(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真感光体の周囲に少なくとも帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段が具備され、前記帯電手段が前記電子写真感光体に対し近接配置された電子写真装置において、前記電子写真感光体は、最表面層にアクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物が含有され、前記アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、下記一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサンと、下記一般式（３）で表わされるアクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル及び／又はアクリル酸エステル若しくは／並びにメタアクリル酸エステル７０重量％以上と共重合可能な単量体３０重量％以下との混合物とを、重量比５：９５〜９５：５で乳化グラフト共重合させた化合物であることを特徴とする電子写真装置。
【化１】
0003853687.tif 000055
上記一般式（１）
Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は、それぞれ同一でも異なっていても良い炭素数１〜２０の炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基；Ｙは、ラジカル反応性基、ＳＨ基又はラジカル反応性基並びにＳＨ基を有する有機基；Ｚ1 及びＺ2 は、それぞれ同一でも異なっていてもよい、水素原子、低級アルキル基又は上記構造式（２）で表される基；ｍは１０、０００以下の正の整数；ｎは１以上の整数である。
上記構造式（２）
Ｒ4 及びＲ5 は、それぞれ同一でも異なっていてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基；Ｒ6 は、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ラジカル反応性基、ＳＨ基又はラジカル反応性基並びにＳＨ基を有する有機基である。
上記一般式（３）
Ｒ7 は、水素原子又はメチル基；Ｒ8 は、アルキル基、アルコキシ置換アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。
【請求項２】
上記一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサンの重量が、上記一般式（３）で表わされるアクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル及び／又はアクリル酸エステル若しくは／並びにメタアクリル酸エステル７０重量％以上と共重合可能な単量体３０重量％以下との混合物の重量よりも多いことを特徴とする請求項１に記載の電子写真装置。
【請求項３】
前記アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、ミクロゲルの形態であることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真装置。
【請求項４】
前記最表面層は、当該層に含有される全固形分に対してアクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物が１重量％〜４０重量％含有されたことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の電子写真装置。
【請求項５】
前記帯電手段は、帯電ローラーが採用されたことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の電子写真装置。
【請求項６】
前記帯電ローラーは、直流成分に交流成分が重畳された電圧が印可されることで電子写真感光体に帯電を与えることを特徴とする請求項５に記載の電子写真装置。
【請求項７】
前記帯電ローラーは、画像形成領域における電子写真感光体とのギャップが２００μｍ以下であることを特徴とする請求項５又は６に記載の電子写真装置。
【請求項８】
前記電子写真感光体は、最表面層にフィラーが含有されたことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の電子写真装置。
【請求項９】
前記フィラーは金属酸化物の一種であることを特徴とする請求項８に記載の電子写真装置。
【請求項１０】
前記金属酸化物は、等電点におけるｐＨが５以上であることを特徴とする請求項９に記載の電子写真装置。
【請求項１１】
前記金属酸化物は、表面処理を施されたことを特徴とする請求項９又は１０に記載の電子写真装置。
【請求項１２】
前記フィラーは、平均一次粒径が０．０１μｍ〜０．９μｍの範囲内であることを特徴とする請求項８から１１のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項１３】
前記電子写真感光体は、最表面層にカルボン酸化合物を含有することを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の電子写真装置。
【請求項１４】
前記カルボン酸化合物はポリカルボン酸化合物であることを特徴とする請求項１３に記載の電子写真装置。
【請求項１５】
前記電子写真感光体は、最表面層に高分子電荷輸送物質が含有されたことを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の電子写真装置。
【請求項１６】
前記電子写真感光体は、最表面層に酸化防止剤が含有されたことを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項に記載の電子写真装置。
【請求項１７】
前記酸化防止剤は、ヒンダードアミン構造及びヒンダードフェノール構造を有することを特徴とする請求項１６に記載の電子写真装置。
【請求項１８】
前記電子写真装置において、少なくとも帯電手段及び電子写真感光体が、電子写真装置本体に対し着脱自在の構造を有する電子写真装置用プロセスカートリッジに具備されてなることを特徴とする請求項１から１７のいずれか１項に記載の電子写真装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は高耐久性を有し、かつ長期に渡って画質の安定性を向上させた電子写真装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、電子写真方法を採用した複写機、ファクシミリ、レーザープリンタ、ダイレクトデジタル製版機等の電子写真装置が普及している。電子写真方法では、電子写真感光体に、少なくとも帯電、画像露光、現像を行い、その後画像保持体（転写紙）へトナー画像の転写及び定着を行う。そして、電子写真感光体表面のクリーニングを行うことで１プロセスが終了する。
【０００３】
電子写真装置で用いられる感光体（電子写真感光体）としては、（１）導電性支持体上にセレン又はセレン合金を主体とする光導電層を設けた感光体、（２）酸化亜鉛・硫化カドミウム等の無機系光導電材料をバインダー中に分散させた感光体及び非晶質シリコン系材料を用いた感光体、（３）有機系感光体等が知られている。中でも、コスト、生産性に優れ、感光体設計の自由度が高く、無公害性であるなどの特徴を有するため有機系の感光体が広く利用されている。
【０００４】
有機系の感光体は、（１）ポリビニルカルバゾ−ル（ＰＶＫ）に代表される光導電性樹脂を利用した感光体、（２）ＰＶＫ−ＴＮＦ（２，４，７−トリニトロフルオレノン）に代表される電荷移動錯体型の感光体、（３）フタロシアニン−バインダー樹脂に代表される顔料分散型の感光体、（４）電荷発生物質と電荷輸送物質とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが知られている。中でも、機能分離型の感光体が一般的に用いられる。
【０００５】
機能分離型感光体における静電潜像メカニズムの一例を以下に示す。
まず、感光体を帯電し、次いで感光体に光照射する。照射された光は透明な電荷輸送層を通過し、電荷発生層中の電荷発生物質により吸収される。光を吸収した電荷発生物質は電荷担体を発生する。電荷担体は、電荷輸送層に注入され、さらに電界に従って電荷輸送層中を移動し、感光体表面の電荷を中和する。
【０００６】
機能分離型感光体は、以上のようなメカニズムにより静電潜像を形成する。このメカニズムを実現するには、吸収域が、主に紫外部である電荷輸送物質と、主に可視部である電荷発生物質とを組み合わせて使用すればよいことが知られている。このような感光体は、優れた画像形成性等を有するために有用である。
【０００７】
電荷輸送物質は、その多くが低分子化合物として開発されているため、通常、不活性高分子に分散／混合して用いられる。低分子化合物は、一般に、単独で成膜性がない／成膜性に乏しいからである。
しかし、低分子電荷輸送物質と不活性高分子とからなる電荷輸送層は、一般に柔らかく、耐摩耗性が低い。例えば、繰り返し使用された場合に現像システムやクリーニングシステムによる機械的な感光体表面への負荷により膜削れが生じやすい。
上記構成の電荷輸送層は、不活性高分子の割合を高めることにより耐磨耗性が向上する傾向が見られるが、電荷移動度が低下する不具合が生じるため、自ずと低分子電荷輸送物質と不活性高分子との含有比率は限られており、飛躍的に耐磨耗性を向上させることは実現されていなかった。
【０００８】
一方、感光体は、電子写真装置を小型化するために小径化が要求されている。感光体の小径化のためには、感光体の高耐久化が必要となる。さらに、近年印刷速度の高速化、フルカラー化、メンテナンスフリー化等の傾向も強くなっており、感光体の高耐久化がより一層重要な課題となっている。
【０００９】
以上のような要求に対し種々の従来技術が提案されている。
例えば、有機系感光体の耐摩耗性を改善するために、有機系感光体のバインダー樹脂を改良した感光体がある（特開平５−２１６２５０公報など）。
しかし、このような感光体は、前記したような低分子電荷輸送物質の組成分割合の問題があるため、耐摩耗性の著しい向上は望めない。
【００１０】
また、高分子電荷輸送物質を用いた感光体も知られている。このような感光体は、例えば、特開昭５１−７３８８８号公報、特開昭５４−８５２７号公報、特開昭５４−１１７３７号公報、特開昭５６−１５０７４９号公報、特開昭５７−７８４０２号公報、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開昭６４−１７２８号公報、特開昭６４−１３０６１号公報、特開昭６４−１９０４９号公報、特開平３−５０５５５号公報、特開平４−１７５３３７号公報、特開平４−２２５０１４号公報、特開平４−２３０７６７号公報、特開平５−２３２７２７号公報、特開平５−３１０９０４号公報等に開示されている。
このように高分子電荷輸送物質を用いた感光体は、電荷輸送層成分が高分子であるため、従来の低分子電荷輸送物質を用いた感光体よりも膜削れの問題については改善されている。しかし、感光体を機械寿命まで交換しない据え付け型部品として扱うには十分なものではない。つまり、メンテナンスフリーを実現するものではない。
【００１１】
また、比較的硬度が高い無機フィラーを感光体の最表面（層）に添加する技術も開示されている（特開平４−２８１４６１号公報など）。
この技術は、添加するフィラー種によっては残留電位上昇の影響が増加してしまうが、耐摩耗性の高い感光体を提供できることが知られている。
【００１２】
また、感光体の最表面層を架橋硬化させる技術も知られている（特開昭５６−４８６３７号公報など）。この技術は、重合開始剤や未反応基が残存することによって残留電位上昇するなど副作用があるが、架橋条件等によっては高い耐摩耗性を有する感光体が得られることが知られている。
以上のような技術開発により、有機系感光体は、耐摩耗性が向上し、高耐久化が実現されてきた。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、感光体の耐摩耗性を高めると画像ボケ等の異常画像の発生が顕著になることが分かってきた。
例えば、画像ボケは、感光体の表面抵抗が低下して電荷の横移動が生じ、静電潜像がぼやけることで発生する。感光体の表面抵抗の低下は、感光体を帯電する際に発生するオゾンやＮＯｘガス及びこれらのガスと大気中の水分とによって生成されるイオン種（以降、帯電生成物と称する）が感光体上に付着、堆積されることが主因と考えられている。
【００１４】
従来の感光体は、耐摩耗性が低かったため、帯電生成物が感光体表面に堆積しても摩耗によって除去されていた。したがって、画像ボケは顕著に見られなかった。
一方、耐摩耗性が高い感光体は、帯電生成物の除去が困難なために画像ボケが顕著になったと考えられる。
【００１５】
したがって、耐摩耗性／耐久性を向上させるためには異常画像の発生を抑制する必要がある。耐摩耗性が高くても、画像ボケの発生や解像度の低下等、画質劣化が発生しやすい感光体は、事実上、使用することができないため、高耐久化が実現されたとは言えないからである。
【００１６】
このように、帯電によって発生するオゾンやＮＯｘの影響、帯電生成物の付着、堆積によって引き起こされる画像ボケを抑制させる方法としては、感光体表面の表面エネルギーや摩擦係数を低減させたり、最表面層に酸化防止剤を添加したり、あるいは感光体を加熱する除湿装置を設ける方法が知られている。具体的には次のような従来技術が開示されている。
【００１７】
・表面層にフッ素変性シリコーンオイルを含有させる技術（特開平０７−２９５２４８号公報、特開平０７−３０１９３６号公報、特開平０８−０８２９４０号公報等）
この従来技術は、感光体の表面エネルギーを低減させることで、クリーニング性の向上や異物付着の防止などの効果が得られる。
しかし、上記効果は, 早期に失われてしまい、効果の持続性に大きな課題が残されていた。効果の持続性に乏しいのは、フッ素変性シリコーンオイルの場合、感光体の表面層形成過程で表面近傍に移行してしまい、繰り返し使用による表面層の極微量な摩耗や帯電の影響によって、表面層から早期に失われることがその理由の一つとして考えられている。
したがって、この従来技術は、感光体の高耐久化を十分に実現しているとは言えない。
【００１８】
・感光体の最表面層に各種微粒子を添加する系に関する技術
このような従来技術としては、例えば次のようなものが開示されている。
シリコーン樹脂微粒子、フッ素含有樹脂微粒子を添加する技術（特開昭６３- ６５４４９号など）
メラミン樹脂微粒子を添加する技術（特開昭６０−１７７３４９号など）
表面層にポリエチレン粉体を含有させる技術（特開平０２−１４３２５７号など）
表面層に含フッ素樹脂粉体を含有させる技術（特開平０２−１４４５５０号など）
表面層にシリコーン微粒子を含有させる技術（特開平０７−１２８８７２号公報、特開平１０−２５４１６０号など）
面層に架橋型有機微粒子を含有させる技術（特開平２０００−０１０３２２号公報、ＵＳＰ5,998,072 など）
表面層にメチルシロキサン樹脂微粒子を含有させる技術（特開平０８−１９０２１３号など）
【００１９】
これらの従来技術は、感光体表面の摩擦係数の低減あるいは表面エネルギーの低減効果を持続させるのに有効であり、感光体の高耐久化に対しては効果的な方法である。
しかし、このような効果は、感光体の表面がある程度摩耗されることによって持続されるため、耐摩耗性が高められた感光体では効果が発揮されない。
また、上記微粒子が結着樹脂に覆われた状態であっては効果がまったく発揮されないため、感光体表面を予め摩耗させる必要もある。
このように、上記従来技術は、耐摩耗性が向上された感光体へ適用することは困難であり、適用した場合にも高耐久化と高画質化の両立は実現できていない。
【００２０】
・感光体の最表面層に酸化防止剤を添加する技術（特開平８−２９２５８５号など）
この従来技術は、オゾンやＮＯｘガスの曝露による感光体の静電特性の劣化を抑制する上で効果的な方法である。
しかし、残留電位の上昇傾向が強い感光体になってしまうという欠点がある。
また、画像ボケを抑制するためには酸化防止剤を比較的多量添加する必要があるため、感光体は、繰り返し使用による残留電位が極めて高くなる。
さらに、感光体表面に付着した帯電生成物による画像ボケに対しては効果が得られず、画像ボケの抑制に対してこの方法だけでは満足されるものではなかった。
したがって、この従来技術のみでは感光体の高耐久化を図ることは困難である。
【００２１】
また、感光体表面に付着した帯電生成物による画像ボケを抑制する技術として、感光体を過熱し除湿する方法が開示されている。この方法は、感光体を除湿することによって感光体表面の抵抗低下が抑制されるため、画像ボケの抑制には有効な方法である。
しかし、この技術は、感光体を絶えず加熱する必要があるため消費電力が極めて高く、また、装置の立ち上げに多くの時間を要するなどの多くの不具合を有していた。
また、電子写真装置内に感光体を加熱するための除湿装置を内包させる必要があるため、装置の小型化も困難である。
【００２２】
採用する帯電手段の種類により上記課題を解決する試みもある。この試みについて以下に詳述する。
電子写真装置において、帯電手段は、感光体に非接触の状態で帯電を付与するコロトロンやスコロトロン等のコロナ帯電手段と、感光体に接触して帯電を付与する帯電ローラーや帯電ブラシ等の接触帯電手段とに大きく分類される。
【００２３】
コロナ帯電手段は、簡易な装置により構成できるが、オゾンやＮＯｘの発生量が非常に多いため、環境、感光体の静電特性及び画像特性に対して大きな影響（悪影響）を与える。特に、タンデム方式に採用すると、複数必要となるために、オゾンやＮＯｘの発生量が極めて多くなる。したがって、コロナ帯電手段は、電子写真システムにおける適用範囲が非常に狭かった。
【００２４】
帯電手段に起因する異常画像の発生を抑制するには、第一にオゾンやＮＯｘガスの発生量を少なくする必要がある。オゾンやＮＯｘガスは、感光体表面の構成材料を変質したり、分解したりする場合があり、それによって感光体の帯電性の低下や耐摩耗性の低下、画像ボケ等の異常画像の発生を促進する原因となっていた。また、耐摩耗性の向上のために感光体にフィラー等を添加した場合には、オゾンやＮＯｘガスがフィラーに吸着されることにより、画像ボケの影響がさらに増加することも考えられる。したがって、帯電によるオゾンやＮＯｘガスの発生量を可能な限り少なくする必要がある。
【００２５】
一方、接触帯電手段は、帯電ローラや帯電ブラシ等の帯電部材が感光体に接触しているため、コロナ帯電手段よりも低い印加電圧で感光体を帯電できる。したがって、オゾンやＮＯｘの発生量を大幅に軽減できる。さらに、コロナ帯電手段に比べて帯電の均一性に優れていることもあり、感光体の高耐久化及び高画質化に対して有利な帯電手段と言える。
【００２６】
しかし、接触帯電手段は、帯電部材が感光体に接触しているため、トナーや異物の付着により帯電部材が汚染される。これにより、例えば次のような問題が生じる場合があった。
・帯電部材の汚染による感光体の帯電性の低下。
・帯電部材に付着された汚染物質が感光体に再付着することによる感光体表面の汚染の促進。
・帯電部材の汚染による感光体の摩耗や偏摩耗の促進。
・帯電部材によって感光体表面が押さえつけられていることによる感光体表面の異物の除去効率の低下。
接触帯電方式は、感光体表面に、付着した帯電生成物や異物等を帯電部材によって押しつけてしまう。そのため、感光体表面における異物の堆積量がコロナ帯電方式に比べて多くなり、画像ボケや異常画像の発生確率が高くなる。
・感光体への帯電ローラー跡の残存。
