(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｎ型の窒化ガリウム系化合物半導体からなる基板の一方の面上に少なくともインジウムを含む活性層とｐ型クラッド層とｐ側電極とを順に積層させ、前記基板に接してｎ側電極を形成させた窒化ガリウム系化合物半導体発光素子であって、前記基板と活性層との間に、半絶縁性の窒化ガリウム系化合物半導体からなり、前記基板との界面で前記基板に注入された電子を広げる中間層を前記基板に接するように有することを特徴とする窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。
【請求項２】
前記中間層は、ｐ型不純物がドープされることにより半絶縁性とされたものである請求項１記載の窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。
【請求項３】
前記中間層は、アンドープとされた半絶縁性のものである請求項１記載の窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、発光ダイオード等に利用される半導体発光素子に係り、特に窒化ガリウム系化合物半導体からなる基板を用いた窒化ガリウム系化合物発光素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
窒化ガリウム系化合物半導体は、発光デバイスや高温動作電子デバイス用の半導体材料として多用されており、特に、青色や緑色等の可視領域の発光ダイオードの分野での展開が進んでいる。
【０００３】
可視領域で発光可能な窒化ガリウム系化合物半導体発光素子は、基本的には、サファイアやＳｉＣ等からなる基板の上にバッファ層を介して、ｎ型クラッド層と、発光層となるＩｎＧａＮからなる活性層と、ｐ型クラッド層とを積層させたものが主流である。特に近来、基板にサファイアを用い、有機金属気相成長法によりＧａＮやＡｌＮ等からなる低温成長バッファ層を介してダブルへテロ構造を成長させたものが、高輝度で信頼性が高いため屋外用のパネルディスプレイ用発光ダイオード等に広く用いられている。
【０００４】
最近では、これらのＩｎＧａＮからなる活性層と低温バッファ層技術とを用いたアンバー色発光素子も開発されており、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，Ｖｏｌ．３７（１９９８）Ｐａｒｔ２，Ｎｏ．５Ａ，ｐｐ．Ｌ４７９−Ｌ４８１において開示されている。この発光素子の構造は、上述した発光素子のものとほぼ同様であるが、単一のｎ型クラッド層の代わりに、基板に近い側からアンドープＧａＮ層とＳｉドープＧａＮ層とアンドープＧａＮ層とからなる三層構造のｎ型層を設けている点が大きく異なる。この三層構造のｎ型層のうち、活性層とＳｉドープＧａＮ層との間に設けられたアンドープＧａＮ層は、ＳｉドープＧａＮに比して高い抵抗率を有しており、これにより活性層全体に電流を均一に広げるという効果を奏するとされている。
【０００５】
ところで、最近では、ＧａＮからなる基板が作製されるようになり、これを用いた窒化ガリウム系化合物半導体発光素子がいくつか提案されている。例えば、特開平７−９４７８４号公報においては、ＧａＮを基板とし基板の上にホモ接合構造、シングルヘテロ構造またはダブルヘテロ構造で構成されるｐ−ｎ接合を含む積層体を形成させた青色発光素子が開示されている。この公報によれば、ＧａＮを基板として用い他の赤色発光ダイオード等と同様に対向する電極の間に基板が存在する構造が可能となり、電極位置に対する制約をなくすることができるとされている。
【０００６】
また、特開平１０−１５０２２０号公報においては、ｎ型ＧａＮからなる基板を用い、基板の側を主発光面側とすることができる発光素子が開示されている。
【０００７】
図２は、この特開平１０−１５０２２０号公報において示された従来の窒化ガリウム系化合物半導体発光素子の構造を示す断面図である。ｎ型のＧａＮからなる基板１１の上には、Ｓｉがドープされたｎ型クラッド１２層と、活性層１３と、Ｍｇがドープされたｐ型クラッド層１４とが順次積層されており、基板１１の積層面側でない一面上の一部にｎ側電極１５が設けられ、一方のｐ型クラッド層１４上の全面にわたってｐ側電極１６が設けられている。
