(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板上に複数の第１電極及び複数の第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する面上に複数の第２電極及び複数の第２配線を備えた電気光学装置の製造方法であって、
前記第１基板上における前記第１電極及び前記第１配線の形成されていない領域に、前記第２基板の複数の前記第２電極又は複数の前記第２配線のそれぞれに対向する複数のダミーパターン部を形成し、その後、該ダミーパターン部間の短絡有無を検査する検査工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板上に複数の第１電極及び複数の第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する面上に複数の第２電極及び複数の第２配線を備えた電気光学装置の製造方法であって、
前記第２基板上における前記第２電極及び前記第２配線の形成されていない領域に、前記第１基板の複数の前記第１電極又は複数の前記第１配線のそれぞれに対向する複数のダミーパターン部を形成し、その後、該ダミーパターン部間の短絡有無を検査する検査工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、複数の前記ダミーパターン部にそれぞれ検査端子部を設け、複数の該検査端子部が所定領域内に配列されるように形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
請求項３において、前記複数のダミーパターン部には前記電気光学物質の配置領域外に伸びる延長パターン部が形成され、該延長パターン部に前記検査端子部が設けられていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
請求項３又は請求項４において、複数の前記検査端子部が等間隔で配列するように形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
請求項３から請求項５までのいずれか１項において、前記複数の前記検査端子部の配列領域を、前記検査工程の後に除去することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板上に第１電極及び第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する面上に第２電極及び第２配線を備え、前記第１基板における前記第１電極及び前記第１配線の形成されていない領域に、前記第２基板上における複数の前記第２電極又は複数の前記第２配線に対向する複数のダミーパターン部を備えた電気光学装置の検査方法であって、
複数の前記ダミーパターン部にそれぞれ検査端子部を設け、複数の該検査端子部が所定領域内に配列されるように形成し、該検査端子部に電気的コンタクトを取ることにより前記ダミーパターン部間の短絡有無を検査することを特徴とする電気光学装置の検査方法。
【請求項８】
第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板上に第１電極及び第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する面上に第２電極及び第２配線を備え、前記第２基板における、前記第２電極及び前記第２配線の形成されていない領域に、前記第１基板上における複数の前記第１電極又は複数の前記第１配線に対向する複数のダミーパターン部を備えた電気光学装置の検査方法であって、
複数の前記ダミーパターン部にそれぞれ検査端子部を設け、複数の該検査端子部が所定領域内に配列されるように形成し、該検査端子部に電気的コンタクトを取ることにより前記ダミーパターン部間の短絡有無を検査することを特徴とする電気光学装置の検査方法。
【請求項９】
請求項７又は８において、複数の前記検査端子部が等間隔で配列するように形成することを特徴とする電気光学装置の検査方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電気光学装置の製造方法及び電気光学装置の検査方法に係り、特に、ダミーパターン部の形成方法及びその検査技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、２枚の基板間に電気光学物質を配置した電気光学装置が例えば表示装置として用いられている。電気光学装置の一例としての液晶装置の場合、シール材を介して２枚の透明基板を貼りあわせ、その間に液晶を封入することによって構成された液晶パネルが設けられる。この液晶パネルにおいては、液晶を挟んで相互に対向する透明基板の表面上に透明電極や金属電極などが形成され、これらの対向する電極間に所定の電圧を印加することによって、液晶の配向状態が変化し、所望の表示が得られるように構成されている。
【０００３】
図４は従来の液晶パネルを製造する場合に用いる２枚の母基板１０，２０の表面上に形成された電極及び配線のパターンを示す平面図（ａ）及び（ｂ）である。上記母基板１０，２０にはそれぞれ複数のパネルを形成するためのパネル予定領域が配列されており、図示しているのはそのうちの一つのパネル予定領域１１０，１２０である。各パネル予定領域１１０，１２０は、液晶パネルに形成されたときの液晶層を挟む２枚の透明基板の外形をそれぞれ示すものである。
【０００４】
