(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバ内に所定方向の回転中心回りに所定角度ずつ回転可能に設けられ、周縁部に、半径方向外側に開放されかつ成膜対象のワークを収容する複数の処理室を有する回転体と、
真空チャンバの周壁部に上記回転体の停止状態で各処理室に対面するように配設され、上記対面する処理室に対しワークの搬入出を行うロードロック装置、及び処理室のワークに対し成膜のための所定の処理を施す処理装置とを備えてなり、
上記ロードロック装置のロードロック室に真空ポンプが接続されていることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項２】
請求項１の真空成膜装置において、
ロードロック装置及び処理装置のうち少なくともロードロック装置には、回転体半径方向への移動により、該装置に対面する処理室の開口周縁部に先端部が接離して該処理室及び装置を真空チャンバ内に対し連通又は連通遮断する押圧体が設けられており、
回転体が停止したときには、押圧体を半径方向内側に移動させて押圧体先端部を処理室の開口周縁部に密着させることにより、処理室を真空チャンバ内と連通遮断させかつ装置に連通させる一方、回転体が回転するときには、押圧体を半径方向外側に移動させて押圧体先端部を処理室の開口周縁部から離隔させることにより、処理室を真空チャンバ内及び装置に連通させるように構成されていることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項３】
請求項２の真空成膜装置において、
処理室の開口周縁部と該開口周縁部に接離する押圧体先端部とは、回転体の回転中心を中心とする円弧面に形成されていることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかの真空成膜装置において、
処理室の壁部に、処理室と真空チャンバ内とを連通する開口が形成され、
真空チャンバの壁部には、回転体の停止状態で、上記開口を開閉する開閉弁が設けられていることを特徴とする真空成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空状態で基板等のワークに対し成膜する真空成膜装置に関し、特に、ロードロック装置及び成膜用の処理装置を円環状に配設して連続処理を行うようにしたものに関する技術分野に属する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、この種の真空成膜装置として、例えば特開平５―３０４１９７号公報等に示されるように、基板に対する成膜を行うための処理装置を有する複数の処理室及びロードロック室を垂直方向の中心線周りに円環状に配置して、この各室を上記複数室の円環状配列の中心部に配設した真空チャンバにそれぞれゲートバルブを介して連通させ、真空チャンバ内にロボット等の搬送装置を設置し、この搬送装置によりゲートバルブを開いて各室に対する基板の搬入出を行いながら、各室で順に基板に対する処理を行うようにしたものが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来のものでは、複数の室の配列の中心部に搬送装置を、基板の各室への搬入出と室間の搬送とを行うように作動させる必要があり、その搬送装置の構造が複雑になる。しかも、搬送装置は真空チャンバ内で作動するので、その駆動源の冷却システムや、搬送装置に起因する真空チャンバ全体の外気との気密性低下の補償が要求され、成膜装置全体の構造も複雑になるのは避けられない。
【０００４】
また、搬送装置については、基板の各室への搬入出及び室間の搬送を行うために位置決め制御する必要があり、高精度の制御が必要であった。
【０００５】
