(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
過酸化水素をタングステンおよび／またはモリブデンと反応させること、酸化タングステンおよび／または酸化モリブデンを含む得られた塗料溶液を支持体に付与すること、および付与された層を熱的に後処理することによって特徴付けられ、塗料溶液および／またはその前駆物質が、溶解形態でアルカリ金属水酸化物をタングステンおよび／またはモリブデン１モル当りの全アルカリ金属量として0.001〜1.0モル含む、エレクトロクロミック酸化層を調製するためのプロセス。
【請求項２】
アルカリ金属が、Li、Naおよび／またはKであり、好ましくはLiおよび／またはNaであることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
アルカリ金属水酸化物が、LiOHであることを特徴とする請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
アルカリ金属水酸化物が、タングステンおよび／またはモリブデン１モル当たりの合計量として0.01〜0.5モルで使用されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプロセス。
【請求項５】
塗料溶液の溶媒が、室温で液体であるアルコール、特に炭素原子１〜４個を有するアルコールを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のプロセス。
【請求項６】
塗料溶液中のタングステンおよび／またはモリブデン濃度が、MO3(M=Wおよび／またはMo)に基づき1〜50重量％であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のプロセス。
【請求項７】
塗料溶液が、温度15〜25℃および相対大気湿度5〜50％で、好ましくは浸漬、スプレーまたはスピン・コーティングにより付与されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプロセス。
【請求項８】
熱的な後処理が、温度80〜400℃にて10分間〜2日間でなされることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のプロセス。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載のプロセスによって得られるエレクトロクロミック酸化層。
【請求項１０】
請求項９に記載のエレクトロクロミック酸化層を、ガラス製支持体または透明プラスチック製支持体上に設けられる透明な伝導層上に設けたエレクトロクロミック薄膜電極。
【請求項１１】
以下を含むエレクトロクロミック薄膜システムであって、
(a)エレクトロクロミック酸化層、
(b)非着色性イオン挿入層、および
(c)これらの層間に置かれる電解質、
成分(a)が、請求項９に記載のエレクトロクロミック酸化層であることを特徴とするエレクトロクロミック薄膜システム。
【発明の詳細な説明】
本発明は、エレクトロクロミック薄膜システムおよびその構成材料、特にゾル−ゲル法により形成されるものに関する。
数多くのエレクトロクロミック薄膜システムが、種々の分野の用途に関する文献中に、個々の構成部材の異なる組合わせで記載されている。
機能性酸化被膜を形成するために、これまで記述されてきた方法は、主として真空法、例えば、加熱蒸着、スパッタリングまたはCVD、さらにスプレー熱分解および電気化学的析出法である。しかしながら、これらの方法は、表面積の大きい均一な膜の作製には不適であり、および／またはコストがかさみすぎる。近年、そのようなシステムをゾル−ゲル法で作製するための幾つかの試みが為されてきた。それは、これらの方法が、真空技術を使用しなくても良いために、様式変更の幅が大きく、広い表面積の均一な膜の作製に要するコストが実質的により低くてすむからである。しかしながら、今日まで文献に記載されたシステムは、未だ全体として十分なものではない。
特に、とりわけ酸化タングステンおよび酸化モリブデンからなるエレクトロクロミック酸化層の場合には、新しく作製された薄膜システム中の酸化物が初期にアルカリ金属イオンを含まないという事実は、電解質イオン源からのアルカリ金属イオンの取込みにより所望の挿入不均衡が次第に達成される前に、これらのシステムが比較的長時間駆動されねばならないことを意味する。これは、初期の機能の低下を導く。
