(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチング耐性を向上するためにパターン化されたフォトレジストを処理する方法であって、
該フォトレジストをベークする工程；
該ベークされたフォトレジストを、ＣｘＨｙＦｚＣｌｗ（ここで、ｘ、ｙ、ｚ及びｗは、０〜４０である）及びＯ２を含むガスプラズマに曝露することによって該ベークされたフォトレジスト上に不動態化層を形成する工程；及び
該曝露されたフォトレジストを再ベークする工程；
を含む方法。
【請求項２】
前記ベークされたフォトレジストのガスプラズマへの前記曝露が５０〜１５００ワットのＲＦパワーで行われる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ベークされたフォトレジストのガスプラズマへの前記曝露が反応性イオンエッチャー及びプラズマチャンバーの内の一つの中で行われる請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ベーク工程及び再ベーク工程が、各々１００〜２００℃の温度でベークする工程を含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ベーク工程が、前記フォトレジストのポリマーを架橋することをもたらし；
前記曝露工程が、ＣｘＨｙＦｚＣｌｗ（ここで、ｘ、ｙ、ｚ及びｗは、０〜４０である）及び酸素を含むガスプラズマを、反応性の、陽及び陰イオン、ラジカル及び中性物を含む複数の種に解離する工程、及び前記フォトレジストの前記架橋されたポリマーを前記種で衝撃して、前記種が前記フォトレジストの前記架橋されたポリマー内に吸収されるか拡散されるかの少なくとも一方がなされるようにする工程、を含む；
請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記衝撃工程が、更に前記種及び前記フォトレジストの前記架橋されたポリマーを化学的に反応させ及び物理的に結合させて、前記フォトレジストの残部の上にハロゲン化された単一層を形成する工程を含む請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記単一層が、２００〜５００オングストロームの厚さである請求項６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般にエッチング技術に関し、より具体的にはフォトレジストマスクのエッチング耐性を向上させる方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
フォトレジストマスクは、基礎となる材料において、ビアホール（via holes）など小さい要素（small features）の形成を可能とするエッチングプロセスの間に使用される。超小型電子装置が複雑になるにつれて、要素のサイズはますます小さくなってくる。現在の技術を用いると、高アスペクト比の要素は、プラズマドライエッチングおよび／または湿式化学エッチングプロセスを用いてエッチングすることは、比較的難しい。
【０００３】
プラズマドライエッチングに関して、フォトレジストは、ビアホール開口部などのマスク要素がサイズにおいて増大するように、浸蝕される。さらに、ライン幅は、サイズが縮小する。湿式化学エッチングの間、フォトレジストは、アンダーカットし、ゆがんだ回路要素をもたらす。高密度回路素子（例、ＶＬＳＩもしくはＵＬＳＩ）においては、要素サイズにおけるこれらの変化は、オーバーエッチング伝送ライン幅で実回路性能（actual circuit performance）を予想することをより困難とする。
【０００４】
密にパックされた回路レイアウトに関する別の問題は、接近して間隔を取ったビアホール開口部のオーバーエッチングが、ビアホール開口部を互いに重なりあうようにすることである。これは、回路信頼性の問題をもたらす。そのような回路信頼性の問題には、交差するビアホールによるインダクタンスにおける変化が含まれる。
【０００５】
前記問題を克服するために、熱対流炉内もしくはホットプレート上のハード焼付（ベーキング）フォトレジストおよび深（deep）紫外線硬化などの技術が用いられてきた。不幸にも、これらの技術は、前記問題に対して十分な制止物を与えなかった。例えば、従来のハード焼付および深紫外線硬化方法は、単にフォトレジストポリマーを架橋するのみで、フォトレジストをその後の苛酷なプラズマエッチング環境に高い耐性があるようにはしない。深紫外線方法も、加工コストを増大させる特別な設備を必要とする。紫外線方法は、またプロセス作業環境に紫外線放射の危険を呈し得る。
【０００６】
前記をかんがみて、エッチング加工を改善するための新しい技術が必要である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
プラズマフォトレジスト硬化技術が、フォトレジストマスクのエッチング耐性を向上させるために提供される。この技術には、フォトレジストマスク上の薄い不動態化層形成が含まれ、それは、フォトレジスト材料のエッチング速度を実質的に遅らせる。有利なことには、この技術は、ビアホール開口部および伝送ラインなどのクリティカルな寸法要素の保存を可能とする。本発明の１つの実施態様において、この技術は、ハロゲン化炭化水素を架橋フォトレジストポリマーと化学的および物理的に結合することにより、フォトレジストフィルムの表面を硬化させる。これは、苛酷なプラズマエッチング環境に高い耐性を有する不動態化層をもたらす。
【０００８】
