(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
床面に対してパッドを介し、保持された除振台と、
前記除振台を駆動する除振台アクチュエータと、
前記除振台の変位を検出する除振台変位センサと、
少なくとも前記除振台変位センサからの出力に基づいて前記除振台の振動を抑制するように前記除振台アクチュエータを駆動制御する除振台振動制御系と、
前記除振台に設置された載置台と、
前記載置台を駆動する載置台アクチュエータと、
前記載置台の変位を検出する載置台変位センサと、
前記載置台変位センサの出力に基づいて前記載置台の位置を抑制するように前記載置台アクチュエータを駆動制御する載置台位置制御系と、
前記載置台との間で載置物を受け渡しするために前記床面に設置された載置物受け渡し手段により、前記載置物を少なくとも載置するときには、前記除振台変位センサにより検出された前記除振台の変位情報を前記載置台の変位情報に変換する変位情報変換手段を有し、
前記変位情報変換手段により求められた変位情報に基づいて、前記載置台の変位を前記載置台位置制御系により補正することを特徴とする除振装置。
【請求項２】
請求項１に記載の除振装置において、
前記除振台振動制御系は少なくとも前記除振台変位センサからの出力に基づいて前記除振台の振動を抑制する振動制御ループをさらに有し、
前記除振台変位センサの出力に対して有効あるいは無効に選択可能な所定幅の不感帯を前記振動制御ループに設けたことを特徴とする除振装置。
【請求項３】
マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板ステージ上の基板に転写する露光装置であって、
前記請求項１または２に記載の除振装置を露光本体部の除振装置として具備することを特徴とする露光装置。
【請求項４】
基板ステージに載置された基板にパターンを露光する露光装置において、
前記基板ステージとは独立して設けられ、前記基板ステージとの間で前記基板を受け渡す基板ローダと、
前記基板ステージを保持する露光本体部と、
前記露光本体部の変位に関する情報を検出する変位センサと、
前記基板ローダから前記基板を受け取る際に、前記変位センサの検出結果に基づいて前記基板ステージの位置を補正する制御装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項４記載の露光装置において、
前記パターンはレチクルステージに載置されたレチクルに形成されており、
前記レチクルステージと前記基板ステージとを走査して前記パターンを前記基板に露光することを特徴とする露光装置。
【請求項６】
レチクルステージに載置されたレチクルのパターンを投影光学系を介して基板ステージに載置された基板に露光する露光装置において、
前記レチクルステージと前記基板ステージとを走査する走査手段と、
前記投影光学系とは独立して設けられ、前記基板ステージとの間で前記基板を受け渡す基板ローダと、
前記投影光学系を保持する露光本体部と、
前記露光本体部の変位に関する情報を検出する変位センサと、
前記基板ローダから前記基板を受け取る際に、前記変位センサの検出結果に基づいて前記基板ステージの位置を補正する制御装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項７】
請求項６記載の露光装置において、
前記露光本体部は、前記レチクルステージを保持していることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項６または７記載の露光装置において、
前記露光本体部は前記基板ステージを保持していることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
レチクルステージに載置されたレチクルに形成されたパターンを基板に露光する露光装置であって、
前記レチクルステージとは独立して設けられ、前記レチクルステージとの間で前記レチクルを受け渡すレチクル受け渡し手段と、
前記レチクルステージを保持する露光本体部と、
前記露光本体部の変位に関する情報を検出する変位センサと、
前記レチクル受け渡し手段から前記レチクルを受け取る際に、前記変位センサの検出結果に基づいて前記レチクルステージの位置を補正する制御装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項９記載の露光装置において、
前記露光本体部は、前記パターンを前記基板に投影する投影光学系を保持していることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、除振装置及び露光装置に係り、更に詳しくは、除振台の振動を打ち消すようにアクチュエータにより除振台を駆動するいわゆるアクティブ方式の除振装置及びこの除振装置を備えた露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影型露光装置、即ちいわゆるステッパ等の精密機器の高精度化に伴い、設置床から定盤（除振台）に作用する微振動をマイクロＧレベルで絶縁する必要が生じている。除振装置の除振台を支持する除振パッドとしてはダンピング液中に圧縮コイルバネを入れた機械式ダンパや空気式ダンパ等種々のものが使用され、除振パッド自体がある程度のセンタリング機能を備えている。特に、空気式ダンパを備えた空気バネ除振装置はバネ定数を小さく設定でき、約１０Ｈｚ以上の振動を絶縁することから、精密機器の支持に広く用いられている。また、最近では従来のパッシブ除振装置の限界を打破するために、アクティブ除振装置が提案されている（例えば、本願と同一出願人に係る特願平７−８３５７７号等参照）。これは、除振台の振動をセンサで検出し、このセンサの出力に基づいてアクチュエータを駆動することにより振動制御を行う除振装置であり、低周波制御帯域に共振ピークの無い理想的な振動絶縁効果を持たせることができるものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上述のアクティブ除振装置では残留振動によるスループットの低下という問題を生じていた。すなわち、上述のアクティブ除振装置上に設置されたステッパで、外部からレチクルやウエハを供給して、ステッパ上の所定の位置に位置決めをしようとした場合、ステッパの残留振動があると正確な位置決めができなくなる。そのため、この残留振動が整定するまでの間、ウエハやレチクルのローディングができずに、ステッパのスループットが低下する。
