(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
担体上にＨＣ吸着材層及び触媒成分層を順次積層して成る排気ガス浄化用触媒であって、
上記触媒成分層が、排気ガスの流通方向に対して上流側に配設される上流側触媒成分層及び下流側に配設される下流側触媒成分層から構成され、
上記上流側触媒成分層が、ジルコニウム、プラセオジム、イットリウム、ランタン及びネオジムから成る群より選ばれた少なくとも１種の元素を含み、Ｃｅ−［Ｙ］−Ｏｘで表されるセリウム酸化物から成る酸素放出材及び該セリウム酸化物に貴金属を担持させた粉末を含み、
更に、上流側触媒成分層が該下流側触媒成分層より多くの酸素放出材及び貴金属を含有し、
該上流側触媒成分層では酸素放出量が下流側触媒成分層より多く、該下流側触媒成分層では排気ガスの接触率及び接触時間が上流側触媒成分層より多く、ＨＣ吸着材層が脱離する吸着ＨＣと上流側触媒成分層が放出する酸素との反応を促進することを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
【請求項２】
上記上流側触媒成分層が、更にセリウムを含有したアルミナにパラジウムを担持した粉末及び／又はセリウムを含有したアルミナに白金を担持した粉末、ジルコニウムを含有したアルミナにロジウムを担持した粉末、並びにジルコニウム含有セリウム酸化物から成る群より選ばれた少なくとも１種のものを含むことを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化用触媒。
【請求項３】
上記担体が一体構造であって、上記上流側触媒成分層が該担体の上流側から下流側へ且つ全長の５０〜９０％の範囲に亘って配設され、上記セリウム酸化物から成る酸素放出材の含有率が該上流側触媒成分層の上流側で高く、上記貴金属の含有率が該上流側触媒成分層の下流側で高いことを特徴とする請求項１又は２に記載の排気ガス浄化用触媒。
【請求項４】
担体上且つ排気ガス流路の上流側から上流側触媒部及び下流側触媒部を配設して成る排気ガス浄化用触媒であって、
上記上流側触媒部はＨＣ吸着材層及び上流側触媒成分層を順次被覆して成り、上記下流側触媒部は耐熱性無機酸化物層及び下流側触媒成分層を順次被覆して成り、
上記上流側触媒成分層が、ジルコニウム、プラセオジム及びネオジムから成る群より選ばれた少なくとも１種の元素を含み、Ｃｅ−［Ｙ］−Ｏｘで表されるセリウム酸化物から成る酸素放出材及び該セリウム酸化物に貴金属を担持させた粉末を含み、
該上流側触媒成分層では酸素放出量が下流側触媒成分層より多く、該下流側触媒成分層では排気ガスの接触率及び接触時間が上流側触媒成分層より多く、ＨＣ吸着材層が脱離する吸着ＨＣと上流側触媒成分層が放出する酸素との反応が促進されることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
【請求項５】
上記耐熱性無機酸化物層が、粒径が１〜３μｍのγ−アルミナを主成分として成ることを特徴とする請求項４に記載の排気ガス浄化用触媒。
【請求項６】
担体上且つ排気ガス流路の上流側から上流側触媒部及び下流側触媒部を配設して成る排気ガス浄化用触媒であって、
上記上流側触媒部はＨＣ吸着材層及び上流側触媒成分層を順次被覆して成り、上記下流側触媒部は下流側触媒成分層を被覆して成り、
上記上流側触媒成分層が、ジルコニウム、プラセオジム及びネオジムから成る群より選ばれた少なくとも１種の元素を含み、Ｃｅ−［Ｙ］−Ｏｘで表されるセリウム酸化物から成る酸素放出材及び該セリウム酸化物に貴金属を担持させた粉末を含み、
該上流側触媒成分層では酸素放出量が下流側触媒成分層より多く、該下流側触媒成分層では排気ガスの接触率及び接触時間が上流側触媒成分層より多く、ＨＣ吸着材層が脱離する吸着ＨＣと上流側触媒成分層が放出する酸素との反応が促進されることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
【請求項７】
上記担体において、上流側触媒部を備える排気ガス流路の平均横断面積Ａ１と下流側触媒部を備える排気ガス流路の平均横断面積Ａ２とが、Ａ１：Ａ２＝１：０．９９〜０．６の関係を満たし、
上記上流側触媒部はＨＣ吸着材層及び上流側触媒成分層を順次被覆して成り、上記下流側触媒部は触媒成分層を被覆して成り、該上流側触媒成分層では酸素放出量が下流側触媒成分層より多く、該下流側触媒成分層では排気ガスの接触率及び接触時間が上流側触媒成分層より多く、ＨＣ吸着材層が脱離する吸着ＨＣと上流側触媒成分層が放出する酸素との反応が促進されることを特徴とする請求項４〜６のいずれか１つの項に記載の排気ガス浄化用触媒。
【請求項８】
上記担体がハニカム型であり、下流側触媒部が担持されている部位のセル数が上流側触媒部が担持されている部位のセル数より多く、上記上流側触媒部の単位面積当たりの熱容量が、下流側触媒部より大きいことを特徴とする請求項４〜７のいずれか１つの項に記載の排気ガス浄化用触媒。
【請求項９】
上記下流側触媒部が担持されている部位のセル数が、上記上流側触媒部が担持されている部位のセル数の２〜５倍であることを特徴とする請求項４〜８のいずれか１つの項に記載の排気ガス浄化用触媒。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、自動車（ガソリン、ディーゼル）、ボイラーなどの内燃機関から排出される排気ガス中の炭化水素（ＨＣ）、一酸化炭素（ＣＯ）及び窒素酸化物（ＮＯｘ）を浄化する排気ガス浄化用触媒に係り、特に三元触媒が活性化しないエンジン始動時の低温域において大量に排出されるＨＣを浄化する排気ガス浄化用触媒に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、内燃機関のエンジン始動時の低温域で大量に排出されるＨＣ（コールドＨＣ）の浄化を目的に、ＨＣ吸着材にゼオライトを用いたＨＣ吸着型三元触媒（ＨＣ吸着機能付き三元触媒）が開発されている。
【０００３】
