(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体上に電荷発生物質、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を含有する感光層を設けた電子写真感光体において、感光層がバインダー樹脂として、アリル基含有ポリカーボネートの存在下にラジカル重合性モノマーを重合させて得られるポリカーボネート系グラフト共重合体を用いることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
アリル基含有ポリカーボネートが、アリル基を有する二価フェノール又はアリル基を有する二価フェノール及びアリル基を持たない二価フェノールに、炭酸エステル形成性化合物を反応させることにより得られるものである請求項１記載の電子写真感光体。
【請求項３】
アリル基を有する二価フェノールが下記一般式
【化１】
0003730634.tif 000090
（式中、Ｗ1は単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＲ50Ｒ51−（Ｒ50及びＲ51は各々独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基又は炭素数２〜１２のα，ω−アルキレン基である。）で表されるものであり、アリル基を持たない二価フェノールが下記一般式
【化２】
0003730634.tif 000091
（式中、Ｒ52及びＲ53は各々独立にハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表し、Ｗ2は単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＲ54Ｒ55−（Ｒ54及びＲ55は各々独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基又は炭素数２〜１２のα，ω−アルキレン基を表し、Ａ及びＢは各々独立に０〜４の整数を表す。）で表されるものである請求項２記載の電子写真感光体。
【請求項４】
ラジカル重合性モノマーがスチレン類、アクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体、ビニルエステル類、ビニルエーテル類、ビニルナフタレン類、ビニルケトン類及びＮ−ビニル化合物からなる群から選ばれるものである請求項２記載の電子写真感光体。
【請求項５】
アリル基を含有する二価フェノールが２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンであり、アリル基を持たない二価フェノールが２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンであり、ラジカル重合性モノマーがメタクリル酸メチル、スチレン又は２，２，２−テトラフロロエチルメタクリレートである請求項２記載の電子写真感光体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、電子写真感光体に関し、より詳しくは、長時間にわたる繰り返し使用に対して優れた機械的強度及び電子写真特性を維持し、種々の電子写真分野に好適に利用できる電子写真感光体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
最近の電子写真分野においては、積層型の電子写真感光体、即ち、感光層が、露光により電荷を発生させる電荷発生層（ＣＧＬ）と電荷を輸送する電荷輸送層（ＣＴＬ）との少なくとも２層を有する積層型の有機電子写真感光体（ＯＰＣ）や、感光層が電荷発生物質及び電荷輸送物質をバインダー樹脂に分散させた単一層からなる単層型の電子写真感光体が提案され利用されている。
【０００３】
一方、電子写真感光体には、適応される電子写真プロセスに応じた所定の感度、電気特性、光学特性を備えていることが要求される。特に、繰り返し使用される感光体には、その感光体の表面層、即ち基体（通常は導電性基板）より最も離れて位置する層には、コロナ帯電、トナー現像、紙への転写、クリーニング処理等の際に、電気的、機械的外力が直接に加えられるため、それらに対する耐久性が要求される。具体的には、摩擦による表面の摩耗や傷の発生、高温下においてのコロナ帯電時に発生するオゾンによる表面の劣化などに対する耐久性が要求される。そこで、このような要求に対応するために、上記積層型の電子写真感光体の電荷輸送層や単層型電子写真感光体の感光層のバインダー樹脂としては、電荷輸送物質との相溶性がよく、しかも機械強度が高いビスフェノールＡあるいはビスフェノールＺを原料とするポリカーボネート樹脂が広く利用されてきた。しかしながら、このビスフェノールＡやビスフェノールＺを原料とするポリカーボネート樹脂をもってしても上記要求を満足させるには不十分である。
【０００４】
すなわち、ビスフェノールＡやビスフェノールＺを原料とするポリカーボネート樹脂は、溶媒に溶解させて感光層を形成するための塗工液を調製する際に、塗工液が白化又はゲル化し、塗工、乾燥後の感光層が結晶化を起こすことがある。この結晶化を起こした部分では、光減衰がなく、電荷は残留電位となって残り、画質上ディフェクトとなって出現する。
【０００５】
また、ビスフェノールＡやビスフェノールＺを原料とするポリカーボネート樹脂を用いた感光体はその表面硬度不足から、摩耗や傷の発生が起こり耐久性に劣る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記事情に基づいてなされたものであり、バインダー樹脂としてビスフェノールＡやビスフェノールＺを原料とするポリカーボネートを用いた電子写真感光体に認められる上記の問題点を解決し、電荷輸送物質との相溶性が良い上に、溶媒に溶解しても白化又はゲル化を起こさず、かつ、高い表面硬度及び耐摩耗性を有するポリカーボネートを用いて作製される長期間に亘って優れた電子写真特性を維持する電子写真感光体を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、前記問題点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、アリル基含有ポリカーボネート又は無水マレイン酸変性ポリカーボネートを幹ポリマーとして合成されるポリカーボネート系グラフト共重合体をバインダー樹脂として用いた場合、感光体の作製時に塗工液が白化又はゲル化したりすることがなく、しかも長期使用期間に亘って優れた電子写真特性及び耐久性を維持することを見出し、これら知見に基づき、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明は、導電性基体上に電荷発生物質、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を含有する感光層を設けた電子写真感光体において、感光層がバインダー樹脂として、アリル基含有ポリカーボネートの存在下にラジカル重合性モノマーを重合させて得られるポリカーボネート系グラフト共重合体を用いることを特徴とする電子写真感光体を提供するものである。
【０００９】
［１］ポリカーボネート系グラフト共重合体
本発明の電子写真感光体においてバインダー樹脂として用いられるポリカーボネート系グラフト共重合体は、通常、塩化メチレンを溶媒とする０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０℃における還元粘度が０．１〜２０ｄｌ／ｇであることが好ましい。この還元粘度が０．１ｄｌ／ｇ未満であると、表面硬度不足のため、電子写真感光体表面が摩耗しやすくなり、一方、この還元粘度が２０ｄｌ／ｇを超えると、ポリカーボネート系グラフト共重合体の溶液粘度が上昇し、塗工液の塗布による感光体の製造が困難になったりすることがある。更に好ましくは、０．２〜５ｄｌ／ｇである。
【００１０】
このポリカーボネート系グラフト共重合体は、アリル基含有ポリカーボネート又は無水マレイン酸変性ポリカーボネートを幹ポリマーとして合成されるものである。以下に、その合成法について説明する。
【００１１】
［１−１］  アリル基含有ポリカーボネートの合成
ポリカーボネート系グラフト共重合体合成の際に幹ポリマーとして用いられるアリル基含有ポリカーボネートの重合度としては、通常、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度が０．１〜２０ｄｌ／ｇであることが好ましい。この還元粘度が０．１ｄｌ／ｇ未満であると、ポリカーボネート系グラフト共重合体の機械的強度、表面強度が不十分なものとなることがあり、一方、この還元粘度が２０ｄｌ／ｇを超えると、アリル基含有ポリカーボネートやポリカーボネート系グラフト共重合体の溶液粘度が上昇し、それらの製造自体が困難になったり、又はポリカーボネート系グラフト共重合体の塗工液の塗布による感光体の製造が困難になったりすることがある。更に好ましくは、０．２〜５ｄｌ／ｇである。
【００１２】
上記アリル基含有ポリカーボネートとしては、直鎖状、環状のいずれであってもよく、さらに、合成時に末端停止剤や分岐剤等を用いることにより、ポリマー末端に特殊な末端構造や特殊な分岐構造が導入されているものであってもよい。
【００１３】
上記アリル基含有ポリカーボネートは、例えば、アリル基を有する二価フェノール又はアリル基を有する二価フェノール及びアリル基を持たない二価フェノールに、炭酸エステル形成性化合物を反応させることにより合成することができる。合成方式としては例えば、炭酸エステル形成性化合物としてホスゲン等を用い、適当な酸結合剤の存在下に上記二価フェノール類と重縮合させるか、あるいは炭酸エステル形成性化合物としてビスアリールカーボネートを用い、エステル交換反応を行う方式が挙げられる。
【００１４】
アリル基を有する二価フェノールとしては、例えば、下記一般式（Ｉ）
【００１５】
【化３】
0003730634.tif 000002
【００１６】
（式中、Ｗ1は単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＲ50Ｒ51−（Ｒ50及びＲ51は各々独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基又は炭素数２〜１２のα，ω−アルキレン基である。）
で表されるものが挙げられる。
【００１７】
一般式（Ｉ）で表されるアリル基を有する二価フェノールの具体例としては、例えば、３，３′−ジアリル−４，４′−ジヒドロキシビフェニル、ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）オクタン、４，４−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、３，３′−ジアリル−４，４′−ジヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００１８】
中でも好適に用いられるアリル基を含有する二価フェノールは、上記のアリル基を含有する二価フェノール（Ｉ）のうち、Ｗ1が単結合、メチレン基、ジメチルメチレン基又はシクロヘキシリデン基であるものであり、例えば、３，３′−ジアリル−４，４′−ジヒドロキシビフェニル、ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンが挙げられる。特に２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンが好適に用いられる。
【００１９】
これらのアリル基を有する二価フェノールは、１種単独に用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２０】
上記のアリル基含有ポリカーボネートの合成に際しては、二価フェノール類として上記のアリル基を有する二価フェノールのみを用いてもよいが、アリル基を持たない他の二価フェノールを共重合二価フェノールとして用いてもよい。そのような他の二価フェノールとしては特に制限はないが、通常は、下記一般式（ＩＩ）
【００２１】
【化４】
0003730634.tif 000003
【００２２】
