(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
相互に対向する第１基板および第２基板の間に液晶を有する液晶表示装置であって、
前記第１基板の面上に形成され、前記第２基板側からの入射光を反射させる反射層であって、前記第１基板側からの入射光を前記第２基板側に透過させる透光領域が、当該反射層の外周縁のうち少なくとも一部に接する領域となるように、形状が選定された反射層を具備し、
前記反射層は、その外周縁の一部において切欠部を有し、前記透光領域は、前記反射層の切欠部に対応する領域である
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
画素領域の間隙を遮光する遮光層を具備し、前記透光領域は、前記画素領域の一部の領域である
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
相互に対向する第１基板および第２基板の間に液晶を有し、相互に交差する走査線およびデータ線を具備する液晶表示装置であって、
前記第１基板の面上に形成され、前記第２基板側からの入射光を反射させる反射層であって、前記走査線およびデータ線の延在方向と９０度以外の角度をなす辺により囲まれた開口部を有する反射層
を具備することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
前記開口部は、前記走査線またはデータ線のうちいずれか一方の延在方向を向く鋭角を有する形状である
ことを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記開口部の形状は、ひし形である
ことを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記開口部は、前記第１基板側からの入射光を第２基板側に透過させる透光領域に対応する
ことを特徴とする請求項３ないし５のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１基板の面上に、前記走査線およびデータ線の交差に対応して形成されたスイッチング素子と、
前記スイッチング素子を覆う絶縁膜と、
前記絶縁膜の面上に形成され、当該絶縁膜に設けられたコンタクトホールを介して前記スイッチング素子と導通する画素電極と
を具備し、前記開口部は、前記コンタクトホールに対応する領域であって前記画素電極を前記スイッチング素子に導通させるための導通領域に対応する
ことを特徴とする請求項３ないし６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記反射層は、その輪郭が角部を有しない形状である
ことを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の液晶表示装置を具備することを特徴とする電子機器。
【請求項１０】
相互に対向する第１基板と第２基板との間に液晶を有する液晶表示装置の製造方法であって、
前記第１基板の面上に光反射性を有する金属膜を形成する第１工程と、
前記金属膜を選択的に除去することにより、前記第２基板側からの入射光を反射させる反射層を形成する第２工程であって、前記第１基板側からの入射光を前記第２基板側に透過させる透光領域が、当該反射層の外周縁のうち少なくとも一部に接する領域となるように、当該透光領域に対応する前記金属膜を除去する第２工程と
を有し、
前記第２工程は、
前記金属膜表面のうち前記反射層に対応する領域にマスク材を形成するマスキング工程と、
前記金属膜にエッチャントを接触させるエッチング工程と
を有し、
前記透光領域は、
遮光層によって規定される画素領域の一辺のうちの一部と、当該一辺に対向する他辺のうちの一部とを連結した形状の領域であり、前記エッチング工程においては、前記金属膜に対し、エッチャントを前記一辺から前記他辺に向かう方向に流動させる
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
相互に対向する第１基板と第２基板との間に液晶を有する液晶表示装置の製造方法であって、
前記第１基板の面上に光反射性を有する金属膜を形成する第１工程と、
前記金属膜を選択的に除去することにより、前記第２基板側からの入射光を反射させる反射層を形成する第２工程であって、前記第１基板側からの入射光を前記第２基板側に透過させる透光領域が、当該反射層の外周縁のうち少なくとも一部に接する領域となるように、当該透光領域に対応する前記金属膜を除去する第２工程と
を有し、
前記第２工程は、
前記金属膜表面のうち前記反射層に対応する領域にマスク材を形成するマスキング工程と、
前記金属膜にエッチャントを接触させるエッチング工程と
を有し、
前記透光領域は、
遮光層によって規定される画素領域のうち、一の縁辺を含む領域であり、前記エッチング工程においては、前記金属膜に対し、エッチャントを、前記一の縁辺の延在方向に流動させる
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
相互に対向する第１基板と第２基板との間に液晶を有する液晶表示装置の製造方法であって、
前記第１基板の面上に光反射性を有する金属膜を形成する金属膜形成工程と、
前記金属膜をエッチングによって選択的に除去することにより、前記第２基板側からの入射光を反射させる反射層を形成するエッチング工程であって、前記金属膜に対するエッチャントの流動方向と９０度以外の角度をなす辺により囲まれた開口部を有する反射層を形成するエッチング工程と
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記エッチング工程においては、前記金属膜に対し、前記エッチャントとしてエッチング液を用いたウェットエッチングを施す
ことを特徴とする請求項１０ないし１２のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記エッチング工程においては、前記金属膜に対し、前記エッチャントとしてガスを用いたドライエッチングを施す
ことを特徴とする請求項１０ないし１２のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置、その製造方法および電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
いわゆる反射型液晶表示装置は、液晶を挟持する一対の基板のうち、背面側の基板の面上にアルミニウムなどの反射層が形成された構成を採るのが一般的である。かかる構成の下、観察側から入射した太陽光や室内照明光などの外光は、上記反射層の表面で反射した後に観察側から出射し、これにより反射型表示が実現される。この種の液晶表示装置によれば、光源がなくても表示が可能であるため、装置の薄型化や低消費電力化を図ることができるといった利点がある。しかしながらその反面、外光が充分に存在しない環境下では、充分な視認性が確保できないという欠点がある。
【０００３】
