(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゾルゲル材料に対して接触する成形面に金(Au)，白金(Pt)，銅(Cu)，パラジウム(Pd)，銀(Ag)，ニッケル(Ni)およびこれらの合金のうちのいずれかである離型膜が設けられているマスター成形型を前記ゾルゲル材料に押圧することにより成形してなるゾルゲル成形物を、前記ゾルゲル材料を成形するためのレプリカ成形型として用いることを特徴とするゾルゲル成形物の製造方法。
【請求項２】
前記マスター成形型は、前記離型膜を保持する基材を有し、前記基材が樹脂，ガラス，金属およびこれらの結合物のうちのいずれかであることを特徴とする請求項１に記載のゾルゲル成形物の製造方法。
【請求項３】
前記基材と前記離型膜との間に金属および／または無機酸化物からなる緩衝層が設けられていることを特徴とする請求項２に記載のゾルゲル成形物の製造方法。
【請求項４】
前記離型膜の表面に凹部が設けられていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のうちのいずれか１項に記載のゾルゲル成形物の製造方法。
【請求項５】
前記ゾルゲル成形物が、前記ゾルゲル材料に対して離型性を示す官能基を有することを特徴とする請求項１ないし４のうちのいずれか１項に記載のゾルゲル成形物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ゾルゲル成形物の製造方法に係り、例えば読取専用光学式情報記録媒体(CD-ROM)，平板マイクロレンズあるいはグレーティング素子等の各種光学部品を製造するのに好適なゾルゲル成形物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば読取専用光学式情報記録媒体(CD-ROM)，平板マイクロレンズあるいはグレーティング素子等の各種光学部品を製造するために用いられるゾルゲル法は、所定の基板上に一定厚みで塗布したゾルゲル材料に対して、所定の表面形状を有する成形型を一定時間押圧させながら加熱し、次いでゾルゲル材料から成形型を離間させてから再度ゾルゲル材料を焼結して溶媒を蒸発させ、これにより所望の表面形状および膜厚を有するゾルゲル成形物を得るものである。
【０００３】
ところで、前述したゾルゲル法において、ゾルゲル成形物の製造工程を高速化するとともに不良発生率を低下させ、かつ、ゾルゲル成形物の寸法精度を向上させるためには、ゾルゲル材料に対して成形型が良好な離型性を有していることが必須となっている。
このため、従来より、ゾルゲル法に用いられる成形型としては、ゾルゲル材料に対する良好な離型性が得られるような適宜な樹脂製とされていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年、ゾルゲル法においては、従来に比較して、更なる製造工程の高速化，不良発生率の低下および寸法精度の向上が求められつつあるため、一層離型性に優れた成形型が求められている。
本発明は、前述した要望を満たすためになされたものであり、その目的は良好な離型性が得られる成形型を用いたゾルゲル成型物の製造方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために、本発明のゾルゲル成形物の製造方法は、請求項１に記載したように、ゾルゲル材料に対して接触する成形面に金(Au)，白金(Pt)，銅(Cu)，パラジウム(Pd)，銀(Ag)，ニッケル(Ni)およびこれらの合金のうちのいずれかである離型膜が設けられているマスター成形型をゾルゲル材料に押圧することにより成形してなるゾルゲル成形物を、前記ゾルゲル材料を成形するためのレプリカ成形型として用いることを特徴としている。
