(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
めっき液が通過し得る多数の小開孔を有するバレル内に複数の被めっき物品を収容し、前記バレルをめっき浴内で運動させながら、前記バレル内の被めっき物品と接触可能に配置された陰極部材と前記バレル外にて前記めっき浴中に配置された陽極部材との間に電圧を印加して前記被めっき物品の表面にめっき膜を形成するバレル電気めっき方法であって、
前記被めっき物品は平均径が５〜５００μｍであり、
前記バレルの小開孔の径は３〜３００μｍであり、
振動発生手段に連係して前記めっき浴内で振動する振動棒に一段または多段に固定された振動羽根を前記めっき浴内で振幅０．１〜１０．０ｍｍ及び振動数２００〜８００回／分で振動させることにより前記めっき浴に振動流動を発生させ、且つ前記バレルを振幅０．１〜５．０ｍｍ及び振動数１００〜３００回／分で振動させることを特徴とする、極小物品のバレル電気めっき方法。
【請求項２】
前記めっき浴の振動流動は３次元流速が１５０ｍｍ／秒以上であることを特徴とする、請求項１に記載のバレル電気めっき方法。
【請求項３】
めっき液が通過し得る多数の小開孔を有するバレル内に複数の被めっき物品を収容し、前記バレルをめっき浴内で運動させながら、前記バレル内の被めっき物品と接触可能に配置された陰極部材と前記バレル外にて前記めっき浴中に配置された陽極部材との間に電圧を印加して前記被めっき物品の表面にめっき膜を形成するバレル電気めっき方法であって、
前記被めっき物品は平均径が５〜５００μｍであり、
振動発生手段に連係して前記めっき浴内で振動する振動棒に一段または多段に固定された振動羽根を前記めっき浴内で振幅０．１〜１０．０ｍｍ及び振動数２００〜８００回／分で振動させることにより前記めっき浴に振動流動を発生させ、前記めっき浴の振動流動は３次元流速が１５０ｍｍ／秒以上であり、且つ前記バレルを振幅０．１〜５．０ｍｍ及び振動数１００〜３００回／分で振動させることを特徴とする、極小物品のバレル電気めっき方法。
【請求項４】
前記被めっき物品は金属からなるか又は導体化処理された合成樹脂またはセラミックからなることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のバレル電気めっき方法。
【請求項５】
前記バレルの運動は非鉛直方向の回転中心の周りでの自転運動であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のバレル電気めっき方法。
【請求項６】
前記振動発生手段は１０〜５００Ｈｚで振動することを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載のバレル電気めっき方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、めっき方法に関するものであり、特に極小被めっき物品をバレル内に収容してめっきする方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
従来、電子部品などの物品の製造の分野において、物品の表面に導電材料の膜を形成する電気めっきが広く利用されている。
【０００３】
特に、最近では電子機器の小型化及び高機能化の要求を満たすために、極く小さな電子部品（たとえば縦横寸法が６０μｍ×３０μｍのセラミック製チップ０６０３縦横寸法が４０μｍ×２０μｍのセラミック製チップ０４０２の両端に金属電極層を形成したセラミックチップ抵抗体）が要求されている。また、例えば導電性樹脂製造のために合成樹脂中に粒径３００μｍ程度の金属粉末や金属被覆合成樹脂粉末が含有せしめられる。これらの極小物品としては、金属からなる被めっき物品または導体化処理された合成樹脂またはセラミックからなる被めっき物品の表面の全体又は所望部分に電気めっきにより導電性良好な金属層を強固に付着形成したものが用いられる。
【０００４】
ところで、比較的小さな寸法の被めっき物品を電気めっきする際には、多数の被めっき物品について同時にめっきを行うことが可能な所謂バレルめっきが用いられる。バレルめっきでは、めっき液の流通が可能な多数の小開孔を持つバレルと呼ばれる容器内にその容積の約１／３程度の多数の被めっき物品を収容し、バレル外のめっき浴内に陽極部材を配置し、バレル内に被めっき物品と接触する陰極部材を配置して、バレルを非鉛直方向の周りに回転（自転）させることでバレル内で被めっき物品を転動させながら陰極部材と陽極部材との間に電圧を印加することで、被めっき物品どうしを接触させ陰極部材との導通をとり、被めっき物品の表面の所要の導電性表面を陰極面となし、その上にめっき膜を形成する。
【０００５】
バレルめっきについては、本出願人は、特開平６−３３０３９５号公報において、めっき浴を振動攪拌させながらクロムめっきを行う方法を提案している。また、本出願人は、特開平７−１２６８９６号公報において、めっき浴を振動攪拌させながらめっきを行い、その際に被めっき物品に対して振動を与えるめっき方法を提案している。しかしながら、これらの方法では被めっき物品として、例えば直径３０ｍｍで長さ５０ｍｍの円柱体などが例示されていることからわかるように、互いに直交する３方向の寸法の平均値を平均径とした場合に、該平均径が５ｍｍ程度より大きな寸法のものが用いられており、近年要求されている上記のような平均径１ｍｍ以下の極小の被めっき物品のバレルめっきを考慮したものではない。
【０００６】
極小の被めっき物品をバレルめっきする場合には、特有の技術的課題が存在する。即ち、極小被めっき物品の場合には、バレル内で被めっき物品どうしの凝集が発生しやすく、バレル自転の際の被めっき物品の転動が不十分となり、所要のめっき膜形成部分へのめっき液の流通性が極端に低下する。このため、表面に均一膜厚に付着させるべきめっき膜の厚さが部分的に不均一になり、個体ごとの成膜状況も不均一になり、全体としての良品率が大幅に低下する。特に被めっき物品どうしの付着が発生しやすい。
【０００７】
