(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空槽内を走行するフィルムに異なる元素からなる混合膜を形成可能な蒸着装置において、走行する前記フィルムの幅方向に対向して異なる種類の蒸着材料が交互に隣接して配置される１個の坩堝と、前記坩堝の外方上から前記蒸着材料に電子線を照射して蒸発させる加熱手段と、前記坩堝内に交互に配置される前記蒸着材料間に配置されるしきり板と、この加熱手段により形成された前記フィルム上の混合膜にＸ線を照射して得られる特性Ｘ線強度を測定して前記混合膜の各成分の厚みデータを出力するオンライン測定手段と、出力された前記厚みデータに基づいて前記加熱手段を自動的に制御する制御手段とを備え、前記坩堝は前記加熱手段の方向またはその逆方向に前記フィルムの被蒸着面と平衡関係を保ちながら移動可能であり、前記しきり板は、水平且つ前記しきり板の延長方向視における前記電子線の入射角度と略同じ角度に傾斜して設けられたことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記オンライン測定手段で測定される各成分の厚みデータと、予め設定される各成分の目標厚みデータとの偏差値を求め、この偏差値に基づいて前記加熱手段による加熱・照射条件を自動的に制御可能である請求項１の真空蒸着装置。
【請求項３】
前記オンライン測定手段は、前記混合膜を構成する元素と同じ元素が前記フィルム中に含まれる場合には、蒸着前に前記フィルム中の前記元素の厚みデータを測定し、この測定された厚みデータに基づいて前記混合膜の厚みデータを補正可能になっている請求項１又は２のいずれかの真空蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は各種フィルム状製品の製造に適する真空蒸着装置に関し、詳しくは、真空槽内を走行するフィルムに異なる元素からなる混合膜を形成するための真空蒸着装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
真空槽中を走行する高分子フィルムに薄膜を蒸着・形成する方法として、例えば特開平２−２３６２７３号公報に記載されている方法がある。この方法は、移動する高分子フィルムと直行する方向に、高分子フィルムの幅方向を越えて対向・配置された横長の蒸発源に、無走査電子銃から電子線を照射して加熱し、高分子フィルム上に薄膜を形成させる。そして、電子銃から電子線を照射する際、電子線が蒸発源の各位置で同じ入射角度になるように磁界を制御して行うようになっている。
【０００３】
しかしながら、この方法では蒸着した膜厚をモニタする手段が無いため、例えば、真空槽の真空度が変化したり、蒸着材料の表面形状が変化するなどにより蒸着速度が変化した場合に、蒸着膜の厚みが変化して一定しないという問題があった。又、この方法は、複数の蒸着材料を同時に蒸着させて、これらの蒸着材料による混合膜を高分子フィルム上に形成することは出来ない。
【０００４】
かかる問題を解決するために発明された真空蒸着装置として、例えば、真空槽内の蒸発源を電子銃で加熱した際の蒸発量の一部を検出する検出器と、この検出器での検出値に基づいて前記蒸発源の出力を制御する手段とを備えた構造のものがある。この方式の検出器は水晶振動子を備えていて、水晶振動子に蒸着膜が付着すると、膜厚に依存して振動周波数が変動する原理を利用している。この真空蒸着装置は、蒸発源からの蒸発量の一部を制御指標として高分子フィルム上に製膜された薄膜の厚みを間接的に制御する。
【０００５】
しかしながら、上述した検出器は種類の異なる複数の蒸発源を有する場合には、検出した信号を各々の成分情報に分解することができず、その結果、化学組成比および厚みの制御の精度が著しく低下するという問題があった。又、間接制御のために、例えば蒸着時の蒸発ビーム方向が変わった場合には、検出器の測定値と実測値が合わなくなることもあった。更に、上記検出器は検出器への総蒸着量の制限から、長時間の連続計測を行う場合に、計測途中で検出器を切り替える等の対策が必要となり、計測の信頼性にも問題があった。
