(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効な面積を持つ複数の光源が離散的に２次元配列された光源部と、
該光源からの光束により描画面上にドットを形成する投影光学系と、
描画期間中に前記光源部と前記描画面とを第１の方向に沿って相対的に直線移動させて前記描画面上に帯状の描画領域を形成する第１の移動手段と、
非描画期間中に前記光源部と前記描画面とを前記第１の方向に対して垂直な第２の方向に沿って相対的に移動させることにより、第１の移動手段による描画領域を切り換える第２の移動手段と、
前記光源部の光源を前記第１の方向と平行な境界線により複数のグループに分類し、描画に使用される光源と使用されない光源とを前記グループ単位で選択することにより描画領域の幅を設定すると共に、描画に使用されないグループの光源を点灯させず、入力される描画データに基づいて描画に使用されるグループの光源の発光、非発光を制御する描画制御手段と、
前記描画領域の幅に応じて前記第２の移動手段による描画領域の切り換え時の移動量を変更する移動量変更手段とを備え、
前記描画制御手段が、前記光源において、両方の外側にそれぞれ位置する１つ若しくは複数のグループを描画に使用しないグループとして選択することにより、前記投影光学系の外側の収差の影響が大きい領域を利用する光を用いずに描画を行うことを特徴とするマルチビーム記録装置。
【請求項２】
前記描画制御手段は、前記光源のグループの両側のそれぞれ等しい数のグループを描画に使用しないグループとして選択することを特徴とする請求項１に記載のマルチビーム記録装置。
【請求項３】
前記描画制御手段は、入力される描画データに基づいてビットマップを形成する演算処理回路と、単一の前記描画領域に対応する前記光源の全数についての制御データを記憶する画像メモリと、描画に使用されるグループの光源の制御データとして前記ビットマップの描画データを前記画像メモリに書き込むと共に、描画に使用されないグループの光源の制御データとして非発光のデータを前記画像メモリに書き込むデータ書き込み回路と、前記メモリに書き込まれたデータに基づいて前記光源部を駆動する光源駆動回路とを備えることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のマルチビーム記録装置。
【請求項４】
前記データ書き込み回路は、１つの前記描画領域に含まれる制御データを前記光源のグループ単位で記憶する２つのバッファを備え、前記ビットマップの描画データおよび前記非発光のデータの書き込みと該データの前記画像メモリへの吐き出しとを前記２つのバッファで交互に実行することを特徴とする請求項３に記載のマルチビーム記録装置。
【請求項５】
前記グループに含まれる光源の数は、該グループ内の光源の制御に必要な描画データの大きさに応じて変更されることを特徴とする請求項２または請求項３に記載のマルチビーム記録装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
この発明は、二次元に配列した複数の光源を有する光源部からの光束を投影レンズにより描画面上に投影すると共に、この光源像と描画面とを相対的に走査させることにより画像を描画するマルチビーム記録装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
特開平６−１８６４９０号公報には、二次元行列として配列された半導体レーザーと対応するアパーチャーとを備える光源部を有し、このアパーチャーの像を投影光学系により描画面上にドットとして形成するマルチビーム記録装置が開示されている。この装置は、描画面とアパーチャー像とを相対的に走査させつつ半導体レーザーを制御して、走査方向に対して直交する方向に離散的に配列した各行のアパーチャー像を所定ピッチづつずらしながら複数行分重ねることにより、描画面上に二次元の画像を形成する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この種のマルチビーム記録装置は、アパーチャーのパターンを描画面上に縮小投影するために大口径の投影レンズを用いているため、レンズの周辺部での収差の発生量が比較的大きくなり、光軸から離れた周辺部のアパーチャーについては、描画面上に投影されたアパーチャーの像(ドット)の形状が歪み、あるいは、ドットの位置が予定位置からずれる。このようなアパーチャー像の歪みやズレは、形成される画像の解像度が低い場合には問題とならないが、解像度が高い場合には精密な描画を妨げるため、問題となる。
