(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
中央部に配設された共通搬送室と、該共通搬送室の周囲に該共通搬送室に対してゲート弁を介してそれぞれ連通可能に配設されて基板を真空雰囲気中で処理する複数の真空処理室と、前記共通搬送室に前記基板を搬入するロード室と、前記共通搬送室から前記基板を搬出するアンロード室と、前記共通搬送室と前記真空処理室と前記ロード室と前記アンロード室との相互間で前記基板を搬送する搬送台車とを具えたクラスタ型真空処理装置において、
前記真空処理室と前記ロード室と前記アンロード室のいずれか一つまたは全ての少なくとも一方の側面を開閉可能なメンテナンス用の扉と、
前記真空処理室の側面開口部に対してほぼ直交して敷設された一対の第１ガイドレールと、
これらの第１ガイドレールにそれぞれ移動可能に支持された第１移動体と、
これらの第１移動体に掛け渡すように前記側面開口部に対して左右方向に沿って架設された第２ガイドレールと、
この第２ガイドレールに移動可能に支持された第２移動体と、
この第２移動体上に回動可能に支持された回動体を有し、この回動体を回動中心として前記扉を回動させる回動機構と、
を設けたことを特徴とするクラスタ型真空処理装置。
【請求項２】
請求項１において、前記第１ガイドレールは、前記共通搬送室を中心とした弧状をなすことを特徴とするクラスタ型真空処理装置。
【請求項３】
請求項１において、隣接する前記真空処理室の各扉に対して前記第１ガイドレールを連続して配設したことを特徴とするクラスタ型真空処理装置。
【請求項４】
請求項３において、前記真空処理室と前記扉と前記第１ガイドレールと前記第１移動体と前記第２ガイドレールと前記第２移動体と前記回動機構とをユニット化し、前記第１ガイドレールを各ユニットごとに分割したことを特徴とするクラスタ型真空処理装置。
【請求項５】
請求項１において、前記真空処理室内に製膜ユニットが装着される一方、前記扉の内側にヒータユニットが装着されたことを特徴とするクラスタ型真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、中央部の共通搬送室に対して複数の処理室が放射状に配設されて各処理室に基板を次々に搬送して処理するクラスタ型真空処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
クラスタ型真空処理装置としては、例えば、特開2001−127133号公報に開示されたものがある。この公報に開示された「クラスタ型真空処理装置」は、中央部に配設された共通搬送室に対して台車移動接続室を介して５つの真空処理室をゲート弁を介して放射状に配設すると共に、共通搬送室にガラス基板を搬入するロード室と、この共通搬送室からガラス基板を搬出するアンロード室とをゲート弁を介して配設し、共通搬送室、各真空処理室、ロード室、アンロード室の相互間でガラス基板を搬送する搬送台車を設けたものである。
【０００３】
従って、まず、ガラス基板を搬送台車に載せてロード室から台車移動接続室を介して共通搬送室に搬送し、この共通搬送室のターンテーブルを所定角度回動して共通搬送室の基板を搬送台車により別の台車移動接続室を介して真空処理室に搬送する。次に、真空処理室内を真空状態とし、電極に高周波を印加してガラス基板との間に高周波プラズマを生成し、このガラス基板の表面に膜を製造する。そして、この製膜処理中に、前述と同様に、ガラス基板をロード室から共通搬送室を介して別の真空処理室に順次搬送し、製膜処理を連続して行う。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、真空処理室には、ガラス基板に対して製膜処理を行うための製膜ユニット、ヒータユニット、排気（真空）装置などの各種機器が設けられており、この各種機器に対して定期的あるいは必要時にメンテナンスを行う必要がある。上述した従来の真空処理装置では、真空処理室の最外部に扉を設け、メンテナンス時にはこの扉を開放して内部機器のメンテナンスを行っていた。
