(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペリレン含有電荷発生層を有する電子写真撮像体の調製プロセスであって、酢酸ｎ−ブチルを含む溶剤中にペリレン含有電荷発生材料を分散させるステップと、その分散体を塗布して前記電荷発生層を形成するステップとを含み、
前記酢酸ｎ−ブチルを含む溶剤は、前記酢酸ｎ−ブチルよりも沸点の低い第２の溶剤を含み、前記第２の溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチルから選択される酢酸エステル溶剤またはテトラヒドロフランであることを特徴とする調製プロセス。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般に電子写真に関し、特にペリレン含有電荷発生層を含む電子写真撮像体を調製するプロセスに関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子写真においては、導電層上に光導電性絶縁層を含む電子写真プレート、ドラム、ベルトなど（撮像体）の表面に対して、まず、静電帯電が均一に行われる。次に、撮像体は、光などの電磁照射を活性化するパターンに露光される。この照射によって、光導電性絶縁層の照射された領域上の電荷が選択的に消失し、照射されていない領域上に静電潜像が残される。この静電潜像が現像されて、光導電性絶縁層の表面上に微細に分割された静電(electroscopic)検電器着色粒子を堆積することによって可視像を形成することができる。次に、この可視像は撮像体から紙等の印刷基板に直接または間接的に転写することができる。撮像プロセスは、再利用できる撮像体を用いて何度も繰り返すことが可能である。
【０００３】
電子写真の撮像体は様々な形態で設けることができる。たとえば、撮像体は、ガラス状セレン等の単一材料の均一層であってもよいし、光導電体とその他の材料とを含む複合層であってもよい。
【０００４】
さらに、撮像体は層状であってもよい。現在の層状の有機撮像体は、少なくとも基板層と２つの活性層、すなわち（１）光吸収材料を含む電荷発生層と、（２）電子供与体（ドナー）分子を含む電荷輸送層とを有する。
【０００５】
基板層は導電性材料から形成されてもよい。また、非導電性基板の上に導電層が形成されてもよい。
【０００６】
電荷発生層は、電荷を光発生させ、その光発生させた電荷を電荷輸送層に注入することができる。Miyakaに付与された米国特許第４，８５５，２０３号は、樹脂分散顔料を含む電荷発生層を教示している。適切な顔料は、光導電性酸化亜鉛または硫化カドミウムや、フタロシアニン系顔料、多環式キノン系顔料、ペリレン顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料等の有機顔料などである。ペリレン電荷発生顔料、特にベンゾイミダゾールペリレンを含む撮像体は、その寿命が長く、優れた性能を示している。
【０００７】
電荷輸送層において、電子供与体分子はポリマー結合剤中にあってもよい。この場合、電子供与体分子がホール（正孔）または電荷輸送特性を与え、電気的に非活性のポリマー結合剤が機械的特性を与える。または、電荷輸送層は、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリシリレン、またはポリエーテル炭酸塩(polyether carbonate)等の電荷輸送ポリマーから形成されてもよく、電荷輸送特性は機械的に強固なポリマーに組み込まれる。
【０００８】
撮像体はまた、電荷発生層と導電層との間に電荷阻止層および／または接着層を含んでもよいし、また、保護オーバーコートを含んでもよい。さらに、撮像体は、レーザー光のインコヒーレント反射、ドットパターンおよび／またはピクトリアル画像形成などの特殊機能を与える層、または化学的封止および／または平滑なコーティング表面を与えるための下塗り層を含んでもよい。
【０００９】
電子写真撮像体における様々な層の塗布に用いるのに適切なコーティング法には、ディップコーティング、ロールコーティング、マイヤー(Meyer)バーコーティング、ビード（ガラス玉）コーティング、カーテンフローコーティング、真空蒸着などがあるが、真空コーティングよりも経済的で、継ぎ目のない層を堆積するのに用いることができるため、溶液コーティングが好ましい。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
