(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、光透過層と、前記光透過層と厚みの異なる基材と、前記光透過層と前記基材に挟まれた１層以上の情報記録層を備え、かつ、前記基材の外側主面の一部のみに、吸湿防止膜が成膜されていることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
前記吸湿防止膜を第１吸湿防止膜として、前記光透過層の外側主面の少なくとも一部に第２吸湿防止膜が形成された請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
前記吸湿防止膜が、誘電体材料からなることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記誘電体材料が、ＺｎＳを主成分とすることを特徴とする請求項３記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
前記誘電体材料が、ＺｎＳ−２０ｍｏｌ％ＳｉＯ2であることを特徴とする請求項４記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
前記誘電体材料が、ＳｉＯ2を主成分とすることを特徴とする請求項３記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
前記吸湿防止膜が、樹脂材料からなることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項８】
前記樹脂材料が、塩化ビニリデンであることを特徴とする請求項７記載の光情報記録媒体。
【請求項９】
前記光透過層上の少なくとも一部に、保護膜を有することを特徴とする請求項１、３から８のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項１０】
前記光透過層の外側主面に成膜された前記第２吸湿防止膜上に、保護膜を有することを特徴とする請求項２に記載の光情報記録媒体。
【請求項１１】
前記基材がポリカーボネートからなることを特徴とする請求項１、３から１０のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項１２】
前記光透過層が、放射線硬化性樹脂と、シート状基板からなることを特徴とする請求項１、３から１１のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項１３】
前記光透過層が、粘着性樹脂材料と、シート状基板からなることを特徴とする請求項１、３から１１のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項１４】
前記シート状基板がポリカーボネートであることを特徴とする請求項１２または１３に記載の光情報記録媒体。
【請求項１５】
前記光透過層が、放射線硬化性樹脂からなることを特徴とする請求項１、３から１１のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項１６】
前記光透過層の厚さが略０．１ｍｍであることを特徴とする請求項１、３から１５のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項１７】
前記光透過層と前記基材を合わせた厚さが、略１．２ｍｍであることを特徴とする請求項１、３から１５のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項１８】
前記基板上の前記吸湿防止膜が、あるパターンで成膜されていることを特徴とする請求項１、３から１７のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項１９】
前記パターンが、ドット状であることを特徴とする請求項１８記載の光情報記録媒体。
【請求項２０】
前記パターンが、網目状であることを特徴とする請求項１８記載の光情報記録媒体。
【請求項２１】
請求項１、３から１７のいずれかに記載の光情報記録媒体の基板上の前記吸湿防止膜を、あるパターンで成膜することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２２】
前記基材が円盤形状であって、前記パターンが輪帯状の領域に形成されていることを特徴とする請求項１８から２０のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項２３】
前記基材が円盤形状であって、前記基材上の前記吸湿防止膜が、輪帯状に成膜されていることを特徴とする請求項１、３から１７のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項２４】
請求項１、３から１７のいずれかに記載の光情報記録媒体の輪帯状に成膜された前記吸湿防止膜の内径を、前記基材の外径の４０％以上８０％以下の大きさとすることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２５】
