(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で示される化合物を含有する組成物を硬化してなり、かつ、屈折率が    １．４５以下であることを特徴とする光学薄膜。
【化１】
0003861380.tif 000011
【請求項２】
膜厚が３０〜７００ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の光学薄膜。
【請求項３】
一般式（１）で示される化合物が、ｎを４〜１２のうちのいずれかの整数とする化    合物であることを特徴とする請求項１または２記載の光学薄膜。
【請求項４】
一般式（１）で示される化合物が、Ａ1，Ａ2，Ａ3 ，Ａ4 のいずれかにアクリロイ    ル基をもっていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学薄膜。
【請求項５】
一般式（１）で示される化合物１００重量部に対し、０〜２０重量部の多官能（メ    タ）アクリレートを含有していることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の    光学薄膜。
【請求項６】
一般式（１）で示される化合物１００重量部に対し、０〜１００重量部の単官能（    メタ）アクリレートを含有していることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載    の光学薄膜。
【請求項７】
光により硬化されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学薄    膜。
【請求項８】
一般式（１）で示される化合物を含有する組成物の溶剤を調整し、基材の表面に塗    布し、光を照射して硬化せしめ、請求項１〜７のいずれかに記載の光学薄膜を形成す    ることを特徴とする光学薄膜の形成方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれかに記載の光学薄膜を基材表面に形成してなることを特徴と    する光反射防止性物品。
【請求項１０】
基材表面と光学薄膜との中間に、有機および／または無機系バインダーと金属化合    物の微粒子とからなり、かつ屈折率が基材の屈折率の±０．０２以内のハードコート    層が形成されていることを特徴とする請求項９記載の反射防止性物品。
【請求項１１】
ハードコート層と光学薄膜との中間に、光学薄膜およびハードコート層の屈折率よ    りも高い屈折率を有する高屈折率膜が積層されていることを特徴とする請求項１０記    載の反射防止性物品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、含フッ素化合物を含有する耐擦傷性に優れた低屈折率の光学薄膜およびその形成方法、ならびに前記の光学薄膜を利用した反射防止性物品に関する。本発明の光学薄膜を、ブラウン管や液晶表示装置、ＣＲＴ用反射防止フィルター、プラズマディスプレイ用反射防止フィルター、ガラス、レンズなどの物品表面に形成させ、光線の反射防止に用いることができる。
【０００２】
なお、本発明で光学薄膜とは、基材表面に透明な薄膜が形成され、基材を照射する光線が基材に入射する際、屈折率の異なる境界で交差して干渉をおこさせる薄膜をいう。光学薄膜の厚さは、通常、１μｍ以下である。また、屈折率はとくに説明しない限り、ナトリウム発光スペクトルのＤ線における値である。また、片面反射率（たんに反射率ともいう）は、波長が５４０ｎｍの光線における測定値である。
【０００３】
【従来の技術】
従来の光反射防止性物品の多くは、表面に単層の低屈折率光学薄膜、または低屈折率と高屈折率の光学薄膜を交互に積層して光の反射を防止している。光学薄膜の反射光は、光学薄膜表面や薄膜境界面における各反射光の干渉光であって、反射率は光学薄膜の屈折率と膜厚により低減または増加するが、原則的に屈折率が低いほど反射率の低減に有利である。光学薄膜は蒸着やスパッタなどを利用して物品（基材）の表面に無機物被膜を形成するのが一般的である。得られた反射防止膜は低反射性で耐擦傷性に優れるが、真空装置などを用いるので生産性が悪く、製造コストが高い。また、製造工程で基材が加熱されるので使用できる素材が限られるという問題があった。
