(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光導波路を作成するためのスート沈積装置に長手方向の軸線を有するケーン・アセンブリ（１０、１００、８０）を保持する装置であって、
（ａ）前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線のまわりで回転可能であり、前記ケーン・アセンブリの第１の端部を保持する第１の保持手段（４０、１０２、８３）と、
（ｂ）前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線のまわりで回転可能でありかつ前記中手方向軸線の方向に固定されており、前記ケーン・アセンブリの第２の端部を保持する第２の保持手段（３０、１０１、８２）と、
（ｃ）前記第１の保持手段に関連していて前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線に沿って第１の引張り力を発生する第１の手段（５０；１１１；８１、８４−８８）を具備したケーン・アセンブリを保持する装置。
【請求項２】
前記第２の保持手段に関連していて前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線に沿って第２の引張り力を発生する第２の手段をさらに具備した請求項１の装置。
【請求項３】
前記第１の手段が、
（ｉ）前記第１の保持手段（８３）に付着されたウエイト（８１）と、
（ｉｉ）前記ケーン・アセンブリと前記ウエイトに付着されていて前記ケーン・アセンブリが前記ウエイトとは実質的に独立に前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線のまわりで回転する軸受けと、
（ｉｉｉ）前記ウエイトが回転するのを阻止して前記ウエイトが前記ケーン・アセンブリに捩り応力を実質的に与えないようにする手段よりなる請求項１または２の装置。
【請求項４】
前記第１の引張り力を発生する前記第１の手段が、第１のスピンドル（５１、１１０）によって前記第１の保持手段に連結された第１の軸受手段を具備しており、前記第１の軸受手段は前記第１のスピンドルが挿通された第１および第２の空気軸受（５４、５５；１１２、１１３）よりなり、前記第１および第２の空気軸受は、周囲圧力より高い第１の圧力に加圧され得る第１の空洞（５８；１１５）によって分離されており、
前記第１のスピンドルは第１の直径を有する第１の部分（５２）と、前記第１の部分とは異なる第２の直径を有する第２の部分（５３）を有しており、前記第１の直径から前記第２の直径への遷移が前記第１の空洞内に位置決めされており、
前記第１のスピンドルおよび前記第１の空洞内の第１の圧力が前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線に沿って前記ケーン・アセンブリに加えられる第１の力を発生するようになされた請求項１または２の装置。
【請求項５】
光導波路を作成するためのスート沈積装置に長手方向の軸線を有するケーン・アセンブリを保持する装置であって、
（ａ）前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線のまわりで回転可能であり、前記ケーン・アセンブリの第１の端部を保持する第１の保持手段と、
（ｂ）前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線のまわりで回転可能でありかつ前記長手方向の軸線の方向に固定されており、前記ケーン・アセンブリの第２の端部を保持する第２の保持手段と、
（ｃ）前記第１の保持手段に関連していて前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線に沿って第１の引張り力を発生する第１の手段と
（ｄ）前記第２の保持手段に関連していて前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線に沿って第２の引張り力を発生する第２の手段を具備し、
前記第１の引張り力と前記第２の引張り力は互いに逆方向でありかつ互いに等しい又は異なる大きさを有しており、
