(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェーハ上に配置され、ウェーハの表面上に光を照射するために中央部に形成されたホールならびに外部からの空気を吸入するための空間を有し、前記空間は前記ホールを中心に前記ホールから外側に遠ざかるほど厚くなるように形成され上面が凹むように形成されかつ中心に向かって下方向に傾斜するように形成されている円錐形状の内側壁ならびに外側壁に限定され、下面は開放状で前記ウェーハに対向するように形成されている環形上部フレームと、
複数の微細なホールを有し、前記環形上部フレームの空間をカバーするように前記環形上部フレームの下部周辺部に結合され、前記環形上部フレームの空間から前記複数の微細なホールを通じて前記ウェーハの上面に向かって均一な圧力で空気が噴出される環形基底部材とを備えることを特徴とするエアシャワーヘッド。
【請求項２】
前記環形基底部材は、ヤーンで編まれた織物であることを特徴とする請求項１に記載のエアシャワーヘッド。
【請求項３】
前記環形上部フレームの内、外側壁のうち少なくとも一方は、前記環形上部フレームの下部から内部空間に向かってＵ字形に折曲げられている折曲部を有し、前記環形基底部材は前記折曲部に挿入され固定されていることを特徴とする請求項２に記載のエアシャワーヘッド。
【請求項４】
前記環形上部フレームの内、外側壁のうち一方の下部周辺部の形状に対応する形状を有するクランプ本体を含むクランプを備え、前記環形基底部材の一側周辺部が前記クランプ本体と前記下部周辺部との間に延伸し前記環形上部フレームの内、外側壁のうち一方の下部に固定されていることを特徴とする請求項２に記載のエアシャワーヘッド。
【請求項５】
前記下部周辺部は前記環形上部フレームの空間の外側に設けられ、前記環形基底部材の一側周辺部は前記環形上部フレームの空間の外側に沿って延伸していることを特徴とする請求項４に記載のエアシャワーヘッド。
【請求項６】
前記下部周辺部は前記環形上部フレームの内側に設けられ、前記環形基底部材の一側周辺部は前記環形上部フレームの空間の内側に沿って延伸していることを特徴とする請求項４に記載のエアシャワーヘッド。
【請求項７】
前記下部周辺部は、前記環形上部フレームの内、外側壁のうち一方の下部面に設けられ、前記環形基底部材の一側周辺部は前記環形上部フレームの内、外側壁のうち一方の下部面に沿って延伸していることを特徴とする請求項４に記載のエアシャワーヘッド。
【請求項８】
前記環形基底部材の一側周辺部は、折られている状態で固定されていることを特徴とする請求項７に記載のエアシャワーヘッド。
【請求項９】
前記クランプは、前記環形上部フレームに前記クランプ本体を結合して固定するための固定部材をさらに有することを特徴とする請求項４に記載のエアシャワーヘッド。
【請求項１０】
前記固定部材は、ねじまたはリベットであることを特徴とする請求項９に記載のエアシャワーヘッド。
【請求項１１】
前記環形基底部材と前記環形上部フレームとの間の間隙をシールするための少なくとも一つのシリコン接着部材をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のエアシャワーヘッド。
【請求項１２】
前記環形基底部材は、耐化学性のメタルを含むことを特徴とする請求項１に記載のエアシャワーヘッド。
【請求項１３】
前記メタルは、金または白金であることを特徴とする請求項１２に記載のエアシャワーヘッド。
【請求項１４】
ウェーハ上に形成されたフォトレジストを露光するためにウェーハが置かれるウェーハステージと、
前記ウェーハステージの上部に設置され、レンズ部を有する露光部と、
前記露光部と前記ウェーハステージとの間に設置され、前記ウェーハステージの周辺の異物による前記フォトレジストの汚染を防止するために前記ウェーハステージに空気を供給するエアシャワーヘッドとを備え、
前記エアシャワーヘッドは、
