(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被浸炭処理部材を、順次、搬送する共通な搬送路を有し、かつ前記搬送路には前記被浸炭処理部材を浸炭処理する当該被浸炭処理部材のうち浸炭深さの深い浸炭処理を行うのに適した温度が一定に保たれる浸炭ゾーンを有してなるガス浸炭炉と、
前記搬送路へ、順次、前記被浸炭処理部材を搬入するとともに、浸炭深さの浅い被浸炭処理部材が浸炭深さの深い被浸炭処理部材の後に続くときは、当該浅い被浸炭処理部材を、前記浸炭処理に費やす時間の差分、前に有る被浸炭処理部材との間隔を空けてから搬入させる搬入装置と、
前記浸炭深さの浅い被浸炭処理部材が前記浸炭ゾーンを通過する際、該被浸炭処理部材を前方の空きをつめるように移送させる手段と
を具備してなることを特徴とする連続ガス浸炭炉。
【請求項２】
請求項１に記載の連続ガス浸炭炉において、
前記搬入装置は、
被浸炭処理部材がそれぞれ投入される複数の投入部と、
一端が分岐して前記各投入部に至り他端側が合流して前記搬送路の入口へ向かうように取付けられ各投入部からの被浸炭処理部材を設定される順にしたがって、順次、搬送路へ移送する投入コンベアと、
前記投入コンベアの合流部分に浸炭深さの浅い被浸炭処理部材が浸炭深さの深い被浸炭処理部材の後へ続いて移送されるときは、浸炭処理に費やす時間の差分、浅い被浸炭処理部材の前方に空きが形成されるよう当該浅い被浸炭処理部材の送りを遅らす制御手段とを有して構成されることを特徴とする連続ガス浸炭炉。
【請求項３】
被浸炭処理部材を、順次、搬送する搬送路と、同搬送路に形成され前記被浸炭処理部材のうち浸炭深さの深い浸炭処理を行うのに適した温度が一定に保たれる浸炭ゾーンとが形成されたガス浸炭炉を有し、前記被浸炭処理部材を前記ガス浸炭炉の搬送路へ搬入する際、浸炭深さの浅い被浸炭処理部材が浸炭深さの深い被浸炭処理部材の後に続くときは、当該浅い被浸炭処理部材を、前記浸炭処理に費やす時間の差分、前に有る被浸炭処理部材との間隔を空けてから搬入させ、この浅い被浸炭処理部材が前記浸炭ゾーンを通過する際、該被浸炭処理部材を前方の空きをつめるように移送させて浸炭処理を行うことを特徴とする連続ガス浸炭法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する分野】
本発明は、浸炭深さの異なる２種類以上の被浸炭処理部材を、単一の浸炭炉にて連続してガス浸炭処理が行えるようにした連続ガス浸炭炉およびその浸炭炉で用いられる連続ガス浸炭方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
強靭性、耐摩耗性、疲労強度が要求される機械部品には、浸炭処理が広く適用されている。
【０００３】
こうした浸炭処理には、浸炭性ガスを用いたガス浸炭処理が用いられる。ガス浸炭処理は、被浸炭処理部材を浸炭性ガス雰囲気中にて、高温に加熱することにより、被浸炭処理部材の表面に炭素を侵入・固溶させる熱処理であり、その後の焼入処理によって、内部は粘く、表面は硬く、強くさせられる。
【０００４】
ガス浸炭処理では、生産性を高めるために、被浸炭処理部材を一定のサイクルで浸炭炉内を移送させ、この間に浸炭処理する連続ガス浸炭処理が行なわれている。
【０００５】
こうした連続ガス浸炭処理に用いられる連続ガス浸炭炉には、浸炭炉の内部温度を一定に保ち、同浸炭炉内を被浸炭処理部材が一定のサイクルで通過させるようにした構造が用いられ、この熱処理で被浸炭処理部材の表面において一定の浸炭深さを確保している。
【０００６】
この連続ガス浸炭炉は、同じ浸炭深さの被浸炭処理部材を連続して処理するときには有効なので、通常、ある浸炭深さの浸炭に適する条件（一定の浸炭処理温度、一定の浸炭保持時間）に定めた専用炉として用いている。