そこで近年では、上述した反射型表示に加えて透過型表示も可能な、いわゆる半透過反射型の液晶表示装置が提案されるに至っている。すなわち、この種の液晶表示装置においては、背面側の基板に形成された反射層のうち、所定の位置（例えば各画素に対応した位置）に開口部が設けられるとともに、当該液晶表示装置の背面側にバックライトユニット（照明装置）が配設される。かかる構成の下、照明装置から出射して背面側の基板に入射した光を、反射層に設けられた開口部を通過させて観察側に出射させることによって、透過型表示が実現される。かかる半透過反射型の液晶表示装置によれば、外光が充分に存在する状況下では上述した反射型表示を行なう一方、外光がほとんど存在しない状況においては、バックライトユニットを点灯させて透過型表示を行なうことにより視認性を確保することができるという利点がある。
【０００４】
ところで、上記半透過反射型の液晶表示装置の製造工程においては、金属膜をエッチングして選択的に除去することにより、開口部を有する反射層を形成するのが一般的である。具体的には、まず、図１７（ａ）および（ｂ）に示すように、ガラス基板等の基板９１の表面に光反射性を有する金属によって金属膜９２を形成し、当該金属膜９２のうち反射層となるべき領域をレジスト９３によって覆う。このとき、金属膜９２のうち開口部に対応する領域９２ａにはレジスト９３が形成されず、したがって図１７（ａ）に示すように、領域９２ａはレジスト９３によって囲まれることとなる。次いで、この金属膜９２が形成された基板９１をエッチング液に浸漬する。この工程においては、生産性の向上などを考慮して、基板９１を鉛直方向に立てた状態でエッチング液に浸漬する。かかるエッチング工程の結果、金属膜９２のうちレジスト９３によって覆われていない部分が除去され、開口部を有する反射層が得られる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記エッチング工程においては、金属膜９２の除去に伴って発生する水素などの気泡が当該金属膜９２に接触する結果、反射層のうち開口部となるべき領域を完全に除去できない場合が生じ得る。詳述すると、金属膜９２表面に形成されたレジスト９３は比較的厚いため、レジスト９３によって覆われていない領域との境界にはその厚さに対応する段差が形成される。そして、特に開口部に対応する領域９２ａの除去に伴って発生した気泡９４は、図１７（ａ）および（ｂ）に示すように、レジスト９３の段差によってとどめられる。この結果、金属膜９２のうち気泡９４によって覆われた部分９２ｂにはエッチング液が充分に接触せず、本来完全に除去されるべき部分にも拘わらず金属膜９２が完全に除去されない部分（以下、「エッチング残り」と表記する。）が生じてしまうのである。このように開口部内にエッチング残りが生じた反射層を用いた場合、バックライトユニットからの照射光のうち当該開口部を通過する光量が少なくなってしまうため、透過型表示の際に表示が暗くなるといった表示品位の低下が引き起こされる。さらに、かかる問題は、金属膜９２の選択的な除去に際してウェットエッチングを採用した場合のみならず、エッチャントとしてガスを用いたドライエッチングを採用した場合にも同様に生じ得る問題である。
【０００６】
本発明は、以上説明した事情に鑑みてなされたものであり、金属膜を選択的に除去して反射層を形成する場合に、当該金属膜のエッチング残りが生じるのを抑えることができる液晶表示装置およびその製造方法、ならびに当該液晶表示装置を用いた電子機器を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明に係る液晶表示装置は、相互に対向する第１基板および第２基板の間に液晶を有する液晶表示装置であって、前記第１基板の面上に形成され、前記第２基板側からの入射光を反射させる反射層であって、前記第１基板側からの入射光を前記第２基板側に透過させる透光領域が、当該反射層の外周縁のうち少なくとも一部に接する領域となるように、形状が選定された反射層を具備し、前記反射層は、その外周縁の一部において切欠部を有し、前記透光領域は、前記反射層の切欠部に対応する領域であることを特徴としている。
【０００８】
かかる液晶表示装置によれば、基板面と垂直方向からみて、透光領域が反射層に対して開いた領域となっているから、例えばウェットエッチングにより金属膜を選択的に除去して反射層を形成する場合に、当該エッチングに伴って発生する気泡が外部に移動する経路を確保することができる。したがって、気泡が金属膜表面の閉じた領域にとどまって当該金属膜にエッチング液が充分に触れないといった事態が回避される結果、透光領域にエッチング残りが生じるのを抑えることができる。エッチャントとしてガスを用いたドライエッチングにより反射層を形成する場合にも、当該ガスが移動する経路を確保することができるから、エッチング残りが生じるのを抑えることができる。
【０００９】
上記液晶表示装置においては、上記反射層の外周縁の一部に切欠部を形成し、前記透光領域を、前記反射層の切欠部に対応する領域とするので、金属膜のうち当該透光領域の除去に際して発生した気泡は速やかに金属膜の表面から離れ、かかる気泡が当該金属膜の表面にとどまるのを抑えることができる。
【００１５】
また、上記課題を解決するため、本発明に係る液晶表示装置は、相互に対向する第１基板および第２基板の間に液晶を有し、相互に交差する走査線およびデータ線を具備する液晶表示装置であって、前記第１基板の面上に形成され、前記第２基板側からの入射光を反射させる反射層であって、前記走査線およびデータ線の延在方向と９０度以外の角度をなす辺により囲まれた開口部を有する反射層を具備することを特徴としている。
【００１６】
かかる液晶表示装置によれば、たとえ開口部が反射層に対して閉じた領域となっている場合であっても、当該開口部の縁辺と走査線またはデータ線のいずれか一方の延在方向とが９０度以外の角度をなしているため、金属膜のうち当該開口部に対応する領域を除去する際に気泡が発生した場合であっても、当該気泡は開口部の縁辺に沿って移動しやすいため、かかる気泡が金属膜の表面にとどまるのを抑えることができる。
【００１７】
なお、かかる構成を採る場合、前記開口部を、前記走査線またはデータ線のうちいずれか一方の延在方向を向く鋭角を有する形状とすることが望ましい。こうすれば、上記縁辺に沿って移動した気泡がとどまる領域を狭くすることができるから、気泡が金属膜の表面にとどまるのを確実に抑えることができる。具体的には、開口部の形状をひし形とすることが考えられる。なお、上記開口部は、前記第１基板側からの入射光を第２基板側に透過させる透光領域に対応するものとしてもよいし、画素電極とスイッチング素子とを導通させるためのコンタクトホールが形成された導通領域に対応するものとしてもよいし、またはその両方であってもよい。
【００１８】
また、本発明に係る液晶表示装置の反射層は、その輪郭が角部を有しない形状であることが望ましい。すなわち、反射層の周縁を構成する直線のうち隣接する直線同士が交差した角部を形成しないことが望ましい。例えば、隣接する直線同士が曲線を介して繋がる形状とすることが望ましい。反射層を角部を有する形状とすると、この角部の頂点近傍に気泡が嵌り込んで停留することを回避することができる。
【００１９】
また、上記課題を解決するため、本発明に係る電子機器は、上述した液晶表示装置を具備することを特徴としている。上述したように、本発明に係る液晶表示装置によれば、金属層を選択的に除去して反射層を形成する場合に、当該金属層のうち除去されるべき領域を確実に除去することができるから、特に透光領域を用いて透過型表示を行なう電子機器において、当該透過型表示における表示品位を高く維持することができる。
【００２０】
