(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光学機器を構成する光学部品の光軸検出方法であって、
光軸が設定された基準レーザ光を導出する基準光ユニットと、光学部品との間に光軸検出ユニットを配置し、前記基準レーザ光を前記光軸検出ユニットに照射して前記基準レーザ光の第１の光軸位置を検出する工程と、
前記光軸検出ユニットを光路上から離脱させた後、前記基準レーザ光を前記光学部品に照射して前記光学部品からの反射光を該反射光の光路上に配置された光軸検出ユニットに導入し、前記基準レーザ光の第２の光軸位置を検出する工程と、
前記第１の光軸位置と前記第２の光軸位置とが一致するように、前記光学部品の位置調整を行う工程と、
を有することを特徴とする光学部品の光軸検出方法。
【請求項２】
請求項１記載の光軸検出方法において、前記光軸検出ユニットの光軸測定面を前記基準レーザ光の光軸に交差する軸回りに回転させ、前記光軸測定面に照射される前記基準レーザ光の光軸位置が変動しない位置に該光軸検出ユニットを位置決めする工程を有することを特徴とする光学部品の光軸検出方法。
【請求項３】
レーザ光学機器を構成する光学部品の光軸検出方法であって、
光軸検出ユニットの光軸測定面を光軸が設定された基準レーザ光の光軸に交差する軸回りに回転させ、前記光軸測定面に照射される前記基準レーザ光の光軸位置が変動しない位置に前記光軸検出ユニットを位置決めする工程と、
前記基準レーザ光を前記光学部品に照射して前記光学部品からの反射光を前記光軸検出ユニットに導入し、前記基準レーザ光の第１の光軸位置を検出する工程と、
前記光軸検出ユニットを前記基準レーザ光の光軸方向に移動させた後、該基準レーザ光を前記光学部品に照射して前記光学部品からの反射光を前記光軸検出ユニットに導入し、前記基準レーザ光の第２の光軸位置を検出する工程と、
前記第１の光軸位置と前記第２の光軸位置とが一致するように、前記光学部品の位置調整を行う工程と、
を有することを特徴とする光学部品の光軸検出方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ光学機器を構成する光学部品の光軸検出方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
通常、レーザ光を利用したレーザ光学機器として、例えば、レーザ加工装置やレーザ測定装置等が採用されている。この種のレーザ光学機器では、レーザ光を所定の照射位置に導くために、レンズ系や反射鏡等の多種類の光学部品が組み込まれている。さらに、反射鏡は、平面鏡、放物面鏡および楕円面鏡等の種々の形態を有している。
【０００３】
従って、レーザ光学機器を組み立てる際には、各種光学部品のレイアウト調整や焦点測定等のアライメント調整を精度よく行うことが望まれている。高品質なレーザ加工作業や高精度なレーザ測定作業を確実に実施するためである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
一般的に、上記のアライメント調整作業では、光学部品に基準光を照射して前記光学部品からの反射光を検出し、検出された反射光軸に基づいて該光学部品の位置および角度調整が行われている。
【０００５】
ところが、光学部品を精度よくアライメント調整するためには、機械軸に一致した唯一の正確な反射光軸を検出する必要がある。しかしながら、このような反射光軸を正確に検出することは相当に困難であり、光学部品を高精度にアライメント調整することができないという問題が指摘されている。
【０００６】
本発明はこの種の問題を解決するものであり、簡単な構成で、反射光軸を高精度に検出することができ、光学部品のアライメント調整を効率的かつ精度よく行うことが可能な光学部品の光軸検出方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る光学部品の光軸検出方法では、まず、基準レーザ光を光軸検出ユニットに照射してこの基準レーザ光の第１の光軸位置（光点位置）が検出された後、前記光軸検出ユニットを光路上から離脱させて前記基準レーザ光を光学部品に照射する。その際、光学部品からの反射光がこの反射光の光路上に配置された光軸検出ユニットに導入されることにより、該基準レーザ光の第２の光軸位置が検出される。そして、第１の光軸位置と第２の光軸位置とが一致するように、光学部品の位置調整が行われる。従って、基準レーザ光が光学部品で反射した反射光の光軸位置を高精度に実測することができ、前記光学部品からの反射光の絶対位置を容易に検出することが可能になる。
