(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバ内に設けられて紫外線を発生させるランプを含む光源、前記光源の下部に設けられ接着剤により前面に保護用テープが付けられたウェーハを支持する真空チャック、前記真空チャックを移動させるウェーハ移送手段、及び前記光源から発生された紫外線を前記真空チャックに集中させるために前記光源を取り囲む反射鏡を含む紫外線照射装置であって、
前記真空チャックの両側にウェーハを所定温度に加熱するヒーティングブロックを有し、
前記ヒーティングブロックは多量の熱を放出させるために上面が凸凹状である放熱板と、
前記放熱板の下面及び前記真空チャックの反対側の側壁に前記放熱板から放出される熱を遮断させるために取り付けられた断熱板と、
前記断熱板が取り付けられた前記放熱板の側壁に形成された少なくとも一つ以上の穴と、
前記穴に嵌入され温度調節可能なヒータとを含むことを特徴とする紫外線照射装置。
【請求項２】
前記ヒーティングブロックは着脱自在に形成されることを特徴とする請求項１に記載の紫外線照射装置。
【請求項３】
前記ヒーティングブロックは、２つに分割されており、分割された間を前記真空チャックが移動可能となっていることを特徴とする請求項１または２記載の紫外線照射装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体製造工程に用いられる紫外線照射装置に係り、さらにウェーハをバックグラインディングした後、その前面に接着された保護用テープを取り除くに用いられる紫外線照射装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体装置はウェーハ上に多様な工程を通じて製造される。このような多様な工程により製造された半導体装置は電気的な特性を測定して良品を分類した後、該良品に対してパッケージを施すべきである。この際、前記パッケージ工程を施すためには少なくとも一つ以上の半導体装置が形成された前記ウェーハを薄く形成しなければならない。
【０００３】
このように、ウェーハを薄く形成するための手段としては半導体製造工程が完了されたウェーハをバックグラインディングする方法が広く用いられいる。該バックグラインディング工程は、１）半導体装置を保護するためにウェーハの前面に保護用テープを接着させる段階と、２）前記保護用テープが接着されたウェーハをバックグラインディングして薄く形成する段階と、３）前記バックグラインディングされたウェーハの前面に接着された保護用テープを取り除く段階とより行われる。
【０００４】
ここで、前記保護用テープを取り除くためには紫外線照射装置を広く用いる。これは、保護用テープの一面にコーティングされて前記保護用テープとウェーハを互いに接着させる接着剤が紫外線に露出されると化学的に反応して接着力を失うからである。従って、前記保護用テープの付けられたウェーハを紫外線照射装置に投入して前記保護用テープの上部に紫外線を照射する。この際、紫外線は接着剤の接着力を失わせるので前記保護用テープがウェーハから取り除ける。かかる接着剤の化学反応に影響を与える因子としては接着剤に加わる温度及び紫外線照射量の分布度が挙げられる。
【０００５】
前記従来の紫外線照射装置はチャンバ内に固定されて紫外線を発生させる紫外線ランプ、前記紫外線ランプの下に設けられてウェーハを移動させるウェーハ移送手段及び前記ウェーハ移送手段に紫外線が集まるように前記紫外線ランプを取り囲む反射鏡より構成されている。ここで、前記ウェーハ移送手段は真空チャック又はローラによる方式を広く用いる。
【０００６】
一般に、真空チャックによる方式はウェーハが置かれた真空チャックを回転させながら水平移動させたり、または水平移動のみさせることによってウェーハを移送させる。この際、真空チャックを回転させる場合、その上部のウェーハはウェーハの中央部分を中心に回る。従って、ウェーハの縁部に比べてウェーハの中央部分に相対的に多量の紫外線が集中的に照射される。ローラによる方式は複数のローラ上にウェーハを載せ前記複数のローラを回してウェーハを水平移動させる。この際、複数のローラがいずれも均一の速度で回転しないか、又はそれぞれのローラが均一にウェーハに力を伝えられない場合、ウェーハの円滑な移動を妨げる。従って、後続ウェーハの進行を妨げて望む紫外線照射工程を不可能にする。そして、前記紫外線ランプは一反的に紫外線の他に赤外線及び可視光線を共に発生させるのでウェーハに赤外線も照射される。これは、ウェーハの温度を上げて以後紫外線の照射が完了された後ウェーハが常温に急冷される現象を引き起こす。したがって、接着剤が接着力を完全に失わなくなる。
【０００７】
さらに、前記従来の紫外線照射装置は紫外線ランプがチャンバ内に固定されているので紫外線ランプとウェーハとの距離を任意に調節し得ない。従って、ウェーハ上に照射される紫外線の量が適切に調節できないので接着剤の化学反応を極大化し難い。そして、ウェーハの周囲の温度は紫外線ランプから発生される熱だけによって決定されるので接着剤の接着力を失う最適の温度を任意に提供し難い。
【０００８】
さらに、前記従来の紫外線照射装置はローラによりウェーハを伝える場合ウェーハがうまく水平移動されない。従って、紫外線照射が完了されたウェーハをキャリアにローディングする時ウェーハとキャリアとの激しい衝突によるウェーハの損傷または割れの恐れがある。
【０００９】