【０００６】
かかる問題点を解消した装置として、例えば特開平１−２０８４６５号公報に記載された装置がある。この装置は、蒸着後の基板上の蒸着膜に電子線を鋭角に入射して特性Ｘ線を励起させるための電子銃と、この特性Ｘ線強度を測定する検出器と、この検出器での検出値に基づいて各蒸発源の出力を制御する手段とを備える。この装置では、蒸着薄膜の直接計測が可能なため、上述した装置に比べて成膜性は向上する。
【０００７】
しかしながら、上記特性Ｘ線はＲＨＥＥＤ（高エネルギー電子線）を蒸着膜に鋭角に入射することにより励起されるため、蒸着薄膜のごく表層の情報しか得ることができない。つまり、蒸着薄膜全体の情報が得られるわけではないため、混合膜の組成比および総厚みが一定である蒸着膜を成膜する装置としては、十分な情報が得られず問題であった。又、特性Ｘ線の励起源が高エネルギー電子線であることから、照射された部分の蒸着膜表面を損傷するという問題もあった。
【０００８】
又、２種類の材料を同時に蒸着させて混合膜を形成する装置として、例えば特開平４−２１８６６０号公報に記載されている装置がある。これは、走行する基板と直行する方向に対向・配置された坩堝が基板の走行方向に隣接して配置されている蒸着装置である。
【０００９】
この装置は、走行基板の走行方向に坩堝を隣接して配置することにより、２種類の蒸着材料から蒸発した各々の材料が走行基板に付着するまでに時間差が生じる。このため、基板の走行方向に対して均一に分散された膜を形成することができないという問題があった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、従来の装置では２種類の成分からなる混合膜を走行フィルムの幅方向および走行方向に均一に分散・形成させ、しかも一定の組成比および厚みとなるように、長時間連続的に、且つ、安定に形成することは困難であった。
【００１１】
そこで、本発明の目的は、上記従来技術の有する問題点を解消し、走行中のフィルム表面に異なる元素からなり、所定の組成比および目標厚みを有する混合膜を、連続的、且つ均ーに形成できる真空蒸着装置を提供することにある。尚、本発明において「フィルム」とは、幅および長さに対して厚みの薄い形状の材料を総称するものとし、本来のフィルムのみならずシート状材料を含む概念として用いる。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、請求項記載の発明により達成される。すなわち、本発明に係る真空蒸着装置の特徴構成は、真空槽内を走行するフィルムに異なる元素からなる混合膜を形成可能であって、走行する前記フィルムの幅方向に対向して異なる種類の蒸着材料が交互に隣接して配置される１個の坩堝と、前記坩堝の外方上から前記蒸着材料に電子線を照射して蒸発させる加熱手段と、前記坩堝内に交互に配置される前記蒸着材料間に配置されるしきり板と、この加熱手段により形成された前記フィルム上の混合膜にＸ線を照射して得られる特性Ｘ線強度を測定して前記混合膜の各成分の厚みデータを出力するオンライン測定手段と、出力された前記厚みデータに基づいて前記加熱手段を自動的に制御する制御手段とを備え、前記坩堝は前記加熱手段の方向またはその逆方向に前記フィルムの被蒸着面と平衡関係を保ちながら移動可能であり、前記しきり板は、水平且つ前記しきり板の延長方向視における前記電子線の入射角度と略同じ角度に傾斜して設けられたことにある。
【００１３】