吸着材から脱離するＨＣの浄化触媒としては、従来ロジウム（Ｒｈ）、白金（Ｐｔ）及びパラジウム（Ｐｄ）等の貴金属種を同一層に共存させた仕様や、Ｒｈ層とＰｄ層を塗り分けた仕様等が提案されている。
例えば、特開平２−５６２４７号公報には、ゼオライトを主成分とする第一層の上に、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈ等の貴金属を主成分とする第二層を設けた排気ガス浄化用触媒が提案されている。
【０００４】
また、かかるＨＣ吸着材を用いた発明は、例えば、特開平６−７４０１９号公報、特開平７−１４４１１９号公報、特開平６−１４２４５７号公報、特開平５−５９９４２号公報及び特開平７−１０２９５７号公報等に開示されている。
【０００５】
特開平６−７４０１９号公報には、排気流路にバイパスを設け、エンジン始動直後のコールド時に排出されるＨＣをバイパス流路に配置したＨＣ吸着材に一旦吸着させ、その後流路を切換え、下流の三元触媒が活性化した後、排気ガスの一部をＨＣ吸着触媒に通じ、脱離したＨＣを徐々に後段の三元触媒で浄化するシステムが提案されている。
また、特開平７−１４４１１９号公報には、コールド時に前段の三元触媒に熱を奪わせ中段のＨＣ吸着触媒の吸着効率を向上し、前段の三元触媒活性化後は、タンデム配置した中段のＨＣ吸着触材を介して後段の三元触媒に反応熱を伝熱し易くし、後段の三元触媒の浄化を促進するシステムが提案されている。
更に、特開平６−１４２１４５７号公報には、低温域で吸着したＨＣが脱離する際に、脱離ＨＣを含む排気ガスを熱交換器で予熱し三元触媒での浄化を促進するコールドＨＣ吸着除去システムが提案されている。
【０００６】
一方、特開平５−５９９４２号公報には、触媒配置とバルブによる排気ガスの流路を切換えによって、ＨＣ吸着材の昇温を緩慢にし、コールドＨＣの吸着効率を向上するシステムが提案されている。
また、特開平７−１０２９５７号公報には、後段の酸化・三元触媒の浄化性能を向上するため、前段の三元触媒と中段のＨＣ吸着材の間に空気を供給し、後段の酸化・三元触媒の活性化を促進するシステムが提案されている。
更に、特開平７−９６１８３号公報には、ゼオライトと接触する触媒層（ＰｄとＡｌ２Ｏ３が主成分）の高温下での劣化抑制の観点から、吸着材層と触媒層との間に多孔質バリア層を設け、しかも、下層吸着材層の吸着能の低下を抑制するため、Ｐｄ担持Ａｌ２Ｏ３粒子の平均粒子径が１５〜２５μｍ、耐火性無機質粒子の平均粒子径が５〜１５μｍのものを用いることが提案されている。
更にまた、特開平１１−２１０４５１号公報には、排気ガス流れ方向に対して、ＨＣ吸着層と三元触媒層との配置を変更した構造によって、ＨＣ吸着層から脱離するＨＣの浄化を促進することが提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
吸着材としてゼオライトを用いる場合、コールドＨＣ吸着性能は、排ガス中のＨＣ種組成とゼオライトの有する細孔径との間に相関があるので、最適な細孔径と分布、骨格構造をもつゼオライトを使用することを要する。
従来は、ＭＦＩ型をメインに、他の細孔径を有するゼオライト（例えば、ＵＳＹなど）を単独で又はこれらを混合して、細孔径分布を調整していたが、耐久後にはゼオライト種によって細孔径の歪みや吸着・脱離特性が異なるため、排ガスＨＣ種の吸着が不十分であるという問題点があった。
【０００８】
また、従来の炭化水素吸着材層と浄化触媒層を設けた排気ガス浄化用触媒では、内燃機関の始動直後の排気ガス低温域において炭化水素吸着材に吸着したコールドＨＣが、排気ガス温度の上昇する前に脱離し浄化できない、更に、吸着ＨＣが脱離する際に、浄化触媒層の雰囲気は酸素不足状態になるため、理論空燃比域での浄化に有効な三元触媒では、ＨＣ、ＣＯ及びＮＯｘのバランスの良い浄化ができなくなり、吸着ＨＣの浄化が十分でないという問題点があった。
この対応策として、排気流路の切換えによって、三元触媒が十分に活性化した後、吸着ＨＣを脱離させ三元触媒で浄化する方法、電熱ヒーターによって三元触媒の早期活性化を図る方法、及び外部から空気を導入して三元触媒の活性化開始を速める方法なども検討されているが、システム構成が煩雑化ししかも十分なコールドＨＣの低減効果が得られない、コストが高い、長期間の使用に耐えられない、などの問題点があった。
【０００９】
更に、炭化水素吸着材と浄化触媒と組合せ逐次積層した一体構造型触媒においても、内燃機関の始動直後の排気ガス低温域において炭化水素吸着材に吸着したコールドＨＣが、排気ガス温度の上昇する前に脱離し浄化できない、更に、吸着ＨＣの脱離と三元触媒の活性化域とが重なった場合においても、十分に活性化していない三元触媒では、ＨＣ，ＣＯ及びＮＯｘのバランスの良い浄化ができなくなり、吸着ＨＣの浄化が十分にできないという問題点があった。
【００１０】
本発明は、このような従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、エンジン始動時の低温域において排出される炭化水素（ＨＣ）を効率良く浄化する排気ガス浄化用触媒を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、炭化水素（ＨＣ）を一時的にＨＣ吸着材層で吸着・保持し、温度上昇により触媒成分層に含まれる三元触媒が活性化したときに吸着ＨＣを徐々に脱離することにより、上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
また、炭化水素（ＨＣ）を一時的に上流側触媒部に吸着・保持し、温度上昇により下流側触媒部の三元触媒が活性化したときに吸着ＨＣを徐々に脱離させるとともに、そのＨＣと温度上昇により上流側触媒部中に含有される酸素吸蔵材から放出される酸素とを反応させることにより、上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の排気ガス浄化用触媒について詳細に説明する。なお、本明細書において「％」は、特記しない限り質量百分率を示す。
