(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素電極が形成された第１の基板と、この第１の基板と対向する第２の基板とを有し、第１および第２の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置において、
前記第２の基板は、
前記電気光学物質を挟んで前記第１の基板と対向する平面基板と、
前記複数の画素電極の各々に対応し、光源からの光を通過させて当該画素電極に導く複数の凸マイクロレンズであって、前記平面基板に向けて突出する突起部を各々の中央部に有する複数の凸マイクロレンズとを有し、
前記突起部は円柱状の部材であり、前記凸マイクロレンズから出射される光の一部は、該突起部の側面において反射することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記突起部は、前記各凸マイクロレンズと一体に形成された円柱状の部材であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
複数の画素電極が形成された第１の基板と、この第１の基板と対向する第２の基板とを有し、第１および第２の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置において、
前記第２の基板は、
前記電気光学物質を挟んで前記第１の基板と対向する平面基板と、
前記複数の画素電極の各々に対応し、光源からの光を通過させて当該画素電極に導く複数の凸マイクロレンズであって、前記平面基板に向けて突出する突起部を各々の中央部に有する複数の凸マイクロレンズとを有し、
前記突起部は、前記凸マイクロレンズから離れるに従ってその径が小さくなる円錐台状の部材であり、前記凸マイクロレンズから出射される光の一部は、該突起部の側面において該凸マイクロレンズの光軸に略平行な光となることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
前記第２の基板は、前記複数の凸マイクロレンズと同じ高さを有するスペーサ部であって、前記平面基板に当接するスペーサ部を有することを特徴とする請求項１から３のいずれか１の請求項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記スペーサ部は、長方形状である前記第２の基板の四隅近傍にそれぞれ設けられることを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記スペーサ部は、前記複数の凸マイクロレンズが設けられた領域を包囲する形状に設けられるとともに、少なくとも一部に欠切部を有することを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１の請求項に記載の電気光学装置と、
光源と、
前記光源から出射された光を前記電気光学装置に導く集光光学系と、
前記電気光学装置から出射された光を投射する投射レンズと
を具備することを特徴とする投射型表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置およびその製造方法ならびに投射型表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
白色光を照射するランプと、ダイクロイックミラーと、液晶ライトバルブと、ダイクロイックプリズムと、投射レンズとを用いて構成された液晶プロジェクタが知られている。この種の液晶プロジェクタでは、ランプから照射された白色光がダイクロイックミラーによって赤色光、緑色光および青色光に分離され、これらの赤色光、緑色光および青色光は、各々に対応して設けられた液晶ライトバルブに入射される。ここで、各液晶ライトバルブは、２枚の基板間に液晶を封入することにより構成されている。この基板間の液晶の配向が制御されることにより各液晶ライトバルブの通過光量の制御が行われ、スクリーンに各種の画像が投射される。
【０００３】