輪帯状に成膜された前記吸湿防止膜の内径が、前記基材の外径の５０％以上７０％以下の大きさであることを特徴とする請求項２４記載の光情報記録媒体。
【請求項２６】
輪帯状に成膜された前記吸湿防止膜の外径が、前記基材の外径の９０％以上の大きさであることを特徴とする請求項２３から２５のいずれかに記載の光情報記録媒。
【請求項２７】
輪帯状に成膜された前記吸湿防止膜の外径が、前記基材の外径の９８％以上の大きさであることを特徴とする請求項２６記載の光情報記録媒体。
【請求項２８】
前記吸湿防止膜が、前記基材の前記外側主面の３５％以上８５％以下に成膜されていることを特徴とする請求項２、１８，２４から２７のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項２９】
前記吸湿防止膜が、前記基材の前記外側主面の５０％以上７０％以下に成膜されていることを特徴とする請求項１、３から２０、２２，２３のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項３０】
前記基材に成膜された前記吸湿防止膜上に、バランス層を形成することを特徴とする請求項１、３から２０、２２，２３のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項３１】
前記吸湿防止膜が成膜された前記基材の外側主面に、さらに吸湿防止膜が成膜されていることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３２】
前記基材の外側主面に成膜された前記吸湿防止膜と、その上にさらに成膜された吸湿防止膜の材料が異なることを特徴とする請求項３１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３３】
少なくとも、光透過層と、前記光透過層と厚みの異なる基材と、前記光透過層と前記基材に挟まれた１層以上の情報記録層を備える光情報記録媒体の、前記基材の外側主面の一部のみに、吸湿防止膜を成膜する際に、
前記光透過層上に傷つき防止膜を形成しておくことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３４】
少なくとも、光透過層と、前記光透過層と厚みの異なる基材と、前記光透過層と前記基材に挟まれた１層以上の情報記録層を備え、前記光透過層上の少なくとも一部に吸湿防止膜が成膜された光情報記録媒体の、前記吸湿防止膜上に保護膜を形成する際に、
前記保護膜となる材料が微粒子となって存在する雰囲気中を、前記光情報記録媒体を通過させることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光情報記録媒体、および光情報記録媒体の製造方法に関し、特に例えば、環境変化に対する反りの変化を抑制した光情報記録媒体および光情報記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報記録の分野では様々な光情報記録に関する研究が進められている。この光情報記録は高密度化が可能であり、また、非接触で記録・再生が行え、それを安価に実現できる方式として幅広い用途での応用が実現されつつある。この光情報記録の媒体として光ディスクがある。この光ディスクは再生専用型、追記型、書き換え型に大別することができる。再生専用型は音楽情報を記録したコンパクト・ディスク（ＣＤ）と称されるディスクや画像情報を記録したレーザ・ディスク（ＬＤ）と称されるディスクとして、また追記型は文書ファイルや静止画ファイル等として、さらに書き換え型はパソコン用のデータファイル等として商品化され、世間に広く普及している。これらの光ディスクは厚さ１．２ｍｍの透明樹脂基板に情報層を設け、それをオーバーコートによって保護した構造、或いは１．２ｍｍの透明樹脂基板の一方もしくは両方に情報層を設け、それら２枚を貼り合わせた構造をもっている。
【０００３】
また、音声だけでなく映画等の動画を情報として記録するために、より大容量の光ディスクであるデジタル・バーサタイル・ディスク（ＤＶＤ）が開発・商品化され、既に普及しつつある。ＤＶＤのような高密度光ディスクの実現のために、レーザ波長を短く、かつ開口数（ＮＡ）の大きな対物レンズを使用する、という方式がとられた。しかし、短波長化と高ＮＡ化は、レーザ光の投入方向に対するディスクの傾き角度（チルト）の許容値を小さくする。チルトの許容値を大きくするには基板厚さを薄くすることが有効であり、例えば、ＤＶＤではレーザ波長が６５０ｎｍ、ＮＡが０．６０であり、基板厚さを０．６ｍｍとしている。厚さ０．６ｍｍの樹脂基板はそれ単体では機械的強度が弱くチルトを生じてしまうため、ＤＶＤは情報記録面を内側にして２枚の基板を貼り合わせた構造になっている。
【０００４】