この構成によれば、坩堝に保持された異なる種類の蒸着材料から蒸発した蒸着成分により、走行するフィルムに形成された混合膜から、直接、且つリアルタイムで特性Ｘ線強度を測定できるので、かかる測定値から各々の混合膜形成成分の厚みデータに換算・出力でき、この厚みデータに基づいて制御手段により予め設定された各成分の目標値と比較し、これらの偏差値を求める等の処理が可能になり、かかる処理に基づいて加熱手段をフィードバック制御することができて、所定の化学組成を有し、且つ目標とする厚みの混合膜を高精度にフィルムに成膜できる。しかも、蒸発源である蒸着材料が異なる種類の材料毎に交互に坩堝内に配置可能になっているので、坩堝内の蒸着材料を連続的に電子線で照射していくことにより、走行中のフィルムの幅方向および走行方向に、ムラなく均一な混合膜を蒸着・形成できる。加えて、当該坩堝は、フィルム幅方向に複数個配置されるものではなく、蒸着材料間に水平且つその延長方向視における電子線の入射角度と略同じ角度に傾斜したしきり板が配置される１個の坩堝であることにより、蒸着された混合膜に対する隣接坩堝どうしの側壁の影響を少なくでき、電子線による加熱蒸着中の各蒸着材料が分散することがないことに加えて、電子線の入射を妨げることなく隣接する各蒸着材料の近傍部にまで電子線を照射できて都合がよい。更に、前記坩堝は、前記加熱手段の方向またはその逆方向に前記フィルムの被蒸着面と平衡関係を保ちながら移動可能に構成されているため、直進する電子線を高分子フィルムの走行方向に振る幅を小さくでき、蒸着材料からの蒸発速度（蒸着速度）が安定する。しかも、坩堝中に保持する蒸着材料の高さを低くできるので、蒸着材料の表面と電子銃間の距離の変動が少なくなり、これによっても蒸着速度の安定に寄与できる。又、例え蒸着材料が昇華性のものであっても蒸着材料の蒸発部分の形状を一定に保つことができ、安定した蒸着速度を得ることができる。また、蒸着された混合膜形成成分の厚みデータを検出するのにＸ線を照射するようにしているため、高エネルギー電子線の照射と異なり、混合膜を損傷することがない。その結果、走行中のフィルム表面に異なる元素の混合膜の組成比および目標厚みを有する混合膜を連続的、且つ均ーに形成できる真空蒸着装置を提供することができた。
【００１４】
前記坩堝は、水冷機構を備えた銅製であることが好ましい。加熱手段による長時間の電子線照射にも、十分耐え得るからである。
【００１７】
前記加熱手段は電子銃であって、この電子銃は投入電力と電子線の走査パターンと電子線の走査時間とを蒸着中に変更可能になっていることが好ましい。このような構成になっていると、投入電力と電子線の走査パターンと電子線の走査時間を、保持手段中の異なる蒸着材料に対して蒸発条件が最適となるように各々独立に制御することができ、走行中のフィルムの幅方向および走行方向に均一な膜を長時間安定に蒸着できて都合がよい。この変更は、任意に行えるようにしてもよいし、特定の条件範囲内で変更可能となるようにしてもよい。
【００１８】
前記オンライン測定手段は、前記混合膜に対してＸ線を照射するＸ線発生装置と、前記混合膜から放出される異なる種類の各々の特性Ｘ線強度を独立に測定可能な複数の検出器とを備えることが好ましい。このような構成になっていると、異なる種類の蒸着材料から蒸着された膜の厚みを各々独立に、且つ高精度に、しかも時間差を生ずることなくリアルタイムに計測ができて都合がよい。
【００１９】
前記制御手段は、前記オンライン測定手段で測定される各成分の厚みデータと、予め設定される各成分の目標厚みデータとの偏差値を求め、この偏差値に基づいて前記加熱手段による加熱・照射条件を自動的に制御可能であることが好ましい。このような構成になっていると、前記オンライン測定手段による各成分の厚みデータと各成分の目標厚みデータとから得られる偏差値によって、加熱手段である電子銃の制御データを精度よく生成できるので、この制御データに基づいて電子銃の投入電力、電子線の走査パタ−ン、電子線の走査時間のような加熱・照射条件を自動制御することにより、フィルムの幅方向および走行方向に対して目標とする厚み及び組成比で、且つ長時間の安定した自動蒸着ができて都合がよい。
【００２０】
