(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数個連設された電磁弁のうち特定のものに対して給排される流体の調圧を行うために、マニホールドベースと電磁弁との間に配置される調圧器であって、
調圧に関与する第１の電磁弁及び調圧に関与しないものであって前記第１の電磁弁に隣接する第２の電磁弁と前記マニホールドベースとの間に調圧器本体を配置し、その調圧器本体における一部の領域に前記第２の電磁弁側と前記マニホールドベース側とを連通する第２の流路群を形成するとともに、残りの領域に前記第１の電磁弁側と前記マニホールドベース側とを連通する第１の流路群を形成し、主弁及び受圧体を備える調圧部材を前記第１の流路群に属する流路内に収容し、
前記電磁弁の２個分の横幅に相当する横幅を有する調圧器本体の一部の領域に前記第１の流路群が１つ形成され、残りの領域に前記第２の流路群が１つ形成され、前記調圧器本体を前面側からみた場合、前記第１の流路群は前記電磁弁の１個分の横幅に相当する領域以上を占有していることを特徴とする電磁弁マニホールド用調圧器。
【請求項２】
複数個連設された電磁弁のうち特定のものに対して給排される流体の調圧を行うために、マニホールドベースと電磁弁との間に配置される調圧器であって、
調圧に関与する第１の電磁弁及び調圧に関与しないものであって前記第１の電磁弁に隣接する第２の電磁弁と前記マニホールドベースとの間に調圧器本体を配置し、その調圧器本体における一部の領域に前記第２の電磁弁側と前記マニホールドベース側とを連通する第２の流路群を形成するとともに、残りの領域に前記第１の電磁弁側と前記マニホールドベース側とを連通する第１の流路群を形成し、主弁及び受圧体を備える調圧部材を前記第１の流路群に属する流路内に収容し、
前記電磁弁の３個分の横幅に相当する横幅を有する調圧器本体の一部の領域に前記第１の流路群が２つ形成され、かつ２つある第１の流路群間に位置する領域に前記第２の流路群が１つ形成され、前記調圧器本体を前面側からみた場合、前記第１の流路群は前記電磁弁の１個分の横幅に相当する領域以上を占有していることを特徴とする電磁弁マニホールド用調圧器。
【請求項３】
前記流路群を構成する流路の断面形状は、前記電磁弁の横幅方向に沿って長い楕円形または長方形であることを特徴とする請求項１または２に記載の電磁弁マニホールド用調圧器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電磁弁マニホールド用調圧器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、マニホールドベースと電磁弁との間に配置される電磁弁マニホールド用調圧器の一種として、スペーサレギュレータと呼ばれる装置が知られている。スペーサレギュレータとは、複数個連設された電磁弁のうち特定のものに対して給排される流体を所定の圧力値に減圧するための装置である。ここで、図１０，図１１に従来におけるスペーサレギュレータ８１の一例を示す。
【０００３】
マニホールドベース８２は、５個のベースブロック８３と、１個の給排気ブロック８４と、２個のエンドブロック８５とによって構成されている。個々のベースブロック８３の上面には、メイン流路に連通する図示しない複数のポートがそれぞれ形成されている。図１０において左から２番めのものを除き、他の４個のベースブロック８３の上面には、電磁弁８６が直かに設置されている。電磁弁８６の下面側には、前記ベースブロック８３側のポートに対応するように図示しない複数のポートが形成されている。一方、図１０において左から２番めのベースブロック８３の上面には、スペーサレギュレータ８１を介して電磁弁８６が間接的に設置されている。
【０００４】
図１１に示されるように、スペーサレギュレータ８１は、電磁弁８６の１個分の横幅に等しい横幅を有する本体８７によって構成されている。この本体８７には、複数の流路９１，９２，９３，９４，９５が形成されている。これらの流路９１〜９５は、マニホールドベース８２側のポートと電磁弁８６側のポートとを連通している。複数ある流路９１〜９５のうちの１つのもの９３の途上には、主弁９６、ロッド９７及びピストン９８を備える調圧部材９９が摺動可能に収容されている。前記流路９３内には、ロッド９７の一端側にある主弁９６が接離可能な弁座１００が設けられている。ロッド９７の他端側にあるピストン９８の受圧面側には、流路９３内の流体圧が作用する。その結果、ピストン９８は本体８７の長手方向に沿って押圧される。ピストン９８の非受圧面側には、コイルスプリング１０１が設けられている。このコイルスプリング１０１のばね力は、前記流体による押圧力とは反対方向に作用する。コイルスプリング１０１のばね力は、アジャスティングスクリュ１０２とロックナット１０３とからなる操作体によって調整できるようになっている。
