(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部品の測定等に使用される基準光を生成するための基準光生成装置の調整方法であって、
光中心調整機構を備えた基準光ユニットの光軸上に第１の位置に対応して光軸検出ユニットを配置し、前記基準光ユニットを構成するレーザ光ユニットに組み込まれたレーザ発振器から基準レーザ光を導出するとともに、前記レーザ光ユニットを回転させて前記基準レーザ光の第１の光軸位置を検出し、前記レーザ光ユニットを回転させた際に前記基準レーザ光の第１の光軸位置が動かないように前記レーザ光ユニットの調整を行う第１工程と、
前記基準光ユニットの光軸上に前記第１の位置とは異なる第２の位置に対応して前記光軸検出ユニットを配置し、前記基準レーザ光を導出するとともに、前記レーザ光ユニットを回転させて前記基準レーザ光の第２の光軸位置を検出し、前記レーザ光ユニットを回転させた際に前記基準レーザ光の光軸位置が動かないように前記レーザ光ユニットの調整を行う第２工程と、
前記基準光ユニットの光軸上に前記第２の位置とは異なる第３の位置に対応して前記光軸検出ユニットを配置し、前記基準レーザ光を導出するとともに、前記レーザ光ユニットを回転させて前記基準レーザ光の第３の光軸位置を検出し、前記レーザ光ユニットを回転させた際の前記基準レーザ光の光軸位置を確認する第３工程と、を
有することを特徴とする基準光生成装置の調整方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学部品の測定等に使用される基準光を生成するための基準光生成装置の調整方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
通常、レーザ光を利用したレーザ光学機器として、例えば、レーザ加工装置やレーザ測定装置等が採用されている。この種のレーザ光学機器では、レーザ光を所定の照射位置に導くために、レンズ系や反射鏡等の他種類の光学部品が組み込まれている。さらに、反射鏡は、平面鏡、放物面鏡および楕円面鏡等の種々の形態を有している。
【０００３】
従って、レーザ光学機器を組み立てる際には、各種光学部品のレイアウト調整や焦点測定等のアライメント調整を精度よく行うことが望まれている。高品質なレーザ加工作業や高精度なレーザ測定作業を確実に実施するためである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
一般的に、上記のアライメント調整作業を行う際には、Ｈｅ−Ｎｅレーザが用いられており、これから照射されるレーザ光が光学部品のレイアウト調整や焦点測定の基準光として利用されている。しかしながら、この種のレーザ光には中心（光芯）が存在しないため、前記レーザ光の絶対位置が容易に得られないという問題がある。
【０００５】
さらに、レーザ光には、発振構造によって縦モード位相や横モード位相等が存在し、明確な形状が存在していない。しかも、レーザ光の機械軸に対する平行度が得られず、平行度を出すためにこのレーザ光の径を大径にする必要がある。これにより、基準光として要求される細くかつ平行で直線的なレーザ光を、確実に得ることができないという問題が指摘されている。
【０００６】
本発明はこの種の問題を解決するものであり、レーザ光を正確に芯出しすることにより常用のレーザ光を基準レーザ光として使用し、光学部品の測定等を高精度かつ容易に行うことが可能な基準光生成装置の調整方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、光学部品の測定等に使用される基準光を生成するための基準光生成装置の調整方法であって、光中心調整機構を備えた基準光ユニットの光軸上に第１の位置に対応して光軸検出ユニットを配置し、前記基準光ユニットを構成するレーザ光ユニットに組み込まれたレーザ発振器から基準レーザ光を導出するとともに、前記レーザ光ユニットを回転させて前記基準レーザ光の第１の光軸位置を検出し、前記レーザ光ユニットを回転させた際に前記基準レーザ光の第１の光軸位置が動かないように前記レーザ光ユニットの調整を行う第１工程と、前記基準光ユニットの光軸上に前記第１の位置とは異なる第２の位置に対応して前記光軸検出ユニットを配置し、前記基準レーザ光を導出するとともに、前記レーザ光ユニットを回転させて前記基準レーザ光の第２の光