【０００４】
この発明は、上記の従来技術の課題に鑑み、収差のある投影レンズを使用する場合にも精密な描画が可能なマルチビーム記録装置の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
この発明にかかるマルチビーム記録装置は、上記の目的を達成させるため、二次元に配列した複数の光源のうち描画に使用する光源を選択することにより走査の幅を変更可能としたことを特徴とする。このような構成によれば、解像度が低い場合には全部の光源を用いて一走査で広範囲にパターンを形成できると共に、解像度が高い場合には投影光学系の光軸から離れた周辺の光源を使用せずに、収差の影響が小さい中心部の光源のみを用いて描画することにより、精度の高いパターンを形成することができる。
【０００６】
すなわち、この発明にかかるマルチビーム記録装置は、有効な面積を持つ複数の光源が離散的に２次元配列された光源部と、光源から発する光束により描画面上にドットを形成する投影光学系と、描画期間中に光源部と描画面とを第１の方向に沿って相対的に直線移動させることにより描画面上に帯状の描画領域を形成する第１の移動手段と、非描画期間中に光源部と描画面とを第１の方向に対して垂直な第２の方向に沿って相対的に移動させることにより、第１の移動手段による描画領域を切り換える第２の移動手段と、光源部の光源を第１の方向と平行な境界線により複数のグループに分類し、描画に使用される光源と使用されない光源とをグループ単位で選択することにより描画領域の幅を設定すると共に、描画に使用されないグループの光源を点灯させず、入力される描画データに基づいて描画に使用されるグループの光源の発光、非発光を制御する描画制御手段と、描画領域の幅に応じて第２の移動手段による描画領域の切り換え時の移動量を変更する移動量変更手段とを備え、描画制御手段が、光源において、両方の外側にそれぞれ位置する１つ若しくは複数のグループを描画に使用しないグループとして選択することにより、投影光学系の外側の収差の影響が大きい領域を利用する光を用いずに描画を行うことを特徴とする。
【０００７】
また、描画制御手段は、入力される描画データに基づいてビットマップを形成する演算処理回路と、単一の走査領域に対応する光源の全数についての制御データを記憶する画像メモリと、描画に使用されるグループの光源の制御データとしてビットマップの描画データを画像メモリに書き込むと共に、描画に使用されないグループの光源の制御データとして非発光のデータを画像メモリに書き込むデータ書き込み回路と、画像メモリに書き込まれたデータに基づいて光源部を駆動する光源駆動回路とを備えることが望ましい。
【０００８】
さらに、この場合、データ書き込み回路は、１つの走査領域に含まれる制御データを光源のグループ単位で記憶する２つのバッファを備え、ビットマップのデータおよび非発光のデータの書き込みとこれらのデータのメモリへの吐き出しとを２つのバッファで交互に実行するように構成することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、この発明にかかるマルチビーム記録装置の実施形態について説明する。図１は、実施形態のマルチビーム記録装置１００の外観を示す斜視図である。実施形態のマルチビーム記録装置１００は、プリント基板を作成するための、露光焼き付け用のマスクに回路パターンを記録する装置である。
【００１０】