【０００５】
ところが、真空処理室内には製膜ユニットやヒータユニットなどが狭くスペースに配置されており、真空処理室の扉を極力広く開放しないと、この製膜ユニットやヒータユニットを十分にメンテナンスすることができず、作業性が良くないという問題がある。そこで、一般的なインライン型配置の真空処理室は側面に扉を設けて処理室内部を大きく開放する構造とすることも考えられるが、共通搬送室の周囲に複数の真空処理室が放射状に配設されたクラスタ型真空処理装置では、隣接する真空処理室の間の作業空間が少なく、真空処理室の側面に設けた扉を十分に開放することができない。
【０００６】
本発明はこのような問題を解決するものであって、真空処理室の側面に設けた扉を効率的に開放することで、隣接する真空処理室の間の作業空間が狭くても十分な扉開放量を得てメンテナンス作業の作業性を向上すると共に扉開放時のスペース確保のために装置が大型化することを防止したクラスタ型真空処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するための請求項１の発明のクラスタ型真空処理装置は、中央部に配設された共通搬送室と、該共通搬送室の周囲に該共通搬送室に対してゲート弁を介してそれぞれ連通可能に配設されて基板を真空雰囲気中で処理する複数の真空処理室と、前記共通搬送室に前記基板を搬入するロード室と、前記共通搬送室から前記基板を搬出するアンロード室と、前記共通搬送室と前記真空処理室と前記ロード室と前記アンロード室との相互間で前記基板を搬送する搬送台車とを具えたクラスタ型真空処理装置において、前記真空処理室と前記ロード室と前記アンロード室のいずれか一つまたは全ての少なくとも一方の側面を開閉可能なメンテナンス用の扉と、前記真空処理室の側面開口部に対してほぼ直交して敷設された一対の第１ガイドレールと、これらの第１ガイドレールにそれぞれ移動可能に支持された第１移動体と、これらの第１移動体に掛け渡すように前記側面開口部に対して左右方向に沿って架設された第２ガイドレールと、この第２ガイドレールに移動可能に支持された第２移動体と、この第２移動体上に回動可能に支持された回動体を有し、この回動体を回動中心として前記扉を回動させる回動機構とを設けたことを特徴とするものである。
【００１０】
請求項２の発明のクラスタ型真空処理装置では、前記第１ガイドレールは、前記共通搬送室を中心とした弧状をなすことを特徴としている。
【００１１】
請求項３の発明のクラスタ型真空処理装置では、隣接する前記真空処理室の各扉に対して前記第１ガイドレールを連続して配設したことを特徴としている。
【００１２】
請求項４の発明のクラスタ型真空処理装置では、前記真空処理室と前記扉と前記第１ガイドレールと前記第１移動体と前記第２ガイドレールと前記第２移動体と前記回動機構とをユニット化し、前記第１ガイドレールを各ユニットごとに分割したことを特徴としている。
【００１３】
請求項５の発明のクラスタ型真空処理装置では、前記真空処理室内に製膜ユニットが装着される一方、前記扉の内側にヒータユニットが装着されたことを特徴としている。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１５】
図１に本発明の第１実施形態に係るクラスタ型真空処理装置における製膜室の概略、図２に製膜室の平面視、図３及び図４に製膜室における扉の開放動作を表す概略、図５にクラスタ型真空処理装置の概略、図６に製膜室の内部を透視した概略、図７に製膜ユニット及びヒータユニットの概略を示す。
