(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アームを移動させ，該アーム上に載せた状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送装置において，
アームに設けられ基板を吸着するための第一の吸着パッドと，
前記アームの前記第一の吸着パッドに並設され，基板を吸着する第二の吸着パッドと，
前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの間に設けられた突起と，を備え，
前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドは，前記第一の吸着パッドのみで基板を吸着する状態と，前記第二の吸着パッドのみで基板を吸着する状態とに切り換え可能であり，
前記第一の吸着パッド又は第二の吸着パッドのいずれか一方に基板を吸着した際に，当該基板の吸着した一方の吸着パッドが弾性によって収縮してその吸着パッドの上面の高さが低くなり，前記突起が前記基板の下面を相対的に突き上げて，吸着してない他方の吸着パットの上面が前記基板の下面と離れ非接触になることを特徴とする，基板搬送装置。
【請求項２】
前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドを上面が同じ高さとなるように配置したことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドを一対ずつ複数箇所に配置することを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記突起を，前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの上面と同じ高さに設けたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドが，アームの中心線に対して対称の位置にそれぞれ一対ずつ配置され，各対をなす第一の吸着パッドと第二の吸着パッドにおいて，アームの中心線に対して第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの一方が他方の外側に配置されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記第一及び第二の吸着パッドのうち，基板を吸着したいずれか一方の吸着パッドは，弾性によって収縮し，他方の吸着パッドよりも高さが低くなることを特徴とする，請求項１〜５のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項７】
基板を保持するアームと，このアームに設けられ基板を吸着するための第一及び第二の吸着パッドと，当該第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの間に設けられた突起とを備えた基板処理装置を用いて基板を処理部に対して搬入出する基板搬送方法であって，
処理前の基板を第一の吸着パッドに吸着しつつ，当該基板が第二の吸着パッドから離れ非接触になるように前記突起が前記基板を突き上げた状態で，当該基板を前記処理部に搬入する工程と，
処理後の基板を前記第二の吸着パッドに吸着しつつ，当該基板が前記第一の吸着パッドから離れ非接触になるように前記突起が前記基板を突き上げた状態で，当該基板を前記処理部から搬出する工程と，を有することを特徴とする，基板搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は，例えば半導体ウェハやＬＣＤガラス基板などといった基板をカセットと処理部との間で搬送する基板搬送装置と方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に，液晶ディスプレイの製造工程においては，ガラス基板の如き基板上に回路や電極パターン等を形成するために，フォトリソグラフィが利用されている。このフォトリソグラフィでは，基板の洗浄，乾燥，基板上へのレジスト膜の形成，レジスト膜の露光，現像などといった一連の処理が行われる。そして，これら各処理を行う処理装置においては，カセットステーションに載置されたカセット内から取り出した基板をアームに載せた状態で処理部に一枚ずつ搬送し，各基板に対して洗浄等の処理を順次行う。また，各処理部における処理を終了した基板を，再びアームに載せた状態で搬送し，カセット内に戻している。
