(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体に最小記録bit長５０〜５００ｎｍで磁気信号を記録し、該記録された信号をＭＲヘッドを用いて再生する磁気記録再生システムであって、
前記磁気記録媒体は、非磁性支持体上に非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性層と六方晶フェライト粉末及び結合剤を含む磁性層とをこの順に有し、
前記磁性層表面に存在する最小記録bit長の１／３以上の深さを有する凹みの数が１００個／１００００μｍ2以下であり、かつ前記磁性層表面の中心面平均粗さＳＲａが１．０〜６．０ｎｍの範囲であることを特徴とする磁気記録再生システム。
【請求項２】
前記磁気記録媒体は磁気テープである請求項１に記載の磁気記録再生システム。
【請求項３】
磁気記録媒体に最小記録bit長５０〜５００ｎｍで磁気信号を記録し、該記録された信号をＭＲヘッドを用いて再生する磁気記録再生方法であって、
前記磁気記録媒体は、非磁性支持体上に非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性層と六方晶フェライト粉末及び結合剤を含む磁性層とをこの順に有し、
前記磁性層表面に存在する最小記録bit長の１／３以上の深さを有する凹みの数が１００個／１００００μｍ2以下であり、かつ前記磁性層表面の中心面平均粗さＳＲａが１．０〜６．０ｎｍの範囲であることを特徴とする磁気記録再生方法。
【請求項４】
前記磁気記録媒体は磁気テープである請求項３に記載の磁気記録再生方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、塗布型の高記録密度の磁気記録媒体に関する。より詳しくは、本発明は、特に非磁性層と六方晶フェライト強磁性粉末を含む磁性層とをこの順に有する、ＭＲヘッドを採用した磁気記録の再生システムに好適な磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
磁気ディスクの分野では、Ｃｏ変性酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフロッピーディスクはパーソナルコンピュータに標準搭載されようになった。しかし、扱うデータ容量が急激に増加している今日において、その容量は充分ではなく、フロッピーディスクの大容量化が望まれている。一方、磁気テープの分野においても近年、ミニコンピュータ、パーソナルコンピュータ、ワークステーションなどのオフィスコンピュータの普及に伴って、外部記憶媒体としてコンピュータデータを記録するための磁気テープ（いわゆるバックアップテープ）の研究が盛んに行われている。このような用途の磁気テープの実用化に際しては、特にコンピューターの小型化、情報処理能力の増大と相俟って、記録の大容量化、小型化を達成するために、記録容量の向上が強く要求される。
【０００３】
一方、従来より電磁誘導を動作原理とする磁気ヘッド（誘導型磁気ヘッド）が磁気記録媒体の記録再生システムに広く利用されている。しかしながら、誘導型磁気ヘッドをさらに高密度記録再生領域で使用する場合には限界があるため問題とされていた。すなわち、大きな再生出力を得るためには再生ヘッドのコイル巻数を多くする必要がある。しかし、コイル巻数を多くすると、インダクタンスが増加して高周波での抵抗が増加してしまい、結果として再生出力が低下してしまうという問題があった。
そこで、このような事情に鑑み、最近ではＭＲ（磁気抵抗）を動作原理とする記録再生用ＭＲヘッドが開発され、ハードディスク装置等で実用され始めている。
【０００４】
その一方で、磁気テープへの応用も研究されている。磁気テープの記録再生システムにＭＲヘッドを用いれば、誘導型磁気ヘッドに比べて数倍の再生出力が得られ、しかも誘導コイルを使用しないことからインピーダンスノイズ等の機器ノイズを大幅に低下することができる。このため、ＭＲへッドを用いれば磁気記録媒体自体のノイズを低下させることができ、大きなＳＮ比を得ることが可能となる。すなわち、従来、機器ノイズに隠れていた磁気記録媒体ノイズを小さして、良好な記録再生を実現でき、高密度記録特性が飛躍的に向上することができる。そこで、最近では、磁気テープへの応用した磁気記録媒体も提唱されている（特開平８−２２７５１７号公報、特開２００１−８４５４９号公報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
前記特開２００１−８４５４９号公報には、媒体表面の窪みを光干渉式粗さ計により評価し、窪み個数を一定数以下に抑えることで、リニアサーペンタイン方式の記録再生システムでのエラー発生を抑制する方法により作製された磁気記録媒体が開示されている。
しかるに、上記磁気記録媒体に用いられる磁気ヘッドはインダクティブヘッドであるため、高密度記録用に設計されたＭＲヘッド系における低ノイズ化という課題を充分解決できるものではなかった。したがって、兼ねてからＭＲヘッドを使用する場合における媒体ノイズの低減を磁気記録媒体サイドから解決できる技術の開発が望まれていた。
かくして、本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、ＭＲヘッドを採用した記録再生システムにおいて、媒体ノイズを著しく改良した塗布型磁気記録媒体を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、ＭＲヘッドを採用した磁気記録再生システムにおいて、 ヘッドと磁気テープ間のスペーシングについて鋭意検討した結果、磁性層表面の特定の深さを有する凹みによる影響がノイズに対して顕著であることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明の目的は、
非磁性支持体上に非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性層と六方晶フェライト粉末及び結合剤を含む磁性層とをこの順に有する磁気記録媒体であって、
前記磁性層表面に存在する最小記録bit長の１／３以上の深さを有する凹みの数が１００個／１００００μｍ2以下であり、かつ前記磁性層表面の中心面平均粗さＳＲａが６．０ｎｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体
によって達成される。
前記磁性層表面において原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定される深さが５０ｎｍ以上の凹みの個数が１００個／１００００μｍ2以下であることが好ましい。
本発明の磁気記録媒体は、以下の磁気記録再生システムに用いることができる。
非磁性支持体上に非磁性粉末及び結合剤を含む非磁性層と六方晶フェライト粉末及び結合剤を含む磁性層とをこの順に有する磁気記録媒体を用いる磁気記録再生システムであって、
信号の再生には、ＭＲヘッドを用い、かつ
前記磁気記録媒体は、前記磁性層表面に存在する最小記録bit長の１／３以上の深さを有する凹みの数が１００個／１００００μｍ2以下であり、かつ前記磁性層表面の中心面平均粗さＳＲａが６．０ｎｍ以下である磁気記録媒体から選ばれることを特徴とする磁気記録再生システム。
上記範囲内に磁性層表面の粗さを制御することにより、ＭＲヘッドによる再生時における媒体ノイズを低減することができる。
【０００８】
また、本発明の磁気記録媒体の好ましい態様は次のとおりである。
（１）前記非磁性層が少なくともカーボンブラックと放射線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂からなる結合剤とを含む磁気記録媒体。
（２）前記磁気記録媒体がＭＲヘッドを採用した磁気記録再生システムに用いられる磁気記録媒体。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態につき、さらに詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体は、磁性層表面に存在する最小記録bit長の１／３以上の深さを有する凹みの数が１００個／１００００μｍ2以下であり、かつ磁性層表面の中心面平均粗さＳＲａが６．０ｎｍ以下であることを特徴とする。
本発明の磁気記録媒体は、好ましくは磁性層表面において原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定される深さ５０ｎｍ以上の凹みの個数が１００個／１００００μｍ2以下であることを特徴とする。
磁性層表面の凹みの深さは、米国デジタルインスツルメンツ社製NanoscopeIIIを用いて三次元表面粗さを測定した場合における磁性層表面粗さの平均面（測定面内の凹凸の体積が等しくなる面）から凹みの最深部までの距離である。
【００１０】
