(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と基材の表面上に順次形成された中間層と光触媒作用層とを有する有機−無機ハイブリッド材料において、
この中間層が、有機重合体成分と金属酸化物成分とが共有結合して形成された有機−無機ハイブリッド高分子材料であって、表面方向に金属酸化物成分の濃度が増加する成分傾斜構造を有するもので成り、
この光触媒作用層が、光触媒作用を有する金属酸化物を含む材料で成る、有機−無機ハイブリッド材料
【請求項２】
基材と基材の表面上に順次形成された第１中間層と第２中間層と光触媒作用層とを有する有機−無機ハイブリッド材料において、
この第１中間層が、有機重合体成分と金属酸化物成分とが共有結合して形成された有機−無機ハイブリッド高分子材料であって、表面方向に金属酸化物成分の濃度が増加する成分傾斜構造を有するもので成り、
この第２中間層が、金属酸化物が架橋して形成された無機材料で成り、
この光触媒作用層が、光触媒作用を有する金属酸化物を含む材料で成る、有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項３】
前記有機重合体の主骨格が熱硬化性樹脂である請求項１又は２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項４】
前記有機重合体の主骨格が熱可塑性樹脂である請求項１又は２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項５】
前記有機重合体の主骨格がポリカーボネート、ポリアリレートまたはポリサルホンである請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項６】
前記有機重合体が金属アルコキシ基、水酸基、アミノ基またはカルボキシル基からなる群から選択される官能基を少なくともひとつ有する請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項７】
前記有機重合体が官能基として金属アルコキシ基を少なくともひとつ有する請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項８】
前記中間層の金属酸化物が、光触媒作用を示さないものである請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料
【請求項９】
前記中間層の金属酸化物が、酸化物となった場合に光触媒作用を示さない金属の金属アルコキシド化合物またはそれを含む金属アルコキシド混合物を加水分解および重縮合させて得られたものである請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項１０】
前記中間層の金属酸化物の金属元素が、ＳｉおよびＺｒからなる群から選択される少なくとも１種である請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項１１】
前記中間層の金属酸化物が、シリコンアルコキシドまたはジルコニウムアルコキシドまたは少なくともそれらのいずれかを含む混合物を加水分解および重縮合させて得られたものである請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料
【請求項１２】
前記中間層の金属酸化物の金属元素が、Ｓｉである請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項１３】
前記中間層の金属酸化物が、シリコンアルコキシドまたはそれを含むシリコンアルコキシド混合物を加水分解および重縮合させて得られたものである請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項１４】
前記光触媒作用層中、光触媒作用を示す金属酸化物の含有量が１０から１００重量％である請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項１５】
前記光触媒作用を示す金属酸化物が、酸化チタンおよび酸化銅（Ｉ）からなる群から選択される少なくとも１種である請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項１６】
前記光触媒作用層が、光触媒作用を示す金属酸化物の粒子を含む材料でなる請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項１７】
前記光触媒作用層が、酸化物とされた場合に光触媒作用を示す金属の金属アルコキシド化合物またはそれを含む金属アルコキシド混合物を加水分解および重縮合させて得られる材料で成る請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項１８】
前記基材が有機材料である請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項１９】
前記光触媒作用が消臭、脱色、防汚、抗菌および除菌作用である請求項１または２記載の有機−無機ハイブリッド材料。
【請求項２０】
（ｉ）表面を有する基材を提供する工程；
（ｉｉ）基材の表面上に、官能基として金属アルコキシド基を有する有機重合体、又は金属アルコキシド化合物と反応可能な官能基を有する有機重合体と金属アルコキシド化合物との混合物を含む溶液あるいは湿潤ゲルを塗布して塗布層を形成する工程；
（ｉｉｉ）金属アルコキシド化合物の濃度が増加するように組成比を変化させた溶液あるいは湿潤ゲルを調製し、上記塗布層の表面上にこれを塗布することを少なくとも１回繰り返して、中間層を形成する工程；及び
（ｉｖ）中間層の表面上に、光触媒作用を示す金属酸化物を含む材料で成る光触媒作用層を形成する工程；
を包含する、有機−無機ハイブリッド材料の製造方法。
【請求項２１】
（ｉ）表面を有する基材を提供する工程；
（ｉｉ）基材の表面上に、官能基として金属アルコキシド基を有する有機重合体、又は金属アルコキシド化合物と反応可能な官能基を有する有機重合体と金属アルコキシド化合物との混合物を含む溶液あるいは湿潤ゲルを塗布して塗布層を形成する工程；
（ｉｉｉ）金属アルコキシド化合物の濃度が増加するように組成比を変化させた溶液あるいは湿潤ゲルを調製し、上記塗布層の表面上にこれを塗布することを少なくとも１回繰り返して、第１中間層を形成する工程；
（ｉｖ）第１中間層の表面上に、金属アルコキシド化合物を含む溶液あるいは湿潤ゲルを塗布して第２中間層を形成する工程；
（ｖ）第２中間層の表面上に、光触媒作用を示す金属酸化物を含む材料で成る光触媒作用層を形成する工程；
を包含する、有機−無機ハイブリッド材料の製造方法。
【請求項２２】
前記光触媒作用層が、光触媒作用を示す金属酸化物の粒子を含む材料を直接、中間層の表面に塗布して形成される請求項２０または２１記載の有機−無機ハイブリッド材料の製造方法。
【請求項２３】
前記光触媒作用層が、光触媒作用を示す金属酸化物の粒子を含む材料を揮発性溶媒に分散させ、得られる分散体を中間層の表面に塗布して形成される請求項２０または２１記載の有機−無機ハイブリッド材料の製造方法。
【請求項２４】
前記光触媒作用層が、中間層の表面上に光触媒作用を示す金属アルコキシド化合物またはその低縮合物を含む金属アルコキシド混合物の溶液あるいは湿潤ゲルを塗布して形成される請求項２０または２１記載の有機−無機ハイブリッド材料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は表面層として光触媒作用を示す材料を備える有機−無機ハイブリッド材料及びその製造方法に関する。かかる有機−無機ハイブリッド材料は、様々な臭いや汚れの除去や除菌等が要求される用途に有用な機能性材料である。
【０００２】
【従来の技術】
最近、光触媒作用を有する材料である酸化チタンが消臭、防汚や抗菌、除菌材として使用されてきている。これは、酸化チタンに光が当たるとその表面にＯＨラジカル等の活性酸素種が生成し、それらによって表面に付着したほとんどの有機物が、最終的には二酸化炭素と水にまで分解されることを利用している。このような酸化チタンの光触媒作用は非常に強いため、酸化チタンはこれまではタイル等のセラミックスのような無機材料表面に担持させることが多かった。