【０００４】
前記の問題を解決するために、特開平４−３５５４０１号公報や特開平６−１８７０５号公報などには、低屈折率の有機物質を溶媒に溶解し、基材にコーティングして低屈折率反射防止膜を形成する溶液コーティング法が開示されている。溶液コーティング法を利用すれば、無機薄膜中で最も屈折率の低いフッ化マグネシウム薄膜よりもさらに低い屈折率を有するフッ素含有樹脂をコーティングすることができる。しかも、溶液コーティングは生産性が高く経済的である。
【０００５】
しかし、特開平４−３５５４０１号公報および特開平６−１８７０５号公報に記載の含フッ素樹脂からなる有機薄膜は、含フッ素樹脂硬化物の架橋密度が低いので表面硬度が低く、耐擦傷性に問題があった。さらに、コーティングした後、加熱硬化を必要とするため使用できる基材が限定されていた。この他、米国特許第３，３１０，６０６号公報には、架橋密度が高く表面硬度の高い含フッ素樹脂として、パーフルオロジビニルエーテルの硬化物が記載されているが、溶剤に不溶で高温、高圧下で成型する必要があるため光学薄膜を得ることができない。
【０００６】
また、特開平８−２３９４３０号公報には、特定構造の含フッ素ジ（メタ）アクリレート１００重量部に対して、多官能（メタ）アクリレート１０〜９０重量部含有する揆水・撥油性及び耐擦傷性を備えた含フッ素硬化性組成物が開示されている。しかし、この硬化性組成物は屈折率が１．４５を越える傾向があり、反射防止性を得にくい。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、低反射性薄膜を形成することのできる化合物、低反射性であって、硬化後は、耐擦傷性や耐久性に優れ、かつ容易に形成することのできる光学薄膜とその形成方法、および表面に前記光学薄膜を形成した反射防止性物品を提供することを課題に研究の結果、完成されたものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、前記の課題を解決するため、新規合成物を含む各種の化合物を合成して光学的特性、力学的特性などを測定し、前記の光学薄膜への利用可能性を検討した。その結果、化２の一般式（１）に示される含フッ素化合物が低屈折率であって、硬化後の硬度が大きく、光学薄膜として極めて有望であることを見出だした。すなわち、本発明は、一般式（１）で示される化合物を含有する組成物を硬化してなり、かつ、屈折率が１．４５以下であることを特徴とする光学薄膜を提供する。
【０００９】
【化２】
0003861380.tif 000002
前記光学薄膜の厚さは、３０〜７００ｎｍが実用上好適である。また、光学薄膜に    用いる一般式（１）の化合物では、ｎが４〜１２のうちのいずれかの整数の化合物が    好ましい。さらに、一般式（１）の化合物中、Ａ1，Ａ2，Ａ3，Ａ4 のいずれかにア    クリロイル基を有する化合物が好適である。また、光学薄膜としては、一般式（１）    の化合物１００重量部に対し、０〜２０重量部の多官能（メタ）アクリレートを含有    させ、および／または一般式（１）の化合物１００重量部に対し、０〜１００重量部    の単官能（メタ）アクリレートを含有させることができる。本発明の光学薄膜は、光    によって硬化させるとよい。前記の光学薄膜は、一般式（１）の化合物を含有する組    成物の溶剤を調整し、基材の表面に塗布し、光を照射して硬化して形成することがで    きる。
【００１０】
また、本発明は、前記のいずれかの光学薄膜を基材表面に形成してなる光反射防止性物品を提供する。本発明の光反射防止性物品においては、基材の表面と光学薄膜との中間に、有機および／または無機系バインダーと金属化合物の微粒子とからなり、かつ屈折率が基材の屈折率の±０．０２以内のハードコート層を形成してもよく、さらに、ハードコート層と光学薄膜との中間に、光学薄膜およびハードコート層の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率膜を重ねて形成させることもできる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明を具体的な実施形態例をあげながら、順次説明する。