【０００３】
このような基板の搬送を行うアームの上面において，例えば洗浄前に基板を支持する部分と洗浄後に基板を支持する部分が同じであると，洗浄前の基板を載せた際に基板裏面に付いていた汚染物質がアーム上面を介して支持部に付着し，洗浄後の基板をアーム上に載せて搬送する際に洗浄済みの基板の裏面に汚染物質を再付着させてしまうという問題がある。そこで，この問題を解決する手段として，例えば，特開平５−１５２２６６号の基板搬送装置が開示されている。即ち，この特開平５−１５２２６６号の基板搬送装置では，カセット内から洗浄前の基板を取り出して洗浄部まで搬送する基板取出アームと，洗浄部において洗浄済みの基板をカセット内に戻す処理済み基板収納アームを別々の機構に構成し，汚染物質の再付着を防いでいる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが，この特開平５−１５２２６６号の基板搬送装置のように基板取出アームと処理済み基板収納アームを洗浄の前後で切り換えるように構成したものは，アーム全体が切り替え動作に伴って旋回等するため，アームを動かすための相当に広いスペースが必要であり，装置スペースの有効利用が図れないという問題がある。また，この従来の基板搬送装置のように基板取出アームと処理済み基板収納アームを別々の機構に構成したものは，結局は取出用と収納用のアームが別々に必要であり，更に，取出用と収納用のアームを切り替える駆動機構も比較的大型であって，構造が複雑になるといった欠点がある。
【０００５】
従って，本発明の目的は，簡単な構造でありながら基板への汚染物質の再付着等を確実に防ぐことができる基板搬送装置と方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために，本発明は，アームを移動させ，該アーム上に載せた状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送装置において，アームに設けられ基板を吸着するための第一の吸着パッドと，前記アームの前記第一の吸着パッドに並設され，基板を吸着する第二の吸着パッドと，前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの間に設けられた突起と，を備え，前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドは，前記第一の吸着パッドのみで基板を吸着する状態と，前記第二の吸着パッドのみで基板を吸着する状態とに切り換え可能であり，前記第一の吸着パッド又は第二の吸着パッドのいずれか一方に基板を吸着した際に，当該基板の吸着した一方の吸着パッドが弾性によって収縮してその吸着パッドの上面の高さが低くなり，前記突起が前記基板の下面を相対的に突き上げて，吸着してない他方の吸着パットの上面が前記基板の下面と離れ非接触になることを特徴とする。
【０００７】
本発明によれば，カセット内から処理前の基板を取り出して処理部まで搬送する際には，例えば第一の吸着パッドのみによって基板の下面を吸着した状態にする。また，処理部において処理済みの基板をカセット内に戻す際には，例えば第二の吸着パッドのみによって基板の下面を吸着した状態にする。このように処理前の基板と処理後の基板を同じアームの上面において別々の吸着パッドで吸着して支持することによって，簡単に汚染物質の再付着を防ぐことができるようになる。なお，第一の吸着パッドと第二の吸着パッドは吸着する基板に追従するような柔軟な構成とすることが好ましい。
【０００８】
上記基板搬送装置において，前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドを一対ずつ複数箇所に配置してもよい。また，突起を，第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの上面と同じ高さに設けてもよい。また，前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドが，アームの中心線に対して対称の位置にそれぞれ一対ずつ配置され，各対をなす第一の吸着パッドと第二の吸着パッドにおいて，アームの中心線に対して第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの一方が他方の外側に配置されていてもよい。
