(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
化粧品として許容可能なビヒクル中に：
(ａ)第１の遮蔽剤として、少なくとも１つの２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒドロキシ]-フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジンと、
(ｂ)第２の遮蔽剤として、少なくとも１つの次の構造：
【化１】
0003753224.tif 000029
を有するフェニレン-１,４-ビスベンゾイミダゾール-３,３',５,５'-テトラスルホン酸又はその塩類の１つと、
を含有し、該第１及び第２の遮蔽剤の濃度がそれぞれ組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％であることを特徴とする、皮膚及び／又は毛髪の光保護のための、局所的に使用される化粧品用組成物。
【請求項２】
第１の遮蔽剤の濃度が組成物の全重量に対して０．２〜１０重量％であることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
第２の遮蔽剤の濃度が、組成物の全重量に対して０．２〜１０重量％であることを特徴とする請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
前記化粧品として許容可能なビヒクルが、水中油型エマルションの形態で提供されることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
前記第１及び第２の遮蔽剤以外の、ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のある一又は複数の付加的な親水性又は親油性の有機遮蔽剤をさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
前記付加的な有機遮蔽剤が、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、トリアジン誘導体、１分子当たり少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有する化合物、及び／又は１分子当たり少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合物以外のベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体類、ジベンゾイルメタン誘導体、β,β'-ジフェニルアクリラート誘導体、ｐ-アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーンから選択されることを特徴とする請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
付加的なＵＶ光保護剤として、被覆又は非被覆金属酸化物により形成される顔料又はナノ顔料をさらに含有することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非被覆酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム又は酸化セリウム、及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
皮膚を人工的にサンタン状態にする、及び／又は褐色にする少なくとも１つの薬剤をさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、安定化剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマー類、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、又は染料から選択される少なくとも１つのアジュバントをさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
ヒトの表皮の保護用組成物又は抗日光組成物であって、非イオン性の小胞体分散液、エマルション、クリーム、ミルク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、チューブ状固体、フォーム又はスプレーの形態で提供されるものであることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
分散液、懸濁液又はエマルションのペースト状又は固体状、水性又は無水の形態で提供され、睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用組成物であることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１３】
紫外線からの毛髪の保護を意図した組成物において、該組成物がシャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態で提供されるものであることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１４】
請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の組成物を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用することからなることを特徴とする、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護するための美容処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に、紫外線から皮膚及び／又は毛髪を光保護することを意図し、局所的に使用される新規の化粧品用組成物（以下、この組成物を単に抗日光組成物と呼称する）、並びに上述した化粧品用途におけるこれら組成物の使用に関する。さらに本発明は、化粧品として許容可能なビヒクル中に、（ａ）第１の遮蔽剤として、少なくとも１つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤として、少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有する化合物又は少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合物の少なくとも１つとを組合せて含有し、該第１及び第２の遮蔽剤が、付与される日光保護ファクターについて相乗活性を生じる割合で、該組成物中に存在している抗日光組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は日焼けし、特にＵＶ−Ｂとして知られている２８０と３２０ｎｍの間の波長の光線により、自然なサンタン状態の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑を形成する；よって、このＵＶ−Ｂは遮蔽されなければならない。
