(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルプレート（７）と蓋（６）との間において複数の壁（３，４）によって区画され並列に配列するように形成された複数のインク室（２）と、前記壁に形成されインク室内のインクを加圧する圧電素子と、該圧電素子によって加圧されたインクを前記インク室から外部へ噴出するノズルプレートに形成されたノズルとを備えたインクジェット式記録ヘッドの製造方法において、
前記複数の壁となる複数の基体（１０）とこれらを一端において連結する連結部（２１）とを一体成形する工程と、
前記複数の基体に、第１導電膜（２２）、圧電膜（２３）、及び第２導電膜（２４）を順に形成する工程と、
少なくとも前記基体の他端（２６，２７）を研削して、他端に形成された前記第１導電膜、前記圧電膜、及び前記第２導電膜を除去する工程と、
前記複数の基体の他端に蓋（６）を接着する工程と、
前記複数の基体から前記連結部を切り落とす工程と、
前記複数の基体の連結部を切り落としてできた端面にノズルプレートを接着する工程と
を備えたことを特徴とするインクジェット式記録ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記複数の壁は、前記インク室の容積を変化させる振動壁と固定壁とからなることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット式記録ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記第１導電膜及び前記第２導電膜は、無電解メッキ法により形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載のインクジェット式記録ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記圧電膜は、前記圧電膜の前に形成された前記第１導電膜を一方の電極とする電解析出法により形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェット式記録ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、インクジェットプリンタ等に搭載されるインクジェット式記録ヘッドの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、インクジェットプリンタ等に搭載されるインクジェット式記録ヘッドとして、電圧印加に伴って変形する圧電素子により、ヘッド内に形成されたインク室の容積を変化させ、この容積変化に伴って加圧されるインク室内のインクを、ノズルから外部へと噴出する圧力制御形のものが知られている。
【０００３】
また、このタイプのインクジェット式記録ヘッドとして、例えば特公昭６２−２２７９０号公報には、圧電素子として、スパッタ、スクリーン印刷などの薄膜形成法により形成されたチタン酸ジルコン酸鉛の薄膜（以下、ＰＺＴ薄膜という）を備えたものが記載されている。同公報記載の記録ヘッドによれば、別途成形加工された圧電素子を組み込む構造に比べ、小さなＰＺＴ薄膜を高密度にヘッド上に形成できるので、記録ヘッドの小型化を図ることができ、また、記録ヘッド作動時のエネルギー消費を抑制できるといった利点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記公報記載の記録ヘッドは、ある程度の面積が必要なＰＺＴ薄膜を、同一基板面上に複数形成していたため、インク室の配列ピッチが、ノズルの配列ピッチに比べてかなり大きくなっていた。
【０００５】
そのため、上記公報記載の記録ヘッドにおいては、インク室をノズルのごく近傍に配置することができず、インク室とノズルとの間を連絡するインク流路が相応に長くなり、その分、インク流路内で圧力損失を招き、ノズルからのインク噴射圧が低下しやすい、あるいはインクを噴射する際のレスポンスが悪くなるという問題があった。
