(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
低発泡の自己スキン層と高発泡のコア部とを備えた半硬質のインテグラルスキンフォームの成形方法において、型のキャビティを４００Ｔｏｒｒ以下に減圧する工程と、ポリオール成分とイソシアネート成分とを主成分とし、フロンを無添加とし、ポリオール成分１００重量部に対する水の含有量を０．６重量部以下に制限し、ギ酸のビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル塩及びホウ酸のビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル塩から選ばれる少なくとも一つを添加してなるポリウレタン材料を、前記キャビティに注入して発泡させる工程とを含むことを特徴とするインテグラルスキンフォームの成形方法。
【請求項２】
低発泡の自己スキン層と高発泡のコア部とを備えた半硬質のインテグラルスキンフォームを成形するポリウレタン材料において、ポリオール成分とイソシアネート成分とを主成分とし、フロンを無添加とし、ポリオール成分１００重量部に対する水の含有量を０．６重量部以下に制限し、ギ酸のビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル塩及びホウ酸のビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル塩から選ばれる少なくとも一つを添加したことを特徴とするインテグラルスキンフォームの成形用ポリウレタン材料。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、低発泡の自己スキン層と高発泡のコア部とを備えた半硬質のインテグラルスキンフォーム（以下、ＩＳＦという。）の成形方法及び成形用ポリウレタン材料に関し、例えば、自動車のステアリングホイールの被覆又はパッド、インストルメントパネル、コンソールボックスやグローブボックスの蓋体、ヘッドレスト、アームレスト、エアスポイラー等のＩＳＦ成形品を反応射出成形（以下、ＲＩＭ成形という。）するのに好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来のＩＳＦは、フロンを添加したポリウレタン材料を型のキャビティに注入し、ウレタン反応熱によりフロンを発泡させることによって成形されていたが、環境問題によってフロンは使用が禁止・制限されるようになった。
【０００３】
そこで、本出願人は先に、フロンを使用しなくてもＩＳＦを成形できる新しい方法を開示した（特開平４−２２６３１３号公報）。その方法は、型のキャビティの気圧を低くする工程と、ポリオール成分１００重量部に対して水を０．１〜０．６重量部添加したポリウレタン材料を、前記キャビティ内に注入して発泡させることにより流動及び充満させる工程とを含むものである。そのキャビティの減圧の程度（真空度）は、例えば、水の添加量が０．１重量部である場合には１００Ｔｏｒｒ以下が好ましく、水の添加量が０．６重量部である場合には４００Ｔｏｒｒ以下が好ましいとされていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記の方法において、水の添加量とキャビティの真空度とを調節すれば、発泡倍率が変わるため、密度が種々異なるコア部を備えたＩＳＦを成形できた。しかし、キャビティの真空度を高くして（特に１００Ｔｏｒｒ以下）、低密度（特に０．６ｇ／ｃｍ3 以下）のコア部を形成しようとすると、コア部及びスキン層にヒケが発生して外部から凹んだように見え、良好な外観を得ることができなかった。
【０００５】
本発明者は、コア部の密度を低くする他の方法として、水の添加量を増やす方法と、エアローディングにより空気泡を導入する方法とを試みたが、いずれもコア部の密度は下がるものの、コア部及びスキン層に膨れやボイド不良等の欠陥が増加して、やはり良好な外観を得ることはできなかった。
【０００６】
本発明者は、さらに検討を重ねた結果、ポリウレタン材料に特定の材料を添加することにより、コア部の密度が低くなっても（例えば０．６ｇ／ｃｍ3 以下）、ヒケ、膨れ、ボイド不良等の欠陥の無い良好な外観を得ることができることを見い出し、本発明の完成に到った。
【０００７】
