【手続補正書】
【提出日】平成30年1月11日(2018.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
システムであって、
第１周波数を有する第１ＲＦ信号を生成するよう構成された第１高周波（ＲＦ）発生器と、
第２周波数を有する第２ＲＦ信号を生成するよう構成された第２ＲＦ発生器と、
前記第１ＲＦ信号を受信するために前記第１ＲＦ発生器に接続された第１整合回路網であって、前記第１ＲＦ信号を受信して第１変調ＲＦ信号を出力するよう構成されている、第１整合回路網と、
前記第２ＲＦ信号を受信するために前記第２ＲＦ発生器に接続された第２整合回路網であって、前記第２ＲＦ信号を受信して第２変調ＲＦ信号を出力するよう構成されている、第２整合回路網と、
前記第１整合回路網の出力および前記第２整合回路網の出力に接続された結合器／分配器であって、前記第１変調ＲＦ信号および前記第２変調ＲＦ信号を結合して、結合ＲＦ信号を複数のプラズマ処理ステーションに供給するよう構成され、前記複数のプラズマ処理ステーションに接続された複数の出力を備え、前記結合器／分配器の前記複数の出力で測定されたパラメータに基づいて、前記複数のプラズマ処理ステーションに関連する複数のインピーダンスを調整するための前記第１および第２周波数用の複数の同調回路を備える、結合器／分配器と、
を備える、システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、さらに、前記パラメータに基づいて、前記同調回路のうちの１または複数の変数を調節するよう構成されたシステムコントローラを備える、システム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムであって、さらに、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの１つに関連する前記複数のインピーダンスのうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの別の１つに関連する前記複数のインピーダンスのうちの別の１つから所定の範囲内になるように、前記複数の同調回路のうちの１または複数の同調回路の、一つの変数を調節するよう構成されたシステムコントローラを備える、システム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムであって、
前記複数の同調回路のうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの１つに供給される前記第１周波数の電力のレベルを変更するために調整されるコンデンサを備え、前記同調回路のうちの別の１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの前記１つに供給される前記第２周波数の電力のレベルを変更するために調整されるコンデンサであり、
前記第１周波数の電力の前記レベルおよび前記第２周波数の電力の前記レベルは、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの別の１つに関連する前記複数のインピーダンスのうちの１つに基づいて変更される、システム。
【請求項５】
請求項１に記載のシステムであって、前記結合器／分配器は、前記第２周波数が前記第１ＲＦ発生器に影響を与えないように、前記第２周波数をフィルタリングするよう構成された遮断回路を備える、システム。
【請求項６】
請求項１に記載のシステムであって、前記結合器／分配器は、
前記複数のプラズマ処理ステーションに対応する複数の擬似負荷と、
複数のスイッチであって、前記複数のスイッチの各々は、前記複数の擬似負荷の対応する１つまたは前記結合器／分配器の前記出力の対応する１つに接続されるよう構成され、複数のスイッチの１つが前記擬似負荷の１つに接続されているときに、前記複数の出力の１つに接続された前記複数のプラズマ処理ステーションの１つの中で、プラズマが使用不能になり、複数のスイッチの１つが前記結合器／分配器の前記複数の出力の前記１つに接続されているときに、前記複数の出力の前記１つに接続された前記複数のプラズマ処理ステーションの１つの中で、プラズマが使用可能になる、複数のスイッチと、
前記結合器／分配器の前記複数の出力への接続と前記複数の擬似負荷への接続との間で前記複数のスイッチの位置を変更するために、前記複数のスイッチに接続されたシステムコントローラと、
複数の直流（ＤＣ）遮断コンデンサであって、前記複数のＤＣ遮断コンデンサの各々は、ＤＣ電力が前記複数の擬似負荷の対応する１つに印加されることを妨げるために、前記複数の擬似負荷の前記対応する１つに接続されている、複数のＤＣ遮断コンデンサと、
を備える、システム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムであって、さらに、
