(57)【要約】式（Ｉ）：2002070486.tif 000243（式中、Ｚ４、Ｚ５及びＺ９はそれぞれ独立して炭素原子又は窒素原子；Ｙはヒドロキシ、メルカプト又はアミノ；ＲＡは式：2002070486.tif 000244（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環）で示される基等）で示される化合物にインテグラーゼ阻害活性を見出した。
2002070486.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
2002070486.tif 000215
（式中、
2002070486.tif 000216
は縮合した含窒素複素環（Ａ環は含窒素複素環；Ｂ環は炭素環又は複素環；Ｚ４、Ｚ５及びＺ９はそれぞれ独立して炭素原子又は窒素原子）；
Ｙはヒドロキシ、メルカプト又はアミノ；
ＲＡは式：
2002070486.tif 000217
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環）で示される基又は式：
2002070486.tif 000218
（式中、Ｘは酸素原子、硫黄原子又はＮＨ；ＲＢは水素又は置換基群Ａから選択される基）で示される基であり；かつ、
Ａ環、Ｂ環又はＲＡの少なくとも一つが、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３はそれぞれ独立して単結合、置換されていてもよいアルキレン又は置換されていてもよいアルケニレン；Ｚ２は単結合、置換されていてもよいアルキレン、置換されていてもよいアルケニレン、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２ＮＲ２−、−ＮＲ２ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＮＲ２−、−ＮＲ２ＣＯ−、−ＣＯＮＲ２−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−又は−ＣＯ−；Ｒ２は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリール；Ｒ１は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル又は置換されていてもよいヘテロサイクル）で示される基で置換され；さらに、
Ａ環、Ｂ環又はＲＡが、上記式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は前記と同意義）で示される基で置換されている位置以外の位置で１〜６個の置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい。なお、破線は結合の存在又は不存在を表わし、隣接する破線が共に結合の存在を表わす場合はない。但し、
式：
2002070486.tif 000219
（式中、ＲＢ’はヒドロキシ又はアルコキシであり、Ｚ２’はアルキレン又はアルケニレンであり、Ｒ１’は置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールである）で示される化合物、５−ベンジル−７−アセチル−８−ヒドロキシキノリン及び５−フェニル−７−アセチル−８−ヒドロキシキノリンを除く。
置換基群Ａは、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、オキソ、チオキソ、アルキレンジオキシ、アルキレン、アルケニレン、ニトロソ、アジド、アミジノ、グアニジノ、シアノ、イソシアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドラジノ、モルホリノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアラルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル及び置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニルからなる群。）で示される化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項２】
Ｚ９に隣接するＡ環上の窒素原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている請求の範囲第１項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項３】
2002070486.tif 000220
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｚ４、Ｚ５及びＺ９は請求の範囲第１項と同意義）が縮合した含窒素芳香族複素環である請求の範囲第１項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項４】
2002070486.tif 000221
（式中、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ９、Ｙ及びＲＡは請求の範囲第１項と同意義）のＡ環部分が式：
2002070486.tif 000222
で示されるものであり、かつＢ環部分が式：
2002070486.tif 000223
（式中、Ｙ及びＲＡは請求の範囲第１項と同意義）で示されるものであるか、Ａ環部分が式：
2002070486.tif 000224
で示されるものであり、かつＢ環部分が式：
2002070486.tif 000225
（式中、Ｙ及びＲＡは請求の範囲第１項と同意義）で示されるものであるか、又はＡ環部分が式：
2002070486.tif 000226
であり、かつＢ環部分が式：
2002070486.tif 000227
（式中、Ｙ及びＲＡは請求の範囲第１項と同意義）で示されるものである請求の範囲第１項記載の化合物（Ａ環、Ｂ環又はＲＡのいずれかは、請求の範囲第１項同様、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基で置換されており、残りの部分が置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい）、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項５】
2002070486.tif 000228
（式中、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ９、Ｙ及びＲＡは請求の範囲第１項と同意義）が式：
2002070486.tif 000229
（式中、Ｙ及びＲＡは請求の範囲第１項と同意義；Ｚ７は酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ＝ＣＨ−又はＮＨ）で示されるものである請求の範囲第４項記載の化合物（Ａ環、Ｂ環又はＲＡのいずれかは、請求の範囲第１項同様、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基で置換されており、残りの部分が置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい）、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項６】
置換基群Ａから選択される基が、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、オキソ、アルキレンジオキシ、アルキレン、アルケニレン、アジド、シアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアラルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル又は置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニルである請求の範囲第１項〜第５項のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項７】
置換基群Ａから選択される基が、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアミノ、シアノ、置換されていてもよいカルバモイル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいアラルキル又は置換されていてもよいアリールオキシアルキルである請求の範囲第６項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項８】
式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１で示される基が式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１は単結合又はアルキレン；Ｚ３は単結合；Ｚ２は置換されていてもよいアルキレン、アルケニレン、−Ｓ−又は−Ｏ−；Ｒ１は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール又は置換されていてもよいシクロアルキル）で示される基である請求の範囲第１項〜第７項のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項９】
ＲＡが式：
2002070486.tif 000230
（式中、Ｃ環は請求の範囲第１項と同意義）で示される基である請求の範囲第１項〜第８項のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項１０】
Ｃ環上の結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子である請求の範囲第９項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項１１】
Ｃ環上の結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であり、かつ結合手を有する原子に隣接する他方の原子がヘテロ原子である請求の範囲第１０項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項１２】
式：
2002070486.tif 000231
（式中、Ｃ環は請求の範囲第１項と同意義）で示される基が式：
2002070486.tif 000232
で示される基である請求の範囲第９項記載の化合物（Ａ環、Ｂ環又はＣ環のいずれかは、請求の範囲第１項同様、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基で置換されており、残りの部分が置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい）、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項１３】
Ｃ環が式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基で置換された請求の範囲第９項〜第１２項のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項１４】
ＲＡが式：
2002070486.tif 000233
（式中、Ｘ及びＲＢは請求の範囲第１項と同意義）で示される基である請求の範囲第１項〜第８項のいずれかに記載の化合物（Ａ環、Ｂ環又はＲＢのいずれかは、請求の範囲第１項同様、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基で置換されており、残りの部分が置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい）、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項１５】
Ｘが酸素原子であり、ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいヘテロアリール又は置換されていてもよいアリールである請求の範囲第１４項記載の化合物（Ａ環、Ｂ環又はＲＢのいずれかは、請求の範囲第１項同様、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基で置換されており、残りの部分が置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい）、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項１６】
ＲＢが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基で置換された請求の範囲第１４又は１５項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項１７】
Ａ環又はＢ環が式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基で置換された請求の範囲第１項〜第１６項のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項１８】
式：
2002070486.tif 000234
（式中、ＲＢは水素又は置換基群Ａから選択される基であり、Ｚ６は＝Ｃ（−Ｒ５）−又は＝Ｎ−であり、Ｒ３〜Ｒ６の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される請求の範囲第１項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項１９】
ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていもてよいアミノ、ヘテロサイクル、ヘテロアリール又はアリールであり、Ｚ６が＝Ｃ（−Ｒ５）−であり、Ｒ３〜Ｒ６の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２は単結合、アルキレン又はアルケニレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りがハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、水素、ハロゲン又はアルキルである請求の範囲第１８項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項２０】
式：
2002070486.tif 000235
（式中、ＲＢは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、Ｚ６は＝Ｃ（−Ｒ５）−又は＝Ｎ−であり、Ｒ３〜Ｒ１０の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される請求の範囲第１項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項２１】
ＲＢがヘテロアリールであり、Ｚ６が＝Ｃ（−Ｒ５）−であり、Ｒ３〜Ｒ１０の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、アルキル又はハロゲンである請求の範囲第２０項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項２２】
式：
2002070486.tif 000236
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環であり、Ｙはヒドロキシ又はメルカプトであり、Ｚ６は＝Ｃ（−Ｒ５）−又は＝Ｎ−であり、Ｚ７は−Ｎ（−Ｒ３）−、−Ｓ−又は−Ｏ−であり、Ｒ３〜Ｒ６及びＲ１１〜Ｒ１３の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される請求の範囲第１項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項２３】
Ｃ環が１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、オキサゾール−２−イル、チアゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，４−トリアゾール−３−イル、イミダゾール−２−イル又はピリミジン−２−イルであり、Ｚ６が＝Ｃ（−Ｒ５）−又は＝Ｎ−であり、Ｚ７が−Ｎ（−Ｒ３）−、−Ｓ−又は−Ｏ−であり、Ｒ３〜Ｒ６及びＲ１１〜Ｒ１３の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１は単結合又はアルキレン、Ｚ２は単結合、アリールで置換されていてもよいアルキレン、アルケニレン、−Ｏ−又は−ＮＨ−、Ｚ３は単結合、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド）、置換されていてもよいヘテロアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド）又は置換されていてもよいシクロアルキル（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド）である）で示される基であり、残りが水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいカルバモイル（置換基としてはアルキル）、アルケニルオキシ及び／又はフタルイミド）、ハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、ハロゲンで置換されていてもよいアリール、アルキルで置換されていてもよいカルバモイル、アシルで置換されていてもよいアミノ又はアルキルチオである請求の範囲第２２項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項２４】
式：
2002070486.tif 000237
（式中、ＲＢは水素又は置換基群Ａから選択される基であり、Ｚ１０は−Ｃ（−Ｒ１６）＝又は−Ｎ＝であり、Ｒ１４〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される請求の範囲第１項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項２５】
Ｒ１５が式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基である請求の範囲第２４項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項２６】
Ｒ１４が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノである請求の範囲第２４項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項２７】
ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、アルキル、シクロアルキル又はアリールであり、Ｒ１４〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシカルボニル及び／又はカルボキシ）、置換されていてもよいアルケニル（置換基としては、アルコキシカルボニル及び／又はカルボキシ）、アリール、ハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいカルバモイル、シアノ又はホルミルである請求の範囲第２４項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項２８】
ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシ及び／又は置換されていてもよいアミノ）、置換されていもてよいアリール、置換されていもてよいヘテロアリール、シクロアルキル又は置換されていてもよいアミノ（置換基としては、アルキル及び／又はアルコキシ）であり、Ｒ１４が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノであり、Ｒ１５及びＲ１６のいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、他方が水素、アルキル又はハロゲンであり、Ｒ１７が水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル（置換基としては、アルキル及び／又はアルキレン））、置換されていてもよいアルケニル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいカルバモイル（置換基としては、アルキル、アルキレン、アルコキシアルキル、アラルキル、アリール及び／又はヘテロアリール）、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいスルファモイル、置換されていてもよいアミノ、シアノ又はホルミルであり、Ｒ１８が水素、アルキル又はハロゲンである請求の範囲第２４項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項２９】
ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシ及び／又は置換されていてもよいアミノ）、置換されていもてよいアリール、置換されていもてよいヘテロアリール、シクロアルキル又は置換されていてもよいアミノ（置換基としては、アルキル及び／又はアルコキシ）であり、Ｒ１４が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノであり、Ｒ１５が式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８がそれぞれ独立して水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル（置換基としては、アルキル及び／又はアルキレン））、置換されていてもよいアルケニル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいカルバモイル（置換基としては、アルキル、アルキレン、アルコキシアルキル、アラルキル、アリール及び／又はヘテロアリール）、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいスルファモイル、置換されていてもよいアミノ、シアノ又はホルミルである請求の範囲第２４項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項３０】
ＲＢがヒドロキシ又はアルコキシであり、Ｒ１４が水素、アルキル、ハロゲンであり、Ｒ１５及びＲ１６のいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、他方が水素、アルキル又はハロゲンであり、Ｒ１７が水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいアルケニル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいカルバモイル，シアノ又はホルミルであり、Ｒ１８が水素、アルキル又はハロゲンである請求の範囲第２４項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項３１】
Ｒ１７が置換されていてもよいカルバモイルである請求の範囲第２４項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項３２】
式：
2002070486.tif 000238
（式中、ＲＢは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、Ｚ１０は−Ｃ（−Ｒ１６）＝又は−Ｎ＝であり、Ｒ１９は−Ｏ−、−Ｃ（−Ｒ１７）＝Ｃ（−Ｒ１８）−又は−ＣＨ（−Ｒ１７）−ＣＨ（−Ｒ１８）−であり、Ｒ７〜Ｒ１０及びＲ１４〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される請求の範囲第１項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項３３】
ＲＢがヘテロアリールであり、Ｒ７〜Ｒ１０及びＲ１４〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン又は−Ｓ−、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである請求の範囲第３２項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項３４】
式：
2002070486.tif 000239
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環であり、Ｚ１０は−Ｃ（−Ｒ１６）＝又は−Ｎ＝であり、Ｒ１１〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される請求の範囲第１項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項３５】
Ｃ環がピリミジン−２−イル、ピリジン−２−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、チアゾール−２−イル又はイミダゾール−２−イルであり、Ｒ１１〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである請求の範囲第３４項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項３６】
式：
2002070486.tif 000240
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環であり、Ｚ８は−Ｏ−、−Ｎ（−Ｒ１７）−又は−Ｓ−であり；Ｒ１１〜Ｒ１７の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される請求の範囲第１項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項３７】
Ｃ環が１，３，４−オキサジアゾール−２−イル又は１，３，４−チアジアゾール−２−イルであり、Ｚ８が−Ｏ−であり、Ｒ１１〜Ｒ１７の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである請求の範囲第３６項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項３８】
式：
2002070486.tif 000241
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環であり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６及びＲ１１〜Ｒ１３の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される請求の範囲第１項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項３９】
Ｃ環が１，３，４−オキサジアゾール−２−イルであり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６及びＲ１１〜Ｒ１３の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである請求の範囲第３８項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項４０】
式：
2002070486.tif 000242
（式中、ＲＢは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、Ｒ３〜Ｒ１０の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求の範囲第１項と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される請求の範囲第１項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
【請求項４１】
請求の範囲第１項〜第４０項のいずれかに項記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する医薬組成物。
【請求項４２】
酵素阻害剤である請求の範囲第４１項記載の医薬組成物。
【請求項４３】
核酸関連酵素阻害剤である請求の範囲第４２項記載の医薬組成物。
【請求項４４】
ＨＩＶインテグラーゼ阻害剤である請求の範囲第４３項記載の医薬組成物。
【請求項４５】
抗ＨＩＶ剤である請求の範囲第４１項記載の医薬組成物。
【請求項４６】
エイズ又はエイズ関連合併症の発症予防剤又は治療剤である請求の範囲第４１項記載の医薬組成物。
【請求項４７】
請求の範囲第４４項記載の医薬組成物に、逆転写酵素阻害剤および／又はプロテアーゼ阻害剤を組み合わせてなる抗ＨＩＶ用合剤。
【請求項４８】
逆転写酵素阻害剤および／又はプロテアーゼ阻害剤の抗ＨＩＶ活性を上昇させる活性を有する請求の範囲第４４項記載の医薬組成物。
【請求項４９】
請求の範囲第４１項記載の医薬組成物を投与することを特徴とするエイズ又はエイズ関連合併症の発症予防又は治療方法。
【請求項５０】
エイズ又はエイズ関連合併症の発症予防又は治療用の医薬組成物を製造するための請求の範囲第１項〜第４０項のいずれかに記載の化合物の使用。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、抗ウイルス作用を有する新規化合物、更に詳しくは、ＨＩＶインテグラーゼ阻害活性を有する含窒素芳香族複素環化合物及びそれを含有する医薬、特に抗ＨＩＶ薬に関する。
背景技術
ウイルスのなかでも、レトロウイルスの一種であるヒト免疫不全ウイルス（Ｈｕｍａｎ  Ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ  ｖｉｒｕｓ，以下ＨＩＶと略す）は、後天性免疫不全症候群（Ａｃｑｕｉｒｅｄ  ｉｍｍｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ  ｓｙｎｄｒｏｍｅ，以下エイズと略す）の原因となることが知られている。そのエイズの治療薬としては、これまでのところ逆転写酵素阻害剤（ＡＺＴ、３ＴＣ等）とプロテアーゼ阻害剤（インディナビル等）が主流であるが、腎臓障害等の副作用や耐性ウイルスの出現等の問題が判明しており、それらとは異なる作用メカニズムを有する抗ＨＩＶ薬の開発が期待されている。
また、エイズの治療においては、耐性ウイルスが容易に出現するという理由から、現在、多剤併用療法が効果的であると報告されている（Ｂａｌｚａｒｉｎｉ，Ｊ．ｅｔ  ａｌ．，Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ  １９９６，９３，ｐ１３１５２−１３１５７．）。現在、抗ＨＩＶ薬としては、逆転写酵素阻害剤、プロテアーゼ阻害剤の２種が臨床で使用されているが、同じ作用メカニズムを有する薬剤はしばしば交叉耐性を示し、又は付加的な効果を示すに過ぎず、異なった作用メカニズムの抗ＨＩＶ薬の開発が要望されている。
最近報告されたインテグラーゼ阻害剤としては、例えば、ＷＯ９９／５０２４５、ＷＯ９９／６２５２０、ＷＯ９９／６２８９７、ＷＯ９９／６２５１３、ＷＯ００／３９０８６、ＷＯ０１／００５７８に記載の１，３−ジオキソブタン酸類、１，３−プロパンジオン類等がある。
なお、本発明化合物に近い構造の化合物としては、Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．４２（３）５６０−５６９（１９９４）に、抗血小板剤であるベンズイミダゾール誘導体が開示されている。
また、ＷＯ９８／４５２６９、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２０００，４３，１５３３−１５４０には、ＨＩＶインテグラーゼ阻害作用を有する化合物として、
式：
2002070486.tif 000003
（式中、ＲＢ’はヒドロキシ又はアルコキシであり、Ｚ２’はアルキレン又はアルケニレンであり、Ｒ１’は置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールである）で示される化合物が開示されている。
また、ＵＳ３１１３１３５には、５−ベンジル−７−アセチル−８−ヒドロキシキノリン及び５−フェニル−７−アセチル−８−ヒドロキシキノリンが開示されている。
上記の状況下、新規なインテグラーゼ阻害剤の開発が要望されていた。
発明の開示
本発明者らは鋭意、研究した結果、新規な含窒素芳香族複素環化合物、すなわち式（Ｉ）：
2002070486.tif 000004
（式中、
2002070486.tif 000005
は縮合した含窒素複素環（Ａ環は含窒素複素環；Ｂ環は炭素環又は複素環；Ｚ４、Ｚ５及びＺ９はそれぞれ独立して炭素原子又は窒素原子）；
Ｙはヒドロキシ、メルカプト又はアミノ；
ＲＡは式：
2002070486.tif 000006
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環）で示される基又は式：
2002070486.tif 000007
（式中、Ｘは酸素原子、硫黄原子又はＮＨ；ＲＢは水素又は置換基群Ａから選択される基）で示される基であり；かつ、
Ａ環、Ｂ環又はＲＡの少なくとも一つが、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３はそれぞれ独立して単結合、置換されていてもよいアルキレン又は置換されていてもよいアルケニレン；Ｚ２は単結合、置換されていてもよいアルキレン、置換されていてもよいアルケニレン、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２ＮＲ２−、−ＮＲ２ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＮＲ２−、−ＮＲ２ＣＯ−、−ＣＯＮＲ２−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−又は−ＣＯ−；Ｒ２は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリール；Ｒ１は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル又は置換されていてもよいヘテロサイクル）で示される基で置換され；さらに、
Ａ環、Ｂ環又はＲＡが、上記式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は前記と同意義）で示される基で置換されている位置以外の位置で１〜６個の置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい。なお、破線は結合の存在又は不存在を表わし、隣接する破線が共に結合の存在を表わす場合はない。但し、
式：
2002070486.tif 000008
（式中、ＲＢ’はヒドロキシ又はアルコキシであり、Ｚ２’はアルキレン又はアルケニレンであり、Ｒ１’は置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールである）で示される化合物、５−ベンジル−７−アセチル−８−ヒドロキシキノリン及び５−フェニル−７−アセチル−８−ヒドロキシキノリンを除く。）で示される化合物（以下、「本発明化合物」という）、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物が、インテグラーゼの阻害活性を有することを見出した。
さらに、本発明化合物及びそれらを含有する医薬が、抗ウイルス薬、抗レトロウイルス薬、抗ＨＩＶ薬、抗ＨＴＬＶ−１（Ｈｕｍａｎ  Ｔ  ｃｅｌｌ  ｌｅｕｋｅｍｉａ  ｖｉｒｕｓ  ｔｙｐｅ  １：ヒトＴ細胞白血病ウイルス１型）薬、抗ＦＩＶ（Ｆｅｌｉｎｅ  ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ  ｖｉｒｕｓ：ネコエイズウイルス）薬、抗ＳＩＶ（Ｓｉｍｉａｎ  ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ  ｖｉｒｕｓ：サルエイズウイルス）薬、特に抗ＨＩＶ薬、インテグラーゼ阻害剤として有用であることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明は、本発明化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、それらを有効成分として含有する医薬組成物、抗ウイルス薬、抗ＨＩＶ薬、インテグラーゼ阻害剤、抗ＨＩＶ用合剤を提供するものであるが、これらは、抗ＨＩＶ薬としてのみならず、抗ＡＩＤＳ薬、すなわち、エイズおよびその関連臨床的症状、例えばエイズ関連合併症（ＡＲＣ）、進行性全身化リンパ節症（ＰＧＬ）、カポジ肉種、カリニ肺炎、突発性血小板減少性紫斑病、エイズ関連神経学的症状、例えば、エイズ痴呆症合併症、エイズ脳症、多発性硬化症又は熱帯性不全対麻痺、並びにまた無症候患者におけるものを含めた抗ＨＩＶ抗体陽性およびＨＩＶ陽性症状の治療に特に有用である。
即ち、本発明は、
（１）  式（Ｉ）：
2002070486.tif 000009
（式中、
2002070486.tif 000010
は縮合した含窒素複素環（Ａ環は含窒素複素環；Ｂ環は炭素環又は複素環；Ｚ４、Ｚ５及びＺ９はそれぞれ独立して炭素原子又は窒素原子）；
Ｙはヒドロキシ、メルカプト又はアミノ；
ＲＡは式：
2002070486.tif 000011
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環）で示される基又は式：
2002070486.tif 000012
（式中、Ｘは酸素原子、硫黄原子又はＮＨ；ＲＢは水素又は置換基群Ａから選択される基）で示される基であり；かつ、
Ａ環、Ｂ環又はＲＡの少なくとも一つが、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３はそれぞれ独立して単結合、置換されていてもよいアルキレン又は置換されていてもよいアルケニレン；Ｚ２は単結合、置換されていてもよいアルキレン、置換されていてもよいアルケニレン、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２ＮＲ２−、−ＮＲ２ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＮＲ２−、−ＮＲ２ＣＯ−、−ＣＯＮＲ２−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−又は−ＣＯ−；Ｒ２は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリール；Ｒ１は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル又は置換されていてもよいヘテロサイクル）で示される基で置換され；さらに、
Ａ環、Ｂ環又はＲＡが、上記式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は前記と同意義）で示される基で置換されている位置以外の位置で１〜６個の置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい。なお、破線は結合の存在又は不存在を表わし、隣接する破線が共に結合の存在を表わす場合はない。但し、
式：
2002070486.tif 000013
（式中、ＲＢ’はヒドロキシ又はアルコキシであり、Ｚ２’はアルキレン又はアルケニレンであり、Ｒ１’は置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールである）で示される化合物、５−ベンジル−７−アセチル−８−ヒドロキシキノリン及び５−フェニル−７−アセチル−８−ヒドロキシキノリンを除く。
置換基群Ａは、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、オキソ、チオキソ、アルキレンジオキシ、アルキレン、アルケニレン、ニトロソ、アジド、アミジノ、グアニジノ、シアノ、イソシアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドラジノ、モルホリノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアラルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル及び置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニルからなる群。）で示される化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（２）  Ｚ９に隣接するＡ環上の窒素原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、他方の原子と単結合で結ばれている上記（１）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（３）
2002070486.tif 000014
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｚ４、Ｚ５及びＺ９は上記（１）と同意義）が縮合した含窒素芳香族複素環である上記（１）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（４）
2002070486.tif 000015
（式中、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ９、Ｙ及びＲＡは上記（１）と同意義）のＡ環部分が式：
2002070486.tif 000016
で示されるものであり、かつＢ環部分が式：
2002070486.tif 000017
（式中、Ｙ及びＲＡは上記（１）と同意義）で示されるものであるか、Ａ環部分が式：
2002070486.tif 000018
で示されるものであり、かつＢ環部分が式：
2002070486.tif 000019
（式中、Ｙ及びＲＡは上記（１）と同意義）で示されるものであるか、又はＡ環部分が式：
2002070486.tif 000020
であり、かつＢ環部分が式：
2002070486.tif 000021
（式中、Ｙ及びＲＡは請求項１と同意義）で示されるものである上記（１）記載の化合物（Ａ環、Ｂ環又はＲＡのいずれかは、上記（１）同様、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換されており、残りの部分が置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい）、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（５）
2002070486.tif 000022
（式中、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ９、Ｙ及びＲＡは上記（１）と同意義）が式：
2002070486.tif 000023
（式中、Ｙ及びＲＡは上記（１）と同意義；Ｚ７は酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ＝ＣＨ−又はＮＨ）で示されるものである上記（４）記載の化合物（Ａ環、Ｂ環又はＲＡのいずれかは、上記（１）同様、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換されており、残りの部分が置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい）、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（６）  置換基群Ａから選択される基が、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、オキソ、アルキレンジオキシ、アルキレン、アルケニレン、アジド、シアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアラルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル又は置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニルである上記（１）〜（５）のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（７）  置換基群Ａから選択される基が、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアミノ、シアノ、置換されていてもよいカルバモイル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいアラルキル又は置換されていてもよいアリールオキシアルキルである上記（６）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（８）  式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１で示される基が式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１は単結合又はアルキレン；Ｚ３は単結合；Ｚ２は置換されていてもよいアルキレン、アルケニレン、−Ｓ−又は−Ｏ−；Ｒ１は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール又は置換されていてもよいシクロアルキル）で示される基である上記（１）〜（７）のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（９）  ＲＡが式：
2002070486.tif 000024
（式中、Ｃ環は上記（１）と同意義）で示される基である上記（１）〜（８）のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（１０）  Ｃ環上の結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子である上記（９）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（１１）  Ｃ環上の結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であり、かつ結合手を有する原子に隣接する他方の原子がヘテロ原子である上記（１０）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（１２）  式：
2002070486.tif 000025
（式中、Ｃ環は上記（１）と同意義）で示される基が式：
2002070486.tif 000026
で示される基である上記（９）記載の化合物（Ａ環、Ｂ環又はＣ環のいずれかは、上記（１）同様、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換されており、残りの部分が置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい）、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（１３）  Ｃ環が式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換された上記（９）〜（１２）のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（１４）  ＲＡが式：
2002070486.tif 000027
（式中、Ｘ及びＲＢは上記（１）と同意義）で示される基である上記（１）〜（８）のいずれかに記載の化合物（Ａ環、Ｂ環又はＲＢのいずれかは、上記（１）同様、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換されており、残りの部分が置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい）、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（１５）  Ｘが酸素原子であり、ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいヘテロアリール又は置換されていてもよいアリールである上記（１４）記載の化合物（Ａ環、Ｂ環又はＲＢのいずれかは、上記（１）同様、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示されるで置換されており、残りの部分が置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい）、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（１６）  ＲＢが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換された上記（１４）又は（１５）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（１７）  Ａ環又はＢ環が式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換された上記（１）〜（１６）のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（１８）  式：
2002070486.tif 000028
（式中、ＲＢは水素又は置換基群Ａから選択される基であり、Ｚ６は＝Ｃ（−Ｒ５）−又は＝Ｎ−であり、Ｒ３〜Ｒ６の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される上記（１）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（１９）  ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていもてよいアミノ、ヘテロサイクル、ヘテロアリール又はアリールであり、Ｚ６が＝Ｃ（−Ｒ５）−であり、Ｒ３〜Ｒ６の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２は単結合、アルキレン又はアルケニレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りがハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、水素、ハロゲン又はアルキルである上記（１８）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（２０）  式：
2002070486.tif 000029
（式中、ＲＢは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、Ｚ６は＝Ｃ（−Ｒ５）−又は＝Ｎ−であり、Ｒ３〜Ｒ１０の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される上記（１）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（２１）  ＲＢがヘテロアリールであり、Ｚ６が＝Ｃ（−Ｒ５）−であり、Ｒ３〜Ｒ１０の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、アルキル又はハロゲンである上記（２０）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（２２）  式：
2002070486.tif 000030
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環であり、Ｙはヒドロキシ又はメルカプトであり、Ｚ６は＝Ｃ（−Ｒ５）−又は＝Ｎ−であり、Ｚ７は−Ｎ（−Ｒ３）−、−Ｓ−又は−Ｏ−であり、Ｒ３〜Ｒ６及びＲ１１〜Ｒ１３の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求項１と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される上記（１）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（２３）  Ｃ環が１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、オキサゾール−２−イル、チアゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，４−トリアゾール−３−イル、イミダゾール−２−イル又はピリミジン−２−イルであり、Ｚ６が＝Ｃ（−Ｒ５）−又は＝Ｎ−であり、Ｚ７が−Ｎ（−Ｒ３）−、−Ｓ−又は−Ｏ−であり、Ｒ３〜Ｒ６及びＲ１１〜Ｒ１３の少なくともいずれが一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１は単結合又はアルキレン、Ｚ２は単結合、アリールで置換されていてもよいアルキレン、アルケニレン、−Ｏ−又は−ＮＨ−、Ｚ３は単結合、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド）、置換されていてもよいヘテロアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド）又は置換されていてもよいシクロアルキル（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド）である）で示される基であり、残りが水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいカルバモイル（置換基としてはアルキル）、アルケニルオキシ及び／又はフタルイミド）、ハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、ハロゲンで置換されていてもよいアリール、アルキルで置換されていてもよいカルバモイル、アシルで置換されていてもよいアミノ又はアルキルチオである上記（２２）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（２４）  式：
2002070486.tif 000031
（式中、ＲＢは水素又は置換基群Ａから選択される基であり、Ｚ１０は−Ｃ（−Ｒ１６）＝又は−Ｎ＝であり、Ｒ１４〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される上記（１）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（２５）  Ｒ１５が式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基である上記（２４）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（２６）  Ｒ１４が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノである上記（２４）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（２７）  ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、アルキル、シクロアルキル又はアリールであり、Ｒ１４〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシカルボニル及び／又はカルボキシ）、置換されていてもよいアルケニル（置換基としては、アルコキシカルボニル及び／又はカルボキシ）、アリール、ハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいカルバモイル、シアノ又はホルミルである上記（２４）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（２８）  ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシ及び／又は置換されていてもよいアミノ）、置換されていもてよいアリール、置換されていもてよいヘテロアリール、シクロアルキル又は置換されていてもよいアミノ（置換基としては、アルキル及び／又はアルコキシ）であり、Ｒ１４が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノであり、Ｒ１５及びＲ１６のいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、他方が水素、アルキル又はハロゲンであり、Ｒ１７が水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル（置換基としては、アルキル及び／又はアルキレン））、置換されていてもよいアルケニル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいカルバモイル（置換基としては、アルキル、アルキレン、アルコキシアルキル、アラルキル、アリール及び／又はヘテロアリール）、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいスルファモイル、置換されていてもよいアミノ、シアノ又はホルミルであり、Ｒ１８が水素、アルキル又はハロゲンである上記（２４）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（２９）  ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシ及び／又は置換されていてもよいアミノ）、置換されていもてよいアリール、置換されていもてよいヘテロアリール、シクロアルキル又は置換されていてもよいアミノ（置換基としては、アルキル及び／又はアルコキシ）であり、Ｒ１４が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノであり、Ｒ１５が式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８がそれぞれ独立して水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル（置換基としては、アルキル及び／又はアルキレン））、置換されていてもよいアルケニル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいカルバモイル（置換基としては、アルキル、アルキレン、アルコキシアルキル、アラルキル、アリール及び／又はヘテロアリール）、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいスルファモイル、置換されていてもよいアミノ、シアノ又はホルミルである上記（２４）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（３０）  ＲＢがヒドロキシ又はアルコキシであり、Ｒ１４が水素、アルキル、ハロゲンであり、Ｒ１５及びＲ１６のいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、他方が水素、アルキル又はハロゲンであり、Ｒ１７が水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいアルケニル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいカルバモイル、シアノ又はホルミルであり、Ｒ１８が水素、アルキル又はハロゲンである上記（２４）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（３１）  Ｒ１７が置換されていてもよいカルバモイルである上記（２４）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
（３２）  式：
2002070486.tif 000032
（式中、ＲＢは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、Ｚ１０は−Ｃ（−Ｒ１６）＝又は−Ｎ＝であり、Ｒ１９は−Ｏ−、−Ｃ（−Ｒ１７）＝Ｃ（−Ｒ１８）−又は−ＣＨ（−Ｒ１７）−ＣＨ（−Ｒ１８）−であり、Ｒ７〜Ｒ１０及びＲ１４〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される上記（１）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（３３）  ＲＢがヘテロアリールであり、Ｒ７〜Ｒ１０及びＲ１４〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン又は−Ｓ−、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである上記（３２）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（３４）  式：
2002070486.tif 000033
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環であり、Ｚ１０は−Ｃ（−Ｒ１６）＝又は−Ｎ＝であり、Ｒ１１〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求項１と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される上記（１）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（３５）  Ｃ環がピリミジン−２−イル、ピリジン−２−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、チアゾール−２−イル又はイミダゾール−２−イルであり、Ｒ１１〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである上記（３４）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（３６）  式：
2002070486.tif 000034
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環であり、Ｚ８は−Ｏ−、−Ｎ（−Ｒ１７）−又は−Ｓ−であり；Ｒ１１〜Ｒ１７の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される上記（１）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（３７）  Ｃ環が１，３，４−オキサジアゾール−２−イル又は１，３，４−チアジアゾール−２−イルであり、Ｚ８が−Ｏ−であり、Ｒ１１〜Ｒ１７の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである上記（３６）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（３８）  式：
2002070486.tif 000035
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環であり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６及びＲ１１〜Ｒ１３の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される上記（１）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（３９）  Ｃ環が１，３，４−オキサジアゾール−２−イルであり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６及びＲ１１〜Ｒ１３の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである上記（３８）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（４０）  式：
2002070486.tif 000036
（式中、ＲＢは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、Ｒ３〜Ｒ１０の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される上記（１）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
（４１）  上記（１）〜（４０）のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する医薬組成物、
（４２）  酵素阻害剤である上記（４１）記載の医薬組成物、
（４３）  核酸関連酵素阻害剤である上記（４２）記載の医薬組成物、
（４４）  ＨＩＶインテグラーゼ阻害剤である上記（４３）記載の医薬組成物、
（４５）  抗ＨＩＶ剤である上記（４１）記載の医薬組成物、
（４６）  エイズ又はエイズ関連合併症の発症予防剤又は治療剤である上記（４１）記載の医薬組成物、
（４７）  上記（４４）記載の医薬組成物に、逆転写酵素阻害剤および／又はプロテアーゼ阻害剤を組み合わせてなる抗ＨＩＶ用合剤、
（４８）  逆転写酵素阻害剤および／又はプロテアーゼ阻害剤の抗ＨＩＶ活性を上昇させる活性を有する上記（４４）記載の医薬組成物、
（４９）  上記（４１）記載の医薬組成物を投与することを特徴とするエイズ又はエイズ関連合併症の発症予防又は治療方法、
（５０）  エイズ又はエイズ関連合併症の発症予防又は治療用の医薬組成物を製造するための上記（１）〜（４０）のいずれかに記載の化合物の使用、
に関する。
以下に本発明を詳しく説明する。
式（Ｉ）：
2002070486.tif 000037
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ９、Ｙ及びＲＡは上記（１）と同意義）で示される化合物の特徴としては、以下の点が挙げられる。
１）
2002070486.tif 000038
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｚ４、Ｚ５及びＺ９は上記（１）と同意義）が縮合した含窒素複素環である点、
２）  Ａ環が、Ｚ９の隣接部位に窒素原子を環の構成原子として有する点、
３）  Ｂ環が、Ｚ９の隣接部位にＹを置換基として有する点、
４）  Ｙがヒドロキシ、メルカプト又はアミノである点、
５）  Ｂ環が、Ｙが置換している原子の隣接部位（Ｚ４）にＲＡを置換基として有する点、
６）  ＲＡが、式：
2002070486.tif 000039
（式中、Ｃ環は上記（１）と同意義）で示される基又は式：
2002070486.tif 000040
（式中、Ｘ及びＲＢは上記（１）と同意義）で示される基である点、
７）  Ａ環、Ｂ環又はＲＡが置換可能な任意の位置（但し、Ｚ９に隣接するＡ環上の窒素原子、及びＣ環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。）のうち少なくとも一つの位置で、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換されている点、
８）  Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、ＲＢが置換可能な任意の位置（但し、Ｚ９に隣接するＡ環上の窒素原子、及びＣ環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。）のうち、上記式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換されている位置以外の位置で１〜６個の置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい点、
が挙げられる。
式（Ｉ）で示される化合物は、以下の化合物を意味する。すなわち、式（ＩＩ）：
2002070486.tif 000041
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ９及びＹは上記（１）と同意義）で示される化合物又は式（ＩＩＩ）：
2002070486.tif 000042
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ９、Ｙ、ＲＢ及びＸは上記（１）と同意義）で示される化合物である。
なお、上記式（ＩＩ）及び式（ＩＩＩ）において、Ａ環、Ｂ環又はＲＡ（Ｃ環又はＲＢ）が置換可能な任意の位置（但し、Ｚ９に隣接するＡ環上の窒素原子、及びＣ環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。）のうち少なくとも一つの位置で、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換されており、さらにＡ環、Ｂ環又はＲＡ（Ｃ環又はＲＢ）が置換可能な任意の位置（但し、Ｚ９に隣接するＡ環上の窒素原子、及びＣ環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。）のうち、上記式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換されている位置以外の位置で１〜６個の置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい。
式（ＩＩ）で示される化合物のうち、特に以下の態様が好ましい。すなわち、式（ＩＩ−Ａ）：
2002070486.tif 000043
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ９、Ｙ、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される化合物及び式（ＩＩ−Ｂ）：
2002070486.tif 000044
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｃ環、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ９、Ｙ、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される化合物が好ましい。
式（ＩＩＩ）で示される化合物のうち、特に以下の態様が好ましい。すなわち、式（ＩＩＩ−Ａ）：
2002070486.tif 000045
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ９、Ｙ、Ｘ、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｒ１及びＲＢは上記（１）と同意義）で示される化合物及び式（ＩＩＩ−Ｂ）：
2002070486.tif 000046
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ９、Ｙ、Ｘ、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｒ１及びＲＢは上記（１）と同意義）で示される化合物が好ましい。
式（ＩＩＩ−Ａ）で示される化合物のうち、ＲＢが式：−ＯＲ（Ｒは置換されていてもよいアルキル）で示される基である化合物（式（ＩＩＩ−Ｃ）で示す）が好ましい。式（ＩＩＩ−Ｂ）で示される化合物のうち、ＲＢが置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールである化合物（式（ＩＩＩ−Ｄ）で示す）が好ましい。
2002070486.tif 000047
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ９、Ｙ、Ｘ、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｒ１及びＲＢは上記（１）と同意義）で示される化合物が好ましい。
なお、上記式（ＩＩ−Ａ）、式（ＩＩ−Ｂ）、式（ＩＩＩ−Ａ）、式（ＩＩＩ−Ｂ）、式（ＩＩＩ−Ｃ）及び式（ＩＩＩ−Ｄ）で示される化合物において、Ａ環、Ｂ環又はＲＡ（Ｃ環又はＲＢ）が置換可能な任意の位置（但し、Ｚ９に隣接するＡ環上の窒素原子、及びＣ環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。）のうち、上記式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換されている位置以外の位置で１〜６個の置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい。
式：
2002070486.tif 000048
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｚ４、Ｚ５及びＺ９は上記（１）と同意義）で示される環は、縮合した含窒素複素環を意味する。なお、破線は結合の存在又は不存在を表わし、隣接する破線が共に結合の存在を表わす場合はない。また、曲線で示した部分は、それぞれＡ環及びＢ環を構成する原子及び結合を意味する。構成原子としては、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が挙げられ、結合としては、単結合、二重結合が挙げられる。特に、縮合した含窒素複素環が芳香環である場合が好ましく、上記の縮合した含窒素複素環が芳香性を示すように、Ａ環及びＢ環を構成する原子及び結合を選択すればよい。
なお、上記の含窒素複素環を構成するヘテロ原子（酸素原子、窒素原子、硫黄原子）の数は、１〜６個、特に１〜４個が好ましい。また、上記の含窒素複素環を構成するＡ環及びＢ環は、それぞれ４〜８員環を意味するが、特に５員環又は６員環の環が好ましい。なお、Ｂ環を構成する原子には、ヘテロ原子が含まれていなくてもよい。
縮合した含窒素複素環の好ましい態様としては、
１）縮合した含窒素複素環が、
2002070486.tif 000049
である場合、
２）縮合した含窒素複素環が芳香環である場合、
３）Ｚ４、Ｚ５及びＺ９が炭素原子であり、Ｂ環が６員の芳香環であり、Ａ環が７〜８員の非芳香環である場合、
４）Ｚ４及びＺ９が炭素原子であり、Ｚ５が窒素原子であり、Ｚ９とＡ環上の隣接窒素原子の間の結合が二重結合であり、Ａ環が７〜８員の非芳香環である場合、
５）Ｚ９に隣接するＡ環上の窒素原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている場合（以下の（Ｓ１）、（Ｓ２）に示す）、
2002070486.tif 000050
（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｚ４、Ｚ５及びＺ９は上記（１）と同意義；Ｑは窒素原子に隣接する原子）、
等が挙げられる。
特にＡ環及びＢ環としては、以下のものが好ましい。
すなわち、Ａ環部分が式：
2002070486.tif 000051
で示されるもの又は式：
2002070486.tif 000052
で示されるものであり、かつＢ環部分が式：
2002070486.tif 000053
（式中、Ｙ及びＲＡは上記（１）と同意義）で示されるものである場合が好ましい。
また、別の態様としては、Ａ環部分が、式：
2002070486.tif 000054
で示されるもの又は式：
2002070486.tif 000055
で示されるものであり、かつＢ環部分が式：
2002070486.tif 000056
（式中、Ｙ及びＲＡは上記（１）と同意義）で示されるものである場合が好ましい。
また、Ａ環部分が式：
2002070486.tif 000057
であり、かつＢ環部分が式：
2002070486.tif 000058
（式中、Ｙ及びＲＡは請求項１と同意義）で示されるものである場合も好ましい。
また、Ｚ４が窒素原子である場合としては、以下の例が挙げられる。
2002070486.tif 000059
（式中、Ｙ及びＲＡは上記（１）と同意義）
また、Ａ環及びＢ環の特に好ましい組合わせは、１）共に６員環の場合、２）共に５員環の場合、３）一方が５員環、他方が６員環の場合であるが、特に１）及び３）の場合が好ましい。３）の場合、さらには、Ａ環が５員環、Ｂ環が６員環の場合が好ましい。
特に、以下の式：
2002070486.tif 000060
（式中、Ｙ及びＲＡは上記（１）と同意義、Ｚ７は上記（５）と同意義）で示される環の場合が好ましく、さらにＺ７がＮＨである場合が好ましい。
