(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリックス状に配置されたゲート電極、ソース電極および薄膜トランジスターが片面に形成され、その上に絶縁層を介して反射側電極が形成されている反射基板と、前記反射基板と対向し、その対向する面に、少なくとも透明電極が形成されている対向基板と、前記対向基板と前記反射基板との間に形成される空間に充填された液晶とを備え、前記反射側電極と前記薄膜トランジスターのドレイン電極とが電気的に接続されている反射型液晶表示装置において、
前記絶縁層は無機絶縁膜及び有機絶縁膜で構成され、前記無機絶縁膜は前記有機絶縁膜より、前記反射基板寄りに配置され、
前記ドレイン電極が位置する場所の前記無機絶縁膜には、開口部が形成されており、
前記開口部には前記有機絶縁膜が形成されるとともに、前記有機絶縁膜には、前記ドレイン電極が露出するように、すり鉢状のコンタクトホールが形成されており、
前記開口部の面積は、前記すり鉢状のコンタクトホールの底面の面積より広く、
前記ドレイン電極は、チタン層の上にアルミニュウム層が積層されたものであり、
前記ドレイン電極の前記反射側電極との接触部は、前記反射側電極と前記ドレイン電極のチタン層とが電気的に接続されている、
反射型液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射型液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
反射型液晶ディスプレイ（以下反射型ＬＣＤと呼ぶ）は、パネル前面より入射した外光を液晶パネルにより変調し、パネル裏面に設けた反射板によって反射させて、表示を行う方式である。このため透過型液晶ディスプレイ（以下透過型ＬＣＤと呼ぶ）に不可欠なバックライトが不要であり、消費電力の低減が可能である。このため反射型ＬＣＤは、携帯情報端末や携帯機器に最適である。
【０００３】
しかし、反射ＬＣＤでは、外光の反射により表示を行うために、入射光の調節機能がない。このため外光の照度が弱い場合、例えば、屋内や夜間使用する場合では、入射する外光が少ないため、表示画面が非常に暗くなり、視認性が劣化する欠点を有している。このため、反射型ＬＣＤでは、入射した外光をできるだけ効率よく反射させるように、反射率を高める必要がある。
【０００４】
反射率を高める手段として、液晶セルや光学部材での光の伝搬ロスを防ぐことと反射板での反射率を高める事が上げられる。液晶セルや光学部材による光の伝播ロスを低減する方法としては、偏光板での光の透過損失がもっとも大きい事に着目して、偏光板を用いないゲストホスト型表示方式（特許公開公報：平７−１４６４６９）や偏光板を１枚にした１枚偏光板方式（特許公開公報：平７−８４２５２）などが知られている。
【０００５】
また、反射板での反射率を高める方法として、従来液晶セルの外側に設けていた反射板を液晶セルの内部に設け、かつ反射板の構成材料として、反射率が高く、電気抵抗値の低いアルミニュウムを用いて、反射板としての機能と電極としての機能を兼ね備えた反射電極を形成する方式（特許公開公報：平８−１０１３８４）が知られている。
【０００６】
従来の反射型ＬＣＤは図８に示すように、偏光板１とガラス基板３とカラーフィルター４と透明電極５と液晶７と反射電極８と層間絶縁膜１７と薄膜トランジスター（以下ＴＦＴと呼ぶ）１３とガラス基板１０とで構成されている。この反射型ＬＣＤは偏光板を１枚にした１枚偏光板方式と反射電極を液晶セル内に設ける方式を併用したものであり、反射率を高めたものである。
【０００７】
反射電極８は、層間絶縁膜１７上に形成され、層間絶縁膜１７に設けられたされた微小な孔（以下、コンタクトホールと呼ぶ）１８を通して、ＴＦＴ１３のドレイン電極１４と電気的に接続されいる。反射電極８にはＴＦＴ１３のスイッチング動作により、電圧が印加される。反射電極８は画素電極として液晶７に電圧を印加する作用を行う。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
