(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と感光体との間に配置されると共に周面に複数の偏向面を有し、光源からのビームを走査方向の偏向面幅よりも広い範囲に受けて感光体上に偏向走査させる偏向器を含んで構成されると共に、偏向面への走査方向入射角が０°に設定された光学走査装置であって、
前記光源と前記偏向器との間に、Ｆナンバーの変化による前記感光体上の光量分布の一様性が確保されるように、透過率分布が光軸に対して対称となる二箇所で不連続となりかつ当該透過率分布の不連続部をビームが跨がるように金属薄膜をコーティングすることによって構成された吸収材を側面に有する単一のフィルタを設置することで、ガウス強度分布を基準にした場合のフィルタ透過後の透過率の分布を、光軸を通る中央部の透過率が下がり光軸に対して対称位置に位置する両端部の透過率が上がった左右対称形状とし、
さらに、前記中央部の低透過率部の幅を偏向面幅と同一か又はそれ以上とした、
ことを特徴とする光学走査装置。
【請求項２】
前記フィルタを、所定量移動可能に構成した、
ことを特徴とする請求項１に記載の光学走査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザプリンタ及びデジタル複写機等に用いられる光学走査装置に係り、特に光学フィルタによって感光体上の光量分布を補正する機能を備えた光学走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
図１２には、走査方向の偏光面幅より広いビームが偏向器１００に入射する光学走査装置（以下、「オーバーフィルド〔Overfilled〕光学系」という）の要部が概略的に示されている。
【０００３】
この図において、偏向面幅；Ｆａと、偏向器１００であるポリゴンミラーの内接円径；Ｐφ、偏向面数；ｎとの間には、次式で示される関係が成り立つ。
【０００４】
Ｆａ＝Ｐφ×tan （１８０°／ｎ）・・・（１）
なお、ここでは偏向器１００としてポリゴンミラーを用いたが、ガルバノミラー等の偏向器を用いても差し支えなく、その場合には偏向面幅Ｆａはポリゴンミラー内接円径Ｐφ、偏向面数ｎとは無関係になる。
【０００５】
また、オーバーフィルド光学系では、ガウス強度分布のビームの一部ずつを走査角に対応して切り取るように用いるため、偏向面反射直後のビーム幅；Ｄと、走査角；α、偏向面入射角；βとの間には、次式で示される関係が成り立つ。
Ｄ＝Ｆａ×cos ｛（α＋β）／２｝・・・（２）
さらに、レンズによる像の明るさの度合いを表すＦナンバーと、偏向器１００から感光体１０２までの焦点距離；ｆ、偏向面反射直後のビーム幅；Ｄとの間には次式で示される関係が成り立つ。
【０００６】
Ｆナンバー＝ｆ／Ｄ・・・（３）
なお、焦点距離ｆは、偏向器１００と感光体１０２との間に図示しないｆθレンズが配置されるため、走査角；αとは無関係に一定である。
【０００７】
以上（１）〜（３）式から、上記のオーバーフィルド光学系では、Ｆナンバーは走査角α及び偏向面入射角βに応じて変化することが判る。そして、Ｆナンバーが変化した場合には、感光体１０２上の走査位置によって光量が変化することになる。総じていえば、オーバーフィルド光学系では、偏向器１００に入射されるガウス強度分布のビームの一部ずつを走査角αに対応して切り取るように用いることから、Ｆナンバーの変化を持たらし、これにより感光体１０２上の光量分布の一様性が低下するという不具合がある。
【０００８】
この不具合を考慮した構成が、米国特許３５５８２０８号に開示されている。図１３に示されるように、この公報に開示された光学走査装置１０４では、光源１０６とポリゴンミラーである偏向器１０８との間に、コリメータレンズ１１０、凸レンズ１１２、フィルタ１１４、及びｆθレンズ１１６が光源１０６側からこの順に配設されている。さらに、フィルタ１１４は、放物線状の厚さを有する吸収材１１４Ａを備えている。
【０００９】
