(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状のスライダ本体内に磁気ヘッドコアが設けられ、前記スライダ本体の磁気ディスク側の媒体対向面に浮力発生のためのレールが形成され、磁気ディスクに対して浮上走行して磁気情報の書き込みあるいは読み出しを行う磁気ヘッドスライダの製造方法であって、
前記スライダ本体の媒体対向面およびレールのうち少なくともレールに複数の突起を前記スライダ本体の長さ方向に沿って形成する際に、
前記スライダ本体となる基体の前記磁気ディスク側の媒体対向面上に、中間膜とカーボン膜とを交互に積層した後に、レジストを塗布し、露光、現像により前記レールを形成する領域を覆うレジストパターンを形成し、該レジストパターンで覆われない領域にある前記カーボン膜、前記中間膜、前記基体を順次エッチングした後に、該レジストパターンを除去する工程と、
ついで、最外層のカーボン膜上にレジストを塗布し、露光、現像により前記磁気ギャップから最も遠い位置にある突起のパターンと同様のレジストパターンを形成し、該レジストパターンで覆われていない部分を前記中間膜とカーボン膜とが交互に積層された分だけエッチングして除去する工程と、
ついで、最外層のカーボン膜上にレジストを塗布し、露光、現像により前記突起に隣接した位置にある突起のパターンと同様のレジストパターンを形成し、該レジストパターンで覆われない部分を前記中間膜とカーボン膜とが交互に積層された分だけエッチングして除去する工程と、
最後に、前記レジストパターンを除去する工程とを経ることで、前記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起の高さが、該突起に隣接した位置に設けられた突起の高さよりも前記中間膜とカーボン膜とが交互に積層された分だけ低くされ、且つ、前記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起が、前記他の位置に設けられた突起と前記磁気ヘッドコアの磁気ギャップとの延長線上より前記磁気ディスク側に突き出していないように、前記複数の突起を形成することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体上を微小間隔で浮上して磁気情報の記録再生を行う磁気ヘッドスライダの製造方法に係わり、特に、磁気ディスク側の媒体対向面やレールに突起が設けられたスライダ本体と磁気ディスクとの吸着をさらに低減できるようにした磁気ヘッドスライダの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、コンピュータ用の磁気記録装置において、図１１に示すような磁気ディスク装置が知られている。
この磁気ディスク装置は、回転自在に設けられた円盤状の磁気ディスク８１上に磁気ヘッドスライダ８２が対向配置された構成であり、磁気ヘッドスライダ８２は３角形状のバネ板８３を介して支持アーム８４により支持されていて、支持アーム８４の回動中心部８４ａを中心とする回動操作により磁気ヘッドスライダ８２が磁気ディスク８１の直径方向の所望の位置に移動できるように構成されている。
【０００３】
図１１に示す構成の磁気ディスク装置において、磁気ディスク８１が停止している場合、磁気ヘッドスライダ８２の底面は磁気ヘッドスライダ８２を支持するバネ板８３の付勢力によって磁気ディスク８１に軽く押し付けられており、磁気ディスク８１が回転されている場合は、回転に伴って生じる空気の流れを利用して磁気ヘッドスライダ８２は磁気ディスク８１上を所定の高さで浮上走行するように構成され、磁気ディスク８１の回転が停止されると浮上走行していた磁気ヘッドスライダ８２は再び磁気ディスク８１に接触して停止されるが、上記の浮上走行時に磁気ディスク８１の磁気記録層に対して磁気情報の読み書きがなされるように構成されており、この一連の作動状況は通常ＣＳＳ（コンタクトスタートストップ）と称されている。
【０００４】
図１２は従来から広く使用されている２レール型の磁気ヘッドスライダ８２の浮上走行状態を示すもので、この磁気ヘッドスライダ８２の底面には、中央部に１本の溝（図示略）を形成してその両側にサイドレール８６、８６が形成され、各サイドレール８６の先端下面側（磁気ディスク８１の回転方向上流側）には、傾斜面８６ａが形成されていて、この傾斜面８６ａを介して図１２の矢印Ａに示すように空気が流入することで磁気ヘッドスライダ８２のサイドレール８６の底面が正圧発生部となって磁気ヘッドスライダ８２が浮上走行するようになっている。
また、図１２の２点鎖線で示すようにサイドレール８６の底面に負圧溝８６ｂを形成し、この負圧溝８６ｂで発生させた負圧と上記サイドレール８６、８６で発生させた正圧を均衡させることにより浮上走行性の安定化を図った磁気ヘッドの構成も知られている。
【０００５】
磁気ヘッドスライダ８２が浮上走行している場合は、傾斜面８６ａを介して空気が磁気ヘッドスライダ８２の底面側に流れ込み、更に負圧溝８６ｂを形成した場合は磁気ヘッド後部側に負圧が発生しているので、磁気ヘッドスライダ８２は図１２に示すように空気の流入側を上に持ち上げた状態で微小角度傾斜しながら浮上走行しており、一般にこの傾斜角度はピッチ角（α：通常１００μＲａｄ程度）と称されている。
【０００６】
このような構成の磁気ヘッドスライダ８２にあっては、磁気ディスク８１の起動時（立ち上がり時）と停止時（立ち下がり時）に磁気ディスクに摺接する。そこで、磁気ディスク面の摩耗や消耗を防止するために、磁気ディスク８１の記録層の上に保護膜を形成したり、さらに、この保護膜上に潤滑層を形成している。上記のような構成の磁気ヘッドスライダ８２においては、磁気記録の面から見ると浮上時には磁気ヘッドスライダ８２の磁気ギャップＧが磁気ディスク８１の磁気記録層にできるだけ接近した方が有利であるので、磁気ヘッドスライダ８２の浮上走行時の高さをできる限り低くすることが望ましく、また、近年、磁気ディスク装置の高記録密度化及び小型化に伴って、磁気ヘッドスライダ８２の浮上量（磁気ヘッドスライダ８２と磁気ディスク８１とのスペーシング量）をさらに小さくする傾向にある。浮上量を小さくしようとする場合には、浮上状態の磁気ヘッドスライダ８２と、磁気ディスク８１との接触を回避するために磁気ディスク８１の表面粗さをできるだけ小さくする必要がある。しかし、磁気ディスク８１の起動時あるいは停止時においては、磁気ディスク８１の表面が平滑になるほど磁気ディスク８１と磁気ヘッドスライダ８２との接触面積が大きくなってスライダ８２と磁気ディスク８１との吸着が生じ易く、吸着トルクが高くなってしまう。
