(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転することによって基板に形成された配向膜を擦ってラビング処理を行うものであって、周面に設けられたラビング布から伸びた毛先を前記ラビングロールの回転方向に対して所定角度傾斜させたラビングロールを具備し、
前記毛先の長手方向に対する反発力よりも、前記毛先のねじれる回転方向に対する反発力の方が大きいことを特徴とする液晶装置の製造装置。
【請求項２】
回転することによって基板に形成された配向膜を擦ってラビング処理を行うものであって、周面に設けられたラビング布から伸びた毛先を前記ラビングロールの回転方向に対して所定角度傾斜させたラビングロールを具備し、
前記毛先の長手方向に対する復元力よりも、前記毛先のねじれる回転方向に対する復元力の方が大きいことを特徴とする液晶装置の製造装置。
【請求項３】
前記毛先は、前記ラビングロールの回転方向に対して２°〜４５°の範囲で傾斜していることを特徴とする請求項１又は２のいずれか一項に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項４】
前記毛先は、液晶のねじれ方向に応じた傾斜方向に設定されることを特徴とする請求項１又は２のいずれか一項に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項５】
基板に形成された配向膜を擦ってラビング処理を行う工程であって、ラビングロールの周面に設けられたラビング布から伸びた毛先を前記ラビングロールの回転方向に対して所定角度傾斜させてラビング処理を行う工程を具備し、
前記毛先の長手方向に対する反発力よりも、前記毛先のねじれる回転方向に対する反発力の方が大きいことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項６】
基板に形成された配向膜を擦ってラビング処理を行う工程であって、ラビングロールの周面に設けられたラビング布から伸びた毛先を前記ラビングロールの回転方向に対して所定角度傾斜させてラビング処理を行う工程を具備し、
前記毛先の長手方向に対する復元力よりも、前記毛先のねじれる回転方向に対する復元力の方が大きいことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項７】
前記毛先は、前記ラビングロールの回転方向に対して２゜〜４５°の範囲で傾斜していることを特徴とする請求項５又は６のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項８】
上記請求項１乃至請求項４のいずれか１つに記載の液晶装置の製造装置又は上記請求項５若しくは請求項７のいずれか一方に記載の液晶装置の製造方法によってラビング処理されたことを特徴とする液晶装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶基板の配向膜にラビング処理を施すものに好適な液晶装置の製造装置、製造方法及び液晶装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶ライトバルブ等の液晶装置は、ガラス基板、石英基板等の２枚の基板間に液晶を封入して構成される。液晶ライトバルブでは、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称す）をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能にする。
【０００３】
ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向配置される対向基板とは、別々に製造される。両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入される。
【０００４】
パネル組立工程においては、先ず、各基板工程において夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板との対向面、即ち、対向基板及びＴＦＴ基板の液晶層と接する面上に配向膜が形成され、次いでラビング処理が行われる。次に、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール部が形成される。ＴＦＴ基板と対向基板とをシール部を用いて貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させる。シール部の一部には切り欠きが設けられており、この切り欠きを介して液晶を封入する。