【０００４】
本発明の目的は、外乱振動の抑制（制振）が可能で、ウエハやレチクルの交換に際して残留振動が整定するまでの待ち時間を短縮し、スループットの向上を計ることが可能な除振装置及びこれを備えた露光装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
（１）  一実施の形態を示す図１、図７および図８に対応付けて本発明を説明すると、請求項１に記載の発明は、床面に対してパッド４Ａ〜４Ｄ（パッド４Ｄは不図示）を介し、保持された除振台６と；除振台６を駆動する除振台アクチュエータ７Ａ〜７Ｄおよび３２Ａ〜３２Ｃ（アクチュエータ７Ｃおよび７Ｄは不図示）と；除振台６の変位を検出する除振台変位センサ１０Ｚ1〜１０Ｚ3、１０Ｙ1、１０Ｙ2および１０Ｘと；少なくとも除振台変位センサ１０Ｚ1〜１０Ｚ3、１０Ｙ1、１０Ｙ2および１０Ｘからの出力に基づいて除振台６の振動を抑制するように除振台アクチュエータ７Ａ〜７Ｄおよび３２Ａ〜３２Ｃを駆動制御する除振台振動制御系１１と；除振台６に設置された載置台１０１および１０２と；載置台１０１および１０２を駆動する載置台アクチュエータ９５Ｘ、９５Ｙ、９５Ｒ、９６Ｘ、９６Ｙおよび９６Ｒと；載置台１０１および１０２の変位を検出する載置台変位センサ３８Ｘ、３８Ｙ、３８Ｒ、３９Ｘ、３９Ｙおよび３９Ｒと；載置台変位センサ３８Ｘ、３８Ｙ、３８Ｒ、３９Ｘ、３９Ｙおよび３９Ｒの出力に基づいて載置台１０１および１０２の位置を抑制するように載置台アクチュエータ９５Ｘ、９５Ｙ、９５Ｒ、９６Ｘ、９６Ｙおよび９６Ｒを駆動制御する載置台位置制御系１１０と；載置台１０１あるいは１０２との間で載置物を受け渡しするために床面に設置された載置物受け渡し手段２００により、載置物を少なくとも載置するときには、除振台変位センサ１０Ｚ1〜１０Ｚ3、１０Ｙ1、１０Ｙ2および１０Ｘにより検出された除振台６の変位情報を載置台１０１および１０２の変位情報に変換する変位情報変換手段９１および９２を有し；変位情報変換手段９１および９２により求められた変位情報に基づいて、載置台１０１および１０２の変位を載置台位置制御系１１０により補正することにより上述した目的を達成する。
（２）  一実施の形態を示す図３に対応づけて説明すると、請求項２に記載の発明において、除振台振動制御系１１は、少なくとも除振台変位センサ１０Ｚ1〜１０Ｚ3、１０Ｙ1、１０Ｙ2および１０Ｘからの出力に基づいて除振台６の振動を抑制する振動制御ループをさらに有し、除振台変位センサ１０Ｚ1〜１０Ｚ3、１０Ｙ1、１０Ｙ2および１０Ｘの出力に対して有効あるいは無効に選択可能な所定幅の不感帯を振動制御ループに設けたものである。
（３）  一実施の形態を示す図１に対応づけて説明すると、請求項３の発明は、マスクＲに形成されたパターンを、投影光学系ＰＬを介して基板ステージ１０２上の基板Ｗに転写する露光装置に、請求項１または２に記載の発明を適用したものである。
【０００６】
請求項４記載の発明は、基板ステージ（２０）に載置された基板（Ｗ）にパターンを露光する露光装置であって、基板ステージ（２０）とは独立して設けられ、基板ステージ（２０）との間で基板（Ｗ）を受け渡す基板ローダ（２００）と、基板ステージ（２０）を保持する露光本体部（４０）と、露光本体部（４０）の変位に関する情報を検出する変位センサ（１０）と、基板ローダ（２００）から基板（Ｗ）を受け取る際に、変位センサ（１０）の検出結果に基づいて基板ステージ（２０）の位置を補正する制御装置（１１）とを備えている。
請求項５記載の発明は、パターンがレチクルステージ（１０１）に載置されたレチクル（Ｒ）に形成されており、レチクルステージ（１０１）と基板ステージ（２０）とを走査してパターンを基板（Ｗ）に露光している。
請求項６記載の発明は、レチクルステージ（１０１）に載置されたレチクル（Ｒ）のパターンを投影光学系（ＰＬ）を介して基板ステージ（２０）に載置された基板（Ｗ）に露光する露光装置であって、レチクルステージ（１０１）と基板ステージ（２０）とを走査する走査手段と、投影光学系（ＰＬ）とは独立して設けられ、基板ステージ（２０）との間で基板（Ｗ）を受け渡す基板ローダ（２００）と、投影光学系（ＰＬ）を保持する露光本体部（４０）と、露光本体部（４０）の変位に関する情報を検出する変位センサ（１０）と、基板ローダ（２００）から基板（Ｗ）を受け取る際に、変位センサ（１０）の検出結果に基づいて基板ステージ（２０）の位置を補正する制御装置（１１）とを備えている。
請求項７記載の発明は、露光本体部（４０）がレチクルステージ（１０１）を保持している。
請求項８記載の発明は、露光本体部（４０）が基板ステージ（２０）を保持している。
請求項９記載の発明は、レチクルステージ（１０１）に載置されたレチクル（Ｒ）に形成されたパターンを基板（Ｗ）に露光する露光装置であって、レチクルステージ（１０１）とは独立して設けられ、レチクルステージ（１０１）との間でレチクル（Ｒ）を受け渡すレチクル受け渡し手段と、レチクルステージ（１０１）を保持する露光本体部（４０）と、露光本体部（４０）の変位に関する情報を検出する変位センサ（１０）と、レチクル受け渡し手段からレチクル（Ｒ）を受け取る際に、変位センサ（１０）の検出結果に基づいてレチクルステージ（１０１）の位置を補正する制御装置（１１）とを備えている。
請求項１０記載の発明は、露光本体部（４０）は、パターンを基板（Ｗ）に投影する投影光学系（ＰＬ）を保持している。
