Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
機種独自のコードと比例的に変化する補正前のファン出力に対しＸＹ座標で指定した補正値をデータとして記憶した不揮発性メモリーと、電源投入時に前記不揮発性メモリーよりデータを読み込む手段と、前記読み込みデータで補正されたファン出力によりファン回転数を制御する手段と、前記読み込みデータのうち機種特定コードが予め設定した機種コードと一致したとき、前記補正されたファン出力によりファン回転数を制御する判定手段を備えた制御装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は家庭用ガス給湯機に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えば、ガス給湯機では電源投入時、不揮発性メモリーより給湯機の制御に必要なデーターだけをマイコンのラムに読み込んで給湯機の制御を行っていた。
【０００３】
また、ファンの出力補正では、マイコンのＲＯＭ内に出力補正データーを持ち、そのデーターを用いてファン回転数制御を行っていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら従来の不揮発性メモリーを使用している給湯機の場合、不揮発性メモリーのデーターは、機種毎に異なる為、製造段階で不揮発性メモリーの種類の管理が容易でないという課題があった。
【０００５】
また、ファンの出力補正では、マイコンのＲＯＭを変更しないとファンの出力補正特性を変更できず、容易に変更できないという課題があった。
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するもので、不揮発性メモリーに機種毎のコードを記憶させておくことで、不揮発性メモリーの管理を容易にすることを第一の目的とする。
【０００７】
第二の目的は、不揮発性メモリーにファンの出力補正値を記憶させておくことで、ファン出力補正を容易に行えることを可能にすることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明の第一の手段は、機種独自のコードを記憶した不揮発性メモリーと、電源投入時に前記不揮発性メモリーよりデータを読み込む手段と、機種特定コードを設定し前記読み込みデータのうち機種を特定したコードと比較して、同じ機種特定コードの場合は、前記データを用いて給湯機の制御動作を行い、異なったコードの場合は、エラー表示を指示する判定手段を備えたものである。
【０００９】
第二の手段は、比例的に変化する補正前のファン出力に対しＸＹ座標で指定した補正データを前記不揮発性メモリーに記憶し、電源投入時に前記不揮発性メモリーより読み込まれたデータで補正されたファン出力によりファン回転数を制御する制御手段を備え、前記判定手段で読み込みデータのうち機種特定コードが予め設定した機種コードと一致したとき、前記制御手段により補正されたファン出力でファン回転数を制御するようにしたものである。
【００１０】
【作用】
上記第一の手段により本発明の制御装置は、電源投入時に不揮発性メモリーよりマイコンのラムに機種毎の特定コードを読み込み、使用すべき不揮発性メモリーか否かの判定を行って報知することにより、製造段階での不揮発性メモリーの管理を容易に行え、不揮発性メモリーを間違って使用することをなくすことができる。
【００１１】
第二の手段では、不揮発性メモリーに記憶したファン出力補正値よりファン回転数を制御することによりファン補正特性の設定をマイコンを変更しなくてもおこなえることを可能とする。
【００１２】
【実施例】
以下本発明の制御装置の実施例について説明する。
【００１３】
図１は、本発明の一実施例としての給湯機の制御装置である。制御装置４の構成は、不揮発性メモリー１と、不揮発性メモリーのデーターを読み込む手段２と機種特定コードを判定する手段３とファン出力補正手段８から構成される。また、リモコン５の構成は、エラー表示部６と操作部７から構成される。
【００１４】
以下第一の手段による実施例について説明する。制御装置４は、電源投入時不揮発性メモリー１より機種特定コードを、読み込み手段２より読み込む。次に機種特定コード判定手段３により、不揮発性メモリー１の機種特定コードと比較し、同じ機種特定コードなら、給湯機の制御動作をおこなう。また異なったコードの場合は、リモコン５のエラーコード表示部６に不揮発性メモリー１が正規品でないことを表示し、製造段階での不揮発性メモリーの管理を容易にする。
【００１５】
次に第二の手段による実施例について説明する。電源投入時、不揮発性メモリー１から不揮発性メモリー読み込み手段２によりファン補正値９を読み込む。次にファン補正値９に基づいたファン回転数をファン出力補正手段８により計算出力する。不揮発性メモリー１内のファン補正値９のデーターは、（Ｘ点、Ｙ点）２つのデーターを持ち、図２の様に補正前の出力値に対して補正値９（Ｘ点、Ｙ点）により補正をかける。
【００１６】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明による制御装置は、不揮発性メモリーと制御装置との整合性の確認を容易に行えるという効果がある。
【００１７】
また、本発明の制御装置では、ファンの出力を補正するデータをＸＹ座標で指定した補正値として不揮発性メモリーに書き込ませることにより、マイコンを変更しＲＯＭを作成しなくても、不揮発性メモリーの内容を書き換えるだけで、ファン出力補正値を容易に変更することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の制御装置のブロック図
【図２】同装置のファン出力補正特性図
【符号の説明】
１  不揮発性メモリー
２  不揮発性メモリー読み込み手段
３  機種特定コード判定手段
４  制御装置
５  リモコン
６  エラーコード表示部
７  操作部
８  ファン出力補正手段
９  ファン出力補正値
１０  機種特定コード
【図１】
0003751037.tif 000002
【図２】
0003751037.tif 000003
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
棒状本体の基部側を握持部とし、先部側を、納豆非通過間隙を備えると共に、納豆の掬い取りを可能とした二軸並列状態に形成した撹拌部とし、撹拌部表面全体に多数の小突起を突設してなることを特徴とする納豆撹拌具。
【請求項２】
撹拌部の先部における二軸並列面に、軸間隙側を深くした凹部を形成して掬い部を設けてなる請求項１記載の納豆撹拌具。
【請求項３】
掬部を微細な粗面にしてなる請求項２記載の納豆撹拌具。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は納豆を食する際に使用する、納豆撹拌具に関するものである。
【０００２】
【従来技術及び発明が解決しようとする課題】