図１（ａ）に示すように母基板１０の表面上には、ストライプ状の透明な若しくは反射性の電極１１が多数並列するように形成され、各電極１１からは、当該電極と同材質で形成された配線１２が延長形成されている。配線１２の先端部は外部端子部１３として形成されている。一方、図１（ｂ）に示すように母基板２０の表面上には、上記電極１１と直交する方向にストライプ状に伸びる透明な電極２１が多数並列するように形成され、各電極２１からは、当該電極と同材質で形成された配線２２が延長形成されている。配線２２の先端部は外部端子部２３として形成されている。
【０００５】
上記母基板１０と２０とは図示しないシール材を介して貼りあわされ、このシール材の内側（液晶封入領域という。）に液晶が注入され、封止される。この状態では、相互に直交する方向に伸びる電極１１と電極２１の平面的に交差する部分が画素となる。この画素が配列された部分が図示斜線で示す表示駆動領域Ｘである。このとき、母基板１０上の配線１２と対向する母基板２０の表面上には複数のダミーパターン部２５ａからなるダミー電極パターン２５が形成され、また、母基板１０上の電極１２の端部と対向する母基板２０の表面上には複数のダミーパターン部２６ａからなるダミー電極パターン２６が形成されている。同様に、母基板２０上の配線２３と対向する母基板１０の表面上には複数のダミーパターン部１５ａからなるダミー電極パターン１５が形成され、また、母基板２０上の電極２１の端部と対向する母基板１０の表面上には複数のダミーパターン部１６ａからなるダミー電極パターン１６が形成されている。
【０００６】
上記のパネル予定領域１１０，１２０からなる２枚の透明基板によって構成される液晶パネルの液晶封入領域１１０Ａ，１２０Ａ内の上記表示駆動領域Ｘには、上述のように２枚の透明基板の表面に相互に対向する電極１１，２１が配置されている。また、液晶封入領域内ではあるが表示駆動領域Ｘの周囲部分である周縁領域Ｙにおいても、上記電極１１，２１の端部や当該電極に導電接続された配線１２，２２が形成されている。しかしながら、この周縁領域Ｙにおいては、電極１１，２１の端部や配線１２，２２に対向する部分に電極や配線が存在しないので、ダミー電極パターン１５，１６，２５，２６を形成しなければ上記表示駆動領域Ｘとは外観が異なるものとなる。また、周縁領域Ｙには配線１２，２２やダミー電極パターン１５，１６，２５，２６の形成されていない部分も存在するが、このような部分には外観を上記の表示駆動領域Ｘと同様にするために、いずれの透明基板の表面上にも図示しないダミー電極パターンが形成されている。
【０００７】
図６は上記液晶封入領域内の表示駆動領域Ｘ、液晶封入領域内の周縁領域Ｙ及び液晶封入領域外Ｚについて、一方の基板の表面上に形成された電極１１及びダミー電極パターンのダミーパターン部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃを、対向する基板の表面上に形成された電極２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ及びこれらにそれぞれ接続された配線２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃと平面的に重ね合わせて示すものである。表示駆動領域Ｘにおいては、電極１１と電極２１とが平面的に交差する部分にそれぞれ画素Ｇａ，Ｇｂ，Ｇｃがマトリクス状に配列されている。ダミーパターン部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃは対向する基板上の配線２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃに対向するように上記周縁領域Ｙにおいてそれぞれ形成されている。
【０００８】
このダミー電極パターンは、一方の基板の表面にのみ配線が形成されていない場合には上記のように一方の基板の表面にのみ形成されるが、両方の基板の表面に共に電極や配線が形成されていない場合には両方の基板の表面にそれぞれ形成される。上記のダミー電極パターンは、他方の基板の表面上に形成される電極や配線に対向する部分には、当該電極や配線とほぼ同じパターンで形成される。これは、電極や配線のパターンと、これに対向するダミー電極パターンとが異なるパターンで形成された場合、液晶層を介した電気容量の存在により、共通のダミー電極パターンに対向する複数の配線間において相互に電位の影響が生じ、表示のクロストーク現象（隣接画素の異常点灯）などが発生する可能性があるからである。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の液晶装置においては、特に近年、急激に表示の高精細化とともに狭額縁化（表示駆動領域よりも外側の部分の幅を小さくすること）が要求されてきているため、電極数の増大に伴って配線数が増加するとともに配線の取り回し面積が十分に確保しにくくなりつつあり、配線間の間隔が縮小され、また配線抵抗を均一化するために配線パターン形状も複雑化している。このため、必然的に、上記配線パターンに対向するように形成されたダミー電極パターンのパターン数も増加し、各パターン部の間隔も縮小され、さらにパターン形状も複雑化する。したがって、図６に示すように配線２２に対向するダミー電極パターン１５内において、例えば隣接するダミーパターン部１５Ａと１５Ｂとの間にブリッジ部ができるなど、各ダミーパターン部間の短絡事故も発生しやすくなっている。このように隣接するダミーパターン部１５Ａと１５Ｂとの間に短絡が発生すると、配線２２Ａの電位と配線２２Ｂの電位とがダミーパターン部１５Ａ及び１５Ｂを介して相互に影響を受けるので、画素ＧａとＧｂの表示状態が相互に影響を受け、例えば本来点灯させようとしていない画素が点灯してしまうなど上述のような表示異常が発生し、表示品位を著しく劣化させるという問題点がある。