磁性層表面上の凹みは、ＭＲヘッドと磁気テープの接触条件を低下させ、ノイズに結びつくと推測される。すなわち、磁性層表面上に所定の深さ以上の凹み部分があると、ＭＲヘッドと磁気テープの接触条件が低下し、その凹み部分でスペーシングロスが増大して部分的な出力の低下が起こると考えられる。一般の磁気テープでは、磁性層表面はクリーニングや研磨などの表面処理により異物や突起はある程度除去されている。しかし、磁性層表面の凹みは除去することができないため、ある程度以上の深さを有する凹みの数がある個数以上になるとＭＲヘッド再生時のノイズ増大の原因になると考えられる。
【００１１】
本発明の磁性層表面に存在する最小記録bit長の１／３以上の深さを有する凹みの個数は、１００個／１００００μｍ2以下であるが、好ましくは８０個／１００００μｍ2以下であり、さらに好ましくは５０個／１００００μｍ2以下である。磁性層表面に最小記録bit長の１／３以上の深さを有する凹みが多数存在すると、ヘッドキャップと磁気テープ間に部分的なスペーシングロスが多くなり媒体ノイズの増大の原因となる。そこで、磁性層表面に存在する最小記録bit長の１／３以上の深さを有する凹みの個数を１００個／１００００μｍ2以下に減らすことにより、前記スペーシングロスを生じる部分を少なくし、効果的に媒体ノイズを減少させることができる。
最小記録bit長とは、システムとして記録される信号の最短波長の１／２の長さをいい、システムにより異なるが、通常、５０〜５００ｎｍ程度である。
【００１２】
本発明の磁性層表面において原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定される深さが５０ｎｍ以上の凹みの個数は、１００個／１００００μｍ2以下であることが好ましく、さらに好ましくは８０個／１００００μｍ2以下であり、特に好ましくは５０個／１００００μｍ2以下である。磁性層表面に深さが５０ｎｍ以上の凹みが多数存在すると、ヘッドキャップと磁気テープ間のスペーシングロスが大きくなり媒体ノイズの増大の原因となる。そこで、磁性層表面において原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定される深さが５０ｎｍ以上の凹みの個数を１００個／１００００μｍ2以下に減らすことにより、前記スペーシングロスを生じる部分を小さくし、効果的に媒体ノイズを減少させることができる。
【００１３】
また、本発明の磁性層表面の中心面平均粗さＳＲａは、６．０ｎｍ以下であるが、好ましくは１．０〜５．０ｎｍであり、さらに好ましくは１．５〜４．５ｎｍである。中心面平均粗さＳＲａが６．０ｎｍ以下であれば、凹凸の振幅を小さく抑えてノイズを低下させることができると共に、出力の劣化も小さくすることができる。
【００１４】
本発明の磁気記録媒体の磁性層表面において、最小記録bit長さの１／３以上の深さを有する凹み及び深さが５０ｎｍ以上の凹みの個数を調整する方法としては、例えば、バックコート層への粗大粒子（カーボンブラック、研磨剤など）の種類と添加量とを調整する方法が挙げられる。また、磁性層表面の中心面平均粗さＳＲａの大きさを調整する方法としては、例えば、次のような方法がある。
（１）非磁性層の硬化度を塗布時の乾燥条件等を変えることにより調整して磁性層に含まれる研磨剤や凝集体をカレンダ処理により適度に非磁性層に埋没させる方法。
（２）磁性層塗料を調製する工程において研磨剤を使用する場合にあっては、研磨剤を別分散とし、研磨剤の分散度を予め調整してから磁性層用塗料に加えて塗布液とする方法。
（３）その他、分散時間を調整する方法。
【００１５】
磁性層表面における凹みの測定は、米国デジタルインスツルメンツ社製NanoscopeIIIを用いて１００μｍ×１００μｍ（１００００μｍ2）の範囲内で行う。凹みの個数は、上記測定面積内における最小記録bit長の１／３以上の深さを有する凹みの個数、又は深さ５０ｎｍ以上の凹みの個数をカウントして求める。また、中心面平均粗さＳＲａは、上記測定範囲内での中心面平均粗さ［ｎｍ］から求めることができる。
【００１６】
次に、本発明の磁気記録媒体の層構成について説明する。
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体の少なくとも一方の面に２層の塗膜、すなわち、非磁性層と磁性層とがこの順で設けられており、非磁性支持体の反対側の面には、必要に応じてバックコート層が設けられる。
また、本発明の磁気記録媒体は、磁性層上に潤滑剤塗膜や磁性層保護用の各種塗膜などを必要に応じて設けてもよい。また、非磁性支持体の非磁性層及び磁性層が設けられる面側には、塗膜と非磁性支持体との接着性の向上等を目的として、下塗り層（易接着層）を設けることもできる。
【００１７】
［磁性層］
本発明の磁気記録媒体の磁性層は、少なくとも六方晶フェライト粉末と結合剤を含有する。
＜六方晶フェライト粉末＞
本発明の磁性層に含まれる六方晶フェライト粉末としては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等が挙げられる。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、さらに一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられる。その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。
【００１８】
粒子サイズは六角板径で１０〜５５ｎｍ、好ましくは１０〜４５ｎｍであり、特に好ましくは２０〜３５ｎｍである。特にトラック密度を上げるためＭＲヘッドで再生する場合、低ノイズにする必要があり、板径は５５ｎｍ以下が好ましいが、１０ｎｍ以下では熱揺らぎのため安定な磁化が望めない。六角板径が５５ｎｍ以下であれば、ノイズが低く、高密度磁気記録に向く。板状比（板径／板厚）は３〜７が望ましい。好ましくは３〜５である。板状比が小さいと磁性層中の充填性は高くなり好ましいが、充分な配向性が得られにくくなる。板状比が７以下であれば、粒子間のスタッキングによりノイズが大きくなることはない。
【００１９】
上記粒子サイズ範囲の粒子のＢＥＴ法による比表面積は、４０〜１００ｍ2／ｇである。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であるが粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定することで比較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。
【００２０】
一般に、保磁力Ｈｃが８０ｋＡ／ｍ（１０００ Ｏｅ）〜２３９ｋＡ／ｍ（３０００ Ｏｅ）の範囲の六方晶フェライト粉末は作成可能である。保磁力Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、実際には、記録ヘッドの能力で制限される。本発明において用いる六方晶フェライト粉末は、保持力Ｈｃが、８０ｋＡ／ｍ（１０００ Ｏｅ）から２３９ｋＡ／ｍ（３０００ Ｏｅ）程度であり、好ましくは１４３〜２０７ｋＡ／ｍ（１８００〜２６００ Ｏｅ）である。保磁力Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。飽和磁化σｓは４０〜７０Ａ・ｍ2／ｋｇである。飽和磁化σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾向がある。飽和磁化σｓ改良のためマグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。
【００２１】
六方晶フェライトを混練、分散する際に六方晶フェライト粉末粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の化合物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は六方晶フェライト粉末に対して０．１〜１０％である。六方晶フェライト粉末のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１１程度が選択される。六方晶フェライト粉末に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０１〜２．０％が選ばれる。六方晶フェライト粉末の製法としては、▲１▼酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法。▲２▼バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法。▲３▼バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明で用いられる六方晶フェライト粉末は製法を選ばない。
【００２２】
＜結合剤＞
本発明の磁性層に使用される結合剤は、通常用いられているものであれば特に制限はなく、熱可塑型樹脂、熱硬化型樹脂、反応型樹脂、放射線硬化型樹脂及びこれらの混合物のいずれをも用いることができる。