納豆を食する際には、従来より納豆を箸等で撹拌して糸引き状態としている。特に、撹拌具としては、棒状先部に４本の縦凹条を設けた器具が知られている。前記器具は納豆の豆が前記凹条に嵌り込んで、撹拌されるようにしたもので、糸引き効果は認められるが、糸切りが必ずしも良好とは言えない。又、そのまま納豆掬い具として使用することができず、別に掬い取り用のスプーンを必要とする。
【０００３】
更に、実公昭６１−１２９１５号公報に開示されているように、納豆掬い取り用のスプーンが知られている。前記掬い具は、スプーンに糸切り杆を回動自在に組み込んだもので、糸切りには効果が認められるが、逆に納豆の撹拌には不便である。
【０００４】
そこで、本発明は単純な構造で撹拌並びに掬い取りの双方に効果のある、新規な納豆撹拌具を提案したものである。
【０００５】
【課題を解決する手段】
本発明に係る納豆撹拌具は、棒状本体の基部側を握持部とし、先部側を納豆非通過間隙を備えた二軸並列状態に形成した撹拌部とし、撹拌部表面に多数の小突起を突設してなることを特徴とするものである。
【０００６】
従って、撹拌部を使用して納豆を撹拌すると、二軸面（軸正面及び間隙を含む面）で納豆を押し分けると同時に、多数の小突起と軸表面部分との間並びに二軸間の間隙によって、撹拌された納豆内に多量の空気が混入することになり、良好な糸引き状態を得ることができる。又、二軸面で納豆の掬い取りが可能であり、掬い取りに際し、小突起の存在によって納豆と器具との接触面積が小さいので、糸切りが容易になされる。
【０００７】
【実施の形態】
次に、本発明の実施の形態について説明する。実施形態に示した納豆撹拌具は樹脂一体成形で製出されるもので、全体が棒状で、基部を握持部１とし、先部を撹拌部２としたものである。
【０００８】
握持部１は、手で握り易い形状であれば良く、必要に応じて掛け孔１１等を設けておく。
【０００９】
撹拌部２は、握持部１から枝分かれさせると共に、並行に設けた二軸並列状態に形成してなり、表面に多数の小突起２１を突設してなる。更に、並列状態の一方の面（二軸面）における先端部近傍に凹部を形成して、掬い部２２を設けてなる。
【００１０】
特に、前記掬い部２２は間隙３を中心に対称に形成し、且つ間隙３側を深くし、左右軸の凹部全体が掬い面となる形状とし、且つ必要に応じて所謂梨地状の微細な粗面に形成したものである。
【００１１】
而して、前記器具による納豆撹拌は、適宜な容器内に収納した納豆Ａに対し、撹拌部２を以て撹拌することで、納豆Ａは効果的に糸引き状態となる。又、前記撹拌が終わると、そのまま掬い部２２を以て掬い取りを行うものである。
【００１２】
尚、本発明は掬い取り部を備えていなくとも、二軸間の間隔を適宜に設定することで、二軸面を掬い面として使用することもできる。
【００１３】
【発明の効果】
以上のように、本発明は棒状本体の基部側を握持部とし、先部側を納豆非通過間隙を備えた二軸並列状態に形成した撹拌部とし、撹拌部表面に多数の小突起を突設してなる納豆撹拌具で、納豆を効果的に糸引き状態にすることができ、又、そのまま掬い具としても使用できたものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態を示す正面図。
【図２】ａ−ａ線断面図。
【符号の説明】
１    握持部
１１  掛け孔
２    撹拌部
２１  小突起
２２  掬い部
３    間隙
【図１】
0003751534.tif 000002
【図２】
0003751534.tif 000003
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
隣り合う層の粒径が互いに異なる板状多孔質複層プラスチックフィルターの製造方法であって、金型の上面にセットされた基材用スペーサー（１）内に所定粒径を有する熱可塑性プラスチック粒子（１１）を充填して当該スペーサー（１）の高さで擦り切り、次ぎに前記基材用スペーサー（１）の上面に表面層用スペーサー（２）を重ね合わせてセットして当該表面層用スペーサー（２）内に前記熱可塑性プラスチック粒子（１１）と粒径が異なる熱可塑性プラスチック粒子（２１）を充填して当該表面層用スペーサー（２）の高さで擦り切り、次いで当該表面層用スペーサー（２）の上面に上型（３）を被せ、この状態で加熱焼結成形にて積層一体化したことを特徴とする板状多孔質複層プラスチックフィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、気体や液体等の流体中に含まれる微粒子を分離濾過するための板状多孔質複層プラスチックフィルターの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及びその課題】
従来、気体や液体等の流体中に含まれる微粒子を分離濾過するための多孔質複層プラスチックフィルターは数多く知られている。
その中でも、流体の流入側に、より小さな孔径を有するプラスチック製フィルムや、より小さな孔径を発現させるプラスチック微粒子を積層させたプラスチックフィルターが提案されている。
【０００３】
しかしながら、これら多孔質複層プラスチックフィルターは最初に基材層となる多孔質体を焼結成形等によって成形した後、別工程で小孔径層を当該基材層に積層させると云う生産性の低い方法を採用していた。
また、プラスチック微粒子を積層させる場合、既に焼結成形済みの基材層と未焼結プラスチック粒子との間で膨張率や収縮率などの加熱・冷却時の挙動が異なる為、小孔径層に亀裂が生じなどの生産歩留まりの低さにも問題がった。
【０００４】
【課題を解決する手段】
本発明は、上記の問題点を解消した板状多多孔質複層プラスチックフィルターの製造方法を提供するものであって、その要旨は、隣り合う層の粒径が互いに異なる板状の多孔質複層プラスチックフィルターの製造方法であって、金型の上面にセットされた基材用スペーサー内に所定粒径を有する熱可塑性プラスチック粒子を充填して当該スペーサーの高さで擦り切り、次ぎに前記基材用スペーサーの上面に表面層用スペーサーを重ね合わせてセットして当該表面層用スペーサー内に前記熱可塑性プラスチック粒子と粒径が異なる熱可塑性プラスチック粒子を充填して当該表面層用スペーサーの高さで擦り切り、次いで当該表面層用スペーサーの上面に上型を被せ、この状態で加熱焼結成形にて積層一体化したことを特徴とする板状多孔質複層プラスチックフィルターの製造方法である。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明の板状多孔質複層プラスチックフィルターの製造方法を添付図面に基づいて説明する。
図１〜３は板状の多孔質複層プラスチックフィルターの製造方法の前期、中期及び後期工程図、図４は板状の多孔質複層プラスチックフィルターの断面図である。
【０００６】
図１の（１）において、１は基材用スペーサーであり、当該基材用スペーサー１は水平に固定されれた金型（図示せず）の上面にセットされる。
図１の（２）において、１１は所定粒径を有する熱可塑性プラスチック粒子であって、当該粒子１１は基材用スペーサー１内に充填されて当該スペーサー１の高さで擦り切られる。
図１の（３）において、２は表面層用スペーサーであって、当該表面層用スペーサー２は基材用スペーサー１の高さと異なったものを使用し、これを基材用スペーサー１の上面に重ね合わせてセットされる。
【０００７】