軸位置を検出し、前記レーザ光ユニットを回転させた際に前記基準レーザ光の光軸位置が動かないように前記レーザ光ユニットの調整を行う第２工程と、前記基準光ユニットの光軸上に前記第２の位置とは異なる第３の位置に対応して前記光軸検出ユニットを配置し、前記基準レーザ光を導出するとともに、前記レーザ光ユニットを回転させて前記基準レーザ光の第３の光軸位置を検出し、前記レーザ光ユニットを回転させた際の前記基準レーザ光の光軸位置を確認する第３工程と、を有することを特徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の実施形態に係る基準光生成装置を構成する基準光ユニット１０の斜視図であり、図２は、前記基準光ユニット１０の側面図であり、図３は、前記基準光ユニット１０の平面図である。
【００１３】
基準光ユニット１０は、種々の光学部品の測定等に使用される基準レーザ光Ｌを照射する機能を有しており、Ｈｅ−Ｎｅレーザ等のレーザ発振器１２が組み込まれるレーザ光ユニット１４と、前記レーザ光ユニット１４を支持筒（基台）１６に対して光軸回りに回転させる回転機構１８と、前記レーザ光ユニット１４から導出される前記基準レーザ光Ｌの光軸を前記基準光ユニット１０の回転中心に一致させるための光中心調整機構２０とを備える。
【００１４】
基準光ユニット１０は、測定ベース２２上に固定されるユニットベース２４を備え、このユニットベース２４に左右スライド機構２６および上下スライド機構２８を介して支持筒１６が装着される。左右スライド機構２６は、ユニットベース２４上に光軸方向（矢印Ａ方向）に直交する矢印Ｂ方向に延在して設けられるガイドレール３０を有するとともに、このガイドレール３０に矢印Ｂ方向に進退自在なスライドベース３２が配置される。ユニットベース２４上に水平方向に向かって第１マイクロメータ３４が固定され、この第１マイクロメータ３４のロッド３６がスライドベース３２に固定される。
【００１５】
スライドベース３２上にコラム３８が設けられ、このコラム３８の内面側には、上下スライド機構２８を構成する一対のガイドレール４０が鉛直方向に向かって固定される。支持筒１６の両側部には、ガイドレール４０に係合して昇降自在な一対のガイド部４２が設けられるとともに、コラム３８の一端側上部には鉛直下方向に向かって第２マイクロメータ４４が装着される。第２マイクロメータ４４から下方に突出するロッド４６が支持筒１６に固定される。
【００１６】
支持筒１６内には、回転機構１８を構成する一対のベアリング４８を介して回転筒体５０が回転自在に支持されており、この回転筒体５０内にレーザ発振器１２が収容される。レーザ発振器１２の両端に保持部材５２が装着され、この保持部材５２の小径部５４が回転筒体５０内に挿入される。
【００１７】
光中心調整機構２０は、回転筒体５０の両端縁部に等角度間隔ずつ離間してねじ込まれるそれぞれ３つの調整ねじ５６を備え、前記調整ねじ５６の先端が保持部材５２の小径部５４に当接することにより、レーザ発振器１２の光軸が傾動調整される。
【００１８】
図２および図３に示すように、基準光ユニット１０には、この基準光ユニット１０を光軸方向（矢印Ａ方向）に交差する方向（矢印Ｂ方向）に傾動固定可能な傾動機構５８を備える。この傾動機構５８は、測定ベース２２に設けられるノックピン６０ａ、６０ｂを備え、前記ノックピン６０ａがユニットベース２４の矢印Ａ方向先端側に形成された孔部６２に嵌合する一方、前記ノックピン６０ｂは、前記ユニットベース２４の矢印Ａ方向後端側に設けられた３つの孔部６４ａ、６４ｂおよび６４ｃに選択的に嵌合する。
【００１９】
図２に示すように、レーザ光ユニット１４の先端側には、基準レーザ光Ｌのビーム径を拡大させるためのビーム径拡大手段６６が着脱自在に設けられる。このビーム径拡大手段６６は、例えば、直径０．８ｍｍ程度の基準レーザ光Ｌを直径２５ｍｍの平行光（コリメート光）に変換するものであり、多種類のピンホールアセンブリとフォーカシングレンズとを組み合わせたフィルタユニット６８と、ビームエキスパンダ用レンズセットを含むレンズユニット６９とを備えている。
【００２０】
図４は、基準光ユニット１０の光軸を調整するための光軸ユニット７０の斜視図であり、図５は、前記光軸ユニット７０の側面図である。
【００２１】
