(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を２系に分割し、一方を被検体の被検面上に、他方を参照面上に照射し、該被検面からの被検光と該参照面からの参照光の干渉により生じる干渉縞を観察し、該観察結果に基づき該被検面の表面形状を測定する光波干渉装置において、
干渉装置本体と前記被検体の支持手段とが、前記光の分割位置と前記被検面との間の光路長を調整し得るよう相対変位可能に設けられており、
前記光の可干渉距離が、前記被検体の厚みの２倍に比べて短い距離に設定されており、
前記光の分割位置と前記被検面の干渉可能範囲位置との間の光路内に、該干渉可能範囲内に焦点位置を有する集光レンズが配設されており、
前記集光レンズが、前記干渉装置本体に支持されており、
前記干渉装置本体による前記集光レンズの支持が、前記光の分割位置と該集光レンズとの間の光路長を微調整可能な光路長微調整手段を介して行われていることを特徴とする光波干渉装置の被検体ポジショニング装置。
【請求項２】
前記干渉装置本体による前記集光レンズの支持が、該集光レンズを前記光の分割位置と前記被検面との間の光路から外れた退避位置へ移動可能な集光レンズ退避手段を介して行われていることを特徴とする請求項１記載の光波干渉装置の被検体ポジショニング装置。
【請求項３】
前記集光レンズ退避手段が、該集光レンズを前記退避位置において保持する集光レンズ退避位置保持手段を備えていることを特徴とする請求項２記載の光波干渉装置の被検体ポジショニング装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光波干渉装置の被検体ポジショニング装置に関し、特に、薄板状の被検体の被検面の表面形状を可干渉距離の短い光を用いて測定する場合において、該被検面を干渉可能範囲内に位置決めする際に用いられる光波干渉装置の被検体ポジショニング装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、マイケルソン型の干渉計においては、可干渉性を有する平行光を光分割手段で参照光と被検光とに分割し、これら参照光および被検光を参照面および被検面で各々反射させて上記光分割手段で再度合成した後、観察面上に干渉縞を形成させるように構成されており、この干渉縞を観察することにより被検面の凹凸形状等の評価を行えるようになっている。
【０００３】
ところで、上記干渉計として、レーザ干渉計を用いる場合には、レーザ光の干渉距離が長いことから、参照面に対して被検面の位置を正確に設定する必要はないものの、逆にガラス等の透明性薄板の場合、被検体の裏面からの反射光も、被検面からの反射光や参照面からの反射光と干渉を生じてしまい、本来の干渉縞上にノイズ成分の干渉縞を重畳させてしまう。
【０００４】
このため、従来は、レーザ干渉計を用いて薄板ガラス等を測定する場合は、ゴーストを発生する裏面に屈折率マッチングオイルを塗るなどの対策が必要であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このような対策を施すことは多大な手間を要し、被検体を汚染するなどの問題もあった。
また、特に被検体の厚さが極めて薄い場合には、この裏面にマッチングオイル等を塗布すると、その表面張力の影響で被検体が歪み被検面の正確な測定が行えないという問題も発生する。
【０００６】
そこで、薄板ガラス等の表面形状を測定する場合には可干渉距離の短い光（被検体の厚みｔの２倍よりも可干渉距離の短い光）を測定光として用い、被検面のみを干渉可能範囲に設定することが考えられる。
【０００７】
しかしながら、上記従来技術において、光源からの光の可干渉距離をＳCLとすると、被検面を配設すべき干渉可能範囲Ｌは、Ｌ＜ＳCL/２となる。例えば、光源として赤色発光ダイオード（ＬＥＤ）のように可干渉距離が３０μｍ程度のものを用いると干渉可能範囲Ｌは１５μｍよりも短いものとなってしまう。
【０００８】
そして、このような狭い範囲の中に被検体の被検面をポジショニングしなければ、参照板との相対的形状を示す干渉縞を発生させることはできない。
さらにその際、被検体の被検面は、被検体あるいは被検体が組み込まれた被検体ユニットの厚みによって位置が変化するため、これに対応したポジショニングが必要となる。
【０００９】
