(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線の投影ビームを提供するための放射システムと、
所望のパターンに従って前記投影ビームにパターンを付けるように働くパターニング手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記パターンを付けられたビームを前記基板のターゲット部分に投影するための投影システムと、
前記投影システムの複数の光学要素および／またはセンサの構成要素を支持するフレームであって、該フレームは、ガラス・セラミック材料、ガラス材料およびセラミック材料を含む群から選択される材料から作られており、該材料は、０．１×１０−６Ｋ−１未満またはその値にほぼ等しい熱膨張係数を有しているフレームと
を有するリソグラフィ投影装置であって、
前記フレームが、第１のプレートと、少なくとも１つのさらに他のプレートとを有し、これらプレートは、離隔された関係で、プレートの表面が互いに向き合うように配置され、前記少なくとも１つのさらに他のプレートは、スチフナ要素によって前記第１のプレートに取り付けられ、それによって前記全てのプレートの曲げ振動が実質的に防止されることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項２】
前記材料が、Ｚｅｒｏｄｕｒ（登録商標）、ＵＬＥ（登録商標）、Ｃｏｒｄｉｅｒｉｔｅ（登録商標）、Ａｓｔｒｏｓｉｔａｌ（登録商標）、およびＣｌｅａｒｃｅｒａｍ−Ｚ（登録商標）からなる群から選択される請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記材料の熱膨張係数が、０．０５×１０−６Ｋ−１未満またはその値にほぼ等しい請求項１または請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記材料が、少なくとも６００００ＭＮ／ｍ２のヤング率Ｅを有する請求項１、請求項２、または請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記複数の光学要素が前記複数のプレートに取り付けられている請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記複数の光学要素がミラーである請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記複数の光学要素が前記フレーム上に個別に取り付けられている請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
放射線感光性材料の層によって少なくとも部分的に覆われた基板を提供するステップと、
放射システムを使用して放射線の投影ビームを提供するステップと、
パターニング手段を使用して、前記投影ビームの断面にパターンを与えるステップと、
複数の光学要素を使用して、前記パターンを付けられた放射線ビームを前記放射線感光性材料の層のターゲット部分に投影するステップと、
複数のセンサを使用して前記複数の光学要素の位置を測定するステップと
を含むデバイス製造方法であって、
前記複数の光学要素または前記複数のセンサがフレーム上に取り付けられており、該フレームが、ガラス・セラミック材料、ガラス材料およびセラミック材料を含む群から選択される材料から作られ、該材料が、０．１×１０−６Ｋ−１未満またはその値にほぼ等しい熱膨張係数を有しているデバイス製造方法において、
前記フレームが、第１のプレートと、少なくとも１つのさらに他のプレートとを有し、これらプレートは、離隔された関係で、プレートの表面が互いに向き合うように配置され、前記少なくとも１つのさらに他のプレートは、スチフナ要素によって前記第１のプレートに取り付けられ、それによって前記全てのプレートの曲げ振動が実質的に防止されることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、
放射線の投影ビームを供給するための放射システムと、
所望のパターンに従って投影ビームにパターン付けするように働くパターニング手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記パターンを付けられたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムと、
