(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームの光路が塵埃によって遮られるのを防止する防塵機構を備える露光光学系を用いて画像記録を行う画像記録装置であって、
前記防塵機構は、ファンと、少なくとも１つの第１のフィルタと、少なくとも１つの第２のフィルタと、ダクトと、シャッタとを有し、
前記ダクトは、前記ファンにより発生される空気流の入口、前記露光光学系の筐体の出射窓から出射される前記光ビームの入口、および、前記空気流と前記光ビームとの共通の出口を持ち、前記光ビームの入口が前記露光光学系の筐体の出射窓の部分に固定され、
前記シャッタは、前記ダクトの空気流と光ビームとの共通の出口に取り付けられ、
前記ファン、前記第１および第２のフィルタは、前記ダクトの空気流の入口に取り付けられ、前記第１のフィルタは、前記第２のフィルタよりも前記空気流の上流側に着脱可能に取り付けられていることを特徴とする画像記録装置。
【請求項２】
前記第１のフィルタは目の細かいフィルタであり、前記第２のフィルタは目の粗いフィルタである請求項１に記載の画像記録装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の画像記録装置であって、
さらに、前記ファンの前記空気流の下流側には、前記ファンが発生する振動が前記露光光学系に伝搬されるのを防止する緩衝材を有することを特徴とする画像記録装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光光源の光ビームを主走査方向に偏向しつつ、感光材料を副走査方向に搬送して２次元的に走査露光する、いわゆるラスタースキャンによる画像記録を行う画像記録装置に関し、さらに詳しくは、光ビームの光路が塵埃によって遮られるのを防止する防塵機構を有する露光光学系を用いて画像記録を行う画像記録装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ラスタースキャンによる画像記録装置において、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の露光光源から射出される光ビームは、まず、それぞれの露光光源Ｒ，Ｇ，Ｂに応じて配置されたコリメータレンズにより平行光に整形される。次いで、平行光に整形された各光ビームは、ポリゴンミラー等の光偏向器に入射されて、主走査方向に偏向された後、ｆθレンズによって、所定位置に所定形状で結像するように調整されて感光材料に入射される。
【０００３】
一方、感光材料は、例えばロール状に巻回された感光材料マガジンから引き出され、例えば副走査搬送手段等を含む搬送手段によって、主走査方向とほぼ直交する副走査方向に所定の搬送速度で搬送される。従って、副走査搬送手段によって副走査方向に画像記録位置まで搬送された長尺の感光材料は、主走査方向に偏向される露光光源Ｒ，Ｇ，Ｂの光ビームによって２次元的に走査露光され、その全面に潜像が記録される。
【０００４】
このような画像記録装置の露光光学系には、安価であること、小型であること等の点から、半導体レーザ（ＬＤ）や発光ダイオード（ＬＥＤ）等の発光素子のように、所定の狭帯域波長の光を射出する露光光源が多く用いられている。
ところで、露光光学系を用いる画像記録装置において、一般的に、ミラーやレンズ等の光学素子は、その表面に塵埃等のゴミが付着しないように筺体内部に密閉され、この筺体内に露光光源から射出される光ビームが入射される部分には光ビームの入射窓が設けられ、この筺体から光ビームが最終的に射出される部分に光ビームの出射窓が設けられている。
【０００５】
しかし、画像記録装置においては、搬送される感光材料のエッジが擦れて塵埃が発生するし、この感熱材料の塵埃を含む空気中の様々な塵埃は、挟持搬送される感光材料とローラとの接触、摩擦等や、光学系内部ではポリゴンミラーの回転等によって露光光学系に蓄えられる静電気等により、光ビームの出射窓の表面に吸着される。このとき、露光光源から射出される光ビームは、その出射窓の表面に吸着された塵埃によって、その光路を部分的に遮られて光量が減少されてしまうため、記録画像の光量が減少した部分にすじ状のむらが発生するという問題点がある。
【０００６】
この問題点を解決する１つの手段として、例えば塵埃によって光学素子の筺体の出射窓から射出される光ビームの光路が遮られるのを防止するための防塵機構を有する露光光学系を用いて画像記録を行う画像記録装置が提案されている。
例えば、図５に、上記露光光学系に用いられる防塵機構の一例の概念図を示す。図示例の防塵機構８０は、空気流の入口、光ビームの入口および空気流と光ビームの共通の出口を持つダクト６２と、ファン６４と、フィルタ６６と、ダクト６２の空気流と光ビームの共通の出口を開閉するシャッタ６８とを有している。