従って、本発明の目的は、低密度のコア部を備えるとともに、ヒケ、膨れ、ボイド不良等の欠陥の無い良好な外観を有するＩＳＦを成形できるようにすることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
（１）低発泡の自己スキン層と高発泡のコア部とを備えた半硬質のＩＳＦの成形方法において、型のキャビティを４００Ｔｏｒｒ以下に減圧する工程と、ポリオール成分とイソシアネート成分とを主成分とし、フロンを無添加とし、ポリオール成分１００重量部に対する水の含有量を０．６重量部以下に制限し、ギ酸のビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル塩及びホウ酸のビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル塩から選ばれる少なくとも一つを添加してなるポリウレタン材料を、前記キャビティに注入して発泡させる工程とを含むＩＳＦの成形方法。
【０００９】
型のキャビティを４００Ｔｏｒｒ以下に減圧するのは、低密度のコア部を形成するためであり、特に密度０．６ｇ／ｃｍ3 以下とするためには１００Ｔｏｒｒ以下に減圧することが好ましい。
【００１０】
（２）低発泡の自己スキン層と高発泡のコア部とを備えた半硬質のＩＳＦを成形するポリウレタン材料において、ポリオール成分とイソシアネート成分とを主成分とし、フロンを無添加とし、ポリオール成分１００重量部に対する水の含有量を０．６重量部以下に制限し、ギ酸のビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル塩及びホウ酸のビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル塩から選ばれる少なくとも一つを添加したことを特徴とするＩＳＦの成形用ポリウレタン材料。
【００１１】
上記（１）の方法及び（２）の材料において、ポリウレタン材料は、ポリオール成分１００重量部に対する水の含有量を０．６重量部以下に制限したものとするのは、膨れ、ボイド不良等の欠陥を防止するためである。ここでいう水の含有量とは、含有の原因を問わず、材料に自然吸湿された水（通常、０．１〜０．１５重量部）も、添加した水も含む値である。
【００１２】
水の含有量が少ない場合（例えば０．１重量部未満）には、主として、ポリウレタン材料中に消極的に含まれていた吸蔵ガスが減圧下で急激に突沸するメカニズムにより発泡する。この吸蔵ガスは、ポリウレタン材料にもともと含まれていた微量の各種ガスや、循環中のポリウレタン材料に自然に巻き込まれたり溶解したりした少量の空気等である。なお、下記のメカニズム（水−イソシアネート反応）も若干寄与する。
【００１３】
水の含有量が多い場合（例えば０．１重量部以上）には、主として、ウレタン反応熱によりポリウレタン材料中の水とイソシアネート成分との反応が促進されてＣＯ2 泡が発生し、このＣＯ2 泡が減圧下で膨脹するメカニズムにより発泡する。なお、水の沸騰（減圧により沸点降下する）・気化による物理発泡も寄与し、上記のメカニズム（吸蔵ガス）も若干寄与する。
【００１４】
そして、上記のいずれの場合も、型面から離れたポリウレタン材料の内部は低密度のコア部となり、型面に接したポリウレタン材料の表面部は、反応熱が型へ逃げてウレタン反応及び増粘が遅れ、減圧により脱泡されやすいため、高密度（低発泡）のスキン層となる。
【００１５】
低密度のコア部を得るために、キャビティの気圧（真空度）は４００Ｔｏｒｒ以下とするが、１００Ｔｏｒｒ以下がさらに好ましい。
【００１６】
ギ酸のビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル（以下、ＢＤＡＥＥという）塩は、単独で又はこれにギ酸のトリエチレンジアミン（以下、ＴＥＤＡという）塩、ギ酸の第４級アンモニウム塩、ギ酸の１，８ジアザ−ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７（以下、ＤＢＵという）塩等を混合して添加できる。
【００１８】
「ギ酸のＢＤＡＥＥ塩及びホウ酸のＢＤＡＥＥ塩から選ばれる少なくとも一つ」の添加量は、その種類、要求されるコア部の発泡倍率等によっても異なるが、ポリオール成分１００重量部に対して０．０３〜５．０重量部とすることが好ましい。同範囲より少ないと欠陥防止作用が低く、同範囲より多くてもコストがかかるだけで欠陥防止作用はさほど変わらない。
【００１９】
【実施形態】
