(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対してディスペンサーを相対的に移動させながら、ペーストを吐出させることにより、上記基板の吐出すべき位置に、順次、上記ペーストを吐出して、あるパターンのペースト層を形成するディスプレイパネルのパターン形成方法において、
上記ディスペンサーは上下運動するピストンを有し、かつ、上記ペースト層を形成する有効表示領域と、この有効表示領域の外側に上記ペースト層を形成しない非有効表示領域を有する上記基板に対し、上記ペーストの吐出を開始する時には、上記ピストンを降下させると同時に上記ディスペンサーに上記ペーストを供給するマスターポンプのモータの回転を開始させ、その後、上記モータを回転させつつ上記ディスペンサーを相対的に走行させることで上記ペーストを上記有効表示領域に吐出する一方、上記ペーストの吐出を終了する時には、上記ピストンを上昇させると同時に上記モータの回転を停止させ、上記非有効表示領域を上記ディスペンサーが相対的に走行しているときは上記ペーストの吐出を遮断するディスプレイパネルのパターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）、液晶、有機ＥＬ（Electro‐Luminecence）、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）等のディスプレイパネルを製造する技術分野に属する。
【０００２】
【従来の技術】
以下、ディスプレイパネルに、蛍光体材料或いは電極材等によるスクリーンストライプを形成する場合を例に挙げ、従来技術の課題について説明する。
【０００３】
まず、最初に蛍光体材料の場合について、説明する。
【０００４】
カラー表示を行なうプラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰ）では、前面板／背面板にＲＧＢ各色で発光する蛍光体材料から成る蛍光体層を有する。
【０００５】
この蛍光体層は、前面板／背面板に平行線状に形成された隔壁と隔壁の間（すなわちアドレス電極上）に、ＲＧＢ各色の蛍光体材料を充填したストライプを３組形成し、そのストライプの３組を平行に隣接して多数配列した構造となっている。この蛍光体層は、スクリーン印刷方式、フォトリソグラフィ方式等によって形成される。
【０００６】
画面が大型化した場合、従来スクリーン印刷方式では、スクリーン印刷版を精度良く位置合わせすることが難しく、蛍光体材料を充填しようとすると隔壁の頂上部分にまで材料が載ってしまい、それを除去するために研磨行程を導入するなどの方策が必要であった。また、スキージ圧力の違いによって、蛍光体材料の充填量が変化し、その圧力調整は極めて微妙であり作業者の熟練度に依存する部分が多い。そのため、前面板／背面板の全面にわたって一定の充填量を得ることは容易ではない。
【０００７】
また、感光性の蛍光体材料を使用してフォトリソグラフィ方式によって蛍光体層を形成することもできるが、露光と現像の行程が必要となり、スクリーン印刷方式と比べて行程数が多くなるため、製造コストが高くつくという課題があった。
【０００８】
カラーブラウン管パネルの蛍光体スクリーンストライプは、露光台による写真現像方式で普通製造される。この方式では、カラー三原色の、まず、１色に係る蛍光体をパネル全面に塗布する。
【０００９】
この塗布方法として、例えば、パネル内面に蛍光体液を注入後、パネル本体を回転させ、蛍光体液に遠心力を与えて、蛍光体材料をパネル全面に均一化する、いわゆる「振りきり工法」を用いる。
【００１０】
次いで、蛍光体が全面に塗布された上記パネルとマスクを合体し、露光台でこのカラー蛍光体のストライプ位置のみを露光させ、現像の化学処理を施して露光域を残置し、残部マスク被覆域を除去する。次に、カラー三原色の他の各色蛍光体について、同様に、マスク露光、現像の写真蝕刻行程を繰り返す。従って、写真蝕刻行程を三度繰り返すことになる。
【００１１】
蛍光体スクリーンストライプを形成する方法として、他に、静電塗装方式も適用される。この方式は、原理的には写真現像方式と同様であるが、ストライプカラー蛍光体として帯電材を使用し、ドライコーティングによって塗布する点で相違する。
【００１２】
上記両方式でブラウン管パネルの蛍光体スクリーンストライプを形成する場合、何れの方式の場合でも、数多くの複雑な行程を経ねばならないため、大規模の製造装置を必要とする。従って、多量生産に適するが、多品種少量生産に対しては、効率が悪いという欠点があった。
【００１３】
スクリーンストライプを形成するための課題、すなわち、ＰＤＰにおけるスクリーン印刷方式、及びカラーブラウン管パネルにおける「振りきり工法→写真現像方式」に係る前述した課題を解決するために、ディスペンサーを用いた直接描画方式（ダイレクトパターニング）が既に提案されている。
【００１４】
図２３は、特許文献１に開示されているもので、ＰＤＰを対象とした蛍光体層形成装置及び形成方法を示すものである。
【００１５】
４５０は基板、４５１はこの基板４５０を載置する載置台、４５２はペースト状の蛍光体を吐出するディスペンサー、４５３はディスペンサー４５２の吐出ノズルである。
【００１６】
この吐出ノズル４５３と載置台４５１を相対的に移動させる搬送部を構成するために、載置台４５１の両側には、１対のＹ軸方向搬送装置４５４ａ、４５４ｂが設けられている。また、ディスペンサー４５２が支持されるＸ軸方向搬送装置４５５が、上記Ｙ軸方向搬送装置４５４ａ、４５４ｂによってＹ軸方向に移動可能に搭載されている。さらに、Ｚ軸方向搬送装置４５６が、上記Ｘ軸方向搬送装置４５５によってＸ軸方向に移動可能に搭載されている。
【００１７】
上記提案によれば、従来のスクリーンマスクを用いることなく、基板仕様を数値設定するだけで基板４５０上を移動するノズル４５３から蛍光体が吐出されて基板４５０のリブ間の溝に塗布されるので、任意のサイズの基板４５０に対して蛍光体層を精度よく形成することができると共に、基板４５０の仕様変更に容易に対応できる、としている。
【００１８】
カラーブラウン管パネルを対象とした蛍光体層形成装置についても、同様な提案が既に特許文献２で開示されている。この提案によれば、製造行程及び製造ラインとも規模を拡大させる必要がなく、単体の装置でスクリーニングすることを可能にし、また、多品種少量生産のブラウン管に対して量産効果を上げて製造させ、さらに単体でスクリーニングするため自動化ラインを小規模なマシンで稼動させる利点がある、としている。
【００１９】
ところで、ディスペンサーを用いてパネル面に蛍光体スクリーンストライプを形成する場合でも、スクリーン印刷方式と同等の生産タクトが要望される。
【００２０】
しかし、塗布装置に配置できるディスペンサーの本数には制約があり、千本〜数千本のスクリーンストライプをできるだけ短時間で描くためには、パネルとノズル間の相対速度を十分に大きくとる必要がある。
【００２１】
そのためには、ディスペンサー、或いはパネルが搭載された搬送台を高精度かつ高速で往復動作させる必要がある。
【００２２】
ここで、パネル面は、蛍光体層を形成する「有効表示領域」（図２の点線で囲まれた四角形の領域６０ａ）と、この有効表示領域の外周部に配置されて、蛍光体層を形成しない「非有効表示領域」（図２の四角形の領域６０ａの外側の四角枠状領域６０ｂ）とを有するものとする。
【００２３】
また、ディスペンサーは搬送台に搭載されているものとし、吐出ノズル１個の挙動に注目する。パネル面の上記「有効表示領域」を連続塗布しながら高速で走行したノズルは、パネルの端面に接近すると、減速区間を経て速度を落とし、上記「非有効表示領域」に入る。この非有効表示領域でＵターンした後、助走区間を経て、再び、有効表示領域を定常走行する。
【００２４】
すなわち、ノズルとパネル間の相対速度は、Ｕターン区間の前後で大きく変化する。このとき、ディスペンサーは次のような機能を有することが望ましい。
【００２５】
▲１▼ノズルとパネル間の相対速度に合わせて、流量を可変できる。
【００２６】
▲２▼パネルの端面のＵターン区間（非有効表示領域を走行する区間）では、吐出量が完全に遮断できる。
【００２７】
▲３▼上記Ｕターン区間を経て、塗布開始時の塗布線の始点部には「細り」又は「切れ」などが発生しない。同様に、塗布終了時の塗布線の終点部には、「太り」又は「溜まり」などが発生しない。
【００２８】
上記▲１▼が実現できない場合、例えば、ノズルとパネル間の相対速度が定常走行の場合と比べて小さくなったにもかかわらず、吐出量を低減できなければ、蛍光塗布線の線幅と厚みは所定のスペックを越えてしまうことになる。
【００２９】
生産タクトを上げる程、立上がり・立下り時間を短く、かつ相対速度の変化率を大きくとらねばならない。すなわち、ディスペンサーには、より一層高い流量制御のレスポンスが要求される。
【００３０】
上記▲２▼の必要性は次のようである。ノズルがパネルの端面のＵターン区間（非有効表示領域）を走行するとき、ノズルとパネル間の相対速度はゼロ及びその前後の極めて低速状態となる。
【００３１】
もし、この区間でノズルから材料の流出があれば、僅かな流量でも複数本のストライプが重なるため、材料がパネル上に堆積することになる。その結果、堆積した材料が吐出ノズルの先端に附着する。この状態で再び塗布を開始した場合、吐出ノズルの先端に附着した流体塊が不連続にパネル面に散逸し、描画線の精度を著しく損ねるなどのトラブルが発生した。すなわち、パネルの端面のＵターン区間では、ディスペンサーは吐出量を完全に遮断できることが好ましい。
【００３２】
上記▲３▼は、ディスペンサー方式が従来方式、例えばスクリーン印刷方式と同等、或いはそれ以上の品質を確保するための必須条件である。
【００３３】
以上要約すれば、ディスペンサーを用いて、パネル面に蛍光体スクリーンストライプを高生産効率で形成するためには、ディスペンサーには流体遮断・開放が随意にできる機能を有すると共に、高い流量制御の応答性と高い流量精度を持つのが望ましい。しかしディスペンサー方式の先行例である、例えば、特許文献１、特許文献２には、この点の詳細な記載は見当たらない。
【００３４】
さて、ディスペンサー（液体吐出装置）は従来から様々な分野で用いられているが、近年の電子部品の小形化・高記録密度化のニーズにともない、微少量の流体材料を高精度でかつ安定して供給制御する技術が要請される様になっている。従来、液体吐出装置として、図２４に示す様なエアー方式によるディスペンサーが広く用いられており、例えば非特許文献１等にその技術が紹介されている。
【００３５】
この方式によるディスペンサーは、定圧源から供給される定量の空気を容器６００（シリンダ）内にパルス的に印加させ、シリンダ内６０１の圧力の上昇分に対応する一定量の液体をノズル６０２から吐出させるものである。
【００３６】
【特許文献１】
特開平１０−２７５４３号公報
【特許文献２】
特公昭５７−２１２２３号公報
【非特許文献１】
「自動化技術‘９３．２５巻７号」
【００３７】
【発明が解決しようとする課題】
このエアーの方式のディスペンサーは次の問題点があった。
【００３８】
（１）  吐出圧脈動による吐出量のばらつき。
【００３９】
（２）  水頭差による吐出量のばらつき。
【００４０】
（３）  液体の粘度変化による吐出量変化。
【００４１】
上記（１）の現象は、タクトが短く吐出時間が短い程顕著に表れる。そのため、エアーパルスの高さを均一化するための安定化回路を施すなどの工夫がなされている。
【００４２】
上記（２）は、シリンダ内の空隙部６０１の容積が液体残量Ｈによって異なるため、一定量の高圧エアーを供給した場合、空隙部６０１内の圧力変化の度合が、上記液体残量Ｈによって大きく変化してしまうというのがその理由である。液体残量Ｈが低下すれば、塗布量が、例えば、最大値と比べて５０〜６０％程度減少してしまうという問題点があった。そのために、吐出毎に液体残量Ｈを検知し、吐出量が均一になる様に、パルスの時間幅を調整する等の方策がなされている。
【００４３】
上記（３）は、例えば多量の溶剤を含んだ材料の粘度が、時間とともに変化した場合に発生する。そのための対策として、時間軸に対する粘度変化の傾向をあらかじめコンピュータにプログラミングしておき、粘度変化の影響を補正する様に、例えば、パルス幅を調節する等の方策がなされていた。
【００４４】
上記課題に対するいずれの方策も、コンピュータを含む制御系が繁雑化し、また、不規則な環境条件（温度等）の変化に対する対応は困難であり、抜本的な解決案にはならなかった。
【００４５】
エアー方式の上記課題に加えて、この方式のディスペンサーは応答性が悪いという欠点があった。この欠点は、シリンダ６００に封じ込められた空気の圧縮性と、エアーを狭い隙間に通過させる際のノズル抵抗よるものである。すなわち、エアー方式の場合、シリンダの容積：Ｃと、ノズル抵抗：Ｒとで決まる流体回路の時定数：Ｔ＝ＲＣが大きく、入力パルスを印加後、吐出開始に例えば０．０７〜０．１秒程度の時間遅れを見込まねばならない。
【００４６】
上記エアー方式の欠点を解消するために、吐出ノズルの入口部にニードルバルブを設けて、このニードルバルブを構成する細径のスプールを軸方向に高速で移動させることにより、吐出口を開閉させるディスペンサーが実用化されている。しかし、この場合、流体の遮断時、相対移動する部材間の隙間はゼロとなり、数ミクロン〜数十ミクロンの平均粒径の粉体は機械的に圧搾作用を受け破壊される。その結果発生する様々な不具合のため、本発明の対象となる蛍光体等の塗布への適用は困難な場合が多い。
【００４７】
以上の理由から、従来ディスペンサーの構造、或いは適用方法をそのまま導入しても、パネル面に蛍光体スクリーンストライプを高生産効率で形成するための条件を満足させるのは困難であった。
【００４８】
以上、ディスプレイパネルに蛍光体材料によるスクリーンストライプを形成する場合を例に挙げ、従来技術の課題について説明した。蛍光体スクリーンストライプ以外の材料、例えば電極材料などによるパターン形成の場合でも課題は同様である。
【００４９】
そこで、本発明の目的は、ディスペンサーに高速吐出遮断、高速吐出開放、流量制御の機能を与えることにより、ディスプレイパネル面に蛍光体、電極材などの薄膜パターンを高生産効率で形成するための条件、
▲１▼ディスペンサーの加減速に合わせて、高い応答性で流量を可変できること、
▲２▼ディスペンサーのノズル先端が塗布領域から非塗布領域へ、或いはその逆に移行する際の流体の高速遮断・高速開放が随意にできること、
等を満足させるディスプレイパネルのパターン形成方法及び形成装置を提供するものである。
【００５０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。
【００５１】
本発明のディスプレイパネルのパターン形成方法は、大略、基板に対して流量可変式のディスペンサーを相対的に移動させながら、ペーストを吐出させることにより、所定の位置に順次ペーストを塗布してパターンを形成するディスプレイパネルのパターン形成方法において、上記ディスペンサーと上記基板が上記パターンを形成しない領域を相対的に走行しているときは上記ペーストの吐出は遮断状態を保つようにしたものである。
【００５２】
本発明の第１態様によれば、基板に対して流量可変式のディスペンサーを相対的に移動させながら、ペーストを吐出させることにより、上記基板の吐出すべき位置に、順次、上記ペーストを吐出して、あるパターンのペースト層を形成するディスプレイパネルのパターン形成方法において、
