(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
原子間力顕微鏡に用いられるカンチレバーにおいて、一端を支持されるカンチレバー部と、このカンチレバー部に貫通形成されたビーム通過用の測定孔と、この測定孔の近傍のカンチレバー部に突出固定されたナノチューブとから構成され、前記ナノチューブの先端を探針点とすることを特徴とする測定孔付きカンチレバー。
【請求項２】
請求項１に記載の測定孔付きカンチレバーを使用し、前記カンチレバーの周辺から試料表面に１次ビームを照射し、この試料から放射される２次ビームを前記測定孔に通過させて前記２次ビームを測定することを特徴とする測定孔付きカンチレバーを用いたビーム測定方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、走査型プローブ顕微鏡に用いられるカンチレバーに関し、更に詳細には、カンチレバーの突出部先端にある探針点を残しながら探針点近傍にその突出部方向に測定孔を貫通形成し、探針点で走査型プローブ顕微鏡機能を発揮できるとともに、微小な測定孔から１次ビームを入射させて試料表面の極微小領域から放出される２次ビームを測定したり、試料表面から放出される２次ビームを微小な測定孔を通して検出できる測定孔付きカンチレバー及びこれを用いたビーム測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
試料表面の原子レベルの起伏を観察したり物性を測定するために、原子間力顕微鏡（Atomic Force MicroscopeでＡＦＭと略称する）に代表される走査型プローブ顕微鏡が表面の形状や表面の物性測定に使用されている。
【０００３】
この走査型プローブ顕微鏡の多くは、カンチレバーと呼ばれる探針を試料表面に極微接近させたり接触させることによって、試料の表面情報を検出するものである。従って、探針となるカンチレバーの構造が観察精度や測定される物性量と強い相関性を有している。
【０００４】
カンチレバーは、文字通りいわゆる片持ち梁を意味している。即ち、このカンチレバーは、片持ち支持されるカンチレバー部と、先端に突設された突出部とから構成され、突出部の先端を先鋭に形成して探針点とし、この探針点を試料表面に接近ないし接触させて試料の表面情報を検出するものである。
【０００５】
ＡＦＭの操作では、カンチレバーの一端を片持ち支持して探針点を試料表面に極微接近させ、試料面と平行に走査ピエゾ等により走査させると、探針点と表面に働く原子間力により探針点が上下方向に力を受ける。この力は次のような方法で検出され、ＡＦＭ測定が行なわれる。
【０００６】
第１方法は、カンチレバーの背面にレーザービームを照射しておき、探針点に作用する力によりカンチレバーが撓むと、レーザービームの反射方向が変化し、この反射ビームをフォトダイオードなどで検出する方式である。
【０００７】
第２方法は、カンチレバーの取付部に励振用のピエゾ素子を設けておき、この励振用ピエゾとカンチレバー先端の撓み検出用のピエゾを用いてカンチレバーを自励発振させ、探針点に働く力により発振周波数が変化し、この発振周波数の変化を検出する方式である。
【０００８】
第３方法は、カンチレバーの取付部に励振用のピエゾ素子を設けておき、光ファイバーをカンチレバーの先端に近づけてその反射光をフォトダイオードで検出し、このフォトダイオードの出力を励振用ピエゾにフィードバックしてカンチレバーを自励発振させ、探針点に働く力により発振周波数が変化し、この発振周波数の変化を検出する方式である。
【０００９】
ＡＦＭでは、これらの方法で測定されたカンチレバー作用力を電圧に変換し、この電圧をカンチレバーのＺ方向制御ピエゾにフィードバックし、探針と試料表面の距離を一定に保持するサーボ動作を行わせ、探針点を試料表面に触れることなくＸＹ方向に走査して、前記サーボ電圧を高さ信号としてディスプレイに試料表面の三次元形状を画像化する。
【００１０】
このようなＡＦＭ分野において、カンチレバーに微小な孔を開け、この孔にレーザービームを通過させ、孔の先端からレーザービームを浸み出させ、浸み出したビームと試料表面との相互作用を検出しようとする研究が進展している。この種の顕微鏡はＳＮＯＭ（走査型近接場光学顕微鏡、scanning nearfield optical
