(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハにおける各半導体チップの電気特性をテストするテスト工程と、
前記ウェハを選別するための識別情報を、前記ウェハに設けた認識用チップに記録する識別情報記録工程と、
前記ウェハにおける各半導体チップのテスト結果情報、前記ウェハにおける各半導体チップの位置情報、及び前記ウェハの識別情報を、ダイボンドを行うダイボンダ、又はネットワークを介してダイボンダに接続されたコンピュータが備えた記憶手段に記録する情報記録工程と、
前記記憶手段に記録した情報を参照して、特性が所定の基準範囲内である半導体チップを所定数以上有するウェハを選別して、ウェハを構成する複数の半導体チップをフレーム上にダイボンドするダイボンド工程と、
を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記ダイボンド工程では、前記特性が所定の基準範囲内である半導体チップを所定数未満有するウェハは、前記所定の基準とは別の基準で再度選別してダイボンドすることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記ダイボンド工程では、前記ダイボンド工程以前に行った前記半導体チップのテストデータ及びチップ品番を参照して、特性が所定の基準範囲内のウェハを複数のランクに選別し、該ランク毎にロットが異なるフレームにダイボンドすることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記ダイボンド工程では、前記特性が所定の基準範囲内のウェハを複数のランクに選別した際に、前記ランク毎にロットが異なるフレームに、同時にダイボンドすることを特徴とする請求項３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記選別してフレームにダイボンドした半導体チップの特性又はランクのデータは、前記ダイボンド工程以後の工程で利用可能にしたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記選別して半導体チップをダイボンドしたフレームは、識別管理可能であることを特徴とする請求項５に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記選別してフレームにダイボンドした半導体チップは、前記ダイボンド工程で、特性毎にランク品に分類することを特徴とする請求項５又は６に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記選別してフレームにダイボンドした半導体チップの特性データは、最終テストデータと対比させて、前記ダイボンド工程以前の工程で行った半導体チップのテスト基準にフィードバックすることを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ウェハを構成するチップをリードフレーム等にダイボンドして製造する半導体装置の製造方法において、特に、チップのデータを管理できる半導体装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図９は、従来のテスト後におけるウェハの外観図である。従来、ウェハ単位でテストされたチップは、図９に示したように、不良品にのみバッドマーク３４を付けている。そして、チップをフレーム等にダイボンドする装置であるダイボンダで、不良チップ上のバッドマーク３４を認識・識別して、ウェハ３３における良品チップのみをフレーム等にダイボンドしている。
【０００３】
この時にダイボンドする良品チップは、特性及び外観の良品である。一方、特性及び外観の不良品は、電気的なテストを行うテスタや外観テストを行うテスタ等のテスタ自動機で通常バッドマークが付けられる。また、外観の不良品は、別工程でバッドマークがハンド処理で付けられる場合もある。
【０００４】