前記第１の引張り力を発生する前記第１の手段が、第１のスピンドル（５１、１１０）によって前記第１の保持手段に連結された第１の軸受手段を具備しており、前記第１の軸受手段は前記第１のスピンドルが挿通された第１および第２の空気軸受よりなり、前記第１および第２の空気軸受は、周囲圧力より高い第１の圧力に加圧され得る第１の空洞によって分離されており、
前記第１のスピンドルは第１の直径を有する第１の部分（５２）と、前記第１の部分とは異なる第２の直径を有する第２の部分（５３）を有しており、前記第１の直径から前記第２の直径への遷移が前記第１の空洞内に位置決めされており、
前記第１のスピンドルおよび前記第１の空洞内の第１の圧力が前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線に沿って前記ケーン・アセンブリに加えられる第１の力を発生するようになされており、
前記第２の保持手段に関連していて前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線に沿って第２の引張り力を発生する第２の手段が前記第２のスピンドルによって前記第２の保持手段に連結された第２の軸受手段（１０４）を具備しており、前記第２の軸受手段は前記第２のスピンドルが挿通された第３および第４の空気軸受（１０５、１０６）よりなり、前記第３および第４の空気軸受は周囲圧力より高い第２の圧力に加圧され得る第２の空洞（１０８）によって分離されており、
前記第２のスピンドルは第１の直径を有する第１の部分と、前記第１の部分とは異なる第２の直径を有する第２の部分を有しており、前記第１の直径から前記第２の直径への遷移が前記第２の空洞内に位置決めされており、かつ前記第２のスピンドルおよび前記第２の空洞内の第２の圧力は前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線に沿って前記ケーン・アセンブリに加えられる第２の力を発生し、前記第２の力は前記第１のスピンドルから離れる方向に向けられ、
前記第１のスピンドルに関する前記第１の直径と前記第２のスピンドルに関する前記第１の直径は互いに等しいまたは異なる値であり、
前記第１のスピンドルに関する前記第２の直径と前記第２のスピンドルに関する前記第２の直径は互いに等しいまたは異なる値である
ように構成されていることを特徴とするケーン・アセンブリを保持する装置。
【請求項６】
前記ケーン・アセンブリが垂直配向または水平配向で保持される請求項４または５の装置。
【請求項７】
前記第１および第２の保持手段は前記ケーン・アセンブリを堅固に保持して、前記ケーン・アセンブリの長手方向の軸線に対して直交する方向における前記ケーン・アセンブリの移動が拘束されるようになされており、前記第１および第２の保持手段は整列されて前記ケーン・アセンブリの前記第１および第２の端部の長手方向の軸線が互いに実質的に整列されるようになされている請求項４、５または６の装置。
【請求項８】
長手方向の軸線を有する回転するケーン・アセンブリ上にスートを沈積させる方法であって、
（ａ）前記回転するケーン・アセンブリ上にスートが沈積されている間に前記回転するケーン・アセンブリの長手方向の軸線に沿って引張り力を加え、そして
（ｂ）前記回転するケーン・アセンブリに加えられる前記引張り力を制御することによって前記ケーン・アセンブリ上に沈積されるスートの半径方向の均一性を制御することよりなる回転するケーン・アセンブリ上にスートを沈積させる方法。
【請求項９】
前記引張り力を加える工程は、前記回転するケーン・アセンブリ上にスートが沈積されている間に前記引張り力を変化させる工程をさらに含む請求項８の方法。
【請求項１０】
前記回転するケーン・アセンブリ上にスートを沈積させる前に前記回転するケーン・アセンブリをアニールする工程をさらに含む請求項８または９の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は延伸して改良されたコア／クラッド同心度を有するファイバとなされ得る光ファイバ・プリフォ−ムを製造する装置に関する。
【０００２】
【従来技術】