【０００５】
従って、このように構成されたスペーサレギュレータ８１によれば、アジャスティングスクリュ１０２を回動操作することによって、主弁９６及び弁座１００を介して流れる流体の流量を減らすことができる。ゆえに、特定の電磁弁８６に対して給排される流体を所定の圧力値に減圧できるようになっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、最近ではコンパクトであるにもかかわらず大流量を確保することができる流体圧機器を要求する声が強く、電磁弁８６についてはこの種のニーズを満たすものが徐々に登場するに至っている。
【０００７】
しかしながら、スペーサレギュレータ８１等の調圧器については、前記の要求を満たすものが未だ登場するに至っていなかった。従って、仮に現状のスペーサレギュレータ８１を単純にスケールダウンしたものを用いたとしても、各構成部品が小さくなることで流路の有効断面積の減少が避けられなかった。この場合、スペーサレギュレータ８１にて流路が絞られ、大流量の電磁弁８６を使用しているにもかかわらず全体としての高性能化を達成することができなかった。
【０００８】
また、スペーサレギュレータ８１をスケールダウンした場合にはピストン９８の受圧面積が小さくなるため、このことも性能の低下をもたらす１つの原因となっていた。
【０００９】
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、コンパクト性を損なうことなく大流量を確保することができる電磁弁マニホールド用調圧器を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、請求項１及び２に記載の発明では、複数個連設された電磁弁のうち特定のものに対して給排される流体の調圧を行うために、マニホールドベースと電磁弁との間に配置される調圧器であって、調圧に関与する第１の電磁弁及び調圧に関与しないものであって前記第１の電磁弁に隣接する第２の電磁弁と前記マニホールドベースとの間に調圧器本体を配置し、その調圧器本体における一部の領域に前記第２の電磁弁側と前記マニホールドベース側とを連通する第２の流路群を形成するとともに、残りの領域に前記第１の電磁弁側と前記マニホールドベース側とを連通する第１の流路群を形成し、主弁及び受圧体を備える調圧部材を前記第１の流路群に属する流路内に収容したことを特徴とする電磁弁マニホールド用調圧器をその要旨とする。
【００１１】
請求項１において、前記電磁弁の２個分の横幅に相当する横幅を有する調圧器本体の一部の領域に前記第１の流路群が１つ形成され、残りの領域に前記第２の流路群が１つ形成され、前記調圧器本体を前面側からみた場合、前記第１の流路群は前記電磁弁の１個分の横幅に相当する領域以上を占有しているとした。
請求項２において、前記電磁弁の３個分の横幅に相当する横幅を有する調圧器本体の一部の領域に前記第１の流路群が２つ形成され、かつ２つある第１の流路群間に位置する領域に前記第２の流路群が１つ形成され、前記調圧器本体を前面側からみた場合、前記第１の流路群は前記電磁弁の１個分の横幅に相当する領域以上を占有しているとした。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２において、前記流路群を構成する流路の断面形状は、前記電磁弁の横幅方向に沿って長い楕円形または長方形であるとした。
【００１３】
以下、本発明の「作用」について説明する。
