(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱される炉室をもつ加熱炉と、
処理物を収容する収容室をもつと共に、加熱炉の炉室内で搬送され搬送途中で収容室の処理物の調質を行う複数の調質容器とを具備しており、
調質容器は、容器本体と、容器本体の径外方向に延設された遮蔽プレートとを有しており、
遮蔽プレートは、加熱炉の炉室内を、燃焼ガスまたは炉内ガスにより調質容器を加熱する加熱空間と、調質容器の収容室の処理物に対してガスの供給及び排出のうちの少なくとも一方を行って処理物の調質を行う調質空間とに分けることを特徴とする連続加熱炉装置。
【請求項２】
請求項１において、遮蔽プレートは調質容器に設けられており、加熱炉は調質容器の搬送方向に沿って延設されたシール部を有しており、調質容器の遮蔽プレートは加熱炉のシール部に接触または近づいていることを特徴とする連続加熱炉装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、平面視において、加熱炉の炉室は環状または直状とされており、調質容器内の処理物に対して少なくとも予熱工程、炭化工程、賦活工程、冷却工程を順に行うことを特徴とする連続加熱炉装置。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれかにおいて、加熱炉は、シール部を冷却するシール冷却手段を有することを特徴とする連続加熱炉装置。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれかにおいて、炉室のうち、調質容器が搬送される方向に交差する方向の一端側には第１シール部が設けられていると共に他端側には第２シール部が設けられており、第１シール部の第１シール面と第２シール部の第２シール面との間の距離は、炉室のうち相対的に温度が高い高温領域では、炉室のうち相対的に温度が低い低温領域よりも大きく設定されていることを特徴とする連続加熱炉装置。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれかにおいて、遮蔽プレートは、遮蔽プレートの熱変形を抑制する熱変形抑制部を有することを特徴とする連続加熱炉装置。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれかにおいて、調質容器は、収容室をもつ容器本体と、容器本体の収容室を複数の室に区画すると共に容器本体を補強する区画壁とを有することを特徴とする連続加熱炉装置。
【請求項８】
請求項１〜請求項７のいずれかにおいて、調質容器の収容室に収容されている処理物から排出されたガスを吸引し、そのガスに少なくとも水蒸気を混合して賦活ガスを生成する再燃炉を有することを特徴とする連続加熱炉装置。
【請求項９】
処理物を収容する収容室をもつと共に、加熱炉の炉室内で搬送され搬送途中で収容室の処理物の調質を行う調質容器であって、
調質容器は、容器本体と、容器本体の径外方向に延設された遮蔽プレートとを有し、
遮蔽プレートは、加熱炉の炉室内を、燃焼ガスまたは炉内ガスにより調質容器を加熱する加熱空間と、調質容器の収容室の処理物に対してガスの供給及び排出のうちの少なくとも一方を行って処理物の調質を行う調質空間とに分けることを特徴とする調質容器。
【請求項１０】
請求項９において、平面視において、加熱炉の炉室は円弧に沿って曲成されており、遮蔽プレートは、炉室の内側内壁面に沿った案内面をもつことを特徴とする調質容器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は連続加熱炉装置及び調質容器に適用できる。
【０００２】
【従来の技術】
活性炭を製造する場合を例にとって説明する。文献（書籍『新版  活性炭』、講談社、２０００年８月１日  第７刷発行、編者  真田雄三、鈴木基之、藤元  薫）の６５頁には、水平線に対して僅かに傾斜した横軸型の複数の独立したキルン式の加熱炉を用いて賦活処理を行う技術が開示されている。この技術によれば、キルン式の第１加熱炉を回転させつつ、ヤシ殻や石炭などの処理物をキルン式の第１加熱炉の炉室の上流端から装入し下流端に向かわせるにつれて、処理物の予熱処理を進行させる。次に第１加熱炉の下流端から吐出された処理物を、回転中のキルン式の第２加熱炉の上流端に装入し、キルン式の第２加熱炉の下流端に向かわせるにつれて、処理物の炭化処理を進行させる。次に第２加熱炉の下流端から吐出された炭化処理済みの処理物を、回転中のキルン式の第３加熱炉の上流端に装入し、第３加熱炉の下流端に向かわせるにつれて、処理物の賦活処理を進行させる。
【０００３】
このように互いに独立した複数のキルン式の加熱炉を用いるのは、各加熱炉の雰囲気が相違するためである。このように互いに独立した複数の加熱炉を用いれば、各工程の雰囲気の混合は避けられ、調質処理の高品質化に有利であるが、設備コストが増大する。
【０００４】
また上記した予熱工程、炭化工程、賦活工程等といった各工程を一台の連続加熱炉によって実施することも考えられているが、各工程の雰囲気が混合するため、調質処理の高品質化には好ましくない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記した実情に鑑みてなされたものであり、各工程における雰囲気の混合を抑制するのに有利であり、調質処理の高品質化に貢献できる連続加熱炉装置及び調質容器を提供することを共通の課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
（１）本発明に係る連続加熱炉装置は、加熱される炉室をもつ加熱炉と、
処理物を収容する収容室をもつと共に、加熱炉の炉室内で搬送され搬送途中で収容室の処理物の調質を行う複数の調質容器とを具備しており、
調質容器は、容器本体と、容器本体の径外方向に延設された遮蔽プレートとを有しており、
