(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
剥離層を有する支持体上に、
平均分子量3000〜10000のアクリル共重合体であって、一般式（１）で示される
ユニットを分子内に重量比で0.01〜５重量％の範囲で有し、酸価（KOH／mg）が
５〜200である樹脂を20〜80重量％の範囲で含む活性光線硬化層形成塗工液を
塗布後、活性光線を照射して硬化させた硬化層、
前記硬化層に隣接して、重合度が1000以上のポリビニルブチラール樹脂又は
ポリブチラールの熱硬化樹脂からなる中間層、及び接着層から選ばれる層
をこの順に有することを特徴とする転写箔。
一般式（１）
0003858258.tif 000006
（式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ水素原子又はメチル基を表し、Ｒ3は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。但し、Ｒ2がメチル基のときＲ3は水素原子である。Ｌは２価の連結基を表す。）
【請求項２】
前記活性光線硬化層形成塗工液が、光重合開始剤を0.5〜５重量％含むことを特徴とする請求項１に記載の転写箔。
【請求項３】
前記活性光線硬化層形成塗工液が、重合性二重結合を一分子中に１個以上有するモノマー、オリゴマー又はプレポリマーを２０〜７０重量％含むことを特徴とする請求項１に記載の転写箔。
【請求項４】
前記硬化層の膜厚が５．０μｍ〜２５μｍの範囲であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の転写箔。
【請求項５】
画像記録層上に、請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の転写箔を用いて形成
された保護層を有することを特徴とする画像記録体。
【請求項６】
前記保護層を有する側の表面のビッカーズ硬度が、２〜150の範囲であること
を特徴とする請求項５に記載の画像記録体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、偽造、変造防止等の安全性（セキュリティ）が要求される個人情報等を記憶する接触式又は非接触式の電子または磁気等のカード、あるいはシートに適用して好適な転写箔及び画像記録体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、例えば銀行、会社、学校及び官公庁等のサービス産業分野では、接触式又は非接触式の電子または磁気等のカードを発行する場合が多くなってきた。これらの分野で使用されるキャッシュカード、従業者証、社員証、会員証、学生証、外国人登録証及び各種免許証等には個人情報が記録されるために、容易に偽造、変造できないようにセキュリティ処理が施されている。
【０００３】
例えば、カード基板上にホログラム層を設け、顔写真や氏名、発行日などを容易に模倣されないように特殊な画像が形成されている。この画像は、回折格子像や一般にホログラム像と呼ばれる像が形成され、このホログラム像は物体から反射又は物体を透過してきた波動と参照波とを重ね合わせて得られる干渉縞によって形成されるものである。このホログラム像によって物体の像が立体的に再現されるものもある。ホログラム層上は光透過性の良いシート状の保護シートによって覆われ、この保護シートにはラミネートなどの透明樹脂が使用され、カード基板よりも強度的に弱いホログラム層を覆うように保護される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来方式のカードの製造方法によれば、例えばラミネートフィルムとホログラムシートとが別々に形成され、ラミネートコーテイング工程を経た後に、余分なラミネートフィルムが裁断されているが、特に顔写真付きの社員証や免許証等においては、画像上に傷が付き本人確認できなくなることを避けるために、製造工程において、カードの表面上でのひっかき傷やシワの発生を防ぎ、さらにホログラムシートをロール状に巻いて長期保存してもブロッキングすることを防ぐように留意する必要がある。
【０００５】
そこで、本発明は上述した課題を解決したものであって、偽造、変造防止等の安全性（セキュリティ）を高めると共に、従来方式に比べてスクラッチ強度及び密着性を向上することで、キズやシワの発生を防止できる転写箔及び画像記録体を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決し、かつ目的を達成するために、本発明は、以下のように構成した。
【０００７】
請求項１に記載の発明は、
『剥離層を有する支持体上に、
平均分子量3000〜10000のアクリル共重合体であって、一般式（１）で示されるユニットを分子内に重量比で0.01〜５重量％の範囲で有し、酸価（KOH／mg）が５〜200である樹脂を20〜80重量％の範囲で含む活性光線硬化層形成塗工液を塗布後、活性光線を照射して硬化させた硬化層、
前記硬化層に隣接して、重合度が1000以上のポリビニルブチラール樹脂又はポリブチラールの熱硬化樹脂からなる中間層、及び接着層から選ばれる層をこの順に有することを特徴とする転写箔。
【０００８】
一般式（１）
0003858258.tif 000002
（式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ水素原子又はメチル基を表し、Ｒ3は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。但し、Ｒ2がメチル基のときＲ3は水素原子である。Ｌは２価の連結基を表す。）』である。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、『前記活性光線硬化層形成塗工液が、光重合開始剤を0.5〜５重量％含むことを特徴とする請求項１に記載の転写箔。』である。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、『前記活性光線硬化層形成塗工液が、重合性二重結合を一分子中に１個以上有するモノマー、オリゴマー又はプレポリマーを２０〜７０重量％含むことを特徴とする請求項１に記載の転写箔。』である。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、『前記硬化層の膜厚が５．０μｍ〜２５μｍの範囲であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の転写箔。』である。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、『画像記録層上に、請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の転写箔を用いて形成された保護層を有することを特徴とする画像記録体。』である。
【００１９】
請求項６に記載の発明は、『前記保護層を有する側の表面のビッカーズ硬度が、２〜150の範囲であることを特徴とする請求項５に記載の画像記録体。』である。
【００２０】
本発明の転写箔及び画像記録体によれば、偽造、変造防止等の安全性（セキュリティ）を高めると共に、従来方式に比べてスクラッチ強度及び密着性が向上し、キズやシワの発生を防止できる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の転写箔及び画像記録体の実施の形態を図面に基づいて説明するが、本発明はこの実施の形態の説明及び図面に限定されるものではない。まず、第１の実施の形態を図１及び図２に示し、図１は画像記録体作成装置の概略構成図、図２は画像記録体の層構成を示す図である。
【００２２】
この実施の形態の画像記録体作成装置１には、上方位置にカード基材供給部１０及び情報記録部２０が配置され、下方位置に、保護付与部及び又は光学変化素子付与部４０、活性光線硬化層付与部及び／又は活性光線照射部９０が配置され、画像記録体としてカードを作成するが、シートも作成することもできる。
【００２３】
カード基材供給部１０には、カード使用者の個人情報を書き込むために予め枚葉状にカットされた複数枚のカード基材５０が、顔写真を記録する面を上に向けてストックされている。この例では、カード基材５０が支持体５１と受像層５２からなり、このカード基材５０は１枚づつカード基材供給部１０から所定のタイミングで自動供給される。
【００２４】
情報記録部２０には、イエローリボンカセット２１、マゼンタリボンカセット２２、シアンリボンカセット２３、ブラックリボンカセット２４が配置され、それぞれに対応して記録ヘッド２５〜２８が配置されている。イエローリボン、マゼンタリボン、シアンリボン等の熱転写シートによる熱転写で、カード基材５０が移動されている間に、その受像層５２の所定領域にカード使用者の顔写真等の諧調を有する画像領域５３が記録される。また、文字リボンカセット３１及び記録ヘッド３２が配置され、文字リボン等の熱転写シートによる熱転写で、その氏名やカード発行日等の認証識別情報５４が記録され、画像記録層が形成される。
【００２５】
保護付与部及び／又は光学変化素子付与部４０では、転写箔カセット４１が配置され、この転写箔カセット４１に対応して熱転写ヘッド４２が配置されている。透明保護転写箔６４及び／又は光学変化素子転写箔４３を熱転写して、透明保護転写層６４０及び／又は光学変化素子転写層４３０が設けられる。
【００２６】
その後活性光線硬化層付与部及び／又は活性光線照射部９０により活性光線硬化液が塗布され、活性光線により露光が行なわれ、図２の構成の画像記録体の層構成が得られ、透明保護転写層６４０及び／又は光学変化素子転写層４３０上に活性光線硬化層６５０が設けられる。
【００２７】
次に、第２の実施の形態を図３及び図４に示し、図３は画像記録体作成装置の概略構成図、図４は画像記録体の層構成を示す図である。
【００２８】
この実施の形態の画像記録体作成装置１では、カード基材供給部１０及び情報記録部２０は同様に構成されるが、情報記録部２０の次に樹脂付与部６０が配置されている。
【００２９】
樹脂付与部６０には、転写箔カセット６１が配置され、この転写箔カセット６１に対応して熱転写ヘッド６２が配置位置されている。転写箔カセット６１に硬化型転写箔６６がセットされ、この硬化型転写箔６６を転写し硬化型保護層含有転写層６６０が設けられる。
【００３０】
次に、第３の実施の形態を図５及び図６に示し、図５は画像記録体作成装置の概略構成図、図６は画像記録体の層構成を示す図である。
【００３１】
この実施の形態の画像記録体作成装置１では、カード基材供給部１０及び情報記録部２０は同様に構成されるが、情報記録部２０の次に保護付与部及び又は光学変化素子付与部４０、樹脂付与部６０が配置される。
【００３２】
保護付与部及び又は光学変化素子付与部４０では、透明保護転写層６４０及び／又は光学変化素子転写層４３０が設けられる。樹脂付与部６０では、受像層５２上に透明保護転写層６４０及び／又は光学変化素子転写層４３０で形成された画像記録体上に硬化型転写箔６６を熱転写し硬化型保護層含有転写層６６０が設けられる。
【００３３】
次に、第４の実施の形態を図７及び図８に示し、図７は画像記録体作成装置の概略構成図、図８は画像記録体の層構成を示す図である。
【００３４】
この実施の形態の画像記録体作成装置１は、カード基材供給部１０及び情報記録部２０は同様に構成されるが、透明保護層及び／又は光学変化素子転写層付与部／又は樹脂層付与部７０が配置され、この後更に透明保護層及び／又は光学変化素子転写層付与部／又は樹脂層付与部７０が配置されている。
【００３５】
透明保護層及び／又は光学変化素子転写層付与部／又は樹脂層付与部７０では、転写箔カセット７１が配置され、この転写箔カセット７１に対応して熱転写ヘッド７２が配置されている。光学変化素子転写箔４３及び／又は透明保護転写箔６４、硬化型転写箔６６を転写し、光学変化素子転写層４３０及び／透明保護転写層６４０、硬化型保護層含有転写層６６０が設けられる。
【００３６】
次に第５の実施形態を図９及び図１０に示し、図９は画像記録体作成装置の概略図、図１０は画像記録体の層構成を示す図である。
【００３７】
この実施形態の画像記録体作成装置１はカード基材供給部１０及び情報記録部２０は同様に構成されるが、透明保護層及び／又は光学変化素子転写付与部／又は樹脂層付与部７０が配置される。
【００３８】
透明保護層及び／又は光学変化素子転写付与部／又は樹脂層付与部７０には、転写カセット７１が配置され、この転写箔カセット７１に対応して熱転写ヘッド７２が配置されている。硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔４４を転写し、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写層４４０が設けられる。
