(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
ＣＨ2＝ＣＨＣＨ（ＣＨ3）ＣＮ        ＩＩ
の２−メチル−３−ブテンニトリルをアルカリ金属又はアルカリ土類金属次亜塩素酸塩を用いてα−塩素化し、かくして得られる式
ＣＨ2＝ＣＨＣ（Ｃｌ）（ＣＨ3）ＣＮ        ＩＩＩ
の２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルを、最初にＲがＣ1〜4−アルキル基を示すアルカノールＲＯＨを用いるアルカノーリシスに付し、対応する一般式
ＣＨ2＝ＣＨＣ（Ｃｌ）（ＣＨ3）ＣＯＯＲ      ＩＶ
のアルキル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートを得、続いてこれをトリフェニルホスフィンと反応させることを特徴とする一般式
Ｃｌ-（Ｃ6Ｈ5）3Ｐ+ＣＨ2ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＲ      Ｉ’
［式中、ＲはＣ1〜4−アルキル基を示す］
の（３−アルコキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドの製造法。
【請求項２】
式
ＣＨ2＝ＣＨＣＨ（ＣＨ3）ＣＮ        ＩＩ
の２−メチル−３−ブテンニトリルをアルカリ金属又はアルカリ土類金属次亜塩素酸塩を用いてα−塩素化し、かくして得られる式
ＣＨ2＝ＣＨＣ（Ｃｌ）（ＣＨ3）ＣＮ        ＩＩＩ
の２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルを、最初にトリフェニルホスフィンと反応させて式
Ｃｌ-（Ｃ6Ｈ5）3Ｐ+ＣＨ2ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＮ        Ｖ
の（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドを得、続いてこれを濃硫酸の存在下でアルカノールＲＯＨを用いるアルカノーリシスに付すことを特徴とする一般式
ＲＯＳＯ2Ｏ-（Ｃ6Ｈ5）3Ｐ+ＣＨ2ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＲ  Ｉ”
［式中、ＲはＣ1〜4−アルキル基を示す］
の（３−アルコキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムＣ1〜4−アルキルサルフェートの製造法。
【請求項３】
２−メチル−３−ブテンニトリルのα−塩素化を次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム又は次亜塩素酸カルシウムの水溶液、及び必要に応じて、本質的に水−非混和性の非プロトン性有機溶媒を用い、触媒を用いずに、あるいは相間移動触媒として第４アンモニウム塩の存在下で、約０℃ないし室温の温度範囲で行う請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
有機溶媒が脂肪族エーテル、場合によりハロゲン化されていてもよい低級アルカン、低級シクロアルカン又は石油エーテルである請求項３に記載の方法。
【請求項５】
有機溶媒がジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｎ−ヘキサン、メチレンクロリド、四塩化炭素又はシクロヘキサンである請求項４に記載の方法。
【請求項６】
場合により用いられる相間移動触媒がテトラメチルアンモニウムクロリド又はテトラエチルアンモニウムブロミドである請求項３〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリル又は（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドのアルカノーリシスをメタノール又はエタノールを用いて行う請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
アルキル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエート又は２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルとトリフェニルホスフィンとの反応を、溶媒として芳香族溶媒、ジアルキルケトン又はアルキルアルカノエートを用いて行う請求項１〜６のいずれか１つに記載の方法。
【請求項９】
芳香族溶媒がベンゼン、トルエン又はキシレンである請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリル。
【請求項１１】
一般式
ＣＨ2＝ＣＨＣ（Ｃｌ）（ＣＨ3）ＣＯＯＲ      ＩＶ
［式中、ＲはＣ1〜4−アルキル基を示す］
のアルキル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエート。
【請求項１２】
（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリド。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明はＷｉｔｔｉｇエステル塩、特に（３−アルコキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリド又はＣ1〜4−アルキルサルフェートの製造のための新規な方法に関し、そのそれぞれはカロチノイドの化学の分野において種々のポリエンカルボン酸エステルの製造のための重要なＣ5構成単位として知られている。
【０００２】
ホスホニウム塩、３−エトキシカルボニル−２−ブテニルトリフェニルホスホニウムクロリドは既知の通りエチルγ−クロロ−チグレートからトルエン中の約１１０℃におけるトリフェニルホスフィンとの反応により容易に製造することができる［Ｎｕｅｒｒｅｎｂａｃｈ  ｅｔ  ａｌ．，Ｌｉｅｂｉｇｓ  Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．１９７７，１１４６−１１５９］。エチルγ−クロロ−チグレート自身及び他の低級アルキルγ−ハロ−チグレートは種々の既知の方法に従って製造できる。例えば：