本発明をステアリングホイールのＩＳＦ被覆の成形に具体化した第一実施形態について、図１〜図８に基づいて説明する。まず、本実施形態で使用する成形装置は、図１〜図３に示すように、２つの分割型からなる成形用金型１と、該成形用金型１を内部に配置可能な真空箱１１と、該真空箱１１内を真空吸引する真空ポンプ２０と、該真空箱１１に付設され、成形用金型１のキャビティ４にポリウレタン材料を射出可能な材料射出機構２１とから構成されている。また、本実施形態で使用するステアリングホイール４１の芯金４２は、リング部とスポーク部と中心のボス部とからなり、そのリング部の全部とスポーク部の一部とにＩＳＦ被覆４３が成形される。
【００２０】
成形用金型１は、上側の固定型２と下側の可動型３との２つの分割型からなり、両型２，３の対峙面には型閉じ時に略リング状のキャビティ４を形成する成形溝４ａが形成されている。キャビティ４の断面中心には、芯金４２のリング部の全部とスポーク部の一部とが配置される。固定型２と可動型３のＰＬ面２ａ，３ａには、前記キャビティ４への材料流路であるスプルー６、ランナー７及びゲート８が凹設され、成形溝４ａの外周側かつ図２等における左端にゲート８が開口している。従って、ポリウレタン材料Ｍはこのゲート８からキャビティ４に注入されて二方向に分かれて流動し、図２等における右端の最終充満位置Ｌで合流して充満するようになっている。
【００２１】
この最終充満位置Ｌにおける固定型２にはベント孔５が設けられている。このベント孔５の直径は、通常、１〜１０ｍｍとされる。直径１ｍｍ未満のベント孔５では、最終充満位置Ｌがばらついたときに、ガス抜き効果が充分得られない場合があり、直径１０ｍｍを越えるベント孔５では、成形品の仕上げ加工後に、このベント孔５の跡が目立ち、成形品の外観を悪くさせてしまうので好ましくない。本実施形態では、直径３ｍｍ、長さ１５ｍｍの真直なベント孔５とした。また、型閉じ時のＰＬ面２ａ，３ａ間には、金型の加工精度の関係から、キャビティ４の全周にわたり０．０３〜０．０６ｍｍの隙間が発生するが、該隙間はエアベントランドとして後述のガス抜きの作用を奏する。
【００２２】
固定型２と可動型３の各成形溝４ａの内側には、両型２，３の型閉じ時の位置決め用嵌合部３１と、芯金４２のボス部を収めて保持するための凹所３２及び台座３３とが設けられている。この台座３３には成形後のステアリングホイール４１を離型させるためのイジェクトピン３４が突出可能に内設されている。
【００２３】
上記成形用金型１には、あまり高い耐圧性（発泡圧は通常５０〜５００ｋＰａ程度である。）は要求されないので、アルミニウム型、電鋳型等の安価な型を使用することができる。
【００２４】
真空箱１１は、固定型２が固定された上ケース１２と、可動型３が固定された下ケース１３とからなり、上ケース１２の合せ部に設けられた取付溝にはＯリング状のシール部材１４が装着され、真空箱１１を閉じたときに、その内部が密閉されるようになっている。また、図１〜図３に示すように、下ケース１３に設けられた吸引ノズル１６には、吸引ホース１５及びリークバルブ１７を介して、真空ポンプ２０が接続されている。この真空箱１１は、成形用金型１を内部に配置可能で、且つ、その成形用金型１との間に空間部Ｋが形成される大きさに形成されている。
【００２５】
真空箱１１の下ケース１３には、図５及び図６に示すように、該下ケース１３の外部からベント孔５の付近を目視し得る透視窓５１が設けられている。この透視窓５１は、下ケース１３に貫設された開口５２と、該開口５２を内側から塞ぐように、シールリング５３を介して下ケース１３の内面に当てられたガラス製又は合成樹脂製の透明板５４と、該透明板５４の周縁を押さえてボルト５５により下ケース１３に止められる枠体５６とから構成される。枠体５６と透明板５４との間及び、枠体５４と下ケース１３との間には、シール板５７を介することが好ましい。
【００２６】
固定型２と上ケース１２、また、可動型３と下ケース１３は、各々一体化されている。この下ケース１３は図示しない油圧シリンダラム等に取り付けられており、型閉じ時にはその周縁合せ部が上ケース１２の周縁合せ部に当たるまで上昇され、型開き時には下降されるようになっている。
【００２７】
材料射出機構２１は、図３に示すように、ポリオール混合成分を貯溜するタンク２５及びイソシアネート成分を貯溜するタンク２６とミキシングヘッド２２とが、それぞれ高圧ポンプ２７及びフィルタ２８を具備する循環路２９により接続されて構成され、ポリオール混合成分とイソシアネート成分との衝突混合及び各成分の循環を繰返すことができるようになっている。図１等に示すように、ミキシングヘッド２２の射出ノズル２３は、Ｏリング２４，２４を介して成形用金型１のスプルー６部位に接続可能である。