・帯電ローラーの変形による異常画像の発生。
【００２７】
つまり、接触帯電方式は、コロナ帯電方式よりもオゾンやＮＯｘガスの発生量を低くできるが、帯電生成物の堆積量は低減されないため、異常画像の発生確率を十分に低くできない。言い換えると、帯電生成物の感光体への堆積速度よりも感光体表面の摩耗速度が上回らなければ異常画像の発生を抑制できない。つまり、耐摩耗性が高い感光体を採用する電子写真装置では異常画像の発生確率が高くなってしまう。
【００２８】
また、このような問題に鑑み、帯電部材を感光体に近接配置する技術がある。この従来技術は、帯電部材と感光体とが画像形成領域において直接接触しないため、オゾンやＮＯｘガスの発生量を削減すると同時に、上記問題を軽減し、感光体の高耐久化及び高画質化に対し有効な方法である。
さらに、上記従来技術による帯電部材は、汚染されにくいだけでなく、汚染物質が付着しても除去しやすい。したがって、簡単にクリーニングでき、感光体の高耐久化も可能となる。
【００２９】
しかし、上記従来技術を採用した帯電手段は、帯電部材と感光体とのギャップを極めて高精度に保つ必要があり、両者のギャップを保つことができないと帯電安定性が低下してしまう。
帯電安定性を向上させるには直流成分に交流成分を重畳させればよいが、これにより帯電生成物の発生量が増加してしまうため、画像ボケが発生しやすくなる。
また、帯電部材が感光体に近接配置されるため、感光体表面の放電破壊が他の帯電手段に比べて発生しやすくなる。その結果、異常画像が発生しやすくなる。このように、帯電部材を近接配置させても感光体の高耐久化の実現は困難であった。
【００３０】
つまり、帯電部材が、画像領域（画像形成領域）において感光体に近接配置された帯電手段は、帯電部材の汚染量が少なく、また、付着した汚染物質や帯電生成物を除去しやすいため、前記したような帯電手段と比べて異常画像の発生確率が低くなる。
しかし、感光体と帯電部材とが非接触であるため、帯電安定性が低い。また、帯電安定性を高くするためには交流成分を重畳しなければならず、帯電生成物の発生量が増加してしまい、結果的に、異常画像の発生確率が高くなる。
また、感光体が放電破壊されやすいため、高画質な画像が得られにくいという問題もある。
【００３１】
したがって、電子写真装置を、（１）感光体の交換回数を少なくしてメンテナンスフリー化し、（２）除湿装置を必要とせずに装置を小型化し、（３）高画質化し、（４）省エネルギー化するためには、感光体の耐摩耗性を高くするとともに異常画像の発生確率を低くする必要がある。そのためには、オゾンやＮＯｘの発生量を抑制するとともに、帯電部材や感光体の汚染を防止することが重要である。
一方、帯電部材が感光体に対し近接配置された帯電手段は、前記したように異常画像の発生確率が高くなる可能性があるばかりでなく、感光体表面の放電破壊により画質が低下する可能性もある。
そのため、高耐久な感光体を用いても長期に渡り高画質な画像を安定して提供できる電子写真装置の開発が求められている。また、このような電子写真装置は、さらに、消費電力を低くすることや装置の小型化なども望まれている。
【００３２】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、感光体の最表面層にアクリル変性ポリオルガノシロキサンが含有され、帯電部材が感光体に近接配置された帯電手段を採用することで、繰り返し使用後においても表面エネルギーの低く保つことができ、高耐久性を有する感光体を採用しても異常画像の発生確率を極めて低くできる電子写真装置を提供することを目的とする。この電子写真装置は、帯電生成物の堆積量を低減でき、帯電部材の汚染を防止しでき、感光体や帯電部材の汚染の大幅に抑制することが可能となる。その結果、異常画像の発生確率を低くできる。
【００３３】
【課題を解決するための手段】
かかる目的を達成するために、請求項１記載の電子写真装置は、電子写真感光体の周囲に少なくとも帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段が具備された電子写真装置において、電子写真感光体は、最表面層に特定のアクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物が含有され、帯電手段は、電子写真感光体に対し近接配置されたことを特徴とする。以上の構成を採用することで、感光体は、表面エネルギーを低くし、かつ、この状態を長期に渡り保つことで、帯電生成物や汚染物質や異物等が付着しにくく、付着したものも除去しやすくなる。また、上記帯電手段は、コロナ帯電方式よりもオゾンやＮＯｘの発生量が極めて少ない。また、帯電部材が感光体に近接配置されるため、帯電部材／感光体の汚染を低減できる。したがって、例えば、転写効率を高くでき、クリーニング性を高くでき、感光体や帯電部材への異物の付着量を低くできるようになる。この結果、感光体の耐摩耗性を高くしても画像ボケなどの異常画像の発生確率を低くできるようになる。つまり、高耐久性と画質安定性を両立できる。
【００３５】
請求項１記載の発明は、前記の電子写真装置において、アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、下記一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサンと、下記一般式（３）で表わされるアクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル及び／又は｛アクリル酸エステル若しくは／並びにメタアクリル酸エステル７０重量％以上と共重合可能な単量体３０重量％以下との混合物｝とを、重量比５：９５〜９５：５で乳化グラフト共重合させた化合物であることを特徴とする。
【００３６】
【化２】
0003853687.tif 000002
【００３７】
上記一般式（１）
Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は、それぞれ同一でも異なっていても良い炭素数１〜２０の炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基；Ｙは、ラジカル反応性基、ＳＨ基又はラジカル反応性基並びにＳＨ基を有する有機基；Ｚ1 及びＺ2 は、それぞれ同一でも異なっていてもよい、水素原子、低級アルキル基又は上記構造式（２）で表される基；ｍは１０、０００以下の正の整数；ｎは１以上の整数である。
【００３８】
上記構造式（２）
Ｒ4 及びＲ5 は、それぞれ同一でも異なっていてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基；Ｒ6 は、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ラジカル反応性基、ＳＨ基又はラジカル反応性基並びにＳＨ基を有する有機基である。
【００３９】
上記一般式（３）
Ｒ7 は、水素原子又はメチル基；Ｒ8 は、アルキル基、アルコキシ置換アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。
【００４０】
請求項２記載の発明は、請求項１の電子写真装置において、上記一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサンの重量が、下記一般式（３）で表わされるアクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル及び／又はアクリル酸エステル若しくは／並びにメタアクリル酸エステル７０重量％以上と共重合可能な単量体３０重量％以下との混合物の重量よりも多いことを特徴とする。
【００４１】
請求項３記載の発明は、請求項１又は２の電子写真装置において、アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、ミクロゲルの形態であることを特徴とする。
【００４２】
請求項４記載の発明は、請求項１から３のいずれか１の電子写真装置において、最表面層は、層に含有される全固形分に対してアクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物が１重量％〜４０重量％含有されたことを特徴とする。
【００４３】
請求項５記載の発明は、請求項１から４のいずれか１の電子写真装置において、帯電手段は、帯電ローラーが採用されたことを特徴とする。
【００４４】
請求項６記載の発明は、請求項５の電子写真装置において、帯電ローラーは、直流成分に交流成分が重畳された電圧が印可されることで電子写真感光体に帯電を与えることを特徴とする。
【００４５】
請求項７記載の発明は、請求項５又は６の電子写真装置において、帯電ローラーは、画像形成領域における電子写真感光体とのギャップが２００μｍ以下であることを特徴とする。
【００４６】
請求項８記載の発明は、請求項１から７のいずれか１の電子写真装置において、電子写真感光体は、最表面層にフィラーが含有されたことを特徴とする。
【００４７】
請求項９記載の発明は、請求項の８の電子写真装置において、フィラーは金属酸化物の一種であることを特徴とする。
【００４８】
請求項１０記載の発明は、請求項９の電子写真装置において、金属酸化物は、等電点におけるｐＨが５以上であることを特徴とする。
【００４９】
請求項１１記載の発明は、請求項９又は１０の電子写真装置において、金属酸化物は、表面処理を施されたことを特徴とする。
【００５０】
請求項１２記載の発明は、請求項８〜１１のいずれか１の電子写真装置において、フィラーは、平均一次粒径が０．０１μｍ〜０．９μｍの範囲内であることを特徴とする。
【００５１】
請求項１３記載の発明は、請求項１から１２のいずれか１の電子写真装置において、電子写真感光体は、最表面層にカルボン酸化合物を含有することを特徴とする。
【００５２】
請求項１４記載の発明は、請求項１３の電子写真装置において、カルボン酸化合物はポリカルボン酸化合物であることを特徴とする。
【００５３】
請求項１５記載の発明は、請求項１から１４のいずれか１の電子写真装置において、電子写真感光体は、最表面層に高分子電荷輸送物質が含有されたことを特徴とする。
【００５４】
請求項１６記載の発明は、請求項１から１５のいずれか１の電子写真装置において、電子写真感光体は、最表面層に酸化防止剤が含有されたことを特徴とする。
【００５５】
請求項１７記載の発明は、請求項１６の電子写真装置において、酸化防止剤は、ヒンダードアミン構造及びヒンダードフェノール構造を有することを特徴とする。
【００５６】
請求項１８記載の発明は、請求項１から１７のいずれか１の電子写真装置において、電子写真装置において、少なくとも帯電手段及び電子写真感光体が、電子写真装置本体に対し着脱自在の構造を有する電子写真装置用プロセスカートリッジに具備されてなることを特徴とする。
【００５７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る電子写真装置を、実施の形態によって詳細に説明する。
【００５８】
本発明に係る電子写真装置は、帯電手段が感光体に近接配置され、感光体の最表面層にアクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物が含有される。
前記したように、上記帯電手段を用いただけでは装置の高耐久化及び高画質化の両立を満足させることは難しい。そこで、本発明では、感光体の最表面層に上記化合物を含有させることで、装置の高耐久化及び高画質化を実現した。つまり、このような構成を採用する結果、帯電生成物が感光体に付着しにくくなり、また、感光体に付着した帯電生成物を除去しやすくなる。また、このような効果を長期に渡って安定に維持可能となった。
【００５９】
一般に、感光体の表面エネルギーの低減効果を持続させるためには、滑性成分は、層（最表面層）全体に均一であるよりも、微粒子状に高濃度な部分が不均一に分散されているほうがよいことが知られている。
これに対し、上記化合物は、アクリル構造を有するため、感光体の最表面層を形成する結着樹脂（バインダー樹脂）との相溶性が高く、層内における分散性及び配向性が極めて高い。したがって、層中において複数の微細なミクロゲルの形態を維持し、このミクロゲルが層全体にほぼ均一に分散（拡散）されていると考えられる。
つまり、上記化合物は微粒子の形態（ミクロゲル）で層全体に分散されるため、表面エネルギーを長期に渡って低く保ち、帯電生成物などの異物の付着を防止する効果が、繰り返し使用後にも得られるようになったと考えられる。
また、転写効率が向上し、クリーニング性が向上し、フィルミングや異物付着による異常画像の発生確率を極めて低くし、感光体の耐摩耗性を向上させることなども可能となる。
【００６０】
また、感光体は、上記化合物が添加されたことで、放電破壊が起こりにくくなった。
感光体中の有機基は、帯電によって発生するオゾンやＮＯｘによって分解されると炭素系残査を生成する。炭素系残査は、導電性なため放電破壊が起こりやすくなる。
これに対し、上記化合物は、結合エネルギーが高く、絶縁性であるＳｉ−Ｏ結合を有する。したがって、上記炭素系残査は、Ｓｉ−Ｏ結合を有するため、放電破壊の発生確率を極めて低くできる。これにより、異常画像の発生確率を低いものにできる。
【００６１】
また、上記化合物は、主鎖であるシロキサンにアクリル重合体をグラフト共重合させた構造を有していることから、結着樹脂との相溶性を維持した上で、シロキサンの重合比率を高くすることができる。
【００６２】
以上のように、アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物を最表面に含有させた感光体を用いることで、帯電生成物や異物等が感光体に付着しにくく、付着されても除去しやすくなった。それによって、感光体表面の低抵抗化を抑制することが可能となった。さらに、この効果を長期に渡って得られるようになった。それによって、画質安定性の向上が実現された。
また、画像形成領域において帯電部材を感光体に直接接触させない（近接配置する）構成の帯電手段を採用したことで、帯電部材の汚染を抑制できるようになった。また、感光体の表面を摩耗せず、感光体表面の帯電生成物や異物を除去しやすくなったため、帯電部材及び感光体の汚染量を極めて低くできるようになった。
したがって、転写効率やクリーニング性を極めて高くでき、フィルミングや異物付着を抑制でき、耐摩耗性を向上でき、偏摩耗を抑制でき、帯電部材の汚染等を防止し、感光体の放電破壊を防止できるなど種々の効果が得られ、その結果、異常画像の発生確率を低くし、装置（感光体）の高耐久化及び高画質化を両立できるようになった。
以下に詳細に説明する。
【００６３】
〈アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物〉
アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、下記一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサンに、下記一般式（３）で表されるアクリル酸エステル及び／又はメタアクリル酸エステルを、乳化重合法によりグラフト重合された化合物が好ましく用いられる。また、所望により、アクリル酸エステル及びメタアクリル酸エステル以外にも任意の単量体も共重合させてもよい。
【００６４】
【化３】
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上記一般式（１）中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などのアリール基などの炭素数１〜２０の炭化水素基、又はこれらの炭化水素基の炭素原子に結合した水素原子の少なくとも１つがハロゲン原子で置換された炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は、それぞれ同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。
Ｙは、ビニル基、アリル基、γ−アクリロキシプロピル基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−メルカプトピロピル基などのラジカル反応性基、ＳＨ基、又は、ラジカル反応性基並びにＳＨ基を有する有機基である。
Ｚ1 、Ｚ2 は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの低級アルキル基又は上記一般式（２）で示されるトリオルガノシリル基である。Ｚ1 とＺ2 は、それぞれ同一であってもよいし、たがいに異なっていてもよい。
ｍは、１０, ０００以下の正の整数、好ましくは５００〜８, ０００の範囲の整数である。
ｎは、１以上の整数、好ましくは１〜５００の範囲の整数である。
【００６５】
上記一般式（２）中、Ｒ4 及びＲ5 は、それぞれ同一でも異なっていてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基である。このような基としては例えば前記したような基を採用できる。
Ｒ6 は、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ラジカル反応性基、ＳＨ基、又はラジカル反応性基並びに／若しくはＳＨ基を有する有機基である。
【００６６】
上記一般式（１）で示されるポリオルガノシロキサンは、環状ポリオルガノシロキサン、分子鎖両末端が水酸基で封鎖された液状ポリジメチルシロキサン、分子鎖両末端がアルコキシ基で封鎖された液状ポリジメチルシロキサン、又は、分子鎖両末端がトリメチルシリル基で封鎖されたポリジメチルシロキサンなどを、ラジカル反応性基並びに／若しくはＳＨ基を導入するためのシラン類やシラン類の加水分解生成物などと反応させることで得られる。また、所望により、本発明の目的を損なわない量の三官能性のトリアルコキシシランやその加水分解生成物などを反応系に加えてもよい。
【００６７】
前記した以外の製造方法も当然に採用可能である。
例えば、原料として、オクタメチルシクロテトラシロキサンのような環状低分子シロキサンと、ラジカル反応性基及び／又はＳＨ基を有するジアルコキシシラン化合物やその加水分解物を用いる。そして、両者を、強アルカリ性又は強酸性触媒の存在下に重合させることで高分子量のポリオルガノシロキサンが得られる。このようにして得られたポリオルガノシロキサンは、次工程の乳化グラフト共重合に供するために、適当な乳化剤の存在下、水性媒体中に乳化分散される。
【００６８】
なお、上記一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサンは、分子量が小さいと、得られた感光体が、摺動性、耐摩耗性、これらの効果の持続性（安定性）などに劣る。そのため、分子量はできるだけ大きい方が好ましい。
そこで、原料に高分子量のシロキサンを用い、これを乳化分散することが好ましい。
【００６９】
また、次のような製造方法も採用できる。
原料として、例えば前記した低分子ポリオルガノシロキサンと、ラジカル反応性基及び／又はＳＨ基を有するジアルコキシシランやその加水分解物とを用いる。両者を、スルホン酸系界面活性剤や硫酸エステル系界面活性剤の存在下、水性媒体中において乳化重合させてポリオルガノシロキサンを得る。
また、これと同様の原料を、アルキルトリメチルアンモニウムクロリドやアルキルベンジルアンモニウムクロリドのどのカチオン性界面活性剤により水性媒体中に乳化分散させ、適当量の水酸化カリウムや水酸化ナトリウムなどの強アルカリ性化合物を添加して重合させても得られる。
【００７０】
なお、前記した理由により高分子量のポリオルガノシロキサンを得るために、乳化重合後の熟成処理の際に温度を低くするとよい。これにより、ポリオルガノシロキサンの分子量が大きくなる。また、熟成温度は３０℃以下、好ましくは１５℃以下とする。