【０００７】
図示例の防塵機構８０において、ダクト６２の光ビームの入口は、露光光源から射出される光ビームの出射口となる光学素子の筺体４０の出射窓４４部分に固定され、ダクト６２の空気流と光ビームの共通の出口にはシャッタ６８が取り付けられている。また、ダクト６２の空気流の入口にはファン６４が取り付けられ、このファン６４よりも空気流の下流側には、フィルタ６６が着脱可能に取り付けられている。
【０００８】
ここで、ダクト６２の空気流と光ビームの共通の出口に取り付けられているシャッタ６８は、実際に走査露光を行うときにのみ開放される。即ち、走査露光を行わない待機時や、電源のオフ時には閉塞されることによって、ダクト６２内に塵埃が進入するのを防止している。
【０００９】
一方、走査露光を行うときには、シャッタ６８が開放されるとともに、ファン６４によってダクト６２内に、フィルタ６６によって塵埃の除去された空気流が送り込まれる。即ち、ファン６４によってフィルタ６６を介してダクト６２内に空気流を送り込み、ダクト６２内に送り込まれた空気流を、シャッタ６８が開放されたダクト６２の空気流と光ビームの共通の出口から放出することによって、ダクト６２内に塵埃が進入するのを防止している。
【００１０】
このように、露光光学系に防塵機構を備え、ダクト６２内に塵埃が進入するのを防止することによって、光学素子の筺体４０の出射窓４４の表面に塵埃が吸着されるのを防止することができ、光ビームは、その光路を塵埃によって部分的に遮られることなく、ダクト６２の光ビームの入口および出口を経て感光材料に入射されるため、記録画像に塵埃にかかわるすじ状のむらが発生するのを防止することができ、画像欠陥のない高画質画像を記録することができる。
【００１１】
しかしながら、上述する防塵機構８０においては、使用環境にもよるが、数カ月でフィルタ６６のフィルタ特性が劣化し、すじむらの原因となる塵埃を完全に除去することができなくなり、また、風損が大きくなって防塵効果も薄れるため、数カ月に１回フィルタ交換が必要であった。
このため、フィルタ６６を交換するときに、塵埃がダクト６２内に進入して出射窓４４の表面に吸着される場合があり、同様に、すじ状のむら等の画像欠陥を発生する可能性があるという問題点があった。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、前記従来技術に基づく問題点を解決するために、防塵機構のフィルタ交換時に塵埃がダクト内に進入するのを防止することができ、塵埃に起因する画像欠陥のない高画質画像を記録することができる画像記録装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、光ビームの光路が塵埃によって遮られるのを防止する防塵機構を備える露光光学系を用いて画像記録を行う画像記録装置であって、
前記防塵機構は、ファンと、少なくとも１つの第１のフィルタと、少なくとも１つの第２のフィルタと、ダクトと、シャッタとを有し、
前記ダクトは、前記ファンにより発生される空気流の入口、前記露光光学系の筐体の出射窓から出射される前記光ビームの入口、および、前記空気流と前記光ビームとの共通の出口を持ち、前記光ビームの入口が前記露光光学系の筐体の出射窓の部分に固定され、
前記シャッタは、前記ダクトの空気流と光ビームとの共通の出口に取り付けられ、
前記ファン、前記第１および第２のフィルタは、前記ダクトの空気流の入口に取り付けられ、前記第１のフィルタは、前記第２のフィルタよりも前記空気流の上流側に着脱可能に取り付けられていることを特徴とする画像記録装置を提供するものである。
【００１４】
ここで、前記第１のフィルタは目の細かいフィルタであり、前記第２のフィルタは目の粗いフィルタであるのが好ましい。
また、上記画像記録装置であって、さらに、前記ファンの前記空気流の下流側には、前記ファンが発生する振動が前記露光光学系に伝搬されるのを防止する緩衝材を有するのが好ましい。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下に、添付の図面に示す好適実施例に基づいて、本発明の画像記録装置を詳細に説明する。
図１は、本発明の画像記録装置の露光光学系の一実施例を示す概略平面図であって、密閉筐体の上部を取り外した状態で図示されている。また、図２は、本発明の画像記録装置の露光光学系の一実施例を示す概略断面図である。
【００１６】
同図において、露光光学系１０は、複数の光学素子を有する主走査部１２と、主走査部１２の複数の光学素子の一部を外部雰囲気と遮断された状態で収納する密閉筐体４０と、主走査部１２によって主走査方向（図１中ａ方向）に走査露光される長尺状の感光材料Ａを所定の露光位置に保持しつつ、主走査方向とほぼ直交する副走査方向（図２中ｂ方向）に搬送する副走査搬送手段を構成する副走査部５０と、本発明の特徴部分となる防塵機構６０とを有している。
