(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の色用凸部を有する第１の原盤と、複数の曲面部を有する第２の原盤と、を光透過性層前駆体を介して密着させて、前記色用凸部の形状から転写された複数の色用凹部と、前記曲面部の形状から転写された複数のレンズと、を有する光透過性層を形成する工程と、
前記光透過性層から前記第１の原盤を剥離する工程と、
前記光透過性層の前記色用凹部に色材を充填して色パターン層を形成する工程と、
前記光透過性層から前記第２の原盤を剥離する工程と、
を含む光学基板の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の光学基板の製造方法において、
前記光透過性層を形成する工程で、前記第１の原盤のそれぞれの色用凸部を、前記第２の原盤のそれぞれの曲面部に対向させて密着させる光学基板の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の光学基板の製造方法において、
前記色パターン層を形成する工程をインクジェット法により行うことを特徴とする光学基板の製造方法。
【請求項４】
複数の色用凹部が形成された第１の原盤の前記色用凹部に色材をインクジェット法により充填して色パターン層を形成する工程と、
前記第１の原盤と、複数の曲面部を有する第２の原盤と、を光透過性層前駆体を介して密着させて、前記色パターン層に密着するとともに前記曲面部の形状から転写された複数のレンズを有する光透過性層を形成する工程と、
前記光透過性層及び前記色パターン層から前記第１の原盤を剥離する工程と、
前記光透過性層から前記第２の原盤を剥離する工程と、
を含む光学基板の製造方法。
【請求項５】
請求項４記載の光学基板の製造方法において、
前記光透過性層を形成する工程で、前記第１の原盤のそれぞれの色用凹部を、前記第２の原盤のそれぞれの曲面部に対向させて密着させる光学基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載の光学基板の製造方法において、
前記光透過性層と、複数の領域を区画する遮光用凸部を有する第３の原盤と、を第２の光透過性層前駆体を介して密着させて、前記遮光用凸部の形状から転写された遮光用凹部を有する第２の光透過性層を形成する第１工程と、
前記第２の光透過性層から前記第３の原盤を剥離する第２工程と、
前記遮光用凹部に遮光性材料を充填する第３工程と、
を含む光学基板の製造方法。
【請求項７】
請求項６記載の光学基板の製造方法において、
前記第１工程で、前記第３の原盤の前記遮光用凸部を、前記光透過性層の前記レンズを囲む位置に向けて密着させる光学基板の製造方法。
【請求項８】
請求項１から請求項５のいずれかに記載の光学基板の製造方法において、
複数の領域を区画する遮光用凹部が形成された第３の原盤の前記遮光用凹部に遮光性材料を充填して遮光性層を形成する第１工程と、
前記光透過性層と、前記第３の原盤と、を第２の光透過性層前駆体を介して密着させて、前記遮光性層に密着する第２の光透過性層を形成する第２工程と、
前記第２の光透過性層及び前記遮光性層から前記第３の原盤を剥離する第３工程と、
を含む光学基板の製造方法。
【請求項９】
請求項８記載の光学基板の製造方法において、
前記第１工程で、前記第３の原盤の前記遮光用凹部を、前記光透過性層の前記レンズを囲む位置に向けて密着させる光学基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項１から請求項９のいずれかに記載方法により製造された光学基板。
【請求項１１】
一方の面に複数の色用凹部が形成され、他方の面に複数のレンズが形成され、それぞれの前記色用凹部に対応する位置にそれぞれのレンズが形成される光透過性層と、
前記色用凹部に色材をインクジェット法により充填して形成される色パターン層と、
を有する光学基板。
【請求項１２】
一方の面に複数のレンズが形成される光透過性層と、前記光透過性層の他方の面に一体的に色材をインクジェット法により充填して形成される色パターン層と、を有する光学基板。
【請求項１３】
請求項１１又は請求項１２記載の光学基板において、
遮光用凹部を有して前記光透過性層上に形成される第２の光透過性層と、
前記遮光用凹部に遮光性材料を充填して形成される遮光性層と、
を有する光学基板。
【請求項１４】
請求項１１又は請求項１２記載の光学基板において、
前記光透過性層上に形成される第２の光透過性層と、前記第２の光透過性層上に形成される遮光性層と、を有する光学基板。
【請求項１５】
請求項１３又は請求項１４記載の光学基板において、
前記遮光性層は、それぞれの前記レンズを囲む位置に形成される光学基板。
【請求項１６】
請求項１０から請求項１５のいずれかに記載の光学基板と、前記光学基板に向けて光を照射する光源と、を有する表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学基板及びその製造方法並びに表示装置に関する。
【０００２】
【発明の背景】
液晶表示パネル等のカラーフィルタを製造する方法として、凹部を有する光透過性層に色材を充填する方法が開発されている。ここで、光透過性層は、凹凸パターンを有する原盤に樹脂を滴下し、この樹脂を固化させて剥離することで容易に形成することができる。
【０００３】
また、液晶表示パネル等に使用されるマイクロレンズアレイの製造方法として、特開平３−１９８００３号公報に開示されるように、レンズに対応する曲面が形成された原盤に樹脂を滴下し、この樹脂を固化して光透過性層を形成し、これを剥離することで、マイクロレンズアレイを製造する方法が知られている。
【０００４】
しかしながら、これらの方法では、カラーフィルタ及びマイクロレンズアレイのそれぞれを別々に製造して組み合わせることが必要であった。
【０００５】
本発明は、このような問題点を解決するもので、その目的は、明るいカラー表示が可能な光学基板を容易に製造する方法及びその方法により製造された光学基板並びに表示装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
（１）本発明に係る光学基板の製造方法は、複数の色用凸部を有する第１の原盤と、複数の曲面部を有する第２の原盤と、を光透過性層前駆体を介して密着させて、前記色用凸部の形状から転写された複数の色用凹部と、前記曲面部の形状から転写された複数のレンズと、を有する光透過性層を形成する工程と、
