(57)【要約】プリグルーブとプレピットを有する透明な支持基板の上に、直接または他の層を介してレーザー光を吸収する有機色素を含有してなる記録層と、金属反射層を有する光記録媒体において、λ１／ＮＡで表される記録レーザービームの径をｒ（ここでλ１は記録波長［μｍ］，ＮＡは対物レンズの開口数を表す）、プリグルーブの半値幅をｗｇ［μｍ］、基板半径方向の断面傾斜角をθｇｒ、プレピットの基板半径方向の半値幅をｗｐ［μｍ］、基板半径方向の断面傾斜角をθｐｒ、タンジェンシャル方向の断面傾斜角をθｐｔとしたとき、前記有機色素の再生波長λ２での屈折率ｎｋが２．２以上であり、基板上のプリグルーブとプレピットの深さが再生波長：λ２に対してλ２／４以上あり、且つ、下記の関係2002037486.tif 000009を満たしていることを特徴とする追記型光記録媒体。
2002037486.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリグルーブとプレピットを有する透明な支持基板の上に、直接または他の層を介してレーザー光を吸収する有機色素を含有してなる記録層と、金属反射層を有する光記録媒体において、λ１／ＮＡで表される記録レーザービームの径をｒ（ここでλ１は記録波長［μｍ］，ＮＡは対物レンズの開口数を表す）、プリグルーブの半値幅をｗｇ［μｍ］、基板半径方向の断面傾斜角をθｇｒ、プレピットの基板半径方向の半値幅をｗｐ［μｍ］、基板半径方向の断面傾斜角をθｐｒ、タンジェンシャル方向の断面傾斜角をθｐｔとしたとき、前記有機色素の再生波長λ２での屈折率ｎｋが２．２以上であり、基板上のプリグルーブとプレピットの深さが再生波長：λ２に対してλ２／４以上あり、且つ、下記の関係
０．２５ｒ　≦　ｗｇ　≦　０．３８ｒ
０．２５　≦　ｗｐ／ｗｇ　≦　０．７５
θｇｒ　≦　θｐｒ
θｐｒ　≦　θｐｔ
を満たしていることを特徴とする追記型光記録媒体。
【請求項２】
前記基板上に形成されたプリグルーブとプレピットがさらにθｇｒ＜θｐｔなる関係を満たしていることを特徴とする請求項１に記載の追記型光記録媒体。
【請求項３】
プリグルーブとプレピットが同一の深さを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の追記型光記録媒体。
【請求項４】
有機色素を含有した記録層が当該プレピット、またはプリグルーブ上に５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲の膜厚に形成されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の追記型光記録媒体。
【請求項５】
上記記録層に含まれる色素が、ピロールユニットを少なくとも１個以上含む有機色素、もしくはその金属錯体であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の追記型光記録媒体。
【請求項６】
上記記録層に含まれる色素が、式（１）で示されるピロメテン金属錯体化合物であることを特徴とする請求項５記載の追記型光記録媒体。
2002037486.tif 000008
（式中、Ｒ１〜Ｒ１３は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の置換又は無置換のアルキル基、炭素数１〜１２の置換又は無置換のアルコキシ基、炭素数６〜２０の置換又は無置換のアリール基を示す。Ｍは中心金属を示す。）
【請求項７】
λ１が０．６３μｍ〜０．６６μｍ，ＮＡが０．６０±０．１である請求項１乃至６の何れか１項記載の追記型光記録媒体。
【請求項８】
透明な基板上に記録層、反射層、直接または他の層を介して接着層、直接または他の層を介して他の基板を貼り合わせてなる構造を有することを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項記載の追記型光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、レーザー光による情報の記録及び再生が可能な光記録媒体であって、特にＣＤよりも高密度で記録できる追記型記録媒体であり、予め基板上にプレピット部及びプリグルーブ部からなるハイブリッド型の高密度光記録媒体に関する。
背景技術
