(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）（メタ）アクリル酸と脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物の構造単位を必須成分として含む共重合体及び（ｂ）キノンジアジド基含有化合物を含有することを特徴とする層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物を基板上に塗布、乾燥した後、マスクパターンを介して選択的に露光し、現像して画像パターンを形成し、次いで加熱して該画像パターンを架橋硬化することを特徴とするパターンの形成方法。
【請求項３】
基板がガラス板に偏光板及び／又は偏光フィルム、さらに透明導電回路層及び／又は薄膜トランジスタを形成したガラス基板であることを特徴とする請求項２記載のパターンの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示素子の層間絶縁膜を形成するための層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法に関する。
【０００２】
従来、液晶表示素子、集積回路素子、固体撮像素子などの電子部品の劣化や損傷を防止するための保護膜や、層状に配置される配線の間を絶縁するために設ける層間絶縁膜の形成に感光性樹脂組成物が用いられてきた。中でも液晶表示素子の場合、例えばＴＦＴ型液晶表示素子にあってはガラス基板上に偏光板を設け、ＩＴＯ等の透明導電回路層及び薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を形成し、層間絶縁膜で被覆して背面板とする一方、ガラス板上に偏光板を設け、必要に応じてブラックマトリックス層及びカラーフィルター層のパターンを形成し、さらに透明導電回路層、層間絶縁膜を順次形成して上面板とし、この背面板と上面板とをスペーサを介して対向させて両板間に液晶を封入して製造されるが、そこで使用される感光性樹脂組成物としては透明性、耐熱性、現像性、平坦性に優れたものであることが要求される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記感光性樹脂組成物として、例えば特開平１０−１５３８５４号公報にはアルカリ可溶性アクリル系高分子バインダー、キノンジアジド基含有化合物、架橋剤及び光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物が、また、特開平６−４３６４３号公報には（Ａ）（ａ）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、（ｂ）エポキシ基を有するラジカル重合性化合物および（ｃ）他のラジカル重合性化合物の共重合体であるアルカリ水溶液に可溶な樹脂、（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物および（Ｃ）光重合開始剤、を含有する耐熱性感放射性樹脂組成物などが、それぞれ提案されている。しかし、それらのいずれも透明性、耐熱性、現像性、平坦性が十分でなく高品質の液晶表示素子を製造するためには満足できるものではなかった。
【０００４】
そこで、本発明者等は、上記問題点を解決すべく鋭意研究を続けた結果、電子部品の層間絶縁膜を形成する感光性樹脂組成物として、（メタ）アクリル酸と脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物の構成単位を必須成分として含む共重合体及びキノンジアジド基含有化合物を含有する樹脂組成物を用いることで、透明性、耐熱性、平坦性に優れた層間絶縁膜が形成できることを見出して、本発明を完成したものである。すなわち、
【０００５】
本発明は、透明性、耐熱性、現像性、平坦性に優れ液晶表示素子の層間絶縁膜の形成に優れた感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【０００７】
さらに、本発明は、上記感光性樹脂組成物を用いたパターンの形成方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成する本発明は、（ａ）（メタ）アクリル酸と脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物の構造単位を必須成分として含む共重合体及び（ｂ）キノンジアジド基含有化合物を含有することを特徴とする層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法に係る。
【０００９】
以下に、本発明を詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、上述のとおり（メタ）アクリル酸と脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物からなる構造単位を必須成分とし含めばよく、他のラジカル重合性化合物からなる構造単位を含有してもよい。
【００１０】
上記（メタ）アクリル酸の共重合割合は、全成分の２０〜９５モル％、好ましくは３０〜９０モル％の範囲がよい。（メタ）アクリル酸が前記範囲を逸脱すると、アルカリ可溶性が不十分になったり、大きくなり過ぎたりして、良好なパターンを形成できない。
【００１１】
また、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物としては、次式化（１）〜化（３１）で表わされる化合物が挙げられる。
【００１２】
【化１】
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【００１３】
【化２】
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【００１４】
【化３】
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【００１５】
【化４】
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【００１６】
【化５】
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【００１７】
【化６】
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【００１８】
【化７】
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【００１９】
【化８】
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【００２０】
【化９】
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【００２１】
【化１０】
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【００２２】
【化１１】
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【００２３】
【化１２】
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【００２４】
【化１３】
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【００２５】
【化１４】
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【００２６】
【化１５】
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【００２７】
【化１６】
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【００２８】
【化１７】
