(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
0003736885.tif 000023
［一般式（１）において、Ｘは水素原子又は低級アルキル基を表し、Ｒ1 ，Ｒ2，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及びＲ6 は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基を表し、Ｙはアルキル基、芳香族炭化水素で置換されたアルキル基、アリル基、シクロヘキシル基、アルキルスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、アルキルベンゼンスルホニル基、アルキロイル基、ベンゾイル基、アルキルベンゾイル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、又はグリシジル基を表す。］
で示されることを特徴とするスルホニル化合物。
【請求項２】
支持体面上に、主として塩基性染料前駆体、顕色剤及び増感剤を含有する感熱記録層を設けた感熱記録材料において、感熱記録層中に一般式（１）
【化２】
0003736885.tif 000024
［一般式（１）において、Ｘは水素原子又は低級アルキル基を表し、Ｒ1 ，Ｒ2，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及びＲ6 は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基を表し、Ｙはアルキル基、芳香族炭化水素で置換されたアルキル基、アリル基、シクロヘキシル基、アルキルスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、アルキルベンゼンスルホニル基、アルキロイル基、ベンゾイル基、アルキルベンゾイル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、又はグリシジル基を表す。］
で示されるスルホニル化合物の少なくとも１種と、一般式（２）
【化３】
0003736885.tif 000025
［一般式（２）において、Ｘ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及びＲ6 は一般式（１）におけると同じ意義を表す。］
で示されるスルホニル化合物の少なくとも１種とからなる顕色剤組成物を共存せしめることを特徴とする感熱記録材料。
【請求項３】
一般式（１）で示されるスルホニル化合物の一般式（２）で示されるスルホニル化合物に対する配合割合が重量で１０ｐｐｍから二倍量である顕色剤組成物を共存せしめた請求項２記載の感熱記録材料。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、特定のスルホニル化合物及び該化合物の用途に関し、更に詳しくは、該化合物を特定の感熱記録材料の顕色剤と共存せしめた場合、顕色剤水性スラリーの水和に対する安定性が経時的に良好で、且つ感熱記録材料は、高感度でしかも地肌かぶりが少なく、記録像の保存安定性、とりわけ耐湿性、耐熱性及び耐可塑剤性に優れた記録特性を与えるスルホニル化合物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
従来より、電子供与性塩基性染料前駆体と電子受容性顕色剤との熱発色反応を利用した感熱記録材料はよく知られている。中でも、顕色剤として、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−フェニル）プロパン及び４−ヒドロキシ−４′−イソプロポキシ−ジフェニルスルホンはよく知られている（例えば、特公平３−５４６５５号等）。
【０００３】
しかしながら、これらを使用した感熱記録材料は、発色像の保存安定性、特に耐湿性、耐熱性及び耐可塑剤性について更に改良が求められている。かかる問題解決のため、本発明者等は、先に顕色剤として一般式（２）
【０００４】
【化４】
0003736885.tif 000002
［一般式（２）において、Ｘは水素原子又は低級アルキル基を表し、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及びＲ6 は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基を表す。］
で示される化合物を見い出し、該化合物に関する特許を出願した。その後の研究により該化合物を顕色剤として使用した感熱記録材料は、上記の目的に優れるものの、該顕色剤水性スラリーを４０℃で保存すると、水和による分散劣化を起こし、これを用いた感熱記録材料は６０℃で改良されるべき地肌かぶりを生じることを知った。
【０００５】
本発明の目的は、感熱記録材料において、高感度でしかも地肌かぶりが少なく、記録像の保存性とりわけ耐湿性、耐熱性及び耐可塑剤性に優れた記録特性を与えることのできる、すなわち一般式（２）で示される顕色剤水性スラリーの水和を防止して、分散の経時安定性を改良することのできるスルホニル化合物及び方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、高感度でしかも記録像の保存性に優れた感熱記録材料が得られる一般式（２）
【０００７】
【化５】
0003736885.tif 000003
［一般式（２）において、Ｘは水素原子又は低級アルキル基を表し、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及びＲ6 は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基を表す。］
で示される顕色剤スラリーの水和を防止するため検討を重ねた結果、一般式（１）
【０００８】
【化６】
0003736885.tif 000004
［一般式（１）において、Ｘ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及びＲ6 は一般式（２）におけると同じ意義を有し、Ｙはアルキル基、芳香族炭化水素で置換されたアルキル基、アリル基、シクロヘキシル基、アルキルスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、アルキルベンゼンスルホニル基、アルキロイル基、ベンゾイル基、アルキルベンゾイル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、又はグリシジル基を表す。］
で示されるスルホニル化合物を見い出し、本スルホニル化合物を一般式（２）で示される顕色剤と共存せしめることにより、顕色剤水性スラリーの水和が防止されることを見い出し、本発明に到達した。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明に係わる一般式（１）で示される化合物の具体的な例として、以下のような化合物を挙げることができる。
（１）１−メトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン，
（２）１−エトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン，
（３）１−ｎ−プロポキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン，
（４）１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン，
（５）１−ｎ−ブトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン，
（６）１−ｓｅｃ−ブトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン，
