(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数本のゲートバスライン、該複数本のゲートバスラインに交差する複数本のデータバスライン、該ゲートバスラインとデータバスラインに接続するアクティブ素子、該アクティブ素子のそれぞれの素子に接続する画素電極が形成されたアクティブマトリクス基板と、着色パターンフィルタと該画素電極に対向するコモン電極が形成されたフィルタ基板との間に、液晶が充填されたアクティブマトリクス型液晶表示パネルであって、
該アクティブマトリクス基板に形成された複数の画素電極の少なくとも一辺が、隣接画素電極に対し上から見たとき隙間がなく、画素電極厚さ方向に電気的に隔離されてなること、
を特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記アクティブマトリクス基板には、少なくとも一方の隣接画素電極形成領域との境界に沿って段差を有する絶縁層が形成され、該段差によって前記画素電極厚さ方向の電気的隔離がなされていること、
を特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記アクティブマトリクス基板には、二方の隣接画素電極形成領域の境界に沿って段差を有する絶縁層が形成され、該段差によって前記画素電極厚さ方向の電気的隔離がなされていること、
を特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記アクティブマトリクス基板には、四方の隣接画素電極形成領域の境界に沿って段差を有する絶縁層が形成され、該段差によって前記画素電極厚さ方向の電気的隔離がなされていること、
を特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
前記アクティブマトリクス基板上には、一部の前記画素電極と、該一部の画素電極の左右方向または前後方向に隣接する画素電極形成領域上の絶縁層とが形成され、他の前記画素電極が該絶縁層上に形成され、該絶縁層の段差によって該一部の画素電極と該他の画素電極との隣接部の前記電気的隔離がなされていること、
を特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項６】
前記アクティブマトリクス基板上には、一部の前記画素電極と、該一部の画素電極の左右方向および前後方向に隣接する画素電極形成領域上の絶縁層とが形成され、他の前記画素電極が該絶縁層上に形成され、該絶縁層の段差によって該一部の画素電極と該他の画素電極との隣接部の前記電気的隔離がなされていること、
を特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項７】
前記アクティブマトリクス基板には各画素電極形成領域の一部、かつ、該画素電極形成領域の輪郭の少なくとも１／２に接する絶縁層が形成され、前記画素電極が該絶縁層と該アクティブマトリクス基板上に連通し形成され、該絶縁層の段差によって前記画素電極厚さ方向の電気的隔離がなされていること、
を特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項８】
前記絶縁層の段差によって電気的に隔離された前記画素電極にそれぞれ対向して前記フィルタ基板の着色パターンが密接し形成されてなること、
を特徴とする請求項２〜７のいずれか１項に記載の液晶表示パネル。
【請求項９】
前記画素電極が光学的反射性の導電部材で形成された反射型表示用の画素電極であること、
を特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の液晶表示パネル。
【請求項１０】
前記ゲートバスラインとデータバスラインおよび前記画素電極が、透光性導体で形成されていること、
を特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の液晶表示パネル。
【請求項１１】
前記フィルタ基板にマルチカラー表示用着色パターンが形成されてなること、
を特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の液晶表示パネル。
【請求項１２】
