(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機エレクトロルミネッセンス層と、有機エレクトロルミネッセンス層の前面に形成された透明な第１電極層と、有機エレクトロルミネッセンス層の背面に形成された第２電極層と、第１電極層と第２電極層とが有機エレクトロルミネッセンス層を介して重なり合ってなる複数の発光部の前方側をそれぞれ取り囲むようにして配置されたブラックマスクとからなる有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記ブラックマスクを、前記複数の発光部すべてに対して、該発光部の側方において第１電極層の前面以上の位置まで延在させたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２】
前記ブラックマスクを、前記複数の発光部すべてに対して、該発光部の側方において有機エレクトロルミネッセンス層の前面を越える位置まで延在させた請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項３】
前記発光部の前方側にはカラーフィルタが配置されており、前記ブラックマスクは、発光部の前方側にてカラーフィルタを取り囲むようにして配置されている請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（以下、単に有機ＥＬとする）の発光を利用して表示を行う有機ＥＬ表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、有機ＥＬ表示装置としては、例えば、特開平１１−８０７０号公報に開示されたものが存在する。
【０００３】
すなわち、図６に示すように、ガラス基板１０１の背面（図面では上面）上には、有機ＥＬ層１０２が配置されている。有機ＥＬ層１０２の前面(図面では下面）には、透明な第１電極層１０３が形成されている。有機ＥＬ層１０２の背面には、第２電極層１０４が形成されている。第１電極層１０３の前方側には、この第１電極層１０３と第２電極層１０４とが有機ＥＬ層１０２を介して重なり合ってなる各発光部１０５に対応するように、カラーフィルタ１０６が形成されている。
【０００４】
前記カラーフィルタ１０６は、ガラス基板１０１の背面に形成されたブラックマスク１０７によって取り囲まれている。カラーフィルタ１０６及びブラックマスク１０７は、透明のオーバーコート層１０８によって覆われている。このように、カラーフィルタ１０６をブラックマスク１０７によって取り囲むことで、カラーフィルタ１０６内で散乱する光が、隣接する画素領域へ入射されることを防止できる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、前記公報の技術においてブラックマスク１０７は、ガラス基板１０１の背面からの高さが第１電極層１０３よりも低くなっている。従って、ブラックマスク１０７と第１電極層１０３との間のオーバーコート層１０８を介して隣接する画素領域へ光が入射してしまい、光洩れや色にじみが生じて表示が不鮮明となる問題があった。
【０００６】
本発明の目的は、隣接する画素領域への光の入射を確実に抑制することが可能な有機ＥＬ表示装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために請求項１の発明では、ブラックマスクが、各発光部の前方側（発光の取り出し方向側）を取り囲むようにして配置されている。従って、隣接する画素領域への光の入射を抑制することができる。そして、本発明においてブラックマスクは、前記複数の発光部すべてに対して、該発光部の側方において第１電極層の前面以上の位置まで延在されている。よって、発光部においては、少なくとも第１電極層の前面側方がブラックマスクによって取り囲まれることとなり、隣接する画素領域への光の入射の抑制が確実となる。
【０００８】
請求項２の発明は請求項１において、前記ブラックマスクは、前記複数の発光部すべてに対して、該発光部の側方において有機ＥＬ層の前面を越える位置まで延在されている。従って、発光部においては、有機ＥＬ層の側方がブラックマスクによって取り囲まれることとなり、隣接する画素領域への光の入射の抑制がより確実となる。
【０００９】
請求項３の発明は請求項１又は２において、前記発光部の前方側にはカラーフィルタが配置されており、前記ブラックマスクは、発光部の前方側にてカラーフィルタを取り囲むようにして配置されている。つまり、発光部の前方側にカラーフィルタを配置する構造では、隣接する画素領域への光の洩れ経路が複雑となりがちである。このような態様において請求項１又は２の発明を適用することは、その効果（隣接する画素領域への光の入射の確実な抑制）を奏するのに特に有効となる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置を具体化した一実施形態について詳述する。
図１及び図２に示すように、ガラス基板１１の背面１１ａには、ブラックマスク１２が格子状に形成されている。ブラックマスク１２は、例えば、カーボンやチタン等をフォトレジストに分散した、樹脂ブラックよりなっている。ブラックマスク１２は、例えば、フォトリソグラフィの手法を用いて形成されている。なお、樹脂ブラックは、例えば、金属クロムよりもブラックマスク１２の形成が容易である。
【００１１】
前記ガラス基板１１の背面１１ａにおいてブラックマスク１２の各区画１２ａ内には、カラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂがそれぞれ形成されている。つまり、ブラックマスク１２は、カラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを取り囲むようにして配置されている。カラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂには、無機カラーフィルタと比較して色再現性が良好な有機カラーフィルタが用いられている。カラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の何れかよりなり、図１に示すこの三色の組合せが、有機ＥＬ表示装置の一つの画素（ピクセル）を構成している。つまり、ブラックマスク１２の各区画１２ａは、サブピクセル領域を構成している。
