(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子基板と、前記高分子基板上に設けられ、前記高分子基板の主面側からみて略円形であり、かつ凹部を有するスポットと
前記スポットの内面に沿って形成された光反射膜と、
前記スポットを通るプレーナー光導波路と
を備え、
前記スポットにおける前記光反射膜によって、前記光導波路の光は前記スポットの凹部の凹面側より外方へ反射集束される、光波回路モジュール。
【請求項２】
前記プレーナー光導波路の一部は、前記スポット内に位置しており、
前記プレーナー光導波路の前記一部は、前記光反射膜を介して前記基板上に形成されており、
前記プレーナー光導波路を導波する光は、前記スポット内で漏れて、前記略円形凹形によって設定された焦点に集光する、請求項１に記載の光波回路モジュール。
【請求項３】
前記高分子基板上に形成され、前記スポットの外周の一部に連結する溝と
を備え、
前記溝内には、前記プレーナー光導波路の少なくとも一部が形成されており、
前記プレーナー光導波路の端面は、前記スポットの周辺に位置しており、
前記プレーナー光導波路を導波する光は、前記端面から前記スポット内に入射し、前記凹部によって規定される焦点に集光する、請求項１に記載の光波回路モジュール。
【請求項４】
前記高分子基板上に形成され、前記スポットの外周の少なくとも一部に連結し、かつ前記高分子基板上の主面に対して傾斜を有する傾斜路と
を備え、
前記傾斜路上には、前記プレーナー光導波路の少なくとも一部が形成されており、
前記スポットの内面のうち、前記傾斜路が連結している側と少なくとも反対の側には、前記光反射膜が形成されている、請求項１に記載の光波回路モジュール。
【請求項５】
前記高分子基板上に形成され、前記スポットの外周の一部に連結する溝と
を備え、
前記溝内には、前記プレーナー光導波路の少なくとも一部が形成されており、
前記溝の底面は、前記スポット内の前記光反射膜の底面付近に位置している、請求項１に記載の光波回路モジュール。
【請求項６】
前記高分子基板は、前記スポットを複数個備え、各前記スポットはその内面に沿って形成された前記光反射膜を備え、
各前記スポットは、プレーナー光導波路によって連結されている、請求項１記載の光波回路モジュール。
【請求項７】
前記プレーナー光導波路は、分岐した部分を有し、
前記分岐した部分は、前記各スポットに連結されており、かつ、前記分岐した部分の少なくとも一部は、所定の波長を透過または反射する機能を有しており、
各前記スポットの上方には、受光素子が設けられている、請求項６に記載の光波回路モジュール。
【請求項８】
第１の面と、前記第１の面に実質的に対向する第２の面とを有する高分子基板と、
前記高分子基板の前記第１の面に形成され、該高分子基板の第１の面側から見て略円形であり且つ凹部を有するスポットと、
前記スポットの内面に沿って形成された光反射膜と
を備え、
前記第１の面上には、第１のプレーナー光導波路が設けられており、
前記第２の面上には、第２のプレーナー光導波路が設けられており、
前記第１のプレーナー光導波路は、前記スポットに連結されており、
前記スポット内の一部には、前記第１の面と前記第２の面とを繋ぐスルーホールが形成されており、
前記第２のプレーナー光導波路は、前記スルーホール内に充填された透光性媒体を介して前記スポットに連結されている、光波回路モジュール。
【請求項９】
前記プレーナー光導波路は、透明な透光性樹脂から形成されている、請求項１から７の何れか一つに記載の光波回路モジュール。
【請求項１０】
主面側から見て略円形であり、かつ凹部を有したスポットを有する基板と、前記スポットに連結する光導波路とを有する光波回路モジュールの製造方法であって、
高分子シートからなる基板を用意する工程と、
熱および圧力の少なくとも一方を加えるエンボス加工を前記基板に行い、それによって、前記スポットの凹面を形成する工程と
を包含する、光波回路モジュールの製造方法。
【請求項１１】
高分子基板上に形成された、円弧面の形状または球面の一部分の形状を有する凹部と、
前記基板上に形成された光導波路と、
前記凹部の上方に配置され、前記光導波路を伝送して前記凹部で反射された光を受光する受光素子と
を備えた光波回路モジュール。
【請求項１２】
前記第１または前記第２のプレーナー光導波路の少なくとも一部が、前記高分子基板の主面に対して傾斜して形成されている、請求項８に記載の光波回路モジュール。
【請求項１３】
高分子基板上に形成された、円弧面の形状または球面の一部分の形状を有する段差部と、
前記基板上に形成された光導波路と、
前記段差部の上方に形成された、前記光導波路を伝送して前記段差部で反射した光を受光する受光素子と
