(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
発生させたプラズマにより基板を洗浄するチャンバーに対し、基板を搬送するプラズマ洗浄装置の基板搬送機構において、
未処理基板を収容する供給側マガジンを介して未処理基板を供給するマガジン供給部と、
処理基板を収容する排出側マガジンを介して処理基板を排出するマガジン排出部と、
前記マガジン供給部と前記マガジン排出部との間で、基板を搬送する基板搬入排出機構と、
未処理基板を前記供給側マガジンから前記基板搬入搬出機構に受け渡す未処理基板移載手段と、
処理基板を前記基板搬入搬出部から前記排出側マガジンに受け渡す処理基板移載手段と、
前記基板搬入搬出機構と前記チャンバーとの間で基板を移載するチャンバー側移載機構と、
空になった前記供給側マガジンを前記マガジン供給部から前記マガジン排出部に移送するマガジン移送手段とを備えたことを特徴とするプラズマ洗浄装置の基板搬送機構。
【請求項２】
前記マガジン移送手段は、先端部に設けた載置部に前記供給側マガジンを載置可能な載置アームと、
前記載置アームを基端部を中心に回転させて、前記載置部を前記マガジン供給部および前記マガジン排出部に臨ませる回転機構とを有することを特徴とする請求項１に記載のプラズマ洗浄装置の基板搬送機構。
【請求項３】
前記マガジン供給部は、前記供給側マガジンを載置する供給側載置台と、当該供給側載置台を介して当該供給側マガジンを昇降させる供給側昇降機構とを有し、
前記マガジン排出部は、前記排出側マガジンを載置する排出側載置台と、当該排出側載置台を介して当該排出側マガジンを昇降させる排出側昇降機構とを有し、
前記載置アームの載置部と、前記供給側載置台および前記排出側載置台とは、それぞれ相互に上下方向にすり抜け可能な形状に形成されていることを特徴とする請求項２に記載のプラズマ洗浄装置の基板搬送機構。
【請求項４】
前記基板搬入搬出機構は、未処理基板を載置する第１載置部材と、処理基板を載置する第２載置部材とを有していることを特徴とする請求項１、２または３に記載のプラズマ洗浄装置の基板搬送機構。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、発生させたプラズマにより基板を洗浄するチャンバーに対し、マガジンから未処理基板を送り出すと共にマガジンに処理基板を送り込むようにしたプラズマ洗浄装置の基板搬送機構に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種のマガジンを用いた基板搬送機構として、例えば特開平９−４１１６４号公報に記載のものが知られている。この公報に記載の装置は、プラズマ洗浄装置とワイヤボンディング装置とを備えた複合機であり、機台上の搬送路に沿って、プラズマ洗浄装置の主体を為すチャンバーと、ワイヤボンディング装置の主体を為すワイヤボンダとが配設されている。また、チャンバーの搬送方向手前には基板を供給する基板搬入機構が、ワイヤボンダの搬送方向先方には基板を排出する基板搬出機構が、それぞれ配設されている。
【０００３】
基板搬入機構には、複数枚の未処理基板を棚板状に並べて収容した供給側マガジンが配設され、同様に基板搬出機構には、複数枚の処理基板（処理済み基板）を棚板状に並べて収容した排出側マガジンが配設されている。プッシャにより、供給側マガジンから搬送路上に突き出された未処理基板は、順送り機構により、チャンバーに導かれここで洗浄が行われ、続いて、ワイヤボンダに導かれここでワイヤボンディングが行われ、処理基板となって排出側マガジンに送り込まれる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このような従来の基板搬送機構（基板搬入機構および基板搬出機構）では、供給側および排出側にそれぞれ多数のマガジンを用意しておくと、マガジンが無駄になると共に邪魔になる。このため、通常は、供給側マガジンから全ての未処理基板を送り出してマガジンが空になると、これを排出側に持ち込んで排出側マガジンとして使用することになる。かかる場合、マガジンを人的に搬送する必要があり、且つ場合によっては装置を停止させる必要もあり、マガジンの取り扱いが煩雑なる問題があった。
【０００５】
