(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
培養床（22）を備える円盤（18）が、ほぼ鉛直線の周りに回転自在に製麹室（12）内に配設され、側板（30）が前記製麹室（12）に固定されて設けられるとともに、前記円盤（18）の外周部からの麹の落下を阻止するように、前記円盤（18）の上面側を前記円盤（18）の周辺部に沿って円周状に延びている円盤式自動製麹装置（10）の側板洗浄方法において、前記円盤（18）の周辺部に上向きに開口する噴射孔（32）からの洗浄液を噴射して、前記側板（30）の下端面、前記側板（30）の内外の周面を洗浄することを特徴とする円盤式自動製麹装置の側板洗浄方法。
【請求項２】
前記円盤（18）の周方向へほぼ等角度間隔の複数個の個所に噴射口（32）を設け、各噴射口（32）からの洗浄液を噴射することを特徴とする請求項1記載の円盤式自動製麹装置の側板洗浄方法。
【請求項３】
培養床（22）を備える円盤（18）が、ほぼ鉛直線の周りに回転自在に製麹室（12）内に配設され、側板（30）が前記製麹室（12）に固定されて設けられるとともに、前記円盤（18）の外周部からの麹の落下を阻止するように、前記円盤（18）の上面側を前記円盤（18）の周辺部に沿って円周状に延びている円盤式自動製麹装置（10）の側板洗浄装置において、前記側板（30）の厚さ方向は前記側板（30）の内外へはみ出す寸法で前記円盤（18）の周辺部に上向きに開口して前記側板（30）の下端面、前記側板（30）の内外の周面へ洗浄液を噴射する噴射孔（32）を有していることを特徴とする円盤式自動製麹装置の側板洗浄装置。
【請求項４】
前記噴射孔（32）は、噴射流が偏平状横断面となるように、洗浄液を噴射する形式であることを特徴とする請求項3記載の円盤式自動製麹装置の側板洗浄装置。
【請求項５】
複数個の噴射孔（32）が、その噴射流の偏平状横断面の長軸を円盤（18）の周方向に対して種々の角度となるように設けられていることを特徴とする請求項４記載の円盤式自動製麹装置の側板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、主として酵素工業並びに醸造工業の、固体培養装置に装備される円盤式自動製麹装置の側板洗浄方法及び装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
製麹室の保温側壁に固定された円筒状の側板を洗浄する場合には、斜め下方に水流を噴出させる方向にノズルを設けた自動製麹装置を回転移動させ、麹基質と接触する側板の内周面を洗浄していた。また培養床の外周付近の下方に吸水パイプを設け、出麹後に培養床の一部を手動操作で開け、洗浄ノズルを取り付ける場合もあった、さらに、3次元ノズルを利用して製麹室内を洗浄する場合もあった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
円盤式自動製麹装置の従来の側板洗浄方法及び装置では、麹基質と接触する側板の内周面を洗浄するのみであった。相対湿度が高く麹基質の微粉末等が飛散する製麹室内では、麹基質と直接接触しない側板の外周面も洗浄する必要がある。特に培養床上に側板の下端面がある場合には、培養床と側板の下端面の間に麹基質の微粉末等が入り込むため、側板の下端面の洗浄を十分に実施する必要がある。
【0004】
また、製麹室内の自動洗浄には高圧の洗浄水が多量に必要となり、大容量の高圧ポンプを設けることになる。このため、できる限りの少量の洗浄水で自動洗浄を完了させることが望ましい。
【0005】
この発明の目的は、側板の内周面だけでなく、外周面及び下端面も洗浄し、かつ節水にも寄与できる円盤式自動製麹装置の側板洗浄方法及び装置を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
この発明の円盤式自動製麹装置（10）の側板洗浄方法によれば、培養床（22）
を備える円盤（18）が、ほぼ鉛直線の周りに回転自在に製麹室（12）内に配設され、側板（30）が、製麹室（12）に固定して設けられるとともに、円盤（18）の外周部からの麹の落下を阻止するように、円盤（18）の周辺部に沿って円周状に延びている。そして、円盤式自動製麹装置（10）の側板洗浄方法では、円盤（18）の周辺部の上向きに開口する噴射孔（32）から洗浄液を噴射して、側板（30）の下端面、側板（30）の内外の周面を洗浄する。
【0007】
