(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の端子を備えた集積回路が実装される実装領域を有し、水分を透過する材料からなる基材と、
前記基材に形成され、前記集積回路の複数の端子に接続される複数の配線と、
前記実装領域内において前記集積回路と前記基材との間に介在する異方性導電膜と、
前記基材の前記異方性導電膜が配置され前記集積回路が実装される前記実装領域内に形成される導体パターンと
を備え、
前記導体パターンは、前記実装領域内の中央近傍に位置する点から略放射状に延びて所定電位に接続されており、
前記実装領域のうち前記導体パターンが形成された領域の面積は、当該領域以外の面積よりも小さく形成されてなることを特徴とする配線基板。
【請求項２】
前記所定電位は接地電位であることを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項３】
前記複数の端子の少なくとも１つは、前記集積回路を動作させるための接地電位を供給する
ことを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項４】
前記配線は、その一端近傍が前記実装領域内に至って前記集積回路の端子に接続される
ことを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項５】
前記実装領域は略長方形状であり、
前記複数の配線は、前記実装領域の一辺を横切るように形成された１以上の配線と、当該一辺に隣接する他の一辺を横切るように形成された１以上の配線とを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項６】
前記基材の前記実装領域には、導電性粒子が分散された前記異方性導電膜を介して前記集積回路が実装されている
ことを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項７】
前記基材はポリイミドを含み、
前記導体パターンは、銅からなる層を含む
ことを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項８】
前記基材は可撓性を有する
ことを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項９】
前記基材の周縁近傍に形成された接続端子であって、表示パネルの端子に接続される接続端子
を具備することを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項１０】
第１電極および第２電極との間に電気光学物質を有する表示パネルを備えた表示装置において、
前記表示パネルに接合される水分を透過する材料からなる基材と、
前記基材の実装領域に実装され、複数の端子を備えた集積回路と、
前記実装領域内において前記集積回路と前記基材との間に介在する異方性導電膜と、
前記基材に形成され、前記集積回路の複数の端子に接続される複数の配線と、
前記基材の前記異方性導電膜が配置され前記集積回路が実装される前記実装領域内に形成される導体パターンと
を備え、
前記導体パターンは、前記実装領域内の中央近傍に位置する点から略放射状に延びて所定電位に接続されており、
前記実装領域のうち前記導体パターンが形成された領域の面積は、当該領域以外の面積よりも小さく形成されてなることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
前記電気光学物質は液晶を含む
ことを特徴とする請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記電気光学物質はＥＬ発光層を含む
ことを特徴とする請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記集積回路は、前記第１電極または第２電極の少なくとも一方に供給される電位を生成するための回路を備える
ことを特徴とする請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１４】
相互に対向する第１電極および第２電極に挟まれた電気光学物質を有する表示パネルと、
前記表示パネルに設けられ、当該表示パネルを駆動するための駆動用ＩＣと、
前記表示パネルに接合される水分を透過する材料からなる基材と、
前記基材の実装領域に実装され、前記駆動用ＩＣに電位を供給する集積回路と、
前記実装領域内において前記集積回路と前記基材との間に介在する異方性導電膜と、
前記基材に形成され、前記集積回路の前記複数の端子に接続される複数の配線と、
前記基材の前記異方性導電膜が配置され前記集積回路が実装される前記実装領域内に形成される導体パターンと
を備え、
前記導体パターンは、前記実装領域内の中央近傍に位置する点から略放射状に延びて所定電位に接続されており、
前記実装領域のうち前記導体パターンが形成された領域の面積は、当該領域以外の面積よりも小さく形成されてなることを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
相互に対向する一対の基板と、前記一対の基板の間に挟まれた液晶とを有する表示装置において、
前記一対の基板のうち一方の基板の液晶側の面に形成された電極と、
前記一方の基板に実装され、前記電極に接続された駆動用ＩＣと、
前記一方の基板に接合された水分を透過する材料からなる基材と、
前記基材の実装領域に実装され、前記駆動用ＩＣに電位を供給する集積回路と、
前記実装領域内において前記集積回路と前記基材との間に介在する異方性導電膜と、
