(57)【要約】式（Ｉ）2003020690.tif 000025（式中、ＲｒおよびＲｓは同一または異なって水素原子または低級アルキルを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は同一または異なって水素原子、低級アルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド等を表し、Ｒ５は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル等を表し、Ｒ６は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、ハロゲン原子等を表すか、Ｒ５とＲ６が一体となって結合を形成し、Ｒ７はＸ１ＮＲ２３Ｒ２４またはＣＯＲ２６を表す）で表されるアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を提供する。
2003020690.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
2003020690.tif 000023
｛式中、ＲｒおよびＲｓは同一または異なって水素原子または低級アルキルを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は同一または異なって水素原子、低級アルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、ＯＲ８［式中、Ｒ８は水素原子、低級アルキル、低級アルカノイルまたはＳＯ２ＮＲｒａＲｓａ（式中、ＲｒａおよびＲｓａはそれぞれ前記ＲｒおよびＲｓと同義である）を表す］、ＣＯＲ９［式中、Ｒ９は水素原子、低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシまたはＮＲ１０Ｒ１１（式中、Ｒ１０およびＲ１１は同一または異なって水素原子または低級アルキルを表す）を表す］またはＮＲ１２Ｒ１３［式中、Ｒ１２は水素原子または低級アルキルを表し、Ｒ１３は水素原子、低級アルキル、低級アルカノイルまたはＳＯ２ＮＲｒｂＲｓｂ（式中、ＲｒｂおよびＲｓｂはそれぞれ前記ＲｒおよびＲｓと同義である）を表す］を表し、Ｒ５は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、イソシアノ、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルコキシ、ＯＳＯ２ＮＲｒｃＲｓｃ（式中、ＲｒｃおよびＲｓｃはそれぞれ前記ＲｒおよびＲｓと同義である）、ＣＯＲ１４［式中、Ｒ１４は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＯＲ１５（式中、Ｒ１５は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）またはＮＲ１６Ｒ１７（式中、Ｒ１６およびＲ１７は同一または異なって水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）を表す］、ＮＲ１８Ｒ１９（式中、Ｒ１８およびＲ１９は同一または異なって置換もしくは非置換のアルキルを表す）、ＮＲ２０ＣＯＲ２１（式中、Ｒ２０およびＲ２１は同一または異なって水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）またはＳＯ２Ｒ２２（式中、Ｒ２２は置換もしくは非置換のアルキルを表す）を表し、Ｒ６は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、イソシアノ、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルコキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＯＳＯ２ＮＲｒｃｘＲｓｃｘ（式中、ＲｒｃｘおよびＲｓｃｘはそれぞれ前記ＲｒおよびＲｓと同義である）、ＣＯＲ１４ｘ（式中、Ｒ１４ｘは前記Ｒ１４と同義である）、ＮＲ１８ｘＲ１９ｘ（式中、Ｒ１８ｘおよびＲ１９ｘはそれぞれ前記Ｒ１８およびＲ１９と同義である）、ＮＲ２０ｘＣＯＲ２１ｘ（式中、Ｒ２０ｘおよびＲ２１ｘはそれぞれ前記Ｒ２０およびＲ２１と同義である）またはＳＯ２Ｒ２２ｘ（式中、Ｒ２２ｘは前記Ｒ２２と同義である）を表すか、Ｒ５とＲ６が一体となって結合を形成し、Ｒ７はＸ１ＮＲ２３Ｒ２４［式中、Ｘ１はＣ＝ＯまたはＣ＝Ｓを表し、Ｒ２３は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表し、Ｒ２４は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基またはＯＲ２５（式中、Ｒ２５は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）を表す］またはＣＯＲ２６［式中、Ｒ２６は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基またはＯＲ２７（式中、Ｒ２７は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）を表す］を表す。ただし、（１）−ＣＲ５＝ＣＲ６Ｒ７がベンゼン環上の−ＯＳＯ２ＮＲｒＲｓのオルト位に置換し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のいずれか一つがＮＨ２でベンゼン環上の−ＯＳＯ２ＮＲｒＲｓのパラ位に置換し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の残りの基ならびにＲ５が水素原子であり、かつＲ６がシアノであるとき、Ｒ７はカルボキシではなく、（２）Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のいずれか一つがヒドロキシまたはＯＳＯ２ＮＲｒａＲｓａ（式中、ＲｒａおよびＲｓａはそれぞれ前記と同義である）であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の残りの基が水素原子であるとき、該ヒドロキシまたは該ＯＳＯ２ＮＲｒａＲｓａはベンゼン環上の−ＯＳＯ２ＮＲｒＲｓのメタ位のみに置換し、（３）Ｒ５がヒドロキシであるとき、Ｒ７はＸ１ＮＲ２３Ｒ２４（式中、Ｘ１、Ｒ２３およびＲ２４はそれぞれ前記と同義である）またはＣＯ２Ｒ２７（式中、Ｒ２７は前記と同義である）のみを表す｝で表されるアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項２】
式（ＩＡ）
2003020690.tif 000024
［式中、ＲｒＡ、ＲｓＡ、Ｒ３Ａ、Ｒ４Ａ、Ｒ５Ａ、Ｒ６ＡおよびＲ７Ａはそれぞれ前記Ｒｒ、Ｒｓ、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７と同義であり、Ｒ１ＡおよびＲ２Ａは同一または異なって水素原子、低級アルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、ＯＲ８Ａ（式中、Ｒ８Ａは低級アルキルまたは低級アルカノイルを表す）、ＣＯＲ９Ａ（式中、Ｒ９Ａは前記Ｒ９と同義である）またはＮＲ１２ＡＲ１３Ａ（式中、Ｒ１２ＡおよびＲ１３Ａはそれぞれ前記Ｒ１２およびＲ１３と同義である）を表す。ただし、Ｒ５Ａがヒドロキシであるとき、Ｒ７ＡはＸ１ＡＮＲ２３ＡＲ２４Ａ（式中、Ｘ１Ａ、Ｒ２３ＡおよびＲ２４Ａはそれぞれ前記Ｘ１、Ｒ２３およびＲ２４と同義である）またはＣＯ２Ｒ２７Ａ（式中、Ｒ２７Ａは前記Ｒ２７と同義である）のみを表す］で表されるアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項３】
Ｒ１ＡおよびＲ２Ａが水素原子である請求の範囲２記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項４】
Ｒ１ＡおよびＲ２Ａの少なくとも一方がハロゲン原子である請求の範囲２記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項５】
Ｒ５Ａが水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、イソシアノ、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアルコキシ、ＯＳＯ２ＮＲｒｃＲｓｃ（式中、ＲｒｃおよびＲｓｃはそれぞれ前記と同義である）、ＣＯＲ１４（式中、Ｒ１４は前記と同義である）、ＮＲ１８Ｒ１９（式中、Ｒ１８およびＲ１９はそれぞれ前記と同義である）、ＮＲ２０ＣＯＲ２１（式中、Ｒ２０およびＲ２１はそれぞれ前記と同義である）またはＳＯ２Ｒ２２（式中、Ｒ２２は前記と同義である）であり、Ｒ６Ａが水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、イソシアノ、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアルコキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＯＳＯ２ＮＲｒｃｘＲｓｃｘ（式中、ＲｒｃｘおよびＲｓｃｘはそれぞれ前記と同義である）、ＣＯＲ１４ｘ（式中、Ｒ１４ｘは前記と同義である）、ＮＲ１８ｘＲ１９ｘ（式中、Ｒ１８ｘおよびＲ１９ｘはそれぞれ前記と同義である）、ＮＲ２０ｘＣＯＲ２１ｘ（式中、Ｒ２０ｘおよびＲ２１ｘはそれぞれ前記と同義である）またはＳＯ２Ｒ２２ｘ（式中、Ｒ２２ｘは前記と同義である）である請求の範囲３または４記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項６】
Ｒ５Ａがヒドロキシである請求の範囲３または４記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項７】
Ｒ６Ａがヒドロキシである請求の範囲３または４記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項８】
Ｒ６Ａが水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、イソシアノ、置換もしくは非置換のアルコキシ、ＯＳＯ２ＮＲｒｃｘＲｓｃｘ（式中、ＲｒｃｘおよびＲｓｃｘはそれぞれ前記と同義である）、ＣＯＲ１４ｘ（式中、Ｒ１４ｘは前記と同義である）、ＮＲ２０ｘＣＯＲ２１ｘ（式中、Ｒ２０ｘおよびＲ２１ｘはそれぞれ前記と同義である）またはＳＯ２Ｒ２２ｘ（式中、Ｒ２２ｘは前記と同義である）である請求の範囲３〜５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項９】
Ｒ６Ａが水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである請求の範囲３〜５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項１０】
Ｒ６Ａが水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである請求の範囲３、４および６のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項１１】
Ｒ５Ａがシアノ、ハロゲン原子、水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである請求の範囲９記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項１２】
Ｒ５ＡとＲ６Ａが一体となって結合を形成する請求の範囲３または４記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項１３】
Ｒ５Ａが水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである請求の範囲８記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項１４】
Ｒ５Ａが水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである請求の範囲３、４および７のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項１５】
Ｒ６Ａがシアノまたはハロゲン原子である請求の範囲３〜５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項１６】
Ｒ６Ａがシアノである請求の範囲６記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項１７】
Ｒ５Ａが水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである請求の範囲１５記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項１８】
Ｒ５Ａが水素原子またはアルキルである請求の範囲３または４記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項１９】
Ｒ７ＡがＸ１ＮＲ２３Ｒ２４（式中、Ｘ１、Ｒ２３およびＲ２４はそれぞれと同義である）である請求の範囲２〜１８のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項２０】
Ｒ７ＡがＣＯＮＲ２３Ｒ２４（式中、Ｒ２３およびＲ２４はそれぞれ前記と同義である）である請求の範囲２〜１８のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項２１】
Ｒ７ＡがＣＯＮＲ２３ａＲ２４ａ（式中、Ｒ２３ａおよびＲ２４ａは同一または異なって水素原子または置換もしくは非置換のアルキルを表す）である請求の範囲２〜１８のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項２２】
Ｒ７ＡがＣＯＮＲ２３ｂＲ２４ｂ（式中、Ｒ２３ｂおよびＲ２４ｂは同一または異なって水素原子または炭素数７〜２０のアルキルを表す）である請求の範囲１８記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項２３】
Ｒ７ＡがＣＯＮＲ２３ｃＲ２４ｃ（式中、Ｒ２３ｃおよびＲ２４ｃは同一または異なって水素原子または炭素数１〜６のアルキルを表す）である請求の範囲１８記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項２４】
Ｒ３ＡおよびＲ４Ａが水素原子である請求の範囲２〜２３のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項２５】
ＲｒＡおよびＲｓＡが水素原子である請求の範囲２〜２４のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
【請求項２６】
請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を少なくとも一つ含有するステロイドスルファターゼ阻害剤。
【請求項２７】
請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を少なくとも一つ含有する乳癌、子宮内膜癌、卵巣癌および前立腺癌からなる群より選ばれる一つの治療または予防剤。
【請求項２８】
請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を少なくとも一つ含有する抗腫瘍剤。
【請求項２９】
請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を少なくとも一つ含有するステロイドスルファターゼが関与する疾患の治療または予防剤。
【請求項３０】
請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を少なくとも一つ含有するステロイドホルモン依存性疾病の治療または予防剤。
【請求項３１】
請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を少なくとも一つ含有する医薬。
【請求項３２】
請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の治療有効量を投与する工程を含む悪性腫瘍の治療または予防方法。
【請求項３３】
請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の治療有効量を投与する工程を含む乳癌、子宮内膜癌、卵巣癌および前立腺癌からなる群より選ばれる一つの治療または予防方法。
【請求項３４】
請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の治療有効量を投与する工程を含むステロイドホルモン依存性疾病の治療または予防方法。
【請求項３５】
請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の治療有効量を投与する工程を含むステロイドスルファターゼが関与する疾患の治療または予防方法。
【請求項３６】
抗腫瘍剤の製造のための請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の使用。
【請求項３７】
乳癌、子宮内膜癌、卵巣癌および前立腺癌からなる群より選ばれる一つの治療または予防剤の製造のための請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の使用。
【請求項３８】
ステロイドホルモン依存性疾病の治療または予防剤の製造のための請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の使用。
【請求項３９】
ステロイドスルファターゼが関与する疾患の治療または予防剤の製造のための請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の使用。
【請求項４０】
ステロイドスルファターゼ阻害剤の製造のための請求の範囲１〜２５のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の使用。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、ステロイドスルファターゼ阻害作用を有し、ステロイドホルモン依存性疾病の治療または予防に有用な、あるいは記憶能力の向上作用を有し、記憶障害の治療または予防に有用なアリールスルファマート誘導体もしくはその薬理的に許容される塩に関する。
背景技術
閉経後の女性において、乳癌でのエストロゲンのレベルは血漿中のそれよりも少なくとも１０倍以上高く、その乳癌での高いエストロゲンレベルはステロイドスルファターゼ（エストロンスルファターゼ）によってエストロンスルフェートがエストロンへ加水分解されることに起因しているものと考えられている。従って、ステロイドスルファターゼ阻害剤はエストロン依存性乳癌の治療において有効な治療薬であり、更に他のエストロン類が関与すると考えられる疾病、例えば子宮内膜癌、卵巣癌、子宮内膜症および子宮腺筋症等の予防または治療にも有効であると考えられる。また、ステロイドスルファターゼはアンドロゲンの生合成過程にも関与していることから、アンドロゲン類が関与すると考えられる疾病、例えば前立腺癌等の予防または治療にも有効であると考えられる。
エストロン−３−スルファマート（ＥＭＡＴＥ）がステロイドスルファターゼの代表的な阻害剤として報告されているが［インターナショナル・ジャーナル・オブ・キャンサー（Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃａｎｃｅｒ）、６３巻、１０６ページ（１９９５年）、米国特許５，６１６，５７４号］、ＥＭＡＴＥはエストロゲン様作用を示すことからエストロン依存性の疾病の治療に対して有用ではないことが示されている［キャンサー・リサーチ（Ｃａｎｃｅｒ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ）、５６巻、４９５０ページ（１９９６年）］。
また、これまでに数多くの非ステロイド型ステロイドスルファターゼ阻害剤が見出されている［エクスパート・オピニオン・オン・セラピューティック・パテンツ（Ｅｘｐｅｒｔ  Ｏｐｉｎｉｏｎ  ｏｎ  Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ  Ｐａｔｅｎｔｓ）、９巻、１０８３ページ（１９９９年）］。
例えば、チラミン誘導体（化合物Ａ１）［キャンサー・リサーチ（Ｃａｎｃｅｒ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ）、５７巻、７０２ページ（１９９７年）、ザ・ジャーナル・オブ・ステロイド・バイオケミストリー・アンド・モレキュラー・バイオロジー（Ｔｈｅ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｓｔｅｒｏｉｄ  Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｂｉｏｌｏｇｙ）、５９巻、４１ページ（１９９６年）、ザ・ジャーナル・オブ・ステロイド・バイオケミストリー・アンド・モレキュラー・バイオロジー（Ｔｈｅ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｓｔｅｒｏｉｄ  Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｂｉｏｌｏｇｙ）、６８巻、３１ページ（１９９９年）、ザ・ジャーナル・オブ・ステロイド・バイオケミストリー・アンド・モレキュラー・バイオロジー（Ｔｈｅ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｓｔｅｒｏｉｄ  Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｂｉｏｌｏｇｙ）、６９巻、２２７ページ（１９９９年）、米国特許５，５６７，８３１号］、ケイ皮酸誘導体（化合物Ａ２および化合物Ａ３）（米国特許６，０１１，０２４号）、ジエチルスチルボエストロール誘導体［ザ・ジャーナル・オブ・ステロイド・バイオケミストリー・アンド・モレキュラー・バイオロジー（Ｔｈｅ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｓｔｅｒｏｉｄ  Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｂｉｏｌｏｇｙ）、６９巻、２２７ページ（１９９９年）］等が挙げられる。また、最近になって幾つかのステロイドスルファターゼ阻害剤（例えば、化合物Ａ４）が開示されている（ＷＯ０１／０４０８６、ＷＯ０１／０２３４９）。
2003020690.tif 000003
（式中、ＲＡ１およびＲＡ２は水素原子または低級アルキルを表し、ｎＡ１は０〜４の整数を表し、ｎＡ２は５〜１４の整数を表す）
2003020690.tif 000004
［式中、ＲＡ３およびＲＡ４の少なくとも一方はＳＯ２ＮＲＡ６ＲＡ７（式中、ＲＡ６およびＲＡ７は同一または異なって、水素原子またはメチルを表す）を表し、他方は水素原子またはＳＯ２ＮＲＡ６ＲＡ７（式中、ＲＡ６およびＲＡ７はそれぞれ前記と同義である）を表し、ＲＡ５は水素原子または炭素数１〜６の低級アルキルを表す］
2003020690.tif 000005
［式中、ＲＡ８およびＲＡ９の少なくとも一方はＳＯ２ＮＲＡ１１ＲＡ１２（式中、ＲＡ１１およびＲＡ１２は同一または異なって、水素原子またはメチルを表す）を表し、他方は水素原子またはＳＯ２ＮＲＡ１１ＲＡ１２（式中、ＲＡ１１およびＲＡ１２はそれぞれ前記と同義である）を表し、ＲＡ１０はメトキシまたはエチルを表す］
2003020690.tif 000006
（式中、ＲＡ１１は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル等を表す）
また、ステロイドスルファマートは記憶能力の向上作用を有することが知られている（米国特許５，５５６，８４７号）。
一方、ＷＯ９９／３３８５８で報告されているように、ステロイドスルファターゼの阻害作用だけでなく、抗エストロゲン作用（エストロゲンの作用の阻害またはエストロゲン生合成の阻害作用）を併せもつ化合物は、ステロイドホルモン依存性疾病の治療または予防により有用であると考えられ、また、ステロイドスルファターゼの阻害作用を有するアリールスルファマート誘導体においては、生体内においてスルファマートの加水分解によって生成するフェノール誘導体（脱スルファモイル体）が抗エストロゲン作用を有することも有用であると考えられる。
発明の開示
本発明の目的は、ステロイドスルファターゼ阻害作用を有し、ステロイドホルモン依存性疾病の治療または予防に有用なアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を提供することにある。
本発明は、以下の（１）〜（４０）に関する。
（１）式（Ｉ）
2003020690.tif 000007
｛式中、ＲｒおよびＲｓは同一または異なって水素原子または低級アルキルを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は同一または異なって水素原子、低級アルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、ＯＲ８［式中、Ｒ８は水素原子、低級アルキル、低級アルカノイルまたはＳＯ２ＮＲｒａＲｓａ（式中、ＲｒａおよびＲｓａはそれぞれ前記ＲｒおよびＲｓと同義である）を表す］、ＣＯＲ９［式中、Ｒ９は水素原子、低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシまたはＮＲ１０Ｒ１１（式中、Ｒ１０およびＲ１１は同一または異なって水素原子または低級アルキルを表す）を表す］またはＮＲ１２Ｒ１３［式中、Ｒ１２は水素原子または低級アルキルを表し、Ｒ１３は水素原子、低級アルキル、低級アルカノイルまたはＳＯ２ＮＲｒｂＲｓｂ（式中、ＲｒｂおよびＲｓｂはそれぞれ前記ＲｒおよびＲｓと同義である）を表す］を表し、Ｒ５は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、イソシアノ、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルコキシ、ＯＳＯ２ＮＲｒｃＲｓｃ（式中、ＲｒｃおよびＲｓｃはそれぞれ前記ＲｒおよびＲｓと同義である）、ＣＯＲ１４［式中、Ｒ１４は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＯＲ１５（式中、Ｒ１５は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）またはＮＲ１６Ｒ１７（式中、Ｒ１６およびＲ１７は同一または異なって水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）を表す］、ＮＲ１８Ｒ１９（式中、Ｒ１８およびＲ１９は同一または異なって置換もしくは非置換のアルキルを表す）、ＮＲ２０ＣＯＲ２１（式中、Ｒ２０およびＲ２１は同一または異なって水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）またはＳＯ２Ｒ２２（式中、Ｒ２２は置換もしくは非置換のアルキルを表す）を表し、Ｒ６は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、イソシアノ、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルコキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＯＳＯ２ＮＲｒｃｘＲｓｃｘ（式中、ＲｒｃｘおよびＲｓｃｘはそれぞれ前記ＲｒおよびＲｓと同義である）、ＣＯＲ１４ｘ（式中、Ｒ１４ｘは前記Ｒ１４と同義である）、ＮＲ１８ｘＲ１９ｘ（式中、Ｒ１８ｘおよびＲ１９ｘはそれぞれ前記Ｒ１８およびＲ１９と同義である）、ＮＲ２０ｘＣＯＲ２１ｘ（式中、Ｒ２０ｘおよびＲ２１ｘはそれぞれ前記Ｒ２０およびＲ２１と同義である）またはＳＯ２Ｒ２２ｘ（式中、Ｒ２２ｘは前記Ｒ２２と同義である）を表すか、Ｒ５とＲ６が一体となって結合を形成し、Ｒ７はＸ１ＮＲ２３Ｒ２４［式中、Ｘ１はＣ＝ＯまたはＣ＝Ｓを表し、Ｒ２３は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表し、Ｒ２４は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基またはＯＲ２５（式中、Ｒ２５は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）を表す］またはＣＯＲ２６［式中、Ｒ２６は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基またはＯＲ２７（式中、Ｒ２７は水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）を表す］を表す。ただし、（１）−ＣＲ５＝ＣＲ６Ｒ７がベンゼン環上の−ＯＳＯ２ＮＲｒＲｓのオルト位に置換し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のいずれか一つがＮＨ２でベンゼン環上の−ＯＳＯ２ＮＲｒＲｓのパラ位に置換し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の残りの基ならびにＲ５が水素原子であり、かつＲ６がシアノであるとき、Ｒ７はカルボキシではなく、（２）Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のいずれか一つがヒドロキシまたはＯＳＯ２ＮＲｒａＲｓａ（式中、ＲｒａおよびＲｓａはそれぞれ前記と同義である）であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の残りの基が水素原子であるとき、該ヒドロキシまたは該ＯＳＯ２ＮＲｒａＲｓａはベンゼン環上の−ＯＳＯ２ＮＲｒＲｓのメタ位のみに置換し、（３）Ｒ５がヒドロキシであるとき、Ｒ７はＸ１ＮＲ２３Ｒ２４（式中、Ｘ１、Ｒ２３およびＲ２４はそれぞれ前記と同義である）またはＣＯ２Ｒ２７（式中、Ｒ２７は前記と同義である）のみを表す｝で表されるアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（２）式（ＩＡ）