前記したように従来の紫外線照射装置によれば、紫外線の照射時ウェーハの上部全体に紫外線が均一に照射されなく、ウェーハに照射される紫外線の量及びウェーハの温度を任意に調節し難い。さらに、紫外線ランプから熱を発生させる赤外線が照射されるので紫外線の照射時ウェーハの温度が上がり、紫外線照射済みのウェーハは常温に急冷されてウェーハの表面の接着剤が接着力を全て失わなくなる。従って、ウェーハの表面の保護用テープを容易に取り除き難い。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的はバックグラインディングされたウェーハの前面に接着された保護用テープを容易に取り除く紫外線照射装置を提供するにある。
【００１１】
本発明の他の目的はバックグラインディングされたウェーハの前面に接着された保護用テープを容易に取り除き保護用テープが取り除かれたウェーハをキャリアに正確に安着させる紫外線照射装置を提供するにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するための請求項１記載の本発明は、チャンバ内に設けられて紫外線を発生させるランプを含む光源、前記光源の下部に設けられ接着剤により前面に保護用テープが付けられたウェーハを支持する真空チャック、前記真空チャックを移動させるウェーハ移送手段、及び前記光源から発生された紫外線を前記真空チャックに集中させるために前記光源を取り囲む反射鏡を含む紫外線照射装置であって、前記真空チャックの両側にウェーハを所定温度に加熱するヒーティングブロックを有し、前記ヒーティングブロックは多量の熱を放出させるために上面が凸凹状である放熱板と、前記放熱板の下面及び前記真空チャックの反対側の側壁に前記放熱板から放出される熱を遮断させるために取り付けられた断熱板と、前記断熱板が取り付けられた前記放熱板の側壁に形成された少なくとも一つ以上の穴と、前記穴に嵌入され温度調節可能なヒータとを含むことを特徴とする紫外線照射装置である。
【００１４】
さらに、本発明は、前記ヒーティングブロックは着脱自在に形成されることが好ましい。また、本発明は、前記ヒーティングブロックは、２つに分割されており、分割された間を前記真空チャックが移動可能となっていることを特徴とする。
【００３６】
【実施例】
以下、添付した図面に基づき本発明を詳細に説明する。
【００３７】
実施例１
図１乃至図３は本発明の実施例１による紫外線照射装置を説明するための図面である。
【００３８】
図１は本発明の実施例１による紫外線照射装置の正面図であり、参照番号１は紫外線を発生させる紫外線ランプ、３は前記紫外線ランプ１の下に設けられ、接着剤により前面に保護用テープが付けられたウェーハ、５は前記ウェーハ３を支持する真空チャック、７は前記紫外線ランプ１を取り囲みながら紫外線ランプから発生される紫外線を前記ウェーハ３に接続させるための反射鏡、９ａ及び９ｂはそれぞれ前記真空チャック５の左右に設けられ上面が凸凹状に形成されて多量の熱を放出する放熱板、１１ａ及び１１ｂはそれぞれ前記二枚の放熱板９ａ，９ｂに取り付けられて熱を遮断する断熱板を示す。ここで、前記断熱板１１ａ，１１ｂは前記放熱板９ａ，９ｂの下面と前記真空チャック５の反対側壁に取り付けられて前記放熱板９ａ，９ｂから放出された熱の殆どを上部のウェーハに伝える。
【００３９】
次いで、参照番号１３ａ及び１３ｂは熱を発生させるヒータ、１５ａ及び１５ｂはそれぞれ前記ヒータ１３ａ，１３ｂが装着できるように前記放熱板９ａ，９ｂの側壁に形成された穴、１７は前記紫外線ランプ１の周囲に投入される窒素などを排出させるための排出口を示す。さらに矢印Ａは前記窒素が前記排出口１７を通じて外部に抜け出る経路を示した。ここで、前記ヒータ１３ａ，１３ｂは温度調節可能である。
【００４０】
このように構成された本発明による紫外線照射装置において、前記放熱板９ａ，９ｂ、前記断熱板１１ａ，１１ｂ、前記ヒータ１３ａ，１３ｂ及び前記放熱板の側壁に形成された穴１５ａ，１５ｂは本発明によるヒーティングブロックを形成し着脱可能である。
【００４１】
図２は図１に示した本発明による紫外線照射装置の側面図である。ここで、前記図１の参照番号と同一な番号は同一部分を示し、これに対する説明は省く。
【００４２】
図２によれば、参照番号５ａは前記真空チャック５の移動状態を示した図面である。即ち、前記ウェーハ３を紫外線に露出させるために外部から前記紫外線ランプ１の下に移動させたり紫外線照射が完了されたウェーハを外部に移動させるために前記ウェーハの置かれた真空チャックを移動させなければならない。このように前記真空チャック５を移動させるために前記図１のように二つのヒーティングブロックを一定間隔に分離させて設けることによって、その空間を通じて前記真空チャックを水平移動させる。
【００４３】
図３は本発明によるヒーティングブロックを示した斜視図である。ここで、前記図１の参照番号と同一な番号は同一部分を示し、これに対する説明は省く。図３に示したように、二つのヒーティングブロックは互いに一定間隔ほど離れている。このような一定間隔は前記した真空チャックが移動し得る空間を提供する。また、それぞれのヒーティングブロックの上面は凸凹状なので多量の熱を上部に発生させ得る。
【００４４】
前記したように、本発明の実施例１による紫外線照射装置は真空チャックの両側に温度調節可能なヒーティングブロックを設けて紫外線照射済のウェーハが冷却されないように一定温度に保たせる。従って、ウェーハの全面に付けられた保護用テープの接着剤が最適条件で化学反応するので保護用テープが容易に取り除ける。
【００４５】
参考例１
図４乃至図８は本発明の参考例１による紫外線照射装置を説明するための図面である。ここに示される各図面において、同一参照番号及び同一参照符号は同一部分を意味し、繰り返される説明は省く。
【００４６】
