(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対抗する電極間に、少なくとも有機発光層を含む１層以上の有機薄膜層が介在して構成される有機薄膜発光素子において、下記一般式１の構造を有する蛍光体を有機薄膜層に含有することを特徴とする有機薄膜発光素子。
【化１】
0003743229.tif 000024
（ここで、Ｒ1 、Ｒ2 は独立に炭素数１から４のメチル基、エチル基、イソプロピル基、ターシャリーブチル基等のアルキル基、またはフェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、または炭素環式系、ヘテロ環式系またはＲ1 、Ｒ2 が結合したビフェニレン基であり、Ｒ1 、Ｒ2 が結合した窒素原子を含みカルバゾール環を形成する。Ｒ3 、Ｒ4 は独立に水素またはフェニル基、ビフェニル基またはナフチル基である。Ｒ5 、Ｒ6 は独立に水素またはフェニル基、ビフェニル基である。）
【請求項２】
一般式２で示される構造を有することを特徴とする蛍光体。
【化２】
0003743229.tif 000025
（ここで、Ｒ1 、Ｒ2 はフェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、または炭素環式系、ヘテロ環式系またはＲ1 、Ｒ2 が結合したビフェニレン基であり、Ｒ1 、Ｒ2 が結合した窒素原子を含みカルバゾール環を形成する。Ｒ3 、Ｒ4 は独立に水素またはフェニル基、ビフェニル基またはナフチル基である。Ｒ5 、Ｒ6 は独立に水素またはフェニル基、ビフェニル基である。）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄型ディスプレイ等に利用することができる有機半導体薄膜の積層膜からなるダイオード特性を有する有機薄膜発光素子及び蛍光体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機薄膜発光素子は、イーストマン・コダック社のＣ．Ｗ．Ｔａｎｇ等により記された特開昭５９−１９４３９３号公報、特開昭６３−２６４６９２号公報、特開昭６３−２９５６９５号公報、アプライド・フィジックス・レター第５１巻第１２号第９１３頁（１９８７年）、およびジャーナル・オブ・アプライドフィジックス第６５巻第９号第３６１０頁（１９８９年）、アプライド・フィジックス・レター第６９巻第１５号第２１６０頁（１９９６年）、アプライド・フィジックス・レター第７０巻第２号第１５２頁（１９９７年）、アプライド・フィジックス・レター第７０巻第１３号第１６６５頁（１９９７年）や、イーストマン・コダック社の特開平１０−３０８２８１号公報等で述べられている。
【０００３】
有機薄膜発光素子の構成例を図１で示す。まず、ガラスや樹脂フィルム等の透明絶縁性の基板（１）上に、蒸着、イオンプレーティング又はスパッタリング法等でインジウムとスズの複合酸化物（以下ＩＴＯという）の透明導電性被膜の陽極（２）が形成される。次にその上にイオン化ポテンシャルの順に２〜３層程度積層した有機半導体薄膜層からなる正孔注入輸送層（３）が形成される。
【０００４】
例えば、まず酸化に対して高安定な銅フタロシアニン（以下ＣｕＰｃと略す、イオン化ポテンシャル５．２ｅＶ）を第１正孔注入輸送層として真空蒸着により１０ｎｍの厚さで形成する。
【０００５】
その上に、素子の短絡の原因となるピンホールを防ぎ、可視光の透過率が高い（化３）で示されるＮ，Ｎ' −ジ( １−ナフチル) −Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１' −ビフェニル−４，４' −ジアミン（以下ＮＰＤと略す。ガラス転移温度９６℃、イオン化ポテンシャル５．４ｅＶ）を第２正孔注入輸送層として蒸着法等で成膜する。
【０００６】
【化３】
0003743229.tif 000002
【０００７】
【０００８】
次に正孔注入輸送層（３）上に有機発光層（７）としてトリス（８−キノリノラート）アルミニウム（以下Ａｌｑと略す。イオン化ポテンシャル５．８ｅＶ）や（化４）で示されるビススチリルビフェニル化合物等の有機蛍光体を４０〜１００ｎｍ程度の厚さで蒸着法等で成膜する。