【００１７】
図示例の露光光学系１０においては、主走査部１２によって、記録される画像（の露光濃度）に応じて変調された３原色の光ビームを主走査方向に偏向走査するとともに、副走査部５０によって長尺状の感光材料Ａを所定の露光位置に保持しつつ、主走査方向とほぼ直交する副走査方向に感光材料Ａを搬送することによって、３本の光ビームによって感光材料Ａを２次元的に走査露光し、潜像が記録される。
【００１８】
ここで、主走査部１２は、露光光源として、赤（Ｒ）露光用の光ビームを射出するレーザ光源である半導体レーザ（ＬＤ）１４Ｒと、緑（Ｇ）露光用の光ビームを射出するレーザ光源であるＳＨＧ（Second Harmonic generation）素子を用いる波長変換レーザ（Ｇ−ＳＨＧ）１４Ｇと、青（Ｂ）露光用の光ビームを射出するレーザ光源であるＳＨＧ素子を用いる波長変換レーザ（Ｂ−ＳＨＧ）１４Ｂとを有している。
【００１９】
また、主走査部１２は、これらのレーザ光源１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂから射出される光ビームの進行方向に沿って、コリメータレンズ１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂと、ＡＯＭ（音響光学変調器）１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂと、反射ミラー２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂと、シリンドリカルレンズ２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂと、ポリゴンミラー３０と、ｆθレンズ３２と、シリンドリカルミラー３４と、反射ミラー３６とを有している。
【００２０】
主走査部１２は、分光感度に波長依存性を有する感光材料Ａ、特に３原色の分光感度のピークが可視光域にあるノーマルカラー感光材料を、３原色の光ビームを用いて走査露光するための３レーザ光異角入射光学系（３光源非合波光学系）を構成するものであって、反射ミラー３６によって反射された３原色のレーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂは、副走査部５０の副走査搬送系によって搬送される感光材料Ａ上に照射され、主走査線ＳＬを画成する。
【００２１】
本発明において、図示例の３光源非合波光学系は、所定の狭帯域波長の光を射出する光源として少しずつ異なる角度（例えば約４°）でポリゴンミラー３０の反射面３０ａに入射する３つのレーザ光源１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂを有しているが、赤露光用のＬＤ１４Ｒは波長６８０ｎｍの光を射出するものであり、緑露光用のＧ−ＳＨＧ１４Ｇは波長５３２ｎｍの光を射出するものであり、青露光用のＢ−ＳＨＧ１４Ｂは波長４７３ｎｍの光を射出するものである。
【００２２】
なお、本発明の画像記録装置に用いられる露光光学系は、図示例の３レーザ光異角入射光学系などの３光源非合波光学系に限定されるわけではなく、感光材料を３原色の光ビームを用いて走査露光することができれば、どのようなものでもよく、例えば３光源からの３本の光ビームをダイクロイックミラーなどを用いて１本に合波してポリゴンミラーに入射させる露光光学系であってもよい。
【００２３】
また、露光光源にも特に限定はなく、分光感度に波長依存性を有する感光材料を露光可能な光源の組み合わせであれば、どのようなものでもよく、例えばＬＤ（レーザダイオード）などの半導体レーザや、Ｈｅ−Ｎｅレーザ等のガスレーザなどを用いることができ、感光材料の分光感度特性に合わせて所要の、特に可視光域の狭帯域波長の光ビームを射出する光源を適宜選択することができる。
【００２４】
コリメータレンズ１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂは、レーザ光源１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂから射出されるレーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂをそれぞれ整形して、ＡＯＭ１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂにビームウエストを作るものである。
