(57)【要約】本発明は、高い光反射率、耐熱性、耐高温高湿性、形状安定性を有し、かつ厚さの薄い光反射体用基材および光反射体を提供することを課題として検討したものである。その結果、発明者らは、光反射体用基材が、高分子フィルム（Ａ）、無機物層（Ｂ）、接着剤層（Ｃ）、基材（Ｄ）を含む積層構造を有し、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）が、（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｄ）の順で積層され、無機物層（Ｂ）が少なくとも金属、金属化合物またはこれらの混合物を含む層にすることにより、従来に比して、きわめて優れた耐熱性、耐高温高湿性、形状安定性を有することを見出した。この光反射体用基材の高分子フィルム（Ａ）面に、銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）を積層することで、高い反射率を示し、且つ耐久性に優れた光反射体を得ることができる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子フィルム（Ａ）、無機物層（Ｂ）、接着剤層（Ｃ）、基材（Ｄ）を含む積層構造を有し、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）が、（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｄ）の順で積層され、無機物層（Ｂ）が少なくとも金属、金属化合物またはこれらの混合物を含む層であることを特徴とする光反射体用基材。
【請求項２】
温度６０℃相対湿度９０％の雰囲気下に５００時間放置後の高分子フィルム（Ａ）と基材（Ｄ）との剥離強度が０．１０ｋＮ／ｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載の光反射体用基材。
【請求項３】
１００℃雰囲気下で、高分子フィルム（Ａ）と基材（Ｄ）との剥離強度が、０．１０ｋＮ／ｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載の光反射体用基材。
【請求項４】
基材（Ｄ）が、金属を含む板であることを特徴とする請求項１記載の光反射体用基材。
【請求項５】
無機物層（Ｂ）の厚みが、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の光反射体用基材。
【請求項６】
請求項１に記載の光反射体用基材上に、銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）を、（Ｅ）／（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｄ）の積層構造となるように形成したことを特徴とする光反射体。
【請求項７】
金属層（Ｅ）が銀または銀を含む合金であることを特徴とする請求項６記載の光反射体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、高分子フィルム、無機物層、接着剤層、基材の構成からなる光反射体用基材およびそれを用いた光反射体に関する。さらに詳しくは液晶表示装置、ファクシミリ、コピー機、プロジェクター、ストロボ、ＤＰＥ機器、露光装置、光劣化装置等のＯＡ機器、産業機器に用いる光反射体用基材および光反射体に関する。
【背景技術】
【０００２】  最近、液晶表示装置の高画素数化に伴い、バックライトの輝度向上が求められている。バックライトの輝度を上げるための手法の一つとして、光反射率の高い光反射体をランプハウスに用いて、光源であるランプからの光を余すことなく利用する方法がある。この光反射体は、光源のランプから放射される熱も受けるため、高い光反射率だけでなく、高い耐熱性を有することが求められている。【０００３】  また、特にラップトップコンピューター等の携帯用機器の構成部材は、嵩張らず、軽量なものが要求される。液晶表示装置のバックライト用ランプハウスに使用する光反射体は、嵩張らず、軽量で、薄く、かつ形状を安定して保持できるものが適している。さらに、様々な環境で使用できるように、特に耐高温高湿性を有することも重要である。【０００４】  従来から液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターや蛍光灯の反射傘などに使われている光反射体は、光反射層、高分子フィルム、接着剤層、基材が、この順に構成されるものであり、光反射層として、銀やアルミニウム等の金属薄膜が用いられている。【０００５】  特開平８−１１８５３６号公報には、金属薄膜層、高分子フィルム、接着剤層、基材を有する積層体で、金属薄膜層を光反射層とする光反射体が記載されている。高分子フィルムと基材の接着は、高分子フィルムの光反射層を形成していない面へ、接着剤を塗布後、乾燥し、ローラーで基材とラミネートするという順序で行われる。【０００６】  高分子フィルムと基材との接着性を向上させるために、高分子フィルム表面に様々な処理を施すことが知られている。