上記ペースト層を形成する有効表示領域と、この有効表示領域の外側に上記ペースト層を形成しない非有効表示領域を有する上記基板のうちの上記有効表示領域を上記ディスペンサーが相対的に走行しているときは上記ペーストを吐出する一方、上記非有効表示領域を上記ディスペンサーが相対的に走行しているときは上記ペーストの吐出を遮断するディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００５３】
本発明の第２態様によれば、複数本の光吸収層が表面に並列形成された基板に対してディスペンサーを相対的に移動させながら、ペーストを吐出させることにより、上記光吸収層間の吐出すべき位置に、順次、上記ペーストを吐出してあるパターンのペースト層を形成する第１の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法において、
上記ディスペンサーとして流量可変式のディスペンサーを使用して上記ペーストの吐出を制御するディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００５４】
本発明の第３態様によれば、上記ディスペンサーと上記基板の相対速度に合わせて、上記ディスペンサーを制御して上記ペーストの吐出量を可変させる第２の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００５５】
本発明の第４態様によれば、上記ペースト層を形成する有効表示領域と、この有効表示領域の外側にペースト層を形成しない非有効表示領域を有する上記基板のうちの上記有効表示領域を上記ディスペンサーが相対的に走行しているときは上記ペーストを吐出する一方、上記非有効表示領域を、上記ディスペンサーが相対的に走行しているときは上記ペーストの吐出を遮断する第２の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００５６】
本発明の第５態様によれば、上記ディスペンサーとしてねじ溝式のディスペンサーを使用して、上記ねじ溝式ディスペンサーの回転軸の回転制御により上記ペーストの吐出を制御する第２の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００５７】
本発明の第６態様によれば、上記ディスペンサーとしてねじ溝式のディスペンサーを使用して、上記ディスペンサーと上記基板が上記非有効表示領域を相対的に走行しているときは上記ねじ溝式ディスペンサーの回転軸の回転は停止、或いは上記有効表示領域を走行しているときに対して上記回転軸を逆転させる第４の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００５８】
本発明の第７態様によれば、上記ディスペンサーと上記基板が上記有効表示領域から上記非有効表示領域へ相対的に移行するときは、上記ねじ溝式ディスペンサーの上記回転軸の回転数を減小させた後に停止させることにより上記吐出を停止させ、或いは、減小させた後に停止し、さらに、上記回転軸を逆転させることにより上記吐出を停止させる第５の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００５９】
本発明の第８態様によれば、上記ディスペンサーと上記基板が上記非有効表示領域から上記有効表示領域へ相対的に移行するときは、上記ねじ溝式ディスペンサーの上記回転軸の回転数を増加させた後、上記回転軸の一定回転を維持して吐出を行なうか、或いは、増加させた後、減小させてしかる後、上記回転軸の一定回転を維持して吐出を行なう第５の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００６０】
本発明の第９態様によれば、上記ディスペンサーとして複数本のねじ溝式ディスペンサーを使用して、上記複数本のねじ溝式ディスペンサーの回転数を個別に調節して、所定の流量を設定する第５の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００６１】
本発明の第１０態様によれば、上記ディスペンサーは、ペースト圧送装置としてシリンダとピストンで形成される流体輸送室に上記ペーストを供給すると共に、上記シリンダと上記ピストンに相対的な軸方向運動を与えることにより上記流体輸送室の空間を増減させて上記ペーストの吐出量を可変させる第２の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００６２】
本発明の第１１態様によれば、上記シリンダと上記ピストンの相対移動面に形成されたねじ溝に相対的な回転運動を与えて上記ペーストを圧送する第１０の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００６３】
本発明の第１２態様によれば、上記ノズル先端と上記基板が上記有効表示領域から上記非有効表示領域へ相対的に移行するとき、上記流体輸送室の空間を増大させて上記ペーストの吐出を停止させる第１０の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００６４】
本発明の第１３態様によれば、上記ノズル先端と上記基板が上記非有効表示領域から上記有効表示領域へ相対的に移行するとき、上記シリンダと上記ピストンで形成される上記流体輸送室の空間を減少させて上記ペーストを吐出させる第１０の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００６５】
本発明の第１４態様によれば、上記ノズル先端と上記基板が上記非有効表示領域を相対的に走行しているとき、上記シリンダと上記ピストンで形成される上記流体輸送室の空間を増大させて上記ペーストの吐出を停止し続ける第１０の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００６６】
本発明の第１５態様によれば、上記ディスペンサーは、ペースト圧送装置としてシリンダとピストンとこのピストンの少なくとも一部を収納するスリーブで形成される流体輸送室に上記ペーストを圧送すると共に、上記シリンダと上記ピストン及び、このピストンと上記スリーブに相対的な軸方向運動を与えることにより上記流体輸送室の空間を増減させて上記ペーストの吐出量を可変させる第２の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００６７】
本発明の第１６態様によれば、上記シリンダと上記ピストンの相対的な変位曲線と、上記ピストンと上記シリンダの相対的な変位曲線とを概略逆位相とするか、或いは移動方向を逆にしつつ、上記ペーストの吐出開始又は吐出停止を行なう第１５の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００６８】
本発明の第１７態様によれば、上記流量可変式のディスペンサーは、軸とハウジングとを軸方向に相対的に駆動することにより、上記軸と上記ハウジング間の流通路の間隙を変化させて上記ペーストの流体抵抗の増減を図って上記ペーストの吐出流量制御を行なう第２の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００６９】
本発明の第１８態様によれば、上記ディスペンサーは、軸とハウジングとを相対的に回転させて上記ペーストを上記ハウジングの吸入口から吐出口へ圧送するポンピング圧力を発生させて、上記ペーストを吐出させる第１７の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００７０】
本発明の第１９態様によれば、上記軸と上記ハウジングとの相対移動面に形成された動圧シールにより、上記ペーストの流出を遮蔽する第１７の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００７１】
本発明の第２０態様によれば、上記ディスペンサーは、軸とハウジングを相対的に回転させると共に、上記軸と上記ハウジングとを相対的に軸方向に移動させることにより上記軸と上記ハウジング間の動圧シールが形成された流通路の間隙を変化させて、上記ペーストの流体抵抗の増減を図ることにより上記ペーストの流量制御を行なう第１９の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００７２】
本発明の第２１態様によれば、基板表面に並列に設けられた複数本の光吸収層の間にペーストを吐出してあるパターンのペースト層を形成するディスプレイパネルのパターン形成装置であって、
基板を載置する載置台と、
上記ペーストを吐出する少なくとも１つのノズルを有するディスペンサーと、
上記ノズルと上記載置台とを相対的に移動させる搬送部と、
上記光吸収層間の所定の位置に順次上記ペーストが吐出されるように上記搬送部と上記ディスペンサーを制御する制御装置と、
を備えて、
上記ディスペンサーはねじ溝式である、ディスプレイパネルのパターン形成装置を提供する。
【００７３】
本発明の第２２態様によれば、上記ディスペンサーは、
上記ペーストの吸入孔及び吐出孔とを有しかつ内部に流体輸送室が形成されたシリンダと、
上記シリンダに収納されたピストンと、
上記シリンダと上記ピストンで形成される内部空間を増減させるために、上記シリンダと上記ピストンに相対的な運動を与えるアクチェータと、
を備えて、
上記吸入孔から上記流体輸送室内に流入した上記ペーストは、上記内部空間に繋がる流路を経て上記吐出孔に流出するように構成されている第２１の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成装置を提供する。
【００７４】
本発明の第２３態様によれば、上記ディスペンサーは、ねじ溝式ディスペンサーに代えて、
第１のアクチェータと、
上記第１のアクチェータによって直線方向に駆動されるピストンと、
このピストンを収納しかつ上記ペーストの吸入孔及び吐出孔とを有するハウジングと、
上記ピストンと同軸上に配置されたシリンダと、
上記ピストンと上記シリンダの間に相対的な回転運動を与える第２のアクチェータとを備えて、
上記ピストンと上記ハウジングの間に、上記吸入孔及び吐出孔と連絡するポンプ室を形成して、上記第１のアクチェータ又は上記第２のアクチェータの駆動による上記ピストンと上記シリンダの相対的な回転運動或いは直線運動によって、上記ポンプ室にポンプ作用が与えられるように構成され、かつ、上記第１のアクチェータが外部から電気磁気的な非接触の電力供給されて移動もしくは伸縮することにより上記ピストンを移動させる第２１の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成装置を提供する。
【００７５】
本発明の第２４態様によれば、上記ディスペンサーは、ねじ溝式ディスペンサーに代えて、
軸と、
この軸を収納しかつ上記軸との間で形成されるポンプ室と外部を連絡する上記ペーストの吸入口及び吐出口有するハウジングと、
上記軸と上記ハウジングとを相対的に回転させる装置と、
上記軸と上記ハウジング間の軸方向相対変位を与える軸方向駆動装置と、
上記ポンプ室内に流入された上記ペーストを吐出口側に圧送する装置とを備えて、
上記ポンプ室と上記吐出口の間の上記ペーストの流体抵抗の増減を図るために、上記軸方向駆動装置によって上記軸と上記ハウジング間の間隙が変化するように構成されている第２１の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成装置を提供する。
【００７６】
本発明の第２５態様によれば、上記ディスペンサーは、
ピストンと、
上記ピストンを収納しかつ上記ペーストの吸入口と吐出口とを有するハウジングと、
上記ピストンと上記ハウジングとを相対的に移動させる第１のアクチェータと、
上記ピストンの少なくとも一部を収納し軸方向に貫通した空間を有するシリンダと、
上記シリンダと上記ハウジングとを相対的に移動させる第２のアクチェータと、
上記ピストンと上記シリンダと上記ハウジングとで形成されるポンプ室に外部より上記吸入口から上記ペーストを供給して上記吐出口より吐出させる第２１の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成装置を提供する。
【００７７】
本発明の第２６態様によれば、上記ディスペンサーは、
シリンダに収納されたピストンと、
上記シリンダと上記ピストンで形成される内部空間を増減させるために、上記シリンダと上記ピストンに相対的な運動を与えるアクチェータと、
上記シリンダを収納或いは上記シリンダと一体化し、かつ、上記ペーストの吸入孔及び吐出孔とを有するハウジングと、
上記ハウジング内部に形成された流体輸送室から構成され、
上記吸入孔から上記流体輸送室内に流入した上記ペーストは、上記内部空間に繋がる流路を経て上記吐出孔に流出するように構成されているディスプレイパネルのパターン形成装置を提供する。
【００７８】
本発明の第２７態様によれば、上記ピストンとその対向面の隙間は、上記ペースト遮断時、吐出材料に含まれる粒子の粒径よりも大きく形成されているディスペンサーを用いている、第２６の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成装置を提供する。
【００７９】
本発明の第２８態様によれば、上記吸入口から上記吐出ノズルに至る流通路において、上記ペースト遮断時の最小隙間は８μｍ以上である、第２７の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成装置を提供する。
【００８０】
本発明の第２９態様によれば、上記制御装置は、上記ペースト層を形成する有効表示領域と、この有効表示領域の外側に上記ペースト層を形成しない非有効表示領域を有する上記基板のうちの上記有効表示領域を上記ディスペンサーが相対的に走行しているときは上記ペーストを吐出する一方、上記非有効表示領域を上記ディスペンサーが相対的に走行しているときは上記ペーストの吐出を遮断するように制御する、第２１の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成装置を提供する。
【００８１】
本発明の第３０態様によれば、上記ペースト層として電極層を形成する有効表示領域と、上記有効表示領域と隣接して配置され、かつ、連続した上記電極層と不連続の電極層を形成する準有効表示領域と、上記有効表示領域と上記準有効表示領域の外側に仮想的に設けられかつ電極層を形成しない非有効表示領域とを有する上記基板のうちの上記有効表示領域と上記準有効表示領域とを上記ディスペンサーが相対的に走行しているときは上記ペーストを吐出する一方、上記非有効表示領域を上記ディスペンサーが相対的に走行しているときは上記ペーストの吐出を遮断するようにした第１の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００８２】
本発明の第３１態様によれば、上記準有効表示領域内で上記ペーストの吐出が開始されるか、もしくは上記有効表示領域での吐出が上記準有効表示領域内で遮断される第２の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００８３】
