(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置本体ユニットと、この露光装置本体ユニットとは別置きの光源ユニットと、この光源ユニット内の光源から射出された光を前記露光装置本体ユニット内の照明光学系に導くとともに前記両ユニット間を連結するリレー光学系ユニットとを備えた露光装置の光軸調整方法において、
前記露光装置本体ユニットと前記光源ユニットとを、所定の設置位置にそれぞれ設置し、
前記両ユニットについて、それぞれのユニットの光軸上の基準点との位置関係が既知の少なくとも２点の３次元座標を、それぞれ計測し、
しかる後、前記リレー光学系ユニットにより前記露光装置本体ユニットと前記光源ユニットとを連結した状態で、前記リレー光学系ユニットの光軸上の基準点との位置関係が既知の少なくとも２点の３次元座標を計測し、
前記各計測結果に基づいて、前記いずれかのユニットの光軸に対する残りの２つのユニットの光軸の傾き及びシフト量を算出し、
この算出結果に基づいて前記３つのユニットの少なくとも１つに内蔵された光学部材を調整することにより、前記３つのユニットの光軸を位置合わせする事を特徴とする露光装置の光軸調整方法。
【請求項２】
前記各ユニットの少なくとも２点の３次元座標の計測は、反射板をターゲットとした光学的な計測装置を用いて行われることを特徴とする請求項１に記載の露光装置の光軸調整方法。
【請求項３】
前記光源ユニットとして、エキシマレーザ装置が用いられていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置の光軸調整方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光装置の光軸調整方法に係り、さらに詳しくは、露光装置本体ユニット、光源ユニット及びこれら両ユニット間を連結するリレー光学系ユニットを備えた露光装置の光軸調整方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体素子、液晶表示素子等をリソグラフィ工程で製造する際に用いられる露光装置（例えば、ステッパ等）の露光光源としては、従来は水銀ランプが用いられていたが、近年では、露光光のより一層の短波長化のため、ＫｒＦエキシマレーザ等が用いられるようになってきた。
【０００３】
かかるエキシマレーザを露光光源とする露光装置は、通常、大きく分けて露光装置本体が収納されたチャンバから成る露光装置本体ユニット、エキシマレーザ装置から成る光源ユニット、及びこれらを光学的結合させるとともに物理的に連結するリレー光学系ユニット（ビームマッチングユニット）の３ブロックで構成される。各々のユニットの重量は、数百キロから数トンあり、リレー光学系ユニットはおよそ３００ｋｇ、エキシマレーザ装置はおよそ１トン、露光装置本体ユニットはそれ以上の重量がある。
【０００４】
これらのユニットは工場出荷前に、一旦組み立てられ、ユニット間の光軸調整をして正常に動作することを確認し、各ユニットに分解・梱包して輸送し、仕向地で装置の組み立て及び据え付けを行っている。
【０００５】
この装置の据え付けに際しては、各ユニットを大体の所に設置し、各ユニットの光学系のカバーを取り外し、装置の設置状態に合わせて工場出荷前に行った光軸の調整を再度やり直していた。この光軸の調整は、各ユニットの光学系のカバーを取り外し、ヘリウムネオンレーザを用いて光軸の傾斜及び位置ずれ調整用の光学部材を、作業者の勘と経験に基づいて繰り返し調整することにより行っていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、露光装置の各ユニットは重量物であり、これらを据え付けて各ユニット間の光軸を一致させるためには、上記の光学部材により調整が可能な範囲に各ユニットを設置する必要があることから、ユニットの位置出しが難しく、また、上記のヘリウムネオンレーザを用いて光学部材を調整するという作業には熟練が必要であるとともに、試行錯誤を繰り返しながら行う必要があることから、作業性が悪く、面倒で時間が掛かるという不都合があった。
【０００７】
