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　特願２０００−３８４０４０「色変換フィルタ基板、および該色変換フィルタ基板を具備する色変換カラーディスプレイ」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　６月２８日出願公開、特開２００２−１８４５７７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１２年１２月１８日の出願であって、本願の請求項１及び２に係る発明は、明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】　透明な支持基板と、
　該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する膜厚５μｍ以上の樹脂膜を所望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変換フィルタ層と、
　該色変換フィルタ層を被覆する透明なガスバリア層と
を少なくとも備える色変換フィルタ基板であって、
　該ガスバリア層は、単一層または複数の層から構成され、該色変換フィルタ層上に設けられる部分と該色変換フィルタ層のない部分に設けられる部分とが連続している層であり、該色変換フィルタ層上に設けられる部分の表面と、隣接する該色変換フィルタ層のない部分に設けられる部分に連続する部分の最大傾斜から延長した直線とのなす角θＰＬが、０≦θＰＬ≦４５゜であり、および該色変換フィルタ層上に設けられる部分の膜厚ｔＰＬが、０＜ｔＰＬ＜０．１Ｗ（Ｗは画素の最小幅を示す）である
ことを特徴とする色変換フィルタ基板。
【請求項２】　請求項１に記載の色変換フィルタ基板上に、１つまたは複数の電気的に独立した領域に形成される透明電極層と、発光層と、第２電極層とを少なくとも順次積層してなることを特徴とする色変換カラーディスプレイ。」
　
２．引用刊行物
　原査定の拒絶理由に引用された、引用文献１（特開平１０−２４１８６０号公報）には、次の事項が記載されている。
「【請求項１】 透光性基板上に複数の遮光層と一以上の蛍光体層を含む複数の異なる色変換層とが互い違いに繰り返し平面的に分離配置された色変換部材と、色変換層に対応した位置に平面的に分離配置された複数の発光部材とが、各発光部材の光を色変換層が受光して異なる発光をするように配設された多色発光装置において、色変換部材の発光部材側の表面の凹凸が、２．０μｍ以下に平坦化されてなることを特徴とする多色発光装置。
【請求項２】 前記色変換部材と発光部材とが、それらの間に透光性媒体を挟んで配設されてなる請求項１記載の多色発光装置。」（第２頁左欄第２〜１２行）
　
「多色発光装置の構成
多色発光装置の一般的な構成は、図２に示すように、透光性基板１上に、複数の遮光層２１と一以上の蛍光体層を含む複数の異なる色変換層２２が互い違いに繰り返し平面的に分離配置されてなる色変換部材２と、色変換層２２に対応した位置に平面的に分離配置された複数の発光部材３とが、各発光部材の光を色変換層が受光して異なる発光をするように配設される。各発光部材３が発光すれば、その光は、対応する色変換層２２で変換されて発光部材３の光と異なる色の発光となり、視覚に到達する。このように異なる色変換層２２が平面的に分離配置されることによって多色発光が可能となる。また、図３に示すように色変換部材２と発光部材３との間に透光性媒体４を設けてもよい。
【００２２】本発明においては、図１に示すように、色変換部材２の発光部材３側の表面の凹凸を２．０μｍ以下に平坦化してなる多色発光装置を提案する。」（第３頁右欄第１４〜３０行）
　
「遮光層２１と色変換層２２の厚さを揃える、すなわち色変換部材２の発光部材３側の表面凹凸を平坦化することが多色発光装置の色ずれ（混色）を防止し、輝度を向上させる等の視認性向上の意味で有利である。これは、図３に示すような色変換部材２と発光部材３の間に透光性媒体を挟む場合も同様である。
