(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）スチレン、α−メチルスチレン、スチレンスルホン酸、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ポリビニルベンゼン、アルキル化スチレン、２−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、ブタジエン、クロロプレン及びイソプレンから成る群から選ばれるエチレン性不飽和単量体；及び、
（Ｂ）エチレン性不飽和単量体の早すぎる重合を防止するための、阻害に有効な量である、エチレン性不飽和単量体の重量を基準にして１ｐｐｍから２０００ｐｐｍの、下記（ａ）及び（ｂ）を含む混合物：
（ａ）以下の構造式；
【化１】
0003854149.tif 000021
ここで、Ｒ1及びＲ4は水素、アルキル及びヘテロ原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれ、そしてＲ2及びＲ3はアルキル及びヘテロ原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれ；そしてＸ1及びＸ2は、（１）ハロゲン、シアノ、ＣＯＯＲ7、−ＳＣＯＲ7、ＯＣＯＲ7、ここでＲ7はアルキル又はアリール、アミド、−Ｓ−Ｃ6Ｈ5、カルボニル、アルケニル又は１個から１５個の炭素原子を有するアルキルである；から成る群から独立に選ばれるか、又は、（２）両者が窒素と共に炭素原子からなる環構造を形成する；
を有する、少なくとも一つの安定なヒンダードニトロキシル化合物；及び、
（ｂ）以下のキノン；
【化２】
0003854149.tif 000022
ここで、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は水素、アルキル、アミノ、アルコキシ、アリール、シアノ、ハロゲン、ヒドロキシル、ニトロ、ＳＯ2Ａｒ、ＣＯＯＨ、ＳＯ3Ｈ、ＣＯＯＲ12、ＮＨＣＯＲ12、ＯＣＯＲ12、ここで、Ｒ12はアルキルである；から成る群から独立に選ばれるか、又は、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11のいずれかが、隣接するＲ基と共に一つ又はそれより多くの環構造を形成する；からなる群から選ばれる少なくとも一つの阻害剤；
を含んで成る組成物。
【請求項２】
安定なヒンダードニトロキシル化合物が以下の構造式：
【化３】
0003854149.tif 000023
ここで、Ｒ1及びＲ4は水素、アルキル及びヘテロ原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれ、そしてＲ2及びＲ3はアルキル及びヘテロ原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれ；そして
【化４】
0003854149.tif 000024
の部分は５、６又は７員のヘテロ環を形成するのに必要な炭素原子群を表す；
を有するものである、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
安定なヒンダードニトロキシル化合物が、４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ、４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ、又は４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシと４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシのブレンド物である、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
エチレン性不飽和単量体がスチレンである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11が水素及びアルキルから成る群から独立に選ばれるか、又は、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11のいずれかが、隣接するＲ基と共に一つ又はそれより多くの環構造を形成する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
キノンが、２，６−ジ−ｔ−ブチル−１，４−ベンゾキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチル−１，４−ベンゾキノン及びそれらの混合物から成る群から選ばれる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
キノンが、２，５−ジ−ｔ−ブチル−１，４−ヒドロキノンとの混合物を構成している、請求項６記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（発明の背景）
１．発明の属する技術分野
本発明は、エチレン性（ethylenically）不飽和単量体の重合を阻害するための、少なくとも一つの安定なニトロキシドフリーラジカル（free radical）化合物、及び、少なくとも一つのキノン及び（又は）ヒドロキノン（以後、キノン／ヒドロキノン）の組合せの使用に関するものである。
【０００２】
２．背景技術
多くのエチレン性不飽和単量体は、それらの製造、処理、取扱い、貯蔵及び使用の種々の段階で望ましくない重合を引起こす。特にやっかいな問題は、そのような単量体の生産プロセスの精製段階での重合に起因する装置の汚損である。それらの精製過程での熱重合のような重合は、精製において使用される装置内又は装置上への重合体のデポジション（deposition）によって単量体の損失と生産効率の低下につながるため、そのデポジット（deposit）を時々除去しなければならない。更に、溶解性重合体の形成は、単量体の損失、つまりより低い収率と生産され得るあらゆるタール分の粘度上昇につながる。そしてタールの処理には、残留する単量体の除去のためにより高い温度と仕事（エネルギーコスト）が必要になる。
【０００３】
エチレン性不飽和単量体の制御不能で望ましくない重合を阻害するために、広範な化合物が提案され使用されている。しかしながら、これらの化合物は完全に満足がいくものではない。従って、そのような単量体の生産、不純物からそれらを精製又は分離する蒸留プロセス過程、並びに輸送及び貯蔵過程で、それらの重合を阻害するための改良された組成物を求める技術が、実質的に必要とされている。
【０００４】
ヒンダードニトロキシル化合物が、スチレン、アクリル酸、メタクリル酸等のような不飽和単量体のフリーラジカル重合に対して非常に活性な阻害剤であることが知られている。キノン類及びヒドロキノン類も同様の能力を有することが知られている。
【０００５】
ＷａｎｇらはＬａｎｚｈｏｕ  Ｄａｘｕｅ  Ｘｕｅｂａｏ，Ｚｉｒａｎ  Ｋｅｘｕｅｂａｎ２３（３）：１３８−１４０（１９８７）で、アクリル酸とスチレン単量体の重合に及ぼす安定なニトロキシドフリーラジカル、ジ−ｔ−ブチルニトロキシドの阻害効果を３つの方法、即ち、分離法（separation method）、再沸法（reboiling method）及び拡張法（expanding method）で評価した。これらの結果により、ジ−ｔ−ブチルニトロキシド自体が阻害効果を有すること、そして、それをヒドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノンとブレンドすると、阻害効果が通常の阻害剤より良くなることが示された。