【００１０】
その際、光軸検出ユニットの光軸（光軸）測定面を基準レーザ光の光軸に交差する軸回りに回転させる。ここで、光軸測定面と回転軸とが一致しないと、検出される光軸が光軸検出ユニットの回転によって移動する。このため、基準レーザ光の光軸位置が変動しないように、光軸測定面を光軸方向に位置調整させることにより、前記基準レーザ光の光軸測定面位置が検出されることになる。
【００１１】
さらにまた、本発明では、基準レーザ光が光学部品で反射してその反射光が光軸検出ユニットに導入され、前記基準レーザ光の第１の光軸位置が検出される。次いで、光軸検出ユニットが基準レーザ光の光軸方向に所定距離だけ移動された後、前記基準レーザ光が光学部品に照射され、その反射光が前記光軸検出ユニットに導入されて該基準レーザ光の第２の光軸位置が検出される。そして、第１および第２の光軸位置が一致するように、光学部品の位置調整が行われることにより、光軸の芯出し調整が容易に遂行される。
【００１２】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の実施形態に使用される光学部品の光軸検出装置を構成する基準光ユニット１０の斜視図であり、図２は、前記基準光ユニット１０の側面図である。
【００１３】
基準光ユニット１０は、種々の光学部品の測定等に使用される基準レーザ光Ｌを照射する機能を有しており、Ｈｅ−Ｎｅレーザ等のレーザ発振器１２が組み込まれるレーザ光ユニット１４と、前記レーザ光ユニット１４を支持筒１６に対して光軸回りに回転させる回転機構１８と、前記レーザ光ユニット１４から導出される前記基準レーザ光Ｌの光軸を前記基準光ユニット１０の回転中心に一致させるための光中心調整機構２０とを備える。
【００１４】
基準光ユニット１０は、測定ベース２２上に固定されるユニットベース２４を備え、このユニットベース２４に左右スライド機構２６および上下スライド機構２８を介して支持筒１６が装着される。左右スライド機構２６は、ユニットベース２４上に光軸方向（矢印Ａ方向）に直交する矢印Ｂ方向に延在して設けられるガイドレール３０を有するとともに、このガイドレール３０に矢印Ｂ方向に進退自在なスライドベース３２が配置される。ユニットベース２４上に水平方向に向かって第１マイクロメータ３４が固定され、この第１マイクロメータ３４のロッド３６がスライドベース３２に固定される。
【００１５】
スライドベース３２上にコラム３８が設けられ、このコラム３８の内面側には、上下スライド機構２８を構成する一対のガイドレール４０が鉛直方向に向かって固定される。支持筒１６の両側部には、ガイドレール４０に係合して昇降自在な一対のガイド部４２が設けられるとともに、コラム３８の一端側上部には鉛直下方向に向かって第２マイクロメータ４４が装着される。第２マイクロメータ４４から下方に突出するロッド４６が支持筒１６に固定される。
【００１６】
支持筒１６内には、回転機構１８を構成する一対のベアリング４８を介して回転筒体５０が回転自在に支持されており、この回転筒体５０内にレーザ発振器１２が収容される。レーザ発振器１２の両端に保持部材５２が装着され、この保持部材５２の小径部５４が回転筒体５０内に挿入される。
【００１７】
光中心調整機構２０は、回転筒体５０の両端縁部に等角度間隔ずつ離間してねじ込まれるそれぞれ３つの調整ねじ５６を備え、前記調整ねじ５６の先端が保持部材５２の小径部５４に当接することにより、レーザ発振器１２の光軸が傾動調整される。
【００１８】
図２に示すように、レーザ光ユニット１４の先端側には、基準レーザ光Ｌのビーム径を拡大させるためのビーム径拡大手段６６が着脱自在に設けられる。このビーム径拡大手段６６は、例えば、直径０．８ｍｍ程度の基準レーザ光Ｌを直径２５ｍｍの平行光（コリメート光）に変換するものであり、多種類のピンホールアセンブリとフォーカシングレンズとを組み合わせたフィルタユニット６８と、ビームエキスパンダ用レンズセットを含むレンズユニット６９とを備えている。
【００１９】
