(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板ステージ上のシート状基板を吸着手段で吸着して搬送するシート状基板の搬送装置において、
上記平板ステージ上に設けられると共に、上記シート状基板が載置されて、この載置されたシート状基板の縁部と上記平板ステージとの間に隙間を形成するスペーサを備え、
上記スペーサは、下段の大面積部と上段の小面積部とからなり、上記上段の小面積部の硬度は、上記シート状基板の硬度よりも低いことを特徴とするシート状基板の搬送装置。
【請求項２】
平板ステージ上のシート状基板を吸着手段で吸着して搬送するシート状基板の搬送装置において、
上記平板ステージ上面に固着されて設けられると共に、上面全面が上記シート状基板の載置面の内側部に密着して上記シート状基板の縁部と上記平板ステージとの間に隙間を形成する板状スペーサを備え、
上記板状スペーサは、光が透過する透明度を有し、
上記平板ステージは、光が透過する透明度を有し、
上記平板ステージ下方から上記板状スペーサを介して上記シート状基板へ照射光を照射する光源と、
上記光源から照射されて上記板状スペーサを透過して上記シート状基板の欠陥部を介して上方へ漏れた光を上記シート状基板の上方で検出する画像取り込み手段と、
上記画像取り込み手段が取りこんだ画像から上記シート状基板の欠陥部の有無を検出する画像処理手段と
を備えることを特徴とするシート状基板の搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シート状基板の搬送に用いられるシート状基板の搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、平板ステージに載置されたシート状基板の搬送装置としては、図９に示すものが一般的である。図９に示すシート状基板の搬送装置は、シート状基板１０１が載置された平板ステージ１００と、上記平板ステージ１００から上記シート状基板１０１を取り出す吸着パッド１０２とを備えている。
【０００３】
平板ステージ１００からシート状基板１０１を取り出す場合には、シート状基板の搬送装置の図示しない取り出しハンドに設けられた吸着パッド１０２を上記平板ステージ１００の上方から降下させて、上記シート状基板１０１に接触させる。その後、上記シート状基板１０１を上記吸着パッド１０２に吸着させて、上記取り出しハンドを上昇させて、上記吸着パッド１０２に吸着保持された上記シート状基板１０１を上記平板ステージ１００から取り出している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の取り出し方法において、平板ステージ１００からシート状基板１０１を取り出す時のスピードを上げようとした場合、シート状基板１０１と平板ステージ１００との間に負圧部１０３が生じ、結果として、シート状基板１０１に図１０に示すような変形が生ずるという問題がある。そして、取り出し時のスピードを上げるにしたがって上記変形が大きくなり、取り出し時のスピードがある一定以上になりシート状基板１０１の上記変形がある一定以上になると、シート状基板１０１が破損してしまうという問題がある。したがって、平板ステージ１００からシート状基板１０１を取り出す際のスピードが制限され、上記シート状基板１０１を上記平板ステージ１００から効率良く取り出すことができないという問題がある。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、平板ステージからシート状基板を取り出す際のシート状基板の破損を低減でき、かつ、シート状基板の取り出しスピードを上げることができるシート状基板の搬送装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、この発明のシート状基板の搬送装置は、
平板ステージ上のシート状基板を吸着手段で吸着して搬送するシート状基板の搬送装置において、
上記平板ステージ上に設けられると共に、上記シート状基板が載置されて、この載置されたシート状基板の縁部と上記平板ステージとの間に隙間を形成するスペーサを備え、
上記スペーサは、下段の大面積部と上段の小面積部とからなり、上記上段の小面積部の硬度は、上記シート状基板の硬度よりも低いことを特徴としている。
【０００７】