例えば、高分子フィルムと接着剤との接着強度を高くするために、高分子フィルム表面にサンドブラスト処理等を施し表面粗さを大きくする方法や、高分子フィルム表面にグロー放電処理等を施し、高分子表面の表面エネルギー状態を変える方法や、高分子フィルム表面に表面エネルギーが大きい他の樹脂を塗布する方法がある。例を挙げると、特開２００３−３４１０００号公報には、水溶性又は水分散性の、共重合ポリエステル系樹脂及び／またはポリウレタン系樹脂を主成分とする層をポリエステルフィルム表面に形成した光学用ポリエステルフィルムが記載されている。【０００７】  特許２５５３１８７号公報には、高分子フィルムの表面をブラスト加工し、さらに表面を活性化する効果を有する金属薄膜を０．５ｎｍ〜１０ｎｍ積層し、熱可塑性接着層を積層した、易接着加工高分子フィルムが記載されている。クロロトリフルオロエチレン重合体フィルムとナイロンフィルムとを貼り合せた実施例では、ブラスト加工せずに金属薄膜を積層すると、金属薄膜の厚さが厚いと接着強度が低くなることが記載されている。【０００８】  従来の処理方法では、高分子フィルムと基材との接着強度が必ずしも十分とはいえず、特に、高温下または高温高湿下で、高分子フィルムと基材との接着強度が低下する問題があった。特に、高分子フィルムと金属製基材との接着強度は十分なものでなかった。【０００９】  さらに、サンドブラスト等の高分子フィルムの表面処理は、高分子フィルムの非処理面の表面形状に影響することがあり、それにより光反射層の表面形状が変化を起こし、光反射率が低下��るおそれがある。
【特許文献１】特開平８−１１８５３６号公報
【特許文献２】特開２００３−３４１０００号公報
【特許文献３】特許２５５３１８７号公報
【発明の開示】
【００１０】  本発明の目的は、高い光反射率、耐熱性、耐高温高湿性、形状安定性を有し、かつ厚さの薄い光反射体を提供することにある。
本発明者らは、高分子フィルムの基材側に無機物層を設けることにより、高分子フィルムと基材との接着性が向上し、耐高温高湿性、耐熱性、形状安定性を有する光反射体用基材が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】  すなわち、第一の発明は、
高分子フィルム（Ａ）、無機物層（Ｂ）、接着剤層（Ｃ）、基材（Ｄ）を含む積層構造を有し、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）が、（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｄ）の順で積層され、無機物層（Ｂ）が少なくとも金属、金属化合物またはこれらの混合物を含む層であることを特徴とする光反射体用基材である。
【００１２】  前記光反射体用基材が、温度６０℃相対湿度９０％の雰囲気下に５００時間放置後の高分子フィルム（Ａ）と基材（Ｄ）との剥離強度が０．１０ｋＮ／ｍ以上であることは、耐湿熱性を有する点で好ましい態様である。
【００１３】  また前記光反射体用基材が、１００℃雰囲気下で、高分子フィルム（Ａ）と基材（Ｄ）との剥離強度が、０．１０ｋＮ／ｍ以上であることは耐熱性を有する点で好ましい態様である。
【００１４】  また基材（Ｄ）が、金属を含む板であることは、加工性、機械的強度が高い点で好ましい態様である。
【００１５】  また無機物層（Ｂ）の厚みが、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることは、高分子フィルムと基材との接着性および高分子フィルムの可撓性が高い点で好ましい態様である。
【００１６】  また第二の発明は、
上記の光反射体用基材上に、銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）を、（Ｅ）／（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｄ）の積層構造となるように形成した光反射体である。
【００１７】  金属層（Ｅ）が銀または銀を含む合金であることは、高い光反射率が得られる点で好ましい態様である。
【図面の簡単な説明】
【００１８】［図１］本発明の光反射体用基材の例を示す断面図である。
［図２］本発明の光反射体の例を示す断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】  以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の光反射体用基材は、高分子フィルム（Ａ）、無機物層（Ｂ）、接着剤層（Ｃ）、基材（Ｄ）を含む積層構造を有し、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）が、（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｄ）の順で積層されている。
以下、各構成材料について詳述する。【００２０】（高分子フィルム（Ａ））
