(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内の下部に設けられた真空処理手段と、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回して回転する冷却ロールと、同冷却ロールの上方で薄帯状基板を巻回して回転する大径シールロールとを具備した連続真空処理装置において、上記冷却ロールと上記大径シールロールとの間の入側および出側の両方に、上記薄帯状基板を巻回して回転する張力検出ロール、上記薄帯状基板の張力を同張力検出ロールによって検出しながら、上記冷却ロールの周速よりも周速を低下させる入側の張力付与ロールおよび上記冷却ロールの周速よりも周速を上昇させる出側の張力付与ロールを備え、上記大径シールロールの上方の入側および出側の両方に、前記薄帯状基板を巻回して回転する上部張力検出ロール、上記薄帯状基板の張力を同上部張力検出ロールによって検出しながら、上記大径シールロールの周速よりも周速を低下させる入側の上部張力付与ロール及び上記大径シールロールの周速よりも周速を上昇させる出側の上部張力付与ロールを備えたことを特徴とする連続真空処理装置。
【請求項２】
真空容器内の下部に設けられた真空処理手段と、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回して回転する冷却ロールと、同冷却ロールの上方で前記薄帯状基板を巻回して回転する大径シールロールとを具備した連続真空処理装置おいて、上記大径シールロールの外周面に形成された大気側減圧室と、上記冷却ロールと上記大径シールロールとの間で上記薄帯状基板の入側部および出側部をそれぞれ巻回して回転する複数の入側の小径シールロールおよび出側の小径シールロールと、それら小径シールロールと上記大径シールロールとの間に形成された中間減圧室と、上記入側の各小径シールロールおよび上記出側の各小径シールロールの外周面とそれぞれ対向して設けられた複数のシールバーと、同シールバー間に形成された真空側減圧室とを備えたことを特徴とする連続真空処理装置。
【請求項３】
下部に真空処理手段が設けられ、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回して回転する冷却ロール及び上記薄帯状基板を巻回して回転する大径シールロールの外周に沿って設けられたケーシングに、上記大径シールロールと微小間隙をあけて複数のシールバーを設けて複数の減圧室を形成し、それら減圧室を順次真空排気するようにした連続真空処理装置において、上記減圧室のうち少なくとも１室内に、上記大径シールロールに巻回されて走行する上記薄帯状基板を所定距離だけ上記大径シールロールから浮上させて走行させる浮上ロールを備えたことを特徴とする連続真空処理装置。
【請求項４】
真空容器内の下部に設けられた真空処理手段と、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回して回転する冷却ロールと、同冷却ロールの上方で薄帯状基板を巻回して回転する大径シールロールとを具備し、上記大径シールロールの外周に沿って設けられたケーシングに、上記大径シールロールと微小間隙をあけて複数のシールバーを設けて複数の減圧室を形成し、それら減圧室を順次真空排気するようにした連続真空処理装置において、上記冷却ロールと上記大径シールロールとの間の入側および出側の両方に設けられ、上記薄帯状基板を巻回して回転する張力付与ロールおよび張力検出ロールと、上記大径シールロールの外周面に形成された大気側減圧室と、上記冷却ロールと上記大径シールロールとの間で上記薄帯状基板の入側部および出側部をそれぞれ巻回して回転する複数の入側の小径シールロールおよび出側の小径シールロールと、それら小径シールロールと上記大径シールロールとの間に形成された中間減圧室と、上記入側の各小径シールロールおよび上記出側の各小径シールロールの外周面とそれぞれ対向して設けられた複数のシールバー間にそれぞれ形成された真空側減圧室と、上記大気側減圧室のうち少なくとも一室内に設けられ、上記大径シールロールに巻回されて走行する上記薄帯状基板を所定距離だけ上記大径シールロールから浮上して走行させる浮上ロールとを備えたことを特徴とする連続真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、真空容器内で走行するプラスティック、金属等の薄帯状基板に対して真空蒸着、スパッタ、イオンプレーティング、イオンボンバード、プラズマ表面処理、真空乾燥等を行なう連続真空処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図７は従来の連続真空処理装置の一例を示す縦断面図である。