【００２５】さらに、図５は、色変換部材２の各色変換層２２に各発光部材（例えば有機ＥＬ素子３１）を密着させ、色変換部材２の表面凹凸に発光部材を追随させた場合を示す。なお、有機ＥＬ素子３１は、２つの電極３２および３３に有機物層３４（主に発光層）を挟んだ構成であり、２つの電極３２および３３は、各々ストライプ状であり、それらが交差した形状となっているものとする。
【００２６】図５（ａ）は、色変換部材２の表面の凹凸の大きい場合を示し、この場合は、薄膜の有機ＥＬ素子３１に歪み（ひずみ）を与える。この結果、有機ＥＬ素子３１の２つの電極３２および３３間のリークまたは特に電極３２の断線を引き起こし、多色発光装置の製造歩留まりを低下させる。図５（ｂ）は、色変換部材２の表面の凹凸の小さい場合を示し、この場合は、有機ＥＬ素子３１に歪みを与えることはない。その結果、多色発光装置の製造歩留まりを向上させる。
【００２７】なお、図６に示すように、図５（ａ）の色変換部材２上に透明な平坦化層５、すなわち透光性媒体を積層して、色変換部材２の表面の凹凸を緩和させることができるが、平坦化層５の膜厚を大きくしすぎると、発光部材（図示せず）からの光が漏れて色ずれ（混色）が発生し、しかも視野角を狭めることとなる。平坦化層５の膜厚は、色変換部材２および発光部材の精細度に依存し、小さければ小さい程前記問題がなくなる。但し、色変換部材２の表面の凹凸が小さいほど平坦化は容易になるし、平坦化層５の膜厚も小さくすることができる。
【００２８】色変換部材２の表面凹凸の大きさと、発光部材としての有機ＥＬ素子を積層した多色発光装置を作製したときの歩留りとの関係を、表面凹凸の異なる基板上に有機ＥＬ素子を作製したときの結果（表１）から推定することができる。すなわち表面の凹凸が２．０μｍ以下であれば、有機ＥＬ素子の断線またはショートによる輝度低下およびクロストーク（所望の場所以外のところが発光すること）が少ないことがわかり、色変換部材の表面の凹凸が多色発光装置の製造歩留りに影響を与えていると考えられる。」（第４頁左欄第１〜２３行および同頁右欄第１〜２１行）
　
「【００３５】（２）色変換層
本発明に用いられる色変換層は、一以上の蛍光体層を含むものであるが発光部材の光を分解またはカットして色調整する意味のカラーフィルタを含んでいてもよい。
【００３６】蛍光体層としては、例えば、蛍光色素および樹脂、または蛍光色素のみからなり」（第５頁左欄第１３〜１８行）
　
「【００５９】（４）透光性媒体
本発明において、透光性媒体は、必要に応じて、色変換部材と発光部材との間に設けられ、また、色変換層および遮光層の底上げや、色変換層の埋め込みにも用いられる。また、色変換層中に含ませて用いられる。４００ｎｍ〜７００ｎｍの光の透過率が５０％以上が好ましく、電気絶縁層性のものであれば、より好ましい。特に、色変換部材と発光部材との間に設ける場合、透光性媒体は単層でもよいし、多層に構成されていてもよい。また固相、液相、気相状態のいずれであってもよい。」（第７頁左欄第１０〜１９行）
　
「【００６６】これらの透光性媒体として、たとえば有機ＥＬ素子と接する界面は、前記無機酸化物層か、または不活性液体もしくは不活性気体とするのが有機ＥＬ素子の劣化を促進する水、酸素を遮断できるので好ましい。」（第７頁右欄第２２〜２５行）
　
「［実施例１］（研磨による平坦化）
透光性基板として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍ厚のガラス基板（コーニング７０５９）上に、３重量％（対固形分）のカーボンブラックを分散したアクリレート系光硬化型レジスト（粘度２５０ｃｐｓ）をスピンコートし、８０℃でベーク後、高圧水銀灯を光源とする露光機にセットした。次いで、５０μｍライン，２５０μｍギャップのストライプ状のパターンが得られるマスクを介して、９００ｍＪ／ｃｍ2 （３６５ｎｍ）で露光した。１重量％炭酸ナトリウム水溶液で２分間室温現像後、基板のガラス面から３０００ｍＪ／ｃｍ2 で全面後露光してから２００℃でベークして遮光層のパターンを形成した。