すなわち、本発明化合物としては、以下の態様が好ましい。
（Ａ−１）  式：
2002070486.tif 000061
（式中、ＲＢは水素又は置換基群Ａから選択される基であり、Ｚ６は＝Ｃ（−Ｒ５）−又は＝Ｎ−であり、Ｒ３〜Ｒ６の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される化合物、
（Ａ−２）  式：
2002070486.tif 000062
（式中、ＲＢは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、Ｚ６は＝Ｃ（−Ｒ５）−又は＝Ｎ−であり、Ｒ３〜Ｒ１０の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される化合物、
（Ａ−３）  式：
2002070486.tif 000063
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環であり、Ｙはヒドロキシ又はメルカプトであり、Ｚ６は＝Ｃ（−Ｒ５）−又は＝Ｎ−であり、Ｚ７は−Ｎ（−Ｒ３）−、−Ｓ−又は−Ｏ−であり、Ｒ３〜Ｒ６及びＲ１１〜Ｒ１３の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求項１と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される化合物、
（Ａ−４）  式：
2002070486.tif 000064
（式中、ＲＢは水素又は置換基群Ａから選択される基であり、Ｚ１０は−Ｃ（−Ｒ１６）＝又は−Ｎ＝であり、Ｒ１４〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。但し、
式：
2002070486.tif 000065
（式中、ＲＢ’はヒドロキシ又はアルコキシであり、Ｚ２’はアルキレン又はアルケニレンであり、Ｒ１’は置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールである）で示される化合物、５−ベンジル−７−アセチル−８−ヒドロキシキノリン及び５−フェニル−７−アセチル−８−ヒドロキシキノリンを除く。）で示される化合物、
（Ａ−５）  式：
2002070486.tif 000066
（式中、ＲＢは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、Ｚ１０は−Ｃ（−Ｒ１６）＝又は−Ｎ＝であり、Ｒ１９は−Ｏ−、−Ｃ（−Ｒ１７）＝Ｃ（−Ｒ１８）−又は−ＣＨ（−Ｒ１７）−ＣＨ（−Ｒ１８）−であり、Ｒ７〜Ｒ１０及びＲ１４〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される化合物、
（Ａ−６）  式：
2002070486.tif 000067
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環であり、Ｚ１０は−Ｃ（−Ｒ１６）＝又は−Ｎ＝であり、１１〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は請求項１と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される化合物、
（Ａ−７）  式：
2002070486.tif 000068
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環であり、Ｚ８は−Ｏ−、−Ｎ（−Ｒ１７）−又は−Ｓ−であり；Ｒ１１〜Ｒ１７の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される化合物、
（Ａ−８）  式：
2002070486.tif 000069
（式中、Ｃ環は含窒素芳香族複素環であり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６及びＲ１１〜Ｒ１３の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される化合物、
（Ａ−９）  式：
2002070486.tif 000070
（式中、ＲＢは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、Ｒ３〜Ｒ１０の少なくともいずれか一つは、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Ａから選択される基である。）で示される上記（１）記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
特に、（Ａ−１）については、ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていもてよいアミノ、ヘテロサイクル、ヘテロアリール又はアリールであり、Ｚ６が＝Ｃ（−Ｒ５）−であり、Ｒ３〜Ｒ６の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２は単結合、アルキレン又はアルケニレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りがハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、水素、ハロゲン又はアルキルである化合物が好ましく、
（Ａ−２）については、ＲＢがヘテロアリールであり、Ｚ６が＝Ｃ（−Ｒ５）−であり、Ｒ３〜Ｒ１０の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、アルキル又はハロゲンである化合物が好ましく、
（Ａ−３）については、Ｃ環が１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、オキサゾール−２−イル、チアゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，４−トリアゾール−３−イル、イミダゾール−２−イル又はピリミジン−２−イルであり、Ｚ６が＝Ｃ（−Ｒ５）−又は＝Ｎ−であり、Ｚ７が−Ｎ（−Ｒ３）−、−Ｓ−又は−Ｏ−であり、Ｒ３〜Ｒ６及びＲ１１〜Ｒ１３の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１は単結合又はアルキレン、Ｚ２は単結合、アリールで置換されていてもよいアルキレン、アルケニレン、−Ｏ−又は−ＮＨ−、Ｚ３は単結合、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド）、置換されていてもよいヘテロアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド）又は置換されていてもよいシクロアルキル（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド）である）で示される基であり、残りが水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいカルバモイル（置換基としてはアルキル）、アルケニルオキシ及び／又はフタルイミド）、ハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、ハロゲンで置換されていてもよいアリール、アルキルで置換されていてもよいカルバモイル、アシルで置換されていてもよいアミノ又はアルキルチオである化合物が好ましく、
（Ａ−４）については、Ｒ１５が式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基である化合物、
Ｒ１４が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノである上記（２４）記載の化合物、ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、アルキル、シクロアルキル又はアリールであり、Ｒ１４〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシカルボニル及び／又はカルボキシ）、置換されていてもよいアルケニル（置換基としては、アルコキシカルボニル及び／又はカルボキシ）、アリール、ハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいカルバモイル、シアノ又はホルミルである化合物、
ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシ及び／又は置換されていてもよいアミノ）、置換されていもてよいアリール、置換されていもてよいヘテロアリール、シクロアルキル又は置換されていてもよいアミノ（置換基としては、アルキル及び／又はアルコキシ）であり、Ｒ１４が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノであり、Ｒ１５及びＲ１６のいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、他方が水素、アルキル又はハロゲンであり、Ｒ１７が水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル（置換基としては、アルキル及び／又はアルキレン））、置換されていてもよいアルケニル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいカルバモイル（置換基としては、アルキル、アルキレン、アルコキシアルキル、アラルキル、アリール及び／又はヘテロアリール）、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいスルファモイル、置換されていてもよいアミノ、シアノ又はホルミルであり、Ｒ１８が水素、アルキル又はハロゲンである化合物、
ＲＢがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシ及び／又は置換されていてもよいアミノ）、置換されていもてよいアリール、置換されていもてよいヘテロアリール、シクロアルキル又は置換されていてもよいアミノ（置換基としては、アルキル及び／又はアルコキシ）であり、Ｒ１４が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノであり、Ｒ１５が式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８がそれぞれ独立して水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル（置換基としては、アルキル及び／又はアルキレン））、置換されていてもよいアルケニル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいカルバモイル（置換基としては、アルキル、アルキレン、アルコキシアルキル、アラルキル、アリール及び／又はヘテロアリール）、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいスルファモイル、置換されていてもよいアミノ、シアノ又はホルミルである化合物、
ＲＢがヒドロキシ又はアルコキシであり、Ｒ１４が水素、アルキル、ハロゲンであり、Ｒ１５及びＲ１６のいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、他方が水素、アルキル又はハロゲンであり、Ｒ１７が水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいアルケニル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいカルバモイル、シアノ又はホルミルであり、Ｒ１８が水素、アルキル又はハロゲンである化合物が好ましく、
（Ａ−５）については、ＲＢがヘテロアリールであり、Ｒ７〜Ｒ１０及びＲ１４〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２は−Ｓ−、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである化合物が好ましく、
（Ａ−６）については、Ｃ環がピリミジン−２−イル、ピリジン−２−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、チアゾール−２−イル又はイミダゾール−２−イルであり、Ｒ１１〜Ｒ１８の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである化合物が好ましく、
（Ａ−７）については、Ｃ環が１，３，４−オキサジアゾール−２−イル又は１，３，４−チアジアゾール−２−イルであり、Ｚ８が−Ｏ−であり、Ｒ１１〜Ｒ１７の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである化合物が好ましく、
（Ａ−８）については、Ｃ環が１，３，４−オキサジアゾール−２−イルであり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６及びＲ１１〜Ｒ１３の少なくともいずれか一つが式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１及びＺ３は単結合、Ｚ２はアルキレン、Ｒ１は置換されていてもよいアリール（置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び／又はアジド））で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである化合物が好ましい。
なお、（Ａ−４）については、Ｒ１４が置換されたアルキル（置換基としては、置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリール）及び置換されたアルケニル（置換基としては、置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリール）でない場合、特に、ヒドロキシで置換されたフェニルエテニルでない場合が好ましく、特にＲ１４が水素、アルキル又はハロゲン（特にＲ１４が水素）である化合物が好ましい。また、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基が、Ｒ１５〜Ｒ１８（特にＲ１５又はＲ１６）のいずれかに置換した化合物が好ましい。また、Ｒ１７が水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいアルケニル（置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び／又は置換されていてもよいカルバモイル）、置換されていてもよいカルバモイル又はシアノである場合が好ましい。
本発明化合物のＡ環、Ｂ環、ＲＡ、ＲＢに置換する、式：：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基以外の置換基は、インテグラーゼ阻害活性を妨害しない置換基であればよい。すなわち、本発明は、式（Ｉ）、式（ＩＩ）及び式（ＩＩＩ）で示される化合物が式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換されていることが特徴であり、上記化合物においては、さらにインテグラーゼ阻害活性を妨害しない置換基が存在してもよい。このような置換基は、インテグラーゼ阻害活性の測定結果、コンピュータを利用したドラッグデザイン等を使用して、また、置換基の分子量、ファンデルワールス半径、静電的性質等を参考にして選択することができる。
このような置換基は、特に限定して解釈すべきものではないが、例示としては、以下の置換基群Ａから選択される基等が挙げられる。置換基群Ａは、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、オキソ、チオキソ、アルキレンジオキシ、アルキレン、アルケニレン、ニトロソ、アジド、アミジノ、グアニジノ、シアノ、イソシアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドラジノ、モルホリノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアラルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル及び置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニルからなる群である。なお、本発明化合物は、置換基群Ａから選択される基で、１〜５箇所置換されていてもよい。
アルキレンジオキシ、アルキレン、アルケニレン等の２価の基は、同一又は異なる原子（例えば、隣接する原子）に置換していてもよい。
Ａ環、Ｂ環又はＲＡが置換可能な任意の位置（但し、Ｚ９に隣接するＡ環上の窒素原子、及びＣ環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。）のうち、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で置換されている位置以外の位置に置換する置換基としては、上記例示した置換基の中でも、特に、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、ニトロ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルケニル、シアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアラルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル又は置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニルが好ましい。さらには、水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアミノ、シアノ、置換されていてもよいカルバモイル、置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいアラルキルが好ましい。
ＲＢ上の置換基としては、上記例示した置換基の中でも、特に、ヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアラルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル又は置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニルが好ましい。さらには、ヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクルが好ましい。
本発明化合物の特徴であるＢ環上の置換基Ｙとしては、ヒドロキシ、メルカプト又はアミノが挙げられる。特にヒドロキシが好ましい。
Ｚ４としては、炭素原子又は窒素原子が挙げられる。特に炭素原子が好ましい。
Ｚ５としては、炭素原子又は窒素原子が挙げられる。
Ｚ９としては、炭素原子又は窒素原子が挙げられる。特に炭素原子が好ましい。
Ｚ６としては、Ｚ６は−Ｃ（−Ｒ５）＝又は−Ｎ＝が挙げられる。
Ｚ７としては、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ＝ＣＨ−又はＮＨが挙げられる。特にＮＨが好ましい。
Ｘとしては、酸素原子、硫黄原子又はＮＨが挙げられる。特に酸素原子が好ましい。
本発明化合物の特徴である式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、及びＲ１は上記（１）と同意義である。）で示される基としては、例えば、式：−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ１、式：−Ｓ−Ｒ１、式：−ＳＯ−Ｒ１、式：−ＳＯ２−Ｒ１、式：−ＳＯ２ＮＨ−Ｒ１、式：−ＮＨＳＯ２−Ｒ１、式：−Ｏ−Ｒ１、式：−ＮＨ−Ｒ１、式：−ＮＨＣＯ−Ｒ１、式：−ＣＯＮＨ−Ｒ１、式：−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ１、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１、式：−ＣＯ−Ｒ１、式：−Ｃ２Ｈ４−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−Ｒ１、式：−Ｓ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＳＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＳＯ２−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＳＯ２ＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＮＨＳＯ２−ＣＨ２−Ｒ１、式：−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｓ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＳＯ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＳＯ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＳＯ２ＮＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨＳＯ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨＣＯ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＮＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ２ＮＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨＳＯ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨＣＯ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＯ−Ｒ１、式：−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−Ｓ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＳＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＳＯ２−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＳＯ２ＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＮＨＳＯ２−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＮＨＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＯＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−Ｃ３Ｈ６−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ２−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ２ＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨＳＯ２−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−Ｃ２Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ２−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ２ＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨＳＯ２−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ２Ｈ４−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｓ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＳＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＳＯ２−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＳＯ２ＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨＳＯ２−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−Ｒ１又は式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１（式中、Ｒ１は、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、又は置換されていてもよいヘテロサイクルである。）で示される基等が挙げられる。
特に、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、及びＲ１は上記（１）と同意義である。）で示される基として好ましいのは、
１）Ｚ１及びＺ３が単結合である場合、
２）Ｚ１及びＺ３が単結合であり、Ｚ２が単結合、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−又は低級アルキレン（特に−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−）である場合、
３）Ｚ１及びＺ３が単結合であり、Ｚ２が単結合、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−又は低級アルキレン（特に−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−）であり、Ｒ１が置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールの場合、
４）Ｚ１及びＺ３が単結合であり、Ｚ２が−ＳＯ２−、−ＣＨ２−又は−Ｃ２Ｈ４−であり、Ｒ１が置換されていてもよいアリール（特にフェニルが好ましい。）の場合、
５）Ｚ１が単結合又はアルキレンであり、Ｚ３が単結合であり、Ｚ２が置換されていてもよいアルキレン、アルケニレン又は−Ｏ−であり、Ｒ１が置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール又は置換されていてもよいシクロアルキルの場合、
６）Ｚ１が単結合又はアルキレンである場合、
７）Ｚ１が単結合である場合、
８）Ｚ２が単結合、アルキレン、−ＳＯ２−又は−Ｏ−である場合、
９）Ｚ２が単結合、アルキレン又は−Ｏ−である場合、
１０）Ｚ２がアルキレン又は−Ｏ−である場合、
１１）Ｚ３が単結合又はアルキレンである場合、
１２）Ｒ１が置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールである場合、
１３）Ｒ１が置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいヘテロサイクル又は置換されていてもよいアリールである場合、
１４）Ｒ１が置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール又は置換されていてもよいヘテロサイクルである場合、
１５）Ｒ１が置換されていてもよいアリールである場合、
１６）Ｚ１及びＺ３が単結合であり、Ｚ２がアルキレンであり、Ｒ１が置換されていてもよいアリールである場合、
１７）Ｚ１が単結合又はアルキレンであり、Ｚ３が単結合であり、Ｚ２が置換されていてもよいアルキレン、アルケニレン、−Ｓ−又は−Ｏ−であり、Ｒ１は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール又は置換されていてもよいシクロアルキルである場合、
が好ましい。
式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１で示される基の好ましい具体例としては、フェニル、２−フルオロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フルオロフェニル、２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２，４−ジフルオロフェニル、２，６−ジフルオロフェニル、２，５−ジフルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、４−メチルフェニル、３−トリフルオロメチルフェニル、４−トリフルオロメチルフェニル、４−ヒドロキシフェニル、４−メトキシフェニル、４−ブロモフェニル、４−ビフェニリル、ベンジル、２−フルオロベンジル、３−フルオロベンジル、４−フルオロベンジル、２−クロロベンジル、３−クロロベンジル、４−クロロベンジル、２，４−ジフルオロベンジル、２，６−ジフルオロベンジル、２，５−ジフルオロベンジル、３，４−ジフルオロベンジル、３，６−ジフルオロベンジル、４−メチルベンジル、３−トリフルオロメチルベンジル、４−トリフルオロメチルベンジル、４−ヒドロキシベンジル、４−メトキシベンジル、４−ブロモベンジル、４−フェニルベンジル、２−フェニルエチル、２−（２−フルオロフェニル）エチル、２−（３−フルオロフェニル）エチル、２−（４−フルオロフェニル）エチル、２−（２−クロロフェニル）エチル、２−（３−クロロフェニル）エチル、２−（４−クロロフェニル）エチル、２−（２，４−ジフルオロフェニル）エチル、２−（２，６−ジフルオロフェニル）エチル、２−（２，５−ジフルオロフェニル）エチル、２−（３，４−ジフルオロフェニル）エチル、２−（４−メチルフェニル）エチル、２−（３−トリフルオロメチルフェニル）エチル、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）エチル、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチル、２−（４−メトキシフェニル）エチル、２−（４−ブロモフェニル）エチル、２−（４−ビフェニリル）エチル、ベンゼンスルホニル、２−フルオロベンゼンスルホニル、３−フルオロベンゼンスルホニル、４−フルオロベンゼンスルホニル、２−クロロベンゼンスルホニル、３−クロロベンゼンスルホニル、４−クロロベンゼンスルホニル、２，４−ジフルオロベンゼンスルホニル、２，６−ジフルオロベンゼンスルホニル、２，５−ジフルオロベンゼンスルホニル、３，４−ジフルオロベンゼンスルホニル、４−メチルベンゼンスルホニル、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル、４−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル、４−ヒドロキシベンゼンスルホニル、４−メトキシベンゼンスルホニル、４−ブロモベンゼンスルホニル、４−フェニルベンゼンスルホニル、フェニルチオ、２−フルオロフェニルチオ、３−フルオロフェニルチオ、４−フルオロフェニルチオ、２−クロロフェニルチオ、３−クロロフェニルチオ、４−クロロフェニルチオ、２，４−ジフルオロフェニルチオ、２，６−ジフルオロフェニルチオ、２，５−ジフルオロフェニルチオ、３，４−ジフルオロフェニルチオ、４−メチルフェニルチオ、３−トリフルオロメチルフェニルチオ、４−トリフルオロメチルフェニルチオ、４−ヒドロキシフェニルチオ、４−メトキシフェニルチオ、４−ブロモフェニルチオ、４−ビフェニリルチオ、フェノキシ、２−フルオロフェノキシ、３−フルオロフェノキシ、４−フルオロフェノキシ、２−クロロフェノキシ、３−クロロフェノキシ、４−クロロフェノキシ、２，４−ジフルオロフェノキシ、２，６−ジフルオロフェノキシ、２，５−ジフルオロフェノキシ、３，４−ジフルオロフェノキシ、４−メチルフェノキシ、３−トリフルオロメチルフェノキシ、４−トリフルオロメチルフェノキシ、４−ヒドロキシフェノキシ、４−メトキシフェノキシ、４−ブロモフェノキシ、４−フェニルフェノキシ、ベンゾイル、２−フルオロベンゾイル、３−フルオロベンゾイル、４−フルオロベンゾイル、２−クロロベンゾイル、３−クロロベンゾイル、４−クロロベンゾイル、２，４−ジフルオロベンゾイル、２，６−ジフルオロベンゾイル、２，５−ジフルオロベンゾイル、３，４−ジフルオロベンゾイル、４−メチルベンゾイル、３−トリフルオロメチルベンゾイル、４−トリフルオロメチルベンゾイル、４−ヒドロキシベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、４−ブロモベンゾイル、４−フェニルベンゾイル、２−チエニル、３−チエニル、フルフリル、３−フリルメチル、（２−クロロチオフェン−３−イル）メチル、２−ピコリル、３−ピコリル、４−ピコリル、（２−フルオロピリジン−３−イル）メチル、（２−フルオロピリジン−５−イル）メチル、（５−フルオロピリジン−２−イル）メチル等が挙げられる。
本発明化合物の特徴として、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基で、Ａ環、Ｂ環又はＲＡが置換可能な任意の位置（但し、Ｚ９に隣接するＡ環上の窒素原子、及びＣ環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。）のうち少なくとも一つの位置で置換されていることが挙げられる。特に、Ａ環、Ｃ環又はＲＢに置換している場合が好ましい。
置換可能な任意の位置とは、Ａ環、Ｂ環又はＲＡの水素原子が結合している原子を意味し、本発明化合物は、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基が上記水素原子に置換している化合物を意味する。
式：
2002070486.tif 000071
（Ｃ環は上記（１）と同意義）で示される基は、結合手を有する原子に隣接する一方の原子が窒素原子であるヘテロアリールを意味する。
特に、Ｃ環上の結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であるヘテロアリール（以下の（Ｔ１）、（Ｔ２））が好ましく、さらには、Ｃ環上の結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であり、かつ結合手を有する原子に隣接する他方の原子がヘテロ原子であるヘテロアリール（以下の（Ｔ３）、（Ｔ４））が好ましい。
2002070486.tif 000072
（式中、Ｔ１〜Ｔ４で示される基は結合手を有する原子に隣接する一方の原子が窒素原子であるヘテロアリールを表わす。Ｎは窒素原子、Ｑは窒素原子に隣接する原子；Ｈｅｔはヘテロ原子）
なお、破線は結合の存在又は不存在を表わす。また、曲線で示した部分は、Ｃ環を構成する原子及び結合を意味し、Ｃ環が芳香性を表わすように選択すればよい。Ｃ環は、上記式に示された窒素原子以外にもヘテロ原子を含んでいてもよく、Ｃ環の構成原子としては、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が挙げられる。Ｃ環を構成する結合としては、単結合、二重結合が挙げられる。なお、Ｃ環には単環のみならず縮合環（２〜５個の縮合環）も含まれるが、特に単環又は２環、さらには単環が好ましい。
Ｃ環が単環であるヘテロアリールとしては、結合手を有する原子に隣接する一方の原子が窒素原子であり、更に酸素原子、硫黄原子、および／又は窒素原子を環内に１〜４個含んでいてもよい５〜８員のヘテロアリールを意味し、特に５又は６員のヘテロアリールが好ましい。例えば、ピロール−２−イル、イミダゾール−２−イル、イミダゾール−４−イル、ピラゾール−３−イル、トリアゾール−３−イル、テトラゾール−５−イル、オキサゾール−２−イル、オキサゾール−４−イル、イソキサゾール−３−イル、チアゾール−２−イル、チアゾール−４−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，４−チアジアゾール−５−イル、１，２，４−チアジアゾール−３−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、イソチアゾール−３−イル、ピリジン−２−イル、ピリダジン−３−イル、ピラジン−２−イル、ピリミジン−２−イル、ピリミジン−４−イル、フラザン−３−イル等が挙げられる。
特に、結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であるヘテロアリールが好ましく、例えば、イミダゾール−２−イル、イミダゾール−４−イル、ピラゾール−３−イル、トリアゾール−３−イル、テトラゾール−５−イル、オキサゾール−２−イル、オキサゾール−４−イル、イソキサゾール−３−イル、チアゾール−２−イル、チアゾール−４−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，４−チアジアゾール−５−イル、１，２，４−チアジアゾール−３−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、イソチアゾール−３−イル、ピリジン−２−イル、ピリダジン−３−イル、ピラジン−２−イル、ピリミジン−２−イル、ピリミジン−４−イル、フラザン−３−イル等が挙げられる。
さらには、結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であり、かつ結合手を有する原子に隣接する他方の原子がヘテロ原子であるヘテロアリールが好ましく、例えば、イミダゾール−２−イル、トリアゾール−３−イル、テトラゾール−５−イル、オキサゾール−２−イル、チアゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，４−チアジアゾール−５−イル、１，２，４−チアジアゾール−３−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、ピリミジン−２−イル等が挙げられる。
Ｃ環が縮合環であるヘテロアリールとしては、上記の単環に１〜４個の５〜８員の芳香族炭素環（５〜８員の芳香族炭素環）及び／又は他の５〜８員の芳香族ヘテロ環（酸素原子、硫黄原子、および／又は窒素原子を環内に１〜４個含んでいてもよい５〜８員の芳香族複素環）が縮合したヘテロアリールを意味する。縮合する芳香環としては、５員又は６員の環が好ましい。例えば、ベンズイミダゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、キノキサリン−２−イル、シンノリン−３−イル、キナゾリン−２−イル、キナゾリン−４−イル、キノリン−２−イル、フタラジン−１−イル、イソキノリン−１−イル、イソキノリン−３−イル、プリン−２−イル、プリン−６−イル、プリン−８−イル、プテリジン−２−イル、プテリジン−４−イル、プテリジン−６−イル、プテリジン−７−イル、カルバゾール−１−イル、フェナントリジン−６−イル、インドール−２−イル、イソインドール−１−イル等が挙げられる。
特に、結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であるヘテロアリールが好ましく、例えば、ベンズイミダゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、キノキサリン−２−イル、シンノリン−３−イル、キナゾリン−２−イル、キナゾリン−４−イル、キノリン−２−イル、フタラジン−１−イル、イソキノリン−１−イル、イソキノリン−３−イル、プリン−２−イル、プリン−６−イル、プリン−８−イル、プテリジン−２−イル、プテリジン−４−イル、プテリジン−６−イル、プテリジン−７−イル、フェナントリジン−６−イル等が挙げられる。
さらには、結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であり、かつ結合手を有する原子に隣接する他方の原子がヘテロ原子であるヘテロアリールが好ましく、例えば、ベンズイミダゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、キナゾリン−２−イル、プリン−２−イル、プリン−８−イル、プテリジン−２−イル等が挙げられる。
特に、式：
2002070486.tif 000073
で示される基が好ましい。
なお、上記式中、Ｃ環は、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＲ１は上記（１）と同意義）で示される基又は置換基群Ａから選択される基で置換されていてもよい。
本明細書中で用いる用語を以下に説明する。各用語は単独で又は他の用語と一緒になって同一の意義を有する。
「アルキレン」は、炭素数１〜６個の直鎖状又は分枝状のアルキレンを意味し、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、エチルエチレン、ペンタメチレン又はヘキサメチレン等が挙げられる。好ましくは、炭素数１〜４個の直鎖状のアルキレンであり、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン又はテトラメチレンが挙げられる。
「アルケニレン」は、上記「アルキレン」に１個又はそれ以上の二重結合を有する炭素数２〜６個の直鎖状又は分枝状のアルケニレン基を意味し、例えば、ビニレン、プロペニレン又はブテニレンが挙げられる。好ましくは、炭素数２〜３個の直鎖状のアルケニレンであり、例えば、ビニレン又はプロペニレンが挙げられる。
「アルキル」は、炭素数１〜１０個の直鎖状又は分枝状のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル等が挙げられる。好ましくは、炭素数１〜６個のアルキルであり、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシルが挙げられる。
「アルケニル」は、上記「アルキル」に１個又はそれ以上の二重結合を有する炭素数２〜８個の直鎖状又は分枝状のアルケニルを意味し、例えば、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１，３−ブタジエニル、３−メチル−２−ブテニル等が挙げられる。
「アリール」は、単環芳香族炭化水素基（フェニル）及び多環芳香族炭化水素基（例えば、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリル、９−フェナントリル等）を意味する。好ましくは、フェニル又はナフチル（１−ナフチル、２−ナフチル）が挙げられる。
「ヘテロアリール」は、単環芳香族複素環式基及び縮合芳香族複素環式基を意味する。
単環芳香族複素環式基は、酸素原子、硫黄原子、および／又は窒素原子を環内に１〜４個含んでいてもよい５〜８員の芳香環から誘導される、置換可能な任意の位置に結合手を有していてもよい基を意味する。
縮合芳香族複素環式基は、酸素原子、硫黄原子、および／又は窒素原子を環内に１〜４個含んでいてもよい５〜８員の芳香環が、１〜４個の５〜８員の芳香族炭素環もしくは他の５〜８員の芳香族ヘテロ環と縮合している、置換可能な任意の位置に結合手を有していてもよい基を意味する。
「ヘテロアリール」としては、例えば、フリル（例えば、２−フリル、３−フリル）、チエニル（例えば、２−チエニル、３−チエニル）、ピロリル（例えば、１−ピロリル、２−ピロリル、３−ピロリル）、イミダゾリル（例えば、１−イミダゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル）、ピラゾリル（例えば、１−ピラゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル）、トリアゾリル（例えば、１，２，４−トリアゾール−１−イル、１，２，４−トリアゾリール−３−イル、１，２，４−トリアゾール−４−イル）、テトラゾリル（例えば、１−テトラゾリル、２−テトラゾリル、５−テトラゾリル）、オキサゾリル（例えば、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル）、イソキサゾリル（例えば、３−イソキサゾリル、４−イソキサゾリル、５−イソキサゾリル）、チアゾリル（例えば、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル）、チアジアゾリル、イソチアゾリル（例えば、３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル）、ピリジル（例えば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル）、ピリダジニル（例えば、３−ピリダジニル、４−ピリダジニル）、ピリミジニル（例えば、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル）、フラザニル（例えば、３−フラザニル）、ピラジニル（例えば、２−ピラジニル）、オキサジアゾリル（例えば、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル）、ベンゾフリル（例えば、２−ベンゾ［ｂ］フリル、３−ベンゾ［ｂ］フリル、４−ベンゾ［ｂ］フリル、５−ベンゾ［ｂ］フリル、６−ベンゾ［ｂ］フリル、７−ベンゾ［ｂ］フリル）、ベンゾチエニル（例えば、２−ベンゾ［ｂ］チエニル、３−ベンゾ［ｂ］チエニル、４−ベンゾ［ｂ］チエニル、５−ベンゾ［ｂ］チエニル、６−ベンゾ［ｂ］チエニル、７−ベンゾ［ｂ］チエニル）、ベンズイミダゾリル（例えば、１−ベンゾイミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、４−ベンゾイミダゾリル、５−ベンゾイミダゾリル）、ジベンゾフリル、ベンゾオキサゾリル、キノキサリル（例えば、２−キノキサリニル、５−キノキサリニル、６−キノキサリニル）、シンノリニル（例えば、３−シンノリニル、４−シンノリニル、５−シンノリニル、６−シンノリニル、７−シンノリニル、８−シンノリニル）、キナゾリル（例えば、２−キナゾリニル、４−キナゾリニル、５−キナゾリニル、６−キナゾリニル、７−キナゾリニル、８−キナゾリニル）、キノリル（例えば、２−キノリル、３−キノリル、４−キノリル、５−キノリル、６−キノリル、７−キノリル、８−キノリル）、フタラジニル（例えば、１−フタラジニル、５−フタラジニル、６−フタラジニル）、イソキノリル（例えば、１−イソキノリル、３−イソキノリル、４−イソキノリル、５−イソキノリル、６−イソキノリル、７−イソキノリル、８−イソキノリル）、プリル、プテリジニル（例えば、２−プテリジニル、４−プテリジニル、６−プテリジニル、７−プテリジニル）、カルバゾリル、フェナントリジニル、アクリジニル（例えば、１−アクリジニル、２−アクリジニル、３−アクリジニル、４−アクリジニル、９−アクリジニル）、インドリル（例えば、１−インドリル、２−インドリル、３−インドリル、４−インドリル、５−インドリル、６−インドリル、７−インドリル）、イソインドリル、ファナジニル（例えば、１−フェナジニル、２−フェナジニル）又はフェノチアジニル（例えば、１−フェノチアジニル、２−フェノチアジニル、３−フェノチアジニル、４−フェノチアジニル）等が挙げられる。
「シクロアルキル」は、炭素数３〜１０の環状飽和炭化水素基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。好ましくは、炭素数３〜６のシクロアルキルであり、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられる。
「シクロアルケニル」は、炭素数３〜１０の環状の非芳香族炭化水素基を意味し、例えば、シクロプロペニル（例えば、１−シクロプロペニル）、シクロブテニル（例えば、１−シクロブテニル）、シクロペンテニル（例えば、１−シクロペンテン−１−イル、２−シクロペンテン−１−イル、３−シクロペンテン−１−イル）、シクロヘキセニル（例えば、１−シクロヘキセン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−イル）、シクロヘプテニル（例えば、１−シクロヘプテニル）、シクロオクテニル（例えば、１−シクロオクテニル）等が挙げられる。特に、１−シクロヘキセン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−イルが好ましい。
「ヘテロサイクル」は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を少なくとも１以上環内に有する、置換可能な任意の位置に結合手を有する非芳香族複素環式基を意味し、例えば、１−ピロリニル、２−ピロリニル、３−ピロリニル、１−ピロリジニル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル、１−イミダゾリニル、２−イミダゾリニル、４−イミダゾリニル、１−イミダゾリジニル、２−イミダゾリジニル、４−イミダゾリジニル、１−ピラゾリニル、３−ピラゾリニル、４−ピラゾリニル、１−ピラゾリジニル、３−ピラゾリジニル、４−ピラゾリジニル、ピペリジノ、２−ピペリジル、３−ピペリジル、４−ピペリジル、１−ピペラジニル、２−ピペラジニル、２−モルホリニル、３−モルホリニル、モルホリノ、テトラヒドロピラニル等が挙げられる。なお、「非芳香族複素環式基」は、非芳香族であれば、飽和であってもよく、不飽和であってもよい。
「アルコキシ」のアルキル部分は、上記「アルキル」と同意義であり、「アルコキシ」としては、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなどが挙げられる。特に、メトキシ、エトキシが好ましい。
「アルコキシカルボニル」は、上記「アルコキシ」が置換したカルボニルを意味し、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル等が挙げられる。
「アルコキシアルキル」は、上記「アルコキシ」が置換した上記「アルキル」を意味し、例えば、メトキシメチル、エトキシメチル、ｎ−プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ｎ−ブトキシメチル、イソブトキシメチル、ｔｅｒｔ−ブトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、ｎ−プロポキシエチル、イソプロポキシエチル、ｎ−ブトキシエチル、イソブトキシエチル、ｔｅｒｔ−ブトキシエチルなどが挙げられる。
「アルキニル」は、上記「アルキル」に１個又はそれ以上の三重結合を有する炭素数２〜８個のアルキニルを意味し、例えば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル等が挙げられる。
「アルキルスルホニル」は、上記「アルキル」が置換したスルホニルを意味し、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ｎ−ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｓｅｃ−ブチルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、ｎ−ペンチルスルホニル、イソペンチルスルホニル、ネオペンチルスルホニル、ｔｅｒｔ−ペンチルスルホニル、ｎ−ヘキシルスルホニル、イソヘキシルスルホニル、ｎ−ヘプチルスルホニル、ｎ−オクチルスルホニル、ｎ−ノニルスルホニル、ｎ−デシルスルホニルなどが挙げられる。
「置換されていてもよいアミノ」は、置換又は非置換のアミノを意味する。
「置換されていてもよいカルバモイル」は、置換又は非置換のカルバモイルを意味する。
「置換されていてもよいアミノ」および「置換されていてもよいカルバモイル」の置換基としては、アルキル（例えば、メチル、エチル、ジメチル等）、アルコキシアルキル（例えば、エトキシメチル、エトキシエチル等）、アシル（例えば、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、トルオイル等）、アラルキル（例えば、ベンジル等）、ヒドロキシ、アルキルスルホニル（例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル等）、アルキルで置換されていてもよいアリールスルホニル（例えば、ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル）、シクロアルキル（例えば、シクロプロピル等）、アルキレン（例えば、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン）、アルキルで置換されていてもよいアリール（例えば、フェニル、トリチル等）等が挙げられる。
「アルキルチオ」は、上記「アルキル」が硫黄原子に置換した基を意味し、例えば、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチオ、ｎ−ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ｎ−ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチルチオ、ｔｅｒｔ−ペンチルチオ、ｎ−ヘキシルチオ、イソヘキシルチオ、ｎ−ヘプチルチオ、ｎ−オクチルチオ、ｎ−ノニルチオ、ｎ−デシルチオ等が挙げられる。好ましくは、炭素数１〜６のアルキルが硫黄原子に置換した基である。
「アルキルチオアルキル」は、上記「アルキルチオ」が置換した上記「アルキル」を意味し、例えば、メチルチオメチル、エチルチオメチル、ｎ−プロピルチオメチル、イソプロピルチオメチル、ｎ−ブチルチオメチル、イソブチルチオメチル、ｓｅｃ−ブチルチオメチル、ｔｅｒｔ−ブチルチオメチル、ｎ−ペンチルチオメチル、イソペンチルチオメチル、ネオペンチルチオメチル、ｔｅｒｔ−ペンチルチオメチル、ｎ−ヘキシルチオメチル、イソヘキシルチオメチル、ｎ−ヘプチルチオメチル、ｎ−オクチルチオメチル、ｎ−ノニルチオメチル、ｎ−デシルチオメチル、メチルチオエチル、エチルチオエチル、ｎ−プロピルチオエチル、イソプロピルチオエチル、ｎ−ブチルチオエチル、イソブチルチオエチル、ｓｅｃ−ブチルチオエチル、ｔｅｒｔ−ブチルチオエチル、ｎ−ペンチルチオエチル、イソペンチルチオエチル、ネオペンチルチオエチル、ｔｅｒｔ−ペンチルチオエチル、ｎ−ヘキシルチオエチル、イソヘキシルチオエチル、ｎ−ヘプチルチオエチル、ｎ−オクチルチオエチル、ｎ−ノニルチオエチル、ｎ−デシルチオエチル等が挙げられる。好ましくは、炭素数１〜６のアルキルチオが置換した炭素数１〜２のアルキルである。
「ハロアルキル」は、１以上のハロゲンで置換された上記「アルキル」を意味する。特に、炭素数１〜３のハロゲン化アルキルが好ましく、例えば、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、１，１−ジクロロエチル、２，２，２−トリクロロエチルなどが挙げられる。
「ハロアルコキシ」は、上記「ハロアルキル」が酸素原子に置換した基を意味し、例えば、トリフルオロメトキシ、クロロメトキシ、ジクロロメトキシ、１，１−ジクロロエトキシ、２，２，２−トリクロロエトキシなどが挙げられる。
「ハロアルコキシアルキル」は、上記「ハロアルコキシ」が置換した上記「アルキル」を意味し、例えば、トリフルオロメトキシメチル、クロロメトキシメチル、ジクロロメトキシメチル、１，１−ジクロロエトキシメチル、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、トリフルオロメトキシエチル、クロロメトキシエチル、ジクロロメトキシエチル、１，１−ジクロロエトキシエチル、２，２，２−トリクロロエトキシエチル等が挙げられる。
「アルキルカルボニル」は、上記「アルキル」が置換したカルボニルを意味し、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル等が挙げられる。
「アルキルカルボニルオキシ」は、上記「アルキルカルボニル」が酸素原子に置換した基を意味し、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ、バレリルオキシ、イソバレリルオキシ、ピバロイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、オクタノイルオキシ、ラウロイルオキシ等が挙げられる。
「アラルキル」は、１〜３個の上記「アリール」が置換した上記「アルキル」を意味し、例えば、ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、フェネチル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル等）等が挙げられる。
「ヘテロアラルキル」は、１〜３個の上記「ヘテロアリール」が置換した上記「アルキル」を意味し、特にアルキル部分の炭素数が１〜４のヘテロアラルキルが好ましい。特に、アルキル部分の炭素数が１又は２のヘテロアラルキルが好ましく、例えば、フリルメチル、チエニルメチル、ピロリルメチル、イミダゾリルメチル、ピラゾリルメチル、トリアゾリルメチル、テトラゾリルメチル、オキサゾリルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、チアジアゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、ピリジルメチル、ピリダジニルメチル、ピリミジニルメチル、フラザニルメチル、ピラジニルメチル、オキサジアゾリルメチル、ベンゾフリルメチル、ベンゾチエニルメチル、ベンズイミダゾリルメチル、ジベンゾフリルメチル、ベンゾオキサゾリルメチル、キノキサリルメチル、シンノリニルメチル、キナゾリルメチル、キノリルメチル、フタラジニルメチル、イソキノリルメチル、プリルメチル、プテリジニルメチル、カルバゾリルメチル、フェナントリジニルメチル、アクリジニルメチル、インドリルメチル、イソインドリルメチル、ファナジニルメチル、フェノチアジニルメチル、フリルエチル、チエニルエチル、ピロリルエチル、イミダゾリルエチル、ピラゾリルエチル、トリアゾリルエチル、テトラゾリルエチル、オキサゾリルエチル、イソキサゾリルエチル、チアゾリルエチル、チアジアゾリルエチル、イソチアゾリルエチル、ピリジルエチル、ピリダジニルエチル、ピリミジニルエチル、フラザニルエチル、ピラジニルエチル、オキサジアゾリルエチル、ベンゾフリルエチル、ベンゾチエニルエチル、ベンズイミダゾリルエチル、ジベンゾフリルエチル、ベンゾオキサゾリルエチル、キノキサリルエチル、シンノリニルエチル、キナゾリルエチル、キノリルエチル、フタラジニルエチル、イソキノリルエチル、プリルエチル、プテリジニルエチル、カルバゾリルエチル、フェナントリジニルエチル、アクリジニルエチル、インドリルエチル、イソインドリルエチル、ファナジニルエチル又はフェノチアジニルエチル等が挙げられる。
等が挙げられる。
なお、「アリールオキシ」、「ヘテロアリールオキシ」、「アリールチオ」、「ヘテロアリールチオ」、「アラルキルオキシ」、「ヘテロアラルキルオキシ」、「アラルキルチオ」、「ヘテロアラルキルチオ」、「アリールオキシアルキル」、「ヘテロアリールオキシアルキル」、「アリールチオアルキル」、「ヘテロアリールチオアルキル」、「アリールスルホニル」、「ヘテロアリールスルホニル」、「アラルキルスルホニル」及び「ヘテロアラルキルスルホニル」中の「アリール」、「アラルキル」、「ヘテロアリール」、「ヘテロアラルキル」及び「アルキル」は上記と同意義である。
「置換されていてもよいアルキレン」、「置換されていてもよいアルケニレン」、「置換されていてもよいアルキル」、「置換されていてもよいアルケニル」、「置換されていてもよいアリール」、「置換されていてもよいヘテロアリール」、「置換されていてもよいシクロアルキル」、「置換されていてもよいシクロアルケニル」、「置換されていてもよいヘテロサイクル」、「置換されていてもよいアラルキル」、「置換されていてもよいヘテロアラルキル」、「置換されていてもよいアリールオキシ」、「置換されていてもよいヘテロアリールオキシ」、「置換されていてもよいアリールチオ」、「置換されていてもよいヘテロアリールチオ」、「置換されていてもよいアラルキルオキシ」、「置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ」、「置換されていてもよいアラルキルチオ」、「置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ」、「置換されていてもよいアリールオキシアルキル」、「置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル」、「置換されていてもよいアリールチオアルキル」、「置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル」、「置換されていてもよいアリールスルホニル」、「置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル」、「置換されていてもよいアラルキルスルホニル」及び「置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニル」が置換基を有する場合、それぞれ同一又は異なる１〜４個の置換基で任意の位置が置換されていてもよい。なお、これらの置換基は、上述の置換基群Ａから選択される基と同様に、インテグラーゼ阻害活性を妨害しないような置換基であれば、任意に選択することができる。
置換基の例としては、例えば、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ハロアルキル（例えば、ＣＦ３、ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２ＣＣｌ３等）、アルキル（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル等）、アルケニル（例えば、ビニル）、アルキニル（例えば、エチニル）、シクロアルキル（例えば、シクロプロピル）、シクロアルケニル（例えば、シクロプロペニル）、アルコキシ（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等）、アルケニルオキシ（例えば、ビニルオキシ、アリルオキシ等）、アルコキシカルボニル（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル等）、ニトロ、ニトロソ、置換されていてもよいアミノ（例えば、アルキルアミノ（例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ等）、アシルアミノ（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、アラルキルアミノ（例えば、ベンジルアミノ、トリチルアミノ）、ヒドロキシアミノ等）、アジド、アリール（例えば、フェニル等）、アラルキル（例えば、ベンジル等）、シアノ、イソシアノ、イソシアナト、チオシアナト、イソチオシアナト、メルカプト、アルキルチオ（例えば、メチルチオ等）、アルキルスルホニル（例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル）、置換されていてもよいカルバモイル（例えば、アルキルカルバモイル（例えば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル等）等）、スルファモイル、アシル（例えば、ホルミル、アセチル等）、ホルミルオキシ、ハロホルミル、オキザロ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、スルフィノ、スルフォ、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、フタルイミド等が挙げられる。
Ｒ１における「置換されていてもよいアリール」、「置換されていてもよいヘテロアリール」、「置換されていてもよいシクロアルキル」、「置換されていてもよいシクロアルケニル」、「置換されていてもよいヘテロサイクル」の置換基としては、上記に例示された置換基の中でも、特に、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ハロアルキル（例えば、ＣＦ３、ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２ＣＣｌ３等）、アルキル（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル等）、アルケニル（例えば、ビニル）、アルキニル（例えば、エチニル）、シクロアルキル（例えば、シクロプロピル）、シクロアルケニル（例えば、シクロプロペニル）、アルコキシ（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル等）、ニトロ、置換されていてもよいアミノ（例えば、アルキルアミノ（例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ等）、アシルアミノ（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、アラルキルアミノ（例えば、ベンジルアミノ、トリチルアミノ）、ヒドロキシアミノ等）、アジド、アリール（例えば、フェニル等）、アラルキル（例えば、ベンジル等）、シアノ、メルカプト、アルキルチオ（例えば、メチルチオ等）、アルキルスルホニル（例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル）、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、アシル（例えば、ホルミル、アセチル等）、ホルミルオキシ、チオカルバモイル、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ等が好ましい。特に、アルキル、ハロアルキル、ハロゲン（特にＦ、Ｃｌ、Ｂｒ）、アルコキシ（特にメトキシ）等が好ましく、モノ置換、ジ置換の場合が好ましい。
Ｚ１、Ｚ２及びＺ３の「置換されていてもよいアルキレン」及び「置換されていてもよいアルケニレン」の置換基としては、上記に例示された置換基の中でも、特に、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ハロアルキル（例えば、ＣＦ３、ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２ＣＣｌ３等）、アルキル（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル等）、アルケニル（例えば、ビニル）、アルキニル（例えば、エチニル）、シクロアルキル（例えば、シクロプロピル）、シクロアルケニル（例えば、シクロプロペニル）、アルコキシ（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル等）、置換されていてもよいアミノ（例えば、アルキルアミノ（例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ等）、アシルアミノ（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、アラルキルアミノ（例えば、ベンジルアミノ、トリチルアミノ）、ヒドロキシアミノ等）、アリール（例えば、フェニル等）、アラルキル（例えば、ベンジル等）、シアノ、メルカプト、アルキルチオ（例えば、メチルチオ等）、アルキルスルホニル（例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル）、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、アシル（例えば、ホルミル、アセチル等）、ホルミルオキシ、チオカルバモイル、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ等が好ましい。
置換基群Ａから選択される基が「置換されていてもよいアリール」、「置換されていてもよいヘテロアリール」、「置換されていてもよいシクロアルキル」、「置換されていてもよいシクロアルケニル」、「置換されていてもよいヘテロサイクル」、「置換されていてもよいアラルキル」、「置換されていてもよいヘテロアラルキル」、「置換されていてもよいアリールオキシ」、「置換されていてもよいヘテロアリールオキシ」、「置換されていてもよいアリールチオ」、「置換されていてもよいヘテロアリールチオ」、「置換されていてもよいアラルキルオキシ」、「置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ」、「置換されていてもよいアラルキルチオ」、「置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ」、「置換されていてもよいアリールオキシアルキル」、「置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル」、「置換されていてもよいアリールチオアルキル」、「置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル」、「置換されていてもよいアリールスルホニル」、「置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル」、「置換されていてもよいアラルキルスルホニル」及び「置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニル」である場合、その置換基としては、上記に例示された置換基の中でも、特に、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ハロアルキル（例えば、ＣＦ３、ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２ＣＣｌ３等）、アルキル（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル等）、アルケニル（例えば、ビニル）、アルキニル（例えば、エチニル）、シクロアルキル（例えば、シクロプロピル）、シクロアルケニル（例えば、シクロプロペニル）、アルコキシ（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル等）、ニトロ、置換されていてもよいアミノ（例えば、アルキルアミノ（例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ等）、アシルアミノ（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、アラルキルアミノ（例えば、ベンジルアミノ、トリチルアミノ）、ヒドロキシアミノ等）、アジド、アリール（例えば、フェニル等）、アラルキル（例えば、ベンジル等）、シアノ、メルカプト、アルキルチオ（例えば、メチルチオ等）、アルキルスルホニル（例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル）、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、アシル（例えば、ホルミル、アセチル等）、ホルミルオキシ、チオカルバモイル、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ等が好ましい。特に、アルキル、ハロアルキル、ハロゲン（特にＦ、Ｃｌ、Ｂｒ）、アルコキシ（特にメトキシ）等が好ましく、モノ置換、ジ置換の場合が好ましい。
本発明は、化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩及びそれらの溶媒和物を包含する。本発明化合物の理論上可能なすべての互変異性体、幾何異性体等も、本発明の範囲内である。例えば、式（Ｉ）で示される化合物において、Ｙがオキソ、チオキソ又はイミノである化合物（ケト型）であっても、Ｙがヒドロキシ、メルカプト又はアミノである化合物（エノール型）の互変異性体である場合は、本発明化合物である。
プロドラッグは、化学的又は代謝的に分解できる基を有する本発明化合物の誘導体であり、加溶媒分解により又は生理学的条件下でインビボにおいて薬学的に活性な本発明化合物となる化合物である。適当なプロドラッグ誘導体を選択する方法および製造する方法は、例えばＤｅｓｉｇｎ  ｏｆ  Ｐｒｏｄｒｕｇｓ，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，Ａｍｓｔｅｒｄａｍ  １９８５に記載されている。
ＨＩＶは無症候期においても、リンパ節で盛んに増殖していることが知られており、本発明化合物をプロドラッグ化するにおいては、リンパ指向性プロドラッグが好ましい。また、ＨＩＶにより引き起こされる疾患としてエイズ脳症があり、本発明化合物をプロドラッグ化するにおいては、脳指向性プロドラッグが好ましい。これらリンパ指向性プロドラッグおよび脳指向性プロドラッグとしては、下記のように脂溶性を高めたプロドラッグが好ましい。
本発明化合物がカルボキシを有する場合は、もとになる酸性化合物と適当なアルコールを反応させることによって製造されるエステル誘導体、又はもとになる酸性化合物と適当なアミンを反応させることによって製造されるアミド誘導体のようなプロドラッグが例示される。プロドラッグとして特に好ましいエステルとしては、メチルエステル、エチルエステル、ｎ−プロピルエステル、イソプロピルエステル、ｎ−ブチルエステル、イソブチルエステル、ｔｅｒｔ−ブチルエステル、モルホリノエチルエステル、Ｎ，Ｎ−ジエチルグリコールアミドエステル等が挙げられる。
本発明化合物がヒドロキシを有する場合は、例えばヒドロキシル基を有する化合物と適当なアシルハライド又は適当な酸無水物とを反応させることに製造されるアシルオキシ誘導体のようなプロドラッグが例示される。プロドラッグとして特に好ましいアシルオキシとしては、−Ｏ（＝Ｏ）−ＣＨ３、−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｃ２Ｈ５、−ＯＣ（＝Ｏ）−（ｔｅｒｔ−Ｂｕ）、−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｃ１５Ｈ３１、−ＯＣ（＝Ｏ）−（ｍ−ＣＯＯＮａ−Ｐｈ）、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−ＣＨ（ＮＨ２）ＣＨ３、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）２等が挙げられる。
本発明化合物がアミノを有する場合は、アミノを有する化合物と適当な酸ハロゲン化物又は適当な混合酸無水物とを反応させることにより製造されるアミド誘導体のようなプロドラッグが例示される。プロドラッグとして特に好ましいアミドとしては、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−（ＣＨ２）２０ＣＨ３、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−ＣＨ（ＮＨ２）ＣＨ３等が挙げられる。
特に本発明化合物においては、Ｂ環上の置換基であるＹを化学修飾することによってもプロドラッグ化を達成することができる。例えば、Ｙにアシル化等を行い、加溶媒分解により又は生理学的条件下において本発明化合物に変換されるか否かを試験すればよい。従って、Ｙがヒドロキシ、メルカプト又はアミノ以外の置換基であっても、加溶媒分解により又は生理学的条件下において、ヒドロキシ、メルカプト又はアミノに変換される化合物は、本発明のプロドラッグであり、本発明に包含される。例えば、リン酸バッファー（ｐＨ７．４）−エタノール中やプラズマ中で本発明化合物に変換される化合物等は、本発明化合物のプロドラッグである。
本発明化合物の製薬上許容される塩としては、塩基性塩として、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩；アンモニウム塩；トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、エタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ブロカイン塩等の脂肪族アミン塩；Ｎ，Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン等のアラルキルアミン塩；ピリジン塩、ピコリン塩、キノリン塩、イソキノリン塩等のヘテロ環芳香族アミン塩；テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアモニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩等の第４級アンモニウム塩；アルギニン塩、リジン塩等の塩基性アミノ酸塩等が挙げられる。酸性塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、過塩素酸塩等の無機酸塩；酢酸塩、プロピオン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、酒石酸塩、リンゴ酸塩、クエン酸塩、アスコルビン酸塩等の有機酸塩；メタンスルホン酸塩、イセチオン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等のスルホン酸塩；アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等の酸性アミノ酸等が挙げられる。