図１０は、上記液晶プロジェクタに用いられる液晶ライトバルブ５００の一部の断面を模式的に示す図である。同図に例示する液晶ライトバルブ５００は、素子側基板１と対向基板２とが対向配置され、両基板間に液晶３が挟持された構成となっている。素子側基板１は、ガラス基板１１と、このガラス基板１１の面上に形成される複数の画素電極１２と、各画素電極１２をスイッチング制御するためのスイッチング素子（ＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）またはＴＦＤ（Thin Film Diode：薄膜ダイオード）等、図示略）と、各種配線とを有している。これらの画素電極１２およびスイッチング素子は、配向膜１８によって覆われている。この配向膜１８は、液晶３を所定の方向に配向させるために、例えばラビング処理が施されている。ここで、上述したダイクロイックミラーからの光は、対向基板２側から入射する。この対向基板２は、ダイクロイックミラーからの入射光を上記画素電極１２に集中させて光の利用効率を向上させるための複数の凸マイクロレンズ２１４が形成されたマイクロレンズ基板２１と、このマイクロレンズ基板２１に接着された平面基板２３と、この平面基板２３上に形成される遮光膜２４、配向膜２６等により構成されている。ここで、上記マイクロレンズ基板２１と平面基板２３とは例えばアクリル系の接着剤によって接着され、その間には接着剤の層（以下、「接着層」という）２２が形成される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、アクリル系材料によって形成される接着層２２やポリイミド等の有機材料によって形成される配向膜１８および２６等に関しては、青色光以上に波長が短い光が照射されることによって光分解が引き起こされることが知られている。さらにこの光分解は、照射される光の光束密度（照度）が高いほど速く進行する。
【０００５】
図１０に例示した従来の液晶ライトバルブ５００は、入射光が凸マイクロレンズ２１４によって集光されるようになっている。そのため、接着層２２や配向膜１８および２６には、光束密度が高められた光が照射されることとなる。そして、これにより、接着層２２や配向膜１８および２６の光分解が速く進行してしまうといった問題があった。
【０００６】
ここで、接着層２２が光分解を起こして収縮すると、この接着層２２に接合された平面基板２３には応力が発生するため、歪が生じることがある。この結果、光が照射された部分のセルギャップの厚さと、光が照射されない部分のセルギャップの厚さとに差が生じるため、表示にムラが生じてしまうという問題がある。一方、配向膜１８および２６に光分解が生じると、液晶３の配向状態が不安定になってしまうという問題がある。
【０００７】
本発明は、以上説明した事情に鑑みてなされたものであり、光の利用効率が高く、かつ、接着層や配向膜の光分解、および平面基板の歪みが抑制された電気光学装置およびその製造方法ならびに投射型表示装置を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この発明は、複数の画素電極が形成された第１の基板と、この第１の基板と対向する第２の基板とを有し、第１および第２の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置において、前記第２の基板は、前記電気光学物質を挟んで前記第１の基板と対向する平面基板と、前記複数の画素電極の各々に対応し、光源からの光を通過させて当該画素電極に導く複数の凸マイクロレンズであって、前記平面基板に向けて突出する突起部を各々の中央部に有する複数の凸マイクロレンズとを有し、前記突起部は円柱状の部材であり、前記凸マイクロレンズから出射される光の一部は、該突起部の側面において反射することを特徴とする電気光学装置を提供するものである。
【０００９】
かかる電気光学装置によれば、各マイクロレンズに設けられた突起部によって平面基板を支持することができるので、該平面基板が、該平面基板が属する面と垂直な方向に変形するのを防ぐことができる。また、マイクロレンズに入射された光の一部は前記突起部を通過するため、集光されることがない。従って、入射光の全てが一点に集光されるのを回避することができる。
【００１０】
ここで、前記突起部は、前記各凸マイクロレンズと一体に形成された円柱状の部材としてもよい。この場合、該突起部によって平面基板を支持することができるとともに、マイクロレンズから出射する光の一部が前記突起部の側面において反射するため、マイクロレンズからの出射光が一点に集光されるのを回避することができるという利点がある。
【００１１】