本発明は、マガジンの取り扱いを容易にすることができるプラズマ洗浄装置の基板搬送機構を提供することをその目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板搬送機構は、発生させたプラズマにより基板を洗浄するチャンバーに対し、基板を搬送するプラズマ洗浄装置の基板搬送機構において、未処理基板を収容する供給側マガジンを介して未処理基板を供給するマガジン供給部と、処理基板を収容する排出側マガジンを介して処理基板を排出するマガジン排出部と、マガジン供給部とマガジン排出部との間で、基板を搬送する基板搬入排出機構と、未処理基板を供給側マガジンから基板搬入搬出機構に受け渡す未処理基板移載手段と、処理基板を基板搬入搬出部から排出側マガジンに受け渡す処理基板移載手段と、基板搬入搬出機構とチャンバーとの間で基板を移載するチャンバー側移載機構と、空になった供給側マガジンをマガジン供給部からマガジン排出部に移送するマガジン移送手段とを備えたことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、供給側マガジンに収容した未処理基板は、未処理基板移載手段により供給側マガジンから基板搬入搬出機構に受け渡され、チャンバー側移載機構によりチャンバーに搬入される。また、チャンバーからチャンバー側移載機構を介して搬出された処理基板は、処理基板移載手段により基板搬入搬出機構から排出側マガジンに受け渡される。一方、全ての未処理基板を送り出して空になった供給側マガジンは、マガジン移送手段によりマガジン供給部からマガジン排出部に移送され、排出側マガジンとして利用される。このように、空マガジンを、マガジン移送手段によりマガジン供給部からマガジン排出部に移送するようにしているため、空マガジンを人的に移送する手間、および空マガジンを管理する手間を省くことができる。
【０００８】
この場合、マガジン移送手段は、先端部に設けた載置部に供給側マガジンを載置可能な載置アームと、載置アームを基端部を中心に回転させて、載置部をマガジン供給部およびマガジン排出部に臨ませる回転機構とを有することが、好ましい。
【０００９】
この構成によれば、空マガジンの移送を載置アームの回転で行うようにしているため、空マガジンの移送を精度良く且つ簡単な構造で、迅速に行うことができる。また、供給側マガジンと排出側マガジンとが対向して配設されている場合には、１８０度回転させることで、空マガジンの向き（姿勢）も同時に変えることができる。なお、載置アームの回転は、一方向の回転でもよいし、正逆方向の回転（回動）でもよい。
【００１０】
この場合、マガジン供給部は、供給側マガジンを載置する供給側載置台と、供給側載置台を介して供給側マガジンを昇降させる供給側昇降機構とを有し、マガジン排出部は、排出側マガジンを載置する排出側載置台と、排出側載置台を介して排出側マガジンを昇降させる排出側昇降機構とを有し、載置アームの載置部と、供給側載置台および排出側載置台とは、それぞれ相互に上下方向にすり抜け可能な形状に形成されていることが、好ましい。
【００１１】
この構成によれば、空マガジン（供給側マガジン）を供給側載置台から載置アームの載置部に移載する場合には、載置部を供給側載置台に臨ませておいて、供給側載置台を下降させる。これにより、供給側載置台が載置部に対し上側から下側にすり抜け、空マガジンが供給側載置台から載置部に受け渡される。また、空マガジン（供給側マガジン）を載置アームの載置部から排出側載置台に移載する場合には、載置部を排出側載置台に臨ませておいて、排出側載置台を上昇させる。これにより、排出側載置台が載置部に対し下側から上側にすり抜け、供給側マガジンが載置部から排出側載置台に受け渡される。このように、特別な移載手段を用いることなく、空マガジンを、供給側載置台および排出側載置台と載置アームの載置部との間で、簡単に移載することができる。
【００１２】
これらの場合、基板搬入搬出機構は、未処理基板を載置する第１載置部材と、処理基板を載置する第２載置部材とを有していることが、好ましい。
【００１３】
この構成によれば、１つの搬送工程において、未処理基板を第１載置部材に載置してチャンバーに搬入し、この状態で処理基板を第２載置部材に載置してチャンバーから搬出することができ、基板搬入搬出機構の無駄な動きをなくすことができ、且つ基板の搬入・搬出を迅速に行うことができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して、本発明の一実施形態に係るプラズマ洗浄装置およびその運転方法について説明する。このプラズマ洗浄装置は、例えばベアチップを直接ワイヤボンディングする際に、ボンディングにおけるボンディングパッドとボンディングワイヤとの接合強度を向上させるため、基板のボンディングパッドを乾式で洗浄するものである。すなわち、真空容器であるチャンバーにアルゴンなどのプラズマ反応ガスを充填し、これに高周波電圧を印加することで、プラズマを発生させ、そのプラズマのプラスに帯電したイオンがマイナスに帯電したボンディングパッドに向かって加速され、ボンディングパッドの表面の粒子（実施形態の場合にはニッケル成分）を叩き出すことにより、これを洗浄するものである。