【０００８】
ｐ側電極１６を下向きに実装することにより、ｎ側電極１５を設けた面の側を主発光面側とし、面発光を得ることができる。このような構成によれば、電流−光出力特性が改善された安価な発光素子を提供することができるとされている。さらに、例えばＧａＮからなる基板１１を用い、ｎ型クラッド層１２をＧａＮで形成して、基板１１とｎ型クラッド層１２の組成を一致させると、基板１１とｎ型クラッド層１２とが一体となり、製造が容易になるとされている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
図２に示す構造の発光素子においては、ＧａＮからなる基板１１が活性層１３からの発光に対し透明であるので、基板１１に設けたｎ側電極１５の側を主発光面とすることができる。このｎ側電極１５は、通常、ワイヤボンディング用のパッド電極として用いられるため、発光に対し透過性を有しない程度の厚膜で形成されている。
【００１０】
したがって、この電極の下の活性層１３で発せられ基板１１の主発光面の側へ向かう光は、厚膜のｎ側電極１５で遮られてしまうこととなり、発光出力が制限される。
【００１１】
このような発光出力の制限を回避するため、主発光面となる基板１１の面積比率を大きくしようとしてｎ側電極１５のサイズを小さくすると、ワイヤボンディングの作業が困難となる。したがって、ボンディング等の電気的接続の作業性を確保してもなお主発光面からの発光出力を改善することができる発光素子が望まれている。
【００１２】
一方、ＧａＮからなる基板にｎ側電極を設け、ｐ型クラッド層に活性層からの発光に対して透過性を有するｐ側電極を設け、この光透過性電極を設けた側を主発光面とする構成の発光素子が提案されている。
【００１３】
この発光素子においては、ｐ側電極は光透過性を有する薄膜電極部とワイヤボンディング用のパッド電極部とで構成され、パッド電極部は発光に対し透過性を有しない程度の厚膜で形成されるため、活性層からｐ型クラッド層へ向かう光の一部はパッド電極部で遮られてしまい、発光効率が制限されてしまう。つまり、上述の基板に設けたｎ側電極の側を主発光面とする発光素子と同様の問題を有している。
【００１４】
ｐ側電極、ｎ側電極のいずれの側を主発光面とする発光素子においても、主発光面側に設けられた電極によって遮られる光の割合を低減するためには、活性層全体へ電流を均一に広げ、活性層全体からの発光を得る必要がある。
【００１５】
本発明において解決すべき課題は、窒化ガリウム系化合物半導体からなる基板を用いた発光素子において、主発光面からの発光出力を高めることができる新規な構造を提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、ｎ型の窒化ガリウム系化合物半導体からなる基板を用いた窒化ガリウム系化合物半導体発光素子の積層構造について鋭意検討した結果、活性層と基板との間に特定の中間層を設けることにより、主発光面からの発光出力が改善されうることを見いだし、この知見に基づいて本発明をなすに至った。
【００１７】
すなわち、本発明は、ｎ型の窒化ガリウム系化合物半導体からなる基板の上に、少なくともインジウム（Ｉｎ）を含む活性層とｐ型クラッド層とをこの順に積層させてなる窒化ガリウム系化合物半導体発光素子であって、前記基板と前記活性層との間に、ｐ型不純物がドープされて、あるいはアンドープとされて半絶縁性とされてなる中間層を有することを特徴とする。
【００１８】
このような構成によれば、基板と活性層の間に設けられた中間層によって電流が活性層全体に広げられ、均一な発光が得られるようになり、主発光面からの発光出力が改善される。
【００１９】
【発明の実施の形態】
請求項１に記載の発明は、ｎ型の窒化ガリウム系化合物半導体からなる基板の一方の面上に少なくともインジウムを含む活性層とｐ型クラッド層とｐ側電極とを順に積層させ、前記基板に接してｎ側電極を形成させた窒化ガリウム系化合物半導体発光素子であって、前記基板と活性層との間に半絶縁性の窒化ガリウム系化合物半導体からなり、前記基板との界面で前記基板に注入された電子を広げる中間層を前記基板に接するように備えたことを特徴とする窒化ガリウム系化合物半導体発光素子としたものであり、これにより基板と中間層との界面において電子が面内で広がりやすくなる。