【０００３】
しかし今後は他の材料、例えば成形性等に優れるプラスチックや繊維等の有機材料に担持させる必要が多くなると考えられる。ところが酸化チタンは、上記したように非常に強い光触媒作用を有するため様々な不都合が生じる。すなわち、酸化チタンに接している基材部分が、その強い酸化作用のために著しい劣化を受ける。無機材料と違って、有機材料の場合にはこの劣化は耐用寿命の短縮につながる。
【０００４】
これを防ぐために、酸化チタンを基材に担持するときにはこれまで、接着剤としてフッ素系樹脂やシリコン系樹脂等の難分解性樹脂を使用する方法（特開平７−１７１４０８、特開平７−２６５７１４）や酸化チタン微粒子を多孔質体に担持させる方法（特開平３−１５７１２５、特開平７−２１３９１３）が提案された。しかし、これらの方法を採っても酸化チタンと接着剤となる樹脂や基材とが接触することより、これらの材料の劣化を充分に防止できない。
【０００５】
また、酸化チタン粒子を部分的にアルキルシリケートでコーティングする方法（特開平１０−３３９８８）も提案されているが、アルキルシリケートの添加量が少ないと酸化チタンと基材との接触面積が大きくなり、やはり基材の劣化を防止できない。逆にアルキルシリケートの添加量を多くすると材料中の酸化チタンの相対量が減少することによって、光触媒作用が充分に発揮されない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上記従来の問題を解決し、表面層として光触媒作用を示す材料を備えながら、それを担持する基材が劣化しない有機−無機ハイブリッド材料、及びその製造方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基材と基材の表面上に順次形成された中間層と光触媒作用層とを有する有機−無機ハイブリッド材料において、該中間層が、有機重合体成分と金属酸化物成分とが共有結合して形成された有機−無機ハイブリッド高分子材料であって、表面方向に金属酸化物成分の濃度が増加する成分傾斜構造を有するもので成り、該光触媒作用層が、光触媒作用を示す金属酸化物を含む材料で成る、有機−無機ハイブリッド材料を提供するものであり、そのことにより上記目的が達成される。
【０００８】
【発明の実施の形態】
基材
基材としては、従来と同様、タイル等のセラミックスのような無機材料を用いることもできるが、有機材料を用いることもできる。例えば、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂などの汎用プラスチックス材料及びエンジニアリングプラスチックス材料等の高分子材料を用いることができる。基材の形状としては、板状の他、糸、フィルム、球状、ブロック等の各種形状の成形体であるものも含まれる。軽量で、成形が容易である有機材料を用いることが好ましい。
【０００９】
中間層
中間層とは基材と光触媒作用層との中間に位置することにより光触媒作用層が基材に接触するのを防止する層をいう。中間層は光触媒作用を示さず、有機材料でなる基材と接したとしても基材の接した部分が劣化されず、また、基材及び光触媒作用層との接着性が良好な材料で形成することが好ましい。中間層を形成するのに好ましい材料は有機重合体成分と金属酸化物成分とが共有結合して形成された有機−無機ハイブリッド高分子材料である。
【００１０】
有機−無機ハイブリッド高分子材料中の有機重合体成分の含有率は特に制限はないが、塗膜として有機材料の基材にコーティングする場合には、基材との密着性をより高めるために基材との接触面部分では５０重量％以上であることが好ましい。また、基材の劣化を防ぐために、光触媒作用を有する材料との界面部分では有機重合体成分の含有率は０％に近いほど望ましい。言い換えれば、この界面部分では金属酸化物成分の含有率が１００％に近いほど良い。
【００１１】
このような有機重合体成分と金属酸化物成分との好ましい組成分布を実現するために、本発明では、中間層を形成する有機−無機ハイブリッド高分子材料の組成を、表面方向に金属酸化物成分の濃度が増加するよう調節する。本明細書では、このような厚み方向にある成分の濃度が増加又は減少する構造を成分傾斜構造という。
【００１２】
成分傾斜構造としては、最終的に得られる有機−無機ハイブリッド高分子材料がミクロ的に均質でありながらかつ材料の厚み方向に有機重合体成分あるいは金属酸化物成分の含有率が連続的に変化する領域を有するものであれば良く、特に製造方法によって限定されない。
【００１３】
つまり、本発明においては、有機重合体および金属酸化物の組成比が有機−無機ハイブリッド高分子材料中において厚み方向以外では均質性を保ちながら、厚み方向には連続的に変化し、表面に向かって金属酸化物の濃度が増加していることを基本とする。従って、本発明の有機−無機ハイブリッド材料は、単に不規則な凝集や相分離によって不連続的に成分濃度が異なる領域を有するものや塗装によって形成される一定成分濃度を有する均一塗膜を基材の表面に有するもの等とは異なる。
【００１４】
有機−無機ハイブリッド高分子材料は、例えば、官能基として金属アルコキシド基を有する有機重合体、又は金属アルコキシド化合物と反応可能な官能基を有する有機重合体と金属アルコキシド化合物との混合物を、加水分解及び重縮合することにより得られる。
【００１５】
本発明において、金属アルコキシド化合物（Ｂ）と反応可能な官能基を有する有機重合体（Ａ）はいかなる方法で合成されたものであっても良い。
【００１６】
有機重合体（Ａ）は主骨格として有機鎖部分を有する。かかる主骨格の例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチル；ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリフェニレンエーテル；ポリメチルペンテン、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリフタルアミド；ポリフェニレンサルファイド、ポリアリーレート、ポリイミド、ポリエーテルイミド；ポリエーテルケトン等の熱可塑性樹脂や熱可塑性エラストマーの骨格；フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、尿素樹脂、シリコーン樹脂等の熱硬化性樹脂の骨格等が挙げられる。
【００１７】
有機重合体（Ａ）は上述したような重合体や前駆体の１成分を主骨格としたものでも良く、これら多成分の共重合体骨格でも良い。また、複数種を混合したものでも良く、分岐状、線状いずれの形状でも良い。更にハロゲン化炭化水素系、エーテル系、アルコール系、非プロトン性極性溶媒のような溶剤に溶解するかまたは膨潤することが望ましく、数平均分子量は５００〜５００００、好ましくは１０００〜１５０００である。
【００１８】
この中でも熱可塑性樹脂が有機重合体（Ａ）として好ましく、高性能という点ではポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリアリーレート等のエンジニアリングプラスチックがより好ましい。
【００１９】
有機重合体（Ａ）が有する官能基は金属アルコキシド化合物（Ｂ）と反応可能なものであれば良く、特に限定されないが、具体的には金属アルコキシド基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基等が挙げられ、特に金属アルコキシド基が好ましい。有機重合体（Ａ）の官能基当量は１〜１００、好ましくは１〜５０、更に好ましくは２〜１０である。有機重合体（Ａ）の官能基当量が１を下回ると材料の性能が低下する可能性があり、１００を上回ると材料がもろくなる可能性がある。１分子の有機重合体（Ａ）が有する官能基は全て同一でも良く、複数種であっても良い。
【００２０】
金属アルコキシド化合物（Ｂ）としては、金属酸化物とされた場合に光触媒作用を示さず、有機材料でなる基材と接したとしても接した部分が劣化されないものであれば、あらゆるタイプの化合物を用いることができる。その中でも好ましいものは、式（１）
