(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁接着フィルムにより半導体チップが取り付けられる半導体リードフレームであって、
前記絶縁接着フィルムが取り付けれる面の反対の面の端部に所定深さのメッキ溝が形成されたインナーリードと、
その上面が前記インナーリードの反対面と同一平面上に置かれるように前記メッキ溝内に形成されたメッキ層とを有することを特徴とする半導体リードフレーム。
【請求項２】
前記メッキ層の厚みは前記インナーリードの厚みの70％以内であることを特徴とする請求項１に記載の半導体リードフレーム。
【請求項３】
前記メッキ溝は少なくとも前記絶縁フィルム接着部位より長いことを特徴とする請求項１に記載の半導体リードフレーム。
【請求項４】
インナーリードの絶縁フィルム接着面の反対面の端部にメッキ溝を形成する過程と、
その上面が前記インナーリードの反対面と同一平面上に置かれるように前記メッキ溝内にメッキ層を形成する過程と、
前記インナーリードの前記メッキ層の反対面に絶縁接着フィルムを取り付けてヒーターによって半導体チップを加圧接着する過程とを有することを特徴とする半導体パッケージ方法。
【請求項５】
前記メッキ溝が、プレス加工により形成されることを特徴とする請求項４に記載の半導体パッケージ方法。
【請求項６】
前記メッキ溝が、ハーフエッチング加工により形成されることを特徴とする請求項４に記載の半導体パッケージ方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体リードフレームに関し、特にLOC(Lead on chip)又はCOL(Chip on lead)タイプの半導体リードフレームの組立工程において、絶縁接着フィルムと半導体チップとの接着性を向上させるために、インナーリードにメッキ溝が形成された半導体リードフレームに関する。更に、メッキ溝を用いた半導体パッケージ方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体リードフレームはウエハと共に半導体パッケージを構成する部品であり、半導体チップを取り付けるパッドと、半導体パッケージの内部と外部とを接続するリードとからなる。
【０００３】
半導体チップの組立工程のうち半導体チップをリードフレームに接着する方式には様々にものがある。一般的に、Ag-Epoxy接着、はんだ付け接着、Au/Si工程(Eutectic)接着等によりリードフレームのパッドの上にチップ素子を接着した後、再びインナーリードとのワイヤボンディングを行う。
【０００４】
前記のようなチップ接着工程において、チップとパッドとの間に内部気孔及び気泡が形成されるために、パッケージのチップクラック及び層分離等の問題が生ずる虞れがある。これを防止するために、パッドの中央に通り穴を設けてチップとパッドとの間の接着面積を縮める設計が活用されているが、接着剤の流動性及び特性のために接着面積の最小化には限界がある。
【０００５】
最近では、前記のような短所を改善するためにテープを用いた接着方法が用いられている。この方法は、リードフレームのパッドを変形させたタイプと、パッドを取り除いたCOL(Chip on Lead)、LOC(Lead on Chip)タイプとに大別される。
【０００６】
パッドを変形させたタイプは、少なくとも２つ以上のサポートバー又はタイバーがパッドと連結されパッドを支持し、パッドの内部に四角状あるいは円状の通り穴を設けその縁部のみにテープを取り付けることにより、半導体チップとパッドの熱膨張係数の差による半導体チップのチップクラック、層分離及びチップポッピングを防止する。このようなテープ接着方式は従来のAg-Epoxy接着方式に比べてパッドの通り穴の設計が容易で、テープの接着面の厚みが均一で、接着の信頼性が高い。
【０００７】
図１は、従来の技術によるLOCタイプのリードフレームを示したものである。図１を参照すると、リードフレームのインナーリード２，２′と半導体チップ１０は絶縁接着フィルム３，３′により接着される。このようなLOCタイプのリードフレームの製造工程を見ると、まずインナーリード２，２′の端部上面４ａに所定の長さだけメッキ層４，４′を形成する。これはワイヤーのボンディング時において導電性を向上させるためのものであり、通常は銀を用いてメッキされる。次いで、インナーリード２，２′の反対面に絶縁接着フィルム３，３′をコーティングさせ半導体チップ１０を取り付けた後、ヒーター１，１′にて熱加圧して最終的に接着させる。
【０００８】
しかしながら、前記のような製造工程において、メッキ層４，４′の形成後に半導体チップ１０の接着のためにヒーター１，１′に加圧する際、インナーリードの端部上面４ａのメッキされない部分とメッキされた部分との高さが異なるために、ヒーター１の加圧力は均一に分布しない。結果的に、絶縁接着フィルム３と半導体チップ１０との接着に必要な力が均一に伝達されなくなる。特に、メッキ層４′に突出部４ｂが形成されると、加圧力の分布は更に不均一になる。このような加圧力の不均一はリードフレームと半導体素子との間に未接着部位を発生させ半導体パッケージのクラックの原因となる。かつ、LOCタイプのリードフレームの製造時に前記のような未接着部の発生を防止するために、絶縁接着フィルムが取り付けられた部位に過度な圧力や高温を加えなければならないという難点がある。
