(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジスト塗布装置から回収したレジストを収容して再生する再生容器と、
該再生容器内のレジストから溶剤成分を蒸発させて該溶剤成分の一部分を除去する溶剤除去装置と、
前記再生容器内の前記レジストの重量を測定する重量測定装置と、
前記溶剤除去装置の作動を制御する制御装置とを備え、
前記制御装置が、前記重量測定装置の測定結果が目標重量となり、前記レジストの粘度が再使用可能な目標粘度になるまで、該レジストから溶剤成分を除去するように前記溶剤除去装置を作動させることを特徴とするレジスト再生システム。
【請求項２】
請求項１に記載のレジスト再生システムにおいて、
前記制御装置が、溶剤成分除去前のレジストの粘度および重量とレジストの目標粘度とに基づいて、溶剤成分除去後のレジストの目標重量を算出し、前記レジストの重量が前記目標重量になるように前記溶剤除去装置を作動させることを特徴とするレジスト再生システム。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のレジスト再生システムにおいて、
前記溶剤除去装置が、前記再生容器内のレジストを加熱する加熱装置を備えていることを特徴とするレジスト再生システム。
【請求項４】
請求項３に記載のレジスト再生システムにおいて、
前記溶剤除去装置が、前記再生容器内のレジストを攪拌する攪拌装置を備えていることを特徴とするレジスト再生システム。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載のレジスト再生システムにおいて、
前記再生容器が密閉された再生チャンバに収容され、
前記再生チャンバ内を排気する排気装置を備えていることを特徴とするレジスト再生システム。
【請求項６】
請求項５に記載のレジスト再生システムにおいて、
前記再生チャンバ内に窒素ガスを供給する窒素ガス源を備えていることを特徴とするレジスト再生システム。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載のレジスト再生システムにおいて、
前記再生容器内のレジストに溶剤を添加する溶剤供給装置を備え、
前記制御装置が、該溶剤供給装置の作動を制御し、
前記制御装置が、前記溶剤除去装置により溶剤成分が除去されたレジストが所定粘度になるまで該レジストに溶剤を添加するように、前記溶剤供給装置を作動させることを特徴とするレジスト再生システム。
【請求項８】
請求項７に記載のレジスト再生システムにおいて、
前記制御装置が、前記重量測定装置の測定結果に基づいて、前記溶剤供給装置の作動を制御することを特徴とするレジスト再生システム。
【請求項９】
請求項８に記載のレジスト再生システムにおいて、
前記制御装置が、溶剤成分の一部分が除去されたレジストの粘度および重量と溶剤添加後の目標粘度とに基づいて、溶剤添加後の目標重量を算出し、前記レジストの重量が前記溶剤添加後の目標重量になるように前記溶剤供給装置を作動させることを特徴とするレジスト再生システム。
【請求項１０】
レジスト塗布装置から回収したレジストを再生容器に収容し、
前記再生容器内のレジストから溶剤成分を蒸発させてレジストの粘度を再使用可能な目標粘度まで増大させ、
前記溶剤成分の蒸発が、前記再生容器内のレジストが、重量測定装置の測定結果に基づいて、目標重量になるまで行われることを特徴とするレジスト再生方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載のレジスト再生方法において、
前記目標重量が、溶剤成分除去前のレジストの粘度および重量と前記目標粘度とに基づいて算出されることを特徴とするレジスト再生方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載のレジスト再生方法において、
前記溶剤成分の蒸発が、再生容器内のレジストを加熱しながら行なわれることを特徴とするレジスト再生方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載のレジスト再生方法において、
前記溶剤成分の蒸発が、再生容器内のレジストを攪拌しながら行なわれることを特徴とするレジスト再生方法。
【請求項１４】
請求項１２または請求項１３に記載のレジスト再生方法において、
前記再生容器が密閉された再生チャンバに収容され、
前記溶剤成分の蒸発が、前記再生チャンバ内に窒素ガスを供給しつつ、前記再生チャンバ内を排気しながら行われることを特徴とするレジスト再生方法。
【請求項１５】
請求項１０ないし請求項１４のいずれか１項に記載のレジスト再生方法において、
前記粘度を増大させたレジストに溶剤を添加することを特徴とするレジスト再生方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、レジストの再生システムおよび再生方法に関し、詳細には、半導体製造に利用されるリソグラフィ等で使用するレジストの再生システムおよび再生方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体製造に利用されるリソグラフィ等では、レジストを下地面に塗布するコーティング作業が行われる。このコーティング作業は、スピンコート方式のレジスト塗布装置を用いて行われるのが一般的である。スピンコート方式のレジスト塗布装置では、下地面を有する基板がスピンチャックされ、次いで、下地面中央にレジストが数ｃｃ滴下される。さらに、基板が回転させられて、下地面中央に滴下されたレジストを、遠心力により、下地面全体に行き渡らせ、下地面にレジストの被膜を形成している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
