(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で示されるフォトレジスト単量体。
【化１】
0003794883.tif 000056
前記式で、
ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、
Ｒ2は−ＯＨ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキシ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨであるが、
このときＲ'及びＲ''は、それぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルキレンまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8のシクロアルキレンであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアルキレンで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
【請求項２】
−ＯＲ'ＯＨ及び−ＯＲ''ＯＨは、下記式（２）〜（９）の化合物のいずれかであることを特徴とする請求項１記載のフォトレジスト単量体。
【化２】
0003794883.tif 000057
【請求項３】
前記式（１）の化合物は５−ノルボルネン−２−（１−メトキシ）メタノール、５−ノルボルネン−２−（１−エトキシ）メタノール、５−ノルボルネン−２−（１−プロピルオキシ）メタノール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシエトキシメタノール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシプロピルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシブチルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシペンチルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシエトキシエトキシメタノール、５−ノルボルネン−２−ヒドロキシエトキシエトキシエトキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（４−ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメトキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメトキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシ）シクロヘキシルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（４−ヒドロキシ）シクロヘキシルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシメチル）シクロペンチルメトキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（２−ヒドロキシメチル）シクロペンチルメトキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシ）シクロペンチルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（２−ヒドロキシ）シクロペンチルオキシメタノール、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−メタノール、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１−メトキシ）メタノール、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン２−（１−エトキシ）メタノール、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１−プロポキシ）メタノール、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−エチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−トリメチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−テトラメチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−ペンタメチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−ジエチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−トリエチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,４−シクロヘキサンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロヘキサンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロヘキサンジオール）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,４−シクロヘキサンジオール）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロペンタンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,２−シクロペンタンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロペンタンジオール）−ヒドロキシメチルエーテル、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,２−シクロペンタンジオール）−ヒドロキシメチルエーテル、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキシメタン、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシプロピルオキシメタン、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシブチルオキシメタン、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシペンチルオキシメタン、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキシエトキシメタン、５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキシエトキシエトキシメタン、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（エチレングリコールメチルエーテル）、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（トリメチレングリコールメチルエーテル）、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（テトラメチレングリコールメチルエーテル）、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（ペンタメチレングリコールメチルエーテル）、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（ジエチレングリコールメチルエーテル）及び、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（トリエチレングリコールメチルエーテル）のいずれかであることを特徴とする請求項１記載のフォトレジスト単量体。
【請求項４】