光軸ユニット７０は、測定ベース２２に固定されるユニットベース７２を備え、このユニットベース７２上に第１および第２ピンホール板７４、７６が所定間隔離間して装着される。第１ピンホール板７４は、ユニットベース７２上に固定された第１支持板７８に支持されており、この第１ピンホール板７４の中央部には、所定の直径を有する第１細孔８０が形成されている。
【００２２】
第１ピンホール板７４には、第１細孔８０を光軸（矢印Ａ方向）に交差する左右方向（矢印Ｂ方向）および上下方向（矢印Ｃ方向）に位置調整するための第１細孔位置調整機構８２が設けられる。第１細孔位置調整機構８２は、水平方向に配置されて第１ピンホール板７４を左右方向に進退させるための第１調整ねじ８４と、鉛直方向に配置されて前記第１ピンホール板７４を上下方向に位置調整するための第２調整ねじ８６とを備える。
【００２３】
第２ピンホール板７６は、第１ピンホール板７４と同様に第２支持板８８上に支持されるとともに、この第２ピンホール板７６の中央部には、所定の直径を有する第２細孔９０が形成されている。第２ピンホール板７６には、第２細孔位置調整機構９２が設けられている。この第２細孔位置調整機構９２は前記第１細孔位置調整機構８２と同様に構成されており、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、その詳細な説明は省略する。
【００２４】
第１および第２ピンホール板７４、７６は、基準レーザ光Ｌのように直径が０．８ｍｍ程度の、所謂、ポイント光を調整するために用いられるものであり、例えば、直径が２５ｍｍ程度のコリメート光であるコリメート基準レーザ光Ｌ０を調整するためには、図６に示す第１および第２ピンホール板９４ａ、９４ｂが、前記第１および第２ピンホール板７４、７６と交換して使用される。この第１および第２ピンホール板９４ａ、９４ｂは、中心に細孔９６ａ、９６ｂを設けるとともに、この細孔９６ａ、９６ｂを中心にして所定の直径を有する円周上にそれぞれ４つの細孔９８ａ、９８ｂを設けている。
【００２５】
なお、第１および第２ピンホール板７４、７６は、第１および第２細孔位置調整機構８２、９２を介して上下左右に位置調整可能に構成されているが、この第１および第２ピンホール板７４、７６を第１および第２支持板７８、８８に一体的に設けてもよく、第１および第２ピンホール板９６ａ、９６ｂも同様である。
【００２６】
図７は、基準光ユニット１０から照射される基準レーザ光Ｌの光軸位置、具体的には光点位置を検出するための光軸検出ユニット１００の斜視説明図であり、図８は、前記光軸検出ユニット１００の側面図である。
【００２７】
光軸検出ユニット１００は、測定ベース２２上に固定されるユニットベース１０２を備え、このユニットベース１０２上には、第１スライドベース１０４が進退機構１０５を介して光軸方向（矢印Ａ方向）に進退自在に配置される。第１スライドベース１０４の側方には、進退機構１０５を構成しユニットベース１０２に支持された第１スライドつまみ１０６の端部が固定されており、この第１スライドつまみ１０６を回転させることによって前記第１スライドベース１０４が矢印Ａ方向に進退可能である。
【００２８】
第１スライドベース１０４上には、回転機構１０８を構成する回転ベース１１０が設けられ、この回転ベース１１０は、回転つまみ１１２を操作することによって基準レーザ光Ｌの光軸に交差するＺ軸（鉛直軸）回りに回転自在である。回転ベース１１０上には、第２スライドベース１１４が矢印Ａ方向に進退自在に配置される。第２スライドベース１１４には、第２スライドつまみ１１６の端部が連結され、この第２スライドつまみ１１６が回転されることによって矢印Ａ方向に微小距離だけ進退自在である。
【００２９】
第２スライドベース１１４上に光軸位置検出センサ１１８が装着され、この光軸位置検出センサ１１８には、モニタ１２２が接続されている（図９参照）。モニタ１２２には、後述するように、光軸位置検出センサ１１８の光点測定面１２０に導入される基準レーザ光Ｌの位置が可視像として表示される。
【００３０】
次に、このように構成される基準光生成装置の動作について、本発明の第１の実施形態に係る調整方法との関連で以下に説明する。
【００３１】