ＡpＭ            式（１）
［式中、Ａは炭素数１〜８、好ましくは１〜４のアルコキシ基であり、ＭはＳｉ、Ｚｒ、Ｂ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｂａ、Ｇａ及びＰｂからなる群、好ましくはＳｉ及びＺｒからなる群から選択される金属元素であり、ｐは２〜６の整数である。］
で表される化合物である。
【００２１】
具体的には、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類、
テトラｎ−プロポキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム等のテトラアルコキシジルコニウム類、及び
ジエトキシバリウム、トリメトキシホウ素、トリエトキシガリウム、トリブトキシアルミニウム、テトラエトキシゲルマニウム、テトラブトキシ鉛、ペンタｎ−プロポキシタンタル等の金属アルコキシド類が挙げられる。
【００２２】
金属アルコキシド化合物（Ｂ）の他の例は、式（２）
ＲkＡlＭ（Ｒ’mＸ）n          式（２）
［式中、Ｒは水素、炭素数１〜１２、好ましくは１〜５のアルキル基またはフェニル基であり、Ａは炭素数１〜８、好ましくは１〜４のアルコキシ基であり、ＭはＳｉ、Ｚｒ、Ｂ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｃｅ及びＴａからなる群、好ましくはＳｉ及びＺｒからなる群から選択される金属元素であり、Ｒ’は炭素数１〜４、好ましくは２〜４のアルキレン基またはアルキリデン基であり、Ｘはイソシアネート基、エポキシ基、カルボキシル基、酸ハロゲン化物基、酸無水物基、アミノ基、チオール基、ビニル基、メタクリル基、ハロゲン基等の一般的な官能基であり、ｋは０〜５の整数であり、ｌは１〜５の整数であり、ｍは０または１の整数であり、ｎは０〜５の整数である。］
で表される化合物である。
【００２３】
Ｓｉを例に取り、具体的に例示すれば、
トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリｎ−プロポキシシラン、
ジメトキシシラン、ジエトキシシラン、ジイソプロポキシシラン、
モノメトキシシラン、モノエトキシシラン、モノブトキシシラン、
メチルジメトキシシラン、エチルジエトキシシラン、
ジメチルメトキシシラン、ジイソプロピルイソプロポキシシラン、
メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、
ｎ−プロピルトリｎ−プロポキシシラン、ブチルトリブトキシシラン、
ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、
ジイソプロピルジイソプロポキシシラン、ジブチルジブトキシシラン、
トリメチルメトキシシラン、トリエチルエトキシラン、
トリｎ−プロピルｎ−プロポキシシラン、トリブチルブトキシシラン、
フェニルトリメトキシラン、ジフェニルジエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン等の（アルキル）アルコキシシラン；
３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、
２−イソシアネートエチルトリｎ−プロポキシシラン、
３−イソシアネートプロピルメチルジメトキシシラン、
２−イソシアネートエチルエチルジブトキシシラン、
３−イソシアネートプロピルジメチルイソプロポキシシラン、
２−イソシアネートエチルジエチルブトキシシラン、
ジ（３−イソシアネートプロピル）ジエトキシシラン、
ジ（３−イソシアネートプロピル）メチルエトキシシラン、
エトキシシラントリイソシアネート等のイソシアネート基を有する（アルキル）アルコキシシラン；
３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、
３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、
３−グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラン、
２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、
３，４−エポキシブチルトリメトキシシラン等のエポキシ基を有する（アルキル）アルコキシシラン；
カルボキシメチルトリエトキシシラン、
カルボキシメチルエチルジエトキシシラン、
カルボキシエチルジメチルメトキシシラン等のカルボキシル基を有する（アルキル）アルコキシシラン；
３−（トリエトキシシリル）−２−メチルプロピルコハク酸無水物等の酸無水物基を有するアルコキシシラン；
２−（４−クロロスルフォニルフェニル）エチルトリエトキシシラン等の酸ハロゲン化物基を有するアルコキシシラン；
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
３−アミノプロピルトリエトキシシラン、
Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、
Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基を有する（アルキル）アルコキシシラン；
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
２−メルカプトエチルトリエトキシシラン、
３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のチオール基を有する（アルキル）アルコキシシラン；
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
ビニルメチルジエトキシシラン等のビニル基を有する（アルキル）アルコキシシラン；
３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、
３−メタクリロキシピロピルメチルジメチルシラン等のメタクリル基を有する（アルキル）アルコキシシラン；
トリエトキシフルオロシラン、
３−クロロプロピルトリメトキシシラン、
３−ブロモプロピルトリエトキシシラン、
２−クロロエチルメチルジメトキシシラン等のハロゲン基を有する（アルキル）アルコキシシラン；を挙げることができる。
【００２４】
もちろんＳｉだけではなく、Ｚｒ、Ｂ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｃｅ及びＴａの金属においても、金属酸化物とされた場合に光触媒作用を示さない同様の化合物を例示することができる。
【００２５】
これらの金属アルコキシド化合物（Ｂ）は１種類だけでも良く、２種以上を併用しても良い。また、Ｍｇ［Ａｌ（iso-ＯＣ3Ｈ7）4］2、Ｂａ［Ｚｒ2（ＯＣ2Ｈ5）9］2、（Ｃ3Ｈ7Ｏ）2Ｚｒ［Ａｌ（ＯＣ3Ｈ7）4］2等の１分子内に２種以上の金属元素が含まれているような金属アルコキシド化合物やテトラメトキシシランオリゴマーやテトラエトキシシランオリゴマー等の１分子内に２個以上の繰り返し単位を有するオリゴマータイプの金属アルコキシド化合物を用いても良い。また、アルコキシ基がアセトキシ基やアセチルアセトキシ基であっても良い。
【００２６】
有機重合体（Ａ）の中で官能基として水酸基、アミノ基、カルボキシル基等を有するものは、常法により金属アルコキシド（Ｂ）と反応させることができる。その結果、官能基としてより反応性が高い金属アルコキシド基を有する有機重合体が得られる。有機重合体（Ａ）と金属アルコキシド（Ｂ）との反応方法は、例えば、特願平９−３２７８４２号の明細書第００３９段落〜第００５４段落に詳細に記載されている。
【００２７】
中間層を基材の表面上に順次形成された第１中間層と第２中間層とからなる２重構造とし、第１中間層は、有機重合体成分と金属酸化物成分とが共有結合して形成された有機−無機ハイブリッド高分子材料であって、表面方向に金属酸化物成分の濃度が増加する成分傾斜構造を有するもので構成し、該第２中間層は、金属酸化物が架橋して形成された無機材料で構成してもよい。