【０００７】
ところで、同一の炉で、異なる浸炭深さの被浸炭処理部材の処理が求められることがある。
【０００８】
連続ガス浸炭炉は、ある浸炭深さに適した浸炭処理温度、浸炭保持時間に設定してあるために、このような場合、浸炭処理温度は変更せずに、浸炭炉に被浸炭処理部材が滞留している時間を変える（サイクルタイムの変更）か、滞留している時間は変更せずに、浸炭処理温度を変えることになる。
【０００９】
ところが、炉内の被浸炭処理部材は、これから浸炭しようとする被浸炭処理部材とは浸炭深さが違うために、浸炭の条件を変更するためには、一旦、炉内の全ての製品を払い出した後、浸炭炉のサイクルタイムを変更したり、浸炭処理温度を変更したりする。
【００１０】
このため、異なる浸炭深さの浸炭に変更するときは、炉内の全製品を払い出すためのロスタイムが生じていた。特に浸炭処理温度を変更する場合は、その他に炉内の温度が変更した温度になるまで待つロスタイムも発生する。
【００１１】
ところで、連続ガス浸炭炉では、浸炭炉を効率的に活用するために、１つの炉で、浸炭深さの異なる種々の被浸炭処理部材を処理することが進められている。
【００１２】
しかし、上記のような変更では、頻繁に大きなロスタイムが発生する。
【００１３】
そこで、特公平６−９９７９４号の連続ガス浸炭炉では、連続ガス浸炭炉の拡散ゾーン内に、複数の被浸炭処理部材を保持する保持部位を形成し、順次、送られる被浸炭処理部材を保持部位に選択的に移送し、同保持部位で、要求される浸炭深さに適合するまで保持した後、拡散ゾーン外へ搬出させる技術が提案されている。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
この技術だと、ロスタイムの発生を抑制しつつ、1つの連続ガス浸炭炉で、２種類以上の被浸炭処理部材の浸炭処理が行える。
【００１５】
しかしながら、同技術は、各保持部位での保持時間の違いによって、異なる浸炭深さの浸炭処理を行うので、異なる浸炭深さ毎に個別に被浸炭処理部材を保持するための設備および焼入れ設備が必要となる。しかも、同設備は、浸炭深さの種類が多くなればそれに合わせて追加しなければならないので、各種異なる浸炭深さの浸炭処理を１つの浸炭炉で行う場合、浸炭炉の構造が複雑になりやすい。
【００１６】
本発明は上記事情に着目してなされたもので、その目的とするところは、単一の炉において、払い出しのロスタイムの発生なく、さらには共通な浸炭処理時間の調整設備で、各種異なる浸炭深さの被浸炭処理部材の浸炭処理が連続して行える連続ガス浸炭炉およびその浸炭炉で用いられる連続ガス浸炭方法を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために請求項１に記載の連続ガス浸炭炉は、被浸炭処理部材を、順次、搬送する共通な搬送路と、同搬送路に形成され被浸炭処理部材を浸炭処理する当該被浸炭処理部材のうち浸炭深さの深い浸炭処理を行うのに適した温度が一定に保たれる浸炭ゾーンとが形成されたガス浸炭炉に、搬送路へ順に被浸炭処理部材を搬入しかつ浸炭深さの浅い被浸炭処理部材が浸炭深さの深い被浸炭処理部材の後に続くときは、浸炭処理に費やす時間の差分、前に有る被浸炭処理部材との間隔を空けてから搬入させる搬入装置と、浸炭深さの浅い被浸炭処理部材を浸炭ゾーンを通過するときは前方の空きをつめるように移送させる移送手段とを組合わせた構造を採用したことにある。
【００１８】
これにより、どのような被浸炭処理部材でも、浸炭処理時間が浸炭ゾーンの範囲内で確保される限り、浸炭ゾーンの通過時間の調整から、単一の炉内で、浸炭処理時間が種々調整されるようになる。
【００１９】
したがって、各種異なる浸炭深さの被浸炭処理部材でも、単一の炉ならびに共通な浸炭処理時間の調整設備で、連続的に浸炭処理が行える。しかも、浸炭時間の調整は、炉内の全製品を払い出す必要がないので、払い出しによるロスタイムの発生はない。