まず、基準光ユニット１０から導出される基準レーザ光Ｌの光芯調整が行われる。図１０に示すように、基準光ユニット１０の光軸上には、この基準光ユニット１０に近接する第１測定位置に対応して光軸検出ユニット１００が配置される。そこで、基準光ユニット１０から基準レーザ光Ｌが導出されると、この基準レーザ光Ｌが光軸検出ユニット１００を構成する光点測定面１２０に照射される。このため、図９に示すように、光軸位置検出センサ１１８に電気的に接続されているモニタ１２２には、基準レーザ光Ｌの第１の光軸位置（中心位置）Ｐ１が表示される。
【００３２】
この状態で、レーザ光ユニット１４が回転機構１８を構成するベアリング４８を介して支持筒１６に対し回転される。レーザ光ユニット１４が光軸回りに回転する際にモニタ１２２に表示される光軸位置Ｐ１が移動すると、左右スライド機構２６、上下スライド機構２８および光中心調整機構２０が選択的に操作される。
【００３３】
具体的には、左右スライド機構２６を構成する第１マイクロメータ３４が回転され、ロッド３６が矢印Ｂ方向に進退することにより、このロッド３６に固定されているスライドベース３２がガイドレール３０に沿って矢印Ｂ方向に進退する。一方、上下スライド機構２８を構成する第２マイクロメータ４４が回転されると、ロッド４６を介して支持筒１６が上下方向（矢印Ｃ方向）に移動する。さらに、光中心調整機構２０を構成する調整ねじ５６が調整されることにより、保持部材５２を介してレーザ光ユニット１４が回転筒体５０に対して傾動する。
【００３４】
このように、左右スライド機構２６、上下スライド機構２８および光中心調整機構２０が調整されることにより、レーザ光ユニット１４が光軸回りに回転する際にモニタ１２２に表示される光軸位置Ｐ１が、Ｘ軸およびＹ軸に対して動かないようにする。これにより、基準光ユニット１０の回転中心が、基準レーザ光Ｌの光軸と一致することになる。
【００３５】
次に、光軸検出ユニット１００が、基準レーザ光Ｌの光軸に沿って第１測定位置から距離Ｈ１だけ後方に離間する第２測定位置に配置される（図１０中、二点鎖線参照）。この状態で、基準光ユニット１０から基準レーザ光Ｌが照射されると、この基準レーザ光Ｌが光軸検出ユニット１００に導入される。この光軸検出ユニット１００では、光点測定面１２０に基準レーザ光Ｌが導入されることにより、モニタ１２２上に第２の光軸位置Ｐ２が表示される（図９参照）。
【００３６】
そして、レーザ光ユニット１４が回転され、モニタ１２２に表示される第２の光軸位置Ｐ２のずれが、Ｘ軸およびＹ軸に対して動かないように、光中心調整機構２０による調整が行われる。その際、第１および第２の光軸位置Ｐ１、Ｐ２がＸ軸およびＹ軸に対して動かないように表示されていることを確認する。
【００３７】
次いで、光軸検出ユニット１００が、再度、第１測定位置に配置され、上記と同様に、レーザ光ユニット１４が光軸回りに回転する際に光軸位置Ｐ１が動かないように調整されているかを確認する。この結果、ずれ量が大きければ、上記の手順を繰り返すことにより、基準レーザ光Ｌの光軸が基準光ユニット１０の回転中心に一致し、光軸調整作業が高精度に遂行されることになる。
【００３８】
これにより、基準光ユニット１０は、光軸および光芯位置が高精度に設定された基準レーザ光Ｌを照射することができ、この基準レーザ光Ｌを用いて種々の光学部品の各種測定作業が高精度に遂行されるという効果が得られる。
【００３９】
次に、本発明の第２の実施形態に係る調整方法を以下に説明する。
【００４０】
図１１に示すように、基準光ユニット１０の光軸上には、機械や壁等の測定部位１３０が配置されており、第１の実施形態と同様に、基準光ユニット１０から基準レーザ光Ｌが導出されるとともに、レーザ光ユニット１４が支持筒１６に対して回転される。そして、測定部位１３０に照射される基準レーザ光Ｌの光点の移動が、Ｘ軸およびＹ軸に対して動かないように光中心調整機構２０が調整される。なお、測定部位１３０に代替して、光軸検出ユニット１００を用いてもよい。
【００４１】
そこで、図１２に示すように、基準光ユニット１０の光軸上に、光軸ユニット７０が配置される。この基準光ユニット１０から基準レーザ光Ｌが導出されると、この基準レーザ光Ｌは、光軸ユニット７０の第１および第２ピンホール板７４、７６に形成された第１および第２細孔８０、９０を透過して光軸検出ユニット１００を構成する光点測定面１２０に照射される。光軸ユニット７０では、第１および第２ピンホール板７４、７６が光軸に沿って所定の間隔で離間しており、基準レーザ光Ｌがその光軸に一致する場合にのみ、第１および第２細孔８０、９０を透過して光点測定面１２０に照射される。
【００４２】