【００７１】
上記一般式（３）中、Ｒ7 は、水素原子又はメチル基；Ｒ8 は、アルキル基、アルコキシ置換アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。
【００７２】
上記一般式（３）で表されるアクリル酸エステル／メタアクリル酸エステルは、例えば、メチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタアクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタアクリレート、ペンチルアクリレート、ペンチルメタアクリレート、ヘキシルアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、オクチルアクリレート、オクチルメタアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタアクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタアクリレート、ステアリルアクリレート、ステアリルメタアクリレートなどのアルキルアクリレートやアルキルメタアクリレート；メトキシエチルアクリレート、メトキシエチルメタアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルメタアクリレートなどのアルコキシアルキルアクリレートやアルコキシアルキルメタアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタアクリレートなどが挙げられる。これらの化合物は１種のみを用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７３】
上記任意の単量体は、例えば多官能性単量体やエチレン性不飽和単量体が挙げられる。
多官能性単量体は、例えば、アクリルアミド、メタアクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ダイアセトンメタアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタアクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルメタアクリルアミドなどのエチレン性不飽和アミド、エチレン性不飽和アミドのアルキロール；アルコキシアルキル化物；グリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレート、グリシジルアリルエーテルなどのオキシラン基含有不飽和単量体；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタアクリレートなどのヒドロキシル基含有不飽和単量体、
アクリル酸、メタアクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸などのカルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体；Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタアクリレート、Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ−ジエチルアミノエチルメタアクリレートなどのアミノ基含有不飽和単量体；アクリル酸やメタアクリル酸のエチレンオキシドやプロピレンオキシド付加物などのポリアルキレンオキシド基含有不飽和単量体；エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレートなどの多価アルコールとアクリル酸やメタアクリル酸との完全エステル；アリルアクリレート、アリルメタアクリレート、ジビニルベンゼンなどが挙げられる。これらの単量体は１種のみ用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの単量体は、アクリル変性ポリオルガノシロキサンにおけるポリマー間の架橋に関与するため、成形体に弾性、耐久性、耐熱性などを付与する。
【００７４】
エチレン性不飽和単量体は、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニルなどが挙げられる。これらの単量体は１種用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、エチレン性不飽和単量体１種以上と多官能性単量体１種以上とを組み合わせて用いてもよい。
【００７５】
これらの単量体は、上記一般式（３）で表される化合物との合計重量の３０重量％以下の重量で用いる。３０重量％以上の割合で用いると、得られたアクリル変性ポリオルガノシロキサンは結着樹脂との混和性が低いものとなる。
【００７６】
上記一般式（３）で表される化合物（上記任意の単量体も共重合させる場合にはこの単量体との混合物）は、得られた感光体が優れた摺動性、耐摩耗性を備えるために、ガラス転移温度が２０℃以上、好ましくは３０℃以上であることが好ましい。
【００７７】
アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、上記一般式（１）で表される化合物と上記一般式（３）で表される単量体とを、重量比で５：９５〜９５：５の割合で、乳化重合法によりグラフト共重合させるで得られることが分かった。上記一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサンの割合を上記範囲より少なくすると、前記したような効果が十分に得られず、また、アクリル系ポリマーの欠点である粘着感が目立ってしまう。また、上記範囲より多くすると、アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、ポリ塩化ビニル系樹脂などの結着樹脂との混和性が低下し、感光体表面にブリードしやすくなる。その結果、得られる感光体は、摺動性、耐摩耗性などが経時により低下してしまう。
【００７８】
乳化重合法によるグラフト共重合は、公知の方法を採用できるが、例えば、上記一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサンの水性エマルジョンに、上記一般式（３）で表される単量体を添加し、一般に用いられるラジカル開始剤を使用して、公知の乳化重合法によって行ってもよい。また、特公平７−５８０８号公報に記載された製法も好適に採用できる。
【００７９】
また、重合に用いる乳化剤、凝集剤等は、感光体（像形成部材）の電気特性を損なう可能性があるため、必要に応じて精製／除去される。精製法は、例えば、酸、アルカリ水溶液、水及び／又はアルコールなどで攪拌洗浄処理する方法や、ソックスレー抽出等による固液抽出法などが挙げられる。
【００８０】
アクリル変成ポリオルガノシロキサン化合物は、例えば、日信化学工業株式会社製の商品名シャリーヌＲ―１７０Ｓ、Ｒ―１７０又はＲ−２１０を好適に使用できる。中でも、Ｒ−１７０Ｓ及びＲ−１７０は、シリコーン含有率が約７０％と非常に高く、得られた感光体の表面エネルギーが極めて低くなるため好ましく用いられる。さらに、形状が球形で、平均粒径が小さいＲ−１７０Ｓを特に好ましく用いられる。異常画像の発生確率が極めて低く、さらに、このような効果を長期に渡って安定して維持できるからである。
【００８１】
〈層構成例〉
前記したアクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、感光体の最表面層に含有されればよい。感光体の表面とは、潜像が形成される側の面、すなわち帯電手段と対向する側の面をいう。つまり、アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、感光体の表面から一定の距離範囲内に含有される。
なお、最表面層は、アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物以外の物質を含有し、任意の機能が付加されてもよい。例えば、フィラーや酸化防止剤等が添加されてもよい。また、感光体における機能により分類される層（保護層、電荷輸送層、電荷発生層等）の内で最表面に位置する層の深さ（層の厚さ）と最表面層の厚さは、同一であってもよく、異なっていてもよい。
以下、感光体の層構成例と、アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物が含有される範囲（最表面層）の関係を、図１〜図５に示す。
【００８２】
図１に示す感光体は、導電性支持体３１上に感光層３３が形成されている。感光層３３は、電荷発生物質と結着樹脂とを主成分とする。
図１において、表面は、感光層３３の、導電性支持体３１と接していない面である。
アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、表面（感光層３３側）から任意の位置までの範囲に含まれる。例えば、図１（ｂ）に示すように、感光層３３の表面側の一部に含有してもよく、図１（ａ）に示すように、感光層３３の全部（全範囲）に含有されてもよい。また、導電性支持体３１の感光層３３側の一部又は全部にも含有されてもよい。
【００８３】
図２に示す感光体は、導電性支持体３１上に電荷発生層３５、電荷輸送層３７が順次積層された構成をとる。電荷発生層３５は、電荷発生物質を主成分とする。電荷輸送層３７は、電荷輸送物質を主成分とする。
図２において、表面は、電荷輸送層３７の、電荷発生層３５と接していない面である。
アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、表面から任意に位置までの範囲に含まれる。例えば、図２（ｂ）に示すように、電荷輸送層３７の一部に含有されてもよい。また、図２（ａ）に示すように、電荷輸送層３７の全部（全範囲）に含有されてもよい。この場合、電荷発生層３５においても、電荷輸送層３７からの一部の範囲又は全部（全範囲）に含有されてもよい。また、導電性支持体３１の一部又は全範囲にも含有されてもよい。
【００８４】
図３に示す感光体は、図１に示す感光体において、感光層３３の表面側に、さらに保護層３９が積層された構成をとる。
図３において、表面は、保護層３９の、感光層３３と接していない面である。
アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、表面から任意の位置までの範囲に含まれる。例えば、図３に示すように、保護層３９の全域に含有されるようにしてもよい。
【００８５】
図４に示す感光体は、図２に示す感光体において、電荷輸送層３７の表面側に、さらに保護層３９が積層された構成をとる。
図４において、表面は、保護層３９の、電荷輸送層３７と接していない面である。
アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、表面から任意の位置までの範囲に含まれる。例えば、図４に示すように、保護層３９の全域に含有されてもよい。
【００８６】
図５に示す感光体は、導電性支持体３１上に、電荷輸送層３７、電荷発生層３５及び保護層３９が順次積層された構成をとる。
図５において、表面は、保護層３９の、電荷発生層３５と接していない面である。
アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、表面から任意の位置までの範囲に含まれる。例えば、図５に示すように、保護層３９の全域に含有されてもよい。
次に、最表面層について説明する。
【００８７】
〈最表面層〉
最表面層は、図１〜図５に示すようにアクリル変成ポリオルガノシロキサン化合物が含有された領域である。
最表面層は、アクリル変成ポリオルガノシロキサン化合物を、必要に応じて最表面層形成用結着樹脂とともに溶媒又は分散媒に溶解又は分散し、得られた塗工液を被塗工層上に塗工することで得られる。
また、最表面層に感光層３３や保護層３９などの役割を持たせる場合には、この役割に応じた材料も上記溶媒又は分散媒に溶解又は分散して塗工液を得る。例えば、図１（ａ）に示すように感光層３３の全域が最表面層である場合には、後述する感光層３３形成用の材料も上記溶媒又は分散媒に溶解又は分散して塗工液を得る。換言すれば、最表面層とされる層形成用の塗工液にアクリル変成ポリオルガノシロキサン化合物を溶解又は分散した塗工液を塗布すればよい。
【００８８】
最表面層形成用の溶媒又は分散媒は、アクリル変成ポリオルガノシロキサン化合物を良好に溶解又は分散するものであればよい。例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アニソール、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられる。
溶解法、分散法は、ボ−ルミルを用いた方法、アトライタ−を用いた方法、サンドミルを用いた方法、ビーズミルを用いた方法、超音波を用いた方法などを採用できる。
また、上記塗工液は、少なくとも結着樹脂を含む溶液又は分散液にて適度に希釈してもよい。
【００８９】
また、前記した材料を、バンバリーミキサー、ロールミル、２軸押出し機などの公知の装置を用いて機械的に混合しペレット状に賦形して最表面層を形成する方法も採用できる。押し出し賦形されたペレットは、幅広い温度範囲で成型可能であり、成型には通常の射出成型機が用いられる。なお、ペレット状に賦形されたアクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物を有するグラフト共重合体と樹脂を、前記したように溶媒又は分散媒に溶解又は分散させ、被塗工層上に塗布してもよい。
【００９０】
最表面層におけるアクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、最表面層全固形分に対して１重量％〜４０重量％の範囲で含有され、好ましくは５重量％〜２０重量％の範囲で含有される。含有量がこの範囲内に含まれれば、含有量が上記範囲よりも少ない感光体と比べ、感光体表面の表面エネルギーが低い状態を長期に渡って安定して保てる。また、異常画像の発生確率が極めて低い状態を長期に渡って安定して保てる。さらに、含有量が上記範囲よりも多い感光体と比べ、塗膜欠陥の発生確率が極めて低く、良好な表面平滑性が得られることが分かった。
【００９１】
また、図１（ｂ）や図２（ｂ）に示すように、感光層３３や電荷輸送層３７の一部（表面側）を最表面層とするには、公知の方法により、これらの層中において、アクリル変成ポリオルガノシロキサン化合物の表面側の濃度が高くなるように濃度傾斜を付与すればよい。このような構成とすると、良好な解像度が得られ、膜間の接着性能に優れる場合がある。
【００９２】
最表面層は、耐摩耗性を向上させるためにフィラー（材料）が含有されてもよい。
フィラー材料は、有機性フィラーと無機性フィラーとがある。
【００９３】
有機性フィラー材料は、例えば、ポリテトラフルオロエチレンのようなフッ素樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末、ａ−カーボン粉末等が挙げられる。
無機性フィラー材料は、例えば、銅、スズ、アルミニウム、インジウムなどの金属粉末、シリカ、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン、アルミナ、ジルコニア、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、酸化カルシウム、アンチモンをドープした酸化錫、錫をドープした酸化インジウム等の金属酸化物、フッ化錫、フッ化カルシウム、フッ化アルミニウム等の金属フッ化物、チタン酸カリウム、窒化硼素などの無機材料が挙げられる。
これらの材料の中でも、比較的フィラーの硬度が高い無機材料が耐磨耗性の面から好ましく用いられ、さらに光透過性、塗膜品質の面から特に金属酸化物が好ましく用いられる。光透過性や塗膜品質の低下は画質に大きく影響するため、高画質化を実現するためには光透過性や塗膜品質への悪影響が少ない材料を選択することが重要である。
【００９４】
また、電気絶縁性が高い金属酸化物のフィラーは、異常画像の発生確率を極めて低くできるために好ましく用いられる。最表面層に導電性フィラーが含有されると、表面の抵抗が低下するために電荷の横移動が起こり、画像ボケなどの異常画像が発生しやすくなるからである。
したがって、比抵抗が１０10Ω・ ｃｍ以上のフィラー材料を好ましく用いる。このようなフィラー材料は、例えば、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、シリカ等が挙げられる。
一方、比抵抗が１０10Ω・ ｃｍ以下の導電性フィラーや比抵抗が比較的低いフィラーは、酸化錫、酸化亜鉛、酸価インジウム、酸価アンチモン、アンチモンをドープした酸化錫、錫をドープした酸化インジウム等が挙げられるが、異常画像の発生確率が高くなるため好ましくない。ただし、フィラーは、同じ材質であっても比抵抗が異なる場合がある。したがって、比抵抗によって採用するフィラー材料を選択する。
【００９５】
なお、以上のようなフィラー材料は、２種以上混合して用いてもよい。この場合、採用するフィラー材料の混合物が前記した比抵抗を有していればよい。すなわち、前記した比抵抗を有しないフィラー材料も使用できる。
【００９６】
フィラー材料は、異常画像の発生確率を低くするために、等電点におけるｐＨが少なくとも５以上であることが好ましい。また、より塩基性を示すものほど異常画像の発生確率が低くなる。
液中に分散しているフィラーは帯電しているため、フィラー粒子の安定性や感光体の解像度に影響を及ぼすことがある。これに対し、前記したようなフィラー材料は、このような問題が極めて少ないために好ましく用いられる。
このようなフィラー材料としては、例えば、酸化チタン、ジルコニア、アルミナ等が挙げられる。また、酸化チタン＜ジルコニア＜アルミナの順に塩基性が高くなることから、アルミナが特に好ましく用いられる。さらに、光透過性が高く、熱安定性が高く、耐摩耗性に優れた感光体を提供できる、六方細密構造であるα型アルミナは、異常画像の発生確率が低く、耐摩耗性が高く、良好な塗膜品質や光透過性を有する感光体を提供できるため、極めて好ましく用いられる。
【００９７】
フィラー材料は、少なくとも一種の表面処理剤で表面処理を施されていてもよい。
異常画像は、感光体表面のフィラー材料にオゾンやＮＯｘガスが曝露することで発生する場合が考えられる。そこで、表面処理剤によってフィラーの比抵抗や等電点におけるｐＨを変化させ、異常画像の発生確率を、表面処理が施されていないフィラー材料を採用した場合と比べて極めて小さくできる。また、採用する表面処理方法／表面処理剤によっては、最表面層中におけるフィラー材料の分散性を向上させたり、塗膜（最表面層）の透明性を向上させたり、塗膜欠陥の発生を抑制したり、感光体の耐摩耗性を向上させたり、偏摩耗を抑制することができるなど、種々の効果が得られる。
【００９８】
表面処理剤は、従来用いられている表面処理剤すべてを使用できるが、フィラーの比抵抗や等電点におけるｐＨを前記したようなものにできる表面処理剤が好ましく用いられる。
フィラーの等電点におけるｐＨは、表面処理によって調整できる。酸性処理剤で処理すると酸性側に等電点が移動し、塩基性処理剤で処理すると塩基性側に等電点が移動するため、塩基性処理剤が好ましく用いられる。塩基性処理剤は、例えば、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤等が好ましく用いられる。また、Ａｌ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、シリコーン、ステアリン酸アルミニウム等、あるいはそれらの混合物も、フィラーの最表面層における分散性を高くし、得られた感光体の異常画像の発生確率を低くできるため好ましく用いられる。シランカップリング剤による処理は異常画像の発生確率を高くするが、前記したような表面処理剤とシランカップリング剤との混合処理を施すことによりその影響を軽減できる場合がある。
