(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、第１のポート、および１．６４５〜１．６５５μｍの光を送受信するＯＴＤＲ装置が接続される第４のポートを有する光導波路と、１．３１±０．０２μｍおよび１．４８〜１．６２５μmの帯域内の波長の光を送信する送信器が接続される第２のポート、および光線路が接続される第３のポートを有する光導波路とが交差して形成されており、前記光導波路が交差した箇所を横切って、前記光導波路を伝送される光を選択的に透過する多層膜フィルタが設けられ、前記光導波路の第２のポートに、該第２のポートを介して伝送される光を選択的に透過するファイバグレーティングが設けられ、
前記多層膜フィルタに垂直な軸と、前記第１のポートと第４のポートとの間の光導波路、および前記第２のポートと第３のポートとの間の光導波路とがなす角度は、５°から８°の間にあり、
前記多層膜フィルタおよびファイバグレーティングは１．３１±０．０２μｍおよび１．４８〜１．６２５μmの光を透過し、かつ１．６４５〜１．６５５μｍの光を反射し、
前記第４のポートから入力され前記多層膜フィルタにより反射され前記第３のポートから出力される光のうち、前記第３のポートから戻り前記多層膜フィルタを透過し前記第２のポートへ向かう戻り光は、前記光導波路の第２のポートのファイバグレーティングにより除去されて前記送信器に伝送されないことを特徴とするフィルタ機能付クロス導波路。
【請求項２】
請求項１に記載のフィルタ機能付クロス導波路において、前記ファイバグレーティングは、ファイバブロック上に作製されていることを特徴とするフィルタ機能付クロス導波路。
【請求項３】
基板上に、第１のポート、および１．６４５〜１．６５５μｍの光を送受信するＯＴＤＲ装置が接続される第４のポートを有する光導波路と、１．３１±０．０２μｍおよび１．４８〜１．６２５μmの帯域内の波長の光を送信する送信器が接続される第２のポート、および光線路が接続される第３のポートを有する光導波路とが交差して形成されており、前記光導波路が交差した箇所を横切って、前記光導波路を伝送される光を選択的に透過する多層膜フィルタが設けられ、前記光導波路の第２のポートに、該第２のポートを介して伝送される光を選択的に透過する導波路グレーティングが設けられ、
前記多層膜フィルタに垂直な軸と、前記第１のポートと第４のポートとの間の光導波路、および前記第２のポートと第３のポートとの間の光導波路とがなす角度は、５°から８°の間にあり、
前記多層膜フィルタおよび導波路グレーティングは１．３１±０．０２μｍおよび１．４８〜１．６２５μmの光を透過し、かつ１．６４５〜１．６５５μｍの光を反射し、
前記第４のポートから入力され前記多層膜フィルタにより反射され前記第３のポートから出力される光のうち、前記第３のポートから戻り前記多層膜フィルタを透過し前記第２のポートへ向かう戻り光は、前記光導波路の第２のポートの導波路グレーティングにより除去されて前記送信器に伝送されないことを特徴とするフィルタ機能付クロス導波路。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のフィルタ機能付クロス導波路が、１つの基板上に２個以上作製されていることを特徴とするフィルタ機能付クロス導波路。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、監視対象の光線路に導入された試験光の戻り光を検出し、その検出結果に基づいて光線路を監視する光線路監視システムに用いられるクロス導波路に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光伝送システムは、局と他局との間や局と加入者端末との間に、伝送媒体として主に光ファイバからなる光線路を設け、この光線路を介して信号光を伝送する。この光線路の長さは数ｋｍ〜数百ｋｍにも及ぶため、いずれかの局において光線路の監視が行われる。
【０００３】