2003020690.tif 000008
［式中、ＲｒＡ、ＲｓＡ、Ｒ３Ａ、Ｒ４Ａ、Ｒ５Ａ、Ｒ６ＡおよびＲ７Ａはそれぞれ前記Ｒｒ、Ｒｓ、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７と同義であり、Ｒ１ＡおよびＲ２Ａは同一または異なって水素原子、低級アルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、ＯＲ８Ａ（式中、Ｒ８Ａは低級アルキルまたは低級アルカノイルを表す）、ＣＯＲ９Ａ（式中、Ｒ９Ａは前記Ｒ９と同義である）またはＮＲ１２ＡＲ１３Ａ（式中、Ｒ１２ＡおよびＲ１３Ａはそれぞれ前記Ｒ１２およびＲ１３と同義である）を表す。ただし、Ｒ５Ａがヒドロキシであるとき、Ｒ７ＡはＸ１ＡＮＲ２３ＡＲ２４Ａ（式中、Ｘ１Ａ、Ｒ２３ＡおよびＲ２４Ａはそれぞれ前記Ｘ１、Ｒ２３およびＲ２４と同義である）またはＣＯ２Ｒ２７Ａ（式中、Ｒ２７Ａは前記Ｒ２７と同義である）のみを表す］で表されるアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（３）Ｒ１ＡおよびＲ２Ａが水素原子である前記（２）記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（４）Ｒ１ＡおよびＲ２Ａの少なくとも一方がハロゲン原子である前記（２）記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（５）Ｒ５Ａが水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、イソシアノ、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアルコキシ、ＯＳＯ２ＮＲｒｃＲｓｃ（式中、ＲｒｃおよびＲｓｃはそれぞれ前記と同義である）、ＣＯＲ１４（式中、Ｒ１４は前記と同義である）、ＮＲ１８Ｒ１９（式中、Ｒ１８およびＲ１９はそれぞれ前記と同義である）、ＮＲ２０ＣＯＲ２１（式中、Ｒ２０およびＲ２１はそれぞれ前記と同義である）またはＳＯ２Ｒ２２（式中、Ｒ２２は前記と同義である）であり、Ｒ６Ａが水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、イソシアノ、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアルコキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＯＳＯ２ＮＲｒｃｘＲｓｃｘ（式中、ＲｒｃｘおよびＲｓｃｘはそれぞれ前記と同義である）、ＣＯＲ１４ｘ（式中、Ｒ１４ｘは前記と同義である）、ＮＲ１８ｘＲ１９ｘ（式中、Ｒ１８ｘおよびＲ１９ｘはそれぞれ前記と同義である）、ＮＲ２０ｘＣＯＲ２１ｘ（式中、Ｒ２０ｘおよびＲ２１ｘはそれぞれ前記と同義である）またはＳＯ２Ｒ２２ｘ（式中、Ｒ２２ｘは前記と同義である）である前記（３）または（４）記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（６）Ｒ５Ａがヒドロキシである前記（３）または（４）記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（７）Ｒ６Ａがヒドロキシである前記（３）または（４）記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（８）Ｒ６Ａが水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アジド、イソシアノ、置換もしくは非置換のアルコキシ、ＯＳＯ２ＮＲｒｃｘＲｓｃｘ（式中、ＲｒｃｘおよびＲｓｃｘはそれぞれ前記と同義である）、ＣＯＲ１４ｘ（式中、Ｒ１４ｘは前記と同義である）、ＮＲ２０ｘＣＯＲ２１ｘ（式中、Ｒ２０ｘおよびＲ２１ｘはそれぞれ前記と同義である）またはＳＯ２Ｒ２２ｘ（式中、Ｒ２２ｘは前記と同義である）である前記（３）〜（５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（９）Ｒ６Ａが水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである前記（３）〜（５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（１０）Ｒ６Ａが水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである前記（３）、（４）および（６）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（１１）Ｒ５Ａがシアノ、ハロゲン原子、水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである前記（９）記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（１２）Ｒ５ＡとＲ６Ａが一体となって結合を形成する前記（３）または（４）記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（１３）Ｒ５Ａが水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである前記（８）記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（１４）Ｒ５Ａが水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである前記（３）、（４）および（７）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（１５）Ｒ６Ａがシアノまたはハロゲン原子である前記（３）〜（５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（１６）Ｒ６Ａがシアノである前記（６）記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（１７）Ｒ５Ａが水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである前記（１５）記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（１８）Ｒ５Ａが水素原子またはアルキルである前記（３）または（４）記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（１９）Ｒ７ＡがＸ１ＮＲ２３Ｒ２４（式中、Ｘ１、Ｒ２３およびＲ２４はそれぞれと同義である）である前記（２）〜（１８）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（２０）Ｒ７ＡがＣＯＮＲ２３Ｒ２４（式中、Ｒ２３およびＲ２４はそれぞれ前記と同義である）である前記（２）〜（１８）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（２１）Ｒ７ＡがＣＯＮＲ２３ａＲ２４ａ（式中、Ｒ２３ａおよびＲ２４ａは同一または異なって水素原子または置換もしくは非置換のアルキルを表す）である前記（２）〜（１８）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（２２）Ｒ７ＡがＣＯＮＲ２３ｂＲ２４ｂ（式中、Ｒ２３ｂおよびＲ２４ｂは同一または異なって水素原子または炭素数７〜２０のアルキルを表す）である前記（１８）記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（２３）Ｒ７ＡがＣＯＮＲ２３ｃＲ２４ｃ（式中、Ｒ２３ｃおよびＲ２４ｃは同一または異なって水素原子または炭素数１〜６のアルキルを表す）である前記（１８）記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（２４）Ｒ３ＡおよびＲ４Ａが水素原子である前記（２）〜（２３）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（２５）ＲｒＡおよびＲｓＡが水素原子である前記（２）〜（２４）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩。
（２６）前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を少なくとも一つ含有するステロイドスルファターゼ阻害剤。
（２７）前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を少なくとも一つ含有する乳癌、子宮内膜癌、卵巣癌および前立腺癌からなる群より選ばれる一つの治療または予防剤。
（２８）前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を少なくとも一つ含有する抗腫瘍剤。
（２９）前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を少なくとも一つ含有するステロイドスルファターゼが関与する疾患の治療または予防剤。
（３０）前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を少なくとも一つ含有するステロイドホルモン依存性疾病の治療または予防剤。
（３１）前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩を少なくとも一つ含有する医薬。
（３２）前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の治療有効量を投与する工程を含む悪性腫瘍の治療または予防方法。
（３３）前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の治療有効量を投与する工程を含む乳癌、子宮内膜癌、卵巣癌および前立腺癌からなる群より選ばれる一つの治療または予防方法。
（３４）前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の治療有効量を投与する工程を含むステロイドホルモン依存性疾病の治療または予防方法。
（３５）前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の治療有効量を投与する工程を含むステロイドスルファターゼが関与する疾患の治療または予防方法。
（３６）抗腫瘍剤の製造のための前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の使用。
（３７）乳癌、子宮内膜癌、卵巣癌および前立腺癌からなる群より選ばれる一つの治療または予防剤の製造のための前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の使用。
（３８）ステロイドホルモン依存性疾病の治療または予防剤の製造のための前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の使用。
（３９）ステロイドスルファターゼが関与する疾患の治療または予防剤の製造のための前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の使用。
（４０）ステロイドスルファターゼ阻害剤の製造のための前記（１）〜（２５）のいずれかに記載のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩の使用。
以下、式（Ｉ）で表される化合物を化合物（Ｉ）という。他の式番号の化合物についても同様である。
式（Ｉ）の各基の定義において、低級アルキルおよび低級アルコキシにおける低級アルキル部分としては、例えば炭素数１〜８の直鎖または分岐状のアルキル、より具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ペプチル、オクチル、イソオクチル等が包含される。
アルキルおよびアルコキシにおけるアルキル部分としては、例えば炭素数１〜２０の直鎖または分岐状のアルキル、より具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ペプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコサニル等が包含される。
低級アルキニルとしては、例えば炭素数２〜８の直鎖または分岐状のアルキニル、より具体的にはエチニル、１−プロピニル、１−ブチニル、１−ペンチニル、１−ヘキシニル、１−ヘプチニル、１−オクチニル等が包含される。
低級アルケニルとしては、例えば炭素数２〜８の直鎖または分岐状のアルケニル、より具体的にはビニル、アリル、１−プロペニル、メタクリル、クロチル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、４−ペンテニル、２−ヘキセニル、５−ヘキセニル、１−ヘプテニル、１−オクテニル等が包含される。
低級アルカノイルとしては、例えば炭素数１〜８の直鎖または分岐状のアルカノイル、より具体的にはホルミル、アセチル、プロパノイル、ブタノイル、イソブタノイル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、カプロイル、ヘプタノイル、オクタノイル等が包含される。
低級シクロアルキルとしては、例えば炭素数３〜８のシクロアルキル、より具体的にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が包含される。
アリールとしては、例えば炭素数６〜１４のアリール、より具体的にはフェニル、ナフチル、アントラニル等が包含される。
複素環基には脂環式複素環基および芳香族複素環基等が含まれる。脂環式複素環基としては、例えば窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む３〜８員の単環性脂環式複素環基、３〜８員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む縮環性脂環式複素環基等が挙げられ、より具体的にはテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル、ピロリジニル、ピペリジノ、ピペリジニル、パーヒドロアゼピニル、パーヒドロアゾシニル、モルホリノ、モルホリニル、チオモルホリノ、チオモルホリニル、ピペラジニル、ホモピペラジニル、ジオキソラニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、インドリニル、イソインドリニル、２−ピロリニル、２−ピロリドニル、３−ピロリドニル、２−ピペリドニル、３−ピペリドニル、４−ピペリドニル、パーヒドロ−２−アゼピノニル、パーヒドロ−３−アゼピノニル、パーヒドロ−４−アゼピノニル、２−チアゾリドニル、４−チアゾリドニル、２−オキサゾリドニル、４−オキサゾリドニル、スクシンイミド、フタルイミド、グルタルイミド、マレイミド、ヒダントイニル、チアゾリジンジオニルおよびオキサゾリジンジオニル等が包含される。芳香族複素環基としては、例えば窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む３〜８員の単環性芳香族複素環基、３〜８員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む縮環性芳香族複素環基等が挙げられ、より具体的にはフリル、チエニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、１，２，３−オキサジアゾリル、１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、フラザニル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、キノリル、イソキノリル、キナゾリニル、フタラジニル、プリニル、インドリル、イソインドリル、２−ピリドニル、４−ピリドニルおよびウラシリル等が包含される。
ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素の各原子を意味する。
置換アルキル、置換アルコキシ、置換低級アルキニルおよび置換低級アルケニルにおける置換基としては、同一または異なって例えば置換数１〜３の、低級アルケニル、低級アルカジエニル、低級アルカトリエニル、低級アルキニル、トリ低級アルキルシリルオキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、アジド、シアノ、イソシアノ、ニトロ、ハロゲン原子、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＸＢ１ＮＲＢ１ＲＢ２｛式中、ＸＢ１はＣ＝ＯまたはＣ＝Ｓを表し、ＲＢ１は水素原子、アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表し、ＲＢ２は水素原子、アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＯＲＢ３（式中、ＲＢ３は前記ＲＢ１と同義である）またはＮＲＢ４ＲＢ５［式中、ＲＢ４は前記ＲＢ１と同義であり、ＲＢ５は水素原子、アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＣＯＲＢ６（式中、ＲＢ６は水素原子、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルカジエニル、低級アルカトリエニル、低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）またはＳＯ２ＲＢ７（式中、ＲＢ７は低級アルキル、低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）を表す］を表す｝、（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎＯＣＨ３（式中、ｎは１〜１０の整数を表す）、ＮＲＢ８ＲＢ９｛式中、ＲＢ８は前記ＲＢ１と同義であり、ＲＢ９は水素原子、低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＸＢ２ＲＢ１０［式中、ＸＢ２は前記ＸＢ１と同義であり、ＲＢ１０は水素原子、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルカジエニル、低級アルカトリエニル、低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＮＲＢ１１ＲＢ１２（式中、ＲＢ１１およびＲＢ１２は同一または異なって、水素原子、低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）またはＯＲＢ１３（式中、ＲＢ１３は低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）を表す］またはＳＯ２ＲＢ１４［式中、ＲＢ１４は低級アルキル、低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＮＲＢ１５ＲＢ１６（式中、ＲＢ１５およびＲＢ１６はそれぞれ前記ＲＢ１１およびＲＢ１２と同義である）またはＯＲＢ１７（式中、ＲＢ１７は前記ＲＢ１３と同義である）を表す］を表す｝、ＳＯ２ＲＢ１８［式中、ＲＢ１８は低級アルキル、低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＮＲＢ１９ＲＢ２０（式中、ＲＢ１９およびＲＢ２０はそれぞれ前記ＲＢ１１およびＲＢ１２と同義である）またはＯＲＢ２１（式中、ＲＢ２１は前記ＲＢ１と同義である）を表す］、ＸＢ３ＲＢ２２［式中、ＸＢ３は前記ＸＢ１と同義であり、ＲＢ２２は水素原子、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルカジエニル、低級アルカトリエニル、低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基またはＹＢ１ＲＢ２３（式中、ＹＢ１は酸素原子または硫黄原子を表し、ＲＢ２３は前記ＲＢ１と同義である）を表す］、ＹＢ２ＲＢ２４［式中、ＹＢ２は前記ＹＢ１と同義であり、ＲＢ２４は水素原子、低級アルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＸＢ４ＲＢ２５（式中、ＸＢ４およびＲＢ２５はそれぞれ前記ＸＢ１およびＲＢ１０と同義である）またはＳＯ２ＲＢ２６（式中、ＲＢ２６は前記ＲＢ１４と同義である）を表す］、Ｓ（Ｏ）ＲＢ２７（式中、ＲＢ２７は前記ＲＢ７と同義である）等が包含される。
置換低級シクロアルキル、置換アリールおよび置換複素環基における置換基としては、同一または異なって例えば置換数１〜３の、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルカジエニル、低級アルカトリエニル、低級アルキニル、トリ低級アルキルシリルオキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、アジド、シアノ、イソシアノ、ニトロ、ハロゲン原子、低級シクロアルキル、アリール、複素環基、ＸＣ１ＮＲＣ１ＲＣ２｛式中、ＸＣ１はＣ＝ＯまたはＣ＝Ｓを表し、ＲＣ１は水素原子、アルキル、低級シクロアルキル、アリールまたは複素環基を表し、ＲＣ２は水素原子、アルキル、低級シクロアルキル、アリール、複素環基、ＯＲＣ３（式中、ＲＣ３は前記ＲＣ１と同義である）またはＮＲＣ４ＲＣ５［式中、ＲＣ４は前記ＲＣ１と同義であり、ＲＣ５は水素原子、アルキル、低級シクロアルキル、アリール、複素環基、ＣＯＲＣ６（式中、ＲＣ６は水素原子、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルカジエニル、低級アルカトリエニル、低級アルキニル、低級シクロアルキル、アリールまたは複素環基を表す）またはＳＯ２ＲＣ７（式中、ＲＣ７は低級アルキル、低級アルケニル、低級シクロアルキル、アリールまたは複素環基を表す）を表す］を表す｝、（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎａＯＣＨ３（式中、ｎａは１〜１０の整数を表す）、ＮＲＣ８ＲＣ９｛式中、ＲＣ８は前記ＲＣ１と同義であり、ＲＣ９は水素原子、低級アルキル、低級シクロアルキル、アリール、複素環基、ＸＣ２ＲＣ１０［式中、ＸＣ２は前記ＸＣ１と同義であり、ＲＣ１０は水素原子、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルカジエニル、低級アルカトリエニル、低級アルキニル、低級シクロアルキル、アリール、複素環基、ＮＲＣ１１ＲＣ１２（式中、ＲＣ１１およびＲＣ１２は同一または異なって、水素原子、低級アルキル、低級シクロアルキル、アリールまたは複素環基を表す）またはＯＲＣ１３（式中、ＲＣ１３は低級アルキル、低級シクロアルキル、アリールまたは複素環基を表す）を表す］またはＳＯ２ＲＣ１４［式中、ＲＣ１４は低級アルキル、低級アルケニル、低級シクロアルキル、アリール、複素環基、ＮＲＣ１５ＲＣ１６（式中、ＲＣ１５およびＲＣ１６はそれぞれ前記ＲＣ１１およびＲＣ１２と同義である）またはＯＲＣ１７（式中、ＲＣ１７は前記ＲＣ１３と同義である）を表す］を表す｝、ＳＯ２ＲＣ１８［式中、ＲＣ１８は低級アルキル、低級アルケニル、低級シクロアルキル、アリール、複素環基、ＮＲＣ１９ＲＣ２０（式中、ＲＣ１９およびＲＣ２０はそれぞれ前記ＲＣ１１およびＲＣ１２と同義である）またはＯＲＣ２１（式中、ＲＣ２１は前記ＲＣ１と同義である）を表す］、ＸＣ３ＲＣ２２［式中、ＸＣ３は前記ＸＣ１と同義であり、ＲＣ２２は水素原子、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルカジエニル、低級アルカトリエニル、低級アルキニル、低級シクロアルキル、アリール、複素環基またはＹＣ１ＲＣ２３（式中、ＹＣ１は酸素原子または硫黄原子を表し、ＲＣ２３は前記ＲＣ１と同義である）を表す］、ＹＣ２ＲＣ２４［式中、ＹＣ２は前記ＹＣ１と同義であり、ＲＣ２４は水素原子、低級アルキル、低級シクロアルキル、アリール、複素環基、ＸＣ４ＲＣ２５（式中、ＸＣ４およびＲＣ２５はそれぞれ前記ＸＣ１およびＲＣ１０と同義である）またはＳＯ２ＲＣ２６（式中、ＲＣ２６は前記ＲＣ１４と同義である）を表す］、Ｓ（Ｏ）ＲＣ２７（式中、ＲＣ２７は前記ＲＣ７と同義である）等が包含される。
置換アルキル、置換アルコキシ、置換低級アルキニル、置換低級アルケニル、置換低級シクロアルキル、置換アリールおよび置換複素環基における置換基の定義において、低級アルキル、アルキル、低級アルキニル、低級アルケニル、低級シクロアルキル、アリール、複素環基およびハロゲン原子はそれぞれ前記と同義である。低級アルコキシ低級アルコキシおよびトリ低級アルキルシリルオキシにおける低級アルキル部分は前記低級アルキルと同義である。低級アルカジエニルとしては、例えば炭素数４〜８の直鎖または分岐状のアルカジエニル、より具体的には１，３−ブタジエニル、１，３−ペンタジエニル、１，３−ヘキサジエニル、２，４−ヘキサジエニル、１，３−ヘプタジエニル、１，３−オクタジエニル等が包含され、低級アルカトリエニルとしては、例えば炭素数６〜８の直鎖または分岐状のアルカトリエニル、より具体的には１，３，５−ヘキサトリエニル、１，３，５−ヘプタトリエニル、１，３，５−オクタトリエニル等が包含される。置換低級シクロアルキル、置換アリールおよび置換複素環基における置換基は、それぞれ前記置換低級シクロアルキル、置換アリールおよび置換複素環基における置換基と同義である。
化合物（Ｉ）としては、例えばエストロゲンの作用の阻害またはエストロゲン生合成の阻害作用等の抗エストロゲン作用を併せもつ化合物、生体内においてスルファマートの加水分解によってフェノール誘導体（脱スルファモイル体）を生成する化合物等がより好ましい。
化合物（Ｉ）の薬理的に許容される塩としては、酸付加塩、金属塩、アンモニウム塩、有機アミン付加塩、アミノ酸付加塩等が挙げられる。酸付加塩としては、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、しゅう酸塩、安息香酸塩、メタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、コハク酸塩、乳酸塩等の有機酸塩が挙げられ、金属塩としてはリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、亜鉛塩等が挙げられ、アンモニウム塩としてはアンモニウム、テトラメチルアンモニウム等の塩が挙げられ、有機アミン付加塩としてはモルホリン、ピペリジン等の付加塩が挙げられ、アミノ酸付加塩としてはグリシン、フェニルアラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、リジン等の付加塩が挙げられる。
本発明のアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩は、通常種々のフェノール、ベンズアルデヒド、アセトフェノン等に代表されるベンゼン誘導体を出発化合物として製造される。
次に、化合物（Ｉ）の製造法について説明する。
化合物（Ｉ）の製造工程は主として、以下に示す各反応工程よりなり、目的物にあわせて各反応工程を組み合わせて該目的物を製造することができる。
なお、下記に示した製造法において、定義した基が実施方法の条件下変化するか、または方法を実施するのに不適切な場合、有機合成化学で常用される保護基の導入および脱離方法［例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、グリーン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ）著、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．）（１９８１年）参照］等を用いることにより、目的化合物を得ることができる。また、必要に応じて反応工程の順序等を変えてもよい。
製造法１
化合物（Ｉ）は、ベンゼン誘導体より公知の方法［シンセシス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、５６ページ（１９７８年）、テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、２８巻、６６３ページ（１９７２年）、シンセシス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、３巻、２１７ページ（１９８９年）等］に準じて得られる化合物（Ｂ）より、次の反応工程に従い得ることができる。
2003020690.tif 000009
（式中、Ｒｒ、Ｒｓ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ前記と同義である）
工程１
化合物（Ｉ）は、塩基の存在下または非存在下、溶媒中、化合物（Ｂ）をＲｒＲｓＮＳＯ２Ｃｌ（式中、ＲｒおよびＲｓはそれぞれ前記と同義である）で表される化合物（ＩＩ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒としては、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、トルエン、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、１−メチル−２−ピペリドン等が、単独でまたは混合して用いられる。
塩基としては、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、水酸化リチウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジン、ピリジン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルピリジン、２，６−ルチジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたは４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）等が用いられ、好ましくは水素化ナトリウムまたは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジンが用いられる。塩基が液体の場合は溶媒を兼ねて用いることもできる。より好ましくは、塩基の非存在下、溶媒としてＤＭＡＣが用いられる。
