(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層を挟んで素子基板と対向基板とを対向させてなり、
前記素子基板には前記液晶層を構成する液晶分子のダイレクタの方向を規定する配向膜が形成され、
前記対向基板には複数本のストライプ状の対向電極が形成され、
前記素子基板には前記対向電極のいずれかと対向する複数の画素電極が形成されるとともに、各画素電極に駆動信号を供給するための複数の導通ラインが各画素電極をコの字状に囲むように形成され、
前記複数の画素電極は、行方向に半画素ずつシフトして配列されており、
前記コの字状の導通ラインは、前記対向電極の幅方向において前記画素電極の両側に位置する部分を備え、
前記両側に位置する部分のうち前記ダイレクタの方向側に位置する部分のパターン形状が各行において同じとなるように、前記ダイレクタの方向側に位置する部分の略中央から前記導通ラインが分岐することを特徴とする液晶パネル。
【請求項２】
前記対向電極の幅は、前記コの字状の導通ラインのうち、前記画素電極の両側に位置する部分の間の距離よりも短いことを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項３】
前記配向膜にはラビング処理が施され、
前記画素電極を囲む導通ラインにおいて、前記ストライプ状の対向電極の幅方向において前記画素電極の両側に位置する部分のうち前記ラビング処理の方向において下流側に位置する部分は、前記対向電極と対向しないように前記画素電極から離間していることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項４】
前記画素電極を囲む導通ラインにおいて、前記ストライプ状の対向電極の幅方向において前記画素電極の両側に位置する部分のうち前記配向膜によって規定されるダイレクタの方向側に位置する部分は、前記対向電極と対向しないように前記画素電極から離間していることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項５】
前記コの字状の導通ラインのうち、前記画素電極の両側に位置する部分の両方が、前記対向電極と対向しないように前記画素電極から離間していることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項６】
前記素子基板には、前記各画素電極毎にスイッチング素子が設けられており、当該スイッチング素子を介して前記導通ラインが前記画素電極に接続されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１の請求項に記載の液晶パネル。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１の請求項に記載の液晶パネルを具備することを特徴とする液晶装置。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１の請求項に記載の液晶パネルを具備することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、液晶パネル、液晶装置および電子機器に関する。特に、いわゆるスジムラの発生を抑止する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、アクティブマトリクス方式のカラー液晶装置に用いられる液晶パネルは、複数の画素電極やこれらの画素電極の各々に非線形（スイッチング）素子などが設けられた素子基板と、画素電極と対向する対向電極やカラーフィルタなどが形成された対向基板と、これら両基板間に充填された液晶と、から構成されており、各画素は、Ｒ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）の３原色のいずれかに対応している。
【０００３】
このような構成において、走査線に選択信号が印加されると、スイッチング素子が導通状態となる。この導通状態の際に、データ線にデータ信号が印加されると、液晶を挟持した画素電極および対向電極の間に所定の電荷が蓄積される。電荷蓄積後、当該スイッチング素子をオフ状態としても、両電極間の抵抗が充分に高ければ、当該両電極間における電荷の蓄積が維持される。このように、各スイッチング素子を駆動して蓄積させる電荷の量を制御すると、両電極間毎、つまり画素毎に液晶の配向状態が変化して、液晶パネルに所定の情報をカラー表示することが可能となる。
【０００４】
このような液晶パネルにおいて、カラーフィルタの配列としてＲＧＢデルタ配列を採用した場合の、素子基板における画素電極の配列と導通ライン（データ線あるいは走査線の一方であって、以下、単にラインと称する）の配線パターンとを図１１に例示する。
【０００５】
同図に示すように、ＲＧＢの各色に対応する画素電極は、各行毎に、図中、行方向として示された方向に半画素ずつシフトしてＲＧＢデルタ配列をとっている。また、これらの画素電極に対してスイッチング素子を介して結線される各ラインは、それぞれＲＧＢの各色を共用し、６ｎ＋１行〜６（ｎ+１）行（ｎ=０、１、２、……）にわたる計６行を１周期とする配線パターンで、図中、列方向として示された方向に延在して形成されている。
【０００６】