また、本発明は、複数の画素電極が形成された第１の基板と、この第１の基板と対向する第２の基板とを有し、第１および第２の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置において、前記第２の基板は、前記電気光学物質を挟んで前記第１の基板と対向する平面基板と、前記複数の画素電極の各々に対応し、光源からの光を通過させて当該画素電極に導く複数の凸マイクロレンズであって、前記平面基板に向けて突出する突起部を各々の中央部に有する複数の凸マイクロレンズとを有し、前記突起部は、前記凸マイクロレンズから離れるに従ってその径が小さくなる円錐台状の部材であり、前記凸マイクロレンズから出射される光の一部は、該突起部の側面において該凸マイクロレンズの光軸に略平行な光となることを特徴とする。この場合、光の利用効率を向上させることができるという利点がある。
【００１２】
ここで、前記第２の基板は、前記複数の凸マイクロレンズと同じ高さを有するスペーサ部であって、前記平面基板に当接するスペーサ部を有するようにしてもよい。この場合、前記スペーサ部によって、各凸マイクロレンズと平面基板との一定の間隔を、確実に確保することができるという利点がある。
【００１３】
また、前記スペーサ部は、長方形状である前記第２の基板の四隅近傍に設けられるようにしてもよい。このようにしても、各スペーサ部によって、各マイクロレンズと平面基板との一定の間隔を確実に確保することができるという利点がある。また、前記スペーサ部は、前記複数の凸マイクロレンズが設けられた領域を包囲する形状に設けられるとともに、少なくとも一部に欠切部を有するようにしてもよい。この場合、前記スペーサ部によって、各凸マイクロレンズと平面基板との一定の間隔を確実に確保することができるとともに、各マイクロレンズと平面基板とを接合するために用いられる接着剤のうちの余分な接着剤を、前記欠切部から流出させることができるという利点がある。
【００１４】
また、本発明は、複数の画素電極が形成された第１の基板と、この第１の基板と対向する第２の基板とを有し、第１および第２の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置の製造方法であって、各々中央部に突起部を備えた複数の凸マイクロレンズを有するマイクロレンズ基板を、成形型を用いて作成する工程と、平面基板の一面が前記各突起部に当接するように、該平面基板と前記マイクロレンズ基板とを固定して前記第２基板を作成する工程とを具備することが好ましい。
【００１５】
かかる電気光学装置の製造方法によって製造された電気光学装置によれば、各マイクロレンズに設けられた突起部によって平面基板を支持することができるので、該平面基板が、該平面基板が属する面と垂直な方向に変形するのを防ぐことができる。また、マイクロレンズに入射された光の一部は前記突起部を通過するため、集光されることがない。従って、入射光の全てが一点に集光されるのを回避することができる。
【００１６】
また、本発明は、上記電気光学装置と、光源と、前記光源から出射された光を前記電気光学装置に導く集光光学系と、前記電気光学装置から出射された光を投射する投射レンズとを具備することを特徴とする投射型表示装置を提供するものである。かかる投射型表示装置によれば、マイクロレンズからの出射光が一点に集光されることがないから、配向膜等や接着層の光分解の速度を抑えることができるとともに、平面基板が突起部によって支持されているため、平面基板の歪が生じにくい。従って、該電気光学装置の寿命を延ばすことができるとともに、平面基板の歪みから生じる表示不良を回避することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。なお、本実施形態では、電気光学装置の一例として投射型表示装置に用いられる液晶ライトバルブを用いて説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更可能である。
【００１８】
Ａ：実施形態の構成
図１は、本発明を適用した液晶ライトバルブ３００の断面の一部を模式的に示す図である。同図に示すように、この液晶ライトバルブ３００は、シール材（図示略）によって接合された素子側基板１および対向基板２と、これらの各基板の間隙（セルギャップ）内に封入された液晶３とにより概略構成される。なお、図１および以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００１９】