また、上記課題を解決するため、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、前記第１基板の面上に光反射性を有する金属膜を形成する第１工程と、前記金属膜を選択的に除去することにより、前記第２基板側からの入射光を反射させる反射層を形成する第２工程であって、前記第１基板側からの入射光を前記第２基板側に透過させる透光領域が当該反射層の外周縁のうち少なくとも一部に接する領域となるように、当該透光領域に対応する前記金属膜を除去する第２工程とを有することを特徴としている。かかる製造方法によれば、金属膜の除去に伴って気泡が発生した場合であっても、当該気泡が外部に移動する経路が確保されているため、金属膜の表面に気泡がとどまるのを回避することができる。
【００２１】
なお、上記製造方法においては、前記第２工程が、前記金属膜表面のうち前記反射層に対応する領域にマスク材を形成するマスキング工程と、前記金属膜にエッチャントを接触させるエッチング工程とを有することが望ましい。このように、金属膜の選択的除去に先立って除去対象となる領域以外の領域を覆うマスク材を形成した場合、当該マスク材の厚さに対応した段差が形成されるため、上述した気泡は当該段差にとどまりやすい。しかしながら、本発明によれば、上述したように、当該気泡が外部に移動する経路が確保されているため、金属膜の表面に気泡がとどまるのを回避することができるから、マスク材によって覆われた領域以外の領域を確実に除去することができる。
【００２２】
なお、この場合には、前記透光領域を、遮光層によって規定される画素領域のうち一の縁辺を含む領域とし、前記エッチング工程において、前記金属膜に対し、エッチャントを、前記一の縁辺の延在方向に流動させることが望ましい。こうすれば、例えばエッチャントとしてエッチング液を用いた場合には、当該エッチングに際して発生した気泡の移動がエッチング液の流動に従って促進されるから、金属膜の表面に気泡がとどまるのをより有効に回避することができる。また、例えばエッチャントとしてガスを用いた場合には、当該エッチングに際してエッチャントの通過経路を確保することができる。
【００２３】
また、前記透光領域を、遮光層によって規定される画素領域の一辺のうちの一部と、当該一辺に対向する他辺のうちの一部とを連結した形状の領域とした場合には、前記エッチング工程において、前記金属膜に対しエッチャントを、前記一辺から前記他辺に向かう方向に流動させることが望ましい。こうした場合にも、発生した気泡の移動がエッチング液の流動にしたがって促進されるといった効果が得られ、金属膜の表面に気泡がとどまるのをより有効に回避することができる。
【００２４】
また、上記課題を解決するため、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、相互に対向する第１基板と第２基板との間に液晶を有する液晶表示装置の製造方法であって、前記第１基板の面上に光反射性を有する金属膜を形成する金属膜形成工程と、前記金属膜をエッチングによって選択的に除去することにより、前記第２基板側からの入射光を反射させる反射層を形成するエッチング工程であって、前記金属膜に対するエッチャントの流動方向と９０度以外の角度をなす辺により囲まれた開口部を有する反射層を形成するエッチング工程とを有することを特徴としている。
【００２５】
かかる製造方法によれば、例えばエッチャントとしてエッチング液を用いた場合、金属膜のうち開口部に対応する領域を除去する際に気泡が発生したとしても、当該気泡は開口部の縁辺に沿って移動しやすく、さらには、当該気泡はエッチング液の流動にしたがって移動が促されるから、かかる気泡が金属膜の表面にとどまるのを確実に抑えることができる。他方、エッチャントとしてガスを用いた場合、金属膜のうち開口部に対応する領域にガスが停留するのを抑えることができるから、より効率的にエッチングを施すことができる。
【００２６】
なお、上述したように、エッチング工程においては、エッチャントとしてエッチング液を用いたウェットエッチングを用いてもよいし、エッチャントとしてガスを用いたドライエッチングを用いてもよい。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。なお、以下に示す第１ないし第４実施形態においては、三端子型スイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例示するが、本発明の適用範囲をこれに限定する趣旨ではない。
【００２８】
＜Ａ：第１実施形態＞
＜Ａ−１：液晶表示装置の構成＞
図１は、本実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す斜視図であり、図２は図１におけるＡ−Ａ’線の断面図である。これらの図に示すように、液晶表示装置は、液晶表示パネル１と、当該液晶表示パネル１の背面側に配設されたバックライトユニット４（図１においては図示略）とを備える。液晶表示パネル１は、相互に対向する対向基板１０（第２基板）と素子基板２０（第１基板）とがシール材３１を介して貼り合わされるとともに、両基板とシール材３１とによって囲まれた領域に、例えばＴＮ（Twisted Nematic）型の液晶３２が封入された構成となっている。シール材３１は、対向基板１０の縁辺に沿って略長方形の枠状に形成されるが、液晶３２を封入するために一部が開口している。このため、液晶３２の封入後に、その開口部分が封止材３１１によって封止される。なお、実際には、対向基板１０および素子基板２０の外側（液晶３２とは反対側）の表面に、入射光を偏光させるための偏光板や、干渉色を補償するための位相差板などが貼着されるが、本発明とは直接の関係がないため、その図示および説明を省略する。
【００２９】
バックライトユニット４は、白色ＬＥＤ（Light Emitting Diode）などの光源４１と、側端面に入射した光源４１からの光を液晶表示パネル１の素子基板２０全面に導く導光板４２と、この導光板４２により導かれた光を液晶表示パネル１に対して一様に拡散させる拡散板４３と、導光板４２から液晶表示パネル１とは反対側に出射した光を液晶表示パネル１側に反射させる反射板４４とを有する。ここで、光源４１は常に点灯しているわけではなく、外光がほとんど存在しないような環境において使用される場合に、ユーザからの指示やセンサからの検出信号に応じて点灯する。
【００３０】
液晶表示パネル１の対向基板１０および素子基板２０は、ガラスや石英、プラスティックなどの光透過性を有する板状部材である。このうち対向基板１０における素子基板２０との対向面には、遮光層１１と、カラーフィルタ１２と、オーバーコート層１３とが形成されている。遮光層１１は、例えばクロムなどの金属や、カーボンブラックが分散された黒色樹脂材料などによって構成され、マトリクス状に配列する画素領域（詳細は後述する）の間隙部分を遮光する役割を担っている。カラーフィルタ１２は、各画素領域に対応してＲ、Ｇ、Ｂのいずれかの色に着色された樹脂層である。オーバーコート層１３は、例えばアクリル系やエポキシ系などの樹脂材料によって形成され、遮光層１１およびカラーフィルタ１２によって形成された対向基板１０上の凹凸を平坦化する役割を担う。さらに、このオーバーコート層１３の表面は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電材料からなる対向電極１４が、その全面にわたって形成されている。また、対向電極１４が形成されたオーバーコート層１３の表面は、ポリイミドなどの有機材料からなる配向膜（図示略）によって覆われている。この配向膜には、電圧が印加されていないときの液晶３２の配向方向を規定するためのラビング処理が施されている。