を備えた光波回路モジュール。
【請求項１４】
前記凹部の内面上に、光反射膜が形成されている、請求項１２に記載の光波回路モジュール。
【請求項１５】
前記第１または前記第２のプレーナー光導波路は、透明な透光性樹脂から形成されている、請求項８に記載の光波回路モジュール。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光通信、光情報処理などに利用される光波回路モジュールおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光通信、光情報処理などに用いられる半導体レーザ、受光素子、光スイッチなどの光デバイスは、一般に、光の入出力を行えるように光ファイバと結合された状態にされて、信号光の送受信を行っている。従来、光ファイバをモジュール内に組み込んだ光ファイバモジュールなどの種々の光モジュールが作られていた。
【０００３】
一方、上記の光ファイバモジュールとは別に、光導波路を含む平面光導波路と半導体レーザ、受光素子等の光機能素子とを同一基板上に集積したプレーナー形光波回路（ＰＬＣ；Ｐｌａｎｅｒ  Ｌｉｇｈｔ−ｗａｖｅ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）モジュールが提案されている。このＰＬＣモジュールは、アセンブリの自動化が可能であるため、光導波路集積回路装置を構成するコンパクトな光モジュールの一つとして期待が大きい。
【０００４】
ＰＬＣモジュールは、従来、主に光スイッチ、光分岐カプラーとして開発されている。ＰＬＣモジュールに用いられる光導波路としては、石英をベースにした石英系のものと、有機高分子材料をベースにした有機系のものとがある。中でも、有機高分子系の光導波路は耐熱性や性能に課題があるものの、容易に透明膜の形成ができるため、コストや製造工程の数等の面から期待が高い。
【０００５】
従来の有機高分子系のＰＬＣモジュールは、特開平８−２６４７４８号公報に示されている。図８を参照しながら、そのＰＬＣモジュールについて説明する。
【０００６】
図８は、同公報に開示されたＰＬＣモジュールの断面構成を模式的に示している。図８に示すように、このＰＬＣモジュールでは、Ｓｉからなる基板１に、基板１の長手方向に延びる溝２が形成され、そして、この溝２と直交する方向に溝２よりも幅広の凹部３が形成されている。溝２及び凹部３の内部には、透光性有機材料が塗布、充填されており、その透光性有機材料は、コア層４及びクラッド層５からなる有機系の光導波路６を構成する。凹部３内には、半導体レーザ７が収容されており、半導体レーザ７は、透光性有機材料により埋め込まれている。
【０００７】
また、基板１は、基板１の主面と４５度の角度をなす傾斜鏡面８が形成され、傾斜鏡面８上には、反射膜９が設けられている。傾斜鏡面８の上方には、反射膜９で反射したレーザ光の照射位置に受光部を有する裏面入射型の受光素子１０が配置されている。
【０００８】
図８に示した従来の構成によれば、光導波路６が基板１から剥がれ難く、また、光導波路６の配置精度及び半導体レーザ７との光結合の信頼性が高いＰＬＣモジュールを得ることができる。さらに、傾斜鏡面８からのレーザ光を基板１上の受光素子１０でモニタすることもできる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来の受光素子１０を備えたＰＬＣモジュールには、次のような課題がある。すなわち、従来のＰＬＣモジュールにおいては、傾斜鏡面８が平面であるので、レーザ光が広がりを持って傾斜鏡面８に入射すると、反射したレーザ光は広がりを持って受光素子１０に入射する。それゆえに、レーザ光を効率良く利用することができない。
【００１０】
また、光導波路６が基板１の水平方向に対してずれた場合、反射したレーザ光の照度が大きい位置と、受光素子１０の受光部の位置とがずれてしまい、その結果、レーザ光を効率良く利用できないという課題もある
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、光導波路を通ったレーザ光を効率良く受光素子に入射させることができる光波回路モジュールを提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明による第１の光波回路モジュールは、略円形凹形のスポットを有する基板と、前記スポットの内面に沿って形成された光反射膜と、前記スポットを通るプレーナー光導波路とを備え、前記スポットにおける前記光反射膜によって、前記光導波路の光は斜め上方へ反射集束される。
【００１２】
