(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物出入器、処理設備、真空ポンプ、ガスホルダーを主要構成設備とし、それぞれが密閉状態を形成しながら連結され、又、被処理物出入器と処理設備とは被処理物が通過できる開口部とその開口部を気密的に遮断できるシャッターとによって接続された処理設備において、前記シャッターを閉じた状態にて被処理物出入器の蓋を開け、被処理物を設置し、被処理物出入器の蓋を閉め密閉化後、被処理物出入器内のガスを真空ポンプにて系外へ排除し、次いでガスホルダー内に保留していたガスを被処理物出入器に導入し、被処理物出入器内と処理設備内とを均圧にし、次に被処理物出入器と処理設備との間の前記シャッターを開け、被処理物出入器から処理設備に被処理物を移動し、処理設備にて処理操作を行い、該処理設備に於いて処理完了後、被処理物を被処理物出入器に移動し、次いで前記シャッターを閉め、被処理物出入器と処理設備とを絶縁後、被処理物出入器内のガスを真空ポンプにてガスホルダー内に移動して保留し、次いで被処理物出入器内にガスを導入した後蓋を開け被処理物を取り出す事を特徴とする密閉化処理装置。
【請求項２】
ガスホルダーが浮遊式または蛇腹式のガスホルダーである請求項１記載の密閉化処理設備。
【請求項３】
処理設備及び／叉は、被処理物出入器内のガス量変化を、処理設備及び／叉は被処理物出入器と密閉状態にて連結されたガスホルダーの容量変化にて吸収する請求項１記載の密閉化処理設備。
【請求項４】
処理設備内に連結設置されたコンデンサーにて予め冷却処理した後のガスを、ガスホルダーに保留する請求項１に記載の密閉化処理装置。
【請求項５】
被処理物を被処理物出入器から取り出す際に、被処理物出入器内のガスを減圧装置にて吸引操作を行う前に、被処理物出入器内のガスを、コンデンサーの間でガス循環を行い、被処理物出入器内の溶剤ガス濃度を下げる請求項１記載の密閉化処理装置。
【請求項６】
被処理物を被処理物出入器から取り出す際に於いて、被処理物出入器内のガスを減圧装置にて吸引取り出した後に、被処理物出入器内ガスの圧力を減圧に維持した状態にてガスホルダー内のガスを供給し、被処理物出入器内の溶剤ガス濃度を下げる請求項１記載の密閉化処理装置。
【請求項７】
被処理物を被処理物出入器から取り出す際に於いて、被処理物出入器内のガスを減圧装置にて吸引取り出した後、被処理物出入器内の圧力を減圧に維持した状態にてイナートガスを供給し、被処理物出入器内の溶剤ガス濃度を下げる請求範囲項１記載の密閉化処理装置。
【請求項８】
被処理物出入器内に被処理物を設置後、被処理物出入器内のガスを減圧装置にて系外に排出した後に、被処理物出入器内ガスの圧力を減圧に維持した状態にてイナートガスを供給し、被処理物出入器内に残存する空気や水分をパージする請求項１記載の密閉化処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、溶剤を用いて精密加工部品の加工油や加工屑等を処理する洗浄操作や、溶剤にコーテイング剤を溶解して行うコーテイング操作等の際に発生する溶剤損失を少なくする溶剤密閉化処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来溶剤としては主に、塩素化フッ素化炭化水素や、塩素化炭化水素が用いられてきたが、地球のオゾン層破壊、その他自然環境破壊、労働環境問題からその使用制限が計られており、損失の減少、即ち密閉化が求められている。
又、他の溶剤への転換として、炭化水素等の可燃溶剤も用いられているが、防爆や空気置換用の窒素ガス等のイナートガス使用量減少の為にも密閉化が求められている。
【０００３】
一方、従来、溶剤を用いた処理装置としては被処理物の出し入れの為、開放状態の開口部を持った開放的処理装置が一般的である。被処理物を処理装置に出し入れするに際し、溶剤ガスの拡散等による漏れや被処理物との同伴による溶剤の損失を避けることは困難である。又処理設備内に空気や空気中の水分が入り込む事で、溶剤が溶解した排水が発生したり、設備内で水の凍結や、設備腐食、溶剤の劣化等を起こす等、開放的設備に起因する問題が発生している為、水分除去装置や、多量の窒素導入を必要としている。