まず真空排気装置（０５）によって、シールバー（０２）で分割された減圧室（０３）を順次減圧し、また真空処理室（０４）内を真空にする。その後、薄帯状基板（９）をガイドロール（０８）から真空チャンバ（０１）内に搬入して、大径シールロール（０６）および冷却ロール（０７）に巻回し、真空チャンバ（０１）の上方出側からガイドロール（０８）によって搬出する。そして、大径シールロール（０６）および冷却ロール（０７）を回転して薄帯状基板（９）を走行させながら、真空処理室（０４）内で、例えば、るつぼ（１０）内の被蒸着金属（１１）を誘導加熱コイル（１２）によって加熱して蒸発させ、その蒸気を、冷却ロール（０７）に巻回されて冷却された薄帯状基板（９）上に蒸着して金属薄膜を成形する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
前記した従来の連続真空処理装置においては、薄帯状基板（９）が大気中からガイドロール（０８）を経て真空チャンバ（０１）内に導入される際、この薄帯状基板の運動に付随して空気が装置内に持ち込まれる。こうして持ち込まれた空気のうち、ケーシング側の空気は減圧室（０３）を排気する際に排出されるが、大径シールロール（０６）側の空気は薄帯状基板（９）と大径シールロール（０６）との間に挟み込まれる。この空気は、薄帯状基板（９）が大径シールロール（０６）と接触している間は、大部分が大径シールロール（０６）と薄帯状基板（９）との間に残留し、薄帯状基板（９）が大径シールロール（０６）から離れる際に、真空処理室（０４）内に放出されて真空処理室（０４）の気圧を上昇させる。
【０００４】
それでも薄帯状基板（９）の搬入速度が一定であれば、真空処理室（０４）の気圧は安定するが、この搬入速度を変更すると、真空処理室（０４）内へ持込まれる空気の量が変化するので、真空処理室（０４）の気圧は大きく変化する。したがって、被蒸着金属（１１）を薄帯状基板（９）に蒸着させる等の処理を安定して行なうことが困難になる。
【０００５】
また、薄帯状基板（９）が各減圧室（０３）を通過する際に空気が挟み込まれていると、薄帯状基板（９）の両面間で圧力差が生じて薄帯状基板（９）が大径シールロール（０４）の表面から浮き上り、シールバー（０２）に接触して摺りキズが発生する。
【０００６】
大径シールロール（０６）や冷却ロール（０７）に対する薄帯状基板（９）の密着度を高めれば、上記のような空気の挟み込みがなくなって真空チャンバ（０４）内の気圧上昇を防止でき、また冷却ロール（０７）に巻回された薄帯状基板（９）の冷却も促進される。ところが前述した従来の連続真空処理装置では、大径シールロール（０６）と冷却ロール（０７）の周速は同一にする必要があるので、真空チャンバ（０１）内における薄帯状基板（９）の走行速度と張力はどこも同一になる。したがって薄帯状基板（９）の上記密着度を高めることは困難である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は前記従来の課題を解決するために、次の１）ないし４）に示された連続真空処理装置を提案するものである。
【０００８】
１）真空容器内の下部に設けられた真空処理手段と、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回して回転する冷却ロールと、同冷却ロールの上方で薄帯状基板を巻回して回転する大径シールロールとを具備した連続真空処理装置において、上記冷却ロールと上記大径シールロールとの間の入側および出側の両方に、上記薄帯状基板を巻回して回転する張力検出ロール、上記薄帯状基板の張力を同張力検出ロールによって検出しながら、上記冷却ロールの周速よりも周速を低下させる入側の張力付与ロールおよび上記冷却ロールの周速よりも周速を上昇させる出側の張力付与ロールを備え、上記大径シールロールの上方の入側および出側の両方に、前記薄帯状基板を巻回して回転する上部張力検出ロール、上記薄帯状基板の張力を同上部張力検出ロールによって検出しながら、上記大径シールロールの周速よりも周速を低下させる入側の上部張力付与ロール及び上記大径シールロールの周速よりも周速を上昇させる出側の上部張力付与ロールを備えたことを特徴とする連続真空処理装置。