ある好適な実施形態において、前記プレーナー光導波路の一部は、前記スポット内に位置しており、前記プレーナー光導波路の前記一部は、前記光反射膜を介して前記基板上に形成されており、前記プレーナー光導波路を導波する光は、前記スポット内で漏れて、前記略円形凹形によって設定された焦点に集光する。
【００１３】
本発明による第２の光波回路モジュールは、略円形凹形のスポットを有する基板と、前記基板上に形成され、前記スポットの外周の一部に連結する溝とを備え、前記溝内には、プレーナー光導波路の少なくとも一部が形成されており、前記スポットの内面には、光反射膜が形成されており、前記プレーナー光導波路の端面は、前記スポットの周辺に位置しており、前記プレーナー光導波路を導波する光は、前記端面から前記スポット内に入射し、前記略円形凹形によって規定される焦点に集光する。
【００１４】
本発明による第３の光波回路モジュールは、略円形凹形のスポットを有する基板と、前記基板上に形成され、前記スポットの外周の少なくとも一部に連結する傾斜路とを備え、前記傾斜路上には、プレーナー光導波路の少なくとも一部が形成されており、前記スポットの内面のうち、前記傾斜路が連結している側と少なくとも反対の側には、光反射膜が形成されている。
【００１５】
本発明による第４の光波回路モジュールは、凹形のスポットを有する基板と、前記基板上に形成され、前記スポットの外周の一部に連結する溝とを備え、前記溝内には、プレーナー光導波路の少なくとも一部が形成されており、前記スポットの内面には、光反射膜が形成されており、前記溝の底面は、前記スポット内の前記光反射膜の底面付近に位置している。
【００１６】
本発明による第５の光波回路モジュールは、略円形凹形のスポットが複数個形成された基板と、各前記スポットの内面に沿って形成された光反射膜とを備え、各前記スポットは、プレーナー光導波路によって連結されている。
【００１７】
ある好適な実施形態において、前記プレーナー光導波路は、分岐した部分を有し、前記分岐した部分は、前記各スポットに連結されており、かつ、前記分岐した部分の少なくとも一部は、所定の波長を透過または反射する媒体から構成されており、各前記スポットの上方には、受光素子が設けられている。
【００１８】
本発明による第６の光波回路モジュールは、第１の面と、前記第１の面に実質的に対向する第２の面とを有する基板と、前記基板の前記第１の面に形成された、略円形凹形のスポットと、前記スポットの内面に沿って形成された光反射膜とを備え、前記第１の面上には、第１のプレーナー光導波路が設けられており、前記第２の面上には、第２のプレーナー光導波路が設けられており、前記第１のプレーナー光導波路は、前記スポットに連結されており、前記スポット内の一部には、前記第１の面と前記第２の面とを繋ぐスルーホールが形成されており、前記第２のプレーナー光導波路は、前記スルーホール内に充填された透光性媒体を介して前記スポットに連結されている。
【００１９】
前記プレーナー光導波路は、透明な透光性樹脂から形成されていることが好ましい。
【００２０】
本発明による光波回路モジュールの製造方法は、略円形凹形のスポットを有する基板と、前記スポットに連結する光導波路とを有する光波回路モジュールの製造方法であって、高分子シートからなる基板を用意する工程と、熱および圧力の少なくとも一方を加えるエンボス加工を前記基板に行い、それによって、前記スポットの凹面を形成する工程とを包含する。
【００２１】
本発明による第７の光波回路モジュールは、基板上に形成された、略円弧面形状または略球面形状を有する凹部と、前記基板上に形成された光導波路と、前記凹部の上方に配置され、前記光導波路を伝送して前記凹部で反射された光を受光する受光素子とを備えている。
【００２２】
前記光導波路の少なくとも一部は、前記基板の主面に対して傾斜して形成されていることが好ましい。
【００２３】
本発明による第８の光波回路モジュールは、基板上に形成された、略円弧面形状または略球面形状を有する段差部と、前記基板上に形成された光導波路と、前記段差部の上方に形成された、前記光導波路を伝送して前記段差部で反射した光を受光する受光素子とを備えている。
【００２４】
前記凹部の内面上に、光反射膜が形成されていることが好ましい。
【００２５】
本発明では、光導波路からの光を略円形凹形スポット、あるいは、略円弧面形状または略球面形状を有する凹部もしくは段差部（凹部等）で反射させて、一点もしくは非常に狭い範囲に光を集光することができる。従って、光導波路を導波する光が広がりを持って凹部等に入射しても、その光は集光されるので、効率良く受光素子に入射することができる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら、本発明による実施の形態を説明する。以下の図面においては、説明の簡潔化のため、実質的に同一の機能を有する構成要素を同一の参照符号で示す。なお、本発明は以下の実施形態に限定されない。
