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【手続補正書】
【提出日】平成30年8月21日(2018.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記成分（Ａ)が、下記一般式（３）で表されるＮ−アシルアミノ酸縮合物を０．０１〜０．０９質量部、
【化１】
2017145364.tif 000001
[式中、ＲＡは炭素数１〜２３の炭化水素基、ＲＢは水素または炭素数１〜３の炭化水素基、Ｙはカルボキシル基、スルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸エステル基またはそれらの塩である。]
を含有することを特徴とする請求項１に記載のシリコーンゴム粒子分散エマルジョンの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
請求項１または２に記載の製造方法により製造されたことを特徴とするシリコーンゴム粒子分散エマルジョン。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
成分（Ａ）
成分（Ａ）は、成分（Ｂ）の（Ｉ）および（ＩＩ）を乳化せしめる有機系の界面活性剤である。従来の有機系界面活性剤には有していなかった０．１質量％未満の使用量領域で乳化作用を有する化合物もしくは物質である。その種類は限定されない。例えば、イオン性を有する化合物等である。またそれらのうちの２種類以上のものの併用でも構わない。
成分（Ａ）としての使用量は合計で０．１質量％未満であればよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
成分（Ａ）として好ましいのはＮ−アシルアミノ酸縮合物である。
Ｎ−アシルアミノ酸縮合物は、下記一般式（３）で示される酸性アミノ酸のＮ−アシル化
物を縮合したものである。
【化１】
2017145364.tif 000002
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
（成分（Ｃ））
成分（Ｃ）は、白金族系触媒である。これはヒドロシリル化触媒として用いることができるものである。白金族系触媒（Ｃ）は金属またはこの金属を含む化合物からなる。白金族系触媒（Ｃ）を構成する金属としては、例えば、白金、ロジウム、パラジウム、ルテニウム、イリジウム等が挙げられ、好ましくは白金である。またはこれらの金属を含む化合物を用いることができる。これらの中で特に白金系触媒が反応性が高く、好適である。金属は微粒子状の担体材料（例えば、活性炭、酸化アルミニウム、酸化ケイ素）に固定してもよい。白金化合物としては、白金ハロゲン化物（例えば、ＰｔＣｌ４、Ｈ２ＰｔＣｌ４・６Ｈ２Ｏ、Ｎａ２ＰｔＣｌ４・４Ｈ２Ｏ、Ｈ２ＰｔＣｌ４・６Ｈ２Ｏとシクロヘキサンからなる反応生成物）、白金−オレフィン錯体、白金−アルコール錯体、白金−アルコラート錯体、白金−エーテル錯体、白金−アルデヒド錯体、白金−ケトン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体（例えば、白金−１，３−ジビニル１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体、ビス−（γ−ピコリン）−白金ジクロライド、トリメチレンジピリジン−白金ジクロライド、ジシクロペンタジエン−白金ジクロライド、シクロオクタジエン−白金ジクロライド、シクロペンタジエン−白金ジクロライド）、ビス（アルキニル）ビス（トリフェニルホスフィン）白金錯体、ビス（アルキニル）（シクロオクタジエン）白金錯体等が挙げられる。また、ヒドロシリル化触媒はマイクロカプセル化した形で用いることもできる。この場合触媒を含有し、かつポリオルガノシロキサン中に不溶の微粒子固体は、例えば、熱可塑性樹脂（例えば、ポリエステル樹脂またはシリコーン樹脂）である。また、白金系触媒は包接化合物の形で、例えば、シクロデキストリン内で用いることも可能である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
＜比較例３＞
比較例２におけるエマルジョン３において、ポリオキシエチレンセチルエーテル（エチレ
ンオキサイド付加モル数１３）を０．１質量部とし、残部を水とした以外は、比較例２と
同様にしてシリコーンゴム粒子分散エマルジョンを得た。
【表１】
2017145364.tif 000003
【表２】
2017145364.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月23日(2018.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）：
【化１】
2016060728.tif 000001
（式中、Ｒは炭素数３〜１６のアルキルまたはアルカノイル基を表す）
で表されることを特徴とする、メチルブタンジオール。
【請求項２】
前記一般式（１）におけるＲが、炭素数４〜１４である、請求項１に記載のメチルブタンジオール。
【請求項３】
前記一般式（１）において、Ｒが、ｎ−ブチル、ｎ−へキシル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、ｎ−デシルまたはｎ−ヘキサノイルオキシ基を表す、請求項１または２に記載のメチルブタンジオール。
【請求項４】
以下の式（２）：
【化２】
2016060728.tif 000002
で表される３−メチルブト−３−エン−１−オールに、
ＲＸ
（式中、Ｒは、炭素数３〜１６のアルキルまたはアルカノイル基を表し、Ｘはハロゲン原子または水酸基を表す）
を反応させて、以下の一般式（３）：
【化３】
2016060728.tif 000003
（式中、Ｒは炭素数３〜１６のアルキルまたはアルカノイル基を表す）
で表される３−メチルブト−３−エン−１−オール誘導体を得、上記一般式（３）における二重結合を、酸化剤によりさらにジオールに酸化して、以下の一般式（１）：
【化４】
2016060728.tif 000004
（式中、Ｒは炭素数３〜１６のアルキルまたはアルカノイル基を表す）
で表されるエーテルまたはエステル化合物のジオール体を得ることを特徴とする、メチルブタンジオールの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月15日(2018.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の無線通信網と第２の無線通信網のいずれを用いてもサーバ装置と通信可能なユーザ装置に対して攻撃されていることまたは攻撃されかけていることを通知する攻撃通知システムであって、
ユーザ装置に関する情報を管理する管理手段と、
第１の無線通信網のトラフィックを監視して攻撃を検知する監視手段と、
前記監視手段によって検知された攻撃の対象のユーザ装置を特定する解析手段と、