素子側基板１は、ガラス基板１１を有しており、このガラス基板１１の内側（液晶３側）の表面には複数の画素電極１２がマトリクス状に形成される。この画素電極１２は、例えば透明材料であるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）により構成される。
【００２０】
ここで、図２（ａ）は、この画素電極１２とその付近の部分とをガラス基板１１の内側（液晶３側）から見た場合の構成を示す拡大平面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）におけるＡ−Ａ’線視断面図である。図２（ａ）に示すように、ガラス基板１１上には、各々マトリクス状に配設された複数の画素電極１２と、各画素電極１２の境界に沿ってＸ方向に延びる走査線１３および容量線１４と、Ｙ軸方向に延びるデータ線１５とが形成されている。さらに、各画素電極１２に隣接する位置には、該画素電極１２をスイッチング制御するためのＴＦＴ１６（図１においては図示せず）が形成されている。
【００２１】
このＴＦＴ１６は、図２（ａ）および（ｂ）に示すように、走査線１３の一部であるゲート電極１３ａと、ゲート電極１３ａからの電界によりチャネルが形成される半導体膜１６ａと、ゲート電極１３ａと半導体膜１６ａとを絶縁するゲート絶縁膜１６ｂと、データ線１５の一部であるソース電極１５ａとを備えている。半導体膜１６ａは、ガラス基板１１上に、データ線１５に部分的に重なるように形成されたポリシリコン等の薄膜であり、ＴＦＴ１６の能動層である。また、ソース電極１５ａは、第１の層間絶縁膜１６ｃに形成されたコンタクトホール１６ｄを介して半導体膜１６ａのドレイン領域と接続されている。また、各画素電極１２は、第１の層間絶縁膜１６ｃおよびその上層に設けられた第２の層間絶縁膜１６ｅに形成されたコンタクトホール１６ｆを介して半導体膜１６ａのドレイン領域と接続されている。また、走査線１３に沿うように形成された容量線１４と、半導体膜１６ａのドレイン領域の延設部分とが重なって蓄積容量１７を構成している。
【００２２】
図３は、上記画素電極１２、ＴＦＴ１６および各配線等を示す等価回路図である。同図に示すように、この液晶パネル３００においては、上述した複数の走査線１３および容量線１４と複数のデータ線１５との交差部分において画素が形成される。ここで、各画素は、ＴＦＴ１６、画素電極１２および蓄積容量１７により構成される。前掲図２（ａ）および（ｂ）を用いて説明したように、ＴＦＴ１６のソースには画像信号が供給されるデータ線１５が、ＴＦＴ１６のゲートには走査信号が供給される走査線１３が、ＴＦＴのドレインには画素電極１２が、それぞれ電気的に接続されている。そして、データ線１５には画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎがそれぞれこの順に線順次に供給されるとともに、走査線１３にはパルス的な走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｎがそれぞれこの順に線順次に供給されるようになっている。
【００２３】
ここで、各走査線１３に走査信号を供給するとともに、データ線１５に画像信号を供給することにより、各画素電極１２には画像信号に対応した電荷が供給され、一定期間保持される。画素電極１２と対向電極２３とに挟持された液晶３は、画像信号に応じて印加される電界によって配向状態が変化し、各画素に入射した光は液晶３の配向状態に応じて変調される。
【００２４】
一方、蓄積容量１７は、画素電極１２、対向電極２３および液晶３により構成される液晶層と並列に設けられ、液晶層に保持された電荷がリークするのを防ぐ役割を担っている。
【００２５】
再び図１に戻り、これらの画素電極１２およびＴＦＴ１６等が形成されたガラス基板１１の表面は配向膜１８によって覆われている。この配向膜１８は、ポリイミド等の有機材料によって構成される薄膜であり、一軸配向処理、例えばラビング処理が施されている。両基板間に封入された液晶３は、画素電極１２からの電界が印加されていない状態において、配向膜１８に従った配向状態となる。また、ガラス基板１１の外側（液晶３とは反対側）には、偏光板（図示略）が貼着される。
