(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射型液晶表示装置であって、
金属基板と当該金属基板に対向して配置される透明基板との間に液晶層が挟持されてなり、
前記金属基板の液晶層側の面に凹凸部を有する反射面が形成されて前記金属基板の光反射拡散面を成し、
前記金属基板の光反射拡散面上に絶縁層が被覆され、
前記絶縁層上に金属からなる画素電極が形成され、
前記画素電極の前記液晶側の面に凹凸部を有する反射面が形成されて前記画素電極の光拡散反射面を成し、
前記金属基板の光反射拡散面が、前記画素電極間にも形成されている
ことを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項２】
前記画素電極は低部側が透明導電材料からなり、上面が金属層からなり、
前記金属層に凹凸部を有する反射面が形成されて前記画素電極の光拡散反射面を成す
ことを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項３】
前記金属基板が、Ａｌ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｂｅの各金属の少なくとも１つ、または前記金属を主体とする合金からなる
ことを特徴とする請求項１または２に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の反射型液晶表示装置が表示部として備えられてなることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶層を挟んで設けられる透明基板と金属基板を備えた反射型液晶表示装置とそれを備えた電子機器に関し、特に、裏面側の基板を光反射拡散面を有する金属基板とした構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ノート型パーソナルコンピュータ、携帯型ゲーム機や電子手帳などの種々の電子機器には表示部として消費電力の少ない液晶表示装置が多用されている。特に近年は表示内容の多用化に伴って、カラー表示が可能な液晶表示装置の需要が高まっている。また、前記電子機器のバッテリー駆動時間を長くしたいという要求から、バックライト装置を必要としない反射型のカラー液晶表示装置が開発されている。
【０００３】
図９は従来の反射型カラー液晶表示装置の一例の要部を示す拡大概略断面図である。図９に示す反射型カラー液晶表示装置は、内面散乱タイプと称される構造を有し、一対のガラス基板１００、１０１と、これらの間に挟持される液晶層１０２とを備え、ガラス基板１００の液晶層１０２側の表面には、反射板を兼ねるＡｌ薄膜等からなる画素電極１０７が表面に光を乱反射する凹凸部を設けた状態で形成されている。なお、ガラス基板１００、１０１の周縁部分間には実際にはガラス基板１００、１０１に挟まれた状態でシール材が形成されていて液晶層１０２を封止しているが、図９ではシール材を省略して記載した。
【０００４】
ここで光入射側のガラス基板１０１の液晶層１０２側の表面には、カラーフィルタ１０４が形成され、ガラス基板１０１の上面側には偏光板１０６が設けられている。このような内面散乱板タイプの液晶表示装置において、入射光Ｌ１は、偏光板１０６、ガラス基板１０１、カラーフィルタ１０４、液晶層１０２を通過後、画素電極１０７の表面で乱反射され、液晶層１０２の状態によって偏光が変化された後、反射光はカラーフィルタ１０４とガラス基板１０１を通過し、偏光板１０６により反射光の偏光状態により透過、不透過とされ、透過した場合はカラーフィルタ１０４の特定の色が見え、不透過の場合にはカラーフィルタの特定の色が見えない状態の散乱光Ｌ２として観察者の肉眼Ｅに入射することによりカラーの液晶表示として視認される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
この種従来の反射型のカラー液晶表示装置にあっては、液晶層１０２を挟持するための基板１００、１０１がガラス基板から構成されることが一般的である。ここで近年、この種の反射型カラー液晶表示装置が適用されている携帯型電話機器あるいは携帯型情報端末機器にあっては、更なる小型化、軽量化、薄型化が求められており、反射型のカラー液晶表示装置自体に対して更なる軽量化の要求がなされている。