塩基または酸触媒の存在下で、（i）下記式（１０）の化合物と（ii）ヒドロキシル基を有するアルキル化合物を反応させることを特徴とする下記式（１）のフォトレジスト単量体の製造方法。
【化３】
0003794883.tif 000058
前記式で、
ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、
Ｒ2は−ＯＨ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキシ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨであるが、
このときＲ'及びＲ''は、それぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルキレンまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8のシクロアルキレンであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアルキレンで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
【化４】
0003794883.tif 000059
このとき、ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯである。
【請求項５】
前記ヒドロキシル基を有するアルキル化合物は、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、トリメチレングリコール、１,４−ブタンジオール、１,５−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１,４−シクロヘキサンジメタノール、１,３−シクロヘキサンジメタノール、１,３−シクロヘキサンジオール、１,４−シクロヘキサンジオール、１,３−シクロペンタンジメタノール、１,２−シクロペンタンジメタノール、１,３−シクロペンタンジオール、及び１,２−シクロペンタンジオールからなる群から選択されることを特徴とする請求項４記載のフォトレジスト単量体の製造方法。
【請求項６】
前記酸触媒は硫酸、塩酸、硝酸、及び酢酸からなる群から選択されることを特徴とする請求項４記載のフォトレジスト単量体の製造方法。
【請求項７】
前記塩基触媒は水素化ナトリウム（NaH）、ポタシウムヒドライド（ＫＨ）、カルシウムヒドライド（CaH2）、及びリチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）からなる群から選択されることを特徴とする請求項４記載のフォトレジスト単量体の製造方法。
【請求項８】
反応溶媒はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、及びキシレンからなる群から選択されることを特徴とする請求項４記載のフォトレジスト単量体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトレジスト共重合体の合成に用いられる新規の単量体及びその製造方法に関し、より詳しくは遠紫外線領域の光源を採用するリソグラフィー工程に適する性質を有するフォトレジスト単量体とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、フォトレジスト樹脂は優れたエッチング耐性、耐熱性、接着性、及び解像度等が要求されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来のArFフォトレジスト等は大部分エッチング耐性が弱く、前述した特性を十分に満足させることができない。例えば、脂環族化合物（alicyclic compound）を単量体として得られたフォトレジストはエッチング耐性、及び解像度は優れているが、遠紫外線波長領域、例えばArF光の波長で吸光度が大きいため高密度、高解像度のパターンを得ることができなかった。
【０００４】
従って、本発明は遠紫外線光源を用いるリソグラフィー工程に適するエッチング耐性、及び接着性を有する新規の単量体とその製造方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、高性能のレジスト開発障害を克服することができる単量体を開発するため多数の研究と実験を繰り返した結果、一つ以上のヒドロキシル基またはアルコキシ基を含む下記式（１）の化合物を、フォトレジスト共重合体を製造するための単量体として用いる場合シリコン ウェーハに対する接着性が大きく向上し、優れた解像度、及びエッチング耐性を有するレジストの開発が可能であるという驚きべき事実を明らかにし本発明を完成した。
【０００６】
すなわち、本発明の請求項１に記載の発明は、下記式（１）で示されるフォトレジスト単量体である。
【化７】
0003794883.tif 000002
前記式で、
ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、
Ｒ2は−ＯＨ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキシ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨであるが、
このときＲ'及びＲ''は、それぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルキレンまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8のシクロアルキレンであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアルキレンで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
【０００７】
請求項２記載の発明は、請求項１記載のフォトレジスト単量体であって、−ＯＲ'ＯＨ及び−ＯＲ''ＯＨは、下記式（２）〜（９）の化合物のいずれかであることを特徴とする。
【化８】
0003794883.tif 000003
【０００８】
請求項３記載の発明は、請求項１記載のフォトレジスト単量体であって、前記式（１）の化合物は
５−ノルボルネン−２−（１−メトキシ）メタノール、
５−ノルボルネン−２−（１−エトキシ）メタノール、
５−ノルボルネン−２−（１−プロピルオキシ）メタノール、
５−ノルボルネン−２−ヒドロキシエトキシメタノール、
５−ノルボルネン−２−ヒドロキシプロピルオキシメタノール、
５−ノルボルネン−２−ヒドロキシブチルオキシメタノール、
５−ノルボルネン−２−ヒドロキシペンチルオキシメタノール、
５−ノルボルネン−２−ヒドロキシエトキシエトキシメタノール、
５−ノルボルネン−２−ヒドロキシエトキシエトキシエトキシメタノール、
５−ノルボルネン−２−（４−ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメトキシメタノール、
５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメトキシ メタノール、
５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシ）シクロヘキシルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（４−ヒドロキシ）シクロヘキシルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシメチル）シクロペンチルメトキシメタノール、
５−ノルボルネン−２−（２−ヒドロキシメチル）シクロペンチルメトキシメタノール、
