(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式II
【化１】
0003802585.tif 000015
（式中、ビフェニル分子のフェニル環は、さらに６個までの追加の弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）の化合物。
【請求項２】
式II
【化２】
0003802585.tif 000016
で表される請求項１記載の化合物。
【請求項３】
不活性ガス下で有機溶剤中において式４
【化３】
0003802585.tif 000017
（式中、ＸはＦでありそしてビフェニル分子のフェニル環はさらに６個までの追加の弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）の化合物をＣｌ2Ｓｉ(ＣＨ3)Ｈ、ＮＢｕ3と反応させるかまたはこのようにする代りに、有機溶剤中において式４の化合物を、ＨＳｉＣｌ3およびＮＢｕ3とともに還流下で沸騰させることからなる請求項１記載の式IIの化合物の製法。
【請求項４】
式３
【化４】
0003802585.tif 000018
の化合物（この化合物は、４、５および（または）６−位において３個までの弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）を、遷移金属を加えた不活性溶剤中で加熱することからなる請求項３記載の式４の化合物の製法。
【請求項５】
式２
【化５】
0003802585.tif 000019
の化合物（この化合物は、４、５および（または）６−位において３個までの弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）を、不活性溶剤中でリチウムジイソプロピルアミドと反応させそしてそれから沃素と反応させることからなる請求項４記載の式３の化合物（この化合物は４、５および（または）６−位において３個までの弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）の製法。
【請求項６】
式１
【化６】
0003802585.tif 000020
の化合物（この化合物は、４、５および（または）６−位において３個までの弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）を、有機溶剤中でｎ−ブチルリチウムと反応させ、それからＰｈ2ＰＣｌと反応させそしてその後アルコール中でＨ2Ｏ2と反応させることからなる請求項５記載の式２の化合物（この化合物は４、５および（または）６−位において３個までの弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）の製法。
【請求項７】
式４
【化７】
0003802585.tif 000021
（式中、ＸはＦでありそしてビフェニル分子のフェニル環は、さらに６個までの追加の弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）の化合物。
【請求項８】
請求項１記載の式IIの化合物とロジウム(Ｉ)、ルテニウム(II)、パラジウム(II)またはパラジウム(０)との錯体。
【請求項９】
請求項１記載の式IIの化合物を容易に置換できるリガンドを有する適当な錯体と反応させるか、または相当するパラジウム錯体からそのＮ,Ｎ−ジメチル−α−フェニルエチルアミンリガンドをＨＣｌ−誘発で除去することにより式IIの化合物との錯体を得ることからなる請求項８記載の錯体の製法。
【請求項１０】
不斉水素添加または不斉ヒドロホウ素化の触媒として請求項８記載の錯体を使用する方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、ハロゲン化ビフェニル−２,２′−ジイルビスジフェニルホスフィン、これらの化合物の製法およびこれらの化合物の使用に関するものである。
モノ−およびジホスフィンは、遷移金属−接触有機反応におけるリガンドとしてかなり重要なものである。近年、特に、ホモキラルモノ−およびジホスフィンは、遷移金属−接触エナンチオ選択的反応、例えばプロキラルアルケン、ケトンおよびイミンのロジウム(Ｉ)−、ルテニウム(II)−およびイリジウム(Ｉ)−接触不斉水素添加、パラジウム−接触求核アリル置換およびヘック（Heck）カップリング反応、プロキラルアルケンのロジウム(Ｉ)−接触ヒドロシリル化、ヒドロホウ素化およびヒドロホルミル化およびケトンおよびイミンのヒドロシリル化、そしてまた、相当するエナミンへのアリルアミンのロジウム(Ｉ)−接触不斉異性化におけるリガンドとして非常に重要であることが見出されている。
【０００２】
遷移金属−接触反応におけるアキラルホスフィンの既知の適用において、および不斉接触合成におけるホモキラルホスフィンの適用の上述した例のすべてにおいて（Zassinovich等, S. Chem. Rev. 1992, 92, 1051-1069）、および不斉合成において試験された約２００の異なるホモキラルホスフィン、ホスフィナイトおよびアミドホスフィンの表において、使用されたホスフィンのすべてが、電子−リッチ（electron-rich）である。上述したホスフィンは、これらの化合物の助けにより接触した若干の反応の進行が貧弱であるという不利点を有している。特に、不十分なエナンチオ選択性が欠点である。
【０００３】
驚くべきことには、ハロゲン化ビフェニル−２,２′−ジイルビスジフェニルホスフィンのような電子−不足（electron-deficient）系が、若干の遷移金属−接触反応において、得られる反応収率、触媒活性および（または）エナンチオ選択性に関して在来の電子−リッチのモノ−およびジホスフィンより優れているということが見出された。
【０００４】
したがって、本発明は、式II
【化８】
0003802585.tif 000002
【０００５】
（式中、ビフェニル分子のフェニル環は、さらに６個までの追加の弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）の化合物に関するものである。４個までの弗素および（または）塩素原子を有する化合物が好ましい。２個までの弗素および（または）塩素原子を有する化合物が特に好ましい。非常に特に重要である化合物は、式II
【化９】
0003802585.tif 000003
の化合物である。
【０００６】
本発明は、ラセミ形態およびキラル形態の上述した化合物に関する。次式は、非常に特に好ましい化合物を例示する。
【化１０】
0003802585.tif 000004
【０００７】
本発明は、また、不活性ガス、好ましくは窒素下で有機溶剤、好ましくはキシレン中で式４
【化１１】
0003802585.tif 000005
（式中、ＸはＦである）の化合物をＣｌ2Ｓｉ(ＣＨ3)Ｈ、ＮＢｕ3と反応させるかまたはこのようにする代りに、式４の化合物を有機溶剤、好ましくはキシレン中でＨＳｉＣｌ3およびＮＢｕ3とともに還流下で沸騰させることからなる式IIの化合物の製法に関するものである。上記式において、ビフェニル分子のフェニル環は、さらに６個までの追加の弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい。
【０００８】
キラルおよびラセミ形態で重要な中間体として存在する式４の化合物および式４の化合物を製造する方法も、さらに、本発明の要旨である。この式４の化合物を製造する方法は、式３
【化１２】
0003802585.tif 000006
の化合物（式３の化合物は、４、５および（または）６−位において３個までの弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）を、遷移金属、好ましくはＣｕを添加した不活性溶剤、好ましくはＤＭＦ中で加熱することからなる。
【０００９】
さらに、本発明の他の要旨は、式２
【化１３】
0003802585.tif 000007