また、成膜速度が低下しやすく、生産性の向上が困難である。特に、極小被めっき物品の場合には、バレルに形成される多数の小開孔の寸法を小さくせざるを得ないので、一層バレル内へのめっき液の流通性が低下しやすく、成膜速度向上は困難な傾向にある。成膜速度を向上させるために電流密度を高めようとすると、めっき膜厚の不均一が更に大きくなったりヤケやコゲなどの発生により良品率が低下したりする。このため、従来、このような極小物品のバレルめっきは実用化されていなかった。
【０００８】
また、合成樹脂粒子の表面へのめっきは例えば無電気めっきにより行うことができるが、無電気めっきではめっき膜厚を増大させることが困難であり、めっき膜厚の増大のためには電気めっきの適用が望ましい。
【０００９】
そこで、本発明の目的の１つは、極小寸法の被めっき物品をバレル電気めっきするに際して、所要部分に形成されるめっき膜の厚さを均一化させ、良品率を向上させることにある。
【００１０】
本発明の他の目的は、極小被めっき物品をバレル電気めっきするに際して、めっき膜の成膜速度を向上させ、生産性を向上させることにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、上記目的を達成するものとして、
めっき液が通過し得る多数の小開孔を有するバレル内に複数の被めっき物品を収容し、前記バレルをめっき浴内で運動させながら、前記バレル内の被めっき物品と接触可能に配置された陰極部材と前記バレル外にて前記めっき浴中に配置された陽極部材との間に電圧を印加して前記被めっき物品の表面にめっき膜を形成するバレル電気めっき方法であって、
前記被めっき物品は平均径が５〜５００μｍであり、
振動発生手段に連係して前記めっき浴内で振動する振動棒に一段または多段に固定された振動羽根を前記めっき浴内で振幅０．１〜１０．０ｍｍ及び振動数２００〜８００回／分で振動させることにより前記めっき浴に振動流動を発生させ、且つ前記バレルを振幅０．１〜５．０ｍｍ及び振動数１００〜３００回／分で振動させることを特徴とする、極小物品のバレル電気めっき方法、
が提供される。
【００１２】
本発明の一態様においては、前記被めっき物品は金属からなるか又は導体化処理された合成樹脂またはセラミックからなる。本発明の一態様においては、前記バレルの運動は非鉛直方向の回転中心の周りでの自転運動である。本発明の一態様においては、前記めっき浴の振動流動は３次元流速が１５０ｍｍ／秒以上である。本発明の一態様においては、前記バレルの小開孔の径は３〜３００μｍである。本発明の一態様においては、前記振動発生手段は１０〜５００Ｈｚで振動する。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の具体的な実施の形態を説明する。尚、図面において、同様な機能を有する部材又は部分には同一の符号が付されている。
【００１４】
図１及び図２は本発明によるめっき方法の第１の実施形態の実施されるめっき装置の構成を示す断面図であり、図３はその平面図である。
【００１５】
これらの図において、１２はめっき槽であり、該めっき槽にはめっき浴１４が収容されている。１６は振動流動発生部である。該振動流動発生部１６は、めっき槽１２に防振ゴムを介して取り付けられた基台１６ａ、該基台に下端を固定された振動吸収部材としてのコイルバネ１６ｂ、該コイルバネの上端に固定された振動部材１６ｃ、該振動部材に取り付けられた振動発生手段としての振動モータ１６ｄ、振動部材１６ｃに上端を取り付けられた振動伝達ロッド１６ｅ、該振動伝達ロッドの下半部においてめっき浴１４に浸漬する位置に取り付けられた振動羽根１６ｆを有する。コイルバネ１６ｂ内には、後述の図７に示されているように、棒状のガイド部材を配置することができる。
【００１６】
振動モータ１６ｄは例えばインバータを用いた制御により１０〜５００Ｈｚ、好ましくは２０〜６０Ｈｚ、更に好ましくは３０〜５０Ｈｚで振動する。振動モータ１６ｄで発生した振動は、振動部材１６ｃ及び振動伝達ロッド１６ｅを介して振動羽根１６ｆに伝達される。振動羽根１６ｆは、めっき浴１４中で所要の振動数で先端縁が振動する。この振動は、振動羽根１６ｆが振動伝達ロッド１６ｅへの取り付け部分から先端縁へと「しなる」ように発生する。この振動の振幅及び振動数は、振動モータ１６ｄのものとは異なるが、振動伝達経路の力学的特性及びめっき浴１４との相互作用の特性などに応じて決まり、本発明では振幅０．１〜１０．０ｍｍで振動数２００〜８００回／分とするのが好ましい。
【００１７】
図４は振動部材１６ｃへの振動伝達ロッド１６ｅの取り付け部の拡大断面図である。振動伝達ロッド１６ｅの上端に形成されたオネジ部に、振動部材１６ｃの上下両側から振動応力分散部材１６ｇ１，１６ｇ２及びワッシャ１６ｈ１，１６ｈ２を介してナット１６ｉ１，１６ｉ２；１６ｉ３，１６ｉ４を適合させている。振動応力分散部材１６ｇ１，１６ｇ２は、例えばゴムからなる。
【００１８】
図５は振動伝達ロッド１６ｅへの振動羽根１６ｆの取り付け部の拡大断面図である。７つの振動羽根１６ｆの各々の上下両側には、振動羽根固定部材１６ｊが配置されている。隣接する振動羽根１６ｆどうしの間には固定部材１６ｊを介して振動羽根１６ｆの間隔設定のためのスペーサリング１６ｋが配置されている。最上部の振動羽根１６ｆの上側及び最下部の振動羽根１６ｆの下側には、振動伝達ロッド１６ｅに形成されたオネジに適合するナット１６ｍが配置されている。
【００１９】