【００２６】
一方、対向基板２は、マイクロレンズ基板２１と、マイクロレンズ基板２１の内側（液晶３側）に位置する接着層２２、平面基板２３、遮光膜２４、対向電極２５および配向膜２６と、マイクロレンズ基板２１の外側（液晶３の反対側）に貼着された偏光板（図示略）とにより構成される。
【００２７】
図４は、マイクロレンズ基板２１全体を、図１における下側（液晶３側）から見た場合の構成を示す平面図であり、図５は図４におけるＢ−Ｂ’線視断面図である。
【００２８】
図４および図５に示すように、このマイクロレンズ基板２１は、長方形状の基板部２１１と、この基板部２１１の一方の面上に形成されるマイクロレンズ領域２１２と、マイクロレンズ領域２１２が形成されたのと同じ面上に配設されるスペーサ部２１３とに分けることができる。本実施形態においては、これらの各部は、例えば高屈折率樹脂材料によって一体に形成される。
【００２９】
また、図５に示すように、マイクロレンズ領域２１２には、対向基板２側から入射される入射光を集光するための複数の凸マイクロレンズ２１４、２１４、…が形成されている。これらの各マイクロレンズ２１４は、各々の光軸が上記各画素電極１２の中心部分を通過するようにマトリクス状に配設されている。さらに、本実施形態においては、図５に示すように、各マイクロレンズ２１４の中心部分に円柱状の突起部２１５が設けられた構成となっている。
【００３０】
スペーサ部２１３は、マイクロレンズ領域２１２を包囲するように設けられる４個の棒状部材である。図５に示すように、スペーサ部２１３は、上記マイクロレンズ２１４と突起部２１５とを合わせた高さと同じ高さとなるように形成されている。図５中に破線で示すように、平面基板２３は、一方の面がスペーサ部２１３および上記突起部２１５の上面に当接するように、マイクロレンズ基板２１に対向して接着されるようになっている。
【００３１】
ここで、スペーサ部２１３の４つの棒状部材の間にはそれぞれ間隔（図４中のＣで示す部分。特許請求の範囲における「欠切部」に相当）が設けられている。従って、マイクロレンズ基板２１と平面基板２３とが接着されたとき、マイクロレンズ基板２１上のスペーサ部２１３で包囲された部分（マイクロレンズ領域２１２等）は、上記間隔の部分において形成される孔で外部と通ずることとなる。後述するように、マイクロレンズ基板２１上のスペーサ部２１３によって包囲された部分には接着剤が塗布されて平面基板２３が接着されるが、この接着の際、余分な接着剤が上記孔を通って外部に流出するようになっている。
【００３２】
再び図１に戻り、接着層２２は、マイクロレンズ基板２１と平面基板２３とを接合するための接着剤によって形成される。この接着剤としては、例えば、空気に近い屈折率を有するアクリル系の接着剤を用いることができる。
【００３３】
平面基板２３は、マイクロレンズ基板２１に対向配置される板状の部材である。上述したように、この平面基板２３は、上記突起部２１５およびスペーサ部２１３によって支持されているため、接着層２２の光分解による収縮等が生じた場合であっても、これによって平面基板２３に生じる面外方向（平面基板２３の属する面と垂直な方向）に生じる歪みを少なくすることができる。
【００３４】
遮光膜２４は、平面基板２３の内側（液晶３側）表面であって、ガラス基板１１上に形成された各ＴＦＴ１６に対向する位置に形成される薄膜であり、Ｃｒ（クロム）等の金属材料によって構成される。この遮光膜２４は、ＴＦＴ１６に対する遮光だけでなく、コントラストの向上等にも寄与している。
【００３５】
対向電極２５は、遮光膜が形成された平面基板２３の表面を覆う透明電極である。この対向電極２５等の上面には配向膜２６が形成される。この配向膜２６は、ガラス基板１１を覆う配向膜１３と同様にポリイミド等の有機薄膜であり、一軸配向処理、例えばラビング処理が施されている。
【００３６】
ここで、図６を参照して、液晶ライトバルブ３００への入射光の進行経路について詳述する。なお、図６においては、図面が煩雑になるのを防ぐため、マイクロレンズ２１４と突起部２１５のみが示されている。
【００３７】
