Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月11日(2017.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光硬化性樹脂組成物からなり、以下の物性（Ａ）〜（Ｃ）を満たすことを特徴とする透明封止材。
（Ａ）８５℃、８５％ＲＨの環境下で４８時間静置した際の透明封止材の吸水率が０．５質量％以下。
（Ｂ）当該透明封止材を、ガラスと透明プラスチック板とで挟んで貼合させたサンプルのヘーズ（Ｈ１）が５％以下。
（Ｃ）前記ヘーズ（Ｈ１）と、前記サンプルを８５℃、８５％ＲＨの環境下で５００時間静置させた湿熱試験後のヘーズ（Ｈ２）とのヘーズ変化量（Ｈ２−Ｈ１）が５％以下。
【請求項２】
前記光硬化樹脂組成物は、エチレン−α−オレフィン系共重合体を少なくとも１種以上含むことを特徴とする、請求項１に記載の透明封止材。
【請求項３】
前記光硬化樹脂組成物は、架橋剤及び光架橋開始剤を含むことを特徴とする、請求項１または２に記載の透明封止材。
【請求項４】
前記架橋剤が、ラジカル架橋反応可能な単官能及び２官能以上の多官能ビニルエステル並びに（メタ）アクリル酸エステルから選択されるものである、請求項３に記載の透明封止材。
【請求項５】
前記架橋剤が、ラジカル架橋反応可能な単官能又は２官能以上であって、炭素数６以上の直鎖状脂肪族系若しくは環状脂肪族系（メタ）アクリル酸エステルである、請求項３に記載の透明封止材。
【請求項６】
光硬化後の状態で、温度２３℃、周波数１Ｈｚにおける貯蔵弾性率Ｇ’が１００ｋＰａ以上５０００ｋＰａ以下、かつ、温度８５℃、周波数１Ｈｚにおける貯蔵弾性率Ｇ’が５ｋＰａ以上５００ｋＰａ以下であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明封止材。
【請求項７】
光硬化前の状態で、温度８５℃、周波数１Ｈｚにおける貯蔵弾性率Ｇ’が１ｋＰａ以上３０ｋＰａ以下であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の透明封止材。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の透明封止材の少なくとも片面に離型フィルムを積層してなる透明封止材積層体。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の透明封止材の少なくとも片面に透明プラスチック板を積層してなる光学装置構成用積層体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月8日(2017.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
後側結合フレームによって対称的に結合された右手用力覚提示ユニット及び左手用力覚提示ユニットを具備し、
前記各力覚提示ユニットは、
第１、第２、第３、第４のワイヤ接地点を有するエンドエフェクタと、
前記エンドエフェクタの上方、下方に位置する上方フレーム及び下方フレームと、
前記上方フレームの一方側及び他方側に設けられた第１、第２のモータと、
前記上方フレームの前記一方側及び前記他方側に設けられた第３、第４のモータと、
前記下方フレームの一方側及び他方側に設けられた第５、第６のモータと、
前記下方フレームの前記一方側及び前記他方側に設けられた第７、第８のモータと、
前記各第１、第２のモータのワイヤ出口と前記第１のワイヤ接地点との間に接続された第１、第２のワイヤと、
前記各第３、第４のモータのワイヤ出口と前記第２のワイヤ接地点との間に接続された第３、第４のワイヤと、
前記各第５、第６のモータのワイヤ出口と前記第３のワイヤ接地点との間に接続された第５、第６のワイヤと、
前記各第７、第８のモータのワイヤ出口と前記第４のワイヤ接地点との間に接続された第７、第８のワイヤと
を具備し、
前記右手用力覚提示ユニットのエンドエフェクタと前記左手用力覚提示ユニットのエンドエフェクタとを協調して操作できるようにした力覚提示装置。
【請求項２】
前記上方フレーム及び前記下方フレームは上方から見て直交する請求項１に記載の力覚提示装置。
【請求項３】
前記第１、第２、第３、第４のワイヤ接地点は前記エンドエフェクタの中心から半径Ｒの球面に存在する請求項１または２に記載の力覚提示装置。
【請求項４】
前記エンドエフェクタは、
前記第１、第２のワイヤ接地点が設けられ、上側に屈曲した第１の部材と、
前記第３、第４のワイヤ接地点が設けられ、下側に屈曲した第２の部材と、
爪部と
を具備し、
前記第１、第２の部材は結合されて上から見て直交した十字形をなし、前記爪部は前記第２の部材に結合されている請求項１〜３のいずれかに記載の力覚提示装置。
【請求項５】
前記エンドエフェクタは、
前記第１、第２のワイヤ接地点が設けられた第１の部材と、
前記第３、第４のワイヤ接地点が設けられた第２の部材と、
前記第１、第２の部材を結合するグリップ部材と
を具備し、
前記第１、第２の部材は結合されて上から見て直交した十字形をなしている請求項１〜３のいずれかに記載の力覚提示装置。
【請求項６】
前記第１のモータと前記第２のモータとの間の距離、前記第３のモータと前記第４のモータとの間の距離、前記第５のモータと前記第６のモータとの間の距離、前記第７のモータと前記第８のモータとの間の距離は等しい請求項１〜５のいずれかに記載の力覚提示装置。
【請求項７】
前記第１、第２、第３、第４のワイヤ接地点は前記エンドエフェクタの中心から半径Ｒの球面に存在し、
前記第１のモータと前記第２のモータとの間の距離、前記第３のモータと前記第４のモータとの間の距離、前記第５のモータと前記第６のモータとの間の距離、前記第７のモータと前記第８のモータとの間の距離は等しい距離ＤＡであり、
前記半径Ｒ及び前記距離ＤＡは、
Ｒ≒０．４５ＤＡ
である請求項１に記載の力覚提示装置。
【請求項８】
前記上方フレーム及び前記下方フレームは上方へ傾いている請求項１〜７のいずれかに記載の力覚提示装置。
【請求項９】
前記右手用力覚提示ユニット及び前記左手用力覚提示ユニットは「エ」字形状の前側結合ユニットによって結合された請求項１〜８のいずれかに記載の力覚提示装置。
【請求項１０】
さらに、力覚を提示するための仮想物体を表示するディスプレイを具備する請求項１〜９のいずれかに記載の力覚提示装置。
【請求項１１】
さらに、前記ディスプレイに接続され、前記力覚を提示するために前記各第１〜第８のモータを制御するモータコントローラを具備する請求項１０に記載の力覚提示装置。
【請求項１２】
さらに、
前記右手用力覚提示ユニットと前記左手用力覚提示ユニットとを対称的に結合する後側結合フレームと、