【００２７】
（第１の実施形態）
図１（ａ）〜（ｃ）は、本発明による第１の実施形態にかかる光波回路モジュールの構成を模式的に示している。図１（ａ）は、本実施形態の光波回路モジュールの平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）におけるＢ−Ｂ線に沿って切った断面図であり、そして、図１（ｃ）は、図１（ａ）におけるＣ−Ｃ線に沿って切った断面図である。
【００２８】
図１（ａ）および（ｂ）に示すように、本実施形態の光波回路モジュールは、略円形凹形のスポット１１を有する基板１と、スポット１１の内面に沿って形成された光反射膜１２と、スポット１１を通るプレーナー光導波路２とを備えている。スポット１１内のプレーナー光導波路２は、光反射膜１２を介して基板１上に形成されている。この構成により、プレーナー光導波路２を伝搬する光は、スポット１１内において、光反射膜１２によって斜め上方へ反射集束されることになる。
【００２９】
本実施形態の光波回路モジュールの構成を言い換えると、基板１上に略球面形状を有する凹部（「略円形凹形スポット」、または、単に「円形凹形スポット」ともいう。）１１が設けられ、凹部１１上に沿って、光反射膜１２が設けられている。光反射膜１２は、クロム、ニッケル、銀などの金属蒸着膜からなる。凹部１１の形状は、円柱の側面のような円弧状面を有する形状でもよい。また、光反射膜１２を設けずに、凹部１１の表面が光反射層を兼ねた光反射面を有する凹部であってもよい。本実施形態では、凹部１１の上面からみた周囲形状は、円形であるが、幾何学的な意味の円形に限らず、光導波路２の光を反射集束できるのであれば、略円形であればよく、楕円形でも、一部に直線のある円形であってもよい。
【００３０】
また、図１（ａ）、（ｃ）に示すように、本実施形態では、凹部１１から基板１の長手方向に一端から他端にかけて断面が矩形状の溝２が設けられている。この溝２および凹部１１に沿って、光導波路６が設けられている。光導波路６は、コア層およびクラッド層からなり、そして、短冊状（ストリップ状）の高分子材料で形成されている。光導波路６を構成するクラッド層は凹部１１を覆うように形成されてもよい。なお、溝２が複数形成されている場合は、光導波路６は、ストライプ状となり得る。光導波路６は、ステップインデックス型またはグレーデッドインデックス型のいずれの光導波路も用いてもかまわない。
【００３１】
さらに、凹部１１上には、受光素子１０が設けられており、本実施形態の受光素子１０は、信号光を受光する受光部を凹部１１側に向けた裏面入射型の受光素子１０である。受光素子１０としては、１．３μｍから１．５５μｍの長波長帯に感度を有する光ファイバ通信用受光素子を用いることができ、例えば、ＩｎＧａＡｓ／ＩｎＰ系を材料とするｐｉｎフォトダイオードが好適に使用される。図示した例では、受光素子１０を設けた構成を示しているが、受光素子１０の他に、半導体レーザー、光スイッチ、光分岐カプラーなどの光機能素子を一緒に搭載することにより、ＰＬＣモジュールを構成することもできる。
【００３２】
本実施形態の光波回路モジュールでは、光導波路６を通ってきた信号光は、凹部１１の部分で光導波路６から漏れて、漏れた光のうち光反射膜１２で反射した光は、凹部形状によって設定された焦点に集光する。したがって、波長多重のＰＬＣモジュールの場合であっても、分波された弱い光を高感度に受光することができる。焦点の深度は、光導波路の径や凹部の径などによって定まり、受光素子１０の受光部に光が最も集束するように凹部の曲率は設計される。
【００３３】
本実施形態の具体的な構成を例示的に説明すると、凹部１１の直径は、２０μｍ〜２００μｍであり、基板１表面から凹部の最深部までの深さは、１０μｍ〜１００μｍである。光反射膜１２の厚さは、Ａｕ等の金属反射膜のときは０．０５〜１μｍであり、誘電体多層膜のときは０．５〜５μｍである。プレーナー光導波路２の溝の幅および深さは、共に５〜２０μｍである。本実施形態では、受光素子１０と、光導波路２との間は、空洞になっているが、この箇所に、透明材料（例えば、石英、ガラス、高分子材料）を充填してもよい。
【００３４】
本実施形態における光導波路６は、高分子材料に限らず、石英、ガラスなどの各種の透明材料で構成することができる。ただし、コストや作業工数を考慮すると高分子の材料が適している。好適な高分子材料としては、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）や脂環基を導入した変性ＰＭＭＡ、ポリシロキサン誘導体、フッ素化ポリシロキサン、フッ素化ポリイミド、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート、ユリヤ樹脂、ウレタン樹脂、およびこれらの共重合体などが挙げられる。これは、以下の実施形態も同様である。