本発明の第３２態様によれば、等ピッチで配設された複数本のノズルを有するディスペンサーにより、上記有効表示領域に隣接した上記準有効表示領域内で上記ペーストの複数本のストライプ状の吐出を開始後、上記有効表示領域を経由して、上記有効表示領域のもう一方の側に隣接した上記準有効表示領域内で上記ペーストの上記複数本のストライプ状の吐出を遮断する第３の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００８４】
本発明の第３３態様によれば、等ピッチで配設された複数本のノズルを有するディスペンサーにより、上記準有効表示領域内の上記ペースト層の中で同一の傾斜角を有する屈曲した複数のストライプ状の電極層だけを選び、
上記準有効表示領域内、及び／又は、上記有効表示領域内で同時的に上記複数本のストライプ状の吐出を行なって、上記複数のストライプ状の上記電極層を形成する第２の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００８５】
本発明の第３４態様によれば、上記準有効表示領域内で上記ペーストの吐出を遮断するとき、上記ディスペンサーの内部流路の隙間の増大に伴う負圧の発生を利用して上記吐出遮断を行なう第３の態様に記載のディスプレイパネルのパターン形成方法を提供する。
【００８６】
【発明の実施の形態】
本発明の記述を続ける前に、添付図面において同じ部品については同じ参照符号を付している。
【００８７】
以下に、本発明にかかる実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００８８】
以下、本発明のディスプレイパネルのパターン形成方法及び形成装置をプラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰ）のＰＤＰ用基板６１への蛍光体層形成方法及び形成装置に適用した第１実施形態について、図１の概略斜視図を用いて説明する。
【００８９】
５０はパネルの一部を構成するＰＤＰ用基板６１を載置するための載置台であり、例えば、ＰＤＰ用基板６１を位置決め保持可能な、単なる固定盤又はＸＹステージなどで構成される。載置台５０の両側を挟んで１対のＹ軸方向搬送装置５１、５２が設けられている。また、Ｘ軸方向搬送装置５３が、Ｙ−Ｙ’方向に移動可能に、上記Ｙ軸方向搬送装置５１、５２上に搭載されている。さらに、Ｚ軸方向搬送装置５４が、矢印Ｘ−Ｘ’方向に移動可能に、上記Ｘ軸方向搬送装置５３上に搭載されている。
【００９０】
Ｚ軸方向搬送装置５４には、ディスペンサー５５を離脱可能に装着したシリンジ装着部５６が、Ｚ−Ｚ’方向に移動可能に搭載されている。
【００９１】
Ｙ軸方向搬送装置５１、５２は、エンコーダ付きのＹ軸モータ５７ａ、５７ｂの駆動によってＸ軸方向搬送装置５３をＹ−Ｙ’方向に搬送する。エンコーダからのそれぞれの出力情報（言い換えれば搬送位置情報）は制御装置１００に入力されて、Ｙ軸モータ５７ａ、５７ｂの動作制御などに使用される。
【００９２】
また、Ｘ軸方向搬送装置５３は、エンコーダ付きのＸ軸用モータ５８の駆動によってＺ軸方向搬送装置５４をＸ−Ｘ’方向に搬送する。エンコーダからの出力情報（言い換えれば搬送位置情報）は制御装置１００に入力されて、Ｘ軸用モータ５８の動作制御などに使用される。
【００９３】
また、Ｚ軸方向搬送装置５４は、エンコーダ付きのＺ軸用モータ８９の駆動によってシリンジ装着部５６をＺ−Ｚ’方向に搬送する。エンコーダからの出力情報（言い換えれば搬送位置情報）は制御装置１００に入力されて、Ｚ軸用モータ８９の動作制御などに使用される。
【００９４】
Ｙ軸モータ５７ａ、５７ｂはモータドライバ９１ａ，９１ｂを介して、Ｘ軸用モータ５８はモータドライバ９２を介して、Ｚ軸用モータ８９はモータドライバ９３を介して、ディスペンサー５５はディスペンサー制御部９４を介して、それぞれ、制御装置１００に接続されている。Ｙ軸モータ５７ａ、５７ｂ、Ｘ軸用モータ５８、Ｚ軸用モータ８９、ディスペンサー５５は、それぞのエンコーダからの出力情報を基に、制御装置１００により、動作制御される。
【００９５】
なお、Ｘ軸方向搬送装置５３とＹ軸方向搬送装置５１、５２とにより、吐出ノズルを載置台５０に対してを相対的に移動させる搬送部の一例を構成としている。搬送部の他の例としては、図２７に示しかつ後述するＸＹテーブルである。
【００９６】
ディスペンサー５５には、基板撮像装置の一例としてのＣＣＤセンサもしくはラインセンサなどの基板位置検出カメラ９０が固定され、基板位置検出カメラ９０により撮像された画像情報は、制御装置１００に入力される。制御装置１００には、データ及びプログラムなど記憶するメモリ１０１が接続されている。
【００９７】
上記した構成を有する上記パターン形成装置によって、ＰＤＰ用の基板６１に蛍光層が形成される。
【００９８】
まず、赤色（Ｒ）蛍光体層形成用のペースト状蛍光体を収容したシリンジ５９をディスペンサー５５に着脱可能に装着する。
【００９９】
図２に示すように、ＰＤＰ用基板６１は、ＰＤＰの有効表示部に対応する蛍光体層を形成する有効表示領域６０ａと、この有効表示領域６０ａの外側例えば外周部に配置されかつ蛍光体層を形成しない非有効表示領域６０ｂとを有する。この基板６１を載置台５０の所定位置に載置して固定する。
【０１００】
例えば、４２インチのＰＤＰ用基板の場合、厚さ３．０ｍｍのガラス板からなる基板６１の有効表示領域６０ａには、予め矢印Ｘ−Ｘ’方向に平行に長さＬ＝５６０ｍｍ、高さＨ＝１００μｍ、幅Ｗ＝５０μｍのリブ（光吸収層或いは）が、ピッチＰの間隔を保って、１９２１本形成されている。この１９２１本のリブによって１９２０本の溝が形成されているので、Ｒ、Ｇ、Ｂ蛍光体は、それぞれ６４０本（＝１９２０本／３）の溝に塗布されることになる。
【０１０１】
まず、準備動作として、ＰＤＰ用基板６１に対するディスペンサー５５による蛍光体層の画線の位置を決める方法について説明する。
【０１０２】
例えば、基板位置検出カメラ９０を用いて、大略四角形のＰＤＰ用基板６１の２箇所（例えば対角の２箇所）もしくは３箇所に形成された位置合わせマーク（アライメントマーク）をそれぞれ検出する。
【０１０３】
次に、基板位置検出カメラ９０によって、ＰＤＰ用基板６１の光吸収層の位置情報を検出する。このとき、光吸収層は、載置台５０側から投射されてＰＤＰ用基板６１を貫通した透過光もしくはディスペンサー５５側に備えた投射光のＰＤＰ用基板６１での反射によって検出する。必要ならば画像処理を施すことにより、白黒を明確にする。求められた光吸収層の位置情報は、制御装置１００により、メモリ１０１に記憶させる。このとき、全ての光吸収層を検出するようにしてもよいし、全ての光吸収層から適宜選択された一部の光吸収層を検出して、他の光吸収層の位置情報は類推するようにしてもよい。
【０１０４】
また、上記した光吸収層の検出動作の代わりに、光吸収層の位置情報を予めメモリ１０１に記憶させておき、記憶された光吸収層の位置情報を制御装置１００で読み出すようにしてもよい。
【０１０５】
次に、上記アライメントマークの位置情報を基準にして、光吸収層の位置情報を基に、上パターン形成装置の座標軸からみた塗布開始位置ｂ（ストライプを書き始める位置）のＸＹ座標を決定する。この場合、例えば、上記アライメントマークの位置情報を基準にして塗布開始位置ｂのＸＹ座標を決定したのち、光吸収層の位置情報（例えば、位置ｂと位置ｃとの間の距離情報）を基に、その他の位置（準備位置ａ、塗布開始位置ｂ、塗布終了位置ｃ、屈曲位置ｄ、屈曲位置ｅ、塗布開始位置ｆ、塗布終了位置ｇ、屈曲位置ｈ、．．．．などの位置）のＸＹ座標を決定する。ここで、塗布開始位置ｂ及び塗布終了位置ｃ及び塗布開始位置ｆ及び塗布終了位置ｇは、それぞれ、有効表示領域６０ａと非有効表示領域６０ｂとの境界位置である。屈曲位置ｄ及び屈曲位置ｅ及び屈曲位置ｈは、それぞれ、Ｘ又はＸ’方向とＹ又はＹ’方向との移動方向を切り換えて屈曲するようにディスペンサー５５を移動させる位置である。
【０１０６】
なお、図２の変形例として、図２８には、塗布開始位置ｂ及び塗布終了位置ｃ及び塗布開始位置ｆが、有効表示領域６０ａと非有効表示領域６０ｂとの境界ではなく、非有効表示領域６０ｂ内に位置する場合を例示している。よって、一般的に言えば、塗布開始位置及び塗布終了位置は、それぞれ、非有効表示領域６０ｂ内の任意の位置か、又は、有効表示領域６０ａと非有効表示領域６０ｂとの境界位置であり、屈曲位置は、常に、非有効表示領域６０ｂ内の任意の位置である。
【０１０７】
次に、光吸収層の位置情報を検出する際に、場合によっては、レーザーなどを使用して、Ｚ軸情報（ディスペンサー５５のノズル先端とその対向面間の距離であって、うねりや曲がりなどの情報）も読み取る。ＰＤＰ用基板６１にうねりがある場合、或いは曲面の場合において、ディスペンサー５５のノズル先端とその対向面間の距離が一定となるようにＺ軸を駆動する際に、このＺ軸情報は必要である。この場合も、レーザーなどを使用してＺ軸情報を直接的に読み取る代わりに、先に検出されたＺ軸情報を予めメモリ１０１に記憶させておき、記憶されたＺ軸情報を制御装置１００で読み出すようにしてもよい。
【０１０８】
次に、制御装置１００の制御による吐出動作について説明する。
【０１０９】
最初に、ディスペンサー５５をＲ（赤色）蛍光体（以下、「Ｒ蛍光体」と称する。）の塗布開始のため、準備位置ａまで移動し、Ｚ軸情報を基に、制御装置１００の動作制御により、Ｚ軸用モータ８９を駆動して吐出ノズル６２の先端を所定の高さに位置決めする。
【０１１０】
次に、制御装置１００の制御によりＸ軸用モータ５８を駆動させて吐出ノズル６２を矢印Ｘ方向へ移動させて、Ｘ軸用モータ５８のエンコーダからの出力情報により制御装置１００で吐出ノズル６２が塗布開始位置ｂに位置したことを検出する。すると、制御装置１００の制御により、吐出ノズル６２からＲ蛍光体の吐出を開始すると同時に、さらに矢印Ｘ方向へ吐出ノズル６２を一定速度で移動させてＰＤＰ用の基板６１に対するストライプ状の蛍光体塗布を開始する。吐出ノズル６２が１本のリブの長さＬ（図２）だけ塗布線を描き、Ｘ軸用モータ５８のエンコーダからの出力情報により制御装置１００で、吐出ノズル６２の先端が有効表示領域６０ａから非有効表示領域６０ｂに入る塗布終了位置ｃに至ったことを検出する。すると、制御装置１００の制御により、蛍光体の吐出を停止する。その後、制御装置１００の制御により、さらに、吐出ノズル６２がＸ方向に移動され続けて、Ｘ軸用モータ５８のエンコーダからの出力情報により制御装置１００で、屈曲位置ｄに至ったことを検出する。すると、Ｘ軸用モータ５８の駆動を停止して、吐出ノズル６２のＸ方向への移動を停止する。
【０１１１】
次に、吐出ノズル６２は蛍光体の吐出を停止したままで、制御装置１００の制御により、Ｙ軸モータ５７ａ、５７ｂが同期駆動されて、吐出ノズル６２は屈曲位置ｄから屈曲位置ｅに向けて３Ｐ（すなわち、リブ（又は光吸収層）の配置ピッチＰの３倍の間隔）だけ矢印Ｙ方向へ移動する。すなわち、制御装置１００の制御により、Ｙ軸モータ５７ａ、５７ｂのエンコーダからの出力情報により制御装置１００で吐出ノズル６２が屈曲位置ｅに到達したことが検出されると、Ｙ軸モータ５７ａ、５７ｂの駆動を停止して、吐出ノズル６２のＹ方向への移動を停止する。
【０１１２】
次に、制御装置１００の制御によりＸ軸用モータ５８を再び駆動させて吐出ノズル６２を屈曲位置ｅから塗布開始位置ｆに向けてＸ’方向に移動を開始する。Ｘ軸用モータ５８のエンコーダからの出力情報により制御装置１００で吐出ノズル６２が塗布開始位置ｆに到達したことを検出すると、再び、吐出ノズル６２からＲ蛍光体の吐出を開始すると同時に、矢印Ｘ’方向へさらに一定速度で吐出ノズル６２を移動させてＰＤＰ用の基板６１に対するストライプ状の蛍光体塗布を再開する。吐出ノズル６２が１本のリブの長さＬ（図２）だけ塗布線を描き、Ｘ軸用モータ５８のエンコーダからの出力情報により制御装置１００で、吐出ノズル６２の先端が有効表示領域６０ａから非有効表示領域６０ｂに入る塗布終了位置ｇに至ったことを検出する。すると、制御装置１００の制御により、蛍光体の吐出を停止する。その後、制御装置１００の制御により、さらに、吐出ノズル６２がＸ’方向に移動され続けて、Ｘ軸用モータ５８のエンコーダからの出力情報により制御装置１００で、屈曲位置ｈに至ったことを検出する。すると、Ｘ軸用モータ５８の駆動を停止して、吐出ノズル６２のＸ’方向への移動を停止する。
【０１１３】
ここで、屈曲位置ｈを先の屈曲位置ｄと読み替えて、３Ｐ（すなわち、リブ（又は光吸収層）の配置ピッチＰの３倍の間隔）だけ矢印Ｙ方向へ移動して新たな準備位置ａまで移動し、再び、上記したような上記ステップを繰り返し、塗布本数が６４０本になると、Ｒ蛍光体による作業は終了する。
【０１１４】
以上が蛍光体塗布の基本ステップであるが、残されたＧ（緑色）蛍光体（以下、「Ｇ蛍光体」と称する。）、Ｂ（青色）蛍光体（以下、「Ｂ蛍光体」と称する。）の塗布については、別途設置されたＧ蛍光体専用載置台を有するＧ蛍光体用パターン形成装置、Ｂ蛍光体専用載置台を有するＢ蛍光体用パターン形成装置に、ＰＤＰ用基板６１を順次移送して、それぞれのパターン形成装置でパターン形成を行なうようにしてもよい。或いは同一のパターン形成装置のＺ軸方向搬送装置５４に、３種類（Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）蛍光体塗布用）のディスペンサーをそれぞれ配置して、それぞれの色毎に蛍光体吐出動作を行なうようにしてもよい。
【０１１５】
なお、上記したように、吐出ノズル６２の始終端の位置（塗布開始位置ｂ、塗布終了位置ｃ、塗布開始位置ｆ、塗布終了位置ｇなど）と、塗布開始・終了のタイミング、及び、ディスペンサーすなわち吐出ノズル６２の移動速度と同期した塗布量の制御は、制御装置１００により、予めプログラミングされた始端と終端位置情報、及び吐出ノズル６２からの変位・速度情報に基づいて行なわれる。このようにして、リブ間の溝の内面形状に沿ったＲ，Ｇ，Ｂの蛍光体層の形成作業がすべて終了すると、ディスペンサー５５の吐出ノズル６２の先端位置は、ホームポジション（例えば、図２の準備位置ａ）に復帰する。以上、スクリーン・ストライプの塗布行程が終了すると、基板６１を搬送後、蛍光体の乾燥行程へ移行する。
【０１１６】
［１］  ねじ溝式ディスペンサー
以下、本発明の第１実施形態にかかるＰＤＰ用基板６１への蛍光体層形成方法及び形成装置のより具体的な構造ついて、図３〜図５（Ｃ）を用いて説明する。
【０１１７】
図３において、３５０はねじ溝式のディスペンサー（先の説明のディスペンサー５５に相当。）の回転軸、３５１はこの回転軸の吐出側を収納するスリーブ、３５２はこのスリーブ３５１の内面と回転軸３５０の相対移動面に形成されたねじ溝（溝の部分を黒く塗りつぶしている）、３５３はスリーブ３５１に形成された吸入口、３５４はスリーブ３５１の先端に配置された吐出部、３５５はこの吐出部３５４に設けられた吐出ノズル（先の説明の吐出ノズル６２に相当。）、３５６は回転軸３５０に固着したモータのロータ、３５７はモータのステータ、３５８、３５９は回転軸３５０を支持する軸受、３６０、３６１は上記軸受３５８、３５９とモータステータ３５７を収納する上部ハウジング及び下部ハウジング、３５２はモータの回転数を検出して制御装置１００に出力するエンコーダである。
【０１１８】
