Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月12日(2018.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紙幣処理装置であって、
装置本体と、
前記装置本体の正面に設けられる紙幣挿入口と、
前記紙幣挿入口の近傍に配置され、前記装置本体の正面に設けられる紙幣払出口と、
前記紙幣払出口に設けられ、前記紙幣払出口を開閉するシャッタと、
前記装置本体の内部に設けられた、前記紙幣挿入口と前記紙幣払出口とをつなぐ単一経路の紙幣搬送通路であって、前記紙幣挿入口から受け入れられ、釣り札として使用可能な第１の紙幣を、前記装置本体の内部を循環させて前記紙幣払出口に搬送可能な紙幣搬送通路と、を備え、
前記紙幣払出口は、前記シャッタが開くことにより複数の前記第１の紙幣を一括して取り出し可能に構成されることを特徴とする紙幣処理装置。
【請求項２】
前記紙幣搬送通路が、前記紙幣挿入口から受け入れられた前記第１の紙幣を下方に搬送する第１の搬送通路と、下方に搬送された前記第１の紙幣を上方に搬送する第２の搬送通路と、上方に搬送された前記第１の紙幣を前記紙幣払出口に向けて下方に搬送する第３の搬送通路と、を有することを特徴とする請求項１に記載の紙幣処理装置。
【請求項３】
前記第１の搬送通路に設けられ、前記紙幣挿入口から受け入れられた紙幣の種類を識別する紙幣識別部をさらに備えることを特徴とする請求項２に記載の紙幣処理装置。
【請求項４】
前記第２の搬送通路上に前記紙幣挿入口及び前記紙幣識別部に対向するように着脱可能に設けられ、前記第１の紙幣を収納する第１の紙幣収納部と、
前記第１の紙幣収納部の下流側に設けられ、釣り札として使用されない第２の紙幣を収納する第２の紙幣収納部と、をさらに備えることを特徴とする請求項３に記載の紙幣処理装置。
【請求項５】
前記第２の搬送通路上に設けられ、前記第１の紙幣収納部に収納された前記第１の紙幣を繰出す紙幣繰出し機構をさらに備えることを特徴とする請求項４に記載の紙幣処理装置。
【請求項６】
紙幣処理装置であって、
装置本体と、
前記装置本体の正面に設けられる紙幣挿入口と、
前記紙幣挿入口の近傍に配置され、前記装置本体の正面に設けられる紙幣払出口と、
前記装置本体の内部に設けられた、前記紙幣挿入口と前記紙幣払出口とをつなぐ単一経路の紙幣搬送通路であって、前記紙幣挿入口から受け入れられ、釣り札として使用可能な第１の紙幣を、前記装置本体の内部を循環させて前記紙幣払出口に搬送可能な紙幣搬送通路と、
前記紙幣搬送通路上に着脱可能に設けられ、前記第１の紙幣を収納する第１の紙幣収納部と、
前記第１の紙幣収納部の下流側に設けられ、釣り札として使用されない第２の紙幣を収納する第２の紙幣収納部と、を備えることを特徴とする紙幣処理装置。
【請求項７】
前記第１の紙幣の二枚重ねを検出した場合に、二枚重ねの前記第１の紙幣を前記第２の紙幣収納部に収納することを特徴とする請求項６に記載の紙幣処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（５）本発明は、上記（４）の構成において、前記第２の搬送通路上に設けられ、前記第１の紙幣収納部に収納された前記第１の紙幣を繰出す紙幣繰出し機構をさらに備えることを特徴とする。
（６）本発明は、紙幣処理装置であって、装置本体と、前記装置本体の正面に設けられる紙幣挿入口と、前記紙幣挿入口の近傍に配置され、前記装置本体の正面に設けられる紙幣払出口と、前記装置本体の内部に設けられた、前記紙幣挿入口と前記紙幣払出口とをつなぐ単一経路の紙幣搬送通路であって、前記紙幣挿入口から受け入れられ、釣り札として使用可能な第１の紙幣を、前記装置本体の内部を循環させて前記紙幣払出口に搬送可能な紙幣搬送通路と、前記紙幣搬送通路上に着脱可能に設けられ、前記第１の紙幣を収納する第１の紙幣収納部と、前記第１の紙幣収納部の下流側に設けられ、釣り札として使用されない第２の紙幣を収納する第２の紙幣収納部と、を備えることを特徴とする。
（７）本発明は、上記（６）の構成において、前記第１の紙幣の二枚重ねを検出した場合に、二枚重ねの前記第１の紙幣を前記第２の紙幣収納部に収納することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月26日(2018.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザにより入力されたコマンドを取得するコマンド取得手段と、
前記コマンド取得手段により取得したコマンドの入力時の画像を取得する画像取得手段と、
前記画像取得手段により取得した画像に基づき、前記コマンド取得手段により取得したコマンドの実行を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
コマンドと当該コマンドの監視ランクとを対応付けて記憶し、ユーザ毎にコマンドの監視権限を示すランクを対応付けて記憶する記憶手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記コマンド取得手段により取得したコマンドの監視ランクに対応する監視権限を有するユーザが、前記画像取得手段により取得した画像に含まれている場合に、当該コマンドを実行することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記記憶手段には、コマンドと当該コマンドの監視ランクに、作業者が対応付けて記憶されていることを特徴とし、
前記制御手段は、さらに、前記コマンドに対応付けられた作業者により当該コマンドが入力された場合に、当該コマンドを実行することを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
ユーザにより入力されたユーザ識別情報を取得する識別情報取得手段をさらに備え、
前記識別情報取得手段により取得したユーザ識別情報により特定されるユーザを前記作業者として特定することを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
情報処理装置における情報処理方法であって、
前記情報処理装置のコマンド取得手段が、ユーザにより入力されたコマンドを取得するコマンド取得工程と、
前記情報処理装置の画像取得手段が、前記コマンド取得工程により取得したコマンドの入力時の画像を取得する画像取得工程と、
前記情報処理装置の制御手段が、前記画像取得工程により取得した画像に基づき、前記コマンド取得工程により取得したコマンドの実行を制御する制御工程と、
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【請求項６】
コンピュータを、
ユーザにより入力されたコマンドを取得するコマンド取得手段と、
前記コマンド取得手段により取得したコマンドの入力時の画像を取得する画像取得手段と、
前記画像取得手段により取得した画像に基づき、前記コマンド取得手段により取得したコマンドの実行を制御する制御手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月20日(2018.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乾式工法の軽量耐火間仕切壁の目地構造において、 