【００３９】
本発明では、透明保護転写箔とは、画像を保護する透明保護箔であり、透明保護層とは、画像を保護する透明保護層である。また、この樹脂層とは、この発明に当たる一般式（１）より構成される樹脂酸化５〜２００である樹脂を有する層である。又好ましくは、硬化樹脂の破断伸度が、５％以上であることが好ましい。また、活性硬化線樹脂層とは、樹脂層の種類の一部であり、この発明では好ましい実施形態であるが、図１及び図２に示すように製造上樹脂層に限定される場合がある。また硬化型保護層含有光学変化素子層とは、硬化層と光学変化素子層が一体になっている層のことを表す。また保護性付与転写箔とは、樹脂層（好ましくは活性光線硬化性樹脂）を少なくとも一層含む転写箔のことを表す。
【００４０】
次に、透明保護転写箔６４の実施の形態を図１１に示す。図１１（ａ）の透明保護転写箔６４は透明保護転写層６４０と支持体６４ｂから構成され、透明保護転写層６４０は剥離層６４ａ１、透明保護層６４ａ２、接着層６４ａ３から構成され、透明保護層６４ａ２の両側に剥離層６４ａ１、接着層６４ａ３が設けられ、剥離層６４ａ１が支持体６４ｂに接着されている。図１１（ｂ）の透明保護転写箔６４は図１１（ａ）の転写箔と同様に構成されるが、透明保護層６４ａ２と接着層６４ａ３との間に中間層６４ａ４が設けられている。図１１（ｃ）の透明保護転写箔６４は図１１（ｂ）の転写箔と同様に構成されるが、透明保護層６４ａ２を２層設けている。図１１（ｄ）の透明保護転写箔６４は図１１（ｂ）の転写箔と同様に構成されるが、透明保護層６４ａ２と中間層６４ａ４との間にバリヤー層６４ａ５が設けられている。
【００４１】
これらの透明保護転写箔６４は、透明保護転写層６４０が支持体４３ｂから剥離して転写される。
【００４２】
光学変化素子転写箔４３の実施の形態を図１２に示す。図１２（ａ）の光学変化素子転写箔４３は光学変化素子転写層４３０と支持体４３ｂから構成され、光学変化素子転写層４３０は剥離層４３ａ１、光学変化素子層４３ａ２、接着層４３ａ３から構成され、光学変化素子層４３ａ２の両側に剥離層４３ａ１、接着層４３ａ３が設けられ、剥離層４３ａ１が支持体４３ｂに接着されている。図１２（ｂ）の光学変化素子転写箔４３は図１２（ａ）の転写箔と同様に構成されるが、接着層４３ａ３と光学変化素子層４３ａ２との間に中間層４３ａ４が設けられている。図１２（ｃ）の光学変化素子転写箔４３は図１２（ｂ）の転写箔と同様に構成されるが、光学変化素子層４３ａ２と中間層４３ａ４との間にバリヤー層４３ａ５が設けられている。図１２（ｄ）の転写箔は図１２（ｃ）の転写箔と同様に構成されるが、剥離層４３ａ１と光学変化素子層４３ａ２との間に透明保護層４３ａ６が設けられている。
【００４３】
これらの光学変化素子転写箔４３は、光学変化素子転写層４３０が支持体４３ｂから剥離して転写される。
【００４４】
次に、硬化型転写箔６６の実施の形態を図１３に示す。図１３（ａ）の硬化型転写箔６６は硬化型保護層含有転写層６６０と支持体６６ｂから構成され、硬化型保護層含有転写層６６０は剥離層６６ａ１、硬化層６６ａ２、中間層６６ａ４、接着層６６ａ３から構成され、硬化層６６ａ２の両側に剥離層６６ａ１と中間層６６ａ４が設けられ、剥離層６６ａ１が支持体６６ｂに接着されている。図１３（ｂ）の硬化型転写箔６６は図１３（ａ）の転写箔と同様に構成されるが、硬化層６６ａ２を２層設けている。図１３（ｃ）の硬化型転写箔６６は図１３（ａ）の転写箔と同様に構成されるが、接着層６６ａ３と中間層６３ａ４との間にバリヤー層６６ａ５が設けられている。
【００４５】
これらの硬化型転写箔６６は、硬化型保護層含有転写層６６０が支持体４３ｂから剥離して転写される。
【００４６】
次に、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔４４の実施の形態を図１４に示す。図１４（ａ）の硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔４４は硬化型樹脂層含有光学変化素子転写層４４０と支持体４４ｂから構成され、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写層４４０は剥離層４４ａ１、硬化層４４ａ９、第１中間層４４ａ４１、光学変化素子層４４ａ２、第２中間層４４ａ４２、バリヤ層４４ａ５、接着層４４ａ３から構成され、剥離層４４ａ１が支持体４４ｂに接着されている。図１４（ｂ）の硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔４４は図１４（ａ）の転写箔と同様に構成されるが、第２中間層４４ａ４２がない構成であり、また図１４（ｃ）の硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔４４は図１４（ａ）の転写箔と同様に構成されるが、第１中間層４４ａ４１及びバリヤ層４４ａ５がない構成である。
【００４７】
これらの硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔４４は、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写層４４０が支持体４４ｂから剥離して転写される。
【００４８】
この実施の形態の硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔４４は、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写層４４０が支持体４４ｂから剥離して転写され、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写層４４０が、少なくとも、剥離層、硬化層、光学変化素子層、中間層、接着層を有する構成であり、表面保護性、表面摩耗耐久性に優れている。
【００４９】
また、少なくとも、光学変化素子層より画像記録体表面側に位置する透明保護層が、紫外線硬化層または電子線硬化層であることが表面保護性、表面摩耗耐久性に優れ好ましい。
【００５０】
また、光学変化素子層が、凹凸像を有するハードコート層、蒸着層であることが、より偽変造防止の効果があり好ましい。
【００５１】
また、少なくとも１つの透明保護層が、カード全面に熱転写されていることが表面保護性、表面摩耗耐久性に優れ好ましい。
【００５２】
さらに、透明保護転写箔または光学変化素子転写箔のいずれかの層に、帯電防止剤が含有されていることが好ましく、ゴミが付着しないカード、あるいはシートを作成できる。
【００５３】
また、先に転写された転写表面が、後から転写される転写箔の易接着加工されていることが、接着性がよく好ましい。
【００５４】
本発明の転写箔においては、帯電防止層、剥離層、透明保護層、光学変化素子層、バリヤ層、中間層、接着層に少なくとも一層に設けられることが好ましい。転写箔の帯電防止層は、帯電防止性に優れたアニオン性高分子物質及び／又は導電性粒子を含有する。
【００５５】
前記アニオン性高分子物質としては、カルボキシル基、スルホン酸基、ヒドロキシル基を含有するポリマー、例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、塩化ビニル、マレイン酸モノ（２．エチルヘキシル）共重合体、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルアルコール、セルロース、ヒドロキシメチルセルロース及びそれらの変性物などが挙げられ、それぞれに対応する官能基の部分あるいは全てがアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、遷移金属塩等になったものが挙げられる。その中でもポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレンスルホン酸のアルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく、特にポリスチレンスルホン酸のナトリウム塩が後述する他の樹脂との相溶性、帯電防止性能、溶解性及び溶液にした場合の粘度の面から好ましい。
【００５６】
また、導電性粒子としては、各種金属、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＣｏＯ、ＣｕＯ、Ｃｕ2Ｏ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＢａＯ2、ＰｂＯ、ＰｂＯ2、ＭｎＯ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｇ2Ｏ、Ｙ2Ｏ3、ＢｉＯ3、Ｌａ2Ｏ3、Ｔｉ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、Ｋ2Ｔｉ6Ｏ13、ＮａＣａＰ2Ｏ18、ＭｇＢ2Ｏ5などの酸化物、ＣｕＳ、ＺｎＳなどの硫化物、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ、ＶＣ、ＮｂＣ、ＷｏＣなどの炭化物、Ｓｉ3Ｎ4、Ｔｉｎ、ＺｒＮ、ＶＮ、ＮｂＮ、ＴａＮ、Ｃｒ2Ｎなどの窒化物、ＴｉＢ2、ＺｒＢ2、ＮｂＢ2、ＴａＢ2、ＣｒＢ、ＭｏＢ、ＷＢ、ＬａＢ6などの硼化物、ＴｉＳｉ2、ＺｒＳｉ2、ＮｂＳｉ2、ＴａＳｉ2、ＣｒＳｉ2、ＭｏＳｉ2、ＷＳｉ2などの珪化物、ＢａＣＯ3、ＣａＣＯ3、ＳｒＣＯ3、ＢａＳＯ4、ＣａＳＯ4などの金属塩、Ｓｉ3Ｎ4−ＳｉＣ、９Ａｉ2Ｏ3−２Ｂ2Ｏ3などの複合体、あるいはそれらをドープしたものなどが挙げられ、その中でもＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｒＯ2、Ｙ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、ＣｕＳ、ＺｎＳ、ＴｉＣ、ＷＣ、Ｔｉｎ、ＴｉＢ2、ＺｒＢ2、ＭｏＳｉ2、ＷＳｉ2、ＣａＣＯ3、ＢａＳＯ4などが好ましく、これらを１種単独あるいは２種以上を併用して用いることができる。
【００５７】
本発明において、導電性粒子は少なくとも粒形の異なる２種以上の混合物であることが好ましく、導電性粒子全量に対して、平均粒子径０．０１〜０．５μｍの粒子と平均粒子径０．５〜３μｍの粒子との混合物であることが好ましく、それらの重量比は前者を５０〜９５重量％、後者を５〜５０重量％で添加するのが好ましい。平均粒子径０．０１〜０．５μｍの粒子のみで帯電防止層を形成すると、帯電防止や白抜けに対しては有効であるが、複数枚給紙の防止、走行安定性や画像記録体作製直後のべたついた受像層面に対する付着防止に対してトラブルを生じる場合があり、また、平均粒子径０．５〜３μｍの粒子のみで帯電防止層を形成すると、帯電防止、複数枚給紙の防止、走行安定性及び画像記録体作製直後のべたついた受像層面に対する付着防止に対しては有効であるが、白抜けを発生する場合があった。
【００５８】
このように粒径の異なる２種の導電性粒子を存在させると、帯電防止のみならず、複数枚給紙の防止、走行安定性、白ぬけ防止、画像記録体作製直後のべたついた受像層面に対する付着防止に対して有効に働く。
【００５９】
なお、前記アニオン性高分子物質及び／又は導電性粒子の帯電防止層形成組成物中の含有量は、全量に対して５〜８０重量％が好ましく、１０〜６０重量％がより好ましい。
【００６０】
この発明において、アニオン性高分子物質及び／又は導電性粒子を樹脂の中に混合したり、あるいは分散させて帯電防止層を形成する。
【００６１】
帯電防止層を形成する樹脂としては特に制限はなく、公知のバインダー樹脂など各種のものを適宜選択して使用することができる。バインダー樹脂の代表例としては、例えばポリメタクリル酸メチル系のアクリル系樹脂、ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル等の塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン等の塩化ビニリデン系樹脂、ポリエチレンテレフフクレート等のポリエステル系樹脂、酢酸セルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、アルキッド系樹脂、フェノール系樹脂、弗素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、カゼイン、ゼラチン等を挙げることができる。また、電離放射線硬化樹脂や、熱硬化樹脂などのように、帯電防止層形成後に電離放射線あるいは熱により硬化できるのものも併用することができる。
【００６２】