まず、液晶ライトバルブ３００への入射光は、マイクロレンズ基板２１に入射する。この入射光のうちの一部は、平行光としてそのまま出射するが、他の一部はマイクロレンズ２１４によって集光される。詳述すると、マイクロレンズ基板２１への入射光のうち、上記マイクロレンズ２１４に設けられた突起部２１５に対応する領域（図６中のＡで示す領域）に入射した光は、図６中のＸで示すように、平行光のままマイクロレンズ２１４、突起部２１５および平面基板２３等を通過して画素電極１２に至る。一方、マイクロレンズ基板２１の屈折率は、接着層２２の屈折率よりも高いため、マイクロレンズ基板２１への入射光のうち、上記領域以外の領域、すなわち、図６中のＢで示す領域に入射した光は、図６中のＹおよびＺで示すように、マイクロレンズ２１４によって集光される。
【００３８】
ここで、この集光された光のうちの一部、すなわち、図６中のＺで示す光は接着層２２および平面基板２３を通過して一点において収束し、その後画素電極１２に至る。一方、上記集光された光線のうちの他の一部、すなわち、例えば図６中のＹで示す光は、マイクロレンズ２１４から出射した後、突起部２１５の側面に至る。ここで、マイクロレンズ２１４からの出射光が突起部２１５の側面に入射した場合、この光が突起部２１５の側面において全反射するように、マイクロレンズ２１４および突起部２１５の形状および屈折率等が選定されている。このようにして突起部２１５の側面において反射した光Ｙは、図６に示すように集光することなく進行し、画素電極１２に至る。
【００３９】
このように、本実施形態においては、各マイクロレンズ２１４の中心部分に突起部２１５が設けられているため、マイクロレンズ基板２１に入射した全ての入射光が１点に集光されることがない。すなわち、従来の液晶ライトバルブと比較して、入射光の光束密度が高くならないから、配向膜や接着層等の光分解の速度を抑えることができるという利点がある。これにより、従来の液晶ライトバルブと比較して、寿命を延ばすことができる。また、各マイクロレンズ２１４に設けられた突起部２１５が、スペーサ部２１３とともに平面基板２３を支持するようになっているため、接着層２２の光分解によって平面基板２３に応力が生じた場合であっても、該平面基板２３に歪みが生じるのを回避することができる。従って、平面基板２３の歪によって生じる表示のムラを防ぐことができる。
【００４０】
Ｂ：製造方法
次に、図７（ａ）〜（ｆ）を参照して、上述した液晶ライトバルブ３００の製造方法について説明する。
【００４１】
まず、マイクロレンズ基板２１を作成するための成形型を作成する。詳述すると以下の通りである。
【００４２】
まず、図７（ａ）に示すように、ガラス基板１００の一方の表面上に多数の小孔１０２が形成されたマスク１０１を重ね、該マスク１０１で被覆した面に対して等方性エッチングを施す。ここで、上記複数の小孔１０２は、マイクロレンズ２１４の中央部に対応する位置に形成されている。このエッチングにより、図７（ｂ）に示すように、球面状の多数の凹部が一定の間隔をあけて形成される。さらに、この面に対して等方性エッチングを行うことにより、ガラス基板１００上には凹部が隙間なく形成される（図７（ｃ））。
【００４３】
次に、図７（ｃ）に示すように、マイクロレンズ基板２１４の突起部２１５に対応する位置に小孔が形成されたマスク１０３を重ね、マスク１０３で被覆した面に対して異方性エッチングを施す。これにより、凹部の中心部分に円柱状の穴が形成される（図７（ｄ））。
【００４４】
この後、マイクロレンズ基板２１上のスペーサ部２１３に対応する部分に開口領域が形成されたマスクを重ねて異方性エッチングを行い、上記円柱状の穴の深さと等しい深さの溝を形成する。これにより、図７（ｄ）に示すように、複数の球面状の凹部と、該凹部の中央部に設けられた円柱状の穴と、該複数の凹部が形成された領域（上述したマイクロレンズ領域に対応する長方形状の領域）を包囲するように形成された溝（スペーサ部２１３に対応）とを有する成形型１０４が得られる。
【００４５】
このようにして作成された成形型１０４の表面を、フッ素系またはシリコン系材料の離型剤からなる離型剤層１０５によって覆う。この離型剤層１０５を形成するには、例えば、材料を蒸気として成形型表面に吸着させることにより成形型の表面に塗布し、その後焼成するといった方法を用いることができる。
【００４６】
次に、離型剤層１０５を形成した表面に光硬化性または熱硬化性を有する高屈折率樹脂材料１０６を均一に塗布・平坦化するとともに、紫外線を照射するか、または加熱することにより硬化させる（図７（ｅ））。この高屈折率樹脂材料１０６を成形型１０４から剥離することにより、マイクロレンズ基板２１を得ることができる。