【００２０】
請求項２に記載の連続ガス浸炭炉は、上記目的に加え、さらに炉内を変更せずに、浸炭処理時間の調整に必要な間隔を空ける作業が行えるために、請求項１に記載の搬入装置を、被浸炭処理部材がそれぞれ投入される複数の投入部と、一端側が分岐して各投入部に至り他端側が合流して搬送路の入口へ向かうように取付けられ各投入部からの被浸炭処理部材を設定される順にしたがって搬送路へ移送する複数系統の投入コンベアと、投入コンベアの合流部分に浸炭深さの浅い被浸炭処理部材が浸炭深さの深い被浸炭処理部材の後へ続いて移送されるときは、浸炭処理に費やす時間との差分、浅い被浸炭処理部材の前方に空きが形成されるよう当該浅い被浸炭処理部材の送りを遅らす制御手段とを有して構成したことにある。
【００２１】
また請求項３に記載の連続ガス浸炭方法は、上記目的を達成するために、被浸炭処理部材を、順次、搬送する搬送路に、被浸炭処理部材のうち浸炭深さの深い浸炭処理を行うのに適した温度が一定に保たれる浸炭ゾーンを組合わせたガス浸炭炉を有し、被浸炭処理部材をガス浸炭炉の搬送路へ搬入する際、浸炭深さの浅い被浸炭処理部材が浸炭深さの深い被浸炭処理部材の後に続くときは、浅い被浸炭処理部材を、浸炭処理に費やす時間の差分、前に有る被浸炭処理部材との間隔を空けてから搬入させ、この浅い被浸炭処理部材が浸炭ゾーンを通過する際、該被浸炭処理部材を前方の空きをつめるよう移送させて浸炭処理を行う方法を採用することによって、先に述べたのと同様、浸炭処理時間が浸炭ゾーンの範囲内で確保される限り、浸炭ゾーンの通過時間の調整から、浸炭処理時間が種々調整される。
【００２２】
したがって、各種異なる浸炭深さの被浸炭処理部材でも、単一の炉ならびに共通な浸炭処理時間の調整設備で、連続的に浸炭処理を行える。しかも、浸炭時間の調整は、炉内の全製品を払い出す必要がないので、払い出しによるロスタイムの発生はない。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図１ないし図６に示す一実施形態にもとづいて説明する。
【００２４】
図１（ａ）は、本発明を適用した連続ガス浸炭炉、例えばハースローラ型連続浸炭炉の全体の正面図を示し、図１（ｂ）は同じく平面図を示していて、図中Ｘはガス浸炭炉Ｘ（以下、単に浸炭炉Ｘという）、１は同浸炭炉Ｘを形成する搬送路である。搬送路１は、横方向に搬送ローラ２を、多数本、所定の間隔で並べて構成されている。これら搬送ローラ群の周囲は、搬送路１の一方の端部から他方の端部の全域に渡り、筒形のシェル３で囲われている。シェル３の内部は、複数の開閉扉３ａによって所定の間隔で仕切られている。そして、シェル３の内部を、入口４ａが形成されている左側から脱脂ゾーンＡ（１処理ブロックで形成）、予熱ゾーンＢ（１処理ブロックで形成）、予浸ゾーンＣ（１処理ブロックで形成）、浸炭・拡散ゾーンＤ（５処理ブロックで形成：本願の浸炭ゾーンに相当）、冷却ゾーンＥ（１処理ブロック）、再加熱ゾーンＦ（１処理ブロック）、焼入れゾーンＧ（１処理ブロック）に分けている。このうち浸炭・拡散ゾーンＤは、浸炭処理を行う被浸炭処理部材（以下、ワークという）のうち、最も浸炭時間の長いワークＷ1に合わせて形成してある。なお、各ゾーンＡ〜Ｇは、各々異なる温度で一定に保たれ、予浸ゾーンＣ、浸炭・拡散ゾーンＤ、再加熱ゾーンＦおよび焼入れゾーンＧは、浸炭性ガス雰囲気で満たされる。但し、４ｂは筒形部材２の右側に形成された出口４ｂである。また各搬送ローラ２は、個別に駆動源、例えばモータ２ａ（図では３個しか図示せず）が装着され個別に回転駆動される構成になっている。これら各搬送ローラ２により、ワークが最初の脱脂ゾーンＡから最後の焼入れゾーンＧへ向かい、順次、処理ブロック毎に１個送りで搬送できるようにしてある。