前記後側結合フレームに固定され、前記モータコントローラを収容するための背負子と
を具備する請求項１１に記載の力覚提示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
ワイヤ接地点ＰＡＬ（ＰＢＬ、ＰＣＬ、ＰＤＬ）における半径Ｒの球面上の点線で示す接線に対してＤＣモータＭｉＬ（ｉ＝１〜８）に向う方向の単位ベクトルφｉ（ｉ＝１〜８）は次式で表される。
【数２】
2016207005.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
エンドエフェクタ１Ｌの中心ＯからＤＣモータＭｉＬのワイヤ出口（プーリ）への位置ベクトルｍｏｔｏｒｉは次式で表される。
【数３】
2016207005.tif 000002
ただし、ＬｉはＤＣモータＭｉＬのワイヤ出口（プーリ）に接続されるワイヤＷｉＬの長さである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2016207005.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2016207005.tif 000004
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2016207005.tif 000005
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2016207005.tif 000006
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2016207005.tif 000007
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2016207005.tif 000008
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2016207005.tif 000009
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2016207005.tif 000010
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１６】
2016207005.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月15日(2018.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマを用いて被処理基板をエッチングするプラズマエッチング方法であって、
ＳＦ6ガス、Ｏ2ガス、およびＡｒガスの混合ガスを用いて前記被処理基板をエッチングする第１のエッチング工程と、
前記混合ガスを用いて連続的な高周波電力を前記被処理基板に供給しながら前記被処理基板をエッチングする第２のエッチング工程と、
を有する、プラズマエッチング方法。
【請求項２】
請求項１記載のプラズマエッチング方法において、
前記第１のエッチング工程は、パルス変調された高周波電力を前記被処理基板に供給しながら行われる、プラズマエッチング方法。
【請求項３】
請求項１記載のプラズマエッチング方法において、
前記第１のエッチング工程のエッチング量は、１５０ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲内の深さである、プラズマエッチング方法。
【請求項４】
請求項１記載のプラズマエッチング方法において、
前記被処理基板の材料は、炭化シリコンである、プラズマエッチング方法。
【請求項５】
プラズマを用いて被処理基板をエッチングするプラズマエッチング方法であって、
ＳＦ6ガス、Ｏ2ガス、およびＡｒガスの混合ガスを用いて前記被処理基板をエッチングする第１のエッチング工程と、
ＳＦ6ガス、Ｏ2ガス、Ａｒガス、およびＳｉＦ4ガスの混合ガスを用いて前記被処理基板をエッチングする第２のエッチング工程と、
を有する、プラズマエッチング方法。
【請求項６】
請求項５記載のプラズマエッチング方法において、
前記第１のエッチング工程は、パルス変調された高周波電力を前記被処理基板に供給しながら行われる、プラズマエッチング方法。
【請求項７】
請求項５記載のプラズマエッチング方法において、
前記第２のエッチング工程は、連続的な高周波電力を前記被処理基板に供給しながら行われる、プラズマエッチング方法。
【請求項８】
請求項５記載のプラズマエッチング方法において、
前記第１のエッチング工程のエッチング量は、１５０ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲内の深さである、プラズマエッチング方法。
【請求項９】
請求項５記載のプラズマエッチング方法において、
前記被処理基板の材料は、炭化シリコンである、プラズマエッチング方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月24日(2017.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子又は電子部品が搭載される配線基板であって、
放熱板と、
一方の面及び他方の面を備え、前記他方の面が第１接着層を介して前記放熱板に接着された基板と、
前記基板の一方の面に第２接着層を介して設けられた、前記半導体素子とは電気的に接続されない熱拡散用配線と、
前記基板及び前記第２接着層を厚さ方向に貫通して設けられ、前記熱拡散用配線の前記第２接着層側の面と接合された複数の貫通配線と、を有し、
前記基板には、夫々の前記貫通配線の周囲側面を露出する第１開口部が設けられ、
前記第２接着層には、前記第１開口部と連通し、夫々の前記貫通配線の周囲側面及び前記熱拡散用配線の前記第２接着層側の面を露出する第２開口部が設けられ、
前記第２開口部は、前記第１開口部よりも幅広に形成され、
前記第１接着層は、前記基板の他方の面、前記基板の前記第１開口部内に露出する側面に接しており、前記第１開口部及び前記第２開口部を充填していることを特徴とする配線基板。
【請求項２】
前記基板上の熱拡散用配線と同一平面に設けられた、前記半導体素子と電気的に接続される電気接続用配線と、
前記基板上に設けられ、前記熱拡散用配線を露出する開口部を備えた絶縁層と、を有し、
平面視において、前記熱拡散用配線の形成領域は、前記絶縁層の前記熱拡散用配線を露出する開口部の領域よりも外側に延在し、前記電気接続用配線の形成領域よりも大きく設けられていることを特徴とする請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記半導体素子は発光素子であり、