前記解析手段によって特定されたユーザ装置または当該ユーザ装置に関連する装置に対して、前記第２の無線通信網を介した通信によって通知を行う通知手段と、
を備える攻撃通知システム。
【請求項２】
前記第１の無線通信網は、公衆無線ＬＡＮであり、
前記第２の無線通信網は、携帯電話網である、
請求項１に記載の攻撃通知システム。
【請求項３】
前記監視手段は、攻撃対象のユーザ装置の前記第１の無線通信網における識別子を含む攻撃検知情報を前記解析手段に送信し、
前記解析手段は、前記攻撃検知情報に基づいて、攻撃対象のユーザ装置を特定する、
請求項１または２に記載の攻撃通知システム。
【請求項４】
前記監視手段は、攻撃対象の前記第１の無線通信網の基地局を含む攻撃検知情報を前記解析手段に送信し、
前記解析手段は、前記攻撃検知情報に含まれている基地局を利用して通信を行っているユーザ装置を攻撃対象のユーザ装置として特定する、
請求項１または２に記載の攻撃通知システム。
【請求項５】
前記管理手段は、ユーザ装置ごとに当該ユーザ装置の前記第１の無線通信網における識別子を記憶しており、
前記解析手段は、前記管理手段を参照して前記攻撃検知情報から攻撃対象のユーザ装置を特定する、
請求項３または４に記載の攻撃通知システム。
【請求項６】
前記管理手段は、ユーザ装置ごとに、当該ユーザ装置の前記第２の無線通信網における識別子を記憶しており、
前記通知手段は、攻撃対象として特定されたユーザ装置に対して、前記第２の無線通信網を介した通信によって前記通知を行う、
請求項１から５のいずれか１項に記載の攻撃通知システム。
【請求項７】
前記管理手段は、ユーザ装置ごとに、当該ユーザ装置に関連する装置の前記第２の無線通信網における識別子を記憶しており、
前記通知手段は、攻撃対象として特定されたユーザ装置に関連する装置に対して、前記第２の無線通信網を介した通信によって前記通知を行う、
請求項１から５のいずれか１項に記載の攻撃通知システム。
【請求項８】
前記ユーザ装置に関連する装置は、前記通知手段からの通知を受けると、当該通知を受けた旨を前記ユーザ装置に対して無線通信によって知らせる、
請求項７に記載の攻撃通知システム。
【請求項９】
前記解析手段は、前記監視手段によって検知された攻撃が、同じ地域の複数台のユーザ装置を対象とする攻撃であるか否か判定し、
前記通知手段は、前記攻撃が同じ地域の複数台のユーザ装置を対象とする攻撃である場合には、通知を転送すべきことを表す情報を含めて前記通知を行い、
前記ユーザ装置または前記ユーザ装置に関連付けられた装置は、通知を転送すべきことを表す情報を含む通知を受信した場合は、当該通知を周囲のユーザ装置またはユーザ装置に関連付けられた装置に転送する、
請求項１から８のいずれか１項に記載の攻撃通知システム。
【請求項１０】
前記ユーザ装置は、車両に備え付けられた車載装置である、
請求項１から９のいずれか１項に記載の攻撃通知システム。
【請求項１１】
前記ユーザ装置に関連する装置は、前記車両内に存在する携帯情報端末である、
請求項１０に記載の攻撃通知システム。
【請求項１２】
第１の無線通信網と第２の無線通信網のいずれを用いてもサーバ装置と通信可能なユーザ装置に対して攻撃されていることまたは攻撃されかけていることを通知する攻撃通知システムが行う攻撃通知方法であって、
第１の無線通信網のトラフィックを監視して攻撃を検知する監視ステップと、
前記監視ステップにおいて検知された攻撃の対象のユーザ装置を特定する解析ステップと、
前記解析ステップにおいて特定されたユーザ装置または当該ユーザ装置に関連する装置に対して、前記第２の無線通信網を介した通信によって通知を行う通知ステップと、
を含む攻撃通知方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法の各ステップをコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月12日(2018.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数種類の金融商品の銘柄の組合せがユーザによって選択される際、前記組合せの基調となる思想や主題をテーマとして、複数の前記テーマを前記ユーザに提示する提示手段と、
前記提示手段により提示された前記複数のテーマのうち、前記ユーザにより選択されたテーマを取得する取得手段と、
取得された前記テーマに紐付く複数種類の金融商品の銘柄の組合せを選択する選択手段と、
選択された前記組合せ毎に、前記金融商品の銘柄毎の購入比率及び購入金額の初期値を演算する初期演算手段と、
を備える情報処理装置。
【請求項２】
前記金融商品の銘柄の組合せは、株式の銘柄の組合せであり、
前記株式は、単元未満株である、
請求項１に記載の情報処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月28日(2018.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
制御対象物を扱う機械装置に搭載されて用いられ、または前記機械装置に接続されて用いられる機械制御装置であって、
前記制御対象物の状態に関する計測を行う計測部と、
前記計測部での計測結果を、前記制御対象物について許容される所定の状態を維持するための制約条件と対比して、前記計測結果の前記制約条件に対する関係を特定する制約判定値を求める判定部と、
前記判定部で求めた制約判定値に基づき、前記機械装置に対する動作制御を、前記制約判定値と前記動作制御とについて設定された関係に従いつつ行う制御部と、
前記制御部が行う動作制御によって前記制約判定値が変動した場合に、前記制約判定値と前記動作制御との関係を再設定する学習部と、
を備える機械制御装置。
【請求項２】
前記計測部は、
前記制御対象物についての撮像画像を取得する画像撮像部と、
前記画像撮像部で取得した撮像画像を解析して前記制御対象物の状態に関する計測を行う画像解析部と、
を備える請求項１に記載の機械制御装置。
【請求項３】
前記計測部は、前記制御対象物の形状の特徴値を計測する
請求項１または２に記載の機械制御装置。
【請求項４】
前記判定部は、
前記制約条件として、前記計測部での計測内容について設定された限界値を用いるとともに、前記限界値として前記制御対象物が所定の状態を維持するために必要となる境界条件に相当する値を用い、
前記計測部での計測結果の前記限界値に対する近接度を前記制約判定値として求める
請求項１から３のいずれか１項に記載の機械制御装置。
【請求項５】
前記制約判定値と前記動作制御との関係が、再設定可能な制御モデル式によって規定されている
請求項１から４のいずれか１項に記載の機械制御装置。
【請求項６】
前記計測部、前記判定部、前記制御部および前記学習部がサイクリックに処理を行うとともに、一サイクルの処理が規定の時間内に完了する
請求項１から５のいずれか１項に記載の機械制御装置。
【請求項７】