図１１の透明保護転写箔６４、図１２の光学変化素子転写箔４３、図１３の硬化型転写箔６６、及び図１４の硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔４４を単独あるいは組み合わせて用いることで、活性光線硬化樹脂層が設けられる。
【００６３】
このように活性光線硬化樹脂層を設けた後に、活性光線により露光を行い硬化層を形成し、カードを作成する。
【００６４】
本発明の転写箔は、剥離層を有する支持体上に、
少なくとも一般式（１）で示される単位を有する平均分子量３０００〜１０００００のアクリル共重合体であって、一般式（１）ユニットを分子内に重量比で０．０１〜５重量％以下の範囲で有し、一般式（１）より構成される樹脂の酸価（ＫＯＨ／ｍｇ）が５〜２００である樹脂を２０〜８０重量％の範囲で含む硬化層と、
少なくとも前記硬化層に隣接し重合度が１０００以上のポリビニルブチラール樹脂又はポリブチラールの熱硬化樹脂からなる中間層又は／及び接着層を有する。
【００６５】
一般式（１）
0003858258.tif 000003
硬化層は、光重合開始剤を０．５〜５重量％含み、また硬化層は、重合性二重結合を一分子中に１個以上有するモノマー、オリゴマー又はプレポリマーを２０〜７０重量％含み、硬化層の膜厚が５．０μｍ〜２５μｍの範囲である。
【００６６】
転写箔製造方法は、硬化層塗工後、活性光線により露光を行い硬化層を形成し、その後中間層又は／及び接着層を順次設け、硬化層膜厚が５．０μｍ〜２５μｍの範囲である。また、画像記録層上に、転写箔を少なくとも１回以上の転写をする。
【００６７】
本発明の画像記録体は、画像記録層上に転写箔を有し、さらに活性光線硬化型樹脂層を有する。
【００６８】
本発明の活性光線硬化型樹脂層は、付加重合性又は開環重合性を有する素材からなるものであり、付加重合成化合物とは、ラジカル重合性化合物、例えば特開平７−１５９９８３号、特公平７−３１３９９号、特願平７−２３１４４４号等の各号公報及び特願平７−２３１４４４号明細書に記載されている光重合成（熱重合性も含む）組成物を用いた光硬化型材料であってもよい。付加重合成化合物とは、カチオン重合系の光硬化型材料が知られており、最近では可視光以上の長波長域に増感された光カチオン重合系の光硬化材料も例えば、特開平６−４３６３３号公報等に公開されている。本発明の目的においてはどちらを用いても構わない。又層構成においても１層以上の活性光線硬化層を設けその内のいずれか片方が破断伸度が、５％以上、９０％以下であればよい。
【００６９】
本発明の特定化合物を含有するラジカル重合性組成物に併用されてもよい。ラジカル若しくは酸を発生する他の化合物としてはラジカル重合開始剤がある。なお、本発明の特定化合物は光又は熱によりラジカル（例えば・Ｃｌ）を発生し、このラジカルが層中のプロトンを引き抜き酸（例えばＨＣｌ）を発生して重合が行われるが、併用されてもよい下記重合開始剤も同様に光又は熱によりラジカル若しくは酸を発生して重合が行われる。ラジカル重合開始剤としては、特公昭５９−１２８１号、特公昭６１−９６２１号、及び特開昭６０−６０１０４号等の各公報記載のトリジアン誘導体、特開昭５９−１５０４号及び特開昭６１−２４３８０７号等の各公報に記載の有機過酸化物、特公昭４３−２３６８４号、特公昭４４−６４１３号、特公昭４４−６４１３号及び特公昭４７−１６０４号等の各公報並びに米国特許第３，５６７，４５３号明細書に記載のジアゾニウム化合物、米国特許第２，８４８，３２８号、同第２，８５２，３７９号及び同２，９４０，８５３号明細書に記載の有機アジド化合物、特公昭３６−２２０６２号、特公昭３７−１３１０９号、特公昭３８−１８０１５号、特公昭４５−９６１０号等の各公報に記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭５５−３９１６２号、特開昭５９−１４０２３号等の各公報及び「マクロモレキュルス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）、第１０巻、第１３０７頁（１９７７年）に記載の各種オニウム化合物、特開昭５９−１４２２０５号公報に記載のアゾ化合物、特開平１−５４４４０号公報、ヨーロッパ特許第１０９、８５１号、ヨーロッパ特許第１２６、７１２号等の各明細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス」（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）］、第３０巻、第１７４頁（１９８６年）に記載の金属アレン錯体、特願平４−５６８３１号明細書及び特願平４−８９５３５号明細書に記載の（オキソ）スルホニウム有機ホウ素錯体、特開昭６１−１５１１９７号公報に記載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー（Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｒｅｖｉｅｗ）」、第８４巻、第８５〜第２７７頁）（１９８８年）及び特開平２−１８２７０１号公報に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平３−２０９４７７号公報に記載の２，４，５−トリアリールイミダゾール二重体、四臭化炭素や特開昭５９−１０７３４４号公報記載の有機ハロゲン化合物などが挙げられる。本発明において重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン不飽和結合を有する化合物１００重量部に対して０．５〜５重量部の範囲で含有されるのが好ましい。更に好ましくは、１〜５重量％の範囲が好ましい。
【００７０】
ラジカル重合性化合物を含有する感光性組成物には、ラジカル重合性モノマーの熱重合開始剤として、一般にラジカル重合による高分子合成反応に用いられる公知のラジカル重合開始剤を特に制限なく含有させることができる。ここで、熱重合開始剤とは、熱エネルギーを与えることにより重合性のラジカルを発生することが可能な化合物である。
【００７１】
このような化合物としては、例えば、２，２’−アゾビスイソプチロニトリル、２，２’−アゾビスプロピオニトリル等のアゾビスニトリル系化合物、過酸化ベンゾイル、過酸化ラワロイル、過酸化アセチル、過安息酸ｔ−ブチル、α−クミルヒドロパ−オキサイド、ジ−ｔ−プチルパ−オキサイド、ジイソプロピルパ−オキシジカーボネート、ｔ−プチルパ−オキシイソプロピルカーボネート、過酸類、アルキルパーオキシカルバメート類、ニトロソアリールアシルアミン類等の有機過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過塩素酸カリウム等の無機過酸化物、ジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム、アゾビス置換アルカン類、ジアゾチオエーテル類、アリールアゾスルフォン類等のアゾ又はジアゾ系化合物、ニトロソフェニル尿素、テトラメチルチウラムジスルフィド、ジアリキルキサントゲン酸ジスルフィド類、アリールスルフィン酸類、アリールアルキルスルフォン類、１−アルカンスルフィン酸類等を挙げることができる。これらの中で特に好ましいものは、常温での安定性に優れ、加熱時の分解速度が速く、かつ分解時に無色となる化合物であり、このようなものとしては、過酸化ベンゾイル、２，２’−アゾビスイソプチロニトリル等を挙げることができる。また、本発明では、これらの熱重合開始剤を１種又は２種以上混合して用いることができる。更に、熱重合開始剤は、熱重合性の組成物中通常０．５〜１０重量％が好ましく、１〜５重量％の範囲がより好ましい。
【００７２】
カチオン重合により高分子化の起こるタイプ（主にエポキシタイプ）のエポキシタイプの紫外線硬化性プレポリマー、モノマーは、１分子内にエポキシ基を２個以上含有するプレポリマーを挙げることができる。このようなプレポリマーとしては、例えば、脂環式ポリエポキシド類、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物類及びエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらのプレポリマーは、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。前記紫外線硬化保護層形成用コーティング剤中の、エポキシ基を１分子内に２個以上有するプレポリマーの含有量は７０重量％以上であることが好ましい。カチオン重合性組成物中に含有されるカチオン重合性化合物としては、他に例えば下記の（１）スチレン誘導体、（２）ビニルナフタレン誘導体、（３）ビニルエーテル類及び（４）Ｎ−ビニル化合物類を挙げることができる。
【００７３】
本発明においてはラジカル重合系が好ましい。
【００７４】
次に、本発明の転写箔の硬化層は、前記一般式（１）で示される単位を有する。以下この一般式のカルボキシル基を有するビニル系高分子重合体（以下「本発明のビニル系高分子重合体」という）について説明する。
【００７５】
前記一般式（１）において、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ水素原子又はメチル基を表し、Ｒ3が表すアルキル基としては、メチル基、エチル基等炭素数７までのアルキル基が好ましく、Ｒ3が表すアリール基としてはフェニル基、ナフチル基等の炭素数１０までのアリール基が好ましい。Ｌが表す２価の連結基としては、例えば、−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2−Ｏ−、−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＮＨ−Ｒ4−ＮＨＣＯＯＣＨ2−（Ｒ4はｐ−フェニレン基）、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−Ｒ5−ＣＯＯＣＨ2−（Ｒ5はｏ−フェニレン基）等が挙げられる。本発明において、Ｌは−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2−Ｏ−であることが好ましい。
【００７６】
本発明のビニル系高分子重合体は、前記一般式（１）で示される単位を好ましくは０．００１〜５重量％、より好ましくは０．００１〜３重量％含有する。前記一般式（１）で示される単位の含有量が０．００１重量％より低い場合には、不飽和基量低下による硬化層の架橋密度の低下のため耐薬品性劣化、スクラッチ強度の劣化が起きる。５重量％特に１０重量％を越えると合成中ゲル化してしまい収率が悪く実用上支障がある。
【００７７】
また、カルボキシル基の含有量は、酸価（ＫＯＨ／ｍｇ）で５〜２００が好ましく、より好ましくは１０〜１５０である。カルボキシル基の含有量が酸価で５より低い場合には重合度が１０００以上のポリビニルブチラール樹脂又はポリブチラールの熱硬化樹脂との密着性が劣化し層間剥離を発生するために碁盤目剥離が劣化する。２００以上であると耐薬品性劣化、スクラッチ強度の劣化が起きる。
【００７８】
ＵＶ硬化層に、不飽和二重結合を有する樹脂を有しているものを添加しても、硬化層の架橋密度が上がるものの、隣接する層との密着性が劣化し問題であった。しかし本発明の一般式（１）のユニットを有する樹脂を使うことによりカード基材との密着性又は硬化箔中での層間密着性が改善される。
【００７９】
本発明のビニル系高分子重合体中へのカルボキシル基の導入は該重合体を合成する際に予めカルボキシル基を有するモノマー、例えば、α，β−不飽和カルボン酸類、例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等又はこれらの誘導体を共重合性成分として加える方法を使用することができる。前記のような誘導体を使用する場合、一度無水物（無水マレイン酸等）で共重合させ、その後の片側のカルボン酸部分にメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコールで無水物を加水分解して片側のカルボン酸部分に長鎖のアルキル基を付加することもできる。また、高分子重合体中の活性基、例えばヒドロキシル基、アミノ基にジカルボン酸や酸無水物を高分子反応させる方法等により行なわれる。
【００８０】
前記一般式（１）で示される重合単位を含みかつα，β−不飽和カルボン酸を含む重合体の合成は、第一ステップとしてα，β−不飽和カルボン酸を含有するビニル共重合体を公知の方法で合成した後、第二のステップとしてグリシジル基（エポキシ基）を含有する不飽和エチレン性化合物を添加して合成することができる。グリシジル基（エポキシ基）を含有する不飽和エチレン性化合物としては、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート等を代表例として挙げられるがこれらに限定されるものでなく、グリシジル基（エポキシ基）を含有する不飽和エチレン性化合物であればよい。