【００１５】
図１および図２は、実施形態のプラズマ洗浄装置の全体の装置構成を表した斜視図である。同図に示すように、このプラズマ洗浄装置１は、内部にプラズマを発生されて導入した基板Ａを洗浄する一対のチャンバー２，２と、一対のチャンバー２，２に交互に高周波電圧を印加する電源部３と、一対のチャンバー２，２にプラズマ反応ガスであるアルゴンガスおよびリークの為の窒素ガスを交互に供給するガス供給部４と、各チャンバー２内を真空状態にする一対の真空吸引部５，５と、一対のチャンバー２，２に対し基板Ａを交互に搬入・搬出する搬入・搬出部６と、搬入・搬出部６に供給側マガジン７ａを介して未処理基板Ａａを供給するマガジン供給部８と、搬入・搬出部６から受け取った処理基板Ａｂを排出側マガジン７ｂを介して装置外に排出するマガジン排出部９と、空になった供給側マガジン（空マガジン）７ａをマガジン供給部８からマガジン排出部９に移送するマガジン移送部１０とを備えている。
【００１６】
各チャンバー２は、真空容器である箱状のチャンバー本体２１と、チャンバー本体２１の前面に設けられたフランジ状の蓋体２２とを有している。蓋体２２は、両側に設けた蓋ガイド２３，２３によりチャンバー本体２１に対し進退自在に構成され、且つチャンバー本体２１の側面に設けたチャンバー開閉シリンダ（エアーシリンダ）２４のピストンロッド２５と連結板２６で連結されている。また、蓋体２２の内側には、２枚の基板Ａ，Ａを載置するトレイ２７が取り付けられており、トレイ２７は蓋体２２と共に進退する。チャンバー開閉シリンダ２４が駆動して、蓋体２２が前進すると、チャンバー本体２１が開放されると共に、基板Ａを載置したトレイ２７が引き出され、蓋体２２が後退すると、トレイ２７が押し込まれると共にチャンバー本体２１が閉塞される。
【００１７】
また、図３に示すように、各チャンバー２には、電源部３に接続された第１高周波電極２８と、アースされた第２高周波電極２９とが設けられている。この場合、第１高周波電極２８は、上記のトレイ２７の下部に配設される一方、第２高周波電極２９は、チャンバー本体２１を構成するケーシングにより構成されている。なお、チャンバー開閉シリンダ２４は、図示左側のチャンバー２ａでは、その左側面に取り付けられ、右側のチャンバー２ｂでは、その右側面に取り付けられている。また、図示しないが、チャンバー本体２１と蓋体２２との間には、チャンバー２の気密性を保持すべく、Ｏリング等のシール部材が介在している。
【００１８】
電源部３は、高周波電源３１と、自動整合器３２と、電源切替器３３とを有している。電源切替器３３は、図示しない制御装置に接続され、制御装置の切替指令により、一対のチャンバー２，２に対し高周波電源３１を交互に切り替える。自動整合器３２は、チャンバー２に印加した高周波の反射波による干渉を防止するものであり、この場合には、一対のチャンバー２，２に対し１台の自動整合器３２を対応させているが、各チャンバー２に対し１台の自動整合器３２を対応させるようにしてもよい。かかる場合には、高周波電源３１、電源切替器３３、自動整合器３２の順で結線される。
【００１９】
ガス供給部４は、図外のアルゴンガスボンベに連なるアルゴンガス供給管４１と、図外の窒素ガスボンベに連なる窒素ガス供給管４２と、各チャンバー２に連なる一対のガス導入管４３，４３と、アルゴンガス供給管４１および窒素ガス供給管４２と一対のガス導入管４３，４３とを接続するガス切替管４４とを有している。アルゴンガス供給管４１および窒素ガス供給管４２には、それぞれマニアルで操作されるアルゴンガス供給バルブ４５および窒素ガス供給バルブ４６が設けられている。また、アルゴンガス供給管４１にはマスフローコントローラ４７が介設され、また窒素ガス供給管４２にはパージ流量計４８が介設され、それぞれガス流量を制御できるようになっている。
【００２０】
ガス切替管４４は、アルゴンガス供給管４１に連なる２本のアルゴン側分岐管４４ａ，４４ａと、窒素ガス供給管４２に連なる２本の窒素側分岐管４４ｂ，４４ｂとを有し、各アルゴン側分岐管４４ａと各窒素側分岐管４４ｂの合流部分に上記の各ガス導入管４３が接続されている。両アルゴン側分岐管４４ａ，４４ａには、それぞれ電磁弁で構成されたアルゴン側切替バルブ４９，４９が介設され、また両窒素側分岐管４４ｂ，４４ｂには、それぞれ電磁弁で構成された窒素側切替バルブ５０，５０が介設されている。一対のアルゴン側切替バルブ４９，４９および一対の窒素側切替バルブ５０，５０は、上記の制御装置に接続され、制御装置の切替指令により、開閉する。この場合、アルゴン側切替バルブ４９は、アルゴンガスのガス量を精度良く制御するため、上記のマスフローコントローラ４７の制御信号に基づいて、フィードバック制御される。