【０００９】
【化４】
0003743229.tif 000003
【００１０】
有機発光層中にクマリン系、ピラン系、ジメチルキナクリドン等の蛍光量子収率の高い蛍光色素を発光層ホスト材料との共蒸着や発光層ホスト材料との多層成膜後の熱拡散等の方法でドーピングすれば、発光輝度を高めたり、発光色を変えられる。
【００１１】
赤色発光素子の場合はＡｌｑ有機発光層中に（化５）で示されるＤＣＭや（化６）で示されるＤＣＭ２、（化７）で示されるＤＣＪＴＢ等のピラン系色素が１％程度ドーピングされる。
【００１２】
【化５】
0003743229.tif 000004
【００１３】
【化６】
0003743229.tif 000005
【００１４】
【化７】
0003743229.tif 000006
【００１５】
有機発光層（７）上に電子注入輸送能力の優れた電子輸送層（８）を形成し駆動電圧を低減することもできる（図２参照）。
【００１６】
次に陰極（１０）としてＡｌやＡｌ：Ｌｉ合金、希土類合金等の低仕事関数合金を共蒸着法により２００〜１０００ｎｍ程度蒸着する。
【００１７】
陰極にＡｌを用いる場合は、より電子注入効率を上げるために０．５ｎｍ程度のフッ化リチウムや酸化リチウム等のアルカリ金属含有電子注入層を有機発光層（７）または電子輸送層（８）と陰極（１０）間に形成することも行われる。
【００１８】
以上のように作られた素子は、透明電極側を陽極として３Ｖ程度以上の直流低電圧を印加することにより発光層に正孔と電子が注入され、その再結合により発光する。
【００１９】
以上のように形成した発光素子では、１２Ｖ程度の直流電圧印加で１０００ｃｄ／ｍ2 以上の輝度が得られる。
【００２０】
しかし、ＤＣＭは５８５ｎｍ程度の発光ピーク波長を有し、さらに発光波長を長波長化したＤＣＭ２やＤＣＪＴＢでさえも発光ピーク波長は６２０ｎｍ程度であり、発光スペクトルに６００ｎｍ以下の成分を多く含むためオレンジ色に見える問題があった。
【００２１】
また、ＤＣＭやＤＣＭ２は、合成時に（化８）のようなメチル基にアルデヒド成分が２分子反応し発光効率を低下させる赤外発光性の分離困難な不純物を生じる問題があった。
【００２２】
【化８】
0003743229.tif 000007
【００２３】
そこで、高い発光効率を持ち、より長波長の発光スペクトルピークを持ち、合成時に分離困難な消光性不純物が生じない新たな赤色発光素子が求められていた。
【００２４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従来のＤＣＭ系赤色発光材料がオレンジ色発光で、分離困難な消光性不純物が生じた問題点を解決し、また、より長波長の赤色発光ピークを有する赤色有機蛍光体、および赤色発光有機薄膜発光素子を提供することを目的としてなされたものである。
【００２５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、一般式１で示す蛍光体を発光層に含むことを特徴とする有機薄膜発光素子および一般式２で示す蛍光体からなる蛍光体である。
【００２６】
【発明の実施の形態】
一般式１で示される蛍光体の具体例としては（化９）〜（化１５）で示される蛍光体を上げることができる。また、一般式２で示される蛍光体の具体例としては（化１０）〜（化１５）で示される化合物を上げることができる。
【００２７】
【化９】
0003743229.tif 000008
【００２８】
【化１０】
0003743229.tif 000009
【００２９】
【化１１】
0003743229.tif 000010
【００３０】
【化１２】
0003743229.tif 000011
【００３１】
【化１３】
0003743229.tif 000012
【００３２】
【化１４】
0003743229.tif 000013
【００３３】
【化１５】
0003743229.tif 000014
【００３４】
これらの蛍光体は共役を拡張し蛍光波長を長波長化するためベンゾピラン環を導入したことを特徴としている。また、（化１０）〜（化１５）で示される蛍光体は結晶化し難いように立体的に大きな芳香族基を有するアミンまたはＲ4 〜Ｒ5 に芳香族置換基を導入している。