【０００６】
米国特許第３，１６３，６７７号公報には、下式：
【０００７】
【化９】
0003854149.tif 000002
【０００８】
ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は各々、１個から１５個の炭素原子を有するアルキルラジカルである（本明細書で使用される表記Ｎ−Ｏ*は安定なフリーラジカルを意味し、アステリスクは不対電子を表す）；
のＮ，Ｎ，Ｏ−トリ置換ヒドロキシルアミン類及びＮ，Ｎ−ジ置換ニトロキシド類が開示されている。これらのＮ，Ｎ，Ｏ−トリ置換ヒドロキシルアミン類は、安定なフリーラジカルであり、そして重合阻害剤として有用であるといわれているＮ，Ｎ−ジ置換ニトロキシド類を作るために使用できる。
【０００９】
米国特許第３，３３４，１０３号公報には、ニトロキシド類が、ニトロキシド基の窒素原子が脂肪族基の三級以外の炭素に結合している（すなわち、窒素原子がヘテロ環核（heterocyclic nucleus）の一部を形成する）、対応するヘテロ環アミンから調製できることが開示されている。これらのニトロキシド類は、米国特許第３，１６３，６７７号公報のＮ，Ｎ−ジ置換ニトロキシド類について開示されているものと同様の、有用な性質を有するといわれている。
【００１０】
米国特許第３，３７２，１８２号公報には、他の方法では容易に得られない、非常に多くの種類のＮ，Ｎ−ジ置換された安定なフリーラジカルであるニトロキシド類が、不活性反応媒体中で、Ｏ−Ｃ結合の切断を受け易い実質的にあらゆるヒドロキシルアミン、例えば、トリ−ｔ−ブチルヒドロキシルアミンを熱分解することを含む、簡単で便利なプロセスによって調製できることが開示されている。
【００１１】
英国特許第１，１２７，１２７号公報には、次式：
【００１２】
【化１０】
0003854149.tif 000003
【００１３】
ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4はアルキル基であり、そして、窒素に結合している炭素原子上の残りの原子価には水素が全く結合していない。また、Ｒ1からＲ4又は窒素によって充足されていない残りの二つの原子価も、環の一部を形成し得る（例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシ−ピペリジン−１−オキシル）；
の本質的骨格構造を有するニトロキシドを添加することによって、アクリル酸を重合に対して安定化し得ることが開示されている。
【００１４】
米国特許第３，４２２，１４４号公報には、次式：
【００１５】
【化１１】
0003854149.tif 000004
【００１６】
ここで、Ｒは、三級アルキル、アリール、アルカリール、ハロアリール、カルボキシアリール、アルコキシアリール、アルキルチオアリール、ピリジル及びジアルキルアミノアリールから成る群から選ばれ、そしてＲ’は三級アルキルである；
の安定なフリーラジカルニトロキシド類が開示されている。これらのニトロキシド類は、フリーラジカルのカウンティング（counting）、及び、酸化やフリーラジカル重合の阻害の両者において、反応性フリーラジカルの捕捉剤として有用であるといわれている。
【００１７】
米国特許第３，４９４，９３０号公報には、フリーラジカル反応の開始剤、フリーラジカルの収集剤、重合阻害剤又は酸化防止剤として使用されるニトロキシドタイプのフリーラジカルが開示されている。それらは、ブリッジ（bridge）の一つがニトロキシドラジカル基だけを含む窒素系二環化合物によって、特に、アザ−９−ビシクロ（３，３，１）ノナノン−３−オキシル−９によって及びアザ−９−ビシクロ（３，３，１）ノナンオキシル−９によって構成されている。
【００１８】
米国特許第３，８７３，５６４号公報には、酵素触媒反応下においてフリーラジカル官能性（functionality）の環境を変化させるところの、安定なフリーラジカル官能性を有する安定なフリーラジカル化合物を酵素含有媒体に添加することによって酵素を評価するための化合物及び方法が開示されている。環境変化によって影響を受ける電子スピン共鳴スペクトルにおける変化を追跡することにより、酵素のタイプと活性を決定することができる。
【００１９】
有用であると判明した化合物は、通常、酵素の影響を受け易い（enzyme labile）官能性を有する安定なニトロキシドラジカルである。その他の化合物には、酵素の影響を受け易い官能性を有する鎖によって結合された環を含む二つの環状ニトロキシドが含まれる。
【００２０】
米国特許第３，９６６，７１１号公報には、４位が１価又は４価のラジカルで置換された、２，２，７，７−テトラアルキル−及び２，７−ジスピロアルキレン−５−オキソ−１，４−ジアザシクロヘプタン類が、有機重合体の強力な光安定剤（light-stabilizer）であることが教唆されている。それらは、Ｎ−アルキル化として知られる反応によって合成される際の出発物質であり得るそれらの４位無置換の同族体よりも、より高い相溶性を有するといわれている。４位での好ましい置換基は、アルキル、アルキレン、アルケニル、アラールキル及びエステルアルキル基である。イミダゾリジン類（imidazolidines）から過酸化水素又は過カルボン酸を用いた酸化によって得られる１−ニトロキシル類も、良好な光安定剤であるといわれている。
【００２１】
米国特許第４，１８２，６５８号公報には、停電などの緊急状態に曝された蒸留装置内における高温での蒸留過程で、容易に重合する可能性があるビニル芳香族化合物の重合を阻害する方法が開示されている。この方法は、ビニル芳香族化合物中への高い溶解性を有しそして長期的な効率を保持する補助的な重合阻害剤を、重合を防ぐのに十分な量で、従来の蒸留装置の各々の蒸留容器内に強制的に供給すること（force-feeding）を含む。
【００２２】
欧州特許出願第０１７８１６８Ａ２号公報には、α，β−エチレン性不飽和モノカルボン酸の蒸留回収過程で、ニトロキシドフリーラジカルを使用することによって、その重合を阻害する方法が開示されている。
【００２３】
米国特許第４，６６５，１８５号公報には、少量の金属イオン触媒の存在下、過酸化水素を使用して、適度な温度にて短時間でアミンを酸化することにより、ニトロキシルを高収率、高純度で得ることにより、立体障害性アミン類（sterically hindered amines）のニトロキシル類を効率的に調製するためのプロセスが開示されている。
【００２４】
米国特許第５，２５４，７６０号公報には、少なくとも一つの芳香族ニトロ化合物と一緒に、少なくとも一つの安定なニトロキシル化合物が存在することによって、蒸留又は精製過程でのスチレンのようなビニル芳香族化合物の重合が非常に効果的に阻害されることが教唆されている。
【００２５】
米国特許第５，５４５，７８２号公報及び第５，５４５，７８６号公報には、幾分かの酸素と組合せたニトロキシル阻害剤が、ビニル芳香族単量体類の製造プロセスにおいてそれらの早すぎる重合（premature polymerization）を減少させることが開示されている。これらのニトロキシル阻害剤と併用される空気は少量であっても、単量体に対して非常に長い阻害時間をもたらすといわれる。