前記絶縁層は、前記発光素子の照射する光を反射する反射膜であることを特徴とする請求項２記載の配線基板。
【請求項４】
前記電気接続用配線は平面上のみに形成され、前記電気接続用配線と平面視で重複する領域には前記貫通配線は存在しないことを特徴とする請求項２又は３記載の配線基板。
【請求項５】
前記複数の貫通配線は、平面視において、前記貫通配線の外形の一部が、搭載される前記半導体素子の外形の一部と重複する範囲に配置されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項記載の配線基板。
【請求項６】
前記基板はポリイミド系樹脂であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項記載の配線基板。
【請求項７】
前記第１接着層はフィラーを含有することを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項記載の配線基板。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れか一項記載の配線基板と、
前記熱拡散用配線上に搭載された前記半導体素子又は前記電子部品と、を有する半導体装置。
【請求項９】
半導体素子又は電子部品が搭載される配線基板の製造方法であって、
基板の一方の面に第２接着層を介して、前記半導体素子とは電気的に接続されない熱拡散用配線を形成する工程と、
前記基板及び前記第２接着層を厚さ方向に貫通し、前記熱拡散用配線の前記第２接着層側の面と接合する複数の貫通配線を形成する工程と、
前記基板及び前記第２接着層をエッチングし、前記基板に夫々の前記貫通配線の周囲側面を露出する第１開口部を形成すると共に、前記第２接着層に前記第１開口部と連通し、夫々の前記貫通配線の周囲側面及び前記熱拡散用配線の前記第２接着層側の面を露出する第２開口部を形成する工程と、
前記基板の他方の面を第１接着層を介して放熱板に接着する工程と、を有し、
前記第１開口部及び前記第２開口部を形成する工程では、前記第２開口部は前記第１開口部よりも幅広に形成され、
前記接着する工程では、前記第１接着層は、前記基板の他方の面に接し、前記第１開口部及び前記第２開口部に充填されることを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項１０】
前記貫通配線を形成する工程では、前記貫通配線の他端が前記基板の他方の面よりも凹んだ位置に形成されることを特徴とする請求項９記載の配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本配線基板は、半導体素子又は電子部品が搭載される配線基板であって、放熱板と、一方の面及び他方の面を備え、前記他方の面が第１接着層を介して前記放熱板に接着された基板と、前記基板の一方の面に第２接着層を介して設けられた、前記半導体素子とは電気的に接続されない熱拡散用配線と、前記基板及び前記第２接着層を厚さ方向に貫通して設けられ、前記熱拡散用配線の前記第２接着層側の面と接合された複数の貫通配線と、を有し、前記基板には、夫々の前記貫通配線の周囲側面を露出する第１開口部が設けられ、前記第２接着層には、前記第１開口部と連通し、夫々の前記貫通配線の周囲側面及び前記熱拡散用配線の前記第２接着層側の面を露出する第２開口部が設けられ、前記第２開口部は、前記第１開口部よりも幅広に形成され、前記第１接着層は、前記基板の他方の面、前記基板の前記第１開口部内に露出する側面に接しており、前記第１開口部及び前記第２開口部を充填していることを要件とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月13日(2018.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
１０…平滑板、
２０…微細線材、
２１…空洞部、
２２…多孔質金属、
２３…放熱フィン、
３０…流体、
４０…ヒートシンク、
５０…熱電変換モジュール、
６０…熱伝導グリス、
７０…冷温源、
８０…扁平管、
９０…ヘッダ、
１００…液流体、
１１０…空気流体、
１２０…回転速度、
１３０…送り速度、
１４０…第１端面、
１４１…第２端面、
１４２…第３端面、
１４３…残る他の３つの端面、
１５０…気孔率、
１６０…熱交換器。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月16日(2018.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ生成用の高周波電力により水素含有ガス及びフッ素含有ガスからプラズマを生成し、
−３０℃以下の極低温環境において、生成されたプラズマによりシリコン酸化膜及び窒化シリコン膜のエッチング対象膜をエッチングし、
前記エッチングは、一のエッチング対象膜をエッチングする第１のエッチングのエッチングレートと、前記一のエッチング対象膜と異なる構造の他のエッチング対象膜をエッチングする第２のエッチングのエッチングレートとの差が±２０％以内になるように制御する、
エッチング処理方法。
【請求項２】
前記水素含有ガスは、水素ガスであり、前記フッ素含有ガスは、四フッ化炭素ガスである、
請求項１に記載のエッチング処理方法。
【請求項３】
前記一のエッチング対象膜は、シリコン酸化膜と窒化シリコン膜とを交互に複数層積層した積層膜であり、
前記他のエッチング対象膜は、シリコン酸化膜の単層膜である、
請求項１又は２に記載のエッチング処理方法。
【請求項４】
下部電極にパルス波のバイアス用の高周波電力を印加する、
請求項１〜３のいずれか一項に記載のエッチング処理方法。
【請求項５】
下部電極に印加される単位面積当たりのバイアス用の高周波電力を、２．８Ｗ／ｃｍ２〜５．０Ｗ／ｃｍ２に制御する、
請求項１〜４のいずれか一項に記載のエッチング処理方法。
【請求項６】
プラズマ生成用の高周波電力により水素含有ガス及びフッ素含有ガスからプラズマを生成し、
−３０℃以下の極低温環境下において、生成されたプラズマによりシリコン酸化膜及び窒化シリコン膜の積層膜をエッチングする第１のエッチングと、シリコン酸化膜をエッチングする第２のエッチングとを制御し、
下部電極に印加される単位面積当たりのバイアス用の高周波電力は、１．４Ｗ／ｃｍ２〜５．７Ｗ／ｃｍ２であり、
前記積層膜よりも前記単層膜のエッチングレートが高くなる第１のプロセス条件で前記第１及び第２のエッチングを行う第１のステップと、前記単層膜よりも前記積層膜のエッチングレートが高くなる第２のプロセス条件で前記第１及び第２のエッチングを行う第２のステップとを複数回繰り返し、