本発明は上記の事情に鑑み、可干渉距離の短い光を用いた光波干渉装置において、簡易な構成で、被検面を干渉可能範囲内に容易に位置設定し得る光波干渉装置の被検体ポジショニング装置を提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するため、本発明の光波干渉装置の被検体ポジショニング装置は、光源からの光を２系に分割し、一方を被検体の被検面上に、他方を参照面上に照射し、該被検面からの被検光と該参照面からの参照光の干渉により生じる干渉縞を観察し、該観察結果に基づき該被検面の表面形状を測定する光波干渉装置において、
干渉装置本体と前記被検体の支持手段とが、前記光の分割位置と前記被検面との間の光路長を調整し得るよう相対変位可能に設けられており、
前記光の可干渉距離が、前記被検体の厚みの２倍に比べて短い距離に設定されており、
前記光の分割位置と前記被検面の干渉可能範囲位置との間の光路内に、該干渉可能範囲内に焦点位置を有する集光レンズが配設されており、
前記集光レンズが、前記干渉装置本体に支持されており、
前記干渉装置本体による前記集光レンズの支持が、前記光の分割位置と該集光レンズとの間の光路長を微調整可能な光路長微調整手段を介して行われていることを特徴とするものである。
【００１２】
また、前記干渉装置本体による前記集光レンズの支持を、該集光レンズを前記光の分割位置と前記被検面との間の光路から外れた退避位置へ移動可能な集光レンズ退避手段を介して行うことも好ましい。
その際、前記集光レンズ退避手段を、該集光レンズを前記退避位置において保持する集光レンズ退避位置保持手段を備えた構成とすることが、さらに好ましい。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。
図１は、本発明の被検体ポジショニング装置が組み込まれる光波干渉装置を説明するための概略図であり、マイケルソンタイプとして構成されたものである。このマイケルソン型干渉計は、光源１と、コリメータレンズ２と、ビームスプリッタ３と、参照板４と、撮像レンズ７と、ＣＣＤ素子８とを備えてなり、本発明に係る被検体ポジショニング装置（これについては後述する）が、被検体５を保持しつつ、その位置を移動調整することができるようになっている。
【００１４】
上記光源１は可干渉距離の短い光を射出する光源であり、該光源１から射出された光１ａは、コリメータレンズ２で平行光にされた後、ビームスプリッタ３で参照光と被検光とに分割されるようになっている。そして、これら参照光および被検光は、参照板４の参照面４ａおよび被検体ポジショニング装置に支持された被検体５の被検面５ａで各々反射した後ビームスプリッタ３で再度合成され、撮像レンズ７によりＣＣＤ８の結像面上に干渉縞を形成するように構成されている。
【００１５】
ところで、この干渉装置においては被検体５の被検面５ａからの反射光と参照板４の参照面４ａからの反射光とにより形成される干渉縞上に、被検体５の裏面５ｂからの反射光に基づく干渉縞ノイズが重畳しないように光源１として干渉距離の極めて短い光１ａが射出される光源を選択している。
このように干渉装置において可干渉距離の短い光を射出する光源を用いた場合には、参照光および被検光の光路長が互いに等しくなるよう被検面５ａの光軸方向の位置を調整する被検面距離合わせを行う必要がある。
【００１６】
図１に示される、被検面５ａの干渉可能範囲Ｌは、光１ａの可干渉距離をＳCLとすると、 Ｌ＜ＳCL/２となる。しかも、可干渉距離ＳCLは被検体５の厚みｔに比べて極めて小さくなるように設定されている。例えば、光源１を可干渉距離ＳCL≒３０μｍの赤色のＬＥＤとした場合、上記干渉可能範囲Ｌは１５μｍよりも小さい値となる。これにより、干渉縞測定時において被検体５の被検面５ａに基づく干渉縞が観察されているときは、被検体５の裏面５ｂに基づく干渉縞は観察されない。
【００１７】
そして、被検体５は、上記被検体ポジショニング装置によって矢印Ａ方向に移動され、被検面５ａがこの干渉可能範囲内に位置決めされることになるが、このように極めて短い範囲６内に被検体５の被検面５ａをポジショニングするのは容易ではない。特にＣＣＤ８上に結像される干渉縞をモニタ上で観察し、干渉縞が出現した瞬間に被検体の移動を停止することで上記ポジショニングを行おうとすると、干渉縞がモニタ上に出現した際には、被検面５ａの移動に応じて干渉縞も高速で移動することになるので干渉縞の出現を確認すること自体が極めて困難な作業となる。
