(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方が透明な一対の基板と、
前記一対の基板間に配置された液晶層と、
前記一対の基板の一方の基板上に形成され、基板面にほぼ平行な電界を前記液晶層に印加するための電極群およびこれらの電極に接続された複数のアクティブ素子と、
前記一対の基板上の前記液晶層に接触する面上に形成された配向制御膜と、
前記液晶層の分子配向状態に応じて光学特性を変える光学手段とからなる液晶表示装置において、
前記液晶層の厚みは前記一対の基板間に分散され挟持されたスペーサにより制御され、
前記スペーサはブラックマトリクス上に形成され、
前記一対の基板の少なくとも一方の液晶層に接する側の表面上において、表示画素内に形成され表面に前記配向制御膜を有する段差部の傾斜度ａ／ｂが１以下であり、
前記配向制御膜が偏光光照射により液晶配向能を付与可能な材料からなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記液晶層の厚みｄに対する前記段差の高さａの比、ａ／ｄが0.02から１の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記一対の基板のうち前記段差が形成された表面を有する側の基板が前記電極群を有する基板であることを特徴とする請求項１ないし２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記一対の基板のうち前記段差が形成された表面を有する側の基板が前記電極群を有する基板に対向配置された他方の基板であることを特徴とする請求項１ないし２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記他方の基板に複数の色の異なるカラーフィルタが形成されていることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記段差が複数の色の異なるカラーフィルタの境界上に形成されたブラックマトリクスの近傍に形成されていることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記ブラックマトリクスが樹脂材料と黒色顔料とからなり、光が透過する画素部よりも厚いことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記複数の色の異なるカラーフィルタに対応した画素部の液晶層厚が異なることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記液晶層の誘電率異方性が正であり、かつ前記液晶層の前記配向制御膜上の電界無印加時の配向方向と電界方向とのなす角が４５〜８８度であることを特徴とする請求項１ないし２に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記液晶層の誘電率異方性が負であり、かつ前記液晶層の前記配向制御膜上の電界無印加時の配向方向と電界方向とのなす角が２〜４５度であることを特徴とする請求項１ないし２に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
少なくとも一方が透明な一対の基板と、
前記一対の基板間に配置された液晶層と、
前記一対の基板の一方の基板上に形成され、基板面にほぼ平行な電界を前記液晶層に印加するための電極群およびこれらの電極に接続された複数のアクティブ素子と、
前記一対の基板上の前記液晶層に接触する面上に形成された配向制御膜と、
前記液晶層の分子配向状態に応じて光学特性を変える光学手段とからなる液晶表示装置において、
前記液晶層の厚みは前記一対の基板間で、画素の不透明部に形成されたスペーサにより制御され、
表示画素内に形成され表面に前記配向制御膜を有する段差部の傾斜度ａ／ｂが１以下であり、
