(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
流入口（７）および流出口（８）を含み、該流入口（７）と該流出口（８）の間に流路（３）およびサンプル放出オリフィス（６）を形成する構造体（１，２）と、
前記流入口（７）と前記流出口（８）の間における前記構造体（１，２）の外側表面上に直接的に接着し、流路（３）中へ圧力パルスを発生する圧力パルス発生手段（９）とを備えたことを特徴とするフロースルーサンプリングセル。
【請求項２】
シリコンウェハのエッチングによって製造されることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項３】
石英、好ましくは圧電セラミックである圧電材料、またはガリウムヒ素によって製造されることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項４】
焼結セラミック、射出成形ポリマおよび/または金属の構成部品をもたらすＬＩＧＡ技法によって製造されることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項５】
流路（３）が第一の構造体（１）中の第一の槽（４）および第二の構造体（２）中の第二の槽（５）によって形成されていることを特徴とする請求の範囲第１項から第４項のいずれか一項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項６】
好ましくは流路（３）に丸みをつけた形態などの角部のない形態を与えることにより、好ましくは流路（３）内のできるだけ多くの角部を丸みを帯びたものとすることによって気泡の内部での付着を少なくするように設計されていることを特徴とする請求の範囲第１項から第５項のいずれか一項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項７】
圧力パルス発生手段（９）が電気機械力、磁気ひずみ力または静電力によって作用する少なくとも一つの圧電要素および／または装置および／または熱膨張によって作用する装置を備えていることを特徴とする請求の範囲第１項から第６項のいずれか一項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項８】
流路（３）が圧力パルス発生手段（９）によって形成されていることを特徴とする請求の範囲第１項から第７項のいずれか一項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項９】
圧力パルス発生手段（９）が少なくとも一つのサンプル放出オリフィス（６）に対向して配置されていることを特徴とする請求の範囲第１項から第８項のいずれか一項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項１０】
圧力パルス発生手段（９）が少なくとも一つのサンプル放出オリフィス（６）に関して任意の場所に配置されていることを特徴とする請求の範囲第１項から第８項のいずれか一項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項１１】
少なくとも一つのサンプリングオリフィス（６）が短いチューブまたはノズルのような中空突出要素に接続されているか、少なくとも一つのサンプリングオリフィス（６）が中空突出要素として形成されていることを特徴とする請求の範囲第１項から第１０項のいずれか一項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項１２】
中空突出要素の自由部分が鋭い縁部で終わっていることを特徴とする請求の範囲第１１項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項１３】
少なくとも一つのサンプリングオリフィス（６）の内部が液体の付着を増加させるように加工されていること、および/または少なくとも一つのサンプリングオリフィス（６）を包囲する領域が好ましくは少なくとも一つのサンプリングオリフィス（３）および/または短いチューブに小さいチャネルおよび/または多孔性シリコンコーティングを設けることによって液体の付着を少なくするように加工されていることを特徴とする請求の範囲第１項から第１２項のいずれか一項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項１４】