前記第１のプロセス条件のバイアス用の高周波電力と前記第２のプロセス条件のバイアス用の高周波電力とは異なるＤｕｔｙ比を有する、
エッチング処理方法。
【請求項７】
前記エッチングは、前記第１のエッチングのエッチングレートと前記第２のエッチングのエッチングレートとの差が±２０％以内になるように制御する、
請求項６に記載のエッチング処理方法。
【請求項８】
前記第１のプロセス条件における第１のエッチングの第１のステップで制御されるバイアス用の高周波電力のＤｕｔｙ比は、前記第２のプロセス条件における第２のエッチングの第２のステップで制御されるバイアス用の高周波電力のＤｕｔｙ比よりも小さい、
請求項６又は７に記載のエッチング処理方法。
【請求項９】
前記第１のエッチングにおいて、水素含有ガス及びフッ素含有ガスの替わりに、Ｈ２、ＨＢｒ、ＣＨ２Ｆ２、ＮＦ、ＣＨ４及びＣＦ４の混合ガスからプラズマを生成する、
請求項６〜８のいずれか一項に記載のエッチング処理方法。
【請求項１０】
−３０℃〜−１００℃の範囲の極低温環境において前記第１のエッチングと前記第２のエッチングとを同時又は並行して行う、
請求項１〜９のいずれか一項に記載のエッチング処理方法。
【請求項１１】
下部電極は、チタンにより形成される、
請求項１〜１０のいずれか一項に記載のエッチング処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
そこで、本発明の第１実施形態にかかるエッチング処理方法では、下部電極が極低温の温度に制御される。図３（ａ）には下部電極の温度が０℃（低温）でＣＦ４ガス及び水素ガスから生成されたプラズマを用いたときのエッチング結果の一例が示されている。これに対して、図３（ｂ）には下部電極の温度が−６０℃でＣＦ４ガス及び水素ガスから生成されたプラズマを用いたときのエッチング結果の一例が示されている。これによれば、下部電極の温度を低温から極低温に変えることにより積層膜１２のエッチングレートが約２倍になることがわかる。これに対して、単層膜１３のエッチングレートは１．３倍程度である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
そこで、本実施形態にかかるエッチング処理方法では、更にバイアス用の高周波電力ＬＦの最適化と供給するガス系を最適化する。これにより、図３の（ｃ）に示すように特に単層膜１３のエッチングレートを大幅に上昇させることができ、積層膜１２と単層膜１３とのエッチングレートをほぼ１：１に制御することができる。この結果、エッチング処理時間を短縮し、生産性を向上させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
なお、第１実施形態にかかるエッチング処理方法では、バイアス用の高周波電力ＬＦは２０００Ｗ〜３５００Ｗに制御される。つまり、第１実施形態では、バイアス用の高周波電力ＬＦの実効値が２０００Ｗ〜３５００Ｗのとき、ウェハＷの面積を１５×１５×３．１４ｃｍ２とすると、下部電極に印加される単位面積当たりのバイアス用の高周波電力ＬＦは、２．８Ｗ／ｃｍ２〜５．０Ｗ／ｃｍ２に制御される。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月13日(2017.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマを用いて被処理物が処理される処理室と、
前記プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、
前記被処理物が載置される試料台と、
第１ガスと第２ガスを含む処理ガスを前記処理室に供給するガス供給装置と、
前記ガス供給装置を制御する制御装置と、を備え、
前記ガス供給装置は、第１マスフローコントローラと前記第１マスフローコントローラより前記処理室側に配置された第１バルブとが配置され前記第１ガスが流れる第１配管と、第２マスフローコントローラと前記第２マスフローコントローラより前記処理室側に配置された第２バルブとが配置され前記第２ガスが流れる第２配管と、を具備し、
前記制御装置は、前記処理室に供給するガスを時刻Ｔ１に前記第１ガスから前記第２ガスに切り替える場合、前記Ｔ１よりもＴｃ秒前に前記第２バルブを閉とした状態で前記第２マスフローコントローラを所定の流量値に設定し、前記第２バルブを前記Ｔ１に開とし、
前記第１配管と前記第２配管は、第３配管を介して前記処理室に接続され、
前記Ｔｃは、前記処理室の圧力が所定の値となるように前記第２ガスを前記処理室に供給した時における、前記第３配管および前記処理室を満たすのに必要な前記第２ガスの量を用いて求められることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
前記Ｔｃは、プラズマの発光を用いて求められることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記第２配管の容積は、前記Ｔ１における前記第２配管内の圧力が前記第２マスフローコントローラの動作範囲の圧力を超えない容積であるとともに前記第２ガスの流量と前記Ｔｃに基づいて３０〜３０００ｍｍ３の範囲内から選択された容積であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
プラズマを用いて被処理物が処理される処理室と、
前記プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、
前記被処理物が載置される試料台と、
第１ガスと第２ガスを含む処理ガスを前記処理室に供給するガス供給装置と、
前記ガス供給装置を制御する制御装置と、を備え、
前記ガス供給装置は、第１マスフローコントローラと前記第１マスフローコントローラより前記処理室側に配置された第１バルブとが配置され前記第１ガスが流れる第１配管と、第２マスフローコントローラと前記第２マスフローコントローラより前記処理室側に配置された第２バルブとが配置され前記第２ガスが流れる第２配管と、を具備し、
前記制御装置は、前記処理室に供給するガスを時刻Ｔ１に前記第１ガスから前記第２ガスに切り替える場合、前記Ｔ１より(Ｔｃ−Ｔ２)秒前、前記第２バルブを閉とした状態で前記第２マスフローコントローラを所定の流量値に設定し、前記第２バルブを前記Ｔ１に開とし、
前記第１配管と前記第２配管は、第３配管を介して前記処理室に接続され、
前記Ｔｃは、前記処理室の圧力が所定の値となるように前記第２ガスを前記処理室に供給した時における、前記第３配管および前記処理室を満たすのに必要な前記第２ガスの量を用いて求められ、