前記機械装置は、単結晶製造装置であり、
前記制御対象物は、前記単結晶製造装置で単結晶を製造する際に、原料と種結晶との間に形成される溶融帯域である
請求項１から６のいずれか１項に記載の機械制御装置。
【請求項８】
制御対象物を扱う機械装置に搭載されたコンピュータ、または前記機械装置に接続されて用いられるコンピュータに、
前記制御対象物の状態に関する計測を行う計測ステップと、
前記計測ステップでの計測結果を、前記制御対象物について許容される所定の状態を維持するための制約条件と対比して、前記計測結果の前記制約条件に対する関係を特定する制約判定値を求める判定ステップと、
前記判定ステップで求めた制約判定値に基づき、前記機械装置に対する動作制御を、前記制約判定値と前記動作制御とについて設定された関係に従いつつ行う制御ステップと、
前記制御ステップで行う動作制御によって前記制約判定値が変動した場合に、前記制約判定値と前記動作制御との関係を再設定する学習ステップと、
を実行させる機械制御プログラム。
【請求項９】
制御対象物を扱う機械装置の動作を制御する機械制御方法であって、
前記制御対象物の状態に関する計測を行う計測ステップと、
前記計測ステップでの計測結果を、前記制御対象物について許容される所定の状態を維持するための制約条件と対比して、前記計測結果の前記制約条件に対する関係を特定する制約判定値を求める判定ステップと、
前記判定ステップで求めた制約判定値に基づき、前記機械装置に対する動作制御を、前記制約判定値と前記動作制御とについて設定された関係に従いつつ行う制御ステップと、
前記制御ステップで行う動作制御によって前記制約判定値が変動した場合に、前記制約判定値と前記動作制御との関係を再設定する学習ステップと、
を含む機械制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月10日(2018.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層方向に隣り合う２つの燃料電池セルの各セパレータの間に非接着で配置され、前記各セパレータの間を封止するガスケットであって、
前記隣り合う２つの燃料電池セルの前記各セパレータに密着するシール部を有し、
前記シール部は、長さ方向に垂直な断面において、前記シール部の中心点を中心に前記積層方向に対して０度から９０度までの直角範囲内における外周線上の一点であって、前記中心点からの距離が第１の長さＬ１である外周点を有し、
前記中心点から前記外周点に向かう第１の方向と前記積層方向とのなす第１の角度範囲内における外周線上の各点は、前記中心点からの距離を第２の長さＬ２としたとき、Ｌ２≦Ｌ１の関係にあり、
前記第１の方向と前記積層方向に垂直な方向とのなす第２の角度範囲内における外周線上の各点は、前記中心点からの距離をＬ３としたとき、Ｌ３＜Ｌ１の関係にあり、かつ、前記積層方向に垂直な方向において、前記外周点に対して前記中心点とは反対の側もしくは前記外周点と同じ位置に位置する、ガスケット。
【請求項２】
請求項１に記載のガスケットであって、
前記外周点は、前記シール部の外周線を構成する点列の中で前記中心点から最も離れた点である、ガスケット。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のガスケットであって、
前記シール部の外周線は、前記中心点を中心とし前記第１の長さを半径とする円弧形状の部分を有し、
前記外周点は、前記円弧形状の部分を構成する点列の中で、前記積層方向に垂直な方向における前記中心点からの距離が最も長い点である、ガスケット。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載のガスケットであって、
前記第２の角度範囲内における外周線上の各点は、前記積層方向において前記中心点に近づくにつれ、前記積層方向に垂直な方向における前記中心点からの距離が、漸次、大きくなる、ガスケット。
【請求項５】
請求項１または請求項２に記載のガスケットであって、
前記シール部は、
断面が円形のＯリング部と、
前記Ｏリング部の外周に配設される突出部と、
を備え、
前記外周点は、前記突出部の頂点である、ガスケット。
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載のガスケットであって、
前記断面おいて、前記中心点を原点とする座標平面を想定したときに、前記直角範囲は、前記座標平面において右上に位置する第１象限に該当し、
前記シール部における左上に位置する第２象限に含まれる部分は、前記シール部における前記第１象限に含まれる部分と線対称である、ガスケット。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載のガスケットであって、
前記シール部の前記積層方向に垂直な方向の両側に設けられた板形状の周縁部を備え、
前記第２の角度範囲内における外周線は、前記シール部における前記周縁部が連結された部分を含まない、ガスケット。
【請求項８】
請求項７に記載のガスケットであって、
前記周縁部の面から前記積層方向に突出する突出形状部を備える、ガスケット。
【請求項９】
複数の燃料電池セルが積層方向に積層された燃料電池であって、
前記積層方向に隣り合う２つの燃料電池セルの各セパレータの間に非接着で配置された、請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載のガスケット
を備える燃料電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態として実現することが可能である。
本発明の一形態は、積層方向に隣り合う２つの燃料電池セルの各セパレータの間に非接着で配置され、前記各セパレータの間を封止するガスケットである。前記ガスケットは、前記隣り合う２つの燃料電池セルの前記各セパレータに密着するシール部を有する。前記シール部は、長さ方向に垂直な断面において；前記シール部の中心点を中心に前記積層方向に対して０度から９０度までの直角範囲内における外周線上の一点であって、前記中心点からの距離が第１の長さＬ１である外周点を有し；前記中心点から前記外周点に向かう第１の方向と前記積層方向とのなす第１の角度範囲内における外周線上の各点は、前記中心点からの距離を第２の長さＬ２としたとき、Ｌ２≦Ｌ１の関係にあり；前記第１の方向と前記積層方向に垂直な方向とのなす第２の角度範囲内における外周線上の各点は、前記中心点からの距離をＬ３としたとき、Ｌ３＜Ｌ１の関係にあり、かつ、前記積層方向に垂直な方向において、前記外周点に対して前記中心点とは反対の側もしくは前記外周点と同じ位置に位置する。その他、本発明は、以下のような形態として実現することも可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（８）上記周縁部を備えたガスケットにおいて、前記周縁部の面から前記積層方向に突出する突出形状部を備えてもよい。この形態のガスケットによれば、突出形状部がセパレータに当たることによって、ガスケットが長さ方向を軸として傾くことをより抑制できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