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【００２９】
【化１８】
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【００３０】
【化１９】
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【００３１】
【化２０】
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【００３２】
【化２１】
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【００３３】
【化２２】
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【００３４】
【化２３】
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【００３５】
【化２４】
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【００３６】
【化２５】
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【００３７】
【化２６】
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【００３８】
【化２７】
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【００３９】
【化２８】
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【００４０】
【化２９】
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【００４１】
【化３０】
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【００４２】
【化３１】
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（式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2は炭素数１〜８の２価の炭化水素基を示し、Ｒ3は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を示し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なってもよく、ｗは０〜１０の数を示す）
【００４３】
脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物の共重合割合は、全成分の５〜９０モル、好ましくは１０〜８０モル％の範囲がよい。脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物の共重合割合が前記範囲を逸脱すると、耐熱性の低下や、耐溶解性の低下が生じて好ましくない。
【００４４】
他のラジカル重合性化合物としては、具体的にメチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレーと、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレートなどのヒドロキシ（メタ）アクリル酸アルキルエステル；シクロヘキスルアクリレート、シクロヘキスルメタクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、イソボニルアクリレート、イソボニルメタクリレート、トリシクロ［５，２，１．０２．６］デカニルアクリレート、トリシクロ［５，２，１．０２．６］デカニルメタクリレートなどの（メタ）アクリル酸環状アルキルエステル；スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニルなどのビニル系化合物を挙ることができ、これらの単独又は２種以上を組合せて使用できる。これらの他のラジカル重合性化合物の共重合割合は、全成分の０〜８０モル％、好ましくは０〜７０モル％の範囲がよい。
【００４５】
また、溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネート、２−メトキシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテート、２−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブチルアセテート、２−エトキシブチルアセテート、４−エトキシブチルアセテート、４−プロポキシブチルアセテート、２−メトキシペンチルアセテートなどのエーテル系エステル類などを例示することができ、これらは、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４６】
上記（ａ）成分は、単独でもまた２種以上組合せて用いてもよいが、その分子量は、ポリスチレン換算重量平均分子量で１，０００〜１００，０００、好ましくは２，０００〜７０，０００の範囲がよい。そして、本発明の感光性樹脂組成物における（ａ）成分の配合割合は、（ａ）成分と（ｂ）成分の総和１００重量部に対し４０〜９６重量部、好ましくは５０〜９０重量部の範囲がよい。（ａ）成分の配合割合が前記範囲を逸脱すると、透明性、絶縁性及び平坦正が低下し、好ましくない。
【００４７】
本発明の（ｂ）キノンジアジド基含有化合物（以下（ｂ）成分という）としては、感光性成分として使用できる化合物であれば特に限定されないが、例えばナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸等のナフトキノン−１，２−ジアジドスルホニルハライドと、ヒドロキシ化合物とのエステル化物等が好ましく用いられる。具体的には、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル等の、トリヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物；２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，４  ’−テトラドロキシ−３’−メトキベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル等の、テトラヒドキシベンゾフェノンとナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物；２，３，４，２’，４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル等の、ペンタヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物；２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒド���キシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル等の、ヘキサヒドロキシベンゾフェノンと、ナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物；２，２’−ジヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’−ジヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４’−ジヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４’−ジヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、４，４’−ジヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