microscopy）と呼ばれている。
【００１１】
図１２は、従来のＳＮＯＭに用いられる測定孔付きカンチレバーの使用状態の斜視図である。測定孔付きカンチレバー２は、カンチレバー部４と、この先端に突設された突出部６とから構成されている。
【００１２】
前記突出部６の内部には空洞部１０が形成され、突出部６は薄い壁体から構成されている。突出部６の先端には測定孔１２が貫通形成されている。従って、突出部６の先端は先鋭な探針点とはならず、測定孔１２の断面からなる探針面７となっている。この探針面７の面積は最小でも測定孔１２の断面積の大きさを有することになる。この探針面７が試料１４の試料表面１６に対向配置されている。
【００１３】
通常、この測定孔１２の開口径（断面直径）は１００ｎｍ程度であるから、可視光の波長より十分に小さく、回折限界から可視光は測定孔を通過することができない。しかし、開口部からは光が波長程度だけ浸み出しており、波長より遠方では光強度は急激に減衰する。この浸み出し領域が光の近接場（エバネッセント場）と呼ばれている。
【００１４】
この近接場光は試料表面と相互作用し、回折・透過・反射・蛍光を生起することが知られている。この透過光や反射光などの強度を測定することによって、試料の光学的性質を光の回折限界を超えた分解能で観察することができるようになった。
【００１５】
この測定孔付きカンチレバー１２により近接場測定を行うには、カンチレバー２の探針面７を試料表面１４に接近させる。このとき接触させてはいけない。この状態で空洞部側１０から可視光を矢印ａ方向に照射し、探針面７から下方に近接場Ｓを形成させる。
【００１６】
この近接場Ｓが試料表面１６と接触すると、相互作用が生起し、光が試料１４を透過したり、試料１４から蛍光が周囲に放出されたりする。この２次光を検出することにより試料１４の光学物性を高い空間分解能で測定することができる。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
この測定孔付きカンチレバー２を使用して試料表面のＡＦＭ測定をするときに問題が生じる。図１３はＡＦＭ測定する場合の図１２のＣ−Ｃ線断面図である。測定孔１２は突出部６の先端に貫通開口されているため、ＡＦＭ測定では探針面７が試料表面１６と接触することになる。
【００１８】
試料表面１６にはナノメートルオーダーの凹凸があり、この凹凸を正確に再現するためには、探針面７は凹凸に確実に追従できるように極小に形成されることが要請される。しかし、探針面７の面積は測定孔１２の断面積以上の大きさを有するから、その断面直径が前述したように１００ｎｍもあると、その分解能は１００ｎｍとかなり大きくなってしまう。
【００１９】
このように大きな探針面７で試料表面１６をＡＦＭ走査しても、分解能が悪いために像全体がクリアーにならない。通常のカンチレバー先端の探針点は１０ｎｍ程度の曲率半径を有するから、１０ｎｍ以下の分解能を有すると云ってもよい。従って、図１３のような測定孔１２がある場合には、分解能が１／１０以下に低下する。
【００２０】
従って、本発明の目的は、探針点を残して精度の高いＡＦＭ測定を可能にできる測定孔付きカンチレバーを提供することである。また、このカンチレバーの測定孔を使用して、多くの種類のビームと試料物質との相互作用を生起させ、試料表面の相互作用の位置を極小領域にまで絞り込んで測定できるようにすることである。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その第１の発明は、一端を支持されるカンチレバー部と、このカンチレバー部から突設された突出部と、この突出部の先端に先鋭に形成された探針点と、この探針点の近傍位置で探針点を残しながら突出部にその突出方向に貫通形成された測定孔とから構成されることを特徴とする測定孔付きカンチレバーである。
【００２２】
第２の発明は、一端を支持されるカンチレバー部と、このカンチレバー部から突設された突出部と、この突出部の突出方向に貫通形成された測定孔と、前記突出部に基端部を固定して先端部を突出させたナノチューブとから構成され、このナノチューブの先端を試料に接触又は接近させて実効探針点とすることを特徴とする測定孔付きカンチレバーである。