塩基および化合物（ＩＩ）は、化合物（Ｂ）に対してそれぞれ０．１当量以上、好ましくは１〜２０当量用いられる。反応は、通常−７８〜１２０℃の間の温度、好ましくは−２０〜６０℃の間の温度で行われ、５分間〜７２時間で終了する。
製造法２
化合物（Ｉａ）は、化合物（Ｃ）より、次の反応工程に従い得ることができる。
2003020690.tif 000010
［式中、Ｒｒ、Ｒｓ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ７はそれぞれ前記と同義であり、Ｒ５ａはＲ５の定義のうち水素原子または置換もしくは非置換のアルキルを表し、Ｒ６ａはＲ６の定義のうち水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換の複素環基、ＣＯＲ１４ｘ（式中、Ｒ１４ｘは前記と同義である）またはＳＯ２Ｒ２２ｘ（式中、Ｒ２２ｘは前記と同義である）を表し、Ｐ１はメチル、メトキシメチルまたはベンジルを表す］
化合物（Ｃ）は、ベンゼン誘導体より公知の方法［プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、グリーン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ）著、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．）（１９８１年）、第４版  実験化学講座１９  有機合成Ｉ〜実験化学講座２６  有機合成ＶＩＩＩ（丸善株式会社、１９９２年発行）等］に準じて得られる。
工程２−１ａ
化合物（Ｄ）のうち、Ｒ６ａがＲ６ａａ［式中、Ｒ６ａａはＲ６の定義のうちニトロ、シアノ、ＣＯＲ１４ｘ（式中、Ｒ１４ｘは前記と同義である）またはＳＯ２Ｒ２２ｘ（式中、Ｒ２２ｘは前記と同義である）を表す］である化合物（Ｄａ）は、酢酸および塩基の存在下、溶媒中、化合物（Ｃ）をＲ６ａａＣＨ２Ｒ７（式中、Ｒ６ａａおよびＲ７はそれぞれ前記と同義である）で表される化合物（ＩＩＩ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒としては、トルエン、ベンゼン、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン等が、単独でまたは混合して用いられる。
塩基としては、酢酸アンモニウム、ピペリジン、ピペリジンアセタート、ピリジンアセタート、トリエチルアミンアセタート、アセトアミド、酢酸ナトリウム等が用いられる。
酢酸および塩基は、化合物（Ｃ）に対してそれぞれ０．１当量以上、好ましくは０．１〜５０当量用いられ、また酢酸は溶媒を兼ねて用いてもよい。
化合物（ＩＩＩ）は、化合物（Ｃ）に対して０．１当量以上、好ましくは１〜１０当量用いられる。反応は、通常−２０〜１６０℃の間の温度、好ましくは２０〜１４０℃の間の温度で行われ、５分間〜７２時間で終了する。また、反応は、ディーン−スターク（Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ）装置を用いて反応系中から水を除去しながら行うこともできる。
工程２−１ｂ
化合物（Ｄ）のうち、Ｒ６ａがＲ６ａｂ（式中、Ｒ６ａｂはＲ６の定義のうち水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、ハロゲン原子、置換もしくは非置換の低級アルキニル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）である化合物（Ｄｂ）は、塩基の存在下、溶媒中、化合物（Ｃ）を（Ｃ６Ｈ５）３ＰＣＨＲ６ａｂＲ７（式中、Ｒ６ａｂおよびＲ７はそれぞれ前記と同義である）で表される化合物（ＩＶ）または（ＲｙＯ）２ＰＯＣＨＲ６ａｂＲ７（式中、Ｒ６ａｂおよびＲ７はそれぞれ前記と同義であり、Ｒｙはメチル、エチル、プロピル、ｔｅｒｔ−ブチルまたは２，２，２−トリフルオロエチルを表す）で表される化合物（Ｖ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒としては、トルエン、ベンゼン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ＤＭＦ、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、エタノール、メタノール、ｎ−ヘキサン等が、単独でまたは混合して用いられる。
塩基としては、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、ｎ−ブチルリチウム、カリウム  ビス（トリメチルシリル）アミド、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ピリジン等が用いられる。また、塩基としてカリウム試薬を用いる場合、１８−クラウン−６、好ましくは１８−クラウン−６のアセトニトリル付加物を化合物（Ｃ）に対して０．１〜１０当量添加して反応を行うこともできる。
塩基は、化合物（Ｃ）に対して０．１当量以上、好ましくは０．５〜２０当量用いられる。
化合物（ＩＶ）または化合物（Ｖ）は、化合物（Ｃ）に対してそれぞれ０．１当量以上、好ましくは１〜１０当量用いられる。反応は、通常−７８〜１６０℃の間の温度、好ましくは−２０〜１００℃の間の温度で行われ、５分間〜７２時間で終了する。
工程２−２ａ
化合物（Ｄ）のうち、Ｐ１がメチルである化合物（Ｄｃ）を溶媒中、脱保護剤で処理することにより化合物（Ｅ）を得ることができる。
溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、ＤＭＦ等が、単独でまたは混合して用いられ、また脱保護剤が液体の場合は溶媒を用いなくてもよい。
脱保護剤としては、三臭化ホウ素、ヨードトリメチルシラン、ナトリウムエタンチオレート、臭化水素酸／酢酸等が用いられる。
脱保護剤は、化合物（Ｄｃ）に対して０．１当量以上、好ましくは１〜２０当量用いられ、また脱保護剤が液体の場合は、溶媒を兼ねて用いてもよい。反応は、通常−７８〜１８０℃の間の温度、好ましくは−２０〜１２０℃の間の温度で行われ、５分間〜４８時間で終了する。
工程２−２ｂ
化合物（Ｄ）のうち、Ｐ１がメトキシメチルである化合物（Ｄｄ）を溶媒中、酸で処理することによっても化合物（Ｅ）を得ることができる。
溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ＤＭＳＯ、ＤＭＦ、トルエン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、水等が、単独でまたは混合して用いられ、また酸が液体の場合は溶媒を用いなくてもよい。
酸としては、塩酸、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、臭化水素酸、臭化水素酸／酢酸等が用いられる。
酸は、化合物（Ｄｄ）に対して０．１当量以上、好ましくは１〜１００当量用いられ、また酸が液体の場合は溶媒を兼ねて用いてもよい。反応は、通常−７８〜１８０℃の間の温度、好ましくは−２０〜１２０℃の間の温度で行われ、５分間〜４８時間で終了する。
工程２−２ｃ
化合物（Ｄ）のうち、Ｐ１がベンジルである化合物（Ｄｅ）を溶媒中、ジメチルスルフィドおよび三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体で処理することによっても化合物（Ｅ）を得ることができる。
溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、トルエン等が、単独でまたは混合して用いられる。
ジメチルスルフィドおよび三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体は、化合物（Ｄｅ）に対してそれぞれ０．１当量以上、好ましくは１〜１００当量用いられる。反応は、通常−７８〜１２０℃の間の温度、好ましくは−２０〜６０℃の間の温度で行われ、５分間〜４８時間で終了する。
工程２−３
化合物（Ｉａ）は、製造法１の工程１に準じた方法によって、化合物（Ｅ）を塩基の存在下または非存在下、溶媒中、化合物（ＩＩ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒および塩基としては、それぞれ工程１で挙げたものと同様のものが用いられる。
製造法３
化合物（Ｉｂ）は、化合物（Ｆ）、化合物（Ｈ）または化合物（Ｇ）より、次の反応工程に従い得ることができる。
2003020690.tif 000011
［式中、Ｒｒ、Ｒｓ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＰ１はそれぞれ前記と同義であり、Ｒ７ａはＣＯＮＲ２３Ｒ２４（式中、Ｒ２３およびＲ２４はそれぞれ前記と同義である）またはＣＯ２Ｒ２７（式中、Ｒ２７は前記と同義である）を表す］
化合物（Ｆ）、化合物（Ｈ）または化合物（Ｇ）は、ベンゼン誘導体または化合物（Ｂ）もしくは化合物（Ｄ）のうちＲ７がＣＯ２Ｒ２７ａ（式中、Ｒ２７ａはＲ２７の定義のうちアルキルを表す）である化合物（Ｂａ）もしくは化合物（Ｄｆ）より公知の方法［プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、グリーン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ）著、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．）（１９８１年）、ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソシエティー（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ）、８０巻、４９４９ページ（１９５８年）、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｔｈｅ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、６０巻、４６３５ページ（１９９５年）、シンセシス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、５６ページ（１９７８年）、シンセシス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、７９０ページ（１９８６年）、ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソシエティー・パーキン・トランスアクションズ・Ｉ（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  Ｐｅｒｋｉｎ  Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ  Ｉ）、１３７９ページ（１９７４年）、テトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ）、４１巻、３１９９ページ（２０００年）、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｔｈｅ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、６４巻、５９８４ページ（１９９９年）、テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、４４巻、５４６７ページ（１９８８年）、ケミストリー・レターズ（Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｌｅｔｔｅｒｓ）、１４２７ページ（１９７９年）等］に準じて得ることができる。
工程３−１
化合物（Ｇ）は、上述の方法以外にも、化合物（Ｆ）を縮合剤の存在下、溶媒中、ＨＮＲ２３Ｒ２４（式中、Ｒ２３およびＲ２４はそれぞれ前記と同義である）で表される化合物（ＶＩ）もしくはその酸付加塩またはＨＯＲ２７（式中、Ｒ２７は前記と同義である）で表される化合物（ＶＩＩ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒としては、ＴＨＦ、トルエン、ジクロロメタン、ＤＭＦ等が、単独でまたは混合して用いられる。
縮合剤としては、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣＩ）、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１，１’−カルボニルジイミダゾール等が用いられ、更に、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、ＤＭＡＰ、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物（ＨＯＢｔ）等の添加剤を化合物（Ｆ）に対して０．１〜１０当量加え、反応を促進することもできる。
化合物（ＶＩ）の酸付加塩を用いた場合、化合物（Ｆ）に対して０．１当量以上、好ましくは１〜２０当量の塩基、例えば、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のアミンの存在下反応を行うこともでき、好ましくはトリエチルアミンが用いられる。化合物（ＶＩ）もしくはその酸付加塩または化合物（ＶＩＩ）および縮合剤は、化合物（Ｆ）に対して、それぞれ０．１当量以上、好ましくは１〜１０当量用いられる。反応は、通常−２０〜８０℃の間の温度、好ましくは０〜６０℃の間の温度で行われ、５分間〜４８時間で終了する。
工程３−２ａ
製造法２の工程２−２ａに準じた方法によって、化合物（Ｇ）のうち、Ｐ１がメチルである化合物（Ｇａ）を溶媒中、脱保護剤で処理することにより化合物（Ｊ）を得ることができる。
溶媒および脱保護剤としては、それぞれ工程２−２ａで挙げたものと同様のものが用いられる。
工程３−２ｂ
製造法２の工程２−２ｂに準じた方法によって、化合物（Ｇ）のうち、Ｐ１がメトキシメチルである化合物（Ｇｂ）を溶媒中、酸で処理することによっても化合物（Ｊ）を得ることができる。
溶媒および酸としては、それぞれ工程２−２ｂで挙げたものと同様のものが用いられる。
工程３−２ｃ
製造法２の工程２−２ｃに準じた方法によって、化合物（Ｇ）のうち、Ｐ１がベンジルである化合物（Ｇｃ）を溶媒中、ジメチルスルフィドおよび三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体で処理することによっても化合物（Ｊ）を得ることができる。
溶媒としては、工程２−２ｃで挙げたものと同様のものが用いられる。
工程３−３
化合物（Ｊ）は、工程３−１に準じた方法によって、化合物（Ｈ）を縮合剤の存在下、溶媒中、化合物（ＶＩ）もしくはその酸付加塩または化合物（ＶＩＩ）と反応させることによっても得ることができる。
溶媒および縮合剤としては、それぞれ工程３−１で挙げたものと同様のものが用いられる。
工程３−４
化合物（Ｉｂ）は、製造法１の工程１に準じた方法によって、化合物（Ｊ）を塩基の存在下または非存在下、溶媒中、化合物（ＩＩ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒および塩基としては、それぞれ工程１で挙げたものと同様のものが用いられる。
製造法４
化合物（Ｉｃ）は、化合物（Ｋ）より、次の反応工程に従い得ることができる。
2003020690.tif 000012
（式中、Ｒｒ、Ｒｓ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ７はそれぞれ前記と同義であり、Ｒ６ｂは前記Ｒ６ａａと同義であり、Ｐ２はメトキシメチルを表す）
工程４−１
化合物（Ｌ）は、塩基およびジエチルシアノホスホナート（ＤＥＰＣ）の存在下、溶媒中、化合物（Ｋ）を化合物（ＩＩＩ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒としては、ＤＭＦ、ＴＨＦ、トルエン、ジクロロメタン等が、単独でまたは混合して用いられる。
塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、ジイソプロピルエチルアミン等が用いられる。
化合物（ＩＩＩ）、ＤＥＰＣおよび塩基は、化合物（Ｋ）に対して、それぞれ０．１当量以上、好ましくは１〜１０当量用いられる。反応は、通常−７８〜１００℃の間の温度、好ましくは−２０〜６０℃の間の温度で行われ、５分間〜４８時間で終了する。
工程４−２
化合物（Ｍ）は、製造法２の工程２−２ｂに準じた方法によって、化合物（Ｌ）を溶媒中、酸で処理することにより得ることができる。
溶媒および酸としては、それぞれ工程２−２ｂで挙げたものと同様のものが用いられる。
工程４−３
化合物（Ｉｃ）は、製造法１の工程１に準じた方法によって、化合物（Ｍ）を塩基の存在下または非存在下、溶媒中、化合物（ＩＩ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒および塩基としては、それぞれ工程１で挙げたものと同様のものが用いられる。
製造法５
化合物（Ｉｄ）および化合物（Ｉｅ）は、化合物（Ｎ）より次の反応工程に従い得ることができる。
2003020690.tif 000013
（式中、Ｒｒ、Ｒｓ、Ｒｒｃｘ、Ｒｓｃｘ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５ａおよびＲ７ａはそれぞれ前記と同義である）
工程５−１
化合物（Ｏ）は、製造法３の工程３−１に準じた方法によって、化合物（Ｎ）を縮合剤の存在下、溶媒中、化合物（ＶＩ）もしくはその酸付加塩または化合物（ＶＩＩ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒および縮合剤としては、それぞれ工程３−１で挙げたものと同様のものが用いられる。
工程５−２
化合物（Ｉｄ）および化合物（Ｉｅ）は、製造法１の工程１に準じた方法によって、化合物（Ｏ）を塩基の存在下または非存在下、溶媒中、化合物（ＩＩ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒および塩基としては、それぞれ工程１で挙げたものと同様のものが用いられる。
製造法６
化合物（Ｉｆ）および化合物（Ｉｇ）は、化合物（Ｐ）より次の反応工程に従い得ることができる。
2003020690.tif 000014
［式中、Ｒｒ、Ｒｓ、Ｒｒｃ、Ｒｓｃ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ前記と同義であり、Ｒ６ｃはＲ６の定義のうち水素原子または置換もしくは非置換のアルキルを表し、Ｒ７ｂはＲ７の定義のうちＣＯＮＲ２３Ｒ２４（式中、Ｒ２３およびＲ２４はそれぞれ前記と同義である）を表し、Ｒ２７ａは低級アルキルを表す］
Ｒ２７ａの定義において、低級アルキルは前記低級アルキルと同義である。
工程６−１
化合物（Ｑ）は、化合物（Ｐ）を塩基の存在下、溶媒中、化合物（ＶＩ）もしくはその酸付加塩と反応させることにより得ることができる。
溶媒としては、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、１，２−ジクロロエタン、トルエン、ジクロロメタン、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等が、単独でまたは混合して用いられる。
塩基としては、ＤＭＡＰ、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等が用いられ、好ましくはＤＭＡＰが用いられる。
化合物（ＶＩ）もしくはその酸付加塩および塩基は、化合物（Ｐ）に対して、それぞれ０．１当量以上、好ましくは０．２〜２０当量用いられる。反応は、通常−２０〜１８０℃の間の温度、好ましくは２０〜１４０℃の間の温度で行われ、５分間〜４８時間で終了する。
工程６−２
化合物（Ｉｆ）および化合物（Ｉｇ）は、製造法１の工程１に準じた方法によって、化合物（Ｑ）を塩基の存在下または非存在下、溶媒中、化合物（ＩＩ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒および塩基としては、それぞれ工程１で挙げたものと同様のものが用いられる。
製造法７
化合物（Ｉｈ）は、化合物（Ｒ）より次の反応工程に従い得ることができる。
2003020690.tif 000015
［式中、Ｒｒ、Ｒｓ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５ａおよびＲ６ｃはそれぞれ前記と同義であり、Ｒ７ｃはＣＯＲ２６ａ（式中、Ｒ２６ａはＲ２６の定義のうち置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の低級シクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）を表し、Ｐ３はメチルを表す］
工程７−１
化合物（Ｓ）は、製造法３の工程３−１に準じた方法によって、化合物（Ｒ）を縮合剤および塩基の存在下、溶媒中、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩と反応させることにより得ることができる。
溶媒、縮合剤および塩基としては、それぞれ工程３−１で挙げたものと同様のものが用いられる。
工程７−２
化合物（Ｔ）は、化合物（Ｓ）を溶媒中、Ｒ２６ａＭｇＸａ（式中、Ｒ２６ａは前記と同義であり、Ｘａは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す）で表される化合物（ＶＩＩＩ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒としては、ＴＨＦ、トルエン、ジエチルエーテル、ｎ−ヘキサン等が、単独でまたは混合して用いられる。
化合物（ＶＩＩＩ）は、化合物（Ｓ）に対して、０．１当量以上、好ましくは１〜１０当量用いられる。反応は、通常−７８〜１２０℃の間の温度、好ましくは−７８〜６０℃の間の温度で行われ、５分間〜４８時間で終了する。
工程７−３
化合物（Ｕ）は、製造法２の工程２−２ａに準じた方法によって、化合物（Ｔ）を溶媒中、脱保護剤で処理することにより得ることができる。
溶媒および脱保護剤としては、工程２−２ａで挙げたものと同様のものが用いられる。
工程７−４
化合物（Ｉｈ）は、製造法１の工程１に準じた方法によって、化合物（Ｕ）を塩基の存在下または非存在下、溶媒中、化合物（ＩＩ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒および塩基としては、それぞれ工程１で挙げたものと同様のものが用いられる。
製造法８
化合物（Ｉｉ）は、化合物（Ｗ）より次の反応工程に従い得ることができる。
2003020690.tif 000016
（式中、Ｒｒ、Ｒｓ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ前記と同義であり、Ｒ１ａは水素原子を表し、Ｒ１ｂは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す）
工程８−１
化合物（Ｙ）は、化合物（Ｗ）を溶媒中、ハロゲン化剤で処理することにより得ることができる。
溶媒としては、ＴＨＦ、トルエン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ＤＭＦ等が、単独でまたは混合して用いられる。
ハロゲン化剤としては、塩化スルフリル、テトラブチルアンモニウムトリブロミド、Ｎ−クロロコハク酸イミド（ＮＣＳ）、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（ＮＢＳ）、Ｎ−ヨードコハク酸イミド（ＮＩＳ）、臭素等が用いられる。
ハロゲン化剤は、化合物（Ｗ）に対して、０．１当量以上、好ましくは１〜１０当量用いられる。反応は、通常−７８〜１２０℃の間の温度、好ましくは−２０〜６０℃の間の温度で行われ、５分間〜４８時間で終了する。
工程８−２
化合物（Ｉｉ）は、製造法１の工程１に準じた方法によって、化合物（Ｙ）を塩基の存在下または非存在下、溶媒中、化合物（ＩＩ）と反応させることにより得ることができる。
溶媒および塩基としては、それぞれ工程１で挙げたものと同様のものが用いられる。
化合物（Ｉ）の製造において、Ｒｒ、Ｒｓ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７の官能基の変換は、公知の方法［例えば、コンプリヘンシブ・オーガニック・トランスフォーメーションズ（Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ）、Ｒ・Ｃ・ラロック（Ｌａｒｏｃｋ）著、（１９８９年）］によって行うことができる。
上記製造法における中間体および目的の化合物の単離、精製は、通常の有機合成で用いられる方法、例えば濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、結晶化、各種クロマトグラフィー等を適宜組み合わせて行うことができる。また、中間体においては、精製することなく次の反応に供することも可能である。
化合物（Ｉ）の塩を取得したい場合には、化合物（Ｉ）の塩が得られるときはそのまま精製すればよく、また遊離の形で得られるときは適当な溶媒に溶解または懸濁し、酸または塩基を加えて、塩を形成させればよい。
化合物（Ｉ）またはその薬理的に許容される塩の中には種々の立体異性体、幾何異性体、位置異性体、互変異性体等が存在し得るものがある。例えば、化合物（Ｉ）のうち、Ｒ５およびＲ６のどちらか一方がヒドロキシである化合物では、−ＣＲ５＝ＣＲ６Ｒ７がそれぞれ互変異性体である−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨＲ６Ｒ７または−ＣＨＲ５−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ７となることもある。本発明はこれらの可能な全ての異性体およびそれらの混合物を包含し、混合物の場合その混合比は任意の比率でよい。
また、化合物（Ｉ）またはその薬理的に許容される塩は、水あるいは各種溶媒との付加物の形で存在することもあるが、これら付加物も本発明に包含される。
化合物（Ｉ）の具体例を第１〜４表に示す。
2003020690.tif 000017
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次に、代表的な化合物（Ｉ）の薬理活性について試験例で説明する。
試験例１  エストロンスルファターゼ（ステロイドスルファターゼ）阻害試験
４−メチルアンベリフェリルスルフェート（４−ｍｅｔｈｙｌｕｍｂｅｌｌｉｆｅｒｙｌ  ｓｕｌｆａｔｅ、最終濃度０．３ｍｍｏｌ／Ｌ）、組み換えヒトエストロンスルファターゼ（ｒｅｃｏｍｂｉｎａｎｔ  ｈｕｍａｎ  ｅｓｔｒｏｎｅ  ｓｕｌｆａｔａｓｅ、７．８ｎｇ／ｗｅｌｌ）および各試験濃度の試験化合物（試験化合物は、０．００１ｍＬのＤＭＳＯに溶解した）を、０．２８ｍｏｌ／Ｌのシュークロース（ｓｕｃｒｏｓｅ）および０．０４ｍｏｌ／Ｌのニコチンアミド（ｎｉｃｏｔｉｎａｍｉｄｅ）を含むリン酸緩衝液（ｐＨ７．５）（最終体積０．１ｍＬ）に添加し、３７℃で１時間酵素反応を行った。組み換えヒトエストロンスルファターゼとしてはヒトエストロンスルファターゼ遺伝子をＣＨＯ（Ｃｈｉｎｅｓｅ  Ｈａｍｓｔｅｒ  Ｏｖａｒｙ）細胞に移入し、発現させたものを部分精製して用いた。酵素反応終了後、２ｍｏｌ／Ｌグリシン−水酸化ナトリウム水溶液（ｐＨ１０．３）（０．１３ｍＬ）を加え攪拌し、蛍光プレートリーダー（Ｃｙｔｏ  Ｆｌｕｏｒ  ＩＩ）を用い、生成した４−メチルアンベリフェロン（４−ｍｅｔｈｙｌｕｍｂｅｌｌｉｆｅｒｏｎｅ）の蛍光強度を測定した。測定はデュプリケート（ｄｕｐｌｉｃａｔｅ）で一度に行い、アッセイ内変動は１０％以下であった。試験化合物の非存在下における酵素反応も同時に行った。試験化合物の各濃度におけるエストロンスルファターゼ阻害活性を以下の式により算出した。
Ａ：試験化合物の存在下における４−メチルアンベリフェロンの生成量
Ｂ：試験化合物の非存在下における４−メチルアンベリフェロンの生成量
2003020690.tif 000021
アリールスルファマート誘導体のエストロンスルファターゼ阻害活性は、試験化合物を添加しない場合と比較してエストロンスルファターゼ活性が半分になるような誘導体の濃度（ＩＣ５０）で表すことができる。
試験例１で得られた結果を第５表に示す。
2003020690.tif 000022
第５表によれば、化合物（Ｉ）は、ステロイドスルファターゼ阻害作用を示し、ステロイドホルモン依存性疾病の治療または予防剤として有用である。
化合物（Ｉ）またはその薬理的に許容される塩は、そのままあるいは各種の医薬組成物として経口的または非経口的に投与される。このような医薬組成物の剤形としては、例えば錠剤、散剤、顆粒剤、注射剤等が挙げられる。
上記剤形の製剤化には、通常知られた方法が適用され、例えば得られる製剤は各種の賦形剤、潤滑剤、結合剤、崩壊剤、懸濁化剤、等張化剤、乳化剤または吸収促進剤等を含有していてもよい。
医薬組成物に使用される担体としては、例えば水、注射用蒸留水、生理食塩水、グルコース、フラクトース、白糖、マンニット、ラクトース、澱粉、コーン・スターチ、セルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、アルギン酸、タルク、クエン酸ナトリウム、炭酸カルシウム、リン酸水素カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、尿素、シリコーン樹脂、ソルビタン脂肪酸エステルまたはグリセリン脂肪酸エステル等が挙げられ、これらは製剤の種類に応じて適宜選択される。
上記目的のために用いる化合物（Ｉ）の投与量および投与回数は、目的とする治療効果または予防効果、投与方法、治療期間、年齢、体重等により異なるが、経口投与もしくは非経口的投与（例えば、注射等）により、通常成人１日当り０．０１〜２０ｍｇ／ｋｇ、１日１回もしくは数回である。
発明を実施するための最良の形態
以下に、実施例を記す。実施例中で用いられている１Ｈ−ＮＭＲは２７０ＭＨｚで測定されたものであり、各シグナルのδ値の後の括弧内に、観測された多重度、結合定数（単位、Ｈｚ）、プロトン数を順に示す。
実施例１（化合物１）
工程１−１