（式中、Ｒ52及びＲ53は各々独立にハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表し、Ｗ2は単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＲ54Ｒ55−（Ｒ54及びＲ55は各々独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１の１，１−シクロアルキリデン基又は炭素数２〜１２のα，ω−アルキレン基を表し、Ａ及びＢは各々独立に０〜４の整数を表す。）
で表されるものが好適に用いられる。
【００２３】
一般式（ＩＩ）で表される二価フェノール（ＩＩ）の具体例としては、例えば、４，４′−ジヒドロキシビフェニル、３，３′−ジフルオロ−４，４′−ジヒドロキシビフェニル、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジメチルビフェニル、４，４′−ジヒドロキシ−２，２′−ジメチルビフェニル、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジシクロヘキシルビフェニル等の４，４′−ジヒドロキシビフェニル類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：テトラフルオロビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：テトラクロロビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：テトラブロモビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等のビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカン類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル等のビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド等のビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン等のビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン類；４，４′−ジヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００２４】
中でも好適に用いられるアリル基を持たない二価フェノールは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）プロパン、４，４′−ジヒドロキシビフェニル及びビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンであり、特に２，２ービス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンが好適に用いられる。
【００２５】
これらのアリル基を持たない二価フェノール類は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２６】
上記の一般式（Ｉ）で表されるアリル基を有する二価フェノール（Ｉ）とアリル基を持たない二価フェノールとを併用する場合、アリル基を有する二価フェノール（Ｉ）を、アリル基を有する二価フェノール（Ｉ）とアリル基を持たない二価フェノールとの合計モルに対し、通常、１〜５０モル％、好ましくは１〜３０モル％使用することが好ましい。アリル基を有する二価フェノール（Ｉ）の量が１モル％未満であると、ポリカーボネート系グラフト共重合体合成の際の枝ポリマーの導入が不十分となり、本発明の効果が得られず、耐刷寿命の向上の達成が不可能となることがある。一方、アリル基を有する二価フェノール（Ｉ）の割合が５０モル％を超えると、ポリカーボネート系グラフト共重合体の塗工液調製時の溶剤に対する溶解性や溶液の安定性が低下することがある。
【００２７】
また、原料としての上記アリル基を有する二価フェノール及びアリル基を持たない二価フェノール以外にも、必要に応じ、分岐剤、末端停止剤を用いてもよい。
【００２８】
分岐剤としては、３価以上のフェノール又はカルボン酸を用いることができる。
【００２９】
分岐剤の例としては、フロログリシン、ピロガロール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−２−ヘプテン、２，４−ジメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、２，６−ジメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−３−ヘプテン、１，３，５−トリス（２−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル）プロパン、２，４−ビス｛２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル｝フェノール、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、テトラキス（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノキシ）メタン、１，４−ビス（４′、４″−ジヒドロキシトリフェニルメチル）ベンゼン、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、シアヌル酸、３，３−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドール、３，３−ビス（４−ヒドロキシアリール）オキシインドール、５−クロロイサチン、５，７−ジクロロイサチン、５−ブロモイサチン等が挙げられる。
【００３０】
この中で好ましく用いられるのは、フロログリシン、１，３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン等である。
【００３１】
末端停止剤としては、一価のカルボン酸及びその誘導体、一価のフェノールを用いることができる。
【００３２】
具体的な例としては、フェノール、α−ナフトール、β−ナフトール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、ｐ−エチルフェノール，ｐ−プロピルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、ｐ−ぺンチルフェノール、ｐ−ヘキシルフェノール、ｐ−ヘプチルフェノール、ｐ−オクチルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、ｐ−デシルフェノール、ｐ−ウンデシルフェノール、ｐ−ドデシルフェノール、ｐ−イソプロピルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジメチル−ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ペンチル−４−メチルフェノール、３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、４−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−フェニルフェノール、２，６−ジ−ｓｅｃ−ブチル−４−メチルフェノール、ｏ−アニソール、ｍ−アニソール、ｐ−アニソール、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クロロフェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−ブロモフェノール、ｍ−ブロモフェノール、ｐ−ブロモフェノール、ｐ−エトキシフェノール、ｏ−アミノフェノール、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、ｐ−シアノフェノール、ｐ−ニトロフェノール、３−メチル−６−イソプロピルフェノール、２−メチル−５−イソプロピルフェノール、パーフルオロブタン酸、パーフルオロぺンタン酸、パーフルオロヘキサン酸、パーフルオロヘプタン酸、パーフルオロオクタン酸、パーフルオロノナン酸、パーフルオロデカン酸、パーフルオロウンデカン酸、パーフルオロドデカン酸、パーフルオロトリデカン酸、パーフルオロテトラデカン酸、パーフルオロぺンタデカン酸、パーフルオロヘキサデカン酸、パーフルオロオクタデカン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオぺンタン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロヘキサン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロヘプタン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクタン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロノナン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデカン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロウンデカン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロドデカン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロトリデカン酸、２Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロヘキサン酸、２Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロヘプタン酸、２Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロオクタン酸、２Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロノナン酸、２Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロデカン酸、２Ｈ，２Ｈ，５Ｈ−パーフルオペンタン酸、２Ｈ，２Ｈ，６Ｈ−パーフルオロヘキサン酸、２Ｈ，２Ｈ，７Ｈ−パーフルオロヘプタン酸、２Ｈ，２Ｈ，８Ｈ−パーフルオロオクタン酸、２Ｈ，２Ｈ，９Ｈ−パーフルオロノナン酸、２Ｈ，２Ｈ，１０Ｈ−パーフルオロデカン酸、２Ｈ，２Ｈ，１１Ｈ−パーフルオロウンデカン酸、２Ｈ，２Ｈ，１２Ｈ−パーフルオロドデカン酸、２Ｈ，２Ｈ，１３Ｈ−パーフルオロウン��カン酸、又はこれらの酸ハロゲン化物、ｐ−（パーフルオロペンチル）フェノール、ｐ−（パーフルオロヘキシル）フェノール、ｐ−（パーフルオロヘプチル）フェノール、ｐ−（パーフルオロオクチル）フェノール、ｐ−（パーフルオロノニル）フェノール、ｐ−（パーフルオロデシル）フェノール、ｐ−（パーフルオロウンデシル）フェノール、ｐ−（パーフルオロドデシル）フェノール、ｐ−（パーフルオロトリデシル）フェノール、ｐ−（パーフルオロテトラデシル）フェノール、ｐ−（パーフルオロペンタデシル）フェノール、ｐ−（パーフルオロブチルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロペンチルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロヘキシルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロヘプチルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロオクチルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロノニルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロデシルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロウンデシルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロドデシルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロトリデシルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロテトラデシルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロペンタデシルオキシ）フェノール、４−パーフルオロオクチル−２，３，５，６−テトラフルオロフェノール、４−パーフルオロノニル−２，３，５，６−テトラフルオロフェノール、４−パーフルオロデシル−２，３，５，６−テトラフルオロフェノール、４−パーフルオロウンデシル−２，３，５，６−テトラフルオロフェノール、４−パーフルオロドデシル−２，３，５，６−テトラフルオロフェノール、４−パーフルオロトリデシル−２，３，５，６−テトラフルオロフェノール、４−パーフルオロテトラデシル−２，３，５，６−テトラフルオロフェノール、４−パーフルオロペンタデシル−２，３，５，６−テトラフルオロフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−パーフルオロブチルフェノール、３−メチル−４−パーフルオロノニルフェノール、ｐ−（２−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロオクチルオキシ）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル）フェノール、ｐ−（２−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロノニルオキシ）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル）フェノール、ｐ−（２−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロデシルオキシ）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル）フェノール、ｐ−（２−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロウンデシルオキシ）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル）フェノール、ｐ−（２−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロドデシルオキシ）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル）フェノール、３，５−ビス（パーフルオロヘキシルオキシカルボニル）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロペンチルオキシ）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロヘキシルオキシ）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロヘプチルオキシ）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロオクチルオキシ）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロノニルオキシ）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロデシルオキシ）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロウンデシ��オキシ）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロドデシルオキシ）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロトリデシルオキシ）フェノール、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロペンチル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロヘキシル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロヘプチル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロオクチル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロノニル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロデシル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロウンデシル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロドデシル、（ｐ−ヒドロキシベンジル）パーフルオロヘキサン、（ｐ−ヒドロキシベンジル）パーフルオロヘプタン、（ｐ−ヒドロキシベンジル）パーフルオロオクタン、（ｐ−ヒドロキシベンジル）パーフルオロノナン、（ｐ−ヒドロキシベンジル）パーフルオロデカン、（ｐ−ヒドロキシベンジル）パーフルオロウンデカン、（ｐ−ヒドロキシベンジル）パーフルオロドデカン等が挙げられる。
【００３３】
この中で好ましく用いられるのは、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、ｐ−フェニルフェノール、ｐ−（パーフロオロノニルフェニル）フェノール、ｐ−（パーフルオロキシルフェニル）フェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−パーフルオロブチルフェノール、１−（ｐ−ヒドロキシベンジル）パーフルオロデカン、ｐ−（２−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロトリデシルオキシ）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロピル）フェノール、３，５−ビス（パーフルオロヘキシルオキシカルボニル）フェノール、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロドデシル、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロオクチルオキシ）フェノール、２Ｈ，２Ｈ，９Ｈ−パーフルオロノナン酸等が挙げられる。
【００３４】
末端停止剤及び分岐剤は、上記の二価フェノールに共存させて使用するがその方法としては、アリル基を有する二価フェノール及びアリル基を持たない二価フェノールと最初から共存させて反応を行い高分子量化する方法、アリル基を有する二価フェノール又はアリル基を持たない二価フェノールからなるオリゴマーを作った後、高分子量化する際に両方とも共存させ高分子量化する方法、アリル基を有する二価フェノール又はアリル基を持たない二価フェノールからなるオリゴマーを作った後、先にオリゴマーに末端停止剤を共存させてオリゴマーと反応させ、次に分岐剤を共存させ高分子量化する方法、アリル基を有する二価フェノール又はアリル基を持たない二価フェノールからなるオリゴマーを作った後、先にオリゴマーに分岐剤を共存させてオリゴマーと反応させ、次に末端停止剤を共存させ高分子量化する方法等、各種の方法を採用することができる。
【００３５】
炭酸エステル形成性化合物として前記ホスゲンをはじめとする各種のジハロゲン化カルボニル、クロロホルメート等のハロホルメート類、炭酸エステル化合物などを用い、酸結合剤の存在下に重縮合を行う反応は、通常、溶媒中で行われる。ホスゲン等のガス状の炭酸エステル形成性化合物を使用する場合、これを反応系に吹き込む方法が好適に採用できる。
【００３６】
炭酸エステル形成性化合物の使用割合は、反応の化学量論比（当量）を考慮して適宜調整すればよい。
【００３７】
前記酸結合剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、ピリジン等の有機塩基或いはこれらの混合物などが用いられる。
【００３８】
酸結合剤の使用割合も、反応の化学量論比（当量）を考慮して適宜定めればよい。具体的には、使用するアリル基を有する二価フェノールとアリル基を持たない二価フェノールの合計モル数（通常１モルは２当量に相当）に対して２当量若しくはこれより過剰量、好ましくは２〜１０当量の酸結合剤を用いることが好ましい。
【００３９】
前記溶媒としては、公知のポリカーボネートの製造に使用されるものなど各種の溶媒を１種単独で或いは混合溶媒として使用すればよい。代表的な例としては、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水素溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼンをはじめとするハロゲン化炭化水素溶媒などが挙げられる。互いに混ざり合わない２種の溶媒を用いて界面重縮合反応を行ってもよい。
【００４０】
また、重縮合反応を促進するために、トリエチルアミン等の第三級アミン又は第四級アンモニウム塩などの触媒を添加して反応を行うことが望ましい。また、所望に応じ、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイドなどの酸化防止剤を少量添加してもよい。反応は、通常、０〜１５０℃、好ましくは５〜４０℃の範囲の温度で行われる。反応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでも可能であるが、通常は、常圧若しくは反応系の自圧程度で好適に行い得る。反応時間は、反応温度等によって左右されるが、通常０．５分間〜１０時間、好ましくは１分間〜２時間程度である。
【００４１】
また、まずアリル基を有する二価フェノール及びアリル基を持たない二価フェノールからなる反応原料の一部と炭酸エステル形成性物質とを反応させてオリゴマーを生成せしめ、次いで残りの反応原料を添加して重縮合を完結させる２段階法を用いることもできる。このような２段階法によれば、反応の制御が容易であり、精度の高い分子量コントロールを行うことができる。
【００４２】
後者のアリル基を有する二価フェノール及びアリル基を持たない二価フェノールとビスアリールカーボネートとのエステル交換法に用いられるビスアリールカーボネートとしては、例えば、ジフェニルカーボネート、ジ−ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−トリルカーボネート、ジ−ｐ−クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート等が挙げられる。
【００４３】
このエステル交換法の反応形式としては、溶融重縮合法、固相重縮合法などが好適である。溶融重縮合法を行う場合は、アリル基を有する二価フェノール及びアリル基を持たないビスアリールカーボネートとを混合し、減圧下で高温において溶融状態で反応させる。反応は、通常１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃の範囲の温度において行われる。固相重縮合法を行う場合は、アリル基を有する二価フェノール、アリル基を持たない二価フェノール及びビスアリールカボネートを混合し、固相状態のまま、生成ポリカーボネートの融点以下の温度に加熱して重縮合を行う。いずれの場合においても、反応の最終段階で減圧度を好ましくは１ｍｍＨｇ以下にして、エステル交換反応により生成した上記ビスアリールカーボネートから由来するフェノール類を系外へ留去させる。反応時間は反応温度や減圧度などによって左右されるが、通常１〜４時間程度である。反応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましく、また、所望に応じて前記の分子量調節剤や酸化防止剤などを添加して反応を行ってもよい。
【００４４】
得られるアリル基含有ポリカーボネートの還元粘度を前記の範囲にするには、例えば、前記反応条件の選択、前記分岐剤や末端停止剤の使用量の調節など、各種の方法によってなすことができる。また、場合により、得られたアリル基含有ポリカーボネートに適宜物理的処理（混合、分画など）及び／又は化学的処理（ポリマー反応、架橋処理、部分分解処理など）を施して、所定の還元粘度のアリル基含有ポリカーボネートとして取得することもできる。