【００１８】
そこで、本発明に係る被検体ポジショニング装置においては、図示する如く、光路内に、上記干渉可能範囲６内に焦点位置Ｆを有する、被検体のポジショニングを行うための集光レンズ９を配設している。
【００１９】
以下、図２および図３を用いてこの集光レンズ９による被検体ポジショニング装置の作用効果を説明する。
まず、図２（ａ）は、被検体５の被検面５ａが干渉可能範囲６内に到達せず、集光レンズ９からの光が発散状態で被検面５ａに照射され、反射される場合を示す。
【００２０】
この集光レンズ９は、図１に示すビームスプリッタ３から射出された平行光束中に配されており、この集光レンズ９の焦点位置Ｆより遠い位置に被検面５ａが存在すると、この集光レンズ９を通過した光束は被検面５ａに照射され、反射されることになるが、この反射された光束は被検面５ａを挟んでＦと対称な位置Ｆ′に発光点があたかも存在するように進む。
【００２１】
この光束が再び集光レンズ９を通過すると、図２（ａ）に示されるように、平行光にはならず集束光として上記ビームスプリッタ３に戻ることになる。
図２（ｂ）は、被検面５ａが集光レンズ９の焦点位置Ｆにちょうど到達した場合を示す。この場合は被検面５ａで反射された光束は焦点位置Ｆを発光点とする光束となり、この光束が再び集光レンズ９において平行光束とされて上記ビームスプリッタ３に戻ることになる。
【００２２】
図２（ｃ）は、被検面５ａが集光レンズ９の焦点位置Ｆを通り過ぎてしまった場合を示す。この場合には、被検面５ａを挟んで焦点位置Ｆと対称な位置Ｆ′が実際の点光源となり、この点光源からの発散光束が集光レンズ９に再入射することになる。この位置Ｆ′は集光レンズ９の焦点位置Ｆの内側にあたるためこの集光レンズ９から射出され、逆行する光束は発散光となって、上記ビームスプリッタ３に戻る。
【００２３】
また、図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示された各場合における、ＣＣＤ８上に形成されたパターンは、モニタ上において各々視野２０内に図３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の如く表示される。
すなわち、図２（ａ）に示される状態では、図３（ａ）に示されるように集光レンズ９の径のサイズ２１部分に暗いスポット２２ｂが形成され、そのスポット２２ｂの中に、それよりサイズの小さい明るいスポット２２ａが形成される。
【００２４】
また、図２（ｂ）に示される状態では、図３（ｂ）に示されるように集光レンズ９の径のサイズ部分２１の全体が、均一の明るさのスポット２３となり、その明るさはこの部分２１の周囲と同等程度となる。
さらに、図２（ｃ）に示される状態では、図３（ｃ）に示されるように集光レンズ９の径のサイズ部分２１より大きい範囲にやや明るいスポット２５が形成される。集光レンズ９の径のサイズ部分３２１と一致して暗いスポット２４が形成される。
【００２５】
このように、集光レンズ９を逆行した光束は、ＣＣＤ８上に所定のサイズあるいは所定の明るさのスポットを形成し、図３（ｂ）に示すように、このスポット２３と視野２０内の他の領域との明るさの区別がほとんどない状態となったときに、被検面５ａが干渉可能範囲６の近傍にポジショニングされていることが検出できる。
【００２６】
このポジショニングをより正確なものとするためには、上記明るさの変化あるいはスポットの大きさの変化に対する感度を敏感にすればよい。そのためには、図２からも明らかなように、ビームスプリッタ３から射出された光束の集光レンズ９による集光角が大きいほど望ましい。すなわち、集光レンズ９の径のサイズに対して焦点位置Ｆまでの距離が小さいレンズ、換言すれば、集光レンズ９の径のサイズをＤとし、焦点位置Ｆまでの距離（焦点距離）をｆとしたとき、ｆ／Ｄがなるべく小さい程感度がよく望ましい。ここで、ｆ／Ｄはレンズの開口数（Ｆナンバ）であり、Ｆナンバが小さい程明るいレンズである。
【００２７】
次に、上記被検体ポジショニング装置の具体的構成について説明する。
図４および５は、被検体ポジショニング装置３１が組み込まれたマイケルソン型干渉計３０を示す全体図であり、図４（ａ）が正面図、図４（ｂ）が右側面図、図５（ａ）が背面図、図５（ｂ）が上面図である。