本発明における高分子フィルム（Ａ）は、本発明の目的に耐える程度の耐熱性を有するものであれば特に限定なく使用できる。例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ビスフェノールＡ系ポリカーボネートなどのポリカーボネート類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、セルローストリアセテートなどのセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、フッ素系樹脂などの各種プラスチックからなるフィルムが挙げられる。好ましくは、ポリエチレンテレフタレートが使用される。耐熱性の高い材料を用いることにより、高温で使用できる光反射体を得ることができる。尚、これらの高分子フィルムには、他に耐熱安定剤、酸化防止剤などの添加物が含まれていてもよい。【００２１】  高分子フィルムは、成形加工性の自由度が高く、またロール・トゥー・ロールプロセス等の製造方法を適用でき生産性が高いので好ましい。
高分子フィルム（Ａ）の厚みは、特に限定されるものではないが、好ましくは１〜２００μｍ、より好ましくは５〜１００μｍ、さらに好ましくは１０μｍ〜５０μｍである。高分子フィルム（Ａ）の厚みが上記範囲にある場合、曲げ加工を行った際に高分子フィルムにかかる応力が小さく、基材からの剥離を防止することができる。また、製造時の取り扱いが容易で、板金加工し易いので好ましい。あまり厚いと、曲げ加工を行った際に高分子フィルムにかかる応力が大きくなり、基材から剥離しやすくなるおそれがある。また、それを用いた光反射体は総厚みが厚くなるため、総厚みが薄いものと比較して、同じ大きさのランプハウスに加工しても、ランプと光反射体との空間が狭くなり、光反射率、耐熱性が低下するおそれがあり好ましくない。またあまり薄いと、製造時の取り扱いが困難になるおそれがある。【００２２】（無機物層（Ｂ））
本発明では、高分子フィルムの一方の面に、無機物層を形成し、高分子フィルムと基材を、この無機物層を介して貼り合わせる。無機物層を形成しないと、特に金属製の基材を使用した場合、高分子フィルムと金属製基材とを貼り合わせるには接着強度を十分高くなるような接着剤が必要である。接着剤はさらに耐熱性、耐高温高湿度性を有する必要があり、そのような接着剤の選定は困難である。無機物層を設けることによって、公知の接着剤を使用しても、高分子フィルムと基材との接着強度が高くなるので好ましい。【００２３】  無機物層は、金属、金属化合物またはこれらの混合物を含む層である。具体的には、金属としては、金、銀、アルミニウム、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウム、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、セリウム、ネオジム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウムなどの金属の単体、もしくはこれらの内の２種以上からなる合金や混合物が用いられる。金属化合物としては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム、ケイ素、アルミニウム等の酸化物、硫化亜鉛等の硫化物等が用いられる。金属化合物の混合物や、金属と金属化合物の混合物も用いられる。これらの中でも金、銀、アルミニウム、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウムの単体またはこれらの２種類以上からなる合金や混合物、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ、酸化珪素が好ましく、特に好ましくはニッケルクロム合金、酸化亜鉛、インコネルが用いられる。さらに好ましくはニッケルクロム合金が用いられる。【００２４】  無機物層の色はどんなものでもよく、有色でも無色でも特に限定されない。光反射体としたとき、最外面は反射面である金属層である。無機物層は高分子フィルムと接着剤層の間に位置するため、その色は反射面に影響しない。従って、無機物層の色、透明性は限定されない。【００２５】  無機物層の厚みは、好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満、より好ましくは１０ｎｍ以上５０ｎｍ未満であり、さらに好ましくは１０ｎｍ以上２５ｎｍ未満である。無機物層の厚みが上記範囲よりも薄い場合、高分子フィルムと基材との接着強度を高める効果が低くなることがある。上記範囲よりも厚い場合、範囲内の厚さの場合と比較して高分子フィルムと基材との接着強度に変化はないが、無機物層の可撓性が悪くなりやすい。また、製造コストが高くなるので好ましくない傾向にある。【００２６】（無機物層（Ｂ）の形成方法）
無機物層（Ｂ）の形成方法は、湿式法及び乾式法がある。
湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例として銀鏡反応などを挙げることができる。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体例として、真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタリング法などを挙げることができる。本発明には連続的に膜を形成できるロール・ツー・ロール方式が可能な真空成膜法が好ましく用いられ、中でも電子ビーム加熱式真空蒸着法、スパッタリング法が好ましく用いられる。【００２７】  真空蒸着法では、原材料である金属、金属化合物またはこれらの混合物を電子ビーム法、抵抗加熱法、誘導加熱法などで溶融させ、蒸気圧を上昇させ、金属や金属化合物を、高分子フィルム表面に付着させることにより、層を形成する。
この際に、酸素などのガスを導入し、蒸発した原材料と反応させてもよいし、アルゴンなどのガスを導入して電圧を印加してプラズマを発生させ、プラズマ中で蒸着させてもよい。【００２８】  スパッタリング法には、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法、イオンビームスパッタリング法、ＥＣＲスパッタリング法、コンベンショナルＲＦスパッタリング法、コンベンショナルＤＣスパッタリング法などがあり、いずれも使用できる。スパッタリング法では、金属、金属合金、金属化合物、またはこれらの混合物をターゲットとして使用する。スパッタリングガスにはヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン等の不活性ガスを使用できるが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度は９９％以上が好ましく、より好ましくは９９．５％以上である。反応に必要なガス（反応性ガス）を加えて、スパッタリングを行うこともある。反応性ガスとしては、公知のガスを必要に応じて選択して用いることができる。反応性ガスとしては、酸素、水素などを代表的な例として挙げる事ができる。【００２９】  層の厚さの測定方法としては、触針粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶振動子法などを用いる方法がある。特に水晶振動子法では成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得るのに適している。また成膜時間と膜厚の関係を調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もある。本発明では、成膜時間により膜厚を制御する方法を使用した。【００３０】  無機物層を高分子フィルム上に設ける際に、該高分子フィルム表面に、コロナ放電処理、グロー放電処理等の処理を施してもよい。これらの処理は、形成する層と高分子フィルムの接着性を向上させる効果がある。また前述した処理以外の処理も当業者の技術的常識の範囲で適宜採用することができる。但し、高分子フィルムの無機物層を形成しない面の表面形状に影響がでない程度に行う必要がある。過剰な処理を行うと、無機物層を形成しない面の表面形状が変化し、光反射体とした時に、反射率が低下するおそれがある。【００３１】（接着剤層（Ｃ））
接着剤層に使用する接着剤は、高温下での接着強度を維持できるものであれば特に限定なく公知の物を使用することができる。好ましくはシリコーン系接着剤、ビニル系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリウレタン系接着剤、エポキシ系接着剤、シアノアクリレート系接着剤等を使用できる。より好ましくは、ポリエステル系接着剤、ウレタン系接着剤を使用できる。【００３２】  これらの接着剤は、接着方法によって熱硬化型、ホットメルト型、２液混合型に大別されるが、好ましくは連続生産が可能な熱硬化型あるいはホットメルト型が使用される。中でもポリエステル系ホットメルト型接着剤、ウレタン系ホットメルト型接着剤は短時間で接着可能で、安価なので、特に好ましい。【００３３】  高温下で接着強度を維持できる接着剤を選ぶ一つの指標として、ガラス転移温度（Ｔｇ）が挙げられる。Ｔｇは、粘弾性温度分散測定や、ＪＩＳ−Ｋ−７１２１に準じたＤＳＣ測定により測定することができる。本発明では、粘弾性温度分散測定よりＴｇを求めた。高温下で接着強度を維持できる接着剤のＴｇのとしては、通常３０〜９０℃であり、好ましくは、４０〜９０℃、さらに好ましくは６０〜９０℃である。【００３４】  接着剤層の厚みは通常、０．５μｍ〜５０μｍであり、好ましくは３〜２５μｍであり、さらに好ましくは５〜１５μｍである。接着剤層がこの範囲内にあれば光反射体を薄く出来るという点から好ましい。この範囲よりも薄い場合、接着強度が弱くなるおそれがある。厚い場合、光反射体の厚さが厚くなり、接着剤層中に溶媒が残留して、接着強度が低下するおそれがある。【００３５】  接着剤層の形成には、コーティング法が好ましく使用できる。コーティング方法は、コーティングする高分子フィルムや接着剤の種類によって多くの方法がある。広く使用されているのはグラビアコーター方式及びリバースコーター方式であり、いずれも使用可能である。グラビアコーター方式では、接着剤に一部分が浸されているグラビアロールを回転させ、バックアップロールによって送られるフィルムを接着剤の付着したグラビアロールに接触させることでコーティングする。コーティング量はロールの回転数、接着剤の粘度を制御することで調整できる。リバースコーター方式も、グラビアロール方式に類似した方法だが、コーティングロールに付着する接着剤の量を、それに接して設置されているメタリングロールによって調整する。コーティングされた接着剤の乾燥温度、及びラミネート温度は接着剤の種類によって異なる。例えば、上記に掲げた一般的な接着剤を用いる場合は１００℃前後である。【００３６】（基材（Ｄ））