【０００７】
吸着トルクが高くなると、磁気ディスク８１を回転させるモータの始動時の負荷が大きくなったり、また、磁気ディスク８１の回転起動の際に支持アーム８４やスライダ８２に設けられた磁気ヘッド素子や磁気ディスク記録層が破損し易くなるという問題があった。
そこで、このような問題を解決するために図１３に示すように磁気ヘッドスライダ８２の各サイドレール８６上に同じ高さの突起８９ａ、８９ｂをサイドレール８６の長さ方向に沿って設けて磁気ディスク８１との接触面積を小さくした磁気ヘッドスライダが考えられている。なお、図１３は、磁気ヘッドスライダの浮上時の状態を示した側面図である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで磁気ヘッドスライダにおいては、上述したように磁気ディスク装置の高記録密度化及び小型化の要望から磁気ヘッドスライダ８２の浮上走行時の高さを低くする傾向があり、これに伴って上記ピッチ角も小さくなっている。
ところが図１３に示したような従来の磁気ヘッドスライダにおいては、上記ピッチ角が小さくなると、浮上状態のときに、空気流の流出側寄り（磁気ギャップＧに近い方）の突起８９ｂが磁気ギャップＧより磁気ディスク８１側に突出してしまうため、それを回避するために突起８９ｂを設ける位置を図１３の波線で示すように磁気ギャップＧからＬ１分空気流の流入側８２ａ寄りに移動させている。  しかしながらこのように突起８９ｂの位置を空気流の流入側８２ａ寄りに移動させると、磁気ディスク８１の停止時に磁気ヘッドスライダ８２の媒体対向面の突起が設けられていない部分（磁気ギャップＧ近傍の媒体対向面）が磁気ディスク８１の表面に塗布された潤滑剤の液膜により磁気ディスク８１に張り付いて吸着が生じ、吸着トルクが増大するという問題があった。
【０００９】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、磁気ディスク側の媒体対向面やレールに突起が設けられたスライダ本体と磁気ディスクとの吸着をさらに低減することを課題とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気ヘッドスライダの製造方法は、上記課題を解決するために、板状のスライダ本体内に磁気ヘッドコアが設けられ、前記スライダ本体の磁気ディスク側の媒体対向面に浮力発生のためのレールが形成され、磁気ディスクに対して浮上走行して磁気情報の書き込みあるいは読み出しを行う磁気ヘッドスライダの製造方法であって、前記スライダ本体の媒体対向面およびレールのうち少なくともレールに複数の突起を前記スライダ本体の長さ方向に沿って形成する際に、前記スライダ本体となる基体の前記磁気ディスク側の媒体対向面上に、中間膜とカーボン膜とを交互に積層した後に、レジストを塗布し、露光、現像により前記レールを形成する領域を覆うレジストパターンを形成し、該レジストパターンで覆われない領域にある前記カーボン膜、前記中間膜、前記基体を順次エッチングした後に、該レジストパターンを除去する工程と、ついで、最外層のカーボン膜上にレジストを塗布し、露光、現像により前記磁気ギャップから最も遠い位置にある突起のパターンと同様のレジストパターンを形成し、該レジストパターンで覆われていない部分を前記中間膜とカーボン膜とが交互に積層された分だけエッチングして除去する工程と、ついで、最外層のカーボン膜上にレジストを塗布し、露光、現像により前記突起に隣接した位置にある突起のパターンと同様のレジストパターンを形成し、該レジストパターンで覆われない部分を前記中間膜とカーボン膜とが交互に積層された分だけエッチングして除去する工程と、最後に、前記レジストパターンを除去する工程とを経ることで、前記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起の高さが、該突起に隣接した位置に設けられた突起の高さよりも前記中間膜とカーボン膜とが交互に積層された分だけ低くされ、且つ、前記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起が、前記他の位置に設けられた突起と前記磁気ヘッドコアの磁気ギャップとの延長線上より前記磁気ディスク側に突き出していないように、前記複数の突起を形成することを特徴とする。
このような構成の磁気ヘッドスライダの製造方法によれば、本発明の磁気ヘッドスライダの製造に好適に用いることができる。
【００１１】
このような構成の本発明の磁気ヘッドスライダによれば、磁気ディスクの停止時に磁気ヘッドコア側（空気流の流出側）近傍のスライダ本体の媒体対向面と上記磁気ディスクとの間に、他の突起より高さが低い突起が介在されることになるので、上記磁気ディスクの表面に塗布された潤滑剤のメニスカスの半径は、上記高さが低い突起の回りで大きくなり、上記潤滑剤の液膜により上記スライダ本体の媒体対向面が磁気ディスクに張り付くのを改善でき、スライダ本体と磁気ディスクとの吸着を低減する効果を向上できる。また、上記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起の高さは、他の位置に設けられた突起の高さより低くされているので、磁気ヘッドスライダがピッチ角１００μＲａｄ程度で浮上時に上記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起が上記磁気ヘッドコアに設けられた磁気ギャップより磁気ディスク側に突出するのを回避でき、すなわち、上記磁気ギャップを上記複数の突起よりも磁気ディスクに近接させることができ有利である。
【００１２】
上記の構成の本発明の磁気ヘッドスライダにおいて、上記複数の突起の高さは上記スライダ本体の空気流の流入側から空気流の流出側にかけて順次低くされているものであってもよい。
また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気ヘッドスライダにおいては、上記レールは、上記スライダ本体の磁気ディスク側の媒体対向面の両縁部側に形成され、上記スライダ本体の空気流の流入側から空気流の流出側にかけて延出するサイドレールを有しており、上記複数の突起は上記の各サイドレールの長さ方向に沿って設けられているものであってもよい。