該間仕切壁は、中空層又は中空部と、その両側に建込まれた下張り面材及び上張り面材とを有する耐火構造壁であり、
隣接する前記下張り面材が突付け目地を形成し、隣接する前記上張り面材の側面が相互離間して目透し目地の目地内空間を形成し、該目地内空間は、縦横方向又は水平・垂直方向に前記突付け目地と交差しており、
通気性を有する不燃繊維材料の帯状材が、前記目透し目地の目地底に敷設されて、該目地底を室内空間から隠蔽し、前記帯状材は、前記目地内空間の目地底部分を占め、該目地内空間の残部は、室内空間に開口して壁面に表れる目透し目地を形成することを特徴とする軽量耐火間仕切壁の目地構造。
【請求項２】
前記上張り面材の室内側表面には、内装仕上げ材料が施されており、該内装仕上げ材料の縁部が、前記目地内空間に延入し且つ該目地内空間に露出するとともに、該目地内空間において互いに対向していることを特徴とする請求項１に記載の目地構造。
【請求項３】
前記下張り面材が厚さ１２．５ｍｍ厚の石膏ボードであることを特徴とする請求項１又は２に記載の目地構造。
【請求項４】
前記下張り面材及び上張り面材が同一の板厚を有する石膏ボードであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の目地構造。
【請求項５】
前記帯状材は、２〜６mmの範囲内の厚さを有するロックウールのフェルト又は板体からなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の目地構造。
【請求項６】
前記目透し目地の目地底に位置する前記下張り面材の突付け目地が前記目透し目地の目地幅に亘ってシール材によって気密処理されており、該シール材が前記帯状材と前記下張り面材との間に介挿されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の目地構造。
【請求項７】
前記シール材は、ウレタン樹脂系シーリング材又は変性シリコン系シーリング材からなることを特徴とする請求項６に記載の目地構造。
【請求項８】
乾式工法の軽量耐火間仕切壁における目地の施工方法において、 
該間仕切壁は、中空層又は中空部と、その両側に建込まれた下張り面材及び上張り面材とを有する耐火構造壁であり、
隣接する前記下張り面材を突き付けて突付け目地を形成し、 
隣接する前記上張り面材の側面を相互離間して目透し目地の目地内空間を形成するとともに、該目地内空間を縦横方向又は水平・垂直方向に前記突付け目地と交差させ、 
通気性を有する不燃繊維材料の帯状材を前記目地底に敷設し、前記目地内空間の目地底部分を前記帯状材によって占めることにより、前記目地底を前記帯状材によって室内空間から隠蔽するとともに、室内空間に開口した前記目地内空間の残部によって、壁面に目透し目地を表出せしめることを特徴とする軽量耐火間仕切壁の目地施工方法。
【請求項９】
前記上張り面材の室内側表面に内装仕上げ材料を施工し、該内装仕上げ材料の縁部を前記目地内空間に延入させ且つ該縁部を該目地内空間に露出させ、前記縁部を該目地内空間において互いに対向せしめることを特徴とする請求項８に記載の目地施工方法。
【請求項１０】
前記下張り面材が厚さ１２．５ｍｍの石膏ボードであることを特徴とする請求項８又は９に記載の目地施工方法。
【請求項１１】
前記下張り面材及び上張り面材が同一の板厚を有する石膏ボードであることを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか１項に記載の目地施工方法。
【請求項１２】
前記帯状材は、２〜６mmの範囲内の厚さを有するロックウールのフェルト又は板体からなることを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか１項に記載の目地施工方法。
【請求項１３】
隣接する前記上張り面材の側面を相互離間して目透し目地を形成した後、該目透し目地の目地底に位置する前記下張り面材の突付け目地を前記目透し目地の目地幅に亘ってシール材によって気密処理し、しかる後、前記帯状材を前記目透し目地の目地底に敷設することを特徴とする請求項８乃至１２のいずれか１項に記載の目地施工方法。
【請求項１４】
前記シール材は、ウレタン樹脂系シーリング材又は変性シリコン系シーリング材からなることを特徴とする請求項１３に記載の目地施工方法。
【請求項１５】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載された目地構造を有する目透し目地が少なくとも一方の側の壁面に形成されていることを特徴とする軽量耐火間仕切壁。 
【請求項１６】
請求項８乃至１４のいずれか１項に記載された目地施工方法を用いて少なくとも一方の側の壁面に目透し目地を形成することを特徴とする軽量耐火間仕切壁の施工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、上記目的を達成すべく、乾式工法の軽量耐火間仕切壁の目地構造において、
該間仕切壁は、中空層又は中空部と、その両側に建込まれた下張り面材及び上張り面材とを有する耐火構造壁であり、
隣接する前記下張り面材が突付け目地を形成し、隣接する前記上張り面材の側面が相互離間して目透し目地の目地内空間を形成し、該目地内空間は、縦横方向又は水平・垂直方向に前記突付け目地と交差しており、
通気性を有する不燃繊維材料の帯状材が、前記目透し目地の目地底に敷設されて、該目地底を室内空間から隠蔽し、前記帯状材は、前記目地内空間の目地底部分を占め、該目地内空間の残部は、室内空間に開口して壁面に表れる目透し目地を形成することを特徴とする軽量耐火間仕切壁の目地構造を提供する。
好ましくは、上記上張り面材の室内側表面には、内装仕上げ材料が施されており、該内装仕上げ材料の縁部が、前記目地内空間に延入し且つ該目地内空間に露出するとともに、該目地内空間において互いに対向する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
他の観点より、本発明は、  乾式工法の軽量耐火間仕切壁における目地の施工方法において、 
該間仕切壁は、中空層又は中空部と、その両側に建込まれた下張り面材及び上張り面材とを有する耐火構造壁であり、
隣接する前記下張り面材を突き付けて突付け目地を形成し、 
隣接する前記上張り面材の側面を相互離間して目透し目地の目地内空間を形成するとともに、該目地内空間を縦横方向又は水平・垂直方向に前記突付け目地と交差させ、 
通気性を有する不燃繊維材料の帯状材を前記目地底に敷設し、前記目地内空間の目地底部分を前記帯状材によって占めることにより、前記目地底を前記帯状材によって室内空間から隠蔽するとともに、室内空間に開口した前記目地内空間の残部によって、壁面に目透し目地を表出せしめることを特徴とする軽量耐火間仕切壁の目地施工方法を提供する。
好ましくは、上記上張り面材の室内側表面に内装仕上げ材料を施工し、該内装仕上げ材料の縁部を前記目地内空間に延入させ且つ該縁部を該目地内空間に露出させ、前記縁部を該目地内空間において互いに対向せしめる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月9日(2018.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大型無機質板を躯体に固定する方法であって、