従って、本発明の１つの目的は、それらを作製した後すぐに完全に機能を発揮し得る、酸化タングステンおよび／または酸化モリブデンを基礎とするエレクトロクロミック酸化層を形成することにある。
本発明の第一の態様においては、驚くべきことに、公知の酸化タングステンおよび酸化モリブデンの作製方法において、酸化物の一部が、アルカリ金属塩、とくにアルカリ金属水酸化物との反応により、エレクトロクロミック機能或いは層を加工する能力にいかなる悪影響も及ぼすことなく、対応するアルカリ金属タングステン酸塩、またはモリブデン酸塩にそれぞれ変換され得ることが見い出された。これは、安定な駆動状態の確立を著しく早める。適切な反応管理が行われれば、アルカリ金属イオンの添加は、光学的な層特性或いはゾル特性における好ましくない変化をも生じない。
さらに、今日まで、多くのタイプの電解質が、エレクトロクロミック・システムのために提案されてきた。しかしながら、液体および純粋に有機ポリマーの電解質は、駆動温度の範囲が限定されるために、限られた範囲のみでしか使用され得ず、他方、純粋に無機タイプのものは、室温でイオン伝導率が低いために、同様な制限を被る。ポリマー電解質は熱間圧縮により、無機タイプのものは通常はスパッタリング技法により、酸化電極層間に設けられる。
本発明の第二の目的は、従って、室温でも十分なイオン伝導率を発揮し、広い範囲の駆動温度を与え、また酸化電極層間に有利で単純な様式で付与することができる、エレクトロクロミック・システムのための電解質を提供することにある。
本発明の第二の態様においては、驚くべきことに、特定の有機的に改質されたアルコキシシラン類に基づく新規な有機−無機ナノ複合システムは、公知の電解質の不利な点の大部分を有していないのみでなく、そのような複合体にとっては驚くべきほどに高いレベルのイオン伝導率によって明確に区別され、室温でも満足すべきほど迅速なエレクトロクロミック機能を発揮することが見い出された。
最後に、エレクトロクロミック薄膜システムの第三の必須成分は、非着色性イオン挿入層である。例えば、セリウム、チタン、バナジウム、鉄、ジルコニウム、クロムの酸化物および異なる組成のこれら酸化物の混合物に基づく、非着色性酸化物イオン挿入層（プロトンまたはリチウムイオンのための）は、同様に多くのものが公知である。公知のイオン挿入層は、セリウムおよびチタンの酸化物に基づく。対応するイオン挿入層は、ゾル−ゲル法により作製されてきたが、この方法の不利な点は、一方でそれらが労力を要し、他方で１回のみの塗布作業では要求される膜厚が得られない塗料溶液が生じ、その結果、全ての付随的な不利を伴う多重塗布が必要となることである。
従って、本発明のさらに他の目的は、セリウムおよびチタンの酸化物に基づく非着色性イオン挿入層を形成するためのゾル−ゲル法を提供することであり、それは、一方では、単純に、迅速に、特に再現可能に行われることができ、他方で、１回のみの塗布作業でも要求される膜厚を得ることが可能な塗料溶液が生じることである。
本発明の第三の態様によれば、適切なセリウムおよびチタンの出発化合物を選択することにより、セリウムおよびチタンの酸化物に基づく非着色性イオン挿入層のための塗料溶液を作製することが可能であり、それは、１回のみの塗布作業で膜厚約200nmまでを実現可能な塗料溶液が、再現可能かつ迅速な様式で生じる。
以下に、本発明の上記の態様をより詳細に説明する。
本発明の第一の対象は、公知の方式で作製される酸化タングステンおよび／または酸化モリブデンを含むエレクトロクロミック層のための塗料溶液を支持体に塗布し、塗布された層を熱的に後処理することによって得られるエレクトロクロミック酸化層であり、塗料溶液および／またはその前駆物質は、溶解形態でアルカリ金属塩の全体量として、タングステンおよび／またはモリブデン１モル当りアルカリ金属0.001〜1.0モルを含む。
アルカリ金属は、一般に、リチウム、ナトリウムおよび／またはカリウムから選ばれ、リチウムおよびナトリウムが好ましいアルカリ金属であり、リチウムが特に好ましい。
本発明において使用されるアルカリ金属塩の好ましい例は、対応する水酸化物、塩化物、硝酸塩および過塩素酸塩であり、特に水酸化物である。そのようなアルカリ金属塩の具体例は、LiOH、NaOH、KOH、LiCl、LiNO3、LiClO4およびNaClO4であり、LiOHが特に好ましいアルカリ金属塩である。