前記オンライン測定手段は、前記混合膜を構成する元素と同じ元素が前記フィルム中に含まれる場合には、蒸着前に前記フィルム中の前記元素の厚みデータを測定し、この測定された厚みデータに基づいて前記混合膜の厚みデータを補正可能になっていることが好ましい。このような構成になっていると、被蒸着材材であるフィルムに、例え混合膜の構成成分と同じ成分が含まれる場合であっても、膜の厚み測定が一層高精度にできて都合がよい。
【００２１】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を、図面を参照して詳細に説明する。図１は、本実施形態における真空蒸着装置の概略構造を示す。この真空蒸着装置は、フィルム状の被蒸着材料として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの高分子フィルムを例に用いた。真空槽６の巻き出しロール１にセットされた高分子フィルム１７は冷却ロール３上を走行し、測定ロール５を通り、巻き取りロール２で巻き取られる。真空槽６内の真空度は、油拡散ポンプ（図示略）等からなる排気系１０により所定の真空度に維持される。
【００２２】
真空槽６の底部には、蒸着材料１６を保持する保持手段の一例である坩堝９が配置されていて、この坩堝９は、加熱手段である電子銃４に向かって高分子フィルム１７の被蒸着面と平衡関係を保ちながら低速で移動するようになっている。つまり坩堝９は、移動する高分子フィルム１７に対して蒸着条件が一定に保たれるように、図１の電子銃４に対して接近または離間することにより、坩堝９内に収納されている蒸着材料を照射する電子線の照射条件（電子銃と蒸着材料との距離など）ができるだけ一定になるように配慮されている。電子銃４は、坩堝９に収納された蒸着材料１６に対して電子線１８を照射する。電子線１８により加熱・蒸発された蒸着材料の一部は、冷却ロール３上を走行する高分子フィルム１７の被蒸着面に蒸着される。
【００２３】
次に、真空槽６の上部に配置され、高分子フィルム１７の表面に蒸着された薄膜の厚みを測定するためのモニタ装置７について説明する。このモニタ装置７には、膜構成成分から特性（蛍光）Ｘ線を励起させるためのＸ線発生装置７ａが測定ロール５に対して略垂直に配置されている。Ｘ線発生装置７ａから、測定ロール５上を走行する蒸着後の高分子フィルム１７に略垂直に照射されたＸ線により励起された特性Ｘ線の一部は、測定ロール５表面に対して略３０°の角度に配置された分光結晶板７ｂに導かれ、この分光結晶板７ｂにより波長が選択された後、比例係数管７ｃに導かれる。比例計数管７ｃにより一定間隔連続的に計測された特性Ｘ線強度は、一定間隔毎にアナログの電気信号に変換される。このアナログ電気信号は、アンプ１１にて増幅された後、アナログ／デジタル変換器１２にてデジタル信号に変換される。デジタル信号に変換された特性Ｘ線強度は、厚み演算器１３にて各々の元素での厚みデータに変換された後、制御量演算器１４に入力される。ここに前記モニタ装置７、アンプ１１、アナログ／デジタル変換器１２、厚み演算器１３はオンライン測定手段を構成する。
【００２４】
制御量演算器１４は、予め設定された各元素の目標とする基準厚みデータと、入力された各々の測定厚みデータとを比較して偏差値を求める。得られた偏差値情報に基づいて、電子銃を制御するために制御データが自動的に生成される。この制御データは、電子銃制御装置１５に送られる。電子銃制御装置１５は、入力された制御データに従って電子銃４の投入電力と電子線の走査時間と走査パターンとを制御する。ここに制御量演算器１４、電子銃制御装置１５は制御手段を構成する。
【００２５】
【実施例】