この発明のシート状基板の搬送装置では、上記シート状基板が上記スペーサに載置された時、上記シート状基板の縁部と上記平板ステージとの間に隙間が生じるようになっている。したがって、上記吸着手段に吸着された上記シート状基板を、上記平板ステージから取り出す際、上記シート状基板と上記スペーサの接触面に上記隙間から空気が流入することにより、上記シート状基板と上記スペーサとの間に発生する負圧部の負圧が小さくなる。したがって、上記スピードを上昇させた時に発生する上記負圧部による上記シート状基板の破損を抑制することができ、上記シート状基板の搬送スピードを上昇させることができる。
また、本発明によれば、上記スペーサは、下段の大面積部と上段の小面積部とからなる。したがって、上記シート状基板と上記スペーサとの接触面に空気を供給する上記シート状基板の縁部と上記平板ステージとの間の隙間をいっそう大きくすることができて、空気の上記接触面への流入をいっそう促進することができる。
また、上記下段の大面積部よりも硬度が低い上記上段の小面積部にたれ等の変形が生じても、上記下段の大面積部が上記変形を起こした小面積部を支えることができて、シート状基板を安定的に支持することができる。
また、上記スペーサの変形部分は、上記下段の大面積部よりも硬度が低い上記上段の小面積部のみに略限定される。したがって、スペーサの過度の変形を回避できて、この過度の変形に起因するシート状基板の破損を防止することができる。
【０００８】
また、本発明のシート状基板の搬送装置は、平板ステージ上のシート状基板を吸着手段で吸着して搬送するシート状基板の搬送装置において、
上記平板ステージ上面に固着されて設けられると共に、上面全面が上記シート状基板の載置面の内側部に密着して上記シート状基板の縁部と上記平板ステージとの間に隙間を形成する板状スペーサを備え、
上記板状スペーサは、光が透過する透明度を有し、
上記平板ステージは、光が透過する透明度を有し、
上記平板ステージ下方から上記板状スペーサを介して上記シート状基板へ照射光を照射する光源と、
上記光源から照射されて上記板状スペーサを透過して上記シート状基板の欠陥部を介して上方へ漏れた光を上記シート状基板の上方で検出する画像取り込み手段と、
上記画像取り込み手段が取りこんだ画像から上記シート状基板の欠陥部の有無を検出する画像処理手段と
を備えることを特徴としている。
【０００９】
この発明のシート状基板の搬送装置では、上記シート状基板が上記板状スペーサに載置された時、上記シート状基板の縁部と上記平板ステージとの間に隙間が生じるようになっている。したがって、上記吸着手段に吸着された上記シート状基板を、上記平板ステージから取り出す際、上記シート状基板と上記板状スペーサの接触面に上記隙間から空気が流入することにより、上記シート状基板と上記板状スペーサとの間に発生する負圧部の負圧が小さくなる。したがって、上記スピードを上昇させた時に発生する上記負圧部による上記シート状基板の破損を抑制することができ、上記シート状基板の搬送スピードを上昇させることができる。
また、本発明によれば、上記板状スペーサは上記シート状基板と密着することができるので、上記シート状基板を安定的に支持することができる。したがって、上記シート状基板の上記板状スペーサからの落下を防止することができる。
また、本発明によれば、光は上記板状スペーサを通過することができる。
また、本発明において、上記光源から照射された照射光は、上記平坂ステージと上記スペーサを透過して上記シート状基板の下部表面に到達し、上記シート状基板に欠陥部があった場合、この欠陥部を通過して、上記画像取り込み手段に入射する。この時、上記画像取り込み手段は、上記画像取り込み手段に入射した照射光を画像として取り込む。そして、次の画像処理手段が上記画像を処理して、上記シート状基板の欠陥部の有無を検出する。したがって、上記実施形態によれば、上記のような方法で上記シート状基板の欠陥部の有無を調べることができるので、上記シート状基板に欠陥部が生じている場合には、他の処理工程で上記シート状基板を適宜処理することができて、上記シート状基板の修復をすることができる。
【００１０】
また、１実施形態のシート状基板搬送装置では、上記板状スペーサの硬度は、上記シート状基板の硬度よりも低くなっている。
【００１１】