遮蔽プレートは、加熱炉の炉室内を、燃焼ガスまたは炉内ガスにより調質容器を加熱する加熱空間と、調質容器の収容室の処理物に対してガスの供給及び排出のうちの少なくとも一方を行って処理物の調質を行う調質空間とに分けることを特徴とするものである。
【０００７】
（２）本発明に係る調質容器は、本発明に係る連続加熱炉装置に使用されるものであり、処理物を収容する収容室をもつと共に、加熱炉の炉室内で搬送され搬送途中で収容室の処理物の調質を行う調質容器であって、
調質容器は、容器本体と、容器本体の径外方向に延設された遮蔽プレートとを有しており、遮蔽プレートは、加熱炉の炉室内を、燃焼ガスまたは炉内ガスにより調質容器を加熱する加熱空間と、調質容器の収容室の処理物に対してガスの供給及び排出のうちの少なくとも一方を行って処理物の調質を行う調質空間とに分けることを特徴とするものである。
【０００８】
（３）本発明によれば、加熱空間には燃焼ガスまたは高温の炉内ガスが供給される。これにより調質容器が加熱され、ひいては調質容器内の処理物が加熱される。調質容器に設けられている遮蔽プレートの遮蔽作用により、加熱炉の炉室内は、調質容器を加熱する加熱空間と、調質容器の収容室の処理物に対してガスの供給及び排出のうちの少なくとも一方を行う調質空間とに分けられる。このため遮蔽プレートの遮蔽作用により、加熱空間と調質空間との連通性が小さくなる。換言すれば遮蔽プレートの遮蔽作用により、加熱空間と調質空間との遮蔽性が高まる。
【０００９】
調質容器の収容室に連通する調質空間に調質ガスを供給することにより、調質容器の処理物を調質するときには、前述したように遮蔽プレートにより加熱空間と調質空間との連通性が小さくなっているため、加熱空間に供給された燃焼ガスまたは加熱空間の炉内ガスが調質空間に漏出することが抑制される。この結果、調質容器の収容室内の処理物の調質処理を効率よく行うことができる。
【００１０】
また調質空間のガスを吸引して調質容器内の処理物の調質を行うときには、前述したように遮蔽プレートの遮蔽作用により加熱空間と調質空間との連通性が小さくなっているため、加熱空間に供給された燃焼ガスまたは加熱空間の炉内ガスが調質空間に吸引されることが抑制される。このため、調質空間のガスを効率よく吸引することができ、調質容器の収容室内の処理物の調質処理を効率よく行うことができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
・本発明に係る連続加熱炉装置は、加熱される炉室をもつ加熱炉と、処理物を収容する収容室をもつと共に加熱炉の炉室内で搬送され搬送途中で収容室の処理物の調質を行う複数の調質容器とで構成されている。平面視において、加熱炉の炉室は環状または直状とすることができる。そして調質容器内の処理物に対して少なくとも予熱工程、炭化工程、賦活工程、冷却工程を順に行う形態を採用することができる。調質容器に収容される処理物としては、下水道の汚泥やパルプ汚泥に代表される有機汚泥等の廃棄物、ヤシ殻やくるみ殻等の果実屑、石炭や石油ピッチ等の炭化物、植物系原料、木粉、製材屑、素灰、樹脂廃材、繊維廃材等を例示できる。
【００１２】
・調質容器は、炉室の内壁面に向かう遮蔽プレートを有している。遮蔽プレートは調質容器の横方向または斜め方向に延設されている形態を採用することができる。遮蔽プレートにより、加熱炉の炉室内は加熱空間と調質空間とに分けられる。加熱空間は、調質容器を加熱する空間である。調質空間は、調質容器の収容室の処理物に対してガスの供給及び排出のうちの少なくとも一方を行う空間である。遮蔽プレートの遮蔽作用により、加熱空間と調質空間との連通性が小さくなる。換言すれば遮蔽プレートの遮蔽作用により、加熱空間と調質空間との遮蔽性が高まる。加熱空間と調質空間との連通は無しでも良いが、多少隙間があっても良く、要するに遮蔽プレートが設けられていない場合に比較して、加熱空間と調質空間との連通性が小さくなれば良い。換言すれば、遮蔽プレートが設けられていない場合に比較して、加熱空間と調質空間との遮蔽性が高けれは良い。一般的には遮蔽プレートは調質容器の側面に設けられている。
【００１３】
・加熱炉は、調質容器の搬送方向に沿って延設されたシール部を有していることが好ましい。この場合、調質容器の遮蔽プレートは加熱炉のシール部に接触または近づく形態を採用することができる。加熱炉は、シール部を冷却するシール冷却手段を有する形態を採用することができる。シール冷却手段によりシール部を冷却すれば、シール部の熱変形を抑制できる。シール冷却手段としては空冷方式を採用できるが、水冷方式でも良い。なお場合によっては、遮蔽プレートは加熱炉に設けることもでき、あるいは、遮蔽プレートは調質容器及び加熱炉の双方に設けることもできる。遮蔽プレートは、遮蔽プレートの熱変形を抑制する熱変形抑制部を有する形態を採用することができる。熱変形抑制部としてはスリット、開口を例示できる。
【００１４】
・炉室のうち、調質容器が搬送される方向に交差する方向の一端側には第１シール部が設けられていると共に他端側には第２シール部が設けられている形態を採用することができる。加熱空間と調質空間との連通性を小さくすること、換言すれば、加熱空間と調質空間との遮蔽性を高めることを考慮すれば、炉室内は高温雰囲気となるため、遮蔽プレートの熱膨張量を加味することが好ましい。この場合、第１シール部の第１シール面と第２シール部の第２シール面との間の距離は、炉室のうち相対的に温度が高い高温領域では、炉室のうち相対的に温度が低い低温領域よりも大きく設定されている形態を採用することができる。
【００１５】
・本発明に係る調質容器は、処理物を収容する収容室をもつと共に、加熱炉の炉室内で搬送され搬送途中で収容室の処理物の調質を行う調質容器であって、調質容器は遮蔽プレートを有する。遮蔽プレートにより、加熱炉の炉室内は、調質容器を加熱する加熱空間と、調質容器の収容室に対面する調質空間とに分けられる。調質容器は、収容室をもつ容器本体と、容器本体の収容室を複数の室に区画すると共に容器本体を補強する区画壁とを有する形態を採用することができる。このように容器本体の収容室を複数の室に区画すれば、調質容器の収容室の処理物の調質処理のばらつきを抑えるのに有利となる。