以下に、実際に行った例を示す。蒸着される高分子フィルム１７として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績（株）製、Ｅ５１００：商品名）を用いた。その他使用可能な高分子フィルムとしては、ポリプロピレン、ポリエチレン、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、ナイロン４、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等が挙げられるが、高分子フィルムとして特に材質に限定されるものではない。
【００２６】
蒸着材料（蒸発源）として、３〜５ｍｍ程度の大きさの粒子状をした酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 、純度９９．５％）と酸化珪素（ＳｉＯ2 、純度９９．９％）を用いた。これら材料を保持する１個の坩堝は銅製であり、底部に外径２０ｍｍΦの冷却用水冷管２０を設けた構造とした。冷却水の流量は略４ｍ3 である。この坩堝９内に、蒸着材料をフィルム幅方向に対向して交互１列に配置させるために、２ｍｍ厚みのカーボン製しきり板１９を幅方向１００ｍｍ間隔で配置させ、計８ブロックの蒸着材料を収納できる構造とした。このしきり板１９は、後述する電子銃４の電子線１８が各蒸着材料に入射される角度と略等しい角度に傾斜して配置されている。しきり板１９で確保された各ブロツクには、前記２種類の蒸着材料を交互に均一に収容した。図２、３に、本実施例で用いた坩堝９の概略構造を示す。尚、酸化アルミニウムと酸化珪素を蒸着した高分子フィルムは、食品、医療品、電子部品など気密性を要求される包装材料やガス遮断材料として広く利用され得る。
【００２７】
電子銃４として、出力２５０ｋＷのものをフィルム幅方向に平行に配置した坩堝９に対面するように配置した。この電子銃４により、坩堝内に交互配置されたＳｉＯ2 が４ブロック、Ａｌ2 Ｏ3 が４ブロックの計８ブロックの蒸着材料を蒸着させる仕様とした。この実施例では１台の電子銃を使用したが、坩堝９に投入する総エネルギー量が１台で確保できない場合や、広幅の高分子フィルムを蒸着する場合などでは、複数の電子銃を用いて、蒸着領域を分割する方法を採用してもよく、電子銃の設置台数は特に限定されない。
【００２８】
蒸着中の真空槽内圧力は、４×１０-4Ｐａ以下を常時維持できるような排気系とした。具体的には、５００００Ｌ／秒の油拡散ポンプを真空槽底部に直接接続する構造にした。尚、蒸着直後の混合膜層の厚みは、測定ロールの略真上で、且つ高分子フィルム１７の幅方向の中央に配置されたモニタ装置７にて連続的に測定した。
【００２９】
次に、モニタ装置７を詳細に説明する。まず、ロジウムのＸ線管７ａに４０ｋＶ、５０ｍＡの電流を流して、測定ロール５上を走行中のフィルム１７に垂直に一次Ｘ線を照射した。この場合、フィルム１７上の蒸着膜に照射されるＸ線は、コリメートされた３０ｍｍΦの光束である。このＸ線により励起された特性（蛍光）Ｘ線の一部は、測定ロール５面に対して略３０゜の入射角度に配置された分光結晶板７ｂに導かれる。この分光結晶板７ｂは、ＳｉとＡｌの元素成分の特性Ｘ線波長に分光するために、２個隣り合って配置される。これらの分光結晶板７ｂに導かれた特性Ｘ線は、Ａｌの波長である８．３４ÅとＳｉの波長である７．１３Åに各々分光される。これらの選択された波長のＸ線が各々独立の比例係数管７ｃに導かれて、一定時間毎に特性Ｘ線強度が計測される。
【００３０】
尚、Ｘ線強度を測定する検出器として比例計数管以外に、珪素単結晶にリチウムを注入拡散させた半導体検出器なども使用可能であり、本実施例に用いる検出器は特に限定されない。又、本実施例では分光結晶板を用いた波長分散方式を採用したが、２元素のエネルギー分布が明らかに異なる２元素の材料を使用する場合は、分光結晶板を使わない非波長分散方式で行ってもよい。但し、ＡｌとＳｉのようにエネルギ−強度分布が近似している２元素の混合膜の各々の厚みを高精度に測定するためには、本実施例で示した波長分散方式が好ましい。
【００３１】
