(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体フィルムＣ、その片面の表面に皮膜層Ａおよび該基体フィルムＣの他の片面の表面に皮膜層Ｂより形成された複合フィルムであって、
（１）該皮膜層Ａは、平均粒径が５〜１００ｎｍの不活性粒子を含有する水溶性樹脂または水分散性樹脂から形成され、その表面における突起密度が１×１０6〜１×１０8個／ｍｍ2でありかつその表面における中心線平均粗さ（Ｒａ−Ａ）が０．１〜２ｎｍである膜であり、
（２）該皮膜層Ｂは、平均粒径が２０〜１００ｎｍの不活性粒子１〜４０重量％および水溶性樹脂または水分散性樹脂含有組成物６０〜９９重量％から形成され、但し該樹脂含有組成物は、層Ｂに基いて、シリコーン変性ポリエステル樹脂を５〜８５重量％含有するか或いはシリコーンを１〜３０重量％含有している、
（３）該基体フィルムＣは、不活性粒子を含まないかまたは不活性粒子を含む場合その平均粒径は５〜２０００ｎｍでありかつその含有量は０．００１から５．０重量％である芳香族ポリエステルよりなるフィルムである
ことを特徴とする低帯電性複合ポリエステルフィルム。
【請求項２】
該皮膜層Ａを形成する水溶性樹脂または水分散性樹脂が、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリル−ポリエステル樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂である請求項１記載の低帯電性複合ポリエステルフィルム。
【請求項３】
該皮膜層Ｂの外表面における中心線平均粗さ（Ｒａ−Ｂ）が１〜３０ｎｍである請求項１記載の低帯電性複合ポリエステルフィルム。
【請求項４】
皮膜層Ａ、皮膜層Ｂ及び基体フィルムＣに配合される不活性粒子が、それぞれその種類及び平均粒子径を異にするか、同じくする有機化合物及び／または無機化合物からなり、有機化合物は架橋ポリスチレン、ポリスチレン−ジビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂及びこれら重合体を成分とするグラフト共重合体からなるコアシェル構造粒子から選択され、また無機化合物はシリカ、アルミナ、二酸化チタン、長石、カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウムから選択される請求項１記載の低帯電性複合ポリエステルフィルム。
【請求項５】
該皮膜層Ｂは、平均粒径が２０〜１００ｎｍの不活性粒子１〜４０重量％および水溶性樹脂または水分散性樹脂含有組成物６０〜９９重量％から形成され、但し該樹脂含有組成物は層Ｂに基いてシリコーン変性ポリエステル樹脂５〜８５重量％および界面活性剤０〜２０重量％を含有する、請求項１記載の低帯電性複合ポリエステルフィルム。
【請求項６】
該樹脂含有組成物は、層Ｂに基いてさらにセルロース樹脂を５〜４０重量％含有している請求項５記載の低帯電性複合ポリエステルフィルム。
【請求項７】
該皮膜層Ｂは、平均粒径２０〜１００ｎｍの不活性粒子１〜４０重量％および水溶性樹脂または水分散性樹脂含有組成物６０〜９９重量％から形成され、但し該樹脂含有組成物は、層Ｂに基いて、シリコーンを１〜３０重量％含有している請求項１記載の低帯電性複合ポリエステルフィルム。
【請求項８】
該樹脂含有組成物は、層Ｂに基づいて（ｉ）シリコーンを１〜３０重量％、（ii）アクリル樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリル−ポリエステル樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂４０〜９９重量％および（iii）界面活性剤０〜２０重量％含有する請求項７記載の低帯電性複合ポリエステルフィルム。
【請求項９】
該樹脂含有組成物は、層Ｂに基いてさらにセルロース樹脂を５〜４０重量％含有している請求項８記載の低帯電性複合ポリエステルフィルム。
【請求項１０】
該皮膜層Ａは、１〜１００ｎｍの厚みを有する請求項１記載の低帯電性複合ポリエステルフィルム。
【請求項１１】
該皮膜層Ｂは、１〜１００ｎｍの厚みを有する請求項１記載の低帯電性複合ポリエステルフィルム。
【請求項１２】
該基体フィルムＣは、１〜３０μｍの厚みを有する請求項１記載の低帯電性複合ポリエステルフィルム。
【請求項１３】
請求項１記載の複合ポリエステルフィルムの皮膜層Ａの外表面上に磁気記録層を設けてなる磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
［発明の属する技術分野］
本発明は磁気記録媒体に供し得るポリエステルフィルムに関する。更に詳しくは、フィルムの帯電量が少なく、フィルム間のブロッキングがなく、またブロッキングによる皮膜層の反対面への物質転写が少なく、しかも磁気記録媒体に使用した場合電磁変換特性、ドロップアウト特性、バックコートの接着性に優れた高密度磁気記録媒体用基体として用いることに適した低帯電性ポリエステルフィルムに係わる。
［従来の技術］
ビデオテープ、オーディオテープ、メモリーテープ、磁気シート、磁気ディスク等の磁気記録媒体は、支持体と支持体表面上に設けられた磁気記録層とからなる。また、磁気記録層と反対の表面はすべり性を増すために、易滑性のバックコート層を設ける場合が多い。磁気記録媒体の支持体（基本）として、ポリエステルフィルムが主として用いられるが、磁気記録層とポリエステルフィルムとの密着性および易滑性のバックコート層とポリエステルフィルムとの密着性は重要特性である。これら密着性が不良であると、磁気記録媒体の録音または録画或いは再生過程において、磁気記録層およびバックコート層がはがれて磁気特性が全く損なわれてしまう。
［発明が解決しようとする課題］
接着性の改良されたポリエステルフィルム基体として、多くの種類のものが知られている。例えばフィルム表面にコロナ放電処理を施したものおよび易接着性樹脂を塗布したもの等が存在する。特に顕著な易接着性効果をもたらすためには易接着性樹脂を表面に塗布することが望ましい。
近年、磁気記録の高密度化に伴い、使用される基体としてのポリエステルフィルムの表面粗度は低くなり、平滑化されている。この場合、従来の易接着性樹脂塗布処理を施したものは、フィルムをロール状態に巻いた場合において、フィルム同士のブロッキングが起こり、ロールから磁気媒体製造工程の巻出し段階で、フィルムが切れたり、破れたりしてしまう現象が起こりやすい。
特に磁気記録薄膜層を真空蒸着で基体ポリエステルフィルム表面に設けてなる蒸着テープ、例えば蒸着ビデオテープは、基体ポリエステルフィルムの表面粗さが低く、磁気記録層と反対側にバックコート層を設けてテープ走行面の滑りを向上させる必要がある。バックコート層のポリエステルフィルムへの接着性を向上させるために、バックコート層に対するフィルム表面の易接着化塗布処理を従来技術で行なった場合には、基体ポリエステルフィルムの表面粗さが極めて低いので、ブロッキングも起こりやすい。