図２に（１）において、２１は熱可塑性プラスチック粒子であって、当該熱可塑性プラスチック粒子２１は基材用スペーサー１に充填された粒子１１とは粒径が異なった粒子を使用して、表面層用スペーサー２内に充填し当該表面層用スペーサー２の高さで擦り切られる。
図２の（２）において、３は上型であって、当該上型３は表面層用スペーサー２の上面より静かに被せて、図２の（３）に示す如く基材用スペーサー１、表面層用スペーサー２及び上型３がずれないように固定した後、この状態で加熱及び冷却することにより熱可塑性プラスチック粒子１１及び２１は所定形状を有する板状多孔質の焼結成形層となる。
【０００８】
最後に図３に示す如く、基材用スペーサー１、表面層用スペーサー２及び上型３の各々を分解して製品Ａを取り出す。
図４は本発明方法で得られた二層構造の板状多孔質複層プラスチックフィルターであって、熱可塑性プラスチック粒子１１よって基材層Ａ1が、また熱可塑性プラスチック粒子２１によって表面層Ａ2が各々形成されると共に、両層は強固に一体化された二層の板状多孔質焼結体Ａとなる。
【００１３】
本発明で使用される熱可塑性プラスチック粒子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリサルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンサルファイド等の焼結により多孔質体を得られる熱可塑性樹脂であれば特に限定されない。
【００１４】
【発明の効果】
本発明の板状多孔質複層プラスチックフィルターの製造方法は、同一型内に粒径の異なる熱可塑性プラスチック粒子を積層充填し、この状態で加熱焼結して板状多孔質複層構造体とするので生産性が高くまた隣合う層は互いに強固に一体化されると共に、加熱及び冷却も両層同一条件であるので両層の膨張率や収縮率が同じ挙動を示し小孔径層等に亀裂の発生もなく生産歩留まりを向上した。
【図面の簡単な説明】
【図１】板状の多孔質複層プラスチックフィルターの製造方法の前期工程図。
【図２】板状の多孔質複層プラスチックフィルターの製造方法の中期工程図。
【図３】板状の多孔質複層プラスチックフィルターの製造方法の後期工程図。
【図４】板状の多孔質複層プラスチックフィルターの断面図。
【符号の説明】
１…基材用スペーサー
２…表面層用スペーサー
３…上型層
Ａ…二層の板状多孔質焼結体
Ａ１…基材層
Ａ２…表面層
【図１】
0003751569.tif 000002
【図２】
0003751569.tif 000003
【図３】
0003751569.tif 000004
【図４】
0003751569.tif 000005
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
柱の上端面との間に隙間が形成されるように、該柱に嵌挿して止着した接合杆に、前記柱に載置した横架材を通じて締付け杆を螺合して互いに接続し、該締付け杆の緊締部片を、前記横架材に止着した、柱と横架材の接合装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、概し、管柱と桁との接合に際して用いる木造軸組構造における柱と横架材の接合装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
柱と桁との横架材を接合するには、横架材側に設けたほぞ穴に、柱側に設けたほぞを挿着して構成する所謂ほぞ接合が一般に用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
前記従来例は、地震などの外力の負荷により当該ほぞ接合部が容易に緩み、このため、別途補強金具を両材間に止着する必要がある等の欠点がある。
【０００４】
本発明は、従来のほぞ接合に代る、しかも、接合強度上優れた装置を提供することを目的として創案したものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
柱の上端面との間に隙間が形成されるように、該柱に嵌挿して止着した接合杆に、前記柱に載置した横架材を通じて締付け杆を螺合して互いに接続し、該締付け杆の緊締部片を、前記横架材に止着した構成とする。
【０００６】
【実施例】
図面は本発明に係る柱と横架材の接合装置の一実施例を示し、図１は縦断面図、図２は主要部材の斜視図である。
【０００７】
本発明は、接合杆１と締付け杆２を用い、柱３と該柱３上に載置した桁などの横架材４を互いに接合するために適用し、接合杆１は円筒状の主体５の上端（一端）部に雌螺子１ａを設け、周側の中間部に、接合杆１の長手（上下）方向に隣接するもの同志を互いに直交する方向に配するようにして透孔６，…を設けて構成したものである。
【０００８】
この接合杆１は、前記柱３の上端面３´を開口して形成した縦穴７に前記雌螺子１ａを上側にして嵌挿し、前記縦穴７に直交させて前記柱３に設けた貫通孔８に前記透孔６を一致させ、これら孔６，８にドリフトピン９を貫通させて前記柱１に止着したもので、この柱１との組付け状態にあって、柱上端面３´との間に隙間ａが形成されるように前記縦穴７に納められ（埋入され）ている。
【０００９】
なお、接合杆１は金属製の円筒体で構成するが、角筒でも差し支えなく、中実体で構成しても不都合はない。
【００１０】
柱１に対する止着手段としては、実施例ではドリフトピン９を用いているが、該ドリフトピン９に代えてボルト体を用い、これを貫通孔８および透孔６に貫通させ、貫通孔８より突出するボルト先端にナットを螺合するようにしても良い。
【００１１】
前記締付け杆２は、円板状の緊締部片１０の片面の中央に、先端側に雄螺子２ａを設けた主体杆部１１を突設し、緊締部片１０には透孔１２を設けて構成したものである。
【００１２】
しかして、接合杆１を組付けた前記柱３上に、貫通孔１３を接合杆１の雌螺子１ａに一致させるようにして横架材４を載置し、貫通孔１３を通じて締付け杆２の主体杆部１１の先端に設けた雄螺子２ａを接合杆１の雌螺子１ａに螺合締付け、横架材４を介して接合杆１に接続し、透孔１２を利用して緊締部片１０を釘１４で横架材４に止着することにより、柱３と横架材４は互いに接合される。
【００１３】
なお、接合杆１と締付け杆２との締付け時（柱３と横架材４との接合操作時）に、前記隙間ａの存在により、横架材４は柱３に引き寄せられ、両材４，３はより強固に接合される。
【００１４】
なお、接合杆１の上端を、横架材４内に位置させても支障はなく、この場合、接合杆１の上端と横架材４との間に前記の隙間ａに代る隙間を設けることにより、実施例と同様の引き寄せ操作を行うことができる。
【００１５】
もっとも、隙間ａは、接合杆１すなわち主体５の上端が締付け当初より横架材４に接触しての円滑な引き寄せ操作の障害を回避するためのものであるが、締付けにより前記の主体上端が横架材４の木材であるという材質により、該横架材４に嵌入することを考慮すれば、この隙間を省略しても、接合杆１と締付け杆２との螺合操作だけで引き寄せは行うことができる。
【００１６】
また、締付け杆２の緊締部片１０は、横架材４に形成した前記貫通孔１３を取り囲む凹入部１５に納めてあるが、この凹入部１５は省略しても良い。
【００１７】
【発明の効果】