まず、前記の一般式（１）で示される含フッ素化合物の製造方法を説明する。一般式（１）の含フッ素化合物のｄが０の場合は、化３に一般式（２）で示される（メタ）アクリル酸、または一般式（３）で示される（メタ）アクリル酸クロライドと、化４に一般式（４）で示される含フッ素化合物とをエステル化反応させて製造することができる。なお、一般式（４）の含フッ素化合物は、一般式（５）で示される化合物を加水分解して合成することができる。
【００１２】
【化３】
0003861380.tif 000003
【００１３】
【化４】
0003861380.tif 000004
【００１４】
【化５】
0003861380.tif 000005
また、一般式（１）に示される化合物のｄが１の場合は、前記一般式（４）で示される含フッ素化合物と、化６に一般式（６）で示されるイソシアネート化合物とをウレタン化反応させることにより合成することができる。
【００１５】
【化６】
0003861380.tif 000006
一般式（６）のｃが１のイソシアネート化合物ではｂが２の化合物を製造しやすいので、好ましく利用することができる。ウレタン化反応による合成は、容易で副反応生成物が少なく一般的に利用しやすい。とくに、光学薄膜として利用する場合には、光学薄膜を形成するための塗料を調整する工程で反応させることのできる、ウレタン化反応を好ましく使用できる。
【００１６】
次に、一般式（１）に示される化合物は、式中のＡ1，Ａ2，Ａ3，Ａ4のうちの少な    くとも１つに、−Ｈ以外の一般式（ａ）で示される有機基、かつウレタン残基を導入    しておくことにより、ラジカル付加重合により硬化することができる。そして、重合    して得られる硬化物質は屈折率が低く、通常は１．４５を超えないという特性を有す    ることが見出だされた。さらに、Ａ1，Ａ2，Ａ3，Ａ4 のうちの少なくとも２つに、    −Ｈ以外の前記有機基を導入しておくことにより、重合して得られる硬化物質が高い    硬化性能を有することも判明し、たとえば、低屈折率の光学薄膜に好適であることが    判った。この他、各種の表示、展示部材、透明部材、光学機器の構成素材への利用が    期待される。
【００１７】
さて、以下に、一般式（１）の化合物を本発明の低屈折率光学薄膜として利用する場合について説明する。一般式（１）の化合物は、ラジカル熱重合、光重合、電子線重合などにより重合し、硬化することができる。光学薄膜に利用する場合には、重合（硬化）速度が速いことと設備の簡便性とから、紫外線を用いる光重合（硬化）が好適である。光重合においては、一般的にメタクリロイル基よりもアクリロイル基である方が進み易く、従って光学薄膜を形成するには、Ａ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４のいずれかがアクリロイル基を持つ化合物が好適である。なかでもアクリロイル基を２つ以上有する化合物が好ましい。
【００１８】
一般式（１）の化合物を光学薄膜に利用するには、硬化物の屈折率ができるだけ低いことが望ましく、ｎが２〜１４の整数である化合物を好ましく利用できる。ｎが２未満では屈折率が十分に低くなりにくく、１４より大きくなると光学薄膜の硬度が十分に高くなりにくい傾向が見られる。ｎは４〜１２の整数であればさらに好適である。
【００１９】
本発明の光学薄膜では一般式（１）で示される含フッ素化合物を少なくとも４５重量％含むことが必要であるが、前記含フッ素化合物のほかに、硬度、上下層との密着性、屈折率の調整やその他の性能を向上する目的で、他の多官能モノマを添加することができる。添加量は、前記の含フッ素化合物１００重量部に対し、２０重量部以下、望ましくは１５重量部以下である。多官能モノマを２０重量部以上添加すると、屈折率が１．４５を超える場合があり、所望の反射防止性能を得ることが難しくなる傾向がある。
【００２０】