マルチビーム記録装置１００は、装置本体ベース１と、回路パターンが作画される描画面としての感光フィルム３を載置し、装置本体ベース１に対してＹ方向にスライド可能なテーブル２と、感光フィルム３上に投影パターンを形成する光学ヘッド４と、この光学ヘッド４を本体ベース１に対してＹ方向に垂直なＸ方向にスライド可能に支持する光学ベース５とから概略構成されている。
【００１１】
テーブル２は、その下面がＹ方向に延びる一対のレール２Ｒに沿ってガイドされた状態で、ボールねじ２Ｂを図示しないテーブル駆動モータにより回転させることによって、光学ヘッド４により形成される光源像に対して感光フィルム３をＹ方向に走査させる。これらのボールねじ２Ｂとテーブル駆動モータとにより、描画期間中に描画面である感光フィルム３を光源像に対して第１の方向であるＹ方向に相対的に直線移動させる第１の移動手段が構成される。
【００１２】
光学ベース５は、Ｘ方向に延びる一対のガイドレール５ＲにガイドされてＸ方向に移動可能となっており、光学系駆動モータ５Ｍによってボールねじ５Ｂを回転させることにより、光学ヘッド４をＸ方向に移動させる。これらの光学系駆動モータ５Ｍとボールねじ５Ｂとにより、光源の像と描画面とをＹ方向とは異なる方向に沿って相対的に移動させる第２の移動手段が構成される。第２の移動手段は、非描画期間中に光学ヘッド４を第１の方向(Ｙ方向)と直交する第２の方向(Ｘ方向)に直線移動させることにより、第１の移動手段による描画領域を切り換える機能を有している。
【００１３】
光学ヘッド４には、装置本体ベース１に設けられた位置検出用リニアスケール５Ｋを検出するスケール検出ヘッド５Ｄが設けられており、光学系駆動モータ５Ｍはスケール検出ヘッド５Ｄの検出信号に基づいてフィードバック制御される。なお、図示していないが、テーブル２も同様の検出機構を備え、テーブル駆動モータは検出結果に基づいてフィードバック制御される。
【００１４】
図２は、光学ヘッド４の光学系の概略を示す側面図である。光学ヘッド４は、有効な面積を持つ複数の光源が離散的に２次元配列された光源部と、光源の像を描画面上に形成する投影光学系とを備えている。光源部は、プリント基板４１に取り付けられた発光素子であるＬＥＤ(発光ダイオード)４２と、各ＬＥＤ４２に対応してその前面に位置するアパーチャーＡＰが形成されたアパーチャー板４３とから構成される。投影光学系は、アパーチャー板４３側から順に配列した第１レンズ群４４、および第２レンズ群４５からなる倍率１／２５の縮小光学系であり、アパーチャー板４３を透過したビームによりアパーチャーＡＰの像をドットとして感光フィルム３の表面に形成する。
【００１５】
図３は、ＬＥＤ４２およびアパーチャパネル４３に形成されたアパーチャの配置を説明するための、アパーチャパネル４３を光学ヘッド４の上面側から見た図（図２における上方から下方を見た図）である。なお、ＬＥＤ４２の位置は破線で示されている。本実施形態では、２０４８個のＬＥＤ４２が、２次元に配列されている。Ｙ方向には３２個のＬＥＤ４２が並べられている（以下、Ｙ方向に並んだＬＥＤ４２をＹ列のＬＥＤ４２と呼ぶ）。同様にＹ方向に配列されたＬＥＤ４２の列がＸ方向に６４列配置される。Ｘ方向の一つのラインに注目すると、６４個のＬＥＤ４２はＸ方向に沿って一直線に並んでいる（以下、Ｘ方向に一直線に並んだＬＥＤをＸ行のＬＥＤと呼ぶ）。ＬＥＤ４２は感光フィルム３に平行な平面上で、最大3.8mmの直径を有している。これを互いに接触しないよう配置するため、図３に示すように、ＬＥＤ４２はＸ方向、Ｙ方向それぞれにおいて、４mmの間隔で配置される。Ｙ列のＬＥＤは、図３のＹ１〜Ｙ３２に示されるように、アパーチャＡＰの直径分だけずれた位置に順に配置され、アパーチャＡＰも同様な配置で形成されている。Ｙ１とＹ３３との距離は4mm、アパーチャＡＰの径は0.125mmとなっている。
【００１６】
図４は、感光フィルム３上の各ビームに対応するドット、すなわちアパーチャパネル４３の像を示す図である。図中黒点が、ビームによりフィルム３が露光されるドットである。なお、図４はドットの配置を示すための図であり、各部のサイズは正しい縮尺では図示されていない。感光フィルム３上でのドットの形成範囲は、Ｘ方向においては10.24mm、Ｙ方向は4.96mmとなる。