フロースルーサンプリングセルの外側が液体の付着を少なくするように加工されていることを特徴とする請求の範囲第１項から第１３項のいずれか一項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項１５】
フロースルーサンプリングセルが好ましくはフロースルーサンプリングセルを豪勢とすることによって、発生した圧力パルスの減衰を少なくするように設計されていることを特徴とする請求の範囲第１項から第１４項のいずれか一項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項１６】
サンプル放出オリフィス（６）から放出されるサンプルの方向を制御する手段を更に備えていることを特徴とする請求の範囲第１項から第１５項のいずれか一項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項１７】
フロースルーサンプリングセル中の液体とフロースルーセルから放出されるサンプルが送られる物体の間に電位差を確立する装置を備えていることを特徴とする請求の範囲第１６項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【請求項１８】
電位差がフロースルーサンプリングセル中の液体とフロースルーセルから放出されるサンプルが送られる物体の間に確立されることを特徴とする請求の範囲第１項から第１７項のいずれか一項に記載のフロースルーサンプリングセル。
【発明の詳細な説明】
本発明はフロースルー型のサンプリングセル、サンプルをこのようなサンプリングセルから送る方法およびこのようなサンプリングセルの使い方に関する。サンプリングセルはシリコンウェハをエッチングすることによって製造するのが好ましい。これは特に、分析流の連続ピコボリュームサンプリング、あるいは特定の薬品のピコボリュームデポジションに有用である。
背景および従来の技術
マイクロサンプル抽出は、たとえばたん白質分離システムからの分画測定において有用である。サンプル抽出および分画測定は手間のかかる手順であり、しばしば試験管マトリックス処理を含み、その後に、たとえばゲル電気泳動によって分析してから、最終的な分画同定が達成される。
参照文献１は分画同定のための周知のサンプリングツールを開示しており、これはオリフィスタイプのノズルと、黄銅膜に接着された圧電セラミックディスクとを備えているフロースルーセルである。電圧を圧電セラミックの両端に印加すると、黄銅膜が屈曲する。屈曲した黄銅膜は圧力パルスを円錐形の流体充填チャンバ中に生じ、チャンバは次いで圧力パルスを流路の壁にあるテフロン膜に伝える。最後に、圧力パルスは本質的に影響を受けることなく、テフロン膜を通過し、流路内の流体に達し、この流体からマイクロサンプル、すなわち流体の小滴がオリフィスタイプのノズルを通って排出される。このサンプリングツールは従来の機械的方法によって製造される。この従来技術のサンプリングツールを第１図および第２図に示す。
参照文献２は液体充填圧力チャネル内に圧力パルスを発生する圧電セラミック層を備えているインクドロップ発生器を開示している。いずれにせよ、この装置はフロースルー型のものではなく、連続流からサンプルを抜き取るのに使用することができない。
従来の技術を凌駕する効果
本発明はフロースルー型のサンプリングセル、すなわち少なくとも一つの流入口と少なくとも一つの流出口を備えており、少なくとも一つのサンプル放出オリフィスからサンプルが取出されるサンプリングセルであって、このオリフィスが流入口および流出口から分離されているサンプリングセルに関する。フロースルー型のサンプリングセルは、それ故、流出口がサンプル放出オリフィスとしても働くものなどの非フロースルー型のサンプリングセルとは異なっている。
