(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（イ）螢光体、（ロ）有機高分子バインダー、（ハ）光架橋性のモノマーおよび／またはオリゴマー並びに（ニ）アクリジン誘導体を含む放射線ラジカル発生剤を含有することを特徴とする螢光体分散感放射線性組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、螢光体分散感放射線性組成物に関わり、さらに詳しくはプラズマディスプレイパネル等の螢光体表示デバイスにおける螢光面形成用材料として好適な螢光体分散感放射線性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、大型パネルでありながら製造プロセスが容易であり、視野角が広く、自発光タイプであり表示品位が高い等の特性を有し、フラットパネル表示デバイスの中で注目されており、特にカラーＰＤＰは、２０インチ以上の大型壁掛けＴＶ用の表示デバイスとして、近い将来主流になるものと期待されている。
カラーＰＤＰは、ガス放電により紫外線を発生させ、その紫外線により螢光体を発光させることにより、カラー表示を可能にするものであり、一般に、基板上に赤色発光用、緑色発光用および青色発光用の３色の螢光面を設けて、各色の画素単位が全体的に均一に混在した状態に構成されている。
カラーＰＤＰをさらに具体的に説明すると、ガラス等からなる基板の表面に、バリヤーリブと称される絶縁材からなる複数の隔壁が設けられており、該隔壁によって多数の凹所が区画され、該凹所内に螢光面が設けられるとともに、該螢光面にプラズマを作用させる電極を配置することにより、それぞれの螢光面を画素単位とするものである。
このようなカラーＰＤＰの製造方法としては、従来、ペースト状の螢光体組成物を例えばスクリーン印刷により、基板表面の画素単位領域毎に配置して螢光面を形成するスクリーン印刷法と、感放射線性の螢光体組成物層を形成し、マスクを介して例えば紫外線を照射したのち、現像することにより、基板表面の画素単位領域毎に螢光面を設けるフォトリソグラフィー法とが知られている。とりわけフォトリソグラフィー法は、微細パターンの形成が容易であり、高性能カラーＰＤＰの分野での利用が期待されており、そのための螢光体分散感放射線性組成物の開発が鋭意進められている。
このような螢光体分散感放射線性組成物は、螢光体を分散させたペースト状組成物であり、その例としては、ポリビニルアルコールとジアゾニウム化合物や重クロム酸化合物との混合物、ゼラチンと有機系硬化剤との混合物等のビヒクル中に螢光体を分散させた組成物（特開平５−２０５６３２号公報参照）が知られている。
しかしながら、前記螢光体分散感放射線性組成物を用いてＰＤＰ用螢光面を形成する場合、組成物中に分散された螢光体が紫外線の透過を阻害し、感放射線性樹脂成分の感度を著しく低下させるため、基板表面の凹所の底部にまで紫外線を有効に到達させ、該樹脂成分を十分硬化させることが困難であり、その結果、引き続く現像および焼成工程を経たのちに凹所内に残存する螢光体層の膜厚が薄くなり、十分な表示輝度が得られないという問題があった。また、パターン形成時の最適現像時間の幅（現像マージン）が狭く、実用的にＰＤＰ製造プロセスに乗せるのが困難であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従来技術における前記問題点に鑑みてなされたものであり、その課題は、パターン形成時の現像マージンが広く、かつ放射線照射、現像および焼成工程を経たのちでも、十分な膜厚を有し、表示輝度の高い螢光面を形成しうる螢光体分散感放射線性組成物を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明によると、前記課題は、
（イ）螢光体、（ロ）有機高分子バインダー、（ハ）光架橋性のモノマーおよび／またはオリゴマー並びに（ニ）アクリジン誘導体を含む放射線ラジカル発生剤を含有することを特徴とする螢光体分散感放射線性組成物、
によって達成される。
【０００５】
以下、本発明を詳細に説明する。
（イ）螢光体
本発明における螢光体としては、特に限定されるものではなく、適宜のものを選定して使用することができる。
このような螢光体のうち、赤色発光用螢光体の代表例としては、Y2O3：Eu、Y2SiO5：Eu、Y3Al5O12：Eu、YVO4：Eu、 (Y,Gd)BO3：Eu、 Zn3(PO4)2：Mn等を挙げることができる。これらの螢光体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
また、緑色発光用螢光体の代表例としては、 Zn2SiO4：Mn、 BaAl12O19：Mn、 BaMgAl14O23：Mn、 LaPO4：(Ce,Tb) 、 Y3(Al,Ga)5O12：Tb等を挙げることができる。これらの螢光体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