また本発明化合物の溶媒和物、各種溶媒和物も本発明の範囲内であり、例えば、一溶媒和物、二溶媒和物、一水和物、二水和物等が挙げられる。
「阻害」なる用語は、本発明化合物が、インテグラーゼの働きを抑制することを意味する。
「製薬上許容される」なる用語は、予防上又は治療上有害ではないことを意味する。
発明を実施するための最良の形態
本発明化合物の代表的な一般的製造法を以下に説明する。
本発明化合物は新規な含窒素芳香族複素環化合物であり、式：
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（式中、Ａ環、Ｂ環、Ｚ４、Ｚ５及びＺ９は上記（１）と同意義）で示される環を母核とする化合物であり、本発明においては、各種の含窒素芳香族複素環化合物を使用することができる。
例えば、一方の環（例えば、Ｂ環）を有する化合物の置換基を利用し、他方の環（例えば、Ａ環）を構築し、これらの含窒素芳香族複素環化合物を製造することができる。各種含窒素芳香族複素環化合物に関する一般的な有機合成について（１）Ａｌａｎ  Ｒ．Ｋａｔｒｉｓｚｌｙ  ｅｔ  ａｌ．，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  （２）Ａｌａｎ  Ｒ．Ｋａｔｒｉｓｚｌｙ  ｅｔ  ａｌ．，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ＩＩ  （３）ＲＯＤＤ’Ｓ  ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ  ＯＦ  ＣＡＲＢＯＮ  ＣＯＭＰＯＵＮＤＳ  ＶＯＬＵＭＥ  ＩＶ  ＨＥＴＥＲＯＣＹＣＬＩＣ  ＣＯＭＰＯＵＮＤＳ等を参考にすることができる。また、芳香族性を示す化合物一般について知られている反応や、各芳香族複素環に特有の反応を用いて、各種の官能基を導入することができる。
以下に代表的な製造法を記載するが、特にこれらの製法に限定する意味ではなく、他の製造法によっても本発明化合物を製造することができる。
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工程１
本工程は、式（Ａ）で示される化合物から式（Ｂ）で示される化合物を製造する工程である。即ち、カルボキシル基の保護基及びフェノール性水酸基の保護基の脱保護工程である。
本工程は、トリアルキルシリルハライド及び沃化アルカリ金属の存在下、反応溶媒中で加熱することにより行うことができる。
トリアルキルシリルハライドとしては、トリメチルシリルクロライドを使用することができる。
沃化アルカリ金属としては、例えば、ＮａＩ、ＫＩを使用することができる。
反応温度としては、室温〜１００℃、好ましくは７０〜９０℃である。
反応溶媒としては、極性溶媒が好ましく、例えば、アセトニトリル等を使用することができる。
なお、本工程は、臭化水素／酢酸を使用し、加熱下で行うことができる。臭化水素／酢酸としては、４７％臭化水素／酢酸が好ましい。
また、０℃〜室温でＢＢｒ３を使用するか、あるいは１５０〜２２０℃でピリジニウムクロリドを使用しても、本工程を行うことができる。
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工程２
本工程は、式（Ｃ）で示される化合物から式（Ｄ）で示される化合物を製造する工程である。即ち、カルボン酸からジアシルヒドラジンへの変換反応である。
本工程は、カルボン酸とモノアシルヒドラジンを縮合剤の存在下、適当な溶媒中で反応させることにより行うことができる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩を使用することができる。必要ならば、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールやＮ−ヒドロキシスクシンイミド等の試薬を添加することもできる。
反応温度としては、０〜１００℃、好ましくは２０〜３０℃である。
反応溶媒としては、広く非プロトン性溶媒が使用でき、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が好ましい。
工程３
本工程は、式（Ｄ）で示される化合物から式（Ｅ）で示される化合物を製造する工程である。即ち、ジアシルヒドラジンからオキサジアゾール環の形成反応である。
本工程は、ジアシルヒドラジンをオキシ塩化リンあるいはチオニルクロリドと加熱することにより行うことができる。
反応温度としては、５０〜１００℃、好ましくは８０〜１００℃である。
なお、本工程は、トリエチルアミン等の塩基存在下、ジブロモトリフェニルホスホランを使用しても行うことができる。反応温度としては、０〜１００℃、好ましくは０〜３０℃である。反応溶媒としては、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等が好ましい。
工程４
本工程は、式（Ｅ）で示される化合物から式（Ｆ）で示される化合物を製造する工程である。工程１と同様に行うことができる。
工程５
本工程は、式（Ｃ）で示される化合物から式（Ｇ）で示される化合物を製造する工程である。即ち、カルボン酸とα−アミノケトンとの縮合によりアミドを合成する工程である。
工程は、カルボン酸とα−アミノケトンを縮合剤の存在下、適当な溶媒中で反応させることにより行うことができる。
合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩を使用することができる。必要ならば、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールやＮ−ヒドロキシスクシンイミド等の試薬を添加することもできる。
応温度としては、０〜１００℃、好ましくは２０〜３０℃である。
反応溶媒としては、広く非プロトン性溶媒が使用でき、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が好ましい。
工程６
本工程は、式（Ｇ）で示される化合物から式（Ｈ）で示される化合物を製造する工程である。工程３と同様に行うことができる。
工程７
本工程は、式（Ｈ）で示される化合物から式（Ｊ）で示される化合物を製造する工程である。工程１と同様に行うことができる。
2002070486.tif 000077
工程８
本工程は、式（Ｄ）で示される化合物から式（Ｋ）で示される化合物を製造する工程である。即ち、ジアシルヒドラジンからチアジアゾール環の形成反応である。
本工程は、ジアシルヒドラジンを五硫化リンあるいはローソン試薬と加熱することにより行うことができる。
反応温度としては、５０〜１５０℃、好ましくは８０〜１００℃である。
反応溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン等が好ましい。
工程９
本工程は、式（Ｋ）で示される化合物から式（Ｌ）で示される化合物を製造する工程である。工程１と同様に行うことができる。
工程１０
本工程は、式（Ｇ）で示される化合物から式（Ｍ）で示される化合物を製造する工程である。工程８と同様に行うことができる。
工程１１
本工程は、式（Ｍ）で示される化合物から式（Ｎ）で示される化合物を製造する工程である。工程１と同様に行うことができる。
2002070486.tif 000078
工程１２
本工程は、式（Ｏ）で示される化合物から式（Ｐ）で示される化合物を製造する工程である。即ち、エステルからケトンを合成する工程である。
本工程は、エステルと有機金属試薬を適当な溶媒中で反応させることにより行うことができる。
有機金属試薬としては、アルキルリチウム、アリールリチウム、ヘテロアリールリチウムまたはグリニャール試薬等を使用することができる。
反応温度としては、−７０℃〜室温、好ましくは−７０℃〜０℃である。
反応溶媒としては、エーテル系溶媒が使用でき、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等が好ましい。
工程１３
本工程は、式（Ｐ）で示される化合物から式（Ｑ）で示される化合物を製造する工程である。工程１と同様に行うことができる。
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工程１４
本工程は、式（Ｒ）で示される化合物から式（Ｓ）で示される化合物を製造する工程である。工程２と同様に行うことができる。
工程１５
本工程は、式（Ｓ）で示される化合物から式（Ｔ）で示される化合物を製造する工程である。工程３と同様に行うことができる。
工程１６
本工程は、式（Ｔ）で示される化合物から式（Ｕ）で示される化合物を製造する工程である。工程１と同様に行うことができる。
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工程１７
本工程は、式（Ｖ）で示される化合物から式（Ｗ）で示される化合物を製造する工程である。即ち、ハロゲン化合物（Ｘ＝Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ）からケトン体への変換反応である。
本工程は、ハロゲン化合物（Ｘ＝Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ）を有機金属試薬で有機金属化合物（Ｘ＝Ｍｅｔａｌ）に変換後、カルボン酸クロリドあるいは活性エステル体と適当な溶媒中で反応させることにより行うことができる。
有機金属試薬としては、アルキルリチウム、またはアリールリチウム等を使用することができる。
反応温度としては、−７０℃〜室温、好ましくは−７０℃〜０℃である。
反応溶媒としては、エーテル系溶媒が使用でき、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等が好ましい。
工程１８
本工程は、式（Ｗ）で示される化合物から式（Ｘ）で示される化合物を製造する工程である。工程１と同様に行うことができる。
次に本発明化合物の使用方法について説明する。
本発明化合物は、例えば抗ウイルス薬等の医薬として有用である。本発明化合物は、ウイルスのインテグラーゼに対して顕著な阻害作用を有する。よって本発明化合物は、動物細胞内で感染時に少なくともインテグラーゼを産出して増殖するウイルスに起因する各種疾患に対して、予防又は治療効果が期待でき、例えば、レトロウイルス（例、ＨＩＶ−１、ＨＩＶ−２、ＨＴＬＶ−１、ＳＩＶ、ＦＩＶ等）に対するインテグラーゼ阻害剤として有用であり、抗ＨＩＶ薬等として有用である。
また、本発明化合物は、逆転写酵素阻害剤および／又はプロテアーゼ阻害剤等の異なる作用メカニズムを有する抗ＨＩＶ薬と組み合わせて併用療法に用いることもできる。特に現在、抗インテグラーゼ阻害剤は上市されておらず、本発明化合物と逆転写酵素阻害剤および／又はプロテアーゼ阻害剤とを組み合わせて併用療法に用いることは有用である。
さらに、上記の使用としては、抗ＨＩＶ用合剤としてのみならず、カクテル療法等のように、他の抗ＨＩＶ薬の抗ＨＩＶ活性を上昇させるような併用剤としての使用も含まれる。
また、本発明化合物は、遺伝子治療の分野において、ＨＩＶやＭＬＶをもとにしたレトロウイルスベクターを用いる際に、目的の組織以外にレトロウイルスベクターの感染が広がるのを防止するために使用することができる。特に、試験管内で細胞等にベクターを感染しておいてから体内にもどすような場合に、本発明化合物を事前に投与しておくと、体内での余計な感染を防ぐことができる。
本発明化合物は、経口的又は非経口的に投与することができる。経口投与による場合、本発明化合物は通常の製剤、例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤等の固形剤；水剤；油性懸濁剤；又はシロップ剤もしくはエリキシル剤等の液剤のいずれかの剤形としても用いることができる。非経口投与による場合、本発明化合物は、水性又は油性懸濁注射剤、点鼻液として用いることができる。その調製に際しては、慣用の賦形剤、結合剤、滑沢剤、水性溶剤、油性溶剤、乳化剤、懸濁化剤、保存剤、安定剤等を任意に用いることができる。なお、抗ＨＩＶ薬としては、特に経口剤が好ましい。
本発明の製剤は、治療有効量の本発明化合物を製薬上許容される担体又は希釈剤とともに組み合わせる（例えば混合する）ことによって製造される。本発明化合物の製剤は、周知の、容易に入手できる成分を用いて既知の方法により製造される。
本発明化合物の医薬組成物を製造する際、活性成分は担体と混合されるか又は担体で希釈されるか、カプセル、サッシェー、紙、あるいは他の容器の形態をしている担体中に入れられる。担体が希釈剤として働く時、担体は媒体として働く固体、半固体、又は液体の材料であり、それらは錠剤、丸剤、粉末剤、口中剤、エリキシル剤、懸濁剤、エマルジョン剤、溶液剤、シロップ剤、エアロゾル剤（液体媒質中の固体）、軟膏にすることができ、例えば、１０％までの活性化合物を含む。本発明化合物は投与に先立ち、製剤化するのが好ましい。
当業者には公知の適当な担体はいずれもこの製剤のために使用できる。このような製剤では担体は、固体、液体、又は固体と液体の混合物である。例えば、静脈注射のために本発明化合物を２ｍｇ／ｍｌの濃度になるよう、４％デキストロース／０．５％クエン酸ナトリウム水溶液中に溶解する。固形の製剤は粉末、錠剤およびカプセルを包含する。固形担体は、香料、滑沢剤、溶解剤、懸濁剤、結合剤、錠剤崩壊剤、カプセル剤にする材料としても役立つ１又はそれ以上の物質である。経口投与のための錠剤は、トウモロコシデンプン、アルギン酸などの崩壊剤、および／又はゼラチン、アカシアなどの結合剤、およびステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸、滑石などの滑沢剤とともに炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、ラクトース、リン酸カルシウムなどの適当な賦形剤を含む。
粉末剤では担体は細かく粉砕された活性成分と混合された、細かく粉砕された固体である。錠剤では活性成分は、適当な比率で、必要な結合性を持った担体と混合されており、所望の形と大きさに固められている。粉末剤および錠剤は約１〜約９９重量％の本発明の新規化合物である活性成分を含んでいる。適当な固形担体は、炭酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、滑石、砂糖、ラクトース、ペクチン、デキストリン、デンプン、ゼラチン、トラガカントゴム、メチルセルロース、ナトリウムカルボキシメチルセルロース、低融点ワックス、ココアバターである。
液体製剤は懸濁剤、エマルジョン剤、シロップ剤、およびエリキシル剤を含む。活性成分は、滅菌水、滅菌有機溶媒、又は両者の混合物などの製薬上許容し得る担体中に溶解又は懸濁することができる。活性成分はしばしば適切な有機溶媒、例えばプロピレングリコール水溶液中に溶解することができる。水性デンプン、ナトリウムカルボキシメチルセルロース溶液、又は適切な油中に細かく砕いた活性成分を散布することによってその他の組成物を製造することもできる。
本発明化合物の投与量は、投与方法、患者の年齢、体重、状態および疾患の種類によっても異なるが、通常、経口投与の場合、成人１日あたり約０．０５ｍｇ〜３０００ｍｇ、好ましくは、約０．１ｍｇ〜１０００ｍｇを、要すれば分割して投与すればよい。また、非経口投与の場合、成人１日あたり約０．０１ｍｇ〜１０００ｍｇ、好ましくは、約０．０５ｍｇ〜５００ｍｇを投与する。
実施例
以下に本発明の実施例を示す。反応は通常、窒素気流中で行い、また反応溶媒には、モレキュラーシーブス等で乾燥したものを用いた。抽出液の乾燥は、硫酸ナトリウム又は硫酸マグネシウム等で行なった。
（試薬）
ｎ−ブチルリチウム＝１．５ｍｏｌ／ｌヘキサン溶液
水素化ナトリウム＝６０％オイルサスペンジョン
（略号）
Ｅｔ＝エチル；ＭｅＯＨ＝メタノール；ＥｔＯＨ＝エタノール；ＤＭＦ＝Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド；ＴＨＦ＝テトラヒドロフラン；ＤＭＳＯ＝ジメチルスルホキシド；ＨＯＢｔ＝１−ヒドロキシベンゾトリアゾール；ＷＳＣＤ＝１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩
実施例１
化合物Ｉ−１
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第１工程
文献既知（Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．４２，５６０−５６９，（１９９４））の４−アセチルアミノ−５−クロロ−２−メトキシ−３−ニトロ安息香酸（化合物１）（２０．６ｇ，６７．９ｍｍｏｌ）のメタノール（２００ｍｌ）溶液に室温で５規定塩酸（６０ｍｌ）を加え、１４時間加熱還流した。反応液に氷冷下、２規定水酸化ナトリウム水溶液を加え中和した後、水（１００ｍｌ）を加え、３０分間攪拌した。析出した結晶をろ取し、水（１００ｍｌ）で洗浄し、化合物２（１１．９ｇ）を未乾黄色結晶として得た。
第２工程
第１工程で得た化合物２（１１．９ｇ）、塩化アンモニウム（１．２２ｇ，２２．８ｍｍｏｌ）および鉄（１０．２ｇ，１８３ｍｍｏｌ）のエタノール（４５０ｍｌ）−水（９０ｍｌ）懸濁液を３時間加熱還流した。反応液をセライトでろ過し、残さをクロロホルム−メタノール（１：１ｖ／ｖ，５００ｍｌ）で洗浄した後、ろ液を減圧下濃縮して得られた残さに水（１００ｍｌ）を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水（１００ｍｌ）で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物３の粗生成物（１１．６ｇ）を褐色油状物として得た。
第３工程
第２工程で得た化合物３（１１．６ｇ）とトリエチルアミン（９．２０ｍｌ，６６．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４００ｍｌ）溶液に氷冷下、４−フルオロフェニルアセチルクロリド（１０．９ｇ，６３．４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液を２０分間かけて滴下し、１．５時間攪拌した後、さらに室温で１．５時間攪拌した。反応液に氷冷下、水（５００ｍｌ）を滴下し、析出した結晶をろ取し、水で洗浄し、化合物４（１８．９ｇ）を未乾無色結晶として得た。
第４工程
第３工程で得た化合物４（１８．９ｇ）の酢酸（１８０ｍｌ）溶液を１．５時間加熱還流した後、反応液を減圧濃縮して得られた結晶性の残さを酢酸エチル−ヘキサンで再結晶を行い、化合物５（１２．４ｇ，３５．６ｍｍｏｌ）を薄褐色結晶として通算収率５２％で得た。
融点：１５１−１５３℃．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．９２（３Ｈ，ｓ），４．２３（３Ｈ，ｂｒｓ），４．２９（２Ｈ，ｓ），７．０５（２Ｈ，ｍ），７．７４（２Ｈ，ｍ）．
第５工程
化合物５（１７４ｍｇ，０．５００ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液に氷冷下、三塩化ほう素の２Ｍトルエン溶液（０．６２５ｍｌ，１．２５ｍｍｏｌ）を滴下し、１．５時間攪拌した。反応液に氷冷下、水（５ｍｌ）に続いて２８％アンモニア水を加え、中和した後、クロロホルムで抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶性の残さをエタノール−ヘキサンで再結晶を行い、化合物Ｉ−１（３６．０ｍｇ）を無色結晶として２２％の収率で得た。
融点：２５７−２６０℃  再結晶溶媒：エタノール−ヘキサン
元素分析：Ｃ１６Ｈ１２ＣｌＦＮ２Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，５７．４１；Ｈ，３．６１；Ｎ，８．３７；Ｃｌ，１０．５９；Ｆ，５．５７．
分析値（％）：Ｃ，５７．２０；Ｈ，３．５０；Ｎ，８．３１；Ｃｌ，１０．５０；Ｆ，５．５７．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．９１（３Ｈ，ｓ），４．２０（２Ｈ，ｓ），７．１５（２Ｈ，ｍ），７．３９（２Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３１，１６７２ｃｍ−１．
実施例１の合成法に準じ、化合物Ｉ−２〜Ｉ−５を合成した。
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化合物Ｉ−２
融点：２５０−２５１℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１５Ｈ１０ＣｌＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．５（ＥｔＯＨ）０．６として
計算値（％）：Ｃ，５４．４５；Ｈ，４．１２；Ｎ，７．８４；Ｃｌ，９．９２；Ｆ，５．３２．
分析値（％）：Ｃ，５４．４５；Ｈ，３．９４；Ｎ，７．９２；Ｃｌ，９．８３；Ｆ，５．２１．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．９４（３Ｈ，ｓ），７．４２（２Ｈ，ｍ），７．６１（１Ｈ，ｓ），８．３６（２Ｈ，ｍ），１１．１８（１Ｈ，ｂｒｓ），１３．８６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４０８，１６７２ｃｍ−１．
化合物Ｉ−３
融点：２０３−２０６℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１２ＣｌＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．３（ＥｔＯＨ）０．４として
計算値（％）：Ｃ，５７．６９；Ｈ，４．０８；Ｎ，７．５６；Ｃｌ，９．５７；Ｆ，５．１３．
分析値（％）：Ｃ，５７．７２；Ｈ，３．８０；Ｎ，７．６６；Ｃｌ，９．４０；Ｆ，４．９８．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．９３（３Ｈ，ｓ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），７．２９（２Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｓ），７．７５（２Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２３，１６７２ｃｍ−１．
化合物Ｉ−４
融点：１９２−１９４℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１４ＣｌＦＮ２Ｏ３（ＨＣｌ）１．０として
計算値（％）：Ｃ，５３．００；Ｈ，３．９２；Ｎ，７．２７；Ｃｌ，１８．４１；Ｆ，４．９３．
分析値（％）：Ｃ，５２．９６；Ｈ，３．８３；Ｎ，７．３３；Ｃｌ，１７．７６；Ｆ，４．６８．
ＮＭＲ（ＤＮＳＯ−ｄ６）δ：３．１０−３．２８（４Ｈ，ｍ），３．９３（３Ｈ，ｓ），７．１２（２Ｈ，ｍ），７．３０（２Ｈ，ｍ），１１．１４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２１，１６８５ｃｍ−１．
化合物Ｉ−５
融点：２５９−２６１℃（ｄｅｃ．）再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１０Ｈ９ＣｌＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．１として
計算値（％）：Ｃ，４９．５４；Ｈ，３．８２；Ｎ，１１．５５；Ｃｌ，１４．６２．
分析値（％）：Ｃ，４９．６７；Ｈ，３．７４；Ｎ，１１．５６；Ｃｌ，１４．３２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５２（３Ｈ，ｓ），３．９１（３Ｈ，ｓ），７．５３（１Ｈ，ｓ），１１．０２（１Ｈ，ｂｒｓ），１３．２４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１９，１６７２ｃｍ−１．
実施例２
化合物Ｉ−６
2002070486.tif 000083
第１工程
化合物１（３．０３ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４０ｍｌ）溶液に氷冷下、水素化ナトリウム（６０％，０．４２ｇ，１０．５ｍｍｏｌ）を５分間かけて加え、室温で１時間攪拌した後、氷冷下、よう化メチル（０．６８５ｍｌ，１１．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応液に氷冷下、１０％塩酸を加え、ｐＨ３とした後、水（５０ｍｌ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水（５０ｍｌ）、飽和食塩水（５０ｍｌ）で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物６の粗生成物を褐色油状物として得た。
第２工程
第１工程で得た粗生成物のメタノール（３ｍｌ）溶液にナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液，３ｍｌ）を加え、２時間加熱還流した。反応液を氷冷した１規定塩酸（２０ｍｌ）にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（２：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮した。得られた結晶性の残さを酢酸エチル−ヘキサンで再結晶を行い、化合物７（１．０２ｇ，３．７１ｍｍｏｌ）を黄色結晶として収率３７％で得た。
第３〜６工程
実施例１の第２〜５工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−６を得た。
融点：１９８−２０１℃  再結晶溶媒：エタノール−ジイソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ１７Ｈ１４ＣｌＦＮ２Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，５８．５５；Ｈ，４．０５；Ｎ，８．０３；Ｃｌ，１０．１７；Ｆ，５．４５．
分析値（％）：Ｃ，５８．２９；Ｈ，４．０３；Ｎ，７．９８；Ｃｌ，１０．０２；Ｆ，５．２１．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．９１（３Ｈ，ｓ），３．９６（３Ｈ，ｓ），４．３３（２Ｈ，ｓ），７．１６（２Ｈ，ｍ），７．３２（２Ｈ，ｍ），１１．１０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１９，１６７０ｃｍ−１．
実施例２の合成法に準じ、化合物Ｉ−７〜Ｉ−９を合成した。
2002070486.tif 000084
化合物Ｉ−７
融点：１９２−１９５℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−ヘキサン
元素分析：Ｃ２３Ｈ１７ＣｌＦ２Ｎ２Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，６２．３８；Ｈ，３．８７；Ｎ，６．３３；Ｃｌ，８．０１；Ｆ，８．５８．
分析値（％）：Ｃ，６２．３２；Ｈ，４．０５；Ｎ，６．２３；Ｃｌ，７．８０；Ｆ，８．３５．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．９１（３Ｈ，ｓ），４．２６（２Ｈ，ｓ），５．７７（２Ｈ，ｓ），６．８８（２Ｈ，ｍ），７．０３（２Ｈ，ｍ），７．０７（２Ｈ，ｍ），７．２３（２Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｓ），１１．１０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３１，１６９１ｃｍ−１．
化合物Ｉ−８
融点：１５６−１５９℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１６Ｈ１２ＣｌＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．３として
計算値（％）：Ｃ，５６．５０；Ｈ，３．７３；Ｎ，８．２４；Ｃｌ，１０．４２；Ｆ，５．５９．
分析値（％）：Ｃ，５６．７５；Ｈ，３．８３；Ｎ，８．２７；Ｃｌ，１０．１１；Ｆ，５．３５．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．９０（３Ｈ，ｓ），５．７５（２Ｈ，ｓ），７．１７（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｓ），８．４９（１Ｈ，ｓ），１１．２０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１０，１６７４ｃｍ−１．
化合物Ｉ−９
融点：２０５−２０７℃再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１４ＣｌＦＮ２Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，５８．５５；Ｈ，４．０５；Ｎ，８．０３；Ｃｌ，１０．１７；Ｆ，５．４５．
分析値（％）：Ｃ，５８．４２；Ｈ，４．１５；Ｎ，８．０５；Ｃｌ，９．７６；Ｆ，５．２１．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．１２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．９２（３Ｈ，ｓ），４．７０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１５（２Ｈ，ｍ），７．６２（１Ｈ，ｓ），８．０８（１Ｈ，ｓ），１１．１８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２３，１６７４ｃｍ−１．
実施例３
化合物Ｉ−１０
2002070486.tif 000085
第１〜４工程
実施例２の第１工程、および実施例１の第２、４、５工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−１０を得た。
融点：１６８−１７０℃  再結晶溶媒：メタノール−イソプロパノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１４ＣｌＦＮ２Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，５８．５５；Ｈ，４．０５；Ｎ，８．０３；Ｃｌ，１０．１７；Ｆ，５．４５．
分析値（％）：Ｃ，５８．４７；Ｈ，３．９７；Ｎ，８．０８；Ｃｌ，９．９０；Ｆ，５．１９．
ＮＭＲ（ＤＨＳＯ−ｄ６）δ：２．４９（３Ｈ，ｓ），３．９０（３Ｈ，ｓ），５．７４（２Ｈ，ｓ），７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１８（２Ｈ，ｍ），７．５４（１Ｈ，ｓ），１１．１０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１７，１６９９ｃｍ−１．
実施例３の合成法に準じ、化合物Ｉ−１１を合成した。
2002070486.tif 000086
化合物Ｉ−１１
融点：１８５−１８７℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−ヘキサン
元素分析：Ｃ１８Ｈ１６ＣｌＦＮ２Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，５９．５９；Ｈ，４．４５；Ｎ，７．７２；Ｃｌ，９．７７；Ｆ，５．２４．
分析値（％）：Ｃ，５９．５９；Ｈ，４．４０；Ｎ，７．７０；Ｃｌ，９．４３；Ｆ，５．０６．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．２５（３Ｈ，ｓ），３．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．９８（３Ｈ，ｓ），４．５９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），６．９８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．６９（１Ｈ，ｓ），１１．２６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１９，１６７４ｃｍ−１．
実施例４
化合物Ｉ−１２
2002070486.tif 000087
第１工程
化合物５（１０１ｍｇ，０．２８９ｍｍｏｌ）とよう化ナトリウム（３５１ｍｇ，２．３４ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１．５ｍｌ）懸濁液に室温でクロロトリメチルシラン（０．２９５ｍｌ，２．３２ｍｍｏｌ）を加え、４８時間加熱還流した。反応液に室温で水（５ｍｌ）を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水（５ｍｌ）、１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）、飽和食塩水（１０ｍｌ）で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた粗生成物を１規定水酸化ナトリウム水溶液に溶解した後、１規定塩酸を加え中和し、水（１００ｍｌ）を加えた。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、減圧下加熱乾燥し、化合物Ｉ−１２（７４．９ｍｇ，０．２３４ｍｍｏｌ）を薄褐色粉末として収率８１％で得た。
元素分析：Ｃ１５Ｈ１０ＣｌＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．４として
計算値（％）：Ｃ，５４．９４；Ｈ，３．３２；Ｎ，８．５４；Ｃｌ，１０．８１；Ｆ，５．７９．
分析値（％）：Ｃ，５４．６９；Ｈ，３．３２；Ｎ，８．９４；Ｃｌ，１１．１５；Ｆ，５．５７．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．２０（２Ｈ，ｓ），７．１６（２Ｈ，ｍ），７．３８（２Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２７，１６３０ｃｍ−１．
実施例４の合成法に準じ、化合物Ｉ−１３〜Ｉ−１６を合成した。
2002070486.tif 000088
化合物Ｉ−１３
元素分析：Ｃ１６Ｈ１２ＣｌＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．３として
計算値（％）：Ｃ，５６．５０；Ｈ，３．７３；Ｎ，８．２４；Ｃｌ，１０．４２；Ｆ，５．５９．
分析値（％）：Ｃ，５６．４２；Ｈ，３．６８；Ｎ，８．３３；Ｃｌ，１０．６３；Ｆ，５．４１．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．１３（４Ｈ，ｓ），７．１１（２Ｈ，ｍ），７．２９（２Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２３，１６３１ｃｍ−１．
化合物Ｉ−１４
融点：２３７−２３９℃．
元素分析：Ｃ１６Ｈ１２ＣｌＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，５６．８０；Ｈ，３．６９；Ｎ，８．２８；Ｃｌ，１０．４８；Ｆ，５．６２．
分析値（％）：Ｃ，５６．７４；Ｈ，３．６２；Ｎ，８．３３；Ｃｌ，１０．１１；Ｆ，５．４０．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．１２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．７０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１７（２Ｈ，ｍ），７．６２（１Ｈ，ｓ），８．０８（１Ｈ，ｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２１，１６９７ｃｍ−１．
化合物Ｉ−１５
融点：２４４−２４５℃．
元素分析：Ｃ１７Ｈ１４ＣｌＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）１．４として
計算値（％）：Ｃ，５４．６０；Ｈ，４．５３；Ｎ，７．４９；Ｃｌ，９．４８；Ｆ，５．０８．
分析値（％）：Ｃ，５４．６６；Ｈ，４．１４；Ｎ，７．５４；Ｃｌ，９．２３；Ｆ，４．９６．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．２６（３Ｈ，ｓ），３．０６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．５５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．０７−７．２０（４Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２１，１６６０ｃｍ−１．
化合物Ｉ−１６
融点：２６７−２７０℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ９Ｈ７ＣｌＮ２Ｏ３（ＮＨ３）（Ｈ２Ｏ）０．１５として
計算値（％）：Ｃ，４３．８８；Ｈ，４．２１；Ｎ，１７．０６；Ｃｌ，１４．３９．
分析値（％）：Ｃ，４４．１５；Ｈ，４．０５；Ｎ，１６．７０；Ｃｌ，１４．１２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．４４（３Ｈ，ｓ），７．４０（１Ｈ，ｓ）．ＩＲ（ＫＢｒ）：１６４５ｃｍ−１．
実施例５
化合物Ｉ−１７
2002070486.tif 000089
第１工程
化合物Ｉ−１２（６７．２ｍｇ，０．２１０ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（３５．４ｍｇ，０．２６２ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン（０．０７０ｍｌ，０．６４ｍｍｏｌ）およびジメチルアミン塩酸塩（５３．６ｍｇ，０．６５７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２ｍｌ）懸濁液に室温で１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（４９．４ｍｇ，０．２５８ｍｍｏｌ）を加え、４時間攪拌した。反応液に氷冷下、水（５ｍｌ）を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶性の残さをエタノール−ジイソプロピルエーテルで再結晶を行い、化合物Ｉ−１７（１９．４ｍｇ，０．０５５８ｍｍｏｌ）を無色結晶として収率２７％で得た。
融点：２５３−２５７℃  再結晶溶媒：エタノール−ジイソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ１７Ｈ１５ＣｌＦＮ３Ｏ２（Ｈ２Ｏ）０．１として
計算値（％）：Ｃ，５８．４１；Ｈ，４．３８；Ｎ，１２．０２；Ｃｌ，１０．１４；Ｆ，５．４３．
分析値（％）：Ｃ，５８．２５；Ｈ，４．２８；Ｎ，１１．９８；Ｃｌ，１０．０８；Ｆ，５．１８．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．９０（３Ｈ，ｓ），２．９３（３Ｈ，ｓ），４．１９（２Ｈ，ｓ），６．９５（１Ｈ，ｓ），７．１６（２Ｈ，ｍ），７．３７（２Ｈ，ｍ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２５，１６０３ｃｍ−１．
実施例５の合成法に準じ、化合物Ｉ−１８〜Ｉ−２０を合成した。
2002070486.tif 000090
化合物Ｉ−１８
融点：２８７−２９１℃（ｄｅｃ．）再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１６Ｈ１３ＣｌＦＮ３Ｏ２（Ｈ２Ｏ）０．１として
計算値（％）：Ｃ，５７．２７；Ｈ，３．９７；Ｎ，１２．５２；Ｃｌ，１０．５７；Ｆ，５．６６．
分析値（％）：Ｃ，５７．１９；Ｈ，３．８９；Ｎ，１２．３５；Ｃｌ，１０．２８；Ｆ，５．３８．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．８２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），４．１７（２Ｈ，ｓ），７．１５（２Ｈ，ｍ），７．３８（２Ｈ，ｍ），７．７２（１Ｈ，ｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３３８６，１６０４ｃｍ−１．
化合物Ｉ−１９
融点：１８４−１８６℃  再結晶溶媒：メタノール−ジイソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２１Ｈ１５ＣｌＦＮ３Ｏ２（ＨＣｌ）１．０（Ｈ２Ｏ）０．３として
計算値（％）：Ｃ，５７．６３；Ｈ，３．８２；Ｎ，９．６０；Ｃｌ，１６．２０；Ｆ，４．３４．
分析値（％）：Ｃ，５７．６０；Ｈ，３．８１；Ｎ，９．８９；Ｃｌ，１５．９５；Ｆ，４．２９．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．３２（２Ｈ，ｓ），７．１４−７．２４（３Ｈ，ｍ），７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４６（２Ｈ，ｍ），７．３９７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．１７（１Ｈ，ｓ），１０．５３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２３，１６０１ｃｍ−１．
化合物Ｉ−２０
融点：２６８−２７２℃（ｄｅｃ．）再結晶溶媒：メタノール−テトラヒドロフラン−ジイソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ１９Ｈ１７ＣｌＦＮ３Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６１．０５；Ｈ，４．５８；Ｎ，１１．２４；Ｃｌ，９．４８；Ｆ，５．０８．
分析値（％）：Ｃ，６０．８２；Ｈ，４．４９；Ｎ，１１．２３；Ｃｌ，９．３６；Ｆ，４．８４．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．８０−１．８７（４Ｈ，ｍ），３．２５−３．５６（４Ｈ，ｍ），４．１９（２Ｈ，ｓ），６．９５（１Ｈ，ｓ），７．０７−７．２２（３Ｈ，ｍ），７．３８（２Ｈ，ｍ），１２．９０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２５，１５９１ｃｍ−１．
実施例６
化合物Ｉ−２１
2002070486.tif 000091
第１工程
化合物５（２．５０ｇ，７．１７ｍｍｏｌ）、１０％パラジウム炭素（４９９ｍｇ）、トリエチルアミン（１０ｍｌ）のメタノール懸濁液を４気圧の水素雰囲気下、室温で１５時間攪拌した。反応液をろ過した後、ろ液から溶媒を減圧下留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（１：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮して得られた結晶性の残さを酢酸エチル−ヘキサン−ジイソプロピルエーテルで再結晶を行い、化合物９（２．１８ｇ，６．９３ｍｍｏｌ）を無色結晶として収率９７％で得た。
第２工程
実施例１の第５工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−２１を得た。
融点：１９９−２０１℃  再結晶溶媒：エタノール−ジイソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ１６Ｈ１３ＦＮ２Ｏ３（ＨＣｌ）１．０として
計算値（％）：Ｃ，５７．０７；Ｈ，４．１９；Ｎ，８．３２；Ｃｌ，１０．５３；Ｆ，５．６４．
分析値（％）：Ｃ，５６．９０；Ｈ，４．２１；Ｎ，８．４５；Ｃｌ，１０．２９；Ｆ，５．６８．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．９４（３Ｈ，ｓ），４．４５（２Ｈ，ｓ），７．２２（２Ｈ，ｍ），７．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５１（２Ｈ，ｍ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１１．２９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１７，１６７８ｃｍ−１．
実施例６の合成法に準じ、化合物Ｉ−２２〜Ｉ−２３を合成した。
2002070486.tif 000092
化合物Ｉ−２２
融点：２０２−２０４℃．
元素分析：Ｃ１７Ｈ１５ＦＮ２Ｏ３（ＨＣｌ）０．１として
計算値（％）：Ｃ，６４．２２；Ｈ，４．７９；Ｎ，８．８１；Ｃｌ，１．１１；Ｆ，５．９８．
分析値（％）：Ｃ，６４．５３；Ｈ，４．７２；Ｎ，８．８０；Ｃｌ，１．０９；Ｆ，５．７５．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５１（３Ｈ，ｓ），３．９０（３Ｈ，ｓ），５．４６（２Ｈ，ｓ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１７（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１１．２７（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１７，１６６６ｃｍ−１．
化合物Ｉ−２３
融点：２２２−２２５℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１５ＦＮ２Ｏ３（ＨＣｌ）１．０として
計算値（％）：Ｃ，５８．２１；Ｈ，４．６０；Ｎ，７．９９；Ｃｌ，１０．１１；Ｆ，５．４２．
分析値（％）：Ｃ，５８．０３；Ｈ，４．４９；Ｎ，８．０２；Ｃｌ，９．８３；Ｆ，５．２０．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．２１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．３７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．９５（３Ｈ，ｓ），７．１３（２Ｈ，ｍ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．２９（２Ｈ，ｍ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１１．２８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２３，１６８４ｃｍ−１．
実施例７
化合物Ｉ−２４
2002070486.tif 000093
第１工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−２４を得た。
元素分析：Ｃ１５Ｈ１１ＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．５として
計算値（％）：Ｃ，６１．０２；Ｈ，４．１０；Ｎ，９．４９；Ｆ，６．４３．
分析値（％）：Ｃ，６１．２６；Ｈ，３．８３；Ｎ，９．５６；Ｆ，６．０５．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．２１（３Ｈ，ｓ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．１７（２Ｈ，ｍ），７．３９（２Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３１，１６３１ｃｍ−１．
実施例７の合成法に準じ、化合物Ｉ−２５を合成した。
2002070486.tif 000094
化合物Ｉ−２５
融点：１５２−１５５℃．
元素分析：Ｃ１６Ｈ１３ＦＮ２Ｏ３（ＨＣｌ）０．２（Ｈ２Ｏ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，６１．７６；Ｈ，４．４１；Ｎ，９．００；Ｃｌ，２．２８；Ｆ，６．１１．
分析値（％）：Ｃ，６１．６４；Ｈ，４．３８；Ｎ，９．０４；Ｃｌ，１．８９；Ｆ，５．８５．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．０７−３．２３（４Ｈ，ｍ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１１（２Ｈ，ｍ），７．２７（２Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２１，１６３１ｃｍ−１．
実施例８
化合物Ｉ−２６
2002070486.tif 000095
第１工程
水素化ナトリウム（６０％，１３０ｍｇ，３．３６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ懸濁液に氷冷下、化合物５（９００ｍｇ，２．５８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ−ＴＨＦ（１：２ｖ／ｖ，３ｍｌ）溶液を滴下した後、４５分間攪拌した。反応液に氷冷下、水（１０ｍｌ）を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水（２０ｍｌ）、飽和食塩水（２０ｍｌ）で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶性の残さをジイソプロピルエーテル−ヘキサンに懸濁させた後、ろ取し、化合物１０の位置異性体の混合物（８９４ｍｇ，２．２８ｍｍｏｌ）を無色結晶として収率８８％で得た。
第２工程
ｎ−ブチルリチウム（１．５０Ｍヘキサン溶液，０．３０５ｍｌ，０．４５８ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液に−７８℃で２−ブロモチアゾール（０．０４１３ｍｌ，０．４５８ｍｍｏｌ）を滴下し、２０分間攪拌した後、上記化合物１０（１５１ｍｇ，０．３８３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ−ジエチルエーテル（４：１ｖ／ｖ，２．５ｍｌ）溶液を加え、３０分間攪拌した。反応液に氷冷下、飽和塩化アンモニウム水溶液（２ｍｌ）、水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水（５ｍｌ）、飽和食塩水（５ｍｌ）で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物１１の粗生成物を褐色油状物として得た。
第３工程
上記粗生成物１１の酢酸（１．５ｍｌ）溶液に４７％臭化水素酸水溶液（４ｍｌ）を加え、１．５時間加熱還流した。反応液に氷冷下、５規定水酸化ナトリウム水溶液を加え中和した後、水を加えた。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、メタノールで再結晶を行い、化合物Ｉ−２６（４６．３ｍｇ，１．１９ｍｍｏｌ）を黄色結晶として通算収率３１％で得た。
融点：１３７−１３９℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１１ＣｌＦＮ３Ｏ２Ｓ（Ｈ２Ｏ）１．３として
計算値（％）：Ｃ，５２．５７；Ｈ，３．３３；Ｎ，１０．２２；Ｃｌ，８．６２；Ｆ，４．６２；Ｓ，７．８０．
分析値（％）：Ｃ，５２．４７；Ｈ，３．０１；Ｎ，９．９６；Ｃｌ，８．７２；Ｆ，４．６０；Ｓ，７．８４．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．２３（２Ｈ，ｓ），７．１７（２Ｈ，ｍ），７．４０（２Ｈ，ｍ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．９２（１Ｈ，ｓ），１３．３３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２９，１６３１ｃｍ−１．
実施例８の合成法に準じ、化合物Ｉ−２７〜Ｉ−３１を合成した。
2002070486.tif 000096
化合物Ｉ−２７
融点：２３９−２４０℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１２ＦＮ３Ｏ２Ｓ（Ｈ２Ｏ）０．１として
計算値（％）：Ｃ，６０．８７；Ｈ，３．４６；Ｎ，１１．８３；Ｆ，５．３５；Ｓ，９．０３．
分析値（％）：Ｃ，６０．７６；Ｈ，３．３６；Ｎ，１１．７７；Ｆ，５．１０；Ｓ，９．００．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．２０（２Ｈ，ｓ），７．１３（２Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．３９（２Ｈ，ｍ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），８．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），１３．０６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４４０，１６３７ｃｍ−１．
化合物Ｉ−２８
融点：２５８−２６１℃  再結晶溶媒：メタノール−テトラヒドロフラン−アセトニトリル
元素分析：Ｃ１９Ｈ１３ＣｌＦＮ３Ｏ２Ｓとして
計算値（％）：Ｃ，５６．７９；Ｈ，３．２６；Ｎ，１０．４６；Ｃｌ，８．８２；Ｆ，４．７３；Ｓ，７．９８．
分析値（％）：Ｃ，５６．６２；Ｈ，３．１８；Ｎ，１０．３７；Ｃｌ，８．７７；Ｆ，４．６０；Ｓ，７．８３．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．９８（３Ｈ，ｓ），４．３５（２Ｈ，ｓ），７．１３（２Ｈ，ｍ），７．３４（２Ｈ，ｍ），８．２９−８．３６（２Ｈ，ｍ），８．８６（１Ｈ，ｓ），１２．９０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３３，１６３９ｃｍ−１．
化合物Ｉ−２９
融点：２０８−２１１℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−ヘキサン
元素分析：Ｃ２０Ｈ１５ＣｌＦＮ３Ｏ２Ｓとして
計算値（％）：Ｃ，５７．７６；Ｈ，３．６４；Ｎ，１０．１０；Ｃｌ，８．５２；Ｆ，４．５７；Ｓ，７．７１．
分析値（％）：Ｃ，５７．６１；Ｈ，３．４８；Ｎ，１０．０１；Ｃｌ，８．２２；Ｆ，４．３９；Ｓ，７．５１．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．３２（３Ｈ，ｓ），３．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），４．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．０８−７．２３（４Ｈ，ｍ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），８．８３（１Ｈ，ｓ），１２．７８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３３，１６４３ｃｍ−１．
化合物Ｉ−３０
融点：１８９−１９２℃  再結晶溶媒：メタノール−酢酸エチル
元素分析：Ｃ２１Ｈ１５ＦＮ２Ｏ２（ＨＢｒ）１．０として
計算値（％）：Ｃ，５９．０３；Ｈ，３．７７；Ｎ，６．５６；Ｂｒ，１８．７０；Ｆ，４．４５．
分析値（％）：Ｃ，５８．８５；Ｈ，３．６５；Ｎ，６．６８；Ｂｒ，１９．０９；Ｆ，４．３８．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．４４（２Ｈ，ｓ），７．２０−７．２９（３Ｈ，ｍ），７．４３−７．５１（３Ｈ，ｍ），７．５４−７．６２（２Ｈ，ｍ），７．６５−７．７５（３Ｈ，ｍ），１２．１９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３１，１６５８ｃｍ−１．
化合物Ｉ−３１
融点：２８７−２８９℃（ｄｅｃ．）  再結晶溶媒：メタノール−テトラヒドロフラン
元素分析：Ｃ１７Ｈ１１ＣｌＦＮ５Ｏ２（ＨＢｒ）０．１５（Ｈ２Ｏ）０．５として
計算値（％）：Ｃ，５１．９７；Ｈ，３．１２；Ｎ，１７．８２；Ｂｒ，３．０５；Ｃｌ，９．０２；Ｆ，４．８４．
分析値（％）：Ｃ，５２．０７；Ｈ，３．２４；Ｎ，１７．５６；Ｂｒ，２．９４；Ｃｌ，８．７８；Ｆ，４．６９．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．２４（２Ｈ，ｓ），７．１７（２Ｈ，ｍ），７．４０（２Ｈ，ｍ），８．６９（１Ｈ，ｓ），８．７６（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．１９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４４０，１６４９ｃｍ−１．
実施例９
化合物Ｉ−３２
2002070486.tif 000097
第１工程
化合物５（１．３６ｇ，３．９０ｍｍｏｌ）のエタノール溶液に室温で１規定水酸化ナトリウム水溶液を加え、３．５時間加熱還流した。反応液に氷冷下、２規定塩酸を加えｐＨ５とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶性の残さを酢酸エチル−メタノール−ヘキサンで再結晶を行い、化合物１２（１．０６ｇ，３．１７ｍｍｏｌ）を無色結晶として８１％の収率で得た。
融点：２０１−２０５℃．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．９３（３Ｈ，ｂｒｓ），４．２２（２Ｈ，ｓ），７．１６（２Ｈ，ｍ），７．３９（２Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｓ）．
第２工程
上記化合物１２（３３７ｍｇ，１．０１ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（２０７ｍｇ，１．５３ｍｍｏｌ）、およびフェニル酢酸ヒドラジド（２３４ｍｇ，１．５３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３ｍｌ）懸濁液に室温で１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（２９１ｍｇ，１．５２ｍｍｏｌ）を加え、５．５時間攪拌した。反応液に氷冷下、水（１５ｍｌ）を加え、析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、減圧下加熱乾燥し、化合物１３の粗生成物（４７０ｍｇ）を無色結晶として得た。
第３工程
上記粗生成物１３（４０１ｍｇ）とオキシ塩化リン（４ｍｌ）の混合物を２時間加熱還流した。過剰のオキシ塩化リンを減圧下留去して得られた残さに、氷水に続いて２８％アンモニア水を加え、中和した。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、減圧下加熱乾燥し、化合物１４の粗生成物（２５１ｍｇ）を無色結晶として得た。
第４工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−３２を得た。
融点：１６９−１７２℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２３Ｈ１６ＣｌＦＮ４Ｏ２（Ｈ２Ｏ）０．３として
計算値（％）：Ｃ，６２．７５；Ｈ，３．８０；Ｎ，１２．７３；Ｃｌ，８．０５；Ｆ，４．３２．
分析値（％）：Ｃ，６２．７２；Ｈ，３．６９；Ｎ，１２．７９；Ｃｌ，７．６２；Ｆ，４．１６．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．２２（２Ｈ，ｓ），４．３８（２Ｈ，ｓ），７．１６（２Ｈ，ｍ），７．２６−７．５５（８Ｈ，ｍ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１１ｃｍ−１．
実施例９の合成法に準じ、化合物Ｉ−３３〜Ｉ−５０を合成した。
2002070486.tif 000098
化合物Ｉ−３３
融点：２０６−２０８℃  再結晶溶媒：イソプロパノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１２ＣｌＦＮ４Ｏ２（ｉ−ＰｒＯＨ）０．１（Ｈ２Ｏ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，５６．４１；Ｈ，３．６１；Ｎ，１５．２１；Ｃｌ，９．６２；Ｆ，５．１６．
分析値（％）：Ｃ，５６．４８；Ｈ，３．４６；Ｎ，１５．１３；Ｃｌ，９．２８；Ｆ，４．９２．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．６６（３Ｈ，ｓ），４．３５（２Ｈ，ｓ），７．０５（２Ｈ，ｍ），７．３１（２Ｈ，ｍ），７．６０（１Ｈ，ｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２９ｃｍ−１．
化合物Ｉ−３４
融点：１８０−１８２℃  再結晶溶媒：イソプロパノール
元素分析：Ｃ２３Ｈ１６ＣｌＦＮ４Ｏ３（ＨＣｌ）０．１（Ｈ２Ｏ）０．３として
計算値（％）：Ｃ，６０．０７；Ｈ，３．６６；Ｎ，１２．１８；Ｃｌ，８．４８；Ｆ，４．１３．
分析値（％）：Ｃ，６０．１０；Ｈ，３．３６；Ｎ，１２．３５；Ｃｌ，８．５４；Ｆ，３．９８．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．３５（２Ｈ，ｓ），５．３６（２Ｈ，ｓ），６．９９−７．１１（３Ｈ，ｍ），７．２３−７．３９（６Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２１ｃｍ−１．
化合物Ｉ−３５
融点：２５５−２５７℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１３ＣｌＮ４Ｏ２（ＥｔＯＨ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，５９．７１；Ｈ，４．０９；Ｎ，１６．０１；Ｃｌ，１０．１３．
分析値（％）：Ｃ，５９．４４；Ｈ，３．９６；Ｎ，１６．１８；Ｃｌ，９．９８．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５４（３Ｈ，ｓ），４．３８（２Ｈ，ｓ），７．２７−７．５０（６Ｈ，ｍ），１０．５５（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．９６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１０ｃｍ−１．
化合物Ｉ−３６
融点：２６２−２６５℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１１Ｈ９ＣｌＮ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，４９．９２；Ｈ，３．４３；Ｎ，２１．１７；Ｃｌ，１３．４０．
分析値（％）：Ｃ，４９．６８；Ｈ，３．３８；Ｎ，２１．００；Ｃｌ，１３．３２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５４（３Ｈ，ｓ），２．６０（３Ｈ，ｓ），７．５０（１Ｈ，ｓ），１０．５０（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．９４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２１ｃｍ−１．
化合物Ｉ−３７
融点：２６６−２６８℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１３ＣｌＮ４Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．６として
計算値（％）：Ｃ，５５．５５；Ｈ，３．８９；Ｎ，１５．２４；Ｃｌ，９．６４．
分析値（％）：Ｃ，５５．６３；Ｈ，３．７７；Ｎ，１５．０８；Ｃｌ，９．６０．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５５（３Ｈ，ｓ），５．４９（２Ｈ，ｓ），７．０３（１Ｈ，ｍ），７．１４（２Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｍ），７．５４（１Ｈ，ｂｒｓ），１０．４８（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．９９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３３８４ｃｍ−１．
化合物Ｉ−３８
融点：＞３００℃  再結晶溶媒：クロロホルム−メタノール
元素分析：Ｃ１６Ｈ１１ＣｌＮ４Ｏ２（Ｈ２Ｏ）０．４として
計算値（％）：Ｃ，５７．５５；Ｈ，３．５６；Ｎ，１６．７８；Ｃｌ，１０．６２．
分析値（％）：Ｃ，５７．３０；Ｈ，３．７６；Ｎ，１６．６７；Ｃｌ，１０．８６．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５６（３Ｈ，ｓ），７．６０−７．７１（３Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｓ），８．１３−８．２４（２Ｈ，ｍ），１０．５９（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．９８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１５ｃｍ−１．
化合物Ｉ−３９
融点：２４７−２４９℃  再結晶溶媒：イソプロパノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１２ＣｌＦＮ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，５６．９１；Ｈ，３．３７；Ｎ，１５．６２；Ｃｌ，９．８８；Ｆ，５．３０．
分析値（％）：Ｃ，５６．７６；Ｈ，３．４２；Ｎ，１５．５８；Ｃｌ，１０．１６；Ｆ，５．０８．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５４（３Ｈ，ｓ），４．３８（２Ｈ，ｓ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４２−７．５３（３Ｈ，ｍ），１０．６１（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．９５（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３３３８ｃｍ−１．
化合物Ｉ−４０
融点：＞３００℃  再結晶溶媒：クロロホルム−メタノール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１２ＣｌＦＮ４Ｏ２（ＣＨＣｌ３）０．３（Ｈ２Ｏ）０．５として
計算値（％）：Ｃ，５２．８９；Ｈ，３．２３；Ｎ，１３．４８；Ｃｌ，１６．２１；Ｆ，４．５７．
分析値（％）：Ｃ，５２．５６；Ｈ，３．１３；Ｎ，１３．４１；Ｃｌ，１６．５４；Ｆ，４．３７．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５５（３Ｈ，ｓ），７．３１（２Ｈ，ｍ），７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），７．７３（１Ｈ，ｓ），７．７０−７．９８（３Ｈ，ｍ），１０．６０（１Ｈ，ｂｒｓ），１３．０１（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３３６７ｃｍ−１．
化合物Ｉ−４１
融点：１７５−１７７℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ１８Ｈ１４ＣｌＦＮ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，５７．９９；Ｈ，３．７９；Ｎ，１５．０３；Ｃｌ，９．５１；Ｆ，５．１０．
分析値（％）：Ｃ，５７．８８；Ｈ，３．７６；Ｎ，１４．９９；Ｃｌ，９．１２；Ｆ，５．０７．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５４（３Ｈ，ｓ），３．１２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．２７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．１２（２Ｈ，ｍ），７．３６（２Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｓ），１０．５５（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．９９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２３ｃｍ−１．
化合物Ｉ−４２
融点：２５０−２５３℃  再結晶溶媒：クロロホルム−メタノール
元素分析：Ｃ１６Ｈ１０ＣｌＦＮ４Ｏ２（Ｓ）０．７５（Ｈ２Ｏ）０．５として
計算値（％）：Ｃ，５０．８７；Ｈ，２．９３；Ｎ，１４．８３；Ｃｌ，９．３８；Ｆ，５．０３；Ｓ，６．３７．
分析値（％）：Ｃ，５０．９０；Ｈ，２．６３；Ｎ，１４．８３；Ｃｌ，９．４７；Ｆ，４．８２；Ｓ，６．３２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．３９（２Ｈ，ｓ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４７（２Ｈ，ｍ），７．５７（１Ｈ，ｓ），８．３９（１Ｈ，ｓ），１０．５２（１Ｈ，ｂｒｓ），１３．２９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３１ｃｍ−１．
化合物Ｉ−４３
融点：１０３−１０５℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１６Ｈ１０ＣｌＦＮ４Ｏ２（ＭｅＯＨ）０．５（Ｈ２Ｏ）０．５として
計算値（％）：Ｃ，５９．０７；Ｈ，３．８０；Ｎ，１１．７２；Ｃｌ，７．４２；Ｆ，７．９５．
分析値（％）：Ｃ，５９．０９；Ｈ，３．７２；Ｎ，１１．９０；Ｃｌ，７．２９；Ｆ，７．８２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．２２（２Ｈ，ｓ），４．３８（２Ｈ，ｓ），７．１６（２Ｈ，ｍ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．３９（２Ｈ，ｍ），７．４６（２Ｈ，ｍ），７．５１（１Ｈ，ｓ），１０．５６（１Ｈ，ｂｒｓ），１３．１８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２３ｃｍ−１．
化合物Ｉ−４４
融点：２４６−２５０℃  再結晶溶媒：イソプロパノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１２ＣｌＦＮ４Ｏ２（Ｈ２Ｏ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，５６．３５；Ｈ，３．４５；Ｎ，１５．４６；Ｃｌ，９．７８；Ｆ，５．２４．
分析値（％）：Ｃ，５６．４３；Ｈ，３．１９；Ｎ，１５．５１；Ｃｌ，９．９８；Ｆ，５．０５．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５４（３Ｈ，ｓ），４．４２（２Ｈ，ｓ），７．１５（１Ｈ，ｍ），７．２２−７．３３（２Ｈ，ｍ），７．３８−７．５３（２Ｈ，ｍ），１０．５２（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．９６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２９ｃｍ−１．
化合物Ｉ−４５
融点：２７２−２７６℃  再結晶溶媒：メタノール−イソプロパノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１２ＣｌＦＮ４Ｏ２（ｉ−ＰｒＯＨ）０．１（Ｈ２Ｏ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，５６．４１；Ｈ，３．６１；Ｎ，１５．２１；Ｃｌ，９．６２；Ｆ，５．１６．
分析値（％）：Ｃ，５６．２８；Ｈ，３．３１；Ｎ，１５．３２；Ｃｌ，９．４７；Ｆ，５．０３．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５４（３Ｈ，ｓ），４．４２（２Ｈ，ｓ），７．２０−７．３２（２Ｈ，ｍ），７．３５−７．５６（３Ｈ，ｍ），１０．５１（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．９６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４０８ｃｍ−１．
化合物Ｉ−４６
融点：１６３−１６６℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ１８Ｈ１２ＣｌＦ３Ｎ４Ｏ２（Ｈ２Ｏ）０．４として
計算値（％）：Ｃ，５１．９７；Ｈ，３．１０；Ｎ，１３．４７；Ｃｌ，８．５２；Ｆ，１３．７０．
分析値（％）：Ｃ，５１．７９；Ｈ，２．８１；Ｎ，１３．５７；Ｃｌ，８．７４；Ｆ，１３．６７．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５４（３Ｈ，ｓ），４．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４１−７．８０（５Ｈ，ｍ），１０．３９（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．９７（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１１ｃｍ−１．
化合物Ｉ−４７
融点：２６８−２７０℃  再結晶溶媒：アセトニトリル
元素分析：Ｃ２３Ｈ１７ＣｌＮ４Ｏ２（Ｈ２Ｏ）０．１として
計算値（％）：Ｃ，６５．９８；Ｈ，４．１４；Ｎ，１３．５８；Ｃｌ，８．４７．
分析値（％）：Ｃ，６５．８６；Ｈ，４．０６；Ｎ，１３．４０；Ｃｌ，８．４８．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５４（３Ｈ，ｓ），６．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），７．２６−７．５３（１１Ｈ，ｍ），１０．４７（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．９７（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２１ｃｍ−１．
化合物Ｉ−４８
融点：２４９−２５２℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１５Ｈ１１ＣｌＮ４Ｏ２Ｓ（Ｓ）０．１として
計算値（％）：Ｃ，５１．４８；Ｈ，３．１７；Ｎ，１６．０１；Ｃｌ，１０．１３；Ｓ，１０．０８．
分析値（％）：Ｃ，５１．３６；Ｈ，３．０８；Ｎ，１５．９５；Ｃｌ，９．８８；Ｓ，１０．０７．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５４（３Ｈ，ｓ），４．３９（２Ｈ，ｓ），７．１７（１Ｈ，ｍ），７．５１（２Ｈ，ｍ），７．５７（１Ｈ，ｍ），１０．５７（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．９６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２９ｃｍ−１．
化合物Ｉ−４９
融点：２６３−２６６℃  再結晶溶媒：イソプロパノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１９ＣｌＮ４Ｏ２（Ｈ２Ｏ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，５８．２７；Ｈ，５．５８；Ｎ，１５．９９；Ｃｌ，１０．１２．
