(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の前面側及び背面側の基板を基板間に放電空間が形成されるように対向配置するとともに前記放電空間を複数に仕切るための隔壁を少なくとも背面側基板に配置し、かつ前記隔壁により仕切られた放電空間で放電が発生するように前面側及び背面側の基板に電極を配置するとともに放電により発光する蛍光体層を設けたパネル本体を有するプラズマディスプレイパネルにおいて、前記パネル本体を構成する前面側及び背面側の基板の放電空間側内面を、撥水性を有する〔Ｓｉ（Ｏ・Ｆ）２、Ｓｉ（Ｏ・Ｎ）２、Ｓｉ（Ｏ・Ｆ・Ｎ）２、Ａｌ２（Ｏ・Ｆ）３、Ａｌ２（Ｏ・Ｎ）３、Ｔｉ（Ｏ・Ｆ）２、Ｔｉ（Ｏ・Ｎ）２〕で表すことのできるフッ素（Ｆ），窒素（Ｎ）の含有した金属酸化物の膜、あるいは撥水性を有するＳｉ−Ｏ結合のシロキサン膜でコーティングしたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
一対の前面側及び背面側の基板を基板間に放電空間が形成されるように対向配置するとともに前記放電空間を複数に仕切るための隔壁を少なくとも背面側基板に配置し、かつ前記隔壁により仕切られた放電空間で放電が発生するように前面側及び背面側の基板に電極を配置するとともに、背面側基板に放電により発光する蛍光体層を設けたパネル本体を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、前面側基板の放電空間側内面上に、シラン系有機化合物，チタン系及びアルミ系有機化合物あるいはパーフルオロアルキルシラン系有機化合物と有機溶剤とを混合分散したものをコーティングした後、３５０℃〜６００℃で焼成して表面を撥水化させる工程と、蛍光体層形成前の背面側基板の放電空間側内面上に、シラン系有機化合物、チタン系及びアルミ系有機化合物あるいはパーフルオロアルキルシラン系有機化合物と有機溶剤とを混合分散したものをコーティングした後、３５０℃〜６００℃で焼成して表面を撥水化させる工程と、その後シラン系有機化合物，アルミ系有機化合あるいは、パーフルオロアルキルシラン系有機化合物により蛍光体表面に撥水処理した蛍光体粒子を背面側基板の隔壁内に塗布した後、５００℃〜６００℃で焼成する工程とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は例えば、テレビなどの画像表示に用いられるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年ハイビジョンをはじめとする高品位，大画面テレビへの期待が高まっている。ＣＲＴは解像度・画質の点でプラズマディスプレイや液晶に対して優れているが、奥行きと重量の点で４０インチ以上の大画面には向いていない。
【０００３】
一方液晶は、消費電力が少なく、駆動電圧も低いという優れた性能を有しているが、画面の大きさや視野角に限界がある。これに対して、ガス放電パネル、すなわちプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）は、大画面の実現が可能であり、すでに４０インチクラスの製品が開発されている。
【０００４】
従来から、ガス放電パネルの一例としては図６に示すようなＡＣ型のＰＤＰが知られている。以下図面を参照しながら、従来のＰＤＰのパネル構成とその動作を説明する。
【０００５】
図６は従来の交流型（ＡＣ型）ＰＤＰの要部斜視図であり、図６において、１は前面板であり、２は背面板である。ＰＤＰは、前面板１と背面板２とが対向するように配置され、その外周端縁部は、ガス放電用空間を形成するために低融点ガラスからなる封止部材（図示せず）により封止されており、その密閉空間に、３００Ｔｏｒｒから５００Ｔｏｒｒの希ガス（ヘリウム、キセノン、ネオンなどの混合ガス）が封入された構成である。
【０００６】
前面板１は、前面ガラス基板３上に銀電極からなる表示電極４が形成され、この上にコンデンサの動きをする誘電体層５と酸化マグネシウム膜の保護膜６が形成されている。
【０００７】
背面板２は、背面ガラス基板７と、背面ガラス基板７の表面にパターン形成されたデータ電極８とそれを覆うように成膜された誘電体層９と、複数の隔壁１０と、隔壁１０同士の間に塗布されたＲＧＢの蛍光体１１から構成されている。ここで、隔壁１０は、上記ガス放電用空間を仕切るためのもので、この隔壁１０によって仕切られた空間部１２が発光領域となるものであり、蛍光体１１は、この発光領域毎に塗布されている。また、隔壁１０とデータ電極８とは同一方向に形成され、そして表示電極４はデータ電極８と直交するように配置されている。
【０００８】
以上のように構成されたＰＤＰは、データ電極８、表示電極４に適当なタイミングで電圧を印加することにより、表示画素に相当する隔壁１０で仕切られた空間部１２で放電が起こり、これによって紫外線が発生し、紫外線に励起されたＲＧＢ蛍光体１１から可視光が放出され、それが画像として表示されるのである。
【０００９】
次に、このような従来のＰＤＰの製造方法について説明する。
【００１０】
前面板１と背面板２は別々に作製される。まず、前面ガラス基板３上には、表示電極４として銀またはＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒを形成する。一般に、銀電極形成は、銀ペーストをスクリーン印刷法を用いてパターン印刷し、乾燥後焼成することで所定の膜厚と幅の電極を得る。Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒ電極の場合は、スパッタ法や蒸着法などの薄膜形成技術を用いて膜を積層させ、フォトリソグラフィ法を用いて所定の形状にパターニングさせる。
【００１１】
誘電体層５は、スクリーン印刷法を用いて所定の膜厚になるように誘電体ペーストの印刷と乾燥を複数回繰り返すことによって形成される。最近では、ロールコート法などの他の方法も用いられているが、誘電体ペーストを使用して誘電体層５を得ることでは同じである。誘電体層５を形成した後、その誘電体層５を覆うように酸化マグネシウムからなる保護膜６を電子ビーム蒸着法を用いて膜形成させる。
【００１２】
また、背面板２については、背面ガラス基板７上にデータ電極８を形成し、それを覆うように誘電体層９を塗布、焼成することにより形成し、その上に印刷によって隔壁材料を塗布、乾燥した後、サンドブラスト法あるいはフォトリソグラフィー法などによって、隔壁１０を形成しない部分を削り取り、５００℃〜６００℃の焼成工程を行うことにより、ライン状あるいは井桁状になった隔壁１０を形成する。その後、隔壁１０の間に印刷法などによって蛍光体１１を充填、乾燥し、５００℃〜６００℃で焼成して製作する。
