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【手続補正書】
【提出日】平成29年12月12日(2017.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
着色剤、結晶性樹脂、非晶性樹脂及びワックスを含有するトナー母粒子と無機微粒子とを混合して混合物を得る第一混合工程、及び
前記混合物を更に混合する第二混合工程、
を有するトナーの製造方法であって、
前記第一混合工程及び前記第二混合工程が、機械的衝撃力を付与する撹拌手段を容器内に具備する混合装置を用いて混合を行う工程であり、
前記第一混合工程における処理温度をＴ１（℃）と表示し、前記第一混合工程において処理物の単位質量に与えられる混合装置の撹拌動力をＷ１（Ｗ／ｋｇ）と表示し、前記第二混合工程における処理温度をＴ２（℃）と表示し、前記第二混合工程における処理物の単位質量に与えられる混合装置の撹拌動力をＷ２（Ｗ／ｋｇ）と表示したときに、下記数式（１）、（２）、（３）及び（４）を満たすことを特徴とするトナーの製造方法：
ＴｇＡ≦Ｔ１＜Ｔｐ        （１）
ＴｇＡ≦Ｔ２＜Ｔｐ        （２）
３≦Ｗ２                  （３）
Ｗ２≦１／２Ｗ１          （４）
［式中、Ｔｐ（℃）は、前記トナー母粒子を測定試料とする示差走査熱量（ＤＳＣ）測定において、２０℃から１８０℃まで昇温速度１０℃／分で昇温した際に測定される結晶性樹脂由来の最大吸熱ピークのオンセット温度を示す。
ＴｇＡ（℃）は、前記トナー母粒子を測定試料とするＤＳＣ測定において、２０℃から１８０℃まで昇温速度１０℃／分で昇温した後、２０℃まで降温速度５０℃／分で冷却し、その後直ちに、２０℃から１８０℃まで昇温速度１０℃／分で昇温した際に測定される２回目昇温時のガラス転移温度を示す。］。
【請求項２】
前記Ｔ１（℃）およびＴ２（℃）が下記数式（５）を満たすことを特徴とする請求項１に記載のトナーの製造方法。
Ｔ１＋５＜Ｔ２            （５）
【請求項３】
前記Ｗ１（Ｗ／ｋｇ）が下記数式（６）を満たすことを特徴とする請求項１または２に記載のトナーの製造方法。
３０≦Ｗ１                （６）
【請求項４】
前記トナーが下記数式（７）を満たすことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のトナーの製造方法：
ＴｇＢ−ＴｇＡ≧５        （７）
［式中、ＴｇＢ（℃）は、前記トナー母粒子を測定試料とするＤＳＣ測定において、２０℃から１８０℃まで昇温速度１０℃／分で昇温した後、５０℃まで降温速度５０℃／分で冷却し、５０℃で２０分間保持し、その後、２０℃まで降温速度５０℃／分で冷却し、２０℃で１０分間保持し、その後、２０℃から１８０℃まで昇温速度１０℃／分で昇温した際に測定される２回目昇温時のガラス転移温度を示す。］。
【請求項５】
前記結晶性樹脂が結晶核剤部位を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のトナーの製造方法。
【請求項６】
前記結晶性樹脂が結晶性ポリエステルであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のトナーの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月23日(2018.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコーンゴムを含む弾性層と、
芳香族ポリイミドおよび芳香族ポリアミドイミドのうち少なくとも一方ならびにフッ素樹脂を含む中間層と、
フッ素樹脂を含む表面層と、を具備する電子写真用部材であって、
該芳香族ポリイミドまたは該芳香族ポリアミドイミドと、該弾性層とは、アミド結合を含む基によって結合しており、
該アミド結合を構成している炭素原子は、該芳香族ポリイミドまたは該芳香族ポリアミドイミドの分子内の芳香環を構成する炭素原子と直接結合していることを特徴とする電子写真用部材。
【請求項２】
前記アミド結合は、アミノ基を有する弾性層の表面に、ポリアミック酸およびフッ素樹脂を含む中間層形成用材料混合物の層を形成したのち、該ポリアミック酸をイミド化させる際に、該ポリアミック酸の酸基と該アミノ基とを反応させることによって形成されたものである請求項１に記載の電子写真用部材。
【請求項３】
前記アミノ基が、前記弾性層の表面をアミノシランカップリング剤で処理することによって導入されたものである請求項２に記載の電子写真用部材。
【請求項４】
前記アミノシランカップリング剤が、下記構造式（１）で示される構造を有するシランカップリング剤、および、下記構造式（２）で示される構造を有するシランカップリング剤から選ばれる少なくとも一方である請求項３に記載の電子写真用部材：
【化１】
2015135483.tif 000001
【化２】
2015135483.tif 000002
（構造式（１）および構造式（２）中、Ｒ11、Ｒ21およびＲ22は炭素数１〜３のアルキレン基、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ23およびＲ24は各々独立に水素原子または炭素数１〜２のアルキル基を示す）。
【請求項５】
前記シリコーンゴムが、付加硬化型シリコーンゴムの硬化物である請求項２〜４のいずれか一項に記載の電子写真用部材。
【請求項６】
前記アミノ基が、前記シリコーンゴムの分子中に存在するアミノ基である請求項２に記載の電子写真用部材。
【請求項７】
前記中間層形成用材料混合物におけるフッ素樹脂の割合は、ポリアミック酸に対して１〜１０倍の範囲内の質量比である請求項２〜６のいずれか一項に記載の電子写真用部材。
【請求項８】
前記表面層が、前記フッ素樹脂として、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）およびテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）からなる群より選択される少なくとも１つを含む請求項１〜７のいずれか一項に記載の電子写真用部材。
【請求項９】
前記中間層が、前記フッ素樹脂として、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）およびテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）からなる群より選択される少なくとも１つを含む請求項１〜８のいずれか一項に記載の電子写真用部材。
【請求項１０】
前記表面層の、前記弾性層からの剥離試験において、該弾性層が凝集破壊する請求項１〜９のいずれか一項に記載の電子写真用部材。
【請求項１１】
前記剥離試験において引き剥がした前記電子写真用部材の表面部の剥離面をＦＴ−ＩＲで測定したときに、芳香族アミド基由来の赤外吸収ピークが観察される請求項１０に記載の電子写真用部材。
【請求項１２】
定着部材と、該定着部材の加熱装置と、該定着部材に対向して配置された加圧部材とを具備している定着装置であって、該定着部材および該加圧部材の少なくとも一方が、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の電子写真用部材であることを特徴とする定着装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の定着装置を具備していることを特徴とする電子写真画像形成装置。