前記ウェーハ上に配置され、前記ウェーハの表面上に光を照射するために中央部に形成されたホールならびに外部からの空気を吸入するための空間を含み、前記空間は前記ホールを中心にして前記ホールから外側に遠ざかるほど厚くなるように形成され上面が凹むように形成されかつ中心に向かって下方向に傾斜するように形成されている円錐形状の内側壁ならびに外側壁に限定され、下面は開放状で前記ウェーハに向かって形成されている環形上部フレームと、
複数の微細なホールを含み、前記環形上部フレームの空間をカバーするように前記環形上部フレームの下部周辺部に結合され、前記環形上部フレームの空間から前記複数の微細なホールを通じて前記ウェーハの上面に向かって均一な圧力で空気が噴出される環形基底部材とを有することを特徴とするフォトリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記環形基底部材は、ヤーンで編まれた織物であることを特徴とする請求項１４に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項１６】
前記環形上部フレームの内、外側壁のうち少なくとも一方は、前記環形上部フレームの下部から内部空間に向かってＵ字形に折曲げられている折曲部を有し、前記環形基底部材は前記折曲部に挿入されて固定されていることを特徴とする請求項１５に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項１７】
前記環形上部フレームの内、外側壁のうち一方の下部周辺部の形状に対応する形状を有するクランプ本体を有するクランプを備え、前記環形基底部材の一側周辺部が前記クランプ本体と前記下部周辺部との間に延伸し前記環形上部フレームの内、外側壁のうち一方の下部に固定されていることを特徴とする請求項１５に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項１８】
前記下部周辺部は前記環形上部フレームの空間の外側に設けられ、前記環形基底部材の一側周辺部は前記環形上部フレームの空間の外側に沿って延伸していることを特徴とする請求項１７に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項１９】
前記下部周辺部は前記環形上部フレームの内側に設けられ、前記環形基底部材の一側周辺部は前記環形上部フレームの空間の内側に沿って延伸していることを特徴とする請求項１７に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項２０】
前記下部周辺部は前記環形上部フレームの内、外側壁のうち一方の下部面に設けられ、前記環形基底部材の一側周辺部は前記環形上部フレームの内、外側壁のうち一方の下部面に沿って延伸していることを特徴とする請求項１７に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項２１】
前記環形基底部材の一側周辺部は、折られている状態で固定されていることを特徴とする請求項２０に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項２２】
前記クランプは、前記環形上部フレームに前記クランプ本体を結合して固定するための固定部材をさらに有することを特徴とする請求項１７に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項２３】
前記固定部材は、ねじまたはリベットであることを特徴とする請求項２２に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項２４】
前記環形基底部材と前記環形上部フレームとの間の間隙をシールするための少なくとも一つのシリコン接着部材をさらに備えることを特徴とする請求項１４に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項２５】
前記環形基底部材は、耐化学性のメタルを含むことを特徴とする請求項１４に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項２６】