このブロッキングは空気中の水分がフィルム表面に浸透したり、表面間に入り込み、フィルム間の圧力でフィルム表面間が接着状態のようになるために生じると考えられる。工場ではフィルム製造後または使用前のロール状製品の保存を低湿度下に行っており、保管管理条件を厳しく管理することにより、ブロッキングをある程度防止することは可能であるものの、本質的解決は図れない。特に蒸着磁気記録媒体用のポリエステルフィルムの場合には、湿度管理のみでは易接着化フィルムのブロッキング防止は不可能である。
ブロッキングしたロール状フィルムは巻出し時に破断したり、たとえ破断しない場合でも局所的なブロッキングによって皮膜層やポリエステルフィルム自体が接する面に物質転写し、テープしたときにドロップ・アウトが生じる問題もある。
またブロッキングしやすいポリエステルフィルムは、同時に帯電を帯びやすく、帯電の高いフィルムは、フィルム製膜時及びテープ化時のハンドリング性が著しく悪化したり、また帯電により発生する火花はテープ化時に使用する有機溶剤に引火する危険性があり、更に空気中の浮遊ゴミを電気的に吸着し易く、そのようなゴミは高密度記録を必要とする蒸着テープ等にとっては特にドロップアウトの原因となるなどの問題もある。
本発明の目的は、上述の従来技術の欠点を解消し、フィルムの帯電量が少なく、フィルム間のブロッキングがなく、またブロッキングによる皮膜層の反対面への物質転写が少なく、しかも磁気記録媒体として使用したとき電磁変換特性、ドロップアウト特性、バックコートの接着性の優れた高密度磁気記録媒体用基材として用いるのに適した低帯電性ポリエステルフィルムを提供することである。
［課題を解決するための手段］
本発明者らの研究によれば、前記本発明の目的は、基体フィルムＣ、その片面の表面に皮膜層Ａおよび該基体フィルムＣの他の片面の表面に皮膜層Ｂより形成された複合フィルムであって、下記（１）〜（３）の特徴を有する低帯電性複合ポリエステルフィルムによって達成されることが見出された。
（１）該皮膜層Ａは、平均粒径が５〜１００ｎｍの不活性粒子を含有する水溶性樹脂または水分散性樹脂から形成され、その表面における突起密度が１×１０6〜１×１０8個／ｍｍ2でありかつその表面における中心線平均粗さ（Ｒａ−Ａ）が０．１〜２ｎｍである膜であり、
（２）該皮膜層Ｂは、平均粒径が２０〜１００ｎｍの不活性粒子１〜４０重量％および水溶性樹脂または水分散性樹脂含有組成物６０〜９９重量％から形成され、但し該樹脂含有組成物は、層Ｂに基いて、シリコーン変性ポリエステル樹脂を５〜８５重量％含有するか或いはシリコーンを１〜３０重量％含有している、
（３）該基体フィルムＣは、不活性粒子を含まないかまたは不活性粒子を含む場合その平均粒径は５〜２０００ｎｍでありかつその含有量は０.００１から５.０重量％である芳香族ポリエステルよりなるフィルムである。
本発明は、基体としてのポリエステルフィルムＣの一方の表面に皮膜層Ａを、他の表面に皮膜層Ｂを塗設してなる少なくとも３層からなる複合フィルムであって、皮膜層Ａ及び／又は皮膜層Ｂによって静電気による帯電を抑え、しかもフィルム相互のブロッキングをも抑える性質が改良された低帯電性複合ポリエステルフィルムである。
以下本発明の低電性複合ポリエステルフィルムについてさらに詳細に説明する。
本発明の複合フィルムの芯層Ｃを構成する芳香族ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート等を例示することができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートが好ましい。
上記ポリエステルはホモポリエステルであってもコポリエステルであってもよい。ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートの場合の共重合成分としては、例えばジエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリオキシエチレングリコール、ｐ−キシレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等のジオール成分；アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸（但しポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートの場合）、２，６−ナフタレンジカルボン酸（但しポリエチレンテレフタレートの場合）、５−ナトリウムスルホイソフタル酸等の他のジカルボン酸成分；ｐ−オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸成分等があげられる。尚、共重合成分の量は全ジカルボン酸成分に対して２０モル％以下、更には１０モル％以下とするのが好ましい。
更に、トリメリット酸、ピロメリット酸等の３官能以上の多官能化合物を共重合させることもできる。この場合ポリマーが実質的に線状である量、例えば２モル％以下共重合させることができる。
本発明における基体Ｃのポリエステルフィルムは、不活性粒子を含まなくてもよいが不活性粒子を含有せしめてもよい。不活性粒子を含有せしめる場合には有機粒子でも無機粒子でもよい。そして、後述するように基体フィルムＣに配合する不活性粒子は、皮膜層Ａや皮膜層Ｂに配合する不活性粒子と、その種類や平均粒径において同等でも異なっていてもよい。不活性粒子の具体例を示すと、有機粒子として架橋ポリスチレン、ポリスチレン−ジビニルベンゼン共重合体、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂及びこれら重合体を成分とするグラフト共重合体からなるコアシェル構造の粒子が挙げられ、また無機粒子としてシリカ、アルミナ、二酸化チタン、長石、カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウムの粒子を挙げることができる。これら粒子は通常ポリエステル製造時、例えばエステル交換法による場合のエステル交換反応中もしくは重縮合反応中の任意の時期、または直接重合法による場合の任意時期に、好ましくはグリコール中のスラリーとして反応系中に添加することができる。不活性粒子の平均粒径は５〜２０００ｎｍ、更には１０〜１８００ｎｍであることが好ましく、また添加量はポリエステルに対して０．００１〜５重量％、更には０．００１〜２重量％、特に０．０１〜１．５重量％であることが好ましい。
前記基体フィルムＣは、１〜３０μｍの厚み、好ましくは３〜２５μｍの厚みを有している。
次に、前記基体フィルムＣの片面の表面に複合して形成される皮膜層Ａについて説明する。
