(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式〔１〕
【化１】
0003735902.tif 000007
（Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立して炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５又は６のシクロアルキル基を表す。）
で表されるジアルキルテトラシクロ〔７．２．０．１2,8．０3,7〕ドデカ−４，１０−ジエン−１０，１１−ジカルボキシレート。
【請求項２】
式〔２〕
【化２】
0003735902.tif 000008
（Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立して炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５又は６のシクロアルキル基を表す。）
で表されるジアルキルアセチレンジカルボキシレートとジシクロペタンジエンを触媒として周期律表第８族金属を用い付加反応させることを特徴とする式〔１〕
【化３】
0003735902.tif 000009
（Ｒ1、Ｒ2は上記と同じ。）
で表されるジアルキルテトラシクロ〔７．２．０．１2,8．０3,7〕ドデカ−４，１０−ジエン−１０，１１−ジカルボキシレートの製造方法。
【請求項３】
周期律表第８族金属がルテニウム及びパラジウムである請求項２記載のジアルキルテトラシクロ〔７．２．０．１2,8．０3,7〕ドデカ−４，１０−ジエン−１０，１１−ジカルボキシレートの製造方法。
【０００１】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は式〔１〕
【０００２】
【化４】
0003735902.tif 000002
【０００３】
（Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立して炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５又は６のシクロアルキル基を表す。）
で表される新規なノルボルナン骨格を有する脂環式ジカルボン酸ジエステルであるジアルキルテトラシクロ〔７．２．０．１2,8．０3,7〕ドデカ−４，１０−ジエン−１０，１１−ジカルボキシレート及びその製造方法に関する。ノルボナン骨格を有するジカルボン酸ジエステルは、一般にエポキシ系熱硬化剤、ポリエステル樹脂等の樹脂分野の中間原料として有用な化合物である。
【０００４】
【従来の技術】
従来ノルボルナン骨格を有するポリエステルはガラス転移温度が高く、寸法安定性が優れており写真用フィルムのベース等に用いられている（米国防衛特許第８９６０３３号）。
これまでのノルボルナン骨格を有する多環式化合物の合成には、多くの場合多工程を要し、製造コスト面で不利を強いられていた。
【０００５】
一方、ノルボルネル誘導体とジメチレンアセチレンジカルボキシレートからルテニウム触媒を用いてそれらの〔２＋２〕クロス付加体を合成する方法は知られている（ジヤーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー  ４４巻  ２５号  ４４９２〜４４９６頁（１９７９年）。しかし、実用的に安価で大量に入手可能なジシクロペンタジエンを原料にした検討はなされていなかった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
工業的に経済的価値が高いジシクロペンタジエンを原料として、その骨格の特異性を生かした諸物性の改良されたポリエステルの原料モノマーとなる新規なノルボルナン骨格を有する脂環式ジカルボン酸ジエステル及びその製造方法の提供を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は、式〔１〕
【０００８】
【化５】
0003735902.tif 000003
【０００９】
（Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立して炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５又は６のシクロアルキル基を表す。）
で表されるジアルキルテトラシクロ〔７．２．０．１2,8．０3,7〕ドデカ−４，１０−ジエン−１０，１１−ジカルボキシレートに関する。また、本発明は、式〔２〕
【００１０】
【化６】
0003735902.tif 000004
【００１１】
（Ｒ1、Ｒ2は上記と同じ）
で表されるジアルキルアセチレンジカルボキシレートとジシクロペンタジエンを触媒として周期律表第８族金属を用い付加反応させることを特徴とする上記式〔１〕で表されるジアルキルテトラシクロ〔７．２．０．１2,8．０3,7〕ドデカ−４，１０−ジエン−１０，１１−ジカルボキシレート（以下ＤＡＤＥと略す。）の製造方法に関する。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明化合物の製造方法につて述べる。
出発原料のジシクロペンタジエンは、工業的に流通している純度の製品をそのまま使用することができる。
【００１３】
もう一方の原料であるジアルキルアセチレンジカルボキシレートは種々の誘導体が使用できる。例えば、具体的には、ジメチルアセチレンジカルボキシレート、ジエチルアセチレンジカルボキシレート、ジプロピルアセチレンジカルボキシレート、ジブチルアセチレンジカルボキシレート、ジペンチルアセチレンジカルボキシレート、ジヘキシルアセチレンジカルボキシレート、ジシクロペンチルアセチレンジカルボキシレート及びジシクロヘキシルアセチレンジカルボキシレート等が挙げられる。
【００１４】
触媒として用いる周期律表第８族金属としては、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金、鉄、ニッケル及びコバルト等である。特に好ましいのはルテニウムである。触媒の形態としては、金属錯体、金属塩、金属単身、担持金属及び金属酸化物等が使用できる。
【００１５】
金属錯体としては、ヒドリドカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）金属、ジヒドリドテトラキス（トリフェニルホスフィン）金属、ジヒドリドカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）金属、クロロヒドリドカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）金属、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）金属、ジクロロテトラキス（トリフェニルホスフィン）金属、ジクロロビスベンゾニトリル金属、トリス（アセチルアセトナト）金属、ジクロロシクロジエン金属、ホルマトジカルボニル金属、ドデカカルボニル三金属、カルボニルビス（トリフェニルホスフィン）金属及びテトラキストリフェニルホスフィン金属等が使用できる。