このとき、下地面上に被膜として残るレジストは、滴下されたレジストの数パーセントであり、レジストの大部分は、遠心力で基板から飛び出してしまう。この飛び出した（スピンアウトした）レジストは、廃液として回収され、産業廃棄物として廃棄されている。
【０００４】
例えば、基板である直径６インチのウエハの表面に厚さ約１μｍのレジスト被膜を形成する場合、被膜として使用されるレジストの量は、約０．０１８立方ｃｍである。また、被膜が液状膜であるときには、被膜として使用されるレジストの量は、この値の数倍になる。しかしながら、下地面であるウエハ面に滴下されたレジストの量は２〜３ｃｃであるので、いずれの場合においても、滴下されたレジストの少なくとも９７〜９８パーセントが、ウエハ面からスピンアウトされて回収容器に回収され、廃液として廃棄されていることになる。
【０００５】
このようにレジストの大部分が有効利用されずに廃棄されている状況は、費用節減、資源の有効利用の観点、更には、廃液による環境汚染の観点からも好ましくない。
【０００６】
このため、レジストの有効利用を図ることができる再生システムの出現が望まれる。
【０００７】
この発明は、レジストで被膜を形成した後に、下地のエッジや裏面などの洗浄に使用されるエッヂリンス、バックリンスなどの洗浄液が、レジストの溶剤と同じ成分であり、廃液として回収されたレジストは、この洗浄液により希釈されたレジストであることに着目してなされたものである。そして、廃液として回収したレジストから所定量の洗浄液（溶剤）を除去することにより、回収したレジストを再使用可能な状態にして、レジストの有効利用を図ることを意図している。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この発明のレジスト再生システムは、レジスト塗布装置から回収したレジストを収容して再生する再生容器と、再生容器内のレジストから溶剤成分を蒸発させて溶剤成分の一部分を除去する溶剤除去装置と、溶剤除去装置の作動を制御する制御装置とを備えている。このレジスト再生システムでは、制御装置が、レジストの粘度が再使用可能な目標粘度になるまで、レジストから溶剤成分を除去するように溶剤除去装置を作動させる。
【０００９】
このような構成によれば、回収したレジストから溶剤成分の一部分が除去され、回収したレジストの粘度が再使用可能な粘度（目標粘度）まで増大する。
【００１０】
この発明を実施するにあたって、再生容器内のレジストの重量を測定する重量測定装置を設け、制御装置が、重量測定装置の測定結果に基づいて、溶剤除去装置を作動させる構成とする。
【００１１】
このような構成によれば、レジストの重量に基づいて、溶剤除去装置の作動が制御される。
【００１２】
この発明を実施するにあたって、制御装置が、溶剤成分除去前のレジストの粘度および重量とレジストの目標粘度とに基づいて、溶剤成分除去後のレジストの目標重量を算出し、レジストの重量がこの目標重量になるように溶剤除去装置を作動させる構成としてもよい。
【００１３】
このような構成によれば、溶剤成分除去前のレジストすなわち回収したレジストの粘度を入力すれば、レジストが目標粘度になるまで、自動的に溶剤除去が行われる。
【００１４】
この発明を実施するにあたって、溶剤除去装置が、再生容器内のレジストを加熱する加熱装置を備えている構成とするのがよい。
【００１５】
このような構成によれば、加熱装置によるレジストの加熱により、溶剤除去が効率良く行われる。
【００１６】
また、この発明を実施するあたって、溶剤除去装置が、再生容器内のレジストを攪拌する攪拌装置を備えている構成とするのがよい。
【００１７】
このような構成によれば、攪拌装置によるレジストの攪拌により、溶剤除去が効率良く行われる。
【００１８】
さらに、この発明を実施するにあたって、再生容器が密閉された再生チャンバに収容され、再生チャンバ内を排気する排気装置が設けられている構成とするのがよい。
【００１９】
このような構成によれば、レジストから溶剤が効率良く除去される。また、排気装置により排気された再生チャンバ内のガスを適宜処理することにより、溶剤ガスがレジスト再生システムを設置した空間内に充満することがなくなる。
【００２０】
この発明を実施するにあたって、再生チャンバ内に窒素ガスを供給する窒素ガス源を設けた構成としてもよい。
【００２１】
このような構成によれば、再生チャンバ内が、窒素雰囲気となる。この結果、回収したレジストは、再生チャンバ内で、空気に接触することなく再生させられる。このため、レジストへの水分混入が、抑制される。
【００２２】
この発明を実施するにあたって、再生容器内のレジストに溶剤を添加する溶剤供給装置を備え、制御装置が、溶剤供給装置の作動を制御する構成としてもよい。この構成では、制御装置が、溶剤除去装置により溶剤成分が除去されたレジストが所定粘度になるまで、レジストに溶剤を添加するように、溶剤供給装置を作動させる。
【００２３】
このような構成によれば、溶剤除去後のレジストに対して、溶剤を添加することにより、レジストの粘度調整が、再度、行われるので、より高精度な粘度調整がなされる。
【００２４】
