(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（１０）と、この基板の表裏両面を貫通するスルーホール（５０）とを備える回路基板において、
前記スルーホールの基板表面側の開口縁部から前記スルーホールの内部を通って前記スルーホールの基板裏面側の開口縁部に渡って、互いに回路上の機能の異なる第１、第２の厚膜素子（６０〜６３、７０〜７２、９０、９１）が設けられており、
前記第１、第２の厚膜素子の間には、前記第１、第２の厚膜素子の間を電気的に絶縁する絶縁層（８０）が設けられており、
前記基板の表裏両面において、前記スルーホールの開口縁部側から順に電極（５１）、導体パターン（５２）が形成されており、
前記第１の厚膜素子は、前記基板の表裏両面に形成された前記電極にそれぞれ接して形成されることにより前記電極に電気的に接続されており、前記第２の厚膜素子は、前記基板の表裏両面に形成された前記導体パターンにそれぞれ接して形成されることにより前記導体パターンに電気的に接続されていることを特徴とするスルーホールを有する回路基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スルーホールを有する回路基板に関し、特にスルーホール構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
回路基板に実装される半導体の高機能化が進む中、回路基板に形成される抵抗体および配線の数も増加している。また、回路基板の小型化、低価格化の要求も強い。
【０００３】
これに対応するための手法として、配線部を多層化する方法がある。このような方法としては、例えば、図１６に断面構成として示すように、アルミナなどを主構成物とする絶縁基板１上に配線層２と絶縁層３とを交互に重ね、絶縁層３に形成されたビアホール４を介して配線層２間を電気的に導通させた多層基板を、回路基板として採用したものがある。
【０００４】
また、図１７に断面構成として示すように、絶縁基板１にその表裏両面を貫通するスルーホール５を形成し、このスルーホール５に厚膜素子としての導体層６を形成し、表裏両面に形成された厚膜パターンとしての配線層２の間の電気的導通を得るようにした両面基板も、回路基板として採用されている。
【０００５】
一方、抵抗体に関しては、前述する配線層の多層化に伴って必要となるビアホールやスルーホールに抵抗体を充填・形成する手法が提案されている。例えば、図１８に断面構成として示すように、絶縁基板１に形成したスルーホール５に厚膜素子としての抵抗体層７を充填・形成し、この抵抗体層７を表裏両面の配線層２に電気的に接続させている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、絶縁基板１に多くのスルーホール５を形成すると、基板１の強度が低下し、外部からの熱や応力によって基板が割れやすくなるなどの問題が生じる。このことから、上記図１７に示すような両面基板においては、抵抗体機能を有するスルーホール５と配線機能を有するスルーホール５とを数多く形成しようとしても、形成できるスルーホール５の数には制限がある。
【０００７】
そのため、このような両面基板ではスルーホールが不足し、結果、両面基板の一方の面に、上記図１６に示したような配線層２と絶縁層３の多層化構造を採用することが必要となる。ただし、このような配線層２と絶縁層３との多層構造を採用する場合、工数が層数に依存して増加するため基板コストが高くなる。
【０００８】