【００３５】
これらの蛍光体は４- ジシアノメチリデン-2- メチル- クロモンと対応するモノアルデヒド化合物とのＫnoevenagel縮合によって容易に合成することができる。４- ジシアノメチリデン-2- メチル- クロモンは活性なメチル基を一つしか有しないためモノアルデヒド化合物と１：１でしか反応せず、合成時に分離困難な消光性不純物が生じない。
【００３６】
一般式２で示される蛍光体化合物は、有機ＥＬ用発光体の他、透明な樹脂に分散して波長変換フィルター用蛍光体等にも用いることができる。
【００３７】
これらの蛍光体は、発光ピーク波長が赤色発光材料として用いることができ、単独で、または２種以上混合して用いることができる。
【００３８】
以下に本発明の有機薄膜発光素子を模式的に示す図１から図３までに基いて説明する。
【００３９】
図１は、本発明における有機薄膜発光素子を、基板（１）上に陽極（２）、正孔注入輸送層（３）、有機発光層（７）、陰極（１０）、絶縁封止層（１１）の順に構成し、接着性材料（１２）にて封止板（１３）を接着して密封した場合の例である。
【００４０】
正孔注入輸送層は通常１〜３層で構成され、３層で構成される場合は各層のイオン化ポテンシャルの値が陽極＜第１正孔注入輸送層＜第２正孔注入輸送層＜第３正孔注入輸送層＜有機発光層の順になるように配置することで有機発光層（７）への正孔注入効率が向上し、低電圧でＥＬ発光が得られるようになる。
【００４１】
図２は、さらに、有機発光層（７）と陰極（１０）間に有機発光層との界面に発光層への電子注入効率を高め、または正孔の陰極への流れを抑制する効果を有する電子輸送層（８）を設けた場合である。
【００４２】
図３は、発光層が多層構成になっている場合であり、基板（１）上に陽極（２）、正孔注入輸送層（３）、青色有機発光層（１７）、緑色有機発光層（１８）、赤色有機発光層（１９）、電子輸送層（８）、陰極（１０）、絶縁封止層（１１）の順に構成し、接着性材料（１２）にて封止板（１３）を接着して密封し構成された例であり、青、赤、緑の混合した発光が得られる。
【００４３】
同様の構成を基板上に陰極から逆の順に構成することもできる。
【００４４】
以下、さらに詳しく材料および素子の製造方法について説明する。
【００４５】
基板（１）はガラスやポリエーテルスルホン等のプラスチックフィルム等の透明絶縁性材料を用いる。基板（１）には、コントラストや耐性向上のため着色したり、円偏光フィルター、多層膜反射防止フィルター、紫外線吸収フィルター、ＲＧＢカラーフィルター、蛍光波長変換フィルター、シリカコーティング層等を内外面に設けても良い。
【００４６】
陽極（２）は、通常、表面抵抗１〜５０Ω／□、可視光線透過率７０％以上の透明電極を用いる。
【００４７】
例えば、ＩＴＯ（仕事関数４．６〜４．８ｅＶ）や酸化亜鉛アルミニウムの非晶質または微結晶透明導電膜、または低抵抗化のため１０ｎｍ程度の厚さの銀や銅、または銀と銅の合金層をＩＴＯ、インジウム亜鉛複合酸化物、酸化チタン、酸化錫等の非晶質または微結晶の透明導電膜で挟んだ構造の膜を真空蒸着やスパッタリング法等でガラスやプラスチックフィルム等の透明絶縁性の基板（１）上に形成し透明電極として用いることが望ましい。
【００４８】
単純マトリックス駆動ディスプレイに用いる場合は、透明電極のラインに接して、Ｃｕ、Ａｌ等の低抵抗金属からなる金属バスラインを設け、より低抵抗化する必要がある。
【００４９】
その他、金やプラチナを薄く蒸着した半透明電極やポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン等にルイス酸をドープした低抵抗な導電性高分子を被覆した半透明電極等も用いることができる。
【００５０】
しかし、別の場合には、陽極（２）は不透明でも良い。その場合には、陽極（２）には正孔注入輸送層（３）を通して有機発光層（７）へ正孔注入しやすい仕事関数の値の大きい金、プラチナ、パラジウム、ニッケル等の金属板、シリコン、ガリウムリン、アモルファス炭化シリコン、酸化銅等の仕事関数が４．６ｅＶ以上の半導体基板、もしくはそれらの金属や半導体を絶縁性の基板（１）上に被覆した基板を用い、陰極（１０）を透明電極もしくは半透明電極とする。陰極（１０）も不透明であれば、有機発光層（７）の少なくとも一端が透明である必要がある。