【００１６】
・平面視において、加熱炉の炉室は円弧に沿って曲成されており、調質容器の遮蔽プレートは、炉室の内壁面に沿った案内面をもつ。この場合、調質容器の遮蔽プレートの案内面は、炉室の内側内壁面に沿って移動できる。なお案内面は、加熱炉の炉芯を中心とする円弧に沿って形成することができる
【００１７】
【実施例】
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する。図１、図２は連続加熱炉装置の内部を展開した断面図を示すと共に、炉内の各工程の位置、各工程における炉内温度ＴＡの状況を示す。本実施例に係る連続加熱炉装置は、有機汚泥等の処理物Ｘを調質処理して活性炭を製造する際に使用されるものである。
【００１８】
図１、図２に示すように、連続加熱炉装置は環状炉方式であり、加熱される炉室１０を区画する断熱層１１をもつ加熱炉１と、炉室１０内を搬送される複数の調質容器７とをもつ。そして調質容器７の処理物Ｘに対して、積みおろし工程、予熱工程、炭化工程、均熱工程、昇温工程、賦活工程（活性化工程）、均質工程、調圧工程、冷却工程が順に行なわれる。
【００１９】
図１、図２に示すように、加熱炉１には、炉室１０内を循環して移動する搬送手段としての搬送テーブル２が設けられている。搬送テーブル２により複数の調質容器７は直列に搬送される。搬送テーブル２は、炉室１０内において、図１、図２に示すように、調質容器７の積み卸しを行う積みおろし工程→調質容器７内の処理物Ｘの予熱を行う予熱工程→調質容器７内の処理物Ｘの炭化を行う炭化工程→調質容器７内の処理物Ｘの均熱を行う均熱工程→調質容器７内の処理物Ｘの昇温を行う昇温工程→調質容器７内の処理物Ｘの賦活を行う賦活工程→調質容器７内の処理物Ｘの均質化を図る均質工程→調圧工程→調質容器７内の処理物Ｘの冷却を行う冷却工程を順に移動する。
【００２０】
図３に示すように、平面視において、加熱炉１の炉室１０は炉芯Ｐ１を中心として環状とされている。炉室１０は環状であるため、最終工程である冷却工程の次工程は、搬送テーブル２への調質容器７の積みおろしを行う積みおろし工程となる。図３において、加熱炉１の中心域に配置された駆動源１５が駆動すると、可動アーム１６が加熱炉１の炉芯Ｐ１を中心として回動する。よって、可動アーム１６に連結された搬送テーブル２は、環状の炉室１０を低速度で移動する。この結果、搬送テーブル２に載せられた調質容器７は環状の炉室１０を１周し、前述したように、積みおろし工程→予熱工程→炭化工程→均熱工程→昇温工程→賦活工程→均質工程→調圧工程→冷却工程の順に搬送される。なお、図４〜図６に示すように、搬送テーブル２は底部にローラ２ｃをもち、案内面２ｍに沿って移動される。
【００２１】
図１に示すように、加熱炉１の炉室１０の炭化工程付近の上部には、炉室１０の炉内ガスを矢印Ｋ１方向へ吸引口３１ｆを経て吸引する第１上吸引管３１（吸引管）が設けられている。加熱炉１の炭化工程付近の下部には、吹出口３３ｆを経て燃焼ガスまたは炉内ガスを供給する第１下供給管３３（供給管）が設けられている。
【００２２】
図２に示すように、加熱炉１の賦活工程付近の上部には、吹出口４２ｆを経て賦活ガスを炉室１０の賦活工程付近に供給する第２上供給管４２（供給管）が設けられている。加熱炉１の賦活工程付近の下部にも、吹出口４３ｆを経て賦活ガスを炉室１０の賦活工程に供給する第２下供給管４３（供給管）が設けられている。図２に示すように、加熱炉１の炉室１０の冷却工程付近の下部には、冷却用空気を炉室１０内に吹き出す吹出口４５ｆをもつ第３下供給管４５（供給管）が設けられている。
【００２３】
図３に示すように、加熱炉１には、炉室１０内を高温に加熱するための複数の燃焼バーナ１３が設けられている。燃焼バーナ１３は賦活工程及び均質工程付近に設けられている。
【００２４】
図５に示すように、燃焼バーナ１３は炉室１０の内側内壁面１０ｅ側及び外側内壁面１０ｆ側に設けられており、炉室１０に吹出口１３ｃを経て連通する燃焼室１３ｍに対面している。燃焼バーナ１３から吹き出された燃焼ガスは燃焼室１３ｍで燃焼され、吹出口１３ｃから吹き出され、炉室１０ひいては調質容器８を高温状態とする。
【００２５】
図３に示すように加熱炉１の炉体の上部には循環ファン５１、循環ファン５２、再燃炉５３が設けられている。再燃炉５３は再燃用の燃焼バーナをもつ。そして、循環ファン５１の駆動により、調質容器７の収容室７０の処理物Ｘから排出された廃ガスは、吸引口３１ｆを経て矢印Ｋ１’方向に第１上吸引管３１（吸引管）に吸引され、加熱炉１の上部の中間管５７ａ、５７ｂを経て再燃炉５３へ供給され、再燃炉５３の燃焼バーナで燃焼され、昇温化され、更に、昇温化されたガスは、水蒸気導入管５４から導入された水蒸気と混合して賦活ガスとなる。賦活ガスは活性炭を生成するためのガスである。
【００２６】
生成された賦活ガス中の二酸化酸素濃度が少ない場合には、二酸化酸素を水蒸気と共にまた水蒸気とは別に賦活ガスに補充し、賦活ガスの処理能力を高める。なお、再燃炉５３から吐出された賦活ガスの温度を温度センサで検出し、その検出結果に応じて、再燃炉５３の燃焼バーナの燃焼度を調整している。これにより生成される賦活ガスの温度が適温とされている。
【００２７】
上記のように生成された賦活ガスは、第２上供給管４２（供給管）を矢印Ｋ２’方向へ流れて第２上供給管４２の吹出口４２ｆから炉室１０の賦活工程付近に矢印Ｋ２方向（図２参照）へ吹き出されると共に、連通管５８を経て第２下供給管４３にも流れ、第２下供給管４３（供給管）の吹出口４３ｆから炉室１０の賦活工程付近に吹き出される。これにより炉内の賦活工程において、調質容器７内の処理物Ｘは賦活処理される。このように処理物Ｘから排出された廃ガスに水蒸気を混合して賦活ガス（調質ガス）として再利用する。
【００２８】
循環ファン５２の駆動により、炉室１０の可燃成分を含む炉内ガスは、連結管５９を経て第２上吸引管４４（吸引管）に吸引され、更に増熱バーナ５５（増熱手段）で燃焼されて増熱され、第２連結管５６を経て第１下供給管３３（供給管）に至り、第１下供給管３３の吹出口３３ｆから炉室１０の炭化工程付近及び均熱工程付近に吹き出され、調質容器７の収容室７０の処理物Ｘの加熱に使用される。