【００２８】
これらの図に示すように、上記マイケルソン型干渉計３０は、基体３２と、干渉装置本体３３と、被検体支持機構３４と、集光レンズ保持機構３５とを備えてなり、上記被検体支持機構３４と上記集光レンズ保持機構３５とにより、被検体ポジショニング装置３１が構成されるようになっている。
【００２９】
上記基体３２は、台座３６と、この台座３６に固設されて上方へ延びるピラー３７とからなっている。上記ピラー３７は、その略上半部が円柱部３７ａとして形成されている。
【００３０】
上記干渉装置本体３３は、その後部コーナ部に、上記円柱部３７ａと上下方向に摺動可能に係合する上下１対の挟持部材３８が設けられており、さらに、これら各挟持部材３８は、レバー３９により上記円柱部３７ａに対する固定および固定解除がなされるようになっている。そして、これにより、上記干渉装置本体３３は図示の位置から所定量上方位置まで移動し得るようになっている。
【００３１】
図６は、図４（ａ）の要部拡大図である。
図示のように、上記被検体支持機構３４は、上記台座３６にボルト固定された基台４０と、この基台４０上にボルト固定された固定機枠４１と、この固定機枠４１内に収納されたＺ軸調整ステージ４２および２軸あおり調整ステージ４３と、被検体５を載設する被検体載設台４４とを備えている。
【００３２】
上記２軸あおり調整ステージ４３は、上記Ｚ軸調整ステージ４２上に載設されており、さらに、上記被検体載設台４４は、上記２軸あおり調整ステージ４３上に載設されている。
【００３３】
上記固定機枠４１の上端部には、上方へ延びる突出ピン４５が３箇所に固設されており、これら突出ピン４５は、上記被検体載設台４４の外周縁部３箇所に形成された貫通孔４４ａに挿通されるようになっている。また、上記固定機枠４１の側壁部には、互いに直交する方向に、上記Ｚ軸調整ステージ４２の調整用マイクロメータ４６と、上記２軸あおり調整ステージ４３の調整用マイクロメータ４７、４８が突設されている。
【００３４】
一方、上記集光レンズ保持機構３５は、固定部３５Ａと可動部３５Ｂとからなり、上記固定部３５Ａにおいて、上記干渉装置本体３３の下部フレーム４９に固定支持されている。
【００３５】
図７は、上記集光レンズ保持機構３５を単品で示す詳細断面図である。
図示のように、この集光レンズ保持機構３５の上記固定部３５Ａは、上記下部フレーム４９に下方から当接して該下部フレーム４９にボルト固定される前後１対のフランジ５１ａを有するハウジング５１と、このハウジング５１に形成された上下方向に延びる貫通孔５１ｂに装着されたリニアボールベアリング５２と、このリニアボールベアリング５２の抜け止めを図るべく上記ハウジング５１に固着された上下１対の抜け止めプレート５３、５４と、上記ハウジング５１の下端部に固着された前後１対のＬ字フック５５、５６とからなっている。
【００３６】
一方、上記可動部３５Ｂは、上記ハウジング５１に上記リニアボールベアリング５２を介して上下動可能に支持されたロッド５７と、このロッド５７の下端部に螺合固定されて水平方向にアーム状に延びるとともに、先端部近傍において上記集光レンズ９を保持するレンズホルダ５８と、上記ロッド５７の上端部に形成されたネジ部５７ａと螺合する突き当て板５９およびナット６０とからなっている。
【００３７】
そして、この可動部３５Ｂは、上記ロッド５７を手で保持しながら上記突き当て板５９を回転させて、該突き当て板５９の上記ロッド５７に対する螺合位置を該ロッド５７の軸方向に変化させることにより、上記レンズホルダ５８に保持された上記集光レンズ９を上下方向に変位させることができるようになっている。その際、上記ナット６０を上記突き当て板５９に圧接させるように締め付けることにより、上記突き当て板５９の上記ロッド５７に対する位置決め固定を行うようになっている。なお、このような位置決め固定がなされた状態においても、上記可動部３５Ｂは、上記固定部３５Ａに対して上記ロッド５７の軸まわりに回動可能である。
【００３８】
上記１対のＬ字フック５５、５６は、上記ロッド５７を中心とする点対称配置で上記ハウジング５１のフランジ５１ａの下面にボルト固定されている。これら各Ｌ字フック５５、５６の先端部と上記フランジ５１ａの下面との間には、上記レンズホルダ５８の厚さよりもやや大きな上下間隙が形成されるようになっている。
【００３９】
