(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体製造装置に対してプロセスガスを供給するための供給弁と、不活性ガスを供給するためのパージ弁と、不活性ガス源と該パージ源との流路に設けられた逆止弁とを有するプロセスガス供給ユニットにおいて、
前記供給弁と、前記パージ弁と、前記逆止弁とが取り付けられるブロックであって、
前記供給弁の入力ポートとプロセスガス外部入口とを連通するプロセスガス入力流路と、
前記供給弁の出力ポートとプロセスガス外部出口とを連通するプロセスガス出力流路と、
前記パージ弁の出力ポートと前記プロセスガス出力流路とを連通させるパージ出力流路と、
前記パージ弁の入力ポートと前記逆止弁の出力ポートとを連通させる逆止弁出力流路と、
前記逆止弁の入力ポートとパージガス外部入口とを連通するパージガス入力流路とが形成されたマニホールドを有することを特徴とするプロセスガス供給ユニット。
【請求項２】
請求項１に記載するプロセスガス供給ユニットにおいて、
真空ポンプと接続し、前記マニホールドに取り付けられる真空弁を有し、
前記マニホールドに、前記真空弁の出力ポートと前記プロセスガス出力流路とを連通させる真空出力流路と、前記真空弁の入力ポートと真空外部入口とを連通する真空入力流路とが形成されていることを特徴とするプロセスガス供給ユニット。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載するプロセスガス供給ユニットにおいて、
前記逆止弁出力流路が、略Ｖ字形であることを特徴とするプロセスガス供給ユニット。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造工程で使用されるプロセスガス供給ユニットに関し、さらに詳細には、プロセスガス供給弁、パージ弁、逆止弁等を取り付けるためプロセスガス供給ユニットに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、半導体製造工程において、エッチングガス等のプロセスガスを供給するためのプロセスガス供給ユニットが開発されている。例えば、特開平５−１７２２６５号公報には、２つの開閉弁１，２が取り付けられたブロックマニホールドに、開閉弁の入力ポートと外部入口６とを連通する入力流路４と、開閉弁１の出力ポートと外部出口７とを連通する出力流路５と、開閉弁２の出力ポートと出力流路５とを連通させる連通路８とを形成することが示されている。
【０００３】
しかし、例えば、図７に示すプロセスガス供給フローでは、マスフローコントローラ１１の入口に、供給弁１３の出力ポート及びパージ弁１２の出力ポートが連通している。また、供給弁１３の入力ポートはプロセスガス源に接続している。また、パージ弁１２の入力ポートは逆止弁１４を介してパージガスである不活性ガス源に接続している。
このようなガス供給ラインは、プロセスガスラインに対して、パージ弁１２と逆止弁１４とを直列に連通させたものを接続させなければならないため、特開平５−１７２２６５号公報に開示されている技術では、１つのブロックマニホールドに流路を形成することができなかった。
【０００４】
そのため、図１１に示すように、マスフローコントローラ１１、供給弁１３、パージ弁１２、及び逆止弁１４の両側に継手を設け、各継手間の配管を突き合わせ溶接Ａすることにより、ガス供給ラインを構成していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のプロセスガス供給ラインには、次のような問題があった。
（１）図１１に示すガス供給ラインでは、大きなスペースを取るため、半導体製造装置に要求されている小型化・集積化に反していた。また、溶接部が多くなることにより、耐食性が低下すると共に、パーティクルが発生する恐れがあった。また、供給弁１３、パージ弁１２、逆止弁１４をメインテナンスする場合、交換する場合に、継手を外して交換等しなければならいため、メインテナンスの適性が悪かった。
【０００６】
（２）一方、特開平５−１７２２６５号公報に開示されている技術では、プロセスガスの流れを形成するフローならば、複数個の機器をブロックマニホールドに取り付けて、ブロックマニホールドの内部に連通する流路を形成することが可能であったが、パージ弁１２と逆止弁１４とを直列的に連通したものをプロセスガスフローに接続することは、困難であった。
