(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ねじりバネと、前記ねじりバネによって軸支された揺動体と、支持基板とを有し、前記揺動体が前記ねじりバネを中心に揺動できる揺動体装置であって、
前記揺動体の一方の面に当該面と平行で且つ前記揺動体の回転軸と交差する方向に着磁された硬磁性体を有し、
前記揺動体と離間して配置されるコイルおよび軟磁性体を有し、
前記コイルと前記軟磁性体は前記面に対する鉛直方向において異なる位置に配置されており、
前記硬磁性体は、前記軟磁性体と前記面に対する鉛直方向における同位置あるいは前記軟磁性体の前記コイルが配置されている側に配置されており、
前記軟磁性体は、前記揺動体の回転軸を含み且つ前記面を鉛直方向に切断する平面の両側に配置されており、
前記コイルは、電流を流すことにより、前記一方の側に配置されている前記軟磁性体の前記揺動体側の端部における磁極と、前記他方の側に配置されている前記軟磁性体の前記揺動体側の端部における磁極とが同極となる磁界を発生させるコイルであることを特徴とする揺動体装置。
【請求項２】
前記コイルは前記面内方向に渦巻いていることを特徴とする請求項１に記載の揺動体装置。
【請求項３】
前記硬磁性体と前記コイルと前記軟磁性体は前記面に対する鉛直方向において、順次前記硬磁性体、前記コイル、前記軟磁性体の順に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の揺動体装置。
【請求項４】
前記揺動体は前記ねじりバネを介して前記支持基板に接続していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の揺動体装置。
【請求項５】
前記揺動体は前記ねじりバネを介して前記揺動体とは別の外側の揺動体に接続しており、前記別の外側の揺動体は前記ねじりバネとは別のねじりバネによって前記支持基板に接続しており、前記ねじりバネの長尺方向と前記別のねじりバネの長尺方向は交差していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の揺動体装置。
【請求項６】
前記揺動体は前記ねじりバネを介して前記支持基板に接続しており、前記揺動体とは別の内側の揺動体が前記ねじりバネとは別のねじりバネを介して前記揺動体に接続しており、前記ねじりバネの長尺方向と前記別のねじりバネの長尺方向は交差していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の揺動体装置。
【請求項７】
前記揺動体の他方の面にミラーを有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の揺動体装置。
【請求項８】
光源と、前記光源から出射された光を偏向する請求項１乃至７のいずれか１項に記載の揺動体装置を配置した光偏向器とを具備し、
前記偏向された光を感光体上へ照射し画像形成することを特徴とする電子写真方式の画像形成装置。
【請求項９】
光源と、前記光源から出射された光を偏向する請求項1乃至７のいずれか1項に記載の揺動体装置を配置した光偏向器とを具備し、
前記偏向された光を画像表示体上に投影することを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、軸回りに揺動可能な揺動体を有する揺動体装置に関し、具体的には入射した光を偏向する為の揺動体を電磁力を利用して揺動する光偏向器及びそれを用いた画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、レーザ光等の光ビームを偏向・走査する装置（本明細書では光偏向器と称する）は、レーザプリンタ、バーコードリーダ等の光学機器に用いられている。これらの機器に組み込まれる光偏向器として、従来、側面がミラー面である多角柱を回転させて、入射した光の反射方向を変化させるポリゴンミラー、平面鏡を電磁アクチュエータによって回転振動させるガルバノミラーなどがある。
【０００３】
これら従来のミラー、すなわちポリゴンミラーではミラーを回転させる電磁モータが必要で、またガルバノミラーでは機械巻きの駆動コイルと磁界発生のための大型ヨークが必要である。また高い出力トルクを得るという理由から、これらの機械要素の小型化には限度がある。また、各構成部材を組み上げる際のスペース等から、光偏向のための装置全体のサイズの縮小には限度がある。
【０００４】
ところで電磁気学上の基礎的な知見として、一様な磁界の中に置かれた磁石にはトルクが発生することが知られている。ｍを磁石の磁気モーメント（ベクトル）、磁界（ベクトル）をＨとすると、トルクＴ（ベクトル）は
Ｔ＝ｍ×Ｈ              （1）
である。
【０００５】
この知見を利用した光偏向器として、走査ミラーの駆動装置がある（例えば特許文献１参照。）。この特許文献１における光偏向器である走査ミラーの駆動装置を図１６ないし図１８に図示する。図１６は同文献の第１実施例を示す斜視図である。この光偏向器は、コイル枠１１０８に巻回されたコイル１１０７を有する磁気発生部１１０６とミラー部１１０１から成る。ミラー部１１０１はガラス板１１０２とミラー面１１０３と薄膜状の永久磁石１１０４を有し、装置本体(図示せず)に対して回転軸１１０９回りに回転可能なよう、一対の支持部材１１０５で支持される。薄膜状の永久磁石１１０４は回転軸１１０９を挟んで異極に着磁されている。磁気発生部１１０６は、ミラー部１１０１の永久磁石１１０４側に、ミラー部１１０１から所定の距離を隔てて配設されている。
【０００６】
コイル１１０７に通電することにより磁気発生部１１０６からは磁界が発生し、ミラー部１１０１は、上述の式（１）に応じたトルクにより回転し、光をミラー面１１０３に照射すればこれを偏向・走査することができる。
【０００７】
図１７は同文献の第２実施例を示す。この光偏向器では、上記コイル枠１１０８に巻回されたコイル１１０７を有する磁気発生部１１０６が、コイル１１１７及び鉄心１１１９を有する磁気発生部１１１６に置き換わっている。その他は上記同文献の第１実施例と同じである。
【０００８】
図１８は同文献の第３実施例を示す。この光偏向器は、コイル枠１１２８に巻回されたコイル１１２７を有する磁気発生部１１２６とミラー部１１２１から成る。ミラー部１１２１はガラス板１１２２とミラー面１１２３と薄膜状の永久磁石１１２４を有し、磁気発生部１１２６に対して回転軸１１２９回りに回転可能なよう、一対の支持部材１１２５で支持される。薄膜状の永久磁石１１２４は回転軸１１２９を挟んで異極に着磁されている。磁気発生部１１２６は、支持部材１１２５の一方の端部と連結されており、ミラー部１１２１の外周に配置される。そして引用文献１の光偏向器は、レーザ光の干渉を利用して、微細な凹凸や傷を走査検出するレーザ変位センサー等において使用されるものである。
【０００９】
【特許文献１】