上記集光レンズ保持機構３５は、図６に示す状態では、上記集光レンズ９を、上記ビームスプリッタ３と被検体５との間の光路内に位置せしめるようになっているが、図８に示すように、上記突き当て板５９を手で掴んで上記レンズホルダ５８が上記ハウジング５１の下面に当接する位置まで上方へ持ち上げた後、該突き当て板５９を時計回りに９０°回転させて、上記レンズホルダ５８を上記１対のＬ字フック５５、５６に係合載置せしめることにより、上記集光レンズ９を、上記ビームスプリッタ３と被検体５との間の光路から外れた退避位置へ移動させることができるようになっている。図９は、上記レンズホルダ５８の上記１対のＬ字フック５５、５６に対する係合載置の様子を詳細に示す斜視図である。
【００４０】
以上説明したように、本実施形態に係る被検体ポジショニング装置３１は、干渉装置本体３３が、上記ビームスプリッタ３（光の分割位置）と被検面との間の光路長を調整し得るよう上下方向に変位可能に設けられているとともに、上記ビームスプリッタ３と被検面の干渉可能範囲位置との間の光路内に、該干渉可能範囲内に焦点位置を有する集光レンズ９が配設されるようになっているが、該集光レンズ９は、上記被検体支持機構３４ではなく上記干渉装置本体３３に支持されているので、被検体５の厚みに応じて上記干渉装置本体３３を上下方向へ変位させたような場合においても、該集光レンズ９は上記干渉装置本体３３の光学系と共に変位することとなり、これにより該集光レンズ９の焦点位置を被検面が位置すべき点に常に一致させることができ、このため被検体５の被検面のポジショニングを容易に行うことができる。
【００４１】
このように本実施形態によれば、可干渉距離の短い光を用いたマイケルソン型干渉計において、簡易な構成で、被検面を干渉可能範囲内に容易に位置設定し得る被検体ポジショニング装置を得ることができる。
しかも、本実施形態においては、上記干渉装置本体３３による上記集光レンズ９に対する支持が、上記集光レンズ保持機構３５を介してなされているので、次のような効果を得ることができる。
【００４２】
すなわち、上記集光レンズ保持機構３５は、上記突き当て板５９の上記ロッド５７に対する螺合位置を該ロッド５７の軸方向に変化させることにより、上記レンズホルダ５８に保持された上記集光レンズ９を上下方向に変位させ得るように構成されており、これにより上記ビームスプリッタ３と上記集光レンズ９との間の光路長を微調整することができるようになっているので、上記集光レンズ９の焦点位置を上記干渉可能範囲内に容易に設定することができ、かつ、一旦この設定を行えば、上記干渉装置本体３３の光学系における一定位置に上記焦点位置を常に保持することができ、後の調整が不要となる。
【００４３】
また、上記集光レンズ保持機構３５は、その可動部３５Ｂを操作することにより、上記集光レンズ９を、上記ビームスプリッタ３と上記被検体５との間の光路内の位置と、該光路から外れた退避位置との間を移動させ得るように構成されているので、被検面のポジショニングを行った後は、上記集光レンズ９を上記退避位置へ移動させておくことにより、干渉縞測定の際に、上記集光レンズ９により形成されるスポットパターンおよび上記レンズホルダ５８の影が観察画面上に形成されてしまうのを防止することができる。しかも、本実施形態においては、上記退避位置への移動を、上記突き当て板５９を上方へ持ち上げて回転させるだけの簡単な操作で行うことができる。
【００４４】
さらに、上記集光レンズ保持機構３５は、上記退避位置において上記レンズホルダ５８を固定部３５Ａの１対のＬ字フック５５、５６に係合載置せしめるように構成されているので、干渉縞測定の際に上記集光レンズ９を上記退避位置に確実に保持しておくことができる。
【００４５】
上記実施形態においては、上記集光レンズ９の上記退避位置へ移動を手動で行うように構成されているが、ポジショニング時と干渉縞測定時の別を認識し得る信号に基づき上記移動を自動的に行うように構成してもよい。
【００４６】
また、上記実施形態において、図１に示すように、遮蔽板１０を矢印Ｂ方向に移動させ、参照光の光路中に挿入、退避可能とし、上記ポジショニング時には参照光が参照板４に入射するのを遮断するようにすれば、観察視野３２０内におけるスポットパターンのＳ／Ｎが向上し、より正確なポジショニング操作を行うことができる。
さらに、受光素子としては、上記ＣＣＤ等の面センサのみならず、ラインセンサや単一素子センサを用いることもできる。