また、塩基性処理剤を用いれば、フィラーの等電点におけるｐＨが５以下のフィラーを採用することも可能になる場合がある。
【００９９】
フィラーの平均一次粒径は、０．０１〜０．９μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜０．５μｍである。フィラーの平均一次粒径が上記範囲内である場合には、光透過性が良好に保たれ、耐摩耗性や塗膜品質に対して悪影響が少ない。フィラーの平均一次粒径が上記範囲よりも小さい場合には、フィラーが凝集しやすくなり、耐摩耗性が低下し、フィラーの比表面積が増加するために異常画像の発生確率が高くなる。フィラーの平均一次粒径が上記範囲を超える場合、フィラーの沈降性が促進されたり、画質劣化や異常画像が発生する確率が高くなってしまう。
【０１００】
フィラー材料が含有されることによって引き起こされる残留電位上昇を抑制するために、カルボン酸化合物の一種を添加させることが好ましい。
なお、カルボン酸化合物は、不揮発分１００％のものであっても、予め有機溶剤等に溶解されたものであってもよい。
【０１０１】
カルボン酸化合物は、例えば、公知の有機脂肪酸、高酸価樹脂、共重合体等、分子構造中にカルボキシル基を含む化合物であればすべて使用することができる。例えば、ラウリン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、アジピン酸、オレイン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、サリチル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸等の飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、芳香族カルボン酸等が挙げられる。また、飽和ポリエステル、不飽和ポリエステル、末端カルボン酸不飽和ポリエステル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸等も好適に使用できる。つまり、飽和又は不飽和の炭化水素を基本骨格とし、この基本骨格に少なくとも一つ以上のカルボキシル基が結合されたポリマー、オリゴマー又はコポリマーは、残留電位上昇を抑制する効果があり、フィラーの分散性を向上させるために好ましく用いられる。
【０１０２】
中でも、複数のカルボン酸残基を有するポリカルボン酸化合物は、酸価が高く、フィラーへの吸着性が高いため、残留電位を低くでき、フィラーの最表面層中における分散性を高くできるため、特に好ましく用いられる。このようなポリカルボン酸化合物の中でも、ポリカルボン酸タイプの湿潤分散剤が極めて好ましく、例えば、ＢＹＫケミー社製の商品名「ＢＹＫ−Ｐ１０４」が特に有効に用いられる。
【０１０３】
以上のようにカルボン酸化合物を含有させることで最表面層の残留電位を低くできる（低く保てる／低減できる）理由は、カルボン酸化合物が酸価を有し、また、フィラーへの吸着性を有するためと考えられる。
最表面層にフィラーを添加することで、フィラー表面の極性基が電荷トラップサイトになるために残留電位が高くなってしまうと考えられる。これに対し、カルボン酸化合物は、カルボキシル基が上記極性基に吸着しやすいため、最表面層の残留電位を低減すると考えられる。
また、カルボン酸化合物は、フィラーと結着樹脂との双方に親和性を持たせて濡れ性を高め、また、立体障害や電気的反発を与えるためフィラー間の相互作用を減少させて安定性を高め、フィラーの最表面層中における分散性を高めると考えられる。
また、カルボン酸化合物は、アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物の最表面層における分散性を向上させる効果も有する。アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物は、分子構造中にアクリル構造を有しているため、カルボン酸化合物と親和性が高く、最表面層中における分散性が高くなったと考えられる。それによって、塗膜品質を向上させることが可能となり、画質の安定性化が実現された。
【０１０４】
感光体の最表面層には、さらに酸化防止剤を添加することが好ましい。
酸化防止剤は、例えば、フェノール系化合物類、ヒンダードフェノール系化合物類、ヒンダードアミン系化合物類、パラフェニレンジアミン類、ハイドロキノン類、有機硫黄化合物類、有機リン化合物類、ベンゾフェノン類、サルシレート類、ベンゾトリアゾール類、クエンチャー（金属錯塩系）等、公知の酸化防止剤をすべて使用できる。また、紫外線吸収剤、光安定剤等も使用できる。
【０１０５】
酸化防止剤の中でも、オゾンやＮＯｘ等の活性ガスから感光体の劣化を防止／抑制し、画質安定性を高める効果が高いものは、ヒンダードフェノール構造とヒンダードアミン構造とを有する化合物である。
【０１０６】
ヒンダードフェノール構造は、フェノール性水酸基の両オルト位に嵩高い原子団が存在する構造である。
ヒンダードアミン構造は、アミノ窒素原子近傍に嵩高い原子団が存在する構造である。このような構造を有する化合物は、芳香族アミンや脂肪族アミン系物質も該当するが、より好ましくは２，２，６，６−テトラメチルピペリジン構造を含んでいる化合物が用いられる。
これらの両構造を有する化合物の作用機構の詳細は明らかではないが、嵩高い原子団が存在することにより立体障害が高められ、アミノ窒素原子やフェノール性水酸基の熱振動を抑制し、ラジカル状態の安定性が高められると考えられる。これにより、外部からの活性ガスの影響を食い止めることができたものと推定される。
【０１０７】
ヒンダードフェノール構造とヒンダードアミン構造の両構造を有する化合物は、種々のものが挙げられるが、中でも下記構造式で表される１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピリジンが、オゾンやＮＯｘガスを起因とする感光体の解像度低下の防止に有効である。
【０１０８】
【化４】
0003853687.tif 000004
【０１０９】
感光体は、オゾンやＮＯｘガスの曝露によって、帯電性が低下したり耐摩耗性が低下したりするが、酸化防止剤が添加されることで、静電特性が安定化される。つまり、長期の繰り返し使用時における画質安定化が実現される。
【０１１０】
また、最表面層にフィラーが添加されている場合、オゾンあるいはＮＯｘのガス成分がフィラーに吸着しやすくなるため、画像ボケの影響がフィラーのない場合に比べてやや増加する。これに対し、ヒンダードフェノール構造及びヒンダードアミン構造の両構造を有する酸化防止剤をフィラーとともに含有されると、異常画像の発生確率を極めて低くできることが分かった。
つまり、フィラーと上記酸化防止剤とを組み合わせて用いることによって、異常画像の発生確率を極めて低くできるため、一層の高画質化を実現できる。
【０１１１】
また、最表面層におけるアクリル変性ポリオルガノシロキサンの含有量が多くなると、特にオゾンやＮＯｘガスに曝露することによって帯電低下を引き起こす場合がある。これに対し、感光体の最表面層にこれらの酸化防止剤を添加することによってこれを防止できる。この効果が高い酸化防止剤は、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピリジンである。
【０１１２】
次に、感光体の各層について説明する。なお、前記したように、以下に説明する各層は、その全部が最表面層であってもよく（全域にアクリル変成ポリオルガノシロキサン化合物が含有されていてもよく）、一部が最表面層であってもよい。また、下記に記す以外の層が設けられてもよい。
【０１１３】
〈導電性支持体３１〉
導電性支持体３１は、感光層３３などの各層を支持するための土台となる層で、体積抵抗が１０10Ω・ ｃｍ以下の導電性を示す層である。
導電性支持体３１は、例えば次のようなものを採用できる。
・アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、フィルム状又は円筒状のプラスチックや紙に蒸着法又はスパッタリング法などにより被覆させたもの。
・アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板。
・アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどを押し出し／引き抜き、切削／超仕上げ／研摩などの表面処理を施した管。
・エンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトなど（特開昭５２−３６０１６号公報などに記載）。
【０１１４】
また、任意の支持体上に、導電性粉体を適当な結着樹脂（導電性支持体３１用結着樹脂）に分散して塗工したものも、導電性支持体３１として用いることができる。つまり、導電性粉体と結着樹脂を、適当な溶剤又は分散媒に溶解又は分散して塗工液を作成し、この塗工液を上記支持体上に塗布することで作成できる。
導電性粉体は、例えば、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、導電性酸化スズ、ＩＴＯなどの金属酸化物粉体、カーボンブラック、アセチレンブラックなどがあげられる。
導電性粉体が分散される結着樹脂は、例えば、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げられる。
導電性粉体及び結着樹脂を溶解又は分散させる溶剤又は分散媒は、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどが上げられる。
【０１１５】
また、適当な円筒基体上に、上記導電性粉体が含有された、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）などの熱収縮チューブが被覆されたもの（導電性層が設けられたもの）も導電性支持体３１として良好に用いることができる。
【０１１６】
〈積層型の感光層３３〉
感光層３３は、図１に示すように単層型のものと図２に示すような積層型のものがある。まず、積層型の感光層３３について説明する。積層型の感光層３３は、電荷発生層３５と電荷輸送層３７とを有する。
【０１１７】
〈電荷発生層３５〉
電荷発生層３５は、電荷発生物質が主成分で、必要に応じて結着樹脂（電荷発生層３５形成用結着樹脂）も含有される。また、任意の添加剤も含有される。
【０１１８】
電荷発生物質は、無機系材料を用いてもよく、有機系材料を用いてもよい。
無機系材料は、例えば、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物、硫化カドミウム、硫化カドミウム−セレン、アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シリコンは、ダングリングボンドを水素原子やハロゲン原子でタ−ミネ−トしたものや、ホウ素原子、リン原子等をド−プしたものが良好に用いられる。
【０１１９】
有機系材料は、公知の材料を採用できる。例えば、ジスアゾ顔料、非対称ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、カルバゾ−ル骨格を有するアゾ顔料（特開昭５３−９５０３３号公報に記載）、ジスチリルベンゼン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５３−１３３４４５号公報）、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５３−１３２３４７号公報に記載）、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−２１７２８号公報に記載）、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−２２８３４号公報に記載）、オキサジアゾ−ル骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−１２７４２号公報に記載）、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−１７７３３号公報に記載）、ジスチリルオキサジアゾ−ル骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−２１２９号公報に記載）、ジスチリルカルバゾ−ル骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−１４９６７号公報に記載）等のアゾ系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系顔料、多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン系顔料、ナフトキノン系顔料、シアニン系顔料、アゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾ−ル系顔料、下記一般式（Ｎ）で表される金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料等が挙げられる。
これらの電荷発生物質は、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１２０】
【化５】
0003853687.tif 000005
【０１２１】
上記一般式（Ｎ）中、Ｍ（中心金属）は、金属及び無金属（水素）の元素を表す。Ｍ（中心金属）は、Ｈ、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂａ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｈｇ、ＴＩ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｈ、Ｐａ、Ｕ、Ｎｐ、Ａｍ等の単体（元素）や、これらの元素の酸化物、塩化物、フッ化物、水酸化物、臭化物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
なお、上記一般式（Ｎ）で表される化合物は、２量体、３量体など多量体構造をとっていてもよく、さらに高次の高分子構造をとっていてもよい。また、上記一般式（Ｎ）で表される基本骨格に様々な置換基があってもよい。
【０１２２】
なお、中心金属にＴｉＯを有するオキソチタニウムフタロシアニン、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン等は、良好な感光体特性（電荷発生性等）が得られるため好ましく用いられる。
また、フタロシアニンは、様々な結晶系を持つことが知られており、例えばオキソチタニウムフタロシアニンの場合、α、β、γ、ｍ、Ｙ型等、銅フタロシアニンの場合、α、β、γ等の結晶多系を有している。同じ中心金属を持つフタロシアニンも、結晶系が変わることにより種々の特性も変化する。これらの種々の結晶系を有するフタロシアニン系顔料を用いた感光体の特性もそれに伴って変化することが報告されている（電子写真学会誌  第２９巻  第４号( １９９０) ）。このように、フタロシアニンの結晶系の選択は、感光体特性上非常に重要である。中でも、Ｙ型オキソチタニウムフタロシアニンを含有する感光体は高感度化に対して有効であることが知られている。
【０１２３】
電荷発生層３５形成用結着樹脂は、例えば、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカ−ボネ−ト、シリコ−ン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラ−ル、ポリビニルホルマ−ル、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾ−ル、ポリアクリルアミドなどが挙げられる。これらの結着樹脂は、単独で用いてもよく、２種以上の混合物として用いてもよい。
【０１２４】
また、電荷発生層３５形成用結着樹脂として、後述の高分子電荷輸送物質（例えば、特開昭６４−１７２８号公報、特開昭６４−１３０６１号公報、特開昭６４−１９０４９号公報、特開平４−１１６２７号公報、特開平４−２２５０１４号公報、特開平４−２３０７６７号公報、特開平４−３２０４２０号公報、特開平５−２３２７２７号公報、特開平６−２３４８３８号公報、特開平６−２３４８３９号公報、特開平６−２９５０７７号公報、特開平７−５６３７４号公報、特開平７−３２５４０９号公報、特開平９−８０７７２号公報、特開平９−８０７８３号公報、特開平９−８０７８４号公報、特開平９−１２７７１３号公報、特開平９−２１１８７７号公報、特開平９−２２２７４０号公報、特開平９−２６５１９７号公報、特開平９−２６５２０１号公報、特開平９−２９７４１９号公報、特開平９−３０４９５６号公報などに記載された物質）を用いることもできる。
【０１２５】
電荷発生層３５形成用結着樹脂は、電荷発生物質１００重量部に対し、０重量部を超えて５００重量部以下の量、好ましくは０重量部を超えて２００重量部以下の量含有される。
また、必要に応じて、ジメチルシリコ−ンオイル、メチルフェニルシリコ−ンオイル等のレベリング剤や増感剤、分散剤等の各種添加剤を添加できる。
【０１２６】
電荷発生層３５の形成方法は、真空薄膜作製法を採用してもよく、溶液分散系からのキャスティング法を採用することもできる。
真空薄膜作成法は、真空蒸着法、グロ−放電分解法、イオンプレ−ティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等があり、無機系電荷発生物質、有機系電荷発生物質を採用する場合に良好に用いられる。
キャスティング法では例えば次のように電荷輸送層３７を形成する。まず、無機系電荷発生物質又は有機系電荷発生物質を、必要に応じて結着樹脂と共に、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アニソール、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の溶媒又は分散媒に、ボ−ルミル、アトライタ−、サンドミル、ビーズミル等により溶解又は分散して塗工液を得る。そして、この塗工液を適度に希釈して、被塗布層上に塗布することにより形成できる。塗布液の塗布は、浸漬塗工法、スプレ−コ−ト法、ビ−ドコ−ト法、リングコート法など従来公知の方法を採用できる。
電荷発生層３５の膜厚は、０．０１〜５μｍ、好ましくは０．０５〜２μｍである。
【０１２７】
〈電荷輸送層３７〉
電荷輸送層３７は、電荷輸送物質を主成分とし、適宜、結着樹脂（電荷輸送層３７形成用結着樹脂）や添加剤を添加できる。
電荷輸送物質は、正孔輸送物質や電子輸送物質などを採用できる。
【０１２８】
電子輸送物質は、例えば、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体などの電子受容性物質が挙げられる。これらの物質は、単独で用いてもよく、２種以上の混合物として用いてもよい。
【０１２９】
正孔輸送物質は、例えば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジェン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等の電子供与性物質が良好に用いられる。また、これら以外の公知の材料も採用できる。これらの物質は、単独で用いてもよく、２種以上の混合物として用いてもよい。