【０００４】
装置を密閉化する方策としては、処理装置全体を覆い、拡散してくる溶剤ガスを集め、回収装置にて回収する方法が提案されている。しかしながら、溶剤のほとんどを回収するためには多量の空気を同伴する事となり、回収溶剤濃度が希薄で、たかだか0.1パーセント程度にしかならない。このため、液化して再び液溶剤として用いるようにするためには、複雑な操作と高い費用を必要とするのが普通である。又、回収ガスの取扱い量も多く、大きな回収設備を要し、設備コストも高く、必要床面積も大きい。又回収される溶剤の回収率や品質にも問題がある。
【０００５】
一方、処理器に被処理物を設置後密閉化し処理操作を行った後、処理器内溶剤ガスを真空ポンプにて減圧吸引し、回収装置に送って溶剤を回収後、処理器の蓋を開け被処理物を取り出す方法が提案されている。しかしながら、この場合も溶剤回収装置が無ければ大量の溶剤損失を生ずる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は溶剤回収装置が無くとも自然環境、労働環境が守れ、また、可燃溶剤を用いる際にも空気置換用のイナートガス使用量が僅少で、防爆上安全な密閉化処理装置を提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
被処理物出入器、処理設備、真空ポンプ、ガスホルダーを主要構成設備とし、それぞれが密閉状態を形成しながら連結され、又、被処理物出入器と処理設備とは被処理物が通過できる開口部とその開口部を気密的に遮断できるシャッターとによって接続された処理設備において、前記シャッターを閉じた状態にて被処理物出入器の蓋を開け、被処理物を設置し、被処理物出入器の蓋を閉め密閉化後、被処理物出入器内のガスを真空ポンプにて系外へ排除し、次いでガスホルダー内に保留していたガスを被処理物出入器に導入し、被処理物出入器内と処理設備内とを均圧にし、次に被処理物出入器と処理設備との間の前記シャッターを開け、被処理物出入器から処理設備に被処理物を移動し、処理設備にて処理操作を行い、該処理設備に於いて処理完了後、被処理物を被処理物出入器に移動し、次いで前記シャッターを閉め、被処理物出入器と処理設備とを絶縁後、被処理物出入器内のガスを真空ポンプにてガスホルダー内に移動して保留し、次いで被処理物出入器内にガスを導入した後蓋を開け被処理物を取り出す事を特徴とする密閉化処理装置を基本とするものである。
【０００８】
【作用と実施例】
以下に、本発明を図面に従って具体的に説明する。これはあくまでも実施態様例であり他の具体的方法も採用可能である。説明は機能に関して説明するものであり、その都度のラインの開閉に付いては説明を省略する場合もある。
【０００９】
図１は密閉系内の主要構成設備とその主要関連を示す。
被処理物出入器３は、被処理物出し入れ口と、その出し入れ口を気密化できる蓋を持っている。更に、被処理物出入器３と処理設備１との間には被処理物が通過できる開口部とその開口部を気密的に遮断できるシャッター１２とによって接続されている。シャッター１２を開けた状態にても外部に対しては気密性が保持され、かつ、被処理物出入器３と処理設備１との間に、被処理物を移動させる機能を持ち、移動後、シャッター１２を閉止することによって被処理物出入器３と処理設備１との間の気密が保持されるようになされている。
【００１０】
被処理物出入器３から処理設備１および、処理設備１から被処理物出入器３への被処理物の移動手段は通常の機械的搬送手段が用いられ、特に指定はない。ガスホルダー４は処理設備系内に連絡し、圧力に大きな変化なしに、ガスホルダー４自身のガス保有量が変化できるものであって、例えば、浮遊式や蛇腹式のガスホルダーが望ましい。ガスホルダー４内の圧力は任意に設計出来、系内ガスの系外漏れ出しを重視する場合はプラス圧力に、空気の系内漏れ込みを重視する場合はマイナス圧力を設定する。
【００１１】