ＡＯＭ（音響光学変調器）１８Ｒ，１８Ｇおよび１８Ｂは、図示していない画像処理装置によって画像処理された各色の画像データ信号に応じて、レーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂを変調するものである。
【００２５】
なお、本発明においては、各光ビームの変調方法にも特に限定はなく、どのような変調方法を適用してもよい。
例えば、上記ＡＯＭ以外の各種の光変調器を用いてもよいし、一部のレーザ光源を直接変調してもよい。また、直接変調の方法も、強度変調、パルス数変調およびパルス幅変調のいずれであってもよい。
【００２６】
また、レーザ光源１４Ｒとコリメータレンズ１６Ｒとの間には機械式（メカニカル）シャッタ１７が、ＡＯＭ１８Ｂ，１８Ｇと後述する密閉筺体４０の入射窓４２Ｂ，４２Ｇとの間には機械式シャッタ１９が配置される。機械式シャッタ１７，１９は、それぞれレーザ光１５Ｒおよびレーザ光１５Ｂ，１５Ｇを、副走査部５０によって搬送される感光材料Ａに、一画像が露光されている間は透過し、一画像の露光が終了してから次の画像の露光を開始するまでの間は、コマ間隔である場合も露光を停止している場合も遮断するためのものである。
【００２７】
このようなシャッタとしては、レーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの光路を遮断することができればどのようなものでもよいが、例えば回転円盤に切欠きや光透過孔などの光透過部（シャッタ１９ではレーザ光１５Ｂおよび１５Ｇのために少なくとも２個）を設けた回転式シャッタでも、往復動式のシャッタでもよい。また、レーザ光源１４Ｒは高速にオン／オフが可能であるので、シャッタ１７を用いずに、レーザ光源１４Ｒのオン／オフで同等の動作が行える。
【００２８】
反射ミラー２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂは、レーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの各光路を折り返して、これらをいずれもポリゴンミラー３０の反射面３０ａの同一線上の近接した位置に、もしくは、同一点上に入射させるためのものである。
シリンドリカルレンズ２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂは、副走査側のビーム径の調整をするものであって、ｆθレンズ３２およびシリンドリカルミラー３４とともに、ポリゴンミラー３０の面倒れを補正する面倒れ補正光学系を構成する。
【００２９】
ポリゴンミラー３０は、記録画像によって変調されたレーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂを主走査方向に偏向して、感光材料Ａ上に主走査線ＳＬを画成することにより、画像露光を行うためのものである。
【００３０】
ここで、レーザ光源１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂは、これらから射出されるレーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂが、ポリゴンミラー３０の一つの反射面３０ａに少しずつ異なる角度で入射し、反射面３０ａで反射され、最終的に感光材料Ａ上に画成される同一の主走査線ＳＬ上にそれぞれ異なる角度で結像し、時間的に間隔をあけて同一走査線上を走査するように配置される。
【００３１】
ｆθレンズ３２は、各レーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂを主走査線ＳＬのいずれの位置においても正しく結像させるためのものである。なお、ｆθレンズ３２は、波長が４７３，５３２，６８０ｎｍの光に対して色収差が許容範囲内に収まるように補正されている。
【００３２】
シリンドリカルミラー３４は、シリンドリカルレンズ２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂおよびｆθレンズ３２とともに面倒れ補正光学系を構成する他、各レーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂを折り曲げて反射ミラー３６に入射させる。
反射ミラー３６は、各レーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂを再び折り曲げて、副走査部５０によって副走査搬送される感光材料Ａ上の副走査方向とほぼ直交する主走査線ＳＬに向けるものである。
【００３３】