【０００９】
参考例として，アームを移動させ，該アーム上に載せた状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送方法において，アームの上面に基板を吸着するための第一の吸着パッドと第二の吸着パッドを上面が同じ高さとなるように配置し，処理部に対して基板を搬入させる場合は，第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの一方のみで基板を吸着し，処理部から基板を搬出する際には，第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの他方のみで基板を吸着するようにしてもよい。
【００１０】
また，別の参考例として，アームを移動させ，該アーム上に載せた状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送装置において，前記アームを回転自在に設けると共に，基板を吸着するための第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの一方をアームの表面に配置し，他方をアームの裏面に配置するようにしてもよい。
【００１１】
上記基板搬送装置にあっては，カセット内から処理前の基板を取り出して処理部まで搬送する際には，例えばアームの表面を上に向けて第一の吸着パッドのみによって基板の下面を吸着した状態にする。また，処理部において処理済みの基板をカセット内に戻す際には，例えばアームの裏面を上に向けて第二の吸着パッドのみによって基板の下面を吸着した状態にする。このように処理前の基板と処理後の基板を同じアームの上面において別々の吸着パッドで吸着して支持することによって，簡単に汚染物質の再付着を防ぐことができるようになる。
【００１２】
別の参考例として，アームを移動させ，該アーム上に載せた状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送方法において，前記アームを回転自在に設けると共に，基板を吸着するための第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの一方をアームの表面に配置し，他方をアームの裏面に配置し，処理部に対して基板を搬入させる場合は，アームの表裏面の一方を上にして第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの一方のみで基板を吸着し，処理部から基板を搬出する際には，アームの表裏面の一方を下にして第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの他方のみで基板を吸着することを特徴とする。
別の参考例によれば，アームを移動させ，該アーム上に載せた状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送装置において，前記アームには，基板を吸着するための第一の吸着パッドと第二の吸着パッドが設けられ，第一の吸着パッドと第二の吸着パッドは，前記第一の吸着パッドのみで基板を吸着した状態と，前記第二の吸着パッドのみで基板を吸着した状態とに切り換えられる構成となっている基板搬送装置が提供される。
前記第一の吸着パッドと前記第二の吸着パッドは，対をなすように配置され，当該対をなす第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの間には，これら第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの上面と略同じ高さの突起を設けてもよい。
前記第一及び第二の吸着パッドのうち，基板を吸着したいずれか一方の吸着パッドは，弾性によって収縮し，他方の吸着パッドよりも高さが低くなるようにしてもよい。
