(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
0003751640.tif 000065
（式中、Ｒａは炭素数１〜２０のアルキル基を示し、該アルキル基中の１つ以上の−ＣＨ2−は−ＳｉＨ2−、−Ｏ−、または−Ｃ＝Ｃ−で置換されていてもよいが、−Ｏ−が連続することはない。またＲａ中の１つ以上の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ＲｂはＲａから選ばれる基、ハロゲン原子またはＣＮを示す。ただし、ＲａとＲｂのどちらか一方のみ−ＳｉＨ2−を含む。Ａ、Ａ1、Ａ2、およびＡ3は相互に独立して１，４−シクロヘキシレン、環上の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されてもよい１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルを示す。Ｚ1、Ｚ2およびＺ3は相互に独立して共有結合、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＨ2Ｏ−を示す。ｍ、ｎおよびｏは相互に独立して０または１を示すが、少なくともいずれか１つは１を示す。）で示される液晶性化合物。
【請求項２】
Ａ、Ａ1、Ａ2およびＡ3が相互に独立して１，４−シクロヘキシレンまたは環上の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されてもよい１，４−フェニレンである請求の範囲１に記載の液晶性化合物。
【請求項３】
ｍが１、ｎおよびｏが共に０である請求の範囲１〜２のいずれかに記載の液晶性化合物。
【請求項４】
ｍおよびｎが共に１、ｏが０である請求の範囲１〜２のいずれかに記載の液晶性化合物。
【請求項５】
ｍ、ｎおよびｏが共に１である請求の範囲１〜２のいずれかに記載の液晶性化合物。
【請求項６】
請求の範囲１〜５のいずれかに記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項７】
第一成分として、請求の範囲１〜５のいずれかに記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（２）、（３）および（４）
0003751640.tif 000066
（式中、Ｒ1は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｘ1はＦ、Ｃｌ、ＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4は相互に独立してＨまたはＦを示し、Ｚ4およびＺ5は相互に独立して−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または共有結合を示し、ａは１または２を示す。）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項８】
第一成分として、請求の範囲１〜５のいずれかに記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）
0003751640.tif 000067
（式中、Ｒ2はＦ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示すが、該アルキル基またはアルケニル基中の相隣接しない一つ以上のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよい。環Ａはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基または１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を示し、環Ｂはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｃはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ6は−（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ−または共有結合を示し、Ｌ5およびＬ6は相互に独立してＨまたはＦを示し、ｂおよびｃは相互に独立して０または１を示す。）
0003751640.tif 000068
（式中、Ｒ3は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｌ7はＨまたはＦを示し、ｄは０または１を示す。）
0003751640.tif 000069
（式中、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、環Ｄおよび環Ｅは相互に独立してトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ7およびＺ8は相互に独立して−ＣＯＯ−または共有結合を示し、Ｚ9は−ＣＯＯ−または−Ｃ≡Ｃ−を示し、Ｌ8およびＬ9は相互に独立してＨまたはＦを示し、Ｘ2はＦ、ＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示すが、Ｘ2がＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示す場合はＬ8およびＬ9は共にＨを示す。ｅ、ｆおよびｇは相互に独立して０または１を示す。）
0003751640.tif 000070
（式中、Ｒ5およびＲ6は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示すが、該アルキル基またはアルケニル基中の相隣接しない一つ以上のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよい。環Ｇはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｈはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ10は−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−または共有結合を示し、Ｚ11は−ＣＯＯ−または共有結合を示す。）
0003751640.tif 000071
（式中、Ｒ7およびＲ8は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示すが、該アルキル基またはアルケニル基中の相隣接しない一つ以上のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよい。環Ｉはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｊはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、環上の１つ以上の水素原子がＦで置換されていてもよい１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｋはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ12およびＺ14は相互に独立して−ＣＯＯ−、−（ＣＨ2）2−または共有結合を示し、Ｚ13は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−または共有結合を示し、ｈは０または１を示す。）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項９】
第一成分として、請求の範囲１〜５のいずれかに記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分の一部分として、一般式（２）、（３）および（４）
0003751640.tif 000072