マスター成形型においては、ゾルゲル材料に対して接触する成形面に金(Au)，白金(Pt)，銅(Cu)，パラジウム(Pd)，銀(Ag)，ニッケル(Ni)およびこれらの合金のうちのいずれかである離型膜が設けられているので、ゾルゲル材料に対する良好な離型性が得られるとともに、ゾルゲル材料に対する押圧に耐え得る所定の強度，ゾルゲル材料に対する加熱に耐え得る耐熱性，ゾルゲル材料に対して反復接触しても腐食しないような耐食性，および所望の形状に容易に成形できるような成形性等が得られるが、このようなマスター成形型をゾルゲル材料に押圧することにより成形してなるゾルゲル成形物においては、従来に比較してゾルゲル成形物の寸法精度が向上しているため、高精度なレプリカ成形型が得られ、この成形型によりゾルゲル材料を成形することができるので、従来に比較して製造工程の高速化、不良発生率の低下及び寸法精度の向上を達成できることになる。
【０００６】
また、離型膜としては、所望の効果が得られれば、前述した材質を択一的あるいは複合的に用いてもよく、膜厚寸法，成形方法等は任意である。なお、離型膜として用いられる合金は、前述した材質のうちの複数を選択的に採用していればよく、前述した材質をすべて含む形態に限定しない。また、離型膜として合金を用いる場合、各材質の比率は任意である。
このようなマスター成形型においては、表面の酸化が生じ難い金(Au)，白金(Pt)，銅(Cu)，パラジウム(Pd)，銀(Ag)，ニッケル(Ni)およびこれらの合金のうちのいずれかにより離型膜が設けられているため、成形面に経時変化が生じ難く、これにより優れた耐久性が得られることになる。
【０００７】
さらに、本発明のゾルゲル成形物の製造方法は、請求項２に記載したように、マスター成形型は、離型膜を保持する基材を有し、該基材が樹脂，ガラス，金属およびこれらの結合物のうちのいずれかであることを特徴としている。
ここで、基材としては、離型膜と同様な性能が得られるとともに、離型膜に近似した膨張係数が得られる適宜な材料を採用すればよい。
このようなマスター成形型においては、成形面の面積に関わらず離型膜を薄膜化できることになる。また、基材が樹脂の場合、微細な加工が容易にでき、成形性が良いという利点がある。一方、基材がガラス，金属の場合は耐熱性と強度とが高く、耐久性に優れる。
したがって、このようなマスター成形型をゾルゲル材料に押圧することにより成形してなるゾルゲル成形物は、高精度なレプリカ成形型として利用できる。
【０００８】
そして、本発明のゾルゲル成形物の製造方法は、請求項３に記載したように、マスター成形型においては、基材と離型膜との間に金属および／または無機酸化物からなる緩衝層が設けられていることを特徴としている。
このようなマスター成形型においては、離型膜と基材との間に例えばアルミニウム(Al)，クロム(Cr)，スズをドープした酸化インジュウム(ITO)等の緩衝層が設けられているため、基材に対して離型膜が緩衝層を介して強固に成膜されることになる。すなわち、このマスター成形型においては、離型膜が基材に対して直接設けられている場合に比較して、離型膜が基材から剥離する虞れ、つまり離型膜がゾルゲル材料に対して転写される虞れが少なく、これにより耐久性を向上できることになる。
【０００９】
また、本発明のゾルゲル成形物の製造方法は、請求項４に記載したように、マスター成形型においては、離型膜の表面に凹部が設けられていることを特徴としている。なお、この凹部は、基材の表面に設けられた形状が表れたものである。
ここで、凹部としては、例えば球状，円錐状，角錐状や断面任意形状のスリット状等を例示できる。そして、球状，円錐状，角錐状は、離型膜の全域あるいは部分的に任意数設ければよく、多数設ける場合の互いの相対位置関係等も限定しない。一方、凹部としてスリットを設ける場合、スリットは直線状，曲線状に任意条設けてもよく、複数条設ける場合には同心円状，格子状に設けてもよい。
このマスター成形型においては、離型膜の表面に凹部が設けられているため、寸法精度の高い読取専用光学式情報記録媒体(CD-ROM)，平板マイクロレンズあるいはグレーティング素子等の各種光学部品を製造するためのレプリカ成形型を得ることができることになる。
【００１０】
また、本発明のゾルゲル成形物の製造方法は、請求項５に記載したように、前記ゾルゲル成形物が前記ゾルゲル材料に対して離型性を示す官能基を有することを特徴とする。
ここで、具体的な官能基としては、比較的反応性に乏しいメチル基，エチル基，イソプロピル基，3，3，3−トリフルオロプロピル基，フェニル基等を例示できる。
