(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれが複数個あるいは単数の基板領域を含む一対のガラスからなる液晶パネル母材を互いに対向するように貼り合わせる工程と、対向するに至った対をなす複数個あるいは単数の基板領域間に電気光学材料を封入する工程と、前記一対の液晶パネル母材に対して個々の基板領域の外周縁に沿って液晶パネル母材を切断する工程を含む電気光学装置の製造方法において、前記液晶パネル母材を切断する工程は、定盤の表面に前記一対の液晶パネル母材を載置し、少なくとも前記液晶パネル母材が載置される定盤の最高表面温度を４０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差を前記最高表面温度から０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内に制御しながら前記液晶パネル母材に対して個々の基板領域の外周縁に沿ってレーザーカットする工程であること特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記液晶パネル母材をレーザーカットするに際して、前記定盤の最高表面温度を３０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差が前記最高表面温度から０゜Ｃ〜１０゜Ｃ低い範囲内に制御することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
互いに対向する２枚の基板間に電気光学材料を有する電気光学装置であって、請求項１又は請求項２に記載の製造方法を用いて製造されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項３に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置の製造方法とこれに用いる電気光学装置の製造装置および電気光学装置と電子機器に関し、特に、定盤の表面に載置した一対の基板母材をレーザーカットするに際して、上記定盤の最高表面温度を４０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差を上記最高表面温度から０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内に制御しながら行うことにより、滑らかな切断面を安定して形成できる電気光学装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置を製造するには、従来から、それぞれが複数個の基板領域を含む一対の基板母材の表面の各基板領域に透光性電極、配向膜、その他の必要な要素を形成した後、一方の基板母材の各基板領域の周辺部分に液晶注入孔となる開口を有する環状のシール材を形成し、ついで、上記一対の基板母材をそれらの基板領域が互いに対向するように貼り合わせた後、上記一対の基材母材に対して個々の基板領域の周囲の基板母材を切断して個々の液晶表示パネルを取り出し、ついで各液晶表示パネルの液晶注入孔からシール材で囲まれた液晶封入領域に液晶を注入した後、上記液晶注入孔にモールド用樹脂を充填した後、硬化させることにより液晶注入孔をモールド樹脂で封止し、この後、液晶表示パネル部分を液晶表示装置に実装する方法によって行われている。
【０００３】
基板母材の切断は、図１３に示すように、定盤などの支持台５２によって基板母材５１を支持し、スクライブローラ５３によって線状のスクライブ溝５４を基板母材５１の厚さ方向に形成したのち、図１４に示すように、スクライブ溝５４を形成した部分を反対側から押圧し、その押圧力によってスクライブ溝５４の底部を起点とした亀裂（垂直割れ目）５４ａを厚さ方向に成長させることにより切断する方法などによって行われている。なお、図１４中、符号、５４ｂ、５４ｂは、垂直割れ目５４ａの両側に形成されたサイドクラック５４ｂ，５４ｂである。
【０００４】
図１５は、上記のような製造方法により得られた液晶表示パネルを示した概略斜視図である。図１５において、符号５１ａ、５１ｂは、基板母材を切断して得られた液晶基板を示している。この液晶基板５１ａ、５１ｂの端面の外面に近い部分には、基板母材を切断する際に設けられたスクライブ溝５４があり、このスクライブ溝５４内にカッターマーク５５、５５が形成されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが上記のようなスクライブ法により基板母材を切断して得られた液晶表示パネルでは、液晶基板５１ａ、５１ｂの端面と外面とからなる角部に割れ５７や欠け等の傷が発生しやすく、得られる液晶表示パネルの強度が弱いことが問題となっていた。
【０００６】
そこで、本発明者は、上記の問題を改善すべく、種々の検討及び実験を重ねた結果、基板母材を切断する手段としてレーザーカットを採用すれば、滑らかな切断面を有する液晶基板が得られ、液晶基板の端面と外面とからなる角部に割れ等の傷が発生するのを防止できるとの推定に至った。
【０００７】
ところでレーザーカットによる基板母材の切断方法は、対向する一対の基板母材を定盤の表面に載置し、この基板母材の基板領域の周囲の所定位置にレーザービームスポットを照射して加熱することにより、上記基板母材表面に局部的に大きな圧縮応力を発生させる。また、これと同時に適当な冷媒を用いて基板母材の加熱部分の局所的な冷却を行うと引張応力を誘起し、圧縮状態にある材料部分にまで浸透して応力が材料の強度を超えるとクラックが生じる。従って、レーザービームスポットを基板領域の周囲に沿って移動させるとともに加熱部分の局所的な冷却を行って上記クラックを成長させることにより、基板母材を切断することができる。
【０００８】
しかしながら上記のようにして基板母材をレーザーカットにより切断する場合においては、レーザービームにより基板母材を加熱する際、基板母材の下側にある定盤も加熱される。また、一対の基板母材を定盤の表面に載置し切り始めてから切り終わるまで、基板母材の大きさにもよるが、数十秒から数分程度かかるため、その間に定盤はさらに温度が上昇し、基板母材の切り始めと切り終わりで定盤の表面温度差が大きくなってしまう。このように基板母材の切り始めと切り終わりで定盤の表面温度差が大きくなると、切り始めと切り終わりの基板母材の温度差も大きくなってしまい、切断の際の応力の生じ方に差ができてしまうため、基板母材を常に同じ条件で切断することができず、切断面に歪みが生じたり、場合によっては切断が出来なくなり、歩留まりが悪いという問題があった。このような問題は、液晶表示パネルを大量生産するために、多数の一対の基板母材を順次、同じ切断パターンで繰り返し切断するときにより顕著に発生してしまう。