【００１６】
本実施形態のクラスタ型真空処理装置において、図５に示すように、中央部には共通搬送室１１が配設され、この共通搬送室１１の周囲にはこの共通搬送室１１を取り囲むように５つの製膜室（真空処理室）１２ａ〜１２ｅ、ロード室１３、アンロード室１４、予備室１５が配置されている。そして、共通搬送室１１と各製膜室１２ａ〜１２ｅ、ロード室１３、アンロード室１４、予備室１５との間にはそれぞれ台車移動接続室１６ａ〜１６ｈが配置され、共通搬送室１１と連通すると共に、各ゲート弁１７ａ〜１７ｈを介して各製膜室１２ａ〜１２ｅ、ロード室１３、アンロード室１４、予備室１５と連通している。
【００１７】
共通搬送室１１にて、床部にはターンテーブル１８が所定角度に割出回転可能に設けられ、このターンテーブル１８上には２本のレール１９が敷設され、各レール１９にはガラス基板Ｇを搭載可能な搬送台車２０が移動自在に支持されている。ロード室１３には搬入テーブル２１が隣接して配置されており、ガラス基板Ｇを搭載した搬送台車２０が搬入テーブル２１からロード室１３及び台車移動接続室１６ｆを通って共通搬送室１１に移動可能となっている。また、アンロード室１４には搬出テーブル２２が隣接して配置されており、ガラス基板Ｇを搭載した搬送台車２０が共通搬送室１１から台車移動接続室１６ｇ及びアンロード室１４を通って搬出テーブル２２に移動可能となっている。
【００１８】
各製膜室１２ａ〜１２ｅはガラス基板Ｇを真空雰囲気中で処理するものでほぼ同様の構成となっており、ガラス基板Ｇを搭載した搬送台車２０が共通搬送室１１、台車移動接続室１６ａ〜１６ｅ、製膜室１２ａ〜１２ｅの間で移動可能となっている。なお、共通搬送室１１、台車移動接続室１６ｈ、予備室１５との間でも搬送台車２０が移動可能となっている。
【００１９】
この製膜室１２ａ〜１２ｅ内には、図６及び図７に示すように、製膜ユニット２３と、その両側に位置して一対のヒータユニット２４ａ，２４ｂ及びカバー２５ａ，２５ｂが配設されている。この製膜ユニット２３は、ポジショナー２３ａ、ガス供給機能付ラダー電極２３ｂ、製膜ユニットカバー２３ｃ、製膜ユニット温度制御ヒータ（または冷却ユニット）２３ｄ、排気装置２３ｅ等が２組設けられて構成されている。また、ヒータユニット２４ａ，２４ｂに対してヒータカバー２５ａ，２５ｂが、例えば、ボールスクリュー機構２６ａ，２６ｂにより移動可能となっている。
【００２０】
そして、各製膜室１２ａ〜１２ｅの両側面には開閉可能なメンテナンス用の扉２７ａ〜２７ｅが設けられており、製膜室１２ａ〜１２ｅ内の中央部に製膜ユニット２３が配置される一方、扉２７ａ〜２７ｅの内側にヒータユニット２４ａ，２４ｂとヒータカバー２５ａ，２５ｂが支持されている。
【００２１】
ここで、各製膜室１２ａ〜１２ｅに対する各扉２７ａ〜２７ｅの支持機構について説明するが、各扉２７ａ〜２７ｈはほぼ同様の構成となっている。また、ロード室１３とアンロード室１４も同様の側面扉を設けているため、製膜室１２ａの扉２７ａについてのみ詳細に説明する。
【００２２】
即ち、図１及び図２に示すように、製膜室１２ａの両側部にはメンテナンス開口部２８が形成され、このメンテナンス開口部（側面開口部）２８に対してほぼ直交して一対の第１ガイドレール２９が敷設されており、各第１ガイドレール２９には第１移動体３０がそれぞれ移動可能となっている。この各第１移動体３０に掛け渡すようにメンテナンス開口部２８に対して左右方向に沿って第２ガイドレール３１が架設されており、この第２ガイドレール３１には第２移動体３２が移動可能なっている。そして、この第２移動体３２上には回動体３３が回動可能に支持され、この回動体３３はブラケット３４を介して扉２７ａが取付けられている。
【００２３】