参照文献１によるマイクロサンプリング用の上述のツールにはいくつかの欠点、すなわち、中間チャンバを通し、かつ二枚の別々の膜を通した圧力パルスの伝達、デッドボリュームが比較的大きい、オリフィスタイプのノズルに隣接して中空部分があることによる圧力パルス吸収気泡がつまる危険性、ツール全体の寸法が大きいことによる低い共振周波数、オリフィスタイプのノズルの出口側周囲の領域への液体の付着、円錐形流体充填チャンバへの独立した充填の必要性、テフロン膜の定期的な交換の必要性、テフロン膜周囲での締め付けの必要性、製造が比較的複雑で、費用がかさむことなどの欠点がある。
米国特許第５３３８６８８号（ＲＯＬＦ  ＤＥＥＧ他）は生化学分析液のターゲットへの計量塗布方法を開示している。いずれにせよ、使用されている装置はフロースルー型のものではない。さらに、この方法は液体の加熱後の蒸発による小容積の液体の放出に限定されている。このような加熱は液体の特性を破壊することがある。
米国特許第３７７５０５８号（ＢＲＩＡＮ  ＢＵＳＨ）は液体の混合方法および装置を開示している。しかしながら、使用されている装置はフロースルー型ではない。さらに、この装置は装置によって形成される液滴の静電荷電を行う手段を必要としている。
ヨーロッパ特許第１１９５７３Ａ１号（ＭＩＬＥＳ  ＬＡＢＯＲＡＴＯＲＩＥＳ，ＩＮＣ．）はマイクロドロップレット分与装置および方法を開示している。この参照文献も、使用されている装置はフロースルー型ではない。
本発明によるサンプリングセルは特に、従来技術の装置に対し次の利点を有している。
サンプル放出オリフィス（６）が流路の壁に直接配置されており、これによりチャネルがきわめて平滑になり、圧力パルス吸収気泡がセル内でつまる危険が最小限となる。
デッドボリュームが小さく、液体を変更した場合の流路（３）内での損失が少なくなり、分析対象の高価な液体を取り扱う場合有利である。
デッドボリュームの減少による帯域幅の拡大。
本発明のシリコン微小加工サンプリングセルの場合、圧力パルスが流路の壁で直接発生するのに対し、参照文献１によるセルなどの従来の技術のフロースルーセルにおいては、動作手段が流体チャンバに作用し、流体チャンバが次いで圧力パルスを膜を介してフローセルに伝える。
小さい液滴がしばしば必要とされる。本発明のシリコンベースのサンプリングセルの場合、従来技術のサンプリングセルよりも小さい液滴を発生させることができる。これは従来の機械的方法で製造されるセルにおけるよりも小さく、精度の高い穴をエッチングによってシリコンに作成できるからである。
サンプリングセル全体は均一で、不活性であり、しかも酸化した場合に親水性となる生物学的適合性のある材料であるシリコン製であることが好ましい。
シリコン部品を簡単に化学的に変性させて、その表面特性を調節することができる。
発明の目的
本発明の第一の目的は、上記の欠点のない、請求の範囲第１項によるサンプリングセルである。
本発明の他の目的は、請求の範囲第１項のサンプリングセルの異なる実施の形態である。
本発明のさらに他の目的は、サンプリングセルのさまざまな使い方、およびサンプリングセルから出されるサンプルを送る方法である。
【図面の簡単な説明】
参照符号の付された図は以下の説明および同じ参照符号の付された図面において同一のものである。
第１図はイオン交換カラムからの溶離液のマイクロドロップを電気泳動ゲルに付着させるために使用される、参照文献１による従来技術のマイクロサンプルツールの略斜視図である。
第２図は参照文献１および第１図による従来技術のマイクロサンプルツールの略側断面図である。
第３図は図において若干分離して示されており、使用時には互いに接着される第一の構造体（１）と第二の構造体（２）とを備えている本発明によるサンプリングセルの第一の実施の形態の一部断面略斜視図である。第一の構造体（１）には、第一の槽（４）が形成され、第二の構造体（２）には、第二の槽（５）が形成されている。槽（４、５）は一緒になって流路（３）を形成する。第一の構造体（１）は少なくとも一つのサンプル放出オリフィス（６）を有している。第二の構造体（２）は少なくとも一つの流入口（７）と少なくとも一つの流出口（８）を有している。
第４図は圧力パルス発生圧電ディスク（９）がパルス発生器（１０）に取り付けられており、第一のシリコンチューブ（１１）が流入口（７）に取り付けられ、第二のシリコンチューブ（１２）が流出口（８）に取り付けられている、第３図の第一の実施の形態の略側断面図である。第一の槽（４）が第一のシリコン膜（１３）を第一の構造体（１）内に規定し、第二の槽（５）が第二のシリコン膜（１４）を第二の構造体（２）内に規定している。