複数の前記投影システムの光学要素および／またはセンサの構成要素を支持するフレームと
を備えるリソグラフィ投影装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
本明細書で使用する用語「パターニング手段」は、基板のターゲット部分に形成するパターンに対応してパターン付けされた断面を入射放射線ビームに与えるために使用することができる手段を表すものと広く解釈すべきである。用語「光バルブ」をこの文脈で使用することもできる。一般に、前記パターンは、集積回路やその他のデバイス（以下参照）などターゲット部分に作成されるデバイス内の特定の機能層に対応している。このようなパターニング手段の例としては、次のようなものが挙げられる。
（１）マスク
マスクの概念はリソグラフィでよく知られており、二相、交流移相、減衰移相などのマスク・タイプ、ならびに様々なハイブリッド・マスク・タイプを含む。放射線ビーム中にそのようなマスクを配置することにより、マスク上のパターンに従って、マスクに衝突する放射線の選択透過（透過性マスクの場合）または反射（反射性マスクの場合）が生じる。マスクの場合、支持構造は通常マスク・テーブルであり、マスク・テーブルは、入射放射線ビームにおける所望の位置にマスクを保持することができることを保証し、かつ望みであればマスクをビームに対して移動することができることも保証する。
（２）プログラム可能ミラー・アレイ
そのようなデバイスの一例は、粘弾性制御層および反射表面を有するマトリックス・アドレス可能な表面である。そのような装置の背後にある基本原理は、（例えば）反射表面のアドレスされた領域が入射光を回折光として反射し、アドレスされていない領域が入射光を非回折光として反射することにある。適切なフィルタを使用して、前記非回折光を反射ビームからフィルタ除去し、後ろに回折光のみを残すことができる。このようにすると、マトリックス・アドレス可能表面のアドレス指定パターンに従ってビームにパターンを付けられるようになる。プログラム可能ミラー・アレイの代替実施形態は、小さなミラーのマトリックス構成を使用したものであり、ミラーはそれぞれ、適切な局所電場を印加することによって、または圧電作動手段を使用することによって、軸に関して個別に傾けることができる。ここでもやはり、ミラーはマトリックス・アドレス可能であり、そのため、アドレスされたミラーは、アドレスされていないミラーと異なる方向に入射放射ビームを反射する。このようにすると、反射されたビームは、マトリックス・アドレス可能ミラーのアドレス・パターンに従ってパターンを付けられる。必要なマトリックス・アドレス指定は、適切な電子手段を使用して実施することができる。本明細書で上述したどちらの状況でも、パターニング手段は、１つまたは複数のプログラム可能ミラー・アレイを備えることができる。本明細書で言及するミラー・アレイに関するより多くの情報は、例えば参照により本明細書に組み込む米国特許第５２９６８９１号および米国特許第５５２３１９３号、ならびにＰＣＴ特許出願ＷＯ９８／３８５９７号およびＷＯ９８／３３０９６号から得ることができる。プログラム可能ミラー・アレイの場合、前記支持構造を、例えばフレームまたはテーブルとして実施することができ、必要に応じて固定することも、可動にすることもできる。
（３）プログラム可能ＬＣＤアレイ
そのような構成の一例は、参照により本明細書に組み込む米国特許第５２２９８７２号に与えられている。上と同様に、この場合の支持構造も、例えばフレームまたはテーブルとして実施することができ、必要に応じて固定することも、可動にすることもできる。
話を簡単にするために、この本文ではここから先、いくつかの箇所でマスクおよびマスク・テーブルに関わる例に特に注目することがある。しかし、そのような例で論じられる一般的な原理は、本明細書で上述したパターニング手段の、より広い文脈で見るべきである。
【０００３】