この場合、第１ガイドレール２９及び第１移動体３０により本発明の第１移動機構が構成され、第２ガイドレール３１及び第２移動体３２により本発明の第２移動機構が構成され、回動体３３及びブラケット３４により本発明の回動機構が構成されている。そして、例えば、各移動体３０，３２はラックとピニオン機構やリニアモータ等により移動可能であり、回動体３３は回転モータにより回動可能であったり、手動でも十分に移動可能となっている。
【００２４】
このように構成された本実施形態のクラスタ型真空処理装置にて、ガラス基板Ｇに対して製膜処理を施すには、図５乃至図７に示すように、ロード室１３、共通搬送室１１、製膜室１２ａが真空の状態にて、まず、搬入テーブル２１にてガラス基板Ｇを搬送台車２０に載せ、ロード室１３から台車移動接続室１６ｆを介して共通搬送室１１に搬送する。次に、この共通搬送室１１のターンテーブル１８を所定角度回動して製膜室１２ａに向きを変え、ターンテーブル１８上の搬送台車２０を台車移動接続室１６ａを介して製膜室１２ａに搬送する。ここで、ヒータカバー２５ａ，２５ｂを前進してガラス基板Ｇを受け取り、搬送台車２０を台車移動接続室１６ａに搬出してゲート弁１７ａを閉じる。そして、ガラス基板Ｇを前進してポジショナー２３ａに押し付け、排気装置２３ｅを通して製膜室１２ａを換気しながらプロセスガスを供給して減圧状態とする。この製膜室１２ａの減圧状態にて、ガス供給機能付ラダー電極２３ｂに高周波を印加してガラス基板Ｇとの間に高周波プラズマを生成し、このガラス基板Ｇの表面に所望厚さの膜を製造する。
【００２５】
その後、ガラス基板Ｇの製膜処理が完了したら、プロセスガスを停止して真空状態としてゲート弁１７ａを開けて製膜室１２ａに搬送台車を搬入してガラス基板Ｇを受け渡し、前述とは逆の作動により、ガラス基板Ｇを搭載した搬送台車２０を台車移動接続室１６ａ、共通搬送室１１、台車移動接続室１６ｇ、アンロード室１４を通して搬出テーブル２２に移動する。
【００２６】
そして、このような製膜室１２ａでのガラス基板Ｇの製膜処理中に、前述と同様に、ガラス基板Ｇを製膜室１２ｂ〜１２ｅに次々に搬送し、製膜処理を連続して行う。
【００２７】
一方、定期的あるいは必要時に、各製膜室１２ａ〜１２ｅ内の各種機器に対してメンテナンスを行う。この場合、例えば、製膜室１２ａでは、図３に示すように、まず、各第１移動体３０を製膜室１２ａから離間する方向に所定距離移動し、扉２７ａをＸ方向に移動して製膜室１２ａのメンテナンス開口部２８を若干開放する。次に、第２移動体を製膜室１２ａに沿って所定距離移動し、扉２７ａをＹ方向に移動してメンテナンス開口部２８に対してその位置を若干ずらした後、再び、各第１移動体３０を製膜室１２ａから離間する方向に所定距離移動し、図４に示すように、扉２７ａをＸ方向に移動して扉２７ａがθ方向へ回動しても製膜室１２ａ，１２ｂに接触しない位置に停止する。ここで、回動体３３を所定角度回動し、扉２７ａをθ方向に回動してメンテナンス開口部２８を大きく開放すると共に、扉２７ａに装着されたヒータユニット２４ａ，２４ｂ（ヒータカバー２５ａ，２５ｂ）を外方に向ける。
【００２８】
このように扉２７ａのＸＹ方向への移動とθ方向への回動によりこの製膜室１２ａのメンテナンス開口部２８を大きく開放することができると共に、ヒータユニット２４ａ，２４ｂ（ヒータカバー２５ａ，２５ｂ）を外方に向けることができる。なお、製膜室１２ａにおける反対側の扉２７ａも同様に移動及び回動によりメンテナンス開口部２８を大きく開放すると共に、ヒータユニット２４ａ，２４ｂ（ヒータカバー２５ａ，２５ｂ）を外方に向けることができる。従って、作業者は広い作業空間にて製膜ユニット２３、ヒータユニット２４ａ，２４ｂ、ヒータカバー２５ａ，２５ｂ等のメンテナンスを容易に行うことができる。
【００２９】