分析値（％）：Ｃ，５８．３８；Ｈ，５．５０；Ｎ，１６．０３；Ｃｌ，１０．１０．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：０．９９−１．３４（５Ｈ，ｍ），１．５８−１．９１（６Ｈ，ｍ），２．５４（３Ｈ，ｓ），２．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｓ），１０．５１（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．９６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１９ｃｍ−１．
化合物Ｉ−５０
融点：１６９−１７３℃  再結晶溶媒：メタノール−イソプロパノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１２ＣｌＮ７Ｏ２（ＨＢｒ）０．７（Ｈ２Ｏ）０．８として
計算値（％）：Ｃ，４５．０９；Ｈ，３．１８；Ｎ，２１．６５；Ｂｒ，１２．３５；Ｃｌ，７．８３．
分析値（％）：Ｃ，４５．１９；Ｈ，３．２０；Ｎ，２１．３０；Ｂｒ，１２．３８；Ｃｌ，７．６４．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．６４（３Ｈ，ｓ），４．４３（２Ｈ，ｓ），７．０８（１Ｈ，ｍ），７．１８−７．２８（２Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４０８，２１１４ｃｍ−１．
実施例１０
化合物Ｉ−５１
2002070486.tif 000099
第１工程−第３工程
実施例６の第１工程、実施例９の第３工程、および実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−５１を得た。
融点：２２８−２３１℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１３ＦＮ４Ｏ２（Ｈ２Ｏ）０．１として
計算値（％）：Ｃ，６２．６１；Ｈ，４．０８；Ｎ，１７．１８；Ｆ，５．８３．
分析値（％）：Ｃ，６２．４４；Ｈ，４．０７；Ｎ，１７．０３；Ｆ，５．６７．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５０（３Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４０−７．５１（３Ｈ，ｍ），１０．４２（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．５１（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４０８ｃｍ−１．
実施例１０の合成法に準じ、化合物Ｉ−５２を合成した。
2002070486.tif 000100
化合物Ｉ−５２
融点：１７２−１７３℃  再結晶溶媒：イソプロパノール
元素分析：Ｃ１９Ｈ１７ＦＮ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６４．７６；Ｈ，４．８６；Ｎ，１５．９０；Ｆ，５．３９．
分析値（％）：Ｃ，６４．６５；Ｈ，４．７１；Ｎ，１５．７８；Ｆ，５．３２．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．６４（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），４．２７（２Ｈ，ｓ），６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．０６（２Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｍ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０．５４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３１ｃｍ−１．
実施例１１
化合物Ｉ−５３
2002070486.tif 000101
第１工程
化合物１６（５０２ｍｇ，２．０９ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（２９７ｍｇ，２．２０ｍｍｏｌ）、および１−アミノ−３−（４−フルオロフェニル）プロパン−２−オン塩酸塩（４４５ｍｇ，２．１９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ−ＤＭＦ（５：１ｖ／ｖ，１２ｍｌ）懸濁液に室温で１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（４２４ｍｇ，２．２１ｍｍｏｌ）を加え、５０分間攪拌した後、Ｎ−メチルモルホリン（０．４５５ｍｌ，４．１４ｍｍｏｌ）を滴下し、２時間攪拌した。反応液に室温で水（５０ｍｌ）を加え、析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、減圧下加熱乾燥し、化合物１７の粗生成物（５４９ｍｇ）を薄褐色結晶として得た。
第２、３工程
実施例１０の第２工程および実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−５３を得た。
融点：２４２−２４５℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ１８Ｈ１３ＣｌＦＮ３Ｏ２（ＨＣｌ）０．１（Ｈ２Ｏ）０．１として
計算値（％）：Ｃ，５９．５２；Ｈ，３．６９；Ｎ，１１．５７；Ｃｌ，１０．７４；Ｆ，５．２３．
分析値（％）：Ｃ，５９．４０；Ｈ，３．５５；Ｎ，１１．４７；Ｃｌ，１０．８５；Ｆ，５．３１．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５２（３Ｈ，ｓ），４．１６（２Ｈ，ｓ），７．１９（２Ｈ，ｍ），７．４１（２Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｓ），１１．６４（１Ｈ，ｂｒｓ），１３．１３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２１ｃｍ−１．
実施例１２
化合物Ｉ−５４
2002070486.tif 000102
第１〜５工程
実施例６の第１工程、実施例９の第１工程、実施例１１の第１工程、実施例１０の第２工程および実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−５４を得た。
融点：２０８−２１０℃  再結晶溶媒：アセトニトリル
元素分析：Ｃ１８Ｈ１４ＦＮ３Ｏ２（ＨＣｌ）０．４（Ｈ２Ｏ）０．５として
計算値（％）：Ｃ，６２．３２；Ｈ，４．４７；Ｎ，１２．１１；Ｃｌ，４．０９；Ｆ，５．４８．
分析値（％）：Ｃ，６２．２５；Ｈ，４．１４；Ｎ，１２．１２；Ｃｌ，４．１２；Ｆ，５．５４．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５５（３Ｈ，ｓ），４．１７（２Ｈ，ｓ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．１８（２Ｈ，ｍ），７．４０（２Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１１．７１（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２５ｃｍ−１．
実施例１２の合成法に準じ、化合物Ｉ−５５を合成した。
2002070486.tif 000103
化合物Ｉ−５５
融点：１５０−１５１℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−ヘキサン
元素分析：Ｃ２０Ｈ１８ＦＮ３Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６８．３６；Ｈ，５．１６；Ｎ，１１．９６；Ｆ，５．４１．
分析値（％）：Ｃ，６８．３１；Ｈ，５．１５；Ｎ，１１．９０；Ｆ，５．３６．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．６２（３Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｓ），４．１４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．８４（１Ｈ，ｍ），６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０４（２Ｈ，ｍ），７．２６（２Ｈ，ｍ），７．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１１．７６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３３ｃｍ−１．
実施例１３
化合物Ｉ−５６
2002070486.tif 000104
第１工程
化合物１９（３０２ｍｇ，０．８５０ｍｍｏｌ）とローソン試薬（６９１ｍｇ，１．７１ｍｍｏｌ）のピリジン（４．５ｍｌ）溶液を１１０℃で２時間攪拌した。反応液を冷却した後、酢酸エチルで希釈し、０．１規定塩酸（１５ｍｌ  ｘ  ２）、水（１５ｍｌ）、飽和食塩水（１５ｍｌ）で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮し、化合物２０（１２６ｍｇ，０．３５７ｍｍｏｌ）を黄色結晶として収率４２％で得た。
第２工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−５６を得た。
融点：２３４−２３８℃  再結晶溶媒：メタノール−ジエチルエーテル
元素分析：Ｃ１８Ｈ１５ＣｌＦＮ３ＯＳ（ＨＣｌ）１．０（Ｈ２Ｏ）０．４として
計算値（％）：Ｃ，５６．４４；Ｈ，４．１６；Ｎ，１０．９７；Ｃｌ，９．２６；Ｆ，４．９６；Ｓ，８．３７．
分析値（％）：Ｃ，５６．５２；Ｈ，４．２１；Ｎ，１０．８２；Ｃｌ，９．４６；Ｆ，４．８５；Ｓ，８．１６．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．７５（３Ｈ，ｓ），４．２９（２Ｈ，ｓ），７．１８（２Ｈ，ｍ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３９（２Ｈ，ｍ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｓ，１３．０３（１Ｈ，ｂｒｓ），１４．９９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２３ｃｍ−１．
実施例１４
化合物Ｉ−５７
2002070486.tif 000105
第１工程
実施例１３の第１工程と同様の反応を行って、化合物２２を得た。
第２工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行って、化合物Ｉ−５７を得た。
融点：２４９−２５３℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１３ＦＮ４ＯＳ（Ｈ２Ｏ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，５９．３６；Ｈ，３．９３；Ｎ，１６．２９；Ｆ，５．５２；Ｓ，９．３２．
分析値（％）：Ｃ，５９．３２；Ｈ，３．７６；Ｎ，１６．２０；Ｆ，５．４６；Ｓ，９．３７．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５１（３Ｈ，ｓ），４．４６（２Ｈ，ｓ），７．０２（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１９（２Ｈ，ｍ），７．４３（２Ｈ，ｍ），７．９４（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．４８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２３ｃｍ−１．
実施例１５
化合物Ｉ−５８
2002070486.tif 000106
第１工程
３−ニトロサリチル酸２３（１８．３ｇ，０．１００ｍｏｌ）のアセトン（４００ｍｌ）溶液に室温で炭酸カリウム（３１．８ｇ，０．２３０ｍｏｌ）と硫酸ジメチル（２１．８ｍｌ，０．２３０ｍｏｌ）を加え、５０℃で１５時間攪拌した。冷却後、反応液をろ過し無機塩をアセトンで洗浄した。ろ液を濃縮後、水と１０％塩酸（４０ｍｌ）を加え、これを酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物２４の粗生成物（２３．３ｇ，ｑｕａｎｔ．）を無色油状物として得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．９７（３Ｈ，ｓ），４．０１（３Ｈ，ｓ），７．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，８．１Ｈｚ），７．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．８Ｈｚ），８．０３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．８Ｈｚ）．
第２工程
化合物２４（１４．６ｇ，０．０６９３ｍｏｌ）の９９．５％エタノール（３００ｍｌ）溶液に室温で水（３０ｍｌ）、鉄粉（１５．５ｇ，０．２７７ｍｏｌ）、塩化アンモニウム（１．８５ｇ，０．０３４７ｍｏｌ）を加え、４時間加熱還流した。冷却後、反応液をろ過し無機物をエタノールで洗浄した。ろ液を濃縮後、水と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、これを酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物２５の粗生成物（１１．４ｇ，９１％）を無色油状物として得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．８５（３Ｈ，ｓ），３．９１（３Ｈ，ｓ），６．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，２．１Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，８．１Ｈｚ），７．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，２．１Ｈｚ）．
第３工程
化合物２５（１１．４ｇ，０．０６２８ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶液に室温でピリジン（１０．２ｍｌ，０．１２６ｍｏｌ）、無水酢酸（８．９０ｍｌ，０．０９４１ｍｏｌ）を加え、氷冷下で１時間３０分、さらに室温で３０分間攪拌した。反応液を１０％塩酸（３５ｍｌ）−氷水−酢酸エチルの混合物中に注ぎ、これを酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた結晶をろ取し、ヘキサン−酢酸エチル（４：１）で洗浄して、化合物２６の粗生成物（１２．７ｇ，９０％）を無色結晶として得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．２４（３Ｈ，ｓ），３．８９（３Ｈ，ｓ），３．９３（３Ｈ，ｓ），７．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，８．１Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．８Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｂｒｓ），８．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．８Ｈｚ）．
第４工程
化合物２６（１１．９ｇ，０．０５３５ｍｏｌ）のトルエン（１５０ｍｌ）懸濁液に室温でＬａｗｅｓｓｏｎ試薬（１０．８ｇ，０．０２６７ｍｏｌ）を加え、７０℃で２時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した後、水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（２：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して結晶性の残さを得、これをヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒で洗浄して、化合物２７（１２．２ｇ，９５％）を黄色結晶として得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．７９（３Ｈ，ｓ），３．９０（３Ｈ，ｓ），３．９４（３Ｈ，ｓ），７．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，８．１Ｈｚ），７．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．８Ｈｚ），９．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．８Ｈｚ），９．１４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第５工程
化合物２７（３．３５ｇ，１４．０ｍｍｏｌ）とフェリシアン化カリウム（９．２２ｇ，２８．０ｍｍｏｌ）の水溶液（５５ｍｌ）に６０℃で６Ｎ−ＫＯＨ（９．３０ｍｌ，５６．０ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１時間攪拌した。反応液を１０％塩酸（２０ｍｌ）−氷水−酢酸エチルの混合物中に注ぎ、これを酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール（１５：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して結晶性の残さを得、これをジイソプロピルエーテル−酢酸エチルの混合溶媒で洗浄して、化合物２８（１．５２ｇ，４９％）を無色結晶として得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．８３（３Ｈ，ｓ），４．１２（３Ｈ，ｓ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１２．９１（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第６工程
実施例９の第２工程と同様の反応を行い、化合物２９（収率９４％）を無色結晶として得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．８５（３Ｈ，ｓ），３．７０（２Ｈ，ｓ），４．４９（３Ｈ，ｓ），７．０４（２Ｈ，ｍ），７．３３（２Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），９．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１０．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）．
第７工程
実施例９の第３工程と同様の反応を行い、化合物３０（収率９１％）を無色結晶として得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．８７（３Ｈ，ｓ），４．２４（３Ｈ，ｓ），４．２９（２Ｈ，ｓ），７．０５（２Ｈ，ｍ），７．３７（２Ｈ，ｍ），７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
第８工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−５８（収率４７％）を無色結晶として得た。
融点：１８３−１８４℃  再結晶溶媒：クロロホルム−酢酸エチル
元素分析：Ｃ１７Ｈ１２ＦＮ３Ｏ２Ｓとして
計算値（％）：Ｃ，５９．８１；Ｈ，３．５４；Ｎ，１２．３１；Ｆ，５．５７；Ｓ，９．３９．
分析値（％）：Ｃ，５９．６８；Ｈ，３．４３；Ｎ，１２．２３；Ｆ，５．５４；Ｓ，９．４６．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．８８（３Ｈ，ｓ），４．３０（２Ｈ，ｓ），７．０７（２Ｈ，ｍ），７．３６（２Ｈ，ｍ），７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．８３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４４２，１６２６，１５８３，１５１４，１４６０，１３６５，１２２７，１１６５ｃｍ−１．
実施例１５の合成法に準じ、化合物Ｉ−５９〜６１を合成した。
2002070486.tif 000107
化合物Ｉ−５９
融点：１６８−１６９℃  再結晶溶媒：ヘキサン−酢酸エチル
元素分析：Ｃ１８Ｈ１３ＦＮ２Ｏ２Ｓとして
計算値（％）：Ｃ，６３．５２；Ｈ，３．８５；Ｎ，８．２３；Ｆ，５．５８；Ｓ，９．４２．
分析値（％）：Ｃ，６３．４５；Ｈ，３．７５；Ｎ，８．１５；Ｆ，５．４６；Ｓ，９．４０．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．８７（３Ｈ，ｓ），４．０７（２Ｈ，ｓ），６．８９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝０．９Ｈｚ），７．０４（２Ｈ，ｍ），７．２２−７．３０（２Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１１．９６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：１５７２，１５０８，１４６６ｃｍ−１．
化合物Ｉ−６０
融点：１９７−１９８℃  再結晶溶媒：クロロホルム−酢酸エチル
元素分析：Ｃ１８Ｈ１３ＦＮ２ＯＳ２として
計算値（％）：Ｃ，６０．６５；Ｈ，３．６８；Ｎ，７．８６；Ｆ，５．３３；Ｓ，１７．９９．
分析値（％）：Ｃ，６０．４９；Ｈ，３．５０；Ｎ，７．７５；Ｆ，５．４３；Ｓ，１７．９８．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．８６（３Ｈ，ｓ），４．１７（２Ｈ，ｓ），７．０３（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．２８（２Ｈ，ｍ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝０．９Ｈｚ），１３．０４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：１５１０，１４５２ｃｍ−１．
化合物Ｉ−６１
融点：１９５−１９６℃  再結晶溶媒：クロロホルム−酢酸エチル
元素分析：Ｃ１７Ｈ１２ＦＮ３ＯＳ２として
計算値（％）：Ｃ，５７．１３；Ｈ，３．３８；Ｎ，１１．７６；Ｆ，５．３２；Ｓ，１７．９４．
分析値（％）：Ｃ，５７．０１；Ｈ，３．２４；Ｎ，１１．６８；Ｆ，５．２１；Ｓ，１７．９８．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．８７（３Ｈ，ｓ），４．４４（２Ｈ，ｓ），７．０７（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．３７（２Ｈ，ｍ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１２．１０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：１５１０，１４５８ｃｍ−１．
実施例１６
化合物Ｉ−６２
2002070486.tif 000108
第１工程
文献既知（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ  Ｔｒａｎｓ．１，２７８９−２８１１，（１９９２））の化合物３１（２．０６ｇ，８．１２ｍｍｏｌ）に室温で１規定水酸化ナトリウム水溶液（４０ｍｌ）を加え、１時間攪拌した。反応液に氷冷下、２規定塩酸を加え中和した。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、減圧下加熱乾燥し、化合物３２（１．４９ｇ，６．６０ｍｍｏｌ）を無色結晶として収率８１％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．６２（３Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），８．７５（１Ｈ，ｓ），１３．４３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第２工程
実施例９の第２工程と同様の反応を行い、化合物３３を得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．６２（３Ｈ，ｓ），３．５５（２Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），７．１６（２Ｈ，ｍ），７．３８（２Ｈ，ｍ），８．３３（１Ｈ，ｓ），１０．４２（１Ｈ，ｂｒｓ），１０．４８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第３工程
実施例９の第３工程と同様の反応を行い、化合物３４を得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．６５（３Ｈ，ｓ），３．８１（３Ｈ，ｓ），４．４２（２Ｈ，ｓ），７．２２（２Ｈ，ｍ），７．４７（２Ｈ，ｍ），８．７７（１Ｈ，ｓ）．
第４工程
化合物３４（５９９ｍｇ，１．６７ｍｍｏｌ）のメタノール（６ｍｌ）懸濁液にナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液，１．５ｍｌ）を加え、１．５時間加熱還流した。反応液に氷冷下、水（３０ｍｌ）を加えた後、１規定塩酸を加え中和した。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、減圧下加熱乾燥し、化合物３５（４９５ｍｇ，１．４０ｍｍｏｌ）を無色結晶として収率８４％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５８（３Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），４．３６（２Ｈ，ｓ），４．５５（３Ｈ，ｓ），７．２２（２Ｈ，ｍ），７．４４（２Ｈ，ｍ），８．５４（１Ｈ，ｓ）．
第５工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−６２を得た。
融点：２２９−２３２℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１４ＦＮ５Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６０．１７；Ｈ，４．１６；Ｎ，２０．６４；Ｆ，５．６０．
分析値（％）：Ｃ，５９．９４；Ｈ，４．０３；Ｎ，２０．４１；Ｆ，５．３８．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５８（３Ｈ，ｓ），３．７４（３Ｈ，ｓ），４．１７（１Ｈ，ｂｒｓ），４．３７（２Ｈ，ｓ），７．２０（２Ｈ，ｍ），７．４４（２Ｈ，ｍ），８．５３（１Ｈ，ｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３３，１６０４ｃｍ−１．
実施例１７
化合物Ｉ−６３
2002070486.tif 000109
第１工程
市販化合物３６（７．７４ｇ，３０．０ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）溶液に無水炭酸カリウム（８．３ｇ，６０．０ｍｍｏｌ）及び、よう化メチル（４．７ｇ，３３．０ｍｍｏｌ）を加え、室温下３．０時間撹拌した。反応液をろ過後、ろ液に水（１００ｍｌ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水（５０ｍｌ）、飽和食塩水（５０ｍｌ）で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物３７の粗生成物を淡黄色結晶として得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（１：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することにより、化合物３７（７．３２ｇ，２６．９ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率８９．７％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．１７（３Ｈ，ｓ），７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，１．８Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｓ），８．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．４Ｈｚ），９．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，１．８Ｈｚ）．
第２工程
フェニルリチウム（１７．０％シクロヘキサン−ジエチルエーテル溶液１．０ｍｌ）を無水ジエチルエーテル（１０ｍｌ）に加え、−７５℃にて５分間撹拌後、化合物３７（２７２ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル（５ｍｌ）溶液を注意深く滴下し、１．５時間撹拌した。５−（４−フルオロ−フェニルスルファニル）−フラン−２−カルボニル−クロライドのジエチルエーテル（６．０ｍｌ）溶液を加え、１．０時間撹拌した。濃塩酸−テトラヒドロフラン（２．５：７．５ｖ／ｖ）溶液を滴下後、室温まで昇温した。反応液に水（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチルで抽出後、有機層を水（５０ｍｌ）、飽和食塩水（５０ｍｌ）で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物３８の粗生成物を褐色油成物として得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することにより、化合物３８（６５．０ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）を黄色油成物として収率１６．０％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．１２（３Ｈ，ｓ），６．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ），７．０１−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ），７．４４−７．４９（２Ｈ，ｍ），７．６０（１Ｈ，ｓ），７．６０−７．６４（１Ｈ，ｍ），８．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．８Ｈｚ），９．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，１．８Ｈｚ）．
第３工程
化合物３８（５０ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）にピリジン塩酸塩（１４０ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）を加え、１９０℃にて１５分間加熱撹拌した。室温まで放冷後、氷水（１５ｍｌ）を加え、酢酸エチルで抽出後、有機層を水（５０ｍｌ）、飽和食塩水（５０ｍｌ）で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物Ｉ−６３の粗生成物を黄色粗結晶として得た。ジイソプロピルエーテルにより黄色粗結晶を洗浄することにより、化合物Ｉ−６３（３６ｍｇ，０．０９ｍｍｏｌ）を収率７５．０％で得た。
融点：１２０−１２２℃  再結晶溶媒：ジイソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２０Ｈ１１ＣｌＦＮＯ３Ｓ（ＨＣｌ）０．０２（Ｈ２Ｏ）０．１として
計算値（％）：Ｃ，５９．７０；Ｈ，２．８１；Ｎ，３．４８；Ｃｌ，８．９９；Ｆ，４．７２；Ｓ，７．９７．
分析値（％）：Ｃ，５９．６１；Ｈ，２．６５；Ｎ，３．４４；Ｃｌ，９．２６；Ｆ，４．６０；Ｓ，７．６８．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：６．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），７．０６−７．１１（２Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），７．５３−７．６１（２Ｈ，ｍ），７．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，３．９Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｓ），８．５０−８．５６（１Ｈ，ｍ），９．００−９．２０（１Ｈ，ｍ），１３．１４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例１７の合成法に準じ、化合物Ｉ−６４を合成した。
2002070486.tif 000110
化合物Ｉ−６４
融点：１２６−１２８℃  再結晶溶媒：ジエチルエーテル
元素分析：Ｃ２１Ｈ１３ＣｌＦＮＯ３（ＨＣｌ）０．１（Ｃ２Ｈ５Ｏ）０．０１（Ｈ２Ｏ）０．１５として
計算値（％）：Ｃ，６４．９８；Ｈ，３．５０；Ｎ，３．６０；Ｃｌ，１０．０；Ｆ，４．８９．
分析値（％）：Ｃ，６５．１９；Ｈ，３．２１；Ｎ，３．７１；Ｃｌ，９．９１；Ｆ，４．５７．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．２３（２Ｈ，ｓ），６．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），７．０４−７．１２（２Ｈ，ｍ），７．２６−７．３６（２Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｓ），８．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．８Ｈｚ），９．００−９．３０（１Ｈ，ｍ），１３．１８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例１８
化合物Ｉ−６５
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第１工程
７−ブロモ−５−クロロ−８−ヒドロキシキノリン（化合物３９）（９．８ｇ，３８．０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（７０ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（１０．５ｇ，７６．０ｍｍｏｌ）及び、ヨウ化メチル（６．２ｇ，４３．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応液に水を加える事によって析出した結晶を濾過し、水洗した。結晶を酢酸エチルで再溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥、活性炭にて脱色した。溶媒を減圧下留去し、化合物４０の粗生成物（９．０ｇ，３３．０ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率８７％で得た。
第２工程
第１工程で得た化合物４０（５．１７ｇ，２０ｍｍｏｌ）の四塩化炭素（４０ｍｌ）溶液に室温下、臭素（６．４ｇ，４０ｍｍｏｌ）及びピリジン（１．６ｇ，４０ｍｍｏｌ）を滴下した。１５時間加熱灌流した後、冷却し、２規定ＮａＯＨ溶液（２２ｍｌ，４４ｍｍｏｌ）を滴下した。１０分間撹拌後、塩化メチレンで抽出、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（４：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物４１（４．７８ｇ，１３．６ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率６８％で得た。
第３工程
化合物４２（８．６８ｇ，６０ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（４０ｍｌ）に酢酸カリウム（８．８４ｇ，９０ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコラート）ジボロン（１６．８ｇ，６６ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）（１．７ｇ，１．５ｍｍｏｌ）を加え、３時間加熱還流した後、放冷した。反応混合物を氷水に加え、５分間撹拌し、酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた紫色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（５０：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物４３（９．５ｇ，４０ｍｍｏｌ）を無色結晶として収率６７％で得た。
第４工程
第２工程で得た化合物４１（１．０５ｇ，３ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４０ｍｌ）溶液に室温下、第３工程で得た化合物４３（９４４ｍｇ，４ｍｍｏｌ）、２Ｍ炭酸カリウム水溶液（４．５ｍｌ，９ｍｍｏｌ）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）（３５０ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で５時間撹拌した。反応液を濾過し、濾液に水を加え、酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物４４（３４０ｍｇ，０．８９ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率３０％で得た。また混合物として得られた分画は濃縮後さらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、トルエン−酢酸エチル（９：１ｖ／ｖ）で溶出し、目的物の分画を減圧下濃縮する事によって化合物４４（２５９ｍｇ，０．６８ｍｍｏｌ）を得た。上記分画と混合する事によって総収率５３％で化合物４４を淡黄色結晶として得た。
第５工程
エーテル１０ｍｌに２Ｍフェニルリチウム（０．５ｍｌ，１ｍｍｏｌ）のシクロヘキサン溶液を滴下し、−７８℃に冷却後、化合物４４（２００ｍｇ，０．５３ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（５ｍｌ）を滴下した。−７８℃にて３０分間撹拌後、ＣＯ２ガスを６０分間通じた。０℃まで昇温後、塩化アンモニウム水溶液にて中和し、酢酸エチルで抽出した。水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた結晶をエーテルにて洗浄し、化合物４５（１１０ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率６４％で得た。
第６工程
化合物４５（７０ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）に室温下ＨＢｒ−ＡｃＯＨ（４ｍｌ−１ｍｌ）を滴下後、１１０℃で６０分間加熱撹拌した。冷却後水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた結晶を酢酸エチルにて洗浄し、表題化合物Ｉ−６５（５９ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率８８％で得た。
融点：２２２−２２４℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ１７Ｈ１１ＣｌＦＮＯ３（Ｈ２Ｏ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，６０．８９；Ｈ，３．４３；Ｎ，４．１８；Ｃｌ，１０．５７；Ｆ，５．６７．
分析値（％）：Ｃ，６０．５５；Ｈ，３．３０；Ｎ，４．２８；Ｃｌ，１０．９６；Ｆ，５．５０．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．３０（２Ｈ，ｓ），７．１２−７．２２（２Ｈ，ｍ），７．３８−７．４４（２Ｈ，ｍ），７．９８（１Ｈ，ｓ），８．３８（１Ｈ，ｂｒｓ），８．９５（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例１９
化合物Ｉ−６６、Ｉ−６７
2002070486.tif 000112
第１工程
実施例１８の合成法に準じ合成した化合物４５（１００ｍｇ，０．２９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１０ｍｌ）溶液に１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（６７ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）及び、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（４６ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。氷冷下、エタノール（１０ｍｌ）、トリエチルアミン（０．１ｍｌ，１ｍｍｏｌ）を滴下し、３０分間加熱還流した後反応液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって、化合物４６の淡黄色結晶（７０ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を収率６５％で得た。
第２工程
化合物４６（４５ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（６ｍｌ）に氷冷下塩化アルミニウム（４８ｍｇ，０．３６ｍｍｏｌ）を加え１０分間撹拌した。１Ｍエタンチオール（１２０ｕｌ，０．１２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液を滴下し、更に６０分間撹拌した。反応混合物を氷水に加え酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、１規定塩酸、水で順次洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって、淡黄色結晶を得た。エーテルにより再結晶し、化合物Ｉ−６６の淡黄色結晶（２２ｍｇ，０．０６１ｍｍｏｌ）を収率５１％で得た。
融点：９９−１０１℃  再結晶溶媒：エーテル
元素分析：Ｃ１９Ｈ１５ＣｌＦＮＯ３（Ｈ２Ｏ）０．５（ｅｔｈｅｒ）０．０２として
計算値（％）：Ｃ，６１．８９；Ｈ，４．４１；Ｎ，３．７８；Ｃｌ，９．５７；Ｆ，５．１３．
分析値（％）：Ｃ，６１．８４；Ｈ，３．９７；Ｎ，３．８０；Ｃｌ，９．７９；Ｆ，４．７３．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．２２（２Ｈ，ｓ），４．４５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，７．２Ｈｚ），７．００−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２４（２Ｈ，ｍ），７．９６（１Ｈ，ｓ），８．２８−８．３２（１Ｈ，ｍ），８．８８−８．９２（１Ｈ，ｍ）．
第３工程
化合物４６（２３０ｍｇ，０．６２ｍｍｏｌ）のＭｅＯＨ−ＤＭＦ溶液（１０ｍｌ−２ｍｌ）に氷冷下トリエチルアミン（１２２ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）、１０％パラジウム炭素（４６０ｕｇ，０．２％／ｗ）を加え、４気圧の水素雰囲気下、９６時間攪拌した。反応液を濾過後、濾液を減圧濃縮し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（２：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物４７（５６ｍｇ，０．１７２ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率２８％で得た。さらに第２工程の合成法に準じて化合物４７（５５ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）を反応させ、化合物Ｉ−６７（３４ｍｇ，０．１０５ｍｍｏｌ）を収率６５％で得た。
融点：１０３−１０５℃  再結晶溶媒：ジイソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ１９Ｈ１６ＦＮＯ３．（Ｈ２Ｏ）０．２．（ＨＣｌ）０．０８．として
計算値（％）：Ｃ，６８．７７；Ｈ，５．０１；Ｎ，４．２２；Ｆ，５．７２．
分析値（％）：Ｃ，６８．３９；Ｈ，４．７９；Ｎ，４．２５；Ｆ，５．４３．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｓ），４．４８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，７．２Ｈｚ），６．９６−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２４（３Ｈ，ｍ），７．７６−７．８２（１Ｈ，ｍ），７．８６−７．９０（１Ｈ，ｍ），８．８６−８．９０（１Ｈ，ｍ）．
実施例１９の合成法に準じ、化合物Ｉ−６８〜Ｉ−６９を合成した。
2002070486.tif 000113
化合物Ｉ−６８
融点：２２６−２２８℃  再結晶溶媒：ジイソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ１７Ｈ１２ＣｌＦＮ２Ｏ２（Ｈ２Ｏ）０．４５として
計算値（％）：Ｃ，６０．０８；Ｈ，３．８３；Ｃｌ，１０．７４；Ｎ，８．２４；Ｆ，５．５９．
分析値（％）：Ｃ，５９．８９；Ｈ，３．４２；Ｃｌ，１０．８４；Ｎ，８．１０；Ｆ，５．３６．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．２３（２Ｈ，ｓ），５．６０−６．０（１Ｈ，ｂｒｓ），７．００−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．２５（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．８０（１Ｈ，ｂｒｓ），８．２０−８．３５（２Ｈ，ｍ），８．７０−８．８０（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−６９
融点：１６９−１７１℃  再結晶溶媒：ジイソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．０９（３Ｈ，ｓ），４．２２（２Ｈ，ｓ），７．００−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．１２−７．２５（２Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（１Ｈ，ｂｒｓ），８．２０−８．３８（２Ｈ，ｍ），８．６８−８．８０（１Ｈ，ｍ）．
実施例２０
化合物Ｉ−７０
2002070486.tif 000114
第１工程
エーテル２５ｍｌに２Ｍフェニルリチウム（１．８ｍｌ，３．６ｍｍｏｌ）のシクロヘキサン溶液を滴下し、−７８℃に冷却後、実施例１８の合成法に準じ合成した化合物４４（７００ｍｇ，１．８４ｍｍｏｌ）のエーテル（１０ｍｌ）溶液を滴下した。−７８℃にて３０分間撹拌後、トリイソプロポキシボレート（３８３ｍｇ，３．７ｍｍｏｌ）のエーテル（２ｍｌ）溶液を滴下した。３０分間撹拌後、０℃まで昇温し、１規定塩酸で中和した。酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた淡黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（１：２ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物４８（７０ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率１１％で得た。
第２工程
第１工程で得た化合物４８（７０ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）のＤＭＥ−ＥｔＯＨ（３ｍｌ−２ｍｌ）溶液に室温下、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（Ｏ）（２４ｍｇ，０．０２１ｍｍｏｌ）、２−ブロモピリミジン（４７．７ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液（１１０ｕｌ，０．２２ｍｍｏｌ）を加え、２時間加熱還流した。反応液を冷却し、氷水中に加えた。酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（２：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物４９（４０ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率５２％で得た。
第３工程
第２工程で得られた化合物４９（４０ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）にピリジン塩酸塩（１００ｍｇ，０．８７ｍｍｏｌ）を加え、１０分間１７０℃にて加熱撹拌した。反応液を冷却後、氷水を加え酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた淡黄色結晶をジイソプロピルエーテルにより再結晶し、化合物Ｉ−７０の淡黄色結晶（２８ｍｇ，０．０８ｍｍｏｌ）を収率７０％で得た。
融点：２０４−２０７℃  再結晶溶媒：ジイソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２０Ｈ１３ＣｌＦＮ３Ｏ（Ｈ２Ｏ）０．１として
計算値（％）：Ｃ，６５．３５；Ｈ，３．６２；Ｃｌ，９．６４；Ｎ，１１．４３；Ｆ，５．１７．
分析値（％）：Ｃ，６５．１５；Ｈ，３．４８；Ｃｌ，９．５９；Ｎ，１１．１９；Ｆ，４．８９．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．２２（２Ｈ，ｓ），６．９８−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２４（２Ｈ，ｍ），７．３１（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝４．８Ｈｚ），７．２４−７．２８（１Ｈ，ｍ），８．６９（１Ｈ，ｓ），８．７０−８．８０（１Ｈ，ｍ），８．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）．
実施例２０の合成法に準じ、化合物Ｉ−７１を合成した。
2002070486.tif 000115
化合物Ｉ−７１
融点：１５０−１５２℃  再結晶溶媒：ジイソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２１Ｈ１４ＣｌＦＮ２Ｏ（Ｈ２Ｏ）０．２５として
計算値（％）：Ｃ，６８．３０；Ｈ，３．９６；Ｃｌ，９．６０；Ｎ，７．５９；Ｆ，５．１４．
分析値（％）：Ｃ，６８．２７；Ｈ，３．８６；Ｃｌ，９．４１；Ｎ，７．３４；Ｆ，４．８５．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．２２（２Ｈ，ｓ），６．９８−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２６（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．３６（１Ｈ，ｍ），７．８８−８．００（２Ｈ，ｍ），８．２３（１Ｈ，ｓ），８．６０−８．６４（１Ｈ，ｍ），８．７５−９．００（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例２２
化合物Ｉ−７３
2002070486.tif 000116
第１工程
エーテル１５ｍｌに２Ｍフェニルリチウム（０．５ｍｌ，１ｍｍｏｌ）のシクロヘキサン溶液を滴下し、−７８℃に冷却後、実施例１８の合成法に準じ合成した化合物４４（１９０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）のエーテル（４ｍｌ）溶液を滴下した。−７８℃にて３０分間撹拌後、プロピオン酸塩化物（９２．５ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）のエーテル（２ｍｌ）溶液を滴下した。３０分間撹拌後、塩化アンモニウム水溶液で中和した。反応液を酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた淡黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１３を黄色油状物として得た。さらに実施例２０の第３工程の合成法に準じて化合物５１を反応させ、化合物Ｉ−７３（６ｍｇ，０．０１７４ｍｍｏｌ）を収率４％で得た。
融点：１２５−１２７℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ１６Ｈ１１ＣｌＦＮＯ２（Ｈ２Ｏ）０．２５として
計算値（％）：Ｃ，６２．３５；Ｈ，３．７６；Ｎ，４．５４；Ｆ，６．１６；Ｃｌ，１１．５０．
分析値（％）：Ｃ，６２．２６；Ｈ，３．６７；Ｎ，４．５８；Ｆ，５．８８；Ｃｌ，１１．５２．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．１３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，７．２Ｈｚ），４．２２（２Ｈ，ｓ）６．９０−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２４（２Ｈ，ｍ），７．９０（１Ｈ，ｓ），８．２０−８．２４（１Ｈ，ｍ），８．８４−８．９２（１Ｈ，ｍ）．
実施例２３
化合物Ｉ−７４、Ｉ−７５
2002070486.tif 000117
第１工程
ナトリウムヒドリド（９６０ｍｇ，２４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１６０ｍｌ）懸濁溶液に室温下、５，７−ジブロモ−８−ヒドロキシキノリン（化合物５２）（６．０４ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）を加え、２時間撹拌した。反応溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉ（１．６Ｍヘキサン溶液）を１３．８ｍｌ滴下した。１５分間撹拌後、ヨウ化メチル（３．４ｇ，２４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１５ｍｌ）溶液を滴下した。さらに２時間撹拌後、２規定塩酸のＴＨＦ溶液（３０ｍｌ）を滴下し室温まで昇温させた。１Ｍ炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍｌ）を滴下し、有機層を分離した。水層は塩化メチレン（５０ｍｌ  Ｘ  ３回）で抽出し、有機層と合わせて硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた粗結晶をクロロホルム−ジイソプロピルエーテルで洗浄する事によって、化合物５３（３．８ｇ，１６ｍｍｏｌ）を淡茶色結晶として収率８０％で得た。
第２工程
第１工程で得た化合物５３（３．６０ｇ，１５．２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３０ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（４．２ｇ，３０．４ｍｍｏｌ）及び、ヨウ化メチル（２．５８ｇ，１８．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応液に水を加える事によって析出した結晶を濾過し、水洗した。結晶を酢酸エチルで再溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥、活性炭にて脱色した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶と、濾液を酢酸エチルで抽出後、洗浄、乾燥し溶媒を減圧下留去して得られた濃紫色の油状物を合わせて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（２：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物５４（２．５７ｇ，１０．２ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率６７％で得た。
第３工程
第２工程で得た化合物５４（１．４ｇ，５．６ｍｍｏｌ）の四塩化炭素（８ｍｌ）溶液に室温下、臭素（１．９ｇ，１１．２ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、ピリジン（８８６ｍｇ，１１．２ｍｍｏｌ）を滴下した。さらに４時間加熱還流した後冷却し、四塩化炭素層をデカンテーションによって分離した。油状の残渣に２規定水酸化ナトリウム水溶液（１０ｍｌ，４０ｍｍｏｌ）を滴下し、塩化メチレンで抽出洗浄後、四塩化炭素層と合わせて乾燥し、溶媒を減圧下留去して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物５５（４７０ｍｇ，１．４ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率２５％で得た。
第４工程
第３工程で得た化合物５５（３３１ｍｇ，１ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４ｍｌ）溶液に室温下、実施例１８の第３工程で得た化合物４３（２８３ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）、２Ｍ炭酸カリウム水溶液（１ｍｌ，２ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（１１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）及びトリフェニルホスフィン（２６．２ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で３０分間加熱撹拌した。化合物４５（２８．３ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（１１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）及びトリフェニルホスフィン（２６．２ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）を追加し２時間加熱撹拌した。冷却後反応液を氷水中に加え、酢酸エチルで抽出、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（４：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物５６（２５０ｍｇ，０．６８ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率６８％で得た。
第５工程
実施例１８の第５工程の合成法に準じて化合物５６（２９０ｍｇ，０．８１ｍｍｏｌ）を反応させ、化合物５７（１７５ｍｇ，０．５４ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率６６％で得た。
第６工程
実施例１８の第６工程の合成法に準じて化合物５７（５０ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）を反応させ、化合物Ｉ−７４（３６ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率８０％で得た。
融点：２３５−２３８℃  再結晶溶媒：ジイソプロピルエーテル−酢酸エチル
元素分析：Ｃ１８Ｈ１４ＦＮＯ３（Ｈ２Ｏ）０．２（ＡｃＯＥｔ）０．１５として
計算値（％）：Ｃ，６８．０８；Ｈ，４．７９；Ｎ，４．２３；Ｆ，５．７９．
分析値（％）：Ｃ，６８．２３；Ｈ，４．４３；Ｎ，４．２３；Ｆ，５．５３．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５１（３Ｈ，ｓ），４．２４（２Ｈ，ｓ），７．１０−７．２２（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．６９（１Ｈ，ｓ），８．３４−８．４４（１Ｈ，ｍ），８．８０−８．９０（１Ｈ，ｍ）．
第７工程
実施例１９の第１工程の合成法に準じて化合物５７（１１５ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）を反応させ、化合物５８（８０ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率６５％で得た。
第８工程
実施例１９の第２工程の合成法に準じて化合物５８（８０ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）を反応させ、化合物Ｉ−７５（１９ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率２４％で得た。
融点：７４−７５℃  再結晶溶媒：ジイソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．５１（３Ｈ，ｓ），４．１９（２Ｈ，ｓ），４．４８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，７．２Ｈｚ），６．９６−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２２（２Ｈ，ｍ），７．６９（１Ｈ，ｓ），７．７６−８．００（１Ｈ，ｍ），８．８４−８．９０（１Ｈ，ｍ）．
実施例２４
化合物Ｉ−７６、Ｉ−７７
2002070486.tif 000118
第１工程
５，７−ジブロモ−８−ヒドロキシキノリン（化合物５２）（３０．３ｇ，１００．０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１６０ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（２７．６ｇ，２００．０ｍｍｏｌ）及びヨウ化メチル（１５．６ｇ，１１０ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間撹拌した。反応液に水を加える事によって析出した結晶を濾過し、水洗した。結晶を酢酸エチルで再溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥、活性炭にて脱色した。溶媒を減圧下留去し、化合物５９の粗生成物（２８．３．０ｇ，８９．３ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率８９％で得た。
第２工程
化合物５９（３．１７ｇ，１０ｍｍｏｌ）のトルエン−ＭｅＯＨ溶液（１００ｍｌ−１０ｍｌ）に、２Ｍ炭酸カリウム水溶液（１０ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）及びテトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（Ｏ）（３５０ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（１．４６ｇ，１２ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で４０時間加熱撹拌した。反応混合物を氷水に加え、５分間撹拌し、トルエンで抽出、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（４：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物６０（２．０ｇ，６．４ｍｍｏｌ）を無色結晶として収率６４％で得た。
第３工程
実施例１８の第５工程の合成法に準じて化合物６０（１．８ｇ，５．７ｍｍｏｌ）を反応させ、化合物６１（１．１８ｇ，４．２ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率７４％で得た。
第４工程
実施例１９の第１工程の合成法に準じて化合物６１（８６０ｍｇ，３．１ｍｍｏｌ）を反応させ、化合物６２（８２０ｍｇ，０．２７ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率８６％で得た。
第５工程
実施例２３の第３工程の合成法に準じて化合物６２（８３０ｍｇ，２．７ｍｍｏｌ）を反応させ、化合物６４（６５０ｍｇ，１．６８ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率６２％で得た。
第６工程
亜鉛（２１０ｍｇ，３．２３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３ｍｌ）懸濁溶液に１，２−ジブロモエタン（１２ｕｌ，０．１５ｍｍｏｌ）、化合物４２（５７８ｍｇ，３ｍｍｏｌ）、トリメチルシリルクロライド（１２．５ｕｌ，０．１ｍｍｏｌ）を加え、２０分間撹拌後放置した。沈殿した亜鉛の上澄み溶液を化合物６３として第７工程に使用した。
第７工程
第５工程によって得られた化合物６４（３００ｍｇ，０．７８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１０ｍｌ）に酢酸パラジウム（１１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２６ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）及び第６工程によって得られた化合物６３のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を加え、６０℃で９０分間加熱撹拌した。反応液を冷却後、炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することによって、化合物６５（２８０ｍｇ，０．６７ｍｍｏｌ）を淡黄色油状物として収率８６％で得た。
第８工程
実施例１９の第２工程の合成法に準じて化合物６５（２８０ｍｇ，０．６７ｍｍｏｌ）を反応させ、化合物Ｉ−７６（９１ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率３４％で得た。
融点：１０１−１０３℃  再結晶溶媒：ジイソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２５Ｈ２０ＦＮＯ３（Ｈ２Ｏ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，７４．１３；Ｈ，４．８５；Ｎ，３．２５；Ｆ，４．３５．
分析値（％）：Ｃ，７３．９２；Ｈ，４．８５；Ｎ，３．２５；Ｆ，４．３５．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．０８（２Ｈ，ｓ），４．４８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，７．２Ｈｚ），６．９０−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．１４（２Ｈ，ｍ），７．３８−７．５０（５Ｈ，ｍ），７．８５（１Ｈ，ｓ），７．９０−７．９４（１Ｈ，ｍ），８．８０−８．８４（１Ｈ，ｍ）．
第９工程
第８工程によって得られた化合物Ｉ−７６（２８ｍｇ，０．０６７ｍｍｏｌ）のエタノール（２ｍｌ）溶液に４規定水酸化リチウム（０．５ｍｌ、２ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で３時間加熱撹拌した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物を酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた淡緑色結晶を酢酸エチルで洗浄する事によって、化合物Ｉ−７７（２０ｍｇ，０．０５４ｍｍｏｌ）を淡緑色結晶として収率７７％で得た。
融点：２２１−２２４℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．２０（２Ｈ，ｓ），７．０６−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２２−７．３６（２Ｈ，ｍ），７．３８−７．５６（５Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｓ），８．１０−８．１８（１Ｈ，ｍ），８．８０−８．１２（１Ｈ，ｍ）．
実施例２５
化合物Ｉ−７８
2002070486.tif 000119
第１工程
化合物６６（２８４ｍｇ，１．５ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１０ｍｌ）懸濁溶液に、室温下１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（３４６ｍｇ，１．８ｍｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（２３７ｍｇ，１．８ｍｍｏｌ）を加え３０分間撹拌した。氷冷下、ベンジルアミン（１７１ｍｇ，１．６ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で６０分間撹拌した。氷水を加え酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた粗結晶をイソプロピルアルコールで再結晶する事によって、化合物Ｉ−７８（１６０ｍｇ，０．５７ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率３８％で得た。
融点：１２５−１２７℃  再結晶溶媒：ジイソプロピルアルコール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１５ＦＮ２Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６９．６７；Ｈ，４．８７；Ｎ，９．０３；Ｆ，６．１２．
分析値（％）：Ｃ，６９．３５；Ｈ，４．７７；Ｎ，９．１６；Ｆ，５．９９．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．７５（２Ｈ，ｓ），７．２５−７．４５（６Ｈ，ｍ），７．５０−７．５８（１Ｈ，ｍ），８．２５−８．３５（３Ｈ，ｍ），８．８０−８．８８（１Ｈ，ｍ）．
実施例２５の合成法に準じ、化合物Ｉ−７９〜Ｉ−８２を合成した。
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化合物Ｉ−７９
融点：１５５−１５７℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ１６Ｈ１２Ｎ２Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，７２．７２；Ｈ，４．５８；Ｎ，１０．６０．
分析値（％）：Ｃ，７２．５７；Ｈ，４．４３；Ｎ，１０．６７．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：７．１２−７．２０（１Ｈ，ｍ），７．３６−７．４８（３Ｈ，ｍ），７．５６−７．６０（１Ｈ，ｍ），７．７６−７．８０（２Ｈ，ｍ），８．２０−８．３８（２Ｈ，ｍ），８．８５−８．９０（１Ｈ，ｍ），９．８６−９．９６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−８０
融点：１６９−１７１℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ１８Ｈ１６Ｎ２Ｏ３（ＤＭＦ）０．１２として
計算値（％）：Ｃ，６９．３４；Ｈ，５．３７；Ｎ，９．３４．
分析値（％）：Ｃ，６９．２８；Ｈ，５．１８；Ｎ，９．６３．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．８７（３Ｈ，ｓ），４．５６−４．６（２Ｈ，ｍ），６．９０−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．２４−７．３１（２Ｈ，ｍ），７．４２−７．４８（１Ｈ，ｍ），７．６４−７．７０（１Ｈ，ｍ），８．０５−８．１０（１Ｈ，ｍ），８．３６−８．４０（１Ｈ，ｍ），８．８２−８．８６（１Ｈ，ｍ），９．２０−９．３０（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−８１
融点：２１８−２２０℃  再結晶溶媒：クロロホルム
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．５０−４．６（２Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），７．２６−７．３０（２Ｈ，ｍ），７．４０−７．４８（１Ｈ，ｍ），７．６２−７．７０（１Ｈ，ｍ），８．０５−８．１０（１Ｈ，ｍ），８．３６−８．４０（１Ｈ，ｍ），８．８８−８．９６（１Ｈ，ｍ），９．４８−９．２８（１Ｈ，ｍ），９．６０−９．７４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−８２
融点：１５６−１５８℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ１８Ｈ１５ＦＮ２Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６９．６７；Ｈ，４．８７；Ｎ，９．０３；Ｆ，６．１２．
分析値（％）：Ｃ，６９．３５；Ｈ，４．７７；Ｎ，９．１６；Ｆ，５．９９．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．９４−３．００（２Ｈ，ｍ），３７４−３．８３（２Ｈ，ｍ），６．９８−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．２８（２Ｈ，ｍ），７．３８−７．４０（１Ｈ，ｍ），７．５０−７．５６（１Ｈ，ｍ），７．８４−７．９４（１Ｈ，ｂｒｓ），８．１２−８．２０（２Ｈ，ｍ），８．８０−８．８６（１Ｈ，ｍ）．
実施例１０の合成法に準じ、化合物Ｉ−８３〜Ｉ−１０４を合成した。
2002070486.tif 000121
化合物Ｉ−８３
融点：２２０−２２４℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ２３Ｈ１６Ｆ２Ｎ４Ｏ２．２Ｈ２Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，６０．７９；Ｈ，４．４４；Ｎ，１２．３３；Ｆ，８．３６．
分析値（％）：Ｃ，６０．３３；Ｈ，３．６６；Ｎ，１２．０２；Ｆ，８．０４．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．３５（２Ｈ，ｓ），４．４０（２Ｈ，ｓ），７．１７−７．２４（４Ｈ，ｍ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４２−７．４８（４Ｈ，ｍ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
化合物Ｉ−８４
融点：２５３−２５８℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１５ＦＮ４Ｏ２．として
計算値（％）：Ｃ，６３．９０；Ｈ，４．４７；Ｆ，５．６２；Ｎ，１６．５６．