さらに近い将来には地上波デジタル放送の開始も予定されており、その記録媒体として２５ＧＢ程度の容量に対するニーズが高まっている。ＣＤやＤＶＤとほぼ同じ大きさの光ディスクでこの容量を実現するために、記録・再生側基板の厚さを０．１ｍｍ程度まで薄くし、ＮＡを０．８５程度、レーザの波長を４００ｎｍ程度にすることが提案されている。記録・再生側基板を薄くするのは、前述したように、記録・再生側基板の厚みが薄い方が、チルトの許容値を大きくできるからであり、ＮＡを０．８５程度、レーザの波長を４００ｎｍ程度とした場合、記録・再生側基板を略０．１ｍｍとすることで、チルトの許容値をＤＶＤと同程度にできる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ＤＶＤとの互換を維持するために光ディスクの厚みを１．２ｍｍにすることで、０．１ｍｍの記録・再生側基板と１．１ｍｍの保持基板に信号記録層が挟まれるという、非対称な光ディスクになってしまう。非対称であることから、環境の変化、特に湿度の変化による吸湿量の差（もしくは材料が異なることによる吸水膨張率の差）が大きくなってしまい、大きなチルト変化が生じ、記録・再生の特性に大きな影響を与えてしまう。
【０００６】
そこで本発明は、環境の変化によるチルトの変動を抑制した光情報記録媒体および光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の光情報記録媒体は、少なくとも光透過層と、光透過層と厚みの異なる基材と、光透過層と基材に挟まれた１層以上の情報記録層を備え、かつ、基材の外側主面の一部のみに吸湿防止膜が成膜されていることを特徴とする。上記本発明の光情報記録媒体によって、環境変化、特に湿度の変化に対して、基材と光透過層の吸水量、吸水膨張差をバランスさせ、チルト変動が小さく、記録・再生特性に影響を与えない光情報記録媒体作製が容易であり、特に情報記録層に対して基材と光透過層の厚みが非対称となる光情報記録媒体において有効である。
【０００８】
上記本発明の光情報記録媒体では、光透過層の主面の少なくとも一部に、吸湿防止膜が成膜されていることが好ましい。これによって光透過層と基材の両方の吸湿を抑え、チルト変動を小さくすることができる。
【０００９】
上記本発明の光情報記録媒体では、吸湿防止膜が誘電体材料からなることが好ましい。誘電体材料はスパッタ法により容易に成膜が可能であり、１０ｎｍ程度の厚みでも効果的に吸湿防止の効果を得ることができる。
【００１０】
上記本発明の光情報記録媒体では、光透過層上の少なくとも一部に保護膜を有することが好ましい。これにより、光透過層に傷や埃がつきにくく、記録・再生特性の劣化が抑えられる。
【００１１】
上記本発明の光情報記録媒体では、前記光透過層の厚さが略０．１ｍｍであることが好ましい。これにより、Ｎ．Ａ．が０．８５程度、記録・再生光が４００ｎｍ程度の光情報記録媒体装置であっても、ＤＶＤと同程度のチルトマージンを確保することができる。
【００１２】
上記本発明の光情報記録媒体では、光透過層と基材を合わせた厚さが略１．２ｍｍであることが好ましい。これにより、ＤＶＤやＣＤとの互換をとることが容易となる。
【００１３】
上記本発明の光情報記録媒体では、吸湿防止膜が島状に分布していることが好ましい。これにより、基材と光透過層の吸水量、吸水膨張差をバランスさせ、チルト変動を小さくすることができる。
【００１４】
上記本発明の光情報記録媒体では、吸湿防止膜がドーナツ状に成膜されていることが好ましい。これにより、基材と光透過層の吸水量、吸水膨張差をバランスさせ、チルト変動を小さくすることができる。
【００１５】
上記課題を解決するための、本発明の光情報記録媒体の製造方法では、少なくとも光透過層と、光透過層と厚みの異なる基材と、光透過層と基材に挟まれた１層以上の情報記録層を備える光情報記録媒体の、基材の主面の少なくとも一部に吸湿防止膜を成膜する際に、光透過層上に傷つき防止膜を形成しておくことを特徴とする。上記本発明の光情報記録媒体の製造方法によって、基材に吸湿防止膜を成膜する際に光透過層を傷つけることなく生産を行うことができる。
【００１６】
上記課題を解決するための、本発明の光情報記録媒体の製造方法では、少なくとも光透過層と、光透過層と厚みの異なる基材と、光透過層と基材に挟まれた１層以上の情報記録層を備え、光透過層上の少なくとも一部に吸湿防止膜が成膜された光情報記録媒体の、吸湿防止膜上に保護膜を形成する際に、保護膜となる材料が微粒子となって存在する雰囲気中を、光情報記録媒体を通過させることを特徴とする。上記本発明の光情報記録媒体の製造方法によって、吸湿防止膜上にスピンコート法等によって保護膜が形成しづらい場合においても、安定に保護膜を形成することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。図は特に記述のない限り、断面図で示す。
【００１８】
（実施の形態１）
ここでは、本発明の光情報記録媒体について一例を説明する。図１から図５は本発明による光情報記録媒体の一例である。図１に本発明による光情報記録媒体を示した。光透過層１３２とそれより厚さの大きい基材１３１と、光透過層１３２と基材１３１に挟まれた情報記録層１０５があり、基材の主面には輪帯状に吸湿防止膜１５１が成膜されている。吸湿防止膜の内径１４１の大きさを変化させることによって、環境の変化、特に湿度変化に対するチルト変動を小さくすることができる。
【００１９】