請求項１〜３に記載の発明によると、調圧器の横幅が従来より大きくなることによって流路群を形成することが可能な領域が増え、流路群のレイアウトが容易になる。より具体的にいうと、調圧に関与しない第２の流路群は、調圧に関与する第１の流路群に比べ、形成に際してそれほど大きな領域を必要としない。従って、調圧器本体における残りの領域に第１の流路群を形成するに際して、前記第１の流路群を横幅方向にある程度張り出させることが可能となる。そのため、コンパクトな調圧器とした場合であっても流路が絞られなくなり、大流量が確保される。
【００１４】
請求項１に記載の発明によると、横幅が電磁弁の２個分の横幅に相当するものであることからコンパクトな調圧器となり、電磁弁マニホールド全体の大型化が最小限に止められる。請求項２に記載の発明によると、２つの電磁弁に給排される流体の調圧を１つの調圧器のみによって個々に行うことができる。
【００１５】
請求項３に記載の発明によると、限られたスペース内において断面積の大きな複数の流路を形成しようとした場合、かかる形状の流路は断面円形状の流路に比べて有利である。また、断面楕円形状等の流路であれば、孔加工もそれほど困難なものではなく、作業性やコスト性の低下も回避される。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を電磁弁マニホールド１用のスペーサレギュレータ２に具体化した一実施形態を図１〜図８に基づき詳細に説明する。
【００１７】
図１，図２には、本実施形態の電磁弁マニホールド１が全体的に示されている。この電磁弁マニホールド１は、マニホールドベース３と電磁弁４Ａ〜４Ｅと、Ｐポート減圧用スペーサレギュレータ２とを備えている。
【００１８】
このマニホールドベース３は、５個のベースブロック１１と、１個の給排気ブロック１２と、２個のエンドブロック１３とによって構成されている。一対のエンドブロック１３は、各ベースブロック１１及び給排気ブロック１２の両端側に位置している。図３に示されるように、各ベースブロック１１の複数箇所には、左右両面を貫通する貫通孔がそれぞれ形成されている。給排気ブロック１２についても同様である。これらの貫通孔は、各ブロック１１，１２，１３を連設したときに第１のメイン流路１４や第２のメイン流路１５等を形成する。これらのメイン流路１４，１５は、流体供給源としての加圧エア供給源（図示略）に各々接続されている。
【００１９】
給排気ブロック１２の２箇所には排気ポートが設けられており、それらの排気ポートにはそれぞれサイレンサ１６が取り付けられている。サイレンサ１６は、排気時の騒音を軽減するという役割を果たしている。
【００２０】
両方のエンドブロック１３の外面側には固定部が形成されている。これらの固定部にあるねじ１７を締結することによって、各ブロック１１，１２，１３が金属製のＤＩＮレール１８上に連結状態で固定されている。
【００２１】
マニホールドベース３を構成する各ベースブロック１１は、その前面側にＡポート１９及びＢポート２０を１つずつ備えている。これらのポート１９，２０は、いわゆるワンタッチ継手構造になっている。Ａポート１９及びＢポート２０は、図示しない配管を介して各アクチュエータに接続される。従って、各アクチュエータには、所定圧力に減圧されたエアが給排されるようになっている。
【００２２】
図４において概略的に示されるように、個々のベースブロック１１の上面には、メイン流路１４，１５等に連通する複数のポート２１，２２，２３，２４，２５がそれぞれ形成されている。これらのポート２１〜２５は、ベースブロック１１の長手方向（即ちＤＩＮレール１８の短手方向）に沿って配列されている。なお、これらのポート２１〜２５のうち真ん中に位置するものがＰポート２３である。また、本実施形態では各ベースブロック１１の横幅は、１０．５mmというように図７に参考例として示す従来品（横幅＝１６mmピッチ）７２よりも狭ピッチに設定されている。
【００２３】
図１等に示されるように、この電磁弁マニホールド１は複数（本実施形態では５個）の電磁弁４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄ，４Ｅを備えている。本実施形態で使用した電磁弁４Ａ〜４Ｅは２位置５方弁であって、スプールを有する弁体部とソレノイド部とからなる。前記電磁弁４Ａ〜４Ｅは、ソレノイド部への通電制御によりスプールを駆動し、それをもって内部の流路を切り換えるように構成されている。各電磁弁４Ａ〜４Ｅの下面側には複数のポート３１，３２，３３，３４，３５が設けられている。なお、これらのポート３１〜３５のうち真ん中に位置するものがＰポート３３である。前記ポート３１はベースブロック１１側のポート２１に対応する位置に存在する。同様に、ポート３２はポート２２に対応する位置に、ポート３３はポート２３に対応する位置に、ポート３４はポート２４に対応する位置に、ポート３５はポート２５に対応する位置に存在する。また、電磁弁４Ａ〜４Ｅの横幅はベースブロック１１のそれに等しく、１０．５mmピッチに設定されている。