【００５１】
次に正孔注入輸送層（３）を陽極（２）上に形成する。
正孔注入輸送層（３）は、ＮＰＤ、ＣｕＰｃや塩素化銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン類および無金属フタロシアニン類、Ｎ，Ｎ’- ジメチルキナクリドン、（化１６）、（化１７）で示される化合物等の低分子正孔注入輸送材料やポリ（パラ- フェニレンビニレン）、ポリアニリン等の高分子正孔輸送材料、その他既存の有機正孔輸送材料やｐ型炭化珪素膜、ｐ型ダイヤモンド膜等の無機半導体膜の中から選ぶことができる。
【００５２】
【化１６】
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【００５３】
【化１７】
0003743229.tif 000016
【００５４】
正孔注入輸送層は、真空蒸着法、昇華転写法等の乾式法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法インクジェット法等の湿式法、ＣＶＤ法等により単層、または多層で成膜できる。
【００５５】
次に、正孔注入輸送層（３）上に有機発光層（７）を形成する。
【００５６】
有機発光層（４）は、可視領域に強い蛍光を有する任意の蛍光体を１種以上含む層であり、固体状態で強い蛍光があり平滑な膜を形成でき成膜性が良い場合には蛍光体のみで有機発光層（７）を形成可能であるが、固体状態で蛍光が消光したり、平滑な膜を形成できない場合にはゲスト化合物として平滑な膜を形成でき成膜性が良い正孔注入輸送材料や電子注入輸送材料からなるホスト化合物中または適当な樹脂バインダー中に適当な濃度に分散させて用いることができる。
【００５７】
本発明の発光素子では、有機発光層（７）中に、一般式１および一般式２で示される蛍光体化合物をゲスト化合物またはホスト化合物として利用することができる。
【００５８】
一般式１で示す化合物をゲスト化合物またはホスト化合物として用いる場合、ホスト化合物として用いることができる蛍光体の例としては、４５０ｎｍ〜６００ｎｍに蛍光ピーク波長を有する蛍光体膜を用いることができる。さらにはゲスト材料の酸化電位以上の酸化電位を持ち、ゲスト材料の還元電位の絶対値以上の還元電位を持つことが望まれる。ホスト材料として用いることができる蛍光体の例としてはＡｌｑ、トリス（８−キノリノラート）スカンジウム錯体、（化１８）で示すビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリノラート）ベリリウム錯体、その他（化１９）〜（化２１）に示す材料が例としてあげられる。
【００５９】
【化１８】
0003743229.tif 000017
【００６０】
【化１９】
0003743229.tif 000018
【００６１】
【化２０】
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【００６２】
【化２１】
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【００６３】
これらの有機発光層材料の成膜方法は真空蒸着法、累積膜法、昇華転写法、インクジェット法または適当な樹脂バインダー中に分散させてスピンコートなどの方法でコーティングすることにより行なわれる。
【００６４】
有機発光層（７）の膜厚は、単層または積層により形成する場合においても１００ｎｍ以下であり、好ましくは５〜５０ｎｍである。
【００６５】
また、有機発光層（７）を多層で形成することもできる。例えば、正孔注入輸送層（３）上に、一般式１に示す蛍光体をゲスト分子として１％含む（化９）の膜１０〜３０ｎｍ上に（化２２）または（化２３）に示す化合物からなる膜を１０〜３０ｎｍ形成し、さらにＡｌｑの膜を１０〜３０ｎｍ形成し３層からなる有機発光層（７）を形成すると、赤、青、緑の発光波長を含む白色系のＥＬを得ることができる。
【００６６】
【化２２】