前記配向制御膜が偏光光照射により液晶配向能を付与可能な材料からなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
前記スペーサがフォトリソグラフィ工程により形成されたことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記配向制御膜が光異性化反応性を有することを特徴とする請求項１から１２のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記配向制御膜がアゾベンゼン基，スチルベン基のいずれかを有することを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記配向制御膜と前記配向制御膜を有する基板との間に前記配向制御膜よりも厚くかつ透明な有機高分子層が介在していることを特徴とする請求項１３あるいは１４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記有機高分子層が基板面、前記配向制御膜層との密着性を良くするカップリング剤を有することを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記透明な有機高分子層の厚みが０．２〜３ミクロンであり、前記配向制御膜の厚みが０．０１〜０．１ミクロンであることを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記配向制御膜と前記透明な有機高分子層のいずれもがポリイミドからなることを特徴とする請求項１５から１７のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記透明な有機高分子層が非晶質であることを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記透明な有機高分子層が濃度が８％以上のポリアミック酸をイミド化が少なくとも部分的には進行する温度に加熱して形成されたことを特徴とする請求項１８あるいは１９に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
前記配向制御膜が濃度が０．５〜６％の可溶性ポリイミド或いはポリアミック酸を塗布し、少なくとも溶剤が蒸発する温度以上に加熱して形成されたことを特徴とする請求項１８あるいは１９に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、基板に対してほぼ平行な方向に電界を液晶層に印加して動作させる、いわゆる横電界（In-plane switching：ＩＰＳ）方式の液晶表示装置に係り、特に、配向制御膜の生産性の良好な大型パネル用の構造に関する。
背景技術
液晶表示装置の画面サイズの大型化，広視野角化，多色化へのニーズが強まっている。大型化に必須な視野角特性に関しては、中間調レベルが反転しない範囲，輝度，コントラスト比，色調が変化しない範囲等定義が多数存在する。多色表示においては各々の表色再現性を高める必要があり、これらのいずれの定義に基づく視野角特性をも抜本的に向上する必要がある。このような広視野角と大画面化とを両立する液晶表示として、ＩＰＳ液晶と薄膜トランジスタ(Thin film transistor：ＴＦＴ)とを組み合わせた方式（ＩＰＳ−ＴＦＴ−ＬＣＤ）の提案がなされ（太田他、プロシーディング  オブ  ザ  フィフティーンス  インターナショナル  ディスプレイ  リサーチコンファレンス（アジア  ディスプレイ’９５）ｐ.７０７）、表示画面サイズが対角１３.３インチ（ＣＲＴの１５型相当）であるモニタシステムの実用化が開始された（近藤他、エスアイディー’９６ダイジェスト  Ｎｏ.８．１）。
しかし、今後ＣＲＴで主流となっている１７型以上のより大きな画面に対応したＩＰＳ−ＴＦＴ−ＬＣＤを実用化するには、大型パネル用の新しい構造やプロセスの開発が必要である。従来技術では、本発明が対象とする段差構造のあるパネルにおいて均一配向性を付与する方法については言及されていない。