【００２３】
熱可塑型樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜１０００００、重合度が約５０〜１０００程度のものである。このような熱可塑型樹脂の具体例としては、例えば塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクルリ酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル等を構成単位として含む重合体又は共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化型樹脂又は反応型樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独又は組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、又はこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものが挙げられる。
【００２４】
ポリウレタン樹脂の構造は、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ(ＯＭ)2（式中、Ｍは水素原子又はアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ2、−Ｎ+Ｒ3（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮなどから選ばれる少なくとも１つ以上の極性基を共重合又は付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基の量は１０-1〜１０-8モル／ｇであり、好ましくは１０-2〜１０-6モル／ｇである。
【００２５】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としては、ユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などが挙げられる。
【００２６】
本発明の磁性層に用いられる結合剤は、六方晶フェライト強磁性粉末１００質量部に対して、５〜５０質量部の範囲、好ましくは１０〜３０質量部の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質量部、ポリウレタン樹脂合を用いる場合は２〜２０質量部、ポリイソシアネートは２〜２０質量部の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみ又はポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも可能である。本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０℃〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．４９〜９８ＭＰａ（０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ2）、降伏点は０．４９〜９８ＭＰａ（０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ2）が好ましい。
【００２７】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性層と磁性層の二層以上からなる。したがって、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ非磁性層、各磁性層とで変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせることができる。
【００２８】
本発明で用いることができるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を挙げることができる。
これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ，ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製タケネートＤ−１０２，タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ等があり、これらを単独又は硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも用いることができる。
【００２９】
＜研磨剤＞
さらに磁性層中には、磁性層の機械的強度を高め、かつ、磁気ヘッドの目詰まりを防ぐために研磨材を含有することができる。
本発明に用いられる研磨剤としては、例えば、α−アルミナ（モース硬度９）、酸化クロム（モース硬度９）、炭化珪素（モース硬度９．５）、酸化珪素（モース硬度７）、窒化アルミニウム（モース硬度９）、窒化硼素（モース硬度９．５）などのモース硬度６以上、好ましくはモース硬度９以上の研磨材を少なくとも１種含有させることが好ましい。これらは通常、不定形状であり、磁気ヘッドの目詰まりを防ぎ、塗膜の強度を向上させる。また、これらの研磨剤同士の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物又は元素が含まれる場合もあるが、主成分が９０％以上であれば効果に変わりはない。
【００３０】
研磨剤の平均粒子サイズは０．０１〜０．２μｍであり、０．０５〜０．２μｍであることが好ましい。平均粒径サイズが０．２μｍ以下であれば、磁性層表面からの突出量が大きくなって、電磁変換特性の低下、ドロップアウトの増加、ヘッド摩耗量の増大等を招くこともない。また、平均粒径サイズが０．０１μｍ以上であれば、磁性層表面からの突出量が不足し、ヘッドが目詰まりを起こすこともない。特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組合せたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｍｌ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ2／ｇが好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は、針状、球状、サイコロ状のいずれでもよいが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。
【００３１】
具体的な研磨剤としては、例えば、住友化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ−６０Ａ、ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０、ＨＩＴ−１００、レイノルズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製ＷＡ１００００、上村工業社製ＵＢ２０、日本化学工業社製Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社製ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製Ｂ−３などが挙げられる。これらの研磨剤は必要に応じ、後述する非磁性層にも添加することもできる。非磁性層に添加することで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。これら磁性層及び非磁性層に添加する研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設定すべきものである。
【００３２】
＜その他の添加剤＞
本発明の磁性層には、必要に応じて界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコーンオイル等の潤滑剤、帯電防止剤、可塑剤などのその他の各種添加物を添加してもよい。
特に本発明においては磁性層は少なくとも脂肪酸及び脂肪酸エステルを含有し、かつ該脂肪酸及び脂肪酸エステルの脂肪酸残基同士が互いに同一であることが好ましい。脂肪酸としては、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）が挙げられ、脂肪酸エステルとしては炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステルが挙げられる。これら脂肪酸、脂肪酸エステル以外の添加剤としては二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステル及びそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）の金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどを使用することができる。