【０１３０】
電荷輸送層３７形成用結着樹脂は、例えば、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いてもよく、２種以上混合して用いてもよい。
【０１３１】
また、電荷輸送層３７は、電荷輸送層３７形成用結着樹脂としての機能と電荷輸送物質としての機能を持った高分子電荷輸送物質も良好に使用される。高分子電荷輸送物質が含有された電荷輸送層３７は、耐摩耗性に優れ、高画質な画像が得られる。なお、電荷輸送層３７形成用結着樹脂や上記低分子電荷輸送物質を混合して用いてもよい。
高分子電荷輸送物質は、公知の材料が使用できるが、特に、トリアリールアミン構造を主鎖および／または側鎖に含むポリカーボネートが良好に用いられる。特に、下記構造式（Ｉ）〜（Ｘ）式で表される高分子電荷輸送物質が良好に用いられる。
【０１３２】
【化６】
0003853687.tif 000006
【０１３３】
上記一般式（Ｉ）中、ＲA 、ＲB 、ＲC は、それぞれ同一でも異なっていてもよい置換若しくは無置換のアルキル基又はハロゲン原子を表す；ＲD は、水素原子又は置換若しくは無置換のアルキル基を表す；ＲE 、ＲF は、それぞれ同一でも異なっていてもよい、置換又は無置換のアリール基を表す；ｏ、ｐ、ｑは、０〜４の整数を表す；ｋ、ｊは組成（モル分率）を表し、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９のである；ｎは、繰り返し単位数を表し、５〜５０００の整数である；Ｘは、脂肪族の２価基、環状脂肪族の２価基又は上記一般式（４）で示される２価基を表す。
【０１３４】
上記一般式（４）中、Ｒ101 、Ｒ102 は、それぞれ同一でも異なっていてもよい置換若しくは無置換のアルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表す；ｌ、ｍは０〜４の整数を表す；Ｙは、単結合、炭素原子数１〜１２の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（Ｚは脂肪族の２価基を表す）又は上記一般式（５）で表される２価基を表す。
【０１３５】
上記一般式（５）中、ａは１〜２０の整数、ｂは１〜２０００の整数、Ｒ103 、Ｒ104 は置換若しくは無置換のアルキル基又はアリール基を表す。
【０１３６】
【化７】
0003853687.tif 000007
【０１３７】
上記一般式（II）中、ＲG 、ＲH は、同一でも異なっていてもよい置換又は無置換のアリール基、Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 は同一でも異なっていてもよいアリレン基を表す。Ｘ、ｋ、ｊ、ｎは、上記一般式（Ｉ）と同じである。
【０１３８】
【化８】
0003853687.tif 000008
【０１３９】
上記一般式（III ）中、Ｒ9 、Ｒ10は、同一でも異なっていてもよい置換又は無置換のアリール基、Ａｒ4 、Ａｒ5 、Ａｒ6 は同一でも異なっていてもよいアリレン基を表す。Ｘ、ｋ、ｊ、ｎは、上記一般式（Ｉ）と同じである。
【０１４０】
【化９】
0003853687.tif 000009
【０１４１】
上記一般式（IV）中、Ｒ11、Ｒ12は、同一でも異なっていてもよい置換又は無置換のアリール基、Ａｒ7 、Ａｒ8 、Ａｒ9 は、同一でも異なっていてもよいアリレン基を表し、ｐは１〜５の整数を表す。Ｘ、ｋ、ｊ、ｎは、上記一般式（Ｉ）と同じである。
【０１４２】
【化１０】
0003853687.tif 000010
【０１４３】
上記一般式（Ｖ）中、Ｒ13、Ｒ14は、同一でも異なっていてもよい置換又は無置換のアリール基、Ａｒ10、Ａｒ11、Ａｒ12は、同一でも異なっていてもよいアリレン基、Ｘ1 、Ｘ2 は、同一でも異なっていてもよい置換若しくは無置換のエチレン基又は置換若しくは無置換のビニレン基を表す。Ｘ、ｋ、ｊ、ｎは、一般式（Ｉ）と同じである。
【０１４４】
【化１１】
0003853687.tif 000011
【０１４５】
上記一般式（VI）中、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18は、同一でも異なっていてもよい置換又は無置換のアリール基、Ａｒ13、Ａｒ14、Ａｒ15、Ａｒ16は同一でも異なっていてもよいアリレン基、Ｙ1 、Ｙ2 、Ｙ3 は同一でも異なっていてもよい単結合、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子又はビニレン基を表す。Ｘ、ｋ、ｊ、ｎは、上記一般式（Ｉ）と同じである。
【０１４６】
【化１２】
0003853687.tif 000012
【０１４７】
上記一般式（VII ）中、Ｒ19、Ｒ20は、同一でも異なっていてもよい水素原子又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、互いに環を形成していてもよい。Ａｒ17、Ａｒ18、Ａｒ19は同一でも異なっていてもよいアリレン基を表す。Ｘ、ｋ、ｊ、ｎは、一般式（Ｉ）と同じである。
【０１４８】
【化１３】
0003853687.tif 000013
【０１４９】
上記一般式（VIII）中、Ｒ21は、置換又は無置換のアリール基、Ａｒ20、Ａｒ21、Ａｒ22、Ａｒ23は同一でも異なっていてもよいアリレン基を表す。Ｘ、ｋ、ｊ、ｎは、上記一般式（Ｉ）と同じである。
【０１５０】
【化１４】
0003853687.tif 000014
【０１５１】
上記一般式（IX）中、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25は同一でも異なっていてもよい置換又は無置換のアリール基、Ａｒ24、Ａｒ25、Ａｒ26、Ａｒ27、Ａｒ28は同一でも異なっていてもよいアリレン基を表す。Ｘ、ｋ、ｊ、ｎは、上記一般式（Ｉ）と同じである。
【０１５２】
【化１５】
0003853687.tif 000015
【０１５３】
上記一般式（Ｘ）中、Ｒ26、Ｒ27は同一でも異なっていてもよい置換又は無置換のアリール基、Ａｒ29、Ａｒ30、Ａｒ31は同一でも異なっていてもよいアリレン基を表す。Ｘ、ｋ、ｊ、ｎは、上記一般式（Ｉ）と同じである。
【０１５４】
以下、トリアリールアミン構造を主鎖及び／又は側鎖に含むポリカーボネートの好ましい具体例（形態）の幾つかを以下に示す。以下に示す化合物の一又は複数を用いれば、極めて優れた感光特性（高画質性等）が得られる。ただし、これらの化合物に限定されるものではない。
【０１５５】
【化１６】
0003853687.tif 000016
【０１５６】
【化１７】
0003853687.tif 000017
【０１５７】
【化１８】
0003853687.tif 000018
【０１５８】
【化１９】
0003853687.tif 000019
【０１５９】
【化２０】
0003853687.tif 000020
【０１６０】
【化２１】
0003853687.tif 000021
【０１６１】
【化２２】
0003853687.tif 000022
【０１６２】
【化２３】
0003853687.tif 000023
【０１６３】
【化２４】
0003853687.tif 000024
【０１６４】
【化２５】
0003853687.tif 000025
【０１６５】
高分子電荷輸送物質は、単重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、ブロック共重合体の形態で重合される。また、結着樹脂としての機能を実現するために被膜形成能が必要である。被膜形成能を有するには、分子量が、ＧＰＣによる測定において、ポリスチレン換算分子量Ｍｗで１万〜５０万、好ましくは５万〜４０万であればよい。
このような高分子電荷輸送物質は、例えば、特開平８−２６９１８３号公報、特開平９−７１６４２号公報、特開平９−１０４７４６号公報、特開平９−２７２７３５号公報、特開平１１−２９６３４号公報、特開平９−２３５３６７号公報、特開平９−８７３７６号公報、特開平９−１１０９７６号公報、特開平９−２６８２２６号公報、特開平９−２２１５４４号公報、特開平９−２２７６６９号公報、特開平９−１５７３７８号公報、特開平９−３０２０８４号公報、特開平９−３０２０８５号公報、特開２０００−２６５９０号公報などに開示された物質を好適に採用できる。
【０１６６】
電荷輸送層３７は、例えば、少なくとも電荷輸送物質及び結着樹脂を適当な溶剤又は分散媒に溶解又は分散された塗工液を、電荷発生層３５等の被塗工層上に塗布し、乾燥させて形成できる。
【０１６７】
電荷輸送物質は、電荷輸送層３７形成用結着樹脂１００重量部に対し、２０〜３００重量部、好ましくは４０〜１５０重量部含有させる。ただし、高分子電荷輸送物質を用いる場合は、電荷輸送物質を単独で用いてもよく、結着樹脂等と併用して用いてもよい。
【０１６８】
電荷輸送層３７の形成に用いることができる溶剤（溶媒）、分散媒は、電荷発生層３５の形成に用いることができるものが使用できるが、電荷輸送物質及び結着樹脂を良好に溶解又は分散するものを適宜選択して使用する。また、複数の溶剤又は分散媒を混合して使用してもよい。
【０１６９】
電荷輸送層３７は、必要に応じて、レベリング剤や可塑剤が添加されてもよい。
レベリング剤は、例えば、ジメチルシリコ−ンオイル、メチルフェニルシリコ−ンオイル等のシリコーンオイル類や側鎖にパ−フルオロアルキル基を有するポリマ−あるいはオリゴマ−が使用できる。レベリング剤は、結着樹脂１００重量部に対して０重量部を超え１重量部以下の範囲で添加することが好ましい。
可塑剤は、ジブチルフタレ−ト、ジオクチルフタレ−ト等の公知のものを使用でき、結着樹脂１００重量部に対して０重量部を超え３０重量部以下の範囲で添加することが好ましい。
【０１７０】
塗布方法は、浸漬塗工法、スプレ−コ−ト法、ビ−ドコ−ト法、リングコート法など公知の塗布方法を採用できる。
電荷輸送層３７の膜厚は、５〜５０μｍ程度が適当である。また、良好な解像度が得られ、地肌汚れが少ないといった良好な画像特性が得られ、帯電電位、感度等の電気特性が良好な、１０〜３０μｍが好ましい。
【０１７１】
〈単層型の感光層３３〉
単層型の感光層３３は、例えば、前記した電荷発生物質、電荷輸送物質、結着樹脂（感光層３３形成用結着樹脂）等を、適当な溶剤又は分散媒に溶解又は分散された塗工液を導電性支持体等の上に塗工、乾燥することで形成できる。
電荷発生物質及び電荷輸送物質は、積層型の感光層３３で挙げた材料を使用できる。感光層３３形成用結着樹脂は、電荷輸送層３７形成用結着樹脂を使用でき、さらに、電荷発生層３５形成用結着樹脂を適宜混合して使用してもよい。また、結着樹脂として、上記高分子電荷輸送物質を採用してもよい。
感光層３３形成用結着樹脂１００重量部に対する電荷発生物質の量は、好ましくは５〜４０重量部、さらに好ましくは１０〜３０重量部である。電荷輸送物質は、結着樹脂に対し、０重量部を超え１９０重量部以下の範囲で使用することが好ましく、さらに好ましくは５０〜１５０重量部の範囲で使用する。
【０１７２】
感光層３３は、次のように作成できる。（１）電荷発生物質、結着樹脂、電荷輸送物質を、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、トルエン、メチルエチルケトン、アセトン等の溶剤又は分散媒に溶解又は分散して塗工液を作成する。（２）この塗工液を、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法、リングコート法などを用いて導電性支持体３１などの被塗工層上に塗工することで形成できる。
また、必要により、可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤、滑剤等の各種添加剤を添加できる。
感光層３３の膜厚は５〜２５μｍ程度が適当である。
【０１７３】
〈保護層３９〉
保護層３９は、感光層３３や電荷輸送層３７などを保護するための層で、少なくとも結着樹脂（保護層３９形成用結着樹脂）が含有される。また、好ましくはフィラー材料が含有される。
保護層３９形成用結着樹脂は、電荷輸送層３７形成用結着樹脂を用いることができる。フィラー材料は、前記したものを一つ又は複数採用できる。
【０１７４】
保護層３９は、さらに電荷輸送物質を含有されてもよい。電荷輸送物質が含有された保護層３９は、残留電位を低くでき、感度劣化を抑制できるなどの利点を有する。
また、電荷輸送物質として前記した高分子電荷輸送物質を好ましく採用する。高分子電荷輸送物質が保護層３９に含有された感光体は、異常画像の発生確率が極めて低くできる。高分子電荷輸送物質は、オゾンやＮＯｘによる変質や分解が起こりにくく、また、電荷輸送物質と結着樹脂との混合系に比べて耐キズ性にも優れているからである。つまり、異常画像の発生確率を高める有機炭素系残査が生成せず又は生成しにくく、帯電生成物の除去を容易にするために感光体表面に細かなキズができにくいため、高画質性が得られる。
保護層に用いられる電荷輸送物質及び高分子電荷輸送物質は、電荷輸送層３７で使用できる物質と同一又は類似の物質から任意に選択された一又は複数を使用できる。
【０１７５】
保護層３９は、保護層３９形成用結着樹脂を、電荷輸送層３７と同様の方法で被塗工層上に塗工すれば保護層３９を形成できる。例えば、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等、公知の塗工方法を用いることができる。中でも、膜厚制御を行いやすく、アクリル変性ポリオルガノシロキサンやフィラーの分散性を良好に維持でき、得られた感光体（保護層３９）の塗膜品質を良好にできるスプレー塗工法を好ましく採用する。
また、一度の塗工により保護層３９を形成してもよいが、２回以上重ねて塗工して保護層３９を形成すれば、保護層３９中にフィラー材料をほぼ均一に分散できる。フィラー材料が均一に分散されると、残留電位を低く保て、解像度を高くでき、耐摩耗性を高くできる。また、塗膜品質を高くでき、塗膜欠陥の発生を抑制できる。
保護層３９の膜厚は、０．５μｍ〜１０μｍが好ましく、２μｍ〜６μｍがより好ましい。
【０１７６】
〈下引き層〉
下引き層は、導電性支持体３１と感光層３３との間に設けることができる。
下引き層は、一般に、樹脂を主成分とするが、感光層３３が塗布されるため、有機溶剤、特に感光層３３形成用の溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂は、例えば、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。
また、下引き層は、モアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物の微粉末顔料が添加されてもよい。
また、下引き層に、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を含有させてもよい。
【０１７７】
下引き層は、感光層３３と同様に形成できる。また、塗工用の溶媒（分散媒）も同様のものを採用すればよい。
また、Ａｌ2 Ｏ3 を陽極酸化法にて被塗工層上に設けられた層や、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物やＳｉＯ2 、ＳｎＯ2 、ＴｉＯ2 、ＩＴＯ、ＣｅＯ2 等の無機物を真空薄膜作成法にて被塗工層上に設けられた層を下引き層としてもよい。
これら以外にも公知の層形成法を採用できる。
下引き層の膜厚は０μｍを超え５μｍ以下の範囲とするとよい。
【０１７８】
〈中間層〉
下引き層と感光層３３との間や感光層３３と保護層３９との間などに中間層を設けてもよい。
中間層は、一般に、バインダー樹脂（結着樹脂）を主成分とする。採用できる樹脂は、例えば、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。
中間層の形成法は、前記したような公知の塗工法を用いることができる。
中間層の厚さは０．０５〜２μｍが適当である。
【０１７９】
〈各層に共通の事項〉
また、耐環境性の改善のため、特に、感度低下や残留電位の上昇を防止するため、感光体における１層又は複数の層に、酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、低分子電荷輸送物質、レベリング剤などを適宜添加することが好ましい。
【０１８０】
〈酸化防止剤〉
酸化防止剤は、例えば以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
（ａ）フェノール系化合物
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ−ル）、２，２' −メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４' −チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４' −ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３' ，５' −ジ−ｔ−ブチル−４' −ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３' −ビス（４' −ヒドロキシ−３' −ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアッシド］クリコールエステル、トコフェロール類など。
【０１８１】
（ｂ）パラフェニレンジアミン類
Ｎ−フェニル−Ｎ' −イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ' −ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ' −ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ' −ジメチル−Ｎ，Ｎ' −ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。
【０１８２】
（ｃ）ハイドロキノン類
２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノンなど。
【０１８３】
（ｄ）有機硫黄化合物類
ジラウリル−３，３' −チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３' −チオジプロピオネート、ジテトラデシル−３，３' −チオジプロピオネートなど。
【０１８４】
（ｅ）有機燐化合物類
トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィンなど。
【０１８５】
〈可塑剤〉
可塑剤は、例えば以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
（ａ）リン酸エステル系可塑剤
リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン酸オクチルジフェニル、リン酸トリクロルエチル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリブチル、リン酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸トリフェニルなど。
【０１８６】
（ｂ）フタル酸エステル系可塑剤