本発明は斯かる点に鑑みてなされたもので、その目的は、上記のようにロードロック装置や処理装置を円環状に配設して、基板等のワークに対する成膜のための各種処理を連続して行うようにした真空成膜装置に対し、その構造レイアウトを改良することにより、ワークの搬送のためのシステムを簡略化するとともに、その制御を容易に行うようにすることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の目的の達成のため、この発明では、従来とは逆に、ロードロック装置や処理装置は真空チャンバの周壁部に配設する一方、真空チャンバ内に複数の室を回転可能に設け、この各室をそれぞれ各装置に対面するように回転停止させた状態で、各室に対しワークを搬入出し、かつ各室内のワークに対し成膜のための所定処理を行う一方、各室の回転によりワークを装置間で搬送するようにすることにより、ワークの搬入出から複数の処理までが連続して行われるようにした。
【０００７】
具体的には、請求項１の発明では、真空成膜装置を、真空チャンバ内に所定方向の回転中心回りに所定角度ずつ回転可能に設けられ、周縁部に、半径方向外側に開放されかつ成膜対象のワークを収容する複数の処理室を有する回転体と、真空チャンバの周壁部に上記回転体の停止状態で各処理室に対面するように配設され、該対面する処理室に対しワークの搬入出を行うロードロック装置、及び処理室のワークに対し成膜のための所定の処理を施す処理装置とを備えてなるものとする。また、上記ロードロック装置のロードロック室に真空ポンプを接続する。
【０００８】
上記の構成により、真空チャンバ内は真空状態に保たれ、その内部で回転体が所定角度ずつ間欠的に回転し、その停止状態では、回転体周縁部の処理室が真空チャンバ周壁部のロードロック装置及び処理装置に対面する。この状態で、ロードロック装置に対面した処理室に対し該ロードロック装置を介してワークの搬入出が行われるとともに、処理室のワークが処理装置により成膜のために処理される。その後、回転体が回転して再度停止すると、上記処理室は他の処理装置又はロードロック装置に対面し、このことでワークが処理室毎、他の処理装置又はロードロック装置に搬送されることとなる。そして、以後は上記と同様の動作が繰り返されて、ワークに対する処理が順に連続して行われる。
【０００９】
したがって、回転体を間欠的に回転させるだけで、処理室がロードロック装置と処理装置との間又は異なる処理装置間で移動してその内部のワークの搬送が行われ、回転体の停止状態で、各処理室に対面するロードロック装置又は処理装置によりワークの搬入出又は処理室でのワークに対する成膜のための処理を行うので、ワークの搬送システムとしては真空状態であっても特別な構造が不要で極めて簡単になるとともに、ワークの搬送を行うための高精度の制御も要らなくなる。しかも、回転体は真空チャンバ内で間欠的に回転させるだけで済み、その駆動源の冷却が不要で、真空チャンバの外気との気密密閉性も良好に確保でき、成膜装置の構造を簡略化することができる。さらに、ロードロック装置のロードロック室に真空ポンプを接続したことにより、ロードロック装置をアンロードロック状態からロードロック状態に作動させる際、真空ポンプの吸引排気によってロードロック室を真空状態に素早く復帰させることができる。
【００１０】
請求項２の発明では、上記ロードロック装置及び処理装置のうち、少なくともロードロック装置に、回転体半径方向への移動により、該装置に対面する処理室の開口周縁部に先端部が接離して該処理室及び装置を真空チャンバ内に対し連通又は連通遮断する押圧体を設け、回転体が停止したときには、押圧体を半径方向内側に移動させて押圧体先端部を処理室の開口周縁部に密着させることにより、処理室を真空チャンバ内と連通遮断させかつ装置に連通させる一方、回転体が回転するときには、押圧体を半径方向外側に移動させて押圧体先端部を処理室の開口周縁部から離隔させることにより、処理室を真空チャンバ内及び装置に連通させるように構成する。
【００１１】
