(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）メチルメタクリレートとメタクリル酸及び／又はアクリル酸との共重合物にグリシジルアクリレート及び／又はグリシジルメタクリレートを付加させて得られた、重量平均分子量５，０００〜５０，０００、酸価８０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇを有し、かつその二重結合当量が４００〜２，０００である芳香環を含まない共重合樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）光重合性モノマー、（Ｄ）希釈溶剤、（Ｅ）ガラスフリット、（Ｆ）リン酸、亜リン酸、モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、モノ（２−アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジ（２−メタクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート及びジ（２−アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェートよりなる群から選ばれた少なくとも１種のリン酸化合物及び（Ｇ）アルミナ、ムライト、コージェライト、ジルコン、ジルコニア及びチタン酸鉛よりなる群から選ばれた少なくとも１種のセラミック粉末を含有することを特徴とするアルカリ現像型光硬化性ガラスペースト組成物。
【請求項２】
さらに黒色顔料（Ｈ）を含有することを特徴とする請求項１に記載のアルカリ現像型光硬化性ガラスペースト組成物。
【請求項３】
前記ガラスフリット（Ｅ）のガラス転移点が３００〜５５０℃であり、前記黒色顔料（Ｈ）がＦｅ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏの酸化物の１種又は２種以上を主成分として含む金属酸化物顔料であり、かつ該金属酸化物顔料を上記ガラスフリット（Ｅ）１００重量部に対して３〜１００重量部の割合で含有する請求項２に記載のアルカリ現像型光硬化性ガラスペースト組成物。
【請求項４】
ガラスフリット（Ｅ）１００重量部に対してリン酸化合物（Ｆ）を０．１〜５重量部の割合で含有する請求項１乃至３のいずれか一項に記載のアルカリ現像型光硬化性ガラスペースト組成物。
【請求項５】
前記請求項１乃至４のいずれか一項に記載のアルカリ現像型光硬化性ガラスペースト組成物をプラズマディスプレイパネル用基板上にコーティングし、該コーティング層を所定のパターン通りに選択的に活性光線により露光する工程、上記コーティング層の未露光部をアルカリ性水溶液により現像して除去する工程、及び現像後の上記コーティング層を焼成する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル隔壁の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の隔壁を形成するためのアルカリ現像型光硬化性ガラスペースト組成物及びそれを用いたプラズマディスプレイパネル隔壁の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）はガス放電による発光を利用して映像や情報の表示を行う平面ディスプレイであり、パネル構造、駆動方法によってＤＣ型とＡＣ型に分類される。
ＤＣ型ＰＤＰにおいては、各セル空間は格子状の隔壁（バリヤーリブ）により区画され、一方、ＡＣ型ＰＤＰにおいては基板面に平行に列設された隔壁により区画されるが、いずれにおいてもセル空間の区画は、隔壁によりなされている。この隔壁は、放電セル間の誤放電やクロストークがなく、良好な表示が行われるように発光放電を一定の領域内に制限するためのものであり、その高さ、幅、パターンギャップによって均一な放電空間を保持すると共に、パネル全体の機械的強度を高める機能を有している。そのため、プラズマディスプレイパネルにおいて高い発光輝度を得るためには、放電ガス空間はできるだけ広く取り、隔壁はできるだけ薄くする必要がある。すなわち、縦横比（アスペクト比）の大きな、幅が狭く背の高い充分な強度を有する隔壁を形成する必要がある。
【０００３】
従来、プラズマディスプレイパネルの隔壁の形成には、一般にスクリーン印刷法を用いてパターンニングが行われていた。
しかしながら、プラズマディスプレイパネルに要求される大画面化及びパターンの高精細化に対しては、従来のスクリーン印刷法では、熟練度を要し、また印刷時における掠れや滲み、スクリーンの伸縮に起因する位置合わせ精度等の問題があり、歩留まりが低いという問題があった。
【０００４】
そこで、スクリーン印刷法に代わり得る隔壁形成方法として、フォトリソグラフィー法が提案されている（例えば、特開平２−１６５５３８号参照）。また、紫外線硬化時におけるハレーションを防止するために黒色顔料を添加することも提案されている（例えば、特開平６−１４４８７１号参照）。
フォトリソグラフィー法は、紫外線硬化型ガラスペースト材料をガラス基板上にコーティングし、露光、現像によって隔壁パターンを形成するものである。しかしながら、従来知られているものは有機溶剤現像型のものであり、作業環境の悪化や経済的な問題があるため、このような問題のないアルカリ性水溶液により現像可能な紫外線硬化型ガラスペースト材料の開発が望まれている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、紫外線硬化型樹脂組成物を作業環境保護の点において有用な手段であるアルカリ現像タイプにするためには、紫外線硬化性樹脂としてカルボキシル基を有する高分子化合物を用いることが一般的に知られている。
しかしながら、プラズマディスプレイパネルの隔壁形成に用いられるガラスペースト組成物にカルボキシル基を有する高分子化合物を配合した場合、得られるペーストの粘度安定性が極めて悪く、実用に適さない。すなわち、ガラスペースト組成物の粘度安定性が悪い場合、縦横比（アスペクト比）の大きな一定の隔壁パターンを安定して形成することが困難になり、プラズマディスプレイパネルにおいてはその性能上大きな問題になる。また、組成物のゲル化や流動性の低下により塗布作業性が悪くなるという問題もある。