また、チップサイズは、例えば、1mm角，2mm角，3mm角，4mm角等様々あるが、バッドマークのサイズはテスタ自動機等の装置の性能上、例えば、0.5〜0.6mmφ程度であり、ハンド処理の場合はサイズにばらつきが生じる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ダイボンダで複数の種類のチップを取り扱う場合、チップの表面状態、チップに対して付けられたバッドマークのサイズ、光の反射具合等がウェハのロット毎に異なる。よって、不良チップ上のバッドマークを認識・識別するためには、ダイボンダでのチップの認識調整を行う必要があり、作業効率が良くない。また、チップの認識調整を行った後でも、ウェハの表面状態によっては、生産途中で認識エラーが発生する場合もあった。
【０００６】
また、特性ランク品を製造するためには、コストの高いランク品対応のウェハを用いるか、又は、通常品のウェハを用いて、半導体装置の最終テストにてランク分けする必要があり、製造コストがアップしたり、歩留りが悪くなったりする。
【０００７】
そこで、本発明は上記の問題を解決するために創作したものであり、チップにバッドマークを付けることなく、ランク品を効率良く製造できる半導体装置の製造方法を提供することを目的としたものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この発明は、上記の課題を解決するための手段として、以下の構成を備えている。
【０００９】
（１）ウェハを選別するための識別情報を、前記ウェハに設けた認識用チップに記録する識別情報記録工程と、
ウェハにおける各半導体チップの電気特性をテストするテスト工程と、
前記ウェハにおける各半導体チップのテスト結果情報、前記ウェハにおける各半導体チップの位置情報、及び前記ウェハの識別情報を、ダイボンドを行うダイボンダ、又はネットワークを介してダイボンダに接続されたコンピュータが備えた記憶手段に記録する情報記録工程と、
前記記憶手段に記録した情報を参照して、特性が所定の基準範囲内である半導体チップを所定数以上有するウェハを選別して、ウェハを構成する複数の半導体チップをフレーム上にダイボンドするダイボンド工程と、
を備えたことを特徴とする。
【００１０】
この構成において、ウェハに設けた認識用チップにウェハを選別するための識別情報を記録し、ウェハにおける各半導体チップの電気特性をテストして、ウェハにおける各半導体チップのテスト結果情報、ウェハにおける各半導体チップの位置情報、及びウェハの識別情報を、ダイボンドを行うダイボンダ、又はネットワークを介してダイボンダに接続されたコンピュータが備えた記憶手段に記録し、記憶手段に記録した情報を参照して、特性が所定の基準範囲内である半導体チップを所定数以上有するウェハを選別して、ウェハを構成する複数の半導体チップをフレーム上にダイボンドして、半導体装置を製造する。したがって、ダイボンド工程において、チップのバッドマーク認識による良否判定を不要とし、かつ、ダイボンダのチップ認識調整を不要とすることが可能となり、効率良く半導体装置を製造することができる。また、外観検査マークを付与する必要がなく、工程が簡略化できる。さらに、無駄となるチップが所定数未満であるため、効率良くランク品を製造することが可能となる。また、ウェハの管理を容易に行うことが可能となる。
【００１５】
（２）前記ダイボンド工程では、前記特性が所定の基準範囲内である半導体チップを所定数未満有するウェハは、前記所定の基準とは別の基準で選別してダイボンドすることを特徴とする。
【００１６】
この構成において、特性が所定の基準範囲内である半導体チップを所定数未満有するウェハは、前記所定の基準とは別の基準で選別してダイボンド工程でダイボンドする。したがって、特性が所定の基準を満たしたウェハが所定数未満であっても、別の基準で選別して利用できるので、半導体チップや半導体チップのテストデータを有効活用できる。
【００１９】
（３）前記ダイボンド工程では、前記ダイボンド工程以前に行った前記半導体チップのテストデータ及びチップ品番を参照して、特性が所定の基準範囲内のウェハを複数のランクに選別し、該ランク毎にロットが異なるフレームにダイボンドすることを特徴とする。
【００２０】
この構成において、ダイボンド工程以前に行った半導体チップのテストデータ及びチップ品番を参照して、特性が所定の基準範囲内のウェハを複数のランクに選別し、ランク毎にロットが異なるフレームにダイボンド工程でダイボンドする。したがって、作業性が良く、歩留りの良い半導体装置の製造方法を提供できる。