上記構成によれば、光源１０６からのビームは、コリメータレンズ１１０及び凸レンズ１１２を透過することで略平行光とされ、更にフィルタ１１４及びｆθレンズ１１６を透過した後、偏向器１０８によって偏向走査される。このとき、凸レンズ１１２によって略平行光とされたビームは、放物線状の厚さを有する吸収材１１４Ａを備えたフィルタ１１４を透過することにより、偏向器１０８に入射されるに際にガウス強度分布のビームから矩形状強度分布のビームに変換される。つまり、図１４に示されるように、ガウス強度分布のビームのビーム径Ａに対し、略平坦な中央部のみを使用すれば（即ち、利用幅をＢとする）、フィルタ１１４を設けなくても前述した感光体１１８上の光量分布の不均一はある程度是正されるが、この場合には中央部以外の部分が不使用となるためエネルギー損失が大きくなる。このため、上記公報に示された構成では、感光体１１８上の光量分布の一様性を確保しつつエネルギー損失の低減を図るべく、フィルタ１１４を設定することで矩形状強度分布のビームに変換して利用幅をＣとしている。
【００１０】
ここで、上記公報には、オーバーフィルド光学系特有の走査角に応じてＦナンバーが変化することによる感光体１１８上の光量分布の変化については何も言及されていないが、偏向器１０８に入射されるガウス強度分布のビームを矩形状強度分布のビームに変換するだけでは、前述したＦナンバー変化による感光体１１８上の光量分布の不均一を補正することはできないという問題がある。すなわち、フィルタ１１４に設けられた吸収体１１４Ａの断面形状が放物線状であるため、偏向器１０８に入射されるビームの強度分布が単にガウス強度分布から矩形状強度分布に変換されるだけで、オーバーフィルド光学系特有の走査角に応じたＦナンバー変化に追従した光量分布の補正を行うには到らない。
【００１１】
但し、偏向器１０８の走査角が小さい場合には、感光体１１８上のビームの強度分布一様性は実用上問題ないレベルではある。
【００１２】
本発明は上記事実を考慮し、オーバーフィルド光学系においてＦナンバー変化による感光体上の光量分布の不均一を実用上問題のないレベルに補正することができる光学走査装置を得ることが目的である。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の本発明は、光源と感光体との間に配置されると共に周面に複数の偏向面を有し、光源からのビームを走査方向の偏向面幅よりも広い範囲に受けて感光体上に偏向走査させる偏向器を含んで構成されると共に、偏向面への走査方向入射角が０°に設定された光学走査装置であって、前記光源と前記偏向器との間に、Ｆナンバーの変化による前記感光体上の光量分布の一様性が確保されるように、透過率分布が光軸を対して対称となる二箇所で不連続となりかつ当該透過率分布の不連続部をビームが跨がるように金属薄膜をコーティングすることによって構成された吸収材を側面に有する単一のフィルタを設置することで、ガウス強度分布を基準にした場合のフィルタ透過後の透過率の分布を、光軸を通る中央部の透過率が下がり光軸に対して対称位置に位置する両端部の透過率が上がった左右対称形状とし、さらに、前記中央部の低透過率部の幅を偏向面幅と同一か又はそれ以上とした、ことを特徴としている。
【００１４】
請求項２記載の本発明は、請求項１記載の本発明において、前記フィルタを、所定量移動可能に構成した、ことを特徴としている。
【００１５】
【作用】
請求項１記載の本発明では、偏向面への走査方向入射角が０°に設定されている場合を対象としている。この場合、偏向器で偏向されたビームの光量は走査方向で偏向器出射側と偏向器入射側とで対称になる。この点を踏まえて本発明では、透過率分布の不連続部を二つ有するフィルタを用いると共に当該透過率分布の不連続部を光軸に対して対称に位置させたので、ガウス強度分布を基準にした場合のフィルタ透過後の透過率の分布を、光軸を通る中央部の透過率が下がり光軸に対して対称位置に位置する両端部の透過率が上がった左右対称形状にすることができる。従って、光軸に対して左右対称に感光体上での光量分布が補正されることになり、その結果、感光体上での光量分布が一様になる。すなわち、本発明によれば、偏向面への走査方向入射角が０°に設定されている場合に、感光体上の光量分布を必要部分のみ補正して理想的な分布にすることが可能となる。従って、Ｆナンバーが走査角、偏向面入射角に応じて変化するオーバーフィルド光学系においても、感光体上の光量分布の一様性を確保することが可能となる。
特に、本発明では、中央部の低透過率部の幅を偏向面幅と同一か又はそれ以上としたので、補正効果が確実に現れる。
【００１６】