また、各ラインは、スイッチング素子を介して結線される各画素電極の左側に隣接する画素電極の周辺を「コ」の字状に囲んで形成されている。これは、各ラインに印加される駆動電圧が通常の電圧レベルである場合に、ＲＧＢの各色について補色の関係にあるＣ（シアン）、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）のベタパターンを表示する際、縦クロストークや横クロストークに起因するスジムラの発生を抑止するためである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図１１に示した画素配列および配線パターンを有する素子基板を用いた液晶パネルにおいては、発生頻度は低いもののスジムラが発生する場合があることがわかった。そこで、このスジムラの発生現象について詳細に検討を行った結果、以下のことがわかった。
【０００８】
Ａ．スジムラの発生態様
（現象１）
発生するスジムラを観察した結果、表示領域には、素子基板に形成された配線パターン５０２に対応する６行周期のスジムラが発生することがわかった。具体的には、図１１において、６ｎ＋２、６ｎ＋３、６ｎ＋４の３行の各画素がより暗くなり、６ｎ＋１、６ｎ＋５、６（ｎ+１）の３行の各画素がより明るくなる。
【０００９】
そこで、この明暗が発生する各行について液晶パネルを観察した結果、以下のことがわかった。
図１３は、図１１に示した素子基板上の画素配列および配線パターンの一部を拡大した平面図である。ここで、図１３（ａ）は、６ｎ＋２、６ｎ＋３、６ｎ＋４の３行（スジムラ発生時に暗となる行）について、また、図１３（ｂ）は、６ｎ＋１、６ｎ＋５、６（ｎ+１）の３行（スジムラ発生時に明となる行）について、それぞれ画素電極５０１の周辺に形成されたライン５０２ｂの配線パターンの形状を示すものである。
【００１０】
同図（ａ）に示すように、スジムラ発生時に暗となる３行では、破線で示すライン５０２ｂの略中央付近から図中下方向にラインが形成されている。これに対して、同図（ｂ）に示すように、スジムラ発生時に明となる３行では、破線で示すライン５０２ｂの右端から図中下方向にラインが形成されている。
【００１１】
このように、スジムラ発生時に暗となる３行と明となる３行とでは、「コ」の字状の配線パターン５０２のうちライン５０２ｂのパターン形状が異なっていることがわかった。
【００１２】
（現象２）
スジムラは、素子基板に形成された画素電極およびその周辺の配線パターンと、対向基板に形成された対向電極との相対的な位置関係が以下の状態となる液晶パネルでのみ発生することがわかった。
【００１３】
図１２は、１画素分の画素電極５０１およびその周辺に形成された「コ」の字状の配線パターン５０２と、対向電極６０１との対向配置状態を模式的に示す平面図である。ここで、図１２（ａ）は、素子基板と対向基板とが設計値通りに貼り合わされた液晶パネルを例示するものであり、図１２（ｂ）は、貼り合わせの際に列方向に組みズレが生じた液晶パネルの一例を示すものである。
【００１４】
なお、図示を省略しているが、同図（ａ）および（ｂ）において、画素電極５０１や配線パターン５０２が形成された素子基板の液晶層側表面と、対向電極６０１が形成された対向基板の液晶層側表面には、それぞれ配向膜が形成されている。この配向膜には、電圧が印加されていないときの液晶分子の配向方向を規定するラビング処理が施されている。図中、実線矢印Ａは、素子基板側の配向膜に施されたラビング方向（ラビング処理の方向）を示し、破線矢印Ｂは、対向基板側の配向膜に施されたラビング方向を示す。
【００１５】
同図（ａ）に示すように、従来の液晶パネルでは、対向電極６０１の列方向の幅Ｗｙが、対向する画素電極５０１の周辺に形成された「コ」の字状の配線パターン５０２のうち、行方向に延びるライン５０２ａとライン５０２ｂの離間距離Ｗａｂ以上であった。これは、素子基板と対向基板との貼り合わせを行う際に、列方向に対してある程度の組みズレが生じても、対向電極６０１が画素電極５０１の全体を覆うように充分にマージンをとって設計されたためであり、組みズレによる開口率の低下を抑えるためである。
【００１６】
実験の結果、同図（ｂ）に示すように、「コ」の字状に形成された配線パターン５０２のうち、素子基板側の配向膜に施されたラビング処理の下流側に位置するライン５０２ｂの略半分以上を対向電極６０１が覆っている液晶パネルにおいて、スジムラが発生することがわかった。
【００１７】
（現象３）
スジムラは、上記（現象２）で述べた組ズレが生じている液晶パネルにおいて、以下の条件の下で発生することがわかった。なお、ここでは、電圧無印加状態で白（オフ）を表示するノーマリーホワイトモードの場合について説明を行う。
【００１８】
液晶パネルに対し、一旦、通常の駆動電圧よりも充分に高い電圧をデータ信号として各ラインに供給し、ＲＧＢの全画素を黒（オン）とする。これにより液晶パネルの表示領域には黒のベタパターンが表示される。この状態から各ラインに印加される駆動電圧を徐々に通常の電圧レベルに戻し、黒と白の中間調となるグレーのベタパターンが表示領域に表示される際に、スジムラが発生する。
【００１９】
具体的には、このグレーのベタパターンが表示される際に発生するスジムラは、図１１において、６ｎ＋２、６ｎ＋３、６ｎ＋４の３行の各画素がより黒くなり、６ｎ＋１、６ｎ＋５、６（ｎ+１）の３行の各画素がより白くなる。
また、検討を重ねた結果、これは表示パターン（ＲＧＢ、ＣＭＹ、白黒）よらず、また単色や補色の中間調でも発生することがわかった。
【００２０】
Ｂ．スジムラの発生原因についての考察
次に、上述した（現象１）〜（現象３）を踏まえ、６行周期のスジムラが発生する原因について考察を行った。
【００２１】
まず、発明者は、（現象１）で述べた３行毎の明暗の発生を以下のように推測した。すなわち、一般に液晶は極性反転駆動を行うため、図１３（ａ）および（ｂ）に示したようにライン５０２ｂのパターン形状が異なると、パターン形状が異なる各々のライン５０２ｂの近傍に発生する電界に差異が生じ、液晶分子に与える影響が異なる。したがって、このライン５０２ｂのパターン形状が３行毎に異なることによって、３行毎の明暗が発生する。これが、発明者の最初の推測である。