図６は振動伝達ロッド１６ｅへの振動羽根１６ｆの取り付け部の変形例を示す図である。この変形例では、各振動羽根１６ｆを上側及び下側のナット１６ｎにより個別に振動伝達ロッド１６ｅへ取り付けている。尚、振動羽根１６ｆと固定部材１６ｊとの間にフッ素系樹脂やフッ素系ゴムなどからなる弾性部材シート１６ｐを介在させることで、振動羽根１６ｆの破損を防止することができる。図示されているように、上側の固定部材１６ｊの下面（押圧面）は凸円筒円とされており、下側の固定部材１６ｊの上面（押圧面）は対応する凹円筒円とされている。これにより、固定部材１６ｊにより上下方向から押圧される振動羽根１６ｆの部分は湾曲せしめられ、振動羽根１６ｆの先端部は水平面に対して角度αをなしている。この角度αは、例えば−３０°以上３０°以下好ましくは−２０°以上２０°以下とすることができる。特に、角度αは、−３０°以上−５°以下または５°以上３０°以下、好ましくは−２０°以上−１０°以下または１０°以上２０°以下とするのが好ましい。固定部材１６ｊの押圧面を平面とした場合には、角度αは０°である。角度αは、全ての振動羽根１６ｆについて同一である必要はなく、例えば図１に示されているように、下方の１〜２枚の振動羽根１６ｆについては−の値（即ち下向き：図６に示されるものと逆向き）とし、それ以外の振動羽根１６ｆについては＋の値（即ち上向き：図６に示される向き）とすることができる。
【００２０】
振動羽根１６ｆとしては、弾力性のある金属板、合成樹脂板またはゴム板などを用いることができる。振動羽根１６ｆの厚みは、振動流動発生部１６の作動時に、振動羽根１６ｆの先端縁部分がフラッター現象（波打つような状態）を呈するように設定される。振動羽根１６ｆがステンレス鋼板などの金属板からなる場合には、その厚みは０．２〜２ｍｍとすることができる。また、振動羽根１６ｆが合成樹脂板やゴム板からなる場合には、その厚みは０．５〜１０ｍｍとすることができる。
【００２１】
図１〜３において、振動フレーム４４が振動吸収部材としてのコイルバネ４６を介してめっき槽１２に取り付けられている。振動フレーム４４には、振動モータ４８及びこれとの重量バランスをとるためのバランスウェイト４９とが取り付けられている。振動フレーム４４には、支持部材５０を介してバレル５２が取り付けられている。該バレルは、支持部材５０に対して回転可能に取り付けられており、不図示の駆動手段により図１において矢印で示される向きに回転せしめられる。バレル５２の回転数は、例えば、１〜１５回／分である。一般のバレルめっきの場合の回転数は６〜８回／分程度に固定されているが、本発明においては、被めっき物品の状態に応じて、３回／分、５回／分、または８回／分といったように適宜制御することが好ましい。例えば、樹脂粒子にめっきする場合には、めっき前は比重が小さいので回転数を上げ過ぎるとバレル壁面に付着しやすく、このため比較的小さな回転数を用いるが、めっき金属膜が付着するにつれて粒子の比重が大きくなるので回転数を増加させることができる。
【００２２】
バレル５２内には極小な被めっき物品Ｘが多数収容されている。バレル５２の外周面には、被めっき物品Ｘの通過を阻止し且つめっき浴１４の液体（めっき液）の通過を許容する多数の小開孔が形成されている。バレル５２内にはその下部にまで延びた陰極導電部材５４が配置されている。該陰極導電部材５４は、絶縁被覆配線５４’を介してバレル５２の回転中心にて該バレルに取り付けられたパイプ部材５２ａ内を通って電源回路３４の負極端子に接続されている。陰極導電部材５４は、バレル回転の際にも回転することはなく、従ってバレル回転に伴い転動する被めっき物品Ｘは陰極導電部材５４との接触及び陰極導電部材５４からの離隔を繰り返す。尚、使用されるバレルとしては、ここに示されるような形態のものに限定されることはなく、公知の各種の形態のバレル（但し、小開孔の大きさは本発明では平均径５〜５００μｍの極小物品の通過を阻止することができる３〜３００μｍ径のものを使用する）を使用することができる。
【００２３】
５６はメッキ浴１４中に下部が浸漬された陽極金属部材である。該陽極金属部材５６は、例えばプラスチック製の籠に収容されており、絶縁被覆配線５６’を介して電源回路３４の正極端子に接続されている。図１に示されているように、陽極金属部材５６はバレル５２の両側に配置されている。しかし、陽極金属部材５６は片側にのみ配置してもよい。
【００２４】
振動モータ４８は、例えばインバータを用いた制御により１０〜６０Ｈｚ、好ましくは２０〜３５Ｈｚで振動する。振動モータ４８で発生した振動は、振動フレーム４４及び支持部材５０を介してバレル５２に伝達され、これによりバレル５２ひいては被めっき物品Ｘは振幅０．１〜５．０ｍｍで振動数１００〜３００回／分で振動せしめられる。
【００２５】
電源回路３４は交流電圧から直流電圧を作成することができるものであり、このような電源回路は例えばトランジスタを用いた整流回路を有するものであり、整流器として知られている。本発明でめっき電流を発生させるのに使用される電源回路（電源装置）としては、交流を整流（直流成分の付加を含む）して出力する公知のものが用いられる。
【００２６】
めっき浴１４は、めっきの種類即ち形成すべきめっき膜に応じて、公知の電気めっき法と同様にして、選択される。めっきの種類としては、例えば、硫酸銅めっき、シアン化銅めっき、ピロ燐酸銅めっき、ニッケルめっき、黒色ニッケルめっき、スルファミン酸ニッケルめっき、クロムめっき、シアン化亜鉛めっき、ノーシアン亜鉛めっき、アルカリ性スズめっき、酸性スズめっき、中性スズめっき、銀めっき、シアン化金めっき、酸性金めっき、銅−亜鉛合金めっき、ニッケル−鉄合金めっき、スズ−鉛合金めっき、パラジウムめっき、はんだめっき等を挙げることができる。
【００２７】
例えば、硫酸銅めっきを行う場合には、スルーホール浴として、
硫酸銅：      ６０〜１００ｇ／Ｌ（リットル）
硫酸：      １７０〜２１０ｇ／Ｌ
光沢剤：                適量
塩素イオン：  ３０〜８０ｍＬ／Ｌ
からなるものを用いることができ、普通浴として、
硫酸銅：    １８０〜２５０ｇ／Ｌ
硫酸：          ４５〜６０ｇ／Ｌ
光沢剤：                適量
塩素イオン：  ２０〜８０ｍＬ／Ｌ
からなるものを用いることができる。
【００２８】
また、例えば、ニッケルめっきを行う場合には、バレル浴として、
硫酸ニッケル：      ２７０ｇ／Ｌ
塩化ニッケル：        ６８ｇ／Ｌ
ほう酸：              ４０ｇ／Ｌ
硫酸マグネシウム：  ２２５ｇ／Ｌ
からなるものを用いることができ、普通浴として、
硫酸ニッケル：    １５０ｇ／Ｌ
塩化アンモニウム：  １５ｇ／Ｌ
ほう酸：            １５ｇ／Ｌ