ＩＰＳ−ＴＦＴ−ＬＣＤにおいては、配向処理に困難さが伴う。そのマージンは従来型のＴＮ(Twisted Nematic)方式、とりわけ現在主流のノーマリオープン型ＴＮ方式（低電圧で明，高電圧で暗表示）に比べて著しく狭い。マージンが狭い理由は以下の（１）〜（３）の３点である。
（１）段差構造
ＩＰＳ−ＴＦＴ−ＬＣＤにおいては、原理上数ミクロン程度の幅を持つ細長い電極（櫛場電極（Inter digital electrode）と称する場合もある）を多数配設する必要がある。
そのため、微細な段差構造が形成される。段差の大きさは電極の厚みやその上に形成される各種膜の形状により決まるが、通常０.１ミクロン以上である。これらの膜の最上層にはポリイミド等の高分子膜が配向制御膜（配向膜とも称する）として形成される。従来の量産技術においてはこの配向制御膜上をラビング処理し、液晶配向能を付与する。一方で、ラビング用の布は、太さが１０〜３０ミクロン程度の細い繊維を束ねて構成されており、実質的にはこの細い繊維一本一本が配向膜の局所的な部分に一定方向の剪断力を与えることで液晶配向能を付与する処理がなされる。繊維としては数ミクロン程度の極細繊維も存在するが、ラビング用としてはある程度の摩擦力を付与するための剛性が要求されることから、実用化されていない。ＩＰＳ方式での電極間隔も上記繊維の径と同程度の１０〜３０ミクロン程度であるため、段差近傍のラビングは十分になされず、配向が乱れやすい。この配向の乱れは黒レベルの上昇、ならびにそれによるコントラスト比の低下や、輝度の不均一性といった画質の低下を引き起こす。
この問題を解決する方法として配向膜表面を平坦化する方法が提案されているが、完全に平坦化してしまうことは、以下のような副作用をもたらし、実用的ではない。第１は、一定の液晶層厚を制御するためのスペーサが移動し易くなる現象により生じる問題である。スペーサの移動により、スペーサ分布が不均一になり液晶層厚も不均一化して、輝度の不均一性が生じる。また、スペーサの移動時に配向膜表面を傷つけ光漏れも引き起こす。この点からもある程度の段差は必要である。なお、このスペーサの移動の問題を解決するには、段差は一対の基板のいずれに形成すれば良いのであるが、ＴＦＴ側を平坦化して、対向基板側に段差を形成する場合には注意が必要である。ＩＰＳ方式では有効な横電界を印加するために、細長い櫛歯状の電極を多数形成する必要があり、この結果ＴＦＴ側基板上に多数の段差ができる。この段差の解消には有機高分子膜を厚く塗布することが効果的だが、電極上に厚い絶縁膜を形成すると液晶にかかる有効電圧が低下してしまう。その結果、しきい値電圧が高くなってしまい、高耐圧のドライバを使わなくてはならず消費電力が高くなってしまうといった問題が発生する。ＴＦＴ側基板に適度な厚みの絶縁膜を形成して、適度な段差を残すのが現実的である。第１図に記載されている、液晶層厚ｄと段差ａの比ａ／ｄは少なくとも０.０２以上とする必要がある。特に、例えば対角サイズが１８インチを超えるような大型のパネルを駆動するには、ドライバＬＳＩからの電圧波形の歪みを抑えるために電極の抵抗値を低くする必要があり、電極は厚くせざるを得ない。大型パネルでは段差は必然的に残ってしまうのである。
（２）配向角
ＩＰＳ−ＴＦＴ−ＬＣＤにおいては、初期配向方向は原理上電極が伸びた方向、或いはそれと垂直な方向からある一定以上の角度をもってずらして設定する必要がある。ここで電極とは、信号配線電極，画素内の共通電極と画素電極を指す。初期配向方向をラビングで規定するには、前述のように１０〜３０ミクロン程度の繊維で所定角度方向に擦る必要があるが、信号配線電極，画素内の共通電極，画素内の画素電極といった一定方向に伸びた配線とその端部の段差により、設計角度から段差方向に繊維が引きずられてしまうという問題を引き起こす。
（３）暗レベルの沈み込み
