(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にコア及びクラッドからなる光導波路を製造する際にフォトリソグラフィによりパターンを形成する光導波路の製造方法において、１層目のパターン形成時に１層目の２次元の格子を格子間隔がずれ測定分解能の１０倍の間隔で、縦及び横のラインとスペースとをそれぞれ同程度の太さとして上記１層目の光導波路層に形成し、２層目のパターン形成時に２層目の２次元の格子を格子間隔が上記１層目の格子間隔の０．９倍とし、縦及び横のラインとスペースとをそれぞれ同程度の太さとして上記１層目の格子と同じ位置の上記２層目の光導波路層に重ねて形成し、上記１層目の格子の縦及び横のラインのそれぞれに格子間隔の１０分の１刻みのラベルを設け、上記１層目の格子と上記２層目の格子とが重なって格子の密度が疎になるところのラベルから上記１層目のパターンと上記２層目のパターンとの位置ずれ量を測定することを特徴とする光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光導波路の製造方法に関し、特にフォトリソグラフィにより２層目以降のパターンの位置ずれ量を測定する光導波路の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図５は光導波路の製造方法で用いられるパターンの位置ずれ量の測定方法の従来例の説明図である。
【０００３】
この測定方法は、レーザ顕微鏡によりパターンの位置ずれ量を測定する測定方法である。
【０００４】
１層目形成時に１層目のずれ測定用マーク１を形成しておく。２層目形成時に２層目のずれ測定用マーク２を形成する。ａ、ｂ、ｃ、ｄをレーザ顕微鏡で測定し、横方向のずれを（ｂ−ａ）／２とし、縦方向のずれを（ｃ−ｄ）／２で計算することにより求められる。
【０００５】
図６は光導波路の製造方法で用いられるパターンの位置ずれ量の測定方法の他の従来例の説明図である。
【０００６】
この測定方法は、バーニヤによるパターン位置ずれ量を測定する方法である。
【０００７】
１層目形成時に、１層目の目盛３を形成しておく。２層目形成時に目盛４を形成する。横方向の１層目の目盛３と２層目の目盛４が重なる目盛のラベル５を横方向のずれとして読取り、縦方向の１層目の目盛３と２層目の目盛４とが重なる目盛のラベル６を縦方向のずれとして読み取る。
【０００８】
この方法は、通常の光学顕微鏡を用いてパターン上の目盛を読むことでずれ量を測定することができ、レーザ顕微鏡による測定方法よりも手間がかからない。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図５に示したレーザ顕微鏡による測定方法では、縦横各々測定する前に、パターンの水平を合わせる必要がある。また、１層目及び２層目のずれ測定用マークにカーソルを合わせる必要があり、手間がかかるという問題があった。さらに、図６に示したバーニヤによるパターン位置ずれ測定方法では、多数の目盛の中から１層目の目盛と２層目の目盛とが重なる目盛を捜し出すために、顕微鏡のレンズを高倍率に切換えて捜し出す必要があり、手間がかかるという問題があった。
【００１０】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、パターンの位置ずれ量の測定が容易な光導波路の製造方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明の光導波路の製造方法は、基板上にコア及びクラッドからなる光導波路を製造する際にフォトリソグラフィによりパターンを形成する光導波路の製造方法において、１層目のパターン形成時に１層目の２次元の格子を格子間隔がずれ測定分解能の１０倍の間隔で、縦及び横のラインとスペースとをそれぞれ同程度の太さとして上記１層目の光導波路層に形成し、２層目のパターン形成時に２層目の２次元の格子を格子間隔が上記１層目の格子間隔の０．９倍とし、縦及び横のラインとスペースとをそれぞれ同程度の太さとして上記１層目の格子と同じ位置の上記２層目の光導波路層に重ねて形成し、上記１層目の格子の縦及び横のラインのそれぞれに格子間隔の１０分の１刻みのラベルを設け、上記１層目の格子と上記２層目の格子とが重なって格子の密度が疎になるところのラベルから上記１層目のパターンと上記２層目のパターンとの位置ずれ量を測定するものである。
