(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気コア層及び誘導コイル層を含む薄膜型の書込みヘッドと、
前面側の磁気シールド層、背面側の磁気シールド層、及びそれらの間に配置されるＭＲ素子層を含み、前記書込みヘッドの背後側に配置された薄膜型の読取りヘッドと、
前記書込みヘッドから前記読取りヘッドへ向けて漏洩する電磁場を遮蔽するための電磁場シールド手段と、
から成る薄膜型読取り／書込みヘッドであって、
前記電磁場シールド手段が、
前記書込みヘッドの前記背後側と前記読取りヘッドの前面側との間にそれぞれ絶縁層を介在させて配置され、前記読取りヘッドを、前記書込みヘッドにより生成される電磁場エネルギから実質的に遮蔽する機能を有する電磁場シールド層と、
前記誘導コイルへ書込み電流を供給するための電気リードの中間位置において、該電気リードに電気的に接続され、前記読取りヘッドに接近して絶縁層を介して配置され、前記書込みヘッドから前記読取りヘッド位置に漏洩する外部電磁場とは反対方向の電磁場を前記読取りヘッド位置に生成するための電磁場干渉手段と、
を含む読取り／書込みヘッド。
【請求項２】
磁気コア層及び誘導コイル層を含む薄膜型の書込みヘッドと、
前面側の磁気シールド層、背面側の磁気シールド層、及びそれらの間に配置されるＭＲ素子層を含み、前記書込みヘッドの背後側に配置された薄膜型の読取りヘッドと、
前記書込みヘッドから前記読取りヘッドへ向けて漏洩する電磁場を遮蔽するための電磁場シールド手段と、
から成る薄膜型読取り／書込みヘッドであって、
前記電磁場シールド手段が、
前記書込みヘッドの前記背後側と前記読取りヘッドの前面側との間にそれぞれ絶縁層を介在させて配置され、前記読取りヘッドを、前記書込みヘッドにより生成される電磁場エネルギから実質的に遮蔽する機能を有する電磁場シールド層と、
前記書込みヘッドの前記誘導コイルに接続された電流入力端を有する導電路であって、該導電路を流れる電流が前記書込みヘッドから前記読取りヘッド位置に漏洩する外部電磁場とは反対方向の電磁場を前記読取りヘッド位置に生成するように、前記読取りヘッドに接近して絶縁層を介して配置されている導電路と、
を含む読取り／書込みヘッド。
【請求項３】
前記導電路が前記読取りヘッドの背後に位置する請求項２に記載の読取り／書込みヘッド。
【請求項４】
ハード・ディスクの表面上に浮上するように適応化されるスライダ本体と、
磁気コア層及び誘導コイル層を含む薄膜型の書込みヘッドと、前面側の磁気シールド層、背面側の磁気シールド層、及びそれらの間に配置されるＭＲ素子層を含み、前記書込みヘッドの背後側に配置された薄膜型の読取りヘッドと、前記書込みヘッドから前記読取りヘッドへ向けて漏洩する電磁場を遮蔽するための電磁場シールド手段とから成る薄膜型読取り／書込みヘッドと、
を含むハード・ディスク・ドライブのためのスライダ装置であって、
前記電磁場シールド手段が、
前記書込みヘッドの前記背後側と前記読取りヘッドの前面側との間にそれぞれ絶縁層を介在させて配置され、前記読取りヘッドを、前記書込みヘッドにより生成される電磁場エネルギから実質的に遮蔽する機能を有する電磁場シールド層と、
前記誘導コイルへ書込み電流を供給するための電気リードの中間位置において、該電気リードに電気的に接続され、前記読取りヘッドに接近して絶縁層を介して配置され、前記書込みヘッドから前記読取りヘッド位置に漏洩する外部電磁場とは反対方向の電磁場を前記読取りヘッド位置に生成するための電磁場干渉手段と、
を含むスライダ装置。
【請求項５】
ハード・ディスクの表面上に浮上するように適応化されるスライダ本体と、
磁気コア層及び誘導コイル層を含む薄膜型の書込みヘッドと、前面側の磁気シールド層、背面側の磁気シールド層、及びそれらの間に配置されるＭＲ素子層を含み、前記書込みヘッドの背後側に配置された薄膜型の読取りヘッドと、前記書込みヘッドから前記読取りヘッドへ向けて漏洩する電磁場を遮蔽するための電磁場シールド手段とから成る薄膜型読取り／書込みヘッドと、
を含むハード・ディスク・ドライブのためのスライダ装置であって、
前記電磁場シールド手段が、
前記書込みヘッドの前記背後側と前記読取りヘッドの前面側との間にそれぞれ絶縁層を介在させて配置され、前記読取りヘッドを、前記書込みヘッドにより生成される電磁場エネルギから実質的に遮蔽する機能を有する電磁場シールド層と、