光ファイバの製造においては、通常外付け法（ＯＶＤ）、軸付け法（ＶＡＤ）またまは修正された化学蒸気沈積法（ＭＣＶＤ）のいずれかを用いて作成される。外付け法および軸付け法のプリフォームは中実のガラス母材を形成するために脱水されそしてコンソリデート（ｃｏｎｓｏｌｉｄａｔｅ）され、他方、ＭＣＶＤプリフォームは中実のガラス母材を形成するためにコラプス（ｃｏｌｌａｐｓｅ）される。あるいは、それらのガラス母材が延伸されコア・ケーンとなされ、それがＯＶＤまたはロッド・イン・チューブ法を用いてオーバークラッドされてオーバークラッド・プリフォームを形成することができる。そのオーバークラッド・プリフォームは続いて脱水されそしてコンソリデートされてオーバークラッド・ガラス母材を形成し、この母材が延伸されてファイバとなされる。
【０００３】
延伸されたファイバにおける関心のある１つのパラメ−タはコア／クラッド同心度（以下同心度と呼ぶ）である。同心度はファイバのコアがいかに良くファイバの全体中心に対して中心に位置付けられているかの目安である。
【０００４】
オ−バ−クラッド・プリフォ−ムの場合には、同心度はオ−バ−クラッド・ス−ト沈積工程時に決定される。例えば、ケ−ン・アセンブリでは、上方のケ−ン・ハンドルと下方のケ−ン・ハンドルにロッドが付着されうる。ケ−ン・アセンブリが完全に真っ直ぐに作成されていない場合には、ス−ト沈積処理時に回転される場合に同様して、ス−ト流に対するケ−ン・アセンブリの相対移動によりケ−ンのまわりにス−トの不均一な沈積を生ずることになるであろう。たとえケ−ン・アセンブリが完全に真っ直ぐなされたとしても、、特に光ファイバ・アセンブリの強度と直径の両方が近年増大しているので、ス−ト沈積処理時にケ−ン・アセンブリを加熱することによって生ずるケ−ン・アセンブリにおける応力の変化に基因してウォッブル（wobble）が発生しやすい。ス−ト沈積処理時にケ−ン・アセンブリを加熱することによってケ−ン内の応力パタ−ンが変化しそしてそれによってもウォッブルを発生することになるので、ケ−ン・アセンブリを保持しているチャックを調節する必要があるが、これが厄介かつ時間のかかる作業であり、しかもその作業が繰返し行われなければならない。
【０００５】
【本発明が解決しようとする課題】
本発明の１つの目的はオ−バ−クラッド・ス−ト沈積時にウォッブルを軽減することによって光ファイバのコア／クラッド同心度を改善することである。本発明の他の目的はオ−バ−クラッド・ス−ト沈積のために用いられる装置の利用を改善することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の１つの態様によれば、ケーン・アセンブリ上にスートを沈積させるための装置にそのケーン・アセンブリを装填するために要する時間を実質的に短縮しかつケーン・アセンブリの端部に対する精密でかつ堅固な把持を与えるケーン・アセンブリ把持装置が提供される。なお、本明細書で用いられる「ケーン・アセンブリ」という用語は、光ファイバ用プリフォームを作成するためにスートを沈積させるためのベイトまたはケーンと呼ばれる出発材の端部に固定具を装着した構造のものを意味する。
【０００７】
本発明の他の態様によれば、装填されたケーン・アセンブリにテンションを与えるケーン・アセンブリ・チャック装置が提供され、この場合、そのテンションがスート沈積処理時に生ずる加熱によって発生する応力の変化によって誘起されるウオッブルを軽減する作用をする。
【０００８】
【実施例】
図３は本発明の１つの上方ケーン把持アセンブリ３０を示している。図３の上方ケーン把持アセンブリ３０は図２の上方チャック１１と同様に位置決めされる。上方ケーン・ハンドル３１（図１の上方ケーン・ハンドル３と同様のものである）はカップ３２によって垂直に支持されている。カップ３２は上方ケーン・ハンドル３１の軸線と直交関係にある平面内を移動することができるようになされている。シェル・クランプ３３は上方ケーン・ハンドルの軸線に対して直交関係にある平面内に上方ケーン・ハンドル３１を位置決めする。ノブ３４はシェル・クランプ３３を開閉するために用いられる。上方ケーン・ハンドル３１の直径はシェル・クランプ３３の内径に合致しており、上方ケーン・ハンドル３１が精密にかつ堅固に保持されるようになされている。図３の上方スピンドル１３と同様に位置決めされる。
【０００９】