被処理物出入器３に被処理物の出し入れの為に蓋を開けている間、及び被処理物出入器３が真空ポンプ５にて減圧操作を行っている間以外の被処理物出入器３、ガスホルダー４、処理設備１はライン１３ー２によって連結され、各設備は均圧化されている。基本的にはバルブ１５ー９は閉じられており、処理設備内での温度や圧力変化によるガス保有量変化はライン１３ー２にてガスホルダー４の容量変化で吸収し、系外からの空気の流入や系内ガスの流出がないようになされる。
【００１２】
処理設備１は、被処理物出入器３からの被処理物を処理液、処理蒸気、乾燥用熱風、等で処理を行う設備で全体が気密化されており、気密化された処理設備内におい被処理物の処理に必要な処理機能を備えた設備であり、例えば、従来の多槽式の洗浄設備であって全体が気密化された設備や、気密化されたドライクリーニング機械等のようなものが挙げられる。
第１の工程はバルブ１５ー１、１５ー２、１５ー６、及びシャッター１２を閉め、被処理物出入器３を他の設備から絶縁後、蓋を開け、被処理物を被処理物出入器３内に設置し、蓋を閉め密閉化する。
【００１３】
第２の工程はバルブ１５ー８を閉の状態でバルブ１５ー１、真空ポンプ５、バルブ１５ー７を経て被処理物出入器３内のガスを系外に排出する。但し真空度が充分でない場合には真空度に応じた空気が残留する事になり、結果として処理設備１内に空気が流入する事になる。その量は通常は非常に少なく問題とならないが、可燃性溶剤を用いる場合には処理設備１内への蓄積となる事からパージを行う事が望ましい。
【００１４】
パージの方法としては、例えば最初に被処理物出入器３内のガスを減圧排出後、イナートガスをバルブ１５ー６から減圧を維持できる流入速度で導入する方法が使用イナートガス量当たりの置換率を高く出来ることから望ましい。終了後バルブ１５ー１、１５ー６、１５ー７を閉め、真空ポンプ５を止める。
【００１５】
第３の工程は被処理物出入器３へ処理設備１内のガス、具体的にはガスホルダー４に保留してあったガスを、バルブ１５ー２を開け被処理物出入器３に戻し、被処理物出入器３内の圧力を処理設備１内の圧力と均圧にする。勿論、他のルート、例えばライン１３ー２から処理設備１を経てシャッター１２からでも本発明の実施の上で差し支えない。
【００１６】
第４の工程は被処理物を被処理物出入器３から処理設備１に移し、被処理物を処理する工程であり、シャッター１２を開け被処理物出入器３内の処理物を処理設備１内に移動させ、処理設備１内にて被処理物を処理する。移動の方法は周知の方法で特に指定はない。処理設備１内はガスホルダー４と連絡されており、ガスホルダー４と同圧のほぼ大気圧に維持されている。処理設備１は例えば、通常の密閉化された３槽式洗浄装置、ドライクリーニング装置、浸漬型のコーテイング装置等である。
【００１７】
処理操作の間、被処理物出入器３内や液溶剤槽、蒸気発生器等、系内設備の温度変化とそれに伴う溶剤の分圧変化が起こり、系内に保有するガス量に変化が生じる。この間に発生する系全体の保有ガス量の増減は、均圧管１３ー２によってガスホルダー４の容量変化にて吸収しその都度、系外に排出したり系外から空気を取り入れたりしないで済む。
【００１８】
第５の工程は、処理完了後、被処理物出入器３内のガスを処理設備１、具体的にはガスホルダー４に預けると共に、ガス排出後の被処理物出入器３内のガス濃度を低下させる工程である。ガス濃度を低下させることは、取り出しの際に同伴する溶剤ガスによる環境汚染、溶剤損失を防止するためと、可燃性溶剤を用いている場合には、引火点以下の溶剤濃度にしておくため、さらには、第２工程での排出溶剤量を低減させるためのものである。
【００１９】
バルブ１５ー１、１５ー２、１５ー６、シャッター１２を閉めた状態にして被処理物出入器３を他の設備から絶縁後、被処理物出入器３内のガスをバルブ１５ー１、真空ポンプ５、バルブ１５ー８を経て望ましくはコンデンサー６を経て凝縮液化した液はライン１３ー５にて処理設備１に戻し、非凝縮ガスはガスホルダー４に保留する。
【００２０】
図示されてはいないが他の目的、例えば、真空ポンプ５から処理設備１を経てガスホルダー４に通ずるようなルートを設けることも本発明実施の上に差し支えない。
【００２１】
第６の工程は被処理物出入器３にバルブ１５ー６を通じてガスを導入し、大気圧とする。
第７の工程は蓋を開け被処理物を取り出す。