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、定盤に載置した一対の基板母材をレーザーカットにより切断するに際して、定盤の表面温度差が大きくなることを改善し、歪みがなく、滑らかな切断面を安定して形成できる電気光学装置の製造方法を提供することを課題としている。
【００１０】
また、この電気光学装置の製造方法の実施に好適に用いることができる電気光学装置の製造装置を提供することを課題としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の電気光学装置の製造方法は、それぞれが複数個あるいは単数の基板領域を含む一対のガラスからなる液晶パネル母材を互いに対向するように貼り合わせる工程と、対向するに至った対をなす複数個あるいは単数の基板領域間に電気光学材料を封入する工程と、上記一対の液晶パネル母材に対して個々の基板領域の外周縁に沿って液晶パネル母材を切断する工程を含む電気光学装置の製造方法において、上記液晶パネル母材を切断する工程は、定盤の表面に上記一対の液晶パネル母材を載置し少なくとも前記液晶パネル母材が載置される定盤の最高表面温度を４０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差を上記最高表面温度から０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内に制御しながら上記液晶パネル母材に対して個々の基板領域の外周縁に沿ってレーザーカットする工程であること特徴とする。
【００１２】
このような電気光学装置の製造方法では、上記一対のガラスからなる液晶パネル母材を定盤の表面に載置してレーザーカットするに際して少なくとも前記液晶パネル母材が載置される定盤の最高表面温度が４０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差が上記最高表面温度から０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内に制御しながらレーザーカットを行うので、液晶パネル母材の切り始めと切り終わりで定盤の表面温度差が小さくなり、これによって切り始めと切り終わりの液晶パネル母材の温度差も小さくなり、切断の際に応力の生じ方に差が生じるのを改善でき、液晶パネル母材をほぼ同じ条件で切断することができるので、切断面に歪みが生じるなどの切断不良を防止でき、滑らかな切断面を安定して形成でき、歩留まりが向上する。
【００１３】
上記の電気光学装置の製造方法においては、用いる液晶パネル母材の厚みが薄くなる従い、上記定盤の最高表面温度と表面温度差を共に抑えることが望ましい。また、用いる液晶パネル母材の材質によっても異なり、無アルカリガラスなどのように膨張係数の小さなガラスほど上記定盤の最高表面温度と表面温度差を共に抑えることが望ましい。
【００１４】
上記の電気光学装置の製造方法においては、上記液晶パネル母材をレーザーカットするに際して、上記定盤の最高表面温度を３０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差が上記最高表面温度から０゜Ｃ〜１０゜Ｃ低い範囲内に制御することが望ましい。
【００１５】
このような電気光学装置の製造方法によれば、上記液晶パネル母材をレーザーカットする際の切断速度を速くすることができる。
【００１６】
本発明の電気光学装置の製造装置は、対向するに至った対をなす複数個あるいは単数の基板領域間に電気光学材料が封入された一対のガラスからなる液晶パネル母材に対して個々の基板領域の外周縁に沿って液晶パネル母材をレーザーカットする電気光学装置の製造装置であって、上記一対の液晶パネル母材が載置される定盤と、該定盤に載置された一対の液晶パネル母材にレーザーを照射するレーザー出射手段と、上記定盤の表面温度を制御するための冷却手段とが備えられてなることを特徴とする。
【００１７】
このような電気光学装置の製造装置とすることにより、定盤に載置された液晶パネル母材をレーザーカットするに際して、上記冷却手段により定盤の表面温度を好ましい温度範囲に制御することができるので、本発明の電気光学装置の製造方法の実施に好適に用いることができる。
【００１８】
上記の電気光学装置の製造装置においては、上記冷却手段は、定盤内に設けられて冷却液を一時的に貯留する冷却液貯留室と、該冷却液貯留室に冷却液を供給する冷却液供給手段と、上記冷却液貯留室に供給された冷却液を排出する冷却液排出手段を具備するものであってもよい。ここでの冷却液としては、水を用いることが望ましい。
【００１９】
このような電気光学装置の製造装置とすることにより、上記冷却液貯留室に供給する冷却液の温度や供給量や供給速度等を調整して、定盤の表面温度を好ましい温度範囲に制御することができるので、本発明の電気光学装置の製造方法の実施に好適に用いることができる。
【００２０】
上記の電気光学装置の製造装置においては、上記定盤には、これの表面に一対の液晶パネル母材を吸着するための吸着手段が設けられていることが望ましい。
【００２１】
このような電気光学装置の製造装置とすることにより、上記液晶パネル母材を吸着手段により定盤に固定できるので、レーザーカットする際に液晶パネル母材の位置ずれを防止でき、精度良く液晶パネル母材を切断できる。
【００２２】
上記の電気光学装置の製造装置においては、上記吸着手段には、上記定盤の表面に開口する吸着用孔と、該吸着用孔と連通する排気路と、該排気路に接続された真空排気源が備えられていることが望ましい。
【００２３】
このような電気光学装置の製造装置とすることにより、上記液晶パネル母材を定盤に載せた後、上記真空排気源を作動させて排気路から排気したときに、上記液晶パネル母材が定盤の表面に吸着され、固定できるので、レーザーカットする際に液晶パネル母材の位置ずれを防止でき、精度良く液晶パネル母材を切断できる。
【００２４】
本発明の電気光学装置は、互いに対向する２枚の基板間に電気光学材料を有する電気光学装置であって、上記のいずれか記載の本発明の電気光学装置の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする。