光で記録を行うディスク媒体のうち、記録が１度だけ可能な追記型コンパクトディスクはＣＤＲと呼ばれ、通常の再生専用ＣＤ−ＲＯＭと互換性を持つことから多くの人に利用されている。また、ＣＤよりも高い記録密度を有するデジタルパーサタイルディスク（ＤＶＤ）でも記録可能な媒体の開発が進められており、その中で追記型のＤＶＤＲがＤＶＤ−ＲＯＭとの互換性の高さから普及が期待される。これら追記型媒体は、記録層に有機色素を用いており、レーザー光の照射を受けた色素が局部的に加熱され、分解・変形・気化・溶融固化等の化学的ないし物理的変化を起こすことでピットを形成し情報の記録を可能としている。
ところで、上記のＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭなどの再生専用領域（ＲＯＭ領域）と上記ＣＤＲ，ＤＶＤＲなどの記録または追記可能な領域（Ｒ領域）とを同一ディスク内に組み合わせた光記録媒体も提案されてきており、今後この仕様が非常に重要となる。このようなディスクはハイブリッドディスクと称され、ＲＯＭ領域には基板上にプレピットが、Ｒ領域にはプリグルーブが形成されているのが特徴である。
昨今、特に民生分野においてはＣＤからＤＶＤへの展開が着実に進行しており、その過程で音楽・映像・動画ソフトに対する著作権保護の重要性が強調され出している。かかる中、特に同一フォーマットで記録が可能となるＤＶＤＲ媒体には徹底して複製防止が余儀なくされ出しており、このため、ディスク上のデータ管理領域に予め複製防止のための管理データをＲＯＭ領域として持たせることが規格化されつつある。即ち、今後、民生市場に出回る全てのＤＶＤＲはハイブリッド型での提供が義務づけられ、このため早急に、簡易で且つ安定なハイブリッド型ＤＶＤＲの提案が求められている。
従来、有機色素を記録膜としたハイブリッドディスクはＣＤＲでは規格化されているもののＲ領域に比べＲＯＭ領域の信号振幅（記録変調度）の獲得が困難であり十分な特性が得られていない。これは、Ｒ領域のプリグルーブ上だけでなくＲＯＭ領域のプレピット上にも色素を含有する記録層が設けられるため、市販のＣＤと同一のプレピット形状では十分な変調度が獲得できないためである。
このため、特開平４−１４６５３７号公報や特開平９−１２０５８６号公報などには、プレピット部とプリグルーブ部の深さを変えることにより光路長差の制御を施し良好な信号バランスを獲得しえるとの開示がある。しかるに、これは通常２ビームのスタンパーカッテイングを要し製造が難しくなること、及び、浅めに設計されるグルーブ形状がＶ型となるための記録信号品位の低下が懸念される。
また、記録層の成膜位置を制御し、Ｒ領域のみに記録層をつけＲＯＭ領域は直接反射層を形成するような方策も提案されてきているが、ＲからＲＯＭ領域、ＲＯＭからＲ領域への境界制御が困難であり、特にＣＤ，ＤＶＤプレーヤーでの再生互換を考慮するに現実的な解とはなりえなかった。
また通常のＲ領域のみ有する記録型ディスクの所定の領域に、事前にライターで記録を施しプレピットを作製し、少量配布に供する暫定的な処方が殆どである。必然、これでは量産対応とはならなかった。
かかる中、ハイブリッドディスクにおけるＲＯＭ領域は、スタンパー原盤からプレピット情報を射出成形等により形成してやることが望ましい。
発明の開示
そこで、本発明の目的は、プレピットが形成されたＲＯＭ領域と、プリグルーブが形成されたＲ領域とからなる基板上に、少なくとも色素を含有する記録層、反射層がこの順に設けられているハイブリッドディスクにおいて、ＲＯＭ領域及びＲ領域ともにＤＶＤ規格を共に満足するような良好な記録再生特性を有する光記録媒体を提供することにある。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、ビームスポットサイズよりも小さな高密度記録ピットの形成が必要なＤＶＤＲ媒体では、深さがλ２／４以上であれば、プレピット及びプリグルーブが同一の深さであってもよく、当該プレピット及びプリグルーブの半値幅の制御と傾斜角度、特にプレピットではタンジェンシャル方向の傾斜角度をつけることにより良好にＲＯＭ領域からの信号獲得が可能となることを見出した。更に、記録膜に用いる色素材料の屈折率を規定することで、より良好な特性が達成されることを見出し本発明の完成に至ったものである。
即ち、本発明は、
１．　　プリグルーブとプレピットを有する透明な支持基板の上に、直接または他の層を介してレーザー光を吸収する有機色素を含有してなる記録層と、金属反射層を有する光記録媒体において、λ１／ＮＡで表される記録レーザービームの径をｒ（ここでλ１は記録波長［μｍ］，ＮＡは対物レンズの開口数を表す）、プリグルーブの半値幅をｗｇ［μｍ］、基板半径方向の断面傾斜角をθｇｒ、プレピットの基板半径方向の半値幅をｗｐ［μｍ］、基板半径方向の断面傾斜角をθｐｒ、タンジェンシャル方向の断面傾斜角をθｐｔとしたとき、前記有機色素の再生波長λ２での屈折率ｎｋが２．２以上であり、基板上のプリグルーブとプレピットの深さが再生波長：λ２に対してλ２／４以上あり、且つ、下記の関係　０．２５ｒ　≦　ｗｇ　≦　０．３８ｒ