以上で全工程を完了する。本発明による装置は系全体は密閉化されており、以上の操作の開始時点と終了時点に於いて、即ち、被処理物の設置、取り出しの時点に於いて系内保有ガス量の変化は無いことから系外との間に於いて流通が起こらない。更にこの期間に起こる系内での温度変化等による保有ガス量の増減はガスホルダー４によって吸収し、その都度系外に出したり系外から空気を取り入れたりしない事は先に述べた通りである。従って装置系内には空気同伴の水分や勿論酸素の流入も実質的に無い。
【００２２】
本発明による装置は、被処理物を取り出す第７工程に於ける被処理物出入器溶剤濃度、さらには第２工程での被処理物出入器からの系外排出ガス中溶剤濃度は、第５の工程後の被処理物出入器内ガス濃度と、被処理物出入器内の達成減圧度による。達成減圧度が高いほど溶剤濃度は低くなり望ましい。例えば、第５工程にはいる前の被処理物出入器濃度が１００％であり、減圧到達度が３０トールであった場合は、第６工程終了後の被処理物出入器濃度は約４％となる。
【００２３】
又、同様２８％であれば約１．１％となる。第５工程後の被処理物出入器内の溶剤ガス濃度を下げる方法として減圧操作に入る前に、例えば、バルブ１５ー１、真空ポンプ５、バルブ１５ー８、コンデンサー６、ガスホルダー４、ライン１３ー２、被処理物出入器２の循環を行う方法が有効である。勿論、上記ガス循環は図示されていないがガスホルダー４をバイパスするラインを設け、コンデンサー６から直接ライン１３ー２に循環する事は本発明の実施の上で差し支えない。
【００２４】
第５工程後の被処理物出入器内の溶剤ガス濃度を下げる他の方法として、例えば被処理物出入器内ガスを真空ポンプにて排出後、減圧を維持した状態にてガスホルダー４のガスをライン１３ー２、バルブ１５ー２から導入し、置換する方法は有効である。この場合、第４工程の終了時濃度が１００％であっても、２８％であってもその濃度に関係なく、被処理物出入器内の液溶剤が蒸発後、被処理物出入器内の濃度はコンデンサー６の出口ガス温度の平衡濃度まで低下させる事が出来る。
【００２５】
例えば、溶剤がトリクロールエチレンであり、コンデンサー６の温度を摂氏３度とした場合、その濃度は約３．２％となり、第６工程での減圧度が同様３０トールとした場合第２工程での排出ガス濃度は約０．１３％となる。更に、減圧到達度が１トールまでになれば、その濃度は４０ｐｐｍとすることができる。
【００２６】
以上の操作に於いて、第２の工程でのパージガス溶剤濃度に不満足の場合は、第５の補助工程として、系外からのイナートガスでパージする。ここで供給するイナートガスの供給量はそのまま処理設備系からの系外排出ガスとなる。このことからパージ用イナートガスの使用量は、できるだけ少ない量で被処理物出入器内溶剤濃度を低下させる事が望ましい。
【００２７】
その方法として例えば第五工程が終了し、被処理物出入器内が減圧状態となった後、被処理物出入器に被処理物出入器内の圧力が、真空ポンプの能力から許容できる、可能な限り高い減圧状態を維持しながら、被処理物出入器へイナートガスを供給し被処理物出入器内の濃度を下げることで僅少なイナートガス量で効果的にパージすることができる。
【００２８】
特開昭５９ー１３２９１９では、被処理物の取り出し前に、真空ポンプにて被処理物出入器内のガスを吸引排除した後、空気を導入して常圧に戻す操作を繰り返す事によって、満足する濃度まで下げる事を提案している。しかしながら同提案では、供給イナートガス量に対する濃度低減率は、例えば、減圧達成度が３０トールの場合、１回の繰り返しによる終了後の濃度は初期濃度に対して約４％にしか下がらない。
【００２９】
この場合イナートガスの供給量は被処理物出入器容積の０．９６倍である。本発明の方法で上記方法と同様条件、即ち、到達真空度３０トール、使用イナートガス量が被処理物出入器の容積の０．９６倍量を用いてパージした場合と比較する。、即ち、処理器内の圧力を３０トールに維持しながら被処理物出入器容積の０．９６倍の常圧イナートガスを被処理物出入器に導入した場合、イナートガスは被処理物出入器内にて約２５倍に膨張し、その結果、被処理物出入器容積の約２４倍のガス量で無限希釈される事になり、終了後の濃度は、初期濃度に対し、１．４×１０ー9％となる。以上から本発明の効果は絶大であると言える。