前記フィルタ基板にフルカラー表示用着色パターンが形成されてなること、
を特徴とする請求項２〜７のいずれか１項に記載の液晶表示パネル。
【請求項１３】
請求項１２記載の液晶表示パネルにおいて、前記フィルタ基板に形成された着色パターンが赤・緑・青の３色であり、前記絶縁層の段差による前記液晶の厚さが、該フィルタ基板の赤色パターン対応部より緑色パターン対応部が薄く、該緑色パターン対応部より青色パターン対応部が薄くなるように、該絶縁層が形成されてなること、
を特徴とする液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は着色パターンが形成されたフィルタ基板と、アクティブ素子およびそのアクティブ素子のそれぞれに接続する画素電極が形成されたアクティブマトリクス基板との間に、液晶が充填されたアクティブマトリクス型液晶表示パネルに関し、画素電極の形成領域を拡張せしめ高開口化させることで輝度を改善させる。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示パネルには、各種ＯＡ装置等に使用される透過型のものと、投写装置等に使用される反射型に大別されるが、カラー表示の液晶表示パネルとしては、マルチカラー方式とフルカラー方式があり、両者ともに、通常はカラーフィルタを用いている。
【０００３】
２分割のフィルタ基板としては、例えばマゼンタとグリーンの２色の着色パターンが形成されたものがあり、３分割のフィルタ基板としては、例えば赤，緑，青の３色の着色パターンを形成したものが知られている。
【０００４】
また、アクティブマトリクス基板に形成したアクティブ素子には、能動素子（ＴＦＴ：薄膜トランジスタ）をマトリクス状に形成したものと、非線形素子（ＭＩＭ：メタルインシュレータメタル）をマトリクス状に形成したものが、一般に知られており、ＴＦＴマトリクスが形成された基板は、一般にＴＦＴ基板と呼ばれている。
【０００５】
図１０は液晶表示パネルの回路の一部を示す概略図、図１１は従来の高開口化液晶表示パネルの概略構成図である。
図１０において、液晶表示パネルは複数のゲートバスライン１と複数のデータバスライン２が交差し、その交差部近傍に配設されたＴＦＴ３は、ゲート電極４がゲートバスライン１に、ドレイン電極５がデータバスライン２に、ソース電極６に接続する画素電極９は液晶７を介してコモン電極８に接続されている。
【０００６】
図１１において、マルチカラー方式の反射型液晶表示パネル１１は、ＴＦＴ基板１２とフィルタ基板１３の間に液晶７が充填されている。
一般にガラスにてなるＴＦＴ基板１２の上面には、ゲートバスライン（１），ゲート絶縁膜１４，ＴＦＴ３，データバスライン２，ＴＦＴ３等を覆う絶縁層１５，絶縁層１５上の画素電極９が形成され、画素電極９は絶縁層１５に穿設したコンタクトホール１６を介してＴＦＴ３のソース電極６に接続する。
【０００７】
一般にガラスにてなるフィルタ基板１３の下面には、画素電極９に対向するマゼンタパターン１７とグリーンパターン１８およびブラックマスク１９を形成したのち、ＩＴＯにてなるコモン電極８が形成されている。
【０００８】
かかる反射型液晶表示パネル１１は、絶縁層１５を形成することで、ゲートバスライン１とデータバスライン２およびＴＦＴ３の上に画素電極９が形成可能となり、そのことで高開口化を実現している。
【０００９】
図１２は液晶表示パネルにおける着色パターンの配列例を示す平面図であり、フルカラー表示の液晶表示パネルにおける着色パターンの配列として、（ａ）に示すストライプ配列、（ｂ）に示すトライアングル配列、（ｃ）に示すモザイク配列が知られている。
ストライプ配列は、赤色パターンＲと緑色パターンＧと青色パターンＢが、それぞれ色別に同一列に整列する構成であり、行別に１／２ピッチだけずれるトライアングル配列は、赤色パターンＲと緑色パターンＧと青色パターンＢが正三角形の頂点に配設された構成であり、モザイク配列は、赤色パターンＲと緑色パターンＧと青色パターンＢが前後・左右方向に揃って所定順序で整列する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