ＩＰＳ−ＴＦＴ−ＬＣＤの特徴の一つとして、暗レベル（黒表示）の沈み込みが良好である点が挙げられる。そのため、他の方式に比較して配向の乱れが目立ちやすい。
従来のノーマリオープン型ＴＮ方式では暗レベルが高電圧を印加した状態で得られる。この場合、高電圧では液晶分子のほとんどが基板面に垂直な一方向である電界方向に揃っており、その液晶分子配列と偏光板の配置との関係で暗レベルが得られている。従って、暗レベルの均一性は原理上低電圧時の初期配向状態にはあまり依存しない。更に、人間の目は、輝度のムラは輝度の相対的な比率として認識し、かつ対数スケールに近い反応をするため、暗レベルの変動には敏感である。この観点からも高電圧で強制的に一方向に液晶分子を配列させる従来のノーマリオープン型ＴＮ方式では、初期配向状態に鈍感になり有利である。一方、横電界方式では低電圧或いは電圧ゼロにおいて暗レベルの表示をするため、初期配向状態の乱れには敏感である。特に、液晶分子配向方向を上下基板上で互いに平行とするホモジニアス配列として、かつ一方の偏光板の光透過軸をその液晶分子配向方向に平行、他方の偏光板を直交とした配置（複屈折モードと呼ばれる）では、液晶層に入射した偏光光は直線偏光をほとんど乱されずに伝搬する。このことは暗レベルを沈み込ませるのに有効である。
複屈折モードの透過率Ｔは、一般に、次の（１）式で表せる。
Ｔ＝Ｔ０・sin２{２θ(Ｅ)}・sin２{(π・deff・Δｎ)／λ}…(１)
ここで、Ｔ０は係数で、主として液晶パネルに使用される偏光板の透過率で決まる数値、θ(Ｅ)は液晶分子の配向方向（液晶層の実効的な光軸）と偏光透過軸のなす角度、Ｅは印加電界強度、deffは液晶層の実効的な厚さ、Δｎは液晶の屈折率異方性、λは光の波長を表す。また、ここで、液晶層の実効的な厚さdeffと液晶の屈折率異方性Δｎの積、すなわちdeff・Δｎをリタデーションという。なお、ここでの液晶層の厚さdeffは、液晶層全体の厚さではなく、電圧が印加されたとき、実際に配向方向を変える液晶層の厚さだけを指す。何故なら、液晶層の界面近傍の液晶分子は、界面でのアンカリングの影響により、電圧が印加されてもその配向方向を変えないからである。従って、基板によって挟持された液晶層全体の厚さをｄＬＣとすると、この厚さｄＬＣとdeffの間には、常にdeff＜ｄＬＣの関係があり、その差は液晶パネルに用いる液晶材料と、液晶層と接する界面、例えば配向膜材料の種類によって異なるが、概ね２０〜４０ｎｍ程度と見積もることができる。
上記の式（１）から明らかなように、電界強度に依存するのはsin２{{２θ(Ｅ)}の項であり、角度θを電界強度Ｅに応じて変えることで輝度が調整できる。ノーマリクローズ型にするには電圧無印加時にθ＝０度となるよう偏光板を設定するため、初期配向方向の乱れに敏感になるように作用するのである。
（４）光配向法の課題
後述するように、（１）から（３）の課題は従来のラビング法に変えて光配向法を導入することで、解決可能である。光配向法には大別して、光分解型と光反応型とが存在する。いずれの場合も実用上以下のような問題がある。配向膜材料と基板の間の密着性向上にはある程度の厚みが必要であるが、そうすると光反応性と透明性の両立が難しくなる。場合によっては着色がひどくなり、光の利用効率や画質が低下してしまう場合もある。この配向制御膜と基板との密着性の確保は実用上重要であり、光配向法の成否のポイントである。
また、前述のように段差構造のある基板に光配向法を適用するにも以下のような点に留意する必要がある。光配向法では配向膜全面に例えば紫外光のような表面を改善する能力をもった光を照射するが、この際段差部での光の反射が起こるため、反射後の光の経路にも留意する必要がある。段差部は緩やかに傾斜したテーパ構造が望ましい。第１図で示したパラメータの比、ａ／ｂを１以下（傾斜角で４５度以下）とすればテーパ部分での反射光は画素部に到達せず、配向不良を引き起こさない。
発明の開示