【００２８】
本実施形態で使用するポリウレタン材料は、ポリオール成分とイソシアネート成分とを主成分とし、フロンを無添加とし、ギ酸のＢＤＡＥＥ塩及びホウ酸のＢＤＡＥＥ塩から選ばれる少なくとも一つを添加し、ポリオール成分１００重量部に対する水の含有量を０．６重量部以下に制限したものである。
【００２９】
次に、本実施形態の成形方法について工程順に説明する。
▲１▼  図１に示すように成形用金型１を型開きした状態で、図２に示すように可動型３に芯金４２をセットする。
【００３０】
▲２▼  図４に示すように、成形用金型１を型閉じしてキャビティ４を形成すると略同時に、真空箱１１を閉じてその内部を密閉状態とする。本実施形態では、下ケース１３を図示しない油圧シリンダラム等により上昇させることにより、シール部材１４を上ケース１２の合せ部に当接させて真空箱１１を密閉状態とするとともに、固定型２と可動型３とを型閉じした。なお、成形用金型１の開閉と真空箱１１の開閉とは、別々の油圧シリンダ等で個々に行うこともでき、両方の開閉タイミングをずらすこともできる。
【００３１】
▲３▼  真空ポンプ２０を作動させ、吸引ノズル１６から真空箱１１の空間部Ｋを４００Ｔｏｒｒ以下（好ましくは１００Ｔｏｒｒ以下）の真空度まで減圧する。このとき、キャビティ４は、ＰＬ面２ａ，３ａ間の隙間、スプルー６等の材料流路、さらにはベント孔５を通じて、真空箱１１の空間部Ｋと連通状態にあるので、該キャビティ４も空間部Ｋと同程度の真空度まで減圧される。
【００３２】
▲４▼  前記キャビティ４の減圧を引き続いて行いながら、図４に示すように、前記ポリウレタン材料Ｍを射出ノズル２３からキャビティ４に注入し、ＲＩＭ成形を行なう。
【００３３】
このとき、型表面及び芯金４２から離れたポリウレタン材料Ｍの内部には、前述した作用により、図８に示すような高発泡倍率で低密度のコア部４５が形成される。また、型表面に接するポリウレタン材料Ｍの表面部には、前述した作用により、泡がほとんど残存しない低発泡の緻密な自己スキン層４４が形成される。また、芯金４２に接するポリウレタン材料Ｍの内面部にも、同様の作用により、低発泡の緻密な自己接着層４７が形成される。一般に、自己接着層４７は自己スキン層４４よりやや薄く形成される。
【００３４】
ポリウレタン材料Ｍは、その流動に伴ってＰＬ面２ａ，３ａの間の隙間を順に自己シールしてゆく。そして、ポリウレタン材料Ｍの流動先端部が最終充満位置Ｌに到達してベント孔５から少し吹き出したときに、該流動先端部が反応硬化してベント孔５を自己シールするように、ポリウレタン材料Ｍの反応速度が調整されている。
【００３５】
なお、本実施形態では、図５に示すように、真空箱１１の外部から透視窓５１を通してベント孔５の付近を目視することができるので、真空箱１１を密閉したまま、ポリウレタン材料Ｍの流動先端部がベント孔５から吹き出したことを確認したり、その発泡状態を観察したりすることができる。
【００３６】
キャビティ４を減圧したことによる付随的な効果として、ポリウレタン材料Ｍの流動を邪魔する空気が薄くなるため、キャビティ４にアンダーカット部や枝部があっても、該ポリウレタン材料Ｍはそれらの部位に確実に回り込む。また、脱泡された吸蔵ガスは、ベント孔５及びＰＬ面２ａ，３ａ間の隙間から吸引されて排出される。そのため、フロン発泡のように、ポリウレタン材料をオーバーパックする必要がなく、材料損失を低減できる。
【００３７】
▲５▼  前記ポリウレタン材料Ｍがキュアされるのを待って、図７に示すように、成形用金型１を型開きするとともに、真空箱１１を開放状態とする。この型開きと連動して、可動型３のイジェクトピン３４が突出し、成形されたＩＳＦ被覆４３付きのステアリングホイール４１が自動的に離型する。
【００３８】
以上のような本実施形態の成形方法及びポリウレタン材料によれば、キャビティの真空度を４００Ｔｏｒｒ以下（好ましくは１００Ｔｏｒｒ以下）と高くして、低密度（特に０．６ｇ／ｃｍ3 以下）のコア部４５を形成するにもかかわらず、ポリウレタン材料に、ギ酸のＢＤＡＥＥ塩及びホウ酸のＢＤＡＥＥ塩から選ばれる少なくとも一つを添加したため、これらがイソシアネートと反応してＣＯ2 泡を放出し（発泡助剤的に作用し）、水−イソシアネート反応によるＣＯ2 泡又は吸蔵ガスの突沸による発泡のみの場合と比べて、発泡率を高めるだけでなく発泡のセルを細かくしてヒケに対し強くする作用を奏するため、ヒケ、膨れ、ボイド不良等の欠陥はほとんど発生せず、良好な外観を得ることができる。