倒れ止め部６２０は、矩形の断面を有する長尺状の部材（突出形状部）であり、各周縁部２２のアノード側セパレータ５０側の面に設けられている。具体的には、倒れ止め部６２０は、各周縁部２２のアノード側セパレータ５０側の面における水平方向Ｘの両側の端部に設けられている。倒れ止め部６２０の積層方向Ｚの長さＨ６は、中央シール部２１における外周上部２１ａの周縁部２２表面からの高さ（Ｚ座標軸方向の距離）より短い。すなわち、積層方向Ｚのアノード側セパレータ５０側の端面６２０ａは、Ｚ座標軸上において、中央シール部２１の外周上部２１ａと比べて高い位置となっている。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月1日(2018.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
燃料電池車両として、乗員室の前方に設けられた収容室に燃料電池スタックを含む燃料電池モジュールが収容され、乗員室の床下に設けられた水素タンク室に水素ガスを貯蔵するタンクが収容された構造の燃料電池車両が提案されている（特許文献１参照）。特許文献１の燃料電池車両において、燃料電池スタックは、サスペンションメンバにマウント部品を介して取り付けられている。このマウント部品が衝突発生時に破壊されることにより、燃料電池スタックは、水素タンク室よりも下方の退避空間に移動し、タンクとの衝突を免れる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
燃料電池モジュール１００は、タンク２０よりも鉛直上方に配置され、車両長さ方向に見たときにタンク２０と重ならない。言い換えると、燃料電池モジュール１００の最下面のいずれの部分も、車両長さ方向に見たときにタンク２０の最上面における鉛直方向に対応する部分に対して、鉛直上方に位置する。上述の「燃料電池モジュール１００がタンク２０よりも鉛直上方に配置されている」とは、燃料電池モジュール１００の鉛直方向の最上部が、タンク２０の鉛直方向の最上部よりも鉛直上方に位置するように、燃料電池モジュール１００が配置されていることを意味する。図１には、タンク２０の鉛直方向の最上部を通り、水平面と平行な仮想線Ｌ１が破線で描かれている。この仮想線Ｌ１は、衝突が発生した場合に想定されるタンク２０の最上部の軌跡に相当する。燃料電池モジュール１００の最上部は、この仮想線Ｌ１よりも鉛直上方に位置している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
上述した排気排水弁２６、エアコンプレッサ３０、循環ポンプ２７、およびその他の各弁の動作は、図示しない制御部により制御される。この制御部は、例えば、制御用プログラムが記憶されているＲＯＭ（Read Only Memory）と、かかるＲＯＭを読み出して実行するＣＰＵ（Central Processing Unit）と、ＣＰＵのワークエリアとして利用されるＲＡＭ（Random Access Memory）とを有する構成としてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
第３実施形態の燃料電池車両５００ｂは、燃料電池モジュール１００に代えて燃料電池モジュール１００ｂを備える点と、燃料電池モジュール１００ｂが水平方向と平行に配置されている点とにおいて、第１実施形態の燃料電池車両５００と異なる。第３実施形態の燃料電池車両５００ｂにおけるその他の構成は、第１実施形態の燃料電池車両５００と同じであるので、同一の構成要素には同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。燃料電池モジュール１００ｂは、支持フレーム１５０に代えて支持フレーム１５０ｂを備える点において、第１実施形態の燃料電池モジュール１００と異なる。第３実施形態の燃料電池モジュール１００ｂにおけるその他の構成は、第１実施形態の燃料電池モジュール１００と同じであるので、同一の構成要素には同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
燃料電池モジュール１００ｂが水平方向と平行に配置されているとは、燃料電池スタック１０１の積層方向ＳＤが水平方向（車両長さ方向）と平行となるように、燃料電池モジュール１００ｂが配置されていることを意味する。このような構成を有する第３実施形態の燃料電池車両５００ｂにおいても、燃料電池モジュール１００ｂは、タンク２０よりも鉛直上方に配置され、車両長さ方向に見たときにタンク２０と重ならない。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月9日(2018.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属導体線の外周にエナメル被覆が形成されているエナメル線であって、
前記エナメル被覆は、前記金属導体線の直上に形成されイミド系樹脂を主成分とする第１絶縁層と、前記第１絶縁層の直上に形成されイミド系樹脂を主成分とする第２絶縁層とを有し、
前記第２絶縁層は、該第２絶縁層に対して10質量％以上49質量％以下の範囲でフィラーを含有し、前記フィラーはスチレンブタジエンゴム粒子を含むことを特徴とするエナメル線。
【請求項２】
請求項１に記載のエナメル線において、
前記フィラーの平均粒子径が、0.1μm以上10μm以下であることを特徴とするエナメル線。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のエナメル線において、
前記スチレンブタジエンゴム粒子は、コアシェル構造を有するゴム粒子であることを特徴とするエナメル線。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のエナメル線において、
前記フィラーは、無機フィラーを更に含むことを特徴とするエナメル線。
【請求項５】
請求項４に記載のエナメル線において、
前記無機フィラーは、ケイ素酸化物粒子および無機化合物の鱗片状粒子の少なくとも一方であることを特徴とするエナメル線。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のエナメル線において、
前記第２絶縁層の厚さは、前記第１絶縁層の厚さよりも大きいことを特徴とするエナメル線。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれかに記載のエナメル線において、
前記第２絶縁層の直上に、所定の樹脂を主成分とする第３絶縁層を更に有することを特徴とするエナメル線。
【請求項８】
請求項７に記載のエナメル線において、