前記基材に形成され、前記集積回路の前記複数の端子に接続される複数の配線と、
前記基材の前記異方性導電膜が配置され前記集積回路が実装される前記実装領域内に形成される導体パターンと、
を備え、
前記導体パターンは、前記実装領域内の中央近傍に位置する点から略放射状に延びて所定電位に接続されており、
前記実装領域のうち前記導体パターンが形成された領域の面積は、当該領域以外の面積よりも小さく形成されてなることを特徴とする表示装置。
【請求項１６】
第１電極および第２電極との間に電気光学物質を有する表示パネルを表示部として備える電子機器において、
前記表示パネルに接合される水分を透過する材料からなる基材と、
前記基材の実装領域に実装され、前記第１電極または第２電極の少なくとも一方に供給される電位を生成するための集積回路と、
前記実装領域内において前記集積回路と前記基材との間に介在する異方性導電膜と、
前記基材に形成され、前記集積回路の前記複数の端子に接続される複数の配線と、
前記基材の前記異方性導電膜が配置され前記集積回路が実装される前記実装領域内に形成される導体パターンと
を備え、
前記導体パターンは、前記実装領域内の中央近傍に位置する点から略放射状に延びて所定電位に接続されており、
前記実装領域のうち前記導体パターンが形成された領域の面積は、当該領域以外の面積よりも小さく形成されてなることを特徴とする電子機器。
【請求項１７】
水分を透過する材料からなる基材に集積回路が実装され、前記集積回路と前記基材との間に介在する異方性導電膜を有し、前記基材に形成された複数の配線と前記集積回路の複数の端子とが接続された配線基板の製造方法において、
前記基材の前記異方性導電膜が配置され前記集積回路が実装される実装領域内に導体パターンを形成する工程と、
前記実装領域内に前記集積回路を実装する工程とを有し、
前記導体パターンは、前記実装領域内の中央近傍に位置する点から略放射状に延びて所定電位に接続されており、
前記実装領域のうち前記導体パターンが形成された領域の面積は、当該領域以外の面積よりも小さく形成されてなることを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項１８】
前記集積回路の実装の際に、集積回路と基材との間に前記異方性導電膜を介在させた状態で、当該集積回路を基材側に押圧することを特徴とする請求項１７に記載の配線基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線基板およびその製造方法、表示装置ならびに電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話機に代表される携帯型の電子機器が急速に普及しつつある。通常、これらの電子機器には、各種のＩＣチップが実装された配線基板（プリント基板）が搭載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、かかる携帯型の電子機器において、その軽量化への要求は極めて厳しい。そして、かかる要求に応えるための様々な技術が電子機器の各種の構成要素に関して提案されている。配線基板もその例外ではなく、厳しい軽量化の要求に応え得る技術の開発が検討されている。その一方で、電子機器の高性能化の要求も著しいものがあり、高い性能を損なうことなく軽量化を実現し得る技術の開発が強く望まれているといえる。
【０００４】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、軽量化を図ることが可能な配線基板およびその製造方法、ならびに当該配線基板を用いた表示装置および電子機器を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明に係る配線基板は、複数の端子を備えた集積回路が実装される実装領域を有し、水分を透過する材料からなる基材と、前記基材に形成され、前記集積回路の複数の端子に接続される複数の配線と、前記実装領域内において前記集積回路と前記基材との間に介在する異方性導電膜と、前記基材の前記異方性導電膜が配置され前記集積回路が実装される前記実装領域内に形成される導体パターンとを備え、前記導体パターンは、前記実装領域内の中央近傍に位置する点から略放射状に延びて所定電位に接続されており、前記実装領域のうち前記導体パターンが形成された領域の面積は、当該領域以外の面積よりも小さく形成されてなることを特徴とする。
【０００６】
この配線基板によれば、接地される複数の配線を相互接続するための導体パターンが、実装領域内において放射状に延びる形状となっている。したがって、実装領域の大部分を覆う形状の導体パターン（いわゆる「ベタパターン」）を形成した場合と比較して、導体パターンを少ない材料で形成することができ、これにより配線基板の軽量化を図ることができる。
【０００７】
また、上記導体パターンは所定の電位に保持されるため、集積回路から発生する電気的ノイズや、外部から届く電気的ノイズを減衰させることができる。したがって、かかる電気的ノイズが電子機器の各構成要素に及ぼし得る影響を低減できるという効果も得られる。
【０００８】
また、実装領域の大部分を覆う導体パターンを形成した場合には、この導体パターンと配線との距離が短くなるため、本来接地されるべきでない配線と導体パターンとが電気的に短絡しやすいという問題が生じ得る。これに対し、本発明に係る配線基板の導体パターンは、所定の点を中心として、接地される配線のみに対して放射状に延びる形状となっている。したがって、接地すべきでない配線と導体パターンとの間に、これらの短絡を防止するのに十分な距離を確保することができる。