【００１３】
このようにして完成した前面板１と背面板２は、周囲に低融点ガラスを封止部材として塗布した後、４００℃〜５００℃で焼成することで封着し、そしてチップ管よりパネル内を５〜７×１０-5Ｐａ程度に真空引きをした後、希ガスを封入し、チップオフしてパネルを完成させるものである。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
近年期待されているフルスペックのハイビジョンテレビの画素レベルは、画素数が１９２０×１１２５となり、セルピッチも４２インチクラスで、０．１５ｍｍ×０．４８ｍｍで１セルの面積は０．０７２ｍｍ2の細かさになる。同じ４２インチの大きさでハイビジョンテレビを作製したとき、１画素の面積で従来のＮＴＳＣ（画素数６４０×４８０個、セルピッチ０．４３ｍｍ×１．２９ｍｍ、１セルの面積０．５５ｍｍ2）と比較すると、１／７〜１／８の細かさとなる。
【００１５】
従って、放電電極（表示電極）間距離が短くなるばかりでなく、放電空間も狭くなるため、パネル封着後にパネル内に放出される不純ガス（特にＨ2Ｏ，ＣＯ2，炭化水素系ガスなど）の影響が非常に強くなり、従来のパネルでは問題にならなかったＭｇＯの劣化による放電特性の悪化（画面のちらつき，セル不灯等）や、蛍光体の劣化（輝度や色温度の低下）、あるいはパネルを真空にする排気時間の増大やパネルの動作を一定にするためのエージング時間の増大というパネルの性能や製造に関する多くの課題が発生する。特に高精細になってもパネル輝度を上げるために従来のストレートな隔壁構造に加えて井桁構造の隔壁を用いた場合は、パネル内の排気は一層困難になるという課題がある。
【００１６】
本発明はこのような課題に鑑みなされたもので、高精細なセル構造のパネルの信頼性の向上とパネルの生産性の向上を図ることを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明は、パネル本体を構成する前面側及び背面側の基板の放電空間側内面を撥水性の物質でコーティングしたもので、パネル本体内に持ち込まれるＨ2Ｏ，ＣＯ2，炭化水素系有機物の量を大幅に減少させることにより、放電特性の改良、パネルの輝度や色温度の向上及びパネルの製造時間の短縮を図るものである。
【００１８】
【発明の実施の形態】
すなわち本発明の請求項１に記載の発明は、一対の前面側及び背面側の基板を基板間に放電空間が形成されるように対向配置するとともに前記放電空間を複数に仕切るための隔壁を少なくとも背面側基板に配置し、かつ前記隔壁により仕切られた放電空間で放電が発生するように前面側及び背面側の基板に電極を配置するとともに放電により発光する蛍光体層を設けたパネル本体を有するプラズマディスプレイパネルにおいて、前記パネル本体を構成する前面側及び背面側の基板の放電空間側内面を、撥水性を有する〔Ｓｉ（Ｏ・Ｆ）２、Ｓｉ（Ｏ・Ｎ）２、Ｓｉ（Ｏ・Ｆ・Ｎ）２、Ａｌ２（Ｏ・Ｆ）３、Ａｌ２（Ｏ・Ｎ）３、Ｔｉ（Ｏ・Ｆ）２、Ｔｉ（Ｏ・Ｎ）２〕で表すことのできるフッ素（Ｆ），窒素（Ｎ）の含有した金属酸化物の膜、あるいは撥水性を有するＳｉ−Ｏ結合のシロキサン膜でコーティングしたことを特徴とするものである。
【００２２】
さらに、請求項２に記載の発明は、一対の前面側及び背面側の基板を基板間に放電空間が形成されるように対向配置するとともに前記放電空間を複数に仕切るための隔壁を少なくとも背面側基板に配置し、かつ前記隔壁により仕切られた放電空間で放電が発生するように前面側及び背面側の基板に電極を配置するとともに、背面側基板に放電により発光する蛍光体層を設けたパネル本体を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、前面側基板の放電空間側内面上に、シラン系有機化合物，チタン系及びアルミ系有機化合物あるいはパーフルオロアルキルシラン系有機化合物と有機溶剤とを混合分散したものをコーティングした後、３５０℃〜６００℃で焼成して表面を撥水化させる工程と、蛍光体層形成前の背面側基板の放電空間側内面上に、シラン系有機化合物、チタン系及びアルミ系有機化合物あるいはパーフルオロアルキルシラン系有機化合物と有機溶剤とを混合分散したものをコーティングした後、３５０℃〜６００℃で焼成して表面を撥水化させる工程と、その後シラン系有機化合物，アルミ系有機化合あるいは、パーフルオロアルキルシラン系有機化合物により蛍光体表面に撥水処理した蛍光体粒子を背面側基板の隔壁内に塗布した後、５００℃〜６００℃で焼成する工程とを有することを特徴とするものである。
【００２３】
以下、本発明の一実施の形態について詳しく説明する。
【００２４】
先ず、ガラス基板上に表示電極とガラスからなる誘電体層とＭｇＯからなる保護層が形成された前面側基板である前面板を用意し、ＭｇＯ上に撥水性物質が混合された溶液をスピンコート法、ディップ法、または減圧下蒸発法などでコーティングを行い、次にこれを３５０℃〜６００℃で焼成して前面板の撥水処理を行う。なお、このとき３５０℃以下では有機物が残留して放電特性の悪化があり、６００℃以上では誘電体が軟化してＭｇＯにクラックが生じ、放電特性が悪化するので３５０℃〜６００℃の範囲で焼成する。撥水物質をＭｇＯ表面にコーティングする撥水処理は、例えは撥水性を有するフッ素や窒素を含有する化合物として、臨界表面張力γｅ（dym/cm）の値が２１dyn/cm以下の物質を用いる。これは、表面張力の低い物質は、撥水性を有することが知られていることによる。
【００２５】
γｅが２１dyn/cm以下の物質は、例えばパーフルオロアルキル官能性シラン化学式として、ＣＦ3ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3Ｓｉ（Ｏ・ＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）6ＣＯＯ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）6ＣＯＳ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）6ＣＯＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7ＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3などが有効である。