加えて、本発明によれば、透過率分布の不連続部をビームが跨がるように、金属薄膜をコーティングすることによりフィルタの吸収材を構成したので、フィルタを透過したビームの透過波面の位相差を極力少なくすることができる。すなわち、透過率分布の不連続部をビームが跨がっていると、物理的に透過波面の位相差が発生するため、感光体上に結像するビームプロファイルが崩れることが知られている。ここで、一般的に、ビーム径はピーク値の１３．５％で定義されているが、位相差が大きくなるとサイドローブが１３．５％を越える場合もあり、要求される画質を達成できないおそれがある。しかしながら、本発明によれば、金属薄膜をコーティングすることによってフィルタの吸収材を構成したので、コーティング膜厚を非常に薄くすることができる。よって、透過率分布の不連続部をビームが跨がっているにも拘わらず、透過したビームの透過波面の位相差を抑えることができ、ビームプロファイルを崩すことなく光量分布を補正することができる。
【００１７】
さらに、本発明によれば、フィルタの透過率分布が不連続となる設定であるため、透過率分布が連続するフィルタを用いる場合に比し、フィルタの製造が容易になり、コスト的に有利である。
【００１８】
請求項２記載の本発明によれば、請求項１記載の本発明において、フィルタを所定量移動可能に構成したので、フィルタの設置位置がずれた場合や透過率分布の不連続部の精度不良が生じた場合等に、フィルタを必要量移動させることにより初期状態でのずれを解消することができる。このため、このような場合においても、適切な光量補正を行うことが可能となる。
【００１９】
【実施例】
以下、図１〜図８を用いて、本発明の一実施例について説明する。
【００２０】
図２には、本実施例に係る光学走査装置１０の全体構成が示されている。なお、本実施例に係る光学走査装置１０は、レーザプリンタ及びデジタル複写機等に用いられるものである。以下、この図を用いて、光学走査装置１０の概略構成について先に説明する。
【００２１】
光学走査装置１０は、所定形状のハウジング１２を備えている。ハウジング１２の幅方向の一方の側部には光源としてのレーザーダイオードＡｓｓｙ１４が配設されており、これによりレーザービームが放射される。また、レーザーダイオードＡｓｓｙ１４の投光側には、レーザーダイオードＡｓｓｙ１４から投光されたレーザービームを緩やかな発散光にするためのコリメータレンズＡｓｓｙ１６が配設されている。さらに、コリメータレンズＡｓｓｙ１６に隣接する位置にはビーム成形用のスリット１８が配設されており、スリット１８に隣接する位置には偏向面で副走査方向に略結像させるべく副走査方向にのみ曲率を有するシリンダレンズ２０が配設されている。
【００２２】
一方、ハウジング１２の幅方向の他方の側部にはフラットミラー２２が配設されており、これによりシリンダレンズ２０を通ったビームがハウジング１２の内方へ向けて反射される。ハウジング１２の内方中央部には、偏向器としてのポリゴンミラー２４が配設されている。回転多面鏡であるポリゴンミラー２４は、各々所定の偏向面幅とされた複数の偏向面２４Ａを周面に備えており、中心軸回りに所定の角速度で回転するように構成されている。上述したフラットミラー２２とポリゴンミラー２４との間には、フラットミラー２２での反射光を略平行光にするための凸レンズ２６並びに後述する光量分布補正用のフィルタ２８が配設されている。
【００２３】
また、ハウジング１２の長手方向の一方の側部には、別のフラットミラー３０が配設されている。このフラットミラー３０と前述したポリゴンミラー２４との間には、ポリゴンミラー２４によって偏向されたビームを等速化して感光体３２上に結像させるためのｆθレンズ３４が配設されている。
【００２４】
さらに、ハウジング１２の長手方向の他方の側部には、前述したフラットミラー３０で反射されたビームの副走査方向倒れを補正するためのシリンダミラー３６が配設されている。
【００２５】
以上の構成により、レーザーダイオードＡｓｓｙ１４から放射されたビームが、ポリゴンミラー２４によって感光体３２上に偏向走査される。
【００２６】
なお、上述した光学走査装置１０には、上記構成の他、ポリゴンミラー２４による主走査の基準位置（タイミング）を検出するためのＳＯＳセンサ３８、ＳＯＳレンズ４０、及びＳＯＳピックアップミラー４２が配設されている。
【００２７】
次に、ポリゴンミラー２４と凸レンズ２６との間に配置されたフィルタ２８について詳細に説明する。
【００２８】