【００２９】
図８〜図１２を参照して調質容器７について更に説明を加える。図８〜図１０に示すように、調質容器７は耐熱性が良好な金属製であり、上面開口７０ａを備えた収容室７０をもつ円筒形状の容器本体７１と、容器本体７１の収容室７０を複数の分割収容室７０ｍに区画すると共に容器本体７１を補強する区画壁７２と、容器本体７１の底部に複数の脚部７６とを有する。脚部７６は並設されており、フォークリフト等の運搬車のフォークを挿入させる空間を形成するものである。なお、隣設する脚部７６の間には、ガスが透過できる流通路７７が形成されている。
【００３０】
図８に示すように調質容器７の容器本体７１には、耐熱性が良好な金属製（耐熱鋼等）のフランジ状をなす遮蔽プレート８が炉室１０の内側内壁面８０ｅ、外側内壁面８０ｆに向かうように横方向に沿って延設されている。遮蔽プレート８は調質容器７の容器本体７１の上部において径外方向に延設されている。平面視（図８）において、遮蔽プレート８は、炉室１０の内側内壁面１０ｅに沿った円弧凸状をなす第１案内面８１をもつと共に、炉室１０の外側内壁面１０ｆに沿った円弧凹状をなす第２案内面８２をもつ。第１案内面８１は、環状の加熱炉１の中央に位置する炉芯Ｐ１を中心とする半径Ｒ１の円弧に沿って曲成されている。
【００３１】
図８に示すように、第２案内面８２は、加熱炉１の炉芯Ｐ１を中心とする半径Ｒ２の円弧に沿って曲成されている（Ｒ２＞Ｒ１）。第１案内面８１の突出量はＭ１として、第２案内面８２の突出量はＭ２として示される。図８に示すように、加熱炉１の半径方向を矢印Ｒ４方向とすると、第１案内面８１は矢印Ｒ４方向の一方側に位置しており、第２案内面８２は矢印Ｒ４方向の他方側に位置している。
【００３２】
図８において、加熱炉１の半径方向と直交する方向（調質容器７の搬送方向）を矢印Ｒ５方向とする。第１部位８３は矢印Ｒ５方向の一方側に位置している。第２部位８４は矢印Ｒ５方向の他方側に位置している。第１部位８３及び第２部位８４の突出量Ｄ１、Ｄ２は、第１案内面８１の突出量Ｍ１、第２案内面８２の突出量Ｍ２よりも小さい。複数の調質容器７が炉室１０内で直列に搬送されるとき、図８に示すように、調質容器７の遮蔽プレート８の第１部位８３は、これに隣設する調質容器７（７Ｘ）の遮蔽プレート８の第２部位８４に接近したり、接触したりする。また調質容器７の遮蔽プレート８の第２部位８４は、これに隣設する調質容器７（７Ｙ）の遮蔽プレート８の第１部位８３に接近したり、接触したりする。
【００３３】
図８から理解できるように、調質容器７が炉室１０で直列に搬送されるとき、遮蔽プレート８の第１案内面８１は環状の炉室１０の内側内壁面１０ｅに接触または接近する。また、遮蔽プレート８の第２案内面８２は環状の炉室１０の外側内壁面１０ｆに接触または接近する。
【００３４】
調質容器７の区画壁７２は、耐熱性が良好な金属（耐熱鋼等）で形成されている。調質容器７の区画壁７２は、収容室７０の中央域に上方に向けて立設された四角錐形状をなす立設筒７３と、立設筒７３の側方に連設された仕切壁７４とを有する。図８、図９に示すように、区画壁７２により、調質容器７の収容室７０は複数の分割収容室７０ｍに分割されている。このように分割収容室７０ｍに処理物Ｘを分割して収容すれば、収容室７０内の処理物Ｘの処理のばらつき低減に有利である。
【００３５】
図１０に示すように、調質容器７の立設筒７３は、立設筒７３の上壁７３ｕで上方が閉鎖された第１中空室７８を形成する。第１中空室７８の下方は開放されている。仕切壁７４は、仕切壁７４の上壁７４ｕで上方が閉鎖された第２中空室７９を形成する。図１０に示すように、立設筒７３には複数の第１透口７３ａが上下多段に形成されている。第１中空室７８と第２中空室７９とは第１透口７３ａで連通している。仕切壁７４の下部には第２透口７４ａが形成されている。第２透口７４ａにより第２中空室７９と調質容器７の収容室７０とは連通している。故に、燃焼ガスまたは炉内ガスが調質容器７の底部から供給されると、これらは矢印Ｓ１方向（図１０参照）へ立設筒７３の第１中空室７８に流れて立設筒７３を加熱し、更に第１透口７３ａから矢印Ｓ２方向（図１０参照）へ第２中空室７９に流れて仕切壁７４を加熱し、第２透口７４ａから収容室７０内に流れ、収容室７０内の処理物Ｘを加熱することができる。これにより収容室７０の処理物Ｘの加熱のばらつきを抑制できる。なお、脚部７６間の流通路７７は第１中空室７８の底に対面している。このため燃焼ガスまたは炉内ガスが流通路７７に供給されると、これらは第１中空室７８に効果的に流入することができる。
【００３６】
前述したように調質容器７の立設筒７３及び仕切壁７４が加熱されるため、調質容器７の収容室７０の処理物Ｘを加熱する加熱面積が増加しており、収容室７０の処理物Ｘを効率よく加熱することができる。殊に立設筒７３、第１中空室７８は調質容器７の収容室７０の中央域に立設状態に配置されているため、収容室７０の処理物Ｘを均一加熱させるのに貢献できる。ひいては収容室７０の処理物Ｘに対して炭化処理、賦活処理等の各処理を均一に行うのに有利となる。
【００３７】
図１０に示すように、収容室７０を構成する複数の分割収容室７０ｍについては、上方に向かうにつれて開口Ｅが大きくなるように設定されているため、つまり、上方に向かうにつれて広がるように設定されているため、調質容器７を上下反転させて分割収容室７０ｍ内の処理物Ｘを吐出させるときに、処理物Ｘの吐出性が高まる。
【００３８】
更に立設筒７３と仕切壁７４とからなる区画壁７２は、調質容器７を補強する補強部材としても機能できるため、調質容器７の容器本体７１の周壁は補強されており、調質容器７が高温に加熱されるときであっても調質容器７の熱変形を抑制するのに有利である。ひいては調質容器７の遮蔽プレート８の熱変形を抑制するのに有利である。これにより遮蔽プレート８の遮蔽作用が長期にわたり良好に維持される。