基材は、主に光反射体の形状を安定して保持する目的で用いる。この目的を満たす材料であれば特に限定されない。加工がしやすく、耐高温性、耐高温高湿性を有し、軽量で嵩張らないものであれば更に好ましい。金属や樹脂が好ましく、特に金属が好ましく使用される。具体的には、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、銅亜鉛合金、鋼などが使用される。これらの金属はそれぞれ次のような長所があり、光反射体の使用目的により使い分けることができる。アルミニウムは軽量かつ加工性に優れ、また、熱伝導率が高くそれにかかる熱を効果的に大気中に逃がすことができるので、ランプ発光によって光反射体が加熱される液晶表示装置用バックライトに好適に利用できる。アルミ合金は軽量かつ機械的強度が強い。ステンレス鋼は機械的強度が適度にあり、また耐蝕性に優れている。銅亜鉛合金すなわち黄銅または真鍮は、機械的強度の強いことに加え、はんだづけが容易なため電気的端子をとり易い。鋼は安価なため、コストを抑える必要がある時に好ましく用いられる。【００３７】  樹脂の例としては、ポリオレフィン及びその誘導体、ポリアクリレート及びその誘導体、ポリエステル及びその誘導体、ポリスチレン及びその誘導体、ナイロン及びその誘導体、ポリイミド及びその誘導体、ポリエチレンナフタレート及びその誘導体など、種々の樹脂が挙げられる。これらのうち、接着剤よりもＴｇが高い樹脂を好適に使用できる。【００３８】  基材の接着剤側の面に表面処理を施し、接着性を向上させてもよい。
基材の厚さは、使用する材料、光反射体の使用目的に合わせて、光反射体の形状、加工性、重量、製造時の取り扱い性を考慮して決定すればよく、特に限定されるものではないが、０．０５ｍｍ以上５ｍｍ以下が好ましい。より好ましくは、０．１ｍｍ以上０．８ｍｍ以下である。【００３９】（銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ））
銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）は、高分子フィルムの無機物層を形成していない面に形成すると高い光反射率が得られるので好ましい。この層（Ｅ）は、光を反射する機能を持たせるために形成する。金属層の金属としては、銀またはアルミニウムの単体、あるいは、銀やアルミニウムを含む合金が好ましく用いられる。【００４０】  銀またはアルミニウムの単体は、銀またはアルミニウムが１００重量％であることが好ましいが、実際には酸素や硫黄等のヘテロ原子や他の金属が含まれることがある。このため本発明では、銀またはアルミニウムの単体とは、銀またはアルミニウムが９９重量％以上であるものと定義する。金属層内の銀またはアルミニウムの含有率は、好ましくは９９．９重量％以上、さらに好ましくは９９．９９重量％以上である。【００４１】  銀やアルミニウムを含む合金とは、銀又はアルミニウムに金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウム、ネオジム、カドミウム、アンチモン、スズ、亜鉛、ニオブ、ビスマスなどの金属を含有するものが挙げられる。含有させる金属の種類は複数でもよい。含有量は、特に限定されないが、光反射率を考慮すると０．０１重量％以上、２０．０重量％以下が好ましい。銀合金の場合、銀と合金化する金属の組み合わせによって、耐久性が向上することがある。銀と組み合わせる金属が１種類の場合は、金、銅、ネオジム、インジウム、スズ、タングステン、チタン、クロム、パラジウム、ビスマスが好ましく、銀と２種の金属を組み合わせる場合は、パラジウムと銅、パラジウムと金、ネオジムと金、ネオジムと銅、インジウムとスズが好ましい。【００４２】  銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）の厚さは５０ｎｍ以上であることが好ましい。より好ましくは８０ｎｍ以上であり、さらに好ましくは１００ｎｍ以上である。５０ｎｍよりも薄い場合は、光が銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）を透過し、光反射率が低くなることがある。該層の厚さが１００ｎｍ以上であれば充分な光反射率が得られ、厚さの上限値は特にない。しかし、１０００ｎｍを超えるような厚い層では、高分子フィルムがカールしやすくなり、また製造コストが高くなる等の問題が生じることがある。