【００１０】
２）真空容器内の下部に設けられた真空処理手段と、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回して回転する冷却ロールと、同冷却ロールの上方で前記薄帯状基板を巻回して回転する大径シールロールとを具備した連続真空処理装置おいて、上記大径シールロールの外周面に形成された大気側減圧室と、上記冷却ロールと上記大径シールロールとの間で上記薄帯状基板の入側部および出側部をそれぞれ巻回して回転する複数の入側の小径シールロールおよび出側の小径シールロールと、それら小径シールロールと上記大径シールロールとの間に形成された中間減圧室と、上記入側の各小径シールロールおよび上記出側の各小径シールロールの外周面とそれぞれ対向して設けられた複数のシールバーと、同シールバー間に形成された真空側減圧室とを備えたことを特徴とする連続真空処理装置。
【００１１】
３）  下部に真空処理手段が設けられ、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回して回転する冷却ロール及び上記薄帯状基板を巻回して回転する大径シールロールの外周に沿って設けられたケーシングに、上記大径シールロールと微小間隙をあけて複数のシールバーを設けて複数の減圧室を形成し、それら減圧室を順次真空排気するようにした連続真空処理装置において、上記減圧室のうち少なくとも１室内に、上記大径シールロールに巻回されて走行する上記薄帯状基板を所定距離だけ上記大径シールロールから浮上させて走行させる浮上ロールを備えたことを特徴とする連続真空処理装置。
【００１２】
４）真空容器内の下部に設けられた真空処理手段と、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回して回転する冷却ロールと、同冷却ロールの上方で薄帯状基板を巻回して回転する大径シールロールとを具備し、上記大径シールロールの外周に沿って設けられたケーシングに、上記大径シールロールと微小間隙をあけて複数のシールバーを設けて複数の減圧室を形成し、それら減圧室を順次真空排気するようにした連続真空処理装置において、上記冷却ロールと上記大径シールロールとの間の入側および出側の両方に設けられ、上記薄帯状基板を巻回して回転する張力付与ロールおよび張力検出ロールと、上記大径シールロールの外周面に形成された大気側減圧室と、上記冷却ロールと上記大径シールロールとの間で上記薄帯状基板の入側部および出側部をそれぞれ巻回して回転する複数の入側の小径シールロールおよび出側の小径シールロールと、それら小径シールロールと上記大径シールロールとの間に形成された中間減圧室と、上記入側の各小径シールロールおよび上記出側の各小径シールロールの外周面とそれぞれ対向して設けられた複数のシールバー間にそれぞれ形成された真空側減圧室と、上記大気側減圧室のうち少なくとも一室内に設けられ、上記大径シールロールに巻回されて走行する上記薄帯状基板を所定距離だけ上記大径シールロールから浮上して走行させる浮上ロールとを備えたことを特徴とする連続真空処理装置。
【００１３】
【作用】
前記解決手段１）においては、冷却ロールと大径シールロールとの間の入側および出側の両方に、薄帯状基板を巻回して回転する張力付与ロールおよび張力検出ロールが設けられているので、各張力検出ロールで薄帯状基板の張力を計測しつつ、入側の張力付与ロールの周速を冷却ロールの周速よりも低下させるとともに、出側の張力付与ロールの周速を冷却ロールの周速よりも上昇させ、入側の張力付与ロールと冷却ロールの入側との間の薄帯状基板の張力および出側の張力付与ロールと冷却ロールの出側との間の薄帯状基板の張力を任意に設定して、冷却ロールに対する薄帯状基板の密着度を向上させ薄帯状基板の冷却効果を高めることができる。
【００１４】