遮光層の膜厚は、２０μｍであった。次に、基板をスクリーン印刷機にセットし、２５０μｍ×６５０μｍギャップのストライプ状のパターンが得られる版を用いて、銅フタロシアニン系顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６）２．８重量％（対固形分）と、ジオキサジン系顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３）０．２重量％（対固形分）と、バインダー樹脂としてのポリ塩化ビニル樹脂（重量平均分子量２万）９７重量％とを、溶剤としてのシクロヘキサノン中に混合分散したインキ（粘度８０００ｃｐｓ）を遮光層のパターンの間隙に印刷し、８０℃でベークして、青色カラーフィルタ層のパターンを得た。青色カラーフィルタの膜厚は１５μｍ前後であった。次に、版を青色カラーフィルタ層のパターンのストライプ配列に対して垂直方向へ３００μｍ平行移動して、クマリン６と、バインダー樹脂としてのポリ塩化ビニル樹脂（平均分子量２万）とを、クマリン６の配合量をポリ塩化ビニル樹脂１ｋｇに対し０．０３ｍｏｌとなるようにして、溶剤としてのシクロヘキサノン中に溶解したインキ（粘度８０００ｃｐｓ）を遮光層パターンの別の間隙に印刷し、８０℃でベークして、蛍光体層Ａのパターンを得た。蛍光体層Ａの膜厚は１５μｍ前後であった。次に、版を蛍光体層Ａのパターンのストライプ配列に対してさらに垂直方向へ３００μｍ平行移動して、クマリン６と、４重量％（対ベンゾグアナミン樹脂）のローダミン６Ｇおよび４重量％（対ベンゾグアナミン樹脂）のローダミンＢをベンゾグアナミン樹脂中に練り込んだ蛍光顔料と、バインダー樹脂としてのポリ塩化ビニル樹脂（平均重量分子量２万）とを、クマリン６の配合量を、ローダミン６ＧおよびローダミンＢをベンゾグアナミン樹脂中に練り込んだ蛍光顔料とポリ塩化ビニル樹脂との合計量１ｋｇに対し０．０３ｍｏｌ、蛍光顔料の配合量を３０重量％、並びにポリ塩化ビニル樹脂の配合量を７０重量％となるようにして、これらを溶剤としてのシクロヘキサノンに溶解したインキ（粘度８０００ｃｐｓ）を遮光層のパターンのさらに別の間隙に印刷し、８０℃でベークして、蛍光体層Ｂのパターンを得た。蛍光体層Ｂの膜厚は２０μｍ前後であった。次に、８００番の紙やすりで、純水を噴霧しながら色変換部材上をラッピング研磨し、次に回転研磨機（Ｓｐｅｅｄ Ｆａｍ社製）により、アルミナの微粒子研磨剤を用いて純水を噴霧しながら鏡面研磨（ポリッシング）した。以上より、色変換部材を作製し（図７（ｂ））、表面粗さ計（ＤＥＫＴＡＫ３０３０）で色変換部材の表面凹凸を測定すると、０．２μｍに平坦化され、また、色変換層すなわち青色カラーフィルタ、蛍光体層Ａ、Ｂの膜厚はそれぞれ１５μｍ前後であった。なお、後で積層する有機ＥＬ素子の発光輝度および色度を確認するため、ごく一部の遮光層および色変換層を削っておいた。さらに、透光性媒体として、酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）を基板温度１６０℃に加熱し、１０-6ｔｏｒｒの真空度にてスパッタリングした。膜厚は０．５μｍであった。なお、酸化ケイ素膜の成膜後も表面凹凸を測定すると、０．２μｍで変化はなかった。次に、有機ＥＬ素子の作製を行った。まず、基板を１６０℃に加熱し、１０-6ｔｏｒｒの真空度にて、酸化ケイ素膜上にスパッタリングにより、０．１５μｍの膜厚、表面抵抗２０Ω／□のＩＴＯ（インジウム錫酸化物）の透明電極（陽極）を成膜した。次に、ポジ型フォトレジスト（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製ＨＰＲ２０４）をＩＴＯ上にスピンコートし、８０℃でベークした後、露光機にて、２５０μｍライン，５０μｍギャップのストライプ状のＩＴＯパターンが得られるマスクを介し、遮光層パターンに位置合わせをして、１００ｍＪ／ｃｍ2で露光した。