【００１７】
描画の際には、Ｙ方向にテーブル２を移動しつつＬＥＤを発光制御して感光フィルム３の表面にＹ方向に延びる帯状の領域に画像を形成する。これにより、あるライン（Ｘ方向に沿ったライン）に注目した場合に、一回の走査で全てのＬＥＤビームの像(ドット)が中心間の距離５μｍのピッチで一列に並ぶ。全てのＬＥＤを描画に使用すれば、テーブルの走査により感光フィルム３上に１０．２４ｍｍ幅の帯状の描画領域が形成される。ただし、実施形態の装置では、この帯状の描画領域の幅を変更することができる。
【００１８】
描画領域の幅を変更するため、すなわち、描画に用いられるＬＥＤを選択するために、全てのＬＥＤはＹ方向の境界線により複数のグループに分類される。分類は、処理装置が一回で処理できる描画データの最小単位である８ＭＢを基準に、解像度に応じて変更される。実施形態の装置は、解像度を標準密度であるドット間ピッチ５μｍと、その倍密度である２．５μｍとの間で選択できるよう構成されている。
【００１９】
標準密度の場合には、１つの帯状の領域を上記のように一回の走査で描画する。また、この場合には、Ｙ方向についても、ドット間ピッチが５μｍとなるよう各ＬＥＤの発光タイミングが定められる。標準密度では、一回の走査のデータ量は３２ＭＢ(メガバイト)となり、８ＭＢのデータ容量でＹ列１６列分、すなわち３２×１６＝５１２個のＬＥＤを１走査分制御することができる。したがって、この場合には、ＬＥＤは４つのグループＧ1〜Ｇ4に分類される。これらのグループのうち、中央のグループＧ2，Ｇ3のいずれか一方は常に描画に使用され、外側のグループＧ1，Ｇ4は選択により描画に使用され、あるいは使用されない。したがって、以下の表１に示すＡ〜Ｊの１０通りの組み合わせが考えられる。表１では、使用されるグループが○、使用しないグループが×で表わされており、描画に使用しない光源のグループの数が番号ｍ，ｎで表される。ここで、ｍは描画領域の幅方向の一方の側の描画に使用されない光源のグループの数であり、外側からｍ番目のグループが描画に使用されない。ｎは同様に描画領域の幅方向の他方の側の描画に使用されない光源のグループの数である。
【００２０】
【表１】
0003798874.tif 000002
【００２１】
描画幅の変更には、高い描画精度が要求される場合に、投影レンズの外側の収差の影響が大きい領域を利用する光を利用せず投影レンズの中心部を通る光のみを利用するという第１の目的と、いずれかのＬＥＤが断線等の原因により発光不能となったときに、そのＬＥＤを含むグループを使用せずに描画することによりドットの抜けを防止するという第２の目的とがある。第１の目的を達成するためには、幅方向の外側の領域に対応するＬＥＤを使用せず、中央の領域に対応するＬＥＤのみを利用して描画する必要がある。この場合には、ＡとＦとの２通りの組み合わせが選択できれば十分である。ただし、第２の目的を達成するためには、他のＢ〜Ｅ，Ｇ〜Ｊの組み合わせも選択できることが望ましい。
【００２２】
標準密度で描画する場合、感光フィルム３の描画領域のＹ方向における端部から他の端部まで帯状に画像が形成されると、光学ヘッド４を上記の使用されるグループの数に応じた描画幅分だけＸ方向に移動する。そして、光学ヘッド４の移動後にテーブル２を前回とは逆方向に（Ｙ方向に沿って）移動することにより、同様にして、感光フィルム３にＹ方向に延びた帯状の画像を先に形成した領域に隣接して形成する。標準密度の場合、光学へッドはテーブルがいずれの方向に走査する場合にも走査が終了する毎に１０．２４−（ｍ＋ｎ）×２．５６ｍｍＸ方向に送られる。
【００２３】