からなるものを用いることができ、ワット浴として、
硫酸ニッケル：    ２４０ｇ／Ｌ
塩化アンモニウム：  ４５ｇ／Ｌ
ｐＨ：４〜５
浴温度：４５〜５５℃
からなるものを用いることができる。
【００２９】
また、例えば、酸性スズめっきを行う場合には、硫酸塩浴として、
硫酸第一スズ：          ５０ｇ／Ｌ
硫酸：                １００ｇ／Ｌ
クレゾールスルホン酸：１００ｇ／Ｌ
ゼラチン：                ２ｇ／Ｌ
β−ナフトール：          １ｇ／Ｌ
からなるものを用いることができる。
【００３０】
被めっき物品Ｘは、平均径が５〜５００μｍの極小のものである。ここで、平均径とは、互いに直交する３方向の代表的寸法の平均値をいうものとする。このような被めっき物品Ｘとしては、銅粉末や前処理されたアルミニウム粉末や鉄粉末などの金属粉末、導体化処理されたＡＢＳ樹脂粉末などの合成樹脂粉末や、導体化処理されたセラミックチップなどを例示することができる。また、その他の電子部品、機械部品、金属粉末合金、微粒子無機・有機顔料、金属ボールなどがあげられる。
【００３１】
例えば、３００μｍ程度径の金属粒子例えばＣｕ粒子にＮｉめっき膜を形成したり、Ｎｉめっき膜上にＡｕめっき膜やＡｇめっき膜を形成することにより複合めっき膜を形成することができる。
【００３２】
バレル５２内には被めっき物品Ｘを数千個ないし数十万個程度収容することができる。バレルの寸法は例えば直径５０〜２００ｍｍで長さ１００〜２５０ｍｍである。また、バレル５２の小開孔の大きさは被めっき物品Ｘの通過が阻止される程度のものであり、全外周面の表面積に対する全小開孔面積の割合としての開孔率は２５〜７５％程度である。
【００３３】
本発明のめっき方法では、振動流動発生部１６によりめっき浴１４に生ぜしめられる振動流動により小開孔を介してのバレル５２内へのめっき液の流通性が改善されることに加えて、バレル５２内においても互いに隣接する被めっき物品Ｘの間へのめっき液の流通性が改善される。更に、本実施形態では、バレル５２を振動させており、これによりバレル５２内での被めっき物品Ｘの凝集を防止して十分に転動させることができ、互いに隣接する被めっき物品Ｘの間へのめっき液の流通性が更に改善され、一層良好な膜厚均一性と成膜速度とを達成することができる。
【００３４】
また、本発明においては、めっき浴１４に生ぜしめられる振動流動の作用により、被めっき物品Ｘと陽極金属部材との距離を近づけて電流密度を高めてもショートが発生しにくい。このことも、ヤケやコゲなどの不具合を生ずることなく良好な歩留で且つ高速でめっき膜を形成することができる要因であると考えられる。
【００３５】
この様な作用を良好に得るためには、めっき浴１４の振動流動の３次元流速が１５０ｍｍ／秒以上であるのが極めて好ましい。このような高い３次元流速は、めっき浴を振動流動させることによって効果的に実現されるものであり、通常の攪拌によっては実現困難であり実現するにしても極めて大規模な装置構成が必要となる不利がある。
【００３６】
本発明による電気めっき方法の実施に先立ち、必要に応じて被めっき物品Ｘについて所要の前処理工程を行う。これら前処理については、従来公知の電気めっき方法の場合と同様にして行えばよい。この前処理の例としては、例えば、次のような処理工程及び水洗工程が挙げられる。
【００３７】
脱脂：
ホウ酸ソーダ    ２０ｇ／リットル（Ｌ）
リン酸ソーダ    ２０ｇ／Ｌ
界面活性剤    ２ｇ／Ｌ
４０〜６０℃
３〜５分
エッチング：
クロム酸    ４００ｇ／Ｌ
硫酸    ４００ｇ／Ｌ
６５〜７０℃
５〜１５分
中和：
濃塩酸    ５０ｍＬ／Ｌ
室温
３０〜６０秒
キャタリスト：
塩化パラジウム    ０．２ｇ／Ｌ
塩化第一スズ    ５〜２０ｇ／Ｌ
塩酸    １００〜２００ｍＬ／Ｌ
室温
２〜５分
アクセラレーター：
硫酸    ５０〜１００ｍＬ／Ｌまたは
塩酸    ８０〜１５０ｍＬ／Ｌ
３０〜５０℃
２〜６分
無電解ニッケルめっき：
硫酸ニッケル    ３０ｇ／Ｌ
次亜リン酸ソーダ    ２０ｇ／Ｌ
クエン酸アンモン    ５０ｇ／Ｌ
ｐＨ７．５〜９．５
３０〜４０℃
５〜１０分
特に、合成樹脂（フプラスチック）からなる粉末または粒子に対して電気めっきを行う場合には、以上のような導電化工程を必要とする。このような処理の際にも処理浴を振動流動攪拌させることで、処理時間を著しく低減することができる。
【００３８】
以上のような前処理後に本願発明の電気めっき処理を施す。電気めっきは、例えば次のよう工程でなされる。
【００３９】
硫酸銅めっき：
硫酸銅    ２００〜２４０ｇ／Ｌ
硫酸    ５０〜６０ｇ／Ｌ
光沢剤    適量
２０〜２８℃
電流密度２〜４Ａ／ｄｍ2
１５〜４０分
その後、アルコール洗浄した後に、乾燥する。
【００４０】
プラスチック材料の場合には、上記前処理を含む本発明の処理工程として、例えば、脱脂→水洗→エッチング→水洗→中和→水洗→キャタリスト（触媒付与）→水洗→アクセラレーター（活性化）→水洗→無電気めっき→水洗→電気めっき→水洗→乾燥があげられる。即ち、プラスチック材料の場合には、その表面に電気めっき膜を形成するためには予め表面に導電性膜を形成して導体化することが必要であり、無電気めっきにより導体化した後に、金属材料と同様にして電気めっきを行う。このようにして得られた表面導電性の樹脂粒子ないし樹脂粉末は、電気めっき膜がスズ膜またははんだ膜やその他の合金はんだ形成可能な材料の膜からなる積層膜である場合には、はんだ接合の際の加熱溶融により合成樹脂が蒸発して体積減少するはんだ材料として利用することができる。
【００４１】
金属材料の場合には、上記前処理を含む本発明の処理工程として、例えば、脱脂→水洗→アクセラレーター（活性化）→水洗→電気めっき→水洗→乾燥があげられる。
【００４２】