分析値（％）：Ｃ，４７．６７；Ｈ，４．１８；Ｆ，５．２１；Ｎ，１２．３１．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．０８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．２４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．４３（２Ｈ，ｓ），７．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
化合物Ｉ−８５
融点：２４２−２４６℃  再結晶溶媒：イソプロピルアルコール
元素分析：Ｃ１９Ｈ１７ＦＮ４Ｏ２．０．５Ｈ２Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，６３．１５；Ｈ，５．０２；Ｆ，５．２６；Ｎ，１５．５０．
分析値（％）：Ｃ，６３．２７；Ｈ，４．８５；Ｆ，５．１４；Ｎ，１５．３６．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．３８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．３０（１Ｈ，ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．２７（２Ｈ，ｓ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ），７．４２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，５．７Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
化合物Ｉ−８６
融点：２３９−２４１℃  再結晶溶媒：ジイソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ１７Ｈ１３ＦＮ４Ｏ２．（Ｈ２Ｏ）０．３として
計算値（％）：Ｃ，６１．９３；Ｈ，４．１６；Ｎ，１６．９９；Ｆ，５．７６．
分析値（％）：Ｃ，６１．９４；Ｈ，３．９１；Ｎ，１６．８５；Ｆ，５．６７
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５０（３Ｈ，ｓ），４．４０（２Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．１８−７．２９（２Ｈ，ｍ），７．３６−７．５１（３Ｈ，ｍ），１２．５１（１Ｈ，ｂｒ）．
化合物Ｉ−８７
融点：２８３−２８４℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１３ＦＮ４Ｏ２．（Ｈ２Ｏ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，６２．２７；Ｈ，４．１２；Ｎ，１７．０９；Ｆ，５．７９．
分析値（％）：Ｃ，６２．１４；Ｈ，３．８５；Ｎ，１７．０２；Ｆ，５．６７
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５１（３Ｈ，ｓ），４．４３（２Ｈ，ｓ），７．０９−７．１９（２Ｈ，ｍ），７．２４−７．３１（２Ｈ，ｍ），７．４０−７．４９（２Ｈ，ｍ），１２．６１（１Ｈ，ｂｒ）．
化合物Ｉ−８８
融点：２７５−２７６℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１３Ｆ３Ｎ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，５７．７６；Ｈ，３．５０；Ｎ，１４．９７；Ｆ，１５．２３
分析値（％）：Ｃ，５７．７１；Ｈ，３．２７；Ｎ，１５．００；Ｆ，１５．３１
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５１（３Ｈ，ｓ），４．５２（２Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１２．５３（１Ｈ，ｓ）．
化合物Ｉ−８９
融点：２９４−２９８℃  再結晶溶媒：イソプロピルアルコール
元素分析：Ｃ２２Ｈ１４Ｆ２Ｎ４Ｏ２．として
計算値（％）：Ｃ，６５．３５；Ｈ，３．４９；Ｆ，９．４０；Ｎ，１３．８６．
分析値（％）：Ｃ，５４．３７；Ｈ，３．４６；Ｆ，８．４０；Ｎ，１０．９１．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．４２（２Ｈ，ｓ），７．１９−７．２５（２Ｈ，ｍ），７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４５−７．５２（４Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．２９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，５．４Ｈｚ）．
化合物Ｉ−９０
融点：２５２−２５４℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ２０Ｎ４Ｏ２．（Ｈ２Ｏ）０．３として
計算値（％）：Ｃ，６４．２５；Ｈ，６．５３；Ｎ，１７．６３．
分析値（％）：Ｃ，６４．０２；Ｈ，６．１４；Ｎ，１７．５３．
ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ：１．０６−１．３６（５Ｈ，ｍ），１．６７−１．９６（６Ｈ，ｍ），２．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．９１（３Ｈ，ｓ），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
化合物Ｉ−９１
融点：２１２−２１４℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１４Ｎ４Ｏ３．（Ｈ２Ｏ）０．４として
計算値（％）：Ｃ，６１．９３；Ｈ，４．５３；Ｎ，１７．００．
分析値（％）：Ｃ，６１．６６；Ｈ，４．１０；Ｎ，１６．８９．
ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ：２．５３（３Ｈ，ｓ），５．４１（２Ｈ，ｓ），６．９９−７．０４（１Ｈ，ｍ），７．０８−７．１５（３Ｈ，ｍ），７．３０−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
化合物Ｉ−９２
融点：２４９−２５２℃  再結晶溶媒：メタノール−アセトニトリル−水
元素分析：Ｃ１６Ｈ１１ＦＮ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６１．９３；Ｈ，３．５７；Ｎ，１８．０６；Ｆ，６．１２．
分析値（％）：Ｃ，６１．５８；Ｈ，３．６１；Ｎ，１８．０４；Ｆ，６．０１．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．４０（２Ｈ，ｓ），７．２２（２Ｈ，ｍ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４７（２Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｓ），１０．８５（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２７，１６３９ｃｍ−１．
化合物Ｉ−９３
融点：２７９−２８１℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ１７Ｈ１０Ｆ４Ｎ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，５３．９８；Ｈ，２．６６；Ｎ，１４．８１；Ｆ，２０．０９．
分析値（％）：Ｃ，５３．９３；Ｈ，２．５７；Ｎ，１４．８３；Ｆ，１９．８０．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．４０（２Ｈ，ｓ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４６（２Ｈ，ｍ），７．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１１．０９（１Ｈ，ｂｒｓ），１４．３６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４００，１６４４ｃｍ−１．
化合物Ｉ−９４
融点：１１９−１２１℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１６Ｎ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６７．４９；Ｈ，５．０３；Ｎ，１７．４９．
分析値（％）：Ｃ，６３．８１；Ｈ，５．４９；Ｎ，１５．７１．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．３６（３Ｈ，ｓ），２．５０（３Ｈ，ｓ），４．３５（２Ｈ，ｓ），７．０６（２Ｈ，ｍ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．２９（１Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｍ），１２．５８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−９５
融点：２２２−２２４℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１６Ｎ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６７．４９；Ｈ，５．０３；Ｎ，１７．４９．
分析値（％）：Ｃ，６６．７７；Ｈ，４．９５；Ｎ，１７．２８．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．３０（３Ｈ，ｓ），２．５１（３Ｈ，ｓ），４．３２（２Ｈ，ｓ），７．１６（５Ｈ，ｍ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１２．５０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−９６
融点：２５７−２５９℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１６Ｎ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６７．４９；Ｈ，５．０３；Ｎ，１７．４９．
分析値（％）：Ｃ，６６．２７；Ｈ，４．８６；Ｎ，１７．１７．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．２９（３Ｈ，ｓ），２．５１（３Ｈ，ｓ），４．３２（２Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１２．５２（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−９７
融点：２５０−２５２℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１５Ｈ１２Ｎ４Ｏ２Ｓとして
計算値（％）：Ｃ，５７．６８；Ｈ，３．８７；Ｎ，１７．９４；Ｓ，１０．２７．
分析値（％）：Ｃ，５７．５４；Ｈ，３．７６；Ｎ，１７．７９；Ｓ，１０．１９．
ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ：２．５７（３Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｓ），７．１０（１Ｈ，ｂｒｓ），７．１３−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．３７−７．３８（１Ｈ，ｍ），７．４２−７．３５（１Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
化合物Ｉ−９８
融点：２０２−２０５℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１５ＦＮ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６３．９０；Ｈ，４．４７；Ｎ，１６．５６；Ｆ，５．６２．
分析値（％）：Ｃ，６４．０８；Ｈ，４．０８；Ｎ，１６．５５；Ｆ，５．５９．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．００（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．２８（２Ｈ，ｓ），７．０６（２Ｈ，ｍ），７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３５（２Ｈ，ｍ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）．
化合物Ｉ−９９
融点：２１４−２１６℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１５ＦＮ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６４．７６；Ｈ，４．８６；Ｎ，１５．９０；Ｆ，５．３９．
分析値（％）：Ｃ，６２．７６；Ｈ，４．５５；Ｎ，１５．３４；Ｆ，５．１７．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．０４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．９１（２Ｈ，ｍ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．９３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．２７（２Ｈ，ｓ），７．０６（２Ｈ，ｍ），７．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３５（２Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１００
融点：２２４−２２６℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ２０Ｈ１９ＦＮ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６５．５６；Ｈ，５．２３；Ｎ，１５．２９；Ｆ，５．１９．
分析値（％）：Ｃ，６５．４９；Ｈ，５．０８；Ｎ，１５．２０；Ｆ，５．１８．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．０２（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），２．２６（１Ｈ，ｍ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），２．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），４．２８（２Ｈ，ｓ），７．０７（２Ｈ，ｍ），７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３６（２Ｈ，ｍ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１０１
融点：２２１−２２３℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ２０Ｈ１９ＦＮ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６４．７６；Ｈ，４．８６；Ｎ，１５．９０；Ｆ，５．３９．
分析値（％）：Ｃ，６４．６８；Ｈ，４．７０；Ｎ，１５．８７；Ｆ，５．２６．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．２８（１Ｈ，ｍ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．２８（２Ｈ，ｓ），７．０７（２Ｈ，ｍ），７．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．３６（２Ｈ，ｍ），７．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，０．６Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１０２
融点：９８−１００℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ２０Ｈ１７ＦＮ４Ｏ４として
計算値（％）：Ｃ，６０．６０；Ｈ，４．３２；Ｎ，１４．１３；Ｆ，４．７９．
分析値（％）：Ｃ，５９．５３；Ｈ，４．１９；Ｎ，１３．６３；Ｆ，４．６８．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．１２（２Ｈ，ｓ），４．２８（２Ｈ，ｓ），４．２９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．０７（２Ｈ，ｍ），７．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），７．３６（２Ｈ，ｍ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１０３
融点：１７９−１８１℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ２１Ｈ１９ＦＮ４Ｏ４として
計算値（％）：Ｃ，６１．４６；Ｈ，４．６７；Ｎ，１３．６５；Ｆ，４．６３．
分析値（％）：Ｃ，６０．９８；Ｈ，４．４４；Ｎ，１３．４９；Ｆ，４．５１．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．９１（２Ｈ，ｍ），３．２６（２Ｈ，ｍ），４．２０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．２７（２Ｈ，ｓ），７．０７（２Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３６（２Ｈ，ｍ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１０４
元素分析：Ｃ１９Ｈ１５ＦＮ４Ｏ４として
計算値（％）：Ｃ，５９．６９；Ｈ，３．９５；Ｎ，１４．６５；Ｆ，４．９７．
分析値（％）：Ｃ，５８．７２；Ｈ，３．７３；Ｎ，１４．３３；Ｆ，４．７８．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．９２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．２１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），４．３１（２Ｈ，ｓ），７．０８（２Ｈ，ｍ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．４０（２Ｈ，ｍ），７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，０．７Ｈｚ）．
実施例２６
化合物Ｉ−１０５
2002070486.tif 000122
第１工程
化合物６７（４４０ｍｇ，１．３０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４ｍｌ）−ＤＭＦ（１ｍｌ）の混合溶液に、氷冷下、６０％水素化ナトリウム（６８ｍｇ，１．７０ｍｍｏｌ）と４−フルオロベンジルブロミド（３１９ｍｇ，１．７０ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下１時間攪拌後、室温で３時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮し、残さを酢酸エチルで再結晶して、化合物６８（１９１ｍｇ，０．４３０ｍｍｏｌ）を無色結晶として収率３３％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．５７（３Ｈ，ｓ），４．２６（２Ｈ，ｓ），４．４１（３Ｈ，ｓ），５．２８（２Ｈ，ｓ），６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０１−７．０６（６Ｈ，ｍ），７．３６（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，５．７Ｈｚ），７．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
第２工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−１０５を得た。
融点：２４４−２４６℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ２４Ｈ１８Ｆ２Ｎ４Ｏ２．として
計算値（％）：Ｃ，６６．６６；Ｈ，４．２０；Ｆ，８．７９；Ｎ，１２．９６．
分析値（％）：Ｃ，６６．５７；Ｈ，４．１３；Ｆ，８．５７；Ｎ，１２．９２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５３（３Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｓ），５．４８（２Ｈ，ｓ），７．１３−７．２０（６Ｈ，ｍ），７．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．４４（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
実施例２６の合成法に準じ、化合物Ｉ−１０６〜Ｉ−１２１を合成した。
2002070486.tif 000123
化合物Ｉ−１０６
融点：１６５−１６６℃  再結晶溶媒：エタノール−エチルエーテル
元素分析：Ｃ２０Ｈ１９ＦＮ４Ｏ２．として
計算値（％）：Ｃ，６５．５６；Ｈ，５．２３；Ｆ，５．１９；Ｎ，１５．２９．
分析値（％）：Ｃ，６５．７０；Ｈ，５．１９；Ｆ，５．０５；Ｎ，１５．２７．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．７３（２Ｈ，ｓｅｘｔｅｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．５８（３Ｈ，ｓ），４．１４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．３７（２Ｈ，ｓ），７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１７−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．４５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１０７
融点：１７７−１７８℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−ヘキサン
元素分析：Ｃ２０Ｈ１９ＦＮ４Ｏ２．として
計算値（％）：Ｃ，６５．５６；Ｈ，５．２３；Ｆ，５．１９；Ｎ，１５．２９．
分析値（％）：Ｃ，６５．５９；Ｈ，５．１９；Ｆ，４．９６；Ｎ，１５．２２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．５５（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．５８（３Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｓ），４．７４（１Ｈ，ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．１７−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，５．４Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１０８
融点：２４０−２４３℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１５ＦＮ４Ｏ２．として
計算値（％）：Ｃ，６３．９０；Ｈ，４．４７；Ｆ，５．６２；Ｎ，１６．５６．
分析値（％）：Ｃ，６３．６３；Ｈ，４．５０；Ｆ，５．４６；Ｎ，１６．３３．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５４（３Ｈ，ｓ），３．７３（３Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｓ），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１７−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．４５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，５．４Ｈｚ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１０９
融点：１９５−１９７℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ２０Ｈ１９ＦＮ４Ｏ３．として
計算値（％）：Ｃ，６２．８２；Ｈ，５．０１；Ｆ，４．９７；Ｎ，１４．６５．
分析値（％）：Ｃ，６２．６４；Ｈ，５．００；Ｆ，４．８３；Ｎ，１４．５２．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），２．６８（３Ｈ，ｓ），３．４６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．３７（２Ｈ，ｓ），５．４７（２Ｈ，ｓ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０３−７．０９（２Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１１０
融点：２０３−２０５℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ２１Ｈ２１ＦＮ４Ｏ２．０．５Ｈ２Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，６５．０７；Ｈ，５．６７；Ｆ，４．９０；Ｎ，１４．４５．
分析値（％）：Ｃ，６５．０６；Ｈ，５．５２；Ｆ，４．６９；Ｎ，１４．４２．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．９６（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），２．２０（１Ｈ，ｍ），２．６２（３Ｈ，ｓ），３．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．３７（２Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０３−７．０９（２Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１１１
融点：１５４−１５６℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ２３Ｈ２３ＦＮ４Ｏ４．１．１Ｈ２Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，６０．２８；Ｈ，５．５４；Ｆ，４．１５；Ｎ，１２．２３．
分析値（％）：Ｃ，５９．９７；Ｈ，５．０８；Ｆ，４．３７；Ｎ，１２．１０．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），２．１０（２Ｈ，ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．３６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），２．６２（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．１７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），４．２７（２Ｈ，ｓ），６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０３−７．０９（２Ｈ，ｍ），７．３４（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１１２
融点：２１９−２２１℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ２１Ｈ１９ＦＮ４Ｏ４．として
計算値（％）：Ｃ，６１．４６；Ｈ，４．６７；Ｆ，４．６３；Ｎ，１３．６５．
分析値（％）：Ｃ，６１．３８；Ｈ，４．５７；Ｆ，４．４３；Ｎ，１３．５９．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．９２（２Ｈ，ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．３０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．５５（３Ｈ，ｓ），４．１９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），４．３７（２Ｈ，ｓ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１７−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．４５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１１３
融点：２４６−２４８℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ２１Ｈ１９ＦＮ４Ｏ４．として
計算値（％）：Ｃ，６１．４６；Ｈ，４．６７；Ｆ，４．６３；Ｎ，１３．６５．
分析値（％）：Ｃ，６１．２６；Ｈ，４．５８；Ｆ，４．４５；Ｎ，１３．５２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．５１（３Ｈ，ｓ），４．１８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．３７（２Ｈ，ｓ），５．２１（２Ｈ，ｓ），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１７−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．４５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１１４
融点：２９１−２９２℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１９Ｈ１５ＦＮ４Ｏ４．１．４Ｈ２Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，５５．９９；Ｈ，４．４０；Ｆ，４．６６；Ｎ，１３．７５．
分析値（％）：Ｃ，５５．６９；Ｈ，４．１０；Ｆ，４．４５；Ｎ，１３．４９．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．４８（３Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｓ），５．０９（２Ｈ，ｓ），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１７−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．４５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１１５
融点：２９２−２９７℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１９Ｈ１６ＦＮ５Ｏ３．１．０Ｈ２Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，５７．１４；Ｈ，４．５４；Ｆ，４．７６；Ｎ，１７．５４．
分析値（％）：Ｃ，５６．９９；Ｈ，４．２２；Ｆ，５．０４；Ｎ，１７．４９．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．４８（３Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｓ），４．８４（２Ｈ，ｓ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１７−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．４０（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−１１６
融点：２９２−２９５℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ２１Ｈ２０ＦＮ５Ｏ３．０．８Ｈ２Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，５９．５１；Ｈ，５．１４；Ｆ，４．４８；Ｎ，１６．５２．
分析値（％）：Ｃ，５９．５６；Ｈ，４．７３；Ｆ，４．３１；Ｎ，１６．６９．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．０４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．４８（３Ｈ，ｓ），３．０７−３．１６（２Ｈ，ｍ），４．３７（２Ｈ，ｓ），４．８３（２Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１７−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．４５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１１７
融点：２７０−２７２℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ２１Ｈ２０ＦＮ５Ｏ３．０．２Ｈ２Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，６１．０７；Ｈ，４．９８；Ｆ，４．６０；Ｎ，１６．９６．
分析値（％）：Ｃ，６１．１５；Ｈ，４．８７；Ｆ，４．４４；Ｎ，１６．７４．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．９１（２Ｈ，ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．１１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．５６（３Ｈ，ｓ），４．１７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．３７（２Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｂｒｓ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１７−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．４５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．７Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１１８
融点：１２８−１３０℃  再結晶溶媒：エタノール−エチルエーテル
元素分析：Ｃ２３Ｈ２３ＦＮ４Ｏ３．として
計算値（％）：Ｃ，６５．３９；Ｈ，５．４９；Ｆ，４．５０；Ｎ，１３．２６．
分析値（％）：Ｃ，６５．３６；Ｈ，５．３４；Ｆ，４．３８；Ｎ，１３．１９．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．０６（２Ｈ，ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），２．６４（３Ｈ，ｓ），３．３３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），３．９２−３．９５（２Ｈ，ｍ），４．２５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．２７（２Ｈ，ｓ），５．１９−５．３２（２Ｈ，ｍ），５．８７−５．９７（１Ｈ，ｍ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０３−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．７Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１１９
融点：１４６−１４８℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ２０Ｈ１９ＦＮ４Ｏ３．１．２Ｈ２Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，５９．４６；Ｈ，５．３４；Ｆ，４．７０；Ｎ，１３．８７．
分析値（％）：Ｃ，５９．６９；Ｈ，５．４５；Ｆ，４．６６；Ｎ，１２．９２．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．０４（２Ｈ，ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），２．６６（３Ｈ，ｓ），３．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），４．２７（２Ｈ，ｓ），４．２８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０３−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１２０
融点：２４６−２４７℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ２８Ｈ２２ＦＮ５Ｏ４．として
計算値（％）：Ｃ，６５．７５；Ｈ，４．３４；Ｆ，３．７１；Ｎ，１３．６９．
分析値（％）：Ｃ，６５．６６；Ｈ，４．３４；Ｆ，３．６９；Ｎ，１３．６９．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．０８（２Ｈ，ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．５５（３Ｈ，ｓ），３．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．２９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．３７（２Ｈ，ｓ），７．１７−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７８−７．８５（４Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−１２１
融点：２４５−２４９℃  再結晶溶媒：エタノール−酢酸エチル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３−ＣＤ３ＯＤ）δ：２．６７（３Ｈ，ｓ），２．８２−３．３５（６Ｈ，ｂｒｓ），４．２９（２Ｈ，ｓ），６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０３−７．０９（２Ｈ，ｍ），７．４５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，５．４Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
実施例２７
化合物Ｉ−１２２
2002070486.tif 000124
第１工程
化合物６９（５．９７ｇ，２７．１ｍｍｏｌ）のエタノール（８１ｍｌ）溶液に、ヒドラジン一水和物（１６．３ｍｌ）を加え加熱還流した。２時間後、ヒドラジン一水物（１６．３ｍｌ）を追加し、さらに３時間加熱還流した。溶媒を減圧下留去後、得られた褐色結晶をイソプロピルアルコールで洗浄し、化合物７０（５．２８ｇ，２４．０ｍｍｏｌ）を淡褐色結晶として収率８８％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．４９（３Ｈ，ｓ），４．３６（３Ｈ，ｓ），４．４９（２Ｈ，ｂｒｓ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），９．１４（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．４５（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第２工程
化合物７０（１５０ｍｇ，０．６８１ｍｍｏｌ）のトルエン（３ｍｌ）−ＴＨＦ（３ｍｌ）−ＤＭＦ（３ｍｌ）溶液に、フェニルチオイソシアナート（９２ｍｇ，０．６８１ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で３０分間攪拌した。反応液にジシクロヘキシルカルボジイミド（１５５ｍｇ，０．７４９ｍｍｏｌ）を加え、さらに８０℃で１６時間攪拌した。水を加えた後、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒留去後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール（９：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮した。得られた結晶をイソプロパノールから再結晶し、化合物７１（１４３ｍｇ，０．４４５ｍｍｏｌ）を無色結晶として収率６５％で得た。
融点：２３１．５−２３３℃  再結晶溶媒：イソプロパノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１５Ｎ５Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６３．５４；Ｈ，４．７１；Ｎ，２１．７９．
分析値（％）：Ｃ，６３．１８；Ｈ，４．６７；Ｎ，２１．３５．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５３（３Ｈ，ｓ），４．３２（３Ｈ，ｂｒｓ），６．９８−７．０３（１Ｈ，ｍ），７．２４（１Ｈ，ｂｒｓ），７．３４−７．３９（２Ｈ，ｍ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１０．５７（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．６５（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第３工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物７１（３５８ｍｇ，１．１１ｍｍｏｌ）から化合物Ｉ−１２２（７５ｍｇ，０．２４４ｍｍｏｌ）を無色結晶として収率２２％で得た。
融点：＞３００℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１６Ｈ１３Ｎ５Ｏ２．（Ｈ２Ｏ）０．５として
計算値（％）：Ｃ，６０．７５；Ｈ，４．４６；Ｎ，２２．１４．
分析値（％）：Ｃ，６０．５５；Ｈ，４．４９；Ｎ，２１．７７．
ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ：２．６１（３Ｈ，ｓ），７．０５−７．１６（２Ｈ，ｍ），７．３６−７．４１（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．５８（３Ｈ，ｍ）．
実施例２７の合成法に準じ、化合物Ｉ−１２３を合成した。
2002070486.tif 000125
化合物Ｉ−１２３
融点：＞３００℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ１６Ｈ１２ＮＦ５Ｏ２．（Ｈ２Ｏ）１．０として
計算値（％）：Ｃ，５５．９８；Ｈ，４．１１；Ｎ，２０．４０；Ｆ，５．５３．
分析値（％）：Ｃ，５６．０１；Ｈ，４．２３；Ｎ，２０．１６；Ｆ，５．３１．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ３）δ：２．５７（３Ｈ，ｓ），７．１８−７．２６（３Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６２−７．６７（２Ｈ，ｍ），１０．８１（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例２８
化合物Ｉ−１２４
2002070486.tif 000126
第１工程
化合物７２（３．０３ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（３．４５ｇ，２２．７ｍｍｏｌ）およびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（Ｏ）（１３７ｍｇ，０．１５０ｍｍｏｌ）のジオキサン（６ｍｌ）懸濁液に室温でトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１３３ｍｇ，０．６０５ｍｍｏｌ）のジオキサン（６ｍｌ）溶液、トリブチルビニルスタナン（３．１５ｍｌ，１０．５ｍｍｏｌ）を順次加え、１００℃で２４時間攪拌した。反応液をシリカゲルでろ過し、残さを酢酸エチルで洗浄した。ろ液から溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（２：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮し、化合物７３（４１９ｍｇ）を黄色結晶として収率１４％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．１３（３Ｈ，ｓ），３．９８（３Ｈ，ｓ），４．０１（３Ｈ，ｓ），５．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），５．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ），６．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８，１７．４Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｓ）．
第２工程〜第６工程
実施例３および実施例９と同様の反応を行い、化合物７４を得た。
第７工程
化合物７４（１５３ｍｇ，０．４２０ｍｍｏｌ）および１０％パラジウム炭素（１６．４ｍｇ）のメタノール（５ｍｌ）懸濁液を１気圧の水素雰囲気下、室温で３時間攪拌した。反応液をろ過した後、ろ液から溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−メタノール（３０：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮し、化合物７５（１１１ｍｇ）を無色結晶として収率７２％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．６６（３Ｈ，ｓ），３．０３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．９６（３Ｈ，ｓ），４．１９（３Ｈ，ｓ），４．２８（２Ｈ，ｓ），７．０４（２Ｈ，ｍ），７．３８（２Ｈ，ｍ），７．５４（１Ｈ，ｓ）．
第８工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物７５（１１１ｍｇ，０．３０３ｍｍｏｌ）から化合物Ｉ−１２４（７１ｍｇ）を無色結晶として収率６４％で得た。
融点：１８１−１８２℃  再結晶溶媒：アセトニトリル
元素分析：Ｃ１９Ｈ１７ＦＮ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６４．７６；Ｈ，４．８６；Ｎ，１５．９０；Ｆ，５．３９．
分析値（％）：Ｃ，６５．１５；Ｈ，５．０１；Ｎ，１５．３２；Ｆ，５．１３．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．５４（３Ｈ，ｓ），３．０２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．９１（３Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｓ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．２７（１Ｈ，ｓ），７．４４（２Ｈ，ｍ），１０．３９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２１，１６２１ｃｍ−１．
実施例２９
化合物Ｉ−１２５
2002070486.tif 000127
第１工程
文献（Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，２３，６６５−６６８，（１９８６））既知の化合物７６（３．８５ｇ，１８．６ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム（５．１４ｇ，３７．２ｍｍｏｌ）のアセトン−ジメチルホルムアミド（４：１ｖ／ｖ，７５ｍｌ）懸濁液に室温で、よう化メチル（３．５０ｍｌ，５６．２ｍｍｏｌ）を加え、２時間加熱還流した。反応液に氷冷下、２規定塩酸を加え中和した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（２：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して得られた結晶性の残さをジイソプロピルエーテル−ヘキサンで再結晶を行い、化合物７７（２．４５ｇ）を無色結晶として収率６０％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．４７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．５７（３Ｈ，ｓ），７．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，８．７Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２，８．７Ｈｚ），８．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２，４．５Ｈｚ）．
第２工程
化合物７７（２．３７ｇ，１０．７ｍｍｏｌ）のエタノール（２５ｍｌ）溶液に室温でヒドラジン一水和物（５ｍｌ）を加え、１時間加熱還流した。反応液を０℃に冷却して析出した結晶をろ取した後、エタノールで洗浄し、化合物７８（１．５９ｇ）を無色結晶として収率７２％で得た。
第３工程
化合物７８（１．５９ｇ，７．６７ｍｍｏｌ）、ｐ−フルオロフェニル酢酸（１．３３ｇ，８．４６ｍｍｏｌ）および１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（２０３ｍｇ，１．５０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン−ジメチルホルムアミド（４：１ｖ／ｖ，３７．５ｍｌ）懸濁液に室温で１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（１．６６ｇ，８．６６ｍｍｏｌ）を加え、２時間攪拌した。反応液に室温で水（７５ｍｌ）を滴下した後、さらに氷冷下、水（７５ｍｌ）を滴下した。析出した結晶をろ取した後、水で洗浄し、化合物７９（２．３６ｇ）を無色結晶として収率９０％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．５５（２Ｈ，ｓ），４．４２（３Ｈ，ｓ），７．１６（２Ｈ，ｍ），７．３７（２Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．７，８．６Ｈｚ），８．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２，８．７Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２，４．７Ｈｚ），９．９６（１Ｈ，ｂｒｓ），１０．３０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第４工程
化合物７９（３１４ｍｇ，０．９１５ｍｍｏｌ）とオキシ塩化リン（３ｍｌ）の混合物を３時間加熱還流した。過剰のオキシ塩化リンを減圧下留去して得られた残さに、氷水、１規定水酸化ナトリウム水溶液を順次加え中和した。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、酢酸エチルで再結晶を行い、化合物８０（２０５ｍｇ）を薄褐色結晶として収率６９％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．３０（２Ｈ，ｓ），４．５７（３Ｈ，ｓ），７．０６（２Ｈ，ｍ），７．３６（３Ｈ，ｍ），７．８０（１Ｈ，ｍ），８．６２（１Ｈ，ｍ）．
第５工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−１２５を無色結晶として収率８２％で得た。
融点：２２０−２２３℃  再結晶溶媒：アセトニトリル
元素分析：Ｃ１６Ｈ１０ＦＮ３Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，６１．７４；Ｈ，３．２４；Ｎ，１３．５０；Ｆ，６．１０．
分析値（％）：Ｃ，６１．７３；Ｈ，２．９２；Ｎ，１３．５１；Ｆ，５．９２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．４０（２Ｈ，ｓ），７．２２（２Ｈ，ｍ），７．４４（２Ｈ，ｍ），７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，８．４Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２，８．４Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２，４．５Ｈｚ），１１．７１（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３１，１６５１ｃｍ−１．
実施例３０
化合物Ｉ−１２６
2002070486.tif 000128
第１工程
化合物７９（４８２ｍｇ，１．４０ｍｍｏｌ）のトルエン（１０ｍｌ）懸濁液に室温でＬａｗｅｓｓｏｎ試薬（１．２０ｇ，２．８２ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱還流した。溶媒を減圧留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール（５０：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して得られた結晶性の残さを酢酸エチル−ヘキサンで再結晶を行い、化合物８１（３８３ｍｇ）を無色結晶として収率８８％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．４９（２Ｈ，ｓ），４．５５（３Ｈ，ｓ），７．０６（２Ｈ，ｍ），７．３３（２Ｈ，ｍ），７．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．７，８．４Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２，８．４Ｈｚ），８．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２，４．７Ｈｚ）．
第２工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−１２６を薄褐色結晶として収率８６％で得た。
融点：２６１−２６５℃  再結晶溶媒：ジメチルホルムアミド−酢酸エチル
元素分析：Ｃ１６Ｈ１０ＦＮ３Ｏ２Ｓとして
計算値（％）：Ｃ，５８．７１；Ｈ，３．０８；Ｎ，１２．８４；Ｆ，５．８０；Ｓ，９．８０．
分析値（％）：Ｃ，５８．４７；Ｈ，２．８８；Ｎ，１２．７５；Ｆ，５．５９；Ｓ，９．５４．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．５４（２Ｈ，ｓ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４６（２Ｈ，ｍ），７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．７，８．４Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２，８．４Ｈｚ），８．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２，４．７Ｈｚ），１２．０５（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４４８，１６３７ｃｍ−１．
実施例３１
化合物Ｉ−１２７
2002070486.tif 000129
第１工程
化合物Ｉ−６２（３９３ｍｇ，１．１６ｍｍｏｌ）のピリジン（４ｍｌ）懸濁液に室温で五硫化二リン（２８２ｍｇ，１．２７ｍｍｏｌ）を加え、６時間加熱還流した。反応液に氷冷下、水（１２ｍｌ）、２規定塩酸（４ｍｌ）を順次加えた。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、ジメチルホルムアミドで再結晶を行い、化合物Ｉ−１２７（１１１ｍｇ）を無色結晶として収率２７％で得た。
融点：＞３００℃  再結晶溶媒：ジメチルホルムアミド
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．７２（３Ｈ，ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．４４（２Ｈ，ｓ），７．１９（２Ｈ，ｍ），７．４２（２Ｈ，ｍ），９．２１（１Ｈ，ｓ），１４．３７（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例３２
化合物Ｉ−１２８
2002070486.tif 000130
第１工程
４−ヒドロキシ−２−メチルベンゾオキサゾール８２（３．８３ｇ，２５．７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（８５ｍｌ）溶液に室温でジイソプロピルアミン（０．３６ｍｌ，２．５７ｍｍｏｌ）とＮ−ブロモスクシンイミド（４．５７ｇ，２５．７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１５０ｍｌ）溶液を加え、室温で１時間攪拌した。反応液に水と１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を１０％塩酸、５％亜硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残さをヘキサン−ジイソプロピルエーテル（１：１）の混合溶媒で洗浄し、化合物８３の粗生成物（４．８３ｇ）を無色結晶として得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．７１（３Ｈ，ｓ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），９．３９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第２工程
化合物８３（４．６７ｇ，２０．５ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４０ｍｌ）溶液に室温で炭酸カリウム（３．６８ｇ，２６．７ｍｍｏｌ）とよう化メチル（１．９１ｍｌ，３０．８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液に水と１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸、５％亜硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（５：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物８４（３．４６ｇ）を無色油状物として収率７０％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．６２（３Ｈ，ｓ），４．３８（３Ｈ，ｓ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
第３工程
フッ化セシウム（１．０２ｇ，６．７３ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（Ｏ）（４２ｍｇ，０．０４５９ｍｍｏｌ）の混合物に、化合物８４（７４０ｍｇ，３．０６ｍｍｏｌ）のジオキサン（８ｍｌ）溶液、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（３７ｍｇ，０．１８３ｍｍｏｌ）のジオキサン（４ｍｌ）溶液、トリブチルビニルスタナン（０．９８ｍｌ，３．３６ｍｍｏｌ）を加え、アルゴン雰囲気下、８０℃で１５時間攪拌した。反応液にジイソプロピルエーテルを加え、不溶物をろ過した後、ろ液を濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（８：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物８５（２６０ｍｇ）を無色油状物として収率４５％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．６０（３Ｈ，ｓ），４．３１（３Ｈ，ｓ），５．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．４，１．５Ｈｚ），５．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．７，１．５Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．７，１１．４Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
第４工程
化合物８５（２９６ｍｇ，１．５６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（８ｍｌ）溶液に、氷冷下、トリメチルアミン−Ｎ−オキシド・二水和物（１９１ｍｇ，１．７２ｍｍｏｌ）、水（０．４ｍｌ）、５％四酸化オスミウム水溶液（０．４０ｍｌ，０．０７８２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応液に５％チオ硫酸ナトリウムを加え、室温で１５分攪拌した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、ジオール中間体（３２０ｍｇ）を褐色油状物として得た。
次に、このジオール中間体（３１５ｍｇ，１．４１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１２ｍｌ）溶液に、氷冷下、過よう素酸ナトリウム（３６２ｍｇ，１．６９ｍｍｏｌ）水溶液（３ｍＬ）を加え、同温度で２時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物８６（２４５ｍｇ）を無色結晶として収率８２％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．６４（３Ｈ，ｓ），４．４９（３Ｈ，ｓ），７．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，０．９Ｈｚ），７．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ）．
第５工程
化合物８６（２４０ｍｇ，１．２６ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（５ｍｌ）−ジオキサン（５ｍｌ）溶液に室温で、２−メチル−２−ブテン（４ｍｌ）と、亜塩素酸ナトリウム（５９０ｍｇ，６．５３ｍｍｏｌ）とりん酸二水素ナトリウム二水和物（７８３ｍｇ，５．０２ｍｍｏｌ）の水溶液（６ｍｌ）を加え、同温度で６時間攪拌した。反応液に５％チオ硫酸ナトリウムを加え、室温で１０分攪拌した後、５％クエン酸で酸性にして酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、カルボン酸中間体（２６４ｍｇ）を得た。
次に、このカルボン酸中間体（２６４ｍｇ，１．２６ｍｍｏｌ）から、実施例９の第２工程に従い、化合物８７（３３０ｍｇ）を無色結晶として収率７４％で得た。
第６工程
実施例９の第３工程に従い、化合物８７（１７６ｍｇ，０．４９３ｍｍｏｌ）から化合物８８（１２８ｍｇ）を無色結晶として収率７７％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．６４（３Ｈ，ｓ），４．２６（２Ｈ，ｓ），４．４１（３Ｈ，ｓ），７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３５（２Ｈ，ｍ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
第７工程
実施例４の第１工程に従い、化合物８８（１２３ｍｇ，０．３６２ｍｍｏｌ）から化合物Ｉ−１２８（７９ｍｇ）を無色結晶として収率６７％で得た。
融点：１７８−１７９℃  再結晶溶媒：クロロホルム−エタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１２ＦＮ３Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，６２．７７；Ｈ，３．７２；Ｎ，１２．９２；Ｆ，５．８４．
分析値（％）：Ｃ，６２．７１；Ｈ，３．６２；Ｎ，１２．８８；Ｆ，５．７２．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．６６（３Ｈ，ｓ），４．２８（２Ｈ，ｓ），７．０７（２Ｈ，ｍ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３５（２Ｈ，ｍ），７．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１０．７３（１Ｈ，ｂｒｓ）．ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３１，１６４９，１６１２，１５４９，１５１８，１４８９，１３８１，１２３２ｃｍ−１．
実施例３３
化合物Ｉ−１２９
2002070486.tif 000131
第１工程
化合物８９（２２．４ｇ，２３１ｍｍｏｌ）の酢酸（２００ｍｌ）溶液に室温でエトキシメチレンマロン酸ジエチル（４７．０ｍｌ，２３０ｍｍｏｌ）を加え、２時間加熱還流した。反応液を０℃に冷却して析出した結晶をろ取した後、エタノール、エーテルで順次洗浄し、化合物９０（３４．４ｇ）を無色結晶として収率６７％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．２９（３Ｈ，ｓ），４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．１２（１Ｈ，ｓ），８．５１（１Ｈ，ｓ），１２．９４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第２工程
化合物９０（２．００ｇ，１０．７ｍｍｏｌ）とヒドラジン一水和物（２ｍｌ）の混合物を１５時間加熱還流した。氷冷下、水（８ｍｌ）を加え、析出した結晶をろ取した後、水、エーテルで順次洗浄し、化合物９１（１．２７ｇ）を無色結晶として収率６８％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．３０（３Ｈ，ｓ），６．０９（１Ｈ，ｓ），８．５３（１Ｈ，ｓ），９．８３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第３工程
実施例２９の第３工程と同様の反応を行い、化合物９２の粗生成物を得た。
第４工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−１２９を薄褐色結晶として化合物９１から通算収率９％で得た。
融点：＞３００℃  再結晶溶媒：アセトニトリル−メタノール
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．３２（３Ｈ，ｓ），４．３４（２Ｈ，ｓ），６．１８（１Ｈ，ｓ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４２（２Ｈ，ｍ），８．５７（１Ｈ，ｓ），１３．１４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２７，１６７４ｃｍ−１．
実施例３４
化合物Ｉ−１３０
2002070486.tif 000132
第１工程
化合物２（２．００ｇ，７．６７ｍｍｏｌ）のエタノール（１０ｍｌ）溶液に室温で１規定水酸化ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）を加え、５０℃で５０分間攪拌した。反応液に氷冷下、２規定塩酸を加え中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水（４０ｍｌ）で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物９３の粗生成物（１．９５ｇ）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．０３（３Ｈ，ｓ），５．８７（２Ｈ，ｂｒｓ），８．１７（１Ｈ，ｓ）．
第２工程
化合物９３（１．９５ｇ）、ｐ−フルオロフェニル酢酸ヒドラジド（１．４８ｇ，８．８０ｍｍｏｌ）および１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（２１３ｍｇ，１．５８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２０ｍｌ）溶液に室温で１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（１．６８ｇ，８．７６ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。反応液に室温で水（１８０ｍｌ）を滴下し、氷冷後、析出した結晶をろ取した後、水、エーテルで順次洗浄し、化合物９４（３．０４ｇ）を黄色結晶として化合物２から通算収率１００％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．５２（２Ｈ，ｓ），３．８４（３Ｈ，ｓ），６．５９（２Ｈ，ｂｒｓ），７．１５（２Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｓ），１０．０９（１Ｈ，ｂｒｓ），１０．２７（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第３工程
実施例９の第３工程と同様の反応を行い、化合物９５を黄色結晶として収率７２％で得た。
第４工程
化合物９５（２．１２ｇ，５．６０ｍｍｏｌ）、１０％パラジウム炭素（４０２ｍｇ）、トリエチルアミン（８ｍｌ）のメタノール（８０ｍｌ）溶液を４気圧の水素雰囲気下、室温で１５時間攪拌した。反応液をろ過した後、ろ液から溶媒を減圧下留去して得られた残さを酢酸エチルで希釈し、水（２０ｍｌ）、飽和食塩水（２０ｍｌ）で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶性の残さを酢酸エチル−ヘキサンで再結晶を行い、化合物９６（１．５４ｇ）を無色結晶として収率８８％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．５５（４Ｈ，ｂｒ），３．７５（３Ｈ，ｓ），４．２４（２Ｈ，ｓ），６．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０４（２Ｈ，ｍ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３４（２Ｈ，ｍ）．
第５工程
臭化シアン（１８１ｍｇ，１．６２ｍｍｏｌ）の水（２．５ｍｌ）溶液に室温で化合物９６（４９３ｍｇ，１．５７ｍｍｏｌ）のメタノール（５ｍｌ）溶液を滴下し、２０時間攪拌した。反応液に氷冷下、飽和重曹水、水を順次加え、中和した。析出した結晶をろ取した後、水で順次洗浄し、化合物９７（５０４ｍｇ）を無色結晶として収率９５％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．０４（３Ｈ，ｓ），４．３３（２Ｈ，ｓ），６．４２（２Ｈ，ｂｒｓ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．４４（２Ｈ，ｍ），１１．１８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第６工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−１３０を無色結晶として収率６３％で得た。
融点：２６１−２６６℃  再結晶溶媒：アセトニトリル
元素分析：Ｃ１６Ｈ１３ＣｌＦＮ５Ｏ２（Ｈ２Ｏ）０．４として
計算値（％）：Ｃ，５１．８３；Ｈ，３．８１；Ｎ，１８．８９；Ｃｌ，９．５６；Ｆ，５．１２．
分析値（％）：Ｃ，５１．９１；Ｈ，３．３５；Ｎ，１８．７５；Ｃｌ，９．６０；Ｆ，５．０２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．３９（２Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４５（２Ｈ，ｍ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５６（２Ｈ，ｂｒｓ），１０．７０（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．９３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：１６９７ｃｍ−１．
実施例３５
2002070486.tif 000133
第１工程
化合物９６（２２２ｍｇ，０．７０６ｍｍｏｌ）のエタノール（２ｍｌ）溶液に６０℃でジアセチル（８９．９ｍｇ，１．０４ｍｍｏｌ）を加え、７時間加熱還流した。反応液を０℃に冷却して析出した結晶をろ取した後、エタノールで順次洗浄し、化合物９８（９７．２ｍｇ）を黄色結晶として収率３８％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．７６（３Ｈ，ｓ），２．７９（３Ｈ，ｓ），４．１９（３Ｈ，ｓ），４．３２（２Ｈ，ｓ），７．０６（２Ｈ，ｍ），７．３９（２Ｈ，ｍ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）．
第２工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−１３１を薄褐色結晶として収率７５％で得た。
融点：２２６−２２８℃  再結晶溶媒：アセトニトリル
元素分析：Ｃ１９Ｈ１５ＦＮ４Ｏ２として
計算値（％）：Ｃ，６５．１４；Ｈ，４．３２；Ｎ，１５．９９；Ｆ，５．４２．
分析値（％）：Ｃ，６５．１０；Ｈ，４．０８；Ｎ，１６．０２；Ｆ，５．３７．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．７０（３Ｈ，ｓ），２．７４（３Ｈ，ｓ），４．４１（２Ｈ，ｓ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４６（２Ｈ，ｍ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１０．９２（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４２３，１６３１ｃｍ−１．
実施例３５の合成法に準じ、化合物Ｉ−１３２を合成した。
2002070486.tif 000134
化合物Ｉ−１３２
融点：１６３−１６４℃  再結晶溶媒：メタノール