ミヤカ（Miyaka）に付与された米国特許第４，８５５，２０３号は、樹脂分散顔料を含むコーティング溶液から電荷発生層を塗布することを教示している。Miyakaは、顔料のコーティング溶液を調製するための適切な有機溶剤として以下を教示している。すなわち、メタノール、エタノールおよびイソプロパノール等のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、およびシクロヘキサノン等のケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、およびエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル、酢酸メチルおよび酢酸エチル等のエステル、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエチレン、四塩化炭素、およびトリクロロエチレン等の脂肪族ハロゲン炭化水素、またはベンゼン、トルエン、キシレン、リグロイン、モノクロロベンゼン、およびジクロロベンゼン等の芳香族化合物を含むものである。
【００１１】
リジュンスバーガー（Regensburger）らに付与された米国特許第３，９０４，４０７号は、真空コーティング法によってペリレン含有電荷発生層を塗布することを教示している。真空コーティングされたペリレン含有電荷発生層は高い感光度を示すが、真空コーティングは高価である。
【００１２】
溶液コーティングは電荷発生層を塗布するのにより経済的で便利な方法ではあるが、ペリレン顔料は分散しにくく、溶液からペリレン顔料電荷発生層をコーティングすると分散体が不安定になる。分散体が不安定であると、顔料の凝結および沈殿が起こり、コーティングの品質の問題につながってしまう。さらに、分散体が不安定であると、特にディップコーティング法の場合には処理が難しい。また、ディップコーティングされたペリレン含有電荷発生層は、真空コーティングされた層と比較して感光度が著しく劣る。
【００１３】
ユー（Yuh）らに付与された米国特許第５，５２１，０４７号は、ペリレン含有電荷発生層を有する電子写真撮像体を溶液から調製する方法に関するものである。この方法は、酢酸エステル(acetate)溶剤中にペリレン顔料とポリビニルブチリル結合剤の分散体を形成するステップと、溶液コーティングによって電子写真撮像体層に分散体を塗布するステップとを含む。
【００１４】
ユー（Yuh）らは、ディップコーティング等の溶剤コーティングにより塗布するのに、酢酸エステル溶剤においてペリレンが安定した分散体を形成することを教示している。さらに、ユー（Yuh）らは、酢酸エステル溶剤における分散体から塗布されたペリレン電荷発生材料を含有する電荷発生層を設けた受光体は優れた感度を示すことを教示している。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ペリレン含有電荷発生層を有する電子写真撮像体の調製プロセスに関するものである。このプロセスは、酢酸ｎ−ブチルを含む溶剤中にペリレン顔料の分散体を形成するステップと、溶液コーティングによりその分散体を電子写真撮像体に塗布するステップとを含む。溶剤は、酢酸ｎ−ブチルと、酢酸ｎ−ブチルよりも沸点が低い第２の溶剤とを含み、前記第２の溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチルから選択される酢酸エステル溶剤またはテトラヒドロフランである。本発明はまた、上述のプロセスによって電荷発生層を形成するための分散体にも関する。
【００１６】
酢酸ｎ−ブチルは、ペリレン含有電荷発生材料と膜形成結合剤との安定した分散体を形成する。酢酸ｎ−ブチル中のペリレン含有電荷発生材料を塗布すると、感度の優れた電荷発生層を得ることができる。さらに、酢酸ｎ−ブチルの粘度によって粉砕が効率的になる。また、酢酸ｎ−ブチルと酢酸ｎ−ブチルよりも沸点の低い第２の溶剤とを用いることによって、安定した分散、良好な感度、および効率的な粉砕を維持しながら、フラッシュオフ(flash off)時間を短くして層を形成することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明は、溶液コーティングプロセスによってペリレン顔料を含む電荷発生層を形成する方法に関する。本発明において、基板または受光体の他の層にはいかなる適切なペリレン含有電荷発生層が塗布されてもよい。本発明において、電荷発生層塗布のために、ペリレン顔料を溶剤中に分散させる。好ましくは、ペリレン顔料を膜形成結合剤中に分散させ、結果として得られる分散体を溶剤に溶解させる。