なお、本発明の構成を説明する上記課題を解決するための手段の項では、本発明を分かりやすくするために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本発明が実施の形態に限定されるものではない。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態について、図１ないし図８に基づいて説明する。
【０００８】
図１には、一実施の形態に係るステップ・アンド・スキャン型の露光装置１００の概略斜視図が示されている。この図１において、設置面としての床上に長方形板状の台座２が設置され、この台座２上に除振パッド４Ａ〜４Ｄ（但し、図１では紙面奥側の除振パッド４Ｄは図示せず）が設置され、これらの除振パッド４Ａ〜４Ｄ上に除振台としての長方形状の定盤６が設置されている。ここで、後述するように本実施の形態では投影光学系ＰＬが使用されているため、投影光学系ＰＬの光軸に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に直交する平面内で定盤６の長手方向にＸ軸を、これに直交する方向にＹ軸を取る。また、それぞれの軸回りの回転方向をＺθ、Ｘθ、Ｙθ方向と定める。なお、以下の説明において、必要に応じ、図１中のＸ、Ｙ、Ｚ軸を示す各矢印の示す方向を＋Ｘ、＋Ｙ、＋Ｚ方向、これと反対の方向を−Ｘ、−Ｙ、−Ｚ方向と区別して用いるものとする。
【０００９】
除振パッド４Ａ〜４Ｄは、それぞれ定盤６の長方形の底面の４個の角部付近に配置されている。本実施の形態では、除振パッド４Ａ〜４Ｄとして空気式ダンパが使用され、空気の圧力により除振パッド４Ａ〜４Ｄの高さを調整できるため、その空気式ダンパは上下動機構の役目をも兼ねている。勿論、上下動機構を別に設けてダンピング液中に圧縮コイルばねを入れた機械式ダンパ等を除振パッドとして使用してもよい。
【００１０】
台座２と定盤６との間に除振パッド４Ａと並列にアクチュエータ７Ａが設置されている。アクチュエータ７Ａは、台座２上に固定された固定子９Ａと定盤６の底面に固定された可動子８Ａとから構成され、制御装置１１（図１では図示省略、図３参照）からの指示に応じて台座２から定盤６の底面に対するＺ方向の付勢力、又は定盤６の底面から台座２に向かう吸引力を発生する。他の除振パッド４Ｂ〜４Ｄにおいても、除振パッド４Ａと同様にそれぞれ並列にアクチュエータ７Ｂ〜７Ｄが設置され（但し、図１では紙面奥側のアクチュエータ７Ｃ、７Ｄは図示せず）、これらのアクチュエータ７Ｂ〜７Ｄの付勢力又は吸引力もそれぞれ制御装置１１（図１では図示省略、図３参照）により設定される。アクチュエータ７Ａ〜７Ｄの制御方法については、後述する。
【００１１】
次に、アクチュエータ７Ａの具体的構成について図２に基づいて説明する。
【００１２】
図２（ａ）には、アクチュエータ７Ａの構成の一例が示されている。この図２（ａ）において、固定子９Ａは、Ｎ極の軸９Ａａの両側にＳ極の軸９Ａｂ，９Ａｃが形成されたマグネットよりなる。また、可動子８Ａは、軸９Ａａに遊嵌する内筒１２、この内筒１２の外側に巻回されたコイル１３、及びこのコイル１３を覆う外筒１４より構成され、コイル１３に流れる電流を調整することにより、固定子９Ａと可動子８Ａとの間に、軸９Ａａに平行な方向（±Ｚ方向）の力が発生する。
【００１３】
図２（ｂ）には、アクチュエータ７Ａの別の例が示されている。この図２（ｂ）において、第１部材１５に磁性体の固定子１６が固定され、第２部材１７に固定子１６を挟むように内筒１８Ａ及び１８Ｂが固定され、内筒１８Ａ及び１８Ｂの外側にそれぞれコイル１９Ａ及び１９Ｂが巻回されている。この場合も、コイル１９Ａ及び１９Ｂに流す電流を調整することにより、第１部材１５と第２部材１７との間の吸引力のバランスを変化させて力を発生する。その他のアクチュエータ７Ｂ〜７Ｄもアクチュエータ７Ａと同様に構成されている。
【００１４】
図１に戻り、定盤６の＋Ｙ方向側の側面には、定盤６のＺ方向加速度を検出する振動センサとしての加速度センサ５Ｚ1、５Ｚ2が取り付けられている。また、定盤６上面の＋Ｙ方向端部には定盤６のＹ方向加速度を検出する振動センサとしての加速度センサ５Ｙ1、５Ｙ2が取り付けられ、定盤６上面の＋Ｘ方向端部には定盤６のＸ方向加速度を検出する振動センサとしての加速度センサ５Ｘが取り付けられている。これらの加速度センサ５Ｚ1、５Ｚ2、５Ｙ1、５Ｙ2、５Ｘとしては、例えば半導体式加速度センサが使用される。これらの加速度センサ５Ｚ1、５Ｚ2、５Ｙ1、５Ｙ2、５Ｘの出力も制御装置１１（図１では図示省略、図３参照）に供給されている。
【００１５】
また、定盤６の＋Ｙ方向側の側面には、所定面積の矩形の金属板（導電性材料）２３1、２３2が貼り付けられている。本実施の形態では、定盤６として非導電性材料であるセラミックス製の定盤が使用されており、金属板２３1、２３2に対向する位置に定盤のＹ方向変位を検出する変位センサ１０Ｙ1、１０Ｙ2（図１では図面の錯綜をさけるため図示省略、図３参照）が設けられている。これらの変位センサ１０Ｙ1、１０Ｙ2としては、例えば、渦電流変位センサが使用される。この渦電流変位センサによれば、予め絶縁体に巻いたコイルに交流電圧を加えておき、導電性材料（導電体）から成る測定対象に近づけると、コイルによって作られた交流磁界によって導電体に渦電流が発生し、この渦電流によって発生する磁界は、コイルの電流によって作られた磁界と逆方向であり、これら２つの磁界が重なり合って、コイルの出力に影響を与え、コイルに流れる電流の強さ及び位相が変化する。この変化は、測定対象がコイルに近いほど大きくなり、逆に遠いほど小さくなるので、コイルから電気信号を取り出すことにより、測定対象の位置、変位を知る事ができる。この他、変位センサとして、静電容量がセンサの電極と測定対象物間の距離に反比例することを利用して非接触でセンサと測定対象物間の距離を検出する静電容量式非接触変位センサを使用しても良い。なお、背景光の影響を阻止できる構成にすれば、変位センサとしてＰＳＤ（半導体光位置検出器）を使用することも可能である。
【００１６】