【０００６】
したがって、本発明の目的は、前記したような問題が無く、フォトリソグラフィー技術により容易にかつ歩留り良く大面積、高精細の安定した隔壁パターンを形成できるプラズマディスプレイパネル用のアルカリ現像型光硬化性ガラスペースト組成物を提供することにある。
さらに本発明の目的は、作業環境の悪化等の問題もなく、フォトリソグラフィー技術により大面積のプラズマディスプレイパネル用基板上に高精細の隔壁パターンを歩留り良くかつ生産性良く経済的に形成できるプラズマディスプレイパネル隔壁の製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明によれば、（Ａ）メチルメタクリレートとメタクリル酸及び／又はアクリル酸との共重合物にグリシジルアクリレート及び／又はグリシジルメタクリレートを付加させて得られた、重量平均分子量５，０００〜５０，０００、酸価８０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇを有し、かつその二重結合当量が４００〜２，０００である芳香環を含まない共重合樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）光重合性モノマー、（Ｄ）希釈溶剤、（Ｅ）ガラスフリット、（Ｆ）リン酸、亜リン酸、モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、モノ（２−アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジ（２−メタクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート及びジ（２−アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェートよりなる群から選ばれた少なくとも１種のリン酸化合物及び（Ｇ）アルミナ、ムライト、コージェライト、ジルコン、ジルコニア及びチタン酸鉛よりなる群から選ばれた少なくとも１種のセラミック粉末を含有することを特徴とするアルカリ現像型光硬化性ガラスペースト組成物が提供される。さらに好適な態様によれば、（Ｈ）黒色顔料を含有する。
【０００８】
さらに本発明によれば、前記アルカリ現像型光硬化性ガラスペースト組成物をプラズマディスプレイパネル用基板上にコーティングし、該コーティング層を所定のパターン通りに選択的に活性光線により露光する工程、上記コーティング層の未露光部をアルカリ性水溶液により現像して除去する工程、及び現像後の上記コーティング層を焼成する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル隔壁の製造方法が提供される。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意研究の結果、ガラスペースト組成物に配合するカルボキシル基を有する感光性樹脂として、（Ａ）メチルメタクリレートとメタクリル酸及び／又はアクリル酸との共重合物にグリシジルアクリレート及び／又はグリシジルメタクリレートを付加させた共重合樹脂を用いることによりアルカリ性水溶液に可溶性とすると共に、このような組成物における粘度安定性（保存安定性）の悪さや、ゲル化や流動性の低下により塗布作業性が悪いという問題は（Ｆ）リン酸化合物を配合することにより解決できることを見い出し、本発明を完成するに至ったものである。
その結果、本発明のアルカリ現像型光硬化性ガラスペースト組成は、作業環境の悪化等の問題もなく、フォトリソグラフィー技術により大面積のプラズマディスプレイパネル用基板上に高精細の隔壁パターンを歩留り良くかつ生産性良く安定して形成できる。
【００１０】
本発明の組成物は下記の成分により構成される。
（Ａ）メチルメタクリレートとメタクリル酸及び／又はアクリル酸との共重合物にグリシジルアクリレート及び／又はグリシジルメタクリレートを付加させた共重合樹脂、
（Ｂ）光重合開始剤、
（Ｃ）光重合性モノマー、
（Ｄ）希釈溶剤、
（Ｅ）ガラスフリット、
（Ｆ）リン酸化合物、
（Ｇ）セラミック粉末、さらに好適な態様においては、
（Ｈ）黒色顔料、好ましくはＦｅ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏの酸化物の１種又は２種以上を主成分として含む金属酸化物黒色顔料。
【００１１】
各成分の組成比としては、共重合樹脂（Ａ）１００重量部に対して光重合開始剤（Ｂ）を５〜２０重量部、光重合性モノマー（Ｃ）を２０〜１００重量部の割合とし、またガラスフリット（Ｅ）１００重量部に対してリン酸化合物（Ｆ）を０．５〜２重量部、セラミック粉末（Ｇ）を１〜１００重量部、黒色顔料（Ｈ）を３〜１００重量部の割合とし、さらに上記成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の総和量に対し上記成分（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）、（Ｈ）の総和量を０．５〜１０倍の比率で配合することが好ましい。希釈溶剤（Ｄ）については、ペースト塗布方法に応じて適宜の量的割合で配合することができる。また、アクリル系及びシリコーン系の消泡・レベリング剤を添加することもできる。
【００１２】
本発明のガラスペースト組成物に用いる共重合樹脂（Ａ）としては、重量平均分子量５，０００〜５０，０００、好ましくは６，０００〜３０，０００、及び酸価８０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、好ましくは９５〜１２５ｍｇＫＯＨ／ｇを有し、かつその二重結合当量が４００〜２，０００、好ましくは８００〜１，５００のものを好適に用いることができる。
共重合樹脂（Ａ）の分子量が５，０００より低い場合、現像時のガラスコーティング層の密着性に悪影響を与え、一方、５０，０００よりも高い場合、現像性の劣化が生じ、現像不良を生じ易いので好ましくない。また、酸価が８０ｍｇＫＯＨ／ｇより低い場合、現像性の劣化が生じ、現像不良を生じ易く、一方、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇより高い場合、現像時にガラスコーティング層の密着性の劣化や光硬化部（露光部）の溶解が生じるので好ましくない。さらに、二重結合当量が４００よりも小さい場合、焼成時に残渣が残り易くなり、一方、２，０００よりも大きい場合、現像時の作業余裕度が狭く、また光硬化時に高露光量を必要とするので好ましくない。