【００１６】
金属塩としては、塩酸、硫酸、硝酸及び燐酸等の鉱酸塩、蟻酸、酢酸及びプロピオン酸等の有機酸塩が挙げられる。
担持金属としては、炭素、アルミナ及び珪藻土等の担体に担持させた金属が使用できる。
【００１７】
更に、具体的にはジヒドリドテトラキス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジヒドリドカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、クロロヒドリドカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジクロロテトラキス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、トリス（アセチルアセトナト）ルテニウム、ジクロロ（η−１，５−シクロオクタジエン）ルテニウム、ホルマトジカルボニルルテニウム及びドデカカルボニル三ルテニウム、ヒドリドカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム、カルボニルビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、塩化ルテニウム、ルテニウム／活性炭、パラジウム／活性炭、ルテニウム黒及び酸化ルテニウム等が挙げられる。
【００１８】
これらの中で特に好ましいものは、ジヒドリドテトラキス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジヒドリドカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジクロロテトラキス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、クロロヒドリドカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム及びトリス（アセチルアセトナト）ルテニウム等である。
【００１９】
その使用量は、原料のジシクロロペンタジエンに対し、０．１〜３０モル％、特には，０．５〜20モル％が好ましい。
本反応では溶媒を使用しなくとも、反応は進行するが、通常使用する事が好ましい。溶媒としては例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン及びキュメン等の芳香族炭化水素類及びテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン及び１，２−ジメトキシエタン等のエーテル類等が特に好ましいが、他の溶媒例えばヘキサンやヘプタン等の脂肪族炭化水素類でも進行する。
【００２０】
その使用量は、ジシクロペンタジエンに対し１〜２０重量倍、特には２〜１０重量倍が経済的に好ましい。
また、本反応の原料であるジシクロペンタジエンやジアルキルアセチレンジカルボキシレートの反応中の重合を抑制するために重合禁止剤を添加することもできる。
【００２１】
重合禁止剤としては例えば、ジフェニルピクリルヒドラジン、トリ−ｐ−ニトロフェニルメチル、Ｎ−（３−Ｎ−オキシアニリノ−１，３−ジメチルブチリデン）アニリンオキシド、ｐ−ベンゾキノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ニトロベンゼン、ピクリン酸、ジチオベンゾイルジスルフィド及び塩化銅（II）等が挙げられる。
【００２２】
重合禁止剤の添加量は、ジシクロペンタジエンやジアルキルアセチレンジカルボキシレートに対して０．０１〜１モル％が好ましい。
【００２３】
反応温度は、高温ほど反応が速いが、通常５０〜１８０℃の範囲、好ましくは６０〜１６０℃の範囲である。
本反応は常圧でも加圧でも、また回分式でも連続反応でも可能である。以下実施例でさらに具体的に本発明を説明するが、これらによって本発明が何ら制限されるものではない。
【００２４】
【実施例】
実施例１
ジシクロペンタジエン１．３２ｇ（１０ミリモル）、ジメチルアセチレンジカルボキシレート１．４２ｇ（１０ミリモリ）、ジヒドリドテトラキス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（II）〔ＲｕＨ2（ＰＰｈ3）4〕０．２３ｇ（０．２ミリモル）及びベンゼン１０ｇを反応フラスコに仕込み、８０℃で２０時間撹拌した。
【００２５】
反応後、濃縮すると油状物質２．２ｇが得られた。この油状物質をシリカゲルカラムで精製するとガスクロマトグラフィーで純度９８．８％の油状物質１．２ｇが得られた。この油状物質の分析結果は以下の通りであった。
【００２６】
ＭＡＳＳ（ＥＩ＋  ｍ／ｅ（％））：２７４（Ｍ+）（８）、２４２（４０）、２１４（３４）、２０７（３４）、１７７（９８）、１４９（１００）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：５．６５（ｄｄ，Ｊ1＝２．１Ｈｚ，Ｊ2＝４．８Ｈｚ，１Ｈ，オレフィン）、５．５５（ｄｄ，Ｊ1＝２．３Ｈｚ，Ｊ2＝４．６Ｈｚ，１Ｈ，オレフィン）、３．７７（ｓ，６Ｈ，ＯＣＨ3）、３．１９（ｍ，１Ｈ，エキソ−シクロブテン）、２．８０（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１Ｈ，エンド−シクロブテン）、２．７１（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１Ｈ，エンド−シクロブテン）、２．６９（ｍ，１Ｈ，エキソ−シクロペンタン）、２．３７（ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ，エキソ−シクロペンタン）、２．２７（ｍ，２Ｈ，ブリッジヘッド）、２．２５（ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ，エキソ−シクロペンテン）、１．４７（ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ，１Ｈ，ブリッジ）、１．３０（ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，１Ｈ，ブリッジ）
以上から、本物質は、目的とするジメチルテトラシクロ〔７．２．０．１2,8．０3,7〕ドデカ−４，１０−ジエン−１０，１１−ジカルボキシレートであることを確認した。
【００２７】
実施例２〜１７
実施例１において、反応条件を変えた他は同様に操作をして反応させた結果を表１に示す。
【００２８】
【表１】
0003735902.tif 000005
【００２９】
【表２】
0003735902.tif 000006
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で得たジメチルテトラシクロ〔７．２．０．１2,8．０3,7〕ドデカ−４，１０−ジエン−１０，１１−ジカルボキシレートについての1Ｈ−ＮＭＲチャート。
【図１】
0003735902.tif 000010