【００２２】
しかしながら、上記原因のみでスジムラが発生するのであれば、（現象２）で述べた組ズレが生じている液晶パネル以外や、（現象３）で述べた通常の駆動電圧よりも充分に高い電圧を印加した場合以外であってもスジムラが発生するはずである。したがって、上記原因だけでは、スジムラの発生を説明することができない。
【００２３】
そこで、発明者は、上記（現象２）で述べた組みズレが生じている液晶パネルのみでスジムラが発生することに注目した。そして、リバースティルトがスジムラの発生原因に関係があるのではないかと考えた。なぜならば、画素電極５０１および対向電極６０１は、共に列方向の組みズレに備えてマージンとって設計されている。したがって、図１２（ｂ）に示したように、列方向に組みズレが生じても、画素電極５０１と対向電極６０１とは対向して配置される。それにも係らず、画素に明暗が生じるのは、組ズレによってリバースティルトの発生状態が変化し、このリバースティルトが各画素の明暗に影響を及ぼすのではないかと考えられるからである。
【００２４】
以下、図１４を参照し、この推測について説明する。
図１４は、画素電極５０１と対向電極６０１との間に電圧が印加された場合のリバースティルトの発生状態を模式的に示す液晶パネルの断面図である。図１４（ａ）は、図１２（ａ）のＣ−Ｃ’線視断面図であって、組みズレが生じていない液晶パネルについて示すものである。また、図１４（ｂ）は、図１２（ｂ）のＤ−Ｄ’線視断面図であって、対向電極６０１がライン５０２ｂの半分以上を覆うような列方向への組みズレが生じている液晶パネルについて示すものである。
【００２５】
画素電極５０１と対向電極６０１との間に電圧が印加されていない場合、液晶層７００内の各液晶分子は、上述したラビング処理によって所定のプレティルト角および配向方向を保持している。このような状態にある液晶分子が、いわゆるプレティルトである。これに対し、両電極間に電圧が印加された場合、電界の影響によりプレティルトに対して液晶分子の配向方向が１８０度逆転したリバースティルトと呼ばれる配向不良が発生する場合がある。
【００２６】
図１４（ａ）および（ｂ）において、液晶層７００内における太線の破線矢印は、画素電極５０１から対向電極６０１への電気力線を示している。また、細線の破線矢印は、ライン５０２ａおよびライン５０２ｂから画素電極５０１または対向電極６０１への電気力線を示し、実線矢印はその合力ベクトルを示している。そして、同図（ａ）および（ｂ）において、リバースティルトとなる液晶分子は、ハッチングにより示されている。
【００２７】
同図（ａ）に示すように、組ズレが生じていない液晶パネルであっても、電界の影響によりライン５０２ｂの上方の一部にリバースティルトが発生する。しかし、上記（現象２）で述べたように、組みズレが生じていない液晶パネルでは、６行周期のスジムラは発生しないことがわかっている。つまり、同図（ａ）に示すリバースティルトによってスジムラが発生するのではない。
【００２８】
これに対し、同図（ｂ）に示すように、対向電極６０１がライン５０２ｂの略半分以上を覆うような組みズレが生じている液晶パネルでは、ライン５０２ｂの上方に対向電極６０１に至るまでの範囲でリバースティルトが発生する。このように、リバースティルトの発生領域７５０（リバースティルトドメイン７５０）が、ライン５０２ｂから対向電極６０１に到るまでの範囲で生じた場合、同図（ａ）に示す場合と比較して、画素の誘電率に与える影響が格段に大きくなると考えられる。
【００２９】
スジムラの発生原因が、このリバースティルトドメイン７５０の発生にあるとすれば、上述した（現象２）を説明することができる。しかし、図１４（ａ）および（ｂ）に示すいずれの場合も、発生するリバースティルトは画素の端部に位置するため、対向基板６００上に形成されている図示を省略した遮光膜（ＢＭ）による遮光領域内に位置する。したがって、このリバースティルトがスジムラを直接引き起こすわけではない。また、同図（ｂ）に示すリバースティルトドメイン７５０は、各画素毎に発生するので、このリバースティルトの発生だけでは、３行毎に発生する画素の明暗の原因を説明することができない。
【００３０】
そこで、発明者は、リバースティルトドメイン７５０の発生する場所が、図１３（ａ）および（ｂ）に示した３行毎にパターン形状が異なるライン５０２ｂの上方であることに注目した。すなわち、前述したように、パターン形状が異なる各々のライン５０２ｂでは、近傍に発生する電界に差異が生じる。したがって、この影響により、各々のライン５０２ｂの上方に発生するリバースティルトドメイン７５０の大きさにも差異が生じると考えられる。
【００３１】
そして、特に、上記（現象３）で述べた通常の駆動電圧よりも充分に高い電圧を各ライン５０２に供給した場合は、リバースティルトが準安定状態となり、ノーマルティルトに戻りにくくなると考えられる。したがって、上記電界の差異がより大きくなり、リバースティルトドメイン７５０の大きさの差異もより大きくなると考えられる。そして、このリバースティルトドメイン７５０の大きさの差異が、画素のコントラストに対し、明と暗に視認されるレベルで影響を及ぼすものと考えられる。
【００３２】
以上のようなことから発明者は、ライン５０２ｂのパターン形状が３行毎に異なることと、リバースティルトドメイン７５０の発生とから、６行周期のスジムラの発生メカニズムを以下のように考えた。なお、以下の説明は、対向電極６０１がライン５０２ｂの略半分以上を覆うような組みズレが生じた液晶パネルを使用していることを前提としている。
【００３３】