【００１３】
光重合開始剤（Ｂ）としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイン・ベンゾインアルキルエーテル類；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのアセトフェノン類；２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリーブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−アミルアントラキノンなどのアントラキノン類；２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−イソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類；ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類；キサントン類；１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタンなどの公知慣用の光重合開始剤を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。また、これらの光重合開始剤（Ｂ）は、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミン、トリエタノールアミンなどの三級アミン類のような公知慣用の光増感剤の１種あるいは２種以上と組み合わせて用いることができる。
【００１４】
本発明の組成物において、光重合性モノマー（Ｃ）は、組成物の光硬化性の促進及び現像性を向上させるために用いる。光重合性モノマー（Ｃ）としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート，２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリウレタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及び上記アクリレートに対応する各メタクリレート類、多塩基酸とヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとのモノ−、ジ−、トリ−又はそれ以上のポリエステルなどがあり、これらを単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００１５】
本発明の組成物に用いる希釈溶剤（Ｄ）は、組成物を希釈することによりペースト化し、容易に塗布工程を可能とし、次いで乾燥させて造膜し、接触露光を可能とするために用いられる。具体的には、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；セロソルブ、メチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの酢酸エステル類；エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール類；オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素；石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石油系溶剤が挙げられ、これらを単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００１６】
ガラスフリット（Ｅ）の組成としては、ＰｂＯ  ６０〜８０％、Ｂ2 Ｏ3   １〜２０％、ＳｉＯ2   １〜１５％、Ａｌ2 Ｏ3   １〜１０％のものが好ましい。また、熱膨張係数α300 ＝７０〜９０×１０-7／℃、ガラス転移点３００〜５５０℃、また解像度の点からは平均粒径２０μｍ以下のもの、好ましくは５μｍ以下のものを用いることが好ましい。
【００１７】
本発明の組成物では、組成物の粘度安定性（保存安定性）向上のため、ガラスフリット（Ｅ）１００重量部に対して０．１〜５重量部の割合でリン酸化合物（Ｆ）を添加する。リン酸化合物（Ｆ）としては、リン酸、亜リン酸、モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、モノ（２−アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジ（２−メタクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジ（２−アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェートなどが挙げられ、これらを単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００１８】
前記セラミック粉末（Ｇ）としては、アルミナ、ムライト、コージェライト、ジルコン、ジルコニア、チタン酸鉛等の種々のセラミック粉末を用いることができる。
また、本発明のガラスペースト組成物では、露光時におけるハレーションを防止し、また焼成後の隔壁の黒色度を向上させるために、ガラスフリット（Ｅ）１００重量部に対して３〜１００重量部の割合で黒色顔料（Ｈ）を添加できる。黒色顔料（Ｈ）としては、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏの酸化物の１種又は２種以上を主成分として含む金属酸化物を好適に用いることができる。黒色顔料（Ｈ）の平均粒径は、解像度の点から２０μｍ以下のもの、好ましくは５μｍ以下のものが好ましい。
【００１９】
本発明のガラスペースト組成物は、スクリーン印刷法、バーコーター、ブレードコーターなど適宜の塗布方法でプラズマディスプレイパネルのガラス基板上に塗布される。次に、指触乾燥性を得るために熱風循環式乾燥炉等で希釈溶剤を蒸発させる。このようにコーティングした後露光及び現像する工程を、１回又は複数回繰り返して所定の厚み及びアスペクト比の隔壁パターンを形成した後、焼成を行う。
