(57)【要約】高密度記録に対応した磁気記録再生装置に使用する磁気ヘッドにおいて、高飽和磁束密度の金属磁性膜を使用し、磁気ヘッド用封着ガラスの機械的強度を向上させることによって高信頼性の高性能磁気ヘッドおよびそれを用いた磁気記録再生装置を提供する。酸化物換算で、ＳｉＯ２を１７．２〜２５重量％、Ｂ２Ｏ３を１〜１０重量％、ＰｂＯを５８〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３とＺｎＯの少なくとも一方を０．２〜７重量％、およびＮａ２ＯとＫ２Ｏの少なくとも一方を０．２〜５重量％含む組成を有する磁気ヘッド用封着ガラスと、その封着ガラスを使用した磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置。
2002072493.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物換算で、ＳｉＯ２を１７．２〜２５重量％、Ｂ２Ｏ３を１〜１０重量％、ＰｂＯを５８〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３とＺｎＯの少なくとも一方を０．２〜７重量％、およびＮａ２ＯとＫ２Ｏの少なくとも一方を０．２〜５重量％含む組成を有する磁気ヘッド用封着ガラス。
【請求項２】
酸化物換算で、ＰｂＯを６３重量％以上含む組成を有する、請求項１に記載の磁気ヘッド用封着ガラス。
【請求項３】
酸化物換算で、Ａｌ２Ｏ３を０．５重量％以上、ＺｎＯを０．５重量％以上、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計量を４重量％以下含む組成を有する、請求項１または２に記載の磁気ヘッド用封着ガラス。
【請求項４】
少なくとも一方のギャップ対向面に金属磁性膜を形成した一対の磁気コア半体が、磁気ギャップ材を介して前記ギャップ対向面を突き合わされ、封着ガラスを用いて接合されている構造の磁気ヘッドであって、
前記封着ガラスが請求項１から３のいずれかに記載の磁気ヘッド用封着ガラスで構成される磁気ヘッド。
【請求項５】
前記金属磁性膜がＴａＭｂＸｃＡｄの合金膜で構成されている、請求項４に記載の磁気ヘッド。
（ただしＴはＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉよりなる群から選択された少なくとも１種の金属、ＭはＮｂ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｈｆ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎよりなる群から選択された少なくとも１種の金属、ＸはＢ，Ｓｉ，Ｇｅよりなる群より選択された少なくとも１種の半金属・半導体、ＡはＮまたはＣであり、ａ，ｂ，ｃ，ｄは原子％を表し、それぞれ６５≦ａ≦９３，４≦ｂ≦２０，０≦ｃ≦２０，２≦ｄ≦２０，ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００である）
【請求項６】
請求項４または５に記載の磁気ヘッドと、磁気記録再生装置本体とを備えた磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、磁気記録媒体に対する多量の磁気情報の記録・再生に適した磁気ヘッドおよびそれを用いた磁気記録再生装置に関するものであり、さらに磁気ヘッドを構成する一対の磁気コア半体を接合するための封着ガラスに関するものである。
背景技術