【００３３】
これらの具体例としては、脂肪酸では、カプリン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン酸などが挙げられる。脂肪酸エステル類ではブチルステアレート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキシジエチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、２−オクチルドデシルパルミテート、２−ヘキシルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレート、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリデシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチルグリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレイル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリルアルコール、ラウリルアルコールなどを挙げることができる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分を含んでいてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。
【００３４】
本発明で使用される上記潤滑剤及び界面活性剤は、個々に異なる物理的作用を有するものであり、その種類、量及び相乗的効果を生み出す潤滑剤の併用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。例えば、非磁性層と磁性層とで融点の異なる脂肪酸を用いて表面への滲み出しを制御したり、沸点・融点や極性の異なるエステル類を用い表面への滲み出しを制御したり、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させたり、潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させたりする等が考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。一般には潤滑剤の総量として六方晶フェライト強磁性粉末１００質量部に対し、０．１〜５０質量部であり、２〜２５質量部が好ましく選択される。
【００３５】
また本発明で用いられる添加剤のすべて又はその一部は、磁性層用の塗料の製造方法どの工程で添加してもかまわない。例えば、混練工程前に磁性体と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時又は逐次塗布で、添加剤の一部又は全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダ処理した後又はスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。
【００３６】
磁性層用の塗料は、上記各成分に有機溶剤を加えて調整する。用いる有機溶剤には特に制限はなく、公知のものを使用することができる。例えば、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等を使用することができる。
【００３７】
これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層と非磁性層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的には上層溶剤組成の算術平均値が非磁性層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。
【００３８】
［非磁性層］
本発明の磁気記録媒体において、非磁性層は、少なくともカーボンブラックと放射線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂からなる結合剤とを含むことが好ましい。
【００３９】
＜カーボンブラック＞
非磁性層にカーボンブラックを含ませると、潤滑剤を保持させることができ、磁性層表面の潤滑剤量を所望の範囲に容易に調整することができる。特に磁性層の膜厚が０．３μｍ以下と薄い場合には、磁性層のみでは充分な潤滑剤量を含有させることが困難であることから、非磁性層のカーボンブラックは重要である。また、非磁性層のカーボンブラックは、磁性層の表面電気抵抗を下げる効果もあり、ＭＲヘッドの静電破壊防止効果もある。
【００４０】
非磁性層に使用することのできるカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等の種類を挙げることができる。これらの複数のカーボンブラックを併用することで以下の特性を最適化し、所望の効果を得ることができる。
【００４１】
非磁性層のカーボンブラックの比表面積は、１００〜５００ｍ2／ｇであり、好ましくは１５０〜４００ｍ2／ｇである。ＤＢＰ吸油量は、２０〜４００ｍｌ／１００ｇであり、好ましくは３０〜４００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は、５〜８０ｎｍであり、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは、２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌであることが好ましい。
【００４２】
本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製 ＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃４０００、＃４０１０、コンロンビアカーボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０質量％を越えない範囲、非磁性層総質量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００４３】
＜非磁性粉末＞
非磁性層にはカーボンブラック以外にも各種無機質粉末を用いることができる。非磁性層に用いることができる非磁性粉末は、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機化合物から選択することができる。無機化合物としては、例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独又は組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、さらに好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これらのうちで球状の超微粒子酸化鉄を用いることが好ましい。球状の超微粒子酸化鉄を使用することにより高分散性が得られ、非磁性層における粒子の充填率を大きくすることができる。また、非磁性層自体の表面性が良化し、ひいては磁性層の表面性が良好となり、電磁変換特性も向上することができる。
【００４４】
上記非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１〜０．２μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下がさらに好ましい。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は０．１〜５質量％、好ましくは０．２〜３質量％、さらに好ましくは０．３〜１．５質量％である。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は１〜１００ｍ2／ｇ、好ましくは５〜８０ｍ2／ｇ、更に好ましくは１０〜７０ｍ2／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４〜１μｍが  好ましく、０．０４〜０．１μｍがさらに好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、さらに好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は１〜１２、好ましくは３〜６で  ある。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。モース硬度は４以上、１０以下のものが好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μｍｏｌ／ｍ2、好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ2、さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ2である。ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。これらの非磁性粉末の表面は表面処理されてＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯ、Ｙ2Ｏ3が存在することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2であるが、さらに好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００４５】