【００２６】
また、シラン系以外に、アセチルアセトン系（β−ジケトン系）のフルオロアセチルアセトン金属塩やフッ化水素塩（Ｈ2ＳｉＦ6）、シラザンなどのフッ素や窒素含有化合物が有効である。
【００２７】
また、フッ素や窒素含有化合物以外に、例えばＳｉＣｌ4，ＳｉＨＣｌ3，ＳｉＨ2Ｃｌ2，Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2Ｏ）ｎ−ＳｉＣｌ3（ｎは整数），Ｃｌ3Ｓｉ−（ＣＨ2）ｎ−ＳｉＣｌ3（ｎは整数）などのクロロシラン系有機珪素化合物、またはそれらの混合物、もしくはＳｉ（ＯＣＨ3）4，ＳｉＨ（ＯＣＨ3）3，ＳｉＨ2（ＯＣＨ3）2，ＯＣＨ3−（Ｓｉ（ＯＣＨ3）2Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3（ｎは整数）、（ＯＣＨ3）3Ｓｉ−（ＣＨ2）ｎ−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3（ｎは整数）などのメトキシラン系有機珪素化合物、またはそれらの混合物、もしくはＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）4，ＳｉＨ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＳｉＨ2（ＯＣ2Ｈ5）2，ＯＣ2Ｈ5−（Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）2Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3（ｎは整数）、（ＯＣ2Ｈ5）3Ｓｉ−（ＣＨ2）ｎ−Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3（ｎは整数），（ＣＨ3）3ＳｉＮＳｉ（ＣＨ3）3などのエトキシシラン系有機珪素化合物、またはそれらの混合物などアルコキシシラン系有機珪素化合物、またはテトライソプロピルチタネート（ＴＰＴ）、テトラｎ−ブチルチタネート（ＴＢＴ），テトラスチリルチタネート（ＴＳＴ）等のアルコキシチタン系有機チタン化合物などが撥水処理に有効である。
【００２８】
これらの撥水性の原料となる化合物とアルコールあるいはトルエン，キシレン，ベンゼン、ヘキサン等の有機溶剤とを混合して分散した後、ＭｇＯ上にスピンコート法，浸漬（ディッピング）法，スプレーコート法などによってコーティングを行い、有機溶剤を乾燥した後、３５０℃〜６００℃で焼成して、ＭｇＯの表面を撥水化させる。すなわち、３５０℃以上で焼成することで、ＭｇＯ、誘電体、隔壁あるいは蛍光体表面に撥水性を有する酸化膜あるいはフッ素（Ｆ），窒素（Ｎ）の含有した金属酸化物〔Ｓｉ（Ｏ・Ｆ）２、Ｓｉ（Ｏ・Ｎ）２、Ｓｉ（Ｏ・Ｆ・Ｎ）２、Ａｌ２（Ｏ・Ｆ）３、Ａｌ２（Ｏ・Ｎ）３、Ｔｉ（Ｏ・Ｆ）２、Ｔｉ（Ｏ・Ｎ）２、あるいはＳｉ−Ｏ結合のシロキサン膜〕の膜が形成されるため、表面張力が下がり、ＭｇＯ表面が撥水化（水をはじく）されると考えられる。
【００２９】
ここで、膜の厚さは薄い方が好ましく、０．１μｍ以下の最も薄い単分子層が好ましい。また撥水処理を行うことで、水以外に炭酸ガスや炭化水素系のガスの吸着も低減される事が判明した。
【００３０】
このように従来のパネル作製工程に撥水処理工程を加えることで、水や不純ガスに対して強い、すなわち蛍光体焼成工程、パネル封着工程、パネルエージング工程あるいはパネル駆動中に発生する水や炭酸ガスに耐久性を持つパネルが得られる。
【００３１】
次に、背面側基板である背面板上への撥水処理方法について述べる。
【００３２】
先ず、ガラス基板上にデータ電極を作製し、その上にガラスからなる誘電体層を形成し、次に隔壁を形成する。そして、その背面板の隔壁及び誘電体層上に上記前面板の保護膜上への撥水処理と同様の材料と方法で撥水処理を行う。撥水効果が出現する理由は、上記前面板の場合と同様である。
【００３３】
次に、蛍光体表面に撥水処理を行い、背面板とするのであるが、ここで、蛍光体本体の製造方法としては、従来のフラックスを用いた固相焼結法や、水溶液中でアルカリ等を加えて沈殿させる共沈法を用いた。蛍光体の前駆体を熱処理して得られる方法、あるいは蛍光体原料が入った水溶液を加熱された炉中に噴霧して作製する液体噴霧法などの蛍光体の製造方法が考えられるが、いずれの方法で作製した蛍光体を用いても撥水処理の効果があることが判明した。
【００３４】
ここで蛍光体作製方法の一例として、青色蛍光体の固相反応法による製造について述べる。原料として、Ｂａ（ＮＯ3）2、Ｍｇ（ＮＯ3）2、Ａｌ（ＮＯ3）2、Ｅｕ（ＮＯ3）2などの硝酸塩と、焼結促進剤としてのフラック（ＡｌＦ3，ＢａＣｌ2）を少量加えて１４００℃で２時間焼成した後、これを粉砕及びふるい分けを行い、次に１５００℃で２時間還元性雰囲気（Ｈ2５％Ｎ2中）で焼成し、再び粉砕とふるい分けを行い蛍光体とする。
【００３５】
水溶液から蛍光体を作製する場合（液相法）は、上記硝酸塩を水に溶解後、アルカリを投入して共沈物（水和物）を作製し、それを水熱合成（オートクレーブ中で結晶化）や、空気中で焼成、あるいは高温炉中に噴霧して得られた粉体を１５００℃で２時間、還元性雰囲気（Ｈ2５％−Ｎ2中）で焼成して蛍光体とする。
【００３６】
上記の方法で得られた蛍光体粉末への撥水処理（撥水物質を蛍光体表面にコーティングする処理）は、例えば撥水性を有するフッ素や窒素を含有する化合物として、臨界表面張力γｅ（dyn/cm）の値が２１dyn/cm以下の物質が好ましい。
【００３７】
例えば、パーフルオロアルキル官能性シラン化学式として、ＣＦ3ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3Ｓｉ（Ｏ・ＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）6ＣＯＯ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）6ＣＯＳ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）6ＣＯＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7ＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3などが有効である。
【００３８】