前記光透過性層から前記第１の原盤を剥離する工程と、
前記光透過性層の前記色用凹部に色材を充填して色パターン層を形成する工程と、
前記光透過性層から前記第２の原盤を剥離する工程と、
を含む。
【０００７】
本発明では、第１の原盤の色用凸部を型として、光透過性層に色用凹部が形成される。また、色用凹部とは反対側には、第２の原盤の曲面部を型として、レンズが形成される。そして、色用凹部に色材を充填して色パターン層を形成する。こうして、一方の面ではマイクロレンズアレイとしての機能を有し、他方の面ではカラーフィルタとしての機能を有する光学基板が得られる。
【０００８】
色材は、色用凹部に充填されるだけで、原盤から剥離する必要がないので、その変形や欠落が生じない。また、原盤は、一旦製造すればその後、耐久性の許す限り何度でも使用できるため、２枚目以降の光学基板の製造工程において省略でき、工程数の減少および低コスト化を図ることができる。
【０００９】
（２）この製造方法において、
前記光透過性層を形成する工程で、前記第１の原盤のそれぞれの色用凸部を、前記第２の原盤のそれぞれの曲面部に対向させて密着させてもよい。
【００１０】
こうすることで、各レンズにて集光した光がカラーフィルタの各画素を透過するようになる。
【００１１】
（３）本発明に係る光学基板の製造方法は、複数の色用凹部が形成された第１の原盤の前記色用凹部に色材を充填して色パターン層を形成する工程と、
前記第１の原盤と、複数の曲面部を有する第２の原盤と、を光透過性層前駆体を介して密着させて、前記色パターン層に密着するとともに前記曲面部の形状から転写された複数のレンズを有する光透過性層を形成する工程と、
前記光透過性層及び前記色パターン層から前記第１の原盤を剥離する工程と、
前記光透過性層から前記第２の原盤を剥離する工程と、
を含む。
【００１２】
本発明では、第１の原盤の色用凹部に色材を充填して色パターン層を形成する。色パターン層は光透過性層と一体化する。また、光透過性層には、第２の原盤の曲面部を型としてレンズが形成される。こうして、一方の面ではマイクロレンズアレイとしての機能を有し、他方の面ではカラーフィルタとしての機能を有する光学基板が得られる。
【００１３】
原盤は、一旦製造すればその後、耐久性の許す限り何度でも使用できるため、２枚目以降の光学基板の製造工程において省略でき、工程数の減少および低コスト化を図ることができる。
【００１４】
（４）この製造方法において、
前記光透過性層を形成する工程で、前記第１の原盤のそれぞれの色用凹部を、前記第２の原盤のそれぞれの曲面部に対向させて密着させてもよい。
【００１５】
こうすることで、各レンズにて集光した光がカラーフィルタの各画素を透過するようになる。
【００１６】
（５）この製造方法において、
前記光透過性層と、複数の領域を区画する遮光用凸部を有する第３の原盤と、を第２の光透過性層前駆体を介して密着させて、前記遮光用凸部の形状から転写された遮光用凹部を有する第２の光透過性層を形成する第１工程と、
前記第２の光透過性層から前記第３の原盤を剥離する第２工程と、
前記遮光用凹部に遮光性材料を充填する第３工程と、
を含んでもよい。
【００１７】
これによれば、第３の原盤の遮光用凸部を型として、第２の光透過性層に遮光用凹部が形成される。遮光用凹部には遮光性材料が充填されて、遮光性層が構成される。遮光性層は、ブラックマトリクスとなる。
【００１８】
遮光性材料は、遮光用凹部に充填されるだけで、原盤から剥離する必要がないので、その変形や欠落が生じない。また、第３の原盤も、一旦製造すればその後、耐久性の許す限り何度でも使用できるため、２枚目以降の光学基板の製造工程において省略でき、工程数の減少および低コスト化を図ることができる。
【００１９】
（６）この製造方法において、
前記第１工程で、前記第３の原盤の前記遮光用凸部を、前記光透過性層の前記レンズを囲む位置に向けて密着させてもよい。
【００２０】
こうすることで、各レンズにて集光した光が、ブラックマトリクスにて区画されたカラーフィルタの各画素を透過するようになる。
【００２１】
（７）この製造方法において、
複数の領域を区画する遮光用凹部が形成された第３の原盤の前記遮光用凹部に遮光性材料を充填して遮光性層を形成する第１工程と、
前記光透過性層と、前記第３の原盤と、を第２の光透過性層前駆体を介して密着させて、前記遮光性層に密着する第２の光透過性層を形成する第２工程と、
前記第２の光透過性層及び前記遮光性層から前記第３の原盤を剥離する第３工程と、
を含んでもよい。
【００２２】
これによれば、第３の原盤の遮光用凹部に形成された遮光性層は、第２の光透過性層と一体化してブラックマトリクスとなる。
【００２３】
第３の原盤も、一旦製造すればその後、耐久性の許す限り何度でも使用できるため、２枚目以降の光学基板の製造工程において省略でき、工程数の減少および低コスト化を図ることができる。
【００２４】
（８）この製造方法において、
前記第１工程で、前記第３の原盤の前記遮光用凹部を、前記光透過性層の前記レンズを囲む位置に向けて密着させてもよい。
【００２５】
こうすることで、各レンズにて集光した光が、ブラックマトリクスにて区画されたカラーフィルタの各画素を透過するようになる。
【００２６】
（９）本発明に係る光学基板は、上記方法により製造される。
【００２７】
（１０）本発明に係る光学基板は、一方の面に複数の色用凹部が形成され、他方の面に複数のレンズが形成され、それぞれの前記色用凹部に対応する位置にそれぞれのレンズが形成される光透過性層と、
前記色用凹部に色材を充填して形成される色パターン層と、
を有する。
【００２８】
本発明に係る光学基板によれば、一方の面ではマイクロレンズアレイとしての機能を有し、他方の面ではカラーフィルタとしての機能を有する。
【００２９】
（１１）本発明に係る光学基板は、一方の面に複数のレンズが形成される光透過性層と、前記光透過性層の他方の面に一体的に形成される色パターン層と、を有する。
【００３０】
本発明に係る光学基板によれば、一方の面ではマイクロレンズアレイとしての機能を有し、他方の面ではカラーフィルタとしての機能を有する。
【００３１】
（１２）この光学基板において、