【０００５】
配向膜を形成してラビング処理を施すことで、電圧無印加時の液晶分子の配列が決定される。配向膜は、例えばポリイミド（ＰＩ）を約数十ナノメーターの厚さで塗布することにより形成される。液晶層に対向する両基板の面上に配向膜を形成することで、液晶分子を基板面に沿って配向処理することができる。ラビング処理は、配向膜表面に細かい溝を形成して配向異方性の膜にするものであり、配向膜に一定方向のラビング処理を施すことで、液晶分子の配列を規定することができる。
【０００６】
図９はラビング装置を示す模式図である。
【０００７】
ステージ１００上には液晶基板１０１が載置されている。ステージ１００は、水平方向に移動して基板１０１を搬送する。ステージ１００の搬送路の上方にはラビングロール１０２が配設されている。ラビングロール１０２は周面にベルベット状の生地、例えばレーヨンのラビング布１０３が取り付けられている。ラビングロール１０２を回転させながらステージ１００を搬送させて、ラビングロール１０２の回転及びステージ１００の搬送によって、ラビング布１０３で基板全面を擦ってラビングを行う。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、ラビング布１０３は布表面からレーヨンの毛先１０４が伸びている。この毛先１０４の長さは、適宜のラビング圧を加えるために、ラビングロール１０２と基板１０１との間隔よりも所定の長さだけ長く設定されている。図１０は１本の毛先１０４が基板１０１表面の一部を擦る様子を基板１０１の上面から見た説明図である。図１０の斜線部は毛先１０４によって擦られた部分を示している。
【０００９】
ラビング布１０３を回転させながらステージ１００を搬送すると、毛先１０４は基板１０１表面で折れ曲がりながら、基板１０１表面を擦る。ところが、ラビング回数が増大すると、毛先１０４の回転方向の折れがクセとなり、毛先１０４に折れクセが生じる。この折れクセによって、毛先１０４と基板１０１表面との間に均一な接触圧を保てなくなってしまう。
【００１０】
即ち、ラビング回数の増大に従ってラビング圧が変化し、不均一なラビング処理が行われてしまい、配向膜に悪影響を与えてしまう。そうすると、基板１０１に十分な配向規制力を付与することができなくなり、洗浄の影響及びシール材からの溶剤の溶出による影響等を受けやすくなり、配向むらが生じてしまう。
【００１１】
また、毛先１０４は比較的復元力が弱く、ラビング処理を繰返すと、局所的に毛先が偏り、毛密度のむらが生じる。そうすると、位置によってラビング強度が異なる部分が生じて、液晶チルトむらが発生する。
【００１２】
また、図１０に示すように、１本の毛先１０４が基板１０１表面と接触する面は、毛先１０４の線径に等しい。毛先１０４の線径は極めて細く、ラビング布１０３から多数の毛先１０４が伸びている場合でも、擦られない部分が発生する可能性が比較的高い。
【００１３】
また、毛先１０４によって段差を有する部分を擦った場合等には、毛先１０４が２つに割れてしまうことがある。図１１はこの様子を模式的に示す説明図である。この場合にも、毛先１０４の割れによって、擦られない部分が発生する可能性が高くなる。
【００１４】
また、基板１０１は平面状であるとは限らず、例えば画素周辺に段差を有することがある。この場合には、段差部分において下段の隅に毛先１０４が接触しない可能性がある。この場合にも配向不良になりやすく、特に液晶のツイスト方向によっては、表示不良が生じてしまうという問題があった。
【００１５】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、毛先をラビングロールの軸芯に垂直な方向に対して傾斜させることにより、毛先が基板表面に接触する面積を増大させると共に毛先の復元力を向上させ、更に、段差部分についても毛先を確実に接触可能とすることにより、基板全域で均一な安定したラビング圧でのラビングを可能にして、配向むら及び液晶チルトむらの発生を防止して表示品質を向上させることができる液晶装置の製造装置、製造方法及び液晶装置を提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る液晶装置の製造装置は、回転することによって基板に形成された配向膜を擦ってラビング処理を行うものであって、周面に設けられたラビング布から伸びた毛先を前記ラビングロールの回転方向に対して所定角度傾斜させたラビングロールを具備したことを特徴とする。