一方、倍密度の場合には、一方向の走査の後、半ピッチ分、すなわち２．５μｍ分Ｘ方向にヘッドを移動させて逆向きに走査することにより、前回の走査により形成されたドットとドットとの間をドットで埋めてゆく。このように半ピッチずらしてインターレースの手法で往復走査することにより１つの帯状の領域にパターンを描画する。全てのＬＥＤが描画に使用される場合、１０．２４ｍｍの幅に対して４０９６ドットの密度でデータを描画できる。走査方向に対しても２．５μｍピッチでドットを形成する場合、一往復の走査のデータ量は標準密度の４倍の１２８ＭＢとなり、８ＭＢのデータ容量でＹ列４列分、すなわち３２×４＝１２８個のＬＥＤを往復走査分制御することができる。倍密度の記録をする場合、描画データを送る側から見ると、１回の走査で４０４８個のＬＥＤを制御するのと等価であり、そのように考えると、８ＭＢのデータ容量でＹ列８列分、すなわち３２×８＝２５６個のＬＥＤを一走査分制御することとなる。
【００２４】
倍密度の場合には、ＬＥＤは１６のグループｇ1〜ｇ16に分類される。この場合、前述の第２の目的を達成するためには、１３６通りの組み合わせが考えられる。ただし、光源部の中心と投影レンズの光軸とが一致していることを前提にすると、第１の目的のためには以下の表２に示すａ〜ｈの８通りの組み合わせが選択できればよい。
【００２５】
【表２】
0003798874.tif 000003
【００２６】
なお、光源部の中心と投影レンズの光軸とが一致しない場合には、不使用領域を表２に示すように左右対称(ｍ＝ｎ)だけではなく、非対称(ｍ≠ｎ)に定めてもよい。例えば、ｍ＝２，ｎ＝１としてグループｇ1，ｇ2，ｇ16を使用しないよう選択することができる。
【００２７】
倍密度で描画する場合、感光フィルム３の描画領域のＹ方向における端部から他の端部まで往復走査して帯状に画像が形成されると、光学ヘッド４を上記の使用されるグループの数に応じた描画幅分だけＸ方向に移動する。そして、光学ヘッド４の移動後にテーブル２をＹ方向に沿って移動することにより、同様にして、感光フィルム３にＹ方向に延びた帯状の画像を先に形成した領域に隣接して形成する。倍密度の場合、光学へッドはテーブルが一方の方向に走査する場合には走査が終了する毎に２．５μｍＸ方向に送られ、他方の方向に走査する場合には走査が終了する毎に１０．２４−（ｍ＋ｎ）×０．６４ｍｍＸ方向に送られる。
【００２８】
図５は、実施形態の記録装置１００の制御系を示すブロック図である。記録装置１００は、イーサネットのネットワークによりワークステーションＷＳと接続されており、ワークステーションＷＳから送られる描画データと制御情報とにしたがって感光フイルム３上にパターンを露光、描画する。ワークステーションＷＳから送られる描画データはベクトルデータであり、制御情報はドット間ピッチ、すなわち解像度と描画に使用しない光源のグループの番号ｍ，ｎとを含む。
【００２９】
描画装置１００の制御系は、イーサネットを介して入力されるワークステーションＷＳからのデータを受けるデータ入力インターフェイス(Ｉ／Ｆ)１０１と、この入力インターフェイスを介してベクトルデータとして入力される１画像分の全面の画像データが記憶される容量を持つバッファ１０２と、バッファ１０２に書き込まれたベクトルデータをビットマップのラスタデータに変換する演算処理回路１０３と、演算処理回路１０３により変換されたビットマップのデータが交互に書き込まれるそれぞれ８ＭＢの容量を持つ２つのバッファ１０４ａ，１０４ｂを備えるデータ書き込み回路１０４と、感光フィルム３上に形成される画像がポジ画像かネガ画像かにより描画データのビットを非反転または反転させるビット反転処理回路１０５と、走査により形成される１つの帯状の領域の描画データを保持するための１２８ＭＢの容量を持つ２つの画像メモリ１０６ａ，１０６ｂを備え、光学ヘッド４のＬＥＤの発光を制御する光源制御回路１０６とを備えている。
【００３０】
ワークステーションＷＳから入力される描画データの単位は、全領域をカバーする。この全領域はテーブル２を走査することにより形成される帯状の領域を複数合わせることによりカバーされる。バッファ１０２には、この全領域分の描画データが記憶される。
【００３１】
演算処理回路１０３は、変換したデータを２つのバッファ１０４ａ，１０４ｂに交互に書き込み、データ書き込み回路１０４は、演算処理回路１０３からのデータの転送が完了した一方のバッファのデータを光源制御回路１０６に出力し、その間他方のバッファには演算回路１０３からのデータが転送される。演算処理回路１０３から出力される描画データは、例えば感光フィルム上でプリント基板の導体パターンが形成される位置に対応するドットが「１」、他の領域が「０」となるよう定義づけられたポジ画像を基準とした二値データであり、光源制御回路１０６は、例えばデータが「１」のドットに対してはＬＥＤを発光させ、「０」のドットに対しては発光させない。