リソグラフィ投影装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造で使用することができる。そのような場合、パターニング手段は、ＩＣの個々の層に対応する回路パターンを生成することができ、このパターンを、感光性材料（レジスト）の層で被覆されている基板（シリコン・ウェハ）上のターゲット部分（例えば１つまたは複数のダイを備える）に結像することができる。一般に、単一のウェハが、１度に１つずつ投影システムによって連続的に照射される隣接ターゲット部分の回路網全体を含む。マスク・テーブル上のマスクによるパターニングを採用する現行装置では、２つの異なるタイプの機械に区分することができる。１つのタイプのリソグラフィ投影装置では、各ターゲット部分が、マスク・パターン全体を一括してターゲット部分に露光することによって照射される。そのような装置は、一般にウェハ・ステッパと呼ばれる。代替装置（一般にステップ・アンド・スキャン装置と呼ばれる）では、各ターゲット部分が、所与の基準方向（「スキャン」方向）に投影ビーム下でマスク・パターンを漸次スキャンし、それと同時にこの方向に平行に、または反平行に基板テーブルを同期してスキャンすることによって照射される。一般に、投影システムが倍率Ｍ（通常、＜１）を有するので、基板テーブルがスキャンされる速度Ｖは、マスク・テーブルがスキャンされる速度のＭ倍となる。ここに記述したリソグラフィ・デバイスに関するより多くの情報は、例えば参照により本明細書に組み込む米国特許第６０４６７９２号から得ることができる。
【０００４】
リソグラフィ投影装置を使用する製造プロセスでは、（例えばマスクでの）パターンが、感光性材料（レジスト）の層によって少なくとも部分的に覆われた基板に結像される。このイメージング・ステップの前に、基板にプライミング、レジスト・コーティング、ソフト・ベークなど様々な処置を施すことができる。露光後に、露光後ベーク（ＰＥＢ）、現像、ハード・ベーク、および結像されたフィーチャの測定／検査など他の処置を基板に施すこともできる。この一連の処置は、例えばＩＣといったデバイスの個々の層にパターンを付けるための基礎として使用される。次いで、そのようなパターン付き層に、エッチング、イオン注入（ドーピング）、メタライゼーション、酸化、化学的機械研磨など様々なプロセスを施すことができる。これらは全て、個々の層を完成させるためのものである。複数の層が必要な場合、手順全体、またはその変形が、各新たな層ごとに繰り返されなければならない。最終的に、デバイスのアレイが基板（ウェハ）上に存在することになる。次いで、これらのデバイスを、ダイシングやソーイングなどの技法によって互いに分離し、個々のデバイスを、例えばキャリアに取り付けるか、またはピンなどに接続することができる。そのようなプロセスに関する詳しい情報は、例えば参照により本明細書に組み込むＰｅｔｅｒ  ｖａｎ  Ｚａｎｔの著書「Ｍｉｃｒｏｃｈｉｐ  Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ：Ａ  Ｐｒａｃｔｉｃａｌ  Ｇｕｉｄｅ  ｔｏ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ」，第３版，マグローヒル出版，１９９７，ＩＳＢＮ０−０７−０６７２５０−４から得ることができる。
【０００５】
話を簡単にするために、投影システムを本明細書では以後「レンズ」と呼ぶ場合がある。しかし、この用語は、例えば屈折光学系、反射光学系、反射屈折光学系を含めた様々なタイプの投影システムを包含するものとして広く解釈すべきである。また、放射システムは、放射線の投影ビームを指向し、成形し、または制御するための、これら設計タイプのいずれかに従って動作する構成要素を含むことができ、そのような構成要素も以下で総称して、または個別に「レンズ」と呼ぶ場合がある。さらに、リソグラフィ装置は、２つ以上の基板テーブル（および／または２つ以上のマスク・テーブル）を有するタイプのものであってよい。そのような「多段」デバイスでは、追加のテーブルを並列に使用することができ、あるいは１つまたは複数のテーブルに関して予備ステップを行い、その一方で１つまたは複数の他のテーブルを露光することができる。二段リソグラフィ装置は、例えば、参照により本明細書に組み込む米国特許第５９６９４４１号およびＷＯ９８／４０７９１号に記載されている。
【０００６】