前記結合器／分配器の前記複数の出力で前記パラメータの複数の値を測定するために、前記結合器／分配器の前記複数の出力に接続された複数のパラメータプローブと、
前記パラメータの前記複数の値を前記複数のパラメータプローブから受信するために、前記複数のパラメータプローブに接続されたシステムコントローラと、
を備え、
前記システムコントローラは、前記複数のパラメータプローブから受信した前記パラメータの前記複数の値に基づいて前記同調回路を調整するために、前記複数の同調回路に接続されている、システム。
【請求項８】
請求項１に記載のシステムであって、前記結合器／分配器は、複数の平衡インダクタを備え、前記複数の平衡インダクタの各々は、前記結合器／分配器の前記複数の出力のうちの対応する１つに接続され、前記複数の平衡インダクタの各々は、動作周波数の達成を容易にするように前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの対応する１つの共振周波数を制御するために用いられる、システム。
【請求項９】
請求項１に記載のシステムであって、前記結合器／分配器、前記第１整合回路網、および、第２整合回路網は、前記複数のプラズマ処理ステーションの動作を円滑にするために、前記複数のプラズマ処理ステーションから離して配置される、システム。
【請求項１０】
請求項１に記載のシステムであって、前記結合器／分配器は、複数の同軸ケーブルを介して前記複数のプラズマ処理ステーションに接続され、前記複数の同軸ケーブルの各々は、前記結合器／分配器の一部である、システム。
【請求項１１】
請求項１に記載のシステムであって、前記第１および第２周波数用の前記複数の同調回路は、ＲＦ電力が前記複数のプラズマ処理ステーションに供給されていて、前記パラメータが変化しているときに、前記複数のプラズマ処理ステーションに関連する前記インピーダンスを調整し、前記ＲＦ電力は、前記結合ＲＦ信号が前記複数のプラズマ処理ステーションに供給されるときに、前記複数のプラズマ処理ステーションに供給される、システム。
【請求項１２】
請求項１に記載のシステムであって、前記第１および第２周波数用の前記複数の同調回路は、前記複数のプラズマ処理ステーションに関連するさらなるパラメータに基づいて、前記複数のプラズマ処理ステーションにわたる前記パラメータの変動を最小化するように調整される、システム。
【請求項１３】
請求項１に記載のシステムであって、前記複数の出力は、前記複数のプラズマ処理ステーションの複数のペデスタル、または前記複数のプラズマ処理ステーションの複数のシャワーヘッドに、接続される、システム。
【請求項１４】
請求項１に記載のシステムであって、前記複数の同調回路は、複数の位置にあるように構成され、前記複数の位置は、前記複数のインピーダンスを調整するために監視および制御される、システム。
【請求項１５】
請求項１に記載のシステムであって、前記結合器／分配器は複数のスイッチを備え、前記複数のスイッチの各々は、前記複数の擬似負荷の対応する１つまたは前記結合器／分配器の前記複数の出力の対応する１つに接続されるよう構成され、前記スイッチの各々は複数の位置を有し、前記複数の位置は、前記複数のインピーダンスを調整するために監視および制御される、システム。
【請求項１６】
結合器／分配器であって、
第１周波数の第１変調ＲＦ信号を第１整合回路網から受信するために、前記第１整合回路網を介して第１高周波（ＲＦ）発生器に接続された第１周波数回路であって、前記第１変調ＲＦ信号を受信して複数のＲＦ信号を出力するよう構成されている、第１周波数回路と、
第２周波数の第２変調ＲＦ信号を第２整合回路網から受信するために、前記第２整合回路網を介して第２ＲＦ発生器に接続された第２周波数回路であって、前記第２変調ＲＦ信号を受信して複数のＲＦ信号を出力するよう構成され、前記第１周波数回路に接続されている、第２周波数回路と、
前記第２周波数回路に接続された出力回路であって、前記第１周波数回路から出力された前記複数のＲＦ信号の各々を、前記第２周波数回路から出力された前記複数のＲＦ信号の対応する１つと結合して、複数の結合ＲＦ信号を複数のプラズマ処理ステーションに供給するよう構成されている、出力回路と、
を備え、
前記出力回路は、前記複数のプラズマ処理ステーションに接続された複数の出力を有し、
前記第１周波数回路は、前記出力回路の前記複数の出力において測定されたパラメータに基づいて前記複数のプラズマ処理ステーションに関連する複数のインピーダンスを調整するために、前記第１周波数用の複数の第１周波数同調回路を備え、
前記第２周波数回路は、前記出力回路の前記複数の出力において測定された前記パラメータに基づいて前記複数のプラズマ処理ステーションに関連する前記複数のインピーダンスを調整するために、前記第２周波数用の複数の第２周波数同調回路を備える、結合器／分配器。