５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシ）シクロペンチルオキシメタノール、５−ノルボルネン−２−（２−ヒドロキシ）シクロペンチルオキシメタノール、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−メタノール、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１−メトキシ）メタノール、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン２−（１−エトキシ）メタノール、オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１−プロポキシ）メタノール、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−エチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−トリメチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−テトラメチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−ペンタメチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−ジエチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−トリエチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,４−シクロヘキサンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロヘキサンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロヘキサンジオール）−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,４−シクロヘキサンジオール）−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロペンタンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,２−シクロペンタンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロペンタンジオール）−ヒドロキシメチルエーテル、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,２−シクロペンタンジオール）−ヒドロキシメチルエーテル、
５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキシメタン、
５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシプロピルオキシメタン、
５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシブチルオキシメタン、
５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシペンチルオキシメタン、
５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキシエトキシメタン、
５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキシエトキシエトキシメタン、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（エチレングリコールメチルエーテル）、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（トリメチレングリコールメチルエーテル）、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（テトラメチレングリコールメチルエーテル）、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（ペンタメチレングリコールメチルエーテル）、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（ジエチレングリコールメチルエーテル）及び、
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（トリエチレングリコールメチルエーテル）のいずれかであることを特徴とする。
【０００９】
請求項４記載の発明は、塩基または酸触媒の存在下で、（i）下記式（１０）の化合物と（ii）ヒドロキシル基を有するアルキル化合物を反応させることを特徴とする下記式（１）のフォトレジスト単量体の製造方法である。
【化９】
0003794883.tif 000004
前記式で、
ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、
Ｒ2は−ＯＨ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキシ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨであるが、
このときＲ'及びＲ''は、それぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルキレンまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8のシクロアルキレンであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアルキレンで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
【化１０】
0003794883.tif 000005
このとき、ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯである。
【００１０】
請求項５記載の発明は、請求項４記載のフォトレジスト単量体の製造方法であって、前記ヒドロキシル基を有するアルキル化合物は、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、トリメチレングリコール、１,４−ブタンジオール、１,５−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１,４−シクロヘキサンジメタノール、１,３−シクロヘキサンジメタノール、１,３−シクロヘキサンジオール、１,４−シクロヘキサンジオール、１,３−シクロペンタンジメタノール、１,２−シクロペンタンジメタノール、１,３−シクロペンタンジオール、及び１,２−シクロペンタンジオールからなる群から選択されることを特徴とする。
【００１１】
請求項６記載の発明は、請求項４記載のフォトレジスト単量体の製造方法であって、前記酸触媒は硫酸、塩酸、硝酸、及び酢酸からなる群から選択されることを特徴とする。
【００１２】
請求項７記載の発明は、請求項４記載のフォトレジスト単量体の製造方法であって、前記塩基触媒は水素化ナトリウム（NaH）、ポタシウムヒドライド（ＫＨ）、カルシウムヒドライド（CaH2）、及びリチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）からなる群から選択されることを特徴とする。
【００１３】
請求項８記載の発明は、請求項４記載のフォトレジスト単量体の製造方法であって、反応溶媒はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、及びキシレンからなる群から選択されることを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明の前記特徴および他の特徴を、以下において説明する。
【００１７】
本発明に係る新規のフォトレジスト単量体は下記式（１）に示される。
【化１３】
0003794883.tif 000006
前記式で、
ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯであり、
Ｒ1は水素または−Ｒ'ＯＨであり、
Ｒ2は−ＯＨ、炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルコキシ、−ＯＲ''ＯＨ、または−(Ｏ−Ｒ''')n−ＯＨであるが、