図示例の露光光学系１０では、主走査部１２の３光源非合波光学系を構成する複数の光学素子の一部、即ち、上述する反射ミラー２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂから、シリンドリカルレンズ２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂ、ポリゴンミラー３０、ｆθレンズ３２、シリンドリカルミラー３４および反射ミラー３６までの光学素子が、密閉筐体４０の内部に収納され、定盤となる筐体４０の所要の位置に位置決めされて固定されている。
【００３４】
なお、レーザ光源１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂと、コリメーターレンズ１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂと、ＡＯＭ１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂとは、筐体４０の外部に設置されている。
【００３５】
次に、筐体４０は、外部光および塵埃等の影響を排除するために、その内部と外部雰囲気とを遮断できるように、所望の容積及び形状に形成されているものであって、図示例においては、その一部、例えば蓋に相当する部分が着脱自在に形成されている。筐体４０は、遮光性を有する材質、例えばアルミニウム等の金属、合成樹脂等の公知の光学記録装置用の材料を用い、鍛造、プレス成形、射出成形等の公知の方法を適用して製造することができる。
【００３６】
ここで、筐体４０外において主走査部１２のＡＯＭ１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂで変調され、筐体４０内の反射ミラー２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂに向かうレーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂが筐体４０内に入射する筐体４０の側壁部分には、入射窓４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂが形成され、筐体４０内の反射ミラー３６によって反射され、筐体４０外の副走査部５０に向かうレーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂが筐体４０外に出射する筐体４０の側壁部分には、出射窓４４が形成されている。
【００３７】
なお、上述した露光光学系を構成するこれらの光学素子は、筐体４０の内外において、底面で構成される定盤上の所定の位置に、公知の手段、例えば、溝、突起、ピン、板バネ等により、位置決めされ、固定支持されていてもよいし、光学素子取付部材に支持、固定、固着させ、光学素子取付部材を種々の位置決め手段を用いて位置決めし、光学素子取付部材をビス、ネジなどの固定具で固定することにより、位置決めされ、固定支持されていてもよい。
【００３８】
次に、副走査部５０は、逆回転可能な露光ドラム５２と、露光ドラム５２上の感光材料Ａ上の露光位置に画成される主走査線ＳＬを挟んで両側に配置され、感光材料Ａを露光ドラム５２に押圧する従動ニップローラ５４，５６を有している。少なくとも一画像の走査露光時には露光ドラム５２は正回転し、長尺状の感光材料Ａは、露光ドラム５２とニップローラ５４，５６に挟持された状態で露光位置に保持されつつ、副走査方向に搬送されて走査露光される。
【００３９】
次に、本発明の特徴部分である防塵機構６０は、図示例においては、空気流の入口、光ビームの入口および空気流と光ビームの共通の出口を持つダクト６２と、ファン６４と、フィルタ６６ａ，６６ｂと、ダクト６２の空気流と光ビームの共通の出口を開閉するシャッタ６８とを有している。
【００４０】
図示例の防塵機構６０において、ダクト６２の光ビームの入口は、レーザ光源１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂから射出されるレーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの出射口となる露光光学系１０の筺体４０の出射窓４４部分に固定され、ダクト６２の空気流と光ビームの共通の出口にはシャッタ６８が取り付けられている。また、ダクト６２の空気流の入口にはファン６４と、このファン６４の前後にフィルタ６６ａ，６６ｂとが取り付けられている。
【００４１】
なお、フィルタ６６ａ，６６ｂの内、ファン６４よりも空気流の下流側に取り付けられるフィルタ６６ａは、基本的にフィルタ交換を行わないものであって、例えばダクト６２の内壁面に固定される。これに対し、ファン６４よりも空気流の上流側に取り付けられるフィルタ６６ｂは、フィルタ交換の際に定期的に交換されるものであって、フィルタ交換の際に容易に着脱可能なように、ダクト６２の内壁面に取り付けられている。