反射電極とＴＦＴとが電気的接続されない場合、反射電極には所定の電圧が印加されない。このため、液晶が変調されず、その部分だけが表示欠陥になる場合がある。通常、ドレイン電極は液晶へ電圧を加える信号線（以下ソース電極と呼ぶ）と、ソース電極に電圧を供給する液晶駆動用ＬＳＩ（以下ドライバーと呼ぶ）との接続用電極（以下実装電極と呼ぶ）と同一の工程で形成される。接続抵抗及び配線抵抗を低くする必要性から構成材料としてアルミニュウムが用いられる。アルミニュウムは非常に酸化されやすく、空気中での放置により容易に表面に酸化膜を形成する。アルミニュウムの酸化膜は絶縁性である。反射電極とドレイン電極は同一工程で形成できないので、ドレイン電極にはアルミニュウム酸化膜が形成され、酸化膜を介してドレイン電極と反射電極が接続する事になる。このためしばしば電気的接続不良による表示欠陥を引き起こすという問題がある。
【０００９】
本発明は、上述したこのような従来の反射型液晶表示装置およびその製造方法が有する課題を考慮し、ドレイン電極と画素電極間での接続抵抗の低抵抗化を図ることによって、接続不良による表示欠陥を低減できる反射型液晶表示パネル装置を提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決するため、請求項１の本発明は、マトリックス状に配置されたゲート電極、ソース電極および薄膜トランジスターが片面に形成され、その上に絶縁層を介して反射側電極が形成されている反射基板と、前記反射基板と対向し、その対向する面に、少なくとも透明電極が形成されている対向基板と、前記対向基板と前記反射基板との間に形成される空間に充填された液晶とを備え、前記反射側電極と前記薄膜トランジスターのドレイン電極とが電気的に接続されている反射型液晶表示装置において、
前記絶縁層は無機絶縁膜及び有機絶縁膜で構成され、前記無機絶縁膜は前記有機絶縁膜より、前記反射基板寄りに配置され、
前記ドレイン電極が位置する場所の前記無機絶縁膜には、開口部が形成されており、
前記開口部には前記有機絶縁膜が形成されるとともに、前記有機絶縁膜には、前記ドレイン電極が露出するように、すり鉢状のコンタクトホールが形成されており、
前記開口部の面積は、前記すり鉢状のコンタクトホールの底面の面積より広く、
前記ドレイン電極は、チタン層の上にアルミニュウム層が積層されたものであり、
前記ドレイン電極の前記反射側電極との接触部は、前記反射側電極と前記ドレイン電極のチタン層とが電気的に接続されている、
反射型液晶表示装置である。
【００１２】
なお、本発明は以下のような変形例も含む。
前記絶縁層は、無機絶縁膜と有機絶縁膜を積層したものであり、前記無機絶縁膜が前記反射基板側に配置されており、前記反射側電極は、全部または一部がアルミニュウムであるところの、反射電極であり、前記反射側電極と前記ドレイン電極とは、前記絶縁層の前記ドレイン電極上に設けられたコンタクトホールにおいて、電気的に接続されていることを特徴とする。
【００１３】
また、前記絶縁層は、無機絶縁膜と有機絶縁膜との間に反射層を挟み込んで積層したものであり、前記無機絶縁膜が前記反射基板側に配置されており、前記反射側電極は、全部または一部が酸化インジュウム錫であるところの、透明電極であり、前記反射側電極と前記ドレイン電極とは、前記絶縁層の前記ドレイン電極上に設けられたコンタクトホールにおいて、電気的に接続されていることを特徴とする。
【００１４】
また、前記コンタクトホールは、すり鉢状であることを特徴とする。
【００１５】
また、前記コンタクトホールの位置で、前記無機絶縁膜が形成されていない部分の面積は、前記コンタクトホール底面の面積より広いことを特徴とする。
【００１６】
なお、本発明に関連する製造方法としては、次のような方法がある。
全部または一部がチタンであるドレイン電極を有する薄膜トランジスターが片面に形成されている反射基板の前記片面上に無機絶縁膜を形成する無機絶縁膜形成工程と、前記無機絶縁膜形成工程の後、前記ドレイン電極上の前記無機絶縁膜の全部または一部を除去して開口部を形成する開口部形成工程と、前記開口部形成工程の後、前記無機絶縁膜上および前記開口部に有機絶縁膜を形成する有機絶縁膜形成工程と、前記有機絶縁膜形成工程の後、前記開口部の位置の前記有機絶縁膜を除去し、前記ドレイン電極の前記チタンの部分の全部または一部を露出させることによって、コンタクトホールを形成するコンタクトホール形成工程と、前記コンタクトホール形成工程の後、前記有機絶縁膜上、前記コンタクトホールおよび前記露出したチタンの部分上に反射側電極を形成する反射側電極とを含む製造方法である。