【請求項１４】
シリコーンゴムを含む弾性層と、
芳香族ポリイミドおよび芳香族ポリアミドイミドのうち少なくとも一方ならびにフッ素樹脂を含む中間層と、
フッ素樹脂を含む表面層と、を具備する電子写真用部材の製造方法であって、
（１）表面にアミノ基を有する、シリコーンゴムを含む弾性層を用意する工程と、
（２）該弾性層の表面に、芳香族ポリイミドまたは芳香族ポリアミドイミドの前駆体としてのポリアミック酸およびフッ素樹脂を含む中間層形成用材料混合物の層を形成し、次いで、該中間層形成用材料混合物の層上に、フッ素樹脂粒子分散液の層を形成する工程と、
（３）該中間層形成用材料混合物の層中の該ポリアミック酸をイミド化させると共に、該フッ素樹脂粒子分散液の層中のフッ素樹脂粒子を熔融してフッ素樹脂層とする工程とを有し、
該工程（３）が、該ポリアミック酸をイミド化させる際に、該ポリアミック酸の分子内の芳香環を構成する炭素原子に直接結合している酸基と該弾性層の表面のアミノ基とを反応させる工程を含むことを特徴とする電子写真用部材の製造方法。
【請求項１５】
シリコーンゴムを含む弾性層と、
該弾性層上の、フッ素樹脂を含む表面層と、を具備する電子写真用部材であって、
該表面層は、該弾性層上に中間層を介して接着されており、
該中間層は、芳香族ポリイミドおよびまたは芳香族ポリアミドイミドの少なくとも一方ならびにフッ素樹脂を含み、
該芳香族ポリイミドまたは該芳香族ポリアミドイミドと、該弾性層とは、アミド結合を含む基によって結合しており、
該表面層の、該弾性層からの剥離試験において、該弾性層が凝集破壊するものであり、
該剥離試験において引き剥がした該電子写真用部材の表面部の剥離面を、ＦＴ−ＩＲで測定したときに、芳香族アミド基由来の赤外吸収ピークが観察されることを特徴とする電子写真用部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
（５−６）定着フィルムの耐久試験
得られた定着フィルムの高温環境下での耐久性を評価するために、図２Ａ，２Ｂに示した構成を有するカラーレーザープリンター（商品名：ＬＢＰ９５２０Ｃ；キヤノン社製）の定着部材として、該定着フィルム２を装着した。そして、定着フィルムの表面温度が、２３０℃に加熱されるようにした状態で、Ａ４サイズの普通紙（商品名：ＣＳ８１４；キヤノン（株）社製）上に白ベタ画像を連続して形成させた。そして、５０万枚の出力が終了したのち、定着装置から定着フィルム２を取り出し、目視で観察したところ、表面層の剥離は観察されなかった。
また、別途、上記と同様に調製した定着フィルムを、上記カラーレーザープリンターの定着部材として装着し、上記と同様に操作して白ベタ画像を１０万枚出力後、定着装置から定着フィルム２を取り出して、下記の方法によって離型層（表面層）と弾性層との剥離試験を行った。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月11日(2017.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有する表示パネルと、
前記表示パネルの第１の領域を支持する第１の筐体と、
前記表示パネルの第２の領域を支持する第２の筐体と、
前記第１の筐体と前記第２の筐体とを結合する機能を有する可撓性を有する基材と、を有し、
前記可撓性を有する基材は、前記表示パネルよりも可撓性が低く、
前記表示パネルは、前記第１の領域と前記第２の領域とが略同一平面に位置する展開状態と、前記第１の領域と前記第２の領域とが重なって位置する折り畳み状態と、に変形可能であり、
前記折り畳み状態において、前記可撓性を有する基材は、曲面を有する形状を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
可撓性を有する表示パネルと、
前記表示パネルの第１の領域を支持する第１の筐体と、
前記表示パネルの第２の領域を支持する第２の筐体と、
前記第１の筐体と前記第２の筐体とを結合する機能を有する可撓性を有する基材と、
前記第１の筐体と、前記可撓性を有する基材とを固着する弾性体と、を有し、
前記可撓性を有する基材は、前記表示パネルよりも可撓性が低く、
前記表示パネルは、前記第１の領域と前記第２の領域とが略同一平面に位置する展開状態と、前記第１の領域と前記第２の領域とが重なって位置する折り畳み状態と、に変形可能であり、
前記折り畳み状態において、前記可撓性を有する基材は、曲面を有する形状を有することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
前記表示パネルの第１の領域を支持する第１の筐体と、
前記表示パネルの第２の領域を支持する第２の筐体と、
前記第１の筐体と前記第２の筐体とを結合する機能を有する可撓性を有する基材と、
前記第１の筐体と、前記表示パネルとを固着する接着層と、
前記表示パネルと電気的に接続されたＦＰＣと、を有し、
前記可撓性を有する基材は、前記表示パネルよりも可撓性が低く、
前記ＦＰＣは、前記表示パネルを介して前記接着層と重なる領域を有し、
前記表示パネルは、前記第１の領域と前記第２の領域とが略同一平面に位置する展開状態と、前記第１の領域と前記第２の領域とが重なって位置する折り畳み状態と、に変形可能であり、
前記折り畳み状態において、前記可撓性を有する基材は、曲面を有する形状を有することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
前記表示パネルの第１の領域を支持する第１の筐体と、
前記表示パネルの第２の領域を支持する第２の筐体と、
前記第１の筐体と前記第２の筐体とを結合する機能を有する可撓性を有する基材と、
前記第１の筐体と、前記可撓性を有する基材とを固着する弾性体と、
前記第１の筐体と、前記表示パネルとを固着する接着層と、
前記表示パネルと電気的に接続されたＦＰＣと、を有し、
前記可撓性を有する基材は、前記表示パネルよりも可撓性が低く、
前記ＦＰＣは、前記表示パネルを介して前記接着層と重なる領域を有し、
前記表示パネルは、前記第１の領域と前記第２の領域とが略同一平面に位置する展開状態と、前記第１の領域と前記第２の領域とが重なって位置する折り畳み状態と、に変形可能であり、
前記折り畳み状態において、前記可撓性を有する基材は、曲面を有する形状を有することを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月10日(2018.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸気ターボ機械用弁であって、
入口部分（４２）と出口部分（４４）と内側部分とを含む弁体（４０）であって、内側部分が内壁を含む弁体（４０）と、
弁体（４０）の内側部分に摺動自在に配置された弁部材であって、外面（６５）を含む弁部材と、
弁部材の外面（６５）に取り付けられ、かつ弁部材の外面（６５）の周りに延在するシール要素（７０）であって、内壁からある間隙をもって離間しているシール要素（７０）と、
内壁に取り付けられたシール組立体（１００）であって、間隙にまたがって弁部材のシール要素（７０）と接するように構成及び配置されるシール組立体（１００）と、
を備え、