これに加え、エキシマレーザを光源とする装置の場合には、露光の際にエキシマレーザの光化学反応によって光学系内に曇り物質が発生するのを阻止すべく、窒素ガス等を封入していることが多いが、上記の光軸調整の際に、各ユニットのカバーを開ける必要があることから、その窒素ガスが漏洩するという不都合もあった。
【０００８】
本発明はかかる事情の下になされたもので、請求項１ないし３に記載の発明の目的は、露光装置を構成するユニット間の光軸調整を容易かつ正確に行うことが可能な光軸調整方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、露光装置本体ユニット（１２）と、この露光装置本体ユニット（１２）とは別置きの光源ユニット（１４）と、この光源ユニット（１４）内の光源から射出された光を露光装置本体ユニット（１２）内の照明光学系（１８）に導くとともに両ユニット間を連結するリレー光学系ユニット（１６）とを備えた露光装置（１０）の光軸調整方法において、露光装置本体ユニット（１２）と光源ユニット（１４）とを所定の設置位置にそれぞれ設置し、両ユニットについて、それぞれのユニットの光軸上の基準点との位置関係が既知の少なくとも２点の３次元座標をそれぞれ計測し、しかる後、リレー光学系ユニット（１６）により露光装置本体ユニット（１２）と光源ユニット（１４）とを連結した状態で、リレー光学系ユニット（１６）の光軸上の基準点との位置関係が既知の少なくとも２点の３次元座標を計測し、各計測結果に基づいて、いずれかのユニットの光軸に対する残りの２つのユニットの光軸の傾き及びシフト量を算出し、この算出結果に基づいて３つのユニットの少なくとも１つに内蔵された光学部材（２２，２４，２６，２８，３０，３２）を調整することにより、３つのユニットの光軸を位置合わせする事を特徴とする。
【００１０】
これによれば、露光装置本体ユニットと光源ユニットとが所定の設置位置にそれぞれ設置され、両ユニットについて、それぞれのユニットの光軸上の基準点との位置関係が既知の少なくとも２点の３次元座標がそれぞれ計測され、しかる後、リレー光学系ユニットにより露光装置本体ユニットと光源ユニットとを連結した状態で、リレー光学系ユニットの光軸上の基準点との位置関係が既知の少なくとも２点の３次元座標が計測される。そして、計測された各ユニットについて各２点の３次元座標に基づいて、いずれかのユニットの光軸に対する残りの２つのユニットの光軸の傾き及びシフト量が算出される。そして、この算出された光軸の傾き及びシフト量に基づいて、３つのユニットの少なくとも１つに内蔵された光学部材を調整することにより、３つのユニットの光軸が位置合わせされる。このように本発明によれば、各ユニットについて各２点の３次元座標位置の計測結果に基づいて、ユニット間の光軸傾斜、シフト量（位置ずれ）を演算し、その結果に基づいて光軸調整を手動により又は自動的に行うという手法が採用されていることから、従来のように作業者の勘と経験に基づいて繰り返し光学部材を調整する場合と異なり、各ユニットのカバーを開ける必要もなく、しかも光軸調整を容易かつ正確に行うことが可能になる。
【００１１】
この場合において、上記の各ユニットについての少なくとも２点の３次元座標位置の計測方法は、特に限定されないが、例えば、請求項２に記載の発明の如く、前記各ユニットの少なくとも２点の３次元座標の計測は、反射板（４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ，４２ｅ，４２ｆ）をターゲットとした光学的な計測装置（４６）を用いて行っても良い。このようにした場合には、各ユニットの少なくとも２点の３次元座標が反射板をターゲットとして光学的に計測されるので、非常に精密に三次元座標値が得られ、正確に光軸調整ができるようになる。例えば、計測装置として座標計測機能、及び演算機能を備えたトータルステーション等を用いる場合には、光軸調整作業の大部分を自動化することが可能になる。
【００１２】