【０００９】
かかる観点に立つと、前記導体パターンは、前記実装領域内の所定の点から略放射状に延びる形状を採った場合には、この所定の点を、前記実装領域内の中央近傍に位置するものとすることが望ましい。こうすれば、例えば略四角形の実装領域の外延に沿って上記複数の配線が配列する構成を採った場合に、接地すべきでないすべての配線と、導体パターンとの間に十分な距離を確保することができるから、これらの短絡をより確実に防止することができる。また、実装領域を略長方形状とした場合、前記複数の配線は、前記実装領域の一辺を横切るように形成された１以上の配線と、当該一辺に隣接する他の一辺を横切るように形成された１以上の配線とを含む構成としてもよい。
【００１０】
さらに、前記基材の実装領域には、導電性粒子が分散された異方性導電膜を介して前記集積回路が実装されることが望ましい。こうすれば、集積回路を基材に接合すると同時に、当該集積回路の端子と基材上の配線とを一括して接続することができるから、製造工程の簡易化や製造コストの低減を図ることができる。
【００１１】
さらに、異方性導電膜を用いて集積回路を実装した場合には、前記実装領域のうち前記導体パターンが形成された領域の面積を、当該領域以外の領域の面積よりも小さくすることが望ましい。こうすれば、実装領域のうち導体パターンが形成されていない領域、すなわち基材の表面が露出している領域を比較的広く確保することができるため、以下に示す効果を得ることができる。すなわち、例えばポリイミドからなる基材の面上に、金メッキが施された銅薄膜からなる導体パターンを形成した場合、異方性導電膜に対する接着強度は、導体パターンの表面よりも基材の表面の方が高いのが通常である。したがって、略放射状の導体パターンを採用し、実装領域中の基材が露出する部分を広く確保することによって、基材と集積回路との接着強度を向上させることができる。
【００１２】
さらに、前記基材として水分を透過させる薄板状の部材を用いれば、異方性導電膜などに含まれる水分を、基材を透過して外部に逃がすことができるという効果が得られる。ここで、実装領域のうち基材の表面が露出する面積を広く確保すれば、水分を透過させ得る領域をより広くすることができるから、かかる効果は一層顕著に現れる。
【００１３】
また、前記基材として可撓性を有するものを用いることも望ましい。こうすれば、例えば当該配線基板を表示パネルに用いた場合に、配線基板を表示パネルの背面側に折り曲げるといった構成を採ることができ、電子機器の小型化が図られる。また、本発明に係る配線基板は、集積回路が実装される実装領域を有する基材と、前記基材の前記実装領域に形成され、接地される導体パターンとを備え、前記導体パターンは実装領域内の所定の点から略放射状に延びる形状を有する構成としてもよい。
【００１４】
また、上記課題を解決するため、本発明は、第１電極および第２電極との間に電気光学物質を有する表示パネルを備えた表示装置において、前記表示パネルに接合される水分を透過する材料からなる基材と、前記基材の実装領域に実装され、複数の端子を備えた集積回路と、前記実装領域内において前記集積回路と前記基材との間に介在する異方性導電膜と、前記基材に形成され、前記集積回路の複数の端子に接続される複数の配線と、前記基材の前記異方性導電膜が配置され前記集積回路が実装される前記実装領域内に形成される導体パターンとを備え、前記導体パターンは、前記実装領域内の中央近傍に位置する点から略放射状に延びて所定電位に接続されており、前記実装領域のうち前記導体パターンが形成された領域の面積は、当該領域以外の面積よりも小さく形成されてなることを特徴とする。
【００１５】
なお、前記表示パネルとしては、電気光学物質として液晶を含む液晶パネルを用いてもよいし、あるいは、電気光学物質としてＥＬ（Electro-Luminescence）発光層を用いたＥＬパネルを用いてもよい。また、基材に実装されるべき集積回路としては、第１電極または第２電極の少なくとも一方に印加されるべき電圧を生成するための回路を備えるものを採用することができる。さらに、本発明は、上述した表示装置を表示部として用いた電子機器という態様によっても実施可能である。
【００１６】
上記課題を解決するため、本発明は、水分を透過する材料からなる基材に集積回路が実装され、前記集積回路と前記基材との間に介在する異方性導電膜を有し、前記基材に形成された複数の配線と前記集積回路の複数の端子とが接続された配線基板の製造方法において、前記基材の前記異方性導電膜が配置され前記集積回路が実装される実装領域内に導体パターンを形成する工程と、前記実装領域内に前記集積回路を実装する工程とを有し、前記導体パターンは、前記実装領域内の中央近傍に位置する点から略放射状に延びて所定電位に接続されており、前記実装領域のうち前記導体パターンが形成された領域の面積は、当該領域以外の面積よりも小さく形成されてなることを特徴とする。この方法により得られた配線基板によれば、上述した配線基板について示したのと同様の各種効果を得ることができる。
【００１７】
なお、この製造方法を用いる場合、前記集積回路の実装の際に、導電性粒子が分散された接着剤を介して、当該集積回路を前記基材に接合することが望ましい。より具体的には、集積回路と基材との間に前記接着剤を介在させた状態で、集積回路を基材側に押圧することが望ましい。こうすれば、集積回路を基材上に接合すると同時に、集積回路の端子と基材上の配線とを一括して導通させることができるから、製造工程の簡略化や製造コストの低減を図ることができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更可能である。なお、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