シール組立体（１００）が、フローティングシール（１０４）と、第１のシール支持体（１１６）と、第２のシール支持体（１１８）とを備え、フローティングシール（１０４）が、第１のシール支持体（１１６）と第２のシール支持体（１１８）との間に配設され、
第１のシール支持体（１１６）及び第２のシール支持体（１１８）の各々が、内壁内に延在し、かつ内壁によって拘束される、
蒸気ターボ機械用弁。
【請求項２】
シール組立体（１００）が、複数のシール部材を有するフローティングシール（１０４）を備える、請求項１に記載の蒸気ターボ機械用弁。
【請求項３】
シール組立体（１００）が、ニッケル−クロム系超合金から形成される、請求項１に記載の蒸気ターボ機械用弁。
【請求項４】
弁部材が、約１０％〜１６％のクロム含有量を含む高合金ステンレス鋼から形成され、シール要素（７０）が、ニッケル−クロム系超合金から形成される、請求項３に記載の蒸気ターボ機械用弁。
【請求項５】
蒸気ターボ機械であって、
高圧（ＨＰ）タービン部分（４）と、
ＨＰタービン部分（４）に動作可能に接続された中圧（ＩＰ）タービン部分（６）と、
ＨＰタービン部分（４）及びＩＰタービン部分（６）のうちの少なくとも１つに動作可能に接続された低圧（ＬＰ）タービン部分（８）と、
ＨＰタービン部分（４）、ＩＰタービン部分（６）、及びＬＰタービン部分（８）のうちの少なくとも１つに流体的に接続された、請求項１に記載の蒸気ターボ機械用弁と、
を備える、蒸気ターボ機械。
【請求項６】
フローティングシール（１０４）が、複数のシール部材を備える、請求項５に記載の蒸気ターボ機械。
【請求項７】
弁部材が、約１０％〜１６％のクロム含有量を含む高合金ステンレス鋼から形成され、シール要素（７０）の各々が、ニッケル−クロム系超合金から形成される、請求項５に記載の蒸気ターボ機械。
【請求項８】
弁部材が、約１０％〜１６％のクロム含有量を含む高合金ステンレス鋼から形成され、弁部材が、第１の面（１５０）と反対側の第２の面（１５２）とを有する壁を介して第２の内側部分から分離された第１の内側部分を有し、
弁部材に動作可能に接続された弁軸と、壁の第１の面（１５０）及び第２の面（１５２）のうちの１つに取り付けられた１以上のニッケル−クロム系超合金の補強部材とを更に備え、
弁軸が１以上のニッケル−クロム系超合金の補強部材に動作可能に接続される、
請求項５に記載の蒸気ターボ機械。
【請求項９】
蒸気ターボ機械用弁であって、
入口部分（４２）と出口部分（４４）と内側部分とを含む弁体（４０）であって、内側部分が内壁を含む弁体（４０）と、
弁体（４０）の内側部分に摺動自在に配置された弁部材であって、外面（６５）を含む弁部材と、
弁部材の外面（６５）に取り付けられ、かつ弁部材の外面（６５）の周りに延在するシール要素（７０）であって、内壁からある間隙をもって離間しているシール要素（７０）と、
内壁に取り付けられたシール組立体（１００）であって、間隙にまたがって弁部材のシール要素（７０）と接するように構成及び配置されるシール組立体（１００）と、
を備え、
弁部材が、第１の面（１５０）と反対側の第２の面（１５２）とを有する壁を介して第２の内側部分から分離された第１の内側部分を有し、
壁の第１の面（１５０）及び第２の面（１５２）のうちの１つに取り付けられた１以上の補強部材を更に備え、
１以上の補強部材が、壁の第１の面（１５０）に取り付けられた第１の補強部材（１５６）と、壁の第２の面（１５２）に取り付けられた第２の補強部材とを含み、第１の補強部材（１５６）及び第２の補強部材（１５８）の各々が、ニッケル−クロム系超合金から形成される、
蒸気ターボ機械用弁。
【請求項１０】
シール組立体（１００）が、複数のシール部材を有するフローティングシール（１０４）を備える、請求項９に記載の蒸気ターボ機械用弁。
【請求項１１】
シール組立体（１００）が、ニッケル−クロム系超合金から形成される、請求項９に記載の蒸気ターボ機械用弁。
【請求項１２】
弁部材が、約１０％〜１６％のクロム含有量を含む高合金ステンレス鋼から形成され、シール要素（７０）が、ニッケル−クロム系超合金から形成される、請求項１１に記載の蒸気ターボ機械用弁。
【請求項１３】
蒸気ターボ機械であって、
高圧（ＨＰ）タービン部分（４）と、
ＨＰタービン部分（４）に動作可能に接続された中圧（ＩＰ）タービン部分（６）と、
ＨＰタービン部分（４）及びＩＰタービン部分（６）のうちの少なくとも１つに動作可能に接続された低圧（ＬＰ）タービン部分（８）と、
ＨＰタービン部分（４）、ＩＰタービン部分（６）、及びＬＰタービン部分（８）のうちの少なくとも１つに流体的に接続された、請求項９から１２のいずれかに記載の蒸気ターボ機械用弁と、
を備える、蒸気ターボ機械。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月28日(2017.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
補聴器具（１３）のためのアンテナ装置であって、透磁性材料からなるコイル心（２２、３２）を備え好ましい送受信空間方向を有するアンテナ構成体（１６、３６）と、電磁妨害波を放射する補聴器具の別の電気構成要素とを含み、前記アンテナ構成体（１６，３６）と前記補聴器具の別の電気構成要素との間に透磁性材料からなり少なくとも部分的に平らな遮蔽体（２６、３７）が配置されているアンテナ装置において、
前記遮蔽体（２６、３７）は前記アンテナ構成体（１６，３６）の送受信空間方向に対し横向きに配置されており、前記遮蔽体（２６、３７）は前記コイル心（２２、３２）に対し５０〜１５０マイクロメータの距離に配置されていることを特徴とするアンテナ装置。
【請求項２】
前記コイル心（２２、３２）の材料は、前記遮蔽体（２６、３７）の材料より小さい透磁率を有することを特徴とする請求項１記載のアンテナ装置。
【請求項３】
前記遮蔽体（２６、３７）は、ミューメタル箔からなることを特徴とする請求項２記載のアンテナ装置。
【請求項４】
前記遮蔽体（２６、３７）は、前記アンテナ構成体（１６、３６）にはり付けられていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載のアンテナ装置。
【請求項５】
前記補聴器具の別の電気構成要素は電磁妨害波を主として電磁妨害波空間方向に放射し、
前記アンテナ構成体（１６、３６）および前記補聴器具の別の電気構成要素は、電磁妨害波の前記アンテナ構成体（１６、３６）への結合が低減されるように互いに横向きに配置されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載のアンテナ装置。
【請求項６】
前記アンテナ構成体（１６、３６）はコイルアンテナを含み、前記補聴器具の別の電気構成要素は妨害放射を放出するコイル構成体（２３）を含み、
前記コイルアンテナおよび前記コイル構成体（２３）はそれらのそれぞれの縦方向に関して互いに横向きに配置されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項記載のアンテナ装置。
【請求項７】
前記補聴器具の別の電気構成要素は、前記遮蔽体（２６，３７）に配置されていることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項記載のアンテナ装置。
【請求項８】
前記補聴器具の別の電気構成要素は、前記遮蔽体（２６，３７）に固定されていることを特徴とする請求項７記載のアンテナ装置。
【請求項９】
