(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に平行に配置された複数本の電極よりなる表示電極、
上記基板上に、上記表示電極と平行且つ交互に配置された複数本の電極よりなる共通電極、
上記基板に対向する基板上に配置された第３の電極、および
上記２枚の基板間に配向膜を介して配置された液晶を備え、
上記第３の電極は、その隣接する各電極が、それらの間に他の電極を挟むことなく、少なくともそれらの一部が上記共通電極の投影面上に位置し、その幅が対向する上記共通電極の各電極の幅の１０％よりも大きく、且つ上記共通電極の各電極に隣接する表示電極の各電極の投影面上に及ばない範囲で形成され、
上記表示電極および上記共通電極間に電圧を印加するとともに上記第３の電極の電位を上記共通電極と同一電位に制御し、基板面にほぼ水平方向に電界を発生させ上記液晶を面内応答させることにより光学特性を制御することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
基板上に平行に配置された複数本の電極よりなる表示電極、
上記基板上に、上記表示電極と平行且つ交互に配置された複数本の電極よりなる共通電極、
上記基板に対向する基板上に形成され、上記表示電極および上記共通電極の投影面でない領域に配置された第３の電極、
上記２枚の基板間に配向膜を介して配置された液晶を備え、上記表示電極および上記共通電極間に電圧を印加するとともに、上記第３の電極の電位を上記表示電極と上記共通電極との間の電位差のほぼ１／２に相当する電位に制御し、基板面にほぼ水平方向に電界を発生させ上記液晶を面内応答させることにより光学特性を制御することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
上記液晶は、正の誘電異方性を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、横方向電界方式の液晶表示装置、特にその視覚特性の向上および駆動電圧の低下に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置は、薄く、低電圧駆動が可能であるので、腕時計、電卓等の表示装置として広く使われている。特にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等のアクティブスイッチ素子を組み込んだＴＮ型液晶表示装置は、ＣＲＴ並みの表示特性を発揮するので、ワードプロセッサー、パーソナルコンピュータのディスプレイやテレビ等にも用いられるようになってきている。しかしながら、ＴＮ型液晶表示装置においては、視野角が中間調表示において狭く、表示画面の周縁部と中央部では色またはコントラストに大きな差が出てしまう。この現象は、ＴＮ型液晶表示方式がｐ型のネマチック液晶材料に電界を印加して電界方向に沿って液晶分子を立たせることにより旋光性を制御する方式であり、液晶分子の立ち上がり方向が決まっているために起きる。従って、ＴＮ型液晶表示装置においては、視野角の問題は根本的に解決できない。
【０００３】
この問題を解決するために、ＴＮ型液晶表示方式のように液晶分子を配向させた状態で電界を横方向、すなわち基板に水平な方向に印加することにより液晶分子を回転させ、旋光性もしくは複屈折性を制御する横方向電界方式が提案されている。この横方向電界方式では、基板上にインターディジタル形状の電極を形成し、この電極間に電圧を印加し、基板に水平方向の電界を形成するもので、液晶材料としては一般的にｎ型のネマチック液晶が用いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように、従来の横方向電界方式の液晶表示装置においては、一般に誘電異方性が小さなｎ型のネマチック液晶を用いていたので、駆動電圧が高くなるという問題があった。また、図５は従来の横方向電界方式の液晶表示装置にｐ型のネマチック液晶を用いた場合の液晶の配向状態を説明する部分断面図である。図において、１は液晶分子、２は表示電極、３は共通電極であり、表示電極２と共通電極３は共にインターディジタル形状の電極である。５は配向膜、６は絶縁膜、７はガラス基板、８は偏光板、９は電気力線をそれぞれ示す。図５に示ように、従来の横電界方式の液晶表示装置においてｐ型のネマチック液晶１を用いた場合、インターディジタル形状の表示電極２および共通電極３間に電圧を印加した時、電極間で電気力線９が山なりに歪みを生じ、液晶分子１は電界方向に沿って配列しようとするため、電極間の中央付近で液晶配向のぶつかりが生じ、ディスクリネーションが発生する。ディスクリネーションの発生／消失にはヒステリシスを伴うため、残像が発生し、表示品位が低下するという問題点があった。