図４は本発明の参考例１による紫外線照射装置の正面図であり、参照番号１１１はチャンバ、１０１は前記チャンバ１１１内に設けられた光源、１０３は前記光源１０１の下に設けられた真空チャック、１０５は前記真空チャック１０３により支持され前面に接着剤により保護用テープが付けられたウェーハ、１０７は前記光源１０１から発生される光を前記真空チャック１０３、即ちウェーハ１０５上に集中させるために光源１０１を取り囲む反射鏡、１０９は前記チャンバ１１１内から発生される熱と前記チャンバ１１１内に流入される空気及び窒素などを前記チャンバ１１１の外部に排出させるための排出口、そして１１３は前記光源１０１を支持する光源セット支持台を示す。さらに、円内部の参照符号Ｃは前記チャンバ１１１と前記光源セット支持台１１３との間に設けられて前記光源セット支持台１１３を上下に移動させる第１手段、円内部の参照符号Ｂは前記光源セット支持台１１３と前記光源１０１との間に設けられて前記光源１０１を上下に微細に移動させる第２手段を示す。
【００４７】
図５は前記図４に示された本発明の参考例１による紫外線照射装置の側面図である。
【００４８】
図５を参照すれば、前記反射鏡１０７は示されたように前記光源１０１の両側に斜めに設けられて前記光源１０１から発生される光をその下のウェーハ１０５に集中させる。そして、矢印Ｄは前記ウェーハ１０５が真空吸着されて支持されるように製作された前記真空チャック１０３の移動方向を示す。
【００４９】
図６は前記図４のＣ、即ち第１手段を拡大した図面である。
【００５０】
図６を参照すれば、参照番号１１１は前記図４及び図５に示されたチャンバ１１１の一部、１１５は前記チャンバ１１１に設けられた第１ナット、１１９は前記第１ナット１１５に螺合されて回転可能な第１リードスクリュー、１１３は前記第１リードイクリュー１１９の下部に連結された前記図４の光源セット支持台１１３の一部分及び１１７は前記光源セット支持台１１３を前記第１リードスクリュー１１９の下部に固定させる光源セット固定ブロックを示す。ここで、円の内部に示した第１手段は前記光源セット支持台１１３の上昇状態を示し、前記円の右側に示した第１手段は前記光源セット支持台１１３の下降状態を示す。このように、前記光源セット支持台１１３を上下に移動させる作業は前記第１リードスクリュー１１９を矢印Ｅのように回転させることによって可能となる。
【００５１】
図７は前記図４のＢ、即ち第２手段を拡大した図面である。
【００５２】
図７によれば、参照符号１０１は図４の光源、１１３は前記図６の光源セット支持台１１３が延長されて垂直方向に曲がった部分、１２３は前記光源セット支持台１１３と連結され第２ナットが具備された固定ブロック、１２１は前記固定ブロック１２３を支持する固定ブロックアーム、１２７は前記固定ブロック１２３の第２ナットに螺合されて回転させる第２リードスクリュー、１３１は前記第２リードスクリュー１２７の下部に連結された光源ソケット支持ブロック、１２５は一端が前記固定ブロック１２３に固定され他端は前記光源ソケット支持ブロック１２３に形成されたホームに嵌入されて、前記第２リードスクリュー１２７を回転させるとき前記光源ソケット支持ブロック１３１もともに回転されることを防止する固定ピン、そして１２９は前記光源ソケット支持ブロック１３１に固定されて前記光源１０１を差し込める光源ソケットを示す。
【００５３】
図８は前記図７に示された第２手段を右側面、即ち参照符号Ｆの矢印方向にみた側面図である。
【００５４】
図８を参照すれば、参照番号１３５は前記光源ソケット支持ブロック１３１に前記光源１０１を差し込める前記光源ソケット１２９を固定させる光源ソケット固定ブロック、１３３は前記光源ソケット固定ブロック１３５を前記光源ソケット支持ブロック１３１に固着させるためのボルト、そして１３７は前記第２リードスクリュー１２７が前記光源ソケット支持部ブロック１３１から外れることを防止するワッシャを示す。ここで、前記光源１０１を上下に微細に移動させるためには前記第２リードスリュー１２７を矢印Ｇのように回転させて調節する。
【００５５】
前記した本発明の参考例１によれば、図４の参照符号Ｃ及びＢで示した第１手段及び第２手段をそれぞれチャンバと光源セット支持台との間及び光源セット支持台と光源との間に設けることにより、光源の高さを調節し得る。したがって、ウェーハに照らす紫外線の量が適切に調節できるのでウェーハと保護用テープを付ける接着剤の化学反応を極大化し得る。結果的に、保護用テープが容易に取り除ける。
【００５６】
参考例２
図９乃至図１１は本発明の参考例２による紫外線照射装置を説明するための図面である。ここに示される各図面において、同一な参照番号及び同一な参照符号は同一部分を意味し、繰り返される説明は省く。
【００５７】
図９は本発明の参考例２による紫外線照射装置の側面図であり、参照番号２１１はチャンバ、２０１は前記チャンバ２１１内に設けられて紫外線と共に赤外線及び可視光線も発生させる光源、２０５は前記光源２０１の下に位置しその前面、即ち上面に接着剤により保護用テープが付けられたウェーハ、２０３は前記ウェーハ２０５を支持する真空チャック、２０７は前記ウェーハ２０５に紫外線のみ照射されるように前記光源２０１の両側と上部を取り囲む紫外線反射鏡、そして２１３は前記光源２０１から発生された多種の光のうち前記紫外線反射鏡２０７を透過する可視光線及び紫外線を示す。ここで、前記紫外線反射鏡２０７は耐熱ガラスの一側表面、即ち前記光源２０１側の表面に複数の第１特殊物質層をコーティングして制作する。このような第１特殊物質層は二酸化チタン（ＴｉＯ２）層と二酸化シリコン（ＳｉＯ２）層とを交互に積層させて形成することが好ましい。
【００５８】
次いで、参照番号２１５は前記光源２０１と前記ウェーハ２０５との間に設けられて紫外線のみ透過させ赤外線及び可視光線は反射させる紫外線透過フィルタ、２１７は前記光源２０１から入射される光のうち前記紫外線透過フィルタ２１５により反射される赤外線及び可視光線、２１９は前記紫外線透過フィルタ２１５を通過して前記ウェーハ２０５に至る赤外線、２２１は前記チャンバ２１１内に空気が流入されように前記チャンバ２１１と一定間隔を保つ上に外部からの光を遮断させる吸入口パネル、そして２０９は前記チャンバ２１１の上部に設けられて前記チャンバ２１１内に吸い込まれた空気を外部に排出させる排出口を示す。ここで、前記紫外線透過フィルタ２１５は石英基板の一面、即ち前記光源側の表面に複数の第２特殊物質層をコーティングして制作する。該第２特殊物質は二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）層と二酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）層とを交互に積層させて形成することが好ましい。
【００５９】
さらに、前述の参考例１による第１手段Ｂ及び第２手段Ａを、図９に示したように、それぞれ参照符号Ｉ及びＨで示した部分にさらに具備して、前記光源２０１と前記ウェーハ２０５との距離を適切に調節することによって、前記ウェーハ２０５の前面に保護用テープを付ける接着剤の接着力が完全に失われるように接着剤の化学反応を極大化させ得る。
【００６０】
図１０は前記ウェーハ２０５を詳細に示した断面図であり、参照符号２２３は半導体装置が形成されたシリコン基板、２２７は前記シリコン基板１４１の背面をバックグラインディングする際前面に形成された半導体装置を保護するために付ける保護用テープ、そして２２５は前記シリコン基板２２３と前記保護用テープ２２７とを互い接着させる接着剤を示す。
【００６１】
図１１は前記図９の主要構成要素を示した斜視図であり、前記光源２０１から発生される紫外線が前記紫外線反射鏡２０７及び前記紫外線透過フィルタ２１５により前記ウェーハ２０５に効率的に照射されるように構成されている。
【００６２】
前記した本発明の参考例２によれば、接着剤により保護用テープが前面に付けられたウェーハ上に熱を発生させる赤外線が照射されることを防止し得る。従って、紫外線照射済みのウェーハの温度と常温との差が縮まるので、保護用テープを取り除き易い。
【００６３】
参考例３
図１２乃至図２０は本発明の参考例３による紫外線照射装置の一つのウェーハ移送手段を説明するための図面である。ここに示される各図面において、同一の参照符号は同一部分を意味し、繰り返される説明は省く。
【００６４】
図１２は本発明によるウェーハ移送手段の側断面図とその一部分の平面図である。
【００６５】
図１２を参照すれば、参照番号３０１は真空チャック、３０３は前記真空チャック３０１上に真空吸着されて支持されたウェーハ、３０５は前記真空チャック３０１の中心軸と連結され前記真空チャック３０１を参照符号Ｌの矢印方向のように上下に移動させるシリンダ部、３０７は前記シリンダ部３０５の底に固着されシリンダ部３０５の一側に突出されたシリンダ固定ブロック、３０９は前記シリンダ部３０５の一側に突出された前記シリンダ固定ブロック３０７と結着されたピニオンギヤ、３１１は前記ピニオンギヤ３０９と噛み合う一字形ラックギヤ、３１３は前記ラックギヤ３１１を固定させるラック固定ブロックを示す。ここで、前記ピニオンギヤ３０９は底の中央部分に円形の溝が形成されている。そして、前記シリンダ部３０５は前記したようにウェーハ３０３が置かれた真空チャック３０１を上下に移動させることにより、ウェーハ３０３をカセット（図示せず）から紫外線照射装置にローディングさせたり紫外線照射装置からカセットにアンローディングさせる。
【００６６】
さらに、参照番号３０１ａ及び３０３ａはそれぞれ前記真空チャック３０１及び前記ウェーハ３０３が前記シリンダ部３０５により上昇した状態を示し、３０１ｂ，３０９ａ，３１１ａ及び３１３ａはそれぞれ前記真空チャック３０１、前記ピニラオンギヤ３０９、前記ラックギヤ３１１及び前記ラック固定ブロック３１３を上から見た平面図である。ここで、前記ラックギヤ３１１ａは前記ラック固定ブロックにより固定され、前記ピニオンギヤ３０９ａは前記ラックギヤ３１１と噛み合って回転すると同時に参照符号Ｋの矢印方向に直進できる。この際、前記ピニオンギヤ３０９の中心軸は前記真空チャック３０１ｂの中心軸、即ち前記ウェーハ３０３の中心と一致しないように制作する。したがって、前記ピニオンギヤ３０９が参照符号Ｍの矢印のように回転するとき前記ウェーハ３０３はその中心が円運動すると同時にＫ方向に直進することができる。
【００６７】
次いで、参照番号３１５は前記ピニオンギヤ３０９の底の円形の溝にその上部が嵌入されて前記ピニオンギヤ３０９を支持しながらその中央部分の回りに溝が形成され下部には同一方向に貫通する複数の溝が形成されたピニオンギヤ支持台、３１７は前記ピニオンギヤ３０９が前記ピニオンギヤ支持台３１５から外れないように前記ピニオンギヤ３０９の底に固着され前記ピニオンギヤ支持台３１５の中央部分の回りに形成された溝に嵌入された平ワッシャ、３１９は前記ピニオンギヤ支持台３１５の下部に同一方向に貫通する複数の溝にそれぞれ嵌入されて前記ピニオンギヤ支持台３１５が水平方向に動くようにレールの役割をするシャフト、３２１は前記シャフト３１９の両端に連結されて前記シャフト３１９を固定させるシャフト固定ブロックを示す。
【００６８】