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【００６７】
【化２３】
0003743229.tif 000022
【００６８】
次に、有機発光層（７）上に電子輸送層（８）を積層する場合、電子輸送層材料の好ましい条件は、成膜性が良く電子移動度が大きく、ＬＵＭＯの状態密度が大きく、ＬＵＭＯのエネルギーレベルが有機発光層材料のＬＵＭＯのエネルギーレベル（還元電位）と同程度から陰極材料のフェルミレベル（仕事関数）の間にあり、さらに望ましくはイオン化ポテンシャル（酸化電位）が有機発光層材料より大きく正孔ブロック性が高いことである。
【００６９】
さらに陽極（２）が不透明で、透明もしくは半透明の陰極（５）から光を取り出す構成の素子においては少なくとも有機発光層材料の蛍光波長領域において実質的に透明である必要がある。
【００７０】
電子輸送層の例としては、（化１８）で示す化合物、特開平７−９０２６０号公報で述べられているトリアゾール化合物、（化２４）で示す化合物、ヘキサデカフルオロ銅フタロシアニン、バソクプロイン、紫外から青色の光を放射する有機発光材料とアルカリ金属またはアルカリ土類金属または希土類金属との電荷移動錯体、炭化シリコン、アモルファスシリコン膜等の無機半導体や光導電性膜があげられる。
【００７１】
【化２４】
0003743229.tif 000023
【００７２】
また、ホスト発光母体中にゲスト発光体をドーピングして発光層を形成した場合には、ホスト発光母体材料を電子輸送層として用いることも可能である。
【００７３】
電子輸送層（８）の成膜方法は、真空蒸着法、ＣＶＤ法、または、スピンコート法等の塗布法、累積膜法等の方法により行なわれ、１ｎｍ〜１μｍの厚さに単層、または多層で成膜される。
【００７４】
次に陰極（１０）としてＭｇ、Ａｌ等の金属単体、または低仕事関数と安定性を両立させるため、低仕事関数であるＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ等の金属を１種以上を含む合金系が用いられる。
【００７５】
陰極にＡｌを用いる場合は、より電子注入効率を上げるために０．５ｎｍ程度のフッ化リチウムや酸化リチウム、有機リチウム塩、リチウム含有有機金属等のアルカリ金属含有電子注入層を有機発光層（７）または電子輸送層（８）と陰極（１０）間に形成することも行われる。
【００７６】
陰極の形成方法は、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法を用いたり、合金ターゲットを用いてスパッタリング法が用いられ、２００〜１０００ｎｍ程度の膜厚が有機発光層（７）または電子輸送層（８）上に形成される。
【００７７】
陰極をストライプ状に形成する場合には、陰極隔壁分離法やマスク蒸着法、イオンビームエッチング法、リアクティブエッチング法等で陰極金属のパターンニングを行う。
【００７８】
次に素子の有機層や電極の酸化を防ぐために素子上に絶縁封止層（１１）を形成する。絶縁封止層（１１）は、陰極（１０）の形成後直ちに形成する。絶縁封止層材料の例としては、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、ＧｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｂ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＺｎＯ、ＳｎＯ等の酸化物（１酸化物は多少化学量論比からずれていることもある）、ＭｇＦ2 、ＬｉＦ、ＢａＦ2 、ＡｌＦ3 、ＦｅＦ3 等の沸化物、Ｓｉ3 Ｎ4 等の窒化物等の無機材料、パリレンやポリエチレン等の有機ポリマー材料があげられるが、絶縁材料であれば上記例に限定されるものではない。これらを単体または複合化、または多層化して蒸着法、反応性蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等により成膜する。
【００７９】
さらに水蒸気バリアー性能を高めるためにはＡｌ、Ｉｎ等の金属を絶縁封止層（１１）上に積層する。
【００８０】