遮光用凹部を有して前記光透過性層上に形成される第２の光透過性層と、
前記遮光用凹部に遮光性材料を充填して形成される遮光性層と、
を有してもよい。
【００３２】
これによれば、遮光性層がブラックマトリクスの機能を果たす。
【００３３】
（１３）この光学基板において、
前記光透過性層上に形成される第２の光透過性層と、前記第２の光透過性層上に形成される遮光性層と、を有してもよい。
【００３４】
これによれば、遮光性層がブラックマトリクスの機能を果たす。
【００３５】
（１４）この光学基板において、
前記遮光性層は、それぞれの前記レンズを囲む位置に形成されてもよい。
【００３６】
（１５）本発明に係る表示装置は、上記光学基板と、前記光学基板に向けて光を照射する光源と、を有する。
【００３７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態について図面を参照にして説明する。
【００３８】
（第１の実施の形態）
図１（Ａ）〜図３（Ｃ）は、本発明を適用した第１の実施の形態に係る光学基板の製造方法を説明する図である。
【００３９】
まず、図１（Ａ）に示すように、第１の原盤１０及び第２の原盤２０を用意する。第１の原盤１０には、複数の色用凸部１２が形成されている。色用凸部１２は、液晶パネルの画素に対応して配列されている。なお、画素配列の例として、モザイク配列、デルタ配列又はストライプ配列などがある。第２の原盤２０には、複数の曲面部２２が形成されている。各曲面部２２は、凸レンズの反転パターンとなるように凹状をなしている。
【００４０】
原盤１０、２０は、基材の表面をエッチングして形成することができる。基材は、エッチング可能な材料であれば特に限定されるものではないが、シリコン又は石英は、エッチングにより高精度の色用凸部１２又は曲面部２２の形成が容易であるため好適である。
【００４１】
第１及び第２の原盤１０、２０は、それぞれの色用凸部１２と曲面部２２とを対向させて配置されている。
【００４２】
そして、原盤１０と原盤２０とを、第１の光透過性層前駆体３２を介して密着させる。光透過性層前駆体３２は、図１（Ｂ）に示す第１の光透過性層３０の材料となる。なお、図１（Ａ）では、原盤１０が上に位置しているが、原盤２０が上であってもよい。
【００４３】
光透過性層前駆体３２としては、光透過性を有していれば特に限定されるものでなく、種々の物質が利用できるが、エネルギーの付与により硬化可能な物質であることが好ましい。このような物質は、光透過性層３０の形成時には低粘性の液状で取り扱うことが可能となり、常温、常圧あるいはその近傍下においても容易に第１及び第２の原盤１０、２０の色用凸部１２の間又は曲面部２２の微細部にまで容易に充填することができる。
【００４４】
エネルギー硬化性を有する樹脂としては、光及び熱の少なくともいずれかー方の付与により硬化可能であることが望ましい。光や熱の利用は、汎用の露光装置、ベイク炉やホットプレート等の加熱装置を利用することができ、省設備コスト化を図ることが可能である。
【００４５】
このようなエネルギー硬化性を有する樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、ポリイミド系樹脂等が利用できる。特に、アクリル系樹脂は、市販品の様々な前駆体や感光剤（光重合開始剤）を利用することで、光の照射で短時間に硬化するものが容易に得られるため好適である。
【００４６】
光硬化性のアクリル系樹脂の基本組成の具体例としては、プレポリマーまたはオリゴマー、モノマー、光重合開始剤があげられる。
【００４７】
プレポリマーまたはオリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート類、ウレタンアクリレート類、ポリエステルアクリレート類、ポリエーテルアクリレート類、スピロアセタール系アクリレート類等のアクリレート類、エポキシメタクリレート類、ウレタンメタクリレート類、ポリエステルメタクリレート類、ポリエーテルメタクリレート類等のメタクリレート類等が利用できる。
【００４８】
モノマーとしては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、カルビトールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、１，３−ブタンジオールアクリレート等の単官能性モノマー、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート等の二官能性モノマー、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能性モノマーが利用できる。
【００４９】
光重合開始剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン等のアセトフェノン類、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン等のブチルフェノン類、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、α，α−ジクロル−４−フェノキシアセトフェノン等のハロゲン化アセトフェノン類、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ−テトラエチル−４，４−ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、ベンジル、ベンジルジメチルケタール等のベンジル類、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル等のベンゾイン類、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等のオキシム類、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン等のキサントン類、ミヒラーケトン、ベンジルメチルケタール等のラジカル発生化合物が利用できる。
【００５０】
なお、必要に応じて、酸素による硬化阻害を防止する目的でアミン類等の化合物を添加したり、塗布を容易にする目的で溶剤成分を添加してもよい。溶剤成分としては、特に限定されるものではなく、種々の有機溶剤、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メトキシメチルプロピオネート、エトキシエチルプロピオネート、エチルラクテート、エチルピルビネート、メチルアミルケトン等が利用可能である。
