【手続補正書】
【提出日】平成30年10月25日(2018.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
また、各分割シャワーヘッド１３ａ〜１３ｘ、５２ａ〜５２ｐは６つの分割シャワーヘッド群に仕分けされる。なお、図６でも、同じ分割シャワーヘッド群に含まれる分割シャワーヘッドには同じハッチングを記している。具体的に、各分割シャワーヘッド１３ａ〜１３ｘ、５２ａ〜５２ｐは、シャワーヘッド１３の角部に位置する８つの分割シャワーヘッド５２ａ，５２ｄ，５２ｅ，５２ｈ，５２ｉ，５２ｌ，５２ｍ及び５２ｐからなる第７の分割シャワーヘッド群と、シャワーヘッド１３の外周に位置して第７の分割シャワーヘッド群の各分割シャワーヘッドに挟まれる８つの分割シャワーヘッド５２ｂ，５２ｃ，５２ｆ，５２ｇ，５２ｊ，５２ｋ，５２ｎ及び５２ｏからなる第８の分割シャワーヘッド群と、シャワーヘッド１３の中央付近に存在する４つの分割シャワーヘッド１３ａ〜１３ｄからなる第３の分割シャワーヘッド群と、第３の分割シャワーヘッド群の分割シャワーヘッド１３ａ〜１３ｄと径方向に関して隣接する８つの分割シャワーヘッド１３ｅ〜１３ｌからなる第４の分割シャワーヘッド群と、第７の分割シャワーヘッド群及び第４の分割シャワーヘッド群に挟まれる８つの分割シャワーヘッド１３ｏ，１３ｐ，１３ｒ，１３ｓ，１３ｕ，１３ｖ，１３ｘ及び１３ｍからなる第１の分割シャワーヘッド群と、第８の分割シャワーヘッド群及び第４の分割シャワーヘッド群に挟まれる４つの分割シャワーヘッド１３ｎ，１３ｑ，１３ｔ，１３ｗからなる第２の分割シャワーヘッド群とに仕分けされる。なお、本実施の形態でも、高周波アンテナ２２が第１の分割シャワーヘッド群〜第４の分割シャワーヘッド群、第７の分割シャワーヘッド群及び第８の分割シャワーヘッド群に対応するように配置されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面視矩形の基板を収容する処理室と、誘導結合プラズマを生成するための高周波アンテナと、前記処理室の金属窓として機能する平面視矩形のシャワーヘッドとを備え、前記シャワーヘッドは、前記シャワーヘッドの中央から外周へ向かう方向を径方向とし、且つ前記シャワーヘッドの外周を辿る方向を周方向としたとき、前記径方向及び前記周方向に関し、絶縁部材を介して複数の分割シャワーヘッドに分割され、各前記分割シャワーヘッドは個別に処理ガスを前記処理室の内部へ導入可能に構成されるプラズマ処理装置において、
前記複数の分割シャワーヘッドは複数の分割シャワーヘッド群に仕分けされ、
前記複数の分割シャワーヘッド群は、前記シャワーヘッドの角部に位置する前記分割シャワーヘッドを含む第１の分割シャワーヘッド群と、前記シャワーヘッドの外周に位置して前記第１の分割シャワーヘッド群の各前記分割シャワーヘッドに挟まれる前記分割シャワーヘッドを含む第２の分割シャワーヘッド群と、前記シャワーヘッドの中央に存在する前記分割シャワーヘッドを含む第３の分割シャワーヘッド群と、前記第３の分割シャワーヘッド群及び前記第１の分割シャワーヘッド群又は前記第２の分割シャワーヘッド群に挟まれる前記分割シャワーヘッドを含む第４のシャワーヘッド群とを含み、
前記複数の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量は個別に制御されることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記第２の分割シャワーヘッド群の各前記分割シャワーヘッドは、前記シャワーヘッドの長辺に沿う前記分割シャワーヘッドを含む第５の分割シャワーヘッド群と、前記シャワーヘッドの短辺に沿う前記分割シャワーヘッドを含む第６の分割シャワーヘッド群とに仕分けられ、
前記第５の分割シャワーヘッド群及び前記第６の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量は個別に制御されることを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記複数の分割シャワーヘッド群の各々を構成する各前記分割シャワーヘッドには、各前記分割シャワーヘッド群に対応する各流量比率制御器から分岐するガス流路が接続され、
前記複数の分割シャワーヘッド群の各々において、前記流量比率制御器から各前記分割シャワーヘッドまでの前記ガス流路の長さは統一されることを特徴とする請求項１又は２記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記複数の分割シャワーヘッド群の各々に対応して前記高周波アンテナが配置されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
平面視矩形の基板を収容する処理室の金属窓として機能する平面視矩形のシャワーヘッドであって、前記シャワーヘッドの中央から外周へ向かう方向を径方向とし、且つ前記シャワーヘッドの外周を辿る方向を周方向としたとき、前記径方向及び前記周方向に関し、絶縁部材を介して複数の分割シャワーヘッドに分割され、各前記分割シャワーヘッドは個別に処理ガスを前記処理室の内部へ導入可能に構成されるシャワーヘッドにおいて、
前記複数の分割シャワーヘッドは複数の分割シャワーヘッド群に仕分けされ、
前記複数の分割シャワーヘッド群は、前記シャワーヘッドの角部に位置する前記分割シャワーヘッドを含む第１の分割シャワーヘッド群と、前記シャワーヘッドの外周に位置して前記第１の分割シャワーヘッド群の各前記分割シャワーヘッドに挟まれる前記分割シャワーヘッドを含む第２の分割シャワーヘッド群と、前記シャワーヘッドの中央に存在する前記分割シャワーヘッドを含む第３の分割シャワーヘッド群と、前記第３の分割シャワーヘッド群及び前記第１の分割シャワーヘッド群又は前記第２の分割シャワーヘッド群に挟まれる前記分割シャワーヘッドを含む第４のシャワーヘッド群とを含み、