上記実施形態によれば、上記吸着手段が上記シート状基板に接触した後、上記シート状基板が、主に吸着手段の直下の部分で上記板状スペーサの方へ押し込まれる。その際に、上記板状スペーサの硬度は上記シート状基板の硬度よりも低いので、上記板状スペーサは容易に弾性変形を起こし、この弾性変形に対応して上記シート状基板も上記吸着手段との接触部分が沈み込み、上記シート状基板は、上記接触部分から離れるにしたがって上記平板ステージから遠ざかるような変形を起こす。したがって、上記変形によって、上記シート状基板の縁部と上記平板ステージとの間の隙間がいっそう大きくなるので、上記シート状基板と上記板状スペーサとの間に生じる負圧部の発生をいっそう抑制することができる。
【００１６】
また、１実施形態のシート状基板搬送装置では、上記吸着手段は１個または複数個の吸着部分を有し、上記吸着部材の内の少なくとも１個を上記シート状基板の上記板状スペーサと重なる部分の上面に押し当てて吸着するようになっている。
【００１７】
上記実施形態によれば、上記少なくとも１個の吸着部材は、上記シート状基板の上記スペーサと重なる部分の上面に押し当てられる。したがって、上記吸着部材と上記シート状基板との接触時における、上記接触部分から離れるにしたがって上記平板ステージから遠ざかる上記シート状基板の上記変形をいっそう大きくすることができて、上記シート状基板の縁部と上記平板ステージとの間の隙間をいっそう大きくすることができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００２３】
（第１実施形態）
図１（Ａ）〜（Ｃ）は、本発明の第１実施形態のシート状基板の搬送装置におけるシート状基板の搬送過程を時系列的に示す断面図である。
【００２４】
このシート状基板の搬送装置は、平坂状の平板ステージ１と、この平板ステージ１の上面に設けられた板状スペーサ２と、吸着部材の一例としての吸着パッド４とを備えている。
【００２５】
上記板状スペーサ２は、上記平板ステージ１に両面テープや接着剤等によって固着されていて、シート状基板の一例としてのシリコンウエハ３が上部表面に載置される。
【００２６】
また、上記板状スペーサ２は、上記シリコンウエハ３の表面積よりも小さい表面積を有していて、上記シリコンウエハ３が載置された時、シリコンウエハ３の縁部に隙間５を生じさせるようになっている。
【００２７】
上記平板ステージ１は、図示しない駆動系に接続されており、所定の位置まで移動させられることによって、搭載されている上記シリコンウエハ３を上記所定の位置まで搬送する。
【００２８】
上記吸着パッド４は図示してはいないが駆動系に取りつけられると共に、真空ポンプに繋がっている。
【００２９】
上記構成において、本シート状基板の搬送装置は以下のように動作する。先ず、上記駆動系によって上方から吸着パッド４を降下させる（図１（Ａ）参照）。
【００３０】
次に、シリコンウエハ３の略中央部に吸着パッド４を接触させて、上記真空ポンプによってシリコンウエハ３を吸着パッド４に吸着させる（図１（Ｂ）参照）。
【００３１】
最後に、吸着パッド４を取り付けた駆動系を上昇させることによって、吸着パッド４に吸着保持されたシリコンウエハ３を上方に取り出して（図１（Ｃ）参照）、別の処理工程へ搬送する。
【００３２】
第１実施形態のシート状基板の搬送装置によれば、上記シリコンウエハ３が載置された時、上記シリコンウエハ３の縁部に隙間５が生じるようになっている。したがって、上記吸着パッド４に吸着保持された上記シリコンウエハ３を平板ステージ１から引き出す際、上記シリコンウエハ３と上記板状スペーサ２の接触面に上記隙間５から空気が流入することにより、上記シリコンウエハ３と上記板状スペーサ２との間で発生する負圧部の負圧が小さくなる。
【００３３】
更に、この実施形態では、従来シリコンウエハ３の下側表面の略全面であった上記負圧部の発生領域を上記下部表面よりも面積が小さい上記板状スペーサ２の上部表面に限定することができるので、負圧部の負圧がこの理由からも小さくなる。
【００３４】
したがって、上記シリコンウエハ３の破損の原因となる負圧部の負圧が小さくなるので、上記板状スペーサ２から上記シリコンウエハ３を引き上げる際のスピードを上昇させても上記シリコンウエハ３の破損が起こりにくくなる。したがって、このシート状基板搬送装置の搬送スピードを上げることができる。
【００３５】
また、第１実施形態のシート状基板の搬送装置によれば、スペーサはシリコンウエハ３に密着する板状スペーサ２であるので、上記シリコンウエハ３を安定的に支持して、シリコンウエハ３の上記板状スペーサ２からの落下を防止することができる。
【００３６】
（第２実施形態）