添加する多官能モノマとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，１，１−トリス［（メタ）アクリロイルオキシエトキシエトキシ］プロパン、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレートなどがあげられる。これらの多官能モノマは単独または２種以上を混合して添加することができる。本発明の光学薄膜に好ましい添加多官能モノマとして、硬度を向上する効果の高い３官能以上の（メタ）アクリレート類があげられる。
【００２１】
上記の他に、不飽和二重結合を一個有する含フッ素またはフッ素を含まない単官能モノマを一般式（１）の含フッ素化合物１００重量部に対し、１００重量部以下、望ましくは９０重量部を超えない量および重合開始剤を添加することができる。単官能モノマが１００重量部を越えると、光学薄膜の硬度が低くなる傾向がある。不飽和二重結合を一個有する含フッ素単官能モノマとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデカノール（メタ）アクリレート、β−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレートなどがあげられる。これらのモノマや化合物は、適宜、硬度、屈折率の調整、コーティング性の調整などのために加えられ、硬化して光学薄膜とすることができる。光学薄膜の屈折率を下げるためには、不飽和二重結合を１つ含むフッ素含有量の多い化合物を添加するのが好ましい。
【００２２】
さらに、フッ素を含まない単官能モノマとしては、メチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートなどがあげられるが、相溶性がよく、屈折率が１．４５を超えない硬化膜が得られるのであれば特別な制限はない。
【００２３】
さらにコーティング性を向上するためにレベリング剤やシラン系カップリング剤を添加してもよい。添加量は、好ましくは硬化物全体の０．０５〜５重量％、より好ましくは０．１〜２重量％である。
【００２４】
本発明の光学薄膜の形成方法を実施形態例をあげて説明する。本発明の光学薄膜は、低屈折率であるところから主に基材の反射防止に利用される。本発明光学薄膜は、一般式（１）で示される含フッ素化合物化合物を単体、または必要により多官能モノマ、重合開始剤、単官能モノマ、レベリング剤などを添加した組成物とし、そのまま、もしくは適当な溶剤で希釈し、塗剤にして基材表面に塗布してから、重合、硬化して形成するとよい。
【００２５】
溶剤としては、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール系；メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンなどのケトン系；酢酸エチルなどのエステル系；ハロゲン系；テトラヒドロフランなどがあげられる。
【００２６】
塗布手段は、基材に均一に塗布できる方法であれば特に制限はなく、スピンコート、ディップコート、ダイコート、スプレーコート、バーコーターコート、ロールコート、カーテンフローコートなどの塗布方法を利用することができる。
【００２７】
前記の塗剤は、所要の厚さに均一に基材に塗布した後、硬化される。本発明の光学薄膜を形成できる基材にとくに制限はないが、ガラス、ポリカーボネートやアクリル樹脂などの樹脂成形物、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどのフィルム類などの光反射防止に効果的に利用することができる。ほかにも撥水、撥油性能などの優れた特性を具備するので、それらを利用する薄膜を形成してもよい。基材の形状に制限はない。
【００２８】