本発明は、基板の表裏両面を貫通するスルーホールを備える両面基板型の回路基板において、限られた数のスルーホールのなかでより多くの抵抗体や配線等を形成するために、一つのスルーホールに複数の回路上の機能を持たせることができるようにすることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明では、基板（１０）と、この基板の表裏両面を貫通するスルーホール（５０）とを備える回路基板において、スルーホールの基板表面側の開口縁部からスルーホールの内部を通ってスルーホールの基板裏面側の開口縁部に渡って、互いに回路上の機能の異なる第１、第２の厚膜素子（６０〜６３、７０〜７２、９０、９１）が設けられており、第１、第２の厚膜素子の間には、第１、第２の厚膜素子の間を電気的に絶縁する絶縁層（８０）が設けられており、基板の表裏両面において、スルーホールの開口縁部側から順に電極（５１）、導体パターン（５２）が形成されており、第１の厚膜素子は、基板の表裏両面に形成された電極にそれぞれ接して形成されることにより電極に電気的に接続されており、第２の厚膜素子は、基板の表裏両面に形成された導体パターンにそれぞれ接して形成されることにより導体パターンに電気的に接続されていることを特徴とする。
【００１０】
それによれば、スルーホールの内部に、互いに回路上の機能の異なる複数の厚膜素子を設けているため、一つのスルーホールに複数の回路上の機能を持たせることができる。そのため、回路基板において、多層構造を採ることなく限られた数のスルーホールのなかでより多くの抵抗体や配線等を形成することができる。
【００１４】
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一例である。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図に示す実施形態について説明する。なお、以下の各実施形態相互において互いに同一部分には、図中、同一符号を付してある。
【００１６】
（第１実施形態）
図１は本発明の第１実施形態に係る両面基板型の回路基板Ｓ１の概略断面図である。この回路基板Ｓ１は、アルミナ等のセラミック等からなる絶縁基板（本発明でいう基板）１０を有し、この絶縁基板１０にはＩＣチップ２０、コンデンサ３０、抵抗体４０等が表面実装されるとともに、基板１０の表裏両面を貫通するスルーホール５０が形成されている。
【００１７】
絶縁基板１０の表面（図１中の上面）および裏面（図１中の下面）には、Ａｇ、Ｃｕ、ＮｉまたはＡｕ等の厚膜導体等からなる基板電極１１が形成されており、この基板電極１１に上記表面実装部品が電気的に接続されている。
【００１８】
例えば、ＩＣチップ２０は、ＡｕやＡｌ等のワイヤ２１を介して基板電極１１に接続され、コンデンサ３０は、はんだや導電性接着剤等の接着材３１を介して基板電極１１に接続されており、抵抗体４０は酸化ルテニウム（ＲｕＯ2）等からなる厚膜素子として基板電極１１に接して形成されている。
【００１９】
このように、回路基板Ｓ１は表面実装部品として抵抗体４０を有するが、スルーホール５０の部分においても抵抗体機能を有し、さらには配線機能も有するといった回路上の異なる複数の機能を有するものとしている。図２は、図１中の丸で囲んだＡ部すなわちスルーホール５０部分の拡大断面図であり、図３は図２を上方から視た時の概略平面図である。
【００２０】
スルーホール５０は、絶縁基板１０の表面から裏面へ貫通して設けられている。当該表裏両面において、スルーホール５０の開口縁部の周辺部には、当該開口縁部側から順に電極５１、導体パターン５２が形成されている。これら電極５１および導体パターン５２は、Ａｇ、Ｃｕ、ＮｉまたはＡｕ等の厚膜導体からなる。
【００２１】
本例では、電極５１は、後述する抵抗体層６０の電極すなわち抵抗体電極であるが、後述する実施形態にあるように、電極５１が導体層や誘電体層と接続される場合は、それらの電極として機能する、また、導体パターン５２は、絶縁基板１０の表裏面上にて所望の回路パターンに形成されたものであり、これら、電極５１と導体パターン５２とは、図示しない部位にて電気的に接続されている。
【００２２】
このスルーホール５０の内部には、互いに回路上の機能の異なる複数の厚膜素子としての抵抗体層６０、導体層７０が設けられている。抵抗体層６０はその名の通り抵抗機能を有する厚膜素子であり、導体層７０は配線機能を有する厚膜素子である。ここで、厚膜素子とはペースト材料を塗布・硬化することで形成される素子である。
