　組成式：［Ｔｉ1-XＡｌX］Ｎおよび同［Ｔｉ1-XＡｌX］Ｃ1-mＮmで表わした場合、厚さ方向中央部のオージェ分光分析装置による測定で、原子比で、Ｘ：０．５５〜０．７０、ｍ：０．８〜０．９９を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物およびＴｉとＡｌの複合炭窒化物のうちのいずれか、または両方で構成し、
（ｃ）上記第２薄層を、アークイオンプレーティング装置にて、金属Ａｌをカソード電極（蒸発源）として用い、窒素ガスの反応雰囲気中で形成された窒化アルミニウムで構成したこと、
を特徴とする硬質被覆層がすぐれた放熱性を発揮する表面被覆超硬合金製エンドミル。」（以下、「本件発明」という。）
　
２．刊行物記載の発明
　本願の出願前に国内で頒布された刊行物であって、当審での拒絶の理由に引用された特開平７−９７６７９号公報（以下、「刊行物」という。）には、以下の技術事項が記載されていると認められる。
　
ａ．【特許請求の範囲】【請求項１，２，３】
「【請求項１】Ｔｉ、ＡｌおよびＮによって構成されるＴｉx Ａｌ1-x ＮおよびＴｉy Ａｌ1-y Ｎ（０≦ｘ＜０．５、０．５＜ｙ≦１）なる２種類の化合物を、交互に繰り返して積層し、積層体の全体組成として化学量論的にアルミニウムリッチになるものとした超薄膜積層体。
【請求項２】請求項１に記載の超薄膜積層体において、繰り返しの積層周期を０．５ｎｍ〜２０ｎｍとし、全体の膜厚を０．５μｍ〜１０μｍとした超薄膜積層体。
【請求項３】　請求項１又は２に記載の超薄膜積層体を、ＷＣ基超硬合金、サーメット、セラミックス、高速度鋼等の硬質基材の表面に被覆し、切削チップ、ドリルまたはエンドミルとして用いる超薄膜積層体の被覆物。」
ｂ．段落【０００９】
「そこでこの発明は、上記の問題を解決し、切削工具や耐摩工具における硬質被覆層の耐摩耗性向上を実現し、かつ電気・電子部品、摺動部品、機械部品の表面の耐摩耗膜や保護膜としても優れた特性を有する超薄膜積層体を提供することを目的としている。」
ｃ．段落【００１２】
「ここで、繰り返しの積層周期とは、例えば図１に示すように、２種類の化合物ＡとＢを交互に繰り返し積層した場合、化合物Ａの厚み（ｔ1 ）と化合物Ｂの厚み（ｔ2 ）との和（ｔ1 ＋ｔ2 ＝λ）をいう。」
ｄ．段落【００２４】第１〜５行
「基材として、組成がＪＩＳ規格Ｐ３０、形状がＪＩＳＳＮＧ４３２の超硬合金製切削チップを複数用意し、その表面に、真空アーク放電によるイオンプレーティング法を用いて表１に示す超薄膜積層構造を形成した。」
ｅ．段落【００２６】
「図３は、切削チップ試料の製造方法を示しており、試料の形成は、成膜装置４の内部に複数個のＴｉ−Ａｌ化合物のターゲット５、６を配置し、ターゲットの中心点を中心としてこれ等のターゲット間で回転する基材保持具７に切削チップ８を装着し、切削チップの回転数と真空アークの放電電流（ターゲット材料の蒸量）の一方又は両方を調整することにより繰り返しの積層周期を調整した。」
ｆ．段落【００２７】
「これは、先ず、成膜装置４内の真空度を１０-5Ｔｏｒｒとし、この雰囲気中にＡｒガスを導入して１０-2Ｔｏｒｒの真空度を保持しながら５００℃まで加熱し、切削チップ８に−１０００Ｖの電圧をかけて洗浄を行なった後、Ａｒガスを排気した。次に、成膜装置４内にＮ2 ガス、ＣＨ4 ガスのいずれか１種類或いは数種類を基材回転に合わせた時間制御により２００ｃｃ／ｍｉｎの割合で導入し、この状態で真空アーク放電を行なうことにより周期律表ＩＶａ族、Ｖａ族、ＶＩａ族の金属元素、及びＴｉ−Ａｌ化合物のターゲット５、６を蒸発・イオン化させ、これによって、回転する切削チップがターゲットの前を通過する際にターゲット材料と導入ガス中のＣ、Ｎとの化合物層を切削チップ上に形成した。」
　
　摘記事項ｄないしｆより、積層体がアークイオンプレーティング装置にて物理蒸着により形成されることは明白であり、そこではＮ２ガス、ＣＨ４ガスが反応雰囲気を構成していることも明白である。また、個々の化合物層の厚さが「繰り返しの積層周期」を超えないことは、摘記事項ｃより明白であるから、個々の化合物層の厚さが２０ｎｍ、すなわち０．０２μｍを超えないことは自明である。さらに、ｘ＝０の場合、第２の化合物層はＡｌＮ、すなわち窒化アルミニウムとなるが、Ｔｉを含まない窒化物の層を形成するときにターゲットにＴｉを含まない、金属Ａｌからなるものを用いることは、自明である。よって、摘記事項ａないしｅからみて、ｘ＝０の場合、刊行物には、
「炭化タングステン基超硬合金基体の表面に、
　０．５μｍ〜１０μｍの全体の膜厚で物理蒸着した硬質被覆層が、個々の層厚が０．０２μｍを超えない２種類の化合物層の交互積層からなり、