また、青色発光用螢光体の代表例としては、Y2SiO5：Ce、 BaMgAl10O17：Eu、 BaMgAl14O23：Eu、 (Ca,Sr,Ba)10(PO4)6Cl2：Eu、Y2SiO5：Ce、(Zn,Cd)S : Ag 等を挙げることができる。これらの螢光体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
螢光体の使用量は、（ロ）有機高分子バインダー１００重量部に対して、通常、１０〜２０００重量部、好ましくは２０〜１５００重量部である。この場合、螢光体の使用量が１０重量部未満では、螢光面における螢光体密度が低くなり、十分な表示輝度が得られず、一方２０００重量部を超えると、放射線非照射部に地汚れや膜残りを生じやすくなる。
【０００６】
（ロ）有機高分子バインダー
本発明における有機高分子バインダーとしては、種々の樹脂を用いることができるが、特にアルカリ可溶性樹脂が好ましい。ここでいう「アルカリ可溶性」とは、後述するアルカリ現像液によって溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有する性質を意味する。
アルカリ可溶性樹脂の好ましい具体例としては、（メタ）アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂等を挙げることができる。
このようなアルカリ可溶性樹脂のうち、特に好ましく用いられる樹脂の具体例としては、下記するモノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との共重合体、またはモノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）およびモノマー（Ｃ）の共重合体を挙げることができる。
モノマー（Ａ）は、有機高分子バインダーにアルカリ可溶性を付与するための成分であり、その例としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、けい皮酸等のカルボキシル基含有モノマー類；（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル等の水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等のフェノール性水酸基含有モノマー類や、その他のアルカリ可溶性官能基含有モノマー類を挙げることができる。
これらのモノマー（Ａ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
モノマー（Ｂ）は、有機高分子バインダーのアルカリ可溶性を適宜調整するための成分であり、その例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ペンチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の、水酸基を含有しない（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル系モノマー類；１，３−ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン類を挙げることができる。
これらのモノマー（Ｂ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
モノマー（Ｃ）は、有機高分子バインダーに螢光体との相溶性を高める等の特性を付与するための成分であり、その例としては、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に、例えば（メタ）アクリロイル基等の重合性不飽和基を有するマクロモノマー類を挙げることができる。
これらのモノマー（Ｃ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
前記共重合体中の繰返し単位として、モノマー（Ａ）に由来する単量体単位の含有率は、共重合体全体に対して、通常、５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％である。この場合、モノマー（Ａ）に由来する単量体単位の含有率が５重量％未満では、有機高分子バインダーのアルカリ現像液への溶解性が低下し、放射線非照射部に地汚れや膜残りが生じやすくなる傾向があり、一方５０重量％を超えると、有機高分子バインダーのアルカリ現像液への溶解性が過大となり、螢光面が基板から脱落しやすくなる傾向がある。
これらの有機高分子バインダーのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ、キャリアー：テトラヒドロフラン）によるポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、通常、１０，０００〜１，０００，０００、好ましくは２０，０００〜７００，０００である。この場合、有機高分子バインダーのＭｗが１０，０００未満では、最適現像をもたらす現像時間の幅が狭くなり、現像マージンが小さくなりがちであり、一方１，０００，０００を超えると、現像後の放射線照射部周辺にスカムが発生しやすく、パターンエッジのシャープさが不足しがちとなり、さらに放射線非照射部に地汚れや膜残りが生じやすくなる傾向がある。