噴射孔（32）からの洗浄液は、側板（30）の内周面と共に、側板（30）の下端面及び外周面を洗浄する。培養床（22）上の噴射孔（32）は、円盤（18）が回転することにより、円盤（18）の周方向の側板（30）の種々の位置へ移動する。したがって、円盤（18）の回転により、側板（30）の周方向各部を噴射孔（32）からの洗浄液により洗浄できる。
【0008】
この発明の他の円盤式自動製麹装置（10）の側板洗浄方法によれば、さらに、円盤（18）の周方向へほぼ等角度間隔の複数個の個所に噴射孔（32）を設け、各噴射孔（32）から洗浄液を噴射する。
【0009】
噴射孔（32）が１個のみの場合には、側板（30）の全体を洗浄するために、円盤（18）を１回転する必要があるが、噴射孔（32）を円盤（18）の周方向へほぼ等角度間隔に複数個設けて、各噴射孔（32）から洗浄液を噴射することにより、円盤（18）を1回転より小さい回転で側板（30）の全部の洗浄を済ませることができ洗浄作業の効率が高まる。
【0010】
この発明の円盤式自動製麹装置（10）の側板洗浄装置では、培養床（22）を備える円盤（18）が、ほぼ鉛直線の周りに回転自在に製麹室（12）内に配設され、側板（30）が、製麹室（12）に固定されて設けられるとともに、円盤（18）の外周部からの麹の落下を阻止するように、円盤（18）の上面側を円盤（18）の周辺部に沿って円周状に延びている。そして、円盤式自動製麹装置（10）の側板洗浄装置は、側板（30）の厚さ方向の下端面、側板（30）の内外の周面へ洗浄液を噴射する噴射孔（32）を有している。
【0011】
噴射孔（32）からの洗浄液は、側板（30）の下端を厚さ方向へはみ出すように、噴射され、側板（30）の下端に当たるとともに、側板（30）の内周側及び外周面にも当てられる。これにより、側板（30）は下端、内側及び外周を洗浄される。
【0012】
この発明の円盤式自動製麹装置（10）の側板洗浄装置では、培養床（22）を備える円盤（18）が、ほぼ鉛直線の周りに回転自在に製麹室（12）内に配設され、側板（30）が、製麹室（12）に固定されて設けられるとともに、円盤（18）の外周部からの麹の落下を阻止するように、円盤（18）の上側面を円盤（18）の周辺部に沿って円周状に延びている。そして、側板（30）の内周面に向けられて洗浄液を噴射する内周面用噴射孔（32）と、側板（30）の外周面に向けられて洗浄液を噴射する外周面用噴射孔（32）とが、培養床（22）の上面に開口している。
【0013】
この発明の他の円盤式自動製麹装置（10）の側板洗浄装置によれば、噴射孔（32）は、噴射孔が偏平状横断面となるように、洗浄液を噴射する形式である。
【0014】
噴射孔（32）からの洗浄液の噴射流の横断面は、円形よりも、偏平の方が、噴射孔（32）からの洗浄液が側板（30）の内周面及び外周面に効率よく当たり、洗浄液の消費量を節約できる。
【0015】
この発明の他の円盤式自動製麹装置（10）の側板洗浄装置によれば、複数個の噴射孔（32）が、その噴射流の偏平状横断面の長軸を円盤（18）の周方向に対して種々の角度となるように、設けられている。
【0016】
この発明の他の円盤式自動製麹装置（10）の側板洗浄装置によれば、複数個の噴射孔（32）が、その噴射流の偏平状横断面の長軸を円盤（18）の周方向に対して種々の角度となるように設けられている。
【0017】
噴射孔（32）からの洗浄液の噴射流の偏平状横断面の長軸を側板（30）の周辺部に向かって、種々の角度とすることにより、側板（30）は各噴射孔（32）からの洗浄液を種々の角度で当てられることになるので、側板（30）の洗浄を適切にすることができる。
【00218】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
図2は円盤式自動製麹装置10の要部の垂直断面図である。製麹室12は、断熱した壁体14により周囲を包囲され、中心円筒16は、製麹室12の中心軸を鉛直方向へ延び、上下の端において壁体14に固定されている。円盤18は、円盤18の周方向へ等角度間隔で配置されて放射方向へ延びる複数個のリブ20と、リブ20の上面側に載置され通気性のある円形の培養床22とを有し、中心部において回転自在に中心円筒16に支持され、周辺部の下面側では、壁体14の側壁部から製麹室12内へ張出して回転自在となっている受けローラ24上に支持されている。
【0019】