請求項１に記載の発明において、光源ユニットは、露光装置本体ユニットと別置きのものであれば、その種類は特に限定されないが、例えば、請求項３に記載の発明の如く、前記光源ユニットとして、エキシマレーザ装置（１４）が用いられても良い。この場合、各ユニットのカバーを開けずに光軸調整が可能であることから、内部の窒素ガスの漏洩等の不都合をも防止することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態を図１ないし図９に基づいて説明する。
【００１４】
図１には、本発明に係る光軸調整方法が適用された一実施形態に係る露光装置１０の構成が概略的に示されている。また、図２には、図１の露光装置１０の概略平面図が示されている。但し、この図２においては、露光装置本体ユニット部分のみは図１のＡ−Ａ線に沿って断面した状態が示されている。また、図３には、図１のＢ−Ｂ線断面図が、図４には図１のＣ−Ｃ線断面図が、それぞれ示されている。
【００１５】
露光装置１０は、図１に示されるように、露光装置本体ユニット１２と、この露光装置本体ユニット１２とは別置きの光源ユニットとしてエキシマレーザ装置１４と、このエキシマレーザ装置１４内の光源(ＫｒＦあるいはＡｒＦエキシマレーザ)からのレーザ光を露光装置本体ユニット１２内の照明光学系１８に導くとともにエキシマレーザ装置１４と露光装置本体ユニット１２とを連結するリレー光学系ユニットとしてのビームマッチングユニット（以下、「ＢＭＵ」という）１６とを備えている。
【００１６】
露光装置本体ユニット１２は、チャンバ１２Ａと、このチャンバ１２Ａ内に収納された露光装置本体とを備えている。この露光装置本体は、ステップ・アンド・リピート方式でレチクルＲに形成されたパターンをウエハＷ上に露光転写するいわゆるステッパである。この露光装置本体は、照明光学系１８、投影光学系ＰＬ、及びウエハＷを保持して投影光学系ＰＬの光軸に直交する平面内で２次元移動してウエハＷ上のショット領域を順次露光位置に位置決めする不図示のウエハステージ等を備えている。以下においては、説明の便宜上、投影光学系ＰＬの光軸方向である鉛直軸をＺ軸とし、これに直交する平面内で図１における紙面左右方向をＸ軸、図１における紙面直交方向をＹ軸と定義するものとする。
【００１７】
前記ＢＭＵ１６は、２本の支柱１６Ａ、１６Ｂを備えており、露光装置本体ユニット１２側の支柱１６Ａには、露光装置本体ユニット１２の光軸とＢＭＵ１６の光軸との傾きを調整するための反射ミラー２２と、両光軸間の位置ずれ（シフト）を調整するためのプレーンパラレル（ハービングガラス）２４，２６とが設けられている。また、エキシマレーザ装置１４側の支柱１６Ｂには、エキシマレーザ装置１４の光軸とＢＭＵ１６の光軸との傾きを調整するための反射ミラー２８と、両光軸間の位置ずれ（シフト量）を調整するためのプレーンパラレル３０，３２とが設けられている。
【００１８】
前記反射ミラー２２は、モータ３４ａによりＸ軸回りの回転角が調整可能で、モータ３４ｂ（図２及び図３参照）によりＹ軸回りの回転角が調整可能に構成されている。この反射ミラー２２のＸ軸回り、Ｙ軸回りの回転角を調整することにより、露光装置本体ユニット１２の光軸に対するＢＭＵ１６の光軸の傾きを調整できる。
【００１９】
また、プレーンパラレル２４は、モータ３４ｅによりＸ軸回りに回転可能に構成され、これによりＹ軸方向の光軸のずれ（シフト）を調整できる。また、プレーンパラレル１８は、モータ３４ｆ（図３参照）によりＹ軸回りに回転可能に構成され、これによりＸ軸方向の光軸のずれ（シフト）を調整できる。
【００２０】
上記と同様に、反射ミラー２８は、モータ３４ｃによりＸ軸回りの回転角が調整可能で、モータ３４ｄ（図２及び図４参照）によりＹ軸回りの回転角が調整可能に構成されている。この反射ミラー２８のＸ軸回り、Ｙ軸回りの回転角を調整することにより、エキシマレーザ装置１４のレーザ光軸に対するＢＭＵ１６の光軸の傾きを調整できる。
【００２１】
また、プレーンパラレル３０は、モータ３４ｇによりＸ軸回りに回転可能に構成され、これによりＹ軸方向の光軸のずれ（シフト）を調整できる。また、プレーンパラレル３２は、モータ３４ｈ（図４参照）によりＹ軸回りに回転可能に構成され、これによりＸ軸方向の光軸のずれ（シフト）を調整できる。
【００２２】