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．４３（２Ｈ，ｓ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４７（２Ｈ，ｍ），７．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），９．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），１１．５２（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例３６
化合物Ｉ−１３３
2002070486.tif 000135
第１工程
化合物９６（９４３ｍｇ，３．００ｍｍｏｌ）の酢酸（６．０ｍｌ）溶液に氷冷下でメチル２，２，２−トリクロロアセトイミデート（４０８μｌ，３．３０ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（４７３μｌ，２．７２ｍｍｏｌ）、塩化アンモニウム（７３ｍｇ，１．３６ｍｍｏｌ）を加え、室温で４５分間攪拌した。反応液に水（１５ｍｌ）を加えて、析出した結晶をろ過した。次に、この結晶をＴＨＦ（２７ｍｌ）に溶解し、これに５規定水酸化ナトリウム水溶液（３ｍｌ）を加え、室温で１時間３０分攪拌した。反応液を濃縮し、２規定塩酸で反応液のｐＨを３〜４とした。析出した結晶をろ過し、水洗して、化合物９９（７７０ｍｇ）を赤褐色結晶として収率７０％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．２８（３Ｈ，ｓ），４．４５（２Ｈ，ｓ），７．０６（２Ｈ，ｍ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３９（２Ｈ，ｍ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）．
第２工程
化合物９９（２５０ｍｇ，０．６８ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（３．４ｍｌ）溶液に、室温で１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（１３８ｍｇ，１．０２ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（４７３μｌ，２．７２ｍｍｏｌ）、塩化アンモニウム（７３ｍｇ，１．３６ｍｍｏｌ）、（ベンゾトリアゾ−１−イルオキシ）トリスピロリジノホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（５３１ｍｇ，１．０２ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１時間攪拌した。反応液を１規定塩酸（４ｍｌ）−氷水−酢酸エチルの混合物中に注ぎ、これを酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩酸、水でそれぞれ２回洗浄した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール（１０：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物１００の粗生成物（４０９ｍｇ）を黄色結晶として得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．３６（３Ｈ，ｓ），４．４０（２Ｈ，ｓ），７．２２（２Ｈ，ｍ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．４６（２Ｈ，ｍ），７．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．９５（１Ｈ，ｓ），８．２６（１Ｈ，ｓ），１３．６０（１Ｈ，ｓ）．
第３工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−１３３を薄褐色結晶として収率５４％で得た。
元素分析：Ｃ１７Ｈ１２ＦＮ５Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，５７．７９；Ｈ，３．４２；Ｎ，１９．８２；Ｆ，５．３８．
分析値（％）：Ｃ，５４．６４；Ｈ，３．３３；Ｎ，１８．１７；Ｆ，４．９７．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．３９（２Ｈ，ｓ），７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４６（２Ｈ，ｍ），７．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．９０（１Ｈ，ｓ），８．２７（１Ｈ，ｓ）．
実施例３７
化合物Ｉ−１３４
2002070486.tif 000136
第１工程
化合物Ｉ−１３０（５５６ｍｇ，１．６５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１５ｍｌ）溶液に氷冷下、トリエチルアミン（２５３μｌ，１．８２ｍｍｏｌ）と塩化アセチル（１２９μｌ，１．８２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を加え、０℃で１時間攪拌した後、室温で１５分間攪拌した。反応液に水（３０ｍｌ）を加えて希釈した後に、１０％塩酸を加えて反応液のｐＨを３〜４とした。析出した結晶をろ過し、水洗して、Ｎ−アセチル中間体（３２７ｍｇ）を得た。次に、これをキシレン（１５ｍｌ）に溶解し、１７０℃で２２時間加熱還流した。冷却後、結晶をろ過し、これを少量のジエチルエーテルで洗浄して、化合物１０１（２６４ｍｇ）を赤色結晶として収率４１％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．１７（３Ｈ，ｓ），４．２０（３Ｈ，ｓ），４．３４（２Ｈ，ｓ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．４４（２Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）．
第２工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−１３４を無色結晶として収率２２％で得た。
融点：＞３００℃  再結晶溶媒：テトラヒドロフラン−クロロホルム
元素分析：Ｃ１８Ｈ１４ＦＮ５Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，５８．８５；Ｈ，３．８４；Ｎ，１９．０７；Ｆ，５．１７．
分析値（％）：Ｃ，５４．６４；Ｈ，３．３３；Ｎ，１８．１７；Ｆ，５．０２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．１８（３Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｓ），７．２１（３Ｈ，ｍ），７．４６（３Ｈ，ｍ），１１．６４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例１７の合成法に準じ、化合物Ｉ−１３５，Ｉ−１３６を合成した。
2002070486.tif 000137
化合物Ｉ−１３５
融点：２３８−２４１℃  再結晶溶媒：アセトニトリル
元素分析：Ｃ２０Ｈ１５ＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．１として
計算値（％）：Ｃ，６８．２１；Ｈ，４．３５；Ｎ，７．９６；Ｆ，５．４０．
分析値（％）：Ｃ，６８．０８；Ｈ，４．１９；Ｎ，７．９１；Ｆ，５．３４．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５０（３Ｈ，ｓ），４．１８（２Ｈ，ｓ），６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３８（２Ｈ，ｍ），７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），１２．８８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３１，１６３５ｃｍ−１．
化合物Ｉ−１３６
融点：２０５−２０７℃  再結晶溶媒：メタノール−酢酸エチル
元素分析：Ｃ２１Ｈ１８ＣｌＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．６として
計算値（％）：Ｃ，６１．２７；Ｈ，４．７０；Ｎ，６．８１；Ｃｌ，８．６１；Ｆ，４．６２．
分析値（％）：Ｃ，６１．２４；Ｈ，４．６５；Ｎ，６．７９；Ｃｌ，８．１４；Ｆ，４．４８．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．７６（３Ｈ，ｓ），３．８９（３Ｈ，ｓ），４．１７（２Ｈ，ｓ），６．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３４−７．４２（４Ｈ，ｍ），７．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１２．１９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３２８０，１６５１ｃｍ−１．
実施例３８
化合物Ｉ−１３７
2002070486.tif 000138
第１工程
化合物１０２（３．５０ｇ，１８．５ｍｍｏｌ）とシリカゲル（１ｇ）のメタノール（８ｍｌ）懸濁液に、氷冷下ジアゾメタンのエーテル溶液を加え、室温でで１時間３０分間攪拌した。不溶物をろ過により除去し、ろ液を濃縮した。残さに水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物１０３（１．０１ｇ）を無色油状物として収率２５％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．９１（３Ｈ，ｓ），４．１３（３Ｈ，ｓ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，３．９Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．８Ｈｚ），９．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，１．８Ｈｚ）．
第２工程
化合物１０３（１．４０ｇ，６．４５ｍｍｏｌ）のエタノール（３０ｍｌ）溶液に、室温で１規定水酸化リチウム水溶液（８ｍｌ）を加え、７５℃で２時間攪拌した。反応液に氷冷下、１規定塩酸を加え酸性とした後、反応液を減圧下濃縮した。残さに水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、結晶性残さをエーテルを用いてろ取し、化合物１０４の粗生成物（０．９００ｇ）を収率６９％で得た。
融点：１８４−１８５℃
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．１１（３Ｈ，ｓ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，３．９Ｈｚ），７．７６（２Ｈ，ｍ），８．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．８Ｈｚ），８．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，１．８Ｈｚ），１３．１５（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第３工程
実施例９の第２工程と同様の反応を行い、化合物１０５を無色結晶として収率４９％で得た。
融点：１６７−１６８℃
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．５７（２Ｈ，ｓ），４．１８（３Ｈ，ｓ），７．１６（２Ｈ，ｍ），７．３８（２Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，４．２Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．５Ｈｚ），８．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，１．５Ｈｚ），１０．３３（１Ｈ，ｓ），１０．５５（１Ｈ，ｓ）．
第４工程
臭素の塩化メチレン溶液（０．１Ｍ，９．７６ｍｌ，０．９７６ｍｍｏｌ）に氷冷下、トリフェニルホスフィン（２５６ｍｇ，０．９７６ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下３０分間、さらに室温で３０分間攪拌した。次に、これに氷冷下トリエチルアミン（２５７ｍｇ，２．５５ｍｍｏｌ）を加え１０分間攪拌した後、化合物１０５（３００ｍｇ，０．８５０ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２時間攪拌した後、水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物１０６（９４ｍｇ）を無色結晶として収率３３％で得た。
融点：１１９−１２０℃
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．１２（３Ｈ，ｓ），４．４３（２Ｈ，ｓ），７．２３（２Ｈ，ｍ），７．４９（２Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，４．２Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，１．８Ｈｚ），９．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，１．８Ｈｚ）．
第５工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−１３７を無色結晶として収率６６％で得た。
融点：１７２−１７３℃
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．４１（２Ｈ，ｓ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４５（２Ｈ，ｍ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，４．２Ｈｚ），７．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．５Ｈｚ），８．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，１．５Ｈｚ），１０．９７（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例３９
化合物Ｉ−１３８
2002070486.tif 000139
第１工程
実施例３０の第１工程と同様の反応を行い、化合物１０７を無色結晶として収率２４％で得た。
融点：１１９−１２０℃
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．２８（３Ｈ，ｓ），４．５０（２Ｈ，ｓ），７．０５（２Ｈ，ｍ），７．３６（２Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，４．２Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．８Ｈｚ），８．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，１．８Ｈｚ）．
第５工程
実施例４の第１工程と同様の反応を行い、化合物Ｉ−１３８を無色結晶として収率８７％で得た。
融点：１６４−１６５℃
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．５３（２Ｈ，ｓ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４６（２Ｈ，ｍ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，４．２Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．５Ｈｚ），８．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，１．５Ｈｚ）．
実施例４０
化合物Ｉ−１３９
2002070486.tif 000140
第１工程
４−フルオロシンナミン酸（５０ｇ，３００ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５００ｍｌ）溶液に氷冷下１０％パラジウム炭素（１０ｗｔ％）を加え、室温で６．５時間水素を添加した。反応液をセライトで濾過後ＤＭＦを減圧下留去した。残渣に酢酸エチル（３００ｍｌ）を加えもう一度セライト濾過し、濾液を減圧下留去する事によって化合物１０９の粗生成物（６１．８ｇ）を白色結晶として得た。
第２工程
化合物１０９の粗生成物（６１．８ｇ）の塩化メチレン（３５０ｍｌ）溶液に、室温下１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（６９．２ｇ，３６０ｍｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（４．０７ｇ，３１ｍｍｏｌ）を加え６０分間撹拌した。２−メトキシアニリン（４０．６ｇ，３３０ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３０ｍｌ）溶液を滴下し、室温で２時間撹拌した。氷水を加え撹拌後、塩化メチレン層を分離し、水層を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を合わせ、１Ｎ  ＨＣｌ水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた白色結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄する事によって化合物１１０（６９．４ｇ，２５４ｍｍｏｌ）を８４．６％の収率で得た。
第３工程
オキシ塩化リン（３１０ｇ，２．０ｍｏｌ）に氷冷下ＤＭＦ（２７．４ｇ，３７５ｍｍｏｌ）を滴下し、３０分間撹拌した。化合物１１０（６８４ｇ，２５０ｍｍｏｌ）を結晶のまま加え、室温まで昇温後３０分間撹拌した。反応液を７５℃で１８時間反応させた後、オキシ塩化リンを減圧留去し、氷水（５００ｍｌ）を加えた。生成したアメ状物を酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶を冷酢酸エチルで洗浄する事によって化合物１１１（４５．１ｇ，１４９ｍｍｏｌ）の白色結晶を得た。さらに再結晶母液を減圧濃縮する事によって得られた２番晶（４．４ｇ，１４．６ｍｍｏｌ）を合わせて、化合物１１１を総収率６５．６％で得た。
第４工程
化合物１１１（４９．０ｇ，１６２．４ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（４００ｍｌ）−エタノール（８００ｍｌ）溶液に氷冷下５％パラジウム炭素（１０ｗｔ％）次いでトリエチルアミン（２４．６ｇ，２４４ｍｍｏｌ）を加えた。室温まで昇温し、２時間水素を添加した。反応液をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮した後、酢酸エチル（５００ｍｌ）と水（３００ｍｌ）を加え、分液した。水層を酢酸エチルにて抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって淡いオレンジ色の結晶として化合物１１２（４３．７ｇ）の粗生成物を得た。
第５工程
化合物１１２の粗生成物（４３．７ｇ）にピリジン塩酸塩（１００ｇ，８６５ｍｍｏｌ）を加え、１８０℃で１．５時間加熱反応した。反応液を室温まで冷却し、氷冷した塩化メチレン（３００ｍｌ）−水（３００ｍｌ）に流し込んだ。３０分間撹拌後、塩化メチレン層を分離し、水層を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を合わせて硫酸ナトリウムにて乾燥し、溶媒を留去して得られた淡黄色の結晶をエタノール−ジイソプロピルエーテルにて再結晶した。４番晶まで合わせて化合物１１３（３６．９ｇ，１４５．７ｍｍｏｌ）の淡黄色結晶を９０．５％の収率で得た。
第６工程
化合物１１３（１９．０ｇ，７５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（５００ｍｌ）に室温でジイソプロピルアミン（１．５２ｇ，１５ｍｍｏｌ）を加えた。更にＮ−ブロモサクシンイミド（３２．０ｇ，１８０ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１０００ｍｌ）溶液を滴下した。２時間撹拌後、反応液を氷冷した２Ｎ  ＨＣｌ（５００ｍｌ）に滴下し、塩化メチレン層を分離した。水層を塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を合わせて飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をエタノール−塩化メチレンで再結晶する事によって化合物１１４（１４．０ｇ，３４．１ｍｍｏｌ）の淡いオレンジ色の結晶を４２．５％の収率で得た。
第７工程
化合物１１４（４．９ｇ，１１．９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３０ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（１．９７ｇ，１４．３ｍｍｏｌ）を加え３０分間室温で撹拌した。エチルブロミド（２．６ｇ，２３．８ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で６０分間加熱反応した。反応液を冷却後氷水に流し込み、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する事により化合物１１５の粗生成物（４．０７ｇ）を褐色油成物として得た。
第８工程
エーテル１２０ｍｌに２Ｍフェニルリチウム（８ｍｌ，１６ｍｍｏｌ）のシクロヘキサン溶液を滴下し、−７８℃に冷却後、化合物１１５（３．４５ｇ，７．９ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（６０ｍｌ）を滴下した。−７８℃にて３０分間撹拌後、ＣＯ２ガスを６０分間通じた。０℃まで昇温後、２Ｎ  ＨＣｌ水溶液にて中和、次いで２Ｎ  ＮａＯＨ水溶液にてアルカリ性にし、エーテルで水層を洗浄した。水層に２Ｎ  ＨＣｌ水溶液を加え、酸性にする事によって析出した白色結晶を濾別した。白色結晶を水、次いでジイソプロピルエーテルによって洗浄し、化合物１１６（８８０ｍｇ，２．２ｍｍｏｌ）の白色結晶を２８％の収率で得た。
第９工程
化合物１１６（１．０６ｇ，２．６ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液に、室温下１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（６００ｍｇ，３．１２ｍｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（４１０ｍｇ，３．１２ｍｍｏｌ）を加え３０分間撹拌した。エタノール（１０ｍｌ）とトリエチルアミン（３１６ｍｇ，３．１２ｍｍｏｌ）を加え、６０分間加熱灌流した。反応液を冷却後溶媒を留去し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水溶液で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって化合物１１７（９６０ｍｇ，２．２２ｍｍｏｌ）の淡黄色結晶を８５．４％の収率で得た。
第１０工程
化合物１１７（４３２ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、シアン化銅（３５８ｍｇ，４ｍｍｏｌ）、テトラエチルアンモニウムシアニド（１５６ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（３７ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）、１，１’−ビス（ジフェニルフォスフィノ）フェロセン（８９ｍｇ，０．１６ｍｇ）のジオキサン（５ｍｌ）溶液を４時間加熱灌流した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（３７ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）、１，１’−ビス（ジフェニルフォスフィノ）フェロセン（８９ｍｇ，０．１６ｍｇ）を追加し、さらに６０分加熱灌流した。反応液を室温まで冷却し、酢酸エチル（３０ｍｌ）を加え、１０分間撹拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去する事によって得たれた淡黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１１８（３４７ｍｇ，０．９１７ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率９１．７％で得た。
第１１工程
化合物１１８（２００ｍｇ，０．５７ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１０ｍｌ）溶液に、氷冷下ＭｅＯＨ（３ｍｌ）を加え、ＨＣｌ  ｇａｓを６０分間通じた。反応液を密封し４℃にて５日間静置した。反応液にＭｅＯＨ（５ｍｌ）と水（５ｍｌ）を加え５０℃で３０分間加熱反応した。冷却後氷水を加え、クロロホルムで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去する事によって得られた白色結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（２：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１１９（１２１ｍｇ，０．３１ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率５３．６％で得た。
第１２工程
化合物１１９（９９．１ｍｇ，０．２３ｍｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液に−２０℃にて１Ｍ三臭化ホウ素（０．６９ｍｌ，０．６９ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液を滴下した。３０分間撹拌後、１Ｍ三臭化ホウ素（０．６９ｍｌ，０．６９ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液を追加滴下した。さらに３０分間撹拌後、反応液に１Ｎ  ＨＣｌ水溶液及び氷水を加えた。塩化メチレンにて抽出後、飽和食塩水にて洗浄、硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を留去する事によって得た結晶を酢酸エチルにて再結晶する事により、表題化合物Ｉ−１３９（３５ｍｇ，０．０９５ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として４１．３％の収率で得た。
融点：２１２−２１４℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ２０Ｈ１７ＦＮ２Ｏ４（Ｈ２Ｏ）１．２として
計算値（％）：Ｃ，６１．６０；Ｈ，５．０１；Ｎ，７．１８；Ｆ，４．８７．
分析値（％）：Ｃ，６１．５９；Ｈ，４．２５；Ｎ，７．０７；Ｆ，４．６６．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．２３（２Ｈ，ｓ），４．４１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｂｒｓ），８．０４−８．１２（２Ｈ，ｍ），８．６８−８．７２（１Ｈ，ｍ），８．８８−８．９０（１Ｈ，ｍ），１１．３−１１．５（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例４１
化合物Ｉ−１４０
2002070486.tif 000141
第１工程
８−ニトロキノリン（化合物１２０）（１４．７２ｇ，８４．５２ｍｍｏｌ）の酢酸（１２０ｍｌ）溶液を約１１０℃に加温し、Ｎ−ブロモこはく酸イミド（１６．５５ｇ，９２．９８ｍｍｏｌ）を３０分かけて少しずつ加え、そのまま２．５時間撹拌した。この反応液を水（７００ｍｌ）に加える事によって析出した結晶を濾過し、水洗（３５０ｍｌ）した。結晶を塩化メチレン（３００ｍｌ）で再溶解し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル−塩化メチレン（２０：２：５ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１２１（１７．４０ｇ，６８．７６ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率８１．４％で得た。
第２工程
第１工程で得た化合物１２１（２２．００ｇ，８６．９４ｍｍｏｌ）のエタノール（１１００ｍｌ）溶液に、室温下、水（６６ｍｌ）、濃塩酸（６６ｍｌ）および鉄粉末（２４．２８ｇ，４３４．８ｍｍｏｌ）を加えた。１時間加熱還流した後、室温まで冷却し、不溶物をセライト濾過により除去した。ろ液の溶媒を減圧下留去して得られた残渣に、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液（７００ｍｌ）および酢酸エチル（５００ｍｌ）を加えて、３０分間はげしく撹拌した。不溶物をセライト濾過により除去し、分液して得られた有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、活性炭にて脱色した。溶媒を減圧下濃縮する事によって、化合物１２２（１８．１１ｇ，８１．１９ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率９３．４％で得た。
第３工程
第２工程で得た化合物１２２（２．６７ｇ，１０．６ｍｍｏｌ）に５４ｗｔ％硫酸水（１６ｍｌ）を加えて封管し、約２２０℃で１６時間加熱した後、放冷した。この反応液を氷水（２７０ｍｌ）に加え、２８ｗｔ％アンモニア水（２０ｍｌ）で中和（ｐＨ＝７．９）した。水（１１０ｍｌ）を加え、室温で３０分間晶析し、濾過、水洗（３０ｍｌ）した後、７０℃、減圧下１時間乾燥することにより、化合物１２３を粗結晶（２．５１ｇ）として得た。
第４工程
第３工程で得た化合物１２３の粗結晶（２．５１ｇ）のＤＭＦ（１５ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（１．６１ｇ，１１．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５分間撹拌した。ついで、よう化メチル（２．４ｍｌ，１５．８ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１５時間撹拌した。反応液に水（６０ｍｌ）、５Ｎ塩酸（５ｍｌ）を加え、塩化メチレン（２００ｍｌ×２）で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去する事によって得られた黒色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１２４（１．４３ｇ，５．９９ｍｍｏｌ）を白色結晶として化合物１２２から収率５６．８％で得た。
第５工程
亜鉛粉末（４２０ｍｇ，６．４ｍｍｏｌ）にＴＨＦ（６ｍｌ）、１，２−ジブロモエタン（０．０２６ｍｌ，０．３０ｍｍｏｌ）、臭化ベンジル（０．７６ｍｌ，６．１ｍｍｏｌ）およびクロロトリメチルシラン（０．０２６ｍｌ，０．２０ｍｍｏｌ）を加え、３０分間加熱還流した。この溶液を、第４工程で得た化合物１２４（５８０ｍｇ，２．４４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１９ｍｌ）溶液に加え、さらに、トリフェニルホスフィン（６４ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）および酢酸パラジウム（２７ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）を加えて、約６０℃で１５分間撹拌した。室温まで冷却し、１％炭酸水素ナトリウム水溶液（８０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（５０ｍｌ）で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（１：２ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１１２（５２９ｍｇ，１．９８ｍｍｏｌ）を黄色油状物として収率８１％で得た。
第６工程
第５工程で得た化合物１１２（３．９９５ｇ，１４．９５ｍｍｏｌ）にピリジン塩酸塩（１７．２８ｇ，１４９．５ｍｍｏｌ）を加え、徐々に約１８０℃まで昇温し、そのまま３０分間撹拌した。室温まで徐々に冷却し、そのまま１４時間静置した。水（１２０ｍｌ）を加え、塩化メチレン（１２０ｍｌ×２）で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって、化合物１１３（３．７７８ｇ，１４．９２ｍｍｏｌ）を黄色油状物として収率９９．８％で得た。
第７工程
第６工程で得た化合物１１３（２２．９６ｇ，９０．６５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５００ｍｌ）溶液に、室温下ジイソプロピルアミン（１２．７ｍｌ，９０．６２ｍｍｏｌ）を滴下後、Ｎ−ブロモこはく酸イミド（１６．１３ｇ，９０．６２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１０００ｍｌ）溶液を滴下し、室温で１時間攪拌した。この反応液を２Ｎ塩酸（１０００ｍｌ）に加える事によって析出した結晶を濾過した。結晶を酢酸エチル（１５００ｍｌ）で再溶解し、水洗（５００ｍｌ×２）後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた粗生成物を、ジイソプロピルエーテル（１８０ｍｌ）で再結晶する事によって、化合物１２５（１２．８０ｇ，３８．５３ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率４２．５％で得た。
第８工程
第７工程で得た化合物１２５の粗結晶（５７９ｍｇ，約１．８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３．５ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（２７６ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５分間撹拌した。ついで、よう化メチル（０．８２ｍｌ，５．４ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１．５時間撹拌した。さらに、よう化メチル（０．４１ｍｌ，２．７ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１時間撹拌した。反応液に水（１５ｍｌ）、２Ｎ塩酸（３ｍｌ）を加え、酢酸エチル（４０＋２０ｍｌ）で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去する事によって得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（５：２ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１２６（１０８ｍｇ，０．３１ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率約１７％で得た。
第９工程
エーテル２４ｍｌに１．５９Ｍ  ｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（１３．０ｍｌ，２０．７ｍｍｏｌ）を滴下し、−７８℃に冷却後、２−ブロモチアゾール（化合物１２８）（１．７０ｍｌ，１８．９ｍｍｏｌ）のエーテル（６ｍｌ）溶液を滴下した。−７８℃にて２０分間撹拌後、塩化トリ  ｎ−ブチルすず（５．２０ｍｌ，１９．２ｍｍｏｌ）のエーテル（６ｍｌ）溶液を滴下した。１時間撹拌後、０℃まで昇温し、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液（２４ｍｌ）を加えた。分液後、水層からエーテル（２４ｍｌ）で逆抽出し、エーテル層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を加温減圧下（５０℃，４ｍｍＨｇ）留去する事により、黄色油状物（７．１５ｇ）を得た。この粗黄色油状物（１．６５ｇ）を減圧蒸留（１７０℃，０．４ｍｍＨｇ）する事により、化合物１２９を無色油状物（１．２８ｇ）として得た。
第１０工程
第８工程で得た化合物１２６（１００ｍｇ，０．２９ｍｍｏｌ）および第９工程で得た化合物１２９（１６２ｍｇ，０．４３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液に、室温下テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）（１７ｍｇ，０．０１５ｍｍｏｌ）を加えて封管し、約１１０℃で３９時間加熱した。反応液を冷却し、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１２７（８４ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）を淡黄色油状物として収率８３％で得た。
第１１工程
第１０工程で得た化合物１２７（８４ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）にピリジン塩酸塩（１．１４ｇ，９．８７ｍｍｏｌ）を加え、徐々に約１８０℃まで昇温し、そのまま１０分間撹拌した。室温まで徐々に冷却し、水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって、黄色結晶（７３ｍｇ）を得た。この粗黄色結晶（６３ｍｇ）を酢酸エチルから再結晶精製する事により、化合物Ｉ−１４０を淡黄色結晶（３９ｍｇ）として得た。
融点：２４７−２４８℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ１９Ｈ１３ＦＮ２ＯＳとして
計算値（％）：Ｃ，６７．８４；Ｈ，３．９０；Ｆ，５．６５；Ｎ，８．３３；Ｓ，９．５３．
分析値（％）：Ｃ，６７．７７；Ｈ，３．８８；Ｆ，５．７８；Ｎ，８．１５；Ｓ，９．４５．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．２１（２Ｈ，ｓ），７．１３−７．１９（２Ｈ，ｍ），７．３６−７．４１（２Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）．
実施例４２
化合物Ｉ−１４１
2002070486.tif 000142
第１工程
実施例４０の第５工程で得られた化合物１１３を用い、実施例４１の第７工程に準じて行った。
第２工程
第１工程で得た化合物１２５（４．８１ｇ，１４．５ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３０ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（２．２０ｇ，１５．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。ついで、臭化エチル（２．２ｍｌ，２９．５ｍｍｏｌ）を加え、徐々に約６０℃まで昇温し、そのまま２０分間撹拌した。室温まで徐々に冷却し、反応液に水（１５０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（２００ｍｌ）で抽出した。水（１５０ｍｌ×４）で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去する事によって得られた紫色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル−塩化メチレン（５：１：３ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、黄色油状物（５．０６ｇ）を得た。これを再度、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１３０（４．９７ｇ，１３．８ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率９５．３％で得た。
第３工程
エーテル１６０ｍｌに１．８Ｍフェニルリチウムのエーテル−シクロヘキサン（７：３ｖ／ｖ）溶液（１２．４ｍｌ，２２．３ｍｍｏｌ）を滴下し、−７８℃に冷却後、化合物１３０（４．００ｇ，１１．１ｍｍｏｌ）のエーテル（６０ｍｌ）溶液を３時間かけて滴下した。−７８℃にて３０分間撹拌後、ほう酸トリイソプロピル（６．４ｍｌ，２７．７ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に０℃まで昇温した。この反応液を２Ｎ塩酸（１００ｍｌ）に加え、室温で１時間晶析した。濾過後、酢酸エチル（３０ｍｌ）および水（１５ｍｌ）で洗浄し、室温減圧下で乾燥することにより、化合物１３１（１．９７ｇ，５．４５ｍｍｏｌ）を黄色結晶として収率４９．１％で得た。
第４工程
第３工程で得た化合物１３１（２００ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）および２−ブロモピリミジン（１４７ｍｇ，０．９２ｍｍｏｌ）のジメトキシエタン−エタノール（３：２ｖ／ｖ）溶液（１５ｍｌ）に、室温下、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液（０．３４ｍｌ，０．６８ｍｍｏｌ）およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）（７１ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）を加え、１８時間加熱還流した。室温まで冷却し、２−ブロモピリミジン（１４７ｍｇ，０．９２ｍｍｏｌ）を追加して、さらに１０時間加熱還流した。。反応液を冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（１：３ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１３２（１０６ｍｇ，０．２９ｍｍｏｌ）を無色油状物として収率５３％で得た。
第５工程
第４工程で得た化合物１３２（１０６ｍｇ，０．２９ｍｍｏｌ）にピリジン塩酸塩（６８０ｍｇ，５．９ｍｍｏｌ）を加え、徐々に約１８０℃まで昇温し、そのまま５分間撹拌した。室温まで徐々に冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって、化合物Ｉ−００２（９０ｍｇ，０．２７ｍｍｏｌ）を黄色結晶として収率９２％で得た。これを酢酸エチルから再結晶精製する事により、化合物Ｉ−１４１を黄色結晶（４９ｍｇ）として得た。
融点：１９２−１９３℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ２０Ｈ１４ＦＮ３Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，７２．５０；Ｈ，４．２６；Ｆ，５．７３；Ｎ，１２．６８．
分析値（％）：Ｃ，７２．０８；Ｈ，４．２１；Ｆ，５．４０；Ｎ，１２．４０．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．１９（２Ｈ，ｓ），７．１３−７．１９（２Ｈ，ｍ），７．３６−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），９．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），１４．４１（１Ｈ，ｓ）．
実施例４３
化合物Ｉ−１４２
2002070486.tif 000143
第１工程
イミダゾール（化合物１３４）（６．８０ｇ，９９．９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液に室温下、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１５．５ｇ，１２０ｍｍｏｌ）を加え、さらに塩化２−（トリメチルシリル）−エトキシメチル（１８．３ｇ，１１０ｍｍｏｌ）を滴下し、１．５時間撹拌後、１８時間静置した。水（２００ｍｌ）を加え、エーテル（１００ｍｌ×３）で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた粗生成物を、減圧蒸留（１２４−１２６℃，５ｍｍＨｇ）する事により、化合物１３５（１２．４ｇ，６２．５ｍｍｏｌ）を無色油状物として収率６２．６％で得た。
第２工程
第１工程で得た化合物１３５（２．００ｇ，１０．１ｍｍｏｌ）のＴＭＦ（５０ｍｌ）溶液を０℃に冷却後、１．５９Ｍ  ｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（７．０ｍｌ，１１．１ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１．５時間攪拌した。再び０℃に冷却後、よう素（３．０７ｇ，１２．１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２５ｍｌ）溶液を滴下し、そのまま３０分間撹拌した。この反応液を氷冷した０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液（１５０ｍｌ）に加え、酢酸エチル（１００ｍｌ×２）で抽出した。有機層をＮチオ硫酸ナトリウム水溶液、水および飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１３６（１．２１ｇ，３．７３ｍｍｏｌ）を薄茶色油状物として収率３７．０％で得た。
第３工程
実施例４２の第３工程で得た化合物１３１（２５０ｍｇ，０．６９ｍｍｏｌ）および第２工程で得た化合物１３６（２４７ｍｇ，０．７６ｍｍｏｌ）のジメトキシエタン−エタノール（３：２ｖ／ｖ）溶液（２０ｍｌ）に、室温下、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液（１．０４ｍｌ，２．０８ｍｍｏｌ）およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）（８０ｍｇ，０．０７ｍｍｏｌ）を加え、１２時間加熱還流した。室温まで冷却し、１２時間静置した。化合物１３６（２４７ｍｇ，０．７６ｍｍｏｌ）、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液（１．０４ｍｌ，２．０８ｍｍｏｌ）およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）（８０ｍｇ，０．０７ｍｍｏｌ）を追加して、さらに１２時間加熱還流した。室温まで冷却し、１２時間静置した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（１：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１３３（１０４ｍｇ，０．２２ｍｍｏｌ）を無色油状物として収率３１％で得た。
第４工程
第３工程で得た化合物１３３（１０３ｍｇ，０．２１ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を−２０℃に冷却後、１．０Ｍ三臭化ほう素の塩化メチレン溶液（０．６４ｍｌ，０．６４ｍｍｏｌ）を滴下し、０℃まで昇温し、そのまま１５分間撹拌した。さらに１．０Ｍ三臭化ほう素の塩化メチレン溶液（０．６４ｍｌ，０．６４ｍｍｏｌ）を追加し、室温まで昇温し、そのまま３０分間撹拌した。この反応液を氷冷した０．２Ｎ塩酸（２０ｍｌ）に加え、炭酸水素ナトリウムで中和（ｐＨ＝７）した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた粗生成物を酢酸エチルから再結晶精製する事により、化合物Ｉ−１４２（３４ｍｇ，０．０７６ｍｍｏｌ）を橙色結晶として収率３５％で得た。
融点：２１３−２１５℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ１９Ｈ１４ＦＮ３Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，７１．４６；Ｈ，４．４２；Ｆ，５．９５；Ｎ，１３．１６．
分析値（％）：Ｃ，６９．８５；Ｈ，４．２７；Ｆ，５．４９；Ｎ，１２．６３．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．１６（２Ｈ，ｓ），６．９９−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１７−７．２２（２Ｈ，ｍ），７．２５（２Ｈ，ｓ），７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）．
実施例４４
化合物Ｉ−１４３
2002070486.tif 000144
第１工程
実施例４２の第３工程で得た化合物１３１（１５０ｍｇ，０．４１ｍｍｏｌ）のエタノール（４ｍｌ）溶液に、室温下、３０％過酸化水素水（０．２４ｍｌ，２．１ｍｍｏｌ）を加え、そのまま３０分間攪拌した後、１２時間静置した。反応液にＮチオ硫酸ナトリウム水溶液（５ｍｌ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた粗生成物をジイソプロピルエーテルから再結晶精製する事により、化合物１３７（７５ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率６１％で得た。
第２工程
第１工程で得た化合物１３７（６３ｍｇ，０．２１ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（６ｍｌ）溶液を０℃に冷却後、塩化アルミニウム（２８３ｍｇ，２．１ｍｍｏｌ）および１．０Ｍエタンチオールの塩化メチレン溶液（０．３２ｍｌ，０．３２ｍｍｏｌ）を滴下し、室温まで昇温し、そのまま１時間撹拌した。反応液に氷冷した０．２Ｎ塩酸（１０ｍｌ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事により、化合物Ｉ−１４３（３６ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率６３％で得た。これを酢酸エチルから再結晶精製する事により、化合物Ｉ−１４３を白色結晶（７ｍｇ）として得た。
融点：１８４−１８５℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．１２（２Ｈ，ｓ），６．９８−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）．
実施例４５
化合物Ｉ−１４４
2002070486.tif 000145
第１工程
エーテル２０ｍｌに１．８Ｍフェニルリチウムのエーテル−シクロヘキサン（７：３ｖ／ｖ）溶液（０．９３ｍｌ，１．７ｍｍｏｌ）を滴下し、−７８℃に冷却後、実施例４２の第２工程で得た化合物１３０（３００ｍｇ，０．８３ｍｍｏｌ）のエーテル（１０ｍｌ）溶液を３０分間かけて滴下した。−７８℃にて１時間撹拌後、アセトアルデヒド（０．３ｍｌ，４．２ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温まで昇温した。この反応液を氷冷した１％塩化アンモニウム水溶液（１００ｍｌ）に加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１３８（１１４ｍｇ，０．３３ｍｍｏｌ）を淡黄色油状物として収率４０％で得た。
第２工程
塩化メチレン４ｍｌにオキサルクロリド（０．１０ｍｌ，１．１ｍｍｏｌ）を加え、−７８℃に冷却後、ジメチルスルホキシド（０．１６ｍｌ，２．３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２ｍｌ）溶液を５分間かけて滴下し、１５分間撹拌した。ついで−７８℃にて、第１工程で得た化合物１３８（１１４ｍｇ，０．３３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（４ｍｌ）溶液を１０分間かけて滴下し、３０分間撹拌した。さらに−７８℃にて、トリエチルアミン（０．６３ｍｌ，４．５ｍｍｏｌ）を２分間かけて滴下し、１５分間撹拌した。徐々に０℃まで昇温し、飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（４：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１３９（６５ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を無色油状物として収率５７％で得た。
第３工程
第２工程で得た化合物１３９（６５ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）にピリジン塩酸塩（５５０ｍｇ，４．８ｍｍｏｌ）を加え、徐々に約１８０℃まで昇温し、そのまま１０分間撹拌した。室温まで徐々に冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって、化合物Ｉ−１４４（５４ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ）を黄褐色結晶として収率９１％で得た。これを酢酸エチルから再結晶精製する事により、化合物Ｉ−１４４を黄褐色結晶（１７ｍｇ）として得た。
融点：８７−８８℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｓ），７．００−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２１（２Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），１３．６５（１Ｈ，ｓ）．
実施例４６
化合物Ｉ−１４５
2002070486.tif 000146
第１工程
実施例４０の合成法に準じて合成した化合物１１４（４．１ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３０ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（１．６６ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）及び、ヨウ化メチル（２．２ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４５分間撹拌した。反応液に水を加える事によって析出した結晶を濾過し、水洗した。結晶を酢酸エチルで再溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥、活性炭にて脱色した。溶媒を減圧下留去し、化合物１４０の粗生成物（２．１ｇ，４．９４ｍｍｏｌ）を薄紫色結晶として４９．４％の収率で得た。
第２工程
エーテル８０ｍｌに１．８Ｍフェニルリチウムのエーテル−シクロヘキサン（７：３ｖ／ｖ）溶液（４．７ｍｌ，８．４ｍｍｏｌ）を滴下し、−７８℃に冷却後、第１工程で得た化合物１４０（１．８ｇ，４．２ｍｍｏｌ）のエーテル（１００ｍｌ）溶液を３０分間かけて滴下した。−７８℃にて３０分間撹拌後、ＣＯ２ガスを６０分間通じた。０℃まで昇温し、塩酸水溶液にて中和した後、水酸化ナトリウム水溶液にてアルカリ性にした。エーテルにて水層を洗浄後、塩酸水溶液にて中和した。析出した淡黄色結晶を水洗後、減圧下乾燥した。結晶をイソプロピルエーテルにて洗浄する事により化合物１４１（７６０ｍｇ，１．９５ｍｍｏｌ）を白色結晶として４６．４％の収率で得た。
第３工程
実施例４０の第９工程の合成法に準じて化合物１４２（７２０ｍｇ，１．７２ｍｍｏｌ）の淡黄色結晶を９０．６％の収率で得た。
第４工程
化合物１４２（１００ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（５ｍｌ）溶液に室温でヨウ化ナトリウム（２１７ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）及びトリメチルシリルクロリド（３００ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）を加え、５分間撹拌した。その後９０分間加熱還流した。室温まで冷却後、氷水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を亜硫酸ナトリウム水溶液、次いで食塩水で洗浄し、溶媒を減圧留去する事によって得られた薄紫色の結晶をエタノールによって再結晶して、表題化合物Ｉ−１４５（７０ｍｇ，０．１７３ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率７２．２％で得た。
融点：１０８−１１０℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１９Ｈ１５ＢｒＦＮＯ３として
計算値（％）：Ｃ，５６．４５；Ｈ，３．７４；Ｂｒ，１９．７７；Ｆ，４．７０；Ｎ，３．４７．
分析値（％）：Ｃ，５６．３１；Ｈ，３．６１；Ｂｒ，１９．３６；Ｆ，４．５０；Ｎ，３．４４．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．２２（２Ｈ，ｓ），４．５０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．００−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．２４（２Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｓ），８．２２（１Ｈ，ｂｒｓ），８．８６（１Ｈ，ｂｒｓ），１１．９６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例４７
化合物Ｉ−１４６、Ｉ−１４７
2002070486.tif 000147
第１工程
実施例４６の合成法に準じて合成した化合物１４２（５００ｍｇ，１．２ｍｍ）のジオキサン（６ｍｌ）溶液にシアン化銅（４３０ｍｇ，４．８ｍｍｏｌ）、及び、１，１’−ビスジフェニルホスフィノフェロセン（１０７ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム（Ｏ）（４４．４ｍｇ，０．０４８ｍｍｏｌ）、テトラエチルアンモミウムシアナイド（１８７ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を加え、２時間加熱還流した。さらに１，１’−ビスジフェニルホスフィノフェロセン（１０７ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム（Ｏ）（４４．４ｍｇ，０．０４８ｍｍｏｌ）を追加して４５分間加熱還流した。室温まで放冷し、酢酸エチル（５０ｍｌ）を加えた。不溶物をセライト濾過し、濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１４３（４１０ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率９０．３％で得た。
第２工程
第１工程で得た化合物１４３（１２４ｍｇ，０．３３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１０ｍｌ）溶液を実施例４６の第４工程に準じて反応し、表題化合物Ｉ−１４６（４５ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）の淡黄色結晶を３９．４％の収率で得た。
融点：１４５−１４７℃  再結晶溶媒：イソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２０Ｈ１５ＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，６８．５７；Ｈ，４．３２；Ｆ，５．４２；Ｎ，８．００．
分析値（％）：Ｃ，６７．８３；Ｈ，４．１８；Ｆ，５．２７；Ｎ，７．８５．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．５０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．２３（２Ｈ，ｓ），４．５３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．００−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．２４（２Ｈ，ｍ），８．２１（１Ｈ，ｓ），８．３８（１Ｈ，ｓ），８．９４（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．５０（１Ｈ，ｍ）．
第３工程
第１工程で得た化合物１４３（１２５ｍｇ，０．３３ｍｍｏｌ）のエタノール（１０ｍｌ）懸濁溶液に氷冷下１．０Ｍナトリウムエトキシド（４００ｕｌ，０．４ｍｍｏｌ）を加え撹拌した。反応液を５０℃まで昇温し、３０分間加熱反応した。溶媒を減圧留去する事によって得られた残渣に酢酸エチルと塩酸水溶液を加え分液した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせて食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去する事によって化合物１４４（７５ｍｇ，０．２２ｍｍｏｌ）の粗結晶を６７．６％の収率で得た。
第４工程
第３工程で得た化合物１４４（６５ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（８ｍｌ）溶液を実施例４６の第４工程に準じて反応し、表題化合物Ｉ−１４７（３８ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）の淡黄色結晶を６２．０％の収率で得た。
融点：２３１−２３４℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１１ＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．５として
計算値（％）：Ｃ，６５．２６；Ｈ，３．６５；Ｆ，５．７３；Ｎ，８．４６．
分析値（％）：Ｃ，６５．３７；Ｈ，３．３６；Ｆ，５．６５；Ｎ，８．３８．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．２２（２Ｈ，ｓ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３２−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．９８−８．０２（１Ｈ，ｂｍ），８．１９（１Ｈ，ｓ），８．６８−８．７２（１Ｈ，ｍ）．
実施例４８
化合物Ｉ−１４８、Ｉ−１４９、Ｉ−１５０
2002070486.tif 000148
第１工程
実施例４６の合成法に準じて合成した化合物１４２（８３７．０ｍｇ  ｇ，２．０ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（２２．５ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）、トリトリルホスフィン（６１．０ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（８０８．０ｍｇ，８．０ｍｍｏｌ）及びアクリル酸メチル（４４８．０ｍｇ，５．２ｍｍｏｌ）を封管し、１１０℃で１６時間加熱反応した。室温まで冷却し、酢酸エチル（３０ｍｌ）を加え、３０分間撹拌した。不溶物をセライトで濾過し、濾液を食塩水で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１４５（５８２ｍｇ，１．３８ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率６８．８％で得た。
第２工程
第１工程で得た化合物１４５（１００ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液に氷冷下、１．０Ｍ三臭化ほう素の塩化メチレン溶液（０．２８ｍｌ，０．２８ｍｍｏｌ）を滴下し、０℃まで昇温し、そのまま１５分間撹拌した。さらに１．０Ｍ三臭化ほう素の塩化メチレン溶液（０．１０ｍｌ，０．１０ｍｍｏｌ）を追加し、室温まで昇温し、そのまま３０分間撹拌した。この反応液を氷冷した０．２Ｎ塩酸（２０ｍｌ）に加え、炭酸水素ナトリウムで中和（ｐＨ＝７）した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた粗生成物をイソプロピルエーテルから再結晶精製する事により、表題化合物Ｉ−１４８（３０ｍｇ，０．０７３ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率３０．６％で得た。
融点：１０２−１０５℃  再結晶溶媒：イソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２３Ｈ２０ＦＮＯ５（Ｈ２Ｏ）０．６として
計算値（％）：Ｃ，６５．７４；Ｈ，５．０９；Ｆ，４．５２；Ｎ，３．３３．
分析値（％）：Ｃ，６５．４６；Ｈ，４．７３；Ｆ，４．３２；Ｎ，３．３３．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．５０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．８６（３Ｈ，ｓ），４．２１（２Ｈ，ｓ），４．５２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ），６．９８−７．１６（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２２（２Ｈ，ｍ），８．２０−８．３０（３Ｈ，ｍ），８．８９（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．２６（１Ｈ，ｍ）．
第３工程
第１工程で得た化合物１４５（１１１ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ）のジオキサン（５ｍｌ）溶液に１Ｎ塩酸水溶液を加え、２時間加熱還流した。反応溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する事によって得られた粗結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。メタノール−酢酸エチル（１：１０ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１４６（４０ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率３８．５％で得た。
第４工程
第３工程で得た化合物１４６（３５ｍｇ，０．０８５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を実施例４８の第２工程に準じて反応し、得られた粗生成物をメタノール−塩化メチレンから再結晶精製する事により、表題化合物Ｉ−１４９（１５ｍｇ，０．０３８ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率４４．６％で得た。
融点：２４８−２５０℃  再結晶溶媒：メタノール−塩化メチレン
元素分析：Ｃ２２Ｈ１８ＦＮ２Ｏ５（Ｈ２Ｏ）０．５として
計算値（％）：Ｃ，６５．３４；Ｈ，４．７４；Ｆ，４．７０；Ｎ，３．４６．
分析値（％）：Ｃ，６５．３８；Ｈ，４．４８；Ｆ，４．６９；Ｎ，３．５３．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．３８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．２７（２Ｈ，ｓ），４．４１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ），７．０８−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３４−７．４８（２Ｈ，ｍ），８．１８−８．２８（２Ｈ，ｍ），８．５８−８．６４（１Ｈ，ｍ），８．９０（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．５１（１Ｈ，ｍ）．
第５工程
第１工程で得た化合物１４５（１０８ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ）のエタノール（５ｍｌ）溶液に氷冷下１Ｎ水酸化ナトリウム溶液（１．１２ｍｌ，１．１２ｍｍｏｌ）を加え。１５時間放置した。反応液を減圧濃縮し、水（３０ｍｌ）及びエーテル（３０ｍｌ）を加え、撹拌後分液した。水層を２Ｎ塩酸水溶液（３ｍｌ，３ｍｍｏｌ）で酸性にした後酢酸エチルで抽出した。食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去する事によって化合物１４７（９４．５ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）の淡黄色結晶を９９．１％の収率で得た。
第６工程
第５工程で得た化合物１４７（９４．５ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を実施例４８の第２工程に準じて反応し、得られた粗生成物をメタノール−塩化メチレンから再結晶精製する事により、表題化合物Ｉ−１５０（１５ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率１６．３％で得た。
融点：２２６−２２８℃  再結晶溶媒：エタノール
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．３３（２Ｈ，ｓ），６．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），７．０４−７．２２（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．５０（２Ｈ，ｍ），８．１０−８．４４（２Ｈ，ｍ），８．５０−９．１０（２Ｈ，ｍ），１２．４０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例４９
化合物Ｉ−１５１、Ｉ−１５２
2002070486.tif 000149
第１工程
実施例４８の第１工程に準じて合成した化合物１４５（１００ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（３．０ｍｌ）溶液に氷冷下５％パラジウム炭素（１０ｍｇ，１０％ｗ）を加え、水素を添加した。室温で５時間撹拌後、５％パラジウム炭素（１０ｍｇ，１０％ｗ）を追加し、さらに５時間撹拌した。反応液を濾過し、濾液を減圧留去する事によって得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（２：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１４８（６２ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率６２．５％で得た。
第２工程
第１工程で得た化合物１４８（８５ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を実施例４８の第２工程に準じて反応し、得られた粗生成物をイソプロピルエーテルから再結晶精製する事により、表題化合物Ｉ−１５１（４２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率５１．０％で得た。
融点：７２−７５℃  再結晶溶媒：イソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２３Ｈ２２ＦＮ２Ｏ５（Ｈ２Ｏ）０．７として
計算値（％）：Ｃ，６５．１５；Ｈ，５．５６；Ｆ，４．４８；Ｎ，３．３０．
分析値（％）：Ｃ，６５．１１；Ｈ，５．０６；Ｆ，４．２３；Ｎ，３．３１．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），３．２４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），３．６８（３Ｈ，ｓ），４．２１（２Ｈ，ｓ），４．４９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９８−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２２（２Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｓ），８．０８（１Ｈ，ｓ），８．９３（１Ｈ，ｂｒｓ），１１．８６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第３工程
第１工程で得た化合物１４８（６８ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）のジオキサン（５．０ｍｌ）溶液を実施例４８の第３工程に準じて反応し、得られた粗生成物をイソプロピルエーテルから再結晶精製する事により、化合物１４９（３５ｍｇ，０．０８５ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率５３．２％で得た。
第４工程
第３工程で得た化合物１４９（３５ｍｇ，０．０８５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を実施例４８の第２工程に準じて反応し、得られた粗生成物をエタノール−イソプロピルエーテルから再結晶精製する事により、表題化合物Ｉ−１５２（２４ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率７１．１％で得た。
融点：２１４−２１６℃  再結晶溶媒：エタノール−イソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２２Ｈ２０ＦＮＯ５（Ｈ２Ｏ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，６５．８９；Ｈ，５．１３；Ｆ，４．７４；Ｎ，３．４９．
分析値（％）：Ｃ，６５．７２；Ｈ，４．９０；Ｆ，４．６３；Ｎ，３．４６．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．５８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．１７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．２４（２Ｈ，ｓ），４．３９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３６−７．４４（２Ｈ，ｍ），７．６８（１Ｈ，ｓ），８．３５−８．４１（１Ｈ，ｍ），８．８２−８．８８（１Ｈ，ｓ），１１．１４（１Ｈ，ｓ），１２．２１（１Ｈ，ｓ）．
実施例５０
化合物Ｉ−１５３、Ｉ−１５４
2002070486.tif 000150
第１工程
実施例２４の第１工程に準じて合成した化合物５９を実施例１８の第５工程に準じて反応させ、化合物１５０（２．５ｇ，８．９ｍｍｏｌ）の白色結晶を収率４４．５％で得た。
第２工程
第１工程で得た化合物１５０（２．５ｇ，８．９ｍｍｏｌ）を実施例４０の第９工程に準じて反応させ、化合物１５１（６６７ｍｇ，２．１ｍｍｏｌ）の淡黄色結晶を収率２４．１％で得た。
第３工程
第２工程で得た化合物１５１を実施例１８の第２工程に準じて反応させ、化合物１５２（３４５ｍｇ，０．８９ｍｍｏｌ）の淡黄色結晶を収率４２．２％で得た。
第４工程