また、本発明に係る液晶装置の製造装置は、回転することによって基板に形成された配向膜を擦ってラビング処理を行うものであって、周面に設けられたラビング布から伸びた毛先を前記ラビングロールの回転方向に対して所定角度傾斜させたラビングロールを具備し、
前記毛先の長手方向に対する反発力よりも、前記毛先のねじれる回転方向に対する反発力の方が大きいことを特徴とする。
また、本発明に係る液晶装置の製造装置は、回転することによって基板に形成された配向膜を擦ってラビング処理を行うものであって、周面に設けられたラビング布から伸びた毛先を前記ラビングロールの回転方向に対して所定角度傾斜させたラビングロールを具備し、
前記毛先の長手方向に対する復元力よりも、前記毛先のねじれる回転方向に対する復元力の方が大きいことを特徴とする。
【００１７】
このような構成によれば、毛先はラビングロールの回転方向に対して所定角度傾斜しているので、１本の毛先によってラビングされる領域が広く、液晶基板の全領域を確実にラビングすることが可能であり、基板全域に亘って均一で良好な配向が得られる。また、毛先が割れてしまうことを防止することができる。また、毛先のねじれ方向の復元力が強いことから、ラビングを繰返しても毛密度のむらが生じにくく長寿命化が可能である。
【００１８】
前記毛先は、前記ラビングロールの回転方向に対して２°〜４５°の範囲で傾斜していることを特徴とする。
【００１９】
このような構成によれば、すじむらを低減したラビングが可能である。また、ラビングロールの寿命を長くすることができる。
【００２０】
また、前記毛先は、液晶のねじれ方向に応じた傾斜方向に設定されることを特徴とする。
【００２１】
このような構成によれば、段差を有する部分についても確実にラビング処理が可能である。
【００２２】
本発明に係る液晶装置の製造方法は、液晶基板に形成された配向膜を擦ってラビング処理を行う工程であって、ラビングロールの周面に設けられたラビング布から伸びた毛先を前記ラビングロールの回転方向に対して所定角度傾斜させてラビング処理を行う工程を具備したことを特徴とする。
【００２３】
このような構成によれば、ラビングロールの回転方向に対して所定角度傾斜した毛先によってラビング処理を行う。毛先が傾斜しているので、１本の毛先によってラビングされる領域が広く、液晶基板の全領域を確実にラビングすることが可能であり、基板全域に亘って均一で良好な配向が得られる。また、毛先が割れてしまうことを防止することができる。また、毛先のねじれ方向の復元力が強いことから、ラビングを繰返しても毛密度のむらが生じにくく長寿命化が可能である。
【００２４】
前記毛先は、前記ラビングロールの回転方向に対して２°〜４５°の範囲で傾斜していることを特徴とする。
【００２５】
このような構成によれば、すじむらを低減したラビングが可能である。また、ラビングロールの寿命を長くすることができる。
【００２６】
本発明に係る液晶装置は、上記液晶装置の製造装置又は上記液晶装置の製造方法によってラビング処理されたことを特徴とする。
【００２７】
このような構成によれば、すじむらが抑制され、長寿命化されたラビングロールによってラビング処理されているので、配向むら、チルトむらの発生が防止されて、表示品質が高い。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。図１は本発明の第１の実施の形態に係る液晶装置の製造装置に採用されるラビング装置及びラビングロールを模式的に示す説明図である。図２は液晶装置の画素領域を構成する複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。図３はＴＦＴ基板等の素子基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図であり、図４は素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置を、図３のＨ−Ｈ'線の位置で切断して示す断面図である。また、図５は液晶装置を詳細に示す断面図である。図６はパネル組立工程を示すフローチャートである。
【００２９】
本実施の形態はラビングロールの毛先の方向をロール回転軸に垂直な向きに対して所定の角度傾斜させるようにしたものである。
【００３０】
先ず、図２乃至図５を参照して、液晶パネルの構造について説明する。