【００２４】
ところで、本実施形態では５個ある電磁弁４Ａ〜４Ｅのうち特定のもの１個、即ち図１，図２において左から２番めの電磁弁４Ｂのみの調圧を目的としている。従って、この電磁弁４Ｂのことを、調圧に関与する第１の電磁弁４Ｂと定義する。同図において第１の電磁弁４Ｂのすぐ右側には調圧に関与しない電磁弁４Ｃが隣接しており、これを第２の電磁弁４Ｃと定義する。
【００２５】
第１の電磁弁４Ｂ及び第２の電磁弁４Ｃを除く他の３個の電磁弁４Ａ，４Ｄ，４Ｅは、図１に示されるようにベースブロック１１の上面に直かに設置されている。従って、これらの電磁弁４Ａ，４Ｄ，４Ｅには、ベースブロック１１側のＰポート２３から、減圧されていない加圧エアが直接的に供給される。一方、第１の電磁弁４Ｂ及び第２の電磁弁４Ｃの下面とベースブロック１１の上面との間には、スペーサレギュレータ２が設置されている。
【００２６】
次に、スペーサレギュレータ２の構成について詳細に説明する。
図４に示されるように、調圧器本体としてのレギュレータ本体４０は、スペーサレギュレータ２の主要部分を構成している。本実施形態のレギュレータ本体４０は、電磁弁４Ｂ，４Ｃの２個分の横幅にちょうど等しい横幅となるように形成されている（図１参照）。即ち、本実施形態では前記横幅の値は２１mmである。
【００２７】
レギュレータ本体４０における一部の領域（図１において向かって右側となる半分弱の領域）には、第２の流路群が形成されている。また、残りの領域（図１において向かって左側となる半分強の領域）には、第１の流路群が形成されている。
【００２８】
図５，図６に示されるように、第２の流路群は５つの流路５１，５２，５３，５４，５５からなる。これらの流路５１〜５５は、第２の電磁弁４Ｃ側とベースブロック１１側とをそれぞれ連通している。具体的には次の通りである。流路５１は、ベースブロック１１側のポート２１及び電磁弁４Ｃ側のポート３１に対応する位置に存在し、それら２１，３１を互いに連通している。同様に、流路５２は、ポート２２，３２に対応する位置に存在し、それら２２，３２を互いに連通している。流路５３は、ポート２３，３３に対応する位置に存在し、それら２３，３３を互いに連通している。流路５４は、ポート２４，３４に対応する位置に存在し、それら２４，３４を互いに連通している。流路５５は、ポート２５，３５に対応する位置に存在し、それら２５，３５を互いに連通している。
【００２９】
第２の流路群を構成する各流路５１〜５５の断面形状はどこも等しく、いずれも電磁弁４Ｃの横幅方向に沿って長い楕円形となっている。各流路５１〜５５は、レギュレータ本体４０の上面４０ａ及び下面４０ｂを貫通するようにストレート状に形成されている。また、これらの流路５１〜５５は、レギュレータ本体４０の長手方向に沿ってほぼ一直線上に配列されている。前記流路５１〜５５は、例えばざぐり加工等のような従来公知の孔加工によって形成することができる。なお、レギュレータ本体４０を前面側からみたときにおける第２の流路群の占有領域は、第１の流路群の占有領域ほど大きくなく、レギュレータ本体４０の半分以下である。
【００３０】
一方、図５，図６に示されるように、第１の流路群も５つの流路４１，４２，４３，４４，４５からなる。これらの流路４１〜４５は、第１の電磁弁４Ｂ側とベースブロック１１側とをそれぞれ連通している。具体的には次の通りである。流路４１は、ベースブロック１１側のポート２１及び電磁弁４Ｂ側のポート３１に対応する位置に存在し、それら２１，３１を互いに連通している。同様に、流路４２は、ポート２２，３２に対応する位置に存在し、それら２２，３２を互いに連通している。流路４３は、ポート２３，３３に対応する位置に存在し、それら２３，３３を互いに連通している。流路４４は、ポート２４，３４に対応する位置に存在し、それら２４，３４を互いに連通している。流路４５は、ポート２５，３５に対応する位置に存在し、それら２５，３５を互いに連通している。