図３は、光軸検出装置を構成し基準光ユニット１０の光軸を調整するための光軸ユニット７０の斜視図であり、図４は、前記光軸ユニット７０の側面図である。
【００２０】
光軸ユニット７０は、測定ベース２２に固定されるユニットベース７２を備え、このユニットベース７２上に第１および第２ピンホール板７４、７６が所定間隔離間して装着される。第１ピンホール板７４は、ユニットベース７２上に固定された第１支持板７８に支持されており、この第１ピンホール板７４の中央部には、所定の直径を有する第１細孔８０が形成されている。
【００２１】
第１ピンホール板７４には、第１細孔８０を光軸（矢印Ａ方向）に交差する左右方向（矢印Ｂ方向）および上下方向（矢印Ｃ方向）に位置調整するための第１細孔位置調整機構８２が設けられる。第１細孔位置調整機構８２は、水平方向に配置されて第１ピンホール板７４を左右方向に進退させるための第１調整ねじ８４と、鉛直方向に配置されて前記第１ピンホール板７４を上下方向に位置調整するための第２調整ねじ８６とを備える。
【００２２】
第２ピンホール板７６は、第１ピンホール板７４と同様に第２支持板８８上に支持されるとともに、この第２ピンホール板７６の中央部には、所定の直径を有する第２細孔９０が形成されている。第２ピンホール板７６には、第２細孔位置調整機構９２が設けられている。この第２細孔位置調整機構９２は前記第１細孔位置調整機構８２と同様に構成されており、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、その詳細な説明は省略する。
【００２３】
第１および第２ピンホール板７４、７６は、基準レーザ光Ｌのように直径が０．８ｍｍ程度の、所謂、ポイント光を調整するために用いられるものであり、例えば、直径が２５ｍｍ程度のコリメート光であるコリメート基準レーザ光Ｌ０を調整するためには、図５に示す第１および第２ピンホール板９４ａ、９４ｂが、前記第１および第２ピンホール板７４、７６と交換して使用される。この第１および第２ピンホール板９４ａ、９４ｂは、中心に細孔９６ａ、９６ｂを設けるとともに、この細孔９６ａ、９６ｂを中心にして所定の直径を有する円周上にそれぞれ４つの細孔９８ａ、９８ｂを設けている。
【００２４】
図６は、光軸検出装置を構成し基準光ユニット１０から照射される基準レーザ光Ｌの光軸位置、具体的には光軸位置を検出するための光軸（光点）検出ユニット１００の斜視説明図であり、図７は、前記光軸検出ユニット１００の側面説明図である。
【００２５】
光軸検出ユニット１００は、測定ベース２２上に固定されるユニットベース１０２を備え、このユニットベース１０２上には、第１スライドベース１０４が進退機構１０５を介して光軸方向（矢印Ａ方向）に進退自在に配置される。第１スライドベース１０４の側方には、進退機構１０５を構成しユニットベース１０２に支持された第１スライドつまみ１０６の端部が固定されており、この第１スライドつまみ１０６を回転させることによって前記第１スライドベース１０４が矢印Ａ方向に進退可能である。
【００２６】
第１スライドベース１０４上には、回転機構１０８を構成する回転ベース１１０が設けられ、この回転ベース１１０は、回転つまみ１１２を操作することによって基準レーザ光Ｌの光軸に交差するＺ軸（鉛直軸）回りに回転自在である。回転ベース１１０上には、第２スライドベース１１４が矢印Ａ方向に進退自在に配置される。第２スライドベース１１４には、第２スライドつまみ１１６の端部が連結され、この第２スライドつまみ１１６が回転されることによって矢印Ａ方向に微小距離だけ進退自在である。
【００２７】
第２スライドベース１１４上に光軸位置検出センサ１１８が装着され、この光軸位置検出センサ１１８には、モニタ１２２が接続されている（図８参照）。モニタ１２２には、後述するように、光軸位置検出センサ１１８の光軸（光点）測定面１２０に導入される基準レーザ光Ｌの位置が可視像として表示される。
【００２８】
次に、このように構成される光軸検出装置の動作について、本発明の第１の実施形態に係る光軸検出方法との関連で以下に説明する。
【００２９】
まず、基準光ユニット１０から導出される基準レーザ光Ｌの光軸が前記基準光ユニット１０の回転中心に一致するように、前記基準レーザ光Ｌの光軸調整作業が遂行される。次いで、光軸が設定された基準レーザ光Ｌを使用して、光軸ユニット７０および光軸検出ユニット１００の光軸合わせ作業が行われる。