前記第３絶縁層の厚さは、前記第２絶縁層の厚さよりも小さいことを特徴とするエナメル線。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれかに記載のエナメル線において、
前記イミド系樹脂は、ポリイミド、ポリアミドイミド、およびポリエステルイミドのいずれかであることを特徴とするエナメル線。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれかに記載のエナメル線を用いてコイル巻線されたことを特徴とするコイル。
【請求項１１】
請求項１０に記載のコイルを用いたことを特徴とする電機部品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】エナメル線、該エナメル線を用いたコイルおよび該コイルを用いた電機部品
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月19日(2018.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
図１に戻り、処理槽２は、処理室２ａ、気化室２ｂ及び供給室２ｃにより構成されている。これらの処理室２ａ、気化室２ｂ及び供給室２ｃは箱形状に形成されている。この処理室２ａの上面には給気口２１ａが設けられており、処理室２ａの側面には排気口２２ａが設けられている。また、気化室２ｂの側面には給気口２１ｂが設けられており、気化室２ｂの底面には排気口２２ｂが設けられている。同様に、供給室２ｃの上面には給気口２１ｃが設けられており、供給室２ｃの底面には排気口２２ｃが設けられている。これにより、処理室２ａ、気化室２ｂ及び供給室２ｃ内では、フィルタ（例えばＵＬＰＡフィルタやＨＥＰＡフィルタ）を通過した空気が各給気口２１ａ、２１ｂ及び２１ｃから各排気口２２ａ、２２ｂ、２２ｃへと流れており、処理室２ａ内は層流によって清浄に保たれている。なお、これらの給気、排気を蒸着コーティング工程中に停止させ、撥液材の蒸気の流れを阻害しないようにすることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
なお、支持プレート４ｂを省略する場合には、テンプレートＷを保持する支持部３及び移動機構４も、１以上のアームなどの部材に設けることが可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
さらに、支持プレート４ｂの開口４ｂ１の側面（内周面）も傾斜させるようにすることで、開口４ｂ１の側面に沿って撥液材（蒸気）の流れが形成され、基体１１の主面１１ａの所望の領域に撥液材（蒸気）を付着させることができる。なお、開口４ｂ１の側面は、水平方向であって開口４ｂ１の内側に向かう方向に沿って徐々に高くなるように傾斜している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
また、被処理物２１として半導体基板を例示したが、これに限るものではなく、レプリカテンプレートとして使用される石英基板であっても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月28日(2018.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上のインプリント材と型を接触させることで、前記基板上の複数の領域にパターンを形成するインプリント装置であって、
インプリント材が供給された基板を載せて移動する移動手段と、
前記移動手段の移動によって変化する前記インプリント材の状態に関する情報と、前記パターンの形成順序に関する情報とに基づいて、前記基板上に供給される前記インプリント材の供給量分布を作成する作成手段と、
前記作成手段が作成した供給量分布に基づいて、前記インプリント材を前記基板上に供給する供給手段と、
を有することを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記形成順序に関する情報は、前記複数の領域に対するパターンの形成順序を含むことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記作成手段は、前記移動手段が前記供給手段に対向する位置から前記型に対向する位置に向かうときの移動方向に基づいて、前記基板上に供給される前記インプリント材の供給量分布を作成することを特徴とする請求項１又は２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記複数の領域のうち前記パターンが形成されていない領域である第１領域が、前記複数の領域のうち前記パターンが形成されている領域である第２領域に対して前記移動手段の移動方向側にあり、
前記作成手段は、前記第１領域に対し、領域内において前記移動方向側の供給量密度が、前記移動方向側とは反対側の供給量密度よりも大きくなるように第１供給量分布を作成し、
前記供給手段は、前記第１供給量分布に基づいて前記第１領域に対して前記インプリント材を供給することを特徴とする請求項３に記載のインプリント装置。
【請求項５】
基板上のインプリント材と型を接触させることで、前記前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
インプリント材が供給された基板を載せて移動する移動手段と、
前記移動手段の移動によって変化する前記インプリント材の状態に関する情報と、前記移動手段の移動方向に関する情報に基づいて、前記基板上に供給される前記インプリント材の供給量分布を作成する作成手段と、
前記作成手段が作成した供給量分布に基づいて、前記インプリント材を供給する供給手段と、
を有することを特徴とするインプリント装置。
【請求項６】
前記移動方向は、前記移動手段が前記供給手段と対向する位置から前記型と対向する位置に向かうときの方向であることを特徴とする請求項５に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記作成手段は、前記領域内の、前記移動方向側における供給量密度が、前記移動方向側とは反対側の供給量密度よりも小さくなるように供給量分布を作成することを特徴とする請求項５又は６に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記作成手段は、前記移動手段が水平面に沿って移動する場合の速さに関する情報に基づいて、前記基板上に供給される前記インプリント材の供給量分布を作成することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
基板上のインプリント材と型を接触させることで、前記基板上の複数の領域にパターンを形成するときの前記インプリント材の供給量分布を作成する方法であって、
インプリント材が供給された基板の移動によって変化する前記インプリント材の状態に関する情報と、前記パターンの形成順序に関する情報とを取得するステップと、