以上説明したように、ＴＦＴ基板１２に絶縁層１５を形成し、その絶縁層１５上に画素電極９を形成することで、ゲートバスライン１およびデータバスライン２の上に画素電極９が形成可能となり、高開口化された反射型液晶表示パネル１１が知られている。
【００１１】
しかしながら、液晶表示パネル１１は多数の画素電極９が同一面、即ち平坦な絶縁層１５の表面に形成された構成であり、各画素電極９の周囲に電気的絶縁領域を必要とし、更なる高開口化が前記電気的絶縁領域によって妨げられていた。
【００１２】
特に、携帯型装置等に使用する反射型液晶表示パネルにおいて、その開口率は表示品質を高める上で極めて重要であり、一層の高開口化が液晶表示パネルに要望されていた。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は画素電極の形成領域を拡張可能とし、高開口化させることで輝度を改善させることである。
【００１４】
本発明の第１の液晶表示パネルは、複数本のゲートバスライン、該複数本のゲートバスラインに交差する複数本のデータバスライン、該ゲートバスラインとデータバスラインに接続するアクティブ素子、該アクティブ素子のそれぞれの素子に接続する画素電極が形成されたアクティブマトリクス基板と、着色パターンフィルタと該画素電極に対向するコモン電極が形成されたフィルタ基板との間に、液晶が充填されたアクティブマトリクス型液晶表示パネルであって、該アクティブマトリクス基板に形成された複数の画素電極の少なくとも一辺が、隣接画素電極に対し画素電極厚さ方向に電気的に隔離されてなることである。
【００１５】
本発明の第２の液晶表示パネルは、前記アクティブマトリクス基板に、少なくとも一方の隣接画素電極形成領域との境界に沿って段差を有する絶縁層が形成され、該段差によって前記画素電極厚さ方向の電気的隔離がなされていることである。
【００１６】
本発明の第３の液晶表示パネルは、前記アクティブマトリクス基板に、二方の隣接画素電極形成領域の境界に沿って段差を有する絶縁層が形成され、該段差によって前記画素電極厚さ方向の電気的隔離されてなることである。
【００１７】
本発明の第４の液晶表示パネルは、前記アクティブマトリクス基板に、四方の隣接画素電極形成領域の境界に沿って段差を有する絶縁層が形成され、該段差によって前記画素電極厚さ方向の電気的隔離がなされていることである。
【００１８】
本発明の第５の液晶表示パネルは、前記アクティブマトリクス基板上には、一部の前記画素電極と、該一部の画素電極の左右方向または前後方向に隣接する画素電極形成領域上の絶縁層とが形成され、他の前記画素電極が該絶縁層上に形成され、該絶縁層の段差によって該一部の画素電極と該他の画素電極との隣接部の前記電気的隔離がなされていることである。
【００１９】
本発明の第６の液晶表示パネルは、前記アクティブマトリクス基板上には、一部の前記画素電極と、該一部の画素電極の左右方向および前後方向に隣接する画素電極形成領域上の絶縁層とが形成され、他の前記画素電極が該絶縁層上に形成され、該絶縁層の段差によって該一部の画素電極と該他の画素電極との隣接部の前記電気的隔離がなされていることである。
【００２０】
本発明の第７の液晶表示パネルは、前記アクティブマトリクス基板には各画素電極形成領域の一部、かつ、該画素電極形成領域の輪郭の少なくとも１／２に接する絶縁層が形成され、前記画素電極が該絶縁層と該アクティブマトリクス基板上に連通し形成され、該絶縁層の段差によって前記画素電極厚さ方向の電気的隔離がなされていること、である。
【００２１】
本発明の第８の液晶表示パネルは、前記絶縁層の段差によって隔離された前記画素電極の境界に対応し、前記フィルタ基板の着色パターンが密接し形成されてなることである。
【００２２】
本発明の第９の液晶表示パネルは、前記画素電極が光学的反射性の導電部材で形成された反射型表示であることである。
本発明の第１０の液晶表示パネルは、前記ゲートバスラインとデータバスラインおよび画素電極が、透光性導体で形成された透過型表示であることである。
【００２３】
本発明の第１１の液晶表示パネルは、前記フィルタ基板にマルチカラー表示用着色パターンが形成されてなることである。
本発明の第１２の液晶表示パネルは、前記フィルタ基板にフルカラー表示用着色パターンが形成されてなることである。
【００２４】