図２（ａ）の第１の基板１０１は射出成形により形成した厚さ略１．１ｍｍ、直径略１２０ｍｍ、第１の基板の中心孔１０２の直径略１５ｍｍのポリカーボネート基板であり、一方の主面に案内溝１０３と複数の薄膜層で構成される記録層１０４からなる情報記録層１０５が設けてある。ポリカーボネートはＣＤやＤＶＤといった光ディスクで広く用いられており、安価で射出成形での製造も容易であるために使用したが、ポリカーボネート以外の、例えばアクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂などの樹脂材料で構わない。本実施の形態では第１の基板は光透過層ではないため、透光性がない材料でも構わない。
【００２０】
図２（ｂ）の第２の基板１１１は、厚さ略９０μｍ、直径略１１９．５ｍｍ、第２の基板の中心孔１１２の直径略２２ｍｍのポリカーボネート製シート状基板であり、情報記録層はなく平坦である。第２の基板１１１はキャスティング法によって作られたシートから切り取ったものである。第２の基板は、アクリル系やノルボルネン系の樹脂材料からなるものでも構わない。
【００２１】
図３（ａ）のように第２の基板１１１上にノズル１９１で、半径略２０ｍｍの略円環状に放射線硬化性樹脂１２１を塗布する。次に、図２（ｂ）のように第１の基板を第２の基板と略同心円になるように対向させ重ね合わせる。放射線硬化性樹脂１２１を第１の基板上に略円環状に塗布し、第２の基板と重ね合わせてもよい。
【００２２】
重ね合わせた後、図４（ａ）のように、高速（例えば１０００〜１００００ｒｐｍ）で回転し、外周部分まで放射線硬化性樹脂を拡散させる。これによって接着部分に気泡が入りにくく、また余分な放射線硬化性樹脂が振り切られる。また、このスピンを利用した方法によって、放射線硬化性樹脂を非常に均一に分布させることができ、記録・再生の特性も良好である。放射線硬化性樹脂の厚みは略１０μｍとした。この後、図４（ｂ）のように放射線１２３を照射し、放射線硬化性樹脂を硬化した。
【００２３】
光透過層の形成については、このように第２の基板と放射線硬化性樹脂で形成してもよいし、第２の基板をシート状の粘着性材料で第１の基板に貼り合わせてもよい。また、放射線硬化性樹脂のみで形成することも可能である。
【００２４】
図４（ｃ）に示した光情報記録媒体は、基材１３１となる第１の基板１０１の厚みが略１．１ｍｍで、第２の基板１１１と放射線硬化性樹脂１２１を合わせた光透過層１３２の厚みが略０．１ｍｍと、情報記録層１０５に対して非対称な形になっている。そのため、環境の変化、特に湿度の変化に対し、基材１３１と光透過層１３２の吸湿量の差、吸湿膨張率の差などから、大きなチルト変動を生じてしまう。このことは、光情報記録媒体が保管されていた環境と、使用される環境の湿度が異なることで、記録・再生特性が大きく影響を受けてしまうことを意味する。
【００２５】
そこで、第１の基板の主面に図１のように、吸湿防止膜として、ＺｎＳ−ＳｉＯ2（モル分率８０：２０）誘電体膜を略２０ｎｍの厚さで、第１の基板と略同心円となるように輪帯状にスパッタし、第１の基板の吸湿を遮断した。この光情報記録媒体を気温３０度、湿度９０％の環境に１週間以上放置し、気温２５度、湿度５０％の環境に取り出した場合の、１日のチルト変動の様子を観察した。チルトは基材を上向きにして半径５８ｍｍ部分を測定し、環境変化直後のチルト量をゼロ、基材方向に変化するのを正方向と定義した。チルト変動量は１日のうちの正方向と負方向への変動の最大値で評価した。チルトはα角で表している。誘電体膜をスパッタする領域の内径１４１を変化させることによって、チルト変化を大きく減少させることができる。これを（表１）に示した。
【００２６】
【表１】
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この時の外径１４２の大きさは直径略１１９ｍｍとした。本実施の形態では、誘電体膜の内径１４１が略５０ｍｍ以上略９５ｍｍ以下の時にチルト変動を０.３°以下、さらに略６５ｍｍ以上略８０ｍｍ以下の時にチルト変動を０．２°以下と非常に小さくすることができた。これは、基材の外径（光情報記録媒体の外径）に対する吸湿防止膜の内径１４１の大きさの割合としては、略４０％以上略８０％以下の時に０．３°以下、略５０％以上略７０％以下の時に０．２°以下ということである。基材主面の面積に対する吸湿防止膜の成膜面積の割合としては、略３５％以上略８５％以下の時に０．３°以下、略５０％以上７０％以下の時に０．２°以下、ということである。
【００２７】
基材の厚みが光透過層の厚みに比べて１０倍以上厚いため、本実施の形態のように急激に湿度の低い環境に変わった場合、基材からの水分の放出量は光透過層に比べてゆっくりしたものになる。それがさらに基材の表面と基材の情報記録層に近い部分での吸湿膨張差となることから、チルト変動に与える影響も大きい。従って、このように基材に輪帯状に吸湿防止膜を形成することにより、基材の吸湿量を大幅に減少させ、加えて、光透過層が水分放出によって収縮する量と、基材の吸湿防止膜が成膜されていない部分（内径領域）での収縮量がバランスすることにより、チルト変動は小さくなる。
【００２８】
基材と光透過層の材料や性質によって、吸湿によるチルトの量や反りの方向が変化するため、誘電体膜の内径の大きさは、光情報記録媒体を形成する材料によって最適なものを選ぶことが好ましい。