【００１８】
電荷発生分散体の基板または受光体の他の層への塗布は、いかなる既知の溶液コーティング技術によって行われてもよい。使用できる溶液コーティング技術は、たとえば、ディップコーティング、スプレーコーティング、ブレード／ナイフコーティング、ロールコーティング、カーテンフローコーティングなどを含むが、これらに限られるわけではない。本発明においては、電荷発生層を塗布するのに好ましい技術はディップコーティングである。
【００１９】
本発明において使用できるペリレン顔料の例は、これに限られるわけではないが、ホー（Hor）らに付与された米国特許第４，５８７，１８９号に開示されており、この開示をここに引用により援用する。本発明の好ましい実施形態において、顔料は、ベンゾイミダゾールペリレン電荷発生材料である。
【００２０】
受光体に使用するのに適したいかなる既知のベンゾイミダゾールペリレン電荷発生材料も、本発明の受光体として同様に用いることができる。たとえば、適切なベンゾイミダゾールペリレン電荷発生材料は、米国特許第４，５８７，１８９号および第５，２２５，３０７号に開示されており、これらの開示をここに引用により援用する。ベンゾイミダゾールペリレンは、これに限られるわけではないが、たとえば以下のような構造を含む。
【００２１】
【化１】
0003844393.tif 000002
さらに、式ビスベンゾイミダゾ−（２，１−ａ：１’，２’−ｂ’）アントラ（２，１，９−ｄｅｆ：６，５，１０−ｄ’ｅ’ｆ’）−ジイソキノリン−６，１１−ジオンと、式ビスベンゾイミダゾ−（２，１−ａ：２’，１’−ａ’）アントラ（２，１，９−ｄｅｆ：６，５，１０−ｄ’ｅ’ｆ’）−ジイソキノリン−１０，２１−ジオンを有するベンゾイミダゾールペリレンのシス−およびトランス−異性体が、本発明において使用するのに適切である。
【００２２】
いかなる適切な粒子サイズのペリレン顔料を用いてもよいが、好ましくは、以下に説明するようなベンゾイミダゾールペリレンの処理後、結果として得られる粒子の平均サイズ（平均直径）は約０．０３ないし約０．５μｍである。好ましくは、粒子の平均サイズは約０．０５ないし約０．３５μｍであり、より好ましくは約０．０５ないし約０．２５μｍである。
【００２３】
適切な粒子サイズを有するペリレン顔料の形成は、ペリレン顔料を機械的に研削または粉砕する(mill)ことによって行ってもよい。ペリレン顔料の機械的な研削は、顔料が溶液に入れられる前に、および／または顔料が溶剤に添加されたあとに行われてもよい。
【００２４】
本発明の実施形態において、大きなペリレン顔料が、約２ないし約１００時間にわたって分散粉砕される。粉砕時間はもちろん、粒子材料が組み込まれる受光体の所望の電気応答特性に依存する。さらに、処理時間は、使用する粉砕装置のタイプ、粉砕装置において用いられる研削媒体、ペリレン出発物質の物理的特性（たとえばサイズ）、粉砕する分散体の総量などの他の要因にも依存する。好ましくは、本発明の実施形態における粉砕時間は約３ないし約７５時間であり、より好ましくは約４ないし約６５時間であるが、これらの範囲外の粉砕時間も適切に利用することができ、当業者であれば粉砕時間を適切に調整することができるであろう。
【００２５】
分散体の粉砕は、いかなる適切な粉砕装置を用いて行ってもよい。たとえば、粉砕は、ジャーミル、ボールミル、アトライター、サンドミル、ペイントシェーカー、ダイノミル(dynomill)、ドラムタンブラー等の装置で行われてもよい。このような装置としてはまた、たとえば、円形の瑪瑙、石、ガラスボール、セラミックシリンダ、鋼球の円形、球形または円筒形研削ビード等の適切な研削媒体を含む。
【００２６】
または、このかわりに、本発明の実施形態において他の何らかの既知の粉砕工程および装置を用いてもよい。適切な粉砕時間は、使用する粉砕工程のタイプ、装置内で使用する粉砕媒体、およびこれに類似した要因に依って異なるであろう。従って、所望の電気応答特性を与える適切な粉砕時間は、特定の粉砕工程に関連し、これに応じて選択することができる。
【００２７】