このときＲ'及びＲ''はそれぞれ炭素数Ｃ1〜Ｃ5の直鎖または枝分れ状のアルキレンまたは炭素数Ｃ3〜Ｃ8のシクロアルキレンであり、Ｒ'''は炭素数Ｃ2〜Ｃ5のアルキレンで、ｎは２〜５のいずれかの整数である。
一方、前記−ＯＲ'ＯＨ及び−ＯＲ''ＯＨは下記式（２）〜（９）の化合物であることが好ましい。
【化１４】
0003794883.tif 000007
本発明に係る前記式（１）の化合物は（i）下記式（１０）の化合物と、（ii）１以上のヒドロキシル基を有するアルキル化合物を塩基、または酸触媒存在下の有機溶媒中で反応させて製造することができる。
【化１５】
0003794883.tif 000008
このとき、ＸはＣＨ2、ＣＨ2ＣＨ2、またはＯである。
一方、前記ヒドロキシル基を有するアルキル化合物には、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、トリメチレングリコール、１,４−ブタンジオール、１,５−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１,４−シクロヘキサンジメタノール、１,３−シクロヘキサンジメタノール、１,３−シクロヘキサンジオール、１,４−シクロヘキサンジオール、１,３−シクロペンタンジメタノール、１,２−シクロペンタンジメタノール、１,３−シクロペンタンジオール、１,２−シクロペンタンジオール等がある。
また、酸触媒には硫酸、塩酸、硝酸、酢酸等を用いることができ、塩基触媒には水素化ナトリウム（NaH）、ポタシウムヒドライド（ＫＨ）、カルシウムヒドライド（CaH2）、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）等を用いることができる。さらに、反応溶媒にはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等を用いることができる。
【００１８】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づき説明するが、本発明の技術的範囲がこれら実施例に限られることと理解してはならない。
【００１９】
実施例１：５−ノルボルネン−２−（１−メトキシ）メタノールの合成
５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド（carboxaldehyde）（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びメタノール（５００ml）を１０時間常温で反応させた。反応完了後、メタノールをロータリーエバポレーターを用いて減圧下で除去した後、この溶液に水（２００ml）とエチルアセテート（３００ml）を添加して抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾過した。濾液の溶媒をロータリーエバポレーターを用いて減圧下で蒸発させ、残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（１１）の化合物（１３g）を得た（収率：９３％）。
【化１６】
0003794883.tif 000009
【００２０】
実施例２：５−ノルボルネン−２−（１−エトキシ）メタノールの合成
５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びエタノール（５００ml）を１０時間常温で反応させた。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（１２）の化合物（１５g）を得た（収率：９１％）。
【化１７】
0003794883.tif 000010
【００２１】
実施例３：５−ノルボルネン−２−（１−プロピルオキシ）メタノールの合成５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びプロパノール（５００ml）を１２時間常温で反応させた。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（１３）の化合物（１７g）を得た（収率：９１％）。
【化１８】
0003794883.tif 000011
【００２２】
実施例４：５−ノルボルネン−２−ヒドロキシエトキシメタノールの合成
５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びエチレングリコール（１００ml）を常温で１０時間反応させた。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（１４）の化合物 （１６g）を得た（収率：８９％）。
【化１９】
0003794883.tif 000012
【００２３】
実施例５：５−ノルボルネン−２−ヒドロキシプロピルオキシメタノールの合成
５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びトリメチレングリコール（１００ml）を常温で１２時間反応させた。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（１５）の化合物（１７g）を得た（収率：８５％）。
【化２０】
0003794883.tif 000013
【００２４】
実施例６：５−ノルボルネン−２−ヒドロキシブチルオキシメタノールの合成５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及び１,４−ブタンジオール（１００ml）を常温で１２時間反応させた。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（１６）の化合物（１８g）を得た（収率：８６％）。
【化２１】
0003794883.tif 000014
【００２５】
実施例７：５−ノルボルネン−２−ヒドロキシペンチルオキシメタノールの合成
５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及び１,５−ペンタンジオール（１００ml）を常温で１２時間反応させた。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（１７）の化合物（１９g）を得た（収率：８３％）。
【化２２】
0003794883.tif 000015
【００２６】
実施例８：５−ノルボルネン−２−ヒドロキシエトキシエトキシメタノールの合成
５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びジエチレングリコール（１００ml）を８０℃で１２時間反応させた。反応完了後、実施例１と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（１８）の化合物（２０g）を得た（収率：８５％）。
【化２３】
0003794883.tif 000016
【００２７】
実施例９：５−ノルボルネン−２−ヒドロキシエトキシエトキシエトキシメタノールの合成
５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びトリエチレングリコール（１００ml）を常温で１２時間反応させた。反応完了後、実施例２と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（１９）の化合物（２２g）を得た（収率：７９％）。
【化２４】
0003794883.tif 000017
【００２８】
実施例１０：５−ノルボルネン−２−（４−ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメトキシメタノールの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,４−シクロヘキサンジメタノール溶液に、常温で５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。この溶液に水（３００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（２０）の化合物（２５g）を得た（収率：９３％）。
【化２５】