【００３９】
図１１は調質容器７の変形例を示す。図１１に示す調質容器７の遮蔽プレート８には、遮蔽プレート８の熱変形を抑制する熱変形抑制部として機能できる複数のスリット８６が間隔を隔てて形成されている。スリット８６の外端は円孔８７を有する。調質容器７が高温に加熱されるときであっても、遮蔽プレート８の熱変形は抑制されている。なおスリット８６の数は必要に応じて設けるものであり、１個としても良い。
【００４０】
図１２（Ａ）〜図１２（Ｈ）は、調質容器７の遮蔽プレート８の変形例を示す。図１２（Ａ）に示す形態では、遮蔽プレート８の第１案内面８１及び第２案内面８２には立壁面８ｍが形成されている。図１２（Ｂ）に示す形態では、遮蔽プレート８の第１案内面８１及び第２案内面８２に、円弧凸状面８ｎが形成されている。この場合には遮蔽プレート８の第１案内面８１及び第２案内面８２がシール部９に接触する接触面積が減少するため、シール部９と遮蔽プレート８との間の摩擦を低減させるのに有利である。図１２（Ｃ）に示す形態では、遮蔽プレート８の第１案内面８１及び第２案内面８２に、先端に向かうにつれて先細となる先細部８ｋが形成されている。この場合、遮蔽プレート８の第１案内面８１及び第２案内面８２がシール部９に接触する接触面積が減少するため、シール部９と遮蔽プレート８との間の摩擦を低減させるのに有利である。
【００４１】
図１２（Ｄ）に示す形態では、遮蔽プレート８の第１案内面８１及び第２案内面８２に断面Ｌ字部８ｈが補強部として形成されている。図１２（Ｅ）に示す形態では、遮蔽プレート８を一部を蛇腹構造とすることにより、撓み変形可能な弾性ばね部８ｖが形成されている。この場合には遮蔽プレート８の第１案内面８１及び第２案内面８２がシール部９に接触するのに有利である。
【００４２】
図１２（Ｆ）に示す形態では、遮蔽プレート８は、第１案内面８１及び第２案内面８２に向かうにつれて下降傾斜する下降傾斜部８ｈ１を有するようにされている。図１２（Ｇ）に示す形態では、遮蔽プレート８は、第１案内面８１及び第２案内面８２に向かうにつれて上昇傾斜する上昇傾斜部８ｈ２を有するようにされている。図１２（Ｈ）に示す形態では、遮蔽プレート８は補強部８ｔで補強されている。なお、図１２（Ａ）〜図１２（Ｈ）に示す形態に限定されるものではない。
【００４３】
さて図４に示すように加熱炉１の炉室１０には、調質容器７の搬送方向に沿って延設されたシール部９が設けられている。シール部９は、炉室１０の内側内壁面１０ｅに沿って環状またはほぼ環状に形成された第１シール部９Ａと、炉室１０の外側内壁面１０ｆに沿って環状またはほぼ環状に形成された第２シール部９Ｂとで形成されている。図４において矢印Ｒ５方向は、調質容器７が搬送される方向に交差する方向を示す。炉室１０のうち矢印Ｒ５方向の一端側には、第１シール部９Ａが設けられている。炉室１０のうち矢印Ｒ５方向の他端側には第２シール部９Ｂが設けられている。
【００４４】
シール部９（９Ａ、９Ｂ）はアスベストにカーボン系物質を含浸させて形成されているが、これに限定されるものではないが、滑り性が良好なセラミックス材で形成することもできるが、潤滑性を有するものが好ましい。第１シール部９Ａ、第２シール部９Ｂの下方には、これらを冷却するシール冷却手段９４がそれぞれ設けられている。シール冷却手段９４は、図略の送風装置に接続され空気を流して強制的に空冷する冷却通路で形成されている。シール冷却手段９４は、環状の炉室１０をほぼ１周するように環状に形成されていても良いし、加熱炉１の炉室１０のうち高温領域にのみ設けても良い。シール冷却手段９４によりシール部９を冷却すれば、シール部９の熱変形が抑制され、遮蔽プレート８による加熱空間１００と調質空間１５０との遮蔽性が高まると共に、シール部９の耐久性の向上、長寿命化に有利である。シール冷却手段９４は、高温となる加熱空間１００とシール部９との間に介在しているため、加熱空間１００の熱がシール部９に伝達されることを抑制でき、シール部９の過熱を抑えるのに有利である。
【００４５】
図４、図５、図６は加熱炉１の半径方向に切断した断面を示し、つまり、調質容器７が搬送される方向に交差する方向に沿った断面を示す。図４は炉室１０の炭化工程を示す。炭化工程において、搬送テーブル２に載置された搬送される調質容器７の遮蔽プレート８により、加熱炉１の炉室１０内は、調質容器７内の処理物Ｘを加熱するための加熱空間１００と、調質容器７の収容室７０の上面開口７０ａに対面する調質空間１５０とに分けられる。炭化工程において調質空間１５０は、調質容器７の収容室７０の処理物Ｘに対して処理物Ｘから排出された廃ガスを矢印Ｋ１方向に吸引し、処理物Ｘからの廃ガスの排出を行う空間である。炉室１０の炭化工程において、遮蔽プレート８により加熱空間１００と調質空間１５０との連通性が小さくなる。換言すれば、加熱空間１００と調質空間１５０との遮蔽性が高まる。
【００４６】
本実施例によれば、第１シール部９Ａの第１シール面９０と第２シール部９Ｂの第２シール面９０との間の距離Ｌ１（図４参照）は、調質容器７の遮蔽プレート８の突出方向の熱膨張量を考慮して設定されている。即ち、遮蔽プレート８の突出方向の熱膨張量は温度に依存する。高温であれば遮蔽プレート８の突出方向の熱膨張量は大きくなり、前記した突出量Ｍ１、Ｍ２（図８参照）は増大する。低温であれば遮蔽プレート８の突出方向の熱膨張量は小さくなり、突出量Ｍ１、Ｍ２は減少する。
【００４７】
従って、炭化工程に炉内温度がＴ１となるときには、温度Ｔ１において熱膨張する調質容器７の遮蔽プレート８の第１案内面８１と第２案内面８２との間の距離Ｗ（図８参照）を求め、距離Ｌ１と距離Ｗとが同値または近接値となるように距離Ｌ１は設定されている。この結果、炭化工程において、調質容器７の遮蔽プレート８の第１案内面８１が第１シール部９Ａの第１シール面９０に接触または近づくと共に、遮蔽プレート８の第２案内面８２が第２シール部９Ｂの第２シール面９０に接触または近づくように設定されている。
【００４８】