本発明は前記の通りの構成であるから、締付け杆を接合杆に螺合締付けることにより、柱と横架材の接合を確実に行うことができると共に、柱と横架材は柱側を固定側として互いに引き寄せられるから、前記接合は強固に行われ、ほぞ接合に代る実用的な接合装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】縦断面図。
【図２】主要部材の斜視図。
【符号の説明】
１      接合杆
２      締付け杆
３      柱
４      横架材
１０    緊締片
【図１】
0003751844.tif 000002
【図２】
0003751844.tif 000003
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光がフローセルを流れる試料流体に照射され、試料流体による透過光が受光部に導かれる微粒子検出装置において、スリットをコーティングにより前記フローセルの照射側と受光側の両方又はいずれか一方の表面上に形成したことを特徴とする微粒子検出装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光源からの光がフローセルに入射され、フローセルからの透過光が受光部に導かれる微粒子検出装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、微粒子検出装置に用いるスリットは、薄い金属板を抜き加工（プレス加工、フォトエッチング加工など）やフォトフォーミング加工（電鋳）などにより作製されている。そして、図２に示すように、スリット１００を形成した部材１０１は、フローセル１０２に密着または近接している。なお、１０３は光源、１０４は集光レンズ、１０５は受光部である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、これらの加工方法によってスリット１００の形状精度を上げるためには、部材１０１の板厚を薄くする必要があり、その結果、スリット１００を形成した部材１０１を取扱う時にスリット１００を変形させ易いという問題があった。
また、スリット１００を形成した部材１０１をフローセル１０２に密着または近接させるとフローセル１０２を流れる試料流体の温度の影響を敏感に受けスリット１００の形状が変化し易く、更に、外力によってもスリット１００の形状変化や位置ずれが生じ易いという問題があった。
【０００４】
本発明は、従来の技術が有するこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、取扱い時にスリットを変形させることがなく、フローセルを流れる試料流体の温度の影響を受け難く、外力を受けてもスリットの形状変化や位置ずれが生じ難い微粒子検出装置を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく請求項１に係る発明は、光源からの光がフローセルを流れる試料流体に照射され、試料流体による透過光が受光部に導かれる微粒子検出装置において、スリットをコーティングにより前記フローセルの照射側と受光側の両方又はいずれか一方の表面上に形成した。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。ここで、図１は本発明に係る微粒子検出装置の概略構成図である。
【０００７】
本発明に係る光遮断式の微粒子検出装置は、図１に示すように、半導体レーザなどの一定波長の光を発する光源１と、光源１が発する光を扁平にして集光する集光レンズ２と、集光レンズ２により集光された光が照射されるフローセル１０と、フローセル１０を透過した光を受光する受光部４を備えている。
【０００８】
フローセル１０の照射側の外面に直接コーティングを施すことによりスリット１１を形成し、受光側の外面にも直接コーティングを施すことによりスリット１１を形成した。
【０００９】
フローセル１０の照射側の外面と受光側の外面は、コーティングが施されているコーティング面１２と、マスキングによりコーティングが施されていない部分からなり、コーティングが施されていない部分をスリット１１としている。
【００１０】
コーティングには、真空蒸着法やスパッタリング法などが用いられ、またコーティング面１２，１２には遮光性が要求されるため使用される材料として、例えばクロム（Ｃr）などが用いられる。フローセル１０は、透明性のある材料で作製され、例えば合成石英が用いられる。
【００１１】
以上のように構成した本発明に係る光遮断式の微粒子検出装置の作用について説明する。
集光レンズ２により集光された光源１が発する光が、照射側に形成されたスリット１１を通過すると、スリット１１により光源１が発する光のうち一様な光強度分布を有する部分が選択され、成形されてフローセル１０に入射される。
【００１２】
フローセル１０中の粒子検出領域を通過した光が、受光側に形成されたスリット１１を通過することにより、粒子検出領域が限定されると共に、フローセル１０と試料流体の境界で発生する反射光・散乱光が除かれる。
そして、フォトダイオード等の受光素子からなる受光部４で粒子による透過光の減衰光量が検出され、その減衰光量によって粒子の大きさが分かり、またパルスとして得られる光量変化の回数によって粒子数が分かる。
【００１３】
スリット１１が直接フローセル１０の照射側の外面と受光側の外面に形成されるので、スリット１１が変形するなどの不具合が発生せず、しかもスリットを形成する基板が不要となるため、部品点数を削減することができる。
【００１４】
なお、本発明の実施の形態では、フローセル３の材料は、合成石英の場合について説明したが、透明性のある材料であれば、サファイアやアクリル樹脂などであってもよい。但し、熱膨張の影響を考慮すると、全て同じ材料が望ましい。
【００１５】
また、本発明の実施の形態では、フローセルの照射側と受光側の両方にスリットを設けた場合について説明したが、どちらか一方のみに設けてもよい。
更に、本発明の実施の形態では、本発明を光遮断式の微粒子検出装置に適用した場合について説明したが、光散乱式の微粒子検出装置にも適用できる。
【００１６】
【発明の効果】
以上説明したように請求項１に係る発明によれば、スリットをフローセルの表面上に形成したので、取扱い時にスリットを変形させることがなく、外力によってもスリットの位置ずれや形状変化が生じ難く、更に部品点数が少なくなる。
また、フローセルにスリットを形成した基板を接合する必要がなくなるので、工数低減が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係る微粒子検出装置の概略構成図
【図２】  従来の微粒子検出装置の概略構成図
【符号の説明】
１…光源、２…集光レンズ、４…受光部、１０…フローセル、１１…スリット、１２…コーティング面。
【図１】
0003751263.tif 000002
【図２】
0003751263.tif 000003
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