（式中、Ｒ1は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｘ1はＦ、Ｃｌ、ＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4は相互に独立してＨまたはＦを示し、Ｚ4およびＺ5は相互に独立して−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または共有結合を示し、ａは１または２を示す。）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分の他の部分として、一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）
0003751640.tif 000073
（式中、Ｒ2はＦ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示すが、該アルキル基またはアルケニル基中の相隣接しない一つ以上のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよい。環Ａはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基または１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を示し、環Ｂはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｃはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ6は−（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ−または共有結合を示し、Ｌ5およびＬ6は相互に独立してＨまたはＦを示し、ｂおよびｃは相互に独立して０または１を示す。）
0003751640.tif 000074
（式中、Ｒ3は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｌ7はＨまたはＦを示し、ｄは０または１を示す。）
0003751640.tif 000075
（式中、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、環Ｄおよび環Ｅは相互に独立してトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ7およびＺ8は相互に独立して−ＣＯＯ−または共有結合を示し、Ｚ9は−ＣＯＯ−または−Ｃ≡Ｃ−を示し、Ｌ8およびＬ9は相互に独立してＨまたはＦを示し、Ｘ2はＦ、ＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示すが、Ｘ2がＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示す場合はＬ8およびＬ9は共にＨを示す。ｅ、ｆおよびｇは相互に独立して０または１を示す。）
0003751640.tif 000076
（式中、Ｒ5およびＲ6は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示すが、該アルキル基またはアルケニル基中の相隣接しない一つ以上のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよい。環Ｇはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｈはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ10は−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−または共有結合を示し、Ｚ11は−ＣＯＯ−または共有結合を示す。）
0003751640.tif 000077
（式中、Ｒ7およびＲ8は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示すが、該アルキル基またはアルケニル基中の相隣接しない一つ以上のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよい。環Ｉはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｊはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、環上の１つ以上の水素原子がＦで置換されていてもよい１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｋはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ12およびＺ14は相互に独立して−ＣＯＯ−、−（ＣＨ2）2−または共有結合を示し、Ｚ13は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−または共有結合を示し、ｈは０または１を示す。）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項１０】
請求の範囲６に記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
【請求項１１】
請求の範囲７に記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
【請求項１２】
請求の範囲８に記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
【請求項１３】
請求の範囲９に記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、有機ケイ素化合物および液晶組成物に関し、更に詳しくはシランジイル基（−ＳｉＨ2−）を有する新規な化合物、これを含有する液晶組成物および該液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子に関する。
背景技術
液晶性化合物（本願において、液晶性化合物なる用語は、液晶相を示す化合物および液晶相を示さないが液晶組成物の構成成分として有用である化合物の総称として用いられる。）を用いた表示素子は、時計、電卓、ワープロ等のディスプレイに広く利用されている。これらの表示素子は液晶性化合物の屈折率異方性、誘電率異方性等を利用したものである。
液晶相には、ネマチック液晶相、スメクチック液晶相、コレステリック液晶相があるが、ネマチック液晶相を利用したものが最も広く用いられている。また表示方式としては動的散乱（ＤＳ）型、配向相変形（ＤＡＰ）型、ゲスト／ホスト（ＧＨ）型、ねじれネマチック（ＴＮ）型、超ねじれネマチック（ＳＴＮ）型、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型等がある。
これらの表示方式で用いられる液晶性化合物は、室温を中心とする広い温度範囲で液晶相を示し、表示素子が使用される条件下で十分に安定であり、さらに表示素子を駆動させるに十分な特性を持たなくてはならないが、現在のところ単一の液晶性化合物でこの条件を満たすものは見いだされていない。このため数種類から数十種類の液晶性化合物を混合し、もって要求特性を備えた液晶組成物を調製しているのが実状である。これらの液晶組成物は、表示素子が使用される条件下で通常存在する水分、光、熱、空気に対して安定で、また電場や電磁放射に対しても安定である上、混合される化合物に対し化学的にも安定であることが要求される。また液晶組成物には、その屈折率異方性値（Δｎ）および誘電率異方性値（Δε）等の諸物性値が表示方式や表示素子の形状に依存して適当な値を取ることが必要とされる。
さらに液晶組成物中の各成分は、相互に良好な溶解性を持つことが重要である。なかでも、消費電力と液晶表示画面の大画面化に必要な高速応答に大きく寄与するしきい値電圧（Ｅ．Ｊａｋｅｍａｎ等、Ｐｙｈｓ．Ｌｅｔｔ．，３９Ａ．６９（１９７２））のさらなる低下が望まれており、また高速応答のためには低粘性であることも重要である。
これらの目的を達成するため従来より種々の化合物が開発されており、それらの中には分子中にシリル基を含む化合物も下記の式（ａ）、式（ｂ）および式（ｃ）に示す通りそれぞれ特開平６−９６５３、特開平７−２８７８および特開平７−２８７９により知られている。
0003751640.tif 000002