（７）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンジルエーテル，
（８）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝アリルエーテル，
（９）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝フェニルエーテル，
（１０）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝メタンスルホネート，
（１１）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート，
（１２）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝４−メチルベンゼンスルホネート，
（１３）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝２，４−ジメチルベンゼンスルホネート，
（１４）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝２，５−ジメチルベンゼンスルホネート，
（１５）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝３，４−ジメチルベンゼンスルホネート，
（１６）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝アセテート，
（１７）１−ステアロイルオキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン，
（１８）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート，
（１９）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝４−メチルフェニルカルボキシレート，
（２０）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝アクリレート，
（２１）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝メタクリレート，
（２２）１−｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノキシ｝−２，３−エポキシプロパン，
（２３）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ｎ−ヘキシルエーテル，
（２４）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ステアリルエーテル，
（２５）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝シクロヘキシルエーテル，
（２６）１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）ベンゼン，
（２７）１−メトキシ−２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）ベンゼン，
（２８）｛２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）フェニル｝アリルエーテル，
（２９）｛２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート，
（３０）｛２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）フェニル｝４−メチルベンゼンスルホネート，
（３１）｛２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）フェニル｝アセテート，
（３２）｛２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート，
（３３）｛２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）フェニル｝アクリレート，
（３４）１−｛２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）フェノキシ｝−２，３−エポキシプロパン，
（３５）１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）ベンゼン，
（３６）１−メトキシ−２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）ベンゼン，
（３７）｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝アリルエーテル，
（３８）｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート，
（３９）｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝２，５−ジメチルベンゼンスルホネート，
（４０）｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝アセテート，
（４１）｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート，
（４２）｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝アクリレート，
（４３）１−｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェノキシ｝−２，３−エポキシプロパン，
（４４）１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルベンゼン，
（４５）１−エトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルベンゼン，
（４６）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェニル｝アリルエーテル，
（４７）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェニル｝ベンゼンスルホネート，
（４８）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェニル｝アセテート，
（４９）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェニル｝フェニルカルボキシレート，
（５０）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェニル｝アクリレート，
（５１）１−｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノキシ｝−２，３−エポキシプロパン，
（５２）１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチルベンゼン，
（５３）１−エトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチルベンゼン，
（５４）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチルフェニル｝アリルエーテル，
（５５）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチルフェニル｝ベンゼンスルホネート，
（５６）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチルフェニル｝アセテート，