また、定盤６上面の＋Ｙ方向端部には所定面積の金属版２３3、２３4が貼り付けられている。これらの金属板２３3、２３4に対向して定盤６のＺ方向変位を検出する渦電流変位センサから成る変位センサ１０Ｚ1、１０Ｚ2（図１では図示省略、図３参照）が設けられている。さらに、定盤６上面の＋Ｘ方向の側面には所定面積の金属板２３5が貼り付けられ、この金属板２３5に対向して定盤６のＸ方向変位を検出する渦電流変位センサから成る変位センサ１０Ｘ（図１では図示省略、図３参照）が設けられている。同様に、変位センサ１０Ｙ1、１０Ｙ2、１０Ｚ1、１０Ｚ2、１０Ｘの出力も制御装置１１（図１では図示省略、図３参照）に供給されている。
【００１７】
定盤６上には図示しない駆動手段によってＸＹ２次元方向に駆動されるＸＹステージ２０が載置されている。さらに、このＸＹステージ２０上にＺレベリングステージ、θステージ（いずれも図示省略）が載置され、これらＸＹステージ２０、Ｚレベリングステージ、θステージでウエハステージ１０２が構成される。θステージの上には、ウエハホルダ２１を介して感光基板としてのウエハＷが吸着保持されている。また、定盤６上でＸＹステージ２０を囲むように第１コラム２４が設けられ、第１コラム２４の上板の中央部に投影光学系ＰＬが固定され、第１コラム２４の上板に投影光学系ＰＬを囲むように第２コラム２６が設けられ、第２コラム２６の上板の中央部には図示しない駆動手段によってＸＹ２次元方向に駆動されるＸＹステージ２７が載置されている。このＸＹステージ２７の上にはさらに、θステージ（図示省略）が載置され、これらＸＹステージ２７およびθステージでレチクルステージ１０１が構成される。そしてこのレチクルステージ１０１の上に、マスクとしてのレチクルＲが載置されている。
【００１８】
ウエハステージ１０２のＸ、ＹおよびＺθ方向の位置は、変位センサとしてのレーザ干渉計３９Ｘ、３９Ｙおよび３９Ｒによって検出される（レーザ干渉計３９Ｒは不図示）。これらレーザ干渉計３９Ｘ、３９Ｙ、３９Ｒの出力は、制御装置１１（図３参照）、ステージ位置制御装置１１０（図８参照）および図示しない主制御装置に入力されている。Ｚレベリングステージは、Ｚ軸方向の駆動及びＺ軸に対する傾斜が調整可能に構成され、θステージはＺ軸回りの微小回転が可能に構成されている。従って、ＸＹステージ２０、Ｚレベリングステージ及びθステージによって、ウエハＷは３次元的に位置決めが可能となっている。
【００１９】
レチクルステージ１０１のＸ、ＹおよびＺθ方向の位置も、ウエハステージ１０２と同様に変位センサとしてのレーザ干渉計３８Ｘ、３８Ｙおよび３８Ｒによって検出され（レーザ干渉計３８Ｒは不図示）、これらレーザ干渉計３８Ｘ、３８Ｙ、３８Ｒの出力は、制御装置１１（図３参照）、ステージ位置制御装置１１０（図８参照）および図示しない主制御装置に入力されている。なお、レチクルＲについてはＸ、ＹおよびＺθ方向に位置調整可能な構成となっている。
【００２０】
レチクルＲの上方には、図示しない照明光学系が配置され、図示しない主制御装置はレチクルＲ及びウエハＷの相対位置合わせ（アライメント）及び図示しない焦点検出系によるオートフォーカスを行ないつつ、照明光学系からの露光用の照明光ＥＬの下で、レチクルＲのパターンを投影光学系ＰＬによりウエハＷの各ショット領域に結像し、順次露光するようになっている。本実施の形態では、各ショット領域の露光に際しては主制御装置によりレチクルステージ１０１とウエハステージ１０２とがそれぞれの駆動手段を介してＸ軸方向（走査方向）に沿って所定の速度比で相対走査される。
【００２１】
第１コラム２４は、４本の脚部２４ａ〜２４ｄ（図１では紙面奥側の脚部２４ｄは図示せず）により定盤６上に設置されている。脚部２４ｂの＋Ｘ方向の側面には、第１コラム２４のＺ方向の加速度を検出する加速度センサ５Ｚ3が取り付けられている。この加速度センサ５Ｚ3としては、例えばピエゾ抵抗効果型あるいは静電容量型の半導体式加速度センサが使用される。この加速度センサ５Ｚ3の出力も制御装置１１（図１では図示省略、図３参照）に入力されている。また、第１コラム２４の上板上面の＋Ｙ方向端部でかつ＋Ｘ方向端部となるコーナーの部分には、所定面積の金属板２３6が貼り付けられている。この金属板２３6に対向して第１コラム２４のＺ方向変位を検出する渦電流変位センサから成る変位センサ１０Ｚ3（図１では図示省略、図３参照）が設けられている。
【００２２】
更に、第１コラム２４の−Ｘ方向の側面にピン３５Ａが埋め込まれ、このピン３５Ａと床上に固定された図示しない支柱との間に、アクチュエータ３２Ａが取り付けられている。アクチュエータ３２Ａは、アクチュエータ７Ａと同様に、図示しない支柱に固定された発磁体よりなる固定子３４Ａと、ピン３５Ａに取り付けられたコイルを含む可動子３３Ａとから構成され、制御装置１１から可動子３３Ａ内のコイルに流れる電流を調整することにより、ピン３５Ａに対して±Ｙ方向に力を与えることができる。同様に、第１コラム２４の＋Ｘ方向の側面にピン３５Ｂが埋め込まれ、このピン３５Ｂと床上に固定された図示しない支柱との間に、アクチュエータ３２Ａと同一構成のアクチュエータ３２Ｂが取り付けられ、制御装置１１からの指示によりピン３５Ｂに対して±Ｙ方向に力を与えることができるようになっている。また、第１コラム２４の＋Ｘ方向の側面の中央部と床上の図示しない支柱との間に、アクチュエータ３２Ａと同一構成のアクチュエータ３２Ｃが設置され、制御装置１１からの指示によりアクチュエータ３２Ｃを介して第１コラム２４に対して±Ｘ方向に力を与えることができる。制御装置１１による、アクチュエータ３２Ａ〜３２Ｃの制御方法についても後述する。
【００２３】
ここで、露光装置１００の設置時の定盤６の高さ及び水平レベルの調整について簡単に説明すると、変位センサ１０Ｚ1、１０Ｚ2、１０Ｚ3で計測された定盤６のＺ方向変位（高さ）が図示しない除振パッド４Ａ〜４Ｄの制御系（図示省略）に伝えられ、これらのデータを基に除振パッド４Ａ〜４Ｄの制御系は、定盤６の高さを予め設定されている値にすると共に水平レベルを維持するための各除振パッド４Ａ〜４Ｄの高さを算出する。その後、この制御系は、除振パッド４Ａ〜４Ｄの高さをそれぞれ算出した値に設定する。その後、除振パッド４Ａ〜４Ｄの高さはそれぞれその設定値に維持される。これにより、定盤６に歪みを生ずることがなく、定盤６上のＸＹステージ２０の位置決め精度等が高精度に維持される。