図８乃至１０に本発明の第２、第３、第４実施形態に係るクラスタ型真空処理装置における製膜室の概略を示す。なお、前述した実施形態で説明したものと同様の機能を有する部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。
【００３０】
第２実施形態に係るクラスタ型真空処理装置において、図８に示すように、製膜室１２ａと製膜室１２ｂとの間には共通となる一対の第１ガイドレール４１が敷設されており、この第１ガイドレール４１には第１移動体４２ａ，４２ｂが移動可能となっている。各第１移動体４２ａ，４２ｂに掛け渡すように第２ガイドレール４３ａ，４３ｂが架設されており、各第２ガイドレール４３ａ，４３ｂには第２移動体４４ａ，４４ｂが移動可能なっている。そして、この第２移動体４４ａ，４４ｂ上には回動体４５ａ，４５ｂが回動可能に支持され、各回動体４５ａ，４５ｂはブラケット４６ａ，４６ｂにより扉２７ａ，２７ｂが取付けられている。
【００３１】
従って、製膜室１２ａにて、まず、第１移動体４２ａと共に扉２７ａを製膜室１２ａから離間する方向に所定距離移動してメンテナンス開口部２８を若干開放し、次に、第２移動体４４ａと共に扉２７ａを製膜室１２ａに沿って所定距離移動し、再び、第１移動体４２ａと共に扉２７ａを製膜室１２ａから離間する方向に所定距離移動し、最後に、回動体４５ａと共に扉２７ａを所定角度回動することで、製膜室１２ａのメンテナンス開口部２８を大きく開放すると共に、ヒータユニット２４ａ，２４ｂを外方に向けることができる。
【００３２】
なお、製膜室１２ａにおける反対側についも、扉２７ａを同様の動作により移動及び回動することで、メンテナンス開口部２８を開放できると共に、ヒータユニット２４ａ，２４ｂを外方に向けることができる。また、製膜室１２ａのメンテナンスが完了したら、同様の手順により製膜室１２ｂのメンテナンスを行うことができる。
【００３３】
このように隣接する製膜室１２ａ，１２ｂ間に共通となる第１ガイドレール４１を敷設することで、扉２７ａ，２７ｂの移動機構を簡素化することができ、隣室とのレールを安価な直線レールで共通化できるため、製造コストを低減することができる。
【００３４】
第３実施形態に係るクラスタ型真空処理装置において、図９に示すように、製膜室１２ａと製膜室１２ｂとの間には共通となる一対の湾曲した第１ガイドレール５１が敷設されており、この第１ガイドレール５１には第１移動体５２ａ，５２ｂが移動可能となっている。この第１ガイドレール５１は共通搬送室１１（図５参照）を中心とした弧状をなしている。この各第１移動体５２ａ，５２ｂに掛け渡すように第２ガイドレール５３ａ，５３ｂが架設されており、各第２ガイドレール５３ａ，５３ｂには第２移動体５４ａ，５４ｂが移動可能なっている。そして、この第２移動体５４ａ，５４ｂ上には回動体５５ａ，５５ｂが回動可能に支持され、各回動体５５ａ，５５ｂはブラケット５６ａ，５６ｂにより扉２７ａ，２７ｂが取付けられている。
【００３５】
従って、製膜室１２ａにて、まず、第１移動体５２ａと共に扉２７ａを製膜室１２ａから離間する方向に製膜室１２ａ，１２ｂのほぼ中間位置まで移動してメンテナンス開口部２８を開放し、次に、第２移動体５４ａと共に扉２７ａを外方に所定距離移動し、最後に、回動体５５ａと共に扉２７ａを所定角度回動することで、製膜室１２ａのメンテナンス開口部２８を大きく開放すると共に、ヒータユニット２４ａ，２４ｂを外方に向けることができる。
【００３６】
このように隣接する製膜室１２ａ，１２ｂ間に共通となる第１ガイドレール５１を敷設すると共に、この第１ガイドレール５１を弧状とすることで、扉２７ａ，２７ｂの移動手順を簡素化することができ、隣室とのレールの共通化により製造コストを低減することができると共に、扉２７ａ，２７ｂの移動動作もスムースなものとなり、作業性を向上することができる。