【００２３】
図２に示すように、これら抵抗体層６０および導体層７０はそれぞれ、スルーホール５０の基板表面側の開口縁部からスルーホール５０の内部を通ってスルーホール５０の基板裏面側の開口縁部に渡って設けられている。また、抵抗体層６０と導体層７０との間には、これら両層６０、７０の間を電気的に絶縁する絶縁層８０が設けられている。
【００２４】
ここで、図３では、絶縁基板１０の表面において、スルーホール５０、電極５１、導体パターン５２（以上、実線にて図示）、抵抗体層６０（破線にて図示）、導体層７０（一点鎖線にて図示）の概略形状を示しており、絶縁層８０は省略してある。
【００２５】
抵抗体層６０はスルーホール５０の内壁に接して形成され、スルーホール５０の開口縁部周辺において、上記電極（抵抗体電極）５１に接して形成されることにより、電極５１に電気的に接続されている。この抵抗体層６０は、酸化ルテニウム等の厚膜からなる。
【００２６】
絶縁層８０は、抵抗体層６０および電極５１を被覆するように形成されている。この絶縁層８０は、ホウケイ酸ガラス等の絶縁厚膜材料や酸化膜等からなるものにできる。本例ではホウケイ酸ガラス厚膜からなる。
【００２７】
導体層７０は、抵抗体層６０との間に絶縁層８０を介してスルーホール５０内の中央部に配置されており、スルーホール５０の開口縁部にて導体パターン５２に接して形成され電気的に接続されている。
【００２８】
それによって、導体層７０は、絶縁基板１０の表面の導体パターン５２と裏面の導体パターン５２とを電気的に接続する配線として機能する。この導体層７０は、上記電極５１や導体パターン５２と同様に、Ａｇ、Ｃｕ、ＮｉまたはＡｕ等の厚膜導体からなるものにできる。
【００２９】
このように本実施形態では、スルーホール５０の内部に、互いに回路上の機能の異なる複数の厚膜素子６０、７０を設けたものとしている。具体的には、スルーホール５０の内部に抵抗体層６０と導体層７０とを設け、互いに電気的に絶縁の必要な両厚膜素子６０、７０の間に絶縁層８０を設けることで、電気的な絶縁を確保している。
【００３０】
そのため、本実施形態によれば、一つのスルーホール５０に複数の回路上の機能、本例では抵抗体機能と配線機能とを持たせることができる。そのため、回路基板Ｓ１において、多層構造を採ることなく限られた数のスルーホール５０のなかでより多くの抵抗体や配線等を形成することができる。
【００３１】
次に、上記図２、図３に示すスルーホール５０部分の構造を製造するための製造方法の一例について図４を参照して述べる。図４は（ａ）〜（ｇ）は製造工程順に示す概略断面図であり、（ａ）および（ｂ）は基板全体サイズで示したものであり、（ｃ）以降は上記図２に対応したスルーホール５０部分の拡大図となっている。
【００３２】
まず、図４（ａ）に示すように、アルミナを主成分とした原料をドクターブレード法などによりシート状に成形し、グリーンシート１００を作る。次に、図４（ｂ）に示すように、このグリーンシート１００に金型を用いてプレス加工等を行うことにより、スルーホール５０を形成し、これを１６００℃前後の高温雰囲気下にて焼成することで、スルーホール５０を有する絶縁基板１０が得られる。
【００３３】
次に、図４（ｃ）に示すように、絶縁基板１０の一方の面に印刷手法を用いて導体ペーストを印刷し、基板電極１１（図４中、図示せず）や電極５１、導体パターン５２となる厚膜パターン２００を形成する。他方の面にも同様にして厚膜パターン２００を形成する。
【００３４】
ここで、用いる導体ペーストとは、例えばＡｇやＣｕなどの金属微粉末を主成分としたもので、これにガラスフリットや溶剤を加えて混練した一般的な厚膜ペースト材料などである。この厚膜ペースト材料は、所望のパターンに加工された印刷マスクを用いた印刷法にて絶縁基板１０の表裏両面上に印刷され、絶縁基板１０上に印刷体としての厚膜パターン２００を形成する。
【００３５】