下方ケーン把持アセンブリ４０は図４に示されておりかつ図２における下方チャック１２と同様にスート沈積装置上に配置される。下方ケーン・ハンドル４１は下方ケーン把持アセンブリ４０に挿入される。シェル・クランプ４２は下方ケーン・ハンドル４１の軸線に対して直交関係にある平面内に下方ケーン・ハンドル４１を堅固に位置決めする。ノブ４３はシェル・クランプ４２を開閉するために用いられる。下方ケーン・ハンドル４１の直径はシェル・クランプ４２の内径に合致しており、下方ケーン・ハンドル４１が精密にかつ堅固に保持されるようになされている。下方スピンドル４４は図２の下方スピンドル１６と同様に位置決めされる。上方および下方ケーン・ハンドルを形成するために心なし研削法を用いることによって、精密な直径を有しかつ断面が非常に丸い、すなわち長手方向の軸線に関してほとんど偏心度を有しないハンドルが設けられる。このことはケーン・ハンドルと把持アセンブリの内径との間に非常に厳密な裕度を見込んでおり、ハンドルが把持アセンブリによって精密にかつ堅固に把持されるようになされている。
【００１０】
上方および下方ケ−ン把持アセンブリを図３および４に示されているように保持することによって、ケ−ン・アセンブリが両端部において実質的に垂直となる。上方および下方ケ−ン把持アセンブリが互いに対して適切に心合されている場合には、そこに保持されたケ−ン・アセンブリのウォッブルが、４倍まで実質的に軽減される。
【００１１】
図２に示された空気軸受１７、１８、１９および２０はケーン・アセンブリの軸線の方向に本質的に摩擦なしであるから、ケーン・アセンブリは下方ケーン把持アセンブリの重量によって緊張状態に置かれる。ケーン・アセンブリに対する付加的な引張り力は、スート沈積時にケーン・アセンブリに生ずる応力で発生するウオッブルを軽減するために好ましい。しかし、装置の信頼性のために、下方チャックに重量を付加することなしにケーン・アセンブリに対する引張り力を増大させることが好ましい。この付加される重量は上方スピンドル１３より上の駆動部品に対する応力を増大させ、それらの部品の故障の可能性を増大させることになる。また、その付加される重量は駆動部品、把持アセンブリ、ケーン・アセンブリおよびその上に沈積されるオーバークラッド・スートの全体の重量が計量装置１５の容量を超過することになるおそれがある。もちろん、この最後の限界は計量装置１５をそれより容量の大きい装置と交換することによって克服することが可能であるが、容量の大きい装置は重量測定の精度を低下させることになるであろうから、そのようにすることは好ましくない。
【００１２】
駆動部品に対する応力を増大させることなしにケ−ン・アセンブリに付加的な引張り力を与えるために、図５に示された空気軸受アセンブリが設けられる。図５に示されているように、空気軸受アセンブリ５０はケ−ン・アセンブリの下端部で使用するためのものである。図２の下方スピンドル１６と同様に位置決めされる下方スピンドル５１は段付き直径のシャフトである。スピンドル５１の上方部分５２は下方部分５３より小さい直径を有している。上方の空気軸受５４は上方部分５２に対する寸法となされており、そして下方の空気軸受５５は下方部分５３に対する寸法となされている。軸受ブロック５６は空気供給ポ−ト５７ａおよび５７ｂを具備しており、それらの空気供給口は空気軸受の動作のために十分な圧力で空気供給源（図示せず）に連結されている。軸受ブロック５６には上方空気軸受５４と下方空気軸受５５との間に空洞５８が位置決めされている。圧力レギュレ−タ５９が空洞５８に連結されている。
【００１３】
空気軸受アセンブリ５０の動作は下記の通りである。空気軸受を通って流れる空気はスピンドルに沿って軸線方向に送られる。この空気の一部分がそのスピンドルに沿って上方に送られ、そしてその空気の残部はシャフトに沿って下方に送られる。図５に示されているように、上方空気軸受５４を通じて下方に送られる空気と、下方空気軸受を通じて上方に送られる空気が空洞５８に流入する。空洞５８は圧力レギュレ−タ５９の出口側に連結されている。圧力レギュレ−タ５９の取入れ口６０は、ポ−ト５７ａおよび５７ｂを通じて軸受ブロック５６に入るのと同じ空気供給源に連結されている。
【００１４】
空洞５８内の圧力は圧力レギュレ−タ５９を調節することによって制御され得る。レギュレ−タ５９を通じて空洞５８内に空気が入らないことが好ましい。と言うより、圧力レギュレ−タ５９は空気軸受を通じて空洞に入る空気を流出させることによって空洞５８内の圧力を制御する。
【００１５】
