(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均粒子径が５μｍ以下の銅−ニッケル合金粉末含有量が９７重量％より多く、４９０℃以下の軟化点を有するガラス粉末を０〜３重量％未満含有する混合粉体をビヒクルに分散させて得られる抵抗体ペースト。
【請求項２】
平均粒子径が５μｍと平均粒子径が２μｍ以下の銅−ニッケル合金粉末を混合して、粒度分布に少なくとも２つのピークをもたせ、銅−ニッケル合金粉末含有量が９７重量％より多く、４９０℃以下の軟化点を有するガラス粉末を０〜３重量％未満含有する混合粉体をビヒクルに分散させて得られる抵抗体ペースト。
【請求項３】
セラミック基体に、端子電極ペーストと、少なくとも銅−ニッケル合金粉末を含有する抵抗体ペーストとを印刷し、前記印刷した端子電極ペーストと抵抗体ペーストとを同時に中性雰囲気中で焼成し、焼結抵抗体の焼結粒子径が３０μｍ以下であり、かつ焼結抵抗体膜厚が４０μｍ以下である抵抗器。
【請求項４】
セラミック基体に、少なくとも銅−ニッケル合金粉末を含有する抵抗体ペーストと、端子電極ペーストとを印刷し、前記印刷した抵抗体ペーストと端子電極ペーストとを同時に中性雰囲気中で焼成し、焼結抵抗体の焼結粒子径が３０μｍ以下であり、かつ焼結抵抗体膜厚が４０μｍ以下である抵抗器。
【請求項５】
セラミック基体の両端に、銅粉末とガラス粉末をビヒクルに分散させて得られる端子電極ペーストを印刷、乾燥させ端子電極乾燥膜を形成した後、その乾燥膜の両端に架かるように、少なくとも銅−ニッケル合金粉末を含有する抵抗体ペーストを印刷し、中性雰囲気中で前記印刷した端子電極乾燥膜と前記抵抗体ペーストとを同時に焼成する抵抗器の製造方法。
【請求項６】
セラミック基体に、少なくとも銅−ニッケル合金粉末を含有する抵抗体ペーストを印刷、乾燥させた後、銅粉末をビヒクルに分散させて得られる端子電極ペーストを、抵抗体乾燥膜の両端子電極部に印刷し、中性雰囲気中で、前記印刷した端子電極ペーストと前記抵抗体乾燥膜とを同時に焼成する抵抗器の製造方法。
【請求項７】
前記焼結抵抗体の焼結粒子径が３０μｍ以下とした請求項５または６に記載の抵抗器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は抵抗体ペースト及びそれを用いた抵抗器及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
銅−ニッケル材を用いた抵抗器は、銅−ニッケル合金箔をアルミナなどの基材の上に張り付けて形成する方法で実現されている。この方法で造られる抵抗器は合金箔作製、形状加工、組立と材料−工程コストがかかり、抵抗体のパターン変更をするのに非常に手間がかかるものであった。また、レーザーを用いたトリミングが出来ないため、従来から確立されているトリミングラインを活用できないものであった。
【０００３】
他方、抵抗体ペーストを基材上に印刷、焼成して抵抗器をつくる技術としては、特開平２−３０８５０１号公報に開示されているが、抵抗体膜とセラミック基材の接着や抵抗値の調整にガラスを用いており、銅、ニッケル以外の成分が多量に存在していることから、温度係数が銅−ニッケル合金の物性値と異なるものであった。また、ガラス成分は焼成条件によって金属成分中や焼結粒子界面への拡散挙動が異なるため安定した抵抗値特性が得られにくいものであった。
【０００４】
さらには、銅−ニッケル材を用いた抵抗器は１００ｍΩ以下の抵抗値レンジを扱うため、給電部の端子電極の特性や抵抗体／電極界面の構造が抵抗器としての特性を大きく左右すると言う問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の主たる目的は、低ＴＣＲ、低抵抗値を有する抵抗器を安定して製造することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の抵抗体ペーストは、平均粒子径が５μｍ以下の銅−ニッケル合金粉末含有量が９７重量％より多く、４９０℃以下の軟化点を有するガラス粉末を０〜３重量％未満含有する混合粉体をビヒクルに分散させたもので、そのペーストをセラミック基体上に印刷した後、中性雰囲気中で焼成するチップ抵抗器の製造方法をとりガラス成分の金属成分中や焼結粒子界面への拡散を最小限に抑制し、低ＴＣＲ、低抵抗値を有する抵抗器を実現するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の発明は、平均粒子径が５μｍ以下の銅−ニッケル合金粉末含有量が９７重量％より多く、４９０℃以下の軟化点を有するガラス粉末を０〜３重量％未満含有する混合粉体をビヒクルに分散させた厚膜抵抗体ペーストを、セラミック基体上に印刷した後、中性雰囲気中で焼成することによって、ガラス成分の金属成分中や焼結粒子界面への拡散を最小限に抑制出来るため得られる抵抗器の、低ＴＣＲ、低抵抗値化が出来、低軟化点ガラス粉末が焼成時に抵抗体／セラミック基体界面に強固な接着を確保する作用を有する。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、平均粒子径が５μｍと平均粒子径が２μｍ以下の銅−ニッケル合金粉末を混合して、粒度分布に少なくとも２つのピークをもたせ、銅−ニッケル合金粉末含有量が９７重量％より多く、４９０℃以下の軟化点を有するガラス粉末を０〜３重量％未満含有する混合粉体をビヒクルに分散させて得られる厚膜抵抗体ペーストを、セラミック基体上に印刷した後、中性雰囲気中で焼成することによって、ガラス成分の金属成分中や焼結粒子界面への拡散を最小限に抑制出来るため得られる抵抗器の、低ＴＣＲ、低抵抗値化が出来る作用を有する。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、セラミック基体に、端子電極ペーストと、少なくとも銅−ニッケル合金粉末を含有する抵抗体ペーストとを印刷し、印刷した端子電極ペーストと抵抗体ペーストとを同時に中性雰囲気中で焼成し、焼結抵抗体の焼結粒子径が３０μｍ以下であり、かつ焼結抵抗体膜厚が４０μｍ以下とすることによって、低ＴＣＲ、低抵抗値特性を有した抵抗器のレーザートリミングが出来る作用を有する。
請求項４に記載の発明は、セラミック基体に、少なくとも銅−ニッケル合金粉末を含有する抵抗体ペーストと、端子電極ペーストとを印刷し、印刷した抵抗体ペーストと端子電極ペーストとを同時に中性雰囲気中で焼成し、焼結抵抗体の焼結粒子径を３０μｍ以下、かつ焼結抵抗体膜厚を４０μｍ以下にすることによって低ＴＣＲ、低抵抗値特性を有した抵抗器のレーザートリミングが出来る作用を有する。
【００１０】
請求項５に記載の発明は、セラミック基体の両端に、銅粉末とガラス粉末をビヒクルに分散させて得られる端子電極ペーストを印刷、乾燥させ端子電極乾燥膜を形成した後、その乾燥膜の両端に架かるように、少なくとも銅−ニッケル合金粉末を含有する抵抗体ペーストを印刷し、印刷した端子電極乾燥膜と抵抗体ペーストとを同時に中性雰囲気中で焼成するチップ抵抗器を製造する方法で、低抵抗値、低ＴＣＲ、高信頼性の抵抗器を実現する。
【００１１】
請求項６に記載の発明は、セラミック基体に、少なくとも銅−ニッケル合金粉末を含有する抵抗体ペーストを印刷、乾燥させた後、銅粉末をビヒクルに分散させて得られる端子電極ペーストを、抵抗体乾燥膜の両端子電極部に印刷し、印刷した端子電極ペーストと抵抗体乾燥膜とを同時に中性雰囲気中で焼成するチップ抵抗器を製造する方法で、低抵抗値、低ＴＣＲ、高信頼性の抵抗器を実現する。
【００１２】
請求項７に記載の発明は、焼結粒子径が３０μｍ以下とした請求項５または６に記載の抵抗器の製造方法で、低抵抗、低ＴＣＲ特性を有した抵抗器のレーザートリミングが出来る作用を有する。
【００１３】
以下、本発明の実施の形態について、図１〜５を用いて説明する。
なお、図１は本発明の実施の形態１を示し、請求項１の抵抗体ペーストをセラミック基体（アルミナ）上にスクリーン印刷し、請求項５に記載の方法で得られる抵抗器の一例を示したものであり、図２は本発明の実施の形態２を示し、請求項２の抵抗体ペーストをセラミック基体（アルミナ）上にスクリーン印刷し、請求項５に記載の方法で得られる抵抗器の一例を示したものである。
【００１４】
また、図３は本発明の実施の形態３を示し、請求項２の抵抗体ペーストをセラミック基体（アルミナ）上にスクリーン印刷し、請求項６に記載の方法で得られる抵抗器の一例を示したものであり、図４及び５は本発明の実施の形態３を示し、請求項２の抵抗体ペーストをセラミック基体（アルミナ）上にスクリーン印刷し、請求項６に記載の方法で得られる抵抗器の一例を示したものである。