【００１７】
また、前記開口部形成工程の前に、前記無機絶縁膜上に反射層を形成する反射層形成工程と、前記開口部形成工程の前もしくは同時に、前記開口部に対応する部分の前記反射層を除去する反射層除去工程を含む製造方法である。
【００１８】
また、前記開口部形成工程において、前記開口部の面積は、前記コンタクトホール底面の面積より広い製造方法である。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
（第１の実施の形態）
まず、本発明の第１の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００２０】
図１は、本発明の第１の実施の形態における反射型液晶表示装置の構成を示す断面図である。本実施の形態における反射型液晶表示装置は、図１に示すように、ゲート電極１１、ソース電極１２およびＴＦＴ素子１３が片面に形成され、その上に無機の層間絶縁膜１５（本発明の無機絶縁膜に対応するもの）と有機の層間絶縁膜１７（本発明の有機絶縁膜に対応するもの）が積層された絶縁層を介して反射電極８が形成され、その上に配向膜６ｂが形成されている反射基板１０と、反射基板１０と対向し、その対向する面に、カラーフィルター４、透明電極５および配向膜６ａが形成され、反対側の面に、高分子フィルム２および偏光フィルム１が形成されている対向基板３と、対向基板３の配向膜６ａと反射基板１０の配向膜６ｂとの間に形成される空間に充填された液晶７とを備えるものであり、反射電極８とＴＦＴ素子１３のドレイン電極１４とは、ドレイン電極１４上に設けられたコンタクトホール１８において、電気的に接続されている。画素部分は反射基板１０上の反射電極８と対向基板３上の透明電極５、液晶７とから構成されており、対向基板３側より入射した光を液晶層で変調し、反射電極面で対向基板方向に反射させて表示を行うものである。
【００２１】
また、ドレイン電極１４は、チタン層２２の上にアルミニュウム層２１が積層されたものであり、反射電極８との接触部のアルミニュウム層２１が除去されている（図３、図４参照）。
【００２２】
なお、無機の層間絶縁膜１５は、ＴＦＴ素子１３の層間絶縁膜として機能するとともに、ドライバー実装部分での電極保護膜としても機能するものである。
【００２３】
図２は、本発明の第１の実施の形態における反射型液晶表示装置のＴＦＴ素子等の配置を示す平面図である。すなわち、図１の無機の層間絶縁膜１５より上部を除去した状態を上方より見た図である。ゲート電極１１およびソース電極１２がマトリックス状に配置されており、その交差点付近にゲート電極１１およびソース電極１２それぞれの枝が伸びてきており、これらとドレイン電極１４はＴＦＴ素子１３を構成している。
【００２４】
次に、本実施の形態における反射型液晶表示装置の製造方法について説明する。また、製造方法の各工程において、本実施の形態における反射型液晶表示装置の構成の詳細についても説明する。
【００２５】
図１に示す対向基板３には無アルカリガラスを用い、この対向基板３上に顔料分散レジストからなる赤、緑、青のストライプ状のカラーフィルター４を形成する。
【００２６】
その後、カラーフィルター４上に酸化インジュウム錫（以下、ＩＴＯと呼ぶ）膜を成膜し透明電極５を形成する。
【００２７】
次に、無アルカリガラスを用いた反射基板１０の上に所定の方法により、アルミニュウムとタンタルからなるゲート電極１１，チタンとアルミニュウムからなるソース電極１２およびドレイン電極１４を、図２に示すように、マトリックス状に配置し、ゲート電極１１とソース電極１２との各交差部にアモルファスシリコンからなるＴＦＴ素子１３を形成する。
【００２８】
次に、反射基板１０上に窒化シリコンからなる無機の層間絶縁膜１５を形成する。本工程は、本発明の無機絶縁膜形成工程に対応するものである。
【００２９】
次に、フォトレジストと所定のフォトマスクを用いて紫外線を照射し、その後ドライエッチングにより無機の層間絶縁膜１５の窒化シリコンをエッチングし、ドレイン電極上１４に開口１６を形成する。このとき、開口１６は、例えば、直径１６μｍの円とする。本工程は、本発明の開口部形成工程に対応するものである。
【００３０】
さらに、図３に示すように、リン酸系のエッチング液を用いて、開口１６部分のドレイン電極１４のアルミニュウム層２１を除去して、チタン層２２を露出させる。