【００４３】  銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）の、高分子フィルム側および／または、高分子フィルム側とは逆側に、保護層を設けることもできる。つまり、銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）の両側に保護層を設けた場合、高分子フィルム（Ａ）／保護層／銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）／保護層という構成になる。【００４４】  銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）の高分子フィルム側に保護層を設けることにより、高分子フィルムの表面の状態を制御し、高分子フィルムと、銀またはアルミニウムを含む金属層との接着強度を向上させることができる。また、銀またはアルミニウムを含む金属層の耐環境性を向上させることができる。前記の機能を有するものであれば、保護層に使用する材料や厚さは特に限定されない。単層でも複数層であってもよい。この保護層は、高分子フィルムと、銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）の間��あるので、光線反射率や色に関係なく使用できる。例を挙げると、アルミニウム、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウム、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、セリウム、ネオジム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウムなどの金属の単体、化合物、これらの内の２種以上からなる合金、混合物が用いられる。特に、酸化亜鉛、アルミニウム添加酸化亜鉛が好ましく用いられる。【００４５】  銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）の高分子フィルムとは逆側に保護層を設けることにより、銀またはアルミニウムを含む金属層の耐環境性を向上させる効果、また、光反射率をさらに高くする効果等が得られる。保護層に使用する材料や厚さは、銀またはアルミニウムを含む金属層の光反射率を著しく低下させなければ特に限定されない。保護層は単層であっても複数層であってもよい。具体的には、酸化亜鉛、アルミニウム添加酸化亜鉛、酸化珪素、酸化チタン等の透明な金属酸化物が挙げられる。これらは前述の効果が得られ、かつ銀またはアルミニウムを含む金属層と連続して形成することが容易であり好ましい。より好ましくは、酸化亜鉛、アルミニウム添加酸化亜鉛が使用できる。【００４６】  銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）、および保護層は、無機物層（Ｂ）と同様の方法にて形成することができる。高分子フィルムの両面に同時に層を形成できない装置を使用する場合は、銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）（および保護層）と、無機物層のどちらを先に形成してもよい。【００４７】  銀またはアルミニウムを含む金属層（Ｅ）および保護層を形成する高分子フィルムの表面に、コロナ放電処理、グロー放電処理等の処理を採用してもよい。これらの処理は、形成する層と高分子フィルムの接着性を向上させる効果がある。また前述した処理以外の処理も当業者の技術的常識の範囲で適宜採用することができる。但し、高分子フィルムの表面形状に影響がでない程度に行う必要がある。過剰な処理を行うと、高分子フィルムの表面形状が変化し、鏡面が得られなくなるおそれがある。【００４８】  以下前記の部材を用いた光反射体用基材および光反射体につき詳述する。
（光反射体用基材および光反射体）
本発明の光反射体用基材の例を図１に、光反射体の例を図２に示した。図１の光反射体用基材は、高分子フィルム１０に無機物層２０、接着剤層３０、基材４０を積層したものである。また、図２の光反射体は、高分子フィルム１０に、無機物層２０、接着剤層３０、基材４０を積層し、高分子フィルムの無機物層２０が形成されていない面に、銀またはアルミニウムを含む金属層５０を形成したものである。銀またはアルミニウムを含む金属層側が光反射面となる。【００４９】  光反射体の総厚みは、形状を安定して保持できる厚さであれば特に限定されない。０．１ｍｍ以上０．８ｍｍ以下が好ましい。あまり厚いと、嵩張り重量が増すだけでなく、総厚みが薄い光反射体と同じ大きさのランプハウスに加工しても、ランプと光反射体との間隔が狭くなり、光反射率、耐熱性が低下するおそれがある。【００５０】  光反射体の、銀またはアルミニウムを含む金属層側を光入射面として測定した光反射率は、標準サンプルを酸化アルミニウムとした時、５５０ｎｍの波長の光に対して９０％以上が好ましく、より好ましくは９２％以上であり、さらに好ましくは９４％以上である。