また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気ヘッドスライダにおいて、上記スライダ本体のサイドレール間に溝が設けられ、上記複数の突起は上記各サイドレールおよび上記溝に設けられているものであってもよい。
【００１３】
また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気ヘッドスライダにおいて、上記磁気ヘッドスライダの浮上状態のとき、上記複数の突起のうち少なくとも上記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起の先端（下端部）は、上記磁気ヘッドコアの磁気ギャップより高い位置にあることが好ましく、すなわち、上記複数の突起のうち少なくとも上記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起の先端と磁気ディスクとの距離は、上記磁気ヘッドコアの磁気ギャップと磁気ディスクとの距離より大きいことが好ましい。
このような構成の磁気ヘッドスライダによれば、磁気ヘッドスライダの浮上時に、上記磁気ギャップを上記複数の突起よりも磁気ディスクに近接させることができ有利であり、また、上記突起の先端が磁気ディスクに接触するのを防止できる。
また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気ヘッドスライダにおいて、上記磁気ヘッドスライダの浮上状態のとき、上記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起は、上記の他の位置に設けられた突起と上記磁気ヘッドコアの磁気ギャップとの延長線上より磁気ディスク側に突き出していないことが好ましい。
このような構成の磁気ヘッドスライダによれば、磁気ヘッドスライダの浮上時に、上記磁気ギャップを上記複数の突起よりも磁気ディスクに近接させることができ有利であり、また、上記突起の先端が磁気ディスクに接触するのを防止できる。
【００１４】
また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気ヘッドスライダにおいては、上記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起から上記磁気ギャップまでの距離は、上記スライダ本体の長さの２５％以下であることが好ましい。
このような構成の磁気ヘッドスライダによれば、磁気ディスクの停止時に磁気ギャップ近傍のスライダ本体の媒体対向面と上記磁気ディスクとの間に上記高さが低い突起が介在され、しかも該突起と上記磁気ギャップとの距離が小さいので、上記潤滑剤の液膜により上記スライダ本体の媒体対向面が磁気ディスクに張り付くのを防止する効果をより向上でき、スライダ本体と磁気ディスクとの吸着の防止効果が優れる。
【００１５】
また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気ヘッドスライダにおいて、上記突起は、少なくとも最外層に膜硬度２２ＧＰa以上のカーボン膜を有することが、上記突起の耐摩耗性を著しく向上でき、磁気ディスクの起動時と停止時に上記突起が磁気ディスクと摺動しても摩耗しにくくできる点で好ましい。
また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気ヘッドスライダにおいて、上記磁気ヘッドコアは、巨大磁気抵抗効果型素子が備えられていることが好ましい。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の磁気ヘッドスライダの一実施形態について説明する。
図１は本発明に係る磁気ヘッドスライダの実施形態例を示す底面図であり、図２は図１の磁気ヘッドスライダが浮上の状態のときのＩＩ−ＩＩ線断面図である。
この例の磁気ヘッドスライダＳは、Ａｌ２Ｏ３ＴｉＣなどからなる板状のスライダ本体１０に、後述する構成の磁気ヘッドコア１１を備えたもので、磁気コア部分以外の部分は全体的にはセラミックス製などの基板から構成されてなり、図１１に示す従来の磁気ヘッドスライダと同様に使用されるものである。
スライダ本体１０の底面（図１では上面であって、磁気ディスク７１に対向する媒体対向面）には、その両側縁部に位置してスライダ本体１０の前部側から後部側に至るサイドレール１２が２本形成されている。
なお、本明細書では、図１におけるスライダ本体１０の下側をスライダ本体１０の前部側と称し、この前部側が一般にはスライダのリーディング側と称されて磁気ディスク７１からの空気流が流入される側１０ａであり、反対に、図１におけるスライダ本体１０の上側をスライダ本体１０の後部側と称し、この後部側が一般にはスライダのトレーリング側と称されて磁気ディスクからの空気流が流出される側１０ｂである。
【００１８】
各サイドレール１２は、正圧を発生させるために設けられたものであり、空気流の流入側１０ａの端部が空気流の流出側１０ｂの端部より幅広でこれら流入側の端部と流出側の端部の間の中央部が幅狭に形成されている。各サイドレール１２の中央部には、図１の鎖線で示したように切欠部１０ｄが形成されていてもよい。
両サイドレール１２、１２の後端部間にはアイランド状のセンターレール１３が形成されている。これら両サイドレール１２、１２とセンターレール１３の表面には、クラウンが形成されていることが好ましい。また、両サイドレール１２，１２およびセンターレール１３の周囲にはそれぞれ段部２０が形成されている。また、スライダ本体１０の底面には、両サイドレール１２に挟まれた状態で負圧溝１５が形成されている。この負圧溝１５の前部側は中央部にかけて末広がりに形成されて、その後部側はセンターレール１３で二つに分断されて上記中央部より幅狭に形成されている。
【００１９】
両サイドレール１２、１２およびセンターレール１３の表面上には、図２に示すようにＳｉ、ＳｉＣ等からなる中間膜６３が設けられている。
中間膜６３の厚みは、０．５ｎｍ程度とされる。
【００２０】