の化合物（式２の化合物は、４、５および（または）６−位において３個までの弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）を、不活性溶剤、好ましくはＴＨＦ中でリチウムジイソプロピルアミドと反応させそしてそれから沃素と反応させることからなる式３の化合物（式３の化合物は４、５および（または）６−位において３個までの弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）の製法である。
【００１０】
さらに、本発明は、式１
【化１４】
0003802585.tif 000008
の化合物（式１の化合物は、４、５および（または）６−位において３個までの弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）を、有機溶剤、好ましくはジイソプロピルエーテル中でｎ−ブチルリチウムと反応させ、それからＰｈ2ＰＣｌと反応させそしてその後アルコール、好ましくはメタノール中でＨ2Ｏ2と反応させることからなる式２の化合物（式２の化合物は４、５および（または）６−位において３個までの弗素および（または）塩素原子により置換されていてもよい）の製法に関するものである。
【００１１】
本発明の化合物を製造する方法は、好ましいパラメーターを与えたスキームの形態で以下に示される。
【００１２】
【化１５】
0003802585.tif 000009
【００１３】
上述した方法は、ラセミ化合物に関するものである。上述した化合物の個々のキラル形態は、ラセミ体を分割する慣用の方法によって得ることができる。好ましい分割方法は、以下のスキームにより説明される。本発明による特徴の以後の説明は、スキーム２からの化合物の番号を使用する。
【００１４】
【化１６】
0003802585.tif 000010
【００１５】
【化１７】
0003802585.tif 000011
【００１６】
【化１８】
0003802585.tif 000012
【００１７】
(Ｓ)−(＋)−５への（Ｒ／Ｓ）−５のラセミ体の開裂は、理論収量の７５％を与える。一方では、(Ｒ)−(−)−５への（Ｒ／Ｓ）−５のラセミ体開裂は、理論収量の９５％を与える。光学純度の絶対測定は、相当するビス（ホスフィンオキシド）(Ｓ)−(−)−４および(Ｒ)−(＋)−４のキラル相ＨＰＬＣ分析によって行われる。絶対配置は、(Ｓ,Ｓ)−(−)−１０の単結晶Ｘ−線構造分析により確認される。
さらに、本発明の他の要旨は、式Ｉの化合物のＲｈ(Ｉ)、 Ｒｕ(II)、Ｐｄ(II)およびＰｄ(０)錯体である。
容易に置換できるリガンドを有するこれらの金属の適当な錯体と式ＩまたはIIの化合物との反応によるこれらの錯体の製法も、同様に本発明の要旨である。
【００１８】
このような容易に置換できるリガンドのうち、Ｚ,Ｚ−１,５−シクロオクタジエン（ＣＯＤ）、ノルボナジエン（ＮＢＤ）またはアセチルアセトネート（acac）を与えることが好ましい。相当する遷移金属錯体は、商業的に入手することができるかまたは既知の方法で容易に製造することができる。この適用（不斉水素添加および不斉ヒドロホウ素化／酸化）の例において、この操作に対する具体的な説明がされる。式ＩまたはIIの化合物とのホモキラルパラジウムジクロライド錯体は、スキーム２に示されるように、式１０のジアステレオマーパラジウム錯体からのＮ,Ｎ−ジメチル−アルファ−フェニルエチルアミンリガンドのＨＣｌ−誘発除去によって得ることもできる。
【００１９】
さらに、本発明の他の要旨は、触媒としての本発明による化合物の使用である。本発明の触媒は、特に、有機付加、置換、転位およびカップリング反応を接触するのに適している。光学的に純粋なジホスフィン５およびそのパラジウムジクロライド錯体１１は、異常に良好な熱および化学安定性を有している。例えば、これまでホモキラル５の溶液の熱的ラセミ化を実施することは不可能である。テトラリン中の(Ｓ)−(＋)−５の溶液をアルゴン雰囲気中で２.５時間還流下で加熱（沸点２０７℃）した後においてさえ、比旋光度は変化せずそして相当するホスフィンオキシド４のキラル相ＨＰＬＣ分析は、なお、１００％ｅｅを示す。１１のエナンチオマー（融点３１０〜３１２℃）は、水／メタノール／ジクロロメタン中の過剰のシアン化カリウムの溶液中で１６時間撹拌した後、変化せずに採取される。遊離のジホスフィンおよびカリウムテトラシアノパラデートを与える開裂はない。ホモキラルジホスフィン５の非常に高い熱的配置安定性およびその遷移金属錯体（例えば１１）の高い熱的および化学的安定性は、有機反応の触媒としての後者の非常に広い範囲の適用に対して欠くことのできない基礎である。熱的ラセミ化に対する異常に高い抵抗性は、相当する触媒の完全な光学的誘導が高い反応温度においてさえ得られるということを保証する。原則的に、高い化学的抵抗性は、特に凝集試薬の存在下で触媒が使用されることを可能にする。
【００２０】
以下の本文において、一般に使用できる触媒の利点を、具体的な特に好ましい例に関して説明する。例えば光学的に純粋なジホスフィン(Ｓ)−(＋)−５（式IIの化合物）の比旋光度は、異なる溶剤中においてめざましく変化する（表１）。例えば、溶剤としてテトラリンをトルエンの代りに使用する場合は、旋光度の方向は、＋１１４.９°から−７３.９°に逆転する。相当する遷移金属錯体により引き起こされる不斉触媒に対するこのこれまで未知の現象の有意性は、まだ明らかにされていない。この状況は、溶剤の変化によって光学的誘導に対して強力な且つ目的とした影響を行使することおよび使用される特定の溶剤によって、同じ触媒を使用して両絶対配置において反応生成物を製造することを可能にする。
【００２１】
0003802585.tif 000013
【００２２】
(Ｒ)−(−)−５のロジウム(Ｉ)錯体は、例えばプロキラルオレフィンのヒドロホウ素化に関して、高い接触活性およびエナンチオ選択性を有す。（１,５−シクロオクタジエン）(２,４−ペンタンジオネート）ロジウム(Ｉ)および(Ｒ)−(−)−５から反応系内で形成された触媒の２モル％の存在下０℃におけるＴＨＦ中のカテコールボラン２当量によるｐ−メトキシスチレン１２のヒドロホウ素化は、１.５時間定量的である。２５℃における過剰の過酸化水素による酸化は、マルコウニコフ（Markovnikov）生成物１−（４−メトキシフェニル）エタノール１３((Ｒ)−配置の７７.８％ｅｅ)７８％および反−マルコウニコフ（anti-Markovnikov）生成物４−メトキシフェネチルアルコール１４ ２２％を与える（スキーム３）。このように、電子−不足ホモキラルジホスフィン５のロジウム(Ｉ)錯体の存在は、０℃の反応温度でさえも、ヒドロホウ素化の活性化エネルギーの激烈な減小を引き起こし、ヒドロホウ素化の反−マルコウニコフ選択性を逆転してマルコウニコフ選択性を与えそして生成物アルコールを与える。この方法は、−７０℃〜−２０℃で電子−リッチジホスフィンにより与えられるよりも実質的に高い光学純度において工業的に容易に実施することができる。０〜２５℃において、電子−リッチのジホスフィンは、もはや何れの有意な誘導も与えない。
【００２３】
【化１９】
0003802585.tif 000014
【００２４】
(Ｒ)−(−)−５のロジウム(Ｉ)錯体は、高水素圧下におけるＣ＝Ｃ二重結合に対する水素の付加を接触する。
ジ−μ−クロロビス（シクロオクタ−１ｃ,５ｃ−ジエン）ロジウム(Ｉ)および(Ｒ)−(−)−５から反応系内で形成された触媒１モル％の存在下において１バールの水素下２５℃で３−ベンジリデンコハク酸４−〔（４−Ｂｏｃ−アミノ）−１−ピペリジド〕３７は、水素添加されない。高水素圧下において、反応系内のホモキラルジホスフィン(Ｒ)−(−)−５のＰｈ(Ｉ)錯体は、不斉水素添加を引き起こす（実施例参照）。
【００２５】
塩化パラジウムまたは酢酸パラジウムと（Ｒ／Ｓ）−５とのパラジウム錯体は、水性／有機二相混合物中におけるハロゲン化アリールによるアリールボロン酸のアリール−アリールカップリング（Suzukiカップリング）に関して、電子−リッチモノ−またはジホスフィンの相当するパラジウム錯体よりも良好な収率を与える。同様に、これらの錯体は、ヘック型のアリール−ビニルカップリングにおいて、良好な収率を与える。パラジウム触媒（Ｓ,Ｓ）−(−)−１０、（Ｓ,Ｒ）−(＋)−１０、(Ｓ)−(−)−１１および(Ｒ)−(＋)−１１は、不斉アリル置換反応、ヘックカップリングおよび環化反応において、すぐれた化学的および光学的収率を与える。