【００５１】
これらの物質によれば、高精度のエッチングが可能な点で原盤材料として優れているシリコン又は石英からの離型性が良好であるため好適である。
【００５２】
ここでは、光透過性層前駆体３２を第２の原盤２０上に滴下したが、第１の原盤１０に滴下するか、原盤１０、２０の両方に滴下してもよい。また、スピンコート法、ディッピング法、スプレーコート法、ロールコート法、バーコート法等の方法を用いて、原盤１０、２０のいずれか一方、または、両方に光透過性層前駆体３２を塗布してもよい。
【００５３】
そして、図１（Ｂ）に示すように、光透過性層前駆体３２を所定領域まで拡げて、原盤１０、２０の間に第１の光透過性層３０を形成する。光透過性層前駆体３２を所定領域まで拡げるにあたって、必要に応じて所定の圧力を原盤１０、２０の少なくとも一方に加えてもよい。また、原盤１０、２０の少なくともいずれか一方から、光透過性層前駆体３２の組成に応じた硬化処理をすることにより光透過性層３０を硬化させる。
【００５４】
光透過性層３０の一方の面には、第１の原盤１０の色用凸部１２の形状から転写された複数の色用凹部３６が形成されている。また、光透過性層３０の他方の面には、曲面部２２の形状から転写された複数のレンズ３４が形成されている。
【００５５】
次に、図１（Ｃ）に示すように、第２の原盤２０を、光透過性層３０から剥離する。
【００５６】
そして、図２（Ａ）に示すように、第１の光透過性層３０におけるレンズ３４が形成された面と、第１の補強板５０とを、第２の光透過性層前駆体４２を介して密着させて、図２（Ｂ）に示すように第２の光透過性層４０を形成する。密着させるときの方法は、上記光透過性層前駆体３２を介して密着させるときの方法を適用することができ、光透過性層前駆体４２の材料も、上記光透過性層前駆体３２として使用できる材料から選ぶことができる。
【００５７】
補強板５０としては一般にガラス基板が用いられるが、光透過性や機械的強度等の特性を満足するものであれば特に限定されるものではない。例えば、補強板５０として、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルフォン、アモルファスポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等のプラスチック製の基板あるいはフィルム基板を用いてもよい。
【００５８】
また、光透過性層前駆体４２には、その組成に応じた硬化処理を施す。光透過性層前駆体４２として、紫外線硬化型のアクリル系樹脂が用いられる場合には、紫外線を所定の条件により照射することにより、光透過性層前駆体４２を硬化させる。
【００５９】
続いて、図２（Ｃ）に示すように、第１の原盤１０を光透過性層３０から剥離する。光透過性層３０には、第１の原盤１０の複数の色用凸部１２によって、複数の色用凹部３６が形成されている。
【００６０】
そして、図３（Ａ）に示すように、それぞれの色用凹部３６に、予め設定された色材６２を充填して色パターン層６０を形成する。
【００６１】
色用凹部３６への色材６２の充填方法としては、特に限定されるものではないが、インクジェット方式が好適である。インクジェット方式によれば、インクジェットプリンタ用に実用化された技術を応用することで、高速かつインクを無駄なく経済的に充填するとが可能である。
【００６２】
図３（Ａ）には、インクジェットヘッド６４によって、例えば、赤、緑及び青の色材６２を色用凹部３６に充填する様子を示してある。詳しくは、色用凹部３６に対向させてインクジェットヘッド６４を配置し、各色材６２を各色用凹部３６に吐出する。
【００６３】
インクジェットヘッド６４は、例えばインクジェットプリンタ用に実用化されたもので、圧電素子を用いたピエゾジェットタイプ、あるいはエネルギー発生素子として電気熱変換体を用いて、インクの体積を膨張させたり気化させ、その圧力でインクを吐出するタイプ等が使用可能であり、吐出面積および色パターンは任意に設定することが可能である。
【００６４】
例えば、色材６２を吐出する吐出口を６４個配列したインクジェットヘッド６４を用いた場合、駆動周波数１４．４ｋＨｚ（１秒間に１４４００回の吐出）で、一つの色用凹部３６に３滴ずつ吐出すれば、約９０万画素の仕様に対応して、色用凹部３６に色材６２を充填するのに要する時間は、
９０万×３滴／（１４４００回×６４個）＝約３秒
となる。ここで、インクジェットヘッド６４が色用凹部３６間を移動する時間を考慮しても、２〜３分程度で全ての色用凹部３６に色材６２を充填することができる。色材６２を充填するときには、色用凹部３６に均一な量で充填されるように、インクジェットヘッド４４を動かす等の制御を行って、打ち込み位置を制御する。
【００６５】
そして、色材６２が溶剤成分を含む場合は、熱処理を行って溶剤を揮発させる。なお、この場合、色材６２は、溶剤成分を除去すると収縮するため、必要な色濃度が確保できる厚みが収縮後でも残される量を充填しておくことが必要である。
【００６６】
こうして、図３（Ｂ）に示すように、光透過性層３０上に色パターン層６０が形成される。さらに、光透過性層３０における色パターン層６０が形成された面と、第２の補強板８０とを第３の光透過性層前駆体７２を介して密着させる。その工程も、第１の光透過性層前駆体３２を介して密着させる工程と同様であり、光透過性層前駆体７２も、光透過性層前駆体３２として選択可能な物質の中から選択できる。
【００６７】
こうして、第３の光透過性層前駆体７２を押し拡げ、所定の硬化処理を施すことにより、図３（Ｃ）に示すように、第３の光透過性層７０を形成することで、光学基板１が得られる。光学基板１は、第１及び第２の補強板５０、８０の間に、第１〜第３の光透過性層３０、４０、７０を有する。第１の光透過性層３０の一方の面に形成された複数の色用凹部３６には、色材６２が充填されて色パターン層６０が形成されている。また、第１の光透過性層３０の他方の面には、複数のレンズ３４が形成されている。さらに、色パターン層６０のそれぞれの画素と、それぞれのレンズ３４とは対応する位置に形成されている。
【００６８】