０．２５　≦　ｗｐ／ｗｇ　≦　０．７５
θｇｒ　≦　θｐｒ
θｐｒ　≦　θｐｔ
を満たしていることを特徴とする追記型光記録媒体。
２．　　前記基板上に形成されたプリグルーブとプレピットがさらにθｇｒ＜θｐｔなる関係を満たしていることを特徴とする１．に記載の追記型光記録媒体。
３．　　プリグルーブとプレピットが同一の深さを有することを特徴とする１．または２．に記載の追記型光記録媒体。
４．　　有機色素を含有した記録層が当該プレピット、またはプリグルーブ上に５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲の膜厚に形成されていることを特徴とする１．〜３．の何れかに記載の追記型光記録媒体。
５．　　上記記録層に含まれる色素が、ピロールユニットを少なくとも１個以上含む有機色素、もしくはその金属錯体であることを特徴とする１．〜４．の何れかに記載の光記録媒体。
６．　　上記記録層に含まれる色素が、式（１）で示されるピロメテン金属錯体化合物であることを特徴とする５．記載の光記録媒体。
2002037486.tif 000003
（式中、Ｒ１〜Ｒ１３は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の置換又は無置換のアルキル基、炭索数１〜１２の置換又は無置換のアルコキシ基、炭素数６〜２０の置換又は無置換のアリール基を示す。Ｍは中心金属を示す。）
７．　　λ１が０．６３μｍ〜０．６６μｍ，ＮＡが０．６０±０．１である１．乃至６．の何れかに記載の光記録媒体。
８．　　透明な基板上に記録層、反射層、直接または他の層を介して接着層、直接または他の層を介して他の基板を貼り合わせてなる構造を有することを特徴とする１．〜７．の何れかに記載の光記録媒体。
である。
発明を実施するための最良の形態
本発明の光記録媒体は、例えば、プレピットよりなるＲＯＭ領域と、前記プレピットと同一の深さを有するプリグルーブよりなるＲ領域とが設けられた基板上に、色素を含有する記録層、反射層、保護層がこの順に形成された構造を有しており、更に、この保護層の上には接着材を介してダミー基板を貼り合わせた構造をとっている。そして、ＲＯＭ領域のプレピット及びＲ領域のプリグルーブは特定の形状を有するものである。
図１を参照してＲＯＭ領域のプレピット及びＲ領域のプリグルーブの形状について説明する。
まず、基板１に形成されたＲ領域のプリグルーブ２、ＲＯＭ領域のプレピット３ともに深さ：ｄは、再生波長：λ２に対してλ２／４以上でλ２／３以下をとるのが好ましい。例えばＤＶＤＲの再生波長は６５０ｎｍであるから１６２．５ｎｍ以上２１６．７ｎｍ以下の範囲の中で双方の深さを形成してやるのが望ましい。この深さを下回るとＲＯＭ領域のプレピット信号振幅が形状如何に関わらず獲得しづらくなるし、この深さ以上となると基板成形が極めて困難となり現実的でなくなる。
次に、図１（ａ）に示すＲ領域でのプリグルーブ２の半値幅：ｗｇ（プリグルーブの深さの１／２の深さにおけるプリグルーブの幅）は、λ１／ＮＡで規定されるビームスポットサイズ：ｒとの比においてｗｇ／ｒ＝０．２５〜０．３８の範囲から記録層に含有される有機色素の種類、成膜方法に応じて最適化される。例えば、ＤＶＤＲの再生波長：λ１を６５０ｎｍ（０．６５μｍ）、対物レンズの開口数：ＮＡを０．６５とすると、ビームスポットサイズ：ｒは約１μｍとなることから、プリグルーブ２の半値幅：ｗｇは０．２５〜０．３８μｍの範囲となる。このとき記録層の当該プリグルーグへの追従形状、即ち反射層界面の形状（深さ、幅）の制御も同様に重要である。ここで、このプレグルーブ半値幅が０．２５を下回るとかえってランド部を介した信号の漏れ込み（クロストーク）が大きくなり信号品位（例えばジッター値）を悪化させる傾向にある。逆に、０．３８を超えると、基板成形時の転写性が著しく悪くなるといった問題が生じ好ましくない場合がある。