酢酸エステル溶剤は、ペリレン顔料および膜形成結合剤の安定した分散体を形成する。さらに、酢酸エステル溶剤中のペリレン顔料の溶液コーティングによって形成された電荷発生層は、良好な感度を示す。特に、酢酸ｎ−ブチルは分散体を安定させ、かつ良好な感度を示すことがわかった。さらに、酢酸ｎ−ブチルの粘度により粉砕が効率的になり、特に、酢酸ｎ−ブチルを分散溶剤として用いると、所望の粒子サイズに達するのに要する時間が、他の酢酸アルキルエステル溶剤よりも短い。
【００２８】
酢酸ｎ−ブチルの沸点は、約１２６℃である。そのため、コーティングしたあと溶剤をフラッシュオフするのに要する時間は、３ないし１０分である。従って、本発明の実施形態においては、ペリレン顔料を、酢酸ｎ−ブチルと酢酸ｎ−ブチルよりも沸点の低い第２の溶剤中に分散させる。酢酸ｎ−ブチルよりも沸点の低い第２の溶剤を加えることによって、酢酸ｎ−ブチルによって与えられる分散体の高い安定性に悪影響を与えることなく、電荷発生層を調製するのに必要なフラッシュオフ時間を削減することができる。
【００２９】
分散体の質に大きな影響を与えることなく第２の溶剤を添加できることがわかっている。特に、第２の溶剤を添加する前に酢酸ｎ−ブチル中のペリレン顔料を粉砕することによって、酢酸ｎ−ブチルが与える効率的な粉砕を維持することができる。好ましくは、顔料と、膜形成結合剤と、酢酸ｎ−ブチルとを含む溶液を、第２の溶剤を添加する前に粉砕する。
【００３０】
本発明の実施形態においては、ペリレン顔料と、必要に応じての膜形成結合剤を、高い固体含有量で、酢酸ｎ−ブチル中に分散させる。分散体は好ましくは５ないし２０重量％の固体を含有し、より好ましくは８ないし１４重量％の固体を含有する。次に、分散体は粉砕されて適切な粒子サイズにされ、これに加えて、またはこのかわりに、固体を酢酸ｎ−ブチル中に分散させる。
【００３１】
つぎに、酢酸ｎ−ブチルよりも沸点の低い第２の溶剤を分散体に添加し、溶液コーティングに適した分散体を得る。分散体は、好ましくは２ないし１０重量％の固体を含み、より好ましくは３ないし８重量％の固体を含む。第２の溶剤が添加されたあと、必要であれば、分散体はさらに混合されて、顔料を溶剤系中に分散させる。
【００３２】
第２の溶剤は、酢酸ｎ−ブチルよりも沸点が低いものであれば、ペリレン含有電荷発生層を溶液コーティングするのに適切ないかなる溶剤であってもよい。第２の溶剤は一般に、酢酸ｎ−ブチルと混合でき、酢酸ｎ−ブチルよりも揮発性が高く、ペリレン顔料を分散させるのに用いられる膜形成結合剤を溶解できる。
【００３３】
第２の溶剤は酢酸エステル溶剤であってもよい。好ましくは、この酢酸エステル溶剤は低級酢酸アルキルエステルである。より好ましくは、アルキルは１ないし４個の炭素原子を有する。酢酸ｎ−ブチルよりも沸点の低い酢酸塩溶剤の例としては、これに限られるわけではないが、たとえば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチルである。好ましい酢酸エステル溶剤は酢酸エチルである。
【００３４】
さらに、第２の溶剤は、酢酸ｎ−ブチルよりも沸点の低い非酢酸塩溶剤であってもよい。使用できる溶剤としては、これに限られるわけではないが、たとえば、メタノール、エタノール、およびイソプロパノール等のアルコールや、アセトン、およびメチルエチルケトン等のケトンや、テトラヒドロフラン、およびジオキサン等のエーテルや、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエチレン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、トリクロロエチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素や、これらの混合物などを含む。酢酸ｎ−ブチルよりも沸点の低いテトラヒドロフランおよびアルコール溶剤が好ましい。
【００３５】
本発明において、電荷発生層におけるマトリックスとして、いかなる適切なポリマー膜形成結合材料を用いてもよい。結合剤は、好ましくは基板または他の下層に良く接着し、溶剤系に溶解する。膜形成結合剤として有用な材料の例としては、これに限られるわけではないが、たとえば、フェノキシ樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリエステル、および上記ポリマーのコポリマーなどがある。ポリビニルブチラールが好ましい結合剤ポリマーである。