【００４５】
［１−２］  無水マレイン酸変性ポリカーボネートの合成
無水マレイン酸変性ポリカーボネートとしては、ポリカーボネート構造中に無水マレイン酸に由来する構造が導入されているポリカーボネートであれば、特に制限なく使用することができる。
【００４６】
本発明において好適に用いられる無水マレイン酸変性ポリカーボネートとしては、例えば、上記のアリル基含有ポリカーボネートと無水マレイン酸とをラジカル開始剤の存在下、加熱反応させて合成したものが挙げられる。
【００４７】
無水マレイン酸の使用量は、アリル基含有ポリカーボネート中のアリル基１モルに対し、通常、１〜１００モル、好ましくは１〜５０モルとすることが望ましい。
【００４８】
ラジカル開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化アセチル、過酸化ラウロイル、過酸化ジクミル等の過酸化物系ラジカル開始剤や、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物系のラジカル開始剤が好適に用いられる。
【００４９】
ラジカル開始剤の使用量としては、無水マレイン酸１モルに対し、０．０１〜２モル、好ましくは０．０１〜１モルとすることが好ましい。
【００５０】
アリル基含有ポリカーボネートと無水マレイン酸との反応は、溶液状態又は溶融状態で好適に行われるが、通常は溶液状態で行うことが好ましい。反応を溶液状態で反応させる場合、溶媒としては、ポリカーボネートを溶解しやすい溶媒を用いることが好ましく、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水素溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン等のケトン溶媒などが好適に用いられる。
【００５１】
反応は、通常、２０〜１００℃、好ましくは４０〜８０℃の範囲の温度で行われる。反応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでも可能であるが、通常、常圧若しくは反応系の自圧程度で好適に行い得る。反応時間は、反応温度等によって左右されるが、通常、０．５〜８時間、好ましくは０．５〜５時間程度である。
【００５２】
なお、反応終了後、分別沈殿法や溶媒抽出法などにより、生成物から未反応の無水マレイン酸や無水マレイン酸のホモポリマーなどを除去することが好ましい。
【００５３】
［１−３］  アリル基含有ポリカーボネートからのポリカーボネート系グラフト共重合体の合成
アリル基含有ポリカーボネート、例えば、上記［１−１］の合成法によって得られるアリル基含有ポリカーボネートの存在下、ラジカル重合性モノマーを重合（グラフト重合）させることにより、ポリカーボネート系グラフト共重合体を得ることができる。
【００５４】
上記ラジカル重合性モノマーとしては、ビニル化合物をはじめとする各種の置換エチレン誘導体が使用可能であるが、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、１，１，１−トリフロロメチルメタクリレート、２，２，２−トリフロロエチルメタクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類、塩化ビニル、酢酸ビニル等のビニルエステル類、アクリロニトリル、アクリルアミド等のアクリル酸、メタクリル酸誘導体、ビニルナフタレン類、ビニルメチルケトン等のビニルケトン類、Ｎ−ビニルピロリドン等のＮ−ビニル化合物類が好適に用いられる。中でも、スチレン、メタクリル酸メチル、２，２，２−トリフロロエチルメタクリレート等が好適に用いられる。
【００５５】
これらのラジカル重合性モノマーは１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５６】
ラジカル重合性モノマーの使用量としては、アリル基含有ポリカーボネート中のアリル基１モルに対し、通常、１〜１０００モル、好ましくは１０〜５００モル使用することが好適である。ラジカル重合性モノマーの使用量が１モル未満であると、アリル基含有ポリカーボネートのグラフト化が不十分となることがあり、一方、１０００モルを超えると、ラジカル重合性モノマーのホモポリマーが多量に生成してしまい、ポリカーボネート系グラフト共重合体の機械的強度が損なわれることがある。
【００５７】
このグラフト重合にはラジカル開始剤が用いられ、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化アセチル、過酸化ラウロイル、過酸化ジクミル等の過酸化物系ラジカル開始剤や、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物系のラジカル開始剤が好適に用いられる。
【００５８】
ラジカル開始剤の使用量としては、ラジカル重合性モノマーの使用量に対し、０．０１〜５０重量％、好ましくは０．０１〜１０重量％とすることが好ましい。
【００５９】
このアリル基含有ポリカーボネートとラジカル重合性モノマーとのグラフト重合は、通常、溶液状態で好適に行われ、溶媒としては、ポリカーボネートを溶解しやすい溶媒を用いることが好ましく、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水素溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、シクロヘキサノン等のケトン溶媒、テトラヒドロフラン等の環状オキシ化合物などが好適に用いられる。
【００６０】
反応は、通常、２０〜１００℃、好ましくは４０〜８０℃の範囲の温度で行われる。反応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでも可能であるが、通常、常圧若しくは反応系の自圧程度で好適に行い得る。反応時間は、反応温度等によって左右されるが、通常、０．５〜８時間、好ましくは０．５〜５時間程度である。
【００６１】
なお、反応終了後、分別沈殿法や溶媒抽出法などにより、生成物から未反応のラジカル重合性モノマーや、ラジカル重合性モノマーのホモポリマーなどを除去することが好ましい。
【００６２】
［１−４］  無水マレイン酸変性ポリカーボネートからのポリカーボネート系グラフト共重合体の合成
無水マレイン酸変性ポリカーボネート、例えば、上記［１−２］の合成法によって得られる無水マレイン酸変性ポリカーボネートに、酸無水物と反応可能な官能基を有する化合物を反応させることにより、ポリカーボネート系グラフト共重合体を得ることができる。
【００６３】
酸無水物と反応可能な官能基を有する化合物としては、例えば重合鎖の末端にアミノ基を有するポリマーが好適に用いられる。例えば、末端アミノ化ポリシロキサン等の末端アミノ化ポリシロキサン類、末端アミノ化ポリメチルメタクリレート、末端アミノ化ポリ（２，２，２−トリフロロエチルメタクリレート）等の末端アミノ化ポリアクリレート又はメタクリレート類などが好適に用いられる。このようなポリマーとしては、通常、分子量が５００〜１０００００、好ましくは５００〜５００００のものを用いることが好適である。これらの化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６４】
酸無水物と反応可能な官能基を有する化合物の使用量としては、無水マレイン酸変性ポリカーボネート中の無水マレイン酸に由来する基１モルに対し、通常、１〜１０モル、好ましくは１〜５モル使用することが好適である。酸無水物と反応可能な官能基を有する化合物の使用量が１モル未満であると、無水マレイン酸変性ポリカーボネートのグラフト化が不十分となることがあり、一方、１０モルを超えると、未反応の酸無水物と反応可能な官能基を有する化合物が多量に残留してしまい、ポリカーボネート系グラフト共重合体の機械的強度が損なわれることがある。
【００６５】
この無水マレイン酸変性ポリカーボネートと、酸無水物と反応可能な官能基を有する化合物との反応は、通常、溶液状態で好適に行われ、溶媒としては、無水マレイン酸変性ポリカーボネートを溶解しやすい溶媒を用いることが好ましく、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水素溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン等のケトン溶媒などが好適に用いられる。
【００６６】
反応は、通常、２０〜２００℃、好ましくは４０〜１００℃の範囲の温度で行われる。反応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでも可能であるが、通常、常圧若しくは反応系の自圧程度で好適に行い得る。反応時間は、反応温度等によって左右されるが、通常、０．５〜１０時間、好ましくは０．５〜８時間程度である。
【００６７】
なお、反応終了後、分別沈殿法や溶媒抽出法などにより、生成物から未反応の化合物を除去することが好ましい。
【００６８】
上記のようにしてポリカーボネートをグラフト共重合体とすることで、機械的特性、表面硬度により優れた共重合体が得られる。これらの共重合体は、表面硬度が向上したことにより、耐摩耗性に優れた樹脂となり得る。また、上記の末端アミノ化ポリシロキサン等のシロキサン含有ポリマーや、上記の末端アミノ化ポリ（２，２，２−トリフロロエチルメタクリレート）等のフッ素原子含有ポリマーをグラフト化させた場合には、優れた機械的特性、表面硬度に加えて、撥水性、離型性にも優れたポリカーボネート系グラフト共重合体が得られる。
【００６９】
［２］  電子写真感光体
本発明の電子写真感光体は、感光層中にバインダー樹脂としての上記ポリカーボネート系グラフト共重合体の少なくとも１種と電荷発生物質と電荷輸送物質とを含有するものである。
【００７０】
本発明の電子写真感光体はこのような感光層が導電性基体上に形成されたものである限り、その構造に特に制限はなく、単層型、積層型等の公知の種々の形式の電子写真感光体はもとより、どのようなものとしてもよいが、感光層が少なくとも１層の電荷発生層と少なくとも１層の電荷輸送層を有する積層型電子写真感光体中の電荷輸送層のバインダー樹脂として用いることが好ましい。
【００７１】
本発明の電子写真感光体において、上記のポリカーボネート系グラフト共重合体はバインダー樹脂として１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、所望に応じて本発明の目的達成を阻害しない範囲で、他のポリカーボネート等の樹脂成分を含有させてもよい。
【００７２】
本発明の電子写真感光体に用いられる導電性基体の材料としては、公知のものなど各種のものを使用することができ、具体的にはアルミニウム、ニッケル、クロム、パラジウム、チタン、金、銀、銅、亜鉛、ステンレス、モリブデン、インジウム、白金、真鍮、酸化鉛、酸化錫、酸化インジウム、ＩＴＯ若しくはグラファイトの板、ドラム及びシート、並びに蒸着、スパッタリング、塗布等によりコーティングするなどして導電処理したガラス、布、紙若しくはプラスチックのフィルム、シート及びシームレスベルト、アルミニウム等の金属箔を積層したプラスチックフィルム、シート及びシームレスベルト、並びに金属板のフィルム状シート及びシームレスベルト、並びに電極酸化などにより金属酸化処理した金属ドラムなどを使用することができる。
【００７３】
積層型電子写真感光体の電荷発生層は少なくとも電荷発生物質を含むものであり、この電荷発生層はその下地となる基板上に真空蒸着、スパッタ法、ＣＶＤ法等により電荷発生物質の層を形成せしめるか、又はその下地となる層上に電荷発生物質をバインダー樹脂を用いて結着してなる層を形成せしめることによって得ることができる。バインダー樹脂を用いる電荷発生層の形成方法としては公知の方法等、各種の方法を使用することができるが、通常、例えば、電荷発生物質をバインダー樹脂と共に適当な溶媒により分散若しくは溶解した塗工液を、所定の下地となる層上に塗布し、乾燥せしめる方法が好適に用いられる。
【００７４】