本発明の目的は、以上のようなＩＰＳ−ＴＦＴ−ＬＣＤの固有の問題である配向処理の製造マージンが狭いという問題を解決し、初期配向方向の変動による表示不良の発生を低減し、コントラスト比を高めた高品位な画質を有する特に大型の液晶表示装置を提供することにある。
本発明は、少なくとも一方が透明な一対の基板間に液晶層を挟んだアクティブマトリクス型横電界液晶表示装置において、液晶層の厚みは一対の基板間に分散され挟持されたスペーサによりほぼ一定の厚みに制御され、一対の基板の少なくとも一方の液晶層に接する側の表面上において、表示画素内に形成され表面に配向制御膜を有する段差部の傾斜度ａ／ｂが１以下であり、配向制御膜が偏光光照射により液晶配向能を付与可能な材料からなり、段差近傍まで液晶配向能を有するようにすることに特徴がある。
本発明によれば、段差構造のあるパネルの配向制御膜を形成する際の量産マージンが拡大でき、その結果初期配向方向を均一化した高品位な画質を有する特に大型の液晶表示装置を提供することが可能になる。従来のラビング法では段差端部がラビング用布の繊維のガイドとして作用し、段差部が伸びた方向に繊維が引き込まれたり、段差のコーナー部に繊維が届かず配向処理ができず配向不良が生じたりする。一方本発明では偏光光照射により配向能を付与するため、形状によらず微細な部分にまで一定の方向の偏光光が照射でき、その結果液晶配向方向も均一となるのである。なお、段差構造は電極群を有する基板側であっても、通常はカラーフィルタが形成されている対向側の基板であっても構わない。特に、カラーフィルタの境界部に形成されるブラックマトリクスが樹脂材料と黒色顔料とからなる場合はこのブラックマトリクス部を光が透過する画素部よりも厚くせざるを得ないため、段差が発生しやすく、本発明がより有効に作用する。逆にクロム等の金属薄膜材料でブラックマトリクスを形成すると、ブラックマトリクス部が相対的に薄くなることもある。この場合にも、本発明は有効である。また、ＩＰＳ液晶では式（１）から明らかなように、光の波長λごとに最大透過率を与える液晶層厚deffが異なるため、カラーフィルタの色毎に液晶層厚deffを変える場合にも段差が発生することから、本発明が有効になる。また、液晶の誘電率異方性が正であり、かつ配向制御膜上の電界無印加時の配向方向と電界方向とのなす角が４５〜８８度である場合や、液晶の誘電率異方性が負であり、かつ配向制御膜上の電界無印加時の配向方向と電界方向とのなす角が２〜４５度である場合、特に本発明が有効になる。
また、本発明は少なくとも一方が透明な一対の基板間に液晶層を挟んだアクティブマトリクス型横電界液晶表示装置において、分散されたスペーサの代わりに画素の不透明部に規則性を持ってスペーサを形成した場合にも有効である。この規則性のあるスペーサは例えばフォトリソグラフィ工程により形成できる。当然、スペーサであるので２〜５ミクロン程度と、かなり大きな段差を形成せざるを得ず、ラビング法の適用は困難である。
また、光反応性の配向膜材料と基板の間の密着性や着色の問題には特に配慮する必要がある。この問題に対しては、配向制御膜と基板との間に配向制御膜よりも厚くかつ透明な有機高分子層を介在させることで解決できる。透明な有機高分子層の厚みとしては０.２〜３ミクロンが、配向制御膜の厚みとしては０.０１〜０.１ミクロンが望ましい値である。有機高分子層に基板面、配向制御膜層との密着性を良くするカップリング剤を添加すれば密着性は更に強化される。この有機高分子層はある程度の厚みを有するため、温度変化等によって生じる歪みを軽減するように作用する。さらに、より望ましくは配向制御膜と透明な有機高分子層のいずれもがポリイミドであれば、同系統の材料であるため密着性がさらに強化される。透明な有機高分子層が非晶質である場合は、膜面全面が均一な状態であるため更なる歪みの軽減や密着性の向上が得られる。また、上記のような透明な有機高分子層を厚く形成するには濃度が８％以上のポリアミック酸を塗布し、その後イミド化がある程度進行する温度に加熱すると良く、配向制御膜を薄く形成するには濃度が０.５〜６％の可溶性ポリイミド或いはポリアミック酸を塗布した後、溶剤が蒸発する温度以上に加熱すれば良い。ポリアミック酸の場合は、イミド化が進行する温度まで上げることが望ましい。
