(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
高電圧パルスを人体に貼られた電極を通じて人体に通電することにより、低周波治療を行う低周波治療器において、
少なくとも数百Ｈｚから１２００Ｈｚの周波数の治療パルス発生源と、数Ｈｚから数十Ｈｚの周波数の治療パルスの２チャンネルの発生源を備え、
数百Ｈｚから１２００Ｈｚの高い周波数手段パルス出力中に、数Ｈｚから数十Ｈｚの刺激感の強い周波数のパルス群を任意あるいは一定間隔で挿入出力することを特徴とする低周波治療器。
【請求項２】
高電圧パルスを人体に貼られた電極を通じて人体に通電することにより、低周波治療を行う低周波治療器において、
複数チャンネルの治療パルス発生源と、これら治療パルス発生源の任意個数のチャンネル出力を重畳させて出力させる手段とを備え、前記複数チャンネルの１つは、数Ｈｚから数十Ｈｚの周波数のパルスを発生するパルス発生源であり、他方は数百Ｈｚから１２００Ｈｚのパルスを発生するパルス発生源であり、数Ｈｚから数十Ｈｚの比較的低い治療周波数出力中に数百Ｈｚから１２００Ｈｚの刺激感の少ない周波数のパルス群を任意あるいは一定間隔で挿入出力することを特徴とする低周波治療器。
【請求項３】
前記各チャンネルの刺激出力強さを独立して可変調整する手段を備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の低周波治療器。
【請求項４】
高電圧パルスを人体に貼られた電極を通じて人体に通電することにより、低周波治療を行う低周波治療器において、
複数チャンネルの治療パルス発生源と、これら治療パルス発生源の任意個数のチャンネル出力を重畳させて出力させる手段と、各チャンネルの刺激出力強さを独立して可変調整する手段とを備えたことを特徴とする低周波治療器。
【請求項５】
各チャンネルの刺激周波数を独立して可変調整する手段を備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の低周波治療器。
【請求項６】
高電圧パルスを人体に貼られた電極を通じて人体に通電することにより、低周波治療を行う低周波治療器において、
数百Ｈｚから１２００Ｈｚの高い治療周波数パルスと数Ｈｚから数十Ｈｚの刺激感の強い周波数のパルスを発生するパルス発生源と、任意又は一定の比率で、かつ任意又は一定の間隔で交互に出力する手段とを備えたことを特徴とする低周波治療器。
【請求項７】
高電圧パルスを人体に貼られた電極を通じて人体に通電することにより、低周波治療を行う低周波治療器において、
前記高電圧パルスは、数百Ｈｚから１２００Ｈｚの周波数の治療パルス発生源から得られるものであり、かつこの数百Ｈｚから１２００Ｈｚの治療パルスの連続に、所定期間毎に少なくとも数十ミリ秒の休止期間を設けることを特徴とする低周波治療器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、高電圧パルスを人体に貼られた電極を通じて人体に通電することにより、低周波治療を行う低周波治療器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の一般的な低周波治療器は、昇圧された高電圧直流を高電圧パルスに波形成形し、電極を介して人体患部に連続した高電圧パルス電流を印加して治療を行う。
この種の低周波治療器では、使用するパルス周波数は数Ｈｚから１２００Ｈｚ程度の範囲である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記したパルスの使用周波数で、高い周波数の治療は、除痛などの即効性に優れているが、電気刺激に対する筋収縮が追従せずに刺激感が少ないという特徴を持っている。
上記高い治療周波数を発生する機能を有する従来の低周波治療器にあっては、治療周波数を可変して、使用者が好みの治療周波数で治療を行う場合、出力される治療刺激周波数は単一周波数であるので、電気刺激に対する筋収縮が追従しない１２００Ｈｚ等の高い周波数での治療では刺激感が少なく、治療中であることを使用者に明確に認識させることが難しい、という問題点があった。
【０００４】
この発明は上記問題点に着目してなされたものであって、除痛効果があり、それでいて治療の刺激感も得られる低周波治療器を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
この発明の請求項１記載の低周波治療器は、高電圧パルスを人体に貼られた電極を通じて人体に通電することにより、低周波治療を行うものにおいて、少なくとも数百Ｈｚから１２００Ｈｚの周波数の治療パルス発生源と、数Ｈｚから数十Ｈｚの周波数の治療パルスの２チャンネルの発生源を備え、数百Ｈｚから１２００Ｈｚの高い周波数手段パルス出力中に、数Ｈｚから数十Ｈｚの刺激感の強い周波数のパルス群を任意あるいは一定間隔で挿入出力するようにしている。