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソオクチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジノニル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジウンデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ブチルラウリル、フタル酸メチルオレイル、フタル酸オクチルデシル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジオクチルなど。
【０１８７】
（ｃ）芳香族カルボン酸エステル系可塑剤
トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸トリ−ｎ−オクチル、オキシ安息香酸オクチルなど。
【０１８８】
（ｄ）脂肪族二塩基酸エステル系可塑剤
アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジ−ｎ−ヘキシル、アジピン酸ジ−２−エチルヘキシル、アジピン酸ジ−ｎ−オクチル、アジピン酸−ｎ−オクチル−ｎ−デシル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジカプリル、アゼライン酸ジ−２−エチルヘキシル、セバシン酸ジメチル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−ｎ−オクチル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル、セバシン酸ジ−２−エトキシエチル、コハク酸ジオクチル、コハク酸ジイソデシル、テトラヒドロフタル酸ジオクチル、テトラヒドロフタル酸ジ−ｎ−オクチルなど。
【０１８９】
（ｅ）脂肪酸エステル誘導体
オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレイン酸エステル、アセチルリシノール酸メチル、ペンタエリスリトールエステル、ジペンタエリスリトールヘキサエステル、トリアセチン、トリブチリンなど。
【０１９０】
（ｆ）オキシ酸エステル系可塑剤
アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル、ブチルフタリルブチルグリコレート、アセチルクエン酸トリブチルなど。
【０１９１】
（ｇ）エポキシ可塑剤
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸デシル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ベンジル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジデシルなど。
【０１９２】
（ｈ）二価アルコールエステル系可塑剤
ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチラートなど。
【０１９３】
（ｉ）含塩素可塑剤
塩素化パラフィン、塩素化ジフェニル、塩素化脂肪酸メチル、メトキシ塩素化脂肪酸メチルなど。
【０１９４】
（ｊ）ポリエステル系可塑剤
ポリプロピレンアジペート、ポリプロピレンセバケート、ポリエステル、アセチル化ポリエステルなど。
【０１９５】
（ｋ）スルホン酸誘導体
ｐ−トルエンスルホンアミド、ｏ−トルエンスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンエチルアミド、ｏ−トルエンスルホンエチルアミド、トルエンスルホン−Ｎ−エチルアミド、ｐ−トルエンスルホン−Ｎ−シクロヘキシルアミドなど。
【０１９６】
（ｌ）クエン酸誘導体
クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリ−２−エチルヘキシル、アセチルクエン酸−ｎ−オクチルデシルなど。
【０１９７】
（ｍ）その他
ターフェニル、部分水添ターフェニル、ショウノウ、２−ニトロジフェニル、ジノニルナフタリン、アビエチン酸メチルなど。
【０１９８】
〈滑剤〉
滑剤は、例えば以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
（ａ）炭化水素系化合物
流動パラフィン、パラフィンワックス、マイクロワックス、低重合ポリエチレンなど。
【０１９９】
（ｂ）脂肪酸系化合物
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルチミン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸など。
【０２００】
（ｃ）脂肪酸アミド系化合物
ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレインアミド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステアロアミドなど。
【０２０１】
（ｄ）エステル系化合物
脂肪酸の低級アルコールエステル、脂肪酸の多価アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステルなど。
【０２０２】
（ｅ）アルコール系化合物
セチルアルコール、ステアリルアルコール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリグリセロールなど。
【０２０３】
（ｆ）金属石けん
ステアリン酸鉛、ステアリン酸カドミウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムなど。
【０２０４】
（ｇ）天然ワックス
カルナバロウ、カンデリラロウ、蜜ロウ、鯨ロウ、イボタロウ、モンタンロウなど。
【０２０５】
（ｈ）その他
シリコーン化合物、フッ素化合物など。
【０２０６】
〈紫外線吸収剤〉
紫外線吸収剤は、例えば以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
（ａ）ベンゾフェノン系
２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２' ，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，２' ，４，４' −テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２' −ジヒドロキシ４−メトキシベンゾフェノンなど。
【０２０７】
（ｂ）サルシレート系
フェニルサルシレート、２，４ジ−ｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔ−ブチル４ヒドロキシベンゾエートなど。
【０２０８】
（ｃ）ベンゾトリアゾール系
（２' −ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、（２' −ヒドロキシ５' −メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、（２' −ヒドロキシ５' −メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、（２' −ヒドロキシ３' −ターシャリブチル５' −メチルフェニル）５−クロロベンゾトリアゾール
【０２０９】
（ｄ）シアノアクリレート系
エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、メチル２−カルボメトキシ３（パラメトキシ）アクリレートなど。
【０２１０】
（ｅ）クエンチャー（金属錯塩系）
ニッケル（２，２' チオビス（４−ｔ−オクチル）フェノレート）ノルマルブチルアミン、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケルジブチルジチオカルバメート、コバルトジシクロヘキシルジチオホスフェートなど。
【０２１１】
（ｆ）ＨＡＬＳ（ヒンダードアミン）
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４，５〕ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなど。
【０２１２】
〈感光体以外の構成、電子写真方法〉
次に、図面を参照しながら電子写真装置の感光体以外の構成と、電子写真方法について詳細に説明する。
上記電子写真装置は、前記したような感光体（電子写真感光体）に、少なくとも帯電、露光、現像を行いトナー画像を形成し、画像保持体（転写紙）へのトナー画像の転写して定着させる。そして、感光体表面のクリーニングを行う。
ただし、このプロセスは、本発明に係る電子写真装置における画像形成プロセスの一例であって、場合によっては、上記プロセスにおいていくつかのステップは省略されてもよく、また別なステップが設けられてもよい。
【０２１３】
図６は、電子写真装置の一構成例を示した概略図である。
図６において、感光体１は前記した感光体が採用される。感光体１は、ドラム状の形状を示しているが、シート状、エンドレスベルト状などの形状であっても良い。
【０２１４】
帯電部材３は、主として帯電ローラーデバイスが用いられ、感光体１と帯電部材とが画像形成領域において非接触で近接配置される。このように、帯電部材を感光体１に近接配置させるには、感光体１の非画像形成領域においてギャップを設ければよい。例えば、ギャップ材を、帯電部材に設けたり、感光体１に設けたり、あるいは感光体の両端にセットされるフランジ部に設ければよい。ただし、感光体１と帯電部材とが近接配置されればどのような構成を採用してもよい。
【０２１５】
図７に、帯電部材にギャップ材を設けた一例を示す。この例では、ギャップ材は、絶縁性を有し、耐摩耗性の高い材料が好ましく用いられる。
ギャップ材は、テープ状、シール状、チューブ状等、どのような形態のものでもよい。
ギャップの厚さは、１０〜２００μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、さらに好ましくは４０〜８０μｍである。ギャップの厚さをこの範囲内にすると、帯電部材と感光体１とが接触することが極めて少ないため、画質の劣化は極めて少ない。また、帯電の安定性が低下せず、帯電ムラが発生することが極めて少なく、要求される帯電レベルを維持させるための印可電圧を増加させる必要がない。したがって、帯電生成物の発生量を低くできるため、異常画像の発生確率を極めて低くできる。
【０２１６】
また、帯電部材には、直流成分に交流成分を重畳して感光体１に帯電を付与させてもよい。交流成分を重畳することで、帯電ムラを低減できる。これにより、画像濃度ムラやコントラストの低下を防止できる。
【０２１７】
画像露光部５は、帯電された感光体１上に静電潜像を形成する。
光源は、例えば、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの発光物を適宜選択して用いればよい。また、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いてもよい。
【０２１８】
現像ユニット６は、感光体１上に形成された静電潜像を可視化する。
現像方式は、乾式トナーを用いた一成分現像法、二成分現像法、湿式トナーを用いた湿式現像法などがある。感光体に正帯電を施し、画像露光を行うと、感光体表面上には正の静電潜像が形成される。これを負極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。なお、正負を逆にしてもよい。
【０２１９】
転写チャージャ１０は、感光体１上で可視化されたトナー像を転写体上に転写する。なお、より良好な転写を行うために転写前チャージャ７を用いてもよい。転写方法は、転写チャージャやバイアスローラーを用いる静電転写方法、粘着転写法、圧力転写法等の機械転写方式、磁気転写方法を採用できる。静電転写方法は、帯電手段を用いて実行してもよい。
【０２２０】
分離チャージャ１１、分離爪１２は、転写体を感光体より分離する手段である。その他、分離手段として、静電吸着誘導分離手段、側端ベルト分離手段、先端グリップ搬送手段、曲率分離手段等が用いることもできる。また、分離チャージャは、帯電手段を用いてもよい。
【０２２１】
ファーブラシ１４、クリーニングブレード１５は、転写後感光体上に残されたトナーをクリーニングする。また、クリーニングをより効率的に行うためにクリーニング前チャージャ１３を用いてもよい。
その他、クリーニング方式として、ウェブ方式、マグネットブラシ方式等を採用してもよい。クリーニング方式は任意の一又は複数の方式を採用すればよい。
【０２２２】
除電手段は、感光体１上の潜像を取り除く。除電手段は、例えば、除電ランプ２、除電チャージャが用いられ、それぞれ前記露光光源、帯電手段を利用して実現してもよい。
【０２２３】
原稿読み取り手段、給紙手段、定着手段、排紙手段等は公知のものを採用できる。
また、図６に示す以外の構成／プロセスも当然に採用できる。例えば、図６の構成例では、感光体への光照射工程は、像露光、クリーニング前露光、除電露光することで実現しているが、転写前露光、像露光のプレ露光など公知の光照射工程により感光体に光照射してもよい。
【０２２４】
前記したような画像形成手段は、電子写真装置内に固定して組み込まれていてもよいが、その内の一又は複数は、電子写真装置に着脱可能なプロセスカートリッジに設けられ、プロセスカートリッジが電子写真装置に設置されることで電子写真装置内に組み込まれるようにしてもよい。
図８は、このような電子写真装置用プロセスカートリッジの１構成例を示す。プロセスカートリッジは、感光体（感光体ドラム１０１）を有し、そのほかに帯電手段１０２、現像手段、転写手段１０６、クリーニング手段（クリーニングブレード１０７など）、除電手段などの少なくとも一つが設けられた装置（部品）である。
【０２２５】
（実施例）
以下、実施例により本発明を説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されて解釈されるものではない。また、以下「部」は重量部を意味する。
【０２２６】
（実施例１）
φ３０ｍｍのアルミニウムドラム（導電性支持体３１）上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を、浸漬塗工法によって順次塗布／乾燥し、約３．５μｍの膜厚の下引き層、約０．２μｍの膜厚の電荷発生層３５、約２５μｍの膜厚の電荷輸送層３７を形成し、感光体を作製した。
【０２２７】
〔下引き層用塗工液〕
・アルキッド樹脂                                                ６部
（ベッコゾール  １３０７−６０−ＥＬ，大日本インキ化学工業製）
・メラミン樹脂                                                  ４部
（スーパーベッカミン  Ｇ−８２１−６０，大日本インキ化学工業製）
・酸化チタン                                                  ４０部
・メチルエチルケトン                                          ５０部
【０２２８】
〔電荷発生層用塗工液〕
・下記一般式（６）で表されるビスアゾ顔料                    ２．５部
・ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ，ＵＣＣ製）                ０．５部
・シクロヘキサノン                                          ２００部
・メチルエチルケトン                                          ８０部
【０２２９】
〔電荷輸送層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業（株）製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン                                        １００部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ，信越化学工業製）
【０２３０】
【化２６】
0003853687.tif 000026
【０２３１】
（実施例２）
実施例１において、電荷輸送層用塗工液を下記の電荷輸送層塗工液に変更した以外は、実施例１と同様にして感光体を作製した。
〔電荷輸送層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン                                        １００部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ，信越化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                      ０．１部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・下記一般式（８）で表される酸化防止剤（住友化学工業製）    ０．２部
【０２３２】
【化２７】
0003853687.tif 000027
【０２３３】
（実施例３）
実施例１において、電荷輸送層用塗工液を下記の電荷輸送層塗工液に変更し、リング塗工法によって電荷輸送層３７を形成した以外は、実施例１と同様にして感光体を作製した。
〔電荷輸送層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記構造式（７）の低分子電荷輸送物質                          ７部
・テトラヒドロフラン                                        １００部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ，信越化学工業製）
・αアルミナ                                                    １部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・下記一般式（８）で表される酸化防止剤（住友化学工業製）    ０．２部
【０２３４】
【化２８】
0003853687.tif 000028
【０２３５】
（実施例４）
実施例１において、電荷輸送層用塗工液を下記の電荷輸送層塗工液に変更し、リング塗工法によって電荷輸送層を形成した以外は、すべて実施例１と同様にして感光体を作製した。
〔電荷輸送層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            １部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン                                        １００部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ，信越化学工業製）
・αアルミナ                                                    ３部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．０４部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・下記一般式（９）で表される酸化防止剤（住友化学工業製）  ０．１５部
【０２３６】
【化２９】
0003853687.tif 000029