、４，４’−ジヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル等の、ジヒドロキシジフェニルメタンとナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物；１−（２−ヒドロキシフェニル）−１−（２’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−１−（２’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−１−（４’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−１−（４’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−（４’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−（４’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−フェニル−１−（２，４−ジヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−フェニル−１−（２，４−ジヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−フェニル−１−（２，６−ジヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−フェニル−１−（２，６−ジヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（２’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（２’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（４−ヒドロキシフェニル）���２−（４’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−フェニル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−フェニル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−フェニル−２−（２，６−ジヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−フェニル−２−（２，６−ジヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル等の、ジフェニルヒドロキシエタンとナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物；１−（２−ヒドロキシフェニル）−１−（２’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−１−（２’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−１−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−１−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−フェニル−１−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−フェニル−１−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−フェニル−１−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−フェニル−１−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（２−ジヒドロキシフェニル）−２−（２’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（２’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−２  −（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２−（２−ヒドロキシフェニル）−１−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２−（２−ヒドロキシフェニル）−１−（４’−ヒドロキシフェ��ル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−フェニル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−フェニル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２−フェニル−１−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２−フェニル−１−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−フェニル−２−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−フェニル−２−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２−フェニル−１−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２−フェニル−１−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（２’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（２’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２−フェニル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２−フェニル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２−フェニル−２−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２−フェニル−２−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−３−（２’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−３−（２’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−��アジド−５−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−３−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−３−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（４−ヒドロキシフェニル）−３−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（４−ヒドロキシフェニル）−３−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−フェニル−３−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−フェニル−３−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−フェニル−３−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−フェニル−３−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル等の、ジヒドロキシフェニルプロパンとナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物；２，２’，２”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，２”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２’，４”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，４”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，  ４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、４，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、４，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２’，２”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，  ２’，２”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２’，４”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，  ２’，４”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、４，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、４，  ４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２’，２”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，  ２’，２”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２’，４”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，４”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、４，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、４，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、４−［１，  １−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタ��のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−１，１−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−１，１−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−１，１−ビス（ｐ  −ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンのジアジド−５−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−１，１−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−１，１−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−１，１−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−１，１−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１  −［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−［４−（���−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−１，１−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−１，１−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，  ２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−｛４  −［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル］−２，２−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−２，２−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−２，２−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−２，２−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−２，２−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−［４−（ｏ  ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−２，２−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−２，２−ビス（ｐ  −ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−［４−（ｐ−ヒドロキシフェニル��チル）フェニル］−２，２−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−２，２−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−［４−（ｐ−ヒドロキシフェニ（８）ルメチル）フェニル］−２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル等が挙げられる。
【００４８】
上記（ｂ）成分は、単独でも又は２種以上を組合せて用いてもよいが、その配合割合は、（ａ）成分と（ｂ）成分の総和１００重量部に対し５〜６０重量部、好ましくは１０〜５０重量の範囲がよい。（ｂ）成分の配合割合が５重量部未満では現像不良を起こし、６０重量部を超えると透明性、絶縁性及び平坦性が悪くなり好ましくない。
【００４９】
上記に加えて、本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じて、紫外線吸収剤、増感剤、増感助剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、分散剤、消泡剤、密着促進剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤などの添加剤成分を加えることができる。
【００５０】
可塑剤としては、具体的にジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ポリエチレングリコール、グリセリン、酒石酸ジブチルなどが挙げられる。
【００５１】
消泡剤としては、ポリエチレングリコール（分子量４００〜８００）などのアルキレングリコール系、シリコーン系、高級アルコール系の消泡剤などが挙げられる。
【００５２】