【０００６】
そこで、この種従来の反射型カラー液晶表示装置の重量を検討してみると、体積的に最も大きな割合を占めるガラス基板１００、１０１の重量が重量の大部分を占めるので、カラー液晶表示装置を軽量化するためには、ガラス基板を薄型化すれば最も効果的であると思われる。ところが、現在のガラス基板は十分に薄型化されて、厚さが０.３ｍｍ程度とされており、ガラス自体の強度面から鑑みるとこれ以上の薄型化は難しいのが現状である。
【０００７】
また、図９に示す構造とは異なり、ガラス基板１００の裏面側に２点鎖線で示す如く光散乱反射層１０８を貼着させて設け、画素電極１０７を凹凸の無い状態の平面状の透明電極で構成した構造も知られている。
【０００８】
この構造であれば、ガラス基板１００の裏面側に別工程で製造した出来合いの光散乱反射層１０８を貼着することで光散乱反射面を構成することができ、ガラス基板１００の上面側に形成する層構造も簡略化できる利点を有するが、ガラス基板１００の裏面側で光を反射させるので、反射効率が劣り、反射型液晶表示装置として明るい表示を得ることが難しい問題があった。
【０００９】
本発明は上述の問題点に鑑みてなされたものであり、液晶層を挟持するための一対の基板の一方を金属基板としてその上に絶縁層を形成することで装置全体の軽量化、小型化、薄型化をなし得、明るい表示を得ることができるようにした反射型液晶表示装置の提供を目的の１つとする。また、本発明は、カラー表示を可能とした上で装置全体の軽量化、小型化、薄型化をなし得、明るい表示を得ることができるようにした反射型液晶表示装置の提供を目的の１つとする。更に本発明は前述の反射型液晶表示装置を備えた電子機器を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の反射型液晶表示装置は前記課題を解決するために、反射型液晶表示装置であって、金属基板と当該金属基板に対向して配置される透明基板との間に液晶層が挟持されてなり、前記金属基板の液晶層側の面に凹凸部を有する反射面が形成されて前記金属基板の光反射拡散面を成し、前記金属基板の光反射拡散面上に絶縁層が被覆され、前記絶縁層上に金属からなる画素電極が形成され、前記画素電極の前記液晶側の面に凹凸部を有する反射面が形成されて前記画素電極の光拡散反射面を成し、前記金属基板の光反射拡散面が、前記画素電極間にも形成されていることを特徴とする。
【００１１】
反射型液晶表示装置に用いられていた従来のガラス基板に代えて金属基板を用いるならば、ガラス基板と同等の強度であってもガラス基板よりも薄い金属基板とすることが可能となるので、ガラス基板を用いた従来構造よりも薄型化、軽量化が可能となる。次に、金属基板の液晶側の面を直接反射面とし、更に金属基板の光反射拡散面が、前記画素電極間にも形成されているため、反射効率も良好であり且つ干渉光等の光ムラを生じることなく均一化された明るい高品位の表示が可能になる。
【００１２】
本発明の反射型液晶表示装置において、前記金属基板の少なくとも液晶層側の面が、Ａｌ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｂｅ、Ｚｎ、Ｎｂの少なくとも１つまたはこれら各金属元素を主体とする合金からなり、前記金属基板上に被覆された絶縁層がこれらの金属または合金の陽極酸化皮膜からなる構造を採用するできる。これら金属の陽極酸化皮膜であるならば、金属基板上に良好な密着力と絶縁性でもって均一な絶縁層を形成することができる。
【００２３】
本発明の電子機器は先に記載の種々の反射型液晶表示装置を表示部として備えてなるものである。先に記載の優れた反射型液晶表示装置を備えた電子機器であるならば、薄型化、軽量化、小型化を推進できるとともに、表示品位の高いものが得られる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２５】
（反射型液晶表示装置の第１実施形態）
本発明による反射型液晶表示装置の第１実施形態の液晶パネルについて、図１〜図４を参照して以下に説明する。図１は、本発明を反射型のＴＦＤ型（Thin Film Diode 型）の液晶パネルに適用した第１実施形態を示した断面図であり、図２は前記液晶パネルに内蔵されたカラーフィルタ部分の拡大断面図であり、図３は同液晶パネルの分解斜視図であり、図４は同液晶パネルのスイッチング素子部分の拡大断面図である。