各サイドレール１２上には、中間膜６３を介して第１、第２、第３の突起１７、１８、１９が形成されている。
第１の突起１７は空気流の流入側寄りに設けられており、第２の突起１８は空気流の流出側寄りに設けられている。第３の突起１９は、これら第１と第２の突起１７、１８間に設けられている。従って、上記突起のうち第２の突起１８が、磁気ヘッドコア１１に最も近い位置に設けられている。
第１、第３の突起１７、１９は、横断面円状のものである。第２の突起１８は、横断面楕円状のものであり、長軸がサイドレール１２の長さ方向に配置されている。
上記複数の突起の高さは、スライダ本体１０の空気流の流入側１０ａから空気流の流出側１０ｂにかけて順次低くなっており（磁気ギャップＧに近いものほど高さが低くなっており）、すなわち、高さの低い方から第２の突起１８、第３の突起１９、第１の突起１７の順に並んでいる。
【００２１】
第２の突起１８は、図２に示すようにカーボン膜６４から形成されてなるものである。
この第２の突起１８の高さは、磁気ヘッドスライダＳの浮上量が２５ｎｍで、第２の突起１８と磁気ギャップＧとの距離が３００μｍの場合、４０ｎｍ以下、好ましくは３０ｎｍ〜３５ｎｍ程度とされる。スライダ本体１０は浮上時には１００μＲａｄ程度傾斜しているので第２の突起１８の高さが４０ｎｍを越えると、浮上時にこの突起１８の方が磁気ギャップＧより磁気ディスク７１に近づいてしまうため、すなわち、磁気ギャップＧと磁気ディスク７１との距離が遠くなるため不利になってしまう。
【００２２】
第３の突起１９は、カーボン膜６４と、Ｓｉ、ＳｉＣ等からなる中間膜６３が交互に形成されてなるものであり、図２では、スライダ本体１０側からカーボン膜６４、中間膜６３、カーボン膜６４の順に積層されている。
第３の突起１９の高さは、第２の突起１８の高さより高くなっており、磁気ヘッドスライダＳの浮上量が２５ｎｍで、第３の突起１９と磁気ギャップＧとの距離が６００μｍの場合、３５ｎｍ以上、好ましくは４０ｎｍ〜４５ｎｍ程度である。
【００２３】
第１の突起１７も、カーボン膜６４と、Ｓｉ、ＳｉＣ等からなる中間膜６３が６３が交互に形成されてなるものであり、図２では、スライダ本体１０側からカーボン膜６４、中間膜６３、カーボン膜６４、中間膜６３、カーボン膜６４の順に積層されている。
第２の突起１８の高さは、第３の突起１９の高さより高くなっており、磁気ヘッドスライダＳの浮上量が２５ｎｍで、第２の突起１７と磁気ギャップＧとの距離が８００μｍの場合、３５ｎｍ以上、好ましくは４０ｎｍ〜４５ｎｍ程度である。
第１、第３の突起１７、１９を構成する各中間膜６３の厚みは４ｎｍ程度とされ、各カーボン膜６４の厚みは２０ｎｍ程度である。
【００２４】
中間膜６３は、各突起を形成する際にエッチングストッパーとして機能するものである。また、特に各サイドレール１２の表面に形成する中間膜６３（第１層目の中間膜６３）は、接着層としても機能するものである。
【００２５】
各突起１７、１８、１９を構成するカーボン膜６４は、膜硬度２２ＧＰa以上のカーボン膜から構成されていることが、各突起１７、１８、１９の磨耗性を向上できる点で好ましい。
ここでの膜硬度は、押込み硬さ試験機を用い荷重に対する押し込み深さを深さを測定し、下記式（１）により求めたものである。押込み試験機に備えられた測定圧子としては、図５に示すような開き角（α）６５°のダイヤモンド三角錐圧子を用いた。なお、図５中、Ａｐは、投影面積を示す。
膜硬度（Ｈ）＝Ｐ／Ａｓ≒３７．９６２×１０−３×Ｐ／ｈ２  ・・・（１）（式中、Ｐは荷重、ｈは押し込み深さ、Ａｓは変位ｈに対する三角錐圧子の表面積である。）
膜硬度２２ＧＰａ以上のカーボン膜の具体例としては、水素含有量（水素濃度）が４０原子％未満のカーボン膜が用いられ、好ましくは水素含有量（水素濃度）が３５原子％のカーボン膜が用いられる。さらに好ましくは水素含有量（水素濃度）が０原子％のカソディックアークカーボン（ＣＡＣ）が用いられる。
【００２６】
さらに、第２の突起１８の高さは、上記磁気ヘッドスライダＳが浮上状態のとき、第３の突起１９あるいは第１の突起１７と磁気ギャップＧとの延長線Ｈ上より磁気ディスク７１側に突き出さないような高さとすることが、磁気ヘッドスライダＳの浮上時に、磁気ギャップＧを第１、２、３の突起１７、１８、１９よりも磁気ディスク７１に近接させることができ有利にできる点で好ましい。
【００２７】
また、第２の突起１８は、磁気ギャップＧからの距離Ｌ２がスライダ本体１０の長さの２５％以下となる位置に設けられていることが好ましく、例えば、スライダ本体１０の長さが１．２ｍｍの場合、Ｌ２が３００μｍ以下とされる。このようにすることにより、磁気ディスク７１の停止時に磁気ギャップＧ近傍のスライダ本体１０の媒体対向面と磁気ディスク７１との間に第２の突起１８が介在され、しかもこの第２の突起１８と磁気ギャップＧとの距離が小さいので、上記潤滑剤の液膜により上記スライダ本体１０の媒体対向面が磁気ディスク７１に張り付くのを防止する効果をより向上でき、スライダ本体１０と磁気ディスク７１との吸着の防止効果が優れる。
上記のような第１と第２と第３の突起１７、１８、１９の表面には、クラウンが形成されていることが好ましい。
【００２８】
次に、スライダ本体１０の後端部側中央に形成された磁気ヘッドコア１１の構造について説明する。
この例で示す磁気ヘッドコア１１は、図３と図４に断面構造を示すような複合型磁気ヘッドコアであり、スライダ本体１０の後分部側端面（トレーリング側端面）に、ＭＲヘッド（読出ヘッド）ｈ1と、インダクティブヘッド（書込ヘッド）ｈ2とが順に積層されて構成されている。
ＭＲヘッドｈ1は、磁気抵抗効果を利用してディスクなどの記録媒体からの漏れ磁束を検出し、磁気信号を読み取るものである。
図３と図４に示すようにＭＲヘッドｈ1は、スライダ本体１０の後端部に形成されたセンダスト（Ｆｅ-Ａｌ-Ｓｉ）等の磁性合金からなる下部シールド層３３上に、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）などの非磁性材料により形成された下部ギャップ層３４が設けられ、この下部ギャップ層３４上に、巨大磁気抵抗効果材料膜（巨大磁気抵抗効果型素子）３５が積層されている。
【００２９】