本発明の磁気記録媒体において、非磁性層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５００ＢＸ、ＤＢＮ−ＳＡ１、ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、αヘマタイトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、Ｅ３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ及びそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
【００４６】
＜結合剤＞
非磁性層に使用することのできる結合剤は、放射線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂からなり、特に放射線硬化型樹脂からなることが好ましい。
なお、本明細書で用いる「放射線硬化型樹脂」とは、放射線によりラジカルを発生し、架橋又は重合することにより硬化するような、分子鎖中に不飽和二重結合を１個以上含む樹脂をいう。
従来から使用されてきた熱可塑型樹脂では、非磁性層塗布済み原反ロールをオーブン中に長時間（例えば７０℃、２〜４８時間）入れて硬化する方が望ましい。しかしながら、この製造工程には手間を要する上、巻き締まりによる塗膜の変形や磁性層表面の平滑性の低下が問題となっていた。そこで、この様な欠点をなくすため、非磁性層の結合剤として放射線硬化型樹脂を用い、非磁性層塗料を塗布し、乾燥、平滑化処理後、放射線照射を施し、三次元架橋を生ぜしめ、その後、非磁性層に磁性層塗料を塗布することにより、好適な結果を得ることができる。
この方法によれば、非磁性層は、磁性層が設けられる時点では既に三次元架橋がなされているので、有機溶剤による膨潤の防止を受けないため好ましい。
【００４７】
非磁性層で使用することのできる放射線硬化型樹脂としては、例えば、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂、繊維系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等の多数のものが挙げられる。これらの中でも、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂が代表的であり、両者を混合して使用することが好ましい。
【００４８】
非磁性層における放射線硬化型樹脂の含有量は、カーボンブラックと無機質粉末の合計１００質量部に対して１０〜１００質量部であることが好ましく、１２．５〜７０重量部であることがより好ましい。放射線硬化型樹脂の含有量が上記範囲内であれば、充分な塗膜強度が得られ、非磁性層塗料作成時に分散不良を起こすこともなく、平滑な非磁性層面を形成することができる。
【００４９】
放射線硬化型樹脂に用いられる放射線としては、電子線、γ線、β線、紫外線などを挙げることができるが、好ましくは電子線である。またその照射量は、１〜１０Ｍｒａｄがよく、３〜７Ｍｒａｄがより好ましい。またその照射エネルギー（加速電圧）は１００ｋｖ以上とすることが好ましい。また放射線の照射は、塗布・乾燥後に巻き取る以前に行うのが好ましいが、巻き取り後に行ってもよい。
【００５０】
また、非磁性層に用いる熱硬化型樹脂として、磁性層で使用される樹脂を用いることができる。また、非磁性層には、必要に応じて前記磁性層で述べた潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、可塑剤などのその他の各種添加物を含有することが好ましい。
【００５１】
［バックコート層］
本発明の磁気記録媒体は、走行安定性、帯電防止及びカール補正などの効果を出すために非磁性層と磁性層とが設けられた非磁性支持体の面とは反対側の面にバックコート層を設けてもかまわない。バックコート層は、３０〜８０質量％のカーボンブラックを含有することが好ましい。カーボンブラックの含有量が３０〜８０質量％の範囲内であれば、良好な帯電防止効果及び走行安定性が得られ、かつ、バックコート層の強度も低下することなく、走行耐久性も得られる。
【００５２】
バックコート層に使用するカーボンブラックは、磁気記録テープに通常使用されているものを広く用いることができる。例えば、ゴム用ファーネスブラック、ゴム用サーマルブラック、カラー用カーボンブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。バックコート層の凹凸が磁性層に写らないようにするために、カーボンブラックの粒径は０．３μｍ以下にするのが好ましい。特に好ましい粒径は、０．０１〜０．１μｍである。また、バックコート層におけるカーボンブラックの使用量は、光学透過濃度（マクベス社製ＴＲ−９２７の透過値）が２．０以下になる範囲にするのが好ましい。
【００５３】
走行耐久性を向上させる上で、平均粒子サイズの異なる２種類のカーボンブラックを使用することが有利である。この場合、平均粒子サイズが０．０１〜０．０４μｍの範囲にある第１のカーボンブラックと、平均粒子サイズが０．０５〜０．３μｍの範囲にある第２のカーボンブラックとの組み合わせが好ましい。第２のカーボンブラックの含有量は、粒状酸化物と第１のカーボンブラックとの合計量を１００質量部として、０．１〜１０質量部が適しており、０．３〜３質量部が好ましい。
【００５４】
バックコート層に用いる結合剤の含有量は、固形分の合計１００質量部に対し、好ましくは１５〜２００質量部であり、より好ましくは５０〜１８０質量部である。結合剤の含有量が上記範囲内であれば、媒体摺接経路との摩擦を抑えられるので、走行安定性が向上でき、その結果、走行事故を起こすことはなく、かつ、磁性層とのブロッキング等の問題も生じることもない。また、バックコート層に適度の強度が得られ良好な走行耐久性を得ることができる。
【００５５】
バックコート層には、前記カーボンブラック以外に、機械的強度を高めるために、磁性層の説明において挙げた各種研磨材等の非磁性無機粉末を含有させてもよい。非磁性無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対し、好ましくは０．１〜５質量部、より好ましくは０．５〜２質量部である。また、非磁性無機粉末の平均粒径は、０．１〜０．５μｍであることが好ましい。
【００５６】
また、バックコート層には、その他、必要に応じて前記磁性層で述べた界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
【００５７】
［非磁性支持体］
本発明の磁気記録媒体の非磁性支持体として用いる材料には特に制限はなく、目的に応じて各種可撓性材料、各種剛性材料から選択し、各種規格に応じてテープ状などの所定形状及び寸法とすることができる。例えば、可撓性材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリアラミド、ポリカーボネート、ポリアラミド、芳香族ポリアミド、ポリベンゾオキサゾールなどの各種樹脂が挙げられる。また必要に応じ、磁性面とベース面の表面粗さを変えるため、特開平３−２２４１２７号公報に示されるような積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行ってもよい。
【００５８】
非磁性支持体として表面の粗さ形状が必要に応じて支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロールされるものである。これらのフィラーとしては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機樹脂微粉末が挙げられ、好ましくは、Ａｌ2 Ｏ3と有機樹脂微粉末の組み合わせである。
【００５９】
非磁性支持体の表面粗さは、中心面平均表面粗さＲａで２０ｎｍ以下であり、１５ｎｍ以下であることが好ましい。
【００６０】