本発明の皮膜層Ａを構成する水溶性樹脂または水分散性の樹脂とは、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル−ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等を例示することができる。基体フィルムＣの芳香族ポリエステルに対する密着性、突起保持性、易滑性などの点から、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル−ポリエステル樹脂が好ましい。これら水溶性樹脂または水分散性の樹脂は単一重合体でも共重合体でもよく、また混合物でも差支えない。
前記水溶性または水分散性のアクリル樹脂としては、例えばアクリル酸エステル（アルコール残基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェニルエチル基等を例示できる）；メタクリル酸エステル（アルコール残基は上記と同じ）；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の如きヒドロキシ含有モノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド等の如きアミド基含有モノマー；Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート等の如きアミノ基含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等の如きエポキシ基含有モノマー；スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸及びこれらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等の如きスルホン酸基又はその塩を含有するモノマー；クロトン酸、イタコン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマール酸及びそれらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等の如きカルボキシル基又はその塩を含有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物基を含有するモノマー；その他ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリスアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルキルイタコン酸モノエステル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、塩化ビニル等の単量体の組合せからつくられたものであるが、アクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体の如き（メタ）アクリル単量体の成分が５０モル％以上含まれているものが好ましく、特にメタクリル酸メチル成分を含有しているものが好ましい。
水溶性又は水分散性のアクリル樹脂は分子内の官能基で自己架橋することができるし、メラミン樹脂やエポキシ化合物等の架橋剤を用いて架橋することもできる。
本発明の皮膜層Ａに供する水溶性または水分散性のポリエステル樹脂を構成する酸成分としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、２−カリウムスルホテレフタル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、無水トリメリット酸、無水フタル酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、トリメリット酸モノカリウム塩等の多価カルボン酸を例示することができる。また、ヒドロキシ化合物成分としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−キシリレングリコール、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレンオキシドグリコール、ポリテトラメチレンオキシドグリコール、ジメチロールプロピオン酸、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジメチロールエチルスルホン酸ナトリウム、ジメチロールプロパン酸カリウム等の多価ヒドロキシ化合物を例示することができる。これらの化合物から常法によってポリエステル樹脂をつくることができる。水性塗料をつくる点からは、５−ナトリウムスルホイソフタル酸成分又はカルボン酸塩基を含有する水性ポリエステル樹脂を用いるのが好ましい。かかるポエステル樹脂は分子内に官能基を有する自己架橋型とすることができるし、メラミン樹脂、エポキシ樹脂のような硬化剤を用いて架橋することもできる。
本発明の皮膜層Ａに供する水溶性または水分散性のアクリル−ポリエステル樹脂としてはアクリル変性ポリエステル樹脂とポリエステル変性アクリル樹脂とを包含する意味で用いており、前記アクリル樹脂成分とポリエステル樹脂成分とが互いに結合したものであって、例えばグラフトタイプ、ブロックタイプ等を包含する。アクリル−ポリエステル樹脂は、例えばポリエステル樹脂の両端にラジカル開始剤を付加してアクリル単量体の重合を行わせたり、ポリエステル樹脂の側鎖にラジカル開始剤を付加してアクリル単量体の重合を行わせたり、あるいはアクリル樹脂の側鎖に水酸基を付け、末端にイソシアネート基やカルボキシル基を有するポリエステルと反応させて櫛形ポリマーとする等によって製造することができる。
皮膚層Ａには不活性粒子が配合されるが、その不活性粒子（“不活性粒子Ａ”という）の材質としては、架橋ポリスチレン、ポリスチレン−ジビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き有機質、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウム等の如き無機質のいずれを用いてもよい。また内外部のそれぞれの性質が異なる物質で構成される多層構造のコアシェル型粒子を用いてもよい。
不活性粒子Ａの平均粒径は５〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍである。更に不活性粒子Ａは粒度分布が均一であるものが好ましい。平均粒径が５ｎｍを下まわると滑り性、耐削れ性が悪化する。一方平均粒径が１００ｎｍを超えると、粒子の脱落が発生し、耐削れ性が悪化する。また、磁気ヘッドとのスペーシングが大きくなり高密度の磁気記録媒体として供することが困難となる。