前記電荷発生物質としては、公知のものなど各種のものを使用することができ、具体的には、非晶質セレン、三方晶セレン等のセレン単体、テルル単体、セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合金等のセレンの合金、Ａｓ2Ｓｅ3等のセレン化合物若しくはセレン含有組成物、酸化亜鉛、硫化カドミウム、硫化アンチモン、硫化亜鉛、ＣｄＳ−Ｓｅ等の合金、第１２族及び第１６族元素からなる無機材料、酸化チタン等の酸化物系半導体、アモルファスシリコンなどのシリコン系材料等の各種の無機材料、τ型無金属フタロシアニン、χ型無金属フタロシアニン等の無金属フタロシアニン顔料、α型銅フタロシアニン、β型銅フタロシアニン、γ型銅フタロシアニン、ε型銅フタロシアニン、Ｘ型銅フタロシアニン、Ａ型チタニルフタロシアニン、Ｂ型チタニルフタロシアニン、Ｃ型チタニルフタロシアニン、Ｄ型チタニルフタロシアニン、Ｅ型チタニルフタロシアニン、Ｆ型チタニルフタロシアニン、Ｈ型チタニルフタロシアニン、Ｇ型チタニルフタロシアニン、Ｋ型チタニルフタロシアニン、Ｌ型チタニルフタロシアニン、Ｍ型チタニルフタロシアニン、Ｎ型チタニルフタロシアニン、Ｘ線回折図におけるブラック角２θが２７．３±０．２度に強い回折ピークを示すチタニルフタロシアニンなどの金属フタロシアニン顔料、シアニン染料、アントラセン顔料、ビスアゾ顔料、ピレン顔料、多環キノン顔料、キナクリドン顔料、インジゴ顔料、ぺリレン顔料、ピリリウム染料、チアピリリウム染料、ポリビニルカルバゾール、スクェアリウム顔料、アントアントロン顔料、ベンズイミダゾール顔料、アゾ顔料、チオインジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、キノリン顔料、レーキ顔料、オキサジン顔料、ジオキサジン顔料、トリフェニルメタン顔料、アズレニウム染料、スクウェアリウム染料、トリアリールメタン染料、キサンチン染料、チアジン染料などが挙げられる。
【００７５】
例えば、下記一般式で表されるような化合物が好適に用いられる。
【００７６】
【化５】
0003730634.tif 000004
【００７７】
［式中、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3及びＺ4は各々独立にピロール環上の２個の炭素原子と共に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環若しくは複素環を形成することができる原子団を表し、Ｍは２個の水素原子又は配位子を有していてもよい金属原子若しくは金属化合物を表す。］
【００７８】
【化６】
0003730634.tif 000005
【００７９】
［式中、Ａｒ6は芳香族系炭化水素環又は複素環を含んでいてもよい共役系を有するｔ価の残基を表し、ｔは１以上の正数であり、Ｃｐは芳香族系水酸基を有するカップラー残基を表し、ｔが２以上の場合は、各々のＣｐは同一であっても異なっていてもよい。］
【００８０】
【化７】
0003730634.tif 000006
【００８１】
［式中、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4及びＸ5は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子を表し、Ｒ16及びＲ17は炭素数１〜１２のアルキル基若しくはアリール基を表し、Ｘ2若しくはＸ3とＲ16及びＸ4若しくはＸ5とＲ17とで置換基を有していてもよい複素環を形成していてもよい。］
フルオレン系ジスアゾ顔料としては、以下のような例がある。
【００８２】
【化８】
0003730634.tif 000007
【００８３】
【化９】
0003730634.tif 000008
【００８４】
【化１０】
0003730634.tif 000009
【００８５】
ペリレン系顔料としては、以下のような例がある。
【００８６】
【化１１】
0003730634.tif 000010
【００８７】
【化１２】
0003730634.tif 000011
【００８８】
多環キノン顔料としては、以下のような例がある。
【００８９】
【化１３】
0003730634.tif 000012
【００９０】
アントアントロン顔料としては、以下のような例がある。
【００９１】
【化１４】
0003730634.tif 000013
【００９２】
ジベンズピレンキノン顔料としては、以下のような例がある。
【００９３】
【化１５】
0003730634.tif 000014
【００９４】
ピラントロン顔料としては、以下のような例がある。
【００９５】
【化１６】
0003730634.tif 000015
【００９６】
これらの顔料を単独または２種以上を混合して用いることもできる。
【００９７】
電荷発生層の厚さは、０．０１〜２．０μｍが好ましく、０．１〜０．８μｍがより好ましい。０．０１μｍ未満であると、電荷発生層を均一に形成することが困難であり、２．０μｍを超えると、電子写真特性が低下する傾向がある。
【００９８】
前記電荷発生層に用いられるバインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものなど各種のものを使用できる。具体的には、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアセタール、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル、ボリカーボネート、ポリウレタン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリケトン、ポリアクリルアミド、ブチラール樹脂、ポリエステル、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、メタクリル樹脂、ポリスチレン、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、ニトロセルロース、カルボキシ−メチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーラテックス、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ビニルトルエン−スチレン共重合体、大豆油変性アルキッド樹脂、ニトロ化ポリスチレン、ポリメチルスチレン、ポリイソプレン、ポリチオカーボネート、ポリアリレート、ポリハロアリレート、ポリアリルエーテル、ポリビニルアクリレート、メラミン樹脂、ポリエーテル樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ポリエステルアクリレート等の熱硬化性樹脂を使用することができる。
【００９９】
上記電荷発生層におけるバインダー樹脂として上記のポリカーボネート系グラフト共重合体を使用することもできる。
【０１００】
次に、電荷輸送層は、下地となる層（例えば電荷発生層）上に、電荷輸送物質をバインダー樹脂で結着してなる層を形成することによって得ることができる。
【０１０１】
この電荷輸送層の形成方法としては、公知の方法等の各種の方式を使用することができるが、通常、上記電荷輸送物質を上記ポリカーボネート系グラフト共重合体と共に適当な溶媒に分散若しくは溶解した塗工液を、所定の下地となる層上に塗布し、乾燥する方式などが使用される。電荷輸送層中の電荷輸送物質とポリカーボネート系グラフト共重合体との配合割合は、好ましくは重量で２０：８０〜８０：２０、さらに好ましくは３０：７０〜７０：３０である。
【０１０２】
この電荷輸送層において、上記ポリカーボネート系グラフト共重合体は１種単独で用いることもできるし、また、２種以上を混合して用いることもできる。また、本発明の目的達成を阻害しない範囲で、前記電荷発生層に用いられるバインダー樹脂として挙げたような他の樹脂を上記ポリカーボネート系共重合体と併用することもできる。
【０１０３】
電荷輸送物質としては、公知のものなど各種のものを使用することができる。例えば、カルバゾール化合物、インドール化合物、イミダゾール化合物、オキサゾール化合物、ピラゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、アニリン化合物、ヒドラゾン化合物、芳香族アミン化合物、脂肪族アミン化合物、スチルべン化合物、フルオレノン化合物、キノン化合物、キノジメタン化合物、チアゾール化合物、トリアゾール化合物、イミダゾロン化合物、イミダゾリジン化合物、ビスイミダゾリジン化合物、オキサゾロン化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンズイミダゾール化合物、キナゾリン化合物、ベンゾフラン化合物、アクリジン化合物、フェナジン化合物、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−９−ビニルフェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾール樹脂、あるいはこれらを主鎖、側鎖に有する重合体が用いられ、好ましくは下記一般式で表されるような化合物が用いられる。
【０１０４】
【化１７】
0003730634.tif 000016
【０１０５】
［式中、Ａｒ1、Ａｒ2及びＡｒ3は各々独立に、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ａｒ1とＡｒ2、Ａｒ2とＡｒ3及びＡｒ3とＡｒ1で環を形成していてもよい。］
【０１０６】
【化１８】
0003730634.tif 000017
【０１０７】
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は各々独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、ａ、ｂ、ｃ及びｄは各々独立に、０〜５の整数である。］
【０１０８】
【化１９】
0003730634.tif 000018
【０１０９】
［式中、Ａｒ1及びＡｒ2は各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ａｒ1とＡｒ2は環を形成してもよい。Ｒ1はシアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ｒ5はエチレン基又はエテニレン基を表し、ｅは０〜４の整数である。］
【０１１０】
【化２０】
0003730634.tif 000019
【０１１１】
［式中、Ａｒ1及びＡｒ2は各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ａｒ1とＡｒ2は環を形成してもよい。Ｒ1はシアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ｒ6及びＲ7は各々独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はハロゲン原子を表し、ｅは０〜４の整数である。］
【０１１２】
【化２１】
0003730634.tif 000020
【０１１３】
［式中、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4及びＡｒ5は各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ａｒ6とＡｒ7は各々独立に、炭素数１〜６の置換若しくは無置換のアルキレン基或は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール化合物、多環式炭化水素、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素、複素環化合物、多環系複素環化合物又は縮合多環系複素環化合物の２価残基を表し、Ａｒ1とＡｒ2及びＡｒ3とＡｒ4は環を形成してもよい。］
【０１１４】
【化２２】
0003730634.tif 000021
【０１１５】
［式中、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3及びＡｒ4は各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ａｒ1とＡｒ2及びＡｒ3とＡｒ4は環を形成してもよい。Ｒ8及びＲ9は各々独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、ｅ及びｆは各々独立に０〜４の整数である。］
【０１１６】
【化２３】
0003730634.tif 000022
【０１１７】