従来の光線路監視システムは、監視対象である光線路の第１の位置の側に光源と受光器とが設けられ、光線路の第２の位置には多層膜フィルタが設けられている。このような構成により、光源から出力された試験光は光線路の第１の位置に導入され、光線路の第２の位置に向けて伝送される。この試験光の一部は、第２の位置に設けられた多層膜フィルタにより反射され、その反射光が光線路を戻って第１の位置から出射される。そして、第１の位置から出射された反射光は受光器により検出され、その反射光の検出結果に基づいて光線路が監視される。一方、この光線路を伝送される信号光は多層膜フィルタを透過する。言い換えれば、光線路監視システムの多層膜フィルタは、試験光を反射させる一方で信号光を透過させる機能を有する。
【０００４】
あるいは、特開２０００−２９５１８５号公報に記載されている光線路監視システムでは、図９に示すようにＯＴＤＲ（Optical Time Domain Reflectometer）装置１１１２から出力された信号光とは異なる波長の試験光が光カプラ１１１３を介して光線路１１３０を伝送する。その後、試験光は受信器１１２１の直前に設けてある光導波路型回折格子１１２３にて反射され、再び光線路１１３０を逆方向に伝送する。そして、光カプラ１１１３を経てＯＴＤＲ装置１１１２に到達するものである。
【０００５】
これらの従来の光線路監視システムでは、信号光が１．３１μｍ帯の場合に使用される試験光は１．５５μｍ帯であり、信号光が１．３１μｍ帯及び１．５５μｍ帯の場合に使用される試験光は１．６５μｍ帯である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
近年のＤＷＤＭ技術の進化及びトラフィックの増加に伴い、信号光の波長域もＳバンド（１．４８〜１．５３μｍ），Ｃバンド（１．５３〜１．５７μｍ），Ｌバンド（１．５７〜１．６２５μｍ）と幅広い波長が使用されるようになった。しかしながら、従来の光監視システムに用いられているような光カプラでは、信号光と試験光とを適切に分離できない場合がある。特に、Ｌバンドも信号光として用いる場合、従来の光カプラではＬバンドの信号光（１．５７〜１．６２５μｍ）と試験光（１．６５μｍ）とを分離すると、試験光の漏れ光が通信システム系に入ってしまう。そして、この漏れ光がノイズとなったり、信号光を発生させるＬＤを不安定にするという問題があった。
【０００７】
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、ノイズを軽減し、信号光を発生させるＬＤを安定にすることができるフィルタ機能付クロス導波路を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係るフィルタ機能付クロス導波路は、基板上に、第１のポート、および１．６４５〜１．６５５μｍの光を送受信するＯＴＤＲ装置が接続される第４のポートを有する光導波路と、１．３１±０．０２μｍおよび１．４８〜１．６２５μmの帯域内の波長の光を送信する送信器が接続される第２のポート、および光線路が接続される第３のポートを有する光導波路とが交差して形成されており、前記光導波路が交差した箇所を横切って、前記光導波路を伝送される光を選択的に透過する多層膜フィルタが設けられ、前記光導波路の第２のポートに、該第２のポートを介して伝送される光を選択的に透過するファイバグレーティングが設けられ、前記多層膜フィルタに垂直な軸と、前記第１のポートと第４のポートとの間の光導波路、および前記第２のポートと第３のポートとの間の光導波路とがなす角度は、５°から８°の間にあり、前記多層膜フィルタおよびファイバグレーティングは１．３１±０．０２μｍおよび１．４８〜１．６２５μmの光を透過し、かつ１．６４５〜１．６５５μｍの光を反射し、前記第４のポートから入力され前記多層膜フィルタにより反射され前記第３のポートから出力される光のうち、前記第３のポートから戻り前記多層膜フィルタを透過し前記第２のポートへ向かう戻り光は、前記光導波路の第２のポートのファイバグレーティングにより除去されて前記送信器に伝送されない。
【００１３】
ここで、前記ファイバグレーティングは、ファイバブロック（１１１）上に作製されているものとすることができる。