（５７）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチルフェニル｝フェニルカルボキシレート，
（５８）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチルフェニル｝アクリレート，
（５９）１−｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチルフェノキシ｝−２，３−エポキシプロパン，
（６０）｛１−ｉｓｏ−プロポキシ−２−（４−メチルフェニルスルホニル）−４−フェニルスルホニル｝ベンゼン，
（６１）｛２−（４−メチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェニル｝アリルエーテル，
（６２）｛２−（４−メチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート，
（６３）｛２−（４−メチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート，
（６４）｛１−メトキシ−２−（４−メチルフェニルスルホニル）−４−フェニルスルホニル｝ベンゼン，
（６５）｛１−ｉｓｏ−プロポキシ−２−（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−４−フェニルスルホニル｝ベンゼン，
（６６）｛２−（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート，
（６７）｛２−（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート，
（６８）｛１−メトキシ−２−（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−４−フェニルスルホニル｝ベンゼン，
（６９）１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）ベンゼン，
（７０）｛２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝アリルエーテル，
（７１）｛２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート，
（７２）｛２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝３，４−ジメチルベンゼンスルホネート，
（７３）｛２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート，
（７４）１−メトキシ−２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）ベンゼン，
（７５）１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）ベンゼン，
（７６）｛２，４−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）フェニル｝アリルエーテル，
（７７）｛２，４−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート，
（７８）｛２，４−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）フェニル｝４−クロロベンゼンスルホネート，
（７９）｛２，４−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート，
（８０）１−エトキシ−２，４−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）ベンゼン。
【００１０】
次に、一般式（１）で示されるスルホニル化合物の製造方法を述べる。
【００１１】
即ち、次式により、その製造方法は示される。
【００１２】
【化７】
0003736885.tif 000005
［上記式中ｎは１又は２を表し、ｎが１の時は、Ｙは一般式（１）におけると同じ意義を表し、Ａは塩素原子又は臭素原子を表し、ｎが２の時は、Ｙはメトキシ基又はエトキシ基を表し、Ａはスルホニル基を表す。］
本反応における触媒としては、ヨウ化カリウム、塩化亜鉛、塩化鉄、塩化アルミニウム、塩化マグネシウム、トリエチルベンジルアンモニウム等が好ましく、又塩基性物質としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ピリジン等が好ましい。
【００１３】
次に、単独では顕色剤水性スラリーが水和化するが、一般式（１）で示される化合物の共存が有効に作用し、顕色剤水性スラリーの水和化が防止され、優れた感熱記録材料を提供し得る顕色剤として一般式（２）で示される化合物の具体的な例として、以下のような化合物を挙げることができる。
（８１）２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール、
（８２）２，４−ビス（２−メチルフェニルスルホニル）フェノール、
（８３）２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）フェノール、
（８４）２，４−ビス（４−ブロモフェニルスルホニル）フェノール、
（８５）２，４−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）フェノール、
（８６）２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール、
（８７）２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール、
（８８）２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール、
（８９）２，４−ビス（２，４，６−トリメチルフェニルスルホニル）フェノール、
（９０）２，４−ビス（４−エチルフェニルスルホニル）フェノール、
（９１）２，４−ビス（４−ｉｓｏ−プロピルフェニルスルホニル）フェノール、
（９２）２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、
（９３）２，４−ビス（２−メチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、
（９４）２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、
（９５）２，４−ビス（４−ｉｓｏ−プロピルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、
（９６）２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、
（９７）２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、
（９８）２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチルフェノール、
（９９）２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）−５−エチルフェノール、
（１００）２，４−ビス（４−エチルフェニルスルホニル）−５−エチルフェノール、
（１０１）２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）−５−エチルフェノール、
（１０２）２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−５−エチルフェノール、
（１０３）２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−ｉｓｏ−プロピルフェノール、