また、請求項２記載の低周波治療器は、高電圧パルスを人体に貼られた電極を通じて人体に通電することにより、低周波治療を行うものにおいて、複数チャンネルの治療パルス発生源と、これら治療パルス発生源の任意個数のチャンネル出力を重畳させて出力させる手段とを備え、前記複数チャンネルの１つは、数Ｈｚから数十Ｈｚの周波数のパルスを発生するパルス発生源であり、他方は数百Ｈｚから１２００Ｈｚのパルスを発生するパルス発生源であり、数Ｈｚから数十Ｈｚの比較的低い治療周波数出力中に数百Ｈｚから１２００Ｈｚの刺激感の少ない周波数のパルス群を任意あるいは一定間隔で挿入出力するようにしている。
更に、請求項６記載の低周波治療器は、高電圧パルスを人体に貼られた電極を通じて人体に通電することにより、低周波治療を行うものにおいて、数百Ｈｚから１２００Ｈｚの高い治療周波数パルスと数Ｈｚから数十Ｈｚの刺激感の強い周波数のパルスを発生するパルス発生源と、任意又は一定の比率で、かつ任意又は一定の間隔で交互に出力する手段とを備えている。
【０００６】
請求項１，２，６記載の発明によれば、チャンネルが数Ｈｚから数十Ｈｚのいずれかの周波数と、数百Ｈｚから１２００Ｈｚのいずれかの周波数の２チャンネルの場合、数Ｈｚから数十Ｈｚのパルス出力中に、数百Ｈｚから１２００Ｈｚのパルスを挿入することにより、あるいは数百Ｈｚから１２００Ｈｚの出力中に、数Ｈｚから数十Ｈｚのパルスを挿入することにより、さらに両チャンネルを交互に出力することにより、数百Ｈｚ〜１２００Ｈｚのパルスで除痛を、数Ｈｚ〜数十Ｈｚのパルスで適宜な刺激感を得ることができる。
【０００７】
また、この発明の請求項７記載の低周波治療器は、高電圧パルスを人体に貼られた電極を通じて人体に通電することにより、低周波治療を行うものにおいて、前記高電圧パルスは、数百Ｈｚから１２００Ｈｚの周波数の治療パルス発生源から得られるものであり、かつこの数百Ｈｚから１２００Ｈｚの治療パルスの連続に、所定期間毎に少なくとも数十ミリ秒の休止期間を設けている。
【０００８】
請求項７記載の発明によれば、数百Ｈｚから１２００Ｈｚの１つの周波数のみのパルスで除痛効果が得られるが、刺激感も得られる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、実施の形態により、この発明をさらに詳細に説明する。図１は、この発明の一実施形態である低周波治療器の平面図である。この低周波治療器は、本体ケース１と電極２、３からなり、本体ケース１は主体部４と把手部５とから構成されている。主体部４の表面には、肩キー６、腰キー７、足裏キー８、腕キー９、脚キー１０、関節キー１１等の部位キーが、さらにたたくキー１２、もむキー１３、おすキー１４、さするキー１５、電源キー１６を備えている。また、中央部には表示部１７が設けられている。把手部５には、右側にエンドレス回転可能な強さダイヤル１８、左側に速さダイヤル１９が、それぞれ設けられている。ここでは強さダイヤル１８は０から１５段階までを、速さダイヤル１９は１から１５段階までを表示部１７で表示可能に構成されている。
【００１０】
図２は、この実施形態低周波治療器の回路図である。この低周波治療器は回路的には、電池２１を含む電源回路２２、電源回路２２の電圧を１００Ｖ程に昇圧する昇圧回路２３、マイクロコンピュータ２４、強さダイヤル１８、速さダイヤル１９、その他のキースイッチを含む操作スイッチ部２５、トランジスタＴｒ1 、Ｔｒ2 、……、Ｔｒ5 を含む印加電圧制御部２６、トランジスタＴｒ6 、Ｔｒ7 、Ｔｒ8 、……、Ｔｒ11を含む波形成形及び出力部２７、及びトランジスタＴｒ12を含む電流検知部２８を備えている。出力部２７のジャック２９に電極２、３が接続される。
【００１１】
マイクロコンピュータ２４からの信号ｄ1 、……、ｄ5 の状態により、トランジスタＴｒ1 、……、Ｔｒ5 がＯＮ／ＯＦＦされ、昇圧電源に並列に入る抵抗が切替選択され、電極２、３への印加電圧が調整される。また、マイクロコンピュータ２４より、信号ｄ6 が出力されると、その間トランジスタＴｒ6 がＯＮし、信号ｄ7 が出力されると、トランジスタＴｒ7 がＯＮし、高電圧直流が波形成形されてジャック２９を経て、電極、生体患部に正負交互のパルス電圧が印加される。
【００１２】
また、マイクロコンピュータ２４は、操作スイッチ部２５の強さダイヤル１８、速さダイヤル１９からの信号を読み取り、その読み取りに応じた強さ、速さのパルス電圧をジャック２９に接続される電極２、３に印加する。
この実施形態低周波治療器において、操作スイッチ部２５によるモード選択が「たたく」モードであるとすると、図３の（ａ）に示す数十Ｈｚのパルス信号がジャック２９より電極２、３に加えられ、治療部位に通電される。しかし、数Ｈｚのパルス信号のみでは、たたきの刺激性はあるものの除痛効果は弱い。そこで、ここでは図３の（ｂ）に示すように、数Ｈｚのパルス信号と数十Ｈｚのパルス信号の間に、同じ強さの１２００Ｈｚのパルス信号を挿入している。すなわち、数十Ｈｚのパルスと１２００Ｈｚのパルスを交互に繰り返して、ジャック２９より電極２、３に印加している。このようなパルス信号印加のパターンにより、数Ｈｚのパルスによりたたきの刺激を受けながら、１２００Ｈｚのパルスで除痛効果を持たせることができる。