この発明では、真空チャンバ周壁部のロードロック装置及び処理装置のうちの少なくともロードロック装置に押圧体が設けられており、この押圧体を備えた装置に処理室が対面して回転体が停止したとき、押圧体が回転体の半径方向内側に移動して、その先端部が処理室の開口周縁部に密着する。このことで、処理室は真空チャンバ内と連通遮断されるが装置には連通し、この状態で装置により処理室に対するワークに搬入出又は処理室のワークに対する所定の成膜処理が行われる。一方、回転体が回転するときには、押圧体は回転体の半径方向外側に移動し、その押圧体の先端部が上記処理室の開口周縁部から離隔する。このことにより、処理室が真空チャンバ内及び装置の双方に連通する通常の状態になる。
【００１２】
したがって、この発明では、押圧体先端部の処理室の開口周縁部への密着により、処理室が真空チャンバ内と連通遮断されて装置のみに連通するので、その装置の作動を真空チャンバ内や他の装置の影響を受けることなく安定して行うことができる。
【００１３】
請求項３の発明では、上記請求項２の真空成膜装置において、処理室の開口周縁部と該開口周縁部に接離する押圧体先端部とを、回転体の回転中心を中心とする円弧面に形成する。このことで、押圧体を少し移動させるだけで、その先端部の処理室の開口周縁部への密着状態及び離隔状態を切り換えることができ、その切換えの容易化を図ることができる。また、押圧体の先端部と処理室の開口縁部とが離隔しているときに両者の間隔を小さくすることができるので、その処理室の密閉性を高めることができる。
【００１４】
請求項４の発明では、請求項１〜３のいずれかの真空成膜装置において、処理室の壁部に、処理室と真空チャンバ内とを連通する開口を形成し、真空チャンバの壁部には、回転体の停止状態で、上記開口を開閉する開閉弁を設ける。こうすると、回転体が停止して処理室がロードロック装置又は処理装置に対面しているとき、開閉弁による開口の閉塞によって処理室が真空チャンバに対して略遮断された状態になり、処理室の密閉性を高めることができる。また、開閉弁によって開口が開かれたときには、処理室の真空チャンバ内との連通性を高めて、その真空度を向上させることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
図１〜図３は本発明の実施形態に係る真空成膜装置Ａを示し、この成膜装置Ａは、基板等のワーク（図示せず）に対し各種の装飾用被膜を形成するために使用される。
図１〜図３において、１は架台で、その上面には真空チャンバ２が設置されている。この真空チャンバ２は水平方向の断面が正五角形状の箱体からなっていて、その周壁部は５つの平面状の側壁２ａ〜２ｅで構成されている。これら５つの側壁２ａ〜２ｅのうちの１つ２ａにはロードロック装置４が設けられている。このロードロック装置４は、図２及び図４に示すように、チャンバ側壁２ａに形成した開口５に気密状に組み付けられた扉枠６を有する。この扉枠６は真空チャンバ２の内側に開放された有底箱形状のもので、その開口側（チャンバ２内側）の周縁には内向きフランジ部６ａが形成され、扉枠６の内部にはロードロック室７が設けられている。扉枠６のチャンバ２外側の外壁部には扉８によって開閉されるワーク搬入出口９が貫通形成されており、扉８を開いたときには、ロードロック室７を、該ロードロック装置４に対面する後述する処理室３０と共に大気に開放する一方、扉８を閉じたときには、ロードロック室７及び処理室３０を大気から密閉遮断する。
【００１７】
また、図１に示す如く、上記ロードロック装置４の扉枠６には吸引配管１０が気密状に貫通して取り付けられ、この吸引配管１０は図外の荒引き用の副真空ポンプに接続されており、この副真空ポンプによりロードロック室７を荒引きして真空状態とするようになっている。
【００１８】