前記遮蔽体（２６、３７）は少なくともその周辺の範囲において、前記補聴器具の別の電気構成要素を前記アンテナ構成体（１６，３７）と反対の方向で取り囲むことを特徴とする請求項１から８のいずれか１項記載のアンテナ装置。
【請求項１０】
前記コイル心（２２、３２）は、音響路（１７）を前記遮蔽体（２６、３７）は音響口（２６）を有し、
前記音響路（１７）および前記音響口（２６）は連続した音響路が形成されるように一列に配置されていることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項記載のアンテナ装置。
【請求項１１】
前記音響路（１７）の内壁、および前記遮蔽体（２６、３７）の前記コイル心（２２、３２）と反対側の少なくとも一方が、消音性の材料で覆われていることを特徴とする１０記載のアンテナ装置。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか１項記載のアンテナ装置を有する補聴器具。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月21日(2017.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
方法であって、
経路（２０８）に沿って車両システム（１００）を推進させる前記車両システム（１００）の複数のトラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）を制御するステップであって、前記複数のトラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）は共通の電源により付勢されており、および互いに対して電気的に並列である、制御するステップと、
前記経路（２０８）に沿って前記車両システム（１００）が推進するように前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）の動作パラメータを表すモータ測定値を受信するステップと、
互いに前記モータ測定値を比較するステップと、
前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）が異なるモータタイプを含み、および不整合であるかどうかを判定するステップと、
を備え、
前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）が異なるモータタイプを含むことを判定することに応答して、前記方法は、（ａ）前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）が異なるモータタイプを含むことを前記車両システム（１００）のオペレータに通知するステップ；（ｂ）前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）が異なるモータタイプを含むことを遠隔監視局に通知するステップ；（ｃ）１つ以上の前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）の牽引力を減少させるステップ；または（ｄ）前記異なるモータタイプの前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）に基づいて前記車両システム（１００）の既存の動作計画を修正するように計画モジュール（２８４）に指示するステップのうちの少なくとも１つをさらに備える、方法。
【請求項２】
方法であって、
経路（２０８）に沿って車両システム（１００）を推進させる前記車両システム（１００）の複数のトラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）を制御するステップであって、前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）は共通の電源により付勢されており、および互いに対して電気的に並列である、制御するステップと、
前記経路（２０８）に沿って前記車両システム（１００）が推進するように前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）の動作パラメータを表すモータ測定値を受信するステップと、
互いに前記モータ測定値を比較するステップと、
前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）が異なるモータタイプを含み、および不整合であるかどうかを判定するステップと、
を備え、
前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）が異なるモータタイプを含むことを判定することに応答して、前記方法は、（ａ）前記車両システム（１００）の動作効率を改善する；（ｂ）１つ以上の前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）により提供される牽引力を減少させる；または（ｃ）１つ以上の前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）を無効にするのうちの少なくとも１つをするように既存の動作計画を修正するステップをさらに備える、方法。
【請求項３】
前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）は共通の推進力生成車両（１０４、１０５）からのものである、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）は共通のインバータ（２３２、２３４）により付勢される誘導モータである、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）のための前記動作パラメータの性能の関係を計算するステップ、および前記性能の関係の比較に基づいて前記トラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）が異なるモータタイプを含むことを判定するステップをさらに備える、請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記性能の関係はトルク−スリップ関係、電流−スリップ関係、トルク−速度関係、または電流−スピード関係のうちの少なくとも１つを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記動作パラメータは励起周波数、モータ速度、モータ電流、電圧、温度上昇、トルク、または対応するトラクションモータ（２４１、２４２、２４３、２４４、２４５）のモータスリップのうちの少なくとも１つを含む、請求項５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月5日(2017.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】剥離方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に剥離層を形成する、第１の工程と、
前記剥離層上に被剥離層を形成する、第２の工程と、
前記被剥離層の一部を前記剥離層から剥離し、剥離の起点を形成する、第３の工程と、
前記剥離の起点を用いて、前記被剥離層を前記基板から剥離する、第４の工程と、を有し、
