(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークの溶融蒸発部の形状に応じた加工スポット形状を所定倍に拡大した透光部を有するマスクに対して、前記透光部より大きな径でレーザ光を照射し、その透過光で形成される前記透光部の実像を縮小投影光学系により前記加工スポット形状まで縮小してワーク上に結像させることにより，レーザ光が照射された部分を溶融蒸発させてワークを成形加工するレーザ加工方法において、ワークを切断可能な幅の方形加工スポット形状を所定倍に拡大した透光部を有する前記マスクを用いて、その実像をワークの側面から照射し、その結像位置を前記レーザ光の照射光軸方向に沿って移動させながら、当該ワークを切断加工する場合に、ワーク光軸に直交するワーク基準面に対して形成しようとする切断面の角度を切断角βとし、前記透光部から縮小投影光学系に入射される透過光の幅をｄ、縮小投影光学系の焦点距離をｆとしたときに、レーザ光の照射光軸（Ｌｘ）に対してワーク光軸（Ｆｘ）を、
α＝（π／２）＋ｔａｎ−１［ｄ／（２ｆ）］−βで表わされるセッティング角αにセットすることを特徴とするレーザ加工方法。
【請求項２】
ワークがガラスキャピラリー内に光ファイバの先端を挿通し接着固定してなる請求項１記載のレーザ加工方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ワークにレーザ光を照射してその照射スポットを溶融蒸発させることによりワークを成形加工するレーザ加工方法に関し、特に光ファイバの先端加工に用いて好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
光ファイバは光伝送システムの伝送径路として用いられるもので、光ファイバ同士や、光ファイバと光デバイスとを接続する際に生ずる接続損失は、その先端形状や先端の加工精度によって影響される。したがって、光ファイバの先端を、予め設計された形状通りに精度良く、しかも高効率・低コストで加工できることが望ましい。
【０００３】
現在知られている光ファイバの先端加工には、ファイバクリーバなどを用いた機械的方法、エッチングによる化学的方法、レーザを用いた光学的方法などがある。ファイバクリーバなどを用いた機械的方法は、光ファイバを直線的に鋭利に切断するときに便利であるが、先端を半球面、円錐面、楔形などに加工することはできない。また、エッチングによる化学的方法によれば理論的には任意の形状に加工可能であるが、その形状制御が極めて困難であり、時間がかかるため高効率で生産できない。
【０００４】
一方、レーザを用いた光学的方法は、例えばＣＯ２レーザのレーザ光を照射し、連続的に微小量ずつ光ファイバを溶融蒸発させることにより複雑な形状でも比較的容易に加工することができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、光ファイバの先端形状は夫々の仕様により異なり、連続的な微小加工を繰り返して所望の形状に成形しなければならないので、任意の形状に精度よく加工するにはレーザ光をレンズで細く絞って点状にする必要がある。このため、光ファイバの先端形状に応じてレーザ光の照射位置を制御するのが面倒なだけでなく、極めて高精度に照射位置制御が可能な高額の設備がなければ加工することができないという問題があった。
【０００６】
しかも、レンズで集光したビームのプロファイルは、焦点を頂点とした円錐状となるため加工部分が深くなるにつれ加工が難しくなり、またその加工断面が細いＶ字状端面になるので、加工時に発生するガス、ヒューム及び熱が滞留し易く、加工面を汚したり湾曲させるなどの問題点もあった。
【０００７】
この場合に連続発振型のレーザを用いれば、光ファイバ先端に長時間連続して高出力のレーザ光が照射されるので、その周囲まで加熱されて光ファイバが変形し、設計通りに加工することができず、パルス発振型のレーザを用いれば、熱の影響は少なくなるが、その分、加工時間が長くかかる。
【０００８】