図２（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明の第２実施形態のシート状基板の搬送装置によるシート状基板の搬送過程を時系列的に示す断面図である。
【００３７】
第２実施形態のシート状の基板搬送装置は、シート状基板の搬送スピードを更に上昇させるために、第１実施形態のシート状基板の搬送装置を改良したものである。
【００３８】
第２実施形態のシート状基板搬送装置は、平板ステージ１と、板状スペーサ２２と、真空ポンプ（図示せず）に繋がっている吸着パッド４とを備えている。
【００３９】
尚、第２実施形態のシート状基板の搬送装置においては、第１実施形態のシート状基板の搬送装置の構成部と同一構成部には同一番号を付して説明を省略する。
【００４０】
上記板状スペーサ２２は、例えばＰＥＴ等のプラスチック材料か、ウレタンやシリコン等のゴム類材料で形成されていて、ゴム硬度を７０度に設定している。このゴム硬度７０は、ゴム硬度が測定範囲外に高い代表的な半導体ウエハであるシリコンウエハ３のゴム硬度と比較して十分低い。
【００４１】
尚、この第２実施形態においても第１実施形態と同様にシリコンウエハ３が載置された時、板状スペーサ２２はシリコンウエハ３の縁部と平板ステージ１との間に隙間２５を形成している。
【００４２】
上記構成において第２実施形態のシート状基板の搬送装置は以下のように動作する。
【００４３】
先ず、平板ステージ１の搬送動作によりシリコンウエハ３を吸着部材４と相対する位置まで搬送する。そして、上記吸着パッド４にシリコンウエハ３を吸着させるために、図示しない駆動系によって、上方から吸着パッド４を降下させる（図２（Ａ）参照）。こうして、上記シリコンウエハ３の略中央部である上記板状スペーサ２２と重なる部分の上面に吸着パッド４を接触させる（図２（Ｂ）参照）。
【００４４】
このとき、吸着パッド４はシリコンウエハ３との接触後も下降するようになっている。したがって、上記接触後における上記吸着部材４の下降により、垂直荷重がシリコンウエハ３における吸着部材４との接触部分を介して板状スペーサ２２にかかり、シリコンウエハ３よりも硬度の小さい上記板状スペーサ２２は、主に吸着部材４の直下の部分で上記平板ステージ１の方へ押し込まれて弾性変形を起こす。そのため、シリコンウエハ３の上記略中央部が沈み込み、図２（Ｃ）示すように上記接触部分から離れるにしたがって上記平板ステージから遠ざかるような変形を起こす。
【００４５】
この後、吸着パッド４が静止し、上記真空ポンプを使って吸着パッド４をシリコンウエハ３に吸着させる。そして、吸着パッド４を取り付けた駆動系を上昇させることによって、吸着パッド４に吸着保持されたシリコンウエハ３を上方に取り出し（図２（Ｄ）参照）、上方に取り出されたシリコンウエハ３を別の処理工程へ搬送する。
【００４６】
尚、図２（Ｃ）では、シリコンウエハ３および板状スペーサ２２の変形状態を明確化するためにデフォルメされており、図における変形量は実際の変形量と異なっている。
【００４７】
第２実施形態のシート状基板の搬送装置によれば、上記板状スペーサ２２の硬度を上記シリコンウエハ３の硬度よりも低くしたので、上記吸着パッド４が上記シリコンウエハ３を押し込む場合に、上記のように、上記シリコンウエハ３の上記吸着パッド４との接触部分が上記板状スペーサ２２の変形によって上記平板ステージ１の方へ沈み込み、上記シリコンウエハ３は上記接触部分から離れるにしたがって上記平板ステージ１から遠ざかるように変形することになる。したがって、上記変形によって、上記シリコンウエハ３の縁部と上記平板ステージ１との間の隙間は、上記吸着パッド４と上記シリコンウエハ３の接触前の隙間２５よりも大きな隙間２７になり、シリコンウエハ３が沈み込む変形を起こさない第１実施形態で示した隙間と比較しても大きくなるので、上記シリコンウエハ３と上記板状スペーサ２２との間に生じる負圧の大きさをいっそう小さなものにすることができる。
【００４８】
尚、上記効果は、最適には上記吸着パッド４を板状スペーサの略中央部に、すなわち、上記シリコンウエハ３の上記板状スペーサ２２と重なる部分の上面に接触させることによって得ることができる。
【００４９】
尚、第２実施形態においては、吸着パッド４を１つ設けたが、吸着パッド４を図３に示すように２つ設けても良く、この場合上記吸着パッド４による上記シリコンウエハ３の吸着力および変形をいっそう大きなものにすることができる。また、吸着力を高めるために、吸着パッド４を３個以上設けても良く、少なくとも１個の吸着パッド４を上記シリコンウエハ３の上記板状スペーサ２２と重なる部分の上面に押し当てることにより、シリコンウエハ３に上記のような充分な変化を起こすことができる。