図１には、フィルタ２８を含んで構成された上記光学走査装置１０の光学系の模式図が示されている。また、図３にはフィルタ２８の斜視図が示されており、図４には図３の４−４線に沿ったフィルタ２８の断面図が示されており、更に図５にはフィルタ２８の正面図が示されている。
【００２９】
これらの図に示されるように、フィルタ２８は、平行ガラス板で構成されたフィルタ本体４４を備えている。このフィルタ本体４４の凸レンズ２６側の側面には、ビームの透過率を低下させるための吸収材４６が塗布されている。なお、吸収材４６としては、例えば金属薄膜をコーティングする方法が用いられている。また、吸収材４６の設定範囲は、フィルタ本体４４の側面の半分強とされている。これにより、吸収材４６が塗布されていない部分ではビームの透過率が９３％とされ、吸収材４６が塗布された部分ではビームの透過率は６７．１％とされている。なお、透過率分布の不連続部（図５参照）は、コーティング時にマスキングすることによって形成されており、本実施例では走査方向出射側に配置されている。より具体的には、本実施例では、偏向面入射ビーム幅はおよそ１０ｍｍであるが、このとき透過率分布の不連続部は光軸から走査方向出射側にＸ＝−２ｍｍの位置に設定されている。以上の構成によるフィルタ２８の相対ビーム幅に対する透過率分布を概略的に示すと図６図示の如くとなり、透過率分布は光軸に対し非対称であると共に透過率分布の不連続部（即ち、段階部）が一つある不連続な線図となっている。
【００３０】
以下に、本実施例の作用を説明する。
【００３１】
レーザーダイオードＡｓｓｙ１４から放射されたレーザービームは、コリメータレンズＡｓｓｙ１６によって緩やかな発散光とされた後、スリット１８によって成形される。成形されたビームは、シリンダレンズ２０を介して凸レンズ２６によって略平行光とされた後、フィルタ２８にかけられる。フィルタ２８を透過したビームは、ポリゴンミラー２４によって偏向されて感光体３２上に偏向走査される。
【００３２】
ここで、本実施例で使用されるフィルタ２８ではその所定位置に吸収材４６が設けられているため、フィルタ２８の透過率分布は図６図示の如く偏向器入射側で低く偏向器出射側で高くなる。このため、フィルタ２８を設置しない場合のビームプロファイルは図７に二点鎖線で示される如くガウス強度分布であるのに対し、フィルタ２８を設置した本実施例の場合のビームプロファイルは図７に実線で示される如く一部の強度が減衰された特性になる。そして、図８に示される如く、走査角α＝−２１．８°の場合であれば減衰された太線のＤ部分（同図（Ａ）参照）が使用され、同様にして走査角α＝０°の場合であれば同図（Ｂ）に太線で示されるＤ部分が使用され、走査角α＝２１．８°の場合であれば同図（Ｃ）に太線で示される部分が使用される。この結果、感光体３２上での光量分布が補正される。
【００３３】
以下に、具体的なデータに基づいて説明する。
【００３４】
下記表１には、比較例として本実施例に係るフィルタ２８を備えていないオーバーフィルド光学系による感光体３２上の光量分布が示されている。なお、この例では、半導体レーザー波長を７８０ｎｍ、ｎ＝１５、α＝±２１．６°、β＝４５°、ｆ＝２８６．４８ｍｍ  とされている。また、下記表１に示される光量分布は、α＝０°のときの光量を１００％とした場合のデータである。
【００３５】
【表１】
0003853740.tif 000002
上記表１から、このオーバーフィルド光学系では、α＝−２１．６°のときに感光体３２上での光量が１５．１％も減少していることが判る。従って、この場合には、現像プロセスを経て得られるプリントの濃度が低下するおそれがあり、実用上問題がある。ちなみに、現像プロセスによっても異なるが、感光体３２上の光量が光軸に対して１０％以内であれば、実用上問題がないとされる。
【００３６】
これに対し、凸レンズ２６とポリゴンミラー２４との間に本実施例に係るフィルタ２８を配設した場合には、光量分布は下記表２の如くとなる。なお、下記表２に示されるデータは計算によるものであるが、実験結果でも同様の値が得られた。
【００３７】
補足すると、計算に際しては、図５に示される如く、フィルタ２８を透過するビームは、走査方向に略線状となっており、透過率分布の不連続部を跨がったビームを偏向する走査角においては、偏向面反射直後のビームは全幅のうち透過率６７．１％エリアと９３％エリアとがある。この比率から、上記光量分布を算出した。この際、偏向面エッジ部を入射光束走査方向座標Ｘに置き換えた。なお、座標Ｘに換算する式は、次式による。