このため炉室１０の炭化工程において、遮蔽プレート８により加熱空間１００と調質空間１５０との連通性が小さくなり、換言すれば、遮蔽プレート８により加熱空間１００と調質空間１５０との遮蔽性が高まる。
【００４９】
図５は炉室１０の賦活工程を示す。図５に示すように、賦活工程において、搬送テーブル２に載置された搬送される調質容器７の遮蔽プレート８により、加熱炉１の炉室１０内は、調質容器７内の処理物Ｘを加熱するための加熱空間１００と、調質容器７の収容室７０の上面開口７０ａに対面する調質空間１５０とに分けられている。賦活工程において調質空間１５０は、調質容器７の収容室７０の処理物Ｘへ賦活ガスの供給を行う空間である。炉室１０の賦活工程において、遮蔽プレート８により加熱空間１００と調質空間１５０との連通性が小さくなる。換言すれば、加熱空間１００と調質空間１５０との遮蔽性が高まる。
【００５０】
賦活工程においても、第１シール部９Ａの第１シール面９０と第２シール部９Ｂの第２シール面９０との間の距離Ｌ２（図５参照）は、調質容器７の遮蔽プレート８の突出方向の熱膨張量を考慮して設定されている。即ち、賦活工程に炉内温度がＴ２（例えば８００〜１１５０℃）となるときには、温度Ｔ２において熱膨張する調質容器７の遮蔽プレート８の第１案内面８１と第２案内面８２との間の距離Ｗを求め、距離Ｌ２と距離Ｗとが同値または近接値となるように距離Ｌ２は設定されている。
【００５１】
この結果賦活工程において、調質容器７の遮蔽プレート８の第１案内面８１が第１シール部９Ａの第１シール面９０に接触または近づくと共に、遮蔽プレート８の第２案内面８２が第２シール部９Ｂの第２シール面９０に接触または近づくように設定されている。このため炉室１０の賦活工程において、遮蔽プレート８により加熱空間１００と調質空間１５０との連通性が小さくなる。換言すれば、遮蔽プレート８により加熱空間１００と調質空間１５０との遮蔽性が高まる。
【００５２】
図６は炉室１０の冷却工程を示す。図６に示すように、冷却工程においても、遮蔽プレート８により加熱空間１００と調質空間１５０との連通性が小さくなり、換言すれば、加熱空間１００と調質空間１５０との遮蔽性が高まる。第１シール部９Ａの第１シール面９０と第２シール部９Ｂの第２シール面９０との間の距離Ｌ３は、調質容器７の遮蔽プレート８の熱膨張量を考慮して設定されている。即ち、冷却工程に炉内温度がＴ３となるときには、温度Ｔ３において熱膨張する調質容器７の遮蔽プレート８の第１案内面８１と第２案内面８２との間の距離Ｗを求め、距離Ｌ３と距離Ｗとが同値または近接値となるように距離Ｌ３は設定されている。この結果、冷却工程においても、調質容器７の遮蔽プレート８の第１案内面８１が第１シール部９Ａの第１シール面９０に接触または近づくと共に、遮蔽プレート８の第２案内面８２が第２シール部９Ｂの第２シール面９０に接触または近づくように設定されている。
【００５３】
なお炉室１０内の予熱工程、均熱工程、昇温工程、均質工程等においても、第１シール部９の第１シール面９０と第２シール部９の第２シール面９０の間の距離は、炉内温度による遮蔽プレート８の熱膨張量を考慮して設定されている。
【００５４】
上記したように本実施例によれば、第１シール部９の第１シール面９０と第２シール部９の第２シール面９０の間の距離Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は、炉室１０のうち相対的に温度が高い高温領域では、炉室１０のうち相対的に温度が低い低温領域よりも大きく設定されている。
【００５５】
さて、調質容器７の収容室７０の処理物Ｘの調質処理を行う場合には、調質容器７内に処理物Ｘを収容した状態で、積みおろし工程において搬送テーブル２に載せる。原料として機能する処理物Ｘとしては、下水道の汚泥やパルプ汚泥に代表される有機汚泥等の廃棄物、ヤシ殻やくるみ殻等の果実屑、石炭や石油ピッチ等の炭化物、植物系原料、木粉、製材屑、素灰、樹脂廃材、繊維廃材等を例示できる。搬送テーブル２が炉室１０に沿って移動するため、調質容器７の収容室７０の処理物Ｘは、前述したように、積みおろし工程→予熱工程→炭化工程→均熱工程→昇温工程→賦活工程→均質工程→調圧工程→冷却工程の順に搬送される。
【００５６】
炭化工程では、調質容器７の収容室７０の処理物Ｘは加熱されて炭化される。即ち図４に示す炭化工程では、賦活工程の高温の炉内ガスは断熱層１１内のガス通路１４を移入し、吹出口１４ｃから炉室１０内の調質容器７の外壁面に向けて矢印Ｋ３方向へ吹き出され、調質容器７を外側から加熱する。これにより調質容器７は炭化工程に適する温度となる。
【００５７】
また図４に示す炭化工程の際には、上記したように調質容器７は高温に加熱されるため、調質容器７の上面開口７０ａから処理物Ｘの廃ガスが排出される。処理物Ｘから排出された廃ガスは、矢印方向Ｋ１方向へ吸引口３１ｆを介して第１上吸引管３１（吸引管）に吸引される。このとき前述したように、調質容器７の遮蔽プレート８により、加熱炉１の炉室１０内は、調質容器７を加熱する加熱空間１００と調質空間１５０とに分けられており、加熱空間１００と調質空間１５０との連通性が小さくなっている。即ち、加熱空間１００と調質空間１５０との間の遮蔽性が高くなっている。このため炭化工程において加熱空間１００に供給された燃焼ガスまたは炉内ガスが調質空間１５０に漏出することは抑制される。つまり加熱空間１００に供給された燃焼ガスまたは炉内ガスが調質空間１５０を介して吸引口３１ｆに吸引されることは、抑制される。この結果、処理物Ｘから排出された廃ガスを効率良く吸引することができ、調質容器７の処理物Ｘの炭化処理（調質処理）を効率よく行うことができる。
【００５８】
図４に示す炭化工程では、第１下供給管３３内の高温のガスは、吹出口３３ｆから調質容器７の流通路７７に向けて矢印Ｋ５方向に吹き出される。故に図１０から理解できるように、吹き出される高温のガスは、流通路７７を経て第１中空室７８→第１透口７３ａ→第２中空室７９→第２透口７４ａ→収納室７０内に至り、調質容器７の収納室７０の内側からも炭化処理を行なうため、調質容器７の処理物Ｘの炭化処理のばらつきが低減される。