この発明を実施するにあたって、制御装置が、重量測定装置の測定結果に基づいて、溶剤供給装置の作動を制御する構成としてもよい。
【００２５】
また、この発明を実施するにあたって、制御装置が、溶剤成分の一部分が除去されたレジストの粘度および重量と、溶剤添加後の目標粘度とに基づいて、溶剤添加後のレジスト重量を算出し、レジストの重量が溶剤添加後の目標重量になるように溶剤供給装置を作動させるように構成してもよい。
【００２６】
このような構成によれば、溶剤成分の一部分が除去されたレジストの粘度を入力すれば、レジストが所定の粘度になるまで、自動的に溶剤添加が行われる。
【００２７】
さらに、この出願の発明の他の態様によれば、レジスト塗布装置から回収したレジストを再生容器に収容し、再生容器内のレジストから溶剤成分を蒸発させてレジストの粘度を再使用可能な目標粘度まで増大させるレジスト再生方法が提供される。
【００２８】
このような構成によれば、回収したレジストから溶剤成分の一部分が蒸発により除去され、回収したレジストの粘度が再使用可能な粘度（目標粘度）まで増大する。
【００２９】
この発明を実施するにあたり、溶剤成分の蒸発を、再生容器内のレジストが目標重量になるまで行う構成とするのがよい。
【００３０】
このような構成によれば、再生容器内のレジストの重量に基づいて、溶剤供給装置の作動が制御される。
【００３１】
この発明を実施するにあたり、レジストの目標重量が、溶剤成分除去前のレジストの粘度および重量と、レジストの目標粘度とに基づいて算出される構成としてもよい。
【００３２】
この発明を実施するにあたり、溶剤成分の蒸発が、再生容器内のレジストを加熱しながら行なわれる構成としてもよい。
【００３３】
このような構成によれば、レジストの加熱により、溶剤除去が効率良く行われる。
【００３４】
この発明を実施するにあたり、溶剤成分の蒸発が、再生容器内のレジストを攪拌しながら行なわれる構成としてもよい。
【００３５】
このような構成によれば、レジストの攪拌により、溶剤除去が効率良く行われる。
【００３６】
さらに、この発明を実施するにあたり、再生容器が密閉された再生チャンバに収容され、溶剤成分の蒸発が、再生チャンバ内に窒素ガスを供給しつつ、再生チャンバ内を排気しながら行われる構成としてもよい。
【００３７】
このような構成によれば、レジストから溶剤が効率良く除去される。また、再生チャンバ内が、窒素雰囲気となるので、回収したレジストは、再生チャンバ内で、空気に接触することなく再生される。このため、レジストへの水分混入が、抑制される。さらに、排気された再生チャンバ内のガスを適宜処理することにより、溶剤ガスがレジスト再生を実施する空間内に充満することがなくなる。
【００３８】
この発明を実施するにあたって、粘度を増大させたレジストに溶剤を添加する構成としてもよい。
【００３９】
このような構成によれば、溶剤除去後のレジストに対して、溶剤を添加することにより、レジストの粘度調整が、再度、行われるので、より高精度な粘度調整がなされる。
【００４０】
【発明の実施の形態】
以下、図面に沿って、この発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、各図は、この発明を理解できる程度に、各構成要素の大きさ、形状および配置関係を概略的に示してあるに過ぎない。したがって、この発明は、図面に示された実施の形態に限定されるものではない。
【００４１】
＜第１の実施の形態＞
図１は、この発明の第１の実施の形態のレジスト再生システム１００の構成を概略的に示す図面である。
【００４２】
レジスト再生システム１００は、溶剤除去装置を作動させることにより、廃液として回収したレジストから溶剤成分の一部を蒸発させて、これを除去し、レジストの粘度を増大（増粘）させ、回収したレジストを再使用可能にするシステムである。したがって、増粘中に、レジストの重量は減少していく。レジスト再生システム１００では、レジストの重量をモニタしながら、増粘を行い、レジストの重量が目標値（目標重量）まで減少したとき、レジストが所望の粘度（目標粘度）まで増粘されたと判定し、増粘を終了するように構成されている。
【００４３】
まず、レジスト再生システム１００の構成を説明する。レジスト再生システム１００は、廃液として回収したレジストを収容する回収容器１０と、回収したレジストの再生を行う再生容器１２と、再生したレジストを収容する再生レジスト容器１４とを備えている。回収容器１０は、図示しない別体のレジスト塗布装置から回収したレジストを収容している。この回収したレジストは、エッジリンス、バックリンスなどで希釈され、その粘度が使用可能な粘度より小さくなっている。再生容器１２は、密閉された再生チャンバ１６内に配置されている。
【００４４】
回収容器１０と、再生容器１２とは、管路１８によって、接続されている。管路１８には、回収容器１０側から順に、第１ポンプ２０と、第１フィルタ２２とが、設けられている。したがって、レジスト再生システム１００は、回収容器１０内のレジストを、第１フィルタ２２で濾過しながら、第１ポンプ２０によって再生容器１２に移送できるように構成されている。
【００４５】
再生容器１２は、再生チャンバ１６内で、ウエイトセンサ２４上すなわち重量測定装置に配置されている。レジスト再生システム１００は、ウエイトセンサ２４により、再生容器１２内のレジストＲの重量を常にモニタするように構成されている。
【００４６】
再生容器１２に隣接して、加熱装置２６が設けられている。レジスト再生システム１００は、加熱装置２６により、再生容器１２内のレジストＲを、所定温度まで加熱できるように構成されている。所定温度とは、例えば、３０〜４０℃程度の温度である。好ましい加熱装置２６としては、例えば、ホットプレート、恒温槽などがある。加熱装置２６によるレジストの加熱で、レジストからの溶剤成分の蒸発が促進されることになる。加熱装置２６は溶剤除去装置の一部を構成する。
【００４７】
さらに、レジスト再生システム１００には、再生容器１２内のレジストＲを攪拌する攪拌装置２８が設けられている。攪拌装置２８は、レジストＲ内で回転されるプロペラ状すなわちスクリュー状の攪拌部材２８ａと攪拌部材２８ａを回転駆動させる駆動装置２８ｂとを備えている。しかしながら、攪拌装置は他の構成であってもよい。攪拌装置２８によるレジストの攪拌で、レジストからの溶剤成分の蒸発が促進されることになる。攪拌装置２８は溶剤除去装置の一部を構成する。
【００４８】
再生容器１２には、再生容器１２内のレジストＲの温度を測定する温度測定装置３０が設けられている。
【００４９】
再生容器１２と、再生レジスト容器１４とは、管路３２によって、接続されている。管路３２には、再生容器１２側から順に、第２ポンプ３４と、第２フィルタ３６と、冷却装置３８とが、設けられている。このように、レジスト再生システム１００は、再生容器１２内で再生されたレジストを、第２フィルタ３６で濾過し、次いで、冷却装置３８で室温まで冷却しながら、第２ポンプ３４によって再生レジスト容器１４に移送できるように構成されている。
【００５０】
再生チャンバ１６には、排気装置４０が取付けられている。排気装置４０は、排気ポンプなどの吸引あるいは減圧装置であり、密閉された再生チャンバ１６内の溶媒蒸気などの気体を再生チャンバ１６外に排出する。この排気装置４０の作動により、再生容器１２内のレジストＲからの溶剤の蒸発が促進されることになる。
【００５１】
さらに、再生チャンバ１６には、窒素ガス源４１が接続されている。窒素ガス源４１は、再生チャンバ１６内に窒素ガスを供給できるように構成されている。したがって、窒素ガス源４１を作動させながら排気装置４０を作動させることにより、再生チャンバ１６内が、窒素ガスによりパージされることになる。この結果、再生容器１２内のレジストの再生が、窒素雰囲気下で行われる。
【００５２】
また、レジスト再生システム１００には、システム全体の動作を制御する制御装置４２が設けられている。
【００５３】
制御装置４２には、オペレータが制御装置４２に必要な数値を入力する入力装置４４が接続されている。制御装置４２は、第１ポンプ２０、第２ポンプ３４、加熱装置２６、排気装置４０、窒素ガス源４１に接続され、これらの作動を制御するように構成されている。さらに、制御装置４２は、ウエイトセンサ２４によってモニタされた再生容器１２内のレジストＲの重量、および、温度測定装置３０によって測定された再生容器１２内のレジストＲの温度が入力されるように構成されている。
【００５４】
制御装置４２は、再生容器１２に移送されたレジストＲの粘度η１および重量Ｗ１と、増粘工程によって得たいレジストの粘度（目標粘度）η２とに基づいて、レジストの目標重量Ｗ２を算出して、増粘工程を実行し、レジストの重量Ｗが目標重量Ｗ２になったとき、レジストの粘度が目標粘度η２になったと判断して、増粘工程を停止するように構成されている。
【００５５】
図２は、制御装置４２の主要部の構成を示すブロック図である。制御装置４２は、マイクロコンピュータによって構成され、図２に示されるように、目標重量算出部４２０と、メモリ４２２と、増粘制御部４２４とを備えている。
【００５６】
目標重量算出部４２０は、再生容器１２に移送されたレジストＲの重量Ｗ１がウエイトセンサ２４から入力され、また、再生容器１２に移送されたレジストＲの粘度η１およびレジスト再生システム１００によって得たいレジストの粘度（目標粘度）η２が、入力装置４４を介して、入力されるように構成されている。さらに、目標重量算出部４２０は、レジストＲの重量Ｗ１および粘度η１と、目標粘度η２とに基づいて、目標重量Ｗ２を算出するように構成されている。
【００５７】
メモリ４２２には、目標重量Ｗ２を算出するために必要なデータが記憶されている。
【００５８】
増粘制御部４２４は、入力装置４４からの増粘実行指令に応答して、加熱装置２６、攪拌装置２８などの溶剤除去装置を作動させる増粘実行信号を発して、増粘工程を開始させるように構成されている。さらに、増粘制御部４２４は、現在の再生容器１２内のレジストＲの重量Ｗと、目標重量Ｗ２とを比較し、ＷとＷ２が等しくなったとき、再生容器１２内のレジストＲが、目標粘度η２になったと判定し、加熱装置２６、攪拌装置２８などの溶剤除去装置の作動を停止させ、増粘工程を終了させるように構成されている。
【００５９】
次に、レジスト再生システム１００が実施するレジスト再生の工程を説明する。まず、制御装置４２が、第１ポンプ２０を作動させ、回収容器１０内のレジストを、管路１８を通して再生容器１２に移送する。回収容器１０内のレジストは、バックリンス、エッヂリンスなどの洗浄液で希釈されて粘度が低下したレジストである。
【００６０】
レジスト再生システム１００では、制御装置４２が、レジスト再生工程中、排気装置４０と窒素ガス源４１を作動させて、再生チャンバ１６内を窒素ガスでパージし、再生チャンバ１６内を、窒素雰囲気としている。
【００６１】