第５図および第６図は上記第３図および第４図の本発明の第一の実施の形態のサンプル放出オリフィス（６）からの、直径が４０μｍの液滴の放出を示す写真である。
第７図はサンプルの放出方向が以下の例２にしたがって制御される本発明の実施の形態の一部断面斜視図である。
発明の詳細な説明
主として第３図ないし第７図を参照する以下の例は、本発明を説明することを意図したものであるが、本発明の範囲を限定するものではない。
例１
サンプリングセルは、異方性ＫＯＨエッチングを使用して同じ（１００）−シリコンで製造された第一の構造体（１）および第二の構造体（２）で構成されている。第一の構造体（１）には、幅が２ｍｍ、長さが１５ｍｍ、深さが３５０μｍの第一の槽（４）と、第一の槽（４）と同じ寸法を有する第二の槽（５）が形成されている。第一の構造体（１）には、第一の槽（４）のほぼ中心を通してサンプル放出オリフィス（６）がエッチングされている。サンプル放出オリフィス（６）は直径が６０μｍであり、使用時には、サンプリングノズルとして働く。第二の構造体（２）には、第二の槽（５）の各端部に各々の直径が２ｍｍの二つの穴がシリコンウェハを通してエッチングされており、これらの穴はそれぞれ流入口（７）および流出口（８）として働く。
サンプル放出オリフィス（６）、流入口（７）および流出口（８）が順次エッチングされる第１のシリコン膜（１３）と第二のシリコン膜（１４）のそれぞれの厚さは、ＰＮエッチストッププロセスによって規定されている。リンドーピング深さは、それ故、第一のシリコン膜（１３）および第二のシリコン膜（１４）の達成された厚さを規定している。サンプル放出オリフィス（６）、流入口（７）および流出口（８）は第一のシリコン膜（１３）および第二のシリコン膜（１４）の対応する領域をマスクすることによって形成される。
最後に、第一および第二の構造体（１、２）はシリコン直接接着によって互いに接着され、これにより第一の槽（４）および第２の槽（５）が一緒になって流路（３）を形成する。流路（３）内のすべての角部には丸みがつけられている。
第一のシリコンチューブ（１１）はシリコンゴムゲルによって流入口（７）に接着されており、第二のシリコンチューブ（１２）もシリコンゴムゲルによって流出口（８）に接着されて、単純な流れの接続をもたらす。幅が８ｍｍ、厚さが０．２ｍｍの圧電セラミックディスク（９）が流入口（７）と流出口（８）の間で第二のシリコン膜（１４）に接着されている。
上記のサンプリングセルは次のようにして動作する。
液体流がサンプリングセルを通過し、パルス発生器（１０）が発生する１−１００Ｈｚで、継続期間が１２μｓの１００Ｖのパルスによって圧電セラミックディスク（９）が駆動されると、連続した液滴列がサンプル放出オリフィス（６）から放出される。第５図および第６図は液滴の放出を示す。直径が６０μｍのサンプル放出オリフィス（６）は直径が４０μｍ、すなわち液滴体積が３４ｐｌの液滴を生じる。１００Ｈｚのパルス周波数において、０．２μｌ／分のサンプル流がもたらされる。液滴の大きさは、特に圧力パルスを発生する方法によって制御できる。
動作条件を要約すると、次のようになる。
圧電セラミックディスク（９）およびこれが接着される第二のシリコン膜（１４）は一緒になって二層体を形成する。電圧パルスをディスク（９）に印加すると、曲げ作用が生じる。このような曲げ作用は周知である。たとえば、米国特許第３７４７１２０号（ＳＴＥＭＭＥ）参照。これにより流路（３）に発生した圧力パルスにより、サンプル液滴がサンプル放出オリフィス（６）から放出される。
気泡が流路（３）を通る液体に生じることがある。これは、たとえばクロマトグラフシステムから到来する液体中に、クロマトグラフカラム中の圧力勾配と、塩濃度の増加した液体中での気体の溶解度の減少とによって生じる。気泡が流路（３）に進入すると、圧電セラミックディスク（９）によって発生した圧力が減少し、このことが次いでサンプリングセルの誤動作につながることがある。この現象はたとえば参照文献３から周知である。気泡が流路（３）の内壁に付着するのを防ぐために、これらの内壁によって形成される角部に丸みをつける。気泡の付着傾向は、流路（３）の表面を酸化プロセスによって気泡に対して非付着性とすることによってさらに下げられる。気泡の流路（３）の通過は、流入口（７）を流出口（８）の下方にした垂直位置でサンプリングセルを動作させることによって容易となる。