前記書込みヘッドの前記誘導コイルに接続された電流入力端を有する導電路であって、該導電路を流れる電流が前記書込みヘッドから前記読取りヘッド位置に漏洩する外部電磁場とは反対方向の電磁場を前記読取りヘッド位置に生成するように、前記読取りヘッドに接近して絶縁層を介して配置されている導電路と、
を含むスライダ装置。
【請求項６】
前記導電路が前記読取りヘッドの背後に位置する請求項５に記載のスライダ装置。
【請求項７】
回転運動に適応化される少なくとも１つのハード・ディスクと、
スライダ本体部分を有し、前記ハード・ディスク上に浮上するように適応化される少なくとも１つのスライダ装置と、
磁気コア層及び誘導コイル層を含み、前記スライダ本体表面上に配置された薄膜型の書込みヘッドと、前面側の磁気シールド層、背面側の磁気シールド層、及びそれらの間に配置されるＭＲ素子層を含み、前記書込みヘッドの背後側に配置された薄膜型の読取りヘッドと、前記書込みヘッドから前記読取りヘッドへ向けて漏洩する電磁場を遮蔽するための電磁場シールド手段とから成る薄膜型読取り／書込みヘッドと、
を含むハード・ディスク・ドライブであって、
前記電磁場シールド手段が、
前記書込みヘッドの前記背後側と前記読取りヘッドの前面側との間にそれぞれ絶縁層を介在させて配置され、前記読取りヘッドを、前記書込みヘッドにより生成される電磁場エネルギから実質的に遮蔽する機能を有する電磁場シールド層と、
前記誘導コイルへ書込み電流を供給するための電気リードの中間位置において、該電気リードに電気的に接続され、前記読取りヘッドに接近して絶縁層を介して配置され、前記書込みヘッドから前記読取りヘッド位置に漏洩する外部電磁場とは反対方向の電磁場を前記読取りヘッド位置に生成するための電磁場干渉手段と、
を含むハード・ディスク・ドライブ。
【請求項８】
回転運動に適応化される少なくとも１つのハード・ディスクと、
スライダ本体部分を有し、前記ハード・ディスク上に浮上するように適応化される少なくとも１つのスライダ装置と、
磁気コア層及び誘導コイル層を含み、前記スライダ本体表面上に配置された薄膜型の書込みヘッドと、前面側の磁気シールド層、背面側の磁気シールド層、及びそれらの間に配置されるＭＲ素子層を含み、前記書込みヘッドの背後側に配置された薄膜型の読取りヘッドと、前記書込みヘッドから前記読取りヘッドへ向けて漏洩する電磁場を遮蔽するための電磁場シールド手段とから成る薄膜型読取り／書込みヘッドと、
を含むハード・ディスク・ドライブであって、
前記電磁場シールド手段が、
前記書込みヘッドの前記背後側と前記読取りヘッドの前面側との間にそれぞれ絶縁層を介在させて配置され、前記読取りヘッドを、前記書込みヘッドにより生成される電磁場エネルギから実質的に遮蔽する機能を有する電磁場シールド層と、
前記書込みヘッドの前記誘導コイルに接続された電流入力端を有する導電路であって、該導電路を流れる電流が前記書込みヘッドから前記読取りヘッド位置に漏洩する外部電磁場とは反対方向の電磁場を前記読取りヘッド位置に生成するように、前記読取りヘッドに接近して絶縁層を介して配置されている導電路と、
を含むハード・ディスク・ドライブ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は一般に読取り／書込み磁気ヘッド・アセンブリに関し、特に、こうしたヘッド内の不要な電磁場を遮蔽及び相殺する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
記録トランスジューサとして、いわゆるＭＲヘッドを使用する従来のハード・ディスク・ドライブ（ＨＤＤ）では、記録ヘッドは一般にヘッド上の異なる素子を使用して、書込み及び読取り操作を実行する。ハード・ディスクへの書込みは、一般に誘導性書込みヘッド素子を用いて実行され、ハード・ディスクからの読取りは、一般に磁気抵抗（ＭＲ）素子を有する読取りヘッドを用いて実行される。誘導性書込みヘッド素子及びＭＲ素子は、読取り／書込みヘッド上に特殊に形成された構造であり、特殊に付着された薄膜の複数の層から成る。一般にＭＲ素子層が最初に基板上に付着され、ＭＲ素子の付着後に誘導素子層が付着される。重要な点は、書込み信号により生成される電磁場とリードバック信号との干渉により、書込みヘッド素子及び読取りヘッド素子が同時に動作できないことである。他の従来装置では、誘導素子層が最初に付着され、ＭＲ素子層がそれらの後に付着される。しかしながら、書込み信号とリードバック信号との干渉は依然存在し、これらの装置も同時にディスクに書込み、そこから読出すことができない。
【０００３】