不活性粒子Ａは、皮膜層Ａの表面突起密度が１×１０6〜１×１０8個／ｍｍ2となるように皮膜層Ａ中に含有される。この表面突起密度が１×１０6個／ｍｍ2未満では磁気記録媒体としたときの走行耐久性が不足する。他方、１×１０8個／ｍｍ2を超えると電磁変換特性に悪影響を及ぼす。好ましい表面突起密度は２×１０6〜５×１０7個／ｍｍ2、更に好ましくは３．０×１０6〜３．０×１０7個／ｍｍ2である。
皮膜層Ａの厚みは、１〜１００ｎｍ、好ましくは３〜７０ｎｍの範囲が好適である。その際皮膜層Ａの厚み（ｔｎｍ）と不活性粒子Ａの平均粒径（ｄｎｍ）の比（ｔ／ｄ）を０．０５〜０．８の範囲、好ましくは０．０８〜０．６の範囲、更に好ましくは０．１〜０．５の範囲とするのが有利である。
この比（ｔ／ｄ）が０．８を超えると、不活性粒子Ａの突起形成作用が減少し、磁気記録媒体としたときの走行耐久性が不足する。一方０．０５より小さくなると、製膜工程におけるガイドロールとの接触によって積層フィルム表面の粒子が削りとられて走行耐久性が不足したり、削り取られた粒子がフィルム上に付着堆積してドロップアウトの増加を引き起こしたりする。
本発明における皮膜層Ａはポリエステル芯層の少なくとも片面に、前述した不活性粒子及び水溶性又は水分散性樹脂を含む溶液を塗布し、乾燥することで形成する。この塗液の固形分濃度は０．２〜１０重量％、さらには０．５〜５重量％、特に０．７〜３重量％であることが好ましい。そしてこの塗液には本発明の効果を損わない範囲であれば所望により他の成分、例えば界面活性剤、安定剤、分散剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等を添加することができる。
皮膜層Ａを形成した表面の中心線平均粗さ（Ｒａ−Ａ）は０．１〜２ｎｍ、更に好ましくは０．５〜１．５ｎｍである。（Ｒａ−Ａ）値が２ｎｍを超える場合には特に金属薄膜型磁気記録媒体としたときに電磁変換特性が悪化する。一方（Ｒａ−Ａ）値が０．１ｎｍ未満の場合は、滑り性が極度に悪化して走行耐久性が不足したり、磁気ヘッドに貼り付いてテープ鳴きを生じたりして実用に供することができなくなり易い。
本発明の複合ポリエステルフィルムは、基体フィルムＣの片面の表面に前記皮膜層Ａが形成され、またその基体フィルムＣの他の面の表面に皮膜層Ｂが形成された構造を有している。次にこの皮膜層Ｂについて詳細に説明する。
皮膜層Ｂは、平均粒径が２０〜１００ｎｍの不活性粒子１〜４０重量％および水溶性樹脂または水分散性樹脂含有組成物、６０〜９９重量％から形成され、但し該樹脂含有組成物は、層Ｂに基いてシリコーン変性ポリエステル樹脂を５〜８５重量％含有するか或いはシリコーンを１〜３０重量％含有している層である。
皮膜層Ｂは、その中に（ｉ）シリコーン変性ポリエステル樹脂を含有する態様（以下“皮膜層Ｂ−１”という）と（ii）シリコーンを含有する態様（以下“皮膜層Ｂ−２”という）とを包含している。
以下これら皮膜層Ｂ−１および皮膜層Ｂ−２の２つの皮膜層の理解を助けるために、それぞれの皮膜層について、別々に説明する。先ず皮膜層Ｂ−１について説明する。
皮膜層Ｂ−１は、平均粒径が２０〜１００ｎｍの不活性粒子１〜４０重量％および水溶性樹脂または水分散性樹脂含有組成物６０〜９９重量％から形成され但し該樹脂含有組成物は層Ｂ−１に基いてシリコーン変性ポリエステル樹脂５〜８５重量％を含有している。
この皮膜層Ｂ−１におけるシリコーン変性ポリエステル樹脂は、水溶性または水分散性の樹脂であり、シリコーン成分とポリエステル樹脂成分とが互いに結合した化合物である。この結合方式は、例えば、グラフト結合タイプもしくはブロック結合タイプなどのいずれであってもよい。具体的にはポリエステル樹脂の両末端にラジカル開始剤を付加してシリコーンの重合を行わせたり、あるいはシリコーンの側鎖に水酸基を付加し、末端にイソシアネート基やカルボキシル基を有するポリエステルと反応させて櫛形ポリマーとする等によって製造することができる。
重合に用いるポリエステル樹脂成分としては、皮膜層Ａに用いるポリエステル樹脂で例示したものと同じ樹脂が例示できる。
シリコーンとしては、鎖状成分として
0003746791.tif 000002
［ただしＲ1は−ＣＨ3、−Ｃ6Ｈ5、または水素原子を示し
Ｒ2は−ＣＨ3、−Ｃ6Ｈ5、水素原子または官能性基（例えば、エポキシ基、アミノ基または水酸基）を示し、
ｎは１００〜７０００を示す。］
を有するシリコーン化合物であり、末端にエポキシ基、アミノ基、水酸基、その他の官能性末端基を有するものがあげられる。本発明においてシリコーン化合物は必ずしもホモポリマーである必要はなく、コポリマーまたは数種のホモポリマーの混合体であってもよい。
ポリエステル樹脂成分とシリコーン成分の比率は、重量比で９８：２〜６０：４０、好ましくは９５：５〜８０：２０である。皮膜層Ｂ−１中のシリコーン変性ポリエステル樹脂の含有量は５〜８５重量％、好ましくは２０〜８０重量％である。５重量％未満であると効果が不充分でブロッキングの発生及び帯電の増加を引き起こし、８５重量％を超えるとバックコートの接着性を悪化させたり、ロール状に巻いた時に接触面への転写が発生したり、フィルム走行時に接触ロールの汚れを引き起こす。
皮膜層Ｂ−１には不活性粒子と水溶性及び水分散性シリコーン変性ポリエステル樹脂以外にも本発明の効果に影響を与えない範囲で、前記皮膜層Ａにおいて説明した他の水溶性及び水分散性樹脂や界面活性剤等を添加しても差支えない。界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましく、特にアルキルアルコール、アルキルフェニルアルコールおよび高級脂肪酸にポリエチレンオキサイドを付加・結合されたものが好ましい。界面活性剤を層Ｂ−１に基いて２０重量％以下、好ましくは１〜１５重量％添加すると塗工時の塗布ぬけ、ハジキを防止できるので好ましい。
さらに皮膜層Ｂ−１中には、層Ｂ−１に基いてセルロース樹脂を５〜４０重量％、好ましくは１０〜３０重量％添加すると、皮膜層Ｂ−１中に多数の連続微小襞を形成させることができ、それによってフィルムの巻取り性を向上させることができる。このセルロース樹脂としてはエチルセルロース、メチルセルロース、アセチルセルロース、アセトアセチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテートブチレート等を例示することができる。
一方皮膜層Ｂ−２について説明すると、皮膜層Ｂ−２は平均粒径２０〜１００ｎｍの不活性粒子１〜４０重量％および水溶性樹脂または水分散性樹脂含有組成物６０〜９９重量％から形成され、但し該樹脂含有組成物は、層Ｂ−２に基いて、シリコーンを１〜３０重量％含有している。
皮膜層Ｂ−２中に含有されるシリコーンとしては、鎖状成分として
0003746791.tif 000003
［ただしＲ1は−ＣＨ3、−Ｃ6Ｈ5、または水素原子を示し