【０００６】
また、複数のインク流路の内、両端部に配置された流路と中央に配置された流路とでは、それらの形状を同一にはできないため、インク流路の形状によってインク流路内における圧力の伝播状態に差異が生じ、ＰＺＴ薄膜に対して同一の駆動制御を行っても、各ノズルのインクの噴射状態が必ずしも均等にならず、例えばノズル毎に濃淡差が生じるなど、印字品質に悪影響を及ぼす恐れがあった。
【０００７】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、アクチュエータとして薄膜状の圧電素子を具備しながら、インク室をより高密度に配置可能なインクジェット式記録ヘッドを、容易に製造できるインクジェット式記録ヘッドの製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段、および発明の効果】
上記目的を達成するため、本発明においては次のような構成を採用した。
すなわち、本発明は、ノズルプレート（７）と蓋（６）との間において複数の壁（３，４）によって区画され並列に配列するように形成された複数のインク室（２）と、前記壁に形成されインク室内のインクを加圧する圧電素子と、該圧電素子によって加圧されたインクを前記インク室から外部へ噴出するノズルプレートに形成されたノズルとを備えたインクジェット式記録ヘッドの製造方法において、前記複数の壁となる複数の基体（１０）とこれらを一端において連結する連結部（２１）とを一体成形する工程と、前記複数の基体に、第１導電膜（２２）、圧電膜（２３）、及び第２導電膜（２４）を順に形成する工程と、少なくとも前記基体の他端（２６，２７）を研削して、他端に形成された前記第１導電膜、前記圧電膜、及び前記第２導電膜を除去する工程と、前記複数の基体の他端に蓋（６）を接着する工程と、前記複数の基体から前記連結部を切り落とす工程と、前記複数の基体の連結部を切り落としてできた端面にノズルプレートを接着する工程とを備えたことを特徴とする。
本発明において、前記複数の壁は、前記インク室の容積を変化させる振動壁と固定壁とからなると好ましい。
また、本発明において、前記第１導電膜及び前記第２導電膜は、無電解メッキ法により形成されると好ましい。
さらに、本発明において、前記圧電膜は、前記圧電膜の前に形成された前記第１導電膜を一方の電極とする電解析出法により形成されると好ましい。
【０００９】
以下、本発明の構成について、さらに詳しく説明する。
本発明のインクジェット式記録ヘッドにおいて、圧電膜は、圧電素子を薄膜状に形成したものである。そのため、圧電素子を低電圧で駆動でき、より高速な応答が可能である。また特に、薄膜状の圧電素子は、インク室を区画する壁に形成されている。そのため、薄膜状の圧電素子の面積を十分に大きく確保しても、複数のインク室全体の配列方向への寸法は、ノズルの配列面と略同一面に薄膜状の圧電素子を形成する場合に比べて格段に小さくなり、複数のインク室をきわめて高密度に配列できる。また、この様にインク室を高密度に配列すると、インク室をノズルのごく近傍に配置できるようになる。したがって、インク室からノズルに至るインク流路を短くして、インク流路内での圧力損失を抑制でき、インクを噴射する際のレスポンスが良好になる。更に、インク室をノズルと同等な密度で配列することもできるようになるので、インク室からノズルに至るインク流路の形状をすべて同一にすることもでき、これにより、各ノズルからのインクの噴射状態のばらつきは発生せず、印字品質が良好になる。
【００１０】