【００１０】
そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、電気光学装置におけるダミー電極パターンに起因する製品不良や製品品位の低下を抑制することのできる構造及び製造方法並びに検査方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の参考例に係る電気光学装置は、第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板上に複数の第１電極及び複数の第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する面上に複数の第２電極及び複数の第２配線を備えた電気光学装置であって、前記第１基板上における前記第１電極及び前記第１配線の形成されていない領域に、前記第２基板の複数の前記第２電極又は複数の前記第２配線に対向する複数のダミーパターン部が設けられており、前記ダミーパターン部は、当該ダミーパターン部間の短絡有無の検査が行われてなることを特徴とする。
本発明の参考例に係る電気光学装置は、第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板上に複数の第１電極及び複数の第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する面上に複数の第２電極及び複数の第２配線を備えた電気光学装置であって、前記第２基板上における前記第２電極及び前記第２配線の形成されていない領域に、前記第１基板の複数の前記第１電極又は複数の前記第１配線に対向する複数のダミーパターン部が設けられており、前記ダミーパターン部は、当該ダミーパターン部間の短絡有無の検査が行われてなることを特徴とする。
本発明の参考例に係る電気光学装置は、第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板の表面上に複数の第１電極及び第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する表面上に複数の第２電極及び第２配線を備えた電気光学装置であって、前記第１基板と前記第２基板のうち少なくとも一方の基板の表面上における、前記第１電極及び前記第１配線又は前記第２電極及び前記第２配線の形成されていない領域に、他方の基板上における複数の前記第２電極若しくは前記第２配線又は前記第１電極若しくは前記第１配線に対向する複数のダミーパターン部を有するダミー電極パターンが設けられており、前記ダミーパターン部にはそれぞれ検査用端子部が設けられ、該検査用端子部が所定領域内に配列されていることを特徴とする。
【００１２】
この本発明の参考例によれば、他方の基板の電極や配線に対向する複数のダミーパターン部に検査端子部が設けられ、これらの検査端子部が所定領域内に配列されていることにより、ダミー電極パターンに対する検査を容易且つ確実に行うことが可能になり、ダミーパターン部間の短絡に起因する製品品位の低下を回避することができる。
【００１３】
また、本発明の参考例に係る電気光学装置は、第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板の表面上に複数の第１電極及び第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する表面上に複数の第２電極及び第２配線を備えた電気光学装置であって、前記第１基板と前記第２基板のうち少なくとも一方の基板の表面上における、前記第１電極及び前記第１配線又は前記第２電極及び前記第２配線の形成されていない領域に、他方の基板上における複数の前記第２電極若しくは前記第２配線又は前記第１電極若しくは前記第１配線に対向する複数のダミーパターン部を有するダミー電極パターンが設けられており、前記ダミーパターン部には前記電気光学物質の配置領域外に伸びる延長パターン部が形成され、該延長パターン部に検査端子部が設けられていることを特徴とする。
【００１４】
この本発明の参考例によれば、ダミーパターン部には電気光学物質の配置領域外に伸びる延長パターン部が形成され、この延長パターン部に検査端子部が設けられていることによって、ダミー電極パターンに要求されるパターン形状（例えば対向する基板上に形成された電極や配線のパターン形状と合致するパターン形状など）に影響されることなく、検査端子部を配置することが可能になるので、パターン設計の自由度が増大するとともに、ダミー電極パターンに対する検査をさらに容易に行うことができる。
【００１５】
また、本発明の参考例に係る電気光学装置は、第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板の表面上に複数の第１電極及び第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する表面上に複数の第２電極及び第２配線を備えた電気光学装置であって、前記第１基板と前記第２基板のうち少なくとも一方の基板の表面上における、前記第１電極及び前記第１配線又は前記第２電極及び前記第２配線の形成されていない領域に、他方の基板上における複数の前記第２電極若しくは前記第２配線又は前記第１電極若しくは前記第１配線に対向する複数のダミーパターン部を有するダミー電極パターンが設けられており、前記ダミーパターン部には前記電気光学物質の配置領域外に伸びる延長パターン部が形成され、該延長パターン部は前記一方の基板の外端部まで伸びている。