【００３１】
次に、反射基板１０の片側全面に（無機の層間絶縁膜１５上および開口部１６に）、感光性アクリル樹脂（例えば，ＦＶＲ：富士薬品工業（株）製）を塗布して有機の層間絶縁膜１７を形成する。本工程は、本発明の有機絶縁膜形成工程に対応するものである。
【００３２】
その後、所定のフォトマスクを用いて紫外線を照射した後、２００℃のクリーンオーブンの中で熱処理を行う。これによって、ドレイン電極１４上の開口１６と同じ位置に、底部にチタン層２２が露出したコンタクトホール１８が形成される。このとき、図４に示すように、コンタクトホール１８は、開口１６の内側で、しかもすり鉢状の形状になるように形成する。また、コンタクトホール１８の底面の面積をＳ２とすると（図４に二次元的に示す）、Ｓ２は、開口１６の面積Ｓ１（図４に二次元的に示す）より小さくなるようにする。例えば、開口１６を直径１６μｍの円とすると、コンタクトホール１８の底面は、直径８μｍの円とするものである。本工程は、本発明のコンタクトホール形成工程に対応するものである。
【００３３】
次に、有機の層間絶縁膜１７上、コンタクトホール１８および露出したチタン層２２上にアルミニュウムを成膜し、フォトレジストと所定のフォトマスクを用いて紫外線を照射し、その後燐酸系のエッチング液を用いて、反射電極８形成する。本工程は、本発明の反射側電極形成工程に対応するものである。
【００３４】
次に、透明電極５および反射電極８上に、固形分濃度５重量％のポリアミック酸溶液（ＳＥ−７２１１：日産化学工業（株））を印刷し、２２０℃で硬化し、ＴＮ配向になるようにレーヨン布を用いて回転ラビングして配向処理を行い、ポリイミドからなる膜厚１２０ｎｍの配向膜６ａ，６ｂを形成する。
【００３５】
次に、対向基板３の周辺部に熱硬化型のシール材（例えばストラクトボンド：三井東圧化学（株）製）を液晶注入口を設けて印刷形成し、反射電極基板１０上に、例えば、直径４．５umのプラスチックからなる球状のスペーサを１５０〜２００個／ｍｍ2 を分散して、対向基板３と反射基板１０とを互いに貼り合わせ、１５０℃でシール材を硬化する。
【００３６】
次に、屈折率異方性が０．０９７であるフッ素系ネマチック液晶組成物にカイラル組成物を添加した液晶７を真空注入して、紫外線硬化樹脂により注入口を封口して、液晶セルを作製する。
【００３７】
上記により形成した液晶セルの対向基板上に、高分子フィルム２として所定の大きさの複屈折性を持つポリカーボネートフィルムを所定の角度で貼り付け、更にニュートラルグレーの偏光フィルム１を吸収軸が所定の方向になるように貼り付けることによって、アクティブマトリックスタイプの反射型ＬＣＤが得られる。
【００３８】
上記反射型ＬＣＤを駆動して、正面でのパネル反射率を測定したところ、黒状態で反射率が１．５％、白状態で反射率が１６．３％であり、反射率の高い良好なパネル反射特性が実現できることが確認された。また、ドレイン電極１４と反射電極８との接続不良が発生すると、十分な黒が得られず、点状の輝点が見られるが、本実施の形態における反射型液晶表示装置ではそのような輝点は見られず、接続不良による表示不良はほとんど発生しないことが確認された。
【００３９】
また、コンタクトホール形成工程において、コンタクトホール１８の形状をすり鉢状にすることによって、図８に示す従来のコンタクトホールに比べて、コンタクトホール１８側壁部での反射電極８の断線を防止できることが確認された。なお、開口部形成工程において、開口１６の面積を、コンタクトホール１８の底面の面積より広くすることは、これによって、コンタクトホール１８をすり鉢状に形成しやすくするものである。
【００４０】
なお、本実施の形態においては、反射電極８の構成材料として、アルミニュウムを用いるとして説明したが、チタンとアルミニュウムの積層構造を用いても同様の効果が得られる。
【００４１】
また、本発明の開口部およびコンタクトホールの断面形状は、本実施の形態においては、円であるとして説明したが、開口部が四角形で、コンタクトホールが四角錐台を逆さにした形状であるとしてもよい。このとき、開口部の面積を、コンタクトホール底面の面積より広くする必要がある。
【００４２】
（第２の実施の形態）
次に、本発明の第２の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００４３】