そこで本発明は、熱の影響による加工精度の低下を抑え、レーザ光の照射位置を加工形状に従って厳密に制御するまでもなく、光ファイバ等のワークを複雑な形状でも予め設計された形状通りに短時間で精度良く加工できるようにすることを技術的課題としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するために、請求項１の発明は、ワークの溶融蒸発部の形状に応じた加工スポット形状を所定倍に拡大した透光部を有するマスクに対して、前記透光部より大きな径でレーザ光を照射し、その透過光で形成される前記透光部の実像を縮小投影光学系により前記加工スポット形状まで縮小してワーク上に結像させることにより，レーザ光が照射された部分を溶融蒸発させてワークを成形加工するレーザ加工方法において、ワークを切断可能な幅の方形加工スポット形状を所定倍に拡大した透光部を有する前記マスクを用いて、その実像をワークの側面から照射し、その結像位置を前記レーザ光の照射光軸方向に沿って移動させながら、当該ワークを切断加工する場合に、ワーク光軸に直交するワーク基準面に対して形成しようとする切断面の角度を切断角βとし、前記透光部から縮小投影光学系に入射される透過光の幅をｄ、縮小投影光学系の焦点距離をｆとしたときに、レーザ光の照射光軸（Ｌｘ）に対してワーク光軸（Ｆｘ）を、
α＝（π／２）＋ｔａｎ−１［ｄ／（２ｆ）］−βで表わされるセッティング角αにセットすることを特徴としている。
【００１０】
この発明によれば、レーザ光が照射されるマスクに、ワークの溶融蒸発部の形状に応じた加工スポット形状を所定倍に拡大した透光部が形成されているので、透光部より大きな径で照射されたレーザ光はマスクを透過した後、透光部の形状に等しいスポット形状の光ビームとなる、この光ビームが縮小投影光学系に入射されると、透光部の実像が加工スポット形状まで縮小されてワーク上に結像されるので、その加工スポット形状内にあるワークが溶融蒸発し、所望の形状に加工される。
【００１１】
しかも、レーザ光がマスクに形成された透光部を透過したときに、光の干渉により光ビームのエッジ部分の光強度が高くなるので、ワークに照射されたときに非溶融蒸発部に与える熱の影響が少なく、溶融蒸発部のみを溶融させることができる。
【００１２】
このように、透光部を所望の形状に形成するだけで、その透光部を透過したレーザ光が透光部の形状を縮小した所定の加工スポット形状で照射されるので、レーザ光の照射位置を制御する必要がない。また、レーザ光を点状に集光させずに、溶融蒸発部の形状に応じた加工スポット形状で照射するようにしているので、溶融蒸発部を全体的に溶融蒸発させることができ、短時間で加工することができるだけでなく、パルスレーザを用いることにより熱の影響も抑えられ、加工精度も向上する。
【００１３】
ここで、結像位置の加工スポット形状の光ビームをレーザ光の照射光軸に沿って移動させながら、光ファイバなどを切断加工する場合に、光ファイバの光軸をレーザ光の照射光軸と直交させておくと、切断面が照射光軸に対して傾斜してしまう。
【００１４】
しかしながら請求項１の発明では、ワーク光軸に直交するワーク基準面に対して形成しようとする切断面の角度を切断角βとし、前記透光部から縮小投影光学系に入射される透過光の幅ｄ、縮小投影光学系の焦点距離ｆとしたときに、レーザ光の照射光軸に対してワーク光軸を、
α＝（π／２）＋ｔａｎ−１［ｄ／（２ｆ）］−βで表わされるセッティング角αに傾けてセットして加工するようにしており、従って、所望の切断角βに応じて、光ファイバなどのワークをレーザ光の照射角度に対してセッティング角αに傾けてセットすれば、その切断面を切断角βに仕上げることができる。
【００１５】
また請求項２の発明では、ガラスキャピラリー内に光ファイバ先端を挿通し接着固定したワークにレーザ光を照射してそのレーザ光が照射された部分を溶融蒸発させることにより、キャピラリーの剛性により、レーザ加工時に生じるファイバーの微小な振動を抑制できるので精度の高い加工を行うことができる。
【００１６】