４−ヒドロキシケイ皮酸（０．５００ｇ，３．０５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１５ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ＥＤＣＩ（１．４６ｇ，７．６３ｍｍｏｌ）およびＨＯＢｔ（０．４６７ｇ，３．０５ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１０分間撹拌した。次いでｎ−ノニルアミン（１．６８ｍＬ，９．１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間撹拌した。反応液に水および１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１〜１／１）で精製し、（Ｅ）−３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−ノニルアクリルアミド（０．８０１ｇ，収率９１％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２９０．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．２５（ｍ，１２Ｈ），１．４３（ｍ，２Ｈ），３．１３（ｍ，２Ｈ），６．３９（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．９２（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），９．８０（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程１−２
（Ｅ）−３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−ノニルアクリルアミド（５０ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）をＤＭＡＣ（１．５ｍＬ）に溶解し、塩化スルファモイル（４０ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１５／１）で精製し、化合物１（５７ｍｇ，収率８９％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３６９．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．２５（ｍ，１２Ｈ），１．４４（ｍ，２Ｈ），３．１５（ｍ，２Ｈ），６．６０（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．０５（ｓ，２Ｈ），８．０９（ｍ，１Ｈ）．
実施例２（化合物２）
工程２−１
４−ヒドロキシ−２−メトキシベンズアルデヒド（５００ｍｇ，３．２９ｍｍｏｌ）をピリジン（８ｍＬ）に溶解し、マロン酸（６８５ｍｇ，６．５８ｍｍｏｌ）およびピペリジン（１．６３ｍＬ，１６．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間、次いで６０℃で１．２時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ込み、６ｍｏｌ／Ｌ塩酸で酸性にした。析出した沈殿をろ取し、水で洗浄した。生成物を５０℃で真空乾燥し、（Ｅ）−３−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）アクリル酸（３５３ｍｇ，収率５５％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−１９３．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３＋ＣＤ３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：３．８５（ｓ，３Ｈ），６．３６（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ），６．４３（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），６．４４（ｄｄ，Ｊ＝１．９，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．９２（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ）．
工程２−２
実施例１の工程１−１に準じて、（Ｅ）−３−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）アクリル酸（１００ｍｇ，０．５１５ｍｍｏｌ）をＥＤＣＩ（２４７ｍｇ，１．２９ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（７９ｍｇ，０．５２ｍｍｏｌ）およびｎ−ノニルアミン（０．２８ｍＬ，１．５ｍｍｏｌ）で処理し、（Ｅ）−３−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−Ｎ−ノニルアクリルアミド（１２７ｍｇ，収率７７％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３２０．
工程２−３
実施例１の工程１−２に準じて、（Ｅ）−３−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−Ｎ−ノニルアクリルアミド（６０ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を塩化スルファモイル（４３ｍｇ，０．３８ｍｍｏｌ）で処理し、化合物２（６３ｍｇ，収率８４％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３９９．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．２５（ｍ，１２Ｈ），１．４４（ｍ，２Ｈ），３．１５（ｍ，２Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），６．６３（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ），６．９１（ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．５Ｈｚ，１Ｈ），６．９７（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），７．５７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５９（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｂｒｓ，３Ｈ）．
実施例３（化合物３）
工程３−１
実施例１の工程１−１に準じて、（Ｅ）−３−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルアクリル酸（５０ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ）をＥＤＣＩ（８４ｍｇ，０．４４ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（６９ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）およびｎ−ノニルアミン（０．０７７ｍＬ，０．４２ｍｍｏｌ）で処理し、（Ｅ）−３−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチル−Ｎ−ノニルアクリルアミド（５７ｍｇ，収率６６％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３０２．
工程３−２
実施例１の工程１−２に準じて、（Ｅ）−３−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチル−Ｎ−ノニルアクリルアミド（５２ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）を塩化スルファモイル（５０ｍｇ，０．４４ｍｍｏｌ）で処理し、化合物３（６５ｍｇ，収率１００％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３８１．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８６（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．１５−１．３７（ｍ，１２Ｈ），１．４７（ｍ，２Ｈ），２．００（ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，３Ｈ），３．１４（ｄｔ，Ｊ＝６．０，７．０Ｈｚ，２Ｈ），７．１８（ｓ，１Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．４６（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．００（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｓ，２Ｈ）．
実施例４（化合物４）
工程４−１
実施例１の工程１−１に準じて、（Ｅ）−３−（４−メトキシフェニル）−２−ブテン酸（２７ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）をＥＤＣＩ（４３ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（３４ｍｇ，０．２２ｍｍｏｌ）およびｎ−ノニルアミン（０．０３８ｍＬ，０．２１ｍｍｏｌ）で処理し、（Ｅ）−３−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−ノニル−２−ブテンアミド（３９ｍｇ，収率８９％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３１８．
工程４−２
（Ｅ）−３−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−ノニル−２−ブテンアミド（２４ｍｇ，０．０７６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．２ｍＬ）に溶解し、−１８℃で三臭化ホウ素（０．３０ｍＬ，０．３０ｍｍｏｌ，１．０ｍｏｌ／Ｌジクロロメタン溶液）を加え、室温で２時間撹拌した。反応液にメタノールおよび水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／アセトン＝４／１）で精製し、（Ｅ）−３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−ノニル−２−ブテンアミド（１３ｍｇ，収率５７％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３０４．
工程４−３
実施例１の工程１−２に準じて、（Ｅ）−３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−ノニル−２−ブテンアミド（１７ｍｇ，０．０５４ｍｍｏｌ）を塩化スルファモイル（１３ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）で処理し、化合物４（１８ｍｇ，収率８７％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３８３．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８６（ｍ，３Ｈ），１．１０−１．５０（ｍ，１４Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），３．１１（ｄｔ，Ｊ＝６．１，６．８Ｈｚ，２Ｈ），６．１９（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．９６（ｂｒｔ，１Ｈ），８．０３（ｓ，１Ｈ）．
実施例５（化合物５〜化合物１０）
以下、実施例１の工程１−１および工程１−２に準じて、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸を対応するアミンと縮合させた後、スルファモイル化し、それぞれ化合物５〜化合物１０を得た。
化合物５
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３９４．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８３（ｍ，３Ｈ），１．１５−１．５８（ｍ，１４Ｈ），３．１９（ｍ，２Ｈ），７．４６（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．０２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．１７（ｓ，１Ｈ），８．２１（ｓ，１Ｈ），８．４５（ｍ，１Ｈ）．
化合物６
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３６６．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８７（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１６−１．３８（ｍ，８Ｈ），１．５０（ｍ，２Ｈ），３．２０（ｍ，２Ｈ），７．４６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．０２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．１７（ｓ，１Ｈ），８．２０（ｓ，１Ｈ），８．４５（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ）．
化合物７
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３３８．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８７（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．１９−１．４０（ｍ，４Ｈ），１．５０（ｍ，２Ｈ），３．２０（ｍ，２Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．０２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．１６（ｓ，１Ｈ），８．２０（ｓ，１Ｈ），８．４５（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ）．
化合物８
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３１０．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８７（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．５１（ｍ，２Ｈ），３．１７（ｍ，２Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．０２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．１６（ｓ，１Ｈ），８．２０（ｓ，１Ｈ），８．４６（ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１Ｈ）．
化合物９
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３５２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｍ，６Ｈ），１．５９（ｍ，４Ｈ），３．３０（ｍ，４Ｈ），７．４３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），７．９８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），８．１７（ｓ，１Ｈ）．
化合物１０
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋４１２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８４（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），１．２９（ｍ，２Ｈ），１．４５（ｍ，２Ｈ），３．２０−３．６５（ｍ，８Ｈ），３．３７（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），８．０２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），８．１９（ｓ，２Ｈ），８．４４（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例６（化合物１１）
工程６−１
実施例１の工程１−１に準じて、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸（５１ｍｇ，０．２７ｍｍｏｌ）を１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド（０．０７７ｍＬ，０．４０ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（６３ｍｇ，０．４１ｍｍｏｌ）およびメチルアミン塩酸塩（３１ｍｇ，０．４６ｍｍｏｌ）で処理し、（Ｅ）−２−シアノ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−メチルアクリルアミド（３３ｍｇ，収率６２％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−２０１．
工程６−２
実施例１の工程１−２に準じて、（Ｅ）−２−シアノ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−メチルアクリルアミド（３１ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）を塩化スルファモイル（４３ｍｇ，０．３８ｍｍｏｌ）で処理し、化合物１１（３９ｍｇ，収率８９％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２８２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ，３Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．０２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．１８（ｓ，１Ｈ），８．１９（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｍ，１Ｈ）．
実施例７（化合物１２）
工程７−１
ｐ−アセチルフェノール（２０．０ｇ，１４７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（２００ｍＬ）に溶解し、氷冷下、水素化ナトリウム（６．４６ｇ，０．１６ｍｏｌ，６０％油性）、次いでクロロメチルメチルエーテル（１６．７ｍＬ，２２０ｍｍｏｌ）を加え、同温度で２時間攪拌した。反応液に氷および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で精製し、４−（メトキシメトキシ）アセトフェノン（２３．７ｇ，収率８９％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋１８１．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．５６（ｓ，３Ｈ），３．４８（ｓ，３Ｈ），５．２３（ｓ，２Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ），７．９３（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ）．
工程７−２
４−（メトキシメトキシ）アセトフェノン（１５０ｍｇ，０．８３１ｍｍｏｌ）および参考例２で得られる２−シアノ−Ｎ−デシルアセトアミド（１８７ｍｇ，０．８３４ｍｍｏｌ）をトルエン（３ｍＬ）に溶解し、酢酸アンモニウム（５００ｍｇ，６．４９ｍｍｏｌ）および酢酸（１．１７ｍＬ，２０．４ｍｍｏｌ）を加え、受けをトルエンで満たしたディーン−スターク（Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ）を用いて、７時間加熱還流した。反応液を放冷した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で精製し、（Ｅ）−２−シアノ−Ｎ−デシル−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−２−ブテンアミド（１２０ｍｇ，収率３７％）および（Ｚ）−２−シアノ−Ｎ−デシル−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−２−ブテンアミド（８２０ｍｇ，収率２６％）を得た。
Ｅ−体
ＥＳＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３８５．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１８−１．４４（ｍ，１４Ｈ），１．５８（ｍ，２Ｈ），２．６５（ｓ，３Ｈ），３．３５（ｄｔ，Ｊ＝６．１，７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．４９（ｓ，３Ｈ），５．２１（ｓ，２Ｈ），６．３１（ｂｒｔ，１Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．４１（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
Ｚ−体
ＥＳＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３８７．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．０２−１．３９（ｍ，１６Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），３．１４（ｄｔ，Ｊ＝５．９，６．９Ｈｚ，２Ｈ），３．４７（ｓ，３Ｈ），５．１９（ｓ，２Ｈ），５．４９（ｂｒｔ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）．
工程７−３
（Ｅ）−２−シアノ−Ｎ−デシル−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−２−ブテンアミド（１２０ｍｇ，０．３１０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（４ｍＬ）およびイソプロピルアルコール（４ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、４ｍｏｌ／Ｌ塩酸（４ｍＬ）を加え、４０℃で１時間攪拌した。反応液に氷および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をジイソプロピルエーテルとｎ−ヘキサンの混合溶媒でトリチュレーションし、（Ｅ）−２−シアノ−Ｎ−デシル−３−（４−ヒドロキシフェニル）−２−ブテンアミド（９１ｍｇ，収率８６％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３４１．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１０−１．４０（ｍ，１４Ｈ），１．５６（ｍ，２Ｈ），２．６５（ｓ，３Ｈ），３．３６（ｄｔ，Ｊ＝６．１，７．０Ｈｚ，２Ｈ），５．３２（ｂｒｓ，１Ｈ），６．２７（ｂｒｔ，１Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）．
工程７−４
実施例１の工程１−２に準じて、（Ｅ）−２−シアノ−Ｎ−デシル−３−（４−ヒドロキシフェニル）−２−ブテンアミド（８６ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）を塩化スルファモイル（７０ｍｇ，０．６１ｍｍｏｌ）で処理し、化合物１２（８３ｍｇ，収率７９％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４２０．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１２−１．３８（ｍ，１４Ｈ），１．４８（ｍ，２Ｈ），２．２７（ｓ，３Ｈ），３．１７（ｍ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．６１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），８．１４（ｓ，２Ｈ），８．６５（ｂｒｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例８（化合物１３〜化合物１６）
以下、実施例７の工程７−２に準じて、４−（メトキシメトキシ）アセトフェノンを対応するＮ−アルキル−２−シアノアセトアミド（該化合物は参考例２に準じてシアノ酢酸と対応するアミンより得られる）と縮合させた後、実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、脱メトキシメチル化次いでスルファモイル化を行い、化合物１３〜化合物１６を得た。
化合物１３
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋４０８．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．２０−１．４０（ｍ，１２Ｈ），１．４８（ｍ，２Ｈ），２．２７（ｓ，３Ｈ），３．１８（ｄｔ，Ｊ＝５．８，６．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．１３（ｂｒｓ，２Ｈ），８．６５（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１Ｈ）．
化合物１４
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋４０８．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｍ，３Ｈ），０．９０−１．３５（ｍ，１４Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ），２．９１（ｍ，２Ｈ），７．２６（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），７．４１（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），８．０７（ｂｒｓ，２Ｈ），８．２８（ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ）．
化合物１５
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３９２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．１５−１．３５（ｍ，１０Ｈ），１．４８（ｍ，２Ｈ），２．２７（ｓ，３Ｈ），３．１８（ｄｔ，Ｊ＝５．８，６．７Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．６１（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．１４（ｓ，２Ｈ），８．６６（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１Ｈ）．
化合物１６
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３７８．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８７（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．１６−１．３９（ｍ，８Ｈ），１．４８（ｍ，２Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），３．１８（ｄｔ，Ｊ＝５．９，６．５Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．６１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），８．１５（ｓ，２Ｈ），８．６７（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例９（化合物１７）
工程９−１
実施例７の工程７−１に準じて、ｐ−ヒドロキシプロピオフェノン（１．００ｇ，６．６６ｍｍｏｌ）をクロロメチルメチルエーテル（０．７６ｍＬ，１．０ｍｍｏｌ）および水素化ナトリウム（２９３ｍｇ，７．３ｍｍｏｌ，６０％油性）で処理し、４−（メトキシメトキシ）プロピオフェノン（１．３０ｇ，収率１００％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋１９５．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２１（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），２．９６（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），３．４８（ｓ，３Ｈ），５．２３（ｓ，２Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．９４（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
工程９−２