【００３０】
以上処理操作の間において、系内への空気の漏れ込みが有った場合はガスホルダーの保有ガス量の増加となり、バルブ１５ー９より系外放出をせざるを得なくなる事から、装置の密閉化には特に留意を要する。この場合、系外に排出される溶剤量が許容できる範囲である場合はそのまま排出するが、許容できない場合は、圧縮冷却するとか、吸着剤を用いて吸着再生回収する等の一般的方法により回収するが通常処理必要量は僅少であり本発明を用いた場合非常に有利である。
【００３１】
次に本発明を別の実施態様に付いて説明する。
図２は主要設備と、その関連を示す。説明は機能に関して説明するものであり、その都度のラインやバルブの開閉に付いては説明を省略する場合がある。図において被処理物出入器３は、被処理物出し入れ口と、その出し入れ口を気密化できる蓋３ー１、及び、処理設備１に被処理物１１を移動させるための開口部と処理設備１との接続部を気密的に遮断するシャッター１２ー１を持っている。
【００３２】
処理設備１は、全体が気密化されており、気密化された処理設備内において被処理物の処理に必要な処理機能を備えた設備であり、例えば、従来の多槽式の処理設備であって全体が気密化された設備や、気密化されたドライクリーニング機械、浸漬型コーテイング装置等のようなものが挙げられる。
【００３３】
ガスホルダー４は処理設備１と連絡し、ガスホルダー自身のガス保有量が変化し得るものであって、ガス保有量の変化によって保有ガスの圧力があまり変化しない、例えば、浮遊式や蛇腹式のガスホルダーが望ましい。
【００３４】
被処理物出入器３と処理設備１とは被処理物１１が通過できる開口部とその開口部を気密的に遮断できるシャッター１２ー１、１２ー２とによって接続されている。シャッター１２ー１、１２ー２を開けた状態にても外部に対しては気密性が保持され、かつ、被処理物出入器３と処理設備１との間に、被処理物１１を移動させる機能を持ち、移動後、シャッター１２ー１、１２ー２を閉止することによって被処理物出入器３と処理設備１との間の気密が保持されるようになされている。
【００３５】
被処理物出入器３から処理設備１、および、処理設備１から被処理物出入器３への被処理物１１の移動手段は通常の機械的搬送手段が用いられ、特に指定はない。
処理設備内のガス保有量は、処理操作の過程で各所の温度変化等によって変化するが、連結されたガスホルダー４のガス保有量の変化によって吸収され、外部へのガスの排出や空気の流入がないようになされている。
【００３６】
被処理物出入器３が真空処理操作をされている間、及び、被処理物出入器３に被処理物１１出し入れ用の蓋を開けている間以外は、被処理物出入器３、処理設備１、及びガスホルダー４は均圧管によって連絡されており、ほぼガスホルダー４内の圧力になっている。
【００３７】
シャッター１２ー１、バルブ１５ー１、１５ー２、１５ー６、は閉の状態にて被処理物出入器３の蓋３ー１を開け被処理物１１を設置する。次いで蓋３ー１を閉じ密閉化後、バルブ１５ー１、真空ポンプ５、バルブ１５ー７を経て被処理物出入器３内の空気を系外に排出するように操作する。空気排気が実質的に終了後、バルブ１５ー１、１５ー７を閉め真空ポンプ５を止める。
【００３８】
次いでガスホルダー４から逆止弁１５ー１０、バルブ１５ー２を経て処理設備内のガス、具体的にはガスホルダー４のガスを被処理物出入器３に導入し、処理設備１と均圧となるように操作する。次いでシャッター１２ー１が開けられ、被処理物１１が被処理物移動装置にて処理設備１に、本例の場合は処理設備１の第一槽の１ー１内１１ー１に移される。
【００３９】
本例の処理設備１は、仕切板によって四つの槽に分割された、通常の四槽式処理設備である。溶剤にはトリクロールエチレンが用いられた。第一槽１ー１は温液溶剤による処理槽であり液溶剤が底部に保有され所定の温度、例えば摂氏５０度に温度調節器１ー１ー１によって調節されている。第二槽１ー２は冷液溶剤による処理槽であり、底部に液溶剤が保有され温度調節器１ー２ー１によって例えば摂氏３０度に調節されている。