同時にデータをディスクに書込み、ディスクからデータを読出す能力を有する読取り／書込みヘッドの重要な用途が存在する。しかしながら、従来の読取り／書込みヘッドは、前述の書込み信号電磁場干渉により、この課題を達成できない。従って、書込み及び読取り機能が同時に実行可能な読取り／書込みヘッドが待望される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、データの書込み及びデータの読出し機能を同時に実行することである。
【０００５】
本発明の別の目的は、電磁場シールド要素が読取りヘッドを書込みヘッド素子により生成される電磁場から遮蔽し、読取りヘッド素子の信号干渉を最小化することである。
【０００６】
更に本発明の別の目的は、干渉低減電気回路要素を読取りヘッド素子に接近して配置し、書込みヘッド素子からの電磁場を妨害する電磁場を生成することである。
【０００７】
更に本発明の別の目的は、既存の製造技術を用いて形成される改善された読取り／書込みヘッドを提供することである。
【０００８】
更に本発明の別の目的は、改善された読取り／書込みヘッドが配置される改善されたスライダ、及び改善されたハード・ディスク・ドライブを提供することである。
【０００９】
これらの及び他の目的、フィーチャ及び利点が、添付の図面に関連して詳述される本発明の好適な実施例の説明から明らかになろう。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は情報を磁気媒体に書込み、磁気媒体から情報を読出す読取り／書込みヘッドである。これは情報を磁気媒体上に書込む書込みヘッドと、情報を磁気媒体から読出す読取りヘッドと、読取りヘッドを書込みヘッドにより生成される電磁場エネルギから遮蔽するための電磁場シールド手段とから成る。該電磁場シールド手段は、書込み及び読取りの両ヘッド相互間を電磁場遮蔽するための通常の形態の電磁場シールド層の構成に加えて、書込みヘッドへ書込み電流を供給するための電気リードの中間位置において、該電気リードに電気的に接続され、前記読取りヘッドに接近して絶縁層を介して配置され、前記書込みヘッドから前記読取りヘッド位置に漏洩する外部電磁場とは反対方向の電磁場を前記読取りヘッド位置に生成するための導電路ないし電磁場干渉手段を有することを特徴とする。
【００１１】
【典型的な電磁場シールド配置を含む読取り／書込みヘッド】
本発明の理解を助けるために、先ず、典型的な電磁場シールド配置を含む読取り／書込みヘッドが述べられる。第１の有意義なフィーチャは、誘導性書込みヘッドが最初に基板上に付着され、誘導素子の付着後に、ＭＲ読取りヘッドが付着されることである。このタイプのヘッドがハード・ディスク・ドライブ内で使用される場合、ハード・ディスクの書込み領域が書込みヘッドの直下を通過した直後に、読取りヘッドの真下を通過し、それによりほぼ即時の書込み後読出しを容易にする。この即時書込み後読出しは、磁気記録システムにおいて有意義な利点を提供する。第２に、誘導性書込みヘッドの付着後、且つＭＲ読取りヘッドの付着前に書込み／読取り電磁場シールド層が付着される。このシールド層により、記録書込みヘッドがハード・ディスク上に書込み、同時にＭＲ読取りヘッドがハード・ディスクからリードバックできる。この同時書込み／読出し能力は、磁気記録の間に非常に有用である。第３に、書込みヘッドと読取りヘッド間の干渉を更に低減するために、読取りヘッドの付着の終了後、干渉低減電気回路要素が読取りヘッド上に付着される。書込み電流が干渉低減要素を導通するとき、書込みヘッド及び干渉低減要素から生成される正味の電磁場が、読取りヘッドのＭＲ素子において著しく低減される。誘導性書込みヘッド構造及びＭＲ読取りヘッド構造、並びにこれら２つの構造の製造プロセスは、読取り／書込みヘッドのための従来の製造プロセスと類似である。
【００１２】
図１に示されるように、典型的な読取り／書込みヘッド１０は、典型的なスライダ１８の裏面１４上に配置される。従来技術で知られるように、こうしたスライダ１８は、一般にハード・ディスク２２の表面上を浮上するように設計される。ハード・ディスク２２はスライダ１８の正面３０から裏面１４に向けて、矢印２６の方向に回転する。浮上量は記録密度要求の増加に従い減少する傾向があり、従って、ディスク・ドライブの将来のアプリケーションのために、ニア・コンタクト（near-contact）及びコンタクト（接触）方式の記録が探究される。本発明はまた、ニア・コンタクト及びコンタクト方式の記録を用いるドライブにおいて有用である。なぜなら、達成される利点が浮上量に依存しないからである。本発明の理解を助けるために、先ず、典型的な電磁場シールド配置を含む読取り／書込みヘッドを図２、図３及び図４に関連して説明する。