次に、印刷体に含まれる溶剤を１００℃前後の温度下に放置することで揮発させる乾燥処理を行い、その後、約８００〜９００℃の温度雰囲気下にて焼成することで、導体パターン２００は、硬化した焼結体として絶縁基板１０上に固着され、基板電極１１（図４中、図示せず）や電極５１、導体パターン５２を形成する。
【００３６】
次に、図４（ｄ）に示すように、絶縁基板１０のスルーホール５０の位置する部分に、抵抗体ペーストを印刷し、これに上記厚膜パターン２００と同様の乾燥・焼成処理を行うことにより、スルーホール５０内壁に抵抗体層６０を形成する。この抵抗体ペーストは、酸化ルテニウムなどの導電性酸化物にガラスフリットや溶剤を加えて混練したペースト等からなる。
【００３７】
この抵抗体層６０を形成する手法は、従来のスルーホールに導体層を形成する手法と同じもので、絶縁基板１０の一方の面より真空引きをしながらスルーホール５０に抵抗体ペーストを印刷すると、その吸引力とペーストの自重によってペーストがスルーホール５０の内壁に付着する。そして、これを乾燥・焼成することによって抵抗体層６０が形成される。
【００３８】
次に、図４（ｅ）に示すように、抵抗体層６０の形成されたスルーホール５０に絶縁性を有するペースト材料（例えばホウケイ酸ガラスのペースト材料）を印刷、充填した後、上記厚膜パターン２００と同様の乾燥・焼成処理を行うことにより、絶縁層８０を形成する。
【００３９】
次に、図４（ｆ）に示すように、この絶縁層８０に対して、炭酸ガスレーザ等を用いたレーザ法等により貫通口８１を形成する。レーザ法としては、例えば抵抗体層６０の抵抗値調整に用いるレーザトリミング装置や、焼成された絶縁基板１０にスルーホール加工を行うレーザ装置を用いることができる。
【００４０】
次に、図４（ｇ）に示すように、この貫通口８１に、上記抵抗体層６０と同じ要領にて導体ペーストを印刷、焼成する等により、導体層７０を形成する。こうして、上記図２に示すスルーホール５０部分の構造ができあがる。なお、この後、ＩＣチップ２０やコンデンサ３０、抵抗体４０等の表面実装を行うことで、上記図１に示す回路基板Ｓ１ができあがる。
【００４１】
ここで、上記製造方法において、絶縁層８０に貫通口８１をレーザ法にて形成すると、上記図４（ｆ）に示すように、貫通口８１の端部８１ａの形状は加工時の熱によって鋭角ではなく、なだらかになる。これにより、貫通口８１の端部８１ａにおいて形成される導体層７０の厚さが薄くなるのを防止でき、抵抗値の増加や断線を防止することができる。
【００４２】
また、上記製造方法において、スルーホール５０に、少なくとも抵抗体層６０、絶縁層８０および導体層７０を形成するため、従来に比べて工数が増加するように思えるが、前述のように、従来の両面基板の一面を多層化した場合と工数的には同等にて形成可能である。
【００４３】
また、例えば上記図２において、スルーホール５０の内壁側から中央寄りにかけて、抵抗体層６０、絶縁層８０、導体層７０の順に形成されているが、導体層、絶縁層、抵抗体層の順でも良い。さらには、第１の導体層、絶縁層、第２の導体層の順としたり、第１の抵抗体層、絶縁層、第２の抵抗体層の順としても良い。
【００４４】
スルーホール５０内に設けられる複数の厚膜素子が、導体層同士であっても、例えば一方が第１の配線、他方が第２の配線というように回路上の機能が異なっていればよい。また、このことは、スルーホール５０内に設けられる複数の厚膜素子が抵抗体層同士の場合も同様である。
【００４５】
ただし、複数の厚膜素子のうち、厚膜素子として用いるペースト材料の流動性が比較的小さいものをスルーホール５０の内壁側に配設し、該ペースト材料の流動性が比較的大きいものをスルーホール５０の中央部寄りに配設することが好ましい。これは、流動性の大きいペースト材料の方が、塗布（印刷）した場合にスルーホール５０の開口部端部の角部にて膜厚が薄くなりやすいためである。
【００４６】