【０００７】
さらに、前記アルカリ可溶性樹脂以外の有機高分子バインダーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル類、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピル・メチルセルロース、ヒドロキシプロピル・エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、カゼイン等を挙げることができる。
本発明において、有機高分子バインダーは、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【０００８】
（ハ）光架橋性のモノマーおよびオリゴマー
本発明における光架橋性のモノマーおよびオリゴマーとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリスヒドロキシエチルフォスフェート等の多価ヒドロキシ化合物の多価（メタ）アクリレート類；ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；４−（メタ）アクリロイルフェニルシンナモイルエステルの（共）重合樹脂；４−アジドベンズアルデヒドとポリビニルアルコール、フェノールノボラック樹脂等の水酸基含有樹脂との縮合物等を挙げることができる。
これらの光架橋性のモノマーおよびオリゴマーのうち、特に多価ヒドロキシ化合物の多価（メタ）アクリレート類、具体的にはトリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート等が好ましい。
これらの光架橋性のモノマーおよびオリゴマーは、それぞれ単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
光架橋性のモノマーおよび／またはオリゴマーの使用量は、（ロ）有機高分子バインダー１００重量部に対して、好ましくは５〜５００重量部、特に好ましくは２０〜２００重量部である。この場合、光架橋性のモノマーおよび／またはオリゴマーの使用量が５重量部未満では、螢光面が基板から脱落しやすくなり、一方５００重量部を超えると、放射線非照射部に地汚れや膜残りが生じやすくなる傾向がある。
【０００９】
（ニ）放射線ラジカル発生剤
本発明における放射線ラジカル発生剤は、アクリジン誘導体を必須成分として含むものである。
前記アクリジン誘導体としては、例えば、９−メチルアクリジン、９−エチルアクリジン、９−ｎ−プロピルアクリジン、９−ｉ−プロピルアクリジン、９−ｎ−ブチルアクリジン、９−ｔ−ブチルアクリジン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン等の９−アルキル置換アクリジン類；
９−フェニルアクリジン、９−ｏ−トリルアクリジン、９−ｍ−トリルアクリジン、９−ｐ−トリルアクリジン等の９−アリール置換アクリジン類；
９−ベンジルアクリジン、９−フェネチルアクリジン等の９−アラルキル置換アクリジン類や、９−ヒドロキシアクリジン、９−クロロアクリジン、９−ブロモアクリジン、９−ニトロアクリジン、９−アミノアクリジン、９−ジメチルアミノアクリジン等のその他の９−置換アクリジン誘導体のほか、１−メチルアクリジン、４−メチルアクリジン、２，３−ジメチルアクリジン、１−フェニルアクリジン、４−フェニルアクリジン、１−ベンジルアクリジン、４−ベンジルアクリジン、１−クロロアクリジン、２，３−ジクロロアクリジン、２，３−ジメチルアミノアクリジン等を挙げることができる。
これらのアクリジン誘導体のうち、９−置換アクリジン誘導体が好ましく、特に１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、９−フェニルアクリジン等が好ましい。
前記アクリジン誘導体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
本発明におけるアクリジン誘導体の使用量は、（ハ）光架橋性のモノマーおよび／またはオリゴマー１００重量部に対して、通常、５〜５００重量部、好ましくは１０〜４００重量部である。この場合、アクリジン誘導体の使用量が５重量部未満では、放射線照射により十分架橋反応を進行させることができず、画素パターンにアンダーカットが生じるおそれがあり、また現像マージンも狭くなる傾向があり、一方５００重量部を超えると、現像時に画素が基板から脱落するおそれがあり、また放射線非照射部に地汚れや膜残りを生じやすくなる傾向がある。
【００１０】
さらに、本発明においては、前記アクリジン誘導体とともに、その他の放射線ラジカル発生剤を併用することもできる。
このようなその他の放射線ラジカル発生剤としては、例えば、カルボニル化合物、アゾ化合物、アジド化合物、メルカプタン化合物、トリハロメタン化合物、ビイミダゾール化合物等を挙げることができる。