このようなゾルゲル成形物の製造方法においては、離型膜に接触すると所定の官能基がゾルゲル成形物の外層を形成するため、離型膜に対する良好な離型性が得られることになる。したがって、このゾルゲル成形物は、本質的に白金(Pt)，金(Au)等の離型膜を必要とせず、ゾルゲル材料の成形型として利用できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
次に、本発明に係る実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図１に示すように、本発明の実施形態で利用される成形型10は、(1)例えば読取専用光学式情報記録媒体(CD-ROM)，平板マイクロレンズあるいはグレーティング素子等の各種光学部品を製造するための成形型とされる。または、(2)このような光学部品を製造するために、当該成形型10を雛型としてゾルゲル材料によりレプリカ成形型11を製造するマスター成形型とされる。
【００１２】
以下、本発明に係る実施形態について、主として、上記(2)のマスター成形型とする場合を例に挙げ、詳細に説明する。
成形型10は、ゾルゲル成形物であるレプリカ成形型11を製造するために、プレス装置(図示せず)に支持される平板状の保持体12と、保持体12の下面に固定された基材13と、基材13の成形面14に設けられた離型膜15とを含んで構成されている。
【００１３】
基材13は、例えば樹脂，ガラス，金属およびこれらの結合物のうちのいずれかとされ、具体的には、離型膜15およびゾルゲル成形物に近似した膨張係数が得られるようなエポキシ樹脂，石英ガラス，アルミニウム(Al)，銀(Ag)，クロム鋼(SUS)，真鍮を含む銅(Cu)系合金，ニッケル(Ni)系合金，珪素(Si)等が採用されている。
【００１４】
ここで、基材13として例えばエポキシ樹脂等の樹脂を採用した場合、ガラス製あるいは金属製の基材を用いた場合に比較して加工成形が容易である。一方、基材13として例えば石英ガラス，アルミニウム(Al)，銀(Ag)，クロム鋼(SUS)，真鍮を含む銅(Cu)系合金，ニッケル(Ni)系合金，珪素(Si)等のガラスや金属を採用した場合、樹脂製の基材を用いた場合に比較して良好な強度および耐熱性が得られる。なお、基材13がエポキシ樹脂の場合、ゾルゲル材料の加熱成形時の熱および圧力に耐えられるように、ガラスあるいは金属等の保持体を備えることが好ましい。
【００１５】
この基材13は、レプリカ成形型11に対面する成形面14に凹部である複数の溝16が形成されている。各溝16は、それぞれ断面形状が同一寸法の略Ｖ字状とされ、互いに平行配置されている。
【００１６】
図２に示すように、このような基材13は、成形面14全域にわたって、金属および無機酸化物からなる緩衝層18が設けられている。
緩衝層18としては、アルミニウム(Al)，クロム(Cr)，スズをドープした酸化インジュウム(ITO)等を例示でき、成形面14に沿って所定厚み、かつ、均等厚みで単層形成あるいは積層形成されている。（なお、緩衝層18は、好ましくは単層で膜厚10nmないし50nmであるが、本発明は、これに限定されるものではない。）
図２に示す緩衝層18は、膜厚100nmのアルミニウム(Al)層18Ａ，膜厚280nmのシリカ(SiO2 )層18Ｂ，膜厚170nmのチタニア(TiO2 )層18Ｃおよび所定膜厚のクロム(Cr)層あるいはスズをドープした酸化インジュウム(ITO)層18Ｄが積層形成されている。
【００１７】
離型膜15は、例えば金(Au)，白金(Pt)，銅(Cu)，パラジウム(Pd)，銀(Ag)，ニッケル(Ni)およびこれらの合金等とされ、緩衝層18の最表層に沿って形成されている。この離型膜15は、表面が平滑であるほど離型性が高いことから、スパッタリング法により均一、かつ、平滑に成膜されていることが好ましい。また、離型膜15としては、金(Au)あるいは白金(Pt)が耐熱性，耐食性の点から特に好ましい。金(Au)あるいは白金(Pt)を用いる場合、緩衝層18にはクロム(Cr)あるいはスズをドープした酸化インジュウム(ITO)を用いることが離型膜15と基材13との接着性の点から好ましい。
【００１８】
一方、レプリカ成形型11は、図１および図２に示すように、例えば石英ガラス等により形成された平板状の基板19と、基板19上に一定の厚みで塗布されたゾルゲル材料20(図２中二点鎖線参照)とで構成される。