本発明の第１３の液晶表示パネルは、前記本発明の第１２の液晶表示パネルにおいて、前記フィルタ基板に形成された着色パターンが赤・緑・青の３色であり、前記絶縁層の段差による前記液晶の厚さが、該フィルタ基板の赤色パターン対応部より緑色パターン対応部が薄く、該緑色パターン対応部より青色パターン対応部が薄くなるように、該絶縁層が形成されてなることである。
【００２５】
前記本発明の第１の液晶表示パネルは、複数の画素電極の少なくとも一辺が、隣接画素電極に対し画素電極厚さ方向に電気的に隔離されることで、その電気的隔離部に従来技術で必要とした平面的隔離スペースが不要となり、画素電極形成領域が拡張可能となり、そのことで高開口化し、輝度が改善される。
【００２６】
前記本発明の第２〜第７の液晶表示パネルは、本発明の第１の液晶表示パネルにおける画素電極厚さ方向の電気的隔離に、絶縁層を利用した構成であり、その作用効果は本発明の第１の液晶表示パネルと同じである。
【００２７】
前記本発明の第８〜第１３の液晶表示パネルは、本発明の第１〜第７の液晶表示パネルを透過型またはマルチカラー表示用またはフルカラー表示用に適応せしめた構成である。
【００２８】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の第１の実施例による液晶表示パネルの説明図であり、（ａ）はデータバスライン２とゲート電極４を横断する模式断面図、（ｂ）はゲートバスラインを横断する（ａ）のＡ−Ａ矢視断面図である。
【００２９】
図１において、マルチカラー方式の反射型液晶表示パネル３１は、ＴＦＴ基板３２とフィルタ基板３３の間に液晶７が充填されている。
ガラス等にてなるＴＦＴ基板３２の上面には、ゲートバスライン１，データバスライン２，ＴＦＴ３，ゲート絶縁膜１４，ＴＦＴ３等を覆う絶縁層３４，絶縁層３４上の画素電極３６と３７が形成され、画素電極３６と３７は絶縁層３４に穿設したコンタクトホール３５を介し、対向するＴＦＴ３のソース電極６に接続されている。
【００３０】
アルミニウム等にて形成して光学的に反射性を具え、厚さが１５００Å程度の画素電極３６と３７は、図１（ａ）の図紙厚さ方向，図１（ｂ）の左右方向に複数個が整列し形成されており、その整列方向に個々の画素電極３６または３７は、適当幅の間隙４０例えば数μｍ幅の間隙４０によって分割されている。
【００３１】
ガラスまたは透光性フィルム等にてなるフィルタ基板３３の下面には、ストライブ配列の透光性マゼンタパターン３８と透光性グリーンパターン３９、即ち画素電極３６に対向するマゼンタパターン３８と、画素電極３７に対向するグリーンパターン３９および、ＴＦＴ基板３２の間隙４０に対向するブラックマスク４１を形成したのち、ＩＴＯにてなるコモン電極８が被着されている。
【００３２】
アクリル系樹脂，ポリイミド系樹脂，エポキシ系樹脂またはＳｉＯ2 等の無機組成物にてなる絶縁層３４は、均一厚さに形成したのち一部をエッチングするまたは、所定の２層構成とすることで薄層部３４ａと厚層部３４ｂの段付きとし、その段差ｄは隣合う画素電極３６と３７が電気的に接続されない値、例えば１μｍ程度の段差ｄとし、薄層部３４ａがフィルタ基板３３のマゼンタパターン３８に対向するとき、厚層部３４ｂはフィルタ基板３３のグリーンパターン３９に対向する。
【００３３】
かかる液晶表示パネル３１において、隣合う画素電極３６と３７は上から見たとき隙間なしであり、そのことによって画素電極３６と３７は、四方に隙間を必要とした従来の画素電極９より拡張形成が可能となり、高開口化されるようになる。
【００３４】
なお、マルチカラー方式の反射型液晶表示パネル３１では、ゲートバスライン１およびデータバスライン２に、アルミニウム等の非透光性金属を使用する。
そこで、液晶表示パネル３１の構成を透過型液晶表示パネルに応用するには、ゲートバスライン１およびデータバスライン２に透光性導体材料、例えばＩＴＯを使用し、ＴＦＴ基板にＴＦＴ基板３２と同様な絶縁層３４および画素電極３６，３７を形成する。
【００３５】
その結果、反射型液晶表示パネル３１と同様に高開口化された、マルチカラーの透過型液晶表示パネルが得られる。
図２は本発明の第２の実施例による液晶表示パネルの説明図であり、マルチカラー方式の反射型液晶表示パネル４５は、ＴＦＴ基板３２とフィルタ基板４６の間に液晶７が充填されている。
【００３６】