槽内へ向けて開口される廃水流入口と槽外へ向けて導延される廃水揚送管を有する外槽の下底部に主内槽と予備内槽を配設し、主内槽にのみポンプを収容してその吸込口を該主内槽の下底部へ開口させると共にその吐出口を上記廃水揚送管に接続し、外槽内の下底部から上記主内槽へ通ずる流入路を設け、各内槽の周壁一側部に沿ってその上縁から槽低部に達するよう側溝をそれぞれ縦設し、これら両側溝をそれぞれポンプの回転方向と背向する方向へ導延させる開渠状の流通溝により連通させて、主内槽内におけるポンプ駆動に伴う廃水の吸引排出作用により予備内槽内から主内槽内への廃水流入作用を生じて該主内槽内に旋回流が形成増幅せられると共に該旋回流の持続時間が増大せられ、且つ、予備内槽内の水位が主内槽内の水位と同調して低下するよう構成したことを特徴とする廃水の排出装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の技術分野】
本発明は、浮遊物や沈殿物の混在する廃水の排出装置に関するものである。
【０００２】
【従来技術とその問題点】
従来、廃水の排出装置は、槽内へ向けて開口される廃水流入口と槽外へ向けて導延される廃水揚送管を有する貯留槽の下方部にポンプを収容し、流入口から貯留槽内へ流入して来る廃水が所定の上限水位に達するとポンプを起動させて貯留槽内の廃水を外部へ揚送排出させ、水位が所定の下限水位に達するとポンプを停止させる。
【０００３】
しかし産業廃水や生活廃水中には、多くの浮遊物や沈殿物が混在する。
【０００４】
貯留槽内におけるポンプの吸い込み水流では吸込口周辺の固形物が排除されるのみで、浮遊物や沈殿物の多くは排出されることなく残留する。そのため、腐敗したスカムがガスを発生させて、周辺に悪臭が漂うようなことになる。また、残留堆積物の漸増により、ポンプ吸込口が閉塞されて揚送機能が損なわれることにもなる。
【０００５】
【発明の目的】
本発明の目的は、流入廃水中に混在する浮遊物や沈殿物を残存させることなく、廃水と共にポンプにより吸引して排出し得られる有効な装置を提供することにある。
【０００６】
【発明の構成】
本発明に係る廃水の排出装置においては、槽内へ向けて開口される廃水流入口と槽外へ向けて導延される廃水揚送管を有する外槽の下底部に主内槽と予備内槽を配設し、主内槽にのみポンプを収容してその吸込口を該主内槽の下底部へ開口させると共にその吐出口を上記廃水揚送管に接続し、外槽内の下底部から上記主内槽へ通ずる流入路を設け、各内槽の周壁一側部に沿ってその上縁から槽低部に達するよう側溝をそれぞれ縦設し、これら両側溝をそれぞれポンプの回転方向と背向する方向へ導延させる開渠状の流通溝により連通させて、主内槽内におけるポンプ駆動に伴う廃水の吸引排出作用により予備内槽内から主内槽内への廃水流入作用を生じて該主内槽内に旋回流が形成増幅せられると共に該旋回流の持続時間が増大せられ、且つ、予備内槽内の水位が主内槽内の水位と同調して低下するよう構成した。
【０００７】
【実施例】
以下実施例の図面により説明をする。
【０００８】
１は廃水の流入して来る外槽であって、槽内へ向けて開口される廃水流入口２と槽外へ向けて導延される廃水揚送管３を有し、下底部には主内槽４ａと予備内槽４ｂが凹設されており、主内槽４ａの周壁は上方が大径で下方が小径の摺鉢状傾斜面に形成されている。５ａは主内槽４ａの周壁一側部に沿って上縁から槽低部に達するよう縦設された側溝、５ｂは予備内槽４ｂの周壁一側部に沿って上縁から槽低部に達するよう縦設された側溝、５はこれら両側溝５ａ，５ｂをそれぞれポンプの回転方向と背向する方向へ導延させて両内槽４ａ，４ｂを連通させるための開渠状の流通溝である。６は外槽１内の下底部から主内槽４ａへ通ずる流入路であって、実施例の図面では外槽１内の下底部から主内槽４ａ内まで下り勾配を付し且つポンプの回転方向と背向する方向へ導延された態様となっている。７は主内槽４ａ内の下方部へ吸込口８が開口されるよう収容された水中汚物ポンプであって、その吐出口９は前記廃水揚送管３と着脱自在に接続される。１０は水中汚物ポンプ７の装脱時に使用される昇降ガイド、１１は廃水流入口２の開口部近くに付設された飛散防止カバーである。
【０００９】
【作用】
廃水の流入により外槽１内が所定の起動水位まで上昇すると、水中汚物ポンプ７が起動して廃水の揚送排出が開始される。揚送排出作業が進行して主内槽４ａおよび予備内槽４ｂの上縁まで水位が達したのちは、主内槽４ａ内の廃水が揚送排出されることになり、このポンプ７の揚送排出作用によって予備内槽４ｂ内から流通溝５を通して主内槽４ａ内への廃水流入作用を生じ、予備内槽４ｂ内の水位は主内槽４ａ内の水位と同調して低下し始めるのであるが、流通溝５と通じる側溝５ａ、５ｂは、各内槽４ａ、４ｂの上縁から槽底部に達するよう縦設されているため、上記廃水流入作用は、予備内槽４ｂ内における表層部の浮遊物および槽底部の沈殿物を伴って主内槽４ａ内へ流入することになる。また、上記流通溝５を通しての廃水流入作用によって主内槽４ａ内には旋回流が形成増幅せられ、且つ、廃水は摺鉢形傾斜面に沿って周辺部から旋回上昇し中央部から下降して対流作用を生じ、従って廃水中の浮遊物や沈殿物が強力に撹拌されつつポンプ吸込口８から吸い込まれることになる。そして両内槽４ａ，４ｂ内の水位が槽底近くの所定の停止水位まで達すると水中汚物ポンプ７は停止する。この間、揚送排出されるのは主内槽４ａ内の廃水のみでなく、予備内槽４ｂ内の廃水をも流通溝５を介して揚送排出させるのである。これは単に予備内槽４ｂ内に廃水を残留させないというだけのことではない。その分上記旋回流の形成時間が持続させられることになるのである。つまり、主内槽４ａ内における浮遊物や沈殿物の撹拌時間がそれだけ増大されるということである。従って、浮遊物や沈殿物が廃水と共に揚送排出され易くなり、槽内に残存することがない。
【００１０】
【発明の効果】
本発明装置によれば、外槽の下底部に主内槽と予備内槽とを配設して主内槽にのみポンプを装備させた廃水の排水装置において、上記ポンプの駆動による廃水の排出時に主内槽内の廃水と共に予備内槽内の廃水をも同時に吸引して揚送排出し得られ、予備内槽内に沈殿物を堆積させることがなく、また、主内槽内に旋回流が形成増幅せられてその持続時間が増大せられるため、廃水の撹拌作用を生じて浮遊物や沈殿物の揚送排出に有効である。従って、槽内における残留スカムに起因する悪臭の発生や、堆積物によるポンプ吸込口の閉塞事故が防止し得られるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明装置の要部縦断正面図である。
【図２】本発明装置から内装ポンプを除去した状態における要部縦断側面図である。
【図３】本発明装置から内装ポンプを除去した状態における要部横断平面図である。
【符号の説明】
１    外槽
２    廃水流入口
３    廃水揚送管
４ａ  主内槽
４ｂ  予備内槽
５    流通溝
５ａ  主内槽に縦設された側溝
５ｂ  予備内槽に縦設された側溝
６    流入路
７    ポンプ
８    ポンプ吸込口
９    ポンプ吐出口
【図１】
0003751342.tif 000002
【図２】
0003751342.tif 000003
【図３】
0003751342.tif 000004
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