ゾルゲル材料20としては、下記式(１)および(２)に示す有機無機複合体のうちの少なくともいずれか一方を含むものが好ましく、これらの組成に増粘材としてポリエチレングリコールを添加した組成がさらに好ましい。
ＲnＳｉＸ’4-n・・・（１）
ここで、Ｒは炭素数１ないし４の炭化水素基あるいは、置換もしくは未置換のアリール基であり、Ｘ’はアルコキシル基またはハロゲン原子、ｎは１または２の整数である。
ＭＸ’n・・・・・・（２）
ここで、ＭはSi，Ti，Zr，Alのうちのいずれかの金属原子、Ｘ’はアルコキシル基またはハロゲン原子、ｎは３または４の整数である。
【００１９】
そして、このようなゾルゲル材料20としては、シラン系が特に好ましい。その理由は、シラン系のゾルゲル材料20を採用すれば、原料の加水分解，縮重合反応が比較的穏やかに進行するため、プレス成形する際に必要な低粘度の状態を長く維持できる利点を有するからであり、また、低粘度を維持するために有効な有機鎖を置換した式(１)で表される原料は、一般的で入手しやすく、安価である点等の利点が得られるからである。
【００２０】
また、この実施形態におけるゾルゲル材料20は、成形固化後に他のゾルゲル材料に対して良好な離型性を示す適宜な官能基を有していることが好ましい。具体的な官能基としては、比較的反応性に乏しいメチル基，エチル基，イソプロピル基，3，3，3−トリフルオロプロピル基，フェニル基等を例示できる。
【００２１】
次に、以上のような成形型10を用いたレプリカ成形型11の製造手順と、レプリカ成形型11を用いたゾルゲル成形物の製造手順とを説明する。
まず、プレス装置を起動させることにより、成形型10をメチル基などの官能基を有するゾルゲル材料20に向かって接近させ、離型膜15を介して成形面14をゾルゲル材料20に一定時間、かつ、一定圧力で押圧させると共に所定温度に加熱する(→加熱成形法)。次に、成形型10をゾルゲル材料20から離間させてから、再びゾルゲル材料20を焼結することにより溶媒を除去する。（なお、成形型10を離間させることなく加熱してもよい。）
このように製造されたレプリカ成形型11は、ゾルゲル材料20の表面形状が成形面14に形成された各溝16に対応した表面形状となっている(図２中実線参照)。
【００２２】
次に、このレプリカ成形型11を用いて、別のゾルゲル材料20に対して再びプレス成形して新たなゾルゲル成形物を製造する。
このように製造されたゾルゲル成形物は、その表面が前述した成形型10の成形面14と同一の形状および寸法を有し、成形型10に対するレプリカとなる。（このようなレプリカは、レプリカ成形型11の材料と同じ比較的反応性に乏しい官能基を有するゾルゲル材料20により形成されているため、レプリカ成形型11がプレス成形後に容易に離型でき、成形型10の成形面14に形成された溝16が再現された。こうしたレプリカに金(Au)反射コートを蒸着し、回析効率を評価したところ、成形型10の回析効率と同じ60％(波長1550nm)であった。）
【００２３】
（作用効果）
以上のような実施形態によれば、前述した成形型10を用いてレプリカ成形型11を製造した後、このレプリカ成形型11を用いて成形型10と同様なレプリカを製造するため、従来に比較してレプリカの寸法精度および形状精度を向上できる。
【００２４】
特に、この成形型10によれば、離型膜15が金(Au)，白金(Pt)，銅(Cu)，パラジウム(Pd)，銀(Ag)，ニッケル(Ni)，これらの合金であるため、離型膜15の表面に酸化等の経時変化が生じ難く、優れた耐久性が得られる。
さらに、成形型10によれば、離型膜15を保持する基材13が樹脂，ガラス，金属およびこれらの結合物のうちのいずれかであるため、成形面14の面積に関わらず離型膜15を薄膜化できる。
【００２５】
また、前述した成形型10によれば、基材13と離型膜15との間に緩衝層18が設けられているため(→図２参照)、離型膜15が基材13に対して直接設けられている場合に比較して、離型膜15が基材13から剥離する虞れを少なくでき、これにより耐久性を向上できる。
【００２６】