【００１６】
この本発明の参考例によれば、予め延長パターン部の先に検査端子部を設けておき、ダミー電極パターンの検査を行った後に検査端子部を形成した基板部分を除去することが可能になる。
【００１７】
また、本発明の参考例において、複数の前記検査端子部は相互に等間隔に配列されていることが好ましい。
【００１８】
この本発明の参考例によれば、複数の検査端子部が相互に等間隔に配列されていることにより、プローブを走査する場合においてはプローブの駆動制御が容易になるため、またプローブカードなどを用いる場合においてはプローブカードのプローブ配列を規則的なものにすることができるので高密度化や共用化が容易になるため、複数種類の基板パターンに対する検査時の対応が容易になる。
【００１９】
また、本発明の参考例において、前記第２基板の複数の前記第２電極又は複数の前記第２配線のうち少なくとも相互に異なる電位が供給される可能性のあるものに対向する部位毎に、相互に分離した前記ダミーパターン部が配置されるように形成されていることが好ましい。
また、本発明の参考例において、前記第１基板の複数の前記第１電極又は前記第１配線のうち少なくとも相互に異なる電位が供給される可能性のあるものに対向する部位毎に、相互に分離した前記ダミーパターン部が配置されるように形成されていることが好ましい。
また、本発明の参考例において、前記ダミー電極パターンは、他方の基板上における複数の前記第２電極若しくは前記第２配線又は前記第１電極若しくは前記第１配線のうち少なくとも相互に異なる電位が供給される可能性のあるものに対向する部位毎に、相互に分離した前記ダミーパターン部が配置されるように形成されていることが好ましい。
【００２０】
ダミーパターン部が他方の基板上の異なる電位が供給される可能性のあるものに対向する部位毎に形成されていることにより、ダミーパターン部を通して異なる電位が供給されるもの間の影響を完全に回避することができる。
【００２１】
次に、本発明の電気光学装置の製造方法は、第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板上に複数の第１電極及び複数の第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する面上に複数の第２電極及び複数の第２配線を備えた電気光学装置の製造方法であって、前記第１基板上における前記第１電極及び前記第１配線の形成されていない領域に、前記第２基板の複数の前記第２電極又は複数の前記第２配線のそれぞれに対向する複数のダミーパターン部を形成し、その後、該ダミーパターン部間の短絡有無を検査する検査工程を有することを特徴とする。
本発明の電気光学装置の製造方法は、第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板上に複数の第１電極及び複数の第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する面上に複数の第２電極及び複数の第２配線を備えた電気光学装置の製造方法であって、前記第２基板上における前記第２電極及び前記第２配線の形成されていない領域に、前記第１基板の複数の前記第１電極又は複数の前記第１配線のそれぞれに対向する複数のダミーパターン部を形成し、その後、該ダミーパターン部間の短絡有無を検査する検査工程を有することを特徴とする。
本発明の電気光学装置の製造方法は、第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板の表面上に複数の第１電極及び第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する表面上に複数の第２電極及び第２配線を備えた電気光学装置の製造方法であって、前記第１基板と前記第２基板のうち少なくとも一方の基板の表面上における、前記第１電極及び前記第１配線又は前記第２電極及び前記第２配線の形成されていない領域に、他方の基板上における複数の前記第２電極若しくは前記第２配線又は前記第１電極若しくは前記第１配線のそれぞれに対向する複数のダミーパターン部を有するダミー電極パターンを形成し、その後、該ダミーパターン部間の短絡有無を検査するダミー電極検査工程を有することを特徴とする。
【００２２】
この発明によれば、ダミー電極検査工程を設けたことにより、ダミーパターン間の短絡有無を検査し、ダミーパターン間の短絡があった場合には修正作業を行うことによって、短絡したダミーパターン間を通じた、他方の基板上の電極や配線間の電気的相互作用を低減することができる。
【００２３】
本発明において、複数の前記ダミーパターン部にそれぞれ検査端子部を設け、複数の該検査端子部が所定領域内に配列されるように形成することが好ましい。
本発明において、前記複数のダミーパターン部には前記電気光学物質の配置領域外に伸びる延長パターン部が形成され、該延長パターン部に前記検査端子部が設けられていることが好ましい。
【００２４】
この発明によれば、検査端子部が所定領域内に配列されているため、ダミー電極検査工程を容易に行うことができる。
【００２５】
本発明において、複数の前記検査端子部が等間隔で配列するように形成することが好ましい。
【００２６】