すなわち、ブロックマニホールドの内部に、２重の流路を形成する場合、必ず、余分な開口が発生し、その余分な開口を塞ぐための止め栓が必要となる。この止め栓が、新たなパーティクルの発生源となる問題があった。また、プロセスガスをパージガスで置換する場合に、止め栓の近傍ガスの停留する箇所が発生し、プロセスガスが残留して、半導体の歩留まりを低下させる問題があった。
【０００７】
本発明は上記問題点を解決し、パージ弁と逆止弁とが直列に連通されたものをプロセスガスフローに接続する小型化・集積化したプロセスガス供給ユニットを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明のプロセスガス供給ユニットは、次のような構成を有している。
（１）半導体製造装置に対してプロセスガスを供給するための供給弁と、不活性ガスを供給するためのパージ弁と、不活性ガス源と該パージ源との流路に設けられた逆止弁とを有するプロセスガス供給ユニットにおいて、供給弁と、パージ弁と、逆止弁とが取り付けられるブロックであって、供給弁の入力ポートとプロセスガス外部入口とを連通するプロセスガス入力流路と、供給弁の出力ポートとプロセスガス外部出口とを連通するプロセスガス出力流路と、パージ弁の出力ポートとプロセスガス出力流路とを連通させるパージ出力流路と、パージ弁の入力ポートと逆止弁の出力ポートとを連通させる逆止弁出力流路と、逆止弁の入力ポートとパージガス外部入口とを連通するパージガス入力流路とが形成されたマニホールドを有する。
【０００９】
（２）（１）に記載するプロセスガス供給ユニットにおいて、真空ポンプと接続し、前記マニホールドに取り付けられる真空弁を有し、前記マニホールドに、前記真空弁の出力ポートと前記プロセスガス出力流路とを連通させる真空出力流路と、前記真空弁の入力ポートと真空外部入口とを連通する真空入力流路とが形成されていることを特徴とする。
（３）（１）または（２）に記載するプロセスガス供給ユニットにおいて、前記逆止弁出力流路が、略Ｖ字形であることを特徴とする。
【００１０】
次に、上記構成を有する本発明のプロセスガス供給ユニットの作用を説明する。
請求項１に記載するプロセスガス供給ユニットにおいては、供給弁、パージ弁、逆止弁が全て、ブロックマニホールドに対して上側から、各々４本のボルトで取り付けられているので、個別に取り外し取り付けが可能である。
また、パージ弁の出力ポートがプロセスガスの出力流路と連通しているので、供給弁の出力ポート及びマスフローコントローラをパージガスで置換することができる。
このとき、逆止弁がブロックマニホールドにおいて、すぐ隣りに配設されており、逆止弁のパージガス入力流路がプロセスガスの出力流路を斜めに迂回し、さらに下側流路ブロックにより、プロセスガス出力流路とねじれ関係で交差して、上向きにポートが形成されているので、逆止弁を上側から取り付け取り外すことが可能である。また、パージガス外部入口を上向きし、継手を介してパージガス供給チューブ等を上側から取り付け取り外すことが可能である。
【００１１】
また、請求項３に記載するプロセスガス供給ユニットにおいては、パージ弁の入力ポートと逆止弁の出力ポートとを連通する逆止弁出力流路が、略Ｖ字形に形成されているので、短かい距離で両ポートを接続できる。また、曲がり箇所を一箇所のみとすることができるため、プロセスガスが逆流して逆止弁で止められた場合でも、逆止弁出力流路にプロセスガスが滞留する可能性が低い。また、Ｖ字形は、ドリル等で方向が逆である斜め孔を２箇所開ければ形成できるので、加工及び加工後の洗浄が容易であるため、加工で発生する微小切削粉、油分等を十分除去することができる。
【００１２】
さらに、請求項２に記載するプロセスガス供給ユニットにおいては、ブロックマニホールドで逆止弁のすぐ隣りに真空弁を配設しており、真空弁は、４本のボルトにより上側から取り外し取り付けが可能である。
また、真空弁の真空入力流路がプロセスガスの出力流路を斜めに迂回し、さらに下側第２流路ブロックにより、プロセスガス出力流路とねじれ関係で交差して、上向きにポートが形成されているので、真空弁を上側から取り付け取り外すことが可能である。また、真空外部入口を上向きし、継手を介して真空供給パイプ等を上側から取り付け取り外すことが可能である。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る開閉弁の取付構造及びその取付用部材を具体化した実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