また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持ち、皮膚をサンタン状態にするＵＶ−Ａも皮膚に悪い変化を誘発するおそれがあり、敏感肌又は頻繁に太陽光線にさらされている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ−Ａは、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。ＵＶ−Ａは紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個人においてはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にもなりうる。よって、ＵＶ−Ａもまた遮蔽することが望ましい。
【０００３】
皮膚の光（ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ）保護を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提供されている。
これら抗日光組成物は、かなり多くの場合、水中油型エマルション（すなわち、分散させる水性連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品として許容可能なビヒクル）の形態で提供されており、有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の通常の親油性及び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含有してなるもので、これらの遮蔽剤（及びその量）は、所望の保護ファクター［保護ファクター（ＰＦ）は、ＵＶ遮蔽剤を用いた場合に紅斑が形成され始めるまでに必要な照射時間の、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合に紅斑が形成され始めるまでに必要な時間に対する比率を数学的に表したものである］に従って選択される。
【０００４】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
実際、上述した光保護の分野において鋭意研究を行ったところ、本出願人は、驚くべきことに、また予期しないことに、従来から既に知られている２つの特定のサンスクリーン剤を組合せると、顕著な相乗効果により、大幅に改善された保護ファクターを有する抗日光組成物が得られることを見いだした。
この発見が本発明の基礎をなす。
【０００５】
よって、本発明の主題事項の一つは、化粧品として許容可能なビヒクル中に、（ａ）第１の遮蔽剤として、少なくとも１つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤として、少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有する化合物又は少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合物の少なくとも１つを含有し、該第１及び第２の遮蔽剤が、付与される日光保護ファクターについて相乗活性を生じる割合で該組成物中に存在していることを本質的に特徴とする新規化粧品用組成物、特に抗日光組成物を提供することにある。
【０００６】
本発明の他の主題事項は、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化粧品用組成物の製造における、上記のような組成物の使用にある。
【０００７】
また、本発明の他の主題事項は、本発明の組成物を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用することから本質的になる、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護するために美容処理方法にある。
【０００８】
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろう。
【０００９】
よって、本発明の主題事項の一つにおいては、化粧品として許容可能なビヒクル中に：
（ａ）第１の遮蔽剤として、少なくとも１つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体と；
（ｂ）第２の遮蔽剤として、１分子当たり少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有する化合物、又は１分子当たり少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合物の少なくとも１つ、
を含有し、該第１及び第２の遮蔽剤が、日光保護ファクターに関し、相乗活性が生じる割合で存在していることを特徴とする、新規の化粧品用及び／又は皮膚科学的組成物、特に抗日光組成物が提供される。
【００１０】
本明細書において「少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有する」という用語は、１分子当たり、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル又はベンゾイミダゾリル型の少なくとも２つの基を有するものと理解される。
本明細書において「少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する」という用語は、１分子当たり、ベンゾジオキサゾリル、ベンゾジチアゾリル又はベンゾジイミダゾリル型の基を有するものと理解される。
【００１１】
本発明に係るビスレゾルシニルトリアジン誘導体は、好ましくは次の式：
【化２０】
0003753224.tif 000002
［上式中、
（ｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよく、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基、Ｃ２−Ｃ１８アルケニル基又は式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＴ１（ここで、Ｔ１は水素原子かＣ１−Ｃ８アルキル基である）の残基を示し；
（ｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよく、次の式（１）：