【００４０】
第三槽１ー３は溶剤蒸気による処理槽であり、底部に液溶剤が保有され、例えば摂氏８０度に保持され、空間部はほぼ同温度の溶剤蒸気によって満たされており、比較的温度の低い被処理物表面に高純度の溶剤液を凝縮させ処理する槽である。
【００４１】
第四槽１ー４は乾燥用の槽であり、冷却用のコイル１ー５が設置されており、空間部は低い濃度の溶剤蒸気によって満たされており、比較的温度の高い被処理物付着の液溶剤を蒸発乾燥させる槽である。
【００４２】
それぞれの槽の上部及び第四槽１ー４には冷却用のコイルが設置され、各槽から蒸発してきた溶剤ガスは冷却液化され集められ、図示されていないが第二槽１ー２に流入するようになされ、また、第二槽１ー２の液レベルが一定以上になるとオーバーフローし、第一槽１ー１に、更に、第三槽１ー３の液面が一定になるように第一槽１ー１から補充される。第四槽１ー４の液は図では省略されているが被処理物汚染物質が蓄積してくるために連続的に叉は間欠的に取り出し精製し、精製液が第二槽１ー２に戻される。
【００４３】
被処理物１１は処理設備１内を１１ー１、１１ー２、１１ー３、１１ー４と移動し処理操作が完了後、被処理物出入器３内へ移動される。被処理物出入器３に移動完了後、シャッター１２ー１、バルブ１５ー２が閉められる。次いで、被処理物出入器３内のガスはバルブ１５ー１、真空ポンプ５、バルブ１５ー８、次いで望ましくはコンデンサー６を経て非凝縮ガスはガスホルダー４へ回収される。コンデンサー６にて凝縮液化した液溶剤は、処理槽第二槽１ー２に回収される。
【００４４】
実質的に被処理物出入器３内のガスが排出されたならば、バルブ１５ー１、１５ー８を閉め、真空ポンプ５を止め、バルブ１５ー７から空気を入れ大気圧とした後、被処理物出入器の蓋を開け洗浄完了被処理物１１を取り出す。この間の処理設備１内のガス量変化はガスホルダー４にて吸収される。即ち、ガス量が増加した場合は逆止弁１５ー１１、コンデンサー６を経てガスホルダー４に貯蔵し、逆に減少した場合は、逆止弁１５ー１０を経てガスホルダー４から処理設備１に戻される。
【００４５】
以上で一個の被処理物の処理過程を説明したが、実際には被処理物は連続的に送り込まれ処理し、連続的に取り出し出来るように、真空ポンプ等の共用設備が使用上支障がないよう時間調整される。
被処理物出入器は被処理物を処理設備に入れる場合と出す場合に必要であるが、処理のタイミングや処理設備の構造によって、それぞれ専用に設置してもよい。以下に入り口側被処理物出入器３、出口側被処理物出入器３’を備えた場合（破線で囲ったＡ部分が追加された処理設備）に付いて説明する。
【００４６】
シャッター１２ー１、バルブ１５ー１、１５ー２、１５ー６は閉の状態にて入り口側被処理物出入器３の蓋３ー１を開け被処理物１１を設置する。次いで蓋３ー１を閉じ密閉化後、バルブ１５ー１、真空ポンプ５、バルブ１５ー７を経て入り口側被処理物出入器内空気を系外に排出するように操作する。空気排気が実質的に終了後、バルブ１５ー１、１５ー７を閉め真空ポンプ５を止め、ガスホルダー４から逆止弁１５ー１０、バルブ１５ー２を経てガスホルダー４のガスを入り口側被処理物出入器３に導入し、処理設備と均圧化となるように操作する。
【００４７】
次いでシャッター１２ー１が開けられ、被処理物１１が被処理物移動装置にて処理設備１内１１ー１に移される。処理設備１に被処理物１１が移動後、シャッター１２ー１、バルブ１５ー２は閉められる。シャッター閉止後、入り口側被処理物出入器３内のガスはバルブ１５ー２、真空ポンプ５、バルブ１５ー８、次いで望ましくはコンデンサー６、を経てガスホルダー４へ回収された後、バルブ１５ー１を閉め、１５ー６より空気を導入し、大気圧とし次の被処理物受け入れに備える。
【００４８】
出口側被処理物出入器３’は、被処理物１１の受け入れに備えて、予め、同蓋３’ー１、バルブ１５ー１、１５ー２’、１５ー６’、シャッター１２ー２を閉止後、内部のガスをバルブ１５ー１、真空ポンプ５、バルブ１５ー７、を経て排出した後、バルブ１５ー１、７を閉め、真空ポンプを停止後、ガスホルダーから逆止弁１５ー１０、バルブ１５ー２’を経てガスホルダー４のガスを導入させ、処理設備と均圧にし、シャッター１２ー２を開けておく。