しかし、これらの化合物はケイ素に結合した３個の水素原子が全てアルキル基で置換されたトリアルキルシリル基を有する化合物であって、１個、特に２個以上の水素原子が未置換のものではない。
このようなトリアルキルシリル基を有する化合物は、本発明者等がその一例として下記式（ｄ）に示すプロピルジメチルシリル基を有する化合物について実施した物性測定結果からも知られる通り、著しく高粘性である上液晶組成物を構成する他の成分との相溶性が十分でないといった問題点を有している。
0003751640.tif 000003
以下に上記化合物（ｄ）の物性測定の結果を示す。メルク社製の母液晶組成物ＺＬＩ−１１３２についてネマチック相−等方相転移温度（ＮＩ）と２０℃における粘度（η）を求めたところ、それぞれ７２．６℃および２６．７ｍＰａ・ｓであった。次いで、この母液晶組成物８５重量％に式（ｄ）に示す化合物１５重量％を添加し、得られる組成物のＮＩとηを求めたところそれぞれ１５℃以下および３９．７ｍＰａ・ｓであった。
この結果から、式（ｄ）に示す化合物を用いて調製した液晶組成物は、粘度が著しく大きくなる上ＮＩを５０℃以上低下させることが知られ、さらに化合物（ｄ）はＮＩの異なる領域があり、相溶性も悪いため実用的ではなかった。
発明の開示
本発明の目的は、前記従来技術の欠点を解消し、他の液晶材料との相溶性に優れ、低粘性であり、かつ低いしきい値電圧を有する新規有機ケイ素化合物、これを含有する液晶組成物および該液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子を提供することにある。
上記目的を達成するため、本願で特許請求される発明は以下の通りである。
（１）一般式（１）
0003751640.tif 000004
（式中、Ｒａは炭素数１〜２０のアルキル基を示し、該アルキル基中の１つ以上の−ＣＨ2−は−ＳｉＨ2−、−Ｏ−、または−Ｃ＝Ｃ−で置換されていてもよいが、−Ｏ−が連続することはない。またＲａ中の１つ以上の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ＲｂはＲａから選ばれる基、ハロゲン原子またはＣＮを示す。ただし、ＲａとＲｂのどちらか一方のみ−ＳｉＨ2−を含む。Ａ、Ａ1、Ａ2、およびＡ3は相互に独立して１，４−シクロヘキシレン、環上の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されてもよい１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルを示す。Ｚ1、Ｚ2およびＺ3は相互に独立して共有結合、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＨ2Ｏ−を示す。ｍ、ｎおよびｏは相互に独立して０または１を示すが、少なくともいずれか１つは１を示す。）で示される液晶性化合物。
（２）Ａ、Ａ1、Ａ2およびＡ3が相互に独立して１，４−シクロヘキシレンまたは環上の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されてもよい１，４−フェニレンである（１）に記載の液晶性化合物。
（３）ｍが１、ｎおよびｏが共に０である（１）〜（２）のいずれかに記載の液晶性化合物。
（４）ｍおよびｎが共に１、ｏが０である（１）〜（２）のいずれかに記載の液晶性化合物。
（５）ｍ、ｎおよびｏが共に１である（１）〜（２）のいずれかに記載の液晶性化合物。
（６）（１）〜（５）のいずれかに記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
（７）第一成分として、（１）〜（５）のいずれかに記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（２）、（３）および（４）
0003751640.tif 000005
（式中、Ｒ1は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｘ1はＦ、Ｃｌ、ＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4は相互に独立してＨまたはＦを示し、Ｚ4およびＺ5は相互に独立して−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または共有結合を示し、ａは１または２を示す。）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
（８）第一成分として、（１）〜（５）のいずれかに記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）
0003751640.tif 000006
（式中、Ｒ2はＦ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示すが、該アルキル基またはアルケニル基中の相隣接しない一つ以上のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよい。環Ａはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基または１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を示し、環Ｂはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｃはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ6は−（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ−または共有結合を示し、Ｌ5およびＬ6は相互に独立してＨまたはＦを示し、ｂおよびｃは相互に独立して０または１を示す。）
0003751640.tif 000007
（式中、Ｒ3は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｌ7はＨまたはＦを示し、ｄは０または１を示す。）
0003751640.tif 000008
（式中、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、環Ｄおよび環Ｅは相互に独立してトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ7およびＺ8は相互に独立して−ＣＯＯ−または共有結合を示し、Ｚ9は−ＣＯＯ−または−Ｃ≡Ｃ−を示し、Ｌ8およびＬ9は相互に独立してＨまたはＦを示し、Ｘ2はＦ、ＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示すが、Ｘ2がＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示す場合はＬ8およびＬ9は共にＨを示す。ｅ、ｆおよびｇは相互に独立して０または１を示す。）
0003751640.tif 000009
（式中、Ｒ5およびＲ6は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示すが、該アルキル基またはアルケニル基中の相隣接しない一つ以上のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよい。環Ｇはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｈはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ10は−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−または共有結合を示し、Ｚ11は−ＣＯＯ−または共有結合を示す。）
0003751640.tif 000010