アルカリ金属塩の添加は、酸化タングステンおよび／または酸化モリブデンの作製の前、最中または後の任意の時点でなされ得るが、それは、好ましくは最終時に、即ち、溶液が塗布の準備が整ったときに添加される。
使用されるアルカリ金属塩の量は、タングステンおよび／またはモリブデン１モル当り、一般にアルカリ金属0.001〜1.0モル、好ましくは0.01〜0.75モルの範囲である。Wおよび／またはMo １モル当り、アルカリ金属0.02〜0.6の範囲、特に0.05〜0.3モルの範囲が特に好ましい。
上記の塗料溶液のための溶媒は、一般に、少なくとも主要成分として、室温にて液体であるアルコール、好ましくは1〜4個の炭素原子を有するアルコールである。その具体例は、メタノール、エタノール、プロパノールおよびイソプロパノールである。
塗料溶液中のタングステンおよび／またはモリブデンの濃度は、MO3（M=Wおよび／またはMo）に基づき一般に1〜50重量％、好ましくは2〜40重量％である。特に好ましくは、塗料溶液中のMO3の5〜30重量％、特に10〜20重量％で存在する。
酸化タングステンおよび／または酸化モリブデンを含むエレクトロクロミック層のための塗料溶液を調製するために、従来技術は多くの方法を記載している。その中でも、本発明においては、金属オキソハライドから又は金属＋H2O2から出発する方法が好ましい。これらの方法は、酸化タングステンを含む塗料溶液の調製に関連して、以下でより詳細に説明する。
金属オキソハライドから出発する方法では、例えば、タングステンオキソクロロアルコキシド溶液は、窒素および／または乾燥空気下に、四塩化酸化タングステン、WOCl4と無水短鎖アルコール（特にメタノール、エタノール、1-および2-プロパノール）とを、１リットル当り0.05〜0.6モルの濃度で反応させることにより、合成される。通常、固体WOCl4を最初の装入物として投入し、アルコールを少量ずつ添加すると、その間、ガス状HClが発生する。次に、溶液を室温にて約15分間攪拌し、その後、窒素気流下還流しながら約15〜90分間加熱し、その後室温に冷却する。その保存寿命を延長するためには、-20℃までの範囲で保存することができる。
本発明においては、アルカリ金属塩以外の成分を既に含んでいる塗料溶液にアルカリ金属塩を上述の濃度にて添加するのが特に好ましい。
金属＋H2O2ルートを介して塗料溶液を調製する場合には、例えば、タングステン金属と過酸化水素水とを（通常、H2O210〜30重量％の濃度で）反応させることにより、ペルオキソタングステン酸溶液を調製する。該金属は通常、最初の装入物として投入し、過酸化物溶液を少量ずつ加え、それぞれの添加後に完全に反応するまで、次の添加を差しひかえる。反応温度は、通常温度調節槽によって0〜80℃に、好ましくは40〜60℃に調節する。反応の後、所望量の短鎖アルコール（例えば、メタノール、エタノール、1-もしくは2-プロパノールまたはその混合物）を加え、透明な溶液を20℃〜50℃で1〜24時間、好ましくは4〜8時間攪拌し、その後、溶液を減圧下に（例えば、50〜300ミリバール）30〜70℃で、好ましくは45〜55℃で加熱しながら殆ど乾燥するまで濃縮し、次に室温まで冷却する。純アルコール（上記を参照）に溶解することにより、定められた量のペルオキソ酸を含む溶液（WO3として計算して、好ましくは10〜50重量％、特に15〜25重量％）を得ることができ、それで塗布のための準備が整う。本発明においては、アルカリ金属塩を含まない以外の点では完成している塗料溶液に、好ましくは上記量のアルカリ金属塩を加える。この溶液も、その保存寿命を延長するために、-20℃までの温度で保存できる。
上述のようにして調製された塗料溶液は、準備された支持体に、例えば、浸漬、スプレーまたはスピン・コーティング技法により付与できる。この付与は、好ましくは、温度15〜25℃および相対大気湿度5〜50℃で行われる。特に好ましい温度範囲は、18〜22℃、とりわけ19〜21℃である。好ましい相対大気湿度は、10〜30％であり、とりわけ、タングステンオキソクロライド経路では、15〜25％であり、ペルオキソ酸経路の場合は5〜30％、特に5〜15％である。
上述のようにして塗布した支持体は、次に、熱による後処理をして、仕上げエレクトロクロミック層を形成する。一般に、この種の熱的後処理は、温度80〜400℃で10分間〜48時間加熱することを包含する。好ましい温度範囲は、100〜250℃、特に140〜200℃であり、他方、好ましい処理時間は、15分間〜24時間、特に30分間〜12時間である。