例えば２４８ｎｍの波長を有する紫外放射線ビームを使用するリソグラフィ投影装置の投影システムは通常、フレームに取り付けられた複数の屈折光学要素を備える。屈折光学要素は、ビームに対して、かつ互いに対して正確に位置決めしなければならず、さらにベース部材の振動から隔離しなければならない。これらの条件は、光学要素が取り付けられるＩｎｖａｒ（商標）（コバルト含有鋼）からなるフレームを作成することによって満たすことができる。Ｉｎｖａｒ（商標）は、約１４００００ＭＮ／ｍ2のヤング率Ｅを有する金属である。この材料の利点は、投影システムのフレームに必要な比較的複雑な形状に簡単に加工することができ、かつ金属として、個別部品の形で製造し、溶接または金属の接合に使用される他の接合技法によって互いに接合することが簡単にできることである。Ｉｎｖａｒ（商標）の高いヤング率Ｅは、機械的振動が光学要素に伝達するのを防止するように高い機械的剛性を有するフレームを簡単に設計することができることを意味する。例えばステンレス鋼（これも使用されている）に勝るＩｎｖａｒ（商標）のさらなる利点は、比較的低い熱膨張係数を有し、それにより温度安定なリソグラフィ投影装置用の投影システムを生成することである。Ｉｎｖａｒ（商標）の熱膨張係数は約１×１０-6Ｋ-1であり、これは知られている金属のうちほぼ最小である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
より小さいサイズのフィーチャを結像する際に常にある要求を満たすために、投影ビームに使用される放射線の波長を低減する必要がある。したがって、極紫外放射線（ＥＵＶ）（すなわち波長が５〜２０ｎｍの範囲）を活用するリソグラフィ投影装置の開発にはより良い分解能が必要である。ＥＵＶリソグラフィ装置は、ＥＵＶ用の屈折光学要素を形成するのに適した材料が知られておらず、かつビームの汚染および減衰を回避するためにビームを真空中で維持しなければならないので、投影システム内でミラーを使用しなければならない。ＥＵＶリソグラフィ装置の光学要素の位置決め要件は、紫外線リソグラフィ装置よりもかなり厳しい。これは、（ａ）使用される放射線波長がより小さく、（ｂ）屈折ではなく反射光学要素が使用され、（ｃ）分解能が高い、すなわち結像すべきフィーチャのサイズがより小さいためである。これらの環境下では、必要な位置決め精度が１０ｎｍ位のオーダーで高い。
【０００８】
残念ながら、ＥＵＶリソグラフィ装置に必要な高い位置決め精度にすると、Ｉｎｖａｒ（商標）からなるフレームに、所望の位置決め精度範囲内で光学要素の位置を維持するためには冷却が必要になるか、または複雑で高価な予測温度補償位置決め制御が必要になることが判明している。
【０００９】
本発明の目的は、ＥＵＶリソグラフィ装置のための要件を満たす投影システムを提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
この目的およびその他の目的は、本発明によれば、冒頭の段落で指定したリソグラフィ装置であって、前記フレームが０．１×１０-6Ｋ-1未満またはその値にほぼ等しい熱膨張係数を有するガラス・セラミック材料からなることを特徴とする装置で達成される。
【００１１】
したがって、フレーム上に取り付けられた光学要素の位置の安定性に対する温度変動の作用について妥協することなく、光学要素ごとの複雑な予測温度補償位置決め手段の必要性も、重く嵩張る複雑な冷却システムの必要性も回避される。
【００１２】
従来、ガラス・セラミック材料は、１つには金属に比べて加工および接合が困難であるため、１つには金属に比べて剛性が低いため、リソグラフィ装置における構造要素として使用するには適さないと考えられていた。また、脆弱で高価であり、衝撃に対する抵抗が低い。しかし、注意深く設計することにより、そのような材料を、以前からリソグラフィ装置における構造要素に使用されているステンレス鋼、Ｉｎｖａｒ（商標）、または他の金属よりもいくぶんヤング率Ｅが低いにもかかわらず使用することが可能になる。用語「ガラス・セラミック」は、ガラスとセラミックの合成物であり、しかしガラスでもセラミックでもない材料を表すために当技術分野で使用される用語である。
【００１３】