−アルキルチグレート（ａｌｋｙｌ  ｔｉｇｌａｔｅ）からＺｉｅｇｌｅｒ臭素化（四塩化炭素中でＮ−ブロモスクシンイミドを用いる）による方法［Ｉｎｈｏｆｆｅｎ  ｅｔ  ａｌ．，Ｌｉｅｂｉｇｓ  Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．５８０，１（１９５３）；Ｉｎｈｏｆｆｅｎ  ｅｔ  ａｌ．，Ｌｉｅｂｉｇｓ  Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．５８０，７（１９５３）；ならびにＫｏｒｔｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｂｅｒ．８９，２６７５（１９５６）を参照］。しかしＤｒｅｉｄｉｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，［Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ  ５３，３８３（１９７０）；Ｃｏｚｚｉ  ｅｔ  ａｌ．，Ｔｅｔｒ．Ｌｅｔｔ．３１，５６６１（１９９０）も参照］は後にこの臭素化が位置選択的に進行せず、常に２つのアルキルγ−ブロモ−チグレート異性体（所望）及び２−アルコキシカルボニル−１−ブロモ−２−ブテン（副生成物）の混合物を与え、これらは互いの分離が非常に困難であることを示すことができた。
【０００３】
−アルキルピルベートから、ビニルマグネシウムクロリドとの反応（又はブロモマグネシウムアセチリドとの反応及び続いて部分的水素化）、及びその後チオニルクロリド（Ｎｕｅｒｒｅｎｂａｃｈ  ｅｔ  ａｌ．，同上）又は三ハロゲン化リン（Ｋｉｔａｈａｒａ  ｅｔ  ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  ４４，４７１３（１９８８）］を用いたアリル転位による方法。しかしこれらの方法は高価であり、工業的観点からは興味がない。
【０００４】
−トリフェニル（Ｐｈ）ホスホラン、ＰＨ3Ｐ＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣ2Ｈ5とクロロアセトアルデヒドとのＷｉｔｔｉｇ反応を用いる方法［Ａｌｂｅｒｔｓｏｎ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２０，６０２（１９７７）ならびにＳｔｏｔｔｅｒ  ｅｔ  ａｌ．，Ｔｅｔｒａ．Ｌｅｔｔ．１９７５，１６７９］。この方法も高価であり、工業的観点からは興味がない。
【０００５】
−２−メチル−３−ブテンニトリルから出発してエタノーリシスに、ハロゲン化及び続いて脱ハロゲン化水素による方法（ドイツ特許出願公開第３，２４４，２７３号ならびに米国特許第４，９３７，３０８号明細書）。この方法も比較的高価であり、さらに不満足な結果を与えることが見いだされた。ならびに
−メチルビニルケトンをシアン化水素酸と反応させ、続いてかくして得られるニトリルをエステルに変換し（Ｐｉｎｎｅｒ反応）、エステルをチオニルクロリド又は他のハロゲン化剤を用いてアリル転位させる（ドイツ特許出願公開第２，８５２，３４３号及びＮｕｅｒｒｅｎｂａｃｈ  ｅｔ  ａｌ．，同上）ことによる方法。この方法の欠点は中でも毒性の高い試薬であるシアン化水素酸、チオニルクロリド及びメチルビニルケトンの使用である。
【０００６】
本発明の目的は経済的な方法で、中でも容易に入手できる出発材料から出発して、可能な限り少ないプロセス段階を用い、従来技術における前記の欠点を可能な限り避けて、（３−アルコキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリド及び対応するＣ1〜4−アルキルサルフェートを製造することである。
【０００７】
一般式
Ｘ-（Ｃ6Ｈ5）3Ｐ+ＣＨ2ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＲ          Ｉ
［式中、ＲはＣ1〜4−アルキル基を示し、Ｘ-はクロリド又はＣ1〜4−アルキルサルフェートイオン（Ｃｌ-又はＲＯＳＯ2Ｏ-）を示す］
の（３−アルコキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリド又はＣ1〜4−アルキルサルフェートの製造のための本発明の方法は、式
ＣＨ2＝ＣＨＣＨ（ＣＨ3）ＣＮ        ＩＩ
の２−メチル−３−ブテンニトリルをアルカリ金属又はアルカリ土類金属次亜塩素酸塩を用いてα−塩素化し、かくして得られる式
ＣＨ2＝ＣＨＣ（Ｃｌ）（ＣＨ3）ＣＮ        ＩＩＩ
の２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルを、
最初にＲがＣ1〜4−アルキル基を示すアルカノールＲＯＨを用いるアルカノーリシスに付し、対応する一般式
ＣＨ2＝ＣＨＣ（Ｃｌ）（ＣＨ3）ＣＯＯＲ      ＩＶ
のアルキル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートを得、続いてこれをトリフェニルホスフィンと反応させて一般式
Ｃｌ-（Ｃ6Ｈ5）3Ｐ+ＣＨ2ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＲ      Ｉ’
の所望の（３−アルコキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドを得るか、あるいは
最初にトリフェニルホスフィンと反応させて式
Ｃｌ-（Ｃ6Ｈ5）3Ｐ+ＣＨ2ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＮ        Ｖ
の（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドを得、続いてこれを濃硫酸の存在下でアルカノールＲＯＨを用いるアルカノーリシスに付して一般式
ＲＯＳＯ2Ｏ-（Ｃ6Ｈ5）3Ｐ+ＣＨ2ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＲ  Ｉ”
の所望の（３−アルコキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムＣ1〜4−アルキルサルフェートを得る段階を含む。
【０００８】
本発明の方法に関する上記の定義において、「Ｃ1〜4−アルキル基」（Ｒ）という用語は炭素数が１〜４の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基を意味する。このアルキル基はメチル又はエチルが好ましく、エチルが特に好ましい。上記方法の第１段階で用いられるアルカリ金属又はアルカリ土類金属次亜塩素酸塩は特に次亜塩素酸トナリウム、次亜塩素酸カリウム又は次亜塩素酸カルシウムである。
【０００９】
本発明の方法全体は以下の通りに図式的に示すことができる：
【００１０】
【化１】
0003751045.tif 000002
【００１１】
Ｉ’：Ｘ-＝Ｃｌ-（ＩＩ→ＩＩＩ→ＩＶ→Ｉ’の場合：変法１）