【００２１】
アルゴンガス供給バルブ４５および窒素ガス供給バルブ４６は、それぞれ常時「開」となっており、一対のチャンバー２，２，に交互にアルゴンガスを導入する場合には、両窒素側切替バルブ５０，５０が「閉」となり、両アルゴン側切替バルブ４９，４９の一方が「開」、他方が「閉」となる。また、後述するリークの為に窒素ガスを導入する場合には、両アルゴン側切替バルブ４９，４９が「閉」となり、両窒素側切替バルブ５０，５０の一方が「開」、他方が「閉」となる。なお、図中の符号５１は、プラズマ反応ガスとして、アルゴンガスの他、酸素ガスを導入可能とする場合（仮想線にて図示）に、開閉される開閉電磁弁である。
【００２２】
各真空吸引部５は、真空ポンプ６１と、真空ポンプ６１と各チャンバー２を接続する真空配管６２とを有している。真空配管６２には、チャンバー２側から真空計６３、圧力調整バルブ６４およびメインバルブ６５が介設されている。メインバルブ６５は電磁弁で構成されており、メインバルブ６５が「開」状態で、フレキシブル管６７を介して真空配管６２と真空ポンプ６１とが連通し、チャンバー２内の真空引きが行われる。
【００２３】
搬入・搬出部６は、両チャンバー２，２と、マガジン供給部８およびマガジン排出部９との間で、基板Ａを搬送する基板搬入搬出機構１２を有すると共に、基板搬入搬出機構１２と両チャンバー２，２，との間で基板Ａを移載するチャンバー側移載機構１３と、基板搬入搬出機構１２と供給側・排出側両マガジン７ａ，７ｂとの間で基板Ａを移載するマガジン側移載機構１４とを有している。
【００２４】
供給側マガジン７ａに収容されている未処理基板Ａａは、マガジン側移載機構１４により基板搬入搬出機構１２に移載され、基板搬入搬出機構１２により下動位置からチャンバー２近傍の上動位置まで搬入される。ここで、チャンバー側移載機構１３が駆動して、未処理基板Ａａを基板搬入搬出機構１２からチャンバー２のトレイ２７に移載する。一方、処理基板Ａｂは、チャンバー側移載機構１３によりトレイ２７から基板搬入搬出機構１２に移載され、基板搬入搬出機構１２により上動位置から供給側・排出側両マガジン７ａ，７ｂ近傍の下動位置まで搬出される。ここで、マガジン側移載機構１４が駆動して、処理基板Ａｂを基板搬入搬出機構１２から排出側マガジン７ｂに移載する。
【００２５】
基板搬入搬出機構１２は、図外の機台に取り付けられた基板昇降装置７１と、基板昇降装置７１に取り付けられた基板Ｙ動装置７２と、基板Ｙ動装置７２により図示の前後方向に移動する基板載置ステージ７３とを有している。
【００２６】
基板載置ステージ７３は、ベースプレート７５上に、相互に平行に配設した３条の突条７６，７６，７６により、上段および下段にそれぞれ２枚の基板Ａ，Ａを棚板状に載置できるようになっている。すなわち、３条の突条７６，７６，７６には、それぞれ上下に内向きの受け部（図示省略）が突出形成されており、この受け部により上段に２枚の未処理基板Ａａを載置する前後一対の第１載置部７７が、下段に２枚の処理基板Ａｂを載置する前後一対の第２載置部７８が構成されている。すなわち、供給側マガジン７ａから移載される未処理基板Ａａは第１載置部７７に載置され、各チャンバー２のトレイ２７から移載される処理基板Ａｂは第２載置部７８に載置される。
【００２７】
基板Ｙ動装置７２は、後述する基板昇降装置７１の昇降ブロック８５に取り付けられており、減速機付きの基板Ｙ動モータ８０と、基板Ｙ動モータ８０により回転するボールねじ８１を有している。図示では省略されているが、基板載置ステージ７３は、基板昇降装置７１の昇降ブロック８５との間で前後方向に進退自在に構成（案内）されており、基板載置ステージ７３の一部に螺合するボールねじ８１が、基板Ｙ動モータ８０により正逆回転することにより、基板載置ステージ７３が昇降ブロック８５に対し、前後方向に進退する。
【００２８】
基板昇降装置７１は、減速機付きの基板昇降モータ８３と、基板昇降モータ８３のより回転するボールねじ８４と、ボールねじ８４に螺号する雌ねじ部（図示省略）形成した昇降ブロック８５とを有している。上述のように、基板載置ステージ７３および基板Ｙ動装置７２は昇降ブロック８５に支持されており、昇降ブロック８５は、基板昇降モータ８３を介して正逆回転するボールねじ８４により、昇降する。なお、基板昇降装置７１を基板Ｙ動装置７２に取り付け、基板昇降装置７１で基板載置ステージ７３を昇降させ、基板Ｙ動装置７２で基板昇降装置７１および基板載置ステージ７３を前後動させるようにしてもよい。
【００２９】