前記比例係数管７ｃにて計測された特性Ｘ線強度は、増幅器１１により処理可能なレベルの０〜５Ｖまで増幅された後、アナログ／デジタル変換器１２にてデジタル信号に変換された。分解能は、１２ビット（ｂｉｔ）である。変換されたデジタル信号は、厚み演算器１３により各元素毎の厚みデータに変換した。変換法は、厚みが既知である複数の蒸着サンプルでの蒸着膜厚とＸ線強度の検量線を事前に作成しておき、この検量線に基づいて厚みデータに変換する方法を採用した。
【００３２】
本実施例ではモニタ装置７を１台で固定としたが、モニタ装置７はフィルム幅方向に連続的に、又は完結にトラバースさせながら測定してもよく、また複数配置してもよい。モニタの配置法および台数は、蒸着フィルムの幅寸法や蒸着薄膜の要求品質に基づいて決定すればよく、特に限定されるものではない。
【００３３】
尚、今回使用した高分子フィルムには僅かではあるがＳｉが含まれるため、蒸着のための排気を開始して、真空度が５×１０-2Ｐａに達した時点から蒸着を開始するまでの準備時間中に、高分子フィルムを２ｍ／分の低速で走行させながら高分子フィルム中のＳｉの厚みを測定してその平均値を求めた。以後に説明する蒸着薄膜のＳｉＯ2 の厚みは、この厚みを相殺して補正した値である。
【００３４】
厚み演算器１３によって演算され出力された厚みデータは、制御量演算器１４に送られる。ここでは、厚みデータに基づいて電子銃の投入電力量と電子線の滞在時間が計算される。これらの制御データは、実験にて求められる各々の坩堝での蒸着速度（蒸着厚みに相当）と投入エネルギーとの関係式を基に計算した。
【００３５】
図４は、坩堝９での投入エネルギーとフィルム堆積厚みとの関係を示した結果である。図中、Ａ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４は坩堝中のＡｌ2 Ｏ3 の各位置を示し、Ｓ１．Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４は坩堝中のＳｉＯ2 の各位置を示すもので、交互に異なる成分が隣接して、フィルムの幅方向に対向するように順次配置されている。図４から判るように、現在の厚みと目標値との偏差値に相当するエネルギー量を現在値に加算または減算して出力することにより、目的の厚み及び組成比に制御できる。但し、これらの材料に投入されるエネルギーは、同じ電子銃４から照射される電子線１８が源であるため、実際は電子線の滞在時間を各々の坩堝に対して変化させることにより、各材料へ投入されるエネルギーを分配できる。これらの関係式を次に示す。
【００３６】
ｔａn ＝［Ｐａn ／（ΣＰａ＋ΣＰｓ）］×ｔ０
ここに、
ｔａn ：酸化アルミニウム・ブロツクｎでの電子線走査時間
Ｐａn ：酸化アルミニウム・ブロツクｎに投入するエネルギー量
ΣＰａ：計４ブロックの酸化アルミニウムに投入する総エネルギー量
ΣＰｓ：計４ブロックの酸化珪素に投入する総エネルギー量
ｔ０  ：ハードウェアーに依存する定数（ｍｓ：ミリセカンド）
各蒸着ブロックから蒸発するガスの分布は、坩堝中の各蒸着材料の蒸発特性を示す図５の３１（酸化珪素・ブロックからの蒸発成分）、３２（酸化アルミニウム・ブロックからの蒸発成分）に示すように、真上が最も強度が高く、横に広がる程、強度が低下する分布を示す。この分布強度および形状は、電子ビームの強度、電子線が入射される角度、電子銃と坩堝までの距離および蒸発面積に主に依存する。従って、薄膜を形成するフィルムの幅方向および走行方向に組成比が同じで、且つ目標とする総厚みが均一な膜を形成させるためには、蒸着材料の配置が最も重要である。本実施例における材料の配置は、図２、３に示す通りであり、電子銃と最も近い坩堝表面までの距難を約１０００ｍｍとした。尚、図中Ａ，Ｓは夫々Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 が収納されていることを示す。
【００３７】