さて、第１実施形態におけるスクリーン・ストライプの形成方法は下記のようである。図２を用いて説明すると、吐出ノズル３５５、言い換えれば、上記ねじ溝式のディスペンサーが走行を開始するとき、吐出ノズル３５５の先端は非有効表示領域６０ｂ内［図２の準備位置ａ参照］にあるものとする。通常、ディスペンサーの駆動装置であるＸ軸方向搬送装置５３が駆動を開始した後、ディスペンサーが定常速度に到達するまでには、０．０１〜０．１秒の時定数を必要とする。この制御系の時定数の大きさは、移載物の質量、モータのパワー、過渡状態における許容される振動の大きさなどによって決定される。以下、ディスペンサーの移動速度が、［１］非有効表示領域内で定常速度になる場合、［２］有効表示領域内で定常速度になる場合、の２ケースに分けて説明する。
【０１１９】
［１］非有効表示領域内で定常速度になる場合
図４は、上記第１実施形態における「時間に対するディスペンサーの移動速度」を示すものである。図５（Ｃ）は、「ねじ溝回転数と時間の関係」を示すもので、Ｎｓはねじ溝回転数の基本成分である基本入力波形である。なお、図４〜図５（Ｃ）の横軸での、「ａ，ｂ，ｃ，ｄ」はそれぞれ準備位置ａ、塗布開始位置ｂ、塗布終了位置ｃ、屈曲位置ｄを通過する時間を意味する。
【０１２０】
基板６１上に塗布される塗布線の単位長さ当りの総量は、ディスペンサーの速度に逆比例する。また、定常状態では、ねじ溝の回転数と吐出流量Ｑはリニアに比例すること注目する。従って、上記第１実施形態では、ディスペンサーの速度：Ｖｓに逆比例した関係式で、ねじ溝の回転数の基本成分である基本入力波形：Ｎｓを設定している。
【０１２１】
上記第１実施形態では、ディスペンサーの速度が十分に遅い場合は、回転数の基本入力波形：Ｎｓを用いて、始終点を含む連続線を支障なく塗布することができる。
【０１２２】
しかし、生産タクトアップを図るために、例えば、ディスペンサーの速度をＶｓ＞１００ｍｍ／ｓｅｃに設定するたとき、以下述べる問題が発生する。
【０１２３】
▲１▼塗布開始時の課題
上記ノズル先端が上記有効表示領域へ相対的に移行すると同時に、ねじ溝３５２が形成された回転軸３５０の回転を急峻に開始する。このとき、回転開始と同時に基板６１上に描画線は描けず、連続描画線が描けるまでの間、塗布線の欠落、細り等の不具合が発生する。この理由は、次のようである。吐出ノズル３５５の先端から流出した流体は、流出開始直後は流速が小さいためにノズル３５５から分離できず、ノズル先端に表面張力による流体塊が形成される。流速が上昇して塗布流体の運動エネルギが増加すると、表面張力に打ち勝ち、流体はノズル３５５から離脱する。このとき、ノズル先端の流体塊も同時に基板６１上に滴下するために、塗布線の欠落、細りの後に、ボタ落ち部分が生じる。
【０１２４】
▲２▼塗布終了時の課題
塗布の終点においては、次のようである。ノズル先端が有効表示領域６０ａから非有効表示領域６０ｂへ相対的に移行する手前で、ねじ溝３５２の回転を急降下させる。その結果、基板６１への塗布は停止するが、ノズル先端から流体流出は完全には止まらないため、ノズル３５５がＵターン区間（例えば、屈曲位置ｄから屈曲位置ｅに至る区間）を走行中の間も、ノズル先端の流体塊は成長し続ける。
【０１２５】
ノズル先端が、非有効表示領域６０ｂから有効表示領域６０ａへ移行する手前で、回転を開始させると、まず最初にノズル先端の流体塊のボタ落ちが発生する。
【０１２６】
以降、前述したように塗布線の欠落、細り等が生じる。
【０１２７】
上記▲１▼、▲２▼の課題に対して、上記第１実施形態では、始終端に係る上述した課題を次の方法で解決を図っている。
【０１２８】
ねじ溝回転数の基本入力波形Ｎｓ［図５（Ａ）］に、補正項（補正分）ΔＮ［図５（Ｂ）］を加えた入力波形Ｎｔ［図５（Ｃ）］により、ねじ溝３５２を回転させる。補正項ΔＮは、ディスペンサーの過渡的な流量特性を補正するものである。塗布の開始点では、ねじ溝３５２の回転を加速させた後、すみやかに定常回転に復帰させる。その結果、吐出開始直後に表面張力に打ち勝つ大きな運動エネルギが流体に与えられるために、ノズル先端に流体塊を作ることなく塗布を開始できる。
【０１２９】
塗布の終了点では、図５（Ｃ）のごとく、ねじ溝３５２の回転を急速に減速し停止させる。その結果、Ｕターン区間（非有効表示領域６０ｂ）を走行する前段階で、ノズル先端の流体塊を僅少の状態にでき、塗布開始時のボタ落ちを防止できる。
【０１３０】
また、Ｕターン区間を走行時している間、ねじ溝３５２を緩やかに逆転させて、ノズル先端の流体塊を若干ノズル内部に吸引させた状態を保つことにより、塗布開始時のボタ落ちはさらに効果的に防止できる。
【０１３１】
［２］有効表示領域内で定常速度になる場合
この場合も［１］と同様に、ディスペンサーの移動速度に比例して決まる基本入力波形Ｎｓに、塗布開始時の吐出遅れと塗布終了時の流体塊の発生を防止する補正項ΔＮを加えた入力波形Ｎｔにより、ねじ溝を回転させればよい。
【０１３２】
上記ディスペンサーを用いた直接描画方式でスクリーンストライプを形成する場合、生産タクトの面からディスペンサーは複数本配置されるのが好ましい。この場合、各ディスペンサ−の流量をどのように一致させるかが大きな課題となる。ポンプ部を含むディスペンサーの寸法緒元、モータ等の駆動条件を同一に設定しても、各ディスペンサ−の流量はバラツキが生じる場合が多い。上記第１実施形態では、流量がねじ溝の回転数にほぼ比例することを利用して、モータの基本回転数：Ｎｓを基に、各ディスペンサーの回転数をδＮｓだけ個別に補正すれば、流量を一致させることができる。また、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれ蛍光体の流動特性の違いが流量差をもたらす場合でも、モータの回転数の設定で補正できる。この方法は、ねじ溝式を用いた以下示す第２〜５実施形態にも適用できる。
【０１３３】
以下、本発明を第２実施形態として、蛍光体層形成方法及び形成装置に適用したディスペンサーについて、図６〜図１１を用いて説明する。
【０１３４】
以下示す第２実施形態のディスペンサーは、ピストンと該ピストンを収納するスリ−ブの間に、相対的な回転運動と直線運動を同時に与える「２自由度アクチュエータ」を有する。すなわち、
▲１▼第１のアクチュエータでピストンを直線駆動することにより、ピストンの吐出側端面に正負のスクイーズ圧力を発生させる。
【０１３５】
▲２▼回転運動を与える第２のアクチュエータで、ねじ溝が形成されたピストンを回転させてポンピング圧力を発生させ、塗布流体を吐出側に圧送する。
【０１３６】
上記▲１▼、▲２▼の組み合わせにより、有効表示領域と非有効表示領域の境界部における塗布線の高速遮断・高速開放の制御を実現したものである。
【０１３７】
図６において、１は第１のアクチェータであり、この第２実施形態では、高い位置決め精度が得られ、高い応答性を持つと共に大きな発生荷重が得られる超磁歪素子を用いている。２は第１のアクチェータ１によって駆動される主軸（ピストン）である。上記第１のアクチェータ１は、ハウジング３に収納されており、このハウジング３の下端部（フロント側）に、主軸２を収納するポンプ部４が装着されている。
【０１３８】
５は第２のアクチェータであり、主軸２とハウジング３の間に相対的な回転運動を与えるものである。モータロータ６は上部主軸７に固着され、また、モータステータ８は上部ハウジング９に収納されている。
【０１３９】
１１、１２は、超磁歪素子から構成される円筒形状のリア側超磁歪ロッド及びフロント側超磁歪ロッドである。１３は、超磁歪ロッド１１，１２の長手方向に磁界を与えるための磁界コイルである。１４、１５、１６は、超磁歪ロッド１１，１２にバイアス磁界を与えるためのリア側、中間部、フロント側の永久磁石である。リア側とフロント側の永久磁石１４、１６が、超磁歪ロッド１１，１２と中間部永久磁石１５を矜持する形で配置されている。
【０１４０】
この永久磁石１４〜１６は、超磁歪ロッド１１，１２に予め磁界をかけて磁界の動作点を高めるもので、この磁気バイアスにより磁界の強さに対する超磁歪の線形性が改善できる。
【０１４１】
１７は、超磁歪ロッド１１のリア側に配置され、磁気回路のヨーク材をであるリア側ヨーク、１８は超磁歪ロッド１２のフロント側に配置され、ヨーク材を兼ねたフロント側スリーブ、１９は磁界コイル１３の外周部に配置された円筒形状のヨーク材である。
【０１４２】
超磁歪ロッド１２→永久磁石１５→超磁歪ロッド１１→永久磁石１４→リア側ヨーク１７→ヨーク材１９→フロント側スリーブ１８→１６→超磁歪ロッド１２により、超磁歪ロッド１１，１２の伸縮を制御する閉ループ磁気回路を形成している。なお、主軸２はこの磁気回路に影響を与えないように、非磁性材料を用いている。すなわち、超磁歪ロッド１１，１２、磁界コイル１３、永久磁石１４〜１６、リア側ヨーク１７、フロント側スリーブ１８、ヨーク材１９により、磁界コイル１３に与える電流で超磁歪ロッド１１，１２の軸方向の伸縮を制御できる超磁歪アクチェータ（第１のアクチェータ１）を構成している。
【０１４３】
２０は上部主軸７を回転自在、かつ軸方向に移動可能に収納するリア側スリーブである。このリア側スリーブ２０もまた軸受３８により、中間ハウジング２１に対して回転自在に支持されている。
【０１４４】
２２はリア側ヨーク１７とリア側スリーブ２０の間に装着されたバイアスバネである。このバイアスバネ２２から加わる軸方向荷重により、超磁歪ロッド１１，１２はバイアス永久磁石１４〜１６を介在して、上下のリア側ヨーク１７，フロント側スリーブ１８に押圧される形で把持されている。この結果、超磁歪ロッド１１，１２には常に軸方向に圧縮応力が加わるため、繰り返し応力が発生した場合に、引っ張り応力に弱い超磁歪素子の欠点が解消される。
【０１４５】
フロント側スリーブ１８は主軸２を軸方向移動可能に収納している。モータ５から伝達された主軸２の回転動力は、主軸２、フロント側スリーブ１８の間に設けられた回転伝達キー２３によってフロント側スリーブ１８に伝達される。また、フロント側スリーブ１８も軸受２４によって、ハウジング３に回転自在に支持されている。
【０１４６】
上記構成により、モータ５の回転動力は主軸２とフロント側スリーブ１８のみに伝達され、脆性材料である超磁歪素子に捻りトルクは発生しない。
【０１４７】
また、リング状に形成された超磁歪素子１１、１２と永久磁石１４〜１６は、非磁性材料の主軸２を貫通する形で配置されている。また、主軸２の外周部と上記超磁歪ロッド及び上記永久磁石の内周部の間の隙間は十分に小さく設定している。その結果、装置の回転時に各部材に加わる遠心力の影響によって、上記超磁歪ロッド及び上記永久磁石の軸芯が大きくずれることはない。
【０１４８】
すなわち、各部材を貫通して設けられた主軸２は、脆性材料である超磁歪素子に対して圧縮応力以外は与えない「保護機能」と、回転時の「軸芯ズレの防止機能」を兼ねている。
【０１４９】
２５は、第２のアクチェータであるモータ５の上部に配置された上部主軸７の回転位置情報を検出するためのエンコーダである。また、２６は上部主軸７（及び主軸２）の上端面２７の軸方向変位を検出するための変位センサーである。
【０１５０】
上記構成により、回転運動と微少変位の直線運動の制御を同時に、かつ独立して行うことができる「２自由度・複合動作アクチュエータ」が実現できる。さらに、この第２実施形態では、第１のアクチェータに超磁歪素子を用いたために、超磁歪ロッド１１，１２（及び主軸２）を直線運動させるための動力を、外部から非接触で与えることができる。
【０１５１】
超磁歪素子に加えた入力電流と変位は比例するため、変位センサーなしのオープンループ制御でも、上記主軸２の軸方向位置決め制御は可能である。しかし、上記第２実施形態のような位置検出手段（機構又は装置）を設けてフィードバック制御をすれば、超磁歪素子のヒステリシス特性も改善できるため、より高い精度の位置決めができる。
【０１５２】
さて、上記第２実施形態では、主軸２の軸方向位置決め機能を用いて、主軸２の定常回転状態を保ったままで、主軸２の吐出側端面の隙間の大きさを任意に制御することができる。この機能を用いて、吸入口３２から吐出ノズル３３に至るいかなる流通路の区間も機械的に非接触の状態で、始終端における粉粒体の遮断・開放の制御ができる。その原理をポンプ部４の詳細図である図７、及びピストンの変位と発生圧力の関係を示す図８〜図１１を用いて説明する。
【０１５３】
図７において、２８は主軸２の外表面に形成された流体を吐出側に圧送するためのラジアル溝（図６では溝の部分を黒く塗りつぶしている一方、図７では溝の部分にハッチングしている。）、２９は流体シール、３０はシリンダである。
【０１５４】
この主軸２とシリンダ３０の間で、主軸２とシリンダ３０の相対的な回転によってポンピング作用を得るためのポンプ室３１（流体輸送室）を形成している。また、シリンダ３０には、ポンプ室３１と連絡する吸入孔３２が形成されている。３３はシリンダ３０の下端部に装着された吐出ノズル、３４はシリンダ３０の吐出側端面に締結された吐出プレートである。３５は主軸２の吐出側端面、主軸２の吐出側端面３５の対向面３６の中央部に吐出ノズル３３の開口部３７が形成されている。図４で説明した流体圧送手段（機構又は装置）であるラジアル溝２８は、スパイラルグルーブ動圧軸受として知られている公知のものであり、また、ねじ溝ポンプとしても利用されている。
【０１５５】
さて実施形態では、超磁歪素子で駆動される主軸２（以下ピストンと呼ぶ。）が回転と同時に高速の直線運動ができることを利用して、次の方法で塗布線の始終端に係る課題の解決を図った。
【０１５６】
▲１▼塗布開始時には、ピストンを急速に降下させると同時にモータの回転を開始する。
【０１５７】
▲２▼塗布終了時には、ピストンを上昇させると同時にモータの回転を停止する。
【０１５８】
上記第２実施形態では、ピストンを超磁歪素子で駆動しているため、ピストンの入力信号に対する出力変位の応答性は、１０−３ｓｅｃ（１０００Ｈｅｒｚ）のオーダーである。隙間の変化に対するスクイーズ圧力発生の間の時間遅れは僅少であるため、モータで回転数制御を行った第１実施形態の場合と比べて、流量制御の応答性は１桁〜２桁高い。
【０１５９】
図８は、超磁歪素子によって駆動されるピストンの変位曲線、図９はモータの回転数を、Ｎ＝０ｒｐｍからＮ＝２００ｒｐｍまで立ち上げたときに発生するねじ溝のポンピング圧力Ｐｐを示す。図１０はピストンを上昇・下降させることによって発生する、吐出ノズルの上流側におけるスクーズ圧力Ｐｓの解析結果を示す。図１１は、上記ねじ溝のポンピング圧力Ｐｐとスクーズ圧力Ｐｓを合成した圧力Ｐｎ（＝Ｐｐ＋Ｐｓ）である。このスクーズ圧力Ｐｓは、次の（１）式のＲｅｙｎｏｌｄｓ方程式を表１の条件下で解いて求めたものである。
【０１６０】
【数１】
0003769261.tif 000002
（１）式において、Ｐは圧力、μは流体の粘性係数、ｈは対向面間の隙間、ｒは半径方向位置、ｔは時間、Ｕはｘ方向相対速度、Ｖはｙ方向相対速度、である。また、右辺が、隙間が変化するときに発生するスクイーズアクション効果をもたらす項である。
【０１６１】
（１）塗布開始時
塗布開始前の状態では、モータの回転は停止しており、ピストンはその対向面との間隙：Ｘｐ＝４０μｍの状態にある。ｔ＝０．０２秒でピストンが間隙：Ｘｐ＝４０→３０μｍへ急降下を開始すると、吐出ノズルの上流側圧力：Ｐｎは急上昇する。その理由は、（１）式のＲｅｙｎｏｌｄｓ方程式がｄｈ／ｄｔ＜０のとき発生するスクイーズ作用によるものである。スクイーズ作用は、粘性流体を用いた流体軸受の動圧効果の一種である。このスクイーズ効果による急峻なピーク圧力（オーバーシュート）の発生により、吐出ノズル先端での表面張力に打ち勝つ大きな運動エネルギが流体に与えられるために、ノズル先端に流体塊を作ることなく塗布を開始できる。