非磁性支持体のＦ−５値は、好ましくは４９〜４９０ＭＰａ（５〜５０ｋｇ／ｍｍ2）、また、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は４９〜９８０ＭＰａ（５〜１００ｋｇ／ｍｍ2）、弾性率は０．９８〜１９．６ＧＰａ（１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2）が好ましい。温度膨張係数は１０-4〜１０-8／℃であり、好ましくは１０-5〜１０-6／℃である。湿度膨張係数は１０-4／ＲＨ％以下であり、好ましくは１０-5／ＲＨ％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ等しいことが好ましい。
【００６１】
［層構成］
本発明における磁性層の厚さは、０．３０μｍ以下であることが好ましく、０．０５〜０．３０μｍであることがより好ましく、０．１０〜０．２５μｍであることがさらに好ましい。磁性層が０．３μｍ以下であれば、自己減磁損失や厚み損失を小さくすることができる。
また、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
【００６２】
本発明における非磁性層の厚さは、通常０．１〜２．５μｍであるが、好ましくは０．３〜２．３μｍである。非磁性層の厚さが０．１〜２．５μｍの範囲内であれば、非磁性支持体の表面性の影響を抑えることができ、非磁性層表面を平滑にすることができる。また、非磁性層表面状態が良好となるため、磁性層表面も平滑にすることができ、電磁変換特性を向上させることができる。
【００６３】
バックコート層の厚さ（カレンダ加工後）は、１．０μｍ以下であり、０．１〜１．０μｍであることが好ましく、０．２〜０．８μｍであることがさらに好ましい。バックコート層の厚さが上記範囲内であれば、非磁性支持体の表面性の影響を受けてバックコート層の表面性が低下することがない。また、熱硬化する際にバックコート層表面の粗さが磁性層表面に転写されて再生出力が低下することはなく、かつ、媒体の走行時にバックコート層の削れが発生することもない。また媒体摺接経路との間の摩擦を小さくすることができるため、良好な走行安定性が得られる。
【００６４】
非磁性支持体の厚さは、３．０〜２０．０μｍであることが好ましい。
【００６５】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体と非磁性層又は磁性層の間に密着性を向上させるため下塗り層を設けてもかまわない。下塗り層の厚さは０．０１〜０．５μｍ、好ましくは０． ０２〜０．５μｍである。本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体の両面に非磁性層と磁性層とを有する両面磁性層ディスク状媒体であっても、片面のみに設けたものであってもかまわない。
【００６６】
［製造方法］
本発明の磁気記録媒体は、上記材料を用いて非磁性層用塗料及び磁性層用塗料をそれぞれ調製し、前記非磁性支持体上に、この順に塗布することにより製造することができる。
前記非磁性層用及び磁性層用の各塗料は、少なくとも混練工程、分散工程、及びこれらの工程の前後に必要に応じて、混合工程、粘度調整工程及び濾過工程を行うことにより製造される。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていても構わない。
【００６７】
上記塗料の混練及び分散には、従来公知の製造技術を一部又は全部の工程に用いることができる。混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど強い混練力を持つものを使用することが好ましい。連続ニーダ又は加圧ニーダを用いる場合は、六方晶フェライト強磁性粉末あるいは非磁性無機粉末と結合剤のすべて又はその一部で混練処理される。混練時のスラリー温度は，５０℃〜１００が好ましい。
【００６８】
塗料の分散には、高比重の分散メディアを用いることが望ましく、ジルコニア、チタニア等のセラミック系メディアが好適である。従来より用いられているガラスビーズ、金属ビーズ、アルミナビーズ等なども組成配合によっては選択使用可能である。
【００６９】
磁気記録媒体の製造に際してバックコート層の塗布は、非磁性層及び磁性層の塗設前であっても塗設後であってもよく、同時であってもよい。
【００７０】
塗布手段は、例えばグラビアコート、リバースコート、エクストルージョンノズル等のいずれを用いても良いが、ダイノズルコーターを用いる方法が好ましい。
【００７１】
磁性層を設層した後、磁場を印加して、層中の磁性粒子を配向させることが好ましい。配向方向は、目的に応じて、媒体の走行方向に対して、平行方向であっても、垂直方向であっても、斜め方向であってもよい。所定方向へ向けるため、フェライト磁石や希土類磁石等の永久磁石、電磁石、ソレノイド等で１００Ｔ・ｍ（１０００Ｇ）以上の磁界を印可したり、これらの磁界発生手段を複数併用することが好ましい。さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように、配向前に予め適度の乾燥工程を設けたり、配向と同時に乾燥を行うなどして配向を行ってもよい。
【００７２】
このようにして磁性層塗設後、配向処理の行われた塗膜は、通常、乾燥炉の内部に設けられた熱風、遠赤外線、電気ヒーター、真空装置等の公知の乾燥及び蒸発手段によって乾燥・固定される。乾燥温度は、室温から３００℃程度までの範囲で、非磁性支持体の耐熱性や溶剤種、濃度等によって適宜選定すればよく、また乾燥炉内に温度勾配をもたせてもよい。さらに乾燥炉内のガス雰囲気は、一般の空気又は不活性ガスなどを用いればよい。
【００７３】
磁性層を乾燥した後に、必要に応じて表面平滑化処理としてカレンダ処理を行う。カレンダ処理ロールとしては、エポキシ、ポリエステル、ナイロン、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールと金属ロールとの組合わせ（３ないし７段の組合わせ）を使用するとよい。また、金属ロール同士で処理することもできる。処理温度は、好ましくは８０℃以上、さらに好ましくは８５℃以上である。線圧力は、好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ以上、さらに好ましくは２５０ｋｇ／ｃｍ以上、処理速度は、２０ｍ／分〜９００ｍ／分の範囲である。
【００７４】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、実施例中、特に示さない限り「部」は質量部を意味する。
【００７５】
0003818581.tif 000002
【００７６】
0003818581.tif 000003
【００７７】
0003818581.tif 000004
【００７８】
バックコート層用塗料の調製
（分散）
下記組成物をボールミルに投入し、２４時間分散を行った。
カーボンブラック  １                                          ８０部
（コロンビアカーボン社製: Conductex SC、
平均粒径＝２０ｎｍ、比表面積ＳBET＝２２０ｍ2／ｇ）
カーボンブラック  ２                                            ５部
（コロンビアカーボン社製:Sevacarb MT、
平均粒径＝３５０ｎｍ、比表面積ＳBET＝８ｍ2／ｇ）
α−Ｆｅ2Ｏ3 （戸田工業社製:TF100、平均粒径＝０．１μｍ）       １部
ニトロセルロース樹脂                                          ６５部
ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡績社製：UR-8300）         ３５部
ＭＥＫ                                                      ２６０部
トルエン                                                    ２６０部
シクロヘキサノン                                            ２６０部
【００７９】
下記組成物を分散後のスラリーに混合、撹拌した後、再度ボールミルにて分散処理を３時間行った。
ステアリン酸                                                    １部
ステアリン酸ブチル                                              ２部
ＭＥＫ                                                      ２１０部
トルエン                                                    ２１０部
シクロヘキサノン                                            ２１０部
【００８０】
濾過後の塗料１００部にイソシアネート化合物（日本ポリウレタン社製コロネート−Ｌ）１部を加え、撹拌・混合し、バックコート塗料とした。
【００８１】
（実施例１）