Ｉ”：Ｘ-＝ＲＯＳＯ2Ｏ-（ＩＩ→ＩＩＩ→Ｖ→Ｉ”の場合：変法２）
本発明の方法で用いる出発材料は容易に入手することができ、同時に簡単に得られる２−メチル−３−ブテンニトリルであり、これはアジポニトリル製造における副生成物又は廃生成物であり、ブタジエンをシアヌール酸で直接シアン化水素化することにより生ずる（例えば米国特許第３，８５０，９７３号明細書を参照）。
【００１２】
本発明の方法の第１段階でこの出発材料から製造される式ＩＩＩの２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリル、ならびに次のプロセス段階の２つの変法のそれぞれにおいて製造される中間体、すなわち式ＩＶのアルキル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエート及び式Ｖの（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドは、他方で新規な化合物である。これらの新規な化合物は本発明のさらに別の特徴をなす。
【００１３】
第１段階のα−塩素化は、次亜塩素酸トナリウム、次亜塩素酸カリウム又は次亜塩素酸カルシウムの水溶液、及び必要に応じて、本質的に水と非混和性の非プロトン性有機溶媒を用い（２相溶媒系）、触媒を用いずに、あるいは相間移動触媒の存在下で比較的低温において簡単に行われる。約１３％ｗ／ｗ（重量％）の濃度を有する市販の水溶液「Ｊａｖｅｌｌｅ水」は特に適した次亜塩素酸ナトリウム水溶液である。約１３重量％以下の濃度を用いることもできるが、この場合２−メチル−３−ブテンニトリル出発材料が塩素化に不活性である２−メチル−２−ブテンニトリルに異性化する傾向の増加が観察される。次亜塩素酸塩の濃度が約１０〜約２０％ｗ／ｗの範囲の次亜塩素酸ナトリウム又は次亜塩素酸カリウム水溶液を用いて最良の結果が得られる。塩素化剤として次亜塩素酸カルシウムを用いる場合、一般にいくらか高い濃度範囲、すなわち約２５〜約３５％ｗ／ｗを適用する。それぞれ炭素数が最高６の脂肪族エーテル、場合によりハロゲン化された低級アルカン、又は低級シクロアルカン、あるいは石油エーテルが特に有機溶媒として考慮される。好ましい有機溶媒はジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｎ−ヘキサン、メチレンクロリド、四塩化炭素及びシクロヘキサンである。考慮される相間移動触媒は特に第４アンモニウム塩であり、中でもＡｌｉｑｕａｔ３３６、テトラブチルアンモニウムビサルフェート、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムクロリド及びテトラエチルアンモニウムブロミドが含まれ、特に低級アルキル置換基を有するアンモニウム塩、例えばテトラメチルアンモニウムクロリド及びテトラエチルアンモニウムブロミドが好ましい。触媒を用いる場合、出発材料の量に基づいて一般に約２〜５モル％の触媒を用いる。α−塩素化は約０℃から室温、特に約５〜約１０℃の温度範囲で行うのが好ましい。一般に反応温度が高い程反応は速く完了する。約５℃の反応温度の場合、５時間後の変換率はわずか約５５％であるが、約１０℃の反応温度の場合、８時間後に約９０％の変換率が得られる。
【００１４】
変法１に従って続いて行われる式ＩＩＩの２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルから式ＩＶのアルキル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートへのアルカノール分解は、適した溶媒中の２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルの溶液をあらかじめ作られたＣ1〜4−アルカノール中の塩化水素の溶液に加えることにより、又は場合により別の溶媒と混合することができるＣ1〜4−アルカノール中の２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルの溶液中に塩化水素ガスを導入することにより簡単に行われる。別法の両方共、約０℃ないし室温の範囲の温度で簡単に行われる。必要な場合にアルカノールに加えて（それと混合して）用いられる適した溶媒は低級脂肪族エーテル、例えばジエチルエーテル又はジイソプロピルエーテルであり、アルカノール：エーテル体積比は簡便に言うと約５：１〜約１：２、特に１：１である。しかしエーテルの代わりに前段階で溶媒として用いられた例えば低級アルカン、例えばｎ−ヘキサン又は低級シクロアルカン、例えばシクロヘキサンを用いることができる。例えばトルエンなどの他の溶媒を用いることもできるが、変換率にいくらか負の影響を与えると思われる。アルカノール又は反応媒体中の塩化水素の濃度に関し、温度−依存的飽和限界近辺の濃度を得る努力をした（ｓｔｒｉｖｅｎ  ｆｏｒ）。エタノール中の塩化水素の溶液の添加の場合、０〜２０℃の温度範囲におけるエタノール性塩化水素の塩化水素含有率は例えば約４７〜約４１％である。一般にアルキル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートの収率は本質的に塩化水素濃度の増加と共に増加する。さらにアルカノール分解の開始時における反応混合物の温度は、アルカノール相からの塩化水素ガスの不必要な損失を避けるために簡便に言うと約１０℃を越えてはならない。次いで反応の経過中に温度を、例えば約２．５℃／時で連続的に上昇させることができ、約１５℃〜約１７．５℃の温度で最良の結果が実現できると思われる。
【００１５】
反応の完了後、この第２プロセス段階の反応混合物を、簡便に言うと０℃で反応混合物に氷／水混合物を加えるか、又はその逆により加水分解する。通常添加の間に塩化アンモニウム結晶がアルカノール相から析出し、加えられる水／氷の量に依存して再度、完全に溶液となる。
【００１６】
反応に関する上記の説明から明らかな通り、それぞれの溶媒は第２プロセス段階でも用いることができるので、ある状況下でα−塩素化段階の粗生成物を例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｎ−ヘキサン又はシクロヘキサンなどの第１プロセス段階で用いた溶媒を分離せずに次のアルカノール分解で直接反応させることができる。
【００１７】
本発明の方法におけるこの変法の最後の段階、すなわちアルキル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートの式Ｉ’のホスホニウム塩、（３−アルコキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドへの変換の場合、驚くべきことにトリフェニネホスフィンとの反応を有機溶媒中で高温において、例えば約９０〜約１５０℃の温度範囲、好ましくは約１１０〜約１３０℃、特に反応混合物の還流温度で（溶媒としてトルエンを用いる場合は約１１０℃）行うことができ、有機溶媒として芳香族化合物、例えばベンゼン、トルエン又はキシレン、ジアルキルケトン、例えばメチルイソブチルケトン、あるいはアルキルアルカノエート、例えばエチルｎ−ブチレート又はエチルイソブチレートが適していることが見いだされた。