次に、２．３８重量％ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）水溶液にてレジストを現像し、１２０℃にてポストベークし、レジストパターンを形成し得た。次に、基板を室温の４７重量％の臭化水素水溶液に浸漬して、ＩＴＯ、レジストパターン露出している部分をエッチングし、レジストを剥離して、２５０μｍライン，５０μｍギャップのストライプ状のＩＴＯパターンを形成した。次に、この基板をＩＰＡ洗浄、ＵＶ洗浄した後、蒸着装置（日本真空技術社製）基板ホルダーに固定した。蒸着源は、モリブデン製の抵抗加熱ボートに正孔注入材料としてＭＴＤＡＴＡ及びＮＰＤ、発光材料としてＤＰＶＢｉ、ドーパントとして、ＤＰＡＶＢ、電子注入材料としてＡｌｑをそれぞれ仕込み、陰極の第二金属としてＡｇをタングステン製フィラメントに、陰極の電子注入性金属としてＭｇをモリブデン製ボートに装着した。その後、真空槽を５×１０-7ｔｏｒｒまで減圧後、以下の順序で順次積層していった。正孔注入層から陰極まで途中で真空を破らず一回の真空引きでおこなった。まず、正孔注入層としては、ＭＴＤＡＴＡを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓ，膜厚２００ｎｍ、ＮＰＤを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓ、膜厚２０ｎｍ、発光層としてはＤＰＶＢｉを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓ，ＤＰＡＶＢを蒸着速度０．０５ｎｍ／ｓで同時蒸着して併せて膜厚４０ｎｍ（ホスト材料に対のするドーパントの重量比は１．２〜１．６）とし、電子注入層としては、Ａｌｑを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓ，膜厚２０ｎｍ、陰極としては、陽極ＩＴＯストライプパターンに対し垂直とし、６００μｍライン、１００μｍギャップのストライプパターンになるようなマスクを介して、ＭｇとＡｇを同時蒸着した。すなわち、Ｍｇは、蒸着速度１．３〜１．４ｎｍ／ｓ、Ａｇは、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓで膜厚を２００ｎｍとした。このようにして、有機ＥＬ多色発光装置を作製し（図３）、直流８Ｖの電圧を陽極と陰極に印加すると、電圧を印加した陽極と陰極の交差部分が発光し、遮光層および色変換層を削った部分から見える有機ＥＬ素子の発光輝度およびＣＩＥ色度座標（ＪＩＳ Ｚ ８７０１）はそれぞれ１００ｃｄ／ｍ2 、色度はｘ＝０．１６、ｙ＝０．２４で青色の発光が得られることを確認した。また、青色カラーフィルタから見える光の発光輝度は、５０ｃｄ／ｍ2 、色度はｘ＝０．１４、ｙ＝０．１６で色純度の高い青色の発光が得られることを確認した。一方、蛍光体層Ａから見える光の発光輝度は、１１３ｃｄ／ｍ2 、色度はｘ＝０．２３、ｙ＝０．６５で黄味がかった緑色（イエロイッシュグリーン）の発光が得られることを確認した。また、蛍光体層Ｂから見える光の発光輝度は、２２ｃｄ／ｍ2 、色度はｘ＝０．５５、ｙ＝０．２９で赤色の発光が得られることを確認した。以上のように、有機ＥＬ多色発光装置を作製し、各色変換層から本来の色の発光が得られ色ずれ（混色）は見られなかった。」（第１７頁左欄第２０行〜第１８頁左欄第４５行）
　
　上記記載の実施例１において、透光性媒体の膜厚０．５μｍ、画素の最小幅２５０μｍが記載されているので、透光性媒体の色変換層上に設けられる部分の膜厚ｔＰＬは、０＜ｔＰＬ＜０．１Ｗ（Ｗは画素の最小幅を示す）である。
　前記記載事項と図面の記載からみて、引用文献１には
「透光性基板と、
　該透光性基板上に配置され蛍光色素を含有する膜厚５μｍ以上の樹脂膜を所望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変換層と、
　該色変換層を被覆する透光性媒体と