なお、上記構成において、薄膜状の圧電素子は、インク室を区画する壁に形成されていれば、１つのインク室に対して両側に形成されていても、片側に形成されていてもよい。通常、両側に形成されている方がインクを加圧するのには有利となるが、片側に形成されているものの方がコスト的に有利、あるいは駆動制御が容易となる場合もあるので、これらは任意に選択すればよい。片側の壁に圧電素子を形成する場合、もう一方の壁は剛性の高い変形不能な壁とする方が、圧力の損失を低減できる。
【００１１】
また、インク室の容積を変動させるには、圧電素子が壁の表裏いずれかに形成されていても、表裏双方に形成されていてもよい。
更に、インク室の容積を変動させる方法としては、圧電素子に電圧を印加した際にインク室の容積が減少してインクを加圧・噴射するものでも、圧電素子に電圧を印加した際にインク室の容積が増大してインクをインク室内へ吸入すると共に、電圧印加を停止した際にインク室の容積が元に戻ってインクを加圧・噴射するものでもよい。また、この様に圧電素子を変形させるには、圧電素子に電圧を印加するための電極が必要であるが、この電極は、圧電素子に所期の変形を発生させるべく、発生させる電界の向きと圧電素子の分極方向との関係を考慮してあれば、圧電素子の片側の面に配設されていても両側の面に配設されていてもよい。
【００１２】
また、隣接する２つのインク室の内、一方のインク室の容量を変化させるべく圧電素子を変形させた際に、他方のインク室には極力影響を及ぼさないようにすることが望ましい。
【００１３】
それには、隣接する２つのインク室間に配設される壁が、間隔を空けて略平行に配置された一対の変形可能な板状体からなり、各板状体の表面及び裏面の双方、あるいは表面又は裏面のいずれか一方に、前記圧電素子が薄膜状に形成されているとよい。
【００１４】
この様な構成にすれば、一方のインク室の容量を変化させるべく圧電素子を変形させた際に、一方の板状体が変形しても、他方の板状体は変形しないので、他方のインク室の容量は全く変化しない。したがって、隣接するインク室に影響を与えることなく各インク室の容量を任意に変化させることができる。
【００１５】
ところで、インクジェット式記録ヘッドは、種々の製造方法によって製造可能と考えられるが、従来技術として示した公報に記載の如く、平面状の基板表面に薄膜状の圧電素子を形成する場合とは異なり、単にスパッタ法や印刷法を用いて圧電材料を堆積させるだけでは、凹部であるインク室間の壁に薄膜状の圧電素子を直接的に形成することはできない。
【００１６】
この点は、電解析出法によって前記圧電素子を薄膜状に形成するとよい。
【００１７】
ここで、電解析出法とは、薄膜形成箇所に電極が形成された基体と、対極となる電極を、圧電材料となる組成物を含有する溶液中に浸漬して通電することにより、基体側の電極に圧電材料を形成させる方法で、圧電材料となる金属イオンないし金属酸化物イオン等が陽イオンであれば、基体側の電極を陰極として通電を行うことにより、陰極に金属酸化物あるいは水酸化物を堆積させることができる。あるいは、電極を陽極として通電し、陽極酸化を行うとともに、浴中の圧電材料となる組成物のイオンを取り込ませ、複合酸化物を形成する手法も含まれる。
【００１８】
電解析出法によって薄膜状の圧電素子を形成すれば、スパッタ法や印刷法とは異なり、凹部となるインク室間の壁にも、圧電材料の薄い層を良好に堆積することができる。したがって、インク室となる凹部が予め形成されている基体を使ってでも、インクジェット式記録ヘッドを製造することができる。
【００１９】
なお、本製法においては、基体側の薄膜形成箇所に予め電極を形成しておく必要があるが、この様な電極は如何なる方法で形成してあってもよく、具体的には、例えば基体に無電解メッキの手法で金属膜を形成したり、別途形成した金属薄膜を貼り付ければよい。
【００２０】
【００２１】
【００２２】
【００２３】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下に説明するインクジェット式記録ヘッドは、本発明の実施形態の一例に過ぎず、本発明の構成手段は下記の例に限定されない。