【００２４】
本実施の形態では、定盤６、ウエハステージ１０２、ウエハホルダ２１、第１コラム２４、投影光学系ＰＬ、第２コラム２６、及びレチクルステージ１０１等により露光本体部４０（図３参照）が構成されている。
【００２５】
次に、この露光本体部４０の除振のためのアクチュエータ７Ａ〜７Ｄ、３２Ａ〜３２Ｃの制御系について、制御装置１１を中心に、図３のブロック図に基づいて説明する。
【００２６】
制御装置１１は、変位センサ１０Ｚ1、１０Ｚ2、１０Ｚ3、１０Ｙ1、１０Ｙ2、１０Ｘ及び加速度センサ５Ｚ1、５Ｚ2、５Ｚ3、５Ｙ1、５Ｙ2、５Ｘの出力に基づいて定盤６を含む露光本体部４０の振動を抑制するようにアクチュエータ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃを駆動制御する振動制御系を構成している。
【００２７】
これを更に詳述すると、振動制御系は、第１の座標変換部４２と、６つの減算器４６ａ〜４６ｆと、６つの補正ブロック１０００ａ〜１０００ｆと、位置コントローラＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰＩと、６つの速度変換ゲイン５２ａ〜５２ｆと、第２の座標変換部４８と、６つの積分器５０ａ〜５０ｆと、６つの減算器５４ａ〜５４ｆと、速度コントローラＶＸＰＩ、ＶＹＰＩ、ＶＺＰＩ、ＶＸθＰＩ、ＶＹθＰＩ、ＶＺθＰＩと、非干渉化計算部５６と、７つの推力ゲイン５８ａ〜５８ｇとから成る。そして、第１の座標変換部４２は、変位センサ１０Ｚ1、１０Ｚ2、１０Ｚ3、１０Ｙ1、１０Ｙ2、１０Ｘの出力を図示しないＡ／Ｄコンバータをそれぞれ介して入力し、露光本体部４０の重心の６自由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｘθ、Ｙθ、Ｚθ：図１参照）の変位量（ｘ、ｙ、ｚ、θx、θy、θz）に変換する。減算器４６ａ〜４６ｆは、第１の座標変換部４２で変換した重心の６自由度方向の変位量（ｘ、ｙ、ｚ、θx、θy、θz）を、目標値出力部４４から入力される６自由度方向の重心位置の目標値（ｘ0、ｙ0、ｚ0、θx0 、θy0 、θz0）からそれぞれ減じて６自由度のそれぞれの方向の位置偏差（Δｘ＝ｘ0−ｘ、Δｙ＝ｙ0−ｙ、Δｚ＝ｚ0−ｚ、Δθx＝θx0−θx、Δθy＝θy0−θy、Δθz＝θz0−θz）をそれぞれ算出する。補正ブロック１０００ａ〜１０００ｆは、減算器４６ａ〜４６ｆで算出された位置偏差Δｘ、Δｙ、Δｚ、Δθx、Δθy、Δθzより、後述する処理手順に従って補正位置偏差Δｘｃ、Δｙｃ、Δｚｃ、Δθxｃ、Δθyｃ、Δθzｃを算出する。位置コントローラＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰＩは、補正位置偏差Δｘｃ、Δｙｃ、Δｚｃ、Δθxｃ、Δθyｃ、Δθzｃを動作信号として６自由度のそれぞれの方向の制御動作を行なうＰＩコントローラから成る。速度変換ゲイン５２ａ〜５２ｆは、位置コントローラＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰＩからの出力を速度指令値ｘ0’、ｙ0’、ｚ0’、θx0’、θy0’、θz0’にそれぞれ変換する。第２の座標変換部４８は、加速度センサ５Ｚ1、５Ｚ2、５Ｚ3、５Ｙ1、５Ｙ2、５Ｘの出力を図示しないＡ／Ｄコンバータをそれぞれ介して入力し、重心の６自由度方向の加速度（ｘ”、ｙ”、ｚ”、θx”、θy”、θz”）に変換する。６つの積分器５０ａ〜５０ｆは、第２の座標変換部４８で変換後の重心の６自由度方向の加速度ｘ”、ｙ”、ｚ”、θx”、θy”、θz”をそれぞれ積分してそれぞれの方向の重心の速度ｘ’、ｙ’、ｚ’、θx’、θy’、θz’に変換する。減算器５４ａ〜５４ｆは、速度変換ゲイン５２ａ〜５２ｆで変換された速度指令値ｘ0’、ｙ0’、ｚ0’、θx0’、θy0’、θz0’から積分器５０ａ〜５０ｆの出力ｘ’、ｙ’、ｚ’、θx’、θy’、θz’をそれぞれ減じて６自由度方向のそれぞれの方向の速度偏差（Δｘ’＝ｘ0’−ｘ’、Δｙ’＝ｙ0’−ｙ’、Δｚ’＝ｚ0’−ｚ’、Δθx’＝θx0’−θx’、Δθy’＝θy0’−θy’、Δθz’＝θz0’−θz’）を算出する。速度コントローラＶＸＰＩ、ＶＹＰＩ、ＶＺＰＩ、ＶＸθＰＩ、ＶＹθＰＩ、ＶＺθＰＩは、減算器５４ａ〜５４ｆで算出された速度偏差Δｘ’、Δｙ’、Δｚ’、Δθx’、Δθy’、Δθz’を動作信号として制御動作を行なうＰＩコントローラから成る。非干渉化計算部５６は、速度コントローラで演算された速度制御量を各アクチュエータの位置で発生すべき速度指令値に変換するための非干渉化演算を行なう。推力ゲイン５８ａ〜５８ｇは、非干渉化計算部５６で変換後の各アクチュエータの位置で発生すべき速度指令値を各アクチュエータで発生すべき推力にそれぞれ変換する。
【００２８】
すなわち、本実施の形態の振動制御系は、変位センサ、位置コントローラ等を含んで構成される位置制御ループの内側に、その内部ループとして加速度センサ、積分器、速度コントローラ等を含んで構成される速度制御ループを有する多重ループ制御系となっている。
【００２９】
以上に説明した多重ループ制御系で構成される振動制御ループの中の位置制御ループにおいて、投影露光装置の本体部（図１の、定盤６よりも上の部分）に不図示の信号ケーブルの弾性力や重さなどにより定常力が作用していた場合、この定常力によって生ずる投影露光装置の本体部の変位を補正しようとして各アクチュエータには定常推力が発生し、これにより局部的な発熱を生ずる。そしてこの発熱により、チャンバ内の空気のゆらぎを生じ、たとえばＸＹステージの移動量を測定するレーザ干渉計などの測定精度が低下することがある。