【００１３】
図２は、図１のライン２−２に沿う、読取り／書込みヘッド１０の横断面図であり、図３は、内部構成要素を示すために切り取り部分を有する、読取り／書込みヘッド１０の立面図であり、図４は、各構成要素をより明確に示すために切り取り部分を有する、読取り／書込みヘッド１０の斜視図である。図２、図３及び図４に示されるように、読取り／書込みヘッド１０は一般に、スライダ１８の裏面１４上に形成される誘導性書込みヘッド４０、書込みヘッド４０の外側に形成される電磁場シールド４４、及び電磁場シールド４４の外側に形成される磁気抵抗（ＭＲ）読取りヘッド４８を含む。各要素について次に詳述する。
【００１４】
書込みヘッド４０は、スライダ１８の裏面１４上に形成される第１の磁極片６０を含む。当業者には周知のように、読取り／書込みヘッド１０の様々な要素が、半導体加工産業において公知の薄膜付着技術により形成され、絶縁体材料６６が書込みヘッド４０、シールド４４、及び読取りヘッド４８の様々な活動要素間に付着される。誘導性書込みヘッド４０の第１の磁極片６０は、広がった上部分７２を含み、これは狭い下部分７６に先細になり、その下端部において比較的狭い極先端８０で終端する。極コネクタ要素８６が、第１の磁極片６０を第２の磁極片９４の上端部９０に接合する。第２の磁極片９４は一般に、第１の磁極片６０と同一の形状で形成される。すなわち、これは広がった上端部９０と、狭い下端部９６とを有し、下端部は幅１００を有する狭い極先端９８で終端する。第２の極先端９８の幅１００は、第１の極先端８０の幅と同一である必要はない。書込みギャップ１０４が、第１の磁極片６０の極先端８０上に形成されるギャップ形成片１０８により、第１及び第２の磁極片の下端の極先端それぞれ８０及び９８の間に形成される。ギャップ形成片１０８の幅（Ｗ）は、データ書込みトラックの幅を決定する。
【００１５】
誘導コイル１２０は、磁極片６０及び９４によりフォーカスされる磁場を生成するために使用される。誘導コイル１２０は一般に円形のスパイラル形状を有し、磁極片６０及び９４間を通過する下側の巻線部分１２４と、磁極片６０及び９４の外側を通過する上側の巻線部分１２８とにより形成される。誘導コイル１２０に電力を供給するために、第１の電気リード１３４がコイル１２０の外周端部１３８に接続され、第２の電気リード１４４が誘導コイル１２０の内周端部１４８に接続される。リード１４４を形成する薄膜付着処理技術には、リード１４４を誘導コイル１２０の平面から外部電気接続端子１５６に向けて導くバイア１５２の形成が含まれる。
【００１６】
ここで述べる書込みヘッドの実施例と異なる形状及びサイズを有する誘導性書込みヘッドも既知であり、本発明はここで述べる書込みヘッド４０の好適な実施例の特徴に制限されるものではない。
【００１７】
絶縁層１５７の付着後、電磁場シールド要素４４が書込みヘッド４０の外側に付着される。シールド４４は、一般に円形のスパイラル・コイル１２０のためのシールドを提供するために、一般に円形形状であり、シールド４４の直径は一般に、少なくとも誘導コイル１２０の直径と同等である。シールド４４はコイル１２０とＭＲ読取りヘッド４８との間に配置され、それによりＭＲ読取りヘッド４８が誘導コイル１２０の電磁場から遮蔽される。考えうるところでは、シールドの直径が誘導コイルの直径より小さくても、有効なシールド効果が依然維持される。更に、誘導コイルの形状が一般に円形形状以外の場合でも、シールドは誘導コイルと同一の形状を取ることが好ましい。基本的に、シールド４４の形状は２次的考察であり、その主な役割は、読取りヘッド４８の有効な電磁場シールドを提供することである。
【００１８】
シールド４４の下側部分１５８は、好適には、書込みヘッド極先端９８とＭＲ読取りヘッドとの間に延び、ＭＲ読取りヘッドを書込みヘッド・ギャップ１０４における強烈な電磁場から遮蔽する。電磁場シールド４４は好適には、銅または金などの非磁性且つ導電性の材料から構成されるが、他の材料も同様に好適であるかもしれない。腐食問題を回避するために、特にシールドが銅から構成される場合、十分な厚さの絶縁体材料１６０がシールド４４の下端部１６６に渡って形成される。シールド４４はそのシールド作用を達成するために電気接続を必要としない。当業者であればわかるようにシールドの厚さは好適には、少なくとも表皮厚さである。ここで表皮厚さは、シールドと相互作用する電磁場エネルギを吸収するのに十分な導電材料の厚さを指し示し、シールド４４を構成する材料の透磁率及び導電率、更にそれと相互作用する電磁エネルギの動作周波数に関連付けられる。表皮厚さを決定する公式は当業者には既知である。本発明の好適な実施例では、シールド４４は約０．５μｍ乃至約２５μｍの範囲、好適には約１０μｍの厚さを有する銅から構成される。