空洞５８を加圧することによって、空気ピストンが形成され、この場合、空気軸受が本質的に摩擦の無いシ−ルとして機能する。スピンドルの上方および下方部分の断面積の差によって、下方部分に下向きの力が加えられることになる。この下向きの力は下方スピンドルに装着されたケ−ン・アセンブリに加えられるであろう。その下向きの力の大きさは断面積の差を変更することによってまたは空洞５８内の圧力を変化させることによって調節することができる。
【００１６】
空気軸受アセンブリ５０を反転することによって、その空気軸受アセンブリはス−ト沈積装置の上方端部で使用できる。ケ−ン・アセンブリの頂部と底部の両方に空気軸受アセンブリを配置することによって、ス−ト沈積装置の頂部における駆動部品に対する応力を増大させることなしに、ケ−ン・アセンブリに対するテンションを増大させることができる。
【００１７】
図６は図５に示されかつ上述したものと同様の上方および下方軸受アセンブリを有するス−ト沈積装置を示している。ケ−ン・アセンブリ１００が上方チャック１０１および下方チャック１０２によって保持される。上方チャック１０１は段付き直径シャフトである上方スピンドル１０３に装着される。上方スピンドル１０３は、上方軸受アセンブリ１０４によって、それの軸線に対して直交する方向には移動しないように拘束される。上方軸受アセンブリ１０４は空気軸受１０５および１０６、空気供給ポ−ト１０７ａおよび１０７ｂ、空洞１０８および圧力レギュレ−タ・ポ−ト１０９を具備している。上方スピンドル１０３は、図示されてはいないが図２に示されたものと同様の回転および計量装置に装着される。上方スピンドル１０３および上方軸受アセンブリ１０４の設計によって上向きの力がケ−ン・アセンブリに発生される。
【００１８】
下方チャック１０２は下方スピンドル１１０に装着される。下方スピンドル １１０は、下方軸受アセンブリ１１１によって、それの軸線に対して垂直方向に移動しないように拘束される。下方軸受アセンブリ１１１は空気軸受１１２および１１３、空気供給ポ−ト１１４ａおよび１１４ｂ、空洞１１５および圧力レギュレ−タ・ポ−ト１１６を具備している。下方スピンドル１１０および下方軸受アセンブリ１１１の設計によって、下向きの力がケ−ン・アセンブリ１００に発生される。
【００１９】
圧力レギュレ−タ・ポ−ト１０９および１１６がテンション制御圧力ライン１１８によって１つの圧力レギュレ−タ１１７に連結されて図６に示されている。これは空洞１０８および１１５に同じ圧力が存在するようにする。圧力が空洞１０８および１５５内で等しくかつスピンドル１０３および１１０の上方および下方部分の断面積の差が等しい場合には、ケ−ン・アセンブリに対する本発明によって生ずる上向きおよび下向きの力が等しくなるであろう。したがって、上方スピンドルより上の駆動部品に付加的な応力を加えることなしに、ケ−ン・アセンブリがテンション状態に置かれるであろう。空洞のそれぞれに対して独別の圧力レギュレ−タを配置して、空洞内に異なる圧力を加えることができるようにすることが可能であるが、これは上方スピンドルより上の駆動部品に付加的な応力を誘起することになるであろう。また、図６に示されているように、単一の圧力レギュレ−タを使用すると、装置の加熱によって生ずる圧力変化から生じ得るス−ト沈積処理時における誤った重量の読みを回避することができる。
【００２０】
ケーン・アセンブリが保持されるテンションはそのケーン・アセンブリを上方および下方把持アセンブリによって確立された中心線に向って移動させるように作用する。この作用は、スート沈積処理時における加熱の結果としてケーン・アセンブリにおける応力がたとえ変化しても生ずる。したがって、ケーン・アセンブリにおける応力の変化によって生ずるウオッブルが実質的に軽減されるであろう。この設計によれば、ローディング（ｌｏａｄｉｎｇ）およびアンローディング（ｕｎｌｏａｄｉｎｇ）作業時に空洞に圧力が存在しないように圧力レギュレータを設定することによってケーン・アセンブリのローディングおよびスート・プリフォームのアンローディングを容易に行うことができる。
【００２１】
ケ−ン・アセンブリに加えられるテンションはス−ト沈積処理時に変化されうる。この変化は圧力レギュレ−タの手動調節によってまたは空洞内の圧力の自動測定、調節および制御のための部品を設けることによって行なわれうる。ケ−ン・アセンブリ把持機構によって生ずるプリフォ−ムの破壊のおそれを軽減するようにケ−ン・アセンブリに加えられるテンションを調節することが望ましいであろう。このような破壊の一例はケ−ン・アセンブリ上での下方チャックの滑りであり、これは下端部が下方チャックから自由になった場合にプリフォ−ムに対する物理的損傷によるプリフォ−ム全体の損失を生ずることになる。