［式中、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3及びＡｒ4は各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ａｒ1とＡｒ2及びＡｒ3とＡｒ4は環を形成してもよい。Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は各々独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、ｅ、ｆ及びｇは各々独立に０〜４の整数である。Ｘ1は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｅ−、−Ｔｅ−、−ＣＲ10Ｒ11−、−ＳｉＲ10Ｒ11−、−ＮＲ10−又は−ＰＲ10−（式中、Ｒ10及びＲ11は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表す。）を表す。］
【０１１８】
【化２４】
0003730634.tif 000023
【０１１９】
［式中、Ａｒ1及びＡｒ2は各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ａｒ1とＡｒ2は環を形成してもよい。Ｒ1はシアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、ａは０〜５の整数である。］
【０１２０】
【化２５】
0003730634.tif 000024
【０１２１】
［式中、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4及びＡｒ5は各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ｒ1及びＲ2は各々独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ａｒ1とＡｒ2及びＡｒ3とＡｒ4は環を形成してもよい。ｆ及びｅは各々独立に０〜４の整数である。］
【０１２２】
【化２６】
0003730634.tif 000025
【０１２３】
［式中、Ａｒ1は水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は各々独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、ｎは０又は１、ａ、ｂ及びｃは各々独立に０〜５の整数である。］
【０１２４】
【化２７】
0003730634.tif 000026
【０１２５】
［式中、Ａｒ1、Ａｒ2及びＡｒ3は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ｒ1及びＲ3は各々独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ｒ2′は水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、ｎは０又は１、ｅは０〜４の整数、ｈは０〜３の整数である。］
【０１２６】
【化２８】
0003730634.tif 000027
【０１２７】
［式中、Ａｒ1及びＡｒ2は各々独立に、水素原子、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ａｒ1とＡｒ2は環を形成してもよい。］
【０１２８】
【化２９】
0003730634.tif 000028
【０１２９】
［式中、Ａｒ1、Ａｒ2及びＡｒ3は各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ａｒ1とＡｒ2は環を形成してもよい。］
【０１３０】
【化３０】
0003730634.tif 000029
【０１３１】
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ8及びＲ9は各々独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｉ及びｊは各々独立に０〜５の整数である。］
【０１３２】
【化３１】
0003730634.tif 000030
【０１３３】
［式中、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3及びＡｒ4は各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ａｒ6は炭素数１〜６の置換若しくは無置換のアルキレン基或は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール化合物、多環式炭化水素、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素、複素環化合物、多環系複素環化合物又は縮合多環系複素環化合物の２価残基を表し、Ａｒ1とＡｒ2及びＡｒ3とＡｒ4は環を形成してもよく、ｎは０又は１である。］
【０１３４】
【化３２】
0003730634.tif 000031
【０１３５】
［式中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15は各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表す。］
具体的には次に示すような化合物が用いられる。
【０１３６】
【化３３】
0003730634.tif 000032
【０１３７】
【化３４】
0003730634.tif 000033
【０１３８】
【化３５】
0003730634.tif 000034
【０１３９】
【化３６】
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【０１４０】
【化３７】
0003730634.tif 000036
【０１４１】
【化３８】
0003730634.tif 000037
【０１４２】
【化３９】
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【０１４３】
【化４０】
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【０１４４】
【化４１】
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【０１４５】
【化４２】
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【０１４６】
【化４３】
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【０１４７】
【化４４】
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【０１４８】
【化４５】
0003730634.tif 000044
【０１４９】
【化４６】
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【０１５０】
【化４７】
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【０１５１】
【化４８】
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【０１５２】
【化４９】
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【０１５３】
【化５０】
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【０１５４】
【化５１】
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【０１５５】
【化５２】
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【０１５６】
【化５３】
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【０１５７】
【化５４】
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【０１５８】
【化５５】
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【０１５９】
【化５６】
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【０１６０】
【化５７】
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【０１６１】
【化５８】
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【０１６２】
【化５９】
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【０１６３】
【化６０】
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【０１６４】
【化６１】
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【０１６５】
【化６２】
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【０１６６】
【化６３】
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【０１６７】
【化６４】
0003730634.tif 000063
【０１６８】
【化６５】
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【０１６９】
【化６６】
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【０１７０】
【化６７】
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【０１７１】
【化６８】
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【０１７２】
【化６９】
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【０１７３】
【化７０】
0003730634.tif 000069
【０１７４】
【化７１】
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【０１７５】
【化７２】
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【０１７６】
【化７３】
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【０１７７】
【化７４】
0003730634.tif 000073
【０１７８】
【化７５】
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【０１７９】
【化７６】
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【０１８０】
【化７７】
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【０１８１】
【化７８】
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【０１８２】
上記電荷輸送物質は単独で又は２種以上を混合して用いることができる。電荷輸送層の厚さは５〜１００μｍが好ましく、１０〜３０μｍがより好ましい。５μｍ未満であると、初期電位が低くなり、１００μｍを超えると、電子写真特性が低下する傾向がある。
導電性基体と感光層との間に通常使用されるような公知の下引き層を設けることができる。下引き層としては、酸化チタン、酸化アルミニウム、ジルコニア、チタン酸、ジルコン酸、ランタン鉛、チタンブラック、シリカ、チタン酸鉛、チタン酸バリウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化珪素等の微粒子、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、カゼイン、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、セルロース、ニトロセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール樹脂等の成分を使用することができる。これらの微粒子や樹脂を単独で又は２種以上混合して使用することができる。特に微粒子を用いると、微粒子に樹脂が吸着され、平滑な皮膜を得ることができるため、微粒子と樹脂を併用することが望ましい。また、下引き層には前記バインダー樹脂を用いることができる。また、上記のポリカーボネート系グラフト共重合体も用いることもできる。