【００４９】
処理設備内にて処理操作が完了後、被処理物は出口側被処理物出入器内へ移動される。移動完了後、シャッター１２ー２、バルブ１５ー２’が閉められる。次いで、被処理物出入器３内のガスはバルブ１５ー１、真空ポンプ５、バルブ１５ー８、次いで望ましくはコンデンサー６を経て非凝縮ガスはガスホルダー４へ、凝縮液は１ー２へ回収される。
【００５０】
実質的に出口側被処理物出入器内のガスが排出されたならば、バルブ１５ー１、１５ー８を閉め、真空ポンプ５を停止後バルブ１５ー６’から空気を入れ大気圧とした後、出口側被処理物出入器の蓋を開け被処理物を取り出す。この間、バルブ１５ー９は基本的には閉じられており、処理設備内のガス量変化はガスホルダー４にて吸収される。即ち、ガス量が増加した場合は逆止弁１５ー１１、コンデンサー６を経てガスホルダー４に貯蔵し、逆に減少した場合は、逆止弁１５ー１０を経てガスホルダー４のガスが戻される。
【００５１】
本発明によると、入り口側被洗浄物出入器３内の空気排出後、ガスホルダーからガスを戻すタイミングと、出口側被洗浄物出入器３’の被洗浄物取り出し前のガス排出タイミングを合わせることによって、ガスホルダーを経ることなしにそれぞれを満足するように操作することが可能である。
【００５２】
例えば、入り口側の被処理物出入器の空気排出後、ガスホルダーからのガス導入時期と、出口側被処理物出入器のガス排出時期とを合わせるように操作時間を設定し、出口側被処理物出入器からバルブ１５ー１、真空ポンプ５、バルブ１５ー８、コンデンサー６、逆止弁１５ー１０、バルブ１５ー２を経て入り口側被処理物出入器にガスを送り込む。同様、出口側被処理物出入器のガス排出後、ガスホルダーからガスを戻すタイミングと入り口側被処理物出入器の被処理物取り出し前のガス排出タイミングとを合わせることによって、ガスホルダーを経ることなしにガスを移動する事が出来る。即ち、入り口側被処理物出入器からバルブ１５ー１、真空ポンプ５、バルブ１５ー８、コンデンサー６、逆止弁１５ー１０、バルブ１５ー２’を経て出口側被処理物出入器にガスを送り込み、同様機能を果たさせることが可能である。
この場合ガスホルダーの必要設備容量を少なくでき有効である。
【００５３】
【発明の効果】
本発明による装置は溶剤損失が僅少となり、自然環境、労働環境の改善に寄与し、また、溶剤処理装置内に被処理物に同伴して、空気やそれに伴う水分が入らないために、溶剤が溶解した排水が発生したり、設備内での水の凍結や、設備腐食、溶剤の劣化等を起すことがない。また、可燃溶剤を用いる際にも空気置換用のイナートガス使用量が僅少で防爆上安全な密閉化処理設備となる。また、系外排出ガスを無くするか、少なくでき、更に、必要な場合でも高いガス濃度とする事が出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の基本的実施態様を説明する説明図。
【図２】 本発明のよりの実施態様を説明する説明図。
【  符号の説明】
符号は全図に共通した番号である
１        は処理設備。
１ー１    は処理設備の第一槽。
１ー１ー１は第一槽の温度調節器。
１ー２    は処理設備の第二槽。
１ー２ー１は第二槽の温度調節器。
１ー３    は処理設備の第三槽。
１ー３ー１は第三槽の温度調節器。
１ー４    は処理設備の第四槽
１ー５    は冷却コイル。
３、３’  は被処理物出入器。
４        はガスホルダー。
５        は真空ポンプ。
６        はコンデンサー。
１１      は被処理物。
１１ー１〜１１ー４は被処理物の位置。
１２ー１、ー２はシャッター。
１３ー１〜１３ー６は主要構成設備間の関連を示すライン。
１５ー１〜１５ー１２はバルブ、逆止弁番号。
破線で囲った（Ａ）は出口側専用の”出口側被処理物出入器”を持つ場合の追加部分。
【図１】
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【図２】
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