【００５９】
図５に示す賦活工程では、燃焼バーナ１３から供給された燃焼ガスが加熱室１３ｍで燃焼し、吹出口１３ｃから調質容器７の外壁面に吹き出され、調質容器７内の処理物Ｘが賦活工程に適する高い温度に加熱される。
【００６０】
図５に示す賦活工程では、水蒸気を含む賦活ガスが第２上供給管４２の吹出口４２ｆから矢印Ｋ２方向に調質容器７の上面開口７０ａを経て収容室７０の処理物Ｘに吹き出され、調質容器７の処理物Ｘに対して賦活処理が行われる。このように賦活処理を行うとき、前述したように調質容器７の遮蔽プレート８により、加熱炉１の炉室１０は、調質容器７を加熱する加熱空間１００と調質空間１５０とに分けられており、加熱空間１００と調質空間１５０との連通性が小さくなっている。即ち、加熱空間１００と調質空間１５０との遮蔽性が高くなっている。このため第２上供給管４２の吹出口４２ｆから矢印Ｋ２方向に調質空間１５０に供給された賦活ガスが加熱空間１００に漏出することは、抑制される。この結果、賦活ガスを処理物Ｘに効率良く供給するすることができ、賦活ガスは調質容器７の処理物Ｘに効率よく浸透することができる。よって、調質容器７の処理物Ｘの賦活処理（調質処理）を効率よく行うことができる。
【００６１】
図５に示す賦活工程では、第２下供給管４３内の賦活ガスは、吹出口４３ｆから調質容器７の流通路７７に向けて矢印Ｋ６方向に吹き出される。なお吹出口４３ｆから吹き出される賦活ガスは炉内ガス圧よりもやや高めとされているため、燃焼室１０ｍ側に移入することは抑えられている。上記したように賦活ガスが吹出口４３ｆから矢印Ｋ６方向に吹き出されるため、図１０から理解できるように、賦活ガスは流通路７７を経て第１中空室７８→第１透口７３ａ→第２中空室７９→第２透口７４ａ→収納室７０内に至り、調質容器７の収納室７０の内側にも賦活ガスが供給されるため、調質容器７の処理物Ｘの賦活処理を均一に行うのに有利となる。
【００６２】
図６に示す冷却工程では、図略の冷却ファンが駆動すると、冷却用空気が冷却通路１９を流れる。そして冷却通路１９の吹出口１８から矢印Ｋ８方向に冷却用空気が調質容器７の外壁面に向けて吹き出され、調質容器７の処理物Ｘに対して冷却処理が行われる。更に図６に示す冷却工程では、図略の冷却ファンにより供給された冷却用空気は、第３下供給管４５にも流れ、第３下供給管４５の吹出口４５ｆから調質容器７の流通路７７に向けて矢印Ｋ９方向に吹き出される。故に図１０から理解できるように、冷却用空気は流通路７７を経て第１中空室７８→第１透口７３ａ→第２中空室７９→第２透口７４ａ→収納室７０内に至り、冷却用空気は調質容器７の収納室７０の内側にも移入するため、調質容器７の処理物Ｘの冷却のばらつきが低減される。
【００６３】
このように冷却工程を行うとき、調質容器７の遮蔽プレート８の遮蔽作用によりは、加熱炉１の炉室１０内は、調質容器７を加熱する加熱空間１００と調質空間１５０とに分けてられおり、加熱空間１００と調質空間１５０との連通性が小さくなっている。
【００６４】
以上の説明から理解できるように本実施例によれば、各工程における雰囲気の混合が抑制されるため、調質処理の高品質化に有利な連続加熱炉装置及び調質容器７を提供することができる。
【００６５】
本実施例によれば、加熱炉１の炉室１０に複数の調質容器７が列設されているため、調質容器７が加熱炉１の炉室１０に直列に列設されている限り、直列に列設されている調質容器７の遮蔽プレート８の遮蔽作用により、加熱炉１の炉室１０内は、調質容器７を加熱する加熱空間１００と、調質容器７の収容室７０の処理物に対してガスの供給及び排出の少なくとも一方を行う調質空間１５０とに分けられる。このため炉室１０において直列に列設されている調質容器７の遮蔽プレート８により、加熱炉１における積みおろし工程から冷却工程にわたり、加熱空間１００と調質空間１５０との連通性が小さくなる。
【００６６】
換言すれば、調質容器７が加熱炉１の炉室１０に直列に列設されている限り、炉室１０において直列に列設されている調質容器７の遮蔽プレート８の遮蔽作用により、加熱炉１における積みおろし工程から冷却工程にわたり、加熱空間１００と調質空間１５０との遮蔽性が高まる。
【００６７】
なお図４に示すように、第１下供給管３３の流路径よりも吹出口３３ｆの流路径は小さくされている。図５に示すように、第２下供給管４３の流路径よりも吹出口４３ｆの流路径は小さくされている。図６に示すように、第３下供給管４５の流路径よりも吹出口４５ｆの流路径は小さくされている。吹出口３３ｆ、４３ｆ、４５ｆの流路径は小さくされており、ガスの吹出速度が確保されている。
【００６８】
（その他）
上記した実施例によれば、前述したように、第１シール部９の第１シール面９０と第２シール部９の第２シール面９０の間の距離Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は、炉室１０のうち相対的に温度が高い高温領域では、炉室１０のうち相対的に温度が低い低温領域よりも大きく設定されている。しかしこれに限らず、第１シール部９の第１シール面９０と第２シール部９の第２シール面９０との間の距離は、炉室１０の全周にわたり同一またはほぼ同一とすることもできる。
【００６９】
上記した実施例によれば、調質容器７は、収容室７０を複数の分割収容室７０ｍに区画すると共に容器本体７１を補強する区画壁７２と、底部に複数の脚部７６とを有するが、これに限らず、調質容器７は区画壁７２を有しない容器でも良い。また場合によっては、調質容器７を吊持して積みおろす形態等の場合には、調質容器７の底部の脚部７６を廃止することもできる。調質容器７の容器本体７１は円筒形状されているが、これに限らず、角筒形状とすることもできる。場合によっては、調質容器７は、調質空間１５０に連通する開口を有すると共に着脱可能な蓋体を備えていても良い。
【００７０】