【００２１】
（４）前記ダイボンド工程では、前記特性が所定の基準範囲内のウェハを複数のランクに選別した際に、前記ランク毎にロットが異なるフレームに、同時にダイボンドすることを特徴とする。
【００２２】
この構成において、特性が所定の基準範囲内のウェハを複数のランクに選別した際に、ランク毎にロットが異なるフレームに、同時にダイボンド工程でダイボンドする。したがって、チップを保管することなく、効率良く半導体装置を製造することが可能となる。
【００２３】
（５）前記選別してフレームにダイボンドした半導体チップの特性又はランクのデータは、前記ダイボンド工程以後の工程で利用可能にしたことを特徴とする。
【００２４】
この構成において、ダイボンド工程以後の工程で、選別してフレームにダイボンドした半導体チップの特性又はランクのデータは、利用可能である。したがって、ダイボンド工程以前の工程で行ったテストなどのデータを有効に活用することが可能となる。
【００２５】
（６）前記選別して半導体チップをダイボンドしたフレームは、識別管理可能であることを特徴とする。
【００２６】
この構成において、選別して半導体チップをダイボンドしたフレームは、識別して管理することができる。したがって、半導体チップをダイボンドしたフレームにおけるダイボンド工程以前の工程で行ったテストなどのデータを、識別して管理し、半導体装置の歩留りを向上させることが可能となる。
【００２７】
（７）前記選別してフレームにダイボンドした半導体チップは、前記ダイボンド工程で、特性毎にランク品に分類することを特徴とする。
【００２８】
この構成において、ダイボンド工程で選別してフレームにダイボンドした半導体チップは、特性毎にランク品に分類し、ダイボンド工程以後の工程で利用可能である。したがって、ダイボンド工程で特性毎にランク品に分類するので、完成品テストにおいて、半導体装置の歩留りを向上させることが可能となる。
【００２９】
（８）前記選別してフレームにダイボンドした半導体チップの特性データは、最終テストデータと対比させて、前記ダイボンド工程以前の工程で行った半導体チップのテスト基準にフィードバックすることを特徴とする。
【００３０】
この構成において、ダイボンド工程以前の工程で行った半導体チップのテスト基準に、選別してフレームにダイボンドした半導体チップの特性データを、最終テストデータと対比させてフィードバックする。したがって、フィードバックされたデータに基づいて、判定基準を修正したり、製造工程を見直したりすることができ、次の生産での歩留り改善を容易に行うことが可能となる。
【００３１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態における半導体装置の製造方法の一例として、ソリッドステートリレーの製造方法について説明する。図１は、ソリッドステートリレーにおける一実施形態の概略構成を示した回路図である。ソリッドステートリレー（以下、ＳＳＲと称する。）４１は、周知のように、半導体チップ（以下、チップと称する。）であるメイントライアック（チップ）４２及びフォトトライアック（チップ）４３、赤外発光ダイオード４４、並びにスナバ回路を構成する抵抗４５及びコンデンサ４６を備えている。
【００３２】
入力端子間には、赤外発光ダイオード４４が接続される。また、出力端子間には、メイントライアック４２、フォトトライアック４３、並びに抵抗４５及びコンデンサ４６で構成されたスナバ回路が、それぞれ並列に接続される。
【００３３】
ＳＳＲ４１の概略の製造工程は、以下の通りである。まず、メイントライアック４２、フォトトライアック４３、及び赤外発光ダイオード４４をリードフレーム上にダイボンドする（ダイボンド工程）。続いて、Ａｕ線やＡｌ線等を用いて、ワイヤボンディングを行う（ボンディング工程）。更に、抵抗４５やコンデンサ４６等の部品を搭載し、エポキシ等の樹脂で封止する（封止工程）。そして、各種のテストを行い、不良品と良品とに選別する（検査工程）。また、検査工程では、良品に対して、特定の特性項目に関するランク分けを行っている。
【００３４】
ダイボンド工程において使用するチップとして、メイントライアックの場合、例えば１Ａクラス〜２０Ａクラスのチップ等、複数種類のサイズのチップがある。また、同じ電流クラスのチップでも、トライアックの電気特性として、繰り返しピークオフ電圧、ゲートトリガ電流等によってランク分けした複数種類のランク品がある。