Ｒ2は−ＣＨ3、−Ｃ6Ｈ5、水素原子または官能性基（例えば、エポキシ基、アミノ基または水酸基）を示し、
ｎは１００〜７０００を示す。］
を有するシリコーン化合物であり、末端にエポキシ基、アミノ基、水酸基またはその他の官能性末端基を有するものがあげられる。本発明においてシリコーン化合物は必ずしもホモポリマーである必要はなく、コポリマーまたは数種のホモポリマーの混合体であってもよい。
ワックスとしては、例えば石油系ワックス、植物系ワックス、鉱物系ワックス、動物系ワックス、低分子量ポリオレフィン類などを使用することができ、特に制限されるものではない。石油系ワックスとしてはパラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、酸化ワックスなどが挙げられる。また植物性ワックスとしてはキャンデリラワックス、カルナウバワックス、木ロウ、オリキューリーワックス、さとうきびロウ、ロジン変性ワックスなどが挙げられる。
皮膜層Ｂ−２中のシリコーンあるいはワックスの含有量は層Ｂ−２に基いて１〜３０重量％、好ましくは１〜１５重量％である。１重量％未満であると、ブロッキングの発生及び帯電の増加を引き起こし、３０重量％を越えるとバックコートの接着性を悪化させたりロール状に巻いた時に接触面への転写が発生したり、フィルム走行時に接触ロールの汚れを引き起こす。
内膜層Ｂ−２を形成する水溶性及び水分散性樹脂としては、前記皮膜層Ａにおいて例示した水溶性または水分散性の樹脂と同様にアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル−ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニル樹脂および塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を使用することができる。
前記水溶性または水分散性の樹脂中アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル−ポリエステル樹脂からなる群より選ばれる少くとも１種の樹脂が好ましく、これらの樹脂はセルロース系樹脂とを併用することが一層好ましい。アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル−ポリエステル樹脂の具体例としては前記皮膜層Ａで例示されたものと同じ樹脂が例示できる。セルロース樹脂を併用させることにより皮膜層Ｂ−２に多数の連続微小襞を形成することができ、フィルムの巻取り性を向上させることができる。セルロース樹脂としてエチルセルロース、メチルセルロース、アセチルセルロース、アセトアセチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテートブチレート等を例示することができる。皮膜層Ｂ−２中のセルロース含有量は層Ｂ−２に基いて５〜４０重量％、好ましくは１０〜３０重量％である。
前記皮膜層Ｂ−１およびＢ−２にはいずれも、不活性粒子が含有される。この含有される比活性粒子（“不活性粒子Ｂ”と称する）の平均粒径は２０〜１００ｎｍ、好ましくは２０〜５０ｎｍであり、含有量は１〜４０重量％、好ましくは５〜３０重量％である。粒子の平均粒径が２０ｎｍ未満、あるいは含有量が１重量％未満であると、フィルムの巻取り性、製膜工程での搬送性等の点で満足できなくなる。
一方、平均粒径が１００ｎｍを超える場合には粒子が塗膜から脱落しやすくなる。また皮膜層Ｂ中の不活性粒子Ｂの含有量が４０重量％を超える場合には皮膜層Ｂ自体の強度が低下して削れ易くなる。
皮膜層Ｂに含有する不活性粒子Ｂとしては、前記皮膜層Ａに含有する粒子同様、架橋ポリスチレン、ポリスチレン−ジビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾクアナミン樹脂等の如き有機質からなる粒子、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウム等の如き無機質からなる粒子のいずれを用いてもよい。またシェルコアの粒子であってもよい。
皮膜層Ｂは、１〜１００ｎｍの厚み、好ましくは３〜７０ｎｍの厚みが好適である。
また皮膜層Ｂを形成した面の中心線平均粗さ（Ｒａ−Ｂ）は１〜３０ｎｍ、好ましくは２〜２０ｎｍである。セルロースの含有量が５重量％未満、あるいは（Ｒａ−Ｂ）値が１ｎｍ未満の場合にはフィルムの巻取り性、製膜工程での搬送性が不足したり、ブロッキングを起こし易くなる。一方（Ｒａ−Ｂ）値が３０ｎｍを超える場合には皮膜層Ｂが削れ易くなる問題がある。
基体フィルムＣが共押出層で構成される場合には、フィルムの巻取り性および製膜工程での搬送性は、皮膜層Ｂを形成する側の表層（ＣB）に含有させる不活性粒子の種類により充分に付与できる。基体フィルムＣが単層で構成される場合と異なり、複層のときは必ずしもセルロース系樹脂を含有する必要がない。勿論、セルロース系樹脂はあってもよい。
皮膜層Ｂを形成する側の面の表層（ＣB）の基体フィルムＣに含まれる不活性粒子は単独粒子または大きさの異なる２種以上の粒子からなる。単独粒子及び２種以上の粒子の最も大きい粒子の平均粒径は１００〜１０００ｎｍ、好ましくは１００〜５００ｎｍである。この粒子の含有量は０．００１〜５．０重量％、好ましくは０．００５〜１．０重量％である。平均粒径が１００ｎｍ未満、あるいは含有量が０．００１重量％未満であると、フィルムの巻取り性、製膜工程での搬送性等が満足できず、またブロッキングを起こし易くなる。平均粒径が１０００ｎｍを超える場合、あるいは含有量が５重量％を超える場合には皮膜層Ａ側の面への突き上げ効果が著しくなり、電磁変換特性の悪化が起こる。
本発明の基体フィルムＣは、それ自体従来から知られている方法で製造することができる。
例えば、二軸配向ポリエステルフィルムで説明すると、基体フィルムＣが単層の場合、まず前記ポリエステル樹脂を口金より融点Ｔｍ℃〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフィルム状に押出した後、４０〜９０℃で急冷固化し未延伸フィルムを得る。しかる後に、該未延伸フィルムを常法に従って一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：使用樹脂のガラス転移温度）において２．５〜８．０倍の倍率、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率、で延伸し、次いで皮膜層Ａおよび皮膜層Ｂを形成する塗液をフィルム両面にそれぞれ塗布し、その後に前記方向とは直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度において２．５〜８．０倍の倍率、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率、で延伸する。更に必要に応じて縦方向及び／又は横方向に再度延伸してもよい。即ち、２段、３段、４段、或いは更に多段の延伸を行うとよい。全延伸倍率は、面積延伸倍率として通常９倍以上、好ましくは１２〜３５倍、更に好ましくは１５〜３２倍である。更に引き続いて、二軸配向フィルムを（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｇ−１０）℃の温度、例えば１８０〜２５０℃で熱固定結晶化することによって優れた寸法安定性が付与される。なお、熱固定時間は１〜６０秒間が好ましい。