特開平６−８２７１１号公報（第２−４頁、第１図、第５図、第６図）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者は該文献の光偏向器であるとミラー部の偏向角を十分に広げることや、ミラー部を高速回転運動させることや、消費電力を低減することが困難であることに気づいた。該文献の光偏向器において、回転速度を上げるためあるいは大きな偏向角を得るため（ミラー部の回転角度を大きくするため）には、ミラー部に作用するトルクを大きくすることが必要である。そしてトルクを大きくするためミラー位置の磁界を大きくする必要がある。その場合、磁気発生部をミラー部に近接させるかあるいはコイルに流す電流を多くする必要がある。
【００１１】
該文献の光偏向器において、磁気発生部をミラー部に近接させようとすると、図１６のような構成では、コイルをミラー部の真下に近接させているためミラーとコイルが接触してしまう。そのためミラーを広角に振ることが出来ない。
【００１２】
しかもこの構成だと、コイルが上下方向（ミラー面鉛直方向）においてコイルの下部側がミラー部から遠のいてしまい磁界発生への寄与が小さい。磁界の強さというものはミラーと周回するコイルとの距離の２乗に反比例するため、このような構成ではトルクの発生に不利である。このような構成で大きなトルクを得ようとすれば、コイルに流す電流を大きくしなければならない。つまり消費電力が多くなってしまう。またコイルを上下方向に設けるため、上下方向の小型化が困難である。
【００１３】
また該文献の第２実施例の図１７のタイプでは、鉄芯１１１８を用いてコイル上端部から発生する磁界を大きくしているタイプであるが、これでも上下方向の小型化が実現できないしコイル下端部によるトルク発生への寄与も小さい。また、ミラー１１１１に比べてミラーに対向する大きな鉄芯１１１８の面積が必要である。コイル１１１７の上下方向の厚みを考えると、装置が大型にもなるし、磁界を大きくするための鉄芯を用いることから重くもなる。
【００１４】
また上下方向に小型化かつ軽量化できるようコイル１１２７をミラー１１２１の周囲に巻き回した同文献の第３実施例の図１８のタイプは、鉄心を用いていないタイプである。この構成でも上下方向に巻かれているコイルの上下端は磁界への寄与が低い。したがって、ミラー１１２１を大きく傾けるためには、大きな消費電力が必要になってしまう。
【００１５】
また本発明者は、ミラーの走査速度（揺動速度）を高めるためには駆動軸のバネを硬くする必要があると考えた。ただし、上述の光偏向器においてバネを硬くしてもこの光偏向器はそもそも電力消費に改善の余地が大きく残されていることから、バネを硬くすれば消費電力が更に大きくなってしまうことに気づいた。
【００１６】
本発明は、電力消費が少なく、軸支される揺動体に作用するトルクが大きく発生することができる揺動体装置およびそれを有する光偏向器、そして画像表示装置を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
よって本発明は、ねじりバネと、前記ねじりバネによって軸支された揺動体と、支持基板とを有し、前記揺動体が前記ねじりバネを中心に揺動できる揺動体装置であって、
前記揺動体の一方の面に当該面と平行で且つ前記揺動体の回転軸と交差する方向に着磁された硬磁性体を有し、
前記揺動体と離間して配置されるコイルおよび軟磁性体を有し、
前記コイルと前記軟磁性体は前記面に対する鉛直方向において異なる位置に配置されており、
前記硬磁性体は、前記軟磁性体と前記面に対する鉛直方向における同位置あるいは前記軟磁性体の前記コイルが配置されている側に配置されており、
前記軟磁性体は、前記揺動体の回転軸を含み且つ前記面を鉛直方向に切断する平面の両側に配置されており、
前記コイルは、電流を流すことにより、前記一方の側に配置されている前記軟磁性体の前記揺動体側の端部における磁極と、前記他方の側に配置されている前記軟磁性体の前記揺動体側の端部における磁極とが同極となる磁界を発生させるコイルであることを特徴とする揺動体装置を提供する。
【００１８】
【発明の実施の形態】
本実施形態に係る揺動体装置は、回転軸中心に回転可能な揺動体を有する揺動体装置である。回転軸の方向と交差する方向（具体的には90度の角度を成す方向）に着磁されて永久磁石にされた硬磁性体が揺動体に設けられている。また磁束線を発生させるための磁気発生手段を有する。さらに磁気発生手段が発生する磁束線を揺動体にとりつけた硬磁性体の磁極付近に有効に分布させるため、端が硬磁性体の磁極に近接して配置された軟磁性体を有する。軟磁性体と磁気発生手段は、揺動体とは離間して配置されており両者は実質的に一体に配置されている。
【００１９】
この構成によれば、軟磁性体により、揺動体に対して大きなトルクを発生することができる。また、可動部分（揺動体）にはトルクを生じるための電気的配線を設けないので、揺動体が揺動しつづけても配線の断線の可能性がなく長寿命の光偏向器等の揺動体装置を提供できる。またこの構成だと硬磁性体の磁極は決まっているので、硬磁性体と軟磁性体の間に生じる異或いは同磁極間の磁力（吸引力或いは反発力）により揺動体を駆動することが可能である。またこの構成だと、保持力が大きく、着磁が大きな硬磁性体を設けることによって、磁気発生手段としてコイルを用いればこの構成によって、発生力を十分大きくすることが可能である。よって本実施形態に係る揺動体装置は小型、省電力で大発生力のアクチュエータを提供できる。
【００２０】
本実施形態では硬磁性体は平面状であることが好ましい。また磁気発生手段は該硬磁性膜の面とほぼ平行な面に平面状に巻き回された平面状コイルであることが好ましい。この場合、前記平面状コイルが前記揺動体を周回する位置に平面状に巻き回されている構成にすれば、簡単な構成であるにもかかわらず揺動運動の振幅を大きくできる。
【００２１】
また、本実施形態に係る揺動体は平板状の揺動板である。硬磁性体は揺動板の面上全面に渡って１つ設けられているが、これは、回転軸を挟む揺動板の両端に異なる磁極が設けられていることを示す一例の構成である。この構成において、揺動体を周回する位置に平面状に上記平面状コイルを巻き回せば、簡単な構成であるにもかかわらず揺動運動の振幅を大きくできる。すなわち、この場合には、硬磁性体と平面状コイルで生じる磁気との間に生じる反発力と吸引力を利用して、揺動体の駆動方向への偶力を発生させることができる。したがって、同時に揺動体の両端にトルクをかけられるために発生力が増す。また揺動方向以外の変位が生じにくい構成とすることもできる。
【００２２】
もちろん本発明において硬磁性体の設け方は、これに限らず、複数の硬磁性体を設ける設け方でもよいし、回転軸を挟む揺動板の両端に同じ磁極が形成される設け方でもよい。あるいは回転軸を挟む揺動板の一端のみに磁極が形成される様にしてもよく、種々の形態を採り得る。そして、硬磁性体による磁極の形成の仕方に応じて、平面状コイル及び軟磁性体を単数或いは複数設けて、揺動体に好適にトルクが作用する様にしてもよい。
【００２３】
本実施形態において硬磁性体ないし膜の着磁方向は、回転軸方向と直交する。また、軟磁性体は平面状コイルの平面に沿って設けられた軟磁性膜である。さらに、軟磁性膜が帯状をなし、その一端が、硬磁性体の磁極に近接して配置されている。こうした態様は、装置を小型かつ軽量にし、揺動運動を高速にし、消費電力を小さくするのに資する。
【００２４】