【００２６】
この実施形態の液晶パネル１０に、液晶駆動用ＩＣ、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての反射型液晶表示装置が構成される。
【００２７】
この実施形態の液晶パネル１０は、平面視略矩形状、かつ環状のシール材１２を介して互いに対向するように貼り付けられた一対の平面視矩形状の透明基板１３、金属基板１４と、これらの間に前記シール材１２に囲まれて挟持された液晶層１５と、一方の透明基板１３の上面側（観測者側）に付設された偏光板１６を主体として構成されている。前記基板１３、１４のうち、透明基板１３は透明なガラスから構成され、観測者側に向いて設けられる表側の基板であり、金属基板１４はその反対側、換言すると裏側に設けられる不透明な金属からなる薄型の基板である。なお、この実施形態では偏光板１６を１枚のみ設けた構造としたが偏光板を別途必要枚数設けた構造としても良いのは勿論であり、偏光板に加えて位相差板等も適宜必要に応じて備えていても良いのは勿論である。
【００２８】
前記透明基板１３は、例えば厚さ３００μｍ（０.３ｍｍ）程度に形成されたガラス基板であり、従来から反射型液晶表示装置に広く使用されている種々のガラス基板と同等のもので良い。なお、この透明基板１３の厚さは一例であって、用途に応じて更に厚いか、更に薄いガラス基板を適宜適用しても良いのは勿論である。この透明基板１３の裏側（換言すると液晶層１５側）にはカラーフィルタ層１７と駆動用の電極１８が形成されている。なお、実際の液晶表示装置においては電極１８を覆って液晶層１５側に配向膜が設けられるが図１では省略してあるとともに、反対側の金属基板１４側の後述する電極３２上にも配向膜が設けられるが、図１では省略し、配向膜の説明については省略する。
【００２９】
前記カラーフィルタ層１７は、図２に拡大して示すように、透明基板１３の下面（換言すると液晶層１５側の面）に、光遮断用のブラックマスク２０、カラー表示用のＲＧＢパターン２１を形成することにより構成されている。また、ＲＧＢパターン２１を保護する透明な保護平坦化膜２２が被覆されている。
【００３０】
このようなブラックマスク２０は例えばスパッタリング法、真空蒸着法等により厚さ１０００〜２０００オングストローム程度のクロム等の金属薄膜をパターニングしてマトリクス状に形成されている。ＲＧＢパターン２１は、赤色パターン（Ｒ）、緑色パターン（Ｇ）、青色パターン（Ｂ）が、所望のパターン形状で配列され、例えば、所定の着色材を含有する感光性樹脂を使用した顔料分散法、各種印刷法、電着法、転写法、染色法等の種々の方法で形成されている。
【００３１】
前記カラーフィルタ層１７の液晶層１５側には、液晶駆動用の電極１８が形成されている。この液晶駆動用の電極１８はＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウム錫酸化物）などの透明導電材料から、平面視ストライプ状に形成されたものである。
【００３２】
一方、金属基板１４は、本実施形態ではＡｌ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｂｅ、Ｚｎ、Ｎｂの少なくとも１つまたはこれら各金属元素を主体とする合金、例えばＡｌ合金、Ｍｇ合金、Ｔｉ合金、Ｂｅ合金、Ｎｂ合金、Ｚｎ合金のいずれかからなる。なおまた、金属基板１４は積層体であっても差し支えないので、強度が高く、比重もできるだけ小さい薄い金属板の上に先のＡｌ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｂｅ、Ｚｎ、Ｎｂの少なくとも１つまたはこれら各金属元素を主体とする合金の被覆層を形成した積層板を用いても良いのは勿論である。
【００３３】
そして、金属基板１４の上面（液晶層１５側の面）には以下に説明する光拡散処理が施されて光拡散反射面１４Ａとされている。
【００３４】