（ａ）  その深さが、その直径と同じかそれよりも小である、円形の非貫通孔を、一方の面に有する大型無機質板を用意する工程と、
（ｂ）  前記躯体と接続する接続部と、前記非貫通孔に係止される板状の係止部とを備えてなる固定部材を用意する工程であって、
前記固定部材は、一部が切れた円形の外周形状を有する板状の部材であり、前記係止部と前記接続部との間には、さらに支持部を備えてなり、当該支持部の一端から前記係止部が延在し、当該支持部の他端側に前記接続部を備え、
前記支持部は前記係止部の中央部から前記円の中心に向かって延在し、その先に前記接続部が存在してなり、
前記係止部が、前記面に沿った方向に変形可能であり、前記非貫通孔に挿入可能であり、かつ、前記非貫通孔の内壁に当接する当接面を備えてなるものを用意する工程と、
（ｃ）  前記係止部に力を加えてその形を歪めて前記非貫通孔に前記係止部を挿入し、前記係止部を前記非貫通孔の内壁に面して当接し押圧させることにより、前記固定部材を前記大型無機質板に係止する工程と、
（ｄ）  前記接続部を躯体に接続する工程と、
（ｅ）  前記非貫通孔を有する面と躯体とを接着する工程と
を含んでなる、方法。
【請求項２】
前記係止部は、前記板状の係止部の面に沿った方向にその形が歪められる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記係止部が、歪動が可能な可動端とされてなる、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記固定部材の前記係止部が、歪められた形からの、それ自身の復元力によって前記内壁を押圧するものとされてなる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記係止部が、前記当接面の略全体で前記内壁を押圧するものとされてなる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記接続部の前記躯体への接続が、前記固定部材の接続部に接続材を結合し、前記接続部に結合されている端とは反対側の前記接続材の端を前記躯体に接続することにより行なわれる、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記工程（ｂ）において接続材が予め前記接続部に結合された固定部材を用意し、前記接続部の前記躯体への接続が、前記接続物に結合されている端とは反対側の前記接続部の端を前記躯体に接続することにより行なわれる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記接続材が線材である、請求項６または７に記載の方法。
【請求項９】
前記大型無機質板が、陶磁器、石、またはガラスからなるものである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記大型無機質板が一辺９００ｍｍ以上、厚さ１０ｍｍまでのものである、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記非貫通孔の深さが、前記無機質板の厚さの半分以下とされてなる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記非貫通孔の深さが６ｍｍ以下である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
その深さが、その直径と同じかそれよりも小である、円形の非貫通孔を、一方の面に有する大型無機質板を躯体に固定するために用いられる固定部材であって、
前記固定部材は、一部が切れた円形の外周形状を有する板状の部材であり、
前記躯体と接続する接続部と、前記非貫通孔に係止される板状の係止部とを備えてなり、
前記係止部と前記接続部との間には、さらに支持部を備えてなり、当該支持部の一端から前記係止部が延在し、当該支持部の他端側に前記接続部を備え、
前記支持部は前記係止部の中央部から前記円の中心に向かって延在し、その先に前記接続部が存在してなり、
前記係止部が、前記面に沿った方向に変形可能であり、前記非貫通孔に挿入可能であり、かつ、前記非貫通孔の内壁に当接する当接面を備えてなるものであることを特徴とする、固定部材。
【請求項１４】
躯体と、該躯体に固定された無機質板構造物であって、
前記無機質板が、その深さが、その直径と同じかそれよりも小である、円形の非貫通孔を、一方の面に有し、
当該貫通孔には固定部材が挿入されてなり、ここで当該固定部材は、一部が切れた円形の外周形状を有する板状の部材であり、前記躯体と接続する接続部と、前記非貫通孔に係止される板状の係止部とを備えてなり、
前記係止部と前記接続部との間には、さらに支持部を備えてなり、当該支持部の一端から前記係止部が延在し、当該支持部の他端側に前記接続部を備え、
前記支持部は前記係止部の中央部から前記円の中心に向かって延在し、その先に前記接続部が存在してなり、前記係止部が、前記面に沿った方向に変形して非貫通孔に挿入可能であり、かつ、前記非貫通孔の内壁に当接する当接面を備えてなり、
前記固定部材が躯体に接続され、さらに
前記非貫通孔を有する面と躯体とが接着されてなることを特徴とする、構造物。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月19日(2018.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
【化２０１】
2017186358.tif 000001
【化２０２】
2017186358.tif 000002
の群から選択される化合物またはその薬学的に許容される塩もしくは水和物。
【請求項２】
治療有効量の請求項１に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩もしくは水和物を含む、医薬組成物。
【請求項３】
フィロウイルス科ウイルス感染症を処置するための組成物であって、請求項１に記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩もしくは水和物を含む、組成物。
【請求項４】
エボラウイルス感染症を処置するための組成物であって、請求項１に記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩もしくは水和物を含む、組成物。
【請求項５】
マールブルグウイルス感染症を処置するための組成物であって、請求項１に記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩もしくは水和物を含む、組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月20日(2018.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非可食バイオマス資源を原料として、溶媒中で触媒の存在下に反応を行って、炭素数５の単糖及び炭素数５の単糖を構成成分として有する多糖の少なくとも一方を含む糖液を得、