尚、図示しないが、このロードロック室７は大気連通路を介して大気に連通され、この大気連通路には常時閉の大気導入弁が配置されており、ロードロック装置４のアンロードロック時、真空状態にあるロードロック室７及び処理室３０に大気導入弁の開弁により大気を導入して、その真空を破るようにしている。
【００１９】
上記真空チャンバ２の周壁部における５つの側壁２ａ〜２ｅのうち、上記ロードロック装置４の側壁２ａに対し一側に隣接して連続する残りの３つの側壁２ｂ〜２ｄには、ワークに対し成膜のための各種処理を行う処理装置１２〜１４が設けられている。すなわち、例えばワークに多層の成膜を順次行う場合には、その工程が順に行われるように各成膜毎の成膜処理装置１２〜１４がロードロック装置４から図１で反時計回り方向に順番に配置されている。また、成膜処理の前後処理のために加熱や洗浄を行う場合には、ロードロック装置４をロード専用とし、該ロード装置４から図１で反時計回り方向に、ヒータ等による加熱処理装置、成膜処理装置、アンロードロック装置（アンロード専用）、逆スパッタリング等による洗浄処理装置、が順に配置されることになる。この各処理装置１２〜１４は、基本的に互いに同様の構造のもので、真空チャンバ２の側壁２ｂ〜２ｄを貫通した状態で設けられ、図示しないが、その真空チャンバ２内に臨む内端部は真空チャンバ２内に対して開放されており、この開放部を介して処理室３０のワークに対して所定の処理を行うようにしている。
【００２０】
さらに、真空チャンバ２の側壁２ａ〜２ｅのうちロードロック装置４の側壁２ａの他側（図１で時計回り方向）に隣接する側壁２ｅには吸引排気口１６が貫通形成され、この排気口１６は、架台１側方の取付台１８上に設置した主真空ポンプ１９に排気管２０を介して気密状に接続されており、この主真空ポンプ１９により真空チャンバ２内を吸引排気して真空状態に維持するようにしている。
【００２１】
上記真空チャンバ２の内部には回転体２２が垂直方向の回転中心回りに回転可能に軸支されている。すなわち、この回転体２２は、真空チャンバ２内の上下部に上下に対向して配置された互いに同じ大きさの正五角形状の板材からなる支持部２３，２４を備え、この両支持部２３，２４の各辺部間には有底箱状の箱部２５，２５，…がその開放部を半径方向外側に位置させかつ底壁部を垂直面に沿って配置した状態で一体的に架設されている。上側支持部２３の中心には上軸２６が、また下側支持部２４の中心には上軸２６と同心の下軸２７がそれぞれ回転一体に取り付けられ、下軸２７は真空チャンバ２の下壁（底壁）に回転可能に支持されている。上軸２６は真空チャンバ２の上壁を気密状に貫通してチャンバ２外に延び、その外端部にはモータ２８が駆動連結されており、このモータ２８の駆動により、回転体２２を上下軸２６，２７の回りに所定角度（７２°）ずつ間欠的に回転させる。
【００２２】
上記回転体２２の各箱部２５内には成膜対象のワークを収容する処理室３０が形成されている。つまり、回転体２２の周縁部に、半径方向外側に開放された複数の処理室３０，３０，…が設けられている。そして、この各処理室３０の開口周縁部３０ａは、回転体２２の回転中心（上下軸２６，２７）を中心とする円弧面に形成されている。また、上記モータ２８による回転体２２の間欠回転は、その停止状態で、回転体２２周縁の各処理室３０がそれぞれ真空チャンバ２周壁部のロードロック装置４、各処理装置１２〜１４及び吸引排気口１６のいずれかに対面するように行われ、この回転体２２が停止して各処理室３０にそれぞれロードロック装置４及び各処理装置１２〜１４が対面したときに、ロードロック装置４に対面する処理室３０に対しロードロック装置４を経てワークの搬入出を行い、各処理装置１２〜１４に対面する処理室３０のワークに対しそれぞれ処理装置１２〜１４毎の所定の処理を行うようにしている。
【００２３】