光拡散処理とは、液晶層１５を通過させた後に金属基板１４で反射させる光を散乱させるための処理であり、金属基板１４の表面を金型等の塑性加工具によって塑性変形させて表面に多数の凹凸を形成する処理と、金属基板１４の表面に機械切削等の機械加工手段によって凹凸を形成する処理と、金属基板１４の表面にレジストを塗布してからエッチングして表面の必要部分を除去し、レジストを剥離することで凹凸加工する処理と、サンドブラスト処理のように研削用の砥粒を吹き付けて表面の凹凸加工を行う処理、金属基板の表面を電界研磨により粗面化する処理のうち、１つ以上の方法を実施することで行う処理である。これらの処理が施された金属基板１４は凹凸を有し表面光沢を有し光を乱反射するので、反射型液晶表示装置の反射板として利用することができる。
【００３５】
前記の各種方法において、金属基板１４の表面に切削加工によりディンプル処理を施すことで光散乱させることもでき、仕上研磨により光散乱させることもでき、酸性エッチングによりリン酸と硫酸の混合液にて処理温度１０５〜１２０℃にて必要時間処理することで光散乱させることもできる。また、電界研磨により光拡散反射面を形成することもでき、その場合の基本的な方法として、過塩素酸酢酸法、硫酸リン酸法、濃リン酸法、振動電界研磨法、フリュオボレート法、アルカリリン酸塩法、硫酸浴法、アルカリ法等のいずれの方法を用いても良い。電解研磨法とはＡｌなどの金属を陽極酸化的に酸化剤の電解液中で所定の条件で電解する方法で、特に比較的高温かつ高電流密度で行う電界光輝処理法（Electrobrighening Process）を採用することができる。更に具体的な方法としては、特許第１２８８９１号に記載のリン酸浴法（リン酸浴を用いて２０〜６０Ａ／ｄｍ2の電流密度で５０〜７０℃の浴温度で３〜２０分程度電解する方法）を適用することで凹凸を生じた電解研磨面を容易に得ることができる。
【００３６】
これら各種の方法で光拡散処理がなされた金属基板１４の表面の凹凸は例えば表面粗さＲａにおいて０.０５〜０.３５μｍ（１０-6ｍ）程度のものである。
【００３７】
更に本実施形態の構造では、金属基板１４の上面側（液晶層１５側）に厚さ１５００〜３０００オングストローム程度の陽極酸化皮膜の絶縁層２５が被覆されている。ここでＡｌの陽極酸化皮膜であって、硫酸を電解質として用いた陽極酸化皮膜からなるものであるならば、金属基板１４に対して良好な密着性を有し、無色透明なものが容易に得られるので、金属基板１４の光反射散乱性能に悪影響は無い。この陽極酸化皮膜として、Ａｌの陽極酸化皮膜を適用するならば、Ａｌを硫酸１０〜３０％程度の溶液に浸漬して電圧１００Ｖ以上で陽極酸化する処理で無色透明の陽極酸化皮膜（ベータ皮膜）を得ることができる。なお、各種Ａｌ合金において、ＡＡ規格の１０７０合金、１１００合金、３００４合金、５０５２合金、５００５合金、７０７２合金等において無色透明の陽極酸化皮膜を得ることができる。これらの合金を用いて陽極酸化皮膜を形成する場合の電流密度、浴温などの電解条件でも色は変化するが、浴温１５〜２５℃程度、電流密度６０〜３００Ａ／ｍ3程度の条件で無色透明の陽極酸化皮膜を容易に得ることができる。前記陽極酸化皮膜は電気絶縁性に優れ、５×１０12Ω・ｃｍ程度の体積固有抵抗を有する。
【００３８】
また、ＡｌにＭｇを０.５〜２.０％含有させた合金に対して陽極酸化皮膜を形成すると、陽極酸化皮膜の厚さに応じて光反射率が低下する。光反射率の低下は陽極酸化皮膜の厚さが２μｍ（１０-6ｍ）において５％、厚さ１０μｍ（１０-6ｍ）において１０％となるので、陽極酸化皮膜が厚すぎると光反射率の低下が著しくなるが、光反射率の面からみても陽極酸化皮膜の厚さが先の範囲（１５００〜３０００オングストローム）であれば悪影響はない。
【００３９】
なお、前述の絶縁層２５として、浸漬処理あるいはスパッタ処理で得られた厚さ１５００〜３０００オングストローム程度の酸化ケイ素（ＳｉＯ2）の膜、エポキシ樹脂やアクリル樹脂等の無色透明の有機皮膜をスピンコート法や印刷法などで塗布形成した厚さ１.０〜２.０μｍ（１０-6ｍ）程度の有機樹脂絶縁膜を用いても良い。
【００４０】
次に、前記絶縁膜２５の上には、以下に説明するＴＦＤ型のスイッチング素子と画素電極が形成されている。
【００４１】
前記絶縁層２５上に前記ストライプ状の電極１８と直交する方向にデータ線３０…が所定間隔離間して整列形成され、各データ線３０…間に、先のストライプ状の電極１８と位置合わせするように２端子型非線形素子３１を介してＩＴＯなどの透明導電材料からなる画素電極３２が複数形成されている。なお、この実施形態においては２端子型線形素子３１が、Ｔａなどのデータ線３０から引き出された配線素子部３３とこの配線素子部３３に一部を重ねて形成されたＣｒ等の導電膜３４と、この導電膜３４に一部を重ねて形成された画素電極３２の接続部分から構成されている。