【００１４】
本発明の別の態様によれば、本発明に係るフィルタ機能付クロス導波路は、基板上に、第１のポート、および１．６４５〜１．６５５μｍの光を送受信するＯＴＤＲ装置が接続される第４のポートを有する光導波路と、１．３１±０．０２μｍおよび１．４８〜１．６２５μmの帯域内の波長の光を送信する送信器が接続される第２のポート、および光線路が接続される第３のポートを有する光導波路とが交差して形成されており、前記光導波路が交差した箇所を横切って、前記光導波路を伝送される光を選択的に透過する多層膜フィルタが設けられ、前記光導波路の第２のポートに、該第２のポートを介して伝送される光を選択的に透過する導波路グレーティングが設けられ、前記多層膜フィルタに垂直な軸と、前記第１のポートと第４のポートとの間の光導波路、および前記第２のポートと第３のポートとの間の光導波路とがなす角度は、５°から８°の間にあり、前記多層膜フィルタおよび導波路グレーティングは１．３１±０．０２μｍおよび１．４８〜１．６２５μmの光を透過し、かつ１．６４５〜１．６５５μｍの光を反射し、前記第４のポートから入力され前記多層膜フィルタにより反射され前記第３のポートから出力される光のうち、前記第３のポートから戻り前記多層膜フィルタを透過し前記第２のポートへ向かう戻り光は、前記光導波路の第２のポートの導波路グレーティングにより除去されて前記送信器に伝送されない。
【００１７】
本発明の別の態様によれば、本発明に係るフィルタ機能付クロス導波路は、上記フィルタ機能付クロス導波路が、１つの基板上に２個以上作製されている。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００１９】
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態によるフィルタ機能付クロス導波路を図１に示す。フィルタ機能付クロス導波路１１０には、信号光の送信器１１４と、試験光を発生しまたは受信して光線路を監視するＯＴＤＲ装置１１５とが接続されている。
【００２０】
また、フィルタ機能付クロス導波路１１０は、ポート１〜４を有している。これらのうち、ポート３は光線路１２０に、ポート４はＯＴＤＲ装置１１５にそれぞれファイバブロック１１１で補強された光ファイバ１１３で接続されている。
【００２１】
ポート２には信号光の送信器１１４が光ファイバ１１３によって接続されており、その接続部分はガラス製のファイバブロック１１１で補強接続されている。
【００２２】
クロス導波路１１０の中央に設けられている多層膜フィルタ１１６は光フィルタの一例で、信号光（Ｓバンド，Ｃバンド及びＬバンド）を選択的に透過し、試験光（１．６５μｍ帯）を反射する光特性を有する。
【００２３】
ポート１には何も接続されておらず、開放端となっている。本実施形態では、ポート１の導波路１１７ｂが設けられているが、この導波路１１７ｂは無くても良い。すなわち、クロス導波路１１０は、光導波路１１７ｃ，１１７ｄ，１１７ｅからなるものとしてもよい。
【００２４】
ポート２に接続されている光ファイバ１１３には、ファイバブロック１１１付近にグレーティング１１２が設けられている。このファイバグレーティング１１２は、信号光（Ｓバンド，Ｃバンド，Ｌバンド）を選択的に透過し、試験光（１．６５μｍ帯）を反射する特性を有する。
【００２５】
上記のような構成をとることにより、ＯＴＤＲ装置１１５において発生した試験光はポート４から入射し、多層膜フィルタ１１６によって反射され、ポート３から光線路１２０へと伝送される。一方、信号光は送信器１１４から送信され、ファイバブロック１１１上あたりに設けられているグレーティング１１２を透過し、多層膜フィルタ１１６を透過し、試験光と同様にポート３から光線路１２０へと伝送されていく。なお、本実施形態で用いる光フィルタとしては、誘電体を積層した多層膜フィルタで、例えば、信号波長域１．４８〜１．６２５μｍに平坦な透過域を有し、試験波長１．６４５〜１．６５５μｍに反射域を有する特性のものが良い。また、信号波長に応じて透過帯域を１．３μｍ帯まで拡大することもできる。これ以外にも積層材料に有機物、半導体を用いた多層膜など、信号波長帯に透過域を有し、かつ試験波長帯に反射域を有するものであれば当然に用いることができる。