上記回転体２２における各処理室３０の上壁（箱部２５の上壁）にはそれぞれ回転体２２の回転中心と同心円周上の位置にバイパス孔としての開口３２が貫通形成され、この開口３２により各処理室３０と真空チャンバ２内とが連通されている。一方、真空チャンバ２の上壁部上面（外面）には上記ロードロック装置４及び処理装置１２〜１４の各位置（主真空ポンプ１９に連通する吸引排気口１６の位置は除く）に円周方向に対応して、上下方向の軸線を有するシリンダ３４がそれぞれ取付固定されている。この各シリンダ３４のピストンロッド３４ａは真空チャンバ２の上壁部を気密状に貫通してチャンバ２内に延び、その下端部には上記各処理室３０上壁の開口３２を開閉する開閉弁３５が一体に取り付けられており、各処理室３０がロードロック装置４及び処理装置１２〜１４に対面した状態で回転体２２が停止したとき、各シリンダ３４の伸縮作動によって各開閉弁３５を昇降移動させて各処理室３０上壁の開口３２を開閉するようにしている。
【００２４】
図４にも拡大詳示するように、上記ロードロック装置４には、ロードロック装置４に対面する処理室３０を真空チャンバ２に対し連通遮断してロードロック室７のみに連通させるための押圧体３７が設けられている。この押圧体３７は扉枠６における真空チャンバ２内側に摺動可能に配置された角筒形状のもので、その先端部３７ａ（内端部）は、上記処理室３０の開口周縁部３０ａと同様に、回転体２２の回転中心を中心とする円弧面に形成されている。この先端部３７ａには、ロードロック装置４に対面している処理室３０の開口周縁部３０ａに気密状に密着可能なシール材３８が一体に形成されている。また、押圧体３７の基端側（外端側）には扉枠６内のロードロック室７に位置する外向きフランジ部３７ｂが形成され、このフランジ部３７ｂのチャンバ２内側の側面にはシール材３９が取り付けられており、このフランジ部３７の側面を扉枠６における開口縁の上記内向きフランジ部６ａ背面側に当接させることで、押圧体３７のチャンバ２内側への移動を規制しつつ、押圧体３７と扉枠６との間をシール材３９によって気密シールするようにしている。
【００２５】
また、上記押圧体３７の外向きフランジ部３７ｂには押圧体３７の周縁全体に亘り分散配置した複数のスライダ４１，４１，…（１つのみ図示する）がそれぞれブラケット４２を介して取り付けられ、この各スライダ４１は、扉枠６の内側面に設けたガイドレール４３に摺動可能に支持されており、このスライダ４１のガイドレール４３での摺動により押圧体３７を回転体２２の半径方向へ移動可能としている。
【００２６】
さらに、上記押圧体３７外端の外向きフランジ部３７ｂと扉枠６の外壁部との間には押圧体３７駆動用のアクチュエータとしてのベローズ４５が回転体２２の半径方向に伸縮可能に架設され、このベローズ４５は扉枠６の外壁部に貫通形成したエア給排通路４６に接続されており、ベローズ４５に対し加圧エアを給排することで、押圧体３７を回転体２２の半径方向へ移動させて、その先端部３７ａのシール材３８をロードロック装置４に対面する処理室３０の開口周縁部３０ａに接離させ、その処理室３０及びロードロック室７を真空チャンバ２内に対し連通又は連通遮断する。つまり、回転体２２の停止時、ベローズ４５に加圧エアを供給したときには、押圧体３７を半径方向内側に移動させて押圧体３７先端のシール材３８を処理室３０の開口周縁部３０ａに密着させることにより、処理室３０を真空チャンバ２内と連通遮断させかつロードロック装置４のロードロック室７に連通させる一方、回転体２２の回転状態では、ベローズ４５から加圧エアを排出し、押圧体３７を半径方向外側に移動させて押圧体３７先端のシール材３８を処理室３０の開口周縁部３０ａから離隔させることにより、処理室３０を真空チャンバ２内及びロードロック装置４のロードロック室７に連通させるようにしている。
【００２７】
次に、上記成膜装置Ａの作動について説明する。
予め、主真空ポンプ１９の作動により真空チャンバ２内を吸引排気して真空状態にしておく。この真空チャンバ２内で回転体２２が停止した状態では、回転体２２周縁の各処理室３０がそれぞれ真空チャンバ２周壁部のロードロック装置４及び各処理装置１２〜１４に対面している。そして、各処理室３０は、その上壁の開口３２並びに処理室３０の周縁部とロードロック装置４及び各処理装置１２〜１４との間の間隙により真空チャンバ２内と連通されているので、真空チャンバ２内を全体として真空状態とするだけで各処理室３０が真空状態に保たれる。