【０１６２】
始点における塗布線をスムーズに描かせるためオーバーシュート圧力は、ピストンのストロークが大きい程、立ち上がり時間が短い程大きい。すなわち、吐出ノズル先端の流体の表面張力に打ち勝ちと共に、始点での塗布線の「太り」にならない範囲で、このオーバーシュート圧力の大きさを設定すればよい。
【０１６３】
（２）定常走行時
０．０３＜ｔ＜０．０７秒の間は、ピストンはその対向面との間隙：Ｘｐ＝３０μｍの状態を保ちながら、ねじ溝の回転によるポンピング圧力Ｐｂによる定量吐出により、連続線が塗布される。ピストンとその対向面の間にも流体抵抗があるが、間隙：Ｘｐ＝３０μｍの流体抵抗は十分に小さいために、必要流量を吐出させることができた。
【０１６４】
この区間ではスクイーズ圧力の発生はない。この理由は、スクイーズ圧力は隙間ｈが変化しているときのみ発生するからである。
【０１６５】
（３）塗布終了時
ｔ＝０．０７秒で，モータの減速と同時に、ピストンが間隙：Ｘｐ＝３０→４０μｍへ上昇を開始すると、吐出ノズルの上流側圧力Ｐｎは、図１１で示すように、一時的に急降下する。圧力が急降下する理由は、ピストンが急上昇してもスラスト端面とその対向面で形成される空隙部のギャップはまだ十分に狭く、空隙部の外周部から中心部の間で、求心方向の流体抵抗があるからである。この流体抵抗により、容易には外周部から流体は補給されず、圧力は降下する。理論的には、Ｒｅｙｎｏｌｄｓ方程式（（１）式）のｄｈ／ｄｔ＞０となる逆スクイーズ作用とも言うべき効果による。
【０１６６】
大きなマイナス圧力となっているのは、Ｒｅｙｎｏｌｄｓ方程式が流体の圧縮性を考慮していないからである。実際は気泡などの発生により流体圧力は絶対圧力ゼロ以下（Ｐｎ＜０．０ＭＰａ）にはならない。
【０１６７】
この急峻な負圧発生によって、吐出ノズルからの流体が遮断されるだけでなく、ノズル先端の流体塊をノズル内部に若干量吸引させるサックバックの効果が得られる。スクイーズ圧力による負圧発生後は、モータの回転は停止しているため、ねじ溝のポンピング圧力による吐出はない。従って、ノズルが非有効表示領域（Ｕターン区間）を通過している間、ノズル内部の流体のメニスカスは、ノズル先端で流体塊を作ることなく同一の位置を保ち続ける。そのため、前述した流体塊のボタ落ちなどのトラブルは回避できる。
【０１６８】
なお、実施形態では、ピストンとその対向面の最小隙間は、Ｘｍｉｎ＝２０μｍに設定している。実施形態の蛍光体の粒径はφｄ＝７〜９μｍであり、Ｘｍｉｎ＞φｄであるため、吸入口から吐出口に至る通路で蛍光体の微粒子を機械的に圧搾・破損することはない。
【０１６９】
すなわち、上記ピストンとその対向面の隙間は、上記ペースト遮断時、吐出材料に含まれる粒子の粒径よりも大きく形成されている。上記吸入口から上記吐出ノズルに至る流通路において、上記ペースト遮断時の最小隙間は、８μｍ以上が好ましい。
【０１７０】
【表１】
0003769261.tif 000003
【０１７１】
上記第２実施形態では、塗布線の始点・終点をスムーズに描かせるためのオーバーシュート圧力とサックバック圧力を、ピストンの軸方向運動によって得ることができた。上記第２実施形態では、ピストン変位曲線（図８に一例を示す）は任意の形状を設定することができる。また、ピストンを駆動する超磁歪素子は高い応答性をもつために、変位曲線が急峻な変化をしても十分に追従できる。すなわち、超磁歪素子の変位・速度制御により、モータの回転数制御ではできない微妙な始終端の吐出圧力と流量の制御ができる。
【０１７２】
上記第２実施形態では、超磁歪素子の軸方向変位の制御と、モータの回転数制御を組み合わせることにより、連続塗布線の始終端の課題を解決すると共に、Ｕターン区間において、吐出ノズルから材料のリークが無い完全遮断状態を任意の時間保つことができる。第１実施形態で示したように、モータ回転数の基本入力波形Ｎｓに、補正項ΔＮを加える方法と上記第２実施形態の方法を組み合わせてもよい。
【０１７３】
Ｕターン区間を十分に短く設定できる場合は、後述する実施形態のように、モータの回転を維持したままで、ピストンのみの駆動により終点での流量遮断と始点での開放ができる。
【０１７４】
上記第２実施形態では、超磁歪素子を用いた２自由度アクチュエータにより、ピストンに軸方向移動と回転の両方の機能を与えてポンプ部を構成した。この構成の代わりに、例えば、軸方向に移動しない回転軸（外周側ピストン）を円筒形状として、この回転軸に中心軸（内周側ピストン）を挿入し、回転軸をモータで駆動し、中心軸を固定側に設置された電磁歪素子等で軸方向に駆動させる構成でもよい。この場合、内周側ピストンの吐出側端面とその対向面の隙間を増減させることにより、終点での流量遮断と始点での開放ができる。要は、流体輸送室の空間を増減できればよいのである。また、外周側ピストンとこの外周側ピストンを収納する固定側の相対移動面にねじ溝を形成すれば、上記第２実施形態と同様に流体圧送手段（機構又は装置）にできる。
【０１７５】
ディスプレイパネルのＰＤＰ用基板６１の外周部（図２の６３）に障害物（例えばウオール）がある場合は、ディスペンサーの本体と障害物が接触しない範囲で、吐出ノズル３３の全長を長くとればよい。
【０１７６】
また、流体圧送手段（機構又は装置）であるねじ溝ポンプは、本発明を実施する上で必ずしも必要ではない。外部に設置された圧力源（ポンプ或いはエアー圧）を利用して、流体をポンプ室３１に供給してもよい。この場合はピストンにねじ溝は形成する必要は無い。例えば、流体圧送手段（機構又は装置）にエアー圧を利用して、かつＵターン区間を十分に短く設定できる場合は、ピストンのみの駆動により、始終点での流量遮断と開放の制御をすればよい。
【０１７７】
以下、本発明の第３実施形態について、図１２〜図１６を用いて説明する。第３実施形態は、ディスプレイパネルのＰＤＰ用基板６１における塗布行程においては、連続吐布停止後、塗布を再開させるまでの時間、すなわち、ディスペンサーが非表示領域（Ｕターン区間）を走行するために与えられる時間は、極めて短い時間しか許されないという量産上の制約条件を逆に利用したものである。すなわち、この「短い有限の時間のみ有効な流量制御手段（機構又は装置）」を有するマイクロ・ディスペンサー（仮称）と、外部に設置された「流体圧力の発生源」を組み合わせることにより、極めてシンプルな構成で、前述したディスペンサー塗布方式における始終端の課題を解決したものである。
【０１７８】
図１２に、本発明の第３実施形態に適用したマイクロ・ディスペンサー２００の正面断面図を示す。２０１は直動型のアクチュエータであり、超磁歪素子等による電磁歪型のアクチュエータ、静電型アクチュエータ或いは電磁ソレノイド等より構成される。上記第３実施形態では、高い位置決め精度が得られ、高い応答性を持つと共に大きな発生荷重が得られる超磁歪素子を用いた。
【０１７９】
２０２は第１のアクチュエータ２０１によって駆動されるピストン、２０３はこのピストン２を吐出側端部で収納する固定スリーブ、２０４はアクチュエータ２０１を収納するハウジング、２０５は固定スリーブ２０３を吐出側で固定する下部ハウジングである。２０６は超磁歪材料から構成される円筒形状の超磁歪ロッドであり、この超磁歪ロッド２０６は第１及び第２バイアス永久磁石２０７、２０８を上下に挟んだ形で、上部ヨーク２０９とヨーク材を兼ねた固定スリーブ２０３の間に固定されている。２１０は超磁歪ロッド２０６の長手方向に磁界を与えるための磁界コイル、２１１は円筒形状のヨークでありハウジング２０４に収納されている。超磁歪ロッド２０６→第１バイアス永久磁石２０７→上部ヨーク２０９→ヨーク２１１→固定スリーブ２０３→第２バイアス永久磁石２０８→超磁歪ロッド２０６により、超磁歪ロッド２０６の伸縮を制御する閉ループ磁気回路を形成している。すなわち、部材２０６〜２１１により、磁界コイルに与える電流で超磁歪ロッドの軸方向の伸縮量を制御できる超磁歪アクチュエータ１を構成している。ピストン２０２は円筒形状をした上部ヨーク２０９と一体化して上方向にも伸びており、上部スリーブ２１２に収納されている。ピストン２０２はこの上部スリーブ２１２に対して、軸方向に移動可能なように、軸受部２１３によって支持されている。上部スリーブ２１２と上部ヨーク２０９の間には、超磁歪ロッド２０６に機械的な軸方向与圧を与えるバイアスバネ２１４が設けられている。上部スリーブ２１２の上端の中心部には、ピストン２０２の端面位置を検出する変位センサー２１５が調節自在に配置されている。２１６はピストン２０２の小径部であるピストン細径軸、２１７は下部ハウジング２０５に形成された吸入口、２１８はノズル部、２１９はこのノズル部２１８に形成された吐出ノズルである。吸入口２１７から流入した加圧流体は、固定スリーブ２０３と下部ハウジング２０５で形成される流体貯蔵室２２０に流入し、さらに後述する流体絞り部２２１を経て、吐出ノズル２１９に流入する。ピストン細径軸２１６の吐出側端面とその対向面及び下部ハウジング２０５の間で、吐出流量を制御する流量制御部２２２が構成されている。
【０１８０】
図１３は前述した流量制御部２２２の近傍の拡大図であり、２２３はピストン細径軸２１６（ピストン２０２）の吐出側端面、２２４はスリーブ２０３の吐出側端面、２２５は２２３，２２４の対向面である。２２６はピストン細径軸２１６と固定スリーブ２０３の内面の間に設けられた流体シールである。２２８は吐出ノズルの入口部に形成された液溜まり部である。ピストン細径軸２１６の吐出側端面２２３とその対向面２２５により、ピストン２０２の上昇・下降によって、容積の変化するポンプ室２２７（流体輸送室）を形成している。
【０１８１】
以下、流体制御部２２２が下記表２の条件で構成された場合について、前述したＲｅｙｎｏｌｄｓ方程式（（１）式）を用いて、吐出流量を求める解析を行なった。
【０１８２】
解析条件は、流体の粘度：μ＝１０，０００ｃｐｓ、体積弾性係数：Ｋ＝３００ｋｇ／ｃｍ２、（２９．５ＭＰａ）、境界部（流体絞り部２２１の外周部）圧力：Ｐｓ＝２０ｋｇ／ｃｍ２（２．０６ＭＰａ）である。
【０１８３】
【表２】
0003769261.tif 000004
【０１８４】
上記条件下で得られる吐出流量の解析結果を図１４に示す。
【０１８５】
（１）  解析のスタート段階（ｔ＝０）では、流量（圧力）の初期値を適当な値を仮定しているが、すみやかに一定値に収束する。０＜ｔ＜０．０３秒の間は連続描画の状態にある。
【０１８６】
（２）  ｔ＝０．０３秒でピストンが上昇を始めると、吐出流量は急速に低下し、開始から０．００３ｓｅｃ（３ｍｓｅｃ）程度の立下り時間でたちまち吐出は遮断される。
【０１８７】
（３）  ０．０３＜ｔ＜０．０８秒の区間では、吐出流量はゼロである。この区間はピストンは一定の速度で上昇中である。
【０１８８】
表２から、実施形態ではピストンストローク：Ｘｓｔ＝５０μｍ、ピストン動作時間：Ｔｐ＝０．０５ｓｅｃであるため、ピストンの上昇速度：ｖ＝５０μｍ／０．０５ｓｅｃ＝１．０ｍｍ／ｓｅｃである。
【０１８９】
（４）  ｔ＝０．０８秒でピストンが停止すると、以降０．０１ｓｅｃ程度の立ち上がり時間で連続塗布の状態にすみやかに復帰する。
【０１９０】
以上の結果から、応答性の優れたアクチュエータを用いて、吐出流路の内部空間を急峻に増大させる実施形態の方法により、０．０１秒或いはそれ以下のオーダーの極めて応答性の優れた流量制御ができることがわかる。
【０１９１】
但し、吐出流量がゼロである時間はピストンが上昇している間だけである。この遮蔽時間は、アクチュエータの限界ストロークと上昇速度により決まる。
【０１９２】
超磁歪素子を用いたアクチェータの場合、素子１０ｍｍの長さでほぼ１０μｍの変位が得られる。圧電素子を採用するならば、ほぼその半分の変位となる。
【０１９３】
従って、図１２の実施形態において、表２の条件下では、例えば、５０ｍｍの長さの超磁歪素子のロット２０６を用いれば、Ｔｐ＝０．０５秒の間、吐出量をＯＦＦにできる。
【０１９４】
上記解析では、液溜り部２２８の容積を大きく設定し、また、液溜り部２２８の流体の圧縮性を考慮しているが、非圧縮性に近い流体ならば、前述した立ちあがり・立下り時間は、アクチュエータの応答性の限界に近いところまで小さくできる。
【０１９５】
ちなみに、超磁歪素子、圧電素子などの電磁歪素子の場合、通常、１０―４ｓｅｃのオーダーの応答性が得られる。
【０１９６】
電磁ソレノイド等のアクチェータも適用可能であり、電磁歪素子と比べて応答性は１桁程悪くなるが、ストロークの制約（すなわち許容停止時間）は大幅に緩和される。
【０１９７】
本発明の原理を直感的に理解しやすくするために、図１３の流量制御部２２２を図１５のような電気回路モデルに置き換えてみる。
【０１９８】
図１５において、Ｐｓは流体絞り部２２１の境界圧力、Ｒ０は流体絞り部２２１の流体抵抗、Ｒｎは吐出ノズル１９の流体抵抗、Ｑｐはピストン細径軸２１６の上昇速度とピストン面積で決まる流量源の大きさ、Ｑｎは吐出ノズル２１９を通過する流量を示す。
【０１９９】
ここで、吐出ノズル２１９を通過する流量Ｑｎは、
【０２００】
【数２】
0003769261.tif 000005
【０２０１】
Ｑｎ＜０のとき、すなわち、次の条件のとき吐出は遮断される。
【０２０２】
【数３】
0003769261.tif 000006
【０２０３】
上記（３）式から、流量制御を可能にするためには、流体絞り部２２１を設けて、かつ、流体絞り部２２１がある値以上の流体抵抗Ｒ０を持つことが必要条件ということが分かる。この流体絞り部に相当する部分（流路面積が他の通路と比べて絞られた部分）は、流体の供給源から流量制御部に至る通路のいずれかに設ければ良い。
【０２０４】
ピストンの最下点における対向面との隙間Ｘｍｉｎを十分に小さく設定した場合は、ピストンの吐出側端面２２４とその対向面２２５間の半径方向の流体抵抗Ｒｓにより、この流体抵抗Ｒｓを上記流体抵抗Ｒ０に置き換えることができる。この場合は、固定スリーブ２０３は省略できる。但し、流体抵抗Ｒｓが有効な値を持つのは、ピストンとその対向面との隙間が十分に小さい間だけであり、ピストンが高く上昇した状態では流量遮断の条件である式（３）は保てなくなる。その結果、遮断状態を保てる時間は小さくなる。
【０２０５】
上記第３実施形態では、「短い有限の時間のみ有効な流量制御手段（機構又は装置）」を有するディスペンサーと、外部に設置された「流体圧力の発生源」の２つを組み合わせて、描画線の始終端の課題の解決を図っている。千本〜数千本のスクリーンストライプを、高い生産効率でディスプレイパネルに描くためには、塗布装置に配置できるディスペンサーの本数はできるだけ多い方が好ましい。上記第３実施形態の場合、ディスペンサーは細径でかつシンプルな構成にできるため、図１６に示すように、マルチヘッド化が容易である。
【０２０６】
図１６において、２５０は「短い有限の時間のみ有効な流量制御手段（機構又は装置）」を有するマイクロ・ディスペンサー、２５１は「流体圧力の発生源」であるマスターポンプ、２５２はガラス基板である。マスターポンプ２５１は、等ピッチで配設された複数本のマイクロ・ディスペンサーに、同時に、図２５に示すように、複数本のストライプ状の塗布線を描かせるための流量供給能力と、発生圧力が必要である。
