(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
切妻屋根を備えたクリーンルームと、このクリーンルームの両側に位置するとともに前記切妻屋根を超える高さを有するコア部とからなる半導体工場において、
前記コア部は、前記切妻屋根上を流下する雨水を内部に導く雨水経路を設けている
ことを特徴とする半導体工場。
【請求項２】
請求項１記載の半導体工場において、
前記切妻屋根は、切妻が前記コア部内に突出し、
前記コア部は、前記切妻屋根の切妻から落下する雨水を受ける排水溝とこの排水溝に連絡する排水路を内部に設けている
ことを特徴とする半導体工場。
【請求項３】
請求項１記載の半導体工場において、
前記切妻屋根は、切妻が前記コア部内に突出し、
前記コア部は、前記切妻屋根の切妻から落下する雨水を受ける排水溝とこの排水溝に連絡する排水路を内部に設けるとともに、この排水路に連絡する樋を外部に設けている
ことを特徴とする半導体工場。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体工場に係り、特に漏水対策を講じた雨水処理構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
大型の半導体工場の設計では、通常、中央の大型メインクリーンルームを挟んで両側に、外調機等の各種機械室を備えたコア部を設けている。
また、このコア部は、機械設置スペースを確保するため、メインクリーンルームより多い階数となり、高さもクリーンルーム屋根を超える。
【０００３】
また、クリーンルーム屋根は、大屋根となり、この大屋根は、機能上の経済性より折半金属板による屋根が多く、地震や強風での変位が発生しやすい。
従来の大型のクリーンルーム施設では、図７に示すように、クリーンルーム屋根を切妻屋根とすることが一般的である。
クリーンルーム１２の両側にコア部１０、１１が設けられている。コア部１０、１１は、クリーンルーム１２の切妻屋根１３より高くなっている。
【０００４】
クリーンルーム１２の切妻屋根１３は、クリーンルーム１２のほぼ中程で両側に雨勾配を持つ構造となっている。
そして、コア部１０、１１とクリーンルーム１２の切妻屋根１３とには、それぞれ軒樋１４、１４が設けてある。
この切妻屋根１３の場合には、雨水は切妻屋根１３を伝わって切妻（切妻屋根の端）に位置する軒樋１４、１４に集められ、図示しない縦樋を介して排水される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、図７に示す切妻屋根の場合には、軒樋１４、１４が、メインクリーンルーム１２の切妻屋根１３とコア部１０、１１の接点に形成されるため、谷樋となる。
そのため、竣工後は、地震の動き等で漏水個所の発生するケースが多く、またこの漏水はクリーンルーム１２に伝わり、生産に大きな影響を与えるおそれがある。
【０００６】
本発明はかかる従来の問題点を解決するためになされたもので、その目的は、雨水を溜める個所を無くし確実に漏水を防止することを可能とした半導体工場を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、切妻屋根を備えたクリーンルームと、このクリーンルームの両側に位置するとともに前記切妻屋根を超える高さを有するコア部とからなる半導体工場において、前記コア部は、前記切妻屋根上を流下する雨水を内部に導く雨水経路を設けていることを特徴とする。
【０００８】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の半導体工場において、前記切妻屋根は、切妻が前記コア部内に突出し、前記コア部は、前記切妻屋根の切妻から落下する雨水を受ける排水溝とこの排水溝に連絡する排水路を内部に設けていることを特徴とする。
請求項３記載の発明は、請求項１記載の半導体工場において、前記切妻屋根は、切妻が前記コア部内に突出し、前記コア部は、前記切妻屋根の切妻から落下する雨水を受ける排水溝とこの排水溝に連絡する排水路を内部に設けるとともに、この排水路に連絡する樋を外部に設けていることを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面に示す実施形態に基づいて説明する。
図１、図２は本発明の第一実施形態に係る半導体工場を示す（請求項１、２、３に対応）。
切妻屋根３１を備えたクリーンルーム３０の両側には、コア部２０、２０が設けられている。各コア部２０、２０は、クリーンルーム３０の切妻屋根３１より高くなっている。なお、コア部２０、２０は、従来と同様に、外調機等の各種機械室を備えている。
【００１０】
クリーンルーム３０の切妻屋根３１は、クリーンルーム３０のほぼ中程で両側に雨勾配を持つ構造となっている。
そして、クリーンルーム３０の切妻屋根３１の切妻（切妻屋根の端）３２、３２は、それぞれコア部２０、２０に設けた凹所２１、２１内に突出している。各凹所２１、２１の下部側において、クリーンルーム３０の切妻屋根３１がコア部２０、２０に支持固定されている。
【００１１】
各凹所２１、２１では、クリーンルーム３０とコア部２０、２０との境界線に沿って排水溝２２、２２が設けてある。この排水溝２２、２２には、複数のルーフドレーン２５が所定間隔をおいて配設されている。また、排水溝２２、２２には、各ルーフドレーン２５に雨水が集まりやすくなるように所定の勾配が各ルーフドレーンに対応してそれぞれ付けてある。また、コア部２０、２０内の部屋２９、２９の床３６にはシンダーコンクリート３７が防水層３８を介して設けてある。