本発明の第１の実施の形態のプロセスガス供給ユニットを図１に断面図で示し、図２に平面図で示し、図３に図２のＡＡ断面図で示す。
図１及び図２に示すように、ブロックであるマニホールド１６にプロセスガス供給のための供給弁１３、パージガス供給のためのパージ弁１２、パージガスの逆流を防止するための逆止弁１４が上側から、各々４本のボルトにより取り付けられている。
【００１４】
始めに、供給弁１３、パージ弁１２、及び逆止弁１４の構造を図９により簡単に説明する。ここで、供給弁１３とパージ弁１２とは、同じ開閉弁を使用しているので、供給弁１３の構造のみ説明する。同じ開閉弁を用いることにより、同じ取り付け寸法となり、数が多いときに設計上便利であり、また、交換用の予備部品も少なくて済む利点がある。また、逆止弁１４の取り付けボルト位置も供給弁１３、パージ弁１２と全く同じ位置である。これにより、全ての部品の寸法が統一され、設計上便利である。
【００１５】
図９に示すように、供給弁１３の出力ポート２７は、プロセスガス出力流路２１の垂直流路部２１ａの上端に位置する。垂直流路部２１ａのマニホールド１６表面には、座ぐり孔が形成され、中空状のシール部材６１が装着されている。
垂直流路部２１ａの左側に、プロセスガス入力流路２０の垂直流路部２０ａが形成されている。供給弁１３の入力ポート２８は、垂直流路部２０ａの上端に位置する。垂直流路部２０ａの外側のマニホールド１６表面には、座ぐり孔が形成され中空状のシール部材６２が装着されている。
シール部材６１及びシール部材６２の上には、上面に弁座５９を備える弁座部材６３が装着されている。
【００１６】
弁座５９の上面には、弁体５８が当接または離間可能に保持されている。すなわち、弁座部材６３の上面の孔内部に形成された雌ねじに対して、ねじ込まれる中間部材５７に押圧されるダイヤフラム固定ブラケット５６と、弁座部材６３とでダイヤフラム５４の外周が固定されている。弁体５８と弁座５９の間にダイヤフラム５４を用いているのは、プロセスガスの漏れを防止するためである。
弁座部材６３の中心孔には、ピストンロッド５３が摺動可能に保持されている。ピストンロッド５３の中央付近には、ピストン５２がかしめ加工により固定されている。
中間部材５７の上には、パイロット弁シリンダ５１が固設されている。パイロット弁シリンダ５１の内側には、ピストン５２及びピストンロッド５３を下向きに付勢するための復帰バネ５５が取り付けられている。また、ピストンロッド５３の中心には、ピストン５２の下側に駆動空気用ポート６０が形成されている。
【００１７】
次に、上記構成を有する開閉弁の作用を簡単に説明する。
駆動空気用ポート６０に圧縮空気が送られていない状態で、ピストン５２、ピストンロッド５３は復帰バネ５５により下向きに付勢されており、ピストンロッド５３が弁体５８を、ダイヤフラム５４を介して弁座５９に当接させている。ここで、弁座５９を介して弁体５８にプロセスガスやパージガスのガス圧がかかっているが、復帰バネ５５が強いため、弁体５８は弁座５９に当接され、出力ポート２７と入力ポート２８とは遮断されている。
次に、駆動空気用ポート６０に圧縮空気が送られると、ピストン５２、ピストンロッド５３が上向きに移動する。そして、弁体５８、ダイヤフラム５４が、プロセスガスやパージガスの圧力により上向きに移動され、入力ポート２８と出力ポート２７とが連通する。
【００１８】
次に、逆止弁１４の入力ポート３２は、斜め流路２４の上端に位置する。その上端表面には、座ぐり孔が形成された中空状の弁座部材７４が固着されている。
シリンダ部材７５内面には、弁体部材７２が摺動可能に保持されている。一端がブラケット７３に接する復帰バネ７６が、弁体部材７２を弁座部材７４に当接する方向に付勢している。
弁体部材７２には、外側と内側を連通する連通孔７２ａが形成されている。また、ブラケット７３には、シリンダ部材７５の外側と内側を連通する連通孔７３ａが形成されている。
【００１９】
次に、逆止弁１４の作用を簡単に説明する。入力ポート３２側は常時パージ圧力であり、その力により弁体部材７２は上向きの力を受けている。従って、パージ弁１２が開いている場合、逆止弁出力流路２３の圧が低下し、弁体部材７２内側の圧が低下するため、弁体部材７２は上方向に移動し、パージガスが入力ポート３２から出口ポート３１へと流れる。