近年、磁気記録再生装置の小型、高容量化に伴い、高保磁力の磁気記録媒体が使用されるようになってきている。このような媒体に信号書き込みが充分にできる能力をもつ高密度磁気記録用の磁気ヘッドとして、メタルインギャップ（ＭＩＧ）ヘッドが開発されてきている。ＭＩＧヘッドは、磁気コア半体のギャップ対向面に高飽和磁束密度の金属磁性膜（例えば、Ｆｅ−Ｔａ−Ｎ、Ｆｅ−Ｔａ−Ｓｉ−Ｎ、Ｆｅ−Ｎｂ−Ｎ、Ｆｅ−Ｎｂ−Ｓｉ−Ｂ−Ｎ、Ｆｅ−Ｔａ−Ｃ、Ｃｏ−Ｔａ−Ｚｒ−ＮｂあるいはＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ−Ｎなどの磁性金属材料の薄膜、以下、金属磁性膜と略する）を被着し、磁気ギャップ材を介して突き合わせ、封着ガラスで接合した磁気ヘッドである。従来のパーマロイ（Ｆｅ−Ｎｉ系）やセンダスト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系）などの磁性体は飽和磁束密度が低いため、高性能ＭＩＧヘッドの金属磁性膜としては使用できない。
ＭＩＧヘッドの構造を図１に示す。フェライトからなる磁気コア半体１、２の磁気ギャップ対向面上に飽和磁束密度の高い金属磁性膜３、４が形成され、この磁気ギャップ対向面が、磁気ギャップ材５を介して突き合わされ、封着ガラス６、７により固定されている。
ＭＩＧヘッドは、概略、図２に示すような工程により製造される。まず、一対の磁気コア半体１、２に巻線溝８およびガラス溝９を形成する（ａ）。次いで、トラック幅を規定するトラック溝１０を形成する（ｂ）。さらに研磨した磁気ギャップ対向面上に金属磁性膜３、４（図示せず）を成膜し、その上に磁気ギャップ材５（図示せず）を成膜する。そして磁気対向面を突き合わせてフロントギャップ側およびバックギャップ側に封着ガラス６、７をそれぞれ配置し（ｃ）、熱処理により一対のコア半体が接合される（ｄ）。このように、封着ガラスをモールドして磁気コア半体を接合した磁気コアブロックを、所定の寸法に切断、研磨して磁気ヘッドチップ１１が作製される（ｅ）。この磁気ヘッドチップについて、ベース接着・巻線等の処理を行い、磁気ヘッドが完成する。
封着ガラスによる接合は、適当な熱処理によりガラスを軟化させ、冷却、固化することによって行なわれる。この際、前記の金属磁性膜等の構成材料が熱によって劣化しないようにするため、これらの耐熱温度を超えない温度で使用できる封着ガラスを選択する必要がある。ＭＩＧヘッドにおいては、６００℃以下の低温での熱処理で使用できる封着ガラスが求められている。
通常、ガラスを加熱し、軟化流動させて接合する場合は、使用する封着ガラスの作業点と呼ばれる温度で実際の熱処理が行われる。したがって、ＭＩＧヘッドにおいては、６００℃以下の作業点を有する封着ガラスを使用する。ここで、ガラスの作業点とは、ガラスの粘度が１０３Ｐａ・ｓになり、流動しやすくなる特性温度である。
ただし、一対のフェライトコアを接合し、磁気ヘッドを作製する所期の目的に適合するのであれば、磁気ヘッドの構成材料の耐熱温度を超える作業点を有する封着ガラスを使用することができる。例えば、ガラスの粘度の高い状態で圧力を加えて押し込むことによってモールドする場合には、高い作業点を有する封着ガラスも使用することができる。
以上のような理由により、ＭＩＧヘッドにおいては、対応する封着ガラスの作業点が６５０℃以下となるガラス材料が求められている。このような作業点の低いガラス材料としては、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ系やＢ２Ｏ３−ＰｂＯ−ＺｎＯ系等、鉛酸化物を主成分とする鉛ガラスが開発されている（例えば、特開平７−１６１０１１号公報）。
最近、磁気記録再生装置の高性能、高信頼性への要求が高まるにつれ、磁気ヘッドのさらなる高記録密度化、耐久性の向上が求められている。高記録密度化に対応するためには、飽和磁束密度の高い金属磁性膜を使用し、かつトラック幅をより狭くした構造の磁気ヘッドを実現する必要がある。
高密度記録に適した高飽和磁束密度の合金膜として、例えば、特開平２−２０８８１１号公報には、ＴａＭｂＸｃＮｄが提案されている。ただしＴはＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉよりなる群から選択された少なくとも１種の金属、ＭはＮｂ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｈｆ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎよりなる群から選択された少なくとも１種の金属、ＸはＢ，Ｓｉ，Ｇｅよりなる群より選択された少なくとも１種の半金属・半導体、Ｎは窒素であり、ａ，ｂ，ｃ，ｄは原子％を表し、それぞれ６５≦ａ≦９３，４≦ｂ≦２０，１≦ｃ≦２０，２≦ｄ≦２０，ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００である。