供給側マガジン７ａから未処理基板Ａａを受け取る場合には、供給側マガジン７ａの該当する未処理基板Ａａの位置に、基板載置ステージ７３の第１載置部７７が合致するように、基板昇降装置７１および基板Ｙ動装置７２を駆動する。具体的には、基板載置ステージ７３をホーム位置から後退および上昇させ、先ず一方の第１載置部７７を該当する未処理基板Ａａに位置合わせし、さらに基板載置ステージ７３の後退（前進）により、他方の第１載置部７７を該当する次の未処理基板Ａａに位置合わせする。なお、詳細は後述するが、供給側マガジン７ａは昇降するようになっており、未処理基板Ａａの移載高さ位置（レベル）は、特定の位置に設定されている。
【００３０】
また、処理基板Ａｂを排出側マガジン７ｂに受け渡す場合には、同様に第２載置部７８の２枚の処理基板Ａｂ，Ａｂを、それぞれ排出側マガジン７ｂの該当する収容位置に位置合わせする。この場合も、排出側マガジン７ｂは昇降するようになっており、処理基板Ａｂの移載高さ位置（上記の移載高さ位置とは異なるが）は、特定の位置に設定されている。なお、基板載置ステージ７３に対し供給側マガジン７ａおよび排出側マガジン７ｂは、その左右両側に近接して配置されているため（図示では離れているが）、基板Ａの移載に際し基板載置ステージ７３を左右方向に移動させる必要はない。
【００３１】
一方、未処理基板Ａａおよび処理基板Ａｂをチャンバー２との間でやり取りする場合には、先ず基板昇降装置７１および基板Ｙ動装置７２を駆動して、トレイ２７上の処理基板Ａａと第２載置部７８を位置合わせし、２枚の処理基板Ａｂ，Ａｂを第２載置部７８に同時に受け取る（詳細は後述する）。次に、基板載置ステージ７３をわずかに下降させ、第１載置部７７の未処理基板Ａａとトレイ（の上面）２７とを位置合わせし、２枚の未処理基板Ａａ，Ａａをトレイ２７上に受け渡す。なお、この場合も、基板載置ステージ７３に対し両チャンバー２，２は、その左右両側に近接して配置されているため（図示では離れているが）、基板Ａの移載に際し基板載置ステージ７３を左右方向に移動させる必要はない。
【００３２】
マガジン側移載機構１４は、未処理基板Ａａを供給側マガジン７ａから基板搬入搬出機構１２に送り出す供給側シリンダ９１と、処理基板Ａｂを基板搬入搬出機構１２から排出側マガジン７ｂに送り込む排出側シリンダ９２とを有している。供給側シリンダ７ｂは図外の機台に取り付けられており、そのピストンロッド９４により、該当する未処理基板Ａａの端を押して、これを供給側マガジン７ａから基板搬入搬出機構１２に送り出す。
【００３３】
排出側シリンダ９２は、図外の機台に取り付けられ、マガジン供給部８およびマガジン排出部９間に亘って延在するシリンダ本体９５と、シリンダ本体９５により左右方向に移動する送り爪装置９６とを有している。送り爪装置９６は、ハウジング内にモータ等のアクチュエータを収容すると共に、アクチュエータにより上下動する送り爪９７を有している。アクチュエータにより送り爪９７を所定の下動位置に移動させ、シリンダ本体９５により送り爪装置９６を図示左方に移動させることにより、送り爪９７が処理基板Ａｂの端を押して、これを基板搬入搬出機構１２から排出側マガジン７ｂに送り込む。
【００３４】
供給側シリンダ９１のピストンロッド９４の高さ位置および排出側シリンダ９２の送り爪９７の高さ位置は、上記の移載高さ位置に設定され、且つ、ピストンロッド９４側の移載高さ位置と送り爪９７の移載高さ位置とは、基板載置ステージ７３の第１載置部７７と第２載置部７８との間の段差分の差を有している。このため、基板載置ステージ７３の第１載置部７７と第２載置部７８を、それぞれ両移載高さ位置に位置合わせしておいて、先ず排出側シリンダ９２を駆動することで、処理基板Ａｂが第２載置部７８から排側出マガジン７ｂに送り込まれ、次に供給側シリンダ９１を駆動すれば、未処理基板Ａｂが供給側マガジン７ａから第１載置部７７に送り出される。もっとも、基板載置ステージ７３、供給側マガジン７ａおよび排側出マガジン７ｂは昇降可能であり、かつ送り爪９７も上下動可能に構成されているため、必ずしも上記のように移載高さ位置を設定する必要はない。
【００３５】
なお、詳細は後述するが、供給側マガジン７ａから送り出されるべき任意の１の未処理基板Ａａの選択、および処理基板Ａｂが送り込まれるべき排出側マガジンの任意の１の収容位置（何段目か）の選択は、マガジン供給部８において供給側マガジン７ａを昇降させること、およびマガジン排出部９において排出側マガジン７ｂを昇降させることで、行われる。
【００３６】
チャンバー側移載機構１３は、一対のチャンバー２，２間に亘って左右方向に延在するガイドケース１０１と、ガイドケース１０１の一方に端に取り付けた減速機付きのＸ動モータ１０２と、Ｘ動モータ１０２により回転するボールねじ１０３と、ボールねじ１０３により左右方向に移動する移載爪装置１０４とを有している。移載爪装置１０４は、ハウジング内にモータ等のアクチュエータを収容すると共に、アクチュエータにより上下動する移載爪１０５を有している。