【００４７】
また、上記実施形態においては、上記退避位置が、上記ビームスプリッタ３と上記被検体５との間の光路から外れた位置に設定されているが、上記光路内であっても、上記集光レンズ９により形成されるスポットパターンおよびレンズホルダ５８の影が、さほど干渉縞測定の邪魔にならない観察画面の端部位置等に上記退避位置を設定するようにしてもよい。
【００４８】
なお、本発明の装置はマイケルソン型干渉装置にのみ適合されるものではなく、被検光と参照光の光路長を略等しい距離とし得る干渉装置、例えばマッハツェンダ干渉装置に適用することも可能である。
【００４９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の光波干渉装置の被検体ポジショニング装置は、干渉装置本体と被検体の支持手段とが、光の分割位置と被検面との間の光路長を調整し得るよう相対変位可能に設けられているとともに、光の分割位置と被検面の干渉可能範囲位置との間の光路内に、該干渉可能範囲内に焦点位置を有する集光レンズが配設されているが、該集光レンズは、上記被検体支持手段ではなく上記干渉装置本体に支持されているので、被検体あるいは被検体が組み込まれた被検体ユニットの厚み等に応じて上記干渉装置本体を上記被検体支持手段に対して変位させたような場合においても、該集光レンズは上記干渉装置本体の光学系と共に変位することとなり、これにより該集光レンズの焦点位置を被検面が位置すべき点に常に一致させることができ、このため被検体の被検面のポジショニングを容易に行うことができる。
このように本発明によれば、可干渉距離の短い光を用いた光波干渉装置において、簡易な構成で、被検面を干渉可能範囲内に容易に位置設定し得る被検体ポジショニング装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る被検体ポジショニング装置が組み込まれる光波干渉装置を説明するための概略図
【図２】上記光波干渉装置の作用を示す図
【図３】上記光波干渉装置の作用を示す図
【図４】上記光波干渉装置の具体的構成を示す全体図（（ａ）は正面図、（ｂ）は右側面図）
【図５】上記光波干渉装置の具体的構成を示す全体図（（ａ）は背面図、（ｂ）は上面図）
【図６】図４（ａ）の要部拡大図
【図７】上記被検体ポジショニング装置の集光レンズ保持機構を単品で示す詳細断面図
【図８】上記被検体ポジショニング装置の作用を示す、図６と同様の図
【図９】上記集光レンズ保持機構におけるレンズホルダの１対のＬ字フックに対する係合載置の様子を詳細に示す斜視図
【符号の説明】
１          光源
２          コリメータレンズ
３          ビームスプリッタ
４          参照板
４ａ        参照面
５          被検体
５ａ        被検面
６          干渉可能範囲
７          撮影レンズ
８          ＣＣＤ
９          集光レンズ
３０        マイケルソン型干渉計（光波干渉装置）
３１        被検体ポジショニング装置
３２        基体
３３        干渉装置本体
３４        被検体支持機構（支持手段）
３５        集光レンズ保持機構（光路長微調整手段）（集光レンズ退避手段）
３５Ａ      固定部
３５Ｂ      可動部
３６        台座
３７        ピラー
３７ａ      円柱部
３８        挟持部材
３９        レバー
４４        被検体載設台
４９        下部フレーム
５１ａ      フランジ
５１ｂ      貫通孔
５１        ハウジング
５２        リニアボールベアリング
５３、５４  抜け止めプレート
５５、５６  Ｌ字フック（集光レンズ退避位置保持手段）
５７        ロッド
５７ａ      ネジ部
５８        レンズホルダ
５９        突き当て板
６０        ナット
【図１】
0003810027.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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