【００１５】
（実施の形態１）
抵抗体ペーストの作製方法について以下に示す。銅−ニッケル合金粉は平均粒子径５μｍのアトマイズ粉を用い、これにガラスを添加した混合粉体を無機組成物とした。また、ビヒクルには有機バインダであるエチルセルロースをターピネオールで溶かしたものを用い、これを有機組成物とした。これらの無機組成物と有機組成物を三本ロールにて混練し厚膜抵抗体ペーストとした。
【００１６】
次に端子電極ペーストの作製方法を示す。銅粉は平均粒子径２μｍの粉を用い、これにガラスを添加した混合粉体を無機組成物とした。また、ビヒクルには有機バインダであるエチルセルロースをターピネオールで溶かしたものを用い、これを有機組成物とした。これらの無機組成物と有機組成物を三本ロールにて混練し端子電極ペーストとした。
【００１７】
以下にチップ抵抗器の作製方法について示す。まず端子電極ペーストをアルミナ基体（９６％アルミナ基板  ４．５×３．２ｍｍ）上に印刷し、１００℃の温度で１０分間乾燥させた。次にこのアルミナ基体上の端子電極乾燥膜の両端に架かるように厚膜抵抗体ペーストを印刷し、１００℃の温度で１０分間乾燥させた。そして、この端子電極乾燥膜と印刷した抵抗体ペーストの乾燥膜を形成したアルミナ基体を１００％Ｎ2雰囲気下で９００℃−１０分間焼成しチップ抵抗器を作製した（同時焼成）。
【００１８】
また、比較例として前記抵抗体ペーストの作製方法において、銅−ニッケル合金粉を平均粒子径６μｍのアトマイズ粉を用いた場合についても前記チップ抵抗器の作製方法と同様にチップ抵抗器を作製した。
【００１９】
さらに、比較例として、前記チップ抵抗器の作製方法において端子電極ペースト印刷乾燥後に１００％Ｎ2雰囲気下で９００℃−１０分間焼成工程を付加し、端子電極焼成膜の両端に架かるように厚膜抵抗体ペーストを印刷し、１００℃の温度で１０分間乾燥させた後この焼成端子電極膜と抵抗体乾燥膜を形成したアルミナ基体を１００％Ｎ2雰囲気下で９００℃−１０分間焼成しチップ抵抗器を作製した（個別焼成）。
【００２０】
チップ抵抗器の評価方法について示す。チップ抵抗器の端子間電極距離は２．２５ｍｍとし抵抗体焼結膜幅は２ｍｍで形成し端子電極部にプローブを固定し４端子法で端子間抵抗値を求めた。ＴＣＲ特性はチップ抵抗器を恒温槽に入れ２５℃と１２５℃の抵抗値を測定しその変化率を求めた。高温放置における抵抗値変化は焼結抵抗体膜に保護樹脂をコートし１６０℃で１０００時間放置したときの抵抗値変化率を求めた。抵抗体の接着強度は直径１．３ｍｍの円柱金属を抵抗体表面に樹脂接合させ、抵抗体と垂直方向に金属円柱を引き上げて抵抗体と基材が剥離する力を求めた。
【００２１】
作製したチップ抵抗器の断面部を走査電子顕微鏡、電子線マイクロアナライザ、Ｘ線微小回折計を用いて構造を明らかにした。模式図を図１に示す。図１において、１は銅−ニッケル合金相、２はガラスを含む界面層、３はアルミナ基体、４は銅端子電極層である。
【００２２】
結果を（表１）に示す。
【００２３】
【表１】
0003791085.tif 000002
【００２４】
（表１）より明らかなように本実施の形態によれば、比較例に比べて低抵抗値、低ＴＣＲ、高信頼性のチップ抵抗器が得られることが分かる。
【００２５】
（実施の形態２）
抵抗体ペーストの作製方法について以下に示す。銅−ニッケル合金粉は平均粒子径５μｍのアトマイズ粉と平均粒子径２μｍのアトマイズ粉、あるいは平均粒子径５μｍのアトマイズ粉と平均粒子径０．８μｍの熱プラズマ処理粉を用い、以下実施の形態１と同様にして厚膜抵抗体ペーストとを作製した。端子電極ペーストの作製方法は実施の形態１と同様である。
【００２６】
チップ抵抗器の作製方法についても実施の形態１と同様であるが焼成温度を８００℃〜１２００℃まで変化させて焼成した。
【００２７】
チップ抵抗器の評価方法は実施の形態１と同様で、さらにＹＡＧレーザーによるトリミング性を評価した。
【００２８】
作製したチップ抵抗器の断面部を走査電子顕微鏡、電子線マイクロアナライザ、Ｘ線微小回折計を用いて構造を明らかにした。模式図を図２に示す。図２において、１は銅−ニッケル合金相、２はガラスを含む界面層、３はアルミナ基体、４は銅端子電極層である。