該糖液中の該炭素数５の単糖及び該炭素数５の単糖を構成成分として有する多糖の少なくとも一方を脱水反応によりフルフラールに変換して該フルフラールを含む反応液を得、
該反応液を該フルフラールを含む有機層と水層とに２層分離するフルフラールの製造方法であって、
２５℃、大気圧下での密度が０．９０ｇ／ｃｍ３以上１．１ｇ／ｃｍ３以下の芳香族炭化水素溶媒を用いて、
該反応液を９０℃を超え１５０℃未満で２層分離する、フルフラールの製造方法。
【請求項２】
前記反応液中の有機酸濃度が０．１重量％以上４０重量％以下である、請求項１に記載のフルフラールの製造方法。
【請求項３】
前記反応液中の有機酸濃度を０．１重量％以上４０重量％以下に制御する、請求項1又は２に記載のフルフラールの製造方法。
【請求項４】
前記芳香族炭化水素溶媒の大気圧下での沸点が１６０℃以上２８０℃以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフルフラールの製造方法。
【請求項５】
前記反応液中の酢酸濃度が０．２重量％以上２重量％以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフルフラールの製造方法。
【請求項６】
非可食バイオマス資源を原料として、溶媒中で触媒の存在下に反応を行って、炭素数５の単糖及び炭素数５の単糖を構成成分として有する多糖の少なくとも一方を含む糖液を得、
該糖液中の該炭素数５の単糖及び該炭素数５の単糖を構成成分として有する多糖の少なくとも一方を脱水反応によりフルフラールに変換して該フルフラールを含む反応液を得、
該反応液を該フルフラールを含む有機層と水層とに２層分離し、連続的に該フルフラールを得る、フルフラールの製造方法であって、
２５℃、大気圧下での密度が０．９０ｇ／ｃｍ３以上１．１ｇ／ｃｍ３以下の芳香族炭化水素溶媒を用いて、
該反応液を９０℃を超え１５０℃未満で２層分離する、フルフラールの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
［１］  非可食バイオマス資源を原料として、溶媒中で触媒の存在下に反応を行って、炭素数５の単糖及び炭素数５の単糖を構成成分として有する多糖の少なくとも一方を含む糖液を得、該糖液中の該炭素数５の単糖及び該炭素数５の単糖を構成成分として有する多糖の少なくとも一方を脱水反応によりフルフラールに変換して該フルフラールを含む反応液を得、該反応液を該フルフラールを含む有機層と水層とに２層分離するフルフラールの製造方法であって、２５℃、大気圧下での密度が０．９０ｇ／ｃｍ３以上１．１ｇ／ｃｍ３以下の芳香族炭化水素溶媒を用いて、該反応液を９０℃を超え１５０℃未満で２層分離する、フルフラールの製造方法。
［２］  前記反応液中の有機酸濃度が０．１重量％以上４０重量％以下である、［１］に記載のフルフラールの製造方法。
［３］  前記反応液中の有機酸濃度を０．１重量％以上４０重量％以下に制御する、［1］又は［２］に記載のフルフラールの製造方法。
［４］  前記芳香族炭化水素溶媒の大気圧下での沸点が１６０℃以上２８０℃以下である、［１］〜［３］のいずれかに記載のフルフラールの製造方法。
［５］  前記反応液中の酢酸濃度が０．２重量％以上２重量％以下である、［１］〜［４］のいずれかに記載のフルフラールの製造方法。
［６］  非可食バイオマス資源を原料として、溶媒中で触媒の存在下に反応を行って、炭素数５の単糖及び炭素数５の単糖を構成成分として有する多糖の少なくとも一方を含む糖液を得、該糖液中の該炭素数５の単糖及び該炭素数５の単糖を構成成分として有する多糖の少なくとも一方を脱水反応によりフルフラールに変換して該フルフラールを含む反応液を得、該反応液を該フルフラールを含む有機層と水層とに２層分離し、連続的に該フルフラールを得る、フルフラールの製造方法であって、２５℃、大気圧下での密度が０．９０ｇ／ｃｍ３以上１．１ｇ／ｃｍ３以下の芳香族炭化水素溶媒を用いて、該反応液を９０℃を超え１５０℃未満で２層分離する、フルフラールの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
表１より次のことが分かる。
本発明規定の芳香族炭化水素溶媒を用いて、２層分離における温度を本発明の規定範囲内とした実施例１〜４では、有機層側に高いＦＲＬ分配率でフルフラールを抽出分離することができ、水層の有機溶媒濃度も低い。
２層分離における温度が９０℃未満の比較例１（４０℃）、比較例２（８０℃）では水層への有機溶媒ロスが大幅に増加した。２層分離における温度が１５０℃を超えている比較例３（１６０℃）は有機層側へのフルフラール分配率が大幅に低下し、かつ水層への有機溶媒ロスも増加した。常温（２５℃）、大気圧下（１００ｋＰａ）での密度が０．９０ｇ／ｃｍ３を下回り、本発明の規定溶媒以外の溶媒を使用した比較例４（ブチルベンゼン：０．８６ｇ／ｃｍ３）も有機層側へのフルフラール分配率が大幅に低下し、かつ水層への有機溶媒ロスも増加した。
したがって、粗フルフラールを２層分離する際には、本発明のように、２５℃、大気圧下での密度が０．９０ｇ／ｃｍ３以上１．１ｇ／ｃｍ３以下の芳香族炭化水素溶媒を選択的に用いると、９０℃を超え１５０℃未満という特定の高温度範囲において、フルフラールの抽出効率が高まることがわかる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月27日(2018.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
［比較例７］
ポリマーアロイ中の高密度ポリエチレンの比率を５質量％、ポリエチレンテレフタレート比率を９５質量％とし、表２に示した容積比率とした以外は、実施例１と同様に８４ｄｔｅｘ／２４ｆの芯鞘型複合繊維を得た。更に実施例１と同様に仮撚り加工を行い、仮撚り加工糸を得た。得られた仮撚加工糸を用いて、耐摩擦防融性評価行った。結果を表２に示す。尚、耐摩擦防融性能が低かった為、テカリ摩擦防融性能評価は、実施しなかった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
［比較例８］
ポリマーアロイ中の高密度ポリエチレンを、融点が２２５℃のポリアミド６（６ナイロン）に代えた以外は実施例２と同様に、８４ｄｔｅｘ／２４ｆ芯鞘型複合繊維を得た。次に実施例１と同様に撚り加工を行い、仮撚り加工糸を得た。得られた仮撚り加工糸を用いて、耐摩擦防融性評価を実施した。結果を表２に示す。尚、テカリ摩擦防融性能評価は耐摩擦防融性評価にて穴あきが生じた為、実施しなかった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
【表２】
2017186680.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月1日(2017.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超伝導線に用いられる超伝導安定化材であって、