【００２５】
このような電気光学装置とすることににより、２枚の基板の端面に歪みがなく、滑らかなものとなり、また、スクライブローラを用いる切断法によって切断された基板のように端面にカッターマークが形成されることがないため、カッターマーク部分に存在するクラックを起点とした割れが発生することがなく、強度を向上させることができる。
【００２６】
本発明の電子機器は、上記の電気光学装置を備えたことを特徴とする。
【００２７】
このような電子機器とすることで、優れた強度を有するものとなる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を例を示して詳しく説明する。
【００２９】
［第１の実施形態］
図１は、本発明に係わる電気光学装置の製造方法を用いて、図７に示すような構造のＭＩＭ方式（二端子型非線形素子方式）の液晶パネル１０を製造する場合の一実施形態を示している。
【００３０】
この液晶パネル１０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての液晶表示装置となる。
【００３１】
この液晶パネル１０は、平面視矩形で、環状のシール材２を介して互いに対向するように貼り付けられた一対の透光性液晶基板１ａおよび１ｂを有する。シール材２には、液晶封入領域に液晶を注入する液晶注入孔２ａが形成されている。一方の透光性液晶基板１ａは、ＭＩＭ素子を搭載する素子側の基板であり、対向する対向側の基板である透光性液晶基板１ｂと、これら透光性基板１ａ、１ｂの間のシール材２で囲まれた液晶封入領域には、液晶３が封入されている。
【００３２】
液晶注入孔２ａはモールド樹脂で封止されている。
【００３３】
また、透光性液晶基板１ａ，１ｂの端面は、それぞれレーザーカットにより得られた面である。
【００３４】
次に、本発明に係わる電気光学装置の製造方法を用いて図７に示すような液晶パネル１０を製造する場合について説明する。
【００３５】
まず、図１に示すように、面積の大きい透光性基板母材４ａおよび４ｂを用意する。これらの透光性基板母材４ａ、４ｂは、例えば、厚さ０．４ｍｍの透光性を備えたガラスによって形成される。一方の透光性基板母材４ａには、図７に示す素子側の透光性液晶基板１ａを４個形成するための液晶基板領域１ａが含まれる。また、他方の透光性基板母材４ｂには、図７に示す対向側の透光性液晶基板１ｂを４個形成するための液晶基板領域１ｂが含まれる。
【００３６】
ついで、対向側の透光性基板母材４ｂの液晶基板領域１ｂの内側表面（図１の下側表面）に周知の成膜方法を用いてカラーフィルタを形成する。そして、このカラーフィルタの上にスパッタリングによりＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を一様の厚さとなるように成膜し、さらに、フォトリソグラフィ処理を用いてパターニングしてストライプ状の透光性電極１１を形成する。さらに、それらの透光性電極１１の上に配向膜を形成する。
【００３７】
一方、素子側の透光性基板母材４ａの液晶基板領域１ａの内側表面（図１の上側表面）に、直線状の配線１２を互いに平行に複数個配列し、さらにそれらの配線１２の間に、非線形抵抗素子としてのＭＩＭ素子１３を形成し、さらに個々のＭＩＭ素子１３に対応してＩＴＯによりドット状の透光性画素電極１４を形成する。
【００３８】
ＭＩＭ素子１３は、周知の構造の素子であるので、詳しい説明は省略するが、簡単にいえば、透光性基板母材４ａの上にＴａ（タンタル）などによって第１電極を形成し、その第１電極の上に例えば陽極酸化法を用いて絶縁層としての陽極酸化膜を形成し、その陽極酸化膜の上にＣｒ（クロム）などによって第２電極を形成した構造を有している。上記の透光性画素電極１４は、ＭＩＭ素子１３の上記第２電極の先端に重ねて形成される。
【００３９】
次に、各液晶基板領域１ａ内の全域に配向膜を形成し、さらに、その液晶基板領域１ａの周辺部分にシール材２をスクリーン印刷法によって環状に形成する。シール材２の一部分は開口２ａとされ、この開口２ａが液晶注入孔とされる。
【００４０】
素子側および対向側の透光性基板母材４ａ、４ｂに対して、上記の処理を行ったのち、いずれか一方の透光性基板母材の電極面上にビーズ状のスペーサを分散し、素子側および対向側の透光性基板母材４ａ、４ｂそれぞれの電極面が相対向するように、素子側の透光性基板母材４ａと対向側の透光性基板母材４ｂとを互いに重ね合わせて貼り合わせることによって、図４に示す面積の大きな液晶パネル母材１６が形成される。図４において、透光性基板１ａ、１ｂ間と、シール材２によって囲まれる領域が、液晶が封入される液晶封入領域とされる。
【００４１】
次に、このようにして形成された液晶パネル母材１６を本発明の電気光学装置の製造装置の実施形態のレーザー切断装置を用いてレーザーカットにより切断する。
【００４２】
ここで用いるレーザー切断装置は、図２乃至図４に示すように液晶パネル母材１６が載置される定盤４０と、定盤４０に載置された液晶パネル母材１６にレーザーを照射するレーザー出射手段５０と、定盤４０の表面温度を制御するための冷却手段４９ａとから概略構成されてなるものである。
【００４３】
上記定盤４０の材質としては、アルミニウム、鉄などが用いられている。
【００４４】
上記冷却手段４９ａは、定盤４０内に設けられて水等の冷却液４９を一時的に貯留する冷却液貯留室４１と、該冷却液貯留室４１に冷却液４９を供給する冷却液供給手段４２ａと、冷却液貯留室４１に供給された冷却液４９を排出する冷却液排出手段４３ａを具備してなるものである。
【００４５】
冷却液貯留室４１内には、貯留された冷却液４９の温度を測定するための測定装置（図示略）が設けられている。また、この測定装置に代えて定盤４０の表面温度を測定するための熱電対（図示略）を定盤４０の表面に設けてもよい。
【００４６】
上記測定装置あるいは熱電対は、コントローラを介して冷却液供給手段４２ａと接続されており、上記測定装置あるいは上記熱電対の測定値に基づいてコントローラから後述するバルブに信号を送り、冷却液貯留室４に供給する冷却液の流量をコントロールできるようになっている。
【００４７】
上記冷却液供給手段４２ａは、冷却液貯留室４１に接続された冷却液供給管４２と、この冷却液供給管４２に接続された冷却液供給源（図示略）と、冷却液供給管４２に設けられ、冷却液の流量を調整するためのバルブ（図示略）とを備えている。
【００４８】