【００３８】
Ｘ＝１／２×Ｐφ×sin （β／２）−Ｒ｛（α＋β）／２±１８０°／ｎ｝
但し、Ｒ；Ｐφ／２｛cos （１８０°／ｎ）｝−１
上記式より、各走査角にて、フィルタ不連続部位置から反射される有効全幅に対して透過率６７．１％エリア比と透過率９３％エリア比とを求めることで、総合透過率を計算した。この計算は、ビームが走査方向に略線状となっていることから、フィルタ２８を透過するビームがガウス強度分布状であることは無視した。
【００３９】
【表２】
0003853740.tif 000003
上記表２から、本実施例では、α＝−２１．６°のときに感光体３２上での光量が３．４％しか減少していないことが判る。従って、本実施例の場合には、現像プロセスを経て得られるプリントの濃度が低下するおそれはなく、実用上問題無いレベル（５％p-ｐ）にあるといえる。
【００４０】
このように本実施例では、Ｆナンバーが走査角α及び偏向面入射角βに応じて変化するオーバーフィルド光学系において、凸レンズ２６とポリゴンミラー２４との間に所定の透過率分布に設定されたフィルタ２８を配置したので、感光体３２上での光量分布の一様性を確保することができる。
【００４１】
また、本実施例では、フィルタ２８の所定範囲にコーティングによる吸収材４６を設ける構成であるため、フィルタ２８を透過したビームの透過波面の位相差を極力少なくすることができる。すなわち、図５に示される如く、透過率分布の不連続部をビームが跨がっていると、物理的に透過波面の位相差が発生するため、感光体３２上に結像するビームプロファイルが崩れることが知られている。ここで、一般的に、ビーム径はピーク値の１３．５％で定義されているが、位相差が大きくなるとサイドローブ（メインビームの裾野から盛り上がる成分のこと）が１３．５％を越える場合もあり、要求される画質を達成できないおそれがある。しかしながら、本実施例によれば、金属薄膜等をコーティングすることによる吸収材４６をフィルタ２８に設けているため、コーティング膜厚を非常に薄くすることができる。よって、透過率分布の不連続部をビームが跨がっているにも拘わらず、透過したビームの透過波面の位相差を抑えることができ、ビームプロファイルを崩すことなく光量分布を補正することができる。なお、製造工程上、透過率分布の不連続部は０．５ｍｍ以下の短い区間で連続的透過率となることがあるが、その場合においても光量分布補正効果は十分に得られる。
【００４２】
なお、本実施例では、フィルタ２８に塗布される吸収材４６が正面視で矩形状とされているが、図９に示される如く、正面視で台形状となるように吸収体４８が塗布されたフィルタ５０を使用してもよい。この場合、透過率分布の不連続部は走査方向に対して垂直ではなく斜めに位置される。
【００４３】
また、本実施例では、フィルタ２８の透過率は二段階に設定されているが、三段階以上に透過率を設定してもよい。例えば、図１０に示されるフィルタ５２では、三箇所に透過率分布の不連続部が設定されている。なお、このフィルタ５２では、走査方向に−３．６ｍｍ、−２．５ｍｍ、＋４．０ｍｍの各位置に透過率分布の不連続部が設定されており、各々の透過率は負側（出射側）から順に９３．０％、６７．１％、４５．０％、６７．１％とされている。この構成を得るための手段としては、以下のものが考えられる。例えば、フィルタ５２の一方の片面の走査方向−２．５ｍｍから＋４ｍｍまでの範囲に透過率６７．１％の吸収体を塗布し、フィルタ５２の他方の片面の走査方向−３．６ｍｍから正側（入射側）全部に透過率６７．１％の吸収体を塗布する構成を採ってもよいし、フィルタ５２の一方の片面に透過率６７．１％の吸収体をずらして二度塗布する構成を採ってもよい。なお、前者の構成は、製造上最も造り易いというメリットがある。
【００４４】
上記構成に係るフィルタ５２を用いた場合、感光体３２上での光量分布は、下記表３の如くとなる。
【００４５】
【表３】
0003853740.tif 000004
上記表３から判るように、この例による場合には、３％p-ｐの光量分布にすることができる。
【００４６】
さらに、本実施例では、図６に示されるような透過率分布に設定されたフィルタ２８を用いたが、これに限らず、透過率分布が光軸に対して非対称或いは透過率分布が不連続であるようなフィルタであればよい。例えば、図１１（Ａ）、（Ｂ）に示される例はフィルタの透過率分布が光軸に対して非対称な例であり、図１１（Ａ）乃至（Ｃ）に示される例はフィルタの透過率分布が不連続である例であり、これらのいずれを適用してもよいし、これら以外の透過率分布に設定されたフィルタを用いてもよい。