また、シラン系以外に、アセチルアセトン系（β−ジケトン系）のフルオロアセチルアセトン金属塩やフッ化水素塩（Ｈ2ＳｉＦ6）シラザンなどのフッ素や窒素含有化合物が有効である。
【００３９】
また、フッ素や窒素含有化合物以外に、例えばＳｉＣｌ4，ＳｉＨＣｌ3，ＳｉＨ2Ｃｌ2，Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2Ｏ）ｎ−ＳｉＣｌ3（ｎは整数），Ｃｌ3Ｓｉ−（ＣＨ2）ｎ−ＳｉＣｌ3（ｎは整数）などのクロロシラン系有機珪素化合物、またはそれらの混合物、もしくはＳｉ（ＯＣＨ3）4，ＳｉＨ（ＯＣＨ3）3，ＳｉＨ2（ＯＣＨ3）2，ＯＣＨ3−（Ｓｉ（ＯＣＨ3）2Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3（ｎは整数）、（ＯＣＨ3）3Ｓｉ−（ＣＨ2）ｎ−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3（ｎは整数）などのメトキシラン系有機珪素化合物、またはそれらの混合物、もしくはＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）4，ＳｉＨ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＳｉＨ2（ＯＣ2Ｈ5）2，ＯＣ2Ｈ5−（Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）2Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3（ｎは整数）、（ＯＣ2Ｈ5）3Ｓｉ−（ＣＨ2）ｎ−Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3（ｎは整数），（ＣＨ3）3ＳｉＮＳｉ（ＣＨ3）3などのエトキシシラン系有機珪素化合物、またはそれらの混合物などアルコキシシラン系有機珪素化合物、もしくはテトライソプロピルチタネート（ＴＰＴ）、テトラｎ−ブチルチタネート（ＴＢＴ），テトラスチリルチタネート（ＴＳＴ）などのアルコキシチタン系有機チタン化合物などが有効である。
【００４０】
これらの化合物とアルコール、あるいはトルエン、ベンゼン、シクロヘキサンなどの有機溶剤との混合液と蛍光体をボールミルやジェットミルなどで混合した後、アルコールや有機溶剤を除去し、乾燥後３５０℃以上１０００℃以下で焼成して蛍光体表面を撥水化させる。すなわち、３５０℃以上で焼成することで蛍光体表面にフッ素（Ｆ），窒素（Ｎ）の含有した金属酸化物〔Ｓｉ（Ｏ・Ｆ）２、Ｓｉ（Ｏ・Ｎ）２、Ｓｉ（Ｏ・Ｆ・Ｎ）２、Ａｌ２（Ｏ・Ｆ）３、Ａｌ２（Ｏ・Ｎ）３、Ｔｉ（Ｏ・Ｆ）２、Ｔｉ（Ｏ・Ｎ）２など〕の膜が形成されるため、表面張力が下がり、撥水化（水をはじく）されると考えられる。３５０℃以下の焼成では、有機物が残存しやすく放電特性が悪化して好ましくなく、また１０００℃以上では蛍光体の輝度が低下して好ましくない。
【００４１】
このように撥水処理工程を経た蛍光体とエチルセルロースを含むターピネオールからなる有機バインダーを用いて、蛍光体ペーストを作製し、次にこれをスクリーン印刷法あるいはラインジェット法などで隔壁中に塗布、乾燥した後、５００℃〜６００℃で焼成して背面板を作製する。
【００４２】
このように撥水処理した蛍光体、同じく撥水処理した隔壁と誘電体層を有する背面板は、パネル封着工程、パネルエージング工程、あるいはパネル動作中において水や炭酸ガスの発生がなく、したがってパネルの輝度や色温度の低下あるいは、放電特性の劣化がない。
【００４３】
図１はＰＤＰにおける前面板を取り除いた概略平面図であり、図２はＰＤＰの画像表示領域における部分断面斜視図である。なお、図１においては表示電極群１０３、表示スキャン電極群１０４、アドレス電極群１０７の本数などについては分かり易くするため一部省略して図示している。この図１、図２を参照しながらＰＤＰの構造について説明する。
【００４４】
図１に示すように、ＰＤＰ１００は、前面ガラス基板１０１（図示せず）と、背面ガラス基板１０２と、Ｎ本の表示電極１０３と、Ｎ本の表示スキャン電極１０４（Ｎ本目を示す場合はその数字を付す）と、Ｍ本のアドレス電極１０７（Ｍ本目を示す場合はその数字を付す）と、Ｍ本のアドレス電極１０７（Ｍ本目を示す場合はその数字を付す）からなり、対向配置した基板の外周端縁部を斜線で示す気密シール層１２１で封止することによりパネル本体が構成されている。そして、各電極１０３，１０４，１０７による３電極構造の電極マトリックスを有しており、表示スキャン電極１０４とアドレス電極１０７との交点にセルが形成されている。なお、１２３は画像表示領域である。
【００４５】
このＰＤＰ１００は、図２に示すように、前面ガラス基板１０１の１主面上に表示電極１０３、表示スキャン電極１０４、ガラスからなる誘電体層１０５、撥水物質でコートされたＭｇＯからなる保護層１０６が形成された前面板と、背面ガラス基板１０２の１主面上にアドレス電極１０７、撥水物質でコートされたガラスからなる誘電体層１０８、同じく撥水物質でコートされた隔壁１０９、および撥水物質でコートされた蛍光体層１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂが形成された背面板とを対向配置して張り合わせ、前面板と背面板との間に形成される放電空間１２２内に放電ガスが封入された構成となっている。
【００４６】
ＰＤＰを用いた表示装置は、図３に示すように、ＰＤＰ１００に表示ドライバ回路１５３、表示スキャンドライバ回路１５４、アドレスドライバ回路１５５を接続して、コントローラ１５２の制御に従い、点灯させようとするセルにおいて表示スキャン電極１０４とアドレス電極１０７に電圧を印加することによりその間でアドレス放電を行った後に、表示電極１０３、表示スキャン電極１０４間にパルス電圧を印加して維持放電を行う。この維持放電により、当該セルにおいて紫外線が発生し、この紫外線により励起された蛍光体層が発光することで、セルが点灯し、そして各色セルの点灯、非点灯の組み合わせによって画像が表示される。
【００４７】
次に、上述したＰＤＰについて、その製造方法を図１および図２を参照しながら説明する。
【００４８】
前面板は、前面ガラス基板１０１上にまず、各Ｎ本の表示電極１０３および表示スキャン電極１０４（図２においては各２本のみ表示している）を交互かつ平行にストライプ状に形成した後、その上を誘電体層１０５で被覆し、さらに誘電体層１０５の表面にＭｇＯからなる保護層１０６を形成した後、撥水処理を行うことによって作製される。