前記複数の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量は個別に制御されることを特徴とするシャワーヘッド。
【請求項６】
平面視矩形の基板を収容する処理室と、誘導結合プラズマを生成するための高周波アンテナと、前記処理室の金属窓として機能する平面視矩形のシャワーヘッドとを備え、前記シャワーヘッドは、前記シャワーヘッドの中央から外周へ向かう方向を径方向とし、且つ前記シャワーヘッドの外周を辿る方向を周方向としたとき、前記径方向及び前記周方向に関し、絶縁部材を介して複数の分割シャワーヘッドに分割され、各前記分割シャワーヘッドは個別に処理ガスを前記処理室の内部へ導入可能に構成されるプラズマ処理装置において、
前記複数の分割シャワーヘッドは複数の分割シャワーヘッド群に仕分けされ、
前記複数の分割シャワーヘッド群は、前記シャワーヘッドの角部に位置する前記分割シャワーヘッドを含む第１の分割シャワーヘッド群と、前記シャワーヘッドの外周に位置して前記第１の分割シャワーヘッド群の各前記分割シャワーヘッドに挟まれる前記分割シャワーヘッドを含む第２の分割シャワーヘッド群と、前記シャワーヘッドの中央に存在する前記分割シャワーヘッドを含む第３の分割シャワーヘッド群と、前記第３の分割シャワーヘッド群及び前記第１の分割シャワーヘッド群又は前記第２の分割シャワーヘッド群に挟まれる前記分割シャワーヘッドを含む第４のシャワーヘッド群とを含み、
前記複数の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量は個別に制御され、
前記高周波アンテナは前記複数の分割シャワーヘッド群の各々に対応するように配置され、前記複数の分割シャワーヘッド群の各々が前記処理室の内部に形成する誘導電界は個別に制御され、
前記複数の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量、及び前記複数の分割シャワーヘッド群の各々が前記処理室の内部に形成する誘導電界は互いに独立して制御されることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項７】
平面視矩形の基板を収容する処理室の金属窓として機能する平面視矩形のシャワーヘッドであって、前記シャワーヘッドの中央から外周へ向かう方向を径方向とし、且つ前記シャワーヘッドの外周を辿る方向を周方向としたとき、前記径方向及び前記周方向に関し、絶縁部材を介して複数の分割シャワーヘッドに分割され、各前記分割シャワーヘッドは個別に処理ガスを前記処理室の内部へ導入可能に構成されるシャワーヘッドにおいて、
前記複数の分割シャワーヘッドは複数の分割シャワーヘッド群に仕分けされ、
前記複数の分割シャワーヘッド群は、前記シャワーヘッドの角部に位置する前記分割シャワーヘッドを含む第１の分割シャワーヘッド群と、前記シャワーヘッドの外周に位置して前記第１の分割シャワーヘッド群の各前記分割シャワーヘッドに挟まれる前記分割シャワーヘッドを含む第２の分割シャワーヘッド群と、前記シャワーヘッドの中央に存在する前記分割シャワーヘッドを含む第３の分割シャワーヘッド群と、前記第３の分割シャワーヘッド群及び前記第１の分割シャワーヘッド群又は前記第２の分割シャワーヘッド群に挟まれる前記分割シャワーヘッドを含む第４のシャワーヘッド群とを含み、
前記複数の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量は個別に制御され、
高周波アンテナが前記複数の分割シャワーヘッド群の各々に対応するように配置され、前記複数の分割シャワーヘッド群の各々が前記処理室の内部に形成する誘導電界は個別に制御され、
前記複数の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量、及び前記複数の分割シャワーヘッド群の各々が前記処理室の内部に形成する誘導電界は互いに独立して制御されることを特徴とするシャワーヘッド。
【請求項８】
前記シャワーヘッドは、前記第１の分割シャワーヘッド群及び前記第２の分割シャワーヘッド群を取り囲む複数の他の分割シャワーヘッドをさらに備え、
前記複数の他の分割シャワーヘッドは複数の他の分割シャワーヘッド群に仕分けされ、
前記複数の他の分割シャワーヘッド群は、前記シャワーヘッドの角部に位置する前記他の分割シャワーヘッドを含む第７の分割シャワーヘッド群と、前記第７の分割シャワーヘッド群の各前記他の分割シャワーヘッドに挟まれる前記他の分割シャワーヘッドを含む第８の分割シャワーヘッド群とを含み、
前記第１の分割シャワーヘッド群は、前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第４の分割シャワーヘッド群に挟まれる前記分割シャワーヘッドからなり、前記第２の分割シャワーヘッド群は、前記第８の分割シャワーヘッド群及び前記第４の分割シャワーヘッド群に挟まれる前記分割シャワーヘッドからなり、
前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第８の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量は個別に制御されることを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記第１の分割シャワーヘッド群及び前記第２の分割シャワーヘッド群を取り囲む複数の他の分割シャワーヘッドをさらに備え、