前記Ｔ２は、前記第２マスフローコントローラを用いて前記第２配管を充填した場合の充填圧力の時間変化と、ガス供給開始前の待機時間中に前記第２マスフローコントローラから漏れ出したガスによる前記第２配管内の圧力が前記Ｔ１より前記ＴＣ秒前に検知された前記第２配管内の圧力であった場合の充填圧力の時間変化と、前記第２配管の充填圧力の目標値と前記Ｔ１より前記ＴＣ秒前に検知された前記第２配管内の圧力との差と、を用いて求められることを特徴とするプラズマ処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月9日(2018.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
相手側コネクタは、第１相手側突出部と第２相手側突出部の２種類の相手側突出部を有しており、コネクタは、第１受容部と第２受容部の２種類の受容部を有している。第１受容部は、第２方向と第１方向とにおいて開いており、コネクタが相手側コネクタと嵌合した際に第１相手側突出部を受容して第１相手側突出部の動きを規制する。第２受容部は、第３方向と第１方向とにおいて開いており、コネクタが相手側コネクタと嵌合した際に第２相手側突出部を受容して第２相手側突出部の動きを規制する。ここで、第２方向と第３方向との夫々は、第１方向と直交しており、第２方向と第３方向とは互いに異なっていることから、第１受容部による第１相手側突出部の規制と、第２受容部による第２相手側突出部の規制とは、互いに補完している。そのため、上述したように、保持部材のサイズを小さくしてコネクタ組立体の小型化を図りつつも、コネクタの相手側コネクタに対する嵌合を適切にガイドすることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
図１乃至図４を参照すると、本発明の実施の形態によるコネクタ組立体１０は、第１方向に沿って互いに嵌合可能なコネクタ１００と相手側コネクタ３００とを備えている。本実施の形態において、第１方向は、Ｚ方向である。本実施の形態のコネクタ１００と相手側コネクタ３００とは互いに同一形状を有している。即ち、コネクタ１００と相手側コネクタ３００とは雌雄同体である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
上述したように、第１受容部２５２、第２受容部２５４及び第３受容部２５６は第１方向と直交する平面内において閉じていない。同様に、第１相手側受容部４５２、第２相手側受容部４５４及び第３相手側受容部４５６は第１方向と直交する平面内において閉じていない。そのため、図２及び図３に示されるように、コネクタ１００が相手側コネクタ３００と嵌合したとき、第１突出部２３２、第２突出部２３４及び第３突出部２３６や第１相手側突出部４３２、第２相手側突出部４３４及び第３相手側突出部４３６は、いずれも第１方向と直交する方向において外側に露出している。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月29日(2018.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を出射する光源と、
前記光源が出射する前記光を透過させる光学シートと、
前記光学シートを保持する筐体と、
押圧部と、を備え、
前記光学シートは、突起を有し、
前記押圧部は、当該押圧部の少なくとも一部が前記光学シートの前記突起と接触することにより、当該突起を変形させるように設けられ、
前記押圧部は、
前記光学シートが伸長した場合、伸長した当該光学シートの前記突起と接触することにより当該突起を保持する保持部を有する
バックライト。
【請求項２】
前記押圧部は、前記筐体に設けられる
請求項１に記載のバックライト。
【請求項３】
平面視における前記筐体の輪郭の形状は、矩形であり、
平面視において、前記押圧部は、前記筐体の角部に設けられる
請求項２に記載のバックライト。
【請求項４】
平面視における前記筐体の輪郭の形状は、矩形であり、
平面視において、前記押圧部は、前記筐体が示す前記矩形の一辺側に設けられる
請求項２に記載のバックライト。
【請求項５】
前記バックライトは、さらに、
前記押圧部を有し、かつ、光を反射させるための反射シートを備える
請求項１に記載のバックライト。
【請求項６】
前記突起は、前記光学シートが延在する方向であって、かつ、当該光学シートの周辺の方向へ向かって突出するように設けられる
請求項１から５のいずれか１項に記載のバックライト。
【請求項７】
平面視における前記突起の形状は、Ｔ字状である
請求項６に記載のバックライト。
【請求項８】
前記突起の根元には、切り欠きが設けられる
請求項１から７のいずれか１項に記載のバックライト。
【請求項９】
前記突起は、平面視において、前記押圧部が設けられる領域と重なる領域に設けられる
請求項１から８のいずれか１項に記載のバックライト。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載のバックライトを備え、
前記バックライトが出射する光を使用して映像を表示する表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
また、押圧部２１Ｆｘは、平面視（ＸＹ面）において、突起２ｘが設けられる領域と重なる領域に設けられる。すなわち、押圧部２１Ｆｘは、平面視（ＸＹ面）において、突起２ｘが設けられる領域とほぼ同じ領域に設けられる。そのため、図５（ａ）のように、光学シート２Ａに２つの突起２ｘが設けられる場合、筐体２１Ｆの２つの角部には、それぞれ、２つの押圧部２１Ｆｘが設けられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
図６（ｂ）、図７（ａ）および図７（ｂ）を参照して、前述したように、筐体２１Ｆの角部には、押圧部２１Ｆｘが設けられる。また、前述したように、押圧部２１Ｆｘは、平面視（ＸＹ面）において、突起２ｘが設けられる領域と重なる領域に設けられる。言い換えれば、突起２ｘは、平面視（ＸＹ面）において、押圧部２１Ｆｘが設けられる領域と重なる領域に設けられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
次に、突起２ｘが設けられる領域について説明する。上記のように、傾斜部２１Ｆｓおよび保持部２１Ｆｒにより、突起２ｘ（光学シート２Ａ）は保持されるとともに、位置決めされる。そのため、平面視（ＸＹ面）において、変形した突起２ｘが発光領域Ｒ５０内に入らないように、突起２ｘは設けられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