【００２０】
請求項２に記載の発明は、前記中間層は、ｐ型不純物がドープされることにより半絶縁性とされたものである請求項１記載の窒化ガリウム系化合物半導体発光素子としたものであり、中間層にｐ型不純物がドープされていることによる補償効果によって、半絶縁性の層が得られる。
【００２１】
請求項３に記載の発明は、前記中間層は、アンドープとされた半絶縁性のものである請求項１記載の窒化ガリウム系化合物半導体発光素子としたものであり、同系の半導体からなる基板の上に形成されて、かつアンドープとされることにより結晶性が向上し簡便に半絶縁性の層が得られる。
【００２２】
以下に、本発明の実施の形態について、図１を用いて説明する。
【００２３】
（実施の形態１）
図１は本発明の一実施の形態における窒化ガリウム系化合物半導体発光素子の構造を示す断面図である。
【００２４】
図１において、ｎ型のＧａＮからなる基板１の上に、ＧａＮからなる中間層２と、ＩｎＧａＮからなる活性層３と、ＧａＮからなるクラッド層４と、ＡｌＧａＮからなるｐ型クラッド層５と、ＩｎＧａＮからなるｐ型コンタクト層６とが順次積層されている。ｐ型コンタクト層６の表面上にはｐ側電極７が形成されており、基板１の表面上にはｎ側電極８が形成されている。
【００２５】
基板１としては、活性層３よりもバンドギャップの大きいｎ型の窒化ガリウム系化合物半導体を使用することができるが、本実施の形態においては、製造が比較的容易で、かつ比較的結晶性の良好なものが得られるＧａＮからなるものを使用している。さらに、基板１は、ＳｉやＧｅ等のｎ型不純物がドープされて、その電子濃度を１×１０17ｃｍ-3から１×１０19ｃｍ-3の範囲に制御されたものを用いている。電子濃度が１×１０17ｃｍ-3よりも低くなると抵抗率が高くなり、発光素子のシリーズ抵抗が増大する傾向にあるからであり、一方、１×１０19ｃｍ-3よりも高くなると、ｎ型不純物を高濃度にドープしたことに起因して基板１の結晶性が悪くなる傾向にあるからである。
【００２６】
中間層２としては、活性層３よりもバンドギャップの大きい窒化ガリウム系化合物半導体であるＧａＮやＡｌＧａＮ等を用いることができるが、本実施の形態においては、より良好な結晶性が得られやすいＧａＮを使用する。
【００２７】
窒化ガリウム系化合物半導体は、不純物をドープしない、すなわちアンドープの状態で一般にｎ型となることが知られており、その抵抗率は半導体結晶の成長条件に依存する傾向がある。アンドープとされた窒化ガリウム系化合物半導体にｐ型不純物を低濃度にドープすると、ｐ型不純物によって生じた正孔が電子を補償することにより成長条件にあまり依存せず比較的容易に半絶縁性となる性質がある。本発明の第１の実施の形態は、この窒化ガリウム系化合物半導体の性質を利用してｐ型不純物がドープされた半絶縁性の中間層２を形成したものである。
【００２８】
中間層２にドープするｐ型不純物としては、Ｚｎ、Ｍｇ等を用いることができるが、本実施の形態においては、上述の補償効果が生じやすくより高抵抗の層が得られるという点からＭｇを用いる。
【００２９】
中間層２にドープされるｐ型不純物の濃度は、アンドープの状態のキャリア濃度にもよるが、１×１０15ｃｍ-3から１×１０19ｃｍ-3の範囲に調整したものを用いることが好ましい。１×１０15ｃｍ-3よりも小さいと半絶縁性となりにくい傾向があり、１×１０19ｃｍ-3よりも大きくなると、中間層２がｐ型となってしまい半絶縁性とならない傾向にあるからである。
【００３０】
このように、中間層２を半絶縁性とすることにより、ｎ側電極８から基板１に注入された電子が基板１と中間層２の界面で広がり、活性層３全体に電流が注入され、活性層３全体から均一な発光が得られる。その結果、主発光面からの発光出力が改善される。
【００３１】
なお、中間層２の層厚は、２ｎｍ以上で１００ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。中間層２の層厚をこの範囲にして形成することにより、この層の形成によるシリーズ抵抗の過剰な増大を防止することができ、発光素子の動作電圧の上昇を抑えつつ活性層における発光の均一性を向上させることができる。
【００３２】