この様にして、殆ど割れのない、厚さ500nmまでの被膜を１回の塗布工程で形成することができる。しかしながら、次々に重なる複数層（例えば、５層まで）を付着させることも可能であり、その場合、熱的後処理（高密度化）は好ましくは、それぞれの塗布行程の後に行われる。従って、複数の層の異なる熱処理により、順次重なる勾配システムを形成することが可能である。しかしながら、多重塗布のために異なる塗料溶液を使用することにより、例えば、リチウム量の勾配を形成することも可能である。
付着性を改善するために、支持体上の第１の塗布層は、比較的希薄な溶液（例えば、金属酸化物0.05〜0.15モル／リットル、特に0.1モル／リットル）を用いて形成し、それを例えば、180〜230℃とくに200〜210℃で、15〜45分間とくに25〜35分間、熱的に後処理することができる。
浸漬塗布（特に好ましい）の場合には、支持体の裏側への塗布は、この裏側を、例えば粘着テープで遮蔽することにより、回避することができる。この遮蔽物は、好ましくは、熱的後処理の前に取除かれる。
上述のようにして形成される薄いエレクトロクロミック被膜のための基材（支持材）として、好適な支持体は原則として、透明であり、透明な伝導層が設けられ、塗布された被膜の熱的後処理の過程で使用される温度に耐えることができる全てのものである。これらの支持体は、好ましくは、ガラスのまたは透明プラスチックの、例えば、一般に、厚さ0.5〜6.0mm、好ましくは0.9〜2.0mmの対応するプレートである。これらのプレート（好ましくは、ガラス）は、完全に平らであるか、または僅かにのみ湾曲している。
透明な支持体上に設けられる伝導層は、慣用されている透明な伝導層、例えば、インジウム−酸化スズ（ITO）、フッ素をドープした酸化スズおよびアンチモンをドープした酸化スズ、並びにドープした酸化亜鉛およびドープした酸化チタンの１種であって良い。しかしながら、特定のケースでは、薄い金属層（例えば、厚さ＜20nmの銀）を透明な電子伝導層として使用することも可能である。
ガラス製支持体が、層支持体として使用される場合には、ガラス製支持体と電子伝導層との間に拡散遮蔽層、例えば、SiOを設けて、アルカリ金属がガラスから拡散するのを避けることが可能である。電子伝導層の抵抗は、できるだけ小さいことが好ましく、塗布領域および／または支持体サイズにも依存するが、好ましくは100Ω／□未満、特に20Ω／□未満である。
所望のサイズに切断された後、支持体は通常、有機溶媒、界面活性剤溶液および超音波槽の中で超純水を用いて、定められた洗浄およびクリーニング過程に供される。
本発明の第二の対象は、エレクトロクロミック薄膜システムのための電解質であり、これは以下のようにして得られる：
(a)下記一般式を有するシラン少なくとも１種の部分的加水分解および縮合
RnSiX4-n     (I)
式中、基Rは、同一または互いに異なって、非加水分解性基であり、その少なくとも１種は熱的または光化学的に重合性の（または重合性の）基を含み、基Xは同一または互いに異なって、OHまたは加水分解性基であり、nは1または2である；
(b)段階(a)からの部分的に加水分解された（縮合された）シランと、室温で液体であるジオールおよび／またはトリオール（好ましくはジオール）との、必要に応じて（および好ましくは）開始剤の存在下での反応；
(c)酸を用いて、pHを4.0〜8.0の範囲に設定；
(d)段階(a)以後で且つ段階(c)以前の任意の時点で、システムに可溶である少なくとも１種のアルカリ金属塩の添加；および
(e)得られたシステムの熱または照射処理；
上記において、下記一般式を有するシラン少なくとも１種が、さらに段階(a)で且つ段階(c)以前の任意の時点でシステムに添加される、
R'mSiX4-m     (II)
式中、R'は、アルキル、アルカリール(Alkaryl)、アラルキルまたはアリール（好ましくは20個までの、特に12個までの炭素原子を有する）であり、基Xは、同一または互いに異なって、OHまたは加水分解性基であり、mは0または1である。
上述の段階(a)において、一般に、存在する全ての加水分解性基の10〜90％、好ましくは20〜80％、特に30〜70％が、加水分解によって除かれる。
式(I)および(II)中の基Xの例は、式OR''およびOCOR''で示されるものであり、式中、R''は、1〜8個の、特に1〜4個の炭素原子を有するアルキル、さらにハロゲン、特に塩素である。