また、本発明方法においてめっき浴中に所要の振動流動を発生させるのに使用される振動羽根を備えた振動流動発生部としては、上記特開平１１−１８９８８０号公報に記載のもの（例えば該公報中の図７〜８を参照して説明されているように振動羽根をめっき槽の底部に配置し、振動モータから振動伝達枠を介して振動を振動羽根に伝達し、振動羽根を水平方向に振動させるようにしたもの）や該公報中にて引用されている公報に記載されているもの等を適宜使用することができる。
【００４３】
図７は本発明によるめっき方法の実施に使用されるめっき装置の他の形態を示す断面図であり、図８はその一部切欠平面図である。この形態は、振動流動発生部１６の構成が上記実施形態と異なる。即ち、めっき槽１２の上端縁部に固定された取り付け部材１１８に対してコイルバネ１６ｂの下端が固定されており、該コイルバネ１６ｂの上端が固定された振動部材１６ｃの下側に振動モータ１６ｄが取り付けられている。尚、コイルバネ１６ｂ内には、取り付け部材１１８に下端を固定された下側ガイド部材１２４及び振動部材１６ｃに上端を固定された上側ガイド部材１２３が互いに適度の間隔をおいて配置されている。
【００４４】
本発明では、電源回路３４により直流電圧ではなくパルス状電圧を印加して、いわゆるパルスめっきを行うことも可能である。その場合、電源回路３４は交流電圧から矩形波状電圧を作成することができるものであり、このような電源回路は例えばトランジスタを用いた整流回路を有するものであり、パルス電源装置として知られている。
【００４５】
本発明でめっき電流を発生させるのに使用される電源回路（電源装置）としては、交流を整流（直流成分の付加を含む）して出力するものが用いられる。このような電源装置または整流器としては、トランジスタ調整式電源、ドロッパー方式の電源、スイッチング電源、シリコン整流器、ＳＣＲ型整流器、高周波型整流器、インバータデジタル制御方式の整流器（例えば（株）中央製作所製のＰｏｗｅｒ  Ｍａｓｔｅｒ）、（株）三社電機製作所製のＫＴＳシリーズ、四国電機株式会社製のＲＣＶ電源、スイッチングレギュレータ式電源とトランジスタスイッチとからなりトランジスタスイッチがＯＮ−ＯＦＦすることで矩形波状のパルス電流を供給するもの、高周波スイッチング電源（交流をダイオードにて直流に変換した後にパワートランドスタで２０〜３０ＫＨｚの高周波をトランスに加えて再度整流、平滑化し出力を取り出す）、ＰＲ式整流器、高周波制御方式の高速パルスＰＲ電源（例えばＨｉＰＲシリーズ（（株）千代田）などが利用可能である。
【００４６】
図９は電源回路３４により陰極と陽極との間に印加される電圧に基づき被めっき物品Ｘを介して流れるめっき電流（電流密度）の変化を示すグラフである。図示されているように、めっき電流は、第１の値Ｉ１で第１の時間Ｔ１持続する第１状態と第２の値Ｉ２（＜Ｉ１）で第２の時間Ｔ２持続する第２状態とが交互にあらわれるようなものである。ここで、第１の値Ｉ１と第２の値Ｉ２とは同一極性である。Ｉ１はＩ２の６倍以上（例えば６〜２５倍）であり好ましくは８〜２０倍である。また、Ｔ１はＴ２の４倍以上（例えば４〜２５倍）であり好ましくは６〜２０倍である。このようなめっき電流と上記振動流動発生部１６によるめっき浴１４の振動流動を組み合わせることにより、微細な導電構造パターンのめっきにおいても良好な品質及び高い成膜速度を得ることができる。
【００４７】
第１の値Ｉ１及び第１の時間Ｔ１は、めっきの種類あるいはめっき浴の組成などに応じて適宜設定されるが、例えば、Ｉ１は０．０１〜１００［Ａ／ｄｍ2 ］の範囲内とすることができ、Ｔ１は３〜３００［秒］の範囲内とすることができる。但し、これに限定されるものではなく、最適なＩ１，Ｉ２，Ｔ１，Ｔ２は、上記めっきの種類やめっき浴の組成などに応じて広い範囲で変化することもあり、例えばめっきの進行に伴いめっき浴の組成が変化することで変化したりする。
【００４８】
図１０及び図１１は本発明によるめっき方法の実施に使用されるめっき装置を構成する振動流動発生部のめっき槽への取り付けの他の形態を示す断面図であり、図１２はその平面図である。図１０及び図１１はそれぞれ図１２のＸ−Ｘ’断面及びＹ−Ｙ’断面に相当する。尚、これらの図では、めっき処理のためのバレルや陰極、陽極及び電源回路等は図示を省略されている。
【００４９】
この形態では、振動吸収部材として上記コイルバネ１６ｂに代えてゴム板２と金属板１，１’との積層体３が用いられている。即ち、積層体３は、めっき槽１２の上端縁部に固定された取り付け部材１１８に防振ゴム１１２を介して取り付けられた金属板１’をボルト１３１により固定し、該金属板１’上にゴム板２を配置し、該ゴム板２上に金属板１を配置し、これらをボルト１１６及びナット１１７により一体化することで形成されている。
【００５０】
振動モータ１６ｄは支持部材１１５を介してボルト１３２により金属板１に固定されている。また、振動伝達ロッド１６ｅの上端部はゴムリング１１９を介して積層体３特に金属板１とゴム板２とに取り付けられている。即ち、上側金属板１は図１その他に記載されている実施形態の振動部材１６ｃの機能をも発揮するものであり、下側金属板１’は図１その他に記載されている実施形態の基台１６ａの機能をも発揮するものである。そして、これら金属板１，１’を含む積層体３（主としてゴム板２）が図１その他に記載されているコイルバネ１６ｂと同様な振動吸収機能を発揮する。
【００５１】
図１３は積層体３の平面図を示す。図１０〜１２の形態に対応する図１３（ａ）の例では、積層体３には振動伝達ロッド１６ｅを通すための貫通孔５が形成されている。また、図１３（ｂ）の例では、積層体３は貫通孔５を通る分割線により２分割された２つの部分３ａ，３ｂからなり、これによれば装置組立の際に振動伝達ロッド１６ｅを容易に通すことができる。また、図１３（ｃ）の例では、積層体３は、めっき槽１２の上端縁部に対応する環形状をなしており、中央部に開孔６が形成されている。
【００５２】
図１３（ａ），（ｂ）の例では、めっき槽１２の上部が積層体３により塞がれ、これによりめっき処理の際にめっき浴１４から揮散するガスや飛散するめっき液が周囲へと漏れるのを防止することができる。
【００５３】