【００２４】
［実施形態１］
インクジェット式記録ヘッド１は、図１（ａ）に示す通り、内部に複数のインク室２を有し、隣接する２つのインク室２の間は、容易には変形しない固定壁３、および固定壁３よりも薄くて比較的容易に変形可能な振動壁４によって隔てられている。振動壁４は、２枚を１対として間隔を空けて略平行に配置され、１対の振動壁４の間には駆動室５が形成されている。この駆動室５は、一方の振動壁４が変形した際に、他方の振動壁４が従動しないように設けられた緩衝空間である。
【００２５】
また、各インク室２の図示上部は、固定壁３及び振動壁４の上端面に接着された１枚の蓋６によって閉塞され、一方、各インク室２の図示下部は、固定壁３及び振動壁４の下端面に接着された１枚のノズルプレート７によって閉塞され、ノズルプレート７には、各インク室２に対応する位置にノズル８が形成されている。そして、図１（ａ）には表れないが、インク室２の図示正面側および背面側についても、所定形状の板状体を接着することにより閉塞され、一方の板状体には、各インク室２に連通するインク流入口が形成されている。各インク室２は、このインク流入口と上記ノズル８でのみ外部と連通している。
【００２６】
更に、これらの構成の内、振動壁４は、図１（ｂ）に拡大して示す通り、基体１０の表裏に、第１電極１１、ＰＺＴ膜１２、および第２電極１３を、この順序で積層した構造とされ、ＰＺＴ膜１２は、強電界中で表裏とも同一方向に分極処理されている。そのため、基体１０を中心として表裏対称に形成された第１電極１１および第２電極１３のいずれか一方を陽極、他方を陰極として電圧を印加すると、表裏にあるＰＺＴ膜１２のいずれか一方が伸長すると共に他方が収縮する。これにより、振動壁４全体を変形させてインク室２内のインクを加圧し、インクをノズル８から噴射することができる。
【００２７】
なお、固定壁３についても、振動壁４と同様、基体１５の表裏に第１金属膜１６、ＰＺＴ膜１７、および第２金属膜１８を形成した構造になっている。但し、これらは後述する製法によって、上記第１電極１１、ＰＺＴ膜１２、および第２電極１３を形成する際に同時に形成されるものであり、本装置において圧電素子としては利用されていない。
【００２８】
次に、上記インクジェット式記録ヘッド１の製造方法について説明する。
まず、上記基体１０および基体１５を、図２に示す通り、それらの一端に形成される連結部２１と共に一体成形する。これら基体１０、基体１５および連結部２１（以下、これらを基体１０等という）は、例えば、酸化ジルコニウム等のセラミック材料などを、切削加工することによって形成すればよい。
【００２９】
続いて、上記基体１０等に対し、図３に示す通り、第１導電膜２２、電解ＰＺＴ膜２３、第２導電膜２４を、この順序で形成する。
本例において、第１導電膜２２は、ニッケル膜を無電解ニッケルメッキ法によって形成している。
【００３０】
より詳しく説明すると、上記基体１０等は、まずアルカリ脱脂液にて洗浄される。アルカリ脱脂液は一般的に用いられているものでよく、一例を挙げれば、水酸化ナトリウム５〜１５ｇ／ｌ，炭酸ナトリウム２０〜４０ｇ／ｌ，メタケイ酸ナトリウム５〜１０ｇ／ｌ，界面活性剤１〜３ｇ／ｌの組成で、液温４０〜７０℃で３〜５分程度浸せばよい。
【００３１】
次に、塩化第１すず７０ｇ／ｌと塩酸４０ｇ／ｌを含む液に室温で３分間浸した後、塩化パラジウム１ｇ／ｌを含む浴に３分間浸す。これにより、上記基体１０等の表面に触媒が付与される。
そして、触媒が付与された上記基体１０等を、無電解ニッケルメッキ浴に浸漬することにより、その表面に第１導電膜２２となるＮｉ−Ｐ膜（Ｐ７〜９％）が形成される。無電解ニッケルメッキ浴も一般的に知られているものでよく、その組成の一例を挙げれば、硫酸ニッケル３０〜３５ｇ／ｌ，クエン酸ナトリウム８０〜８５ｇ／ｌ，塩化アンモニウム４５〜５０ｇ／ｌ，次亜リン酸ナトリウム１５〜２０ｇ／ｌで，ｐＨ＝９〜１０，浴温８０〜９０℃で使用される。この場合のＮｉ−Ｐ膜の析出速度は約０．２μｍ／ｍｉｎ程度であるため、約５分の浸漬で膜厚１μｍのＮｉ−Ｐ膜が得られる。