【００３１】
第１の流路群を構成する４つの流路４１，４２，４４，４５の断面形状は、等しい断面形状ではないものの、いずれも電磁弁４Ｂの横幅方向に沿って長い楕円形となっている。これら４つの流路４１，４２，４４，４５は、レギュレータ本体４０の上面４０ａ及び下面４０ｂを貫通するようにストレート状に形成されている。ただし、上下両端の開口部のほうが内部に比べていくぶん大径に形成されている。前記流路４１，４２，４４，４５は、レギュレータ本体４０の長手方向に沿ってほぼ一直線上に配列されている。
【００３２】
Ｐポート２３，３３に連通される流路４３は、他の流路４１，４２，４４，４５に比べて複雑な形状になっている。レギュレータ本体４３の中心部には、その長手方向に沿って延びるように空間４３ａが形成されている。この空間４３ａ内には調圧部材６１が摺動可能に収容されている。この空間４３ａは断面円形状であって、流路４３の一部を構成している。即ち、この空間４３ａは上面４０ａ側にある楕円形状の開口に連通している。また、前記空間４３ａは下面４０ｂ側にある曲線溝状の開口に連通している。
【００３３】
図４に示されるように、本実施形態の調圧部材６１は、主弁６２、伝達部材としてのロッド６３及び受圧体としてのピストン６４を備えている。ロッド６３は断面円形状の金属製棒状部材である。同図においてロッド６３の右端側には主弁６２が連結され、左端側にはピストン６４が連結されている。従って、主弁６２、ロッド６３及びピストン６４は、レギュレータ本体４０の長手方向に沿って一体的に移動可能となっている。前記空間４３ａを区画する部分の内壁には、弁座６５が形成されている。前記弁座６５と主弁６２とは互いに接離可能な位置関係にある。調圧部材６１が図４の右側方向に移動しているとき、弁座６５と主弁６２とがなす隙間は大きくなる。逆に調圧部材６１が図４の左側方向に移動しているとき、弁座６５と主弁６２とがなす隙間は小さくなる。
【００３４】
ピストン６４の受圧面側（図４の右端面側）には、流路４３内を流れるエアの圧力が作用するようになっている。その結果、ピストン６４は左側方向へ押圧される。ピストン６４の非受圧面側（図４の左端面側）には、付勢手段としてのコイルスプリング６６及びスプリングディスク６７が配置されている。コイルスプリング６６の一端側はスプリングディスク６７の右端面に当接され、他端側はピストン６４の左端面に当接されている。従って、ピストン６４は、前記押圧力とは反対方向に、即ち右方向に常時付勢されている。
【００３５】
レギュレータ本体４０の前方側端面には、カバー６８及びロックナット６９が配設されている。カバー６８及びロックナット６９には、雌ねじ溝を有するスクリュ挿通孔が形成されている。そして、このスクリュ挿通孔にはアジャスティングスクリュ７０が回動可能に挿入されている。カバー６８、ロックナット６９及びアジャスティングスクリュ７０は１つの操作体を構成している。アジャスティングスクリュ７０の先端はスプリングディスク６７の左端面に当接している。アジャスティングスクリュ７０の螺入量を多くすると、スプリングディスク６７が右側方向に移動し、コイルスプリング６６の圧縮量が大きくなる。その結果、コイルスプリング６６のばね力が大きくなる。反対にアジャスティングスクリュ７０の螺入量を少なくすると、スプリングディスク６７が左側方向に移動し、コイルスプリング６６の圧縮量が小さくなる。その結果、コイルスプリング６６のばね力が小さくなる。つまり、アジャスティングスクリュ７０の回動操作によりその螺入量を変更することによって、減圧時における設定圧を任意に調整することができる。
【００３６】
さて、以下に本実施形態において特徴的な作用効果を列挙する。
（イ）この電磁弁マニホールド１では、スペーサレギュレータ２が第１の電磁弁４Ｂ及び第２の電磁弁４Ｃとベースブロック１１との間に配置されるように構成されている。ゆえに、狭ピッチの電磁弁４Ａ〜４Ｅ及びベースブロック１１を使用しているにもかかわらず、レギュレータ本体４０の横幅は従来品よりも大きくなっている（図７，図８参照）。このため、レギュレータ本体４０には流路群を形成可能な領域が増え、第１及び第２の流路群のレイアウトが従来に比べて容易になる。より具体的にいうと、調圧に関与しない流路５１〜５５からなる第２の流路群は、調圧に関与する流路４１〜４５からなる第１の流路群に比べ、形成に際してそれほど大きな領域を必要としない。従って、レギュレータ本体４０における残りの領域に第１の流路群を形成するに際して、第１の流路群を横幅方向にある程度張り出させることが可能となる。そのため、コンパクトなスペーサレギュレータ２とした場合であっても、流路４１〜４５，５１〜５５の有効断面積は減少せず、流路４１〜４５，５１〜５５が絞られることもなくなる。従って、スペーサレギュレータ２に大流量を確保することができる。