【００８１】
本発明のビニル系高分子重合体に含まれる前記一般式（１）で示される重合単位以外の構成モノマーとしては、下記（１）〜（１７）に記載するモノマーが挙げれらる。
（１）芳香族水酸基を有するモノマー、例えば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
（２）脂肪族水酸基を有するモノマー、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、６−ヒドロキシヘキシルアクリレート、６−ヒドロキシヘキシルメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
（３）アミノスルホニル基を有するモノマー、例えば、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等。
（４）スルホンアミド基を有するモノマー、例えば、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド等。（５）α，β−不飽和カルボン酸類、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
（６）置換または無置換のアルキルアクリレート、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等。
（７）置換または無置換のアルキルメタクリレート、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等。
（８）アクリルアミドもしくはメタクリルアミド類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド等。
（９）フッ化アルキル基を含有するモノマー、例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、へプタデカフルオロデシルアクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、Ｎ−ブチル−Ｎ−（２−アクリロキシエチル）ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド等。
（１０）ビニルエーテル類、例えば、エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等。
（１１）ビニルエステル類、例えば、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等。
（１２）スチレン類、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
（１３）ビニルケトン類、例えば、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等。
（１４）オレフィン類、例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等。
（１５）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン等。
（１６）シアノ基を有するモノマー、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテンニトリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シアノエチルアクリレート、ｏ−シアノスチレン、ｍ−シアノスチレン、ｐ−シアノスチレン等。
（１７）アミノ基を有するモノマー、例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジェンウレタンアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド等。
【００８２】
本発明のビニル系高分子重合体の平均分子量は３０００〜１０００００が好ましく、より好ましくは１００００〜８００００である。分子量が１００００より小さいと、耐熱性劣化又は耐薬品性劣化、スクラッチ強度劣化の傾向にある。逆に１０００００より大きい場合には保存中にゲル化反応が起きやすく安定性が問題となる。本発明のビニル化合物の硬化層への添加量は好ましくは、２０〜８０重量％であるが、より好ましくは、２０〜７０重量％、更に好ましくは２０〜５０重量％である。
【００８３】
本発明のビニル系高分子重合体の具体例としては、例えば下記のものが挙げられる。
0003858258.tif 000004
0003858258.tif 000005
重合性二重結合を１分子中に少なくとも１個有するモノマー又はオリゴマーとしては、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を１分子中に少なくとも１個有するモノマー、オリゴマー又はプレポリマーであればどのようなものでもよく、公知の化合物が特に制限はなく使用することができる。具体的化合物としては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、グリセロールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシヘキサノリドアクリレート、１，３−ジオキサンアルコールのε−カプロラクトン付加物のアクリレート、１，３−ジオキソランアクリレート等の単官能アクリル酸エステル類、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングルコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハイドロキノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートのジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート、２−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−５−ヒドロキシメチル−５−エチル−１，３−ジオキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレートのε−カプロラクトン付加物、１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテルのジアクリレート等の２官能アクリル酸エステル類、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのε−カプロラクトン付加物、ピロガロールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ヒドロキシピバリルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル酸、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、ホスファゼンモノマー、トリエチレングリコール、イソシアヌール酸ＥＯ変性ジアクリレート、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリア���リレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリル酸安息香酸エステル、アルキレングリコールタイプアクリル酸変性、ウレタン変性アクリレート等が挙げられる。中でも、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル化合物が特に好適に使用できる。これらの化合物のうち１種または２種以上を混合して用いることができる。その他に、付加重合もしくは架橋可能な化合物として、適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸、またはメタクリル酸を導入し、光重合性を付与した、所謂プレポリマーと呼ばれるものも好適に使用できる。これらはプレポリマーだけ１種または２種以上を混合して用いてもよいし、上述のモノマー類と混合して用いても良い。プレポリマーとして、例えばアジピン酸、トリメリット酸、マレイン酸、フタル酸、テレフタル酸、ハイミック酸、マロン酸、こはく酸、グルタール酸、イタコン酸、ピロメリット酸、フマル酸、グルタール酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テトラヒドロフタル酸等の多塩基酸と、エチレングリコール、プロピレングルコール、ジエチレングリコール、プロピレンオキサイド、１，４−ブタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、１，６−ヘキサンジオール、１，２，６−ヘキサントリオール等の多価のアルコールの結合で得られるポリエステルに（メタ）アクリル酸を導入したポリエステルアクリレート類、例えば、ビスフェノールＡ・エピクロルヒドリン・（メタ）アクリル酸、フェノールノボラック・エピクロルヒドリン・（メタ）アクリル酸のようにエポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を導入したエポキシアクリレート類、例えば、エチレングリコール・アジピン酸・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルフタリルメタクリレート・キシレンジイソシアネート、１，２−ポリブタジエングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパン・プロピレングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレートのように、ウレタン樹脂に（メタ）アクリル酸を導入したウレタンアクリレート、例えば、ポリシロキサンアクリレート、ポリシロキサン・ジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート等のシリコーン樹脂アクリレート類、その他、油変性アルキッド樹脂に（メタ）アクリロイル基を導入したアルキッド変性アクリレート類、スピラン樹脂アクリレート類等が挙げられる。
【００８４】
この重合性二重結合を分子中に１個以上有するモノマーオリゴマー又はプレポリマーは２０〜７０重量％含むことが好ましく更には、４０〜７０重量％含むことが好ましい。
【００８５】
本発明に用いる、樹脂層又は硬化層は好ましくは破断伸度５％以上であることが好ましい。
【００８６】
本発明における破断伸度（％）は、２３℃５５％ＲＨの条件下で樹脂層を１時間以上放置した後、株式会社オリエンテックテンシロン万能試験機ＲＴＡ−１００を用いデータ処理は、テンシロン多機能型データー処理ＴＹＰＥ  ＭＰ−１００／２００Ｓ  Ｖｅｒ．４４を用い測定を行った。樹脂の固定手段はエアーチャック方式で固定した。クロスヘッドスピードは、５〜１００ｍｍ／ｍｉｎ、ＲＡＮＧＥは５〜１００％、荷重は０．１〜５００ｋｇを選択することができるが、本発明の評価では、クロスヘッドスピードは、３０ｍｍ／ｍｉｎ、ＲＡＮＧＥは２０％、荷重は１００ｋｇの条件で評価を行った。
【００８７】
また、樹脂又は活性光線硬化樹脂の破断伸度を測定するに当たり、特に活性光線硬化樹脂層のみの単独膜を作成するのは難しいため、１２μｍのＰＥＴに５μｍの樹脂層を形成する。活性光線硬化樹脂層では、水銀灯で１６０Ｗ／ｃｍの露光エネルギーでＣＳ  ５ｍで２回通し硬化をさせた後に測定を行った。
【００８８】
測定は、１ｃｍ幅のサンプルをエアーチャックに固定し引っ張り試験を行なった。破断伸度は、引っ張り時の樹脂又は活性放線硬化樹脂の破断又は亀裂が入った時の破断点伸びから破断伸度を求めた。
【００８９】
本発明の中間層における重合度が１０００以上のポリビニルブチラール樹脂としては積水化学工業（株）製のエスレックＢＨ−３、ＢＸ−１、ＢＸ−２、ＢＸ−５、ＢＸ−５５、ＢＨ−Ｓ、電気化学工業（株）製のデンカブチラール＃４０００−２、＃５０００−Ａ、＃６０００−ＥＰ等が市販されている。中間層のポリブチラールの熱硬化樹脂としては熱硬化前の重合度に限定はなく低重合度の樹脂でもよく、熱硬化にはイソシアネート硬化剤やエポキシ硬化剤等を用いることができ、熱硬化条件は５０〜９０℃で１〜２４時間が好ましい。中間層の厚みは０．１〜１．０μｍが好ましい。
【００９０】