【００１２】
各ルーフドレーン２５は、コア部２０、２０内に配置された対応する複数の横引き樋２４、２４に連絡している。各横引き樋２４、２４は、コア部２０、２０の外側において、縦樋２６、２６と連絡している。
なお、部屋２９、２９は、架台を設置して空調機室として使用する。
一方、コア部２０、２０では、頂部に降った雨水を集める軒樋２７、２７が端部に設けられている。各軒樋２７、２７には、排水溝２２、２２に雨水を導くための縦樋２８、２８が取り付けられている。
【００１３】
このように構成された本実施形態によれば、雨水は切妻屋根３１を伝わって切妻（切妻屋根の端）３２、３２に流下してくると、切妻３２、３２の下方に位置する排水溝２２、２２に落下する。そして、各ルーフドレーン２５で集水された後、コア部２０、２０内に配置された各横引き樋２４、２４に流入し、縦樋２６、２６に流入し、外部へ排水される。
【００１４】
一方、コア部２０、２０上に降った雨水は、軒樋２７、２７に流下し、縦樋２８、２８を介して排水溝２２、２２に落下する。
以上のように、本実施形態では、雨水は、コア部２０、２０内に形成した凹所２１、２１の床上に配置された排水溝２２、２２に集められるため、コア部２０、２０と切妻屋根３１、３１との接点が、従来のような谷樋とならず、竣工後に、地震の動き等を受けても、漏水個所の発生となることが無くなる。
【００１５】
また、コア部２０、２０の排水において、ルーフドレーン２５の詰まり等の事故の漏水は、クリーン部と関係ないコア部２０、２０内の機械室での漏水となり、重大障害にならない。
図３は、本発明の第二実施形態に係る半導体工場を示す（請求項１、２、３に対応）。
【００１６】
本実施形態では、第一実施形態における複数のルーフドレーン２５、２５に代えて排水溝２２、２２にルーフドレーン２５、２５に対応する数の横引き樋２４を取り付け、コア部２０、２０の外部に設けた軒樋４０、４０に連絡し、各軒樋４０、４０に縦樋４１、４１を取り付けてたものである。
従って、本実施形態では、第一実施形態のように部屋２９の床３６が排水路とはならず、配管からなる横引き樋２４が排水路を形成する。
【００１７】
本実施形態においても同様の作用効果を奏することが可能となる。
また本実施形態においては、排水溝２２の詰まり等の事故時の漏水はクリーンルーム等建物内に及ぶことがない。
図４は、本発明の第三実施形態に係る半導体工場を示す（請求項１、２、３に対応）。
【００１８】
本実施形態では、第二実施形態における軒樋４０、４０を用いずに直接縦樋４１を横引き樋２４に連結したものである。
本実施形態においても同様の作用効果を奏することが可能となる。
図５は、本発明の第四実施形態に係る半導体工場を示す（請求項１、２、３に対応）。
【００１９】
本実施形態では、第二実施形態における配管による横引き樋２４に代えて床排水にし、軒樋４０、４０の個所にコーナドレーン４２、４２を設けたものである。
また、排水溝２２、２２と部屋２９との境には、複数の雨水流入孔２３が設けてある。
【００２０】
本実施形態においても同様の作用効果を奏することが可能となる。
図６は、本発明の第五実施形態に係る半導体工場を示す（請求項１、２、３に対応）。
本実施形態では、第四実施形態におけるコーナドレーン４２、４２に代えてコア部２０、２０の壁面に複数の雨水排水孔４３を設けたものである。
【００２１】
本実施形態においても同様の作用効果を奏することが可能となる。
なお、本発明は、これら実施形態に限らず、例えば、図５、図６に示すコーナドレーン４２、４２や雨水排水孔４３に代えてコア部２０、２０の外部側に位置する部屋２９の床３６に図２に示すルーフドレーン２５を設け、縦樋４１またはコア部２０、２０内に設置した縦樋で排水するようにしても良い。
【００２２】
【発明の効果】
請求項１ないし請求項３によれば、構造的に別の挙動をしやすい大屋根部とコア部の境界に谷樋等の雨を溜める箇所が無くなり、漏水の被害から重要製造エリア（クリーンルーム）を保護することができる。
請求項２によれば、ルーフドレーンの詰まり等の事故の漏水は、クリーン部と関係ないコア部内の機械室での漏水となり、重大障害にならない。
【００２３】
請求項３によれば、事故時の漏水は、クリーンルーム等建物内に及ぶことがない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第一実施形態の要部を示す説明図である。
【図２】図１に示す第一実施形態の要部を拡大して示す説明図である。
【図３】本発明に係る第二実施形態の要部を拡大して示す説明図である。
【図４】本発明に係る第三実施形態の要部を拡大して示す説明図である。
【図５】本発明に係る第四実施形態の要部を拡大して示す説明図である。
【図６】本発明に係る第五実施形態の要部を拡大して示す説明図である。
【図７】従来の半導体工場の要部を示す説明図である。
【符号の説明】
２０  コア部
２１  凹所
２２  排水溝
２３  雨水流入孔
２４  横引き樋
２５  ルーフドレーン
２６、２８、４１  縦樋
２７、４０  軒樋
２９  部屋
３０  クリーンルーム
３１  切妻屋根
３２  切妻
３６  床
４３  雨水排水孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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