【００３７】
（ロ）この電磁弁マニホールド１では、レギュレータ本体４０の横幅は、第１の電磁弁４Ｂ及び第２の電磁弁４Ｃの横幅の和（ちょうど電磁弁２個分の横幅ピッチ）に相当している。ゆえに、仮に３個分以上の横幅ピッチに相当するものとした場合に比べてコンパクトになり、電磁弁マニホールド１全体の大型化を最小限に止めることができる。また、レギュレータ本体４０の側面と電磁弁４Ａ，４Ｄの側面との間に隙間が生じることもないため、装置全体の見栄えの悪化も確実に防止することができる。
【００３８】
（ハ）この電磁弁マニホールド１では、各流路４１，４２，４４，４５，５１〜５５の断面形状は、電磁弁４Ｂ，４Ｃの横幅方向に沿って長い楕円形である。このような断面形状であると、例えば断面円形状にした場合に比べてスペースの無駄を少なくすることができる。従って、レギュレータ本体４０の限られたスペース内において、断面積の大きな複数の流路４１，４２，４４，４５，５１〜５５を比較的容易に形成することができる。また、断面楕円形状の流路４１，４２，４４，４５，５１〜５５であれば、孔加工もそれほど困難なものではない。よって、作業性やコスト性の低下も回避することができるという利点がある。
【００３９】
（ニ）本実施形態の構成によると、空間４３ａの断面積を大きくすることもある程度は可能であるため、受圧体であるピストン６４の受圧面積を大きくすることができる。このようにした場合、操作体による減圧値の設定をより正確に行うことができるようになる。
【００４０】
なお、本発明は上記実施形態に限定されることはなく、例えば次のような別の形態に変更することが可能である。
◎  図９に示す別例の電磁弁マニホールド７６のように構成してもよい。この電磁弁マニホールド７６は、５個の電磁弁７４Ａ，７４Ｂ，７４Ｃ，７４Ｄ，７４Ｅを備えている。電磁弁７４Ｂ，７４Ｄの２個は調圧に関与する第１の電磁弁７４Ｂ，７４Ｄであり、それらの間に位置する電磁弁７４Ｃは調圧に関与しない第２の電磁弁７４Ｃである。この電磁弁マニホールド７６に使用されているスペーサレギュレータ７７の場合、レギュレータ本体４０の横幅は、電磁弁７４Ｂ，７４Ｃ，７４Ｄの３個分の横幅に相当している。即ち、前記横幅の値は３１．５mmに設定されている。そして、レギュレータ本体４０の一部の領域には、流路４１〜４５からなる第１の流路群が２つ形成されている。従って、このレギュレータ本体４０はその内部に調圧部材６１を左右一対備えており、それに対応してアジャスティングスクリュ７０も２つ設けられている。そして、２つある第１の流路群間に位置する領域には、流路５１〜５５からなる第２の流路群が１つ形成されている。この構成であると、２つの電磁弁７４Ｂ，７４Ｄに給排される流体の調圧を１つのスペーサレギュレータ７６のみによって個々に行うことができる。
【００４１】
◎  断面円形状であったロッド６３を縦長かつ横短の断面形状に形成してもよい。なお、ロッド６３の断面積は現状と同程度に維持されることが好ましい。この構成であると、レギュレータ本体４０における省スペース化が図られる。その結果、第１及び第２の流路群を形成するに際して、より容易に大流量を確保することができるようになる。
【００４２】
◎  マニホールドベース３は複数のベースブロック１１や給排気ブロック１２等からなるものに限定されることはなく、一体成形品であってもよい。
◎  電磁弁４Ａ〜４Ｅ，７４Ａ〜７４Ｅは実施形態のような２位置５方弁のみに限定されることはなく、例えば３位置５方弁等といったその他のタイプの電磁弁であっても勿論よい。
【００４３】
◎  流路群を構成する流路４１〜４５，５１〜５５の断面形状は、電磁弁の横幅方向に沿って長い楕円形であるばかりでなく、例えば電磁弁の横幅方向に沿って長い長方形などであってもよい。