【００３２】
なお、無電解Ｎｉ以外にも、同じく無電解メッキの手法で銅、金、あるいはパラジウム等からなる薄膜を形成可能であり、これらの薄膜も第１導電膜２２として利用することができる。
さて、こうして第１導電膜２２を形成したら、引き続いて電解ＰＺＴ膜２３を形成する。
【００３３】
本例においてＰＺＴの電解析出に用いる浴は、三塩化チタン０．００１〜０．１Ｍ、硝酸ジルコニル０．００１〜０．１Ｍ，硝酸鉛０．００２〜０．２Ｍを、［Ｐｂ2+］／（［ＺｒＯ2+］＋［ＴｉＯ2+］）＝０．８〜１．２の条件を満たすように含んでいる。浴のｐＨは１．８〜３．０、浴温は２５〜３０℃で用いられる。
【００３４】
この浴に、第１導電膜２２が形成された上記基体１０等と白金の対極が浸漬され、第１導電膜２２を陰極に、白金対極を陽極にして通電することにより、陰極近傍でｐＨが上昇し、Ｐｂ，Ｚｒ，Ｔｉの酸化物あるいは水酸化物の堆積が行われる。電析は電流密度２０〜１００ｍＡ／ｃｍ2 の範囲で行われ、１０〜１５分の電解で約１０μｍ厚の電解ＰＺＴ膜２３が得られる。
【００３５】
なお、電解ＰＺＴ以外にも、圧電性を示す膜としては、チタン酸バリウム、チタン酸鉛、あるいはＰｂ（Ｍｇ1/3 Ｎｂ2/3 ）Ｏ3-ＰｂＺｒＯ3-ＰｂＴｉＯ3 のような３元系複合酸化物からなるものが知られており、電解ＰＺＴ膜２３に代えてこれらの薄膜を圧電膜として利用することもできる。
【００３６】
こうして電解ＰＺＴ膜２３を形成したら、引き続いて第２導電膜２４を形成する。なお、第２導電膜２４は、既に説明した第１導電膜２２と全く同等の手法で形成可能なので、詳細な説明は省略する。
さて以上の工程によって、図３に示す通り、第１導電膜２２、電解ＰＺＴ膜２３、および第２導電膜２４を形成したら、基体１５の端部２６および基体１０の端部２７を研削する。また、図３には表れないが、基体１０および基体１５の図示正面側および背面側の縁についても研削する。これにより、図４に示す通り、基体１０および基体１５の間にのみ、断面形状がコ字形となるように第１導電膜２２、電解ＰＺＴ膜２３、および第２導電膜２４が残される。
【００３７】
続いて、端部２６および端部２７を削り落としてできた端面に、図５に示す通り、蓋６を接着し、その後で連結部２１を切り落とす。この結果、図６に示す通り、蓋６に対して固定壁３および振動壁４が列設された状態となる。この状態において、固定壁３および振動壁４の表裏には、それぞれ独立に圧電素子が形成されていることになる。後は、連結部２１を切り落としてできた端面に、図７に示す通り、ノズルプレート７を接着することにより、所期のインクジェット式記録ヘッド１を得ることができる。
【００３８】
この様に構成されたインクジェット式記録ヘッド１によれば、薄膜状の圧電素子が、隣接する２つのインク室２の間に配設された振動壁４に形成されているため、インク室２の配列方向への寸法が圧電素子の面積拡大に伴って大きくなるといったことがない。したがって、圧電素子の面積を十分に大きく確保しながら、複数のインク室２をきわめて高密度に配列できる。また、この様にインク室を高密度に配列すると、インク室２をノズル８のごく近傍に配置できるようになる。したがって、インク室２からノズル８に至るインク流路を短くして、インク流路内での圧力損失を抑制でき、インクを噴射する際のレスポンスが良好になる。更に、インク室２をノズルと同等な密度で配列することも容易となるので、インク室２からノズル８に至るインク流路の形状をすべて同一にすることもでき、これにより、各ノズル８からのインクの噴射状態のばらつきは発生せず、印字品質が良好になる。
【００３９】