前記ステップで取得した情報に基づいて、前記インプリント材の供給量分布を作成するステップと、を有することを特徴とする供給量分布の作成方法。
【請求項１０】
基板上のインプリント材と型を接触させることで、前記基板上の複数の領域にパターンを形成するときの前記インプリント材の供給量分布を作成する方法であって、
インプリント材が供給された基板の移動によって変化する前記インプリント材の状態に関する情報と、前記基板の移動方向に関する情報とを取得するステップと
前記ステップで取得した情報に基づいて、前記インプリント材の供給量分布を作成するステップと、を有することを特徴とする供給量分布の作成方法。
【請求項１１】
基板上のインプリント材と型を接触させることで、前記基板上にパターンを形成するインプリント方法であって、
インプリント材が供給された基板の移動によって変化する前記インプリント材の状態に関する情報と、前記パターンの形成順序に関する情報に基づいて、前記インプリント材の供給量分布を決定するステップと、
前記決定された供給量分布に基づいて、インプリント材を前記基板上に供給するステップを含むことを特徴とするインプリント方法。
【請求項１２】
基板上のインプリント材と型を接触させることで、前記基板上にパターンを形成するインプリント方法であって、
インプリント材が供給された基板の移動によって変化する前記インプリント材の状態に関する情報と、前記基板の移動方向に関する情報に基づいて、前記インプリント材の供給量分布を決定するステップと、
前記決定された供給量分布に基づいて、インプリント材を前記基板上に供給するステップを含むことを特徴とするインプリント方法。
【請求項１３】
請求項９又は１０に記載の作成方法により得られた、インプリント材の供給量分布を用いて、基板上にパターンを形成するステップと、
前記パターンの形成された基板に対してエッチング処理及びイオン注入処理のいずれか一方の処理を施すステップと、を有することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、基板上のインプリント材と型を接触させることで、前記基板上の複数の領域にパターンを形成するインプリント装置であって、インプリント材が供給された基板を載せて移動する移動手段と、前記移動手段の移動によって変化する前記インプリント材の状態に関する情報と、前記パターンの形成順序に関する情報とに基づいて、前記基板上に供給される前記インプリント材の供給量分布を作成する作成手段と、前記作成手段が作成した供給量分布に基づいて、前記インプリント材を前記基板上に供給する供給手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月26日(2018.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、前記基体の上に設けられた第１層と、前記第１層の上に設けられた第２層と、前記第２層の上に設けられた第３層と、を備え、前記第１層が前記第２層および前記第３層に重ならない部分を有する積層体を準備する工程と、
前記第１層を前記重ならない部分から液体で溶解させることで、前記基体から前記第２層を剥離する工程と、を有し、
前記第１層および前記第３層は化合物を含むことを特徴とする光学部品の製造方法。
【請求項２】
前記重ならない部分は前記第１層の縁を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学部品の製造方法。
【請求項３】
前記基体は前記第１層に重ならない部分を有することを特徴とする請求項１または２に記載の光学部品の製造方法。
【請求項４】
前記基体および前記第１層は酸化シリコンを含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項５】
前記第２層は前記第１層に接することを特徴とする請求項１に記載の光学部品の製造方法。
【請求項６】
前記第３層は前記第１層と同じ化合物を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学部品の製造方法。
【請求項７】
前記基体はガラス板または水晶板であり、前記第１層は酸化シリコン層であり、前記第２層は金属化合物を含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項８】
前記液体はアルカリ性であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項９】
前記第１層の前記第２層および前記第３層に重ならない前記部分の厚さは３０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１０】
前記剥離する工程の後に、
前記基体の上に反射防止膜を形成する工程を有することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１１】
酸化シリコンを含む基体と、
前記基体の上に設けられた酸化シリコンを含む第１層と、
前記第１層の上に設けられた金属化合物を含む第２層と、を備え、
前記第１層は前記第２層に重ならない部分を有し、
前記第１層における空隙率が前記基体における空隙率よりも高いことを特徴とする光学部品。
【請求項１２】
前記第２層に重ならない前記部分は、前記第１層の縁と、前記縁からの距離が５００〜１０００μｍである部分と、を含むことを特徴とする請求項１１に記載の光学部品。
【請求項１３】
前記基体は前記第１層に重ならない部分を有することを特徴とする請求項１１または１２に記載の光学部品。
【請求項１４】
前記第１層の上には、前記第２層と、前記第２層の上に設けられた第３層と、前記第３層の上に設けられた第４層と、を含む多層膜が設けられ、
前記第１層の前記重ならない部分が前記第３層および前記第４層に重ならず、
前記第３層は酸化シリコンを含み、前記第４層は金属化合物を含むことを特徴とする請求項１１乃至１３のいずれか１項に記載の光学部品。
【請求項１５】
前記第２層のうち前記第２層の縁から５００μｍ以内の部分に前記第４層が重なることを特徴とする請求項１４に記載の光学部品。
【請求項１６】
前記第２層は、前記第２層の縁を含む部分と、前記第１層の上の部分と、を有し、前記第２層の前記縁を含む前記部分の厚さは、前記第１層の上の前記部分の厚さよりも小さく、前記第２層の前記縁を含む前記部分および前記第１層の上の前記部分に前記第４層が重なることを特徴とする請求項１４または１５に記載の光学部品。
【請求項１７】
前記基体は水晶板であり、前記金属化合物は酸化チタンであることを特徴とする請求項１１乃至１６のいずれか１項に記載の光学部品。
【請求項１８】
前記第１層の前記第２層に重ならない前記部分の厚さは３０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１１乃至１７のいずれか１項に記載の光学部品。
【請求項１９】