【００２３】
第３の発明は、一端を支持されるカンチレバー部と、このカンチレバー部に突設された突出部又はナノチューブと、この突出部又はナノチューブの近傍のカンチレバー部に貫通形成された測定孔とから構成され、突出部の先端又はナノチューブの先端を探針点とすることを特徴とする測定孔付きカンチレバーである。
【００２４】
第４の発明は、カンチレバー部と先鋭に形成された探針点を有する突出部から少なくとも構成されたカンチレバーを集束イオンビーム室に配置し、前記探針点の近傍位置の突出部に集束イオンビームを照射し、探針点を残しながら突出方向に突出部を貫通する測定孔を形成することを特徴とする測定孔付きカンチレバーの製造方法である。
【００２５】
第５の発明は、これらの測定孔付きカンチレバーを使用し、測定孔に１次ビームを通過させて試料表面をビーム照射し、この試料から放射される２次ビームを周辺で計測することを特徴とする測定孔付きカンチレバーを用いたビーム測定方法である。
【００２６】
第６の発明は、これらの測定孔付きカンチレバーを使用し、周辺から前記試料表面に１次ビームを照射し、この試料から放射される２次ビームを前記測定孔を通過させて計測することを特徴とする測定孔付きカンチレバーを用いたビーム測定方法である。
【００２７】
第７の発明は、前記１次ビームが光、Ｘ線、電子線又はイオンビームである測定孔付きカンチレバーを用いたビーム測定方法である。
【００２８】
第８の発明は、前記２次ビームが光、Ｘ線、電子線又はイオンビームである測定孔付きカンチレバーを用いたビーム測定方法である。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明に係る測定孔付きカンチレバー及びこれを用いたビーム測定方法の実施形態を図面に従って詳細に説明する。
【００３０】
図１は、本発明に係る測定孔付きカンチレバーのＡＦＭ測定状態の斜視図である。測定孔付きカンチレバー２は、カンチレバー部４と、先端に突設された突出部６から構成されている。突出部６の背面側には空洞部１０が形成されるから、突出部１０は薄い壁体から構成される。
【００３１】
突出部６の先端は先鋭な探針点８に形成されており、この探針点８が試料１４の表面１６と１点で接触するから、試料の表面情報を局所的に高分解能に検出できる。探針点８の曲率半径は１０ｎｍ程度まで小さく加工できるから、この探針点８による測定分解能は数ｎｍ以下に達する。
【００３２】
一方、この発明では、探針点８を残存させながら、探針点８の近傍に測定孔１２が突出部６の突出方向に貫通状に形成される。測定孔１２の断面直径は加工方法に依存するが、現在では数１００ｎｍから数十ｎｍの微小直径を有した測定孔１２を開孔できるまでに達している。即ち、本発明のカンチレバー２は測定孔１２と先鋭な探針点８の両者を共有する点に特徴を有する。
【００３３】
図２は図１のＡ−Ａ線断面図である。探針点８を用いて試料表面１６をＡＦＭ走査することにより、試料１４の物性測定すべき位置を見い出す。探針点８は先鋭な１点で構成されているから、試料表面１６を高精度に走査でき、正確に測定位置を検出することができる。
【００３４】
図３はカンチレバーに測定孔を穿孔する概要説明図である。孔無しカンチレバー１はシリコンやシリコンナイトライドなどの材料で形成されるのが通常である。この孔無しカンチレバー１に集束イオンビームＩにより微小直径の測定孔１２を穿孔形成することができる。
【００３５】
このイオンビームＩを微焦点で孔無しカンチレバー１に照射するには、イオンビームを自在に集束して対象物を加工できる集束イオンビーム装置（ＦＩＢ装置とも略称する）を利用する。
【００３６】
このＦＩＢ装置は、通常Ｇａ原子をイオン化し、そのイオンに電界を印加して加速させ、このイオンビームを電界レンズで集束させながらイオンビーム断面を超微小化して高エネルギー密度にし、この集束イオンビームをターゲットに照射してターゲットを加工する装置である。これらの機能を発揮するために、このＦＩＢ装置は、イオン源、加速装置、ビーム集束装置、ビーム走査装置などの部分装置から構成される。
【００３７】
このＦＩＢ装置では、加速電圧は自由に調整でき、イオンビームのエネルギーを任意に設定できる。カンチレバー１の突出部６の厚さに応じてビームエネルギーを可変し、種々のカンチレバー１を穿孔することが可能になる。