活性層３としては、Ｉｎを含み、基板１、中間層２、クラッド層４およびｐ型クラッド層５のバンドギャップよりも小さいバンドギャップを有する窒化ガリウム系化合物半導体を用いることができるが、本実施の形態においては、青色から緑色の波長域での発光強度を高くすることができるという点からＡｌを含まないＩｎＧａＮを用いている。さらに、膜厚を１００ｎｍよりも薄くして単一量子井戸構造とすると、活性層３の結晶性を高めることができ、発光効率をより一層高めることができる。
【００３３】
また、活性層３は、層厚を１００ｎｍよりも薄いＩｎＧａＮからなる量子井戸層と、この量子井戸層よりもバンドギャップの大きいＩｎＧａＮ、ＧａＮ等からなる障壁層とを交互に積層させた多重量子井戸構造とすることもできる。
【００３４】
クラッド層４としては、活性層３よりもバンドギャップの大きい窒化ガリウム系化合物半導体を用いることができるが、本実施の形態においては、活性層３との界面の結晶性を良好に保つことができるという点からＧａＮを用いている。また、クラッド層４はアンドープとすることもできるが、本実施の形態においては、結晶性を高めるためにＳｉをドープさせる。
【００３５】
このクラッド層４の層厚は、３ｎｍ以上６ｎｍ以下の範囲とすることが好ましい。３ｎｍ未満では十分な結晶性を確保することができず、６ｎｍ超では次に成長させるｐ型クラッド層５の電子の閉じ込め作用に悪影響を与えることがあるからである。
【００３６】
ｐ型クラッド層５としては、活性層３よりもバンドギャップの大きい窒化ガリウム系化合物半導体を用いることができるが、本実施の形態においては、クラッド層４よりもバンドギャップの大きいＡｌＧａＮを用いている。このＡｌＧａＮによれば、活性層３への電子の閉じ込めを効率的に行うことができ、発光効率を高くすることができるので好ましい。さらに、クラッド層４と接する側からｐ型コンタクト層６と接する側にかけて、Ａｌ組成が収斂するように組成を傾斜させ変化させた構造とすると、発光効率を高くすることができるとともに、動作電圧を低減することができるので好ましい。
【００３７】
ｐ型クラッド層５の層厚は、０．０１μｍ以上０．３μｍ以下の範囲とすることが好ましい。０．０１μｍ未満では電子の閉じ込め効率が低下し、０．３μｍ超では動作電圧が上昇してしまうからである。
【００３８】
ｐ型コンタクト層６としては、ＧａＮやＩｎＧａＮ、ＡｌＧａＮを用いることができるが、ｐ側電極７との接触抵抗を小さくできるＧａＮやＩｎＧａＮを用いることが好ましく、本実施の形態においてはＩｎＧａＮを用いている。特に、組成傾斜させたＡｌＧａＮからなるｐ型クラッド層５とＩｎＧａＮからなるｐ型コンタクト層６とを組み合わせて用いると、発光効率の向上と動作電圧の低減を同時に効果的に行うことができるので好ましい。
【００３９】
ｐ型コンタクト層６の層厚は、０．０１μｍ以上０．２μｍ以下の範囲とすることが好ましい。０．０１μｍ未満ではオーミック性コンタクトが得られにくくなり、０．２μｍ超では結晶性が低下し、同じくオーミック性コンタクトが得られにくくなるからである。
【００４０】
クラッド層４、ｐ型クラッド層５、およびｐ型コンタクト層６にドープされるｐ型不純物としては、Ｍｇ、ＺｎやＣｄ等を用いることができるが、本実施の形態においては、比較的容易にｐ型とすることができるＭｇを用いている。
【００４１】
ｐ側電極７としては、ＡｕやＮｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｇ等の単体金属、あるいはそれらの合金や積層構造を用いることができる。一方、ｎ側電極８としては、ＡｌやＴｉ等の単体金属、またはＡｌやＴｉ、Ａｕ、Ｎｉ、ＶやＣｒ等を含む合金、若しくはそれらの積層構造を用いることができる。
【００４２】
（実施の形態２）
本発明の第２実施の形態における窒化ガリウム系化合物半導体は、第１実施の形態における中間層２としてアンドープとされた半絶縁性のものを用いる。
【００４３】