従って、基準レーザ光Ｌが光軸上からずれている際には、第１ピンホール板７４および／または第２ピンホール板７６により阻止されて、光点測定面１２０にはこの基準レーザ光Ｌが僅かに照射され、あるいは全く照射されないことになる。そして、左右スライド機構２６および上下スライド機構２８が操作され、光点測定面１２０に照射される基準レーザ光Ｌのビーム強度をモニタする。このビーム強度が最大となる位置で左右スライド機構２６および上下スライド機構２８による調整が終了し、これによって基準レーザ光Ｌが光軸上に一致することになる。なお、光軸検出ユニット１００に代替して、測定部位１３０を用いてもよい。
【００４３】
また、図２に示すように、レーザ光ユニット１４にビーム径拡大手段６６が装着され、コリメート基準レーザ光Ｌ０が導出される際には、このコリメート基準レーザ光Ｌ０の光軸調整を行う必要がある。その際、光軸ユニット７０では、第１および第２ピンホール板７４、７６に代替して、第１および第２ピンホール板９４ａ、９４ｂを装着し、上記の第２の実施形態と同様の手順で行う。
【００４４】
具体的には、まず、手前側に配置されている第１ピンホール板９４ａの所定の範囲内にコリメート基準レーザ光Ｌ０が入るように、基準光ユニット１０の左右スライド機構２６および上下スライド機構２８が操作される。そして、手前側の第１ピンホール板９４ａを透過したコリメート基準レーザ光Ｌ０が、後方側に配置されている第２ピンホール板９４ｂを透過するように、基準光ユニット１０の左右スライド機構２６および上下スライド機構２８が操作される。
【００４５】
これにより、第１および第２ピンホール板９４ａ、９４ｂの細孔９６ａ、９６ｂ、９８ａおよび９８ｂを透過して光軸検出ユニット１００の光点測定面１２０に照射されるコリメート基準レーザ光Ｌ０のビーム強度が最大になるように、基準光ユニット１０の調整作業を行えばよい。
【００４６】
次に、このように基準レーザ光Ｌの光芯が機械的軸芯に一致するように調整された基準光ユニット１０と、光軸ユニット７０とを用いて、光学部品を調整する方法について説明する。
【００４７】
図１３は、位置調整ユニット１４０の斜視説明図であり、図１４は、前記位置調整ユニット１４０の側面説明図である。この位置調整ユニット１４０は、反射鏡（放物面鏡および楕円面鏡を含む）１４２を一体的にレーザ加工装置やレーザ測定装置等に実装するとともに、予め前記反射鏡１４２の位置および角度を調整する機能を有している。
【００４８】
位置調整ユニット１４０は、測定ベース２２上に載置されるユニットベース１４４を備え、このユニットベース１４４上に支持ブロック１４６が設けられる。支持ブロック１４６上には、第１つまみ１４８を介して水平方向に角度調整可能な第１傾斜部材１５０が設けられる。第１傾斜部材１５０には、第２つまみ１５２を介して鉛直方向に傾動自在な第２傾斜部材１５４が支持され、この第２傾斜部材１５４に反射鏡１４２が装着されている。
【００４９】
図１５に示すように、基準光ユニット１０の光軸Ｓ１上に反射鏡１４２を組み込んだ位置調整ユニット１４０が配置されるとともに、この反射鏡１４２による反射光Ｌａの光軸Ｓ２上に光軸ユニット７０が配置されている。そして、基準光ユニット１０から基準レーザ光Ｌが導出されると、この基準レーザ光Ｌは、光軸Ｓ１に沿って反射鏡１４２に照射される。この反射鏡１４２が所定の位置に正確に位置決めされていると、前記反射鏡１４２からの反射光Ｌａは、光軸Ｓ２上に配置されている光軸ユニット７０の第１および第２ピンホール板７４、７６に形成された第１および第２細孔８０、９０を透過して測定部位１３０に照射される。
【００５０】
ここで、光軸ユニット７０では、第１および第２ピンホール板７４、７６が光軸Ｓ２に沿って所定の間隔で離間しており、反射鏡１４２からの反射光Ｌａがこの光軸Ｓ２に一致する場合にのみ、前記反射光Ｌａが第１および第２細孔８０、９０を透過して測定部位１３０に照射される。従って、反射鏡１４２が、図１５中、二点鎖線で示すように、所望の位置からずれている際には、第１ピンホール板７４および／または第２ピンホール板７６に阻止されて反射光Ｌａが測定部位１３０に照射されることはない。
【００５１】