更に、大径シールロールの上方の入側および出側の両方に、前記薄帯状基板を巻回して回転する上部張力付与ロールおよび上部張力検出ロールが設けられているので、各張力検出ロールで薄帯状基板の張力を計測しつつ、入側の上部張力付与ロールの周速を大径シールロールの周速よりも低下させるとともに、出側の上部張力付与ロールの周速を大径シールロールの周速よりも上昇させ、入側の上部張力付与ロールと張力付与ロールとの間の薄帯状基板の張力および出側の上部張力付与ロールと張力付与ロールとの間の薄帯状基板の張力を任意に設定して、大径シールロールに対する薄帯状基板の密着度を向上させ、薄帯状基板と大径シールロールとの間の空気の挟み込みを防止することができる。また薄帯状基板と大径シールロールとの密着度向上により、大気と真空室との境界における薄帯状基板のバタツキも防止される。
【００１５】
また前記解決手段２）においては、大径シールロールの外周面に形成された大気側減圧室と、冷却ロールと上記大径シールロールとの間で薄帯状基板の入側部および出側部をそれぞれ巻回して回転する複数の入側の小径シールロールおよび出側の小径シールロールと、それら小径シールロールと上記大径シールロールとの間に形成された中間減圧室と、上記入側の各小径シールロールおよび上記出側の各小径シールロールの外周面とそれぞれ対向して設けられた複数のシールバーと、同シールバー間に形成された真空側減圧室とを有するので、真空容器の上方入側に搬入される薄帯状基板と大径シールロールとの間に挟み込まれた空気は、薄帯状基板が大径シールロールと離れたときに中間減圧室に持込まれて排出され、さらに真空側減圧室で減圧される。したがって、薄帯状基板の搬入速度を変更して空気の持ち込み量が変化しても、真空処理室内の気圧は変化しなくなる。
【００１６】
更に前記解決手段３）においては、減圧室のうち少なくとも１室内に、大径シールロールに巻回されて走行する薄帯状基板を所定距離だけ上記大径シールロールから浮上させて走行させる浮上ロールが設けられているので、大気中からケーシング内に導入され、大径シールロールに巻回されて走行する薄帯状基板は、減圧室に設けられた浮上ロールを通過する際に、大径シールロール面から浮上して正常に走行する。したがって、薄帯状基板に付随して持ち込まれた大径シールロールとの間の残留空気はその減圧室の雰囲気圧力に開放されて、薄帯状基板両面間の圧力差が非常に小さくなり、その圧力差に基づいて薄帯状基板が大径シールロール面から浮上ることがなくなる。また、最終段まで持ち込まれる残留空気はごく僅かとなり、この残留空気を開放しても最終段（処理室）圧力に変動は生じない。
【００１７】
そして前記解決手段４）においては、冷却ロールと大径シールロールとの間の入側および出側の両方に設けられ、薄帯状基板を巻回して回転する張力付与ロールおよび張力検出ロールと、上記大径シールロールの外周面に形成された大気側減圧室と、上記冷却ロールと上記大径シールロールとの間で上記薄帯状基板の入側部および出側部をそれぞれ巻回して回転する複数の入側の小径シールロールおよび出側の小径シールロールと、それら小径シールロールと上記大径シールロールとの間に形成された中間減圧室と、上記入側の各小径シールロールおよび上記出側の各小径シールロールの外周面とそれぞれ対向して設けられた複数のシールバー間にそれぞれ形成された真空側減圧室と、上記大気側減圧室のうち少なくとも一室内に設けられ、上記大径シールロールに巻回されて走行する上記薄帯状基板を所定距離だけ上記大径シールロールから浮上して走行させる浮上ロールとを備えているので、前記解決手段１），２），３）の作用がすべて生じる。
【００１８】
〔検討例〕
図１は本発明の検討例の連続真空蒸着装置を示す縦断面図である。この図において、（１）は真空チャンバであり、その内部の上部には大径シールロール（６）が、下部には冷却ロール（７）がそれぞれ設けられている。冷却ロール（７）の更に下方にはるつぼ（１０）および誘導加熱コイル（１２）が置かれている。大径シールロール（６）と冷却ロール（７）との間には、張力検出ロール（１３ａ），（１３ｂ）と回転速度を調節できる入側張力付与ロール（１４ａ）、出側張力付与ロール（１４ｂ）が設けられている。真空チャンバ（１）の上部内面にはシールバー（２）が大径シールロール（６）の外周面および図示しない両側面と対向して設けられ、真空チャンバ（１）と各シールバー（２）と大径シールロール（６）の入側、出側および図示しない両側面とによって、複数の減圧室（３）が形成されている。これらの減圧室（３）は、真空排気装置（５）に連結されている。（８），（１５）はガイドロールである。
【００１９】