また、密着促進剤としては、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランなどのシラン系カップリング剤やチタン系カップリング剤などが挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて用いることができる。
【００５３】
上記の（ａ）成分、（ｂ）成分を含有する感光性樹脂組成物を用いることで、層間絶縁膜の透明性、平坦性が高くなり、コントラストの高い画像を得ることができる上に、耐熱性もよく層間絶縁膜を薄くでき、液晶表示素子の薄膜化が実現できる。
【００５４】
次に、本発明の感光性樹脂組成物を用いたパターンの形成方法を具体的な態様デ示すと、基板上に、有機溶媒に溶解した塗布液をスピンナー、ロールコーター、スプレー等を用いて塗布し、乾燥して感光性樹脂組成物層を設ける。前記基板としては、例えば液晶表示素子の製造においては、偏光板、さらに必要に応じてブラックマトリックス層、カラーフィルター層を設け、さらに透明導電回路層を設けたガラス板などが挙げられる。次いで、前記感光性樹脂組成物層を設けた基板に所定のマスクパターンを介し活性光線を照射し、露光したのち、露光部を現像液により除去して画像パターンを形成する。前記活性光線の放射には低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、エキシマレーザー発生装置などが用いられる。また、現像液としては、リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、ベンジルアミン、ブチルアミンなどの第１級アミン、ジメチルアミン、ジベンジルアミン、ジエタノールアミンなどの第２級アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミンなどの第３級アミン、モロホリン、ピペラジン、ピリジンなどの環状アミン、エチレンジアミン、へキサメチレンジアミンなどのポリアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルベンジルアンモニウムヒドロキシドなどのアンモニウムヒドロキシド類、トリメチルスルホニウムヒドロキシド類、トリメチルスルホニウムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホニウムヒドロキシド、ジメチルベンジルスルホニウムヒドロキシドなどのスルホニウムヒドロキシド類、コリン、ケイ酸塩含有緩衝液などが挙げられる。現像装置などを適宜選択するのがよい。
【００５５】
上記感光性樹脂組成物を溶解するための有機溶媒としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエンチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールノモメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブルエーテルアセテート、２−メトキシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテート、２−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブチルアセテート、２−エトキシブチルアセテート、４−エトキシブチルアセテート、４−プロポキシブチルアセテート、２  −メトキシペンチルアセテート、３−メトキシペンチルアセテート、４−メトキシペンチルアセテート、２−メチル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メチル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メチル−４−メトキシペンチルアセテート、４−メチル−４−メトキシペンチルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルシソブチルケトン、エチルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、プロピオン酸メチル、プロピ���ン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチル、メチル−３−メトロキシプロピオネ−ト、エチル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−エトキシプロピオネート、エチル−３−プロポキシプロピオネート、プロピル−３−メトキシプロピオネート、イソプロピル−３−メトキシプロピオネート、エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、炭酸メチル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、ピルビン酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ベンジルメチルエーテル、ベンジルエチルエーテル、ジヘキスルエーテル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリンなどが挙げられえる。前記有機溶媒は単独でもまた２種以上を組合せて用いることができる。
【００５６】
上記有機溶媒は、全成分１００重量部に対して４０００重量部以下、好ましくは３０００重量部以下の範囲で配合できる。
【００５７】
上記現像で得られた画像パターンは次いで１５０℃〜２５０℃の温度で過熱され、硬化され、保護膜や層間絶縁膜に形成される。
【００５８】
【発明の実施の形態】
次に本発明の実施例について述べるがこれによって本発明はなんら限定されるものではない。
【００５９】
【実施例】
（共重合体の合成）
合成例１（共重合体Ｐ１の合成）
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重量部を入れ、攪拌を行った。また、メタクリル酸メチル４０重量部、スチレン２０重量部、メタクリル酸２０重量部、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレート２０重量部、開始剤２，２’−アゾビスイソブチロニトリル９重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２０重量部を混合溶解した溶液を滴下ロートに入れた。次いで、該フラスコ内に該滴下ロートから反応液を２時間かけて攪拌下、滴下しながら、７０℃まで加熱し、４時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体（Ｐ１）（濃度３０％、ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ１２，０００）を得た。
【００６０】
合成例２（共重合体Ｐ２の合成）
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、３−メトキシブチルアセテート２００重量部を入れ、攪拌を行った。また、メタクリル酸メチル５重量部、スチレン３５重量部、メタクリル酸２５重量部、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレート３５重量部、開始剤２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１２重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２０重量部を混合溶解した溶液を滴下ロートに入れた。次いで、該フラスコ内に該滴下ロートから反応液を２時間かけて攪拌下、滴下しながら、７０℃まで加熱し、４時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体（Ｐ２）（濃度３０％、ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ１５，０００）を得た。