図1は図2の洗浄部の拡大図である。チャンネル鋼材26は、開放部を板材で封鎖され、リブ20及び培養床22の外周部に密着固定されてる。ピンラック28は、チャンネル鋼材26の下面に上端を固定された丸棒であり、チャンネル鋼材26の周方向へ等角度間隔に配列され、下端面において受けローラ24の上面に載置される。円筒の側板30は、円盤18の周縁部に沿って一周しており、上端を壁体14の周壁部に固定され、垂下し、下端においてリブ20の上面との間にわずかの間隙を残している。側板30の下端の厚さを小さくするために、側板30の厚さが下方へ向かって漸減するテ−パ状に側板30の縦断面形状を規定してもよい。噴射孔32は、円盤18の放射方向へ側板30の下端に対して両側へはみ出す寸法に設定されている。給水管34は、培養床22内を放射方向へ延びて、噴射孔32へ水を導く。給水管34の中心円筒16側の端部は、ピンラック28が中心円筒16に対して相対回転するため、中心円筒16と円盤18との相対回転にもかかわらず、中心円筒16側より支障なく水の供給を受けられるような構造とされる。
【0020】
水は、円盤18内の給水管34を介して噴射孔32へ供給され、噴射孔32から上方へ所定圧力で噴射される。噴射孔32は、側板30の厚さ方向において、噴射孔32の厚さ方向両側へ側板30からはみ出した長さとなっているので、噴射孔32からの噴射水は、一部が側板30の下端面に当たるとともに、残部が側板30の内周面側及び外周面側に接触しつつ、上昇する。これにより、培養床22と対面している側板30の下端面に汚れが洗い落とされるとともに、麹基質に接触する側板30の内周面及び麹基質に接触しない外側面の汚れが洗い落とされる。
【0021】
側板30の垂直断面下方へ厚さを漸減するテーパ状になっている場合には、噴射孔32からの噴射水が、側板30の内周面及び外周面に当たる確率が高まり、洗浄効率を高めることができる。
【0022】
円盤18を回転することにより、噴射孔32は円盤18の回転方向へ別の位置の側板30の部位へ到達し、その部位における側板30の下端面、内周面及び外周面を洗浄できる。噴射孔32から洗浄水を噴射しつつ、円盤18を適当な速度で1回転させれば、全側板30の洗浄が終了する。円盤18を丁寧に洗浄するために、円盤18を複数回、回転させてもよい。さらに、噴射孔32を円盤18の回転方向へ例えば90°間隔で計4個設けて、洗浄作業時間の短縮及び全側板30を洗浄するための円盤18の回転数の低減を図ることができる。
【0023】
噴射孔32の横断面形状、すなわち噴射孔32からの噴射水の横断面形状は、円形以外に、楕円等の偏平形状にしてもよい。噴射孔32の横断面の長軸方向を側板30の周辺部に向かって種々の角度になるように設けられていることにより、噴射孔32からの噴射水が側板30の内周面及び外周面に当たる効率を高めることができる。
【0024】
図3は培養床22の円周縁又は側板30の周辺部に対する噴射孔32の横断面の長軸方向の角度を示す図である。噴射孔32の横断面を偏平形状としての例えば楕円とし、培養床22の円周縁又は側板30の円周輪郭に対する噴射孔32の横断面の長軸方向の角度を1個に限定せず、種々にする。培養床22又は噴射孔32に対する噴射孔32の長軸方向の角度が異なれば、噴射孔32からの噴射水が側板30の内外の周面に当たる角度が変わる。こうして、噴射孔32の横断面の長軸方向を種々の角度にすることにより、円盤18を回転するに伴い、各側板30の内外の周面は、各噴射孔32から種々の角度で噴射水を当てられることになり、側板30の汚れを効率よく落とすことができる。また、一部の噴射孔32については、培養床22の円周縁又は側板30の周辺部に対する噴射孔32の横断面の長軸方向を同一とし、円盤18の回転の際は、特に、その長軸方向での噴射水を多く当てて、すなわち側板30へ特定角度の噴射水がより多く当たるようにして、特定の汚れを十分に落とすようにすることもできる。
【0025】
噴射孔32から噴出する洗浄水は、噴出方向に進むに従い扇形に拡散する性質がある。このため、より強い洗浄効果を得るためには、噴出方向を側板30の内周面に向けた噴射孔32と外周面に向けた噴射孔32との2種類設けることが効果的である。各々の噴射孔32から噴出する洗浄水の一部は、側板30の下端面に接触するようにする。さらに、それら噴射孔32とは別に、側板30の下端面を洗浄する専用の噴射孔32を設けてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】  図2の洗浄部の拡大図である。
【図2】  円盤式自動製麹装置の要部の垂直横断面図である。
【図3】  側板の円周輪郭に対する噴射孔の横断面の長軸方向の角度を示す図である。
【符号の説明】
１０  円盤式自動製麹装置
１２  製麹室
１８  円盤
２２  培養床
３０  側板
３２  噴射孔
【図１】
0003781068.tif 000002
【図２】
0003781068.tif 000003
【図３】
0003781068.tif 000004