【０１８３】
下引き層の厚さは、通常０．０１〜１０．０μｍ、好ましくは０．０１〜１．０μｍである。この厚さが０．０１μｍ未満であると、下引き層を均一に形成することが困難になり、１０．０μｍを超えると、電子写真特性が低下することがある。
また、導電性基体と感光層との間に通常使用されているような公知のブロッキング層を設けることができる。ブロッキング層には前記バインダー樹脂を用いることができる。ブロッキング層の厚さは、通常０．０１〜２０．０μｍ、好ましくは、０．１〜１０．０μｍである。この厚さが０．０１μｍ未満であると、ブロッキング層を均一に形成することが困難になり、２０．０μｍを超えると、電子写真特性が低下することがある。
【０１８４】
本発明の電子写真感光体には、感光層の上に保護層を積層してもよい。保護層の膜厚は０．０１〜２０μｍが可能であり、より好ましくは０．１〜１０μｍである。保護層には前記バインダー樹脂を用いることができる。保護層には、前記の電荷発生物質、電荷輸送物質、添加剤、金属及びその酸化物、窒化物、塩、合金、カーボンなどの導電材料を含有してもよい。
【０１８５】
更に、本発明の電子写真感光体には、その性能を向上させるために電荷発生層、電荷輸送層に結合剤、可塑剤、硬化触媒、流動付与剤、ピンホール制御剤、電子写真感度を改良するための分光感度増感剤（増感染料）、分光感度増感剤とは別に、繰り返し使用に対しての残留電位の増加、帯電電位の低下、感度の低下を防止する目的の種々の化学物質、酸化防止剤、界面活性剤、カール防止剤、レベリング剤等などの添加剤を添加することができる。
【０１８６】
結合剤の具体的な例としては、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリイソプレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリクロロプレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、エチルセルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ホルマール樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、ポリエステルカーボネート樹脂等が挙げられる。また、熱及び／又は光硬化性樹脂も使用できる。いずれにしても、電気絶縁性で通常の状態で皮膜を形成しうる樹脂であれば、特に制限はない。
【０１８７】
結合剤は電荷輸送物質に対して、５〜２００重量％添加することが好ましく、１０〜１００重量％がより好ましい。５重量％未満では感光層の皮膜が不均一となりやすく、画質が劣る傾向がある。２０重量％を超えると、感度が低下し、残留電位が高くなる傾向がある。
可塑剤の具体的な例としては、ビフェニル、塩化ビフェニル、ｏ−ターフェニル、ハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタリン、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、トリフェニルフォスフェート、ジイソブチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ラウリル酸ブチル、メチルフタリールエチルグリコレート、ジメチルグリコールフタレート、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、ポリプロピレン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。
【０１８８】
硬化触媒の具体的な例としては、メタンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸等が挙げられる。
流動付与剤としては、モダフロー、アクロナール４Ｆ等が挙げられる。
ピンホール制御剤としては、ベンゾイン、ジメチルフタレート等が挙げられる。
【０１８９】
可塑剤、硬化触媒、流動付与剤、ピンホール制御剤は、前記電荷輸送物質に対して、５重量％以下で用いることが好ましい。
増感染料の具体的な例としては、メチルバイオレット、クリスタルバイオレット、ナイトブルー、ビクトリアブルー等で代表されるトリフェニルメタン系染料、エリスロシン、ローダミンＢ、ローダミン３Ｒ、アクリジンオレンジ、フラペオシン等に代表されるアクリジン染料、メチレンブルー、メチレングリーン等に代表されるチアジン染料、カプリブルー、メルドラブルー等に代表されるオキサジン染料、その他シアニン染料、メロシアニン染料、スチリル染料、ピリリュウム塩染料、チオピリリュウム塩染料等が挙げられる。
【０１９０】
感光層には感度の向上、残留電位〜反復使用時の疲労低減等を目的として、電子受容性物質を加えることができる。
電子受容性物質としては、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、３−ニトロ無水フタル酸、４−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、１，３，５−トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、ブロマニル、ベンゾキノン、２，３−ジクロロベンゾキノン、ジクロロジシアノパラベンゾキノン、ナフトキノン、ジフェノキノン、トロポキノン、アントラキノン、１−クロロアントラキノン、ジニトロトロアントラキノン、４−ニトロベンゾフェノン、４，４−ニトロベンゾフェノン、４−ニトロベンザルマロンジニトリル、α−シアノ−β−（ｐ−シアノフェニル）アクリル酸エチル、９−アントラセニルメチルマロンジニトリル、１−シアノ−（ｐ−ニトロフェニル）−２−（ｐ−クロロフェニル）エチレン、２，７−ジニトロフルオレノン、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロフルオレノン、９−フルオレニリデン［ジシアノメチレンマロノニトリル］、ポリニトロ−９−フルオレニリデン−［ジシアノメチレンマロノジニトリル］、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、３，５−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、５−ニトロサリチル酸、３，５−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット酸など、電子親和力が大きい化合物がある。
【０１９１】
この電子受容性物質は、電荷輸送層、電荷発生層のいずれに加えてもよく、電荷輸送物質又は電荷発生物質に対して通常０．０１〜２００重量％、より好ましくは０．１〜５０重量％配合される。
また、表面性の改良のために、四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フッ化エチレン六フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂及びそれらの共重合体、フッ素系グラフトポリマーを用いてもよい。
【０１９２】
これらの表面改質剤は前記バインダー樹脂に対して０．１〜６０重量％、より好ましくは５〜４０重量％配合される。０．１重量％より少ないと耐摩耗性、表面耐久性、表面エネルギー低下等の表面改質が十分でなく、６０重量％より多いと電子写真特性が悪くなることがある。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、スルフィド系酸化防止剤、有機リン酸系酸化防止剤などが挙げられる。
【０１９３】
これらの酸化防止剤は電荷輸送物質に対して通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜２重量％配合される。
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、以下の例がある。
【０１９４】
【化７９】
0003730634.tif 000078
【０１９５】
【化８０】
0003730634.tif 000079
【０１９６】
【化８１】
0003730634.tif 000080
【０１９７】
芳香族アミン系酸化防止剤としては以下のような例がある。
【０１９８】
【化８２】
0003730634.tif 000081
【０１９９】
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、以下のような例がある。
【０２００】
【化８３】
0003730634.tif 000082
【０２０１】
スルフィド系酸化防止剤としては以下のような例がある。
【０２０２】
【化８４】
0003730634.tif 000083
【０２０３】
有機リン酸系酸化防止剤としては以下のような例がある。
【０２０４】
【化８５】
0003730634.tif 000084
【０２０５】
ヒンダードフェノール構造単位とヒンダードアミン構造単位を分子内に有する酸化防止剤としては以下のような例がある。
【０２０６】
【化８６】
0003730634.tif 000085
【０２０７】
これら添加剤は１種単独で用いてもよいし、あるいは、２種類以上を混合するなどして併用してもよい。これらの添加剤は保護層、下引き層、ブロッキング層に添加してもよい。
前記電荷発生層、電荷輸送層の形成の際に使用する前記溶媒の具体例としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール、酢酸エチル、エチルセロソルブ等のエステル、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルホルムアミド等を挙げることができる。
【０２０８】
これらの溶媒は、１種単独で使用してもよく、或いは、２種以上を混合溶媒として用いてもよい。
感光体を形成する方法としては、前記電荷発生物質、電荷輸送物質、添加剤及びバインダー樹脂を溶剤に分散、又は溶解した溶液を所定の下地となる基体、層上に浸漬塗工法、静電塗工法、粉体塗工法、スプレー塗工法、ロール塗工法、アプリケーター塗工法、スプレーコーター塗工法、バーコーター塗工法、ロールコーター塗工法、ディップコーター塗工法、ドクターブレード塗工法、ワイヤーバー塗工法、ナイフコーター塗工法、アトライター塗工法、スピナー塗工法、ビード塗工法、ブレード塗工法、カーテン塗工法などの塗工法を用いて塗工し、乾燥して形成することができる。
【０２０９】
その分散法としては、ボールミル、超音波、ペイントシェーカー、レッドデビル、サンドミル、ミキサー、アトライターなどを用いることができる。
単層型電子写真感光体においても感光層は前記バインダー樹脂を用いることができる。また、単層型感光体の感光層には、前記の電荷発生物質、電荷輸送物質を用いることができる。また、感光層の電子写真特性を向上させるために、前記の添加剤を用いてもよい。また、保護層、下引き層、ブロッキング層を設けてもよい。
【０２１０】
単層型感光体の膜厚は通常５〜１００μｍが好ましく、８〜５０μｍがより好ましい。５μｍ未満であると、初期電位が低くなりやすく、５０μｍを超えると電子写真特性が低下する傾向がある。
単層型電子写真感光体の感光層中の電荷発生物質：ポリカーボネート系グラフト共重合体の重量による割合は、好ましくは２０：８０〜８０：２０、さらに好ましくは３０：７０〜６０：４０である。また、電荷輸送物質：ポリカーボネート系グラフト共重合体の重量による割合は、好ましくは２０：８０〜８０：２０、さらに好ましくは３０：７０〜７０：３０である。また、電荷発生物質：電荷輸送物質の重量による割合は、好ましくは２０：８０〜７０：３０、さらに好ましくは３０：７０〜６０：４０である。
【０２１１】
また、本発明の目的達成を阻害しない範囲で、他の樹脂を本発明のポリカーボネート系グラフト共重合体と併用することも可能である。