【０００５】
本発明は、上記のような問題点を解消するためになされたもので、低電圧駆動が可能であり、残像の少ない横方向電界方式の液晶表示装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明に係わる液晶表示装置は、基板上に平行に配置された複数本の電極よりなる表示電極と、同じ基板上に、表示電極と平行且つ交互に配置された複数本の電極よりなる共通電極と、上記基板に対向する基板上に配置された第３の電極、およびこれら２枚の基板間に配向膜を介して配置された液晶を備え、第３の電極は、その隣接する各電極が、それらの間に他の電極を挟むことなく、少なくともそれらの一部が共通電極の投影面上に位置し、その幅が対向する共通電極の各電極の幅の１０％よりも大きく、且つ共通電極の各電極に隣接する表示電極の各電極の投影面上に及ばない範囲で形成され、表示電極および共通電極間に電圧を印加するとともに第３の電極の電位を共通電極と同一電位に制御し、基板面にほぼ水平方向に電界を発生させ液晶を面内応答させることにより光学特性を制御するものである。
【０００７】
また、基板上に平行に配置された複数本の電極よりなる表示電極と、同じ基板上に、表示電極と平行且つ交互に配置された複数本の電極よりなる共通電極と、上記基板に対向する第２の基板上に形成され、表示電極および共通電極の投影面でない領域に配置された第３の電極と、これらの２枚の基板間に配向膜を介して配置された液晶を備え、表示電極および共通電極間に電圧を印加するとともに第３の電極の電位を表示電極と共通電極との間の電位差のほぼ１／２に相当する電位に制御し、基板面にほぼ水平方向に電界を発生させ液晶を面内応答させることにより光学特性を制御するものである。
さらに、液晶は、正の誘電異方性を有するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】
実施の形態１．
図１は、本発明の実施の形態１である横方向電界方式の液晶表示装置の構成を示す部分断面図および平面図である。図１−ａは、表面にインターディジタル形状の電極を有する基板と対向基板より構成された本実施の形態による液晶表示装置を示す部分断面図、図１−ｂは、インターディジタル形状の電極の構造を示す平面図である。図において、１は液晶分子、２は表示電極、３は共通電極であり、表示電極２と共通電極３は共にインターディジタル形状である。さらに、４は表示電極２および共通電極３が形成された基板に対向する基板に配置された第３の電極、５は配向膜、６は絶縁膜、７はガラス基板、８は偏光板をそれぞれ示す。本実施の形態における第３の電極４は、その隣接する各電極が、それらの間に他の電極を挟むことなく、少なくともそれらの一部が共通電極３の投影面上に位置している。
【０００９】
本実施の形態による液晶表示装置は、一対の基板の間に配向膜５を介して液晶１が配置され、一方の基板上に互いに絶縁されて形成されたインターディジタル形状の電極、表示電極２および共通電極３間に電圧を印加し、基板面にほぼ水平方向に電界を発生させ、液晶分子１を面内方向に回転させることにより光学特性を制御する面内応答型の液晶表示装置であって、インターディジタル形状の電極が形成された基板に対向する基板上に第３の電極４を設け、第３の電極４の電位を制御することにより横方向電界を効率的に液晶分子１に印加し、低い駆動電圧で視野角特性の優れた液晶表示装置を得るものである。第３の電極４を設けていない従来の横電界方式の液晶表示装置においてｐ型のネマチック液晶１を用いた場合、図５に示すように、表示電極２および共通電極３間に電圧を印加した時、電極間で電気力線９が山なりに歪みを生じ、液晶分子１は電界方向に沿って配列しようとするため、電極間の中央付近で液晶配向のぶつかりが生じ、ディスクリネーションが発生する。ディスクリネーションの発生／消失にはヒステリシスを伴うため、残像が発生し、表示品位が低下するという問題点があった。本発明によれば、第３の電極４を設けることにより、電界を基板面により水平に形成できるため、液晶配向のぶつかりが生じず、ディスクリネーションが発生しない、すなわち残像のない液晶表示装置が得られる。なお、本実施の形態では、第３の電極４は少なくともその一部が対向する基板上に形成されている共通電極３の投影面上に形成され、この共通電極３と同一電位に制御されている。