【００１３】
なお、数Ｈｚから数十Ｈｚのパルスと、数百Ｈｚから１２００Ｈｚのパルスの印加態様は、数Ｈｚから数十Ｈｚのパルスを発生し、出力している状況で、数百Ｈｚから１２００Ｈｚの刺激感の少ない除痛効果のある周波数のパルス群を任意あるいは一定間隔で挿入出力してもよい。逆に、数百Ｈｚから１２００Ｈｚのパルスを発生し、出力している状況で、数Ｈｚから数十Ｈｚの刺激感のある周波数のパルス群を任意あるいは一定間隔で挿入出力するようにしてもよい。
【００１４】
また、上記の説明で、図３の（ｂ）の場合、１２００Ｈｚの連続パルスで除痛効果を得、数Ｈｚから数十Ｈｚのパルスで刺激感が得られる（時点ｔ1 ）として説明したが、実際には１２００Ｈｚの連続パルスで休止期間をおく場合、休止期間の終了で立上がる時点ｔ2 も刺激感が得られ、数Ｈｚから数十Ｈｚのパルスと休止期間を持つ１２００Ｈｚの連続パルスの重畳では、ｔ1 、ｔ2 の２回の刺激感が得られる〔図４の（ａ）参照〕。
【００１５】
また、このことから図４の（ｂ）に示すように、数百Ｈｚから１２００Ｈｚの連続パルスが休止期間Ｔを持ち、このＴが数十ミリ秒以上の場合に、連続パルスの立上がり点ｔ2 で刺激感を得、連続パルスの印加で除痛効果を得ることもできる。
図５は、この発明の他の実施形態低周波治療器を示すブロック図である。この実施形態低周波治療器は、それぞれ発振回路２３の出力を入力に受ける第１の波形成形部２７-1と、第２の波形成形部２７-2を備え、第１の波形成形部２７-1からは数Ｈｚから数十Ｈｚのパルス信号を、第２の波形成形部２７-2からは数百Ｈｚから１２００Ｈｚの周波数のパルス信号を、それぞれ出力する。第１の波形成形部２７-1、第２の波形成形部２７-2は、いずれも波高値調整部及び周波数調整部を備え、他に対して独立して波高値及び周波数を調整できる。この両波形成形部２７-1、２７-2の出力は、出力部２７ｂに加えられ、重畳して電極に与えられる。そのため、「たたく」モードの数十Ｈｚのパルスと、１２００Ｈｚのパルスを連続完全重畳すると、その波形は図３の（ｃ）に例示するものとなる。ここでは、数十Ｈｚのパルスの波高値の方が大きい場合を示している。この場合も、１２００Ｈｚのパルスの連続出力で除痛効果を、数十Ｈｚで振幅が突出するパルスで、たたきの刺激性を感じることができる。
【００１６】
【発明の効果】
この発明によれば、数百Ｈｚから１２００Ｈｚの高い治療周波数パルス出力中に、数Ｈｚから数十Ｈｚの刺激感の強い周波数のパルス群を任意あるいは一定間隔で挿入出力するようにしたので、主目的である刺激感の少ない高い周波数での除痛などの即効性に優れた効果に、低い周波数での強い刺激感を得られる効果を併せ持たせることができるという効果が得られる。
【００１７】
また、数Ｈｚから数十Ｈｚの電気刺激に対し、筋伸縮が追従し、筋肉動作により、たたく、もむ、押す等の刺激感を持って血行促進等の効果を得る低い治療周波数パルス出力中に、数百Ｈｚから１２００Ｈｚの高い治療周波数のパルス群を任意あるいは一定間隔で挿入出力するようにすれば、主目的である低い周波数のたたく、もむ、押す等の刺激感を持った血行促進等の効果に、高い周波数での除痛などの即効性に優れた効果を併せ持たせることができる。
【００１８】
また、数百Ｈｚから１２００Ｈｚの周波数のパルスの連続に数十ミリ秒の休止期間をおくことにより、一種の周波数のパルスで除痛効果の上に、刺激感も得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態である低周波治療器の外観を示す平面図である。
【図２】同実施形態低周波治療器の内部回路を示す回路図である。
【図３】数Ｈｚから数十Ｈｚの周波数のパルスと、数百Ｈｚから１２００Ｈｚの周波数のパルスの出力を説明する波形図である。
【図４】数Ｈｚから数十Ｈｚの周波数のパルスと、休止期間を入れた数百Ｈｚから１２００Ｈｚの周波数のパルスを印加する場合の刺激感、休止期間を入れた数百Ｈｚから１２００Ｈｚの周波数のパルスのみを印加した場合の刺激感の得られる時点を説明する図である。
【図５】この発明の他の実施形態低周波治療器の構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
２３            発振回路（昇圧回路）
２４            マイクロコンピュータ
２７-1、２７-2  波形成形部
２７ｂ          出力部
２９            ジャック
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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