重合、硬化には、熱重合法、電子線重合法、光重合法（紫外線重合法）などを利用するとよい。なかでも、基材の耐熱性によって制限されない光重合法が好ましい。光重合法を利用する場合には、通常、あらかじめ塗剤に光重合開始剤を添加しておくとよい。光重合開始剤として、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパノン−１などを利用できる。光重合開始剤の添加量は、硬化物組成全体の０．１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％である。光源には低圧または高圧水銀灯、キセノン灯などを用い、塗布基材に紫外線を照射して塗膜を重合、硬化する。
【００２９】
本発明の光学薄膜は基材に単層としてのみではなく、他の薄膜と積層して形成することもできる。たとえば、密着性や塗布性を向上させるために基材を表面処理したり、基材の硬度を向上させるためにハードコート層を積層して光反射防止性物品にすることができる。さらに、基材の反射防止効果を高めるために、高屈折率の光学薄膜を基材と本発明の光学薄膜との中間に形成することもできる。本発明の光学薄膜と高屈折率薄膜とを交互に積層することにより、より優れた反射防止膜を得ることもできる。高屈折率膜は、基材と同等もしくはそれ以上の屈折率が必要であり、具体的には少なくとも１．５８が好ましく、さらに好ましくは、１．６以上、より好ましくは、１．７以上である。
【００３０】
本発明の光学薄膜を他の薄膜と積層して形成した光反射防止性物品の好ましい実施態様例を説明する。基材のポリカーボネートやメタクリル樹脂などの表面に、硬度付与と干渉縞発生を防止するために基材との屈折率差が±０．０２以内，厚さ２〜５μｍ程度のハードコート層を設ける。ハードコート層は、有機系または無機系のバインダーに、必要によりＳｉ，Ｓｂ，Ｃｅ，Ｔｉ，Ｓｎなどの金属酸化物微粒子、すなわち一般的には可視光線の波長よりも小さい粒子径の微粒子を添加した塗膜を用いる。有機バインダーとしては、エポキシ樹脂硬化物やラジカル架橋重合した樹脂などが、無機系バインダーとしては、シラン系化合物の加水分解硬化物などがあるが、特に制限はない。硬化には一般的に熱硬化法よりも光硬化法を用いる方が硬化速度が速く好ましい。
【００３１】
高い反射防止性を得るために、ハードコート層の表面に前記の高屈折率薄膜を積層することができる。高屈折率膜の厚さは９０〜４００ｎｍ、より好ましくは１１０〜１８０ｎｍに形成する。高屈折率膜は、一般に金属酸化物の真空蒸着膜であるが、Ｓｂ，Ｃｅ，Ｔｉ，Ｓｎなどの金属酸化物を含み、（メタ）アクリレート類，シラン類，エポキシ樹脂類などをバインダーとして硬化された層である。金属酸化物に導電性がある場合は滞電防止性を付与できて好ましい。また、バインダーを光硬化法で硬化できれば硬化速度が速く好ましい。
【００３２】
基材上に透明な低屈折率膜を一層設けると、入射反射光の一部は空気と薄膜との境界で反射し、一部は薄膜と基材界面で反射し、全体として反射光はそれらの干渉光となって、結果的に基材の反射率を低減もしくは増加させる。低屈折率膜は、光が干渉作用をおこす程度に薄く、光反射防止性物品の光反射率は低屈折率膜の屈折率と膜厚に依存する。
【００３３】
低屈折率膜の厚さはλ／４ｎ（λ：薄膜内での光の波長、ｎ：薄膜の屈折率）の奇数倍が好ましい。光の波長に幅のある場合、λは光の中心波長を基準にする。本発明で中心波長は、５００〜５５０ｎｍに設定するのが好ましい。低屈折率膜の厚さは、膜の屈折率にもよるが具体的に３０〜７００ｎｍが好ましく、より好ましくは、４０〜１２０ｎｍの範囲である。低屈折率膜の厚さが３０ｎｍ未満の場合は、可視光における光干渉作用による反射率の低減が不十分になることがある。また、膜厚が７００ｎｍを超えると、反射率がほぼ空気と薄膜界面の反射のみに依存するようになるので、可視光の光干渉による反射率の低減が不十分になる傾向がある。例えば、屈折率１．６の基材に屈折率１．３８の薄膜を形成した場合、膜の厚さが適当であれば反射率は１％以下になるが、数μｍを超えると反射率は約３％になる。低屈折率薄膜の屈折率が１．４５以上であると比較的屈折率の低いポリメチルメタクリレートやガラスなどを基材とする物品の反射防止効果が顕著でなくなる。
【００３４】
【実施例】
本発明を実施例をあげてさらに具体的に説明する。なお、以下の実施例および参考例において用いた評価手段および測定手段は次の通りである。
ａ．膜の厚さ：エリプソメータによる測定値。