前記第４の工程では、前記基板の温度が、６０℃以上９０℃以下である、剥離方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第４の工程は、前記基板の少なくとも一部を加熱しながら、前記被剥離層を前記基板から剥離する工程を有する、剥離方法。
【請求項３】
基板上に剥離層を形成する、第１の工程と、
前記剥離層上に被剥離層を形成する、第２の工程と、
前記被剥離層の一部を前記剥離層から剥離し、剥離の起点を形成する、第３の工程と、
前記剥離の起点を用いて、前記被剥離層を前記基板から剥離する、第４の工程と、を有し、
前記第４の工程では、前記被剥離層の少なくとも一部を冷却しながら、前記被剥離層を前記基板から剥離する、剥離方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記被剥離層と前記剥離層の間に液体を供給する、液体供給工程を有し、
前記液体供給工程は、前記第３の工程と前記第４の工程の間、又は前記第４の工程中に行われる、剥離方法。
【請求項５】
請求項４において、
前記液体の温度は、０℃より高く１００℃未満である、剥離方法。
【請求項６】
基板上に剥離層を形成する、第１の工程と、
前記剥離層上に被剥離層を形成する、第２の工程と、
前記被剥離層の一部を前記剥離層から剥離し、剥離の起点を形成する、第３の工程と、
前記剥離の起点を用いて、前記被剥離層を前記基板から剥離する、第４の工程と、
前記被剥離層と前記剥離層の間に液体を供給する、液体供給工程を有し、
前記液体供給工程は、前記第３の工程と前記第４の工程の間、又は前記第４の工程中に行われ、
前記液体の温度は、６０℃以上９０℃以下である、剥離方法。
【請求項７】
請求項６において、
前記第４の工程は、
前記基板の第１の部分を加熱する工程と、
前記被剥離層の第２の部分を冷却する工程と、を有する、剥離方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記第１の部分は、前記被剥離層と剥離されていない部分を含み、
前記第２の部分は、前記基板と剥離された部分を含む、剥離方法。
【請求項９】
請求項４乃至８のいずれか一項において、
前記液体は、水を含む、剥離方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項において、
前記基板から剥離されて露出した前記被剥離層の表面を除電する、除電工程を有し、
前記除電工程は、前記第４の工程中又は前記第４の工程より後に行われる、剥離方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項において、
前記基板から剥離されて露出した前記被剥離層の表面を乾燥する、乾燥工程を有し、
前記乾燥工程は、前記第４の工程より後に行われる、剥離方法。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一項において、
前記第１の工程は、タングステンを含む層を形成する工程を有する、剥離方法。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか一項において、
前記剥離層を酸化する、酸化工程を有し、
前記酸化工程は、前記第１の工程と前記第２の工程の間に行われる、剥離方法。
【請求項１４】
請求項１３において、
前記酸化工程は、亜酸化窒素（Ｎ２Ｏ）を含む雰囲気下で行うプラズマ処理工程を有する、剥離方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月15日(2017.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハ形状物品を処理するための装置であって、気密筐体を提供するハウジングを備える密閉型プロセスチャンバと、前記密閉型プロセスチャンバ内部に位置された回転チャックであって、ウェハ形状物品を上に保持するように適合された回転チャックと、前記密閉型プロセスチャンバの上部に固定された蓋であって、前記密閉型プロセスチャンバの内側に向いた下面、および前記下面を所望の温度に加熱するための少なくとも１つの加熱要素を備える蓋とを備える装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つの加熱要素が、前記蓋の内側に取り付けられる請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記蓋の前記下面が前記少なくとも１つの加熱要素によって加熱されるように、前記少なくとも１つの加熱要素が、前記蓋と熱的に接触するように取り付けられる請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記蓋が下側プレートを備え、前記下側プレートが、前記下面を備え、化学的耐性を有するプラスチックから形成される請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの加熱要素が、電気加熱層を備える請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つの加熱要素が、加熱された液体を供給される熱交換管路を備える請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記蓋が、繊維強化複合材料から形成された上側プレートと、前記下面を備え、化学的耐性を有するプラスチックから形成された下側プレートとを備え、前記少なくとも１つの加熱要素が、前記上側プレートと前記下側プレートとの間に挟持される請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記下側プレートが、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリスチレン／ポリエチルスチレン（ＰＳ／ＰＥＳ）、エチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、クロロトリフルオロエチレンのホモポリマー（ＰＣＴＦＥ）、フッ化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）、およびエチレンクロロトリフルオロエチレン（ＥＣＴＦＥ）からなる群から選択される化学的耐性を有するプラスチックから形成される請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記上側プレートが、炭素繊維強化プラスチックから形成される請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記炭素繊維強化プラスチックが、エポキシ、ポリエステル、ビニルエステル、およびナイロンからなる群から選択される結合ポリマーを含む請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
さらに、液体を選択された温度で前記密閉型プロセスチャンバ内に供給するように構成された液体ディスペンサを備え、前記装置が、さらに、前記密閉型プロセスチャンバの内部の温度を検出するように位置決めされた少なくとも１つの温度センサと、前記液体ディスペンサによって供給される加熱された液体の温度よりも少なくとも５Ｋ高い温度に前記下面を維持するように前記少なくとも１つの加熱要素を制御するための制御装置とを備える請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