【００３６】
層における電荷発生材料の濃度は、一般に層の約５ないし１００重量％の範囲にあってもよい。基板または受光体の他の層に電荷発生材料のバインダーレス（結合剤を含まない）分散体をコーティングすることによって、電荷発生材料を１００％含む光発生層を調製してもよい。バインダーレス材料として塗布するのに特に適しているのは、ベンゾイミダゾールペリレン電荷発生材料である。結合剤材料中に光発生材料が存在する場合には、結合剤は好ましくは約２０ないし約９５重量％の光発生材料を含有し、より好ましくは約４０ないし約８０重量％の光発生材料を含有する。
【００３７】
本発明によって形成される例示的な電荷発生層の厚さは、これに限られるわけではないが、たとえば、約０．０５ないし約５．０マイクロメートルの範囲内であり、好ましくは約０．１５ないし約３マイクロメートルの範囲内である。一般に、電荷発生層の厚さは膜形成結合剤の含有量に依存し、一般に、結合剤の含有量が多くなると光発生のための層が厚くなる。上記の例示的な範囲外の厚さも本発明の範囲内である。
【００３８】
本発明のプロセスによって形成される電子写真撮像体は、一般に電荷発生層に加えて電荷輸送層を含む。電荷輸送層は、電荷を輸送して表面電荷を選択的に放電することのできるいかなる適切な有機ポリマーまたは非ポリマー材料を含んでもよい。電荷輸送層はいかなる従来の材料および方法で形成しても良く、たとえば、ユー（Yuh）らに付与された米国特許第５，５２１，０４７号に開示される材料および方法であっても良く、この開示をここに引用により援用する。
【００３９】
本発明の実施形態において、本発明のプロセスによって形成される電子写真撮像体は、ペリレン含有電荷発生層と、電荷輸送層と、電荷発生層と電荷輸送層との間のインターフェース領域とを含む。インターフェース領域は、電荷輸送材料と電荷発生材料の混合物を含んでもよい。本発明のさらに別の実施形態においては、インターフェース領域は、ユー（Yuh）らに付与された米国特許第５，５２１，０４７号に開示されるように、下層のペリレン含有電荷発生材料層を乾燥または硬化する前にこの下層に電荷輸送層を塗布することによって形成される。
【００４０】
本発明のさらに別の実施形態では、基板、導電層、阻止層、接着層、および／または保護オーバーコート層等の１つ以上のさらに別の層を有する電子写真撮像体が形成される。これらの層は、従来の材料および方法を用いて調製および塗布することができる。
【００４１】
本発明は以下の実施例においてさらに説明されるが、この実施例は単に例示的なものにすぎず、本発明はここに記載される材料、条件、プロセスパラメータ等に限定されるものではないことを理解されたい。
【００４２】
【実施例】
実施例１．
ブタノール、メタノール、および水の混合物中８重量％のナイロンを含有する溶液からナイロン電荷阻止層を形成する。ブタノール、メタノール、および水の混合物の割合は、それぞれ、５５重量％、３６重量％、および９重量％である。電荷阻止層をアルミニウムのドラム基板にディップコーティングし、温度約１０５℃で約５分間乾燥させる。乾燥させたナイロン含有阻止層の厚さは約１．５ミクロンである。
【００４３】
電荷発生層を形成するために、８．１６重量％のベンゾイミダゾールペリレンと、３．８４重量％のポリビニルブチラールＢ７９（Mansato Chem.社製）と、８８重量％の酢酸ｎ−ブチルとを含有する溶液を混合（milling)することによって分散体を調製する。溶液の固体含有量は１２重量％である。
【００４４】
０．４〜０．６ｍｍの酸化ジルコニウムのガラス玉が充填されたナイロン裏打ち研削室を備えるＫＤＬ型ダイノミルにおいて粉砕処理を行う。ガラス玉はナイロン研削室の容積の５０％を占める。研削室を水で冷却し、分散温度を３０ないし４０℃に保つ。分散体は、まず、Ｂ７９を酢酸ｎ−ブチルに溶解させることによって調製し、次に、ペリレン顔料をゆっくりとポリマー溶液に加える。その後、ペリレン分散体が均一になるまで、分散体を攪拌し、密閉容器に入れて、粉砕用ポンプを備えたダイノミルにおいて循環させる。ダイノミルにかける時間は、処理している溶液の体積、研削室における溶液の流量、研削室の研削速度、およびベンゾイミダゾールペリレン顔料の最初の粒子サイズに依存する。酢酸ｎ−ブチル分散体の粒子サイズが光散乱による測定で１６０ないし１９０ｎｍになれば、分散体を塗布してコーティングしても良い。６リットルの分散体で、流量３００ｍｌ／分、研削速度２５００ｒｐｍであれば、粉砕時間は３６時間を要する。