巨大磁気抵抗効果材料膜３５の両側には、この膜にバイアス磁界を与えるハードバイアス層や検出電流を与える電極層４１などが形成され、更にその上には、上部ギャップ層が形成され、その上に上部シールド層が形成されており、この上部シールド層は、その上に設けられるインダクティブヘッドｈ2の下部コア層４５と兼用にされている。
【００３０】
インダクティブヘッドｈ2は、下部コア層４５の上に、ギャップ層４４が形成され、その上に平面的に螺旋状となるようにパターン化されたコイル層４６が形成され、コイル層４６は絶縁材料層４７に囲まれている。絶縁材料層４７の上に形成された上部コア層４８は、その先端部４８ａをＡＢＳ面３１ｂにて下部コア層４５に微小間隙をあけて対向し、その基端部４８ｂを下部コア層４５と磁気的に接続させて設けられている。また、上部コア層４８の上にはアルミナなどからなる保護層４９が設けられている。
インダクティブヘッドｈ2では、コイル層４６に記録電流が与えられ、コイル層４６からコア層に記録磁界が与えられる。そして、磁気ギャップＧの部分での下部コア層４５と上部コア層４８の先端部からの漏れ磁界により磁気ディスクなどの磁気記録媒体に磁気信号を記録することができる。
【００３１】
巨大磁気抵抗効果材料膜３５は、フリー強磁性層と非磁性層とピン止め強磁性層と反強磁性層を積層して断面台形状の積層体が形成されてなるものである。
上記フリー強磁性層、ピン止め強磁性層は、いずれも強磁性体の薄膜からなるが、具体的にはＮｉ-Ｆｅ合金、Ｃｏ-Ｆｅ合金、Ｎｉ-Ｃｏ合金、Ｃｏ、Ｎｉ-Ｆｅ-Ｃｏ合金な どからなる。また、上記フリー強磁性層をＣｏ層から、あるいはＮｉ-Ｆｅ合金層から、あるいはＣｏ層とＮｉ-Ｆｅ合金層の積層構造、あるいはＣｏ−Ｆｅ合 金層とＮｉ−Ｆｅ合金層との積層構造から構成することもできる。なお、Ｃｏ層とＮｉ-Ｆｅ合金層との２層構造とする場合は、上記非磁性層側に薄いＣｏ層を 配置する構造とすることが好ましい。またＣｏ−Ｆｅ合金層とＮｉ−Ｆｅ合金層の２層構造とする場合は上記非磁性層側に薄いＣｏ−Ｆｅ合金層を配置することが好ましい。
【００３２】
これは、上記非磁性層を上記フリー強磁性層、上記ピン止め強磁性層で挟む構造の巨大磁気抵抗効果発生機構にあっては、ＣｏとＣｕの界面で伝導電子のスピン依存散乱の効果が大きいこと、および、上記フリー強磁性層、ピン止め強磁性層を同種の材料から構成する方が、異種の材料から構成するよりも、伝導電子のスピン依存散乱以外の因子が生じる可能性が低く、より高い磁気抵抗効果を得られることに起因している。このようなことから、上記ピン止め強磁性層をＣｏから構成した場合は、上記フリー強磁性層の上記非磁性層側を所定の厚さでＣｏ層に置換した構造が好ましい。また、Ｃｏ層を特に区別して設けなくとも、上記フリー強磁性層の非磁性層側にＣｏの多く含ませた合金状態とし、上記非磁性層側に向かうにつれて徐々にＣｏ濃度が薄くなるような濃度勾配層としても良い。
また、上記フリー強磁性層、ピン止め強磁性層をＣｏ−Ｆｅ合金層から構成し、これらフリー強磁性層、ピン止め強磁性層で上記非磁性層を挟む構造とした場合も、Ｃｏ−Ｆｅ合金層とＣｕ層の界面で伝導電子のスピン依存散乱の効果が大きく、伝導電子のスピン依存散乱以外の因子が生じる可能性が低く、より高い磁気抵抗効果が得られる。
上記非磁性層は、Ｃｕ、Ｃｒ、Ａｕ、Ａｇなどに代表される非磁性体からなり、２〜４ｎｍ程度の厚さに形成されている。
【００３３】
上記反強磁性層は、例えば、Ｘ１-Ｍｎ合金からなることが好ましい。ここで上記組成式においてＸ１は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｄ、Ｐｔのいずれか１種または２種以上からなることが好ましい。
上記Ｘ１-Ｍｎ合金のＸ１が単一の金属原子である場合のＸ１の含有率の好ましい範囲は、Ｒｕは１０〜４５原子％、Ｒｈは１０〜４０原子％、Ｉｒは１０〜４０原子％、Ｐｄは１０〜２５原子％、Ｐｔは１０〜２５原子％である。なお、以上の記載において１０〜４５原子％とは、１０原子％以上で４５原子％以下を意味し、「〜」で表示する数値範囲の上限下限は全て「以上」および「以下」で規定されるものとする。
上記組成範囲のＭｎ系合金は、不規則結晶構造を有するものであるが、この不規則結晶構造とは、面心正方晶（fct規則格子；ＣｕＡｕＩ構造など）のような 規則的な結晶構造ではない状態を意味している。即ち、ここで用いられるＭｎ合金は、スパッタリングなどにより成膜された後に、上記面心正方晶などの規則的な結晶構造（ＣｕＡｕＩ構造など）とするための高温でかつ長時間の加熱処理を行わないものであり、不規則結晶構造とは、スパッタリングなどの成膜法により形成されたままの状態、あるいはこれに通常のアニール処理が施された状態のものである。
【００３４】
上記Ｘ１−Ｍｎ合金（元素Ｘ１はＲｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｄ、Ｐｔのうちのいずれか１種または２種以上からなる。）のＸ１の含有率のより好ましい範囲はＸ１が３７〜６３原子％である。なお以上の記載において３７〜６３原子％とは３７原子％以上で６３原子％以下を意味し、「〜」で表示する数値範囲の上限下限は全て「以上」および「以下」で規定されるものとする。
上記組成範囲のＸ１−Ｍｎ合金は、スパッタリング等の成膜法などにより形成された状態ではＸ１、Ｍｎ原子の配列順序が不規則な、面心立方格子であり、強 磁性層との境界面で交換異方性磁界はほとんど発生しないが磁界中でアニール処理を施すことにより、面心正方格子に変態し、強磁性層との境界面で一方向異方性の大きな交換異方性磁界（Ｈｅｘ）を発生することができる。
【００３５】
又、上記反強磁性層はＸ１−Ｍｎ−Ｘ２合金からなるものであってもよい。ここで上記組成式において、Ｘ１は先に述べたようにＲｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｄ、 Ｐｔのうちの１種または２種以上からなることが好ましい。また、Ｘ２はＡｕ、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ 、Ｓｉ、Ｐ、Ｂｅ、Ｂ、Ｃ、Ｓｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｙ、Ｚｎ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｓｎ、Ｉｎのうちのいずか１種または２種以上からなることが好ましい。