【化２１】
0003753224.tif 000003
｛上式中、
−  ｍ１は１〜３の数であり；
−  Ｒ３は、ヒドロキシル基；一又は複数のヒドロキシル基で置換されるか非置換のＣ１−Ｃ５アルキル基；Ｃ１−Ｃ５アルコキシ基；アミノ基；モノ−もしくはジ（Ｃ１−Ｃ５）アルキルアミノ基；金属カチオンＭ；あるいは次の式（２）〜（７）：
【化２２】
0003753224.tif 000004
0003753224.tif 000005
（上式中、
−  Ｒ４、Ｒ５及びＲ６基は、同一でも異なっていてもよく、一又は複数のヒドロキシル基で置換されるか非置換のＣ１−Ｃ１４アルキル基を表し；ｍ３は２〜１４の数を表し；
−  Ｒ７は、水素原子、金属カチオンＭ、Ｃ１−Ｃ５アルキル基又は式−（ＣＨ２）ｍ２−ＯＴ１（ここで、ｍ２は１〜４の数でＴ１は上述と同じ意味を有する）の残基を表す）の一つから選ばれる残基を示す｝
（ｉｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよく、次の式（８）：
【化２３】
0003753224.tif 000006
（上式中、
−  Ｒ８は、共有結合、直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ４アルキル基又は式−Ｃｍ４Ｈ２ｍ４−もしくは−Ｃｍ４Ｈ２ｍ４−Ｏ−（ここで、ｍ４は１〜４の数である）の残基を表し；
−  ｐ１は０〜５の数であり；
−  Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１基は、同一でも異なっていてもよく、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基、Ｃ１−Ｃ１８アルコキシ基又は次の式：
【化２４】
0003753224.tif 000007
（上式中、Ｒ１２はＣ１−Ｃ５アルキル基である）の残基を示す）
の残基を示すことができ；
−  Ａ１は、次の式：
【化２５】
0003753224.tif 000008
［上式中、
−  Ｒ７は上述のものと同じ意味を有し；
−  Ｒ１３は水素原子、Ｃ１−Ｃ１０アルキル基、式−（ＣＨ２ＣＨＲ１６−Ｏ）ｎ１Ｒ７（ここでｎ１は１〜１６の数であり、Ｒ１６は水素又はメチルか、Ｔ１が上記と同じ意味を有する−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２ＯＨＴ１の構造の残基である）の基を示し；
−  Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基であり；
−  Ｒ１４は次の式（１）：
【化２６】
0003753224.tif 000009
に相当する基である］
の１つに対応する残基を示す］に相当する化合物から好適には選択される。
【００１２】
上述の式（Ｉ）及び（１）〜（１２）において：
−  アルキル基は、直鎖状又は分枝状で、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔｅｒｔ−アミル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル又はオクタデシルから選択することができ；
−  Ｃ２−Ｃ１８アルケニル基は、例えば、アリル、メタリル、イソプロペニル、２−ブテニル、３−ブテニル、イソブテニル、ｎ−ペンタ−２，４−ジエニル、３−メチルブテ（ｍｅｔｈｙｌｂｕｔ）−２−エニル、ｎ−オクテ（ｏｃｔ）−２−エニル、ｎ−ドデセ（ｄｏｄｅｃ）−２−エニル、イソドデセニル又はｎ−オクタデセ−４−エニルから選択することができ；
−  アルコキシ基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ又はｔｅｒｔ−アミルオキシから選択することができ；
−  モノ−もしくはジアルキルアミノ基は、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ｎ−ブチルアミノ、ｓｅｃ−ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ又はメチルエチルアミノから選択することができ；
−  金属カチオンＭはアルカリ金属、アルカリ土類金属、又は例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム、カルシウム、マグネシウム、銅及び亜鉛から選択される金属カチオンである。
【００１３】
本発明の式（Ｉ）のビスレゾルシニルトリアジン誘導体は、それ自体既に知られた遮蔽剤である。それらは、欧州特許公開第０７７５６９８号及び同第０８７８４６９号に開示され、そこで示された合成法に従い調製される（これらは本明細書の内容の一体部分を形成する）。
【００１４】
使用することができる式（Ｉ）のビスレゾルシニルトリアジン化合物の例としては、Ａ１基がパラ−メトキシフェニル又は４−エトキシフェニルを示し、Ｒ１及びＲ２基が、同一でも異なっていてもよく、次の構造：
【化２７】
0003753224.tif 000010
｛上式中、構造Ｒ３は、
−  ｔｅｒｔ−ブチルオキシ；
−  ＯＨ；
−  ＯＭ（ここで、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土類金属カチオン又は銅、マグネシウム又は亜鉛から選択されるカチオンである）；
−  次の構造：
【化２８】
0003753224.tif 000011
の基；
−  構造Ｏ−Ｎ＋（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）３の基；
−  次の構造：
【化２９】
0003753224.tif 000012
（ここで、ｎは２〜１６まで変わりうる）の基；
−  次の構造：
【化３０】
0003753224.tif 000013
の基；
−  次の構造：
【化３１】
0003753224.tif 000014
の基から選択される｝を持つ基を表す。
【００１５】
また、Ａ１基がパラ−ヒドロキシフェニルを示し、Ｒ１及びＲ２基が同時に次の構造：
【化３２】
0003753224.tif 000015
の基を表す式（Ｉ）に相当するビスレゾルシニルトリアジン化合物が挙げられる。
【００１６】
使用することができる式（Ｉ）の化合物の例として：
−  ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン；
−  ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン；
−  ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［４−（２−メトキシエチルオキシカルボニル）フェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン；