【００４９】
表示電極１０３および表示スキャン電極１０４は、銀からなる電極であって、電極用の銀ペーストをスクリーン印刷により塗布した後、焼成することによって形成される。誘電体層１０５は、鉛系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷で塗布した後、所定温度で所定時間、例えば５６０℃で２０分焼成することによって、所定の層の厚み（約２０μｍ）となるように形成する。上記鉛系のガラス材料を含むペーストとしては、例えばＰｂＯ（７０ｗｔ％）、Ｂ2Ｏ3（１５ｗｔ％）、ＳｉＯ2（１０ｗｔ％）、及びＡｌ2Ｏ3（５ｗｔ％）と有機バインダ（α−ターピネオールに１０％のエチルセルローズを溶解したもの）との混合物が使用される。ここで、有機バインダとは樹脂を有機溶媒に溶解したものであり、エチルセルローズ以外に、樹脂としてアクリル樹脂、有機溶媒としてブチルカービトールなども使用することができる。さらに、こうした有機バインダに分散剤（例えば、グリセルトリオレエート）を混入させてもよい。
【００５０】
保護層１０６は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなるものであり、例えばスパッタリング法やＣＶＤ法（化学蒸着法）によって層が所定の厚み（約０．５μｍ）となるように形成される。このＭｇＯ上への撥水処理は、例えばパーフルオロアルキルシランとして、ＣＦ3ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3を用い、溶剤とにプロパノールを用い、ＣＦ3ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3の１ｍｏｌ％溶液を作製する。次にこの溶液をＭｇＯ上にスプレーコートした後、３５０℃で焼成して、ＭｇＯ上にＳｉ（Ｏ・Ｆ）2撥水膜を形成する。この時のＳｉ（Ｏ・Ｆ）2の膜厚は０．００１μｍであった。
【００５１】
背面板は、まず背面ガラス基板１０２上に、電極用の銀ペーストをスクリーン印刷し、その後、焼成することによってＭ本のアドレス電極１０７が列方向に配列された状態に形成される。その上に、例えば鉛系のガラス材料を含むペーストがスクリーン印刷法で塗布された後、５００℃〜６００℃で焼成されたガラスからなる誘電体層１０８が形成され、次にこの上に感光性のガラスペーストをスクリーン印刷法により塗布した後、フォトマスクを用いて露光を行い、現像後焼成することによって隔壁１０９が形成される。この隔壁１０９により、放電空間１２２はライン方向に一つのセル（単位発光領域）毎に区画される。井桁状の隔壁１０９の場合は、井桁状のフォトマスクを用いて放電空間を作製する。図４は、ＰＤＰの一部断面図である。図４に示すように、隔壁１０９の間隙寸法Ｗが一定値３２インチ〜５０インチのＨＤ−ＴＶに合わせて１３０μｍ〜２４０μｍ程度に規定される。
【００５２】
次に、この誘電体層及び隔壁上にＭｇＯ上と同様の方法で撥水処理を行う。
【００５３】
そして、隔壁１０９と隔壁１０９の間の溝には、撥水処理された赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各蛍光体粒子と有機バインダとからなるペースト状の蛍光体インキを塗布し、これを４００〜５９０℃の温度で焼成して有機バインダを消失させることによって、各蛍光体粒子が結着してなる蛍光体層１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂが形成される。この蛍光体層１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂのアドレス電極１０７上における積層方向の厚みＬは、各色蛍光体粒子の平均粒径のおよそ８〜２５倍程度に形成することが望ましい。すなわち、蛍光体層に一定の紫外線を照射したときの輝度（発光効率）を確保するために、蛍光体層は、放電空間において発生した紫外線を透過させることなく吸収するために、蛍光体粒子が最低でも８層、好ましくは２０層程度積層された厚みを保持することが望ましく、それ以上の厚みとなれば蛍光体層の発光効率はほとんどサチュレートしてしまうとともに、２０層程度積層された厚みを超えると、放電空間１２２の大きさを十分に確保できなくなる。また、蛍光体粒子はその粒径が十分小さく、かつ球状であれば、球状でない粒子を使用する場合と比べ、積層段数が同じ場合であっても蛍光体層充填度が高まるとともに蛍光体粒子の総表面積が増加するため、蛍光体層における実際の発光に寄与する蛍光体粒子表面積が増加し、さらに発光効率が高まる。この蛍光体層１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂの合成方法、および各色蛍光体層に用いる表面に撥水物質がコートされた蛍光体粒子については後述する。
【００５４】
このようにして作製された前面板と背面板は、前面板の各電極と背面板のアドレス電極とが直交するように重ね合わせられるとともに、パネルの外周端縁部に封着用ガラスを介在させ、これを例えば４５０℃程度で１０〜２０分間焼成して気密シール層１２１（図１）を形成することにより封着される。そして、一旦放電空間１２２内を高真空、例えば、１．１×１０-4Ｐａに排気した後、放電ガス、例えば、Ｈｅ−Ｘｅ系、Ｎｅ−Ｘｅ系の不活性ガスを所定の圧力で封入することによってＰＤＰ１００が作製される。
【００５５】
図５は蛍光体層を形成する際に用いるインキ塗布装置（インキジェット装置）の概略構成図である。
【００５６】
図５に示すように、インキ塗布装置２００は、サーバ２１０、加圧ポンプ２２０、ヘッダ２３０などを備え、蛍光体インキを蓄えるサーバ２１０から供給される蛍光体インキは、加圧ポンプ２２０によりヘッダ２３０に加圧されて供給される。ヘッダ２３０にはインキ室２３０ａおよびノズル２４０が設けられており、加圧されてインキ室２３０ａに供給された蛍光体インキは、ノズル２４０から連続的に吐出されるようになっている。このノズル２４０の口径Ｄは、ノズルの目詰まり防止のため３０μｍ以上、かつ塗布の際の隔壁からのはみ出し防止のため隔壁１０９間の間隔Ｗ（約１３０μｍ〜２００μｍ）以下にすることが望ましく、通常３０μｍ〜１３０μｍに設定される。
【００５７】
ヘッダ２３０は、図示しないヘッダ走査機構によって直線的に駆動されるように構成されており、ヘッダ２３０を走査させるとともにノズル２４０から蛍光体インキ２５０を連続的に吐出することにより、背面ガラス基板１０２上の隔壁１０９間の溝に蛍光体インキが均一に塗布される。ここで、使用される蛍光体インキの粘度は２５℃において、１５００〜３００００ＣＰの範囲に保たれている。