回収容器１０内のレジストは、再生容器１２に移送される途中で、第１フィルタ２２によって、濾過され、固形の不純物が除去される。なお、この実施の形態では、レジストは、ポジ型のレジストとする。しかしながら、この発明は、ネガ型のレジストにも適用可能である。
【００６２】
バックリンス、エッジリンスは、レジストの溶剤と同じ成分である。バックリンス、エッジリンスおよびレジストの溶剤は、例えば、ＥＣＡ（エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート）、ＥＬ（乳酸エチル）、ＥＥＰ（エチル−３−エトキシプロピオネート）、ＭＭＰ（メチル−３−メトキシプロピオネート）、ＭＡＫ（メチルアミルケトン（２−ヘプタノン））、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）である。
【００６３】
次いで、増粘工程を実施する。この増粘工程では、制御装置４２の制御により、再生容器１２内のレジストＲを攪拌しながら加熱することによって、レジストを希釈しているバックリンス、エッジリンス等の溶剤成分を回収したレジストから蒸発させ、レジストの粘度を再使用可能な粘度まで増大させる。
【００６４】
上述したように、この増粘工程では、再生容器１２内のレジストＲの重量Ｗは減少していく。レジスト再生システム１００では、制御装置４２が再生容器１２内のレジストＲの重量Ｗをモニタしながら、増粘工程が実施され、レジストＲの重量Ｗが目標値Ｗ２まで減少したとき、レジストＲが所望の粘度（目標粘度）η２まで増粘されたと判定され、増粘工程が終了する。
【００６５】
次に、制御装置４２の制御によって行われる増粘工程の内容を、図３に沿って説明する。図３は、増粘工程において制御装置４２が行う制御内容を示すフローチャートである。
【００６６】
再生容器１２へのレジストの移送が完了すると、ウエイトセンサ２４から、再生容器１２内のレジストＲの重量Ｗ１が、制御装置４２の目標重量算出部４２０に入力される（Ｓ１）。次いで、オペレータによって測定された再生容器１２内のレジストＲの粘度η１（ｃｐ）と、レジストの目標粘度η２（ｃｐ）とが、入力装置４４を介して目標重量算出部４２０に入力される（Ｓ２）。
【００６７】
次いで、目標重量算出部４２０で、Ｗ１、η１およびη２、さらに、メモリ４２２内のデータに基づいて、目標重量Ｗ２が算出され（Ｓ３）、増粘制御部４２４に送られる。目標重量Ｗ２は、増粘工程中に、再生容器１２内のレジストＲからバックリンスなどの溶剤成分が蒸発させられて、再生容器１２内のレジストＲの粘度が目標粘度η２になった時の、レジストＲの重量である。なお、目標重量Ｗ２の算出方法は後述する。再生容器１２に移送されたレジストＲには、バックリンス等が含まれているので、Ｗ１＞Ｗ２の関係が成立する。
【００６８】
入力装置４４を介して、増粘開始指令が入力されると、増粘制御部４２４が、増粘実行信号を発して（Ｓ４）、加熱装置２６、攪拌装置２８などによって構成される溶剤除去装置を作動させて、増粘工程が実行される（Ｓ５）。増粘工程は、目標重量Ｗ２を目標値として、レジストＲの重量Ｗをモニタしながら行われる。
【００６９】
増粘工程中、再生容器１２内のレジストＲは、加熱装置２６と温度測定装置３０によって、例えば３０℃〜４０℃の一定温度に維持されるとともに、攪拌装置２８によって攪拌される。また、再生チャンバ１６内には、窒素ガス源４１から窒素ガスが供給されるとともに、再生チャンバ１６内の気体は、排気装置４０によって、再生チャンバ１６外に排出されている。加熱装置２６、攪拌装置２８、排気装置４０、窒素ガス源４１などの作動も制御装置４２によって制御されている。
【００７０】
増粘工程中、増粘制御部４２４は、ウエイトセンサ２４から送られてくる再生容器１２内のレジストＲの重量Ｗを、Ｗ２と比較している（Ｓ６）。上述したように、増粘工程中には、再生容器１２内のレジストＲは所定の温度に維持されつつ、攪拌される。したがって、増粘工程中には、レジストを希釈していたバックリンスなどの溶剤成分が蒸発していき、レジストは、その粘度ηが上昇するとともに、重量Ｗが減少していく。ＷがＷ２より大きい間は、増粘が継続される（Ｓ５）。レジストＲの重量ＷがＷ２と等しくなったとき、増粘制御部４２４は、再生容器１２内のレジストＲが、目標粘度η２まで増粘されたと判定し、増粘工程を終了させる（Ｓ７）。すなわち、加熱装置２６、攪拌装置２８などの作動が停止させられる。
【００７１】
その後、第２ポンプ３４が作動させられ、再生容器１２内のレジストＲは、管路３２を介して、再生レジスト容器１４に移送される。この途中で、レジストは、第２フィルタ３６によって濾過され、さらに、冷却装置３８によって室温まで冷却され増粘が完全に停止させられる。全てのレジストが再生レジスト容器１４に移送されると再生工程が終了する。
【００７２】
レジスト再生システム１００では、レジストの目標重量Ｗ２の算出は、目標重量算出部４２０において、以下のように行われる。図４は、この算出に用いられるレジストの粘度（縦軸）と重量（横軸）の関係を示すグラフである。粘度の表示単位はｃｐであり、重量の表示単位はＫｇである。
【００７３】
このグラフは、再生するレジストと同じ種類のレジスト、溶剤を使用した実験に基づいて作成されたものである。すなわち、このグラフは、粘度の異なるレジスト、例えば２ｃｐ、４ｃｐ、６ｃｐ、８ｃｐ、１０ｃｐ、１２ｃｐのレジストを、一定量（例えば１０Ｋｇ）づつ用意し、それぞれを、加熱・攪拌しながら、粘度および重量を測定し、粘度および重量の変化をプロットしていった検量線（ａ）〜（ｆ）を示している。