【請求項１７】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、前記複数の第１周波数同調回路は、前記パラメータに基づいて調節される変数を有し、前記複数の第２周波数同調回路は、前記パラメータに基づいて調節される前記変数を有する、結合器／分配器。
【請求項１８】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、前記複数の第１周波数同調回路は、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの１つに関連する前記複数のインピーダンスのうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの別の１つに関連する前記複数のインピーダンスのうちの別の１つから所定の範囲内になるように調節される変数を有し、前記複数の第２周波数同調回路は、前記複数のインピーダンスのうちの前記１つが、前記複数のインピーダンスのうちの前記別の１つから前記所定の範囲内になるように調節される変数を有する、結合器／分配器。
【請求項１９】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、
前記複数の第１周波数同調回路のうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの１つに供給される前記第１周波数の電力のレベルを変更するために調整されるコンデンサを備え、前記複数の第２周波数同調回路のうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの前記１つに供給される前記第２周波数の電力のレベルを変更するために調整されるコンデンサであり、
前記第１周波数の電力の前記レベルおよび前記第２周波数の電力の前記レベルは、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの別の１つに関連する前記複数のインピーダンスのうちの１つに基づいて変更される、結合器／分配器。
【請求項２０】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、前記第１周波数回路は、前記第２周波数が前記第１ＲＦ発生器に影響を与えないように、前記第２周波数をフィルタリングするよう構成された遮断回路を備える、結合器／分配器。
【請求項２１】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、前記出力回路は、
前記複数のプラズマ処理ステーションに対応する複数の擬似負荷と、
複数のスイッチであって、前記複数のスイッチの各々は、前記複数の擬似負荷の対応する１つまたは前記出力回路の前記複数の出力の対応する１つに接続されるよう構成されている、複数のスイッチと、
を備える、結合器／分配器。
【請求項２２】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、さらに、
前記出力回路の前記複数の出力で前記パラメータの複数の値を測定するために、前記出力回路の前記複数の出力に接続された複数のパラメータプローブを備え、
前記複数の第１周波数同調回路は、前記パラメータの前記複数の値に基づいて調整されるよう構成され、
前記複数の第２周波数同調回路は、前記パラメータの前記複数の値に基づいて調整されるよう構成されている、結合器／分配器。
【請求項２３】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、前記出力回路は、複数の平衡インダクタを備え、前記複数の平衡インダクタの各々は、前記出力回路の前記複数の出力のうちの対応する１つに接続され、前記複数の平衡インダクタの各々は、動作周波数の達成を容易にするように前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの対応する１つの周波数を制御するために用いられる、結合器／分配器。
【請求項２４】
システムであって、
結合器／分配器であって、
第１周波数の第１変調ＲＦ信号を第１整合回路網から受信するために、前記第１整合回路網を介して第１高周波（ＲＦ）発生器に接続された第１周波数回路であって、前記第１変調ＲＦ信号を受信して複数のＲＦ信号を出力するよう構成されている、第１周波数回路と、
第２周波数の第２変調ＲＦ信号を第２整合回路網から受信するために、前記第２整合回路網を介して第２ＲＦ発生器に接続された第２周波数回路であって、前記第２変調ＲＦ信号を受信して複数のＲＦ信号を出力するよう構成され、前記第１周波数回路に接続されている、第２周波数回路と、