尚、本発明において、レーザ光としては、ＴＥＡ−ＣＯ２レーザからパルス発振された平坦なビームプロファイルのマルチモード光を用いることができ、例えば、レーザ光を、パルス幅０.１〜５０μｓ、波長９〜１１μｍで照射すると共に、所要回数照射するときに１００Ｈｚ以下の照射間隔で照射するようにすることができる。
【００１７】
更に本発明では、マルチモードのＴＥＡ−ＣＯ２レーザ（横方向励起大気圧レーザ：Transverse Excited Atmosphere CO２ laser）を用いれば、光強度がガウス分布に従うガウシアンビームではなく、平坦なビームプロファイルを有する高出力のマルチモード光が、急峻な立ち上がりを持った短パルス状に出力されるので、比較的広い加工スポット形状でワークに照射しても、その全域にわたって均一に、且つ、非溶融蒸発部に影響を与えることなく、溶融蒸発部のみを溶融させることができ、生産効率が高い。また、このレーザはパルス発振型であるので、熱によるワークの変形を起こすことも少ない。
【００１８】
また、ＴＥＡ−ＣＯ２レーザを用いた場合、例えば、波長９〜１１μｍのレーザ光を照射したときに出力が最も高く、また、パルス幅０.１〜５０μｓ、波長９〜１１μｍで照射すれば、熱による影響が少ないことが確認された。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて具体的に説明する。図１は本発明の方法を適用するレーザ加工装置を示す説明図、図２はマスクと、加工された光ファイバ先端形状を示す説明図、図３は他の実施形態を示す説明図である。
【００２０】
図１に示すレーザ加工装置１は、レーザ光源装置２から出射されたレーザ光を、ワークとなる光ファイバ３の側面から照射してその照射スポットを溶融蒸発させることにより光ファイバの先端加工を行なうものである。レーザ光源装置２から光ファイバ３に至るレーザ光の光路Ｌ上には、光ファイバ先端の溶融蒸発部４の形状に応じた加工スポット形状Ｓを所定倍（例えば２０倍）に拡大した透光部Ｈを有するマスク５と、透光部Ｈの実像を前記加工スポット形状Ｓまで縮小して光ファイバ３上に結像させる縮小投影光学系６を備えている。
【００２１】
レーザ光源装置２は、パルス発振型のＴＥＡ−ＣＯ２レーザ７と、そのレーザ光をマスク５の透光部Ｈより大きな径まで拡径させて平行ビームを形成する拡大コリメートレンズ系８を備えている。
【００２２】
ＴＥＡ−ＣＯ２レーザ７は、ピークパワーが大きく平坦なビームプロファイルを持ったマルチモード光を、急峻な立ち上がりを持った短パルス状に出力することができるので、大きな光パルスエネルギーを短時間で光ファイバに与えることができ、非溶融蒸発部に熱の影響を与えることなく溶融蒸発部のみを溶融させる場合に適している。
【００２３】
なお、ＴＥＡ−ＣＯ２レーザ７は、ピークパワー１〜１００００ｋＷ、パルス幅０.１〜５０μｓ、発振波長は９〜１１μｓで作動させることが望ましく、石英光ファイバを加工する場合の最適値は、ピークパワー２００ｋＷ、パルス幅０.２μｓ、発振波長は１０.６μｓであった。
【００２４】
また、所要回数照射するときは、１００Ｈｚ以下の照射間隔で照射するようになされている。したがって、最長パルス幅５０μｓのレーザ光を所要回数続けて照射する場合、レーザ光が照射されない冷却時間が９９５０μｓもあり、その間にレーザ光により生じた熱が逃げるので、光ファイバ先端の非溶融蒸発部に熱が蓄積され難い。
【００２５】
そして、ＴＥＡ−ＣＯ２レーザ７から照射され、拡大コリメートレンズ系８により透光部Ｈより大きな径の平行ビームにされたレーザ光は、マスク５の透光部Ｈを透過すると、透光部Ｈの形状に等しいスポット形状を有する平行ビームとなる。
【００２６】
マスク５に形成された透光部Ｈは、光ファイバ３に照射されるレーザ光の加工スポット形状Ｓを所定倍（例えば２０倍）に拡大したもので、この加工スポット形状Ｓは、図２に示すように、予め設計された光ファイバの先端をレーザ光の照射方向から見たときの形状に応じて決定される。
【００２７】