このことについては、上記図２に示す例では、金属成分が多く比較的流動性の大きい導体ペーストを用いて形成された導体層７０を、スルーホール５０の中央部寄りに位置させ、ガラス成分が多く比較的流動性の小さい抵抗体ペーストを用いて形成された抵抗体層６０を、スルーホール５０の内壁寄りに位置させることで実現している。
【００４７】
また、スルーホール５０の内部に設ける複数の厚膜素子のうち焼成後（硬化後）の熱膨張係数が絶縁基板１０と近い方の厚膜素子を、スルーホール５０の内壁側に位置させることが好ましい。これは、スルーホール５０の内壁すなわち絶縁基板１０と接する厚膜素子に対して加わる熱ストレスを、極力小さくできるためである。このことは、同じく上記図２の例にて実現されている。
【００４８】
また、上記製造方法において、導体パターン５２は、導体層６０と同時に形成するようにしても良い。以下、他の実施形態について、第１実施形態と相違するところを中心に述べる。
【００４９】
（第２実施形態）
図５は本発明の第２実施形態に係るスルーホール５０部分の概略断面構成を示す図である。上記第１実施形態では回路上の機能の異なる厚膜素子が２層６０、７０であったが、３層以上でも良い。
【００５０】
図５では、スルーホール５０の内壁側の抵抗体層（第１の抵抗体層）６０とスルーホール５０の中央寄りの導体層７０との間に、厚膜素子としての第２の抵抗体層６１を設けたものである。この第２の抵抗体層６１は上記第１の抵抗体層６０と同様の材質からなるものにできる。そして、各厚膜素子６０、６１、７０の間は、介在する絶縁層８０にて互いに電気的に絶縁されている。
【００５１】
本実施形態の場合、２個の抵抗体層６０、６１と１個の配線層７０との３つの回路上の機能が異なる厚膜素子が、一つのスルーホール５０内に設けられた構成となっている。
【００５２】
そして、本実施形態によっても、一つのスルーホール５０に複数の回路上の機能持たせることができるため、回路基板において、多層構造を採ることなく限られた数のスルーホール５０のなかでより多くの抵抗体や配線等を形成することができる。
【００５３】
なお、本実施形態の変形例として、三つもしくはそれ以上の厚膜素子の各々の機能は、抵抗体機能、配線機能およびそれ以外の機能から任意に選択された機能を採ることが可能である。
【００５４】
（第３実施形態）
図６は本発明の第３実施形態に係るスルーホール５０部分の概略断面構成を示す図であり、図７は図６を上方から視た時の概略平面図である。
【００５５】
なお、図７では、絶縁基板１０の表面において、スルーホール５０、電極５１、導体パターン５２（以上、実線にて図示）、抵抗体層６０（細い破線にて図示）、導体層７０（一点鎖線にて図示）、導体層７１（太い破線にて図示）の概略形状を示しており、絶縁層８０は省略してある。
【００５６】
本実施形態は、上記図２、図３に示すスルーホール構造に比べて、スルーホール５０の中央寄りの厚膜素子すなわち導体層（第１の導体層）７０はそのまま変更無しであるが、スルーホール５０の内壁側の厚膜素子６０、７１を変更したものである。
【００５７】
すなわち、スルーホール５０の内壁側の厚膜素子として、スルーホール５０の穴軸を中心にして一方に抵抗体層６０、他方に第２の導体層７１を設ける。第２の導体層７１は上記第１の導体層７０と同様の材質からなるものにできる。図７に示すように、抵抗体層６０と第２の導体層７１とは分離され、互いに電気的に絶縁されている。
【００５８】
本実施形態の場合、例えば、中央寄りの第１の導体層７０が第１の配線層、内壁寄りの第２の導体層７１が第２の配線層として構成することができる。そのため、２個の配線層７０、７１と１個の抵抗体層６０との回路上の機能が異なる３個の厚膜素子が、一つのスルーホール５０内に設けられた構成を採用することができる。
【００５９】
そして、本実施形態によっても、一つのスルーホール５０に複数の回路上の機能持たせることができるため、回路基板において、多層構造を採ることなく限られた数のスルーホール５０のなかでより多くの抵抗体や配線等を形成することができる。