【００３１】
一方、素子基板２０は、図１に示すように、対向基板１０から張り出した領域を有する。この張り出した領域のうちＸ軸の正方向および負方向の領域には、走査信号を生成して出力する走査線駆動回路３３がそれぞれ形成されている。一方、張り出した領域のうちＹ軸の正方向の領域には、データ信号を生成して出力するデータ線駆動回路３４が形成されている。さらに、Ｙ軸の正方向に位置する領域のうち当該素子基板２０の縁辺近傍の領域には複数の実装端子３５が形成されており、図示しない外部回路からの各種信号が入力されるようになっている。こうして実装端子３５から入力された信号が、上述した走査線駆動回路３３およびデータ線駆動回路３４に供給される。なお、上述した対向電極１４は、素子基板２０との貼合部分における四隅のうち、少なくとも一箇所に設けられた導通材によって、上記実装端子３５との電気的な導通が図られている。
【００３２】
ここで、図３を参照して、液晶表示パネル１の電気的な構成について説明する。同図に示すように、素子基板２０における対向基板１０との対向面上には、Ｘ軸方向に延在する複数の走査線２２と、Ｙ軸方向に延在する複数のデータ線２３とが設けられている。そして、各走査線２２には走査線駆動回路３３から出力された走査信号が供給される一方、各データ線２３にはデータ線駆動回路３４から出力されたデータ信号が供給される。さらに、素子基板２０の面上には、走査線２２とデータ線２３との各交差に対応して、ＴＦＴ２４と、当該ＴＦＴ２４を介して走査線２２およびデータ線２３に接続された画素電極２１とが形成されている。図３に示すように、複数の画素電極２１は、ＩＴＯなどの透明導電材料によって形成されてマトリクス状に配列するとともに、対向基板１０上の対向電極１４と液晶３２を挟んで対向するようになっている。かかる構成の下、画素電極２１と対向電極１４との間に挟まれた液晶３２は、両電極の間に印加された電圧に応じてその配向方向が変化する。
【００３３】
次に、図４（ａ）は、上記のようにマトリクス状に配列する複数の画素電極２１のうちひとつの画素電極２１の近傍の構成を示す平面図であり、図４（ｂ）は、同図（ａ）におけるＢ−Ｂ’線の断面図である。ただし、図４（ａ）においては、図面が煩雑になるのを防ぐため、画素電極２１の外形が破線で示されている。図４（ａ）に示すように、各画素電極２１は、当該画素電極２１に対応するＴＦＴ２４を介して走査線２２およびデータ線２３に接続されている。詳述すると、以下の通りである。
【００３４】
図４（ｂ）に示すように、素子基板２０の内側表面には、ＳｉＯ２などからなる下地絶縁膜２００を下地として半導体層２４１が形成されている。この半導体層２４１の表面は、当該半導体層２４１に熱酸化処理を施して得られた絶縁膜２４２によって覆われている。そして、この半導体層２４１のうち、上述した走査線２２と重なる領域がチャネル領域２４１ａとなっている。すなわち、図４（ａ）に示すように、各走査線２２は、Ｘ軸方向に延在する部分からＹ軸方向に分岐して半導体層２４１と交差する部分を有しており、この交差する部分がゲート電極２２１として機能するのである。一方、半導体層２４１およびゲート電極２２１（走査線２２）が形成された下地絶縁膜２００の表面は、ＳｉＯ２などからなる第１の層間絶縁膜２０１によって覆われている。
【００３５】
また、図４（ｂ）に示すように、半導体層２４１のうちチャネル領域２４１ａのソース側には低濃度ソース領域２４１ｂおよび高濃度ソース領域２４１Ｓが設けられる一方、チャネル領域２４１ａのドレイン側には、低濃度ドレイン領域２４１ｃおよび高濃度ドレイン領域２４１Ｄが設けられて、いわゆるＬＤＤ（Lightly Doped Drain）構造となっている。このうち、高濃度ソース領域２４１Ｓは、絶縁膜２４２および第１の層間絶縁膜２０１を開孔するコンタクトホール２３ａを介して、上述したデータ線２３に接続されている。
【００３６】
データ線２３が形成された第１の層間絶縁膜２０１の表面は、アクリル系やエポキシ系などの樹脂からなる第２の層間絶縁膜２０２によって覆われている。上述した画素電極２１は、この第２の層間絶縁膜２０２の面上に形成されるとともに、第２の層間絶縁膜２０２、第１の層間絶縁膜２０１および絶縁膜２４２を開孔するコンタクトホール２１ａを介して、高濃度ドレイン領域２４１Ｄに接続されている。この画素電極２１が形成された第２の層間絶縁膜２０２の表面は、図示しない配向膜によって覆われている。
【００３７】
さらに、図４（ａ）および（ｂ）に示すように、各画素電極２１と第２の層間絶縁膜２０２との間には反射層２５が形成されている。この反射層２５は、アルミニウムや銀などの光反射性を有する金属や、これらの金属を主成分として含む合金などによって形成され、対向基板１０側からの入射光を反射させる役割を担っている。すなわち、対向基板１０側からの入射光は、反射層２５の表面において反射して対向基板１０側から出射し、これにより反射型表示が実現されるのである。なお、第２の層間絶縁膜２０２のうち反射層２５が形成される表面は、多数の微細な凹凸（図示略）が形成された粗面となっている。したがって、かかる粗面上に薄膜状に形成された反射層２５の表面には、当該粗面を反映した凹凸、すなわち散乱構造が形成されることとなる。こうして反射層２５の表面に散乱構造が形成される結果、対向基板１０側からの入射光は、反射層２５の表面において適度に散乱した後に対向基板１０側から出射するため、当該反射層２５表面における鏡面反射を回避して広い視野角を確保することができる。
【００３８】
次に、図５を参照して、反射層２５の平面形状について詳述する。なお、図５においては、図面が煩雑になるのを防止するため、素子基板２０上にマトリクス状に配列する反射層２５と、対向基板１０上に形成された遮光層１１（破線）のみが図示されており、その他の構成要素については図示が省略されている。
【００３９】
本実施形態においては、図５に示すように、走査線２２およびデータ線２３に沿って格子状の形状を有する遮光層１１が、対向基板１０上に形成されている。したがって、観察者によって視認される表示に寄与する領域は、この遮光層１１によって覆われた領域以外の領域（以下、「画素領域」と表記する）５１である。そして、反射層２５は、この画素領域５１のうち一部の領域を覆うように形成される。すなわち、画素領域５１の一部に対応して反射層２５が形成された領域（以下、「反射領域５１１」と表記する。）が、対向基板１０側からの光を反射して反射型表示を行なうための領域として機能するのである。一方、画素領域５１のうち反射領域５１１以外の領域は、図５に示すように、透光領域５１２と導通領域５１３とからなる。このうち透光領域５１２は、バックライトユニット４から素子基板２０側に入射した光を透過させる領域である。すなわち、バックライトユニット４から出射して素子基板２０から対向基板１０に向かう光は、当該透光領域５１２を透過して観察側に出射し、これにより透過型表示が実現される。一方、導通領域５１３は、画素電極２１とＴＦＴ２４とを導通させるための上記コンタクトホール２１ａに対応する領域である。
【００４０】