【００２６】
【実施例】
試薬、装置および一般的方法：アセトン（９９.５％，Riedel-de Haeen）、１,２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（９９％，Aldrich）、１−ブロモ−３−フルオロベンゼン（＞９９％，Aldrich）、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中の１５％強度溶液，１.６Ｎ，Chemetall Gesellschaft）、(−)−(２Ｒ,３Ｒ)−２,３−Ｏ,Ｏ′−ジベンゾイル−酒石酸およびその(＋)−(２Ｓ,３Ｓ)エナンチオマー（＞９９％，Fluka）、カテコールボラン（ＴＨＦ中１.０Ｎ溶液，Aldrich）、（１,５−シクロオクタジエン）（２,４−ペンタンジオネート）ロジウム(Ｉ)（９９％，Aldrich）、ジ−μ−クロロビス〔（シクロオクタ−１ｃ,５ｃ−ジエンロジウム(Ｉ)〕、(Ｓ)−(＋)−ジ−μ−クロロビス｛２−〔１−（ジメチルアミノ）エチル〕フェニル−Ｃ,Ｎ｝ジパラジウム(９)（９８％，Aldrich）、ジクロロメタン（９９.８％，Riedel-de Haeen）、ジクロロメチルシランＣｌ2Ｓｉ(ＣＨ3)Ｈ（９７％，Janssen）、ジエチルエーテル（＞９９％，Hoechst）、過酸化水素（３５％水溶液，Riedel-de Haeen）、沃素（９９.８％，Riedel-de Haeen）、メシチレン（９９％，Fluka）、メタノール（９９.５％，Ｈ2Ｏ ０.２％，Riedel-de Haeen）、ヘキサフルオロ燐酸カリウム（＞９８％，Fluka）、テトラリン（９９％，Aldrich）、トルエン（＞９９％，Ｈ2Ｏ ＜０.０３％，Aldrich）、トリ−ｎ−ブチルアミン（９８％，Merck-Schuchardt）、トリクロロシラン（９９％，Aldrich）、ｏ−キシレン（９９.５％，Riedel-de  Haeen）を既製品として購入使用した。
【００２７】
クロロジフェニルホスフィンＣｌＰＰｈ2（工業的級，９５％，Aldrich)(沸点９８〜１００℃／０.２トール）およびｐ−メトキシスチレン（９７％，Aldrich）（沸点４１〜４２℃／０.５トール）は、使用直前に真空中で蒸留した。ジイソプロピルアミン（９９％，Aldrich）およびジイソプロピルエーテル(＞９９％，Hoechst）は、使用直前にアルゴン雰囲気中で水素化カルシウムから蒸留した〔カール−フィッシャー（Karl-Fischer）滴定は、ｉＰｒ2Ｏ中Ｈ2Ｏ＜０.０１％およびｉＰｒ2ＮＨ中Ｈ2Ｏ≦０.０５％を示す〕。Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）は、密閉フラスコ中で活性化４Ａ分子ふるい上で数日放置しそしてそれから真空中で蒸留した。テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）は、使用直前に、それをＩＣＮアルミニウムオキシドＢを通すことによって乾燥した（活性度１，１ｇ／ＴＨＦ ３ml)(カール−フィッシャー滴定は、Ｈ2Ｏ＜０.０１％を示す)。
【００２８】
銅粉末（９９.８％，Riedel-de Haeen）は、次の方法により活性化した：
銅粉末２６０ｇを、アセトン２.６リットル中の沃素５２ｇの溶液に加えそして混合物を１０分撹拌した。銅をブフナー漏斗を通して濾過しそしてアセトン６５０ml中の濃塩酸６５０mlの溶液中で１０分撹拌した。銅粉末を濾去し、アセトン３×２００mlで洗浄し、そしてデシケーター中で真空下で乾燥した。
反応は、すべて、アルゴン雰囲気下で乾燥したガラス装置中で実施した。
【００２９】
融点（ｍ.ｐ.）は、Buechi毛管融点装置（Dr. Tottoliによる）を使用して測定しそして補正しない。ＨＰＬＣ：Kontron 425 Gradient unit, Kontron 360オートサンプラー（20μｌの注入Loop）、Kontron 432 HPLC UV検出器およびKontron 450-MT2データ処理系を具備したKontron 420 PumpまたはSP 8700溶剤計量系、Spectra 100 UV-Vis検出器およびSP 4100計算インテグレーターを具備したSpectra Physics SP 4200 Pump/8750 Organizer（10μｌの注入Loop）。ＴＬＣ：５×１０cmのシリカゲルＦ−２５４（E. Merck）で予備被覆したガラスプレート；一般的なＵＶランプCamag（２５４nm）によるスポットの検出。超音波洗浄浴：Elma Transonic TS540。
【００３０】
1H-NMR(内部標準TMS)：Varian Gemini 200 (200MHz)、 Bruker AM 400 (400MHz)およびBruker ARX 500 (500MHz)。13C-NMR(内部標準TMS)：Bruker AM 270 (67.93MHz)およびBruker ARX 500 (125.77MHz)。19F-NMR(内部標準フルオロトリクロロメタン)：Bruker AC 100 (94.2MHz)、 Varian Gemini 200 (188.14MHz)、 Bruker AM 400 (376.50 MHz)およびBruker ARX 500 (470.59 MHz)。31P-NMR(内部標準80％水性燐酸)：Bruker AM 270 (109.35MHz)、 Bruker AM 360 (145.79MHz)およびBruker ARX 500(202.46MHz)。(Ｒ／Ｓ)−４、(Ｓ)−(−)−４および(Ｒ)−(＋)−４を除いたすべての化合物に対して示したδおよびＪ値は、スペクトルの普通の一次分析（first-order analysis）に相当する。(Ｒ／Ｓ)−４、(Ｓ)−(−)−４および(Ｒ)−(＋)−４のＮＭＲスペクトルは、すべて、脱カップリン技術および1H-13C-NMR相関（hsqc）を使用して完全な分析にうけしめた。ＩＲ：Perkin Elmer 683スペクトロメーター。ＭＳ：(ａ)急速原子衝撃正イオン化（＋ＦＡＢ）：ＶＧ ＺＡＢ ＳＥＱ；ＮＢＡは、ｐ−ニトロベンジルアルコールを示す。(ｂ)解離化学イオン化（ＤＣＩ）：Kratos MS80。(ｃ)正エレトロスプレーイオン化（＋ＥＳＩ）：ＶＧ ＢＩＯ−Ｑ；アセトニトリル／水（１：１）＋０.５％のギ酸。旋光度は、長さ１０cmのマイクロキュベットを使用してPerkin-Elmer 241旋光計上で測定した。
【００３１】
Ｘ−線構造は、コンピューター制御された四辺形のジフラクトメーター（Ｒ３ｍ／Ｖ，Siemens）を使用してリンデマンガラス毛管中に密閉された単結晶に対して測定した。θ＞４°（４およびＳ,Ｓ−１０に対して）またはθ＞８°（７に対して）を有する２５反射（reflections）を使用してセル寸法を測定した。相問題は、数値統計学によって、直接的方法54、Σｗ（Ｆｏ2−Ｆｃ2）2 55の最小化、秤量スキーム（Weighting scheme）ｗにより解決した。
【００３２】
（３−フルオロフェニル）ジフェニルホスフィンオキシド(２)
ヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの１.６Ｎ溶液（１０６０ml，１.７モル）を、−７８℃で３０分にわたり屈曲性のはりを経て、ジイソプロピルエーテル（４.０リットル）中の１−ブロモ−３−フルオロベンゼン(１)（２９８.７ｇ，１.７モル）の溶液に加えた。この黄色の懸濁液を、−７８℃でさらに１時間撹拌した。クロロジフェニルホスフィン（３９４ｇ，１.７８モル）を、−７８℃〜−６０℃で２０分にわたって滴加した。この黄色の溶液を、２時間にわたって０℃に加温する。この時間の間に、それは、徐々に白色の懸濁液となる。飽和塩化アンモニウム水溶液（１.０リットル）を滴加した。有機層を分離し、食塩水（２×７００ml）で洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥しそしてそれから濾過する。溶剤を、真空下で蒸発しそして油状残留物を、結晶化がはじまるまで、高真空下で乾燥して淡黄色の半−固体物質（４７９ｇ，１.７１モル，収率１００％）を得た。この粗製生成物を、精製することなしに酸化してホスフィンオキシドを得た。この粗製生成物をメタノールで洗浄して（３−フルオロフェニル）ジフェニルホスフィンの分析用の無色の結晶を得た。融点５９〜６１℃。Ｒf ０.２６（シクロヘキサン）〔１のＲf：０.７３〕。1H-NMR (200 MHz, CDCl3)：δ 6.84-7.17 (m, 3H), 7.20-7.60 (m, 11H); MS (DCI, CH3OH): m/e (相対強度) 281 (M+H, 100), 280 (M, 83), 203 (M-C6H5, 24); IR (KBr): 3070, 1602, 1580, 1475, 1437, 1415, 1216, 876, 791, 742, 694, 685cm-1。
【００３３】
３５％強度の水性過酸化水素（１８３ml，２.１モル）を、＜４０℃で、メタノール（２.１リットル）中の上記ホスフィン（４７６.５ｇ，１.７モル）の懸濁液に滴加した。得られた透明な黄色溶液を２０℃で１０分撹拌した後、ＴＬＣは定量的反応（酢酸エチル／イソプロパノール２０：１；２のＲf：０.４４；ホスフィン：０.７５）を示す。亜硫酸ナトリウムの飽和水溶液（６４０ml）および１Ｎ塩酸（３００ml）を加えそして混合物を、沃素殿粉紙による試験が過剰の過酸化水素の完全な還元を示すまで、撹拌した。メタノールを真空下で蒸発しそしてジクロロメタン（４.０リットル）を撹拌しながら加えた。有機層を分離しそして飽和重炭酸ナトリウム溶液２×１リットルおよび水２×１リットルで洗浄した。有機相を乾燥（ＭｇＳＯ4）しそして溶剤を真空下で蒸発して白色の粉末（４７５ｇ）を得た。この粉末を、超音波洗浄浴中でジイソプロピルエーテル（９００ml）と一緒にすりつぶし、混合物を濾過しそして固体を再びジイソプロピルエーテル（３００ml）で洗浄しそして真空下で乾燥した。４４１ｇ（１.４９モル，１を基にして収率８８％）。融点１４３〜１４５℃。ＨＰＬＣ〔２５０×４.６mm Lichrosorb RP 18 ７μｍ, １ｍ／分（ＣＨ3ＣＮ ６３０ml＋Ｈ2Ｏ ３７０ml＋０.１％ ＮＨ4ＯＡｃ）、検出：２５４nm、tret ８.５０分〕は、９８.１％の純度を与える。1H-NMR (200 MHz, CDCl3): θ 7.18-7.80 (m)；MS (DCI, CH3OH): m/e (相対強度) 297 (M+H，100)、 296 (M，11), 295 (M-H, 13); IR (KBr)：3055, 1583, 1440, 1228, 1188, 1122, 1110, 725, 708, 700, 690, 542, 511cm-1。
【００３４】
（３−フルオロ−２−ヨードフェニル）ジフェニルホスフィンオキシド(３)
備考：この工程においては注意深く乾燥したガラス装置、ＴＨＦおよびジイソプロピルアミンを使用しそして過剰の沃素を避けることが絶対に必要である。商業的にジイソプロピルアミン中に存在するＨ2Ｏ ０.２％の存在さえも、結果に対して不利な作用を有す（それぞれの場合において、２およびジアイオダイド６の１０〜１５％が反応しなかった)。
【００３５】
ヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの１.６Ｎ溶液（７６９ml，１.２３モル）を、ＴＨＦ（１.０リットル）中のジイソプロピルアミン（１７６ml，１.２４モル）の溶液に−７０℃で加えた。この溶液を−２０℃まで加温しそしてそれから再び−７０℃に冷却した。この透明な黄色のＬＤＡ溶液を、屈曲性のはりを使用して−７０℃で２５分にわたって、ＴＨＦ（２.０リットル）中の２（２９６.３ｇ，１.０モル）の冷却（−７８℃）懸濁液に加えた。混合物を、−７８℃で１５分撹拌してオレンジ色−赤色の懸濁液を得た。ＴＨＦ（１.０リットル）中の沃素（２５４ｇ，１.０モル）の溶液を、≦−７０℃で３０分にわたり滴加して濃黄色−オレンジ色の懸濁液を得た。この懸濁液を、１.５時間にわたり０℃に加温した。水（６００ml）中のチオ硫酸ナトリウム（７４ｇ）の溶液を加え、次いで食塩水（１.２リットル）を添加した。有機相を分離しそして食塩水３×１.２リットルで洗浄した。それを乾燥（ＭｇＳＯ4）しそして溶剤を真空下で蒸発した。残留物を、超音波洗浄浴中でジイソプロピルエーテル（１.０リットル）とともにすりつぶした（≒１分）。固体を濾去しそして真空下で乾燥して無色の粉末（３５８ｇ，８４８ミリモル，収率８５％）を得た。融点１５５〜１５７℃。ＨＰＬＣ〔２５０×４.６mm Lichrosorb RP 18 ７μｍ，１.５ml／分（ＣＨ3ＣＮ ６３０ml＋Ｈ2Ｏ ３７０ml＋０.１％ＮＨ4ＯＡｃ）、検出：２２０nm〕は、２（tret ４.４１分）０.６％、３（tret  ４.７１分）９７.８％、６（tret ７.４７分）１.６％を与えた。1H-NMR (200 MHz, CDCl3): δ 6.97 (ddd, 3JH,P=13Hz, 3JH,H=7Hz, 4JH,H=1Hz, 1H), 7.15-7.38 (m, 2H), 7.40-7.80 (m, 10H); 19F{1H}-NMR (94.2MHz, CDCl3): δ -87.3 (d, 4JF,P=6.8Hz); 19F-NMR (94.2MHz, CDCl3): δ -87.3 (td, 4JF,P≒3JF,H≒7.0Hz, 4JF,H=5.2Hz); MS (DCI): m/e(相対強度) 423 (M+H, 100); IR (KBr): 2920 (w), 1437, 1400, 1244, 1182, 1117, 791, 718, 697, 542, 520cm-1。
【００３６】
〔試薬中の微量の水および過剰の沃素（１.１３当量）によって〕ジアイオダイド６ １５％までを含有する試験反応からの生成物においては、特有のスペクトルシグナルが観察された。1H-NMR (200MHz, CDCl3): δ 6.68 (dd, 3JH,P=12.5Hz, 3JH,H=9Hz); 19F{1H}-NMR (94.2MHz, CDCl3): δ -65.8 (d, 4JF,P=5.9Hz); 19F-NMR (94.2MHz, CDCl3): δ -65.8 (≒t, 4JF,P=5.9Hz, 4JF,H=5.7Hz); MS (+ESI): m/e 549 (M+H)。
【００３７】
(ＲＳ)−（６,６′−ジフルオロビフェニル−２,２′−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィンオキシド)（(Ｒ／Ｓ)−４）
３（３５０ｇ，８２９ミリモル）、活性化銅粉末（１６３ｇ，２.５６モル，試薬および装置参照）およびＤＭＦ（１.７リットル）の混合物を、１４０℃（油浴温度）で１.５時間撹拌した。混合物を周囲温度に冷却しそして溶剤を、７０℃で真空下で蒸発乾固した。残留物を、熱ジクロロメタン（４×２リットル）との反復撹拌により抽出した。濾過した抽出液を、合しそして蒸発乾固しそして残留物を高真空下で乾燥して固体（２２３ｇ，収率９１％）を得た。ＨＰＬＣ〔３に対して記載したような条件〕によれば、この固体は、４（tret ７.２５分）９２％および２ ８％（３の＜０.１％）からなる。ジクロロメタン（１.３リットル）中の１分の超音波処理によって無色の固体（１７３ｇ，収率７１％）を得た。融点２８０〜２８２℃。４＞９９.５％。再結晶によって分析用試料を得た。結晶は、ジクロロメタン／酢酸エチル（３：１）からの沸騰還流により得られる。融点２８３〜２８４℃。ＮＭＲスペクトルは、光学的に純粋な化合物(Ｓ)−(−)−４および(Ｒ)−(＋)−４（以下参照）のＮＭＲスペクトルと同一である。MS (+FAB，MeOH/NBA)：m/e(相対強度)：591 (M+H，100) 13 (M-Ph，7), 389 (M-Ph2PO、17), 201 (Ph2PO，27)；IR (KBr)：3058 (w), 1436, 1422, 1240, 1206, 1192, 1117, 742, 695, 566, 532cm-1。