亜鉛粉末（２１０ｍｇ，３．２ｍｍｏｌ）にＴＨＦ（３．０ｍｌ）、１，２−ジブロモエタン（０．０１２ｍｌ，０．１５ｍｍｏｌ）、臭化ベンジル（２１０ｍｇ，３．２３ｍｍｏｌ）およびクロロトリメチルシラン（０．０１２５ｍｌ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、３０分間加熱還流した。この溶液を第３工程で得た化合物１５２（３４５ｍｇ，０．８９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０．０ｍｌ）溶液に加え、さらに、トリフェニルホスフィン（２６．０ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）および酢酸パラジウム（１１．０ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を加えて、約６０℃で１０分間撹拌した。室温まで冷却し、１％炭酸水素ナトリウム水溶液（４０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（５０ｍｌ）で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１５３（１７９ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）を黄色油状物として収率４５．０％で得た。
第５工程
第４工程で得た化合物１５３を実施例１９の第２工程に準じて反応させ、表題化合物Ｉ−１５３（４０．０ｍｇ，０．０９２ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率２３．１％で得た。
融点：１３７−１３９℃  再結晶溶媒：イソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２６Ｈ２１Ｆ２ＮＯ３（ＥｔＯＡｃ）０．４として
計算値（％）：Ｃ，７０．７３；Ｈ，５．２０；Ｆ，８．１１；Ｎ，２．９９．
分析値（％）：Ｃ，７０．７１；Ｈ，４．７５；Ｆ，７．８７；Ｎ，３．１０．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．０６（２Ｈ，ｓ），４．１９（２Ｈ，ｓ），４．４８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．８０−７．０８（８Ｈ，ｍ），７．６８−７．７４（２Ｈ，ｍ），８．８１−８．８４（１Ｈ，ｍ），１１．９０（１Ｈ，ｓ）．
第６工程
第４工程によって得た化合物１５３（４００．０ｍｇ，０．９２ｍｍｏｌ）のエタノール（１５．０ｍｌ）溶液に４Ｎ水酸化リチウム（１ｍｌ，４ｍｍｏｌ）を加え、４０分間加熱還流した。溶媒を減圧留去する事によって得られた粗結晶に、水（１０．０ｍｌ）及び２Ｎ塩酸水溶液（３ｍｌ，６ｍｍｏｌ）を加え撹拌した。懸濁した白色結晶を濾取する事によって化合物１５４（３８０ｍｇ，０．９１ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率９８．５％で得た。
第７工程
第６工程によって得た化合物１５４（１３９ｍｇ，０．３３ｍｍｏｌ）を実施例１８の第６工程に準じて反応し、得られた白色結晶を酢酸エチルによって再結晶することによって表題化合物Ｉ−１５４（８５．０ｍｇ，０．２１ｍｍｏｌ）を６３．５％の収率で得た。
融点：２０７−２０９℃  再結晶溶媒：イソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２４Ｈ１７Ｆ２ＮＯ３（Ｈ２Ｏ）０．２（ＥｔＯＡｃ）０．１５として
計算値（％）：Ｃ，６９．９８；Ｈ，４．４４；Ｆ，９．００；Ｎ，３．３２．
分析値（％）：Ｃ，６９．８７；Ｈ，４．０８；Ｆ，８．７８；Ｎ，３．４３．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．１６（２Ｈ，ｓ），４．２６（２Ｈ，ｓ），７．００−７．２２（６Ｈ，ｍ），７．２２−７．３２（２Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｓ），８．２６−８．３２（１Ｈ，ｍ），８．８０−８．８４（１Ｈ，ｍ）．
実施例５１
化合物Ｉ−１５５
2002070486.tif 000151
実施例２３の合成法に準じ、化合物Ｉ−１５５を合成した。
化合物Ｉ−１５５
融点：７８−８０℃  再結晶溶媒：イソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２１Ｈ２０ＦＮＯ３として
計算値（％）：Ｃ，７１．３７；Ｈ，５．７０；Ｆ，５．３８；Ｎ，３．９６．
分析値（％）：Ｃ，７１．０３；Ｈ，５．７１；Ｆ，５．６３；Ｎ，３．８４．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．４７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．９１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．１９（２Ｈ，ｓ），４．４８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．９８−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．７０（１Ｈ，ｓ），７．９８−８．０２（１Ｈ，ｍ），８．８４−８．８８（１Ｈ，ｍ），１１．８０（１Ｈ，ｓ）．
実施例５２
化合物Ｉ−１５６
2002070486.tif 000152
第１工程
フェニルプロピオン酸（７．４ｇ，６０ｍｍｏｌ）を実施例４０の第２工程に準じて反応し、化合物１５６（１３．６ｇ，５３．３ｍｍｏｌ）を薄桃色結晶として収率８８．８％で得た。
第２工程
第１工程で得た化合物１５６（１３．０ｇ，５１ｍｍｏｌ）を実施例４０の第３工程に準じて反応し、化合物１５７（９．０ｇ，３７．８ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率７４．１％で得た。
第３工程
第２工程で得た化合物１５７（８．８ｇ，３１ｍｍｏｌ）を実施例４０の第４工程に準じて反応し、化合物１５８（６．２ｇ，２４．９ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率８０．２％で得た。
第４工程
第３工程で得た化合物１５８（１．８ｇ，７．２ｍｍｏｌ）を実施例４０の第５工程に準じて反応し、化合物１５９（１．５ｇ，６．４ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率８９．０％で得た。
第５工程
第４工程で得た化合物１５９（１．５５ｇ，６．６ｍｍｏｌ）を実施例４０の第６工程に準じて反応し、化合物１６０（１．９５ｇ，５．０ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として収率７５．２％で得た。
第６工程
ナトリウムヒドリド（１８０ｍｇ，４．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（９０ｍｌ）溶液に室温下第５工程で得た化合物１６０（１．２ｇ，３．０ｍｍｏｌ）を結晶のまま加えて２時間撹拌した。反応液を−７８℃に冷却し、１．５９Ｍ  ｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（２．９ｍｌ，４．５ｍｍｏｌ）を滴下し、６０分間撹拌した。反応液にＮ−ホルミルピペリジン（５０９ｍｇ，４．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５．０ｍｌ）溶液を滴下し、３０分間撹拌した。その後、２Ｎ塩酸のＴＨＦ溶液（１０．０ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）を滴下し、反応液を室温まで昇温した。飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加え撹拌後、有機層を分離した。水層を塩化メチレンで抽出し、有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去する事によって得たれた橙色の結晶をイソプロピルエーテルによって洗浄し、化合物１６１（７２０ｍｇ，２．１ｍｍｏｌ）を収率７０．２％で得た。
第７工程
第６工程で得た化合物１６１（６８０ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）のベンゼン（２０ｍｌ）溶液にエチレングリコール（６２０ｍｇ，１０．０ｍｍｏｌ）、パラトルエンスルフォン酸（１．９ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）を加え、５．５時間加熱還流した。反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液次いで食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を留去する事によって化合物１６２（４３０ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）の褐色油状物を収率５５．７％で得た。
第８工程
ナトリウムヒドリド（５１ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に室温下第７工程で得た化合物１６２（４１０ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液を滴下した。３０分間撹拌後、メトキシメチルクロリド（１１１．０ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を滴下し、４０℃にて６０分間加熱撹拌した。室温まで冷却後氷水を加え反応液を塩化メチレンで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去する事によって得られた褐色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１ｖ／ｖ）で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物１６３（２６０ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）を黄色油状物として収率５５．０％で得た。
第９工程
エーテル１５ｍｌに１．８Ｍフェニルリチウムのエーテル−シクロヘキサン（７：３ｖ／ｖ）溶液（０．６７ｍｌ，０．６ｍｍｏｌ）を滴下し、−７８℃に冷却後、化合物１６３（２５０ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）のエーテル（５ｍｌ）溶液を３０分間かけて滴下した。−７８℃にて３０分間撹拌後、ＣＯ２ガスを３０分間通じた後徐々に０℃まで昇温した。この反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（１０．０ｍｌ）を加え、酢酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去する事により得られた黄色結晶を酢酸エチル−イソプロピルエーテルにて洗浄後エタノールで再結晶する事により、表題化合物Ｉ−１５６（３５ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）を黄色結晶として収率１９．０％で得た。
融点：２４７−２４９℃  再結晶溶媒：エタノール
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．３６（２Ｈ，ｓ），７．２０−７．４０（５Ｈ，ｍ），８．５９（１Ｈ，ｓ），８．９５（１Ｈ，ｂｒｓ），９．７８−１０．１０（２Ｈ，ｍ）．
実施例５３
化合物Ｉ−１５７
2002070486.tif 000153
第１工程
実施例５２の第５工程に準じた方法で得た化合物１６０（２．１ｇ，５．３ｍｍｏｌ）を実施例４６の第１工程に準じて反応させ、化合物１６４（５５０ｍｇ，１．３５ｍｍｏｌ）を油状物として２５．５％の収率で得た。
第２工程
第１工程に準じて合成した化合物１６４（１．１ｇ，２．７ｍｍｏｌ）を実施例４０の第８工程に準じて反応させ、化合物１６５（４４０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を白色結晶として４３．８％の収率で得た。
第３工程
第２工程により得られた化合物１６５（４１０ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を実施例４０の第９工程に準じて反応させ、化合物１６６（２４０ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として５５．０％の収率で得た。
第４工程
第３工程により得られた化合物１６６（１００ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）を実施例４６の第４工程に準じて反応させ、表題化合物Ｉ−１５７（４８．０ｍｇ，０．１２４ｍｍｏｌ）を淡黄色結晶として４９．６％の収率で得た。
融点：１０４−１０６℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ１９Ｈ１６ＢｒＮＯ３（ＥｔＯＡｃ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，５８．８８；Ｈ，４．３９；Ｂｒ，１９．７８；Ｎ，３．４７．
分析値（％）：Ｃ，５８．６０；Ｈ，３．９５；Ｂｒ，１９．９３；Ｎ，３．５７．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．２５（２Ｈ，ｓ），４．５０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．２０−７．４０（５Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｓ），８．２０−８．２８（１Ｈ，ｍ），８．８４−８．９２（１Ｈ，ｍ），１１．９５（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例５４
化合物Ｉ−１５８，Ｉ−１５９
2002070486.tif 000154
第１工程
化合物１８（１６．８ｇ，６６ｍｍｏｌ）をエタノール（１００ｍｌ）と水（１００ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、水酸化リチウム（３．２ｇ，１３４ｍｍｏｌ）を加えて４時間還流した。減圧下でエタノールを留去し、濃塩酸と食塩を加えて２−ブタノンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物１６の粗生成物（１５．８ｇ）を収率９９％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５３（３Ｈ，ｓ），３．９４  ａｎｄ  ４．２２（３Ｈ，ｂｓ），７．５１（１Ｈ，ｓ）．
第２工程
化合物１６（４．０ｇ，１６．６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０ｍｌ）溶液に、室温でトリエチルアミン（２．０ｇ，１９．８ｍｍｏｌ）を加え、クロロぎ酸エチル（１．９ｇ，１７．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を氷冷下で滴下した。０℃で３０分間攪拌した後、析出した塩を濾過して除き、濾液を２規定アンモニア（エタノール溶液，５０ｍｌ）に氷冷下で滴下した。室温で３０分間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去し、得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ＴＨＦ（１：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物１６７（３．３２ｇ）を収率８３％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５３（３Ｈ，ｓ），４．００  ａｎｄ  ４．３６（３Ｈ，ｂｓ），７．５０−７．８０（３Ｈ，ｍ）．
第３工程
化合物１６７（３．３ｇ，１３．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（５０ｍｌ）に溶解し、ローソン試薬（６．７ｇ，１６．６ｍｍｏｌ）を加えて１時間還流した。冷却後、減圧下で溶媒を留去した。氷を加えた後、濃塩酸で酸性とし、酢酸エチルで洗浄した。水層を炭酸水素ナトリウムでアルカリ性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、エーテルで結晶化させて化合物１６８の粗生成物（２．４ｇ）を収率６７％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：ｍａｊｏｒ；２．５３（３Ｈ，ｓ），４．３１（３Ｈ，ｓ），７．６７（１Ｈ，ｓ），９．３６（１Ｈ，ｓ），９．９９（１Ｈ，ｓ），１２．８６（１Ｈ，ｓ），ｍｉｎｏｒ；２．５３（３Ｈ，ｓ），３．９１（３Ｈ，ｓ），７．４６（１Ｈ，ｓ），９．４２（１Ｈ，ｓ），１０．０７（１Ｈ，ｓ），１２．９０（１Ｈ，ｓ）．
第４工程
化合物１６８（２．４ｇ，９．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（７０ｍｌ）溶液に、ジイソプロピルエチルアミン（１．２ｇ，９．３ｍｍｏｌ）、ヨウ化メチル（２．８ｇ，２０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間攪拌した。反応液を氷に加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、エーテルで結晶化させて化合物１６９の粗生成物（２．１ｇ）を収率８３％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：ｍａｊｏｒ；２．３９（３Ｈ，ｓ），２．５３（３Ｈ，ｓ），４．１８（３Ｈ，ｂｒｓ），７．０９（１Ｈ，ｓ），１０．０７（１Ｈ，ｓ），１２．８６（１Ｈ，ｓ），ｍｉｎｏｒ；２．３６（３Ｈ，ｓ），２．５３（３Ｈ，ｓ），４．００（３Ｈ，ｂｒｓ），７．２０（１Ｈ，ｓ），１０．３０（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．８６（１Ｈ，ｓ）．
第５工程
化合物１６９（３００ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）とパラフルオロフェニル酢酸ヒドラジド（２８０ｍｇ，１．６６ｍｍｏｌ）の酢酸溶液（５ｍｌ）を１時間還流した。減圧下で溶媒を留去し、残さに酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−メタノール（５０：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮し、エーテルで結晶化させて化合物１７０（３３０ｍｇ）を収率８１％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５３（３Ｈ，ｓ），４．０３（２Ｈ，ｓ），４．３６（３Ｈ，ｂｒｓ），７．０８−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．３２−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｓ），１２．９０（１Ｈ，ｂｒｓ），１３．４５（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第６工程
化合物１７０（３００ｍｇ，０．８１ｍｍｏｌ）を酢酸（６ｍｌ）に溶解し、４７％臭化水素酸（２ｍｌ）を加えて、４時間還流した。減圧下で溶媒を留去し、炭酸水素ナトリウム溶液を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残さをアセトンから再結晶して、化合物Ｉ−１５８（２００ｍｇ）を無色結晶として収率７０％で得た。
融点：２９５℃  再結晶溶媒：アセトン
元素分析：Ｃ１７Ｈ１３ＣｌＦＮ５Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，５７．０７；Ｈ，３．６６；Ｎ，１９．５７；Ｃｌ，９．９１；Ｆ，５．３１．
分析値（％）：Ｃ，５６．９９；Ｈ，３．５９；Ｎ，１９．２３；Ｃｌ，９．５９；Ｆ，５．１５．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５１（３Ｈ，ｓ），４．１１  ａｎｄ  ４．２３（２Ｈ，ｂｒｓ），７．１０−７．２５（２Ｈ，ｍ），７．３２−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．６７  ａｎｄ  ７．７４（１Ｈ，ｂｒｓ），１１．７３（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．８９  ａｎｄ  １３．００（１Ｈ，ｂｒｓ），１４．２８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第７工程
実施例６の第１工程に従い、化合物Ｉ−１５８（１６０ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）から化合物Ｉ−１５９（１００ｍｇ）を無色結晶として収率６９％で得た。
融点：１７０℃  再結晶溶媒：アセトニトリル
元素分析：Ｃ１７Ｈ１４ＦＮ５Ｏ・０．４Ｈ２Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，６１．７７；Ｈ，４．５１；Ｎ，２１．１９；Ｆ，５．７５．
分析値（％）：Ｃ，６１．７７；Ｈ，４．３２；Ｎ，２１．４１；Ｆ，５．７９．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５０（３Ｈ，ｓ），４．１４（２Ｈ，ｓ），７．０４（１Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３４−７．４２（２Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１２．３０（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．５６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例５５
化合物Ｉ−１６０，Ｉ−１６１
2002070486.tif 000155
第１工程
実施例５４の第５工程に従い、化合物１６９（５００ｍｇ，１．８５ｍｍｏｌ）と、１−アミノ−３−（４−フルオロフェニル）プロパン−２−オン塩酸塩（５６０ｍｇ，２．７５ｍｍｏｌ）から、化合物１７１（２２０ｍｇ）を収率３２％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．５８（３Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｓ），４．１７（３Ｈ，ｓ），６．７２（１Ｈ，ｓ），６．９６−７．０３（２Ｈ，ｍ），７．２３−７．３３（２Ｈ，ｍ），７．９４（１Ｈ，ｓ）．
第２工程
実施例５４の第６工程に従い、化合物１７１（４５０ｍｇ，１．２２ｍｍｏｌ）から化合物Ｉ−１６０（４１０ｍｇ）を無色結晶として収率９４％で得た。
融点：１９３−１９５℃（分解）再結晶溶媒：アセトン
元素分析：Ｃ１８Ｈ１４ＦＮ４Ｏ・０．５Ｈ２Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，５９．１０；Ｈ，４．１３；Ｎ，１５．３２；Ｃｌ，９．６９；Ｆ，５．１９．
分析値（％）：Ｃ，５９．３６；Ｈ，３．８４；Ｎ，１５．２２；Ｃｌ，９．７９；Ｆ，４．９１．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．５８（３Ｈ，ｂｒｓ），３．９６（２Ｈ，ｓ），６．６８（１Ｈ，ｓ），７．００−７．０３（２Ｈ，ｍ），７．２１−７．３０（２Ｈ，ｍ），７．３６（１Ｈ，ｓ）．
第３工程
実施例６の第１工程に従い、化合物Ｉ−１６０（４００ｍｇ，１．１２ｍｍｏｌ）から化合物Ｉ−１６１（３００ｍｇ）を無色結晶として収率８３％で得た。
融点：１６７℃  再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１８Ｈ１５ＦＮ４Ｏ・０．７Ｈ２Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，６４．５５；Ｈ，４．９４；Ｎ，１６．７３；Ｆ，５．６７．
分析値（％）：Ｃ，６４．６８；Ｈ，４．８７；Ｎ，１６．９１；Ｆ，５．４２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５１（３Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ，ｂｒｓ），６．９５（１Ｈ，ｂｒｓ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１２．１９（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．３７（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例５６
化合物Ｉ−１６２，Ｉ−１６３
2002070486.tif 000156
第１工程
化合物１７２（５ｇ，３２．４ｍｍｏｌ）をクロロホルム（３０ｍｌ）及びアセトニトリル（１５ｍｌ）に溶解し、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシアミン（３．４８ｇ，３５．６ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（４．８ｇ，３５．６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．６ｇ，３５．６ｍｍｏｌ）、及びＷＳＣＤ（５．５ｇ，３５．６ｍｍｏｌ）を加えた。室温下１時間攪拌し、溶媒を減圧下留去した。得られた残さをシリカゲルクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール（４９：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物１７３（５．２７ｇ）を収率８２％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．１９（３Ｈ，ｓ），３．６３（３Ｈ，ｓ），３．７４（２Ｈ，ｓ），６．９７−７．０３（２Ｈ，ｍ），７．２３−７．２８（２Ｈ，ｍ）．
第２工程
トリメチルシリルアセチレン（９８２ｍｇ，１０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に、−７８℃でｎ−ブチルリチウムを滴下した。３０分攪拌した後、化合物１７３（１．９７ｇ，１０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を加え０℃まで昇温した。３０分攪拌した後、塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物１７４の粗生成物（２．１ｇ）を得た。
第３工程
化合物１７４の粗生成物（２．１ｇ）のエタノール（１０ｍｌ）溶液に、４０ｗｔ％メチルアミン水溶液（２０ｍｍｏｌ）を加え、室温下１時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、残さをシリカゲルクロマトグラフィーに付した。酢酸エチルで溶出される目的物の分画を減圧下濃縮し、化合物１７５（５４７ｍｇ）を、第２、第３行程を通して収率２６％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．７７（３Ｈ，ｂｓ），３．０７（３Ｈ，ｂｓ），３．６０（２Ｈ，ｓ），４．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．３Ｈｚ），６．９５−７．０１（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．２６（２Ｈ，ｍ），７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．３Ｈｚ）．
第４工程
実施例５４の化合物１６９（１．３６ｇ，５．０４ｍｍｏｌ）をエタノール（３０ｍｌ）に溶解し、塩化アンモニウム（２８０ｍｇ，５．２４ｍｍｏｌ）を加えて３０分間還流した。溶媒を留去したのち、エーテルで結晶化させてアミジン体の塩酸塩を定量的に得た。この塩酸塩（２８０ｍｇ，１ｍｍｏｌ）をメタノール（５ｍｌ）に溶解し、化合物１７５（２５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）と２８％ナトリウムメトキシド溶液（メタノール，１ｍｌ，５ｍｍｏｌ）を加えて６時間還流した。室温に冷却後、飽和塩化アンモニウム溶液に加え、クロロホルムで３回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール（２０：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮し、化合物１７６（２６０ｍｇ）を収率６８％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．５９（３Ｈ，ｓ），４．００（３Ｈ，ｓ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．９７−７．１０（３Ｈ，ｍ），７．２５−７．３１（２Ｈ，ｍ），７．３７（１Ｈ，ｓ），８．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）．
第５工程
実施例５４の第６工程に従い、化合物１７６（２６０ｍｇ，０．６８ｍｍｏｌ）から化合物Ｉ−１６２（２２０ｍｇ）を無色結晶として収率８８％で得た。
融点：２８０℃  再結晶溶媒：アセトン
元素分析：Ｃ１９Ｈ１４ＣｌＦＮ４Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，６１．８８；Ｈ，３．８３；Ｎ，１５．１９；Ｃｌ，９．６１；Ｆ，５．１５．
分析値（％）：Ｃ，６１．６０；Ｈ，３．７５；Ｎ，１５．０３；Ｃｌ，９．６９；Ｆ，４．９３．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５１（３Ｈ，ｓ），４．２５（２Ｈ，ｓ），７．１５−７．２５（２Ｈ，ｍ），７．３５−７．４６（３Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｓ），８．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），１３．７９（１Ｈ，ｓ）．
第６工程
実施例６の第１工程に従い、化合物Ｉ−１６２（１２０ｍｇ，０．３３ｍｍｏｌ）から化合物Ｉ−１６３（６０ｍｇ）を無色結晶として収率５５％で得た。
融点：２０３℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
元素分析：Ｃ１９Ｈ１５ＦＮ４Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，６８．２５；Ｈ，４．５２；Ｎ，１６．７６；Ｆ，５．６８．
分析値（％）：Ｃ，６８．０５；Ｈ，４．４２；Ｎ，１６．５７；Ｆ，５．４３．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．５９（３Ｈ，ｓ），４．１３（２Ｈ，ｓ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），７．００−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），７．２４−７．３０（２Ｈ，ｍ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）．
実施例５６の合成法に準じ、化合物Ｉ−１６４を合成した。
2002070486.tif 000157
化合物Ｉ−１６４
無色結晶、収率８７％
融点：２７３℃  再結晶溶媒：アセトン
元素分析：Ｃ２０Ｈ１６ＣｌＦＮ４Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，６２．７５；Ｈ，４．２１；Ｎ，１４．６４；Ｃｌ，９．２６；Ｆ，４．９６．
分析値（％）：Ｃ，６２．５２；Ｈ，４．１８；Ｎ，１４．３４；Ｃｌ，９．１７；Ｆ，４．７０．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５１（３Ｈ，ｓ），３．０６−３．２０（４Ｈ，ｍ），７．０６−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．２６−７．３６（３Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｓ），８．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），１３．０２（１Ｈ，ｓ），１４．１１（１Ｈ，ｓ）．
実施例５７
化合物Ｉ−１６５
2002070486.tif 000158
第１工程
実施例５６の第１工程に従い、化合物１７７（１０．１ｇ，６０ｍｍｏｌ）から化合物１７８（１０．９７ｇ）を収率８７％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．７２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．９４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．１８（３Ｈ，ｓ），３．６１（３Ｈ，ｓ），６．９４−７．００（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２６（２Ｈ，ｍ）．
第２工程
リチウムアルミニウムハイドライド（１．３１ｇ，３４．６３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０ｍｌ）溶液に、化合物１７８（６．６５ｇ，３１．４８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液を、−７８℃で滴下した。その後０℃まで昇温し１時間攪拌した。硫酸水素カリウム水溶液を加え、沈殿物を濾過し有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物１７９の粗生成物（５．４９ｇ）を得た。
第３工程
化合物１７９の粗生成物（５．４９ｇ）とジメチルホルムアミドジメチルアセタール（３．４ｇ，３１ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２０ｍｌ）溶液を１３０℃で８時間加熱攪拌した。その後水を加え、ジエチルエーテルで抽出し硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出される目的物の分画を濃縮して、化合物１８０（５８８ｍｇ）を収率９％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．０４（６Ｈ，ｓ），３．８０（２Ｈ，ｓ），６．７３（１Ｈ，ｓ），６．９１−６．９６（２Ｈ，ｍ），７．０６−７．１２（２Ｈ，ｍ），９．０３（１Ｈ，ｓ）．
第４工程
実施例５６の第４工程に従い、化合物１８０（２５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）から化合物１８１（２４０ｍｇ）を収率６３％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．６２（３Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｓ），４．０６（３Ｈ，ｓ），７．００−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２４（２Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｓ），８．６８（２Ｈ，ｓ）．
第５工程
実施例５４の第６工程に従い、化合物１８１（２４０ｍｇ，０．６８ｍｍｏｌ）から化合物Ｉ−１６５（１８０ｍｇ）を無色結晶として収率７８％で得た。
融点：＞３００℃  再結晶溶媒：アセトン
融点：２８０℃  再結晶溶媒：アセトン
元素分析：Ｃ１９Ｈ１４ＣｌＦＮ４Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，６１．８８；Ｈ，３．８３；Ｎ，１５．１９；Ｃｌ，９．６１；Ｆ，５．１５．
分析値（％）：Ｃ，６１．５０；Ｈ，３．６９；Ｎ，１５．０２；Ｃｌ，１０．０２；Ｆ，４．９４．
ＮＭＲ（ＤＮＳＯ−ｄ６）δ：２．５１（３Ｈ，ｓ），４．０５（２Ｈ，ｓ），７．１２−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３５−７．４１（２Ｈ，ｍ），８．１１（１Ｈ，ｓ），８．８５（２Ｈ，ｓ），１３．００（１Ｈ，ｓ），１３．７８（１Ｈ，ｓ）．
実施例５７の合成法に準じ、化合物Ｉ−１６６を合成した。
2002070486.tif 000159
化合物Ｉ−１６６
無色結晶、収率６５％
融点：２９３℃  再結晶溶媒：アセトン
元素分析：Ｃ２０Ｈ１７ＣｌＮ４Ｏとして
計算値（％）：Ｃ，６５．８４；Ｈ，４．７０；Ｎ，１５．３６；Ｃｌ，９．７２．
分析値（％）：Ｃ，６５．８４；Ｈ，４．５７；Ｎ，１５．３８；Ｃｌ，９．８４．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．５１（３Ｈ，ｓ），２．９８（４Ｈ，ｍ），７．１５−７．３２（５Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｓ），８．７８（１Ｈ，ｓ），１３．００（１Ｈ，ｓ），１３．８５（１Ｈ，ｓ）．
実施例５８
化合物Ｉ−１６７
2002070486.tif 000160
第１工程
文献（Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，２１，４０１−４０６，（１９８４））既知の化合物１８２（３．９３ｇ，１３．６ｍｍｏｌ）のジオキサン−水（２：１ｖ／ｖ，６０ｍｌ）溶液に室温で水酸化リチウム（６８８ｍｇ，２８．２ｍｍｏｌ）を加え、２時間攪拌した。反応液に室温で水（４０ｍｌ）を加えた後、さらに２規定塩酸を加え酸性とした。析出した結晶をろ取した後、水で洗浄し、化合物１８３（３．４２ｇ）を無色結晶として収率９６％で得た。
第２工程
実施例９の第２工程に従い、化合物１８３（３．４２ｇ，１３．１ｍｍｏｌ）から化合物１８４（５．２８ｇ）を薄黄色結晶として収率９８％で得た。
第３工程
実施例９の第３工程に従い、化合物１８４（１．０１ｇ，２．４６ｍｍｏｌ）から化合物１８５（８０６ｍｇ）を薄褐色結晶として収率８４％で得た。
第４工程
化合物１８５（５１４ｍｇ，１．３１ｍｍｏｌ）およびｐ−トルエンスルフィン酸ナトリウム（７０６ｍｇ，３．９６ｍｍｏｌ）のエタノール（２０ｍｌ）溶液を２５時間加熱還流した。反応液に氷冷下、水（４０ｍｌ）を加えた。析出した結晶をろ取した後、水で洗浄して得られた粗結晶をエタノールで再結晶を行い、化合物１８６（５８３ｍｇ）を無色結晶として収率８０％で得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．３９（３Ｈ，ｓ），２．８７（３Ｈ，ｓ），４．４８（２Ｈ，ｓ），７．２３（２Ｈ，ｍ），７．４６（４Ｈ，ｍ），７．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．８３（１Ｈ，ｓ）．
第５工程
化合物１８６（３５６ｍｇ，０．６９４ｍｍｏｌ）のジオキサン−水（５：１ｖ／ｖ，８．４ｍｌ）溶液に室温で水酸化リチウム（３３．７ｍｇ，１．３８ｍｍｏｌ）を加え、２４時間攪拌した。反応液に氷冷下、水（１４ｍｌ）を加えた後、さらに２規定塩酸を加え中和した。析出した結晶をろ取した後、水で洗浄して得られた粗結晶をエタノールで再結晶を行い、化合物Ｉ−１６７（１２６ｍｇ）を黄褐色結晶として収率４３％で得た。
融点：２８０−２９０℃再結晶溶媒：エタノール
元素分析：Ｃ１７Ｈ１２ＦＮ３Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．２として
計算値（％）：Ｃ，５０．８４；Ｈ，３．０４；Ｎ，１４．８２；Ｆ，５．０３；Ｓ，１６．９７．
分析値（％）：Ｃ，５０．５５；Ｈ，２．６６；Ｎ，１４．６３；Ｆ，４．８６；Ｓ，１７．０８．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．７３（３Ｈ，ｓ），４．３３（２Ｈ，ｓ），７．２０（２Ｈ，ｍ），７．４４（２Ｈ，ｍ），８．３９（１Ｈ，ｓ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４４２，１６０３ｃｍ−１．
実施例５９
化合物Ｉ−１６８
2002070486.tif 000161
第１工程
Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（４６７ｍｇ，４．７８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）懸濁液を−７８℃に冷却し、１．５５Ｍ  ｎ−ブチルリチウム／ｎ−ヘキサン溶液（６．２ｍｌ，９．６１ｍｍｏｌ）を５分間かけて滴下し同温度で３分間攪拌し、０℃で１２分間攪拌した。再び、−７８℃に冷却し、化合物７７（実施例２９に記載）（５２９ｍｇ，２．３９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍｌ）を加え同温度で１５分間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール（１００：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物１８７（４９５ｍｇ）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．３９（３Ｈ，ｓ），３．８４（３Ｈ，ｓ），４．４２（３Ｈ，ｓ），７．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，４．７Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ）．
第２工程
２−ブロモ５−（ｐ−フルオロベンジル）フラン（５７８ｍｇ，２．２７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液を−７８℃に冷却し、１．５５Ｍ  ｎ−ブチルリチウム／ｎ−ヘキサン溶液（１．４ｍｌ，２．１７ｍｍｏｌ）を２分間かけて滴下し同温度で１３分間攪拌した。化合物１８７（４８０ｍｇ，２．０３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液を加え、同温度で６時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去してえられた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（３：２ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物１８８（４００ｍｇ）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．１０（２Ｈ，ｓ），４．５７（３Ｈ，ｓ），６．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ），６．９９−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．２４−７．２９（２Ｈ，ｍ），７．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，４．５Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ），８．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，１．２Ｈｚ）．
第３工程
化合物１８８（１３６ｍｇ，０，３８７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３ｍｌ）溶液を０℃に冷却し、１．０Ｍ三臭化ホウ素ジクロロメタン溶液（０．５８ｍｌ，０．５８０ｍｍｏｌ）を加え、同温度で３０分間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をアセトン−メタノール（１：１０）混液を用いて洗浄し黄色固体（８７ｍｇ）を得た。さらにアセトン−メタノール混液を用いて再結晶を行ないＩ−１６８（３４ｍｇ）を黄色結晶として得た。
融点：１８６−１８８℃  再結晶溶媒：アセトン−メタノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．１３（２Ｈ，ｓ），６．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ），７．００−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．２４−７．３０（２Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，４．７Ｈｚ），７．８１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ），７．８２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．１Ｈｚ），８．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．７，１．１Ｈｚ）．
実施例６０
化合物Ｉ−１６９
2002070486.tif 000162
第１工程
文献（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ  Ｔｒａｎｓ．１，１９８５，ｐ２１３）既知化合物である６，７−ジヒドロキ−５Ｈ−キノリン−８−オン（化合物１８９）（１４７ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍｌ）にドライアイス氷冷下、１Ｍリチウムヘキサメチルシラザミドのテトラヒドロフラン溶液（１．２ｍｌ，１．２ｍｍｏｌ）を加えた。４５分攪拌した後、酸クロリド（２３９ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加えた。その後、自然昇温し、室温で１時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物Ｉ−１６９（８８ｍｇ）を油状物として収率２５％で得た。
Ｎｅｇａｔｉｖｅ  ＥＳＩＭＳ  ｍ／ｚ  ３４８（Ｍ−Ｈ）
Ｐｏｓｉｔｉｖｅ  ＥＳＩＭＳ  ｍ／ｚ  ３５０（Ｍ＋Ｈ）
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）（ｅｎｏｌ−ｆｏｒｍ：ｋｅｔｏ−ｆｏｒｍ＝３：１）δ：２．８８−３．０５（４Ｈ，ｍ），４．００（０．２５Ｈ，ｓ），４．０５（０．７５Ｈ，ｓ），４．４１（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，９．２Ｈｚ），６．１４（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ），６．１９（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ），６．９−７．５（６Ｈ，ｍ），７．５８（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６８（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．６８（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），８．７３（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３０５１，１６０１，１５０６，１２２３，１１５７，１０１８，８１０，７３５ｃｍ−１．
実施例６１
化合物Ｉ−１７０
2002070486.tif 000163
第１工程
化合物１９０（５．４５ｇ，８０．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１６０ｍｌ）溶液に氷冷下、ジイソプロピルエチルアミン（２０．９ｍｌ，１２０ｍｍｏｌ）とクロロメチルメチルエーテル（７．９０ｍｌ，１０４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１８時間攪拌した。反応液を濃縮後、水を加え、これを酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られる残さを減圧蒸留（８４−８７℃／６ｍｍＨｇ）して、化合物１９１（３．０６ｇ）を無色油状物として収率３４％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．２８（３Ｈ，ｓ），５．２５（２Ｈ，ｓ），７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），７．１２（１Ｈ，ｓ），７．６１（１Ｈ，ｓ）．
第２工程
化合物１９１（１．１２ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）溶液に、−４０℃で１．５５Ｍ  ｎ−ブチルリチウム／ｎ−ヘキサン溶液（６．７７ｍｌ，１０．５ｍｍｏｌ）を加え、同温度で３０分間攪拌した。これに、−６０℃でＷｅｉｎｒｅｂ  ａｍｉｄｅ（２．００ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（８ｍｌ）溶液を加え同温度で３０分間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（１：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物１９２（２．１９ｇ）を無色油状物として得た。
第３工程
上記の工程で得られた化合物１９２（２．１４ｇ）のジオキサン（３０ｍｌ）溶液に６Ｎ塩酸（１０ｍｌ）を加え、８０℃で３時間攪拌した。溶媒を留去した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和した。析出した結晶をろ取し、水洗後、乾燥して、化合物１９３（８４０ｍｇ）を無色結晶として収率４９％（第２、第３工程）で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．２３（２Ｈ，ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．３１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．６５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．２７（２Ｈ，ｂｒｓ），１０．５８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第４工程
化合物１９３（５５６ｍｇ，３．２２ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１６ｍｌ）溶液に氷冷下、炭酸カリウム（８９０ｍｇ，６．４４ｍｍｏｌ）とよう化ナトリウム（４８０ｍｇ，３．２０ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間、７０℃で２０時間攪拌した。反応液をろ過して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール（９：１ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物１９４（３５８ｍｇ）を無色結晶として収率８２％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．３９（２Ｈ，ｍ），２．７７（２Ｈ，ｍ），４．２６（２Ｈ，ｍ），７．０８（１Ｈ，ｓ），７．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ）．
第５工程
実施例６０の第１工程に従い、化合物１９４（１３６ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）から化合物Ｉ−１７０（６９ｍｇ）を黄色油状物として収率２０％で得た。
ＦＡＢＭＳ  ｍ／ｚ  ３３９（Ｍ＋Ｈ）＋
高分解能質量分析：Ｃ１９Ｈ１６ＦＮ２Ｏ３として
計算値（ｍ／ｚ）：３３９．１１４５．
分析値（ｍ／ｚ）：３３９．１１５３．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）（ｅｎｏｌ−ｆｏｒｍ：ｋｅｔｏ−ｆｏｒｍ＝１：１）δ：２．５０−２．６２  ａｎｄ  ２．７２−２．８６（ｔｏｔａｌ  １Ｈ，ｂｏｔｈ  ｍ），３．２８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．０１  ａｎｄ  ４．０５（ｔｏｔａｌ  ２Ｈ，ｂｏｔｈ  ｓ），４．０８−４．７０（ｔｏｔａｌ  ３Ｈ，ｍ），６．１７  ａｎｄ  ６．６．２２（ｔｏｔａｌ  １Ｈ，ｂｏｔｈ  ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），６．９６−７．４２（７Ｈ，ｍ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３０１４，１６６０，１５０８，１２２７，１２１３，１２０５ｃｍ−１．
実施例６２
化合物Ｉ−１７１
2002070486.tif 000164
第１工程
化合物１９５の３−ニトロサリチル酸（５１ｇ，２７９ｍｍｏｌ，）のＤＭＦ（２５０ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（７７ｇ）を加え、水浴（２５℃）で冷却しながら硫酸ジメチル（５８ｍｌ）を滴下した。反応液を室温下終夜攪拌した後、塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗、飽和食塩水洗浄の後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって化合物１９６の粗生成物（５６．３ｇ）を白色結晶として得た。
第２工程
化合物１９６の粗生成物（５６．３ｇ）をエタノール（２００ｍｌ）−ジオキサン（２００ｍｌ）−水（４０ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、１０％パラジウム−炭素（２．８２ｇ）の水（２０ｍｌ）懸濁液を加え、水素雰囲気下５．５時間攪拌した。反応液をセライトで濾過後、溶媒を減圧下留去した。残渣に水（３００ｍｌ）を加え、エーテルで２回抽出した。抽出液を水洗、飽和食塩水洗浄の後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって化合物１９７の粗生成物（４８．４ｇ，２６６ｍｍｏｌ）を油状物質として得た。
第３工程
実施例４０の第２工程に準じて反応を行い、実施例４０の第１工程で得た化合物１０９（４７．０ｇ，２７９ｍｍｏｌ）と化合物１９７の粗生成物（４８．４ｇ，２６６ｍｍｏｌ）から、化合物１９８（７８．５ｇ，２３７．０ｍｍｏｌ）を結晶として８９．１％の収率で得た。
融点：９０−９２℃
第４工程
実施例４０の第３工程に準じて反応を行い、化合物１９８（７８．０ｇ，２３５ｍｍｏｌ）から、化合物１９９（２４．２ｇ）を結晶として２８．５％の収率で得た。
融点：１２６−１２７℃
第５工程
実施例４０の第４工程に準じて反応を行い、化合物１９９（２３．９ｇ，６６．４ｍｍｏｌ）から、化合物２００（１９．３ｇ）を結晶として８９．２％の収率で得た。
融点：６０−６０．５℃
第６工程
化合物２００（３２．３ｇ，９９．２ｍｍｏｌ）を酢酸（４００ｍｌ）に溶解し、酢酸ナトリウム（１０．４ｇ，１２７ｍｍｏｌ）を加えた後、臭素（５．６２ｍｌ，１０９ｍｍｏｌ）の酢酸（１０ｍｌ）溶液を１５分間で滴下した。室温下１時間４０分攪拌した後、同様に酢酸ナトリウム（１０．４ｇ，１２７ｍｍｏｌ）、臭素（５．６２ｍｌ，１０９ｍｍｏｌ）の酢酸（１０ｍｌ）溶液を加えた。更に１時間３０分攪拌した後、酢酸ナトリウム（２０．４ｇ，２４９ｍｍｏｌ）を加え氷冷下攪拌した。反応液に１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液（２６０ｍｌ）及び水（２５０ｍｌ）を加え、同温にて３０分間攪拌した。析出した結晶を濾取し、水洗した。得た結晶を酢酸エチル（６００ｍｌ）に溶解し１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄の後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去した結晶性残渣をアセトン−ヘキサンから再結晶する事によって化合物２０１（３７．４ｇ，９２．５ｍｍｏｌ）を結晶として９３．２％の収率で得た。
融点：１１０−１１１℃
第７工程
化合物２０１（３．０５ｇ，７．５５ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（３３９ｍｇ，１．５１ｍｍｏｌ）および１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン（７８１ｍｇ，１．８９ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（６０ｍｌ）懸濁液に室温でトリエチルアミン（１０．５ｍｌ，７５．３ｍｍｏｌ）、水（１５ｍｌ）を順次加え、室温で３０分間攪拌した後、１気圧の一酸化炭素雰囲気下、室温で１時間、７０℃で２時間攪拌した。反応液を酢酸エチル（１２０ｍｌ）および水（１２０ｍｌ）で希釈した後、セライトでろ過し、残さを酢酸エチル（６０ｍｌ）および水（６０ｍｌ）で洗浄した。ろ液から酢酸エチルを減圧下留去して得られた残さに１０％クエン酸水溶液（６０ｍｌ）を加えた。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、酢酸エチル−メタノール（１：１ｖ／ｖで再結晶を行い、化合物２０２（２．１６ｇ，５８．５ｍｍｏｌ）を薄褐色結晶として収率７８％で得た。
第８工程
化合物２０２（１９９ｍｇ，０．５３９ｍｍｏｌ）および１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（７．５ｍｇ，０．０５６ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２ｍｌ）懸濁液に室温でイソプロピルアミン（０．０５６ｍｌ，０．６６ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（１２５ｍｇ，０．６５２ｍｍｏｌ）を順次加え、９０分間攪拌した後、反応液に室温で水（４ｍｌ）を滴下した。析出した結晶をろ取した後、水で洗浄し、化合物２０３（１９４ｍｇ）を無色結晶として収率８８％で得た。
第９工程
化合物２０３（９０．０ｍｇ，０．２１９ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（４．５ｍｌ）溶液に氷冷下、三臭化ほう素の１Ｍ塩化メチレン溶液（０．８８０ｍｌ，０．８８０ｍｍｏｌ）を滴下し、３０分間攪拌した後、反応液に氷冷下、水（９ｍｌ）を加えた。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、酢酸エチルで再結晶を行い、表題化合物Ｉ−１７１（３１．６ｍｇ，０．０８ｍｍｏｌ）を薄褐色結晶として収率３６％で得た。
融点：２１０−２１２℃    再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．１６（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．９３（３Ｈ，ｓ），４．１０（１Ｈ，ｍ），４．２３（２Ｈ，ｓ），７．１６（２Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｍ），７．９６（１Ｈ，ｓ），８．４２（１Ｈ，ｂｒｄ），８．５１（１Ｈ，ｍ），８．９０（１Ｈ，ｍ）．
実施例１８及び実施例６２の合成法に準じ、化合物Ｉ−１７２〜Ｉ−１７９を合成した。
2002070486.tif 000165
化合物Ｉ−１７２
融点：２４７−２４９℃  再結晶溶媒：メタノール−イソプロパノール
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．９３（３Ｈ，ｓ），４．２３（２Ｈ，ｓ），７．１５（２Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｂｒｓ），８．０６（１Ｈ，ｂｒｓ），８．１１（１Ｈ，ｓ），８．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ），８．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１７３
融点：２１９−２２１℃  再結晶溶媒：メタノール
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．８１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ），３．９３（３Ｈ，ｓ），４．２２（２Ｈ，ｓ），７．１５（２Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｓ），８．５２（１Ｈ，ｂｒｔ），８．６７（１Ｈ，ｍ），８．９０（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−１７４
融点：１９８−２００℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．４９−３．５９（２Ｈ，ｍ），４．０３（３Ｈ，ｓ），４．１４（２Ｈ，ｓ），６．９９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１４−７．２７（２Ｈ，ｍ），８．０２（１Ｈ，ｓ）８．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１７５
融点：１９０−１９３℃  再結晶溶媒：アセトン−エーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．０２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．６８（２Ｈ，ｍ），３．４６（２Ｈ，ｍ），４．０４（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｓ），６．０６（２Ｈ，ｍ），６．９９（２Ｈ，ｍ），７．１７（１Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｓ），８．６４（１Ｈ，ｓ），８．８３（１Ｈ，ｓ）．
化合物Ｉ−１７６
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．００−１．６０（２Ｈ，ｍ），１．６０−１．８０（４Ｈ，ｍ），３．１０−３．２０（２Ｈ，ｍ），３．４０−４．００（２Ｈ，ｍ），４．０９（３Ｈ，ｓ），４．３４（２Ｈ，ｓ），７．０４−７．２１（２Ｈ，ｍ），７．２２−７．２８（２Ｈ，ｍ），８．０６（１Ｈ，ｓ），８．４９（１Ｈ，ｓ），９．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１７７
融点：２２８−２３０℃  再結晶溶媒：メタノール
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：３．９２（３Ｈ，ｓ），４．２１（２Ｈ，ｓ），４．４９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．１５（２Ｈ，ｍ），７．２８（２Ｈ，ｍ），８．０９（１Ｈ，ｓ），８．６２（１Ｈ，ｓ），８．９１（１Ｈ，ｓ），９．１４（１Ｈ，ｂｒｔ）．
化合物Ｉ−１７８
融点：１５８−１６１℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．８２（３Ｈ，ｓ），３．１７（３Ｈ，ｓ），４．０２（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｓ），６．１４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），７．０１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１３−７．１９（２Ｈ，ｍ），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．８９（１Ｈ，ｓ），８．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），１１．９４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）．
化合物Ｉ−１７９
融点：１５９−１６３℃  再結晶溶媒：アセトン−イソプロパノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．９６（３Ｈ，ｓ），４．０７（３Ｈ，ｓ），４．２０（２Ｈ，ｓ），７．０１（２Ｈ，ｍ），７．２０（２Ｈ，ｍ），８．７６（１Ｈ，ｓ），８．８８（１Ｈ，ｓ），９．３０（１Ｈ，ｓ）．
実施例６３
化合物Ｉ−１８０
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第１工程
化合物２０１（１．５ｇ，３．７１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１２．５ｍｌ）−メタノール（１２．５ｍｌ）溶液に氷冷下２規定水酸化ナトリウム水溶液（２．２０ｍｌ，４．４５ｍｍｏｌ）を加え、３０分間還流攪拌した。２規定塩酸（２．２ｍｌ）、水（７５ｍｌ）を加え室温で３０分間攪拌したのち氷冷し、析出した結晶を濾取、水洗して化合物１４１（１．４ｇ）を９７．０％の収率で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．２３（２Ｈ，ｓ），４．４９（３Ｈ，ｓ），７．０１−７．０９（２Ｈ，ｍ），７．１７−７．２９（２Ｈ，ｍ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｓ），８．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），１１．４０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第２工程
化合物１４１（１．４ｇ，３．５９ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３０ｍｌ）溶液に、室温下１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（８２７ｍｇ，４．３１ｍｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（５６６ｍｇ，４．３１ｍｍｏｌ）を加え４０分間撹拌した。エタノール（２０ｍｌ）とトリエチルアミン（０．６０ｍｌ，４．３１ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱灌流した。反応液を冷却後溶媒を留去し、氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去した残渣をカラムクロマトグラフィー精製（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２−１：１）して化合物１４２（１．３０ｇ）を８７．０％の収率で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．２１（２Ｈ，ｓ），４．２１（３Ｈ，ｓ），４．４５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９９−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２９（２Ｈ，ｍ），８．４１（１Ｈ，ｓ），８．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
第３工程
実施例６２の第７工程に従い、化合物１４２（３．０ｇ，７．１８ｍｍｏｌ）から化合物２０４（２．３８ｇ）を淡黄色結晶として収率８７．０％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．１８（３Ｈ，ｓ），４．２５（２Ｈ，ｓ），４．３８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．１３−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３４−７．４０（２Ｈ，ｍ），８．４５（１Ｈ，ｓ），８．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），９．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），１３．４０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
第４工程
実施例６２の第８工程に従い、化合物２０４（２００ｍｇ，０．５２ｍｍｏｌ）から化合物２０５（１７３ｍｇ）を白色結晶として収率８１．０％で得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．８３（３Ｈ，ｓ），３．２０（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｓ），４．２３（３Ｈ，ｓ），４．４４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９８−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．８３（１Ｈ，ｓ），７．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
第５工程
実施例６２の第９工程に従い、化合物２０５（１７０ｍｇ，０．４１ｍｍｏｌ）から表題化合物Ｉ−１８０（９０ｍｇ）を淡黄色結晶として収率５５．０％で得た。
融点：１２７−１２８℃  再結晶溶媒：メタノール−ジイソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．８０（３Ｈ，ｓ），３．１７（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｓ），４．４８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９６−７．０７（２Ｈ，ｍ），７．１２−７．２２（２Ｈ，ｍ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．９０（１Ｈ，ｓ），８．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），１２．０７（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例６３の合成法に準じ、化合物Ｉ−１８１〜Ｉ−１９０を合成した。
2002070486.tif 000167
化合物Ｉ−１８１
融点：２０８−２１０℃  再結晶溶媒：メタノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．７５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｓ），４．５０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．０７（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９５−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１２−７．２３（２Ｈ，ｍ），８．０６（１Ｈ，ｓ），８．６７（１Ｈ，ｓ），８．３０（１Ｈ，ｓ），１２．１５（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−１８２
融点：１５３−１５５℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．５１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．２８（２Ｈ，ｓ），４．５５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，ｂｒｓ），７．０３−７．１２（２Ｈ，ｍ），７．１８−７．２８（２Ｈ，ｍ），８．３６（１Ｈ，ｓ），９．２２（１Ｈ，ｓ），９．４０（１Ｈ，ｓ），１２．２６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−１８３
融点：１３４−１３７℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．０４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．５０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．６６−１．７９（２Ｈ，ｍ），３．４９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．２３（２Ｈ，ｓ），４．５２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．９３（１Ｈ，ｂｒｓ），７．０１−７．０９（２Ｈ，ｍ），７．１８−７．２８（２Ｈ，ｍ），８．２８（１Ｈ，ｓ），９．０７（１Ｈ，ｓ），９．１６（１Ｈ，ｓ）．
化合物Ｉ−１８４
融点：１４０−１４３℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．１０−１．５０（２Ｈ，ｍ），１．４８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．６０−１．７４（４Ｈ，ｍ），３．０６−３．２２（２Ｈ，ｍ），３．５４−３．９６（２Ｈ，ｍ），４．３７（２Ｈ，ｓ），４．５４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．０３−７．１２（２Ｈ，ｍ），７．２１−７．２９（２Ｈ，ｍ），８．０６（１Ｈ，ｓ），８．４７（１Ｈ，ｓ），９．５０（１Ｈ，ｓ），１２．３９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−１８５
融点：１９４−１９５℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−メタノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．６５−３．７４（２Ｈ，ｍ），３．８６−３．９５（２Ｈ，ｍ），４．１４（２Ｈ，ｓ），４．５１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．５７（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９４−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１２−７．２３（２Ｈ，ｍ），８．０７（１Ｈ，ｓ），８．６２（１Ｈ，ｓ），８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），１２．１３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−１８６
融点：２１４−２１７℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｓ），４．４９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．７０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．３５（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９５−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１３−７．２１（２Ｈ，ｍ），７．３１−７．４２（５Ｈ，ｍ），８．０８（１Ｈ，ｓ），８．６７（１Ｈ，ｓ），８．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），１２．１４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−１８７