【００３２】
ビット反転処理回路１０５は、形成される画像がポジ画像である場合にはデータ書き込み回路１０４から出力される描画データをそのままＬＥＤ制御回路１０６に伝達し、ネガ画像である場合にはデータのビットを反転させて、すなわち、「１」のドットを「０」、「０」のドットを「１」に反転させて伝達する。
【００３３】
なお、演算処理回路１０３は、上記のようにデータを変換する機能のみでなく、他の回路を制御するＣＰＵとしての機能を有している。また、演算処理回路１０３は、グループ番号ｍ，ｎに基づいて求められる走査の描画幅と、描画データに含まれる位置情報とに基づいてテーブル２と光学ヘッド４との移動量を求める機能を有しており、求められた移動量データは、移動制御回路１１０へ出力され、移動量制御回路１１０はテーブル用ＡＣサーボ回路１１１と光学ヘッド用サーボ回路１１２とを介して光学系駆動モータ５Ｍとテーブル移動モータ２Ｍモータとを駆動して光学ヘッドとテーブルとを移動させる。駆動中は、スケール検出ヘッド５Ｄおよび２Ｄの出力が移動量制御回路１１０に入力されており、各モータ５Ｍ，２Ｍは検出される移動量に基づいてフィードバック制御される。
【００３４】
図６は、上記の制御系に含まれる画像メモリ１０６ａのメモリ空間を示す説明図である。標準密度の場合には、図６(ａ)に示されるように、８ＭＢづつに分割された４つのパーティションと呼ばれる領域により一走査に用いられる３２ＭＢのバンドと呼ばれる領域が構成される。この３２ＭＢの描画データにより、標準密度における一回の走査で２０４８個のＬＥＤが制御される。１つのパーティションは、５１２個のＬＥＤを一走査制御するための描画データを有し、各パーティションがＬＥＤの各グループＧ1〜Ｇ4に対応する。
【００３５】
一方、倍密度の場合には、図６(ｂ)に示されるように、８ＭＢづつに分割された１６のパーティションにより往復走査に用いられる１２８ＭＢのバンドが構成される。この場合、１つのパーティションは１２８個のＬＥＤを往復走査するために必要な描画データを保持し、各パーティションがＬＥＤの各グループｇ1〜ｇ16に対応する。
【００３６】
データ書き込み回路１０４は、２つのバッファ１０４ａ，１０４ｂからデータを交互に出力してパーティション単位で描画データをＬＥＤ制御回路１０６の画像メモリ１０６ａ，１０６ｂに書き込む。なお、特定のグループのＬＥＤを描画に使用しないことは、これらのＬＥＤにより形成され得る全ドットに対して「非発光」というデータを入力することに等しい。そこで、ｍ，ｎの数値に応じ、使用されない光源のグループに対応するデータが書き込まれるパーティションには、演算処理回路１０３から入力される描画データではなく、「非発光」を意味する一定のデータが書き込まれる。ただし、データ書き込み回路１０４から出力されるデータは、形成される画像がネガ画像の場合にはビット反転回路１０５により反転されるため、いずれの場合にも画像メモリ１０６ａ，１０６ｂに書き込まれるデータが「非発光」を意味する「０」となるように、ポジ画像の場合には該当するパーティションに転送されるべきバッファ１０４ａ，１０４ｂの全てのビットが「０」で埋められ、ネガ画像の場合には「１」で埋められる。
【００３７】
図７および図８は、１画面分のパターンを描画するための演算処理回路１０３による制御の手順を示すフローチヤートである。ここでは、倍密度で記録する場合、すなわち、１バンドが１６パーティションで構成される場合を例にして説明する。
ステップ(図中「S.」で示す)１、２でワークステーションＷＳから制御情報と描画データとを受信すると、ステップ３において描画データに含まれる位置情報に基づいて光学ヘッド４およびデーブル２の初期位置を求めて移動制御回路１１０へ出力する。移動制御回路１１０は、この情報に基づいて光学系駆動モータ５Ｍとテーブル移動モータ２Ｍとを駆動する。