【００２６】
欧州特許出願第０７６５８５６Ａ１号公報には、アクリル酸の精製又は分離のための蒸留プロセス並びにその輸送及び貯蔵においてもアクリル酸の重合が阻害される、安定化されたアクリル酸組成物が開示されている。この組成物は三成分、即ち、（ａ）アクリル酸、（ｂ）安定なニトロキシルラジカル及び（ｃ）少なくとも一つの移動可能な水素を有するジヘテロ置換（dihetero-substituted）ベンゼン化合物（例えば、ヒドロキノンのモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ）のようなキノン誘導体）を含む。蒸留プロセス、輸送及び貯蔵の過程で、成分（ｂ）及び（ｃ）は、重合を阻害する量で存在する。蒸留プロセスの過程で、成分（ｂ）及び（ｃ）と共に好ましくは酸素（ｄ）が添加される。本明細書に従えば、好適なニトロキシドフリーラジカル化合物の例には、ジ−ｔ−ブチルニトロキシド；ジ−ｔ−アミルニトロキシド；２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；４−ジメチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；４−エタノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；３−アミノ−２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；２，２，５，５−テトラメチル−１−オキサ−３−アザシクロペンチル−３−オキシ；２，２，５，５−テトラメチル−１−オキサ−３−ピロリニル−１−オキシ−３−カルボン酸；及び、２，２，３，３，５，５，６，６−オクタメチル−１，４−ジアザシクロヘキシル−１，４−ジオキシが含まれる。
【００２７】
ＷＯ９７／４６５０４号公報は、（Ａ）ビニル基を含有する単量体と、（Ｂ）ビニル基を含有する単量体の精製又は蒸留過程でのそれらの早すぎる重合を阻害する、活性な量の混合物を含有する物質混合物に関するものであり、そしてそれは、（ｉ）混合物（Ｂ）の合計に対して０．０５重量％と４．５重量％の間の、少なくとも一つの、α位炭素原子上に水素原子を持たない二級アミンのＮ−オキシル化合物と、（ｉｉ）混合物（Ｂ）の合計に対して９９．９５重量％と９５．５重量％の間の、少なくとも一つのニトロ化合物を含有する。また、本公報は、単量体の早すぎる重合を阻害するプロセス、及び、単量体の早すぎる重合を阻害するための混合物（Ｂ）の使用も開示している。
【００２８】
ＷＯ９８／０２４０３号公報は、フェノール及びヒドロキシルアミンの混合物を使用することにより、ビニル芳香族化合物の重合を阻害することに関するものである。本プロセスは、エチルベンゼンの脱水素流出液凝縮系と、スチレン−水分離器のベントガス（vent gas）圧縮系において有用であり、そして、本プロセスにより単量体の重合が効果的に阻害され、凝縮器及び圧縮装置上での重合体被覆形成が防止され、その結果、装置表面の洗浄の必要性が少なくなると述べられている。
【００２９】
ＷＯ９８／１４４１６号公報には、スチレンのようなビニル芳香族単量体の重合が、安定なヒンダード（hindered）ニトロキシルラジカル及びオキシム化合物の添加によって阻害されることが開示されている。
【００３０】
ＷＯ９８／２５８７２号公報は、（Ａ）ビニル基を含有する化合物；（Ｂ）ビニル基を含有する化合物の早すぎる重合を阻害し、かつ、（ｉ）少なくとも一つの、α位炭素原子上に水素原子を全く持たない二級アミンのＮ−オキシル化合物；及び（ｉｉ）少なくとも一つの鉄化合物；を含有する活性な量の混合物、（Ｃ）任意にニトロ化合物；及び（Ｄ）任意に安定助剤（co-stabilizer）を含有する物質混合物に関するものである。また、本公報は、ビニル基を含有する化合物（Ａ）の早すぎる重合を阻害するためのプロセス、及び、ラジカル重合可能な化合物の早すぎる重合を阻害し、そして、ラジカルの有害な効果に対して有機材料を安定化するために、任意にニトロ化合物（Ｃ）及び（又は）安定助剤（Ｄ）を混合した（Ｂ）を使用することも開示している。
【００３１】
ＣＳ−２６０７５５  Ｂ１号公報は、オレフィンの安定化剤としての４−置換−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンニトロキシル類の調製に関するものである。
【００３２】
ＳＵ−３３４８４５  Ａ１号公報は、与えられた式のイミノキシルラジカル阻害剤を用いて、アクリル酸オリゴエステル類のラジカル重合を阻害することに関するものである。
【００３３】
ＳＵ−４７８８３８号公報は、キノンを含む二成分系の重合阻害剤を用いて、アクリル酸オリゴエステル類のラジカル重合を阻害し、そしてオリゴマー状ペルオキシド類を防ぐことに関するものである。
【００３４】
ＦＲ−２，７６１，０６０号公報は、エチルベンゼンの脱水素によるスチレンの生産過程での早すぎる重合を、プロセス流出物中に、オキシル−テトラメチルピペリジン誘導体系のラジカル阻害剤を注入することによって防止することに関するものである。
【００３５】
これらの文献は、その全文が参考文献として本明細書に取り込まれる。
【００３６】
（発明の概要）
本明細書で使用される略語ＴＥＭＰＯは２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシのことである。このように、４−アミノ−ＴＥＭＰＯは４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシであり；４−ヒドロキシ−ＴＥＭＰＯは４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシであり（当業界ではＨＴＥＭＰＯとしても知られている）；４−オキソ−ＴＥＭＰＯは４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシであり；その他も同様である。
【００３７】
上記の通り、（ａ）ヒンダードニトロキシル化合物、及び、（ｂ）キノン類及び（又は）ヒドロキノン類は各々個別に、不飽和単量体のフリーラジカル重合の非常に活性な阻害剤であることが知られている。本発明は、少なくとも一つの安定なヒンダードニトロキシル化合物（例えば、４−アミノ−ＴＥＭＰＯ又は４−オキソ−ＴＥＭＰＯ）と少なくとも一つのキノン／ヒドロキノンの混合物が、定常状態の動的試験システム（steady state dynamic testing system）において、供給を停止した後の遅い重合速度によって示されるように、どちらかの成分単独よりも良い性能を供することを発見したことに関係する。
【００３８】
より具体的には、本発明は、エチレン性不飽和単量体の早すぎる重合を阻害するための方法であって、
（Ａ）以下の構造式：
【００３９】
【化１２】
0003854149.tif 000005
【００４０】
を有する、少なくとも一つの阻害剤；及び
（Ｂ）オルトキノン、オルトヒドロキノン、パラキノン、パラヒドロキノン及びそれらの誘導体から成る群から選ばれる少なくとも一つの阻害剤；
を含む有効量の混合物を、該単量体に添加することを含む、上記早すぎる重合を阻害するための方法に関する。
【００４１】