【００１９】
シールド要素４４の形成後、絶縁体層が付着され、読取りヘッド４８の構成要素が次に付着される。これらの構成要素は当業者には既知である。基本的に、読取りヘッド４８は、第１の磁気シールド１８０、第２の磁気シールド１８８、及びそれらの間に配置される磁気抵抗（ＭＲ）素子１９２を含む。当業者であればわかるように、ＭＲ素子１９２の幅１９４は、好適には、書込みヘッド４０のギャップ形成片１０８の幅（Ｗ）よりも遥かに小さく、読取り／書込みヘッド１０がトラック方向に対して最大スキュー角に配置されるときでさえも、書込みヘッド４０が載置する同一のディスク・トラック上に読取りヘッド４８が配置される。好適な実施例では、ＭＲ素子１９２の幅１９４は、ほぼギャップ形成片１０８の幅（Ｗ）から、ギャップ形成片１０８の幅（Ｗ）の約１／１０の範囲である。書込みヘッド４０と読取りヘッド４８との間の距離は、電磁場シールド４４、絶縁層、及びＭＲ素子の第１の磁気シールド１８０の厚さにもとづき、約１．５μｍ乃至約３５μｍの範囲で変化する。
【００２０】
前述のように、読取り／書込みヘッド１０の形成プロセスは、当業者には既知の薄膜処理技術を含む。動作可能な装置の形成における格別な問題は、ＭＲヘッド４８の要素が平坦に、そして互いに平行に付着されることである。これを達成するために本発明の形成方法は、好適には、少なくとも１つの平坦化ステップを含む。特に、図２に示されるように、誘導コイル１２０及び極先端片１０８の付着後に、平坦化層１９６（破線で示される）が形成される。化学／機械研磨などのプロセスが、平坦化層１９６を形成するために使用される。
【００２１】
電磁場シールド４４は、書込みヘッド４０及び読取りヘッド４８が同時に機能することを可能にする点で本発明の重要なフィーチャである。すなわち、本発明の読取り／書込みヘッド１０は、データをトラックに書込み、同時に同一のトラックからデータを読出すために使用される。なぜなら、電磁場シールド４４が、書込みヘッド磁場と、真下を通過する媒体の磁場を検出しようとする読取りヘッド間の電磁場干渉を実質的に排除するからである。従来の装置は、読取りヘッドの前方に配置される書込みヘッドを含んだが、こうした装置の２つのヘッド４０は、書込みヘッドの電磁場が読取りヘッドに対して引き起こす干渉により、事実上、同時には機能しない。本発明の読取り／書込みヘッド１０は、データを書込み、ほぼその直後にデータを読出し、それを進行中のプロセスにおいて確認するために使用され、書込みヘッド及び読取りヘッドが同時に作用する。
【００２２】
【発明の実施の形態】
本発明の実施例に従う読取り／書込みヘッド２００が、図５、図６及び図７に示される。図５は、図２に示されるものと類似の読取り／書込みヘッド２００の横断面図であり、図６は図３に示されるものと類似の平面図であり、図７は図４に示されるものと類似の斜視図である。前述の説明から明らかなように、この実施例の読取り／書込みヘッド２００は、図２−４に図示した読取り／書込みヘッド１０内で見い出される要素と同一の多くの要素を有し、同一の参照番号は同一の構造的要素を示す。この実施例の読取り／書込みヘッド２００の新規の追加のフィーチャは、読取りヘッド４８の背後に導電路要素２０４を含み、これは後述のように、書込みヘッドにより引き起こされ、電磁場シールド４４により吸収されない、読取りヘッドＭＲ素子１９２における電磁場と干渉し、それを低減する電磁場を提供する。
【００２３】
図５、図６及び図７に示されるように、読取り／書込みヘッド２００は、スライダ１８の裏面１４に接近して配置される誘導性書込みヘッド４０を含む。電磁場シールド４４が書込みヘッド４０の背後に配置され、読取りヘッド４８がシールド４４の背後に配置される。導電路要素２０４が読取りヘッドの背後に配置され、絶縁層が導電路要素２０４を、読取りヘッド４８の第２の磁気シールド１８８から分離する。導電路要素２０４はＭＲ素子１９２に接近して配置され、十分な厚さの絶縁体材料２０８が導電路要素２０４の下側に配置され、特に導電路要素２０４が銅から成る場合など、腐食問題を防止する。
【００２４】