本発明において、前記一方の基板における複数の前記検査端子部の配列領域を、前記ダミー電極検査工程の後に除去することが好ましい。
【００２７】
この発明によれば、検査端子部の配列領域をダミー電極検査工程の後に除去するようにしたことにより、検査端子部の配列領域の位置や配列態様に関するパターン設計の自由度が増大し、例えば検査を行いやすいように検査端子部を形成することが可能になる。
【００２８】
さらに、本発明の電気光学装置の検査方法は、第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板上に第１電極及び第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する面上に第２電極及び第２配線を備え、前記第１基板における前記第１電極及び前記第１配線の形成されていない領域に、前記第２基板上における複数の前記第２電極又は複数の前記第２配線に対向する複数のダミーパターン部を備えた電気光学装置の検査方法であって、複数の前記ダミーパターン部にそれぞれ検査端子部を設け、複数の該検査端子部が所定領域内に配列されるように形成し、該検査端子部に電気的コンタクトを取ることにより前記ダミーパターン部間の短絡有無を検査することを特徴とする。
本発明の電気光学装置の検査方法は、第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板上に第１電極及び第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する面上に第２電極及び第２配線を備え、前記第２基板における、前記第２電極及び前記第２配線の形成されていない領域に、前記第１基板上における複数の前記第１電極又は複数の前記第１配線に対向する複数のダミーパターン部を備えた電気光学装置の検査方法であって、複数の前記ダミーパターン部にそれぞれ検査端子部を設け、複数の該検査端子部が所定領域内に配列されるように形成し、該検査端子部に電気的コンタクトを取ることにより前記ダミーパターン部間の短絡有無を検査することを特徴とする。
本発明の電気光学装置のダミー電極検査方法は、第１基板と第２基板の間に電気光学物質を配置してなり、前記第１基板の表面上に第１電極及び第１配線を備え、前記第２基板における前記第１基板に対向する表面上に第２電極及び第２配線を備え、前記第１基板と前記第２基板の少なくとも一方における、前記第１電極及び前記第１配線又は前記第２電極及び前記第２配線の形成されていない領域に、他方の基板上における複数の前記第２電極若しくは前記第２配線又は前記第１電極若しくは前記第１配線に対向する複数のダミーパターン部を有するダミー電極パターンを備えた電気光学装置のダミー電極検査方法であって、複数の前記ダミーパターン部にそれぞれ検査端子部を設け、複数の該検査端子部が所定領域内に配列されるように形成し、該検査端子部に電気的コンタクトを取ることにより前記ダミーパターン部間の短絡有無を検査することを特徴とする。
【００２９】
本発明において、複数の前記検査端子部が等間隔で配列するように形成することが好ましい。
【００３０】
本発明において、前記一方の基板における複数の前記検査端子部の配列領域を、前記ダミー電極検査工程の後に除去することが好ましい。
【００３１】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係る電気光学装置及びその製造方法並びに電気光学装置のダミー電極検査方法の実施形態について詳細に説明する。以下に説明する実施形態はいずれもパッシブマトリクス型の液晶装置における液晶パネルに関するものであるが、本発明はこのような液晶パネルに限らず、種々の液晶パネルにも適用可能であり、さらに、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスパネルなど、液晶装置以外の種々の電気光学装置にも適用可能である。
【００３２】
［第１実施形態］  図１は、本発明に係る第１実施形態である液晶パネルを製造するための母基板３０，４０の表面パターン構造を示す模式的な平面図であり、図３（ａ）は母基板３０，４０を用いて製造した液晶パネル１０１の概略構造を示す斜視図である。
【００３３】
母基板３０のパネル予定領域１３０内には、図示しないシール材によって取り囲まれる液晶封入領域１３０Ａと、図３（ａ）に示す液晶パネル１０１となったときに、対向する基板の外端部よりさらに外側へ張り出すように形成される張出領域１３０Ｂとが設定される。液晶封入領域１３０Ａ内には、ストライプ状の電極３１が多数並列に形成される。この電極３１は、液晶パネル１０１の構造に応じて、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等からなる透明電極であってもよく、或いは、アルミニウム薄膜等からなる反射電極であってもよい。電極３１の一端はそのまま配線３２に連続し、液晶封入領域１３０Ａから張出領域１３０Ｂへと引き出されるように伸び、その先端部は外部端子部３３となっている。
【００３４】
一方、母基板４０のパネル予定領域１４０内には、図示しないシール材によって取り囲まれる液晶封入領域１４０Ａと、液晶パネル１０１になったときに対向する基板の外端部よりさらに外側に張り出すように形成される張出領域１４０Ｂとが設定される。液晶封入領域１４０Ａ内には、ストライプ状の電極４１が多数並列に形成される。この電極４１もまた液晶パネル１０１の構造に応じて透明電極であってもよく、反射電極であってもよい。ただし、液晶パネル１０１が反射型液晶パネルである場合には、通常、電極３１，４１のいずれか一方が反射電極であり、他方が透明電極である。また、液晶パネル１０１が透過型液晶パネルである場合には、通常、電極３１，４１の双方が透明電極である。