融点：１６８℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｓ），４．５３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），６．９４−７．７０（９Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，ｂｒｓ），８．２３（１Ｈ，ｓ），８．７２（１Ｈ，ｓ），８．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），１２．１７（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−１８８
融点：２１８−２１９℃  再結晶溶媒：アセトン−酢酸エチル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４５（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．１７（２Ｈ，ｓ），５．３９（１Ｈ，ｓｅｐ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），５．９２（２Ｈ，ｂｒｓ），６．９６−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２１（２Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｓ），８．７６（１Ｈ，ｓ），８．８４（１Ｈ，ｓ），１２．２９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−１８９
融点：２０８−２０９℃  再結晶溶媒：アセトン−メタノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４６（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），３．０８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｓ），５．３９（１Ｈ，ｓｅｐ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），６．０７（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９６−７．０３（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．２１（２Ｈ，ｍ），８．０３（１Ｈ，ｓ），８．６７（１Ｈ，ｓ），８．８４（１Ｈ，ｓ），１２．２３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−１９０
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４３（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），２．７８（３Ｈ，ｓ），３．１７（３Ｈ，ｓ），４．１６（２Ｈ，ｓ），５．３６（１Ｈ，ｓｅｐ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．９７−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．１２−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．８２（１Ｈ，ｓ），７．８９（１Ｈ，ｓ），８．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），１２．２３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例６４
化合物１９１
2002070486.tif 000168
第１工程
化合物１４１（３９０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液に、２，２’−ジピリジルジスルフィド（２４２ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２８８ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を加えた。２時間後、さらに反応液に、２，２’−ジピリジルジスルフィド（２４２ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２８８ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を加えた。一晩放置後、溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィーに付した後、ジイソプロピルエーテルで結晶化させ、化合物２０６（４３６ｍｇ）を収率９０％で得た。
第２工程
第１工程によって得られた化合物２０６（２．２０ｇ，４．５５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に、ドライアイス氷冷下、１Ｍメチルマグネシウムブロミド（５．０ｍｌ，５．０ｍｍｏｌ）を加えた。４０分後、さらに反応液に、１Ｍメチルマグネシウムブロミド（０．９ｍｌ，０．９ｍｍｏｌ）を加えた。１５分後、反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで２回抽出した。有機層を水、ブラインで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィーに付した後、ヘキサン−ジイソプロピルエーテルで結晶化させ、化合物２０７（１．６４ｇ）を収率９３％で得た。
第３工程
第２工程によって得られた化合物２０７（１．６ｇ，４．２ｍｍｏｌ）を実施例６２の第７工程に準じて反応を行い、化合物２０８（１．１８ｇ，３．３４ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率８０．５％で得た。
第４工程
第３工程によって得られた化合物２０８（１９４．３ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）を実施例６２の第８工程に準じて反応を行い、化合物２０９（１４８ｍｇ，０．３９ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率７０．７％で得た。
第５工程
第４工程によって得られた化合物２０９（１００．０ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ）を実施例４５の第３工程に準じて反応を行い、表題化合物Ｉ−１９１（５１．８ｍｇ，０．３９ｍｍｏｌ）を薄緑色結晶として収率５４．４％で得た。
融点：１４１−１４２℃  再結晶溶媒：エタノール−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．７４（３Ｈ，ｓ），２．８０（３Ｈ，ｓ），３．１８（３Ｈ，ｓ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．９６−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．８０（１Ｈ，ｓ），７．８０−７．８６（１Ｈ，ｍ），８．８２−８．９０（１Ｈ，ｍ）．
実施例４５の第３工程、実施例６２の第７，８工程及び実施例６４の合成法に準じ、化合物Ｉ−１９２〜Ｉ−２４３を合成した。
2002070486.tif 000169
化合物Ｉ−１９２
融点：２３０−２３２℃  再結晶溶媒：ジエチルエーテル
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ：２．７５（３Ｈ，ｓ），４．２３（２Ｈ，ｓ），７．１２−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．３２−７．３７（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｂｒｓ），８．０５（１Ｈ，ｂｒｓ），８．１３（１Ｈ，ｓ），８．７５（１Ｈ，ｓ），８．８９（１Ｈ，ｓ）．
化合物Ｉ−１９３
融点：２０７−２０９℃  再結晶溶媒：エタノール−ジエチルエーテル
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ：２．７５（３Ｈ，ｓ），２．８１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），４．２２（２Ｈ，ｓ），７．１２−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．３２−７．３６（２Ｈ，ｍ），８．０７（１Ｈ，ｓ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｓ），８．９０（１Ｈ，ｓ）．
化合物Ｉ−１９４
融点：２１１−２１３℃  再結晶溶媒：エタノール−ジエチルエーテル
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ：１．１７（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），２．７５（３Ｈ，ｓ），４．１０（１Ｈ，ｓｅｐｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．２３（２Ｈ，ｓ），７．１２−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．３２−７．３７（２Ｈ，ｍ），７．９８（１Ｈ，ｓ），８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），８．５３（１Ｈ，ｓ），８．９０（１Ｈ，ｓ）．
化合物Ｉ−１９５
融点：１９１−１９３℃  再結晶溶媒：エタノール−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．００−１．８０（６Ｈ，ｍ），２．７３（３Ｈ，ｓ），３．００−３．１２（２Ｈ，ｍ），３．４８−４．０２（２Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．９８−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２２（２Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｓ），７．７８−７．８２（１Ｈ，ｍ），８．８６−７．９２（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−１９６
融点：１８０−１８３℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．７８（３Ｈ，ｓ），３．４０（３Ｈ，ｓ），３．５８−３．６４（２Ｈ，ｍ），３．６６−３．７４（２Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．３７−６．４９（１Ｈ，ｍ），６．９６−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２１（２Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｓ），８．６４−８．６７（１Ｈ，ｍ），８．７７−８．８４（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−１９７
融点：２０８−２１０℃  再結晶溶媒：エタノール−ジエチルエーテル
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ：２．７５（３Ｈ，ｓ），４．２２（２Ｈ，ｓ），４．５１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），７．１２−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．２７−７．３４（５Ｈ，ｍ），７．３３−７．３７（２Ｈ，ｍ），８．１３（１Ｈ，ｓ），８．６５（１Ｈ，ｓ），８．９１（１Ｈ，ｓ），９．１２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）．
化合物Ｉ−１９８
融点：２１２−２１５℃  再結晶溶媒：イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．７６（３Ｈ，ｓ），４．１１（２Ｈ，ｓ），６．９２−７．０２（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．２８（３Ｈ，ｍ），７．３８−７．４６（２Ｈ，ｍ），７．６０−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．８０−８．０８（１Ｈ，ｂｒｓ），８．１２（１Ｈ，ｓ），８．６０−８．６６（１Ｈ，ｍ），８．７２−８．８０（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−１９９
融点：２１７−２１９℃  再結晶溶媒：エタノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．１９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．１８（２Ｈ，ｓ），５．８５（２Ｈ，ｂｓ），６．９７−７．０３（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２０（２Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｓ），８．７７（１Ｈ，ｓ），８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２００
融点：２１４−２１６℃  再結晶溶媒：エタノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．０７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），３．１８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．０９（１Ｈ，ｂｓ），６．９７−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２０（２Ｈ，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｓ），８．６８（１Ｈ，ｓ），８．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２０１
融点：１９４−１９５℃  再結晶溶媒：エタノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．２９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．１７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．５０−３．５９（２Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．０７（１Ｈ，ｂｓ），６．９７−７．０３（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２１（２Ｈ，ｍ），８．０３（１Ｈ，ｓ），８．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２０２
融点：１９６−１９７℃  再結晶溶媒：エタノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．２９（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．１９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．１７（２Ｈ，ｓ），４．２５−４．４０（１Ｈ，ｍ），５．８２（１Ｈ，ｂｓ），６．９８−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２１（２Ｈ，ｍ），８．０１（１Ｈ，ｓ），８．５８（１Ｈ，ｓ），８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２０３
融点：１３６−１３８℃  再結晶溶媒：エタノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．００−１．７５（６Ｈ，ｍ），３．００−３．１７（４Ｈ，ｍ），３．６０（１Ｈ，ｂｓ），３．９２（１Ｈ，ｂｓ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．９９−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．１９（２Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，ｓ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２０４
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．１８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．４１（３Ｈ，ｓ），３．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），３．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．４１（１Ｈ，ｂｓ），６．９７−７．０３（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２０（２Ｈ，ｍ），８．０７（１Ｈ，ｓ），８．６５（１Ｈ，ｓ），８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２０５
融点：２０１−２０３℃  再結晶溶媒：エタノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．１４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．１４（２Ｈ，ｓ），４．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），６．４１（１Ｈ，ｂｓ），６．９７−７．０３（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．１９（２Ｈ，ｍ），７．２６−７．４０（５Ｈ，ｍ），８．０６（１Ｈ，ｓ），８．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２０６
融点：１９６−１９７℃  再結晶溶媒：エタノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．１２（２Ｈ，ｓ），６．９４−７．０１（２Ｈ，ｍ），７．１３−７．２６（３Ｈ，ｍ），７．４０−７．４５（２Ｈ，ｍ），７．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｓ），８．１６（１Ｈ，ｓ），８．６４（１Ｈ，ｓ），８．７８（１Ｈ，
化合物Ｉ−２０７
融点：１５０−１５２℃  再結晶溶媒：エタノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．８１（３Ｈ，ｓ），３．１４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．１８（３Ｈ，ｓ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．９９−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．１９（２Ｈ，ｍ），７．８３（１Ｈ，ｓ），７．８４（１Ｈ，ｓ），８．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２０８
融点：１７８−１８０℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．０５（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），２．３０（１Ｈ，ｍ），３．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．１８（２Ｈ，ｓ），５．６８−６．１２（２Ｈ，ｂｒｓ），６．９５−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２４（２Ｈ，ｍ），８．１６（１Ｈ，ｓ），８．７４−８．７８（１Ｈ，ｍ），８．８０−８．８４（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２０９
融点：１７０−１７１℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．０５（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．３６（１Ｈ，ｍ），３．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．５０−３．６２（２Ｈ，ｍ），４．１７（２Ｈ，ｓ），５．９５−６．０３（１Ｈ，ｍ），６．９６−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２４（２Ｈ，ｍ），８．０２（１Ｈ，ｓ），８．６０−８．６４（１Ｈ，ｍ），８．７９−８．８２（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２１０
融点：１７１−１７３℃  再結晶溶媒：エタノール−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ：０．９７（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），１．１７（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），２．２３（１Ｈ，ｓｅｐｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．０４−４．１６（１Ｈ，ｍ），４．２３（２Ｈ，ｓ），７．１２−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．３２−７．３６（２Ｈ，ｍ），７．９６（１Ｈ，ｓ），８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２１１
融点：１４０−１４２℃  再結晶溶媒：エタノール−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ：０．９７（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），２．２４（１Ｈ，ｓｅｐｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．２９（３Ｈ，ｓ），３．３０−３．４９（４Ｈ，ｍ），４．２２（２Ｈ，ｓ），７．１２−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．３２−７．３６（２Ｈ，ｍ），８．０３（１Ｈ，ｓ），８．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，ｂｒｓ），８．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２１２
融点：２６０−２６２℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３０−２．００（１０Ｈ，ｍ），３．３８−３．４９（１Ｈ，ｍ），４．１８（２Ｈ，ｓ），５．７０−６．００（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９６−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２２（２Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｓ），８．７２−８．７６（２Ｈ，ｍ），８．８０−８．８２（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２１３
融点：１６３−１６４℃  再結晶溶媒：イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２０−２．００（１０Ｈ，ｍ），３．０８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），３．３６−３．４８（１Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．００−６．１１（１Ｈ，ｍ），６．９６−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２０（２Ｈ，ｍ），８．０１（１Ｈ，ｓ），８．６２−８．６８（１Ｈ，ｍ），８．７８−８．８２（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２１４
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．０６−２．００（１０Ｈ，ｍ），２．８０（３Ｈ，ｓ），３．１９（３Ｈ，ｓ），３．２８−３．４４（１Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．９６−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．７８−７．８６（２Ｈ，ｍ），８．８０−８．９２（１Ｈ，ｍ），１３．６−１４．２（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−２１５
融点：１６３−１６４℃  再結晶溶媒：イソプロピルエーテル−イソプロパノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２０−２．００（１０Ｈ，ｍ），３．０８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），３．３６−３．４８（１Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．００−６．１１（１Ｈ，ｍ），６．９６−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２０（２Ｈ，ｍ），８．０１（１Ｈ，ｓ），８．６２−８．６８（１Ｈ，ｍ），８．７８−８．８２（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２１６
融点：１６５℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．０４−２．１４（２Ｈ，ｍ），３．２５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．３７（３Ｈ，ｓ），３．５２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），４．１７（２Ｈ，ｓ），５．９４（２Ｈ，ｂｒｓ），６．９６−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２２（２Ｈ，ｍ），８．２３（１Ｈ，ｓ），８．８１（２Ｈ，ｓ）．
化合物Ｉ−２１７
融点：１４８℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．０３−２．１４（２Ｈ，ｍ），３．０７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），３．２３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．３７（３Ｈ，ｓ），３．５１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．１６（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９５−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２２（２Ｈ，ｍ），８．０８（１Ｈ，ｓ），８．７１（１Ｈ，ｓ），８．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），１２．６３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−２１８
融点：１２３−１２６℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．０３−２．１３（２Ｈ，ｍ），２．８１（３Ｈ，ｓ），３．１８（３Ｈ，ｓ），３．２１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．３５（３Ｈ，ｓ），３．５０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．９７−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．１２−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．８３（１Ｈ，ｓ），７．８５（１Ｈ，ｓ），８．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），１３．４４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−２１９
融点：２５９−２６１℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ２４Ｈ１７ＦＮ２Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，７１．９９；Ｈ，４．２８；Ｆ，４．７４；Ｎ，７．００．
分析値（％）：Ｃ，７１．８７；Ｈ，４．１５；Ｆ，４．６３；Ｎ，６．９０．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．２０（２Ｈ，ｓ），５．７６（２Ｈ，ｍ），７．０１（２Ｈ，ｍ），７．２０（２Ｈ，ｍ），７．５４（２Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｍ），７．８０（２Ｈ，ｍ），８．００（１Ｈ，ｓ），８．８２（１Ｈ，ｍ），８．８５（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２２０
融点：８８−８９℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ２５Ｈ１９ＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．６として
計算値（％）：Ｃ，７０．６１；Ｈ，４．７９；Ｆ，４．４７；Ｎ，６．５９．
分析値（％）：Ｃ，７０．５２；Ｈ，４．５８；Ｆ，４．３３；Ｎ，６．４３．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．０２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），４．１８（２Ｈ，ｓ），６．００（１Ｈ，ｂｒｑ），７．０１（２Ｈ，ｍ），７．１９（２Ｈ，ｍ），７．５４（２Ｈ，ｍ），７．６４（１Ｈ，ｍ），７．７８（２Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｓ），８．７５（１Ｈ，ｍ），８．８１（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２２１
融点：７０−７２℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ２６Ｈ２１ＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）０．５として
計算値（％）：Ｃ，７１．３８；Ｈ，５．０７；Ｆ，４．３４；Ｎ，６．４０．
分析値（％）：Ｃ，７１．２５；Ｈ，５．０８；Ｆ，４．３２；Ｎ，６．４６．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．５０（２Ｈ，ｍ），４．１９（２Ｈ，ｓ），５．９５（１Ｈ，ｂｒｔ），７．０１（２Ｈ，ｍ），７．２０（２Ｈ，ｍ），７．５３（２Ｈ，ｍ），７．６４（１Ｈ，ｍ），７．８０（２Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｓ），８．７２（１Ｈ，ｍ），８．８０（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２２２
融点：７７−７８℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ２７Ｈ２３ＦＮ２Ｏ３（Ｈ２Ｏ）１．０として
計算値（％）：Ｃ，７０．４２；Ｈ，５．４７；Ｆ，４．１３；Ｎ，６．０８．
分析値（％）：Ｃ，７０．４７；Ｈ，５．３２；Ｆ，４．０１；Ｎ，５．９３．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２５（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．１９（２Ｈ，ｓ），４．２９（１Ｈ，ｍ），５．７９（１Ｈ，ｂｒｄ），７．０１（２Ｈ，ｍ），７．２０（２Ｈ，ｍ），７．５３（２Ｈ，ｍ），７．６４（１Ｈ，ｍ），７．８０（２Ｈ，ｍ），７．８４（１Ｈ，ｓ），８．６７（１Ｈ，ｍ），８．８０（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２２３
融点：１５０−１５１℃  再結晶溶媒：メタノール−イソプロピルエーテル
元素分析：Ｃ２９Ｈ２５ＦＮ２Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，７４．３４；Ｈ，５．３８；Ｆ，４．０５；Ｎ，５．９８．
分析値（％）：Ｃ，７４．０７；Ｈ，５．２５；Ｆ，４．０１；Ｎ，５．８７．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．１２（１Ｈ，ｍ），１．２９（１Ｈ，ｍ），１．５８（４Ｈ，ｍ），３．０８（２Ｈ，ｍ），３．５０（１Ｈ，ｍ），３．９２（１Ｈ，ｍ），４．１８（２Ｈ，ｓ），７．０３（２Ｈ，ｍ），７．１９（２Ｈ，ｍ），７．５３（２Ｈ，ｍ），７．６０（１Ｈ，ｓ），７．６３（１Ｈ，ｍ），７．７５（２Ｈ，ｍ），７．８７（１Ｈ，ｍ），８．９０（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２２４
融点：１７８−１８０℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ２７Ｈ２３ＦＮ２Ｏ４として
計算値（％）：Ｃ，７０．７３；Ｈ，５．０６；Ｆ，４．１４；Ｎ，６．１１．
分析値（％）：Ｃ，７０．４６；Ｈ，４．８９；Ｆ，４．０４；Ｎ，６．０３．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．３４（３Ｈ，ｓ），３．５５（２Ｈ，ｍ），３．６５（２Ｈ，ｍ），４．１９（２Ｈ，ｓ），６．３３（１Ｈ，ｂｒｔ），７．０１（２Ｈ，ｍ），７．１９（２Ｈ，ｍ），７．５４（２Ｈ，ｍ），７．６４（１Ｈ，ｍ），７．７９（２Ｈ，ｍ），７．９０（１Ｈ，ｓ），８．７３（１Ｈ，ｍ），８．８１（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２２５
融点：１６４−１６５℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ３１Ｈ２３ＦＮ２Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，７５．９０；Ｈ，４．７３；Ｆ，３．８７；Ｎ，５．７１．
分析値（％）：Ｃ，７５．５４；Ｈ，４．５６；Ｆ，３．８２；Ｎ，５．６３．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．１９（２Ｈ，ｓ），４．６５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．２６（１Ｈ，ｂｒｔ），７．０１（２Ｈ，ｍ），７．１９（２Ｈ，ｍ），７．３３（５Ｈ，ｍ），７．５２（２Ｈ，ｍ），７．６４（１Ｈ，ｍ），７．７８（２Ｈ，ｍ），７．９１（１Ｈ，ｓ），８．７６（１Ｈ，ｍ），８．８１（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２２６
融点：１０３−１０４℃  再結晶溶媒：メタノール
元素分析：Ｃ３０Ｈ２１ＦＮ２Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，７５．６２；Ｈ，４．４４；Ｆ，３．９９；Ｎ，５．８８．
分析値（％）：Ｃ，７５．２３；Ｈ，４．２４；Ｆ，４．０２；Ｎ，５．７８．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．１６（２Ｈ，ｓ），６．９９（２Ｈ，ｍ），７．１８（３Ｈ，ｍ），７．４０（２Ｈ，ｍ），７．５３（２Ｈ，ｍ），７．６３（３Ｈ，ｍ），７．７９（２Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｂｒｓ），８．００（１Ｈ，ｓ），８．７７（１Ｈ，ｍ），８．７９（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２２７
融点：７９−８１℃  再結晶溶媒：イソプロパノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．８１（３Ｈ，ｓ），３．１４（３Ｈ，ｓ），４．１８（２Ｈ，ｓ），７．０２（２Ｈ，ｍ），７．１６（２Ｈ，ｍ），７．５３（２Ｈ，ｍ），７．６２（１Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｓ），７．７６（２Ｈ，ｍ），７．９３（１Ｈ，ｍ），８．８６（１Ｈ，ｍ），１２．７３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−２２８
融点：１７４−１７５℃  再結晶溶媒：メタノール−クロロホルム
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．９０（３Ｈ，ｓ），４．２２（２Ｈ，ｓ），７．０３（２Ｈ，ｍ），７．２２（２Ｈ，ｍ），７．５５（２Ｈ，ｍ），７．６６（１Ｈ，ｍ），７．８０（２Ｈ，ｍ），８．５８（１Ｈ，ｓ），８．８４（１Ｈ，ｍ），９．３０（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２２９
融点：２４３−２４５℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：４．２５（２Ｈ，ｓ），７．１３−７．１９（２Ｈ，ｍ），７．３２−７．３８（４Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｂｒｓ），７．８３（１Ｈ，ｓ），７．８５−７．９０（２Ｈ，ｍ），８．０１（１Ｈ，ｂｒｓ），８．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２３０
融点：１５６−１５８℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：２．７９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），４．２４（２Ｈ，ｓ），７．１３−７．１９（２Ｈ，ｍ），７．３２−７．３８（４Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｓ），７．８４−７．８９（２Ｈ，ｍ），８．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），８．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），１１．１１（１Ｈ，ｂｒｓ）．
元素分析：Ｃ２５Ｈ１８Ｆ２Ｎ２Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，６９．４４；Ｈ，４．２０；Ｆ，８．７９；Ｎ，６．４８．
分析値（％）：Ｃ，６９．１４；Ｈ，４．０９；Ｆ，８．５３；Ｎ，６．４３．
化合物Ｉ−２３１
融点：１５２−１５３℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：１．１２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），３．２９（２Ｈ，ｍ），４．２５（２Ｈ，ｓ），７．１３−７．１９（２Ｈ，ｍ），７．３３−７．３８（４Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｓ），７．８５−７．９０（２Ｈ，ｍ），８．５２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），８．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），１０．８０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
元素分析：Ｃ２６Ｈ２０Ｆ２Ｎ２Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，６９．９５；Ｈ，４．５２；Ｆ，８．５１；Ｎ，６．２７．
分析値（％）：Ｃ，６９．６５；Ｈ，４．４８；Ｆ，８．２５；Ｎ，６．１５．
化合物Ｉ−２３２
融点：１６７−１６９℃  再結晶溶媒：エタノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２６（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．１９（２Ｈ，ｓ），４．２７−４．３４（１Ｈ，ｍ），５．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），６．９８−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２２（４Ｈ，ｍ），７．８２（１Ｈ，ｓ），７．８３−７．８８（２Ｈ，ｍ），８．７１（１Ｈ，ｓ），８．７７（１Ｈ，ｓ）．
化合物Ｉ−２３３
融点：１１４−１１６℃  再結晶溶媒：メタノール−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．１２（１Ｈ，ｍ），１．３１（１Ｈ，ｍ），１．５９（４Ｈ，ｍ），３．０９（２Ｈ，ｍ），３．５３（１Ｈ，ｍ），３．９１（１Ｈ，ｍ），４．１８（２Ｈ，ｓ），７．００−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．１７−７．２３（４Ｈ，ｍ），７．５８（１Ｈ，ｓ），７．７９−７．８４（２Ｈ，ｍ），７．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），１２．０７（１Ｈ，ｂｒｓ）．
化合物Ｉ−２３４
融点：１５２−１５４℃  再結晶溶媒：
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．３６（３Ｈ，ｓ），３．５４−３．６０（２Ｈ，ｍ），３．６２−３．７０（２Ｈ，ｍ），４．１９（２Ｈ，ｓ），６．３８−６．４４（１Ｈ，ｍ），６．９８−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２４（４Ｈ，ｍ），７．８０−７．９０（３Ｈ，ｍ），８．７４−８．８０（２Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２３５
融点：１７２−１７３℃  再結晶溶媒：イソプロパノール
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．１９（２Ｈ，ｓ），４．６６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），６．２８−６．３６（１Ｈ，ｍ），６．９８−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２３（４Ｈ，ｍ），７．３０−７．３８（４Ｈ，ｍ），７．８０−７．８６（２Ｈ，ｍ），８．７８−８．８２（２Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２３６
融点：９５−９８℃  再結晶溶媒：イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．１６（２Ｈ，ｓ），６．９４−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１２−７．２４（５Ｈ，ｍ），７．３４−７．４４（２Ｈ，ｍ），７．６０−７．７２（２Ｈ，ｍ），７．８０−７９２（２Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｓ），８．２２（１Ｈ，ｂｒｓ），８．５４−８．９０（２Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２３７
融点：１１５−１１６℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：２．７９（３Ｈ，ｓ），３．０６（３Ｈ，ｓ），４．２５（２Ｈ，ｓ），７．１４−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３２−７．３９（４Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｓ），７．８５−７．８９（２Ｈ，ｍ），８．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），１０．８４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
元素分析：Ｃ２６Ｈ２０Ｆ２Ｎ２Ｏ３として
計算値（％）：Ｃ，６９．９５；Ｈ，４．５２；Ｆ，８．５１；Ｎ，６．２７．
分析値（％）：Ｃ，６９．７１；Ｈ，４．６５；Ｆ，７．９７；Ｎ，５．９９．
化合物Ｉ−２３８
融点：１８１−１８３℃  再結晶溶媒：メタノール
ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：３．８６（３Ｈ，ｓ），４．２８（２Ｈ，ｓ），７．１５−７．２１（２Ｈ，ｍ），７．３１−７．４０（４Ｈ，ｍ），７．８４−７．８９（２Ｈ，ｍ），８．３０（１Ｈ，ｓ），８．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），９．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２３９
融点：２０９−２１０℃  再結晶溶媒：メタノール−アセトン
ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：４．２５（２Ｈ，ｓ），７．１３−７．１９（２Ｈ，ｍ），７．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．０，４．９Ｈｚ），７．３３−７．３８（２Ｈ，ｍ），７．４２（１Ｈ，ｂｒｓ），７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｓ），７．９９（１Ｈ，ｂｒｓ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），８．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），８．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２４０
融点：２００−２０１℃  再結晶溶媒：メタノール−アセトン
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．０６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｓ），６．３７（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝４．３Ｈｚ），６．９７−７．０３（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２０（３Ｈ，ｍ），７．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，３．６Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，４．９Ｈｚ），７．９９（１Ｈ，ｓ），８．７２−８．７３（２Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２４１
融点：１７４−１７５℃  再結晶溶媒：メタノール−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．４９−３．５８（２Ｈ，ｍ），４．１７（２Ｈ，ｓ），６．１８（１Ｈ，ｂｒｔ），６．９７−７．０３（２Ｈ，ｍ），７．１７−７．２１（３Ｈ，ｍ），７．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，３．８Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．６，４．９Ｈｚ），８．００（１Ｈ，ｓ），８．７２−８．７５（２Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２４２
融点：２０２−２０４℃  再結晶溶媒：メタノール−アセトン
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．１７（２Ｈ，ｓ），４．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），６．４５（１Ｈ，ｂｒｔ），６．９８−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１６−７．２１（２Ｈ，ｍ），７．３１−７．３７（５Ｈ，ｍ），７．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，３．６Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２，４．９Ｈｚ），８．０６（１Ｈ，ｓ），８．７６−８．７７（２Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２４３
融点：１５８−１６０℃  再結晶溶媒：メタノール−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．８５（３Ｈ，ｓ），３．１８（３Ｈ，ｓ），４．１８（２Ｈ，ｓ），６．９９−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．２２（３Ｈ，ｍ），７．７５−７．７９（２Ｈ，ｍ），７．９０（１Ｈ，ｓ），７．９４−７．９５（１Ｈ，ｍ），８．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）．
実施例６５
化合物Ｉ−２４４
2002070486.tif 000170
第１工程
実施例６３の第１工程によって得られた化合物１４１（１．５２ｇ，３．９０ｍｍｏｌ）および１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（５２．６ｍｇ，０．３９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１５ｍｌ）懸濁液に室温で２．０ＭジメチルアミンＴＨＦ溶液（２．９２ｍｌ，５．８４ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（８９６．０ｍｇ，３．９０ｍｍｏｌ）を順次加え６０分間攪拌した後、反応液に水（２０ｍｌ）を滴下した。析出した結晶をろ取した後、水で洗浄、乾燥し、化合物２１０（１．４７ｇ，３．５２ｍｍｏｌ）を白色結晶として収率９０．３％で得た。
第２工程
第１工程によって得られた化合物２１０（１．４７ｇ，３．５２ｍｍｏｌ）を実施例６２の第７工程に準じて反応を行い、化合物２１１（１．３８ｇ）を白色結晶として定量的に得た。
第３工程
第２工程によって得られた化合物２１１（１９１．０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を実施例６２の第８工程に準じて反応を行い、化合物２１２（１６５．０ｍｇ，０．４３ｍｍｏｌ）を収率８６．０％得た。
第４工程
第３工程によって得られた化合物２１２（１６５．０ｍｇ，０．４３ｍｍｏｌ）を実施例４５の第３工程に準じて反応を行い、表題化合物Ｉ−２４４（８２．５ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）を薄緑色結晶として収率５２．５％で得た。
融点：１７７−１７８℃  再結晶溶媒：エーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．１１（６Ｈ，ｓ），４．１７（２Ｈ，ｓ），５．７２（１Ｈ，ｂｒｓ），６．２９（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９５−７．０５（２Ｈ，，ｍ），７．１４−７．２４（２Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｓ），８．６４−８．６６（１Ｈ，ｍ），８．９０−８．９４（１Ｈ，ｍ），１４．６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例６２及び実施例６５の合成法に準じ、化合物Ｉ−２４５〜Ｉ−２４８を合成した。
2002070486.tif 000171
化合物Ｉ−２４５
融点：１９９−２０２℃  再結晶溶媒：酢酸エチル−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．４１（３Ｈ，ｓ），３．６７（３Ｈ，ｓ），４．１７（２Ｈ，ｓ），５．５６−６．４０（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．９８（１Ｈ，ｓ），８．６７−８．７２（１Ｈ，ｍ），８．８８−８．９３（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２４６
融点：９９−１０２℃  再結晶溶媒：イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．４３（３Ｈ，ｓ），３．６７（３Ｈ，ｓ），３．９４（３Ｈ，ｓ），４．２０（２Ｈ，ｓ），７．００−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．２５（２Ｈ，ｍ），８．５８（１Ｈ，ｓ），８．７０−８．７８（１Ｈ，ｍ），９．３０−９．３５（１Ｈ，ｍ）．
化合物Ｉ−２４７
融点：９０−９１℃  再結晶溶媒：メタノール−イソプロピルエーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．１０（６Ｈ，ｓ），３．３９（３Ｈ，ｓ），３．５８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），３．６８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｓ），６．５６（１Ｈ，ｂｒｓ），７．００（２Ｈ，ｔ−ｌｉｋｅ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈ＆５．４Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｓ），８．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
化合物Ｉ−２４８
融点：１６０−１６１℃  再結晶溶媒：エーテル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．９０（３Ｈ，ｓ），３．１０（６Ｈ，ｓ），３．２０（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｓ），７．０１（２Ｈ，ｔ−ｌｉｋｅ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１６（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７＆５．４Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｓ），８．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）．
実施例６６
化合物Ｉ−２４９
2002070486.tif 000172
第１工程
実施例６４の第３工程よって得られた化合物２０８（８７．０ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）を実施例４５の第３工程に準じて反応を行い、表題化合物Ｉ−２４９（４３．２ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）を灰色結晶として収率５９．４％で得た。
融点：１３４−１３６℃  再結晶溶媒：エタノール−ジエチルエーテル
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ：２．７３（３Ｈ，ｓ），４．２０（２Ｈ，ｓ），７．１２−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．３５−７．３９（２Ｈ，ｍ），７．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）．
実施例６７
2002070486.tif 000173
第１工程
実施例６４の第１工程から第３工程の合成法に準じて合成した化合物２０９（７７．０ｍｇ，０．１７８ｍｍｏｌ）を実施例１８の第６工程に準じて反応を行い、表題化合物Ｉ−２５０（３４．０ｍｇ，０．０８ｍｍｏｌ）を黄色結晶として収率４６．０％で得た。
融点：２５５−２５６℃  再結晶溶媒：酢酸エチル
ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：４．２８（２Ｈ，ｓ），７．１４−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３２−７．３９（４Ｈ，ｍ），７．８５−７．８９（２Ｈ，ｍ），８．２９（１Ｈ，ｓ），８．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），９．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
実施例６７の合成法に準じ、化合物Ｉ−２５１を合成した。
化合物Ｉ−２５１
2002070486.tif 000174
融点：２２０−２２３℃  再結晶溶媒：メタノール−クロロホルム
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：４．２８（２Ｈ，ｓ），７．１７（２Ｈ，ｍ），７．３７（２Ｈ，ｍ），７．５３（２Ｈ，ｍ），７．６７（１Ｈ，ｍ），７．７９（２Ｈ，ｍ），８．３０（１Ｈ，ｓ），８．９２（１Ｈ，ｍ），９．３１（１Ｈ，ｍ）．
実施例６８
2002070486.tif 000175
第１工程
実施例６２の第７工程で合成した化合物２０２（２００ｍｇ，０．５４２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２ｍｌ）溶液に室温下、オキサリルクロリド（０．９ｍｌ，１．１ｍｍｏｌ）および少量のＤＭＦを加え、室温で１時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、アセトニトリル（２ｍｌ）に溶解した。次に、３−アミノピリジン（４６ｍｇ，０．４９ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１ｍｌ）溶液に室温下、ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（０．２４ｍｌ，０．９７ｍｍｏｌ）を加え、４０−４５℃で２０分間攪拌した。室温まで冷却後、上述の酸クロリドのアセトニトリル溶液を加え、室温で３０分間攪拌した。反応液を減圧下濃縮後、酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた粗生成物を、エーテル−酢酸エチルで結晶化、洗浄することにより、化合物２１３（６０ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）を灰色結晶として２４％の収率で得た。
第２工程
第１工程で得られた化合物２１３（６０ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）を実施例４５の第３工程に準じて反応を行い、表題化合物Ｉ−２５２（４０ｍｇ，０．０９３ｍｍｏｌ）を黄色結晶として収率７２％で得た。
ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：３．９２（３Ｈ，ｓ），４．２６（２Ｈ，ｓ），７．１３−７．２１（３Ｈ，ｍ），７．３３−７．４１（３Ｈ，ｍ），８．６３（１Ｈ，ｓ），８．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），９．２６（１Ｈ，ｂｒｓ），９．７４（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．８２（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例６９
2002070486.tif 000176
第１工程
実施例６２の第７工程で合成した化合物２０２（２００ｍｇ，０．５４２ｍｍｏｌを実施例６２の第８工程に準じて反応を行い、化合物２１４（２１２ｍｇ，０．４７０ｍｍｏｌ）を灰色結晶として収率８６．７％で得た。
第２工程
第１工程で得られた化合物２１４（１０ｍｇ，０．０２２ｍｍｏｌ）を実施例６８の第２工程に準じて反応を行い、表題化合物Ｉ−２５３（５ｍｇ，０．０１２ｍｍｏｌ）を黄緑色結晶として収率５５％で得た。
ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：４．３３（２Ｈ，ｓ），７．１３−７．１９（２Ｈ，ｍ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ），７．３６−７．４１（２Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ），８．５６（１Ｈ，ｓ），８．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），９．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），１２．７３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
実施例７０
実施例６２の合成法に準じて反応し、化合物Ｉ−２５４を合成した。
2002070486.tif 000177
融点：２１２−２１３℃  再結晶溶媒：アセトン−アセトニトリル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．０１（３Ｈ，ｓ），４．０９（２Ｈ，ｓ），６．９６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１０−７．２６（３Ｈ，ｍ），７．４２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．０６（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．１３（１Ｈ，ｓ），８．６４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．７８（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），１１．８９（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）．
実施例７１
実施例６２の合成法に準じて反応し、化合物Ｉ−２５５を合成した。
化合物Ｉ−２５５
2002070486.tif 000178
融点：１９０−１９４℃  再結晶溶媒：アセトン−アセトニトリル
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．０５（３Ｈ，ｓ），４．１８（２Ｈ，ｓ），６．９９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１１−７．２０（３Ｈ，ｍ），７．７９−７．８６（１Ｈ，ｍ），８．３０−８．３３（１Ｈ，ｍ），８．３５（１Ｈ，ｓ），８．４１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．７４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），１２．１３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）．
本発明化合物には、以下の化合物も含まれる。以下の化合物は上記実施例と同様に合成することができる。
2002070486.tif 000179
上記化合物ＩのＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５の置換基としては、以下の置換基が挙げられる。
Ｒ１＝Ｈ（１Ａ），Ｍｅ（１Ｂ），Ｅｔ（１Ｃ），ｉ−Ｐｒ（１Ｄ），ｉ−Ｂｕ（１Ｅ）
Ｒ２＝Ｈ（２Ａ），Ｍｅ（２Ｂ），Ｅｔ（２Ｃ），ｎ−Ｐｒ（２Ｄ），ＯＭｅ（２Ｅ）
2002070486.tif 000180
Ｒ５＝Ｎ（５Ａ），ＣＨ（５Ｂ），ＣＭｅ（５Ｃ），ＣＦ（５Ｄ）
2002070486.tif 000181
上記化合物ＩＩのＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５の置換基としては、以下の置換基が挙げられる。
Ｒ１＝ＯＨ（１Ａ），ＯＭｅ（１Ｂ），ＯＥｔ（１Ｃ），Ｏｉ−Ｐｒ（１Ｄ），Ｅｔ（１Ｅ）
Ｒ２＝−ＣＯＮＨ２（２Ａ），−ＣＨ２−ＣＯＮＨ２（２Ｂ），−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ２（２Ｃ），−ＣＯＮＨＭｅ（２Ｄ），−ＣＨ２ＣＨ２ＯＭｅ（２Ｅ）
Ｒ３＝−ＣＯＮＨ２（３Ａ），−ＣＨ２−ＣＯＮＨ２（３Ｂ），−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ２（３Ｃ），−ＣＯＮＨＭｅ（３Ｄ），−ＣＨ２ＣＨ２ＯＭｅ（３Ｅ），−ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ（３Ｆ）
Ｒ４＝−ＣＯＮＨ２（４Ａ），−ＣＨ２−ＣＯＮＨ２（４Ｂ），−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ２（４Ｃ），−ＣＯＮＨＭｅ（４Ｄ）
2002070486.tif 000182
上記化合物Ｉ及びＩＩの置換基の好ましい組合わせ（（Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５）として表わす）としては、以下の組合わせが挙げられる。
2002070486.tif 000183
2002070486.tif 000184
2002070486.tif 000185
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2002070486.tif 000189
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2002070486.tif 000191
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2002070486.tif 000200
2002070486.tif 000201
2002070486.tif 000202
なお、（Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５）＝（１Ａ，２Ａ，３Ａ，４Ａ，５Ａ）は、Ｒ１が１Ａであり、Ｒ２が２Ａであり、Ｒ３が３Ａであり、Ｒ４が４Ａであり、Ｒ５が５Ａである化合物を表わす。他の組合わせも同様である。
試験例
本発明化合物のインテグラーゼ阻害作用を以下に示すアッセイ法に基づき調べた。
（１）ＤＮＡ溶液の調製
アマシャムファルマシア社により合成された以下の各ＤＮＡを、ＫＴＥバッファー液（組成：１００ｍＭ  ＫＣｌ，１ｍＭ  ＥＤＴＡ，１０ｍＭ  Ｔｒｉｓ−塩酸（ｐＨ７．６））に溶解させることにより、基質ＤＮＡ溶液（２ｐｍｏｌ／μｌ）およびターゲットＤＮＡ溶液（５ｐｍｏｌ／μｌ）を調製した。各溶液は、一旦煮沸後、ゆるやかに温度を下げて相補鎖同士をアニーリングさせてから用いた。
（基質ＤＮＡ配列）
2002070486.tif 000203
（ターゲットＤＮＡ配列）
2002070486.tif 000204
（２）阻害率（ＩＣ５０値）の測定
Ｓｔｒｅｐｔａｖｉｄｉｎ（Ｖｅｃｔｏｒ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製）を０．１Ｍ炭酸バッファー液（組成：９０ｍＭ  Ｎａ２ＣＯ３，１０ｍＭ  ＮａＨＣＯ３）に溶かし、濃度を４０μｇ／ｍｌにした。この溶液、各５０μｌをイムノプレート（ＮＵＮＣ社製）のウエルに加え、４℃で一夜静置、吸着させる。次に各ウエルをリン酸バッファー（組成：１３．７ｍＭ  ＮａＣｌ，０．２７ｍＭ  ＫＣｌ，０．４３ｍＭ  Ｎａ２ＨＰＯ４，０．１４ｍＭ  ＫＨ２ＰＯ４）で２回洗浄後、１％スキムミルクを含むリン酸バッファー３００μｌを加え、３０分間ブロッキングした。さらに各ウェルをリン酸バッファーで２回洗浄後、基質ＤＮＡ溶液（２ｐｍｏｌ／μｌ）５０μｌを加え、振盪下、室温で３０分間吸着させた後、リン酸バッファーで２回、次いで蒸留水で１回洗浄した。
次に上記方法で調製した各ウエルに、バッファー（組成：１５０ｍＭ  ＭＯＰＳ（ｐＨ７．２），７５ｍＭ  ＭｎＣｌ２，５０ｍＭ  ２−ｍｅｒｃａｐｔｏｅｔｈａｎｏｌ，２５％  ｇｌｙｃｅｒｏｌ，５００μｇ／ｍｌ  ｂｏｖｉｎｅ  ｓｅｒｕｍａｌｂｕｍｉｎ−ｆｒａｃｔｉｏｎ  Ｖ）１２μｌ、ターゲットＤＮＡ（５ｐｍｏｌ／μｌ）１μｌおよび蒸留水３２μから調製した反応溶液４５μｌを加えた。さらに各ウエルに被検化合物のＤＭＳＯ溶液６μｌを加え、ポジティブコントロール（ＰＣ）としてのウエルには、ＤＭＳＯ６μｌを加える。次にインテグラーゼ溶液（３０ｐｍｏｌ）９μｌを加え、良く混合した。ネガティブコントロール（ＮＣ）としてのウエルには、希釈液（組成：２０ｍＭ  ＭＯＰＳ（ｐＨ７．２），４００ｍＭ  ｐｏｔａｓｓｉｕｍ  ｇｌｕｔａｍｅｔｅ，１ｍＭ  ＥＤＴＡ，０．１％ＮＰ−４０，２０％ｇｌｙｃｅｒｏｌ，１ｍＭ  ＤＴＴ，４Ｍ  ｕｒｅａ）９μｌを加えた。
各プレートを３０℃で１時間インキュベート後、反応液を捨て、リン酸バッファーで２回洗浄した。次にアルカリフォスファターゼ標識した抗ジゴキシゲニン抗体（ヒツジＦａｂフラグメント：ベーリンガー社製）を１００μｌ加え、３０℃で１時間結合させた後、０．０５％Ｔｗｅｅｎ２０を含むリン酸バッファーで２回、リン酸バッファーで１回、順次洗浄した。次に、アルカリフォスファターゼ呈色バッファー（組成：１０ｍＭパラニトロフェニルホスフェート（Ｖｅｃｔｏｒ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製），５ｍＭ  ＭｇＣｌ２，１００ｍＭ  ＮａＣｌ，１００ｍＭ  Ｔｒｉｓ−塩酸（ｐＨ９．５））を１５０μｌ加えて３０℃で２時間反応させ、１ＮＮａＯＨ溶液５０μｌを加え反応を止めた後、各ウエルの吸光度（ＯＤ４０５ｎｍ）を測定し、以下の計算式に従い阻害率を求めた。
2002070486.tif 000205
Ｃ  ａｂｓ．；化合物のウエルの吸光度
ＮＣ  ａｂｓ．：ＮＣの吸光度
ＰＣ  ａｂｓ．：ＰＣの吸光度
次にＩＣ５０値は、上記の阻害率を用いて以下の計算式で求められる。
すなわち阻害率５０％をはさむ２点の濃度において、ｘμｇ／ｍｌの濃度で阻害率Ｘ％、ｙμｇ／ｍｌの濃度で阻害率Ｙ％をそれぞれ示す時、ＩＣ５０（μｇ／ｍｌ）＝ｘ−｛（Ｘ−５０）（ｘ−ｙ）／（Ｘ−Ｙ）｝となる。
阻害率５０％に相当する化合物濃度（ＩＣ５０）を以下の表に示す。表中の化合物Ｎｏ．は実施例の化合物Ｎｏ．を示す。
2002070486.tif 000206
上記に示した化合物以外の本発明化合物も、上記同様、あるいはそれ以上のインテグラーゼ阻害活性を示した。
また、本発明化合物は、代謝に対する安定性が高く、優れたインテグラーゼ阻害剤である。
製剤例
以下に示す製剤例１〜８は例示にすぎないものであり、発明の範囲を何ら限定することを意図するものではない。「活性成分」なる用語は、本発明化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、それらの製薬的に許容される塩又はそれらの溶媒和物を意味する。
（製剤例１）
硬質ゼラチンカプセルは次の成分を用いて製造する：
2002070486.tif 000207
（製剤例２）
錠剤は下記の成分を用いて製造する：
2002070486.tif 000208
成分を混合し、圧縮して各重量６６５ｍｇの錠剤にする。
（製剤例３）
以下の成分を含有するエアロゾル溶液を製造する：
2002070486.tif 000209
活性成分とエタノールを混合し、この混合物をプロペラント２２の一部に加え、−３０℃に冷却し、充填装置に移す。ついで必要量をステンレススチール容器へ供給し、残りのプロペラントで希釈する。バブルユニットを容器に取り付ける。
（製剤例４）
活性成分６０ｍｇを含む錠剤は次のように製造する：
2002070486.tif 000210
活性成分、デンプン、およびセルロースはＮｏ．４５メッシュＵ．Ｓ．のふるいにかけて、十分に混合する。ポリビニルピロリドンを含む水溶液を得られた粉末と混合し、ついで混合物をＮｏ．１４メッシュＵ．Ｓ．ふるいに通す。このようにして得た顆粒を５０℃で乾燥してＮｏ．１８メッシュＵ．Ｓ．ふるいに通す。あらかじめＮｏ．６０メッシュＵ．Ｓ．ふるいに通したナトリウムカルボキシメチルデンプン、ステアリン酸マグネシウム、および滑石をこの顆粒に加え、混合した後、打錠機で圧縮して各重量１５０ｍｇの錠剤を得る。
（製剤例５）
活性成分８０ｍｇを含むカプセル剤は次のように製造する：
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活性成分、デンプン、セルロース、およびステアリン酸マグネシウムを混合し、Ｎｏ．４５メッシュＵ．Ｓ．のふるいに通して硬質ゼラチンカプセルに２００ｍｇずつ充填する。
（製剤例６）
活性成分２２５ｍｇを含む坐剤は次のように製造する：
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活性成分をＮｏ．６０メッシュＵ．Ｓ．のふるいに通し、あらかじめ必要最小限に加熱して融解させた飽和脂肪酸グリセリドに懸濁する。ついでこの混合物を、みかけ２ｇの型に入れて冷却する。
（製剤例７）
活性成分５０ｍｇを含む懸濁剤は次のように製造する：
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活性成分をＮｏ．４５メッシュＵ．Ｓ．のふるいにかけ、ナトリウムカルボキシメチルセルロースおよびシロップと混合して滑らかなペーストにする。安息香酸溶液および香料を水の一部で希釈して加え、攪拌する。ついで水を十分量加えて必要な体積にする。
（製剤例８）
静脈用製剤は次のように製造する：
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上記成分の溶液は通常、１分間に１ｍｌの速度で患者に静脈内投与される。
産業上の利用可能性
本発明化合物は、インテグラーゼ阻害活性を有し、抗ウイルス薬、抗ＨＩＶ薬等として、エイズ等の治療に有効である。
【国際調査報告】
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