【００２８】
この状態で、まず、上記ロードロック装置４に対面している処理室３０にワークを搬入する。すなわち、加圧エアの供給によりベローズ４５を伸長させて扉枠６内の押圧体３７を半径方向内側にスライドさせ、その先端のシール材３８を、ロードロック装置４に対面する処理室３０（箱部２５）の開口周縁部３０ａに密着させる。また、ロードロック装置４に対応する真空チャンバ２上壁のシリンダ３４を伸長動作させて、そのピストンロッド３４ａ下端の開閉弁３５により上記処理室３０上壁（箱部２５の上壁）の開口３２を閉じる。このことで、該処理室３０は真空チャンバ２内とは連通遮断されてロードロック室７のみに連通する。このように処理室３０を真空チャンバ２内と連通遮断した状態で、大気導入弁を開いてロードロック室７及びそれに連通する上記処理室３０に大気を導入した後、ロードロック装置４の扉８を開いてロードロック室７及び処理室３０を大気に開放し、その処理室３０内にワーク搬入出口９及びロードロック室７を経てワークを搬入収容する。
【００２９】
このワークの搬入後、上記扉８を閉めてロードロック室７及び処理室３０を大気から遮断し、荒引き用の副真空ポンプによりロードロック室７及び処理室３０を排気して真空状態にする。このようにロードロック装置４をアンロードロック状態からロードロック状態に作動させる際に、ロードロック室７に接続されている副真空ポンプによってロードロック室７及び処理室３０が排気されるので、押圧体３７の半径方向外側への移動によりロードロック室７をそのまま真空チャンバ２内に連通させて排気する場合に比較して、ロードロック室７及び処理室３０の真空状態への復帰を素早く行うことができる。
【００３０】
上記ロードロック室７及び処理室３０の真空度が所定以上となると、上記とは逆に、ベローズ４５内からの加圧エアの排出によりベローズ４５を収縮させて上記押圧体３７を半径方向外側にスライドさせ、その先端のシール材３８を、ロードロック装置４に対面する処理室３０の開口周縁部３０ａから離隔させるとともに、シリンダ３４を収縮させて処理室３０上壁の開口３２を開き、該処理室３０及びロードロック室７を真空チャンバ２内と連通させる。その際、処理室３０はその上壁の開口３２からも真空チャンバ２内へ吸引排気されるので、押圧体３７先端のシール材３８と処理室３０の開口周縁部３０ａとの間の間隙のみから排気する場合に比較して、処理室３０及びロードロック室７の排気を迅速に行うことができる。
【００３１】
こうして処理室３０を真空チャンバ２内と連通させた後、モータ２８により回転体２２が所定角度（７２°）だけ回転される。その際、押圧体３７先端のシール材３８は処理室３０の開口周縁部３０ａから離隔しているので、そのシール材３８が開口周縁部３０ａと干渉することはなく、回転体２２をスムーズに回転させることができる。
【００３２】
上記回転体２２が所定角度回転して停止すると、上記ロードロック装置４に対面していた処理室３０は、今度はロードロック装置４に隣接する処理装置１２に対面する。そして、この処理装置１２に対応する、真空チャンバ２上壁のシリンダ３４を伸長させてそのピストンロッド３４ａ下端の開閉弁３５により処理室３０上壁の開口３２を閉じ、この状態で処理装置１２により処理室３０内のワークに対し該処理装置１２特有の所定の処理を行う。また、上記回転体２２の所定角度の回転に伴い、ロードロック装置４と対面状態にあった処理室３０の回転方向後側に位置する処理室３０がロードロック室７に対面し、この処理室３０に対し上記と同様にしてワークが搬入される。
【００３３】