式（Ｉ）において、Ｒ1及びＲ4は水素、アルキル及びヘテロ原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれ、そして、Ｒ2及びＲ3はアルキル及びヘテロ原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれ；そして、Ｘ1及びＸ2は、（１）ハロゲン、シアノ、ＣＯＯＲ7、−Ｓ−ＣＯＲ7、−ＯＣＯＲ7、（ここでＲ7はアルキル又はアリール）、アミド、−Ｓ−Ｃ6Ｈ5、カルボニル、アルケニル又は１個から１５個の炭素原子を有するアルキルである：から成る群から独立に選ばれるか、又は、（２）両者が窒素と共に、好ましくは５、６又は７員の環構造を形成する。
【００４２】
本発明は、エチレン性不飽和単量体の早すぎる重合を阻害する方法であって、好ましくは、
Ａ）  以下の構造式：
【００４３】
【化１３】
0003854149.tif 000006
【００４４】
ここで、Ｒ1及びＲ4は水素、アルキル及びヘテロ原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれ、そして、Ｒ2及びＲ3はアルキル及びヘテロ原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれ；そして
【００４５】
【化１４】
0003854149.tif 000007
【００４６】
の部分は５、６又は７員のヘテロ環を形成するのに必要な原子群を表す；
を有する少なくとも一つの阻害剤；及び、
Ｂ）オルトキノン、オルトヒドロキノン、パラキノン、パラヒドロキノン及びそれらの誘導体から成る群から選ばれる少なくとも一つの阻害剤；
を含む有効量の混合物を、該単量体に添加することを含む、上記早すぎる重合を阻害する方法に関する。上記の環を完成させるために必要な原子群は好ましくは炭素原子であるが、酸素、窒素、燐又は硫黄のような複素原子も存在してよい。
【００４７】
ニトロキシル化合物及びキノン／ヒドロキノンの組合せの有効量は、具体的にはエチレン性不飽和単量体の重量を基準にして約１ｐｐｍから２０００ｐｐｍであるが、使用条件に応じてこの範囲外の量でも使用してよい。ニトロキシル化合物及びキノン／ヒドロキノンの組合せの量は、好ましくはエチレン性不飽和単量体の重量を基準にして約５ｐｐｍから約１０００ｐｐｍである。
【００４８】
他の態様において、本発明は、
（ａ）エチレン性不飽和単量体；及び
（ｂ）エチレン性不飽和単量体の早すぎる重合を防ぐための、阻害に有効な量の以下の混合物：
ｉ）以下の構造式：
【００４９】
【化１５】
0003854149.tif 000008
【００５０】
を有する、少なくとも一つの阻害剤；及び、
ｉｉ）オルトキノン、オルトヒドロキノン、パラキノン、パラヒドロキノン及びそれらの誘導体から成る群から選ばれる少なくとも一つの阻害剤；
を含む組成物に関するものである。
【００５１】
式（Ｉ）において、Ｒ1及びＲ4は水素、アルキル及びヘテロ原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれ、そしてＲ2及びＲ3はアルキル及びヘテロ原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれ；そしてＸ1及びＸ2は、（１）ハロゲン、シアノ、ＣＯＯＲ7、−Ｓ−ＣＯＲ7、ＯＣＯＲ7、（ここで、Ｒ7はアルキル又はアリールである）、アミド、−Ｓ−Ｃ6Ｈ5、カルボニル、アルケニル又は１個から１５個の炭素原子を有するアルキルから成る群から独立に選ばれるか、又は、（２）両者が窒素と共に、環構造、好ましくは５，６，７員の環構造を形成する。
【００５２】
一つの好ましい態様において、本発明は、
（ａ）  エチレン性不飽和単量体；及び、
（ｂ）  エチレン性不飽和単量体の早すぎる重合を防止するための、阻害に有効な量の以下の混合物：
（ｉ）  成分（ｉ）及び（ｉｉ）の全重量を基準にして、１〜９９重量％の、少なくとも一つの、以下の構造式：
【００５３】
【化１６】
0003854149.tif 000009
【００５４】
を有する阻害剤；及びそれに対応する、
（ｉｉ）  ９９〜１重量％の、オルトキノン、オルトヒドロキノン、パラキノン、パラヒドロキノン及びそれらの誘導体、ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｘ1及びＸ2は上記の通りである；から成る群から選ばれる少なくとも一つの阻害剤；
を含む組成物に関するものである。
【００５５】
成分（ｉ）及び（ｉｉ）の好ましい量は、成分（ｉ）が１０〜９０重量％であり、そしてそれに対応して、成分（ｉｉ）が９０〜１０重量％であり；より好ましくは、成分（ｉ）が２０〜８０重量％であり、そしてそれに対応して、成分（ｉｉ）が８０〜２０重量％であり；そして最も好ましくは、成分（ｉ）が２０〜５０重量％であり、そして成分（ｉｉ）が５０〜８０重量％である。
【００５６】
（好ましい実施形態の説明）
上記の通り、一つの好ましい態様において、本発明はエチレン性不飽和単量体の早すぎる重合を阻害する方法であって、
Ａ）  以下の構造式：
【００５７】
【化１７】
0003854149.tif 000010
【００５８】
ここで、Ｒ1及びＲ4は水素、アルキル及びヘテロ原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれ、そして、Ｒ2及びＲ3はアルキル及び複素原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれ；そして
【００５９】
【化１８】
0003854149.tif 000011
【００６０】
の部分は５、６又は７員のヘテロ環を形成するのに必要な原子群を表す；
を有する少なくとも一つの阻害剤；及び、
Ｂ）オルトキノン、オルトヒドロキノン、パラキノン、パラヒドロキノン及びそれらの誘導体から成る群から選ばれる少なくとも一つの阻害剤；
を含む有効量の混合物を、該単量体に添加することを含んで成る、上記早すぎる重合を阻害する方法に関するものである。
【００６１】
従って、本発明の実施において採用され得るいくつかのタイプの環状ニトロキシドの内の一つは、以下の構造式によって表すことができる：
【００６２】
【化１９】
0003854149.tif 000012
【００６３】
ここで、Ｚ1、Ｚ2及びＺ3は、酸素、硫黄、二級アミン、三級アミン、種々の酸化状態の燐、及び、＞ＣＨ2、＞ＣＨＣＨ3、＞Ｃ＝Ｏ、＞Ｃ（ＣＨ3）2、＞ＣＨＢｒ、＞ＣＨＣｌ、＞ＣＨＩ、＞ＣＨＦ、＞ＣＨＯＨ、＞ＣＨＣＮ、＞Ｃ（ＯＨ）ＣＮ、＞ＣＨＣＯＯＨ、＞ＣＨＣＯＯＣＨ3、＞ＣＨＣＯＯＣ2Ｈ5、＞Ｃ（ＯＨ）ＣＯＯＣ2Ｈ5、＞Ｃ（ＯＨ）ＣＯＯＣＨ3、＞Ｃ（ＯＨ）ＣＨＯＨＣ2Ｈ5、＞ＣＮＲ5Ｒ6、＞ＣＣＯＮＲ5Ｒ6、＞ＣＨ＝ＮＯＨ、＞Ｃ＝ＣＨ−Ｃ6Ｈ5、＞ＣＦ2、＞ＣＣｌ2、＞ＣＢｒ2、＞ＣＩ2、＞ＣＰＲ13Ｒ14Ｒ15等、ここで、Ｒ5及びＲ6は水素、アルキル、アリール及びアシルから成る群から独立に選ばれ、そして、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15は、非共有電子、アルキル、アリール、＝Ｏ、ＯＲ16及びＮＲ17Ｒ18から成る群から独立に選ばれ、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18は、ハロゲン、アルキル及びアリールから成る群から独立に選ばれる；のような置換された又は置換されていない炭素原子群から成る群から独立に選ばれる。Ｒ5及び（又は）Ｒ6がアルキルの場合、それらはより低級アルキル（つまり、１個から４個の炭素原子を有するもの、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル及びそれらの異性体）であることが好ましい。