【００１０】
第３の電極４を対向基板上に形成し、共通電極３の電位と同一電位に制御する場合、第３の電極４の幅は、対向する共通電極３の各電極の幅の１０％よりも大きく、且つ対向する共通電極３の各電極に隣接する表示電極２の各電極の投影面上に及ばない範囲まで形成することができる。第３の電極４の幅が共通電極３の幅の１０％より狭い場合、第３の電極４を設ける効果が小さく、隣接する表示電極２の投影面上にかかると液晶分子１に横方向電界が印加されない。ただし、第３の電極４は対向する共通電極３すべての投影面上に形成する必要はなく、例えば対向基板上に設けた導電性材料で形成されたブラックマトリクスを第３の電極４として用いても良い。
【００１１】
さらに、インターディジタル電極の形状は、図１に示すように同一平面上に複数本の表示電極２および共通電極３が交互に入り組んだ形状に限るものではなく、例えば図２に示すように絶縁膜６を挟んで表示電極２および共通電極３を形成する構造でも良い。図２において６６は絶縁膜を示し、同一符号は同一あるいは相当部分を示す。ただし、電極構造は液晶分子１に横方向電界が印加できる形状であれば良く、ここに示した形状に限定されるものではない。また、本実施の形態において、マトリクス駆動用の配線を一対の基板上にすべて設けるためには、配線同士を絶縁する必要がある。このため、少なくとも２つのインターディジタル電極すなわち表示電極２と共通電極３の間を絶縁して設ける方法としては、ＳｉＯＸやＳｉＮＸ等の無機材料または有機材料からなる絶縁層を基板上に設け、その上または側面にインターディジタル電極を設ければよい。
【００１２】
本発明の液晶表示装置において用いられる液晶材料としては、ネマチック液晶材料を用いることができる。液晶材料のタイプとしてはｐ型のネマチック液晶およびｎ型のネマチック液晶のいずれの液晶材料も用いることができるが、誘電異方性の大きな液晶材料が得られやすく、低電圧駆動に有効あるｐ型のネマチック液晶材料を用いることが好ましい。基板材料としては、ガラス、石英、シリコン等を用いることができるが、透過型および反射型の液晶表示装置として用いるために、少なくとも一方は透明の基板でなければならない。また、配向膜材料はポリイミド、ＰＶＡ等の有機物あるいはＳｉＯＸなど無機物の斜方蒸着膜などを用いることができる。液晶材料と配向膜を組み合わせたとき、プレチルト角が５度を超えると視覚特性に歪みを生じるので、プレチルト角は５度以下であることが好ましい。さらに、電極材料としては、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｉｎ、ＳｎＯ２  、ＩＴＯ等の導電性金属、金属酸化物、導電性高分子等を用いることができる。
【００１３】
以上のように、本実施の形態によれば、インターディジタル形状の表示電極２および共通電極３が形成された基板に対向する基板上の、共通電極３の投影面上に第３の電極４を設け、第３の電極４の電位を共通電極３と同電位に制御することにより、横方向電界を効率的に液晶分子１に印加することができるので、低い駆動電圧で視野角特性の優れた液晶表示装置を得ることができる。
【００１４】
実施の形態２．
図３は、本発明の実施の形態２である横方向電界方式の液晶表示装置の構成を示す部分断面図である。図中、同一、相当部分には同一符号を付し説明を省略する。本実施の形態では、インターディジタル形状の表示電極２および共通電極３が形成された基板に対向する基板上の、表示電極２および共通電極３の投影面でない領域に第３の電極４を設け、この第３の電極４の電位をインターディジタル形状の電極の電位とは独立に制御することにより、横方向電界を効率的に液晶分子１に印加し、低い駆動電圧で視野角特性の優れた液晶表示装置を得るものである。
なお、本実施の形態のように、第３の電極４をインターディジタル電極の形成されていない部分の投影面上に形成する場合、インターディジタル電極すなわち表示電極２および共通電極３もしくは第３の電極４のうち少なくとも１つの電極材料は、透明電極材料でなければならない。さらに、液晶分子１は主に表示電極２と共通電極３の間で回転するので、第３の電極４は透明電極材料で構成されていることが望ましい。
【００１５】
本実施の形態による液晶表示装置に用いられる液晶材料、基板材料および配向膜材料、電極材料は実施の形態１で示すものと同様の材料を用いることができる。さらに、インターディジタル電極の形状は、表示電極２と共通電極３を同一平面上に形成する図３に示す構造に限定するものではなく、絶縁膜を挟んだ多層構造等でもよく、液晶分子１に横方向電界が印加できる形状であればよい。