【０２３７】
（実施例５）
実施例１において、電荷輸送層用塗工液を下記の電荷輸送層塗工液に変更した以外は、実施例１と同様にして感光体を作製した。
〔電荷輸送層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記構造式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン：１００部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ，信越化学工業製）
・αアルミナ                                                    ３部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．０６部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・下記構造式（１０）で表される酸化防止剤                  ０．１５部
（サノールＬＳ−２６２６、三共製）
【０２３８】
【化３０】
0003853687.tif 000030
【０２３９】
（実施例６）
実施例１において、電荷輸送層用塗工液を下記の電荷輸送層塗工液に変更し、リング塗工法によって電荷輸送層を形成した以外は、実施例１と同様にして感光体を作製した。
〔電荷輸送層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―２１０、日信化学工業製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン                                        １００部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ，信越化学工業製）
・シリカ                                                        ２部
（ＫＭＰＸ−１００、平均一次粒径約０．１μｍ、ｐＨ２〜３、
信越シリコーン製）
【０２４０】
【化３１】
0003853687.tif 000031
【０２４１】
（実施例７）
実施例１において、電荷輸送層用塗工液を下記の電荷輸送層塗工液に変更した以外は、実施例１と同様にして感光体を作製した。
〔電荷輸送層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―１７０、日信化学工業製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン                                        １００部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業製）
・チタネートカップリング処理した酸化チタン                      ３部
（ＣＲ−ＥＬ、平均一次粒径約０．３μｍ、ｐＨ６〜７、石原産業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．０５部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・下記一般式（１１）で表される酸化防止剤（住友化学工業製）  ０．１部
【０２４２】
【化３２】
0003853687.tif 000032
【０２４３】
（実施例８）
実施例１において、電荷輸送層用塗工液を下記の電荷輸送層塗工液に変更し、リング塗工法によって電荷輸送層を形成した以外は、実施例１と同様にして感光体を作製した。
〔電荷輸送層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン                                        １１０部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ，信越化学工業製）
・αアルミナ                                                    ４部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                      ０．２部
（アクリル酸／ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体）
・下記一般式（１１）で表される酸化防止剤（住友化学工業製）  ０．１部
【０２４４】
【化３３】
0003853687.tif 000033
【０２４５】
（実施例９）
φ３０ｍｍのアルミニウムドラム（導電性支持体３１）上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液をリング塗工法によって順次塗布／乾燥させ、約３．５μｍの膜厚の下引き層、約０．２μｍの膜厚の電荷発生層３５、約２５μｍの膜厚の電荷輸送層３７を形成し、感光体を作製した。
【０２４６】
〔下引き層用塗工液〕
・アルキッド樹脂                                                ６部
（ベッコゾール  １３０７−６０−ＥＬ，大日本インキ化学工業製）
・メラミン樹脂                                                  ４部
（スーパーベッカミン  Ｇ−８２１−６０，大日本インキ化学工業製）
・酸化チタン                                                  ４０部
・メチルエチルケトン                                          ５０部
【０２４７】
〔電荷発生層用塗工液〕
・図９に示すＸＤスペクトルを有するチタニルフタロシアニン        ８部
・ポリビニルブチラール                                      ０．５部
（エスレックＢＭ−Ｓ，積水化学工業製）
・メチルエチルケトン                                        ４００部
【０２４８】
〔電荷輸送層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業（株）製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（１２）で表される低分子電荷輸送物質                ７部
・テトラヒドロフラン                                        １００部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ，信越化学工業製）
・球形シリコーン微粒子                                          ４部
（平均一次粒径約０．５μｍ、「トスパール１０５」東芝シリコーン製）
【０２４９】
【化３４】
0003853687.tif 000034
【０２５０】
（実施例１０）
φ３０ｍｍのアルミニウムドラム（導電性支持体３１）上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を浸漬塗工法によって順次塗布／乾燥することで、約３．５μｍの膜厚の下引き層、約０．２μｍの膜厚の電荷発生層３５、約２０μｍの膜厚の電荷輸送層３７を形成した。電荷輸送層３７上に、下記組成の保護層塗工液をリング塗工法によって塗布／乾燥し、約５μｍの膜厚の保護層３９を形成し、感光体１０を作製した。
【０２５１】
〔下引き層用塗工液〕
・アルキッド樹脂                                                ６部
（ベッコゾール  １３０７−６０−ＥＬ，大日本インキ化学工業製）
・メラミン樹脂                                                  ４部
（スーパーベッカミン  Ｇ−８２１−６０，大日本インキ化学工業製）
・酸化チタン                                                  ４０部
・メチルエチルケトン                                          ５０部
【０２５２】
〔電荷発生層用塗工液〕
・下記一般式（６）で表されるビスアゾ顔料                    ２．５部
・ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ，ＵＣＣ製）                ０．５部
・シクロヘキサノン                                          ２００部
・メチルエチルケトン                                          ８０部
【０２５３】
〔電荷輸送層用塗工液〕
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン                                        １００部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ，信越化学工業製）
・下記一般式（８）で表される酸化防止剤（住友化学工業製）  ０．１５部
【０２５４】
〔保護層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業（株）製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン                                        ２３０部
【０２５５】
【化３５】
0003853687.tif 000035
【０２５６】
（実施例１１）
実施例１０において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更した以外は、実施例１０と同様に感光体を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ３部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業（株）製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン：２６０部
・ポリカルボン酸化合物                                      ０．１部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
【０２５７】
【化３６】
0003853687.tif 000036
【０２５８】
（実施例１２）
実施例１０において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更した以外は、実施例１０と同様に感光体１２を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ４部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業（株）製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン                                        ２７０部
・下記一般式（１０）で表される酸化防止剤                    ０．２部
（サノールＬＳ−２６２６、三共製）
【０２５９】
【化３７】
0003853687.tif 000037
【０２６０】
（実施例１３）
実施例１０において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更し、スプレー塗工によって保護層３９を形成した以外は、実施例１０と同様に感光体を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業（株）製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・αアルミナ                                                    ３部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．０８部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・テトラヒドロフラン                                        ４００部
・シクロヘキサノン                                          １２０部
【０２６１】
【化３８】
0003853687.tif 000038
【０２６２】
（実施例１４）
実施例１０において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更した以外は、実施例１０と同様に感光体を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業（株）製）
・下記一般式（１３）で表される高分子電荷輸送物質              １８部
・テトラヒドロフラン                                        ２６０部
【０２６３】
【化３９】
0003853687.tif 000039
【０２６４】
（実施例１５）
実施例１０において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更し、スプレー塗工によって保護層３９を形成した以外は、実施例１０と同様に感光体を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業製）
・下記一般式（１３）で表される高分子電荷輸送物質              １８部
・αアルミナ                                                    ５部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．１０部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・テトラヒドロフラン                                        ４００部
・シクロヘキサノン                                          １２０部
【０２６５】
【化４０】
0003853687.tif 000040
【０２６６】
（実施例１６）
実施例１０において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更した以外は、実施例１０と同様に感光体を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業（株）製）
・下記一般式（１４）で表される高分子電荷輸送物質              １８部
・αアルミナ                                                    ６部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．１５部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・テトラヒドロフラン                                        ２３０部
・シクロヘキサノン                                            ７０部
・下記一般式（１０）で表されるの酸化防止剤                  ０．２部
（サノールＬＳ−２６２６、三共製）
【０２６７】
【化４１】
0003853687.tif 000041
【０２６８】
（実施例１７）
φ３０ｍｍのアルミニウムドラム（導電性支持体３１）上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を浸漬塗工法によって順次塗布／乾燥させ、約３．５μｍの膜厚の下引き層、約０．２μｍの膜厚の電荷発生層３５、約２０μｍの膜厚の電荷輸送層３７を形成した。電荷輸送層３７上に、下記組成の保護層塗工液をリング塗工法によって塗布／乾燥し、約５μｍの膜厚の保護層３９を形成し、感光体を作製した。
【０２６９】
〔下引き層用塗工液〕
・アルキッド樹脂                                                ６部
（ベッコゾール  １３０７−６０−ＥＬ，大日本インキ化学工業製）
・メラミン樹脂                                                  ４部
（スーパーベッカミン  Ｇ−８２１−６０，大日本インキ化学工業製）
・酸化チタン                                                  ４０部
・メチルエチルケトン                                          ５０部
【０２７０】
〔電荷発生層用塗工液〕
・図９に示すＸＤスペクトルを有するオキソチタニウムフタロシアニン
８部
・ポリビニルブチラール                                      ０．５部
（エスレックＢＭ−Ｓ，積水化学工業製）
・メチルエチルケトン                                        ４００部
【０２７１】
〔電荷輸送層用塗工液〕
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ８部
・テトラヒドロフラン                                        １００部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ，信越化学工業製）
【０２７２】
〔保護層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ２部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業（株）製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ８部
・αアルミナ                                                    ３部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．０８部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・テトラヒドロフラン                                        ４００部
・シクロヘキサノン                                          １２０部
【０２７３】
【化４２】
0003853687.tif 000042
【０２７４】
（実施例１８）
実施例１７において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更し、スプレー塗工法によって保護層３９を形成した以外は、実施例１７と同様に感光体を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ３部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業（株）製）