【００４２】
ここで、走査露光を行わない待機時や、電源のオフ時には、ダクト６２の空気流と光ビームの共通の出口に取り付けられているシャッタ６８が閉塞されるとともに、ファン６４も停止される。即ち、走査露光を行わない待機時や、電源のオフ時には、シャッタ６８およびフィルタ６６ａ，６６ｂによって、ダクト６２内に塵埃が進入するのを防止することができる。
【００４３】
一方、走査露光を行うときには、シャッタ６８が開放されるとともに、ファン６４によってダクト６２内に、フィルタ６６ａ，６６ｂによって塵埃の除去された空気流が送り込まれる。即ち、走査露光時には、ファン６４によって、フィルタ６６ａ，６６ｂを介してダクト６２内に空気流を送り込み、ダクト６２内に送り込まれた空気流を、シャッタ６８が開放されたダクト６２の空気流と光ビームの共通の出口から放出することによって、ダクト６２内に塵埃が進入するのを防止することができる。
【００４４】
また、フィルタの交換時には、シャッタ６８が閉塞され、かつ、ファン６４も停止された状態で、空気流の上流側に着脱可能に取り付けられたフィルタ６６ｂだけを交換する。即ち、フィルタの交換時にフィルタ６６ｂを取り外した場合であっても、シャッタ６８および空気流の下流側に取り付けられているフィルタ６６ａによって、ダクト６２内に塵埃が進入するのを防止することができる。
【００４５】
このように、走査露光時、走査露光の待機時、電源オフ時はもちろん、フィルタの交換時であっても、ダクト６２内に塵埃が進入するのを防止することができるため、露光光学系の筺体４０の出射窓４４の表面に塵埃が吸着されるのを防止することができ、光ビームは、その光路を塵埃によって部分的に遮られることなく、ダクト６２の光ビームの入口および出口を経て感光材料Ａに入射されるため、記録画像に塵埃にかかわるすじ状のむらが発生するのを防止することができ、画像欠陥のない高画質画像を記録することができる。
【００４６】
なお、フィルタ６６ａ，６６ｂは、使用環境や要求される特性に応じて適宜選定すればよく、特に限定されるものではないことは言うまでもないが、フィルタ６６ａはフィルタ６６ｂの交換時に、また、フィルタ６６ｂは走査露光時に、レーザ光源１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂから射出されるレーザ光１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂのビーム径と比較して、空気中のすじ状のむらの原因となる大きさの塵埃を除去することができるものである必要がある。
【００４７】
ここで、図３（ａ）および（ｂ）に、それぞれ比較的目の細かい静電タイプのフィルタの特性および比較的目の粗い静電タイプのフィルタの特性の一実施例のグラフを示す。このグラフに示されるように、同一粒径の塵埃については、目の細かいフィルタの透過率が、目の粗いフィルタの透過率よりも低いということがわかる。なお、静電タイプのフィルタにおいては、フィルタの目の大きさよりも小さい塵埃を静電気によって吸着することもできる。
【００４８】
従って、走査露光時に、即ち、シャッタ６８が開放され、かつ、ファン６４によって空気流が発生される時に、光ビームのビーム径と比較して、すじむらの原因となる大きさの塵埃を除去することができるように、また、基本的にフィルタ交換を行わないフィルタ６６ａに細かい塵埃が吸着されて、そのフィルタ特性が劣化するのを極力防止することができるように、空気流の上流側に取り付けられるフィルタ６６ｂは、比較的目の細かいものを使用するのが好ましい。
【００４９】
一方、フィルタ６６ｂの交換時に、即ち、シャッタ６８が閉塞され、かつ、ファン６４の回転が停止されている時に、光ビームのビーム径と比較して、すじむらの原因となる大きさの塵埃がダクト６２内に進入するのを防止することができるように、また、走査露光時に風損ができるだけ少なくなるように、空気流の下流側に取り付けられるフィルタ６６ａは、比較的目の粗いものを使用するのが好ましい。
【００５０】
次に、図４に、本発明の画像記録装置に用いられる防塵機構の別の実施例の部分概念図を示す。図示例の防塵機構７０は、図２に示される露光光学系に用いられている防塵機構６０と比較して、フィルタ６６ａ，６６ｂの配置が異なるだけであるから、同一の構成要素には同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。即ち、防塵機構７０において、フィルタ６６ａ，６６ｂはともに、ファン６４よりも空気流の下流側に取り付けられている。
【００５１】