【００４２】
なお、２端子型非線形素子として、図５に示す第２の例のように、Ｃｒ等からなる配線素子部３３に一部を重ねて形成したＴａなどからなる第１の導電膜３５と、この第１の導電膜３５に一部を重ねて形成したＣｒなどからなる第２の導電膜３４’と、この第２の導電膜３４’に一部を重ねて形成した画素電極３２の接続部分から構成されている素子構造を採用しても良い。
【００４３】
第１の実施形態の液晶パネル１０によれば、入射光Ｌ１は液晶層１５を通過後金属基板１４の表面の光拡散反射面１４Ａによって乱反射され、再び液晶層１５を通過後、カラーフィルタ層１７を通過し、偏光板１６を介して液晶パネル１０から出射され、出射光Ｌ２として観測者の肉眼Ｅに到達される。そして、電極１８、３２に印加する電圧を調整することにより液晶層１５の液晶分子の配向制御を行い、液晶層１５の光の透過状態を調節して表示、非表示を切り替える。
【００４４】
第１実施形態の液晶パネル１０においては、観察者から見て裏側の基板が金属基板１４から構成されていて、従来のガラス基板より薄型化されているので、従来のガラス基板を用いた構造の液晶パネルよりも軽量化がなされるとともに薄型化されていることとなる。また、通常のガラス基板であれば比重２.５〜２.７程度でありＡｌの金属基板であればＡｌの比重が２.７であり、Ａｌの強度がガラスの強度の数倍あることを考慮すると、同一強度の基板とするためにはＡｌ基板の方が薄型化できることは明らかであり、Ａｌに加えて、更に比重の小さなＭｇ（比重１.７）を基板構成材料として選択するならば、基板を更に軽量化することができる。
【００４５】
更に、金属基板１４の表面は凹凸部が形成された光拡散反射面１４Ａとされているとともに透明の絶縁層２５で被覆されているので、金属基板１４が有する効率の高い光反射性を損なうことなく反射光を乱反射できるので、干渉光等の光ムラを生じる事なく均一化された明るい高品位の表示を得ることができる。
【００４６】
（反射型液晶表示装置の第２実施形態）
図６に示すものは、本発明に係る反射型液晶表示装置の第２実施形態の液晶パネル４０を示す断面図である。
【００４７】
この実施形態の液晶パネル４０は図１〜図４を基に先に説明した第１実施形態の液晶パネル１０と同様に偏光板１６を１枚有する反射型のものであるが、液晶駆動用の電極が単純マトリクス方式のものである。ただし、その他の基本的な構造は第１実施形態と同様であるので同一構成要素には同一符号を付してそれら構成要素の説明を省略し、以下に異なる構成要素を主体に説明する。
【００４８】
本実施形態の液晶パネル４０は先の第１実施形態の構造と同様に裏側の基板が光拡散処理された金属基板１４から構成されている。この金属基板１４の光拡散反射面１４Ａ上には絶縁層２５が形成されるとともに、観察者側の透明基板１３側のストライプ状の電極１８に直交する方向に沿ったストライプ状の電極４１…が定間隔で形成されている。
【００４９】
この第２実施形態の液晶パネル４０は先の第１実施形態の液晶パネル１０と液晶駆動の際の駆動方式が異なるが、電極１８、４１に印加する電圧とそのタイミングを調整することにより液晶分子の配向制御を行い、液晶層１５の光の透過状態を調節して表示、非表示を切り替えるのは同様である。
【００５０】
この第２実施形態の液晶パネル４０は先の第１実施形態の液晶パネル１０と同様の効果を得ることができる。即ち、図６に示す液晶パネル４０では、薄型化、軽量化、小型化を実現できる。更に、干渉光等の光ムラを生じる事なく均一化された明るい高品位の表示を得ることができる。
【００５１】
（反射型液晶表示装置の第３実施形態）
図７に示すものは、本発明に係る反射型液晶表示装置の第３実施形態の液晶パネル５０を示す断面図である。
【００５２】
この実施形態の液晶パネル５０は図１〜図４を基に先に説明した第１実施形態の液晶パネル１０と同様に偏光板１６を１枚有する反射型のものであるが、画素電極２７が透明導電材料ではなく、光反射率の良好な不透明な金属材料からなる金属電極とされているものである。ただし、その他の基本的な構造は第１実施形態と同様であるので同一構成要素には同一符号を付してそれら構成要素の説明を省略し、以下に異なる構成要素を主体に説明する。
【００５３】