【００１６】
【実施例】
以下に、本発明による液晶表示装置の実施例について説明する。はじめに作成した液晶表示装置の測定方法について述べる。駆動電圧は表示電極２と共通電極３の間に電圧を印加し、その振幅を増加させた時に最大透過率を与える電圧とした。第３の電極４の電位は個々の実施例に記載した通りである。印加を上昇させる時と下降させる時の電圧−透過率特性に差が０．１Ｖ以上生じたとき、残像の原因となるヒステリシス有りとした。視野角はコントラスト１０：１を与える角度とした。この時インターディジタル電極の長手方向を上下、これと直交する方向を左右とした。
実施例１．
以下に、本発明の実施例１である液晶表示装置の製造方法について説明する。
また、実施例１〜３および比較例による液晶表示装置の評価結果を表１に示す。
【００１７】
【表１】
0003746333.tif 000002
【００１８】
一枚のガラス基板上にＩＴＯ膜を形成し、ポジ型感光性レジストを用いて、図１−ｂに示すようなインターディジタル形状の表示電極２および共通電極３を作成する。次に、基板上に配向膜５を形成した後、インターディジタル電極の長手方向と垂直な方向から１０度ずれた方向にラビング処理を行う。対向する基板として、ガラス基板にＩＴＯ膜を形成し、対向する共通電極３の投影面上に５本に１本の割合で第３の電極４を有する基板を作成する。第３の電極の幅は共通電極と同じである。さらに、配向膜５を形成し、ラビングを行い、得られた基板を５μｍのスペーサを用いて、ラビング方向がアンチパラレルになるように重ねあわせ、周辺部をシールして液晶セルを作成する。ここで得られた液晶セルの空隙に誘電異方性５.７、屈折率異方性０.０９０のｐ型ネマチック液晶材料を注入する。次いで表示モードがノーマリーブラックとなるように偏光板を張り付け、本実施例の液晶表示装置を得る。本実施例で用いた配向膜と液晶のプレチルトは、クリスタルロテーション法により３度であった。
【００１９】
本実施例による液晶表示装置の表示電極２と共通電極３の間に電圧を印加し、第３の電極４の電位を共通電極３の電位と同じ電位に制御して、上記の測定法にて評価した結果、ディスクリネーションの発生が見られず、表１に示すような良好な表示特性が得られた。
【００２０】
比較例．
上記実施例１の比較例として、対向基板に第３の電極４を形成せず、それ以外は実施例１と同様の構成および材料で形成した液晶表示装置について同様の測定を行い評価したところ、ディスクリネーションが発生し、ヒステリシスが観察された。また、最大透過率が得られる電圧が実施例１に比べ高くなった。
【００２１】
実施例２．
以下に、本発明の実施例２である液晶表示装置の製造方法について説明する。
一枚のガラス基板上にＣｒ膜を形成し、ポジ型感光性レジストを用いて、図１−ｂに示すようなインターディジタル形状の表示電極２および共通電極３を作成する。次に、基板上に配向膜５を形成した後、インターディジタル電極の長手方向と垂直な方向から１０度ずれた方向にラビング処理を行う。対向する基板として、ガラス基板にＣｒ膜を形成し、対向する共通電極３の投影面上に５本に１本の割合で第３の電極４を有する基板を作成する。第３の電極の幅は共通電極と同じである。これ以降の工程は、実施例１と同様に行う。
本実施例による液晶表示装置の表示電極２と共通電極３の間に電圧を印加し、第３の電極４の電位を共通電極３の電位と同じ電位に制御して、上記実施例１と同様の測定法にて評価した結果、ディスクリネーションの発生が見られず、表１に示すような良好な表示特性が得られた。
【００２２】
実施例３．
以下に、本発明の実施例３である液晶表示装置の製造方法について説明する。
一枚のガラス基板上にＩＴＯ膜を形成し、ポジ型感光性レジストを用いて、図１−ｂに示すようなインターディジタル形状の表示電極２および共通電極３を作成する。次に、基板上に配向膜５を形成した後、インターディジタル電極の長手方向と垂直な方向から１０度ずれた方向にラビング処理を行う。対向する基板として、ガラス基板にＣｒ膜を形成し、対向する共通電極３の投影面上の５本に１本の割合で第３の電極４を有する基板を作成する。第３の電極の幅は共通電極と同じである。これ以降の工程は、実施例１と同様に行う。
本実施例による液晶表示装置の表示電極２と共通電極３の間に電圧を印加し、第３の電極４の電位を共通電極３の電位と同じ電位に制御して、上記実施例１と同様の測定法にて評価した結果、表１に示すような良好な表示特性が得られた。
