(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを保持して所定の走査方向に移動可能なマスクステージと、感光基板を保持して前記走査方向に移動可能な基板ステージとを備えた露光装置に用いられる、ステージ駆動制御装置であって、
位置又は速度の指令に基づいて前記マスクステージと前記基板ステージの内の一方のステージを駆動制御する第１のステージ制御系と；
前記一方のステージの位置を計測する第１の位置計測手段と；
前記第１の位置計測手段の計測の時間遅れを補正する第１の時間遅れ補正手段と；
他方のステージの位置を計測する第２の位置計測手段と；
前記第２の位置計測手段の計測の時間遅れを補正する第２の時間遅れ補正手段と；
前記一方のステージと他方のステージとが所定の位置関係になるように、時間遅れが補正された後の前記一方のステージの位置情報と時間遅れが補正された後の前記他方のステージの位置情報とに基づいて前記他方のステージを駆動制御する第２のステージ制御系とを有するステージ駆動制御装置。
【請求項２】
前記第１及び第２の時間遅れ補正手段の少なくとも一方は、予め測定した対応する位置計測手段の固有の遅れ時間と対応するステージの走査速度との積を計測された位置に加算して時間遅れを補正することを特徴とする請求項１に記載のステージ駆動制御装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ステージ駆動制御装置に係り、特にマスクステージと基板ステージとを同期してそれぞれ所定走査方向に移動させつつマスク上のパターンを感光基板に転写する、いわゆるスキャン型露光装置用として好適なステージ駆動制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
スキャン型露光装置は、基板ステージとマスクステージ（レチクルステージ）を逆方向又は同一方向に同時に加速し、加速終了後の各ステージの速度を同期させ、基板ステージ上の感光基板にレチクル上のパターンを投影光学系を介して転写する露光装置である。
【０００３】
このスキャン型投影露光装置では、ウエハステージ、レチクルステージの位置をそれぞれ位置センサを用いて検出し、これらのステージを同時に駆動制御している。より具体的には、一方のステージ、例えばウエハステージのコントローラに速度指令を与え、ウエハステージの位置を検出する位置センサの出力をレチクルステージの制御系に与え、このレチクルステージの制御系がレチクルステージ座標系上での両ステージの位置誤差分をキャンセルすべく、レチクルステージを駆動制御することにより、両ステージが所定の位置関係を維持して同期制御がなされるようになっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ステージの速度が高速になるのに伴って位置センサの計測時の時間遅れに起因する両ステージの同期ズレが問題となってきた。例えば、位置センサとしてレーザ干渉計を用いる装置においては、受光素子や回路（例えば、センサアンプのアナログ回路）の信号処理時間により数十μｓｅｃの時間遅れが実際のステージ移動位置と位置の計測結果との間に生ずる。この時間遅れの影響が全てのセンサで同一であれば同期制御に影響は与えない。しかし、現実には、時間遅れはセンサ毎に異なる（センサ間にバラツキがある）ことが殆どであり、このためレチクルステージとウエハステージとの間に同期ズレが生じ、これが露光不良の一因となるという不都合があった。ステージの速度が早い程、この同期ズレによる位置ずれも大きくなる。
【０００５】