【０２０７】
ここで、図１６のマルチヘッド化されたパターン形成装置でＰＤＰ用基板６１に、複数の蛍光体ペースト層を同時的に吐出形成する例を図２５に示す。図２５において、ディスペンサー５５の図２の準備位置ａ、塗布開始位置ｂ、塗布終了位置ｃ、屈曲位置ｄ、屈曲位置ｅ、塗布開始位置ｆ、塗布終了位置ｇは、それぞれ、１つ目のマイクロ・ディスペンサーに対しては、準備位置ａ１、塗布開始位置ｂ１、塗布終了位置ｃ１、屈曲位置ｄ１、屈曲位置ｅ１、塗布開始位置ｆ１とが対応し、２つ目のマイクロ・ディスペンサーに対しては、準備位置ａ２、塗布開始位置ｂ２、塗布終了位置ｃ２、屈曲位置ｄ２、屈曲位置ｅ２、塗布開始位置ｆ２とが対応し、３つ目のマイクロ・ディスペンサーに対しては、準備位置ａ３、塗布開始位置ｂ３、塗布終了位置ｃ３、屈曲位置ｄ３、屈曲位置ｅ３、塗布開始位置ｆ３とが対応する。そして、これらの３本の塗布線は、３本のマイクロ・ディスペンサーが同期して移動することにより、同時的に吐出されて塗布される。
【０２０８】
なお、マスターポンプ２５１は、図１６に示すように、多数のマイクロ・ディスペンサーに対して１個配置するものに限らず、任意の本数のマイクロ・ディスペンサーにグループ分けして、各グループに対して１個配置するようにしてもよいし、１本のマイクロ・ディスペンサーに対して１個配置するようにしてもよい。
【０２０９】
上記第３実施形態では、このマスターポンプ２５１に、第１の実施形態（図３参照）と同様の構造であるねじ溝ポンプを用いる。ねじ溝ポンプの場合、▲１▼粉粒体（蛍光体材料）を機械的に非接触の状態で、吸入口から吐出口に輸送できる、▲２▼流量を回転数によって可変できる、▲３▼定流量特性が得られる、▲４▼流動性の悪い蛍光体材料に、回転によるせん断力を与えることにより低粘度化が図れる、等の特徴を有する。
【０２１０】
マスターポンプとしては、ねじ溝ポンプ以外にも、ギヤポンプ、トロコイドポンプ、モーノポンプなどが本発明に適用できる。また、ポンプの代わりに外部に設置されたエアー源を利用して、エアー圧でもってマイクロ・ディスペンサーに蛍光体材料を供給すれば、塗布装置全体は大幅に簡素化される。
【０２１１】
なお、回転運動と直線運動の「２自由度アクチュエータ」を有する第２実施形態のディスペンサーの場合でも、直線運動を与えるアクチュエータのストロークを十分大きくとれるならば、Ｕターン区間において、本実施形態と同様の流量制御ができる。すなわち、モータの回転を維持したままで、ピストンの直線運動のみを制御することにより、有効表示領域と非有効表示領域における蛍光体ペーストの吐出遮断・開放を制御できる。すなわち、モータの回転状態を維持したままで、
▲１▼塗布開始時には、ピストンを降下させる。
【０２１２】
▲２▼塗布終了時には、ピストンを上昇させる。
【０２１３】
この場合、流量制御を可能にするための条件、流体絞り部を有しかつその流体絞り部がある値以上の流体抵抗Ｒ０を持つという条件を満たすためには、ピストンとその対向面間のスラスト抵抗以外に、ねじ溝ポンプ自身が持つ内部抵抗を利用すればよい。ねじ溝ポンプが定流量特性である程、また、流量が小さい程、吐出遮断状態を長く保てることができる。
【０２１４】
以下、本発明の第４実施形態について、図１７〜図１９を用いて説明する。第４実施形態は、第３実施形態におけるピストンとこのピストンを収納するスリーブのいずれも軸方向移動できる機能を与えることにより、塗布始終端のさらなる改良を図ったものである。第３実施形態における「１重ピストン方式」に対して、以下、第４実施形態のディスペンサーを「２重ピストン方式」と呼ぶことにする。
【０２１５】
図１７において、５０１は上部アクチェータ、５０２は下部アクチェータ、５０３はこの下部アクチェータの自由端側に固定された可動スリーブ、５０４は上記上部アクチェータの自由端側５０５に固定されたピストン、５０６はこのピストンの細径部である。５０７は上記アクチェータ５０１、５０２を収納する上部ハウジングであり、５０８は上記アクチェータ５０１、５０２を構成する各圧電素子の固定部である。５０９は下部ハウジングであり、上部ハウジング５０７と締結されている。５１０は可動スリーブ５０３と下部ハウジング５０９間に装着された接触型のシール部、５１１は吸入口である。
【０２１６】
５１２は下部アクチェータ５０２に軸方向バイアス荷重を与えるためのバイアスバネであり、可動スリーブ５０３と下部ハウジング５０７間に装着されている。５１３は下部ハウジング５０９に固定された下部プレート、５１４はこの下部プレートの中心部でピストン細径部５０６の端面５１５の対向面に位置するところに形成された吐出口の開口部である。５１６は下部プレート５１３に締結された吐出ノズルである。５１７は可動スリーブ５０３と下部ハウジング５０９で形成される空間を利用した流体貯蔵部であり、外部に配置された流体供給源（図示せず）と、吸入口５１１を介して繋がっている。５１８は、可動スリーブ５０３、ピストン細径部５０６、下部プレート５１３で形成される空間であるポンプ室（流体輸送室）である。
【０２１７】
５１９はピストン５０４の上端で、上部プレート５２０に固定されたピストン用変位センサーであり、ピストン５０４の固定側に対する絶対位置を検出する。５２１は上部ハウジング５０７の内面に固定された差動トランス式変位センサーのステータ部、５２２は可動スリーブ５０３側に固定されたロータ部である。差動トランスは電気マイクロメータなどに用いられているもので、可動スリーブ５０３の軸方向位置を検出する。５２３は上部アクチェータ５０１（圧電素子）に軸方向バイアス荷重を与えるためのバイアスバネであり、ピストン５０４と上部プレート５２０間に装着されている。
【０２１８】
上記第４実施形態では、可動スリーブ５０３の軸方向位置は、差動トランスによる変位センサーにより、正確に検出できる。そのため、２つのアクチェータ５０１、５０２の動作のタイミングを適格に合わせた制御が可能になると共に、両アクチェータの厳密な変位と速度制御ができる。
【０２１９】
また、上記第４実施形態で示したように、可動スリーブの位置検出に中空の検出用ロータ５２２と検出用ステータ５２１から構成される変位センサーを用いることにより、円筒形状のハウジング５０７，５０９が細径のままで、ディスペンサ−全体を構成できる。
【０２２０】
上記第４実施形態では、２つのアクチェータ、２つのセンサー、ピストン、吐出ノズルをいずれも軸方向に軸対称配置した構成となっている。例えば、超磁歪素子、圧電素子は、周知のようにその外径を数ミリ以下の小型化が可能である。
【０２２１】
従って、「２重ピストン方式」である上記第４実施形態を用いれば、第３実施形態と同様に、マスターポンプと組み合わせたマルチヘッド・ディスペンサーが容易に実現できる。
【０２２２】
図１８（Ａ）は本発明の第４の実施形態を適用したバルブの時間ｔに対するピストンの変位Ｘｐと可動スリーブＸｓの一例を示す。図１８（Ｂ）はバルブのモデル図を示し、５５０はピストン、５５１は可動スリーブ、５５２はポンプ室（流体輸送室）、５５３は吐出ノズルである。
【０２２３】
図１９は、本発明の第４の実施形態を適用したバルブの「時間に対する吐出ノズル上流側の圧力Ｐｎ特性」を、従来バルブの対比のもとで示すものである。ここで、従来バルブとは、吐出ノズルの入口部にニードルバルブを設けて、このニードルバルブを構成するスプールを軸方向に移動させることにより、吐出口を開閉させるディスペンサーの形態を示す。すなわち、▲１▼流体の吐出開放時にピストン端面間のギャップを増大させる、▲２▼吐出遮断時にはピストン端面間のギャップを減少させる構造を示す。従って、第３の実施形態（１重ピストン方式）と比べて、ピストンの動作▲１▼、▲２▼は逆となる。
【０２２４】
従来のバルブを用いて、流体を開放するためにピストン（図示せず）とその対向面のギャップＸを増加させたとき、流体輸送室であるポンプ室（図示せず）の容積増大により吐出ノズル上流側（ポンプ室）の圧力Ｐは、図１８（Ａ）で示すように大きく降下する。この吐出ノズル上流側の負圧発生は、「描画の始点で線が描けない」、或いは「描画線の細り」などの要因となる。
【０２２５】
さらに、流体を遮断するためにギャップＸを小さくしたとき、吐出ノズル上流側の圧力Ｐは逆に大きく増大する。この高圧発生は、流体の圧縮、或いはスクイーズ作用と呼ばれる流体軸受の動圧効果によるものである。この高圧発生が不利な方向に作用して、描画の終点で「液溜まり発生」の要因となる。
【０２２６】
さて、本発明の第４の実施形態を適用したバルブ用いて、図１８（Ａ）のごとく、ピストン５５０と可動スリーブ５５１を逆位相で駆動させる。
【０２２７】
このとき、ピストン５５０と可動スリーブ５５１の軸方向移動が逆位相であるために、ポンプ室の容積変化はキャンセルされる。その結果、「描画線の細り」「液溜まり発生」などのトラブルが発生する図１９のＡに対して、図１９にＢで示すごとく、描画開始時の負圧発生と終了時の高圧発生が低減し、「描画線の細り」「液溜まり発生」などのトラブルが解消されるのである。
【０２２８】
なお、ピストン５５０の変位Ｘｐが最下点の位置にあるＸｐ＝Ｘｐｍｉｎのときでも、Ｘｐｍｉｎを十分大きく設定しておけば、ピストン５５０の存在が流路抵抗（すなわち流量）に与える影響を小さくできる。
【０２２９】
第１、第２のアクチュエータを駆動するドライバーはそれぞれ独立して設けてもよいし、或いは１台でそれぞれのアクチュエータを逆位相で駆動してもよい。
【０２３０】
ピストン或いは可動スリーブの吐出側端面とその対向面の形状が平坦面でないバルブの場合でも、従来バルブが抱える問題点と本発明の第４の実施形態の適用による効果は同様である。例えば、ピストンの先端を鋭敏な凸面とし、その対向面を凹面としてバルブを構成しても、本発明を適用することができる。この場合は、ピストンの凸面と対向面（固定側）の凹面を近接させることにより流体を遮断する。そのため、図１７の第４実施形態とは異なり、可動スリーブが上昇してピストンが降下するとき流体は遮断され、逆の場合は流体は開放される。
【０２３１】
この場合は、可動スリーブの変位Ｘｓが最下点の位置にあるＸｓ＝ＸｓｍｉｎのときでもＸｓｍｉｎが十分大きくなるように設定しておけばよい。
【０２３２】
いずれの場合も最適な描画線を描くためには、適用するプロセスと塗布材料の特性に合わせて、ピストンと可動スリーブの変位曲線を微調整すればよい。
【０２３３】
第３実施形態における「１重ピストン方式」と比べて、「２重ピストン方式」である上記第４実施形態の長所は次のようである。
【０２３４】
塗布開放時及び定常塗布時では、ピストン５５０の下降と同時に、スリーブ５５１を大きく上昇できる。スリーブ５５１とその対向面の隙間：Ｘｓを十分に大きくとれるため、吸入口から吐出ノズルに至る流通路に大きな流体抵抗Ｒ０｛（３）式｝を設けなくてよく、十分な吐出流量を確保できる。
【０２３５】
また、塗布遮断時には、逆にスリーブ５５１とその対向面の隙間：Ｘｓを十分に小さくできるため、ポンプ室５５２は外部と遮断された密閉状態となる。この密閉状態でピストン５５０を上昇することにより、ポンプ室５５２の圧力を急速に降下できるため、レスポンスの一層高い吐出遮断が可能となる。
【０２３６】
上記第４実施形態のディスペンサーでは、ピストンとスリーブの変位曲線は任意に設定できるため、始点におけるオーバーシュート圧力と、終点におけるサックバック圧力は要求されるプロセス条件に合わせて自由に設定できる。ピストンとスリーブの変位曲線は完全な逆位相でなくてもよい。
【０２３７】
また、超磁歪素子を用いて、第２実施形態のごとくスリーブを回転させる構造にすれば、動圧シールによる永続的な吐出遮断ができる構成も可能である。
【０２３８】
以下、本発明を、第５実施形態として蛍光体層形成方法及び形成装置に適用したディスペンサーについて、図２０〜２２を用いて説明する。
【０２３９】
以下に示す第５実施形態のディスペンサーは、ピストンに回転運動と直線運動を同時に与える２自由度アクチュエータを用いているという点は、第２実施形態同様である。第５実施形態では、流体の遮断方法に第２〜４実施形態で示したスクイーズ効果を用いるのではなく、スラスト動圧シールによるくさび効果を利用している。すなわち、
▲１▼ピストンの吐出側端面とその相対移動面の間にスラスト動圧シールを形成し、第１のアクチュエータでピストンを直線駆動させて、ピストン端面間のギャップを調節することにより、流体の遮断・開放を制御する。
【０２４０】
▲２▼回転運動を与える第２のアクチュエータで、ねじ溝が形成されたピストンを回転させて、塗布流体を吐出側に圧送するポンピング圧力を発生させる。
【０２４１】
上記▲１▼、▲２▼を同時に実現したものである。
【０２４２】
図２０において、１０１は第１のアクチェータであり、第２実施形態同様、超磁歪素子を用いている。１０２は第１のアクチェータ１０１によって駆動される主軸（ピストン）である。上記第１のアクチェータは、下部ハウジング１０３に収納されており、この下部ハウジング１０３の下端部（フロント側）に、主軸１０２を収納するポンプ部１０４が装着されている。
【０２４３】
１０５は第２のアクチェータであり、主軸１０２とハウジング１０３の間に相対的な回転運動を与えるものである。モータロータ１０６は上部主軸１０７に固着され、また、モータステータ１０８は上部ハウジング１０９に収納されている。
【０２４４】
１１１、１１２は超磁歪素子から構成される円筒形状のリア側超磁歪ロッド及びフロント側超磁歪ロッドである。１１３は超磁歪ロッド１１，１２の長手方向に磁界を与えるための磁界コイルである。１１４、１１５、１１６は超磁歪ロッド１１１，１１２にバイアス磁界を与えるためのリア側、中間部、フロント側の永久磁石である。リア側とフロント側の永久磁石１１４、１１６が、超磁歪ロッド１１１，１１２と中間部永久磁石１１５を矜持する形で配置されている。
【０２４５】
１１７は超磁歪ロッド１１１のリア側に配置され、磁気回路のヨーク材をであるリア側ヨーク、１１８は超磁歪ロッド１１２のフロント側に配置され、ヨーク材を兼ねたフロント側スリーブ、１１９は磁界コイル１１３の外周部に配置された円筒形状のヨーク材である。
【０２４６】
すなわち、超磁歪ロッド１１１，１１２、磁界コイル１１３、永久磁石１１４〜１１６、リア側ヨーク１１７、フロント側スリーブ１１８、ヨーク材１１９により、磁界コイルに与える電流で超磁歪ロッドの軸方向の伸縮を制御できる超磁歪アクチェータ（第１のアクチェータ１０１）を構成している。
【０２４７】
１２０は上部主軸７を回転自在、かつ軸方向に移動可能に収納するリア側スリーブである。このリア側スリーブ１２０もまた、軸受１３９により、中間ハウジング１２１に対して回転自在に支持されている。
【０２４８】
１２２はリア側ヨーク１１７とリア側スリーブ１２０の間に装着されたバイアスバネである。このバイアスバネ１２２から加わる軸方向荷重により、超磁歪ロッド１１１，１１２はバイアス永久磁石１１４〜１１６を介在して、上下のリア側ヨーク１１７，フロント側スリーブ１１８に押圧される形で把持されている。フロント側スリーブ１１８は主軸２を軸方向移動可能に収納している。モータ１０５から伝達された主軸１０２の回転動力は、主軸１０２、フロント側スリーブ１１８の間に設けられた回転伝達キー１２３によってフロント側スリーブ１１８に伝達される。また、フロント側スリーブ１１８も軸受１２４によって、ハウジング１０３に回転自在に支持されている。