【００５０】
また、第２実施形態においては、シリコンウエハ３の硬度よりも低くなるように上記板状スペーサ２２の硬度をゴム硬度７０に設定したが、ゴム硬度７０に限定されるものではない。要は、上記板状スペーサ２２の硬度をシート状基板の硬度よりも低い硬度に設定すればよいのである。
【００５１】
（第３実施形態）
図４（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明の第３実施形態のシート状基板の搬送装置によるシート状基板の搬送過程を時系列的に示す断面図である。
【００５２】
図４のシート状基板の搬送装置は、平板ステージ１と、下段の大面積部の一例である第1板状スペーサ４０と、上段の小面積部の一例である第２板状スペーサ４１と、図示しない真空ポンプに繋がる吸着パッド４とを備えている。
【００５３】
尚、第３実施形態のシート状基板の搬送装置においても、第１実施形態のシート状基板の搬送装置の構成部と同一構成部には同一番号を付して説明を省略する。
【００５４】
上記第１板状スペーサ４０は、平坂ステージ１の上部表面に両面テープ、接着材等により固着されている。
【００５５】
上記第２スペーサ４１は、粘着材等により第1の板状スペーサ４０に貼り付けられて、上記第1板状スペーサ４０からの引き剥がしが容易な構造となっている。
【００５６】
上記第1板状スペーサ４０と上記第２板状スペーサ４１は、ＰＥＴ等のプラスチックか、ウレタンやシリコン等のゴム材料で形成されていて、第２板状スペーサ４１はシート状基板３に比較して硬度が小さく設定されている。詳しくは、第２板状スペーサ４１のゴム硬度は７０度に設定され、シリコンウエハ３の測定範囲外に高いゴム硬度よりも小さく設定されている。
【００５７】
尚、上記第２スペーサ上にシリコンウエハ３を載置した時、上記シリコンウエハ３の縁部と上記第１板状スペーサ４０の間には上記第２板状スペーサ４１のみを介した隙間４７が生じ、上記シリコンウエハ３の縁部と上記平板ステージ１の間には上記第１および第２板状スペーサ４０,４１を介した隙間４８が生じるようになっている。
【００５８】
上記構成において第３実施形態のシート状基板の搬送装置は以下のように動作する。
【００５９】
先ず、平板ステージ１の搬送動作によりシリコンウエハ３を吸着部材４と相対する位置まで搬送する。そして、上記吸着パッド４にシリコンウエハ３を吸着させるために、図示しない駆動系によって上方から吸着パッド４を降下させる（図４（Ａ）参照）。
【００６０】
こうして、上記シリコンウエハ３の略中央部である上記第２板状スペーサ４１と重なる部分の上面に吸着パッド４を接触させる（図４（Ｂ）参照）。このとき、吸着パッド４はシリコンウエハ３との接触後も下降するようになっている。したがって、上記接触後における上記吸着部材４の下降により、上記吸着部材４による垂直荷重がシリコンウエハ３における吸着部材４との接触部分にかかり、硬度が小さい上記第２板状スペーサ４１は、主に吸着パッド４の直下の部分で上記第１板状スペーサ４０の方へ押し込まれて弾性変形を起こす。そのため、シリコンウエハ３の上記略中央部が沈み込み、図４（Ｃ）示すように上記接触部分から離れるにしたがって上記平板ステージから遠ざかるような変形を起こす。
【００６１】
この後、吸着パッド４が静止し、上記真空ポンプを使って吸着パッド４をシリコンウエハ３に吸着させる。そして、吸着パッド４を取り付けた駆動系を上昇させることによって、吸着パッド４に吸着保持されたシリコンウエハ３を上方に取り出し（図４（Ｄ）参照）、上方に取り出されたシリコンウエハ３を別の処理工程へ搬送する。
【００６２】
尚、図４（Ｃ）では、シリコンウエハ３および第２板状スペーサ４１の変形状態を明確化するためにデフォルメされており、図における変形量は実際の変形量と異なっている。
【００６３】
第３実施形態のシート状基板の搬送装置によれば、スペーサ部分は、大面積を有する板状スペーサ４０と小面積を有する板状スペーサ４１とからなる。したがって、上記シリコンウエハ３と上記第２スペーサ４１との接触面に空気を供給する上記隙間４７,４８の全容積を第１および第２実施形態の隙間の容積よりも大きくすることができて、空気の上記接触面への流入を更に促進することができる。したがって、負圧部の負圧をさらに小さくすることができる。
【００６４】