【００２６】
試験光は、不図示の受信器の手前にある光フィルタやグレーティング等により反射され、または光線路１２０の途中に存在する破断箇所（これを発見することを目的として試験光が用いられている）から反射され、ポート３から「戻り試験光」として戻ってくる。戻り試験光はポート３に入射後、多層膜フィルタ１１６によって反射されてポート４へ至り、ＯＴＤＲ装置１１５へと入射する。
【００２７】
このとき、わずかながら多層膜フィルタ１１６を通過してしまう戻り試験光が存在する。この戻り試験光はポート２にも伝送されるが、その先にあるファイバグレーティング１１２によって反射される。このため、送信器１１４に戻り試験光が入射することはなく、ノイズが発生したり、ＬＤが不安定になることもない。
【００２８】
導波路１１７ｂ，１１７ｃ，１１７ｄ，１１７ｅのクロス点に多層膜フィルタ１１６等の試験光を反射する光反射膜が配置されていることは、本発明の特徴の一つである。このような配置によって、多層膜フィルタ１１６を透過する信号光と、多層膜フィルタ１１６を反射する試験光を、光線路１２０に向けて同時に送出することができる。ここで、ポート４から入射された試験光が多層膜フィルタ１１６の反射面１１６ａを介してポート３へと反射される際、クロス導波路が多層膜フィルタ１１６に垂直な軸となす角度１１７ａが小さいほど試験光の反射効率はよい。一方、ポート２から入射した信号光は多層膜フィルタ１１６を透過しポート３に続く導波路１１７ｄへ至る。この場合は、上記角度１１７ａが大きいほどポート４に至る導波路１１７ｅへ信号光が入射しなくなる。
【００２９】
この導波路の角度１１７ａについて実験したところ、５°以下では信号光の損失が増え、８°を超えると試験光の反射率が低下することが分かった。従って、多層膜フィルタ１１６に垂直な軸と導波路１１７ｅのなす角度１１７ａは、５°〜８°の間であることが望ましい。本実施形態では角度１１７ａとして、実験によって得られた最適値の６°を用いている。
【００３０】
図２は、本発明を適用したフィルタ機能付クロス導波路１１０を用いた光監視システムを示している。本図において、光線路１２０は、通常は数ｋｍ以上に及ぶ光ファイバである。受信器１２１は信号光を受信し、光導波路型グレーティング１２２は信号光を選択的に透過し、試験光を反射する光フィルタである。なお、本実施形態では光フィルタとして光導波路型グレーティングを用いているが、光ファイバ型グレーティングを用いても良い。
【００３１】
このような構成をとることにより、送信器１１４から出された信号光は、フィルタ機能付クロス導波路１１０を通過し、このフィルタ機能付クロス導波路１１０に接続されている光線路１２０の第１の位置から入射し、光線路１２０を伝送し、光線路１２０に第２の位置を経て受信器１２１に至る。一方、試験光は、ＯＴＤＲ装置１１５から出されフィルタ機能付クロス導波路１１０内の多層膜フィルタ１１６によって反射されて光線路１２０の第１の位置から入る。その後、光線路１２０を伝送し第２の位置に設けてある光導波路型グレーティング１２２によって反射され、再び光線路１２０の中を戻り試験光となってフィルタ機能付クロス導波路１１０へ戻ってくる。
【００３２】
図１の説明で述べた通り、大部分の戻り試験光はフィルタ機能付クロス導波路１１０内の多層膜フィルタ１１６によって反射されてＯＴＤＲ装置１１５へ入って測定対象となるが、わずかな漏れ光は多層膜フィルタ１１６を透過してしまう。このわずかな漏れ光はポート２にも至るが、ファイバグレーティング１１２によって阻止されるため、漏れ光が送信器１１４に入射することはない。このため、ノイズが発生したり、発信器内のＬＤが不安定になることもない。また、光線路１２０を精度良く安定に監視するためには、戻り試験光としてＯＴＤＲ装置１１５に到達する試験光の強度は大きい程良いが、反面、多層膜フィルタ１１６を透過する漏れ光の量は大きくなる。しかし、第２の光フィルタがこの漏れ光を抑圧しＬＤへの悪影響を排除することができるので、戻り試験光を必要な強度に設定できる。