（１０４）２−（４−メチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノール、
（１０５）２−（４−エチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノール、
（１０６）２−（４−ｉｓｏ−プロピルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノール、
（１０７）２−（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノール、
（１０８）２−（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノール、
（１０９）２−（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノール、
（１１０）２−（４−クロロフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノール、
（１１１）２−（４−ブロモフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノール、
（１１２）２−（フェニルスルホニル）−４−（４−メチルフェニルスルホニル）フェノール、
（１１３）２−（フェニルスルホニル）−４−（４−エチルフェニルスルホニル）フェノール、
（１１４）２−（フェニルスルホニル）−４−（４−ｉｓｏ−プロピルフェニルスルホニル）フェノール、
（１１５）２−（フェニルスルホニル）−４−（２−メチルフェニルスルホニル）フェノール、
（１１６）２−（フェニルスルホニル）−４−（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール、
（１１７）２−（フェニルスルホニル）−４−（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール、
（１１８）２−（フェニルスルホニル）−４−（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール、
（１１９）２−（フェニルスルホニル）−４−（４−クロロフェニルスルホニル）フェノール、
（１２０）２−（フェニルスルホニル）−４−（４−ブロモフェニルスルホニル）フェノール、
（１２１）２−（４−メチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、
（１２２）２−（４−クロロフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、
（１２３）２−（４−ブロモフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、
（１２４）２−（フェニルスルホニル）−４−（４−メチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、
（１２５）２−（フェニルスルホニル）−４−（４−クロロフェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、
（１２６）２−（フェニルスルホニル）−４−（４−ブロモフェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、
（１２７）２−（４−メチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）−５−エチルフェノール、
（１２８）２−（４−クロロフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）−５−エチルフェノール、
（１２９）２−（４−ブロモフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）−５−エチルフェノール、
（１３０）２−（フェニルスルホニル）−４−（４−メチルフェニルスルホニル）−５−エチルフェノール、
（１３１）２−（フェニルスルホニル）−４−（４−クロロフェニルスルホニル）−５−エチルフェノール、
（１３２）２−（フェニルスルホニル）−４−（４−ブロモフェニルスルホニル）−５−エチルフェノール、
（１３３）２−（４−メチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）−５−ｉｓｏ−プロピルフェノール、
（１３４）２−（フェニルスルホニル）−４−（４−メチルフェニルスルホニル）−５−ｉｓｏ−プロピルフェノール。
【００１４】
一般式（１）及び一般式（２）の化合物を共存させて使用する場合、好ましい一般式（１）及び一般式（２）の化合物としては前記化合物番号に従って以下のように挙げることができる。
［一般式（１）］
（１）〜（２７），（２９），（３０），（３２），（３５），（３６），（３８），（３９），（４１），（４４），（４５），（４７），（４９），（５２），（５３），（５５），（６０）〜（７５），（７７），（７８）。
［一般式（２）］
（８１），（８３），（８５）〜（８８），（９０）〜（９２），（９４），（９５），（９９）〜（１０５），（１０７）〜（１１０），（１１２）〜（１１９），（１２１），（１２４），（１２７），（１３０）。
【００１５】
更に好ましい一般式（１）及び一般式（２）の化合物は以下のように挙げることができる。
［一般式（１）］
（１）〜（２７），（３０），（３５），（３６），（３９），（４４），（４５），（４７），（５２），（５３），（５５），（６０）〜（７５），（７８）。
［一般式（２）］
（８１），（８３），（８５）〜（８８），（９２），（１０４），（１０７）〜（１１０），（１１２），（１１６）〜（１１９），（１２１），（１２４）。
【００１６】
尚、一般式（１）で示される化合物、一般式（２）で示される化合物をそれぞれ二種以上共存させて使用してもよい。
【００１７】
又一般式（１）で示される化合物の使用量は一般式（２）で示される化合物に対しあまりにも少なすぎると効果を失うが、あまりにも多すぎると経済的に不利になる。従って、好ましくは、一般式（２）に対して、重量で１０ｐｐｍから二倍量程度である。更に好ましくは２０ｐｐｍから等量程度である。
【００１８】
更に、配合調製方法は、（ａ）それぞれの化合物をそれぞれ粉砕したものを所望の比率で混合調製する方法、（ｂ）粉砕時に、所望の比率で投入し混合粉砕する方法、（ｃ）すでに粉砕した一般式（１）の化合物を、一般式（２）の粉砕時に、所望の比率で投入し混合粉砕する方法、（ｄ）あらかじめ再結晶法又は混融法により所望の比率に、混合調製したものを粉砕する方法のいずれを用いてもよい。
【００１９】
又、顕色剤として本組成物を使用する総量は、一般式（２）で示される化合物基準の換算で、塩基性染料１００重量部に対し５０〜６００重量部、好ましくは１００〜４００重量部である。
【００２０】
次に、本発明に係わる記録材料に用いられる塩基性染料、増感剤について述べる。
【００２１】
塩基性染料としては、トリアリールメタン系化合物、ジアリールメタン系化合物、ピリジン系化合物、スピロ系化合物、ローダミン−ラクタム系化合物、フルオラン系化合物、インドリルフタリド系化合物、フルオレン系化合物などが例示される。中でも、３−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−（Ｎ−イソペンチル−Ｎ−エチル）−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチル）−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ，Ｎ−ジエチル−６−クロロ−７−アニリノフルオラン、クリスタルバイオレットラクトン等が代表的なものとして例示される。これらの塩基性染料は単独で用いても、あるいは発色画像の色調の調整や多色感熱記録材料を得るなどの目的で二種以上混合しても良い。
【００２２】