一方、パージ弁１２が閉じられている場合、逆止弁出力流路２３の圧が上昇し、弁体部材７２内側の圧も上昇するため、弁体部材７２は下方向に移動し、弁体部材７２が弁座部材７４に当接する。これにより、パージガスが出口ポート３１側から入力ポート３２側へ逆流することがない。
【００２０】
次に、マニホールド１６の内部構造を説明する。
マニホールド１６の左端には、プロセスガス外部入口１８が形成されている。プロセスガス外部入口１８と、供給弁１３の入力ポート２８とは、プロセスガス入力流路２０により連通されている。プロセスガス入力流路２０は、プロセスガス外部入口１８から水平に延び、垂直流路部２０ａによりマニホールド１６の上面方向に曲げられている。
マニホールド１６の右端には、プロセスガス外部出口１９が形成されている。プロセスガス外部出口１９と、供給弁１３の出力ポート２７とは、プロセスガス出力流路２１により連通されている。プロセスガス出力流路２１は、プロセスガス外部出口１９から水平に延び、垂直流路部２１ａによりマニホールド１６の上面方向に曲げられている。
【００２１】
また、パージ弁１２の出力ポート２９は、パージ出力流路２２によりプロセスガス出力流路２１と連通されている。また、パージ弁１２の入力ポート３０は、図１に示すように略Ｖ字形の逆止弁出力流路２３により、逆止弁１４の出力ポート３１に連通している。
また、マニホールド１６の下面には、下側流路ブロック３３及び下側流路第２ブロック３４が固設されている。そして、図３に示すように、逆止弁１４の入力ポート３２は、斜めに形成された斜め流路２４、垂直部２５ａと垂直部２５ｂとを有する交差流路２５、によりパージガス外部入口２６に連通されている。斜め流路２４と交差流路２５とによりパージガス入力流路が構成されている。
【００２２】
ここで、各流路の加工方法を簡単に説明する。
逆止弁出力流路２３は、入力ポート３０から４５度の角度で斜めにドリルで切削加工し、出口ポート３１から線対称に４５度の角度で斜めにドリルで切削加工する。そして、両孔を先端部で連通させる。その後、切粉を洗浄剤で洗浄し、パーティクルを除去する。
斜め流路２４は、下側孔から４５度の角度で斜めにドリルで途中まで切削加工し、後は、上面から垂直にドリルで切削加工して連通させる。交差流路２５は、直交する孔を連通させることにより、形成される。下側流路ブロック３３と下側流路第２ブロック３４とは、漏れ防止ガスケット７７を介して連結される。
【００２３】
次に、上記構成を有する本発明のプロセスガス供給ユニットの作用を説明する。
プロセスガス外部出口１９を図示しないマスフローコントローラを介して、半導体製造工程の真空チャンバに接続する。また、プロセスガス外部入口１８をプロセスガスの供給源に接続する。
パージ弁１２を閉じた状態で、供給弁１３を開くことにより、プロセスガスは、プロセスガス入力流路２０、入力ポート２８、出力ポート２７、プロセスガス出力流路２１を通ってプロセスガス外部出口１９からマスフローコントローラへと流れる。
【００２４】
マスフローコントローラで所定量のプロセスガスを流したことを検出すると、供給弁１３を閉じてプロセスガスの供給を停止する。そして、マスフローコントローラの出口側を真空チャンバから排気手段へ切り換える。
その後、パージ弁１２を開いて、パージガスとして、不活性ガス、例えば窒素ガスを、パージガス外部入口２６、交差流路２５、斜め流路２４、入力ポート３２、出口ポート３１、逆止弁出力流路２３、入力ポート３０、出力ポート２９、パージ出力流路２２を通して、プロセスガス出力流路２１へ流す。これにより、プロセスガス出力流路２１及びマスフローコントローラ内に残留しているプロセスガスを排除することができる。プロセスガス出力流路２１やマスフローコントローラにプロセスガスが残留していると、流路壁等が腐食する問題等があるからである。
【００２５】
パージが終了した時点で、パージ弁１２を閉じる。逆止弁出力流路２３内に残っているパージガスは、逆止弁１４により斜め流路２４へ逆流することがない。
供給弁１３、パージ弁１２、逆止弁１４が全て、マニホールド１６に対して上側から、各々４本のボルトで取り付けられているので、個別に取り外し取り付けが可能である。
逆止弁１４がマニホールド１６の上面において、すぐ隣りに配設されており、逆止弁１４の斜め流路２４がプロセスガス出力流路２１を斜めに迂回し、さらに下側流路ブロック３３に形成された交差流路２５より、プロセスガス出力流路２１とねじれ関係で交差して、上向きに入力ポート３２が形成されているので、逆止弁１４を上側から取り付け取り外すことが可能である。