【００３８】
図３では、空洞部１０の側からイオンビームＩを照射するが、逆方向から照射しても構わない。測定孔１２の断面直径を小さくするには、イオンビームＩのビーム直径を微細に絞ればよい。イオンビームＩの断面直径を可変にする事によって測定孔１２の断面直径を任意に大小変化させることができる。
【００３９】
穿孔に際して重要なことは、探針点８を残存させながら、探針点８の近傍を穿孔することである。測定孔１２の位置が探針点８の位置に近いほど、探針点８で指定した試料表面の位置に対して測定孔１２から種々のビームを加え易い。
【００４０】
図４は測定孔付きカンチレバーを用いた第１測定方法の説明図である。この第１測定方法は、種々の１次ビームが測定孔を通過するようにして微焦点で試料表面に照射し、試料と１次ビームとの相互作用により試料から放射される２次ビームを周囲で測定するものである。
【００４１】
１次ビームには広範囲の粒子ビームや波動ビームが利用でき、例えば電子ビーム、イオンビーム、Ｘ線ビーム、光ビームなどがある。この１次ビームが試料と反応して放射される２次ビームには各種のものがある。例えば、光を照射して出てくる蛍光や電子、電子を照射して出てくる２次電子やＸ線、イオン照射して出てくる光・Ｘ線・電子などがある。勿論、１次ビームが反射・透過・屈折・散乱して周囲に放射されるものも２次ビームに含まれる。
【００４２】
本発明では、２次ビームには直線状に放射されるビームだけでなく、周囲に分散状に放射される波動や粒子も含まれる。特に、１次ビームは直線状に絞れるが、２次ビームは試料表面から分散状に放射されることが多い。例えば、試料表面から放出される蛍光などは広範囲に分布して放射され、これらも本発明では２次ビームの概念で包括表現される。
【００４３】
探針点８によりＡＦＭ走査して試料表面１６の測定点１８を探し出す。測定点１８が確定すると探針点８を上方近傍に移動する。測定孔付きカンチレバー２の上方にはビーム発生器２０が配置されており、このビーム発生器２０から１次ビーム２２を射出して測定孔１２を通過させる。
【００４４】
測定孔１２を通過した１次ビーム２２は試料表面１６の前記測定点１８又はその近傍に照射され、試料１４と相互作用（反応）する。その結果、測定点１８から２次ビーム２４が周囲に放出される。周囲にはビーム計測器２６が配置され、放射される２次ビーム２４のエネルギーや強度などを測定する。
【００４５】
２次ビーム２４は広範囲に放射されるから、ビーム計測器２６を移動することにより２次ビーム２４の分布測定が行なわれる。試料１４を透過して下方に放射される場合もある。点線で示されたビーム計測器２６は透過した２次ビーム２４を測定するものである。
【００４６】
測定孔１２の断面直径は極めて小さく形成できるから、１次ビーム２２と相互作用する試料表面１６の反応領域は極めて微小となる。従って、試料表面１６の表面座標を正確に指定しながら試料表面の正確な反応マップを得ることができるようになる。
【００４７】
測定孔１２を探針点８に接近して形成するほど、探針点８で確認された測定点と１次ビーム２２が照射された測定点１８とは接近する。しかも、本発明では、測定孔１２は探針点８の近傍に形成されるから、探針点８はあくまで有効に残存している。このことによって、探針点８によるＡＦＭ機能を発揮しながら、測定孔１２によるビーム測定を長期に機能させることが可能となった。
【００４８】
図５は測定孔付きカンチレバーを用いた第２測定方法の説明図である。この第２方法は、試料表面に１次ビームを照射し、試料から放射される２次ビームを測定孔１２を介して測定するものである。
【００４９】
測定孔付きカンチレバー２の周囲にビーム発生器２０を配置し、このビーム発生器２０から１次ビーム２２を試料表面１６の測定点１８を狙って照射する。この１次ビーム２２は試料表面１６の物質と相互作用し、２次ビーム２４が周囲に放射される。
【００５０】
測定孔付きカンチレバー２を走査することによって、測定孔１２を通過した２次ビーム２４がビーム計測器２６によって計測される。走査にしたがって、各測定点１８に対応したビーム測定が行なえるので、２次ビーム２４の強度分布が正確に測定される。また、点線で示す位置にビーム発生器２０を配置して、２次ビーム２４を測定する事もできる。