前記モータ３４ａ〜３４ｈを露光装置本体ユニット１２の不図示の制御系からの制御信号によって制御し、反射ミラー２２，２８、プレーンパラレル２４，２６，３０，３２の上述した各方向の回転角を調整することで、ＢＭＵ１６内部のリレー光学系の光軸の露光装置本体ユニット１２、エキシマレーザ装置１４の光軸に対する傾斜、及びシフト（位置ずれ）を、手作業によらず自動的に調整できるようになっている。
【００２３】
図５には、上記露光装置１０の設置時の光軸調整方法の概略的な流れ図が示されている。また、図６ないし図９には、この図５の流れ図に沿って光軸調整をするときの手順を説明するための図が示されている。以下、図５を中心として、図１及び図６ないし図９をも参照しつつ、露光装置の組み立て及び光軸調整の手順について説明する。
【００２４】
ここで、設置床の床面には、予め図２の平面図に示されるように、露光装置を設置する際の目安となる計画線４０が予め描かれている。
【００２５】
（図５のステップ１０２）
まず、最も重量のある（重い）露光装置本体ユニット１２が、床面に描かれた計画線４０にほぼならうように設置され、露光装置本体ユニット１２の入射口１２ａ（図１参照）に２点反射レフシートホルダ３８（図６参照）が取り付けられる。
【００２６】
（図５のステップ１０４）
次に、２番目に重量のあるエキシマレーザ装置１４が床面の計画線４０にほぼならうように設置され、エキシマレーザ装置１４の出射口１４ａ（図１参照）にも２点反射レフシートホルダ４４が取り付けられる。
【００２７】
このステップ１０４の処理が終了した状態が図６に示されている。この図６にも示されるように、２点反射レフシートホルダ３８には２個の反射板としての反射レフシート４２ａ，４２ｂが取付けられている。これらの反射レフシート４２ａ，４２ｂは、露光装置本体ユニット１２へ取付けた時に、チャンバ１２Ａ内の照明光学系１８の光軸と同一直線上（図１に示される入射口１２ａの開口面に対して垂直）にあり、かつ、入射口１２ａ近傍の光軸上の基準点からの距離が予め決められた既知の距離になるように、２点反射レフシートホルダ３８上に配置されている。この場合、図１の反射ミラー２２の反射点が反射レフシート４２ａ，４２ｂの丁度中間点（後述する機械原点ａでもある）になるように、設計上は定められている。
【００２８】
これと同様に、２点反射レフシートホルダ４４にも２個の反射板としての反射レフシート４２ｃ，４２ｄが取付けられている（図６参照）。これらの反射レフシート４２ｃ，４２ｄも、エキシマレーザ装置１４に取付けた時に、レーザの光軸と同一の直線上（図１に示される出射口１４ａの開口面に対して垂直）にあり、かつ、出射口１４ａ近傍の光軸上の基準点からの距離が予め決められた既知の距離になるように、２点反射レフシートホルダ４４上に配置されている。この場合、図１の反射ミラー２８の反射点が反射レフシート４２ｃ，４２ｄの丁度中間点（後述する機械点ｂでもある）になるように、設計上は定められている。
【００２９】
（図５のステップ１０６）
次いで、反射レフシート４２ａ〜４２ｄの３次元座標を計測する。具体的には、図７に示されるように、反射レフシート４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄを臨むことができる適当な位置に、３次元座標測定器であるトータルステーション４６が設置される。なお、図７には露光装置本体ユニット１２等を上から見た状態が示されている。そして、このトータルステーション４６を用いて、トータルステーション４６から出た光をターゲットとしての反射レフシート４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄで反射させ、その反射した光がトータルステーション４６に戻るまでに掛かった時間及び方角から反射レフシート４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄの位置（３次元座標）を測定する。トータルステーション４６では、トータルステーション４６内部の所定の基準点を原点として反射レフシート４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄの位置の３次元座標が演算される。このようにして反射レフシート４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄの位置の測定が終わると、露光装置本体ユニット１２、エキシマレーザ装置１４から２点反射レフシートホルダ３８、４４をそれぞれ取り外す。