薄帯状基板（９）をガイドロール（８）から真空チャンバ（１）の上部入側に搬入し、大径シールロール（６）の入側、入側張力付与ロール（１４ａ）、冷却ロール（７）、出側張力付与ロール（１４ｂ）および大径シールロール（６）の出側に巻回す。そしてこれらのロール（６），（７），（１４ａ），（１４ｂ）を回転して薄帯状基板（９）を走行させながら、るつぼ（１０）内の被蒸着金属（１１）を誘導加熱コイル（１２）によって加熱して蒸発させ、その蒸気を冷却ロール（７）に巻回されて冷却された薄帯状基板（９）上に蒸着して金属薄膜を成形し、真空チャンバ（１）の上部出側からガイドロール（８）によって搬出する。このとき、入側張力付与ロール（１４ａ）および出側張力付与ロール（１４ｂ）と大径シールロール（６）との間の薄帯状基板（９）の張力を張力検出ロール（１３ａ），（１３ｂ）によって検出しながら、入側張力付与ロール（１４ａ）の周速を冷却ロール（７）の周速よりも低下させるとともに、出側張力付与ロール（１４ｂ）の周速を冷却ロール（７）の周速よりも上昇させ、薄帯状基板（９）の入側張力付与ロール（１４ａ）と冷却ロール（７）との間の張力および出側張力付与ロール（１４ｂ）と冷却ロール（７）との間の張力を任意に設定して、冷却ロール（７）に対する薄帯状基板（９）の密着度を向上させ、薄帯状基板（９）の冷却効果を高める。
【００２０】
上記のように本検討例においては、冷却ロール（７）と大径シールロール（６）との間の入側および出側に薄帯状基板（９）を巻回して回転する張力付与ロール（１４ａ），（１４ｂ）を設け、入側の張力付与ロール（１４ａ）の周速を冷却ロール（７）の周速よりも低下させるとともに、出側に張力付与ロール（１４ｂ）の周速を冷却ロール（７）の周速よりも上昇させることにより、薄帯状基板（９）の他の部分の張力を変化させることなく、入側の張力付与ロール（１４ａ）および出側の張力付与ロール（１４ｂ）と冷却ロール（７）との間の張力を任意に設定して、冷却ロール（７）に対する薄帯状基板（９）の密着度を向上することができる。したがって、薄帯状基板（９）の蒸着部の冷却効果を高めることができるので、被蒸着物（１１）の蒸着効率を向上させることができる。
【００２１】
〔第１実施例〕
図２は本発明の第１実施例の連続真空蒸着装置を示す縦断面図である。この実施例では、前記検討例における真空チャンバ（１）の上方外部のガイドロール（８）の代わりに上部入側張力付与ロール（１７ａ）、上部出側張力付与ロール（１７ｂ）および張力検出ロール（１６ａ），（１６ｂ）が配設されている。被蒸着金属（１１）を薄帯状基板（９）に真空蒸着するに際しては、上部入側張力付与ロール（１７ａ）と入側張力付与ロール（１４ａ）との間の薄帯状基板（９）の張力および上部出側張力付与ロール（１７ｂ）と出側張力付与ロール（１４ｂ）との間の薄帯状基板（９）の張力を張力検出ロール（１６ａ），（１６ｂ）によって検出しながら、上部入側張力付与ロール（１７ａ）の周速を大径シールロール（６）の周速よりも低下させるとともに、上部出側張力付与ロール（１７ｂ）の周速を大径シールロール（６）の周速よりも上昇させる。こうして上部入側張力付与ロール（１７ａ）と入側張力付与ロール（１４ａ）との間および上部出側張力付与ロール（１７ｂ）と出側張力付与ロール（１４ｂ）との間の薄帯状基板（９）の張力を任意に設定して、大径シールロール（６）に対する薄帯状基板（９）の密着度を向上させ、薄帯状基板（９）と大径シールロール（６）との間に空気が挟み込まれるのを防止する。
【００２２】
上記のとおり本実施例においては、大径シールロール（６）の上方の入側および出側に薄帯状基板（９）を巻回して回転する上部張力付与ロール（１７ａ），（１７ｂ）を設け、入側の上部張力付与ロール（１７ａ）の周速を大径シールロール（６）の周速よりも低下させるとともに、出側の上部張力付与ロール（１７ｂ）の周速を大径シールロール（６）の周速よりも上昇させることにより、前記検討例の効果に加え、薄帯状基板（９）の真空チャンバ（１）外の張力を変化させることなく、入側の上部張力付与ロール（１７ａ）と張力付与ロール（１４ａ）との間の張力および出側の上部張力付与ロール（１７ｂ）と張力付与ロール（１４ｂ）との間の張力を任意に設定して、大径シールロール（６）に対する薄帯状基板（９）の密着度を向上させることができる。したがって、薄帯状基板（９）と大径シールロール（６）との間に空気が挟み込まれて真空チャンバ（１）内の気圧が上昇するのを防止することができる。また薄帯状基板（９）と大径シールロール（６）との密着度が高いと、大気と真空室との境界で生じやすい薄帯状基板（９）のバタツキも防止される。