【００３５】
従来、ＳＳＲで使用するチップは、ダイボンド工程への投入時点でのランク分けは不可能であり、上記のように完成品として最終テストする時にランク分けを行っていた。したがって、ランク品を製造するためには、歩留りを考慮して余分に製品を製造する必要があり、また、検査においてランクから外れた製品は通常品に振り分けるため、製造効率が悪かった。
【００３６】
また、従来は、前記のように様々なサイズのチップを同じラインで製造する場合があり、その場合、チップサイズが異なると、チップに占めるバッドマークのサイズの比が異なるため、チップ毎に細かく認識調整をする必要があった。
【００３７】
これに対して本発明では、データとして管理しているトライアックチップの品番により、例えば何Ａの電流クラスのチップかが決まるので、その電流クラスのチップ用テストデータを基に良否判定を行う。そして、判定データをウェハ上の各チップ位置にあわせて関連付けて、ウェハ毎に記録手段に記録する。すなわち、ウェハの情報及びウェハを構成する各チップ位置情報とともに各チップのテストデータ及びチップの品番を記録する。
【００３８】
例えば、図２に示したように行う。図２は、ウェハの位置情報とテスト情報との管理方法を説明するためのウェハ外観図である。まず、ウェハ上の各チップの位置にあわせて、各チップに番号を割り当てる。そして、この番号に関連付けてテストデータを記録手段に記録する。図２に示したウェハ３３では、各チップをチップ１〜チップ３２とし、ＮＧ品はチップ１３，２１，２６であることが記録手段に記録される。
【００３９】
このように、上記のデータに基づいてダイボンドを行うため、ダイボンド工程において、チップ上のバッドマーク有無の認識を行わずに、良品チップやランクチップをダイボンド作業に投入でき、作業効率を改善できる。また、ダイボンド工程以前の工程において、チップ上にバッドマークを付ける作業も、当然不要となる。
【００４０】
チップのテストデータや品番を管理するための記録手段は、次のように構成する。図３は、ＳＳＲの製造装置の概略構成を示したブロック図である。図３（Ａ）に示したように、ネットワーク５１を介してテスタ６１及びダイボンダ７１を接続する。テスタ６１は、制御部６２、記憶手段である記憶部６３、通信部６４、及び検査部６５を備えている。また、ダイボンダ７１は、制御部７２、記憶部７３、通信部７４、及びダイボンド部７５を備えている。
【００４１】
テスタ６１の制御部６２は、検査部６５で収集したウェハを構成する各チップのテストデータを記憶部６３に記録する。制御部６２は、記憶部６３に記録したテストデータを通信部６４からネットワーク５１を介して、ダイボンダ７１の通信部７４に送信する。ダイボンダ７１の制御部７２は、このデータを記憶部７３に記録する。そして、制御部７２は、ダイボンド工程においてチップをダイボンドする際に、このデータを参照して所定の基準の範囲内であるか否かを判定し、基準範囲内のウェハを選別してダイボンドを行う。
【００４２】
また、ＳＳＲの製造装置は、図３（Ｂ）に示したように構成しても良い。すなわち、ネットワーク５１を介してテスタ６１、ダイボンダ７１、及び上位コンピュータ８１を接続する。テスタ６１及びダイボンダ７１は、図３（Ａ）に示した構成と同様である。上位コンピュータ８１は、制御部８２、記録手段である記憶部８３、及び通信部８４を備えている。テスタ６１の制御部６２は、検査部６５で収集したウェハを構成する各チップのテストデータを記憶部６３に一旦記録するか又は直接、通信部６４からネットワーク５１を介して上位コンピュータ８１に送信する。上位コンピュータ８１の制御部８２は、通信部８４でこのデータを受信すると、記憶部８３に記録する。そして、ダイボンダ７１の制御部７２は、ダイボンドを行う際に通信部７４からネットワーク５１を介して上位コンピュータ８１に、ウェハのテストデータを送信するように要求する。上位コンピュータ８１の制御部８２は、この要求に従って、通信部８４から記憶部８３に記録したテストデータをダイボンダ７１に送信する。ダイボンダ７１の制御部７２は、このデータを受信すると、一旦記憶部７３に記録するか又は直接、このデータを参照して所定の基準範囲内であるか否かを判定し、ウェハを選別してダイボンドを行う。