【００３０】
（図５のステップ１０８）
次に、ＢＭＵ１６が露光装置本体ユニット１２とエキシマレーザ装置１４との間の計画線４０上にほぼ揃えるように設置される。この状態が、図８に示されている。この図８に示されるように、ＢＭＵ１６の左右の側面には、反射板としての反射レフシート４２ｅ，４２ｆが取り付けられている。これらの反射レフシート４２ｅ，４２ｆは、ＢＭＵ１６内部の光学系の光軸上の基準点である前述した反射ミラー２２，２８（図１参照）の設計上の反射点（後述する機械点ｃ、ｄでもある）に対しＹ軸方向に所定のオフセットを持たせた位置に配置されている。
【００３１】
（図５のステップ１１０）
次に、前述した反射レフシート４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄの位置を測定した時と同一点にトータルステーション４６を置いたまま、トータルステーション４６を用いて、同様に反射レフシート４２ｅ，４２ｆをターゲットとして光を反射させることによって、反射レフシート４２ｅ，４２ｆの位置が測定され、トータルステーション４６内の基準点を原点とする反射レフシート４２ｅ，４２ｆの３次元座標が測定される（図９参照）。
【００３２】
（図５のステップ１１２）
次いで、トータルステーション４６により各ユニット１２、１４、１６の光軸の傾き、位置ずれが演算される。すなわち、トータルステーション４６は、ＣＰＵを内蔵し、反射レフシートの測距・測角による３次元座標の測定だけでなく、測定結果の演算処理も可能になっているので、その内部処理で、まず、反射レフシート４２ａと４２ｂ、４２ｃと４２ｄ、４２ｅと４２ｆの３組について、座標位置をそれぞれ結び、座標位置を結んだ直線についてこれらの傾き方向を算出する。この場合、いずれか一つのユニット１２、１４、１６の光軸に対する残りの２つのユニットの光軸の傾きを算出する。反射レフシート４２ａ、４２ｂの座標位置を結んだ直線の傾きと反射レフシート４２ｅ、４２ｆを結んだ直線の傾きとから、露光装置本体ユニット１２内部の照明光学系１８の光軸に対するＢＭＵ１６の光軸の傾きが得られ、同様に、反射レフシート４２ａ、４２ｂの座標位置を結んだ直線の傾きと反射レフシート４２ｃ、４２ｄの座標位置とを結んだ直線の傾きとから、露光装置本体ユニット１２内部照明光学系３１ｂの光軸に対するエキシマレーザ装置１４の光軸の傾きが得られる。
【００３３】
光軸のシフト量すなわち位置ずれについては次のようにして求められる。反射レフシート４２ａ、４２ｂの座標の中点（設計上は、反射ミラー２２の反射点に一致する）が機械原点ａとして定められ、同様に、反射レフシート４２ｃ、４２ｄの座標の中点（設計上は、反射ミラー２８の反射点に一致する）が機械点ｂとして定められる。これらの点ａ，ｂは、図７に示されるような位置になる。ＢＭＵ１６については、設計上の反射ミラー２２、２８の反射点を図９に示されるように、機械点ｃ、ｄとして定める。
【００３４】
そして、上記反射レフシート４２ａ、４２ｂの座標位置の中点の座標により機械原点ａの座標を求め、また、反射レフシート４２ｃ、４２ｄの座標位置の中点の座標により、機械点ｂの座標を求める。また、反射レフシート４２ｅ，４２ｆの座標から所定のＹ軸方向のオフセットを差し引いて、機械点ｃ、ｄの座標を求める。次いで、上記のようにして求めた４つの機械点ａ、ｂ、ｃ、ｄについてのトータルステーション４６内の基準点を原点とする３次元座標を、機械原点ａを原点とする新たな３次元座標に座標変換する。この新たな座標系上での機械点ｃの座標が、露光装置本体ユニット１２内部の照明光学系１８の光軸上の機械原点ａに対するＢＭＵ１６の光軸上の機械点ｃの位置ずれ（シフト量）を与え、同様に、機械点ｂの座標と機械点ｄの座標との差が、機械原点ａを基準として光軸を調整する際のエキシマレーザ装置１４のレーザ光軸上の機械点ｂに対するＢＭＵ１６の光軸上の機械点ｄの位置ずれ（シフト量）を与える。