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（１２）で表される低分子電荷輸送物質                ８部
・αアルミナ                                                    ５部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．１０部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・テトラヒドロフラン                                        ４００部
・シクロヘキサノン                                          １２０部
【０２７５】
【化４３】
0003853687.tif 000043
【０２７６】
（実施例１９）
実施例１７において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更し、スプレー塗工法によって保護層３９を形成した以外は、実施例１７と同様に感光体を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・アクリル変性ポリオルガノシロキサン                            ３部
（シャリーヌＲ―１７０Ｓ、日信化学工業（株）製）
・下記一般式（１３）で表される高分子電荷輸送物質              １８部
・αアルミナ                                                    ５部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．１０部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・テトラヒドロフラン                                        ４００部
・シクロヘキサノン                                          １２０部
・下記一般式（１０）で表される酸化防止剤                  ０．１５部
（サノールＬＳ−２６２６、三共製）
【０２７７】
【化４４】
0003853687.tif 000044
【０２７８】
（比較例１）
実施例１において、電荷輸送層用塗工液を下記の電荷輸送層塗工液に変更した以外は、実施例１と同様に感光体を作製した。
〔電荷輸送層用塗工液〕
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン                                        １００部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ，信越化学工業製）
【０２７９】
【化４５】
0003853687.tif 000045
【０２８０】
（比較例２）
比較例１において、電荷輸送層用塗工液を下記の電荷輸送層塗工液に変更した以外は、比較例１と同様に感光体を作製した。
〔電荷輸送層用塗工液〕
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン                                        １００部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ，信越化学工業製）
・αアルミナ                                                    ２部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．０５部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・下記一般式（１１）で表される酸化防止剤（住友化学工業製）  ０．１部
【０２８１】
【化４６】
0003853687.tif 000046
【０２８２】
（比較例３）
比較例１において、電荷輸送層用塗工液を下記の電荷輸送層塗工液に変更した以外は、比較例１と同様に感光体を作製した。
〔電荷輸送層用塗工液〕
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン                                        １００部
・１％シリコーンオイルテトラヒドロフラン溶液                    １部
（シリコーンオイル：ＫＦ５０−１００ＣＳ，信越化学工業製）
・酸化チタン                                                ３．５部
（ＣＲ−ＥＬ、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ６〜７、石原産業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．１０部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・下記一般式（１０）で表される酸化防止剤                  ０．１５部
（サノールＬＳ−２６２６、三共製）
【０２８３】
【化４７】
0003853687.tif 000047
【０２８４】
（比較例４）
実施例１０において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更した以外は、実施例１０と同様に感光体を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・テトラヒドロフラン                                        １６０部
【０２８５】
【化４８】
0003853687.tif 000048
【０２８６】
（比較例５）
比較例４において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更し、スプレー塗工法によって保護層３９を形成した以外は、比較例４と同様に感光体を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・αアルミナ                                                    ３部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．０６部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・テトラヒドロフラン                                        ３５０部
・シクロヘキサノン                                          １００部
・下記一般式（１０）で表される酸化防止剤                  ０．１５部
（サノールＬＳ−２６２６、三共製）
【０２８７】
【化４９】
0003853687.tif 000049
【０２８８】
（比較例６）
比較例４において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更し、スプレー塗工法によって保護層３９を形成した以外は、比較例４と同様に感光体を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・αアルミナ                                                    ５部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．１０部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・テトラヒドロフラン                                        ３５０部
・シクロヘキサノン                                          １００部
・下記一般式（１０）で表される酸化防止剤                  ０．１５部
（サノールＬＳ−２６２６、三共製）
【０２８９】
【化５０】
0003853687.tif 000050
【０２９０】
（比較例７）
比較例４において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更した以外は、比較例４と同様に感光体を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・下記一般式（１３）で表される高分子電荷輸送物質              １８部
・αアルミナ                                                    ３部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．０５部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・テトラヒドロフラン                                        ３５０部
・シクロヘキサノン                                          １００部
・下記一般式（１０）で表される酸化防止剤                  ０．１５部
（サノールＬＳ−２６２６、三共製）
【０２９１】
【化５１】
0003853687.tif 000051
【０２９２】
（比較例８）
比較例４において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更した以外は、比較例４と同様に感光体を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・下記一般式（１３）で表される高分子電荷輸送物質              １８部
・αアルミナ                                                    ５部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．１０部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・テトラヒドロフラン                                        ３５０部
・シクロヘキサノン                                          １００部
・下記一般式（１０）で表される酸化防止剤                  ０．１５部
（サノールＬＳ−２６２６、三共製）
【０２９３】
【化５２】
0003853687.tif 000052
【０２９４】
（比較例９）
比較例４において、保護層用塗工液を下記の保護層用塗工液に変更し、スプレー塗工法によって保護層３９を形成した以外は、比較例４と同様に感光体を作製した。
〔保護層用塗工液〕
・ビスフェノールＺポリカーボネート                            １０部
（パンライトＴＳ−２０５０，帝人化成製）
・下記一般式（７）で表される低分子電荷輸送物質                  ７部
・αアルミナ                                                    ３部
（スミコランダムＡＡ−０３、平均一次粒径：０．３μｍ、ｐＨ８〜９、
住友化学工業製）
・ポリカルボン酸化合物                                    ０．１０部
（ＢＹＫ−Ｐ１０４、固形分約５０％、ＢＹＫケミー製）
・球形シリコーン微粒子                                          ２部
（平均一次粒径約０．５μｍ、「トスパール１０５」東芝シリコーン製）
・テトラヒドロフラン                                        ３５０部
・シクロヘキサノン                                          １００部
・下記一般式（１０）で表される酸化防止剤                  ０．１５部
（サノールＬＳ−２６２６、三共製）
【０２９５】
【化５３】
0003853687.tif 000053
【０２９６】
以上のようにして作製した感光体を、電子写真プロセス用カートリッジ（クリーニング前露光手段がないもの）に装着した。このプロセスカートリッジを、帯電手段が帯電ローラーで、画像露光光源が６５５ｎｍの半導体レーザーを採用した株式会社リコー製、商品名ｉｍａｇｉｏＭＦ２２００の改造機にセットした。また、帯電ローラーの両端部（非画像形成領域）は、５０μｍ厚のテフロン（登録商標）テープを巻き付け固定し、感光体に対し帯電部材を近接配置させた。
【０２９７】
そして、以下のような評価を行った。
（１）２５℃５０％ＲＨ環境下で、初期状態（一回の画像形成後）における画像評価。
（２）３０℃９０％ＲＨ環境下で、初期状態における画像評価。
（３）２５℃５０％ＲＨ環境下で、６万枚の印刷を行った後における画像評価と、感光体の摩耗量の測定。
なお、画像形成は、帯電ローラーにＡＣ（１ｋＨｚ，１．８ｋＶ（peak to peak））＋ＤＣ（−７５０Ｖ）を印加して行った。摩耗量は、初期状態との差を測定した。
（４）３０℃９０％ＲＨ環境下で、（３）と同様に６万枚の印刷を行った後の画像評価と、感光体の摩耗量の測定。
画像評価は、以下の基準で目視により行った。
◎：画質低下が認められず良好なレベル
○：画質低下が認められるが問題のないレベル
△：明らかに画質低下が確認できるレベル
×：画質低下が顕著で画像判別が困難なレベル
結果を表１に示す。
【０２９８】
【表１】
0003853687.tif 000054
【０２９９】
表１から明らかなように、従来の感光体において、オゾンやＮＯｘの発生量が比較的少ない帯電ローラーを用いても、初期状態では良好な画像が得られたが、高温高湿環境下において繰り返し使用した場合には画質劣化が確認された。
また、フィラーを含まない感光体は、摩耗による膜厚変動量が大きく、地汚れの発生が確認された。
フィラーを含有された感光体は、画像ボケが発生した。フィラーの含有量が多いほど異常画像が発生しやすくなることが確認された。
【０３００】
一方、アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物を最表面層に含有された感光体は、フィラーを含まない場合には、従来に比べて摩耗量が低減されたことが確認された。また、６万枚の印刷後においても地汚れの発生が認められなかった。
フィラーを含有された感光体は、良好な画像を初期状態でも６万枚の印刷後でも形成できることが分かった。また、フィラーの添加量を増加させても良好な画像が得られることが分かった。
【０３０１】
以上、この発明の好適な実施の形態を説明したが、上述の実施の形態はこの発明の説明のための例示であって、この実施形態のみにこの発明の範囲を限定する趣旨ではない。当業者は、この発明の要旨を逸脱することなく、種々の変形、改良、修正、簡略化などを上記実施形態に加えた種々の他の形態でもこの発明を実施することができる。
【０３０２】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、感光体の最表面層にアクリル変性ポリオルガノシロキサンが含有され、かつ、帯電部材が感光体に対して近接配置されているため、オゾンやＮＯｘガスの発生量が極めて少なく、感光体の表面エネルギーや摩擦係数が極めて低く、これらの特徴が長期に渡って安定に維持できるようになった。これにより、例えば、異常画像の発生確率を極めて低くできるようになる。つまり、オゾンなどの発生を抑えることと帯電生成物が感光体へ付着防止を両立し、かつ、この効果を持続させることができるようになった。
【０３０３】
また、最表面層にフィラーを含有させて耐摩耗性が高められた感光体でも異常画像の発生確率を長期に渡って極めて低くできるようになった。これは、表面エネルギーの低減効果の持続性を著しく高めることができるようになったことと、帯電部材を感光体に対して非接触としたために得られた効果である。つまり、従来のように、帯電生成物が感光体に付着することで、特に高温高湿下で異常画像の発生確率が極めて高くなっていた問題を解決した。すなわち、電子写真装置の高耐久化及び高画質化が実現された。
また、最表面層にフィラーが含有されていなくても、感光体の耐摩耗性を高くできるようになった。
【０３０４】
また、感光体のクリーニング性や転写効率の向上でき、フィルミングや異物付着による異常画像が発生してしまうことを抑制でき、放電破壊を抑制でき、耐摩耗性を向上でき、偏摩耗を抑制できるなど、高耐久性と高画質性を備えた電子写真装置を提供できるようになった。また、このような効果が繰り返し使用後においても持続できるようになった。
【０３０５】
また、フィラーに塩基性の金属酸化物を用いたり、フィラーに表面処理を施したり、感光体の最表面層に高分子電荷輸送物質を含有させたり、酸化防止剤等を添加することで、異常画像の発生確率をより低くする（異常画像／画像ボケの影響に対しさらなる余裕度を付与する）ことができるようになった。
【０３０６】
また、最表面層にカルボン酸化合物を含有すれば、感光体の静電特性の安定性を高めることが可能となり、極めて良好な高耐久性及び高画質性が実現できた。
【０３０７】
以上のように、本発明による電子写真装置は、ドラムヒーター等の除湿装置を必要とせずに異常画像の発生を抑制可能となったため、小型化や消費電力を低減することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による電子写真用感光体の層構成例を示す断面図である。
【図２】本発明による電子写真用感光体の他の層構成例を示す断面図である。
【図３】本発明による電子写真用感光体の他の層構成例を示す断面図である。
【図４】本発明による電子写真用感光体の他の層構成例を示す断面図である。
【図５】本発明による電子写真用感光体の他の層構成例を示す断面図である。
【図６】本発明による電子写真プロセスカートリッジと電子写真装置を説明するための概略図である。
【図７】本発明による帯電手段と電子写真感光体の位置関係を説明するための図である。
【図８】本発明による電子写真プロセスカートリッジの一構成例を説明するための概略図である。
【図９】オキシチタニウムフタロシアニンのＸＤスペクトルを示す。
【符号の説明】
１  感光体
２  除電ランプ
３  帯電ローラ
５  画像露光部
６  現像ユニット
７  転写前チャージャ
８  レジストローラ
９  転写紙
１０  転写チャージャ
１１  分離チャージャ
１２  分離爪
１３  クリーニング前チャージャ
１４  ファーブラシ
１５  クリーニングブラシ
３１  導電性支持体
３３  感光層
３５  電荷発生層
３７  電荷輸送層
３９  保護層
１０１  感光ドラム
１０２  帯電装置
１０３  露光手段
１０４  現像装置
１０５  転写体
１０６  転写装置
１０７  クリーニングブレード
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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