【００３８】
沸騰トルエンからの再結晶によって、Ｘ線分析に適した結晶を得た。結晶０.３１×０.１８×０.１７mm3；セル寸法：ａ＝２６.５７０(４)、ｂ＝１２.８４０(４)、ｃ＝２０.２９６(３)Å、β＝１２０.０４（1）°；Ｃ２／ｃ,ｚ＝８、Ｄx＝１.３０９mg／ｍ3；λ（Ｍｏ Ｋα）＝０.７１０７Å、θmax＝２５.０
６°、５１０７個々の反射、３１１７、（Ｆｏ）＞４σ；３７９パラメーター、ＷＲ２＝０.１５４（全反射）、Ｒ１＝０.０４６（３１１７反射）、Ｓ＝０.９２、示差フーリエ合成（differential Fourier synthesis）の極大および極小：０.４６、−０.３９ｅ／Å3。
【００３９】
(ＲＳ)−（６,６′−ジフルオロ−５−ヨードビフェニル−２,２′−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィンオキシド）(７)
同じウルマンカップリング条件下ジアイオダイド６ １４％を含有するモノアイオダイド３の反応は、４の８９％、７の１０％および非確認成分の１％からなる生成物を与える。この混合物３１.５ｇを、ＲＰ１８シリカゲル３kg上でクロマトグラフィー処理（溶離剤１：１のメタノール／水）しそして熱ジクロロメタン／酢酸エチル（３：１）からの再結晶後、７ ２.７ｇを得た。無色の針状晶。融点２７２〜２７４℃。ＨＰＬＣ（３ tret １１.６９分に対して記載した条件)：＞９９％。1H-NMR (500MHz, CDCl3): δ 6.78 (dd, 3JH,P=13.0Hz, 3JH,H=8.4Hz, 1H), 7.06 (ddd, 3JH,P=13.0Hz, 3JH,H=8.0Hz, 4JH,H=1.2Hz, 1H), 7.12(br t, 3JH,F≒3JH,H≒8.5Hz, 1H), 7.30-7.36 (m, 5H), 7.40-7.48 (m, 6H), 7.50-7.56 (m, 2H), 7.58-7.68 (m, 8H), 7.70 (ddd, 1H); 19F{1H}-NMR (94.2MHz, CDCl3): δ -89.6 (dt, 4JF,P=6.3Hz, 5JF,P=0.9Hz, 5JF,F=0.9Hz), -110.3 (dt, 4JF,P=6.9Hz, 5JF,P=0.8Hz, 5JF,F=0.9Hz,); 19F-NMR (94.2MHz, CDCl3): δ -89.6 (br t, 4JF,P=4JF,H=6.3Hz), -110.3 (br qua, 4JF,P≒3JF,H≒4JF,H=7.0Hz); 31P{1H}-NMR (109.35MHz, CDCl3): δ +28.47 (d, 4JP,F=6.3Hz), +28.58 (d, 4JP,F=6.9Hz); MS (DCI, MeOH): m/e (相対強度) 717 (M+H, 85), 513 (M-Ph2PO); IR (KBr): 3057 (w), 1438, 1393, 1203, 1118, 705, 695, 533cm-1。１５：１のｎ−ヘプタン／エタノールの溶離剤を使用して２５０×４.６mmのDNBPG-Baker結合カラム上で、７のエナンチオマー〔tret ２０.３４分(＋)−異性体および２２.１４分(−)−異性体〕の基準分離を得た。
【００４０】
沸騰ジクロロメタンからの再結晶によって、Ｘ線分析に適した結晶を得た。結晶０.４５×０.４５×０.３mm3；セル寸法：ａ＝１０.４６２(１)、ｂ＝１４.５７９(１)、ｃ＝２０.４６７(２)Å、Ｐ２1２1２1、Ｚ＝４、Ｄx＝１.５２４mg／ｍ3；λ（Ｍｏ Ｋα）＝０.７１０７Å、θmax＝２８.０６°、７５６９個々
の反射、７０６３、（Ｆｏ）＞４σ；４８８パラメーター、ｗＲ２＝０.０６５（全反射）、Ｒ１＝０.０２３（７０６３反射）、Ｓ＝０.６７、示差フーリエ合成における極大および極小：０.５３、−０.２６ｅ／Å3。
【００４１】
(−)−(２Ｒ,３Ｒ)−２,３−Ｏ,Ｏ′−ジベンゾイル酒石酸による(Ｒ,Ｓ)−４の分割に対する実験
(ａ)  酢酸エチル（６ml）中の(２Ｒ,３Ｒ)−(−)−ジ−Ｏ−ベンゾイル酒石酸（９５１mg，２.５３ミリモル）の溶液を、沸騰ジクロロメタン（１５ml）中の（Ｒ／Ｓ)−４（８１５mg，１.３８ミリモル）の溶液に加えた。溶液を３時間還流下で沸騰した。沈殿は形成しなかった。この溶液を、２０℃で一夜放置した。沈殿は形成しなかった。
【００４２】
(ｂ)  (２Ｓ,３Ｓ)−(＋)−ジ−Ｏ−ベンゾイル酒石酸モノ水和物（１.７０ｇ，４.５０ミリモル）および(Ｒ／Ｓ)−４（２.００ｇ，３.３５ミリモル）を、ジクロロメタン（３０ml）に溶解した。ｎ−ヘプタン（１３ml）を、撹拌しながら滴加した。濁った混合物を３０分放置しそして２層を形成した。層を分離しそして両方を、相互に独立して、２Ｎ水酸化ナトリウム（２×１５ml）および水（２×１５ml）で洗浄した。有機溶液を、乾燥（ＭｇＳＯ4）しそして溶剤を真空下で蒸発した。頂部相：無色の固体（０.９８ｇ）、旋光度（３６５nm，ｃ＝０.５６，ＣＨ3ＯＨ）およびキラル相のＨＰＬＣによって(Ｒ／Ｓ)−４（＜１％ｅｅ）。底部相：無色の固体（０.７５ｇ）、旋光度およびキラル相のＨＰＬＣによって(Ｒ／Ｓ)−４（＜１％ｅｅ）。
【００４３】
(ＲＳ)−（６,６−ジフルオロビフェニル−２,２′−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィン）((Ｒ／Ｓ)−５）
(ａ)  トリクロロシランによる(ＲＳ）−４の還元による：トリ−ｎ−ブチルアミン（１５０ml，６３８ミリモル）およびトリクロロシラン（４３ml，４２６ミリモル）を、脱酸素したキシレン（９００ml）中の(Ｒ／Ｓ)−４（６４.３ｇ，１０９ミリモル）の懸濁液に加えた。この懸濁液を還流下で加熱（１３８℃）して透明な溶液を得た。この溶液を、おだやかな還流下に１８時間維持した。９時間の反応時間後に、さらに、トリ−ｎ−ブチルアミン（１５０ml，６３８ミリモル）およびトリクロロシラン（１０ml，９９ミリモル）を加えた。ＴＬＣ（１９：１のＥｔＯＡｃ／ＭｅＯＨ）は、５（Ｒf ０.８６）および小量のモノオキシド（Ｒf ０.７７）への４（Ｒf ０.３０）の定量的反応を示す。反応混合物を０℃に冷却した。脱酸素した３０％強度の水酸化ナトリウム水溶液（４００ml）およびジクロロメタン（５００ml）を加えそして混合物を、有機および水性層が透明になるまで６０℃で撹拌（３０分）した。カニューレを使用して水性層を除去しそして有機層を、脱酸素した３０％強度の水酸化ナトリウム水溶液(４００ml)、水（３×４００ml）および食塩水（４００ml）で洗浄し、乾燥（ＭｇＳＯ4）し、濾過しそして真空下で蒸発した。残留物を、高真空下で乾燥しそしてそれからジクロロメタン（１.１リットル）に溶解しそして次にシクロヘキサン（１.１リットル）を加えた。溶液をシリカ（３５〜７０μｍ，８５０ｇ）の層（高さ３０cm）を通して濾過しそしてこの層をジクロロメタン／シクロヘキサン（１：１，３.０リットル）で洗浄した。濾液を真空下で蒸発して無色の固体（４８.０ｇ，８６.０ミリモル，収率７９％）を得た。融点２１５〜２１７℃。ＨＰＬＣ（２５０×４.６mm  Nucleosil 120 C8 ７μｍ、１ｍ／分、８５％アセトニトリル／１５％水、２５４nmで検出、超音波処理した５ １.０mgおよびＣＨ3ＣＮ ５mlの溶液１０μｌの注入、tret １４.５０分）は、＞９９％の純度を示す。沸騰トルエン／エタノール（４：５）からの再結晶によって分析用の試料を得た。融点２２２〜２２３°。1H-NMR (200MHz, CDCl3) δ 6.83-6.98 (m, 4H), 7.10-7.40 (m, 22H); 19F-NMR (188.14MHz, CDCl3): δ -112.6 (m); 31p{1H}-NMR (109.35MHz, CDCl3): δ -12.70 (t, 4JP,F≒5JP,F≒9.3Hz); MS (DCI, CHCl3) m/e (相対強度) 559 (M+H, 53), 373 (M-PPh2, 100); IR (KBr): 3035 (w), 1562, 1446, 1432, 1417, 1234, 790, 742, 693cm-1。