また、パージガス外部入口２６を上向きし、継手を介してパージガス供給チューブ等を上側から取り付け取り外すことが可能である。
【００２６】
また、パージ弁１２の入力ポート３０と逆止弁１４の出口ポート３１とを連通する逆止弁出力流路２３が、略Ｖ字形に形成されているので、短かい距離で両ポートを接続できる。また、曲がり箇所を一箇所のみとすることができるため、プロセスガスが逆流して逆止弁で止められた場合でも、逆止弁出力流路にプロセスガスが滞留する可能性が低い。また、Ｖ字形は、ドリル等で方向が逆である斜め孔を２箇所開ければ形成できるので、加工及び加工後の洗浄が容易であるため、加工で発生する微小切削粉、油分等を十分除去することができる。
【００２７】
以上詳細に説明したように、第１の実施の形態のプロセスガス供給ユニットによれば、供給弁１３の入力ポート２８とプロセスガス外部入口１８とを連通するプロセスガス入力流路２０と、供給弁１３の出力ポート２７とプロセスガス外部出口１９とを連通するプロセスガス出力流路２１と、パージ弁１２の出力ポート２９とプロセスガス出力流路２１とを連通させるパージ出力流路２２と、パージ弁１２の入力ポート３０と逆止弁１４の出口ポート３１とを連通させる逆止弁出力流路２３と、逆止弁１４の入力ポート３２とパージガス外部入口２６とを連通する斜め流路２４・交差流路２５とが形成されたマニホールド１６・下側流路ブロック３３を有しているので、供給弁１３、パージ弁１２、逆止弁１４が全て、マニホールド１６に対して上側から、各々４本のボルトで取り付けられているので、個別に取り外し取り付けが可能である。また、逆止弁出力流路２３にＶ字形流路を採用しているので、余分な止め栓を必要とせず、パーティクルの発生の可能性を低減させることができる。
【００２８】
また、逆止弁１４がマニホールド１６において、すぐ隣りに配設されており、逆止弁１４の斜め流路２４がプロセスガス出力流路２１を斜めに迂回し、さらに下側流路ブロック３３により、プロセスガス出力流路２１とねじれ関係で交差して、上向きにパージガス外部入口２６が形成されているので、逆止弁１４を上側から取り付け取り外すことが可能である。また、パージガス外部入口２６を上向きし、継手を介してパージガス供給チューブ等を上側から取り付け取り外すことが可能である。
【００２９】
次に、本発明の第２の実施の形態について説明する。第２の実施の形態は、図８に示すように、第１の実施の形態に真空弁１５を追加したものであり、それ以外は第１の実施の形態を利用したものであるので、同じ構成要素は、同じ番号を付して説明を省略する。
真空弁１５を設置する目的は、パージガスを注入するだけでは、壁面付近に貼り付いているプロセスガスを除去するのが困難か、若しくは時間がかかるため、真空弁１５による吸引と、パージ弁１２によるパージとを繰り返すことにより、効率良くプロセスガスの排除を行うことである。
【００３０】
本発明の第２の実施の形態のプロセスガス供給ユニットを図４に断面図で示し、図５に平面図で示し、図６に図４のＢＢ断面図で示す。また、図４のＡＡ断面図は、図３と同じである。
図４及び図５に示すように、ブロックであるマニホールド１６にプロセスガス供給のための供給弁１３、パージガス供給のためのパージ弁１２、パージガスの逆流を防止するための逆止弁１４、プロセスガスを吸引するための真空弁１５が上側から、各々４本のボルトにより取り付けられている。
【００３１】
真空弁１５の構造は、供給弁１３及びパージ弁１２と同じなので説明を省略する。
次に、マニホールド１６の内部構造を説明する。
供給弁１３、パージ弁１２、及び逆止弁１４に関する取付構造や流路形成は、第１実施の形態と同じなので、説明を省略し真空弁１５に関する点を説明する。
マニホールド１６の下面には、下側流路ブロック３３及び下側流路第２ブロック３４と並んで、下側流路ブロック４３及び下側流路第２ブロック４２が固設されている。そして、図６に示すように、真空弁１５の入力ポート４４は、斜めに形成された斜め流路４６、垂直部４７ａと垂直部４７ｂとを有する交差流路４７、により真空外部入口４８に連通されている。斜め流路４６と交差流路４７とにより真空入力流路が構成されている。
一方、真空弁１５の出力ポート４１は、真空出力流路４５によりプロセスガス出力流路２１と連通されている。
【００３２】
次に、上記構成を有する第２実施の形態のプロセスガス供給ユニットの作用を第１実施の形態と異なる点について簡単に説明する。