【００１９】
＜Ａ：第１実施形態＞
まず、本発明をパッシブマトリクス方式の反射型液晶装置に適用した第１実施形態について説明する。図１はこの液晶装置の外観を示す斜視図であり、図２は図１中のＡ−Ａ’線からみた断面の一部を示す図である。これらの図に示すように、液晶装置１００は、液晶パネル３とフレキシブル配線基板１とを有する。なお、実際の液晶装置においては、フレキシブル配線基板１が液晶パネル３の背面側に折り曲げられることとなるが、図１および図２においては、説明の便宜上、フレキシブル配線基板１が折り曲げられる前の状態が示されている。
【００２０】
これらの図に示されるように、液晶パネル３は、相互に対向する第１基板３１および第２基板３２がシール材３３を介して貼り合わされ、両基板の間に例えばＴＮ（Twisted Nematic）型などの液晶３４が封入された構成となっている。
【００２１】
第１基板３１および第２基板３２は、ガラスや石英、プラスチックなどの光透過性を有する板状部材である。このうち観察側に位置する第１基板３１の内側（液晶３４側）表面には、Ｘ軸方向に延在する複数のコモン（走査）電極３１１が形成されている。各コモン電極３１１は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電材料によって形成された帯状の電極である。ただし、図１においては、図面が煩雑になるのを防ぐため、コモン電極３１１および後述するセグメント電極３２５が、単なる直線として図示されている。また、これらのコモン電極３１１が形成された第１基板３１の表面は、配向膜３１２によって覆われている。この配向膜３１２はポリイミドなどからなる有機薄膜であり、電圧が印加されていないときの液晶３４の配向方向を規定するためのラビング処理が施されている。なお、実際には、第１基板３１の外側（液晶３４とは反対側）表面に、入射光を偏光させるための偏光板や、干渉色を補償するための位相差板等が適宜貼着されるが、本発明の内容とは直接の関係がないため、その図示および説明を省略する。
【００２２】
一方、第２基板３２の内側表面には反射層３２１が形成されている。この反射層３２１は、液晶パネル３に対して観察側から入射した光（太陽光や室内照明光など）を反射させるための層である。反射層３２１は、例えばアルミニウムや銀などの光反射性を有する金属、またはこれらの金属を主成分として含む合金によって形成される。ここで、図２に示されるように、第２基板３２の内側表面のうち反射層３２１によって覆われる領域は、多数の微細な突起および窪みが形成された粗面となっている。このため、反射層３２１の表面は、第２基板３２表面の突起および窪みを反映した粗面となる。この結果、観察側からの入射光は、反射層３２１の表面において適度に散乱した状態で反射するから、反射層３２１表面における鏡面反射を回避して広い視野角が実現される。
【００２３】
さらに、反射層３２１の面上には、カラーフィルタ３２２、遮光層３２３、オーバーコート層３２４、複数のセグメント電極３２５および配向膜３２６が形成されている。オーバーコート層３２４は、カラーフィルタ３２２および遮光層３２３によって形成される段差を平坦化するための樹脂層である。セグメント電極３２５は、このオーバーコート層３２４の表面に形成された帯状の電極であり、コモン電極３１１の延在方向と直交する方向（すなわち図１に示すＹ軸方向）に延在する。これらのセグメント電極３２５は、コモン電極３１１と同様にＩＴＯなどの透明導電材料によって形成される。かかる構成の下、液晶３４は、コモン電極３１１とセグメント電極３２５との間に印加された電圧に応じてその配向方向が変化する。換言すると、コモン電極３１１とセグメント電極３２５とが交差する領域がサブ画素として機能するのである。カラーフィルタ３２２は、各サブ画素に対応して設けられた樹脂層であり、染料や顔料によってＲ（赤色）、Ｇ（緑色）またはＢ（青色）のうちのいずれかの色に着色されている。そして、Ｒ、ＧおよびＢのカラーフィルタ３２２に対応する３つのサブ画素によって、表示画像の画素（ドット）が構成される。一方、遮光層３２３は、各サブ画素の間隙部分に対応して格子状に形成され、各サブ画素同士の隙間を遮光する。本実施形態における遮光層３２３は、Ｒ、ＧおよびＢの３色分のカラーフィルタ３２２が積層されたものである。
【００２４】
また、図１に示すように、第２基板３２は、Ｙ軸の正方向において第１基板３１の縁辺から張り出した領域（すなわち、第１基板３１と対向しない領域である。以下、この領域を「縁辺領域」と表記する）３２ａを有する。各セグメント電極３２５は、シール材３３によって囲まれた領域から縁辺領域３２ａに至るように延在して形成されるとともに、この縁辺領域３２ａにＣＯＧ（Chip On Glass）実装された駆動用ＩＣチップ４１の出力端子に接続されている。すなわち、図２に示されるように、セグメント電極３２５のうち縁辺領域３２ａに至った端部と、駆動用ＩＣチップ４１の出力端子４１１とが、異方性導電膜４３中の導電性粒子４３１を介して電気的に接続されるのである。さらに、縁辺領域３２ａには、駆動用ＩＣチップ４１が実装された領域から第２基板３２の縁辺に至る複数のパネル端子３２７が形成されている。各パネル端子３２７は、図２に示されるように、異方性導電膜４３中の導電性粒子４３１を介して駆動用ＩＣチップ４１の入力端子４１２に接続されている。
【００２５】