【００４４】
(ｂ)  ジクロロメチルシランによる(Ｒ,Ｓ)−４の還元による：(Ｒ／Ｓ)−４（１３.４７ｇ，２２.８ミリモル）を、スチールオートクレーブに対する円筒状のガラス挿入物中のｏ−キシレン（１５０ml）中に懸濁した。アルゴンを、懸濁液を通して１０分起泡導入した。ジクロロメチルシラン（１１.９ml，１３.１ｇ，１１４ミリモル）を加え、次いでトリ−ｎ−ブチルアミン（２８.４ml，２２.２ｇ，１２１ミリモル）を加えた。このアルゴン−充填したガラス挿入物を、オートクレーブに入れた。窒素（５バール）を注入しそしてそれから圧力を非常に徐々に減少した。窒素（１００バール）を注入しそしてオートクレーブを、１５０℃の内部温度で８６時間加熱した。オートクレーブを周囲温度に冷却した。それから、窒素圧を低下させそしてガラス挿入物を取り出した。ジクロロメタンで希釈した暗褐色の反応混合物のアリコートのＴＬＣは、５の乱されていない形成を示す。４およびモノオキシドの残留物は、殆ど検出限界に近い。すべての揮発性構成成分を蒸発（浴６０℃／＜２０ミリバール）した。メタノール(１００ml)を、暗褐色の残留物に加えそして懸濁液を超音波洗浄浴中で５分処理した。固体を濾過し、メタノール（２０ml）で洗浄しそして真空下で乾燥して粗製の灰白色の生成物（１２.８ｇ，収率１００.５％）を得た。融点２１３〜２２０℃。イソプロパノール（３０ml）を加えそして懸濁液を１分超音波で処理した。固体を濾去しそして真空下で乾燥した。無色の粉末（１１.７ｇ，２１.０ミリモル、収率９２％）。融点２２１〜２２３℃。スペクトルは、(ａ)に記載したスペクトルと同一。
【００４５】
(ｃ)  ジクロロメチルシランによる(Ｒ／Ｓ)−７の還元による：(ｂ)に記載したと同じ条件下ｏ−キシレン（１５ml）中における(Ｒ／Ｓ)−７（１.１４ｇ，１.６０ミリモル）、ジクロロメチルシラン（９１８mg，７.９８ミリモル）およびトリ−ｎ−ブチルアミン（１.５５ｇ，８.４６ミリモル）の反応は、同じ処理およびメタノール（１０ml）中で超音波にうけしめた後、灰白色の固体として粗製生成物（９０８mg，収率１０２％）を与えた。イソプロパノール（２ml）中における超音波処理によって、無色の粉末（８０８mg，１.４５ミリモル，収率９１％）を得た。融点２２１〜２２３℃。スペクトルは、(ａ)に記載したスペクトルと同一である。
【００４６】
パラジウム錯体に関しての(Ｒ／Ｓ)−５の分割
｛(Ｓ)−２−〔１−（ジメチルアミノ）エチル〕フェニル−Ｃ,Ｎ｝〔(Ｓ)-(６,６′−ジフルオロビフェニル−２,２′−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィン）〕パラジウム(II)ヘキサフルオロホスフェート(Ｓ,Ｓ)−(−)−１０
脱酸素したメタノール（４３０ml）中の(Ｒ／Ｓ)−５（４.３６ｇ，７.３８ミリモル）および(Ｓ)−(＋)−ジ−μ−クロロビス｛２−〔１−(ジメチルアミノ)エチル〕フェニル−Ｃ,Ｎ｝ジパラジウム(９)（２.１９ｇ，３.６９ミリモル）の懸濁液を、殆ど透明な淡黄色の溶液が形成されるまで、２５℃で２時間撹拌した。非常に小量の未溶解物質を濾過により除去した。脱酸素した水（４３０ml）中のヘキサフルオロ燐酸カリウム（６８０mg，３.６９ミリモル）の溶液を、滴加した。淡黄色の固体が沈殿した。懸濁液を４時間撹拌した。反応の進行を、ＴＬＣ（１００％イソプロパノール；Ｒf（Ｒ／Ｓ)−５：０.７２、(Ｓ,Ｓ)−１０：０.５７、(Ｓ,Ｒ)−１０：０.３７、９：０.００）により監視した。沈殿を濾過により集め、５０％強度の脱酸素したメタノール水溶液（３００ml）そしてそれからジエチルエーテル（１５０ml）で洗浄した。〔これらの洗浄は捨てるけれども、(Ｓ,Ｒ)−(＋)−１０の単離に対するもとの濾液は保持した（次の節参照）〕。淡黄色の固体を真空下で乾燥しそして粗製の(Ｓ,Ｓ)−１０（３.３３ｇ，３.４８ミリモル，収率：理論値の９４％）を得た。融点２１８〜２２０℃（分解）。〔α〕D25 −１９８.６°(ｃ＝０.９６７，アセトン）。そのジアステレオマー(Ｓ,Ｒ)−１０の1H-NMRシグナルは、検出することができなかったけれども、微量がＴＬＣにより見出された（ジアステレオ選択性＞９８：２）。この粗製の錯体を、脱酸素したアセトン（４０ml）に溶解しそしてジエチルエーテル（４０ml）を徐々に加えた。混合物を、密閉フラスコ中で８時間放置した。沈殿を濾過により集め真空下で乾燥して淡黄色の固体２.８３ｇ（２.９５ミリモル，収率：理論値の８０％）を得た。融点２２３〜２２５℃（分解）。〔α〕D25 −２０３.２°（ｃ＝０.９８，アセトン）。1H-NMR (200MHz, アセトン-d6) δ 1.36 (d, J=6.5Hz, 3H, HCHCH3), 1.68 (d, J=2.5Hz, 3H, NCH3), 2.68 (m, ca. t, J=3.7Hz, 3H, NCH3), 5.54 (qua, J=6.5Hz, 1H, NCHCH3), 6.32 (≒t, J=7.0Hz, 1H), 6.58 (≒qua d, J=8.0 および 1.0Hz, 1H), 6.68-6.86 (m, 4H), 7.06-8.26 (m, 24H); 31P{1H}-NMR (145.79MHz，アセトン-d6) δ -143.7 (sept. 1JP,F=707Hz, PF6-), +11.5 (dd, 2JP,P=45Hz, 4JP,F=8Hz), +35.5 (dd, 2JP,P=45Hz, 4JP,F=7Hz); 19F{1H}-NMR (376.50MHz, アセトン-d6, PF6の二重線の左側は、NaPF6に対する文献値によって-70ppmに調節した) δ -70.9 (d, 1JF,P=707Hz, 6F, PF6-), -106.2 (ddd, 4JF,P=7.3Hz, 5JF,F=5.9Hz, 5JF,P?=1.7Hz), -106.4 (ddd, 4JF,P=7.7Hz, 5JF,F=5.9Hz, 5JF,P?=1.7Hz); MS (+FAB, MeOH/NBA): m/e (相対強度) 817 (16), 816(32), 815 (30), 814 (71), 813 (43), 812 (100), 811 (67), 810 (27), 809 (2), 808(3)〔ピークm/e=816, 814, 812, 811, 810, 808は、パラジウム同位体（天然存在の頻度（frequency of natural occurrence）110Pd (43.2), 108Pd (97.7), 106Pd (100), 105Pd (81.3), 104Pd (40.1)または102Pd (3.5)との塩の陽イオンC46H40F2NP2Pdに相当する〕；IR (KBr): 3060 (w), 1450, 1442, 1418, 841, 746, 697, 556, 502cm-1。
【００４７】
結晶：０.３×０.２×０.１５mm3；セル寸法：ａ＝１２.０９１(１)、ｂ＝１８.６１２(４)、ｃ＝１８.９５８(２)Å、Ｐ２1２1２1、Ｚ＝４、Ｄx＝１.３９１mg／ｍ3；λ（Ｍｏ Ｋα）＝０.７１０７Å、θmax＝２５.０°、８１２４個々の反射、４７２２、(Ｆｏ)＞４σ；５３３パラメーター、ｗＲ２＝０.０７６（全反射）、Ｒ１＝０.０４７（４７２２反射）、Ｓ＝０.８３、示差フーリエ合成における極大および極小：０.８８、−０.６１ｅ／Å3。
【００４８】
｛(Ｓ)−２〔１−（ジメチルアミノ）エチル〕−フェニル−Ｃ,Ｎ｝〔(Ｒ)−（６,６′−ジフルオロビフェニル−２,２′−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィン）〕パラジウム(II）クロライド(Ｓ,Ｒ)−(＋)−１０