例えば、図２（ａ）に示すように、光ファイバ３の先端を楔形及び円錐形に形成する場合は、レーザ光の加工スポット形状Ｓを、光ファイバ３の非溶融蒸発部となる楔部３ａ及び円錐部３ｂに光が照射されず、それより先端側の溶融蒸発部４にのみ光が照射される形状とする。そして、この加工スポット形状Ｓを形成するために、光ファイバ３の先端形状に対応して透光部Ｈに三角形状の遮光部５ａを形成したマスク５を用いている。
【００２８】
また、図２（ｂ）に示すように、光ファイバ３の先端を円柱面及び半球面に形成する場合は、レーザ光の加工スポット形状Ｓを、光ファイバ３の非溶融蒸発部となる円柱部３ｃ及び半球部３ｄに光が照射されず、それより先端側の溶融蒸発部４にのみ光が照射されるとする。そして、この加工スポット形状Ｓを形成するために、光ファイバ３の先端形状に対応して透光部Ｈに半円形の遮光部５ｂを形成したマスク５を用いている。
【００２９】
さらに、図２（ｃ）に示すように、光ファイバ３の先端を放物面及び回転放物面に形成する場合は、レーザ光の加工スポット形状Ｓを、光ファイバ３の非溶融蒸発部となる放物面部３ｅ及び回転放物面部３ｆに照射されず、それより先端側の溶融蒸発部４にのみ光が照射される形状とする。そして、この加工スポット形状Ｓを形成するために、光ファイバ３の先端形状に対応して透光部Ｈに放物線形の遮光部５ｃを形成したマスク５を用いている。
【００３０】
なお、透光部Ｈの拡大倍率は、加工スポット形状Ｓの大きさに応じて決定され、マスク５の大きさを１０ｍｍ×１０ｍｍ程度としたときに、透光部Ｈの大きさは最大８ｍｍ×８ｍｍ程度となり、これより、直径２００〜４００μｍ程度の光ファイバ３の先端を加工する場合には、拡大倍率を２０倍程度にすればよいことがわかる。
【００３１】
次いで、このマスク５に照射されるレーザ光で形成される透光部Ｈの実像を、縮小投影光学系６により加工スポット形状Ｓの大きさまで縮小して光ファイバ３上に結像させる。縮小率は透光部Ｈを形成したときの拡大倍率の逆数であり、透光部Ｈが加工スポット形状Ｓの２０倍であれば、縮小率は１／２０である。
【００３２】
縮小投影光学系６として焦点距離ｆのレンズ９を用いた場合、マスク５からレンズ９までの距離をａ、レンズ９から光ファイバ３までの距離をｂとし、縮小率Ｍとすると、マスク５とレンズ９と光ファイバ３は次の二式を満たすように配置される。
（１／ｆ）＝（１／ａ）＋（１／ｂ）…（１）
Ｍ ＝ ｂ／ａ …………………（２）
【００３３】
これにより、マスク５の透光部Ｈを透過して、透光部Ｈの形状に等しいスポット形状を有する平行ビームは、縮小投影光学系６のレンズ９により焦点位置で集光された後、光ファイバ３上に加工スポット形状Ｓの大きさの実像を結ぶ。
【００３４】
なお、光ファイバ３は回転テーブル１０に支持され、その先端を円錐形、回転放物面、半球面などの軸対称形状に加工する場合は、光ファイバ光軸Ｆｘを中心にその光ファイバ３を所定角度ずつステップ的又は連続的に回転させながらレーザ光を照射させる。
【００３５】
以上が本発明に係るレーザ加工装置１の一構成例であって、次に、本発明に係るレーザ加工方法を使用して光ファイバ３の先端を軸対称の回転放物面に加工する場合を例にとって説明する。
【００３６】
直径２３０μｍの光ファイバ３の先端に、長さ方向に２５０μｍの回転放物面を形成する場合、図２（ｃ）に示すように、加工スポット形状Ｓは、レーザ光が光ファイバ３の非溶融蒸発部となる回転放物面部３ｆに照射されず、それより先端側の溶融蒸発部４にのみ照射される形状とする。なお、加工スポット形状Ｓは、溶融蒸発部４を完全に蒸発させることができるように、溶融蒸発部４より十分大きい４００μｍ×４００μｍ程度の大きさに想定している。
【００３７】
そして、この加工スポット形状Ｓを形成するために、マスク５に、加工スポット形状Ｓの２０倍の形状の透光部Ｈ（８ｍｍ×８ｍｍ）を形成したマスク５が用いられ、当該透光部Ｈには非溶融蒸発部３ｆの形状に対応した放物線形の遮光部５ｃが形成されている。
【００３８】
また、縮小率Ｍ＝１／２０となるので、縮小投影光学系６として焦点ｆ＝１００ｍｍのレンズを用いた場合、前記（１）（２）式より、マスク５からレンズ９までの距離ａ＝２１００ｍｍ、レンズ９から光ファイバ３までの距離ｂ＝１０５ｍｍとなるので、マスク５及びレンズ９、光ファイバ３をそれぞれ所定の位置に配する。