Ｘ１とＭｎの組成比は、原子％でＸ１：Ｍｎ＝４：６〜６：４である。Ｘ２の含有率は原子％で０．２〜１０原子％である。
【００３６】
上記反強磁性層がＸ１−Ｍｎ−Ｘ２合金からなる場合にも、成膜後に、磁界中でアニール処理を施すことにより強磁性層との境界面で一方向異方性の大きな交換異方性磁界（Ｈｅｘ）を発生することができる。
上記のＸ１−Ｍｎ系合金あるいはＸ１−Ｍｎ−Ｘ２系合金からなる反強磁性層であるならば、上記ピン止め強磁性層との境界面に一方向異方性の交換異方性磁界を印加することができ、ピン止め強磁性層の外部信号磁界に対する磁化の回転をピン止めすることができる。
また、上記Ｘ１−Ｍｎ系の合金の反強磁性層であるならば、Ｆｅ−Ｍｎに 比べて耐食性に優れ、また温度変化に対する交換異方性磁界（Ｈｅｘ）の変動が少なくなる。
上記のような構成のＭＲヘッドｈ1においては、磁気ディスク７１からの微小の漏れ磁界の有無により巨大磁気抵抗効果材料膜３５の電気抵抗が変化するので、この抵抗変化を読み取ることで磁気ディスクの記録内容を読み取ることができる。
【００３７】
上記のような構成の磁気ヘッドスライダＳを製造するには、例えば、Ａｌ２Ｏ３ＴｉＣなどからなる板状体（ウエハ）に複数の磁気ヘッドコア１１を形成した後、上記板状体を複数の基体に切断する。なお、サイドレール１２、１２およびセンターレール１３にクラウンを形成する場合には、上記基体の表面にラップ加工等が施される。
【００３８】
この後、 図６のＡに示すように、基体１０ｃの表面上（磁気ディスク側の媒体対向面となる側の面上）に、スパッタ法又はＣＶＤ法によりＳｉ又はＳｉＣよりなる中間膜６３を形成した後、ＥＣＲＣＶＤ法（Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition）によりカーボン膜６４を交互に成膜し、６層の積層膜を形成する。ここでカーボン膜６４を成膜する際、成膜装置内に供給する反応ガス（炭素を含むガス）の種類を変更したり、基板バイアスを調整する（基板バイアスを高くする）ことにより、カーボン膜中の水素含有量を３０原子％未満と少なくして、膜硬度が２２ＧＰａ以上の第２のカーボン膜６４を成膜することが好ましい。このようにカーボン膜６４中の水素含有量を低くすることにより、炭素原子同士の結合が強くなり、硬度を高くすることができ、耐磨耗性が優れた突起を形成できる点で好ましい。
なお、カーボン膜６４をカソディックアークカーボンから構成する場合は、中間膜６３が成膜された基体１０ｃを成膜装置内に配置し、真空雰囲気中でグラファイトの塊をアーク放電することにより成膜する。
【００３９】
ついで、第２のカーボン膜６４上に第１のレジストを塗布した後に、この第１のレジストを露光、現像することにより、図６のＢに示すようなストライプ状のレジストパターン２２を形成する。このレジストパターン２２は、サイドレール１２、１２およびセンターレール１３を形成する領域を覆っている。
【００４０】
この後、図６のＣに示すようにレジストパターン２２に覆われない領域にあるカーボン膜６４、中間膜６３、基体１０ｃを順次イオンミリングによるエッチングよって除去する。これによりサイドレール１２、１２およびセンターレール１３が形成される。また、サイドレール１２，１２間に負圧溝１５が形成されるとともにスライダ毎に分割するため分割用溝（図示略）が形成される。この後にレジストパターン２２を除去する。
【００４１】
次に、最外層のカーボン膜（第３のカーボン膜）６４上に第２のレジストを塗布した後にこの第２のレジストを露光、現像することにより、図６のＤに示すように、サイドレール１２、１２上の所定位置に第１の突起１７と同様のパターンを有するレジストパターン２７を形成する。
【００４２】
この後、最外層（スライダ本体１０側から６層目）のカーボン膜６４のレジストパターン２７に覆われていない部分を酸素プラズマによってエッチングし除去する。このとき、最外層のカーボン膜６４の下層の中間膜（第３の中間膜）６３は、エッチングストッパーとして機能し、図６のＥに示すように最外層のカーボン膜６４のみエッチングされて中間膜６３はエッチングされない。
ついで、図６のＦに示すように中間膜６３のレジストパターン２７に覆われていない部分をＣＦ４プラズマによってエッチングして除去する。このとき、中間膜６３のみエッチングされてこれの下層のカーボン膜６４（第２のカーボン膜）はエッチングされない。
【００４３】
ついで、スライダ本体１０側から４層目のカーボン膜（第２のカーボン膜）６４上に第３のレジストを塗布した後にこの第３のレジストを露光、現像することにより、図６のＡに示すように、サイドレール１２、１２上の所定位置に第３の突起１９と同様のパターンを有するレジストパターン２８を形成する。
【００４４】
この後、第２のカーボン膜６４のレジストパターン２７、２８に覆われていない部分を酸素プラズマによってエッチングし除去する。このとき、第２のカーボン膜６４の下層の中間膜（第２の中間膜）６３は、エッチングストッパーとして機能し、図７のＢに示すように第２のカーボン膜６４のみエッチングされて第２の中間膜６３はエッチングされない。
ついで、図７のＣに示すように第２の中間膜６３のレジストパターン２７、２８に覆われていない部分をＣＦ４プラズマによってエッチングして除去する。このとき、第２の中間膜６３のみエッチングされてこれの下層のカーボン膜６４（第１のカーボン膜）はエッチングされない。
【００４５】
ついで、スライダ本体１０側から２層目のカーボン膜（第１カーボン膜）６４上に第４のレジストを塗布した後にこの第４のレジストを露光、現像することにより、図７のＤに示すように、サイドレール１２、１２上の所定位置に第２の突起１８と同様のパターンを有するレジストパターン２９を形成する。
【００４６】
この後、第１のカーボン膜６４のレジストパターン２７、２８、２９に覆われていない部分を酸素プラズマによってエッチングし除去する。このとき、第１のカーボン膜６４の下層の中間膜（第１の中間膜）６３は、エッチングストッパーとして機能し、図７のＥに示すように第1のカーボン膜６４のみエッチングされて第１の中間膜６３はエッチングされない。
ついで、レジストパターン２７、２８、２９を除去すると、第１、第２、第３の突起１７、１８、１９を形成できる。
なお、ここで形成された第１、第２、第３の突起１７、１８、１９の表面にラップ加工等を施してクラウンを形成してもよい。