【００３７】
移載爪１０５の先端は二股に形成されており、トレイ２７と基板搬入搬出機構１２との間で、２枚の基板Ａ，Ａを同時に移載可能に構成されている。移載爪装置１０４は、ハウジングの部分でガイドケース１０１により左右方向の移動をガイドされており、Ｘ動モータ１０２を介してボールねじ１０３が正逆回転することにより、移載爪装置１０４はガイドケース１０１に沿って左右方向に移動する。また、アクチュエータの正逆駆動により、移載爪１０５が上下動する。
【００３８】
基板搬入搬出機構１２が第１載置部７７に未処理基板Ａａを載置してチャンバー２に臨むと、Ｘ動モータ１０２が駆動して移載爪装置１０４をトレイ２７の端位置に移動させ、続いて移載爪装置１０４が駆動して移載爪１０５を、トレイ２７の上面位置まで下動させる。次に、Ｘ動モータ１０２が駆動して移載爪装置１０４を基板搬入搬出機構１２側に移動させる。これにより、移載爪１０５がトレイ２７上の２枚の処理基板Ａｂを押すようにして移動させ、処理基板Ａｂを基板搬入搬出機構１２の第２載置部７８に受け渡す。次に、移載爪１０５を未処理基板Ａａに合わせてわずかに上動させた後、移載爪装置１０４をトレイ２７側に移動させることにより、移載爪１０５が２枚の未処理基板Ａａ，Ａａを第１載置部７７からトレイ２７上に受け渡す。なお、移載爪１０５を二股とせず、基板Ａを一枚ずつ移載させる構造であってもよい。
【００３９】
マガジン供給部８は、複数個の供給側マガジン７ａを載置可能な供給側マガジン載置台１１１と、供給側マガジン載置台１１１から供給された供給側マガジン７ａを昇降させる供給側昇降装置１１２と、供給側マガジン７ａを供給側マガジン載置台１１１から供給側昇降装置１１２に送り込む供給側マガジンシリンダ１１３とを有している。一方、供給側マガジン７ａは、複数段に亘って基板Ａを棚板状に収容できるように、両側壁にそれぞれ複数の受け部が形成されている。そして、このように構成された供給側マガジン７ａは、未処理基板Ａａを収容した状態で、前面を基板搬入搬出機構１２側に向けて配設されている。なお、排出側マガジン７ｂは、この供給側マガジン７ａと全く同一のものである。
【００４０】
供給側マガジンシリンダ１１３は、供給側昇降装置１１２の供給側マガジン７ａが空になったときに、そのピストンロッド１１５により、供給側マガジン載置台１１１に載置されている複数個の供給側マガジン７ａを順に送り込んで、新たに供給側マガジン７ａを供給側昇降装置１１２に供給する。なお、供給側マガジン載置台１１１に新たに投入される供給側マガジン７ａは、ピストンロッド１１５が後退した状態で、供給側マガジン載置台１１１のピストンロッド１１５側に投入される。
【００４１】
供給側昇降装置１１２は、減速機付きのマガジン昇降モータ１１６と、マガジン昇降モータ１１６のより回転するボールねじ１１７と、ボールねじ１１７に螺号する雌ねじ部（図示省略）形成した昇降ブロック１１８とを有している。未処理基板Ａａを送り出す供給側マガジン７ａは、昇降ブロック１１８に支持されており、昇降ブロック１１８は、マガジン昇降モータ１１６を介して正逆回転するボールねじ１１７により、昇降する。
【００４２】
供給側昇降装置１１２に送り込まれた供給側マガジン７ａは適宜昇降し、その際上記の供給側シリンダ９１が、供給側マガジン７ａに収容した未処理基板Ａａを１枚ずつ送り出してゆく。この場合、未処理基板Ａａを、供給側マガジン７ａの最下段のものから順に送り出してゆくことが、好ましい。すなわち、最初に最下段の未処理基板Ａａを移載高さ位置に位置合わせしてこれを送り出し、次に下から２段目の未処理基板Ａａを移載高さ位置に位置合わせ（下降）してこれを送り出す。このようにして、最上段の未処理基板Ａａを送り出したところで、供給側マガジン７ａが空になるため、これをさらに下降させてマガジン移送部１０に受け渡すようにしている。
【００４３】
マガジン排出部９は、マガジン供給部８と同様に、複数個の排出側マガジン７ｂを載置可能な排出側マガジン載置台１２１と、排出側マガジン７ｂを昇降させる排出側昇降装置１２２と、処理基板Ａｂで満杯になった排出側マガジン７ｂを排出側昇降装置１２２から排出側マガジン載置台１２１に送り込む排出側マガジンシリンダ１２３とを有している。排出側マガジンシリンダ１２３は、そのピストンロッド１２５により、満杯になった排出側マガジン７ｂを順次、排出側マガジン載置台１２１送り込んでゆく。
【００４４】