別の観点による発明によれば，基板を保持するアームと，このアームに設けられ基板を吸着するための第一及び第二の吸着パッドと，当該第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの間に設けられた突起とを備えた基板処理装置を用いて基板を処理部に対して搬入出する基板搬送方法であって，処理前の基板を第一の吸着パッドに吸着しつつ，当該基板が第二の吸着パッドから離れ非接触になるように前記突起が前記基板を突き上げた状態で，当該基板を前記処理部に搬入する工程と，処理後の基板を前記第二の吸着パッドに吸着しつつ，当該基板が前記第一の吸着パッドから離れ非接触になるように前記突起が前記基板を突き上げた状態で，当該基板を前記処理部から搬出する工程と，を有することを特徴とする基板搬送方法が提供される。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の好ましい実施の形態を被処理体としての基板Ｗを洗浄する洗浄装置１に基いて説明する。図１は，半導体ウェハやＬＣＤガラス基板などといった基板Ｗを洗浄するための洗浄装置１の平面図である。この洗浄装置１は，本発明の実施の形態にかかる基板搬送装置２を備えており，基板搬送装置２の両側には，カセットステーション３と洗浄部４が対向して配置されている。
【００１４】
カセットステーション３には，図示しない搬送ロボットなどによって搬入されたカセットＣが載置されている。このカセットＣの内部には，複数枚の基板Ｗが，水平になった姿勢で所定の間隔を空けて並列に整列された状態で収納されている。基板Ｗは，例えば円板形状からなる半導体ウェハや矩形状をなすＬＣＤガラス基板などである。
【００１５】
洗浄部４の中央には，搬送路１０が形成されており，この搬送路１０に沿って主搬送アーム１１が移動する構成になっている。図示の例では，搬送路１０の一方側に純水もしくは，アンモニア水溶液，過酸化水素水溶液，フッ化水素水溶液などの各種薬液を用いて基板Ｗを洗浄するためのスクラバユニット１５，１６が配置されている。また，搬送路１０の他方側には，基板Ｗを乾燥処理するための乾燥ユニット１２，１３，１４が配置されている。そして，主搬送アーム１１が搬送路１０に沿って移動しながら基板Ｗを各ユニット１２〜１６に所定の順序で搬送することにより基板Ｗに対する各洗浄処理が行われるようになっている。
【００１６】
基板搬送装置２は，ベース２０の前面に取り付けられたアーム２１を備えている。次に述べるように，基板搬送装置２において，ベース２０は図１に示すＸＹ方向に移動し，かつ，鉛直方向に昇降すると共に，鉛直軸を中心に回転するように構成されている。そして，このベース２０の移動に従って，カセットステーション３に載置されたカセットＣ内から洗浄前の基板Ｗを取り出し，その基板Ｗをアーム２１上に載せながら搬送して，洗浄部４の主搬送アーム１１に受け渡すと共に，洗浄部４において既に洗浄された基板Ｗを主搬送アーム１１から受け取ってアーム２１上に載せながら搬送し，カセットステーション３のカセットＣ内に戻す構成になっている。
【００１７】
ベース２０は，図２に示す姿勢においてベース２０をＸ軸方向に水平移動させてアーム２１をカセットＣに対して前進および後退させる進退機構２２と，この進退機構２２の下面を回転自在かつ昇降自在に支持することによってアーム２１を回転および昇降させる回転昇降機構２３と，この回転昇降機構２３の下方を支持してＹ軸方向に設けられたレール２４に沿って走行することによってアーム２１を横方向に移動させる横移動機構２５とによって支持されている。そして，これら進退機構２２，回転昇降機構２３および横移動機構２５の協働によって，カセットステーション３に載置されたカセットＣ内にアーム２１を嵌入させた状態でアーム２１を上昇させることにより，カセットＣ内から洗浄前の基板Ｗを取り出すことができるようになっている。そして，こうして取り出した基板Ｗをアーム２１上に載せながら搬送し，基板搬送装置２の後方において待機している洗浄部４の主搬送アーム１１に受け渡すようになっている。また，洗浄部４において既に洗浄された基板ＷをカセットＣ内に戻す場合には，主搬送アーム１１がアーム２１上に基板Ｗを載せた後，基板Ｗをアーム２１上に載せながら搬送し，カセットステーション３のカセットＣ内に戻すようになっている。
【００１８】
アーム２１の上面には，例えば三箇所に配置された第一の吸着パッド３１と第二の吸着パッド３２がそれぞれ設けられている。具体的な構成は後述するが，これら第一の吸着パッド３１と第二の吸着パッド３２は，アーム２１の上面において第一の吸着パッド３１だけによって基板Ｗの下面を吸着した状態と，アーム２１の上面において第二の吸着パッド３２だけによって基板Ｗの下面を吸着した状態とに切り替えられる構成になっている。