【図面の簡単な説明】
第１図は、第２図の模式断面図の一部分を拡大して絶縁膜，透明な有機高分子層，配向制御層を示す図である。
第２図は、本発明の液晶表示装置のセルの模式断面図を示す図である。
第３図は、電界方向に対する液晶分子長軸配向方向と偏光板偏光透過軸のそれぞれがなす角を示す図である。
第４図は、横電界方式の液晶表示装置における液晶の動作原理を示す模式図である。
第５図は、実施例１における単位画素部の電極群，絶縁膜，配向制御膜の配置を示す平面および断面を示す模式図である。
第６図は、本発明の液晶表示装置における回路システム構成の一例を示す図である。
第７図は、本発明の液晶表示装置における光学系システム構成の一例を示す図である。
第８図は、本発明のカラーフィルタ側に段差構造を有する構成の一例を示す図である。
第９図は、本発明のカラーフィルタ側に段差構造を有する構成の他の一例を示す図である。
第１０図は、画素の不透明部に規則性を持って形成されたスペーサを有する構成の本発明の一例を示す図である。
発明を実施するための最良の形態
以下、実施例の具体的な構成を記す。
〔実施例１〕
第２図に本実施例である液晶表示装置のセルの模式断面図を示す。透明な一対の基板１，１′の間に複数の化合物を組成化した液晶層３２が挟持されている。第２図では棒状の液晶分子６により模式的に図示した。一対の基板１，１′の両外側には偏光板９，９′が配置されている。一方の基板１のセル内側の面上にはストライプ状の電極２，３が形成され、その上に絶縁層４が形成され、更にその上に配向制御膜８が形成されている。電極２は画像信号によらない定まった波形の電圧を印加する共通電極であり、電極３は画像信号に応じて波形が変わる画素電極である。また、画素電極３と同じ高さに映像信号電極１０が配置されている。画素電極３と映像信号電極１０の厚みはいずれも０.２ミクロンである。絶縁層４は２層あるが、いずれも窒化シリコン膜からなり、厚みはいずれも０.４ミクロンである。対向する他方の基板にはカラー表示を行うためのカラーフィルタ５が形成されている。
第１図は第２図の電極群周辺の膜構造をより詳細に示した模式図である。電極３，１０を覆う絶縁層４の上には透明な有機高分子層７が塗布され、さらにその上には配向制御層８が塗布されている。透明な有機高分子層及び配向制御膜の厚みはそれぞれ０.２ミクロン，０.０３ミクロンとした。段差ａは０.２５ミクロンである。また、テーパ部の幅ｂは０.３５ミクロンであり、比ａ／ｂは０.７１である。液晶層の厚みｄは４.０ミクロンであり、比ａ／ｄは０.０６２５である。
透明な有機高分子層としては非晶質な膜である日立化成社製ＰＩＱ−１８００のポリアミック酸溶液を濃度を８.５％で塗布し、１０分間温度１５０℃に加熱して溶剤を乾燥させた後、配向制御膜８の前駆体であるポリアミック酸の濃度３％の溶液を塗布した。日立化成社製ＰＩＱ−１８００のポリアミック酸溶液にはカップリング剤として、γ−アミノプロピルトリエトキシシランを２ｗｔ％混入させた。なお、密着性を引き上げるためのカップリング剤としては本実施例にて用いたものに限るものではなく、以下のようなものでも良い。例えば、４−アミノフェノキシジメチルビニルシラン，アミノメチルトリメチルシラン、２−アミノエチルアミノメチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン，メチルトリス（２−アミノエトキシ）シラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシランなどでも良い。その後、２００℃，３０分の焼成，イミド化を行った。なお、配向制御膜８の前駆体はポリイミド前駆体であるポリアミック酸であり、モノマー成分としてはジアミン化合物として、ジアゾベンゼン基を含有する化学式１と４，４′−ジアミノジフェニルメタンを等モル比で混入した物を用い、ピロメリット酸二無水物及び１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物の酸無水物にポリアミック酸として合成したものである。