前記第２周波数回路に接続された出力回路であって、前記第１周波数回路から出力された前記複数のＲＦ信号の各々を、前記第２周波数回路から出力された前記複数のＲＦ信号の対応する１つと結合して、複数の結合ＲＦ信号を複数のプラズマ処理ステーションに供給するよう構成されている、出力回路と、を備え、
前記出力回路は、前記複数のプラズマ処理ステーションに接続された複数の出力を有し、
前記第１周波数回路は、前記第１周波数用の複数の第１周波数同調回路を備え、
前記第２周波数回路は、前記第２周波数用の複数の第２周波数同調回路を備える、結合器／分配器と、
前記結合器／分配器に接続されたシステムコントローラであって、
前記システムコントローラは、前記出力回路の前記複数の出力で測定されたパラメータに基づいて、前記複数の第１周波数同調回路を調整するよう構成され、
前記システムコントローラは、前記出力回路の前記複数の出力で測定された前記パラメータに基づいて、前記複数の第２周波数同調回路を調整するよう構成されている、システムコントローラと、
を備える、システム。
【請求項２５】
請求項２４に記載のシステムであって、前記複数の第１周波数同調回路は、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの１つに関連する第１インピーダンスが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの別の１つに関連する第２インピーダンスから所定の範囲内になるように、調節される変数を有し、前記複数の第２周波数同調回路は、前記第１インピーダンスが、前記第２インピーダンスから前記所定の範囲内になるように調節される前記変数を有する、システム。
【請求項２６】
請求項２４に記載のシステムであって、
前記複数の第１周波数同調回路のうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの１つに供給される前記第１周波数の電力のレベルを変更するために調整されるコンデンサを備え、前記複数の第２周波数同調回路のうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの前記１つに供給される前記第２周波数の電力のレベルを変更するために調整されるコンデンサであり、
前記第１周波数の電力の前記レベルおよび前記第２周波数の電力の前記レベルは、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの別の１つに関連するインピーダンスに基づいて変更される、システム。
【請求項２７】
請求項２４に記載のシステムであって、さらに、
前記出力回路の前記複数の出力で前記パラメータの複数の値を測定するために、前記出力回路の前記複数の出力に接続された複数のパラメータプローブを備え、
前記複数の第１周波数同調回路は、前記パラメータの前記複数の値に基づいて調整されるよう構成され、
前記複数の第２周波数同調回路は、前記パラメータの前記複数の値に基づいて調整されるよう構成されている、システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
プローブ制御／システム制御１１０のプロセッサは、パラメータプローブ４０８Ａ〜４０８Ｄから受信したパラメータの値に基づいて、結合器／分配器１２１の対応する１または複数の同調回路の変数（例えば、静電容量など）の１または複数の値を決定する。例えば、プローブ制御／システム制御１１０のプロセッサは、ステーション１に関連するパラメータの値が、ステーション２に関連するパラメータの値から所定の範囲内にある（例えば、同じである）ためには、結合器／分配器１２１の同調回路のうちの１回路の変数の値がＶ１であり、結合器／分配器１２１の同調回路のうちの別の回路の変数の値がＶ２であると決定する。プローブ制御／システム制御１１０のプロセッサは、変数の値Ｖ１およびＶ２を達成してパラメータの値の間に所定の範囲を達成するように、結合器／分配器１２１の同調回路を制御する。別の例として、結合器／分配器１２１のすべての同調回路の変数の値と、出力ＯＵＴ＃１〜ＯＵＴ＃４でのパラメータの値との間の対応関係（例えば、一対一の対応、関連づけ、マッピング、ルックアップテーブル内の行、など）が、プロセッサに接続されたメモリデバイス内に格納される。パラメータプローブ４０８Ａからのパラメータの値およびパラメータプローブ４０８Ｂからのパラメータの値を受信した後に、プロセッサは、それらの値が互いから所定の範囲内にはないと決定する。プロセッサは、ＯＵＴ＃１でのパラメータの値が、ＯＵＴ＃２に接続された別の同調回路のパラメータの値からの所定の範囲内になるように、ＯＵＴ＃１に接続された１つの同調回路の変数の値を決定するために、メモリデバイスからの対応関係にアクセスする。プロセッサは、ＯＵＴ＃１でのパラメータの値がＯＵＴ＃２でのパラメータの値から所定の範囲内になるように、ＯＵＴ＃１に接続された同調回路の変数の値および／またはＯＵＴ＃２に接続された同調回路の変数の値を制御する。