そして、この成形型10によれば、成形面14に凹部である溝16が設けられているため、読取専用光学式情報記録媒体(CD-ROM)，平板マイクロレンズあるいはグレーティング素子等の各種光学部品を製造するためのレプリカ成形型を得ることができる。
このレプリカ成形型11は、前述のように構成された成形型10を押圧することにより成形されるため、従来に比較して製造工程を高速化できるとともに不良発生率を低下でき、かつ、寸法精度を向上できる。
【００２７】
特に、この実施形態によれば、ゾルゲル材料20が離型性を示す官能基を有しているため、ゾルゲル材料20が離型膜15に接触すると、所定の官能基がレプリカ成形型11の外層を形成し、これにより成形型10がゾルゲル成形物であるレプリカ成形型11から容易に離型できる。これは、かかる官能基が反応性に乏しく、比較的嵩高なものであるため、ゾルゲル材料が重合する際に外向きに配向し易いことに起因すると考えられる。
そして、このレプリカ成形型11は、外向きに配向された官能基が外層を形成しているため、金(Au)，白金(Pt)などの離型膜を本質的に必要とせず、他のゾルゲル材料20に対する良好な離型性が得られ、これによりレプリカの製造を容易、かつ、円滑に行える。
そして、このようにして多数のレプリカ成形型11を製造し、次いで、これらのレプリカ成形型11により成形されたゾルゲル成形物は、グレーティングレンズとしても利用できるものである。
【００２８】
（変形例）
成形型10としては、図１および図２に示すレプリカ成形型11以外にも、成形面14の表面形状を適宜選択することにより、図３〜図５に示すレプリカ成形型31，41，51を成形できる。（なお、図３〜図５中の19は、前掲の図１および図２中の19と同様、石英ガラス等により形成された平板状の基板である。）
【００２９】
図３に示すレプリカ成形型31は、図１および図２に示す成形型10の成形面14に溝16を格子状に設けることにより、ゾルゲル材料20の表面に交差格子が成形されている。また、図４に示すレプリカ成形型41は、図１および図２に示す成形型10の成形面14に凹状の球面を設けることにより、ゾルゲル材料20の表面に凸状の球面が多数形成されている。そして、図５に示すレプリカ成形型51は、図１および図２に示す成形型10の成形面14に断面半円状の溝を平行に設けることにより、ゾルゲル材料20の表面に凸状の円弧面が多数形成されている。
【００３０】
そして、レプリカ成形型31を成形するための成形型は、成形面に略四角錐状の凹部がマトリクス状に多数形成されている。また、レプリカ成形型41を成形するための成形型は、成形面に球状の凹部がマトリクス状に多数形成されている。さらに、レプリカ成形型51を成形するための成形型は、成形面に略断面半円状の溝が平行に多数形成されている。
なお、上記レプリカ成形型31，41，51も、グレーティングレンズとしても利用できるものである。
【００３１】
【実施例】
次に、基材，離型膜，緩衝層等の材質，膜厚，成膜方法や、緩衝層の有無を変えて複数種類のマスター成形型を試作し、これらの成形型によりゾルゲル成形物を製造した。
そして、これらの成形型における離型性の評価，再現性の評価および総合評価を表１にまとめたので説明するとともに評価する。
【００３２】
【表１】
0003751778.tif 000002
【００３３】
なお、各成形型の基材としては、第１の基材および第２の基材を選択的に用いた。
すなわち、第１の基材は、耐フッ酸性が高い金属膜を成膜した石英ガラスを用意し、この金属膜に対してフォトレジスト工程を経て微細な穴開け加工を施した後、フッ酸水溶液内において所定時間エッチングし、次いで金属膜を除去した。このような第１の基材は、表面に微細な凹凸が多数形成されている。
【００３４】
一方、第２の基材は、石英ガラス製の保持体に反射タイプの回析格子(樹脂製)が設けられた市販品を用いた。この市販品は、ドライエッチング，干渉露光等の適宜な方法により表面に微細凹凸が形成されたガラス板を用意すると共に、石英ガラス保持体上にエポキシ樹脂を塗布しておき、エポキシ樹脂に前記ガラス板の微細凹凸を転写して回析格子が設けられたレプリカを製作し、このレプリカの表面をアルミニウム(Al)層および酸化物による保護層により被覆したものである。
【００３５】