【００２３】
実施例４．
以下に、本発明の実施例４である液晶表示装置の製造方法について説明する。また、実施例４〜６による液晶表示装置の評価結果を表２に示す。
【００２４】
【表２】
0003746333.tif 000003
【００２５】
一枚のガラス基板上にＣｒ膜を形成し、ポジ型感光性レジストを用いて、インターディジタル形状の表示電極２および共通電極３を作成する。次に、基板上に配向膜５を形成した後、インターディジタル電極の長手方向と垂直な方向から１０度ずれた方向にラビング処理を行う。対向する基板として、ガラス基板にＣｒ膜を形成し、対向する共通電極３の投影面上に、共通電極３の幅に対して５０％の幅を持つ第３の電極４を有する基板を作成する。さらに、配向膜５を形成し、ラビングを行い、得られた基板を５μmのスペーサを用いて、ラビング方向がアンチパラレルになるように重ねあわせ、周辺部をシールして図４に示すような断面構造の液晶セルを作成する。ここで得られた液晶セルの空隙に誘電異方性５.７、屈折率異方性０.０９０のｐ型ネマチック液晶材料を注入する。次いで表示モードがノーマリーブラックとなるように偏光板を張り付け、本実施例の液晶表示装置を得る。本実施例で用いた配向膜と液晶のプレチルトは、クリスタルロテーション法により３度であった。
本実施例による液晶表示装置の表示電極２と共通電極３の間に電圧を印加し、第３の電極４の電位を共通電極３の電位と同じ電位に制御して、上記実施例１と同様の測定法にて評価した結果、表２に示すような良好な表示特性が得られた。
【００２６】
実施例５．
以下に、本発明の実施例５である液晶表示装置の製造方法について説明する。
一枚のガラス基板上にＣｒ膜を形成し、ポジ型感光性レジストを用いて、インターディジタル形状の表示電極２および共通電極３を作成する。次に、基板上に配向膜５を形成した後、インターディジタル電極の長手方向と垂直な方向から１０度ずれた方向にラビング処理を行う。対向する基板として、ガラス基板にＣｒ膜を形成し、対向する共通電極３の投影面上に、共通電極３の幅に対して１００％の幅を持つ第３の電極４を有する基板を作成する。これ以降の工程は、実施例４と同様に行う。なお、本実施例で用いた配向膜と液晶のプレチルトは、クリスタルロテーション法により３度であった。
本実施例による液晶表示装置の表示電極２と共通電極３の間に電圧を印加し、第３の電極４の電位を共通電極３の電位と同じ電位に制御して、上記実施例１と同様の測定法にて評価した結果、表２に示すような良好な表示特性が得られた。
【００２７】
実施例６．
以下に、本発明の実施例６である液晶表示装置の製造方法について説明する。
一枚のガラス基板上にＣｒ膜を形成し、ポジ型感光性レジストを用いて、インターディジタル形状の表示電極２および共通電極３を作成する。次に、基板上に配向膜５を形成した後、インターディジタル電極の長手方向と垂直な方向から１０度ずれた方向にラビング処理を行う。対向する基板として、ガラス基板にＣｒ膜を形成し、対向する共通電極３の投影面上に、共通電極３の幅に対して１５０％の幅を持つ第３の電極４を有する基板を作成する。これ以降の工程は、実施例４と同様に行う。なお、本実施例で用いた配向膜と液晶のプレチルトは、クリスタルロテーション法により３度であった。
本実施例による液晶表示装置の表示電極２と共通電極３の間に電圧を印加し、第３の電極４の電位を共通電極３の電位と同じ電位に制御して、上記実施例１と同様の測定法にて評価した結果、表２に示すような良好な表示特性が得られた。
【００２８】
実施例７．
以下に、本発明の実施例７である液晶表示装置の製造方法について説明する。また、実施例７〜１０による液晶表示装置の評価結果を表３に示す。
【００２９】
【表３】
0003746333.tif 000004
【００３０】
一枚のガラス基板上にＣｒ膜を形成し、ポジ型感光性レジストを用いて、インターディジタル形状の表示電極２および共通電極３を作成する。次に、基板上に配向膜５を形成した後、インターディジタル電極の長手方向と垂直な方向から１０度ずれた方向にラビング処理を行う。対向する基板として、ガラス基板にＩＴＯ膜を形成し、対向する基板の表示電極２および共通電極３が形成されていない部分の投影面上に、共通電極３の間隔に対して３０％の幅を持つ第３の電極４を有する基板を作成する。さらに、配向膜５を形成し、ラビングを行い、得られた基板を５μmのスペーサを用いて、ラビング方向がアンチパラレルになるように重ねあわせ、周辺部をシールして図３に示すような断面構造の液晶セルを作成する。ここで得られた液晶セルの空隙に誘電異方性５.７、屈折率異方性０.０９０のｐ型ネマチック液晶材料を注入する。次いで表示モードがノーマリーブラックとなるように偏光板を張り付け、本実施例の液晶表示装置を得る。本実施例で用いた配向膜と液晶のプレチルトは、クリスタルロテーション法により３度であった。