Ｍｇ，Ｍｎ，Ｔｉ，Ｙ，Ｚｒから選択される１種又は２種以上の添加元素を合計で３質量ｐｐｍ以上１００質量ｐｐｍ以下の範囲内で含有し、残部がＣｕ及び不可避不純物とされるとともに、ガス成分であるＯ，Ｈ，Ｃ，Ｎ，Ｓを除く前記不可避不純物の濃度の総計が５質量ｐｐｍ以上１００質量ｐｐｍ以下とされた銅材からなり、
母相内部に、ＭｇＳ，ＭｇＳＯ４，ＭｎＳ，ＴｉＳ，ＹＳ，Ｙ２ＳＯ２，ＺｒＳから選択される１種又は２種以上を含む化合物が存在し、
前記不可避不純物であるＦｅの含有量が１０質量ｐｐｍ以下、Ｎｉの含有量が１０質量ｐｐｍ以下、Ａｓの含有量が５質量ｐｐｍ以下、Ａｇの含有量が５０質量ｐｐｍ以下、Ｓｎの含有量が４質量ｐｐｍ以下、Ｓｂの含有量が４質量ｐｐｍ以下、Ｐｂの含有量が６質量ｐｐｍ以下、Ｂｉの含有量が２質量ｐｐｍ以下、Ｐの含有量が３質量ｐｐｍ以下とされていることを特徴とする超伝導安定化材。
【請求項２】
Ｓ，Ｓｅ，Ｔｅの合計含有量（Ｘ質量ｐｐｍ）と、Ｍｇ，Ｍｎ，Ｔｉ，Ｙ，Ｚｒから選択される１種又は２種以上の添加元素の合計含有量（Ｙ質量ｐｐｍ）との比Ｙ／Ｘが、０．５≦Ｙ／Ｘ≦１００の範囲内とされていることを特徴とする請求項１に記載の超伝導安定化材。
【請求項３】
残留抵抗比（ＲＲＲ）が２５０以上であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の超伝導安定化材。
【請求項４】
超伝導体を含む素線と、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の超伝導安定化材と、を備えていることを特徴とする超伝導線。
【請求項５】
請求項４に記載の超伝導線が巻枠の周面に巻回されてなる巻線部を備えた構造を有することを特徴とする超伝導コイル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、上述の知見に基づいてなされたものであって、本発明の超伝導安定化材は、超伝導線に用いられる超伝導安定化材であって、Ｍｇ，Ｍｎ，Ｔｉ，Ｙ，Ｚｒから選択される１種又は２種以上の添加元素を合計で３質量ｐｐｍ以上１００質量ｐｐｍ以下の範囲内で含有し、残部がＣｕ及び不可避不純物とされるとともに、ガス元素であるＯ，Ｈ，Ｃ，Ｎ，Ｓを除く前記不可避不純物の濃度の総計が５質量ｐｐｍ以上１００質量ｐｐｍ以下とされた銅材からなり、母相内部に、ＭｇＳ，ＭｇＳＯ４，ＭｎＳ，ＴｉＳ，ＹＳ，Ｙ２ＳＯ２，ＺｒＳから選択される１種又は２種以上を含む化合物が存在し、前記不可避不純物であるＦｅの含有量が１０質量ｐｐｍ以下、Ｎｉの含有量が１０質量ｐｐｍ以下、Ａｓの含有量が５質量ｐｐｍ以下、Ａｇの含有量が５０質量ｐｐｍ以下、Ｓｎの含有量が４質量ｐｐｍ以下、Ｓｂの含有量が４質量ｐｐｍ以下、Ｐｂの含有量が６質量ｐｐｍ以下、Ｂｉの含有量が２質量ｐｐｍ以下、Ｐの含有量が３質量ｐｐｍ以下とされていることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
ここで、本発明の超伝導安定化材においては、前記不可避不純物であるＦｅの含有量が１０質量ｐｐｍ以下、Ｎｉの含有量が１０質量ｐｐｍ以下、Ａｓの含有量が５質量ｐｐｍ以下、Ａｇの含有量が５０質量ｐｐｍ以下、Ｓｎの含有量が４質量ｐｐｍ以下、Ｓｂの含有量が４質量ｐｐｍ以下、Ｐｂの含有量が６質量ｐｐｍ以下、Ｂｉの含有量が２質量ｐｐｍ以下、Ｐの含有量が３質量ｐｐｍ以下とされている。
不可避不純物の中でも、Ｆｅ，Ｎｉ，Ａｓ，Ａｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｐといった特定不純物の元素は、残留抵抗比（ＲＲＲ）を低下させる作用を有している。そこで、これらの元素の含有量を上述のように規定することで、確実に残留抵抗比（ＲＲＲ）を向上させることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月22日(2018.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板に対し、厚み方向の途中位置まで、レーザを照射し、加工穴を形成する第１加工部と、
前記第１加工部で加工された前記ガラス基板全体を加熱する第２加工部とを備え、
前記第２加工部で加工された前記ガラス基板に、前記第１加工部で加工された前記加工穴の位置にさらにレーザを照射し、貫通穴を形成することを特徴とするレーザ加工装置。
【請求項２】
前記第１加工部を制御するレーザ制御部を備え、
前記第１加工部の加工穴形成時のレーザ照射位置と、前記貫通穴形成時のレーザ照射位置との距離は、前記レーザ制御部によって、前記第１加工部および前記貫通穴形成時のレーザ照射径の平均半径以内に制御されることを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工装置。
【請求項３】
前記第２加工部で加工された前記ガラス基板に、前記第１加工部で加工された前記加工穴の位置にさらにレーザを照射し、貫通穴を形成する第３加工部を備え、
前記第３加工部のレーザ照射径は、前記第１加工部のレーザ照射径以下であることを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工装置。
【請求項４】
前記第１加工部は、
レーザ照射前の前記ガラス基板の表面または裏面に保護材を貼着する保護材貼着部と、
レーザ照射後の前記ガラス基板の表面または裏面の前記保護材を剥離する保護材剥離部とを備えたことを特徴とする請求項１または２に記載のレーザ加工装置。
【請求項５】
前記第１加工部は、波長９．０μｍから１１．０μｍのパルスＣＯ2レーザからなるレーザ照射部を備えたことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のレーザ加工装置。
【請求項６】
ガラス基板に対してレーザを照射し、側面に傾斜をもつ貫通穴を形成する第１加工部と、前記第１加工部で加工された前記ガラス基板全体を加熱する第２加工部とを備え、前記第２加工部で加工された前記ガラス基板に、前記貫通穴の位置にさらにレーザを照射し、前記貫通穴よりも急峻な傾斜をもつ断面形状の貫通穴を形成することを特徴とするレーザ加工装置。
【請求項７】
ガラス基板に対し、厚み方向の途中位置まで、レーザを照射し、加工穴を形成する第１工程と、
前記第１工程で加工された前記ガラス基板全体を加熱する第２工程と、
前記第２工程で加工された前記ガラス基板に、前記第１工程で加工された前記加工穴の位置にさらにレーザを照射し、貫通穴を形成する第３工程とを備えたことを特徴とするレーザ加工方法。
【請求項８】
前記第１工程および前記第３工程は、前記第１工程の加工穴形成時のレーザ照射位置と、前記第３工程の前記貫通穴形成時のレーザ照射位置との距離が、前記第１工程および前記第３工程のレーザ照射径の平均半径以内であることを特徴とする請求項７に記載のレーザ加工方法。
【請求項９】
前記第３工程のレーザ照射径は、前記第１工程のレーザ照射径以下であることを特徴とする請求項８に記載のレーザ加工方法。
【請求項１０】
前記ガラス基板が、保護材付きガラス基板であることを特徴とする請求項７から９のいずれか１項に記載のレーザ加工方法。
【請求項１１】
前記第１工程におけるレーザ照射に先立ち、前記ガラスの表面または裏面に保護材を貼着する保護材貼着工程と、