0003824275.tif 000002
なお、本実施例では米国特許、4,974,941号に記載されているようなアゾベンゼン基を導入して光異性化反応性を付与して、偏光光照射による液晶配向能を付与したが、光異性化反応性を有して液晶配向性を制御できるものであればこれに限らない。例えばスチルベン基のようなものでも良い。本実施例では２層のポリイミド前駆体膜を形成した後、加熱焼成によりイミド化を行った。その後、メタノール中に分散させた粒径が４.２ミクロンの高分子スペーサビーズを溶液状態で分散させた。分散媒はアルコールなので１分以内に蒸発し、スペーサビーズのみ残った。分散密度は１mm2あたり、約１００個であった。その後、上下基板を重ねあわせ、周辺部のシール剤により空セル状態に組み立てた。
その後、波長４３６ｎｍにピークを有する高圧水銀燈を光源とし、４００ｎｍ以上の波長の光を透過する偏光フィルムを介してセル外部より偏光光を照射した。照射光量は約２Ｊ／cm2である。その後液晶組成物を室温で封入し、さらにその後、１００℃，１０分のアニーリングを施し、上記の照射偏光方向に対してほぼ垂直方向に液晶配向を得た。得られた配向状態に於ける液晶分子長軸方向は第３図で定義した角度ΦLCが７５度となるようにした。この様にして、液晶層の厚みｄが４.０μmの液晶表示装置を得た。液晶組成物としては誘電異方性が正のネマチック液晶を使った。誘電異方性Δεの値は１０.２、屈折率異方性Δｎは０.０７３である。
第４図はこのようにして得られたパネル内での液晶分子のスイッチング原理を示したものである。本実施例では液晶分子６は、電界無印加時にはストライプ状の電極の長手方向に垂直な方向に対してΦＬＣ＝７５度となるようにしてあるが、液晶の誘電率異方性が正である場合は、４５度≦｜ΦＬＣ｜＜９０度となるようにすれば良い。第４図における液晶組成物としては、誘電異方性が負のものであっても構わない。その場合には初期配向状態をストライプ状電極の垂直方向から０度≦｜ΦＬＣ｜＜４５度に配向させると良い。第４図では配向方向１１を矢印で示した。次に、第４図（ｂ），（ｄ）に示すように、電極２，３の間に電界１３を印加すると、電界１３の方向に分子長軸が平行になるように液晶分子６がその向きを変える。この時、式（１）のθが電界強度Ｅに応じて変化し、透過率が変化する。
本実施例では複屈折モードの表示方式を採用したために、直交した偏光板の間に液晶を挟んだ。さらに、低電圧で暗表示となるノーマリオープン特性とするために、一方の偏光板の偏光透過軸を初期配向方向に直交させた。観測される透過光強度は、式（１）により定まる。
第５図に本実施例における単位画素部の電極群，絶縁膜，配向制御膜の配置を示す。第５図（ａ）はパネル面に垂直な方向から見た正面図であり、第５図（ｂ），（ｃ）は側断面を示す図である。
第６図は本実施例の液晶表示装置における回路システム構成を示す。垂直走査信号回路１７，映像信号回路１８，共通電極駆動用回路１９，電源回路およびコントローラ２０で構成されるが、本発明はこの構成に限定されるものではない。
第７図は本実施例の液晶表示装置における光学系システム構成を示す。液晶パネル２７の背面に、光源２１，ライトカバー２２，導光体２３，拡散板２４から成るバックライトユニット２６が設けられている。ここでは正面輝度を増大させるためのプリズムシート２５が設けられているが、なくても問題ない。むしろ、輝度の視野角依存性を軽減するにはない方が良い。
以上の構成により対角が１３.３インチ，画素数が１.０２４×ＲＧＢ×７６８のＩＰＳ−ＴＦＴ−ＬＣＤを試作したところ、コントラスト比が全面に渡り３００を越し、かつ表示均一性の良好な液晶表示装置が得られた。
〔比較例１〕