【００３５】
また、本実施形態における基板１は、半導体ウエハ、ガラス板、高分子シート、セラミックスシート、およびこれらの積層基板などより選ばれた任意の基板を用いることができる。シリコン（Ｓｉ）やガリウム・ヒ素（ＧａＡｓ）などの半導体ウエハは、半導体プロセス技術により高精度の加工ができるため適している。また、ガラス基板やセラミックスシートも、高精度の加工技術があり適用しやすい。これは、以下の実施形態も同様である。
【００３６】
あるいは、基板１を、光導波路６と同じく高分子材料から構成することも可能である。基板１を高分子材料から構成すると、両者の熱膨張率が同程度となるので、広い温度範囲にわたって応力や剥離現象がなく光学特性が安定する光波回路モジュールを実現することができる。具体的な基板の高分子材料としては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポロフェニルスルフィッド、ポリフェニルサルフォン、ポリイミド、フッ素樹脂などの各種のエンジニアリング樹脂を用いることができる。さらに、光導波路６と基板１とを同系材料にすれば相互の密着性も高くなる。
【００３７】
基板１が高分子の基板である場合には、エンボス加工法によって凹部１１を形成することができるため、凹部１１の形成が容易となる。つまり、エンボス加工法は、基板１に熱および／または圧力を加えて凹部を形成する方法であるので、凹部１１を簡便に形成することができる。したがって、エンボス加工法を用いて凹部１１を形成すれば、高精度の組み立てが必要とされる高性能の光波回路モジュールを容易に製造することができる。
【００３８】
なお、凹部１１をエンボス加工で形成せずに、勿論、化学的なエッチングによっても形成することができる。基板１として半導体単結晶基板を用いる場合には、面方位選択性のないエッチング液や粘調なエッチング液やアルコールなどの有機溶剤を少し含むエッチング液などによって、容易に凹部１１を形成することができる。さらに、化学的なエッチングだけでなく、物理的なエッチングを利用することも可能である。
【００３９】
図２は、本実施形態の光波回路モジュールの改変例を示しており、この例では、複数の凹部１１及び受光素子１０が設けられている。
【００４０】
図２に示すように、１つの基板１上に３つの凹部１１を形成し、それぞれの凹部１１の上に受光素子１０を設ける。光導波路６は、３つに分岐されている（６ａ、６ｂ、６ｃ）。より具体的には、１つの光導波路６は、分岐点から、受光素子１０側において、３つの部分（分岐部６ａ、６ｂ、６ｃ）に分岐し、各部分（６ａ、６ｂ、６ｃ）に対して凹部１１および受光素子１０が設けられている。各部分（６ａ、６ｂ、６ｃ）の一部または全部を、所定の波長を透過または反射する媒体から構成して、フィルターとして機能させることもできる。また、各部分（６ａ、６ｂ、６ｃ）の一部にフィルタ層を挿入したり、グレーティングを形成してフィルタリング機能を持たせることも可能である。所定の波長を透過または反射する媒体としては、例えば、色素添加ポリマーが挙げられる。また、グレーティングやフィルタ層としては、ファイバグレーティングや、誘電体多層膜を挙げることができる。
【００４１】
図２に示した構成において、各部分（６ａ、６ｂ、６ｃ）にフィルタリング機能を追加すると、多数の波長から所望の波長を分離する分波器として動作させることが可能となる。例えば、光導波路６を導波する多波長の信号光（例えば、３つの信号光）を、各部分（６ａ、６ｂ、６ｃ）へと分岐し、各部分でフィルタリングされた波長を各波長に対応した受光素子１０で受光すれば、各信号光を受光できる集積回路が実現できる。これは、本実施形態だけでなく、以下の第２および第３の実施形態についても同様に適用できる技術である。なお、一本の光導波路（例えば、６、６ａ、６ｂ、６ｃ）に複数の凹部１１と、それに対応する受光素子１０とを設けるようにしてもよい。
【００４２】
図３は、本実施形態の光波回路モジュールの更なる改変例を示している。この例では、凹部１１の底部に貫通孔が設けられている。
【００４３】