５×１０６個／ｃｍ３以上のレーザ散乱体を含む熱処理前の単結晶シリコン基板ウェーハにエピタキシャル成長を行うことによりシリコン単結晶層からなるエピタキシャル層を形成し、
エピタキシャル層の表面領域に無欠陥層を有し、基板内にゲッタリング層を備えたエピタキシャルウェーハを得ることを特徴とするエピタキシャルウェーハの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、エピタキシャルウェーハの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、エピタキシャルウェーハにおいては、基板となるシリコンウェーハ上にこの基板の結晶性を受け継いだシリコン単結晶層を成長させる。ここで図１に示すように、基板１となるシリコンウェーハ中にレーザ散乱体２が分布していることがある。レーザ散乱体とは、赤外レーザをウェーハに入射した際に生じる散乱光によって検出される（垂直散乱法、透過散乱（干渉）法）欠陥である。レーザ散乱体は基板内にほぼ均一に分布し、その密度は１×１０6 個／ｃｍ3 程度である。前記レーザ散乱体２を含む基板１にエピタキシャル層を形成した場合、図２に示すようにエピタキシャルウェーハ中のレーザ散乱体２の密度は基板１内において高く、基板１とエピタキシャル層３との界面からエピタキシャル層３の内部に移るにつれて低くなることが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記のようにレーザ散乱体密度が１×１０6 個／ｃｍ3 以下の基板上にエピタキシャル成長を行った場合、その後の工程たとえばデバイス工程などにおいてエピタキシャルウェーハが不純物に汚染されると、基板内部に前記不純物に対するゲッタリング層すなわち高密度のレーザ散乱体が存在しないため、不純物を捕捉することができず、素子特性を悪化させてしまう。本発明は上記従来の問題点に着目してなされたもので、高い電気的特性（酸化膜耐圧）とゲッタリング能力とを備えた高品質のエピタキシャルウェーハを提供することを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係るエピタキシャルウェーハの製造方法は、５×１０６個／ｃｍ３以上のレーザ散乱体を含む熱処理前の単結晶シリコン基板ウェーハにエピタキシャル成長を行うことによりシリコン単結晶層からなるエピタキシャル層を形成し、エピタキシャル層の表面領域に無欠陥層を有し、基板内にゲッタリング層を備えたエピタキシャルウェーハを得ることを特徴としている。
【０００５】
【作用】
上記構成によれば、高密度のレーザ散乱体を含むウェーハをエピタキシャルウェーハの基板として用いることにしたので、エピタキシャル層と基板の界面には基板と同様にレーザ散乱体が分布する。しかし、デバイス工程で活性層となる表面領域のみはレーザ散乱体の分布がなく、無欠陥層であることが分り、さらに、エピタキシャルウェーハにシミュレーション熱処理を施してもエピタキシャル層中のレーザ散乱体は増加しない事が分かったので（図３）、デバイス工程後においても前記表面領域では高い電気的特性（酸化膜耐圧）を維持することができる。また、前記表面領域以外の層にはレーザ散乱体が高密度に分布しているので、不純物に対する高いゲッタリング能力をもつことができる。
【０００６】
【実施例】
以下に、本発明に係るエピタキシャルウェーハの実施例について、図面を参照して説明する。エピタキシャルウェーハの基板となる単結晶シリコンは、ＣＺ法による単結晶引き上げ装置により製造される。その場合、高速引き上げあるいはるつぼの回転を早め、前記単結晶シリコン中に含まれるレーザ散乱体が多くなるように調節する。この方法で引き上げた単結晶シリコンをスライスして得られるシリコンウェーハの内部には、高密度、たとえば５×１０6 個／ｃｍ3 以上のレーザ散乱体が存在している。
【０００７】
図１に示すように、５×１０6 個／ｃｍ3 以上の高密度のレーザ散乱体２を含む単結晶シリコンからなる基板１を用意し、図２に示すように、前記基板１の表面にエピタキシャル成長によりシリコン単結晶層を形成した。その結果、デバイス活性領域となるエピタキシャル層３の表面領域のみは無欠陥層であり、高密度のレーザ散乱体２はエピタキシャル層３においては基板１との界面付近に、また基板１においては全体に分布することが分かった。つまり、エピタキシャル成長によってイントリンシックゲッタリング構造をもつウェーハを造ることができる。従って、高電気的特性（酸化膜耐圧）とゲッタリング構造とを併せもつエピタキシャルウェーハを得るには、５×１０6 個／ｃｍ 3以上のレーザ散乱体を含むシリコンウェーハを用いてエピタキシャル成長を行えばよい。この場合、デバイス活性領域を考慮し、表面領域が完全にクリーンとなるようなエピタキシャル成長を行う必要がある。
【０００８】
本発明によるエピタキシャルウェーハは、デバイス工程などにおいて安定した状態を保つとともに、熱処理を施してもレーザ散乱体の分布がエピタキシャル層の表面領域に広がらないという利点を備えている。
【０００９】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、エピタキシャルウェーハの基板として、５×１０6 個／ｃｍ3 の高密度のレーザ散乱体を有するシリコンウェーハを用いることにしたので、エピタキシャル層においては基板との界面付近には基板内と同様にレーザ散乱体が分布する。しかし、活性層として利用する表面領域はレーザ散乱体の分布がない無欠陥層となるので、高い電気的特性（酸化膜耐圧）が得られる。さらに熱処理工程後も表面領域の無欠陥層は維持される。また、基板の内部に存在する高密度のレーザ散乱体によるイントリンシックゲッタリング構造を兼ね備えた高品質のエピタキシャルウェーハを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】エピタキシャルウェーハの基板となるシリコンウェーハの模式的断面図である。
【図２】エピタキシャルウェーハの模式的断面図である。
【図３】シミュレーション熱処理前後におけるエピタキシャルウェーハ中のレーザ散乱体の分布図である。
【符号の説明】
１  基板
２  レーザ散乱体
３  エピタキシャル層。
【図１】
0003751329.tif 000002
【図２】
0003751329.tif 000003
【図３】
0003751329.tif 000004
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
演算内容が登録された複数の演算セルの組合せにより、所望する演算システムを構築し、
この構築された演算システムにより入力値を演算して、演算結果をプラントへ出力して与えることによりプラントの制御を行うデジタル制御装置であって、
前記複数の演算セルの各々には、１つの演算内容、所定数の入力、所定数のパラメータ、
及び増殖機能設定領域から構成される１つの演算マクロが登録されており、