【００３５】
そして、上述のようにして得た光軸の傾き及びシフト量の計測データを、トータルステーション４６のデータカードに取り込む。
【００３６】
（図５のステップ１１４）
次いで、上記の光軸の傾き及びシフト量の計測データを、露光装置本体ユニット１２に入力して、ＢＭＵ１６の各ミラー、プレーンパラレルを制御して光軸補正を行う。
【００３７】
具体的には、上記データカードを露光装置本体ユニット１２にセットし、不図示のキーボードからコマンドを入力してデータカード内に取り込まれた計測データをインストールする。露光装置本体ユニット１２の制御系では、計測データを制御信号に変換し、ＢＭＵ１６に装備されたモータ３４ａ〜３４ｈに送る。これにより、モータ３４ａ、３４ｂにより、反射レフシート４２ａ、４２ｂの位置を結ぶ直線の傾きに機械点ｃ、ｄを結ぶ直線の傾きが一致するように、反射ミラー２２のＸ、Ｙ軸回りの回転が調整され、これと同時に、モータ３４ｅ、３４ｆにより機械点ｃの新たな座標系上の座標から求められたデータに基づいてプレーンパラレル２４のＸ軸回りの回転、プレーンパラレル２６のＹ軸回りの回転が調整される。このようにして、露光装置本体ユニット１２の光軸とＢＭＵ１６の光軸の傾き及び位置ずれが調整される。
【００３８】
同様に、モータ３４ｃ、３４ｄにより、機械点ｃ、ｄを結ぶ直線の傾きに反射レフシート４２ｃ、４２ｄの位置を結ぶ直線の傾きが一致するように、反射ミラー２８のＸ、Ｙ軸回りの回転が調整され、これと同時に、モータ３４ｇ、３４ｈにより機械点ｂ、ｄの座標から求められたデータでプレーンパラレル３０のＸ軸回りの回転、プレーンパラレル３２のＹ軸回りの回転が調整される。このようにして、エキシマレーザ２３の光軸とＢＭＵ１６の光軸の傾き及び位置ずれが調整される。
【００３９】
以上説明したように、本実施形態によると、反射レフシートを３ユニットに分けられた露光装置１０の各ユニットの既知点にターゲットとして取付け、測量機であるトータルステーションで反射レフシートの三次元座標を測定し、そこで得られた光軸の傾斜角度，シフト量を、露光装置本体ユニット１２に入力するだけで、ＢＭＵ１６に取りつけられた光軸調整用ミラー，プレーンパラレルをモータにより制御して、露光装置の設置の際に生ずるユニット１２、１４、１６相互間の光軸の傾き、シフト量を補正して、３つのユニットの光軸が一直線上になるように光軸調整が行われる。このため、従来のように、各ユニット間の光軸の傾き誤差及び位置ずれの調整のため、ヘリウムネオンレーザを用いて光軸調整用の光学部品を作業者の勘と経験に基づいて繰り返し調整するという面倒な作業が不要となる。
【００４０】
また、本実施形態によると、トータルステーションで、位置の計測が光学的になされるので、非常に精密に三次元座標値が得られ、正確な光軸調整が可能となる。その結果、光軸調整に作業者の熟練が不要となる。また、各ユニットの位置出しは大まかでも正確な光軸調整が可能であることから、各ユニットの重量が大きいことにも起因して従来困難を伴っていた、装置設置に際してのユニット間の位置出し時の作業性が大幅に改善される。
【００４１】
更に、本実施形態によると、ＢＭＵ１６の調整範囲内にあるかないかは、トータルステーション４６で得た測定データからただちに判定できるので、従来のように調整がうまくいかない場合に光軸調整を試みた後にＢＭＵ１６の調整範囲内にないことに気づき、設置し直して再度調整を行う場合に比べて、作業能率を大幅に向上させることができる。
【００４２】
また、エキシマレーザを光源とする露光装置では、工場出荷時には、照明光学系１８及びＢＭＵ１６の内部に、エキシマレーザが空気と反応することにより生ずる光学系内部の曇りの発生を防止するため、窒素ガスが封入されているが、上記実施形態では、ユーザ先での設置に際してカバーを取り外す必要がなくなるので、この窒素ガスの漏洩をも防止することができる。
【００４３】
さらに、上記実施形態では、ＢＭＵ１６に光軸調整のための光学部品が集中的に設けられていることから、メンテナンス等の作業がやり易くなる。
【００４４】