一方、図１（ｂ）に示すＲＯＭ領域のプレピットの半値幅：ｗｐ（プレピットの深さの１／２の深さにおけるプレピットの幅）は、前述のプリグルーブに対してｗｐ／ｗｇが０．２５〜０．７５の範囲で狭めに設定することで特に細密ピットの信号変調度が獲得しやすくなり、Ｒ領域の信号とバランスが取れ易くなる。ここで、０．２５よりも小さい場合はＲＯＭ領域でのトラッキング出力が極端に減少する。また、０．７５よりも大きな場合にはＲＯＭ領域の信号変調度の獲得が不十分となる。プレピットの半値幅：ｗｐとしては、上記例示したプリグルーブの半値幅：ｗｇを参照すれば、０．０６２５〜０．２８５μｍの範囲となるが、上記深さと、下記の傾斜角度を両立するよう、適宜選択すればよい。
更に本発明では、上記プレピットの断面形状を規定する。特に半径方向のピット断面傾斜角度：θｐｒとトラック接線方向（タンジェンシャル方向）のピット断面傾斜角度：θｐｔ（図１（ｃ））に対し、Ｒ領域と信号振幅のバランスを調整するためにプリグルーブの傾斜角度：θｇｒとθｐｒとに差をつけた基板を準備した結果、θｐｒ≧θｇｒでＲＯＭ領域の変調度が獲得し易くなる。更に、プレピット部のタンジェンシャル方向の傾斜角度に対してもθｐｔ≧θｐｒとすることでよりＲＯＭ領域の信号品位が改善される。また、プレピットとプリグルーブを同じ深さにすることができる。
ここで、プリグルーブ２の断面傾斜角度：θｇｒとしては、好ましくは４５〜６５°、より好ましくは、５５〜６５°の範囲であることが望ましい。又、プレピット３の基板半径方向の断面傾斜：θｐｒとしては好ましくは５５〜７５°、より好ましくは、６５〜７５°の範囲から上記のθｇｒ≦θｐｒなる関係を満たす様に形成されるのが望ましい。プレピット３のタンジェンシャル方向の断面傾斜角度：θｐｔとしては好ましくは６０〜８０°、より好ましくは、６５〜８０°の範囲から上記のθｐｒ≦θｐｔなる関係を満たす様に形成されるのが望ましい。
上記のプリグルーブ及びプレピット形状（幅、深さ、角度）の制御は、スタンパー原盤作製時、フォトレジスト膜の厚さ方向全部に照射されるような強いレーザーパワーの露光時に照射レーザーカッティングビームの形状と照射強度により制御できる。またある程度、成形条件によっても角度、幅は調整できる。
これらプリグルーブおよびプレピットは、それぞれ個別に最適化された振幅でウォブリングしていてもよく、更に、ウォブリングされたプリグルーブ間（ランド）に別途アドレス情報用のランドプレピットが設けられてもよい。
これらプリグルーブ、プレピットの形状は、ＳＴＭ，ＡＦＭ或いは、凍結破断面のＳＥＭ観察などにより測定できる。
本発明の基板の材質としては、記録及び再生光の波長：λ２で透明で、光学異方性の小さいものであればよい。例えば、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリオレフィン、エポキシ樹脂などの高分子材料、ガラスなどの無機材料等を用いることができる。特に光の透過性や耐熱性のバランスに優れ、成形の容易なポリカーボネート系樹脂が好ましい。また、環骨格を有するポリオレフィンも光学的異方性が小さく吸湿性が低いといった観点から同様に望ましい。
本発明で用いられる記録層としては、再生波長：λ２において２．２以上の屈折率ｎｋを有し、プレピット、プリグルーブ上の膜厚が５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲で形成されることが、Ｒ領域での記録特性を良好に保持したまま、ＲＯＭ領域からの再生出力を十分確保する上で望ましい。ここで屈折率が２．２未満では、ＲＯＭ領域の信号振幅が獲得し辛くなる傾向がある。
また記録層の膜厚もこの範囲を外すと、記録品位が大幅に劣化した。
ここで用いられる色素の具体例としては、大環状アザアヌレン系色素（フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、メソ位の窒素数が１〜４個のアザポルフィリン色素など）、ポルフィリン系色素、アゾ系色素、インドアニリン色素、アズレニウム色素、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素（シアニン系、メロシアニン系、スクワリリウム色素）などがある。このうち良好な耐久性と高密度記録を施した際の良好な記録特性をもつものとしては、少なくとも１個以上のピロールユニットを含む金属錯体系色素が好ましかった。特に、高い屈折率を有した色素として化学式（１）に示すピロメテン金属錯体色素が良好である。
2002037486.tif 000004
（式中、Ｒ１〜Ｒ１３は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の置換又は無置換のアルキル基、炭素数１〜１２の置換又は無置換のアルコキシ基、炭素数６〜２０の置換又は無置換のアリール基を示す。Ｍは中心金属を示す。）