【００７４】
レジスト再生システム１００では、このグラフに対応するデータが、制御装置４２のメモリ４２２にマップ（あるいはテーブル）として記憶させられている。そして、レジストの粘度の初期値η１、目標粘度η２および、重量の初期値Ｗ１が入力されると、目標重量算出部４２０が、メモリ４２２に記憶されているこのグラフの内容を参照して、目標重量Ｗ２が算出される。
【００７５】
例えば、このグラフの検量線（ａ）によれば、重量の初期値Ｗ１が１０Ｋｇ、粘度の初期値η１が２ｃｐのレジストを、目標粘度η２である粘度６ｃｐまで増粘させるためには、重量Ｗが６Ｋｇになるまでレジストの増粘工程を続ければ良いことがわかる。このようにして、重量の初期値Ｗ１、粘度の初期値η１、および、粘度の目標値η２に基づいて、目標重量Ｗ２が算出される。また、重さの初期値Ｗ１が１０Ｋｇでない場合は、適当な係数を乗ずることにより、目標重量Ｗ２を算出することになる。
【００７６】
このように構成されたレジスト再生システム１００によれば、再生容器１２に収容されたレジストＲの粘度η１を測定し、このη１と目標粘度η２を入力するだけで、廃液として回収したレジストを所望の粘度まで自動的に増粘することができる。
【００７７】
この発明は、上述のＷ２算出方法を使用するシステムに限定されるものではなく、他のＷ２算出方法を採用してもよい。例えば、次のようなＷ２算出方法を用いても良い。
【００７８】
レジストの濃度ｘと粘度ｙ（ｃｐ）との関係は、以下の近似式で表される。
【００７９】
ｙ＝Ａｅｘｐ（Ｂｘ）  （ただし、ＡおよびＢは定数）
したがって、再生容器１２内のレジストの粘度（初期値）η１から、増粘工程前のレジストＲの濃度（初期濃度）Ｃ１を算出できる。同様に、レジストが目標粘度η２になった時（増粘工程後）のレジストの濃度（目標濃度）Ｃ２も算出できる。
【００８０】
レジストの濃度Ｃは、レジスト内にどれだけの固体成分が含まれているかを重量比で表したものであるから、Ｃ＝Ｗsolid ／Ｗ（Ｗsolid はレジスト内の固体成分重量、Ｗはレジストの総重量）が成立する。
【００８１】
したがって、増粘工程前のレジストについて、Ｃ１＝Ｗ１solid ／Ｗ１が、増粘工程後のレジストについて、Ｃ２＝Ｗ２solid ／Ｗ２が、成立する。ここで、Ｗ１solid は増粘工程前のレジスト内の固体成分重量であり、Ｗ２solid は、増粘工程後のレジスト内の固体成分重量である。増粘工程は、エッジリンス等の液体成分（溶剤成分）をレジストから蒸発させる操作であるため、増粘工程の前後でレジストに含まれる固体成分の重量は変化しない。したがって、Ｗ１solid はＷ２solid と等しい。そして、Ｃ１およびＣ２は、前記近似式から算出され、Ｗ１は、ウエイトセンサなどで実測できる。
【００８２】
したがって、増粘工程前のレジストに関する式Ｃ１＝Ｗ１solid ／Ｗ１から、Ｗ１solid を算出して、このＷ１solid の値を、増粘工程後のレジスト関する式Ｃ２＝Ｗ２solid ／Ｗ２のＷ２solid に代入することで、目標重量Ｗ２を算出できる。
【００８３】
この算出方法を採用する場合には、制御装置４２のメモリ４２２に上記近似式を記憶させておく。そして、目標重量算出部４２０が、入力されたＷ１、η１およびη２と、メモリ４２２内の近似式を用いて、上述した過程で目標重量Ｗ２を算出することになる。
【００８４】
この算出方法によれば、レジストの粘度の初期値η１が、例えば２．３６という端数を含む値であったとしても、正確かつ迅速に目標重量Ｗ２を算出できる。
【００８５】
＜第２の実施の形態＞
図５は、この発明の第２の実施の形態のレジスト再生システム２００の構成を示す概略図である。
【００８６】
図５に示されるように、レジスト再生システム２００は、基本的には、レジスト再生システム１００と同一の構成を有している。レジスト再生システム２００は、レジスト再生システム１００の構成に加えて、増粘したレジストに溶剤を添加する溶剤供給装置５０を備えている。そして、レジスト再生システム２００は、レジスト再生システム１００で行われる増粘工程と同様の増粘工程によって、レジストを所望粘度より高い粘度まで増粘させた後、このレジストに溶剤を添加することにより、所望粘度のレジストを得る調整工程を行うレジスト再生システムである。以下、この相違点を中心に、レジスト再生システム２００の構成および動作を説明する。なお、レジスト再生システム１００と共通する構成要素については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００８７】
レジスト再生システム２００は、レジスト再生システム１００の構成に加えて、溶剤供給装置５０を備えている。溶剤供給装置５０は、レジストの溶剤と同一成分の有機溶剤を収容している溶剤タンクと、この溶剤タンクに収容されている有機溶剤を管路５２を通して再生容器１２内のレジストＲに送り出すポンプとを含んでいる。溶剤供給装置５０は、管路５２によって、再生容器１２に機械的に接続されている。さらに、溶剤供給装置５０は、レジスト再生システム２００のシステム全体の動作を制御する制御装置２４２に電気的に接続され、制御装置２４２の制御によって、溶剤タンク内の有機溶剤を再生容器１２内のレジストＲに添加するように構成されている。有機溶剤の添加量は、制御装置２４２によって、算出される。
【００８８】