上記の磁性層用塗料及び非磁性層塗料１の各成分をニーダで混練したのち、サンドミルを用いて１２時間分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを非磁性塗料には２．５部、磁性層用塗布液には３部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン４０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性及び磁性塗料をそれぞれ調製した。得られた非磁性塗料を、乾燥後の非磁性層の厚さが１．７μｍになるように、さらにその直後にその上に磁性層の厚さが０．１５μｍになるように、厚さ４．４μｍで中心面平均表面粗さが２ｎｍのアラミド支持体（商品名：ミクトロン）上に同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに６００Ｔ・ｍ（６０００Ｇ）の磁力を持つコバルト磁石と６００Ｔ・ｍ（６０００Ｇ）の磁力を持つソレノイドにより配向させた。乾燥後、金属ロールのみから構成される７段のカレンダで温度８５℃にて分速２００ｍ／ｍｉｎで処理を行い、その後、厚み０．６μｍのバックコート層を塗布した。塗布ロールにアニール処理（７０℃、４８時間）を施した後、１／２インチ幅にスリットし、スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレードが磁性面に押し当たるように取り付け、テープクリーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行い、テープ試料を得た。
【００８２】
（実施例２）
実施例１においてバックコート層の厚さを０．３μｍに設定した以外は同様の条件でテープ試料を作成した。
【００８３】
（実施例３）
磁性塗料について、ニーダで混練したのち、サンドミルを用いて１２時間分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを３部を加え、さらにシクロヘキサノン４０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性層形成用の塗布液を調製した。
非磁性層塗布液２を、ニーダで混練したのち、サンドミルを用いて１２時間分散させた。乾燥後の非磁性層の厚さが１．７μｍになるように厚さ４．４μｍで中心面平均表面粗さが２ｎｍのアラミド支持体（商品名：ミクトロン）上に塗布を行い、乾燥後金属ロールのみから構成される７段のカレンダで温度８５℃にて分速２００ｍ／ｍｉｎで処理を行った。その後、窒素ガス雰囲気中で電子線を照射し硬化させた。この非磁性層上に磁性塗料を塗布、６００Ｔ・ｍ（６０００Ｇ）の磁力を持つコバルト磁石と６００Ｔ・ｍ（６０００Ｇ）の磁力を持つソレノイドにより配向させた。乾燥後金属ロールのみから構成される７段のカレンダーで温度８５℃にて分速２００ｍ／ｍｉｎで処理を行った。その後、厚み０．６μｍのバックコート層用塗布液を塗布した。塗布ロールにアニール処理（７０℃，４８時間）を施した後、１／２インチ幅にスリットし、スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレードが磁性面に押し当たるように取り付け、テープクリーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行い、テープ試料を得た。
【００８４】
（実施例４）
実施例３において、バックコート層用塗布液中のカーボンブラック２（コロンビアカーボン社製:Sevacarb MT）を１５質量部とし、カレンダ処理後のアニール処理を行わない以外は実施例３と同様に媒体を作成した。
【００８５】
（比較例１）
実施例１において、バックコート層用塗布液中のカーボンブラック２（コロンビアカーボン社製:Sevacarb MT）を１５質量部とした以外は、同様の条件でテープ試料を作成した。
【００８６】
（比較例２）
実施例３において、磁性塗料の分散時間を３時間とした以外は同様の条件でテープ試料を作成した。
【００８７】
（比較例３）
実施例１において、磁性塗料の分散時間を３時間とし、バックコート層用塗布液中のカーボンブラック２（コロンビアカーボン社製:Sevacarb MT）を１５質量部とした以外は同様の条件でテープ試料を作成した。
【００８８】
ＡＦＭによる磁性層表面の凹み測定方法
米国デジタルインスツルメンツ社製NanoscopeIIIを用いて３次元表面粗さを測定し、磁性層表面粗さの平均面から５０ｎｍ以下の凹み深さの個数を測定した。測定は１００μｍ×１００μｍ（１００００μｍ2）の範囲で行った。中心面平均粗さＳＲａは、上記測定範囲の中での中心面平均粗さとして測定した。
【００８９】
ＳＮＲの測定
Ｓ／Ｎの測定は、市販のＭＲヘッドを搭載したリニアヘッド系のヘッドガイドアセンブリを取り付けたテープ送り装置を用いて行った。書き込みトラック幅２７μｍ、テープ搬送速度３ｍ／ｓｅｃで記録波長０．３μｍの信号を書き込み、トラック幅が１２．５μｍのＭＲヘッドで再生し、スペクトラムアナライザで得られた出力と０〜１２ＭＨｚ帯域のノイズレベルを測定しＳ／Ｎ値を求めた。ＳＮＲ２５ｄＢ以上を良好とみなしている。
【００９０】
【表１】
0003818581.tif 000005
【００９１】
表１より、磁性層表面の深さ５０ｎｍ以上の凹みの個数及び中心面平均粗さが本発明の範囲内である実施例１〜４の各磁気テープサンプルでは、いずれにおいても良好なＳＮＲが得られている。これに対して、比較例１及び３では、凹みの個数が１００個を超えたため、ノイズが高くなった。また比較例２では、凹み深さの個数が１００個以下であるが、中心面平均粗さＳＲａが６ｎｍを超えていたため、再生出力が低下して目的のＳＮＲが得られなかった。
【００９２】
0003818581.tif 000006
【００９３】
非磁性塗料３（非磁性層用：熱硬化型樹脂）
非磁性粉末  針状α−Ｆｅ2Ｏ3                                   ７５部
(戸田工業社製：ＤＰＮ−２５０ＢＸ)
長軸長：０．１５μｍ
比表面積：５３ｍ2／ｇ
カーボンブラック                                               ２０部
コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製）
塩化ビニル共重合体                                             １２部
ＭＲ１１０（日本ゼオン社製）
ポリウレタン樹脂                                                 ５部
ＵＲ８２００（東洋紡社製）
フェニルホスホン酸                                               ４部
ブチルステアレート                                               １部
ステアリン酸                                                     ３部
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤）       ２５０部
【００９４】
非磁性塗料４（非磁性層用：ＥＢキュア）
針状α−Ｆｅ2Ｏ3                                               ７５部
(戸田工業社製：ＤＢＮ−２５０ＢＸ)
長軸長：０．１５μｍ
比表面積：５３ｍ2／ｇ
カーボンブラック                                               ２５部
(コロンビアカーボン社製：Ｒａｖｅｎ ７６０Ｂ)
平均粒径：３０ｎｍ
比表面積：７０ｍ2／ｇ
ＤＢＰ吸油量：４８ｍｌ／１００ｇ
電子線硬化型塩化ビニル系樹脂                                   １０部
塩化ビニル−エポキシ含有モノマー共重合体
平均重合度：３１０
エポキシ含有量：３ｗｔ％
Ｓ含有量：０．６ｗｔ％
アクリル含有量：６個／１分子
Ｔｇ：６０℃
電子線硬化型ポリエステルポリウレタン樹脂                         ７部
リン化合物−ヒドロキシ含有ポリエステルポリウレタン
数平均分子量：１３０００
アクリル含有量：６個／１分子
Ｔｇ：１０℃
ブチルステアレート                                               １部
ステアリン酸                                                     ３部
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤）       ２５０部
【００９５】
［バックコート層用塗料の調製］
（分散）
下記組成物をボールミルに投入し、２４時間分散を行った。
カーボンブラック  １                                           ８０部