【００２８】
この場合は、光触媒作用層は金属酸化物で成る第２中間層と接触し、有機−無機ハイブリッド高分子材料と接触しない。従って、基材の劣化が防止されるだけでなく、有機−無機ハイブリッド高分子材料に含まれる有機鎖部分が光触媒作用層によって劣化されることも防止される。その結果、有機−無機ハイブリッド材料の耐用寿命がより延長される。
【００２９】
ゾル−ゲル法による加水分解、重縮合とは、金属アルコキシド化合物あるいは金属アルコキシ基を有する重合体を水と反応させることでアルコキシ基を水酸基に変換し、次いでこの水酸基を同時進行的に重縮合させることによりヒドロキシ金属基（例えば−ＳｉＯＨ）を有する化合物あるいは重合体が脱水反応あるいは隣接した分子と脱アルコール反応を生じ、無機的な共有結合を介して３次元的に架橋する反応を言う。この際、重縮合反応はふたつのヒドロキシ金属基の脱水反応が最も起こりやすいが、それだけではなく、他の水酸基やアミノ基、カルボキシル基等の活性水素を有する官能基とも起こりうる。
【００３０】
加水分解反応に用いられる水は、全てのアルコキシ基を水酸基に変換するために必要な量を添加しても良いし、反応系中の水分を利用したり、大気中の水分を吸湿させて行っても良い。
【００３１】
反応条件としては、室温〜１００℃で０．５〜２４時間程度が望ましい。またその際、塩酸、硫酸、酢酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の酸性触媒や水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、トリエチルアミン、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）等の塩基性触媒を用いても良い。
【００３２】
本発明における全ての加水分解過程では強度、硬度、耐候性、耐薬品性、難燃性、帯電防止性等の機能を向上または新たに付与する目的で無機物含有量や重合体間の架橋密度を調整するためにＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｗ等の金属、金属酸化物、金属錯体や無機塩等を共存させても良い。また、ゲル化、乾燥、熱処理の際に生じる可能性があるクラックを抑制するためにホルムアミドやジメチルホルムアミド、ジオキサン、シュウ酸等を乾燥抑制剤として加えても良いし、添加物としてアセチルアセトン等を加えても良い。
【００３３】
中間層の乾燥厚さは一般に０．０１〜１０００μｍ、好ましくは０．１〜１００μｍとする。この層厚が１０００μｍを上回ると層の形成に時間を要すばかりでなく、原料も多量に必要となるためコスト面で不利となり、０．０１μｍを下回るとピンホールが生じやすく、期待する機能が充分に発現されない恐れがある。
【００３４】
また、中間層を、第１中間層と第２中間層とで成る２層構造とする場合は、第１中間層の乾燥厚さは一般に０．０１〜１０００μｍ、好ましくは０．１〜１００μｍとする。この層厚が１０００μｍを上回ると層の形成に時間を要すばかりでなく、原料も多量に必要となるためコスト面で不利となり、０．０１μｍを下回るとピンホールが生じやすく、期待する機能が充分に発現されない恐れがある。第２中間層の乾燥厚さは一般に０．０１〜１００μｍ、好ましくは０．１〜１０μｍとする。この層厚が１００μｍを上回ると層の亀裂が生じたり、剥離する恐れがある。０．０１μｍを下回るとピンホールが生じやすく、期待する機能が充分に発現されない恐れがある。
【００３５】
光触媒作用層
光触媒作用層とは光触媒作用を示す材料で成る層をいう。光触媒性は強いほど良い。光触媒作用を有する材料の形状については特に制限はないが、光触媒作用を高めるためには表面積が大きいことが好ましい。例えば、光触媒作用を有する材料を粒子状とする場合は、粒径が大きすぎると基材の外観や触感を損なう可能性があるので１００μｍ以下とすることが望ましい。また光触媒作用は微粒子ほど活性に富む傾向があることより粒径は小さくすることが望ましい。
【００３６】
光触媒作用を示す材料の一例は、光触媒作用を有する金属酸化物（Ｃ）を含む材料である。金属酸化物（Ｃ）は１種類だけでも良く、２種以上を併用しても良いし、１分子内に２個以上の金属元素が含まれているようなものでも良い。更に、光触媒性を強める、機械的強度を高める、柔軟性を付与する等の目的で他の無機物を含んでも良い。
【００３７】
光触媒作用層中の金属酸化物の（Ｃ）の含有量は、一般に１０〜１００重量％程度、好ましくは２０〜１００重量％程度である。金属酸化物（Ｃ）としては、酸化チタンや酸化銅（Ｉ）等を用いることが好ましい。
【００３８】
酸化チタンは硫酸チタニル、四塩化チタンやチタン酸エステルを中和または加水分解する方法や四塩化チタンを気相酸化する方法等の公知の方法で得られるもので良い。アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、無定形酸化チタン、水和酸化チタン等やこれらの混合物が例示される。
【００３９】
酸化銅（Ｉ）は塩化銅（Ｉ）の加水分解や酸化銅（II）や水酸化銅（II）を還元する方法等で得られる。
【００４０】
金属酸化物（Ｃ）は、金属酸化物とされた場合に光触媒作用を示す金属の金属アルコキシド化合物、又はそれを含む金属アルコキシド混合物を加水分解及び重縮合させて得られる無機高分子材料であってもよい。光触媒作用を有する金属アルコキシド化合物としては、中心金属（Ｍ）としてＴｉ、Ｃｕ等の金属元素を有する式（１）で表される金属アルコキシド化合物を用いることが好ましい。
【００４１】
また他の例として、中心金属（Ｍ）としてＴｉ、Ｃｕ等の金属元素を有する式（２）で表される金属アルコキシド化合物でもよい。
【００４２】
具体的には、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラｎ−プロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン等のテトラアルコキシチタン類；及びジメトキシ銅、ジエトキシ銅、ジｎ−プロポキシ銅、ジイソプロポキシ銅、ジブトキシ銅等のジアルコキシ銅類が挙げられる。
【００４３】
これらの金属アルコキシド化合物は１種類だけでも良く、２種以上を併用しても良い。また、１分子内に２種以上の金属元素が含まれているような金属アルコキシド化合物や１分子内に２個以上の繰り返し単位を有するオリゴマータイプの金属アルコキシド化合物を用いても良い。また、アルコキシ基がアセトキシ基やアセチルアセトキシ基であっても良い。
【００４４】
光触媒作用層を、厚み方向で表面に向かって金属酸化物（Ｃ）の濃度が増加するような、光触媒作用を示す材料の成分傾斜構造としてもよい。その場合は、光触媒作用を示す金属酸化物の含有量は１０〜１００重量％、最も高い領域では５０〜１００重量％とすることが好ましい。
【００４５】
光触媒作用層の乾燥厚さは一般に０．０１〜１００μｍ、好ましくは０．１〜１０μｍとする。この層厚が１００μｍを上回ると層の亀裂が生じたり、剥離する恐れがある。０．０１μｍを下回るとピンホールが生じやすく、期待する機能が充分に発現されない恐れがある。
【００４６】
有機−無機ハイブリッド材料の製造
本発明の有機−無機ハイブリッド材料は、金属アルコキシド化合物と反応可能な官能基を有する有機重合体、金属アルコキシド化合物、及び光触媒作用を示す材料を主原料とし、ゾル−ゲル反応を利用して形成する。
【００４７】
まず、官能基として金属アルコキシド基を有する有機重合体、又は金属アルコキシド化合物と反応可能な官能基を有する有機重合体と金属アルコキシド化合物との混合物を適当な溶媒に溶解し、場合によっては酸あるいは塩基を触媒として加え、加水分解する。次いで、表面を有する基材を提供し、基材の表面上に得られた溶液あるいは湿潤ゲルを塗布した後、溶媒の１部を蒸発させることによって中間層を形成する。この中間層は、上述のように、固形分基準で有機重合体成分が５０重量％以上含まれるように組成を調節することが好ましい。