なお、本発明の電子写真感光体の感光層の層構成としては、上記のポリカーボネート系グラフト共重合体を含む層が感光層の表面層となる構成とすることが好ましい。このようにして得られる本発明の電子写真感光体は高い表面硬度を有し、長期間にわたって優れた耐刷性及び良好なクリーニング性を維持する感光体であり、複写機（モノクロ、マルチカラー、フルカラー；アナログ、デジタル）、プリンター（レーザー、ＬＥＤ、液晶シャッター）、ＦＡＸ、製版機等の各種の電子写真分野に好適に利用することができる。
【０２１２】
本発明の電子写真感光体を使用するにあたって、帯電器は、コロナ放電（コロトロン、スコトロン）、接触帯電（帯電ロール、帯電ブラシ）などが用いられる。露光は、ハロゲンランプ、蛍光灯、レーザー（半導体、Ｈｅ−Ｎｅ）、ＬＥＤ、感光体内部露光方式で行われる。現像工程はカスケード現像、二成分磁気ブラシ現像、一成分絶縁トナー現像、一成分導電トナー現像などの乾式現像方式や湿式現像方式などが用いられる。転写工程はコロナ転写、ローラ転写、ベルト転写などの静電転写法、圧力転写法、粘着転写法が用いられる。定着は、熱ローラ定着、ラジアント・フラッシュ定着、オーブン定着、圧力定着などが用いられる。クリーニング・除電には、ブラシクリーナー、磁気ブラシクリーナー、静電ブラシクリーナー、磁気ローラクリーナー、ブレードクリーナーなどが用いられる。
【０２１３】
【実施例】
以下、本発明の実施例及びその比較例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
参考例１  アリル基含有ポリカーボネートの合成
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン７４ｇを６重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液５５０ｍｌに溶解した溶液と塩化メチレン２５０ｍｌとを混合して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを９５０ｍｌ／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホルメート基であるビスフェノールＡ（２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン）のポリカーボネートオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。なお、生成オリゴマーの構造、重合度及び末端基は1Ｈ−ＮＭＲ、ＭＳ、ＧＰＣにより確認した。
【０２１４】
上記オリゴマーの塩化メチレン溶液に塩化メチレンを加えて全量を４５０ｍｌとした後、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン１０．８ｇと２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１６．０ｇを８重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液１５０ｍｌに溶解した溶液と混合し、これに分子量調整剤であるｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール３．０ｇを加えた。次いで、この混合液を激しく攪拌しながら、触媒として７重量％濃度のトリエチルアミン水溶液を２ｍｌ加え、２８℃において攪拌下で１．５時間反応を行った。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１リットルで希釈し、次いで水１．５リットルで２回、０．０１規定塩酸１リットルで１回、水１リットルで２回の順で洗浄し、有機層をメタノール中に投入し、析出したポリマーを濾過、乾燥した。
【０２１５】
このようにして得られたアリル基含有ポリカーボネートの塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］は０．８９ｄｌ／ｇであった。還元粘度の測定は、（株）離合社製、自動動粘度測定装置ＶＭＲ−０４２を用い、自動粘度用ウッベローデ改良型粘度計（ＲＭ型）で測定した。
【０２１６】
参考例２  無水マレイン酸変性ポリカーボネートの合成
参考例１で得たポリマー、すなわちアリル基含有ポリカーボネート１０ｇ、無水マレイン酸１０ｇ、過酸化ベンゾイル０．５ｇをシクロヘキサノン５０ｍｌに溶解し、攪拌しながら８０℃で５時間反応させた。反応終了後、大量のメタノールに反応液を投入し、析出したポリマーを濾過、乾燥した。
【０２１７】
実施例１
参考例１で得られたアリル基含有ポリカーボネート１０ｇ、メタクリル酸メチル１０ｇ、過酸化ベンゾイル０．１ｇをシクロヘキサノン５０ｍｌに溶解し、攪拌しながら８０℃で８時間反応させた。反応後、この溶液を大量のメタノール中に投入し、析出したポリマーを濾過、乾燥した。得られた生成物の収量は１８．５ｇであった。これを室温で、トルエン中にて攪拌、洗浄し、不溶物を濾過、乾燥したところ、１６．１ｇのポリカーボネート系グラフト共重合体（ＰＣ−１）が得られた。
【０２１８】
このようにして得られたポリカーボネート系グラフト共重合体の塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］は０．８５ｄｌ／ｇであった。
電荷輸送物質として（Ｃ−１）を用い、バインダー樹脂として（ＰＣ−１）を用い、Ｃ−１：ＰＣ−１：塩化メチレン＝１：１：８（重量比）の溶液を調製し、塗工液とした。この塗工液は１か月放置しても、白濁、ゲルの発生などは見られなかった。アルミニウム製導電性基板上にオキソチタニウムフタロシアニン：ブチラール樹脂：塩化メチレン＝１：１：３８（重量比）の分散液を浸漬塗工法により塗布し、オキソチタニウムフタロシアニンの層（約０．５μｍ）を電荷発生層として形成し、その電荷発生層上に上記塗工液を浸漬塗工法により塗布し、乾燥し、約２０μｍの電荷輸送層を形成し、積層型電子写真感光体を作製した。塗布時に電荷輸送層が結晶化することはなかった。
【０２１９】
【化８７】
0003730634.tif 000086
【０２２０】
得られた電子写真感光体の電子写真特性の評価は、静電気帯電試験装置ＥＰＡ−８１００（株式会社川口電機製作所製）を用い、−６ｋＶのコロナ放電を行い、初期表面電位（Ｖ0）、光照射（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（ＶR）、半減露光量（Ｅ1/2）を測定した。結果を表１に示す。
さらに、電荷輸送層の耐摩耗性をスガ摩耗試験機ＮＵＳ−ＩＳＯ−３型（スガ試験機（株）製）を用いて評価した。試験条件は２００ｇの加重をかけた摩耗紙上で上記積層型電子写真感光体のサンプルを１２００回往復運動させ、その減少量の変化を測定することにより評価した。結果を表２に示す。
【０２２１】
実施例２
実施例１で用いたメタクリル酸メチルの代わりにスチレン１０ｇを用いた以外は実施例１と同様の操作を行い、１５．８ｇのポリカーボネート系グラフト共重合体（ＰＣ−２）を得た。
このようにして得られたポリカーボネート系グラフト共重合体の塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］は０．９３ｄｌ／ｇであった。
【０２２２】
実施例１で用いたＰＣ−１の代わりにＰＣ−２を用いた以外は実施例１と同様の方法で感光体を作製し、同様の方法で初期表面電位（Ｖ0）、光照射（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（ＶR）、半減露光量（Ｅ1/2）及び摩耗による電荷輸送層の減少量を測定した。結果を表１及び表２に示す。
実施例３
実施例１で用いたメタクリル酸メチルの代わりに２，２，２−トリフロロエチルメタクリレート１０ｇを用いた以外は実施例１と同様の操作を行い、１６．８ｇのポリカーボネート系グラフト共重合体（ＰＣ−３）を得た。
【０２２３】
このようにして得られたポリカーボネート系グラフト共重合体の塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］は０．９１ｄｌ／ｇであった。
実施例１で用いたＰＣ−１の代わりにＰＣ−３を用いた以外は実施例１と同様の方法で感光体を作製し、同様の方法で初期表面電位（Ｖ0）、光照射（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（ＶR）、半減露光量（Ｅ1/2）及び摩耗による電荷輸送層の減少量を測定した。結果を表１及び表２に示す。
【０２２４】
実施例４（参考例）
参考例２で得られた無水マレイン酸変性ポリカーボネート１０ｇを塩化メチレン３０ｍｌに溶解し、末端アミノ化ポリシロキサン（分子量約１万）３ｇを加え、室温で８時間攪拌し反応させた。次いで、この溶液を大量のｎ−ヘキサン中に投入し、析出したポリマーを回収した。これを更にメタノールで洗浄した後、乾燥したところ、１１．８ｇのポリカーボネート系グラフト共重合体（ＰＣ−４）が得られた。
【０２２５】
このようにして得られたポリカーボネート系グラフト共重合体の塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］は０．８７ｄｌ／ｇであった。
実施例１で用いたＰＣ−１の代わりにＰＣ−４を用いた以外は実施例１と同様の方法で感光体を作製し、同様の方法で初期表面電位（Ｖ0）、光照射（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（ＶR）、半減露光量（Ｅ1/2）及び摩耗による電荷輸送層の減少量を測定した。結果を表１及び表２に示す。
【０２２６】
実施例５（参考例）
実施例４で用いた末端アミノ化ポリシロキサンの代わりに末端アミノ化メタクリル樹脂（末端アミノ化メチルメタクリレート：分子量約１万）３ｇを用いた以外は実施例４と同様の操作を行い、１２．２ｇのポリカーボネート系グラフト共重合体（ＰＣ−５）を得た。
【０２２７】
このようにして得られたポリカーボネート系グラフト共重合体の塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］は０．８５ｄｌ／ｇであった。
実施例１で用いたＰＣ−１の代わりにＰＣ−５を用いた以外は実施例１と同様の方法で感光体を作製し、同様の方法で初期表面電位（Ｖ0）、光照射（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（ＶR）、半減露光量（Ｅ1/2）及び摩耗による電荷輸送層の減少量を測定した。結果を表１及び表２に示す。
【０２２８】
実施例６（参考例）
実施例４で用いた末端アミノ化ポリシロキサンの代わりに末端アミノ化ポリ（２，２，２−トリフロロエチルメタクリレート）（分子量約１．２万）３ｇを用いた以外は実施例４と同様の操作を行い、１０．８ｇのポリカーボネート系グラフト共重合体（ＰＣ−６）を得た。
【０２２９】
このようにして得られたポリカーボネート系グラフト共重合体の塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］は０．８６ｄｌ／ｇであった。
実施例１で用いたＰＣ−１の代わりにＰＣ−６を用いた以外は実施例１と同様の方法で感光体を作製し、同様の方法で初期表面電位（Ｖ0）、光照射（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（ＶR）、半減露光量（Ｅ1/2）及び摩耗による電荷輸送層の減少量を測定した。結果を表１及び表２に示す。
【０２３０】
比較例１
ビスフェノールＺを原料とし下記繰り返し単位からなるポリカーボネート（還元粘度：０．８４ｄｌ／ｇ）をバインダー樹脂として用い、電荷輸送物質として（Ｃ−１１）を用いて実施例１と同様にして電子写真感光体を作製した。結果を表１及び表２に示す。
【０２３１】
【化８８】
0003730634.tif 000087
【０２３２】
【表１】
0003730634.tif 000088
【０２３３】
【表２】
0003730634.tif 000089
【０２３４】
【発明の効果】
本発明の電子写真感光体は、結晶化やゲル化を起こしにくく、耐摩耗性に優れるポリカーボネート系グラフト共重合体を感光層中のバインダー樹脂として用いていることから、電子写真感光体の作製時において塗工液が白化（ゲル化）したりすることがなく、導電性基板と感光層の接着性及び感光体表面の耐摩耗性が向上し、電子写真感光体の長寿命化が図れるとともに、繰り返し長時間使用しても優れた電子写真特性を維持することができる。