図６は、制御装置２４２の主要部の構成を示すブロック図である。図６に示されているように、制御装置２４２は、レジスト再生システム１００の制御装置４２と、ほぼ同一の構成を有している。制御装置２４２が、構成上で、制御装置４２と異なる点は、溶剤供給制御部２４４を備えている点などである。また、制御装置２４２が、作用上で、制御装置４２と異なる点は、増粘工程後のレジストの重量Ｗ３および粘度η３、目標粘度η４に基づいて、有機溶剤の添加量ｗを算出し、溶剤供給装置５０を作動させ、レジストの重量が、溶剤添加後の目標重量であるＷ３＋ｗ（Ｗ４）になるまで、有機溶剤をレジストに添加させる調整工程を実施させる点である。以下、相違点を中心に、制御装置２４２の構成を説明する。
【００８９】
図６に示されるように、制御装置２４２は、溶剤供給制御部２４４と、目標重量算出部２４６と、メモリ２４８と、増粘制御部４２４を備えている。制御装置２４２の目標重量算出部２４６、メモリ２４８および増粘制御部４２４は、増粘工程に関しては、制御装置４２の目標重量算出部４２０、メモリ４２２および増粘制御部４２４と同様に機能するように構成されている。
【００９０】
目標重量算出部２４６は、目標重量算出部４２０の機能に加えて、増粘工程後のレジストにどれだけの重量ｗの有機溶剤を添加すれば、レジストが所望の粘度η４になるかを算出する機構を備えている。また、メモリ２４８には、メモリ４２２の内容に加えて、有機溶剤の添加量ｗを算出するために必要なデータが記憶されている。さらに、溶剤供給制御部２４４は、入力装置４４からの調整開始指令に応じて、溶剤供給信号を発して、溶剤供給装置５０に、レジストの重量がＷ３＋ｗすなわち溶剤添加後の目標重量Ｗ４になるまで、有機溶剤をレジストに添加させるように構成されている。
【００９１】
次に、レジスト再生システム２００を用いたレジスト再生の工程を説明する。まず、レジスト再生システム１００と同様に、廃液として回収されたレジストの増粘工程が実施される。ただし、レジスト再生システム２００では、目標粘度η２は、レジストを再使用するために必要な粘度より大きく設定される。
【００９２】
増粘工程が終了し、レジストの温度が室温と同程度まで低下した後、レジストの調整工程が実施される。調整工程では、レジストは加熱されない。したがって、調整工程中、レジストの温度は、室温程度である。調整工程も制御装置２４２によって、制御される。
【００９３】
制御装置２４２の制御によって行われる調整工程の内容を、図７に沿って説明する。図７は、調整工程において制御装置２４２が行う制御内容を示すフローチャートである。
【００９４】
増粘工程が終了し、レジストの温度が室温と同程度まで低下すると、ウエイトセンサ２４から、再生容器１２内のレジストＲの重量Ｗ３が、制御装置２４２の目標重量算出部２４６に入力される（Ｓ２１）。次いで、オペレータによって測定された再生容器１２内のレジストＲの粘度η３（ｃｐ）と、調整工程におけるレジストの目標粘度η４（ｃｐ）とが、入力装置４４を介して目標重量算出部２４６に入力される（Ｓ２２）。ここで、Ｗ３、η３は、理論的には、増粘工程の目標重量Ｗ２および目標粘度η２と等しいはずであるが、実際には、加熱装置２６停止後の余熱等の影響により、Ｗ２、η２と異なっている。したがって、調整工程における制御では、増粘工程が終了して室温まで温度が低下したレジストの粘度η３および重量Ｗ３を、粘度、重量の初期値として使用する。
【００９５】
次いで、目標重量算出部２４６で、Ｗ３、η３およびη４、さらに、メモリ２４８内のデータに基づいて、溶剤添加後の目標重量Ｗ４が算出され（Ｓ２３）、溶剤供給制御部２４４に送られる。この溶剤添加後の目標重量Ｗ４は、調整工程中に、再生容器１２内のレジストＲに重量ｗの有機溶剤が添加されて、再生容器１２内のレジストＲの粘度が目標粘度η４になった時の、レジストＲの重量すなわちＷ３＋ｗである。溶剤添加後の目標重量Ｗ４の算出方法については後述する。
【００９６】
入力装置４４を介して、調整開始指令が入力されると、溶剤供給制御部２４４が、溶剤供給信号を発して（Ｓ２４）、溶剤供給装置５０を作動させて、調整工程が実行される（Ｓ２５）。調整工程は、溶剤添加後の目標重量Ｗ４を目標値として、レジストＲの重量Ｗをモニタしながら行われる。
【００９７】
調整工程中、溶剤供給制御部２４４は、ウエイトセンサ２４から送られてくる再生容器１２内のレジストＲの重量Ｗを、Ｗ４と比較している（Ｓ２６）。上述したように、調整工程中には、溶剤供給装置５０により、有機溶剤が再生容器１２内のレジストＲに添加されるので、再生容器１２内のレジストＲは、その粘度ηが、徐々に、低下するとともに、その重量Ｗが増加していく。ＷがＷ４より小さい間は、溶剤供給が継続される（Ｓ２５）。レジストＲの重量ＷがＷ４と等しくなったとき、溶剤供給制御部２４４は、再生容器１２内のレジストＲが、目標粘度η４まで希釈されたと判定し、調整工程を終了させる。（Ｓ２７）。すなわち、溶剤供給装置５０の作動が停止させられる。
【００９８】
その後、第２ポンプ３４が作動させられ、再生容器１２内のレジストＲは、管路３２を介して、再生レジスト容器１４に移送される。この途中で、レジストは、第２フィルタ３６によって濾過され、さらに、冷却装置３８によって完全に冷却される。全てのレジストが再生レジスト容器１４に移送されると再生工程が終了する。なお、レジスト再生システム２００では、冷却装置３８、あるいは、その作動を省略してもよい。
【００９９】