本発明は、かかる従来技術の有する不都合に鑑みてなされたもので、その目的は、基板ステージとマスクステージとの同期ズレの発生を有効に防止することができるステージ駆動制御装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、マスクを保持して所定の走査方向に移動可能なマスクステージと、感光基板を保持して前記走査方向に移動可能な基板ステージとを備えた露光装置に用いられる、ステージ駆動制御装置であって、位置又は速度の指令に基づいて前記マスクステージと前記基板ステージの内の一方のステージを駆動制御する第１のステージ制御系と；前記一方のステージの位置を計測する第１の位置計測手段と；前記第１の位置計測手段の計測の時間遅れを補正する第１の時間遅れ補正手段と；他方のステージの位置を計測する第２の位置計測手段と；前記第２の位置計測手段の計測の時間遅れを補正する第２の時間遅れ補正手段と；前記一方のステージと他方のステージとが所定の位置関係になるように、時間遅れが補正された後の前記一方のステージの位置情報と時間遅れが補正された後の前記他方のステージの位置情報とに基づいて前記他方のステージを駆動制御する第２のステージ制御系とを有する。
【０００７】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のステージ駆動制御装置において、前記第１及び第２の時間遅れ補正手段の少なくとも一方は、予め測定した対応する位置計測手段の固有の遅れ時間と対応するステージの走査速度との積を計測された位置に加算して時間遅れを補正することを特徴とする。
【０００８】
【作用】
請求項１に記載の発明によれば、露光のための走査中、第１のステージ制御系により位置又は速度の指令に基づいてマスクステージと基板ステージの内の一方のステージ、例えば基板ステージが駆動制御される。このとき、基板ステージの位置は第１の位置計測手段により計測され、第１の時間遅れ補正手段により第１の位置計測手段の計測の時間遅れが補正される。一方、マスクステージの位置は第２の位置計測手段により計測され、この第２の計測手段の計測の時間遅れが第２の時間遅れ補正手段により補正される。そして、第２のステージ制御系では基板ステージとマスクステージとが所定の位置関係になるように、時間遅れが補正された後の基板ステージの位置情報と時間遅れが補正された後のマスクステージの位置情報とに基づいてマスクステージを駆動制御する。
【０００９】
これによれば、マスクステージ、基板ステージともにそれぞれの位置計測手段の計測の時間遅れが補正された位置情報に基づいて両ステージが所定の位置関係になるように制御されるので、位置計測の時間遅れにより両ステージ間に同期ズレが生じることがない。上記と反対に、第１のステージ制御系によりマスクステージを駆動制御し、第２のステージ制御系により基板ステージを駆動制御しても同様である。
【００１０】
請求項２に記載の発明では請求項１に記載の第１及び第２の時間遅れ補正手段の少なくとも一方が、予め測定した対応する位置計測手段の固有の遅れ時間（計測の時間遅れ）Δｔと対応するステージの走査速度ｖとの積を計測された位置に加算して時間遅れを補正する。これによれば、位置計測手段の固有の遅れ時間Δｔの間にそのステージが進む距離（Δｔ×ｖ）が測定値に加算されるので、結果的に正しい位置をリアルタイムに測定したのと同じことになって計測時間遅れによる悪影響は生じない。例えば、位置計測手段としてレーザ干渉計を使用する場合の計測の時間遅れは、数十μｓｅｃであるからこの間のステージの走査速度は一定と考えて良いので、非常に高精度に時間遅れが補正される。
【００１１】
【実施例】
《第１実施例》
以下、本発明の一実施例を図１に基づいて説明する。
【００１２】
図１には、スキャン型露光装置に適用された一実施例に係るステージ駆動制御装置１０の構成が示されている。
【００１３】
図１において、除振台１２の上には、本体コラム１４及びウエハ支持台１６が載置され、本体コラム１４の上には、レチクル支持台１８が載置されている。
【００１４】
ウエハ支持台１６上には、基板ステージとしてのウエハステージ（ＷＳＴＧ）２０が走査方向（図１におけるＹ方向）及びこれに直交するＸ方向（図１における紙面直交方向）に移動可能に設けられている。また、レチクル支持台１８上にはマスクステージとしてのレチクルステージ（ＲＳＴＧ）２２が走査方向に移動可能に設けられている。
【００１５】
ウエハステージ２０の上方には、投影光学系ＰＬがその光軸を当該ウエハステージ２０の移動面に直交する方向（図１におけるＺ方向）に向けて配置され、本体コラム１４に保持されている。ウエハステージ２０上に感光基板としてのウエハＷが載置され、レチクルステージ２２上にマスクとしてのレチクルＲが載置されている。レチクルのパターン面とウエハ表面とは、投影光学系ＰＬに関して共役となるようにされている。