−  ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキシ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン；
−  ２，４−ビス｛［４−（２”−メチルプロペニルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン；
−  ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン；
−  ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［４−（エトキシカルボニル）フェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン；
−  ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（１−メチルピロール−２−イル）−１，３，５−トリアジン；
を挙げることができる。
【００１７】
本発明において特に好ましいビスレゾルシニルトリアジンから誘導される化合物は、
−  ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン；
−  ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキシ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン；
−  ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン；
からなる群から選択される。
【００１８】
ビスレゾルシニルトリアジン誘導体型のサンスクリーン又はサンスクリーン類は、組成物の全重量に対して、０．１〜１５重量％、好ましくは０．２〜１０重量％の含有量で組成物中に存在する。
【００１９】
本発明の少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有する化合物として好ましく使用されるものは、次の一般式（ＩＩ）：
【化３３】
0003753224.tif 000016
［上式中：
−  Ｚ’は、角括弧内に記載された少なくとも２つのベンゾアゾリル基の二重結合系を完結させ、完全に共役した単位を形成するように位置せしめられた一又は複数の二重結合を有する（ｐ２＋ｎ２）価の有機残基を表し；
−  Ｘ’はＳ、Ｏ又はＮＲ６を示し；
−  Ｒ１は、水素、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ５−Ｃ１５アリール、Ｃ２−Ｃ１８アシルオキシ、ＳＯ３Ｙ’又はＣＯＯＹ’を示し；
−  Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５基は同一でも異なっていてもよく、ニトロ基を示すか、又はＲ１と同一の意味を有し；
−  Ｒ６は水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はＣ１−Ｃ４ヒドロキシアルキルを示し；
−  Ｙ’は水素、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ４、１／２Ｃａ、１／２Ｍｇ、１／３Ａ１又は窒素性有機塩基による遊離の酸基の中和から得られるカチオンを示し；
−  ｍ５は０又は１であり；
−  ｎ２は２〜６の数であり；
−  ｐ２は１〜４の数であり；
−  但し、ｐ２＋ｎ２は６を越えない］
に対応するものである。
【００２０】
本発明の式（ＩＩ）の化合物は、欧州特許公開第０６６９３２３号において既に公知の水溶性のＵＶ−Ａ遮蔽剤である。それらは米国特許第２４６３２６４号及び欧州特許公開第０６６９３２３号に開示され、そこで示された合成法に従い調製される（これら２つの公報は本明細書の内容の一体部分を形成する）。
【００２１】
本発明の式（ＩＩ）の化合物として好ましくは、Ｚ’基が：
（ａ）例えば：
−ＣＨ＝ＣＨ−、
−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、又は
次の式：
【化３４】
0003753224.tif 000017
等の、Ｃ５−Ｃ１２アリール基又はＣ４−Ｃ１０ヘテロアリールが挿入され得る不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２−Ｃ６炭化水素性（ｈｙｄｒｏｃａｒｂｏｎａｃｅｏｕｓ）基；
（ｂ）例えば、以下の式：
【化３５】
0003753224.tif 000018
0003753224.tif 000019
の基等の、不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２−Ｃ６炭化水素性基が挿入され得るＣ５−Ｃ１５アリール基；
（ｃ）例えば、次の式：
【化３６】
0003753224.tif 000020
［上式中、Ｒ６は上述した同一の意味を有する］
の基等の、Ｃ３−Ｃ１０ヘテロアリール残基；
から選択され、
（ａ）項、（ｂ）項及び（ｃ）項で定義された上記Ｚ’基が、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、フェノキシ、ヒドロキシル、メチレンジオキシ又はアミノ基で置換可能で、アミノ基が一又は二のＣ１−Ｃ５アルキル基で置換されていてもよいものを挙げることができる。
【００２２】
使用可能な式（ＩＩ）の化合物の例として、次の構造を有するもの：
【化３７】
0003753224.tif 000021
0003753224.tif 000022
0003753224.tif 000023
0003753224.tif 000024
0003753224.tif 000025
及びその塩類を挙げることができる。
【００２３】
これら全ての化合物の中で、特に好ましいものは、次の構造を有する１，４−ビス（ベンゾイミダゾリル）フェニレン−３，３’，５，５’−テトラスルホン酸（化合物４）：
【化３８】
0003753224.tif 000026
及びその塩類である。
少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有する化合物の他の例としては、次の化合物：
【化３９】
0003753224.tif 000027
及びその塩類を挙げることができる。
【００２４】
本発明で使用可能な少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合物の例としては、次の化合物：
【化４０】
0003753224.tif 000028
及びその塩類を挙げることができる。
【００２５】