【００２０】
露光工程としては、所定の露光パターンを有するフォトマスクを用いた接触露光及び非接触露光が可能であるが、解像度の点からは接触露光が好ましい。また、露光環境としては、真空中又は窒素雰囲気下が好ましい。露光光源としては、ハロゲンランプ、高圧水銀灯、レーザー光、メタルハライドランプ、ブラックランプ、無電極ランプなどが使用される。
【００２１】
現像工程としてはスプレー法、浸漬法等が用いられる。現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウム等の金属アルカリ水溶液や、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン水溶液などのアルカリ性水溶液が好適に用いられるが、現像液によって組成物中の共重合樹脂（Ａ）がケン化され、未硬化部（未露光部）が除去されれば良く、上記のような現像液に限定されるものではない。また、現像後に不要な現像液の除去のため、水洗や酸中和を行うことが好ましい。
【００２２】
焼成工程においては、現像後の基板を空気中又は窒素雰囲気下で４５０〜６００℃の加熱処理を行い、隔壁パターンを形成する。またこの時、４００〜５００℃に加熱して有機物を除去する工程を途中で入れることが好ましい。
【００２３】
【実施例】
以下に実施例及び比較例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明が下記実施例に限定されるものでないことはもとよりである。なお、「部」及び「％」とあるのは、特に断りがない限り全て重量基準である。
【００２４】
合成例：
温度計、攪拌機、滴下ロート、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルメタクリレートとメタクリル酸を表１に示すモル比で仕込み、溶媒としてジプロピレングリコールモノメチルエーテル、触媒としてアゾビスイソブチロニトリルを入れ、窒素雰囲気下、８０℃で２〜６時間攪拌し、樹脂溶液を得た。
この樹脂溶液を冷却し、重合禁止剤としてメチルハイドロキノン、触媒としてテトラブチルホスホニウムブロミドを用い、グリシジルメタクリレートを９５〜１０５℃で１６時間の条件で表１に示す所定モル比で得られた樹脂のカルボキシル基に対して付加反応させ、冷却後取り出した。
【００２５】
上記反応により生成した共重合樹脂Ａ及びＢの物性を表１に示す。
なお、表１中、ＭＭＡはメチルメタクリレート、ＭＡはメタクリル酸、ＧＭＡはグリシジルメタクリレート、Ｍｗは共重合樹脂の重量平均分子量、Ａｖは共重合樹脂の酸価を示す。また、得られた共重合樹脂の重量平均分子量の測定は、（株）島津製作所製ポンプＬＣ−６ＡＤと昭和電工（株）製カラムＳｈｏｄｅｘ（登録商標）ＫＦ−８０４、ＫＦ−８０３、ＫＦ−８０２を三本つないだ高速液体クロマトグラフィーにより測定した。
【表１】
0003805438.tif 000002
【００２６】
上記合成例及び比較合成例にて得られた共重合樹脂を用い、下記に示す組成比にて配合し、攪拌機により攪拌後、３本ロールミルにより練肉し、ペースト化を行った。
この際使用するガラスフリットとしては、ＰｂＯ  ６０％、Ｂ2 Ｏ3   ２０％、ＳｉＯ2 １５％、Ａｌ2 Ｏ3   ５％（組成比）、熱膨張係数α300 ＝７０×１０-7／℃、ガラス転移点４４５℃、平均粒径２．５μｍのものを使用した。また、黒色顔料としては、平均粒径１μｍのＣｕ、Ｃｒ、Ｍｎ系の酸化物を使用した。
【００２７】
組成物例１
樹脂Ａ                                            １００．０部
ペンタエリスリトールトリアクリレート                ５０．０部
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン    １０．０部
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル          １００．０部
黒色顔料                                            ３０．０部
ガラスフリット                                    ４５０．０部
亜リン酸                                              ６．０部
アルミナ                                          ２５０．０部
【００２８】
組成物例２
樹脂Ｂ                                            １００．０部
ペンタエリスリトールトリアクリレート                ５０．０部
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン    １０．０部
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル          １００．０部
黒色顔料                                            ３０．０部
ガラスフリット                                    ４５０．０部
亜リン酸                                              ６．０部
アルミナ                                          ２５０．０部
【００２９】
組成物例３
樹脂Ａ                                            １００．０部
トリメチロールプロパンエチレンオキサイド
変性トリアクリレート                              ５０．０部
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］
−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン            １０．０部