レーザ照射後、前記ガラス基板の表面または裏面の前記保護材を剥離する保護材剥離工程とを備えたことを特徴とする請求項７から１０のいずれか１項に記載のレーザ加工方法。
【請求項１２】
前記第３工程で加工されたガラス基板全体を加熱する第４工程を備えたことを特徴とする請求項７から１１のいずれか１項に記載のレーザ加工方法。
【請求項１３】
前記第１工程および前記第３工程は、波長９．０μｍから１１．０μｍのパルスＣＯ2レーザからなるレーザ照射部を用いることを特徴とする請求項７から１２のいずれか１項に記載のレーザ加工方法。
【請求項１４】
前記第３工程におけるレーザ照射に先立ち、前記ガラス基板の表面または裏面に第２保護材を貼着する第２保護材貼着工程と、
レーザ照射後、前記ガラス基板の表面または裏面の前記第２保護材を剥離する第２保護材剥離工程とを備えたことを特徴とする請求項１１に記載のレーザ加工方法。
【請求項１５】
前記保護材貼着工程と、前記第２保護材貼着工程とは、異なる仕様を有することを特徴とする請求項１４に記載のレーザ加工方法。
【請求項１６】
ガラス基板に対してレーザを照射し、側面に傾斜をもつ貫通穴を形成する第１工程と、前記第１工程で加工された前記ガラス基板全体を加熱する第２工程と、前記第２工程で加工された前記ガラス基板に、前記第１工程で加工された前記貫通穴の位置にさらにレーザを照射し、前記第１工程で形成された前記貫通穴よりも急峻な傾斜をもつ断面形状の貫通穴を形成する第３工程とを備えたことを特徴とするレーザ加工方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月16日(2018.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両（５００）における制動支援装置（１０）であって、
対象物を検知するための対象物検知部（２１、２１ｓ、２２）と、
自車両（Ｍ１）の交差点への進入を判定する交差点進入判定部（１００、１０１、Ｐ１）と、
対象物（Ｍ２〜Ｍ４、ＰＤ）との衝突回避または衝突軽減のために制動装置（５０２）による制動支援を実行する制動支援実行部であって、自車両の交差点への進入が判定された場合に、前記対象物検知部による検知結果を用いて交差点における交通環境を判別し、判別した前記交通環境に応じて前記制動支援の実行を制御する制動支援実行部（１００、１０１、Ｐ２）と、を備え、
前記制動支援実行部は、自車両に対して直交交差する直交車両（Ｍ２）が存在する場合に、前記制動支援により他車両（Ｍ２、Ｍ３）との衝突を招く可能性を示す交通環境であると判別し、前記制動支援を実行しない、
車両における制動支援装置。
【請求項２】
車両（５００）における制動支援装置（１０）であって、
対象物を検知するための対象物検知部（２１、２１ｓ、２２）と、
自車両（Ｍ１）の交差点への進入を判定する交差点進入判定部（１００、１０１、Ｐ１）と、
対象物（Ｍ２〜Ｍ４、ＰＤ）との衝突回避または衝突軽減のために制動装置（５０２）による制動支援を実行する制動支援実行部であって、自車両の交差点への進入が判定された場合に、前記対象物検知部による検知結果を用いて交差点における交通環境を判別し、判別した前記交通環境に応じて前記制動支援の実行を制御する制動支援実行部（１００、１０１、Ｐ２）と、を備え、
前記制動支援実行部は、前記判別した交通環境が、制動支援により他車両との衝突を招く可能性を示さない場合には、前記検知結果に応じた前記制動支援を実行する、
る、車両における制動支援装置。
【請求項３】
請求項２に記載の車両における制動支援装置において、
前記制動支援実行部は、自車両に対して直交交差する直交車両が存在しない場合に、前記制動支援により他車両との衝突を招く可能性を示さない交通環境であると判別する、車両における制動支援装置。
【請求項４】
請求項３に記載の車両における制動支援装置において、
前記制動支援実行部は、自車両が進行する方向における信号機が青信号である場合に、自車両に対する直交車両は存在しないと判断する、車両における制動支援装置。
【請求項５】
請求項２から４のいずれか一項に記載の車両における制動支援装置において、
前記制動支援実行部は、さらに、前記交通環境が、自車両が対向車線に対して交差進行し、交差点横断者と衝突の可能性があり、対向車両（Ｍ３）と接触することなく停止できる交通環境である判別する場合、前記制動支援として横断者対応制動支援を実行する、車両における制動支援装置。
【請求項６】
請求項５に記載の車両における制動支援装置において、
前記横断者対応制動支援は、交差点内における、自車両が前記対向車両と接触しない位置での制動停止を実現する制動支援である、車両における制動支援装置。
【請求項７】
請求項２から６のいずれか一項に記載の車両における制動支援装置において、
前記制動支援実行部は、自車両に備えられている対象物検知部の種類および前記判別した交差点環境の少なくともいずれか一方に応じて、異なる態様にて前記制動支援を実行する、車両における制動支援装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載の車両における制動支援装置において、
前記交差点進入判定部は、交差点形状、信号機の有無、道路標示、道路標識、自車両の走行軌跡の少なくともいずれか１つを用いて、自車両の交差点への進入を判定する、車両における制動支援装置。
【請求項９】
車両（５００）における制動支援方法であって、
自車両の交差点への進入を判定し、
自車両の交差点への進入が判定された場合に、対象物の検知結果を用いて交差点における交通環境を判別し、前記検知結果および前記判別した交通環境に応じて対象物との衝突回避または衝突軽減のために制動装置（５０２）を用いて実行される制動支援を制御すること、を備え、
自車両に対して直交交差する直交車両（Ｍ２）が存在する場合に、前記制動支援により他車両（Ｍ２、Ｍ３）との衝突を招く可能性を示す交通環境であると判別し、前記制動支援を実行しない、車両における制動支援方法。
【請求項１０】
車両（５００）における制動支援方法であって、
自車両の交差点への進入を判定し、
自車両の交差点への進入が判定された場合に、対象物の検知結果を用いて交差点における交通環境を判別し、前記検知結果および前記判別した交通環境に応じて対象物との衝突回避または衝突軽減のために制動装置（５０２）を用いて実行される制動支援を制御すること、を備え、
前記判別した交通環境が、制動支援により他車両との衝突を招く可能性を示さない場合には、前記検知結果に応じて前記制動支援を実行する、車両における制動支援方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月2日(2018.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、保守契約が結ばれた場合には、情報センター３０がエレベータ１０と接続され、情報センター３０は、保守契約に基づいて、エレベータ１０の状態を遠隔監視するとともに、必要に応じて遠隔制御を行うことができる。この場合には、携帯端末２０からの動作指令を、情報センター３０経由で制御盤１５に送信することもできる。なお、契約を結ぶ前に、エレベータ１０を一時的に情報センター３０と接続することも可能である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2018095325.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月5日(2018.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メタリック塗料組成物であって、