ガラス・セラミックスを使用するさらに驚くべき利点がいくつかある。それらのうち第１のものは、赤外範囲内での電磁放射線に関する放出係数が大きいことである。この係数は、ステンレス鋼またはＩｎｖａｒ（商標）の少なくとも５〜１０倍である。これは、ガラス・セラミックスが、ＥＵＶ装置の（真空中での）周囲温度に比較的簡単に適合することを意味する。したがって、本発明のフレームの温度は、制御が必要であると考えられる場合には（例えばフレーム上の感知手段が温度感受性のものであれば）、より簡単に制御される。別の利点は、ガラス・セラミックスが金属よりも良い真空適合性を有し、そして金属と異なって、放出されると真空に害を及ぼす可能性のある表面上の微分子を吸収する傾向がない。
【００１４】
好ましくは、材料が、少なくとも６００００ＭＮ／ｍ2のヤング率Ｅを有する。そのような材料を用いると、注意深い設計によって、リソグラフィ装置内で通常存在する寄生振動を受けないフレームを形成することができる。設計要件に合わせてフレームを形成することができる材料は、ＵＬＥ（商標）ガラス（製造元はＣｏｒｎｉｎｇ  Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ，１  Ｒｉｖｅｒ  Ｆｒｏｎｔ  Ｐｌａｚａ，Ｃｏｒｎｉｎｇ，ＮＹ  １４８３１）、Ｚｅｒｏｄｕｒ（商標）（製造元はＳｃｈｏｔｔ  Ｇｌａβ，Ｈａｔｔｅｎｂｅｒｇｓｔｒａｓｓｅ  １０５５１２０，Ｍａｉｎｚ，Ｇｅｒｍａｎｙ）、およびＬｏｗ  ＣＴＥ  Ｃｏｒｄｉｅｒｉｔｅ（商標）（製造元は京セラ株式会社、郵便番号６１２−８５０１京都市伏見区竹田鳥羽殿町６）を含む。Ｃｌｅａｒｃｅｒａｍ−Ｚ（商標）（製造元はオハラグループ、足柄光学株式会社、郵便番号２２８−００２１  神奈川県足柄上郡開成町吉田島４２９２）およびＲｕｓｓｉａｎ  ｇｌａｓｓ  ｃｅｒａｍｉｃ  Ａｓｔｒｏｓｉｔａｌ（商標）がＺｅｒｏｄｕｒ（商標）の代替であり、これらも使用することができる。
【００１５】
好ましくは、フレームが、第１のプレートおよび少なくとも１つのさらなるプレートを備え、前記プレート同士が、離隔された関係にあり、前記プレート同士の表面が互いに面するように配置され、前記少なくとも１つのさらなるプレートが、補強材要素（スチフナ要素）によって前記第１のプレートに取り付けられ、それにより前記プレートの曲げ振動を実質的に防止する。そのような構成は、０．１×１０-6Ｋ-1未満の熱膨張係数を有するガラス・セラミック材料からなるそのようなフレームの組立てに、フレームの部材間で比較的少数の接合しか必要ないので有利である。プレートを使用する問題、すなわちプレートが曲げ振動を受けやすいという問題は、プレート間に補強材要素を使用することによって克服される。好ましくは補強材要素がプレートの縁部間に提供され、しかしいずれにせよコーナにある。好ましくは、光学要素がプレートに取り付けられる。
【００１６】
本発明の他の観点によれば、
感光性材料の層によって少なくとも部分的に覆われた基板を提供するステップと、
放射システムを使用して放射線の投影ビームを提供するステップと、
パターニング手段を使用して、投影ビームの断面にパターンを与えるステップと、
複数の光学要素を使用して、前記パターンを付けられた放射線ビームを感光性材料の層のターゲット部分に投影するステップと、
センサを使用して前記光学要素の位置を測定するステップと
を含むデバイス製造方法であって、
前記光学要素または前記センサがフレーム上に取り付けられており、前記フレームが、０．１×１０-6Ｋ-1未満またはその値にほぼ等しい熱膨張係数を有するガラス・セラミック材料からなることを特徴とする方法が提供される。
【００１７】
この明細書では、本発明による装置のＩＣ製造についての使用に特に言及する場合があるが、そのような装置が多くの他の可能な適用例も有することをはっきりと理解されたい。例えば、集積光学系、磁区メモリのための誘導および検出パターン、液晶表示パネル、薄膜磁気ヘッドなどの製造に使用することができる。そのような代替適用例の文脈では、この本文における用語「焦点板」、「ウェハ」、または「ダイ」の使用を、より一般的な用語「マスク」、「基板」、および「ターゲット部分」でそれぞれ置き代えられるものとみなすべきであることを当業者は理解されよう。
【００１８】