【００１３】
まず、本発明の第１の排気ガス浄化用触媒は、担体上にＨＣ吸着材層及び触媒成分層を順次積層して成る。また、上記触媒成分層は、排気ガスの流通方向に対して上流側に配設される上流側触媒成分層と、下流側に配設される下流側触媒成分層とから成る。例えば、図２に示すように、ハニカム担体の各セルに上記ＨＣ吸着材層及び触媒成分層を担持した排気ガス浄化用触媒を挙げることができる。
上記上流側触媒成分層は、ジルコニウム、プラセオジム、イットリウム、ランタン又はネオジム、及びこれらの任意の組合せに係る元素を含み、Ｃｅ−［Ｙ］−Ｏｘで表されるセリウム酸化物であり、また、このとき上流側触媒成分層は、下流側触媒成分層より多くの酸素放出材及び貴金属を含有して成るようにする。これより、上流側触媒成分層の酸素放出量を下流側触媒成分層より増大することとなるので、脱離された吸着ＨＣを効率良く浄化する。
【００１４】
また、本排気ガス浄化用触媒では、該上流側触媒成分層からの酸素放出量が下流側触媒成分層より多く、また、該下流側触媒成分層の排気ガス接触率及び接触時間が上流側触媒成分層より多い。このため、ＨＣ吸着材層が脱離する吸着ＨＣと触媒成分層が放出する酸素との反応が促進される。
言い換えれば、上流触媒成分層に低温・酸素不足雰囲気での酸素放出能や触媒活性が優れている触媒成分を含み、下流側触媒成分層に三元触媒成分を含むことにより、ＨＣ吸着材層から脱離されたＨＣが効率良く浄化される。
なお、上記上流側触媒成分層は、含有する触媒成分により異なるが、１５０〜３００℃程度で活性することが望ましい。
【００１５】
具体的には、上流側触媒成分層にセリウム酸化物から成る酸素放出剤及びこれに貴金属を担持させた粉末を含んで成る排気ガス浄化用触媒を例示できる。この場合は、上流側触媒成分層が、低温・酸素不足雰囲気下で比較的高い酸素放出能を発揮でき、上流側の触媒成分に応じた広いウィンドウゲイト（触媒が浄化活性を発現できる領域）を有する下流側触媒成分層が、放出酸素とＨＣ吸着材層から脱離されたＨＣとを効率良く浄化することができる。
【００１６】
また、上流側触媒成分層に、更にセリウムを含有したアルミナにパラジウムを担持した粉末（Ｃｅ−Ａｌ２Ｏ３担持Ｐｄ）及び／又はセリウムを含有したアルミナに白金を担持した粉末（Ｃｅ−Ａｌ２Ｏ３担持Ｐｔ）、ジルコニウムを含有したアルミナにロジウムを担持した粉末（Ｚｒ−Ａｌ２Ｏ３担持Ｒｈ）又はＺｒ含有ＣｅＯ２、並びにこれらの任意の組合せに係るものを含んで成る排気ガス浄化用触媒を例示できる。この場合は、上流側触媒成分層には上述の酸素放出能を発揮する触媒成分に加えて、比較的低温で活性化する（低温活性に優れる）Ｃｅ−Ａｌ２Ｏ３担持Ｐｄが含まれ、また、下流側触媒成分層には上流側の触媒成分に応じた広いウィンドウゲイトを有する（触媒が浄化活性を発現できる領域）触媒成分が含まれることより、効率良く脱離ＨＣを浄化できる。
なお、上記Ｃｅ−Ａｌ２Ｏ３担持Ｐｄの活性温度は１５０〜３００℃程度である。
【００１７】
一方、上記ＨＣ吸着材層の構成成分としては、代表的に、β−ゼオライト、ＵＳＹ及びＭＦＩなどを使用することができる。これらを用いるといろいろな分子径のＨＣ種を効率良く吸着できるので有効である。
【００１８】
上述の本排気ガス浄化用触媒では、担体が一体構造であり、該担体の上流側から下流側へ且つ全長の５０〜９０％の範囲に亘って上流側触媒成分層が配設されていることが好ましい。これより、脱離ＨＣと放出酸素との反応効率を向上できるので有効である。
また、このときセリウム酸化物の含有率は、該上流側触媒成分層の上流側で高く、上記貴金属の含有率が該上流側触媒成分層の下流側で高いことが好ましい。これより、上流側触媒成分層の酸素放出量を下流側触媒成分層より増大することができるので、脱離された吸着ＨＣを効率良く浄化できる。
【００１９】
次に、本発明の第２の排気ガス浄化用触媒について詳細に説明する。
かかる排気ガス浄化用触媒は、担体上且つ排気ガス流路の上流側から上流側触媒部及び下流側触媒部を配設して成る。該上流側触媒部は、ＨＣ吸着材層及び上流側触媒成分層を順次被覆して成り、また、上記下流側触媒部は、耐熱性無機酸化物層及び下流側触媒成分層を順次被覆して成る。このとき、耐熱性無機酸化物層は、粒径が１〜３μｍのγ−アルミナを主成分として成ることが好適である。例えば、図３に示すような構成を有する触媒が挙げられる。この場合は、上流側触媒部（ＨＣ吸着材層及び上流側触媒成分層）の下流側に耐熱性無機酸化物層を配置することで、排気ガスがＨＣ吸着材層に拡散し、上流側触媒成分層（ゼオライト構造）内を通過する排気ガス量が減少し、また、吸着ＨＣの脱離を抑制できるため、下流側触媒成分層で効率良くＨＣが浄化される。更に、γ−Ａｌ２Ｏ３を主成分とする耐熱性無機酸化物層の塗布量の調整によって、排気ガスと上流側触媒成分層の接触状態が良くなり活性化開始が速まるため、上流側触媒部のＨＣ吸着層から脱離する吸着ＨＣと、上流側触媒成分層から放出された酸素とを、下流側触媒成分層で効率良く浄化することができる。
上記上流側触媒成分層は、ジルコニウム、プラセオジム又はネオジム、及びこれらの任意の組合せに係る元素を含み、Ｃｅ−［Ｙ］−Ｏｘで表されるセリウム酸化物であり、また、このとき上流側触媒成分層は、下流側触媒成分層より多くの酸素放出材及び貴金属を含有して成るようにする。これより、上流側触媒成分層の酸素放出量を下流側触媒成分層より増大することとなるので、脱離された吸着ＨＣを効率良く浄化する。
【００２０】
次に、本発明の第３の排気ガス浄化用触媒について詳細に説明する。
かかる排気ガス浄化用触媒は、担体上且つ排気ガス流路の上流側から上流側触媒部及び下流側触媒部を配設して成る。該上流側触媒部は、ＨＣ吸着材層及び上流側触媒成分層を順次被覆して成り、また、上記下流側触媒部は、下流側触媒成分層を被覆して成る。これより、排気ガスからの熱量を受けて活性化するまでの時間を短縮できる。