本実施形態において次のいずれかの配置関係が極めて好適である。第１には、硬磁性体ないし膜が、軟磁性膜ないし膜の面のうち平面状コイルが配置されている面側に配置されている。第２には、硬磁性体ないし膜が、軟磁性膜ないし膜の面と略一致する平面内に配置されている。第３には、平面状コイルの面が、硬磁性体ないし膜と軟磁性体ないし膜の間に配置されている。つまり本実施形態に係る揺動体装置では、揺動体の面に対する鉛直方向に関して、硬磁性体と軟磁性体とが同位置かあるいは硬磁性体が軟磁性体のコイルが配置されている側に配置されていることが好適である。
【００２５】
これにより本実施形態に係る揺動体装置は、トルクの発生を大きくすることが出来、揺動体をに大きな力を与えることが出来る。また電力消費を減らすことが出来る。あるいは装置小型化を達成することが出来る。
【００２６】
また本実施形態に係る揺動体装置は弾性支持部と支持基板を有しており、弾性支持部は揺動体を支持基板に連結し支持している。弾性支持部は回転軸方向に伸びる一対のねじりバネ（トーションバー）であり揺動体の一対の側面から揺動体を支持する。こうして、一直線に沿って伸びた一対のねじりバネによって揺動体が支持基板に対して弾性的に略該直線の回りに揺動自由に支持されている形態を採り得る。そしてトルクの方向を反転させれば揺動体を往復揺動できる。
【００２７】
本実施形態では軟磁性体ないし膜と平面状コイルとが支持基板上に形成されたり、平面状コイルだけが支持基板上に形成されたりする。他に、軟磁性体ないし膜と平面状コイルは、支持基板に離間して対向配置した別の基板上に形成されてもよい。さらに、軟磁性体ないし膜のみが、揺動体を支持する支持基板に離間して対向配置した別の基板上に形成される形態でもよい。
【００２８】
またこの対向配置した基板は、揺動体に対向する部分に窓部または凹部を有することが好ましい。この場合、窓部または凹部の縁が、揺動体の縁に近接して配置されるのが良い。これにより、この対向配置した基板が揺動体の底面と干渉する（接する）恐れが全くない揺動体装置が提供可能となり、例えば大きな偏向角の光偏向器を比較的容易に実現できる。
【００２９】
本実施形態ではねじりバネと揺動体と支持基板とが一体より成る。もちろん別体でもよいが一体の方が好ましく更には同一材料であることが強度の上からも好ましい。またこれらの構成要素は単結晶シリコンよりなることが好ましい。揺動体装置はマイクロマシニング技術（つまりエッチング等の半導体プロセス）で作成されるものである。
【００３０】
また本実施形態に係る揺動体装置は偏向子そのものであることであってもよいし偏向子を有するものであってもよい。揺動体装置は光偏向器として構成される。この偏向子は、光を反射する反射面（ミラー面）であったり、回折格子であったりする。光偏向子を反射面とすることで作製が容易で可動部分（揺動体）の質量の小さい光偏向器等を実現できる。また、光偏向子を回折格子とすることで、入射光を複数のビームとして偏向することができる。
【００３１】
また本実施形態に係る揺動体装置は、揺動体アクチュエータ等として構成されたりすることもできる。
【００３２】
また本実施形態の揺動体装置は、光偏向器として画像表示装置の構成要素として適用できる。その場合、画像表示装置は光源（変調可能な半導体レーザなど）と、前記光源から出射された光を偏向する上記の光偏向器を少なくとも1つ以上配置した光偏向器または光偏向器群と、光偏向器または光偏向器群により偏向された光の少なくとも一部を投影するレンズとを有するものである。光源の変調と光偏向器の揺動体の動作は制御手段で制御できる。このように本実施形態に係る揺動体装置を画像表示装置に応用することで、非常に小型で安価な画像表示装置が実現可能となる。
【００３２】
また本実施形態に係る揺動体装置を２次元光偏向器として適用できる。具体的には、回転軸中心に回転可能なミラー面を設けた揺動板を有する２次元光偏向器であって、ミラー面を有する第１の揺動板と、一端で第１の揺動板に結合されこれを回転自在に支持する第１のねじりバネと、該第１のねじりバネの他端を支持する第２の揺動板と、一端で第２の揺動板に結合されこれを回転自在に支持する第２のねじりバネと、第２のねじりバネの他端を支持する支持基板からなり、第１又は第２の可動板の少なくと１つに磁化された硬磁性膜が設けられており、支持基板上には第１および第２の可動板を周回する位置に平面状にコイルが巻き回されている。つまりこの揺動体装置において、揺動体はねじりバネを介して揺動体とは別の外側の揺動体に接続しており、別の外側の揺動体はねじりバネとは別のねじりバネによって支持基板に接続しており、ねじりバネの長尺方向と別のねじりバネの長尺方向は交差している。
【００３３】
あるいはこの揺動体装置において、揺動体はねじりバネを介して支持基板に接続しており、揺動体とは別の内側の揺動体が別のねじりバネを介して揺動体に接続しており、ねじりバネの長尺方向と前記別のねじりバネの長尺方向は交差している。この構成において、好適には、平面状コイルの前記平面に沿って軟磁性膜が、その端が前記硬磁性体の磁極に近接して配置されて設けられる。光源と、この２次元光偏向器と、該光偏向器により偏向された光の少なくとも一部を投影するレンズとで小型で安価な画像表示装置を構成できる。
【００３４】
（第１の実施の形態）
以下に、光偏向器の典型例を例にとって第１の実施の形態を説明する。実施形態に係る光偏向器は、マイクロマシニング技術を用いて作製され得、典型的には、ミラーと硬磁性膜とを有する可動板と、平面コイルと、平面コイルの平面に沿って配置された軟磁性膜による固定コアと、前記可動板を支持基板に対して回転可能に支持する弾性支持部を有するものである。
【００３５】
この典型例の駆動原理は、次のようになる。本発明の揺動体装置の駆動原理も本質的にこれと同じである。
【００３６】
可動板の硬磁性膜は、揺動軸に対して直角方向に磁化されてその端部にそれぞれＳ、Ｎの磁極を持つ。コイルに流れる電流により、可動板に近い固定コア（軟磁性膜）の２つの端部には、同磁極で、同様な大きさの磁界が発生する。可動板の両磁極はこの磁界に反応し、弾性支持部の軸回りにトルクが発生し、可動板は回転する。ここで、コイルに流す電流を交流とするなら、ミラーを有する可動板が一定の周期で揺動し、ミラーに照射された光を振動・偏向させることができる。
【００３７】
上記の構造において、コイルを薄膜化すれば、装置全体が薄型となる。しかし、立体的なコイルと同じターン数を平面コイルで実現しようとすると、水平方向の面積は大きな面積が必要となってしまう。このジレンマを解決する為に軟磁性膜による固定コアを設けた。この軟磁性膜による固定コアを設けたことで、次のような利点が生じる。１つは、固定コアにより、大きな磁界が発生するので大きな光偏向角（可動板の大きな回転角）が実現できること、２つ目は、より少ない電流で所定の磁界を得ることができ、消費電力の低下が実現できること、３つ目は、より少ないコイルのターン数で所定の磁界を得ることができるため、小型化が実現できること、である。
【００３８】
固定コア（軟磁性膜）の導入に関し、コイルと硬磁性膜と軟磁性膜の配置関係は重要となる。一般にコイルに近接させて軟磁性膜を設けると、軟磁性膜の端部に磁極が発生し大きな磁界ができる。しかし、配置によっては磁界分布の集中効率が落ちる場合があるので、最適な構成を必要とする。