【００３３】
図１及び図２の構成を用いて、送信器１１４から１．３１±０．０２μｍ，Ｓバンド（１．４８〜１．５３μｍ），Ｃバンド（１．５３〜１．５７μｍ），Ｌバンド（１．５７〜１．６２５μｍ）の信号光を、ＯＴＤＲ装置１１５からは１．６５μｍの試験光（１．６４５〜１．６５５μｍ）を入射して、監視対象の光線路１２０へ導入し、試験光、及び戻り試験光がどのくらいの光強度で送信器１１４へ混入したか（遮断特性）を測定した。その結果、１．３１±０．０２μｍ，Ｓバンド，Ｃバンドでは５０ｄＢ以上，Ｌバンドでも４０ｄＢ以上の遮断特性を得ることが出来た。
【００３４】
（第２実施形態）
図３は、本発明の第２実施形態による、テープファイバを用いた場合の複数のフィルタ機能付クロス導波路３３０の構成を示す。なお、図１と同じ箇所には同一の番号を付している。テープファイバ３３３ａ，３３３ｂ，３３３ｃは４心のテープファイバであり、テープファイバ３３３ａは送信器１１４に、テープファイバ３３３ｂは光線路１２０に、テープファイバ３３３ｃはＯＴＤＲ装置１１５にそれぞれ接続されている。
【００３５】
テープファイバ３３３ｂと３３３ｃから出ているファイバ１１３は、狭ピッチファイバブロック３３１に接続されており、その一部は相互に交差している。本実施形態では、狭ピッチファイバブロック３３１として１２７μｍピッチのものを用いているが、本発明はこのピッチに限定されるものではない。
【００３６】
送信器１１４に接続しているテープファイバ３３３ａから出ているファイバ１１３には、試験光を反射し信号光を透過するグレーティング１１２がそれぞれ形成されており、２５０μｍピッチのファイバブロック３３２上に保持されている。
【００３７】
本実施形態では４心のテープファイバを用いているため、４個のフィルタ機能付クロス導波路３３０を作製している。ここで、テープファイバとして８心，１２心，１６心等のものを用いた場合には、それぞれ８個，１２個，１６個のフィルタ機能付クロス導波路を１枚の基板上に形成しても良い。あるいは、４個のフィルタ機能付クロス導波路３３０をそれぞれ２個，３個，４個並べて用いても良い。
【００３８】
本実施形態によるフィル多機能付クロス導波路３３０の動作は、上述の実施形態で説明したのと同様である。即ち、ＯＴＤＲ装置１１５からテープファイバ３３３ｃ，狭ピッチファイバブロック３３１を経由して入射した試験光は多層膜フィルタ１１６上の反射面１１６ａで反射し、テープファイバ３３３ｂを経由して光線路１２０へと進む。そして、不図示の受信器手前の反射フィルタやグレーティングによって反射され、または光線路の破断箇所から反射された戻り試験光は、テープファイバ３３３ｂを経由して反射面１１６ａで反射し、テープファイバ３３３ｃを経由してＯＴＤＲ装置１１５へ至り、測定対象となる。
【００３９】
ここで、ごくわずかではあるが多層膜フィルタ１１６を透過してしまった戻り試験光は、ファイバブロック３３２上に固定されているファイバグレーティング１１２によって反射され、送信器１１４への戻り試験光の入射は阻止される。従って、送信器１１４内にあるＬＤの波長が不安定になるようなことはない。
【００４０】
図４は、本発明の第２実施形態によるフィルタ機能付クロス導波路３３０を用いた光線路監視システムである。ＯＴＤＲ装置１１５から伸びるテープファイバ３３３は１本であるが、ファイバ切り替え器４４１を用いることによって、複数本の光線路を一つのシステムで監視することができるようになっている。
【００４１】
図３の構成を用い、上述の実施形態と同様にして、遮断特性を測定した。その結果、送信器１１４に接続されている４心テープファイバの４本のファイバ心線全てにおいて、上述の実施形態と同様に、１．３１±０．０２μｍ，Ｓバンド，Ｃバンドでは５０ｄＢ以上，Ｌバンドで４０ｄＢ以上の遮断特性を得ることが出来た。
【００４２】
（第３実施形態）