【００２９】
また、本実施の形態では吸湿防止膜として、ＺｎＳを主成分とする誘電体材料を用いたが、ＳｉＯ2を主成分とする誘電体、Ａｌ2Ｏ3を主成分とする誘電体、ＳｉＮを主成分とする誘電体等においても同様の効果が得られることがわかった。誘電体の厚みが薄すぎると効果が小さくなってしまうため、十分な厚みが成膜されていることが好ましい。さらに誘電体以外の材料でも、吸湿防止の効果があれば同様の効果を得ることができる。塩化ビニリデンなどの樹脂材料でも構わない。
理論的には吸湿防止膜の厚みを微妙に変化させることによっても、吸湿バランスを制御することが可能ではある。しかしながら、本実施の形態のように誘電体膜をｎｍ、もしくはそれ以下のオーダーで制御することは非常に困難であり、特に量産においてはロット間のばらつきが大きくなってしまう。本実施の形態のように内径１４１の大きさを変えるためには、スパッタ時に内径部分のマスクの大きささえ決めてしまえばよく、ロット間のばらつきもほとんどなくなる。
【００３０】
本実施の形態のように基材のみに吸湿防止膜をすることは、光透過層ではないために記録・再生光への影響を考慮する必要はなく、誘電体の厚みも自由であるし、さらには不透明であっても構わない。
【００３１】
吸湿防止膜の外径１４２の大きさを変えることは効果的ではなかった。逆に、吸湿防止膜の外径の大きさが基材の外径の略９０％まで小さくなると、外周端に近い部分の領域のみにおいて大きくチルトが変化することがある。吸湿防止膜は信号記録層の外径と同じか、もしくはそれ以上に広く形成されていることが好ましい。本実施の形態では、信号記録層の外径は１１８ｍｍであったので、１１８ｍｍ以上（基材の外径の略９８％以上）であることが好ましい。
【００３２】
誘電体膜を成膜する際に、ハンドリング等によって光透過層にキズがついたりすると、記録・再生特性が劣化するため、本実施の形態では図５（ａ）のように、第２の基板上に傷つき防止膜１６１を形成した後に、誘電体膜のスパッタを行った。傷つき防止膜１６１としては、シート状の樹脂材料を用い、光透過層と略同じ大きさに打ち抜き、スパッタ後に剥離が容易な微弱な接着材料によって第１の基板に貼った。或いは、傷つき防止膜を第２の基板に形成するのは、第１の基板と第２の基板を貼り合わせる前でも構わない。この場合は、第２の基板となるシート状ポリカーボネートと傷つき防止膜を一体化した後に、第２の基板の大きさに打ち抜いた。
【００３３】
さらに、光透過層表面の硬度が低い、或いは摩擦係数が大きいといった場合、光情報記録媒体を使用する際に、キズがついたり、埃が付着したりして記録・再生特性が劣化することが予想される。そこでこのような場合には、図５（ｂ）のように光透過層上に保護膜１６２を形成することが好ましい。本実施の形態では放射線硬化性樹脂であるハードコート剤をスピンコート法で塗布し、放射線照射により硬化した。保護膜形成時に第２の基板上に既にキズや埃があることは好ましくないため、保護膜形成直前まで、前述した傷つき防止膜１６１が第２の基板に形成されていることが好ましい。
【００３４】
なお、本実施の形態では情報記録層として信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型について説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいことは言うまでもない。図５（ｃ）に示したような、分離層２３３を挟んで２つの情報記録層を有するいわゆる２層光情報記録媒体、２層以上の複数有するような多層式の光情報記録媒体であっても構わない。光磁気ディスクに対しても有効である。さらに、本実施の形態のような円盤状ディスクだけでなく、光カードのようなものに対しても有効である。
【００３５】
このようにして、上記実施の形態の光情報記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によってもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得ることが可能である。
【００３６】
以上、本発明の実施の形態について例を挙げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用することができる。
【００３７】
（実施の形態２）
実施の形態２では、本発明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実施の形態１で説明したのと同様の部分については、重複する説明を省略する場合がある。第１の基板と第２の基板を貼り合わせるまでは、実施の形態１と同じである。
【００３８】
実施の形態１では、吸湿防止膜の内径を変化させることによって、環境変化によるチルト変動を抑えた。本実施の形態では、誘電体材料をドット状にスパッタすることによって、チルト変動を抑えた。実施の形態１と同じく、ＺｎＳ−ＳｉＯ2（モル分率８０：２０）誘電体材料を、メッシュ状のマスクを用い、図６（ａ）（基材側から見た図）のようにドット状に分布させた。一つのドットの大きさは略１ｃｍ2で、基材の主面の面積の略６０％が成膜されている。これによって、実施の形態１と同様にチルト変動を抑えることができた。基材主面の面積に対する吸湿防止膜の成膜面積を変えた時の結果を（表２）に示す。この時の実験条件、チルト測定については、実施の形態１と同じである。