この文書では、用語「放射線」および「ビーム」を、紫外放射線（例えば波長が３６５、２４８、１９３、１５７、または１２６ｎｍのもの）および極紫外（ＥＵＶ）放射線（例えば５〜２０ｎｍ、特に１３ｎｍ付近の波長を有するもの）、ならびにイオン・ビームや電子ビームなどの粒子ビームを含めた全てのタイプの電磁放射線を包含するものとして使用する。
【００１９】
次に、本発明の実施形態を、添付の概略図面を参照しながら単に例として説明する。
【００２０】
図中、対応する参照符号が、対応する部分を示す。
【００２１】
【発明の実施の形態】
（実施形態１）
図１は、本発明のある特定の実施形態によるリソグラフィ投影装置を概略的に示す。この装置は、以下のものを備える。
（１）放射線（例えばＥＵＶ放射線）の投影ビームＰＢを供給するための放射システムＥｘ、ＩＬ。この特定の場合には、放射線源ＬＡも備える。
（２）マスクＭＡ（例えば焦点板）を保持するためのマスク・ホルダを備え、アイテムＰＬに対してマスクを正確に位置決めするための第１の位置決め手段ＰＭに接続された第１のオブジェクト・テーブル（対象物テーブルまたはマスク・テーブル）ＭＴ。
（３）基板Ｗ（例えばレジスト被覆シリコン・ウェハ）を保持するための基板ホルダを備え、アイテムＰＬに対して基板を正確に位置決めするための第２の位置決め手段ＰＷに接続された第２のオブジェクト・テーブル（対象物テーブルまたは基板テーブル）ＷＴ。
（４）複数の光学要素すなわちミラーを使用して、基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つまたは複数のダイを備える）にマスクＭＡの照射部分を結像するための投影システム（「レンズ」）ＰＬ（例えば、ミラー系）。
本明細書で示すように、この装置は、反射性タイプの（例えば反射性マスクを有する）ものである。しかし一般には、例えば透過性タイプの（例えば、透過性マスクを有する）ものであってもよい。別法として、この装置は、上で言及したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなど別の種類のパターニング手段を使用することができる。
【００２２】
放射線源ＬＡ（例えば、レーザ発生または放電プラズマ源）は放射線ビームを発生する。このビームは、直接的に、または例えばビーム拡大器Ｅｘなどの調整手段を横切った後に、照明システム（照明器）ＩＬに供給される。照明器ＩＬは、ビームの強度分布の外側および／または内側放射範囲（一般にそれぞれσ外側およびσ内側と呼ばれる）を設定するための調節手段ＡＭを備えることができる。さらに、一般には、積分器ＩＮや集光レンズＣＯなど様々な他の構成要素も備える。このようにして、マスクＭＡに衝突するビームＰＢが、その断面で所望の均一性および強度分布を有するようにする。
【００２３】
図１に関して、放射線源ＬＡは（例えば放射線源ＬＡが水銀ランプであるときにしばしばそうであるように）リソグラフィ投影装置のハウジング内部にある場合があり、しかしリソグラフィ投影装置から離れていて、生成する放射線ビームが（例えば適切な方向付けミラーによって）装置内に導かれる場合もあることに留意されたい。この後者のシナリオは、放射線源ＬＡがエキシマ・レーザであるときにしばしばそうである。本発明および特許請求の範囲はこれら両方のシナリオを包含する。
【００２４】
ビームＰＢはその後、マスク・テーブルＭＴ上に保持されているマスクＭＡに交差する。ビームＰＢは、マスクＭＡを横切ると、レンズＰＬを通過し、レンズＰＬが、基板Ｗのターゲット部分ＣにビームＰＢの焦点を合わせる。第２の位置決め手段ＰＷ（および干渉計測定手段ＩＦ）によって、基板テーブルＷＴを、例えばビームＰＢの経路内に様々なターゲット部分Ｃを位置決めするように正確に移動することができる。同様に、第１の位置決め手段ＰＭを使用して、例えばマスク・ライブラリからマスクＭＡを機械的に検索した後、またはスキャン中に、ビームＰＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般に、オブジェクト・テーブルＭＴ、ＷＴの移動は、図１には明示していない長ストローク・モジュール（粗い位置決め）と短ストローク・モジュール（精密位置決め）とを用いて実現される。しかし（ステップ・アンド・スキャン装置と異なり）、ウェハ・ステッパの場合には、マスク・テーブルＭＴを短ストローク・アクチュエータにのみ接続すること、または固定することができる。