【００３１】
液晶パネルは、図３及び図４に示すように、ＴＦＴ基板等の素子基板１０と対向基板２０との間に液晶５０を封入して構成される。素子基板１０上には画素を構成する画素電極等がマトリクス状に配置される。図２は画素を構成する素子基板１０上の素子の等価回路を示している。
【００３２】
図２に示すように、画素領域においては、複数本の走査線３ａと複数本のデータ線６ａとが交差するように配線され、走査線３ａとデータ線６ａとで区画された領域に画素電極９ａがマトリクス状に配置される。そして、走査線３ａとデータ線６ａの各交差部分に対応してＴＦＴ３０が設けられ、このＴＦＴ３０に画素電極９ａが接続される。
【００３３】
ＴＦＴ３０は走査線３ａのＯＮ信号によってオンとなり、これにより、データ線６ａに供給された画像信号が画素電極９ａに供給される。この画素電極９ａと対向基板２０に設けられた対向電極２１との間の電圧が液晶５０に印加される。また、画素電極９ａと並列に蓄積容量７０が設けられており、蓄積容量７０によって、画素電極９ａの電圧はソース電圧が印加された時間よりも例えば３桁も長い時間の保持が可能となる。蓄積容量７０によって、電圧保持特性が改善され、コントラスト比の高い画像表示が可能となる。
【００３４】
図５は、一つの画素に着目した液晶パネルの模式的断面図である。
【００３５】
ガラスや石英等の素子基板１０には、溝１１が形成されている。この溝１１上に遮光膜１２及び第１層間絶縁膜１３を介してＬＤＤ構造をなすＴＦＴ３０が形成されている。溝１１によって、ＴＦＴ基板の液晶５０との境界面が平坦化される。
【００３６】
ＴＦＴ３０は、チャネル領域１ａ、ソース領域１ｄ、ドレイン領域１ｅが形成された半導体層に絶縁膜２を介してゲート電極をなす走査線３ａが設けられてなる。なお、遮光膜１２は、ＴＦＴ３０の形成領域に対応する領域、後述するデータ線６ａ及び走査線３ａ等の形成領域、即ち各画素の非表示領域に対応した領域に形成されている。この遮光膜１２によって、入射光がＴＦＴ３０のチャネル領域１ａ、ソース領域１ｄ及びドレイン領域１ｅに入射することが防止される。
【００３７】
ＴＦＴ３０上には第２層間絶縁膜１４が積層され、第２層間絶縁膜１４上には中間導電層１５が形成されている。中間導電層１５上には誘電体膜１７を介して容量線１８が対向配置されている。容量線１８は、容量層と遮光層とからなり、中間導電層１５との間で蓄積容量を構成すると共に、光の内部反射を防止する遮光機能を有する。半導体層に比較的近接した位置に中間導電層１５を形成しており、光の乱反射を効率よく防止することができる。
【００３８】
容量線１８上には第３層間絶縁膜１９が配置され、第３層間絶縁膜１９上にはデータ線６ａが積層される。データ線６ａは、第３及び第２層間絶縁膜１９，１４を貫通するコンタクトホール２４ａ，２４ｂを介してソース領域１ｄに電気的に接続される。データ線６ａ上には第４層間絶縁膜２５を介して画素電極９ａが積層されている。画素電極９ａは、第４〜第２層間絶縁膜２５，１９，１４を貫通するコンタクトホール２６ａ，２６ｂにより容量線１８を介してドレイン領域１ｅに電気的に接続される。画素電極９ａ上にはポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜１６が積層され、図１のラビングロールを用いて所定方向にラビング処理されている。
【００３９】
走査線３ａ（ゲート電極）にＯＮ信号が供給されることで、チャネル領域１ａが導通状態となり、ソース領域１ｄとドレイン領域１ｅとが接続されて、データ線６ａに供給された画像信号が画素電極９ａに与えられる。
【００４０】
一方、対向基板２０には、ＴＦＴアレイ基板のデータ線６ａ、走査線３ａ及びＴＦＴ３０の形成領域に対向する領域、即ち各画素の非表示領域において第１遮光膜２３が設けられている。この第１遮光膜２３によって、対向基板２０側からの入射光がＴＦＴ３０のチャネル領域１ａ、ソース領域１ｄ及びドレイン領域１ｅに入射することが防止される。第１遮光膜２３上に、対向電極（共通電極）２１が基板２０全面に亘って形成されている。対向電極２１上にポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜２２が積層され、所定方向にラビング処理されている。
【００４１】
そして、素子基板１０と対向基板２０との間に液晶５０が封入されている。これにより、ＴＦＴ３０は所定のタイミングでデータ線６ａから供給される画像信号を画素電極９ａに書き込む。書き込まれた画素電極９ａと対向電極２１との電位差に応じて液晶５０の分子集合の配向や秩序が変化して、光を変調し、階調表示を可能にする。