上記冷却液排出手段４３ａは、冷却液貯留室４１に一時的に貯留された冷却液４９を排出する冷却液排出管４３と、この冷却液排出管４３に設けられたバルブ（図示略）とを備えてなる。
【００４９】
定盤４０には、これの表面に液晶パネル母材１６を吸着するための吸着手段４５ａが設けられている。
【００５０】
上記吸着手段４５ａは、定盤４０の表面に開口する多数の吸着用孔４５と、定盤４０の上部に設けられ、これら吸着用孔４５と連通する排気路４６と、排気路４６に排気管４７を介して接続された真空排気源４７ａが備えられてなる。排気管４７の排気路４６側の周囲には、ガス漏れ防止用のシール部材４８が設けられている。
【００５１】
次に、ここで使用するレーザーカットについて説明する。
【００５２】
レーザービームスポットは極めてエネルギー密度の高い光スポットである。ガラス基板等の透光性液晶基板にレーザービームスポットを照射すると、透光性液晶基板表面に局部的に大きな圧縮応力が発生する。レーザービームスポットで加熱すると同時に適当な冷媒を用いて加熱部分の局所的な冷却を行うと引張応力を誘起し、圧縮状態にある材料部分にまで浸透して応力が材料の強度を超えると亀裂が発生する。この操作を透光性液晶基板表面の所定位置に施せば、透光性液晶基板を任意の形状に切断することができる。基板を切断をするには先ず透光性液晶基板材料を加熱せねばならず、レーザー光は透光性液晶基板材料に対して不透明でなければならない。このため透光性液晶液晶基板としてのガラス基板の切断に使用するレーザー光の波長は、通常２μｍを越える赤外領域の波長のものを使用する。このような観点から一般にガラス切断では波長が１０．６μｍ近辺のＣＯ2 レーザーを利用する。その他にＹＡＧレーザーも利用できる。冷媒としては一般に窒素ガスが用いられる。レーザービームスポットの形状及び寸法、レーザーの出力密度、冷媒の供給速度などは切断するガラス基板材料の材質、厚さ及び切断速度などを考慮して適宜最適値を選択すれば良い。
【００５３】
レーザーカットにより材料をパターンに切断するには、被切断材料としての液晶パネル母材を載せた作業用ステージとしての定盤４０と上記レーザ出射手段から出射されるレーザースポットの位置とを、いわゆる数値制御（ＮＣ）手段を利用して相対的に移動させることにより行うことができる。即ち、作業ステージ上にＸ−Ｙ座標を設定し、切断パターンをあらかじめＸ−Ｙ座標で決めて制御装置に記憶させておく。次いでこのＸ−Ｙ座標に従って、作業ステージとレーザースポットの位置とを相対的に移動させれば良い。
【００５４】
レーザーカットによる場合には、極微小領域にのみ応力が発生するので破断面にクラックが残ることもなく、綺麗な切断面となるので衝撃によって切断面近傍からの割れの発生を抑止する効果を有する。
【００５５】
上記のようにして形成した液晶パネル母材１６をレーザーカットするには、まず、上記の構成の本発明の実施形態のレーザ切断装置に備えられた図２乃至図３に示す定盤４０に載置し、定盤４０の表面温度を制御しながら液晶パネル母材１６のレーザー切断処理を行う。
【００５６】
レーザー出射手段５０は、ＣＯ2 レーザーを用いたものであって、冷媒には窒素ガスを用いる。レーザー出射手段５０は基板母材の材質、厚さや切断速度等に応じて、レーザーの出力、スポットの形状と大きさ、冷媒の吹付け位置や吹付け量を適宜調整することができる。また、切断パターンは定盤４０上にＸ−Ｙ座標を取り、切断パターンをあらかじめＸ、Ｙ座標で装置に記憶させておき、いわゆる数値制御方式で定盤４０とレーザースポットとの相対位置を決めることで、自動的に任意のパターンに切断することもできる。
【００５７】
図４に示す液晶パネル母材１６は定盤４０の所定位置に、対向側の透光性基板母材４ｂを上にして載置した後、排気管４７に接続された上記真空排気源４７ａを作動させて吸着用孔４５および排気路４６内の空気を排気して、吸着用孔孔４５に液晶パネル母材１６を吸着させることにより、定盤４０の表面に固定する。
【００５８】
この後、液晶パネル母材１６を以下に述べるような順序でレーザーカットするが、その際、定盤４０の最高表面温度が４０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差が上記最高表面温度から０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内になるように制御しながらレーザーカットを行う。
【００５９】
ここでの定盤４０の温度の制御方法としては、上記測定装置あるいは熱電対により冷却液貯留室４１内の温度あるいは定盤４０の表面温度を測定し、定盤４０の最高表面温度が４０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差が上記最高表面温度から０゜Ｃから２０゜Ｃ低い範囲内、望ましくは定盤４０の最高表面温度が３０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差が上記最高表面温度ｋら０゜Ｃ〜１０゜Ｃ低い範囲内になるようにように上記測定値に基づいてコントローラから冷却液供給手段４２ａに備えられたバルブに信号を送り、冷却液貯留室４１に供給する水等の冷却液４９の流量をコントロールする。なお、冷却液貯留室４１内の温度測定値に基づいて定盤４０の最高表面温度が４０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差が上記最高表面温度から０゜Ｃから２０゜Ｃ低い範囲内になるようにように制御する場合は、予め、冷却液貯留室４１内の温度と、定盤４０の表面温度との相関関係を調べておくことにより、冷却液貯留室４１内の温度測定値から定盤表面温度４０を予測することができる。
【００６０】
図４の液晶基板領域１ｂの周縁に沿った切断線Ｙ１に沿って直線切断する切断線Ｙ１はレーザーの出力を上げて透光性基板母材４ｂ及び透光性基板母材４ａを２枚同時に切断する。この際切断線Ｙ１は各液晶注入孔２ａの入口を横切るように形成する。
【００６１】
次いで、レーザーの出力を落とし、図４の切断線Ｙ２に沿って透光性基板母材４ｂのみを１枚だけ直線切断する。この結果、図１に示す大型の液晶パネル母材１６は、図５（ａ）に示す２枚の中型の液晶パネル母材１７となる。図中符号１８は端材として除去される部分である。
【００６２】
次いで、液晶注入孔２ａの連なった中型の液晶パネル母材１７の段階で、液晶注入孔２ａから上記液晶封入領域に公知の手段により液晶３の注入を行うと、作業効率が良く好都合である。このように液晶３を注入したならば、光硬化型樹脂などのモールド用樹脂を液晶注入孔２ａに充填した後、光を照射させモールド用樹脂を硬化させると、液晶注入孔２ａがモールド樹脂で封止される。