さらに、上記のＴａＭｂＸｃＮｄ以外の合金を含めたＴａＭｂＸｃＡｄ合金膜は高飽和磁束密度であり、高密度記録に適している。ただしＴはＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉよりなる群から選択された少なくとも１種の金属、ＭはＮｂ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｈｆ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎよりなる群から選択された少なくとも１種の金属、ＸはＢ，Ｓｉ，Ｇｅよりなる群より選択された少なくとも１種の半金属・半導体、ＡはＮまたはＣであり、ａ，ｂ，ｃ，ｄは原子％を表し、それぞれ６５≦ａ≦９３，４≦ｂ≦２０，０≦ｃ≦２０，２≦ｄ≦２０，ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００である。
高密度記録に対応した磁気ヘッドを完成させるためには、さらにトラック幅を狭くした構造にする必要がある。このような磁気ヘッドの強度を維持するためには、フェライトコアの接合を担う封着ガラスをより強度の高いものにする必要がある。また、磁気ヘッドの摺動面における封着ガラスの占める面積が相対的に大きくなるため、磁気記録媒体の走行時に封着ガラスが摩耗しやすくなる。よって、高性能磁気ヘッドにおける封着ガラスとしては、強度および摺動面の耐磨耗性が高いことが重要となる。
しかしながら、従来の封着ガラスは摺動面においてガラスが磨耗しやすかったり、割れや欠けが生じるなど、機械的強度において十分ではないという問題があった。例えば、特開平７−１６１０１１号公報では、ＳｉＯ２を９．９重量％、Ｂ２Ｏ３を１２．２重量％、ＰｂＯを７０．２重量％、Ａｌ２Ｏ３を１．６重量％、ＺｎＯを４．５重量％、Ｎａ２Ｏを１．３重量％含む組成からなる封着ガラスを実施例として挙げているが、これを使用して作製した磁気ヘッドは、封着ガラスが著しく摩耗したり、磁気ヘッドが割れたりした。
発明の開示
本発明は、かかる従来の問題点を解消するものであり、金属磁性膜として高飽和磁束密度の合金膜を使用し、封着ガラスを改善して機械的強度を向上させた組成とすることにより、高性能で耐久性の高い磁気ヘッドおよびそれを用いた磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明は、酸化物換算で、ＳｉＯ２を１７．２〜２５重量％、Ｂ２Ｏ３を１〜１０重量％、ＰｂＯを５８〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３とＺｎＯの少なくとも一方を０．２〜７重量％、およびＮａ２ＯとＫ２Ｏの少なくとも一方を０．２〜５重量％含む組成を有することを特徴とする磁気ヘッド用封着ガラスを提供するものである。
より好ましくは、上記の封着ガラスがＰｂＯを６３重量％以上含む組成からなることを特徴とする。
また好ましくは、上記の封着ガラスがＡｌ２Ｏ３を０．５重量％以上、ＺｎＯを０．５重量％以上含む組成からなることを特徴とする。
さらにまた好ましくは、上記の封着ガラスがＮａ２ＯとＫ２Ｏの合計量を４重量％以下含む組成からなることを特徴とする。
さらに本発明は、少なくとも一方のギャップ対向面に金属磁性膜を形成した一対の磁気コア半体を、磁気ギャップ材を介して前記ギャップ対向面を突き合わせ、封着ガラスを用いて接合した構造の磁気ヘッドであって、前記封着ガラスが上記の磁気ヘッド用封着ガラスからなることを特徴とする磁気ヘッドを提供するものである。