【００４７】
次に、このマイクロレンズ基板２１上のスペーサ部２１３によって包囲される部分に接着剤を塗布するとともに、その上に平面基板２３を押し付ける。こうして、図７（ｆ）に示すように、平面基板２３がスペーサ部２１３および突起部２１５によって支持された状態で、マイクロレンズ基板２１と平面基板２３とが接着される。ここで、上記塗布された接着剤のうちの余分な接着剤は、スペーサ部２１３の間隔部分によって形成される孔から流出する。
【００４８】
その後、この平面基板２３上に遮光膜２４、透明電極２５および配向膜２６を形成して対向基板２を作成し、この対向基板２と別途作成した素子側基板１とをシール剤によって接合するとともに、対向基板２と素子側基板１との間に形成されるセルギャップに液晶を封入する。
【００４９】
以上が本実施形態における液晶ライトバルブの製造方法である。
【００５０】
Ｃ：変形例
以上この発明の一実施形態について説明したが、上記実施形態はあくまでも例示であり、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。
【００５１】
＜変形例１＞
上記実施形態においては、円柱状の突起部２１５を各マイクロレンズ２１４の中心部分に設けるようにしたが、突起部２１５の形状はこれに限られるものではない。例えば、突起部２１５は、図８に例示するように、マイクロレンズ２１４から離れるに従ってその径が小さくなるような勾配を持った円錐台状の部材であってもよい。
【００５２】
マイクロレンズ基板２１への入射光のうち、突起部２１５が設けられた領域以外の部分（図８中のＢで示す部分）に入射した光は、上記実施形態と同様に、マイクロレンズ２１４によって集光される。そして、集光された光のうちの一部（図８中のＺで示す光）は集光されたまま接着層２２および平面基板２３を通過して画素電極に至るが、他の一部（図８中のＹで示す光）は突起部２１５の側面に至って反射する。ここで、突起部２１５を図８に示す形状とした場合、該突起部２１５の側面において反射した光が、光軸に平行な光となるように、突起部２１５の形状や各部の屈折率等を選定することができる。このようにすることにより、入射光の大部分を、１点に集光させることなく画素電極１２に照射することができるから、光利用効率をより向上させることができるという利点がある。また、上述したように、マイクロレンズ基板２１は、硬化した高屈折率樹脂材料を成形型１０４から剥離することによって作成されるが、突起部２１５を図８に示す形状とした場合には、成形型１０４からの剥離が容易となるという利点もある。
【００５３】
＜変形例２＞
上記実施形態においては、マイクロレンズ基板２１上のマイクロレンズ領域２１２を包囲するようにスペーサ部２１３を設けたが、スペーサ部２１３の形状はこれに限られるものではない。すなわち、例えば、長方形状のマイクロレンズ基板２１の四隅近傍、すなわち、図４において各スペーサ部の間隔部分（図４中のＣで示す部分）のみに、マイクロレンズ２１４と突起部２１５とを合わせた高さと同じ高さを有するスペーサ部２１３をそれぞれ設けるようにしてもよい。
【００５４】
また、図４においては、マイクロレンズ基板２１の四隅近傍にスペーサ部２１の間隔を設けるようにしたが、四隅全てに間隔を設ける必要はない。すなわち、マイクロレンズ基板２１に塗布された余分な接着剤を確実に流出させることができるのであれば、例えば、マイクロレンズ領域２１２を包囲するようにスペーサ部２１３を設けるとともに、その一部のみに欠切部（間隔）を設けるようにしてもよい。
【００５５】
Ｄ：応用例
図９は、本実施形態にかかる液晶ライトバルブ３００を用いた液晶プロジェクタ４００の構成を示す図である。同図に示すように、この液晶プロジェクタ４００は、メタルハライドランプ等の白色光源を有するランプユニット４０１と、この白色光を赤色光、緑色光および青色光に分離するためのミラー４０４〜４０６ならびにダイクロイックミラー４０２および４０３と、各色光に対応した液晶ライトバルブ３００および５００と、ダイクロイックプリズム４０７と、投射レンズ４０８と、スクリーン４０９とにより構成されている。ここで、本実施形態においては、分離された色光のうち、青色光を本発明に係る液晶ライトバルブ３００に、赤色光および緑色光を図８に示した従来の液晶ライトバルブ５００に、それぞれ入射させるようになっている。このようにしたのは、上述したように、接着層やポリイミド等の光分解が、特に青色光以上に短い波長を有する光によって引き起こされるためである。