【００４２】
図３及び図４に示すように、対向基板２０には表示領域を区画する額縁としての遮光膜４２が設けられている。遮光膜４２は例えば遮光膜２３と同一又は異なる遮光性材料によって形成されている。
【００４３】
遮光膜４２の外側の領域に液晶を封入するシール材４１が、素子基板１０と対向基板２０間に形成されている。シール材４１は対向基板２０の輪郭形状に略一致するように配置され、素子基板１０と対向基板２０を相互に固着する。シール材４１は、素子基板１０の１辺の一部において欠落しており、貼り合わされた素子基板１０及び対向基板２０相互の間隙には、液晶５０を注入するための液晶注入口７８が形成される。液晶注入口７８より液晶が注入された後、液晶注入口７８を封止材７９で封止するようになっている。
【００４４】
素子基板１０のシール材４１の外側の領域には、データ線駆動回路６１及び実装端子６２が素子基板１０の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接する２辺に沿って、走査線駆動回路６３が設けられている。素子基板１０の残る一辺には、画面表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路６３間を接続するための複数の配線６４が設けられている。また、対向基板２０のコーナー部の少なくとも１箇所においては、素子基板１０と対向基板２０との間を電気的に導通させるための導通材６５が設けられている。
【００４５】
次に、図６を参照してパネル組立工程について説明する。素子基板１０（ＴＦＴ基板）と対向基板２０とは、別々に製造される。ステップＳ1 ，Ｓ6 で夫々用意されたＴＦＴ基板及び対向基板２０に対して、次のステップＳ2 ，Ｓ7 では、配向膜１６，２２となるポリイミド（ＰＩ）を塗布する。次に、ステップＳ3 ，Ｓ8 において、素子基板１０表面の配向膜１６及び対向基板２０表面の配向膜２２に対して、ラビング処理を施す。このラビング処理は図１のラビングロールを用いて行われる。
【００４６】
次に、ステップＳ4 ，Ｓ9 において、洗浄工程を行う。この洗浄工程は、ラビング処理によって生じた塵埃を除去するためのものである。洗浄工程が終了すると、ステップＳ5 において、シール材４１（図２参照）を形成する。次に、ステップＳ10で、素子基板１０と対向基板２０とを貼り合わせ、ステップＳ11でアライメントを施しながら圧着し、シール材４１を硬化させる。最後に、ステップＳ12において、シール材４１の一部に設けた切り欠きから液晶を封入し、切り欠きを塞いで液晶を封止する。
【００４７】
本実施の形態においては、図１（ａ）に示すラビング装置によってステップＳ3 ，Ｓ8 のラビング処理が行われる。
【００４８】
図１（ａ）に示すラビング装置は、図９のラビングロール１０２に代えて図１（ｂ）のラビングロール８１を採用した点が図９のラビング装置と異なる。なお、図１は形状を模式的に示したものであり、図１（ａ），（ｂ）相互間でロール径等についての相関はない。図１（ａ）はステージ進行方向に直交する方向から見たものであり、図１（ｂ）はステージ進行方向から見たものである。
【００４９】
図１（ａ），（ｂ）において、ラビングロール８１は、円柱形状に構成され、円中心を軸芯８５にして周方向に回動自在である。ラビングロール８１の周面には、ベルベット状の生地、例えばレーヨンで形成されたラビング布８２が巻かれている。ラビング布８２の表面からは所定の長さの毛先８３が伸びている。
【００５０】
本実施の形態においては、図１（ｂ）に示すように、毛先８３は、毛並みの方向が軸芯８５に垂直な向き（ラビングロール８１の回転方向）に対して所定の角度、例えば、２°〜４５°程度傾斜するように、ラビング布８２に編み込まれている。また、毛先８３の毛並方向は液晶ねじれ方向に応じた向きとなっている。
【００５１】
なお、ラビングロール８１の回転方向とステージ１００の進行方向とが１８０°から所定角度ずれていることがある。この場合には、ラビングロール８１の速度ベクトルとステージ１００の速度ベクトルとの合成ベクトルがラビング方向となる。毛先８３の傾斜角度はこの合成ベクトルを基準に設定すればよい。なお、以後、説明の簡略化のため、ラビングロール８１の回転方向とステージ１００の進行方向とは１８０°ずれて一致しているものとして説明する。
【００５２】