ついで、上記分割用溝に沿って基体１０ｃを分割すると、図１乃至図２に示すような磁気ヘッドスライダＳが得られる。
なお、上述の磁気ヘッドスライダＳの製造方法では、スライダ本体１０の媒体対向面に中間膜６３とカーボン膜６４を交互に積層した６層構造の積層膜を形成後、この積層膜の必要部分のみエッチングして第１、第２、第３の突起１７、１８、１９を形成する場合について説明したが、この方法以外の方法であってもよく、例えば、突起と同様のパターンを有する穴が設けられた複数枚のマスクを用い、スライダ本体の媒体対向面上に上記マスクを配置して上記穴内に中間膜とカーボン膜を交互に積層して突起を形成することも可能である。
【００４７】
前記の如く構成された磁気ヘッドスライダＳにあっては、ＣＳＳでもって磁気ディスク７１に対して浮上走行し、必要に応じて磁気情報の書き込みと読み込みを行う。
従って、磁気ディスク７１が停止している状態においては、磁気ヘッドスライダＳは各サイドレール１２に設けられた第２の突起１８の表面を磁気ディスク７１の表面にこのスライダＳに取り付けられたバネ板の付勢力で軽く押しつけた状態で停止している。
【００４８】
この状態から磁気ディスク７１が回転を始めると、磁気ディスク表面に気流が生じ、この気流がスライダ本体１０の底面側に流入するようになる。ここで、この気流発生により各サイドレール１２の空気流の流入側１０ａの端部には揚力が発生するのでこの揚力が上記バネ板の付勢力に打ち勝つ大きさになるとスライダ本体１０は浮上を始める。また、各サイドレール１２の空気流の流入側１０ａの端部を通過してスライダ本体１０の底面側に流入した空気とサイドスライダ１２、１２の間を通過した空気は負圧溝１５に流入し、ここで大きな負圧を発生するので、スライダ本体１０は空気の流入側の端部を上に持ち上げた状態で所定のピッチ角で傾斜する。
【００４９】
実施形態の磁気ヘッドスライダＳにあっては、磁気ディスク７１の停止時に磁気ヘッドコア１１側（空気流の流出側１０ａ）近傍のスライダ本体１０の媒体対向面と上記磁気ディスク７１との間に、第１、第３の突起１７、１９より高さが低い第２の突起１８が介在されることになるので、磁気ディスク７１の表面に塗布された潤滑剤のメニスカスの半径は、第２の突起１８の回りで大きくなり、上記潤滑剤の液膜により上記スライダ本体１０の媒体対向面が磁気ディスク７１に張り付くのを改善でき、スライダ本体１０と磁気ディスク７１との吸着を低減する効果を向上できる。また、上記磁気ヘッドコア１１に最も近い位置に設けられた第２の突起１８の高さは、他の位置に設けられた第１、第３の突起１７、１９の高さより低くされているので、磁気ヘッドスライダがピッチ角１００μＲａｄ程度で浮上時に磁気ヘッドコア１１に最も近い位置に設けられた第２の突起１８が磁気ヘッドコア１１に設けられた磁気ギャップＧより磁気ディスク７１側に突出するのを回避でき、すなわち、磁気ギャップＧを第１、２、３の突起１７、１８、１９よりも磁気ディスク７１に近接させることができ有利である。
【００５０】
なお、上記の実施形態においては、第２の突起１８がカーボン膜６４から構成され、第３の突起１９がカーボン膜６４と中間膜６３を交互に積層した３層構造の積層膜から構成され、第１の突起１７がカーボン膜６４と中間膜６３を交互に積層した５層構造の積層膜から構成した場合について説明したが、磁気ヘッドコア１１に最も近い第２の突起１８は他の位置に設けられた突起よりも高さが低いものであれば、カーボン膜６４と中間膜６３が交互に積層された多層膜から構成されていてもよい。
また、上記の実施形態においては、各サイドレール１２に３個の突起を設けた場合について説明したが、必ずしもこれに限らず、例えば、各サイドレール１２に突起が２個ずつ設けられていてもよい。
また、上記の実施形態においては、各サイドレール１２に複数の突起を設けた場合について説明したが、上記複数の突起は、各サイドレール１２以外に負圧溝１５に設けられていてもよい。
【００５１】
【実施例】
（実験例１）
図１と図２に示す形状の磁気ヘッドスライダを製造する際に、第１、第２の突起１７、１８、１９を構成するカーボン膜６４の材料を下記のＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄに変更したときの突起の膜硬さ及び耐摩耗性について調べた。その結果を図８、図９に示す。
ここで作製した磁気ヘットスライダは、長方形状のスライダ本体１０の長辺部の長さ１．２４１ｍｍ、幅１．０ｍｍ、負圧溝１５の空気流の流入側の端部の幅０．１ｍｍ、最大幅０．７８ｍｍ、深さ２．５μｍ、各サイドレール１２の最大幅０．３４ｍｍ、最小幅０．０８ｍｍ、高さ０．２５μｍ、第１の中間膜６３の厚み０．５ｎｍ、第１、第３の突起１７、１９の径３０ｍｍ、第２の突起１８の長径７５ｍｍ、短径３０ｍｍ、第１の突起１７の高さは４５ｎｍ、第３の突起１９の高さは３５ｎｍ、第２の突起１８の高さは２５ｎｍ、各突起を構成するカーボン膜の厚みは６ｎｍ、中間膜の厚みは４ｎｍ、第２の突起１８と磁気ギャップＧとの距離Ｌ２を３００μｍに設定した。また、スライダ本体１０は、浮上時の浮上量が２５ｎｍで、ピッチ角１００μＲａｄとなるように設置した。
【００５２】
上記材料Ａは、図６乃至図７に示す工程においてＡｌ２Ｏ３ＴｉＣからなる基体１０ｃの上にＳｉ中間膜６３とカーボン膜６４を交互に積層した６層構造の積層膜の各カーボン膜６４をＥＣＲＣＶＤ法により形成する際、成膜装置内に供給する反応ガスとしてメタンガスを用い、基板バイアスを１１０Ｗにすることにより作製したものであり、膜中の水素濃度が３８原子％のものである。
上記材料Ｂは、成膜装置内に供給する反応ガスとしてエチレンガスを用い、基板バイアスを２００Ｗにする以外は、上記材料Ａと同様にして作製したものであり、膜中の水素濃度が２８原子％のものである。
上記材料Ｃは、基板バイアスを４００Ｗにする以外は、上記材料Ｂと同様にして作製したものであり、膜中の水素濃度が２６原子％のものである。
上記材料Ｄは、カソディックアークカーボンであり、膜中の水素濃度がほぼ０原子％のものである。
また、耐摩耗性は、通常のＣＳＳ５万回後の突起の高さを測定することにより調べた。図９中、縦軸の突起の摩耗量は、ＣＳＳを行う前の初期の突起の高さと５万回ＣＳＳ後の突起の高さの差である。
【００５３】