光学基板１によれば、色パターン層６０を含んで構成されるカラーフィルタと、レンズ３４を含んで構成されるマイクロレンズアレイと、の両方を機構を有する。このことにより、明るいカラー表示が可能になる。
【００６９】
なお、第２及び第３の光透過性層４０、７０が、光学基板として要求される機械的強度やガスバリア性、耐薬品性等の特性を満足することが可能であれば、対応する第１及び第２の補強板５０、８０は剥離してもよい。この場合、第２及び第３の光透過性層４０、７０は、第１の光透過性層３０の保護膜となる。さらに、光透過性層３０自体が十分な強度を有していれば、第２及び第３の光透過性層４０、７０を省略することも可能である。
【００７０】
本実施の形態では、転写によって、光透過性層３０に色用凹部３６及びレンズ３４を簡単に形成することができる。この方法によれば、材料の使用効率が高く、かつ工程数の短縮を図ることができ、コストダウンを図ることができる。また、第１及び第２の原盤１０、２０は、一旦製造すればその後、耐久性の許す限り何度でも使用できるため、２枚目以降の光学基板の製造工程において省略でき、工程数の減少および低コスト化を図ることができる。
【００７１】
（第２の実施の形態）
図４（Ａ）〜図６（Ｃ）は、本発明を適用した第２の実施の形態に係る光学基板の製造方法を示す図である。
【００７２】
本実施の形態では、図４（Ａ）に示す第１の原盤１１０を用意する。第１の原盤１１０には、複数の色用凹部１１２が形成されている。色用凹部１１２は、表示装置の画素に対応して配列されている。なお、画素配列の例として、モザイク配列、デルタ配列又はストライプ配列などがある。原盤１１０は、基材の表面をエッチングして形成することができる。基材は、エッチング可能な材料であれば特に限定されるものではないが、シリコン又は石英は、エッチングにより高精度の色用凸部１１２の形成が容易であるため好適である。
【００７３】
そして、第１の原盤１１０の色用凹部１１２に、色パターン層１００を形成する。その工程は、図３（Ａ）に示す工程と同様であり、インクジェットヘッド６４から色材６２を充填して色パターン層１００を形成することができる。
【００７４】
続いて、第１の原盤１１０における色パターン層１００が形成された面と、第１の実施の形態で使用したものと同じ第２の原盤２０における曲面部２２が形成された面と、を第１の光透過性層前駆体１２２を介して密着させる。密着させるときの方法は、第１の実施の形態で使用した光透過性層前駆体３２を介して密着させるときの方法を適用することができ、光透過性層前駆体１２２の材料も、光透過性層前駆体３２として使用できる材料から選ぶことができる。
【００７５】
こうして、図４（Ｃ）に示すように、第１及び第２の原盤１１０、２０間に、第１の光透過性層１２０を形成する。光透過性層前駆体１２０を所定領域まで拡げるにあたって、必要に応じて所定の圧力を原盤１１０、２０の少なくとも一方に加えてもよい。また、原盤１１０、２０の少なくともいずれか一方から、光透過性層前駆体１２０の組成に応じた硬化処理をすることにより光透過性層１２０を硬化させる。
【００７６】
光透過性層１２０の一方の面には、第１の原盤１１０の色用凹部１１２に形成された色パターン層１００が密着している。また、光透過性層１２０の他方の面には、曲面部２２の形状から転写された複数のレンズ１２４が形成されている。
【００７７】
次に、図５（Ａ）に示すように、第２の原盤２０を、光透過性層１２０から剥離する。
【００７８】
そして、図５（Ｂ）に示すように、第１の光透過性層１２０におけるレンズ１２４が形成された面と、第１の補強板１４０とを、第２の光透過性層前駆体１３２を介して密着させて、図５（Ｃ）に示すように第２の光透過性層１３０を形成する。密着させるときの方法は、第１の実施の形態で光透過性層前駆体３２を介して密着させるときの方法を適用することができ、光透過性層前駆体１３２の材料も、光透過性層前駆体３２として使用できる材料から選ぶことができる。
【００７９】
補強板１４０も、第１の実施の形態の補強板５０としては使用できるものから選択することができる。また、光透過性層前駆体１３２には、その組成に応じた硬化処理を施す。
【００８０】
続いて、図６（Ａ）に示すように、第１の原盤１１０を光透過性層１２０及び色パターン層１００から剥離する。光透過性層１２０には、第１の原盤１１０の色用凹部１１２の形状から転写された色パターン層１００が一体的に形成されている。
【００８１】
光透過性層１２０における色パターン層１００が形成された面と、第２の補強板１６０とを第３の光透過性層前駆体１５２を介して密着させる。その工程も、第１の実施の形態で光透過性層前駆体３２を介して密着させる工程と同様であり、光透過性層前駆体１５２も、光透過性層前駆体３２として選択可能な物質の中から選択できる。
【００８２】
こうして、第３の光透過性層前駆体１５２を押し拡げ、所定の硬化処理を施すことにより、図６（Ｃ）に示すように、第３の光透過性層１５０を形成することで、光学基板２が得られる。光学基板２は、第１及び第２の補強板１４０、１６０の間に、第１〜第３の光透過性層１２０、１３０、１５０を有する。第１の光透過性層１２０の一方の面には色パターン層１００が一体的に形成されている。また、第１の光透過性層１２０の他方の面には、複数のレンズ１２４が形成されている。さらに、色パターン層１００のそれぞれの画素と、それぞれのレンズ１２４とは対応する位置に形成されている。
【００８３】
光学基板２によれば、色パターン層１００を含んで構成されるカラーフィルタと、レンズ１２４を含んで構成されるマイクロレンズアレイと、の両方を機構を有する。このことにより、明るいカラー表示が可能になる。
【００８４】
なお、第２及び第３の光透過性層１３０、１５０が、光学基板として要求される機械的強度やガスバリア性、耐薬品性等の特性を満足することが可能であれば、対応する第１及び第２の補強板１４０、１６０は剥離してもよい。この場合、第２及び第３の光透過性層１３０、１５０は、第１の光透過性層１２０の保護膜となる。さらに、光透過性層１２０自体が十分な強度を有していれば、第２及び第３の光透過性層１３０、１５０を省略することも可能である。
【００８５】
本実施の形態では、転写によって、光透過性層１２０にレンズ１２４を簡単に形成することができる。この方法によれば、材料の使用効率が高く、かつ工程数の短縮を図ることができ、コストダウンを図ることができる。また、第１及び第２の原盤１１０、２０は、一旦製造すればその後、耐久性の許す限り何度でも使用できるため、２枚目以降の光学基板の製造工程において省略でき、工程数の減少および低コスト化を図ることができる。