【００１６】
ウエハステージ２０の走査方向の一端（図１における左端）にウエハ・レーザ干渉計（Ｗレーザ干渉計）２６用の移動鏡３０が走査直交方向に延設されている。同様に、レチクルステージ２２の走査方向の他端（図１における右端）には、レチクル・レーザ干渉計（Ｒレーザ干渉計）３２用の移動鏡３６が走査直交方向に延設されている。
【００１７】
ステージ駆動制御装置１０は、移動鏡３０に向けてレーザ光を照射すると共にその反射光を受光してウエハステージ２０の位置を検出する第１の位置計測手段としてのウエハ・レーザ干渉計（Ｗレーザ干渉計）２６と、移動鏡３６に向けてレーザ光を照射すると共にその反射光を受光してレチクルステージ２２の位置を検出する第２の位置計測手段としてのレチクル・レーザ干渉計（Ｒレーザ干渉計）３２と、第１のステージ制御系としてのウエハステージコントローラ４０と、レチクルステージコントローラ４２と、ウエハステージ用速度指令部（Ｗ速度指令部）４６と、ウエハ・レーザ干渉計２６の時間遅れを補正する第１の時間遅れ補正手段としての第１の遅れ補正部４８と、レチクル・レーザ干渉計３２の時間遅れを補正する第２の時間遅れ補正手段としての第２の遅れ補正部５０と、演算回路５２とを備えている。
【００１８】
ウエハステージコントローラ４０は、ウエハステージ用速度指令部４６からの速度指令に基づいて図示しない駆動系を介してウエハステージ２０の速度を制御する。
【００１９】
第１の遅れ補正部４８は、次式（１）に基づいてウエハ・レーザ干渉計２６の位置計測の時間遅れを補正する。
【００２０】
【数１】
ＷＹ’＝ＷＹ＋ΔｔWY・ｖWY      ………（１）
ここで、ＷＹ’：時間遅れ補正後のＷステージの位置情報
ＷＹ  ：Ｗレーザ干渉計の計測値
ΔｔWY：Ｗレーザ干渉計の遅れ時間
ｖWY  ：ウエハステージの走査速度
【００２１】
同様に、第２遅れ補正部４８は、次式（２）に基づいてレチクル・レーザ干渉計３２の位置計測の時間遅れを補正する。
【００２２】
【数２】
ＲＹ’＝ＲＹ＋ΔｔRY・ｖRY      ………（２）
ここで、ＲＹ’ ：時間遅れ補正後のＲステージの位置情報
ＲＹ   ：Ｒレーザ干渉計の計測値
ΔｔRY ：Ｒレーザ干渉計の遅れ時間
ｖRY   ：レチクルステージの走査速度
【００２３】
ここで、Ｗレーザ干渉計２６の遅れ時間ΔｔWY、Ｒレーザ干渉計３２の遅れ時間ΔｔRYは、それぞれの干渉計に固有の値で、本実施例では予めそれぞれのレーザ干渉計の受光系、回路系の処理時間による時間遅れを電気計測器を用いて直接測定し、その測定結果が遅れ時間ΔｔWY、ΔｔRYとして図示しないメモリに格納されている。
【００２４】
演算器５２は、これら第１、第２の遅れ補正部４８、５０からの位置情報ＷＹ’、ＲＹ’を入力し、レチクルステージ座標系上での両ステージ２０、２２の位置誤差を次式（３）に基づいて演算する。
【００２５】
【数３】
ＥrrＲY＝ａＷＹ’−ＲＹ’      ………（３）
ここで、ＥrrＲY ：レチクルステージ座標系上での両ステージの位置誤差
ａ  ：投影光学系ＰＬの投影倍率の逆数
【００２６】
レチクルステージコントローラ４２は、演算器５２と共に第２のステージ制御系を構成するもので、演算器５２から出力される両ステージ２０、２２の位置誤差ＥrrＲY を零にするように図示しない駆動系を介してレチクルステージ２２を駆動制御する。
【００２７】
以上のようにして構成されたステージ駆動制御装置１０によれば、ウエハステージコントローラ４０に速度指令（スキャンコマンド）が与えられウエハステージ２０がＹ方向にスキャン動作を開始する。その結果、時事刻々変化するウエハステージ２０の位置がＷレーザ干渉計２６により計測される。第１の遅れ補正部４８は、式（１）によりＷレーザ干渉計２６の計測値ＷＹを補正してＷＹ’を求める。同様に、第２の遅れ補正部５０によって式（２）に基づいてＲＹ’が求められている。演算器５２によって式（３）に基づいてＥrrＲY が算出され、レチクルステージコントローラ４２によってＥrrＲY を零とするようにレチクルステージ２２が駆動制御される。このようにして、レチクルＲの投影像が常にウエハＷ上で静止するように、投影レンズＰＬの投影倍率比でレチクルステージ２２とウエハステージ２０が速度制御される。