【００５８】
なお、上記サーバ２１０には図示しない攪拌装置が備えられており、その攪拌により蛍光体インキ中の粒子の沈殿が防止される。またヘッダ２３０は、インキ室２３０ａやノズル２４０の部分も含めて一体成形されたものであり、金属材料を機器加工ならびに放電加工することによって作製されたものである。
【００５９】
また、蛍光体層を形成する方法としては、上記方法に限定されるものではなく、例えば、フォトリソ法、スクリーン印刷法、および蛍光体粒子を混合させたフィルムを配設する方法などの種々の方法を利用することができる。
【００６０】
蛍光体インキは、各色蛍光体粒子、バインダ、溶媒とが混合され、１５００〜３００００センチポアズ（ＣＰ）となるように調合されたものであり、必要に応じて、界面活性剤、シリカ、分散剤（０．１〜５ｗｔ％）などを添加してもよい。
【００６１】
この蛍光体インキに調合される赤色蛍光体としては、（Ｙ，Ｇｄ）1-xＢＯ3：Ｅｕx、またはＹ2-xＯ3：Ｅｕxで表される化合物が用いられる。これらは、その母体材料を構成するＹ元素の一部がＥｕに置換された化合物である。ここで、Ｙ元素に対するＥｕ元素の置換量Ｘは、０．０５≦Ｘ≦０．２０の範囲となることが好ましい。これ以上の置換量とすると、輝度は高くなるものの輝度劣化が著しくなることから実用上使用できにくくなると考えられる。一方、この置換量以下である場合には、発光中心であるＥｕの組成比率が低下し、輝度が低下して蛍光体として使用できなくなるためである。
【００６２】
緑色蛍光体としては、Ｂａ1-xＡｌ12Ｏ19：Ｍｎx、またはＺｎ2-xＳｉＯ4：Ｍｎxで表される化合物が用いられる。Ｂａ1-xＡｌ12Ｏ19：Ｍｎxは、その母体材料を構成するＢａ元素の一部がＭｎに置換された化合物であり、Ｚｎ2-xＳｉＯ4：Ｍｎxは、その母体材料を構成するＺｎ元素の一部がＭｎに置換された化合物である。ここで、Ｂａ元素およびＺｎ元素に対するＭｎ元素の置換量Ｘは、上記赤色蛍光体のところで説明した理由と同様の理由により、０．０１≦Ｘ≦０．１０の範囲となることが好ましい。
【００６３】
青色蛍光体としては、Ｂａ1-xＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕx、またはＢａ1-x-yＳｒyＭｇＡｌ10Ｏ17：ＥｕxあるいはＣａＭｇＳｉ2Ｏ6：Ｅｕで表される化合物が用いられる。Ｂａ1-xＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕx、Ｂａ1-x-yＳｒyＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕxは、その母体材料を構成するＢａ元素の一部がＥｕあるいはＳｒに置換された化合物である。ここで、Ｂａ元素に対するＥｕ元素の置換量Ｘは、上記と同様の理由により、前者の青色蛍光体は０．０３≦Ｘ≦０．２０，０．１≦Ｙ≦０．５の範囲となることが好ましい。
【００６４】
これらの蛍光体の合成方法と撥水処理については後述する。
【００６５】
蛍光体インキに調合されるバインダとしては、エチルセルローズやアクリル樹脂を用い（インキの０．１〜１０ｗｔ％を混合）、溶媒としては、α−ターピネオール、ブチルカービトールを用いることができる。なお、バインダとして、ＰＭＡやＰＶＡなどの高分子を、溶媒としてジエチレングリコール、メチルエーテルなどの有機溶媒の水を用いることもできる。
【００６６】
本実施の形態においては、蛍光体粒子には、固相焼成法，水溶液法，水熱合成法により製造されたものが用いられる。
【００６７】
▲１▼青色蛍光体
（Ｂａ1-xＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕxについて）
まず、混合液作製工程において、原料となる、硝酸バリウムＢａ（ＮＯ3）2、硝酸マグネシウムＭｇ（ＮＯ3）2、硝酸アルミニウムＡｌ（ＮＯ3）3、硝酸ユーロピウムＥｕ（ＮＯ3）2をモル比が１−Ｘ：１：１０：Ｘ（０．０３≦Ｘ≦０．２５）となるように混合し、これを水性媒体に溶解して混合液を作製する。この水性媒体にはイオン交換水、純水が不純物を含まない点で好ましいが、これらに非水溶媒（メタノール、エタノールなど）が含まれていても使用することができる。
【００６８】
次に、水和混合液を金あるいは白金などの耐食性、耐熱性を持つものからなる容器に入れて、例えばオートクレーブなどの加圧しながら加熱することができる装置を用い、高圧容器中で所定温度（１００〜３００℃）、所定圧力（０．２ＭＰａ〜１０ＭＰａ）の下で水熱合成（１２〜２０時間）を行う。
【００６９】
次に、この粉体を還元雰囲気下、例えば水素を５％、窒素を９５％含む雰囲気で、所定温度、所定時間例えば、１３５０℃で２時間焼成し、次にこれを分級することにより所望の青色蛍光体Ｂａ1-xＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕxを得ることができる。
【００７０】
水熱合成を行うことにより得られる蛍光体粒子は、形状が球状となり、かつ粒径が従来の固相反応から作製されるものとくらべて小さく（平均粒径：０．０５μｍ〜２．０μｍ程度）形成される。なお、ここでいう「球状」とは、ほとんどの蛍光粒子の軸径比（短軸径／長軸径）が、例えば０．９以上１．０以下となるように定義されるものであるが、必ずしも蛍光体粒子のすべてがこの範囲に入る必要はない。
【００７１】
次に、この青色蛍光体粉に撥水処理を行う工程であるが、先ず金属アルコキシドとして、シラン系有機珪素化合物ＣＨ3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3（珪素化合物の量は蛍光体に対して０．０１％とする）を用い、溶剤としてシクロヘキサンを用い、蛍光体、シラン系有機珪素、溶剤の３者を攪拌混合し（混合時間は０．２時間〜２．５時間）、水と溶剤を除去した後１００℃で乾燥し、この乾燥粉末を焼成する。焼成温度と時間は３５０℃〜６００℃で２０分〜２時間である。なお、焼成後蛍光体に付着するＳｉ−Ｏ膜は（シロキサン膜）は、０．００１〜０．０１μｍになるように混合液と蛍光体の量を調整する。
【００７２】
（Ｂａ1-x-yＳｒyＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕxについて）