【００３０】
具体的には、図９に示すように、基準光ユニット１０の光軸上には、所定の位置に対応して光軸検出ユニット１００が配置される。そこで、基準光ユニット１０から基準レーザ光Ｌが導出されると、この基準レーザ光Ｌが光軸検出ユニット１００を構成する光点測定面１２０に照射される。この状態で、回転機構１０８を構成する回転ベース１１０を揺動させるとともに、第２スライドつまみ１１６の作用下に第２スライドベース１１４を光軸方向に進退させる。
【００３１】
そして、図８に示すように、モニタ１２２上の光軸位置Ｐが移動しない位置に第２スライドベース１１４を停止させる。これにより、光点測定面１２０と回転機構１０８の回転軸とが一致し、前記光点測定面１２０の位置が検出されることになる。
【００３２】
一方、光軸ユニット７０の光軸合わせ作業は、図１０に示すように、基準光ユニット１０と光軸検出ユニット１００との間に第１ピンホール板７４が配置される。そして、基準光ユニット１０から基準レーザ光Ｌが導出され、この基準レーザ光Ｌが第１ピンホール板７４に形成された第１細孔８０を通って光軸検出ユニット１００の光点測定面１２０に照射される。この光軸検出ユニット１００では、第１細孔８０を通過した基準レーザ光Ｌの強度をモニタしており、この強度が最大になるように、第１細孔位置調整機構８２が操作される。
【００３３】
具体的には、第１および第２調整ねじ８４、８６が操作されることにより、第１ピンホール板７４が上下および左右方向に位置調整され、第１細孔８０を通過する光の強度が最大となる位置で、前記第１細孔８０が光軸と一致することになる。
【００３４】
同様にして、基準光ユニット１０と光軸検出ユニット１００との間に第２ピンホール板７６が配置され、この第２ピンホール板７６に形成されている第２細孔９０を光軸と一致させる作業が行われる。これにより、光軸ユニット７０の光軸調整が遂行されることになる。
【００３５】
図１１は、本発明の第１の実施形態に係る光軸検出方法が適応される位置調整ユニット１４０の斜視説明図であり、図１２は、前記位置調整ユニット１４０の側面図である。
【００３６】
この位置調整ユニット１４０は、光学部品である反射鏡（非平面反射鏡を含む）１４２を一体的にレーザ加工装置やレーザ測定装置等に実装されるとともに、予め前記反射鏡１４２の位置および角度を調整する機能を有している。
【００３７】
位置調整ユニット１４０は、測定ベース２２上に載置されるユニットベース１４４を備え、このユニットベース１４４上に支持ブロック１４６が設けられる。支持ブロック１４６上には、第１つまみ１４８を介して水平方向に角度調整可能な第１傾斜部材１５０が設けられる。第１傾斜部材１５０には、第２つまみ１５２を介して鉛直方向に傾動自在な第２傾斜部材１５４が支持され、この第２傾斜部材１５４に反射鏡１４２が装着されている。
【００３８】
そこで、図１３に示すように、基準光ユニット１０の光軸Ｓ１上に反射鏡１４２を組み込んだ位置調整ユニット１４０が配置されるとともに、この反射鏡１４２による反射光Ｌａの光軸Ｓ２上に光軸ユニット７０が配置されている。そして、基準光ユニット１０から基準レーザ光Ｌが導出されると、この基準レーザ光Ｌは、光軸Ｓ１に沿って反射鏡１４２に照射される。この反射鏡１４２が所定の位置に正確に位置決めされていると、前記反射鏡１４２からの反射光Ｌａは、光軸Ｓ２上に配置されている光軸ユニット７０の第１および第２ピンホール板７４、７６に形成された第１および第２細孔８０、９０を透過して測定部位１３０に照射される。
【００３９】
その際、光軸ユニット７０では、第１および第２ピンホール板７４、７６が光軸Ｓ２に沿って所定の間隔で離間しており、反射鏡１４２からの反射光Ｌａがこの光軸Ｓ２に一致する場合にのみ、前記反射光Ｌａが第１および第２細孔８０、９０を透過して測定部位１３０に照射される。従って、反射鏡１４２が、図１３中、二点鎖線で示すように、所望の位置からずれている際には、第１ピンホール板７４および／または第２ピンホール板７６に阻止されて反射光Ｌａが測定部位１３０に照射されることはない。
【００４０】