上記上流側触媒成分層は、ジルコニウム、プラセオジム又はネオジム、及びこれらの任意の組合せに係る元素を含み、Ｃｅ−［Ｙ］−Ｏｘで表されるセリウム酸化物であり、また、このとき上流側触媒成分層は、下流側触媒成分層より多くの酸素放出材及び貴金属を含有して成るようにする。これより、上流側触媒成分層の酸素放出量を下流側触媒成分層より増大することとなるので、脱離された吸着ＨＣを効率良く浄化する。
例えば、図１０に示すような構成を有する触媒が挙げられる。この場合は排気ガスと上流側触媒成分層の接触状態が良くなり活性化間での時間が短縮できる。なお、この場合に使用する担体は、一体構造型であってもよいし、上流側触媒部を備える担体と下流側触媒部を備える担体とを別々にしてもよい。
【００２１】
上述の第２及び第３の排気ガス浄化用触媒では、該上流側触媒成分層からの酸素放出量が下流側触媒成分層より多く、また、該下流側触媒成分層の排気ガス接触率及び接触時間が上流側触媒成分層より多い。このため、ＨＣ吸着材層が脱離する吸着ＨＣと触媒成分層が放出する酸素との反応が促進される。
【００２２】
また、上記排気ガス浄化用触媒では、上記担体において、上流側触媒部を備える排気ガス流路の平均横断面積Ａ１と下流側触媒部を備える排気ガス流路の平均横断面積Ａ２とが、Ａ１：Ａ２＝１：０．９９〜０．６の関係を満たすことが好適である。このときは、下流側触媒部での排気ガスの接触率及び接触時間を多くすることができる。
具体的には、排気ガス流路の横断面積を、下流側にかけて減少させることや下流側触媒部のＨＣ吸着材層の被覆量を増加することなどができる。また、排気ガスと所望の接触率及び接触時間が得られるのであれば、下流側触媒部を配設する担体形状を変形したり凹凸を設けたりすることもできる。
【００２３】
更に、上記ＨＣ吸着材としては、代表的には、β−ゼオライト、ＭＦＩ、モルデナイト及びＵＳＹなどを使用できる。これらを用いると色々なＨＣ成分を吸着し易いので有効である。
【００２４】
また、上記担体をハニカム型とし、下流側触媒部が担持されている部位のセル数を上流側触媒部が担持されている部位のセル数より多くすることができる。このときは、排気ガスからの熱量を受けて活性化するまでの時間を短縮できる。具体的には、上記下流側触媒部が担持されている部位のセル数が、上記上流側触媒部が担持されている部位のセル数の２〜５倍であることが好適である。また、このとき吸着ＨＣ脱離を緩慢にするという観点から、上流側触媒部の単位面積当たりの熱容量は、下流側触媒部より大きいことがよい。
【００２５】
【実施例】
以下、本発明を実施例及び比較例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２６】
（実施例１）
・ＨＣ吸着材層
Ｓｉ／２Ａｌ比が３５のβ−ゼオライト粉末８００ｇ、シリカゾルを１３３３．３ｇ（固形分濃度１５％）と純水１０００ｇをアルミナ製ボールミルポットに投入し、６０分間粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体（３００セル／６ミル、触媒容量１．０Ｌ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて、５０℃の空気流通下３０分間乾燥し、次いで、１５０℃の空気流通下１５分間乾燥した後、４００℃で１時間焼成した。このときの塗布量として、焼成後に３５０ｇ／Ｌになるまでコーティング作業を繰り返し、触媒−ａを得た。
【００２７】
・上流側触媒成分層
Ｌａ１ｍｏｌ％とＺｒ３０ｍｏｌ％含有セリウム酸化物粉末（Ｃｅ６９ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）を得た。この粉末ｂのＰｄ濃度は１．０％であった。
上記Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）３１４ｇ、硝酸酸性アルミナゾル１９０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で１９ｇ）を純水２０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記コート触媒−ａの排気ガス流入側（上流側）に相当する１／３部分に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量３３．３ｇ／Ｌを塗布し、触媒−ｂを得た。
【００２８】
・下流側触媒成分層
Ｃｅ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）を得た。この粉末ａのＰｄ濃度は４．０％であった。
上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）６２８ｇ、硝酸酸性アルミナゾル１４０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で１４ｇ）及び炭酸バリウム２５ｇ（ＢａＯとして１７ｇ）を純水２０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記コート触媒−ｂの排気ガス下流に相当する２／３部分に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量６６．７ｇ／Ｌを塗布し、触媒−ｃを得た。
なお、本例の触媒構造を図２に示す。
【００２９】
（実施例２）
・ＨＣ吸着材層
Ｓｉ／２Ａｌ比が３５のβ−ゼオライト粉末８００ｇ、シリカゾルを１３３３．３ｇ（固形分濃度１５％）と純水１０００ｇをアルミナ製ボールミルポットに投入し、６０分間粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体（３００セル／６ミル、触媒容量１．０Ｌ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて、５０℃の空気流通下３０分間乾燥し、次いで、１５０℃の空気流通下１５分間乾燥した後、４００℃で１時間焼成した。このときの塗布量として、焼成後に３５０ｇ／Ｌになるまでコーティング作業を繰り返し、触媒−ａを得た。