窒化ガリウム系化合物半導体は、結晶欠陥等が低減されて結晶性が良くなるとアンドープの状態でも半絶縁性となる。アンドープの窒化ガリウム系化合物半導体の結晶性は成長条件や基板材料に依存し、特に窒化ガリウム系化合物半導体からなる基板を用いた場合にあっては、基板と、その上に成長させる半導体材料とが同系の半導体であるので、サファイア等の異種材料を基板とする場合に比して良好な結晶性を得ることができる。また、結晶成長時の雰囲気ガスとなるキャリアガスに窒素を主成分とするものを用いることにより比較的容易に半絶縁性の窒化ガリウム系化合物半導体を得ることができる。本発明の第２の実施の形態は、このような窒化ガリウム系化合物半導体の性質を利用したものであり、不純物をドープしなくても半絶縁性の層が簡便に得られるという点で有用である。
【００４４】
中間層２の層厚は、第１実施の形態において説明したようにｐ型不純物がドープされた場合と同様の理由から、本実施の形態におけるアンドープの場合においても、２ｎｍ以上で１００ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。
【００４５】
なお、中間層２には、単一の層のみならず、ｐ型不純物がドープされた半絶縁性の層とアンドープの半絶縁性の層とを積層させた多重層を用いても良い。
【００４６】
また、中間層２は、基板１と中間層２の間にｎ型窒化ガリウム系化合物半導体層を挿入しても良い。この場合においても、該ｎ型窒化ガリウム系化合物半導体層と中間層２との界面で電子の広がり効果が得られる。
【００４７】
【実施例】
以下、本発明の窒化ガリウム系化合物半導体発光素子の製造方法の実施例について図面を参照しながら説明する。
【００４８】
（実施例１）
本実施例においては、図１に示す窒化ガリウム系化合物半導体発光素子を作製した。
【００４９】
まず、表面を鏡面に仕上げられたＧａＮからなる基板１を反応管内の基板ホルダーに載置した後、基板１の表面温度を１１００℃に加熱し、水素ガスと窒素ガスとアンモニアとを流しながら、基板１の表面に付着している有機物等の汚れや水分を取り除くと同時に基板１の表面の結晶性を向上させた。
【００５０】
次に、基板１の表面温度を１０５０℃にまで降下させた後、主キャリアガスとして窒素ガスと水素ガスを流しながら、アンモニアとトリメチルガリウム（ＴＭＧ）を含むＴＭＧ用のキャリアガスと、ビスシクロペンタジエニルマグネシウム（Ｃｐ2Ｍｇ）を含むＣｐ2Ｍｇ用のキャリアガスとを流しながら成長させて、ＭｇをドープしたＧａＮからなる中間層２を５０ｎｍの厚さで成長させた。この中間層２は、電子濃度が１×１０15ｃｍ-3未満の半絶縁性であった。
【００５１】
中間層２の成長後、ＴＭＧ用のキャリアガスを止め、基板温度を７５０℃にまで降下させ、７５０℃において、主キャリアガスとして窒素ガスを流し、新たにＴＭＧ用のキャリアガスと、トリメチルインジウム（ＴＭＩ）を含むＴＭＩ用のキャリアガスとを流しながらアンドープのＩｎ0.2Ｇａ0.8Ｎからなる単一量子井戸構造の活性層３を３ｎｍの厚さで成長させた。
【００５２】
活性層３の成長後、ＴＭＩ用のキャリアガスを止め、ＴＭＧ用のキャリアガスと新たにモノシラン（ＳｉＨ4）とを流しながら基板温度を１０５０℃に向けて昇温させながら、クラッド層４として引き続きＳｉドープのＧａＮを４ｎｍの厚さで成長させ、基板温度が１０５０℃に達したらＳｉＨ4を止め、新たに主キャリアガスとしての窒素ガスと水素ガスと、トリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）を含むＴＭＡ用のキャリアガスと、Ｃｐ2Ｍｇ用のキャリアガスとを流しながら成長させて、ＭｇをドープさせたＡｌＧａＮからなるｐ型クラッド層５を０．１μｍの厚さで成長させた。このＡｌＧａＮの成長時には、ＴＭＡ用のキャリアガスを時間とともにリニアに減少させつつ、ＴＭＧ用のキャリアガスを時間とともにリニアに増加させて、組成がＡｌ0.15Ｇａ0.85ＮからＡｌ0.01Ｇａ0.99Ｎまで変化した傾斜組成ＡｌＧａＮとしてｐ型クラッド層５を成長させた。
【００５３】
クラッド層４およびｐ型クラッド層５を形成後、基板温度を８００℃にまで降下させ、８００℃において、新たにＴＭＧ用のキャリアガスと、ＴＭＩ用のキャリアガスと、Ｃｐ2Ｍｇ用のキャリアガスとを流しながら成長させて、ＭｇをドープさせたＩｎ0.05Ｇａ0.95Ｎからなるｐ型コンタクト層６を０．１μｍの厚さで成長させた。
【００５４】
ｐ型コンタクト層６の成長後、ＴＭＧ用のキャリアガスとＴＭＩ用のキャリアガスとＣｐ2Ｍｇ用のキャリアガスとを止め、主キャリアガスとアンモニアをそのまま流しながら室温程度にまで冷却させて、ウェハーを反応管から取り出した。