【００３９】
さらに、本実施形態によれば、特にステアリングホイール４１のＩＳＦ被覆４３の成形に好適な、次の特有の効果(a)(b)(c)も得られる。
【００４０】
(a) ポリウレタン材料Ｍは芯金４２の長いリング部により乱流を起こしやすい。しかし、本実施形態のキャビティ４内は減圧により空気が薄くなっているので、ピンホール、ボイド、欠肉等の欠陥が生じにくい。そのため、本実施形態のようにゲート８をリング部の外周側に設ける等、ゲート８位置の自由度が高くなる。また、ベント孔５は一つで十分である。
【００４１】
(b) 前記の通り、ポリウレタン材料Ｍはキャビティ４内を二方向に分かれて流動し、最終充満位置Ｌで合流するため、一般には、その合流部にウェルドラインが生じ易いとか、ピンホール、ボイド、欠肉等の原因となるガスが溜り易いとかという特有の問題がある。しかし、本実施形態では、キャビティ４を減圧するとともに、合流部の流動先端部をベント孔５から吹き出させるので、これらの欠陥を確実に防止することができる。
【００４２】
(c) 本実施形態ではＩＳＦ被覆４３の内面部に泡がほとんど残存しない緻密な自己接着層４７が形成されるので、芯金４２のリング部に対するＩＳＦ被覆４３の保持力が強くなる。
【００４３】
本実施形態による効果を確認するため、次の表１に示すベース配合に、表２に示す添加材料（実施例１〜３はギ酸のＢＤＡＥＥ塩、実施例４はホウ酸のＢＤＡＥＥ塩）を表中の重量部（ポリオール成分１００重量部に対する）だけ添加して、実施例１〜４のポリウレタン材料を作成した。併せて、ギ酸を添加した参考例１〜３と、その他のギ酸のアミン塩を添加した参考例４〜６のポリウレタン材料も作成した。具体的には、ベース配合のうちのポリオール混合成分側に添加材料を添加し、そのポリオール混合成分とイソシアネート成分とをミキシングヘッド２２で衝突混合させて作成した。また、比較のため、次の表１に示すベース配合に、表３に示す添加材料（ギ酸、ギ酸のアミン塩又はホウ酸以外のもの）を表中の重量部（ポリオール成分１００重量部に対する）だけ添加して、比較例１〜９のポリウレタン材料を同様に作成した。
【００４４】
【表１】
0003780770.tif 000002
【００４５】
【表２】
0003780770.tif 000003
【００４６】
【表３】
0003780770.tif 000004
【００４７】
なお、表２及び表３の成形条件欄に示したように、ポリオール成分１００重量部に対する水の含有量は０．３重量部に制限した（実施例２だけは０．２重量部又は０．４重量部）。表３中のＤＭＥＡは、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミンである。
【００４８】
そして、表２及び表３の成形条件欄に示した何れも１００Ｔｏｒｒ以下である各真空度のキャビティ４に各実施例、参考例及び比較例のポリウレタン材料を注入して発泡させ、ステアリングホイールのＩＳＦ被覆４３を成形した。これらのＩＳＦ被覆４３のコア部４５の密度を測定したところ、表２及び表３の成形結果欄に示したように、何れも０．６ｇ／ｃｍ3 以下の低密度になっていた。しかし、比較例１〜９では、ヒケが発生して良好な外観は得られなかったのに対し、実施例１〜４及び参考例１〜６ではヒケが発生せず、その他の膨れやボイド不良等の欠陥も見られず、良好な外観が得られた。
【００４９】
次に、本発明をステアリングホイールのＩＳＦパッドの成形に具体化した第二実施形態について、図９〜図１２に基づいて説明する。本実施形態で使用する成形装置は、可動型３に設けられた成形凹部と固定型２に設けられた成形凸部との間にＩＳＦパッド成形用のキャビティ４が形成される点、下ケース１３の合せ部にシール部材１４が装着された点、等においてのみ第一実施形態と相違する。従って、第一実施形態と共通する部材には、同図に第一実施形態と共通の符号を付して重複説明を避ける。
【００５０】
第一実施形態と同様のポリウレタン材料Ｍを、４００Ｔｏｒｒ以下（好ましくは１００Ｔｏｒｒ以下）の真空度に減圧したキャビティ４に注入してＲＩＭ成形を行なう。このとき、図１２に示すように、型表面から離れたポリウレタン材料Ｍの内部には発泡倍率の特に高いコア部３８が形成され、型表面に接するポリウレタン材料Ｍの表面部には泡がほとんど残存しない低発泡の緻密な自己スキン層３９が形成され、もって外観及び物性に優れたＩＳＦパッド３７が成形される。