【０２４９】
１２５は上部主軸１０７の回転位置情報を検出するためのエンコーダ、１２６は上部主軸１０７（及び主軸１０２）の上端面１２７の軸方向変位を検出するための変位センサーである。
【０２５０】
上記構成により、第２の実施形態同様に、装置の主軸１０２が回転運動と微少変位の直線運動の制御を同時に、かつ独立して行うことができる「２自由度・複合動作アクチュエータ」が実現できる。
【０２５１】
さて、上記第５実施形態では、主軸１０２の軸方向位置決め機能を用いて、主軸１０２の定常回転状態を保ったままで、主軸１０２の吐出側端面の隙間の大きさを任意に制御することができる。この機能を用いて、吸入口１３２から吐出ノズル１３３に至るいかなる流通路の区間も機械的に非接触の状態で、始終端における粉粒体の遮断・開放の制御ができる。
【０２５２】
すなわち、ディスペンサーの吐出ノズル１３３と基板が有効表示領域６０ａ内［図２参照］を相対的に走行するときは、主軸１０２は上昇した位置にあり、吐出側端面の隙間は十分に大きく、蛍光体ペーストの吐出は開放されている。また、吐出ノズル１３３と基板が非有効表示領域６０ｂ内［図２参照］を相対的に走行を始める手前で主軸１０２は下降を開始する。その結果、スラスト動圧シールの機能がすみやかに働き、蛍光体ペーストの吐出は遮断される。
【０２５３】
以下、スラスト動圧シールの原理を、ポンプ部１０４の詳細図である図２１と動圧シールの変位と発生圧力の関係を示す図２２（Ａ）〜（Ｃ）を用いて説明する。
【０２５４】
１２８は主軸１０２の外表面に形成された流体を吐出側に圧送するためのラジアル溝（図２０では溝の部分を黒く塗りつぶしている一方、図２１では溝の部分にハッチングしている。）、１２９は流体シール、１３０はシリンダである。
【０２５５】
この主軸１０２とシリンダ１３０の間で、主軸１０２とシリンダ１３０の相対的な回転によってポンピング作用を得るためのポンプ室１３１を形成している。また、シリンダ１３０には、ポンプ室１３１と連絡する吸入孔１３２が形成されている。１３３はシリンダ１３０の下端部に装着された吐出ノズル、１３４はシリンダ１３０の吐出側端面に締結された吐出プレートである。１３５は主軸１０２の吐出側端面に締結されたスラストプレートである。主軸１０２の吐出側端面１３６の対向面１３７の中央部に吐出ノズル１３３の開口部１３８が形成されている。
【０２５６】
また、スラストプレート１３５の吐出側端面１３６スラスト動圧シールの溝１３９（図２２（Ｂ）では溝の部分を黒く塗りつぶしている。）が形成されている。
【０２５７】
シール用スラスト溝１３９は、スラスト動圧軸受として知られている公知のものである。
【０２５８】
さて、スラスト軸受の発生できるシール圧力Ｐｓは次式で与えられる。
【０２５９】
【数４】
0003769261.tif 000007
【０２６０】
（４）式において、ωは回転角速度、ｒ０はスラスト軸受の外半径、ｒｉはスラスト軸受の内半径、ｆは溝深さ、溝角度、グルーブ幅とリッジ幅などで決まる関数である。
【０２６１】
図２２（Ｃ）のグラフにおける曲線（Ｉ）は、下記表３の条件下で、スパイラルグルーブ型スラスト溝を用いた場合のギャップδに対するシール圧力ＰＳの特性を示すものである。図２２（Ｃ）のグラフにおける曲線（ＩＩ）は、軸方向流動が無い場合について、ラジアル溝のポンピング圧力と軸先端のギャップδの関係を示す一例である。このラジアル溝のポンピング圧力は、上記スラスト溝同様、ラジアル隙間、溝深さ、溝角度の選択によって広い範囲で選ぶことができる。しかし定性的には、ラジアル溝のポンピング圧力Ｐｒは軸先端の空隙の大きさ（すなわちギャップδの大きさ）に依存しない。
【０２６２】
さて、シール用スラスト溝のギャップδが十分大きいとき、例えばギャップδ＝１５μｍのとき、発生圧力はＰ＝０．０６ｋｇ／ｍｍ２（０．６９ＭＰａ）である。
【０２６３】
軸を回転させたままで、主軸１０２の端面を固定側の対向面に接近させる。ギャップδ＜１０．０μｍなると、シール圧力がラジアル溝のポンピング圧力Ｐｒより大きくなり、流体の吐出口側への流出は遮断される。
【０２６４】
図２１は流体の流出が遮断された状態を示し、吐出ノズルの開口部１３８近傍の流体は、スラスト溝１３９によって遠心方向のポンピング作用［図２１の矢印参照］を受けているために、開口部１３８近傍は負圧（大気圧以下）となる。この効果により、遮断後、吐出ノズル１３３内部に残存していた流体は再びポンプ内部に吸引される。その結果、吐出ノズル先端で表面張力による流体魂ができることはなく、糸引き、洟垂れが解消されるのである。
【０２６５】
さて、本発明の上記第５実施形態では、回転軸を１０〜数１０μｍ程度軸方向に移動させることにより、流体の吐出状態のＯＮ，ＯＦＦを自在に制御することができる。
【０２６６】
本発明の上記実施形態のポイントを要約すれば、スラスト溝によるシール圧力は、ギャップδが小さくなると急激に増大するのに対して、ラジアル溝のポンピング圧力はギャップδの変化に対して極めて鈍感である、という点を利用している。
【０２６７】
なお、ラジアル溝、スラスト溝いずれも回転側、固定側のどちらに形成してもよい。
【０２６８】
また、微少粒子が含まれた蛍光体、電極材料のような粉粒体を塗布する場合は、ギャップδの最小値δｍｉｎは微少粒子径φｄよりも大きく設定すればよい。
【０２６９】
【数５】
δｍｉｎ＞φｄ              ……（５）
【０２７０】
同一の発生圧力に対して、より大きなギャップを得るためには、回転数を高くするか、スラストプレート１３５の外径を大きくかつ溝深さ、溝角度等に適切な値を選べば良い。
【０２７１】
【表３】
0003769261.tif 000008
【０２７２】
上記第５実施形態では、スラスト動圧シールが形成された吐出部に蛍光体ペーストを供給する圧力源として、ねじ溝ポンプを用いた。このねじ溝ポンプの代わりに、外部に設置されたポンプを塗布流体の圧力源としてもよい。或いは、工場内で常備されたエアー圧でもよい。要は、スラスト動圧シールが発生できる最大シール圧力以下に、圧力源の供給圧を設定すればよい。
【０２７３】
以下、上記第１〜５実施形態ともであるが、高粘度流体を吐出させる場合、ポンピング圧力、スクイーズ圧力共極めて大きな流体圧の発生が予想される。この場合、ピストンを駆動する第１のアクチェータには、高い流体圧に抗する大きな推力が要求されるため、数百〜数千Ｎの力が容易に出せる電磁歪型アクチェータの適用が効果的である。電磁歪素子は、数ＭＨＺ以上の周波数応答性を持っているため、主軸を高い応答性で直線運動させることができる。そのため、高粘度流体の吐出量を高いレスポンスで高精度に制御できる。
【０２７４】
また、軸方向駆動手段（機構又は装置）に超磁歪素子を用いた場合、圧電素子を用いる場合と比べて、伝導ブラシも省略できることから、モータ（回転手段（機構又は装置））の負荷を軽減できると共に、全体構成が極めてシンプルとなるため、可動部の慣性モーメントを極力小さくでき、ディスペンサーの細径化が可能である。
【０２７５】
以上、ＰＤＰ用基板として背面板に蛍光体を塗布する場合の実施形態について説明したが、本発明は、別の実施形態として、例えばＰＤＰ用基板としての表面板の電極形成にも適用することができる。
【０２７６】
図２６はＰＤＰ用表面板の別の例を示すもので、７００はＰＤＰの有効表示部に対応する「有効表示領域」（バス電極部）であり、蛍光体が塗布される背面板の前述した有効表示領域６０ａ（図２参照）と表裏一体の領域である。７０１Ａ、７０１Ｂは端子部であり、「準有効表示領域」と呼ぶことにする。有効表示領域７００、端子部７０１Ａ、端子部７０１Ｂでガラス基板より構成されるＰＤＰ表面板７０２を構成している。７０３はタブ接合部である。
【０２７７】
７０４は表面板７０２の外部の両側部（図２６の左右の側部）に設けられたペースト塗布のための仮想領域であり、「非有効表示領域」と呼ぶことにする。
【０２７８】
例えば、表面板の左側端部を始点位置（塗布開始位置）Ａ（或いは終点位置（塗布終了位置））とする、電極層の一例としての電極線７０５は、準有効表示領域７０１Ａ内でかつ塗布開始位置Ａから屈曲位置Ｂまでのタブ接合部７０３と、準有効表示領域７０１Ａ内でかつ屈曲位置Ｂから屈曲位置Ｃまでの傾斜部と、準有効表示領域７０１Ａ内でかつ屈曲位置Ｃから有効表示境界位置Ｄまでの有効表示境界近傍部と、有効表示領域７００内でかつ有効表示境界位置Ｄから有効表示境界位置Ｅまでの有効表示直線部と、準有効表示領域７０１Ａ内でかつ有効表示境界位置Ｅから塗布終了位置Ｆまでの終了近傍直線部とより構成されている。従って、電極線７０５は、準有効表示領域７０１Ａを通過して、有効表示境界位置Ｄで有効表示領域７００に入る。さらに有効表示領域７００を通過した電極線７０５は、有効表示境界位置Ｅで右側の準有効表示領域７０１Ｂに入り、その直後に塗布終了位置Ｆで停止する。すなわち、準有効表示領域７０１Ｂ内の塗布終了位置Ｆは、電極線７０５の終点位置（塗布終了位置）（或いは始点位置（塗布開始位置））となる。他の電極線７０８，７０９，７０７も全く同一構成であり、さらに、電極層の一例としての別の電極線７０６，７１１，７１０は、塗布開始位置が表面板の右側端部を始点位置（塗布開始位置）Ｇとなり、左右反対になるだけで、基本的な構成は同じである。よって、電極線７０６，７１１，７１０のそれぞれの傾斜部は同一の傾斜角であり、電極線７０５，７０８，７０９，７０７のそれぞれの傾斜部は同一の傾斜角である。
【０２７９】
電極線７０５に隣接した電極線７０６は、電極線７０５に対して始点位置、終点位置の位置は左右逆に形成される。電極線７０６に隣接した電極線７０７は、電極線７０６に対して始点位置、終点位置の位置は左右逆に形成される。このように、実施形態のＰＤＰでは、左右の準有効表示領域で停止位置を有する電極線が交互に入れ替わるように形成される。
【０２８０】
さて、まず、塗布方法の具体例（Ｉ）について説明する。ＰＤＰの表面板の電極形成を目的とした、この実施形態では、前述した第２実施形態と同様な方法を適用する。すなわち、「２自由度アクチュエータ」を有するディスペンサを用いて、
▲１▼第１のアクチュエータでピストンを直線駆動することにより、ピストンの吐出側端面に正負のスクイーズ圧力を発生させる。
【０２８１】
▲２▼回転運動を与える第２のアクチュエータで、ねじ溝が形成されたピストンを回転させてポンピング圧力を発生させ、塗布流体を吐出側に圧送する。
【０２８２】
上記▲１▼、▲２▼の組み合わせにより、
（１）  有効表示領域における連続線塗布と、
（２）  有効表示領域と非有効表示領域の境界部における塗布線の遮断・開放の制御と、
（３）  準有効表示領域内での塗布線の遮断・開放の制御と、
を実現するものである。
【０２８３】
以下、電極線７０５に注目し、電極材である銀ペーストを塗布する場合について説明する。
【０２８４】
（ｉ）塗布開始時
塗布開始前の状態では、吐出ノズル３３（第２実施形態の図６参照）の先端は準有効表示領域７０１Ａの領域にある。このとき、モータの回転は停止しており、ピストン（主軸２）は上昇した位置にある。ディスペンサーは、準有効表示領域７０４内の電極線７０７の塗布開始位置Ａ'から図２６の下向きに走行開始した後、塗布開始位置Ａを通過する直前のタイミングで、モータを回転させると同時にピストンを降下させる。既に述べたように、塗布開始位置Ａにおける塗布線をスムーズに描かせるため、オーバーシュート圧力は、ピストンのストロークが大きい程、立ち上がり時間が短い程、大きい。すなわち、吐出ノズル先端の流体の表面張力に打ち勝つと共に、塗布開始位置Ａでの塗布線の「太り」にならない範囲で、このオーバーシュート圧力の大きさを設定すればよい。
【０２８５】
（ｉｉ）準有効表示領域内での走行
ピストンは、その対向面との間隙を一定に保ちながら、ねじ溝のポンピング圧力による定量吐出により、塗布開始位置Ａから屈曲位置Ｂ及び屈曲位置Ｃを経て有効表示境界位置Ｄまで、連続線を塗布する。この区間ではスクイーズ圧力の発生はない。実施形態では、準有効表示領域７０１Ａ内の電極線７０５の線幅は、例えば、ｂ２＝０．１ｍｍであり、有効表示領域７００内の線幅：ｂ１＝０．０７５ｍｍより大きかった。そのため、吐出ノズルが準有効表示領域内７０１Ａ及び７０１Ｂを走行するときは、有効表示領域７００を走行するときよりも、ねじ溝の回転数を上げた状態で塗布する。
【０２８６】
（ｉｉｉ）有効表示領域内での走行
有効表示境界位置Ｄから有効表示境界位置Ｅにかけての区間では、ピストンは、その対向面との間隙を一定に保ちながら、線幅：ｂ１＝０．０７５ｍｍを保つように、ねじ溝の回転数を上記（ｉｉ）よりも下げた状態で塗布を行なう。
【０２８７】
（ｉｖ）準有効表示領域内での走行及び遮断
有効表示境界位置Ｅを通過した後の塗布終了位置Ｆまでの塗布条件は、上記（ｉｉ）と同様である。塗布終了位置Ｆに到達する直前のタイミングで、モータを停止させると同時にピストンを急上昇させる。このとき、ｈは対向面間の隙間、ｔは時間として、（ｄｈ／ｄｔ）＞０としたときの負圧発生の効果により、吐出は一瞬にして遮断される。その後、吐出ノズル先端は、吐出遮断状態のまま、塗布終了位置Ｆの位置から、最短距離にある準有効表示領域７０４の右端の位置Ｇ’にすみやかに移行し、位置Ｇを始点位置として塗布を開始する。
【０２８８】
以降、上記（ｉ）〜（ｉｖ）と同様な方法で連続線を繰り返し塗布していく。
【０２８９】
以上述べた方法により、吐出ノズル３３と、表面板を位置決め保持するＸＹステージとを相対的に走行させる時間のロスを極力低減することができて効率の良い塗布ができる。
【０２９０】
上記（ｉｖ）の行程において、準有効表示領域７０１Ａ，７０１Ｂ内でピストンを上昇させて吐出を遮断しているが、この方法により、描画線の塗布終了位置Ｆを確実なタイミングでかつ極めて高品位に形成できる。すなわち、塗布終了位置Ｆにおける描画線の「太り」又は「溜まり」などが発生しない。もし「太り」又は「溜まり」が大きく発生すれば、近接する電極線間での電気特性に重大な影響を与えてしまう。終端位置Ｆを逆に始点位置として描画線を描く方法もあるが、最適なオーバーシュート圧力の設定方法が終端制御の場合と比べてややデリケートとなる。有効表示領域７００内の線幅と、準有効表示領域内７０１Ａ、７０１Ｂの線幅の設定は、ねじ溝の回転数以外では、吐出ノズルとステージの相対速度を調節してもよい。
【０２９１】
次に、塗布方法の具体例（ＩＩ）として、マルチヘッドで電極線を塗布する場合について述べる。マルチヘッドのシステムとしては、１個のマスターポンプと複数個のマイクロポンプの組み合わせによる、例えば図１６に示す様な構成でもよい。
【０２９２】
準有効表示領域内７０１Ａ及び７０１Ｂでは、各電極線の傾斜角が異なるために、並列ピッチで配置されたマルチヘッドでは、同時に準有効表示領域内の複数本の電極線を塗布することは困難である。そのために、次の方法で塗布を行った。
【０２９３】
まず、ステップＳ１として、電極線７０５を描く場合、準有効表示領域内７０１Ａの位置Ｃを始点として有効表示領域７００を通過し、準有効表示領域内７０１Ｂの位置Ｆで塗布を終了させる。このとき同時に、同一のパターンを有する他の電極線（例えば７０７）も、並列ピッチで配置されたヘッドにより、位置Ｃ’を始点として、位置Ｆ’で塗布を終了させる。マルチヘッド全体を左側から右側へ走行させた後、次は、ヘッド全体を右側から左側へ走行させて塗布する。この繰り返し動作により、複数平行線から構成される電極線塗布は完了する。