【００３０】
ここで、投影露光装置の動作について考えると、たとえばレチクルロード、ウエハロード、アライメント、露光、ステージ移動などの一連の動作において、すべての動作中に高い除振能力を要する訳ではない。そこで、さほど高い除振能力を必要としないときには、位置制御ループ内における位置偏差に基づくフィードバック量を低減することにより、定常推力の発生を抑制して各アクチュエータからの発熱を抑制することができる。
【００３１】
例えば、レチクルロード中などのように、投影露光装置に高い除振能力が要求されないときには、図３における位置制御ループにおいて、減算器４６ａ〜４６ｆで求められた位置偏差Δｘ、Δｙ、Δｚ、Δθx、Δθy、Δθzが所定値に収まっている限り、これらの位置偏差をフィードバックしなければよい。つまりこれらの位置偏差に対して不感帯を設ければよい。この例について、図４〜図６を参照して説明する。
【００３２】
図４〜図６はいずれも図３に示す制御装置１１の内部における位置制御ループの一部を構成する処理を説明するフローチャートである。図４に示すフローチャートにおいて、制御装置１１はステップＳ４１で、図１に示す投影露光装置のレチクルロードや露光などの動作に応じて位置偏差Δｘ、Δｙ、Δｚ、Δθx、Δθy、Δθzに不感帯を設定するかどうかを判定する。そして高い除振能力が不要な動作中であることを検出、すなわち不感帯の設定が可能と判定した場合にはステップＳ４２で不感帯フラグを１にセットする。逆にステップＳ４１で高い除振能力を必要とする動作中であることを検出、すなわち不感帯の設定をすべきではないと判定した場合にはステップＳ４３で不感帯フラグを０にセットする。
【００３３】
図５（ａ）は図３における減算器４６ａ〜４６ｆおよび補正ブロック１０００ａ〜１０００ｃにおける処理内容を示している。先ず、ステップＳ５１で位置偏差Δｘ、Δｙ、Δｚ、Δθx、Δθy、Δθzを求める（減算器４６ａ〜４６ｆの処理。以後、説明の煩雑化を避けるため、必要に応じて位置偏差Δｘ、Δｙ、Δｚ、Δθx、Δθy、ΔθzをΔとして表示する）。ステップＳ５２において不感帯フラグをチェックし、不感帯フラグが０のときにはステップＳ５３で補正位置偏差Δｘｃ、Δｙｃ、Δｚｃ、Δθxｃ、Δθyｃ、Δθzｃ（以後、説明の煩雑化を避けるため、必要に応じて補正位置偏差Δｘｃ、Δｙｃ、Δｚｃ、Δθxｃ、Δθyｃ、ΔθzｃをΔｃとして表示する。）には補正を加えず、つまりΔｃ＝Δとして処理を終え、次段の処理ブロック、すなわち図３に示す位置コントローラＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰＩに補正位置偏差Δｃを送る。
【００３４】
ステップＳ５２で不感帯フラグが１であった場合、ステップＳ５４で位置偏差Δが所定の不感帯幅Ｗｄｚよりも大きいか小さいかを判定する。そして位置偏差Δが不感帯幅Ｗｄｚ未満であった場合にはステップＳ５４で補正位置偏差Δｃを０として処理を終えて図３に示す位置コントローラＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰＩに補正位置偏差Δｃを送る。
【００３５】
ステップＳ５４で位置偏差Δが所定の不感帯幅Ｗｄｚと等しいか、不感帯幅Ｗｄｚよりも大きかった場合、ステップＳ５６で以下の式（１）に示す処理を行い、図３に示す位置コントローラＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰＩに補正位置偏差Δｃを送る。
【数１】
0003750263.tif 000002
【００３６】
図５（ａ）に示す処理内容について、補正ブロック１０００ａ〜１０００ｆをアナログの入出力系に見立て、図５（ｂ）を参照して説明する。図５（ｂ）のグラフにおいて、横軸に入力としての位置偏差Δをとり、縦軸に出力としての補正位置偏差Δｃをとる。そして、不感帯フラグが０のときにはａの破線で示すようにΔｃ＝Δとして位置コントローラＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰＩに補正位置偏差Δｃを出力する。逆に不感帯フラグが１のときにはｂの実線で示すように＋側、−側のそれぞれに不感帯幅Ｗｄｚを有する入出力特性で位置コントローラＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰＩに補正位置偏差Δｃを出力する。
【００３７】
以上のように振動制御系を構成することにより、高い除振能力が必要なときにのみ各アクチュエータに推力が発生するようになるので、これら各アクチュエータからの不必要な発熱を防止することができる。
【００３８】
なお、以上の説明では、位置偏差Δから補正位置偏差Δｃを求める際に、所定幅Ｗｄｚの不感帯幅を考慮するか、あるいは考慮しないかの判定を不感帯フラグを用いて行う例について説明したが、この不感帯フラグを用いなくてもよい。以下、図６を参照してこの例について説明する。
【００３９】
図６（ａ）に示すフローチャートは、図５（ａ）に示す位置制御フィードバック量設定ルーチンの別の例を示しており、図５（ａ）におけるステップＳ５２、つまり不感帯フラグ判定処理と、ステップＳ５３、つまり不感帯フラグがセットされていなかった場合の処理とをなくした以外は図５（ａ）のものと同様であるので、図５（ａ）のものとの差異を中心に説明する。
【００４０】
図５（ａ）に示すフローチャートにおいて、不感帯幅Ｗｄｚは所定値に固定されたものであったが、図６（ａ）に示すフローチャートのステップＳ６２にける不感帯幅Ｗｄｚｖは可変となっている。この不感帯幅Ｗｄｚｖは、制御装置１１に組み込まれた処理プログラム中の不図示の不感帯幅設定ルーチンにより、投影露光装置の処理内容に応じて設定される。そして投影露光装置の処理内容が、最も高い除振能力のもとで行われる必要があるときには不感帯幅Ｗｄｚｖは０に設定され、逆にさほど高い除振能力が必要とされないときには、その程度に応じて不感帯幅Ｗｄｚｖが任意の値に設定される。