（１）画素電極５０１とその周辺に形成された「コ」の字状の配線パターン５０２との距離が３〜４μｍ程度しかないため、画素電極５０１と配線パターン５０２との間に寄生容量が生じる。
【００３４】
（２）図１３（ａ）および（ｂ）に示したように、６ｎ＋２、６ｎ＋３、６ｎ＋４の３行と、６ｎ＋１、６ｎ＋５、６（ｎ+１）の３行とでライン５０２ｂのパターン形状が異なるため、画素毎に発生するリバースティルトドメイン７５０の大きさが３行毎に異なる。そして、通常の駆動電圧よりも充分に高い電圧を印加することによって、リバースティルトドメイン７５０の大きさの差異がより大きくなる。
【００３５】
（３）リバースティルトドメイン７５０はＢＭによる遮光領域に存在している。しかしながら、液晶分子は誘電率異方性を有するので、リバースティルトドメイン７５０の大きさが異なることにより、各画素電極５０１からみた実効誘電率が３行毎に異なる。
【００３６】
（４）したがって上記寄生容量が３行毎に異なる。
（５）これにより同一レベルの電圧を画素電極と対向電極との間に印加した場合であっても、３行毎に各画素の透過率に差が生じる。
【００３７】
（６）その結果、各画素のコントラストが３行毎に明と暗とに分かれ、６行周期のスジムラが現れる。
以上説明したように、図１１に示した素子基板を用いた液晶パネルでは、６行周期のスジムラが発生する場合があり、改善の余地があることが判明した。
【００３８】
本発明は、以上説明した事情に鑑みてなされたものであり、スジムラの発生を抑止し、あるいはスジムラを目立たなくし、表示画像の高品位化を図った液晶パネル、液晶装置および電子機器を提供することを目的としている。
【００３９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、この発明の液晶パネルは、液晶層を挟んで素子基板と対向基板とを対向させてなり、前記素子基板には前記液晶層を構成する液晶分子のダイレクタの方向を規定する配向膜が形成され、前記対向基板には複数本のストライプ状の対向電極が形成され、前記素子基板には前記対向電極のいずれかと対向する複数の画素電極が形成されるとともに、各画素電極に駆動信号を供給するための複数の導通ラインが各画素電極をコの字状に囲むように形成され、前記複数の画素電極は、行方向に半画素ずつシフトして配列されており、前記コの字状の導通ラインは、前記対向電極の幅方向において前記画素電極の両側に位置する部分を備え、前記両側に位置する部分のうち前記ダイレクタの方向側に位置する部分のパターン形状が各行において同じとなるように、前記ダイレクタの方向側に位置する部分の略中央から前記導通ラインが分岐することを特徴としている。
【００４０】
この発明によれば、画素電極を囲む導通ラインにおいて、ストライプ状の対向電極の幅方向において画素電極の両側に位置する部分のうち配向膜によって規定されるダイレクタの方向に位置する部分のパターン形状は、各画素電極間で略同一のパターン形状となるので、スジムラを目立たなくし、高品位な画像表示が可能となる。
【００４１】
また、前記対向電極の幅を、前記コの字状の導通ラインのうち、前記画素電極の両側に位置する部分の間の距離よりも短くすれば、液晶パネルにおいて、ストライプ状の対向電極と、画素電極を囲む導通ラインのうち対向電極の幅方向において画素電極の両側に位置する部分とが対向して配置されることがないので、スジムラの発生を抑止し、高品位な画像表示が可能となる。ここで、ストライプ状の対向電極と、画素電極を囲む導通ラインのうち対向電極の幅方向において画素電極の両側に位置する部分とが対向して配置されることがないようにするためには、ストライプ状の対向電極の幅が、画素電極を囲む導通ラインのうち、対向電極の幅方向において画素電極の両側に位置する部分の距離よりも短くなければならない。
【００４２】
また、画素電極を囲む導通ラインにおいて、ストライプ状の対向電極の幅方向において画素電極の両側に位置する部分のうち、素子基板に形成された配向膜のラビング処理の方向において下流側に位置する部分とのみ、対向電極が対向しない構成であってもよい。
【００４３】
また、画素電極を囲む導通ラインにおいて、ストライプ状の対向電極の幅方向において画素電極の両側に位置する部分のうち、素子基板に形成された配向膜によって規定されるダイレクタの方向に位置する部分とのみ、対向電極が対向しない構成であってもよい。
【００４６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００４７】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明に係る液晶パネル１００を用いた液晶装置の電気的構成を示すブロック図である。同図に示すように、液晶パネル１００には、複数本の走査線３１２が行（Ｘ）方向に延在して形成されており、また、複数本のデータ線２１２が列（Ｙ）方向に延在して形成されている。そして、走査線３１２とデータ線２１２との各交差において画素１１６が形成されている。
【００４８】
各画素１１６は、液晶表示要素（液晶層）１１８と二端子型非線形素子であるＴＦＤ（Thin F ilm Diode）素子２２０との直列接続からなり、液晶層１１８が走査線３１２の側に、ＴＦＤ素子２２０がデータ線２１２の側に、それぞれ接続されている。また、各走査線３１２は、走査線駆動回路３５０によって駆動される一方、各データ線２１２は、データ線駆動回路２５０によって駆動される構成となっている。
【００４９】
ここで、液晶パネル１００は、素子基板と対向基板とが互いに一定の間隙を保った状態で貼付されるとともに、この間隙に液晶が充填されて封止された構成となっている。次に、この液晶パネル１００の構成について図２を参照して説明する。
【００５０】