【００４３】
テスタ６１では複数のウェハのテストを行うので、ダイボンダ７１でチップを選別する場合に選別基準範囲内である半導体チップを、例えば、所定数以上有するウェハを選別してダイボンドをすることが可能となる。また、選別基準範囲内である半導体チップを、所定数未満しか有しないウェハは、別の選別基準で選別して、別のダイボンド工程でダイボンドを行うようにすると良い。これにより、効率良くダイボンドを行うことができる。
【００４４】
上記のように選別を行って工程を進めた場合について、フローチャートを用いて説明する。図４は、ウェハテスト工程を説明するためのフローチャート図である。ウェハテストにおいて、選別基準範囲内である半導体チップが所定数以上有するか否かを判定する（ｓ１）。選別基準範囲内にある半導体チップが所定数以上有する場合は、このウェハをランク品のみのダイボンド工程に使用する（ｓ２）。そして、ダイボンドしたフレームに対しては、所定の製造工程を経た後に、ランク品の製品テスト（完成品テスト）を行う（ｓ３）。
【００４５】
一方、ｓ１において、選別基準範囲内である半導体チップが所定数未満の場合は、このウェハは通常品のダイボンド工程に使用する（ｓ４）。そして、所定の製造工程を経た後に、通常品の製品テスト（完成品テスト）を行う（ｓ５）。
【００４６】
上記のようにウェハを選別するためには、ウェハ上に識別マークを設けると良い。一例を図５に示す。図５は、識別マークを付けたウェハの外観図である。図５に示したように、ウェハ３３上に、ウェハの製造工程でバーコード等の識別マーク３５を表示させるか、又はテスト工程で、バーコード等の識別マーク３５を印刷させるようにする。また、識別マークを設けずに、ウェハの特定の位置にウェハ識別用のチップを設けて、ウェハ識別データを記録すると良い。なお、認識用チップに識別データを読み書きするために、別途識別データの読み書き装置が必要である。この方法では、ウェハと特性等のデータとを対応させることができるので、例えば、チップの生産工程と、ダイボンド等の工程と、が別工場でも、間違い無く対応させることができる。
【００４７】
上記のようにウェハに識別マークを付けて工程を進めた場合について、フローチャートを用いて説明する。図６は、ウェハテストを説明するためのフローチャート図である。ウェハテストにおいて、まず、ウェハが指定コードか否かを判定する（ｓ１１）。ウェハが指定コードでない場合は次のウェハを選択して（ｓ１５）、再度ｓ１１を行う。一方、ウェハが指定コードの場合は、チップの特性値が基準値内か否かを判定する（ｓ１２）。
【００４８】
ｓ１２おいて、チップの特性値が基準値外である場合は、次のチップを選択して（ｓ１６）、再度ｓ１２を行う。一方、ｓ１２において、チップの特性値が基準値内である場合は、このチップをダイボンドする（ｓ１３）。そして、所定の製造工程を経た後に、ランク品の製品テスト（完成品テスト）を行う（ｓ１４）。
【００４９】
また、ソリッドステートリレーでは、耐ノイズ性に優れたものを製造する場合、トライアックの感度で所定のランク品を選別する必要がある。この場合、ランク対応でウェハテストを行ったチップ等を用いるため、トライアックチップとして、歩留りが悪くなる。
【００５０】
そこで、上記の実施形態と同様に、半導体チップをフレーム上にダイボンドするダイボンド工程において、チップウェハのテストデータを参照して、それを基にして、指定した所望の電流定格のチップや必要な電気特性を持ったチップ等のランクチップを選別して、各々対応させた別個のフレームに分けてダイボンドする。これに加えて、フレーム毎にランクチップをダイボンドして残ったチップは、一旦保管する。そして、必要な生産数のランクチップをダイボンドした後は、保管しているチップを別のロット用のフレームに、例えば、通常品としてダイボンドして、チップを振り分ける。これにより、更に作業性が良く、歩留りの良い半導体装置の製造方法を提供できる。
【００５１】