基体フィルムＣが共押出法の場合、２種のポリエステル樹脂を押出口金内又は口金以前（一般に前者はマルチマニホールド方式、後者はフィードブロック方式と呼ぶ）で溶融状態にて積層複合し、好適な厚み比となして共押出をして２層積層の未延伸フィルムとし、その後は前記単層法と同様に行う。この方法により層密着性に優れた二軸配向複合フィルムが得られる。
なお、複合フィルムの製造に際し、そのポリエステル樹脂に所望により添加剤例えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの固有抵抗調整剤（制電剤）等を添加含有させることができる。
本発明の複合ポリエステルフィルムは、皮膜層Ａの表面に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法により、鉄、コバルト、クロム又はこれらを主成分とする合金もしくは酸化物より成る強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に皮膜層Ｂの表面に公知のバックコート層を設けることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることが出来る。この蒸着型電磁記録媒体は、アナログ信号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ用テープ媒体として用いることができ、極めて有用である。
本発明の複合ポリエステルフィルムは、また、皮膜層Ａの表面に、鉄又は鉄を主成分とする針状微細磁性粉をポリ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に皮膜層Ｂの表面に公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記録媒体とすることが出来る。また、必要に応じて皮膜層Ａの上に、メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等が含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することもできる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ−ＶＨＳ、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ、ディジタルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等用テープ媒体として極めて有用である。
さらに本発明の複合ポリエステルフィルムは、皮膜層Ａの表面に、酸化鉄又は酸化クロム等の針状微細磁性粉、又はバリウムフェライト等の板状微細磁性粉をポリ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一分散せしめ、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布せしめ、更に皮膜層Ｂの表面上に公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用塗布型磁気記録媒体とすることが出来る。また、必要に応じて皮膜層Ａの表面上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することも出来る。この酸化物塗布型磁気記録媒体は、ディジタル信号記録用データストリーマー用ＱＩＣ等の高密度酸化物塗布型磁気記録媒体として有用である。
［発明の効果］
本発明の複合ポリエステル樹脂フィルムは全厚みが２．５〜２０μｍ程度であり、磁気記録媒体のベースに好適に用いられる。そして磁気記録媒体としては金属薄膜型のものに有用である。また本発明の複合ポリエステルフィルム基材は磁性層の厚みが１μｍ以下の塗布型磁気記録媒体にも供し得る他に、デジタル信号記録型磁気記録媒体にも使うことができる。
本発明によれば、低帯電性、耐ブロッキング性、耐削れ性に優れ、しかも電磁変換特性、バックコートの接着性に優れた磁気記録媒体のベースフィルムとして有用な複合ポリエステルフィルムを提供することができる。
［実施例］
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明する。本発明において用いた測定法は次の通りである。
（１）粒子の平均粒径（平均粒径：０．０６μｍ以上）
島津製作所製ＣＰ−５０型セントリフューグル  パーティクル  サイズ  アナライザー（Ｃｅｎｔｒｉｆｕｇａｌ  Ｐａｒｔｉｃｌｅ  Ｓｉｚｅ  Ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（「粒度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、２４２頁〜２４７頁参照）。
（２）超微細粒子の平均粒径（平均粒径：０．０６μｍ未満）
小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、光散乱法を用いて測定する。即ち、ニコム・インスツルメンツ・インコーポレイテッド（Ｎｉｃｏｍｐ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｉｎｃ．）社製のＮＩＣＯＭＰ  ＭＯＤＥＬ  ２７０  ＳＵＢＭＩＣＲＯＮ  ＰＡＲＴＩＣＬＥ  ＳＩＺＥＲにより求められる全粒子の５０重量％の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。
（３）フィルムの表面粗さ（中心線平均粗さ：Ｒａ）
中心線平均粗さ（Ｒａ）はＪＩＳ−Ｂ６０１に準じて測定する。本発明では（株）小坂研究所の触針式表面粗さ計（ＳＵＲＦＣＯＲＤＥＲ  ＳＥ−３０Ｃ）を用い、次の条件で測定して求める。
（ａ）触針先端半径：２μｍ
（ｂ）測定圧力    ：３０ｍｇ
（ｃ）カットオフ  ：０．０８ｍｍ
（ｄ）測定長      ：８．０ｍｍ
（ｅ）データーのまとめ方：同一試料について６回繰返し測定し、最も大きい値を１つ除き、残り５つのデータを用いて平均値として中心線平均粗さ（Ｒａ）を求める。