また、上記第１板状スペーサ４０よりも硬度が低くシリコンウエハ３と直接接触する上記第２板状スペーサ４１にたれ等の変形が生じても、大面積を有する板状スペーサ４０が上記変形を起こした小面積を有する第２板状スペーサ４１を支えることができて、シリコンウエハ３を安定的に支持することができる。
【００６５】
また、上記スペーサ部分の変形が、硬度が低い小面積を有する第２板状スペーサ４１のみに略限定されるので、スペーサ部分全体の過度の変形を回避できて、この過度の変形に起因するシリコンウエハ３の破損を防止することができる。
【００６６】
また、第３実施形態では、第２板状スペーサ４１は第1板状スペーサ４０から容易に剥がす事が可能となっているので、第２板状スペーサ４１に汚れや破損が発生しても第２板状スペーサ４１を容易に交換することができる。
【００６７】
尚、第３実施形態においても第２実施形態と同様に吸着パッド４を２つ設けても良く（図５参照）、上記吸着パッド４を３個以上設けても良い。この場合、第２実施形態と同様に上記吸着パッド４による上記シリコンウエハ３の吸着力および変形をいっそう大きなものにすることができる。そして、少なくとも１個の吸着パッド４を上記シリコンウエハ３の上記第２板状スペーサ４１と重なる部分の上面に押し当てることにより、シリコンウエハ３に上記のような充分な変化を起こすことができる。
【００６８】
また、第３の実施形態においては、上記第２板状スペーサ４１のゴム硬度を７０に設定したが、上記ゴム硬度は７０に限定されるものではない。要は、上記第２板状スペーサ４１の硬度をシート状基板の硬度よりも低い硬度に設定すればよいのである。
【００６９】
（第４実施形態）
本実施形態はシート状基板の欠陥部を検査する欠陥検査部を有するシート状基板の搬送装置に関する。
【００７０】
本第４実施形態では、主に上記欠陥検査部の説明を行い、次に全体の説明を行うことにする。
【００７１】
図６および図７は、上記欠陥検査部を示す図である。
【００７２】
図６および図７に示すように、第４実施形態のシート状基板の搬送装置は、画像取り込み手段の一例であるカメラ６４と、光源の一例である蛍光灯６３と、画像処理手段である画像処理部４２を備えている。上記カメラ６４と上記蛍光灯とは、平板ステージ６１とスペーサ６２とを挟んで対向するように配置されている。
【００７３】
図６および図７においては第１実施形態のシート状基板の搬送装置の構成部と同一構成部には同一番号を付して説明を省略する。
【００７４】
上記平板ステージ６１とスペーサ６２の夫々は透明に形成されており、この点のみが第１実施形態の平板ステージ１やスペーサ２と異なっている。
【００７５】
上記板状スペーサ６２は透明な両面テープや透明な接着材等により平板ステージ６１に固着されている。この実施形態のスペーサ６２にはシリコンウエハ３が載置され、このシリコンウエハ３の縁部と上記平板ステージ６１との間には隙間５が生じている。
【００７６】
また、上記蛍光灯６３は、上記平板ステージ６１と上記板状スペーサ６２とを介し上記シリコンウエハ３に光を照射するように、上記平板ステージ６２の下方に設置されている。
【００７７】
また、上記カメラ６４は、上記シリコンウエハ３の欠陥部から漏れた光を画像として取り込むことができるように、上記シリコンウエハ３の上方に設けられている。
【００７８】
上記構成において、シート状基板３の割れ部や欠け部である欠陥部の検査方法を図７を用いて説明する。
【００７９】
図７に示すように、上記画像処理部４２はマスク処理部４３、２値化処理部４４および判定部４５で構成されている。尚、図７では図６に示された平板ステージ６１と板状スペーサ６２は省略されている。
【００８０】
シリコンウエハ３の欠陥部４１は以下のように検出される。
【００８１】
先ず、上記蛍光灯６３から上記平板ステージ６１の方へ光を照射する。そして、上記平板ステージ６１とスペーサ６２とを介して上記光をシリコンウエハ３に到達させ、シート状基板３の欠陥部４１を通じてシリコンウエハ３から漏れた光を上記カメラ６４で画像として取り込む。
【００８２】
上記カメラ６４で取り込まれた画像は、上記画像処理部４２における上記マスク処理部４３に送られ、上記マスク処理部４３でマスク処理される。すなわち、上記画像が濃淡画像に変換され、上記欠陥部４１を含む部分が切りだされる。
【００８３】
次の２値化処理部４４では、上記マスク処理部４３でマスク処理された上記濃淡画像の上記部分にある画素が各画素ごとに閾値と比較され２値化される。上記２値化処理部４４は、上記濃淡画像を２値画像に変換する。