さらに、上記の金属磁性膜はＴａＭｂＸｃＡｄの合金膜からなり、ＴはＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉよりなる群から選択された少なくとも１種の金属、ＭはＮｂ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｈｆ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎよりなる群から選択された少なくとも１種の金属、ＸはＢ，Ｓｉ，Ｇｅよりなる群より選択された少なくとも１種の半金属・半導体、ＡはＮまたはＣであり、ａ，ｂ，ｃ，ｄは原子％を表し、それぞれ６５≦ａ≦９３，４≦ｂ≦２０，０≦ｃ≦２０，２≦ｄ≦２０，ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００であることを特徴とする。
そして、本発明の磁気記録再生装置はこれらの磁気ヘッドを備えたことを特徴とする。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明の磁気ヘッド用封着ガラス、磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置の実施の形態について説明する。
本発明の磁気ヘッド用封着ガラスは、酸化物換算で、ＳｉＯ２を１７．２〜２５重量％、Ｂ２Ｏ３を１〜１０重量％、ＰｂＯを５８〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３とＺｎＯの少なくとも一方を０．２〜７重量％、およびＮａ２ＯとＫ２Ｏの少なくとも一方を０．２〜５重量％含む組成からなることを特徴とする。
より好ましくは、上記の封着ガラスがＰｂＯを６３重量％以上含む組成からなることを特徴とする。
また好ましくは、上記の封着ガラスがＡｌ２Ｏ３を０．５重量％以上、ＺｎＯを０．５重量％以上含む組成からなることを特徴とする。
さらにまた好ましくは、上記の封着ガラスがＮａ２ＯとＫ２Ｏの合計量を４重量％以下含む組成からなることを特徴とする。
封着ガラスの各成分の限定理由は実施例において詳細に説明する。
次に本発明の磁気ヘッドは、少なくとも一方のギャップ対向面に金属磁性膜を形成した一対の磁気コア半体を、磁気ギャップ材を介して前記ギャップ対向面を突き合わせ、封着ガラスを用いて接合した構造の磁気ヘッドであって、前記封着ガラスが上記の磁気ヘッド用封着ガラスからなることを特徴とする。
ただし金属磁性膜は、ＴａＭｂＸｃＡｄの合金膜からなり、ＴはＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉよりなる群から選択された少なくとも１種の金属、ＭはＮｂ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｈｆ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎよりなる群から選択された少なくとも１種の金属、ＸはＢ，Ｓｉ，Ｇｅよりなる群より選択された少なくとも１種の半金属・半導体、ＡはＮまたはＣであり、ａ，ｂ，ｃ，ｄは原子％を表し、それぞれ６５≦ａ≦９３，４≦ｂ≦２０，０≦ｃ≦２０，２≦ｄ≦２０，ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００である。
この磁気ヘッドは、高飽和磁束密度のＴａＭｂＸｃＡｄからなる金属磁性膜と、機械的強度の高い封着ガラスとを使用しているため、高密度記録に対応した高性能で耐久性の高い磁気ヘッドである。
なお、これらの磁気ヘッドにおける、磁気コア、磁気ギャップ材等には、基本的に従来から用いられてきた材料を用いることができる。
また、磁気記録媒体との摺動のないバックギャップ側の接合には、磁気ヘッドの構造体として作製可能であれば、必ずしも本発明の封着ガラスを使用する必要はない。
次に本発明の磁気記録再生装置の一形態について説明する。