【００４５】
分散体が所望の粒子サイズに達すると、固体含有量５重量％となるまで酢酸ｎ−ブチルで希釈する。この固体含有量５％分散体の粒子サイズを再び光散乱によって測定する。測定結果を表１に示す。次に分散体を電荷阻止層にディップコーティングし、周囲空気中で乾燥させる（温度＝２５℃、相対湿度＝２５％）。乾燥させた電荷発生層の厚さは約０．５ミクロンである。
【００４６】
モノクロロベンゼン中に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−メチルフェニル）−（１，１−ビフェニル）−４，４’−ジアミンおよびＰＣＺ４００（日本の三菱化学より市販）を２０重量％含有する固溶体から、電荷輸送層を調製する。ジアミン対ＰＣＺ４００の比は４０／６０重量％である。電荷輸送層を電荷発生層上にディップコーティングし、約１３０℃で約６０分間乾燥させる。乾燥させた電荷輸送層の厚さは約２０ミクロンである。
【００４７】
実施例２．
実施例１のようにナイロン電荷阻止層を形成する。電荷発生層を形成するために、８．１６重量％のベンゾイミダゾールペリレンと、３．８４重量％のポリビニルブチラールＢ７９と、８８重量％の酢酸ｎ−ブチルとを含有する溶液を混合することによって分散体を調製する。実施例１のようにダイノミルにかける処理を行う。分散体が所望の粒子サイズに達すると、分散体を酢酸ｎ−ブチルと酢酸エチルとの混合物（重量比１／１）で希釈し、５重量％の固体含有量を有する分散体を形成する。固体含有量５％の分散体における酢酸ｎ−ブチル対酢酸エチルの最終の相対重量比は７０：３０である。粒子サイズの測定結果を表１に示す。次に、実施例１のように、分散体を電荷阻止層上にディップコーティングし、乾燥させる。乾燥させた電荷発生層の厚さは約０．５ミクロンである。次に、実施例１のように、電荷輸送層をその上に調製する。
【００４８】
実施例３．
ナイロン電荷阻止層を実施例１のように形成する。電荷発生層を形成するために、８．１６重量％のベンゾイミダゾールペリレンと、３．８４重量％のポリビニルブチラールＢ７９と、８８重量％の酢酸ｎ−ブチルとを含有する溶液を混合することによって分散体を調製し、実施例１のようにダイノミルにかける処理を行う。分散体が所望の粒子サイズに達すると、分散体を酢酸ｎ−ブチルとテトラヒドロフランの混合物（重量比１／１）で希釈し、固体含有量が５重量％の分散体を形成する。固体含有量５％の分散体における酢酸ｎ−ブチル対テトラヒドロフランの最終の相対重量比は７０：３０である。粒子サイズの測定結果を表１に示す。次に、実施例１のように、分散体を電荷阻止層上にディップコーティングし、乾燥させる。乾燥させた電荷発生層の厚さは約０．５ミクロンである。その後、実施例１のように、電荷輸送層をその上に調製する。
【００４９】
【表１】
0003844393.tif 000003
実施例４．
実施例１、２および３に従って調製された受光体装置を循環スキャナにおいてテストする。ドラムは毎秒５．６６ｃｍの一定表面速度で回転させる。据え付けたドラムの周囲に、直流ワイヤスクロトロン（direct current wire scrotron)、狭波長帯露光光、消去光、および電位計プローブを設ける。サンプル帯電時間は１７７ミリ秒である。露光光の出力波長は６７０ｎｍであり、消去光の出力波長は６５０ないし７２０ｎｍである。
【００５０】
テストサンプルをまず暗所で１０分間放置し、その後各サンプルを暗所で電位６００ボルトまで負に帯電する。次に、受光体を露光光に当てることによってドラムを放電させ、露光直後に放電した表面の電位を測定する。露光光の強度を変えてこの手順を繰り返し、各サンプル装置の光誘起放電特性を得る。露光エネルギの関数として表面電位の変化率から計算された感度（ｄｖ／ｄｘ、Ｘ（１００Ｖ）（ｅｒｇｓ／ｃｍ2））と、表面電位を１００Ｖまで放電させるのに必要な露光光のエネルギから計算された感度とを表２に示す。表１および２からわかるように、希釈のための第２の溶剤は、分散体の質や受光体の光誘起放電特性に影響を及ぼすものではない。
【００５１】
【表２】
0003844393.tif 000004
本発明を特定の好適な実施形態に関して説明したが、本発明はここで挙げた特定の例に限られるわけではなく、本発明および特許請求の範囲の精神および範囲を逸脱することなく当業者には他の実施形態および変形を行うことが可能である。