前記増殖機能設定領域に増殖機能が有効に設定された演算マクロを他の演算マクロと併せて１つの演算マクロとして取り扱うことにより、１つの演算マクロに対する入力数及び／又はパラメータ数の制限をなくすようにしたことを特徴とするデジタル制御装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、各種のプラントの操作・制御を行うのに使用されるデジタル制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般にプラント制御用のデジタル制御装置には、図１に示すように、複数の演算セルＣ1 、Ｃ2 、Ｃ3 、…を備え、この演算セルＣ1 、Ｃ2 、Ｃ3 、…に種々の演算マクロを登録し、これらの演算セルを結合することで、システム構成するものがある。ここで演算セルとは、演算マクロを登録する領域であり、演算マクロとは、アンド、オア、加減乗除算、比較といった演算内容をさしている。従来のデジタル制御装置は、１つの演算セルに１つの演算マクロが対応しており、１つの演算マクロは、図２に示すように、演算番号と入力とパラメータから構成されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記した従来のデジタル制御装置の演算セルには、入力、パラメータが登録されるが、１つの演算セルに登録し得る入力数、パラメータ数が限られていた。そのため、予め定められた数以上の入力やパラメータの必要な演算マクロは、作成することができなかった。
【０００４】
この発明は上記問題点に着目してなされたものであって、入力数、パラメータ数の制限を越えて演算マクロを作成することができる。また、可変入力、可変パラメータの演算マクロ（例えばＡＮＤ演算やＯＲ演算）において、制限を越えた入力やパラメータを登録し得るデジタル制御装置を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
この発明のデジタル制御装置は、演算内容が登録された複数の演算セルの組合せにより、所望する演算システムを構築し、この構築された演算システムにより入力値を演算して、演算結果をプラントへ出力して与えることによりプラントの制御を行うデジタル制御装置であって、前記複数の演算セルの各々には、１つの演算内容、所定数の入力、所定数のパラメータ、及び増殖機能設定領域から構成される１つの演算マクロが登録されている。
このデジタル制御装置では、前記増殖機能設定領域に増殖機能が有効に設定されていれば、次に続く演算セルの演算マクロも同じ演算マクロとして処理が実行される。増殖機能を設定さえすれば、１つの演算マクロとして取り扱える範囲を大きくできるので、入力数、パラメータ数に制限を受けることがなくなるため、自由な演算を設計できる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下、実施の形態により、この発明をさらに詳細に説明する。
図３は、この発明の一実施形態デジタル制御装置のデータ構成を示す図である。ここでは、演算セルＣ1 には演算番号、増殖オプション、入力、パラメータが登録され、同様に演算セルＣ2 、演算セルＣ3 にも演算番号、増殖オプション、入力、パラメータが登録されている。演算セルＣ1 、演算セルＣ2 の増殖オプションには「１」がたてられているので、演算処理過程で、演算セルＣ1 、演算セルＣ2 及び演算セルＣ3 の演算マクロが併せて、１つの演算マクロとみなされる。しかし、演算セルＣ3 の増殖オプションは「０」なので、次の演算セルＣ4 の演算マクロは、別の演算マクロとなる。
【０００７】
次に演算マクロの具体例として、入力数が可変なＡＮＤ回路の作成について説明する。演算セルの入力数が５個の場合、入力数が５個以下のＡＮＤ回路では、増殖機能が設定されず、増殖オプションは「０」とする。入力数が６以上となると、増殖機能が設定され、つまり増殖オプションに「１」をたて、複数の演算セルを使用する。この演算マクロによる入力数１０のＡＮＤ回路は、図４に示すシンボル、つまり１個のＡＮＤ回路１となるが、従来のように１演算セル１演算マクロで、入力数が５個の制限がある場合に、入力数１０個のＡＮＤ回路を作成すると、図５のように５個の入力のＡＮＤ回路２、５個の入力のＡＮＤ回路３、さらにＡＮＤ回路２の出力とＡＮＤ回路３の出力とを入力とするＡＮＤ回路４となり、図５に示すシンボルとなる。図４に示す本実施形態の入力数１０のＡＮＤ回路と、図５の入力数１０のＡＮＤ回路を比べると、視覚的に本実施形態のほうがはるかにわかりやすいものとなる。
【０００８】
本実施形態のＡＮＤ回路において、増殖機能が設定されたときの処理について説明する。増殖機能が設定されている演算セルＣ1 の結果は、次の演算セルＣ2 に何らかの形で反映される。つまり、演算セルＣ1 による前半のＡＮＤセルは、５本の入力のＡＮＤ演算を行い、その演算結果を後半のＡＮＤセルの入力として使用する。したがって、後半のＡＮＤセルは前半の演算結果と５本の入力のＡＮＤ演算を行う。前半の演算結果の入力は、演算セル内の処理に含ませればよく、１演算セル、５本の入力制限にかかわるものではない。ここで示した例では、前半の演算結果を後半の演算の入力に使用しているが、前半の演算結果の使用方法は、演算内容によって自由に決めればよい。
【０００９】
従来では、所定の入力数、パラメータ数以上の演算マクロを設計することができなかったが、本発明による演算マクロを登録すると、自動的に必要な演算セル分だけ増殖機能を設定することにより、入力数やパラメータ数の制限がなくなる。そのため、入力数やパラメータ数にとらわれない演算マクロを設計することができ、従来は実現できなかったプラントの複雑な制御装置を実現できる。
【００１０】
【発明の効果】
この発明によれば、演算マクロに増殖機能設定手段を更に備え、増殖機能設定手段の指定により複数の演算マクロを１つの演算マクロと定義可能としているので、入力数、パラメータ数に制限を受けることなく、複雑な演算マクロを設計することができ、従来であれば複数の演算を組合せて構成した部分を１つの演算マクロで定義することができる。また、入力数が可変な演算マクロに対して、わかりやすい構成フローとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】デジタル制御装置を構成する演算セルを説明する図である。
【図２】従来のデジタル制御装置の演算マクロを説明する図である。
【図３】本発明の一実施形態デジタル制御装置の演算マクロを説明する図である。
【図４】同実施形態デジタル制御装置の演算マクロによるＡＮＤ回路の作成例を示す図である。
【図５】従来のデジタル制御装置の演算マクロによるＡＮＤ回路の作成例を示す図である。
【符号の説明】
Ｃ1 、Ｃ2 、Ｃ3     演算セル
【図１】
0003751351.tif 000002
【図２】
0003751351.tif 000003
【図３】
0003751351.tif 000004
【図４】
0003751351.tif 000005
【図５】
0003751351.tif 000006
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