図３は磁気記録再生装置の回転ドラム装置の斜視図であり、図４は磁気記録再生装置の走行系概略図である。図３に示した磁気記録再生装置の回転ドラム装置１２は、下ドラム１３および上回転ドラム１４を有し、その外周面に磁気ヘッド１５が備えられている。図示しない磁気テープは、リード１６に沿って上回転ドラム１４の回転軸に対して傾斜して走行している。磁気ヘッド１５は、磁気テープの走行方向に対して傾斜して摺動する。また、上回転ドラム１４と磁気テープとが密着しながら安定して摺動走行するように、上回転ドラム１４の外周面には複数の溝１７が設けられている。磁気テープと上回転ドラムとの間に巻き込まれた空気はこの溝１７から排出される。
磁気記録再生装置の走行系は図４に示すように、回転ドラム装置１２、供給リール１８、巻き取りリール１９、回転ポスト２０、２１、２２、２３、２４、２５、傾斜ポスト２６、２７、キャプスタン２８、ピンチローラ２９、テンションアーム３０を備えている。回転ドラム装置１２の外周面には、記録再生用の磁気ヘッド１５が配置されている。
供給リール１８に巻かれた磁気テープ３１はピンチローラ２９とキャプスタン２８との間を通って巻き取りリール１９に巻き取られていく。この回転ドラム装置は、上回転ドラム方式であって磁気ヘッド１５は回転ドラム外周面から２０μｍ程度突き出すように２個取り付けられている。
本発明の磁気記録再生装置では、記録再生用の磁気ヘッド１５として高性能で耐久性の高い本発明の磁気ヘッドが使用されているので、デジタルＶＴＲなどの高密度磁気記録再生を信頼性良く行なうことができる。
なお、上記実施の形態では、上回転ドラム方式を例に挙げたが、上ドラム、中ドラム、下ドラムの３個のドラム構成の中回転ドラム方式でも良い。また、磁気テープを例としたが、ディスク状の媒体への応用も可能である。
以下、本発明を実施例により説明する。
（実施例１）
本発明の磁気ヘッド用封着ガラスの実施例および比較例として、（表１）〜（表８）に示す各種組成のガラスを作製し、それぞれの作業点を評価した。
ガラスは、所定の原料を調合、混合した後白金るつぼに入れ、電気炉にて１０００〜１２００℃で１時間溶融し、急冷することによって作製した。
各組成のガラスの作業点は、溶融したガラスの粘度を測定し、粘度が１０３Ｐａ・ｓとなる温度より求めた。
（表１）にＳｉＯ２の含有量を検討するために作製したガラス組成を示す。Ｎｏ．２〜４は本発明の実施例、Ｎｏ．１および５は比較例である。
（表２）にＢ２Ｏ３の含有量を検討するために作製したガラス組成を示す。Ｎｏ．７〜９は本発明の実施例、Ｎｏ．６および１０は比較例である。
（表３）にＰｂＯの含有量を検討するために作製したガラス組成を示す。Ｎｏ．１２〜１４は本発明の実施例、Ｎｏ．１１および１５は比較例である。
（表４）にＡｌ２Ｏ３とＺｎＯの少なくとも一方の含有量を検討するために作製したガラス組成を示す。Ｎｏ．１９〜２４は本発明の実施例、Ｎｏ．１６〜１８および２５〜２７は比較例である。
（表５）にＮａ２ＯとＫ２Ｏの含有量を検討するために作製したガラス組成を示す。Ｎｏ．３１〜３６は本発明の実施例、Ｎｏ．２８〜３０および３７〜３９は比較例である。
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さらに、（表６）にＰｂＯの含有量を検討するために作製したガラス組成を示す。Ｎｏ．４２〜４４は本発明の実施例、Ｎｏ．４０および４１は比較例である。
また、（表７）にＡｌ２Ｏ３とＺｎＯの含有量を検討するために作製したガラス組成を示す。Ｎｏ．４５〜５０は本発明の実施例、Ｎｏ．５１〜５５は比較例である。
さらに、（表８）にＮａ２ＯとＫ２Ｏの含有量を検討するために作製したガラス組成を示す。Ｎｏ．５６〜５８は本発明の実施例、Ｎｏ．５９〜６１は比較例である。
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（実施例２）
（表１）〜（表８）の各種組成のガラスのうち、作業点が６５０℃以下のものを封着ガラスとして使用して、図１に示した構成の磁気ヘッドを作製した。
図１は本発明の磁気ヘッドの一構成例であり、フェライトからなる磁気コア半体１、２の磁気ギャップ対向面上に飽和磁束密度の高い金属磁性膜３、４が形成され、この磁気ギャップ対向面が、磁気ギャップ材５を介して突き合わされ、封着ガラス６、７により固定されている。