また、上述したインクジェット式記録ヘッド１を製造するに当たっては、電解析出法によって薄膜状の圧電素子を形成しているので、スパッタ法や印刷法とは異なり、凹部となるインク室２の間の壁面に、圧電材料の薄い層を良好に堆積することができる。したがって、インク室２となる凹部が予め形成されている基体を使ってでも、所期のインクジェット式記録ヘッド１を製造することができる。
【００４０】
［参考例］
次に、参考例として、上記実施形態１とは別の製法について説明する。
インクジェット式記録ヘッド３０は、図８に示す通り、断面略Ｌ字形のヘッドエレメント３１を複数並べて互いに接着することにより、インクが流入するインク室３２と、緩衝空間となる駆動室３３を形成したもので、ヘッドエレメント３１の配列方向両端には、それぞれ側板３４、側板３５が接着され、全てのヘッドエレメント３１の上部を閉塞する形で、上板３６が接着されている。また、全てのヘッドエレメント３１の正面側を閉塞する形で、ノズルプレート３７が接着され、ノズルプレート３７のインク室３２に対応する位置には、ノズル３８が形成されている。なお、図８には表れないが、全てのヘッドエレメント３１の背面側についても、背面板を接着することにより閉塞されている。この背面板には、インク室３２に対応する位置に、インク流入路が形成されている。
【００４１】
また、各ヘッドエレメント３１には、薄膜状の圧電素子３９が形成されている。この圧電素子３９は、先に説明した実施形態１と同様、薄い金属膜間に薄いＰＺＴ膜を挟み込む形で積層した三層構造のもので、各ヘッドエレメント３１に形成されたＰＺＴ膜は、あらかじめ強電界中でいずれも同一方向に分極処理されている。そのため、各圧電素子３９は、表裏の金属膜のいずれか一方を陽極、他方を陰極として電圧を印加すると伸長し、陽極と陰極を入れ替えて電圧を印加すると収縮する。したがって、インク室３２に露出する圧電素子３９を伸長させる一方、駆動室３３に露出する圧電素子３９を収縮させることにより、インク室３２の側壁面を変形させ、インク室３２内のインクを両側から加圧し、インクをノズル３８から噴射することができる。
【００４２】
次に、上記インクジェット式記録ヘッド３０の製造方法について説明する。
まず、図９に示す通り、板状の基体４０の一方の面に、上記インク室３２又は駆動室３３となる凹部４１を形成すると共に、他方の面に、第１導電膜４２、ＰＺＴ膜４３、第２導電膜４４を、この順序で形成する。
【００４３】
これら第１導電膜４２、ＰＺＴ膜４３および第２導電膜４４は、先に説明した実施形態１と同様、無電解メッキ法および電解析出法によって形成することができる。また、上記実施形態１とは異なり、平板の一面に対して薄膜を形成すればよいので、周知のスパッタ法や印刷法といった薄膜形成技術を使ってもよく、更には薄く加工した導電膜、ＰＺＴ膜を接着して形成しても構わない。
【００４４】
続いて、第１導電膜４２、ＰＺＴ膜４３および第２導電膜４４が形成された基体４０を、図１０に示す通り、中央部で切断することにより、２つのヘッドエレメント３１を得る。この状態において、基体４０の凹部４１による薄肉部分には、第１導電膜４２、ＰＺＴ膜４３および第２導電膜４４の積層膜である圧電素子３９が設けられた形となる。
【００４５】
この様にして形成されるヘッドエレメント３１を、図１１に示す様に順次重ねて接着することにより、基体４０の凹部４１は、インク室３２又は駆動室３３となる溝を形成し、後は、側板３４、側板３５、上板３６、ノズルプレート３７（以上図８参照）、および背面板（図示略）等を接着することにより、所期のインクジェット式記録ヘッド３０を得ることができる。
【００４６】