液晶表示パネル３１と同一ＴＦＴ基板３２を使用した液晶表示パネル４５において、フィルタ基板４６は、ＴＦＴ基板３２の絶縁層３４の段差ｄに対応し液晶７の厚さを均一化させるまたは、マゼンタパターン３８とグリーンパターン３９に対応し液晶７の厚さを適性化させる構成である。
【００３７】
即ち、ガラスまたは透光性フィルム等にてなるフィルタ基板４６の下面には、フィルタ基板３３と同じくストライブ配列のマゼンタパターン３８とグリーンパターン３９、およびブラックマスク（図示せず）を形成したのち、絶縁層３４の段差（１μｍ程度）ｄに相当し均一厚さの透光性パッド４７を形成し、次いでＩＴＯにてなるコモン電極８が被着されている。
【００３８】
ただし、パッド４７の形成に代えてマゼンタパターン３８を厚くしたり、コモン電極８を選択的に厚くしてもよい。
かかる液晶表示パネル４５は、液晶表示パネル３１と同じく画素電極３６および３７の形成領域が拡張され輝度が改善されると共に、全表示領域に渡って液晶７の厚さを均一化または適性化し、そのことによって色調に優れたものとなる。
【００３９】
そして、パッド４７またはそれに代わる前記構成は、ゲートバスライン１およびデータバスライン２にＩＴＯを使用した前記マルチカラーの透過型液晶表示パネル、即ち絶縁層３４と画素電極３６，３７を具えた透過型液晶表示パネルにも適用可能である。
【００４０】
図３は本発明の第３の実施例による液晶表示パネルの説明図であり、データバスライン２とゲート電極４を横断する断面である図３において、マルチカラー方式の反射型液晶表示パネル５１は、ＴＦＴ基板５２とフィルタ基板３３の間に液晶７が充填されている。
【００４１】
ガラス等にてなるＴＦＴ基板５２の上面には、ゲートバスライン１，データバスライン２，ＴＦＴ３，ゲート絶縁膜１４，ＴＦＴ３等を選択的に覆う絶縁層５３，ゲート絶縁膜１４上の画素電極５４，絶縁層５３上の画素電極５５が形成されている。
【００４２】
アクリル系樹脂，ポリイミド系樹脂，エポキシ系樹脂またはＳｉＯ2 等の無機組成物にてなる絶縁層５３は、例えばストライプ配列のグリーンパターン３９と対向するように形成され、その厚さはＴＦＴ３による凹凸を平坦化し画素電極５４と５５が電気的に隔離される値、例えば数μｍ程度である。
【００４３】
液晶表示パネル３１の画素電極３６に相当する画素電極５４は、ＴＦＴ３のソース電極６と直接的に接続し、液晶表示パネル３１の画素電極３７に相当する画素電極５５は、絶縁層５３に穿設したコンタクトホール３５を介し、対向するＴＦＴ３のソース電極６に接続されている。
【００４４】
アルミニウム等にて形成して光学的に反射性を具え、厚さが１５００Å程度の画素電極５４と５５は、画素電極３６および３７と同じく、図紙の厚さ方向に複数個が整列されており、その整列方向に各画素電極５４と５５は、画素電極３６および３７と同じく適当幅の間隙により分割されている。
【００４５】
かかる液晶表示パネル５１は、前記液晶表示パネル３１と同じく画素電極５４および５５が従来の画素電極９より拡張可能となり、そのことによって高開口化され輝度が改善される。
【００４６】
なお、液晶表示パネル５１において、フィルタ基板３３に代え図２に示すフィルタ基板４６を使用すれば、液晶７の厚さを均一化させることが可能であり、さらにゲートバスライン１およびデータバスライン２にＩＴＯを使用することで、透過型液晶表示パネルに応用し液晶表示パネル５１と同等の効果が得られる。
【００４７】
図４は本発明の第４の実施例による液晶表示パネルの説明図であり、フルカラー方式の反射型液晶表示パネル５６は、ＴＦＴ基板３２とフィルタ基板５７の間に液晶７が充填されている。
【００４８】
データバスライン２とゲート電極４を横断する断面であり、液晶表示パネル３１と同一ＴＦＴ基板３２を使用した液晶表示パネル５６を示す図４において、ガラスまたは透光性フィルム等にてなるフィルタ基板５７の下面には、それぞれ透光性の赤色パターンＲと緑色パターンＧと青色パターンＢを形成したのち、ＩＴＯにてなるコモン電極８が被着されている。
【００４９】
着色パターンＲ，Ｇ，Ｂがストライプ配列のフィルタ基板５７では、図紙の厚さ方向にそれぞれ複数の着色パターンＲ，Ｇ，Ｂが整列し、その間にはＴＦＴ基板３２と同様なブラックマスク４１（図１（ｂ）参照）が形成されている。