0003794883.tif 000018
【００２９】
実施例１１：５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメトキシメタノールの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３−シクロヘキサンジメタノール溶液に、常温で５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水（３００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（２１）の化合物（２４g）を得た（収率：９１％）。
【化２６】
0003794883.tif 000019
【００３０】
実施例１２：５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシ）シクロヘキシルオキシメタノールの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３−シクロヘキサンジオール溶液に、常温で５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水（３００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（２２）の化合物（２１g）を得た（収率：８８％）。
【化２７】
0003794883.tif 000020
【００３１】
実施例１３：５−ノルボルネン−２−（４−ヒドロキシ）シクロヘキシルオキシメタノールの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,４−シクロヘキサンジオール溶液に、常温で５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水（３００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（２３）の化合物（２２g）を得た（収率：９２％）。
【化２８】
0003794883.tif 000021
【００３２】
実施例１４：５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシメチル）シクロペンチルメトキシメタノールの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３−シクロペンタンジメタノール溶液に、常温で５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。反応完了後、実施例１１と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（２４）の化合物（２３g）を得た（収率：９０％）。
【化２９】
0003794883.tif 000022
【００３３】
実施例１５：５−ノルボルネン−２−（２−ヒドロキシメチル）シクロペンチルメトキシメタノールの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,２−シクロペンタンジメタール溶液に、常温で５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。反応完了後、実施例１１と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（２５）の化合物（２３g）を得た（収率：９０％）。
【化３０】
0003794883.tif 000023
【００３４】
実施例１６：５−ノルボルネン−２−（３−ヒドロキシ）シクロペンチルオキシメタノールの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３−シクロペンタンジオール溶液に、常温で５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。反応完了後、実施例１１と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（２６）の化合物（２０g）を得た（収率：８７％）。
【化３１】
0003794883.tif 000024
【００３５】
実施例１７：５−ノルボルネン−２−（２−ヒドロキシ）シクロペンチルオキシメタノールの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,２−シクロペンタンジオール溶液に、常温で５−ノルボルネン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。反応完了後、実施例１１と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（２７）の化合物（２０.４g）を得た（収率：８５％）。
【化３２】
0003794883.tif 000025
【００３６】
実施例１８：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−メタノールの合成
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を３００mlのエチルアルコールに溶解したあと、０.１molのNaBH4を常温で徐々に添加した。次いで、反応混合物を１時間程度攪拌したあと、１０時間還流下で反応させた。反応後、エチルアルコールを蒸留除去して２００mlのアセトンを投入し、１時間程度還流させて過剰のNaBH4を除去した。アセトンを蒸留除去後、残留した混合物に１００mlの１０％塩酸を投入して１０分間攪拌した。この反応溶液に水（２００ml）とエチルアセテート（３００ml）を添加して抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（２８）の化合物（１１g）を得た（収率：８７％）。
【化３３】
0003794883.tif 000026
【００３７】
実施例１９：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１−メトキシ）メタノールの合成
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びメタノール（５００ml）を１０時間還流下で反応させた。次いで、メタノールをロータリーエバポレーターで蒸留除去した。この反応溶液に水（２００ml）とエチルアセテート（３００ml）を添加して抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（２９）の化合物（１３g）を得た（収率：９３％）。
【化３４】
0003794883.tif 000027
【００３８】
実施例２０：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１−エトキシ）メタノールの合成
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びメタノール（５００ml）を１０時間還流下で反応させた。反応後、実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（３０）の化合物（１３g）を得た（収率：９１％）。
【化３５】
0003794883.tif 000028
【００３９】
実施例２１：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１−プロポキシ）メタノールの合成
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びプロパノール（５００ml）を１０時間還流下で反応させた。反応後、実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（３１）の化合物（１７g）を得た（収率：９１％）。
【化３６】
0003794883.tif 000029
【００４０】
実施例２２：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−エチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテルの合成