【００３９】
この状態で、光ファイバ３を回転テーブル１０にセットして、所定角度（例えば３０°）ずつステップ的に回転させながら、同じ位置でレーザ光源装置２からレーザ光を所要回数パルス発振させて光ファイバ３の先端加工を行なう。
【００４０】
まず、ＴＥＡ−ＣＯ２レーザ７からは、波長１０.６μｍ、パルス幅０.２μｓ、スポット形状が略正方形、ピークレベルが約２００ｋＷでフラットなマルチモードのレーザ光が、１００Ｈｚ以下の周波数でパルス発振され、このレーザ光が拡大コリメートレンズ系８で一辺９ｍｍ程度の正方形の平行ビームに拡大されて、マスク５に照射される。
【００４１】
マスク５の透光部Ｈを透過したレーザ光は、光の干渉により、そのエッジ部分の光強度が高くなって、縮小光学系６のレンズ９に入射され、その焦点で一点に集光された後、光ファイバ３上に透光部Ｈの１／２０の実像を結ぶ。即ち、光ファイバ３の非溶融蒸発部となる回転放物面３ｆにレーザ光が照射されず、それより先端側の溶融蒸発部４にのみ照射される縦横４００μｍ×４００μｍ程度の加工スポット形状Ｓのレーザ光が、光ファイバ３上に照射される。これにより、その加工スポット形状Ｓ内にある光ファイバ３の溶融蒸発部４が蒸発されて、所望形状に加工される。
【００４２】
特に、マルチモードのＴＥＡ−ＣＯ２レーザ７を用いれば、平坦なビームプロファイルを有する高出力のマルチモード光が出力されるので、比較的広い加工スポット形状Ｓで光ファイバ３に照射しても、その全域にわたって均一に溶融蒸発部４を溶融蒸発させることができ、生産効率が高い。また、このレーザ７はパルス発振型であるので、光ファイバ３の非溶融蒸発部に与える熱の影響も少なく、加工精度も向上する。
【００４３】
しかも、このレーザ光はもともとビームプロファイルがフラットでピークパワーが大きいだけでなく、透光部Ｈを透過することにより、加工スポット形状Ｓのエッジ部分の光強度がより高くなるので、光ファイバ３の非溶融蒸発部に与える熱の影響が少なく、溶融蒸発部４のみ確実に溶融蒸発させることができる。
【００４４】
このように、マスク５の透光部Ｈを所望の形状に形成するだけで、その透光部Ｈを透過したレーザ光が、透光部Ｈの形状を縮小した所定の加工スポット形状Ｓで照射されるので、レーザ光の照射位置を光ファイバ３の先端形状に応じて制御する必要がない。
【００４５】
したがって、光ファイバ３を所定角度（３０°ずつ）回転させながら、レーザ光源装置２からレーザ光を所要回数ずつパルス発振させるだけで、その先端形状を回転放物面３ｆに加工することができる。
【００４６】
なお、この場合に、図３に示すように、光ファイバ３を固定しておき、光ファイバ３の周囲からレーザ光が照射されるように、照射光軸を回転可能に形成してもよい。図３のレーザ加工装置１１は、レーザ光源装置２から照射されたレーザ光が、ファイバ光軸Ｆｘの延長線上に配されたミラー１２及び光ファイバ３の側方に配された衛星ミラー１３を反射して光ファイバに照射されるように成っている。また、ミラー１２及び衛星ミラー１３がファイバ光軸Ｆｘを中心に一体的に回転可能に配され、これにより、固定された光ファイバ３の周囲から光ファイバ３に照射することができる。
【００４７】
図４は、ガラスキャピラリー２０内に光ファイバ２１の先端を挿通し接着固定したワーク２２にレーザ光を照射して、ワーク２２を切断すると共に先端加工を行う方法を示したものである。マスク２３には、ワーク２２を切断可能な幅の方形加工スポット形状Ｓを所定倍に拡大した透光部Ｈが形成され、その実像をワーク２２の側面から照射し、その結像位置を前記レーザ光の照射光軸方向に沿って移動させながら、当該ワーク２２を切断加工する。
【００４８】
ガラスキャピラリー２０は、石英ガラス、ホウ珪酸ガラス、ソーダガラス等任意のものを採用し得るが、石英ガラスが好ましい。また、ガラスキャピラリー２０の外径としては、ファイバの振動を抑え、且つ、キャピラリー２０自体の強度を維持するために、ある程度の太さが必要であるが、太すぎると加工に時間がかかるので、光ファイバ２１の直径の２倍から２０倍が実用的である。