排出側昇降装置１２２は、供給側昇降装置１１２と同様に、マガジン昇降モータ１２６と、ボールねじ１２７と、昇降ブロック１２８とを有している。処理基板Ａｂが送り込まれる排出側マガジン７ｂは、昇降ブロック１２８に支持されており、昇降ブロック１２８は、マガジン昇降モータ１２６を介して正逆回転するボールねじ１２７により、昇降する。この場合、空の排出側マガジン７ｂは、マガジン移送部１０を介して供給側昇降装置１１２から供給される。
【００４５】
そして、この場合も、排出側昇降装置１２２の排出側マガジン７ｂは適宜昇降し、その際上記の排出側シリンダ９２が、排出側マガジン７ｂに処理基板Ａｂを１枚ずつ送り込んでゆく。この場合には、排出マガジン７ｂを間欠上昇させらがら、処理基板Ａｂを最上段から順に収容してゆくことが、好ましい。なお、供給側昇降装置１１２および排出側昇降装置１２２の各昇降ブロック１１８，１２８は、各マガジン７ａ，７ｂを載置するプレート部位１１８ａ，１２８ａの中央が、広く「コ」字状に切り欠かれており、後述するチャック装置１３１が上下方向にすり抜け得るようになっている。
【００４６】
マガジン移送部１０は、空マガジン（空になった供給側マガジン７ａ）７ｃを受け取って把持するチャック装置１３１と、先端部でチャック装置１３１を支持する回転アーム１３２と、回転アーム１３２を基端部を中心に回転させる減速機付きの回転モータ１３３とを有している。回転モータ１３３は、図外の機台に固定されており、回転アーム１３３を水平面内において角度１８０度、往復回転（回動）させ、チャック装置１３１に把持した空マガジン７ｃをマガジン供給部８からマガジン排出部９に移送する。チャック装置１３１は、上面に空マガジン７ｃが載置されるハウジング１３５と、ハウジング１３５内に収容したシリンダ（図示省略）と、ハウジング１３５の上面から突出しシリンダにより離接方向に相互に移動する一対のチャック１３６，１３６とを有している。
【００４７】
一対のチャック１３６，１３６を離間する方向に開いておいて、供給側昇降装置１１２に臨ませ、この状態で、供給側昇降装置１１２に載置されている空マガジン７ｃを下降させると、昇降ブロック１１８のプレート部位１１８ａがチャック１３６を上側から下側にすり抜けたところで、空マガジン７ｃがハウジング１３５の上面に載る。これにより、空マガジン７ｃが供給側昇降装置１１２からマガジン移送部１０に受け渡される。ここで、一対のチャック１３６，１３６を閉じるようにして、空マガジン７ｃを把持する。空マガジン７ｃがチャック装置１２１に不動に把持されたら、回転アーム１３２を回動させて空マガジン７ｃを排出側昇降装置１２２に臨ませる。
【００４８】
このとき、排出側昇降装置１２２の昇降ブロック１２８には排出側マガジン７ｂは無く、また昇降ブロック１２８は下降位置にある。空マガジン７ｃが排出側昇降装置１２２に臨んだら、チャック装置１３１による把持状態を解除し、昇降ブロック１２８を上昇させる。昇降ブロック１２８が上昇し、そのプレート部位１２８ａがチャック１３６を下側から上側にすり抜けると、空マガジン７ｃが昇降ブロック１２８を自動的に受け取ってそのまま上昇する。なお、マガジン移送部１０により、マガジン供給部８からマガジン排出部９に移送された空マガジン７ｃは、マガジン排出部９で排出側マガジン７ｂとして利用されるが、空マガジン７ｃは回転して移送されるため、その前部が搬入・搬出部６側に向いた姿勢で、マガジン排出部９に受け渡される。このため、移送の前後等で別の装置により空マガジン７ｃの姿勢を変える必要がない。
【００４９】
なお、搬入・搬出部６、マガジン供給部８、マガジン排出部９およびマガジン移送部１０におけるモータやシリンダなどのアクチュエータは、上述の制御装置に接続され、制御装置により総括的に制御される。ここで、図４を参照して、制御装置による各部の動きを順を追って説明する。
【００５０】
同図において、左側のチャンバー２ａは基板Ａの洗浄工程にあり、右側のチャンバー２ｂは基板Ａの搬入・搬出工程にあるものとする。右側のチャンバー２ｂで洗浄済みの基板（処理基板Ａｂ）Ａが外部に引き出される動きに合わせて、搬入・搬出部６は、マガジン供給部８から未処理基板Ａａを受け取って、右側のチャンバー２ｂの近傍まで搬送する。ここで、搬入・搬出部６は、右側のチャンバー２ｂから処理基板Ａｂを受け取り、続いて未処理基板Ａａを右側のチャンバー２ｂに受け渡す。右側のチャンバー２ｂは、未処理基板Ａａを受け取ると、これを内部に持ち込む。同時に、搬入・搬出部６は、処理基板Ａｂを搬送してマガジン排出部９に受け渡す。
【００５１】
右側のチャンバー２ｂは、未処理基板Ａａを内部に持ち込むと、真空引きを経て洗浄工程に移行する。これと同時に、左側のチャンバー２ａは、窒素ガスによるリークを経て搬入・搬出工程に移行する。そしてこんどは、左側のチャンバー２ａで処理基板Ａｂが引き出される動きに合わせて、搬入・搬出部６は、マガジン供給部８から未処理基板Ａａを受け取って、左側のチャンバー２ａに搬入する。すなわち、左右のチャンバー２ａ，２ｂは交互に搬入・搬出工程と洗浄工程とを繰返し、これに合わせて搬入・搬出部６は左右のチャンバー２ａ，２ｂに対し、未処理基板Ａａおよび処理基板Ａｂを交互に搬入・搬出する。