【００２３】
〔第２実施例〕
図３は本発明の第２実施例に係る連続真空蒸着処理装置を示す縦断面図である。この実施例においても、前記検討例および第１実施例と同様、真空チャンバ（１）内の上部に大径シールロール（６）が、下部に冷却ロール（７）がそれぞれ設けられ、冷却ロール（７）の更に下方の真空処理室（４）内にるつぼ（１０）および誘導加熱コイル（１２）が設けられている。また真空チャンバ（１）の上部内面には、大径シールロール（６）の外周面および図示しない両側面と対向してシールバー（２）が設けられ、真空チャンバ（１）と各シールバー（２）と大径シールロール（６）の外周面および図示しない両側面とによって複数の大気側減圧室（３）が形成されている。
【００２４】
本実施例では、大径シールロール（６）と冷却ロール（７）との間に、複数組の小径シールロール（２１ａ），（２１ｂ）が取付けられている。また真空チャンバ（１）の中間部内面には、小径シールロール（２１ａ），（２１ｂ）の外周面と対向してシールバー（１８）が設けられ、中間減圧室（１９）と真空側減圧室（２０）が形成されている。これらの大気側減圧室（３）、中間減圧室（１９）および真空側減圧室（２０）は、真空排気装置（５）に連結されている。（８），（１５）はガイドロールである。
【００２５】
薄帯状基板（９）をガイドロール（８）から真空チャンバ（１）の上部入側に搬入し、大径シールロール（６）の入側、入側の小径シールロール（２１ａ）、ガイドロール（１５）、冷却ロール（７）、ガイドロール（１５）、出側の小径シールロール（２１ｂ）、大径シールロール（６）の出側に巻回し、ガイドロール（８）から真空チャンバ（１）の上方出側に搬出する。そしてこれらのロール（６），（２１ａ），（７），（２１ｂ）を回転して薄帯状基板（９）を走行させながら、真空処理室（４）のるつぼ（１０）内の被蒸着金属（１１）を誘導加熱コイル（１２）によって加熱して蒸発させ、その蒸気を、冷却ロール（７）に巻回されて冷却された薄帯状基板（９）上に蒸着して金属薄膜を成形する。このとき、真空チャンバ（１）の上方入側に搬入される薄帯状基板（９）と大径シールロール（６）との間には空気が挟み込まれるが、この空気は薄帯状基板（９）が大径シールロール（６）から離れたときに中間減圧室（１９）に持込まれ、真空排気装置（５）によって排出される。更に真空側減圧室（２０）も減圧されるので、薄帯状基板（９）の搬入速度の変更により空気の持ち込み量が変化しても、真空処理室（４）の気圧は変化しない。
【００２６】
上記のとおり本実施例では、冷却ロール（６）と大径シールロール（７）との間に複数の小径シールロール（２１ａ），（２１ｂ）を設け、大気側減圧室（３）の下方に中間減圧室（１９）と真空側減圧室（２０）を設けたことにより、薄帯状基板（９）を大径シールロール（６）に巻回して真空容器（１）内に搬入する際にこの薄帯状基板（９）と大径シールロール（６）との間に挟み込まれた空気が、薄帯状基板（９）が大径シールロール（６）から離れる時に中間減圧室（１９）に持込まれて排出され、更に真空側減圧室（２０）でも減圧されるので、薄帯状基板（９）の搬入速度が変更されて空気の持ち込み量が変化しても、真空処理室（４）の気圧を一定に保持することができる。したがって、薄帯状基板（９）に対して真空蒸着等の真空処理を安定して行なうことができ、真空処理による製品の精度と品質を向上させることができる。
【００２７】
〔第３実施例〕
図４は本発明の第３実施例に係る連続真空処理装置の上部を示す縦断面図である。本実施例では、真空チャンバ（１）のケーシングとシールバー（２）と大径シールロール（６）の入側と図示しない両側面とによって形成された複数段（図示例では６段）の減圧室（３）のうち、特定段（図示例では２段目と５段目）の減圧室に複数（例えば３組）のロール（２２ａ），（２２ｂ），（２２ｃ）から成る浮上ロール（２２）が設けられていて、薄帯状基板（９）をこれらのロール（２２ａ），（２２ｂ），（２２ｃ）を経由して走行させれば、その区間だけ薄帯状基板（９）が大径シールロール（６）の表面から浮上して走行するようになっている。また、各段の減圧室（３）に真空排気装置（５）に連通する真空配管が接続されていて、その真空排気装置（５）を稼動することにより各段の減圧室（３）を段階的に減圧することができることは、前記検討例ないし第２の実施例と同様である。