（４）粒子突起の個数
ＳＥＭ（走査電子顕微鏡、日本電子製Ｔ−３００型）を使用して、積層フィルムの表面を倍率３万倍、角度０°で２０枚写真撮影して、粒状突起の数をカウントし、その平均値を面積換算により個／ｍｍ2当たりの突起個数として算出する。
（５）層厚
フィルムの全厚はマイクロメーターにてランダムに１０点測定し、その平均値を用いる。層厚は、厚い側の層厚を以下に述べる方法にて測定し、また厚い側の層厚は全厚より薄い側の層厚に引き算して求める。即ち、二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ５０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度比（Ｍ＋／Ｃ＋  ）を粒子濃度とし、表面から深さ５０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では当然粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦安定値１になった後、上昇或いは減少して安定値２になる場合と、単調に減少する場合とがある。この分布曲線をもとに、前者の場合は（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、また後者の場合は粒子濃度が安定値１の１／２になる深さ（この深さは安定値１を与える深さよりも深い）をもって、当該層の層厚とする。
二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）：ＰＥＲＫＩＮ  ＥＬＭＥＲ社製  ６３００の測定条件は下記の通りである。
一次イオン種  ：Ｏ2+
一次イオン加速電圧：１２ＫＶ
一次イオン電流：２００ｍＡ
ラスター領域  ：４００μｍ□
分析領域      ：ゲート３０％
測定真空度    ：６．０×１０-9Ｔｏｒｒ
Ｅ−ＧＵＮＮ  ：０．５ＫＶ−３．０Ａ
尚、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多く含有する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）等で上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を求める。
以上は共押出層の場合に有効な測定方法であって、塗布層の場合はフィルムの小片のエポキシ樹脂にて固定形成し、ミクロトームにて約６０ｎｍの厚みの超薄切片（フィルムの流れ方向に平行に切断する）を作成し、この試料を透過型電子顕微鏡（日立製作所製Ｈ−８００型）にて観察し、層の境界面より層厚みを求める。
（６）転写異物頻度
張力：１．７×１０6ｋｇ／ｍ2、接圧１．５×１０7ｋｇ／ｍ2の条件で幅３００ｍｍ×５０００ｍのサイズのスリットを行ったフィルムロールを１０-5ｔｏｒｒ×３時間条件の真空下において、フィルム間の空気をぬいてフィルムを密着させた後、ロールを切り開いて、巻芯部のポリエステルフィルムをサンプリングし、ポリエステルフィルムの皮膜層Ａの表面に真空蒸着法により傾斜角４５°の角度から０．２μｍの厚みになるようにアルミニウム薄膜を形成し、透過顕微鏡にて倍率４０００倍で１ｃｍ2を走査観察し、突起の影による非蒸着部の最大長さ（突起高さに相当）が０．２ｍｍ以上の透過光の個数をカウントする。（即ち、高さが０．２ｍｍ／４００＝０．５μｍ以上の粗大な転写異物頻度をカウント。）
尚、評価は下記基準で実施する。
○：２０個／ｃｍ2未満
△：２０〜５０個／ｃｍ2
×：５０個以上／ｃｍ2
（７）帯電性
ポリエステルフィルム（１０μｍ×５００ｍｍ×３０００ｍ）を２３℃において７５％ＲＨの雰囲気下で１５０ｍ／ｍｉｎのスピードで巻き返し、そのロールの剥離帯電量をヒューグルエレクトロニクス（株）製のデジタル式試験電気測定器Ｍｏｄｅｌ−２０３を用いて測定する。
○：２．５ｋｖ未満
△：２．５〜５．０ｋｖ
×：５．０ｋｖ以上
（８）ブロッキング
２枚のフィルムの処理面と被処理面を重ね合わせ、これに１５０ｋｇ／ｃｍ2の圧力を６０℃において８０％ＲＨの雰囲気下６５時間かけた後剥離し、その剥離力で評価する（５ｃｍ当たりのｇ数）。
なお、評価は剥離力から下記の基準で行う。
○：０〜１０ｇ／ｃｍ未満
△：１０ｇ／ｃｍ以上〜１５ｇ／ｃｍ未満
×：１５ｇ／ｃｍ以上〜破れ
（９）耐削れ性
フィルムを２５〜３０ｃｍ長さ、幅１／２インチにサンプリングし、レザー刃を皮膜層Ｂの面に対し９０°の角度、深さ０．５ｍｍの条件であてがい、荷重５００ｇ／０．５インチ、速度６．７ｃｍ／ｓｅｃで走行させたときに、レザー刃に付着した削れ粉の深さ方向の幅を顕微鏡写真撮影（×１６０倍）して求めた。削れ粉の深さ方向の幅が３μｍ以下を（◎）、３〜５μｍを（○）、５μｍ以上を（×）とする。削れ粉の深さ方向の幅が小さいほど削れ性に優れている。
（１０）磁気テープの製造及び特性評価
積層フィルムの皮膜層Ｂの表面に、真空蒸着法により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．０２μｍの厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成し、その表面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、更に含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に皮膜層Ｂの表面に下記組成のバックコート層を塗布、乾燥して設ける。
乾燥後のバックコート層の厚みは０．８μｍとした。
バックコート層組成：
カーボンブラック                １００重量部
熱可塑性ポリウレタン              ６０重量部
イソシアネート化合物（日本ポリ    １８重量部
ウレタン工業社製コロネートＬ）
シリコーンオイル                ０．５重量部
メチルエチルケトン              ２５０重量部
その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍビデオカセットにローディングする。次いで、以下の市販の機器を用いてテープの特性を測定する。
使用機器：
８ｍｍビデオテープレコーダー：ソニー（株）製ＥＤＶ−６０００
Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーター
▲１▼Ｃ／Ｎ測定
記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、相対値で表す。
○：０ｄＢ以上
△：−３〜０ｄＢ
×：−３ｄＢ以下
▲２▼ドロップアウト（Ｄ／Ｏ）測定
ドロップアウトカウンターを用いて、１５μｓ／１８ｄＢにて１分間当たりの個数を測定する。