請求項１１乃至１８のいずれか１項に記載の光学部品と、
前記光学部品に対向して配置された、表示または撮像を行う電子デバイスと、
を備える光学装置。
【請求項２０】
請求項１１乃至１８のいずれか１項に記載の光学部品と、
前記光学部品を保持する保持部品と、
前記光学部品と前記保持部品とを接着する接着部材と、を備え、
前記接着部材は前記基体に重なり、前記第２層に重ならないことを特徴とする光学装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月20日(2018.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上のインプリント材と型を接触させることで、前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型と前記基板の少なくとも一方を傾けることにより、前記型と前記基板との相対的な傾きを調整する調整手段を有し、
前記基板上において所定方向に順次パターンが形成される場合に、前記調整手段は、前記所定方向側における前記型と前記基板との間隔が、前記所定方向とは反対側における前記型と前記基板との間隔よりも小さくなるように前記相対的な傾きを調整することを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記基板上の第１ショット領域にパターンを形成した後に、前記第１ショット領域とは異なる第２ショット領域にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記所定方向は、前記第１ショット領域から前記第２ショット領域に向かう方向であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記基板上において第１方向に順次パターンが形成される場合には、前記調整手段は、前記第１方向側における前記型と前記基板との間隔が、前記第１方向とは反対側における前記型と前記基板との間隔よりも小さくなるように前記相対的な傾きを調整し、
前記基板上において前記第１方向とは反対向きの第２方向に順次パターンが形成される場合には、前記調整手段は、前記第２方向側における前記型と前記基板との間隔が、前記第２方向とは反対側における前記型と前記基板との間隔よりも小さくなるように前記相対的な傾きを調整することを特徴とする請求項１または２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記基板を移動させる移動手段と、
前記基板上にインプリント材を供給する供給手段をさらに有し、
前記調整手段は、前記移動手段が前記供給手段と対向する位置から前記型と対向する位置へ移動する方向に基づいて前記相対的な傾きを調整することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記基板を移動させる移動手段をさらに有し、
前記調整手段は、前記移動手段の速度に関する情報に基づいて前記相対的な傾きを調整することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項６】
基板上のインプリント材と型を接触させることで、前記基板上にパターンを形成するインプリント方法であって、
前記型と前記基板の少なくとも一方を傾けることにより、前記型と前記基板との相対的な傾きを調整する調整工程と、
前記型と前記インプリント材を接触させる接触工程を有し、
前記調整工程において、前記基板上において所定方向に順次パターンが形成される場合に、前記所定方向側における前記型と前記基板との間隔が、前記所定方向とは反対側における前記型と前記基板との間隔よりも小さくなるように前記相対的な傾きを調整することを特徴とするインプリント方法。
【請求項７】
請求項６に記載のインプリント方法により、基板上にパターンを形成するステップと、
前記パターンの形成された基板に対してエッチング処理及びイオン注入処理のいずれか一方の処理を施すステップと、を有することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の第１の側面は、基板上のインプリント材と型を接触させることで、前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、前記型と前記基板の少なくとも一方を傾けることにより、前記型と前記基板との相対的な傾きを調整する調整手段を有し、前記基板上において所定方向に順次パターンが形成される場合に、前記調整手段は、前記所定方向側における前記型と前記基板との間隔が、前記所定方向とは反対側における前記型と前記基板との間隔よりも小さくなるように前記相対的な傾きを調整することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月26日(2018.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メイン制御手段と、
サブ制御手段と、
前記メイン制御手段により制御可能な第１の報知手段と、
前記サブ制御手段により制御可能な第２の報知手段と、
を有し、
前記メイン制御手段は、当選役決定手段を有し、
前記当選役決定手段により、特定抽選結果となった遊技において、
前記第２の報知手段によりストップスイッチの操作態様の報知を可能とし、ストップスイッチの操作態様を報知しているにもかかわらず、報知しているストップスイッチの押し順とは異なる押し順でストップスイッチを遊技者が操作した場合には、押し順ミスを示す所定演出を実行可能とし、第１の報知手段によりストップスイッチの操作態様の報知を可能とし、ストップスイッチの操作態様を報知しているにもかかわらず、報知しているストップスイッチの押し順とは異なる押し順でストップスイッチを遊技者が操作しても、所定の条件を満たすまでは、第１の報知手段によるストップスイッチの操作態様の報知を継続する
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】遊技機
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、遊技機に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、遊技者に有利な状態を主制御部において制御することができる遊技機を提供することを目的としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上述した課題を解決するために、本発明は、
メイン制御手段と、
サブ制御手段と、
前記メイン制御手段により制御可能な第１の報知手段と、
前記サブ制御手段により制御可能な第２の報知手段と、
を有し、