図１３は前記図１２のシリンダ部３０５と前記シリンダ固定ブロック３０７の側面図及び平面図である。参照番号３０５ａはシリンダ部３０５を上から見たものであり円形で示され、３０７ａは前記シリンダ部３０５の底に固着されたシリンダ固定ブロック３０７の平面図を示す。図１３に示されたように前記シリンダ固定ブロック３０７ａは前記シリンダ部３０５ａの一側に突出した形態を有する。
【００６９】
図１４は前記図１２の参照符号Ｊで示した部分を拡大した図面と平ワッシャ３１７に対する平面図である。ここで、参照番号３１７は前記平ワッシャ３１７の平面図である。図１４に示されたように平ワッシャ３１７はリング状に制作される。従って、前記ピニオンギヤ支持台３１５の中央部分の回りの溝に嵌入され前記ピニオンギヤ３０９の底に固定されて、前記ピニオンギヤ３０９が回転できる上に前記ピニオンギヤ支持台３１５から抜けることを防止し得る。
【００７０】
図１５は図１２のピニオンギヤ支持台３１５を詳しく説明するための平面図及び側面図である。参照番号３１５ａは前記ピニオンギヤ支持台３１５の上部であり、前記ピニオンギヤ３０９の底の溝に嵌入される部分を示し、３１５ｂは前記ピニオンギヤ支持台３１５の下部であり、前記シャフト３１９が貫通する部分を含む。
【００７１】
こごで、前記ピニオンギヤ支持台３１５の上部３１５ａと下部３１５ｂとの間に形成された溝は前記ピニオン平ワッシャ３１７が嵌入される部分である。さらに、参照番号３１５ｃ及び３１５ｄは前記ピニオンギヤ支持台３１５を上から見たものであり、それぞれピニオンギヤ支持台３１５の上部３１５ａ及び下部３１５ｂに対する平面図である。
【００７２】
図１６は本発明の参考例３による一つのウェーハ移送手段を有する紫外線照射装置の一部特徴要素に対する平面図であり、参照番号３０１ｂは真空チャック３０１の平面図、３０３ｂは前記真空チャック３０１ｂ上に支持されたウェーハ３０３の平面図、３０９ａは前記真空チャック３０１ｂの中心軸から一定距離離れた部分に中心軸を有するピニオンギヤ３０９の平面図、３１１ａは前記ピニオンギヤ３０９ａと噛み合う一字形のラックギヤ３１１の平面図、３１９ａは前記ピニオンギヤ３０９ａが参照符号Ｋの矢印方向に直進できるようにレールの役割をするシャフト３１９の平面図、そして３２１ａは前記シャフト３１９ａの両端に連結されてシャフト３１９ａを固定させるシャフト固定ブロックを示す。
【００７３】
ここで、前記ピニオンギヤ３０９ａがＫの矢印方向に移動される時前記ピニオンギヤ３０９ａは回動する。従って、前記ピニオンギヤ３０９ａの中心軸に連結された前記真空チャック３０１ｂ上のウェーハ３０３ｂは参照符号Ｍの矢印と同一方向に回転すると同時にＫ方向に直進する。この際、前記ウェーハ３０３ｂの中心は円運動しながらＫ方向に直進する。
【００７４】
図１７Ａ及びＢは本発明の参考例３による一つのウェーハ移送手段を有する紫外線照射装置の主要要素を示したものである。参照番号３０３は図１２乃至図１６で説明したウェーハ移送手段の真空チャック３０１上に置かれたウェーハ、３３１は前記ウェーハ３０３の上部に設けられた光源、３３５は前記光源３３１と前記ウェーハ３０３との間に設けられて前記光源３３１から発生される多種の光のうち紫外線のみを通過させ赤外線及び可視光線は反射させる紫外線透過フィルタを示す。
【００７５】
ここで、前記紫外線透過フィルタ３３５は石英基板の一側表面に複数の特殊物質層をコーティングして形成する。このような特殊物質層は二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）層と二酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）層とを交互に積層させて形成することが好ましい。したがって、前記紫外線透過フィルタ３３５を設けることによって、ウェーハに赤外線が照射されるのを防止し得る。結果的に、ウェーハに紫外線照射時ウェーハが常温に近い温度を保つように紫外線照射済みのウェーハが大気中に露出されるときウェーハの温度が急変することを防止し得る。これは、紫外線照射済みのウェーハの接着剤が接着力を完全に失った状態を続けて保ち得るので保護用テープが容易に取り除ける。
【００７６】
さらに、参照番号３３３は前記光源３３１から発生される光を前記ウェーハ３０３に集中させるために、前記光源３３１を取り囲む一般的な反射鏡を示す。ここで、前記反射鏡３３３の代わりに本発明の参考例２で説明した紫外線反射鏡２０７を用いる場合ウェーハ３０３に紫外線が照射される効率を極大化させ得る。従って、保護用テープをさらに容易に取り除ける。
【００７７】
図１８及び図１９は従来の技術による紫外線照射装置を用いた場合ウェーハに照射される紫外線の分布図であり、図２０は本発明の参考例３による一つのウェーハ移送手段を有する紫外線照射装置を用いた場合にウェーハに照射される紫外線の分布図である。
【００７８】
図１８はウェーハがウェーハの中心を軸に回転する場合にウェーハに照射される紫外線の分布図である。そして、図１９はウェーハに紫外線照射時ウェーハがローラによるウェーハ移送手段により水平移動のみする場合にウェーハに照射される紫外線の分布図である。示されたように、図１８はウェーハの中心部に紫外線が集中的に照射された結果を示し、図１９は紫外線がウェーハ表面の全体に不揃いに照射された結果を示す。
【００７９】
次に、図２０は本発明の参考例３による一つのウェーハ移送手段を有する紫外線照射装置でウェーハに紫外線を照射する場合紫外線の分布図である。図２０のＲ＞０に示されたように、紫外線がウェーハの全表面に均一に照射されることが判る。
【００８０】