【００１８】
第２プロセス段階の粗生成物、すなわち式ＩＶのアルキル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートも前に単離をすることなく第３プロセス段階で用いることができるが、例えばｎ−ヘキサンなどの溶媒を用いた場合、これはホスホニウム塩の形成に適した溶媒、例えばトルエンなどの芳香族化合物で置換しなければならない。他方、第２プロセス段階でアルカノールを単一の溶媒として用いた場合、有利なことに式ＩＶのエステルをホスホニウム塩形成に用いる予定の溶媒で抽出し、それによって溶媒の交換を避けることができる。
【００１９】
第１及び／又は第２プロセス段階を行った後に式ＩＩＩ又はＩＶの各生成物を単離し、精製することが望ましい場合、これはそれ自体既知の方法で行うことができる。
【００２０】
上記の反応段階の順序、α−塩素化、Ｃ1〜4−アルカノールＲＯＨを用いるアルカノール分解及びホスホニウム塩形成は、本発明の方法の変法１を示している。変法２では最後の２段階を原則的に逆の順序で行い、しかしそれによってアルカノール分解における硫酸の影響下でホスホニウムクロリドの代わりに対応するアルキルサルフェートが得られる。
【００２１】
本発明の方法の変法２に含まれる式ＩＩＩの２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルのトリフェニルホスフィンとの反応はすでに記載のホスホニウム塩形成と同様にして、すなわち簡便に言うと芳香族化合物、例えばベンゼン、トルエン又はキシレン、ジアルキルケトン又はアルキルアルカノエートを溶媒として用い、例えば約７０℃〜約１３０℃の温度範囲、好ましくは反応混合物の還流温度のような高温で行うことができる。
【００２２】
かくして製造された式Ｖの（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドの続くアルカノール分解は、変法１のアルカノール分解と対照的に、（３−アルコキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムアルキルサルフェートを得るために塩化水素の代わりに硫酸の存在下で行わなければならない。反応の結果は驚くべきと考えなければならず、比較的過激な反応条件下で行い、簡便に言うとアルカノール及び好ましくは９５〜９７％の濃硫酸の混合物中で高温において、好ましくは反応混合物の還流温度で行う。硫酸に対するアルカノールのモル比は簡便に言うと約１：１〜約３：１の範囲であり、約２：１が好ましい。
【００２３】
変法２の第１プロセス段階を行った後に式ＩＩＩの生成物を単離し、精製することが望ましい場合、これもそれ自体既知の方法で行うことができる。しかし変法１と同様にα−塩素化段階の粗生成物を、第１プロセス段階で用いた例えばトルエンなどの溶媒を分離せずにトリフエニルホスフィンと直接反応させることもできる。
【００２４】
本発明の方法のさらに別の特徴は、２−メチル−３−ブテノニトリルから［式ＣｌＣＨ2ＣＨ（Ｃｌ）ＣＨ（ＣＨ3）ＣＮの］３，４−ジクロロ−２−メチルブタンニトリル及び次いで［式ＣｌＣＨ2ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＮの］４−クロロ−２−メチル−２−ブテンニトリルを介した（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドへの進行を含む。各段階は塩素元素を用いた２−メチル−３−ブテンニトリルから３，４−ジクロロ−２−メチルブタンニトリルへの塩素化、塩基を用いたこの脱塩化水素、及びかくして得られる４−クロロ−２−メチル−２−ブテンニトリルのトリフェニルホスフィンとの所望の（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドを与える反応を含む。３，４−ジクロロ−２−メチルブタンニトリルは新規な化合物であるが、４−クロロ−２−メチル−２−ブテンニトリルは既知の化合物である［例えばＬｕｇｔｅｎｂｕｒｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ−Ｂａｓ
１０９，３７８（１９９０）を参照］。
【００２５】
２−メチル−３−ブテンニトリルの塩素化は簡単に場合によりハロゲン化された低級炭化水素を溶媒として低温で、特に０℃以下で、及び場合により塩基の存在下で行う。炭素数が最高６の場合によりハロゲン化された、好ましくは塩素化されたアルカン、例えばｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、メチレンクロリド及び四塩化炭素が溶媒として特に考慮される。反応を行う温度範囲は約−８０℃〜約＋３０℃が適しており、約−２０℃〜約＋２０℃で反応を行うのが好ましい。塩基を用いる場合、これはピリジンが好ましく、これはさらに溶媒として働くことができる。場合により溶媒の一部中の溶液としての２−メチル−３−ブテンニトリルを残りの溶媒中の塩素の溶液に加えるのが有利であることが見いだされた。しかし逆の添加（塩素溶液の滴下）も行うことができ、これは同様の結果に導き、あるいは塩素を２−メチル−３−ブテンニトリルの溶液中に直接導入することもできる。
【００２６】
続く脱塩化水素は、低級アルコール及び／又は水中でアルカリ金属アルコレート又はヒドロキシドを用いて簡単に行うことができる。しかし代わりに場合によりハロゲン化された低級炭化水素、特に炭素数が最高６の炭化水素、例えばｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン又はメチレンクロリド、あるいは芳香族化合物、例えばトルエンを溶媒として用いることができる。さらに溶媒に依存して相間移動触媒が必要であり、それは例えばハロゲン化炭化水素又は芳香族化合物を用いた場合に使用される。他方、ｎ−ペンタン又はｎ−ヘキサンを用いた場合、相間移動触媒は不必要である。用いることができる相間移動触媒の例は２−メチル−３−ブテンニトリルのα−塩素化に関連して上記で挙げたものである。テトラブチルアンモニウムクロリドが特に好ましい。脱塩化水素は約−２０℃〜約＋４０℃の温度で行うのが適しており、室温で行うのが好ましい。
【００２７】