鱗片状の光輝性顔料と、
重量平均分子量が４００００〜６００００であり、かつ、ガラス転移点（Ｔｇ）が−２５〜４０℃である、ラッカー型のポリウレタン樹脂と、
溶剤とを
含む、前記メタリック塗料組成物。
【請求項２】
鱗片状の光輝性顔料がアルミニウムフレーク顔料である、請求項１に記載のメタリック塗料組成物。
【請求項３】
アルミニウムフレーク顔料の厚さが０．０１〜０．５μｍであり、
該アルミニウムフレーク顔料の粒子径（Ｄ５０）が５〜２０μｍであり、かつ
該アルミニウムフレーク顔料の粒子径（Ｄ９０）と粒子径（Ｄ１０）との差が５０μｍ以下である、請求項１〜２のいずれか１項に記載のメタリック塗料組成物。
【請求項４】
樹脂の重量平均分子量が４５０００〜５５０００である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のメタリック塗料組成物。
【請求項５】
樹脂のガラス転移点（Ｔｇ）が−１０〜２０℃である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のメタリック塗料組成物。
【請求項６】
更に有色顔料を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載のメタリック塗料組成物。
【請求項７】
アルミニウム製の車両用ホイール用の塗料である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のメタリック塗料組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のメタリック塗料組成物を用いた基材の塗装方法であって、以下の工程：
（１）粉体プライマーが塗装された基材上に、メタリック塗料組成物を塗装する工程、及び、
（２）工程（１）で得られたメタリック塗料組成物の塗布膜の上に、クリヤー塗料を塗装して加熱乾燥（Ｂ）する工程
を含む、前記塗装方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のメタリック塗料組成物の塗布膜。
【請求項１０】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のメタリック塗料組成物の塗布膜を有する基材。
【請求項１１】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のメタリック塗料組成物の塗布膜を有する基材を含む塗装体であって、
基材の上に粉体プライマーの塗布膜を有し、
該粉体プライマーの塗布膜の上に前記のメタリック塗料組成物の塗布膜を有し、
該メタリック塗料組成物の塗布膜の上にクリヤー塗料の塗布膜を最外層として有する、
ことを特徴とする、前記塗装体。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月1日(2018.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
第１電極と、
第２電極と、
前記第１電極と前記第２電極の間に位置し、それぞれが発光層を含む複数の有機層と、
隣り合う２つの前記有機層の間に位置する電荷発生層と、
を備え、
前記電荷発生層は、
電子輸送性材料を含む第１層と、
金属及び正孔注入材料を含む第２層と、
を有し、
前記電荷発生層は、前記第２層及び前記第１層の間または、前記第１層に電子注入材料を含む発光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、第１電極と、
第２電極と、
前記第１電極と前記第２電極の間に位置し、それぞれが発光層を含む複数の有機層と、
隣り合う２つの前記有機層の間に位置する電荷発生層と、
を備え、
前記電荷発生層は、
電子輸送性材料を含む第１層と、
金属及び正孔注入材料を含む第２層と、
を有し、
前記電荷発生層は、前記第２層及び前記第１層の間または、前記第１層に電子注入材料を含む発光装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月8日(2018.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像手段により連続的に撮影された複数フレームの画像をそれぞれ画面内で複数の領域に分割する分割手段と、
前記複数フレームの画像について、前記分割された領域ごとに動きベクトルを検出する動きベクトル検出手段と、
パンニング検出手段により検出した装置のパンニングの速度と、前記動きベクトル検出手段により検出された動きベクトルとを用いて、被写体の動きを示す被写体ベクトルと、背景の動きを示す背景ベクトルを分離する分離手段と、
距離検出手段により、前記複数フレームの画像について前記分割された領域ごとに検出された被写体の距離に関する情報を用いて、前記被写体ベクトルに重み付けをし、被写体領域を特定する特定手段と、
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記特定された被写体領域についての被写体ベクトルを用いて、被写体の速度を算出する算出手段をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記算出された被写体の速度に基づいて、画像の振れを補正する振れ補正手段の動きを制御し、流し撮り撮影をアシストするアシスト手段をさらに備えることを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記アシスト手段は、前記算出された被写体の速度と前記パンニングの速度の差分に基づいて、前記振れ補正手段の動きを制御することを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記被写体の距離に関する情報は、デフォーカス量であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
測距位置を取得する取得手段をさらに備え、前記特定手段は、前記取得された測距位置を用いて、前記被写体ベクトルに重み付けをすることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記特定手段は、前記複数の領域のうちの、前記測距位置に対応した領域の前記被写体の距離に関する情報と、その他の領域の前記被写体の距離に関する情報との差分値を用いて、前記被写体ベクトルに重み付けをすることを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記特定手段は、前記複数の領域のうちの、前記測距位置に対応した領域の前記動きベクトルと、その他の領域の前記動きベクトルとの差分値を用いて、前記被写体ベクトルに重み付けをすることを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記特定手段は、前記測距位置を基準とした前記被写体ベクトルの連続領域を用いて、前記被写体領域を特定することを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記分割された領域ごとに、色比を検出する色比検出手段をさらに備え、前記特定手段は、前記色比が所定の閾値以内であれば、同一の被写体として見なして前記被写体領域を特定することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