図２１乃至図２３は本発明の参考例３によるもう一つのウェーハ転送手段を有する紫外線照射装置を説明するための図面である。ここに示される各図面において、同一の参照番号及び同一の参照符号は同一部分を意味し、繰り返される説明は省く。
【００８１】
図２１は本発明によるウェーハ移送手段の正面図とその一部分の平面図である。
【００８２】
図２１を参照すれば、参照番号４０１は真空チャック、４０３は前記真空チャック４０１上に真空により支持されたウェーハ、４０５は前記真空チャック４０１の中心軸と連結され前記真空チャック４０１を参照符号Ｎの矢印方向のように上下に移動させるシリンダ部、４０７は前記シリンダ部４０５の底に固着されシリンダ部４０５の一側に突出されたシリンダ固定ブロック、４０９は前記シリンダ部４０５の一側に突出された前記シリンダ固定ブロック４０７と結着され前記シリンダ部４０５を円運動させる動力源、そして４１１は前記動力源４０９の上部に接触されて動力源４０９を固定させる動力源固定ブロックを示す。ここで、前記動力源４０９はモータであることが好ましい。
【００８３】
さらに参照番号４１３は前記動力源固定ブロック４１１を貫通する複数のシャフトを示す。したがって、前記動力源固定ブロック４１１は前記複数のシャフト４１３に沿って直進運動できる。
【００８４】
このように構成された前記ウェーハ移送手段は動力源４０９、即ちモータを駆動させると同時に前記動力源固定ブロック４１１を直進運動させることにより、参照符号Ｏの矢印のように前記真空チャック４０１を円運動させると同時に直進運動させ得る。この際、ウェーハ４０３の中心部分も円形に水平移動されるので前記ウェーハ４０３に紫外線照射時中心部分に紫外線が集中される現象を防止し得る。そして、前記シリンダ部４０５は前記したようにウェーハ４０３が置かれた真空チャック４０１を上下に移動させることによって、ウェーハ４０３をカセット（図示せず）から紫外線照射装置にローディングさせたり紫外線照射装置からカセットにアンローディングさせ得る。
【００８５】
図２２は前記図２１のウェーハ移送手段を上から見た平面図である。参照番号４１９は前記複数のシャフト４１３を固定させるために両端に取り付けられたシャフト固定ブロックを示す。ここで、参照符号Ｐの矢印は前記ウェーハ４０３の旋回方向を示し、その中心が円形に回転するものを示す。さらに参照符号Ｑの矢印は前記ウェーハ４０３が水平方向に直進運動する方向を示し、前記固定された複数のシャフト４１３に沿って前記動力源固定ブロック４１１の移動方向を示す。
【００８６】
図２３は本発明によるウェーハ移送手段を具備する紫外線照射装置を概略的に示した斜視図である。
【００８７】
図２３を参照すれば、参照番号４２１はチャンバ（図示せず）内に設けられた光源、４２３は前記光源４２１から発生される光をその下のウェーハ４０３に集中させるために前記光源４２１を取り囲む反射鏡、４２５は前記光源４２１と前記ウェーハ４０３との間に設けられて前記光源４２１から発生される多種の光中紫外線のみを透過させ赤外線及び可視光線は反射させる紫外線透過フィルタを示す。
【００８８】
ここで、前記紫外線透過フィルタ４２５はその下にウェーハ４０３に赤外線が照射されることを防止する。したがって、ウェーハ４０３に紫外線照射時接着剤の温度の上昇が抑えられることによって接着剤が紫外線により化学反応した後急冷される現象が避けられる。結果的に、紫外線照射が完了された後保護用テープをうまく取り除かせる。
【００８９】
かかる紫外線透過フィルタ４２５は石英基板の一側表面に複数の特殊物質層をコーティングして形成する。この際、特殊物質層は二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）層と二酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）層とを交互に積層して形成することが好ましい。
【００９０】
さらに、参照番号４２３は前記光源４２１から発生される光を前記ウェーハ４０３に集中させるために前記光源４２１を取り囲む一般的な反射鏡を示す。ここで、前記反射鏡４２３の代わりに本発明の参考例２に説明されたように紫外線反射鏡２０７を用いる場合ウェーハ４０３に紫外線が照射される効率を極大化させ得る。従って、保護用テープをより容易に取り除ける。
【００９１】
前記したように本発明の参考例３によれば、紫外線をウェーハの全表面に均一に照射させ得るのでウェーハの全表面に分布された接着剤の化学反応を極大化させ得る。さらに、紫外線反射鏡及び紫外線透過フィルタをいずれも取り付けるか、紫外線反射鏡又は紫外線透過フィルタ中いずれか一つを取り付けることによって、ウェーハに紫外線のみを照射させ得る。従って、保護用テープが円滑に取り除ける照射装置が具現できる。
【００９２】
参考例４
図２４乃至図２６は参考例４による紫外線照射装置のウェーハ移送手段を説明するための図面である。ここに示される該図面において、同一参照符号及び同一参照符号は同一部分を意味し、繰り返される説明は省く。
【００９３】
図２４は本発明によるウェーハ移送手段の平面図であり、参照番号１００は前面に保護用テープが付けられた状態で紫外線照射済みのウェーハ９９ａを一定時間待機させる緩衝部、２００は前記緩衝部１００から参照符号Ｒの矢印方向に移送されたウェーハ９９ｂを停止させ真空により固定させた後、前記保護用テープを取り除くウェーハ固定部、そして３００は前記ウェーハ固定部２００から参照符号Ｓの矢印方向に移送されたウェーハ９９ｃを所定位置に整列させるウェーハ整列部を示す。
【００９４】