　第１の化合物層を、アークイオンプレーティング装置にて、Ｔｉ−Ａｌ化合物をターゲットとして用い、Ｎ2 ガス、ＣＨ4 ガスのいずれか１種類或いは数種類の反応雰囲気中で形成され、かつ、
　組成式：［Ｔｉy Ａｌ1-y Ｎ］で表わした場合、原子比で、０．５＜ｙ≦１を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物で構成し、
　第２の化合物層を、アークイオンプレーティング装置にて、金属Ａｌをターゲットとして用い、Ｎ2 ガスの反応雰囲気中で形成された窒化アルミニウムで構成した、表面被覆超硬合金製エンドミル。」
（以下、「刊行物記載の発明」という。）が記載されていると認められる。
　
３．対比
　刊行物記載の発明において、「全皮膜層厚」及び「単位皮膜層の厚さ」について明記はないものの、皮膜層の厚さは平均値で示すことが普通であることを考慮すると、両者は厚さの平均値を示すと考えるべきである。
　そこで、本件発明と刊行物記載の発明とを対比すると、後者の「全体の膜厚」、「個々の層厚」、「第１の化合物層」、「第２の化合物層」、「Ｔｉ−Ａｌ化合物」、「ターゲット」、「カソード」、「Ｎ２ガス」、「ＣＨ４ガス」が、前者の「全体平均層厚」、「個々の平均層厚」、「第１薄層」、「第２薄層」、「Ｔｉ−Ａｌ合金」、「カソード電極（蒸発源）」、「窒素ガス」、「メタンガス」にそれぞれ相当することは明白であるから、両者は次の点で一致及び相違すると認められる。
〈一致点〉「炭化タングステン基超硬合金基体の表面に、
　０．８〜１０μｍの全体平均層厚で物理蒸着した硬質被覆層が、個々の平均層厚が０．０２μｍを超えない第１薄層と第２薄層の交互積層からなり、
　上記第１薄層を、アークイオンプレーティング装置にて、Ｔｉ−Ａｌ合金をカソード電極（蒸発源）として用い、窒素ガス、または窒素ガスとメタンガスの反応雰囲気中で形成され、かつ、
　組成式：［Ｔｉ1-XＡｌX］Ｎで表わされるＴｉとＡｌの複合窒化物で構成し、
　上記第２薄層を、アークイオンプレーティング装置にて、金属Ａｌをカソード電極（蒸発源）として用い、窒素ガスの反応雰囲気中で形成された窒化アルミニウムで構成した、表面被覆超硬合金製エンドミル。」
〈相違点１〉個々の層厚が、前者では「０．０１〜０．１μｍ」と特定されているのに対し、後者ではその最小値が特定されていない点。
〈相違点２〉第１薄層の原子比を求める測定方法が、前者では「厚さ方向中央部のオージェ分光分析装置による測定」という発明を特定する事項をもつのに対し、後者ではこのような発明を特定する事項をもたない点。
〈相違点３〉第１薄層の原子比の値が、前者では「［Ｔｉ1-XＡｌX］Ｎで表わした場合、原子比で、Ｘ：０．５５〜０．７０」であるのに対し、後者では「［ＴｉyＡｌ1-yＮ］で表わした場合、原子比で、０．５＜ｙ≦１」、すなわち、ｙ＝１−Ｘであるから、後者では「Ｘ：０〜０．５」である点。
　
４．当審の判断　
　上記相違点について検討する。
　
4.1〈相違点１〉につき
　個々の薄層がその特性を発揮するためには、ある程度の層厚が必要であることは、当業者にとって明白である。そのため、刊行物記載の発明においても、個々の層厚の最小値を特定することは、当業者が容易に想到し得るものである。最小値の具体的な数値は、実験等により当業者が容易に求めることができる。
　
4.2〈相違点２〉につき
　オージェ式分光分析装置によって原子比を求めることは、例示するまでもなく従来周知の技術であり、また、オージェ式分光分析装置を用いて原子比を求めることに格別の技術的な意義は見出せないため、相違点２に係る事項は、当業者が適宜選択し得る設計上の事項にすぎない。
　
4.3　〈相違点３〉につき
　願書に最初に添付した明細書の表２及び表３によれば、原子比が「Ｘ：０．５５〜０．７」の範囲にあるもの（表３中のエンドミル７，８，９，１０）と、原子比が「Ｘ：０〜０．５」の範囲にあるもの（表３中のエンドミル１，２，３，４）との間に、性能上の差異は認められないため、原子比の範囲の相違に技術的な意義があるということはできない。
　よって、相違点３に係る事項は、当業者が適宜選定し得る事項に過ぎない。
　
　そして、本件発明の作用効果は、刊行物記載の発明及び従来周知の事項から当業者が予測できる範囲のものであって、格別のものではない。
　したがって、本件発明は刊行物記載の発明及び従来周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５．むすび　
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、刊行物記載の発明及び従来周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　よって、結論のとおり審決する。