なお、上記実施形態では、トータルステーションの内部処理により、光軸の傾斜角度，シフト量の算出までも行う場合について説明したが、本発明がこれに限定されないことは勿論である。例えば、露光装置本体ユニット１２もＣＰＵといった演算装置を内蔵している事から、三次元座標データをトータルステーションから直接露光装置本体ユニット１２に入力し、ＢＭＵ１６の各光学部品を自動制御させるようにしても良い。
【００４５】
また、上記実施形態では、露光装置本体ユニット１２を基準として設定された機械原点ａを基準として座標計算を行う場合について説明したが、これに限らず、いずれかのユニット、例えば、エキシマレーザ装置１４を基準として設定された機械点を機械原点として、３ユニットの座標を演算しても良い。
【００４６】
さらに、上記実施形態では、トータルステーションの計測データを、露光装置１０の設置、組み立ての際の光軸調整に利用する場合について説明したが、例えば、トータルステーションそのまま据え付けておいて、各ユニットの位置を継続してモニターしておくことで、振動や地震などによって各ユニットの位置が変化したとしても、トータルステーションの測定データで位置ずれ及び傾きを補正することも可能である。このようにすれば、振動や地震があったとしても、メンテナンスが不要となる。
【００４７】
なお、上記実施形態では、本発明に係る光軸調整方法が、エキシマレーザを光源とするステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパー）に適用された場合について説明したが、本発明の適用範囲がこれに限定されるものではなく、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置その他の露光装置であっても露光装置本体と別置きの光源を用いるものであれば、好適に適用できるものである。
【００４８】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１ないし３に記載の発明によれば、露光装置を構成するユニット間の光軸調整を容易かつ正確に行うことができるという従来にない優れた光軸調整方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】一実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】一部を断面して示した図１の装置の概略平面図である。
【図３】図１のＢ−Ｂ線断面図である。
【図４】図１のＣ−Ｃ線断面図である。
【図５】露光装置の光軸調整方法を概略的に示す流れ図である。
【図６】露光装置本体ユニットとエキシマレーザ装置とが設置された状態を示す図である。
【図７】トータルステーションで露光装置本体ユニット、エキシマレーザ装置に取り付けられた反射レフシートの３次元座標を測定する様子を示す平面図である。
【図８】ＢＭＵが設置された状態を示す図である。
【図９】トータルステーションでＢＭＵに取り付けられた反射レフシートの３次元座標を測定する様子を示す平面図である。
【符号の説明】
１２    露光装置本体ユニット
１４    エキシマレーザ装置（光源ユニット）
１６  ＢＭＵ（リレー光学系ユニット）
１８  照明光学系
２２，２８  反射ミラー（光学部材）
２４，２６，３０，３２  プレーンパラレル（光学部材）
４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ，４２ｅ，４２ｆ  反射レフシート（反射板）
４６  トータルステーション（計測装置）
【図１】
0003770352.tif 000002
【図２】
0003770352.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
0003770352.tif 000007
【図７】
0003770352.tif 000008
【図８】
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【図９】
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