【００２８】
本実施例においては、薄帯状基板（９）が大気中からガイドロール（８）を経て真空チャンバ（１）内に導入される際に薄帯状基板（１）と大径シールロール（６）との間に挟み込まれた空気は、浮上ロール（２２）が設置された減圧室（図４の２段目と５段目）（３）を通過する時に、その減圧室（３）の雰囲気圧力に開放される。したがって、薄帯状基板（９）の両面間に生ずる圧力差は微小となり、薄帯状基板（９）は大径シールロール（６）の表面から浮上ることなく、正常状態で真空処理室へ送り込まれる。また、真空処理室へ搬入される空気量も減少する。
【００２９】
図５は、上記した浮上ロール（２２）の効果を調査し、従来装置と比較してグラフ化したものである。この図から分るように、浮上ロールのない従来の装置でも２段目と５段目に浮上ロールを設置した本実施例の装置でも、減圧室の圧力はほぼ同じ傾向で順次段階的に下降して最終真空圧に近づいて行く。これに対し、薄帯状基板（９）と大径シールロール（０６）、（６）の間の圧力は、従来のものと本実施例とでその傾向が著しく異っている。
【００３０】
すなわち従来の装置では、薄帯状基板（９）の導入時に持ち込まれた空気が薄帯状基板（９）と大径シールロール（０６）との間に残留して、その間の圧力は１段目から６段目に至る間で僅かに減小しているだけであった。そのため薄帯状基板−大径シールロール間の圧力と減圧室（０３）圧力との差が次第に大きくなり、遂には薄帯状基板（９）が大径シールロール（０６）の表面から浮上する現象が起きていた。また、薄帯状基板（９）が６段目を過ぎて大径シールロール（０６）の表面から離れる時に、残留空気が開放されて薄帯状基板−大径シールロール間の圧力は急降下するが、この時その影響を受けて処理室（０４）内の圧力が大きく変動している。
【００３１】
一方、本実施例の装置では、薄帯状基板（９）と大径シールロール（６）との間の残留空気が２段目と５段目の減圧室（３）に設けられた浮上ロール（２２）を通過する際に減圧室（３）内に開放されるので、薄帯状基板（９）の両面間の差圧は全体を通して非常に小さく、したがってその差圧によって薄帯状基板（９）が大径シールロール（６）の表面から浮上することがなくなり、また最終段で薄帯状基板（９）が大径シールロール（６）から離れる時に僅かに残留した空気が開放されても、処理室（４）内の圧力には変動は生じていない。
【００３２】
以上のとおり本実施例によれば、大気中から真空チャンバ（１）内に導入され、大径シールロール（６）に巻回されて走行する薄帯状基板（９）は、特定の減圧室（３）に設けられた浮上ロール（２２）を通過する際に、大径シールロール（６）の表面から浮上して正常走行するので、薄帯状基板（９）に付随して持ち込まれて大径シールロール（９）との間に残留する空気は、その減圧室（３）に開放される。したがって薄帯状基板（９）の両面間の圧力差が非常に小さくなり、この圧力差によって薄帯状基板が大径シールロールの表面から浮上るようなことが起らず、薄帯状基板（９）の表面に摺りキズなどが発生しなくなる。また、薄帯状基板（９）と大径シールロール（６）との間の残留空気は最終段ではごく僅かであり、最終段でこの残留空気が開放されても処理室内の圧力に影響を与えることがなくなるから、所定真空圧の下で良好な真空処理が行なわれるようになる。
【００３３】
〔第４実施例〕
図６は本発明の第４実施例に係る連続真空蒸着装置を示す縦断面図である。この実施例は、前記実施例を統合したものである。
【００３４】
図６において、真空チャンバ（１）の下部の真空処理室（４）に被蒸着金属（１１）を入れたるつぼ（１０）と誘導加熱コイル（１２）から成る被蒸着物蒸発手段が設けられ、その被蒸着物蒸発手段の上方に薄帯状基板（９）を巻回して回転する冷却ロール（７）、その冷却ロール（７）の更に上方に薄帯状基板（９）を巻回して回転する大径シールロール（６）が設けられている。また上記大径シールロール（６）の外周に沿って設けられたケーシングに、上記大径シールロール（６）の外周面と微小間隙をあけて複数のシールバー（２）が設けられて複数段（図示例では入側、出側とも各４段）の大気側減圧室（３）が形成されている。
【００３５】