【００８６】
（第３の実施の形態）
図７（Ａ）〜図１０（Ｃ）は、本発明を適用した第３の実施の形態に係る光学基板の製造方法を説明する図である。
【００８７】
本実施の形態では、第１の実施の形態における図１（Ａ）〜図１（Ｂ）に示すように、第１及び第２の原盤１０、２０を使用して、第１の光透過性層３０を形成する。この第１の光透過性層３０には、一方の面に複数の色用凹部３６が形成され、他方の面に複数のレンズ３４が形成されている。また、図１（Ｃ）に示すように、光透過性層３０から第２の原盤２０を剥離しておく。
【００８８】
そして、図７（Ａ）に示すように、第３の原盤２００を用意する。第３の原盤２００には、複数の領域を区画する遮光用凸部２０２が形成されている。遮光用凸部２０２の平面形状は、液晶パネルに適用されるブラックマトリクスの形状をなしており、複数の画素に対応する領域を区画する。なお、ブラックマトリクスの形状は、モザイク配列、デルタ配列又はストライプ配列などの画素配列に応じたものである。
【００８９】
そして、第１の光透過性層３０におけるレンズ３４が形成された面と、第３の原盤２００とを、第２の光透過性層前駆体２１２を介して密着させる。その方法は、第１の実施の形態の密着方法を適用することができる。なお、図７（Ａ）では、第３の原盤２００が下に位置しているが、第１の光透過性層３０が下であってもよい。また、第２の光透過性層前駆体２１２は、第１の実施の形態で使用された第１の光透過性層前駆体３２として使用できる材料から選択することができる。
【００９０】
そして、図７（Ｂ）に示すように、第２の光透過性層前駆体２１２を所定領域まで拡げて、第３の原盤２００と第１の光透過性層３０との間に、第２の光透過性層２１０を形成する。光透過性層前駆体２１２を所定領域まで拡げるにあたって、必要に応じて所定の圧力を原盤１０、２００の少なくとも一方に加えてもよい。また、原盤１０、２００の少なくともいずれか一方から、光透過性層前駆体２１２の組成に応じた硬化処理をすることにより光透過性層２１０を硬化させる。
【００９１】
第２の光透過性層２１０の一方の面は、第１の光透過性層３０のレンズ３４の形状に応じた曲面をなしている。また、第２の光透過性層２１０の他方の面には、第２の原盤２００の遮光用凸部２０２の形状から転写された遮光用凹部２１４が形成されている。遮光用凹部２１４の平面形状は、液晶パネルに適用されるブラックマトリクスの形状をなしており、複数の画素に対応する領域を区画する。なお、ブラックマトリクスの形状は、モザイク配列、デルタ配列又はストライプ配列などの画素配列に応じたものである。
【００９２】
続いて、図７（Ｃ）に示すように、第１の原盤１０を光透過性層３０から剥離する。光透過性層３０には、第１の原盤１０の複数の色用凸部１２によって、複数の色用凹部３６が形成されている。
【００９３】
そして、図８（Ａ）に示すように、それぞれの色用凹部３６に予め設定された色材６２を充填して色パターン層２２０を形成する。その詳細は、第１の実施の形態と同じであるので説明を省略する。
【００９４】
こうして、図８（Ｂ）に示すように、光透過性層３０上に色パターン層２２０が形成される。さらに、図８（Ｃ）に示すように、光透過性層３０における色パターン層２２０が形成された面と、第１の補強板２４０とを第３の光透過性層前駆体２３２を介して密着させる。その工程も、第１の実施の形態の光透過性層前駆体３２を介して密着させる工程と同様であり、光透過性層前駆体２３２も、光透過性層前駆体３２として選択可能な物質の中から選択できる。
【００９５】
こうして、第３の光透過性層前駆体２３２を押し拡げ、所定の硬化処理を施すことにより、図９（Ａ）に示すように、第３の光透過性層２３０を形成する。
【００９６】
次に、図９（Ｂ）に示すように、第３の原盤２００を、第２の光透過性層２１０から剥離する。第２の光透過性層２１０には、第３の原盤２００の遮光用凸部２０２から転写された遮光用凹部２１４が形成されている。
【００９７】
続いて、図１０（Ａ）に示すように、遮光用凹部２１４に遮光性材料２５２を充填して、遮光性層２５０を形成する。なお、遮光用凹部２１４は、色パターン層２２０の各画素を囲むように位置する。この領域に遮光性層２５０を形成することで、ブラックマトリクスを形成することができる。
【００９８】
遮光性材料２５２は、光透過性のない材料であって耐久性があれば種々の材料を適用可能である。例えば、黒色染料あるいは黒色顔料をバインダー樹脂とともに溶剤に溶かしたものを、遮光性材料２５２として用いる。溶剤としては、特にその種類に限定されるものではなく、水あるいは種々の有機溶剤を適用することが可能である。有機溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、メトキシメチルプロピオネート、エトキシエチルプロピオネート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、エチルラクテート、エチルピルビネート、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、キシレン、トルエン、ブチルアセテート等のうち一種または複数種の混合溶液を利用することができる。
【００９９】
遮光用凹部２１４への遮光性材料２５２の充填方法としては、特に限定されるものではないが、インクジェット方式を使用してもよい。インクジェット方式によれば、インクジェットプリンタ用に実用化された技術を応用することで、高速かつインクを無駄なく経済的に充填することが可能である。
【０１００】
遮光性材料２５２を充填するときには、光透過性層２１０に形成された遮光用凹部２１４に均一な量で充填されるように、インクジェットヘッド２５４を動かす等の制御を行って打ち込み位置を制御する。
【０１０１】
遮光用凹部２１４の隅々にまで均一に遮光性材料２５２が満たされたら、その充填を完了する。溶剤成分が含まれている場合には、熱処理により遮光性材料２５２から溶剤成分を除去する。なお遮光性材料２５２は、溶剤成分を除去すると収縮するため、必要な遮光性が確保できる厚みが収縮後でも残される量を充填しておくことが必要である。