図２において、実線で示す画素電極２３４、ＴＦＤ素子２２０および各データ線２１２は、それぞれ素子基板の液晶層１１８と対向する面に形成されている。このうち画素電極２３４は、ＲＧＢデルタ配列をとっており、ＴＦＤ素子２２０を介してデータ線２１２に接続されている。
【００５１】
また、本実施形態において、各データ線２１２は、図１１に示した配線パターンと同一であり、それぞれＲＧＢの各色を共用し、６ｎ＋１行〜６（ｎ+１）行（ｎ=０、１、２、……）にわたる計６行を１周期とする配線パターンで、図中、Ｙ方向に延在して形成されている。また、各データ線２１２は、ＴＦＤ素子２２０を介して接続される画素電極２３４の左側に隣接する画素電極２３４の周辺を「コ」の字状に囲んで形成されている。
【００５２】
一方、図２において破線で示される走査線３１２は、対向基板の液晶層１１８と対向する面に形成されており、画素電極２３４と対向する電極として作用する。以下では、この走査線３１２を対向電極３１２として記載する。
【００５３】
なお、図２では図示を省略しているが、対向基板において対向電極３１２が形成される領域のうち、画素電極２３４との対向領域にあっては、ＲＧＢのうちいずれかの色に対応するカラーフィルタが形成されている。また、対向基板においてカラーフィルタが形成された領域以外には、遮光層（ＢＭ）が形成されており、画素領域以外からの光漏れによるコントラストの低下を抑止する構成となっている。また、画素電極２３４および対向電極３１２は、透明導電材料、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などによって形成されている。
【００５４】
図３は、１画素分の画素電極２３４およびその周辺に形成された「コ」の字状のデータ線２１２の配線パターンと、対向電極３１２との対向配置状態を模式的に示す平面図である。なお、図示を省略しているが、同図において、画素電極２３４やデータ線２１２が形成された素子基板の液晶層１１８側表面と、対向電極３１２が形成された対向基板の液晶層１１８側表面には、従来と同様、ラビング処理が施された配向膜がそれぞれ形成されている。図中、実線矢印Ａは、素子基板側の配向膜に施されたラビング方向（ラビング処理の方向）を示し、破線矢印Ｂは、対向基板側の配向膜に施されたラビング方向を示している。
【００５５】
同図に示すように、本実施形態においては、対向基板に形成されている対向電極３１２のＹ方向の幅Ｗｙが、対向する画素電極２３４の周辺に形成された「コ」の字状のデータ線２１２のうち、行方向に延びるデータ線２１２ａとデータ線２１２ｂの離間距離Ｗａｂ以下となるように設計されている。そして、この対向電極３１２とデータ線２１２ａ，２１２ｂとが重ならないように素子基板と対向基板との貼り合わせがなされている。つまり、本実施形態においては、対向電極３１２とデータ線２１２ａ，２１２ｂとが重なって対向配置されることがないようにすることで、６行周期のスジムラの発生を抑止する構成としている。
【００５６】
図１２（ａ）に示したように、従来の液晶パネルでは、対向電極６０１の幅Ｗｙは、対向する画素電極５０１の周辺に形成された「コ」の字状の配線パターン５０２のうち、ライン５０２ａとライン５０２ｂの離間距離Ｗａｂ以上であった。これは、素子基板と対向基板との貼り合わせの際に、Ｙ方向に対してある程度の組みズレが生じても、対向電極６０１が画素電極５０１の全体を覆うように充分にマージンをとって設計されたためである。しかしながら、このために従来の液晶パネルでは、対向電極６０１がライン５０２ａまたはライン５０２ｂのいずれか一方以上と重なって対向配置されていた。
【００５７】
これに対して本実施形態では、対向電極３１２の幅Ｗｙから、Ｙ方向への組ズレ対策用のマージンを減らし、当該対向電極３１２の幅Ｗｙをデータ線２１２ａ，２１２ｂの離間距離Ｗａｂ以下としている。そして、その分、対向基板上の隣接する対向電極２３４間のスペースを広げることによって、対向電極３１２とデータ線２１２ａ，２１２ｂとが重なって対向配置されることがないようにしている。なお、対向電極３１２の幅Ｗｙは、開口率の低下を抑えるために、画素電極２３４の幅Ｗｐ以上であることが望ましい。
【００５８】
次に、図４は、図３のＥ−Ｅ’線視断面図であって、この液晶パネル１００におけるリバースティルトの発生状態を示すものである。リバースティルトとなる液晶分子は、ハッチングにより示されている。
【００５９】
同図に示すように、本実施形態に係る液晶パネル１００においても、電圧を印加するとデータ線２１２ｂの上方の一部にリバースティルトが発生する。しかしながら、データ線２１２ｂの上方には、対向電極３１２に至るまでの範囲でリバースティルトドメインが発生しているわけではない。したがって、「スジムラの発生原因についての考察」で述べたように、６行周期のスジムラの発生を抑止することができる。
【００６０】
つまり、本実施形態における液晶装置では、液晶パネル１００に対して通常の駆動電圧よりも充分に高い電圧を各データ線２１２に供給した後、例えば、グレーなどの中間調のベタパターンを表示する場合であっても、６行周期のスジムラが発生することはない。これは、単色や補色の中間調でも同様であって、またＣＭＹや白黒など他の表示パターンにおいても同様である。
【００６１】
以上説明したように本実施形態によれば、液晶パネル１００において、画素電極２３４の周辺に形成された「コ」の字状のデータ線２１２のうちデータ線２１２ａ，２１２ｂと、この画素電極２３４に対向する対向電極３１２とが重ならないように素子基板２００と対向基板３００とを対向配置させる。これにより、データ線２１２ａまたはデータ線２１２ｂの上方に対向電極３１２に至るまでの範囲でリバースティルトドメインが発生することがないので、６行周期のスジムラの発生を抑止することができる。