【００３９】
本実施形態では、硬磁性膜による両磁極が形成される面が、軟磁性膜が形成される面に対し、コイルが形成される面側の方向に配置されている、または、軟磁性膜が形成される面と略一致する平面内に配置される。これは以下の３つに配置に相当する。第１に、軟磁性膜を形成する面と硬磁性膜による両磁極を形成する面の間に、コイルを形成する面が配置してある、第２に、軟磁性膜を形成する面とコイルを形成する面の間に、硬磁性膜による両磁極を形成する面が配置してある、第３に、前記軟磁性膜を形成する面が、硬磁性膜による両磁極を形成する面と略同一平面内にある。
【００４０】
図９を用い、本発明の典型例のコイル22と硬磁性膜3と軟磁性膜21ａ、21ｂの配置構成を説明する。コイルは可動板を周回しているが、ここでは断面のみが描かれている。ここで、１は可動板、２は弾性支持部であり、軟磁性膜21ａ、21ｂから出る磁束線の一部を模式的に示す。詳細な磁束線図は、後述する実施例にてシミュレーションの一例として説明される。図９（ａ）は上記第1の配置であり、図９（ｂ）は上記第２の配置であり、図９（ｃ）、（ｄ）は上記第３の配置である。
【００４１】
図９（ａ）を用いて図の説明を行うと、軟磁性膜21ａ、21ｂの端部に磁束線の密となる大きな磁界ができ、磁束線はコイル22の配置される上方向へ向かう。可動板1に設けた硬磁性膜22による両磁極は、軟磁性膜21ａ、21ｂに対してコイル22側にある場合には、硬磁性膜に直交する方向の大きな磁界を受けることになり、可動板1が大きな回転トルクを得る。このことは、図９（ｂ）における配置においても同様である。硬磁性膜による両磁極と軟磁性膜の有効となる配置関係は、略一致する平面内にそれぞれが配置される位置までとなる。この一致する平面内を超えて、軟磁性膜21ａ、21ｂの面を基準としてコイル22と反対側の位置に、硬磁性膜による両磁極の面を配置すると、両磁極での磁界は逆に小さくなる。このため、大きな回転トルクを得る限界としては図９（ｃ）、（ｄ）の通りとなる。
【００４２】
軟磁性膜21ａ、21ｂを硬磁性膜による両磁極に近い位置に置けば両磁極に大きな力が働くが、力の方向が可動板1の回転方向とずれると運動に寄与する成分が少なくなる。したがって、硬磁性膜22による両磁極を結ぶ方向と直交する磁界の成分が大きくなる図９（ａ）、（ｂ）の配置関係が、より好ましい。これにより、少ない消費電力で偏向角の大きな小型の光偏向器を構成できる。
【００４３】
図９（ａ）の光偏向器を作製する場合、可動板1と弾性支持部を支持する支持基板と、コイル22と軟磁性膜21ａ、21ｂを形成した１つの基板とから成り得る。図９（ｂ）の光偏向器では、可動板1と弾性支持部を支持する支持基板と、コイル22を形成した基板と、軟磁性膜21ａ、21ｂを形成した基板との３つの基板が必要である。このことより、最も好ましい配置は軟磁性膜−コイル−硬磁性膜となる図９（ａ）の配置と言える。
【００４４】
可動板1は、片面または両面に、同方向に着磁された硬磁性膜を有してもよい。可動板1を揺動する発生力を大きくするためには、硬磁性膜の少なくとも一方は、上記の配置関係を満たす必要がある。
【００４５】
軟磁性膜21ａ、21ｂとコイル22は、可動板1を支持する支持基板10上に形成することが可能である。また、軟磁性膜21ａ、21ｂとコイル22が、可動板1を支持する支持基板に対向配置した第２の基板の面に形成されてもよい。第２の基板を用いる場合には、可動板1に対向する部分に窓部または凹部を設けるのがよい。基板を貫通する孔である窓部または凹部を形成することで、以下の２つの利点が得られる。第１は、可動板1がねじり回転により変位した際に第２の基板と接触しないためであり、第２は、可動板1が変位した際に第２の基板との間にエアーダンピングを形成しない様にして振動系のＱ値が低下するのを防止するためである。窓部とする場合には、他の利点として、偏向する光を窓部を通して入射させることが可能になる。
【００４６】
可動板1の弾性支持部は単結晶シリコンから成る様にもできる。単結晶シリコンは、入手の容易で機械特性に優れた（すなわち、比較的軽量でありながら物理的強度、耐性、寿命に優れた）材料である。この形態のように弾性支持部を単結晶シリコンとすることで、弾性支持部の減衰係数が小さくなるため、共振で利用した場合、大きなＱ値を得られる。また、金属材料のように繰り返し変形による疲労破壊が起きないので、長寿命の光偏向器等が構成可能となる。
【００４７】
また、単結晶シリコンは、半導体回路製造技術を用いて精度良く加工ができるため、形状再現性の高い機械部品を形成する上で好適な材料である。反応性ガスを用いたドライエッチングやアルカリ水溶液を用いた異方性エッチングにより、シリコンからなる同一基板内に弾性支持部と可動板と支持基板を一体化して形成でき、別体となった結合部の無い構造物が形成できる。このような構造物では、結合部でのエネルギー伝達効率が減少しにくく、共振を利用する可動板においては大きなＱ値を得ることができる。
【００４８】
ミラー面は、偏向される光に対して反射係数の高い材料を用いる。可視光領域ではアルミニウム、銀等が好ましく、赤外光領域ではアルミニウム、銀、金、銅、ロジウム等を用いることが可能である。硬磁性膜3は、Ｓｍ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｎｉ−Ｐ等の薄膜をメッキ、スパッタ等の手段により成膜する方法のほか、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ系の永久磁石を接着する方法、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂに代表される希土類の永久磁石の粉末をペースト状の接着剤に混ぜたものを塗布し、固化する方法により形成される。硬磁性膜3は、強い磁場の中で所定方向に磁化されて永久磁石にされる。
【００４９】
固定コアの軟磁性膜21ａ、21ｂは、Ｆｅ−Ｎｉ（パーマロイ）、Ｆｅ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ｎ、Ｆｅ−Ｚｒ−Ｎｂ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｂ等の保持力が低くて残留磁化が少なく、飽和磁化が大きく、損失が少ない磁性材料を用い、メッキ、スパッタ等の手段により薄膜として形成され得る。
【００５０】
このような本実施形態に係る光偏向器はレーザーディスプレイを用いたビデオプロジェクタやレーザビームプリンタに適用することが出来る。高速且つ広い偏向角が必要とされるこれらの製品に本実施形態の光偏向器はその要求に答えることが出来る。
【００５１】
本実施形態に係る光偏向器は、VGAの解像度（水平走査線数480本）の水平走査を光偏向器にて達成出来る、垂直走査速度を60Hzとし、光線往復走査を利用した場合で、走査周波数として14ｋHzで駆動可能である。
【００５２】
また、本実施形態に係る光偏向器は、いわゆるバルクタイプの構造にすれば、携帯機器に実装することができる。小型化出来るからである。さらに、消費電力が小さいため携帯機器は電池もしくはバッテリーによる駆動ができる。