（式中、Ｒ7およびＲ8は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示すが、該アルキル基またはアルケニル基中の相隣接しない一つ以上のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよい。環Ｉはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｊはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、環上の１つ以上の水素原子がＦで置換されていてもよい１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｋはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ12およびＺ14は相互に独立して−ＣＯＯ−、−（ＣＨ2）2−または共有結合を示し、Ｚ13は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−または共有結合を示し、ｈは０または１を示す。）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
（９）．第一成分として、（１）〜（５）のいずれかに記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分の一部分として、一般式（２）、（３）および（４）
0003751640.tif 000011
（式中、Ｒ1は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｘ1はＦ、Ｃｌ、ＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4は相互に独立してＨまたはＦを示し、Ｚ4およびＺ5は相互に独立して−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または共有結合を示し、ａは１または２を示す。）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分の他の部分として、一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）
0003751640.tif 000012
（式中、Ｒ2はＦ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示すが、該アルキル基またはアルケニル基中の相隣接しない一つ以上のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよい。環Ａはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基または１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を示し、環Ｂはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｃはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ6は−（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ−または共有結合を示し、Ｌ5およびＬ6は相互に独立してＨまたはＦを示し、ｂおよびｃは相互に独立して０または１を示す。）
0003751640.tif 000013
（式中、Ｒ3は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｌ7はＨまたはＦを示し、ｄは０または１を示す。）
0003751640.tif 000014
（式中、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、環Ｄおよび環Ｅは相互に独立してトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ7およびＺ8は相互に独立して−ＣＯＯ−または共有結合を示し、Ｚ9は−ＣＯＯ−または−Ｃ≡Ｃ−を示し、Ｌ8およびＬ9は相互に独立してＨまたはＦを示し、Ｘ2はＦ、ＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示すが、Ｘ2がＯＣＦ3、ＯＣＦ2Ｈ、ＣＦ3、ＣＦ2ＨまたはＣＦＨ2を示す場合はＬ8およびＬ9は共にＨを示す。ｅ、ｆおよびｇは相互に独立して０または１を示す。）
0003751640.tif 000015
（式中、Ｒ5およびＲ6は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示すが、該アルキル基またはアルケニル基中の相隣接しない一つ以上のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよい。環Ｇはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｈはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ10は−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−または共有結合を示し、Ｚ11は−ＣＯＯ−または共有結合を示す。）
0003751640.tif 000016
（式中、Ｒ7およびＲ8は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示すが、該アルキル基またはアルケニル基中の相隣接しない一つ以上のメチレン基（−ＣＨ2−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよい。環Ｉはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｊはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、環上の１つ以上の水素原子がＦで置換されていてもよい１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｋはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ12およびＺ14は相互に独立して−ＣＯＯ−、−（ＣＨ2）2−または共有結合を示し、Ｚ13は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−または共有結合を示し、ｈは０または１を示す。）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
（１０）（６）に記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
（１１）（７）に記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
（１２）（８）に記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
（１３）（９）に記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
本発明の一般式（１）で示す有機ケイ素化合物は、他の液晶材料との相溶性に優れ、低粘性であり、かつ低いしきい値電圧を有する。
またこれらの有機ケイ素化合物は、液晶表示素子が通常使用される条件下において物理的および化学的に十分安定である。さらには分子構成要素のうち環や置換基および／または結合基を適当に選択することにより、所望の物性値を持つものが得られる。
従って、本発明の化合物を液晶組成物の成分として用いた場合、好ましい特性を有する新たな液晶組成物を提供し得る。
本発明の有機ケイ素化合物は、前記一般式（１）で示される。
該式中、ＲａはＨ、炭素数１〜２０の直鎖若しくは分岐したアルキル基または同アルコキシ基であるが、具体的には該直鎖アルキル基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、デシル、ペンタデシル、イコシル等を、また分岐アルキル基としてイソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソペンチル、イソヘキシル、３−エチルオクチル、３，８−ジメチルテトラデシル、５−エチル−５−メチルノナデシル、分岐アルコキシ基として２−メチルプロポキシ、２−メチルペントキシ、１−メチルヘプトキシメチル等を挙げることができる。なお、前記の分岐アルキル基またはアルコキシ基は光学活性を示すものであってもよい。