【００５１】  本発明において、耐高温高湿性は、温度６０℃、相対湿度９０％の環境下に５００時間放置し、２３℃、湿度５０％の雰囲気中に取り出し、２３℃まで試料温度が下がった時の高分子フィルムと基材の剥離強度で評価する。【００５２】  剥離強度は０．１０ｋＮ／ｍ以上が好ましく、より好ましくは０．６０ｋＮ／ｍ以上である。剥離強度が０．１０ｋＮ／ｍ未満では、基材から高分子フィルムが簡単に剥がれてしまう。特に曲げ加工したランプリフレクターの場合、剥がれた高分子フィルムがランプに接触してしまうおそれがあり、好ましくない。【００５３】  本発明において、耐熱性は、１００℃雰囲気下における高分子フィルムと基材の剥離強度で評価する。剥離強度は０．１０ｋＮ／ｍ以上が好ましく、より好ましくは０．２０ｋＮ／ｍ以上である。剥離強度が０．１０ｋＮ／ｍ未満では、基材から高分子フィルムが簡単に剥がれてしまう。特に曲げ加工したランプリフレクターの場合、剥がれた高分子フィルムがランプに接触してしまうおそれがあり、好ましくない。
【実施例】
【００５４】  物性の測定および耐熱性、耐熱湿性は下記の方法により評価した。
１．剥離強度の測定
光反射体を幅１０ｍｍ長さ１００ｍｍに切り出し、高分子フィルムを基材から２０ｍｍ引き剥がした。続いて、引張圧縮試験機（株式会社今田製作所製ＳＶ−５５−０−２０Ｌ）を用いて、高分子フィルムと基材が９０°を保つようにして高分子フィルムを速度５０ｍｍ／ｍｉｎにて引き上げ、そのときの力を剥離強度として測定した。【００５５】２．耐熱湿性の評価
ヤマト科学株式会社製ＩＧ４６Ｍ内で、温度６０℃相対湿度９０％の雰囲気下に５００時間放置後、温度２３℃、湿度５０％の室内に取り出し、試料が室温まで下がってから、剥離強度を測定した。【００５６】３．耐熱性の評価
引張試験機（株式会社今田製作所製ＳＤＷ２００Ｓ）に熱風発生装置（株式会社竹鋼製作所製）を取り付け、熱風発生装置のチャンバー内を１００℃雰囲気下にし、試料をチャンバー内に５分間放置後、剥離強度を測定した。【００５７】４．ガラス転移温度測定
接着剤を４０℃で溶剤臭がしなくなるまで乾燥し、その後２４時間減圧乾燥した。その試験片を直径約７．９ｍｍ、厚み約２ｍｍとなるように切り出した。Ｒｈｅｏｍｅｔｏｒｉｃｓ社製回転式レオメーターＲＭＳ−８００で、７．９ｍｍパラレルプレートを用いて、ひずみ２０％以下、ひずみ速度１０ｒａｄ／ｓｅｃで０℃から１５０℃まで温度分散測定した。得られたｔａｎδのピークトップを接着剤のガラス転移温度とした。【００５８】［実施例１］
ポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポン株式会社製テイジンテトロンフィルムＳＧ、厚さ２５μｍ）上にＤＣマグネトロンスパッタリング法により２重量％のＡｌ２Ｏ３が添加された酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタリングガスとして、酸化アルミニウム添加酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように形成した。
続いて、このフィルムをスパッタリング装置から取り出すことなく、ＤＣマグネトロンスパッタリング法で、純度９９．９％の銀をターゲットととし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタリングガスとして銀を膜厚１３０ｎｍになるように成形した。
続いて、このフィルムをスパッタリング装置からと取り出すことなく、ＤＣマグネトロンスパッタリング法で、２重量％のＡｌ２Ｏ３が添加された酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタリングガスとして、酸化アルミニウム添加酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように形成した。
続いて、フィルムをスパッタリング装置から取り出し、スパッタリング面が上記スパッタリング面と反対側になるようにフィルムを準備し、ＤＣマグネトロンスパッタリング法で、純度９９．９％のニッケルクロム合金をターゲットとし、膜厚が２０ｎｍになるように成形してスパッタリング装置から取り出した。
このフィルムのニッケルクロム層を成形した面に、ポリエステル系ホットメルト型接着剤（ダイヤボンド工業株式会社製ＳＰ７０２９、Ｔｇ７５℃）をグラビアコーターで塗工し、接着層を厚み７μｍで形成した。この接着層を積層したフィルムと基材である真鍮板（厚さ２００μｍ）とを、ロール表面温度が１００℃の条件で熱ラミネートした。１９２℃の加熱オーブンに１００秒滞留させ、熱処理し、接着して光反射体を得た。前記の方法により、剥離強度を測定し、総合判定を行った。
評価結果を表１に示す。なお、表中、剥離強度測定結果が耐熱湿性評価時、耐熱性評価時に０．１０ｋＮ／ｍ以上の場合を良好、０．１０ｋＮ／ｍ未満の場合を不良とした。【００５９】［実施例２］
無機物層として、ＤＣマグネトロンスパッタリング法で、２重量％のＡｌ２Ｏ３が添加された酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタリングガスとして、酸化アルミニウム添加酸化亜鉛を膜厚２０ｎｍになるように形成したこと以外は、実施例１と同様にして光反射体を作製した。