を少なくとも備える色変換部材であって、
　該透光性媒体は、単一層または複数の層から構成され、該色変換層上に設けられる部分と該色変換層のない部分に設けられる部分とが連続している層であり、該色変換層上に設けられる部分の膜厚ｔＰＬが、０＜ｔＰＬ＜０．１Ｗ（Ｗは画素の最小幅を示す）である
ことを特徴とする色変換部材。」が記載されている。
　
３．対比
　引用文献１記載の発明（以下、「引例発明１」という。）における「透光性基板」、「色変換層」、「透光性媒体」、及び「色変換部材」は、本願特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）における「透明な支持基板、あるいは支持基板」、「色変換フィルタ層」、「透明なガスバリア層、あるいはガスバリア層」、及び「色変換フィルタ基板」にそれぞれ相当するものであるので本願発明と引例発明１とを対比すると、本願発明と引例発明１は、
「透明な支持基板と、
　該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する膜厚５μｍ以上の樹脂膜を所望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変換フィルタ層と、
　該色変換フィルタ層を被覆する透明なガスバリア層と
を少なくとも備える色変換フィルタ基板であって、
　該ガスバリア層は、単一層または複数の層から構成され、該色変換フィルタ層上に設けられる部分と該色変換フィルタ層のない部分に設けられる部分とが連続している層であり、該色変換フィルタ層上に設けられる部分の膜厚ｔＰＬが、０＜ｔＰＬ＜０．１Ｗ（Ｗは画素の最小幅を示す）である
ことを特徴とする色変換フィルタ基板。」で一致し、次の点で両者の構成は相違する。
　
相違点：
　ガスバリア層が、本願発明は、色変換フィルタ層上に設けられる部分の表面と、隣接する色変換フィルタ層のない部分に設けられる部分に連続する部分の最大傾斜から延長した直線とのなす角θＰＬが、０≦θＰＬ≦４５゜であるのに対して、引例発明１は、前記のことについて記載がない点。
　
４．判断
相違点について：
　引例発明１には、色変換フィルタ基板（「支持基板および色変換フィルタ層」、あるいは「支持基板、色変換フィルタ層および透明なガスバリア層」）の最外層の表面に、有機ＥＬ発光素子（引例発明１において「有機ＥＬ素子」）を密着させること、
　色変換フィルタ基板の最外層の表面の凹凸が大きい場合、薄膜の有機ＥＬ発光素子に歪み（ひずみ）を与え、その結果、有機ＥＬ発光素子の２つの電極（引例発明１において「３２および３３」）間のリークまたは特に電極（「３２」）の断線を引き起こし、カラー有機ＥＬディスプレイ（引例発明１において「多色発光装置」）の製造歩留まりを低下させること、
　色変換フィルタ基板の最外層の表面の凹凸が小さい場合、有機ＥＬ発光素子に歪みを与えることはなく、その結果、カラー有機ＥＬディスプレイの製造歩留まりを向上させること、
　色変換フィルタ基板の最外層の表面の凹凸が、２．０μｍ以下であれば、有機ＥＬ発光素子の断線または短絡（ショート）が少ないこと、が記載されており、
　その記載から、色変換フィルタ基板の最外層の表面の凹凸が小さい程、有機ＥＬ発光素子に歪みを与えず、有機ＥＬ発光素子の断線または短絡（ショート）が少ないことは明らかである。
　色変換フィルタ基板の最外層の表面の凹凸が小さいとは、理想的には、最外層の表面の凹凸は０μｍであり、それはθＰＬ＝０を意味するものである。したがって、θＰＬ＝０を含む、０≦θＰＬ≦４５゜という本願発明の構成は、引例発明１の記載から、当業者が容易に想到し得たものと認める。
　
　そして、前記相違点における本願発明の構成による効果は、引例発明１の記載から予測される範囲のものである。
　
５．むすび
　したがって、本願発明は、本願出願前に国内で頒布された引例発明１の記載に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。