【００６１】
合成例３（共重合体Ｐ３の合成）
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０重量、ジプロピレングリコールジメチルエーテル５０重量部を入れ、攪拌を行った。スチレン５重量部、イソボニルメタクリレート３５重量部、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレート４０重量部、メタクリル酸２０重量部を混合し、開始剤２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１０重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５重量部、ジプロピレングリコールジメチルエーテル５重量部を混合溶解した溶液を滴下ロートに入れた。次いで、該フラスコ内に該滴下ロートから反応液を２時間かけて攪拌下、滴下しながら、６５℃まで加熱し、５時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体（Ｐ３）（濃度３０％、ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ１８，０００）を得た。
【００６２】
合成例４（共重合体Ｐ４の合成）
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート１８０重量部を入れ、攪拌を行った。また、ベンジルメタクリレート１０重量部、トリシクロ［５，２，１．０2.6］デカニルアクリレート３５重量部、メタクリル酸２０重量部、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレート３５重量部、開始剤２，２’−アゾビスイソブチロニトリル８重量部、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート４０重量部を混合溶解した溶液を滴下ロートに入れた。次いで、該フラスコ内に該滴下ロートから反応液を２時間かけて攪拌下、滴下しながら、７０℃まで加熱し、４時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体（Ｐ４）（濃度３０％、ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ２３，０００）を得た。
【００６３】
合成例５（共重合体Ｐ５の合成）
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、３−メトキシブチルアセテート２２０重量部を入れ、攪拌を行った。また、イソボニルメタクリレート１０重量部、シクロヘキシルメタクリレート４０重量部、メタクリル酸２０重量部、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレート３０重量部、開始剤２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１０重量部を混合溶解した溶液を滴下ロートに入れた。次いで、該フラスコ内に該滴下ロートから反応液を２時間かけて攪拌下、滴下しながら、７０℃まで加熱し、４時間同温度に保持した。その後、室温まで冷却し、共重合体（Ｐ５）（濃度３０％、ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ１５，０００）を得た。
【００６４】
比較合成例１（共重合体Ｒ１の合成）
合成例１において、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレートの代わりにグリシジルメタクリレートを用いた以外、合成例１と同様な操作を行い、共重合体（Ｒ１）（濃度３０％、ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ２０，０００）を得た。
【００６５】
比較合成例２（共重合体Ｒ２の合成）
ｍ−クレゾールとｐ−クレゾールを６０：４０で混合し、これにシュウ酸触媒の存在下で、ホルムアルデヒドを加え縮合反応によりクレゾールノボラック樹脂（ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ８，０００）を得た。次いで、この樹脂をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させ、３０％樹脂溶液（Ｒ２）を得た。
【００６６】
（実施例）
実施例１
合成例１で得られた共重合体（Ｐ１）（３０％濃度）８０重量部、１−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル５重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０重量部を混合してミキサーで５分間攪拌溶解した後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物溶液を調製した。
【００６７】
上記感光性樹脂組成物溶液をガラス基板１７３７（コーニング社製：０．７ｍｍ厚×１５０ｍｍ径）上に、膜厚３μｍとなるようにスピンナーで塗布した後、９０℃、３分間ホットプレート上で乾燥させ、２０μｍライン・パターン／２０μｍスペース・パターンのポジマスクパターンを介してミラープロジェクションアライナーＭＰＡ−６００ＦＡ（キャノン社製）を用いて露光した。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．５重量％水溶液中にて、２分間浸漬して現像を行い、純水でのリンス洗浄を経て不溶部分を除去し、２０μｍライン／２０μｍスペースのパターンを得た。
【００６８】
上記で得られた塗布膜を再び超高圧水銀灯を用いてポジマスクパターンを介さず全面露光し、クリーンオーブン中で２００℃、３０分間加熱硬化させた。得られた感光性樹脂組成物硬化膜着き基板を分光光度計ＵＶ−２５００ＰＣ（島津製作所社製）を使用し、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの最低透過率を測定したところ９４．３％であった。また、パターンくずれは起きなかった。
【００６９】
また、耐熱性としてクリーンオーブン中で２００℃、３０分間加熱硬化させた後、再び２３０℃、１時間加熱処理し膜厚測定を行った。２００℃、３０分間加熱硬化後膜厚に対して、再加熱処理後の膜厚変化を膜厚減少率で算出した。２３０℃、１時間加熱後の膜厚減少率が３％未満の場合を○、３％以上の場合を×とした。
【００７０】
一方、上記感光性樹脂組成物溶液中の塩素濃度（全塩素）を資料燃焼装置９Ｆ−０２（三菱化成社製）で燃焼抽出後、イオンクロマト装置ＩＣ−７０００（横河電機社製）にて測定した。塩素濃度が５ｐｐｍ未満の場合を○、５ｐｐｍ以上の場合を×とした。これは形成した被膜中に塩素が多く含まれると液晶表示素子の層間絶縁膜に使用した場合、大きな悪影響を与えるため、少ないことが好ましい。
【００７１】
さらに、上記感光性樹脂組成物溶液の保存安定性として、室温で１ヶ月間保存した後の粘度を測定した。調製後の粘度に対して、室温１ヶ月間の保存後の粘度上昇率が３０％未満の場合を○、３０％以上の場合を×とした。
【００７２】
実施例２
合成例１で得られた共重合体（Ｐ１）（３０％濃度）の代わりに合成例２で得られた共重合体（Ｐ２）（３０％濃度）を使用し、１−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル６重量部、３−メトキシブチルアセテート５０重量部を混合してミキサーで攪拌溶解した後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物溶液を調製した。
【００７３】