基Xは、好ましくは同一で、OCH3、OC2H5およびOC3H7から選ばれ、特にOCH3およびOC2H5であることが好ましい。
式(I)中の基Rは、好ましくは、（少なくとも）１つのエチレン性不飽和結合および／または（少なくとも）１つのエポキシ環を有するものである。その具体例は、（メタ）アクリルオキシ-C2-6-アルキルおよびグリシドキシ-C2-6-アルキルであり、C2-6-アルキル基の好ましい例はプロピルである。
式(I)中のnは1であることが、さらに好ましい。その結果、上記の好ましい実施態様を考慮に入れると（特に、それらの入手の容易さを考慮に入れると）、一般式(I)で示される特に好ましい具体的化合物は、グリシドキシプロピルトリ（メトキシまたは）エトキシシランおよびメタクリルオキシプロピルトリ（メトキシまたは）エトキシシランである。
室温で液体であり、上記の段階(b)で使用されるジオールおよび／またはトリオールは、好ましくは、ポリ-C2-6-アルキレングリコール、特にポリエチレンまたはポリプロピレングリコールである。その具体例は、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコールおよびジプロピレングリコールである。
段階(b)で使用できる他の好ましいジオールおよび／またはトリオールは、公知のジオールおよび／またはトリオール（例えば、エタンジオール、プロパンジオール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、グリセロールおよびトリメチロールプロパン）とエチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシドとのアルキレンオキシド付加物であり、この場合、例えば、エチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシド1〜20モル、好ましくは1〜10モルをジオールまたはトリオールに付加することが可能である。
エポキシ環を含む一般式(I)のシランを使用する場合には、好ましく使用される開始剤化合物は、エポキシ基の重合および、それらとジオールおよび／またはトリオールとの部分的結合を触媒するように働く。この目的のために、開始剤は好ましくは、有機アミン類、例えば、1-メチルイミダゾール、N-3-（トリエトキシ）-プロピル-4,5-ジヒドロキシイミダゾール、4,4'-ジアミノジフェニルメタン、ベンジルジメチルアミンおよびジアザビシクロウンデカン、アミノ含有シラン類、例えば、N-（2-アミノ-3-アミノプロピル）トリメトキシシランおよび3-アミノプロピルトリメトキシシラン、オルガノアルミニウム化合物、例えば、アルミニウムsec-ブチラートおよびアルミニウムブトキシエタノラートの所望ならばキレート・リガンドと錯体化した後のもの、有機酸および無機酸、例えば、酢酸、プロピオン酸、過塩素酸、塩酸、硫酸、リン酸などのアルミニウム塩の所望ならばキレート・リガンドと予め錯体化した後のもの、から選ばれる。無論、他の開始剤、例えば、三フッ化硼素−エチルアミン錯体を使用することも可能である。
本発明において使用される、一般式(II)で示され、電解質の伝導性の驚くほど顕著な増加をもたらし、硬化を促進するシランは、好ましくは、mが0であり、またはR'がC1-4-アルキル（例えば、メチルまたはエチル）であるものである。一般式(II)で示されるシランの特に好ましい具体例は、テトラメトキシシランおよびテトラエトキシシランである。
段階(d)において添加されるアルカリ金属塩は、原則として、塗料システムに溶解する任意のアルカリ金属塩である。一般に、それは、リチウム、ナトリウムおよび／またはカリウム、特にリチウムまたはナトリウムの塩であり、リチウム塩が特に好ましい。溶解特性の故に、対イオンは一般に、過塩素酸アニオンであるが、例えば水酸化物のような他の塩を使用することも可能である。段階(d)で使用できるアルカリ金属塩の具体例は、LiClO4、NaClO4およびLiOHである。
アルカリ金属塩は、好ましくは、段階(b)で使用されるジオール（トリオール）と同時か、後に、添加される。
使用される成分の比率は広く変わり得るが、個々の成分のモル量は、使用される一般式(I)のシラン１モル当たり、一般に、次のようである：
(i)ジオールおよび／またはトリオールは、0.01〜3.0モル、好ましくは0.25〜2.25モル、特に1.0〜1.75モル；