【００２５】
一方、１０は、浸炭炉４の入口４ａに据え付けた投入装置（本願の搬入装置に相当）である。投入装置１０は、各種の浸炭深さのワークを投入する複数の投入部、例えば浸炭深さの深いワークＷ1（浸炭時間の長い被浸炭処理部材：以下、深めワークＷ1という）を載せたトレイ（図示せず）を投入する投入口１１ａおよび浸炭深さの浅いワークＷ2（浸炭時間の短い被浸炭処理部材：以下、浅めワークＷ2という）を載せたトレイ（図示しない）を投入する投入口１１ｂ（いずれも本願の投入部に相当）と、これら投入口１１ａ，１１ｂからのワークＷ1，Ｗ2を入口４ａに導いて浸炭炉Ｘ内へ投入させる投入コンベア１２とを有している。
【００２６】
このうち投入コンベア１２には、投入口１１ａからの深めワークＷ１を入口４ａへ導く経路をメインとし、この経路に対して投入口１１ｂからの浅めワークＷ2を割り込み可能とした構造が用いられている。具体的には、投入コンベア１２は、例えば入口４ａから、４トレイ分、上流側へ向かって延びる主コンベア部１４と、主コンベア部１２と直線状に連なる導入コンベア部１５ａと、主コンベア部１２と導入コンベア部１５ａとの間から分岐して該導入コンベア部１５ａと並行に並ぶ導入コンベア部１５ｂとを有している。そして、導入コンベア部１５ａ端が投入口１１ａに接続され、導入コンベア部１５ｂ端が投入口１１ｂに接続してある。つまり、投入コンベア１２は、異なる浸炭深さのワークＷ1，Ｗ2が選別されるよう、一端側が分岐して専用の各投入口１１ａ，１１ｂへ至り、他端側が合流して入口４ａへ向かう構造にしてある。そして、主コンベア部１２の一部、例えば入口４ａから１トレイ分の離れた地点に洗浄機１６（ワークを洗浄する機器）が据え付けてある。
【００２７】
また投入コンベア１２には、コンベア操作用の操作部２０が、例えば浸炭炉各部を制御する制御部２１（例えばマイクロコンピュータより構成）を介して接続されている。操作部２０には、例えば自動搬送モードと選択搬送モードとを選択する選択ボタン２０ａ、割り込みボタン２０ｂ、任意に優先順位と浸炭深さ（浅め・深め）を設定する設定部２０ｃ、同設定完了ボタン２０ｄが設けてある。
【００２８】
制御部２１には、浸炭炉Ｘの各ゾーンを所定に制御する機能の他に、以下のような投入コンベア１２、搬送ローラ２群を制御する機能が設定されている。
【００２９】
ａ．自動搬送モードが選択されると、主コンベア部１４、導入コンベア部１５ａを、所定のタクトタイムで１個送り動作する浸炭炉Ｘの搬送ローラ群に連動して1個送り動作させ、投入口１１ａから投入された深めのワークＷ1を、順次搬送して、浸炭炉Ｘへ搬入させる機能。
【００３０】
ｂ．自動搬送モード中、割り込みボタン２０ｂが操作されると、投入口１５ｂから投入された浅めワークＷ2を優先的に割り込ませる機能。
【００３１】
ｃ．同割り込み時に、浅めワークＷ2の前方に空き形成する機能。具体的には導入コンベア部１５ａを一旦停止させて、導入コンベア部１５ａ上の深めワークＷ1を待機させ、導入コンベア部１５ｂの合流部分から主コンベア部１４の下流側の領域に空き、詳しくは深めワークＷ1の浸炭処理に費やす時間と浅めワークＷ2の浸炭処理に費やす時間との時間差で形成される空き、例えば３トレイ分の空きＳを確保した後、導入コンベア部１５ｂ上の浅めワークＷ2を合流部分へ搬送させる機能。
【００３２】
ｄ．同割り込みを、導入コンベア部１５ｂ上で待機させてある浅めワークＷ2が無くなるまで連続して行う機能。
【００３３】
ｅ．同割り込みを終えると、自動搬送モードに戻す機能。
【００３４】
ｆ．前方に空きＳを有して１個送りされる浅めワークＷ2が、予浸ゾーンＣでの処理を終えると、空き、すなわち３トレイ分の空きＳをつめるよう、当該ワークＷ２だけを、浸炭・拡散ゾーンＤの搬送ローラ２群（本願の移送手段に相当）の制御で搬送させて、前方の深めワークＷ1の直後に整列し直す機能。