そして、本実施形態における反射層２５は、図５に示すように、基板面（すなわち図５の紙面）と垂直な方向からみて、透光領域５１２が反射領域５１１に対して閉じた領域とならないように、その形状が選定されている。より具体的には、本実施形態における反射層２５は、その外周縁の一部において切欠部（すなわち、図５において反射層２５の左右の二辺に形成された凹状の部分）２５ａを有しており、透光領域５１２は、当該切欠部２５ａに対応する領域となっている。したがって、当該透光領域５１２は、そのすべての縁辺にわたって反射領域５１１に囲まれているのではなく、その縁辺を構成する四辺のうち三辺が反射領域５１１の外周縁と接する一方、残りの一辺は反射領域５１１と接しない。図１７（ａ）を例に説明した従来の反射層にあっては、光を通過させるための開口部（本実施形態における透光領域に対応する）が反射層の内周縁に接するように、すなわち反射層に対して閉じた領域となるように当該反射層の形状が選定されていたのに対し、本実施形態における反射層２５は、透光領域５１２が当該反射層２５の外周縁のうち少なくとも一部に接する領域となるように、形状が選定されているのである。
【００４１】
さらに、本実施形態においては、導通領域５１３についても透光領域５１２と同様に、反射領域５１１に対して開いた領域となっている。すなわち、導通領域５１３が、反射領域５１１の外周縁のうち少なくとも一部に接する領域となるように、反射層２５の形状が選定されているのである。以下の製造プロセスの説明において詳述するが、このように透光領域５１２および導通領域５１３が反射領域５１１に対して開いた領域となるように反射層２５の形状を選定することにより、金属膜を選択的に除去して反射層２５を形成する工程において、金属膜の除去に伴って発生する気泡が当該金属膜の表面にとどまる事態を抑えることができるという効果が得られる。
【００４２】
＜Ａ−２：製造プロセス＞
次に、図６（ａ）ないし（ｅ）を参照して、本実施形態に係る液晶表示パネル１の製造プロセス、特に素子基板２０上の各要素の製造プロセスについて説明する。
【００４３】
まず、下地絶縁膜２００によって覆われた素子基板２０の面上にポリシリコンからなる半導体層２４１を形成するとともに、熱酸化処理を施して当該半導体層２４１の表面に絶縁膜２４２を形成する。次いで、絶縁膜２４２の面上にポリシリコン層を堆積した後、当該ポリシリコン層をフォトリソグラフィやエッチングなどによってパターニングすることにより、Ｘ軸方向に延在する部分と、ＴＦＴ２４のゲート電極２２１に相当する分岐部分とを有する走査線２２を形成する。なお、走査線２２については、ポリシリコンではなく、アルミニウムなどの金属膜や金属シリサイド膜から形成してもよい。
【００４４】
次いで、半導体層２４１に適切な不純物をドーピングして上記ＬＤＤ構造を形成する。さらに、半導体層２４１および走査線２２が形成された素子基板２０の表面を覆うように、ＳｉＯ２などからなる第１の層間絶縁膜２０１を形成するとともに、当該第１の層間絶縁膜２０１および絶縁膜２４２にわたってコンタクトホール２３ａを形成する。そして、これらの各部を覆うようにアルミニウムなどの低抵抗金属からなる導電膜を堆積した後、当該導電膜をフォリソグラフィやエッチングなどによってパターニングすることによってデータ線２３を形成する。以上の工程により、図６（ａ）に示すように、Ｘ軸方向に延在する走査線２２（ゲート電極２２１）と、Ｙ軸方向に延在するデータ線２３と、これらの各交差に対応するＴＦＴ２４とが形成される。
【００４５】
次いで、これらの各部が形成された素子基板２０を覆うように、アクリル系やエポキシ系などの樹脂を塗布して第２の層間絶縁膜２０２を形成するとともに、その表面を粗面化する。表面が粗面化された第２の層間絶縁膜２０２の形成方法としては、公知の各種方法を用いることができる。例えば、樹脂層表面の表面の多数の微細な部分をエッチングによって選択的に除去した後、その表面に再び樹脂材料を塗布することによって、エッチングによって生じた角の部分を滑らかな凹凸形状にするといった方法を採ることができる。
【００４６】
次に、図６（ｂ）に示すように、粗面化された第２の層間絶縁膜２０２の表面に、アルミニウムなどの光反射性を有する金属からなる金属膜６１をスパッタリングなどによって堆積する。そして、当該金属膜６１に対してエッチングを施すことによって、上述した形状の反射層２５を形成する。より具体的には、まず、図６（ｃ）に示すように、上記金属膜６１のうち反射層２５となるべき領域を覆うようにレジスト６２を形成する。そして、金属膜６１をエッチング液に浸漬することによって、当該金属膜６１のうちレジスト６２によって覆われていない部分を選択的に除去する。この後、レジスト６２を剥離することによって、図６（ｄ）に示すように、上述した形状の反射層２５が形成される。
【００４７】
ここで、上記エッチング液への浸漬工程においては、金属膜６１の除去に伴って水素などを含む気泡が発生する。本実施形態においては、上述したように、透光領域５１２および導通領域５１３が反射領域５１１に対して閉じた領域とならないように、反射層２５の形状が決定されている。すなわち、金属膜６１のうち除去されるべき領域（透光領域５１２および導通領域５１３に対応する領域）が、レジスト６２によって覆われた領域（反射層２５に対応する領域）によって囲まれないようになっている。したがって、金属膜６１の除去に伴って気泡が発生した場合であっても、図７中に矢印で示すように、当該気泡６３が外部に移動する経路が確保されており、当該気泡６３がレジスト６２の段差においてとどめられる事態を回避することができる。この結果、気泡６３によって金属膜６１のエッチングが妨げられることを防止できる。
【００４８】
さて、上記工程によって反射層２５が形成された後、第１の層間絶縁膜２０１、第２の層間絶縁膜２０２および半導体層２４１表面の絶縁膜２４２にわたってコンタクトホール２１ａを形成するとともに、素子基板２０の面上にＩＴＯからなる透明導電膜を形成する。そして、この透明導電膜を、フォトリソグラフィやエッチングなどを用いて図４（ａ）に示した形状にパターニングして、図６（ｅ）に示すように、上記反射層２５を覆う画素電極２１を形成する。この後、画素電極２１が形成された第２の層間絶縁膜２０２を覆うようにポリイミドからなる配向膜を形成するとともに、この配向膜に対してラビング処理を施す。
【００４９】
続いて、上記工程により得られた素子基板２０と、遮光層１１、カラーフィルタ１２、対向電極１４および配向膜が形成された対向基板１０とを、各々の電極形成面が対向するようにシール材３１を介して貼り合わせた後、両基板とシール材３１とによって囲まれた領域に液晶３２を封入して図１および図２に示した液晶表示パネル１が得られる。
【００５０】
以上説明したように、本実施形態によれば、透光領域５１２および導通領域５１３が反射領域５１１に対して閉じた領域とならないように、反射層２５の形状が決定されているため、金属膜６１をエッチングによって選択的に除去して反射層２５を形成する工程において、発生した気泡６３が金属膜６１の表面にとどまるのを回避することができる。したがって、金属膜６１のうち除去されるべき領域、特に透光領域５１２に対応する領域を完全に除去することができるから、透光領域５１２および導通領域５１３に金属膜６１のエッチング残りが生じるのを抑えて良好な表示品位を担保することができるのである。
【００５１】
＜Ｂ：第２実施形態＞