【００４８】
次いで、金属アルコキシド化合物の濃度が増加するように組成比を変化させること以外は上記工程と同様にして、別の溶液あるいは湿潤ゲルを調製する。そして、上記工程で形成された塗布層の上に、この溶液あるいは湿潤ゲルを塗布する。更に、この工程を繰り返して塗布層を重ね、中間層を形成する。最終的には、湿潤ゲル、すなわち、塗布層中の有機重合体成分の含有量は固形分基準で３０重量％以下、好ましくは１０重量％以下にまで低減される。
【００４９】
上記各塗布層及び本製造工程で溶液あるいは湿潤ゲルの塗布により形成される各層は、次の層を塗布する前に乾燥させても乾燥させなくてもよい。その上に形成される層との密着性を高めるためには乾燥は必要最低限に止めることが好ましい。乾燥させる場合は室温下で放置して乾燥させてもよいし、加熱して乾燥させてもよい。
【００５０】
光触媒作用層と有機−無機ハイブリッド高分子材料との接触をも防止して、有機−無機ハイブリッド材料の耐用寿命を更に延長したい場合は、中間層の上に金属酸化物が架橋して形成された無機高分子材料で成る第２中間層を更に形成してもよい。その場合は、この中間層の表面上に、金属酸化物とされた場合に光触媒作用を示さない金属アルコキシド化合物を含む溶液あるいは湿潤ゲルを更に塗布する。
【００５１】
次いで、中間層（又は第２中間層）の表面上に、光触媒作用を示す材料で成る光触媒作用層を形成する。光触媒作用を示す材料としては光触媒作用を有する金属酸化物（Ｃ）を含む材料を用いることが好ましい。光触媒作用層の形成は、例えば、金属酸化物（Ｃ）を含む金属酸化物の粉末（粒子）を揮発性溶媒に分散させ、得られる分散体を中間層の表面に塗布する方法で行いうる。また、金属酸化物（Ｃ）を含む金属酸化物の粉末（粒子）を湿潤ゲルの状態の中間層の表面に直接塗布してもよい。金属酸化物とされた場合に光触媒作用を示す金属の金属アルコキシド化合物、又はこれを含む金属アルコキシドの混合物を溶液あるいは湿潤ゲルとし、これを中間層の表面に塗布する方法で行ってもよい。
【００５２】
この工程を複数回繰り返して光触媒作用層を複層構造としてもよく、その際に、例えば、金属酸化物（Ｃ）の含有率を増加させる等、光触媒作用を示す材料の組成を変化させてもよい。その場合は、厚み方向で表面に向かって金属酸化物（Ｃ）の濃度が増加するような、光触媒作用を示す材料の成分傾斜構造の光触媒作用層とすることができる。
【００５３】
また、中間層あるいは光触媒作用層に成分傾斜構造を形成する他の方法として、同一出願人による同日出願である特願平１１−０５０３３８号（特開２０００−２４８０６５号公報）の明細書に記載されている溶液拡散法を利用してもよい。この方法を用いれば、より簡単な工程で成分傾斜構造を作製することができる。
その後、形成した層を乾燥させる。乾燥は、室温で放置することにより行ってもよいが、更に縮合反応を進め、架橋をより強固なものとしたい場合には、５０〜５００℃で５分〜４８時間程度、熱処理を行う。
【００５４】
【発明の効果】
本発明の有機−無機ハイブリッド材料は、有機重合体成分と金属酸化物成分がミクロ的に均質でありながらかつ材料の厚み方向に有機重合体成分あるいは金属酸化物成分の含有率が連続的に変化し、更に２成分が共有結合している。従って、加熱や熱衝撃および経時変化によってクラックや表層面だけの剥離やそり、ひずみ等の変形が生じない耐薬品性に優れた材料となる。また、表面層部分には光触媒作用を有する材料を備え、より一層高機能な材料となる。
【００５５】
本発明の有機−無機ハイブリッド材料では無機材料が有する耐熱性、耐候性、表面硬度、剛性、耐水性、耐薬品性、耐汚染性、機械的強度、難燃性等の特性が有機重合体に良好に付与されている。逆に言えば、有機重合体が有する耐衝撃性、柔軟性、加工性及び軽量性等の特性が無機材料に良好に付与されている。
【００５６】
しかも光触媒作用を有する材料を金属酸化物を用いることによって、有機材料と極めて接触し難い形で表面層部分に含有することより、基材を劣化させずに光触媒特性を最大限活用することができる。
【００５７】
また、表面層に含まれる金属酸化物と共有結合することが可能であり、相互作用によって基材との接着性も極めて良好な有機重合体を表面層と基材との間に用いることによって、クラックや表層面だけの剥離等の変形が生じ難い材料とすることができる。
【００５８】
本発明の有機−無機ハイブリッド材料は、表面層として光触媒作用を示す材料を備えながら、それを担持する基材の劣化が効果的に防止されている。従って、担体として有機材料を用いた場合でも有機−無機ハイブリッド材料の耐用寿命が延長される。つまり、様々な臭い、汚れの除去や除菌、防汚を目的とした高性能及び高機能プラスチック材料、プラスチック成形品もしくはフィルム、構造材料、光学材料、表面改質剤、ハードコート剤、電気もしくは電子材料、医療材料等に用いるのに適している。
【００５９】
【実施例】
以下の実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００６０】
合成例１
数平均分子量３９００、及び水酸基当量１．８のポリカーボネートジオール７０．０ｇをクロロホルム５００ｍＬに溶解させ、その後この溶液に３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン１３．３ｇを添加し、還流下で１０時間加熱した後、室温に冷却した。この反応液をメタノール７Ｌ中に滴下し、生成物を析出させた。析出物をろ別し、メタノールで洗浄した後、減圧乾燥した（収率９７％）。
【００６１】
1Ｈ−ＮＭＲ測定により、得られた生成物は両末端にアルコキシシリル基が導入された両末端トリエトキシシリル化ポリカーボネート（ＰＣＳ）であることを確認した。この生成物のアルコキシシリル基当量は１．８であった。またＧＰＣ分析の結果、この生成物の数平均分子量は４４００であった。
【００６２】
合成例２
数平均分子量５２００、及び水酸基当量１．７のポリサルホンジオール２６．０ｇをクロロホルム３００ｍＬに溶解し、その後この溶液に３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン３．５ｇを添加し、還流下で１１時間加熱した後、室温に冷却した。この反応液をメタノール３Ｌ中に滴下し、生成物を析出させた。析出物をろ別し、メタノールで洗浄した後、減圧乾燥した（収率９６％）。
【００６３】
1Ｈ−ＮＭＲ測定より、得られた生成物は両末端にアルコキシシリル基が導入された両末端トリエトキシシリル化ポリサルホン（ＰＳＳ）であることを確認した。この生成物のアルコキシシリル基当量は１．７であった。またＧＰＣ分析の結果、この生成物の数平均分子量は６０００であった。
【００６４】
合成例３
数平均分子量６１００、及び水酸基当量１．６のポリアリーレートジオール３０．５ｇをクロロホルム３００ｍＬに溶解し、その後この溶液に３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン３．２ｇを添加し、還流下で１５時間加熱した後、室温に冷却した。この反応液をメタノール３Ｌ中に滴下し、生成物を析出させた。析出物をろ別し、メタノールで洗浄した後、減圧乾燥した（収率９６％）。
【００６５】
1Ｈ−ＮＭＲ測定より得られた生成物は両末端にアルコキシシリル基が導入された両末端トリエトキシシリル化ポリアリーレート（ＰＡＳ）であることを確認した。この生成物のアルコキシシリル基当量は１．６であった。またＧＰＣ分析の結果、この生成物の数平均分子量は６７００であった。
【００６６】
実施例１
合成例１で作製した数平均分子量４４００のＰＣＳとテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を表１に示す割合で含む混合組成物をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中で１Ｎ−塩酸水を用いて、室温下で加水分解を行ない、Ｎｏ．１〜４の溶液を得た。
【００６７】
またＴＥＯＳと石原テクノ製の光触媒用酸化チタンＳＴ−２１（平均粒径０．０２μｍ、ＴｉＯ2）を表１に示す割合で含む混合組成物をＴＨＦ中で１Ｎ−塩酸水を用いて室温下で処理を行い、Ｎｏ．５〜７の分散液を得た。