図３に示すように、凹部１１の底部から、基板１の裏面（基板１の主面に対向する面）にかけて基板１に貫通孔（スルーホール）１３が設けられている。基板１の主面には第１の光導波路６１が設けられ、基板１の裏面には第２の光導波路６２が設けられている。凹部１１の上には、複数の信号光を一の受光面で受光できる受光素子１０ａが設けられている。スルーホール１３中には、光を導波させる透光性の媒体（６３）が充填されており、そのような媒体（６３）としては、典型的には、第１または第２の光導波路６１、６２と同様の材料を用いればよい。また、スルーホール１３内に、コアとクラッドとからなる光導波路を形成してもよい。
【００４４】
スルーホール１３は、基板１を加工することにより形成することができ、例えば、レーザーを用いて貫通孔を形成すればよい。また、機械的に加工して貫通孔を形成してもよい。スルーホール１３の直径は、例えば、１０〜２００μｍである。スルーホール１３内に積極的に光を導波させる場合には、第２の光導波路６２との分岐箇所に、第２の光導波路６２中の光をスルーホール１３へと導入させるための光学素子（例えば、マイクロプリズム、マイクロミラー）を設ければよい。第２の光導波路６２中の信号光を単にモニターするレベルの処理で良ければ、そのような光学素子を設けなくても、スルーホール１３の方へ漏れてきた光を利用することも可能である。
【００４５】
図３に示した構成によれば、第１の光導波路６１を導波する信号光のみならず、第２の光導波路６２を導波する光も、貫通孔１３中の媒体３６を介して、受光素子１０ａで受光することができる。これにより、基板１の主面だけでなく、基板１の裏面にも、光導波路を設けることが可能となるので、高密度の実装が可能となる。つまり、光導波路の多層配線を実現することができる。図３に示した構成では、２層構造を示しているが、３層またはそれ以上の多層配線構造の光波回路モジュールを構築してもよい。また、貫通孔１３中の一部または全部に、所定の波長を透過または反射する媒体を設ければ、フィルター機能をさらに追加することもできる。
【００４６】
（第２の実施形態）
図４（ａ）〜（ｃ）は、本発明による第２の実施形態にかかる光波回路モジュールの構成を模式的に示している。図４（ａ）は、本実施形態の光波回路モジュールの平面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）におけるＢ−Ｂ線に沿って切った断面図であり、そして、図４（ｃ）は、図４（ａ）におけるＣ−Ｃ線に沿って切った断面図である。
【００４７】
図４（ａ）〜（ｃ）に示すように、第２の実施形態における光波回路モジュールが第１の実施形態のそれと異なる点は、溝２が基板１の一端から凹部１１まで形成され、光導波路６がその溝２上に設けられ、凹部１１の上には光導波路６が設けられていない点である。光導波路６は、光導波路６の凹部１１側の端面６ａが凹部１１の近傍にあるように設けられている。なお、上記第１の実施形態と同じ符号のものは、第１の実施形態のものと実質的に同じ作用をするので、その説明は、省略する。
【００４８】
本実施形態の構成によれば、端面６ａから出射した光は、凹部１１に設けられた光反射膜１２で反射して、反射した光は、凹部形状によって設定された焦点に集光する。したがって、光導波路６を導波する信号光が端面６ａで出射することとなるため、効率良く信号光を利用することができる。
【００４９】
（第３の実施形態）
図５（ａ）〜（ｃ）は、本発明による第３の実施形態にかかる光波回路モジュールの構成を模式的に示している。図５（ａ）は、本実施形態の光波回路モジュールの平面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）におけるＢ−Ｂ線に沿って切った断面図であり、そして、図５（ｃ）は、図５（ａ）におけるＣ−Ｃ線に沿って切った断面図である。
【００５０】
図５（ａ）〜（ｃ）に示すように、第３の実施形態における光波回路モジュールが第２の実施形態のそれと異なる点は、基板１に形成された溝２に、基板１の表面に対して所定の角度で傾斜した傾斜部１４が設けられている点である。さらに説明すると、溝２にある角度を設けることにより、スポット１１の外周の少なくとも一部に連結する傾斜路１４が形成されている。そして、傾斜路１４は、光導波路６から出射した光の大部分が光反射膜１２のある凹部１１で反射するように形成されている。
【００５１】
傾斜路１４は、ストリップ状の溝２の一部であり、溝２と同じ幅を有している。また、傾斜路１４は、凹部１１の底方向に向かって傾斜し、基板１の主面に対して角度（傾斜角度）を有している。傾斜角度は、他の条件に合わせて好適なものを適宜決定すればよいが、例えば、２０〜６０度である。なお、第１の実施形態と同じ符号のものは、第１の実施形態、または第２の実施形態のものと同じ作用をするので、その説明は省略する。なお、符号１５は、傾斜路接点部を表している。
【００５２】