コロンビアカーボン社製: Ｃｏｎｄｕｃｔｅｘ ＳＣ
平均粒径：２０ｎｍ
ＢＥＴ比表面積：２２０ｍ2／ｇ
カーボンブラック  ２                                             ５部
コロンビアカーボン社製:Ｓｅｖａｃａｒｂ ＭＴ
平均粒径：３５０ｎｍ
ＢＥＴ比表面積：８ｍ2／ｇ
α−Ｆｅ2Ｏ3                                                     １部
戸田工業社製:ＴＦ１００、平均粒径：０．１μｍ
ニトロセルロース樹脂                                           ６５部
ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡績社製：ＵＲ−８３００ ）  ３５部
ＭＥＫ                                                       ２６０部
トルエン                                                     ２６０部
シクロヘキサノン                                             ２６０部
【００９６】
下記組成物を分散後のスラリーに混合、撹拌した後、再度ボールミルにて分散処理を３時間行った。
ステアリン酸                                                     １部
ステアリン酸ブチル                                               ２部
ＭＥＫ                                                       ２１０部
トルエン                                                     ２１０部
シクロヘキサノン                                             ２１０部
【００９７】
濾過後の塗料１００質量部にイソシアネート化合物（日本ポリウレタン社製、コロネート−Ｌ）１質量部を加え、撹拌、混合し、バックコート塗料とした。
【００９８】
試料１
上記の磁性塗料、非磁性塗料３について、各成分をニーダで混練した後、サンドミルを用いて１２時間分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを非磁性層の塗布液には２．５部、磁性層の塗布液には３部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン４０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の非磁性層の厚さが１．７μｍになるように、さらにその直後にその上に磁性層の厚さが０．１５μｍになるように、厚さ４．４μｍで中心面平均表面粗さが２ｎｍのアラミド支持体（商品名：ミクトロン）上に同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに６００ｍＴ（６０００Ｇ）の磁力を持つコバルト磁石と６００ｍＴ（６０００Ｇ）の磁力を持つソレノイドにより配向させた。乾燥後、金属ロールのみから構成される７段のカレンダーで温度８５℃にて分速２００ｍ／ｍｉｎで処理を行い、その後、厚み０．６μｍのバックコート層を塗布した。塗布ロールにアニール処理（７０℃、４８時間）を施した後、１／２インチ幅にスリットし、スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレードが磁性面に押し当たるように取り付け、テープクリーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行い、テープ試料を得た。
【００９９】
試料２
試料１においてバックコート層の厚さを０．３μｍに設定した以外は同様の条件でテープ試料を作成した。
【０１００】
試料３
磁性塗料について、ニーダで混練した後、サンドミルを用いて１２時間分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを３部加え、さらにシクロヘキサノン４０部を加え、１μｍ の平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性層形成用の塗布液を調製した。
非磁性塗料４を、ニーダで混練した後、サンドミルを用いて１２時間分散させた。乾燥後の非磁性層の厚さが１．７μｍになるように厚さ４．４μｍで中心面平均表面粗さが２ｎｍのアラミド支持体（商品名：ミクトロン）上に塗布を行い、乾燥後金属ロールのみから構成される７段のカレンダーで温度８５℃にて分速２００ｍ／ｍｉｎで処理を行った。その後窒素ガス雰囲気中で電子線を照射し硬化させた。この下層非磁性層上に上層磁性層用塗料を塗布、６００ｍＴ（６０００Ｇ）の磁力を持つコバルト磁石と６００ｍＴ（６０００Ｇ）の磁力を持つソレノイドにより配向させた。乾燥後金属ロールのみから構成される７段のカレンダーで温度８５℃にて分速２００ｍ／ｍｉｎで処理を行った。その後、厚み０．６μｍのバックコート層を塗布した。塗布ロールにアニール処理（７０℃、４８時間）を施した後、１／２インチ幅にスリットし、スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレードが磁性面に押し当たるように取り付け、テープクリーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行い、テープ試料を得た。
【０１０１】
試料４
試料３において、バックコート塗料中のカーボンブラック２（コロンビアカーボン社製:Ｓｅｖａｃａｒｂ ＭＴ）を１５質量部とし、カレンダー処理後のアニール処理を行わない以外は試料３と同様に媒体を作成した。
【０１０２】
試料５
試料１において、バックコート塗料中のカーボンブラック２（コロンビアカーボン社製:Ｓｅｖａｃａｒｂ ＭＴ）を１５質量部とした以外は、同様の条件でテープ試料を作成した。
【０１０３】
試料６
試料３において、磁性塗料の分散時間を３時間とした以外は同様の条件でテープ試料を作成した。
【０１０４】
試料７
試料１において、磁性塗料の分散時間を３時間とし、バックコート塗料中のカーボンブラック２（コロンビアカーボン社製:Ｓｅｖａｃａｒｂ ＭＴ）を１５質量部とした以外は同様の条件でテープ試料を作成した。
【０１０５】
評価方法
＜ＡＦＭによる磁性層表面の凹み測定方法＞
米国デジタルインスツルメンツ社製NanoscopeIIIを用いて３次元表面粗さを測定し、磁性層表面粗さの平均面から表２に記載された各最小記録ｂｉｔ長の１／３以上の深さを有する凹みの個数を測定した。
ここで、平均面とは測定面内の凹凸の体積が等しくなる面のことである。測定は１００μｍ×１００μｍ（１００００μｍ2）の範囲で行う。ＳＲａは、上記測定範囲の中での中心面平均粗さ［ｎｍ］として測定した。
＜ＳＮＲの測定＞
ＳＮＲの測定はドラムテスタを用いて行った。１．５ＴのＭＩＧヘッドを用い記録波長０．５５〜０．２μｍの信号を書き込み、ＭＲヘッドで再生しスペクトラムアナライザで得られた出力と波長換算に０．０５μｍ以上の帯域のノイズレベルを測定しＳＮＲ値を求めた。記録波長０．５５μｍの場合には、ＳＮＲ２５ｄＢ以上を、記録波長０．３μｍの場合には、ＳＮＲ２２ｄＢ以上を、記録波長０．２μｍの場合にはＳＮＲ１２ｄＢ以上をそれぞれ良好と見なしている。
【０１０６】
【表２】
0003818581.tif 000007
【０１０７】
評価結果
表２より、最小記録bit長の１／３以上の深さを有する凹み個数が１００個以下であり、かつ磁性層中心面平均粗さＳＲａが６．０ｎｍ以下である実施例５〜１５は、いずれも高いＳＮＲを示した。
磁性塗料の分散時間が短く中心面平均粗さが６．０ｎｍを超える比較例４及び７は、凹み個数は１００個以下であったがＳＲａが６．０ｎｍを越え、ＳＮＲが低かった。
磁性塗料の分散時間が短く、かつバックコート塗料に含まれるカーボンブラック量が多い比較例５及び８は、凹み個数は１００個を超え、ＳＲａも６．０ｎｍ以上であり、ＳＮＲが低下した。
バックコート層に含まれるカーボンブラック量が多い比較例６は、ＳＲａは６．０ｎｍ以下であったが凹み個数が１００個以上であり、ＳＮＲが低下した。
比較例９は、実施例６及び１１と同じ試料を用いたが、記録波長が０．２μｍ（最小記録bit長１００ｎｍ）である例である。中心面平均粗さＳＲａは６．０ｎｍ以下であったが凹み数が１００個を越え、ＳＮＲが低下した。
比較例１０は、実施例８及び１３と同じ試料を用いたが、記録波長が０．２μｍ（最小記録bit長１００ｎｎｍ）である例である。中心面平均粗さＳＲａは６．０ｎｍ以下であったが凹み数が１００個を越え、ＳＮＲが低下した。
【０１０８】
【発明の効果】
以上説明したように本発明であれば、ＭＲヘッド搭載記録再生システム用に適したＳＮＲの高い磁気記録媒体を提供することができる。