陰極の腐食防止のために、犠牲防食層として陰極上、封止層中、または封止層に接する面上にＬｉ等のアルカリ金属やＣａ、Ｍｇ等のアルカリ土類金属、Ｙｂ等の希土類金属の層を設けるか、封止用無機化合物とそれらの金属との混合層を設けてもよい。
【００８１】
さらに、湿気の浸入を防ぐために、ハーメチックシールにより発光素子の基板を真空中で密封するか、市販の低吸湿性の光硬化性接着剤、エポキシ系接着剤、シリコーン系接着剤、架橋エチレンー酢酸ビニル共重合体接着剤シート等の接着性樹脂や低融点ガラス等の接着材料（１２）を用いて、金属板、ガラス板等の封止板（１３）の周囲を接着し密封する。ガラス板以外にも、金属箔とプラスチックフィルムのラミネート材料や絶縁スペーサビーズ入り接着剤を用いれば金属板等を用いることもできる。封止層上や封止板（１３）の内側にカルシア、酸化バリウム等の乾燥剤やアルカリ金属やアルカリ土類金属、希土類、ジルコニアなどからなるゲッター材の層やシートを入れても良い。
【００８２】
以上のように構成した有機薄膜発光素子は、正孔注入輸送層（３）側を正として電源（１４）にリード線（１５）で接続し直流電圧を印加することにより発光するが、交流電圧を印加した場合にも正孔注入輸送層（３）側の電極が正に電圧印加されている間は発光する。
【００８３】
本発明による有機薄膜発光素子を基板上に２次元に配列することにより文字や画像を表示可能な薄型ディスプレーをすることができる。
【００８４】
青、緑の発光素子と組み合わせて３色の発光素子を２次元に配列するか、白色発光素子とカラーフィルターを用いてカラーディスプレー化も可能である。
【００８５】
【実施例】
＜実施例１＞
化１０の合成を以下に示す。
2-メチルクロモン22.40 ｇ（140 ｍモル）、マロノニトリル9.44ｇ（143 ｍモル）を無水酢酸200 ｍｌに溶解した後、窒素下撹拌しながら、３時間環流下に反応させた。酢酸、無水酢酸を留去した後、熱水300 ｍｌを加えた。室温に冷却後、ろ過により黒色個体26.58 ｇを得た。酢酸エチル/ ヘキサン（1 ：3 ）を溶離液として、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより４- ジシアノメチリデン-2- メチル- クロモン8.74ｇ（42ｍモル）を得た。単離収率３０％。
【００８６】
４- ジシアノメチリデン-2- メチル- クロモン1.25ｇ（6 ｍモル）、4-ジフェニルアミノベンズアルデヒド  1.79ｇ（6.54ｍモル）をトルエン130 ｍｌに溶解し、ピペリジン2.8 ｍｌ、酢酸1.4 ｍｌを加えた後、窒素下撹拌下にディーンスタークトラップを用いて生成水を留去しながら、環流下に８時間反応させた。反応混合物を室温に冷却後、茶色の固体をろ別除去し、ろ液を濃縮乾固した。真空乾燥機でピペリジン- 酢酸塩を昇華除去した。さらに、酢酸エチル/ ヘキサン（3 ：７）を溶出液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィを行い暗褐色の（化１０）の化合物0.97ｇを得た。単離収率35モル％。融点233.5 〜235.4 ℃。マススペクトル、ＮＭＲで同定した。この化合物のプロトンＮＭＲスペクトルを図４に示す。理研計器（株）製表面分析装置ＡＣ- １で測定したイオン化ポテンシャルは５. ６eV、吸収端波長は622nm （2.0eV ）、ガラス転移温度８８℃であった。
【００８７】
＜実施例２＞
Ａｌｑの蒸着速度を0.2nm ／sec とし、（化９）で示す化合物の蒸着速度をＡｌｑの蒸着速度の約１％とし約４０ｎｍの厚さに共蒸着を行った。得られた膜の蛍光スペクトルを図５に示す。
【００８８】
＜実施例３＞
Ａｌｑの蒸着速度を0.2nm ／sec とし、（化１０）で示す化合物の蒸着速度をＡｌｑの蒸着速度の約２％に変えて約４０ｎｍの厚さに共蒸着を行った。得られた膜の蛍光スペクトルを図６の実線、（化１０）で示す化合物の約４４ｎｍの単独膜の蛍光スペクトルを破線に示す。なお、Ａｌｑ中の（化１０）の割合を増すことにより蛍光ピーク波長を約６９０ｎｍまで長波長化することもできる。
【００８９】
＜実施例４＞