このように、本発明の画像記録装置に用いられる防塵機構においては、フィルタ６６ａ，６６ｂは、例えば図２に示されるように、ファン６４の前後に設けられていてもよいし、あるいは、図４に示されるように、ともにファン６４の空気流の下流側に設けられていてもよいし、あるいは、図示していないが、ともにファン６４の空気流の上流側に設けられていてもよい。
【００５２】
また、図示例においては、フィルタ６６ａ，６６ｂを１枚ずつ、即ち、合計２枚のフィルタが使用されているが、フィルタの枚数も特に限定されるものではなく、基本的にフィルタ交換を行わないフィルタを少なくとも１枚と、フィルタ交換を行う、ダクト６２に容易に着脱可能に取り付けられたフィルタを少なくとも１枚備えていればよい。例えば、２枚以上のフィルタを組み合わせて、所望の特性を持つフィルタユニット等を構成してもよい。
【００５３】
また、一般的に、露光光学系は振動を嫌うため、防塵機構６０のファン６４によって発生する振動が露光光学系に伝達するのを防止するために、ファン６４の空気流の下流側に緩衝材を備えるのが好ましい。例えば、図２に示される防塵機構６０においては、例えばスポンジ等の緩衝材をファン６４とフィルタ６６ａとの間に備えるのが好ましく、図４に示される防塵機構７０においては、同様に緩衝材をファン６４とフィルタ６６ｂとの間に備えるのが好ましい。
【００５４】
以上、本発明の画像記録装置について詳細に説明したが、本発明は上記実施例に限定されず、本発明の逸脱しない範囲において、種々の改良や変更ができることはもちろんである。
【００５５】
【発明の効果】
以上詳細に説明した様に、本発明の画像記録装置は、露光光学系に用いられる防塵機構において、少なくとも２枚のフィルタの内、空気流の上流側のフィルタの少なくとも１枚を着脱可能に取り付けたものであって、フィルタの交換時には、空気流の上流側のフィルタを交換するように構成したものである。
従って、本発明の画像記録装置によれば、走査露光時、走査露光の待機時および電源のオフ時はもちろん、フィルタの交換時であってもダクト内に塵埃が進入するのを防止することができ、走査露光時に露光光学系から射出される光ビームの光路が塵埃によって遮られるということがないため、記録画像に塵埃にかかわるすじ状のむらが発生するのを防止することができ、画像欠陥のない高画質画像を記録することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の画像記録装置の露光光学系の一実施例を示す概略平面図である。
【図２】  本発明の画像記録装置の露光光学系の一実施例を示す概略断面図である。
【図３】  （ａ）および（ｂ）は、それぞれ目の細かい静電タイプのフィルタの特性および目の粗い静電タイプのフィルタの特性の一実施例のグラフである。
【図４】  本発明の画像記録装置の露光光学系に用いられる防塵機構の別の実施例の部分概念図である。
【図５】  露光光学系に用いられる防塵機構の一例の概念図である。
【符号の説明】
１０  露光光学系
１２  主走査部
１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂ  レーザ光源
１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ  レーザ光
１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ  コリメータレンズ
１７，１９  機械式（メカニカル）シャッタ
１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂ  音響光学変調器（ＡＯＭ）
２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ  反射ミラー
２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂ  シリンドリカルレンズ
３０  ポリゴンミラー
３０ａ  反射面
３２  ｆθレンズ
３４  シリンドリカルミラー
３６  反射ミラー
４０  筐体
４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂ  入射窓
４４  出射窓
５０  副走査部
５２  露光ドラム
５４，５６  ニップローラ
６０，７０  防塵機構
６２  ダクト
６４  ファン
６６ａ，６６ｂ  フィルタ
６８  シャッタ
Ａ  感光材料
ＳＬ  主走査線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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