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びエチレングリコール（１００ml）を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（３２）の化合物（１６g）を得た（収率：８９％）。
【化３７】
0003794883.tif 000030
【００４１】
実施例２３：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−トリメチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテルの合成
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びトリメチレングリコール（１００ml）を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（３３）の化合物（１７g）を得た（収率：８５％）。
【化３８】
0003794883.tif 000031
【００４２】
実施例２４：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−テトラメチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテルの合成
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及び１,４−ブタンジオール（１００ml）を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（３４）の化合物（１８g）を得た（収率：８６％）。
【化３９】
0003794883.tif 000032
【００４３】
実施例２５：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−ペンタメチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテルの合成
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及び１,５−ペンタンジオール（１００ml）を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（３５）の化合物（１９g）を得た（収率：８３％）。
【化４０】
0003794883.tif 000033
【００４４】
実施例２６：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−ジエチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテルの合成
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びジエチレングリコール（１００ml）を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（３６）の化合物（２０g）を得た（収率：８５％）。
【化４１】
0003794883.tif 000034
【００４５】
実施例２７：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−トリエチレングリコール−ヒドロキシメチルエーテルの合成
オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）、硫酸（０.３ml）、及びトリエチレングリコール（１００ml）を８０℃で１２時間還流下で反応させた。反応後、実施例１９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（３７）の化合物（２２g）を得た（収率：８５％）。
【化４２】
0003794883.tif 000035
【００４６】
実施例２８：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,４−シクロヘキサンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,４−シクロヘキサンジメタノール溶液に、常温でオキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水（２００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（３８）の化合物（２５g）を得た（収率：９３％）。
【化４３】
0003794883.tif 000036
【００４７】
実施例２９：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロヘキサンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３−シクロヘキサンジメタノール溶液に、常温でオキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水（２００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（３９）の化合物（２４g）を得た（収率：９１％）。
【化４４】
0003794883.tif 000037
【００４８】
実施例３０：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロヘキサンジオール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３−シクロヘキサンジオール溶液に、常温でオキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水（２００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（４０）の化合物を得た（収率：８８％）。
【化４５】
0003794883.tif 000038
【００４９】
実施例３１：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,４−シクロヘキサンジオール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,４−シクロヘキサンジオール溶液に、常温でオキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。この反応溶液に水（２００ml）とエチルアセテート（５００ml）を添加して抽出した。有機層を水（３００ml）でもう一度洗浄したあと無水MgSO4で脱水し、濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を高真空下で蒸留し、無色透明な液体状の下記式（４１）の化合物（２２g）を得た（収率：９２％）。
【化４６】
0003794883.tif 000039
【００５０】
実施例３２：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロペンタンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３−シクロペンタンジメタノール溶液に、常温でオキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。反応後、実施例２８と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４２）の化合物（２３g）を得た（収率：９０％）。
【化４７】
0003794883.tif 000040
【００５１】
実施例３３：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,２−シクロペンタンジメタノール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,２−シクロペンタンジメタノール溶液に、常温でオキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。反応後、実施例２８と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４３）の化合物（２３g）を得た（収率：９０％）。