【００６２】
また、本実施形態によれば、液晶パネル１００において、対向電極３１２の幅Ｗｙを、対向する画素電極２３４の周辺に形成された「コ」の字状のデータ線２１２のうち、データ線２１２ａ，２１２ｂの離間距離Ｗａｂ以下とすることにより、対向電極３１２とデータ線２１２ａ，２１２ｂとが重なって対向配置されることを防ぐ構成としている。
【００６３】
＜第２実施形態＞
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
なお、上記第１実施形態と共通する部分についてはその説明を省略し、また、上記第１実施形態と共通する部材については同一の符号を使用するものとする。
【００６４】
上記第１実施形態においては、対向電極３１２とデータ線２１２ａ，２１２ｂとが重なって対向配置されることを防ぐことにより、スジムラの発生を抑止する場合について説明した。
【００６５】
しかしながら、「スジムラの発生原因についての考察」において、図１３（ａ）および（ｂ）を参照して述べたように、６行周期のスジムラが発生する原因の１つは、各画素電極５０１の周辺に形成される「コ」の字状の配線パターン５０２のうち、素子基板側の配向膜に施されたラビング処理の下流側に位置するライン５０２ｂのパターン形状が３行毎に異なるためである。
【００６６】
したがって、この部分のパターン形状が各行において同一であれば、対向電極３１２がデータ線２１２ｂと重なって対向置されたとしても、各画素毎に発生するリバースティルトドメインの大きさが同一となるので、画素毎にコントラストの差が生じることがない。つまり、スジムラの発生を抑止することが可能となる。
【００６７】
図５は、本実施形態に係る液晶パネル１０１の構成を示す平面図である。
同図において、上記第１実施形態の図２に示した液晶パネル１００の構成と異なる部分は、以下の２点である。
【００６８】
▲１▼対向電極３２２が、画素電極２３４の周辺に形成される「コ」の字状のデータ線２２２のうち、Ｘ方向に延びるデータ線２２２ａ，２２２ｂと重なって対向配置されていること（対向電極３２２のＹ方向の幅が、データ線２２２ａとデータ線２２２ｂの離間距離よりも長い）。
【００６９】
▲２▼６ｎ＋１、６ｎ＋５、６（ｎ+１）の３行において、各画素電極２３４の周辺に形成された「コ」の字状のデータ線２２２のうち、素子基板側の配向膜に施されたラビング処理の下流側に位置するデータ線２２２ｂのパターン形状が異なること。
【００７０】
次に、図６を参照し、上記▲２▼で述べたデータ線２２２ｂのパターン形状の違いについて説明する。
図６は、素子基板に形成された画素電極２３４と当該画素電極２３４の周辺に形成されたデータ線２２２の配線パターンを拡大して示す平面図である。ここで、図６（ａ）は、６ｎ＋２、６ｎ＋３、６ｎ＋４の３行（従来、スジムラ発生時に暗となる行）について、また、図６（ｂ）は、６ｎ＋１、６ｎ＋５、６（ｎ+１）の３行（従来、スジムラ発生時に明となる行）について、それぞれ画素電極２３４の周辺に形成されたデータ線２２２ｂの配線パターンの形状を示すものである。
【００７１】
図６（ａ）に示す３行のデータ線２２２ｂのパターン形状は、図１３（ａ）に示した従来のスジムラ発生時に暗となる３行のパターン形状と同一である。これに対して、図６（ｂ）に示す３行のデータ線２２２ｂのパターン形状は、図１３（ｂ）に示した従来のスジムラ発生時に明となる３行のパターン形状とは異なり、図６（ａ）に示す３行のデータ線２２２ｂのパターン形状と近似するようにパターン形状が変更されている。すなわち、図６（ａ）および（ｂ）に示す両データ線２２２ｂとも、当該データ線２２２ｂの略中央付近から、図中下方向にデータ線２２２が形成されている。
【００７２】
このように、データ線２２２ｂのパターン形状が各行において略同じであれば、図５に示したように、対向電極３２２がデータ線２２２ａ，２２２ｂと重なって対向置されたとしても、各画素毎に発生するリバースティルトドメインの大きさが略同じとなるので、画素毎にコントラストの差がほとんど生じない。換言するならば、３行毎のリバースティルトドメインの大きさの差異が、明と暗に視認できるレベルで画素のコントラストに影響を及ぼすことはない。
【００７３】
したがって、本実施形態における液晶装置では、液晶パネル１０１に対して通常の駆動電圧よりも充分に高い電圧を各データ線２２２に供給した後、例えば、グレーなどの中間調のベタパターンを表示する場合であっても、６行周期のスジムラはほとんど視認できない。
【００７４】
以上説明したように、本実施形態によれば、液晶パネル１０１において、画素電極２３４の周辺に形成された「コ」の字状のデータ線２２２のうち、素子基板側の配向膜に施されたラビング処理の下流側に位置するデータ線２２２ｂのパターン形状を各画素毎に略同一の形状とする。これにより、各画素毎に発生するリバースティルトドメインの大きさが略同じとなり、画素毎にコントラストの差がほとんど生じない。したがって、６行周期のスジムラをほとんど認識できないレベルまで目立たなくすることができる。
【００７５】
＜第３実施形態＞
次に、本発明の第３実施形態について説明する。
なお、本実施形態においても、上記第１実施形態と共通する部分についてはその説明を省略し、また、上記第１実施形態と共通する部材については同一の符号を使用するものとする。
【００７６】
上記第１実施形態においては、対向電極３１２と、データ線２１２ａ，２１２ｂの両方とが重ならないように素子基板２００と対向基板３００とを対向配置させる構成とした。これに対して、本実施形態では、画素電極２３４の周辺に形成されたデータ線２１２のうち、素子基板側の配向膜に施されたラビング処理の下流側に位置するデータ線２１２ｂのみに対向電極３１２が重ならない構成とした場合について説明する。