次に、増感剤としては含窒素化合物、エステル化合物、炭化水素化合物、エーテル化合物、スルホン化合物等が例示される。中でも、β−ナフチルベンジルエーテル、ステアリン酸アミド、４−ベンジルオキシ安息香酸ベンジルエステル、シュウ酸ジベンジル、シュウ酸−ジ−Ｐ−メチルベンジル、ビス（４−メチルフェニル）カーボネート、４−ベンジルフェニル、ｍ−ターフェニル、１，２−ビス（３−メチルフェノキシ）エタン、１，２−ビス（フェノキシ）エタン、ジフェニルスルホン、３，３′，４，４′−テトラメチル−ジフェニルエタン等が代表的なものとして例示される。これらの増感剤は、単独で用いても、あるいは二種以上混合してもよい。更に、これらの増感剤の使用量は、塩基性染料１００重量部に対し、５０〜８００重量部好ましくは１００〜４００重量部である。
【００２３】
尚、増感剤の粉砕方法は、（ａ）増感剤単独で粉砕する方法、（ｂ）増感剤と染料を所望の比率で混合粉砕する方法、（ｃ）増感剤と先に述べた一般式（１）及び一般式（２）からなる組成物を、所望の比率で混合粉砕する方法のいずれを用いてもよい。
【００２４】
本発明に係わる感熱記録紙は公知の方法により製造することができ、何ら特殊な方法を採用する必要はない。例えば、塩基性染料、顕色剤、増感剤、顔料、金属セッケン、ワックス等を界面活性剤、消泡剤及び分散剤等を含む水性媒体中で、ボールミル、サンドミル等の手段により通常５μｍ以下、好ましくは１．５μｍ以下の粒径にまで粉砕・分散させて塗液を調製することができる。
【００２５】
上記の顔料としては、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化チタン、カオリン、シリカ、非晶質シリカ、酸化亜鉛等が例示される。
【００２６】
金属セッケンとしては、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム等が例示される。
【００２７】
ワックスとしては、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ポリエチレンワックス等が例示される。
【００２８】
界面活性剤としては、スルホコハク酸系のアルカリ金属塩、アルキルベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩、ラウリルアルコール硫酸エステルのナトリウム塩等が例示される。分散剤としては、ポリアクリル酸ソーダ、ポリビニルアルコール（各種の鹸化度、ｐＨ及び重合度のもの）、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリアクリルアミド、でんぷん等が例示される。
【００２９】
本発明の感熱記録材料において、その感熱記録層は従来より公知の技術に従って形成することができ、形成方法は特に限定されるものではない。例えば、感熱記録層用の塗液を支持体面上にエアーナイフコーター、ブレーダーコーター、バーコーター、ロッドコーター、グラビアコーター、カーテンコーター、ワイヤバー等の適当な塗布装置で塗布し、乾燥して記録層を形成することができる。塗液の塗布量に関しても特に限定するものではなく、支持体面に対し、一般に乾燥重量で０．５〜５０ｇｒ／ｍ2 、好ましくは１．０〜２０．０ｇｒ／ｍ2 の範囲である。支持体としては、紙、プラスチックシート、合成紙等が用いられる。
【００３０】
【実施例】
以下に、本発明を実施例によって説明する。
（実施例１）
１リットル容反応機に、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒ、水酸化ナトリウム１２ｇｒ、ヨウ化カリウム０．５ｇｒ、イソプロピルアルコール２００ｍｌ及び水１００ｍｌを仕込み、窒素ガス雰囲気下、攪拌しながら７０℃に加温溶解した。同温度で１０時間かけてイソプロピルクロライド２４ｇｒを滴下した。滴下終了後１０時間、同温度で熟成後、水３００ｍｌを加え、析出した結晶物を濾別し、結晶物をトルエン３００ｍｌで再結晶精製し、白色結晶性粉末８５ｇｒを得た。融点１３２℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表１）の結果から、本品は、１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼンであることが確認された。
【００３１】
0003736885.tif 000006
【００３２】
臭化カリウム錠剤法による（以下同じ）このものの赤外線吸収スペクトログラムを図１に示す。尚、図１〜図１７において縦軸は透過率（％）を示し、横軸は波数（ｃｍ-1）を示す。
【００３３】
（実施例２）
実施例１において、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒに代えて、２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール９７ｇｒを使用した以外は、実施例１と同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末８８ｇｒを得た。融点１７３℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表２）の結果から、本品は、１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルベンゼンであることが確認された。
【００３４】
0003736885.tif 000007
【００３５】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図２に示す。
【００３６】
（実施例３）
１リットル容反応機に、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒ、水酸化ナトリウム１０ｇｒ及び水１００ｍｌを仕込み、窒素ガス雰囲気下、攪拌しながら９０℃に加温溶解した。同温度で４時間かけてジメチル硫酸４０ｇｒを滴下した。滴下終了後１０時間、同温度で熟成後、水３００ｍｌを加え、析出した結晶物を濾別し、結晶物をトルエン４００ｍｌで再結晶精製し、白色結晶性粉末８０ｇｒを得た。融点１６９℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表３）の結果から、本品は、１−メトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼンであることが確認された。
【００３７】
0003736885.tif 000008
【００３８】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図３に示す。
【００３９】
（実施例４）
実施例３において、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒに代えて、２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール９７ｇｒを使用した以外は、実施例３と同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末８３ｇｒを得た。融点２３４℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表４）の結果から、本品は、１−メトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルベンゼンであることが確認された。
【００４０】
0003736885.tif 000009
【００４１】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図４に示す。
【００４２】
（実施例５）