上記した実施例によれば、遮蔽プレート８は、炉室１０の内側内壁面１０ｅに沿った円弧凸状をなす第１案内面８１をもつと共に、炉室１０の外側内壁面１０ｆに沿った円弧凹状をなす第２案内面８２をもつが、これに限らず、第１案内面８１及び第２案内面８２は、平面視において、直線状でも良い。加熱炉１の炉室１０は環状とされているが、これに限らず、直状でも良い。場合によってはシール冷却手段１４としては水冷方式でも良い。上記した実施例によれば、処理物Ｘから活性炭を製造する調質処理に適用しているが、これに限らず、他の調質処理でも良い。再燃炉５３は加熱炉１の上部に限らず、加熱炉１のうちどこに搭載しても良い。その他、本発明は上記した実施例のみに限定されるものではなく、要旨を逸脱しない範囲内で適宜変更して実施できるものである。
【００７１】
上記した記載から次の技術的思想も把握できる。
（付記項１）処理物を収容する収容室をもつと共に、加熱炉の炉室内で搬送され搬送途中で収容室の処理物の調質を行う調質容器であって、調質容器の収容室を複数の分割収容室に区画する区画壁をもつことを特徴とする調質容器。複数の分割収容室に処理物を分割して収容できるため、処理物に対する処理のばらつきを抑えるのに有利である。調質容器は、遮蔽プレートを有するものが好ましいが、遮蔽プレートを有しないものでも良い。
（付記項２）付記項１において、区画壁は、収容室の中央域に上方に向けて立設された立設筒と、立設筒の側方に連設された仕切壁とを有することを特徴とする調質容器。
（付記項３）付記項２において、調質容器の立設筒は、立設筒の上壁で上方が閉鎖された下面開放の第１中空室を形成すると共に、仕切壁は、仕切壁の上壁で上方が閉鎖された第２中空室を形成することを特徴とする調質容器。この場合、第１中空室及び第２中空室に燃焼ガスまたは炉内ガスが流入するため、調質容器の均一加熱に有利である。
（付記項４）付記項３において、立設筒は第１透口を有し、第１中空室と第２中空室とは第１透口で連通しており、仕切壁には第２透口が形成されており、第２透口により第２中空室と調質容器の収容室とは連通していることを特徴とする調質容器。この場合、調質容器の均一加熱に有利である。
（付記項５）加熱される炉室をもつ加熱炉と、
処理物を収容する収容室をもつと共に、加熱炉の炉室内で搬送され搬送途中で収容室の処理物の調質を行う複数の調質容器とで構成され、
調質容器及び加熱炉のうちの少なくとも一方は、他方に向かう遮蔽プレートを有しており、遮蔽プレートは、加熱炉の炉室内を、調質容器を加熱する加熱空間と、調質容器の収容室の処理物に対してガスの供給及び排出のうちの少なくとも一方を行って処理物の調質を行う調質空間とに分けることを特徴とする連続加熱炉装置。
（付記項６）加熱される炉室をもつ加熱炉と、
処理物を収容する収容室をもつと共に、加熱炉の炉室内で搬送され搬送途中で収容室の処理物の調質を行う単数または複数の調質容器とを具備する連続加熱炉装置において、
調質容器の収容室に収容されている処理物から調質時に排出されたガスが吸引管を介して吸引され、そのガスに少なくとも水蒸気を混合して処理物調質用の調質ガス（例えば賦活ガス）を生成する再燃炉を有することを特徴とする連続加熱炉装置。
【００７２】
調質容器の収容室に収容されている処理物から調質時に排出されたガスを、処理物を調質する調質ガス（例えば賦活ガス）として有効に利用することができる。更に調質ガス（例えば賦活ガス）を生成する際に、必要に応じて二酸化炭素を混合することもできる。調質容器は、遮蔽プレートを有するものが好ましいが、遮蔽プレートを有しないものでも良い。
（付記項７）付記項６において、加熱炉の炉室内に複数の調質容器を直列に搬送する搬送手段が設けられていることを特徴とする連続加熱炉装置。
（付記項８）付記項６または７において、再燃炉は、調質容器の処理物から排出されたガスを燃焼させて昇温化させる昇温用の燃焼バーナを有することを特徴とする連続加熱炉装置。賦活ガス等の調質ガスの温度を昇温させることができる。（付記項８）付記項６または７において、再燃炉は加熱炉の上部または側部に搭載されていることを特徴とする連続加熱炉装置。
【００７３】
【発明の効果】
本発明によれば、遮蔽プレートの遮蔽作用により、加熱炉の炉室内は、調質容器を加熱する加熱空間と、調質容器の収容室の処理物に対してガスの供給及び排出の少なくとも一方を行う調質空間とに分けられる。このため遮蔽プレートにより加熱空間と調質空間との連通性が小さくなる。換言すれば遮蔽プレートにより加熱空間と調質空間との遮蔽性が高まる。このような本発明によれば、各工程における雰囲気の混合を抑制することができ、調質処理の高品質化に有利な連続加熱炉装置及び調質容器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】加熱炉の予熱工程、炭化工程、均熱工程付近を炉内温度と共に示す構成図である。
【図２】加熱炉の賦活工程、均質工程、冷却工程付近を炉内温度と共に示す構成図である。
【図３】加熱炉の平面図である。
【図４】加熱炉の半径方向に切断した加熱炉の炭化工程における断面図である。
【図５】加熱炉の半径方向に切断した加熱炉の賦活工程における断面図である。
【図６】加熱炉の半径方向に切断した加熱炉の冷却工程における断面図である。
【図７】調質容器の遮蔽プレートとシール部との関係を示す断面図である。
【図８】遮蔽プレートをもつ調質容器の平面図である。
【図９】遮蔽プレートをもつ調質容器を水平方向に切断した断面図である。
【図１０】図９のＸ−Ｘ矢視図であり、遮蔽プレートをもつ調質容器を垂直方向に切断した断面図である。
【図１１】遮蔽プレートをもつ他の例に係る調質容器の平面図である。
【図１２】調質容器の遮蔽プレートの他の例を示す部分断面図である。
【符号の説明】
図中、１は加熱炉、１０は炉室、２は搬送テーブル、７は調質容器、８は遮蔽プレート、８１は第１案内面、８２は第２案内面、８６はスリット（熱変形抑制部）、１００は加熱空間、１５０は調質空間を示す。
【図１】
0003810065.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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