具体的には、図５を参照して、突起２ｘは、光学シート２Ａのうち、発光領域Ｒ５０以外の前述のシート周縁領域に設けられる。これにより、平面視（ＸＹ面）において、傾斜部２１Ｆｓ、保持部２１Ｆｒ等により、変形した突起２ｘが発光領域Ｒ５０内に入ることを防ぐことができる。なお、前述したように、表示装置１００は、バックライト２０が出射する光を使用して映像を表示する。なお、突起２ｘが、仮に発光領域Ｒ５０内に存在する場合、バックライト２０が出射する光の一部が突起２ｘにより遮られる。この場合、表示装置１００が表示する映像の品質が低下する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
以下においては、平面視（ＸＹ面）において、突起２ｘが存在しない領域を、「突起無し領域」ともいう。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
また、変形構成Ａ１が適用された筐体２１Ｆには、平面視（ＸＹ面）において、突起２ｘａが設けられる領域と重なる領域に押圧部２１Ｆｘが設けられる。言い換えれば、突起２ｘａは、平面視（ＸＹ面）において、押圧部２１Ｆｘが設けられる領域と重なる領域に設けられる。前述したように、平面視（ＸＹ面）における筐体２１Ｆの輪郭の形状は、矩形である。そのため、平面視（ＸＹ面）において、押圧部２１Ｆｘは、筐体２１Ｆが示す矩形の一辺側に設けられる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
変形構成Ａ１においても、押圧部２１Ｆｘは、当該押圧部２１Ｆｘの少なくとも一部（傾斜部２１Ｆｓ）が光学シート２Ａａの突起２ｘａと接触することにより、当該突起２ｘａを変形させるように設けられる。また、傾斜部２１Ｆｓは、光学シート２Ａａの突起２ｘａと接触することにより、当該突起２ｘａを変形させるように設けられる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２５】
押圧部２１Ｆｘａは、平面視（ＸＹ面）において、突起２ｘが設けられる領域と重なる領域に設けられる。言い換えれば、突起２ｘは、平面視（ＸＹ面）において、押圧部２１Ｆｘａが設けられる領域と重なる領域に設けられる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３２】
変形構成Ａｂでは、突起２ｘａは、平面視（ＸＹ面）において、押圧部２１Ｆｘａが設けられる領域と重なる領域に設けられる。なお、平面視（ＸＹ面）における筐体２１Ｆの輪郭の形状は、矩形である。そのため、平面視（ＸＹ面）において、押圧部２１Ｆｘａは、筐体２１Ｆが示す矩形の一辺側に設けられる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月14日(2018.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
常用点灯装置と非常用点灯装置とを備え、
前記常用点灯装置は、
整流回路と、
前記整流回路の出力電圧から制御電源を生成する制御電源部と、
第一制御回路を含み、前記整流回路の出力電圧を変換して光源に供給すべき直流電流を生成する第一ＤＣ−ＤＣコンバータと、
前記制御電源が供給される制御電源端子と、
を有し、
前記非常用点灯装置は、
前記制御電源端子と接続される電源取得端子と、
非常用電源と接続すべき非常用電源端子と、
前記非常用電源端子および前記電源取得端子に接続し、前記制御電源で前記非常用電源を充電する充電回路と、
前記非常用電源端子と接続し前記非常用電源の電圧を変換して前記光源に供給すべき直流電流を生成し、第一イネーブル部を有する第二制御回路を含む第二ＤＣ−ＤＣコンバータと、
を備え、
前記常用点灯装置は、常用点灯から非常用点灯への切替えを行うための切替信号を生成し、
前記非常用点灯装置は、前記常用点灯装置において前記切替信号に応答して前記電源取得端子への前記制御電源の供給が停止されたとき、又は前記常用点灯装置から前記切替信号を受信したときに、前記第一イネーブル部を通じて前記第二制御回路をイネーブルとするように構成された電源装置。
【請求項２】
前記常用点灯装置は、前記切替信号を送信するための送信端子を備え、
前記非常用点灯装置は、前記送信端子と接続される受信端子を備え、
前記非常用点灯装置は、前記受信端子が受信した前記切替信号に応答して前記第一イネーブル部を通じて前記第二制御回路をイネーブルとする請求項１に記載の電源装置。
【請求項３】
前記充電回路は、
前記電源取得端子に接続した一次巻線、および前記非常用電源に接続した二次巻線を有するトランスと、
前記一次巻線に直列接続したスイッチング素子と、
前記スイッチング素子のオンオフを制御するとともに、前記受信端子と接続した第二イネーブル部を有し且つ前記切替信号に応答して前記第二イネーブル部を通じてディセーブルとされる第三制御回路と、
を含み、
前記非常用点灯装置は、前記二次巻線の電圧低下に応答して前記第一イネーブル部を通じて前記第二制御回路をイネーブルとする第一スイッチ回路を含む請求項２に記載の電源装置。
【請求項４】
前記非常用点灯装置は、前記受信端子と接続するフォトダイオードと前記第一イネーブル部と接続したフォトトランジスタとを有するフォトカプラを更に備え、
前記切替信号に応答して前記フォトカプラの光信号が切り替わることで、前記第一イネーブル部を通じて前記第二制御回路をイネーブルに切り替える請求項２に記載の電源装置。
【請求項５】
前記充電回路は、
前記電源取得端子に接続した一次巻線、および前記非常用電源に接続した二次巻線を有するトランスと、
前記一次巻線に直列接続したスイッチング素子と、
前記電源取得端子から電源電圧を取得し、前記スイッチング素子のオンオフを制御する第三制御回路と、
を含み、
前記非常用点灯装置は、前記二次巻線の電圧低下に応答して前記第一イネーブル部を通じて前記第二制御回路をイネーブルに切替える第一スイッチ回路を含み、
前記常用点灯装置は、前記切替信号に応答して前記制御電源部と前記制御電源端子との間の電気接続を導通から遮断へと切替える第二スイッチ回路を含む請求項１に記載の電源装置。
【請求項６】
前記第一ＤＣ−ＤＣコンバータは、定電流出力回路であり、
前記第二ＤＣ−ＤＣコンバータは、定電力出力回路である請求項１から５のいずれか１項に記載の電源装置。
【請求項７】
前記常用点灯装置は、前記制御電源端子を含む第一端子部、前記整流回路、前記制御電源部、および前記第一ＤＣ−ＤＣコンバータが実装された第一回路基板を含み、
前記非常用点灯装置は、前記電源取得端子を含む第二端子部、前記非常用電源端子、前記充電回路、および前記第二ＤＣ−ＤＣコンバータが実装された第二回路基板を含み、