この蛍光体は、上述したＢａ1-xＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕxと原料が異なるのみで固相反応で作製する。以下、その使用する原料について説明する。
【００７３】
原料として、水酸化バリウムＢａ（ＯＨ）2、水酸化ストロンチウムＳｒ（ＯＨ）2、水酸化マグネシウムＭｇ（ＯＨ）2、水酸化アルミニウムＡｌ（ＯＨ）3、水酸化ユーロピウムＥｕ（ＯＨ）2を必要に応じたモル比となるようにフラックスとしてＡｌＦ3とを混合し、所定の温度（１３００℃〜１４００℃）で１２〜２０時間焼成することにより、Ｂａ1-x-yＳｒyＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕxを得ることができる。この方法で得られる蛍光体粒子の平均粒径は、０．１μｍ〜３．０μｍ程度のものが得られる。
【００７４】
次に、これを還元雰囲気下、例えば水素を５％、窒素を９５％の雰囲気で所定温度で（１０００℃から１６００℃で２時間）焼成した後、空気分級機によって分級して蛍光体粉を作製する。
【００７５】
次に、この蛍光体に撥水処理を行う。撥水処理の原材料はヘキサフロロアルミニウムアセチルアセトンを用い、溶剤としてイソプロピルアルコールを用い、これらの混合溶液を作製する。次に、これを蛍光体と共にボールミルなどでよく混合し、アルコールを除去した後１００℃で乾燥し、この乾燥粉末を焼成する。焼成温度と時間は３５０℃〜６００℃で２０分〜２時間である。なお、付着するＡｌ（Ｏ・Ｆ）の量は蛍光体に対して０．００１〜０．０１重量％になるように混合液と蛍光体の比を調整する。
【００７６】
▲２▼緑色蛍光体
（Ｚｎ2-xＳｉＯ4：Ｍｎxについて）
まず、混合液作製工程において、原料である硝酸亜鉛Ｚｎ（ＮＯ3）、硝酸珪素Ｓｉ（ＮＯ3）2、硝酸マンガンＭｎ（ＮＯ3）2をモル比で２−Ｘ：１：Ｘ（０．０１≦Ｘ≦０．１０）となるように混合し、次にこの混合溶液をノズルから超音波を印加しながら１５００℃に加熱した後、噴霧して緑色蛍光体を作製する。
【００７７】
次にこの蛍光体上に撥水処理を行う。撥水処理材としては、シランカップリング剤を用いる。シランカップリング剤としては、パーフロロアルキルシランＣＦ3ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3を用い、これとイソプロピルアルコールとの混合溶液を作製する。次にこれを蛍光体と共にボールミルなどでよく混合し、イソプロピルアルコールを除去した後１００℃で乾燥し、この乾燥粉末を焼成する。焼成温度と時間は３００℃〜６００℃で２０分〜２時間である。なお、付着するＳｉ（Ｏ・Ｆ）2の量は、蛍光体に対して０．００１〜０．１重量％になるように混合液と蛍光体の比を調整する。
【００７８】
（Ｂａ1-xＡｌ12Ｏ19：Ｍｎxについて）
まず、混合液作製工程において、原料である、硝酸バリウムＢａ（ＮＯ3）2、硝酸アルミニウムＡｌ（ＮＯ3）2、硝酸マンガンＭｎ（ＮＯ3）2がモル比で１−Ｘ：１２：Ｘ（０．０１≦Ｘ≦０．１０）となるように混合し、これをイオン交換水に溶解して混合液を作製する。
【００７９】
次に、水和工程においてこの混合液に塩基性水溶液、例えばアンモニア水溶液を滴下することにより、水和物を形成させる。その後、水熱合成工程において、この水和物とイオン交換水を白金や金などの耐食性、耐熱性を持つものからなるカプセル中に入れて、例えばオートクレーブを用いて高圧容器中で所定温度、所定圧力、例えば温度１００〜３００℃、圧力０．２Ｍ〜１０ＭＰａの条件下で所定時間、例えば、２〜２０時間水熱合成を行う。その後、乾燥することにより、所望のＢａ1-xＡｌ12Ｏ19：Ｍｎxが得られる。
【００８０】
この水熱合成工程により、得られる蛍光体は粒径が０．１μ〜２．０μｍ程度となり、その形状が球状となる。次にこの粉体を空気中で８００℃〜１１００℃でアニール後分級して、緑色の蛍光体とする。
【００８１】
次にこの蛍光体上に撥水性のコーティングを行う。撥水性の材料としては、アセチルアセトンアルミニウムを用い、これをイソプロピルアルコールに溶解し、この混合液中に蛍光体を投入してボールミルなどでよく混合し、アルコールを除去後乾燥する。次に、この乾燥粉末を焼成する。焼成温度と時間は３００℃〜６００℃で２０分〜２時間である。付着するＡｌ2Ｏ3の量は、蛍光体に対して０．００１〜１．０重量％になるように混合液と蛍光体の量を調整する。
【００８２】
▲３▼赤色蛍光体
（（Ｙ，Ｇｄ）1-xＢＯ3：Ｅｕxについて）
混合液作製工程において、原料である、硝酸イットリウムＹ2（ＮＯ3）3と水硝酸ガドリミウムＧｄ2（ＮＯ3）3とホウ酸Ｈ3ＢＯ3と硝酸ユーロピウムＥｕ2（ＮＯ3）3を混合し、モル比が１−Ｘ：２：Ｘ（０．０５≦Ｘ≦０．２０）（ＹとＧｄの比は６５対３５）となるように混合し、次にこれを空気中で１２００℃〜１３５０℃で２時間熱処理した後、分級して赤色蛍光体を得る。
【００８３】
次にこの蛍光体上に撥水性のコーティングを行う。撥水性の材料としては、シラン系有機化合物（ＣＨ3）3ＳｉＮＳｉ（ＣＨ3）3を用い、これをイソプロピルアルコールに溶解し、この混合液中に水と蛍光体を投入し、ボールミルなどでよく混合し、アルコールと水を除去後乾燥する。次にこの乾燥粉末を焼成する。焼成温度と時間は、３００℃〜６００℃で２０分〜２時間である。付着するＳｉ（Ｏ・Ｎ）2の量は、蛍光体に対して０．００１〜１．０重量％になるように混合液と蛍光体の量を調整する。
【００８４】
（Ｙ2-xＯ3：Ｅｕxについて）
混合液作製工程において、原料である、硝酸イットリウムＹ2（ＮＯ3）2と硝酸ユーロピウムＥｕ（ＮＯ3）2を混合し、モル比が２−Ｘ：Ｘ（０．０５≦Ｘ≦０．３０）となるようにイオン交換水に溶解して混合液を作製する。
【００８５】
次に、水和工程において、この水溶液に対して塩基性水溶液、例えばアンモニア水溶液を添加し、水和物を形成させる。
【００８６】
その後、水熱合成工程において、この水和物とイオン交換水を白金や金などの耐食性、耐熱性を持つものからなる容器中に入れ、例えばオートクレーブを用いて高圧容器中で温度１００〜３００℃、圧力０．２Ｍ〜１０ＭＰａの条件下で３〜１２時間水熱合成を行う。その後、得られた化合物の乾燥を行うことにより、所望のＹ2-xＯ3：Ｅｕxが得られる。次にこの蛍光体を空気中で１３００℃〜１４００℃２時間アニール後分級して赤色蛍光体とする。この水熱合成工程により、得られる蛍光体は粒径が０．１μ〜２．０μｍ程度となり、かつその形状が球状となる。この粒径、形状は発光特性に優れた蛍光体層を形成するのに適している。