【００２８】
以上説明したように、本第１実施例によると、ウエハ・レーザ干渉計２６、レチクル・レーザ干渉計３２の計測の時間遅れが、第１、第２の遅れ補正部４８、５０によって補正されるので、ウエハステージ２６、レチクルステージ３２の走査速度（スキャン速度）が高速になっても両ステージ２６、３２に同期ズレが殆ど生ずることがない。
【００２９】
《第２実施例》
次に、本発明の第２実施例を図２ないし図３に基づいて説明する。この第２実施例のステージ駆動制御装置では、レチクルステージ２２、ウエハステージ２０側ともに干渉計の配置が異なるものの、全体的な構成は第１実施例の装置１０と同様である。そこで、以下の説明においては、第１実施例と同一若しくは同等の構成部分については同一の符号を用いるものとする。
【００３０】
図２には、本第２実施例のレチクル・レーザ干渉計の配置を説明するためのレチクルステージ３２の平面図が示されている。この図２において、レチクルステージ２２のＹ方向の一端（図における右端）には、所定間隔を隔ててコーナキューブ型の反射要素から成る一対のＹ方向の移動鏡３６Ｙ1 、３６Ｙ2 が配置されている。また、Ｘ方向の一端（図における下端）にはＸ方向の移動鏡３６ＸがＹ方向に延設されている。
【００３１】
前記一対のＹ方向の移動鏡３６Ｙ1 、３６Ｙ2 には、Ｙ軸用のレーザ干渉計３２Ｙ1 、３２Ｙ2 からレーザ光がＹ軸に平行に照射され、移動鏡３６Ｙ1 、３６Ｙ2 で反射されたレーザ光はそれぞれ反射ミラー６０、６２で反射されて戻されている。即ち、レーザ干渉計３２Ｙ1 、３２Ｙ2 はダブルパス干渉計であり、これによってレチクルステージ３２の回転によるレーザビームの位置ずれが生じ難いようになっている。
【００３２】
また、Ｘ方向の移動鏡３６Ｘには、Ｘ軸用のレーザ干渉計３２ＸからＸ軸に平行にレーザビームが照射され、レーザ干渉計３２Ｘではこの移動鏡からの反射光を受光してレチクルステージ２２のＸ方向位置を計測するようになっている。
【００３３】
図３には、本第２実施例のウエハ・レーザ干渉計の配置を説明するためのウエハステージ２０の平面図が示されている。この図３において、ウエハステージ２０のＹ方向の一端（図における左端）にはＹ方向の移動鏡３０ＹがＸ方向に延設され、また、Ｘ方向の一端（図における下端）にはＸ方向の移動鏡３０ＸがＹ方向に延設されている。
【００３４】
Ｙ方向の移動鏡３０Ｙには、一対のＹ軸用のレーザ干渉計２６Ｙ1 、２６Ｙ2 からＹ軸に平行な光路に沿って所定間隔でレーザ光がぞれぞれ照射され、レーザ干渉計２６Ｙ1 、２６Ｙ2 ではこの移動鏡３０Ｙからの反射光を受光してウエハステージ２０のＹ方向位置をそれぞれ計測するようになっている。また、Ｘ方向の移動鏡３０Ｘには、一対のＸ軸用のレーザ干渉計２６Ｘ1 、２６Ｘ2 からＸ軸に平行な光路に沿って所定間隔でレーザ光がそれぞれ照射され、レーザ干渉計２６Ｘ1 、２６Ｘ2 ではこの移動鏡３０Ｘからの反射光を受光してウエハステージ２０のＸ方向位置をそれぞれ計測するようになっている。このように、本第２実施例では、Ｘ軸用、Ｙ軸用として各一対のウエハ・レーザ干渉計が設けられ、これによりウエハステージ２０のＸＹ２次元方向位置に加え、回転方向の位置をも計測できるようになっている。
【００３５】
本実施例のステージ駆動制御装置の構成の特徴を簡単に言えば、前述した図１において、Ｗレーザ干渉計２６がウエハ側の４つのレーザ干渉計２６Ｘ1 、２６Ｘ2 、２６Ｙ1 、２６Ｙ2 に置き換えられ、Ｒレーザ干渉計３２がレチクル側の３つのレーザ干渉計３２Ｘ、３２Ｙ1 、３２Ｙ2 に置き換えられ、これに対応して第１の遅れ補正部４８によってウエハ側の４つのレーザ干渉計２６Ｘ1 、２６Ｘ2 、２６Ｙ1 、２６Ｙ2 のそれぞれの計測の時間遅れが補正され、第２の遅れ補正部５０によってレチクル側の３つのレーザ干渉計３２Ｘ、３２Ｙ1 、３２Ｙ2 のそれぞれの計測の時間遅れが補正され、演算器５２の計算が複雑になっているということである。