本実施形態では、光反射膜１２の底方向に向かって傾斜している傾斜路１４が設けられているので、光導波路６の端面６ａから出射した光の大部分を光反射膜１２によって反射させることができ、そして、反射した光は、凹部形状によって設定された焦点に集光させることができる。したがって、本実施形態の光波回路モジュールによれば、第２の実施形態のそれと比べ、光導波路６の端面６ａから出射する信号光をより多くの光反射膜１２で反射できるので、損失なく、効率良く光導波路６を導波した光を利用することができる。また、出射する信号光を、受光素子１０側へ（上方へ）効率良く反射させようした場合、第２の実施形態の場合、溝２を比較的深く形成する方が好ましいが、本実施形態の場合には、傾斜路１４が設けられているので、溝２をそれほど深く形成しなくても、光導波路６端面６ａから出射する信号光を、受光素子１０側へ（上方へ）効率良く反射させることができる。
【００５３】
（第４の実施形態）
図６（ａ）〜（ｃ）は、本発明による第４の実施形態にかかる光波回路モジュールの構成を模式的に示している。図６（ａ）は、本実施形態の光波回路モジュールの平面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）におけるＢ−Ｂ線に沿って切った断面図であり、そして、図６（ｃ）は、図６（ａ）におけるＣ−Ｃ線に沿って切った断面図である。
【００５４】
図６（ａ）〜（ｃ）に示すように、本実施形態の光波回路モジュールには、基板１に形成された溝２に設けられた光導波路６を導波した光を反射する凹状の凹状段差部１６が設けられている。そして、この凹状段差部１６上に沿って、光反射膜１２が設けられており、光反射膜１２は、クロム、ニッケル、銀などの金属蒸着膜からなる。本実施形態では、凹状段差部１６は、図６（ａ）および（ｂ）に示すように、略球面形状の一部分（例えば、４分の一の部分）の面を有する構造であるが、円柱の側面のような円弧状面を有する構造のものでもよい。
【００５５】
溝２の底面は、光反射膜１２の底面付近に位置しており、本実施形態では、溝２の表面と凹状段差部１６の表面は、連続している。言い換えると、両者の表面の接合部分は、実質的に面一となっている。光導波路６は、溝２及び凹状段差部１６の形状に沿って形成されている。基板１は、凹状段差部１６によって、凹状段差部１６に対して上側に位置する段差上面部と、下側に位置する段差下面部とに分けられている。溝２は、その段差下面部に形成されている。
【００５６】
また、図６（ｃ）に示すように、溝２の断面は、矩形状である。高分子材料で形成された光導波路６のコア層４は、図６（ｂ）に示すように、溝２上に位置する下側のクラッド層５と凹状段差部１６上に形成された光反射膜１２との上に、連続して形成されている。さらに、コア層４上及びコア層４の周囲には、溝２を埋め込むように上側のクラッド層５が形成されている。言い換えると、コア層４は、下側クラッド５および光反射膜１２の上に形成されており、コア層４を覆うように、下層クラッド層５（および光反射膜１２）上には、上層クラッド層５が形成されている。
【００５７】
本実施形態の具体的な構成を例示的に説明すると、コア層４の厚さは、５〜２０μｍであり、下層クラッド層および上層クラッド層５の厚さは、それぞれ、１０〜５０μｍ、１０〜１００μｍである。また、凹状段差部１６部における段差上面部と段差下面部との間の高さは、１６〜１７０μｍであり、光反射膜１２の厚さは、０．０５〜５μｍである。溝の幅および深さは、共に、１６〜１７０μｍである。
【００５８】
本実施形態の構成によれば、光導波路６を導波した信号光は、凹状段差部１６において光反射膜１２で反射され、反射した光は、凹部形状によって設定された焦点に集光することができる。また、基板１上に機能素子として受光素子１０を設けることにより、光の損失を限りなく少なくしたＰＬＣモジュールを作ることができる。加えて、本実施形態の構成では、光導波路６の端面を高精度な端面カットをすることなく形成することができる。
【００５９】
次に、図７（ａ）〜（ｆ）を参照しながら、本実施形態の光波回路モジュールの製造方法を説明する。図７（ａ）〜（ｆ）は、本実施形態の製造方法を説明するための工程断面図である。
【００６０】
まず、図７（ａ）に示すように、基板１を用意した後、図７（ｂ）に示すように、基板１上にクラッド層５を形成する。クラッド層５の形成は、例えば、クラッド材料をスピンコートにより塗布した後、焼結した均一な膜を、レジスト膜で保護した部分を残すようにエッチングで取り除くことによって実行できる。
【００６１】
次に、図７（ｃ）に示すように、クラッド層５に、コア層４を形成するための開口部（または溝）５ａを形成する。この開口部５ａの形成は、例えば、クラッド部をレジスト膜５ｂで保護し、次いで、エッチングすればよい。