また、表１中、離型性の評価は、成形型をゾルゲル材料に対して一定の圧力で一定時間押圧させた後、ゾルゲル材料から成形型が容易、かつ、迅速に離型できることを調査し、「○……良好，△……可，×……不可」の三段階に評価した。更に、再現性の評価は、成形型の成形面に設けられた凹部の形状，寸法と、ゾルゲル成形物の表面に形成された回析格子や球面の形状，寸法とを比較し、「○……良好，△……可，×……不可」の三段階に評価した。
そして、総合評価は、離型性，再現性以外にも、例えば離型膜の成膜容易性や耐久性，耐食性，耐熱性等を考慮し、「○……良好，△……可，×……不可」の三段階に評価した。
【００３６】
（例１）
第１の基材に対して、スパッタ法により緩衝層として膜厚10μｍのスズをドープした酸化インジュウム(ITO)薄膜を成膜した後、この薄膜上に、離型膜として膜厚20ｎｍの金(Au)薄膜をスパッタ法により成膜して成形型を得た。この成形型は、表面が金色であり、蛍光灯に翳すとスズをドープした酸化インジュウム(ITO)薄膜および金(Au)薄膜を透過して蛍光灯を視認できた。
この成形型を用いてゾルゲル成形物である平板マイクロレンズを成形した。
【００３７】
平板マイクロレンズの材料としては、ソーダライムガラス製の基板と、この基板に塗布された膜厚30μｍのゾルゲル材料とから構成されている。ここで、ゾルゲル材料は、エチルアルコールを用いてフェニルトリエキトキシシランおよびジメチルジエトキシシランを希釈してから、酸水溶液により加水分解してコーティング液を得た後、このコーティング液を熱処理によりゾルゲル化させている。
【００３８】
この例１においては、予め成形型の成形面を顕微鏡により観察しておき、ゾルゲル材料に対して成形型の成形面を押し付けると共に、ホットプレート上において30分間200℃まで加熱することによりゾルゲル材料を硬化させた後、ゾルゲル材料を自然空冷させてから成形型を離型させることにより、平板マイクロレンズを製造する工程を２回繰り返した。この成形型は、第１の基材の表面形状に基づいて、平板マイクロレンズの表面に凸レンズ状の球面を多数形成する。
この際、成形型は、ゾルゲル材料から容易、かつ、迅速に離型できた。
【００３９】
そして、１回目および２回目の平板マイクロレンズ製造後に、それぞれ成形型の成形面を顕微鏡により観察し、平板マイクロレンズ製造前の状態と比較したが、異常は認められず、離型膜の剥離，転写は皆無であった。
また、この例１において、１回目および２回目の平板マイクロレンズに形成された球面は、それぞれ高さ寸法が17μｍ，焦点距離が約220μｍ(波長633nm)であった。すなわち、１回目および２回目の平板マイクロレンズは、平面形状に違いが認められなかった。
従って、この例１は、離型性の評価，再現性の評価および総合評価が“○”となっている。
【００４０】
（例２）
第２の基材に設けられている回析格子に対して、反応性スパッタ法により緩衝層となるクロム(Cr)薄膜を成膜した。この際、酸素プラズマにより回析格子の最表面が洗浄されて酸化物薄膜層となると共に、クロム(Cr)が酸化される。従って、酸化物状態で接合するクロム(Cr)と酸化物薄膜層とを介して、クロム(Cr)薄膜が回析格子に対して強固に付着した。
次に、真空下において、クロム(Cr)薄膜上に、離型膜として金(Au)薄膜を連続成膜して成形型を得た。この際、真空下であるため、離型膜である金(Au)がクロム(Cr)薄膜に対して強固に付着した。
【００４１】
そして、メチルトリエトキシシランを主成分とするゾルゲル材料に対して、成形型の成形面を押し付けるプレス工程を30回繰り返し、回析格子が転写されたゲル膜を多数得た。この際、成形型は、離型膜の剥離，転写は皆無であり、かつ、ゾルゲル材料から容易、かつ、迅速に離型できた。
次に、これらのゲル膜に350℃の熱処理を加えた後、反射率82％(波長1550nm)の金(Au)反射コートをスパッタ法により成膜してゾルゲル成形物を得た。
【００４２】
そして、これらのゾルゲル成形物について、回析効率の測定および顕微鏡による観察を行った。
回析効率の測定は、波長可変レーザー光源より得た1550nmのレーザー光を回折格子に入射させ、その回折光強度をフォトディテクターにより測定すると共に、回折格子への入射光量を同じフォトディテクターにより測定し、両者を比較することで回折効率を評価した。