また、本発明の画像記録体は、支持体上に、定型フォーマット情報が印刷で施された、熱拡散性染料を受容して画像形成可能な受像層を有し、さらに、前記受像層上の少なくとも定型フォーマット情報が印刷された領域上に０〜３重量％のワックスを含む活性光線硬化樹脂層が設けられ、熱拡散性染料を受容して画像が形成される領域では受像層表面が露出し、その上に熱接着性樹脂を含む転写層を有する。
【００９１】
本発明の画像記録体の受像層表面が露出している領域には、熱拡散性染料の熱転写による画像記録を行ない、活性光線硬化樹脂層が設けられた所定領域に、溶融型熱転写による文字情報の記録を行った画像記録体上に少なくとも、熱接着性樹脂、透明保護層及び／又は光学変化素子層転写層からなる転写箔を熱転写する。
【００９２】
以下、本発明の画像記録体の実施の形態を図１５に断面図として図解的に示す。画像記録体１００は、支持体１０１上に受像層１０２が形成され、その上の一部に、定型フォーマット印刷１０３が設けられ、さらに、その上にＯＰニス層の透明樹脂層１０４が、顔画像印字領域１０２ａを除く領域に設けられてなる。
【００９３】
比較として、従来のカード基材の断面図を図１７に示す。
【００９４】
本発明のカード基材が用いられる際、図１６に示すように、透明樹脂層１０４上の所定領域には、溶融転写型熱記録で文字情報１０５が記録され、また、顔画像印字領域１０２ａには、昇華転写型熱記録で顔画像１０６が記録される。
【００９５】
さらに、図１８に示すように、カード表面全面に渡って透明な熱接着性樹脂層１０７が熱転写により形成されて表面保護された文字画像入りの画像記録体１１２を得ることができる。
【００９６】
図１９に示すものは、熱接着性樹脂層１０７上に、活性光線硬化保護層１０８を形成して、さらに、耐久性を向上させた画像記録体１１３である。
【００９７】
本発明における画像記録体の支持体としては、例えば、紙、コート紙、および合成紙（ポリプロピレン、ポリスチレンもしくは、それらを紙とはり合せた複合材料）等の各種紙類、白色の塩化ビニル系樹脂シート、白色のポリエチレンテレフタレートベースフィルム、透明のポリエチレンテレフタレートベースフィルム、ポリエチレンナフタレートベースフィルム等の各種プラスチックフィルムないしシート等を挙げることができ、後に形成される転写画像の鮮明性を高めるために、例えば、チタンホワイト、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレー、炭酸カルシウム等の白色顔料が添加されているのが好ましい。又、プラスチックフィルムであれば延伸時にボイドを形成して白色にしてもよい。
【００９８】
支持体の厚みは通常１００〜１，５００μｍ、好ましくは１００〜１，０００μｍである。なお、必要に応じて、エンボス、サイン、ＩＣメモリー、光メモリー、磁気記録層、他の印刷等を設けておくのも良い。
【００９９】
受像層用バインダーとしては公知の樹脂を用いることができ、例えばポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルと他のモノマー（例えばイソブチルエーテル、プロピオン酸ビニル等）との共重合体樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、三酢酸セルロース、ポリスチレン、スチレンと他のモノマー（例えばアクリル酸エステル、アクリロニトリル、塩化エチレン等）との共重合体、ビニルトルエンアクリレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、およびそれらの変性物などを挙げることができるが、好ましいのは、ポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルと他のモノマーとの共重合体、ポリエステル樹脂、ポリビニルアセタ−ル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、スチレンと他のモノマーとの共重合体、エポキシ樹脂である。
【０１００】
本発明においては、定型フォーマット印刷が受像層上に施される。印刷用のインクとして樹脂からなる受像層に対して接着性又は染着性を有し、滲まないものを採用して通常の印刷法により形成すればよい。
【０１０１】
本発明の透明樹脂層は、通常のオフセット印刷法、スクリーン印刷法によって、それらに用いられるインキバインダー、及びワニスを用いることによって形成でき、このようなバインダーおよびワニスとしては、ロジン変性フェノール樹脂、マレイン酸ロジン、重合ロジンエステルなどが挙げられる。
【０１０２】
本発明の透明樹脂層としては、紫外線硬化型のインキバインダー及びワニスが特に好ましく、これらが紫外線等で硬化された形で用いられ、ラジカル重合性のポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ロジン変性エポキシアクリレート、ロジン変性アクリレート、などの多官能オリゴアクリレートを挙げることができる。
【０１０３】
本発明においては、この樹脂層にスベリ性の点からワックスが介在することが好ましく、添加量は０〜３重量％の範囲が好ましく、より好ましくは０〜２重量％である。ワックス量が３重量％以上であると、１）熱接着性樹脂、２）透明保護層及び／又は光学変化素子層転写層からなる転写箔を転写した際に層間の接着性が劣化し密着性が問題となる。
【０１０４】
ワックスとしては具体的には、カルナバ蝋、キャンデリラワックス、木蝋、オウリキュリー蝋、ライスワックス、ホホバ油及びエスパル蝋等の植物蝋；蜜蝋、昆虫蝋、セラック蝋及び鯨蝋、ラノリン等の動物蝋；パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ペトロラタム、エステルワックス及び酸化ワックス等の石油蝋；ならびに、モンタン蝋、オゾケライトおよびセレシン等の鉱物蝋；フィッシャートロプシュワックス、ポリエチレンワックス、モンタンワックス誘導体、パラフィンワックス誘導体、マイクロクリスタリンワックス誘導体、硬化ヒマシ油、硬化ヒマシ油誘導体等の合成ワックス等、所謂ワックス類を挙げることができ、更にこれらのワックス類などの他に、パルミチン酸、ステアリン酸、マルガリン酸及びべへン酸等の高級脂肪酸；パルミチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、マルガニルアルコール、ミリシルアルコールおよびエイコサノール等の高級アルコール；パルミチン酸セチル、パルミチン酸ミリシル、ステアリン酸セチル及びステアリン酸ミリシル等の高級脂肪酸エステル；アセトアミド、プロピオン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、ベヘン酸アミド及びアミドワックス等のアミド類；ならびにステアリルアミン、ベヘニルアミン及びパルミチルアミン等の高級アミン類なども好ましく用いられる。その他、低分子量のポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリカプロラクトン等の低融点の熱可塑性樹脂を使用することもできる。
【０１０５】
これらには、印刷適性改良のためにジエチレングリコールジメタクリレート等のアクリレートモノマーを、さらに、ベンゾイルパーオキサイド、ベンゾフェノン等の重合開始剤や増感剤を通常の範囲で用いることができる。
【０１０６】
本発明の透明樹脂層の厚さは、０．１〜１５μの範囲が好ましく、０．５〜１０μがさらに好ましい。この範囲をはずれると、定型フォーマット印刷の被覆性が十分でなくなったり、段差が生じて感熱記録に支障をきたすことがある。
【０１０７】
本発明の透明な熱接着性樹脂からなる保護層は、耐熱性の支持体、例えばポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム上に塗工によって形成された透明保護層リボンもしくは透明保護箔をあらかじめ用意しておき、これを、例えば、サーマルヘッドや熱転写ロールを用いて、熱転写することによって形成することができる。
【０１０８】
前記熱接着性樹脂としては、例えば塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、セルロース系樹脂、スチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、尿素系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ＳＥＢＳ樹脂、ＳＥＰＳ樹脂、およびそれらの変性物などを挙げることができる。
【０１０９】
上述した樹脂の中でも本発明の目的に好ましいのは、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ＳＥＢＳ樹脂、ＳＥＰＳ樹脂である。これらの樹脂は一種を単独に用いることもできるし、二種以上を組み合わせて用いることもできる。
【０１１０】
この熱接着性樹脂透明保護層は、２層以上の構成であってもよい。特に、後述する活性光線硬化保護層を形成する場合には、２層以上であることが好ましい。この場合、活性光線硬化保護層と接する熱接着性樹脂層はこの上に形成される活性光線硬化性保護層と接着性の良好なものが選ばれるが、上述した樹脂の中から選ばれるのが好ましい。
【０１１１】
本発明の透明保護層及び／又は光学変化素子層転写層は、前記したものが用いられ、光学変化素子（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｖａｒｉａｂｌｅ  Ｄｅｖｉｃｅ：ＯＶＤ）とは、１）キネグラムのような回析格子の２次元のＣＧ画像であり、線画像構成の画像が移動、回転、膨張、縮小等自由に動き変化する点に特徴があるもの、２）Ｐｉｘｅｌｇｒａｍのような画像がポジとネガに変化する特徴があるようなもの、３）ＯＳＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｓｅｃｕｒｉｔｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）のような色が金色から緑色に変化するもの、４）ＬＥＡＤ（Ｌｏｎｇ  Ｌａｓｔｉｎｇ  Ｅｃｏｎｏｍｉｃａｌ  Ａｎｔｉｃｏｐｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）のような像画が変化して見えるもの、５）ストライブ型ＯＶＤ、６）金属箔等を表し、日本印刷学会誌（１９９８年）第３５巻第６号Ｐ４８２〜Ｐ４９６記載に有るような用紙の素材、特殊な印刷技法、特殊インキ等でセキュリティを維持してもよい。この発明においては、ホログラムがとくに好ましい。
【０１１２】
本発明で用いるホログラムは、レリーフホログラム、フレネルホログラム、フラウンホーファーホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザー再生ホログラム、リップマンホログラム、レインボーホログラム等の白色再生ホログラム、カラーホログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マルチフレックスホログラム、ホログラムフレックステレオグラム、ホログラフィック回折格子等任意に採用できる。
【０１１３】
光学変化素子層は、例えばホログラムシートを受像層上に接着することによって形成することができる。ホログラムシートとしては、レリーフ型ホログラムシートを使用することができる。レリーフ型ホログラムシートは、支持体フィルム上にホログラム形成層とホログラム効果層とをこの順に積層してなる。具体的に言うと、ホログラムシートは、例えばポリエチレンテフタレートフィルム等の支持体フィルムの表面に、常温で固体であり、しかも熱形成性を有する樹脂層、例えば常温で固体の熱可塑成性の電子線硬化性樹脂層（ホログラム形成層）を形成し、この面にホログラムの干渉模様が凹凸状に形成されているホログラム原版を加圧圧縮させて、凹凸形状を樹脂表面に転写し、硬化し、さらに凹凸形状の表面に十分な透明性とある角度での大きな反射性を兼ね備え、かつホログラム形成層と屈折率が異なる材料（たとえばＴｉＯ2 、ＳｉＯ2、ＺｎＳの蒸着膜）からなる薄膜のホログラム効果層を形成することによって得ることができる。昼光、照明光等の白色光で像が再生されるホログラムは、通常の状態でもホログラム像が観察されるので、装飾性にも優れている。一方、レーザー光によって像が再生されるタイプのものは、改ざんの発見性に優れている。
【０１１４】