【００３５】
ｇ．選択搬送モードが選択されると、導入コンベア部１５ａ，１５ｂ上で待機しているワークＷ1、Ｗ2を、設定部２０ｃの設定操作で設定された優先順位および浸炭深さで、設定完了ボタン２０ｄのオン操作に伴い、主コンベア部１２へ送り出し、１個送りで、順次、搬送して、浸炭炉Ｘへ搬入させる機能。
【００３６】
ｈ．同送り出しの際、先に延べたのと同様、浅めワークＷ2の前方に空きＳを形成する機能。具体的には、設定部２０ｃの設定操作で設定された浸炭深さと、先の優先順位とにより、主コンベア部１４の合流部分において、浅めワークＷ2が深めワークＷ1の後に続くとき、すなわち合流部分に深めワークＷ1が到達し、その後に到達するのが浅めワークＷ２のときは、深めワークＷ1を載せている導入コンベア部１５ａ（あるいは１５ｂ）を待機させ、先の「ｃ．」と同じく導入コンベア部１５ｂの合流部分から主コンベア部１４の下流側の領域に３トレイ分の空きＳを確保してから、浅めワークＷ2を合流部分へ搬送させて割り込みを行う機能。
【００３７】
自動搬送モードのときはａ〜ｆの機能が発揮され、選択搬送モードのときはｇ、ｈ、ｅ、ｆの機能が発揮され、浸炭・拡散ゾーンＤを通過するときの通過時間の違い、すなわち処理ブロックを飛ばすことで行われる浸炭時間の調整により、異なる浸炭深さのワークＷ1、Ｗ2が連続して浸炭処理されるようにしてある。
【００３８】
図２のフローチャートには、この浸炭時間を調整する制御が示されている。図３および図５には、このときの投入コンベア１２におけるワーク状況が示され、図４には浸炭炉Ｘの内部におけるワーク状況が示されている。
【００３９】
上記フローチャートにしたがい、浸炭方法を説明すれば、今、深めワークＷ1の浸炭処理を行うとする。
【００４０】
ここで、浸炭炉Ｘは、例えば制御部２１の指令により、深めワークＷ1の浸炭処理を行うのに適した温度と所定のサイクルタイムで処理が進むようにしてある（深めワークの専用炉に設定）。
【００４１】
このとき、自動搬送モードをオンにする。すると、制御部２１の指令により、所定のサイクルタイムにしたがって、搬送コンベア１２および浸炭炉Ｘのローラ２群の送りが制御され、自動搬送モードが開始される（ステップＳ１）。
【００４２】
続いて、作業者が、選別した深めワークＷ1をトレイ（図示しない）と一緒に、深めワーク専用の投入口１１ａから、順次、導入コンベア部１５ａへ投入したとする。
【００４３】
すると、ワークＷ１は、例えば導入コンベア部１５ａ、主コンベア１４で送られ、図３（ａ）中の「エ」〜「ケ」の各地点へ向かう。そして、「ク」地点で、洗浄機１６によって、ワークＷ1の洗浄が行われる。この洗浄を終えたワークＷ1が、入口４ａの直前の「ケ」地点から、入口４ａを通し浸炭炉Ｘ内へ投入される。続いてワークＷ1は、浸炭炉Ｘの搬送ローラ２群で行われる１個送り動作により、図４中の通常モードに示されるように所定のサイクルタイムで、「脱脂」、「予熱」、「予浸」、「浸炭・拡散」、「冷却」、「再加熱」、「焼入れ」のゾーンＡ〜Ｇを形成している各処理ブロックへ、順次搬送される（ステップＳ２）。
【００４４】
これにより、ワークＷ１は、最初の脱脂ゾーンＡにおいて脱脂が行われ、続いて予熱ゾーンＢにおいて予熱（昇温）が行われ、続く予浸ゾーンＣにおいて浸炭性ガス雰囲気による予浸が行われる。続いて浸炭・拡散ゾーンＤのうち最初の処理ブロックＤ1で同様に浸炭性ガス雰囲気による浸炭が行われ、続く４つの各処理ブロックＤ2〜Ｄ5で拡散が行われる。つまり、深めワークＷ１の表面には、浸炭深さの深い浸炭が施される。そして、このワークＷ1が、つぎの冷却ゾーンＥ、再加熱ゾーンＦ、焼入れゾーンＧを順に経てから炉外へ搬出され、求められる熱処理がワークＷ１に施される。
【００４５】