前記メタルは、金または白金であることを特徴とする請求項２５に記載のフォトリソグラフィ装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造をするための露光装置に関するものであり、より具体的には半導体製造工程のうちのフォトリソグラフィ工程で使用されるフォトリソグラフィ装置ならびにそのフォトリソグラフィ装置に用いられるエアシャワーヘッドに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
微細な回路を製造するためには、シリコン基板上の小さい領域に不純物を正確に調節して注入する。領域は相互に連結されて素子及びＶＬＳＩ（ｖｅｒｙ  ｌａｒｇｅ  ｓｃａｌｅ  ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ）回路を形成する。これら領域を限定するために、フォトリソグラフィ（ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）工程によって形成されたパターンを使用する。即ち、ウェーハ（基板）上に感光性フォトレジストをコーティングし、設計されたマスクを通じて得られるフォトレジスト層に紫外線、電子線またはＸ線などを照射してこれを選択的に露光させた後に現像し、マスクパターンと同一または反対であるパターンを有するフォトレジストパターンを得る。残ったフォトレジストは、そのフォトレジストが塗布されている基板を保護することになり、レジストが除去された部分には残留するフォトレジストパターンを利用して、基板の表面上に各種付加的または抽出的工程を実施する。
【０００３】
半導体素子または半導体チップは、上述したフォトリソグラフィ工程を含む、化学または物理的蒸着及びプラズマエッチングなどのような一連の半導体工程を経て製造される。フォトリソグラフィ工程を実施するための装置の一例が米国特許第５９６３３２４号に開示されている。
【０００４】
フォトリソグラフィ技術は、半導体製造工程のうちで核心工程の一つと見なされ、ミクロン以下のデザインルールにおいて最近では、０．２５ミクロン以下のデザインルールを有するように高集積化が進行している。これによって、新しい工程の変数を考慮しなければならない。このような工程変数のうちでは、空気による汚染問題が台頭している。特に、フォトリソグラフィ工程アンモニアやアミン類のような化学物質は、フォトレジスト層上で紫外線によって活性化される光活性化合物（Ｐｈｏｔｏ  Ａｃｔｉｖｅ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄ）と反応してパターンの形成を阻害することで知られてきた。従って、このような化学物質によってウェーハが汚染されることを防止するために、化学フィルタを使用してフォトリソグラフィ装置のレンズ付近からウェーハに空気を供給する方法が呈示されている（日本特開平９−２８３４０１号参照）。
【０００５】
より具体的には、エアシャワーヘッドが露光装置のレンズ付近に設置され、ウェーハの汚染を防止するためにエアシャワーヘッドによって空気がウェーハ周辺に供給される。
図１は、露光装置に空気を供給するための空気循環システムを示す概略図である。図１に示すように、空気調整装置１０の一側には冷却水ライン１２を通じて冷却水が供給され、他側には循環空気ライン５０を通じて空気が供給される。循環空気ライン５０を通じて空気調整装置１０に供給された空気は、冷却水と接触しながら冷却されて化学薬品フィルタ装置２０に供給される。化学薬品は、化学薬品フィルタ装置２０によって化学フィルタリングされる。フィルタリングされたきれいな空気は、第１、第２及び第３空気供給ライン５０ａ、５０ｂ、５０ｃが設置されている空気分配装置３０へ供給される。まず、第１供給ライン５０ａを通じて供給された空気は空気分配装置３０を経て露光装置（図示せず）へ供給される。第２供給ライン５０ｂを通じて供給された空気は物質粒子を漉すための第１フィルタ３２を経てこの物質粒子が除去され、続けてウェーハ予備整列ステージまたはウェーハ移送システムに供給される。第３供給ライン５０ｃを通じて供給された空気は、熱交換機３６と第２フィルタ３４を経て一定な温度と湿度で調整され、露光装置のウェーハステージの上部に配置されるエアシャワーヘッドへ供給される。