本発明の第３実施形態によるフィルタ機能付クロス導波路３３０の作製方法を以下に示す。なお、以下では第２実施形態のテープファイバを接続した例について説明するが、第１実施形態のフィルタ機能付クロス導波路１１０も同様の方法で作製できる。以下、詳細に説明する。
【００４３】
まず、基板上に所定の角度からなるクロス導波路を通常のリソグラフィ技術により作製した。その後、ダイシングソーによりクロス導波路の中央部付近に溝を形成した。このとき、導波路がクロス（交差）する位置に溝の端面が来るようにクロス導波路の交差点より左右わずかにずらして溝を形成させた。図１及び図３に示す例では、交差点に接し左側に溝を形成している。
【００４４】
多層膜フィルタ１１６は基板と多層膜面（反射面）とからなっているが、本実施形態では基板にポリイミドを用い、反射面１１６ａである多層膜面は２０〜３０μｍ厚を用いている。
【００４５】
多層膜フィルタ１１６の反射面１１６ａは、クロス導波路３３０のクロス点に一致する側（図１及び図３では溝の右側）となるように挿入し、その後、屈折率整合剤を溝に添加するか、または屈折率の調整された接着剤で多層膜フィルタを溝内に固定した。
【００４６】
一方、クロス導波路に接続する複数本のファイバを、Ｖ溝を形成したファイバブロック上に整列させて接着剤で固定し、ファイバ端面を研磨してファイバブロック３３１を作製した。
【００４７】
このとき、図１のポート２に接続されるファイバブロック中のファイバには、グレーティング１１２を形成する工程が数工程だけ付加される。すなわち、Ｖ溝を形成したファイバブロック上にファイバを整列させ固定した後、２本のレーザ光を所定の角度で同時にファイバに照射し、レーザ光の干渉縞をファイバ中に形成することによってグレーティングを作製した。その後、端面を研磨しファイバグレーティング１１２を作製した。ファイバブロック部上にファイバグレーティングを作製するこの工程は、現状のファイバブロック作製工程に数工程を追加するだけでよいため、歩留まりよくファイバグレーティングを作製することができる。
【００４８】
その後は、接着剤による通常の接続方法によってファイバブロックをクロス導波路に接続して作製した。
【００４９】
本実施形態によれば、通常のファイバブロックを作製する手順にファイバグレーティング１１２を作製する工程を追加させるだけでよく、歩留まりよく作製することが出来た。
【００５０】
（第４実施形態）
図５に示す例では、第１実施形態のファイバグレーティング１１２の代わりに、ポート２の導波路１１７ｃ内に導波路グレーティング５５１を作製した。このように作製されたクロス導波路の動作や効果は、上記実施形態と同じである。
【００５３】
図５のグレーティング５５１は、試験光を反射し、信号光を透過させる特性を有するものである。
【００５４】
図２のクロス導波路１１０の代わりに、本実施形態による図５に示したクロス導波路を用いて、第１実施形態と同様に遮断特性を測定した。その結果、送信器１１４に接続されているファイバにおいて、第１実施形態と同様に１．３１±０．０２μｍ，Ｓバンド，Ｃバンドでは５０ｄＢ以上，Ｌバンドで４０ｄＢ以上の遮断特性を得ることが出来た。
【００５５】
（第５実施形態）
図１のフィルタ機能付クロス導波路１１０の開放端であったポート１に、さらに局間モニタ用の受光器を接続した光監視システムの構成例を図６に示す。送信器１１４からの信号光は、光線路１２０へ送信されているが、実際に送信されているか随時モニタするために局間モニタ用受光器８９１が接続されている。フィルタ機能付クロス導波路１１０の多層膜フィルタ１１６は、信号光を透過させるように設定されているが、極わずかながら反射させてしまい、その反射光がポート１を介して局間モニタ用受光器８９１へと至る。
【００５６】
従って、本構成を取ることにより、送信器１１４の近傍で、送信器１１４から信号光が送信されているかをモニタできる。
【００５７】
図７には、複数のフィルタ機能付クロス導波路３３０の両端に狭ピッチファイバブロック３３１を接続し、４つの送信器からの信号光をモニタするための４心テープファイバ３３３ｄが設置された実施形態を示している。テープファイバ３３３ａ，３３３ｄのファイバ１１３は、図７に示したように相互に交差して狭ピッチファイバブロック３３１に固定されている。また、テープファイバ３３３ａのファイバ先端にはグレーティング１１２が形成されている。