次に、本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態に係る液晶表示装置の構成は、反射層２５の形状を除いて上記第１実施形態に係る液晶表示装置の構成と共通するため、以下では反射層２５の形状についてのみ説明し、他の構成要素については説明を省略する。
【００５２】
図８（ａ）は、本実施形態に係る液晶表示装置の反射層２５の形状を示す図である。同図に示すように、本実施形態は、遮光層１１によって規定される画素領域５１の一部が反射層２５に対応する反射領域５１１となっている点で上記第１実施形態と共通する。その一方、本実施形態においては、素子基板２０側からの光を透過させて透過型表示を行なうための透光領域と、コンタクトホール２１ａに対応する導通領域とが相互に離間した領域ではなく、連続した領域となっている点で、上記第１実施形態と異なっている。なお、以下では、図８（ａ）に示すように、画素領域５１のうち反射領域５１１以外の領域、すなわち導通領域５１３と透過領域とが一体となった領域を「非反射領域５１４」と表記する。
【００５３】
本実施形態においても、上記第１実施形態と同様に、非反射領域５１４が反射領域５１１に対して閉じた領域とならないように、すなわち、非反射領域５１４が反射領域５１１の外周縁のうち少なくとも一部と接する領域となるように、反射層２５に形状が選定されている。より具体的には、本実施形態における非反射領域５１４は、図８（ａ）に示すように、各画素領域５１の中央部近傍をＹ軸方向に横切る形状となっている。換言すると、画素領域５１の輪郭を構成する四辺のうちＹ軸方向に延びる二辺の各々を含む領域に反射層２５が形成されて、対向基板１０側からの入射光を反射させる反射領域５１１となる。一方、当該反射層２５が形成された領域以外の領域、すなわち、画素領域５１の輪郭を構成する四辺のうちＸ軸方向に延びる一辺の一部からこれと対向する他辺の一部に連なる領域は、素子基板２０側から入射したバックライトユニット４からの光を透過させる領域と、画素電極２１をＴＦＴ２４に接続するためのコンタクトホール２１ａが形成された領域とを含む非反射領域５１４となっている。
【００５４】
かかる反射層２５の形成方法は、上記第１実施形態と同様である。すなわち、まず、第２の層間絶縁膜２０２の表面に金属膜６１を形成するとともに、当該金属膜６１のうち反射層２５となるべき領域のみを覆うようにレジスト６２を形成する。そして、当該金属膜６１をエッチング液に浸漬することによって、レジスト６２によって覆われていない領域を選択的に除去するのである。加えて、本実施形態においては、金属膜６１をエッチング液に浸漬するとき、図８（ｂ）に示すように、当該エッチング液を、金属膜６１に対して特定の方向に流動させる。この特定の方向は、非反射領域５１４のうちレジスト６２に隣接しない二辺を結ぶ方向、すなわちＹ軸方向である。このように金属膜６１に対するエッチング液の流動方向を特定の方向に設定するには、例えば、静止する金属膜６１に対して上記特定の方向にエッチング液を流動させてもよいし、またはエッチング液に浸漬された金属膜６１を上記特定の方向に揺動させてもよい。
【００５５】
本実施形態においても、上記第１実施形態と同様の効果が得られる。すなわち、除去対象となる非反射領域５１４は、当該非反射領域５１４を構成する四辺のうちの二辺のみがレジスト６２と隣接する一方、その他の二辺においてはレジスト６２と隣接していない。したがって、金属膜６１の除去に伴って気泡６３が発生した場合であっても、図８（ｂ）に示すように、当該気泡６３はレジスト６２に隣接しない二辺を通って外部に移動する。すなわち、気泡６３が金属膜６１表面にとどまってエッチングを妨げる事態が回避されるのである。
【００５６】
加えて、反射層２５の形成工程において、金属膜６１に対するエッチング液の流動方向を、非反射領域５１４のうちレジスト６２に隣接しない二辺同士を結ぶ方向に設定しているため、発生した気泡６３はエッチング液の流れにのって移動が促進される。このため、気泡６３が金属膜６１の表面にとどまる事態をより確実に回避することができる。
【００５７】
なお、本実施形態においては、画素領域５１をＹ軸方向に横切る領域を非反射領域５１４としたが、図９（ａ）に示すように、画素領域５１をＸ軸方向に横切る領域を非反射領域５１４としても、同様の効果が得られる。図９（ａ）に示した構成を採った場合、金属膜６１に対するエッチング液の流動方向を、図９（ｂ）に示すように、非反射領域５１４のうち開いた二辺を結ぶ方向（この場合はＸ軸方向）に設定すれば、気泡６３の移動が促進され、気泡６３が金属膜６１表面にとどまってエッチングを妨げる事態をより確実に回避することができる。
【００５８】
＜Ｃ：第３実施形態＞
次に、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態に係る液晶表示装置の構成は、反射層２５の形状を除いて上記第１実施形態に係る液晶表示装置の構成と共通するため、以下では反射層２５の形状についてのみ説明し、他の構成要素については説明を省略する。
【００５９】
図１０（ａ）は、本実施形態に係る液晶表示装置の反射層２５の形状を示す図である。同図に示すように、本実施形態における画素領域５１は、上記第２実施形態と同様に、反射型表示のための反射領域５１１と、透過型表示のための透光領域５１２およびコンタクトホール２１ａに対応する導通領域５１３が連続した非反射領域５１４とを含む。
【００６０】
本実施形態においても、非反射領域５１４が反射領域５１１に対して閉じた領域とならないように反射層２５の形状が選定されている点は、上記各実施形態と同様である。ただし、本実施形態においては、図１０（ａ）に示すように、非反射領域５１４が、画素領域５１を構成する四辺のうちの一辺を含む領域となるように、反射層２５の形状が選定されている。換言すると、画素領域５１のうちＸ軸の負方向に位置する一辺を含み、かつ当該一辺に沿った領域が、透過型表示のための透光領域５１２とコンタクトホール形成のための導通領域５１３とを含む非反射領域５１４となっている。一方、当該非反射領域５１４以外の領域に対応して反射層２５が形成されて反射領域５１１となっている。
【００６１】
このように、本実施形態においても、エッチングによる除去対象となる非反射領域５１４が、レジスト６２によって覆われる反射領域５１１に対して開いた領域となっているから、金属膜６１を選択的に除去して反射層２５を形成する工程で発生した気泡６３が金属膜６１表面にとどまる事態が回避される。加えて、図１０（ｂ）に示すように、金属膜６１に対するエッチング液の流動方向を、非反射領域５１４の長辺方向（すなわち、Ｙ軸方向）に設定すれば、気泡６３の移動をより促進することができ、非反射領域５１４内に金属膜６１のエッチング残りが生じるのを確実に回避することができる。
【００６２】
なお、本実施形態においては、画素領域５１のうちＹ軸方向に延びる一辺に沿った領域を非反射領域５１４としたが、図１１（ａ）に示すように、画素領域５１のうちＸ軸方向に延びる一辺に沿った領域を非反射領域５１４としても、同様の効果が得られる。図１１（ａ）に示した構成を採った場合には、同図（ｂ）に示すように、金属膜６１に対するエッチング液の流動方向をＸ軸方向に設定すれば、気泡６３の移動をより促進することができる。
【００６３】
また、図１２に示すように、画素領域５１を構成する四辺すべてに沿った領域を非反射領域５１４としても、同様の効果が得られる。すなわち、画素領域５１を構成する四辺のうち、少なくとも一辺に沿った領域が非反射領域５１４となるように、反射層２５の形状を選定すればよいのである。