実施例１とは配向制御法として光配向法に代わり、ラビング法を用いた点のみ異なる。モノマー成分としてはジアミン化合物として、４，４′−ジアミノジフェニルメタンを用い、光反応性を有するものは使わなかった。
以上の構成により実施例と同じサイズのＩＰＳ−ＴＦＴ−ＬＣＤを試作したところ、段差部での配向の乱れに伴う光の漏れが観測された。その結果、コントラスト比の不均一性が見られ、低いところでは８０、高いところでも１８０程度に留まった。
〔実施例２〕
実施例１に対して、以下の点が異なる。
電極群を有する基板に対向配置された他方の基板上に段差構造を付与した。また、この対向基板にはカラーフィルタが形成されており、３原色である赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）の境界部に樹脂材料と黒色顔料との混合物からなるブラックマトリクスを形成した。第８図にその構成を示す。ブラックマトリクスの厚みは３原色のカラーフィルタ部のいずれよりも厚くなっている。ブラックマトリクス及び３原色のカラーフィルタ部の上には、実施例１の電極側基板上と同様に透明な有機高分子層７及び偏光光照射により液晶配向能が付与された配向制御層８が塗布されている。なお、式（１）のところで説明したように色毎に最大透過率を与える液晶層厚が異なるため、本実施例ではより短波長の光を利用する青の画素の液晶層が薄くなるように、カラーフィルタの厚みを０.２ミクロン程度厚くした。この場合、配向制御層８の表面での段差ａは最大０.５ミクロンである。また、テーパ部の幅ｂは０.６ミクロンであり、比ａ／ｂは０.８３である。液晶層の厚みｄは３.３ミクロンであり、比ａ／ｄは０.１５である。
以上の構成により同様に対角が１３.３インチ，画素数が１，０２４×ＲＧＢ×７６８のＩＰＳ−ＴＦＴ−ＬＣＤを試作したところ、コントラスト比が全面に渡り３００を越し、かつ表示均一性の良好な液晶表示装置が得られた。
〔実施例３〕
実施例２ではブラックマトリクスの厚みは３原色のカラーフィルタ部のいずれよりも厚くなっていたが、本実施例では逆にブラックマトリクス部が最も薄くなっている。他の点は実施例２と同じである。ブラックマトリクス用部材としては低反射の３層クロム膜を用いた。この場合、配向制御層８の表面での段差ａは最大０.１５ミクロンである。また、テーパ部の幅ｂは０.８ミクロンであり、比ａ／ｂは０.１９である。液晶層の厚みｄは４.２ミクロンであり、比ａ／ｄは０.０３６である。
以上の構成により同様に対角が１３.３インチ，画素数が１，０２４×ＲＧＢ×７６８のＩＰＳ−ＴＦＴ−ＬＣＤを試作したところ、コントラスト比が全面に渡り３００を越し、かつ表示均一性の良好な液晶表示装置が得られた。
〔実施例４〕
実施例１から３ではスペーサとして高分子ビーズを分散して得たが、本実施例ではフォトリソグラフィ工程によりブラックマトリクス上に規則性を持って高さ２.９ミクロンの柱を形成した。画素部の最大段差ａは、０.１５ミクロンである。また、テーパ部の幅ｂは０.２０ミクロンであり、比ａ／ｂは０.７５である。液晶層の厚みｄは柱の高さと同じく２.９ミクロンであり、比ａ／ｄは０.０５２である。
以上の構成により同様に対角が１３.３インチ，画素数が１，０２４×ＲＧＢ×７６８のＩＰＳ−ＴＦＴ−ＬＣＤを試作したところ、コントラスト比が全面に渡り３００を越し、かつ表示均一性の良好な液晶表示装置が得られた。
本発明によれば、基板に対してほぼ平行な方向に電界を液晶層に印加して動作させる、ＩＰＳ−ＴＦＴ−ＬＣＤの固有の問題である配向処理の製造マージンが狭いという問題を解決する。また、同時に初期配向方向の変動による表示不良の発生を低減した高品位な画質を有する液晶表示装置を提供することが可能になる。以上により、特に大型の高画質液晶表示装置の実用化が可能になる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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