本発明の利点および目的が得られる方法を理解するために、本発明のより具体的な説明を、添付図面に描かれる具体的な実施態様を参照して与える。これらの図面は、本発明の好ましい実施態様を描くのみであり、したがって範囲の限定とはみなされないことを理解し、本発明を、下記図面を用いて具体的かつ詳細に説明する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明は、フォトレジストマスクのエッチング耐性を向上させる方法に向けられる。本発明の教示によれば、不動態化層が、フォトレジストの上に形成され、それは、苛酷なプラズマエッチング環境に高い耐性を有する。有利なことに、本方法は、エッチングされるビアホール開口部をより小さく、伝送ラインをより狭くすることを可能にすることにより、ウェファー加工を改善する。これは、ビアホール開口部および／または伝送ラインをウェファーマスク上に密に間隔を取らせることを可能にする。より小さい間隔は、より複雑な回路をより小さいウェファー領域上に集積させ、それにより密にパックされた回路レイアウトを可能とする。また、本発明の方法は、半導体材料をエッチングするために使用されるものと同じプラズマエッチングチャンバーで好都合に実施できる。
【００１０】
以下図１を参照して、本発明の教示によりフォトレジストマスクをプラズマ硬化させる方法を説明する。方法論は、バブル１０でスタートし、ブロック１２まで続く。ブロック１２において、パターン化されたポジティブフォトレジストが得られる。フォトレジストは、例えば、Ｒ−ＣｘＨｙＯｚ−Ｒ（ここで、Ｒは同一でも異なってもよく有機基、特に、酸素原子及び／又は窒素原子を含んでもよい炭化水素基であり；ｘ、ｙ及びｚは約０〜約２５、特に約１〜２０である）を含み得る。Ｒ−ＣｘＨｙＯｚ−Ｒで表されるフォトレジストとしては、特に、Ｒがポジティブフォトレジストのバックボーンである（C6H6OHCH3CH2  C6H6OHCH2CH3）ｎであり（ｎは同じ単位の繰り返しを意味する）；ｘ、ｙ及びｚが０〜２０の値を取り得るものが挙げられる。フォトレジストの好適な例としては、HOECST社で製造されるポジティブトーン型のフォトレジスト  ＡＺＰ−４６２０を挙げることができる。ブロック１２から、方法論は、ブロック１４へと続く。
【００１１】
ブロック１４において、パターン化されたポジティブフォトレジストは、高温で焼き付けられる。焼付温度は、好ましくは約１００〜２００℃で、熱対流炉内もしくはホットプレート上で実施される。この焼付は、ポリマーを架橋させることにより、フォトレジストを物理的に硬化させる。ブロック１４から、方法論は、ブロック１６に続く。
【００１２】
ブロック１６において、架橋フォトレジストの表面は、ガスプラズマに曝露される。ガスプラズマは、好ましくはＣｘＨｙＦｚＣｌｗおよび酸素（Ｏ2）を含み、式中、ｘ、ｙ、ｚおよびｗは、約０〜４０の範囲であり得、より好ましくは約０〜２５の範囲である。ガス曝露は、好ましくは反応性イオンエッチャー（etcher）もしくはプラズマチャンバーシステム内で、約５０〜１５００ワット、より好ましくは約５０〜１０００ワットのＲＦ電力で起こる。反応性イオンエッチャーの他に適切なプラズマチャンバーシステムの例には、バレル、ダウンストリーム、ヘキソード、ＩＣＰ、ＥＣＲ、ＭｅｒｉｅおよびＴＣＰ型が含まれる。
【００１３】
ガスプラズマへの曝露の間、ＣｘＨｙＦｚＣｌｗおよび酸素は、反応性陽イオンおよび陰イオン、遊離基ならびに中性物を含む種々の種に解離される。これらの種は、フォトレジストを衝撃し、ついでフォトレジストの表面に吸収／拡散する。ついで、種は、化学的に反応しかつ物理的に結合して、厚さが約２００〜約５００Åの範囲のハロゲン化単一層もしくはフィルム（弗素／塩素原子もしくは分子を含む）を形成する。ブロック１６から、方法はブロック１８に続く。
【００１４】
ブロック１８において、ブロック１６からの「プラズマ硬化」表面を有するフォトレジストは、直ちに高温で焼き付けられる。焼付温度は、好ましくは約１００〜２００℃で、熱対流炉内もしくはホットプレート上で実施される。ブロック１６でのガスプラズマ曝露工程に続く焼付工程は、薄い不動態化層および架橋フォトレジストの表面間の物理的および／または化学的結合を強化する。
【００１５】
ブロック１８から、方法論は、バブル２０および終了へと進む。
以下図２を参照して、前記方法により形成された装置を、一般に２２で説明する。装置２２には、ポジティブパターンフォトレジストが上に形成されているウェファー２４が含まれ、それは、フォトレジスト材料２６Ａおよび不動態化層２６Ｂを含む。不動態化層２６Ｂは、前記方法を用いて形成される。
【００１６】
フォトレジスト２６の不動態化層２６Ｂは、半導体もしくは超伝導体フィルムをエッチングするために従来のガスを用いるプラズマエッチング環境で、攻撃的な化学的もしくは物理的反応を抑制する。結果として、エッチングされる材料へのフォトレジスト２６のエッチング選択性は、実質的に改善され、結果として、要素のクリティカルな寸法は、後エッチングするためにマスクから保護／制御される。これは、装置性能、収率および信頼性を実質的に向上させる。
【００１７】
本発明は、高アスペクト比ビアホールおよび伝送ラインなど、小さい寸法の回路要素を必要とする多くの用途に有用性を見出すが、シリコン、ヒ化ガリウム、リン化インジウム、ニオビウム、窒化ニオビウム、シリコン、ゲルマニウム、窒化ガリウムおよびヒ化インジウムアルミニウムなどの半導体および超伝導体材料における超小型電子チップの作製に特に適し得る。そのような材料は、進歩したウェファー加工／作製に普通に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の方法論を描くフローチャートである。
【図２】本発明により作られたウェファーの概略側面図である。
【図１】
0003749683.tif 000002
【図２】
0003749683.tif 000003