【００６３】
次に、上記で得られた中型の液晶パネル母材１７を図５（ｂ）に示すように反転し、透光性基板母材４ａを上にして切断処理ステージの所定位置にセットし、図５（ｂ）の切断線Ｚ１に沿って直線切断する。切断線Ｚ１は透光性基板母材４ａ及び透光性基板母材４ｂの２枚を同時切断する。この後、図５（ｂ）の切断線Ｚ２に沿って透光性基板母材４ａのみを１枚だけ直線切断する。その結果、図５に示す２枚の中型の液晶パネル母材１７は、図６に示す４枚の所定の大きさの液晶パネル１０となり、結局図４に示す１枚の大型の液晶パネル母材１６から、図６に示す所定の大きさの液晶パネル１０が４枚得られたことになる。このようにして得られた各液晶パネル１０は、図７に示した本発明の実施形態の液晶パネル１０である。
【００６４】
このようにして得られた液晶パネル１０の透光性液晶基板１ａ，１ｂの端面は、液晶パネル母材１６をレーザーカットするに際して、定盤４０の表面温度を上記の温度範囲に制御することにより得られたものであるので、歪みがなく、表面粗さが１μｍ以下と安定しており、滑らかである。
【００６５】
実施形態の電気光学装置の製造方法によれば、液晶パネル母材１６を定盤４０の表面に載置してレーザーカットするに際して、定盤４０の最高表面温度が４０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差が上記最高表面温度から０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内に制御しながらレーザーカットを行うので、液晶パネル母材１６の切り始めと切り終わりで定盤４０の表面温度差が小さくなり、切り始めと切り終わりの透光性基板母材４ａ、４ｂの温度差も小さくなり、切断の際に応力の生じ方に差が生じるのを改善でき、透光性基板母材４ａ、４ｂをほぼ同じ条件で切断することができるので、切断面に歪みが生じるなどの切断不良を防止でき、滑らかな切断面を安定して形成でき、歩留まりが向上する。
【００６６】
実施形態の電気光学装置の製造装置によれば、液晶パネル母材１６が載置される定盤４０と、該定盤４０に載置された液晶パネル母材１６にレーザーを照射するレーザー出射手段５０と、定盤４０の表面温度を制御するための冷却手段４９ａとが備えられたことにより、定盤４０に載置された液晶パネル母材１６をレーザーカットするに際して、冷却液貯留室４１に供給する冷却液４９の供給速度等を調整することにより、定盤４０の最高表面温度が４０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差が上記最高表面温度から０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内に制御することができるので、本実施形態の電気光学装置の製造方法の実施に好適に用いることができる。
【００６７】
また、定盤４０に、定盤４０の表面に開口する多数の吸着用孔４５と、これら吸着用孔４５と連通する排気路４６と、排気路４６に接続された真空排気源４７ａを備えてなる吸着手段４５ａが設けられているので、液晶パネル母材１６を定盤４０の表面に載せた後、真空排気源４７ａを作動させて排気路４６から排気したときに、液晶パネル母材１６が定盤４０の表面に吸着され、固定できるので、レーザーカットする際に液晶パネル母材１６の位置ずれを防止でき、精度良く切断できる。
【００６８】
本発明の実施形態の製造方法より得られた液晶パネル１０は、対向する一対の透光性液晶基板１ａ、１ｂの端面に歪みがなく、滑らかなものとなり、また、スクライブローラを用いる切断法によって切断された基板のように端面にカッターマークが形成されることがないため、カッターマーク部分に存在するクラックを起点とした割れが発生することがなく、強度が向上したものとなり、衝撃に強くて以後の電子機器の組立工程においても搬送中に端面や、該端面と外面とからなる角部に割れや欠け等の傷が発生することも少なく、電子機器の使用に際してもかなりの衝撃に耐えるものである。
【００６９】
また、本発明の実施態様の製造方法による場合は、切断工程を切断部分毎にまとめて行うことが可能で大量生産に適しており、また、大量生産するために多数の液晶パネル母材を順次、同じ切断パターンで繰り返しレーザカットしても、定盤の表面温度が上記の範囲に制御されているので、歪みがなく、滑らかな切断面を安定して形成することができる。
【００７０】
図８に、スクラブローラを用いる従来のスクライブ法による切断と本発明の実施形態の定盤の表面温度を制御しながらレーザーカットを行ったガラス基板の切断面の表面粗さを比較した結果を示す。図８（ａ）は従来のスクライブ法で基板厚さが０．７ｍｍの場合、図８（ｂ）及び（ｃ）はレーザーカットでガラス基板厚さがそれぞれ０．７ｍｍと０．４ｍｍの場合である。図８は切断面のほぼ中心部を接触式の表面粗さ計により、２５ｍｍスキャンしたときの触針の触れる高さを示している。表面粗さを示すＲａ値は、従来のスクライブ法では約５μｍであるのに対し、本発明の実施形態の定盤の表面温度を制御しながらレーザーカットを行った場合では１μｍ以下となっており、非常に滑らかな切断面を安定して得られており、クラックを防止できるうえ切断面の歪みを防止できることがわかる。切断面が滑らかになっていることで、切断面に存在するクラックを起点とする割れが発生しにくい液晶パネルとすることができる。
【００７１】
以上、第１の実施形態において、本発明の電気光学装置の製造方法およびこれにより製造された電気光学装置の好ましい一例を、液晶パネルの製造方法とこれにより得られた液晶パネルの例を挙げて説明したが、本発明はこの例のみに限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することが可能である。
【００７２】
第１の実施形態として、ＭＩＭ方式の液晶表示装置の製造方法とこれにより製造されたＭＩＭ方式の液晶表示装置を示したが、ＭＩＭ方式以外のアクティブマトリクス方式の液晶表示装置、例えば、ＴＦＴ方式の液晶表示装置に対しても適用することができるし、あるいは、単純マトリクス方式の液晶表示装置に対しても適用できる。
【００７３】
また、第１の実施形態では１枚の大型の液晶パネル母材１６から４枚の液晶パネル１０を製造する方法を示したが、本発明は１個の液晶基板領域を備えた１枚の液晶パネル母材から１枚の液晶パネルを製造する場合にも適用することができる。