【００５６】
このような構成において、ランプユニット４０１から発せられた光は、ミラー４０４〜４０６ならびにダイクロイックミラー４０２および４０３によって赤色光、緑色光および青色光に分離され、赤色光（Ｒ）は液晶ライトバルブ５００に、緑色光（Ｇ）は液晶ライトバルブ５００に、青色光（Ｂ）は液晶ライトバルブ３００に、それぞれ導かれる。そして、各液晶ライトバルブによって変調された各光成分は、ダイクロイックプリズム４０７によって再度合成された後、投射レンズ４０８を介してスクリーン４０９にカラー画像として投射される。
【００５７】
なお、上述した液晶プロジェクタ４００においては青色光のみを本発明に係る液晶ライトバルブ３００に入射させるようにしたが、赤色光、緑色光および青色光に対応する３個の液晶ライトバルブ全てを、本発明に係る液晶ライトバルブ３００としてもよい。
【００５８】
このように、本実施形態によれば、青色光によって引き起こされる液晶ライトバルブ３００内の接着層や配向膜等の光分解速度を抑えることができるから、従来の液晶プロジェクタと比較して寿命を延ばすことができるという利点がある。
【００５９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、マイクロレンズの中心部分に突起部が設けられているため、マイクロレンズ基板への入射光が１点に集光されることがない。すなわち、従来の液晶ライトバルブと比較して、入射光の光束密度が高くならないから、配向膜等の光分解の速度を抑えることができるという利点がある。また、この突起部は、平面基板を支持するようになっているため、接着層の光分解によって平面基板に応力が生じた場合であっても、該平面基板に歪が生じるのを回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の一実施形態である液晶ライトバルブの一部の断面図である。
【図２】  （ａ）は同実施形態における画素電極およびその付近の部分を拡大した平面図であり、（ｂ）は上記（ａ）におけるＡ−Ａ’線視断面図である。
【図３】  同実施形態におけるガラス基板上に設けられた各種素子および配線等の等価回路図である。
【図４】  マイクロレンズ基板の構成を示す平面図である。
【図５】  図４におけるＢ−Ｂ’線視断面図である。
【図６】  同実施形態における入射光の経路を示す図である。
【図７】  同実施形態におけるマイクロレンズ基板を作成するための成形型およびマイクロレンズ基板の作成手順を示す図である。
【図８】  本発明の変形例におけるマイクロレンズ基板の一部の断面および入射光の経路を示す図である。
【図９】  本発明の一実施形態である液晶ライトバルブを用いた液晶プロジェクタの構成を示す図である。
【図１０】  従来の液晶ライトバルブの構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１……素子側基板（第１の基板）、２……対向基板（第２の基板）、３……液晶（電気光学物質）、１１……ガラス基板、１２……画素電極、１３……走査線、１４……容量線、１５……データ線、１６……ＴＦＴ、１７……蓄積容量、１８，２６……配向膜、２１……マイクロレンズ基板、２２……接着層、２３……平面基板、２４……遮光膜、２５……対向電極、１００……ガラス基板、１０１，１０３……マスク、１０２……小孔、１０４……成形型、１０５……離型剤層、１０６……高屈折率樹脂材料、３００，５００……液晶ライトバルブ、２１１……基板部、２１２……マイクロレンズ領域、２１３……スペーサ部、２１４……マイクロレンズ、２１５……突起部、４００……液晶プロジェクタ（投射型表示装置）、４０１……ランプユニット（光源）、４０２，４０３……ダイクロイックミラー（集光光学系）、４０４，４０５，４０６……ミラー（集光光学系）、４０７……ダイクロイックプリズム、４０８……投射レンズ、４０９……スクリーン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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