【００８４】
最後に、判定部４５では、上記２値画像から閾値以上の値を有する画素の画素数を検出して欠陥部４１を検出する。判定部４５によって欠陥部４１が発見されると、シリコンウエハ３は次の工程で適宜処理され、上記欠陥部４１の修復が行われる。
【００８５】
尚、この実施形態では上記閾値として、漏れ光の輝度と漏れ光が無い時の輝度の平均値の輝度に基づく濃淡値が採用されている。
【００８６】
最後に、第４実施形態の概要を把握するために、第４実施形態のシート状基板の搬送装置における動作全般のおおまかな流れを図８を用いて説明することにする。
【００８７】
強化ガラスでできた透明な平板ステージ６１はベルトコンベア３１で図の左側から右側の方へステップ状に搬送される。上記べルトコンベア３１は２本のベルト３１ａで構成され、上記２本のベルト３１ａの間には光が通過する隙間３１ｂが存在している。上記平板ステージ６１には板状スペーサ６２（図６参照）が設けてあり、この板状スペーサ６２の上にシリコンウエハ３が載置されている。上記シリコンウエハ３の縁部と上記平板ステージの６１間には上記板状スペーサ６２の存在によって図示しない隙間が形成されている。上記べルトコンベア３１の移動によってシリコンウエハ３が図中矢印３２に示す位置に到着すると、シリコンウエハ３の欠陥部の有無の検査が下方の蛍光灯６３から照射される照射光を用いて行われる。そしてシリコンウエハ３の上記欠陥部４１（図７参照）を介した光は画像として上方のカメラ６４に取り込まれ、上記画像処理部４２（図７参照）によって上記欠陥部４１が検出される。この後、シリコンウエハ３はベルトコンベア３１の移動によって図中矢印３５に示す位置に到着する。シリコンウエハ３は上方にある搬送系３７に接続された吸着部材３６に吸着保持される。上記第１実施形態で説明したように、上記板状スペーサ６２の存在による隙間のおかげで、シリコンウエハ３は平板ステージ６１から高速で取リ出されて、結果的にシリコンウエハ３の搬送は高速で行われる。取り出されたシリコンウエハ３は搬送系３７により次の工程の装置３８内へ搬送される。
【００８８】
尚、第４実施形態に設けられたスペーサの特性は透明にしたこと以外第１実施形態のスペーサと同じ特性を有していたが、第２実施形態や第３実施形態におけるスペーサや平板ステージを透明にして、欠陥検査部を付け加えてもよい。
【００８９】
また、第４実施形態によれば、蛍光灯６３を平板ステージ６１の下方に設け、カメラ６４をシリコンウエハ３の上部に設けたが、配置を逆にして、カメラを平板ステージの下方に設け、蛍光灯をシリコンウエハの上部に設けることもできる。
【００９０】
また、第４実施形態によれば、光源として蛍光灯６３を用いたが、これに限らずＬＥＤ（発光ダイオード）等を用いることもできる。
【００９１】
尚、第１,第２,第３および第４実施形態ではシリコンウエハ３をの搬送する場合を例に説明したが、この発明はこれに限らずガリウム・ヒ素ウエハや太陽電池ウエハ等を搬送する場合にも用いることができる。この発明のシート状基板の搬送措置は、スペーサに載置可能なシート状の基板であれば、どのような基板の搬送にも用いることができる。
【００９２】
【発明の効果】
以上より明らかなように、この発明のシート状基板の搬送装置は、シート状基板が載置された時、上記シート状基板の縁部と平板ステージとの間に隙間を形成するスペーサを備えている。したがって、上記シート状基板を、上記平板ステージから取り出す際、上記隙間から上記シート状基板と上記スペーサとの接触面へ空気が流入する。したがって、上記シート状基板と上記スペーサとの上記接触面に発生し、上記シート状基板の破損の原因となる負圧部の負圧を上記シート状基板の取り出し時においても小さくすることができるので、上記シート状基板の取り出しスピードを上昇させて、上記シート状基板の搬送スピードを上げることができる。
【００９３】
また、板状スペーサは上記シート状基板と密着するので、上記シート状基板を安定的に支持することができて、上記シート状基板の上記板状スペーサからの落下を防止することができる。
【００９４】