【００２５】
図示した装置は、２つの異なるモードで使用することができる。
１．ステップ・モードでは、マスク・テーブルＭＴが本質的に静止して保たれ、マスク・イメージ全体が、ターゲット部分Ｃに１度に（すなわちただ１回の「フラッシュ」で）投影される。次いで、基板テーブルＷＴがｘおよび／またはｙ方向にシフトされ、それにより別のターゲット部分ＣをビームＰＢによって照射することができる。
２．スキャン・モードでは、所与のターゲット部分Ｃがただ１回の「フラッシュ」で露光されない点を除き、本質的に同じシナリオが適用される。１回のフラッシュで露光するのではなく、マスク・テーブルＭＴが速度ｖで所与の方向（いわゆる「スキャン方向」、例えばｙ方向）に移動可能であり、それにより投影ビームＰＢがマスク・イメージ全体にわたってスキャンするようになっている。それと並行して、基板テーブルＷＴが、速度Ｖ＝Ｍｖで同方向または逆方向に同時に移動される。ここでＭはレンズＰＬの倍率である（典型的にはＭ＝１／４または１／５）。このようにすると、分解能を損なわずに、比較的大きなターゲット部分Ｃを露光することができる。
【００２６】
投影システムＰＬの光学要素が、図２に例示されるフレーム１０に取り付けられる。
【００２７】
投影ビームＰＢは、図示されるように、フレーム１０の上部から投影システムＰＬに入り、フレーム１０の底部から出る。複数の光学要素（Ｍ１〜Ｍ６）がフレーム１０の内部に支持されており、ビームがフレーム１０の底部を通して出る前に、ビームに対して作用する。ＥＵＶリソグラフィ装置の光学要素は反射性のものであり、参照により本明細書に組み込む欧州特許出願第０１３１０７８１．８号に記載される様式でフレーム１０に取り付けることができる。投影ビームＰＢが入った位置から出る位置までのフレーム１０の全長は約１．２〜１．４ｍであり、焦点板から基板までの距離は約１．５ｍである。
【００２８】
以前は（すなわち２４８または１９３ｎｍの波長を使用するリソグライフィ投影装置では）、フレーム１０は、容易に機械加工され、溶接により組み立てることができる金属から作成された。ステンレス鋼、およびより近年ではＩｎｖａｒ（商標）が使用されており、Ｉｎｖａｒ（商標）は、剛性が高く、熱膨張係数が低い（金属に比べて）ので特に適している。しかし、熱冷却または予測温度制御を用いないと、ＥＵＶリソグラフィ装置の熱安定性要件をそのようなフレームに適合させることができないことが判明している。
【００２９】
本発明によれば、０．１×１０-6Ｋ-1未満の熱膨張係数を有するガラス・セラミック材料のフレーム１０を作成することが提案されている。より好ましくは、フレーム１０の材料が、０．０５×１０-6または０．０２×１０-6Ｋ-1未満の熱膨張係数を有する。残念ながら、現在知られている金属には、必要とされる剛性と共にこの範囲内の熱膨張係数を有するものがなく、これが、フレーム１０をガラス・セラミック材料から作成する理由である。
【００３０】
望ましくない振動にフレーム１０が抵抗できるように、フレーム１０を硬くしなければならない。理論的には、必要とされるフレーム剛性は、単にフレーム１０の個々の部材をより厚くすることにより、多くの材料によって達成することができる。しかし、フレームの材料が高いヤング率Ｅおよび低い密度を有する場合、フレーム１０をより軽くかつより嵩張らないようにすることができるのでこれが好ましい。
【００３１】
低い熱膨張係数のガラス・セラミック材料が本発明のフレーム１０に最も良く適することが判明している。そのようなガラス・セラミックの一例は、ガラスとセラミックの合成物であり、しかしガラスでもセラミックでもないＵＬＥ（商標）、Ｚｅｒｏｄｕｒ（商標）、およびＣｏｒｄｉｅｒｉｔｅ（商標）、Ｃｌｅａｒｃｅｒａｍ−Ｚ（商標）、またはＡｓｔｒｏｓｉｔａｌ（商標）（Ｓｉｔａｌｌ、Ｓｉｔａｌｌ  ＣＯ−１１５Ｍ、およびＡｓｔｒｏｓｉｔａｌｌとしても知られている）である。ステンレス鋼およびＩｎｖａｒ（商標）の機械的特性と比較したそのような材料の機械的特性が表１に与えられている。
【表１】
0003836767.tif 000002
【００３２】