【００７７】
図７は、画素電極２３４の周辺に形成されたデータ線２１２の配線パターンのうち、素子基板側の配向膜に施されたラビング処理の上流側に位置するデータ線２１２ａと、対向電極３３２とが重なっている対向配置状態を示す平面図である。同図に示すように、対向電極３３２がデータ線２１２ａと重なって対向配置されている場合は、図８に示すように、データ線２１２ｂの上方の一部にリバースティルトが発生するのみである。つまり、６行周期のスジムラは発生しないことがわかる。
【００７８】
したがって、図７に戻り、本実施形態において対向電極３３２のＹ方向の幅Ｗｙは、上記第１実施形態において述べたデータ線２１２ａ，２１２ｂの離間距離Ｗａｂ以下に限定されず、当該離間距離Ｗａｂ以上とすることも可能である。但し、本実施形態においても、対向電極３３２の幅Ｗｙは、開口率の低下を抑えるために、少なくとも画素電極２３４の幅Ｗｐ以上であることが望ましい。
【００７９】
このような構成とすることにより、本実施形態における液晶装置では、液晶パネル１０２に対して通常の駆動電圧よりも充分に高い電圧を各データ線２１２に供給した後、例えば、グレーなどの中間調のベタパターンを表示する場合であっても、６行周期のスジムラは発生しない。
【００８０】
以上説明したように、本実施形態によれば、液晶パネル１０２において、画素電極２３４の周辺に形成された「コ」の字状のデータ線２１２のうち、素子基板側の配向膜に施されたラビング処理の下流側に位置するデータ線２１２ｂと、この画素電極２３４に対向する対向電極３３２とが重ならないように素子基板２００と対向基板３００とを対向配置させる。
【００８１】
これにより上記第１実施形態と同様に、データ線２１２ａまたはデータ線２１２ｂの上方に対向電極３３２に至るまでの範囲でリバースティルトドメインが発生することがないので、６行周期のスジムラの発生を抑止することができる。また、上記第１実施形態に比べ、対向電極３３２の幅をより広くとることができ、Ｙ方向への組みズレに起因する開口率の低下を最小限に抑えることができる。 ＜電子機器＞
次に、上記第１〜第３実施形態に係る液晶パネルを電子機器に用いた例のいくつかについて説明する。
【００８２】
＜モバイル型コンピュータ＞
まず、この液晶パネルを、モバイル型のコンピュータに適用した例について説明する。図９は、このコンピュータの構成を示す斜視図である。同図において、コンピュータ１２００は、キーボード１２０２を具備した本体部１２０４と、液晶パネル１２０５を具備した液晶ディスプレイ１２０６とから構成されている。この液晶パネル１２０５は、上記第１〜第３実施形態において述べた液晶パネル１００，１０１，１０２の背面にバックライトを付加して構成されている。
【００８３】
＜携帯電話機＞
次に、この液晶パネルを、携帯電話機に適用した例について説明する。図１０は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図において、携帯電話機１４００は、複数の操作ボタン１４０２のほか、受話口１４０４、送話口１４０６とともに、液晶パネル１４０８を具備するものである。この液晶パネル１４０８は、上記第１〜第３実施形態において述べた液晶パネル１００，１０１，１０２であって、必要に応じてその背面にバックライトが設けられる。
【００８４】
なお、電子機器としては、図９および図１０を参照して説明した他にも、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器に対して、上記第１〜第３実施形態において述べた液晶パネル１００，１０１，１０２が適用可能であることは言うまでもない。
【００８５】
＜変形例＞
以上、本発明の実施形態について説明したが、上記各実施形態はあくまでも例示であり、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。変形例としては、例えば、以下のようなものが考えられる。
【００８６】
＜変形例１＞
上記第１〜第３実施形態では、素子基板２００および対向基板３００の液晶層１１８側表面に、ラビング処理が施された配向膜を形成することによって、液晶層１１８内の各液晶分子にプレティルト角および配向方向を付与する構成とした。この配向膜に施されるラビング処理は、具体的には、フェルトや木綿などのラビング布を巻き付けたラビングローラーを回転させながら、素子基板２００や対向基板３００上に形成されたポリイミド系材料からなる配向膜の表面を擦ることによって行なわれる。
【００８７】
しかしながら、液晶分子にプレティルト角および配向方向を付与するための配向方法は、ラビングに限定されるものではない。例えば、レーザー重合による配向膜形成法や、水中に浮かせた界面活性剤などの方向性を有する分子膜（配向膜）を基板上に一定方向から移し取るラミングミュアー・ブロジェット法、ポリイミド膜（配向膜）への紫外線照射による方法などを用いてもよい。
【００８８】
このような場合、素子基板側の配向膜によって付与された液晶層１１８内の素子基板側における液晶分子のダイレクタの方向が、上記第１〜第３実施形態において述べた素子基板側の配向膜に施されたラビング処理の下流側（下流側の方向）に相当する。つまり、画素電極２３４の周辺に形成された「コ」の字状のデータ線２１２，２２２のうち、上記液晶分子のダイレクタの方向に位置するのはデータ線２１２ｂ，２２２ｂである。
【００８９】
＜変形例２＞