【００６８】
【表１】
0003784981.tif 000002
【００６９】
表１の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜７の順にコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、室温下で１分間待って次の溶液を塗布した。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った（フィルム厚８０μｍ）。
【００７０】
かかる操作によって、図１に示すような、ポリカーボネート基材（１０１）の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＣＳ（１０２）を有し、第２中間層として架橋シリカ（１０３）を有し、光触媒作用層として成分傾斜架橋シリカ／酸化チタン（１０４）を有する有機−無機ハイブリッド材料（１００）を得た。
【００７１】
実施例２
表１の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜４の順にコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、室温下で１分間待って次の溶液を塗布した。
【００７２】
Ｎｏ．４の溶液を塗布後、石原テクノ製の光触媒用酸化チタンＳＴ−２１（平均粒径０．０２μｍ、ＴｉＯ2）４．０ｇをＴＨＦ２０ｍｌによく分散させた分散液をすぐにスピンコータでコーティングした。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った。
【００７３】
かかる操作によって、図２に示すような、ポリカーボネート基材（２０１）の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＣＳ（２０２）を有し、第２中間層として架橋シリカ（２０３）を有し、光触媒作用層として酸化チタン粒子（２０４）を有する有機−無機ハイブリッド材料（２００）を得た。
【００７４】
実施例３
合成例２で作製した数平均分子量６０００のＰＳＳと数平均分子量１０００の三菱化学（株）製テトラメトキシシランオリゴマーＭＫＣシリケートＭＳ−５６（ＴＭＯＳ）を表２に示す割合で含む混合組成物をＴＨＦ中で１Ｎ−塩酸水を用いて、室温下で加水分解を行ない、Ｎｏ．１〜４の溶液を得た。
【００７５】
またＴＭＯＳと石原テクノ製の光触媒用酸化チタンＳＴ−２１（平均粒径０．０２μｍ、ＴｉＯ2）を表２に示す割合で含む混合組成物をＴＨＦ中で１Ｎ−塩酸水を用いて室温下で処理を行い、Ｎｏ．５〜７の分散液を得た。
【００７６】
【表２】
0003784981.tif 000003
【００７７】
表２の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜７の順にコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、５０℃下で１０分間待って次の溶液を塗布した。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った（フィルム厚９０μｍ）。
【００７８】
かかる操作によって、ポリカーボネート基材の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＳＳを有し、第２中間層として架橋シリカを有し、光触媒作用層として成分傾斜架橋シリカ／酸化チタンを有する有機−無機ハイブリッド材料を得た。
【００７９】
実施例４
合成例３で作製した数平均分子量６７００のＰＡＳとＴＭＯＳを表３に示す割合で含む混合組成物をＴＨＦ中で１Ｎ−塩酸水を用いて、室温下で加水分解を行ない、Ｎｏ．１〜４の溶液を得た。
【００８０】
またＴＭＯＳと石原テクノ製の光触媒用酸化チタンＳＴ−２１（平均粒径０．０２μｍ、ＴｉＯ2）を表３に示す割合で含む混合組成物をＴＨＦ中で１Ｎ−塩酸水を用いて室温下で処理を行い、Ｎｏ．５の分散液を得た。
【００８１】
【表３】
0003784981.tif 000004
【００８２】
表３の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜５の順にコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、室温下で３０分間待って次の溶液を塗布した。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った。
【００８３】
かかる操作によって、ポリカーボネート基材の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＡＳを有し、第２中間層として架橋シリカを有し、光触媒作用層として架橋シリカ／酸化チタンを有する有機−無機ハイブリッド材料を得た。
【００８４】
実施例５
表３の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜４の順にコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、室温下で３０分間待って次の溶液を塗布した。
【００８５】
Ｎｏ．４の溶液を塗布後、石原テクノ製の光触媒用酸化チタンＳＴ−２１（平均粒径０．０２μｍ、ＴｉＯ2）４．０ｇをＴＨＦ２０ｍｌによく分散させた分散液をすぐにスピンコータでコーティングした。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った。
【００８６】
かかる操作によって、ポリカーボネート基材の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＡＳを有し、第２中間層として架橋シリカを有し、光触媒作用層として酸化チタン粒子を有する有機−無機ハイブリッド材料を得た。
【００８７】
実施例６
表１の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜４の順にコーティングした後、ＴＥＯＳ２．０ｇと酸化銅（Ｉ）２．０ｇの混合組成物をＴＨＦ２０ｍｌ中で１Ｎ−塩酸水８００ｍｇを用いて、室温下で処理した分散液を同様にスピンコータでコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、室温下で１分間待って次の溶液を塗布した。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った。
【００８８】
かかる操作によって、ポリカーボネート基材の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＣＳを有し、第２中間層として架橋シリカを有し、光触媒作用層として架橋シリカ／酸化銅（Ｉ）を有する有機−無機ハイブリッド材料を得た。
【００８９】
実施例７
表２の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜４の順にコーティングした後、ＴＭＯＳ１．０ｇと酸化銅（Ｉ）３．０ｇの混合組成物をＴＨＦ２０ｍｌ中で１Ｎ−塩酸水４００ｍｇを用いて、室温下で処理した分散液を同様にスピンコータでコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、５０℃下で１０分間待って次の溶液を塗布した。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った。
【００９０】
かかる操作によって、ポリカーボネート基材の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＳＳを有し、第２中間層として架橋シリカを有し、光触媒作用層として架橋シリカ／酸化銅（Ｉ）を有する有機−無機ハイブリッド材料を得た。
【００９１】
実施例８