図１４は、このような積層体３によるめっき槽上部の閉塞（シール）の様子を示す断面図である。図１４（ａ）の形態では、ゴム板２が貫通孔５において振動伝達ロッド１６ｅに当接してシールがなされる。また、図１４（ｂ）の形態では、積層体３の開孔部６において該積層体３と振動伝達ロッド１６ｅとに取り付けられこれらの間の空隙を塞ぐフレキシブルシール部材１３６が設けられている。
【００５４】
図１５に振動吸収部材としての積層体３の例を示す。図１５（ｂ）の例は上記図１０〜１２の実施形態のものである。図１５（ａ）の例では、積層体３は金属板１とゴム板２とからなる。図１５（ｃ）の例では、積層体３は上側金属板１と上側ゴム板２と下側金属板１’と下側ゴム板２’とからなる。図１５（ｄ）の例では、積層体３は上側金属板１と上側ゴム板２と中間金属板１”と下側ゴム板２’と下側金属板１’とからなる。積層体３における金属板やゴム板の数は、例えば１〜５とすることができる。尚、本発明においては、ゴム板のみから振動吸収部材を構成することも可能である。
【００５５】
金属板１，１’，１”の材質としては、ステンレス鋼、鉄、銅、アルミニウム、その他適宜の合金を使用することができる。金属板の厚さは、例えば１０〜４０ｍｍである。但し、積層体以外の部材に対して直接固定されない金属板（例えば上記中間金属板１”）は０．３〜１０ｍｍと薄くすることができる。
【００５６】
ゴム板２，２’の材質としては、合成ゴム又は天然ゴムの加硫物を使用することができ、ＪＩＳＫ６３８６で規定される防振ゴムが好ましく、更に特に静的剪断弾性率４〜２２ｋｇｆ／ｃｍ2 好ましくは５〜１０ｋｇｆ／ｃｍ2 、伸び２５０％以上のものが好ましい。合成ゴムとしては、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、ニトリル−クロロプレンゴム、スチレン−クロロプレンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、イソプレンゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴム、エピクロルヒドリン系ゴム、アルキレンオキシド系ゴム、フッ素系ゴム、シリコーン系ゴム、ウレタン系ゴム、多硫化ゴム、フォスファビンゴムを例示することができる。ゴム板の厚さは、例えば５〜６０ｍｍである。
【００５７】
図１５（ｅ）の例では、積層体３は上側金属板１とゴム板２と下側金属板１’ととからなり、ゴム板２が上側ソリッドゴム層２ａとスポンジゴム層２ｂと下側ソリッドゴム層２ｃとからなる。下側ソリッドゴム層２ａ，２ｃのうちの一方を除去してもよいし、更に複数のソリッドゴム層と複数のスポンジゴム層とを積層したものであってもよい。
【００５８】
【実施例】
以下、本発明を実施例により説明する。
【００５９】
実施例１：
図１〜３に関して説明した装置を使用した。ここで、振動モータ１６ｄとして１５０Ｗ×２００Ｖ×３φのものを用い、めっき槽１２として容量３００リットルのものを用いた。また、バレル５２として、直径１００ｍｍで長さ１７０ｍｍで、小開孔の径が０．１ｍｍで、円筒状外周面における小開孔の開孔率（開孔率）が６０％のものを用いた。
【００６０】
被めっき物品Ｘとして常法により所定の前処理を施した寸法０．６ｍｍ×０．３ｍｍ×０．２ｍｍのセラミック製チップ抵抗体０６０３を約８万個用いた。また、ダミーボールをバレル容積の約１／３加えた。このセラミック製チップ抵抗体には、抵抗体機能部としての抵抗体膜が形成されており、それに接続されるようにして、チップの長手方向に関する両端の面及びこれに続く０．６ｍｍ×０．３ｍｍの面の一部（両端面から０．１ｍｍまでの領域）に電極形成のための導体化処理がなされていた。
【００６１】
このセラミックチップを、５ミリリットル（ｍＬ）／リットル（Ｌ）の中性洗剤を含む５０℃の洗浄液中に５分間浸漬して脱脂し、次いで常温のイオン交換水で３０秒間洗浄した。その後、電源回路３４により陰極導電部材５４と陽極金属部材５６との間に１０．５Ｖの電圧を印加し３７Ａの電流を流して、６０分間ニッケルめっきを行った。ニッケルめっきの際のめっき浴１４では、
硫酸ニッケル：        ２４０ｇ／Ｌ
塩化ニッケル：          ４５ｇ／Ｌ
ほう酸：                ４０ｇ／Ｌ
であり、めっき浴１４の温度は５５℃であった。これにより、セラミックチップの所定部分に膜厚４μｍ±０．５μｍのニッケルめっき膜が形成された。
【００６２】
その後、このセラミックチップを、常温の市水で３０秒間洗浄し、電源回路３４により陰極導電部材５４と陽極金属部材５６との間に３．０Ｖの電圧を印加し１２Ａの電流を流して、６０分間スズめっきを行った。スズめっきの際のめっき浴１４では、
硫酸第一スズ：          ５０ｇ／Ｌ
硫酸：                １００ｇ／Ｌ
クレゾールスルホン酸：１００ｇ／Ｌ
であり、めっき浴１４の温度は３０℃であった。これにより、セラミックチップのニッケルめっき膜上に膜厚４μｍ±０．５μｍのスズめっき膜が形成された。
【００６３】
その後、このセラミックチップを、常温のイオン交換水で３０秒間洗浄し、常温の第三リン酸ソーダ２％液で中和し、更に常温のイオン交換水で３０秒間洗浄し、７０℃の純水で３０秒間洗浄し、メタノールで純水と交換し、７０℃のオーブン中で４０分間の乾燥を行った。
【００６４】
以上のニッケルめっき及びスズめっきの際には、振動流動発生部１６の振動モータ１６ｄを３８Ｈｚで振動させて、振動羽根１６ｆをめっき浴１４中で振幅０．２ｍｍ及び振動数７５０回／分で振動させた。また、振動モータ４８を２５Ｈｚで振動させて、バレル５２をめっき浴１４中で振幅０．１５ｍｍ及び振動数２５０回／分で振動させた。また、バレル５２の回転数は８回／分であった。この時のめっき浴中の３次元流速を３次元電磁流速計ＡＣＭ３００−Ａ（アレック電子株式会社製）で測定したところ２００ｍｍ／秒であった。
【００６５】
以上のようにして形成されたセラミックチップ抵抗体の全てについて、均一性良好な電極めっき膜が形成されており、スズめっきにおける付着性がない（良品率１００％）ことが、カット断面の顕微鏡検査、その他の検査の結果判明した。
【００６６】
比較例１−１：