【００３０】
・上流側触媒成分層
Ｃｅ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ｃ）を得た。この粉末ｃのＰｄ濃度は８．０％であった。
Ｌａ１ｍｏｌ％とＺｒ３０ｍｏｌ％含有セリウム酸化物粉末（Ｃｅ６９ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｄ）を得た。この粉末ｂのＰｄ濃度は４．０％であった。
上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ｃ）２００ｇ、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｄ）７１ｇ、硝酸酸性アルミナゾル１２０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で１２ｇ）及び炭酸バリウム５０ｇ（ＢａＯとして３３ｇ）と純水１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記コート触媒−ａの排気ガス流入側（上流側）に相当する１／３部分に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量３３．３ｇ／Ｌを塗布し、触媒−ｄを得た。
【００３１】
・下流側触媒成分層
Ｚｒ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、硝酸ロジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末ｅ）を得た。この粉末ｅのＲｈ濃度は１．５％であった。
Ｃｅ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、ジニトロジアンミン白金水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｔ担持アルミナ粉末（粉末ｆ）を得た。この粉末ｆのＰｔ濃度は１．５％であった。
Ｌａ１ｍｏｌ％とＣｅ２０ｍｏｌ％を含有するジルコニウム酸化物粉末に、ジニトロアンミン白金水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｔ担持ジルコニウム酸化物粉末（粉末ｇ）を得た。この粉末ｇのＰｔ濃度は１．５％であった。
上記Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末ｅ）１５７ｇ、Ｐｔ担持アルミナ粉末（粉末ｆ）２３６ｇ、Ｐｔ担持ジルコニウム酸化物粉末（粉末ｇ）２３６ｇ、硝酸酸性アルミナゾル３８０ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記コート触媒−ｄの排気ガス流入側（下流側）に相当する２／３部分に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量６６．７ｇ／Ｌを塗布し、触媒を得た。触媒の貴金属担持量は、Ｐｔ０．７１ｇ／Ｌ、Ｐｄ１．８８ｇ／Ｌ、Ｒｈ０．２４ｇ／Ｌであった。
なお、本例の触媒構造を図３に示す。
【００３２】
（実施例３〜９）
表１に示す構成とした以外は、実施例１又は２とほぼ同様な操作を繰り返して、触媒を得た。
【００３３】
（実施例１０、１１）
表１に示す構成とした以外は、実施例２とほぼ同様な操作を繰り返して、触媒を得た。
【００３４】
（三元触媒）
粉末ａを５３０ｇ、粉末ｂを２３６ｇと硝酸酸性アルミナゾル７０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で１４ｇ）及び炭酸バリウム４０ｇ（ＢａＯとして２７ｇ）を純水１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体（９００セル／２ミル、触媒容量１．０Ｌ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量７８ｇ／Ｌを塗布し、触媒−ｅを得た。
粉末ｅを３１３ｇ、Ｌａ１モル％とＣｅ２０モル％を含有するジルコニウム酸化物粉末を１００ｇと硝酸酸性アルミナゾル１７０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で１７ｇ）を純水１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を触媒−ｅに付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量４３ｇ／Ｌを塗布し、触媒を得た。触媒の貴金属担持量は、Ｐｄ２．３５ｇ／Ｌ、Ｒｈ０．４７ｇ／Ｌであった。
【００３５】
（比較例１）
Ｓｉ／２Ａｌ比が４０のβ−ゼオライト粉末８００ｇ、シリカゾルを１３３３．３ｇ（固形分濃度１５％）と純水１０００ｇをアルミナ製ボールミルポットに投入し、６０分間粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体（３００セル／６ミル、触媒容量１．０Ｌ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて、５０℃の空気流通下３０分間乾燥し、次いで、１５０℃の空気流通下１５分間乾燥した後、４００℃で１時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後に３５０ｇ／Ｌになるまでコーティング作業を繰り返し、触媒−ｆを得た。
【００３６】
Ｃｅ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）を得た。この粉末ａのＰｄ濃度は４．０％であった。
Ｌａ１ｍｏｌ％とＺｒ３０ｍｏｌ％含有セリウム酸化物粉末（Ｃｅ６９ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｈ）を得た。この粉末ｈのＰｄ濃度は２．０％であった。