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル          １００．０部
黒色顔料                                            ８０．０部
ガラスフリット                                    ４５０．０部
モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）
アシッドホスフェート                                ６．０部
アルミナ                                          １５０．０部
【００３０】
比較組成物例１
樹脂Ａ                                            １００．０部
ペンタエリスリトールトリアクリレート                ５０．０部
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン    １０．０部
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル          １００．０部
黒色顔料                                            ３０．０部
ガラスフリット                                    ４５０．０部
アルミナ                                          ２５０．０部
【００３１】
比較組成物例２
樹脂Ｂ                                            １００．０部
ペンタエリスリトールトリアクリレート                ５０．０部
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン    １０．０部
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル          １００．０部
黒色顔料                                            ３０．０部
ガラスフリット                                    ４５０．０部
アルミナ                                          ２５０．０部
【００３２】
比較組成物例３
樹脂Ａ                                            １００．０部
トリメチロールプロパンエチレンオキサイド
変性トリアクリレート                              ５０．０部
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］
−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン            １０．０部
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル          １００．０部
黒色顔料                                            ８０．０部
ガラスフリット                                    ４５０．０部
アルミナ                                          １５０．０部
【００３３】
上記組成物例１〜３及び比較組成物例１〜３を用い、保存安定性（１時間及び２４時間後の粘度安定性）を評価した。
また、前記組成物例１〜３及び比較組成物例１〜３を用いてガラス基板上にプラズマディスプレイパネル用の隔壁を形成し、現像性（現像後、基板の直接目視による観察及び基板裏面からの透過光による目視観察）、焼成後ライン形状について評価した。
隔壁の形成は以下の手順で行った。まず、調製後１時間経過後の組成物を、ガラス基板上に３００メッシュのポリエステルスクリーンを用いて全面に塗布した。次に、熱風循環式乾燥炉を用い、９０℃で２０分間乾燥して指触乾燥性の良好な皮膜を形成した。次に、ライン幅５０μｍとなる格子パターンのネガフィルムを用い、光源をメタルハライドランプとし、組成物上の積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように露光した。その後、液温３０℃の１ｗｔ％Ｎａ2 ＣＯ3 水溶液を用いて現像を行い、水洗した。最後に、空気中にて４５０℃で３０分保持した後、さらに昇温し、空気中にて５３０℃で３０分間焼成して基板を作製した。
【００３４】
得られた基板について試験した各種特性の評価結果を表２に示す。
【表２】
0003805438.tif 000003
なお、表２中の評価基準は以下の通りである。
【００３５】
保存安定性  １時間：
○：増粘が１０％未満
△：増粘が１０％以上３０％未満
×：増粘が３０％以上
【００３６】
保存安定性  ２４時間：
○：増粘が３０％未満
△：増粘が３０％以上５０％未満
×：増粘が５０％以上
【００３７】
現像性：
○：ラインが安定に残り、ライン間にペーストの残りの無い状態
△：ラインの剥がれが全体の１０％未満あるいはライン間に現像残りが若干ある状態
×：ラインの剥がれが１０％以上あるいはライン間に現像残り（透過光による観察で不透明）がある状態
【００３８】
焼成後ライン形状：
○：リブの断面形状に於いて反り、剥がれの無い状態
△：リブの断面形状に於いて若干の反り、１０％未満の剥がれのある状態
×：リブの断面形状に於いて反り、１０％以上の剥がれのある状態
【００３９】
【発明の効果】
以上のように、本発明のアルカリ現像型光硬化性ガラスペースト組成物は、アルカリ性水溶液により現像可能であるにも拘らず、粘度安定性（保存安定性）に優れ、ゲル化や流動性の低下により塗布作業性が悪いといった問題もない。従って、本発明のガラスペースト組成物を用いることにより、作業環境の悪化等の問題もなく、フォトリソグラフィー技術により大面積のプラズマディスプレイパネル用基板上に高精細の隔壁パターンを歩留り良くかつ生産性良く安定して形成できる。