以上の動作を繰り返すことで、ロードロック装置４にて処理室３０に搬入されたワークは、回転体２２の回転及び停止に伴って各処理装置１３，１４に順に搬送され、該各処理装置１３，１４において処理装置１３，１４毎の所定の処理が施される。そして、回転体２２が１回転して停止すると、ワークに対する全ての処理が終了し、同じ処理室３０が元のロードロック装置４に対面する。この状態で、上記と同様に、ベローズ４５により押圧体３７を半径方向内側にスライドさせてその先端のシール材３８を処理室３０の開口周縁部３０ａに密着させるとともに、ロードロック装置４に対応するシリンダ３４を伸長させて開閉弁３５で開口３２を閉じ、処理室３０を真空チャンバ２内と連通遮断してロードロック室７のみと連通させ、大気導入弁を開き、扉８を開いて、その処理室３０の処理後のワークを搬出する。このワークの搬出後、その処理室３０に次の新たなワークを搬入する。
【００３４】
したがって、この実施形態では、真空チャンバ２内で回転体２２を間欠的に回転させるだけで、処理室３０がロードロック装置４から処理装置１２〜１４に移動してその内部のワークの搬送が行われ、回転体２２の停止状態で、各処理室３０に対面する処理装置１２〜１４により該処理室３０のワークに対する処理を行うので、真空状態であってもワークの搬送システムは特別な構造が不要で極めて簡単になるとともに、ワークの搬送を行うための高精度の制御も要らなくなる。しかも、回転体２２は真空チャンバ２内で間欠的に回転させるだけで済み、その駆動源の冷却が不要で、真空チャンバ２の外気との気密密閉性も良好に確保でき、成膜装置Ａの構造を簡略化することができる。
【００３５】
また、上記各処理室３０に対しロードロック装置４を介してワークを搬入出するとき、上記のように押圧体３７先端のシール材３８が処理室３０の開口周縁部３０ａへ密着し、処理室３０が真空チャンバ２内と連通遮断されてロードロック室７のみに連通するので、そのロードロック装置４のアンロードロックに伴い、ロードロック装置４に対面する処理室３０のみの真空状態が破られるものの、他の処理室３０を含む真空チャンバ２内の真空状態が破壊されることはなく、ロードロック装置４の作動によるワークの搬入出を真空チャンバ２内の真空状態を安定維持しつつ行うことができる。
【００３６】
さらに、上記処理室３０の開口周縁部３０ａと該開口周縁部３０ａに接離する押圧体３７の先端部３７ａとは、いずれも回転体２２の回転中心を中心とする円弧面に形成されているので、押圧体３７による処理室３０と真空チャンバ２内との連通及びその遮断時、押圧体３７を半径方向に僅かの距離をスライド移動させるだけで、その先端のシール材３８の処理室３０の開口周縁部３０ａへの密着状態及び離隔状態を切り換えることができ、その切換えの容易化を図ることができる。しかも、押圧体３７を半径方向外側に移動させて、その先端のシール材３８を収容室３０の開口縁部３０ａと離隔させている状態では、両者の間隔を小さくでき、その処理室３０の密閉性を高めることができる。
【００３７】
また、処理室３０の上壁に処理室３０を真空チャンバ２内と連通させる開口３２が形成され、この開口３２が回転体２２の停止状態で開閉弁３５により閉じられるので、回転体２２が停止して処理室３０がロードロック装置４又は各処理装置１２〜１４に対面しているとき、処理室３０が真空チャンバ２に対して略遮断された状態になり、処理室３０の密閉性を高めて、例えばワークに対する処理効率の向上等を図ることができる。
【００３８】
尚、上記実施形態では、回転体２２周縁の処理室３０の数を５つとしているが、６つ以上又は４つ以下の複数に増減することもできる。
【００３９】
また、上記実施形態では、押圧体３７をロードロック装置４のみに設けているが、他の処理装置１２〜１４にも設けてもよく、その処理装置１２〜１４での処理時に処理室３０を真空チャンバ２内と確実に遮断して処理効率を高めることができる。
【００４０】