【００５１】
図６は測定孔付きカンチレバーを用いた第３測定方法の説明図である。この第３方法は、測定孔を通過した１次ビームを試料表面に照射し、１次ビームを遮断した後、測定孔を通過してきた２次ビームを測定するものである。
【００５２】
図６（Ａ）では、ビーム発生器２０から射出された１次ビーム２２を測定孔１２に通過させて試料表面１６を照射する。測定点１８に照射された１次ビーム２２は試料１４と反応して２次ビーム２４を周囲に放射する。
【００５３】
図６（Ｂ）に示すように、１次ビーム２２を遮断した後、ビーム発生器２０に代えてビーム計測器２６を配置する。測定孔１２を通過してきた時間遅れの２次ビーム２４をこのビーム計測器２６により測定する。このようにして、試料表面１６の極めて微小領域に１次ビーム２２を照射し、同時に極めて微小領域からの２次ビームを計測する事が可能になる。
【００５４】
また、ビーム計測器２６をビーム発生器２０の横に配置しておき、２次ビーム２４の経路にミラーを挿入して２次ビーム２４を計測してもよいなど、種々の変形パターンで測定することもできる。
【００５５】
図７は測定孔付きカンチレバーの第２実施例の断面図である。この第２実施例は、測定孔１２を探針点８の後方位置に形成したもので、図２に示す測定孔付きカンチレバー２とは逆側に測定孔１２を形成している。その作用効果は図２と同様であるから、その詳細は省略する。
【００５６】
図８は測定孔付きカンチレバーの第３実施例の斜視図である。このカンチレバー２は、カンチレバー２の後面壁６ａにナノチューブ３４を取り付けて構成されている。ナノチューブ３４の基端部３４ａを後面壁６ａに公知の方法で固定する。
【００５７】
ナノチューブ３４の先端部３４ｂは探針点８より下方に突出しており、その先端３４ｃが実効探針点となって試料表面１６に当接してＡＦＭ走査が行なわれる。つまり、ナノチューブ３４は探針点８を通過して配置されるから、突出部６の探針点８は探針点として機能しない。ナノチューブ３４の断面直径は１ｎｍから選択でき、ＡＦＭ測定を極めて精度高く行う事ができる。
【００５８】
図９は図８のＢ−Ｂ線断面図である。ナノチューブ３４の先端、つまり実効探針点３４ｃが試料表面１６に対して実際の探針点として作用する事が理解できる。また、測定孔１２が突出部６に穿孔形成されており、この測定孔１２を利用して前述した第１測定方法〜第３測定方法までを実行できる。
【００５９】
図１０は測定孔付きカンチレバーの第４実施例の説明図である。上図は測定孔付きカンチレバー２の平面図で、下図はその要部断面図である。このカンチレバー２は先端部を略三角状に形成したカンチレバー部４と、このカンチレバー部４の先端下面に突出された微小な突出部６と、この突出部６の先端が探針点８となっている。
【００６０】
この第４実施例の特徴は、突出部６の近傍のカンチレバー部４に測定孔１２を穿設している点にある。突出部６は極めて微小であるから、この突出部６に測定孔１２を穿設するには高度の技術を必要とする。これに対し、サイズの大きなカンチレバー部４に測定孔１２を穿設することは比較的容易である。
【００６１】
このカンチレバー部６にある測定孔１２を通して１次ビームを試料面１６に照射したり、また試料面１６から放出される２次ビームを測定孔１２を通して検出することができる。
【００６２】
図１１は測定孔付きカンチレバーの第５実施例の説明図である。上図は測定孔付きカンチレバー２の平面図で、下図はその要部断面図である。この測定孔付きカンチレバーは先端部を略台形状に形成したカンチレバー部４と、このカンチレバー部４の先端面４ａに垂下状に固定されたナノチューブ３４から構成され、ナノチューブ３４の先端３４ｃが探針点として機能する。
【００６３】
この第５実施例の特徴は、第４実施例と同様に、ナノチューブ３４の近傍のカンチレバー部４に測定孔１２を穿設している点にある。この実施例では突出部６が形成されていないから、ナノチューブ３４はカンチレバー部６の特定箇所（例えば前記先端面４ａ）に固定される。従って、測定孔１２もカンチレバー部６に形成され、できる限りナノチューブ３４の近傍に穿設されることが望ましい。
【００６４】