【００６４】
Ｒ5及び（又は）Ｒ6がアリールの場合、それらは６個から１０個の炭素原子を有するアリール、例えば、フェニル又はナフチルであることが好ましく、それらは更に、非障害性（non-interfering）置換基、例えば、低級アルキル基、ハロゲン等で置換されてもよい。
【００６５】
Ｒ5及び（又は）Ｒ6がアシルの場合、それらは以下の構造：
【００６６】
【化２０】
0003854149.tif 000013
【００６７】
ここで、Ｒ19はアルキル、アリール、ＯＲ20又はＮＲ20Ｒ21であり、更にＲ20及びＲ21はアルキル、アリール、又は、下記の基：
【００６８】
【化２１】
0003854149.tif 000014
【００６９】
ここで、Ｒ22はアルキル又はアリールである；
を有するアシルであることが好ましい。Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21又はＲ22がアルキルの場合、それらは１個から１５個の炭素原子を有するアルキルであることが好ましく、より好ましくは、上記の通りの１個から４個の炭素原子を有する低級アルキルである。Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21又はＲ22がアリールの場合、好ましくは、上記の通りの６個から１０個の炭素原子を有するアリールである。
【００７０】
本発明の実施において採用され得るいくつかのタイプの環状ニトロキシドの内の他の一つは、以下の構造式：
【００７１】
【化２２】
0003854149.tif 000015
【００７２】
ここで、Ｚ1及びＺ2は同一であっても異なっていてもよく、窒素、又は、＝Ｃ（Ｈ）−、＝Ｃ（ＣＨ3）−、＝Ｃ（ＣＯＯＨ）−、＝Ｃ（ＣＯＯＣＨ3）−、＝Ｃ（ＣＯＯＣ2Ｈ5）−、＝Ｃ（ＯＨ）−、＝Ｃ（ＣＮ）−、＝Ｃ（ＮＲ5Ｒ6）−、＝Ｃ（ＣＯＮＲ5Ｒ6）−等のような、置換された又は置換されていない炭素原子群であり、ここでＺ3、Ｒ5及びＲ6は上記の通りである；
によって表すことができる。
【００７３】
また、本発明の実施において採用され得る環状ニトロキシド類は５員環からも得られる。これらの化合物は以下の構造のものである：
【００７４】
【化２３】
0003854149.tif 000016
【００７５】
ここで、Ｚ2及びＺ3は同一であっても異なっていてもよく、硫黄、酸素、二級アミン、三級アミン、種々の酸化状態の燐、又は、＞ＣＨ2、＞ＣＨＣＨ3、＞Ｃ＝Ｏ、＞Ｃ（ＣＨ3）2、＞ＣＨＢｒ、＞ＣＨＣｌ、＞ＣＨＩ、＞ＣＨＦ、＞ＣＨＯＨ、＞ＣＨＣＮ、＞Ｃ（ＯＨ）ＣＮ、＞ＣＨＣＯＯＨ、＞ＣＨＣＯＯＣＨ3、＞ＣＨＣＯＯＣ2Ｈ5、＞Ｃ（ＯＨ）ＣＯＯＣ2Ｈ5、＞Ｃ（ＯＨ）ＣＯＯＣＨ3、＞Ｃ（ＯＨ）ＣＨＯＨＣ2Ｈ5、＞ＣＮＲ5Ｒ6、＞ＣＣＯＮＲ5Ｒ6、＞ＣＨ＝ＮＯＨ、＞Ｃ＝ＣＨ−Ｃ6Ｈ5、＞ＣＦ2、＞ＣＣｌ2、＞ＣＢｒ2、＞ＣＩ2、＞ＣＰＲ13Ｒ14Ｒ15等のような、置換された又は置換されていない炭素原子群であり、ここで、いくつかのＲ基は上記の通りである。
【００７６】
また、本発明の実施において採用され得る環状ニトロキシド類は、以下の構造を有することもできる：
【００７７】
【化２４】
0003854149.tif 000017
【００７８】
ここで、Ｚ4及びＺ5は同一であっても異なっていてもよく、窒素、又は、＝Ｃ（Ｈ）−、＝Ｃ（ＣＨ3）−、＝Ｃ（ＣＯＯＨ）−、＝Ｃ（ＣＯＯＣＨ3）−、＝Ｃ（ＣＯＯＣ2Ｈ5）−、＝Ｃ（ＯＨ）−、＝Ｃ（ＣＮ）−、＝Ｃ（ＮＲ5Ｒ6）−、＝Ｃ（ＣＯＮＲ5Ｒ6）−等のような、置換された又は置換されていない炭素原子であり、そして更にＲ5及びＲ6は上記の通りである。
【００７９】
本発明の実施において採用され得る環状ニトロキシドの他のタイプは、次の構造式のものである：
【００８０】
【化２５】
0003854149.tif 000018
【００８１】
ここで、Ｚ2及びＺ3は同一であっても異なっていてもよく、硫黄、酸素、二級アミン、三級アミン、又は、＞ＣＨ2、＞ＣＨＣＨ3、＞Ｃ＝Ｏ、＞Ｃ（ＣＨ3）2、＞ＣＨＢｒ、＞ＣＨＣｌ、＞ＣＨＩ、＞ＣＨＦ、＞ＣＨＯＨ、＞ＣＨＣＮ、＞Ｃ（ＯＨ）ＣＮ、＞ＣＨＣＯＯＨ、＞ＣＨＣＯＯＣＨ3、＞ＣＨＣＯＯＣ2Ｈ5、＞Ｃ（ＯＨ）ＣＯＯＣ2Ｈ5、＞Ｃ（ＯＨ）ＣＯＯＣＨ3、＞Ｃ（ＯＨ）ＣＨＯＨＣ2Ｈ5、＞ＣＮＲ5Ｒ6、＞ＣＣＯＮＲ5Ｒ6、＞ＣＨ＝ＮＯＨ、＞Ｃ＝ＣＨ−Ｃ6Ｈ5、＞ＣＦ2、＞ＣＣｌ2、＞ＣＢｒ2、＞ＣＩ2等のような、置換された又は置換されていない炭素原子群であり、そして更にＲ5及びＲ6は上記の通りである。
【００８２】
更に、例えば、参考文献としてその全文が本明細書に組み込まれる米国特許第５，２５４，７６０号公報に開示されているような、一つ又はそれより多くのＺタイプ部位（Z-type moiety）を介して結合基Ｅにより結合させることによって、同一分子内に２個又はそれより多くのニトロキシル基を存在させることもできる。
【００８３】
上記のように、Ｒ1及びＲ4は、水素、アルキル及びヘテロ原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれ、そして、Ｒ2及びＲ3はアルキル及びヘテロ原子で置換されたアルキルから成る群から独立に選ばれる。アルキル（又はヘテロ原子で置換されたアルキル）基Ｒ1からＲ4は同一であっても異なっていてもよく、好ましくは、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル等及びそれらの異性体、例えば、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル等のように、１個から１５個の炭素原子を有する。Ｒ1からＲ4が１個から４個の炭素原子を有する低級アルキル（又はヘテロ原子で置換された低級アルキル）、（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル及びそれらの異性体）から独立に選ばれることがより好ましい。ヘテロ原子で置換された基が存在する場合、それらには、例えば、ハロゲン、酸素、窒素等が含まれ得る。Ｒ1からＲ4の全てがメチルであることが最も好ましい。
【００８４】
本発明の実施において、キノン／ヒドロキノン阻害剤と組合せて使用できる好適なニトロキシドフリーラジカル化合物の例には以下のものが含まれるが、これらに限定されるものではない：
２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−ジメチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−エタノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；
３−アミノ−２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；
２，２，４，４−テトラメチル−１−オキサ−３−アザシクロペンチル−３−オキシ；
２，２，４，４−テトラメチル−１−オキサ−３−ピロリニル−１−オキシ−３−カルボン酸；