【００５３】
【実施例】
以下に、より具体的な実施例を、図面を参照しつつ説明する。
【００５４】
(実施例１)
図１に本発明の実施例１による光偏向器の分解図を示す。図２はＡ方向から見た図１のＢ−Ｂ断面図である。本実施例の光偏向器は支持基板10と第２基板20より成る。上部の支持基板10には、可動板1が１軸方向に伸びた一対のねじりバネ2で支持される。可動板１の上面にはミラー面（不図示）が設けられ、下面には硬磁性膜3が設けられている。この硬磁性膜3はねじりバネ2の軸方向と直角する方向に面内で磁化されており、永久磁石となっている。したがって、可動板１のねじりバネ2のない辺にはＮ極またはＳ極の磁極が現れる。図２に可動板1の永久磁石2の着磁状態を示す。第２基板20には、固定コア21ａ、21ｂ、及び固定コア21ａ、21ｂの上に絶縁膜24を介して形成された平面コイル22が設けられている。
【００５５】
本実施例の光偏向器は以下に示す方法により作製された。
支持基板10、可動板1、ねじりバネ2は、単結晶シリコン基板にエッチング加工を行ない、図１に示す如く２つの開口部4、5を空けることにより形成される。これにより、支持基板10と可動板1とねじりバネ2は一体化された単結晶シリコンより成り、大きなＱ値の振動系を得ることができる。上記ミラー面は、アルミニウムを電子ビーム蒸着法により可動板1の表面上に成膜して形成する。硬磁性膜3は、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒの永久磁石の切片を可動板1の裏面上に接着して形成した。
【００５６】
第２基板20としては、熱酸化により形成した二酸化シリコン膜を有するシリコン基板を用いた。まず、基板20上に、所定パターンの固定コア21ａ、21ｂとなるＦｅ−Ｎｉ（パーマロイ）の軟磁性膜をメッキにより形成する。次に、軟磁性膜21ａ、21ｂ上に、絶縁体薄膜24である二酸化シリコンを真空蒸着法の１つであるスパッリングにより成膜する。この後、絶縁体薄膜24上に銅をスパッタで成膜後、フォトレジストを塗布し、露光、現像後にＡｒガスを用いたイオンミーリングによりパターニングし、平面コイル22を形成する。この後に、第２基板20の裏面からドライエッチングを行ない、窓部23を設けた。
【００５７】
しかる後、上部支持基板10と下部支持基板20を所定の寸法にて結合させることにより、本実施例の光偏向器と出来る。この動作原理は発明の実施の形態の所で説明した通りである。この動作原理は実施例２以降についても同じである。
【００５８】
図３は、シミュレーションにより、平面状に巻き回したコイルによって生成される磁界の磁束線を表したものである。図２と同様にミラー断面方向で見たものであり、図中、２本の水平の線がコイルである。磁束線分布はコイル面の上下で対称になっていることが分かる。図４は、このコイルの面に沿って下側に軟磁性膜を付加した場合のシミュレーションの結果を示す。この場合は、コイルを挟んで上下の磁束線の分布が非対称になることが分かる。
【００５９】
今、図５に示す様に、コイルの内側端面付近に、回転軸を挟んだ可動板の両端部が来るように配置するとすれば、Ｂの位置では、磁束線の接線の向き、すなわち磁界の方向が可動板の回転の方向（図中、上下方向）と成す角θは大きくなる。これに対し、Ａの位置では、磁界の方向が可動板の回転方向に近い。したがって、可動板の回転運動に寄与する磁界の成分が多くなる。可動板のＮ極、Ｓ極での磁束がＮからＳの方向（図中、左右方向）に対して直角方向に流れるように可動板を配置すると、可動板の回転に対する効率が高くなる。この点では、コイル面を挟んで軟磁性膜側と反対側に可動板が位置するＡの位置の方が優れている。したがって、本実施例では、図２に示す様な配置関係で、硬磁性膜3を持つ可動板1と固定コア21ａ、21ｂと平面コイル22が設けられている。なお、図５中の磁束線は、可動板の磁気的影響を無視して示してあるが、上の結論はそのまま有効である。また、図５では可動板全体が磁石であるとしてある。
【００６０】
ここに、
可動板の厚さ    ｔ＝20μｍ
可動板の幅      Ｗ＝1.0ｍｍ  （図５中、左右方向）
可動板の長さ    Ｌ＝1.28ｍｍ  （図５の紙面垂直方向）
可動板の磁化    Ｍ＝0.65Ｔ（テスラ）
軟磁性膜の厚さ  ts＝20μｍ
軟磁性膜の幅    Ws＝1.0ｍｍ
軟磁性膜の長さ  Ls＝1.6ｍｍ
軟磁性膜の比透磁率  μ＝1000
コイルの厚さ    tc＝40μｍ
コイルと軟磁性膜との隙間  gcs＝5μｍ（軟磁性膜を下方とする）
コイルのターン数  Ｔ＝50ターン
コイルに流す電流  Ｉ＝20ｍＡ
Ａ位置の軟磁性膜中心からの距離  ＤA＝100μｍ（上方）
Ｂ位置の軟磁性膜中心からの距離  ＤB＝100μｍ（下方）
可動板端部とコイル、軟磁性膜端部の水平距離  ＤC＝50μｍ
とし、試作を行ない、実験を行なった。
【００６１】
実験の結果、Ａの位置では、軟磁性膜があると、無い場合に比べて回転角が大きくなり偏向角が広くなった。回転角と可動板の弾性支持部のバネ定数からトルクを算出した結果、軟磁性膜があることで約50％増となった。これは、可動板の回転に寄与する磁界成分が多く、回転を阻害する磁界成分が少ないためである。
【００６２】
一方、Ｂの位置では、軟磁性膜があると、トルクは、軟磁性膜がない時の約40％に下がってしまった。これは、可動板の回転の方向の磁界成分が少ないだけでなく、図５に示す如く回転軸から左右に遠ざかる方向の磁界成分が大きく、これが可動板の回転を阻害するように作用することによる。また、ＡとＢの間の位置に可動板を配置した場合、図５からも分かる通り軟磁性膜端部の磁束線が強く、Ｂの位置に比べて偏向角を広くとれ、トルクが向上した。したがって、ＡとＢの間の位置に可動板を配置する構成も本発明の範囲に入る。
【００６３】
(実施例２)
図６は本発明の実施例２を説明する図である。支持基板30の下面にコイル42を設けた以外は、実施例１と同様の配置となっている。
【００６４】
実施例２では、第２基板40上に軟磁性膜41ａ、41ｂがあり、本実施例の光偏向器は支持基板30と第２基板40より成る。上部の支持基板30には、可動板31が一対のねじりバネ32で支持される。可動板31の上面はミラー面となり、下面には硬磁性膜33が設けられている。ねじりバネ32の一端を支持する支持基板30の下面（硬磁性膜33が形成された側の面）には、平面コイル42が形成されている。硬磁性膜33はねじりバネ32の軸方向と直角する方向に面内で磁化されており、永久磁石となっている。したがって、可動板31のねじりバネ32のない辺にはＮ極またはＳ極の磁極が現れる。他方、上記した様に、第２基板40には軟磁性膜の固定コア41ａ、41ｂが設けられている。
【００６５】
本実施例の平面コイル42と硬磁性膜33と軟磁性膜41ａ、41ｂの配置は実施例１と同様であり、軟磁性膜41ａ、41ｂがあることで、無い場合に比べて可動板31の回転角が大きくなり偏向角が広くなっている。また、軟磁性膜41ａ、41ｂを設けたことで可動板31に加わるトルクが大きくできる為に、ねじりバネ32のバネ定数を大きくしても、平面コイル42への同じ電流にて、軟磁性膜が無いものと等しい回転角を得ることが可能となる。ねじりバネ32のバネ定数を大きくすると、この振動系の共振周波数が上がり、この結果、可動板31のミラー面による高速走査が可能となる。これらのことは実施例１と同じである。