レジスト再生システム２００では、レジストの溶剤添加後の目標重量Ｗ４の算出は、目標重量算出部２４６において、以下のように行われる。図８は、この算出に用いられるレジストの粘度（縦軸）と添加される有機溶剤の重量（横軸）の関係を示すグラフである。粘度の表示単位をｃｐとし、重量の表示単位をｇとしてある。
【０１００】
このグラフは、再生するレジストと同じ種類のレジスト、溶剤を使用した実験に基づいて、予め作成されたものである。このグラフは、粘度の異なるレジスト、例えば５ｃｐ、６ｃｐ、７ｃｐ、８ｃｐ、９ｃｐ、１０ｃｐのレジストを、一定量（例えば１０Ｋｇ）づつ用意し、それぞれに、有機溶剤を添加しながら、粘度を測定し、添加された有機溶剤の重量と、レジストの粘度の関係をプロットしていった検量線（ｇ）〜（ｌ）を示している。
【０１０１】
レジスト再生システム２００では、このグラフに対応するデータが、制御装置２４２のメモリ２４８にマップ（あるいはテーブル）として記憶されている。そして、増粘工程後のレジストの粘度η３および重量Ｗ３と、目標粘度η４とが入力されると、目標重量算出部２４６が、メモリ２４８に記憶されている図８のグラフの内容を参照して、添加すべき有機溶剤の重量ｗを算出する。そして、Ｗ３にｗを加えて、調整工程におけるレジストの目標重量（溶剤添加後の目標重量）Ｗ４が算出される。
【０１０２】
例えば、このグラフの検量線（ｊ）によれば、重量Ｗ３が１０Ｋｇ、粘度η３が８ｃｐのレジストを、調整工程の目標粘度η４である粘度６ｃｐまで希釈するためには、４００ｇの有機溶剤を添加すれば良いことがわかる。したがって、添加する有機溶剤の重量ｗは４００ｇであり、Ｗ４は、Ｗ３＋４００ｇと算出される。
【０１０３】
このようにして、調整工程における重量の初期値Ｗ３、粘度の初期値η３、および、粘度の目標値η４に基づいて、溶剤添加後の目標重量Ｗ４が算出される。また、重量の初期値Ｗ３が１０Ｋｇでない場合は、適当な係数を乗ずることにより、溶剤添加後の目標重量Ｗ４を算出することになる。
【０１０４】
このように構成されたレジスト再生システム２００によれば、増粘工程において、最終的な目標粘度より粘度を高くしたレジストに、常温で、有機溶剤を添加する調整工程が実施される。したがって、レジストの粘度の高精度な調整が可能となる。
【０１０５】
レジスト再生システム２００においても、溶剤添加後の目標重量Ｗ４の算出方法は、上述の算出方法に限定されるものではなく、他の算出方法であってもよい。
【０１０６】
この発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された事項の範囲内で種々の変更・変形が可能である。例えば、上記第１および第２の実施の形態では、レジスト再生システムはレジスト塗布装置と別体である。しかしながら、この発明のレジスト再生システムは、レジスト塗布装置と一体的に設けられたものであってもよい。
【０１０７】
また、上記第１および第２の実施の形態では、レジスト再生システムの溶剤除去装置が加熱装置、攪拌装置を備えている。しかしながら、この発明の溶剤除去装置は、この構成に限定されるものではなく、レジストから溶剤を蒸発させることができるものであれば、どのような構成を備えていても良い。例えば、加熱装置を備え、攪拌装置を備えていない構成であってもよい。
【０１０８】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、レジストの有効利用を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１の実施の形態のレジスト再生システムの構成を概略的に示す図面である。
【図２】第１の実施の形態のレジスト再生システムの制御装置の主要部の構成を示すブロック図である。
【図３】第１の実施の形態のレジスト再生システムの制御装置が増粘工程において制御装置が行う制御内容を示すフローチャートである。
【図４】第１の実施の形態のレジスト再生システムにおいて、レジストの目標重量の算出に用いられるレジストの粘度と重量の関係を示すグラフである。
【図５】この発明の第２の実施の形態のレジスト再生システムの構成を示す概略図である。
【図６】第２の実施の形態のレジスト再生システムの制御装置の主要部の構成を示すブロック図である。
【図７】第２の実施の形態のレジスト再生システムの制御装置が調整工程において制御装置が行う制御内容を示すフローチャートである。
【図８】第２の実施の形態のレジスト再生システムにおいて、調整工程におけるレジストの目標重量の算出に用いられる、レジストの粘度と有機溶剤の添加量の関係を示すグラフである。
【符号の説明】
１０：回収容器
１２：再生容器
１４：再生レジスト容器
１６：再生チャンバ
１８：管路
２０：第１ポンプ
２２：第１フィルタ
２４：ウエイトセンサ
２６：加熱装置
２８：攪拌装置
２８ａ：攪拌部材
２８ｂ：駆動装置
３０：温度測定装置
３２：管路
３４：第２ポンプ
３６：第２フィルタ
３８：冷却装置
４０：排気装置
４１：窒素ガス源
４２：制御装置
４４：入力装置
１００：レジスト再生システム
４２０：目標重量算出部
４２２：メモリ
４２４：増粘制御部
【図１】
0003751435.tif 000002
【図２】
0003751435.tif 000003
【図３】
0003751435.tif 000004
【図４】
0003751435.tif 000005
【図８】
0003751435.tif 000006
【図５】
0003751435.tif 000007
【図６】
0003751435.tif 000008
【図７】
0003751435.tif 000009