【００６０】
（第４実施形態）
上記第３実施形態では、上記第１実施形態に対して、抵抗体層６０と第２の導体層７１とを分割することで、スルーホール５０内の回路上の機能を絶縁基板１０の板面方向においても分割した。それに対して、本第４実施形態では、上記第１実施形態に対して、スルーホール５０内の回路上の機能を、絶縁基板１０の厚み方向で分割したものである。
【００６１】
図８は本発明の第４実施形態に係るスルーホール５０部分の概略断面構成を示す図である。図８に示すように、絶縁基板１０の表面から延びる抵抗体層６０を、スルーホール５０の内部にとどめ、絶縁基板１０の裏面の電極５１をスルーホール５０内に延長し、スルーホール５０内にて延長された電極５１と抵抗体層６０とを電気的に接続している。
【００６２】
つまり、本実施形態では、このスルーホール５０内に延長された電極５１が、厚膜素子としての導体層として構成される。そのため、絶縁基板１０の厚み方向にて抵抗体機能と配線機能とは、スルーホール５０内で分離された形となっている。
【００６３】
そして、本実施形態によっても、一つのスルーホール５０に複数の回路上の機能持たせることができるため、回路基板において、多層構造を採ることなく限られた数のスルーホール５０のなかでより多くの抵抗体や配線等を形成することができる。
【００６４】
また、本実施形態は、抵抗体ペーストの粘性や製造工程などの制約によって、絶縁基板１０の表面から形成した抵抗体層６０が、スルーホール５０を通って裏面まで十分に供給されない場合などに有効である。
【００６５】
（第５実施形態）
図９は本発明の第５実施形態に係るスルーホール５０部分の概略断面構成を示す図である。本実施形態も、上記第４実施形態と同様、上記第１実施形態に対して、スルーホール５０内の回路上の機能を、絶縁基板１０の厚み方向で分割したものである。
【００６６】
本実施形態では、上記第４実施形態におけるスルーホール５０内に延長された電極５１（図８参照）の代わりに、誘電体層９０を形成したものである。すなわち、図９に示すように、絶縁基板１０の裏面の電極５１に接する誘電体層９０をスルーホール５０内にまで延長し、スルーホール５０内にて誘電体層９０と抵抗体層６０とを電気的に接続している。
【００６７】
こうして、絶縁基板１０の厚み方向にて抵抗体機能とコンデンサ機能とが、スルーホール５０内で分離された形となっている。そして、このような本実施形態の構造は、抵抗とコンデンサとが直結している回路構成において有効である。
【００６８】
ここで、誘電体層９０は、チタンやバリウムの酸化物などの誘電体ペーストを用いて、導体ペーストや抵抗体ペーストと同様に印刷・焼成を行うことにより形成することができる。
【００６９】
そして、本実施形態によっても、一つのスルーホール５０に複数の回路上の機能持たせることができるため、回路基板において、多層構造を採ることなく限られた数のスルーホール５０のなかでより多くの抵抗体や配線、コンデンサ等を形成することができる。
【００７０】
（第６実施形態）
図１０は本発明の第６実施形態に係るスルーホール５０部分の概略断面構成を示す図である。本実施形態では、上記第１実施形態に対して、スルーホール５０内の回路上の機能を、絶縁基板１０の板面方向および絶縁基板１０の厚み方向において分割したものである。
【００７１】
つまり、図１０に示すように、スルーホール５０の内壁側且つ絶縁基板１０の表面側に位置する厚膜素子を、抵抗体層６０と誘電体層９０とに分離し、スルーホール５０の内壁側且つ絶縁基板１０の裏面側に位置する厚膜素子を、抵抗体層６０と誘電体層９０とに分離している。
【００７２】
そして、スルーホール５０の内部にて、絶縁基板１０の表面から延びる抵抗体層６０と裏面から延びる誘電体層９０とを電気的に接続するとともに、絶縁基板１０の表面から延びる誘電体層９０と裏面から延びる抵抗体層６０とを電気的に接続する。
【００７３】
つまり、図１０では、上記図９における右側半分の抵抗体層６０と誘電体層９０の位置を上下逆としている。本実施形態も、抵抗とコンデンサとが直結している回路構成において有効である。