【００６６】
(実施例３)
図７は本発明の実施例３の光偏向器を説明する分解図である。実施例３は、軟磁性膜61を第２基板60の下面全面に付着させ、固定コアを１つとしたものである。
【００６７】
本実施例の光偏向器は支持基板50と第２基板60より成る。上部の支持基板50には、可動板51が一対のねじりバネ52で支持される。可動板51の下面には硬磁性膜53が設けられている。第２基板60の上面には、平面コイル62が形成されている。固定コア61となる軟磁性膜は第２基板60の下面全面に形成されている。硬磁性膜53は、ねじりバネ52の軸方向と直角する方向に面内で磁化されており、永久磁石となっている。したがって、ここでも可動板51のねじりバネ52のない辺にはＮ極またはＳ極の磁極が現れる。第２基板60には、窓部63が設けてある。本実施例では、硬磁性膜53をミラー面として用いており、第２基板60の窓部63側から偏向される光が入射することとなる。
【００６８】
本実施例では、実施例１及び実施例２より軟磁性膜61の面積が大きいため、より大きな磁界を発生することができる。すなわち、図７の第２基板60の左右部分の軟磁性膜61は勿論、軟磁性膜61も硬磁性膜53の磁極の所に大きな磁界を発生する様に作用するが、上下部分の軟磁性膜61も硬磁性膜53の磁極の上下部分の所に大きな磁界を発生する様に作用する。また、第２基板60の下面全面に形成される固定コア61は作製時にマスクする必要がなく、工数を短縮できる。
【００６９】
(実施例４)
図８は本発明の実施例４を説明する分解図である。実施例４は、第２基板80の窓部を貫通させずに、段差とした凹部84を形成したものである以外は実施例１と同様の構成となっている。
【００７０】
本実施例の光偏向器も支持基板70と第２基板80より成る。上部の支持基板70には、可動板71が一対のねじりバネ72で支持される。可動板71の上面はミラー面となり、下面には硬磁性膜73が設けられている。この硬磁性膜73はねじりバネ72の軸方向と直角する方向に面内で磁化されており、永久磁石となっている。したがって、可動板71のねじりバネ72のない辺にはＮ極またはＳ極の磁極が現れる。第２基板80には、固定コア81ａ、81ｂ、及び固定コア81ａ、81ｂの上に絶縁膜（不図示）を介して形成された平面コイル82が設けられている。
【００７１】
上記凹部84の段差は、ミラー面を持つ可動板71の可動域を確保する深さとしてある。実施例１と同様の配置により作製した本実施例の光偏向器は、窓部を凹部84とすることで剛性を上げることができた。これにより、作製した光偏向器のハンドリングが容易となる。また、装置裏面からの機械的な損傷を受けることがなく、ミラー面を保護できる様になっている。
【００７２】
(実施例５)
図１０に本発明の実施例５による２次元光偏向器101を示す。図１０（A）は本実施例の光偏向器の上面図、（B）はＡ−Ａ線に沿う断面図、（C）はＢ−Ｂ線に沿う断面図である。図１１に、本発明の光偏向器を用いた画像表示装置の基本的な構成を示す概略図を示す。図１１では、支持基板102及びそれに支持された第1及び第２可動板105、106のみ描いてある。
【００７３】
実施例５の構成を説明する。本実施例では、図１０に示すように、基板である第１支持基板102と第２支持基板103をスペーサ基板104の上下面に接合した構成となっている。枠状の第１支持基板102には、第１可動板105と第２可動板106がそれぞれ一対のねじりバネ107、108で弾性的に回転軸（C）、回転軸（D）の回りでねじれ振動自在に支持されている。第１可動板105の一方の面には光を反射する反射面109が設けられている。第２可動板106の一方の面には硬磁性膜110、111がそれぞれ可動板106の両側に（図１０中、第1可動板105を挟んで上下方向の位置に）配置してある。
【００７４】
硬磁性膜110、111は回転軸Cに対し図１０中上下対称に配置したが、第２可動板106全面に設けられてもよい。硬磁性膜110、111は、第１支持基板102上の軟磁性膜116、117に対向する図１０中の左右の方向に着磁されている。第１支持基板102上には、コイル112が可動板105、106を周回するように巻かれており、その終端にはパッド113、114がある。そして、コイル112の形成された第１支持基板102上には、絶縁層115が形成されており、絶縁層115の上に、硬磁性膜110、111の磁極に対向するように軟磁性膜116、117が設けられている。
【００７５】
第２基板103には、回転軸Cを挟んで、固定電極118、119が第１可動板105の反射面とは反対の下面に対応する位置に配置してある。そして、第1可動板105の反射面とは反対の下面には、可動電極120が設けてある。
【００７６】
次に、本実施例の光偏向器の動作原理について、図１０及び図１１の画像表示装置の概略図を用いて以下に述べる。本光偏向器は２次元に光線121を走査する光偏向器である。固定電極118、119と可動電極120との間に電圧を印加することで、第1可動板105をねじりバネ107にて回転軸（C）の回りでねじり回転を行う。これにより、図１１中の反射面109に入射する光線121をスクリーン122上でＨ方向に走査することとなる。Ｖ走査は、硬磁性膜110、111とコイル112により第２可動板106をねじりバネ108にて回転軸（D）の回りでねじり回転させることにより行う。
【００７７】
図１０中の左右方向に着磁した硬磁性膜110、111に対し、コイル112に流す電流を変化させることによりコイル112内の磁界を変化させ、第２可動板106上の硬磁性膜110、111の磁極に回転トルクが生じ第２可動板106がねじり回転する。これにより、図１１中の反射面109に入射する光線121がスクリーン122上でＶ方向に走査される。第1可動板105は第２可動板106の中に入れ子構造で設けられており、光線121が第1可動板105によるＨ走査をしつつＶ走査を行うラスター走査がスクリーン122上で達成される。光線121としてレーザー光を用い、光走査のタイミングと関係した所定の強度変調を行うことで、スクリーン122上に２次元画像が形成される。
【００７８】
画像形成する上で、60Hzのフレーム速度で解像度SVGAを達成するには、走査領域全てを画像形成領域とした場合、Ｈ走査側にて往復走査600本の走査線（往路走査のみでは300本）が必要である。60Hz毎に画像を書き換える場合、18kHzの周波数で第１可動板105をねじり回転することとなる。また、Ｖ走査では、第２可動板106のねじり回転を60Hzで行うこととなる。このため、固定電極118、119には交互に18kHzの交流電圧を印加し、コイル112には60Hzの交流電流を流すこととなる。
【００７９】