また、本発明では、ビーズ保有層を設けることができ、本発明にかかるビーズを有するビーズ保有層は、人射光の一部に位相差を付与して再合成し、特定波長領域の光成分を干渉により強調し入射光とは異なる色調の着色光を入射光進入方向へ帰還させ、反射基板と、基板上に整列配置された透明なビーズとを有する。ビーズを有するビーズ保有層は、反射基板上に樹脂層を設け、更にその表層側にガラス等よりなるビーズ径が１０〜６０μｍ、好ましくは１５〜４０μｍのビーズを多数整列配置して構成され、ビーズの光屈折率は１．６〜２．１が好ましく、１．７〜２．０が更に好ましい。外方より入射した入射光は、ビーズ内に進行し、少なくともその一部は透明なビーズより樹脂層を介して反射基板に反射され、再度ビーズに帰還し、外方へ進行する。ビーズの外方へ突出している面は球面であるので、人射角の多少の変動があっても同様な作用を生じ、入射方向へ反射光を帰還させることができる。
【０１１５】
次に、本発明では、反射性層を設けることができ、本発明の反射性層は、反射性層としては、少なくとも金属薄膜、金属酸化物薄膜、光干渉性物質及び光回折層から選ばれる。反射性層は干渉性物質、金属酸化物、雲母等干渉色を発現できる粉末を含有する塗料を任意の紋様に印刷することで設けることが好ましい。
【０１１６】
金属酸化物としては二酸化チタン、酸化鉄、低次酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化コバルト、酸化ニッケル、チタン酸コバルトなど、及びＬｉ2ＣｏＴｉ3Ｏ8あるいはＫＮｉＴｉＯｘなどの複合酸化物、あるいはこれらの金属酸化物の混合物などが挙げられるが、干渉色を発現できる金属酸化物であれば、特にこれらに限定されるものではない。干渉物質層としては、金属膜の表面を酸化することによって得られる干渉色を持った金属膜を用いることができる。これらの金属膜は、金属アルミニウム、金属チタン、ステンレス膜などを陽極酸化する方法や、干渉色を発現できる金属酸化物をゾルーゲル法によって調製し、これをコートする方法あるいは干渉色を発現できる金属のアルコキシドを金属膜に塗布してこれを加熱分解する方法、及びＣＶＤやＰＶＤのような蒸着操作法などが拳げられる。
【０１１７】
本発明は、画像記録体の表面若しくは画像形成層側の上層の硬さをビッカース硬度で評価し、ビッカース硬度を２〜１５０の範囲にすることにより、高い画像耐久性を得るものである。ビッカース硬度が２未満の場合、画像耐久性に劣り摩擦等で画像がカード表面が削れてしまう。一方、ビッカース硬度が１５０より大きい場合、膜が堅すぎてスクラッチバリによる表面の亀裂、折れ曲げ耐性劣化等が起きる。
【０１１８】
尚、本発明におけるビッカース硬度Ｈ、ｈ、ｈ１又はｈ２は次のようにして得た値で定義する。
【０１１９】
対稜角８０゜の三角圧子を用い、
使用機器      ：薄膜硬度計  ＭＨＡ−４００（日本電気株式会社製）
荷重          ：０．１ｍｇ〜０．２ｇ
押し込み速度  ：１〜２５ｎｍ／ｓｅｃ
測定環境      ：２０〜３０℃／４０〜８０％ＲＨ
押し込み深さ  ：表面から３μｍ以内
なる条件で圧電アクチュエータにより、ダイヤモンド三角錐針を押し込む。このとき、荷重Ｗで押し込んだ時の押し込み深さをＸとすると、深さａでの硬さをＨ（ａ）として、
Ｗ（Ｘ）＝Ｋ∫Ｈ（ａ）（Ｘ−ａ）ｄａ（Ｋ：定数）
硬さに変化の無い均一材料であれば、
Ｗ（Ｘ）＝１／２ＫＨＸ２
従って、押し込み深さＸの２乗に対する荷重Ｗ（Ｘ）のグラフは直線となり、傾きよりＨ（ビッカース硬度）を求めることができる。
【０１２０】
次に、この発明の実施例を説明する。図２０の表１に樹脂層（保護層付与剤）の実施例を示し、図２１の表２にＯＰニス層の実施例を示し、図２２に評価結果を示す。
［実施例］
合成例１（本発明樹脂の作成）
窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタアクリル酸メチル５８部、ベンジルメタクリレート３０部、メタアクリル酸１２部とエタノール５００部、α、α′−アゾビスイソブチロニトリル３部を入れ、窒素気流中８０℃のオイルバスで６時間反応させた。その後、トリエチルアンモニウムクロライド３部、グリシジルメタクリレート０．６部を加え、３時間反応させ目的のアクリル系共重合体の合成バインダー１を得た。
【０１２１】
Ｍｗ．２１０００、酸価６２．９
合成例２（本発明樹脂の作成）
窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタアクリル酸メチル４０部、ベンジルメタクリレート３０部、シクロヘキシルアクリレート２０部、メタアクリル酸１２部とエタノール５００部、α、α′−アゾビスイソブチロニトリル３部を入れ、窒素気流中８０℃のオイルバスで６時間反応させた。その後、トリエチルアンモニウムクロライド３部、グリシジルメタクリレート０．６部を加え、３時間反応させ目的のアクリル系共重合体の合成バインダー２を得た。
【０１２２】
Ｍｗ．２２０００、酸価６３．１
合成例３（本発明樹脂の作成）
窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタアクリル酸メチル４０部、ベンジルメタクリレート２２部、シクロヘキシルアクリレート２０部、メタアクリル酸１８部とエタノール５００部、α、α′−アゾビスイソブチロニトリル３部を入れ、窒素気流中８０℃のオイルバスで６時間反応させた。その後、トリエチルアンモニウムクロライド３部、グリシジルメタクリレート０．３部を加え、３時間反応させ目的のアクリル系共重合体の合成バインダー３を得た。
【０１２３】
Ｍｗ．１９０００、酸価１０２．７
合成例４（本発明樹脂の作成）
窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタアクリル酸メチル６０部、ベンジルメタクリレート３５部、メタアクリル酸５部とエタノール５００部、α、α′−アゾビスイソブチロニトリル３部を入れ、窒素気流中８０℃のオイルバスで６時間反応させた。その後、トリエチルアンモニウムクロライド１０部、グリシジルメタクリレート６部を加え、３時間反応させ目的のアクリル系共重合体の合成バインダー３を得た。
【０１２４】
Ｍｗ．２００００、酸価０．１
以下、実施例を挙げてこの発明を詳細に説明するが、この発明の態様はこれに限定されない。なお、以下において「部」は「重量部」を示す。
【０１２５】
−顔画像と属性情報とフォーマット印刷を設けたカードの作成−
（支持体の作成）
厚さ３５０μｍのポリエチレンテレフタレート〔帝人（株）製：テトロンＨＳ３５０〕の両面に白色ポリプロピレン樹脂〔三菱油化（株）製：ノーブレンＦＬ２５ＨＡ〕をエクストルージョンラミネート法で厚み５０μｍになるように設けた。得られた複合樹脂シートの一方の面に２５Ｗ／ｍ2・分でコロナ放電処理を施し、このシートを支持体とした。
【０１２６】
（昇華型感熱転写記録用の受像層の作成）
前記支持体のコロナ放電処理した面に下記組成の第１受像層形成用塗工液、第２受像層形成用塗工液及び第３受像層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが０．２μｍ、２．５μｍ、０．５μｍになるように積層することにより受像層を形成した。
【０１２７】
〈第１受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂                              ９部
〔積水化学工業（株）製：エスレックＢＬ−１〕
イソシアネート                                        １部
〔日本ポリウレタン工業（株）製：コロネートＨＸ〕
メチルエチルケトン                                  ８０部
酢酸ブチル                                          １０部
〈第２受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂                              ６部
〔積水化学工業（株）製：エスレックＢＸ−１〕
金属イオン含有化合物（化合物ＭＳ）                    ４部
メチルエチルケトン                                  ８０部
酢酸ブチル                                          １０部
〈第３受像層形成用塗工液〉
ポリエチレンワックス                                  ２部
〔東邦化学工業（株）製：ハイテックＥ１０００〕
ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体                ８部
〔東邦化学工業（株）製：ハイテックＳ６２５４〕
メチルセルロース〔信越化学工業（株）製：ＳＭ１５〕  ０．１部
水                                                  ９０部
その上に、定型フォーマットをＵＶ印刷インキ（ＦＤ−Ｏ墨、城東インキ製）を用いて、オフセット印刷により設けた。さらに、その上の昇華熱転写画像記録領域を除いた領域に、透明なＵＶ硬化型ＯＰニスをオフセット印刷により設け、本発明のＩＤカード用基材を得た。
【０１２８】
ＯＰニス素材については、図２１の表２に示すようなものを用いた。
【０１２９】
（筆記層の作成）
支持体上の受像層とは反対面に王子油化（株）製：ユポＤＦＧ−６５シートを貼合し下記組成の第１筆記層形成用塗工液、第２筆記層形成用塗工液及び第３筆記層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが５μｍ、１５μｍ、０．２μｍになる様に積層することにより受像層を形成した。
〈第１筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂〔東洋紡績（株）製：バイロン２００〕    ８部
イソシアネート                                          １部
〔日本ポリウレタン工業（株）製：コロネートＨＸ〕
カーボンブラック                                        微量
二酸化チタン粒子〔石原産業（株）製：ＣＲ８０〕          １部
メチルエチルケトン                                    ８０部
酢酸ブチル                                            １０部
〈第２筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂                                        ４部
〔東洋紡績（株）製：バイロナールＭＤ１２００〕
シリカ                                                  ５部
二酸化チタン粒子〔石原産業（株）製：ＣＲ８０〕          １部
水                                                    ９０部
〈第３筆記層形成用塗工液〉
ポリアミド樹脂〔三和化学工業（株）製：サンマイド５５〕  ５部
メタノール                                              ９５部
得られた筆記層の中心線平均粗さは１．３４μｍであった。
（昇華型感熱転写記録用のインクシートの作成）
裏面に融着防止加工した厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートシートに下記組成のイエローインク層形成用塗工液、マゼンタインク層形成用塗工液、シアンインク層形成用塗工液を各々の厚みが１μｍになるように設け、イエロー、マゼンタ、シアンの３色のインクシートを得た。
〈イエローインク層形成用塗工液〉
イエロー染料（化合物Ｙ−１）                              ３部
ポリビニルアセタール                                  ５．５部
〔電気化学工業（株）製：デンカブチラールＫＹ−２４〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン                １部
〔東亜合成化学工業（株）製：レデダＧＰ−２００〕
ウレタン変性シリコンオイル                            ０．５部
〔大日精化工業（株）製：ダイアロマーＳＰ−２１０５〕
メチルエチルケトン                                      ７０部
トルエン                                                ２０部
〈マゼンタインク層形成用塗工液〉
マゼンタ染料（化合物Ｍ−１）                              ２部
ポリビニルアセタール                                  ５．５部