サンプル放出オリフィス（６）周囲の外部表面に流路（３）内の液体が付着しないようにすることも重要である。サンプル放出オリフィス（６）の近傍に付着した液体が、液滴の放出時にその方向を変えてしまう可能性があるからである。この現象は、特に参照文献２から周知である。この問題はサンプリングセルを若干負圧で動作させることにより、および/またはサンプル放出オリフィス（６）周囲の領域を流路（３）に対しては付着性、出口側においては非付着性とすることによって解決される。これにより、毛管力が液体をフローセル（３）内に維持し、液体のメニスカスがサンプル放出オリフィス（６）内に形成され、これによって内方へ屈曲する。
例２
例１によるサンプリングセルは本質的に、次のことに使用される。キャビラリ電気泳動用のガラスキャビラリは塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）の溶液が充填される。キャビラリの第一の端部から、細い電導性のワイヤが溶液と接触するように導入される。キャビラリの第二の端部はサンプリングセルに近接して配置され、通常の水道水で充填された後、下記の効果を変化させない塩化ナトリウム溶液で充填される。液滴の生成は約５０Ｈｚの液滴放出周波数で開始される。高電圧源をサンプリングセル内の液体に接続し、かつガラスキャビラリの第一端部内のワイヤに接続する。約２５００Ｖの電圧を使用した。電圧を印加すると、放出された液滴がガラスキャビラリの第二端部によって引き寄せられる。液滴はキャビラリの第二端部表面と、この第二端部表面のすぐ下のキャビラリの外側に衝突する。ガラスキャビラリ内の液体にキャビラリの第二端部から延びている小さい体積を形成させることにより、液滴のより精密な衝突が達成される。液滴に作用する電気力が十分小さいため、液滴がサンプル放出オリフィス（６）に接近したときに、液滴の方向に影響を及ぼすことが困難となる。ガラスキャビラリの第二端部をサンプル放出オリフィス（６）から１０ｍｍほど離し、これよりも若干下に置いた場合に、液滴に対する影響が大きくなる。この場合、液滴の速度はすでに減速されており、液滴はそれ自体の重さで落下を開始する。
他の実施の形態
本発明の実施の形態を示す第３図、第４図および第６図において、流入口（７）と流出口（８）とはサンプル放出オリフィス（６）に対向した同じ表面上に配置されている。これらの部品の位置を変更することは、本発明の概念の範囲内のものである。すなわち、流入口（７）と流出口（８）とは対向する表面に配置してもよい。同様に、流入口（７）および/または流出口（８）を、サンプル放出オリフィス（６）と同じ表面に配置してもよい。
作動手段は圧電セラミックディスク（９）だけに限られず、たとえば、磁気ひずみおよび/または電気機械的および／または静電力および/または熱膨張を使用した手段でもかまわない。作動手段は例１におけるように一ユニットで構成しても、いくつかのユニットで構成してもよい。作動手段は例１におけるようにサンプル放出オリフィス（６）と対向するものだけに限られず、流路（３）のほかの部品と隣接していてもかまわない。作動手段をサンプル放出オリフィス（６）と同じ表面上に、すなわち例１における第一のシリコン膜（１３）に対応した表面上に配置することもできる。フロースルーサンプリングセル全体をそれ自体が作動する圧電セラミック材料などの材料で作成し、サンプル放出オリフィス（６）周囲の領域をシリコンなどの不活性材料製とすることができる。このような環境においては、セルがそれ自体のアクチュエータとして働くため、圧電セラミックディスク（９）などの独立した作動手段は必要ない。
サンプリングセルの幾何学的寸法を適切に選択することにより、機械的共振を減少させたり、増幅したりして、液滴の生成にある種の効果を及ぼすことができる。たとえば、サンプリングセルの大きさが小さくされた場合、共振周波数は増加し、最大液滴放出周波数が高くなる。
サンプリングセルが十分薄い第一のシリコン膜（１３）を有している場合には、圧力パルスはこの膜（１３）を屈曲させることによって減衰する。液滴の生成がこれによって妨げられるため、このような減衰が望まれないことがしばしばある。サンプリングセルを、特に第一のシリコン膜（１３）をきわめて厚くし、それゆえ屈曲しにくくすることによって十分剛性のあるものとすることにより、圧力パルスの減衰を減少させる。