【００３７】
第４実施形態に係るクラスタ型真空処理装置では、図１０に示すように、前述した第２実施形態と同様に、隣接する製膜室１２ａ，１２ｂ間に共通となる第１ガイドレール６１を敷設しているが、製膜室１２ａ，１２ｂ・・、扉２７ａ，２７ｂ・・、第１ガイドレール６１、第１移動体４２ａ，４２ｂ、第２ガイドレール４３ａ，４３ｂ、第２移動体４４ａ，４４ｂ、回動体４５ａ，４５ｂ等がテーブル６２ａ，６２ｂ・・上に搭載されてユニット化されている。そのため、この各第１ガイドレール６１は、テーブル６０ａ，６０ｂに対応して２分割された一対の第１ガイドレール６１ａ，６１ｂにより構成されている。
【００３８】
このように製膜室１２ａ，１２ｂ、扉２７ａ，２７ｂ、第１ガイドレール６１等をテーブル６２ａ，６２ｂ上に搭載してユニット化して事前に個々を組み上げることで、クラスタ型真空処理装置の組付コストや、装置を据え付けるクリーンルーム等への輸送と据付け及び組付工数を低減することができると共に、隣接する製膜室１２ａ，１２ｂ間に共通となる第１ガイドレール６１を分割して短くすることができ、製造コストを低減することができる。
【００３９】
なお、上述した各実施形態では、製膜室１２ａ〜１２ｅから扉２７ａ〜２７ｅを開放するとき、扉２７ａ〜２７ｅの直線（曲線）移動と回動を別々に行うようにしたが、扉２７ａ〜２７ｅが製膜室１２ａ〜１２ｅに接触しないように注意しながら、この直線（曲線）移動と回動を同時に行うことで、扉２７ａ〜２７ｅの開放時間を低減するようにしてもよい。
【００４０】
【発明の効果】
以上、実施形態において詳細に説明したように請求項１の発明のクラスタ型真空処理装置によれば、中央部に配設された共通搬送室と、該共通搬送室の周囲に該共通搬送室に対してゲート弁を介してそれぞれ連通可能に配設されて基板を真空雰囲気中で処理する複数の真空処理室と、前記共通搬送室に前記基板を搬入するロード室と、前記共通搬送室から前記基板を搬出するアンロード室と、前記共通搬送室と前記真空処理室と前記ロード室と前記アンロード室との相互間で前記基板を搬送する搬送台車とを具えたクラスタ型真空処理装置において、前記真空処理室と前記ロード室と前記アンロード室のいずれか一つまたは全ての少なくとも一方の側面を開閉可能なメンテナンス用の扉と、前記真空処理室の側面開口部に対してほぼ直交して敷設された一対の第１ガイドレールと、これらの第１ガイドレールにそれぞれ移動可能に支持された第１移動体と、これらの第１移動体に掛け渡すように前記側面開口部に対して左右方向に沿って架設された第２ガイドレールと、この第２ガイドレールに移動可能に支持された第２移動体と、この第２移動体上に回動可能に支持された回動体を有し、この回動体を回動中心として前記扉を回動させる回動機構とを設けたことを特徴とするため、扉を移動と回動により開閉することで、周囲の真空処理室に接触することなく効率的に開放することができ、隣接する真空処理室の間の作業空間が狭くても十分な扉開放量を得てメンテナンス作業の作業性を向上すると共に、扉開放時のスペース確保のために装置を大型化することを防止することができる。
【００４１】
また、請求項１の発明のクラスタ型真空処理装置によれば、簡単な構成で扉の移動と回動を可能とすることで、構造の簡素化並びに製造コストの低減を図ることができる。
【００４２】
また、請求項１の発明のクラスタ型真空処理装置によれば、第１移動体に掛け渡すように前記側面開口部に対して左右方向に沿って架設された第２ガイドレールと、この第２ガイドレールに移動可能に支持された第２移動体とを設けたので、扉の移動及び回動範囲を拡大することで、この扉により真空処理室の側面を効率的に開放することができる。
【００４３】