封着ガラスは、溶融したガラス融液からファイバーを線引きし、直径０．５ｍｍ、長さ３０ｍｍとしたものを使用した。磁気ヘッドのコア半体を構成するフェライトとしてはＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライトを、金属磁性膜としては飽和磁束密度（Ｂｓ）が１Ｔ以上のＴａＭｂＸｃＡｄの合金膜を、磁気ギャップ材としては石英ガラスを用いた。
ただしＴはＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉよりなる群から選択された少なくとも１種の金属、ＭはＮｂ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｈｆ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎよりなる群から選択された少なくとも１種の金属、ＸはＢ，Ｓｉ，Ｇｅよりなる群より選択された少なくとも１種の半金属・半導体、ＡはＮまたはＣであり、ａ，ｂ，ｃ，ｄは原子％を表し、それぞれ６５≦ａ≦９３，４≦ｂ≦２０，０≦ｃ≦２０，２≦ｄ≦２０，ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００である。本実施例で使用した合金膜の組成は（表１）〜（表８）に示した。
作製した各々の磁気ヘッドについて、雰囲気温度２３℃、相対湿度７０％の下で、１０００時間磁気テープ走行試験を行い、摺動面の封着ガラスの初期からの磨耗量を測定した。この摩耗量は０．２μｍ以下であることが好ましい。（表１）〜（表５）に磨耗量の測定結果を示す。
（表１）より明らかに、ＳｉＯ２は１７．２重量％より少ないと耐磨耗性が低くなる。また、２５重量％より多いとガラスの作業点が６５０℃を越えるので好ましくない。
（表２）より明らかに、Ｂ２Ｏ３は１重量％より少ないとガラスの作業点が６５０℃を越える。また、１０重量％より多いと耐磨耗性が低くなるので好ましくない。
（表３）より明らかに、ＰｂＯは５８重量％より少ないとガラスの作業点が６５０℃を越える。また、７５重量％より多いと耐磨耗性が低くなるので好ましくない。
ガラスの耐磨耗性を向上させるためには、実使用上の観点から、耐水性を向上させることが望ましい。本発明のガラスは、低作業点を実現するためにＰｂＯやＮａ２ＯまたはＫ２Ｏの含有量を多くしているが、その一方で、耐水性の低いガラスであるため、これを改善する目的でＡｌ２Ｏ３もしくはＺｎＯを加える。
（表４）より明らかに、Ａｌ２Ｏ３とＺｎＯの少なくとも一方を０．２重量％以上含むことが好ましい。ただし、Ａｌ２Ｏ３とＺｎＯの合計が７重量％より多いとガラスの作業点が６５０℃を越えたり、ガラスが結晶化したりするので好ましくない。
Ｎａ２ＯとＫ２Ｏは、ＰｂＯとともにガラスの作業点を低下させる働きがある。
（表５）より明らかに、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの少なくとも一方を０．２重量％以上含むことが好ましい。ただし、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計が５重量％より多いと耐磨耗性が低くなるため好ましくない。
以上のように、作業点が６５０℃以下であり、作製したヘッドの耐磨耗性の高い封着ガラスとしては、ＳｉＯ２を１７．２〜２５重量％、Ｂ２Ｏ３を１〜１０重量％、ＰｂＯを５８〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３とＺｎＯの少なくとも一方を０．２〜７重量％、およびＮａ２ＯとＫ２Ｏの少なくとも一方を０．２〜５重量％含む組成であることが好ましい。
ただし、上記のように作業点が６５０℃以下の封着ガラスであっても、磁気ヘッドの製造工程での熱処理条件（６００℃以下）において粘度が高過ぎると、圧力を加えて押し込んでも磁気コア半体を十分に濡らさないことがあり、強固な封着ができない場合がある。