前記複数の他の分割シャワーヘッドは複数の他の分割シャワーヘッド群に仕分けされ、
前記複数の他の分割シャワーヘッド群は、前記シャワーヘッドの角部に位置する前記他の分割シャワーヘッドを含む第７の分割シャワーヘッド群と、前記第７の分割シャワーヘッド群の各前記他の分割シャワーヘッドに挟まれる前記他の分割シャワーヘッドを含む第８の分割シャワーヘッド群とを含み、
前記第１の分割シャワーヘッド群は、前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第４の分割シャワーヘッド群に挟まれる前記分割シャワーヘッドからなり、前記第２の分割シャワーヘッド群は、前記第８の分割シャワーヘッド群及び前記第４の分割シャワーヘッド群に挟まれる前記分割シャワーヘッドからなり、
前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第８の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量は個別に制御されることを特徴とする請求項５記載のシャワーヘッド。
【請求項１０】
前記シャワーヘッドは、前記第１の分割シャワーヘッド群及び前記第２の分割シャワーヘッド群を取り囲む複数の他の分割シャワーヘッドをさらに備え、
前記複数の他の分割シャワーヘッドは複数の他の分割シャワーヘッド群に仕分けされ、
前記複数の他の分割シャワーヘッド群は、前記シャワーヘッドの角部に位置する前記他の分割シャワーヘッドを含む第７の分割シャワーヘッド群と、前記第７の分割シャワーヘッド群の各前記他の分割シャワーヘッドに挟まれる前記他の分割シャワーヘッドを含む第８の分割シャワーヘッド群とを含み、
前記第１の分割シャワーヘッド群は、前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第４の分割シャワーヘッド群に挟まれる前記分割シャワーヘッドからなり、前記第２の分割シャワーヘッド群は、前記第８の分割シャワーヘッド群及び前記第４の分割シャワーヘッド群に挟まれる前記分割シャワーヘッドからなり、
前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第８の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量は個別に制御され、
前記高周波アンテナは前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第８の分割シャワーヘッド群の各々に対応するように配置され、前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第８の分割シャワーヘッド群の各々が前記処理室の内部に形成する誘導電界は個別に制御され、
前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第８の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量、及び前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第８の分割シャワーヘッド群の各々が前記処理室の内部に形成する誘導電界は互いに独立して制御されることを特徴とする請求項６記載のプラズマ処理装置。
【請求項１１】
前記第１の分割シャワーヘッド群及び前記第２の分割シャワーヘッド群を取り囲む複数の他の分割シャワーヘッドをさらに備え、
前記複数の他の分割シャワーヘッドは複数の他の分割シャワーヘッド群に仕分けされ、
前記複数の他の分割シャワーヘッド群は、前記シャワーヘッドの角部に位置する前記他の分割シャワーヘッドを含む第７の分割シャワーヘッド群と、前記第７の分割シャワーヘッド群の各前記他の分割シャワーヘッドに挟まれる前記他の分割シャワーヘッドを含む第８の分割シャワーヘッド群とを含み、
前記第１の分割シャワーヘッド群は、前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第４の分割シャワーヘッド群に挟まれる前記分割シャワーヘッドからなり、前記第２の分割シャワーヘッド群は、前記第８の分割シャワーヘッド群及び前記第４の分割シャワーヘッド群に挟まれる前記分割シャワーヘッドからなり、
前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第８の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量は個別に制御され、
前記高周波アンテナは前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第８の分割シャワーヘッド群の各々に対応するように配置され、前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第８の分割シャワーヘッド群の各々が前記処理室の内部に形成する誘導電界は個別に制御され、
前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第８の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量、及び前記第７の分割シャワーヘッド群及び前記第８の分割シャワーヘッド群の各々が前記処理室の内部に形成する誘導電界は互いに独立して制御されることを特徴とする請求項７記載のシャワーヘッド。