前記第２の報知手段によりストップスイッチの操作態様の報知を可能とし、ストップスイッチの操作態様を報知しているにもかかわらず、報知しているストップスイッチの押し順とは異なる押し順でストップスイッチを遊技者が操作した場合には、押し順ミスを示す所定演出を実行可能とし、第１の報知手段によりストップスイッチの操作態様の報知を可能とし、ストップスイッチの操作態様を報知しているにもかかわらず、報知しているストップスイッチの押し順とは異なる押し順でストップスイッチを遊技者が操作しても、所定の条件を満たすまでは、第１の報知手段によるストップスイッチの操作態様の報知を継続する
ことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上述した発明によれば、メイン制御手段により制御可能な第１の報知手段を備え、第１の報知手段によってストップスイッチの操作態様を報知する。このため、ストップスイッチの操作態様を第１の報知手段により報知するか否かをメイン制御手段が制御することによって、遊技者に有利な状態を主制御部で制御することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
以上のように、本発明の遊技機によれば、遊技者に有利な状態を主制御部において制御することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月16日(2018.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導線供給部から供給される導線の先端を把持するクランプ部と、
前記クランプ部と一体的に前記導線供給部に対する相対回転可能に支持され、前記導線供給部との相対回転により、前記クランプ部に先端が把持された前記導線が巻き付けられ巻枠と、
前記導線が前記クランプ部から前記巻枠に至るまでの間で引っ掛かることが可能なフック部と、
前記導線が引っ掛かる前記フック部と、前記クランプ部及び前記巻枠との相対位置関係を変更することにより、前記導線の前記クランプ部から前記巻枠に至るまでの長さを変更するコントローラと、を備え、
前記フック部は、２以上設けられ、
前記コントローラは、前記導線の前記クランプ部による把持位置から前記フック部による引掛位置までの角度方向を変更することにより、前記導線が引っ掛かる前記フック部を変更して前記導線の前記長さを変更する巻線形成装置。
【請求項２】
導線供給部から供給される導線の先端を把持するクランプ部に先端が把持された前記導線を、フック部に引っ掛けつつ、前記クランプ部と一体的に前記導線供給部に対する相対回転可能に支持された巻枠に巻き付ける巻線形成方法であって、
前記フック部は、２以上設けられ、
前記導線の前記巻枠への巻き付け時に、前記導線の前記クランプ部による把持位置から前記フック部による引掛位置までの角度方向を変更することにより、前記導線が引っ掛かる前記フック部を変更して前記導線の前記クランプ部から前記巻枠に至るまでの長さを変更する巻線形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一態様は、導線供給部から供給される導線の先端を把持するクランプ部と、前記クランプ部と一体的に前記導線供給部に対する相対回転可能に支持され、前記導線供給部との相対回転により、前記クランプ部に先端が把持された前記導線が巻き付けられる巻枠と、前記導線が前記クランプ部から前記巻枠に至るまでの間で引っ掛かることが可能なフック部と、前記導線が引っ掛かる前記フック部と、前記クランプ部及び前記巻枠との相対位置関係を変更することにより、前記導線の前記クランプ部から前記巻枠に至るまでの長さを変更するコントローラと、を備え、前記フック部は、２以上設けられ、前記コントローラは、前記導線の前記クランプ部による把持位置から前記フック部による引掛位置までの角度方向を変更することにより、前記導線が引っ掛かる前記フック部を変更して前記導線の前記長さを変更する巻線形成装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明の一態様は、導線供給部から供給される導線の先端を把持するクランプ部に先端が把持された前記導線を、フック部に引っ掛けつつ、前記クランプ部と一体的に前記導線供給部に対する相対回転可能に支持された巻枠に巻き付ける巻線形成方法であって、前記フック部は、２以上設けられ、前記導線の前記巻枠への巻き付け時に、前記導線の前記クランプ部による把持位置から前記フック部による引掛位置までの角度方向を変更することにより、前記導線が引っ掛かる前記フック部を変更して前記導線の前記クランプ部から前記巻枠に至るまでの長さを変更する巻線形成方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月31日(2018.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
蓄電装置と通信可能な前記外部の通信機器である情報端末の制御方法であって、
前記蓄電装置に対して、当該蓄電装置による前記電気機器に対する電力供給動作が正常か否かに関する第１情報及び前記蓄電装置から供給される電力を用いた前記電気機器の動作が正常か否かに関する第２情報の少なくとも一つを要求する要求信号を送信させるステップ（ａ）と、
前記要求信号に応じて、前記第１情報及び前記第２情報の少なくとも１つを含む応答情報を取得させるステップ（ｂ）と、
前記取得した応答情報に含まれる前記第１情報及び前記第２情報の少なくとも１つを前記情報端末の表示画面に表示させるステップ（ｃ）と
を含む情報端末の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月23日(2018.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体が通流する筒状の通路管と、
前記通路管の内部に配置される複数の羽根体と、
前記通路管の管壁部を貫通して設けられた前記羽根体の羽根体端縁部とほぼ同一形状の複数の穿孔部と、を備え、
前記羽根体端縁部が前記通路管の穿孔部に配置されていることを特徴とするミキシングエレメント。
【請求項２】
前記羽根体は螺旋状に時計方向に右回転していることを特徴とする請求項１に記載のミキシングエレメント。
【請求項３】
前記羽根体は螺旋状に反時計方向に左回転していることを特徴とする請求項１に記載のミキシングエレメント。
【請求項４】
前記羽根体は複数の穿孔を有する多孔板から成ることを特徴とする請求項１に記載のミキシングエレメント。
【請求項５】
羽根体の扇形と穿孔と穿孔位置とを示した展開図をもとにレーザー加工機で切断された扇状の羽根体を製作する工程と、
金型を用いて、扇状に切断された羽根体から螺旋状の羽根体を製作する工程と、
レーザー加工機で通路管の管壁部を穿孔して、螺旋状の羽根体端縁部とほぼ同一形状の穿孔部を形成する工程と、
通路管の管壁部に穿孔された穿孔部に螺旋状の羽根体を配置する工程と、
レーザー加工機で、通路管の穿孔部に配置された羽根体端縁部と通路管の管壁部とを接合する工程と、
を有していることを特徴とするミキシングエレメントの製造方法。