振動モータ４８を振動させず、従ってバレル５２をめっき浴１４中で振動させないことを除いて実施例１と同様な処理を行ったところ、ニッケルめっき膜の膜厚が平均３μｍ（誤差±２μｍ）で、スズめっき膜の膜厚が平均３μｍ（誤差±２．５μｍ）であり、良品率が約１０％であった。付着した製品が非常に多く、膜厚ばらつきなどの製品ばらつきが非常に多く発生した。
【００６７】
比較例１−２：
振動流動発生部１６を作動させないことを除いて実施例１と同様な処理を行ったところ、ニッケルめっき膜の膜厚が平均３．５μｍ（誤差±２．５μｍ）で、スズめっき膜の膜厚が平均２．７μｍ（誤差±３μｍ）であり、ヤケやコゲ等に基づく不良発生があり、良品率が約５％であった。
【００６８】
以上のように、開孔寸法３００μｍ以下の小型バレルでは、振動流動攪拌装置でめっき浴に振動流動攪拌を加えることによりはじめてバレル内のめっき液の流動が可能になるのであって、振動流動攪拌装置を設置しない場合には、バレル内外のめっき液の濃度差発生などによりめっき不良が発生することがわかった。
【００６９】
実施例２：
被めっき物品Ｘとして実施例１で使用したと同様に所定の前処理を施した寸法０．６ｍｍ×０．３ｍｍ×０．２ｍｍのセラミック製チップ抵抗体０６０３を約３ｍＬ用い、直径０．５ｍｍのダミーボール３０ｍＬを用い、バレルとして直径５５ｍｍで長さ５０ｍｍで、小開孔の径が０．１ｍｍのものを用いて、実施例１と同様なニッケルめっき液で９．５Ｖ×７．５Ａで６０分間のニッケルめっきを行った。その後、実施例１と同様なスズめっき液で３．０Ｖ×２．５Ａで６０分間のスズめっきを行った。これにより、ニッケルめっき膜厚４μｍ、スズめっき膜厚４μｍの製品を得た。めっき膜厚均一性良好であり、不良品はなかった（良品率１００％）。
【００７０】
振動流動発生部を停止させる（すなわち振動流動攪拌装置によるめっき液の振動流動発生を停止させる）と、バレルを振動させても、メッキ膜厚不均一などによる不良の発生が極めて多く、良品率は約２０％であった。また、振動流動発生部を停止させずに、バレル振動を停止させると、良品率は約５０％となった。
【００７１】
実施例３：
図１〜３に関して説明した装置（振動モータ１６ｄ，４８及びめっき槽１２は実施例１と同様）を使用し、バレル５２として、直径１００ｍｍで長さ１７０ｍｍで、小開孔の径が１００μｍで、円筒状外周面における小開孔の開孔率が６０％のものを用い、被めっき物品Ｘとして常法により所定の前処理を施した平均径３００μｍのアクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）の粉末をバレル容量の約１／３入れ、ダミーを使用せずに、表面全体に銅めっき膜の形成を行った。
【００７２】
尚、前処理は、次のような（ａ）〜（ｋ）の脱脂−水洗−表面調整−水洗−プリディップ−キャタリスト（Ｓｎ，  Ｐｄ）−水洗−アクセレーター（Ｓｎ除去）−水洗−導体化のための化学ニッケルめっき（無電解ニッケルめっき）−水洗を行うことによりなされた。
【００７３】
（ａ）脱脂工程
処理条件：クリーナー，５５℃，５分
処理液（４０ｍＬ／Ｌ）：
有機キレート剤      ７．５（Ｗ／Ｖ）％
リン酸塩            １．０（Ｗ／Ｖ）％
水酸化ナトリウム    ２．５（Ｗ／Ｖ）％
界面活性剤１        ０．７５（Ｗ／Ｖ）％
界面活性剤２        ０．１（Ｗ／Ｖ）％
水                  残部
（ｂ）水洗工程
処理液：イオン交換水
（ｃ）表面調整工程
処理条件：コンディショナー，４０℃，５分
処理液（３０ｍＬ／Ｌ）：
有機化合物        １０．０（Ｗ／Ｖ）％
水                  残部
（ｄ）水洗工程
処理液：イオン交換水
（ｅ）プリディップ工程
処理条件：２５℃，１分
処理液（５０ｍＬ／Ｌ）：
３５％塩酸
（ｆ）キャタリスト工程
処理条件：４０℃，５分
処理液１（３０ｍＬ／Ｌ）：
パラジウム塩        ０．５（Ｗ／Ｖ）％
スズ塩            ３２．０（Ｗ／Ｖ）％
塩酸              １６．０（Ｗ／Ｖ）％
水                  残部
処理液２（２００ｍＬ／Ｌ）：
３５％塩酸
（ｇ）水洗工程
処理液：イオン交換水
（ｈ）アクセレーター工程
処理条件：４０℃，５分
処理液１（２０ｍＬ／Ｌ）：
有機化合物          ８．０（Ｗ／Ｖ）％
無機酸塩            ２．０（Ｗ／Ｖ）％
水                  残部
処理液２（１００ｍＬ／Ｌ）：
９５％硫酸
（ｉ）水洗工程
処理液：イオン交換水
（ｊ）無電解ニッケルめっき工程
処理条件：４０℃，１２分
処理液（１２５ｍＬ／Ｌ）：
Ａ  無機金属塩１      １７．０（Ｗ／Ｖ）％
無機金属塩２        ０．５（Ｗ／Ｖ）％
キレート剤        １０．０（Ｗ／Ｖ）％
無機アンモニウム塩  ７．５（Ｗ／Ｖ）％
水酸化ナトリウム    ６．０（Ｗ／Ｖ）％
水                  残部
Ｂ  還元剤            １３．０（Ｗ／Ｖ）％
キレート剤          ８．０（Ｗ／Ｖ）％
無機アンモニウム塩  ４．０（Ｗ／Ｖ）％
ｐＨ緩衝剤１        ４．０（Ｗ／Ｖ）％
ｐＨ緩衝剤２        ６．５（Ｗ／Ｖ）％
水酸化ナトリウム    ７．５（Ｗ／Ｖ）％
水                  残部
（ｋ）水洗工程
処理液：イオン交換水
銅めっきの際のめっき浴１４としては、
硫酸銅：      ２００ｇ／Ｌ
硫酸：          ５０ｇ／Ｌ
を用いた。６０分間のめっきを行った。
【００７４】
振動流動発生部１６の振動モータ１６ｄをインバーターで３８Ｈｚで振動させて、振動羽根１６ｆをめっき浴１４中で振幅０．２ｍｍ及び振動数７００回／分で振動させた。また、振動モータ４８を振動させて、被めっき物品Ｘをめっき浴１４中で振幅０．１５ｍｍ及び振動数２５０回／分で振動させた。また、バレル５２の回転数は８回／分であった。この時のめっき浴中の３次元流速を３次元電磁流速計ＡＣＭ３００−Ａで測定したところ２１０ｍｍ／秒であった。
【００７５】