【００５０】
かかる液晶表示パネル５６は、液晶表示パネル３１と同じく画素電極３６および３７が従来の画素電極９より拡張可能となり、そのことによって高開口化され輝度が改善される。
【００５１】
なお、液晶表示パネル５６において、フィルタ基板５７に形成した３色の着色パターンＲ，Ｇ，Ｂは、その位置によって画素電極３６または３７と対向し、液晶７の厚さが異なるようになる。そこで、フィルタ基板５７に図２を用いて説明したパッド４７を選択的に形成し、全体に渡りまたは同一着色パターンＲ，Ｇ，Ｂについて、液晶７の厚さを均一化させることが可能である。
【００５２】
さらに、ゲートバスライン１およびデータバスライン２にＩＴＯを使用することで、フルカラーの透過型液晶表示パネルに応用し、液晶表示パネル５６と同等の高開口化効果が得られる。
【００５３】
図５は本発明の第５の実施例による液晶表示パネルの説明図であり、フルカラー方式の反射型液晶表示パネル６１は、ＴＦＴ基板６２とフィルタ基板５７の間に液晶７が充填されている。
【００５４】
データバスライン２とゲート電極４を横断する断面を示す図５において、ガラス等にてなるＴＦＴ基板６２の上面には、ゲートバスライン（１），データバスライン２，ＴＦＴ３，ゲート絶縁膜１４，ＴＦＴ３等を覆う絶縁層６３，絶縁層６３上の画素電極６４と６５と６６が形成され、画素電極６４〜６６は絶縁層６３に穿設したコンタクトホール３５を介し、対向するＴＦＴ３のソース電極６に接続されている。
【００５５】
アルミニウム等にて形成して光学的に反射性を具え、厚さが１５００Å程度の画素電極６４〜６６は、図紙の厚さ方向に複数個が整列されており、その整列方向に個々の画素電極６４〜６６は、適当幅の間隙４０（図１（ｂ）参照）によって分割されている。
【００５６】
アクリル系樹脂，ポリイミド系樹脂，エポキシ系樹脂またはＳｉＯ2 等の無機組成物にてなる絶縁層６３は、均一厚さに形成したのち一部をエッチングするまたは積層形成とすることで、薄層部６３ａと中層部６３ｂと厚層部６３ｃが一体化されている。
【００５７】
薄層部６３ａと中層部６３ｂと厚層部６３ｃの段差は、隣合う画素電極６４〜６６が電気的に接続されない段差、例えば１μｍ程度の段付き構成とし、薄層部６３ａがフィルタ基板５７の着色パターンＲに対向するとき、中層部６３ｂはフィルタ基板５７の着色パターンＧに対向し、厚層部６３ｃがフィルタ基板５７の着色パターンＢに対向する。
【００５８】
かかる液晶表示パネル６１において、隣合う画素電極６４〜６６は上から見たとき隙間なしであり、そのことによって画素電極６４〜６６は、四方に隙間を必要とした従来の画素電極９より拡張形成が可能となり、高開口化されることで輝度が改善される。
【００５９】
なお、液晶表示パネル６１は、ゲートバスライン１およびデータバスライン２にＩＴＯを使用することで、フルカラーの透過型液晶表示パネルに応用可能であり、液晶表示パネル６１と同等の高開口化効果が得られる。
【００６０】
なお、フルカラーの液晶表示パネルにおいて液晶７の厚さは、着色パターンＲ，Ｇ，Ｂに対応し最適化させることの望ましいことが知られている。
そこで、本発明では着色パターンＲに対応する液晶７の厚さを約６μｍとしたとき、着色パターンＧに対応する液晶７の厚さが約５μｍ、着色パターンＢに対応する液晶７の厚さが約４μｍになるように、薄層部６３ａと中層部６３ｂと厚層部６３ｃを設定することを推奨する。
【００６１】
かかる液晶表示パネル６１において、開口率１００％を可能にする画素電極６４〜６６の製造例は、厚さが異なる薄層部６３ａと中層部６３ｂと厚層部６３ｃを個別に、フォトリソグラフィーとエッチングによりパターン形成し、コンタクトホール３５を形成したのち、アルミニウムの全面蒸着で画素電極６４〜６６を形成した。
【００６２】
かかる画素電極６４〜６６の形成に際し、隣接間の短絡防止が必要になる。そこで、前記製造例では絶縁層６３の表面に耐エッチング性に優れた絶縁性薄膜を被着し、例えば三洋化成株式会社製のＬＣ２０１（商品名）で形成した絶縁層６３の表面に、酸素プラズマ処理を施して無機系の耐エッチング性薄膜を形成せしめ、さらに具体的にはアルミニウムを１００Å程度蒸着し、しかるのち酸素プラズマ処理にてエッチングすることで耐エッチング性薄膜を形成せしめ、該薄膜によるサイドエッチング現象を利用した。