請求項２の発明のクラスタ型真空処理装置によれば、第１ガイドレールを共通搬送室を中心とした弧状としたので、扉の移動動作をスムースなものとすることで、メンテナンス作業の作業性を向上することができる。
【００４４】
請求項３の発明のクラスタ型真空処理装置によれば、隣接する真空処理室の各扉に対して第１ガイドレールを連続して配設したので、扉の移動機構を簡素化することができ、製造コストを低減することができる。
【００４５】
請求項４の発明のクラスタ型真空処理装置によれば、真空処理室と扉と第１ガイドレールと第１移動体と第２ガイドレールと第２移動体と回動機構とをユニット化し、ガイドレールを各ユニットごとに分割したので、このガイドレールを各ユニットごとにそれぞれ事前に組み立てることができ、クラスタ型真空処理装置の組付コストや、輸送や据付け及び組付工数を低減することができると共に、隣接する真空処理室間に共通となる第１ガイドレールを分割して短くすることができ、製造コストを低減することができる。
【００４６】
請求項５の発明のクラスタ型真空処理装置によれば、真空処理室内に製膜ユニットを装着する一方、扉の内側にヒータユニットを装着したので、真空処理室の側面を大きく開放すると共に、ヒータユニットが外部に露出することで、製膜ユニット及びヒータユニットのメンテナンスを容易に行うことができる、メンテナンス作業の作業効率を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係るクラスタ型真空処理装置における製膜室の概略図である。
【図２】クラスタ型真空処理装置における製膜室の平面図である。
【図３】クラスタ型真空処理装置の製膜室における扉の開放動作を表す概略図である。
【図４】クラスタ型真空処理装置の製膜室における扉の開放動作を表す概略図である。
【図５】クラスタ型真空処理装置の概略図である。
【図６】製膜室の内部を透視した概略図である。
【図７】製膜ユニット及びヒータユニットの概略図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係るクラスタ型真空処理装置における製膜室の概略図である。
【図９】本発明の第３実施形態に係るクラスタ型真空処理装置における製膜室の概略図である。
【図１０】本発明の第４実施形態に係るクラスタ型真空処理装置における製膜室の概略図である。
【符号の説明】
１１  共通搬送室
１２ａ〜１２ｅ製膜室（真空処理室）
１３  ロード室
１４  アンロード室
１５  予備室
１６ａ〜１６ｈ  台車移動接続室
１７ａ〜１７ｈ  ゲート弁
２０  搬送台車
２３  製膜ユニット
２４ａ，２４ｂ  ヒータユニット
２５ａ，２５ｂ  ヒータカバー
２７ａ〜２７ｈ  扉
２８  メンテナンス開口部（側面開口部）
２９，４１，５１，６１  第１ガイドレール（第１移動機構）
３０，４２ａ，４２ｂ，５２ａ，５２ｂ  第１移動体（第１移動機構）
３１，４３ａ，４３ｂ，５３ａ，５３ｂ  第２ガイドレール（第２移動機構）
３２，４４ａ，４４ｂ，５４ａ，５４ｂ  第２移動体（第２移動機構）
３３，４２ａ，４２ｂ，５５ａ，５５ｂ  回動体（回動機構）
Ｇ  ガラス基板
【図１】
0003794964.tif 000002
【図２】
0003794964.tif 000003
【図３】
0003794964.tif 000004
【図４】
0003794964.tif 000005
【図５】
0003794964.tif 000006
【図６】
0003794964.tif 000007
【図７】
0003794964.tif 000008
【図８】
0003794964.tif 000009
【図９】
0003794964.tif 000010
【図１０】
0003794964.tif 000011