【００３６】
これを更に詳述すると、第１の遅れ補正部４８では次式（４）に従って４つのレーザ干渉計２６Ｘ1 、２６Ｘ2 、２６Ｙ1 、２６Ｙ2 の時間遅れを補正する。
【００３７】
【数４】
0003852486.tif 000002
【００３８】
ここで、ＷＸ１’：時間遅れ補正後のレーザ干渉計２６Ｘ1 の位置情報
ＷＸ２’：時間遅れ補正後のレーザ干渉計２６Ｘ2 の位置情報
ＷＹ１’：時間遅れ補正後のレーザ干渉計２６Ｙ1 の位置情報
ＷＹ２’：時間遅れ補正後のレーザ干渉計２６Ｙ2 の位置情報
ＷＸ１  ：レーザ干渉計２６Ｘ1 の計測値
ＷＸ２  ：レーザ干渉計２６Ｘ2 の計測値
ＷＹ１  ：レーザ干渉計２６Ｙ1 の計測値
ＷＹ２  ：レーザ干渉計２６Ｙ2 の計測値
ΔｔWX1 ：レーザ干渉計２６Ｘ1 の遅れ時間
ΔｔWX2 ：レーザ干渉計２６Ｘ2 の遅れ時間
ΔｔWY1 ：レーザ干渉計２６Ｙ1 の遅れ時間
ΔｔWY2 ：レーザ干渉計２６Ｙ2 の遅れ時間
ｖWX    ：ウエハステージの走査直交方向速度
ｖWY    ：ウエハステージの走査方向速度
【００３９】
同様に、第２の遅れ補正部５０では次式（５）に従って３つのレーザ干渉計３２Ｘ、３２Ｙ1 、３２Ｙ2 の時間遅れを補正する。
【００４０】
【数５】
0003852486.tif 000003
【００４１】
ここで、ＲＸ’：時間遅れ補正後のレーザ干渉計３２Ｘの位置情報
ＲＬ’：時間遅れ補正後のレーザ干渉計３２Ｙ1 の位置情報
ＲＲ’：時間遅れ補正後のレーザ干渉計３２Ｙ2 の位置情報
ＲＸ  ：レーザ干渉計３２Ｘの計測値
ＲＬ  ：レーザ干渉計３２Ｙ1 の計測値
ＲＲ  ：レーザ干渉計３２Ｙ2 の計測値
ΔｔRX：レーザ干渉計３２Ｘの遅れ時間
ΔｔRL：レーザ干渉計３２Ｙ1 の遅れ時間
ΔｔRR：レーザ干渉計３２Ｙ2 の遅れ時間
ｖRX    ：レチクルステージの走査直交方向速度
ｖRY    ：レチクルステージの走査方向速度
【００４２】
ここで、それぞれのレーザ干渉計の遅れ時間ΔｔWX1 、ΔｔWX2 、ΔｔWY1 、ΔｔWY2 、ΔｔRX、ΔｔRL、ΔｔRRは、それぞれの干渉計に固有の値で、本実施例では予めそれぞれのレーザ干渉計の受光系、回路系の処理時間による時間遅れを電気計測器を用いて直接測定し、その測定結果が遅れ時間ΔｔWX1 、ΔｔWX2 、ΔｔWY1 、ΔｔWY2 、ΔｔRX、ΔｔRL、ΔｔRRとして図示しないメモリに格納されている。
【００４３】
演算器５２は、第１の遅れ補正部４８からの位置情報ＷＸ１’、ＷＸ２’、ＷＹ１’、ＷＹ２’と、第２の遅れ補正部５０からの位置情報ＲＸ’、ＲＬ’、ＲＲ’を入力し、レチクル干渉計側座標上での両ステージ２０、２２の位置誤差ＥrrＲＸ、ＥrrＲＬ、ＥrrＲＲを次式（６）に基づいて演算する。
【００４４】
【数６】
0003852486.tif 000004
【００４５】
但し、ａ11〜ａ34：レチクル座標とウエハ座標の関係を定める定数
ｂ1 〜ｂ3 ：レチクル干渉計側座標とウエハ干渉計側座標のオフセットなお、ａ11〜ａ34を要素とするマトリックスは、座標変換マトリックスである。
【００４６】
レチクルステージコントローラ４２は、演算器５２から出力される両ステージ２０、２２の位置誤差ＥrrＲＸ、ＥrrＲＬ、ＥrrＲＲを零にするように図示しない駆動系を介してレチクルステージ２２を駆動制御する。その他の部分の構成は、第１実施例と同様である。
【００４７】
以上のようにして構成された本第２実施例のステージ駆動制御装置によれば、ウエハステージコントローラ４０に速度指令（スキャンコマンド）が与えられウエハステージ２０がＹ方向にスキャン動作を開始する。ウエハステージ２０の位置がレーザ干渉計２６Ｘ1 、２６Ｘ2 、２６Ｙ1 、２６Ｙ2 より計測される。第１の遅れ補正部４８は、式（４）によりレーザ干渉計２６Ｘ1 、２６Ｘ2 、２６Ｙ1 、２６Ｙ2 の計測値ＷＸ１、ＷＸ２、ＷＹ１、ＷＹ２を補正してＷＸ１’、ＷＸ２’、ＷＹ１’、ＷＹ２’を求める。ここで、ウエハＸ方向スキャン速度ｖWXは、通常ほとんど零であるが、ステージガイドに回転や直交度曲がりがあると生ずる。