その結果、成形型の一次回折光の回析効率が61％(波長1550nm)であるのに対して、ゾルゲル成形物の回折格子の一次回折光の効率は58％〜75％(波長1550nm)であり、再現良く転写されていることが判った。
【００４３】
一方、顕微鏡による観察の結果、回折格子のピッチは、成形型が601本／mmであるのに対して、ゾルゲル成形物は599〜602本／mmであり、精度良く転写されていることが判った。
従って、この例２においても、離型性の評価，再現性の評価および総合評価が“○”となっている。
【００４４】
（例３）
第２の基材に設けられている回析格子に対して、緩衝層を設けずに反応性スパッタ法により金(Au)薄膜を成膜した成形型を用い、例１と同様に、平板マイクロレンズを複数回数成形した。
この成形型は、平板マイクロレンズの成形にあたって、１回目から数十回目までは良好な離型性および再現性を維持できたが、数十回目以降に、金(Au)薄膜が、第２の基材に予め設けられている保護層(緩衝層)の“アルミニウム(Al)層および酸化物層”から一部剥離して平板マイクロレンズに付着し、離型性が大幅に低下した。
【００４５】
数十回以降に製造された平板マイクロレンズに対して、表面に付着した金(Au)薄膜を覆うように、反射防止コート（多孔質シリカ(SiO2)膜）を成膜し、洗浄したところ、反射防止コートが金(Au)薄膜と共に剥離し、平板マイクロレンズとして使用できなくなった。
また、金(Au)薄膜が一部剥離した成形型を用いてプレス成形したところ、離型性が著しく低下して離型困難となり、力ずくで成形型および平板マイクロレンズを引き剥がしたところ、ゾルゲル材料が成形型の成形面に一部付着し、不良品が発生した。
従って、この例３は、離型性の評価，再現性の評価および総合評価が“△”となっている。
【００４６】
（例４）
第１の基材に対して、スパッタ法により緩衝層を設けずに離型膜として膜厚20ｎｍの金(Au)薄膜を成膜した成形型を用い、例１と同様に平板マイクロレンズを複数回数成形した。
この成形型は、平板マイクロレンズの成形にあたって、１回目から数回目までは良好な離型性および再現性を維持できたが、10回目以降に金(Au)薄膜が一部剥離して平板マイクロレンズに付着し、離型性が大幅に低下した。
【００４７】
この際、平板マイクロレンズは、表面に多数形成された球面の高さ寸法が17μｍであるため再現性を維持できたものの、金(Au)薄膜が付着したため、透過性が低下し、レンズとして所望の機能を発揮できない。
さらに、金(Au)薄膜が一部剥離した成形型を用いて、連続して平板マイクロレンズを成形したところ、離型性が著しく低下して離型困難となり、力ずくで成形型および平板マイクロレンズを引き剥がしたところ、ゾルゲル材料が成形型の成形面に一部付着し、不良品が発生した。
従って、この例４は、離型性の評価，再現性の評価および総合評価が“△”となっている。
【００４８】
（例５：比較例）
第１の基材を成形型として用い、例１と同様に平板マイクロレンズを複数回数成形した。この成形型は、離型性が得られず、力ずくで成形型および平板マイクロレンズを引き剥がしたところ、ゾルゲル材料が成形型の成形面に一部付着し、不良品が発生した。
従って、この例５は、離型性の評価，再現性の評価および総合評価が“×”となっている。
【００４９】
以上の結果から、例１〜例４は、成形型の成形面に離型膜として金(Au)薄膜が設けられているため、ゾルゲル成形物の成形回数が一定回数以下であれば、例５(比較例)に比して、ゾルゲル材料に対する良好な離型性を得られることが判る。
また、例１および例２は、成形型の基材および離型膜間に緩衝層が設けられているため、例３に比較して、金(Au)薄膜の耐久性が優れていることが判る。
特に、例２は、緩衝層としてクロム(Cr)薄膜が成膜されているため、例１に比較して、金(Au)薄膜の耐久性が更に優れている。
【００５０】
（例６）
この例６は、前記例２の手順で得られたゾルゲル成形物であって、金(Au)反射コートを成膜しない製品を成形型(レプリカ成形型)として使用した例である。