【００７４】
［電子機器の例］
次に、上記の第１の実施形態の液晶パネル１０を備えた電子機器の具体例について説明する。
【００７５】
図９は、投射型表示装置の一例の要部を示した概略構成図である。
【００７６】
図９において、符号３０は光源、符号３３、３４はダイクロイックミラー、符号３５、３６、３７は反射ミラー、符号３８は入射レンズ、符号３９はリレーレンズ、符号２０は出射レンズ、符号２２、２３、２４は液晶光変調装置、符号２５はクロスダイクロイックプリズム、符号２６は投射レンズを示している。
【００７７】
光源３０は、メタルハラルドなどのランプ３１とランプ３１の光を反射するリフレクタ３２とからなる。青色光・緑色光反射のダイクロイックミラー３３は、光源３０からの光束のうちの赤色光を透過させるとともに青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は、反射ミラー３７で反射されて、赤色光用液晶光変調装置２２に入射される。一方、ダイクロイックミラー３３で反射された色光のうち緑色光は、緑色光反射のダイクロイックミラー３４によって反射され、緑色光用液晶光変調装置２３に入射される。一方、青色光は、第２のダイクロイックミラー３４も透過する。青色光に対しては、長い光路による光損失を防ぐため、入射レンズ３８、リレーレンズ３９、出射レンズ２０を含むリレーレンズ系からなる導光手段２１が設けられ、これを介して青色光が青色光用液晶光変調装置２４に入射される。
【００７８】
各光変調装置により変調された３つの色光は、クロスダイクロイックプリズム２５に入射する。このプリズムは、４つの直角プリズムが張り合わされ、その内面に赤色を反射する誘電体多層膜と青色を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電体多層膜によって、３つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ２６によってスクリーン上に投射され、画像が拡大されて表示される。
【００７９】
このような投射型表示装置は、上記の液晶パネル１０を用いた液晶光変調装置２２、２３、２４を備えたものであるので、液晶光変調装置２２、２３、２４の強度が優れた投射型表示装置となる。
【００８０】
次に、本発明の電子機器の他の例について説明する。
【００８１】
図１０は、携帯電話の一例を示した斜視図である。
【００８２】
図１０において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記の液晶パネル１０を用いた液晶表示部を示している。
【００８３】
図１１は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。
【００８４】
図１１において、符号１１００は時計本体を示し、符号１００１は上記の液晶パネル１０を用いた液晶表示部を示している。
【００８５】
図１２は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。
【００８６】
図１２において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１００１は上記の液晶パネル１０を用いた液晶表示部を示している。
【００８７】
図１０から図１２に示す電子機器は、上記の液晶パネル１０を用いた液晶表示部を備えたものであるので、優れた強度を有するものとなる。
【００８８】
【実施例】
［実験例１］
各種の液晶パネルを以下のように製造し、得られた各種の液晶パネルの切断面の状態について評価した。その結果を表１に示す。
【００８９】
図１に示す透光性基板母材４ａおよび４ｂを用い、第１の実施の形態の液晶パネル１０の製造方法と同様にして図４に示す液晶パネル母材１６を形成した。ここで用いる透光性基板母材４ａおよび４ｂを構成するガラスとしては、厚さ０．４ｍｍのソーダガラスを用いた。
【００９０】
そして、この液晶パネル母材１６は図２乃至図３に示すレーザ切断装置の定盤４０の所定位置に、対向側の透光性基板母材４ｂを上にして載置した後、排気管４７に接続された真空排気源４７ａを作動させて吸着用孔４５および排気路４６内の空気を排気して、吸着用孔孔４５に液晶パネル母材１６を吸着させることにより、定盤４０の表面に固定した。
【００９１】
この後、液晶パネル母材１６を以下に述べるような順序でレーザーカットするが、その際、定盤４０の冷却液貯留室４１に供給する冷却水の供給量および供給速度を調整することにより、定盤４０内の最高温度および定盤４０内の温度差を下記表１に示す範囲内に制御することにより、定盤４０の最高表面温度および定盤４０の表面温度差を制御しながらレーザーカットを行った。ここでの定盤４０の最高表面温度および定盤４０の表面温度差は、定盤４０内の最高温度および定盤４０内の温度差と殆ど同じ値であった。
【００９２】
そして、この液晶パネル母材１６を図４に示すように切断線Ｙ１に沿って透光性基板母材４ａ及び透光性基板母材４ｂをレーザーカットした後、切断線Ｙ２に沿って透光性基板母材４ｂをレーザーカットし、図５（ａ）に示すような２枚の中型の液晶パネル母材１７を得た。ついで、各液晶パネル母材１７の液晶注入孔２ａに紫外線硬化型樹脂からなるモールド用樹脂を充填した後、紫外線を照射させモールド用樹脂を硬化させて、液晶注入孔２ａをモールド樹脂で封止した。
【００９３】
次いで、中型の液晶パネル母材１７を図５（ｂ）に示すように反転し、透光性基板母材４ａを上にして定盤４０の所定位置に載置し、図５（ｂ）の切断線Ｚ１に沿って透光性基板母材４ａ及び透光性基板母材４ｂをレーザーカットした。次いで、図５（ｂ）の切断線Ｚ２に沿って透光性基板母材４ａのみを１枚だけレーザーカットし、液晶パネルを得た。
【００９４】
【表１】
0003807162.tif 000002
【００９５】
なお、表１中の定盤内温度差の欄の数値は、定盤内最高温度から低い値である。また、表１中の○は、液晶パネルの切断面に歪みがなく、滑らかな切断面が得られたことを表す、×は、液晶パネルの切断面に歪み等の切断不良が生じたか、切断できなかったことを表す。
【００９６】
表１に示した結果から厚みが０．４ｍｍのソーダガラスを用いた液晶パネル母材をレーザーカットする際に、定盤４０内の最高温度４５゜Ｃとした場合は、定盤４０内の温度差を上記最高温度から０゜Ｃ〜１０゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高温度から１０゜Ｃから２０゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高温度から２０゜Ｃ〜２５゜Ｃ低い範囲内に制御しても、液晶パネルの切断面に歪み等の切断不良が生じた。