【００３９】
【表２】
0003742583.tif 000003
さらには、ドット状の分布ではなく、図６（ｂ）のような網目状、図６（ｃ）のような放射状ドット、図７（ａ）のようなランダムドット、図７（ｂ）のような放射状等のあるパターンを有するように吸湿防止膜を分布させることによって、基材と光透過層の吸湿による変化をバランスさせることができ、チルト変動を抑えることができる。図６（ａ）から図７（ｂ）に示したパターンを、図７（ｃ）にドット状のパターンで例を示したように、輪帯状領域に形成しても構わない。図６（ａ）から図７（ｃ）は全て基材側から見た図で示した。
【００４０】
基材は光透過層と異なり、記録・再生光に影響を及ぼさないため、自由なパターンで形成することが可能である。上記以外の保護膜、傷つき防止膜等については実施の形態１で述べたのと同様である。
【００４１】
なお、本実施の形態では情報記録層として信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型について説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいことは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
【００４２】
このようにして、上記実施の形態の光情報記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によってもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得ることが可能である。
【００４３】
以上、本発明の実施の形態について例を挙げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用することができる。
【００４４】
（実施の形態３）
実施の形態３では、本発明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実施の形態１および２で説明したのと同様の部分については、重複する説明を省略する場合がある。第１の基板と第２の基板を貼り合わせるまでは、実施の形態１と同じである。
【００４５】
実施の形態１および２では、第１の基板のみに吸湿防止膜を形成した。しかしながら、第１の基板と第２の基板の環境変化に対するバランスによっては、第１の基板のみへの形成では、チルト変動を抑えられない場合がある。そこで、本実施の形態では図８（ａ）のように、第１の基板からなる基材上と、第２の基板を含む光透過層上の両方に吸湿防止膜を形成した。実施の形態１で述べたように、光透過層上への吸湿防止膜の形成については、記録・再生光への影響を考慮しなくてはならない。
【００４６】
本実施の形態では、吸湿防止膜としてＺｎＳ−ＳｉＯ2（モル分率８０：２０）誘電体材料を利用し、記録・再生光の透過率減少が数％程度で抑えられるように、光透過層上への成膜を略１０ｎｍとした。光情報記録媒体と略同心になるように直径６０ｍｍから１１９ｍｍの領域までに成膜した。基材と光透過層の両方において吸湿が抑えられ、実施の形態１と同様の実験を行った結果、湿度の変化に対するチルト変動が±０．１°以下に抑えられた。
【００４７】
光透過層上に吸湿防止膜を形成する場合、吸湿防止膜によっては硬度が低かったり、摩擦係数が大きかったりして、キズがついたり、埃が付着したりして記録・再生特性が劣化することがある。そこでこのような場合には、図８（ｂ）のように吸湿防止膜上に保護膜１６３を形成することが好ましい。本実施の形態では放射線硬化性樹脂であるハードコート剤をスピンコート法で塗布し、放射線照射により硬化した。さらに、吸湿防止膜とハードコート剤との相性等によっては、スピンコート法で塗布しにくい場合がある。このような場合には、ハードコート剤等の保護膜となる材料を霧状にした雰囲気を作り、その雰囲気中に光情報記録媒体を通過させた後に硬化する、等でも保護膜形成が十分に可能である。
【００４８】
基材と光透過層の材料の組み合わせによっては、実施の形態１および２で述べたように、吸湿防止膜の成膜領域を変化させたり、ドット状に分布させたりすることも有効である。但し光透過層上にパターンを有する吸湿防止膜を形成することは記録・再生光への影響を考慮し、避けることが好ましい。基材側の吸湿防止膜については記録・再生光への影響を考慮しなくていいため、光透過層に形成した吸湿防止膜と異なる材料を用いても構わない。上記以外の保護膜、傷つき防止膜等については実施の形態１で述べたのと同様である。
【００４９】
なお、本実施の形態では情報記録層として信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型について説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいことは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