上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）５６５ｇ、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｈ）２８３ｇ、硝酸酸性アルミナゾル１２０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で１２ｇ）及び炭酸バリウム４０ｇ（ＢａＯとして２７ｇ）を純水２０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記コート触媒−ｆに付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量９０．０ｇ／Ｌを塗布し、触媒−ｇを得た。触媒の貴金属担持量は、Ｐｄ２．８３ｇ／Ｌであった。
なお、本例の触媒構造を図４に示す。
【００３７】
（比較例２）
比較例１と同様にして、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（Ｐｄ担持濃度４％）６３７ｇ、Ｐｄ担持アルミナ粉末（Ｐｄ担持濃度４％）７０８ｇを用い、本例の触媒を調製した。
【００３８】
（比較例３）
比較例１と同様にして、Ｐｄ担持アルミナ粉末（Ｐｄ担持濃度４％）７０８ｇを用い、本例の触媒を調製した。
【００３９】
（比較例４）
実施例１の触媒のＰｄ担持セリウム酸化物を塗布した部分と、Ｐｄ担持アルミナ粉末を塗布した部分とを切り離しタンデムにした以外は同様にして、本例の触媒を調製した。
【００４０】
（比較例５）
実施例１の触媒を排ガス流入側にＰｄ担持アルミナ粉末を塗布した部分を配置した以外は同様にして、本例の触媒を調製した。
【００４１】
実施例１〜１１及び比較例１〜５で得られた触媒仕様を表１に示す。
また、図１に示すように、実施例及び比較例で得られた触媒の上流側に三元触媒を配設した評価装置を用いて評価試験を行った。この結果を表２に示す。
【００４２】
＜評価方法＞
・耐久条件
エンジン排気量    ３０００ｃｃ
燃料              ガソリン（日石ダッシュ）
触媒入口ガス温度  ６５０℃
耐久時間          １００時間
・車両性能試験
エンジン排気量    日産自動車株式会社製  直列４気筒  ２．０Ｌエンジン
評価方法          北米排ガス試験法のＬＡ４−ＣＨのＡ−ｂａｇ
【００４３】
【表１】
0003855266.tif 000002
【００４４】
【表２】
0003855266.tif 000003
【００４５】
表２より、実施例１〜１１で得られた触媒は、比較例１〜５で得られた触媒よりもＨＣ脱離浄化能が優れていることがわかる。
【００４６】
（実施例１２）
Ｓｉ／２Ａｌ比が３５のβ−ゼオライト粉末８００ｇ、シリカゾルを１３３３．３ｇ（固形分濃度１５％）と純水１０００ｇをアルミナ製ボールミルポットに投入し、６０分間粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体（３００セル／６ミル、触媒容量１．０Ｌ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて、５０℃の空気流通下３０分間乾燥し、次いで、１５０℃の空気流通下１５分間乾燥した後、４００℃で１時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後に３００ｇ／Ｌになるまでコーティング作業を繰り返し、触媒−ｈを得た。更に、図５に示すように、触媒−ｈの排気ガス流出側（下流側）に位置する１／４の部分に、焼成後に５０ｇ／Ｌになるまで上記スラリーを付着させた。
Ｌａ１ｍｏｌ％とＺｒ３２ｍｏｌ％含有セリウム酸化物粉末（Ｃｅ６７ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｊ）を得た。この粉末ｊのＰｄ濃度は１．０％であった。
上記Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｊ）６２８ｇ、硝酸酸性アルミナゾル３９０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で３９ｇ）を純水２０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記コート触媒−ｈの排気ガス流入側（上流側）に相当する３／４部分に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量６６．７ｇ／Ｌを塗布し、触媒−ｉを得た。
【００４７】
Ｃｅ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ｉ）を得た。この粉末ｉのＰｄ濃度は８．０％であった。
上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ｉ）２７５ｇ、硝酸酸性アルミナゾル２４０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で２４ｇ）及び炭酸バリウム５０ｇ（ＢａＯとして３４ｇ）を純水２０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記コート触媒−ｉの排気ガス下流に相当する１／４部分に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量３３．３ｇ／Ｌを塗布し、触媒−ｊを得た（図５）。
【００４８】
（実施例１３）