【００５２】
次に、図５を参照して、左右の両チャンバー２ａ，２ｂの搬入・搬出工程および洗浄工程とを、経時的に説明する。同図において、例えば「チャンバ１」を左側のチャンバー２ａとし、「チャンバ２」を右側のチャンバー２ｂと考える。搬入・搬出工程は、チャンバー２への基板Ａの搬入および搬出を行う基板搬入搬出工程と、チャンバー２内を真空にする真空引き工程とから成り、基板搬入搬出工程は、厳密にはチャンバー２の蓋体２２を開放してから閉塞するまでである。一方、洗浄工程は、チャンバー２内にアルゴンガスを充填するガス充填工程と、高周波電圧を印加して基板Ａを洗浄するプラズマ洗浄工程と、窒素ガスを送り込んでチャンバー２内を大気圧まで昇圧するリーク工程とから成る。
【００５３】
同図に示すように、搬入・搬出工程および洗浄工程は、いずれも３０秒で設定されており、「チャンバ１」で搬入・搬出工程を行っているときには、「チャンバ２」で洗浄工程を行い、「チャンバ１」で洗浄工程を行っているときには、「チャンバ２」では搬入・搬出工程を行うようにしている。もちろん、リーク工程から基板搬入搬出工程に移行するときには、搬入・搬出部６は、基板Ａをチャンバー２の近傍まで搬送してきている。したがって、搬入・搬出部６による基板搬入の為の時間は、真空引き工程に要する時間（２０秒）以内となる。
【００５４】
以上のように本実施形態によれば、マガジン移送部１０により、空になった供給側マガジン（空マガジン７ｃ）７ａを、マガジン供給部８からマガジン排出部９に移送するようにしているため、人手によることなく、マガジン供給部８から空マガジン７ｃから排出し、且つこれをマガジン排出部９に供給することができる。したがって、マガジン７の管理が容易になると共に、マガジン７を効率よく使用することができる。
【００５５】
なお、本発明は、空マガジンを回転送りしているが、直線送りするようにしてもよい。
【００５６】
【発明の効果】
以上のように、本発明のプラズマ洗浄装置の基板搬送機構によれば、供給側マガジンに収容した未処理基板は、未処理基板移載手段により供給側マガジンから基板搬入搬出機構に受け渡され、チャンバー側移載機構によりチャンバーに搬入され、また、チャンバーからチャンバー側移載機構を介して搬出された処理基板は、処理基板移載手段により基板搬入搬出機構から排出側マガジンに受け渡され、且つ、空になった供給側マガジンが、マガジン供給部からマガジン排出部に自動的に移送されて、排出側マガジンとして利用されるので、プラズマ洗浄装置の基板搬送機構での空マガジンを人的に移送する手間、および空マガジンを管理する手間を省くことができる。したがって、マガジンを効率よく活用できると共に、その取り扱いを容易にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係るプラズマ洗浄装置の全体構造（上半部）を示す斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態に係るプラズマ洗浄装置の全体構造（下半部）を示す斜視図である。
【図３】実施形態に係るプラズマ洗浄装置のチャンバーの断面図である。
【図４】実施形態に係るプラズマ洗浄装置の動作を説明する動作説明図である。
【図５】チャンバーの運転状態を経時的に説明する説明図である。
【符号の説明】
１  プラズマ洗浄装置
２  チャンバー
３  電源部
４  ガス供給部
５  真空吸引部
６  搬入・搬出部
７ａ  供給側マガジン
７ｂ  排出側マガジン
７ｃ  空マガジン
８  マガジン供給部
９  マガジン排出部
１０  マガジン移送部
１２  基板搬入搬出機構
１３  チャンバー側移載機構
１４  マガジン側移載機構
２８  第１高周波電極
２９  第２高周波電極
３１  高周波電源
３２  電源切替器
７３  基板載置ステージ
７７  第１載置部
７８  第２載置部
９１  供給側シリンダ
９２  排出側シリンダ
１１２  供給側昇降装置
１１８  昇降ブロック
１２２  排出側昇降装置
１２８  昇降ブロック
１３１  チャック装置
１３２  回転アーム
１３３  回転モータ
Ａ  基板
Ａａ  未処理基板
Ａｂ  処理基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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