ｂ．片面反射率：測定面の裏面をサンドペーパで粗面化した後、油性インキで黒塗りし、分光光度計を用い、５４０ｎｍにおける測定面の反射率を測定した。
【００３５】
ｃ．干渉縞：蛍光灯スタンドの２０ｃｍ下にサンプルを静置し、肉眼観察により評価した。
ｄ．耐擦傷性：消しゴム（Ｎｏ．５０（ライオン（株）製）を接触面積約０．５ｃｍ2 、荷重１ｋｇで反射面上を２０回往復させた後、肉眼判定し、擦過痕が認められないものを合格判定した。
【００３６】
【００３７】
【００３８】
【００３９】
実施例１
表１に記載の組成の反応液（Ｃ−Ｌ1 ）を調合し、４５℃で８時間反応させて    、ウレタン結合を持つ含フッ素化合物を合成した。得られた反応液５０２重量部に表 １に記載の組成の反応液（Ｃ−Ｌ2 ）を加え、塗料Ｃを調整した。調整した塗料Ｃ を厚さ２ｍｍのポリカーボネート板の表面にスピンコートし、８０℃のオーブンで１ ０分間、加熱した。高圧水銀灯で５，０００ｍＪ／ｃｍ2 照射して、厚さ９５ｎｍ の硬化膜（本発明の光学薄膜）を形成した。形成した光学薄膜の屈折率はｎｄ＝１．    ４１、片面反射率は１．２％であった。
【００４０】
【表１】
0003861380.tif 000007
実施例２
表２に記載の組成の塗料Ｄを調整した。調整した塗料Ｃを用い、実施例１と同    様にしてポリカーボネート板の表面に光学薄膜を形成した。形成した光学薄膜の    屈折率はｎｄ＝１．４０、片面反射率は１．１％であった。
【００４１】
【表２】
0003861380.tif 000008
実施例３、４
厚さが２ｍｍ、屈折率ｎｄが１．５９のポリカーボネート板に、五酸化アンチモン    超微粒子（平均粒径（ＢＥＴ法）２０ｎｍ）、ペンタエリスリトールトリアクリレー    トおよび２−ヒドロキシ−３−フェノキシアクリレートを主成分とする、屈折率１．    ５９、厚さ３μｍのハードコート層を、光硬化により形成した。形成したハードコー    ト層の表面に、実施例１、２において調整した塗料Ｃ，Ｄを実施例１、２と同様に塗    布し、硬化せしめて本発明の光学薄膜を形成した。形成した光学薄膜の評価結果を表 ３に示す。いずれの光学薄膜も高い耐擦傷性を示した。
【００４２】
【表３】
0003861380.tif 000009
実施例５、６
実施例３、４と同様にして、厚さが２ｍｍ、屈折率ｎｄが１．５９のポリカーボネ    ート板にハードコート層を形成した。形成したハードコート層の表面に、アンチモン    ドープ酸化スズ超微粒子（平均粒径（ＢＥＴ法）４０ｎｍ）、ペンタエリスリトール    トリアクリレート，２−ヒドロキシ−３−フェノキシアクリレートを主成分とする、    厚さ１５０ｎｍ，屈折率ｎｄ＝１．７０，表面抵抗値２×１０9 Ω／□の導電性高    屈折率層を光硬化により積層した。さらに、実施例１、２と同様に塗料Ｃ，Ｄを塗布    、硬化せしめて本発明の光学薄膜を形成した。形成した光学薄膜の評価結果を表４に    示す。いずれの光学薄膜も高い耐擦傷性を示した。
【００４３】
【表４】
0003861380.tif 000010
実施例７
屈折率ｎｄ＝１．５３、厚さ２ｍｍのガラス板に、真空蒸着法により厚さ１４５ｎ    ｍのＩＴＯ膜（Ｉｎ2 Ｏ3 系の透明高導電性薄膜）を形成した。実施例２で調整した    塗料Ｄを、前記のＩＴＯ膜の表面に実施例１と同様に塗布し、硬化せしめて本発明の    光学薄膜を形成した。形成した光学薄膜の片面反射率は０．６％であった。
【００４４】
【発明の効果】
本発明が提供する含フッ素化合物の硬化物は極めて低屈折率であって、硬化後の硬度が大きく、とくに低屈折率光学薄膜として有望である。かつ、表面硬度が大で耐擦傷性、耐久性に優れている。他にも、はっ水性や耐油性にも高い効果を奏する。しかも、硬化前は溶剤に可溶なため、簡便かつ連続処理が可能で経済的な溶液コーティングにより塗布し、硬化することができる。また、ハードコート層や高屈折率膜に重ねて本発明の光学薄膜を形成し、耐擦傷性、光反射防止性能をさらに向上させ、多機能性を付与することができる。光学薄膜以外にもこの他、各種の表示、展示部材、透明部材、光学機器の構成素材への利用が期待される。