【００４１】
以上のようにして設定された不感帯幅Ｗｄｖｚに応じて図６（ａ）に示すフローチャートに基づく処理が行われる結果を、図５（ｂ）を参照して説明したのと同様に、補正ブロック１０００ａ〜１０００ｆをアナログの入出力系に見立てた入出力の関係を図６（ｂ）に示す。
【００４２】
図６（ｂ）に示すグラフにおいて、不感帯幅Ｗｄｖｚが０のときには破線ａに示すようなΔｃ＝Δの関係となる。これは、図５（ｂ）に示すグラフにおいて、不感帯フラグが０のときのΔｃとΔとの入出力関係を示す破線ａに等しい。再び図６（ｂ）を参照し、不感帯幅Ｗｄｚｖが比較的狭いＷｄｚｖ1であったときには一点鎖線ｂで示すような入出力関係で、あるいは不感帯幅Ｗｄｚｖが比較的広いＷｄｖｚ2であったときには実線ｃで示すような入出力関係で示される。そして、例えば実線ｃに示すような入出力関係にあるときに、外乱に対する反応はそれなりに抑制されるので、各アクチュエータの推力も減り、したがって各アクチュエータからの発熱を防止することができる。
【００４３】
以上の実施の形態の説明で、レチクルロード中には露光装置に高い除振能力が要求されないことについて述べたが、これは露光時などのときに比較しての話であり、絶対的に見ればレチクルやウエハのロード中も高い除振能力が要求される。従って、露光装置に残留振動があった場合には、この残留振動が整定してからでないと所望の位置決め精度が得られないことになる。したがって、従来の技術でも説明したように残留振動が整定するまでに要する時間が装置のスループット向上を妨げる。スループットを高めるためには、除振装置のサーボ剛性を高めることも有効であるが、装置の大型化や製造コストの上昇を招くことになり、実際的でない。以下、除振装置のサーボ剛性を高めることなく露光装置のスループットを向上する例について説明する。
【００４４】
図７を参照して本発明の実施の形態に係る露光装置１００と、この露光装置１００に付随するウエハローダ２００について説明する。露光装置１００は床Ｆに設置され、同様にウエハローダ２００も床Ｆに設置されている。また、露光装置の変位を検出する変位センサ（１０Ｘ、１０Ｙ1、１０Ｙ2、１０Ｚ1、１０Ｚ2、１０Ｚ3）は、床Ｆに設置されたコラム３００に設置されており、露光装置１００の、床Ｆに対する変位が検出される。
【００４５】
以上の構成で、露光装置１００の揺れが所定値以下に収まっている場合には、搬送部２１０を介してレチクルステージ１０２にウエハＷをロードすれば所定の位置決め精度を得ることができる。一方、露光装置１００に所定値以上の振幅の残留振動による変位が変位センサ（１０Ｘ、１０Ｙ1、１０Ｙ2、１０Ｚ1、１０Ｚ2、１０Ｚ3）で検出された場合、検出された変位を相殺するようにウエハステージを駆動することにより、搬送部２１０あるいはウエハＷとウエハステージ１０２との間の相対変位も相殺される。これにより、露光装置１００の残留振動が整定する前にウエハＷのロードが可能となり、露光装置１００のスループットが向上する。
【００４６】
なお、レチクルをロードする際にも、レチクルステージ１０１をウエハステージ１０２と同様の方法で駆動すればよい。以下、図８を参照してウエハステージ１０２、レチクルステージ１０１の制御方法について説明する。
【００４７】
図８は、ウエハステージ１０２、レチクルステージ１０１を制御するためのステージ位置制御装置１１０を説明するブロック図である。なお、露光本体部４０の除振制御を行う制御装置１１の構成を示す図３と同じ部分には同じ番号を付し、その説明を省略する。
【００４８】
第１の座標変換部４２より得られた、露光本体部４０の重心の６自由度方向の変位は、先に説明した６つの減算器４６ａ〜４６ｆに加えられるとともに、レチクルステージ座標変換部７１およびウエハステージ座標変換部７２にも導かれる。レチクルステージ座標変換部７１は、露光本体部４０の重心の６自由度方向の変位情報からレチクルステージ１０１のＸ軸およびＹ軸方向に沿う変位Ｘ、ＹとＺθ軸まわりの変位（Ｒｏｔ）とを求める。
【００４９】
減算器９３ａ〜９３ｃは、レチクルステージ座標変換部７１から出力される、レチクルステージ１０１のＸ軸およびＹ軸方向に沿う変位Ｘ、ＹとＺθ軸まわりの変位（Ｒｏｔ）と、レーザ干渉計３８Ｘ、３８Ｙ、３８Ｒより求められるレチクルステージ１０１の変位とを、目標値出力部８１から入力されるレチクルステージ１０１の目標値（Ｘ、Ｙ、Ｒｏｔ）からそれぞれ減じて、それぞれの位置偏差を算出する。
【００５０】
レチクルステージ制御部９１は、減算器９３ａ〜９３ｃから算出されたそれぞれの位置偏差をもとにレチクルステージ１０１をＸ、ＹおよびＺθ軸方向に駆動するアクチュエータ９５Ｘ、９５Ｙ、９５Ｒの駆動量を求めて駆動信号を発する。
【００５１】
以上のようにして、露光本体部４０の残留振動による変位を相殺するようにレチクルステージ１０１を駆動することにより、露光本体部４０の残留振動の整定を待つことなくレチクルロードを高精度に行うことができるので、露光装置のスループットを向上させることができる。また、レチクルステージ１０１で露光本体部４０の振動を補正することにより、先に説明した不感帯幅をさらに拡大することができるので、アクチュエータ７Ａ〜７Ｄからの発熱を抑制することができる。あるいは、レチクルロードをさらに精密に行う必要があるときには、上述した不感帯幅を設けずに露光本体部４０を除振制御した上で、さらにレチクルステージ１０１を駆動し、露光本体部４０の残留振動によるレチクルステージ１０１の変位を補正してもよい。
【００５２】
なお、この残留振動補正時のレチクルステージの移動量はごく僅かで、レチクルステージ移動時に生ずる加速度も極めて小さなものであり、ステージ駆動にともなう新たな振動を起こすことはない。
【００５３】
ウエハステージ１０２の制御についても上述したレチクルステージの制御と同様であり、その説明を省略する。
【００５４】