【００５０】
このようにして、上記実施の形態の光情報記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によってもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得ることが可能である。
【００５１】
以上、本発明の実施の形態について例を挙げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用することができる。
【００５２】
（実施の形態４）
実施の形態４では、本発明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実施の形態１ないし３のいずれかで説明したのと同様の部分については、重複する説明を省略する場合がある。第１の基板と第２の基板を貼り合わせるまでは、実施の形態１と同じである。
【００５３】
実施の形態３では、基材と光透過層の主面の両方に吸湿防止膜を形成した。しかしながら、基材と光透過層の材料によってはこれでも十分でない場合が考えられる。そこで、端面部分からの吸湿も防げるように、図９のように光情報記録媒体の全ての面に吸湿防止膜を形成することも可能である。これによって、光情報記録媒体は湿度の影響を全く受けなくなる。全面に吸湿防止膜を形成する手法としては、液体状の吸湿防止膜材料中に光情報記録媒体を浸ける、気体状（霧状も含む）の吸湿防止膜材料を吹き付けるなどの後に硬化することが考えられる。光透過層上に形成される吸湿防止膜については、記録・再生光に影響がないように、透明度、均一性等に気をつけなければならない。
【００５４】
上記以外の保護膜、傷つき防止膜等については実施の形態１で述べたのと同様である。
【００５５】
なお、本実施の形態では情報記録層として信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型について説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいことは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
【００５６】
このようにして、上記実施の形態の光情報記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によってもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得ることが可能である。
【００５７】
以上、本発明の実施の形態について例を挙げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用することができる。
【００５８】
（実施の形態５）
実施の形態５では、本発明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実施の形態１ないし４のいずれかで説明したのと同様の部分については、重複する説明を省略する場合がある。第１の基板と第２の基板を貼り合わせるまでは、実施の形態１と同じである。
【００５９】
吸湿防止膜の成膜パターンとして、実施の形態１ないし４で述べた以外にも、図１０（ａ）のように外周から内周に向かって薄くなっていくようなパターンも可能である。このようなパターンでは、スピンコート法などによって吸湿防止膜を形成することが可能である。
【００６０】
また吸湿防止膜の材料によっては硬度、応力などが異なるため、輪帯状領域ごとに厚みを大きく変化させたり、材料を変えることによって、吸湿防止の効果だけでなく、引っ張り強度という観点からもチルト変動を抑えることが可能となる。この時光情報記録媒体の記録・再生特性を考慮し、対称性を維持し、輪帯状にパターンを形成することが好ましい。具体的には、図１０（ｂ）のように輪帯状領域ごとに材料の厚みが異なる、図１０（ｃ）のように輪帯状領域ごとに吸湿防止膜の材料が異なる、また、図１１のように材料の異なるものを重ね塗りする、などといったことも可能である。光情報記録媒体を形成する材料ごとに最適なパターンを選択することが好ましい。
【００６１】
上記以外の保護膜、傷つき防止膜等については実施の形態１で述べたのと同様である。
【００６２】
なお、本実施の形態では情報記録層として信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型について説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいことは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
【００６３】
このようにして、上記実施の形態の光情報記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によってもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得ることが可能である。
【００６４】