【００３８】
ステップ４では、描画に用いられない光源のグループ数ｍ，ｎを全グループ数１６から差し引いて描画に用いられる光源のグループ数ｐを求める。標準密度の場合には、ｐは(４−ｍ−ｎ)で求められる。ステップ５〜１０では、描画に用いられない一方側の光源グループに対応する画像メモリ上のｍ個のパーティションに「非発光」のデータが書き込まれる。「非発光」のデータは、上述のようにポジ画像を形成する場合には「０」、ネガ画像を形成する場合には「１」となるため、対応する値を書き込む。
【００３９】
ステップ１１〜１４は、描画に用いられる光源のグループに対応する画像メモリ上のパーティションに描画データを書き込む処理である。続く図８のステップ１５〜２０では、描画に用いられない他方側の光源グループに対応する画像メモリ上のｎ個のパーティションに「非発光」のデータが書き込まれる。
【００４０】
上記の処理により画像メモリ１０６ａの１２８ＭＢの領域に倍密度の往復走査分のデータが書き込まれると、ステップ２１でテーブルをＹ方向に移動させながら各ＬＥＤを発光制御してパターンを描画する。１つの帯状の描画領域分の描画が終了すると、描画データが残っている場合にはステップ２３で光学ヘッド４を移動させて図７のステップ５に戻り、次の帯状の描画領域の描画を開始する。描画データが終了すると１画面分の描画が終了する。
なお、このフローチャートでは、ステップ２１の実際の描画処理とステップ５〜２０の画像メモリへのデータの書き込みとが時系列的に順に実行させるように示されているが、一方の画像メモリ１０６ａに記憶された描画データによりパターンが描画されている間に、他方の画像メモリ１０６ｂへ描画データが書き込まれる。これにより、１つの帯状の描画領域から次の領域の描画を開始するまでの時間を短縮することができる。
【００４１】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、投影光学系の収差が大きく影響する光軸から離れた光源を利用せずに中心部の光源のみを用いて描画することにより、各光源からの光束により形成されるドットの位置精度を高めることができ、投影光学系の性能を高めることなく高い精度の描画が可能となる。
また、複数の光源の一部が断線等により発光不能となった場合には、その光源を含む光源のグループを使用せずに描画することができ、光学ヘッドを修理、交換するまでの間も装置を利用することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  実施形態にかかるマルチビーム記録装置の外観を示す斜視図である。
【図２】  光学ヘッドの構成の概略を示す側面図である。
【図３】  アパーチャパネルを光学ヘッドの上面側から見た図である。
【図４】  感光フィルム上に結像した点像のパターンを示す図である。
【図５】  実施形態の装置の制御系を示すブロック図である。
【図６】  ＬＥＤ制御回路に含まれる画像メモリのメモリ空間を示す説明図である。
【図７】  演算処理回路の制御の手順の前半を示すフローチヤートである。
【図８】  演算処理回路の制御の手順の後半を示すフローチヤートである。
【符号の説明】
２  テーブル
４  光学ヘッド
４２  ＬＥＤ
４３  アパーチャー板
４４,４５  第１、第２レンズ群(投影光学系)
１００  パターン記録装置
１０３  演算処理回路
１０４  データ書き込み回路
１０４ａ，１０４ｂ  バッファ
１０６  光源制御回路
１０６ａ，１０６ｂ  画像メモリ
【図１】
0003798874.tif 000004
【図２】
0003798874.tif 000005
【図３】
0003798874.tif 000006
【図４】
0003798874.tif 000007
【図５】
0003798874.tif 000008
【図６】
0003798874.tif 000009
【図７】
0003798874.tif 000010
【図８】
0003798874.tif 000011