さらに、参照番号５０１は前記ウェーハ９９ａ，９９ｂ，９９ｃが置かれるテーブル、５０３は前記テーブル５０１の両側面に形成された穴、５０５は前記穴５０３に装着されてテーブルに熱を加えるヒータを示す。従って、前記テーブル５０１の温度は前記ヒータ５０５により調節できるので、紫外線が照射する間に常温より一層高温となったウェーハを前記テーブル５０１上で移動させる時ウェーハの温度が急に下がることを防止し得る。
【００９５】
次いで、参照番号５０７は前記緩衝部１００のウェーハ９９ａが前記テーブル５０１と接触する面積を縮めるために前記テーブルの表面に突出されたウェーハ支持パネル、５０９ａ又は５０９ｂは前記ウェーハ固定部２００に移送されるウェーハ９９ｂを一定位置に停止させるために前記テーブル５０１の一定部分を貫通する溝を通じて前記テーブル５０１の表面の上部に突出してウェーハ９９ｂを停止させるバー状のストッパー、そして５１１は前記ストッパー５０９ａ又は５０９ｂにより停止されたウェーハ９９ｂを前記テーブル５０１の表面に固定させるために真空ポンプ（図示せず）と連結されるように前記テーブル５０１の表面に形成された溝を示す。
【００９６】
ここで、前記ストッパー５０９ａ又は前記ストッパー５０９ｂは示されたようにそれぞれ直径が異なるウェーハを一定位置に停止させ得る。即ち、大きい直径のウェーハに対してはストッパー５０９ａを選択し小さい直径のウェーハに対してはストッパー５０９ｂを選択して動作させる。
【００９７】
次に、前記ウェーハ整列部３００に対して詳細に説明すれば、参照番号５１３は前記ウェーハ固定部２００からウェーハ９９ｂが転送される方向に垂直方向、即ち、参照符号Ｓの矢印方向と垂直方向に前記テーブル５０１を貫通しながら固定された複数のシャフト、そして５１５は前記テーブル５０１の両側に突出した前記シャフト５１３にそれぞれ挿入されて前記シャフト５１３に沿ってスライディングする一対のウェーハホルダを示す。
【００９８】
ここで、前記一対のウェーハホルダ５１５は前記ウェーハ固定部２００からウェーハが移送する間に前記テーブル５０１から遠く離れて互いの間隔を延ばす。そして、ウェーハ移送が完了された後に前記一対のウェーハホルダ５１５は前記テーブル５０１の方に移動してウェーハを取り囲みながら所定の位置に整列させる。
【００９９】
図２５は前記図２４のＴＴ′線によるウェーハ固定部２００の断面図と前記断面図の一部を拡大した図面である。
【０１００】
図２５を参照すれば、参照番号５２１は前記ウェーハ固定部２００の表面に形成された溝５１１と連結されながら前記テーブル５０１の背面に設けられた真空配管、５２３は前記テーブル５０１上でウェーハを移送させるための手段（図示せず）が移動し得る空間、そして５２５は前記溝５１１と前記真空配管５２１を互いに連結させるために前記テーブル５０１を貫く真空通路を示す。
【０１０１】
図２６は図２４のウェーハ整列部３００に対する平面図及びと側面図である。
【０１０２】
図２６を参照すれば、参照番号５１５ａは前記図２４で説明した一対のウェーハホルダ５１５が互い近づいて前記ウェーハ９９ｃが所定の位置に置かれるように整列させた状態を示し、５１５ｂは前記ウェーハ９９ｃが移送される時前記ウェーハ９９ｃが移動し得るように互いに遠く離れた状態のウェーハホルダを示す。
【０１０３】
さらに、参照番号５１７ａは一端が前記ウェーハホルダ５１５ａの底に連結されて前記ウェーハホルダ５１５ａが前記シャフト５１３に沿ってスライディングし得るように力を伝えるエンドロードを示し、５１７ｂは前記ウェーハ９９ｃが移動し得るように互いに遠く離れた前記ウェーハホルダ５１５ｂと連結された状態のエンドロードを示す。ここで、参照符号Ｕの矢印はウェーハホルダ５１５の移動方向を示す。
【０１０４】
ついで、参照番号５３１は前記一対のエンドロード５１７ａの他端と連結されたアーム及び前記アームを参照符号Ｖの矢印のように回転させる中心軸より構成されるウェーハホルダ駆動手段を示し、５３３は前記ウェーハホルダ５１５ａ又は５１５ｂが前記シャフト５１３に沿って移動する時発生する摩擦力を減らすためのスライドブッシュを示す。
【０１０５】
前記したように、本発明の参考例４によるウェーハ移送手段を含む紫外線照射装置は緩衝部及びウェーハ固定部のテーブルにヒータを内蔵させて紫外線照射が完了されたウェーハを加熱し得る。従って、紫外線照射が行われる間に温度が上がったウェーハを徐冷させ得る。結果的に、ウェーハの前面に付けられた保護用テープをウェーハから容易に分離させ得る条件を提供する。さらに、保護用テープが取り除かれたウェーハを所定の位置に整列させるウェーハ整列部を具備して、ウェーハをキャリアに正確にローディングさせ得る。従って、ウェーハがキャリアに移動される時ウェーハとキャリアとが衝突する問題を解決してウェーハの損傷を防止し得る。
【０１０６】
なお、本発明は以上説明した実施例に限定されず、多様な変形が本発明の技術的思想内で当分野で通常の知識を持つものにより可能なことは明白である。
【０１０７】
【発明の効果】
以上説明した本発明によれば、ウェーハ移送手段にヒーティングブロックを装着させたりウェーハと光源との距離を調節し得る手段を具備して、ウェーハの温度及びウェーハに照射される紫外線の照射量を適切に調節し得る。従って、ウェーハ上の接着剤が接着力を失う最適条件を提供し得る。
【０１０８】
さらに本発明は、光源とウェーハとの間に紫外線透過フィルタを設けて光源から発生する多種の光のうち紫外線のみをウェーハに照射させることによって、赤外線などによるウェーハの温度上昇を排除させ得る。従って、紫外線照射済みのウェーハが常温に冷却される現象を防止し得るのでウェーハ上の保護用テープを取り除き易い。
【０１０９】