槽内へ向けて開口される廃水流入口と槽外へ向けて導延される廃水揚送管を有する外槽の下底部に２個の内槽を配設し、これら内槽内の各下方部へ吸込口が開口されるよう２台のポンプをそれぞれ収容させ、各ポンプの吐出口を上記廃水揚送管に接続し、外槽内下底部から上記内槽の一方または双方へ通ずる流入路を設けると共に該２個の内槽の底部間をポンプの回転方向と背向する方向へ導延されるよう穿設された連通孔により流通させて、一方の内槽内におけるポンプ駆動に伴う廃水の吸引排出作用により他方のポンプ停止側内槽内から上記ポンプ駆動側内槽内への廃水流入作用を生じて該内槽内に旋回流が形成増幅せられると共に該旋回流の持続時間が増大せられ、且つ、ポンプ停止側内槽内の水位がポンプ駆動側内槽内の水位と同調して低下するよう構成したことを特徴とする廃水の排出装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の技術分野】
本発明は、浮遊物や沈殿物の混在する廃水の排出装置に関するものである。
【０００２】
【従来技術とその問題点】
廃水が流入して来る外槽内の下底部に２個の内槽を凹設し、これら内槽内下方部へ吸込口を導下させ吐出口を上導させた２台のポンプの交互運転により、上記流入廃水を揚送排出させることは従来から広く行われている。
【０００３】
しかし産業廃水や生活廃水中には、多くの浮遊物や沈殿物が混在する。
【０００４】
廃水の流入により外槽内が所定の起動水位まで上昇し、第１のポンプが起動して揚送排出が進行し、第１の内槽内の水位が底部近くの停止水位まで低下しても、第２の内槽内には廃水が溜まったままである。また、第１のポンプによって揚送排出の行われる第１の内槽内においても、ポンプの吸い込み水流では吸込口周辺の固形物が排除されるのみで、浮遊物や沈殿物の多くは排出されることなく残留する。そのため、腐敗したスカムがガスを発生させて、周辺に悪臭が漂うようなことになる。また、残留堆積物の漸増により、ポンプ吸込口が閉塞されて揚送機能が損なわれることにもなる。
【０００５】
【発明の目的】
本発明の目的は、流入廃水中に混在する浮遊物や沈殿物を残存させることなく、廃水と共にポンプにより吸引して排出し得られる有効な装置を提供することにある。
【０００６】
【発明の構成】
本発明に係る廃水の排出装置においては、槽内へ向けて開口される廃水流入口と槽外へ向けて導延される廃水揚送管を有する外槽の下底部に２個の内槽を配設し、これら内槽内の各下方部へ吸込口が開口されるよう２台のポンプをそれぞれ収容させ、各ポンプの吐出口を上記廃水揚送管に接続し、外槽内下底部から上記内槽の一方または双方へ通ずる流入路を設けると共に該２個の内槽の底部間をポンプの回転方向と背向する方向へ導延されるよう穿設された連通孔により流通させて、一方の内槽内におけるポンプ駆動に伴う廃水の吸引排出作用により他方のポンプ停止側内槽内から上記ポンプ駆動側内槽内への廃水流入作用を生じて該内槽内に旋回流が形成増幅せられると共に該旋回流の持続時間が増大せられ、且つ、ポンプ停止側内槽内の水位がポンプ駆動側内槽内の水位と同調して低下するよう構成した。
【０００７】
【実施例】
以下実施例の図面により説明をする。
【０００８】
１は廃水の流入して来る外槽であって、槽内へ向けて開口される廃水流入口２と槽外へ向けて導延される廃水揚送管３を有し、下底部には２個の内槽４ａ，４ｂが凹設されている。これら２個の内槽４ａ，４ｂは上方が大径で下方が小径の摺鉢状傾斜面を有しており、両内槽４ａ，４ｂの底部間はポンプの回転方向と背向する方向へ導延されるよう穿孔された連通孔５によって導通されている。６は外槽１内から内槽４ａ，４ｂの一方または双方へ通ずる流入路であって、実施例の図面では外槽１内の下方部から両内槽４ａ，４ｂ内の槽底まで下り勾配を付し且つポンプの回転方向と背向する方向へ導延された態様となっている。７ａは一方の内槽４ａ内の下方部へ吸込口８が開口されるよう収容された水中汚物ポンプ、７ｂは他方の内槽４ｂ内の下方部へ吸込口８が開口されるよう収容された水中汚物ポンプであって、いずれも吐出口９が前記廃水揚送管３と着脱自在に接続される。１０は水中汚物ポンプ７ａ，７ｂの装脱時に使用される昇降ガイド、１１は廃水流入口２の開口部近くに付設された飛散防止カバーである。
【０００９】
【作用】
廃水の流入により外槽１内が所定の起動水位まで上昇すると、第１のポンプ７ａが起動して廃水の揚送排出が開始される。揚送排出作業が進行して内槽４ａ，４ｂの上縁まで水位が達したのちは、第１の内槽４ａ内の廃水が揚送排出されることになるが、この第１のポンプ７ａの揚送排出作用により第２の内槽４ｂ内の槽底部から連通孔５を通して第１の内槽４ａ内への廃水流入作用を生じるため、沈殿物を残留させることなく、第２の内槽４ｂ内の水位は第１の内槽４ａ内の水位と同調して低下し始める。また、上記連通孔５を通しての廃水流入作用によって第１の内槽４ａ内には旋回流が形成増幅せられ、且つ、廃水は摺鉢形傾斜面に沿って周辺部から旋回上昇し中央部から下降して対流作用を生じ、従って廃水中の浮遊物や沈殿物が強力に撹拌されつつポンプ吸込口８から吸い込まれることになる。そして両内槽４ａ，４ｂ内の水位が槽底近くの所定の停止水位まで達すると第１のポンプ７ａは停止する。この間、揚送排出されるのは第１の内槽４ａ内の廃水のみでなく、第２の内槽４ｂ内の廃水をも連通孔５を介して揚送排出させるのである。これは単にポンプ停止中の第２の内槽４ｂ内に廃水を残留させないというだけのことではない。その分上記旋回流の形成時間が持続させられることになるのである。つまり、第１の内槽４ａ内における浮遊物や沈殿物の撹拌時間がそれだけ増大されるということである。従って、浮遊物や沈殿物が廃水と共に揚送排出され易くなり、槽内に残存することがない。
【００１０】
次に再び廃水の流入により外槽１内の水位が所定の起動水位まで上昇したときは、第２のポンプ７ｂが起動して廃水の揚送排出が行われ、水位が内槽４ａ，４ｂの上縁まで達したのちは、第２の内槽４ｂ内の廃水が揚送排出されることになるが、以下の作用は既述の第１のポンプ７ａ起動の場合と同様であるので説明を省略する。
【００１１】
【発明の効果】
本発明によれば、廃水の排出装置について、ポンプ駆動側内槽内の廃水と共にポンプ停止側内槽内の廃水をも同時に吸引して揚送排出し得られ、ポンプ停止側内槽内の沈殿物を堆積させることがなく、また、ポンプ駆動側内槽内に旋回流が形成増幅せられてその持続時間が増大せられるため、廃水の撹拌作用を生じて浮遊物や沈殿物の揚送排出に有効である。従って、内槽内における残留スカムに起因する悪臭の発生や、堆積物によるポンプ吸込口の閉塞事故が防止し得られるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明装置の要部縦断正面図である。
【図２】本発明装置の要部縦断側面図である。
【図３】本発明装置から内装ポンプを除去した状態における要部横断平面図である。
【符号の説明】
１    外槽
２    廃水流入口
３    廃水揚送管
４ａ  一方の内槽
４ｂ  他方の内槽
５    連通孔
６    流入路
７ａ  一方のポンプ
７ｂ  他方のポンプ
８    ポンプ吸込口
９    ポンプ吐出口
【図１】
0003751333.tif 000002
【図２】
0003751333.tif 000003
【図３】
0003751333.tif 000004