(Ｓ,Ｓ)−(−)−１０（上記参照）の製造からのもとの濾液を、真空下で蒸発して淡黄色の固体（３.２５ｇ，３.８３ミリモル、収率：理論値の１０４％）を得た。融点１６２〜１６５℃（分解）。〔α〕D25 ＋１８４.３（ｃ＝１.０２，メタノール）。そのジアステレオマー(Ｓ,Ｓ)−１０の1H-NMRシグナルは、検出されなかったそしてＴＬＣにより微量も検出されなかった（ジアステレオ選択性＞＞９９：１）。この粗製の錯体を脱酸素したメタノール（４０ml）に溶解しそして溶液を、２分還流下で沸騰した。脱酸素した水（１５０ml）を加えそして混合物を密閉フラスコ中で８時間放置した。沈殿を濾過により集め、脱酸素したメタノール／水（１：８，１５ml）および水（３０ml）で洗浄しそして真空下で乾燥した。淡黄色の結晶（３.００ｇ，３.５４ミリモル，収率９６％）。融点１６４〜１６６℃（分解）。〔α〕D25 ＋２０８.０（ｃ＝１.０１，メタノール）。1H-NMR (200MHz, CD3OD); δ 2.05 (d, J=1.9Hz, 3H, NCH3), 2.17 (m, ca. t, J≒3.3Hz, 3H, NCH3), 2.27 (d, J=6.3Hz, 3H, NCHCH3), 3.58 (qui, J=6.3Hz, 1H, NCHCH3), 6.26 (tdt, J=7.5, 2.5 および 1.3Hz, 1H), 6.44 (qua d, J=7.5および 0.8Hz), 6.66-6.85 (m, 4H), 6.69-7.76 (m, 24H); 31P{1H}-NMR (145.79 MHz, CD3OD) δ +10.72 (dd, 2JP,P=44Hz, 4JP,F=7.6Hz), 33.21 (dd, 2JP,P=44Hz, 4JP,F=7.5Hz); 19F{1H}-NMR (376.50MHz, CD3OD); δ -103.37 (qua, 4JF,P≒5JF,F≒6.8Hz), -104.46 (≒qua d, 4JF,P≒5JF,F≒6.8Hz, 5JF,P?≒2Hz); MS (+FAB, MeOH/NBA): (S,S)-10のMSと同じである。
【００４９】
〔(Ｓ)−（６,６′−ジフルオロビフェニル−２,２′−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィン）〕パラジウム(II)ジクロライド(Ｓ)−(−)−１１
脱酸素した１０Ｎ塩酸（１２ml）を、脱酸素したアセトン（２０ml）中の(Ｓ,Ｓ)-(−)−１０の沸騰還流溶液に加えた。数分後に、黄色の沈殿が形成した。混合物を、還流下で２時間沸騰させそしてそれから真空下で１０mlに濃縮した。脱酸素した水（１００ml）を加えそして窒素を懸濁液を通して起泡導入（２５℃，１０分）した。固体を、濾過によって集めそしてイソプロパノール／水（１：１，２０ml）と一緒に５分撹拌した。固体を濾過し、イソプロパノール／水（１：１，５ml）で洗浄しそして真空下で乾燥して明るい黄色の結晶（８４６mg，１.１５ミリモル，収率：９８％）を得た。融点３１０〜３１２℃（分解）。〔α〕D25 −３１１.９（ｃ＝０.４９５，ジクロロメタン）。比旋光度は、溶液を周囲温度で８日間放置した後、変化しなかった。1H-NMR (200MHz, CDCl3): δ 6.66-6.86 (m, 4H), 6.90-7.08 (m, 2H), 7.27-7.56 (m, 12H), 7.70 (ddd, J=12.5, 8.0, 2.0Hz, 4H), 7.94 (dd, J=12.5 および 8.0Hz); 31P{1H}-NMR (145.79MHz, CDCl3): δ 26.72 (br d, 4JP,F=6.0Hz): 19F-NMR (188.14MHz, CDCl3): δ -108.5 (m); MS (+FAB, MeOH/NBA): m/e (相対強度)〔種々なPdの同位体およびClに対して〔705 (14), 704 (20), 703 (53), 702 (37), 701 (93), 700 (49), 699 (100), 698 (60), 697 (30) M-Cl〕,〔種々なPdの同位体に対して668 (7), 667 (11), 666 (14), 665 (10), 664 (23), 663 (16), 662 (10) M-2Cl〕; IR (KBr): 3060 (w), 1450, 1437, 1420, 747, 696, 507, 499, 487cm-1。元素分析値（C36H25Cl2F2P2Pdに対する実測値／計算値）：C 58.9/58.76, H 3.8/3.56, Cl 9.6/9.64, F 4.7/5.16。
【００５０】
〔(Ｒ)−（６,６′−ジフルオロビフェニル−２,２′−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィン）〕パラジウム(II)ジクロライド(Ｒ)−(＋)−１１
脱酸素した１０Ｎ塩酸（２２ml）を、脱酸素したアセトン（２０ml）中の(Ｓ,Ｒ)-(＋)−１０（４０８mg，０.４８ミリモル）の沸騰還流溶液に加えた。数分後に、黄色の沈殿が形成した。混合物を、還流下で２時間沸騰した。(Ｓ)−１１に対して記載したように処理して、明るい黄色の結晶（３４６mg，０.４７ミリモル，収率９８％）を得た。融点３１０〜３１１℃（分解）。〔α〕D25 ＋３１１.５（ｃ＝０.４９５，ジクロロメタン）。スペクトルは、(Ｓ)−１１のスペクトルと同一であった。
【００５１】
(Ｓ)−（６,６′−ジフルオロビフェニル−２,２′−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィン）(Ｓ)−(＋)−５
１,２−ビス（ジフェニルホスフィン）エタン(ｄｄｐｅ)（５０８mg，１.２７ミリモル，０.８当量）を、脱酸素したジクロロメタン（２０ml）中の(Ｓ,Ｓ)−１０（１.５３ｇ，１.５９ミリモル）の溶液に加えた。得られた透明な溶液を、２０〜２５℃で１６時間撹拌した。反応の進行は、ＴＬＣ（１００％トルエン，Ｒf：(Ｓ,Ｓ)−１０（０.００）、ｄｐｐｅ（０.６１），５（０.８０）〕によって監視した。ＴＬＣは、ｄｄｐｅの定量的反応、５の存在および基スポット（パラジウム錯体）を示す。脱酸素したシクロヘキサン（２０ml）を加えそして混合物を、シリカゲル（３５〜７０μｍ，１３.５ｇ）の床を含有するフリット上で濾過した。シリカ床を、脱酸素したジクロロメタン／シクロヘキサン（１：１，４×２０ml）で洗浄した。濾液を合しそして真空下で蒸発することにより濃縮した。メタノール（３ml）を残留物に加えそして溶剤を真空下で蒸発することにより濃縮して無色の固体（６５７mg，１.１８ミリモル，収率９３％）を得た。融点１６１〜１６３℃。沸騰トルエン／エタノール（４：５）からの再結晶（０℃，１２時間）によって分析用の試料を製造した。融点１６４〜１６５℃。〔α〕D25 ＋１１４.９（ｃ＝０.９９，トルエン）。表１参照。ＮＭＲスペクトルは、(Ｒ／Ｓ)−５のスペクトルと同一であった。ＴＬＣおよびＨＰＬＣ〔(Ｒ／Ｓ)−５参照〕は、１００％の化学純度を示した。酸化によってビス（ホスフィンオキシド）(Ｓ)−４が得られそしてキラル相の次のＨＰＬＣ分析は、１００％ｅｅ（以下参照）を示す。(Ｓ,Ｓ)−１０をｄｐｐｅの１.０当量と同じ条件下で反応させる場合は、かなりな量のｄｐｐｅが反応せず（ＴＬＣ）そしてこれらを反応生成物から除去することは困難である。
【００５２】
溶液中での加熱に対する(Ｓ)−５の配置安定性
テトラリン（沸点２０７℃，１０ml）中の光学的に純粋な(Ｓ)−５（４４.２mg）の溶液を、アルゴン雰囲気中で還流下で２.５時間沸騰した。溶液の比旋光度は不変のまま残りそしてビス（ホスフィンオキシド）(Ｓ)−４に酸化した後取出した試料は、キラル相のＨＰＬＣ分析によって１００％ｅｅを示す。
同様に、トルエン中の(Ｓ)−５の溶液を、アルゴン下で１２日間放置しそしてそれからこの溶液を１００℃で８時間加熱した場合およびメシチレン（沸点１６４℃）中の(Ｓ)−５の溶液を還流下で３時間沸騰した場合に、配置安定性が観察された。
【００５３】
パラジウムジクロライド錯体(Ｓ)−１１とシアン化カリウムとの反応による(Ｓ)−５の製造に対する実験
シアン化カリウム（３０mg，０.４６ミリモル）、水（５ml）およびメタノール（１０ml）を、ジクロロメタン（１０ml）中の(Ｓ)−１１（８７mg，０.１２ミリモル）の溶液に加えた（溶剤はすべて脱酸素した）。透明な溶液を、２時間撹拌した。ＴＬＣは、５が形成されないことを示した。シアン化カリウム（２５０mg）を加えそして溶液を１６時間撹拌した。反応しない。