本実施形態の液晶パネル５０は先の第１実施形態の構造と同様に裏側の基板が金属基板１４から構成されている。この金属基板１４上には絶縁層２５が形成されるとともに、観察者側の透明基板１３側のストライプ状の電極１８に位置合わせするようにマトリクス状に画素電極２７が並列形成されている。また、画素電極２７を駆動するためのスイッチング素子の構造は、先の第１実施形態と同様な構造の２端子型線形素子が適用されている。
【００５４】
ここで画素電極２７…は先の第１実施形態の金属基板１４を構成する材料と同等の材料からなる。例えば、Ａｌ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｂｅ、Ｚｎ、Ｎｂの少なくとも１つまたはこれら各金属元素を主体とする合金、例えばＡｌ合金、Ｍｇ合金、Ｔｉ合金、Ａｇ合金、Ｐｔ合金のいずれかから金属の画素電極２７が構成される。そして、金属の画素電極２７の上面（液晶層１５側の面）には先に説明した光拡散処理が施されて光拡散反射面２７Ａとされている。
【００５５】
この第３実施形態の液晶パネル５０は先の第１実施形態の液晶パネル１０と画素電極２７の構成材料が異なるが、電極１８、２７に印加する電圧を調整することにより、液晶分子の配向制御を行い、液晶層１５の光の透過状態を調節して表示、非表示を切り替えるのは同様である。
【００５６】
この第３実施形態の液晶パネル５０は先の第１実施形態の液晶パネル１０と同様の効果を得ることができる。即ち、図７に示す液晶パネル５０では、金属基板１４を用いるので薄型化、軽量化、小型化を実現できる。本第３実施形態の構造においては、画素電極２７の上面の光拡散反射面２７Ａにおいて光を拡散反射することができるので、干渉光等の光ムラを生じる事なく均一化された明るい高品位の表示を得ることができる。更に加えて本第３実施形態の構造においては、金属基板１４の液晶層１５側の面を光拡散反射面１４Ａとしているので、先の画素電極２７の光拡散反射面２７Ａの反射光に加えて、光拡散反射面１４Ａの反射光も利用することができ、干渉光等の光ムラを生じる事なく均一化された更に一層明るい高品位の表示を得ることができる。
【００５７】
ところで本第３実施形態においては、画素電極２７の全体を金属電極としたが画素電極２７の上面のみを金属とすれば目的を達成することができるので、画素電極２７の底部側をＩＴＯなどの透明導電材料から構成し、その上に金属層を被覆形成した２重構造の画素電極としても良いのは勿論である。
【００５８】
また、画素電極２７を駆動するためのスイッチング素子は本実施形態の如く２端子型線形素子に限るものではなく、薄膜トランジスタを用いたアクティブ駆動素子を適宜用いても良いのは勿論である。
【００５９】
（電子機器の実施形態）
次に、前記の第１、第２、第３実施形態の液晶パネル１０、４０、５０のいずれかを備えた電子機器の具体例について説明する。
【００６０】
図８（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。
【００６１】
図８（ａ）において、符号２００は携帯電話本体を示し、符号２０１は前記の液晶パネル１０、４０、５０のいずれかを用いた液晶表示部を示している。
【００６２】
図８（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。
【００６３】
図８（ｂ）において、符号３００は情報処理装置、符号３０１はキーボードなどの入力部、符号３０３は情報処理装置本体、符号３０２は前記の液晶パネル１０、４０、５０のいずれかを用いた液晶表示部を示している。
【００６４】
図８（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。
【００６５】
図８（ｃ）において、符号４００は時計本体を示し、符号４０１は前記の液晶パネル１０、４０、５０のいずれかを用いた液晶表示部を示している。
【００６６】
図８（ａ）〜（ｃ）に示すそれぞれの電子機器は、前記の液晶パネル１０、４０、５０のいずれかを用いた液晶表示部を備えたものであり、先の第１〜第３実施形態の反射型液晶表示装置１０、４０、５０の特徴を有するので、いずれの反射型液晶表示装置を用いても薄型化、小型化、軽量化された明るい表示品質の優れた効果を有する電子機器となる。