以上のようにして形成された表面に銅めっき膜を有する合成樹脂粉末は、均一性良好な銅めっき膜（膜厚５μｍ±０．５μｍ）が形成されている（良品率１００％）ことが、目視、カット断面の顕微鏡検査その他の検査の結果判明した。
【００７６】
比較例３−１：
振動モータ４８を振動させず、従ってバレル５２をめっき浴１４中で振動させないことを除いて実施例２と同様な処理を行ったところ、銅めっき膜の膜厚が平均３μｍ（誤差±２μｍ）であり、良品率が約４０％であった。
【００７７】
比較例３−２：
振動流動発生部１６を作動させないことを除いて実施例２と同様な処理を行ったところ、銅めっき膜の膜厚が平均３μｍ（誤差±０．６μｍ）であり、ヤケやコゲ等に基づく不良発生があり、光沢がなく、良品率が０％であった。
【００７８】
実施例４：
被めっき物品Ｘとして実施例３で使用したと同様に所定の前処理を施した平均径３００μｍのアクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）の粉末を実施例２で使用したバレルにその容量の約１／３入れ、更に直径０．５ｍｍのダミーボール３０ｍＬをバレル内に入れて、実施例１と同様なニッケルめっき液で９．５Ｖ×７．５Ａで６０分間のニッケルめっきを行った。その後、実施例１と同様なスズめっき液で３．０Ｖ×２．５Ａで６０分間のスズめっきを行った。これにより、ニッケルめっき膜厚４μｍ、スズめっき膜厚４μｍの製品を得た。めっき膜厚均一性は良好であり、不良品はなかった（良品率１００％）。
【００７９】
更に、実施例３と同様なめっき液を使用し、振動流動発生部１６の振動モータを３８Ｈｚで振動させて銅めっきを行った。めっき膜の膜厚均一性は良好であり、不良品はなかった（良品率１００％）。
【００８０】
振動流動発生部を停止させる（すなわち振動流動攪拌装置によるめっき液の振動流動発生を停止させる）と、バレルを振動させても、メッキ膜厚不均一などによる不良の発生が極めて多く、良品率は約３０％であった。また、振動流動発生部を停止させずに、バレル振動を停止させると、良品率は約６０％となった。
【００８１】
実施例５：
ＡＢＳ樹脂粉末の表面の前処理においてアクセレーター（Ｓｎ除去）−水洗−導体化のための化学ニッケルめっきの処理に代えてＳｎ除去且つＣｕ析出による導体化を行うことを除いて実施例３と同様な処理を行った。これは、ダイレクトめっきと呼ばれる方法である。
【００８２】
以上のようにして形成された表面に銅めっき膜を有する合成樹脂粉末は、均一性良好な銅めっき膜が形成されている（良品率９５％）ことが、目視、カット断面の顕微鏡検査その他の検査の結果判明した。
【００８３】
なお、以上の実施例では、陽極金属部材とバレルとの間隔を約４０ｍｍに近づけることでめっき時間の短縮化を図り且つ膜厚均一性の良好なめっき膜を形成して高い良品率を得ることができたが、振動流動発生部の動作を停止した比較例では陽極金属部材とバレルとの間隔を約４０ｍｍとするとヤケやコゲが発生して高い膜厚均一性と高い良品率とが得られなかった。振動流動発生部の動作を停止する場合には、陽極金属部材とバレルとの間隔を約１００ｍｍまで長くすることでヤケやコゲの発生を抑制することができるが、その場合にはめっき時間が長くかかることになる。
【００８４】
【発明の効果】
以上説明した様に、本発明のバレル電気めっき方法によれば、極小被めっき物品を良好な膜厚均一性及び高い成膜速度をもって製造することができ、良品率の向上と生産性の向上とを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のめっき方法が実施されるめっき装置の構成を示す断面図である。
【図２】本発明のめっき方法が実施されるめっき装置の構成を示す断面図である。
【図３】本発明のめっき方法が実施されるめっき装置の構成を示す平面図である。
【図４】振動部材への振動伝達ロッドの取り付け部の拡大断面図である。
【図５】振動伝達ロッドへの振動羽根の取り付け部の拡大断面図である。
【図６】振動伝達ロッドへの振動羽根の取り付け部の変形例を示す図である。
【図７】本発明のめっき方法の実施に使用されるめっき装置を示す断面図である。
【図８】図７のめっき装置の一部切欠平面図である。
【図９】被めっき物品を介して流れるめっき電流の変化を示すグラフである。
【図１０】本発明によるめっき方法の実施に使用されるめっき装置を構成する振動流動発生部のめっき槽への取り付けを示す断面図である。
【図１１】本発明によるめっき方法の実施に使用されるめっき装置を構成する振動流動発生部のめっき槽への取り付けを示す断面図である。
【図１２】本発明によるめっき方法の実施に使用されるめっき装置を構成する振動流動発生部のめっき槽への取り付けを示す平面図である。
【図１３】積層体の平面図である。
【図１４】積層体によるめっき槽上部の閉塞の様子を示す断面図である。
【図１５】積層体を示す図である。
【符号の説明】
１２    めっき槽
１４    めっき浴
１６    振動流動発生部
１６ａ    基台
１６ｂ    コイルバネ
１６ｃ    振動部材
１６ｄ    振動モータ
１６ｅ    振動伝達ロッド
１６ｆ    振動羽根
１６ｇ１，１６ｇ２    振動応力分散部材
１６ｈ１，１６ｈ２    ワッシャ
１６ｉ１，１６ｉ２；１６ｉ３，１６ｉ４    ナット
１６ｊ    振動羽根固定部材
１６ｋ    スペーサリング
１６ｍ，１６ｎ    ナット
１６ｐ    弾性部材シート
３４    電源回路
４４    振動フレーム
４６    コイルバネ
４８    振動モータ
４９    バランスウェイト
５０    バレル支持部材
５２    バレル
５２ａ    パイプ部材
５４    陰極導電部材
５４’，５６’    絶縁被覆配線
５６    陽極金属部材
Ｘ    被めっき物品
【図１】
0003827276.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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