ステージ１００は上面に基板１０１が載置されるようになっている。ステージ１００上に載置される基板１０１（図９参照）は、上述した素子基板１０又は対向基板２０に相当する。ラビングロール８１とステージ１００とは、ラビング布８２の毛先８３による基板１０１へのラビング圧が所定値になるように、垂直方向の位置決めが行われている。ステージ１００は、基板１０１の表面に平行な所定方向に移動自在であり、ステージ１００の移動路、即ち、基板１０１の搬送路の上方に、ラビングロール８１が配置されるようになっている。
【００５３】
ラビング時には、ラビングロール８１は、ラビング布８２が基板１０１に接する部分では、ステージ１００の進行方向の逆方向となるように回転する。基板１０１がラビング布８２の毛先８３に所定の圧力で接しながらその表面全体が擦られるように、ラビングロール８１を回転させながら、ステージ１００を搬送する。
【００５４】
次に、このように構成された実施の形態の作用について図７を参照して説明する。図７は図１のラビングロールを用い、１本の毛先８３によるラビング処理時の様子を説明するための説明図である。
【００５５】
先ず、配向膜となるポリイミドが塗布された状態の素子基板１０又は対向基板２０に相当する基板１０１（図９参照）をステージ１００上に載置する。図７は基板１０１として素子基板を用いた例を示しており、素子基板上の隣接する２つの画素９１のラビングの様子を示している。画素９１は、周辺部に画素トランジスタ（図２のＴＦＴ３０に相当）及び配線部が構成され、中央部に画素電極（図２の画素電極９ａに相当）が構成されている。
【００５６】
この状態で、ステージ１００をラビングロール８１側に搬送する。また、ラビングロール８１を回転させる。ステージ１００がラビングロール８１の底部近傍に到達すると、ラビング布８２の毛先８３が基板１０１に接触する。更に、ラビングロール８１の回転及びステージ１００の搬送されることによって、毛先８３（ラビング布８２）は、基板１０１の表面を擦りながら進行する。こうして、基板１０１の全面がラビング処理される。
【００５７】
この場合には、図７に示すように、毛先８３がステージ進行方向に対して所定の角度だけ傾斜しているので、ステージ進行方向に直交する方向には毛先８３と基板１０１の接触長は長い。即ち、ステージ１００の移動によって１本の毛先８３が擦る基板１０１表面の面積は極めて大きい。図７の領域９４は１本の毛先８３によって擦られた領域を示している。図７と図１０との比較から明らかなように、各毛先８３が単独でラビング処理する基板１０１表面の面積は極めて大きい。このため、ラビングロール８１の全ての毛先８３によって基板全域がラビング処理される確率が高くなる。つまり、見かけ上の毛密度を向上させ、擦られない基板表面を低減することができ、基板全域に亘って均一で良好な配向を得やすくすることができる。
【００５８】
また、図７に示すように、各画素９１はステージ進行方向に対して水平及び垂直方向に素子等が形成される。従って、毛先８３がステージ進行方向に対して傾斜していることから、画素９１周辺に段差がある場合でも、段差の下段部分の隅にも毛先８３が接触しやすい。従って、段差部分においても確実にラビングが可能であり、配向不良の発生を防止することができる。
【００５９】
しかも、毛先８３の傾斜方向を液晶のねじれ方向に応じて設定しており、特に配向不良のおきやすい角を毛先８３で擦り上げるようにして確実にラビング処理可能である。
【００６０】
また、ステージ進行方向に対して所定の角度傾斜して毛先８３が設けられているので、ステージ進行によって毛先８３が割れてしまうことはない。
【００６１】
また、毛先８３と基板１０１表面との接触によって、毛先８３は、ステージ進行方向に力を受け、この方向に若干折れ曲がろうとする。この場合においても、毛先８３と基板１０１の表面との摩擦によって、毛先８３が受ける力の一部は、毛先８３を図７の白抜き矢印の向きに回転させる力となる。毛先８３は、長手方向に対する反発力よりも回転方向に対する反発力の方が大きく、また、復元力についても回転方向の復元力の方が長手方向の復元力よりも大きい。
【００６２】
従って、毛先８３が基板１０１と接触して毛先８３がねじれることにより、ねじれのトルク分の増加によって、配向膜に一層強い配向規制力を与えることができる。また、毛先８３のねじれ方向の復元力が大きいことから、ラビングを繰返しても毛密度のむらが生じにくく長寿命化が可能である。これにより、ラビング強度にむらが生じにくくなり、液晶チルトむらを防止することができる。
【００６３】