【００１２】
前記ブラックマスク１２及びカラーフィルタ１３の上には、それらを覆うようにしてオーバーコート層１４が形成されている。オーバーコート層１４は、透明性を有する無機材料（例えば二酸化珪素或いは窒化珪素）よりなっている。オーバーコート層１４の形成には、例えば、蒸着の手法が用いられている。オーバーコート層１４には、ブラックマスク１２の各区画１２ａに対応して、収容凹部１５が形成されている。
【００１３】
前記オーバーコート層１４の上には、透明な第１電極層（陽極）１６が、例えば、蒸着の手法を用いて形成されている。第１電極層１６はＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等からなり、オーバーコート層１４の上において複数、平行なストライプ状に形成されている。第１電極層１６の各ストライプは、それぞれオーバーコート層１４の収容凹部１５内を通過するように形成され、従って、収容凹部１５の内底面１５ａの上には第１電極層１６が積層されている。
【００１４】
有機ＥＬ層１７は、例えば公知の白色発光層で構成されている。有機ＥＬ層１７は、図示しない絶縁性の隔壁により隔てられた状態で、第１電極層１６と直交する方向に延びる複数の平行なストライプ状に形成されている。有機ＥＬ層１７の各ストライプは、それぞれオーバーコート層１４の収容凹部１５内を通過するように形成され、収容凹部１５内で第１電極層１６の背面（図面では上面）１６ａの上に積層されている。
【００１５】
第２電極層（陰極）１８は、ストライプ状に形成された有機ＥＬ層１７の背面１７ａ上に積層され、第１電極層１６に対してオーバーコート層１４の収容凹部１５内で直交する状態に形成されている。従って、オーバーコート層１４の収容凹部１５内には、第１電極層１６と第２電極層１８とが有機ＥＬ層１７を介して重なり合うことで、各サブピクセルに対応する発光部１９が構成されている。
【００１６】
そして、前記各発光部１９において、第１電極層１６と第２電極層１８との間に電圧が印加されると、この電極層１６，１８間に位置する有機ＥＬ層１７が白色に発光する。この有機ＥＬ層１７からの白色光が、その前方側つまり発光の取り出し方向側に配置された、第１電極層１６及びオーバーコート層１４並びにカラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを透過してガラス基板１１から出射される。白色光はカラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを透過した後、このカラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３ＢのＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のいずれかに対応する色の光となる。このＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各サブピクセルの発光の組合せにより、ピクセルにおいては所望の色が再現されることとなる。
【００１７】
さて、図３に示すように、前記ブラックマスク１２は、各発光部１９の側方において第１電極層１６の前面１６ｂ以上の位置まで延在されている。つまり、ブラックマスク１２は、その高さ言い換えればガラス基板１１の背面１１ａから各区画１２ａの開口端面１２ｂまでの距離Ｌａが、ガラス基板１１の背面１１ａから各発光部１９の第１電極層１６の前面（図面では下面）１６ｂまでの距離Ｌｂ以上となるように構成されている。
【００１８】
特に、本実施形態においてブラックマスク１２は、各発光部１９の側方において、第１電極層１６の前面１６ｂ及び第１電極層１６の側方並びに有機ＥＬ層１７の前面１７ｂを超えて、有機ＥＬ層１７の側方に到達する位置まで延在されている。つまり、ブラックマスク１２は、ガラス基板１１の背面１１ａから開口端面１２ｂまでの距離Ｌａが、ガラス基板１１の背面１１ａから各発光部１９の有機ＥＬ層１７の前面１７ｂまでの距離Ｌｃを超えるように構成されている。
【００１９】
従って、各サブピクセルにおいては、カラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ及びオーバーコート層１４のみならず、発光部１９の第１電極層１６の側方及び有機ＥＬ層１７の側方がブラックマスク１２によって取り囲まれることとなる。よって、各発光部１９の有機ＥＬ層１７で発生した光が、隣接する画素領域（隣接するサブピクセル領域も含む）に入射されることを確実に抑制することができる。
【００２０】
上記構成の本実施形態においては、次のような効果を奏する。
（１）ブラックマスク１２は、発光部１９の側方において第１電極層１６の前面１６ｂ以上の位置まで延在されている。従って、隣接する画素領域へ光が入射されることを確実に抑制でき、光洩れや色にじみの無い鮮明な表示が可能となる。
【００２１】
特に、本実施形態においては、前記効果（隣接する画素領域への光の入射の確実な抑制）をより有効に奏し得る好ましい態様として、ブラックマスク１２が、発光部１９の側方において有機ＥＬ層１７の前面１７ｂを超える位置まで延在されている。さらに好ましい態様として、ブラックマスク１２が、発光部１９の側方において有機ＥＬ層１７の前面１７ｂ以上の位置まで延在されている。それ以上に好ましい態様として、ブラックマスク１２が、発光部１９の側方において有機ＥＬ層１７の前面１７ｂを超える位置まで延在されている。
【００２２】
（２）発光部１９の前方側にはカラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂが配置されており、この発光部１９の前方側においてブラックマスク１２は、カラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを取り囲むように配置されている。つまり、発光部１９の前方側にカラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを配置する構造では、発光部１９とガラス基板１１との間の距離が長くなり、隣接する画素領域への光の洩れ経路が複雑となりがちである。このような態様において本発明を適用することは、その効果（隣接する画素領域への光の入射の確実な抑制）を奏するのに特に有効となる。