前記第一回路基板と前記第二回路基板は互いに分離された請求項１から６のいずれか１項に記載の電源装置。
【請求項８】
前記常用点灯装置は、前記第一回路基板を収納する第一筐体を備え、
前記非常用点灯装置は、前記第二回路基板を収納する第二筐体を備え、
前記第一筐体から前記第一端子部が露出し、前記第二筐体から前記第二端子部が露出した請求項７に記載の電源装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明にかかる電源装置は、常用点灯装置と非常用点灯装置とを備え、前記常用点灯装置は、整流回路と、前記整流回路の出力電圧から制御電源を生成する制御電源部と、第一制御回路を含み、前記整流回路の出力電圧を変換して光源に供給すべき直流電流を生成する第一ＤＣ−ＤＣコンバータと、前記制御電源が供給される制御電源端子と、を有し、前記非常用点灯装置は、前記制御電源端子と接続される電源取得端子と、非常用電源と接続すべき非常用電源端子と、前記非常用電源端子および前記電源取得端子に接続し、前記制御電源で前記非常用電源を充電する充電回路と、前記非常用電源端子と接続し前記非常用電源の電圧を変換して前記光源に供給すべき直流電流を生成し、第一イネーブル部を有する第二制御回路を含む第二ＤＣ−ＤＣコンバータと、を備え、前記常用点灯装置は、常用点灯から非常用点灯への切替えを行うための切替信号を生成し、前記非常用点灯装置は、前記常用点灯装置において前記切替信号に応答して前記電源取得端子への前記制御電源の供給が停止されたとき、又は前記常用点灯装置から前記切替信号を受信したときに、前記第一イネーブル部を通じて前記第二制御回路をイネーブルとするように構成されたものである。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月28日(2018.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
造営材に取り付けられるＬＥＤ照明装置であって、
ＬＥＤ素子が配置されるＬＥＤ基板と、
前記ＬＥＤ素子で発光された光の入口及び出口を有する筒状をなし、内周面が反射面に設定されている反射部材と、を備え、
前記反射面は、筒軸に対して回転対称となる長尺状面を組み合わせて構成されており、
前記長尺状面は、周方向に沿った断面が直線のみとなり、軸方向に沿った断面が曲線のみとなる形状に形成されている、ＬＥＤ照明装置。
【請求項２】
前記長尺状面における軸方向に沿った断面は、変曲点で結合された複数の曲線のみで形成され、各々の曲線は、互いに異なる曲率を有する、請求項１に記載のＬＥＤ照明装置。
【請求項３】
ＬＥＤ素子が配置されるＬＥＤ基板と、
前記ＬＥＤ基板が取り付けられる基台と、
前記ＬＥＤ素子を取り囲む筒状の反射部材と、
前記基台を支持する支持部材と、を備え、
前記反射部材は、前記支持部材に支持されており、前記ＬＥＤ基板から離間している、ＬＥＤ照明装置。
【請求項４】
前記支持部材は、筒状をなし、前記反射部材を内包しており、
前記反射部材のＬＥＤ基板側部位は、前記支持部材の筒部よりも小径に形成され且つ前記筒部から離間している、
請求項３に記載のＬＥＤ照明装置。
【請求項５】
ＬＥＤ素子が配置されるＬＥＤ基板と、
前記ＬＥＤ基板が取り付けられる基台と、
前記基台を支持する外筒と、
前記外筒に内包され、前記ＬＥＤ素子を取り囲む筒状の反射部材と、を備え、
前記外筒を径方向に貫通する留め具を、前記反射部材の外周面に形成された挿通孔に挿入することで、前記反射部材が前記外筒に支持され、
前記挿通孔は、前記留め具よりも大きく形成されている、ＬＥＤ照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月28日(2018.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＬＥＤ素子が配置されるＬＥＤ基板と、
前記ＬＥＤ基板が取り付けられる基台と、
前記基台から反基板側へ起立する放熱フィンと、
前記ＬＥＤ基板に電力を供給する電線と、を備え、
前記電線は、起立方向に沿って見た場合に、前記放熱フィンの外側であって前記基台の外側に開放される位置において、前記ＬＥＤ基板側から反基板側へ延びており、
前記基台の外側から前記電線を覆いつつ前記電線を反基板側へ案内する案内カバー部材が設けられている、ＬＥＤ照明装置。
【請求項２】
前記案内カバー部材は、起立方向に沿って見た場合に、前記基台の外側から前記電線を覆うと共に前記電線を前記基台の内側へ開放する断面Ｕ字状部位を有する、請求項１に記載のＬＥＤ照明装置。
【請求項３】
前記断面Ｕ字状部位は、前記ＬＥＤ基板側から反基板側へ延びる長尺状をなし、前記断面Ｕ字状部位の基端側が前記基台に固定され、前記断面Ｕ字状部位の先端側が前記放熱フィンに係わり合って固定されている、請求項２に記載のＬＥＤ照明装置。
【請求項４】
ＬＥＤ素子が配置されるＬＥＤ基板と、前記ＬＥＤ基板を取り付ける基板取付面を有する基台と、を備え、
前記基台は、外部に起立する放熱フィンが一体に形成され、前記ＬＥＤ基板の熱を前記基板取付面で受けて前記放熱フィンを介して外部に放出し、
前記ＬＥＤ基板は、前記基板取付面よりも小さく形成されており、
前記基板取付面は、前記ＬＥＤ基板を取り付けた状態において、前記ＬＥＤ基板が載置 される第１領域と、前記第１領域の外側にて残余となる第２領域と、を有し、前記第１領 域と前記第２領域とが面一になる、ＬＥＤ照明装置。
【請求項５】
前記ＬＥＤ基板の縁部および前記第２領域には、位置合わせ部が設けられている、請求項４に記載のＬＥＤ照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月28日(2018.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＬＥＤ素子が配置されるＬＥＤ基板と、前記ＬＥＤ基板に生じる熱が伝達する基台と、前記基台から起立する複数の放熱フィンと、を備え、
前記複数の放熱フィンは、起立方向に沿って見た場合に、前記基台の中央側から外側へ延びて放射状に配置されており、前記基台の中央側に設けられた第１領域において所定中心回りに配置される複数の第１フィンと、前記第１領域の周囲に設けられる第２領域において前記所定中心回りに配置される複数の第２フィンと、を有し、
前記複数の第２フィンのうち少なくとも一部のフィンは、各々の第１フィンから外周側へ径方向に沿って仮想延長線を引いた場合に、前記仮想延長線の間に配置されている、ＬＥＤ照明装置。
【請求項２】