【００６４】
＜Ｄ：第４実施形態＞
次に、本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態に係る液晶表示装置の構成は、反射層２５の形状を除いて上記第１実施形態に係る液晶表示装置の構成と共通するため、以下では反射層２５の形状についてのみ説明し、他の構成要素については説明を省略する。
【００６５】
上記各実施形態においては、透光領域５１２および導通領域５１３（または非反射領域５１４）が反射領域５１１に対して閉じた領域とならないように反射層２５の形状を決定することにより、金属膜６１の除去の際に発生する気泡６３が外部に移動する経路を確保する構成とした。これに対し、本実施形態においては、透光領域５１２および導通領域５１３が反射領域５１１に対して閉じた領域となっている反面、当該透光領域５１２および導通領域５１３の内側に気泡６３がとどまりにくいように、反射層２５の形状が選定されている。
【００６６】
図１３（ａ）は、本実施形態に係る液晶表示装置の反射層２５の形状を示す図である。同図に示すように、本実施形態における反射層２５には、透過型表示のための透光領域５１２およびコンタクトホール２１ａが形成された導通領域５１３に対応して開口部２５１がそれぞれ設けられている。さらに、本実施形態においては、開口部２５１の縁辺が、金属膜６１をエッチング液に浸漬する際の当該エッチング液の流動方向に対して９０度以外の角度をなすように、当該開口部２５１の形状が選定されている。ここで、図１３（ａ）においては、金属膜６１に対して白抜き矢印の方向（Ｙ軸方向）にエッチング液を流動させることによって、同図に示す反射層２５が形成された場合を想定している。この場合、当該エッチング液の流動方向と、開口部２５１の縁辺とのなす角αが、９０度以外の角度となっているのである。さらに、本実施形態においては、開口部２５１の縁辺がエッチング液の流動方向の下流側に向かって鋭角をなす場合、より具体的には開口部２５１の形状をひし形とした場合を想定する。
【００６７】
金属膜６１を選択的に除去することによってかかる形状の反射層２５を形成する場合、これに伴って発生する気泡６３の移動経路は、図１３（ｂ）に示すようになる。すなわち、気泡６３は、エッチング液の流動にしたがって当該流動方向に移動するとともに、開口部２５１の縁辺に位置するレジスト６２の段差に至ると、エッチング液の流動方向と所定の角度をなす当該段差に沿って、開口部２５１の頂点（すなわち、エッチング液の流動方向下流側に位置する頂点）に相当する位置に向かって移動する。そして、当該頂点に至った気泡６３は開口部２５１の内側領域から外部に逃げることとなる。すなわち、気泡６３がレジスト６２の段差においてとどまる領域が極めて狭くなっているため、当該気泡６３は極めて容易にレジスト６２の段差から外れて外部に逃げるのである。
【００６８】
このように、本実施形態によれば、気泡６３が金属膜６１表面にとどまるのを回避することができるから、上記各実施形態と同様に、気泡６３によってエッチングが妨げられる事態を有効に回避することができる。つまり、上記各実施形態においてはエッチングにより除去すべき領域をレジスト６２に対して開いた領域に対して開いた領域とすることによって気泡６３が逃げる経路を確保したのに対し、本実施形態においては、レジスト６２の形状（すなわち、開口部２５１の形状）を特定の形状とすることによって、気泡６３がレジスト６２の段差にとどまる領域を狭くしたということができる。
【００６９】
ところで、金属膜６１に対するエッチング液の流動方向は、長方形状の素子基板２０の形状等との関係から、図１３（ａ）に示すＸ軸方向またはＹ軸方向のいずれかに設定することが通常であると考えられる。したがって、当該エッチング液の流動方向と開口部２５１の縁辺とが９０度以外の角度をなすということは、Ｘ軸方向に延在する走査線２２またはＹ軸方向に延在するデータ線２３のうちいずれかの延在方向（すなわち、金属膜６１に対するエッチング液の流動方向）と開口部２５１の縁辺とが９０度以外の角度をなすということもできる。
【００７０】
なお、本実施形態においては、透過型表示のための透光領域５１２に対応した開口部２５１と、コンタクトホール２１ａが形成された導通領域５１３に対応した開口部２５１とを相互に離間して別個に設ける構成を例示したが、上記第２および第３実施形態に示したのと同様に、透光領域５１２と導通領域５１３の双方を含む一体の開口部２５１を設ける構成としてもよい。
【００７１】
＜Ｅ：変形例＞
以上この発明の一実施形態について説明したが、上記実施形態はあくまでも例示であり、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。
【００７２】
＜Ｅ−１：変形例１＞
上記各実施形態においては、例えば図５に示したように、反射層２５の形状として、隣接する各縁辺同士が直交する形状、すなわち各縁辺の交差に対応して角部が形成される形状を例示したが、上記各実施形態における反射層の角部を丸めた形状、すなわち周縁に沿った輪郭が角部を有さない形状としてもよい。例えば、第１実施形態に係る反射層２５（図５参照）を、図１４に示す形状としてもよい。ここで、図５に例示した反射層２５においては、当該反射層２５を画定する縁辺のうち、隣接する２本の縁辺によって挟まれた角の頂点近傍に、エッチングによって生じた気泡が嵌り込んで停留する可能性がある。これに対し、図１４に例示した反射層２５は、角部（２本の直線が交差する部分）をもたないから、気泡の停留をより確実に回避することができるという利点がある。また、図１３（ａ）に例示した第４実施形態に係る反射層２５の角部を丸め、周縁（内周縁および外周縁）に沿った輪郭が角部を有さない形状、すなわち図１５に示す形状としてもよい。この場合にも、図１３（ａ）に例示した反射層２５と比較して、より確実に気泡の停留を回避することができるという効果が得られる。
【００７３】
＜Ｅ−２：変形例２＞
上記各実施形態においては、金属膜を選択的に除去する際に、エッチャントとしてエッチング液を用いたウェットエッチングを行なう場合を想定したが、エッチャントとしてガスを用いたドライエッチングを行なう場合にも本発明を適用することができる。すなわち、上述した第１ないし第３実施形態において、ウェットエッチングに代えてドライエッチングを採用した場合には、透光領域５１２および導通領域５１３（または非反射領域５１４）が反射領域５１１に対して閉じた領域とならないように反射層２５の形状を決定することにより、金属膜６１の除去に際してガスが外部に移動する経路を確保することができる。また、上記第４実施形態において、ウェットエッチングに代えてドライエッチングを採用した場合には、反射層２５の形状を図１３に例示した形状とすることにより、ガスが透光領域５１２および導通領域５１３の内側にとどまるのを抑えることができる。
【００７４】
さらに、金属膜の除去に際してドライエッチングを用いた場合、ガスの流動方向を、上述した各実施形態におけるエッチング液の流動方向と同様の方向に選定することが望ましい。こうすれば、ガスの流動をさらに促進することができるから、エッチング残りの発生を確実に抑えることができる。
【００７５】
＜Ｅ−３：変形例３＞