さらに、上記実施形態では、各処理室３０の上壁に開口３２を形成し、この開口３２を真空チャンバ２の上壁から開閉弁３５によって開閉しているが、この開口３２を処理室３０の下壁に形成して真空チャンバ２の下壁から開閉弁３５によって開閉するようにしてもよく、さらには処理室３０の上壁及び下壁の双方にそれぞれ開口３２を形成することもできる。
【００４１】
また、上記実施形態の成膜装置Ａは、ワークに装飾用被膜を形成するためのものであるが、本発明は、その他の成膜を行うための真空成膜装置に対しても適用することができる。
【００４２】
また、上記実施形態では、ワークの搬入出を行うロードロック装置４を１つとしているが、２つ以上設けてもよい。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１の発明の真空成膜装置によると、真空チャンバ内に回転体を回転中心回りに所定角度ずつ回転可能に設けて、その周縁部に、半径方向外側に開放された複数の処理室を形成し、チャンバ周壁部に、各処理室に対するワークの搬入出を行うロードロック装置と、各処理室のワークに対し成膜のための処理を施す処理装置とをそれぞれ回転体の停止状態で各処理室に対面するように配設し、ロードロック装置のロードロック室に真空ポンプを接続したことにより、回転体を間欠的に回転させるだけでロードロック装置及び処理装置間でのワークの搬送を行うことができ、真空状態であってもワークの搬送システム及びその制御システムを簡略化できるとともに、回転体の駆動源の冷却が不要で、真空チャンバの外気との気密密閉性も良好に確保して、成膜装置の構造を簡略化することができ、さらには、ロードロック装置をアンロードロック状態からロードロック状態に作動させる際の真空状態への復帰速度を向上させることができる。
【００４４】
請求項２の発明によると、少なくともロードロック装置に、回転体半径方向への移動により対面状態の処理室の開口周縁部に先端部が接離する押圧体を設け、回転体の停止時に、押圧体先端部を処理室開口周縁部に密着させて、処理室を真空チャンバ内と連通遮断させかつ装置に連通させる一方、回転体の回転時には、押圧体先端部を処理室開口周縁部から離隔させ、処理室を真空チャンバ内及び装置に連通させるようにしたことにより、処理室を真空チャンバ内と連通遮断させて装置のみに連通できるので、その装置での作動安定化を図ることができる。
【００４５】
請求項３の発明によると、処理室の開口周縁部と押圧体先端部とを回転体の回転中心を中心とする円弧面に形成したことにより、押圧体先端部の処理室の開口周縁部への密着状態及び離隔状態の切換えの容易化を図ることができるとともに、押圧体先端部と処理室の開口縁部との離隔時の処理室の密閉性の向上を図ることができる。
【００４６】
請求項４の発明によると、処理室の壁部に開口を形成し、真空チャンバの壁部に、回転体の停止状態で開口を開閉する開閉弁を設けたことにより、回転体の停止状態で処理室の密閉性を高めてワークに対する処理効率の向上を図ることができるとともに、開閉弁の開弁時に処理室の真空度の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る真空成膜装置を真空チャンバの上壁を除去して示す平面図である。
【図２】図１のII−II線断面図である。
【図３】真空成膜装置の斜視図である。
【図４】ロードロック装置を示す拡大断面図である。
【符号の説明】
Ａ  真空成膜装置
２  真空チャンバ
４  ロードロック装置
７  ロードロック室
１２〜１４  処理装置
１９  主真空ポンプ
２２  回転体
２８  モータ
３０  処理室
３０ａ  開口周縁部
３２  開口
３４  シリンダ
３５  開閉弁
３７  押圧体
３７ａ  先端部
４５  ベローズ
【図１】
0003805465.tif 000002
【図２】
0003805465.tif 000003
【図３】
0003805465.tif 000004
【図４】
0003805465.tif 000005