(ii)アルカリ金属塩は、0.01〜2.0モル、好ましくは0.025〜1.0モル、特に、0.05〜0.75モル；
(iii)開始剤は、0.01〜1.0モル、好ましくは0.025〜0.5モル、特に0.05〜0.25モル；
(iv)一般式(II)のシランは、0.01〜0.3モル、好ましくは0.025〜0.2モル、特に0.05〜0.15モル。
pHを4.0〜8.0の範囲に設定するために、上記の段階(c)で添加される酸は、無機または有機酸、例えば、塩酸、酢酸またはアジピン酸であることができ、一般に、式(I)のシラン１モル当り0.01〜1.5モルの量で使用される。添加される好ましい量は、式(I)のシラン１モル当り0.05〜1.0モル、特に0.1〜0.5モルであり、好ましいpH範囲は、5〜7.5、特に6〜7である。
段階(c)におけるpHの設定は、好ましくは、システムを用いる直前に行い、熱処理によって薄膜セル中に電解質を形成させる。この熱処理は、好ましくは、温度50〜150℃で10分間〜48時間行われる。好ましい処理温度は、60〜120℃特に75〜100℃の範囲であり、処理時間は、15分間〜24時間、とりわけ30分間〜12時間が特に好ましい。
一般に、上述のように形成される電解質は、半径が50nmまでの、特に20nmまでのナノスケールの粒子を有する。
熱処理前の電解質混合物の粘度は、組成と放置時間に依存し、通常、0.2〜1.4Pa.sの範囲にあり、ある場合には、疑似塑性
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への傾向が認められる。
上述の方法に従い調製される材料の熱処理（硬化）の進行中の収縮速度は、通常（堆積減少で示して）4〜12％の範囲であり、材料の組成によりコントロールできる。
熱（または照射）処理の過程で完成された電解質を供給するための材料は、例えば、エレクトロクロミック層とイオン挿入層との間に取り込まれる。これは、例えば、滴下、塗布、ナイフ塗布、スプレーまたはスクリーン印刷により、それを２つの層の一方または双方に塗布することによって、行われる。
本発明の第三の対象は、エレクトロクロミック薄膜システムのための酸化非着色性イオン挿入層の形成に使用するための、酸化セリウムおよび酸化チタンに基づく塗料溶液の調製方法である。この方法においては、室温で液体であるアルコール（好ましくは、例えば、メタノール、エタノール、プロパノールおよびイソプロパノールのような炭素原子1〜4個を有するアルコール）中のセリウム(III)塩溶液に対しチタンテトラアルコキシドをCe対Tiの原子比率が0.9:1〜1:0.9（好ましくは0.95:1〜1:0.95、特に0.99:1〜1:0.99）になるような量で加え、得られる溶液を水の存在下に40℃〜溶媒の沸点の温度で10分間〜24時間（好ましくは、20分間〜2時間、特に30分間〜90分間）加熱する。
上述の方法中のセリウム(III)塩として、室温で液体であるアルコールに溶解する任意の所望のセリウム(III)塩を使用することが可能である。この例は、硝酸塩および塩化物であり、例えば、硝酸塩が特に好ましい。
上述の方法の中で使用すべきチタンテトラアルコキシドは、好ましくは、一般式Ti(OR)4［式中RはC1-4-アルキルである］で示されるものの１種である。具体的な好ましく使用すべきチタン酸塩は、Ti(OCH3)4、Ti(OC2H5)4およびTi(n-またはi-C3H7)4である。
本発明においては、結晶水を含むセリウム(III)塩（例えば、セリウム硝酸塩６水和物）を使用することも好ましく、その結果、該方法に使用される水の少なくとも一部（好ましくは、全ての水）は、この結晶水によってもたらされる。
上述の方法で使用される水の量は、一般に、チタンテトラアルコキシド１モル当り、0.5〜10モル、好ましくは1〜8モル、特に2〜6モルである。セリウム化合物およびチタン化合物は、一般に、それぞれの場合、１リットル当り、0.01〜0.5モルの濃度で存在し、好ましい濃度は、１リットル当り、0.025〜0.4モル、特に0.05〜0.3モルである。