（表６）は、作製した磁気ヘッドの封着工程における歩留まりの結果を示したものである。歩留まりは、５００個の磁気ヘッドを作製し、ガラスが十分に流動せずに封着できていなかったものや、濡れが悪いために磁気ヘッドの割れが発生したものを除き、磁気ヘッドとして完成したものの割合である。ＰｂＯは、ガラスの粘度を低減させ、流動性を向上させる効果を有するため、フェライトコアのガラスによる濡れを改善し、歩留まりを向上させることができる。（表６）より明らかに、９０％以上の高歩留まりで磁気コア半体の封着を完成させるためには、ＰｂＯを６３重量％以上含むことがより好ましい。
さらに、高温、高湿条件で磁気テープを走行させると、磁気テープに含まれる材料とガラス成分とが反応することにより、磁気ヘッドの摺動面においてガラスが変色したり、侵食されたりすることがある。これらが原因でガラスの機械的強度が低下する恐れがあるため、ガラスの変色や侵食のないことがより好ましい。（表７）〜（表８）は、それぞれの磁気ヘッドを雰囲気温度４０℃、相対湿度８０％の下で、１５０時間磁気テープ走行試験を行なった結果を示したもので、変化が見られなかった場合を○、ガラスの変色や侵食が見られた場合を×として示した。
Ａｌ２Ｏ３とＺｎＯは、ガラスの化学的耐久性を向上させるので、磁気テープ材料とガラスの反応を低減させることができる。この効果を得るためには、Ａｌ２Ｏ３とＺｎＯの両方を含むことが好ましい。（表７）より明らかに、封着ガラスがＡｌ２Ｏ３を０．５重量％以上、ＺｎＯを０．５重量％以上含むことがより好ましい。
Ｎａ２ＯやＫ２Ｏの含有量が多いと、ガラスの化学的耐久性が低下するので、ガラスが侵食されやすくなる。これを低減するためには、（表８）より明らかに、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計量を４重量％以下とすることがより好ましい。
産業上の利用可能性
以上のように、本発明の磁気ヘッド用封着ガラスは機械的強度が高いため、これを使用した磁気ヘッドは耐久性に優れ、信頼性が高く、高密度磁気記録に対応したヘッドである。
また、本発明の磁気記録再生装置はこの磁気ヘッドを備えているので、磁気記録媒体に対する多量の磁気情報の記録・再生を信頼性良く行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
図１は、本発明の一実施の形態における磁気ヘッドの斜視図である。
図２は、（ａ）〜（ｅ）は磁気ヘッドの製造工程を示す説明図である。
図３は、本発明の一実施の形態における磁気記録再生装置の回転ドラム装置の斜視図である。
図４は、本発明の一実施の形態における磁気記録再生装置の走行系の概略図である。
（符号の説明）
１，２  磁気コア半体
３，４  金属磁性膜
５  磁気ギャップ材
６，７  封着ガラス
８  巻線溝
９  ガラス溝
１０  トラック溝
１１  磁気ヘッドチップ
１２  回転ドラム装置
１３  下ドラム
１４  上回転ドラム
１５  磁気ヘッド
１６  リード
１７  溝
１８  供給リール
１９  巻き取りリール
２０，２１，２２，２３，２４，２５  回転ポスト
２６，２７  傾斜ポスト
２８  キャプスタン
２９  ピンチローラ
３０  テンションアーム
３１  磁気テープ
【図１】
2002072493.tif 000011
【図２（ａ）】
2002072493.tif 000012
【図２（ｂ）】
2002072493.tif 000013
【図２（ｃ）】
2002072493.tif 000014
【図２（ｄ）】
2002072493.tif 000015
【図２（ｅ）】
2002072493.tif 000016
【図３】
2002072493.tif 000017
【図４】
2002072493.tif 000018
【国際調査報告】
2002072493.tif 000019
2002072493.tif 000020
2002072493.tif 000021
2002072493.tif 000022