他方、図１に示されるように、第１基板３１は、Ｘ軸の正方向において第２基板３２の縁辺から張り出した縁辺領域３１ａを有する。各コモン電極３１１は、シール材３３によって囲まれた領域から縁辺領域３１ａに至るように延在するとともに、この縁辺領域３１ａにＣＯＧ実装された駆動用ＩＣチップ４２の出力端子に接続されている。さらに、縁辺領域３１ａには、駆動用ＩＣチップ４２の入力端子に接続された複数のパネル端子３１３が形成されている。
【００２６】
次に、フレキシブル配線基板１の構成を説明する。図１および図２に示されるように、このフレキシブル配線基板１は基材１１を有する。この基材１１は、例えばポリイミドやポリエチレンテレフタレート、ポリエステルなどによって形成された薄板（フィルム）状の部材であり、可撓性を有する。図１に示されるように、基材１１のうち周縁近傍の一部分は、第２基板３２の縁辺領域３２ａに接合される。一方、基材１１のうち、第１基板３１の縁辺領域３１ａに向かって突出した部分１１ａの端部近傍は、当該縁辺領域３１ａに接合される。
【００２７】
また、基材１１の両表面には各種の配線が形成されている。これらの配線は、例えば、基材１１上にスパッタリングなどによって形成された銅薄膜をフォトリソグラフィやエッチングなどによってパターニングし、さらにその表面に金メッキを施したものである。
【００２８】
これらの配線のうち図１に示す配線１６は、その一端が、基材１１のうち縁辺領域３２ａに接合されるべき領域に位置する。図２に示されるように、この配線１６は、基材１１と第２基板３２とが異方性導電膜４４を介して接合された状態で、当該異方性導電膜４４に分散された導電性粒子４４１を介して、縁辺領域３２ａ上のパネル端子３２７と電気的に接続される。一方、図１に示す配線１７は、その一端が、基材１１のうち突出した部分１１ａの端部近傍に位置するものである。この配線１７も、上記配線１６と同様に、突出部分１１ａの端部と第１基板３１の縁辺領域３１ａとが異方性導電膜を介して接合された状態で、当該縁辺領域３１ａ上のパネル端子３１３と電気的に接続される。また、基材１１のうち液晶パネル３に接合される縁辺とは反対側の縁辺近傍には、外部接続端子１８が形成されている。これらの外部接続端子１８は、当該液晶装置１００に対して表示画像に関する指示を与える外部機器に接続される端子である。
【００２９】
さらに、基材１１の表面にはＩＣチップ２が実装されている。このＩＣチップ２は、コモン電極３１１やセグメント電極３２５に印加されるべき電圧を生成するための回路（昇圧回路など）を備えている。すなわち、上記駆動用ＩＣチップ４１は、コモン電極３１１に対して、フレキシブル配線基板１を介して供給される信号に応じた電圧を供給する。同様に、駆動用ＩＣチップ４２は、セグメント電極３２５に対して、フレキシブル配線基板１を介して供給される信号に応じた電圧を供給する。なお、基材１１上には、ＩＣチップ２のほかにも、チップコンデンサや抵抗といった各種の電子部品が実装されるが、これらの図示は省略されている。
【００３０】
ここで、図３は、基材１１のうちＩＣチップ２が実装される領域およびその近傍の構成を模式的に示す平面図であり、図４は、図３におけるＢ−Ｂ’線視断面図である。ただし、図３においては、図面が煩雑になるのを防ぐため、基材１１上に実装されるべきＩＣチップ２の外形が一点鎖線で示されている。また、以下では、基材１１のうちＩＣチップ２が実装されるべき領域、すなわち図３における一点鎖線で囲まれた領域を「実装領域１４」と表記する。
【００３１】
これらの図に示されるように、基材１１のうち実装領域１４の近傍には、複数の基材側配線１２および導体パターン１３が形成されている。各基材側配線１２は、実装領域１４の外部から当該実装領域１４の縁部近傍に至り、その一端が実装領域１４の内側に入り込むように形成されている。各基材側配線１２は、ＩＣチップ２の端子に形成された突起電極（バンプ）２ａと電気的に接続される。すなわち、ＩＣチップ２と基材１１との間に異方性導電膜２１を介在させた状態で当該ＩＣチップ２を基材１１側に押圧し、当該ＩＣチップ２と基材１１とを接合することにより、ＩＣチップ２の突起電極２ａと基材側配線１２とが、当該異方性導電膜２１中の導電性粒子２１１を介して一括して導通されるのである。
【００３２】
ここで、図３においては、複数の基材側配線１２のうち、電源の低位側電位に接地される５個の基材側配線１２（以下、「接地用電極１２ａ」という。）が斜線を付して示されている。そして、基材１１の実装領域１４内には、これら複数の接地用電極１２ａを電気的に相互接続するための導体パターン１３が形成されている。この導体パターン１３は、基材１１上の他の配線と同一の工程により形成される。したがって、この導体パターン１３は、銅薄膜の表面に金メッキが施されたものである。
【００３３】
より具体的には、導体パターン１３は、実装領域１４の中央近傍に位置する一点（以下、「パターン中央点」という。）１３ａから、複数の接地用電極１２ａに向かって略放射状に延在し、その端部が各接地用電極１２ａに連結された形状を有する。さらに、図３からも明らかなように、実装領域１４のうち導体パターン１３が形成された領域の面積は、それ以外の領域（すなわち、導体パターン１３によって覆われていない領域）の面積よりも狭くなっている。かかる形状の導体パターン１３を実装領域１４内に形成したことにより、以下に示す各効果を得ることができる。
【００３４】
ここで、各接地用電極１２ａを相互接続するための導体パターンとしては、例えば図５および図６に示す形状も一応考えられる。すなわち、実装領域１４の大部分を覆うように四角形の導体パターン１５を形成し、当該導体パターン１５と接地用電極１２ａとを接合するのである。なお、図５および図６に示す各構成要素のうち図３および図４と共通する要素については、同一の符号が付されている。