本実施例の光偏向器の構成材料について説明する。第1支持基板102および第２支持基板103は、それぞれ熱酸化膜0.5μｍを形成した（１００）方位面を有する厚さ200μｍのｐ型シリコン基板からなる。第１可動板105、第２可動板106、ねじりバネ107、108は、Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching（ICP−RIE）装置によるエッチング加工により第１支持基板102であるシリコン基板をエッチングして貫通孔を設けることで、形成される。コイル112は、第１支持基板102の外枠部上にＣｕを真空蒸着した後に、フォトリソグラフィプロセスによりレジストマスクを設け、イオンミーリング装置によりＣｕをコイルパターン形状にパターニングし、レジストマスクを除去することにより形成される。
【００８０】
絶縁層115は、コイル112上に絶縁樹脂又は絶縁薄膜を成膜し、フォトリソグラフィプロセスとエッチングにより形成する。ここでは、絶縁層115は、スピン塗布法によりポリイミド膜50μｍを塗布した後にパターニングして支持基板102の部分のみに形成した。20μｍの厚さの軟磁性膜116、117及び硬磁性膜110、111は、夫々、絶縁層115上、シリコンである第２可動板106上に電気メッキにより形成した。軟磁性体としてはパーマロイ、硬磁性体としてはＣｏ−Ｐを用いる。反射膜109にはＡｌを用い、電子ビーム蒸着法により、第1可動板105上に１μｍ厚で成膜した。スペーサ基板104は200μｍの厚さのガラス基板を用いた。固定電極118、119及び可動電極120は、コイル形成と同様の方法により、夫々、所定のパターンで第２支持基板103上及び第1可動板105の裏面上に形成した。
【００８１】
本実施例の光偏向器では、軟磁性膜116、117を、第２可動板106上の硬磁性膜110、111の磁極の近傍に所定の配置関係で設けたことで、コイル112で発生する磁束が磁極近傍に効率良く流入し、第２可動板106に対して大きなトルクを得ることが可能となる。
【００８２】
本実施例の２次元光偏向器では、Ｖ走査に関し、周回するコイル112に電流を流すことで低電圧駆動を実現している。また、コイルが可動板上に配置されておらず、コイルの電気抵抗によるコイル発熱にて可動板を直接加熱することが無いので、可動板の周波数変動を避けることが可能となる。
【００８３】
また、本実施例の２次元光偏向器では、発生力を増すには硬磁性体の残留磁化の大きさを上げるか又は硬磁性体薄膜の厚みを厚くすれば良い。したがって、慣性モーメントが、可動板の重さ及び可動板の回転軸からの長さに夫々１乗及び２乗で比例することから、本実施例では、１乗できく質量を増すことのみで発生力を大きくできて、慣性モーメントの上昇を抑えることができる。この様な本実施例の光偏向器は、発生力を大きく、且つ慣性モーメントの上昇を抑えて高速走査する上で好ましい構成となっている。
【００８４】
（実施例６）
図１２に本発明の実施例６による２次元光偏向器201を示す。図１２（A）は本実施例の光偏向器の上面図、（B）はＡ−Ａ線に沿う断面図、（C）はＢ−Ｂ線に沿う断面図である。図１３に、本実施例の光偏向器にて光線を２次元走査する場合のコイル212への印加電流信号を示し、縦軸は電流であり、横軸は時間である。
【００８５】
本実施例の構成を説明する。図１２に示すように、枠状の第１支持基板202には、第１可動板205と第２可動板206それぞれが一対のねじりバネ207、208で弾性的に回転軸（C）、回転軸（D）の回りにねじれ振動自在に支持されている。第１可動板205の一方の面には光を反射する反射面209が設けられている。さらに、第１可動板205の一方の全面（反射面209の下）には硬磁性膜210が配置してある。また、第２可動板206の一方の面（図１２（A）の上下の部分）には硬磁性膜211が配置してある。第１可動板205の硬磁性膜210は図１２（A）中の上下の方向に着磁されている。これに対して、第２可動板206の硬磁性膜211は図１２（A）中の左右の方向に着磁されている。
【００８６】
第１支持基板202には、コイル112が可動板205、206を周回するように巻かれており、その終端にはパッド213、214がある。第１支持基板202の上面には、絶縁層215が形成されており、絶縁層215の上に、硬磁性膜211に対向するように軟磁性膜216、217が設けられている。これにより、コイル212に流す電流による磁界が、第２可動板206上の硬磁性膜211は勿論、第１可動板205上の硬磁性膜210にも働くようになっている。
【００８７】
本実施例の光偏向器の動作原理は、図１０及び図１１の画像表示装置の概略図を用いて述べた第２可動板106を動作するのと同様の方法により、第１及び第２可動板205、206をねじり回転させるものである。コイル212に流す電流を変化させることで、コイル212内の磁界が変化し、第１及び第２可動板205、206上の硬磁性膜210、211の磁極に回転トルクが生じ、第１および第２可動板が夫々回転軸（C）、(D)の回りにねじり回転する。図１３は、コイル212へ流す駆動用の電流の一例である。駆動電流は、高い周波数（fh）のサイン波を低い周波数（fl）のサイン波に重畳させてあり、これにより第1可動板205と第２可動板206を夫々の回転軸の回りにねじり回転させることができる。
【００８８】
この場合に、第1可動板205の共振周波数（fr1）、第２可動板206の共振周波数（fr2）とfh、flとの関係を以下のように設定することで、可動板205、206同士の変位に関するクロストークを最小限にとどめることが可能となる。
fr1  ≧  fh  ＞  fr2  ，  fr2  ≧  fl        （２）
これは、fr2が機械式のハイパスフィルタとなり、高周波数fhでは低速の第２可動板206が時間的追従できないことによる。上記交流の電流をコイル212に印加することで、本実施例の光偏向器により、図１１に記載の画像表示装置を構成することが可能となる。
【００８９】
本実施例の光偏向器では、軟磁性膜216、217を、第２可動板206上の硬磁性膜211の磁極の近傍に設けたことで、コイル212で発生する磁束がこの磁極近傍に効率良く流入し、大きなトルクを得ることが可能となる。第１可動板205上の硬磁性膜210の磁極の軟磁性膜216、217に近い部分にも同様な作用がある。
【００９０】
本実施例の光偏向器の構成材料について説明する。第1支持基板202は、熱酸化膜を0.5μｍの厚さで形成した（１００）方位面を有する厚さ200μｍのｐ型シリコン基板からなる。第１可動板205及び第２可動板206、ねじりバネ207、208は、ICP−RIE装置によるエッチング加工により同一の第１支持基板202であるシリコン基板をエッチングして貫通孔を設けることで、形成される。コイル212は、Ｃｕを真空蒸着した後にフォトリソグラフィプロセスによりレジストマスクを設け、イオンミーリング装置によりＣｕをコイルパターン形状にパターニングし、レジストマスクを除去することにより、形成する。
【００９１】