【０１０２】
こうして、図１０（Ｂ）に示すように、第２の光透過性層２１０上に遮光性層２５０が形成される。そして、光透過性層２１０における遮光性層２５０が形成された面と、第２の補強板２７０とを第４の光透過性層前駆体２６２を介して密着させる。その工程も、第１の実施の形態の光透過性層前駆体３２を介して密着させる工程と同様であり、光透過性層前駆体２６２も、光透過性層前駆体３２として選択可能な物質の中から選択できる。
【０１０３】
こうして、第４の光透過性層前駆体２６２を押し拡げ、所定の硬化処理を施すことにより、図１０（Ｃ）に示すように、第４の光透過性層２６０を形成することで、光学基板３が得られる。光学基板３は、第１及び第２の補強板２４０、２７０の間に、第１〜第４の光透過性層３０、２１０、２３０、２６０を有する。第１の光透過性層３０の一方の面に形成された複数の色用凹部３６には、色材６２が充填されて色パターン層２２０が形成されている。また、第１の光透過性層３０の他方の面には、複数のレンズ３４が形成されている。さらに、色パターン層２２０のそれぞれの画素と、それぞれのレンズ３４とは対応する位置に形成されている。
【０１０４】
光学基板３によれば、色パターン層２２０を含んで構成されるカラーフィルタと、レンズ３４を含んで構成されるマイクロレンズアレイと、の両方を機構を有する。このことにより、明るいカラー表示が可能になる。
【０１０５】
なお、第３及び第４の光透過性層２３０、２６０が、光学基板として要求される機械的強度やガスバリア性、耐薬品性等の特性を満足することが可能であれば、対応する第１及び第２の補強板２４０、２７０は剥離してもよい。この場合、第３及び第４の光透過性層２３０、２６０は、第１又は第２の光透過性層３０、２１０の保護膜となる。さらに、光透過性層３０、２１０自体が十分な強度を有していれば、第３及び第４の光透過性層２３０、２６０を省略することも可能である。
【０１０６】
本実施の形態では、転写によって、光透過性層３０に色用凹部３６及びレンズ３４を簡単に形成することができる。この方法によれば、材料の使用効率が高く、かつ工程数の短縮を図ることができ、コストダウンを図ることができる。また、第１〜第３の原盤１０、２０、２００は、一旦製造すればその後、耐久性の許す限り何度でも使用できるため、２枚目以降の光学基板の製造工程において省略でき、工程数の減少および低コスト化を図ることができる。
【０１０７】
（第４の実施の形態）
図１１（Ａ）〜図１２（Ｂ）は、本発明を適用した第４の実施の形態に係る光学基板の製造方法を説明する図である。
【０１０８】
本実施の形態では、第２の実施の形態における図４（Ａ）〜図５（Ａ）に示すように、第１及び第２の原盤１１０、２０を使用して、第１の光透過性層１２０及び色パターン層１００を形成する。また、図１１（Ａ）に示す第３の原盤３００を用意する。
【０１０９】
第３の原盤３００には、遮光用凹部３０２が形成されている。遮光用凹部３０２の平面形状は、液晶パネルに適用されるブラックマトリクスの形状をなしており、複数の画素に対応する領域を区画する。なお、ブラックマトリクスの形状は、モザイク配列、デルタ配列又はストライプ配列などの画素配列に応じたものである。そして、第３の原盤３００の遮光用凹部３０２に遮光性材料２５２を充填して、遮光性層３５０を形成する。その詳細は、図１０（Ａ）に示す工程と同様である。
【０１１０】
続いて、図１１（Ｂ）に示すように、光透過性層１２０におけるレンズ１２４が形成された面と、第３の原盤３００における遮光性層３５０が形成された面とを第２の光透過性層前駆体３１２を介して密着させる。その工程も、第１の実施の形態の光透過性層前駆体３２を介して密着させる工程と同様であり、光透過性層前駆体３１２も、光透過性層前駆体３２として選択可能な物質の中から選択できる。
【０１１１】
こうして、第２の光透過性層前駆体３１２を押し拡げ、所定の硬化処理を施すことにより、図１２（Ａ）に示すように、第２の光透過性層３１０を形成する。
【０１１２】
さらに、図１２（Ｂ）に示すように、第１の光透過性層１２０及び色パターン層１００から第１の原盤１１０を剥離する。また、第２の光透過性層３１０及び遮光性層３５０から第３の原盤３００を剥離する。こうして、光学基板４が得られる。光学基板４は、第１及び第２の光透過性層１２０、３１０と、第１の光透過性層１２０上に形成された色パターン層１００と、第２の光透過性層３１０上に形成された遮光性層３５０と、を有する。第１の光透過性層１２０にはレンズ１２４が形成されている。
【０１１３】
光学基板４によれば、色パターン層１００を含んで構成されるカラーフィルタと、レンズ１２４を含んで構成されるマイクロレンズアレイと、の両方を機構を有する。このことにより、明るいカラー表示が可能になる。
【０１１４】
なお、必要であれば、第１又は第２の光透過性層１２０、３１０の少なくともいずれか一方に、保護膜や補強板を設けてもよい。
【０１１５】
本実施の形態では、転写によって、色パターン層１００、レンズ１２４及び遮光性層３５０を簡単に形成することができる。この方法によれば、材料の使用効率が高く、かつ工程数の短縮を図ることができ、コストダウンを図ることができる。また、第１〜第３の原盤１１０、２０、３００は、一旦製造すればその後、耐久性の許す限り何度でも使用できるため、２枚目以降の光学基板の製造工程において省略でき、工程数の減少および低コスト化を図ることができる。
【０１１６】
図１３は、本発明に係るマイクロレンズアレイを適用した液晶プロジェクタの一部を示す図である。この液晶プロジェクタは、光源としてのランプ４００と、本発明を適用した光学基板４１０を組み込んだライトバルブ４５０とを有する。
【０１１７】
光学基板４１０は、レンズ４１１及び色用凹部４１２が形成された第１の光透過性層４１３を含む。レンズ４１１は凸レンズであり、凸面をライトバルブ４２０とは反対側に向けて配置されている。色用凹部４１２には色材が充填されて色パターン層４１４が形成されている。レンズ４１１及び色パターン層４１４上には第２及び第３の光透過性層４１５、４１６が形成されている。第２の光透過性層４１５には遮光性層４１７が形成されてブラックマトリクスを構成している。第３の光透過性層４１６には補強板４１８が設けられている。遮光性層４１７には、第４の光透過性層４１９が設けられている。
【０１１８】