【０００９】
【発明が解決しょうとする課題】
本発明は前記のような問題点を改善するために考案されたものであり、リードフレームの端部の上面にメッキ溝を形成し、その部分にメッキ層を形成することにより、高さを等しくして絶縁フィルムの接着時に加圧力を均一に分布させるリードフレームを提供することを目的とする。
【００１０】
かつ、本発明の他の目的は前記のようなメッキ溝を形成し、これを用いて半導体を組み立てる半導体パッケージ方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために本発明による半導体リードフレームは、絶縁接着フィルムにより半導体チップが取り付けられる半導体リードフレームであって、前記絶縁接着フィルムが取り付けれる面の反対の面の端部に所定の深さのメッキ溝が形成されたインナーリードと、その上面が前記インナーリードの反対面と同一平面上に置かれるように、前記メッキ溝内に形成されたメッキ層とを有することを特徴とする。
【００１２】
前記メッキ層の厚みは前記インナーリードの厚みの７０％以内であることが望ましい。
【００１３】
かつ、前記メッキ溝は少なくとも前記絶縁フィルム接着部位より長いことが望ましい。
【００１４】
前記他の目的を達成するために本発明の半導体パッケージ方法は、インナーリードの絶縁フィルム接着面の反対面の端部にメッキ溝を形成する過程と、その上面が前記インナーリードの反対面と同一平面上に置かれるように、前記メッキ溝内にメッキ層を形成させる過程と、前記インナーリードのメッキ層の反対面に絶縁接着フィルムを取り付けヒーターによって半導体チップを加圧接着させる過程とを有することを特徴とする。
【００１５】
前記メッキ溝はプレス加工又はハーフエッチング加工により形成されることが望ましい。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を添付した図面に基づき更に詳細に説明する。
【００１７】
図２を参照すると、本発明によるLOCタイプ又はCOLタイプの半導体リードフレームのインナーリード１２と半導体チップ１０とは絶縁接着フィルム１３によって接着される。
【００１８】
本発明による半導体リードフレームのインナーリード１２の一面にはメッキ層１４のためのメッキ溝１５が形成されている。前記メッキ溝１５はプレス加工又はハーフエッチング加工により形成される。かつ、加圧力を均一に分布するために、前記メッキ溝１５の長さＬは後述する通り絶縁接着フィルム１３が取り付けられた部分より長いことが望ましい。
【００１９】
メッキ溝１５が形成された後、前記メッキ溝１５内にはメッキ層１４が形成される。この際、メッキ層１４は金又は銀から形成される。前記形成されるメッキ層１４の厚みＤは、前記メッキ層１４の上面が前記インナーリード１２の上面と同一平面上に置かれるように、おおむねインナーリード１２の厚みの７０％以内の範囲に設定されることが望ましい。もし、前記メッキ層１４が厚すぎるとリードフレームの強度が低下する虞れがある。前記メッキ層１４はメッキ溝１５を完全に埋め込むように形成されることもできるが、ヒーター（図示せず）の加圧力が均一に伝達されるように適宜に調節することができる。
【００２０】
メッキ層１４が形成された後に、インナーリード１２の反対面に絶縁接着フィルム１３を取り付け、ヒーター（図示せず）によって半導体チップ１０を加圧して接合させる。この際、前記メッキ層１４とインナーリード１２の上面は互いに同一平面上に置かれるので、ヒーターによりリードフレームのインナーリード１２及び半導体チップ１０に加えられる加圧力も位置によらず均一である。
【００２１】
次いで、インナーリード１２のメッキ層１４と半導体チップ１０とのワイヤーボンディングが行われ、後続的なパッケージ工程が行われる。
【００２２】
【発明の効果】
以上、本発明による半導体リードフレーム及び半導体パッケージ方法によると、テープの接着を用いた半導体チップ組立工程において、ヒーターからリードフレーム及び半導体チップへと均一な加圧力を伝達させることにより、未接着部位の発生を防いで不良率を下げ、後続工程で生ずる製品の亀裂及び損傷を防止して半導体パッケージの信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の半導体リードフレームと半導体チップとの接着状態を示した概略断面図。
【図２】本発明による半導体リードフレームと半導体チップの接着状態を示した概略断面図。
【符号の説明】
１，１′  ヒータ
２，２′  リードフレームのインナーリード
３，３′  絶縁接着フィルム
４，４′  メッキ層
４ａ  インナーリードの上面
４ｂ  メッキ層の凸部
１０  半導体チップ
１２  リードフレームのインナーリード
１３  絶縁接着フィルム
１４  メッキ層
１５  メッキ溝
【図１】
0003839891.tif 000002
【図２】
0003839891.tif 000003