【００３５】
なお、図１（ａ）及び（ｂ）において図示斜線部分は表示駆動領域Ｘを示し、表示駆動領域Ｘの周囲であって液晶封入領域１３０Ａ、１４０Ａ内の部分は周縁領域Ｙであり、パネル予定領域１３０，１４０内であって液晶封入領域１３０，１４０の外側、すなわちシール材の外側は液晶封入領域外Ｚである。
【００３６】
本実施形態では、母基板４０上に形成された配線４２と対向する母基板３０の表面上に、ダミー電極パターン３５が形成されている。ダミー電極パターン３５内には、複数の屈曲した形状のダミーパターン部３５ａが並列している。ダミーパターン部３５ａには、液晶封入領域１３０Ａの外へ伸び、さらに上記パネル予定領域１３０の外側にまで伸びる、配列された延長パターン部３５ｂが一体に形成されている。この延長パターン部３５ｂはパネル予定領域１３０の外側へ向けて伸びるに従って次第にその配列を変化させ、先端に検査端子部３５ｃが形成されている。複数の延長パターン部３５ｂにそれぞれ形成された検査端子部３５ｃは、検査領域３０Ｃ内において相互に一列に等間隔になるように配列されている。
【００３７】
また、母基板４０上に形成された電極４１の端部と対向する母基板３０の表面上に、ダミー電極パターン３６が形成されている。ダミー電極パターン３６内には、複数の短冊状のダミーパターン部３６ａが並列している。このダミーパターン部３６ａは、液晶封入領域１３０Ａの外へ伸び、さらに上記パネル予定領域１３０の外側にまで伸びる、配列された延長パターン部３６ｂと一体に形成されている。延長パターン３６ｂはパネル予定領域１４０の外側へ向けてほぼまっすぐに伸び、当該部分の先端寄りが検査端子部３６ｃとなっている。ダミーパターン部３６ａは本来から一列に等間隔に配列されているため、各ダミーパターン部３６ａがそのままパネル予定領域１３０の外側まで延長形成され、その先の検査端子部３６ｃもまた一列に等間隔に配列されている。
【００３８】
一方、母基板３０上に形成された配線３２と対向する母基板４０の表面上に、ダミー電極パターン４５が形成されている。このダミー電極パターン４５内には、複数の屈曲した形状のダミーパターン部４５ａが並列している。ダミーパターン部４５ａには、液晶封入領域１４０Ａの外へ伸び、さらに上記パネル予定領域１４０の外側にまで伸びる、配列された延長パターン部４５ｂが一体に形成され、この延長パターン部４５ｂの先端は検査端子部４５ｃとなっている。複数の延長パターン部４５ｂにそれぞれ形成された検査端子部４５ｃは、相互に一列に等間隔になるように配列されている。
【００３９】
また、母基板３０上に形成された電極３１の端部と対向する母基板４０の表面上に、ダミー電極パターン４６が形成されている。ダミー電極パターン４６内には、複数の短冊状のダミーパターン部４６ａが並列している。このダミーパターン部４６ａは、液晶封入領域１４０Ａの外へ伸び、さらに上記パネル予定領域１４０の外側にまで伸びる、配列された延長パターン部４６ｂと一体に形成されている。延長パターン部４６ｂの先端寄り部分は検査端子部４６ｃとなっている。ダミーパターン部４６ａは本来から一列に等間隔に配列されているため、各ダミーパターン部４６ａがそのままパネル予定領域１４０の外側まで延長形成され、その先の検査端子部４６ｃもまた一列に等間隔に配列されている。
【００４０】
本実施形態においては、母基板３０と母基板４０とを図示しないシール材を介して貼り合わせ、液晶をシール材の内側に注入した後、パネル予定領域１３０及び１４０の境界線に沿ってスクライブ・ブレイク法等によって分離することにより、図３（ａ）に示すような液晶パネル１０１が形成される。この液晶パネル１０１においては、パネル予定領域１３０を分離することによって形成されたパネル基板１３１と、パネル予定領域１４０を分離することによって形成されたパネル基板１４１とが相互に貼り合わせられている。パネル基板１３１には、パネル基板１４１の外端部よりも外側に張り出した張出領域１３０Ｂが設けられ、パネル基板１４１には、パネル基板１３１の外端部よりも外側に張り出した張出領域１４０Ｂが設けられる。これらの張出領域１３０Ｂ，１４０Ｂの表面上には液晶封入領域から配線３２，４２が引き出され、その先端に外部端子部３３，４３が形成されている。
【００４１】
本実施形態においては、図１（ａ）及び（ｂ）に示すように母基板３０，４０の表面上に電極や配線のパターンを形成した後であって母基板３０と母基板４０とを貼り合わせる前に、母基板３０上の検査領域３０Ｃ，３０Ｄ及び母基板４０上の検査領域４０Ｃ，４０Ｄにプローブやプローブカードなどを接触させ、ダミー電極パターン３５，３６，４５，４６のパターン検査を行う。このパターン検査は、パターン内における各ダミーパターン部３５ａ，３６ａ，４５ａ，４６ａの間の短絡が生じていないか否かを電気的に確認するものである。各検査領域３０Ｃ，３０Ｄ，４０Ｃ，４０Ｄにおいては、各ダミーパターン部にそれぞれ導電接続された検査端子部３５ｃ，３６ｃ，４５ｃ，４６ｃが相互に一列に、しかも等間隔に配列されている。したがって、例えば２本のプローブ、すなわちプローブ対を隣接する２つの検査端子部に接触させて短絡の有無を検出し、プローブの接触する検査端子部の対が順次移動していくようにプローブ対を走査させる場合においては、プローブ対の走査態様を予め定めたとおりに設定することができ、容易且つ確実にダミーパターン部間の短絡有無を検出できる。一方、予め定められたプローブ配列を有するプローブカードを用いて、多数の検査端子部間の短絡を一度に検出しようとする場合には、検査領域内にて配列する検査端子部３５ｃ，３６ｃ，４５ｃ，４６ｃの配列態様と、プローブカードのプローブの配列態様とを一致させておけばよいので、やはり容易且つ確実にダミーパターン間の短絡有無を検出できる。