図５は、本発明の第２の実施の形態における反射型液晶表示装置の構成を示す断面図である。本実施の形態における反射型液晶表示装置は、本発明の反射側電極が透明電極であり、本発明の絶縁層が反射層を有することに関する点以外は、上述した第１の実施の形態における反射型液晶表示装置と同様である。したがって、本実施の形態において、第１の実施の形態と基本的に同様のものについては、同一符号を付与し、説明を省略する。また、特に説明のないものについては、第１の実施の形態と同じとする。
【００４４】
図５は、本発明の第２の実施の形態における反射型液晶表示装置の構成を示す断面図である。本実施の形態における反射型液晶表示装置は、図５に示すように、ゲート電極１１、ソース電極１２およびＴＦＴ素子１３が片面に形成され、その上に無機の層間絶縁膜１５（本発明の無機絶縁膜に対応するもの）と反射層１９と有機の層間絶縁膜１７（本発明の有機絶縁膜に対応するもの）が積層された絶縁層を介して透明電極２０が形成され、その上に配向膜６ｂが形成されている反射基板１０と、反射基板１０と対向し、その対向する面に、カラーフィルター４、透明電極５および配向膜６ａが形成され、反対側の面に、高分子フィルム２および変更フィルム１が形成されている対向基板３と、対向基板３の配向膜６ａと反射基板１０の配向膜６ｂとの間に形成される空間に充填された液晶７とを備えるものであり、透明電極２０とＴＦＴ素子１３のドレイン電極１４とは、ドレイン電極１４上に設けられたコンタクトホール１８において、電気的に接続されている。
【００４５】
本実施の形態における反射型液晶表示装置のＴＦＴ素子等の平面的な配置は、図２で示した第１の実施の形態における反射型液晶表示装置と同様である。
【００４６】
次に、本実施の形態における反射型液晶表示装置の製造方法について説明する。また、製造方法の各工程において、本実施の形態における反射型液晶表示装置の構成の詳細についても説明する。
【００４７】
反射基板１０上に無機の層間絶縁膜１５を形成する工程（本発明の無機絶縁膜形成工程に対応するもの）までは、第１の実施の形態における反射型液晶表示装置の製造方法と同様である。
【００４８】
次に、アルミニュウムからなる反射層１９を形成する。本工程は、本発明の反射層形成工程に対応するものである。
【００４９】
次に、フォトレジストと所定のフォトマスクを用いて紫外線を照射し、その後燐酸系のエッチング液により反射層１９のアルミニュウムのエッチングを行い、さらにドライエッチングにより無機の層間絶縁膜１５の窒化シリコンをエッチングし、ドレイン電極上１４に開口１６を形成する。このとき、開口１６は、例えば、直径１６μｍの円とする。本工程は、本発明の反射層除去工程および開口部形成工程に対応するものである。
【００５０】
さらに、図６に示すように、リン酸系のエッチング液を用いて、開口１６部分のドレイン電極１４のアルミニュウム層２１を除去して、チタン層２２を露出させる。
【００５１】
次に、反射基板１０の片側全面に（反射層１９上および開口部１６に）、感光性アクリル樹脂（例えば，ＦＶＲ：富士薬品工業（株）製）を塗布して有機の層間絶縁膜１７を形成する。本工程は、本発明の有機絶縁膜形成工程に対応するものである。
【００５２】
その後、所定のフォトマスクを用いて紫外線を照射した後、２００℃のクリーンオーブンの中で熱処理を行う。これによって、ドレイン電極１４上の開口１６と同じ位置に、底部にチタン層２２が露出したコンタクトホール１８が形成される。このとき、図５に示すように、コンタクトホール１８は、開口１６の内側で、しかもすり鉢状の形状になるように形成する。また、コンタクトホール１８の底面の面積をＳ２とすると（図５に二次元的に示す）、Ｓ２は、開口１６の面積Ｓ１（図５に二次元的に示す）より小さくなるようにする。例えば、開口１６を直径１６μｍの円とすると、コンタクトホール１８の底面は、直径８μｍの円とするものである。本工程は、本発明のコンタクトホール形成工程に対応するものである。
【００５３】
次に、有機の層間絶縁膜１７上、コンタクトホール１８および露出したチタン層２２上にＩＴＯを成膜し、フォトレジストと所定のフォトマスクを用いて紫外線を照射し、その後沃化水素系のエッチング液を用いて、透明電極２０を形成する。本工程は、本発明の反射側電極形成工程に対応するものである。