プロセスガスの供給が終了して、プロセスガス出力流路２１等内に残留しているプロセスガスをパージガスと置換するときに、供給弁１３を閉じた後始めに、真空弁１５を開いて、残留するプロセスガスを斜め流路４６、交差流路４７を介して真空外部入口４８から所定時間、例えば１分間吸引する。その後、パージ弁１２を開いてパージガスによりパージを行う。この吸引とパージとを数回繰り返すことにより、短時間で置換を完了することができる。
【００３３】
以上説明したように、第２の実施の形態のプロセスガス供給ユニットによれば、供給弁１３の入力ポート２８とプロセスガス外部入口１８とを連通するプロセスガス入力流路２０と、供給弁１３の出力ポート２７とプロセスガス外部出口１９とを連通するプロセスガス出力流路２１と、パージ弁１２の出力ポート２９とプロセスガス出力流路２１とを連通させるパージ出力流路２２と、パージ弁１２の入力ポート３０と逆止弁１４の出口ポート３１とを連通させる逆止弁出力流路２３と、逆止弁１４の入力ポート３２とパージガス外部入口２６とを連通する斜め流路２４・交差流路２５と、真空弁１５の出力ポート４１とプロセスガス出力流路２１とを連通する真空出力流路４５と、真空弁１５の入力ポート４４と真空外部入口４８とを連通する斜め流路４６・交差流路４７とが形成されたマニホールド１６・下側流路ブロック３３・下側流路ブロック４３を有しているので、供給弁１３、パージ弁１２、逆止弁１４、真空弁１５が全て、マニホールド１６に対して上側から、各々４本のボルトで取り付けられているので、個別に取り外し取り付けが可能である。また、逆止弁出力流路２３にＶ字形流路を採用しているので、余分な止め栓を必要とせず、パーティクルの発生の可能性を低減させることができる。
【００３４】
なお、この発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲において以下のように実施することもできる。
例えば、本実施の形態では、開閉弁として、シリンダタイプのパイロット弁を使用しているが、電磁弁タイプのパイロット弁を使用しても同様である。
また、プロセスガス外部入口１８、プロセスガス外部出口１９に各々専用ブロックを付けて、チューブを上から取り付け取り外し可能とすれば、さらに良い。
【００３５】
【発明の効果】
本発明のプロセスガス供給ユニットによれば、供給弁の入力ポートとプロセスガス外部入口とを連通するプロセスガス入力流路と、供給弁の出力ポートとプロセスガス外部出口とを連通するプロセスガス出力流路と、パージ弁の出力ポートとプロセスガス出力流路とを連通させるパージ出力流路と、パージ弁の入力ポートと逆止弁の出口ポートとを連通させる逆止弁出力流路と、逆止弁の入力ポートとパージガス外部入口とを連通するパージガス入力流路とが形成されたブロック状のマニホールドを有しているので、供給弁、パージ弁、逆止弁が全て、マニホールドに対して上側から、各々４本のボルトで取り付けられているので、個別に取り外し取り付けが可能である。
また、逆止弁出力流路にＶ字形流路を採用しているので、余分な止め栓を必要とせず、外部への漏れの発生の可能性を低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態のプロセスガス供給ユニットの断面図である。
【図２】第１の実施の形態のプロセスガス供給ユニットの平面図である。
【図３】図２のＡＡ断面図である。
【図４】第２の実施の形態のプロセスガス供給ユニットの断面図である。
【図５】第２の実施の形態のプロセスガス供給ユニットの平面図である。
【図６】図５のＢＢ断面図である。
【図７】第１の実施の形態のプロセスガス供給回路図である。
【図８】第２の実施の形態のプロセスガス供給回路図である。
【図９】本発明のプロセスガス供給ユニットで使用する開閉弁の断面図である。
【図１０】第１従来例のプロセスガス供給ユニットを示す断面図である。
【図１１】第２従来例のプロセスガス供給ユニットを示す側面図である。
【符号の説明】
１２  パージ弁
１３  供給弁
１４  逆止弁
１５  真空弁
１６  マニホールド
２１  プロセスガス出力流路
２２  パージ出力流路
２３  逆止弁出力流路
２４  斜め流路
２５  交差流路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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