即ち、例２の成形型で得られたゾルゲル成形物(但し、金反射コートを成膜しないゾルゲル成形物)を成形型として使用し、前記例２と同じ組成のゲル膜(メチルトリエトキシシランを主成分とするゲル膜)に対してプレス成形を実施した。プレス成形後、スタンパーは容易に離型でき、もとの回折格子と同様のピッチ(600本／mm)を持つ回折格子が転写されていた。
【００５１】
こうして得られた回折格子に対し、前記例２と同様に金の反射コートを蒸着し、回折効率を評価したところ、一次回折光の効率は、例２で得られた回折格子と同様、60％(波長1550nm)であり、再現良く転写されていることが判った。
この例６においても、前記例１〜例５と同様、“離型性の評価，再現性の評価および総合評価”をしたところ、いずれも“○”であった。
【００５２】
なお、本発明は、前記例1〜例４および例６に限定されるものでなく、前述した実施形態において例示した、ゾルゲル成形物，成形面，離型膜，基材，緩衝層，凹部，官能基等の材質，形状，寸法，形態，数，配置個所，物性，膜厚，成膜方法，比率等は、本発明を達成できるものであれば任意であり、限定されない。
【００５３】
【発明の効果】
以上、説明したように、本発明のゾルゲル成形物の製造方法によれば、請求項１に記載したように、ゾルゲル材料に対して接触する成形面に金(Au)，白金(Pt)，銅(Cu)，パラジウム(Pd)，銀(Ag)，ニッケル(Ni)およびこれらの合金のうちのいずれかである離型膜が設けられているマスター成形型をゾルゲル材料に押圧することにより成形してなるゾルゲル成形物を、ゾルゲル材料を成形するためのレプリカ成形型として用いるため、高精度なレプリカ成形型によりゾルゲル材料を成形することができるので、従来に比較して製造工程の高速化、不良発生率の低下及び寸法精度の向上を達成できることになる。
【００５４】
また、本発明のゾルゲル成形物の製造方法は、請求項２に記載したように、マスター成形型は、離型膜を保持する基材を有し、該基材が樹脂，ガラス，金属およびこれらの結合物のうちのいずれかであるため、このようなマスター成形型をゾルゲル材料に押圧することにより成形してなるゾルゲル成形物は、高精度なレプリカ成形型として利用できる。
【００５５】
また、本発明のゾルゲル成形物の製造方法は、請求項３に記載したように、マスター成形型においては、基材と離型膜との間に金属および／または無機酸化物からなる緩衝層が設けられているため、このようなマスター成形型をゾルゲル材料に押圧することにより成形してなるゾルゲル成形物は、高精度なレプリカ成形型として利用できる。
【００５６】
また、本発明のゾルゲル成形物の製造方法は、請求項４に記載したように、マスター成形型においては、離型膜の表面に凹部が設けられているため、寸法精度の高い読取専用光学式情報記録媒体(CD-ROM)，平板マイクロレンズあるいはグレーティング素子等の各種光学部品を製造するためのレプリカ成形型を得ることができる。
【００５７】
また、本発明のゾルゲル成形物の製造方法は、請求項５に記載したように、前記ゾルゲル成形物は、前記ゾルゲル材料に対して離型性を示す官能基を有しているため、本質的に白金(Pt)，金(Au)等の離型膜を必要とせず、ゾルゲル材料の成形型として利用できる。
【００５８】
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係る実施形態を示す斜視図である。
【図２】  成形型およびゾルゲル成形物を示す模式断面図である。
【図３】  ゾルゲル成形物の変形例を示す斜視図である。
【図４】  ゾルゲル成形物の他の変形例を示す斜視図である。
【図５】  ゾルゲル成形物のその他の変形例を示す斜視図である。
【符号の説明】
10  成形型（マスター成形型）
11  レプリカ成形型（ゾルゲル成形物）
13  基材
14  成形面
15  離型膜
16  溝
18  緩衝層
【図１】
0003751778.tif 000003
【図２】
0003751778.tif 000004
【図３】
0003751778.tif 000005
【図４】
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【図５】
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