１リットル容反応機に、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒ、水酸化ナトリウム１２ｇｒ、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド１ｇｒ及び水２００ｍｌを仕込み、窒素ガス雰囲気下、攪拌しながら８０℃に加温溶解した。同温度で４時間かけて、塩化ベンジル３８ｇｒとトルエン３８ｇｒの混合液を滴下した。滴下終了後１０時間、同温度で熟成後、冷却し、析出した結晶物を濾別し、更に結晶物をメチルイソブチルケトン４００ｍｌで再結晶精製し、白色結晶性粉末１０３ｇｒを得た。融点１８１℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表５）の結果から、本品は、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンジルエーテルであることが確認された。
【００４３】
0003736885.tif 000010
【００４４】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図５に示す。
【００４５】
（実施例６）
１リットル容反応機に、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒ、塩化亜鉛０．１ｇｒ及びベンゼンスルホニルクロライド４４．１ｇｒを仕込み、窒素ガス雰囲気下、攪拌しながら１００℃に加温溶解した。同温度から徐々に昇温し１０時間かけて１６０℃まで昇温後、４時間同温度で熟成した。その後１１０℃まで冷却し、トルエン３００ｍｌを投入し、７０℃で水１００ｍｌを加え水洗し、水層を分液分離後、更に水１００ｍｌ加え水洗し、水層を分液、分離後、油分を共沸脱水し、再結晶法により精製し、白色結晶性粉末１１６ｇｒを得た。融点１４６℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表６）の結果から、本品は、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネートであることが確認された。
【００４６】
0003736885.tif 000011
【００４７】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図６に示す。
【００４８】
（実施例７）
実施例６において、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒに代えて、２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール９７ｇｒを使用した以外は、実施例６と同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末１２１ｇｒを得た。融点１６３℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表７）の結果から、本品は、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェニル｝ベンゼンスルホネートであることが確認された。
【００４９】
0003736885.tif 000012
【００５０】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図７に示す。
【００５１】
（実施例８）
実施例６において、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒに代えて、２，４−（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール１０７．５ｇｒを、ベンゼンスルホニルクロライド４４．１ｇｒに代えて、２，５−ジメチルベンゼンスルホニルクロライド５１．１ｇｒを使用した以外は、実施例６と同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末１２１ｇｒを得た。融点１５７℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表８）の結果から本品は、｛２，４−ビス（２，５−ジメチルベンゼンスルホニル）フェニル｝２，５−ジメチルベンゼンスルホネートであることが確認された。
【００５２】
0003736885.tif 000013
【００５３】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図８に示す。
【００５４】
（実施例９）
実施例６において、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒに代えて、２，４−（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール１０７．５ｇｒを、ベンゼンスルホニルクロライド４４．１ｇｒに代えて、３，４−ジメチルベンゼンスルホニルクロライド５１．１ｇｒを使用した以外は、実施例６と同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末１１５ｇｒを得た。融点２２３℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表９）の結果から本品は、｛２，４−ビス（３，４−ジメチルベンゼンスルホニル）フェニル｝３，４−ジメチルベンゼンスルホネートであることが確認された。
【００５５】
0003736885.tif 000014
【００５６】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図９に示す。
【００５７】
（実施例１０）
実施例３において、ジメチル硫酸４０ｇｒに代えて、ジエチル硫酸５０ｇｒを、再結晶溶媒トルエン４００ｍｌに代えて、トルエン：メチルイソブチルケトン（３００ｍｌ：１００ｍｌ）を用いた以外は、実施例３と同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末９０ｇｒを得た。融点１９３℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表１０）の結果から、本品は、１−エトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼンであることが確認された。
【００５８】
0003736885.tif 000015
【００５９】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図１０に示す。
【００６０】
（実施例１１）
実施例５において、塩化ベンジル３８ｇｒに代えて、臭化アリル３６ｇｒを、再結晶溶媒メチルイソブチルケトン４００ｍｌに代えて、トルエン４００ｍｌを用い、更に、反応温度８０℃を６０℃に変えた以外は、実施例５と同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末８５ｇｒを得た。融点１６８℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表１１）の結果から、本品は、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝アリルエーテルであることが確認された。
【００６１】
0003736885.tif 000016
【００６２】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図１１に示す。
【００６３】
（実施例１２）
実施例１において、イソプロピルクロライド２４ｇｒに代えて、臭化ｎ−ヘキサン５０ｇｒを、再結晶溶媒トルエン３００ｍｌに代えて、エタノール３００ｍｌを用いた以外は、実施例１と同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末９０ｇｒを得た。融点１１５℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表１２）の結果から、本品は、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ｎ−ヘキシルエーテルであることが確認された。