前記カルボニル化合物としては、例えば、ベンジル、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−１−メチル−１−フェニルプロパノン−１、１−（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパノン−１、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、ベンゾインチオ−ｉ−ブチルエーテル、２−メチル−[ ４−（メチルチオ）フェニル ]−２−モルフォリノ−１−プロパノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、ベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２，４−ジエチルチオキサントン等を挙げることができる。これらのカルボニル化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
前記アゾ化合物あるいはアジド化合物としては、例えば、４−アジドベンズアルデヒド、４−アジドアセトフェノン、４−アジドベンザルアセトフェノン、４−アジドベンザルアセトン、アジドピレン、４−ジアゾジフェニルアミン、４−ジアゾ−４’−メトキシジフェニルアミン、４−ジアゾ−３’−メトキシジフェニルアミン、ジアジドカルコン、２，６−ビス（４’−アジドベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４’−アジドベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、１，３−ビス（４’−アジドベンザル）−２−プロパノン、１，３−ビス（４’−アジドシンナミリデン）−２−プロパノン、４，４’−ジアジドスチルベン等を挙げることができる。これらのアゾ化合物およびアジド化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
前記メルカプタン化合物としては、例えば、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリン等を挙げることができる。これらのメルカプタン化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
前記トリハロメタン化合物としては、例えば、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン等を挙げることができる。これらのトリハロメタン化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
前記ビイミダゾール化合物としては、例えば、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。これらのビイミダゾール化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
本発明におけるその他の放射線ラジカル発生剤の合計使用量は、アクリジン誘導体の重量に対して、２倍以下であることが好ましい。
【００１１】
添加剤
本発明の螢光体分散感放射線性組成物は、前記（イ）〜（ニ）成分以外に、必要に応じて、熱硬化性樹脂、熱硬化性樹脂用硬化触媒、密着促進剤、充填剤、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等の各種添加剤を含有することもできる。
前記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アニリン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アクリレート樹脂等を挙げることができる。
また、熱硬化性樹脂用硬化触媒としては、例えば、エポキシ樹脂に対しては、多価アミン類、酸無水物類、フッ化アンチモン化合物等を挙げることができ、メラミン樹脂、尿素樹脂あるいはアニリン樹脂に対しては、アンモニウム塩類、アルコールアミン類、金属塩類、有機酸類等を挙げることができ、不飽和ポリエステル樹脂に対しては、ベンゾイルパーオキシド、メチルエチルケトンパーオキシド等の過酸化物類を挙げることができ、さらにアクリレート樹脂に対しては、アゾイソブチロニトリル、アゾイソバレロニトリル等のアゾ化合物；ｐ，ｐ’−ジメトキシベンジル、ｐ，ｐ’−ジクロロベンジル等のベンジル化合物；２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメチル−２−ヒドロキシアセトフェノン等のアセトフェノン類等を挙げることができる。
前記密着促進剤としては、例えば、ビニルトリメトキシラン、ビニルトリエトキシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
前記充填剤としては、例えば、低融点ガラス、アルミナ、シリカ等を挙げることができる。
前記界面活性剤としては、例えば、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤等を挙げることができる。
前記酸化防止剤としては、例えば、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等を挙げることができる。