これらのアルキル基は、−Ｏ−および／または−Ｓ−が連続しない限り該基中の１つ以上の−ＣＨ2−が−ＳｉＨ2−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−または１，３−シクロブチレンで置換されてもよい。例えば、−ＳｉＨ2−で置換された基の例として、シラニル基類、アルキルシリル基、アルコキシシリル基、アルキルシリルアルキル基、アルコキシシリルアルキル基、アルキルジシラニル基、アルキルジシラニルアルキル基およびアルキルトリシラニル基を、−Ｏ−で置換された基の例としてアルコキシ基およびアルコキシアルキル基を、−Ｓ−で置換された基の例としてアルキルチオアルキル基を、−ＣＨ＝ＣＨ−で置換された基の例としてアルケニル基、アルカジエニル基、アルケニルオキシ基およびアルコキシアルケニル基を、−Ｃ≡Ｃ−で置換された基の例としてアルキニル基、アルキニルオキシ基およびアルコキシアルキニル基を示すことができる。
また、上記のアルキル基は該基中の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されてもよく、その例としてハロゲン置換アルキル基、ハロゲン置換アルコキシ基、ハロゲン置換アルケニル基およびハロゲン置換アルキニル基等を挙げることができる。
これらの中で好ましい基を具体的に例示する。
基中の１つ以上の−ＣＨ2−がＳｉＨ2−で置換されたアルキル基として、メチルシリル、エチルシリル、プロピルシリル、ブチルシリル、ペンチルシリルおよびノニルシリル等のアルキルシリル基、
メチルシリルメチル、メチルシリルエチル、メチルシリルプロピル、メチルシリルブチル、メチルシリルヘプチル、エチルシリルメチル、エチルシリルエチル、エチルシリルプロピル、エチルシリルヘキシル、プロピルシリルメチル、プロピルシリルエチル、プロピルシリルプロピル、ブチルシリルメチル、ブチルシリルエチル、ブチルシリルプロピル、ペンチルシリルメチル、ヘキシルシリルメチル、ヘキシルシリルエチル、ヘプチルシリルメチルおよびオクチルシリルメチル等のアルキルシリルアルキル基、
メトキシシリル、エトキシシリル、プロポキシシリル、ブトキシシリル、ペンチルオキシシリルおよびオクチルオキシシリル等のアルコキシシリル基、
シラニル、ジシラニル、トリシラニル、テトラシラニル、ペンタシラニルおよびデカシラニル等のシラニル基類、
メチルジシラニル、エチルジシラニル、プロピルジシラニル、ブチルジシラニルおよびペンチルジシラニル等のアルキルジシラニル基、
メチルトリシラニル、エチルトリシラニル、プロピルトリシラニルおよびヘキシルトリシラニル等のアルキルトリシラニル基、
メチルノナシラニル、メチルジシラニルメチル、メチルジシラニルエチル、メチルジシラニルペンチル、エチルジシラニルメチル、エチルジシラニルエチル、エチルジシラニルブチル、エチルジシラニルヘキシル、プロピルジシラニルメチル、ブチルジシラニルペンチル、ペンチルジシラニルメチル、ヘキシルジシラニルエチル、ヘプチルジシラニルメチル等のアルキルジシラニルアルキル基、
メチルトリシラニルメチル、メチルトリシラニルペンチル、エチルトリシラニルメチル、エチルトリシラニルプロピル、プロピルトリシラニルメチル、プロピルトリシラニルブチル、ブチルトリシラニルメチル、ペンチルトリシラニルメチルおよびヘキシルトリシラニルメチル等のアルキルトリシラニルアルキル基、
並びにメチルヘキサシラニルメチル、エチルヘプタシラニルメチル、メチルオクタシラニルメチル、２−フルオロエチルシリル、３，３−ジフルオロプロピルシリル、１，２，３，３−テトラフルオロプロピルシリルを示すことができる。
また、基中の−ＣＨ2−が−Ｏ−で置換された基として、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ノニルオキシ等のアルコキシ基、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、メトキシブチル、メトキシペンチル、メトキシオクチル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシヘキシル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポキシプロピル、プロポキシペンチル、ブトキシメチル、ブトキシエチル、ブトキシブチル、ペンチルオキシメチル、ペンチルオキシブチル、ヘキシルオキシメチル、ヘキシルオキシエチル、ヘキシルオキシプロピル、ヘプチルオキシメチル、オクチルオキシメチル等のアルコキシアルキル基を示すことができる。
さらにメチルチオメチル、メチルチオエチル、メチルチオプロピル、メチルチオブチル、メチルチオオクチル、エチルチオメチル、エチルチオエチル、エチルチオヘプチル、プロピルチオメチル、プロピルチオエチル、プロピルチオプロピル、プロピルチオペンチル、ヘキシルチオメチルおよびヘプチルチオエチル等のアルキルチオアルキル基、
メチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、２−オキソプロピル、２−オキソブチル、３−オキソブチル、２−オキソペンチル、４−オキソペンチル、３−オキソヘキシル、５−オキソヘキシル、２−オキソヘプチル、３−オキソヘプチル、６−オキソヘプチル、２−オキソオクチル、４−オキソオクチル、７−オキソオクチル、３−オキソノニル、６−オキソノニル、８−オキソノニル、２−オキソデシル、５−オキソデシルおよび９−オキソデシル等の基、
ビニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニルおよびデセニル等のアルケニル基、
メトキシプロペニル、エトキシプロペニル、ペンチルオキシプロペニル、メトキシブテニル、エトキシブテニル、ペンチルオキシブテニル、メトキシペンテニル、プロポキシペンテニル、メトキシヘキセニル、プロポキシヘキセニル、メトキシヘプテニルおよびメトキシオクテニル等のアルコキシアルケニル基、プロペニルオキシ、ブテニルオキシ、ペンテニルオキシ、オクテニルオキシおよびプロペニルオキシメチル等のアルケニルオキシ基、プロペニルオキシエチル、プロペニルオキシブチル、ブテニルオキシメチル、ブテニルオキシエチル、ブテニルオキシペンチル、ペンテニルオキシメチル、ペンテニルオキシプロピル、ヘキセニルオキシメチル、ヘキセニルオキシエチル、ヘプテニルオキシメチルおよびオクテニルオキシメチル等の基、
ブタジエニル、ヘプタジエニル、ヘキサジエニル、ヘプタジエニル、オクタジエニルおよびイコサジエニル等のアルカジエニル基、
３−フルオロプロペニル、４−フルオロ−１−ブテニル、４−フルオロ−２−ブテニル、５−フルオロ−１−ペンテニル、５−フルオロ−２−ペンテニル、５−フルオロ−３−ペンテニル、６−フルオロ−１−ヘキセニル、６−フルオロ−３−ヘキセニル、７−フルオロ−５−ヘプテニル、２，２−ジフルオロビニル、１，２−ジフルオロビニル、２−クロロ−２−フルオロビニル、２−ブロモ−２−フルオロビニル、２−フルオロ−２−シアノビニル、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル、３−クロロ−３−フルオロ−１−プロペニル、２，３−ジフルオロ−１−プロペニル、１，３−ジフルオロ−２−プロペニル、１，３，３−トリフルオロ−２−プロペニル、１，２，４，４−テトラフルオロ−３−ブテニル，５，５−ジフルオロ−４−ペンテニル、３，３−ジフルオロヘキセニルおよび８，８−ジフルオロ−７−オクテニル等のハロゲン置換アルケニル基、
エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニルおよびオクチニル等のアルキニル基、エチニルオキシ、プロピニルオキシ、ブチニルオキシ、ペンチニルオキシおよびテトラデシニルオキシ等のアルキニルオキシ基、
メトキシプロピニル、メトキシペンチニル、エトキシブチニル、プロポキシプロピニル、ヘキシルオキシヘプチニル、メトキシメチルブチニル、メトキシプロピルエチニル、ブトキシメチルプロピニル等のアルコキシアルキニル基、
フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２−フルオロエチル、１，２−ジフルオロエチル、２−ブロモ−１，２−ジフルオロエチル、３−フルオロプロピル、１，２，３，３−テトラフルオロプロピル、４−フルオロブチル、１，１，２，４−テトラフルオロブチル、５−フルオロペンチル、２，３，３，４，５−ペンタフルオロペンチル、６−フルオロヘキシル、２，３，４，６−テトラフルオロヘキシル、７−フルオロヘプチル、８，８−ジフルオロオクチル等のハロゲン置換アルキル基、
ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、１，１−ジフルオロエトキシ、２，２−ジフルオロエトキシ、２，２，２−トリフルオロエトキシ、１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ、ペルフルオロエトキシ、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロポキシ、ペルフルオロプロポキシ等のハロゲン置換アルコキシ基を挙げることができる。
次に、Ｒｂは上記Ｒａから選ばれる基、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩを含むハロゲン原子郡から選ばれる基またはＣＮであるが、安定性等の点からＢｒまたはＩを除く基であることが好ましい。
Ａ、Ａ1、Ａ2およびＡ3はそれぞれ環上の１つ以上の水素原子がハロゲン原子またはＣＮで置換されてもよい炭素数３〜１０のシクロアルキレン、炭素数４〜１０のシクロアルケニレン、炭素数５〜１０のシクロアルカジエニレン、フェニレン、ヘテロ原子を含む環式化合物の２価基、炭素数４〜１０のビシクロアルキレンまたは炭素数７〜１２のスピロ環２価基を示すが、具体的には上記シクロアルキレンとしてシクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレンおよびシクロデシレンを、シクロアルケニレンとしてシクロペンテニレン、シクロヘキセニレン、シクロヘプテニレンおよびシクロノネニレンを、シクロアルカジエニレンとしてシクロヘキサジエニレン、シクロペンタジエニレンおよびシクロデカジエニレンを、ヘテロ原子を含む環式化合物の２価基としてピペリジンジイル、ピペラジンジイル、ピリジンジイル、ピラジンジイル、ピリミジンジイル、ピリダジンジイル、トリアジンジイル、テトラジンジイル、テトラヒドロピランジイル、ジオキサンジイルおよびジチオラジンを、ビシクロアルキレンとしてビシクロブタンジイル、ビシクロペンタンジイル、ビシクロヘキサンジイル、ビシクロヘプタンジイル、ビシクロオクタンジイルおよびビシクロオクテンジイルを、スピロ環２価基としてスピロヘプタンジイル、スピロビシクロヘキサンジイル、スピロオクタンジイル、スピロデカンジイル、シクロヘキサンスピロシクロブタンジイル、シクロヘキセンスピロシクロブタンジイルおよびシクロヘキセンスピロシクロヘキセンジイル等を挙げることができる。
これらの中でより好ましい基として、シクロアルキレンでは１，２−シクロプロピレン、１，３−シクロブチレン、１，４−シクロヘキシレンを、シクロアルケニレンでは１−シクロヘキセン−１，４−イレン、２−シクロヘキセン−１，４−イレン、３−シクロヘキセン−１，４−イレンを、フェニレンでは１，４−フェニレンおよびこのものの環上の１つ以上の水素原子がハロゲン原子またはＣＮで置換された基、例えば２−フルオロ−１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，３，５−トリフルオロ−１，４−フェニレン、２−クロロ−１，４−フェニレン、３−クロロ−１，４−フェニレン、２，３−ジクロロ−１，４−フェニレン、３，５−ジクロロ−１，４−フェニレン、３−ブロモ−１，４−フェニレン、２−ヨード−１，４−フェニレン、２−クロロ−３−フルオロフェニレン、３−フルオロ−５−クロロフェニレン、２−シアノ−１，４−フェニレン、３−シアノ−１，４−フェニレンおよび２，３−ジシアノ−１，４−フェニレンを、ヘテロ原子を含む単環式化合物の２価基ではピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、ジオキサン−２，５−ジイルを挙げることができる。
Ｚ1、Ｚ2およびＺ3は共有結合または含有水素原子の１つ以上がハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１〜４のアルキレンであるが、より好ましくは、共有結合、エチレンまたはブチレンである。また、該アルキレンはその構成メチレン基が−ＳｉＨ2−、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−等で置換されてもよいが、その際−Ｏ−および／または−Ｓ−が連続することはない。
このような基として、好ましくは１，２−ジシランジイル、１，４−テトラシランジイル、メチレンシランジイル、シランジイルメチレン、メチレンシランジイルトリメチレン、メチレンシランジイルエチレンおよびエチレンシランジイルメチレン等の−ＳｉＨ2−を置換基として有する基、オキシメチレン、メチレンオキシ、オキシトリメチレン、メチレンオキシエチレン、エチレンオキシメチレンおよびエステル結合等の−Ｏ−を置換基として有する基、ビニレン、１−ブテニレン、２−ブテニレンおよび３−ブテニレン等の−ＣＨ＝ＣＨ−を置換基として有する基、エチニレン、１−ブチニレン、２−ブチニレンおよび３−ブチニレン等の−Ｃ≡Ｃ−を置換基として有する基、並びに上記各基中の１個以上の水素原子がハロゲン原子で置換された基、例えばフルオロメチレンオキシ、オキシフルオロメチレン、ジフルオロメチレンオキシ、オキシジフルオロメチレン、２，２−ジフルオロエチレン、１，２−ジフルオロビニレン、１−フルオロビニレン、１−ブロモ−２−フルオロビニレン、１−クロロ−２−フルオロビニレン、１，２−ジフルオロ−１−ブテニレン、２，３−ジフルオロ−２−ブテニレン、３、４−ジフルオロ−３−ブテニレン、その他３−オキシ−１−プロペニレンや２−プロペニレンオキシ等を示すことができる。
前記したＲａ、Ｒｂ、Ａ〜Ａ3およびＺ1〜Ｚ3の各々から選択される基で構成される本発明の化合物（１）は、好ましい特性を有する化合物であるが、より好ましくは、ヘテロ原子を含む環を２つ以上含まない化合物である。
このような化合物群のうち格別に好ましい特性を有する１群の化合物は、以下の（１−１）〜（１−５９）に示される化合物である。
0003751640.tif 000017
0003751640.tif 000018
0003751640.tif 000019
0003751640.tif 000020
0003751640.tif 000021
（各式中、ＲａおよびＲｂは前記と同様の意味を示し、ｕは１または２であり、環上および／または結合基中の水素原子は、相互に独立してカッコ内の原子または基で置換されていてもよい。）
本発明の一般式（１）で示される化合物は、該式中のＲａ、Ｒｂ、Ｚ1、Ｚ2およびＺ3に所定の基を導入することにより得られるが、このような基の導入は従来公知の一般的な有機合成法により行い得る。
シランジイル基の導入：
このものは、文献「Ｅ．Ｗ．Ｃｏｌｖｉｎ等、シリコン  イン  オーガニック  シンセシス（Ｓｉｌｉｃｏｎ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ），Ｂｕｔｔｅｒｗｏｒｔｈｓ，Ｌｏｎｄｏｎ（１９８１）、Ｗ．Ｐ．Ｗｅｂｅｒ，シリコン  リージェンツ  フォー  オーガニック  シンセシス（Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ｆｏｒ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ），Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ，Ｂｅｒｌｉｎ（１９８３）、Ｅ．Ｗ．Ｃｏｌｖｉｎ，シリコン  リージェンツ  イン  オーガニック  シンセシス（Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ），Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ，Ｌｏｎｄｏｎ（１９８８）等）に記載のある公知の一般的な有機合成法によって導入することができる。