上記のようにランクチップと残ったチップとを使用して工程を進める場合について、フローチャートを用いて説明する。図７は、ウェハテストを説明するためのフローチャートである。ウェハテストにおいてチップの特性値が基準値内か否かを判定する（ｓ２１）。チップの特性値が基準値外の場合は、チップをダイボンドしない（ｓ２４）。その後、ランク品をダイボンドして残ったチップは保管し（ｓ２５）、通常品をダイボンドする際に使用する（ｓ２６）。そして、通常品としてダイボンドしたフレームに対して、所定の製造工程を経た後に、通常品テスト（完成品テスト）を行う（ｓ２７）。
【００５２】
一方、ｓ２１においてチップの特性値が基準値内である場合は、このチップをダイボンドする（ｓ２２）。そして、所定の製造工程を経た後に、ランク品の製品テスト（完成品テスト）を行う（ｓ２３）。
【００５３】
また、上記の実施形態においてダイボンドする際に、ランク品をダイボンドするロットや通常品をダイボンドするロットなど複数のラインを用意しておくことで、チップウェハのテストデータやウェハダイシング時の外観データを基に、複数の指定したデータのチップを選別して、各々対応させた別個の複数のフレームに分けて、同時にダイボンドすることができる。例えば、感度ランク品のチップダイボンドしたフレームと、通常品のチップダイボンドしたフレームと、のラインを設けておくことで、２つのロットに分けることができる。また、ランク品以外の通常品のチップを保管せずに投入でき、更に作業性を改善した半導体装置の製造方法を提供できる。
【００５４】
また、上記の製造工程において、特にチップウェハの電気的なテストデータ、ウェハダイシング時の外観データを基に指定したデータのチップのみを選別して、ダイボンドし、ダイボンドした装置のチップ特性又はランクを、後工程の生産ラインにも活用できるようにすることで、更に生産性を向上させることができる。例えば、チップウェハのテストデータ等を基に指定して、ゲートトリガ電流のデータのチップを選別して、識別管理可能なフレームにダイボンドを行った場合に有効である。これにより、以降の工程においてもランク識別させて製造するため、チップから装置までのトレーサビリティがとれる。
【００５５】
この場合、フレーム毎にバーコードのような識別マークを付けるか、フレームを一時的に収納するマガジンで識別できるようにすると良い。
【００５６】
更に、ランク識別させて製造する半導体装置において、予め、ダイボンド時に、ランク別に分類し、装置の最終テストまで行うことで、テスト時の作業効率を改善した、半導体装置の製造方法を提供できる。図８は、ウェハテストを説明するためのフローチャートである。図８に示したように、まず、チップの特性値がＡランクの基準値ないか否かを判定する（ｓ３１）。チップの特性値がＡランクである場合は、ダイボンドを行い（ｓ３２）、フレームにＡランクの識別マークを記す（ｓ３３）。そして、所定の製造工程を経た後に、Ａランク品の製品テストを行う（ｓ３４）。
【００５７】
一方、ｓ３１においてチップがＡランクでない場合は、次に、チップの特性値がＢランク基準値内か否かを判定する（ｓ３４）。チップの特性値がＢランクの場合は、ダイボンドを行い（ｓ３５）、フレームにＢランクの識別マークを記す（ｓ３７）。そして、所定の製造工程を経た後に、Ｂランク品の製品テストを行う（ｓ３８）。また、ｓ３５において、チップの特性値がＢランクでない場合は、図示しないが、更に別の基準値内か否かを判定する。
【００５８】
上記の装置において、使用したチップの特性と、最終装置のテストデータを対応させ、判定データ内でも、変動が認められる、又は不良が規定値より多い場合には、データをチップ製造工程、生産工程にフィードバックするようにすると良い。そして、フィードバックされたデータに基づいて、判定基準を修正したり、製造工程を見直したりすることで、次の生産での歩留り改善を容易に行うことができる。
【００５９】
なお、本発明はＳＳＲに限るものではなく、ウェハを構成するチップをダイボンドする半導体装置のいずれにも適用可能である。
【００６０】
【発明の効果】
本発明によれば、以下の効果が得られる。
【００６１】