上記の方法を実施するとき、例えば、セリウム(III)塩（例えば、セリウム硝酸塩６水和物）を短鎖アルコール（例えば、メタノール、エタノール、1-もしくは2-プロパノールまたはそれらの混合物）中に、１リットル当り、0.05〜0.5モル、好ましくは１リットル当り、0.2〜0.3モルの濃度で溶解し、チタンテトラアルコキシド（例えば、チタンテトライソプロポキシド）を少量ずつ、１リットル当り、0.05〜0.5モル、好ましくは１リットル当り、0.2〜0.3モル添加し、還流下に定められた時間（例えば、10〜120分間、特に30〜90分間）透明な溶液を加熱することにより、ゾルを調製する手順に従うことが可能である。この手順では、化学的にコントロールされた予備加水分解が、ナノスケールの粒子（サイズ＜100nm）の形成および粘度の増加とともに起こる。これらのゾルは、特に約-20℃の温度で保存されるとき、数週間保持できる。
これらのゾルから、適切な支持体に対し、例えば、浸漬、スプレーまたはスピン・コーティング（好ましくは、浸漬）により付与することによって、酸化塗膜を形成することが可能である。好適な支持体は、エレクトロクロミック薄膜に関連して先に記述されたものと同じである。塗布は、温度と相対大気湿度の定められた条件下で、好適に行われる。塗布は、一般に、温度15〜25℃にて、好ましくは18〜22℃にて、特に19〜21℃にて、相対大気湿度は、5〜50％、好ましくは10〜40％、特に20〜30％で行われる。
浸漬塗布を行う場合には、一般に、引上げ速度2〜6mm／秒、好ましくは3〜5mm／秒で行う。この方法で、１回のみの塗布工程で、殆ど割れのない、膜厚約200nmまでの層を形成することが可能である。
塗布作業の後、塗布された被膜を一般に、温度200〜600℃の温度、処理時間5〜120分間を用いて熱的に後処理（高密度化）する。好ましい温度範囲は、250〜500℃、特に300〜400℃であり、好ましい処理時間は、10〜90分間、特に15〜60分間の範囲である。
複数層（例えば、3層）を順次析出させることが可能であり、その場合、熱的後処理は、それぞれの塗布作業の後に行われるべきである。
浸漬塗布の進行中に両面塗布を避けるために、支持体の裏側を遮蔽する（例えば、粘着テームを用いて）ことが可能である。この遮蔽は、好ましくは、熱的処理の前に再び取り除かれる。
本発明は、先述した１種以上の成分を含むエレクトロクロミック薄膜システムにも関する。この種の薄膜システムは、上記の成分から、例えば、酸化物を塗布した２枚の支持体の一方（または両方）に（好ましくは、CeTiO2層に）電解質を塗布（例えば、ナイフ塗布により）し、その後、酸化物を塗布した第二の支持体に圧力を加えて、気泡のないシステムを形成することにより、得られる。この場合、サブシステムの重なりが、その後の接触のために設けられねばならない。固定作業の後、使用される電解質中の開始剤に依存して、電解質層は、温度プログラムに基づいて熱的に、または可視光の照射とそれに続く熱による後硬化によって、重合または架橋されて硬化される。この場合には、電解質層は、事実上、２つの層を互いに結合する接着剤として働く。
シールすることにより、有機副産物の出現および水分の進入が妨げられる。この目的のために、薄膜セルの隙間および／または縁は、二液型エポキシ系接着剤、シリコーン接着剤、ブチルゴム、ホットメルト接着剤および他のシール用材料のような材料でシールされることができ、二つの支持体の位置も不変に固定される。両方の支持体の塗布されない縁の領域は、好ましくは、炭素または金属を含む導電接着剤または導電塗料を塗布し、接続を目的として、例えば、金属ワイヤーに連結する。
支持体に関しては、例えば、１つの酸化物塗膜の下方または一方の支持体の裏面上に、反射（金属）層（例えば、Pt、Pd、Ag、Alの）を設けることが可能であり、該層は同時に、電子伝導体として、また反射成分中のレフレクターとして働き得ることも、言及されるべきである。
今までに、統合的に伝達される透過率変化70から20％が、薄膜システム（VISレンジ380〜800nm）で、１分間未満の過渡時間（最終値の90%→10%または10%→90%）で達成されている。
下記の実施例は、本発明をより詳細に説明するものであるが、本発明の範囲を限定するものではない。
実施例１
(a)エレクトロクロミック薄膜の形成