Ｒ１〜Ｒ１３で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子が挙げられる。炭素数１〜１２の置換又は無置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｃｙｃｌｏ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、３−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１−エチルブチル基、１，２，２−トリメチルブチル基、１，１，２−トリメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、ｃｙｃｌｏ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２，４−ジメチルペンチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、２，５−ジメチルヘキシル基、２，５，５−トリメチルペンチル基、２，４−ジメチルヘキシル基、２，２，４−トリメチルペンチル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、４−エチルオクチル基、４−エチル−４，５−ジメチルヘキシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、メチル−４−ブチルオクチル基、３，５−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチルヘプチル基、２，４−ジメチルヘプチル基、２，２，５，５−テトラメチルヘキシル基、１−ｃｙｃｌｏ−ペンチル−２，２−ジメチルプロピル基、１−ｃｙｃｌｏ−ヘキシル−２，２−ジメチルプロピル基等の炭素数１〜１２の置換または無置換のアルキル基が挙げられる。炭素数６〜２０の置換又は無置換のアリール基としては、フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、トリエチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、ジ（ｎ−プロピル）フェニル基、トリ（ｎ−プロピル）フェニル基、ｉｓｏ−プロピルフェニル基、ジ（ｉｓｏ−プロピル）フェニル基、トリ（ｉｓｏ−プロピル）フェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ジ（ｎ−ブチル）フェニル基、トリ（ｎ−ブチル）フェニル基、ｉｓｏ−ブチルフェニル基、ジ（ｉｓｏ−ブチル）フェニル基、トリ（ｉｓｏ−ブチル）フェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ジ（ｓｅｃ−ブチル）フェニル基、トリ（ｓｅｃ−ブチル）フェニル基、ｔ−ブチルフェニル基、ジ（ｔ−ブチル）フェニル基、トリ（ｔ−ブチル）フェニル基、ジメチル−ｔ−ブチルフェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル基、フルオロナフチル基、クロロナフチル基、ブロモナフチル基、ヨードナフチル基、メトキシナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノナフチル基等の炭素数６〜２０の置換または無置換のアリール基が挙げられる。
又、中心金属Ｍは、ジピロメテン化合物と錯体を形成する能力を有する金属であれば特に限定されないが、安定性、光学特性からはＮｉ，Ｃｏ，Ｃｕ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｐｄなどの遷移金属から選択されるのが好ましい。
むろん、記録特性や耐久性の改善を意図し上記に掲げたこれらの色素は混合して用いても良いし、更に上記以外の色素との混合物としてもよい。更に、記録層は単層でなく２層以上積層してもよい。
前記色素を含有する記録層は、通常スピンコート、スプレーコート、ロールコート等の塗布方法で成膜することが可能である。塗布に関しては、基板にダメージを与えない溶剤に溶かした色素溶液を準備しコーティングし乾燥して形成させる。用いる溶剤としてはヘキサン、ヘプタン、オクタン、メチルシクロヘキサンなどの脂肪族または脂環式炭化水素系、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系、ジブチルエーテル、イソプロピルエーテルなどのエーテル類、エタノール、テトラフルオロプロパノール、メチルセロソルブなどのアルコール類、クロロホルム、ジクロルメタンなどのハロゲン系溶剤を適切に選択して用いる。これらの溶剤は単独で用いても良いし混合しても良い。