【００８７】
次に、この蛍光体上に撥水性のコーティングを行う。撥水性の材料としては、ヘキサメチルジシラザンを用い、これをイソプロピルアルコールに溶解し、この混合液中に蛍光体を投入しボールミルなどでよく混合し、アルコールを除去した後乾燥する。次にこの乾燥粉末を焼成する。焼成温度と時間は、３００℃〜６００℃で２０分〜２時間である。なお、蛍光体に付着するＳｉ（Ｏ・Ｎ）2の量は、蛍光体に対して０．０１〜１．０重量％になるように混合液と蛍光体の量を調整する。
【００８８】
なお、上述したＰＤＰの蛍光体層には、全ての蛍光体表面に撥水処理された蛍光体粒子を使用した。
【００８９】
以下、本発明のＰＤＰの性能を評価するために、上記実施の形態に基づくサンプルを作製し、そのサンプルについて性能評価実験を行い、実験結果を検討する。
【００９０】
作製した各ＰＤＰの表示装置は、４２インチの大きさを持ち（リブピッチ１５０μｍの井桁リブでＨＤ−ＴＶ仕様）、誘電体層の厚みは２０μｍ、ＭｇＯの保護層の厚みは０．５μｍ、表示電極と表示スキャン電極の間の距離は０．０８ｍｍとなるように作製した。また、放電空間に封入される放電ガスは、ネオンを主体にキセノンガスを５％混合した放電ガス圧で封入されている。
【００９１】
サンプル１〜８のＰＤＰの表示装置は、前面板のＭｇＯ上と、背面板の誘電体及び隔壁上と各蛍光体粒子の表面に撥水処理した蛍光体を用いた。それぞれの合成条件を表１に示す。
【００９２】
【表１】
0003838075.tif 000002
【００９３】
サンプル１〜４は本発明による実施例で、前面板のＭｇＯ上と、背面板の誘電体及び隔壁上と各蛍光体粒子の表面に撥水処理材を表１のように変化させてコーティングしたものである。
【００９４】
サンプル５〜８は比較例である。サンプル５は、前面板のＭｇＯ上の撥水処理をせず、背面板の誘電体上と隔壁上及び蛍光体粒子の表面に撥水処理を行ったサンプルである。サンプル６は、前面板，背面板すべてに撥水処理を行っていないサンプルである。サンプル７は前面板のＭｇＯ上の撥水処理及び背面板の誘電体上と隔壁上の撥水処理をせず、蛍光体粒子のみに撥水処理を行ったサンプルである。サンプル８は、背面板の誘電体，隔壁，蛍光体粒子には撥水処理をせず、前面板のＭｇＯ上のみに撥水処理を行ったサンプルである。
【００９５】
（実験１）
作製されたサンプル１〜４および比較サンプル５〜８について、パネル製造工程におけるパネル張り合せ工程（封着工程４５０℃，２０分）後のパネル内を７×１０-5Ｐａに排気するまでの時間を測定した。
【００９６】
（実験２）
パネルの放電電圧（周波数５０ｋＨｚ，電圧１８０Ｖ）でパネルの輝度が一定になるまでのエージング時間を測定した。
【００９７】
（実験３）
パネルを各色に点燈した時の輝度及び輝度劣化変化率の測定は、ＰＤＰの表示装置に電圧１８０Ｖ、周波数５０ｋＨｚの放電維持パルスを５０００時間連続して印加し、その前後におけるパネル輝度を測定し、そこから輝度劣化変化率（＜〔印加後の輝度−印加前の輝度〕／印加前の輝度＞＊１００）及びパネルの全面白表示時の色温度の変化率を求めた。パネル初期の色温度を１００００°Ｋに設定し、５０００時間後の色温度を測定した。
【００９８】
また、アドレス放電時のアドレスミスについては画像を見てちらつきがあるかないかで判断し、１ヶ所でもあればありとしている。また、パネルの輝度については白表示時の輝度と色温度を輝度計で測定した。
【００９９】
これら実験１〜３の輝度および輝度劣化変化率についての結果を表２に示す。
【０１００】
【表２】
0003838075.tif 000003
【０１０１】
表２に示すように比較サンプル５〜８において、前面板のＭｇＯ上と背面板の誘電体上と隔壁上及び蛍光体のいずれかに撥水処理を施していないサンプルでは、パネルから出るガスのため排気時間が（パネル内の気圧が７×１０-5Ｐａｓになる時間）５．５時間〜１０．５時間かかるのに対し、すべての部分を撥水処理したサンプル１〜４は、１．２時間〜１．６時間に短縮できる。
【０１０２】
また、パネルのエージング時間が、パネル内の一部に撥水処理をしていない部所があると、７時間〜１１時間かかるのに対してすべての部分を撥水処理したサンプル１〜４は、１．５時間〜２時間に短縮できる。
【０１０３】
また、パネルの輝度変化率（１８０Ｖ，５０００時間後）が、一部に撥水処理をしていない部所があると、−１０．５％〜−１９．２％と変化するのに対して、すべての部分を撥水処理したサンプル１〜４は、−４．５％〜−５．９％と大幅に低減されている。
【０１０４】
さらに、パネルの色度変化率（初期の色温度１００００°Ｋに設定後、５０００時間後の色温度の変化率）が一部に撥水処理をしていない部所があると、−９．６％〜−１５．２％変化するのに対して、すべて撥水処理したパネルは、−４．０％〜−５．５％と大幅に変化が少なくなっている。
【０１０５】
また、パネルのアドレスミスや画面のちらつきも一部の撥水処理をしていない部所があると、５０００時間後にパネルにちらつきが出るのに対して、すべて撥水処理したパネルは５０００時間後でもパネルのちらつきがない。
【０１０６】
【発明の効果】
以上のように本発明のプラズマディスプレイパネルは、パネル本体内部の放電空間部材すべてを撥水処理することによって、ＰＤＰの輝度，色度の劣化防止とパネル製造工程の工程時間の低減および信頼性の向上を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの要部を示す平面図
【図２】同じく斜視図
【図３】同パネルを用いた表示装置のブロック図
【図４】同パネルの画像表示領域の構造を示す断面図
【図５】同パネルの蛍光体層を形成する際に用いるインキ塗布装置の概略構成図
【図６】従来の交流型プラズマディスプレイパネルを示す斜視図
【符号の説明】
１００  ＰＤＰ
１０１  前面ガラス基板
１０２  背面ガラス基板
１０３  表示電極
１０４  表示スキャン電極
１０５  誘電体層
１０６  保護層
１０７  アドレス電極
１０８  誘電体層
１０９  隔壁
１１０Ｒ  蛍光体層（赤）
１１０Ｇ  蛍光体層（緑）
１１０Ｂ  蛍光体層（青）
１２２  放電空間
【図１】
0003838075.tif 000004
【図２】
0003838075.tif 000005
【図３】
0003838075.tif 000006
【図４】
0003838075.tif 000007
【図５】
0003838075.tif 000008
【図６】
0003838075.tif 000009