準備された支持体（厚さ1mm、抵抗20Ω／□を有する、予め清浄化されたITOを塗布したガラス製支持体）をそれぞれ0.1または0.5モルのタングステンオキソクロロイソプロピレート溶液に２回浸漬塗布することにより、２つの酸化タングステン層を形成した。対応する溶液は、窒素下にて、四塩化酸化タングステン（WOCl4）と無水2-プロパノールとをそれぞれ0.1または0.5モル／リットルの濃度（0.1 M: アルコール70ml中WOCl4 2.39g; 0.5 M: アルコール70ml中WOCl4 11.95g）で反応させることにより合成した。固体WOCl4を最初の装入物として投入し、アルコールを室温にて少量ずつ加えると、HClガスが発生した。その後、溶液を室温にて15分間攪拌し、続いて窒素下還流しながら90分間加熱し、その後室温に冷却した。次に、W 1モル当りLi 0.15モルの濃度となるような量で、水酸化リチウムをこれらの溶液に加えた。
その後の塗布作業は、相対大気湿度10%および20℃の大気制御チャンバー中で行った。最初の塗布は、0.1モル溶液で行い、その後、塗布された支持体を200℃にて30分間、熱により高密度化した。第二の塗布を0.5モル溶液を用いて同様に行い、高密度化を4時間150℃にて行った。
（ｂ）非着色性イオン挿入層の形成
硝酸セリウム(III)６水和物7.60g(17.5mmol)を分子篩(0.3nm)上で乾燥したエタノール70ml(55.3g)に溶解した。溶液は、透明で無色であった。水分を排除した状態で室温で攪拌しながら、チタンテトライソプロピレート7.11g(17.5mmol)を少量ずつ加え、透明な黄色い溶液を調製し、それを次に還流下に60分間加熱すると、その進行中に目で見える曇りが起きた。室温に冷却した後、予め清浄化されたITOを塗布したガラス製支持体（厚さ1.0mm、抵抗20Ω／□）を溶液に浸漬し、速度4mm／秒で機械的に引き出すと、ITOを塗布した側の領域が遮蔽の結果として塗布されないまま残った。浸漬塗布は、密閉チャンバーの中で行い、その中では、温度20±1℃、相対大気湿度30±1%が設定されていた。15分間経過した後、塗布した支持体をオーブン中で430℃にて20分間高密度化し、その後、速度約20℃／分で冷却した。
(c)電解質の調製
電解質を合成するために、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン1molを、0.1モルHCl溶液1.5molと混合し、混合物を室温にて24時間攪拌し、その後、生じたメタノールを減圧下で蒸留により除去した。
次に、予備加水分解したグリシドキシプロピルトリメトキシシラン1molをテトラエチレングリコール1.5molと混合し、その後、室温で攪拌しながら、得られた溶液に過塩素酸リチウム0.65molを加えた。リチウム塩を完全に溶解させた後（約15分間）、開始剤として3-アミノプロピルトリメトキシシラン0.08molを室温で加えた。その後、室温でテトラエトキシシラン0.1molを加えた。当初曇っていた溶液は5分後に透明になり、その後、室温にて尚30分攪拌した。セルの組立て前に、電解質に（予備加水分解したシラン１モル当たり）HCl 1molの量で濃塩酸を加え、十分に攪拌を行った。
(d)エレクトロクロミック薄膜システムの形成
上記(a)で形成された酸化タングステン層を(c)に従って作製された電解質を滴下して覆い、(b)に従って形成されたセリウム／チタン酸化物層を酸化タングステン層に対して僅かなオフセットで加圧した結果、被覆されていないITOが突出した状態で固定された。硬化のために、各層を85℃にて24時間処理した。その後、セルの縁をエポキシ系接着剤でシールし、それを65℃にて20時間硬化した。被覆されていないITO突出領域同志を銀製伝導性ラッカーおよび銅製組み線により接続させた。
実施例２
タングステン金属と過酸化水素（濃度30%の水溶液）とを反応させ、この際最初の装入物として過酸化物溶液を投入し、次いで金属を少量ずつ加えることによって作製したエタノール性ペルオキソタングステン酸溶液から、エレクトロクロミック酸化タングステン層を形成した。反応温度は、温度調節槽により60℃に維持した。反応の後、タングステン1g当りエタノール8mlを添加し、透明な溶液を20℃にて2時間攪拌し、その後、50℃で加熱しながら減圧下に（50〜300ミリバール）ほとんど乾燥するまで濃縮し、次に濃縮溶液を室温に冷却した。水10重量％を含むエタノールに溶解すると、ペルオキソ酸18重量％を含む溶液が得られ、タングステン1モル当たりリチウム0.15molの濃度で水酸化リチウムを加えた後、これを大気制御チャンバー中での塗布に直接使用した。支持体の浸漬塗布は、相対大気湿度10%および20℃で行った。塗布された支持体を160℃にて45分間熱的に後処理した。
手順は、それ以外は、実施例１の(b)〜(d)に記載されているとおりであった。