導電路要素２０４のための電力が、誘導コイル回路を通じて供給される。すなわち、誘導コイルの内周端部１４８からの電気配線１４４が、図４に最も明瞭に示される読取り／書込みヘッド１０における経路と異なって、導電路要素２０４を通じて経路指定される。特に図７に示されるように、電気リード１４４はバイア１５２を通じてシールド４４の周辺に導かれ、更に導電路要素２０４を含む外部の基板層に導かれる。電気リード１４４は導電路要素２０４を通過し、そこから内側に、続いて上方に向けて延び、外部端子接続１５６に達する。読取り／書込みヘッド２００の重要なフィーチャは、電気回路要素２０４により提供される性能改善を獲得するために、新たな電気接続または追加の読取り／書込みヘッド端子が要求されないことである。これは誘導コイル１２０の電気リード１４４が、導電路要素２０４を通じてそこから端子１５６に経路指定されるからである。
【００２５】
従って、誘導コイル１２０を通過して書込みヘッドの電磁場を生成する電流が、更に導電路要素２０４を通過し、その通過により、小さな電磁場を生成することが理解される。更に、当業者であればわかるように、導電路要素２０４を通過する電流の方向の影響により、導電路要素２０４により生成される電磁場が、書込みヘッドにより生成される電磁場と反対方向に向けられる。すなわち、特にＭＲ素子１９２の位置に着目すると、書込みヘッド４０は（右手の法則に従い）ＭＲ素子１９２において、一般に下向きの電磁場を生成するのに対して導電路要素２０４は一般に上向きの電磁場を生成する。それにより、導電路要素２０４の電磁場が、書込みヘッド４０により生成される電磁場の効果と干渉してそれを相殺するように作用する。従って、電磁場シールド４４が、書込みヘッド４０により生成される電磁場の効果を不完全に阻止する状況では、導電路要素２０４が干渉電磁場を生成し、これが書込みヘッド電磁場のＭＲ素子１９２に対する効果を相殺する。従って、読取り／書込みヘッド２００内の導電路要素２０４は、書込みヘッド４０及び読取りヘッド４８が同時に且つ干渉が低減されて機能するように、それらの能力を向上させ、それにより読取り／書込みヘッド２００が同時に書込み及び読出し可能になる。
【００２６】
まとめとして、本発明の構成に関して以下の事項を開示する。
【００２７】
（１）情報を磁気媒体に書込み、情報を磁気媒体から読出す読取り／書込みヘッドであって、
情報を磁気媒体上に書込む書込みヘッドと、
第１の磁気シールド、第２の磁気シールド、及びそれらの間に配置されるＭＲ素子を含み、前記磁気媒体から情報を読出す読取りヘッドと、
前記書込みヘッドと前記読取りヘッド間に配置され、前記読取りヘッドを、前記書込みヘッドにより生成される電磁場エネルギから遮蔽する機能をする、電磁場シールドと
を含む、読取り／書込みヘッド。
（２）前記書込みヘッドがスライダ表面上に配置され、前記電磁場シールドが前記書込みヘッド上に配置され、前記読取りヘッドが前記電磁場シールド上に配置される、前記（１）記載の読取り／書込みヘッド。
（３）前記書込みヘッドが誘導コイルを含み、前記電磁場シールドが前記誘導コイルの面内形状に対応する形状で形成される、前記（２）記載の読取り／書込みヘッド。
（４）前記誘導コイルが円形であり、コイル直径を有し、前記電磁場シールドが円形であり、少なくとも前記コイル直径と同じ大きさのシールド直径を有する、前記（３）記載の読取り／書込みヘッド。
（５）前記電磁場シールドが導電材料から成る、前記（２）記載の読取り／書込みヘッド。
（６）前記電磁場シールドが表皮厚さよりも大きな厚さを有する、前記（５）記載の読取り／書込みヘッド。
（７）前記電磁場シールドが銅から成り、約０．５μｍ乃至約２５μｍの範囲の厚さを有する、前記（６）記載の読取り／書込みヘッド。
（８）前記電磁場シールドが銅から成り、約１０μｍの厚さを有する、前記（６）記載の読取り／書込みヘッド。
（９）前記読取りヘッドに接近して配置され、前記読取りヘッドにおいて、前記書込みヘッドにより前記読取りヘッドにおいて生成される電磁場と反対方向に向けられる電磁場を生成するように機能する、電磁場干渉手段を含む、前記（１）記載の読取り／書込みヘッド。
（１０）前記書込みヘッドに接続され、前記読取りヘッドの近くを通過する導電路を含み、前記導電路内を流れる電流が、前記読取りヘッドにおいて、前記書込みヘッドにより前記読取りヘッドにおいて生成される電磁場と反対方向に向けられる電磁場を生成する、前記（１）記載の読取り／書込みヘッド。
（１１）前記電流が前記書込みヘッドを通じて流れる、前記（１０）記載の読取り／書込みヘッド。
（１２）前記読取りヘッドがＭＲ素子を含み、前記書込みヘッドが先端幅Ｗを有する書込みヘッド先端を有して形成され、前記ＭＲ素子が約Ｗ乃至約１／１０Ｗの幅を有する、前記（１）記載の読取り／書込みヘッド。