そのいくつかにつき具体例を示すると以下の通りである。
0003751640.tif 000022
0003751640.tif 000023
（Ｒａ、Ｒｂ、ｍ、ｎ、ｏ、Ａ、Ａ1〜Ａ3およびＺ1〜Ｚ3は前記と同様の意味を示し、Ｘはハロゲン原子、Ｒｂ’はＲｂから−ＳｉＨ2−を除いた残基を示す。）
すなわち、その１つは、Ｒｂに相当する末端部位の基がＢｒまたはＩ等を含むハロゲンＸであるハロゲン化物（１）とＬｉ、ｎ−ＢｕＬｉあるいはｔｅｒｔ−ＢｕＬｉ等からリチウム試薬（２）を調製した後、これをアルキルトリクロロシラン等のアルキルハロゲン化シラン（３）と反応させて化合物（４）とする。該化合物（４）を水素化ほう素ナトリウム（ＳＢＨ）や水素化リチウムアルミニウム（ＬＡＨ）等の還元剤により還元して、ＸがＲｂ（ＳｉＨ2Ｒｂ′）に転化した目的化合物例の（５）を製造することができる。なお、上記アルキルハロゲン化シラン（３）に替えて（６）、（７）または（８）のようなハロゲン化シランを用いることにより、それぞれ対応する有機ケイ素化合物（９）、（１０）および（１１）を得ることができる。
また、上記リチウム試薬（２）に替えてハロゲン化物（１）とＭｇから調整したグルニャール試薬を用いても同様に反応を行うことができる。
その２は、ハロゲン化物（１２）から前述のような方法によりリチウム試薬（１３）またはグリニャール試薬を調整した後、これをサクライ等（テトラヘドロン  レターズ，５４９３（１９６６））と同様な方法により得られたヘキサクロロジシラン（１４）と反応させて化合物（１５）とする。該化合物（１５）をリチウム試薬（１６）あるいはグリニャール試薬と反応させた後、還元して分子中央部に−ＳｉＨ2−を有する目的化合物例の（１７）を製造することができる。また、上記ヘキサクロロジシラン（１４）に替えて（１８）または（１９）のようなハロゲン化シランを用いることにより、それぞれ分子中央部に−ＳｉＨ2−を有する対応した有機ケイ素化合物（２０）および（２１）を製造することができる。
さらに、前記ヘキサクロロジシラン（１４）に替えてハロゲン化シラン（２２）を用い、同様な方法により化合物（２３）とする。該化合物（２３）を前述のサクライ等の方法によりトリクロロシラン化合物（２４）とし、リチウム試薬（１６）と反応後、還元して分子中央部に−ＳｉＨ2−を有する目的化合物例の（２５）を製造することもできる。
その他、図示は省略したが、オレフィンまたはアセチレンと置換ジハロゲン化ヒドロシランをアゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル若しくは過酸化ジ−ｔｅｒｔ−ブチル等のラジカル開始剤またはＰｔ、Ｒｈ、Ｐｄ若しくはＮｉ等の遷移金属触媒等の存在下でヒドロシリル化（Ｂ．Ａ．Ｂｌｕｅｓｔｅｉｎ，ジャーナル  オブ  ジ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティー，８３，１０００（１９６１）、Ｒ．Ａ．Ｂｅｎｋｅｓｅｒ等，ジャーナル  オブ  ジ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティー，８３，４３８５（１９６１）、Ｊ．Ｌ．Ｓｐｅｉｅｒ等，ジャーナル  オブ  ジ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティー，７９，９７４（１９５７））を行った後、ハロゲン原子を還元することによってもシランジイル基を導入することが可能である。
シランジイル基以外の基（−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯ−、−Ｏ−等）の導入：
これらの基も従来公知の一般的な有機合成法により導入することが可能である。−ＣＨ＝ＣＨ−を含む化合物は、例えばＷｉｔｔｉｇ反応（オーガニック  リアションズ，第１４巻，第３章）、Ｗｉｔｔｉｇ−Ｓｃｈｌｏｓｓｅｒ反応（Ｍ．Ｓｃｈｌｏｓｓｅｒ等，アンゲバンテ  ケミー  インター  ナショナル  エディション  イン  イングリッシュ，５，１２６（１９６６））あるいはＷｉｔｔｉｇ−Ｈｏｒｎｅｒ反応（Ｊ．Ｉ．Ｇ．Ｃａｄｏｇａｎ，オルガノホスホラス  リージェンツ  イン  オーガニック  シンセシス（Ｏｒｇａｎｏｐｈｏｓｐｈｏｒｕｓ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ），Ａｃａｄｅｍｉｃ（１９７９））により、分子内に容易に導入することができる。
0003751640.tif 000024
0003751640.tif 000025
（Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｂ’、ｍ、ｎ、ｏ、Ａ、Ａ1〜Ａ3、Ｚ1〜Ｚ3およびＸは前記と同様の意味を示す。）
すなわち、テトラヒドロフランやジエチルエーテル等の溶媒中、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド（ｔ−ＢｕＯＫ）、ｎ−ブチルリチウム等の塩基の存在下、アルデヒド（２６）とホスホニウム塩（２７）を反応させることによって−ＣＨ＝ＣＨ−を導入した化合物（２８）を製造することができる。この反応は室温〜−５０℃、不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。さらに、かくして得られる化合物をベンゼンスルフィン酸またはｐ−トルエンスルフィン酸と反応させることにより異性化することも可能である。あるいは、ビニルグリニャール試薬（２９）とハロゲン化物（３０）をＰｄ（ＰＰｈ3）4、ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）2、ＮｉＣｌ2（ｄｐｐｐ）等の触媒存在下、カップリング反応を行う方法（Ｔ．Ｖ．Ｌｅｅ等，テトラヘドロン  レターズ，４６，９２１（１９９０））、アルデヒド（２６）とグリニャール試薬（３１）を反応させた後、ｐ−トルエンスルホン酸（ＰＴＳ）等の酸性触媒存在下、トルエンあるいはキシレン等の溶媒中で加熱脱水する方法によっても化合物（２８）を製造することができる。
−Ｃ≡Ｃ−を含む化合物（３３）は、例えばＷ．Ｔａｏ等（ザ  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー，５５，６３（１９９０））の方法により製造することができる。すなわちジエチルアミンやトリエチルアミン等のアルキルアミン溶媒中、ヨウ化銅とＰｄ（ＰＰｈ3）4またはＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）2等のＰｄ触媒の存在下、アセチレン誘導体（３２）と前記ハロゲン化物（３０）を反応させることによって製造することができる。この反応は室温〜溶媒の沸点までの温度範囲、不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。またＣａｓｔｒｏ反応（Ｍ．Ｄ．Ｒａｕｓｈ等，ザ  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー，３４，４６８（１９６９））を行って製造することもできる。
−ＣＯＯ−を含む化合物（３７）は、例えばＥ．Ｊ．Ｃｏｒｅｙ等（ザ  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー，３８，３２２３（１９７３））の方法により製造することができる。すなわち、カルボン酸（３４）をトルエンやベンゼン等の溶媒中あるいは無溶媒中、塩化チオニル等のハロゲン化剤により酸ハロゲン化物（３５）とし、これをアルコール類（３６）と反応させることにより製造することができる。この反応は室温〜溶媒の沸点までの温度範囲、不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましく、より好ましくは反応促進のためピリジン、トリエチルアミン（Ｂ．Ｉｓｅｌｉｎ等，ヘルベチカ  ヘミカ  アクタ，４０，３７３（１９５７））、ジメチルアニリン（Ｃ．Ｒａｈａ，オーガニック  シンセシス，IV，２６３，（１９６３））またはテトラメチル尿素（Ｍ．Ｓ．Ｎｅｗｍａｎ等，テトラヘドロン  レターズ，３２６７（１９６７））等の塩基の存在下で行われる。あるいは、ジクロロメタンやクロロホルム等の溶媒中、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）等の脱水剤と４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下、カルボン酸（３４）とアルコール類（３６）を反応させる（Ｂ．Ｎｅｉｓｅｓ等，オーガニック  シンセシス，６３，１８３（１９８５））ことによっても化合物（３７）を製造することができる。