【００５１】
この第二実施形態においても、前記ステアリングホイールのＩＳＦ被覆４３に特有の効果を除き、第一実施形態と同様の効果が得られる。
【００５２】
なお、本発明は前記実施形態の構成に限定されず、例えば以下のように発明の趣旨から逸脱しない範囲で任意に変更して具体化することもできる。
（１）実施形態では、成形用金型１と真空箱１１とが別体のものを示したが、成形用金型を二重壁構造とし、外側の壁を真空箱１１と同じ作用をさせるようにして、成形用金型内に空間部を一体に設けてもよい。
【００５３】
（２）図１３に示すように、成形用金型１のキャビティ４の外周において、その全周に亘って又は一部に、このキャビティ４の内部を減圧可能な大きな溝状凹部９が形成できれば、この溝状凹部９は空間部として作用する。この溝状凹部９は、成形用金型１の可動型３又は固定型２の一方又は両方に形成することができる。また、溝状凹部９の外周には外気を遮断するためのシール部材１０を設けることが好ましい。
【００５４】
（３）前記の実施形態では、ベント孔５を設けたものを示したが、ベント孔５の代わりに、キャビティに面して、かつポリウレタン材料の最終充満部位に微細な多孔を備えたコアを用いた金型を使用して、前記の微細な多孔から最終のガス抜きを行なわせて、この発明の成形方法を行なってもよい。
【００５５】
（４）使用する型は金型に限定されず、発泡圧力に耐え得るセラミック型、樹脂型その他の各種型を使用することができる。
【００５６】
（５）本発明に係るインテグラルスキンフォームの成形方法及び成形用ポリウレタン材料は、内層と外層とからなるポリウレタン二色成形の、内層の成形において実施することもできる。
【００５７】
【発明の効果】
以上詳述した通り、本発明のＩＳＦの成形方法及びポリウレタン材料によれば、低密度のコア部を備えるとともに、ヒケ、膨れ、ボイド不良等の欠陥の無い良好な外観を有するＩＳＦを成形することができる、という優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】第一実施形態のステアリングホイールのＩＳＦ被覆のＲＩＭ成形に使用する成形用金型及び真空箱を開いたときの断面図である。
【図２】同成形用金型の可動型と真空箱の下ケースの平面図である。
【図３】同成形に使用する材料射出機構の概略図である。
【図４】同成形用金型及び真空箱を閉じてＲＩＭ成形を行うときの断面図である。
【図５】透視窓を示す図４の側面図である。
【図６】同透視窓を示す図４の部分拡大断面図である。
【図７】同成形用金型及び真空箱を開いてＩＳＦ被覆を離型したときの断面図である。
【図８】同ＩＳＦ被覆の部分拡大断面図である。
【図９】第二実施形態のステアリングホイールのＩＳＦパッドのＲＩＭ成形に使用する成形用金型及び真空箱を開いたときの断面図である。
【図１０】同成形用金型及び真空箱を閉じてＲＩＭ成形を行うときの断面図である。
【図１１】図１０のＸＩ−ＸＩ線断面図である。
【図１２】成形されたＩＳＦパッドの部分拡大断面図である。
【図１３】成形用金型の別例を示す断面図である。
【符号の説明】
１    成形用金型
２    固定型
３    可動型
４    キャビティ
１１    真空箱
１２    上ケース
１３    下ケース
２０    真空ポンプ
３７    ＩＳＦパッド
３８    コア部
３９    自己スキン層
４１    ステアリングホイール
４２    芯金
４３    ＩＳＦ被覆
４４    自己スキン層
４５    コア部
Ｍ    ポリウレタン材料
【図１】
0003780770.tif 000005
【図２】
0003780770.tif 000006
【図３】
0003780770.tif 000007
【図４】
0003780770.tif 000008
【図５】
0003780770.tif 000009
【図６】
0003780770.tif 000010
【図７】
0003780770.tif 000011
【図８】
0003780770.tif 000012
【図９】
0003780770.tif 000013
【図１０】
0003780770.tif 000014
【図１１】
0003780770.tif 000015
【図１２】
0003780770.tif 000016
【図１３】
0003780770.tif 000017