【００４２】
所定態様で所定領域内に配列された検査端子部３５ｃ，３６ｃ，４５ｃ，４６ｃを有する延長パターン部３５ｂ，３６ｂ，４５ｂ，４６ｂは、いずれも上記のダミー電極検査を行うために設けられたものであるが、これらの延長パターン部は液晶封入領域１３０Ａの外へ伸び、さらに上記パネル予定領域１３０，１４０の外側に伸びて、パネル予定領域１３０，１４０の外部の位置に検査端子部３５ｃ，３６ｃ，４５ｃ，４６ｃを備えている。したがって、液晶パネル１０１を完成させた状態においては、パネル予定領域１３０，１４０の外側に位置する検査端子部３５ｃ，３６ｃ，４５ｃ，４６ｃは既に除去されているので、各ダミーパターン部の延長パターン部がパネル基板１３１，１４１の外端部まで伸びた状態として残される。
【００４３】
上記実施形態におけるダミーパターン部の細部構造を拡大して示す平面図が図５である。図５において、電極３１と電極４１は液晶封入領域内の表示駆動領域Ｘにおいて相互に平面的に交差するように配列され、両者の交差部分が画素領域となっている。ダミーパターン部３５ａは、液晶封入領域内の周縁領域Ｙにおいて、対向するパネル基板１４１上の配線４２に沿って形成されている。図示の場合、ダミーパターン部３５ａは、この周縁領域Ｙにおいて本来のダミー電極としての機能を発揮する。このダミーパターン部３５ａは、周縁領域Ｙから液晶封入領域外Ｚへ出ると延長パターン部３５ｂとなってさらに伸び、この延長パターン部３５ｂのより先の部分が上述の検査端子部３５ｃ（図示せず）となる。なお、図５における周縁領域Ｙと液晶封入領域外Ｚとの境界部分において、基板間には図示しないシール材が配置される。
【００４４】
本実施形態の上記構成によれば、ダミー電極パターンの各ダミーパターン部に検査端子部が形成され、この検査端子部が所定態様で所定領域に配列されるように構成されているので、検査端子部の所定態様に合致した手段によってダミーパターン部間の短絡有無などのダミー電極検査工程を実施することができる。したがって、ダミー電極パターンのパターン形状に拘わらず、ダミー電極検査工程を容易且つ確実に行うことができる。
【００４５】
特に、上記実施形態では、検査端子部を等間隔に配列しているので、プローブの走査が容易になり、また、検査端子部の配列に合致したプローブカードを容易に構成することができ、或いは、別の検査対象との間でプローブカードの共用化を図ることができる。
【００４６】
また、上記実施形態では、ダミー電極パターンの各ダミーパターン部に延長パターン部が形成され、この延長パターン部に検査端子部が設けられていることにより、ダミー電極パターン自体のパターン形状を大きく変えることなく、ダミー電極パターンの本来の機能を損なわずに液晶パネルを構成することができる。
【００４７】
さらに、上記実施形態では、各延長パターン部が伸びて、パネル予定領域の外側へ出た場所に検査端子部が設けられていることにより、ダミー電極検査工程を経て液晶パネルが完成されたときには、検査端子部が液晶パネルに残らないようになっている。したがって、ダミー電極検査工程においてプローブ等と接触する検査端子部が液晶パネルに残らないので、液晶パネルの清浄性を保持しやすくなり、異物の付着や汚染等による製品不良を低減できる。
【００４８】
［第２実施形態］  次に、図２及び図３（ｂ）を参照して本発明に係る第２実施形態について詳細に説明する。この実施形態においては、母基板５０上のパネル予定領域１５０内の液晶封入領域１５０Ａには、第１実施形態と同様の複数の電極５１及びこの電極５１に導電接続された引出配線５２ａが形成されている。パネル予定領域１５０内における電極５１の配列部分の両側には、ダミー電極パターン５５，５６，５７が形成されている。また、液晶封入領域１５０Ａの端部から隣接する張出領域１５０Ｂ上まで伸びるように連結配線５２ｂ，５２ｃが形成されている。この連結配線５２ｂ，５２ｃは、後述する電極６１に対して図示しない上下導通部を介して導電接続されるものである。
【００４９】
母基板６０上のパネル予定領域１６０内の液晶封入領域１６０Ａには、第１実施形態と同様の電極６１及びこの電極に導電接続された配線６２ａ，６２ｂが形成されている。また、上記母基板５０上の配線５２ａと対向する母基板６０の表面上には、ダミー電極パターン６５が形成されている。ダミー電極パターン６５には複数のダミーパターン部６５ａが並列形成されている。さらに、母基板５０上の電極５１の端部に対向する母基板６０の表面上には、短冊状のダミーパターン部６５ａを複数並列させてなるダミー電極パターン６５が形成されている。さらにまた、上記母基板５０上のダミー電極パターン５７に対向する母基板６０の表面上には、短冊状のダミーパターン部６７ａを複数並列させてなるダミー電極パターン６７が形成されている。すなわち、ダミーパターン５７と６７は相互に対向している。
【００５０】
母基板５０上のダミー電極パターン５５における複数のダミーパターン部５５ａは、母基板６０上の配線６２ｂに対応するパターンで形成されている。ダミーパターン部５５ａにおいては、液晶封入領域１５０Ａから出た延長パターン部５５ｂが設けられ、さらにパネル予定領域１５０の外側へと伸び、その先端には検査領域５０Ｃにおいて検査端子部５５ｃが設けられている。複数の検査端子部５５ｃは一列に等間隔に並列している。