こうした深めワークＷ1を連続して浸炭処理している最中、同一の炉で、浸炭深さの浅いワーク、すなわち浅めワークＷ2を浸炭処理しようとする。つまり、通常モードから混合モードへ変更しようとする。
【００４６】
このときには、作業者は、選別した浅めワークＷ2をトレイ（図示しない）と一緒に、浅めワーク専用の投入口１１ｂから導入コンベア部１５ｂへ投入する。このとき、例えば浅めワークＷ2を３個投入したとする。すると、導入コンベア部１５ｂの送りにより、各浅めワークＷ2が、順次、あらかじめ定めてある導入コンベア部１５ｂ上の待機位置、例えば「ア」〜「ウ」の各３地点へ導かれる。そして、同各地点で３個のワークＷ2が待機する。
【００４７】
この浅めワークＷ2の待機がすんだら、割り込みボタン２０ｂをオンする（ステップＳ３）。すると、制御部２１は、浅めワークＷ2が深めワークＷ1の後に続いて割り込まれると判定して、深めワークＷ1を搬送している導入コンベア部１５ａを、一旦、停止させる（ステップＳ５）。これにより、投入コンベア１２は、主コンベア部１４だけが、浸炭炉Ｘのサイクルタイムにしたがって１個送りで搬送が継続される。これで、主コンベア部１４の合流部分から下流側には、ワークが無い部分、すなわち空きＳが形成される。
【００４８】
導入コンベア部１５ａの停止が、３トレイ分の空きＳ、すなわち図３（ｂ）に示すように「カ」〜「ク」まで続くと、制御部２１は、深めワークＷ1の浸炭処理に費やす時間と浅めワークＷ2の浸炭処理に費やす時間との時間差分に応じた空きゾーンが確保されたと判定して（ステップＳ５）、浅めワークＷ2を割り込ませる。
【００４９】
すなわち、導入コンベア部１５ｂが搬送動作を始める。すると、導入コンベア部１５ｂ上で待機していた全てのワークＷ2が、図３（ｃ）に示されるように３トレイ分の空きＳを保ったまま、主コンベア部１４の合流部分へ、順次、搬送される。これにより、３個の浅めワークＷ2は、浸炭深さ差を調整する時間差となる３トレイ分の空きＳを挟んで、深めワークＷ1の列に連続して優先的に割り込まれる（ステップＳ６）。
【００５０】
このとき、制御部２１は、導入コンベア部１５ｂ上の全ワークＷ2の割り込みを終えてから、所定時間、具体的にはタクトタイム以内（１個送りに要する時間以内）に投入口１１ｂから浅めワークＷ2が投入されたか否かを検出していて（ステップＳ７）、同時間内に浅めワークＷ2が投入されないと、浅く浸炭処理するワークが無いと判定して、割り込みを解除し、再び導入コンベア部１５ａを作動させる（ステップＳ８）。
【００５１】
すると、図３（ｄ）に示されるように浅めワークＷ2の直後に、投入口１１ａから投入された深めワークＷ1が並ぶ。
【００５２】
これにより、浅めワークＷ2は、深めワークＷ1の列に、空きＳと共に割り込まれたまま、主コンベア部１２で搬送され、浸炭炉Ｘ内へ、順次、投入される。そして、図４中の「ａ」〜「ｄ」に示されるように浅めワークＷ2が、深めワークＷ1との間で空きＳ（３トレイ分）を確保しながら、浸炭炉Ｘの内部の脱脂ゾーンＡ、予熱ゾーンＢ、予浸ゾーンＣを、所定のサイクルタイム毎、１処理ブロックづつに送られる。
【００５３】
ここで、浸炭深さが異なる深めワークＷ1と浅めワークＷ2の浸炭処理は、脱脂ゾーンＡから予浸ゾーンＣまでは共通で、浸炭・拡散ゾーンＤでの浸炭時間が違うだけである。
【００５４】
そこで、制御部２１は、浅めワークＷ2が予浸ゾーンＣでの処理を終えると（ステップＳ９）、浸炭・拡散ゾーンＤにおける搬送ローラ２群の送りを制御して、図３中の「ｅ」に示されるよう同浅めワークＷ2を、前方の空きＳ（３トレイ分）をつめるよう移送をさせ、前方の深めワークＷ1の直後（空きＳが無い状態）に並べ直す（ステップＳ１０）。
【００５５】
続く２個の浅めワークＷ2も、順次、予浸ゾーンＣでの処理を終えるにしたがい、図３中の「ｆ」、「ｇ」のように前方の空きＳ（３トレイ分）をつめるように移送され、空きＳが無い状態に並べ直される（ステップＳ１０）。