この順序における最後のプロセス段階、すなわち４−クロロ−２−メチル−２−ブテンニトリルとトリフェニルホスフィンの反応は低級アルカノール、例えばイソプロパノールを溶媒とし、高温で、好ましくは反応混合物の還流温度で簡単に行う。
【００２８】
本発明に従って製造される（３−アルコキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリド又はＣ1〜4−アルキルサルフェートはＷｉｔｔｉｇに従う対応するカルボニル化合物との反応により種々のポリエンカルボン酸エステルの製造に用いることができる。種々の最終生成物の例（アルキルポリエンカルボキシレート）は、β−アポ−８’−カロテン酸アルキルエステル［Ｇｕｅｘ  ｅｔ  ａｌ．，米国特許第３，１１３，９６１号明細書］、β−アポ−４’−カロテン酸アルキルエステル［ニューロスポラキサンチンアルキルエステル；Ｉｓｌｅｒ  ｅｔ  ａｌ．，Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ  ４２，８６４（１９５９）］及びクロセチンアルキルエステル［Ｂｕｃｈｔａ  ｅｔ  ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．９３，１３４９（１９６０）］である。
【００２９】
本発明を以下の実施例に基づいて例示する。
【００３０】
【実施例】
実施例１
２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルの製造
１０ｇ（０．１ミリモル）の２−メチル−３−ブテンニトリル［ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）により純度は約８５％］を１００ｍｌのメチレンクロリド／５０ｍｌの水の混合物に加え、室温で１００ｍｌの１０％Ｊａｖｅｌｌｅ水（約０．１５モル）、及びその後３ｇ（１０モル％）の硫酸水素テトラブチルアンモニウムで処理する。反応混合物を室温で１６時間撹拌し、その後従来の仕上げを行う。ＧＣにより、単離された粗生成物は５６％の２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリル及び１９％の２−メチル−２−ブテンニトリルを含む。
【００３１】
粗生成物を小さいビグルーカラム上で６７℃／８０ｍｍＨｇにおいて蒸留し、第１の留分（５．４ｇ）を２５０ｇのシリカゲル上でｎ−ヘキサン／酢酸エチル（１９：１）を溶離剤として用いてクロマトグラフィーにかけ（φ０．０４〜０．０６３）、続いてバルブ管（ｂｕｌｂ−ｔｕｂｅ）において約５０℃／１５ｍｍＨｇで蒸留した後、９００ｍｇの純粋な無色の２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルを得る。純度はＧＣにより約９９％である。
【００３２】
分析データ
1Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：２．０１（ｓ，３Ｈ），５．３８（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ），５．７０（ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，１Ｈ），５．９６（２ｄ，Ｊ1＝１６，Ｊ2＝１０，１Ｈ）ｐｐｍ。
【００３３】
ＩＲ（フィルム）：２２４０ｗ，１６４０ｗ，１４１２ｓ，１０５０ｓ，９４３ｓ，８０３ｓ；
ＭＳ：１１５（Ｍ+，２），１００（１４），８０（１００），５３（９０）。
【００３４】
微量分析：
計算値：Ｃ５１．９７％  Ｈ５．２３％  Ｎ１２．１２％  Ｃｌ３０．６８％
測定値：Ｃ５２．１０％  Ｈ５．５０％  Ｎ１１．８３％  Ｃｌ３０．７５％
実施例２
２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルの製造（触媒の使用なし）
５００ｍｌのｎ−ヘキサン中の１０２ｇ（１．１モル）の２−メチル−３−ブテンニトリル（ＧＣにより純度は約８４％）をコンデンサー、温度計、サーモスタット及び機械撹拌機を備えた１ｌのダブルジャケットフラスコに入れ、混合物を混合し、１０℃に冷却する。得られた溶液に次いで７００ｇの１３％Ｊａｖｅｌｌｅ水を約２０分以内で分けて加え、続いて混合物を１０℃（氷浴冷却）で７時間撹拌する。その後混合物及び濯ぎ液（１００ｍｌのｎ−ヘキサン）を分液ロートに移し、有機相を分離する。合わせた有機相を最終的に１００ｍｌの脱イオン水で洗浄する。
【００３５】
かくして得られたヘキサン溶液は約２０〜２２重量％の２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリル（収率はＧＣにより約８９〜９２％）を含み、次のプロセス段階（アルカノール分解）に直接用いることができる。
【００３６】
実施例３
２−メチル−３−ブテンニトリルから２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルを介したエチル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートの製造（中間体の単離及び精製なし−第１「通しプロセス（ｔｈｒｏｕｇｈ  ｐｒｏｃｅｓｓ）」変法）
２５０ｍｌのｎ−ヘキサン中の４９．０ｇ（０．５モル）の２−メチル−３−ブテンニトリル（純度は約８３％）を機械撹拌機及び温度計を備えた１．５ｌのスルホン化フラスコに入れ、混合物を約５℃に冷却する（氷浴）。そこに４００ｇ（０．７モル、１．４当量）の約５℃に予備冷却した新しい１３％Ｊａｖｅｌｌｅ水、及びその後２．８ｇ（２６ミリモル、約５モル％）のテトラメチルアンモニウムクロリドを撹拌しながら一度に加える。次いで混合物を約＋５℃（氷浴）で約１６時間、及び室温で１時間半撹拌する。その後ヘキサン相を分離し、フラスコを５０ｍｌのｎ−ヘキサンで濯ぎ、同時にそれを用いて水相を再度抽出する。合わせた有機相をここで５０ｍｌの水を用いて洗浄する。得られたｎ−ヘキサン中の粗２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルの溶液（約３００ｍｌ）をここで、機械撹拌機、温度計及びガス取り入れ管を備えた１．５ｌのスルホン化フラスコにおいて、あらかじめ５℃で調製した２００ｍｌのエタノール中の１３０ｇ（３．５モル、７当量）の塩化水素ガスの溶液に５℃で撹拌しながら３０分以内で滴下する。反応混合物を０〜５℃で約１６時間、及び室温で約２〜３時間撹拌し、次いで３００ｇの氷上に注ぎ、１時間撹拌する。水相を分離し、１５０ｍｌで２回、合計３００ｍｌのｎ−ヘキサンで抽出する。合わせた有機相を１００ｍｌの飽和重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、３０ｇの無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濾過し、溶媒（ｎ−ヘキサン）をＲａｓｃｈｉｇカラム（直径：２．５ｃｍ；長さ：３０ｃｍ）上で常圧において蒸留する。残留物をビグルーカラム（ＮＳ  ２９．５；直径：２．５ｃｍ；長さ：２０ｃｍ）上で１２ミリバールにおいて蒸留する。５３〜５７℃／１２ミリバールの沸点において６４．６ｇ（２−メチル−３−ブテンニトリルに基づいて７７．３％）のエチル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートが液体として得られ、これは水と同様に透明であり、ＧＣにより純度が９７．２％である（保持時間：７．８分）。