【００６３】
図６は本発明の第６の実施例による液晶表示パネルの説明図、図７は図６に示す画素電極の説明図（その１）、図８は図６に示す画素電極の説明図（その２）である。ただし、図７および８において、（ａ），（ｃ），（ｅ），（ｇ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のｌ点鎖線の断面図、（ｄ）は（ｃ）のｌ点鎖線の断面図、（ｆ）は（ｅ）のｌ点鎖線の断面図、（ｈ）は（ｇ）のｌ点鎖線の断面図である。
【００６４】
データバスライン２とゲート電極４を横断する断面を示す図６において、フルカラー方式の反射型液晶表示パネル７１は、ＴＦＴ基板７２とフィルタ基板５７の間に液晶７が充填されている。
【００６５】
ガラス等にてなるＴＦＴ基板７２の上面には、ゲートバスライン（１），データバスライン２，ＴＦＴ３，ゲート絶縁膜１４，ＴＦＴ３等を覆って選択的に形成された絶縁層７３，一部が絶縁層７３上に位置する画素電極７４が形成され、画素電極７４は絶縁層７３に穿設したコンタクトホール３５を介し、対向するＴＦＴ３のソース電極６に接続されている。
【００６６】
アルミニウム等にて形成して光学的に反射性を具え、厚さが１５００Å程度の画素電極７４は、図７および８にも示す如く、それぞれの形成領域において少なくとも連続する輪郭の１／２が絶縁層７３の上に位置し、他部がゲート絶縁膜１４の上に形成される。
【００６７】
即ち、図７（ａ）および（ｂ）おいて画素電極７４-1は、形成領域の左半分のが絶縁層７３-1の上に一部が形成され、他部の右半分がゲート絶縁膜１４の上に形成される。
【００６８】
かかる画素電極７４-1は、フィルタ基板の着色パターンのストライプ配列およびモザイク配列に対し、左右方向の密接形成が可能となり、該着色パターンのトライアングル配列に対し、左右方向および前後方向への密接形成が可能となる。
【００６９】
ただし、上記トライアングル配列に対する画素電極７４-1は、前後方向に半ピッチずれた次行の画素電極７４-1と、絶縁層７３-1の上に形成したコーナ部で接触する恐れがある。そのため、接触の可能性がある該コーナ部に切欠を設ける必要がある。
【００７０】
図７（ｃ）および（ｄ）おいて画素電極７４-2は、形成領域の右上コーナと左下コーナを結ぶ対角線の左側に形成した直角三角形の絶縁層７３-2の上に一部が形成され、他部がゲート絶縁膜１４の上に形成される。
【００７１】
かかる画素電極７４-2は、フィルタ基板の着色パターンのストライプ配列とモザイク配列に対し、左右方向および前後方向への密接形成が可能となり、該着色パターンのトライアングル配列に対し、左右方向の密接形成が可能となる。
【００７２】
ただし、上記ストライプ配列とモザイク配列に対する画素電極７４-2の密接形成は、左辺下および右辺上のコーナ部が斜め右上，斜め左下の画素電極７４-2と接触する恐れがある。そのため、接触の可能性がある該コーナ部に切欠を設ける必要がある。
【００７３】
図７（ｅ）および（ｆ）おいて画素電極７４-3は、形成領域の周辺部に形成したロ字形状の絶縁層７３-3の上に一部が形成され、他部が絶縁層７３-3に囲まれた中央部のゲート絶縁膜１４の上に形成される。
【００７４】
かかる画素電極７４-2は、左右方向および前後方向への密接形成が不可能になる。そこで、画素電極７４-2は他の画素電極、例えば凹凸が画素電極７４-2と逆の画素電極等を隣合わせ形成することで、着色パターンのストライプ配列およびモザイク配列に対し、左右方向と前後方向の一方または双方に密接形成が可能となる。
【００７５】
そして、斜め方向に位置する画素電極と接触する恐れのあるコーナ部または輪郭の一部には、接触防止用の切欠を設ける必要が生じる。
図７（ｇ）および（ｈ）おいて画素電極７４-4は、形成領域の左側のコ字形周辺部に形成したコ字形絶縁層７３-4の上に一部が形成され、他部がゲート絶縁膜１４の上に形成される。
【００７６】
かかる画素電極７４-4は、フィルタ基板の着色パターンのストライプ配列およびモザイク配列に対し、左右方向の密接形成が可能となり、該着色パターンのトライアングル配列に対し、左右方向および前後方向への密接形成が可能となる。
【００７７】