【００４９】
そして、レーザ加工を行う場合に、図４（ａ）に示すように、ファイバ光軸（ワーク光軸）Ｆｘをレーザ光の照射光軸Ｌｘに直交させて、透光部Ｈの実像の結像位置をレーザ光の照射光軸Ｌｘに沿って移動させながらワーク２２を切断すると、その切断面２４は、レーザ光軸Ｌｘに対して、所定角度傾くことが判明した。
【００５０】
この傾斜角をθし、透光部Ｈから縮小光学系６のレンズ９に入射される透過光の幅をｄ、レンズ９の焦点距離をｆとしたときに、傾斜角θは次式で表わされる。
θ＝ｔａｎ−１［ｄ／（２ｆ）］
【００５１３】
また、レーザ光の照射光軸Ｌｘに対してファイバ光軸Ｆｘを所定の角度αだけ傾けて、前述と同様に加工すると、ファイバ光軸Ｆｘに直交するワーク基準面２５に対する切断面２４の角度βは、
β＝（π／２）＋θ−αβ＝（π／２）＋ｔａｎ−１［ｄ／（２ｆ）］−αで表わされる。
【００５２】
これより、ワーク２２の切断面２４をワーク基準面２５に対して任意の切断角βに仕上ようとする場合、図４（ｂ）に示すように、ファイバ光軸Ｆｘをレーザ光の照射光軸Ｌｘに対して次式で表わされるセッティング角αだけ傾けてセットすればよい。
α＝（π／２）＋ｔａｎ−１［ｄ／（２ｆ）］−β
【００５３】
たとえば、切断面２４をファイバ光軸Ｆｘに直交するワーク基準面２５と一致させたい場合は、β＝０であるから、セッティング角αは、
α＝（π／２）＋ｔａｎ−１［ｄ／（２ｆ）］
となる。
【００５４】
なお、図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、ワーク２６の加工幅が加工スポット形状Ｓの幅よりも広い場合は、その結像位置を、レーザ光の照射光軸Ｌｘに対して直交する方向に往復移動させながら、レーザ光の照射光軸Ｌｘ方向にも移動させてワーク２６を加工すればよい。
【００５５】
なお、上述の実施例の説明では、光ファイバ３、２１の先端加工及び切断加工を行なう場合について説明したが、本発明はこれに限らず、任意の材料の加工にも適用することができる。
【００５６】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、加工スポット形状に応じた形状の透光部が形成されたマスクを用いているので、レーザ光の照射位置を制御することなく短時間で、また、熱の影響による加工精度の低下を抑えて、光ファイバなどのワークを複雑な形状に短時間で加工することができるという大変優れた効果を奏する。
【００５７】
特に本発明の請求項１の発明では、光ファイバなどのワークの切断面を、所望の切断角βに仕上げることができる。
【００５８】
また請求項２の発明では、キャピラリーの剛性により、レーザ加工時に生じるファイバーの微小な振動を抑制できるので精度の高い加工を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るレーザ加工装置を示す説明図。
【図２】光ファイバの先端形状とマスクを示す説明図。
【図３】他の実施形態を示す説明図。
【図４】他の実施形態を示す説明図。
【図５】他の実施形態を示す説明図。
【符号の説明】
１………レーザ加工装置
２………レーザ光源装置
３………光ファイバ
Ｌ………光路
４………溶融蒸発部
Ｓ………加工スポット形状
Ｈ………透光部
５………マスク
６………縮小投影光学系
７………ＴＥＡ−ＣＯ２レーザ
８………拡大コリメートレンズ系
９………レンズ
１０………回転テーブル
２０………ガラスキャピラリー
２１………光ファイバ
２２………ワーク
２３………マスク
２４………切断面
２５………ワーク基準面
２６………ワーク
Ｌｘ………レーザ光軸
Ｆｘ………ファイバ光軸
【図１】
0003818580.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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