サンプル放出オリフィス（６）はフローセル（３）の壁に直接配置され、サンプル放出オリフィス（６）に残る液体の量が無視できるものとなり、たとえば、サンプリングセルのクリーニングを行う場合に有利となる。
液滴放出時のフローセル（３）内の液体とサンプル放出オリフィス（６）の出口表面との間の付着面積は、液滴生成に対する妨害を最小限とするためできるだけ小さいものでなければならない。これはサンプル放出オリフィス（６）に、第一のシリコン膜（１３）から外方へ延びている短いチューブやノズルなどの中空突出要素を接続することによって達成される。中空突出要素はフロースルーセルの材料に直接作成することもできる。このような要素の自由端はきわめて薄くなっているか、鋭い縁部を有しており、これによってこの端部周囲の濡れが最小限のものとなり、それ故、液滴の生成に対する妨害も最小限のものとすることが好ましい。突出要素の長さは、放出液滴の安定した方向を達成するためにサンプル放出オリフィス（６）の直径と少なくとも同じ程度の大きさであることが好ましい。サンプル放出オリフィス（６）の直径は約１００μｍまで自由に変えることができる。サンプル放出オリフィス（６）の最小直径は、このオリフィスを通過する必要のある液体の閉塞傾向によって制限される。
サンプリングセルの外側、特にサンプル放出オリフィス（６）の近傍を、たとえば付着削減材料によってコーティングすることによって加工して、流路（３）からの液体の付着をできるだけ回避するようにすることができる。サンプル放出オリフィス（６）および/または可能性のある突出チューブに小さいチャネルを設けるか、あるいは液体を導く多孔性シリコンコーティングを施すと、付着をさらに少なくすることができる。
上記の例１および例２において、サンプル放出オリフィス（６）は圧電セラミックディスク（９）に実質的に対向し、かつ第一の槽（４）の中心に配置されている。サンプル放出オリフィス（６）を他の場所に配置することもできる。さらに、二つ以上のサンプル放出オリフィス（６）を設定して、複数列の放出液滴を達成することもできる。
シリコンは本サンプリングセルの製造にきわめて適した材料である。魅力的な光学特性を有するガリウムヒ素や、それ自体が圧電性を有しており、ＵＶを透過させる石英などの何らかの他の材料も使用することができる。周知のＬＩＧＡ技法は焼結セラミックス、射出成形ポリマあるいは純粋な材料の構造などのまったく異なる材料の微細機械加工を可能とする。ＬＩＧＡプロセスはシンクロトロン照射リソグラフィ、ガルバノフォーミング（Ｇａｌｖａｎｏｆｏｒｍｉｎｇ）およびプラスチック成形によるアスペクト比が大きく、構造的高さが高い微細構造の製造を可能とする。参照文献４参照。ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）をＸ線露光に対するフォトレジストとして使用することができる。ＬＩＧＡはディープリソグラフィにＰＭＭＡを使用する。数ミリメートル程度の深い露光を行うことができる。ＬＩＧＡはきわめて高いアスペクト比を特徴としている。現像したＰＭＭＡ露光物は厚さが数ミリメートル、垂直表面粗さが０．１μｍの範囲である。現像されたＰＭＭＡ露光物を次に電気めっき手順に入れ、「雌型」の金型を作る。次いで、金型をマスタとして使用して、成形可能材料によってアスペクト比の極めて大きい微細構造装置を製造する。本発明のフロースルーサンプリングセルにおけるサンプル放出オリフィス（６）として働くきわめて滑らかなシリンダ状の穴を作成することができる。
上記の例１および２において、本発明のサンプリングセルは本質的に二つの構造体（１、２）で製造されている。本発明の概念の範囲内において、サンプリングセルを多くのほかの方法で製造することが可能である。たとえば、入口と出口を備えた第一の薄い構造体、流路を備えた厚い構造体およびサンプル放出オリフィスを備えた第二の薄い構造体という三つの部品で製造することができる。本発明のサンプリングセルをマイクロドリリングにより一個の材料から製造することもできる。
本発明の用途
本発明によるサンプリングセルは、たとえば次のことに使用できる。