〔電気化学工業（株）製：デンカブチラールＫＹ−２４〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン                ２部
〔東亜合成化学工業（株）製：レデダＧＰ−２００〕
ウレタン変性シリコンオイル                            ０．５部
〔大日精化工業（株）製：ダイアロマーＳＰ−２１０５〕
メチルエチルケトン                                      ７０部
トルエン                                                ２０部
〈シアンインク層形成用塗工液〉
シアン染料（化合物Ｃ−１）                            １．５部
シアン染料（化合物Ｃ−２）                            １．５部
ポリビニルアセタール                                  ５．６部
〔電気化学工業（株）製：デンカブチラールＫＹ−２４〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン                １部
〔東亜合成化学工業（株）製：レデダＧＰ−２００〕
ウレタン変性シリコンオイル                              ０．５部
〔大日精化工業（株）製：ダイアロマーＳＰ−２１０５〕
メチルエチルケトン                                        ７０部
トルエン                                                  ２０部
（溶融型感熱転写記録用のインクシートの作成）
裏面に融着防止加工した厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートシートに下記組成のインク層形成用塗工液を厚みが２μｍになるように塗布乾燥してインクシートを得た。
〈インク層形成用塗工液〉
カルナバワックス                                            １部
エチレン酢酸ビニル共重合体                                  １部
〔三井デュポンケミカル社製：ＥＶ４０Ｙ〕
カーボンブラック                                            ３部
フェノール樹脂〔荒川化学工業（株）製：タマノル５２１〕      ５部
メチルエチルケトン                                        ９０部
（顔画像の形成）
受像層と昇華型感熱転写記録用のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート側からサーマルヘッドを用いて出力０．２３Ｗ／ドット、パルス幅０．３〜４．５ｍ秒、ドット密度１６ドット／ｍｍの条件で加熱することにより画像に階調性のある人物画像を受像層に形成した。この画像においては上記色素と受像層のニッケルが錯体を形成している。
（文字情報の形成）
ＯＰニス部と溶融型感熱転写記録用のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート側からサーマルヘッドを用いて出力０．５Ｗ／ドット、パルス幅１．０ｍ秒、ドット密度１６ドット／ｍｍの条件で加熱することにより文字情報をＯＰニス上に形成した。
【０１３０】
下記組成１の熱接着性樹脂を２５μのＰＥＴ上に塗布した保護箔を用いて、この記録されたカード表面に、熱転写方式で、厚さ２．５μの透明保護層を転写形成して、ＩＤカードを作成した。
【０１３１】
上記により顔画像と属性情報とフォーマット印刷を設けたカードの作成を行った。
−転写箔１の作成−
ダイアホイルヘキスト（株）製ポリエチレンテレフタレート（Ｓ−２５）の片面に下記処方の剥離層、中間層及び接着層をワイヤーバーコーティングにて塗工乾燥して透明保護層転写箔１を得た。
【０１３２】
（剥離層）    膜厚    ０．５μｍ
アクリル系樹脂
（三菱レイヨン（株）製、ダイアナールＢＲ−８７）            ５部
ポリビニルアセトアセタール（ＳＰ値：９．４）
（積水化学（株）、ＫＳ−１）                                ５部
メチルエチルケトン                                        ４０部
トルエン                                                  ５０部
（中間層）    膜厚２μｍ
スチレン系樹脂（クラレ（株）、セプトン２００６）            ５部
ポリビニルブチラール樹脂（積水化学（株）、ＢＬ−Ｓ）        ５部
トルエン                                                  ９０部
（接着層）    膜厚２μｍ
スチレン系樹脂（旭化成（株）、タフテックＭ−１９５３）      ６部
脂環族飽和炭化水素樹脂（荒川化学（株）、アルコンＰ１００）  ３．５部
炭酸カルシウム（奥多摩工業（株）、タマパールＴＰ−１２３）  ０．５部
トルエン                                                  ９０部
上記の組成の剥離層、中間層、接着層で構成される転写箔１を作成した。
【０１３３】
さらに画像、文字が記録された前記受像体上に前記構成からなる透明保護層を有する各実施例、比較例記載の転写箔を用いて表面温度２００℃に加熱した、直径５ｃｍゴム硬度８５のヒートローラーを用いて圧力１５０ｋｇ／ｃｍ2で１．２秒間熱をかけて転写をおこなった。
【０１３４】
実施例１
前記転写箔１が転写された前記受像体上に前記紫外線硬化樹脂含有塗布液を２０ｇ／ｍ2の塗布量になるように特定の地模様を持つグラビアロールコーターにより塗布し、下記の硬化条件にて紫外線硬化樹脂含有塗布液（図２０の表１のバインダー樹脂層１）を硬化させて紫外線硬化保護層を形成した。
【０１３５】
硬化条件
光照射源                                ６０ｗ／ｃｍ2の高圧水銀ランプ
照射距離                                          １０ｃｍ
照射モード                                  ３ｃｍ／秒で光走査
評価方法
上記方法で作成した各サンプルについてスクラッチ強度を評価した。
−転写箔２の作成−
ダイアホイルヘキスト（株）製ポリエチレンテレフタレート（Ｓ−２５）の片面に下記処方の剥離層、中間層及び接着層をワイヤーバーコーティングにて塗工乾燥して透明保護層転写箔２を得た。
【０１３６】
（剥離層）    膜厚    ０．５μｍ
アクリル系樹脂（三菱レイヨン（株）製、ダイアナールＢＲ−８７）  ５部
ポリビニルアセトアセタール
（ＳＰ値：９．４）（積水化学（株）、ＫＳ−１）          ５部
メチルエチルケトン                                            ４０部
トルエン                                                      ５０部
（光学変化素子層）    膜厚２μｍ
ホログラム画像
（接着層）            膜厚２μｍ
スチレン系樹脂（旭化成（株）、タフテックＭ−１９１３）        ６部
脂環族飽和炭化水素樹脂
（荒川化学（株）、アルコンＰ１００）            ３．５部
炭酸カルシウム
（奥多摩工業（株）、タマパールＴＰ−１２３）      ０．５部
トルエン                                                    ９０部
上記の組成の剥離層、ホログラム画像層、接着層で構成される転写箔２を作成した。
【０１３７】
さらに画像、文字が記録された前記受像体上に前記構成からなる透明保護層を有する各実施例、比較例記載の転写箔を用いて表面温度２００℃に加熱した、直径５ｃｍゴム硬度８５のヒートローラーを用いて圧力１５０ｋｇ／ｃｍ2で１．２秒間熱をかけて転写をおこなった。
【０１３８】
実施例２
前記転写箔２が転写された前記受像体上に前記紫外線硬化樹脂含有塗布液を２０ｇ／ｍ２の塗布量になるように特定の地模様を持つグラビアロールコーターにより塗布し、下記の硬化条件にて紫外線硬化樹脂含有塗布液（図２０の表１のバインダー樹脂層１）を硬化させて紫外線硬化保護層を形成した。
【０１３９】
硬化条件
光照射源                            ６０ｗ／ｃｍ2の高圧水銀ランプ
照射距離                                            １０ｃｍ
照射モード                                      ３ｃｍ／秒で光走査
評価方法
上記方法で作成した各サンプルについてスクラッチ強度を評価した。
【０１４０】
実施例３
−保護性付与転写箔の作成−
０．１μｍのフッ素樹脂層の離型層を設けた厚み２０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムー２の離型層上に活性光線硬化層形成塗工液、中間層形成塗工液、接着層形成塗工液をこの順に塗布乾燥し積層することにより熱転写箔を作成した。
〈活性光線硬化層形成塗工液〉
図２０の表１のバインダー樹脂層１〜７を使用
塗布後の硬化は１６０Ｗ／ｃｍ2の高圧水銀ランプを照射距離１８ｃｍでＣＳ５ｍの光走査で行った。
【０１４１】
塗布膜厚は、８．０μｍであった。
〈中間層形成塗工液〉  膜厚１．０μｍ
ＢＸ−１（ポリビニルブチラール樹脂）                            ９部
〔積水化学（株）製：エスレックＢシリーズ〕
メチルエチルケトン                                            ９０部
コロネートＨＸ（日本ポリウレタン（株）製）                  １部
硬化剤添加時の硬化は５０℃、２４時間で行った。
〈接着層形成塗工液〉  膜厚０．５μｍ
ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体              ８部
〔東邦化学工業（株）製：ハイテックＳ６２５４Ｂ〕
ポリアクリル酸エステル共重合体                              ２部
〔日本純薬（株）製：ジュリマーＡＴ５１０〕
水                                                        ４５部
エタノール                                                ４５部
−カードへの保護層の形成−
図２０の表１で作成したカードの記録面と熱転写シートの転写層面を重ねて、外径３ｃｍの金属ローラーの周囲にシリコーンゴム（ゴム硬度８０）をつけたヒートローラーの表面温度を１９０℃に加熱し、熱転写シート側から押圧して、転写速度２３ｍｍ／秒、線圧１０ｋｇ／ｃｍの条件で転写し、熱転写シートの支持体を剥離してカードに保護層を形成した。
【０１４２】
実施例４
−保護性付与転写箔の作成−
０．１μｍのフッ素樹脂層の離型層を設けた厚み２０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムー２の離型層上に活性光線硬化層形成塗工液、中間層形成塗工液、バリヤ層塗工液、接着層形成塗工液をこの順に塗布乾燥し積層することにより熱転写箔を作成した。
〈活性光線硬化層形成塗工液〉
図２０の表１のバインダー樹脂層１〜７を使用
塗布後の硬化は１６０Ｗ／ｃｍ2の高圧水銀ランプを照射距離１８ｃｍでＣＳ５ｍの光走査で行った。
【０１４３】
塗布膜厚は、８．０μｍであった。
〈中間層形成塗工液〉  膜厚１．０μｍ
ＢＸ−１（ポリビニルブチラール樹脂）                          ９部
〔積水化学（株）製：エスレックＢシリーズ〕
メチルエチルケトン                                            ９０部
コロネートＨＸ（日本ポリウレタン（株）製）                      １部
硬化剤添加時の硬化は５０℃、２４時間で行った。
＜バリヤー層形成塗工液＞膜厚１．８μｍ
ニッポランＮ５２３２（日本ポリウレタン（株）製）              ９０部
トスパール１２０  （東芝シリコーン（株）製）                    １部
〈接着層形成塗工液〉  膜厚０．５μｍ
ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体                  ８部
〔東邦化学工業（株）製：ハイテックＳ６２５４Ｂ〕
ポリアクリル酸エステル共重合体                                  ２部
〔日本純薬（株）製：ジュリマーＡＴ５１０〕
水                                                            ４５部
エタノール                                                    ４５部
−カードへの保護層の形成−
図２０の表１で作成したカードの記録面と熱転写シートの転写層面を重ねて、外径３ｃｍの金属ローラーの周囲にシリコーンゴム（ゴム硬度８０）をつけたヒートローラーの表面温度を１９０℃に加熱し、熱転写シート側から押圧して、転写速度２３ｍｍ／秒、線圧１０ｋｇ／ｃｍの条件で転写し、熱転写シートの支持体を剥離してカードに保護層を形成した。
【０１４４】
実施例５
−保護性付与転写箔の作成−
０．１μｍのフッ素樹脂層の離型層を設けた厚み２０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムー２の離型層上に活性光線硬化層形成塗工液、中間層形成塗工液、バリヤー層塗工液、接着層形成塗工液をこの順に塗布乾燥し積層することにより熱転写箔を作成した。
〈活性光線硬化層形成塗工液〉
図２０の表１のバインダー樹脂層１〜７を使用
塗布後の硬化は１６０Ｗ／ｃｍ2の高圧水銀ランプを照射距離１８ｃｍでＣＳ５ｍの光走査で行った。
【０１４５】
塗布膜厚は、８．０μｍであった。
〈中間層形成塗工液〉  膜厚１．０μｍ
ＢＸ−１（ポリビニルブチラール樹脂）                          ９部
〔積水化学（株）製：エスレックＢシリーズ〕
メチルエチルケトン                                            ９０部
コロネートＨＸ（日本ポリウレタン（株）製）                      １部
硬化剤添加時の硬化は５０℃、２４時間で行った。
＜バリヤー層形成塗工液＞    膜厚０．５μｍ
タフテック１９１３（旭化成（株）製）                            １０部
〈接着層形成塗工液〉  膜厚０．５μｍ
ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体                  ８部
〔東邦化学工業（株）製：ハイテックＳ６２５４Ｂ〕
ポリアクリル酸エステル共重合体                                  ２部
〔日本純薬（株）製：ジュリマーＡＴ５１０〕
水                                                            ４５部
エタノール                                                    ４５部
−カードへの保護層の形成−
図２０の表１で作成したカードの記録面と熱転写シートの転写層面を重ねて、外径３ｃｍの金属ローラーの周囲にシリコーンゴム（ゴム硬度８０）をつけたヒートローラーの表面温度を１９０℃に加熱し、熱転写シート側から押圧して、転写速度２３ｍｍ／秒、線圧１０ｋｇ／ｃｍの条件で転写し、熱転写シートの支持体を剥離してカードに保護層を形成した。
【０１４６】
実施例６
−保護性付与転写箔の作成−
０．１μｍのフッ素樹脂層の離型層を設けた厚み２０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムー２の離型層上に活性光線硬化層形成塗工液、中間層形成塗工液、ホログラム層、中間層形成塗工液、バリヤー層塗工液、接着層形成塗工液をこの順に塗布乾燥し積層することにより熱転写箔を作成した。
〈活性光線硬化層形成塗工液〉
図２０の表１のバインダー樹脂層
塗布後の硬化は１６０Ｗ／ｃｍ2の高圧水銀ランプを照射距離１８ｃｍでＣＳ５ｍの光走査で行った。
【０１４７】
塗布膜厚は、８．０μｍであった。
〈中間層形成塗工液〉  膜厚０．５μｍ
ＢＸ−１（ポリビニルブチラール樹脂）                            ８部
〔積水化学（株）製：エスレックＢシリーズ〕
メチルエチルケトン                                            ９０部
コロネートＨＸ（日本ポリウレタン（株）製）                      ２部
硬化剤添加時の硬化は５０℃、２４時間で行った。
（光学変化素子層）  膜厚２μｍ
ホログラム画像
〈中間層形成塗工液〉  膜厚１．０μｍ
ＢＸ−１（ポリビニルブチラール樹脂）                          ８部
〔積水化学（株）製：エスレックＢシリーズ〕
メチルエチルケトン                                            ９０部
コロネートＨＸ（日本ポリウレタン（株）製）                      ２部
硬化剤添加時の硬化は５０℃、２４時間で行った。
＜バリヤー層形成塗工液＞  膜厚０．５μｍ
タフテック１９１３（旭化成（株）製）                          １０部
〈接着層形成塗工液〉  膜厚０．５μｍ
ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体                  ８部
〔東邦化学工業（株）製：ハイテックＳ６２５４Ｂ〕
ポリアクリル酸エステル共重合体                                  ２部
〔日本純薬（株）製：ジュリマーＡＴ５１０〕
水                                                            ４５部
エタノール                                                    ４５部
−カードへの保護層の形成−
図２０の表１で作成したカードの記録面と熱転写シートの転写層面を重ねて、外径３ｃｍの金属ローラーの周囲にシリコーンゴム（ゴム硬度８０）をつけたヒートローラーの表面温度を１９０℃に加熱し、熱転写シート側から押圧して、転写速度２３ｍｍ／秒、線圧１０ｋｇ／ｃｍの条件で転写し、熱転写シートの支持体を剥離してカードに保護層を形成した。
【０１４８】
実施例７
−保護性付与転写箔の作成−
０．１μｍのフッ素樹脂層の離型層を設けた厚み２０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムー２の離型層上に活性光線硬化層形成塗工液、バリヤー層形成塗工液、接着層形成塗工液をこの順に塗布乾燥し積層することにより熱転写箔を作成した。
〈活性光線硬化層形成塗工液〉
図２０の表１のバインダー樹脂層１〜７を使用
塗布後の硬化は１６０Ｗ／ｃｍ2の高圧水銀ランプを照射距離１８ｃｍでＣＳ５ｍの光走査で行った。
【０１４９】
塗布膜厚は、８．０μｍであった。
＜バリヤー層形成塗工液＞    膜厚０．５μｍ
タフテック１９１３（旭化成（株）製）                          １０部
〈接着層形成塗工液〉  膜厚０．５μｍ
ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体                  ８部
〔東邦化学工業（株）製：ハイテックＳ６２５４Ｂ〕
ポリアクリル酸エステル共重合体                                  ２部
〔日本純薬（株）製：ジュリマーＡＴ５１０〕
水                                                            ４５部
エタノール                                                  ４５部
−カードへの保護層の形成−
図２０の表１で作成したカードの記録面と熱転写シートの転写層面を重ねて、外径３ｃｍの金属ローラーの周囲にシリコーンゴム（ゴム硬度８０）をつけたヒートローラーの表面温度を１９０℃に加熱し、熱転写シート側から押圧して、転写速度２３ｍｍ／秒、線圧１０ｋｇ／ｃｍの条件で転写し、熱転写シートの支持体を剥離してカードに保護層を形成した。
［スクラッチ強度（耐摩耗性）の評価方法］
耐摩耗性試験機（ＨＥＩＤＯＮ−１８）を用い、０．１ｍｍφのサファイア針で２００ｇ、３００ｇと荷重を変化させて、作成されたカード若しくは偽造変造防止カードの表面を摺動させた。その時のカード表面の傷が付き始めた部分を測定し、何ｇで傷が付くか測定を行った。結果を、図２２に示す。
［密着性評価（碁盤目剥離評価）］
前記実施例により仕上がったカード表面にカッターで計２５升になるように切れ目を入れその上に、ニチバンテープ４０５を張り合わせ手でいきおいよく剥がして、カード表面の初期の状態と剥がした後の状態を比較し下記の評価項目で評価した。
【０１５０】
○；初期と後に差がない。
【０１５１】
○△；２５升中の１升が剥がれた。
【０１５２】
△；２５升中の２〜５升が剥がれた。
【０１５３】
△х；２５升中の１５〜６升が剥がれた。
【０１５４】
х；１５升以上が剥がれた。
【０１５５】
【発明の効果】
前記したように、本発明の転写箔及び画像記録体によれば、偽造、変造防止等の安全性（セキュリティ）を高めると共に、従来方式に比べてスクラッチ強度及び密着性が向上し、キズやシワの発生を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態の画像記録体作成装置の概略構成図である。
【図２】画像記録体の層構成を示す図である。
【図３】第２の実施の形態の画像記録体作成装置の概略構成図である。
【図４】画像記録体の層構成を示す図である。
【図５】第３の実施の形態の画像記録体作成装置の概略構成図である。
【図６】画像記録体の層構成を示す図である。
【図７】第４の実施の形態の画像記録体作成装置の概略構成図である。
【図８】画像記録体の層構成を示す図である。
【図９】第５の実施の形態の画像記録体作成装置の概略構成図である。
【図１０】画像記録体の層構成を示す図である。
【図１１】透明保護転写箔の実施の形態を示す図である。
【図１２】光学変化素子転写箔の実施の形態を示す図である。
【図１３】樹脂転写箔の実施の形態を示す図である。
【図１４】硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔の実施の形態を示す図である。
【図１５】画像記録体の他の実施の形態の構成を示す図である。
【図１６】従来の画像記録体の構成を示す図である。
【図１７】画像記録体の他の実施の形態の構成を示す図である。
【図１８】画像記録体の他の実施の形態の構成を示す図である。
【図１９】画像記録体の他の実施の形態の構成を示す図である。
【図２０】硬化樹脂層（保護層付与剤）の実施例を示す図である。
【図２１】ＯＰニス層の実施例を示す図である。
【図２２】評価結果を示す図である。
【符号の説明】
１  画像記録体作成装置
１０  カード基材供給部
２０  情報記録部
４０  保護付与部及び又は光学変化素子付与部
４３  光学変化素子転写箔
４４  硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔
５０  カード基材
５１  支持体
５２  受像層
６０  樹脂付与部
６４  透明保護転写箔
６６  硬化型転写箔
７０  透明保護層及び／又は光学変化素子転写層付与部／又は樹脂層付与部
９０  活性光線硬化層付与部及び／又は活性光線照射部
【図１】
0003858258.tif 000007
【図２】
0003858258.tif 000008
【図３】
0003858258.tif 000009
【図４】
0003858258.tif 000010
【図５】
0003858258.tif 000011
【図６】
0003858258.tif 000012
【図７】
0003858258.tif 000013
【図８】
0003858258.tif 000014
【図９】
0003858258.tif 000015
【図１０】
0003858258.tif 000016
【図１１】
0003858258.tif 000017
【図１２】
0003858258.tif 000018
【図１３】
0003858258.tif 000019
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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