【００１９】
ここで図３は，特に円板形状をなす半導体ウェハの如き基板Ｗの搬送に適したアーム２１の斜視図である。図示のように，このアーム２１は，ベース２０の前面に取り付けられた一枚の板部材３５によって構成されており，その上面には，三箇所ずつに配置された第一の吸着パッド３１と第二の吸着パッド３２がそれぞれ設けられている。また，板部材３５の先端部と基端部には半導体ウェハの如き基板Ｗの周縁を位置決めするためのガイド３６，３７が設けられている。そして，このガイド３６，３７の間で位置決めした基板Ｗの下面を，板部材３５の上面において第一の吸着パッド３１のみで吸着した状態と，第二の吸着パッド３２のみで吸着支持する状態とに切り替えられる構成になっている。
【００２０】
また，図４は，特に矩形状をなすＬＣＤガラス基板の如き基板Ｗの搬送に適したアーム２１の斜視図である。図示のように，このアーム２１は，ベース２０の前面に取り付けられた二本のアーム部材３８によって構成されており，その上面には，それぞれ三箇所ずつに配置された第一の吸着パッド３１と第二の吸着パッド３２が，合計で六箇所ずつに設けられている。そして，これら二本のアーム部材３８の上面において，基板Ｗの下面を第一の吸着パッド３１のみで吸着した状態と，第二の吸着パッド３２のみで吸着した状態とに切り替えられる構成になっている。
【００２１】
このように，アーム２１の形状は，例えば一枚の板部材３５や二本のアーム部材３８などといったように，自由に構成することが可能である。また，第一の吸着パッド３１と第二の吸着パッド３２は，基板Ｗの下面を安定して支持できるように，何れもアーム２１上面の少なくとも三箇所以上に配置されていれば良い。
【００２２】
さて，図１に示した洗浄装置１においては，先ず，搬送ロボットなどによって搬入されたカセットＣがカセットステーション３に載置される。このカセットＣの内部には，まだ洗浄されていない基板Ｗが，複数段に並列に整列された姿勢で収納されている。
【００２３】
次に，基板搬送装置２のアーム２１によって，このカセットＣの内部から基板Ｗを取り出す作業が開始する。先ず，図２で説明した進退機構２２，回転昇降機構２３および横移動機構２５の協働によってアーム２１を移動させ，カセットステーション３に載置されたカセットＣ内にアーム２１を嵌入させた後，アーム２１を上昇させる。こうして，カセットＣ内に収納されていた基板Ｗを下からすくい上げ，基板Ｗの下面を第一の吸着パッド３１のみによって吸着して支持する。そして，こうしてアーム２１上に受け取った基板ＷをカセットＣ内から取り出す。
【００２４】
次に，こうして取り出した基板Ｗの下面をアーム２１上において第一の吸着パッド３１のみによって吸着した状態を維持しながら，進退機構２２，回転昇降機構２３および横移動機構２５の協働によって搬送し，基板Ｗを基板搬送装置２の後方において待機している洗浄部４の主搬送アーム１１に受け渡す。こうして受け渡された基板Ｗは，主搬送アーム１１の移動によって洗浄部４の各ユニット１２〜１６に所定の順序で搬送され，基板Ｗに対する各洗浄処理が行われる。そして，洗浄部４における洗浄処理の終了した基板Ｗは，洗浄部４の主搬送アーム１１に載せられた姿勢で，基板搬送装置２の後方において待機した状態となる。
【００２５】
次に，こうして洗浄部４における洗浄処理を終了した基板ＷをカセットＣ内に戻す際には，先ず，図２で説明した進退機構２２，回転昇降機構２３および横移動機構２５の協働によって移動させられたアーム２１上に主搬送アーム１１が基板Ｗを載せた後，基板Ｗをアーム２１上に載せながら搬送し，カセットステーション３のカセットＣ内に戻す。そして，以上の工程を繰り返すことによって，カセットＣ内に収納された基板Ｗに対する洗浄処理をすべて終了すると，搬送ロボットなどによってカセットＣはカセットステーション３から搬出される。
【００２６】
かくして，この実施の形態の基板搬送装置２によれば，カセットステーション３に載置されたカセットＣと洗浄部４の主搬送アーム１１との間で基板Ｗを搬送するに際し，洗浄前の基板Ｗは第一の吸着パッド３１のみによって吸着し，洗浄後の基板Ｗは第二の吸着パッド３２のみによって吸着しているので，例え洗浄前の基板Ｗ下面から汚染物質が第一の吸着パッド３１に付着したとしても，それが洗浄後の基板Ｗに再付着する心配がない。なお，この実施の形態の基板搬送装置２において，洗浄前の基板Ｗを第二の吸着パッド３２のみによって吸着してカセットＣから主搬送アーム１１に搬送し，洗浄後の基板Ｗを第一の吸着パッド３１のみによって吸着して主搬送アーム１１からカセットＣに搬送するように構成しても，同様に汚染物質の再付着を防止できるようになる。