そこで、位置調整ユニット１４０を構成する第１および第２つまみ１４８、１５２が選択的に操作され、第１および第２傾斜部材１５０、１５４を介して反射鏡１４２の位置調整が行われる。そして、反射鏡１４２で反射された反射光Ｌａが、第１および第２ピンホール板７４、７６を透過して測定部位１３０に照射される位置で、前記反射鏡１４２の位置合わせが高精度かつ確実になされることになる。
【００５２】
特に、第１および第２の実施形態では、基準光ユニット１０から導出される基準レーザ光Ｌの光芯が機械的軸芯に一致するように高精度に調整されるとともに、光軸Ｓ２上で所定の間隔だけ離間して配置される第１および第２ピンホール板７４、７６を備えている。これにより、反射鏡１４２の光軸合わせが、簡単な構成で高精度かつ効率的に遂行されるという効果が得られる。
【００５３】
【発明の効果】
本発明に係る基準光生成装置の調整方法では、基準レーザ光を導出するレーザ発振器が組み込まれるレーザ光ユニットが、基台に対して光軸回りに回転されるとともに、前記基準レーザ光の光軸を基準光ユニットの回転中心に一致させる光中心調整機構が設けられている。このため、簡単な構成および工程で、基準レーザ光の軸芯を高精度に調整することができ、該基準レーザ光を使用して光学部品の測定等が高精度に遂行される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る基準光生成装置を構成する基準光ユニットの斜視図である。
【図２】前記基準光ユニットの側面図である。
【図３】前記基準光ユニットの平面図である。
【図４】前記基準光生成装置を構成する光軸ユニットの斜視図である。
【図５】前記光軸ユニットの側面図である。
【図６】ピンホール板が装着された光軸ユニットの斜視図である。
【図７】前記基準光生成装置を構成する光軸検出ユニットの斜視説明図である。
【図８】前記光軸検出ユニットの側面説明図である。
【図９】前記光軸検出ユニットを構成するモニタの表示画面の説明図である。
【図１０】本発明の第１の実施形態に係る調整方法の説明図である。
【図１１】本発明の第２の実施形態に係る調整方法の説明図である。
【図１２】前記第２の実施形態に係る調整方法の説明図である。
【図１３】位置調整ユニットの斜視説明図である。
【図１４】前記位置調整ユニットの側面図である。
【図１５】前記位置調整ユニットの調整方法の説明図である。
【符号の説明】
１０…基準光ユニット              １２…レーザ発振器
１４…レーザ光ユニット            １６…支持筒
１８…回転機構                    ２０…光中心調整機構
２２…測定ベース                  ２４…ユニットベース
２６…左右スライド機構            ２８…上下スライド機構
５０…回転筒体                    ５６…調整ねじ
５８…傾動機構                    ６０ａ、６０ｂ…ノックピン
６６…ビーム径拡大手段            ７０…光軸ユニット
７２…ユニットベース
７４、７６、９４ａ、９４ｂ…ピンホール板
８０、９０、９６ａ、９６ｂ、９８ａ、９８ｂ…細孔
８２、９２…細孔位置調整機構
１００…光軸検出ユニット          １０２…ユニットベース
１０５…進退機構                  １１８…光軸位置検出センサ
１２０…光点測定面                １２２…モニタ
１３０…測定部位                  １４０…位置調整ユニット
１４２…反射鏡                    Ｌ…基準レーザ光
Ｌ０…コリメート基準レーザ光
【図１】
0003773413.tif 000002
【図２】
0003773413.tif 000003
【図３】
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【図４】
0003773413.tif 000005
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
0003773413.tif 000009
【図９】
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【図１０】
0003773413.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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