ウェハ形状物品を処理するために使用されるプロセスチャンバを閉じるための蓋であって、前記プロセスチャンバの内側に向いた下面と、前記下面を所望の温度に加熱するための少なくとも１つの加熱要素とを備える蓋。
【請求項１３】
前記蓋が下側プレートを備え、前記下側プレートが、前記下面を備え、化学的耐性を有するプラスチックから形成される請求項１２に記載の蓋。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの加熱要素が、電気加熱層を備える請求項１２に記載の蓋。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの加熱要素が、加熱された液体を供給される熱交換管路を備える請求項１２に記載の蓋。
【請求項１６】
前記蓋の前記下面が前記少なくとも１つの加熱要素によって加熱されるように、前記少なくとも１つの加熱要素が、前記蓋の内部に取り付けられ、前記蓋と熱的に接触する請求項１２に記載の蓋。
【請求項１７】
前記蓋が、繊維強化複合材料から形成された上側プレートと、前記下面を備え、化学的耐性を有するプラスチックから形成された下側プレートとを備え、前記少なくとも１つの加熱要素が、前記上側プレートと前記下側プレートとの間に挟持される請求項１２に記載の蓋。
【請求項１８】
ウェハ形状物品を湿式処理する方法であって、
プロセスチャンバ内へ下に向いた下面を有する蓋によって閉じられる前記プロセスチャンバ内に、ウェハ形状物品を位置決めするステップと、
加熱された液体を前記ウェハ形状物品上に分注するステップと、
前記蓋の前記下面を、前記加熱された液体の温度よりも少なくとも５Ｋ高い温度に加熱するステップと
を含む方法。
【請求項１９】
前記蓋の前記下面が、前記蓋の内部に取り付けられた少なくとも１つの電気加熱要素によって加熱される請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
さらに、前記加熱された液体の分注中に前記プロセスチャンバの内部温度を監視するステップと、前記監視された温度に基づいて前記蓋の前記下面の前記加熱を制御するステップとを含む請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月6日(2017.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のゲート電極及び第２のゲート電極と、
前記第１のゲート電極上及び前記第２のゲート電極上の第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層上の、前記第１のゲート電極と重なる領域を有する第１の酸化物半導体膜と、
前記第１の絶縁層上の、前記第２のゲート電極と重なる領域を有する第２の酸化物半導体膜と、
前記第１の酸化物半導体膜上に重なる第３の酸化物半導体膜と、
前記第２の酸化物半導体膜上及び前記第３の酸化物半導体膜上の第２の絶縁層と、
前記第２の絶縁層上方の、前記第３の酸化物半導体膜と重なる領域を有する第３のゲート電極と、
前記第３の酸化物半導体膜と電気的に接続された第１のソース電極及び第１のドレイン電極と、
前記第２の酸化物半導体膜と電気的に接続された第２のソース電極及び第２のドレイン電極と、を有し、
前記第１のゲート電極と、前記第３のゲート電極とは電気的に接続されることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の酸化物半導体膜、前記第２の酸化物半導体膜、及び前記第３の酸化物半導体膜はそれぞれ、インジウムと、インジウムと異なる金属元素と、を有し、
前記第１の酸化物半導体膜中のインジウムの原子数比は、前記第２の酸化物半導体膜中のインジウムの原子数比及び前記第３の酸化物半導体膜中のインジウムの原子数比よりも大きいことを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月6日(2017.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランジスタを有し、
前記トランジスタは、
酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜と重なる第１のゲート電極と、
前記酸化物半導体膜と前記第１のゲート電極の間のゲート絶縁膜と、
前記酸化物半導体膜上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の前記酸化物半導体膜に電気的に接続する一対の電極と、
前記第１の絶縁膜及び前記一対の電極上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の前記酸化物半導体膜と重畳する第２のゲート電極と、を有し、
前記第１の絶縁膜は、厚さが１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である領域を有し、
前記一対の電極は、間の長さが１μｍ以上６μｍ以下である領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
トランジスタを有し、
前記トランジスタは、
酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜と重なる第１のゲート電極と、
前記酸化物半導体膜と前記第１のゲート電極の間のゲート絶縁膜と、
前記酸化物半導体膜上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の前記酸化物半導体膜に電気的に接続する一対の電極と、
前記第１の絶縁膜及び前記一対の電極上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の前記酸化物半導体膜と重畳する第２のゲート電極と、を有し、
前記トランジスタのチャネル幅方向において、前記第１のゲート電極及び前記第２のゲート電極は、前記ゲート絶縁膜、前記第１の絶縁膜、及び前記第２の絶縁膜に設けられる開口部において接続し、
前記トランジスタのチャネル幅方向において、前記第１のゲート電極及び前記第２のゲート電極は、前記ゲート絶縁膜、前記第１の絶縁膜、及び前記第２の絶縁膜を介して前記酸化物半導体膜を囲み、
前記第１の絶縁膜は、厚さが１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である領域を有し、
前記一対の電極は、間の長さが１μｍ以上６μｍ以下である領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
トランジスタを有し、
前記トランジスタは、
酸化物半導体膜及び金属酸化膜を含む酸化物積層膜と、
前記酸化物積層膜と重なる第１のゲート電極と、
前記酸化物積層膜と前記第１のゲート電極の間のゲート絶縁膜と、
前記酸化物積層膜上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の前記酸化物積層膜に電気的に接続する一対の電極と、
前記第１の絶縁膜及び前記一対の電極上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の前記酸化物積層膜と重畳する第２のゲート電極と、を有し、
前記第１の絶縁膜は、厚さが１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である領域を有し、