【００４４】
◎  本発明は、特定の電磁弁に給排される流体の減圧を目的とするスペーサレギュレータ２，７７ばかりでなく、例えば特定の電磁弁に給排されるべき流体の流通・遮断を目的とするインストップバルブ等に具体化されてもよい。
【００４５】
ここで、前述した実施形態によって把握される技術的思想をその効果とともに以下に列挙する。
【００４６】
（１）  前記調圧器は特定の電磁弁に給排される流体の圧力を任意の圧力値に減圧するスペーサレギュレータであることを特徴とする電磁弁マニホールド用調圧器。この構成であると、コンパクトかつ大流量なスペーサレギュレータを実現することができる。
【００４７】
（２）  前記調圧器は特定の電磁弁に給排されるべき流体の流通・遮断をすることが可能なインストップバルブであることを特徴とする電磁弁マニホールド用調圧器。この構成であると、コンパクトかつ大流量なインストップバルブを実現することができる。
【００４８】
（３）  前記流路内において前記主弁に対して接離可能な位置に設けられた弁座と、前記主弁と前記受圧体とを一体移動可能に連結する伝達部材と、前記受圧体を前記伝達部材の長手方向に沿って付勢する付勢手段と、その付勢手段の付勢力を変更することにより前記主弁及び前記弁座を介して流れる流体の流量を調整する操作体とを備えたことを特徴とする電磁弁マニホールド用調圧器。この構成によると、操作体の操作により付勢手段の付勢力を変更することによって確実に調圧を行うことができる。
【００４９】
（４）  前記弁体と前記受圧体とを一体移動可能に連結する伝達部材の断面を縦長かつ横短に形成することを特徴とする電磁弁マニホールド用調圧器。この構成であると、調圧器本体における省スペース化が図られる結果、大流量をより容易に確保することができる。
【００５０】
なお、本明細書中において使用した技術用語を次のように定義する。
「流体：  窒素、酸素、二酸化炭素、アルゴン、水素、それらの混合物である空気などといった気体、水、油、アルコールなどといった液体、臨界流体、その他これらに準ずる性質を有するものをいう。」
【００５１】
【発明の効果】
以上詳述したように、請求項１〜３に記載の発明によれば、コンパクト性を損なうことなく大流量を確保することができる電磁弁マニホールド用調圧器を提供することができる。
【００５２】
請求項１及び２に記載の発明によれば、電磁弁マニホールド全体の大型化を最小限に止めることができる。
請求項３に記載の発明によれば、スペースの無駄が少なくなるため断面積の大きな複数の流路を比較的容易に形成することができるとともに、作業性やコスト性の低下も回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を具体化した一実施形態における電磁弁マニホールドを示す正面図。
【図２】図１の電磁弁マニホールドを示す平面図。
【図３】図１の電磁弁マニホールドにおけるＡ−Ａ線断面図。
【図４】スペーサレギュレータを示す断面図。
【図５】（ａ）はレギュレータ本体の部分概略平面図、（ｂ）はレギュレータ本体の部分概略断面図、（ｃ）はレギュレータ本体の部分概略底面図。
【図６】（ａ）は図５（ｃ）におけるＢ−Ｂ線断面図、（ｂ）は同じくＣ−Ｃ線断面図、（ｃ）は同じくＤ−Ｄ線断面図、（ｄ）は同じくＥ−Ｅ線断面図、（ｅ）はＦ−Ｆ線断面図。
【図７】従来の電磁弁マニホールドを示す部分概略正面図。
【図８】実施形態の電磁弁マニホールドを示す部分概略正面図。
【図９】別例の電磁弁マニホールドを示す部分概略正面図。
【図１０】従来の電磁弁マニホールドを示す正面図。
【図１１】（ａ）は従来のスペーサレギュレータの平面図、（ｂ）はその断面図。
【符号の説明】
２，７７…電磁弁マニホールド用調圧器としてのスペーサレギュレータ、４Ｂ，７４Ｂ，７４Ｄ…第１の電磁弁、４Ｃ，７４Ｃ…第２の電磁弁、１１…マニホールドベース、４０…調圧器本体としてのレギュレータ本体、４１〜４５…第１の流路群を構成する流路、５１〜５５…第２の流路群を構成する流路、６１…調圧部材、６２…主弁、６４…受圧体としてのピストン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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