上記感光性樹脂組成物溶液から形成した塗布膜を現像時、膜厚２μｍとし、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．３重量％水溶液を用いた以外は実施例１と同様な操作を行った。得られた感光性樹脂組成物硬化膜着き基板を分光光度計ＵＶ−２５００ＰＣ（島津製作所社製）を使用し、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの最低透過率を測定したところ９３．５％であった。また、パターンくずれは起きなかった。その結果は表１に示す。
【００７４】
実施例３
合成例１で得られた共重合体（Ｐ１）（３０％濃度）の代わりに合成例３で得られた共重合体（Ｐ３）（３０％濃度）を使用し、１−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル６重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２０重量部、ジプロピレングリコールジメチルエーテル２０重量部を混合してミキサーで攪拌溶解した後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物溶液を調製した。
【００７５】
上記感光性樹脂組成物溶液から形成した塗布膜を現像時、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド１．２重量％水溶液を用いた以外は実施例１と同様な操作を行った。得られた感光性樹脂組成物硬化膜着き基板を分光光度計ＵＶ−２５００ＰＣ（島津製作所社製）を使用し、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの最低透過率を測定したところ９４．０％であった。また、パターンくずれは起きなかった。その結果は表１に示す。
【００７６】
実施例４
合成例１で得られた共重合体（Ｐ１）（３０％濃度）の代わりに合成例４で得られた共重合体（Ｐ４）（３０％濃度）を使用し、１−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル６重量部、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート４０重量部を混合してミキサーで攪拌溶解した後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物溶液を調製した。
【００７７】
上記感光性樹脂組成物溶液から形成した塗布膜を現像時、膜厚２．５μｍとし、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．４重量％水溶液を用いた以外は実施例１と同様な操作を行った。得られた感光性樹脂組成物硬化膜着き基板を分光光度計ＵＶ−２５００ＰＣ（島津製作所社製）を使用し、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの最低透過率を測定したところ９４．４％であった。また、パターンくずれは起きなかった。その結果は表１に示す。
【００７８】
実施例５
合成例１で得られた共重合体（Ｐ１）（３０％濃度）の代わりに合成例５で得られた共重合体（Ｐ５）（３０％濃度）を使用し、１−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル５重量部、３−メトキシブチルアセテート４０重量部を混合してミキサーで攪拌溶解した後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物溶液を調製した。
【００７９】
上記感光性樹脂組成物溶液から形成した塗布膜を現像時、膜厚４．０μｍとし、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．３重量％水溶液を用いた以外は実施例１と同様な操作を行った。得られた感光性樹脂組成物硬化膜着き基板を分光光度計ＵＶ−２５００ＰＣ（島津製作所社製）を使用し、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの最低透過率を測定したところ９３．８％であった。また、パターンくずれは起きなかった。その結果は表１に示す。
【００８０】
実施例６
１−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル５重量部の代わりに、ビス（６−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル５重量部を用いた以外は実施例１と同様な操作で、感光性樹脂組成物溶液を調製した。
【００８１】
上記感光性樹脂組成物溶液から形成した塗布膜について実施例１と同様な操作を行った。得られた感光性樹脂組成物硬化膜着き基板を分光光度計ＵＶ−２５００ＰＣ（島津製作所社製）を使用し、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの最低透過率を測定したところ９４．０％であった。また、パターンくずれは起きなかった。その結果は表１に示す。
【００８２】
実施例７
１−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル５重量部の代わりに、１−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル３重量部及び２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル２重量部を用いた以外は実施例１と同様な操作で、感光性樹脂組成物溶液を調製した。
【００８３】
上記感光性樹脂組成物溶液から形成した塗布膜について実施例１と同様な操作を行った。得られた感光性樹脂組成物硬化膜着き基板を分光光度計ＵＶ−２５００ＰＣ（島津製作所社製）を使用し、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの最低透過率を測定したところ９３．１％であった。また、パターンくずれは起きなかった。その結果は表１に示す。
【００８４】
比較例１
合成例１で得られた共重合体（Ｐ１）（３０％濃度）の代わりに比較合成例１で得られた共重合体（Ｒ１）（３０％濃度）を使用した以外は実施例１と同様な操作で、感光性樹脂組成物溶液を調製した。
【００８５】
上記感光性樹脂組成物溶液から形成した塗布膜について実施例１と同様な操作を行った。得られた感光性樹脂組成物硬化膜着き基板を分光光度計ＵＶ−２５００ＰＣ（島津製作所社製）を使用し、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの最低透過率を測定したところ８９．５％であった。また、パターンくずれは起きなかった。その結果は表１に示す。
【００８６】
比較例２
合成例１で得られた共重合体（Ｐ１）（３０％濃度）の代わりに比較合成例２で得られたクレゾールノボラック樹脂３０％溶液（Ｒ２）を使用した以外は実施例１と同様な操作で、感光性樹脂組成物溶液を調製した。
【００８７】
上記感光性樹脂組成物溶液から形成した塗布膜を現像時、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド２．３８重量％水溶液を用いた以外は実施例１と同様な操作を行った。得られた感光性樹脂組成物硬化膜着き基板を分光光度計ＵＶ−２５００ＰＣ（島津製作所社製）を使用し、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの最低透過率を測定したところ７７．２％であった。また、２００℃で加熱硬化したところ、熱だれによりパターンくずれを起こした。その結果は表１に示す。
【００８８】
【表１】
0003838626.tif 000033
【００８９】
【発明の効果】
本発明の層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物は、現像性に優れ、かつ得られた膜が透明で平坦性に優れている上に、耐熱性も高いことから、液晶表示素子の層間絶縁膜を形成する感光性樹脂組成物として有用で、素子の薄膜化が容易となり、品質の高い液晶表示素子が製造できる。