【００５４】
(Ｒ)−（６,６′−ジフルオロビフェニル−２,２′−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィン）(Ｒ)−（−)−５
(Ｓ)−(＋)−５に対して記載した方法と同様な方法において、ジクロロメタン（２０ml）中でクロライド(Ｓ,Ｒ)−１０（７４８mg，０.８８ミリモル）をｄｐｐｅ（２８２mg，０.７１ミリモル，０.８当量）と反応させて標記化合物（３９０mg，０.０７ミリモル，収率９９％）を得た。融点１６４〜１６５℃。〔α〕D25 −１１４.８（ｃ＝１.０３，トルエン）。ＮＭＲスペクトルは、(Ｒ／Ｓ)−５および(Ｓ)−５のスペクトルと同一である。ＴＬＣおよびＨＰＬＣは、１００％の化学的純度を示す。酸化は、ビス（ホスフィンオキシド）(Ｒ)−４を与えそしてキラル相の次のＨＰＬＣ分析は、１００％ｅｅ（以下参照）を示す。
【００５５】
(Ｓ)−（６,６′−ジフルオロビフェニル−２,２′−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィンオキシド）(Ｓ)−(−)−４
メタノール（５ml）およびそれから、３５％強度の過酸化水素溶液（１ml，１１.６ミリモル）を、トルエン（２ml）中の(Ｓ)−５（１０１mg，０.１８ミリモル）の溶液に加えた。混合物を、４時間撹拌した。ＴＬＣ〔(Ｒ／Ｓ)−５参照〕は、標記化合物および微量の５の残留物およびモノオキシドを示す。過酸化水素（１ml）を加えそして撹拌を１時間つづけた。それから、ＴＬＣは、定量的酸化を示す。溶液を、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液（３×３ml）および１Ｎ塩酸（２×２ml）で洗浄した。溶剤を、真空下で蒸発した。残留物をクロロホルム（３×１５ml）で抽出した。抽出液を合し、飽和重炭酸ナトリウム水溶液(２×１０ml)および水（２×１０ml）で洗浄し、そして硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶剤を真空下で蒸発して無色の固体（１００mg，０.１７モル，収率９４％）を得た。融点２７５〜２７７℃。〔α〕D25 −１１.８°（ｃ＝０.９２，クロロホルム）。1H-NMR(表２); 13C-NMR(表３); 19F{1H}-NMR (470.59MHz, CDCl3): δ -110.21 (JF,P=6.6Hz); 31P{1H}-NMR (202,46MHz, CDCl3): δ 28.89 (JF,P=6.6Hz)。
表２：1H-NMR〔500MHz, (S)-(-)-4 10mg/CDCl3 1ml〕
シグナル 強度 δ(ppm) (n)JH,H(Hz) (n)JH,F (n)JH,F 1JC,H
表３：13C{1H}-NMR 〔125.76MHz, (S)-(-)-4 50mg/CDCl3 1ml〕
シグナル 強度 δ(ppm)  m 1H  m 19F  m 31P
【００５６】
ラセミ参照試料(Ｒ／Ｓ)−４と比較したキラル相のＨＰＬＣ（２５０×４.６mm ＤＮＢＰＧ−Bakerbond, １.０ml／分 ｎ−ヘキサン＋エタノール(２０＋１）、２５４nmで検出）は、(Ｓ)−４（tret ２５.５０分）１００％および(Ｒ)−４（tret ２３.６３分）０％を示す。沸騰ジクロロメタン／酢酸エチル（３：１）からの再結晶（０℃，１２時間）により分析用試料を得た。融点２８２〜２８３℃。〔α〕D20 −１１.３（ｃ＝０.９６，クロロホルム）；〔α〕36520 ＋５７.０（ｃ＝０.５９，メタノール）。
【００５７】
(Ｒ)−（６,６′−ジフルオロビフェニル−２,２′−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィンオキシド）(Ｒ)−(＋)−４
同様に、(Ｒ)−５の酸化によって、無色の固体を得た。融点２８２〜２８３℃。〔α〕D20 ＋１１.３（ｃ＝０.８３，クロロホルム）；〔α〕36520 −５６.５（ｃ＝０.５７，メタノール）。CDCl3中の1H-、 13C{1H}-、 19F{1H}-および31P{1H}-NMRスペクトルは、(Ｓ)−４および(Ｒ／Ｓ)−４のスペクトルと同一であった。キラル相のＨＰＬＣは、(Ｒ)−４の１００％を示す。
【００５８】
ｐ−メトキシスチレンのロジウム(Ｉ)−(Ｒ)−（−)−５−接触不斉ヒドロホウ素化／酸化
脱酸素した乾燥ＴＨＦ（６ml）中のｐ−メトキシスチレン(１２)（６７１mg，５.０ミリモル）、(１,５−シクロオクタジエン）(２,４−ペンタンジオネート)ロジウム(Ｉ)（３１.０mg，０.１０ミリモル）および(Ｒ)−(−)−５（６１.４mg，０.１１ミリモル）の溶液を、アルゴン中で還流下で９０分沸騰した。それから、溶液を冷却しそしてアルゴンで予め１０分フラッシュしたＴＨＦ（１０.０ml，１０.０ミリモル）中のカテコールボランの１Ｎ溶液を、５分にわたって０℃で滴加した。混合物を、アルゴン下０℃で９０分撹拌した。ＴＬＣ（１：１のシクロヘキサン／酢酸エチル，Ｒf １２：０.６６，１３：０.４１，１４：０.３０）は、１２の定量的反応を示す。溶液を−２０℃に冷却しそして順次に、エタノール（１０ml）、４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（５ml）および３６％強度の過酸化水素水溶液（１０ml）を≦５℃で加えた。混合物を周囲温度で一夜撹拌しそしてそれからジエチルエーテル（３×５０ml）による抽出にうけしめる。抽出液を合しそして１Ｎ水酸化ナトリウム（４×２５ml）、水（２０ml）および食塩水（２０ml）で洗浄しそして硫酸ナトリウム上で乾燥しそして溶剤を蒸発する。残留物（淡褐色油７８０mg）を分子蒸留（バール６０〜８０℃／≒１０-3トール）して無色の油（６８２mg，４.４８ミリモル，収率９０％）および結晶化する褐色の残留物を（９８mg）を得た。ＴＬＣおよび1H-NMRは、留出物が１３および１４（７８：２２の比）からなることを示す。〔α〕D20 ＋２７.７°（ｃ＝１.１７，クロロホルム）。２２％のアキラル１４に対する補正は、〔α〕D20（補正した）＋３５.５°（ｃ＝０.９１，クロロホルム）を与える。文献との比較は、１３が(Ｒ)−配置の≒６７％ｅｅを有することを示す。キラル相のＨＰＬＣ分析（長さ２５０mm，内部直径４.６mm，キラルセルＯＤカラム，１０μｍ（ダイセル）；０.５ml／分，ｎ−ヘキサン／エタノール（１００＋０.８），４０℃，２５４nmで検出）は、(Ｒ)−(＋)−１３（ｔret ６２.８０分）６８.３％、(Ｓ)−(−)−１３（７９.４０分）８.５％および１４（６６.１４分）２３.２％を与える。これは、１３の(Ｒ)−(＋)−異性体の７７.８％ｅｅに相当する。
【００５９】
中性のロジウム(Ｉ)−(Ｒ)−(−)−５錯体により接触された２−ベンジリデンコハク酸４−〔（４−Ｂｏｃ−アミノ）−１−ピペリジドの水素添加
（Ｒ)−(−)−５（３０.１mg，０.０５４ミリモル）を、脱酸素したメタノール／ベンゼン（３：１）（２０ml）中のジ−μ−クロロビス〔（シクロオクタ−１ｃ,５ｃ−ジエン）ロジウム(Ｉ)〕（１２.３mg，０.０２５ミリモル）の懸濁液に加えそしてアルゴン下で１５分撹拌して透明な溶液を得る。水素添加フラスコ中において、２−ベンジリデンコハク酸４−〔（４−Ｂｏｃ−アミノ）−１−ピペリシド〕53 （１.９４ｇ，５.０ミリモル）を、脱酸素したメタノール／ベンゼン（３：１）（２０ml）に溶解する。透明な触媒溶液を、アルゴン下で加えそして反応混合物を、静水水素添加装置53 からの１バールの水素下で６時間にわたり撹拌する。水素は吸収されない。水素添加フラスコを、撹拌を組み入れたオートクレーブ中にアルゴン下で入れそして１５０バールの水素に２日間うけしめる。溶剤を真空下で蒸発しそして固体残留物を第３−ブチルメチルエーテル（４０ml）に溶解する。冷（０℃）溶液を、０.５Ｎ塩酸（１０ml）および水（１０ml）で洗浄しそして乾燥（ＭｇＳＯ4）する。溶剤を蒸発しそして固体（１.８０ｇ，４.１６ミリモル，粗収率９２％）を得た。ＨＰＬＣ53は、定量的水素添加を示す。キラル相のＨＰＬＣ53は、(Ｒ)−(＋)−配置の２２％ｅｅを示す。