さらに本発明は、ウェーハに紫外線を照射する時ウェーハの中心から一定距離離れた部分を中心にウェーハが回転しながら水平方向に進ませるウェーハ移送手段を具備してウェーハの全面に紫外線を均一に照射させ得る。従って、ウェーハ全面にコーティングされた接着剤を均一に化学反応させて保護用テープが局部的に取り除かれない問題を防止し得る。
【０１１０】
さらに本発明は、ウェーハ移送手段に温度調節可能なヒータと紫外線照射済みのウェーハを一定位置に整列させるウェーハ整列部を具備して、保護用テープを円滑に取り除くと共にウェーハをキャリアに移動させる時のウェーハとキャリアとの衝突を防止し得る。よって、ウェーハが損傷されない。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施例１による紫外線照射装置の正面図である。
【図２】  本発明の実施例１による紫外線照射装置の側面図である。
【図３】  図１中のヒーティングブロックの斜視図である。
【図４】  本発明の参考例１による紫外線照射装置の正面図である。
【図５】  本発明の参考例１による紫外線照射装置の側面図である。
【図６】  図４中の符号Ｃで示した円内の拡大した図面である。
【図７】  図４中の符号Ｂで示した円内の拡大した図面である。
【図８】  図７に示した部分の側面図である。
【図９】  本発明の参考例２による紫外線照射装置の側面図である。
【図１０】  図９に示したウェーハを拡大した図面である。
【図１１】  図９に示した主要構成要素を示した斜視図である。
【図１２】  本発明の参考例３による一つのウェーハ移送手段の一部抜粋平面図及び側断面図である。
【図１３】  図１２に示したシリンダ部及びシリンダ固定ブロックの平面図及び断面図である。
【図１４】  図１２中の符号Ｊで示した円内の拡大図及び平ワッシャの平面図である。
【図１５】  図１２に示したピニオンギヤ支持台の平面図及び側面図である。
【図１６】  図１２に示したウェーハ移送手段の平面図である。
【図１７】  （Ａ）は本発明の参考例３による紫外線照射装置の光源、反射鏡及び紫外線透過フィルタを概略的に示した斜視図であり、（Ｂ）は本発明の参考例３による紫外線照射装置の一部分であるウェーハ移送手段を示した側断面図である。
【図１８】  従来の技術による紫外線照射装置を用いた場合ウェーハに照射される紫外線の分布図である。
【図１９】  従来の技術による紫外線照射装置を用いた場合ウェーハに照射される紫外線の分布図である。
【図２０】  本発明の参考例３による一つのウェーハ移送手段を有する紫外線照射装置を用いた場合にウェーハに照射される紫外線の分布図である。
【図２１】  本発明の参考例３によるもう一つのウーハ移送手段を示した正面図である。
【図２２】  図２１に示したウーハ移送手段の平面図である。
【図２３】  本発明の参考例３によるもう一つのウェーハ移送手段を有する紫外線照射装置の斜視図である。
【図２４】  本発明の参考例４によるウェーハ移送手段の平面図である。
【図２５】  図２４のＴＴ’線に沿った断面図とその一部を拡大した図面である。
【図２６】  図２４に示したウェーハ整列部の平面図及び側面図である。
【符号の説明】
１…紫外線ランプ、
１０１，２０１，３３１，４２１…光源、
３，１０５，２０５，３０３，４０３，９９ａ，９９ｂ，９９ｃ…ウェーハ、
５，１０３，２０３，３０１，４０１…真空チャック、
７，１０７，３３３，４２３…反射鏡、
２０７…紫外線反射鏡、
９ａ，９ｂ…放熱板、
１１ａ，１１ｂ…断熱板、
１３ａ，１３ｂ，５０５…ヒータ、
１１１，２１１…チャンバ、
１１３…光源セット支持台、
２１５，３３５，４２５…紫外線透過フィルタ、
３０５，４０３…シリンダ部、
３０７，４０７…シリンダ固定ブロック、
３０９…ピニオンギヤ、
３１１…ラックギヤ、
３１３…ラック固定ブロック、
３１５…ピニオンギヤ支持台、
１００…緩衝部、
２００…ウェーハ固定部、
３００…ウェーハ整列部、
５０１…テーブル。
【図１】
0003859259.tif 000002
【図２】
0003859259.tif 000003
【図３】
0003859259.tif 000004
【図４】
0003859259.tif 000005
【図５】
0003859259.tif 000006
【図６】
0003859259.tif 000007
【図７】
0003859259.tif 000008
【図８】
0003859259.tif 000009
【図９】
0003859259.tif 000010
【図１０】
0003859259.tif 000011
【図１１】
0003859259.tif 000012
【図１２】
0003859259.tif 000013
【図１３】
0003859259.tif 000014
【図１４】
0003859259.tif 000015
【図１５】
0003859259.tif 000016
【図１６】
0003859259.tif 000017
【図１７】
0003859259.tif 000018
【図１８】
0003859259.tif 000019
【図１９】
0003859259.tif 000020
【図２０】
0003859259.tif 000021
【図２１】
0003859259.tif 000022
【図２２】
0003859259.tif 000023
【図２３】
0003859259.tif 000024
【図２４】
0003859259.tif 000025
【図２５】
0003859259.tif 000026
【図２６】
0003859259.tif 000027