【００２７】
以下に，本発明の基板搬送装置２において好適に採用される第一の吸着パッド３１と第二の吸着パッド３２の具体的な構成について説明する。
【００２８】
図５は，先に図４で説明した如き二本のアーム部材３８からなるアーム２１の上面の六箇所に第一の吸着パッド５１と第二の吸着パッド５２をアーム２１の中心線２１’に対して左右対称の位置にそれぞれ一対ずつ配置した実施の形態の平面図を示している。各対をなす第一の吸着パッド５１と第二の吸着パッド５２は，いずれもアーム２１の中心線２１’に対して，図示の例では第一の吸着パッド５１の外側に第二の吸着パッド５２が配置されている。なお，図示の形態ではアーム２１の上面の六箇所に第一の吸着パッド５１と第二の吸着パッド５２をそれぞれ配置しているが，これら第一の吸着パッド５１と第二の吸着パッド５２の配置個数は任意に変更できる。また，アーム２１の中心線２１’に対して，第一の吸着パッド５１の内側に第二の吸着パッド５２を配置しても良い。この実施の形態では，図６に示されるように，それぞれ対をなしている第一の吸着パッド５１と第二の吸着パッド５２の上面が何れも同じ高さとなるように配置されている。更に，各対をなす第一の吸着パッド５１と第二の吸着パッド５２の間には，これら第一の吸着パッド５１と第二の吸着パッド５２の上面と略同じ高さを有する突起５３が設けられている。
【００２９】
そして，この実施の形態にあっては，洗浄前の基板Ｗをアーム２１上に載せて搬送する際には，図７に示すように，第一の吸着パッド５１のみによって基板Ｗの下面を吸着するようになっている。また，洗浄後の基板Ｗを搬送する際には，図８に示すように，第二の吸着パッド５２のみによって基板Ｗの下面を吸着するようになっている。従って，洗浄前の基板Ｗから第一の吸着パッド５１に付着した汚染物質を洗浄後の基板Ｗに再付着させることを防止できるようになる。なお，洗浄前の基板Ｗを搬送する際には第二の吸着パッド５２のみを吸着させ，洗浄後の基板Ｗを搬送する際には第一の吸着パッド５１のみを吸着させるように構成しても良い。
【００３０】
更に，この実施の形態にあっては，洗浄前の基板Ｗをアーム２１上に載せて搬送するに際して，アーム２１の上面において内側に配置されている第一の吸着パッド５１のみで基板Ｗの下面を吸着すると，図７に示すように，吸着に伴って第一の吸着パッド５１の上面の高さがその弾性によって収縮して低くなり，第一の吸着パッド５１と第二の吸着パッド５２の間に設けられた突起５３の上面が第一の吸着パッド５１の外側において基板Ｗの下面を相対的に突き上げた状態となる。これにより，洗浄前の基板Ｗを搬送するに際しては，図７に示されるように，基板Ｗの中心が低く外側が高くなるように基板Ｗが反った形状となって，第一の吸着パッド５１よりも外側に配置されている第二の吸着パッド５２の上面から基板Ｗ下面が離れた状態となる。また，洗浄後の基板Ｗをアーム２１上に載せて搬送するに際して，アーム２１の上面において外側に配置されている第二の吸着パッド５２のみで基板Ｗの下面を吸着すると，図８に示すように，吸着に伴って第二の吸着パッド５２の上面の高さがその弾性によって収縮して低くなり，第一の吸着パッド５１と第二の吸着パッド５２の間に設けられた突起５３の上面が第二の吸着パッド５２の内側において基板Ｗの下面を相対的に突き上げた状態となる。これにより，洗浄後の基板Ｗを搬送するに際しては，図８に示されるように，基板Ｗの中心が高く外側が低くなるように先とは逆に基板Ｗが反った形状となって，第二の吸着パッド５２よりも内側に配置されている第一の吸着パッド５１の上面から基板Ｗ下面が離れた状態となる。
【００３１】
このように，図６に示した実施の形態によれば，洗浄の前後において基板Ｗの下面に第一の吸着パッド５１のみが接触する状態と第二の吸着パッド５２のみが接触する状態とに切り替えることにより，洗浄前の基板Ｗから第一の吸着パッド５１に付着した汚染物質を洗浄後の基板Ｗに再付着させることを確実に防止できるようになる。なお，洗浄前の基板Ｗは第二の吸着パッド５２のみによって吸着し，洗浄後の基板Ｗは第一の吸着パッド５１のみによって吸着するように構成しても良い。