○：０〜２０個／分
△：２０〜５０個／分
×：５０個以上／分
▲３▼バックコート接着性
バックコートにスコッチテープ  Ｎｏ．６００（３Ｍ社製）巾１９．４ｍｍ、長さ８ｃｍを気泡が入らないように貼着し、この上をＪＩＳ．Ｃ２７０１（１９７５）記載の手動式荷重ロールでならし貼着積層部５ｃｍ間を東洋ボードウイン社製テンシロンＵＭ−１１を使用してヘッド速度３００ｍｍ／分で、この試料をＴ字剥離し、この際の剥離強さを求め、これをテープ巾で除してｇ／ｃｍとして求める。なおＴ型剥離において積層体はテープ側を下にして引取り、チャック間を５ｃｍとする。
なお評価は剥離強度から下記の基準で行う。
○：５０ｇ／ｃｍ以上
△：２０ｇ／ｃｍ以上〜５０ｇ／ｃｍ2未満
×：２０ｇ／ｃｍ未満
［実施例１］
２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルとエチレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を、添加して常法により重合し、実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）を得た。
このポリエチレン−２，６−ナフタレートを１７０℃で６時間乾燥後、押出機に供給し、溶融温度２８０〜３００℃にて溶融して、ダイよりシート状に押出し、急冷して厚さ８２μｍの未延伸フィルムを得た。
得られた未延伸フィルムを予熱し、更に低速・高速のロール間でフィルム温度９５℃にて縦方向に３．５倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フィルムの一方の面に表１の皮膜層Ａの組成の水溶性塗液を、他の面に皮膜層Ｂの水溶性塗液を各々０．００９μｍおよび０．０３５μｍ（延伸乾燥後）の厚みになるよう塗布し、続いてステンターに供給し、１５０℃にて横方向に５．６倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２００℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み４．９μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。その結果を下記表１に示す。
［実施例２・３および比較例１〜５］
皮膜層Ａと皮膜層Ｂの組成を表１のように変更する以外は実施例１と同様の方法でポリエステルフィルムを得た。その結果をまとめて下記表１に示す。
表１から明らかなように、本発明による複合ポリエステルフィルムは低帯電性、耐ブロッキング性、物質転写の抑制効果に優れ、磁気記録媒体として用いられる場合に電磁変換特性、ドロップアウト特性、バックコート接着性に極めて優れる。これに対し、本発明の要件を満たさないものはこれらの特性を同時に満足することはできないことがわかる。
0003746791.tif 000004
0003746791.tif 000005
［参考例］
ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を、添加して常法により重合し、実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレンテフタレート（ＰＥＴ）を得た。
このポリエチレンテレフタレートを１７０℃で３時間乾燥後、押出機に供給し、溶融温度２８０〜３００℃にて溶融して、ダイよりシート状に押出し、急冷して厚さ８２μｍの未延伸フィルムを得た。
得られた未延伸フィルムを予熱し、更に低速・高速のロール間でフィルム温度９５℃にて縦方向に３．２倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フィルムの一方の表面に表２および表３に示す皮膜層Ａの組成の水溶性塗液を、他の表面に皮膜層Ｂの組成の水溶性塗液を各々０．００９μｍおよび、０．０３５μｍ（延伸乾燥後）の厚みになるよう塗布し、続いてステンターに塗布し、１１０℃にて横方向に４．１倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み５．９μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。その結果を下記表２および表３に示す。
［比較例６〜８］
皮膜層Ａと皮膜層Ｂの組成、表２および表３のように変更する以外は実施例４と同様の手法で二軸配向ポリエステルフィルムを得た。その結果を下記表２および表３に示す。
［実施例５および比較例９］
表２および表３に示す熱可塑性樹脂層の第一層、第二層用のポリエチレンテレフタレートをそれぞれ２台の押出機に供給して、マルチマニホールド型共押出ダイを用いて積層し、表２の組成の皮膜層Ａを水性塗液を第一層側の面に、皮膜層Ｂの水性塗液を第二層側の面に塗布する以外は実施例４と同様の方法で二軸配向ポリエステルフィルムを得た。その結果を下記表２および表３に示す。
［実施例６および、比較例１０］
表２および表３に示す粒子を用い、かつジメチルテレフタレートの代わりに２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルを同モル量使用した以外は実施例４と同様の方法でポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）を得た。
このポリエチレン−２，６−ナフタレートを１７０℃で６時間乾燥後、実施例４と同様にして、各実施例および比較例を満たす未延伸フィルムを得た。
得られた未延伸フィルムを予熱し、更に低速・高速のロール間でフィルム温度９５℃にて縦方向に３．５倍に延伸し、急冷し、次いで表２および表３に示す皮膜層Ａ及び皮膜層Ｂの水性塗液を実施例４と同様に塗布し、続いてステンターに供給し、１５５℃にて横方向に５．６倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２００℃の熱風で４秒間熱固定し、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。その結果を下記表２および表３に示す。
［実施例７および比較例１１］
表２および表３に示すようにポリエチレン−２，６−ナフタレートを共押出にて積層する以外は実施例６と同様の方法で二軸配向ポリエステルフィルムを得た。その結果を下記表２および表３に示す。
表３から明らかなように、本発明による熱可塑性樹脂フィルムは低帯電性、耐ブロッキング性、耐削れ性に優れ、磁気記録媒体として用いられる場合に電磁変換特性、バックコート接着性に極めて優れる。これに対し、本発明の要件を満たさないものはこれらの特性を同時に満足することはできない。
0003746791.tif 000006
0003746791.tif 000007
0003746791.tif 000008