上記各実施形態においては、３端子型スイッチング素子としてＴＦＴを用いた液晶表示装置を例示したが、本発明を適用できるのはかかる液晶表示装置に限られるものではない。具体的には、ＴＦＤ（Thin Film Diode）に代表される２端子型液晶表示措置を用いた液晶表示装置や、スイッチング素子を持たないパッシブマトリクス型の液晶表示装置にも適用可能である。これらの液晶表示装置に本発明を適用する場合にも、一方の基板の面上に形成され、他方の基板側からの入射光を反射させる反射層の形状を、上記一方の基板から他方の基板に向かう光を透過させる透光領域が当該反射層の外周縁のうち少なくとも一部に接する領域となるように、選定すればよい。すなわち、透光領域が反射領域に対して開いた領域となっており、金属膜のエッチングに伴って発生する気泡の移動経路が確保されていればよいのである。あるいは、上記第４実施形態に示したように、開口部２５１の縁辺が、エッチング液の流動方向に対して９０度以外の角度をなすように、当該開口部２５１の形状が選定されていればよい。
【００７６】
＜Ｅ−４：変形例４＞
上記第１ないし第３実施形態においては、透光領域５１２および導通領域５１３（あるいは非反射領域５１４）を含む画素領域５１が、遮光層１１によって画定される構成を例示したが、透光領域５１２および導通領域５１３は、必ずしも遮光層１１によって画定される領域である必要はない。すなわち、例えば遮光層１１を備えない液晶表示装置においても、素子基板２０から対向基板１０に向かう光を透過させる透光領域５１２が、反射領域５１１に対して閉じた領域とならないように、反射層２５の形状が選定されていれば、本実施形態と同様の効果を奏し得る。コンタクトホール２１ａに対応する導通領域５１３や、透光領域５１２および導通領域５１３が一体となった非反射領域５１４についても同様であり、遮光層１１の有無に拘わらず、反射領域５１１に対して開いた領域となっていればよい。
【００７７】
＜Ｆ：電子機器＞
次に、本発明に係る液晶表示装置を用いた電子機器について説明する。
【００７８】
＜Ｆ−１：モバイル型コンピュータ＞
まず、本発明に係る液晶表示装置を、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図１６（ａ）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ８１は、キーボード８１１を備えた本体部８１２と、本発明に係る液晶表示装置を適用した表示部８１３とを備えている。
【００７９】
＜Ｆ−２：携帯電話機＞
続いて、本発明に係る液晶表示装置を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図１６（ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機８２は、複数の操作ボタン８１１のほか、受話口８１２、送話口８１３とともに、本発明に係る液晶表示装置を適用した表示部８１４を備える。
【００８０】
なお、本発明に係る液晶表示装置を適用可能な電子機器としては、図１６（ａ）に示したパーソナルコンピュータや同図（ｂ）に示した携帯電話機のほかにも、液晶３２テレビや、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。上述したように、本発明に係る液晶表示装置によれば、金属膜の除去に伴って気泡が発生した場合であっても、金属膜の除去が当該気泡によって妨げられるのを回避することができる。したがって、例えば透光領域に金属膜のエッチング残りが生じるのを防止することができるから、かかる液晶表示装置を備えた電子機器においては、透過型表示における表示品位の劣化を未然に防止することができる。
【００８１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、金属膜を選択的に除去することによって反射層を形成する場合に、当該金属膜のエッチング残りが生じるのを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す斜視図である。
【図２】  図１におけるＡ−Ａ’線の断面図である。
【図３】  同液晶表示装置の電気的構成を示す等価回路図である。
【図４】  （ａ）は同液晶表示装置における画素電極近傍の構成を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）におけるＢ−Ｂ’線の断面図である。
【図５】  同液晶表示装置の反射層の形状を示す平面図である。
【図６】  同液晶表示装置の製造プロセスを示す図である。
【図７】  同液晶表示装置の効果を説明するための図である。
【図８】  （ａ）は本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の反射層の形状を示す平面図であり、（ｂ）は当該反射層を形成する工程を説明するための図である。
【図９】  （ａ）は同液晶表示装置の反射層の他の形状を示す平面図であり、（ｂ）は当該反射層を形成する工程を説明するための図である。
【図１０】  （ａ）は本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の反射層の形状を示す平面図であり、（ｂ）は当該反射層を形成する工程を説明するための図である。
【図１１】  （ａ）は同液晶表示装置の反射層の他の形状を示す平面図であり、（ｂ）は当該反射層を形成する工程を説明するための図である。
【図１２】  同液晶表示装置の反射層の他の形状を示す平面図である。
【図１３】  （ａ）は本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置の反射層の形状を示す平面図であり、（ｂ）は当該反射層を形成する工程を説明するための図である。
【図１４】  本発明の変形例に係る反射層の形状を示す平面図である。
【図１５】  本発明の変形例に係る反射層の形状を示す平面図である。
【図１６】  （ａ）は本発明に係る液晶表示装置を適用した電子機器の一例たるパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図であり、（ｂ）は本発明に係る液晶表示装置を適用した電子機器の一例たる携帯電話機の構成を示す斜視図である。
【図１７】  （ａ）は従来の液晶表示装置における反射層形成工程を説明するための図であり、（ｂ）は（ａ）におけるＣ−Ｃ’線の断面図である。
【符号の説明】
１……液晶表示パネル、１０……対向基板（第２基板）、１１……遮光層、１２……カラーフィルタ、１３……オーバーコート層、１４……対向電極、２０……素子基板（第１基板）、２００……下地絶縁膜、２０１……第１の層間絶縁膜、２０２……第２の層間絶縁膜（絶縁膜）、２１……画素電極、２１ａ……コンタクトホール、２２……走査線、２２１……ゲート電極、２３……データ線、２４……ＴＦＴ、２５……反射層、３１……シール材、３２……液晶、４……バックライトユニット、５１……画素領域、５１１……反射領域、５１２……透光領域、５１３……導通領域、５１４……非反射領域（透光領域および導通領域）、６１……金属膜、６２……レジスト（マスク材）、６３……気泡。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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