【０００６】
図２と図３を参照すれば、エアシャワーヘッド１００は露光装置のレンズ部１４０下部に配置される。より具体的には、エアシャワーヘッド１００はウェーハ（図示せず）と露光装置のレンズ部１４０との間に配置される。エアシャワーヘッド１００は、上部フレーム１２０と上部フレーム１２０の下部に付着するように設置されている下部多孔部材１３０とにより構成されている。
【０００７】
上部フレーム１２０は内側壁１２４、上部壁１２６及び外側壁１２８を有する。内側壁１２４は、エアシャワーヘッド１００の上部で凹むように形成され、上部壁１２６は内側壁１２４の周辺部で平坦に形成される。かつ、エアシャワーヘッド１００はレンズ部１４０を通過した光線がウェーハに照射されるように、上部フレーム１２０と下部多孔部材１３０の中央にホールを備える。内側壁１２４は、エアシャワーヘッド１００の中央部から径方向にテーパ状部分を形成する。かつ、内側壁１２４の厚みはホール１２２の周辺部から上部壁１２６まで径方向の外側に行くほど増加する。エアシャワーヘッド１００の内部には下部多孔部材１３０と上部フレーム１２０によって限定される空間が形成される。
【０００８】
図３と図４を参照すれば、上部フレーム１２０の外側壁１２８の下部末端部１２８ａは下部多孔部材１３０に接合され、これと類似であるように上部フレーム１２０の内側壁１２４の下部末端部１２２ａは下部多孔部材１３０と接合されている。
【０００９】
下部多孔部材１３０は、中央に上部フレーム１２０のホール１２２に対応するホールが形成されている。下部多孔部材１３０は耐化学性合成ヤーン（ｙａｒｎ）を疎に編んだ織物（ｗｏｖｅｎ  ｆａｂｒｉｃ）で製造され、微細な多数のホールが編まれたヤーン間にマトリックス形態で配列されている。図４は、図３のＡ部分の拡大断面図として、上部フレーム１２０のホール１２２の周辺部の下部末端部１２２ａと下部多孔部材１３０との接合状態を示している。図示したように、下部多孔部材１３０は上部フレーム１２０の下部に化学接着材１１０によって接着される。
【００１０】
図１に示した第３空気供給ライン５０ｃはエアシャワーヘッド１００の一側に接続され、エアシャワーヘッド１００の上部フレーム１２０の内部空間に空気を供給する。供給された空気は、下部多孔部材１３０のホールを通じて外部に噴出し、ウェーハの上部へ供給される。従って、ウェーハステージの部位は、外部に比べて高い圧力を維持することになる。その結果、周辺の異物がウェーハへ流入することを防止できる。
【００１１】
しかし、エアシャワーヘッド１００の使用は最近の高集積化された半導体装置を製造することにおいては、むしろ有機汚染物質を発生させる原因になっている。即ち、上部フレーム１２０と下部多孔部材１３０間の接着のために使用される化学接着材１１０から持続的に有機汚染物質などがガスの形態で発生する。かつ、下部多孔部材１３０は一般的なヤーンを仕上げる方法により、エアシャワーヘッド１００の上部フレーム１２０に結合されるために、ヤーンから分離された粒子形態物質やヤーン形態の異物がウェーハ上に付着してフォトレジストを汚染させることになる。
【００１２】
本発明者は、このような汚染原因がエアシャワーヘッド１００の存在であることを証明するために、図１の第３空気供給ライン５０ｃを通じてエアシャワーヘッド１００がある露光装置のウェーハステージへ供給された空気を回収して第１裸ウェーハ（ｂａｒｅ  ｗａｆｅｒ）を放置させ、第２空気供給ライン５０ｂを通じてエアシャワーヘッド１００がないウェーハ移送システムへ供給された空気を回収して第２裸ウェーハを放置させた。
【００１３】
裸ウェーハは、放置前にフッ酸溶液と洗浄液を使用して同様にクリーニングを実施した。放置時間は、各々４時間にした。放置後に、各々のウェーハ上に存在する有機物質を分析するためにＦＴＩＲ吸収度を測定した。図５は、第１裸ウェーハと第２裸ウェーハ上のＣ−Ｈ結合を有する有機物質を分析するためのチャートであり、図６は、第１裸ウェーハと第２裸ウェーハ上のＣ−Ｘ（Ｘはハロゲンである）、Ｓ＝Ｏ、Ｃ−Ｎ結合を有する有機物質を分析するためのチャートである。
【００１４】