光学基板４１０の第４の光学基板４１９の上には、透明電極膜４２０及び配向膜４２１が積層されている。また、配向膜４２１からギャップをあけて、ＴＦＴ基板４２２が設けられている。ＴＦＴ基板４２２には、透明な個別電極４２３及び薄膜トランジスタ４２４が設けられており、これらの上に配向膜４２５が形成されている。また、ＴＦＴ基板４２２は、配向膜４２５を配向膜４２１に対向させて配置されている。
【０１１９】
配向膜４２１、４２５間には、液晶４２６が封入されており、薄膜トランジスタ４２４によって制御される電圧によって、液晶４２６が駆動されるようになっている。
【０１２０】
この液晶プロジェクタによれば、ランプ４００から照射された光４６０が、各画素毎にレンズ４１１にて集光するので、明るい画面を表示することができる。
【０１２１】
なお、その前提として、第２の光透過性層４１５の光屈折率ｎa と、第１の光透過性層４１３の光屈折率ｎb とは、
ｎa＜ｎb
の関係にあることが必要である。この条件を満たすことで、屈折率の大きい媒質から、屈折率の小さい媒質に光が入射することになり、光４６０は両媒質の界面の法線から離れるように屈折して集光する。そして、画面を明るくすることができる。
【０１２２】
図１４は、本発明に係るマイクロレンズアレイを適用した液晶プロジェクタの一部を示す図である。この液晶プロジェクタは、光源としてのランプ５００と、本発明を適用した光学基板５１０を組み込んだライトバルブ５５０とを有する。
【０１２３】
光学基板５１０は、レンズ５１１及び色用凹部５１２が形成された第１の光透過性層５１３を含む。レンズ５１１は凹レンズであり、凹面をライトバルブ５２０とは反対側に向けて配置されている。色用凹部５１２には色材が充填されて色パターン層５１４が形成されている。レンズ５１１及び色パターン層５１４上には第２及び第３の光透過性層５１５、５１６が形成されている。第２の光透過性層５１５には遮光性層５１７が形成されてブラックマトリクスを構成している。第３の光透過性層５１６には補強板５１８が設けられている。遮光性層５１７には、第４の光透過性層５１９が設けられている。
【０１２４】
光学基板５１０の第４の光学基板５１９の上には、透明電極膜５２０及び配向膜５２１が積層されている。また、配向膜５２１からギャップをあけて、ＴＦＴ基板５２２が設けられている。ＴＦＴ基板５２２には、透明な個別電極５２３及び薄膜トランジスタ５２４が設けられており、これらの上に配向膜５２５が形成されている。また、ＴＦＴ基板５２２は、配向膜５２５を配向膜５２１に対向させて配置されている。
【０１２５】
配向膜５２１、５２５間には、液晶５２６が封入されており、薄膜トランジスタ５２４によって制御される電圧によって、液晶５２６が駆動されるようになっている。
【０１２６】
この液晶プロジェクタによれば、ランプ５００から照射された光５６０が、各画素毎にレンズ５１１にて集光するので、明るい画面を表示することができる。
【０１２７】
なお、その前提として、第２の光透過性層５１５の光屈折率ｎa′と、第１の光透過性層５１３の光屈折率ｎb′とは、
ｎa′＞ｎb′
の関係にあることが必要である。この条件を満たすことで、屈折率の小さい媒質から、屈折率の大きい媒質に光が入射することになり、光５６０は両媒質の界面の法線に近づくように屈折して集光する。そして、画面を明るくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１（Ａ）〜図１（Ｃ）は、本発明の第１の実施の形態に係る光学基板の製造方法を示す図である。
【図２】図２（Ａ）〜図２（Ｃ）は、本発明の第１の実施の形態に係る光学基板の製造方法を示す図である。
【図３】図３（Ａ）〜図３（Ｃ）は、本発明の第１の実施の形態に係る光学基板の製造方法を示す図である。
【図４】図４（Ａ）〜図４（Ｃ）は、本発明の第２の実施の形態に係る光学基板の製造方法を示す図である。
【図５】図５（Ａ）〜図５（Ｃ）は、本発明の第２の実施の形態に係る光学基板の製造方法を示す図である。
【図６】図６（Ａ）〜図６（Ｃ）は、本発明の第２の実施の形態に係る光学基板の製造方法を示す図である。
【図７】図７（Ａ）〜図７（Ｃ）は、本発明の第３の実施の形態に係る光学基板の製造方法を示す図である。
【図８】図８（Ａ）〜図８（Ｃ）は、本発明の第３の実施の形態に係る光学基板の製造方法を示す図である。
【図９】図９（Ａ）及び図９（Ｂ）は、本発明の第３の実施の形態に係る光学基板の製造方法を示す図である。
【図１０】図１０（Ａ）〜図１０（Ｃ）は、本発明の第３の実施の形態に係る光学基板の製造方法を示す図である。
【図１１】図１１（Ａ）及び図１１（Ｂ）は、本発明の第４の実施の形態に係る光学基板の製造方法を示す図である。
【図１２】図１２（Ａ）及び図１２（Ｂ）は、本発明の第４の実施の形態に係る光学基板の製造方法を示す図である。
【図１３】図１３は、本発明を適用して製造された光学基板が組み込まれた液晶プロジェクタを示す図である。
【図１４】図１４は、本発明を適用して製造された光学基板が組み込まれた液晶プロジェクタを示す図である。
【符号の説明】
１０  第１の原盤
１２  色用凸部
２０  第２の原盤
２２  曲面部
３０  第１の光透過性層
３２  第１の光透過性層前駆体
３４  レンズ
３６  色用凹部
４０  第２の光透過性層
４２  第２の光透過性層前駆体
５０  補強板
６０  色パターン層
６２  色材
６４  インクジェットヘッド
７０  第３の光透過性層
７２  第３の光透過性層前駆体
８０  補強板
【図１】
0003824042.tif 000002
【図２】
0003824042.tif 000003
【図３】
0003824042.tif 000004
【図４】
0003824042.tif 000005
【図５】
0003824042.tif 000006
【図６】
0003824042.tif 000007
【図７】
0003824042.tif 000008
【図８】
0003824042.tif 000009
【図９】
0003824042.tif 000010
【図１０】
0003824042.tif 000011
【図１１】
0003824042.tif 000012
【図１２】
0003824042.tif 000013
【図１３】
0003824042.tif 000014
【図１４】
0003824042.tif 000015