【００２９】
結果を（表２）〜（表６）に示す。
【００３０】
【表２】
0003791085.tif 000003
【００３１】
【表３】
0003791085.tif 000004
【００３２】
【表４】
0003791085.tif 000005
【００３３】
【表５】
0003791085.tif 000006
【００３４】
【表６】
0003791085.tif 000007
【００３５】
（表２）〜（表６）より明らかなように本実施の形態によれば、比較例に比べて低抵抗値、低ＴＣＲ、高信頼性のチップ抵抗器が得られることが分かる。また、焼成条件等を制御することによってＹＡＧレーザーによるトリミングが可能な抵抗体が実現できる。
【００３６】
（実施の形態３）
抵抗体ペーストの作製方法は実施の形態２と同様である。端子電極ペーストの作製方法を示す。無機組成物としては、平均粒子径２μｍの銅粉のみを用いた。有機組成物は実施の形態１と同様のものを用いた。これらの無機組成物と有機組成物を三本ロールにて混練し端子電極ペーストとした。
【００３７】
以下にチップ抵抗器の作製方法について示す。まず抵抗体ペーストをアルミナ基体（９６％アルミナ基板  ４．５×３．２ｍｍ）上に印刷し、１００℃の温度で１０分間乾燥させた。次にこのアルミナ基体上の抵抗体乾燥膜の両端に端子電極ペーストを印刷し、１００℃の温度で１０分間乾燥させた。そして、この印刷した端子電極ペーストの乾燥膜と抵抗体乾燥膜を形成したアルミナ基体を１００％Ｎ2雰囲気下で９００℃−１０分間焼成しチップ抵抗器を作製した。
【００３８】
さらにこのチップ抵抗器の抵抗体部をコートするようにエポキシ樹脂を塗布し、図４，５に示した構造を有するチップ抵抗器を作製した。
【００３９】
チップ抵抗器の評価方法は実施の形態１と同様である。
作製したチップ抵抗器の断面部を走査電子顕微鏡、電子線マイクロアナライザ、Ｘ線微小回折計を用いて構造を明らかにした。模式図を図３に示す。図３において、１は銅−ニッケル合金相、２はガラスを含む界面層、３はアルミナ基体、４は銅端子電極層である。
【００４０】
結果を（表７）に示す。
【００４１】
【表７】
0003791085.tif 000008
【００４２】
（表７）より明らかなように本実施の形態によれば、比較例に比べて低抵抗値、低ＴＣＲ、高信頼性のチップ抵抗器が得られることが分かる。また、樹脂コート構造をとることにより高温放置試験後の抵抗値の変化率が小さくなることから信頼性が向上していることが認められる。
【００４３】
なお、本発明の実施の形態１〜３では焼成温度制御による抵抗体の焼結粒子径の制御について示したが、焼結粒子径のコントロールは抵抗体ペーストに含まれる無機成分の組成、粒子径や焼成雰囲気、温度プロファイルを制御することによっても可能である。また、焼結抵抗体膜厚についても上記条件の制御および印刷膜厚を変化させることによってコントロール出来る。
【００４４】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、低ＴＣＲ、低抵抗値、高信頼性を有する抵抗器を厚膜形成法で形成出来るとともに、レーザートリミングを用いた抵抗値調整が可能な生産性の良いプロセスを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１の抵抗器の断面構成を示した模式図
【図２】本発明の実施の形態２の抵抗器の断面構成を示した模式図
【図３】本発明の実施の形態３の抵抗器の断面構成を示した模式図
【図４】本発明の実施の形態３における樹脂コートした抵抗器の構成を示した斜視図
【図５】本発明の実施の形態３における樹脂コートした抵抗器の断面構成を示した模式図
【符号の説明】
１  Ｎｉ−Ｃｕ合金抵抗体層
２  ガラス層
３  セラミック基体
４  端子電極（銅）
５  樹脂
【図１】
0003791085.tif 000009
【図２】
0003791085.tif 000010
【図３】
0003791085.tif 000011
【図４】
0003791085.tif 000012
【図５】
0003791085.tif 000013