【００２２】
本発明の方法の一例について図６に示されたものを参照して説明しよう。この実施例は空気圧システムを用いてケ−ン・アセンブリ１００に引張り力を印加する。レギュレ−タ１１７は空洞１０８および１１５内に通常の大気圧が存在するように調節される。これは上方チャック１０１または下方チャック１０２の何れにも力を発生せず、かつ装置に対するケ−ン・アセンブリのロ−ディングを容易にする。ケ−ン・アセンブリ１００が上方チャック内１０１に配置されそしてそこに保持される。その後でケ−ン・アセンブリ１００は下方チャック１０２内に配置され、そこに保持される。好ましい実施例では、上方チャック１０１および下方チャック１０２は図３および４に示されたシェル・クランプ・チャックである。
【００２３】
ケ−ン・アセンブリ１００をチャックに配置した後で、空洞１０８および１１５に約40psi（約2.76×105Pa）の圧力を与えるようにレギュレ−タ１１７が調節される。その後でケ−ン・アセンブリが約100rpmで回転される。光ファイバがそれから線引きされるプリフォ−ムを作成するために、米国特許第５０６７９７５号に開示されているのと同様のＯＶＤオ−バ−クラッド・ス−ト沈積法が用いられる。
【００２４】
ケ−ン・アセンブリ上にス−トを沈積させる前に任意のアニ−リング工程が用いられ得る。上記米国特許第５０６７９７５号に開示されているもののような少なくとも１つのス−ト沈積用バ−ナが、それにガスと酸素だけを流しSiCl4のようなス−ト前駆体蒸気をともなわないで、着火される。このバ−ナがその後でケ−ン・アセンブリ１００をアニ−ルするために、そのケ−ン・アセンブリの長さの少なくとも一部分に沿って振動される。このアニ−リング工程はケ−ン・アセンブリ上にス−トが沈積される前にこのケ−ン・アセンブリにおける応力を緩和させそしてこの方法を用いて作成された母材から線引きされるファイバのコア／クラッド同心度を改善する。
【００２５】
本発明の１つの実施例では、図６に示されたものと同様のス−ト沈積装置が用いられる。スピンドル・シャフトの小径は1インチ（2.54cm）であり、大径は1.5インチ（3.81cm）である。これによって0.982平方インチ（6.33cm2）の断面積の差を生じた。圧力レギュレ−タが空洞内に約40psi（2.76×105）の圧力を与えるようにセットされた。この断面積の差と空洞内の圧力との組合せにより、ケ−ン・アセンブリの各端部に約40ポンド（約178N）の力を生じた。この実施例では、６箇の沈積用バ−ナでもってアニ−ル処理が行なわれ、それら６箇のバ−ナのすべてに対する全体の流れは120slpmCH4および100slpmO2であり、それらのバ−ナはケ−ン・アセンブリの長さの約60％の中間部分に沿って振動された。これらのバ−ナは約２０分間、ケ−ン・アセンブリのその部分に沿って振動された。
【００２６】
上述した実施例で作成されたプリフォームから線引きされたファイバのコア／クラッド同心度が標準のテスト装置を用いて測定された。０．２２８μｍの平均コア／クラッド同心度と０．１１２μｍのシグマを有する約４０００ｋｍのファイバが作成された。上記の実施例より前に同じスート沈積装置で作成された約１５，０００ｋｍのファイバの場合には、平均コア／クラッド同心度は０．２５５μｍであり、０．１３μｍのシグマを有していた。したがって、この実施例では、本発明は平均コア／クラッド同心度において約１０．５％の改善が得られた。
【００２７】
本発明の装置および方法の他の実施例を図８を参照して説明する。この実施例では、ウエイト８１を用いてケ−ン・アセンブリ８０に引張り力が印加される。ケ−ン・アセンブリ８０は上方チャック・アセンブリ８２に配置され、そして好ましくは図３を参照して前述したクランプ手段によって、そこに保持される。ウエイト８１と下方チャック・アセンブリ８３が、例えばピストン８７の作用で取入れ口８８を通じて与えられる空気のような流体によって発生される力によってペデスタル８４から引上げられる。ケ−ン・アセンブリ８０が下方チャック・アセンブリ８３に配置され、そして好ましくは図４を参照して説明したクランプ手段によってそこに保持っされる。
【００２８】