前記紫外線吸収剤としては、例えば、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等を挙げることができる。
前記凝集防止剤としては、例えば、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレングリコール等を挙げることができる。
そのほか、硬化促進剤、無機顔料、有機顔料、染料を配合することもできる。
前記各添加剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００１２】
溶媒
本発明の螢光体分散感放射線性組成物は、そのままで、あるいは（イ）螢光体以外の成分を適当な溶媒に溶解した液状組成物として使用される。
前記溶媒としては、例えば、エーテル類、エステル類、エーテルエステル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミドエステル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド類、スルホン類、（ハロゲン化）炭化水素類等を挙げることができ、より具体的には、テトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサン、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒドロキシ酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、プロピオン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エステル類、アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、環式または非環式ケトン類、アセト酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアセトアミド類、Ｎ−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジアルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ターピネオール類等や、エタノールと水との混合物等を挙げることができる。
これらの溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
溶媒の使用量は、本発明の螢光体分散感放射線性組成物の全固形分１００重量部に対して、通常、５〜１０００重量部、好ましくは１０〜５００重量部である。
【００１３】
本発明の螢光体分散感放射線性組成物は、前記（イ）〜（ニ）成分を、必要に応じて使用される前記添加剤や溶媒とともに、例えば、ボールミル、ペブルミル、シェーカー、ホモジナイザー、三本ロール、サンドミル等の混合機を用いて混合することにより調製することができる。
本発明の螢光体分散感放射線性組成物は、プラズマディスプレイパネル等の螢光体表示デバイスの螢光面の形成に極めて好適に使用することができる。
プラズマディスプレイパネルは、例えば、ガラス基板等の基板上に放電空間を区画する隔壁と表示用電極を有し、隣接する隔壁間の凹所内に、本発明の螢光体分散感放射線性樹脂組成物からなる螢光体層が、例えばスクリーン印刷等により充填され、マスクを介して該螢光体層に光を照射し、現像したのち、焼成処理を行うことにより螢光面が形成される。
プラズマディスプレイパネルを製造する際に使用される放射線としては、例えば、可視光、紫外線、遠紫外線等が好ましい。放射線照射量等の照射条件は、組成物の配合組成に応じて適宜選定される。
また、焼成処理の条件は、加熱温度が、通常、３００〜８００℃、好ましくは４００〜６００℃であり、また加熱時間は、通常、１〜３６０分、好ましくは１０〜２４０分である。
プラズマディスプレイパネルを製造する際に使用される現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド等のアルカリ性化合物の水溶液や、水等を挙げることができるが、アルカリ性化合物の水溶液が好ましい。
前記アルカリ性化合物の水溶液の濃度は、通常、０．００５〜５重量％、好ましくは０．０１〜３重量％である。また、アルカリ性化合物の水溶液からなる現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、アルカリ性水溶液からなる現像液を使用する場合には、一般に、現像後水洗する。
本発明の螢光体分散感放射線性組成物は、螢光体表示デバイスの螢光面を形成する際の現像マージンが広く、工業的に有利である。しかも、本発明の螢光体分散感放射線性組成物から形成される螢光体層は、膜厚が３０μｍ程度であっても、放射線照射により膜深部に到るまで全体を均質に硬化させることができ、膜厚が厚く、表示輝度の高い螢光面を形成することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。以下の「％」および「部」は、重量に基づく。