複数の坩堝を独立にフィルム幅方向に配置することなく、１個の坩堝内に配置した薄いしきり板１９で材料を分割したのは、薄い仕切り板１９によって未蒸着面積を最小限に抑えることにより、後述する材料交差域での厚み変動を抑える効果が非常に大きいためである。更に、しきり板１９が傾いているのは電子線１８が斜めから入射される際に、しきり板１９で遮蔽されるのを防ぐためである。尚、しきり板１９は２ｍｍ厚のカーボンで製作した。
【００３８】
図５は、坩堝中の各蒸着材料の蒸発特性およびこれらを合成したグラフを示す。図５の３０はフィルムに蒸着・形成される幅方向の厚みの分布を表し、図５の３３はそのときの組成比を表す。本実施例の方法によると、材料交差域での厚み変動が無く、フィルム全幅にわたって平坦性の良いことが判る。
【００３９】
前述した条件にて、高分子フィルム１７への蒸着を行った。高分子フィルム１７の走行速度は、３００ｍ／分で計４０，０００ｍを蒸着した。坩堝は、電子銃の方向に向かって２ｍｍ／分の速度で移動させた（駆動装置は図示略）。
【００４０】
自動制御の効果を確認するために自動制御を行った場合と、モニタ装置のみ動作状態として制御系を切り離した場合とを比較した。尚、自動制御の制御周期は３０秒とした。その結果を表１に示す。自動制御を行わない場合には、総厚み変動および組成比変動が大きいのに対して、自動制御を行うと、非常に安定な膜が形成されることが判る。
【００４１】
【表１】
0003750368.tif 000002
〔別実施の形態〕
（１）上記実施形態では、真空槽としていわゆる１チャンバー式を用いた例を示したが、フィルム等の被蒸着材料を走行する室と蒸着材料を加熱する室とを異なる減圧状態にして真空蒸着を行う、いわゆる２チャンバー式の装置にも、本発明を適用できる。
【００４２】
（２）上記実施形態では、被蒸着材料の巻き出しロール及び巻き取りロールを真空槽内に配置した例を示したが、巻き出しロール及び巻き取りロールを蒸着する真空槽外に配置し、蒸着を高真空槽内で行う連続方式の装置にも適用できる。
【００４３】
（３）上記実施形態では、フィルム状の被蒸着材料として高分子フィルムを例に挙げたが、被蒸着材料としては紙、布などでもよい。又、蒸着材料として、上記した酸化アルミニウムと酸化珪素以外に、種々の元素、化合物を使用することができ、更に２種以上の蒸着材料を用いて２種以上の元素または成分からなる混合膜を形成するようにしてもよい。
【００４４】
以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載されている技術思想内において種々の改良・改変が可能である。
【００４５】
【発明の効果】
上述したように、本発明によれば走行中のフィルム表面に異なる元素の混合膜の組成比および目標厚みを有する混合膜を、フィルム幅方向および走行方向に対して長時間連続的に、且つ均ーに安定して形成できる真空蒸着装置を提供できた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係るに真空蒸着装置の概略全体構成図
【図２】本発明の一実施形態に係る真空蒸着装置に用いる坩堝とその配置を説明する図
【図３】図２の坩堝の構成を説明する図
【図４】坩堝投入エネルギーとフィルム蒸着速度との関係を説明するグラフ
【図５】各蒸着材料ブロックの蒸発特性を説明するグラフ
【符号の説明】
４          加熱手段（電子銃）
７ａ        Ｘ線発生装置
７ｃ        検出器
９          保持手段（坩堝）
１６        蒸着材料
１７        フィルム
１８        電子線
１９        しきり板
【図１】
0003750368.tif 000003
【図２】
0003750368.tif 000004
【図３】
0003750368.tif 000005
【図４】
0003750368.tif 000006
【図５】
0003750368.tif 000007