【００３７】
分析データ
1Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：１．３１（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，３Ｈ），１．８６（ｓ，３Ｈ），４．２５（ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ），５．２７（ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，１Ｈ），５．４３（ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，１Ｈ），６．２１（２ｄ，Ｊ1＝１６Ｈｚ，Ｊ2＝１０，１Ｈ）ｐｐｍ。
【００３８】
ＩＲ（フィルム）：１７４０ｓ，１６４０ｗ，１２６５ｓ，１１２５ｓ，９９１ｍ，９３３ｍ；
ＭＳ：１２７（Ｍ−Ｃｌ，５），９９（１５），９１（３２），８９（１００），５３（５４）。
【００３９】
微量分析：
計算値：Ｃ５１．７０％  Ｈ６．８２％  Ｃｌ２１．８０％
測定値：Ｃ５１．６８％，Ｈ６．９６％  Ｃｌ２１．９０％
実施例４
２−メチル−３−ブテンニトリルから２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルを介したエチル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートの製造（中間体の単離及び精製なし−第２「通しプロセス」変法）
この変法は、溶媒及び抽出剤としてｎ−ヘキサンの代わりにシクロヘキサンを用いる以外は上記の第１変法と同様に行う。
【００４０】
４９．０ｇ（０．５モル）の２−メチル−３−ブテンニトリル（純度は約８３％）の類似の反応を用い、反応順序の最後に６３．０ｇ（２−メチル−３−ブテンニトリルに基づいて７５．３％）のエチル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートが水と同様に透明な無色の液体として得られる（沸点：５５〜６０℃／１５ミリバール；ＧＣによる純度９７．１％）。
【００４１】
実施例５
２−メチル−３−ブテンニトリルから２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルを介したエチル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートの製造（中間体の単離及び精製なし−第３「通しプロセス」変法）
２５０ｍｌの低沸点石油エーテル中の４８ｇ（０．５モル）の２−メチル−３−ブテンニトリル（純度は約８４．５％）を機械撹拌機及びサーモスタットを備えた１．５ｌの４つ口スルホン化フラスコに入れる。そこに２５０ｍｌの水中の１０５ｇ（０．５モル）の次亜塩素酸カルシウムの懸濁液を０℃で撹拌しながら加え、その後５ｇ（２４ミリモル、２．４モル％）のテトラエチルアンモニウムブロミドを加える。反応混合物を０℃で２時間、及び室温でさらに１６時間撹拌し、試料をＧＣにより分析する。これにより粗生成物が中でも４１％の２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリル及び３７％の出発材料を含むことが示される。
【００４２】
次いでさらに１００ｍｌの水中の５０ｇ（０．２５モル）の次亜塩素酸カルシウムを加え、反応混合物を室温で２４時間、及び３０℃で２時間撹拌し、それによりＧＣに従って７４．３％の２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルを含む生成物を生ずる。懸濁液を濾過し、フィルター材料を１５０ｍｌの低沸点石油エーテルで洗浄する。２相の濾液から有機相を分離し、５０ｍｌの水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過する。ここで溶媒をＲａｓｃｈｉｇカラム（直径：２．５ｃｍ、長さ：３０ｃｍ）上で常圧において、溜の重量が約２５０ｇとなるまで蒸留する。ここでこの溶液を２００ｍｌのジエチルエーテルで希釈し、あらかじめ調製した２００ｍｌの無水エタノール中の２００ｇ（５．５モル、１１当量）の塩化水素ガスの溶液に５℃で撹拌しながら約３０分以内に滴下する。混合物を５℃で約１６時間、次いで室温で１時間撹拌する。混合物の試料のエチル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエート含有率は８４．６％である。仕上げのために、混合物を５００ｇの氷上に注ぎ、室温で１時間撹拌し、１００ｇの固体塩化ナトリウムで処理する。有機相を分離し、水相を２５０ｍｌのジエチルエーテルで３回、合計７５０ｍｌで抽出する。合わせたエーテル相を１００ｍｌの飽和重炭酸ナトリウム溶液で１回洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、濃縮する。続いてビグルーカラム（直径２．５ｃｍ、長さ３０ｃｍ）上で蒸留すると５４〜５８℃／１４ミリバールにおいて５１．０ｇ（６０％）のエチル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートを、ＧＣによる純度が９５．１％の無色の液体として得る。
【００４３】
実施例６
エチル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートからの（３−エトキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドの製造