２，２，３，３，５，５，６，６−オクタメチル−１，４−ジアザシクロヘキシル−１，４−ジオキシ；
４−ブロモ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−クロロ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−ヨード−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−フルオロ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−シアノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−カルボキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−カルボメトキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−カルボエトキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−シアノ−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−カルボエトキシ−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−ヒドロキシ−４−（１−ヒドロキシプロピル）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ；
４−メチル−２，２，６，６−テトラメチル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−１−オキシル；
４−カルボキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−１−オキシル；
４−カルボメトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−１−オキシル；
４−カルボエトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−１−オキシル；
４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−１−オキシル；
４−アミド−２，２，６，６−テトラメチル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−１−オキシル；
３，４−ジケト−２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；
３−ケト−４−オキシイミノ（oximino）−２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；
３−ケト−４−ベンジリジン−２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；
３−ケト−４，４−ジブロモ−２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；
２，２，３，３，５，５−ヘキサメチルピロリジニルオキシ；
３−カルボキシイミド（carboximido）−２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；
３−オキシイミノ−２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；
３−ヒドロキシ−２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；
３−シアノ−３−ヒドロキシ−２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；
３−カルボメトキシ−３−ヒドロキシ−２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；
３−カルボエトキシ−３−ヒドロキシ−２，２，５，５−テトラメチルピロリジニルオキシ；
２，２，５，５−テトラメチル−３−カルボキシアミド（carboxamido）−２，５−ジヒドロピロール−1−オキシル；
２，２，５，５−テトラメチル−３−アミノ−２，５−ジヒドロピロール−1−オキシル；
２，２，５，５−テトラメチル−３−カルボエトキシ−２，５−ジヒドロピロール−1−オキシル；
２，２，５，５−テトラメチル−３−シアノ−２，５−ジヒドロピロール−1−オキシル；
ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシナート（succinate）；
ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アジパート（adipate）；
ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート（sebacate）；
ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ｎ−ブチルマロネート；
ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）フタレート；
ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）イソフタレート；
ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）テレフタレート；
ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサヒドロテレフタレート；
Ｎ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アジパミド（adipamide）；
Ｎ−（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）カプロラクタム；
Ｎ−（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ドデシルスクシンイミド；
２，４，６−トリス−［Ｎ−ブチル−Ｎ−(1−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル)］−ｓ−トリアジン；
４，４'−エチレンビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン）；
等。
【００８５】
本発明の実施において採用される組合せの一成分が、４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ（４−アミノ−ＴＥＭＰＯ）、４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ（４−オキソ−ＴＥＭＰＯ）、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ（４−ヒドロキシ−ＴＥＭＰＯ）又は２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ（ＴＥＭＰＯ）であることが好ましい。
【００８６】