【００５５】
次に、フォトリソグラフィーと蒸着法により、基板１の表面上にＡｌからなるｎ側電極８を蒸着形成させた。さらに、同様にしてｐ型コンタクト層６の表面上にＰｔとＡｕとからなるｐ側電極７を蒸着形成させた。
【００５６】
この後、ダイシングによりチップ状に分離した。このようにして、図１に示す窒化ガリウム系化合物半導体発光素子が得られた。
【００５７】
この発光素子を、ｎ側電極８の側を下向きにして、Ａｇペーストによりステム上に載置し、ｐ側電極７とステムとをワイヤで結線し、その後樹脂モールドして発光ダイオードを作製した。この発光ダイオードを２０ｍＡの順方向電流で駆動したところ、ピーク発光波長４７０ｎｍの青色で発光し、基板１の側から均一な面発光が得られた。このときの発光出力は１．０ｍＷであり、順方向動作電圧は３．４４Ｖであった。
【００５８】
（実施例２）
本実施例においては、実施例１において中間層２を成長させる際に、主キャリアガスとして水素ガスを５％、窒素ガスを９５％の割合で流しながら、ＴＭＧを含むＴＭＧ用のキャリアガスを流して成長させて、アンドープのＧａＮからなる中間層２を５０ｎｍの厚さで成長させ、その他は実施例１と同様にして、発光ダイオードを作製した。本実施例における中間層２は、電子濃度が１×１０15ｃｍ-3未満の半絶縁性であった。
【００５９】
この発光ダイオードを２０ｍＡの順方向電流で駆動したところ、ピーク発光波長４７０ｎｍの青色で発光し、基板１の側から均一な面発光が得られた。このときの発光出力は０．９５ｍＷであり、順方向動作電圧は３．４３Ｖであった。
【００６０】
（実施例３）
本実施例においては、実施例１において中間層２を成長させる際に、主キャリアガスとして窒素ガスと水素ガスを流しながら、ＴＭＧを含むＴＭＧ用のキャリアガスと、Ｃｐ2Ｍｇ用のキャリアガスとを流しながら成長させて、ＭｇをドープしたＧａＮからなる層を２５ｎｍの厚さで成長させ、引き続き、主キャリアガスとして窒素ガスのみを流しながら、ＴＭＧ用のキャリアガスを流して成長させて、アンドープのＧａＮからなる層を２５ｎｍの厚さで成長させ、その他は実施例１と同様にして、発光ダイオードを作製した。本実施例における中間層２はｐ型不純物がドープされた層とアンドープの層とからなる多重層であり、それぞれの層の電子濃度は共に１×１０15ｃｍ-3未満の半絶縁性であった。
【００６１】
この発光ダイオードを２０ｍＡの順方向電流で駆動したところ、ピーク発光波長４７０ｎｍの青色で発光し、基板１の側から均一な面発光が得られた。このときの発光出力は１．１ｍＷであり、順方向動作電圧は３．４３Ｖであった。
【００６２】
以上において説明した実施例については、主として有機金属気相成長法を用いた窒化ガリウム系化合物半導体の成長方法を示すものであるが、成長方法はこれに限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で、分子線エピタキシー法や有機金属分子線エピタキシー法等を用いることも可能である。
【００６３】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、窒化ガリウム系化合物半導体からなる基板を用いた発光素子において、ｐ側電極あるいはｎ側電極いずれの面を主発光面とする場合でも発光出力を改善することができるので、従来の砲弾型樹脂レンズ付き発光ダイオードや、表面実装型発光ダイオード、発光素子を基板上に複数配列させたライン状光源など、広範な用途に好適に用いることができる。
【００６４】
また、中間層の厚さを薄くして形成できるので、積層構造の成長時間を短くすることができ、製造コストの低減にも寄与することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態における窒化ガリウム系化合物半導体発光素子の構造を示す断面図
【図２】従来の窒化ガリウム系化合物半導体発光素子の構造を示す断面図
【符号の説明】
１  基板
２  中間層
３  活性層
４  クラッド層
５  ｐ型クラッド層
６  ｐ型コンタクト層
７  ｐ側電極
８  ｎ側電極
【図１】
0003777869.tif 000002
【図２】
0003777869.tif 000003