（１３）ハード・ディスク・ドライブのためのスライダ装置であって、
ハード・ディスクの表面上に浮上するように適応化されるスライダ本体と、
前記スライダ本体の表面上に形成される読取り／書込みヘッドと
を含み、前記読取り／書込みヘッドが、
情報を磁気媒体上に書込む書込みヘッドと、
第１の磁気シールド、第２の磁気シールド、及びそれらの間に配置されるＭＲ素子を含み、前記磁気媒体から情報を読出す読取りヘッドと、
前記書込みヘッドと前記読取りヘッド間に配置され、前記読取りヘッドを、前記書込みヘッドにより生成される電磁場エネルギから遮蔽する機能をする、電磁場シールドと
を含む、スライダ。
（１４）前記書込みヘッドが前記スライダ本体の表面上に配置され、前記電磁場シールドが前記書込みヘッド上に配置され、前記読取りヘッドが前記電磁場シールド上に配置される、前記（１３）記載のスライダ装置。
（１５）前記書込みヘッドが誘導コイルを含み、前記電磁場シールドが前記誘導コイルの面内形状に対応する形状で形成される、前記（１４）記載のスライダ装置。
（１６）前記誘導コイルが円形であり、コイル直径を有し、前記電磁場シールドが円形であり、少なくとも前記コイル直径と同じ大きさのシールド直径を有する、前記（１５）記載のスライダ装置。
（１７）前記電磁場シールドが導電材料から成る、前記（１４）記載のスライダ装置。
（１８）前記電磁場シールドが表皮厚さよりも大きな厚さを有する、前記（１７）記載のスライダ装置。
（１９）前記電磁場シールドが銅から成り、約０．５μｍ乃至約２５μｍの範囲の厚さを有する、前記（１８）記載のスライダ装置。
（２０）前記電磁場シールドが銅から成り、約１０μｍの厚さを有する、前記（１８）記載のスライダ装置。
（２１）前記読取りヘッド素子に接近して配置され、前記読取りヘッドにおいて、前記書込みヘッドにより生成される電磁場と反対方向に向けられる電磁場を生成するように機能する、電磁場干渉手段を含む、前記（１４）記載のスライダ装置。
（２２）前記書込みヘッドに接続され、前記読取りヘッドの近くを通過する導電路を含み、前記導電路内を流れる電流が、前記読取りヘッドにおいて、前記書込みヘッドにより前記読取りヘッドにおいて生成される電磁場と反対方向に向けられる電磁場を生成する、前記（１３）記載のスライダ装置。
（２３）前記電流が前記書込みヘッドの誘導コイルを通じて流れる、前記（２２）記載のスライダ装置。
（２４）前記読取りヘッドがＭＲ素子を含み、前記書込みヘッドが先端幅Ｗを有する書込みヘッド先端を有して形成され、前記ＭＲ素子が約Ｗ乃至約１／１０Ｗの幅を有する、前記（１３）記載のスライダ装置。
（２５）回転運動に適応化される少なくとも１つのハード・ディスクと、
スライダ本体部分を有し、前記ハード・ディスク上に浮上するように適応化される少なくとも１つのスライダ装置と、
前記スライダ本体の表面上に形成される読取り／書込みヘッドと
を含み、前記読取り／書込みヘッドが、
情報を磁気媒体上に書込む書込みヘッドと、
第１の磁気シールド、第２の磁気シールド、及びそれらの間に配置されるＭＲ素子を含み、前記磁気媒体から情報を読出す読取りヘッドと、
前記書込みヘッドと前記読取りヘッド間に配置され、前記読取りヘッドを、前記書込みヘッドにより生成される電磁場エネルギから遮蔽する機能をする、電磁場シールドと
を含む、ハード・ディスク・ドライブ。
（２６）前記書込みヘッドが前記スライダ本体の表面上に配置され、前記電磁場シールドが前記書込みヘッド上に配置され、前記読取りヘッドが前記電磁場シールド上に配置される、前記（２５）記載のハード・ディスク・ドライブ。
（２７）前記書込みヘッドが誘導コイルを含み、前記電磁場シールドが前記誘導コイルの面内形状に対応する形状で形成される、前記（２６）記載のハード・ディスク・ドライブ。
（２８）前記誘導コイルが円形であり、コイル直径を有し、前記電磁場シールドが円形であり、少なくとも前記コイル直径と同じ大きさのシールド直径を有する、前記（２７）記載のハード・ディスク・ドライブ。
（２９）前記電磁場シールドが導電材料から成る、前記（２８）記載のハード・ディスク・ドライブ。
（３０）前記電磁場シールドが表皮厚さよりも大きな厚さを有する、前記（２９）記載のハード・ディスク・ドライブ。
（３１）前記電磁場シールドが銅から成り、約０．５μｍ乃至約２５μｍの範囲の厚さを有する、前記（３０）記載のハード・ディスク・ドライブ。
（３２）前記電磁場シールドが銅から成り、約１０μｍの厚さを有する、前記（３０）記載のハード・ディスク・ドライブ。