（１）ウェハにおける各半導体チップの電気特性をテストして、ウェハを選別するための識別情報を、ウェハに設けた認識用チップに記録し、ウェハにおける各半導体チップのテスト結果情報、ウェハにおける各半導体チップの位置情報、及びウェハの識別情報を、ダイボンドを行うダイボンダ、又はネットワークを介してダイボンダに接続されたコンピュータが備えた記憶手段に記録し、記憶手段に記録した情報を参照して、特性が所定の基準範囲内である半導体チップを所定数以上有するウェハを選別して、ウェハを構成する複数の半導体チップをフレーム上にダイボンドして、半導体装置を製造するので、ダイボンド工程において、チップのバッドマーク認識による良否判定を不要とし、かつ、ダイボンダのチップ認識調整を不要とすることが可能となり、効率良く半導体装置を製造することができる。また、外観検査マークを付与する必要がなく、工程が簡略化できる。さらに、無駄となるチップが所定数未満であるため、効率良くランク品を製造することができる。また、ウェハの管理を容易に行うことができる。
【００６４】
（２）特性が所定の基準範囲内である半導体チップを所定数未満有するウェハは、前記所定の基準とは別の基準で選別してダイボンド工程でダイボンドするため、特性が所定の基準を満たしたウェハが所定数未満であっても、別の基準で選別して利用できるので、半導体チップや半導体チップのテストデータを有効活用できる。
【００６６】
（３）ダイボンド工程以前に行った半導体チップのテストデータ及びチップ品番を参照して、特性が所定の基準範囲内のウェハを複数のランクに選別し、ランク毎にロットが異なるフレームにダイボンド工程でダイボンドするため、作業性が良く、歩留りの良い半導体装置の製造方法を提供できる。
【００６７】
（４）特性が所定の基準範囲内のウェハを複数のランクに選別した際に、ランク毎にロットが異なるフレームに、同時にダイボンド工程でダイボンドすることにより、チップを保管することなく、効率良く半導体装置を製造することができる。
【００６８】
（５）ダイボンド工程以後の工程で、選別してフレームにダイボンドした半導体チップの特性又はランクのデータを利用可能であるため、ダイボンド工程以前の工程で行ったテストなどのデータを有効に活用することができる。
【００６９】
（６）選別して半導体チップをダイボンドしたフレームは、識別して管理することができるので、半導体チップをダイボンドしたフレームにおけるダイボンド工程以前の工程で行ったテストなどのデータを識別して管理し、半導体装置の歩留りを向上させることができる。
【００７０】
（７）ダイボンド工程で選別してフレームにダイボンドした半導体チップは、特性毎にランク品に分類し、ダイボンド工程以後の工程で利用可能であるため、完成品テストにおいて、半導体装置の歩留りを向上させることができる。
【００７１】
（８）ダイボンド工程以前の工程で行った半導体チップのテスト基準に、選別してフレームにダイボンドした半導体チップの特性データを、最終テストデータと対比させてフィードバックすることにより、フィードバックされたデータに基づいて、判定基準を修正したり、製造工程を見直したりすることができ、次の生産での歩留り改善を容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ソリッドステートリレーにおける一実施形態の概略構成を示した回路図である。
【図２】ウェハの位置情報とテスト情報との管理方法を説明するためのウェハ外観図である。
【図３】ＳＳＲの製造装置の概略構成を示したブロック図である。
【図４】ウェハテスト工程を説明するためのフローチャート図である。
【図５】識別マークを付けたウェハの外観図である。
【図６】ウェハテストを説明するためのフローチャート図である。
【図７】ウェハテストを説明するためのフローチャートである。
【図８】ウェハテストを説明するためのフローチャートである。
【図９】従来のテスト後におけるウェハの外観図である。
【符号の説明】
５１−ネットワーク
５２，６２，７２，８２−制御部
５３，６３，７３，８３−記憶部
５４，６４，７４，８４−通信部
６１−テスタ
６５−検査部
７１−ダイボンダ
７５−ダイボンド部
８１−上位コンピュータ
【図１】
0003784671.tif 000002
【図２】
0003784671.tif 000003
【図３】
0003784671.tif 000004
【図４】
0003784671.tif 000005
【図５】
0003784671.tif 000006
【図６】
0003784671.tif 000007
【図７】
0003784671.tif 000008
【図８】
0003784671.tif 000009
【図９】
0003784671.tif 000010