【００４７】
補足すると、図１１（Ｃ）に示される透過率分布に設定されたフィルタは、偏向面２４Ａへの走査方向入射角βが０°に設定されている場合に使用され、即ち請求項１に対応するものである。この場合、半導体レーザー波長を７８０ｎｍ、ｎ＝１５、α＝±２１．６°、β＝０°、ｆ＝２８６．４８ｍｍのオーバーフィルド光学系において、α＝０°の場合の光量を１００％としたとき、偏向面反射直後のビーム幅Ｄは次式となる。
【００４８】
Ｄ＝Ｆａ×cos （α／２）
このため、Ｆナンバーの変化は走査方向に正負対称であり、走査角αが増えると光量が減る。但し、偏向面入射光と出射光とは同一平面上にはない。よって、図１１（Ｃ）に示される如く、透過率分布を不連続にすると共に中央部の透過率を下げて両端部の透過率を上げれば光量分布を改善することができる。特に、中央部の低透過率部の幅をＦａと同一か又はそれ以上とすることにより補正効果が現れる。
【００４９】
また、本実施例では、フィルタ２８は固定的に保持される構成を採ったが、これに限らず、フィルタ２８を所望の方向（主走査方向、副走査方向どちらでも可）へ移動可能に構成してもよい。この場合、フィルタの設置位置がずれた場合や透過率分布の不連続部の精度不良が生じた場合等に、フィルタを必要量移動させることにより初期状態でのずれを解消することができる。このため、このような場合においても、適切な光量補正を行うことができるというメリットがある。
【００５０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る光学走査装置は、オーバーフィルド光学系においてＦナンバー変化による感光体上の光量分布の不均一を実用上問題のないレベルに補正することができるという優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施例に係る光学走査装置の光学系の模式図である。
【図２】本実施例に係る光学走査装置の全体構成を示す斜視図である。
【図３】図１に示されるフィルタの斜視図である。
【図４】図３に示されるフィルタの４−４線断面図である。
【図５】図３に示されるフィルタの正面図である。
【図６】図３に示されるフィルタのビームの透過率分布を示す線図である。
【図７】本実施例に係るフィルタを透過したビームのビームプロファイルを示す線図である。
【図８】（Ａ）〜（Ｃ）は走査角に応じた偏向面での切取り部分を示すグラフである。
【図９】フィルタの変形例を示す図５に対応する正面図である。
【図１０】フィルタの他の変形例を示す図５に対応する正面図である。
【図１１】フィルタの他の変形例であり、使用し得る透過率分布を例示的に示す図６に対応する線図である。
【図１２】従来のオーバーフィルド光学系の模式図である。
【図１３】従来のフィルタを備えたオーバーフィルド光学系の構成を示す概略構成図である。
【図１４】図１３に示される構成を用いた場合のフィルタ透過後のビームプロファイルを示す線図である。
【符号の説明】
１０    光学走査装置
１４    レーザーダイオードＡｓｓｙ（光源）
２４    ポリゴンミラー（偏向器）
２４Ａ  偏向面
２８    フィルタ
３２    感光体
４６    吸収材
５０    フィルタ
５２    フィルタ
【図１】
0003853740.tif 000005
【図２】
0003853740.tif 000006
【図３】
0003853740.tif 000007
【図４】
0003853740.tif 000008
【図５】
0003853740.tif 000009
【図６】
0003853740.tif 000010
【図７】
0003853740.tif 000011
【図８】
0003853740.tif 000012
【図９】
0003853740.tif 000013
【図１０】
0003853740.tif 000014
【図１１】
0003853740.tif 000015
【図１２】
0003853740.tif 000016
【図１３】
0003853740.tif 000017
【図１４】
0003853740.tif 000018