【００６４】
0003736885.tif 000017
【００６５】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図１２に示す。
【００６６】
（実施例１３）
１リットル容反応機に、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒ、ピリジン３４ｇｒ及びトルエン３００ｍｌを仕込み、窒素ガス雰囲気下、攪拌しながら６０℃に加温し、同温度でベンゾイルクロライド４２．１ｇｒを２時間かけて滴下した。滴下終了後、５時間、同温度で熟成後、５％希塩酸水１００ｍｌを加え、攪拌水洗し、静置後下層の水層を分離し更に水１００ｍｌ加え同様な操作をした。油分を共沸脱水した後再結晶精製し、白色結晶性粉末９５ｇｒを得た。融点１４１℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表１３）の結果から、本品は、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシレートであることが確認された。
【００６７】
0003736885.tif 000018
【００６８】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図１３に示す。
【００６９】
（実施例１４）
実施例１３において、ベンゾイルクロライド４２．１ｇｒに代えてステアロイルクロライド９３．５ｇｒを使用した以外は、実施例１３と同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末１２０ｇｒを得た。融点８２℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表１４）の結果から、本品は、１−ステアロイルオキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼンであることが確認された。
【００７０】
0003736885.tif 000019
【００７１】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図１４に示す。
【００７２】
（実施例１５）
実施例１３において、ベンゾイルクロライド４２．１ｇｒに代えて、アセチルクロライド２４ｇｒを、ピリジン３４ｇｒに代えて、トリエチルアミン３８ｇｒを使用した以外は、実施例１３と同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末７８ｇｒを得た。融点１７３℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表１５）の結果から、本品は、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝アセテートであることが確認された。
【００７３】
0003736885.tif 000020
【００７４】
このものの赤外線吸収スペクトログラムを図１５に示す。
【００７５】
（実施例１６）
２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール４８．５ｇｒ、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート１．５ｇｒ及びトルエン１００ｇｒから再結晶法により白色結晶性粉末４８ｇｒを得た。融点１５７℃。本品は、高速液体クロマトグラフ分析結果から、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート１．２％を含む２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル（以後、再結晶法により得た組成物を再結晶法と記す。）であることが確認された。
【００７６】
（実施例１７）
２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール４９．５ｇｒ及び１−メトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン０．５ｇｒを混合溶融させ、１３０〜１４０℃で結晶化させ室温に冷却後粉砕して、白色結晶性粉末４８．５ｇｒを得た。融点１５７℃。本品は、高速液体クロマトグラフ分析から１−メトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン１．５％を含む２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノールであることが確認された。
【００７７】
尚、本方法により得られた顕色剤組成物を以後、溶融法と記す。
【００７８】
（実施例１８）
２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール４９．０ｇｒ及び｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート１．０ｇｒをトルエン１００ｇｒに溶解し、該溶液をヘキサン５００ｇｒ中に攪拌しながらゆっくり滴下し、析出物を濾取、乾燥して白色結晶性粉末４８ｇｒを得た。融点１５８℃。本品は、高速液体クロマトグラフ分析から｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート１．５％を含む２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノールであることが確認された。
【００７９】
（実施例１９）
塩基性染料分散液の調製
３−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン２０ｇｒを、濃度５％ポリビニルアルコール（クラレ社製；商品名ＰＶＡ−１１７）水溶液８０ｇｒ中でボールミルを用いて粉砕して、平均粒径０．６μｍの塩基性染料分散液を調製した。
【００８０】
増感剤分散液の調製
１，２−ビス（３−メチルフェノキシ）エタン２０ｇｒを、濃度５％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１１７）水溶液３０ｇｒ中で、ボールミルを用いて粉砕して平均粒径０．６μｍの増感剤分散液を調製した。
【００８１】
顕色剤分散液の調製
｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネートを１．２％含有する２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール２０ｇｒを、濃度５％メチルセルロース水溶液３０ｇｒ中で、ボールミルを用いて粉砕して平均粒径１．１μｍの顕色剤分散液を調製し、これを４０℃にて３０日間保管したものを顕色剤分散液として使用した。
【００８２】
顔料分散液の調製
炭酸カルシウム（白石工業製；商品名ユニバー７０）３０ｇｒ、水７０ｇｒ及び濃度１０％ヘキサメタリン酸ソーダ水溶液０．４ｇｒを回転数１５，０００ｒｐｍのホモジナイザーで１５分間攪拌して、顔料分散液を調製した。
【００８３】
感熱記録層塗布液の調製
上記の塩基性染料分散液３ｇｒ、増感剤分散液３ｇｒ、顕色剤分散液３ｇｒ、及び顔料分散液７ｇｒ、更に濃度３１％のハイドリンＺ−７（中京油脂社製の商品名）２．０ｇｒ、濃度３１％のハイドリンＰ（中京油脂社製の商品名）０．２ｇｒ、濃度５％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１１７）水溶液６ｇ及び水９ｇｒを混合して感熱記録層塗布液を得た。
【００８４】
感熱記録紙の作製
紙支持体面上に、乾燥後の感熱記録層重量が５ｇｒ／ｍ2 となるように、ワイヤーバーを用いて感熱記録層塗布液を塗布し、６０℃のオーブン中で乾燥後、平滑度２００秒（ベック法）となるようにキャレンダー処理した。