【００５６】
これにより、浅めワークＷ2は、上流側の３つの処理ブロックＤ1〜Ｄ３を飛ばして浸炭処理が行われる。
【００５７】
ここで、飛ばした処理ブロックＤ1〜Ｄ３は、浸炭・拡散ゾーンＤで深めワークＷ1を浸炭処理するのに費やす時間Ｓ１と浅めワークＷ2を浸炭・拡散ゾーンＤを浸炭処理するに費やす時間Ｓ２との差となる空きＳ（３トレイ分）に相当しているので、浸炭・拡散ゾーンＤの通過時間は、浅めワークＷ2の浸炭処理に適した短い通過時間に調整されることになる。
【００５８】
これにより、浅めワークＷ2は、同ワークＷ2に適した浸炭処理時間で浸炭処理が施される。そして、この処理を終えた浅めワークＷ2が、先に述べた深めワークＷ１のときと、同じ工程で、冷却ゾーンＥ、再加熱ゾーンＦ、焼入れゾーンＧへ向かう。
【００５９】
また図３中の「ｈ」に示すように予浸炭ゾーンＣに到達するのが浅めワークＷ2から深めワークＷ1に戻れば、先に述べたような浸炭・拡散ゾーンＤの全処理ブロックＤ1〜Ｄ5を用いた処理が行われ、再び浸炭・拡散ゾーンＤの通過時間が長く状態に戻り、再び深めワークＷ1に適した浸炭処理時間での浸炭処理に戻る。
【００６０】
一方、自動搬送モードでなく、作業者が自由に処理の順番を設定できる選択搬送モードを用いるとする。
【００６１】
このときは、選択搬送モードをオンにし、操作部２０の設定部２０ｃを操作して、投入口１１ａ，１１ｂから投入する深めワークＷ1や浅めワークＷ2にそれぞれ優先順位を決め、決めた優先順位のワークの浸炭深さ（深め、浅め）を設定する。例えば図５に示されるように導入コンベア部１５ａの「ア」地点には、優先順位４番の浅めワークＷ2、「イ」には優先順位３番の深めワークＷ1、「ウ」には優先順位1番の浅めワークＷ2、「エ」には優先順位５番の深めワークＷ1「オ」は優先順位2番の深めワークＷ1が投入されたとする。続いて、設定完了ボタン２０ｂをオンする。すると、優先順位にしたがい両導入コンベア部１５ａ，１５ｂが作動して、優先順位の通りに、導入コンベア部１５ａ上の各ワークＷ2、導入コンベア部１５ｂ上の各ワークＷ1，Ｗ2を主コンベア部１４の合流部分に導かれ、主コンベア部１４の送りで、各ワークＷ1，Ｗ2が１個送りで、浸炭炉Ｘへ搬送される（ステップＳ１１）。
【００６２】
このとき、制御部２１は、主コンベア部１４の合流部分に到達するのがどの浸炭深さのワークであるか、つぎに到達するのはどの浸炭深さのワークであるかを優先順位から監視していて、主コンベア部１４の合流部分に到着したのが深めワークＷ1で（ステップＳ１２）、つぎに到着するのが浅めワークＷ2であると（ステップＳ１３）、判定すると、上記ステップＳ４〜Ｓ８で述べた前方に空きＳを形成した浅めワークＷ2の割り込み、さらには続くステップＳ９，１０で述べた空きＳをつめるワーク移送が行われ、深めワークＷ1、浅めワークＷ2共、適切な浸炭処理時間での浸炭処理が行われる。
【００６３】
なお、制御部２１には、フローチャートには図示していないが、主コンベア部分１２の合流部分の「キ」地点にワークが到達までは浸炭深さの変更を受け付ける機能を有していて、例えば図６（ａ）に示されるように「キ」地点に到着した深めワークＷ1を浅めの浸炭深さに変更するような場合（例えば誤った浸炭深さの設定を直すときなど）、図６（ｂ）に示されるように浸炭炉Ｘの脱脂ゾーンＡを利用して、空きＳ（３トレイ分）を形成するようにしてあり、できるだけ浸炭深さの設定変更に耐えられるようにしてある。
【００６４】
こうした浅めワークＷ2がそれよりも浸炭深さの深い深めワークＷ1の後に続いて投入されるときは、浅めワークＷ2と前方の深めワークＷ1との間隔を空け、浅めワークＷ2が浸炭ゾーンを通過するときに同空きをつめて該ゾーンの通過時間を調整する連続ガス浸炭炉および連続浸炭方法だと、浸炭深さの種類が、３種類、４種類、５種類と多くとも、浸炭処理時間が浸炭ゾーンの範囲内で確保される限り、単一の浸炭炉Ｘ内において種々の浸炭処理時間の調整が行える。