【００４８】
同様に、第２の遅れ補正部５０によって式（５）に基づいてＲＸ’、ＲＬ’、ＲＲ’が求められている。演算器５２によって式（６）に基づいてＥrrＲＸ、ＥrrＲＬ、ＥrrＲＲが算出され、レチクルステージコントローラ４２によってＥrrＲＸ、ＥrrＲＬ、ＥrrＲＲを零とするようにレチクルステージ２２が駆動制御される。このようにして、レチクルＲのパターンの投影像が常にウエハＷ上で静止するように、投影レンズＰＬの投影倍率比でレチクルステージ２２とウエハステージ２０の走査速度が制御される。
【００４９】
以上説明した本第２実施例によると、第１実施例と同様に、ウエハステージ２０、レチクルステージ２２の走査速度（スキャン速度）が高速になっても両ステージ２０、２２に同期ズレが生ずるのを有効に防止することができる他、回転方向ズレ（例えばレーザ干渉計３２Ｙ1 、３２Ｙ2 間に遅れ誤差があると生じる）も補正することができるという利点もある。
【００５０】
なお、上記第１、第２実施例では、レーザ干渉計の時間遅れを計測する方法として、直接電気計測器によって受光系・回路系の遅れを測定する場合について例示したが、走査（スキャン）速度を変えて露光を行い、できた像の位置ズレを計測することにより、各レーザ干渉計の時間遅れを間接的に計測しても良い。
【００５１】
また、上記第１、第２実施例では、スキャンコマンドをウエハステージコントローラに与え、ウエハステージの位置情報をレチクルステージの閉ループ制御系に与え、レチクルステージがウエハステージを追従する構成のステージ制御装置について例示したが、本発明がこれに限定されるものではなく、反対に、スキャンコマンドをレチクルステージコントローラに与え、レチクルステージの位置情報をウエハステージの閉ループ制御系に与え、ウエハステージがレチクルステージを追従する構成にすることも可能である。
【００５２】
更に、上記実施例では、ウエハステージの制御系を開ループの速度制御系から成るウエハステージコントローラ４０により構成する場合を例示したが、例えば、第１の遅れ補正部４８の出力をウエハステージコントローラ４０にフィードバックし、このフィードバック信号の微分値とＷ速度指令部からの速度指令値との偏差を動作信号とするＰＩＤ制御器等によりウエハステージコントローラ４０を構成し、閉ループのウエハステージの速度制御系によってウエハステージを速度制御してもよい。
【００５３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ステージの位置計測の時間遅れに伴う基板ステージとマスクステージとの同期ズレの発生を有効に防止することができるという従来にない優れた効果がある。
【００５４】
特に、請求項２に記載の発明ではステージの位置をリアルタイムに計測したのと同じ結果となって、位置計測の時間遅れを確実に補正することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施例に係るステージ駆動制御装置の構成を示すブロック図である。
【図２】第２実施例に係るレチクルステージの概略平面図である。
【図３】第２実施例に係るウエハステージの概略平面図である。
【符号の説明】
１０  ステージ駆動制御装置
２０  ウエハステージ（基板ステージ）
２２  レチクルステージ（マスクステージ）
２６  ウエハ・レーザ干渉計（第１の位置計測手段）
３２  レチクル・レーザ干渉計（第２の位置計測手段）
４０  ウエハステージコントローラ（第１のステージ制御系）
４２  レチクルステージコントローラ（第２のステージ制御系の一部）
４８  第１の遅れ補正部（第１の時間遅れ補正手段）
５０  第２の遅れ補正部（第２の時間遅れ補正手段）
５２  演算器（第２のステージ制御系の一部）
Ｒ    レチクル（マスク）
Ｗ    ウエハ（感光基板）
【図１】
0003852486.tif 000005
【図２】
0003852486.tif 000006
【図３】
0003852486.tif 000007