表３の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜４の順にコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、室温下で３０分間待って次の溶液を塗布した。Ｎｏ．４の溶液を塗布後、酸化銅（Ｉ）４．０ｇをＴＨＦ２０ｍｌによく分散させた分散液をすぐにスピンコータでコーティングした。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った。
【００９２】
かかる操作によって、ポリカーボネート基材の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＡＳを有し、第２中間層として架橋シリカを有し、光触媒作用層として酸化銅（Ｉ）粒子を有する有機−無機ハイブリッド材料を得た。
【００９３】
実施例９
合成例１で作製した数平均分子量４４００のＰＣＳとＴＥＯＳを表４に示す割合で含む混合組成物をＴＨＦ中で１Ｎ−塩酸水を用いて、室温下で加水分解を行ない、Ｎｏ．１〜４の溶液を得た。またＴＥＯＳとテトラブトキシチタン（ＴＢＯＴ）をＴＨＦ中で１Ｎ−塩酸水を用いて室温下で処理を行い、これらを表４に示す割合で含むＮｏ．５〜８の溶液を得た。
【００９４】
【表４】
0003784981.tif 000005
【００９５】
表４の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜８の順にコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、室温下で１分間待って次の溶液を塗布した。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った。
【００９６】
かかる操作によって、ポリカーボネート基材の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＣＳを有し、第２中間層として架橋シリカを有し、光触媒作用層として成分傾斜架橋シリカ／酸化チタンを有する有機−無機ハイブリッド材料を得た。
【００９７】
実施例１０
表４の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜４の順にコーティングした後、Ｎｏ．６の溶液を同様にスピンコータでコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、室温下で１分間待って次の溶液を塗布した。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った。
【００９８】
かかる操作によって、ポリカーボネート基材の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＣＳを有し、第２中間層として架橋シリカを有し、光触媒作用層として架橋シリカ／酸化チタンを有する有機−無機ハイブリッド材料を得た。
【００９９】
実施例１１
合成例２で作製した数平均分子量６０００のＰＳＳとＴＭＯＳを表５に示す割合で含む混合組成物をＴＨＦ中で１Ｎ−塩酸水を用いて、室温下で加水分解を行ない、Ｎｏ．１〜４の溶液を得た。
【０１００】
またＴＭＯＳと数平均分子量９７０のテトラブトキシチタン、テトラマー（ＴＢＯＴＴ）をＴＨＦ中で１Ｎ−塩酸水を用いて室温下で処理を行い、これらを表５に示す割合で含むＮｏ．５〜８の溶液を得た。
【０１０１】
【表５】
0003784981.tif 000006
【０１０２】
表５の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜８の順にコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、５０℃下で１０分間待って次の溶液を塗布した。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った。
【０１０３】
かかる操作によって、ポリカーボネート基材の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＳＳを有し、第２中間層として架橋シリカを有し、光触媒作用層として成分傾斜架橋シリカ／酸化チタンを有する有機−無機ハイブリッド材料を得た。
【０１０４】
実施例１２
表５の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜４の順にコーティングした後、Ｎｏ．７の溶液を同様にスピンコータでコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、５０℃下で１０分間待って次の溶液を塗布した。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った。
【０１０５】
かかる操作によって、ポリカーボネート基材の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＳＳを有し、第２中間層として架橋シリカを有し、光触媒作用層として架橋シリカ／酸化チタンを有する有機−無機ハイブリッド材料を得た。
【０１０６】
実施例１３
合成例３で作製した数平均分子量６７００のＰＡＳとＴＭＯＳを表６に示す割合で含む混合組成物をＴＨＦ中で１Ｎ−塩酸水を用いて、室温下で加水分解を行ない、Ｎｏ．１〜４の溶液を得た。またＴＭＯＳとテトライソプロポキシチタン（ＴＩＰＯＴ）をＴＨＦ中で１Ｎ−塩酸水を用いて室温下で処理を行い、これらを表６に示す割合で含むＮｏ．５〜８の溶液を得た。
【０１０７】
【表６】
0003784981.tif 000007
【０１０８】
表６の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜８の順にコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、室温下で３０分間待って次の溶液を塗布した。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った。
【０１０９】
かかる操作によって、ポリカーボネート基材の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＡＳを有し、第２中間層として架橋シリカを有し、光触媒作用層として成分傾斜架橋シリカ／酸化チタンを有する有機−無機ハイブリッド材料を得た。
【０１１０】
実施例１４
表６の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜４の順にコーティングした後、Ｎｏ．８の溶液を同様にスピンコータでコーティングした。この際、ひとつの溶液を塗布した後、室温下で３０分間待って次の溶液を塗布した。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った。
【０１１１】
かかる操作によって、ポリカーボネート基材の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＡＳを有し、第２中間層として架橋シリカを有し、光触媒作用層として架橋酸化チタンを有する有機−無機ハイブリッド材料を得た。
【０１１２】
実施例１５
表４の溶液をスピンコータを用いてポリカーボネート基板にＮｏ．１〜４の順にコーティングした。
この際、ひとつの溶液を塗布した後、室温下で１分間待って次の溶液を塗布した。次に石原テクノ製の光触媒用酸化チタンＳＴ−２１（平均粒径０．０２μｍ）を真鍋工業（株）製の３５００メッシュのフィルター用金網（通過粒球子参考値４μｍ）を用いて、上記の湿潤ゲル上に塗布した。その後、室温下で１日放置した後、１００℃で１０時間熱処理を行った。
かかる操作によって、ポリカーボネート基材の上に第１中間層として成分傾斜架橋シリカ／ＰＣＳを有し、第２中間層として架橋シリカ有し、光触媒作用層として酸化チタンを有する有機−無機ハイブリッド材料を得た。
【０１１３】
比較例１
ＴＥＯＳ２．０ｇと平均粒子系５μｍのアナターゼ型酸化チタン２．０ｇの混合組成物をＴＨＦ２０ｍｌ中で１Ｎ−塩酸水７５０ｍｇを用いて、室温下で処理した分散液をスピンコータによってポリカーボネート基板にコーティングした。