ただし、上記トライアングル配列に対する画素電極７４-4は、前後方向に半ピッチずれた次行の画素電極７４-4と、絶縁層７３-4の上に形成したコーナ部で接触する恐れがある。そのため、接触の可能性がある該コーナ部に切欠を設ける必要がある。
【００７８】
図８（ａ）および（ｂ）おいて画素電極７４-5は、形成領域の上辺部と左辺部に沿うＬ字形状に形成された絶縁層７３-5の上に一部が形成され、他部がゲート絶縁膜１４の上に形成される。
【００７９】
かかる画素電極７４-5は、フィルタ基板の着色パターンのストライプ配列とモザイク配列に対し、左右方向および前後方向への密接形成が可能となり、該着色パターンのトライアングル配列に対し、左右方向の密接形成が可能となる。
【００８０】
ただし、上記ストライプ配列とモザイク配列に対する画素電極７４-5の密接形成は、左辺下および右辺上のコーナ部が斜め右上，斜め左下の画素電極７４-5と接触する恐れがある。そのため、接触の可能性がある該コーナ部に切欠を設ける必要がある。
【００８１】
図８（ｃ）および（ｄ）おいて画素電極７４-6は、形成領域の上辺部と左辺部および下辺部に沿うコ字形状に形成された絶縁層７３-6の上に一部が形成され、他部がゲート絶縁膜１４の上に形成される。
【００８２】
かかる画素電極７４-6は、コ字形絶縁層７３-6の両先端部上の一部を切欠くことで、左右方向への密接形成が可能になる。さらに、画素電極７４-6は他の画素電極、例えば凹凸が画素電極７４-6と逆の画素電極等を隣合わせ形成と前記切欠を設けることで、着色パターンのストライプ配列およびモザイク配列に対し、左右方向と前後方向の一方または双方に密接形成が可能となる。
【００８３】
図９は図８（ｃ）に示す画素電極の密接形成方法の説明図であり、前後（図の上下）方向に間隙４０を有し、左右方向に密接する画素電極７４-6は、コ字形絶縁層７３-6（図８参照）両先端部上の切欠７５と、その切欠７５が接するコーナの切欠７６を設け、左右方向の隣接画素電極７４-6と短絡しないように構成されている。
【００８４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明ではアクティブ素子基板の上に、段付き絶縁層または画素電極形成領域内の一部の絶縁層または選択された画素電極形成領域の絶縁層を形成し、その絶縁層による段差を利用して絶縁層の厚さ方向に隔離された画素電極を形成することで、９０％〜１００％の高開口化を可能とし、その高開口化によって輝度が改善された。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１の実施例による液晶表示パネルの説明図
【図２】  本発明の第２の実施例による液晶表示パネルの説明図
【図３】  本発明の第３の実施例による液晶表示パネルの説明図
【図４】  本発明の第４の実施例による液晶表示パネルの説明図
【図５】  本発明の第５の実施例による液晶表示パネルの説明図
【図６】  本発明の第６の実施例による液晶表示パネルの説明図
【図７】  図６に示す画素電極の説明図（その１）
【図８】  図６に示す画素電極の説明図（その２）
【図９】  図８（ｃ）に示す画素電極の密接形成方法の説明図
【図１０】  液晶表示パネルの回路の一部を示す概略図
【図１１】  従来の高開口化液晶表示パネルの概略構成図
【図１２】  液晶表示パネルにおける着色パターンの配列例を示す平面図
【符号の説明】
１  ゲートバスライン
２  データバスライン
３  ＴＦＴ
４  ゲート電極
５  ドレイン電極
６  ソース電極
７  液晶
８  コモン電極
１４  ゲート絶縁膜
３１、４５、５１、５６、６１  液晶表示パネル
３２、５２、６２  ＴＦＴ基板
３３、４６、５７  フィルタ基板
３４、５３、６３、７３-1、７３-2、７３-3、７３-4、７３-5、７３-6  絶縁層
３５  コンタクトホール
３６、３７、５４、５５、６４、６５、６６、７４-1、７４-2、７４-3、７４-4、７４-5、７４-6  画素電極
３８  マゼンタパターン
３９  グリーンパターン
４０  画素電極間の間隙
４１  ブラックマスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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