合成例１
Ｎ−メチル−２−ピロリドン                                  １００部
メチルメタクリレート                                          ７０部
メタクリル酸                                                  ３０部
アゾイソブチロニトリル                                          １部
の混合物を、攪拌機付オートクレーブに仕込み、室温で均一になるまで攪拌したのち、８０℃に昇温した。次いで８０℃で３時間重合し、さらに１００℃で２時間重合したのち、室温まで冷却して、ポリマー溶液を得た。重合中は、窒素による空気遮断と攪拌を継続した。得られたポリマー（これを、「ポリマーａ」とする。）は、重合収率が９８％であり、東ソー（株）製ＧＰＣ（商品名ＨＬＣ−８０２Ａ）により測定したＭｗが１００，０００であった。
【００１５】
【実施例】
実施例１
厚さ２．０ｍｍの所定の電極とリブを有するガラス基板上に、下記に示す螢光体分散感放射線性組成物を、スクリーン印刷により塗布したのち、１１０℃のクリーンオーブン内で乾燥して、螢光体層を形成した。
螢光体分散感放射線性組成物  
・螢光体
（Y,Gd)BO3:Eu （赤色）                    ４０部
・有機高分子バインダー
ポリマーａ（合成例１）                      ４部
・光架橋性モノマー
ペンタエリスリトールトリアクリレート        ４部
・放射線ラジカル発生剤
１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン    １部
・溶媒
Ｎ−メチル−２−ピロリドン                ２０部
得られた螢光体層は、リブの側面および底に均一に約３０μｍの膜厚で形成されていた。この螢光体層に対して、マスクを介し、超高圧水銀灯により紫外線（ｉ線、波長３６５ｎｍ）を２００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で照射した。次いで、０．０５％の水酸化カリウム水溶液（ｐＨ１１．７）で２分間現像を行い、続いて超純水により１分間シャワー洗浄を行って、紫外線非照射部の螢光体層を除去したのち、空気中で乾燥した。この時の現像マージンは、４５秒であった。
その後、２３０℃のクリーンオーブン内で３０分間加熱後、さらに５００℃の焼成炉内で３０分間焼成処理を行って、発光用螢光面を形成し、プラズマディスプレイパネルを作製した。
得られたプラズマディスプレイパネルは、ガラス基板上と隔壁側面に膜厚が約３０μｍの均一な螢光面が形成されており、十分な厚さを有し、作動時に高い表示輝度を示した。
以上の結果を表１に示す。
【００１６】
実施例２〜４
表１に示す成分および現像液を用いた以外は実施例１と同様にして、螢光体分散感放射線性組成物の調製およびプラズマディスプレイパネルの作製を行った。実施例３の放射線ラジカル発生剤のうち、成分αは、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールである。この時の現像マージンは、それぞれ１分、１分、５０秒であった。  得られたプラズマディスプレイパネルは、ガラス基板上と隔壁側面に膜厚がいずれも約３０μｍの均一な螢光面が形成されており、十分な厚さを有し、作動時に高い表示輝度を示した。
以上の結果を表１に示す。
【００１７】
実施例５〜６
表２に示す成分および現像液を用いた以外は実施例１と同様にして、螢光体分散感放射線性組成物の調製およびプラズマディスプレイパネルの作製を行った。この時の現像マージンは、それぞれ５０秒、４５秒であった。
得られたプラズマディスプレイパネルは、ガラス基板上と隔壁側面に膜厚がいずれも約３０μｍの均一な螢光面が形成されており、十分な厚さを有し、作動時に高い表示輝度を示した。
以上の結果を表２に示す。
【００１８】
比較例１〜２
表２に示す成分および現像液を用いた以外は実施例１と同様にして、螢光体分散感放射線性組成物の調製およびプラズマディスプレイパネルの作製を行った。その結果、比較例１の場合、現像マージンは５秒であった。しかも、紫外線非照射部の膜残りが著しく、螢光面の膜厚は約５μｍで、十分な膜厚が得られず、作動時の表示輝度も不十分であった。
また、比較例２の場合、現像マージンは１０秒であった。しかも、螢光体層の一部が現像中に流失して、螢光面の膜厚が約３μｍとなり、十分な膜厚が得られず、作動時の表示輝度も不十分であった。
以上の結果を表２に示す。
【００１９】
【表１】
0003814926.tif 000002
【００２０】
【表２】
0003814926.tif 000003
【００２１】
【発明の効果】
本発明の螢光体分散感放射線性組成物は、従来の螢光体分散感放射線性組成物に比べて、パターン形成時の現像マージンが広く、かつ膜厚が厚く、表示輝度の高い螢光面を形成することができ、したがって、今後ますます進行するとみられるプラズマディスプレイパネル等の螢光体表示デバイスの大型化および高精密化の進展に資するところが大である。