ＵＬＥ（商標）は、火炎加水分解によって製造されるチタン珪酸塩ガラス・セラミックである。この材料は、約７重量％の量で存在するＴｉＯ2を有するＳｉＯ2をベースにしている。Ｚｅｒｏｄｕｒ（商標）を含めた他の低膨張ガラスは、ＳｉＯ2と、Ｎａ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏなど少なくとも１つのアルカリ金属酸化物とをベースにしている。Ｃｏｒｄｉｅｒｉｔｅ（商標）は、ＭｇＯ、Ａｌ2Ｏ3、およびＳｉＯ2をベースにしている。
【００３３】
表１からわかるように、フレームに適した材料は、少なくとも６００００ＭＮ／ｍ2のヤング率Ｅを有するガラス・セラミック材料である。しかしながら、この要件を満たすいくつかのセラミックもまた存在する。
【００３４】
図２からわかるように、フレーム１０は、複数のガラス・セラミック部片から製造される。好ましい実施形態では、ガラス・セラミック材料はＺｅｒｏｄｕｒ（商標）である。フレーム１０の個別部品が、接着、フリッティング（接合すべき部片間に接着材料が配置される高温での接着）、融合によって、またはボルトを使用することによって接続される。したがって、温度に伴う経時的なフレーム１０の伸長は、通常使用されるタイプのステンレス鋼に比べて２００分の１に低減する。
【００３５】
フレーム１０は、任意の適切な様式で構成することができる。好ましい実施形態では、フレーム１０が、中心の第１のプレート１００と、２つのさらなるプレート１１０、１２０とを含む３つの概して平行なプレートからなり、２つのさらなるプレート１１０、１２０は、中心の第１のプレート１００に対して離隔された関係で位置決めされており、主面の一方が中心の第１のプレート１００の主面に面している。
【００３６】
プレートは振動を受けやすくなっている可能性があり、したがってプレート１００、１１０、１２０は、さらなるプレート１１０、１２０の一方の縁部と中心プレート１００の縁部との間に延在するスチフナ要素１３０を使用して一体に接続される。好ましい実施形態では、スチフナ要素１３０がプレートの縁部の全長に沿って延在し（すなわち要素１３０がプレートの形であり）、しかし必要な剛性は、スチフナ要素１３０がプレート１００、１１０、１２０のコーナ間に延在しているだけであっても達成可能であり、例えばプレートを連結するバーの形であってもよい。
【００３７】
好ましくは、光学要素がプレート１００、１１０、１２０に取り付けられる。プレート１００、１１０、１２０とスチフナ要素１３０との両方にあるスルー・ホール１１５、１３５によって、投影ビームＰＢがフレーム１０に入ることができ、また、ガス、空気などのユーティリティを光学要素の位置決め手段に提供すること、およびフレーム１０内部のセンサなどを可能にする。光学要素への接近を容易にするために、スチフナ要素１３０および／またはプレート１００、１１０、１２０に取外し可能なアクセス・パネルがあってもよい。
【００３８】
フレーム１０を光学要素の支持に関連して説明してきたが、フレーム１０は、光学要素の位置を検出するための様々なセンサの構成要素を支持していてもよい。しかし、本発明は、上述した投影システムの支持フレームから離隔された光学要素の位置を検出するための様々なセンサ構成要素を支持する、投影システムのいわゆる「基準フレーム」にも同様に適用可能である。
【００３９】
本発明の特定の実施形態を上述してきたが、本発明を上述した以外の形で実施することもできることを理解されたい。この記述は本発明を限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態によるリソグラフィ投影装置を示す図である。
【図２】本発明の実施形態によるリソグラフィ投影装置の投影システムのフレームの断面図である。
【符号の説明】
１０  フレーム
１００、１１０、１２０  プレート
１１５、１３５  スルー・ホール
１３０  スチフナ要素
ＣＯ  集光レンズ
Ｅｘ  放射システム、ビーム拡大器
ＩＬ  照明システム
ＩＮ  積分器
ＬＡ  放射線源
Ｍ１〜Ｍ６  光学要素
ＭＡ  マスク
ＭＴ  マスク・テーブル
ＰＢ  投影ビーム
ＰＬ  投影システム
ＷＴ  基板テーブル
【図１】
0003836767.tif 000003
【図２】
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