図８に示した結果から材料Ａからなるカーボン膜を有する突起の膜硬度は約２０ＧＰａ乃至約２２ＧＰａの範囲に分布しており、平均値は２１ＧＰａ付近であり、材料Ｂからなるカーボン膜を有する突起の膜硬度は約２０ＧＰａ乃至約２４ＧＰａの範囲に分布しており、平均値は２２ＧＰａ付近であり、材料Ｃからなるカーボン膜を有する突起の膜硬度は約２３．６ＧＰａ乃至２５．８ＧＰａの範囲に分布しており、平均値は２４．２ＧＰａ付近であり、材料Ｄからなるカーボン膜を有する突起の膜硬度は約２８ＧＰａ乃至２９．４ＧＰａの範囲に分布しており、平均値は２８．７ＧＰａ付近であることがわかる。
【００５４】
図９に示した結果から膜硬度が約２１ＧＰａの材料Ａからなるカーボン膜を有する突起は、摩耗量が７ｎｍ以上と大きい。これに対して膜硬度が約２２ＧＰａの材料Ｂからなるカーボン膜を有する突起は、５ｎｍ以下であり、材料Ａよりも耐摩耗性が優れていることがわかる。さらに、膜硬度が約２４．２ＧＰａの材料Ｃからなるカーボン膜を有する突起は、摩耗量の平均値が約３．５ｎｍ、膜硬度が２８．７ＧＰａの材料Ｄからなるカーボン膜を有する突起は、摩耗量の平均値が約１．８ｎｍであり、耐摩耗性がより優れていることがわかる。
図９の結果から突起の摩耗量が実用上問題ない（吸着トルクが小さい）範囲の５ｎｍ以下であるものは、カーボン膜６４を膜硬度が２２ＧＰａ以上のカーボン膜から構成したものであるので、スライダ本体に形成されたレールに設ける突起の最表面のカーボン膜を膜硬度が２２ＧＰａ以上のカーボン膜から構成することが有効であることを確認できる。
【００５５】
（実験例２）
磁気ギャップＧと第２の突起１８との距離Ｌ２を３００μｍ〜５００μｍの範囲で変更した以外は実験例１で用いたものと同様の磁気ヘッドスライダを作製し、スライダ本体１０の媒体対向面と磁気ディスク７１との吸着の発生状況について調べた。ここでの吸着の発生状況は、作製した磁気ヘッドスライダをＣＳＳテスタにセットし、磁気ディスク７１が７２００ｒｐｍ回転したときのスライダ本体１０の媒体対向面と磁気ディスク７１との間に生じる吸着力を測定することにより調べた。その結果を図１０に示す。
図１０に示す結果から磁気ギャップＧと第２の突起１８との距離Ｌ２が３００μｍを越えると吸着力が大きくなり、特に、Ｌ２が４００μｍを越えると吸着力が急激に増大していることがわかる。また、Ｌ２が３００μｍ未満のものは、吸着力が実用上問題のない範囲の４９ｍＮ（５ｇｆ）以下であり、特に、Ｌ２が３００μｍ以下のものは、吸着を防止できることがわかる。
以上の結果から磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起（第２の突起）から磁気ギャップまでの距離は、スライダ本体の長さの２５％以下とすることが有効であることを確認できる。
【００５６】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の磁気ヘッドスライダによれば、上記の構成としたことにより、磁気ディスクの停止時に磁気ヘッドコア側（空気流の流出側）近傍のスライダ本体の媒体対向面と上記磁気ディスクとの間に、他の突起より高さが低い突起が介在されることになるので、上記磁気ディスクの表面に塗布された潤滑剤のメニスカスの半径は、上記高さが低い突起の回りで大きくなり、上記潤滑剤の液膜により上記スライダ本体の媒体対向面が磁気ディスクに張り付くのを改善でき、スライダ本体と磁気ディスクとの吸着を低減する効果を向上できる。
また、上記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起の高さは、他の位置に設けられた突起の高さより低くされているので、磁気ヘッドスライダがピッチ角１００μＲａｄ程度で浮上時に上記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起が上記磁気ヘッドコアに設けられた磁気ギャップより磁気ディスク側に突出するのを回避でき、すなわち、上記磁気ギャップを上記複数の突起よりも磁気ディスクに近接させることができ有利である。
また、本発明の磁気ヘッドスライダの製造方法によれば、上記の構成としたことにより、本発明の磁気ヘッドスライダの製造に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係る磁気ヘッドスライダの一実施形態例の底面図。
【図２】  図１の磁気ヘッドスライダの浮上の状態を示す断面図。
【図３】  本発明に係わる磁気ヘッドスライダに設けられた磁気ヘッドコア部の一例を示す断面図。
【図４】  本発明に係わる磁気ヘッドスライダに設けられた磁気ヘッドコア部の一例を示す部分断面図。
【図５】  第２のカーボン膜の膜硬度の測定に用いる圧子の形状を示す図である。
【図６】  図１乃至図２の磁気ヘッドスライダの製造方法を工程順に示す図。
【図７】  図１乃至図２の磁気ヘッドスライダの製造方法を工程順に示す図。
【図８】  磁気ヘッドスライダの突起の最表面のカーボン膜を構成する材料の膜硬度の測定値を示す図。
【図９】  磁気ヘッドスライダの突起の最表面のカーボン膜を構成する材料と突起の摩耗量を示す図。
【図１０】  第２の突起と磁気ギャップとの距離と吸着力との関係を示すグラフである。
【図１１】  従来の磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの配置関係を示す図。
【図１２】  従来の磁気ヘッドスライダの一例の浮上走行状態を示す側面図。
【図１３】  従来の磁気ヘッドスライダのその他の例の浮上走行状態を示す側面図。
【符号の説明】
Ｓ・・・磁気ヘッドスライダ、１０・・・スライダ本体、１０ａ・・・空気流の流入側、１０ｂ・・・空気流の流出側、１１・・・磁気ヘッドコア、  １２・・・サイドレール、１３・・・センターレール、１５・・・負圧溝、１７・・・第１の突起、１８・・・第２の突起、１９・・・第３の突起、２２、２７、２８、２９・・・レジストパターン、３５・・・巨大磁気抵抗効果材料膜（巨大磁気抵抗効果型素子）、７１・・・磁気ディスク、６３・・・中間膜、６４・・・カーボン膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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