Ｓｉ／２Ａｌ比が３５のβ−ゼオライト粉末８００ｇ、シリカゾルを１３３３．３ｇ（固形分濃度１５％）と純水１０００ｇをアルミナ製ボールミルポットに投入し、６０分間粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体（３００セル／６ミル、触媒容量１．０Ｌ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて、５０℃の空気流通下３０分間乾燥し、次いで、１５０℃の空気流通下１５分間乾燥した後、４００℃で１時間焼成した。排気ガス上流側に位置する３／４の部分に、焼成後に２６３ｇ／Ｌになるまでコーティング作業を繰り返し、触媒−ｋを得た。
【００４９】
γ−アルミナ９５０ｇと硝酸酸性アルミナゾル５００ｇ、純水１０００ｇをを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。この時の平均粒子径は、１．０μｍ〜１．５μｍであった。このスラリー液を上記触媒−ｋの排気ガス下流側の１／４に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量９０ｇ／Ｌを塗布し、触媒−ｌを得た。
図６に示すように、実施例１２と同様の操作を繰り返して、触媒−ｌに触媒成分層を配置した。
【００５０】
（実施例１４〜１６）
Ｚｒ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、硝酸ロジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末ｍ）を得た。この粉末ｍのＲｈ濃度は１．５％であった。
Ｃｅ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、ジニトロジアンミン白金水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｔ担持アルミナ粉末（粉末ｎ）を得た。この粉末ｎのＰｔ濃度は１．５％であった。
図７〜９に示す構成とした以外は、実施例１２とほぼ同様の操作を繰り返して、実施例１４〜１６の触媒を得た。
【００５１】
（実施例１７：三元触媒）
粉末ｉを５３０ｇ、粉末ｊを２３６ｇと硝酸酸性アルミナゾル７０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で１４ｇ）及び炭酸バリウム４０ｇ（ＢａＯとして２７ｇ）を純水１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体（９００セル／２ミル、触媒容量１．０Ｌ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量７８ｇ／Ｌを塗布し、触媒−ｍを得た。
【００５２】
粉末ｍを３１３ｇ、Ｌａ１モル％とＣｅ２０モル％を含有するジルコニウム酸化物粉末を１００ｇと硝酸酸性アルミナゾル１７０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で１７ｇ）を純水１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を触媒−ｍに付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量４３ｇ／Ｌを塗布し、触媒を得た。触媒の貴金属担持量は、Ｐｄ２．３５ｇ／Ｌ、Ｒｈ０．４７ｇ／Ｌであった。
【００５３】
（実施例１８）
Ｓｉ／２Ａｌ比が３５のβ−ゼオライト粉末８００ｇ、シリカゾルを１３３３．３ｇ（固形分濃度１５ｗｔ％）と純水１０００ｇをアルミナ製ボールミルポットに投入し、６０分間粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体（３００セル／６ミル、触媒容量０．７５Ｌ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて、５０℃の空気流通下３０分間乾燥し、次いで、１５０℃の空気流通下１５分間乾燥した後、４００℃で１時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後に３５０ｇ／Ｌになるまでコーティング作業を繰り返し、触媒−ｈを得た。
【００５４】
Ｌａ１ｍｏｌ％とＺｒ３２ｍｏｌ％含有セリウム酸化物粉末（Ｃｅ６７ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｊ）を得た。この粉末ｊのＰｄ濃度は１．０％であった。
上記Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｊ）６２８ｇ、硝酸酸性アルミナゾル３９０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で３９ｇ）を純水２０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記コート触媒−ｈに付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量６６．７ｇ／Ｌを塗布し、触媒−ｎを得た。
【００５５】
Ｃｅ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ｉ）を得た。この粉末ｉのＰｄ濃度は８．０％であった。
上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ｉ）２７５ｇ、硝酸酸性アルミナゾル２４０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で２４ｇ）及び炭酸バリウム５０ｇ（ＢａＯとして３４ｇ）を純水２０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記モノリス担体（９００セル／２ミル、触媒容量０．２５Ｌ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量３３．３ｇ／Ｌを塗布し、触媒−ｏを得た。こうして得た触媒−ｎを排気ガス上流側にと触媒−ｏを排気ガス下流側に配置し、図１０に示すような並びで一個の容器に格納した。
【００５６】
（実施例１９〜２１）