この様に構成されたインクジェット式記録ヘッド３０によれば、薄膜状の圧電素子が、隣接する２つのインク室３２の間に配設された壁面に形成されているため、インク室３２の配列方向への寸法が圧電素子の面積拡大に伴って大きくなるといったことがない。したがって、圧電素子の面積を十分に大きく確保しながら、複数のインク室３２をきわめて高密度に配列できる。また、この様にインク室を高密度に配列すると、インク室３２をノズル３８のごく近傍に配置できるようになる。したがって、インク室３２からノズル３８に至るインク流路を短くして、インク流路内での圧力損失を抑制でき、インクを噴射する際のレスポンスが良好になる。更に、インク室３２をノズルと同等な密度で配列することも容易となるので、インク室３２からノズル３８に至るインク流路の形状をすべて同一にすることもでき、これにより、各ノズル３８からのインクの噴射状態のばらつきは発生せず、印字品質が良好になる。
【００４７】
更に、このインクジェット式記録ヘッド３０を製造する際には、圧電素子３９を形成するに当たって、平板状の基体４０に対して薄膜を形成すればよいので、実施形態１に示した無電解メッキ法や電解析出法はもちろんのこと、スパッタ法や印刷法を使うこともでき、更には、予め形成した薄膜を接着してもよい。したがって、薄膜形成法を自由に選択することができるとともに、電極材料及び圧電材料の選択に関しても自由に行うことができる。
【００４８】
以上、本発明の実施形態である実施形態１と、この実施形態１とは別の製法である参考例について説明したが、本発明の構成手段については上記実施形態以外にも種々考えられる。
例えば、ＰＺＴ薄膜を変形させるための電極は、発生させる電界の向きとＰＺＴ薄膜の分極方向とを考慮して、インク室内のインクを加圧できるような形に配設されていればよく、電極の形状や一対の電極の内いずれを陽極にするかは任意に変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明のインクジェット式記録ヘッドの一例を示し、（ａ）はその断面図、（ｂ）はその部分拡大断面図である。
【図２】  第１実施形態におけるインクジェット式記録ヘッドの製法の第１工程を説明するための断面図である。
【図３】  第１実施形態におけるインクジェット式記録ヘッドの製法の第２工程を説明するための断面図である。
【図４】  第１実施形態におけるインクジェット式記録ヘッドの製法の第３工程を説明するための断面図である。
【図５】  第１実施形態におけるインクジェット式記録ヘッドの製法の第４工程を説明するための断面図である。
【図６】  第１実施形態におけるインクジェット式記録ヘッドの製法の第５工程を説明するための断面図である。
【図７】  第１実施形態におけるインクジェット式記録ヘッドの製法の第６工程を説明するための断面図である。
【図８】  参考例としてのインクジェット式記録ヘッドを示す斜視図である。
【図９】  参考例におけるインクジェット式記録ヘッドの製法の第１工程を説明するための断面図である。
【図１０】  参考例におけるインクジェット式記録ヘッドの製法の第２工程を説明するための断面図である。
【図１１】  参考例におけるインクジェット式記録ヘッドの製法の第３工程を説明するための断面図である。
【符号の説明】
１・・・インクジェット式記録ヘッド、２・・・インク室、３・・・固定壁、４・・・振動壁、５・・・駆動室、６・・・蓋、７・・・ノズルプレート、８・・・ノズル、１０・・・基体、１１・・・第１電極、１２・・・ＰＺＴ膜、１３・・・第２電極、１５・・・基体、１６・・・第１金属膜、１７・・・ＰＺＴ膜、１８・・・第２金属膜、２１・・・連結部、２２・・・第１導電膜、２３・・・電解ＰＺＴ膜、２４・・・第２導電膜、２６，２７・・・端部、３０・・・インクジェット式記録ヘッド、３１・・・ヘッドエレメント、３２・・・インク室、３３・・・駆動室、３４，３５・・・側板、３６・・・上板、３７・・・ノズルプレート、３８・・・ノズル、３９・・・圧電素子、４０・・・基板、４１・・・凹部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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