【００２３】
（３）カラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂと第１電極層１６との間には、オーバーコート層１４が介在されている。つまり、発光部１９の前方側にオーバーコート層１４を配置する構造では、発光部１９とガラス基板１１との間の距離が長くなり、隣接する画素領域への光の洩れ経路が複雑となりがちである。このような態様において本発明を適用することは、その効果（隣接する画素領域への光の入射の確実な抑制）を奏するのに特に有効となる。
【００２４】
なお、前記オーバーコート層１４は、カラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂからの水分を遮断する。従って、この水分から有機ＥＬ層１７を保護することができる。また、オーバーコート層１４は、カラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂの表面を平坦化する。従って、有機ＥＬ層１７が薄くても、有機ＥＬ層１７を挟んで形成される両電極層１６，１８間のショートの危険性が少なくなり、有機ＥＬ表示装置の信頼性が向上される。さらに、オーバーコート層１４は、第１電極層１６の形成工程における熱的や化学的な影響等から、カラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを保護する役目もある。
【００２５】
本発明の趣旨から逸脱しない範囲で、例えば以下の態様でも実施可能である。・例えば、図４示すように、上記実施形態を変更し、オーバーコート層１４として有機材料よりなるものを用いること。このようにすれば、無機材料により形成する場合と比較して、所定の厚みのオーバーコート層１４を短時間で形成可能となる。
【００２６】
特に、図４の態様においては、オーバーコート層１４と第１電極層１６との間に、無機材料よりなる接着層２０が形成されている。従って、第１電極層１６とオーバーコート層１４との接着性が良好となる。また、接着層２０は、オーバーコート層１４からの水分を遮断して、この水分から有機ＥＬ層１７を保護する役目も果たす。なお、本態様において収容凹部１５は、接着層２０に形成されている。
【００２７】
・例えば、図５に示すように、上記実施形態においてオーバーコート層１４を削除し、カラーフィルタ１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂの上に第１電極層１６を直接積層すること。このようにすれば、有機ＥＬ表示装置を安価に提供することができる。
【００２８】
・例えば、図５に示すように、上記実施形態を変更し、ブラックマスク１２を、各発光部１９の側方において有機ＥＬ層１７の背面１７ａ以上の位置まで延在させること。つまり、ブラックマスク１２を、その開口端面１２ｂとガラス基板１１の背面１１ａとの間の距離Ｌａが、ガラス基板１１の背面１１ａと、発光部１９において有機ＥＬ層１７の背面１７ａとの間の距離Ｌｄ以上となるように構成すること（図５の態様においてはＬａ＝Ｌｄ）。このようにすれば、各発光部１９において有機ＥＬ層１７の側方が全てブラックマスク１２によって取り囲まれることとなり、隣接する画素領域へ光が入射されることを、さらに確実に抑制できる。
【００２９】
・上記実施形態を変更し、ブラックマスク１２を、例えば金属クロムにより形成すること。
上記実施形態から把握できる技術的思想について記載する。
【００３０】
（１）前記ブラックマスクを、発光部の側方において第１電極層の前面を超える位置まで延在させた請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
（２）前記ブラックマスクを、発光部の側方において有機ＥＬ層の前面以上の位置まで延在させた請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【００３１】
（３）前記ブラックマスクを、発光部の側方において有機ＥＬ層の背面以上の位置まで延在させた請求項２に記載の有機ＥＬ表示装置。
（４）前記第１電極層とカラーフィルタとの間には、有機ＥＬ層及び／又はカラーフィルタを保護するためのオーバーコート層が形成されている請求項３に記載の有機ＥＬ表示装置。
【００３２】
（５）前記オーバーコート層は無機材料よりなる前記（４）に記載の有機ＥＬ表示装置。
（６）前記オーバーコート層は有機材料よりなる前記（５）に記載の有機ＥＬ表示装置。
【００３３】
（７）前記オーバーコート層と第１電極層との間には、無機材料よりなる接着層が形成されている前記（６）に記載の有機ＥＬ表示装置。
【００３４】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、隣接する画素領域への光の入射を確実に抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  有機ＥＬ表示装置の模式断面図。
【図２】  ブラックマスクの格子状を説明する模式平面図。
【図３】  図１の要部拡大図。
【図４】  別例を示す有機ＥＬ表示装置の模式断面図。
【図５】  別の別例を示す有機ＥＬ表示装置の模式断面図。
【図６】  従来技術を示す、有機ＥＬ表示装置の模式断面図。
【符号の説明】
１２…ブラックマスク、１３Ｒ，Ｇ，Ｂ…カラーフィルタ、１６…第１電極層、１６ｂ…第１電極層の前面、１７…有機ＥＬ層、１７ａ…有機ＥＬ層の背面、１７ｂ…有機ＥＬ層の前面、１８…第２電極層、１９…発光部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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