以上のステージ位置制御装置１１０の動作説明において、第１の座標変換部４２より得られる露光本体部４０の６自由度方向の変位情報をもとにレチクルステージ１０１あるいはウエハステージ１０２の変位を求める例について説明したが、これに代えて変位センサ（１０Ｘ、１０Ｙ1、１０Ｙ2、１０Ｚ1、１０Ｚ2、１０Ｚ3）で検出された変位信号を直接レチクルステージ座標変換部７１およびウエハステージ座標変換部７２に導いてそれぞれのステージ変位を求めるようにしてもよい。
【００５５】
また、以上の実施の形態の説明において、除振台の振動制御系が、変位センサ１０Ｚ1、１０Ｚ2、１０Ｚ3、１０Ｙ1、１０Ｙ2、１０Ｘ、位置コントローラＸＰＩ〜ＺθＰＩ等で構成される位置制御ループの内側に、加速度センサ５Ｚ1〜５Ｚ3、５Ｙ1、５Ｙ2、５Ｘ、速度コントローラＶＸＰＩ〜ＶＺθＰＩ等で構成される速度制御ループを有する多重ループ制御系である場合を例にとって説明したが、比較的周期の長い振動に対しては位置制御ループのみで構成される振動制御系で除振制御すればよく、このときにも変位センサ１０Ｚ1、１０Ｚ2、１０Ｚ3、１０Ｙ1、１０Ｙ2、１０Ｘで得られる信号をもとに各ステージの位置制御をすればよい。
【００５６】
なお、本発明に係る除振装置は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の投影露光装置やステッパ方式の投影露光装置などの光学式の露光装置のみならず、荷電粒子線露光装置にも適用可能である。
【００５７】
以上の発明の実施の形態の説明と請求項との対応において、定盤６が除振台を、アクチュエータ７Ａ〜７Ｄおよび３２Ａ〜３２Ｃが除振台アクチュエータを、変位センサ１０Ｚ1〜１０Ｚ3、１０Ｙ1、１０Ｙ2および１０Ｘが除振台変位センサを、制御装置１１が振動台振動制御系を、レーザ干渉計３８Ｘ、３８Ｙ、３８Ｒ、３９Ｘ、３９Ｙおよび３９Ｒが載置台変位センサを、ステージ位置制御装置１１０が載置台位置制御系を、ウエハローダ２００が載置物受け渡し手段を、レチクルステージ座標変換部７１およびウエハステージ座標変換部７２が変位情報変換手段をそれぞれ構成する。
【００５８】
【発明の効果】
（１）  請求項１または３に記載の発明によれば、除振台変位センサからの出力に基づいて載置台の変位量を求め、除振台の振動による載置台の変位を相殺するように載置台を駆動することにより、除振台の残留振動の整定を待つことなく、高い位置決め精度を有した状態でレチクルやウエハなどの載置物を載置台に載置することができる。これにより高スループット化が実現可能となる。
（２）  請求項２または３に記載の発明によれば、除振台振動制御系の振動制御ループに所定幅の不感帯を設けることにより、アクチュエータからの不必要な発熱を防止でき、この発熱に伴う精度の低下を防止することができる。このとき、除振台振動制御系に不感帯を設けることにより振動が発生するが、この振動で生ずる載置台の変位は、載置台を駆動することにより相殺して、高い位置決め精度を維持することができる。
（３）請求項４から請求項８に記載の発明によれば、変位センサの検出結果に基づいて基板ステージの位置を補正しているので、精度よく基板ステージに基板を受け取ることができる。
（４）請求項９及び請求項１０に記載の発明によれば、変位センサの検出結果に基づいてレチクルステージの位置を補正しているので、精度よくレチクルステージにレチクルを受け取ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】一実施の形態に係る投影露光装置を示す斜視図である。
【図２】（ａ）はアクチュエータ７Ａの一例を示す拡大断面図、（ｂ）はアクチュエータ７Ａの他の例を示す拡大断面図である。
【図３】アクチュエータの制御系の構成を示す制御ブロック図である。
【図４】図３に示す制御系の位置制御ループ不感帯設定ルーチンを説明するフローチャート
【図５】図３に示す制御系の位置制御ループフィードバック量設定ルーチンの一例を説明する図であり、（ａ）がそのフローチャートを、（ｂ）がこのルーチンによって処理されたフィードバック量を模式的に表したグラフである。
【図６】図３に示す制御系の位置制御ループフィードバック量設定ルーチンの別の例を説明する図であり、（ａ）がそのフローチャートを、（ｂ）がこのルーチンによって処理されたフィードバック量を模式的に表したグラフである。
【図７】本発明の実施の形態に係る投影露光装置とウエハローダとの配置関係を説明する図である。
【図８】ステージ位置制御装置の構成を示す制御ブロック図である。
【符号の説明】
４Ａ〜４Ｄ    除振パッド
５Ｚ1〜５Ｚ3、５Ｙ1、５Ｙ2、５Ｘ    加速度センサ（振動センサ）
６        定盤（除振台）
７Ａ〜７Ｄ、３２Ａ〜３２Ｃ    アクチュエータ
１０Ｚ1〜１０Ｚ3、１０Ｙ1、１０Ｙ2、１０Ｘ     変位センサ
１１      制御装置
２０、２７    ＸＹステージ
３８Ｘ、３８Ｙ、３８Ｒ    レーザ干渉計
３９Ｘ、３９Ｙ、３９Ｒ    レーザ干渉計
４０      露光本体部
７１      レチクルステージ座標変換部
７２      ウエハステージ座標変換部
９１      レチクルステージ制御部
９２      ウエハステージ制御部
９５Ｘ、９５Ｙ、９５Ｒ    アクチュエータ
９６Ｘ、９６Ｙ、９６Ｒ    アクチュエータ
１００    露光装置
１０１    レチクルステージ
１０２    ウエハステージ
１１０    ステージ位置制御装置
２００    ウエハローダ
Ｆ        床
Ｒ        レチクル（マスク）
ＰＬ      投影光学系
Ｗ    ウエハ（感光基板）
１０００ａ〜１０００ｆ  補正ブロック
【図１】
0003750263.tif 000003
【図２】
0003750263.tif 000004
【図３】
0003750263.tif 000005
【図４】
0003750263.tif 000006
【図５】
0003750263.tif 000007
【図６】
0003750263.tif 000008
【図７】
0003750263.tif 000009
【図８】
0003750263.tif 000010