実施例７の工程７−２に準じて、４−（メトキシメトキシ）プロピオフェノンを参考例３で得られる２−シアノ−Ｎ−ノニルアセトアミドと縮合させた後、実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、脱メトキシメチル化とスルファモイル化を行い、化合物１７を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３４１．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．０４（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．１１−１．４１（ｍ，１２Ｈ），１．５８（ｍ，２Ｈ），３．０６（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．３６（ｄｔ，Ｊ＝５．９，７．１Ｈｚ，２Ｈ），６．２７（ｂｒｔ，１Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例１０（化合物１８）
工程１０−１
水酸化カリウム（３１．５１ｇ，５６１．６ｍｍｏｌ）にＤＭＳＯ（７０ｍＬ）を加え、６０℃で攪拌しながら、ＤＭＳＯ（２５ｍＬ）に溶解した４−（メトキシメトキシ）アセトフェノン（４．９３ｇ，２７．４ｍｍｏｌ）およびヨウ化メチル（１３．６ｍＬ，２１８ｍｍｏｌ）を１時間かけて加え、更に同温度で２時間攪拌した。反応液を放冷した後、氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）で精製し、１−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−２−メチルプロパン−１−オン（１．４０ｇ，収率２５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２１（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６Ｈ），３．５０（ｓ，３Ｈ），３．５１（ｍ，１Ｈ），５．２３（ｓ，２Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ），７．９４（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ）．
工程１０−２
実施例７の工程７−２に準じて、１−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−２−メチルプロパン−１−オン（１．１７ｇ，５．６２ｍｍｏｌ）をシアノ酢酸エチル（１．２３ｍＬ，１１．２ｍｍｏｌ）、酢酸アンモニウム（１．５７ｇ，２０．４ｍｍｏｌ）および酢酸（４．７０ｍＬ，８２．１ｍｍｏｌ）で処理し、（Ｅ）−２−シアノ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−４−メチル−２−ペンテン酸エチル（０．８７ｇ，収率５１％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３０２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．０９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），１．１０（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，６Ｈ），３．４６（ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），３．４９（ｓ，３Ｈ），４．０４（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），５．１９（ｓ，２Ｈ），６．９２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
工程１０−３
（Ｅ）−２−シアノ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−４−メチル−２−ペンテン酸エチル（１２０ｍｇ，０．３９６ｍｍｏｌ）をメタノール（２．４ｍＬ）および水（０．８ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、水酸化リチウム（４７ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で２５分間攪拌した。減圧下メタノールを濃縮し、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（２ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた有機層を減圧下濃縮し、（Ｅ）−２−シアノ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−４−メチル−２−ペンテン酸（１１１ｍｇ）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−２７４．
工程１０−４
実施例１の工程１−１に準じて、（Ｅ）−２−シアノ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−４−メチル−２−ペンテン酸（１１１ｍｇ）をＥＤＣＩ（１１４ｍｇ，０．５９４ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（９１ｍｇ，０．５９ｍｍｏｌ）およびｎ−ノニルアミン（０．１０８ｍＬ，０．５９４ｍｍｏｌ）で処理し、（Ｅ）−２−シアノ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−４−メチル−Ｎ−ノニル−２−ペンテンアミド（２０ｍｇ，収率１２％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋４０１．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．０４（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６Ｈ），１．１６−１．４１（ｍ，１２Ｈ），１．５５（ｍ，２Ｈ），３．３５（ｄｔ，Ｊ＝５．９，７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．５０（ｓ，３Ｈ），４．１４（ｍ，１Ｈ），５．２０（ｓ，２Ｈ），６．１９（ｍ，１Ｈ），７．０８（ｍ，４Ｈ）．
工程１０−５
実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、（Ｅ）−２−シアノ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−４−メチル−Ｎ−ノニル−２−ペンテンアミドを脱メトキシメチル化次いでスルファモイル化に付し、化合物１８を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３５５．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．０３（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ），１．１４−１．４４（ｍ，１２Ｈ），１．５８（ｍ，２Ｈ），３．３５（ｄｔ，Ｊ＝６．１，７．０Ｈｚ，２Ｈ），４．０７（ｍ，１Ｈ），５．３３（ｓ，２Ｈ），６．２８（ｂｒｔ，１Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例１１（化合物１９）
工程１１−１
実施例７の工程７−１に準じて、ｐ−ブロモフェノール（４．００ｇ，２３．１ｍｍｏｌ）を水素化ナトリウム（１．０２ｇ，２５ｍｍｏｌ，６０％油性）およびクロロメチルメチルエーテル（２．６３ｍＬ，３４．７ｍｍｏｌ）で処理し、１−ブロモ−４−（メトキシメトキシ）ベンゼン（５．１８ｇ，収率１００％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４６（ｓ，３Ｈ），５．１４（ｓ，２Ｈ），６．９２（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ）．
工程１１−２
１−ブロモ−４−（メトキシメトキシ）ベンゼン（２７０ｍｇ，１．２４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２ｍＬ）に溶解し、−７８℃でｎ−ブチルリチウム（０．８６ｍＬ，２．２ｍｍｏｌ，２．５ｍｏｌ／Ｌ  ｎ−ヘキサン溶液）を徐々に加え、５分間攪拌した後、同温度でフルオロ酢酸エチル（０．１５６ｍＬ，１．６２ｍｍｏｌ）を徐々に加え、１５分間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製し、２−フルオロ−１−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］エタノン（１３８ｍｇ，収率５６％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋１９９．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４８（ｓ，３Ｈ），５．２４（ｓ，２Ｈ），５．４８（ｄ，Ｊ＝４７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．８８（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
工程１１−３
実施例７の工程７−２に準じて、２−フルオロ−１−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］エタノンを参考例３で得られる２−シアノ−Ｎ−ノニルアセトアミドと縮合させた後、実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、脱メトキシメチル化次いでスルファモイル化を行い、化合物１９を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４２４．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．１９−１．４０（ｍ，１２Ｈ），１．５７（ｍ，２Ｈ），３．３５（ｄｔ，Ｊ＝６．４，７．２Ｈｚ，２Ｈ），５．１５（ｓ，２Ｈ），５．８９（ｄ，Ｊ＝４８．６Ｈｚ，２Ｈ），６．３９（ｂｒｔ，１Ｈ），７．４０−７．５３（ｍ，４Ｈ）．
実施例１２（化合物２０および化合物２１）
工程１２−１
実施例１１の工程１１−２に準じて、１−ブロモ−４−（メトキシメトキシ）ベンゼン（２７０ｍｇ，１．２４ｍｍｏｌ）をｎ−ブチルリチウム（０．６０ｍＬ，１．５ｍｍｏｌ，２．５ｍｏｌ／Ｌ  ｎ−ヘキサン溶液）およびトリフルオロ酢酸エチル（０．２２３ｍＬ，１．８７ｍｍｏｌ）で処理し、２，２，２−トリフルオロ−１−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］エタノン（１３２ｍｇ，収率４７％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２３５．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４９（ｓ，３Ｈ），５．２７（ｓ，２Ｈ），７．１４（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ），８．０５（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ）．
工程１２−２
実施例７の工程７−２に準じて、２，２，２−トリフルオロ−１−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］エタノンを参考例３で得られる２−シアノ−Ｎ−ノニルアセトアミドと縮合させた後、実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、脱メトキシメチル化とスルファモイル化を行い、化合物２０および化合物２１を得た。
化合物２０
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４６０．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１７−１．４３（ｍ，１２Ｈ），１．５８（ｍ，２Ｈ），３．４０（ｄｔ，Ｊ＝６．６，６．９Ｈｚ，２Ｈ），５．１６（ｓ，２Ｈ），６．０４（ｂｒｔ，１Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ）．
化合物２１
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４６０．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：０．８０（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），０．９２（ｍ，２Ｈ），０．９９−１．３２（ｍ，１２Ｈ），２．９１（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），７．２５−７．４２（ｍ，４Ｈ）．
実施例１３（化合物２２）
工程１３−１
実施例７の工程７−１に準じて、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル（３．０１ｇ，１９．８ｍｍｏｌ）を水素化ナトリウム（０．９５ｇ，２４ｍｍｏｌ，６０％油性）およびクロロメチルメチルエーテル（２．２５ｍＬ，２９．６ｍｍｏｌ）で処理し、４−（メトキシメトキシ）安息香酸メチル（３．８８ｇ，収率１００％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋１９７．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４８（ｓ，３Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），５．２２（ｓ，２Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ），７．９９（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ）．
工程１３−２
実施例１０の工程１０−３に準じて、４−（メトキシメトキシ）安息香酸メチル（１．６８ｇ，８．５８ｍｍｏｌ）を水酸化リチウム（１．０３ｇ，４３．０ｍｍｏｌ）で処理し、４−（メトキシメトキシ）安息香酸（１．３７ｇ，収率８８％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋１８３．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４９（ｓ，３Ｈ），５．２５（ｓ，２Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），８．０７（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
工程１３−３
４−（メトキシメトキシ）安息香酸（５００ｍｇ，２．７４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（５ｍＬ）に溶解し、氷冷下、参考例３で得られる２−シアノ−Ｎ−ノニルアセトアミド（５７６ｍｇ，２．７４ｍｍｏｌ）、ＤＥＰＣ（０．４９９ｍＬ，３．２９ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（１．２２ｍＬ，８．７７ｍｍｏｌ）を加え、同温度で２時間、次いで室温で２時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、得られた混合物を１０％硫酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１７／３）で精製し、２−シアノ−３−ヒドロキシ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−Ｎ−ノニルアクリルアミド（４８６ｍｇ，収率４７％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３７３．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．２０−１．４６（ｍ，１２Ｈ），１．５８（ｍ，２Ｈ），３．３７（ｍ，２Ｈ），３．４８（ｓ，３Ｈ），５．２３（ｓ，２Ｈ），６．２２（ｂｒｓ，１Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．９５（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
工程１３−４
実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、２−シアノ−３−ヒドロキシ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−Ｎ−ノニルアクリルアミドを脱メトキシメチル化次いでスルファモイル化に付し、化合物２２を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４０８．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８９（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），０．９９−１．５０（ｍ，１２Ｈ），１．６２（ｍ，２Ｈ），３．３７（ｍ，２Ｈ），６．２５（ｍ，２Ｈ），７．４５（ｍ，２Ｈ），８．０１（ｍ，２Ｈ）．
実施例１４（化合物２３）
工程１４−１
２−シアノ−３−ヒドロキシ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−Ｎ−ノニルアクリルアミド（３１ｍｇ，０．０８２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（０．５ｍＬ）に溶解し、トリメチルシリルジアゾメタン（０．１６５ｍＬ，０．３０ｍｍｏｌ，２．０ｍｏｌ／Ｌ  ｎ−ヘキサン溶液）を加え、室温で１０分間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣を分取薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し、２−シアノ−３−メトキシ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−Ｎ−ノニルアクリルアミド（２４ｍｇ，収率７４％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３８９．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），１．１８−１．３７（ｍ，１２Ｈ），１．５７（ｍ，２Ｈ），３．３７（ｍ，２Ｈ），３．５０（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），５．２２（ｓ，２Ｈ），６．９２（ｂｒｓ，１Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）．
工程１４−２
実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、２−シアノ−３−メトキシ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−Ｎ−ノニルアクリルアミドを脱メトキシメチル化次いでスルファモイル化に付し、化合物２３を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４２２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１８−１．４５（ｍ，１２Ｈ），１．６２（ｍ，２Ｈ），３．４２（ｄｔ，Ｊ＝５．８，７．１Ｈｚ，２Ｈ），４．３３（ｓ，３Ｈ），５．２２（ｓ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．８１（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），１１．４３（ｂｒｔ，１Ｈ）．
実施例１５（化合物２４）
実施例７の工程７−２に準じて、４−（メトキシメトキシ）アセトフェノンを２−シアノ酢酸ｔｅｒｔ−ブチルと縮合させた後、実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、脱メトキシメチル化とスルファモイル化を行い、化合物２４を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３３７．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．５７（ｓ，９Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），５．３５（ｂｒｓ，２Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例１６（化合物２５）
工程１６−１
参考例３で得られる２−シアノ−Ｎ−ノニルアセトアミド（５００ｍｇ，２．３８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍＬ）に溶解し、２，４−ビス（ｐ−トリルチオ）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（６３４ｍｇ，１．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間攪拌した。更に、２，４−ビス（ｐ−トリルチオ）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（３０７ｍｇ，０．７０３ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間攪拌した後、不溶物をろ別した。減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、２−シアノ−Ｎ−ノニルチオアセトアミド（４９８ｍｇ，収率９２％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−２２５．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８９（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），１．１８−１．４５（ｍ，１２Ｈ），１．７０（ｍ，２Ｈ），３．６８（ｄｔ，Ｊ＝６．３，６．９Ｈｚ，２Ｈ），３．９３（ｓ，２Ｈ），７．６７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程１６−２
実施例７の工程７−２に準じて、４−（メトキシメトキシ）アセトフェノン（１００ｍｇ，０．５５５ｍｍｏｌ）を２−シアノ−Ｎ−ノニルチオアセトアミド（１５３ｍｇ，０．６７６ｍｍｏｌ）と縮合させた後、実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、脱メトキシメチル化とスルファモイル化を行い、化合物２５（Ｅ／Ｚ＝７７／２３）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４２２．
Ｅ体の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：１．１０（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ），１．２８−１．７２（ｍ，１２Ｈ），１．９３（ｍ，２Ｈ），２．４１（ｓ，３Ｈ），３．８９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．７９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
Ｚ体の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：１．０９（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．１６（ｍ，２Ｈ），１．２９−１．６７（ｍ，１２Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），３．５６（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．６９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例１７（化合物２６）
工程１７−１
実施例７の工程７−２に準じて、ｐ−アニスアルデヒド（５２７ｍｇ，３．８７ｍｍｏｌ）をエチルマロン酸（５１６ｍｇ，３．９１ｍｍｏｌ）、酢酸アンモニウム（２．２４ｇ，２９．１ｍｍｏｌ）および酢酸（１０．６ｍＬ，１８５ｍｍｏｌ）で処理し、（Ｅ）−２−エチル−３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸（７８ｍｇ，収率１０％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２０６．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２２（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），２．６０（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），６．９４（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．７４（ｓ，１Ｈ）．
工程１７−２
実施例４の工程４−１〜工程４−３に準じて、（Ｅ）−２−エチル−３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸をアミド化、脱メチル化次いでスルファモイル化に付し、化合物２６を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３９７．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．１３（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１８−１．６８（ｍ，１４Ｈ），２．５０（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．３７（ｄｔ，Ｊ＝５．８，７．２Ｈｚ，２Ｈ），５．０５（ｂｒｓ，２Ｈ），５．８５（ｂｒｔ，１Ｈ），７．０７（ｓ，１Ｈ），７．２０−７．３７（ｍ，４Ｈ）．
実施例１８（化合物２７）
工程１８−１
実施例１の工程１−１に準じて、４−ヒドロキシフェニルピルビン酸（１００ｍｇ，０．５６０ｍｍｏｌ）をＥＤＣＩ（２６８ｍｇ，１．４０ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（８６ｍｇ，０．５６ｍｍｏｌ）およびｎ−ノニルアミン（０．３１ｍＬ，１．７ｍｍｏｌ）で処理し、３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−ノニル−２−オキソプロピオンアミド（４７ｍｇ，収率２８％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３０４．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８７（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．２５（ｍ，１２Ｈ），１．５２（ｍ，２Ｈ），３．２８（ｍ，２Ｈ），４．１２（ｓ，２Ｈ），６．４３（ｂｒｓ，１Ｈ），６．７７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．０４（ｍ，１Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）．
工程１８−２
３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−ノニル−２−オキソプロピオンアミド（１２１ｍｇ，０．３９６ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍＬ）に溶解し、トリメトキシメタン（０．８６０ｍＬ，７．８６ｍｍｏｌ）およびカンファースルホン酸（１０ｍｇ，０．０４３ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、７時間攪拌した。反応液を放冷した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をトルエン（３ｍＬ）に溶解し、カンファースルホン酸（１１ｍｇ，０．０４７ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、１．５時間攪拌した。反応液を放冷した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を分取薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し、３−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシ−Ｎ−ノニルアクリルアミド（２７ｍｇ，収率２１％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３１８．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８７（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．１４−１．４６（ｍ，１２Ｈ），１．５８（ｍ，２Ｈ），３．３８（ｄｔ，Ｊ＝６．６，６．９Ｈｚ，２Ｈ），３．６２（ｓ，３Ｈ），６．７３（ｂｒｔ，１Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），６．９３（ｓ，１Ｈ），７．０２（ｓ，１Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）．
工程１８−３