図５及び図６で、点線はエアシャワーヘッド１００がある露光装置のウェーハステージへ供給された空気中に放置された第１裸ウェーハ上の汚染物質を示したチャートであり、実線は第２空気供給ライン５０ｂを通じてエアシャワーヘッド１００がないウェーハ移送システムへ供給された空気中に放置された第２裸ウェーハ上の汚染物質を示したチャートである。図５及び図６から、エアシャワーヘッド１００がないウェーハ移送システムから回収した空気は汚染が小さいことが分かり、エアシャワーヘッド１００があるウェーハステージから回収した空気は、化学物質によって比較的汚染が大きいことが分かった。このような汚染物質の例としては、１−ブタノール、３−メチル  １−ヘプテン、４−メチル、１，６−ジオキシクロロドデカン（ｄｉｏｘａｓｉｃｌｏｒｏｄｅｋａｎ）−７、１２−ジオン（ｄｉｏｎ）２−ヘプテン、３−メチル  ２−ペンタノーン、４−メチル  ２−プロパノール、１−メキトシプロピオン酸類、トリメチル−２、４、４ヘキサン−１のような有機物質と塩素を挙げることができる。このような汚染物質は、設備の腐食を起こすだけでなく、レンズ表面にヘーズ（ｈａｚｅ）を発生させて光線の強度を低下させる原因になる。かつ、有機物質の場合には、ウェーハ上に塗布されたフォトレジスト中の光活性化合物と反応してパターンの形成を阻害する場合もある。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、フォトリソグラフィ工程でウェーハのパターン形成阻害を防止し、汚染物質が含まれない空気を供給するエアーシャワーヘッド及びそれを用いたフォトリソグラフィ装置を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明のフォトリソグラフィ装置のエアシャワーヘッドは、下部多孔部材が化学接着材の代わりに物理的に上部フレームに結合される。
より具体的には、上部フレームはＵ字形の折曲部が各々設けられた内側壁と外側壁を有する。下部多孔部材の内側末端部と外側末端部は折曲部に各々挿入されて結合される。
【００１７】
また、上部フレームの内側壁と外側壁の下部末端部に、下部多孔部材の内側末端部と外側末端部が各々堅固に締結される。
本発明によると、エアシャワーヘッドは化学接着材を使用しないために、ウェーハ上のフォトレジスト層が光活性化合物と反応することができる有機物質によって汚染されるのを防止することができ、有機物質によりレンズにヘーズが発生するのを防止することができる。従って、本発明によるエアシャワーヘッドを使用することで、良質なフォトレジストパターンを形成することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
図７と図８を参照すれば、本発明の第１実施例によるエアシャワーヘッド２００はウェーハステージとレンズ部２４０との間に設置されている。エアシャワーヘッド２００は環形上部フレーム２２０と環形上部フレーム２２０の下部に付着している環形下部多孔部材２３０とにより構成される。
【００１９】
上部フレーム２２０は下部が開放状の空間を限定する内側壁２２４、上部壁２２６及び外側壁２２８を含む。内側壁２２４は上部フレーム２２０の上部で凹むように形成され、上部壁２２６は内側壁２２４の周辺部で平坦に形成される。また、エアシャワーヘッド２００は、レンズ部２４０を通過した光線がウェーハに照射されるように上部フレーム２２０と下部多孔部材２３０の中央にホールを有する。
【００２０】
内側壁２２４は、ホール２２２に向かって内部下方向に傾斜する円錐形状を有する。内側壁２２４はエアシャワーヘッド２００の中央部から径方向にテーパ状部分を形成する。また、内側壁２２４の厚みはホール２２２の周辺部から上部壁２２６まで径方向の外側に行くほど増加する。エアシャワーヘッド２００の内部には下部多孔部材２３０と環形上部フレーム２２０によって限定される空間が形成される。
【００２１】
下部多孔部材２３０は耐化学性合成ヤーンを疎に編んだ織物で製造され、微細な多数のホールが編まれたヤーン間にマトリックス形態で配列されている。かつ、下部多孔部材２３０は金や白金のような耐化学性メタルで製造することができる。前記のような場合、下部多孔部材２３０は耐化学性メタルで製造されたメタル織物やパンチ加工を通じて形成された微細なホールを有する耐化学性メタル板を含む。