８４．０ｇ（０．４８モル、ＧＣ−修正）のエチル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエート（ＧＣによる純度９３％）及び１４４ｇ（０．５５モル）のトリフェニルホスフィンを、機械撹拌機、温度計及びコンデンサーを備えた２．５ｌの４つ口スルホン化フラスコ中で１ｌのトルエンに溶解し、４８時間加熱還流する（混合物が約１００℃になったらすでに製造されているホスホニウム塩を種結晶として加える）。室温に冷却した後、結晶スラリを濾過し、３００ｍｌのトルエンで３回、合計９００ｍｌのトルエンで洗浄し、乾燥炉中で５０℃において水流真空下に２時間乾燥する。これにより１８７．８ｇ（８８％）の（３−エトキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドを融点が１９１〜１９２℃、及びＨＰＬＣによる純度が９５．７％の明るいベージュ色の粉末として得る。
【００４４】
実施例７
２−メチル−３−ブテンニトリルから２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリル及びエチル２−クロロ−２−メチル−３−ブテノエートを介した（３−エトキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドの製造（２つの中間体の単離及び精製なし−第４「通しプロセス」変法）
２５０ｍｌのｎ−ヘキサン中の５１ｇ（０．５モル）の２−メチル−３−ブテンニトリル（純度は約８０％）を機械撹拌機及び温度計を備えた１．５ｌの４つ口スルホン化フラスコに入れ、混合物を約５℃に冷却する（低温槽）。次いで３５０ｇ（０．６３モル、１．２５当量）の新しい１３％Ｊａｖｅｌｌｅ水を５℃で撹拌しながら約２０分以内に滴下し、続いて１．４ｇ（１３ミリモル、２．５モル％）のテトラメチルアンモニウムクロリドを加える。５℃（低温槽）で１６時間撹拌した後、ヘキサン相を分離し、フラスコを５０ｍｌのｎ−ヘキサンで濯ぎ、それを用いて水相を再度抽出する。合わせた有機相を最終的に５０ｍｌの水で洗浄する。
【００４５】
このｎ−ヘキサン中の粗２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルの溶液（未乾燥、約３００ｍｌ）をここで、機械撹拌機、温度計及びガス取り入れ管を備えた１．５ｌの４つ口スルホン化フラスコ中で、あらかじめ調製した２００ｍｌの無水エタノール中の１００ｇ（２．７５モル、５．５当量）の塩化水素ガスの溶液に１０℃で撹拌しながら約３０分以内に滴下する。得られた混合物を１５℃（低温槽）で１６時間撹拌し、その後冷却する。３００ｇの氷を溶液に加え、次いでそれを室温で約３０分間撹拌する。水相を分離し、７５ｍｌのｎ−ヘキサンで２回、合計１５０ｍｌで抽出する。合わせた有機相を７５ｍｌの飽和重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、続いて（乾燥せずに）ｎ−ヘキサンをＲａｓｃｈｉｇカラム（３０ｘ２．５ｃｍ）を用いて常圧で蒸留する。これにより黄色残留物が得られ（９２．６ｇ）、それを１ｌのトルエンに溶解する。機械撹拌機及び温度計を備えた２．５ｌの４つ口スルホン化フラスコ中でこの溶液に１３１ｇ（０．５モル）のトリフェニルホスフィンを加える。続いて混合物を４０時間加熱還流する（約３０分後にすでに製造してあるホスホニウム塩の種結晶を加える）。分離した結晶スラリを２０℃に冷却し、吸引濾過し、２５０ｍｌのトルエンで３回、合計７５０ｍｌで洗浄し、真空乾燥炉中で約５０℃において１６時間乾燥する。これにより１６２．８ｇ（２−メチル−３−ブテンニトリルに基づいて７４．４％）の融点が１９１℃、及びＨＰＬＣによる純度が９７．１％のベージュ色の（３−エトキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドが得られる。
【００４６】
実施例８
２−メチル−３−ブテンニトリルから２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルを介した（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドの製造（中間体の単離及び精製なし−「通しプロセス」（ｔｈｒｏｕｇｈ  ｐｒｏｃｅｓｓ））
４９ｇ（０．５モル）の２−メチル−３−ブテンニトリル（ＧＣにより純度８４％）を２５０ｍｌのトルエン中に入れ、混合物を５℃に冷却する。そこに３５０ｇの１３％Ｊａｖｅｌｌｅ水（０．６３モル）を３０分以内で滴下し、続いて１．４ｇのテトラメチルアンモニウムクロリドを加える。得られた２相混合物を０〜５℃で１６時間、及び室温でさらに３時間撹拌する。次いで水相を分離し、１００ｍｌのトルエンで抽出する。合わせた有機相を５０ｍｌの水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過する。これにより５００ｇのトルエン中の粗２−クロロ−２−メチル−３−ブテンニトリルの溶液が得られる。
【００４７】
２５０ｇのこのトルエン溶液に追加の２００ｍｌのトルエンを加える。７０ｇ（約０．２６モル）のトリフェニルホスフィンを加えた後、黄色溶液を９０℃に加熱する（１０分後に沈澱が形成され始める）。次いで混合物を１００℃で１６時間撹拌する。続いて混合物を５℃に冷却し、沈澱を濾過し、１５０ｍｌのトルエンで３回、合計４５０ｍｌで洗浄し、水流真空下で５０℃において４時間乾燥する。これにより７９．０ｇ（８０．３％、修正）の（Ｅ／Ｚ）−（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドを融点が２７７〜２７８℃、ＨＰＬＣによる純度が９６％、（Ｅ／Ｚ）混合物（Ｅ／Ｚ比は約１：１）のほとんど白色の粉末として得る。
【００４８】
微量分析：
計算値：Ｃ７３．１１％  Ｈ５．６０％  Ｎ３．７１％  Ｃｌ９．３８％
測定値：Ｃ７２．９９％  Ｈ５．４９％  Ｎ３．４３％  Ｃｌ９．６６％
実施例９
（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドからの（３−エトキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムエチルサルフェートの製造