実施例１の工程１−２に準じて、３−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシ−Ｎ−ノニルアクリルアミド（２７ｍｇ，０．０８５ｍｍｏｌ）を塩化スルファモイル（４０ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）で処理し、化合物２７（２４ｍｇ，収率７１％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３９７．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１１−１．３４（ｍ，１２Ｈ），１．４７（ｍ，２Ｈ），３．１７（ｄｔ，Ｊ＝５．８，６．４Ｈｚ，２Ｈ），３．６０（ｓ，３Ｈ），６．６５（ｓ，１Ｈ），７．２７（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．０１（ｂｒｓ，２Ｈ），８．２４（ｂｒｔ，１Ｈ）．
実施例１９（化合物２８）
工程１９−１
実施例７の工程７−１に準じて、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド（２．００ｇ，１６．４ｍｍｏｌ）を水素化ナトリウム（０．７２ｇ，１８ｍｍｏｌ，６０％油性）およびクロロメチルメチルエーテル（１．８７ｍＬ，２４．６ｍｍｏｌ）で処理し、４−（メトキシメトキシ）ベンズアルデヒド（２．５３ｇ，収率９３％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋１６７．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４９（ｓ，３Ｈ），５．２６（ｓ，２Ｈ），７．１５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），９．９０（ｓ，１Ｈ）．
工程１９−２
氷冷下、ＴＨＦ（０．５ｍＬ）に水素化ナトリウム（１９ｍｇ，０．０７９ｍｍｏｌ，６０％油性）およびＴＨＦ（０．２ｍＬ）に溶解したメタノール（０．０１６ｍＬ，０．４０ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した後、同温度でＴＨＦ（０．５ｍＬ）に溶解した４−（メトキシメトキシ）ベンズアルデヒド（４０ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）およびアクリル酸メチル（０．０３０ｍＬ，０．３３ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液に水（１ｍＬ）を加え、ＴＨＦを減圧下留去した後、１５％水酸化ナトリウム水溶液（４ｍＬ）を加え、３０分間加熱還流した。反応液を放冷した後、水層をトルエンで洗浄し、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、ｐＨを約３に調整した。クロロホルムで抽出した後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９／１）で精製し、（Ｅ）−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−２−（メトキシメチル）アクリル酸（２８ｍｇ，収率４７％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−２５１．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４６（ｓ，３Ｈ），３．４９（ｓ，３Ｈ），４．２９（ｓ，２Ｈ），５．２２（ｓ，２Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ）．
工程１９−３
実施例１の工程１−１に準じて、（Ｅ）−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−２−（メトキシメチル）アクリル酸をｎ−ノニルアミンと縮合させた後、実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、脱メトキシメチル化とスルファモイル化を行い、化合物２８を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４１１．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．１０−１．４２（ｍ，１２Ｈ），１．５６（ｍ，２Ｈ），３．３３（ｍ，２Ｈ），３．３６（ｓ，３Ｈ），４．２０（ｓ，２Ｈ），５．６４（ｂｒｓ，２Ｈ），７．０３（ｂｒｔ，１Ｈ），７．２１−７．３７（ｍ，４Ｈ），７．６４（ｓ，１Ｈ）．
実施例２０（化合物２９）
工程２０−１
実施例２の工程２−１に準じて、４−ベンジルオキシ−２−メチルベンズアルデヒドをマロン酸およびピペリジンで処理した後、実施例１の工程１−１に準じて、ｎ−ノニルアミンを縮合させ、（Ｅ）−３−（４−ベンジルオキシ−２−メチルフェニル）−Ｎ−ノニルアクリルアミド（３７ｍｇ，収率７７％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：３９４［Ｍ＋Ｈ］＋．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．２６（ｍ，１２Ｈ），１．５５（ｍ，２Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ），３．３６（ｍ，２Ｈ），５．０４（ｓ，２Ｈ），５．８１（ｂｒｓ，１Ｈ），６．２１（ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ，１Ｈ），６．７５（ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．６Ｈｚ，１Ｈ），６．７９（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２９−７．３９（ｍ，５Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ，１Ｈ）．
工程２０−２
（Ｅ）−３−（４−ベンジルオキシ−２−メチルフェニル）−Ｎ−ノニルアクリルアミド（３３ｍｇ，０．０８４ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１ｍＬ）に溶解し、ジメチルスルフィド（０．３７３ｍＬ，５．０５ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体（０．１６０ｍＬ，１．２６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１６時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝２０／１）で精製し、（Ｅ）−３−（４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−Ｎ−ノニルアクリルアミド（１３ｍｇ，収率５０％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：３０２［Ｍ−Ｈ］−．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８７（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．２５（ｍ，１２Ｈ），１．５６（ｍ，２Ｈ），２．２２（ｓ，３Ｈ），３．３８（ｍ，２Ｈ），５．８８（ｍ，１Ｈ），６．１８（ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．６７（ｂｒｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），６．６９（ｂｒｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｂｒｓ，１Ｈ），７．８３（ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ）．
工程２０−３
実施例１の工程１−２に準じて、（Ｅ）−３−（４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−Ｎ−ノニルアクリルアミド（１０ｍｇ，０．０３４ｍｍｏｌ）を塩化スルファモイル（７．８ｍｇ，０．０６８ｍｍｏｌ）で処理し、化合物２９（１１ｍｇ，収率８３％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：３８１［Ｍ−Ｈ］−．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８６（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），１．２６（ｍ，１２Ｈ），１．４５（ｍ，２Ｈ），２．３８（ｓ，３Ｈ），３．１６（ｍ，２Ｈ），６．５１（ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），７．１５（ｍ，１Ｈ），７．１６（ｓ，１Ｈ），７．５８（ｍ，１Ｈ），７．５９（ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），８．０２（ｂｒｓ，２Ｈ），８．１２（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例２１（化合物３０および化合物３１）
工程２１−１
２−（４−メトキシベンジリデン）スクシン酸（１．００２ｇ，４．２４０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ＨＯＢｔのアンモニア付加体（０．７７４ｇ，５．０９ｍｍｏｌ）およびＥＤＣＩ（０．７８８ｇ，５．０８ｍｍｏｌ）を加え、室温で２３時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をクロロホルムでトリチュレーションし、粗精製の（Ｅ）−２−カルバモイルメチル−３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸（０．５４３ｇ）を得た。
工程２１−２
実施例１の工程１−１に準じて、粗精製の（Ｅ）−２−カルバモイルメチル−３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸をｎ−ノニルアミンと縮合させた後、実施例４の工程４−２に準じて、脱メチル化し、（Ｅ）−２−カルバモイルメチル−３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−ノニルアクリルアミドを得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３４５．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：０．８９（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．２３−１．４２（ｍ，１２Ｈ），１．５７（ｍ，２Ｈ），３．２６（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．４３（ｓ，２Ｈ），６．８０（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）．
工程２１−３
実施例１の工程１−２に準じて、（Ｅ）−２−カルバモイルメチル−３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−ノニルアクリルアミド（２３ｍｇ，０．０６５ｍｍｏｌ）を塩化スルファモイル（１５ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）で処理し、化合物３０（８．２ｍｇ，収率３０％）および化合物３１（５．３ｍｇ，収率２０％）を得た。
化合物３０
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４２４．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．１２−１．３７（ｍ，１２Ｈ），１．４６（ｍ，２Ｈ），３．１３（ｄｔ，Ｊ＝５．４，６．２Ｈｚ，２Ｈ），３．２４（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｂｒｓ，１Ｈ），７．２５（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．３１（ｂｒｓ，１Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），８．０３（ｓ，２Ｈ），８．１４（ｂｒｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ）．
化合物３１
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４０６．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．０１−１．４７（ｍ，１２Ｈ），１．６１（ｍ，２Ｈ），３．３８（ｄｔ，Ｊ＝５．６，７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．５２（ｓ，２Ｈ），５．２６（ｓ，２Ｈ），６．１０（ｂｒｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２４（ｓ，１Ｈ），７．３８（ｍ，４Ｈ）．
実施例２２（化合物３２）
工程２２−１
ジケテン（０．４６ｍＬ，６．０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（６ｍＬ）に溶解し、ＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解したｎ−ノニルアミン（１．００ｍＬ，５．５２ｍｍｏｌ）を５分かけて加え、室温で２．５時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をジイソプロピルエーテル（１０ｍＬ）でトリチュレーションし、Ｎ−ノニル−３−オキソブチルアミド（９８２ｍｇ，収率７８％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２２８．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），１．１７−１．４３（ｍ，１２Ｈ），１．５２（ｍ，２Ｈ），２．２７（ｓ，３Ｈ），３．２６（ｑ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ），３．４１（ｓ，２Ｈ），６．９２（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程２２−２
４−（メトキシメトキシ）ベンズアルデヒド（７０ｍｇ，０．４２ｍｏｌ）をトルエン（２ｍＬ）に溶解し、Ｎ−ノニル−３−オキソブチルアミド（１９０ｍｇ，０．８３６ｍｍｏｌ）、ピペリジン（０．１６７ｍＬ，１．６９ｍｍｏｌ）および酢酸（０．１４５ｍＬ，２．５３ｍｍｏｌ）を加え、室温で８．５時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）、次いで分取薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、（Ｚ）−２−アセチル−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−Ｎ−ノニルアクリルアミド（１０１ｍｇ，収率６４％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３７６．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．１１−１．３５（ｍ，１２Ｈ），１．５２（ｍ，２Ｈ），２．４０（ｓ，３Ｈ），３．３６（ｍ，２Ｈ），３．４７（ｓ，３Ｈ），５．１９（ｓ，２Ｈ），５．８３（ｂｒｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ），７．０２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）．
工程２２−３
実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、（Ｚ）−２−アセチル−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−Ｎ−ノニルアクリルアミドを、脱メトキシメチル化次いでびスルファモイル化に付し、化合物３２を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋４１１．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．１１−１．３５（ｍ，１２Ｈ），１．４２（ｍ，２Ｈ），２．３４（ｓ，３Ｈ），３．１４（ｄｔ，Ｊ＝５．９，６．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．５２（ｓ，１Ｈ），７．６８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．１０（ｂｒｓ，２Ｈ），８．３４（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例２３（化合物３３）
化合物３２（２１ｍｇ，０．０５２ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（２ｍＬ）に溶解し、ＵＶランプを用いて、２．５時間ＵＶ（２５４ｎｍ）を照射した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣を分取薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、化合物３３（８．６ｍｇ，収率４０％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４０９．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：０．８０（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．１２−１．３３（ｍ，１２Ｈ），１．４７（ｍ，２Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ），３．２１（ｍ，２Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．４２（ｓ，１Ｈ）．
実施例２４（化合物３４）
工程２４−１
メタンスルホニル酢酸メチル（１．００５ｇ，６．６０４ｍｍｏｌ）をトルエン（１５ｍＬ）に溶解し、ｎ−ノニルアミン（２．４２ｍＬ，１３．２ｍｍｏｌ）およびＤＭＡＰ（３９７ｍｇ，３．２５ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、６．５時間攪拌した。反応液を放冷した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をジイソプロピルエーテル（１０ｍＬ）でトリチュレーションし、２−メタンスルホニル−Ｎ−ノニルアセトアミド（７６２ｍｇ，収率４４％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−２６２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１７−１．４７（ｍ，１２Ｈ），１．５４（ｍ，２Ｈ），３．０８（ｓ，３Ｈ），３．３１（ｄｔ，Ｊ＝５．９，７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．８７（ｓ，２Ｈ），６．４５（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程２４−２
実施例７の工程７−２に準じて、４−（メトキシメトキシ）ベンズアルデヒドを２−メタンスルホニル−Ｎ−ノニルアセトアミドと縮合させた後、実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、脱メトキシメチル化とスルファモイル化を行い、化合物３４を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋４４７．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，３Ｈ），１．１０−１．３２（ｍ，１２Ｈ），１．４０（ｍ，２Ｈ），３．１４（ｄｔ，Ｊ＝６．１，６．６Ｈｚ，２Ｈ），３．１８（ｓ，３Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．４８（ｓ，１Ｈ），７．６４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．１４（ｂｒｓ，２Ｈ），８．７５（ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例２５（化合物３５）
工程２５−１
ｎ−ノニルアミン（０．３００ｍＬ，１．６３ｍｍｏｌ）およびピリジン（０．６６０ｍＬ，８．２４ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０ｍＬ）に溶解し、−７８℃でジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解したメチルマロニルクロリド（０．２１０ｍＬ，１．９６ｍｍｏｌ）を加え、０℃まで昇温しながら２時間攪拌した。反応液に水および１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／３）で精製し、Ｎ−ノニルマロンアミド酸メチル（１８８ｍｇ，収率４７％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−２４２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，３Ｈ），１．１６−１．４０（ｍ，１２Ｈ），１．５２（ｍ，２Ｈ），３．２６（ｄｔ，Ｊ＝５．９，７．３Ｈｚ，２Ｈ），３．３１（ｓ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），７．０８（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程２５−２
４−（メトキシメトキシ）ベンズアルデヒド（２６ｍｇ，０．１６ｍｏｌ）をトルエン（１ｍＬ）に溶解し、Ｎ−ノニルマロンアミド酸メチル（１８８ｍｇ，０．７７３ｍｍｏｌ）、ピペリジン（０．０６８ｍＬ，０．６９ｍｍｏｌ）および酢酸（０．０５９ｍＬ，１．０ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で１時間、次いで９０℃で０．５時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／アセトン＝９／１）で精製し、３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−２−（ノニルカルバモイル）アクリル酸メチル（２３ｍｇ，収率３８％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３９２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１０−１．６７（ｍ，１４Ｈ），３．３７（ｄｔ，Ｊ＝５．９，７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．４７（ｓ，３Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ），５．１９（ｓ，２Ｈ），５．７５（ｂｒｔ，１Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．６６（ｓ，１Ｈ）．
工程２５−３
実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−２−（ノニルカルバモイル）アクリル酸メチルを脱メトキシメチル化次いでスルファモイル化に付し、化合物３５を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，３Ｈ），１．１５−１．３５（ｍ，１２Ｈ），１．４１（ｍ，２Ｈ），３．１４（ｄｔ，Ｊ＝５．６，６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．５６（ｓ，１Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），８．１０（ｓ，２Ｈ），８．４２（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例２６（化合物３６）
工程２６−１
４−（メトキシメトキシ）ベンズアルデヒド（５１２ｍｇ，３．０８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１５ｍＬ）に溶解し、ジエチルホスホノ酢酸（７８１ｍｇ，３．９８ｍｍｏｌ）および水素化ナトリウム（３２１ｍｇ，８．０ｍｍｏｌ，６０％油性）を加え、加熱還流下、４時間撹拌した。反応液に氷および１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を酢酸エチルおよびｎ−ヘキサンの混合溶媒でトリチュレーションし、（Ｅ）−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］アクリル酸（５１５ｍｇ，収率８０％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２０９．
工程２６−２
実施例１の工程１−１に準じて、（Ｅ）−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］アクリル酸（２０１ｍｇ，０．９０４ｍｍｏｌ）をＥＤＣＩ（２１１ｍｇ，１．１０ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（１６７ｍｇ，１．０９ｍｍｏｌ）およびｎ−ノニルアミン（０．２００ｍＬ，１．０９ｍｍｏｌ）で処理し、（Ｅ）−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−Ｎ−ノニルアクリルアミド（２９５ｍｇ，収率９４％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３３４．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．１６−１．４１（ｍ，１２Ｈ），１．５６（ｍ，２Ｈ），３．３７（ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．４８（ｓ，３Ｈ），５．１９（ｓ，２Ｈ），５．５５（ｂｒｔ，１Ｈ），６．２６（ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１Ｈ），７．０２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．５８（ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１Ｈ）．
工程２６−３
アルゴン雰囲気下、（Ｅ）−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−Ｎ−ノニルアクリルアミド（１０４ｍｇ，０．３１３ｍｍｏｌ）およびアジ化ナトリウム（３０ｍｇ，０．４７ｍｍｏｌ）を脱気したアセトニトリル（４ｍＬ）に懸濁し、氷冷下、脱気したアセトニトリル（６ｍＬ）に溶解した硝酸二アンモニウムセリウム（ＩＶ）（ＣＡＮ）（４３１ｍｇ，０．７８６ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をＴＨＦ（３ｍＬ）に溶解し、水素化ナトリウム（３８ｍｇ，０．９５ｍｍｏｌ，６０％油性）を加え、室温で１．５時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、（Ｚ）−２−アジド−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−Ｎ−ノニルアクリルアミド（８６ｍｇ，収率７４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．１８−１．４２（ｍ，１２Ｈ），１．５９（ｍ，２Ｈ），３．３７（ｄｔ，Ｊ＝６．０，７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．４８（ｓ，３Ｈ），５．２０（ｓ，２Ｈ），６．２６（ｂｒｔ，１Ｈ），６．７０（ｓ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．５７（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
工程２６−４
実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて、（Ｚ）−２−アジド−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−Ｎ−ノニルアクリルアミドを脱メトキシメチル化次いでスルファモイル化に付し、化合物３６を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４０８．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１０−１．３６（ｍ，１２Ｈ），１．４９（ｍ，２Ｈ），３．１８（ｄｔ，Ｊ＝５．７，６．５Ｈｚ，２Ｈ），６．５１（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．８１（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．０５（ｓ，２Ｈ），８．５７（ｂｒｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例２７（化合物３７および化合物６０）