前記化合物の２つ又はそれより多くのブレンド物、例えば、４−アミノ−ＴＥＭＰＯ及び４−オキソ−ＴＥＭＰＯのブレンド物も採用され得る。
【００８７】
そのような安定なヒトロキシドフリーラジカル化合物は、公知の方法で調製することができる。（例えば、参考文献として本明細書に取り込まれる、米国特許第３，１６３，６７７号；第３，３３４，１０３号；第３，３７２，１８２号；第３，４２２，１４４号；第３，４９４，９３０号；第３，５０２，６９２号；第３，８７３，５６４号；第３，９６６，７１１号；及び第４，６６５，１８５号公報を参照）。それらは、広い範囲の温度で使用するのに好適であるが、本発明のプロセスによって安定化されるエチレン性不飽和単量体で用いられる蒸留温度は、通常、約６０℃〜約１８０℃、好ましくは約７０℃〜約１６５℃、より好ましくは約８０℃〜約１５０℃の範囲である。そのような蒸留は、通常、約１０〜約１２００ｍｍＨｇの範囲の絶対圧力下で行われる。
【００８８】
上記で指摘した通り、本発明の実施において安定なニトロキシドフリーラジカル化合物と組合せて使用されるキノン類／ヒドロキノン類は、パラキノン、パラヒドロキノン、オルトキノン、オルトヒドロキノン又はそれらのいずれかの誘導体であり得る。従って、それらは次の構造式を有するものとして表すことができる：
【００８９】
【化２６】
0003854149.tif 000019
【００９０】
ここで、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は、水素、アルキル、アミノ、アルコキシ、アリール、シアノ、ハロゲン、ヒドロキシル、ニトロ、ＳＯ2Ａｒ、ＣＯＯＨ、ＳＯ3Ｈ、ＣＯＯＲ12、ＮＨＣＯＲ12、ＯＣＯＲ12等、ここで、Ｒ12は好ましくは、１個から５個の炭素原子を有するアルキル、そしてＡｒはアリールである；から成る群から独立に選ばれる。更に、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11のいずれかが、隣接するＲ基と共に、好ましくは５員又は６員を有し、好ましくは芳香族の一つ又はそれより多くの環構造を形成することができる。また、そのような環構造は、アルキル、アルケニル、アミノ、アルコキシ、アリール、シアノ、ハロゲン、ヒドロキシル、ニトロ、ＳＯ2Ａｒ、ＣＯＯＨ、ＳＯ3Ｈ、ＣＯＯＲ12、ＮＨＣＯＲ12、ＯＣＯＲ12等のような基で、一つ又はそれより多くの位置において置換されていてもよい。
【００９１】
そのようなキノン類／ヒドロキノン類の例として、オルトキノン、パラキノン、β−ナフトキノン、α−ナフトキノン、アントラキノン、２−アミノ−１，４−ナフトキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２−クロロ−１，４−ナフトキノン、２−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン、２−メトキシ−１，４−ナフトキノン、４−メトキシ−１，２−ナフトキノン、４−アミノ−１，２−ナフトキノン、１，２−ナフトキノン−４−スルホネート、４−アニリノ−１，２−ナフトキノン、２−メチル−３−ブロモ−１，４−ナフトキノン、フチオコール（phthiocol）、ｌｉｎ−ナフトインダゾール−４，９−キノン、１−メチル−ｌｉｎ−ナフトトリアゾール−４，９−キノン、６−ブロモ−１，２−ナフトキノン、３−ニトロ−１，２−ナフトキノン、２−フェニル−１，４−ベンゾキノン、２，３−ジメチル−１，４−ナフトキノン、フミガチン（fumigatin）、スピヌロシン（spinulosin）、エンベリン、ラパノン（rapanone）、ペレゾン（perezone）、ヒドロキシペレゾン、ペレジノン（perezinone）、ポリポル酸（polyporic acid）、アトロメンチン（atromentin）、ムスカルフィン（muscarufin）、テレホリック（thelephoric）酸、ローソン（lawsone）、ユグロン、プルンバギン（plumbagin）、ラパコール、α−ラパコン、β−ラパコン、２−ヒドロキシ−３（β，β−ジメチルビニル）−１，４−ナフトキノン、ロマチオ−ル（lomatiol）、デヒドロ−β−ラパコン、イソロマチオール（isolomatiol）、ジュニオン（dunnione）、アロジュニオン（allodunnione）、２，５−ジ−ｔ−ブチル−１，４−ベンゾキノン、２，6−ジ−ｔ−ブチル−１，４−ベンゾキノン、２，３，５，６−テトラメチル−１，４−ベンゾキノン、対応するヒドロキノン類等を挙げることができる。
【００９２】
Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11の何れかがアルキルの場合、それらは好ましくは、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル等及びそれらの異性体、例えば、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル等のような、１個から１５個の炭素原子を有するアルキルである。Ｒ8からＲ11が、１個から５個の炭素原子を有する低級アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル及びそれらの異性体）、（又はヘテロ原子で置換された低級アルキル）であることがより好ましい。本明細書で用いられる「アルキル」の用語には「シクロアルキル」、好ましくは、５個又は６個の炭素原子を有するもの、例えば、シクロヘキシル又はシクロヘプチルも含まれることを意図している。そのようなシクロアルキル基は置換されていてもよい。
【００９３】
Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11の何れかがアミノの場合、それらは一級、二級又は三級アミノであり得る。窒素原子に結合している何れのアルキル基も、アルキルについての上記の通り、１個から１５個の炭素原子、好ましくは１個から５個の炭素原子を有してもよい。
【００９４】
Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11の何れかがアルコキシの場合、それらは好ましくは１個から１５個の炭素原子を有するアルコキシ、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ、オクトキシ、ノノキシ、デコキシ、ウンデコキシ、ドデコキシ、トリデコキシ、テトラデコキシ、ペンタデコキシ等及びそれらの異性体、例えば、ｔ−ブトキシ、２−エチルヘキソキシ等である。Ｒ8からＲ11までが、１個から５個の炭素原子を有する低級アルコキシ（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ及びそれらの異性体）、（又は、ヘテロ原子で置換された低級アルコキシ）であることがより好ましい。
【００９５】
Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11の何れかがアリールの場合、それらは好ましくは置換された又は置換されていない、６個から１２個の炭素原子を有するアリール、例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル等である。
【００９６】
Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11が、水素、及び、好ましくは１個から５個の炭素原子を有するアルキルから成る群から選ばれ、又は、それらがキノン／ヒドロキノン部と共にナフチル、アントリル又はフェナントリル基を形成することが好ましい。
【００９７】
本発明が早すぎる重合を阻害することを目的としているエチレン性不飽和単量体には、製造、貯蔵及び（又は）分配の過程で意図されない重合が問題となるような何れの単量体も含まれ得る。本発明の実施によって恩恵を受けるそれらの単量体として、以下のものが挙げられる：スチレン、α−メチルスチレン、スチレンスルホン酸、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン類、ポリビニルベンゼン類、アルキル化スチレン、２−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸、ブタジエン、クロロプレン及びイソプレン等。
【００９８】
エチレン性不飽和単量体は、特に、該単量体が蒸留において加熱されるような場合は、必ずしも阻害剤ブレンド物の存在によって無制限に安定化される必要はなく、加熱してから重合を開始するまでの時間に測定可能な増加が認められる限り、それらが安定化されていると考えることができる。
【００９９】
所望ならば、安定化組成物が追加のフリーラジカル捕捉剤を含有し得ること、及び、本発明の主題であるそれらの調製方法を、当業者は理解できるであろう。例えば、米国特許第５，２５４，７６０号公報に開示されている芳香族ニトロ化合物、欧州特許出願第０７６５８５６Ａ１号公報に開示されている、少なくとも一つの移動可能な水素を有するジヘテロ置換（dihetero-substituted）ベンゼン化合物、例えば、ヒドロキノンのモノメチルエーテルのようなキノン誘導体、ＷＯ９８／２５８７２号公報に開示されている鉄化合物及びその他の当業者に周知の阻害剤、例えば、フェノール系化合物及びある種の無機塩が添加できるのと同様に、米国特許第５，５４５，７８２号及び第５，５４５，７８６号公報に開示されているように、空気又は酸素を添加することができる。
【０１００】
重合阻害剤組成物は、従来のいずれの方法によっても保護されるべき単量体に導入することができる。好適な溶媒を用いた濃縮溶液として、望ましい注入位置のすぐ上流で何れかの好適な手段でそれを添加することができる。更に、もし阻害剤が効率的に分配できるのであれば、個々の阻害剤成分を、蒸留列（distillation train）中に投入供給物といっしょに又は別々の注入点から個別に注入することもできる。阻害剤は蒸留操作中に徐々に減損するため、通常、蒸留プロセスの経過中に阻害剤を添加することによって、蒸留装置中での阻害剤混合物を適切な量に維持することが有利である。阻害剤混合物の濃度を最低要求レベルを上回るよう維持するために、阻害剤を通常のように連続的又は断続的に添加することができる。
【０１０１】
以下の実施例により、本発明の利点及び重要な特長がより明白になるであろう。
【０１０２】
（実施例）
供給停止を伴う動的再沸器試験（Dynamic Reboiler Test）の手順
「供給溶液」の調製
市販品として入手できるスチレンからｔ−ブチルカテコール（ＴＢＣ）を真空中での蒸留によって除去する。ＴＢＣが除去されていることを、苛性ソーダ滴定によって検証する。このＴＢＣを除去したスチレンに望ましい量の阻害剤（単数又は複数種）を直接添加するか、又は、ＴＢＣを除去したスチレンを用いて阻害剤の濃縮溶液を調製し、次にＴＢＣを除去したスチレンで更に希釈することによって添加する。
【０１０３】
動的再沸器試験の手順
望ましい投入量（阻害剤総重量／スチレン重量として表される）の、阻害剤（ブレンド物）を含有する供給溶液を丸底フラスコ（「ポット」）に加え、そして、望ましい温度（通常、１１６℃）に加熱して圧力／真空度を調節することによって還流させる。ポットの内容物が所定の温度に達した時点で、ポット溶液の初期の容積を滞留時間（residence time）（通常、１時間）と呼ばれる時間をかけてポットに加える速度で、調製したばかりの供給溶液を連続で流し始める。その調製したばかりの供給溶液を流し始めるのと同時に、底部流（Bottoms Stream）も流し始める。底部流は、調製したばかりの供給流を加えるのと同じ速度で抜き出されるポット内部の溶液である。この等速の供給流と底部流により、ポット内の量を実験期間中一定に維持することができ、一方、阻害剤を連続的に補充できる。この手順は、ビニル単量体類を生産する工場の蒸留列において阻害剤が使用される方法をシミュレートするものである。特定の時間、具体的には７時間、ポットへの液流の出入りを維持したまま本実験を続ける。試料を１時間毎に底部流から収集する。これらの試料をメタノール濁度法（methanol turbidity method）で解析して重合体内容量を求める。試料中の重合体量は、試験される阻害剤の有効性の指標となる。
【０１０４】
供給停止（Feed Shut-Off）の手順
再沸器試験実施の終了時点（通常、７時間）で、試料を底部流から収集する。この試料は、「供給停止時間」＝０分に対応するものである。調製したばかりの供給溶液の流れと底部流を停止する。望ましい実験温度での沸騰を維持するために、真空度と温度を監視して調整する。試料を周期的にポットから取出す（通常、５分毎）。これらの試料をメタノール濁度法で解析して重合体内容量を求める。この期間のデータを使用してその実験の「供給停止曲線」を描く。
【０１０５】
供給停止曲線において傾斜がより緩やかである（時間あたりの重合体の生産速度がより遅い）ことは、その工場での供給損失の観点からより効果的な阻害系であることを示す。著しい重合体形成が始まるまでにより長い時間がかかることも、その工場での供給損失の観点からより効果的な阻害系であることの指標である。好ましい系では、重合体形成が始まるまでに長い遅延期間が存在し、次いで重合体形成が一度開始されてもゆっくりした速度での形成が続く。
【０１０６】
４−オキソ−ＴＥＭＰＯ（Ａ）を単独で用い、及び、２，６−ジ−ｔ−ブチル−１，４−ベンゾキノン（Ｂ）、２，５−ジ−ｔ−ブチル−１，４−ヒドロキノン（Ｃ）及び２，５−ジ−ｔ−ブチル−１，４−ベンゾキノン（Ｄ）を併用して、上記の手順を実行する。その結果を図１及び２に示すが、４−オキソ−ＴＥＭＰＯの単独使用に対して、本発明の組合せを採用することによる改良が明らかに分かる。図１及び２のグラフのデータを表１に示す。
【０１０７】
【表１】
0003854149.tif 000020
【０１０８】
本発明の背景にある原理から逸脱することなく実施可能な多くの変更と改良に関して、本発明に供与されるべき保護範囲を理解するために添付の特許請求の範囲を参照する必要がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、１１６℃での供給停止過程で作られた重合体を示すグラフである。供給停止の前に、１１６℃で７時間、滞留時間１時間、そして阻害剤総量が１００ｐｐｍ又は１０５ｐｐｍを含む動的条件下でこれらの試験を行った。
【図２】  図２は、１１６℃での供給停止過程で作られた重合体を示すグラフである。供給停止の前に、１１６℃で７時間、滞留時間１時間、そして阻害剤総量が１５０ｐｐｍを含む動的条件下でこれらの試験を行った。
【図１】
0003854149.tif 000025
【図２】
0003854149.tif 000026