２０．０ｇ（０．０５１モル）の（Ｅ／Ｚ）−（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリド［Ｅ／Ｚ比は1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）に従って約５：１；純度はＨＰＬＣに従って約９７．４％］及び５４ｍｌ／４２．７ｇ（０．９２モル）のエタノールを、機械撹拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを備えた３５０ｍｌの４つ口スルホン化フラスコ中にアルゴン下で入れる。得られた懸濁液にアルゴン下でアセトン／氷を用いて冷却しながら、及び撹拌しながら（５００ｒ／分）２６ｍｌ／４７．５ｇ（０．４６モル）の濃硫酸（ＧＣによる純度９５〜９７％）を、温度が３〜５℃に保たれるようにして２０分以内で滴下する。粘性の無色溶液を還流下で２０時間撹拌する（油浴温度：１００℃）。最初の９２℃の内部温度は徐々に８３℃に下がる。氷浴中で冷却した後、反応混合物を吸引濾過し、フィルター材料を５０ｍｌのメチレンクロリドで３回、合計１５０ｍｌで洗浄する。アンモニウム、クロリド及びサルフェートイオンが無色の沈澱中に検出される（無機塩）。濾液を４０ｍｌの水で５回、合計２００ｍｌで洗浄して中性とする。有機相を無機水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、１ｌの丸底フラスコ中で回転蒸発器において水流真空下に３５℃で蒸発させる。これにより２６．９ｇの粗（Ｅ）−（３−エトキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムエチルサルフェートをＨＰＬＣによる純度が８８．４％の淡黄色の泡として得る。
【００４９】
生成物の精製のために、泡（２６．９ｇ）を６０ｍｌの熱アセトンに溶解する。生成物が溶液から沈澱し、それを最初に氷浴中で冷却する。結晶化を完結させるために、３０分後に１５０ｍｌのジエチルエーテルを加え、溶液を氷浴中でさらに１時間撹拌する。得られた結晶を吸引濾過し、２５ｍｌのジエチルエーテルで２回、合計５０ｍｌで洗浄し、五酸化リン上で２２ミリバールにおいて１６時間乾燥する。これにより２２．８ｇの（Ｅ）−（３−エトキシカルボニル−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムエチルサルフェート［（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドに基づいて８２％］を無色の粉末として得る。融点：１２１〜１２２℃；ＨＰＬＣ：純度９４．４％；薄層クロマトグラフィー：Ｒf＝０．４５、酢酸エチル：アセトン：蟻酸８：１：１を溶離剤として、ヨウ素を顕色剤として用いる。
【００５０】
上記の通りに６０ｍｌのアセトン及び１５０ｍｌのジエチルエーテルから１回再結晶すると２１．９ｇの生成物（出発材料に基づいて７９％）を無色の粉末として得る。融点：１２３〜１２５℃；ＨＰＬＣ：純度９５．５２％。
【００５１】
実施例１０
２−メチル−３−ブテンニトリルからの（ｌ，ｕ）−３，４−ジクロロ−２−メチル−ブタンニトリルの製造
５．６ｇ（０．０７１モル、０．１８当量）のピリジン（ＧＣによる純度９９．８％）中の３９．６ｇ（０．４モル、１当量）の２−メチル−３−ブテンニトリルの溶液を機械撹拌機、温度計及びガス取り入れ口を備えた２００ｍｌの４つ口スルホン化合フラスコ中にアルゴン下で入れる。約３４ｇ（０．４８モル、１．２当量）の塩素（ＧＣによる純度９９．９％、濃硫酸上で乾燥）をアルゴン下で冷却しながら（アセトン／氷浴）、１ｇ／分の通過流量で（ロタメーターを用いて調節）３４分以内に導入する。吸収される塩素の量はフラスコを秤量することにより制御する。温度は約−１０℃から２０℃に上昇する。無色の沈澱（ピリジニウムヒドロクロリド）が最初に形成され、徐々に油状の固まりに変化する。反応混合物を２０ｍｌの水中に注ぐ。反応フラスコを２５ｍｌの水で２回、合計５０ｍｌで濯ぐ。有機相を２５ｍｌの水で４回、合計１００ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過する。各水相を２５ｍｌ、合計（４洗浄相）１００ｍｌのｎ−ペンタンで抽出する。ペンタン相を２５ｍｌの水で２回、合計５０ｍｌで洗浄して中性とし、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過する。有機相全体を水流真空下で約１５℃において蒸発させる（ドライアイス／アセトンを満たしたＤｅｗａｒコンデンサーを取り付けた回転蒸発器）。これにより６０ｇの粗（ｌ，ｕ）−３，４−ジクロロ−２−メチル−ブタンニトリルを無色の油として得る。ＧＣ（ｌ＋ｕ）＝９１．９％；ジアステレオマー比（ｌ）：（ｕ）は約１：１。
【００５２】
ビグルーカラム（５ｃｍ）上で蒸留すると５２．３ｇ（７４％）の（ｌ，ｕ）生成物を与え、それはＧＣにより純度が約９０％であり、（ｌ）／（ｕ）比が約１：１である。
【００５３】
実施例１１
３，４−ジクロロ−２−メチルブタンニトリルからの４−クロロ−２−メチル−２−ブテンニトリルの製造
２４．０ｇ（０．１５モル）の（ｌ，ｕ）−３，４−ジクロロ−２−メチルブタンニトリル［（ｌ）＋（ｕ）＝ＧＣにより９４．５％；ジアステレオマー比（ｌ）：（ｕ）＝ＧＣ及び1Ｈ−ＮＭＲにより１：１］、４５０ｍｌのｎ−ペンタン及び１５０ｍｌ（０．３モル）の２Ｎ水酸化ナトリウム溶液を磁気撹拌機を備えた１ｌの丸底フラスコにアルゴン下で入れる。混合物をアルゴン下で室温において２時間撹拌する。ペンタン溶液を５０ｍｌの水で４回、合計２００ｍｌで洗浄して中性とし、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、回転蒸発器で蒸発させる（浴温度は約１５℃、アセトン／ドライアイス冷却）。これにより１８．５ｇの粗（Ｅ／Ｚ）−４−クロロ−２−メチル−２−ブテンニトリルを無色の油として得、それを続いて長さが１０ｃｍの銀メッキビグルーカラム上で蒸留する。これにより１５．６ｇ（３，４−ジクロロ−２−メチルブタンニトリルに基づいて８８％）の（Ｅ／Ｚ）−４−クロロ−２−メチル−２−ブテンニトリルを無色の催涙性の油として生じ、それは皮膚に有害である。沸点0.1＝２０〜２１℃；純度ＧＣにより９８％（Ｅ＋Ｚ）；（Ｅ）／（Ｚ）比は約１：１．２５。
【００５４】
実施例１２
（Ｅ／Ｚ）−４−クロロ−２−メチル−２−ブテンニトリルからの（Ｅ／Ｚ）混合物としての（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドの製造
１．１５ｇ（１０ミリモル）の（Ｅ／Ｚ）−４−クロロ−２−メチル−２−ブテン（Ｅ：Ｚ＝１：１）、２．６２ｇ（１０ミリモル）のトリフェニルホスフィン及び７ｍｌのイソプロパノールをアルゴン下で磁気撹拌機を備えた２５ｍｌの丸底フラスコ中に入れる。反応混合物をアルゴン下で室温において６０時間撹拌する。３０分の反応時間の後、無色の懸濁液は約２分以内に溶液になる。次いで生成物は徐々に分離する。続いて１５ｍｌの酢酸エチルを室温で加える。さらに５ｍｌの酢酸エチルを加えて結晶を濾過し、次いで５ｍｌのジエチルエーテルで２回、合計１０ｍｌで洗浄し、デシケーター中で無水五酸化リン上において２２ミリバールで１６時間乾燥する。これにより３．１ｇ（７９％）の（Ｅ／Ｚ）＝（３−シアノ−２−ブテニル）トリフェニルホスホニウムクロリドを無色の結晶性粉末として得る。融点２７６〜２７７℃；ＨＰＬＣにより純度は約９５．８％（Ｅ）＋（Ｚ）；（Ｅ）／（Ｚ）比は約５：１。