【００２２】
図８と図９を参照すれば、上部フレーム２２０の外側壁２２８の下部末端部２２８ａは下部多孔部材２３０に結合される。内側壁２２４の下部末端部２２８ａは、ホール２２２の周辺で下部多孔部材２３０と物理的に結合される。より具体的には、図９に示したように、内側壁２２４の下部末端部２２２ａは結合部材２５０によって上部フレーム２２０の中央部のホール２２２の周辺部で下部多孔部材２３０と結合される。
【００２３】
結合部材２５０は、上部フレーム２２０のホール２２２周辺部の下部末端部２２２ａ、ならびに上部フレーム２２０の内部に向かってＵ字形に折曲げられている第１折曲部２２２ｂを含む。かつ、上部フレーム２２０の外側壁２２８の下部末端部２２８ａには第１折曲部２２２ｂと類似の第２折曲部２２８ｂが形成されている。
【００２４】
下部多孔部材２３０は第１及び第２折曲部２２２ｂ、２２８ｂに挿入されて固定される。下部多孔部材２３０を固定するときに、広げた状態で固定することもできるが、下部多孔部材２３０の末端でヤーン性パーティクルが分離することを防止するために、Ｕ字形に折曲げられている第１及び第２折曲部２２２ｂ、２２８ｂの長さほどまたはこれより若干小さく下部多孔部材２３０の末端部を折って、第１及び第２折曲部２２２ｂ、２２８ｂに挿入させて固定する。
【００２５】
また、必要によっては、下部多孔部材２３０と上部フレーム２２０の第１及び第２折曲部２２２ｂ、２２８ｂとの間の間隙をシールするためにシリコンシーリング部材２２５をさらに含むことができる。シリコンシーリング部材２２５は化学的に安定しているので、有機物質の発生（ｏｕｔｇａｓｓｉｎｇ）を減らすことができる。
【００２６】
図１に示した第３空気供給ライン５０ｃはエアシャワーヘッド２００の一側に接続され、エアシャワーヘッド２００の上部フレーム２２０の内部空間に空気を供給する。供給された空気は、下部多孔部材２３０のホールを通じて外部へ噴出され、ウェーハの上部へ供給される。従って、ウェーハステージの部位は、外部に比べて高い圧力を維持している。その結果、周辺の異物がウェーハの周辺に流入してウェーハ上に塗布されたフォトレジスト膜が汚染されることを防止できる。
【００２７】
本実施例によると、化学接着材を使用せず下部多孔部材２３０を上部フレーム２２０に固定させるために、上部フレーム２２０の末端にＵ字形折曲部を形成し、Ｕ字形折曲部に下部多孔部材２３０を挿入して固定させる。かつ、微細な隙間は必要によって、化学的に安定なシリコンシーリング部材２２５で処理する。
【００２８】
従って、化学接着材１１０からの有機物質と塩素の発生を防止することができる。また、下部多孔部材２３０を折って折曲部に挿入する場合には、下部多孔部材２３０の末端部で紡績糸が解けることにより生成されるヤーン状パーティクルの発生を抑制することができる。
【００２９】
図１０から図１３は、本発明の別の実施例による結合部材を含むエアシャワーヘッドの上部フレームのホールと下部多孔部材のホールとの接合部を示す拡大断面図である。図１０から図１３は、図９の折曲部の代わりにクランプ２５５を利用して下部多孔部材２３０を上部フレーム２２０に結合させた状態を示している。
【００３０】
即ち、結合部材としては、上部フレーム２２０の下面周辺部の形状に対応する形状を有するクランプ２５５を含む。下部多孔部材２３０はクランプ２５５と上部フレーム２２０の周辺部２２２ａとの間に固定される。
本発明の第２実施例によると、図１０に示したように、クランプ２５５は上部フレーム２２０の末端部２２２ａの外側に設置される。下部多孔部材２３０の末端部２３０ａは、上部フレーム２２０の内側壁２２４の末端部２２２ａの外側に沿って延伸し、クランプ２５５と下部末端部２２２ａの外側との間に挿入されて固定される。
【００３１】
本発明の第３実施例によると、図１１に示したように、クランプ２５５は環形上部フレーム２２０の下部末端部２２２ａの内側に設置される。下部多孔部材２３０の末端部２３０ａは上部フレーム２２０の内側壁２２４の末端部２２２ａの内側に沿って延伸し、クランプ２５５と末端部２２２ａの内側との間に挿入されて固定される。