連続液体流から少量の、しばしば無視できる量のサンプルを抽出する。
各々が十分に規定された容積を有している規定数のサンプル液滴を収集することにより、精確な量のサンプルを抽出する。
キャピラリ電気泳動または通電クロマトグラフィ用のサンプルを射出する。
この場合、フローセルは試験液体で充填され、放出される液滴はキャピラリへ送られる。適切な数の液滴がキャピラリ端部へ向かって送られる。フローセルとキャピラリ開口の間に電解を印加することによって、液滴を送ることもできる。スラブ電気泳動、質量分析、化学相互作用分析、および液体クロマトグラフィなどのその他の周知の分析方法によって、サンプルは次のことについて同等に分析できる。
たとえば、電気泳動、液体クロマトグラフィ、フローインジェクション分析または化学相互作用分析のための、たとえば、液体クロマトグラフィ、フローインジェクション分析、発酵器または反応器からさまざまな装置へのサンプリング液滴の流れを分割することによるテストサンプリング。
きわめて正確な薬品の送出。
別々の流入口（７）から流路（３）に進入した後、流路（３）内で混合されるさまざまな薬品の間の反応速度の調査。
たとえば、複数のサンプル放出オリフィス（６）を使用したさまざまな薬品の混合時の、流路（３）のさまざまな部分からの同時サンプリング。
本発明による二つのサンプリングセルを互いにきわめて近接させて配置し、第一のセルのサンプル放出オリフィス（６）を第二のセルのサンプル放出オリフィス（６）に対向させることによる、小容積のある液体を比較的大きい容積の他の液体に射出する効果の評価。第二のセルに若干の負圧がある場合、第一のセルから放出されるサンプルはサンプル放出オリフィス（６）からの第二のセルの流路（３）中の液体に引き込まれる。
特定の特性を有する化学活性表面を達成するための、一つまたは複数の材料による表面のコーティング。
好ましくは互いに近接して配置された複数のフロースルーサンプリングセルを使用した、互いに近いものであることが好ましい反応液などの異なる液体の分与。このような分与は同時に行われるものであっても、連続して行われるものであっても、間欠して行われるものであってもよい。
たとえば、流路内の着色インクを順次連続的に変更してそれぞれのカラーを印刷することによる、一つだけのノズルにより数種類のカラーを印刷するためのインクジェットプリンタにおける印刷装置。
参照文献
参照文献１
Nilsson j., Szecsi P. and Schafer-Nielsen C.,
"A flow-through microsampling device applied to an ion exchange chromatography system",
Journal of Biochemical and Biophysical Methods, 27, pp. 181-190, 1993
参照文献２
Bentin, H., Doering, M., Radke, W. and Rothgordt, U.,
"Physical properties of micro-planar ink-drop generators",
J. Img. Techn. 12, pp. 152-155, 1986
参照文献３
Brock, J. D., Cohen, I. M., Ivanov", I. P., Le, H. P., and Roy, J.,
"Oscillations of an air bubble in an ink jet",
J. Img. Techn. 10, pp. 127-129, 1984
参照文献４
E. W. Becker, W. Ehrfeld, P. Hagmann, A. Mauer and D.
0003757250.tif 000002
Microelectronic Engineering 4 (1986) 35-36
【図１】
0003757250.tif 000003
【図２】
0003757250.tif 000004
【図３】
0003757250.tif 000005
【図４】
0003757250.tif 000006
【図５】
0003757250.tif 000007
【図６】
0003757250.tif 000008
【図７】
0003757250.tif 000009