【化４８】
0003794883.tif 000041
【００５２】
実施例３４：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,３−シクロペンタンジオール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,３−シクロペンタンジオール溶液に、常温でオキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。反応後、実施例２８と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４４）の化合物（２０g）を得た（収率：８７％）。
【化４９】
0003794883.tif 000042
【００５３】
実施例３５：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−（１,２−シクロペンタンジオール）−ヒドロキシメチルエーテルの合成
水素化ナトリウム（０.１mol）を含む１００mlの１,２−シクロペンタンジオール溶液に、常温でオキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２−カルボキシアルデヒド(carboxaldehyde)（０.１mol）を徐々に添加したあと、常温で１０時間反応させた。反応後、実施例２８と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４５）の化合物（２０.４g）を得た（収率：８５％）。
【化５０】
0003794883.tif 000043
【００５４】
実施例３６：５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキシメタンの製造エチレングリコールを実施例４で用いたモル数の２倍用いることを除いては、実施例４と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４６）の化合物を得た。
【化５１】
0003794883.tif 000044
【００５５】
実施例３７：５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシプロピルオキシメタンの製造
トリメチレングリコールを実施例５で用いたモル数の２倍用いることを除いては、実施例５と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４７）の化合物を得た。
【化５２】
0003794883.tif 000045
【００５６】
実施例３８：５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシブチルオキシメタンの製造
１,４−ブタンジオールを実施例６で用いたモル数の２倍用いることを除いては、実施例６と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４８）の化合物を得た。
【化５３】
0003794883.tif 000046
【００５７】
実施例３９：５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシペンチルオキシメタンの製造
１,５−ペンタンジオールを実施例７で用いたモル数の２倍用いることを除いては、実施例７と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（４９）の化合物を得た。
【化５４】
0003794883.tif 000047
【００５８】
実施例４０：５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキシエトキシメタンの製造
ジエチレングリコールを実施例８で用いたモル数の２倍用いることを除いては、実施例８と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（５０）の化合物を得た。
【化５５】
0003794883.tif 000048
【００５９】
実施例４１：５−ノルボルネン−２,２−ジヒドロキシエトキシエトキシエトキシメタンの製造
トリエチレングリコールを実施例９で用いたモル数の２倍用いることを除いては、実施例９と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（５１）の化合物を得た。
【化５６】
0003794883.tif 000049
【００６０】
実施例４２：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（エチレングリコールメチルエーテル）の製造
エチレングリコールを実施例２２で用いたモル数の２倍用いることを除いては、実施例２２と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（５２）の化合物を得た。
【化５７】
0003794883.tif 000050
【００６１】
実施例４３：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（トリメチレングリコールメチルエーテル）の製造
トリメチレングリコールを実施例２３で用いたモル数の２倍用いることを除いては、実施例２３と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（５３）の化合物を得た。
【化５８】
0003794883.tif 000051
【００６２】
実施例４４：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（テトラメチレングリコールメチルエーテル）の製造
１,４−ブタンジオールを実施例２４で用いたモル数の２倍用いることを除いては、実施例２４と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（５４）の化合物を得た。
【化５９】
0003794883.tif 000052
【００６３】
実施例４５：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（ペンタメチレングリコールメチルエーテル）の製造
１,５−ペンタンジオールを実施例２５で用いたモル数の２倍用いることを除いては、実施例２５と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（５５）の化合物を得た。
【化６０】
0003794883.tif 000053
【００６４】
実施例４６：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（ジエチレングリコールメチルエーテル）の製造
ジエチレングリコールを実施例２６で用いたモル数の２倍用いることを除いては、実施例２６と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（５６）の化合物を得た。
【化６１】
0003794883.tif 000054
【００６５】
実施例４７：オキサビシクロ[２,２,１]ヘプト−５−エン−２,２−ジ（トリエチレングリコールメチルエーテル）の製造
トリエチレングリコールを実施例２７で用いたモル数の２倍用いることを除いては、実施例２７と同一の手順を経て無色透明な液体状の下記式（５７）の化合物を得た。
【化６２】
0003794883.tif 000055
【００６６】
【発明の効果】
以上のように、本発明に係る化合物は、０.１５μm（１Ｇ以上のＤＲＡＭ）以下の高密度微細パターンに適用可能なElectron−beam、ArF、KrF、ＥＵＶ、ＶＵＶまたはＸ線用フォトレジスト樹脂を合成するための単量体として効果的に用いることができる。本発明に係る単量体は一つ以上のヒドロキシル基またはアルコキシ基を含むため、フォトレジスト樹脂の合成に利用される場合シリコン ウェーハに対する接着力が大きく向上され、優れた解像度及びエッチング耐性を有するレジストを開発することができる。