本発明のベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物又は化合物類は、組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％、好ましくは０．２〜１０重量％の濃度で、本発明の組成物中に存在する。
【００２６】
上述したように、本発明の必須の特徴によれば、２種類のサンスクリーン剤が、組合せた結果付与される保護ファクターについて顕著かつ大幅で有意な相乗効果が得られるような各割合で最終組成物中に存在するのが好ましい。
【００２７】
さらに一般的には、上述したビスレゾルシニルトリアジン誘導体及びベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物の濃度及び比率は、最終組成物の日光保護ファクターが好ましくは少なくとも２になるように選択される。
【００２８】
さらに、本発明の好ましい実施態様において、様々な種類の遮蔽剤が存在する化粧品として許容可能なビヒクルは、水中油型エマルションである。
【００２９】
もちろん、本発明の抗日光化粧品用組成物は、上述した２つの遮蔽剤以外にも、ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ領域に対して活性のある、一又は複数の付加的な親水性又は親油性のサンスクリーン剤（吸収剤）を含有してもよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、上記のもの以外のトリアジン誘導体、例えば欧州特許出願第８６３１４５号、同第５１７１０４号、同第５７０８３８号、同第７９６８５１号、同第７７５６９８号及び同第８７８４６９号に開示されているもの、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、β，β’−ジフェニルアクリラート誘導体、上記のもの以外のベンゾイミダゾール誘導体、ｐ−アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン、例えば国際公開９３／０４６６５号に開示されているものから選択される。
【００３０】
ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ領域に活性のある付加的なサンスクリーン剤の例としては：
ｐ−アミノ安息香酸、
オキシエチレン化（２５モル）ｐ−アミノベンゾアート、
２−エチルヘキシル−ｐ−ジメチルアミノベンゾアート、
Ｎ−オキシプロピレン化ｐ−アミノ安息香酸エチル、
グリセロール−ｐ−アミノベンゾアート、
ホモメンチルサリチラート、
２−エチルヘキシルサリチラート、
トリエタノールアミンサリチラート、
４−イソプロピルベンジルサリチラート、
４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
４−イソプロピルジベンゾイルメタン、
２−エチルヘキシル−４−メトキシシンナマート、
ジイソプロピルケイ皮酸メチル、
４−メトキシケイ皮酸イソアミル、
４−メトキシケイ皮酸ジエタノールアミン、
アントラニル酸メンチル、
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリラート、
２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチル、
２−フェニルベンゾイミダゾール−５−スルホン酸及びその塩類、
３−（４’−トリメチルアンモニオ）ベンジリデンボルナン−２−オン−メチルスルファート、
２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、
２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホナート、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、
２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、
２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、
２−ヒドロキシ−４−（ｎ−オクトキシ）ベンゾフェノン、
２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−メチルベンゾフェノン、
α−（２−オキソボルン−３−イリデン）トルエン−４−スルホン酸及びその塩類、
３−（４’−スルホベンジリデン）ボルナン−２−オン及びその塩類、
３−（４’−メチルベンジリデン）−ｄ，ｌ−ショウノウ、
３−ベンジリデン−ｄ，ｌ−ショウノウ、
ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１０−ショウノウスルホン酸）及びその塩類、
ウロカニン酸、
２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−トリアジン、
２−［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）アニリノ］−４，６−ビス［ｐ−（２’−エチルヘキシル−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−トリアジン、
Ｎ−［（２−及び４−）［（２−オキソボロン−３−イリデン）メチル］ベンジル］アクリルアミドのポリマー、
ドロメトリゾールトリシロキサン（ＩＮＣＩ名）、
マロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン類、
を挙げることができる。
【００３１】
また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を日焼けした状態にする、及び／又は褐色にするための薬剤（自己サンタン剤）、例えばジヒドロキシアセトン（ＤＨＡ）をさらに含有してもよい。
【００３２】
さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又は非被覆金属酸化物からなる顔料又はナノ顔料類（一次粒子の平均粒径：一般的に、５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ）、例えば、それ自体ＵＶ光保護剤としてよく知られている、酸化チタン（アモルファス、又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料類をさらに含有してもよい。また、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウムは常套的なコーティング剤である。このような被覆又は非被覆金属酸化物のナノ顔料類としては、特に、欧州特許公開第０５１８７７２号及び欧州特許公開第０５１８７７３号に開示されているものがある。