次に、位置調整ユニット１４０を構成する第１および第２つまみ１４８、１５２が選択的に操作され、第１および第２傾斜部材１５０、１５４を介して反射鏡１４２の位置調整が行われる。そして、反射鏡１４２で反射された反射光Ｌａが、第１および第２ピンホール板７４、７６を透過して測定部位１３０に照射される位置で、前記反射鏡１４２の位置合わせが高精度かつ確実になされることになる。
【００４１】
特に、第１の実施形態では、基準光ユニット１０から導出される基準レーザ光Ｌの光芯が機械的軸芯に一致するように高精度に調整されるとともに、光軸Ｓ２上で所定の間隔だけ離間して配置される第１および第２ピンホール板７４、７６を備えている。これにより、反射鏡１４２の光軸合わせが、簡単な構成で高精度かつ効率的に遂行されるという効果が得られる。
【００４２】
なお、第１の実施形態では、反射光Ｌａの光軸上に測定部位１３０を配置してこの測定部位１３０に照射される前記反射光Ｌａを目視により検出しているが、この目視による検査作業を一層容易かつ正確に行うために、反射鏡とレチクルとを組み込んだ測定構造を採用することができる。
【００４３】
次いで、基準光ユニット１０と光軸検出ユニット１００とを用いて、反射鏡１４２の光芯位置を調整する本発明の第２の実施形態に係る光軸検出方法について、以下に説明する。
【００４４】
図１４に示すように、光軸Ｓ１上には、基準光ユニット１０と反射鏡１４２との間に位置して光軸検出ユニット１００が一旦配置される（二点鎖線参照）。そこで、基準光ユニット１０から基準レーザ光Ｌが導出されると、この基準レーザ光Ｌが光軸検出ユニット１００を構成する光点測定面１２０に照射される。このため、図１５に示すように、光軸位置検出センサ１１８に電気的に接続されているモニタ１２２には、基準レーザ光Ｌの第１の光軸位置Ｐ１が表示される。
【００４５】
次に、光軸検出ユニット１００が光軸Ｓ１上から離脱されるとともに、この光軸検出ユニット１００、あるいは、別の光軸検出ユニット１００が反射鏡１４２による反射光Ｌａの光軸Ｓ２上に配置される。この状態で、基準光ユニット１０から基準レーザ光Ｌが照射されると、この基準レーザ光Ｌが反射鏡１４２で反射し、その反射光Ｌａが光軸Ｓ２上に配置されている光軸検出ユニット１００に導入される。この光軸検出ユニット１００では、光点測定面１２０に反射光Ｌａが導入されることにより、モニタ１２２上に第２の光軸位置Ｐ２が表示される（図１５参照）。
【００４６】
そして、光軸Ｓ１上で予め検出された第１の光軸位置Ｐ１と、反射鏡１４２からの反射光Ｌａの第２の光軸位置Ｐ２とが一致するように、前記反射鏡１４２の位置調整が行われる。これにより、第２の実施形態では、基準光ユニット１０と光軸検出ユニット１００とを用いるだけでよく、簡単な構成および工程で、反射鏡１４２の光軸位置Ｐ１、Ｐ２を光軸Ｓ１、Ｓ２に対して高精度かつ容易に一致させることが可能になるという利点がある。
【００４７】
次いで、基準光ユニット１０、光軸ユニット７０および光軸検出ユニット１００を用いて行われる本発明の第３の実施形態に係る光軸検出方法について、図１６を参照して説明する。この第３の実施形態では、反射鏡１４２として放物面鏡や楕円面鏡等の非平面反射鏡の位置調整作業にも有効に用いられる。
【００４８】
反射鏡１４２からの反射光Ｌａの光軸Ｓ２上に光軸ユニット７０が配置されるとともに、この光軸ユニット７０の出口側に光軸検出ユニット１００が配置される。この第３の実施形態では、基準光ユニット１０から導出される基準レーザ光Ｌが反射鏡１４２で反射し、その反射光Ｌａが光軸ユニット７０を構成する第１および第２ピンホール板７４、７６を透過して光軸検出ユニット１００の光点測定面１２０に照射されるように、前記反射鏡１４２の位置および角度調整が行われる。
【００４９】
図１７は、基準光ユニット１０と光軸検出ユニット１００とを用いて反射鏡１４２の調整を行う第４の実施形態に係る光軸検出方法の説明図である。
【００５０】
この第４の実施形態では、まず、光軸検出ユニット１００が光軸Ｓ２上で反射鏡１４２に近接する第１の位置（図１７中、二点鎖線参照）に配置され、基準光ユニット１０が駆動されて基準レーザ光Ｌが照射される。この基準レーザ光Ｌは、反射鏡１４２で反射され、その反射光Ｌａが第１の位置に配置されている光軸検出ユニット１００の光点測定面１２０に照射される。このため、反射光Ｌａの第１の光軸位置が検出される。
【００５１】