【００５１】
また、母基板５０上のダミー電極パターン５６における複数のダミーパターン部５６ａは、母基板６０上の配線６２ａに対応するパターンで形成されている。ダミーパターン部５６ａにおいては、液晶封入領域１５０Ａから出た延長パターン部５６ｂが設けられ、さらにパネル予定領域１５０の外側へと伸び、その先端には検査領域５０Ｄにおいて検査端子部５６ｃが設けられている。複数の検査端子部５６ｃは一列に等間隔に並列している。
【００５２】
一方、母基板６０上のダミー電極パターン６５における複数のダミーパターン部６５ａは、母基板５０上の配線５２ａにほぼ対応するパターンで形成されている。ダミーパターン部６５ａにおいては、液晶封入領域外へ出て延長パターン部６５ｂとなり、さらにその先端に検査領域６０Ｃにおいて検査端子部６５ｃが設けられている。検査端子部６５ｃは一列に等間隔に配列されている。
【００５３】
また、母基板６０上のダミー電極パターン６６における複数のダミーパターン部６６ａは、母基板６０上の電極６１の端部にほぼ対応するパターンで形成されている。ダミー電極パターン６６においては、ダミーパターン部６５ａは液晶封入領域１６０Ａ内から延長パターン部６５ｂとして外側へ伸び、さらにその先端寄り部分が検査領域６０Ｄにおいて検査端子部６５ｃとなっている。
【００５４】
本実施形態においては、シール材を介して上記の母基板５０と６０を貼りあわせ、シール材の内側に液晶を注入し、封止した後、パネル予定領域１５０，１６０の境界線に沿ってスクライブ・ブレイク法等によって分離することによって、図３（ｂ）に示す液晶パネル１０２が形成される。液晶パネル１０２は、上記パネル予定領域１５０に対応するパネル基板１５１と、パネル予定領域１６０に対応するパネル基板１６１との間にシール材に封止された液晶層を備えたものである。パネル基板１５１の端部はパネル基板１６１の外縁部よりもさらに外側に張り出して張出領域１５０Ｂとなっている。この張出領域１５０Ｂの表面上には上述の引出配線５２ａ及び連結配線５２ｂ、５２ｃが形成される。これらの配線の先端部上には、図示しない液晶駆動ドライバ回路などを内蔵する集積回路チップが実装される。
【００５５】
この実施形態においても、先の第１実施形態と同様にダミー電極パターンのダミーパターン部間の短絡等を検出するためのダミー電極検査工程を容易且つ確実に行うことができる。なお、ダミー電極検査工程において検査が必要なダミーパターン部は、対向する配線や電極が存在するものに限られ、例えばダミー電極パターン５７と６７のようにダミーパターン部同士が対向する部分については、検査は必ずしも必要ではない。
【００５６】
尚、本発明の電気光学装置及びその製造方法並びに電気光学装置のダミー電極検査方法は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
【００５７】
例えば、上記実施形態では、検査端子部をパネル予定領域の外側に形成し、検査端子部が液晶パネルのパネル基板に残らないように構成しているが、検査端子部をパネル予定領域内に形成して、パネル基板の表面上に残るように構成してもよい。この場合、検査端子部の形成部位としては、液晶封入領域外Ｚ、すなわち、シール材の配置部及びその外側からパネル予定領域の外縁部までの間の部位であることが液晶封入領域内におけるダミーパターン部の形状にほとんど影響を与えずにパターン設計できる点で好ましい。
【００５８】
【発明の効果】
以上、説明したように本発明によれば、他方の基板の電極や配線に対向する複数のダミーパターン部に検査端子部が設けられ、これらの検査端子部が所定領域内に配列されていることにより、ダミー電極パターンに対する検査を容易且つ確実に行うことが可能になり、ダミーパターン部間の短絡に起因する製品品位の低下を回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第１実施形態における母基板上の表面パターン構造を示す平面図（ａ）及び（ｂ）である。
【図２】本発明に係る第２実施形態における母基板上の表面パターン構造を示す平面図（ａ）及び（ｂ）である。
【図３】第１実施形態によって形成された液晶パネルの外観斜視図（ａ）及び第２実施形態によって形成された液晶パネルの外観斜視図（ｂ）である。
【図４】従来の液晶装置を製造するための母基板上の表面パターン構造を示す平面図（ａ）及び（ｂ）である。
【図５】第１実施形態におけるダミー電極パターンの細部構造を示す拡大平面図である。
【図６】従来のダミー電極パターンの細部構造を示す拡大平面図である。
【符号の説明】
３０，４０，５０，６０  母基板
３１，４１，５１，６１  電極
３２，４２，６２ａ，６２ｂ  配線
５２ａ  引出配線
５２ｂ，５２ｃ  連結配線
３５，３６，４５，４６  ダミー電極パターン
３５ａ，３６ａ，４５ａ，４６ａ  ダミーパターン部
３５ｂ，３６ｂ，４５ｂ，４６ｂ  延長パターン部
３５ｃ，３６ｃ，４５ｃ，４６ｃ  検査端子部
Ｘ  表示駆動領域
Ｙ  周縁領域
Ｚ  液晶封入領域外
【図１】
0003843661.tif 000002
【図２】
0003843661.tif 000003
【図３】
0003843661.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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