(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
微細パターンを形成する前のガラス基板に対して微細パターンを形成しない側の表面に酸性溶液による洗浄を行って、ガラス基板の微細パターンを形成しない側の表面を微細パターンを形成する側の表面よりも粗面にする処理を施すことを特徴とするガラス基板の処理方法。
【請求項２】
前記酸性溶液は、バッファードフッ酸であることを特徴とする請求項１記載のガラス基板の処理方法。
【請求項３】
請求項１もしくは請求項２記載の処理方法が施されたガラス基板を備えることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、ガラス基板の処理方法及びそのガラス基板を用いた表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ガラス基板上にフォトリソプロセスを用いて微細パターンを形成した表示装置は、薄膜トランジスタ型の液晶表示装置に代表されるように、表示装置の大型化とコストダウンに対処するためにベースとなるガラス基板（マザーガラス）の大型化が進んでいる。このような大型のガラス基板を取り扱う際に問題となるのが、パターン焼き付け時のガラス基板の張り付きである。
【０００３】
フォトリソプロセスにおいては、露光装置のステージにガラス基板を固定し、光源からの光でフォトマスクのパターンをレジストに転写するのであるが、硬質ガラス基板をステージに吸着、剥離する作業を繰り返すことにより、ステージ表面が平坦化される。その結果、ある程度の枚数を処理すると、ガラス基板がステージに張り付いてしまう現象が生じる。この張り付き現象は、ガラス基板が大きくなるにしたがって発生しやすくなる。ステ−ジとガラス基板の張り付きを防ぐためには、定期的にステージの表面を粗面化加工する必要が有る。しかしながら、ステージの平坦度を保ってその表面を粗面化するためには、高度の加工技術が必要であり、コスト的にも大きな負担となる。また、ステージを粗面化するために製造ラインを停止することは、製造効率の低下にもつながる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明は、大型のガラス基板とステージの張り付き現象の発生を抑制してガラス基板の取り扱いを容易にすることを課題の１つとする。そしてまた、フォトリソプロセスの作業性を良好として製造効率を高めることを課題の１つとする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明のガラス基板の処理方法は、請求項１に記載のように、微細パターンを形成する前のガラス基板に対して微細パターンを形成しない側の表面に酸性溶液による洗浄を行って、ガラス基板の微細パターンを形成しない側の表面を微細パターンを形成する側の表面よりも粗面にする処理を施すことを特徴とする。
【０００６】
本発明のガラス基板の処理方法は、請求項２に記載のように、請求項１記載の処理方法において、前記酸性溶液は、バッファードフッ酸であることを特徴とする。
【０００７】
本発明の表示装置は、請求項３に記載のように、ガラス基板として、請求項１もしくは請求項２記載の処理方法が施されたガラス基板を備えることを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施形態について図面を参照して説明する。初めに、マザーガラスとなる大型（例えば３７０ｍｍ×４７０ｍｍ以上の大きさ）で、厚さが１ｍｍ前後のガラス基板１を用意する。このガラス基板は、被膜並びに微細パターンが形成される前の無アルカリガラスあるいは低アルカリガラスが用いられる。次に、このガラス基板の受け入れ洗浄工程を実行する。受け入れ洗浄は通常、超音波洗浄やブラシ洗浄によって行われるが、これに加えて酸性溶液による洗浄を行なう。酸性溶液としては、塩酸や硫酸などの強酸、フッ酸、バッファードフッ酸を用いることができる。強酸を用いると、ガラス中の金属成分が溶け出し、ガラスの骨格を成すシリカがポーラスな状態で残る。フッ酸を用いると、シリカも侵食されるので、ガラス成分全体が侵食される。バッファードフッ酸を用いると、フッ酸と同様にシリカも侵食されるが、バッファードフッ酸と溶出成分との反応性成分が析出してガラス表面に微細な突起が生じる。この突起は、強酸やフッ酸を用いる場合にガラス表面に形成される突起に比べて格段に大きなものとなる。ガラス表面は、前記突起の存在によって粗面化され、突起の周囲に空気層を含んだ凹凸な状態とされる。
【０００９】
したがって、ガラス表面を粗面化するためには、バッファードフッ酸を用いて洗浄することにより、微細な突起２を複数形成するのが好ましい。バッファードフッ酸による洗浄は、この液を溜めた槽にガラス基板を浸す方式を用いることもできるが、一方の面のみを洗浄するためにスプレー洗浄方式を採用した。すなわち、被膜形成に用いないガラス基板の裏面１ｂにノズルから噴出させたバッファードフッ酸を霧状に当てることによってガラス基板１の洗浄を行なった。洗浄に用いたバッファードフッ酸は、５％程度の濃度のもので、これを数十秒程度噴霧することによりガラス基板の一方の面１ｂを粗面化した。
【００１０】
このように、受け入れ洗浄工程時に酸、特にバッファードフッ酸による洗浄工程を追加することで、被膜形成前のガラス基板１の表面を粗面化することができた。そして、洗浄と粗面化処理が施されたガラス基板１は、その後工程において、表示装置を構成するに必要な各種の被膜形成と、その微細加工のためのフォトリソプロセスが複数回施される。この微細加工による微細パターン形成は、前記洗浄工程において粗面化された面１ｂとは反対側の面１ａに行われる。
【００１１】
この粗面化された面１ｂの存在によって、受け入れ洗浄工程以降のフォトリソプロセスにおけるステージ３とガラス基板１の張り付きが防止される。すなわち、ステージ３に真空吸着された大型のガラス基板１を真空吸着状態を解除して取り外す際、前記粗面化された面１ｂの存在によって、ガラス基板１とステージ３の間に空気の通路が確保され、真空状態の解除を早めることができる。この張り付き防止は、ガラス基板をステージから取り外す際の静電気発生量を低減するようにも作用する。静電気の発生量が減少することにより、ガラス基板表面に形成した微細配線などが静電気によって破壊される可能性を少なくすることもできる。粗面化による上記効果は、ガラス基板が大型化するに従い大きくなり、短辺の長さが３００ｍｍを超える大型のガラス基板、特に短辺の長さが５００ｍｍを超える大型のガラス基板に本発明は効果があることが分かった。そして、ガラス基板１の一方の面に上記のようにして粗面化処理を施すことにより、従来は１ヶ月程度に１回の割合で行なう必要があったステージ３表面の粗面化処理を、１年に一度程度の割合に低下させることができた。
【００１２】
前記ガラス基板１は表示装置の作成に用いることができる。例えば一方の面に所望の微細パターンが形成されたガラス基板同士をシール材を介在して貼り合わせ、基板間に液晶を注入することにより、液晶表示装置が製造される。ガラス基板の粗面化された面の凸凹は、粗面化されたことが観察者には見分けのつかない程度の小さなものであるとともに、偏光板等の光学フィルムを接着剤によって貼付する際に、前記接着剤によって埋められるので、表示装置の光学特性には殆ど影響を与えない。
【００１３】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、ガラス基板の初期洗浄工程に酸洗浄工程、特にバッファードフッ酸による洗浄工程を追加するのみで、フォトリソプロセスにおけるガラス基板とステージの張り付きを抑制することができる。その結果、ガラス基板の破損率の減少、加工装置のスループット向上、静電破壊によるダメージ減少を図ることができ、生産性向上に寄与するところは非常に大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例を説明するための、ガラス基板の要部断面図で、（ａ）は洗浄前、（ｂ）は洗浄後の状態を示す図である。
【図２】ガラス基板とステージの装着状態を概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
１  ガラス基板
２  突起
３  ステージ
【図１】
0003749060.tif 000002
【図２】
0003749060.tif 000003