以上、本発明の実施の形態について例を挙げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用することができる。
【００６５】
（実施の形態６）
実施の形態６では、本発明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実施の形態１ないし５のいずれかで説明したのと同様の部分については、重複する説明を省略する場合がある。第１の基板と第２の基板を貼り合わせるまでは、実施の形態１と同じである。
【００６６】
図１２のように、基材の主面に吸湿防止膜を形成した後に、吸湿防止膜上にバランス層を形成する。吸湿防止膜によって基材が湿度から受ける影響を完全に排除し、光透過層とバランス層の吸湿量、吸湿膨張率をほぼ同一にすることでチルト変動を非常に小さくすることができる。理想的には、バランス層と光透過層をまったく同じ厚みの同じ材料で形成すれば、吸湿量、吸湿膨張率が全く同じとなり、チルト変動をほぼゼロとすることが可能である。
【００６７】
上記以外の保護膜、傷つき防止膜等については実施の形態１で述べたのと同様である。
【００６８】
なお、本実施の形態では情報記録層として信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型について説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいことは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
【００６９】
このようにして、上記実施の形態の光情報記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によってもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得ることが可能である。
【００７０】
以上、本発明の実施の形態について例を挙げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用することができる。
【００７１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の光情報記録媒体および光情報記録媒体の製造方法によれば、環境変化、特に湿度の変化に対して、チルト変動が小さく、記録・再生特性に影響を与えない光情報記録媒体作製が容易であり、特に情報記録層に対して基材と光透過層の厚みが非対称となる光情報記録媒体において有効である。具体的には、基材上に吸湿防止膜を形成し、その際に吸湿防止膜の形成領域を変える、もしくは島状などのあるパターンで形成することにより、基材と光透過層の吸湿量、吸湿膨張差をバランスさせた光情報記録媒体を得ることができる。
【００７２】
本発明によれば、以上のような有利な効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による光情報記録媒体を示す図
【図２】本発明による光情報記録媒体を示す図
【図３】本発明による光情報記録媒体を示す図
【図４】本発明による光情報記録媒体を示す図
【図５】本発明による光情報記録媒体を示す図
【図６】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
【図７】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
【図８】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
【図９】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
【図１０】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
【図１１】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
【図１２】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
【符号の説明】
１０１  第１の基板
１０２  第１の基板の中心孔
１０３  案内溝
１０４  記録層
１０５  情報記録層
１１１  第２の基板
１１２  第２の基板の中心孔
１２１  放射線硬化性樹脂
１２２  滴
１２３  放射線
１２４  硬化後の放射線硬化性樹脂
１３１  基材
１３２  光透過層
１４１  内径
１４２  外径
１５１  吸湿防止膜
１５２  吸湿防止膜
１５３  吸湿防止膜
１６１  傷つき防止膜
１６２  保護膜
１６３  保護膜
１９１  ノズル
２０５  情報記録層１
２１５  情報記録層２
２３１  基材
２３２  光透過層
２３３  分離層
３０１、３０２、３０３、３０４、３０５、３０６  吸湿防止膜
５０１  バランス層
５０２  吸湿防止膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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