撮像手段により連続的に撮影された複数フレームの画像をそれぞれ画面内で複数の領域に分割する分割手段と、
前記複数フレームの画像について、前記分割された領域ごとに動きベクトルを検出する動きベクトル検出手段と、
パンニング検出手段により検出された装置のパンニング情報と、前記動きベクトル検出手段により検出された複数の動きベクトルと、距離検出手段により前記分割された領域ごとに検出された被写体の距離に関する情報とを用いて、前記動きベクトル検出手段により検出された複数の動きベクトルに対して被写体の動きを示す被写体ベクトルと、背景の動きを示す背景ベクトルとを分離する分離手段と、
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項１２】
前記分離手段により分離された前記被写体ベクトルに基づいて、画像の振れを補正する振れ補正手段を制御する制御手段をさらに備えることを特徴とする請求項１１に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
撮像手段により連続的に撮影された複数フレームの画像をそれぞれ画面内で複数の領域に分割する分割工程と、
前記複数フレームの画像について、前記分割された領域ごとに動きベクトルを検出する動きベクトル検出工程と、
パンニング検出手段により検出した装置のパンニングの速度と、前記動きベクトル検出工程において検出された動きベクトルとを用いて、被写体の動きを示す被写体ベクトルと、背景の動きを示す背景ベクトルを分離する分離工程と、
距離検出手段により、前記複数フレームの画像について前記分割された領域ごとに検出された被写体の距離に関する情報を用いて、前記被写体ベクトルに重み付けをし、被写体領域を特定する特定工程と、
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１４】
撮像手段により連続的に撮影された複数フレームの画像をそれぞれ画面内で複数の領域に分割する分割工程と、
前記複数フレームの画像について、前記分割された領域ごとに動きベクトルを検出する動きベクトル検出工程と、
パンニング検出手段により検出された装置のパンニング情報と、前記動きベクトル検出工程において検出された複数の動きベクトルと、距離検出手段により前記分割された領域ごとに検出された被写体の距離に関する情報とを用いて、前記動きベクトル検出工程において検出された複数の動きベクトルに対して被写体の動きを示す被写体ベクトルと、背景の動きを示す背景ベクトルを分離する分離工程と、
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載の画像処理方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１６】
請求項１３または１４に記載の画像処理方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラムを記憶したコンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係わる画像処理装置は、撮像手段により連続的に撮影された複数フレームの画像をそれぞれ画面内で複数の領域に分割する分割手段と、前記複数フレームの画像について、前記分割された領域ごとに動きベクトルを検出する動きベクトル検出手段と、パンニング検出手段により検出した装置のパンニングの速度と、前記動きベクトル検出手段により検出された動きベクトルとを用いて、被写体の動きを示す被写体ベクトルと、背景の動きを示す背景ベクトルを分離する分離手段と、距離検出手段により、前記複数フレームの画像について前記分割された領域ごとに検出された被写体の距離に関する情報を用いて、前記被写体ベクトルに重み付けをし、被写体領域を特定する特定手段と、を備えることを特徴とする。
また、本発明に係わる画像処理装置は、撮像手段により連続的に撮影された複数フレームの画像をそれぞれ画面内で複数の領域に分割する分割手段と、前記複数フレームの画像について、前記分割された領域ごとに動きベクトルを検出する動きベクトル検出手段と、パンニング検出手段により検出された装置のパンニング情報と、前記動きベクトル検出手段により検出された複数の動きベクトルと、距離検出手段により前記分割された領域ごとに検出された被写体の距離に関する情報とを用いて、前記動きベクトル検出手段により検出された複数の動きベクトルに対して被写体の動きを示す被写体ベクトルと、背景の動きを示す背景ベクトルとを分離する分離手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月14日(2018.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
監視領域内での異常を検知する異常検知手段と、
飛行機能を備えた飛行ロボットと、
前記飛行ロボットと無線通信して飛行状態情報を取得するとともに、前記異常検知手段が異常を検知すると前記飛行ロボットへ異常検知箇所へ飛行し、撮影を行う旨の指示情報を送信する飛行制御装置とからなる監視システムであって、
前記飛行ロボットは、飛行高度を制御する高度制御手段と、撮影手段とを備え、
前記飛行制御装置は、前記飛行ロボットから飛行状態情報として取得した飛行高度に応じて撮影を許可するか否かを判別して前記撮影手段を制御する撮影制御手段を有することを特徴とする監視システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記飛行ロボットの飛行高度が設定高度未満のときに、前記撮影手段による撮影を許可して飛行速度を基準速度以下に制限することを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の監視システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記した目的を達成するために、本発明に係る監視システムは、監視領域内での異常を検知する異常検知手段と、
飛行機能を備えた飛行ロボットと、
前記飛行ロボットと無線通信して飛行状態情報を取得するとともに、前記異常検知手段が異常を検知すると前記飛行ロボットへ異常検知箇所へ飛行し、撮影を行う旨の指示    情報を送信する飛行制御装置とからなる監視システムであって、
前記飛行ロボットは、飛行高度を制御する高度制御手段と、撮影手段とを備え、
前記飛行制御装置は、前記飛行ロボットから飛行状態情報として取得した飛行高度に応じて撮影を許可するか否かを判別して前記撮影手段を制御する撮影制御手段を有することを特徴とする。