【００３３】
また、本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、染料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日光組成物の製造に通常使用されている任意の他の成分から選択される従来からの化粧品用アジュバントをさらに含有してもよい。
【００３４】
脂肪物質類は、油又はロウ又はそれらの混合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコール及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、植物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、流動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、イソパラフィン類、ポリ−α−オレフィン類、又はフッ化及び過フッ化油類から選択することができる。同様に、ロウは、それ自体公知である動物性ロウ、化石ロウ、植物性ロウ、鉱物性ロウ、又は合成ロウから選択することができる。
【００３５】
有機溶媒としては低級アルコール類及びポリオール類を挙げることができる。増粘剤は、特に、架橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグアーガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチルセルロースから選択することができる。
【００３６】
もちろん、当業者であれば、本発明の遮蔽剤の３つの組合せに固有の有利な特性、特に日光保護レベルが、考慮される添加において、全く又は実質的に悪影響を受けないように留意して、これら任意の付加的な化合物及び／又はそれらの量を選択するであろう。
【００３７】
本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製を意図した技術により調製することができる。
【００３８】
この組成物は、特に単一又は複合エマルション（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）、例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム−ゲル、パウダー又はチューブ状固体の形態で提供することもでき、エアゾールとして包装されてもよく、またフォーム又はスプレーの形態で提供することもできる。
【００３９】
エマルションの場合、エマルションの水相は、公知の方法［バングハム（Ｂａｎｇｈａｍ）、スタンディッシュ（Ｓｔａｎｄｉｓｈ）及びワトキンス（Ｗａｔｋｉｎｓ）の、Ｊ．Ｍｏｌ．Ｂｉｏｌ．，１３，２３８（１９６５）、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【００４０】
本発明の化粧品用組成物は、抗日光組成物又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として使用することができる。
【００４１】
本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒトの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、パウダー、チューブ状固体、棒状体、エアゾールフォーム又はスプレーの形態で提供することができる。
【００４２】
本発明の化粧品用組成物が、毛髪の保護用に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態として提供することができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用のローションもしくはスタイリング又はトリートメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、パーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化、染色又は脱色用の組成物を構成することもできる。
【００４３】
組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚のメークアップ用製品、例えば、表皮のトリートメントクリーム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、それは、無水又は水性、固体状又はペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液として提供することができる。
【００４４】
目安を示すと、水中油型エマルション型のビヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相（特に親水性の遮蔽剤を含有する）は、全組成物に対して、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０重量％、油相（特に親油性の遮蔽剤を含有する）は、全組成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％、（共）乳化剤（類）は、全組成物に対して０．５〜２０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
【００４５】
本明細書の最初に示したように、本発明の他の主題事項は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響からそれらを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処理方法にある。
【００４６】
【実施例】
次に本発明の実施例を例証するが、これらは本発明の範囲を限定するものではない。
実施例１
組成
セテアリールアルコールとオキシエチレン化
（３３ＥＯ）されたセテアリールアルコールの
８０／２０の混合物
［シンノワックス（Ｓｉｎｎｏｗａｘ）ＡＯ、ヘンケル社
（Ｈｅｎｋｅｌ）］                                            ７ｇ
グリセロールモノ−及びジステアラートの混合
物
［セラシント（Ｃｅｒａｓｙｎｔ）ＳＤ−Ｖ、ＩＳＰ社］          ２ｇ
セチルアルコール                                              １．５ｇ
ポリジメチルシロキサン
［ダウ・コーニング（Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ）２００フルイド、