上記第１実施形態では、対向電極３１２の幅Ｗｙを、データ線２１２ａとデータ線２１２ｂの離間距離Ｗａｂ以下として、その分、対向基板上の隣接する対向電極２３４間のスペースを広げることにより、対向電極３１２とデータ線２１２ａ，２１２ｂとが重なって対向配置されることを防ぐ構成とした。しかしながら、素子基板において、画素電極２３４とデータ線２１２との間のスペースを広げることにより、対向電極３１２とデータ線２１２ａ，２１２ｂとが重なって対向配置されることを防ぐ構成としてもよい。
【００９０】
＜変形例３＞
上記第１実施形態において述べた発明と、上記第２実施形態において述べた発明とを組み合わせて使用することが有効である。すなわち、画素電極の周辺に形成された「コ」の字状のデータ線のうち、Ｘ方向に延びる２つのデータ線部分と、この画素電極に対向する対向電極とが重ならないようにするとともに、上記２つのデータ線部分のうち、素子基板側の配向膜に施されたラビング処理の下流側に位置するデータ線部分のパターン形状を各画素毎に略同一の形状とする構成である。
【００９１】
このような構成とすれば、素子基板と対向基板とに組みズレが生じ、万一、対向電極が上記ラビング処理の下流側に位置するデータ線部分と重なって対向配置されたとしても、６行周期のスジムラの発生を抑止することができる。これは、上記第３実施形態において述べた発明と、上記第２実施形態において述べた発明とを組み合わせて使用する場合も同様である。
【００９２】
＜変形例４＞
上記第１〜第３実施形態では、データ線２１２，２２２の配線パターンが６行周期である場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、２行、３行、４行周期など任意の行数周期の配線パターンに対して適用可能であることは勿論である。また、上記第１〜第３実施形態では、画素配列がＲＧＢデルタ配列である場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ＲＧＢストライプ配列やＲＧＧＢモザイク配列、ＲＧＢモザイク配列などに対しても適用可能である。
【００９３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、スジムラの発生を抑止することができるので、表示画像の高品位化を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  この発明の第１実施形態に係る液晶パネルを用いた液晶装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図２】  同実施形態に係る液晶パネルの構成を示す平面図である。
【図３】  同実施形態に係る液晶パネルにおいて、１画素分の画素電極およびその周辺に形成された「コ」の字状のデータ線の配線パターンと、対向電極との対向配置状態を模式的に示す平面図である。
【図４】  同実施形態に係る液晶パネルにおいて、画素電極と対向電極との間に電圧が印加された場合のリバースティルトの発生状態を模式的に示す断面図である。
【図５】  この発明の第２実施形態に係る液晶パネルの構成を示す平面図である。
【図６】  同実施形態に係る素子基板に形成された画素電極および当該画素電極の周辺に形成されたデータ線の配線パターンを拡大して示す平面図である。
【図７】  この発明の第３実施形態に係る液晶パネルにおいて、１画素分の画素電極およびその周辺に形成された「コ」の字状のデータ線の配線パターンと、対向電極との対向配置状態を模式的に示す平面図である。
【図８】  同実施形態に係る液晶パネルにおいて、画素電極と対向電極との間に電圧が印加された場合のリバースティルトの発生状態を模式的に示す断面図である。
【図９】  第１〜第３実施形態に係る液晶パネルを適用した電子機器の一例であるモバイル型コンピュータの構成を示す斜視図である。
【図１０】  第１〜第３実施形態に係る液晶パネルを適用した電子機器の一例である携帯電話機の構成を示す斜視図である。
【図１１】  従来の、ＲＧＢデルタ配列における画素電極の配列と導通ラインの配線パターンとを例示する図である。
【図１２】  従来の、１画素分の画素電極およびその周辺に形成された「コ」の字状の導通ラインの配線パターンと、対向電極との対向配置状態を模式的に示す平面図である。
【図１３】  従来の、素子基板に形成された画素電極および当該画素電極の周辺に形成された導通ラインの配線パターンを拡大して示す平面図である。
【図１４】  従来の、画素電極と対向電極との間に電圧が印加された場合のリバースティルトの発生状態を模式的に示す液晶パネルの断面図である。
【符号の説明】
１００，１０１，１０２……液晶パネル
１１６……画素
１１８……液晶層
２００……素子基板
２１２，２１２ａ，２１２ｂ，２２２，２２２ａ，２２２ｂ……データ線
２２０……ＴＦＤ素子
２３４……画素電極
２５０……データ線駆動回路
３００……対向基板
３１２，３２２，３３２……対向電極（走査線）
３５０……走査線駆動回路
【図１】
0003807210.tif 000002
【図２】
0003807210.tif 000003
【図３】
0003807210.tif 000004
【図４】
0003807210.tif 000005
【図５】
0003807210.tif 000006
【図６】
0003807210.tif 000007
【図７】
0003807210.tif 000008
【図８】
0003807210.tif 000009
【図９】
0003807210.tif 000010
【図１０】
0003807210.tif 000011
【図１１】
0003807210.tif 000012
【図１２】
0003807210.tif 000013
【図１３】
0003807210.tif 000014
【図１４】
0003807210.tif 000015