また２層以上積層する場合は、先に塗布した層を侵さない例えば極性の異なる溶媒を選択することが望ましい。
記録層を形成する方法として、真空蒸着法を用いても良い。この方法は記録層物質が溶剤に溶けにくい場合や基板ダメージを与えない溶剤が選択できない場合に有効である。また概して均一な膜厚コントロールが可能となるため好ましい。
上記の記録層上には、Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｃｕなどの金属やその合金を用いた反射層を設ける。特に酸素や水分に安定なＡｕが好ましい。反射層は蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング法等によって成膜される。反射層の膜厚は、１０ｎｍ〜２００ｎｍ、好ましくは５０ｎｍ〜１５０ｎｍである。この金属反射層と記録層との間には層間に密着力を向上させるため、また反射率を上げるための目的で中間層を設けても良い。
上記反射層上には保護層を設けても良い。例えばアクリレート系やメタクリレート系の一般的なラジカル反応で重合するもの、エポキシ系のように光でカチオン重合を行うもの等の高分子材料がある。これらの樹脂は単独で重合させても良いし他のモノマー、オリゴマーとを共重合させても良い。中でもＵＶ硬化型が望ましい。保護層の形成はスピンコート、スクリーン印刷、バーコート法などの方法で行われるが、作業面からスピンコート法がとられる場合が多い。これらの膜厚は１μｍ〜１００μｍの範囲で使われるが、１〜２０μｍが望ましい。
以下、本発明の実施例を示す。なお、本発明の実施形態はこれにより限定されるものでない。
実施例１〜８，比較例１〜８
厚さ０．６ｍｍ、直径１２０ｍｍφのピッチ０．７４μｍのスパイラルグルーブと、そのプリグルーブの延長線上のリードイン領域の一部にプレピットを有する射出成形ポリカーボネート基板に下記式（Ａ）〜（Ｃ）の何れかのピロメテン系色素；２０ｇ／ｌのエチルシクロヘキサン溶液からスピンコート法で色素層を形成し、この上にＡｕ反射層１００ｎｍをスパッタ成膜し、更にＵＶ硬化樹脂：ＳＤ−１７（大日本インキ製）を塗布し、ＵＶ硬化させた後、この上に前記と同様に０．６ｍｍ厚のポリカーボネート基板を重ね、ＪＳＲ製Ｚ８４１２ラジカル接着剤で貼り合わせ、光記録媒体を作製した。
この光記録媒体をパルステック工業製ディスクテスター「ＤＤＵ−１０００」（波長＝６５８ｎｍ、ＮＡ＝０．６０）にて、プレピット部位のＤＶＤ規格による信号変調度（Ｉ１４／Ｉ１４Ｈ）と、プリグルーブ部位にＥＦＭ信号を記録し、その際の変調度（Ｉ１４／Ｉ１４Ｈ）と記録部のジッター（クロック　ｔｏ　ピットジッター）も評価した。
実施例及び比較例で検討した、色素、基板プレピット、プリグルーブ形状及び信号評価結果を表１に示す。ここで、基板グルーブ形状、プレピット形状はＡＦＭ及びＳＥＭ（断面形状）観測をベースに測定した。
2002037486.tif 000005
2002037486.tif 000006
2002037486.tif 000007
産業上の利用可能性
本発明によれば、Ｒ領域のプリグルーブとＲＯＭ領域のプレピットとを本発明で規定する形状に形成することで、Ｒ領域及びＲＯＭ領域共にＤＶＤ規格を共に満足し、良好な記録再生特性を有する光記録媒体のプレピットとプリグルーブとを一括してスタンパー原盤から射出成形等により形成できることから、量産化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
図１（ａ）はＲ領域のプリグルーブの半径方向における断面形状、図１（ｂ）はＲＯＭ領域におけるプレピットの半径方向における断面形状、図１（ｃ）は同プレピットのタンジェンシャル方向における断面形状を説明する概略図である。
符号の説明
１　基板
２　プリグルーブ
３　プレピット
ｄ　深さ
ｗｇ　プリグルーブの半値幅
θｇｒ　プリグルーブの半径方向断面傾斜角
ｗｐ　プレピットの半値幅
θｐｒ　プレピットの半径方向断面傾斜角
θｐｔ　プレピットのタンジェンシャル方向断面傾斜角
【図１】
2002037486.tif 000010
【国際調査報告】
2002037486.tif 000011
2002037486.tif 000012
2002037486.tif 000013