【００３５】
しかしながら、かかる構成を採った場合、導体パターン１５の形成に際し、実装領域１４の大部分を覆うように導電性材料を形成する必要がある。これに対し、本実施形態に係る導体パターン１３を用いた場合には、実装領域１４内の一点から、各接地用電極１２ａに向かう領域にのみ導電性材料を形成すれば足りる。したがって、本実施形態によれば、図５および図６に例示した導体パターン１５を採用した場合と比較して、フレキシブル配線基板１の軽量化を図ることができるという利点がある。
【００３６】
また、導体パターン１５を用いた場合、接地されるべきでない基材側配線１２と導体パターン１５との距離（図６においては「Ｌ’」で示されている。）が極めて短くなってしまう。この結果、場合によっては、接地されるべきでない基材側配線１２が、導体パターン１５に接触して電気的に短絡してしまうという事態が生じ得る。これに対し、本実施形態に係る導体パターン１３は、実装領域１４の中央部に位置するパターン中央点１３ａから接地用電極１２ａのみに向かって延在する形状となっている。このため、図４に示すように、接地されるべきでない基材側配線１２と導体パターン１３との間に、比較的長い距離（図４においては「Ｌ」で示されている。）を確保することができる。したがって、本実施形態によれば、上記図５および図６に示した形状の導体パターン１５を採用した場合と比較して、接地されるべきでない基材側配線１２と導体パターン１３とが短絡するのを未然に防止することができるという利点がある。
【００３７】
ここで、図３に例示したように、実装領域１４の外延に沿って基材側配線１２を配列した構成を採った場合、導体パターン１３とすべての基材側配線１２との間に、これらの短絡を防ぐために十分な距離を確保するためには、パターン中央点１３ａの位置を実装領域１４の中央近傍とすることが望ましい。しかしながら、このパターン中央点１３ａの位置はかかる位置に限定されるものではない。すなわち、パターン中央点１３ａが実装領域１４の中央近傍に位置するか否かにかかわらず、導体パターン１３をパターン中央点１３ａを中心とした略放射状の形状とすれば、配線基板の軽量化という本発明の所期の効果は得られるのである。
【００３８】
ところで、ＩＣチップ２の駆動に伴って発生する電気的ノイズや、外部から電子機器に至った電気的ノイズは、電子機器の各構成要素（例えば、ＩＣチップや、携帯型通信機器における通信用アンテナなど）に影響を与え得る。上述したように、本実施形態に係る導体パターン１３は電源の低位側電位に保持されているから、かかる電気的ノイズを減衰させて、他の構成要素への影響を低減することができるという効果（シールド効果）を発揮することもできる。ここで、本実施形態に係る導体パターン１３と、図５および図６に示した導体パターン１５とを比較した場合、後者の方が実装領域１４に占める面積の割合が大きいため、発揮されるシールド効果は大きいようにも思われる。しかしながら、本発明者による試験によれば、実装領域１４の面積が比較的小さい場合、実際に発揮されるシールド効果の程度に関して両者の間に大差はないという見地を得るに至った。つまり、本実施形態によれば、維持されるべき性能を犠牲にすることなく、軽量化を図ることができるといえる。
【００３９】
また、ＩＣチップ２を基材１１上に実装する際、両者の間に異方性導電膜２１を介して圧着すると、基材１１と異方性導電膜２１との間に気泡が入り込む場合がある。このような気泡がＩＣチップ２と基材１１との間に残存すると、両者の接着が不十分となるため、ＩＣチップ２が基材１１から剥がれやすくなるといった問題が生じ得る。しかしながら、本実施形態によれば、基材１１のうち異方性導電膜２１と接触する領域に略放射状に延びる導体パターン１３が形成されているため、かかる気泡の移動を促進することができるという利点がある。すなわち、図７中に矢印で示されるように、実装領域１４上に発生した気泡は、放射状に延びる導体パターン１３に沿って実装領域１４外に移動するため、この領域内に気泡が残存するのを抑制することができるのである。
【００４０】
ところで、ＩＣチップ２を異方性導電膜２１を介して基材１１上に圧着する場合、当該異方性導電膜２１に含まれる余剰の接着剤は実装領域１４の外側に押し出されることとなる。ここで、本実施形態においては、パターン中央点１３ａが実装領域１４の中央近傍に位置させる構成を採っているため、上記余剰の接着剤は実装領域１４の周縁の大部分にわたって（四方に）均等に押し出されることとなる。すなわち、本実施形態によれば、余剰の接着剤が実装領域１４の一部の周縁の近傍にのみ偏って押し出されるといった事態を回避することができるのである。
【００４１】
また、本実施形態においては、導体パターン１３が略放射状の形状となっているため、図５および図６に示した導体パターン１５を採用した場合と比較して、実装領域１４のうち導体パターン１３によって覆われない領域（すなわち、基材１１が露出している領域）の面積を広く確保することができる。このため、以下に示す効果を得ることができる。
【００４２】
すなわち、異方性導電膜２１に対する接着強度は、銅薄膜に金メッキを施した導体パターン１３の表面よりもポリイミドからなる基材１１の表面の方が高いのが通常である。したがって、略放射状の導体パターン１３を採用し、実装領域１４中の基材１１が露出する部分を広く確保することによって、基材１１とＩＣチップ２との接着強度を向上させることができるという利点がある。また、ポリイミドなど水分を透過させる材料からなる基材１１を用いた場合には、異方性導電膜２１などに含まれる水分が、基材１１を透過して外部に逃げることとなる。本実施形態によれば、実装領域１４中の基材１１が露出する部分、すなわち水分が透過し得る部分を広く確保することができるから、上記水分を有効に外部に移動させることができるという利点がある。