透明絶縁性の基板（１）として、厚さ１．１mmの青板ガラス板を用い、この上に１２０ｎｍのＩＴＯをスパッタリング法で被覆して陽極（２）とした。この透明導電性基板を使用前に水洗、プラズマ洗浄により十分に洗浄した。
【００９０】
正孔注入輸送層は、まず、第１正孔注入輸送層（４）としてアルドリッチ製のＣｕＰｃを１０ｎｍ真空蒸着し、第２正孔注入輸送層（５）として（化１６）で示す正孔輸送材料を３０ｎｍの厚さで真空蒸着した。さらにＮＰＤを第３正孔注入輸送層（６）として１０ｎｍの厚さで真空蒸着した。
【００９１】
次に、有機発光層（７）としてＡｌｑと（化９）で示す化合物を蒸着速度比100 ：1.5 で40nm蒸着し、さらに有機電子輸送層（８）としてＡｌｑを10ｎｍ蒸着した。
【００９２】
その上面に電子注入層（９）としてＬｉＦを０．５ｎｍ蒸着し、陰極（１０）としてＡｌを２００ｎｍ蒸着した。
【００９３】
次に絶縁封止膜（１１）として酸化ゲルマニウムをＡｒプラズマ下１μｍ蒸着し、さらにピンホール防止膜（２０）としてＡｌを２００ｎｍ蒸着した。
【００９４】
最後に乾燥窒素下でプラズマ洗浄したカバーガラス（１３）を感光性接着剤（１２）で貼り付けた。
【００９５】
この素子は陽極と陰極を直流電源につないで電圧印加すると４Ｖ以上の電圧でピーク波長約６５５ｎｍの赤色発光し、１５Ｖで最高輝度３０００cd/m2 以上得られた。
【００９６】
＜実施例５＞
実施例４の（化９）に代えて（化１０）を用いて同様に発光素子を作製した。１５Ｖで同様に赤色発光した。
【００９７】
＜実施例６＞
透明絶縁性の基板（１）として、厚さ１．１mmの青板ガラス板を用い、この上に１２０ｎｍのＩＴＯをスパッタリング法で被覆して陽極（２）とした。この透明導電性基板を使用前に水洗、プラズマ洗浄により十分に洗浄した。
【００９８】
正孔注入輸送層は、まず、第１正孔注入輸送層（４）としてアルドリッチ製のＣｕＰｃを１４ｎｍ真空蒸着し、第２正孔注入輸送層（５）として（化１７）で示す正孔輸送材料を４８ｎｍの厚さでスピンコートした。
【００９９】
次に、有機発光層（７）としてＡｌｑと（化１１）で示す化合物を蒸着速度比100 ：２で５０nm蒸着した。
【０１００】
その上面に電子注入層としてＬｉＦを０．５ｎｍ蒸着し、陰極（１０）としてＡｌを２００ｎｍ蒸着した。
【０１０１】
次に絶縁封止膜（１１）として酸化ゲルマニウムをＡｒプラズマ下１μｍ蒸着し、さらにピンホール防止膜としてＡｌを２００ｎｍ蒸着した。
【０１０２】
最後に乾燥窒素下でプラズマ洗浄したカバーガラスを封止板（１３）として感光性接着剤（１２）で貼り付けた。
【０１０３】
この素子は陽極と陰極を直流電源につないで電圧印加すると４Ｖ以上の電圧でピーク波長約６５０ｎｍの赤色発光し、１５Ｖで最高輝度７２６cd/m2 得られた。
【０１０４】
＜実施例７〜１０＞
実施例４の（化９）に代えて（化１２）〜（化１５）を用いて発光素子を作製すると、同様に赤色発光が得られた。
【０１０５】
【発明の効果】
本発明に係る蛍光体は、従来のＤＣＭ系蛍光体より長波長の赤色発光ピークを得ることができ、高輝度で色純度のよい赤色有機薄膜発光素子を提供することができる。
【０１０６】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の有機薄膜発光素子の一実施例を示す説明図である。
【図２】本発明の有機薄膜発光素子の他の実施例を示す説明図である。
【図３】本発明の有機薄膜発光素子の他の実施例を示す説明図である。
【図４】化１０のプロトンＮＭＲスペクトルを示す説明図である。
【図５】化９の蛍光スペクトルを示す説明図である。
【図６】化１０とＡｌｑの共蒸着膜の蛍光スペクトルを示す説明図である。
【符号の説明】
（１）…基板
（２）…陽極
（３）…正孔注入輸送層
（７）…有機発光層
（８）…電子輸送層
（１０）…陰極
（１１）…絶縁封止層
（１２）…接着性材料層
（１３）…封止板
（１４）…電源
（１７）…青色有機発光層
（１８）…緑色有機発光層
（１９）…赤色有機発光層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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