また、１実施形態によれば、上記吸着手段が上記シート状基板に接触した後、上記シート状基板が、主に吸着手段の直下の部分で上記板状スペーサの方へ押し込まれる。その後に、板状スペーサの硬度はシート状基板の硬度よりも低いので、上記板状スペーサは容易に弾性変形を起こし、上記弾性変形に対応して上記シート状基板も上記吸着手段との接触部分が沈み込み、上記接触部分から離れるにしたがって上記平板ステージから遠ざかるような変形を起こす。したがって、上記変形によって、上記シート状基板の縁部と上記平板ステージとの間の隙間がいっそう大きくなるので、上記シート状基板と上記板状スペーサとの間に生じる負圧部の負圧の大きさをいっそう小さくすることができる。
【００９５】
また、本発明によれば、スペーサは、下段の大面積部と上段の小面積部とからなる。したがって、シート状基板とスペーサとの接触面に空気を供給するシート状基板の縁部と平板ステージとの間の隙間をいっそう大きくすることができて、空気の上記接触面への流入をいっそう促進することができる。
【００９６】
また、上記下段の大面積部よりも硬度が低い上記上段の小面積部にたれ等の変形が生じても、上記下段の大面積部が上記変形を起こした小面積部を支えることができて、シート状基板を安定的に支持することができる。
【００９７】
また、上記スペーサの変形は、略上記上段の小面積部のみに限定される。したがって、スペーサの過度の変形を回避できて、この過度の変形に起因するシート状基板の破損を防止することができる。
【００９８】
また、１実施形態によれば、上記少なくとも１個の吸着部材は、上記シート状基板の上記スペーサと重なる部分の上面に押し当てられる。したがって、吸着部材とシート状基板との接触時における、シート状基板における吸着部材との接触部分の沈み込みを大きくすることができる。したがって、上記接触時における上記シート状基板の変形をいっそう大きくして、平板ステージと上記シート状基板の縁部との間の隙間を上記変形に対応していっそう大きくすることができる。
【００９９】
また、本発明によれば、光は上記板状スペーサを通過することができる。
【０１００】
また、本発明によれば、上記シート状基板へ照射光を照射する光源と、上記シート状基板から漏れた光を上記シート状基板の上方で検出する画像取り込み手段と、上記画像取り込み手段が取りこんだ画像から上記シート状基板の欠陥部の有無を検出する画像処理手段とを備え、平板ステージと板状スペーサは光を透過する透明度を有している。したがって、上記光源から照射された照射光を上記シート状基板の欠陥部を介して、上記画像取り込み手段で画像として取り込むことができ、またこの画像を次の画像処理手段で処理して、上記シート状基板の欠陥部の有無を検出することができる。したがって、上記シート状基板に欠陥部が生じている場合には、他の処理工程で上記シート状基板を適宜処理することができて、上記シート状基板の修復をすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１（Ａ）〜（Ｃ）は本発明の第１実施形態のシート状基板の搬送装置のシート状基板の取りだし工程を順に示す図である。
【図２】  図２（Ａ）〜（Ｄ）は本発明の第２実施形態のシート状基板の搬送装置のシート状基板の取りだし工程を順に示す図である。
【図３】  吸着パッドを２つ設けた第２実施形態のシート状基板の搬送装置を示す図である。
【図４】  図４（Ａ）〜（Ｄ）は本発明の第３実施形態のシート状基板の搬送装置のシート状基板の取りだし工程を順に示す図である。
【図５】  吸着パッドを２つ設けた第３実施形態のシート状基板の搬送装置を示す図である。
【図６】  第４実施形態のシート状基板の搬送装置の画像取り込み部周辺を示す図である。
【図７】  第４実施形態のシート状基板の搬送装置の画像取り込み部と画像処理部を示す図である。
【図８】  第４実施形態のシート状基板の搬送装置全般を示す概略図である。
【図９】  従来のシート状基板の搬送装置を示す図である。
【図１０】  従来のシート状基板の搬送装置においてシート状基板取り出し時に発生する負圧部を示す図である。
【符号の説明】
１,６１  平板ステージ
２,２２,４０,４１,６２  板状スペーサ
３  シリコンウエハ
４  吸着パッド
５,２５,２７,４７,４８  隙間
３１  ベルトコンベア
３１ａ  ベルト
３１ｂ  ベルトの隙間
３６  吸着部材
３７  搬送系
４１  欠陥部
４２  画像処理部
４３  マスク処理部
４４  ２値化処理部
４５  判定部
６３  蛍光灯
６４  カメラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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