実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。【００６０】［実施例３］
無機物層として、ＤＣマグネトロンスパッタリング法で、チタン（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタリングガスとして、膜厚２０ｎｍになるように形成したこと以外は、実施例１と同様にして光反射体を作製した。
実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。【００６１】［実施例４］
基材として、ステンレス（ＳＵＳ３０４）板（厚さ０．１ｍｍ）を使用したこと以外は、実施例１と同様にして光反射体を作製した。
実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。【００６２】［実施例５］
接着剤層として、ポリエステル系ホットメルト型接着剤（東洋紡績株式会社製  非晶性ポリエステル有機溶剤可溶型接着剤バイロンＧＫ６４０、Ｔｇ７９℃）を使用した以外は、実施例１と同様にして光反射体を作製した。
実施例１と同様に評価した。結果を表２に示す。【００６３】［実施例６］
接着剤層として、ポリエステル系ホットメルト型接着剤（東洋紡績株式会社製  非晶性ポリエステル系ホットメルト型接着剤バイロン２９ＳＳ、Ｔｇ７２℃）を使用した以外は、実施例１と同様にして光反射体を作製した。
実施例１と同様に評価した。結果を表２に示す。【００６４】［実施例７］
接着剤層として、ウレタン系ホットメルト型接着剤（大日本インキ工業株式会社製  ＡＧ９４６ＨＶ、Ｔｇ５８℃）を使用した以外は、実施例１と同様にして光反射体を作製した。
実施例１と同様に評価した。結果を表２に示す。【００６５】（比較例１）
無機物層として、ニッケルクロム層を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして光反射体を作製した。
実施例１と同様に評価した。結果を表３に示す。【００６６】（比較例２）
無機物層として、ニッケルクロム層を形成しなかったこと以外は、実施例５と同様にして光反射体を作製した。
実施例１と同様に評価した。結果を表３に示す。【００６７】（比較例３）
無機物層として、ニッケルクロム層を形成しなかったこと以外は、実施例６と同様にして光反射体を作製した。
実施例１と同様に評価した。結果を表３に示す。【００６８】（比較例４）
無機物層として、ニッケルクロム層を形成しなかったこと以外は、実施例７と同様にして光反射体を作製した。
実施例１と同様に評価した。結果を表３に示す。【００６９】（比較例５）
水溶性ポリエステル系樹脂層が形成されたポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績株式会社製Ａ１５１１、厚さ３８μｍ）の水溶性ポリエステル系樹脂層が形成されていない面に、実施例１と同様に酸化アルミニウム添加酸化亜鉛層、銀層、酸化アルミニウム添加酸化亜鉛層を順に形成した。水溶性ポリエステル系樹脂層が形成された面に実施例１と同様の接着剤を塗工し、真鍮板と貼り合せ、光反射体を作製した。
実施例１と同様に評価した。結果を表４に示す。【００７０】（比較例６）
接着剤層として実施例５で使用した接着剤を使用したものを用いた他は、比較例５と同様にして光反射体を作製した。
実施例１と同様に評価した。結果を表４に示す。【００７１】（比較例７）
接着剤層として実施例６で使用した接着剤を使用したものを用いた他は、比較例５と同様にして光反射体を作製した。
実施例１と同様に評価した。結果を表４に示す。【００７２】
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【００７３】
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【００７４】
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【００７５】
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【００７６】  上記の結果から、無機物層を設けることによって、耐高温性、耐高温高湿性を有する光反射体を作製することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７７】  以上詳説したように、本発明によれば、高い光反射率、耐熱性、耐高温高湿性、形状安定性を有し、かつ厚さの薄い光反射体を提供できる。従って、輝度の高い照明が必要な用途に適用でき、例えば液晶表示装置のバックライトのランプリフレクターとして設置した場合、バックライトの輝度の向上を達成できる。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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