【０２９４】
次に、ステップＳ２の塗布に進む。準有効表示領域７０１Ａ，７０１Ｂ内において、傾斜角が異なる各電極線をマルチヘッドで描く場合は次のような方法を用いる。準有効表示領域７０１Ａ，７０１Ｂ内において、それぞれの傾斜角が異なる電極線から構成される電極線のグループをＡＡ１〜ＡＡｎ（図２６参照、ｎはグループの総数）とすると、このグループはＰＤＰの表面板では複数セット形成される。そこで、複数個のグループＡＡ１〜ＡＡｎの中から同一の傾斜角を有する電極線を選び、それをグループＢＢとする。グループＢＢは、例えば、電極線７０５、７０８、７０９である。グループＢＢの各電極線は、ノズルとＰＤＰの表面板を保持するＸＹステージとを相対的にＸＹ方向に移動させれば、同時に塗布することができる。
【０２９５】
以上、マルチヘッドを用いて、有効表示領域内で複数平行線の電極線を描くプロセス（ステップＳ１）と、準有効表示領域内において、同一傾斜角の電極線を描くプロセス（ステップＳ２）を分けて行う場合について説明した。
【０２９６】
有効表示領域内での複数電極線の塗布（ステップＳ１）は、電極線の長さが長いためにヘッド数が多いほど、生産タクトの点で有利となる。
【０２９７】
準有効表示領域内での電極線の塗布（ステップＳ２）は、マルチヘッドの中から、ふさわしい位置にあるヘッド（図２６ではｎ＝３個）だけを選び、塗布に用いることになる。この場合、ステップＳ１と比べて、塗布の繰り返し回数が多くなるが、準有効表示領域内での電極線は長さが短いために、さほどのタクトの遅れにはならない。上記準有効表示領域内での塗布方法では、塗布線の「始端」と「終端」の両方に高品位の塗布が要求される。マルチヘッドを１個のマスターポンプと複数個のマイクロポンプの組み合わせで構成し、かつ、このマイクロポンプに第４実施形態で説明した「２重ピストン方式」を用いれば、描画線の始終端は共に高品位で描くことができる。
【０２９８】
さらに、塗布方法の具体例（ＩＩＩ）として、マルチヘッドで、有効表示領域７００と準有効表示領域７０１Ａ、７０１Ｂ内にある電極線を一気に描く場合について述べる。この場合は、描画線は、例えば「終端」のみの制御で良く、マルチヘッドのヘッド数は、グループＡＡ１〜ＡＡｎの数（図２６ではｎ＝３個）だけでよい。マルチヘッドのシステム構成としては、１個のマスターポンプと複数個のマイクロポンプの組み合わせによる、例えば図１６に示す様な構成でもよい。マイクロポンプは、ピストンの上昇・下降に伴う負圧・正圧の発生を利用して、描画線の始終端の制御を行う方法を用いれば、シンプルな構造を採用できる。或いは、上記具体例（Ｉ）で説明した、２自由度アクチュエータを有するディスペンサを複数本配列してもよい。
【０２９９】
具体的には、図２６において、同一の傾斜角を有する電極線として、例えば、電極線７０５、７０８、７０９を選ぶ。各ヘッドのノズル間の間隔は、電極層の塗布パターンから予め決められているものである。以降の各ヘッドの塗布方法は、具体例（Ｉ）と同様な方法が採用できるため、詳細は省略する。
【０３００】
また、上記基板に対して上記ディスペンサーが相対的に走行する別の例として、図２７に示すように、ディスペンサー３０４を固定フレーム３０３に取付けた状態で、ＸＹステージを直交するＸＹ方向に移動させる機構について説明する。Ｚ軸用モータ３０２によりＺ軸方向にのみ昇降可能にディスペンサー３０４を固定フレーム３０３に取付けた状態で、ＸＹステージを直交するＸＹ方向に移動させる機構について説明する。これに対して、固定フレーム側に固定されたＸ軸用モータ３００の駆動により、Ｙ軸テーブル３０７がＸ方向に進退し、Ｙ軸テーブル３０７に固定されたＹ軸用モータ３０１の駆動により、基板３０６が位置決め保持される基板載置テーブル３０５がＹ方向に進退する。
【０３０１】
このように構成すれば、ディスペンサー３０４は、Ｚ軸用モータ３０２によりＺ軸方向にのみ昇降させるだけで、ＸＹ方向に対しては、基板載置テーブル３０５がそれぞれの方向に移動することにより、上記基板に対する上記ディスペンサーの相対的な走行を実現することができる。
【０３０２】
上記実施形態において、上記ディスペンサーと上記基板が上記有効表示領域から上記非有効表示領域へ相対的に移行するとき、上記ねじ溝式ディスペンサーの上記回転軸の回転数を減小させた後に停止させることにより上記吐出を停止させ、或いは、減小させた後に停止し、さらに、上記回転軸を例えば１０ｍｓｅｃ以下の間のみ逆転させて例えば１０μｍ程度ペーストを持ち上げることにより上記吐出を停止させるようにしてもよい。
【０３０３】
また、これに代えて、上記ディスペンサーと上記基板が上記非有効表示領域から上記有効表示領域へ相対的に移行するとき、上記ねじ溝式ディスペンサーの上記回転軸の回転数を増加させた後、上記回転軸の一定回転を維持して吐出を行なうか、或いは、増加させた後、減小させてしかる後、上記回転軸の一定回転を維持して吐出を行なうようにしてもよい。
【０３０４】
さらに、上記実施形態において、複数本のねじ溝式ディスペンサーが配置されているとき、複数本のねじ溝式ディスペンサーの回転数を個別に調節して、所定の流量を設定することもできる。
【０３０５】
上記種々の実施形態では、ピストンに軸方向駆動させる装置に超磁歪アクチュエータを用いている。しかしながら、もし、描画線の始終端を、それ程、高品位に形成する必要がなければ、超磁歪アクチュエータの代わりに、応答性は低下するが、リニアモータ、電磁ソレノイド等を用いてもよい。
【０３０６】
以上、ディスプレイパネルに連続線を描く連続塗布の実施形態について説明したが、本発明は、間欠塗布にも適用できる。この場合も、塗布開始と終了時における始終端制御の考え方を適用することができる。或いは、超高速の間欠塗布で、隣接する流体塊を自然流動により連結させて、擬似的な連続線にする塗布にも適用できる。
【０３０７】
なお、上記様々な実施形態のうちの任意の実施形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。
【０３０８】
本発明は、添付図面を参照しながら好ましい実施形態に関連して充分に記載されているが、この技術の熟練した人々にとっては種々の変形や修正は明白である。そのような変形や修正は、添付した請求の範囲による本発明の範囲から外れない限りにおいて、その中に含まれると理解されるべきである。
【０３０９】
【発明の効果】
本発明のディスプレイパネルのパターン形成方法及び形成装置により、従来のスクリーンマスクを用いることなく、例えば基板仕様を数値設定するだけで、任意のサイズの基板に対して、例えば蛍光体層、電極層などを精度よく形成することができると共に、基板の仕様変更に容易に対応できる。また、高速プロセスに対応できるために、従来工法と比べても生産タクトの点で遜色がなく、廃棄する材料がないために、材料ロスを大幅に削減できる。
【０３１０】
製造行程及び製造ラインとも規模を拡大させる必要がなく、単体の装置でスクリーニングすることを可能にし、また、多品種少量生産のディスプレイパネルに対して量産効果を上げて製造させ、さらに単体でスクリーニングするため自動化ラインを小規模なマシンで稼動できる。その効果は絶大である。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明のディスプレイパネルのパターン形成方法を実施するためのパターン形成装置を、第１実施形態として、ＰＤＰ用基板の蛍光体層形成装置に適用した場合の概略斜視図である。
【図２】  上記ＰＤＰ用基板の有効表示領域と非有効表示領を示す図である。
【図３】  本発明に適用した第１実施形態によるディスペンサーを示す正面断面図である。
【図４】  第１実施形態において、時間に対するディスペンサーの移動速度を示す図である。
【図５】  （Ａ）は第１実施形態における時間に対するねじ溝回転数基本成分を示す図、（Ｂ）は第１実施形態における時間に対するねじ溝回転数補正分を示す図、（Ｃ）は第１実施形態における時間に対するねじ溝回転数を示す図である。
【図６】  本発明に適用した第２実施形態によるディスペンサーを示す正面断面図である。
【図７】  図６の吐出部詳細図である。
【図８】  第２実施形態において、時間に対するピストン変位を示す図である。
【図９】  第２実施形態において、時間に対するねじ溝圧力を示す図である。
【図１０】  第２実施形態において、時間に対するスクイーズ圧力を示す図である。
【図１１】  第２実施形態において、時間に対する吐出ノズル上流側圧力を示す図である。
【図１２】  本発明に適用した第３実施形態によるディスペンサーを示す正面断面図である。
【図１３】  図１２の流量制御部詳細図である。
【図１４】  第３実施形態において、時間に対する吐出流量を示す図である。
【図１５】第３実施形態において、流量制御部の電気回路モデルを示す図である。
【図１６】  本実施形態のパターン形成装置をＣＲＴの蛍光体層装置やＰＤＰ用基板のパターン形成装置などに適用して多数のスクリーンストライプを同時的に描く場合の概略斜視図である。
【図１７】  本発明に適用した第４実施形態によるディスペンサーを示す正面断面図である。
【図１８】  （Ａ），（Ｂ）は、それぞれ、第４の実施形態において、時間に対するピストンとスリーブの変位を示す図である。
【図１９】  第４の実施形態において、時間に対する吐出ノズル上流側圧力を示す図である。
【図２０】  本発明に適用した第５実施形態によるディスペンサーを示す正面断面図である。
【図２１】  第５の実施形態において、ポンプ部の拡大図である。
【図２２】  （Ａ），（Ｂ），（Ｃ）は、それぞれ、第５の実施形態において、シール圧力とギャップの関係を示す図である。
【図２３】  従来に提案されたディスペンサー方式蛍光体層装置の概略斜視図である。
【図２４】  従来のエアー式ディスペンサーを示す図である。
【図２５】  図１６のパターン形成装置により、複数本のマイクロ・ディスペンサーで、同時に、複数の塗布線を描かせる状態を説明するための説明図である。
【図２６】  上記実施形態のパターン形成装置により、ＰＤＰ用基板の電極線を描く状態を説明するための説明図である。
【図２７】  本発明の別の実施形態にかかるパターン形成装置であって、ディスペンサーを固定してパネル側を移動させるパターン形成装置の斜視図である。
【図２８】図２の変形例にかかる上記ＰＤＰ用基板の有効表示領域と非有効表示領を示す図である。
【符号の説明】
１…第１のアクチェータ、２…主軸、３…ハウジング、４…ポンプ部、５…第２のアクチェータ、６…モータロータ、７…上部主軸、８…モータステータ、９…上部ハウジング、１１，１２…リア側超磁歪ロッド及びフロント側超磁歪ロッド、１３…磁界コイル、１４、１５、１６…リア側、中間部、フロント側の永久磁石、１７…リア側ヨーク、１８…フロント側スリーブ、１９…ヨーク材、２０…リア側スリーブ、２１…中間ハウジング、２２…バイアスバネ、２３…回転伝達キー、２４…軸受、２５…エンコーダ、２６…変位センサー、２７…上端面、２８…ラジアル溝、２９…流体シール、３０…シリンダ、３１…ポンプ室、３２…吸入口、３３…吐出ノズル、３４…吐出プレート、３５…吐出側端面、３６…対向面、３７…開口部、３８…軸受、５０…載置台、５１，５２…Ｙ軸方向搬送装置、５３…Ｘ軸方向搬送装置、５４…Ｚ軸方向搬送装置、５５…ディスペンサー、５６…シリンジ装着部、５７ａ、５７ｂ…Ｙ軸モータ、５８…Ｘ軸用モータ、５９…シリンジ、６０ａ，７００…有効表示領域、６０ｂ，７０４…非有効表示領域、６１…ＰＤＰ用基板、６２…吐出ノズル、６３…ＰＤＰ用基板の外周部、８９…Ｚ軸用モータ、９０…基板位置検出カメラ、９１ａ，９１ｂ…モータドライバ、９２…モータドライバ、９３…モータドライバ、９４…ディスペンサー制御部、１００…制御装置、１０１…メモリ、１０２…主軸、１０３…下部ハウジング、１０４…ポンプ部、１０５…第２のアクチェータ、１０６…モータロータ、１０７…上部主軸、１０８…モータステータ、１０９…上部ハウジング、１１１，１１２…リア側超磁歪ロッド及びフロント側超磁歪ロッド、１１３…磁界コイル、１１４，１１５，１１６…リア側、中間部、フロント側の永久磁石、１１７…リア側ヨーク、１１８…フロント側スリーブ、１１９…ヨーク材、１２０…リア側スリーブ、１２１…中間ハウジング、１２２…バイアスバネ、１２３…回転伝達キー、１２４…軸受、１２５…エンコーダ、１２６…変位センサー、１２７…上端面、１２８…ラジアル溝、１２９…流体シール、１３０…シリンダ、１３１…ポンプ室、１３２…吸入孔、１３３…吐出ノズル、１３４…吐出プレート、１３５…スラストプレート、１３６…吐出側端面、１３７…対向面、１３８…開口部、１３９…軸受、２００…マイクロ・ディスペンサー、２０１…直動型のアクチュエータ、２０２…ピストン、２０３…固定スリーブ、２０４…ハウジング、２０５…下部ハウジング、２０６…超磁歪ロッド、２０７，２０８…第１及び第２バイアス永久磁石、２０９…上部ヨーク、２１０…磁界コイル、２１１…ヨーク、２１２…上部スリーブ、２１３…軸受部、２１４…バイアスバネ、２１５…変位センサー、２１６…ピストン細径軸、２１７…吸入口、２１８…ノズル部、２１９…吐出ノズル、２２０…流体貯蔵室、２２１…流体絞り部、２２２…流量制御部、３００…Ｘ軸用モータ、３０１…Ｙ軸用モータ、３０２…Ｚ軸用モータ、３０３…固定フレーム、３０４…ディスペンサー、３０５…基板載置テーブル、３０６…基板、３０７…Ｙ軸テーブル、７０１Ａ、７０１Ｂ…準有効表示領域、７０２…ＰＤＰ表面板、７０３…タブ接合部、７０５、７０８、７０９…電極線、７０６…電極層、ａ…準備位置、ｂ，ｆ…塗布開始位置、ｃ，ｇ…塗布終了位置、ｄ，ｅ，ｈ…屈曲位置。
【図１】
0003769261.tif 000009
【図２】
0003769261.tif 000010
【図３】
0003769261.tif 000011
【図４】
0003769261.tif 000012
【図５】
0003769261.tif 000013
【図６】
0003769261.tif 000014
【図７】
0003769261.tif 000015
【図８】
0003769261.tif 000016
【図９】
0003769261.tif 000017
【図１０】
0003769261.tif 000018
【図１１】
0003769261.tif 000019
【図１２】
0003769261.tif 000020
【図１３】
0003769261.tif 000021
【図１４】
0003769261.tif 000022
【図１５】
0003769261.tif 000023
【図１６】
0003769261.tif 000024
【図１７】
0003769261.tif 000025
【図１８】
0003769261.tif 000026
【図１９】
0003769261.tif 000027
【図２０】
0003769261.tif 000028
【図２１】
0003769261.tif 000029
【図２２】
0003769261.tif 000030
【図２３】
0003769261.tif 000031
【図２４】
0003769261.tif 000032
【図２５】
0003769261.tif 000033
【図２６】
0003769261.tif 000034
【図２７】
0003769261.tif 000035
【図２８】
0003769261.tif 000036