【００４３】
＜Ｂ：第２実施形態＞
上記実施形態においては、本発明に係る配線基板（フレキシブル配線基板）を液晶装置に適用した場合を例示したが、この配線基板は、他の表示装置や各種の電子機器にも適用することができる。本実施形態に係る表示装置は、本発明に係る配線基板をＥＬ（Electro-Luminescence）装置に適用したものである。
【００４４】
図８は、本実施形態に係るＥＬ装置の外観を示す斜視図であり、図９は、図８におけるＤ−Ｄ’線視断面図である。これらの図に示されるように、ＥＬ装置１０１は、ＥＬパネル６と、当該ＥＬパネル６に接合された第１配線基板７１および第２配線基板７２とを備える。第１配線基板７１および第２配線基板７２は、可撓性を有する基材上に配線が形成されたものである。
【００４５】
ＥＬパネル６は、ガラスや石英、プラスチックなどの光透過性を有する基板６０を有する。この基板６０の表面には複数の第１電極６１が形成されている。各第１電極６１は、図中のＹ軸方向に延在する帯状の電極であり、例えばＩＴＯなどの透明導電材料によって形成される。また、第１電極６１が形成された基板６０の面上には、一様な厚さのＥＬ発光層６２が積層される。さらに、ＥＬ発光層６２のうち第１電極６１とは反対側の面上には複数の第２電極６３が形成されている。各第２電極６３は、第１電極６１と交差する方向（すなわち、図中のＸ軸方向）に延在する帯状の電極である。この第２電極６３は、例えばアルミニウムや銀といった単体金属、またはこれらを主成分として含む合金によって形成され、光反射性を有する。さらに、基板６０の面上にはＥＬ発光層６２を囲むように環状のシール材６４が形成されるとともに、このシール材６４を介してカバー６５が装着される。
【００４６】
図８に示されるように、基板６０表面のうちシール材６４外側の領域には、異方性導電膜を介して駆動用ＩＣチップ８１および８２が実装されている。すなわち、図９に示されるように、第２電極６３は、シール材６４を横切って当該シール材６４の外側に至り、その端部６３ａが駆動用ＩＣチップ８２の出力端子に接続される。同様に、第１電極６１は、シール材６４の外側に至るように延在し、その端部６１ａが駆動用ＩＣチップ８１の出力端子に接続されている。
【００４７】
また、基板６０の周縁部近傍にはパネル端子６６および６７が形成されている。このうちパネル端子６６は駆動用ＩＣチップ８１の入力端子に接続されている。他方、パネル端子６７は駆動用ＩＣチップ８２の入力端子に接続されている。そして、第１配線基板７１および第２配線基板７２は、異方性導電膜を介して、パネル端子６６および６７が形成された基板６０の周縁部近傍にそれぞれ接合される。これにより、第１配線基板７１の基材７１１に形成された配線はパネル端子６６と導通し、第２配線基板７２の基材７２１に形成された配線はパネル端子６７と導通する。かかる構成の下、図示しない外部回路から配線基板７１および７２を介して供給される信号によって駆動用ＩＣチップ８１および８２がそれぞれ駆動される。この結果、第１電極６１と第２電極６３との間に所定の電圧が印加され、両電極の間に介在するＥＬ発光層６２を発光させることができる。このとき、第２電極６３は反射層としても機能する。
【００４８】
ここで、第１配線基板７１の基材７１１には、第１電極６１に印加されるべき電圧を生成するためのＩＣチップ７１２が実装されている。同様に、フレキシブル配線基板７２の基材７２１には、第２電極６３に印加されるべき電圧を生成するためのＩＣチップ７２２が実装されている。そして、基材７１１および７２１のうちＩＣチップ７１２および７２２の実装領域は、それぞれ前掲図３および図４に示した構成となっている。すなわち、基材７１１および７２１上には、それぞれＩＣチップ７１２および７２２の端子に接続されるべき基材側配線と、実装領域１４内の所定の点から略放射状に延びて、２以上の基材側配線に至る形状を有する導体パターンとが形成されているのである。したがって、本実施形態においても、上記第１実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４９】
＜Ｃ：変形例＞
以上この発明の一実施形態について説明したが、上記実施形態はあくまでも例示であり、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。
【００５０】
＜Ｃ−１：変形例１＞
上記実施形態においては、可撓性を有する基材を備えたフレキシブル配線基板を例示したが、本発明における「基材」は必ずしも可撓性を有するものである必要はない。すなわち、例えばフェノール樹脂やガラスエポキシ樹脂等により構成された板状部材を基材として用いることもできる。もっとも、可撓性を有する基材を用いた場合には、当該配線基板を表示パネルの背面に折り曲げた構成を採ることができるから、表示装置の小型化を図ることができるといった利点が得られる。
【００５１】
＜Ｃ−２：変形例２＞
上記各実施形態においては、導体パターン１３を接地用電極１２ａに接続させる構成としたが、必ずしも接地用電極１２ａに接続させる必要はない。すなわち、例えば、実装領域１４内において略放射状に延びる形状を有する導体パターンを形成して接地する一方、この導体パターンを接地用電極１２ａには接続しない構成としてもよい。この場合にも、ＩＣチップ２を異方性導電膜を介して基材１１上に実装する際に、気泡の移動を促進させることができるという効果が得られる。