【０１１４】
比較例２
ＴＭＯＳ２．０ｇと酸化銅（Ｉ）２．０ｇの混合組成物をＴＨＦ２０ｍｌ中で１Ｎ−塩酸水８００ｍｇを用いて、室温下で処理した分散液をスピンコータによってポリカーボネート基板にコーティングした。
【０１１５】
比較例３
テトラブトキシチタン４．０ｇをＴＨＦ２０ｍｌ中で１Ｎ−塩酸水８５０ｍｇを用いて、室温下で加水分解した溶液をスピンコータによってポリカーボネート基板にコーティングした。
【０１１６】
比較例４
数平均分子量４４００のＰＣＳ２．０ｇと平均粒子系５μｍのアナターゼ型酸化チタン２．０ｇの混合組成物をＴＨＦ３０ｍｌ中で１Ｎ−塩酸水５０ｍｇを用いて、室温下で処理した分散液をスピンコータによってポリカーボネート基板にコーティングした。
【０１１７】
比較例５
数平均分子量４４００のＰＣＳ２．０ｇと酸化銅（Ｉ）２．０ｇの混合組成物をＴＨＦ３０ｍｌ中で１Ｎ−塩酸水５０ｍｇを用いて、室温下で処理した分散液をスピンコータによってポリカーボネート基板にコーティングした。
【０１１８】
熱衝撃試験
実施例１〜１４および比較例１〜３で得られた有機−無機ハイブリッド材料を用いて熱衝撃試験を行った。試験方法としては、試験片（３０×３０ｍｍ）を１２０℃の熱風乾燥器内で３０分間加熱した後、直ちに−２０℃の冷凍庫内に移して３０分間冷却する操作を３度繰り返し、その後のフィルムの状態を観察した。
【０１１９】
その結果、比較例１〜３の試験片ではクラックが生じて基板から剥離したものの、実施例１〜１４の試験片は試験前と変化なく、良好な状態であった。試験結果を表４に示した。
【０１２０】
これらの結果より本発明の成分傾斜材料は、良好な耐熱衝撃性を有することが確認された。
【０１２１】
【表７】
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【０１２２】
碁盤目および剥離試験
実施例１〜１４および比較例１〜３で得られた有機−無機ハイブリッド材料を用いて、熱衝撃試験前後における碁盤目および剥離試験を行った。試験方法としてはＪＩＳ  Ｋ  ５４００を参考として用いた。
【０１２３】
まず試験片（３０×３０ｍｍ）にカッターナイフを用いて直交する縦横１１本ずつの平行線を１ｍｍ間隔で引き、碁盤目状に１００個のます目を作製した。次に、これらのます目の上に粘着テープ（ニチバン社製「セロハンテープ」）を貼り付け密着させた後、粘着テープを瞬時に引き剥がし、試験片の金属酸化物層の剥離状態を観察した。
【０１２４】
次いで、前述の条件で熱衝撃試験を行った。その後、再度試験片の表面に粘着テープを貼り付け密着させた後、粘着テープを瞬時に引き剥がし、試験片の金属酸化物層の剥離状態を観察した。
【０１２５】
その結果、比較例１〜３の試験片では熱衝撃試験前の段階でます目の大半が剥離した。これに対して、実施例１〜１４の試験片では熱衝撃試験後の剥離試験でも金属酸化物層の剥離は全く観察されなかった。
【０１２６】
これらの結果より、本発明の有機−無機ハイブリッド材料は、室温での温和な条件下だけではなく、１４０℃の熱衝撃後においても良好に基材に接着していた。このことは、本発明の有機−無機ハイブリッド材料がたいへん優れた界面強度を有していることを示すものである。
【０１２７】
【表８】
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【０１２８】
ウェザーメータを用いた促進耐候性試験
実施例１〜１４及び比較例４と５で得られた有機−無機ハイブリッド材料の促進耐候性試験をウェザーメータを用いて行った。試験に際しては、試験片（１５０×７０ｍｍ）をウェザーメータで処理した後、基板の状態を目視観察した。
【０１２９】
試験条件はＪＩＳ  Ｄ  ０２０５に準じて設定し、平均放電電力は３９０Ｗ／ｍ2とした。また、清水の噴射圧力１．０ｋｇｆ／ｃｍ2、水量２０００ｍｌ／分、清水の噴射時間６０分中１２分とし、試験時間は計４００時間とした。装置はスガイ試験機（株）製ＷＥＬ−７５ＸＳ−ＨＣ−ＢＥＣ型キセノンサンシャインロングライフウェザーメータを用いた。
【０１３０】
その結果、比較例４と５の試験片では基板に変色が観られたものの、実施例１〜１４の試験片の基板は試験前とほとんど変わりなかった。この違いは、光触媒作用を示す材料と有機材料とが接触しているかいないかに起因していると考えられる。
【０１３１】
比較例４と５の試験片では酸化チタンおよび酸化銅（Ｉ）とＰＣＳおよびポリカーボネート基板が接していたために基板の有機材料が酸化され、変色したものと考えられる。これに対して実施例１〜１４の試験片では、酸化チタンおよび酸化銅（Ｉ）とＰＣＳおよびポリカーボネート基板がシリカ層によって隔てられていたために有機材料が酸化を受けなかったと考えられる。
【０１３２】
これらの結果より、本発明の有機−無機ハイブリッド材料では、基材や接着剤、バインダー等の有機材料が光触媒性を有する材料から酸化を受けて劣化するという従来からの問題点が克服されていると言える。
【０１３３】
【表９】
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【０１３４】
タバコ消臭性試験
実施例１〜１５で得られた有機−無機ハイブリッド材料及びポリカーボネート基板を用いてタバコ臭の消臭性試験を行った。方法としては９００ｍｌ容ガラス製マヨネーズビンを入口を下にして、入口の真下に発煙している紙巻きタバコを５秒間置いた後、素早く試験片（３０×３０ｍｍ）を投入し、密栓した。その後、屋外の太陽光の下で１時間放置した後開封し、内部の臭いを評価した。結果を表１０に示した。
【０１３５】
その結果、未処理のポリカーボネート基板ではタバコの残臭が確認されたものの、実施例１〜１５の有機−無機ハイブリッド材料では残臭は感じられなかった。
【０１３６】
これらの結果より本発明の有機−無機ハイブリッド材料は、タバコ臭の消臭に対して有効なことが確認された。
【０１３７】
【表１０】
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【０１３８】
アンモニア消臭性試験
実施例１〜１５で得られた有機−無機ハイブリッド材料及びポリカーボネート基板を用いてアンモニアの消臭性試験を行った。方法としては、試験片（３０×３０ｍｍ）とガス検知管をセットしたガラス製デシケータにアンモニアガスを導入し、屋内の蛍光灯下において経時でガス濃度を測定した。結果を表１１に示した。
【０１３９】
その結果、本発明の有機−無機ハイブリッド材料は良好なアンモニア消臭性を示した。
【０１４０】
【表１１】
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【０１４１】
メチルメルカプタン消臭性試験
実施例１〜１５で得られた有機−無機ハイブリッド材料及びポリカーボネート基板を用いてメチルメルカプタンの消臭性試験を行った。方法としては、試験片（３０×３０ｍｍ）とガス検知管をセットしたガラス製デシケータにメチルメルカプタンガスを導入し、屋内の蛍光灯下において経時でガス濃度を測定した。結果を表１２に示した。
【０１４２】
その結果、本発明の有機−無機ハイブリッド材料は良好なメチルメルカプタン消臭性を示した。
【０１４３】
【表１２】
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【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の有機−無機ハイブリッド材料の構造の一例を示す模式断面図である。
【図２】  本発明の有機−無機ハイブリッド材料の構造の一例を示す模式断面図である。
１００、２００…有機−無機ハイブリッド材料、
１０１、２０１…基材、
１０２、２０２…第１中間層、
１０３、２０３…第２中間層、
１０４、２０４…光触媒作用層。
【図１】
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【図２】
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