実施例１の工程１−２に準じて、実施例１８の工程１８−１で得られる３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−ノニル−２−オキソプロピオンアミド（１５０ｍｇ，０．４９１ｍｍｏｌ）を塩化スルファモイル（１１３ｍｇ，０．９７８ｍｍｏｌ）で処理し、化合物３７（１５ｍｇ，収率７％）および化合物６０（１２８ｍｇ，収率６８％）を得た。
化合物３７
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４６２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．０９−１．３８（ｍ，１２Ｈ），１．４７（ｍ，２Ｈ），３．１７（ｍ，２Ｈ），７．１２（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．８３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．９６（ｍ，１Ｈ），８．０７（ｂｒｓ，４Ｈ）．
化合物６０
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３８５．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８６（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．２４（ｍ，１２Ｈ），１．４４（ｍ，２Ｈ），３．１１（ｍ，２Ｈ），４．２０（ｓ，１．７２Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．７１（ｓ，０．０７Ｈ），７．７４（ｓ，０．０７Ｈ），７．９８（ｂｒｓ，２Ｈ），８．４０（ｍ，０．１４Ｈ），８．６２（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，０．８６Ｈ）．
実施例２８（化合物３８）
工程２８−１
実施例１の工程１−１に準じて、（Ｅ）−２−（４−メトキシベンジリデン）スクシン酸（５０３ｍｇ，２．１３ｍｍｏｌ）を１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド（０．４０８ｍＬ，２．１３ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（３２８ｍｇ，２．１４ｍｍｏｌ）およびジメチルアミン塩酸塩（１７４ｍｇ，２．１３ｍｍｏｌ）で処理し、（Ｅ）−３−（４−メトキシフェニル）−２−［（ジメチルカルバモイル）メチル］アクリル酸（１９０ｍｇ，収率３４％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−２６２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．０２（ｓ，３Ｈ），３．０６（ｓ，３Ｈ），３．５４（ｓ，２Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．８９（ｓ，１Ｈ）．
工程２８−２
実施例１の工程１−１に準じて、（Ｅ）−３−（４−メトキシフェニル）−２−［（ジメチルカルバモイル）メチル］アクリル酸をｎ−ノニルアミンと縮合させた後、実施例４の工程４−２および工程４−３に準じて、脱メチル化とスルファモイル化を行い、化合物３８を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４５２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１０−１．６０（ｍ，１４Ｈ），２．８３（ｓ，３Ｈ），２．９９（ｓ，３Ｈ），３．１０（ｍ，２Ｈ），３．４４（ｓ，２Ｈ），７．２６（ｓ，１Ｈ），７．２８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．０２（ｂｒｓ，２Ｈ），８．０９（ｂｒｔ，１Ｈ）．
実施例２９（化合物３９）
実施例２８の工程２８−１および工程２８−２に準じて、（Ｅ）−２−（４−メトキシベンジリデン）スクシン酸をｎ−ノニルアミン、次いでジメチルアミン塩酸塩と縮合させた後、脱メチル化とスルファモイル化を行い、化合物３９を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３８９．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８７（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．１１−１．３７（ｍ，１２Ｈ），１．４８（ｍ，２Ｈ），３．１０（ｂｒｓ，６Ｈ），３．２３（ｄｔ，Ｊ＝６．０，６．９Ｈｚ，２Ｈ），３．３２（ｓ，２Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），６．５９（ｓ，１Ｈ），６．９２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．６３（ｂｒｔ，１Ｈ）．
実施例３０（化合物４０）
工程３０−１
４−（メトキシメトキシ）ベンズアルデヒド（２３９ｍｇ，１．４４ｍｍｏｌ）および２−フルオロ−２−ホスホノ酢酸トリエチル（３４９ｍｇ，１．４４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（５ｍＬ）に溶解し、水素化ナトリウム（５２ｍｇ，２．２ｍｍｏｌ，６０％油性）を加え、室温で４０分間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた有機層を減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］アクリル酸エチル（３１６ｍｇ，収率８６％，Ｅ／Ｚ＝６９／３１）を得た。
ＦＡＦ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２５５．
Ｅ−体の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），３．４７（ｓ，３Ｈ），４．２８（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），５．１９（ｓ，２Ｈ），６．８５（ｄ，Ｊ＝２３．４Ｈｚ，１Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
工程３０−２
実施例１０の工程１０−３〜工程１０−５に準じて、２−フルオロ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］アクリル酸エチル（Ｅ／Ｚ＝６９／３１）を処理し、化合物４０を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３８５．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８４（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），１．１６−１．３３（ｍ，１２Ｈ），１．４７（ｍ，２Ｈ），３．３２（ｄｔ，Ｊ＝５．８，６．９Ｈｚ，２Ｈ），６．８７（ｄ，Ｊ＝３８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），８．０５（ｂｒｓ，２Ｈ），８．５９（ｂｒｔ，１Ｈ）．
実施例３１（化合物４１）
工程３１−１
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチレン）トリフェニルホスホラン（４５３ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解し、−１８℃でＮＣＳ（１７６ｍｇ，１．３２ｍｍｏｌ）を加え、０．５時間攪拌した後、同温度で炭酸カリウム（４１５ｍｇ，３．０１ｍｍｏｌ）および４−（メトキシメトキシ）ベンズアルデヒド（２００ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１５．５時間攪拌した後、不溶物をろ別し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）で精製し、（Ｚ）−２−クロロ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル（２３５ｍｇ，収率６６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．５７（ｓ，９Ｈ），３．４９（ｓ，３Ｈ），５．２１（ｓ，２Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
工程３１−２
（Ｚ）−２−クロロ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル（２１０ｍｇ，０．７０１ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（５ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮した後、クロロホルムでトリチュレーションし、（Ｚ）−２−クロロ−３−（４−ヒドロキシフェニル）アクリル酸（１２１ｍｇ，収率８７％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−１９７．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：６．８５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．８０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ），１０．１７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程３１−３
実施例１の工程１−１および工程１−２に準じて、（Ｚ）−２−クロロ−３−（４−ヒドロキシフェニル）アクリル酸をアミド化次いでスルファモイル化に付し、化合物４１を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋４０３．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８４（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１３−１．４０（ｍ，１２Ｈ），１．４８（ｍ，２Ｈ），３．１８（ｄｔ，Ｊ＝５．７，６．３Ｈｚ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），７．８７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．０９（ｓ，２Ｈ），８．４４（ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例３２（化合物４２）
実施例３１の工程３１−１に準じて、（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチレン）トリフェニルホスホランをＮＢＳで処理し、炭酸カリウムの存在下、４−（メトキシメトキシ）ベンズアルデヒドと反応させた後、得られた（Ｚ）−２−ブロモ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルを実施例３１の工程３１−２および工程３１−３に準じて処理し、化合物４２を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４４５，４４７．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８４（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１３−１．３５（ｍ，１２Ｈ），１．４７（ｍ，２Ｈ），３．１７（ｄｔ，Ｊ＝５．５，６．６Ｈｚ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．９１（ｓ，１Ｈ），８．０９（ｓ，２Ｈ），８．３５（ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例３３（化合物４３）
実施例３１の工程３１−１に準じて、（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチレン）トリフェニルホスホランをＮＩＳで処理し、炭酸カリウムの存在下、４−（メトキシメトキシ）ベンズアルデヒドと反応させた後、得られた（Ｚ）−２−ヨード−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルを実施例３１の工程３１−２および工程３１−３に準じて処理し、化合物４３を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４９３．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），１．１６−１．４７（ｍ，１２Ｈ），１．５９（ｍ，２Ｈ），３．３７（ｄｔ，Ｊ＝５．６，７．３Ｈｚ，２Ｈ），５．１７（ｓ，２Ｈ），６．６７（ｂｒｔ，１Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．６５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），８．２０（ｓ，１Ｈ）．
実施例３４（化合物４４）
実施例３０の工程３０−１および工程３０−２に準じて、４−（メトキシメトキシ）アセトフェノンを処理し、化合物４４を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３９９．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．１４−１．４１（ｍ，１２Ｈ），１．５６（ｍ，２Ｈ），２．５０（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，３Ｈ），３．３５（ｄｔ，Ｊ＝６．６，６．８Ｈｚ，２Ｈ），４．９４（ｓ，２Ｈ），６．３５（ｍ，１Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例３５（化合物４５）
工程３５−１
無水ＴＨＦ（２５ｍＬ）に氷冷下、ｎ−ブチルリチウム（２４．４ｍＬ，３９ｍｍｏｌ，１．６ｍｏｌ／Ｌ  ｎ−ヘキサン溶液）、次いで２−クロロ−２−ホスホノ酢酸トリエチル（８．５５ｍＬ，４０．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１０分間攪拌した後、無水ＴＨＦ（２５ｍＬ）に溶解した４−（メトキシメトキシ）アセトフェノン（７．２１ｇ，４０．０ｍｍｏｌ）を徐々に加えた。加熱還流下、８時間攪拌した後、放冷し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４９／１）で精製し、（Ｚ）−２−クロロ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−２−ブテン酸エチル（０．３９９ｇ，収率４％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２８５．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３８（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），２．３８（ｓ，３Ｈ），３．４９（ｓ，３Ｈ），４．３３（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），５．１９（ｓ，２Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
工程３５−２
実施例１０の工程１０−３〜工程１０−５に準じて、（Ｚ）−２−クロロ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］−２−ブテン酸エチルを処理し、化合物４５を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋４１７．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１５−１．３８（ｍ，１２Ｈ），１．４７（ｍ，２Ｈ），２．１０（ｓ，３Ｈ），３．１５（ｄｔ，Ｊ＝５．２，６．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．０５（ｓ，２Ｈ），８．４９（ｂｒｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例３６（化合物４６）
工程３６−１
実施例３５の工程３５−１に準じて、４−メトキシアセトフェノン（６００ｍｇ，４．００ｍｍｏｌ）をｎ−ブチルリチウム（２．５ｍＬ，４．０ｍｍｏｌ，１．６ｍｏｌ／Ｌ  ｎ−ヘキサン溶液）で処理した２−ホスホノプロピオン酸トリエチル（０．７８ｍＬ，３．７ｍｍｏｌ）で処理し、（Ｅ）−３−（４−メトキシフェニル）−２−メチル−２−ブテン酸エチル（１３２ｍｇ，収率１４％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ］＋２３４．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３４（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），１．７８（ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，３Ｈ），２．２４（ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，３Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），４．２５（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），６．８９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）．
工程３６−２
実施例１０の工程１０−３および工程１０−４に準じて、（Ｅ）−３−（４−メトキシフェニル）−２−メチル−２−ブテン酸エチルを処理した後、得られた（Ｅ）−３−（４−メトキシフェニル）−２−メチル−Ｎ−ノニル−２−ブテンアミドを実施例４の工程４−２および工程４−３に準じて脱メチル化次いでスルファモイル化に付し、化合物４６を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３９７．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．１３−１．４２（ｍ，１２Ｈ），１．４５（ｍ，２Ｈ），１．６５（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，３Ｈ），１．９３（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，３Ｈ），３．１２（ｄｔ，Ｊ＝５．９，６．８Ｈｚ，２Ｈ），７．２６（ｍ，４Ｈ），７．９６（ｂｒｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｂｒｓ，２Ｈ）．
実施例３７（化合物４７）
工程３７−１
実施例７の工程７−１に準じて、４−ヒドロキシベンジルシアニドより得られる４−（メトキシメトキシ）ベンジルシアニド（１．０４ｇ，５．８５ｍｍｏｌ）をメタノール（１５ｍＬ）に溶解し、グリコール酸１水和物（０．８１ｇ，８．８ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム（２．０２ｇ，１４．６ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、５時間攪拌した。反応液を放冷した後、沈殿をろ取し、水（８０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、ｐＨ約３に調整した。生じた沈殿をろ取し、（Ｚ）−３−シアノ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］アクリル酸（０．７８ｇ，収率５７％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−２３２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：３．４５（ｓ，３Ｈ），５．２４（ｓ，２Ｈ），７．００（ｓ，１Ｈ），７．１４（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ）．
工程３７−２
実施例１の工程１−１に準じて、（Ｚ）−３−シアノ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］アクリル酸をアミド化した後、実施例７の工程７−３および工程７−４に準じて脱メトキシメチル化とスルファモイル化を行い、化合物４７を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３９４．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），１．１１−１．３７（ｍ，１２Ｈ），１．４６（ｍ，２Ｈ），３．１８（ｑ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），７．２６（ｓ，１Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），８．１４（ｂｒｓ，２Ｈ），８．４９（ｂｒｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例３８（化合物４８）
工程３８−１
４−ヒドロキシベンゾイル酢酸メチル（３．００ｇ，１５．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（６０ｍＬ）に溶解し、イミダゾール（２．１０ｇ，３０．９ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（２．７９ｇ，１８．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１）で精製し、４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ベンゾイル酢酸メチル（４．８１ｇ，収率１００％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．２４（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，２Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．８６（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）．
工程３８−２
４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ベンゾイル酢酸メチル（４．８１ｇ，１５．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（６０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（２．０８ｇ，１８．５ｍｍｏｌ）、次いでヨウ化メチル（１．４４ｍＬ，２３．２ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温まで昇温しながら５時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１）で精製し、３−［４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）フェニル］−２−メチル−３−オキソプロピオン酸メチル（４．０２ｇ，収率８０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．２４（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），１．４８（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ），３．６９（ｓ，３Ｈ），４．３６（ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．９０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）．
工程３８−３
３−［４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）フェニル］−２−メチル−３−オキソプロピオン酸メチル（４．０２ｇ，１２．３ｍｍｏｌ）をトルエン（２５ｍＬ）に溶解し、トリメチルシリルニトリル（８．１８ｍＬ，６１．４ｍｍｏｌ）、次いでヨウ化亜鉛（ＩＩ）（１．９６ｇ，６．１４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１８．５時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をピリジン（３０ｍＬ）に溶解し、オキシ塩化リン（５．７２ｍＬ，６１．４ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で４時間攪拌した。反応液を放冷した後、氷および１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１）で精製し、（Ｅ）−３−［４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）フェニル］−３−シアノ−２−メチルアクリル酸メチル（０．１２９ｇ，収率３％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃ（ＣＨ３）３］−２１６．１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．２３（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），３．９２（ｓ，３Ｈ），６．８９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．２７（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
工程３８−４
（Ｅ）−３−［４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）フェニル］−３−シアノ−２−メチルアクリル酸メチル（５９ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍＬ）および水（０．５ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、水酸化リチウム（４３ｍｇ，１．８ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で１．５時間攪拌した。更に、水酸化リチウム（４３ｍｇ，１．８ｍｍｏｌ）を加え、同温度で４．５時間攪拌した後、メタノールを減圧下留去した。得られた残渣に氷水および１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、約ｐＨ２に調整した後、ＨＰ２０（三菱化学）レジンカラムに吸着させた。水で洗浄した後、メタノールで溶出した。得られた溶出液を減圧下濃縮し、粗精製の３−シアノ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルアクリル酸（３６ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：２．２４（ｓ，３Ｈ），６．９２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．６３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
工程３８−５
実施例１の工程１−１および工程１−２に準じて、粗精製の３−シアノ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルアクリル酸をアミド化次いでスルファモイル化に付し、化合物４８を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４０６．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：０．８９（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．０５（ｍ，２Ｈ），１．１６−１．３８（ｍ，１２Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ），３．０５（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例３９（化合物４９）
実施例２３に準じて、化合物４８をＵＶ（２５４ｎｍ）で照射処理し、化合物４９（１．８ｍｇ，収率６％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４０６．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：０．８０（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），１．２０−１．４０（ｍ，１２Ｈ），１．５５（ｍ，２Ｈ），１．９７（ｓ，３Ｈ），３．２０（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例４０（化合物５０）
工程４０−１