【００５８】
図８は、複数のフィルタ機能付クロス導波路３３０に、テープファイバ３３３ａ，３３３ｂ，３３３ｃ，３３３ｄを狭ピッチファイバブロック３３１を介して接続した例である。テープファイバにはそれぞれ送信器１１４、光線路１２０、ファイバ切替器１０４１が接続されており、ファイバ切替器１０４１にはＯＴＤＲ装置１１５と局間モニタ用受光器８９１とが接続されている。本実施形態によるファイバ切替器１０４１は、（８×１）→（１×２）の切替となっており、戻り試験光をモニタする場合はＯＴＤＲ装置１１５へ切り替え、信号光をモニタする場合は、局間モニタ用受光器８９１へ切り替えるようになっている。
【００５９】
本構成を取ることにより、光線路１２０の監視をＯＴＤＲ装置１１５で監視するとともに、ファイバ切替器１０４１で切り替えるだけで、送信器１１４の状態を局間モニタ用受光器８９１で簡単に、しかも効率よく送信器側ですべて把握することができる。
【００６０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明を用いれば、光線路を監視する試験光を導入し、戻り試験光を測定する系において、試験光や戻り試験光が送信器側に入射することは無く、４０ｄＢ以上の遮断特性を得ることができる。
【００６１】
また、クロス導波路の一つをモニタ用受光器を付加するポートとすれば、送信器の状態を監視できるより高機能な試験系が実現できる。
【００６２】
更に、ファイバブロック部上にファイバグレーティングを作製する過程は、現状のファイバブロック作製工程に数工程を追加するだけでよいため、歩留まりよくファイバグレーティングを作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の一実施形態によるフィルタ機能付クロス導波路の構成図である。
【図２】  本発明の一実施形態によるフィルタ機能付クロス導波路を用いた光監視システムの構成図である。
【図３】  複数のフィルタ機能付クロス導波路が１枚の基板上に形成された例を示す図である。
【図４】  本発明の一実施形態による複数のフィルタ機能付クロス導波路とファイバ切替器を用いた光監視システムの構成を示す図である。
【図５】  本発明の一実施形態によるフィルタ機能付クロス導波路の構成を示す図である。
【図６】  本発明の一実施形態によるフィルタ機能付クロス導波路に局間モニタ用受光器を接続した例を示す図である。
【図７】  本発明の一実施形態による複数のフィルタ機能付クロス導波路に狭ピッチファイバブロックでテープファイバを両端に接続した例を示す図である。
【図８】  本発明の一実施形態による複数のフィルタ機能付クロス導波路を用いて信号光のモニタと光線路の監視とを行なう例を示す図である。
【図９】  従来の光監視システムとそれに用いられていた光カプラの構成を示す図である。
【符号の説明】
１１０  本発明のフィルタ機能付クロス導波路
１１１  ファイバブロック
１１２  グレーティング
１１３  光ファイバ
１１４  送信器
１１５  ＯＴＤＲ装置
１１６  多層膜フィルタ
１１６ａ  多層膜フィルタの反射面
１１７ａ  多層膜フィルタを挿入する溝と導波路とがなす角度
１１７ｂ，１１７ｃ，１１７ｄ，１１７ｅ  クロス導波路を構成している光導波路
１２０  光線路（光ファイバ）
１２１  受信器
１２２  光導波路型グレーティング
３３０  複数のフィルタ機能付クロス導波路
３３１  狭ピッチファイバブロック（１２７μｍピッチ）
３３２  ２５０μｍピッチファイバブロック
３３３ａ，３３３ｂ，３３３ｃ，３３３ｄ  テープファイバ
４４１、１０４１  ファイバ切替器
５５１  導波路グレーティング
８９１  局間モニタ用受光器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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