【００９７】
また、定盤４０内の最高温度３０゜Ｃあるいは４０゜Ｃで、かつ定盤４０内の温度差を上記最高温度から２０゜Ｃ〜２５゜Ｃ低い範囲内に制御した場合も液晶パネルの切断面に歪み等の切断不良が生じた。
【００９８】
これに対して定盤４０内の最高温度４０゜Ｃあるいは３０゜Ｃで、かつ定盤４０内の温度差を上記最高温度から０゜Ｃ〜１０゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高温度から１０゜Ｃから２０゜Ｃ低い範囲内に制御した場合、すなわち、定盤４０の最高表面温度４０゜Ｃあるいは３０゜Ｃで、かつ定盤４０の表面温度差を上記最高表面温度から０゜Ｃ〜１０゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高表面温度から１０゜Ｃから２０゜Ｃ低い範囲内に制御した場合、液晶パネルの切断面に歪みがなく、滑らかな切断面が得られていることがわかる。
【００９９】
これらの結果から液晶パネル母材を定盤の表面に載置し、レーザーカットするに際して、定盤の最高表面温度を４０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差を上記最高表面温度から０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内に制御しながらレーザーカットすることが、滑らかな切断面を安定して形成することに有効であることを確認できる。
【０１００】
［実験例２］
液晶基板母材１６を構成するソーダガラスとして厚みが０．７ｍｍのものを用い、定盤４０内の最高温度および定盤４０内の温度差を下記表２に示す範囲内に制御することにより、定盤４０の最高表面温度および定盤４０の表面温度差を制御しながらレーザーカットを行った以外は、実験例１と同様にして各種の液晶パネルを製造し、得られた各種の液晶パネルの切断面の状態について評価した。その結果を下記表２に示す。
【０１０１】
【表２】
0003807162.tif 000003
【０１０２】
なお、表２中の定盤内温度差の欄の数値は、定盤内最高温度から低い値である。また、表２中の○は、液晶パネルの切断面に歪みがなく、滑らかな切断面が得られたことを表す、×は、液晶パネルの切断面に歪み等の切断不良が生じたか、切断できなかったことを表す。
【０１０３】
表２に示した結果から厚みが０．７ｍｍのソーダガラスを用いた液晶パネル母材をレーザーカットする際に、定盤４０内の最高温度５０゜Ｃとした場合は、定盤４０内の温度差を上記最高温度から０゜Ｃ〜１０゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高温度から１０゜Ｃから２０゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高温度から２０゜Ｃ〜２５゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高温度から２５゜Ｃ〜３０゜Ｃ低い範囲内に制御しても、液晶パネルの切断面に歪み等の切断不良が生じた。
【０１０４】
また、定盤４０内の最高温度４５゜Ｃで、かつ定盤４０内の温度差を上記最高温度から１０゜Ｃから２０゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高温度から２０゜Ｃ〜２５゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高温度から２５゜Ｃ〜３０゜Ｃ低い範囲内に制御しても、液晶パネルの切断面に歪み等の切断不良が生じた。
【０１０５】
また、定盤４０内の最高温度４０゜Ｃで、かつ定盤４０内の温度差を上記最高温度から２０゜Ｃ〜２５゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高温度から２５゜Ｃ〜３０゜Ｃ低い範囲内に制御しても、液晶パネルの切断面に歪み等の切断不良が生じた。
【０１０６】
また、定盤４０内の最高温度３０゜Ｃで、かつ定盤４０内の温度差を上記最高温度から２５゜Ｃ〜３０゜Ｃ低い範囲内に制御しても、液晶パネルの切断面に歪み等の切断不良が生じた。
【０１０７】
これに対して定盤４０内の最高温度４５゜Ｃで、かつ定盤４０内の温度差を上記最高温度から０゜Ｃ〜１０゜Ｃ低い範囲内に制御した場合、すなわち、定盤４０の最高表面温度４５゜Ｃで、かつ定盤４０の表面温度差を上記最高表面温度から０゜Ｃ〜１０゜Ｃ低い範囲内に制御した場合、液晶パネルの切断面に歪みがなく、滑らかな切断面が得られていることがわかる。
【０１０８】
また、定盤４０内の最高温度４０゜Ｃで、かつ定盤４０内の温度差を上記最高温度から０゜Ｃ〜１０゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高温度から１０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内に制御した場合、すなわち、定盤４０の最高表面温度４０゜Ｃで、かつ定盤４０の表面温度差を上記最高表面温度から０゜Ｃ〜１０゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高表面温度から１０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内に制御した場合、液晶パネルの切断面に歪みがなく、滑らかな切断面が得られていることがわかる。
【０１０９】
また、定盤４０内の最高温度３０゜Ｃで、かつ定盤４０内の温度差を上記最高温度から０゜Ｃ〜１０゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高温度から１０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高温度から２０゜Ｃ〜２５゜Ｃ低い範囲内に制御した場合、すなわち、定盤４０の最高表面温度３０゜Ｃで、かつ定盤４０の表面温度差を上記最高表面温度から０゜Ｃ〜１０゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高表面温度から１０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内あるいは上記最高表面温度から２０゜Ｃ〜２５゜Ｃ低い範囲内に制御した場合、液晶パネルの切断面に歪みがなく、滑らかな切断面が得られていることがわかる。