本実施例においては、上記冷却ロール（７）と大径シールロール（６）との間で薄帯状基板（９）の入側部および出側部をそれぞれ巻回して回転する複数の小径シールロール（２１ａ），（２１ｂ）が設けられ、それら小径シールロール（２１ａ），（２１ｂ）と上記大径シールロール（６）との間に中間減圧室（１９）が形成される。また上記各小径シールロール（２１ａ），（２１ｂ）の入側および出側に真空側減圧室（２０）がそれぞれ形成される。そして、上記大気側減圧室（３）、中間減圧室（１９）、真空側減圧室（２０）、真空処理室（４）を順次、真空排気装置（５）により真空排気するようになっている。
【００３６】
本実施例ではまた、上記入側の大気側減圧室のうち少なくとも一室（図示例では２段目の大気側減圧室）内に複数（図示例では３個）のロール（２２ａ），（２２ｂ），（２２ｃ）から成る浮上ロール（２２）が設けられて、大径シールロール（６）に巻回されて走行する薄帯状基板（９）を所定距離だけ大径シールロール（６）から浮上させて走行させるようになっている。
【００３７】
更に本実施例では、上記冷却ロール（７）と上記大径シールロール（６）との間の入側および出側の両方に、薄帯状基板（９）を巻回して回転する張力付与ロール（１４ａ），（１４ｂ）および張力検出ロール（１３ａ），（１３ｂ）が設けられる。
【００３８】
本実施例においては、入側張力付与ロール（１４ａ）および出側張力付与ロール（１４ｂ）と大径シールロール（６）との間の薄帯状基板（９）の張力を張力検出ロール（１３ａ），（１３ｂ）によって検出しながら、入側張力付与ロール（１４ａ）の周速を冷却ロール（７）の周速よりも低下させるとともに、出側張力付与ロール（１４ｂ）の周速を冷却ロール（７）の周速よりも上昇させることにより、薄帯状基板（９）の入側張力付与ロール（１４ａ）と冷却ロール（７）との間の張力および出側張力付与ロール（１４ｂ）と冷却ロール（７）との間の張力を任意に設定して、冷却ロール（７）に対する薄帯状基板（９）の密着度を向上させ、薄帯状基板（９）の冷却効果を高める。こうして、被蒸着物の蒸着効率を向上させることができる。
【００３９】
更に本実施例においては、薄帯状基板（９）が大気中からガイドロール（８）を経て真空チャンバ（１）内に導入される際に薄帯状基板（９）と大径シールロール（６）との間に挟み込まれた空気は、本実施例で浮上ロール（２２）が設置された大気側減圧室（図６の２段目）を通過する時に、その大気側減圧室（３）内に大部分が開放される。したがって、薄帯状基板（９）の両面の圧力差は微小となり、薄帯状基板（９）は大径シールロール（６）の表面から浮上ることなく、正常状態で中間減圧室（１９）へ送られる。
【００４０】
ここで薄帯状基板（９）と大径シールロール（６）との間に少量の空気が残留していたとしても、その空気は薄帯状基板（９）が大径シールロール（６）から離れる時に中間減圧室（１９）内に開放されて排出され、更にその後の真空側減圧室（２０）でも減圧排出される。したがって、薄帯状基板（９）の搬入速度が変更されて空気の持込み量が変化しても、真空処理室（４）内の圧力は一定に保持される。
【００４１】
【発明の効果】
本発明によれば、冷却ロール前後の薄帯状基板の張力を調節することにより、冷却ロールに対する薄帯状基板の密着度を向上させ、薄帯状基板の冷却効果を高めることができる。
【００４２】
また、薄帯状基板が真空容器内に導入される際に薄帯状基板と大径シールロールとの間に空気が挟み込まれるのを抑止し、またたとえ挟み込まれも、その空気が真空処理室に入る前に、これを開放・排出することができる。したがって真空処理室内の圧力を常に一定に保持し、良好な真空処理を安定して行なって、真空処理製品の品質を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は本発明の検討例に係る連続真空蒸着装置を示す縦断面図である。
【図２】  図２は本発明の第１実施例に係る連続真空蒸着装置を示す縦断面図である。
【図３】  図３は本発明の第２実施例に係る連続真空蒸着装置を示す縦断面図である。
【図４】  図４は本発明の第３実施例に係る連続真空蒸着装置の上部を示す縦断面図である。
【図５】  図５は上記第３実施例の効果を例示する図である。
【図６】  図６は本発明の第４実施例に係る連続真空蒸着装置を示す縦断面図である。
【図７】  図７は従来の連続真空処理装置の一例を示す縦断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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