【００３２】
ここで図９に示す基板搬送装置１００は，先に図４で説明したアーム２１と同様に，ベース１０１の前面に取り付けられた二本のアーム部材１０２によって構成されたアーム１０３を備えている。各アーム部材１０２は，ベース１０１内に配設されたアクチュエータ１０４によってそれぞれ回転駆動される構成になっている。また，アーム部材１０２の表裏面には，表面側に第一の吸着パッド１０５がそれぞれ三箇所に配置されており，裏面側にも第二の吸着パッド１０６がそれぞれ三箇所に配置されている。
【００３３】
そして，この図９に示す基板搬送装置１００にあっては，洗浄前の基板Ｗをアーム１０３上に載せて搬送する際には，例えば図１０（ａ）に示すように，アーム部材１０２の表面側を上方に向けた姿勢とし，第一の吸着パッド１０５を上にする。そして，基板Ｗの下面を第一の吸着パッド１０５によって吸着する。一方，洗浄後の基板Ｗを搬送する際しては，図１０（ｂ）に示すように，予めアクチュエータ１０４の回転駆動によってアーム部材１０２を回転させてアーム部材１０２の表裏面をひっくり返す。こうして，図１０（ｃ）に示すように，アーム部材１０２の裏面側を上方に向けた姿勢とし，第二の吸着パッド１０６を上にし，基板Ｗの下面を第二の吸着パッド１０６によって吸着する。このように，洗浄の前後においてアーム部材１０２を反転させて基板Ｗの下面を第一の吸着パッド１０５と第二の吸着パッド１０６で切り替えて吸着することにより，洗浄前の基板Ｗから第一の吸着パッド１０５に付着した汚染物質を洗浄後の基板Ｗに再付着させることを防止できるようになる。
【００３４】
なお，洗浄前の基板Ｗを第二の吸着パッド１０６のみによって吸着し，洗浄後の基板Ｗは第一の吸着パッド１０５のみによって吸着するように構成しても，同様に汚染物質の再付着を防止できる。
【００３５】
以上，本発明の実施の形態を基板Ｗを洗浄する洗浄装置１に基づいて説明したが，本発明の基板搬送装置は，洗浄以外の例えば基板の乾燥やレジスト膜の塗布などといった他の処理を行う各種の処理装置に適用することも可能である。
【００３６】
【発明の効果】
本発明によれば，アーム自体を動かすことなく吸着パッドを切り替えることにより，処理前の基板と処理後の基板を別々の吸着パッドによって支持することができる。従って，比較的簡単な構造でありながら処理後の基板に対する汚染物質の再付着などといった問題を確実に解決できるといった特徴がある。また，基板搬送装置を小型に構成できるので，スペースの有効利用を図ることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】洗浄装置の平面図である。
【図２】本発明の実施の形態にかかる基板搬送装置の斜視図である。
【図３】半導体ウェハの如き基板の搬送に適したアームの斜視図である。
【図４】ＬＣＤガラス基板の如き基板の搬送に適したアームの斜視図である。
【図５】アームの上面に第一の吸着パッドと第二の吸着パッドを上面が同じ高さとなるように配置した構成の実施の形態を示す平面図である。
【図６】図５におけるＡ−Ａ断面矢視図である。
【図７】図５の実施の形態における洗浄前の基板を搬送する状態の説明図である。
【図８】図５の実施の形態における洗浄後の基板を搬送する状態の説明図である。
【図９】アームが反転するように構成された基板搬送装置の平面図である。
【図１０】図９の基板搬送装置の動作説明図である。
【符号の説明】
Ｗ    基板
Ｃ    カセット
２    基板搬送装置
３    カセットステーション
４    洗浄部
２１  アーム
３１  第一の吸着パッド
３２  第二の吸着パッド
【図１】
0003850951.tif 000002
【図２】
0003850951.tif 000003
【図３】
0003850951.tif 000004
【図４】
0003850951.tif 000005
【図５】
0003850951.tif 000006
【図６】
0003850951.tif 000007
【図７】
0003850951.tif 000008
【図８】
0003850951.tif 000009
【図９】
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【図１０】
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