次いで、光軸検出ユニット１００が光軸Ｓ２上で反射鏡１４２から離間する第２の位置に配置される（図１７中、実線参照）。この状態で、基準光ユニット１０から導出される基準レーザ光Ｌが反射鏡１４２で反射され、その反射光Ｌａが光軸検出ユニット１００を構成する光点測定面１２０に照射され、前記反射光Ｌａの第２の光軸位置Ｐ２が検出される。そして、予め得られている第１の位置での反射光Ｌａの第１の光軸位置Ｐ１と、第２の位置での前記反射光Ｌａの第２の光軸位置Ｐ２とが一致するように、反射鏡１４２の位置が調整される。
【００５２】
上記のように、第１乃至第４の実施形態では、光軸が設定された基準レーザ光Ｌを導出する基準光ユニット１０を用意し、光軸ユニット７０と光軸検出ユニット１００とを選択的に、あるいは組み合わせて用いることにより、反射鏡１４２を含む種々の光学部品の光軸調整が、高精度かつ効率的に遂行される。これにより、構成が簡素化するとともに、極めて汎用性に優れるという効果が得られる他、各種光学部品のアライメント調整が精度よく遂行され、高品質なレーザ加工作業やレーザ測定作業等が遂行されるという利点が得られる。
【００５３】
【発明の効果】
本発明に係る光学部品の光軸検出方法では、光軸が設定された基準レーザ光を光学部品に照射し、前記光学部品からの反射光を光軸検出ユニットに照射することにより、各種光学部品の光軸調整作業が高精度に遂行可能になる。
【００５４】
しかも、光学部品の反射光軸を高精度に検出することができ、簡単な工程および構造で、各種光学部品の光軸検出および調整作業が高精度かつ効率的に遂行される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る光軸検出装置を構成する基準光ユニットの斜視図である。
【図２】前記基準光ユニットの側面図である。
【図３】前記光軸検出装置を構成する光軸ユニットの斜視説明図である。
【図４】前記光軸ユニットの側面説明図である。
【図５】ピンホール板が装着された光軸ユニットの斜視図である。
【図６】前記光軸検出装置を構成する光軸検出ユニットの斜視説明図である。
【図７】前記光軸検出ユニットの側面説明図である。
【図８】前記光軸検出ユニットを構成するモニタの表示画面の説明図である。
【図９】前記光軸検出ユニットの調整作業を説明する平面図である。
【図１０】前記光軸ユニットの調整を行う際の側面説明図である。
【図１１】位置調整ユニットの斜視説明図である。
【図１２】前記位置調整ユニットの側面図である。
【図１３】本発明の第１の実施形態に係る光軸検出方法の説明図である。
【図１４】本発明の第２の実施形態に係る光軸検出方法の説明図である。
【図１５】図１４に示す検出方法を説明するモニタの表示画面の正面図である。
【図１６】本発明の第３の実施形態に係る光軸検出方法の説明図である。
【図１７】本発明の第４の実施形態に係る光軸検出方法の説明図である。
【符号の説明】
１０…基準光ユニット              １２…レーザ発振器
１４…レーザ光ユニット            １６…支持筒
１８…回転機構                    ２０…光中心調整機構
２２…測定ベース                  ２４…ユニットベース
２６…左右スライド機構            ２８…上下スライド機構
５０…回転筒体                    ５６…調整ねじ
６６…ビーム径拡大手段            ７０…光軸ユニット
７２…ユニットベース
７４、７６、９４ａ、９４ｂ…ピンホール板
８０、９０、９６ａ、９６ｂ、９８ａ、９８ｂ…細孔
８２、９２…細孔位置調整機構
１００…光軸検出ユニット          １０２…ユニットベース
１０５…進退機構                  １１８…光軸位置検出センサ
１２０…光点測定面                １２２…モニタ
１３０…測定部位                  １４０…位置調整ユニット
１４２…反射鏡                    Ｌ…基準レーザ光
Ｌａ…反射光
【図１】
0003773414.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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