【００８５】
（実施例２０〜３０）
実施例１９で用いた顕色剤｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネートを１．２％含有する２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて表１６に示す顕色剤を用い、更に、実施例２０，２７，２８及び３０において、顕色剤の粉砕時の分散剤として、実施例１９のメチルセルロースに代えて、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１１７）を用いた以外は実施例１９と同様に操作した。用いた顕色剤及びその重量を表１６に示す。
【００８６】
【表１】
0003736885.tif 000021
【００８７】
（実施例３１）
実施例１９で用いた顕色剤｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネートを１．２％含有する２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝２，５−ジメチルベンゼンスルホネート０．４ｇｒと２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール１９．６ｇｒを用いた以外は実施例１９と同様に操作した。
【００８８】
（実施例３２）
実施例１９で用いた顕色剤｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネートを１．２％含有する２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェニル｝フェニルカルボキシレート１０ｇｒと２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール１０ｇｒを用いて顕色剤分散液を調製した。更に、得られた本分散液を感熱記録層塗布液の調製の時に６ｇｒ使用した以外は、実施例１９と同様に操作した。
【００８９】
（比較例１〜２）
実施例１９で用いた顕色剤｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネートを１．２％含有する２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、以下の顕色剤を用いた以外は実施例１９と同様に操作した。
【００９０】
比較例１
２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール      ２０ｇｒ
比較例２
２−（４−メチルフェニルスルホニル）−４（フェニルスルホニル）フェノール                                              ２０ｇｒ
実施例１９〜３２及び比較例１〜２で得られた顕色剤分散液を４０℃に３０日間保存し、分散液の外観を肉眼で観察した結果、実施例１９〜３２は異状を認められなかったが、比較例１及び２は、分散が劣化し下層に粒子が沈降し、固化していた。
【００９１】
（比較例３）
実施例１９で用いた顕色剤｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネートを１．２％含有する２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２０ｇｒを用いた。更に、得られた顕色剤水性スラリーは、４０℃で３０日間の保存試験を省略した以外は実施例１９と同様に操作した。
【００９２】
次に、実施例１９〜３２及び比較例１〜３で得られた感熱記録紙をＦＵＪＩＴＵ  ファクスＦＦ１７００ＲＸ型機のコピーモード条件で印字テストを行い、また次の性能比較試験を行った。その結果を表１９に示す。
【００９３】
性能比較試験
印字濃度
マクベス濃度計を用いて測定した。
【００９４】
耐熱性試験
地肌；６０℃で２４時間放置した後の地肌かぶりを下記の基準で肉眼で観察した。
【００９５】
○：全く変化なし    △：わづか着色    ×：着色
印字；印字紙を６０℃で２４時間放置した後、下記の基準で示される印字濃度残存率（％）を測定した。
【００９６】
印字濃度残存率（％）＝（保存後の印字濃度／保存前の印字濃度）×１００
耐湿試験
地肌；４０℃、湿度９０％で２４時間放置した後の地肌かぶりを、耐熱性地肌かぶり試験の基準に準じ表わした。
【００９７】
印字；印字紙を４０℃、湿度９０％で２４時間放置した後、印字濃度残存率を耐熱性印字濃度残存率（％）に準じ表わした。
【００９８】
耐可塑剤試験
ガラスビンの外周に印字紙を巻きつけ、その上にハイラップＶ−４５０（三井東圧化学社製の商品名）を３重に巻きつけ、４０℃で２時間放置した後、印字濃度残存率を耐熱性印字濃度残存率（％）に準じ表わした。
【００９９】
【表２】
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【０１００】
尚、比較例１及び２は、６０℃でかぶりが生じたので、他の性能比較試験は中止した。
【０１０１】
以上のように、本発明に係わる顕色剤は水性スラリー状態で水和することなく長期の保存に耐え、本顕色剤組成物を用いた感熱記録材料は、発色性に優れ、且つ経時の地肌かぶりが少なく、記録像の保存安定性とりわけ耐熱性、耐湿性及び耐可塑剤性に優れていることがわかる。
【０１０２】
【発明の効果】
本発明により、顕色剤水性スラリーが水和することなく長期保存安定性に優れ、且つ本顕色剤組成物を用い、高感度で、しかも経時の地肌かぶりが少なく、記録像の保存安定性とりわけ耐熱性、耐湿性及び耐可塑剤性に優れた感熱記録材料が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図２】実施例２で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図３】実施例３で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図４】実施例４で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図５】実施例５で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図６】実施例６で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図７】実施例７で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図８】実施例８で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図９】実施例９で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図１０】実施例１０で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図１１】実施例１１で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図１２】実施例１２で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図１３】実施例１３で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図１４】実施例１４で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図１５】実施例１５で得られた化合物の赤外線吸収スペクトログラムである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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