【００１３】
本発明によれば、格子間隔の１０分の１のずれが１層目の格子と２層目の格子の１格子分のずれとなり、格子が重なり合って疎になる部分の格子ラベルがずれ量となる。格子のラインとスペースとが同程度の太さであるため、格子の疎密が一目で分る。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。
【００１５】
図１（ａ）は本発明の光導波路の製造方法に用いられる１層目の格子のパターンの一実施の形態であり、図１（ｂ）は２層目の格子のパターンの一実施の形態である。図２は図１（ａ）に示したパターンに図１（ｂ）に示したパターンを重ねた状態を示す図である。
【００１６】
１層目形成時に１層目の格子７を形成し、２層目のパターン形成時に２層目の格子８を１層目の格子と同じ位置に重ねて形成する（図２）。１層目の格子７は、格子間隔がずれ測定分解能の１０倍の間隔でラインとスペースとを同程度の太さとする。２層目の格子８は、格子間隔が１層目の格子間隔の０．９倍とし、ラインとスペースとを同程度の太さとする。また、１層目の格子７に格子間隔の１０分の１刻みのラベル９を設ける。
【００１７】
この結果、１層目の格子間隔の１０分の１のずれは、１層目の格子７と２層目の格子８の差分となり、格子が重なり合って疎になる部分のラベル９の値９ａ、９ｂがずれ量となる。格子のラインとスペースとが同程度の太さであるため、格子の疎密が一目で分かり、顕微鏡のレンズを高倍率にする必要がなく、手間がかからずに位置ずれを測定できる。３層目以降のパターンも同様の操作により位置ずれ量を測定することができる。
【００１８】
【実施例】
以下具体的な数値を挙げて説明するが限定されるものではない。
【００１９】
（実施例１）
図３は１層目の格子の間隔を５μｍとし、２層目が上に０．５μｍ右に１．０μｍのずれがある場合の一実施例の説明図である。
【００２０】
格子が疎になっている部分のラベル９から、上に０．５μｍ右に１．０μｍずれがあることが一目で分る（矢印９ｃ、９ｄ）。
【００２１】
（実施例２）
図４は１層目の格子の間隔を５μｍとし、２層目が上に０．５μｍ左に１．０μｍずれがある場合の他の実施例の説明図である。
【００２２】
格子が疎になっている部分のラベル９から、上に０．５μｍ左に１．０μｍのずれがあることが一目で分る（矢印９ｅ、９ｆ）。
【００２３】
以上において、本発明によれば、
(1) パターンの格子ラベルから位置ずれ量が読み取れるので、レーザ顕微鏡を使う必要がない。
【００２４】
(2) 格子が疎になっている部分のラベルから位置ずれ量が分るので、一目で位置ずれ量が分かり、顕微鏡のレンズを高倍率にする必要がなく、手間がかからずに位置ずれ量を測定することができる。
【００２５】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、次のような優れた効果を発揮する。
【００２６】
パターンの位置ずれ量の測定が容易な光導波路の製造方法の提供を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は本発明の光導波路の製造方法に用いられる１層目の格子のパターンの一実施の形態であり、（ｂ）は２層目の格子のパターンの一実施の形態である。
【図２】図１（ａ）に示したパターンに図１（ｂ）に示したパターンを重ねた状態を示す図である。
【図３】１層目の格子の間隔を５μｍとし、２層目が上に０．５μｍ右に１．０μｍのずれがある場合の一実施例の説明図である。
【図４】１層目の格子の間隔を５μｍとし、２層目が上に０．５μｍ左に１．０μｍずれがある場合の他の実施例の説明図である。
【図５】光導波路の製造方法で用いられるパターンの位置ずれ量の測定方法の従来例の説明図である。
【図６】光導波路の製造方法で用いられるパターンの位置ずれ量の測定方法の他の従来例の説明図である。
【符号の説明】
７  １層目の格子
８  ２層目の格子
９  ラベル
【図１】
0003807164.tif 000002
【図２】
0003807164.tif 000003
【図３】
0003807164.tif 000004
【図４】
0003807164.tif 000005
【図５】
0003807164.tif 000006
【図６】
0003807164.tif 000007