絶縁層215は、コイル212上に絶縁樹脂又は絶縁薄膜を成膜してフォトリソグラフィプロセスとエッチングを行なうことにより、形成する。ここでは、絶縁層215は、スピン塗布法によりポリイミド膜を50μｍ塗布し、パターニングして外枠である支持基板202の部分のみに形成した。20μｍの厚さの軟磁性膜216、217及び硬磁性膜210、211は、夫々絶縁層215及びシリコンである第１、２可動板205、206上に電気メッキにより形成する。軟磁性体としてはパーマロイ、硬磁性体としてはＣｏ−Ｐを用いた。反射膜209は、電子ビーム蒸着法により第1可動板205の硬磁性膜210上に１μｍのＡｌ薄膜を成膜した。
【００９２】
本実施例の２次元光偏向器でも、Ｖ、Ｈ走査ともに、周回するコイル212に電流を流すことで低電圧駆動を実現している。また、コイルが可動板上に配置されておらず、コイルの電気抵抗によるコイル発熱にて可動板を直接加熱することが無いので、可動板205、206の周波数変動を避けることが可能となる。
【００９３】
また、本実施例の２次元光偏向器でも、発生力を増すには硬磁性体の残留磁化の大きさを上げるか又は硬磁性体薄膜の厚みを厚くすれば良い。したがって、慣性モーメントが、可動板の重さ及び可動板の回転軸からの長さに夫々１乗及び２乗で比例することから、本実施例でも、１乗できく質量を増すことのみで発生力を大きくできて、慣性モーメントの上昇を抑えることができる。この様な本実施例の光偏向器は、発生力を大きく、且つ慣性モーメントの上昇を抑えて高速走査する上で好ましい構成となっている。
【００９４】
（実施例７）
図1４は実施例７の光学機器である画像表示装置の基本的な構成を示す概略図である。
【００９５】
図１４の画像表示装置において、偏向方向が互いに直交するように、実施例1、２、３或いは４に示された光偏向器を２個配置した光偏向器群301が設けられ、これは水平・垂直方向に入射光をラスタスキャンする光スキャナ装置として作用する。図１４において、302はレーザ光源であり、303はレンズ或いはレンズ群であり、304は書き込みレンズまたはレンズ群であり、305は投影面である。レーザ光源302から出射されるレーザ光は、光走査のタイミングと関係した所定の強度変調を受けて、光偏向器群301により２次元的に走査される。走査されたレーザ光は、書き込みレンズ304により投影面305上に画像を形成する。
【００９６】
光偏向器群301を実施例５または６の２次元光偏向器に置き換えても同様の画像表示装置を構成できる。
【００９７】
（実施例８）
図１５は、実施例８の光学機器である画像表示装置の基本的な構成を示す図である。図１５において、401は実施例1、２、３或いは４に示された光偏向器であり、本実施例では入射光を1次元に走査する光スキャナ装置として作用する。402はレーザ光源である。403はレンズあるいはレンズ群であり、404は書き込みレンズ或いはレンズ群であり、406は感光体である。レーザ光源402から射出されたレーザ光は、光走査のタイミングと関係した所定の強度変調を受けて、光偏向器401により1次元的に走査される。走査されたレーザ光は、書き込みレンズ404により感光体406上へ画像を形成する。感光体406は回転しているので、感光体406上には２次元画像が形成される。
【００９８】
感光体406は図示しない帯電器により一様に帯電されており、この上に光を入射することによりその部分に静電潜像を形成する。次に、図示しない現像器により静電潜像の画像部分にトナー像を形成し、これを例えば用紙に転写・定着することで印字を行うことが可能である。
【００９９】
光偏向器401を実施例５または6の２次元光偏向器に置き換えても同様の画像表示装置を構成可能である。この場合は、感光体は平面状であって、静止していればよい。
【０１００】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の光偏向器などの揺動体装置は、平面コイルなどの磁気発生手段と軟磁性体ないし膜を硬磁性体ないし膜の近傍に配置することで、偏向角が大きく、高速走査が可能な、消費電力の小さな光偏向器等の揺動体装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例を示す分解図である。
【図２】本発明の第１の実施例の断面図であり、可動板に形成された永久磁石の着磁状態を示す。
【図３】シミュレーションの結果得られた、コイルによる磁束線の様子を表す図である。
【図４】シミュレーションの結果得られた、図３のコイルの下側に軟磁性膜を形成した場合の磁束線の様子を表す図である。
【図５】図４の中央部の拡大図であり、可動板の位置と磁界の方向の関係を説明する図である。
【図６】本発明の第２の実施例を示す分解図である。
【図７】本発明の第３の実施例を示す分解図である。
【図８】本発明の第４の実施例を示す分解図である。
【図９】本発明のコイルと硬磁性膜と軟磁性膜の配置構成を説明する図である。
【図１０】本発明の第５の実施例である２次元光偏向器を説明する図である。
【図１１】本発明の第５の実施例の２次元光偏向器を用いた画像表示装置を示す概念図である。
【図１２】本発明の第6の実施例である２次元光偏向器を説明する斜視図である。
【図１３】本発明の第6の実施例の光偏向器にて光線を２次元走査する場合のコイルへ印加する電流信号を説明する図である。
【図１４】本発明の第７の実施例の他の型の画像表示装置の概念図である。
【図１５】本発明の第８の実施例の他の型の画像表示装置の概念図である。
【図１６】従来例の第１実施例を示す斜視図である。
【図１７】従来例の第２実施例を示す斜視図である。
【図１８】従来例の第３実施例を示す斜視図である。
【符号の説明】
1、31、51、71、105、106、205、206  可動板
2、32、52、72、107、108、207、208  ねじりバネ
3、33、53、73、110、111、210、211  硬磁性膜
4、5、34、35、54、55、74、75  開口部
10、30、50、70、102、202  支持基板
20、40、60、80、103  第２基板
21ａ、21ｂ、41a、41b、61、81a、81ｂ、116、117、216、217  固定コア（軟磁性膜）
22、42、62、82、112、212  平面コイル
23、43、63  窓部
84  凹部
101、201  ２次元光偏向器
104  スペーサ基板
109、209  反射面
113、114、213、214  パッド
115、215  絶縁層
118、119  固定電極
120  可動電極
121  光線
122  スクリーン
301、401  光偏向器群または光偏向器
302、402  レーザ光源
303、403  レンズまたはレンズ群
304、404  書き込みレンズまたはレンズ群
305  投影面
406  感光体
1101、1111、1121  ミラー部
1102、1112、1122  ガラス板
1103、1113、1123  ミラー面
1104、1114、1124  永久磁石
1105、1115、1125  支持部材
1106、1116、1126  磁気発生部
1107、1117、1127  コイル
1108、1128  コイル枠
1109、1119、1129  回転軸
1118  鉄芯
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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