図１１〜１３に示す構成とした以外は、実施例１８とほぼ同様な操作を繰り返して、実施例１９〜２１の触媒を得た。
【００５７】
（実施例２２、２３）
図１２、１３に示す構成とした以外は、実施例１８とほぼ同様な操作を繰り返して、実施例２２、２３の触媒を得た。
【００５８】
（比較例６）
図１４に示すように、触媒を排気ガス流れ方向に逆転させて配置した以外は、実施例１２とほぼ同様な操作を繰り返して、本例の触媒を得た。
【００５９】
（比較例７）
図１５に示すように、触媒−ｈに浄化触媒成分層を塗布し、下流（１／４）部分にＨＣ吸着材層の厚塗りを行わなかった以外は、実施例１２とほぼ同様な操作を繰り返して、本例の触媒を得た。
【００６０】
（比較例８）
図１６に示すように、触媒を排気ガス流れ方向に逆転させて配置した以外は、実施例１３とほぼ同様な操作を繰り返して、本例の触媒を得た。
【００６１】
（比較例９）
図１７に示すように、γ−アルミナを主成分とする緻密な耐火性無機酸化物材層を設けない以外は、実施例１３とほぼ同様な操作を繰り返して、本例の触媒を得た。
【００６２】
（比較例１０）
図１８に示すように、触媒を排気ガス流れ方向に逆転させて配置した以外は、実施例１８とほぼ同様な操作を繰り返して、本例の触媒を得た。
【００６３】
（比較例１１）
図１９に示すように、下流側に配置する触媒の担体を、３００セル／６ミルの担体に変更した以外は、実施例１８とほぼ同様な操作を繰り返して、本例の触媒を得た。
【００６４】
実施例１２〜２３及び比較例６〜１１で得られた触媒仕様を表１に示す。また、図１に示すような評価装置を用いて評価試験を行った。このとき、触媒位置１には実施例１７で得られた触媒２２を配置し、触媒位置２には各例で得られた触媒をそれぞれ配置した。この結果を表２に示す。
【００６５】
＜評価方法＞
・耐久条件
エンジン排気量    ３０００ｃｃ
燃料              ガソリン（日石ダッシュ）
触媒入口ガス温度  ６５０℃
耐久時間          １００時間
・車両性能試験
エンジン排気量    日産自動車株式会社製  直列４気筒  ２．０Ｌエンジン
評価方法          北米排ガス試験法のＬＡ４−ＣＨのＡ−ｂａｇ
【００６６】
【表３】
0003855266.tif 000004
【００６７】
【表４】
0003855266.tif 000005
【００６８】
表４より、実施例１２〜２３で得られた触媒は、比較例６〜１１で得られた触媒よりもＨＣ脱離浄化能が優れていることがわかる。
【００６９】
以上、本発明を実施例により詳細に説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において種々の変形が可能である。
例えば、本発明において、上流側触媒成分層と下流側触媒成分層又は上流側触媒部と下流側触媒部は、必ずしも連続して配設する構成に限定されず、一定の距離を置いて配置してもよい。また、各触媒成分の担持量を変化させることにより、排気ガスの接触率や接触時間を調整することができる。
【００７０】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本発明によれば、炭化水素（ＨＣ）を一時的にＨＣ吸着材層で吸着・保持し、温度上昇により触媒成分層に含まれる三元触媒が活性化したときに吸着ＨＣを徐々に脱離すること、及び炭化水素（ＨＣ）を一時的に上流側触媒部に吸着・保持し、温度上昇により下流側触媒部の三元触媒が活性化したときに吸着ＨＣを徐々に脱離することとしたため、エンジン始動時の低温域において排出される炭化水素（ＨＣ）を効率良く浄化する排気ガス浄化用触媒を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】評価装置の構造を示す概略図である。
【図２】実施例１の触媒構造を示す概略図である。
【図３】実施例２の触媒構造を示す概略図である。
【図４】比較例１の触媒構造を示す概略図である。
【図５】実施例１２の触媒構造を示す概略図である。
【図６】実施例１３の触媒構造を示す概略図である。
【図７】実施例１４の触媒構造を示す概略図である。
【図８】実施例１５の触媒構造を示す概略図である。
【図９】実施例１６の触媒構造を示す概略図である。
【図１０】実施例１８の触媒構造を示す概略図である。
【図１１】実施例１９の触媒構造を示す概略図である。
【図１２】実施例２０の触媒構造を示す概略図である。
【図１３】実施例２１の触媒構造を示す概略図である。
【図１４】比較例６の触媒構造を示す概略図である。
【図１５】比較例７の触媒構造を示す概略図である。
【図１６】比較例８の触媒構造を示す概略図である。
【図１７】比較例９の触媒構造を示す概略図である。
【図１８】比較例１０の触媒構造を示す概略図である。
【図１９】比較例１１の触媒構造を示す概略図である。
【図１】
0003855266.tif 000006
【図２】
0003855266.tif 000007
【図３】
0003855266.tif 000008
【図４】
0003855266.tif 000009
【図５】
0003855266.tif 000010
【図６】
0003855266.tif 000011
【図７】
0003855266.tif 000012
【図８】
0003855266.tif 000013
【図９】
0003855266.tif 000014
【図１０】
0003855266.tif 000015
【図１１】
0003855266.tif 000016
【図１２】
0003855266.tif 000017
【図１３】
0003855266.tif 000018
【図１４】
0003855266.tif 000019
【図１５】
0003855266.tif 000020
【図１６】
0003855266.tif 000021
【図１７】
0003855266.tif 000022
【図１８】
0003855266.tif 000023
【図１９】
0003855266.tif 000024