【００６７】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の液晶装置によれば、液晶層を挟持する基板の一方に金属基板を用いるので、ガラス基板と同等の強度であってもガラス基板よりも薄い金属基板とすることが可能となり、ガラス基板を用いた従来構造の反射型液晶表示装置よりも薄型化、軽量化、小型化が可能となる。次に、金属基板の液晶側の面を光拡散可能な直接反射面とするので、反射効率も良好であり、明るい高品位の表示が得られる。
【００６８】
前記金属基板の少なくとも表面が、特にＡｌからなる基板であるならば、ガラスと同程度の比重、例えば、２.７程度の比重を有し、強度がガラスよりも高いので、ガラス基板と同等程度の強度であるならば、ガラス基板の厚さの１／２〜１／３程度の金属基板を採用することができ、基板部分を薄型化あるいは軽量化することができる。また、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｂｅ、Ｚｎ、Ｎｂにおいても同様であり、ガラス基板に代えて少なくとも表面がこれらの金属材料からなる基板を用いることで薄型化、軽量化、小型化をなし得る。
【００６９】
更に本発明において、前記絶縁層が酸化ケイ素膜または有機樹脂膜からなる構造でも良く、これらの構造であっても金属基板の十分な絶縁性を得ることが可能となる。
【００７０】
更に本発明において、前記透明基板の液晶層側にカラーフィルタ層を備えることでカラー表示が可能となる。
【００７１】
また、本発明において、金属基板上の絶縁層上の液晶駆動用の金属電極が形成されたものでは、該金属の電極の液晶側の面に凹凸部を有する反射面が形成されて光反射拡散面が形成されるので、金属の電極の光拡散反射面において反射させた光を液晶層の液晶分子の配向制御により透過、非透過に切り替えて表示することができる。この構造においても、従来のガラス基板に代えて金属基板が用いられるので、ガラス基板よりも薄い金属基板を用いることが可能となり、ガラス基板を用いた従来構造よりも薄型化、軽量化、小型化が可能となる。更にこの構造では、金属電極の液晶側の光拡散反射面と金属基板の液晶側の光拡散反射面を反射面として利用するので、更に反射効率が良好となり、明るい高品位の表示が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は本発明に係る第１実施形態の液晶パネルの断面図である。
【図２】  図２は図１に示す液晶パネルのカラーフィルタ層部分を示す拡大断面図である。
【図３】  図３は本発明に係る第１実施形態の液晶パネルの分解斜視図である。
【図４】  図４は本発明に係る第１実施形態の液晶パネルの画素電極と２端子型線形素子の接続部分の構造を示す断面図である。
【図５】  図５は本発明に係る液晶パネルに用いられる２端子型線形素子の第２の例を示す平面図である。
【図６】  図６は本発明に係る第２実施形態の液晶パネルの断面図である。
【図７】  図７は本発明に係る第３実施形態の液晶パネルの断面図である。
【図８】  本発明の電子機器の応用例を示すもので、図８（ａ）は携帯型電話機を示す斜視図、図８（ｂ）は携帯型情報処理装置の一例を示す斜視図、図８（ｃ）は腕時計型電子機器の一例を示す斜視図である。
【図９】  図９は従来の反射型液晶表示装置の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１０、４０…液晶パネル
１２…シール材
１３…透明基板
１４…金属基板
１５…液晶層
１７…カラーフィルタ層
１８、３２…電極
２００…携帯電話本体
３００…携帯型情報処理機器
４００…腕時計型電子機器
【図１】
0003752914.tif 000002
【図２】
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【図３】
0003752914.tif 000004
【図４】
0003752914.tif 000005
【図５】
0003752914.tif 000006
【図６】
0003752914.tif 000007
【図７】
0003752914.tif 000008
【図８】
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【図９】
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