塩化パラジウム（４１ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）および塩化銅（ＩＩ）（１．６１３ｇ，１２．００ｍｍｏｌ）をベンゼン（４０ｍＬ）に懸濁し、一酸化炭素気流下、ｔｅｒｔ−ブタノール（２．４ｍＬ）に溶解した１−エチニル−４−メトキシベンゼン（５２８ｍｇ，４．００ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。不溶物をろ別した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１５／１）で精製し、（Ｚ）−３−クロロ−３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル（７６ｍｇ，収率７％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２６９．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．５３（ｓ，９Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），６．３９（ｓ，１Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．６３（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ）．
工程４０−２
実施例３１の工程３１−２に準じて、（Ｚ）−３−クロロ−３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル（７２ｍｇ，０．２７ｍｍｏｌ）をトリフルオロ酢酸（２ｍＬ）で処理し、（Ｚ）−３−クロロ−３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸（５８ｍｇ，収率１００％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２１３．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．８６（ｓ，３Ｈ），６．５３（ｓ，１Ｈ），６．９３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．６９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
工程４０−３
実施例４の工程４−２および工程４−３に準じて、（Ｚ）−３−クロロ−３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸を脱メチル化次いでスルファモイル化に付し、化合物５０を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．１１−１．３６（ｍ，１２Ｈ），１．４２（ｍ，２Ｈ），３．１２（ｍ，２Ｈ），６．９６（ｓ，１Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．６９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），８．０９（ｂｒｓ，２Ｈ），８．１５（ｍ，１Ｈ）．
実施例４１（化合物５１および化合物５９）
工程４１−１
実施例２４の工程２４−１に準じて、４−ヒドロキシベンゾイル酢酸メチル（３００ｍｇ，１．５４ｍｍｏｌ）をＮ−メチルオクチルアミン（０．８４ｍＬ，４．６ｍｍｏｌ）およびＤＭＡＰ（９４ｍｇ，０．７７ｍｍｏｌ）で処理し、３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−メチル−Ｎ−オクチル−３−オキソプロピオンアミド（３２０ｍｇ，収率６８％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：３０６［Ｍ＋Ｈ］＋．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｍ，３Ｈ），１．２４（ｍ，１０Ｈ），１．４６（ｍ，２Ｈ），２．８０（ｓ，１．５Ｈ），２．９２（ｓ，１．５Ｈ），３．２７（ｍ，２Ｈ），４．０４（ｍ，２Ｈ），６．８４（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．８２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），１０．３８（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程４１−２
実施例１の工程１−２に準じて、３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−メチル−Ｎ−オクチル−３−オキソプロピオンアミド（３１ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を塩化スルファモイル（２３ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）で処理し、化合物５１（９ｍｇ，収率１９％）および化合物５９（２１ｍｇ，収率５３％）を得た。
化合物５１（異性体比１／２）
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：４６４［Ｍ＋Ｈ］＋．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｍ，３Ｈ），１．２１（ｍ，１０Ｈ），１．４０（ｍ，２Ｈ），２．８２（ｓ，１Ｈ），３．０６（ｓ，２Ｈ），３．１８（ｍ，１．３４Ｈ），３．３７（ｍ，０．６６Ｈ），６．７９（ｓ，０．６７Ｈ），６．８５（ｓ，０．３３Ｈ），７．０１（ｂｒｓ，２Ｈ），７．４３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），８．１０（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１．３４Ｈ），８．１９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，０．６６Ｈ），８．２６（ｂｒｓ，２Ｈ）．
化合物５９
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：３８５［Ｍ＋Ｈ］＋．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８６（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），１．２４（ｍ，１０Ｈ），１．４８（ｍ，２Ｈ），２．８１（ｓ，１．５Ｈ），２．９５（ｓ，１．５Ｈ），３．２７（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），４．１７（ｂｒｓ，２Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ），８．２１（ｂｒｓ，２Ｈ）．
実施例４２（化合物５２）
工程４２−１
実施例６の工程６−１に準じて、４−メトキシケイ皮酸（１．００ｇ，５．６２ｍｍｏｌ）を１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド（１．３０ｍＬ，６．７９ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（１．０４ｇ，６．７７ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（０．６６ｇ，６．７ｍｍｏｌ）で処理し、（Ｅ）−Ｎ−メトキシ−３−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−メチルアクリルアミド（１．２２ｇ，収率９９％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２２２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．３０（ｓ，３Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），６．９１（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．６９（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ）．
工程４２−２
（Ｅ）−Ｎ−メトキシ−３−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−メチルアクリルアミド（２１０ｍｇ，０．９４９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２ｍＬ）に溶解し、水冷下、ｎ−オクチルマグネシウムブロミド（１．５ｍＬ，１ｍｏｌ／Ｌ  ＴＨＦ溶液）を加え、１．５時間攪拌した。更に、５０℃で４０分間攪拌した後、ｎ−オクチルマグネシウムブロミド（１．５ｍＬ，１ｍｏｌ／Ｌ  ＴＨＦ溶液）を加え、室温で４０分間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、１−（４−メトキシフェニル）−ウンデセ−１−エン−３−オン（９５ｍｇ，収率３７％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２７５．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），１．１０−１．３８（ｍ，１０Ｈ），１．６７（ｍ，２Ｈ），２．６３（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），６．６３（ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ，１Ｈ），６．９１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ，１Ｈ）．
工程４２−３
実施例４の工程４−２および工程４−３に準じて、１−（４−メトキシフェニル）−ウンデセ−１−エン−３−オンを脱メチル化次いでスルファモイル化に付し、化合物５２を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３３８．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．１８−１．４１（ｍ，１０Ｈ），１．６７（ｍ，２Ｈ），２．６５（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），５．０４（ｓ，２Ｈ），６．７０（ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ，１Ｈ），７．５９（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）．
実施例４３（化合物５３）
工程４３−１
（Ｅ）−３−（４−メトキシフェニル）−２−［（ノニルカルバモイル）メチル］アクリル酸（７０ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（２ｍＬ）およびメタノール（１ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、トリメチルシリルジアゾメタン（０．１５ｍＬ，０．３０ｍｍｏｌ，２．０ｍｏｌ／Ｌ  ｎ−ヘキサン溶液）を加え、室温で１５分間攪拌した。更に、反応液にトリメチルシリルジアゾメタン（０．１０ｍＬ，０．２０ｍｍｏｌ，２．０ｍｏｌ／Ｌ  ｎ−ヘキサン溶液）を加え、同温度で１５分間攪拌した後、減圧下濃縮し、（Ｅ）−３−（４−メトキシフェニル）−２−［（ノニルカルバモイル）メチル］アクリル酸メチル（７６ｍｇ，収率１００％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋３７６．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１５−１．４０（ｍ，１２Ｈ），１．４８（ｍ，２Ｈ），３．２４（ｄｔ，Ｊ＝６．３，６．９Ｈｚ，２Ｈ），３．４４（ｓ，２Ｈ），３．８３（ｓ，３Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），６．３５（ｂｒｔ，１Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．７８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．８６（ｓ，１Ｈ）．
工程４３−２
実施例４の工程４−２および工程４−３に準じて、（Ｅ）−３−（４−メトキシフェニル）−２−［（ノニルカルバモイル）メチル］アクリル酸メチルを脱メチル化次いでスルファモイル化に付し、化合物５３を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋４４１．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），１．１２−１．３４（ｍ，１２Ｈ），１．３９（ｍ，２Ｈ），３．０５（ｄｔ，Ｊ＝５．６，６．７Ｈｚ，２Ｈ），３．３０（ｓ，２Ｈ），３．７１（ｓ，３Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．５８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），７．９４（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｂｒｓ，２Ｈ）．
実施例４４（化合物５４）
工程４４−１
ＴＨＦ（７ｍＬ）に懸濁した水素化ナトリウム（１６６ｍｇ，４．１ｍｍｏｌ，６０％油性）に、３５℃でＴＨＦ（１２ｍＬ）に溶解した４−（メトキシメトキシ）ベンズアルデヒド（５７４ｍｇ，３．４６ｍｍｏｌ）およびイソシアノ酢酸エチル（０．３７８ｍＬ，３．４６ｍｍｏｌ）を徐々に加え、５分間攪拌した。反応液を氷冷した後、１０％酢酸水溶液（４．０ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム）で精製し、２−ホルミルアミノ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］アクリル酸エチル（６５４ｍｇ，収率６８％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２８０．
工程４４−２
実施例１０の工程１０−３〜工程１０−５に準じて、２−ホルミルアミノ−３−［４−（メトキシメトキシ）フェニル］アクリル酸エチルを処理し、化合物５４を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４１０．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），１．１３−１．４２（ｍ，１２Ｈ），１．５６（ｍ，２Ｈ），３．３２（ｍ，２Ｈ），５．５０（ｍ，０．５Ｈ），５．７７（ｍ，０．５Ｈ），６．４３（ｍ，０．５Ｈ），６．６０（ｍ，０．５Ｈ），６．９２（ｂｒｓ，１Ｈ），７．０３（ｂｒｓ，１Ｈ），７．１０−７．５１（ｍ，５Ｈ），８．０４（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例４５（化合物５５）
工程４５−１
（Ｅ）−２−シアノ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−ノニル−２−ブテンアミド（５０ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１ｍＬ）に溶解し、塩化スルフリル（０．０１８ｍＬ，０．２２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間攪拌した。更に、塩化スルフリル（０．０１８ｍＬ，０．２２ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝４０／１）で精製し、（Ｅ）−３−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−２−シアノ−Ｎ−ノニル−２−ブテンアミド（４０ｍｇ，収率７２％）を得た。
ＡＰＩＣ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−３６１．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１５−１．４５（ｍ，１２Ｈ），１．５８（ｍ，２Ｈ），２．６２（ｓ，３Ｈ），３．３５（ｄｔ，Ｊ＝６．３，６．９Ｈｚ，２Ｈ），６．３４（ｂｒｓ，２Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ）．
工程４５−２
実施例１の工程１−２に準じて、（Ｅ）−３−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−２−シアノ−Ｎ−ノニル−２−ブテンアミド（３８ｍｇ，１０ｍｍｏｌ）を塩化スルファモイル（９３ｍｇ，０．８０ｍｍｏｌ）で処理し、化合物５５（２４ｍｇ，収率５３％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋４４２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１５−１．４５（ｍ，１２Ｈ），１．５８（ｍ，２Ｈ），２．６１（ｍ，３Ｈ），３．３５（ｄｔ，Ｊ＝６．４，６．９Ｈｚ，２Ｈ），５．４２（ｂｒｓ，２Ｈ），６．３２（ｍ，１Ｈ），７．３５（ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５１（ｄｄ，Ｊ＝２．０，２．２Ｈｚ，１Ｈ），７．５５（ｄｄ，Ｊ＝２．０，８．５Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例４６（化合物５６）
工程４６−１
（Ｅ）−２−シアノ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−ノニル−２−ブテンアミド（５４ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）をクロロホルム（２ｍＬ）に溶解し、氷冷下、テトラブチルアンモニウムトリブロミド（８６ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間攪拌した。反応液に飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝２０／１）で精製し、（Ｅ）−３−（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−２−シアノ−Ｎ−ノニル−２−ブテンアミド（１６ｍｇ，収率２４％）を得た。
ＡＰＩＣ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−４０５，４０７．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．１０−１．４０（ｍ，１２Ｈ），１．５８（ｍ，２Ｈ），２．６２（ｓ，３Ｈ），３．３５（ｄｔ，Ｊ＝５．９，６．７Ｈｚ，２Ｈ），５．９８（ｂｒｓ，１Ｈ），６．２９（ｂｒｔ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３５（ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５８（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ）．
工程４６−２
実施例１の工程１−２に準じて、（Ｅ）−３−（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−２−シアノ−Ｎ−ノニル−２−ブテンアミド（１４ｍｇ，０．０３４ｍｍｏｌ）を塩化スルファモイル（８０ｍｇ，０．６９ｍｍｏｌ）で処理し、化合物５６（１０ｍｇ，収率６２％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋４８６，４８８．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），１．１１−１．４５（ｍ，１２Ｈ），１．５８（ｍ，２Ｈ），２．６３（ｓ，３Ｈ），３．３５（ｑ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ），５．３６（ｂｒｓ，２Ｈ），６．３０（ｂｒｔ，１Ｈ），７．４０（ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例４７（化合物５７）
工程４７−１
トリフェニルホスフィンオキシド（４３０ｍｇ，１．５５ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン（３ｍＬ）に溶解し、無水トリフルオロメタンスルホン酸（０．２６０ｍＬ，１．５５ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロエタン溶液（３ｍＬ）を加え、０℃で１５分間攪拌した。次いで４−ヒドロキシベンゾイル酢酸メチル（２００ｍｇ，１．０３ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロエタン溶液（２．５ｍＬ）およびトリエチルアミン（０．４３１ｍＬ，３．０９ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３時間攪拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝２０／１、次いでｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し、（４−ヒドロキシフェニル）プロピン酸メチル（４５ｍｇ，収率２５％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：１７７［Ｍ＋Ｈ］＋．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３＋ＣＤ３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：３．８２（ｓ，３Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）．
工程４７−２
（４−ヒドロキシフェニル）プロピン酸メチル（４４ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）をメタノール（２．２ｍＬ）に溶解し、３ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．２４ｍＬ，０．７２ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた有機層を減圧下濃縮し、（４−ヒドロキシフェニル）プロピン酸（３８ｍｇ，収率９３％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：１６１［Ｍ−Ｈ］−．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３＋ＣＤ３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：５．００（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８１（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
工程４７−３
実施例１の工程１−１および工程１−２に準じて、（４−ヒドロキシフェニル）プロピン酸をアミド化次いでスルファモイル化に付し、化合物５７を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：３６７［Ｍ＋Ｈ］＋．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．２４（ｍ，１２Ｈ），１．４２（ｍ，２Ｈ），３．１０（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．６５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．１４（ｓ，２Ｈ），８．７５（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例４８（化合物５８）
実施例４１の工程４１−１および工程４１−２に準じて、４−ヒドロキシベンゾイル酢酸メチルをアミド化次いでスルファモイル化に付し、化合物５８を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：３８５［Ｍ＋Ｈ］＋．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：０．８７（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，３Ｈ），１．２５（ｍ，１２Ｈ），１．４０（ｍ，２Ｈ），３．０５（ｍ，１．４Ｈ），３．１６（ｍ，０．６Ｈ），３．８７（ｍ，０．７Ｈ），５．７４（ｓ，０．３Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，０．６Ｈ），７．４１（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１．４Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，０．６Ｈ），８．０６（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１．４Ｈ），８．１１（ｍ，１Ｈ），８．１８（ｂｒｓ，２Ｈ）．
以下に、実施例で用いられる化合物の合成法を記載する。
参考例１［２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアミン］
工程１−１
（２−ブトキシエトキシ）酢酸（１．０２ｇ，５．７８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解し、塩化オキザリル（２．５２ｍＬ，２８．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣を１，４−ジオキサン（１０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、０．５ｍｏｌ／Ｌアンモニア−１，４−ジオキサン溶液（６０ｍＬ）に加え、室温で１９時間撹拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去し、２−（２−ブトキシエトキシ）アセトアミド（０．９４ｇ，収率９２％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋１７６．
工程１−２
２−（２−ブトキシエトキシ）アセトアミド（９２２ｍｇ，５．２６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、水素化リチウムアルミニウム（４２０ｍｇ，１１．１ｍｍｏｌ）を懸濁したＴＨＦ（２０ｍＬ）に加え、同温度で１時間撹拌した。更に、室温で６時間撹拌した後、硫酸ナトリウム１０水和物（８．９０ｇ，２７．６ｍｍｏｌ）を加え、撹拌した。不溶物をろ別し、減圧下溶媒を留去し、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアミン（７７９ｍｇ，収率９２％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋１６２．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．９３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），１．２０−１．７２（ｍ，４Ｈ），２．８７（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），３．４０−３．７８（ｍ，８Ｈ）．
参考例２［２−シアノ−Ｎ−デシルアセトアミド］
実施例１の工程１−１に準じて、シアノ酢酸（５０５ｍｇ，５．９３ｍｍｏｌ）をＥＤＣＩ（１．７１ｇ，８．９０ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（１．３６ｇ，８．９０ｍｍｏｌ）およびｎ−デシルアミン（１．７８ｍＬ，８．９１ｍｍｏｌ）で処理し、２−シアノ−Ｎ−デシルアセトアミド（７７４ｍｇ，収率５８％）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ−Ｈ］−２２３．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１５−１．３８（ｍ，１４Ｈ），１．５４（ｍ，２Ｈ），３．３０（ｄｔ，Ｊ＝５．８，７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．３６（ｓ，２Ｈ），６．０６（ｂｒｔ，１Ｈ）．
参考例３［２−シアノ−Ｎ−ノニルアセトアミド］
実施例１の工程１−１に準じて、シアノ酢酸（１０．００ｇ，１１７．６ｍｍｏｌ）をＥＤＣＩ（３３．８１ｇ，１７６．４ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（２７．０１ｇ，１７６．４ｍｍｏｌ）およびｎ−ノニルアミン（２５．５ｍＬ，１４１ｍｍｏｌ）で処理し、２−シアノ−Ｎ−ノニルアセトアミド（１３．６９ｇ，収率５５％）を得た。
ＦＡＢ−ＭＳ  ｍ／ｚ：［Ｍ＋Ｈ］＋２１１．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ），１．０８−１．４２（ｍ，１２Ｈ），１．５４（ｍ，２Ｈ），３．３０（ｍ，２Ｈ），３．３６（ｓ，２Ｈ），６．０９（ｂｒｓ，１Ｈ）．
製剤例１（錠剤）
常法により、次の組成からなる錠剤を調製する。
化合物１                    ５ｍｇ
ラクトース                ６０ｍｇ
馬鈴薯澱粉                ３０ｍｇ
ポリビニルアルコール        ２ｍｇ
ステアリン酸マグネシウム    １ｍｇ
タール色素                  微量
製剤例２（顆粒剤）
常法により、次の組成からなる顆粒剤を調製する。
化合物２                    ５ｍｇ
ラクトース              ２８０ｍｇ
産業上の利用可能性
本発明により、ステロイドスルファターゼ阻害作用を有し、ステロイドホルモン依存性疾病の治療または予防に有用なアリールスルファマート誘導体またはその薬理的に許容される塩が提供される。
【国際調査報告】
2003020690.tif 000026
2003020690.tif 000027
2003020690.tif 000028
2003020690.tif 000029