【００５４】
その後、第１の実施の形態と同様の工程手順を行うにより、アクティブマトリックスタイプの反射型ＬＣＤが得られる。
【００５５】
上記反射型ＬＣＤを駆動して、正面でのパネル反射率を測定したところ、黒状態で反射率が１．５％、白状態で反射率が１８．５％であり、反射率の高い良好なパネル反射特性が実現できることが確認された。また、第１の実施の形態と同様に、ドレイン電極と透明電極との接続不良による表示不良はほとんど発生しないことが確認された。
【００５６】
また、第１の実施の形態と同様に、コンタクトホール形成工程において、コンタクトホール１８の形状をすり鉢状にすることによって、図８に示す従来のコンタクトホールに比べて、コンタクトホール１８側壁部での反射電極８の断線を防止できることが確認された。なお、開口部形成工程において、開口１６の面積を、コンタクトホール１８の底面の面積より広くすることは、これによって、コンタクトホール１８をすり鉢状に形成しやすくするものである。
【００５７】
なお、上述した第１の実施の形態および第２の実施の形態では、１枚偏光板構成の反射型液晶表示装置についての例を示したが、これに限定されるものではなく、偏光板を用いない方式にも適用できる。
【００５８】
また、上述した第１の実施の形態および第２の実施の形態では、本発明の反射側電極とドレイン電極とは、絶縁層の前記ドレイン電極上に設けられたコンタクトホールにおいて、電気的に接続されているとして説明したが、これに限るものではなく、反射側電極とドレイン電極とが電気的に接続されており、前記ドレイン電極の前記反射側電極との接触部の全部または一部がチタンであれば、ドレイン電極と画素電極間での接続抵抗の低抵抗化を図ることによって、接続不良による表示欠陥を低減できるという効果は得られる。
【００５９】
【発明の効果】
以上説明したところから明らかなように、本発明は、ドレイン電極と画素電極間での接続抵抗の低抵抗化を図ることによって、接続不良による表示欠陥を低減できる反射型液晶表示パネル装置およびその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１の実施の形態における反射型液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態における反射型液晶表示装置のＴＦＴ素子等の配置を示す平面図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態における反射型液晶表示装置の開口部を示す断面図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態における反射型液晶表示装置のコンタクトホールを示す断面図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態における反射型液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態における反射型液晶表示装置の開口部を示す断面図である。
【図７】本発明の第１の実施の形態における反射型液晶表示装置のコンタクトホールを示す断面図である。
【図８】従来の反射型液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１  偏光フィルム
２  高分子フィルム
３  対向基板
４  カラーフィルタ
５  透明電極
６ａ、６ｂ  配向膜
７  液晶層
８  反射電極
９  絶縁膜
１０  反射基板
１１  ゲート電極
１２  ソース電極
１３  ＴＦＴ素子
１４  ドレイン電極
１５  無機の層間絶縁膜
１６  開口
１７  有機の層間絶縁膜
１８  コンタクトホール
１９  反射層
２０  透明電極
２１  アルミニュウム層
２２  チタン層
【図１】
0003754558.tif 000002
【図２】
0003754558.tif 000003
【図３】
0003754558.tif 000004
【図４】
0003754558.tif 000005
【図５】
0003754558.tif 000006
【図６】
0003754558.tif 000007
【図７】
0003754558.tif 000008
【図８】
0003754558.tif 000009