【００６２】
次に、図７（ｄ）に示すように、クラッド層５の開口部５ａ内に、コア層４を形成する。より詳細には、コア層４がクラッド層５の中心部分に位置するように、言い換えると、コア層４が開口部５ａの底辺および側面下部を覆うように、コア層４を形成する。コア層４、例えば、コア材料をスピンコートで塗布し、次いで、焼結することによって形成することができる。。
【００６３】
次に、図７（ｅ）に示すように、コア層４の上面を覆うように、開口部５ａ内にクラッド層（上層クラッド層）５’を積層する。上層クラッド層５’の積層工程は、コア層と同様に、クラッド材料をコートした後、硬化させればよい。その後、レジスト膜５ｂを除去すると、不要なクラッド層およびコア層が取り除かれることになる。このようにして、コア層４およびクラッド層５からなる光導波路６が作製される。
【００６４】
最後に、基板１と同一材料または類似の材料１’を、光導波路６を覆うように基板１の上に堆積して、上側基板１を形成する。上側基板１は、例えば、高分子材料を塗布して焼結することにより形成することができる。
【００６５】
この後、図６（ａ）〜（ｃ）に示した構成にするには、クラッド層５の上面が露出するまで、上側基板１を研磨またはエッチングして、次いで、受光素子１０を所定位置に配置すればよい。図７（ａ）に示した基板１として、例えば、凹状段差部１６および光反射膜１２が予め形成された基板を用いることができる。また、凹状段差部１６が形成された基板１を用意し、コア層４を形成する工程（図７（ｄ）参照）までに、凹状段差部１６の傾斜面に沿って光反射膜１２を形成してもよい。あるいは、図７（ａ）に示した基板１に代えて、溝２が予め形成された基板を用意し、その溝２内に、クラッド層５およびコア層４を含む光導波路６を形成する手法を採用してもよい。この手法の場合にも、コア層を形成する工程までに、凹状段差部１６の傾斜面に沿って光反射膜１２を形成すればよい。なお、上記実施形態１から３における光導波路６も、これらの手法を実質的に利用して作製することが可能である。
【００６６】
【発明の効果】
本発明によれば、略円形凹形のスポットを備えているので、光導波路を導波してきた光を、そのスポットの凹形により反射させて、集光させることができる。したがって、光導波路を通ったレーザ光（信号光）を効率良く受光素子に入射させることができる光波回路モジュールを提供することができる。本発明の光波回路モジュールに受光素子を搭載して受光デバイスとして用いた場合、光を効率よく受光できるので、微量の信号光であっても受光することができるＰＬＣモジュールを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）から（ｃ）は、それぞれ、本発明による第１の実施形態にかかる光波回路モジュールを示す平面図、Ｂ−Ｂ線の断面図、Ｃ−Ｃ線の断面図である。
【図２】複数の凹部及び受光素子が設けられた第１の実施形態にかかる光波回路モジュールの改変例を示す平面図である。
【図３】凹部の底部に貫通孔が設けられた第１の実施形態にかかる光波回路モジュールの改変例を示す断面図である。
【図４】（ａ）から（ｃ）は、それぞれ、本発明による第２の実施形態にかかる光波回路モジュールを示す平面図、Ｂ−Ｂ線の断面図、Ｃ−Ｃ線の断面図である。
【図５】（ａ）から（ｃ）は、それぞれ、本発明による第３の実施形態にかかる光波回路モジュールを示す平面図、Ｂ−Ｂ線の断面図、Ｃ−Ｃ線の断面図である。
【図６】（ａ）から（ｃ）は、それぞれ、本発明による第４の実施形態にかかる光波回路モジュールを示す平面図、Ｂ−Ｂ線の断面図、Ｃ−Ｃ線の断面図である。
【図７】（ａ）から（ｆ）は、第４の実施形態にかかる光波回路モジュールの製造方法を説明するための工程断面図である。
【図８】従来の光波回路モジュールを示す断面図である。
【符号の説明】
１  基板
２  溝
３  凹部
４  コア層
５  クラッド層
６  光導波路
６ａ  端面
７  半導体レーザ
８  傾斜鏡面
９  反射膜
１０  受光素子
１１  凹部
１２  光反射膜
１３  貫通孔
１４  傾斜路
１５  傾斜路接続部
１６  凹状段差部
６１  第１の光導波路
６２  第２の光導波路
【図１】
0003803575.tif 000002
【図２】
0003803575.tif 000003
【図３】
0003803575.tif 000004
【図４】
0003803575.tif 000005
【図５】
0003803575.tif 000006
【図６】
0003803575.tif 000007
【図７】
0003803575.tif 000008
【図８】
0003803575.tif 000009