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲における種々の変形例、設計変更などをその技術的範囲内に包含するものであることは云うまでもない。
【００６５】
【発明の効果】
第１の発明によれば、探針点の近傍位置で探針点を残しながら突出部の突出方向に測定孔を貫通形成したから、その探針点によりＡＦＭ等の走査型プローブ顕微鏡の機能を発揮させる事ができ、同時に1次ビーム及び／又は２次ビームを測定孔に通過させてビーム測定するから、試料表面で生じる相互作用の座標精度を極めて高精度に検出する事ができる。
【００６６】
第２の発明によれば、ナノチューブの先端を実際の探針点とするから、走査型プローブ顕微鏡の検出精度を飛躍的に高める事ができ、しかも1次ビーム及び／又は２次ビームを測定孔に通過させてビーム測定するから、試料表面で生じる相互作用の座標精度を極めて高精度に検出する事ができる。
【００６７】
第３の発明によれば、測定孔を比較的にサイズの大きなカンチレバー部に形成するから、測定孔の穿設加工が容易であり、突出部やナノチューブの近傍に自在に配置することができる。
【００６８】
第４の発明によれば、集束イオンビームを用いるから、探針点を残しながら突出方向に突出部を貫通する測定孔を形成することができ、本発明の測定孔付きカンチレバーを安価且つ容易に製造することができる。
【００６９】
第５の発明によれば、前記測定孔に１次ビームを通過させて試料表面をビーム照射し、この試料から放射される２次ビームを周辺で計測することにより、位置精度を局所領域にまで高めながら種々のビームと試料との相互作用を測定する事ができる。
【００７０】
第６の発明によれば、周辺から試料表面に１次ビームを照射し、この試料から放射される２次ビームを前記測定孔を通過させて計測することにより、位置精度を局所領域にまで高めながら種々のビームと試料との相互作用を測定する事ができる。
【００７１】
第７の発明によれば、１次ビームとして光線、Ｘ線、電子線又はイオンビームを利用するから、これらの１次ビームが試料表面と相互作用して各種の２次ビームが放射され、これらの２次ビームを測定して物性情報を得ることができるだけでなく、新物質の創製などを促進できる。
【００７２】
第８の発明によれば、２次ビームとして光線、Ｘ線、電子線又はイオンビームを利用でき、これらの２次ビームを測定して各種物質の物性情報を得て、新物質の創製や測定技術の飛躍的な進展を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る測定孔付きカンチレバー第１実施例のＡＦＭ測定状態の斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】カンチレバーに測定孔を穿孔する概要説明図である。
【図４】測定孔付きカンチレバーを用いた第１測定方法の説明図である。
【図５】測定孔付きカンチレバーを用いた第２測定方法の説明図である。
【図６】測定孔付きカンチレバーを用いた第３測定方法の説明図である。
【図７】測定孔付きカンチレバーの第２実施例の断面図である。
【図８】測定孔付きカンチレバーの第３実施例の斜視図である。
【図９】図８のＢ−Ｂ線断面図である。
【図１０】測定孔付きカンチレバーの第４実施例の説明図である。
【図１１】測定孔付きカンチレバーの第５実施例の説明図である。
【図１２】従来のＳＮＯＭに用いる測定孔付きカンチレバーの使用状態の斜視図である。
【図１３】ＡＦＭ測定する場合の図１２のＣ−Ｃ線断面図である。
【符号の説明】
２は測定孔付きカンチレバー、４はカンチレバー部、４ａはカンチレバー部の先端面、６は突出部、６ａは前面壁、６ｂは突出部内側表面、６ｃは突出部外側表面、７は探針面、８は探針点、１０は空洞部、１２は測定孔、１４は試料、１６は試料表面、１８は測定点、２０はビーム発生器、２２は１次ビーム、２４は２次ビーム、２６はビーム計測器、３０は集束イオンビーム室、３４はナノチューブ、３４ａは基端部、３４ｂは先端部、３４ｃは実効探針点、Ｉはイオンビーム、Ｓは近接場。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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