ダウ・コーニング社］                                          １ｇ
Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート
［ウィトコノール（Ｗｉｔｃｏｎｏｌ）ＴＮ、ウィトコ（Ｗ
ｉｔｃｏ）社］                                              １５ｇ
２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−
２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン                              ２ｇ
グリセロール                                                １５ｇ
１，４−ビス（ベンゾイミダゾリル）フェニレン
−３，３’，５，５’−テトラスルホン酸                        ２ｇ
トリエタノールアミン                                  ｐＨを７にする量
防腐剤                                                            適量
脱塩水                                          全体を１００ｇにする量
【００４７】
実施例２
組成
グリセロール−モノ／ジステアラート／ポリエ
チレングリコール（１００ＥＯ）ステアラート混合物
［アルラセル（Ａｒｌａｃｅｌ）１６５ＦＬ、ＩＣＩ社］          ２ｇ
ステアリルアルコール
［ラネット（Ｌａｎｅｔｔｅ）１８、ヘンケル社］                １ｇ
パーム油ステアリン酸
［ステアリン（Ｓｔｅａｒｉｎｅ）ＴＰ、ステアリネリー
・デュボア社（Ｓｔｅａｒｉｎｅｒｉｅ  Ｄｕｂｏｉｓ）］        ２．５ｇ
ポリジメチルシロキサン
［ダウ・コーニング２００フルイド、ダウ・コーニ
ング社］                                                      ０．５ｇ
Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート
［ウィトコノールＴＮ、ウィトコ社］                          ２０ｇ
トリエタノールアミン                                          ０．５ｇ
２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキシ）
シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリ
アジン                                                        ２．５ｇ
グリセロール                                                  ５ｇ
ヘキサデシルホスファート、カリウム塩
［アンフィソール（Ａｍｐｈｉｓｏｌ）Ｋ、ホフマン−ラ
ロシュ社（Ｈｏｆｆｍａｎ−Ｌａｒｏｓｈｅ）］                  １ｇ
ポリアクリル酸
［シンタレン（Ｓｙｎｔｈａｌｅｎ）Ｋ、３Ｖ社］              ０．３ｇ
ヒドロキシプロピルメチルセルロース
［メトセル（Ｍｅｔｈｏｃｅｌ）Ｆ４Ｍ、ダウ・ケミカル社
（Ｄｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）］                              ０．１ｇ
１，４−ビス（ベンゾイミダゾリル）フェニレン
−３，３’，５，５’−テトラスルホン酸                      １．５ｇ
トリエタノールアミン                                    ｐＨを７にする量
防腐剤                                                              適量
脱塩水                                            全体を１００ｇにする量
【００４８】
実施例３
組成
セテアリールアルコールとオキシエチレン化
（３３ＥＯ）されたセテアリールアルコールの
８０／２０の混合物
［シンノワックス（Ｓｉｎｎｏｗａｘ）ＡＯ、ヘンケル社
（Ｈｅｎｋｅｌ）］                                            ７ｇ
グリセロールモノ−及びジステアラートの混合
物
［セラシント（Ｃｅｒａｓｙｎｔ）ＳＤ−Ｖ、ＩＳＰ社］          ２ｇ
セチルアルコール                                              １．５ｇ
ポリジメチルシロキサン
［ダウ・コーニング（Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ）２００フルイド、
ダウ・コーニング社］                                          １ｇ
Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート
［ウィトコノール（Ｗｉｔｃｏｎｏｌ）ＴＮ、ウィトコ社
（Ｗｉｔｃｏ）］                                            １５ｇ
２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，５’，５’，
５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−メチルプ
ロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−
（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン              ２ｇ
グリセロール                                                １５ｇ
１，４−ビス（ベンゾイミダゾリル）フェニレン
−３，３’，５，５’−テトラスルホン酸                        １．５ｇ
トリエタノールアミン                                  ｐＨを７にする量
防腐剤                                                            適量
脱塩水                                          全体を１００ｇにする量