前記一対の電極は、間の長さが１μｍ以上６μｍ以下である領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
トランジスタを有し、
前記トランジスタは、
酸化物半導体膜及び金属酸化膜を含む酸化物積層膜と、
前記酸化物積層膜と重なる第１のゲート電極と、
前記酸化物積層膜と前記第１のゲート電極の間のゲート絶縁膜と、
前記酸化物積層膜上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の前記酸化物積層膜に電気的に接続する一対の電極と、
前記第１の絶縁膜及び前記一対の電極上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の前記酸化物積層膜と重畳する第２のゲート電極と、を有し、
前記トランジスタのチャネル幅方向において、前記第１のゲート電極及び前記第２のゲート電極は、前記ゲート絶縁膜、前記第１の絶縁膜、及び前記第２の絶縁膜に設けられる開口部において接続し、
前記トランジスタのチャネル幅方向において、前記第１のゲート電極及び前記第２のゲート電極は、前記ゲート絶縁膜、前記第１の絶縁膜、及び前記第２の絶縁膜を介して前記酸化物半導体膜を囲み、
前記第１の絶縁膜は、厚さが１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である領域を有し、
前記一対の電極は、間の長さが１μｍ以上６μｍ以下である領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第１の絶縁膜は、ＳＩＭＳ測定による窒素濃度が、６×１０２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下である領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記第２の絶縁膜は、ＥＳＲ測定によるｇ＝２．００１に現れる信号のスピン密度が３×１０１７ｓｐｉｎｓ／ｃｍ３以下であることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、
前記酸化物半導体膜は、
Ｉｎ、Ｇａ、Ｚｎを含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記酸化物半導体膜は、結晶部を含み、
前記結晶部は、ｃ軸に配向していることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月30日(2017.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
垂直磁気異方性を有し、コバルト−鉄−ボロン−窒化物（ＣｏＦｅＢＮ）を含む第１磁性層（１１０）と、
垂直磁気異方性を有し、コバルト−鉄−ボロン（ＣｏＦｅＢ）を含む第２磁性層（１３０）と、
第１磁性層と第２磁性層との間に挟まれ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｖ、Ａｇ、Ａｕ、Ｗ、ＴａＮ、ＴｉＮ、ＲｕＯ、Ｚｒ、またはそれらの組み合わせのいずれかを含む非磁性層（１２０）と、を含む複合軟質層（１８０）を含む磁気抵抗デバイスのための磁性多層スタック（２００）。
【請求項２】
更に、第２磁性層（１３０）の近くの１つの側面にトンネルバリア層（１６０）を含み、トンネルバリア層（１６０）は非磁性金属材料または絶縁体材料を含む請求項１に記載の磁気抵抗デバイスのための磁性多層スタック（２００）。
【請求項３】
更に、第１磁性層（１１０）の近くにスペーサ層（１６５）を含み、スペーサ層（１６５）は非磁性金属材料または絶縁体材料を含む請求項１または２に記載の磁気抵抗デバイスのための磁性多層スタック（２００）。
【請求項４】
絶縁体材料は、マグネシウム酸化物、マグネシウムチタン酸化物、マグネシウムアルミニウム酸化物、またはアルミニウム酸化物からなるグループから選択される酸化物を含む非磁性金属材料または絶縁体材料を含む請求項２または３に記載の磁気抵抗デバイスのための磁性多層スタック（２００）。
【請求項５】
非磁性金属材料は、Ｃｕ、Ｃｒ、またはＲｕのいずれかを含む請求項２または３に記載の磁気抵抗デバイスのための磁性多層スタック（２００）。
【請求項６】
更に、トンネルバリア層（１６０）の近くで、トンネルバリア層（１６０）の他の側面に、硬質層（１００２）を含む請求項１〜５のいずれかに記載の磁気抵抗デバイスのための磁性多層スタック（２００）。
【請求項７】
更に、他の硬質層（１００４）を含み、スペーサ層（１６１）は、他の硬質層（１００４）と第１磁性層（１１０）との間に挟まれ、これにより他のトンネルバリア層（１６１）を形成する請求項１〜６のいずれかに記載の磁気抵抗デバイスのための磁性多層スタック（２００）。
【請求項８】
コバルト−鉄−ボロン−窒化物のボロン濃度が、１０〜３０原子パーセントの範囲である請求項１〜７のいずれかに記載の磁気抵抗デバイスのための磁性多層スタック（２００）。
【請求項９】
第１磁性層（１１０）および／または第２磁性層（１３０）が、０．６〜２ｎｍの範囲の膜厚を有する請求項１〜８のいずれかに記載の磁気抵抗デバイスのための磁性多層スタック（２００）。
【請求項１０】
非磁性層（１２０）が、０．２〜２．５ｎｍの範囲の膜厚を有する請求項１〜９のいずれかに記載の磁気抵抗デバイスのための磁性多層スタック（２００）。
【請求項１１】
トンネルバリア層（１６０）が、０．８〜２．５ｎｍの範囲の膜厚を有する請求項２〜１０のいずれかに記載の磁気抵抗デバイスのための磁性多層スタック（２００）。
【請求項１２】
スペーサ層（１６５）が、０．４〜２．５ｎｍの範囲の膜厚を有する請求項３〜１１のいずれかに記載の磁気抵抗デバイスのための磁性多層スタック（２００）。
【請求項１３】
上部シード層（１００１）を含む底部電極（１０００）と、
シード層（１００１）の上に有り、軟質層または硬質層である第１磁気構造（６００）と、
第１磁気構造（６００）の上に有り、非磁性金属材料または絶縁体材料を含むトンネルバリア構造（１６０）と、
トンネルバリア構造（１６０）の上に有り、第１磁性構造が軟質層の場合は硬質層であり、または第１磁性構造が硬質層の場合は軟質層である、第２磁性構造（１００２）と、
第２磁性構造（１００２）の上の上部電極（１００３）と、を含み、
第１磁性構造または第２磁性構造の軟質層（６００）は、
垂直磁気異方性を有し、コバルト−鉄−ボロン−窒化物（ＣｏＦｅＢＮ）を含む第１磁性層（１１０）と、
垂直磁気異方性を有し、コバルト−鉄−ボロン（ＣｏＦｅＢ）を含む第２磁性層（１３０）であって、トンネルバリア構造の近くに配置される第２磁性層（１３０）と、
第１磁性層と第２磁性層との間に挟まれて、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｖ、Ａｇ、Ａｕ、Ｗ、ＴａＮ、ＴｉＮ、ＲｕＯ、Ｚｒ、またはそれらの組み合わせのいずれかを含む非磁性層（１２０）と、を含む複合構造である磁気抵抗デバイス（９００）。
【請求項１４】
更に、シード層（１００１）と他のトンネルバリア層（１６１）との間で、第１磁性層（１１０）の近くに他の硬質層（１００４）を含む請求項１３に記載の磁気抵抗デバイス（９００）。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月12日(2017.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空胴と、