（３３）前記読取りヘッド素子に接近して配置され、前記読取りヘッド素子において、前記書込みヘッドにより前記読取りヘッドにおいて生成される電磁場と反対方向に向けられる電磁場を生成するように機能する、電磁場干渉手段を含む、前記（２６）記載のハード・ディスク・ドライブ。
（３４）前記書込みヘッドに接続され、前記読取りヘッドの近くを通過する導電路を含み、前記導電路内を流れる電流が、前記読取りヘッドにおいて、前記書込みヘッドにより前記読取りヘッドにおいて生成される電磁場と反対方向に向けられる電磁場を生成する、前記（２５）記載のハード・ディスク・ドライブ。
（３５）前記電流が前記書込みヘッドを通じて流れる、前記（３４）記載のハード・ディスク・ドライブ。
（３６）前記読取りヘッドがＭＲ素子を含み、前記書込みヘッドが先端幅Ｗを有する書込みヘッド先端を有して形成され、前記ＭＲ素子が約Ｗ乃至約１／１０Ｗの幅を有する、前記（２６）記載のハード・ディスク・ドライブ。
（３７）ハード・ディスク・ドライブの読取り／書込みヘッドを操作する方法であって、
書込みヘッドにより、データをハード・ディスクの磁気媒体上に書込むステップと、
前記データを書込むステップと同時に、読取りヘッドにより、前記ハード・ディスクの前記磁気媒体からデータを読出すステップと、
前記書込みヘッドと前記読取りヘッド間に配置される電磁場シールドにより、前記読取りヘッドを、前記書込みヘッドにより生成される電磁場エネルギから遮蔽するステップと
を含む、方法。
（３８）前記読取り／書込みヘッドがハード・ディスク・ドライブのスライダ部材上に配置され、前記書込みヘッドが前記スライダ要素の表面上に配置され、前記電磁場シールドが前記書込みヘッド上に配置され、前記読取りヘッドが前記電磁場シールド上に配置される、前記（３７）記載の方法。
（３９）前記読取りヘッドにおいて、前記書込みヘッドにより前記読取りヘッドにおいて生成される電磁場と反対方向に向けられる干渉電磁場を生成するステップを含む、前記（３８）記載の方法。
（４０）前記干渉電磁場を前記データを書込むステップと同時に生成するステップを含む、前記（３９）記載の方法。
（４１）電力を前記書込みヘッドに供給し、同時に前記干渉電磁場を生成するための電力を供給するステップを含む、前記（３９）記載の方法。
（４２）前記書込みヘッドに供給される前記電力が、前記干渉電磁場を生成するために使用される、前記（４１）記載の方法。
【図面の簡単な説明】
【図１】典型的な読取り／書込みヘッドが裏面上に配置される典型的なハード・ディスク・ドライブ・スライダの斜視図である。
【図２】図１のライン２−２に沿って切り取られた典型的な電磁場シールド配置を含む読取り／書込みヘッドの横断面図である。
【図３】切取り開口部を通して露出される、図１に示される読取り／書込みヘッドの立面図である。
【図４】別の切り取り開口部を通して露出される、図３に示される読取り／書込みヘッドの斜視図である。
【図５】図２に示されるものと類似する、本発明の実施例に従う読取り／書込みヘッドの横断面図である。
【図６】切り取り開口部を通して露出される、図３に示されるものと類似する、図５に示される読取り／書込みヘッドの立面図である。
【図７】本発明をより明確に示す別の切り取り開口部を通して露出される、図４に示されるものと類似する、図６に示される読取り／書込みヘッドの斜視図である。
【符号の説明】
１０、２００  読取り／書込みヘッド
１４  スライダ裏面
１８  スライダ
２２  ハード・ディスク
３０  スライダ正面
４０  書込みヘッド
４４  電磁場シールド
４８  読取りヘッド
６０、９４  磁極片
６６、１５７、１６０、２０８  絶縁体
７２  広がった上部分
７６  狭い下部分
８０、９８  極先端
８６  極コネクタ
９０  上端部
９６  狭い下端部
１００、１９４  幅
１０４  書込みヘッド・ギャップ
１０８  ギャップ形成片
１２０  誘導コイル
１３４、１４４  電気リード
１５２  バイア
１５６  電気接続端子
１８０、１８８  磁気シールド
１９２  ＭＲ素子
１９６  平坦化層
２０４  導電路要素
【図１】
0003742277.tif 000002
【図２】
0003742277.tif 000003
【図３】
0003742277.tif 000004
【図４】
0003742277.tif 000005
【図５】
0003742277.tif 000006
【図６】
0003742277.tif 000007
【図７】
0003742277.tif 000008