ケ−ン・アセンブリ８０を上方チャック・アセンブリ８２および下方チャック・アセンブリ８３に固着した後で、ピストン８７の下方の圧力が釈放される。この圧力釈放はウエイト８１の重力によってケ−ン・アセンブリ８０に引張り力を印加させる。ス−ト沈積時に、上方チャック・アセンブリ８２に装着された駆動手段（図示せず）によってケ−ン・アセンブリ８０が回転される。下方チャック・アセンブリ８３はケ−ン・アセンブリ８０と一緒に回転する。下方チャック・アセンブリ８３の下端部は軸受８５に装着されており、この軸受はウエイト８１に付着されていて、下方チャック・アセンブリ８３がウエイト８１とは独立に回転する。ウエイト８１はそれとペデスタル８４の両方に挿入されたピン８６によって回転しないように拘束されている。軸受８５とピン８６の組合せがス−ト沈積時にケ−ン・アセンブリ８０に印加される捩り応力を最小限に抑える。
【００２９】
本発明をスート沈積時に垂直方向の配向状態に保持されたケーン・アセンブリについて説明したが、本発明はスート沈積時に水平方向の配向状態に保持されたケーン・アセンブリにも適用できる。本発明は上述した少なくとも１つの空気軸受アセンブリを用いて水平方向のケーン・アセンブリの軸線に沿って引張り力を印加する。また、本発明をオーバークラッド・プリフォームを作成することに関して説明したが、本発明はコア・ケーンがそれから延伸されうるコア・プリフォームの作成にも等しく適用することができる。コア・プリフォームを作成する場合には、コア・スート沈積処理の後で除去されることが好ましいベイト・ロッドがケーン・アセンブリの代りに用いられる。
【００３０】
【発明の効果】
本発明によれば、オ−バ−クラッド・ス−ト沈積時にウォッブルを軽減することによって光ファイバのコア／クラッド同心度を改善することができる。また、本発明によれば、オ−バ−クラッド・ス−ト沈積のために用いられる装置の利用を改善することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】光導波通路ス−ト・プリフォ−ムを形成するためのス−ト沈積処理において通常使用される上下のケ−ン・ハンドルに装着されたロッド２を有するケ−ン・アセンブリ１を示している。
【図２】ス−ト沈積処理で使用される典型的な装置の概略図である。
【図３】本発明の１つの態様による上方ケ−ン把持アセンブリである。
【図４】本発明の１つの態様による下方ケ−ン把持アセンブリである。
【図５】本発明の１つの態様によるベアリング・アセンブリである。
【図６】本発明の他の態様によるベアリング・アセンブリである。
【図７】コア／クラッド同心度の図である。
【図８】引張り力を与えるためのウエイトを使用した本発明の他の態様によるケ−ン・アセンブリにテンションを与える装置である。
【符号の説明】
１１    上方チャック
１２    下方チャック
１３    上方スピンドル
１６    下方スピンドル
１７、１８、１９、２０    空気軸受
３０    上方ケ−ン把持アセンブリ
３１    上方ケ−ン・ハンドル
３２    カップ
３３    シェル・クランプ
３５    上方スピンドル
４０    下方ケ−ン把持アセンブリ
４２    シェル・クランプ
４４    下方スピンドル
５０    空気軸受アセンブリ
５１    スピンドル
５４    上方の空気軸受
５５    下方の空気軸受
５６    軸受ブロック
５７ａ、５７ｂ    空気供給ポ−ト
５８    空洞
５９    圧力レギュレ−タ
１００    ケ−ン・アセンブリ
１０１    上方チャック
１０２    下方チャック
１０３    上方スピンドル
１０４    上方軸受アセンブリ
１０５、１０６    空気軸受
１０７ａ、１０７ｂ    空気供給ポ−ト
１０８    空洞
１０９    圧力レギュレ−タ・ポ−ト
１１０    下方スピンドル
１１１    下方軸受アセンブリ
１１２、１１３    空気軸受
１１４ａ、１１４ｂ    空気供給ポ−ト
１１５    空洞
１１６    圧力レギュレ−タ・ポ−ト
１１７    圧力レギュレ−タ
８０    ケ−ン・アセンブリ
８１    ウエイト
８２    上方チャック・アセンブリ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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