一種の材料から形成された同調可能な磁気素子を備え、前記空胴内に配置される一体型の誘電体共振器と、
調節可能な磁場とを含み、
前記誘電体共振器は、約０．１０インチの直径および高さを有する、同調可能な共振器システム。
【請求項２】
前記誘電体共振器は、ミリ秒レベルで同調する、請求項１に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項３】
前記誘電体共振器は、マイクロ秒レベルで同調する、請求項１に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項４】
前記空胴は、銀の塗膜を有する、請求項１に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項５】
前記一体型の誘電体共振器は、２６．７の誘電率を有する、請求項１に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項６】
前記誘電体共振器は、ＴＥモードの共振器である、請求項１に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項７】
前記誘電体共振器は、ＴＭモードの共振器である、請求項１に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項８】
前記材料は、合成ガーネットである、請求項１に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項９】
前記合成ガーネットは、ＢｉｘＣａｙ＋２ｘＹ３−ｘ−ｙ−２ｚＦｅ５−ｙ−ｚＺｒｙＶｚＯ１２である、請求項８に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項１０】
前記合成ガーネットは、ＢｉｘＹ３−ｘ−０．３５Ｃａ０．３５Ｚｒ０．３５Ｆｅ４．６５Ｏ１２である、請求項８に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項１１】
前記合成ガーネットは、Ｂｉ（Ｙ，Ｃａ）２Ｆｅ４．２ＭＩ０．４ＭＩＩ０．４Ｏ１２である、請求項８に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項１２】
前記合成ガーネットは、Ｙ２．１５−２ｘＢｉ０．５Ｃａ０．３５＋２ｘＺｒ０．３５ＶｘＦｅ４．６５−ｘＯ１２である、請求項８に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項１３】
前記合成ガーネットは、Ｂｉ０．９Ｃａ０．９ｘＹ２．１−０．９ｘ（Ｚｒ０．７Ｎｂ０．１）ｘＦｅ５−０．８ｘＯ１２である、請求項８に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項１４】
前記合成ガーネットは、Ｂｉ０．９Ｃａ０．９＋２ｘＹ２．１−０．９−２ｘＺｒ０．７Ｎｂ０．１ＶｘＦｅ４．２−ｘＯ１２である、請求項８に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項１５】
前記合成ガーネットは、Ｂｉ１．４Ｃａ０．５５＋２ｘＹ１．０５−２ｘＺｒ０．５５ＶｘＦｅ４．４５−ｘＯ１２である、請求項８に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項１６】
前記合成ガーネットは、Ｙ２ＣａＦｅ４．４Ｚｒ０．４Ｍｏ０．２Ｏ１２である、請求項８に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項１７】
前記合成ガーネットは、ＢｉＹ２Ｆｅ４．６Ｉｎ０．４Ｏ１２、ＢｉＣａ０．４Ｙ１．６Ｆｅ４．６Ｚｒ０．４Ｏ１２、ＢｉＣａ０．４Ｙ１．６Ｆｅ４．６Ｔｉ０．４Ｏ１２、ＢｉＣａ０．８Ｙ１．２Ｆｅ４．６Ｓｂ０．４Ｏ１２、ＢｉＹ２Ｆｅ４．６Ｇａ０．４Ｏ１２、ＢｉＣａ１．２Ｙ０．８Ｆｅ４．２Ｉｎ０．４Ｍｏ０．４Ｏ１２、ＢｉＹ１．２Ｃａ０．８Ｆｅ４．２Ｚｎ０．４Ｍｏ０．４Ｏ１２、ＢｉＹ１．２Ｃａ０．８Ｆｅ４．２Ｍｇ０．４Ｍｏ０．４Ｏ１２、ＢｉＹ０．４Ｃａ１．６Ｆｅ４．２Ｚｒ０．４Ｍｏ０．４Ｏ１２、ＢｉＹ０．４Ｃａ１．６Ｆｅ４．２Ｓｎ０．４Ｍｏ０．４Ｏ１２、ＢｉＣａ２Ｆｅ４．２Ｔａ０．４Ｍｏ０．４Ｏ１２、ＢｉＣａ２Ｆｅ４．２Ｎｂ０．４Ｍｏ０．４Ｏ１２、ＢｉＹ０．８Ｃａ１．２Ｆｅ４．６Ｍｏ０．４Ｏ１２、およびＢｉＹ０．４Ｃａ１．６Ｆｅ４．２Ｔｉ０．４Ｍｏ０．４Ｏ１２からなる群から選択される材料である、請求項８に記載の同調可能な共振器システム。
【請求項１８】
アンテナと、
サブシステムと、
変換器と、
一種の材料から形成された同調可能な磁気素子を備えた一体型の誘電体共振器を有する少なくとも１つのフィルタとを含み、
前記誘電体共振器は、約０．１０インチの直径および高さを有する、アンテナシステム。
【請求項１９】
誘電体材料用粉末を作製するステップと、
前記粉末を成形するステップと、
前記成形された粉末を焼結することにより、一種の材料から形成された同調可能な磁気素子を備え、空胴内に配置される一体型の誘電体共振器を形成するステップとを含み、
前記誘電体共振器は、約０．１０インチの直径および高さを有する、同調可能な共振器システムを形成する方法。
【請求項２０】
前記一体型の誘電体共振器を空胴内に挿入するステップと、調節可能な磁場を印加するステップとをさらに含む、請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月4日(2017.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の領域と第２の領域とを有する表示装置であって、
前記第１の領域は、被写体の画像を表示することができる機能を有し、
前記第２の領域は、前記被写体に光を照射することができる機能を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
第１の領域と第２の領域とを有する表示装置であって、
前記第１の領域は、画像を表示することができる機能を有し、
前記第２の領域は、照明光を照射することができる機能を有することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
表示装置と撮像装置とを有する電子機器であって、
前記表示装置は、第１の領域と第２の領域とを有し、
前記第１の領域は、前記撮像装置から得られた被写体の画像を表示することができる機能を有し、
前記第２の領域は、前記被写体に光を照射することができる機能を有することを特徴とする電子機器。
【請求項４】
第１の領域と第２の領域とを有する表示装置を含む電子機器であって、
前記第１の領域は、被写体の画像を表示することができる機能を有し、
前記第２の領域は、前記被写体に光を照射することができる機能を有し、
前記第１の領域は、接触物に応じて移動することができる機能を有することを特徴とする電子機器。
【請求項５】
第１の領域と第２の領域とを有する表示装置を含む電子機器であって、
前記第１の領域は、被写体の画像を表示することができる機能を有し、
前記第２の領域は、前記被写体に光を照射することができる機能を有し、
前記第２の領域は、接触物に応じて移動することができる機能を有することを特徴とする電子機器。