【００３２】
本発明の第４実施例によると、図１２に示したように、クランプ２５５は上部フレーム２２０の末端部２２２ａの下面に設置される。下部多孔部材２３０の末端部２３０ａは、折られた状態でクランプ２５５と末端部２２２ａの下面との間に挿入されて固定される。かつ、図１３に示したように、クランプ２５５と末端部２２２ａの下面との間の微細な隙間は安定なシリコンシーリング部材２２５で埋められている。
【００３３】
クランプ２５５は、クランプ２５５本体を上部フレーム２２０に固定するための固定部材をさらに含む。図１０及び図１２に示したように、固定部材は、ねじ２６０またはリベットを含むことができる。
図１０から図１３には、上部フレーム２２０の内側壁２２４の末端部２２２ａと下部多孔部材２３０の内側末端部２３０ａとを接合させる結合構造のみを示したが、下部多孔部材２３０の外側末端部と上部フレーム２２０の外側壁２２８の下端部２２８ａとの結合構造も同一な方式に変更することができる。
以上、本発明の実施例を詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できるであろう。
【００３４】
【発明の効果】
本発明によると、エアシャワーヘッドの下部多孔部材は化学接着材を使用せず、上部フレームに物理的に結合される。従って、エアシャワーヘッドの下に位置するウェーハが化学接着材から持続的に発生する有機物質によって汚染されることを防止し、パーティクルによる汚染も防止する。かつ、フォトリソグラフィ工程中に露光装置のレンズ部に発生するヘーズを防止する。従って、レンズ部を通じて照射される光によって良質のフォトレジストパターンを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】露光装置に空気を供給するための空気循環システムを示す概略図である。
【図２】露光装置に設置されているレンズ部とレンズ部の下に設置されている従来のエアシャワーヘッドを示す斜視図である。
【図３】図２に示したレンズ部とエアシャワーヘッドの中心部の側面図である。
【図４】図１のＡ部分の拡大断面図である。
【図５】裸ウェーハ上のＣ−Ｈ結合を有する有機物質を分析した結果を示すチャートである。
【図６】裸ウェーハ上のＣ−Ｘ（Ｘはハロゲンである）、Ｓ＝Ｏ、Ｃ−Ｎ結合を有する有機物質を分析した結果を示すチャートである。
【図７】本発明の第１実施例によるエアシャワーヘッドを示す斜視図である。
【図８】本発明の第１実施例によるレンズ部とエアシャワーヘッドの中心部の側面図である。
【図９】図８のＢ部分の拡大断面図である。
【図１０】本発明の第２実施例による結合部材を含むエアシャワーヘッドの上部フレームと下部多孔部材の接合部を示す拡大断面図である。
【図１１】本発明の第３実施例による結合部材を含むエアシャワーヘッドの上部フレームと下部多孔部材の接合部を示す拡大断面図である。
【図１２】本発明の第４実施例による結合部材を含むエアシャワーヘッドの上部フレームと下部多孔部材の接合部を示す拡大断面図である。
【図１３】本発明の第４実施例による結合部材を含むエアシャワーヘッドの上部フレームと下部多孔部材の接合部を示す拡大断面図である。
【符号の説明】
５０  循環空気ライン
５０ａ  第１空気供給ライン
５０ｂ  第２空気供給ライン
５０ｃ  第３空気供給ライン
２００  エアシャワーヘッド
２２０  上部フレーム
２２２  ホール
２２２ａ  下部末端部
２２２ｂ  第１折曲部
２２４  内側壁
２２５  シーリング部材
２２６  上部壁
２２８  外側壁
２２８ａ  下部末端部
２２８ｂ  第２折曲部
２３０  下部多孔部材
２４０  レンズ部
２５０  結合部材
２５５  クランプ
【図１】
0003786847.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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