【００７４】
そして、本実施形態によっても、一つのスルーホール５０に複数の回路上の機能持たせることができるため、回路基板において、多層構造を採ることなく限られた数のスルーホール５０のなかでより多くの抵抗体や配線、コンデンサ等を形成することができる。
【００７５】
（第７実施形態）
図１１は本発明の第７実施形態に係るスルーホール５０部分の概略断面構成を示す図である。本実施形態も上記第５実施形態と同様に、絶縁基板１０の厚み方向にて抵抗体機能とコンデンサ機能とをスルーホール５０内で分離した構成であるが、本実施形態はその変形例である。
【００７６】
本実施形態では、上記図２に示したスルーホール構造におけるスルーホール５０の中央部寄りの導体層６０を、図１１に示すように、上半分（表面側）を抵抗体層６２、下半分（裏面側）を誘電体層９１として置き換えたものである。これら抵抗体層６２、誘電体層９１はそれぞれ、上記した抵抗体層、誘電体層と同様の材質からなるものにできる。
【００７７】
こうして、本実施形態も上記第５実施形態と同様に、絶縁基板１０の厚み方向にて抵抗体機能とコンデンサ機能とが、スルーホール５０内で分離された形となっている。このような本実施形態の構造も、抵抗とコンデンサとが直結している回路構成において有効である。
【００７８】
そして、本実施形態によっても、一つのスルーホール５０に複数の回路上の機能持たせることができるため、回路基板において、多層構造を採ることなく限られた数のスルーホール５０のなかでより多くの抵抗体や配線、コンデンサ等を形成することができる。
【００７９】
（第８実施形態）
図１２は本発明の第８実施形態に係るスルーホール５０部分の概略断面構成を示す図である。本実施形態は、上記図２、図３に示すスルーホール構造に対して、抵抗体層６０を、絶縁基板１０の厚み方向にて異なるシート抵抗を有する二つの抵抗体層６０、６３に分離したものである。
【００８０】
図１２に示すように、絶縁基板１０の表面側に第１の抵抗体層６０が設けられ、裏面側に第１の抵抗体層６０とはシート抵抗の異なる第２の抵抗体層６３が設けられ、これら両抵抗体層６０と６３とは、スルーホール５０内にて電気的に接続されている。
【００８１】
また、本実施形態では、図１２に示すように、絶縁基板１０の全てのスルーホール５０にて、第１の抵抗体層６０が絶縁基板１０の表面側に位置し、第２の抵抗体層６３が裏面側に位置している。
【００８２】
シート抵抗の異なる抵抗体層６０、６３は、別々に印刷・焼成を行って形成する必要がある。その場合、本実施形態のようにすれば、まず、絶縁基板１０の表面側にて一括して第１の抵抗体層６０を形成し、次に、絶縁基板１０の裏面側にて一括して第２の抵抗体層６３を形成できるため、工程の簡略化が図れる。
【００８３】
（第９実施形態）
本第９実施形態は、スルーホール部に棒状の電極端子などを挿入する場合に適用されるものである。図１３は本発明の第９実施形態に係るスルーホール５０部分の概略断面構成を示す図である。
【００８４】
まず、図１３（ａ）に示す本実施形態の第１の例では、最表面の厚膜素子である導体層７０に、レーザ加工等により貫通口を形成し、その貫通口に電極端子３００を挿入し、はんだ４００にて電極端子３００と絶縁基板１０とを電気的・機械的に接続したものである。
【００８５】
また、この第１の例では、スルーホール５０の内部に誘電体層９０が形成され、表裏両面の電極５１の間にコンデンサが形成されている。そのため、電極端子３００の近傍すなわちスルーホール５０内に配線機能とともにコンデンサ機能を配置することができ、電極端子３００とコンデンサとの間の配線に対してノイズなどの影響を防止することができる。
【００８６】
また、図１３（ｂ）に示す本実施形態の第２の例では、スルーホール５０の片側半分に、複数の厚膜素子すなわち抵抗体層６０および導体層７０と、これら複数の厚膜素子６０、７０間に介在する絶縁層８０とを設けており、この部分においてスルーホール５０は抵抗体機能と配線機能とを有する。