前記複数の第２フィンのうち一部のフィンは、前記仮想延長線上に配置されている、請求項１に記載のＬＥＤ照明装置。
【請求項３】
前記第２領域の周囲に設けられる第３領域において前記所定中心回りに配置される複数の第３フィンを有し、
前記複数の第３フィンの少なくとも一部のフィンは、各々の第２フィンから外周側へ径方向に沿って第２仮想延長線を引いた場合に、前記第２仮想延長線の間に配置されている、請求項１又は２に記載のＬＥＤ照明装置。
【請求項４】
ＬＥＤ素子が配置されるＬＥＤ基板と、前記ＬＥＤ基板に生じる熱が伝達する基台と、前記基台から起立する複数の放熱フィンと、を備え、
前記複数の放熱フィンは、起立方向に沿って見た場合に、前記基台の中央側から外側へ延びて放射状に配置されており、前記基台の中央側に設けられた第１領域において所定中心回りに配置される複数の第１フィンと、前記第１領域の周囲に設けられる第２領域において前記所定中心回りに配置される複数の第２フィンと、を有し、
前記第２フィンは、前記第１フィンよりも多く設けられている、ＬＥＤ照明装置。
【請求項５】
ＬＥＤ素子が配置されるＬＥＤ基板と、前記ＬＥＤ基板に生じる熱が伝達する基台と、前記基台から起立する複数の放熱フィンと、を備え、
前記複数の放熱フィンは、起立方向に沿って見た場合に、前記基台の中央側から外側へ延びて放射状に配置されており、前記基台の中央側に設けられた第１領域において所定中心回りに配置される複数の第１フィンと、前記第１領域の周囲に設けられる第２領域に配置される第２フィンと、を有し、
前記第２フィンの径方向長さは、前記第１フィンの径方向長さよりも短い、ＬＥＤ照明装置。
【請求項６】
前記第２領域の周囲に設けられる第３領域に配置される第３フィンを備え、
前記第３フィンの径方向長さは、前記第２フィンの径方向長さよりも短い、請求項５に記載のＬＥＤ照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月16日(2018.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ金属原子と、
前記アルカリ金属原子を放出したアルカリ金属放出材と、
前記アルカリ金属原子および前記アルカリ金属放出材を収納している内部空間と、
を備え、
前記内部空間は、
気体状の前記アルカリ金属原子を収納している第１領域と、
前記アルカリ金属放出材を収納している第２領域と、
液体状または固体状の前記アルカリ金属原子を収納している第３領域と、
を有することを特徴とする原子セル。
【請求項２】
前記第１領域と前記第２領域との間に前記第３領域がある請求項１に記載の原子セル。
【請求項３】
前記第２領域と前記第３領域との間に前記第１領域がある請求項１に記載の原子セル。
【請求項４】
前記第１領域と前記第２領域との間を連通している連通孔を備え、
前記連通孔の幅が前記アルカリ金属放出材の幅よりも小さい請求項１ないし３のいずれか１項に記載の原子セル。
【請求項５】
前記第２領域に配置されているゲッター材を備える請求項１ないし４のいずれか１項に記載の原子セル。
【請求項６】
前記内部空間における気体状の前記アルカリ金属原子以外の気体の分圧が１０−４Ｐａ以下である請求項１ないし５のいずれか１項に記載の原子セル。
【請求項７】
第１領域、第２領域および第３領域を有する内部空間を有していて、前記内部空間の前記第２領域に、アルカリ金属を含む固体状の化合物を収納しているセル容器を準備する準備工程と、
前記第２領域を加熱することにより、前記化合物から前記アルカリ金属を放出させる放出工程と、
前記第３領域の温度を前記第１領域の温度よりも低くする温度調節工程と、
を有することを特徴とする原子セルの製造方法。
【請求項８】
前記準備工程は、前記内部空間を封止するステップを含む請求項７に記載の原子セルの製造方法。
【請求項９】
前記放出工程の後に、前記第２領域を除去する除去工程を有する請求項７または８に記載の原子セルの製造方法。
【請求項１０】
前記除去工程は、前記温度調節工程よりも後に行う請求項９に記載の原子セルの製造方法。
【請求項１１】
前記準備工程において、前記第１領域と前記第２領域とは連通孔を介して連通しており、
前記除去工程は、前記連通孔を封鎖するステップを含む請求項９または１０に記載の原子セルの製造方法。
【請求項１２】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の原子セルを備えることを特徴とする量子干渉装置。
【請求項１３】
前記第１領域の温度が前記第３領域の温度よりも高い請求項１２に記載の量子干渉装置。
【請求項１４】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の原子セルを備えることを特徴とする原子発振器。
【請求項１５】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の原子セルを備えることを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
また、本実施形態では、貫通孔２１１による空間と貫通孔２１２による空間との間に貫通孔２１３による空間がある。これにより、後述するように、貫通孔２１２による空間を分離して除去しても、貫通孔２１１による空間と貫通孔２１３による空間とを連通させることができ、貫通孔２１１による空間にある気体状のアルカリ金属原子の量が低下するのを防止することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
胴体部形成用基板２１０と窓部形成用基板２３０との接合方法としては、前述した胴体部形成用基板２１０と窓部形成用基板２２０との接合方法と同様の方法を用いることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４０】
ここで、放出工程［２］の後に、貫通孔２１２を除去する除去工程を有することにより、得られる原子セル２Ａにおいて、アルカリ金属を放出した後の化合物Ｐを除去することができ、その化合物Ｐの影響を低減し、周波数安定度を高めることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４１】
また、かかる除去工程を温度調節工程［３］よりも後に行うことにより、得られる原子セル２Ａにおいて、アルカリ金属を放出した後の化合物Ｐを除去することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５２】
なお、以下の説明では、第３実施形態に関し、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項に関してはその説明を省略する。