【０１１０】
これらの結果から液晶パネル母材を定盤の表面に載置し、レーザーカットするに際して、定盤の最高表面温度を４０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差を上記最高表面温度から０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内に制御しながらレーザーカットすることが、滑らかな切断面を安定して形成することに有効であることを確認できる。
【０１１１】
また、厚みが０．７ミリのソーダガラスを用いた実験例２の液晶パネル母材は、厚みが０．４ｍｍのソーダガラスを用いた実験例１の液晶パネル母材よりも滑らかな切断面が得られる定盤の最高表面温度および表面温度差の許容範囲が広くなっており、従って、用いる基板母材の厚みが薄くなる従い、上記定盤の最高表面温度と表面温度差を共に抑えることが望ましいことを確認できる。
【０１１２】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の電気光学装置の製造方法にあっては、上記一対の基板母材を定盤の表面に載置してレーザーカットするに際して、上記定盤の最高表面温度が４０゜Ｃ以下で、かつ表面温度差が上記最高表面温度から０゜Ｃ〜２０゜Ｃ低い範囲内に制御しながらレーザーカットを行うので、基板母材の切り始めと切り終わりで定盤の表面温度差が小さくなり、これにより切り始めと切り終わりの基板母材の温度差も小さくなり、切断の際に応力の生じ方に差が生じるのを改善でき、基板母材をほぼ同じ条件で切断することができるので、切断面に歪みが生じるなどの切断不良を防止でき、滑らかな切断面を安定して形成でき、歩留まりが向上する。
【０１１３】
本発明の電気光学装置の製造装置にあっては、対向するに至った対をなす複数個あるいは単数の基板領域間に電気光学材料が封入された一対の基板母材に対して個々の基板領域の外周縁に沿って基板母材をレーザーカットする電気光学装置の製造装置であって、
上記一対の基板母材が載置される定盤と、該定盤に載置された一対の基板母材にレーザーを照射するレーザー出射手段と、上記定盤の表面温度を制御するための冷却手段とが備えられてなるものであるので、定盤に載置された基板母材をレーザーカットするに際して、上記冷却手段により定盤の表面温度を好ましい温度範囲に制御することができるので、本発明の電気光学装置の製造方法の実施に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係わる液晶パネルの製造方法の一工程を示した斜視図である。
【図２】  本発明の電気光学装置の製造装置の一例として、レーザー切断装置の概略構成を示した斜視図である。
【図３】  図２のIII−III線断面図である。
【図４】  本発明に係わる液晶パネルの製造方法の他の一工程を示した斜視図である。
【図５】  本発明に係わる液晶パネルの製造方法のさらに他の一工程を示した斜視図である。
【図６】  本発明に係わる液晶パネルの製造方法により製造された液晶パネルの一例を示した概略斜視図である。
【図７】  本発明に係わるＭＩＭ方式の液晶パネルの一例を示した概略斜視図である。
【図８】  従来のスクライブ法による切断と本発明に係わる定盤の表面温度を制御しながらレーザーカットによるガラス基板の切断面の表面粗さを比較した結果を示すグラフである。
【図９】  本発明の電子機器の一例として、投射型表示装置の一例の要部を示した概略構成図である。
【図１０】  本発明の電子機器の一例として、携帯電話の一例を示した斜視図である。
【図１１】  本発明の電子機器の一例として、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。
【図１２】  本発明の電子機器の一例として、携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。
【図１３】  従来の基板の切断方法の一工程を説明するための図である。
【図１４】  従来の基板の切断方法の他の一工程を説明するための図である。
【図１５】  従来の液晶パネルの一例を示した概略斜視図である。
【符号の説明】
１ａ、１ｂ  透光性液晶基板（液晶基板領域）
２  シール材
２ａ  開口（液晶注入孔）
３  液晶
４ａ、４ｂ  透光性基板母材
１０  液晶パネル
１１  透光性電極
１２  配線
１３  ＭＩＭ素子
１４  透光性画素電極
１６  液晶パネル母材
１７  液晶パネル母材
２０  出射レンズ
２１  導光手段
２２、２３、２４  液晶光変調装置
２５  クロスダイクロイックプリズム
２６  投射レンズ
３０  光源
３１  ランプ
３２  リフレクタ
３３、３４  ダイクロイックミラー
３５、３６、３７  反射ミラー
３８  入射レンズ
３９  リレーレンズ
４０  定盤
４１  冷却液貯留室
４２  冷却液供給管
４２ａ  冷却液供給手段
４３  冷却液排出管
４３ａ  冷却液排出手段
４５  吸着用孔
４５ａ  吸着手段
４６  排気路
４７  排気管
４７ａ  真空排気源
４８  シール部材
４９  冷却液
４９ａ  冷却手段
１０００  携帯電話本体
１００１  液晶表示部
１１００  時計本体
１２００  情報処理装置
１２０２  入力部
１２０４  情報処理装置本体
Ｙ１、Ｙ２  切断線
Ｚ１、Ｚ２  切断線
【図１】
0003807162.tif 000004
【図２】
0003807162.tif 000005
【図３】
0003807162.tif 000006
【図４】
0003807162.tif 000007
【図５】
0003807162.tif 000008
【図６】
0003807162.tif 000009
【図７】
0003807162.tif 000010
【図８】
0003807162.tif 000011
【図９】
0003807162.tif 000012
【図１０】
0003807162.tif 000013
【図１１】
0003807162.tif 000014
【図１２】
0003807162.tif 000015
【図１３】
0003807162.tif 000016
【図１４】
0003807162.tif 000017
【図１５】
0003807162.tif 000018