本実施例による液晶表示装置の表示電極２と共通電極３の間に電圧を印加し、第３の電極４の電位を、インターディジタル電極間の電位差の１／４に相当する電位に制御して、上記実施例１と同様の測定法にて評価した結果、表３に示すような良好な表示特性が得られた。
【００３１】
実施例８．
実施例８による液晶表示装置の構成および材料は実施例７とすべて同じであり、表示電極２と共通電極３の間に電圧を印加した時の、第３の電極４の電位をインターディジタル電極間の電位差の１／２に相当する電位に制御するものである。これを上記実施例１と同様の測定法にて評価した結果、表３に示すような良好な表示特性が得られた。
【００３２】
実施例９．
実施例９による液晶表示装置の構成および材料は実施例７とすべて同じであり、表示電極２と共通電極３の間に電圧を印加した時の、第３の電極４の電位をインターディジタル電極間の電位差の３／４に相当する電位に制御するものである。これを上記実施例１と同様の測定法にて評価した結果、表３に示すような良好な表示特性が得られた。
【００３３】
実施例１０．
実施例１０では、第３の電極の幅を対向する基板の共通電極３の間隔に対して５０％にし、それ以外は上記実施例７〜９と同様の構成および材料の液晶表示装置を作成し、表示電極２と共通電極３の間に電圧を印加した時の、第３の電極４の電位をインターディジタル電極間の電位差の１／２に相当する電位に制御するものである。なお、本実施例で用いた配向膜と液晶のプレチルトは、クリスタルロテーション法により３度であった。これを上記実施例１と同様の測定法にて評価した結果、表３に示すような良好な表示特性が得られた。
【００３４】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、表示電極および共通電極が形成された基板に対向する基板上に第３の電極を配置し、この第３の電極は、その隣接する各電極が、それらの間に他の電極を挟むことなく、少なくともそれらの一部が共通電極の投影面上に位置し、その幅が対向する共通電極の各電極の幅の１０％よりも大きく、且つ共通電極の各電極に隣接する表示電極の各電極の投影面上に及ばない範囲で形成されており、表示電極および共通電極間に電圧を印加するとともに第３の電極の電位を共通電極と同一電位に制御することにより、液晶分子が効率的に水平方向の電界に沿って配列され、残像のない、視覚特性に優れた液晶表示装置が得られる。
また、第３の電極を表示電極および共通電極の投影面でない領域に配置し、表示電極および共通電極間に電圧を印加するとともに第３の電極の電位を表示電極と共通電極との間の電位差のほぼ１／２に相当する電位に制御することにより、液晶分子が効率的に水平方向の電界に沿って配列され、残像のない、視覚特性に優れた液晶表示装置が得られる。
【００３５】
さらに、正の誘電異方性を有する液晶材料を用いることができるので、液晶表示装置の駆動電圧の低下が図られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の実施の形態１および実施例１〜３である液晶表示装置の構成を示す部分断面図および平面図である。
【図２】 この発明の実施の形態１の液晶表示装置の他の構成例を示す部分断面図および平面図である。
【図３】 この発明の実施の形態２および実施例７〜１０である液晶表示装置を示す部分断面図である。
【図４】 この発明の実施例４〜６である液晶表示装置を示す部分断面図である。
【図５】 従来の横電界方式の液晶表示装置にｐ型の液晶材料を用いた場合を示す説明図である。
【符号の説明】
１  液晶分子、２  表示電極、３  共通電極、４  第３の電極、５  配向膜、
６、６６  絶縁膜、７  ガラス基板、８  偏光板、９  電気力線。
【図１】
0003746333.tif 000005
【図２】
0003746333.tif 000006
【図３】
0003746333.tif 000007
【図４】
0003746333.tif 000008
【図５】
0003746333.tif 000009