【００６５】
したがって、各種異なる浸炭深さのワークＷ1,Ｗ2,…でも、単一の炉ならびに共通な浸炭処理時間の調整設備で、連続的な浸炭処理ができる。
【００６６】
しかも、浸炭時間の調整は、ワーク間の間隔を広げたり狭めたりするだけなので、炉内の全製品を払い出す必要はなく、払い出しによるロスタイムの発生はない。
【００６７】
そのうえ、投入装置１０は、深め専用の投入口１１ａと浅め専用の投入口１１ｂといった異なる浸炭深さ毎に定めた複数の投入口と浸炭炉Ｘの入口４ａとの間を連絡して、設定される順、すなわち深めワークＷ1を優先に浅めワークＷ2を割り込ませて両ワークＷ1，Ｗ2を順次搬送したり、作業者が定めた処理の順番で両ワークＷ1，Ｗ2を順次搬送する投入コンベア１２に、深めワークＷ1の後に続く浅めワークＷ2を、浸炭処理時間差分、遅らす制御を加えた構造なので、浸炭炉Ｘをそのまま活用して、自動で浸炭処理時間の調整に必要な間隔を空ける作業を行うことができる。
【００６８】
なお、一実施形態では、本発明を、５処理ブロックＤ1〜Ｄ5で形成される浸炭・拡散ゾーン（本願の浸炭ゾーンに相当）をもつ連続ガス浸炭炉に適用した例を挙げたが、これに限らず、それ以上の処理ブロックを有する浸炭・拡散ゾーン（浸炭ゾーン）をもつ連続ガス浸炭炉に適用してもよい。このような浸炭炉を用いれば、より数多くの種類の浸炭深さの異なる連続浸炭が自動で行える。
【００６９】
【発明の効果】
以上説明したように請求項１、請求項３に記載の発明に記載の発明によれば、どのような被浸炭処理部材でも、浸炭処理時間が浸炭ゾーンの範囲内で確保される限り、単一の浸炭炉内において、種々浸炭処理時間の調整ができる。
【００７０】
したがって、各種異なる浸炭深さの被浸炭処理部材でも、単一の炉ならびに共通な浸炭処理時間の調整設備で、連続的な浸炭処理を行うことができる。
【００７１】
しかも、浸炭時間の調整は、ワーク間の間隔を広げたり狭めたりするだけなので、炉内の全製品を払い出す必要はなく、払い出しによるロスタイムの発生はない。
【００７２】
請求項２に記載の発明によれば、上記効果に加え、浸炭炉のそのまま構造を変えずに活用して、自動で浸炭処理時間の調整に必要な間隔を空ける作業を行うことができるといった効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は、本発明の一実施形態に係る連続ガス浸炭炉の構造を示す正面図。
（ｂ）は、同じく平面図。
【図２】同連続ガス浸炭炉で行われる浸炭処理時間の調整に係る制御を説明するフローチャート。
【図３】自動搬送モード時の投入コンベア上における浸炭深さの異なるワークの動きを説明するための図。
【図４】同搬送モード時の浸炭炉内における浸炭深さの異なるワークの動きを説明するための図。
【図５】選択搬送モード時の投入コンベア上における浸炭深さの異なるワークの動きを説明する図。
【図６】同モード時、途中で浸炭深さを変更したときにおける投入コンベア上のワークの動きを説明する図。
【符号の説明】
１…搬送路
２…搬送ローラ（移送手段）
１０…投入装置（搬入装置）
１１ａ，１１ｂ…投入口（投入部）
１２…投入コンベア
１６…洗浄機
２０…操作部
２１…制御部（制御手段）
Ｄ…浸炭・拡散ゾーン（浸炭ゾーン）
Ｓ…空き
Ｘ…ガス浸炭炉
Ｗ1，Ｗ2…深めワーク、浅めワーク（異なる浸炭深さの被浸炭処理部材）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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