このように本実施の形態においては、ラビングロール８１の毛先８３をステージ進行方向に対して所定の角度傾斜させて設けていることから、１本の毛先８３が擦る基板１０１表面の面積を大きくして見かけ上の毛密度を向上させ、基板全域に亘って均一で良好な配向を得ることができる。また、段差を有する部分についても確実にラビング処理が可能であり、しかも、毛先８３の傾斜方向を液晶のねじれ方向に応じて設定しており、この段差部分でも確実なラビング処理が可能である。また、ステージ進行によって毛先８３が割れてしまうことはない。また、配向膜に一層強い配向規制力を与えることができ、しかも、ラビングを繰返しても毛密度のむらが生じにくく長寿命化が可能であり、均一で確実なラビング強度を得ることができ、液晶チルトむらを防止することができる。
【００６４】
なお、上記実施の形態においては、単体の液晶基板をステージ上に載置してラビング処理を行う装置に適用する例を説明したが、対向基板を複数パレット上に配置してラビング処理を行う装置にも適用可能であることは明らかである。また、ラビング処理のためにステージ１００を水平方向に移動させたが、ラビングロール８１側を移動させるようにしてもよい。
【００６５】
（実施例１）
第１の実施の形態に従って、毛先８３をラビングロール８１の回転方向に対して傾斜させた場合のすじむらの発生率及び使用寿命を測定した結果を図８に示す。図８は四角印によってロール寿命の測定結果を示し、菱形印によってすじむら不良の発生率を示している。
【００６６】
図８は毛先８３のラビングロール８１の回転方向に対する傾斜角度（ロール巻付け角度）を０°（傾斜なし）、５°、１５°、３０°及び４５°に設定した場合の特性を示している。なお、すじむら発生率は８０回擦った後の２００個の液晶パネルを検査して求めた。また、寿命は配向規制力低下に伴う配向むら等の不良が発生した時点までの擦り回数を用いた。但し、最大擦り回数は３００回である。
【００６７】
図８に示すように、すじむら不良の発生率は、毛先８３の傾斜角度を５°〜４５°にすることによって、傾斜なし（０°）の場合よりも不良発生率を２．５％〜４．５％程度低減することができることが分かる。また、使用寿命については、傾斜角度を４５°に設定した場合に、他の場合よりも使用可能な寿命回数が低下していることが分かる。この結果から、毛先８３の傾斜角度を５°〜３０°程度にすることが、すじむら発生の防止の点及び寿命の点から有利であることが分かる。
【００６８】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、毛先をラビングロールの軸芯に垂直な方向に対して傾斜させることにより、毛先が基板表面に接触する面積を増大させると共に毛先の復元力を向上させ、更に、段差部分についても毛先を確実に接触可能とすることにより、基板全域で均一な安定したラビング圧でのラビングを可能にして、配向むら及び液晶チルトむらの発生を防止して表示品質を向上させることができるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る液晶装置の製造装置に採用されるラビング装置及びラビングロールを模式的に示す説明図。
【図２】液晶装置の画素領域を構成する複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図。
【図３】ＴＦＴ基板等の素子基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図。
【図４】素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置を、図４のＨ−Ｈ'線の位置で切断して示す断面図。
【図５】液晶装置を詳細に示す断面図。
【図６】パネル組立工程を示すフローチャート。
【図７】第１の実施の形態の作用を説明するための説明図。
【図８】実施例１の測定結果を示すグラフ。
【図９】ラビング装置を示す模式図。
【図１０】１本の毛先１０４が基板１０１表面の一部を擦る様子を基板１０１の上面から見た説明図。
【図１１】毛先１０４が２つに割れてしまう様子を模式的に示す説明図。
【符号の説明】
８１…ラビングロール
８２…ラビング布
８３…毛先
１００…ステージ
１０１…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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