【００５２】
＜Ｃ−３：変形例３＞
上記第１実施形態においては、パッシブマトリクス方式の反射型液晶装置を例示したが、本発明を適用できる液晶装置はこれに限られるものではない。すなわち、ＴＦＤ（Thin Film Diode）に代表される二端子型スイッチング素子や、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）に代表される三端子型スイッチング素子を備えたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも、本発明を適用可能である。また、反射層３２１を持たない透過型の液晶装置や、反射型表示と透過型表示の双方が可能ないわゆる半透過反射型の液晶装置にも、本発明を適用可能である。同様に、上記第２実施形態においては、パッシブマトリクス方式のＥＬ装置を例示したが、アクティブマトリクス方式のＥＬ装置など、その他の構成を有するＥＬ装置にも本発明を適用することができる。さらに、本発明を適用できるのは、液晶パネルを備えた液晶装置やＥＬパネルを備えたＥＬ装置に限られるものではない。すなわち、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）やＦＥＤ（Field Emission Display）パネルといった各種の表示パネルを備えた他の表示装置にも同様に本発明を適用可能である。
【００５３】
＜Ｄ：電子機器＞
次に、本発明に係る表示装置を用いた電子機器について説明する。
【００５４】
＜Ｄ−１：モバイル型コンピュータ＞
まず、本発明に係る表示装置を、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図１０は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ９１は、キーボード９１１を備えた本体部９１２と、本発明に係る表示装置を適用した表示部９１３とを備えている。
【００５５】
＜Ｄ−２：携帯電話機＞
続いて、本発明に係る表示装置を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図１１は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機９２は、複数の操作ボタン９２１のほか、受話口９２２、送話口９２３とともに、本発明に係る表示装置を適用した表示部９２４を備える。
【００５６】
なお、本発明に係る表示装置を適用可能な電子機器としては、図１０に示したパーソナルコンピュータや図１１に示した携帯電話機のほかにも、液晶テレビや、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラ、あるいは本発明に係る表示装置をライトバルブとして用いたプロジェクタなどが挙げられる。
【００５７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、配線基板の軽量化を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１実施形態に係る液晶装置の構成を示す斜視図である。
【図２】  図１におけるＡ−Ａ’線からみた断面の一部を示す図である。
【図３】  同液晶装置におけるフレキシブル配線基板の一部を拡大して示す平面図である。
【図４】  図３におけるＢ−Ｂ’線視断面図である。
【図５】  同フレキシブル配線基板により得られる効果を説明するための対比例の構成を示す平面図である。
【図６】  図５におけるＣ−Ｃ’線視断面図である。
【図７】  本実施形態の効果を説明するための図である。
【図８】  本発明の第２実施形態に係るＥＬ装置の構成を示す斜視図である。
【図９】  図８におけるＤ−Ｄ’線からみた断面の一部を示す図である。
【図１０】  本発明に係る表示装置を適用した電子機器の一例たるパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図１１】  本発明に係る表示装置を適用した電子機器の一例たる携帯電話機の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
１，７１，７２……フレキシブル配線基板（配線基板）
１１，７１１，７２１……基材
１２……基材側配線
１２ａ……接地用配線（配線）
１３……導体パターン
１３ａ……パターン中央点（所定の点）
１４……実装領域
２，７１２，７２２……ＩＣチップ（集積回路）
２ａ……突起電極
２１……異方性導電膜
２１ａ……導電性粒子
３……液晶パネル（表示パネル）
３１……第１基板
３１ａ……縁辺領域
３１１……コモン電極
３１２，３２６……配向膜
３２……第２電極
３２１……反射層
３２２……カラーフィルタ
３２３……遮光層
３２４……オーバーコート層
３２５……セグメント電極
３３……シール材
３４……液晶
４１，４２，８１，８２……駆動用ＩＣチップ
６……ＥＬパネル（表示パネル）
６０……基板
６１……第１電極
６２……ＥＬ発光層
６３……第２電極
９１……パーソナルコンピュータ（電子機器）
９２……携帯電話機（電子機器）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
0003741005.tif 000009
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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