【００８７】
一方、スルーホール５０の他側半分に、電極端子３００の接続用の電極５３を形成しており、スルーホール５０に挿入された電極端子３００は、上記電極端子接続用の電極５３にはんだ４００を介して電気的に接続されている。なお、この第２の例においても、抵抗体層６０を誘電体層に置き換えることで、上記した本実施形態の第１の例と同様の効果が得られる。
【００８８】
（第１０実施形態）
本第１０実施形態は、スルーホール５０に、リード端子をはんだ付けしたり、ワイヤボンディングしたりする場合に適用するものである。図１４は本発明の第１０実施形態に係るスルーホール５０部分の概略断面構成を示す図である。
【００８９】
図１４（ａ）に示す本実施形態の第１の例は、リード端子５００のはんだ付けランドとしての機能を持たせた例であり、最表面の厚膜素子としての導体層７０とリード端子５００とがはんだ４００を介して電気的・機械的に接合されている。
【００９０】
図１４（ｂ）に示す第２の例は、ワイヤボンディングのランドとしての機能を持たせた例であり、最表面の厚膜素子としての導体層７０とボンディングワイヤ６００とが電気的・機械的に接合されている。
【００９１】
このようなランド機能をスルーホール５０部分に持たせることにより、回路基板に別途ランド部を形成する必要が無くなるため、基板面積の有効活用につながるという利点がある。また、図１４においても、抵抗体層６０を誘電体層に置き換えれば、上記第９実施形態にて述べたのと同様、ノイズ防止が図れる。
【００９２】
（第１１実施形態）
図１５は本発明の第１１実施形態に係るスルーホール５０部分の概略断面構成を示す図である。図１５に示すように、スルーホール５０の内部には、導体層７０、７１、７２と誘電体層９０、９１とが交互に積層され、配線機能とコンデンサ機能とを有するものとなっている。
【００９３】
このように、絶縁基板１０の板面方向にスルーホール５０の機能を二つに分け、絶縁層の代わりに誘電体層９０、９１を設けることで比較的容量の高いコンデンサ機能を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係るスルーホールを有する回路基板の概略断面図である。
【図２】図１中のＡ部拡大図である。
【図３】図２の上視図である。
【図４】図２に示すスルーホール構造の製造工程を示す工程図である。
【図５】本発明の第２実施形態に係るスルーホール構造の概略断面図である。
【図６】本発明の第３実施形態に係るスルーホール構造の概略断面図である。
【図７】図６の上視図である。
【図８】本発明の第４実施形態に係るスルーホール構造の概略断面図である。
【図９】本発明の第５実施形態に係るスルーホール構造の概略断面図である。
【図１０】本発明の第６実施形態に係るスルーホール構造の概略断面図である。
【図１１】本発明の第７実施形態に係るスルーホール構造の概略断面図である。
【図１２】本発明の第８実施形態に係るスルーホール構造の概略断面図である。
【図１３】本発明の第９実施形態に係るスルーホール構造の概略断面図である。
【図１４】本発明の第１０実施形態に係るスルーホール構造の概略断面図である。
【図１５】本発明の第１１実施形態に係るスルーホール構造の概略断面図である。
【図１６】従来のスルーホールを有する回路基板としての多層基板の概略断面図である。
【図１７】従来のスルーホールを有する回路基板としての両面基板の概略断面図である。
【図１８】従来の抵抗体機能を有するスルーホールの概略断面図である。
【符号の説明】
１０…絶縁基板、５０…スルーホール、６０〜６３…抵抗体層、
７０〜７２…導体層、８０…絶縁層、９０、９１…誘電体層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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