−Ｏ−を含む化合物（３９）は、例えば、ナトリウムアミド（Ｊ．Ｂ．ライト等，ジャーナル  オブ  ジ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティー，７０，３０９８（１９４８））、炭酸カリウム（Ｗ．Ｔ．オルソン等，ジャーナル  オブ  ジ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティー，６９，２４５１（１９４７））、トリエチルアミン（Ｒ．Ｌ．Ｍｅｒｋｅｒ等，ザ  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー，２６，５１８０（１９６１））、水酸化ナトリウム（Ｃ．Ｗｉｌｋｉｎｓ，シンセシス，１９７３，１５６）、水酸化カリウム（Ｊ．Ｒｅｂｅｋ等，ザ  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー，４４，１４８５（１９７９））、酸化バリウム（カワベ等，ザ  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー，３７，４２１０（１９７２））、水素化ナトリウム（Ｃ．Ｊ．Ｓｔａｒｋ，テトラヘドロン  レターズ，２２，２０８９（１９８１）、Ｋ．タカイ等，テトラヘドロン  レターズ，２１，１６５７（１９８０））等の塩基の存在下、ハロゲン化合物（３８）と前記アルコール類（３６）をジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ヘキサメチルリン酸トリアミドまたはトルエン等の溶媒中で反応させることにより製造することができる。
上記により所定の基が導入された本発明の化合物は、さらに含有水素の１つ以上がハロゲン原子で置換されてもよい。その置換方法としては、例えば環上の水素原子を直接ハロゲン化する方法（Ｈ．Ｂｅｃｋｅｒ等，Ｏｒｇａｎｉｋｕｍ，ＶＥＢ，Ｄｅｕｔｓｃｈｅｒ  Ｖｅｒｌａｇ  ｄｅｒ  Ｗｉｓｓｅｎｓｃｈａｆｔｅｎ，１８９（１９７３）、上村等，ブルティン  オブ  ザ  ケミカル  ソサイエティー  オブ  ジャパン，４７，１４７（１９７４）、Ｄ．Ｄ．Ｔａｎｎｅｒ等，ジャーナル  オブ  ジ  アメリカン  ケミカル  ソサイティー，９０，８０８（１９６８））またはヒドロキシル基をハロゲン化する方法（Ｇ．Ａ．Ｗｉｌｅｙ等，ジャーナル  オブ  ジ  アメリカン  ケミカル  ソサイティー，８６，９６４（１９６４）、Ｅ．Ｊ．Ｃｏｒｅｙ等，ザ  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー，３２，４１６０（１９６７）、Ｇ．Ｈｉｌｇｅｔａｇ等，プレパレイティブ  オーガニック  ケミストリー（Ｐｒｅｐａｔｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｏｒｙ）Ｊｈｏｎ  Ｗｉｌｅｙ，２１７（１９７５）、Ｈ．Ｂｅｃｋｅｒ等，Ｏｒｇａｎｉｋｕｍ，ＶＥＢ，Ｄｅｕｔｓｃｈｅｒ  Ｖｅｒｌａｇ  ｄｅｒ  Ｗｉｓｓｅｎｓｃｈａｆｔｅｎ，２１２（１９７３）、Ｈ．Ｓｔｏｎｅ等，オーガニック  シンセシス，IV，３２３（１９６３）、Ｇ．Ａ．Ｏｌａｈ等，シンセシス，６５３（１９７４））等により行うことができる。前者の１例を示すと以下の通りである。
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（Ｒａ、ＡおよびＺ1は前記と同様の意味である。）
すなわち、クロロホルムや四塩化炭素等の溶媒中、鉄粉等の触媒存在下で芳香族化合物（４０）と臭素を反応させることにより臭素化物（４１）を製造することができる。この反応は不活性ガス雰囲気下、−２０〜１５０℃で行うことが好ましい。
前述した反応は全て公知のものであるが、必要によりさらに他の公知反応を使用できることは言うまでもない。。また、シランジイル基の導入は、前記では最終反応で行われていたが、該導入を初期の段階でおこない、その後エステル化等の反応を行って目的化合物を製造することも可能であり、該導入の時期については適当に選択すればよい。
以上は本発明化合物の一般的な製造方法について説明したものであるが、シランジイル基を特に化合物の末端部位に導入する場合について以下さらに詳しく説明する。
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先ず、ｓｃｈｅｍｅ１に示すごとく、シクロヘキサノン誘導体（４２）をＬＡＨ、ＳＢＨ、水素化ジイソブチルアルミニウムまたはナトリウム水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウム等の還元剤で還元して化合物（４３）とした後、前述のＧ．Ａ．Ｗｉｌｅｙ等の方法によりハロゲン化物（４４）とする。化合物（４４）をＣ．Ｐｅｔｒｉｅｒ等（ザ  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー，５０，５７６１（１９８５））の方法によりリチウム試薬（４５）とした後、アルキルトリハロゲン化シランと反応させて化合物（４６）とする。該化合物（４６）をＳＢＨまたはＬＡＨ等の還元剤で還元して目的化合物例の（４７）を得ることができる。
次に、ｓｃｈｅｍｅ２に示すごとく、前記シクロヘキサノン誘導体（４２）をＪ．Ｄ．Ｂｕｈｌｅｒ等（ザ  ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー，３８，９０４（１９７３））の方法により化合物（４８）とした後、ｐ−トルエンスルホン酸等の酸性触媒存在下、トルエンまたはキシレン等の溶媒中で加熱脱水して化合物（４９）とする。化合物（４９）をＰｄ−Ｃ等の触媒存在下、接触水素添加して化合物（５０）とした後、前述の上村等の方法によりハロゲン化物（５１）とする。該化合物（５１）をｎ−ＢｕＬｉ、ｔｅｒｔ−ＢｕＬｉ等のリチウム試薬でリチオ化した後、アルキルトリハロゲン化シランとの反応および還元して目的化合物例の（５２）を得ることができる。
また、ｓｃｈｅｍｅ３に示すごとく、ハロゲン化物（５３）を林等（ジャーナル  オブ  ジ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティー，１０６，１５８（１９８４））の方法および脱保護してシクロヘキサノン誘導体（５４）とする。これをシクロヘキサノン誘導体（４２）に替える以外はｓｃｈｅｍｅ１と同様にして（ａ）〜（ｅ）の反応操作を行ない、目的化合物例の（５５）を得ることができる。
また、ｓｃｈｅｍｅ４に示すごとく、シクロヘキサノン誘導体（５６）をｓｃｈｅｍｅ２と同様にしてＪ．Ｄ．Ｂｕｈｌｅｒ等の方法（ｆ）、脱水（ｇ）、および接触水素添加（ｈ）に付した後脱保護（ｌ）して、シクロヘキサノン誘導体（５８）とする。これをシクロヘキサノン誘導体（４２）に替える以外はｓｃｈｅｍｅ１と同様にして（ａ）〜（ｅ）（ただし（ｄ）は（ｍ）とする。）の反応操作を行い、目的化合物例の（５９）を得ることができる。
また、ｓｃｈｅｍｅ５に示すごとく、（ｆ）で用いるハロゲン化物（５７）をハロゲン化物（６０）に替える以外はｓｃｈｅｍｅ４と同様にして、目的化合物例の（６１）を得ることができる。
また、ｓｃｈｅｍｅ６に示すごとく、（ｆ）で用いるハロゲン化物（５７）をハロゲン化物（６２）に替える以外はｓｃｈｅｍｅ４と同様にして、目的化合物例の（６３）を得ることができる。
また、ｓｃｈｅｍｅ７に示すごとく、シクロヘキサノン誘導体（５６）とハロゲン化物（５７）をそれぞれシクロヘキサノン誘導体（６２）とハロゲン化物（６３）に替える以外はｓｃｈｅｍｅ４と同様な反応操作を行うことにより、目的化合物例の（６４）を得ることができる。
このようにして得られる本発明の有機ケイ素化合物は、公知のトリアルキルシリル基を有する同様な構造の化合物に比べ、他の液晶材料との相溶性に優れかつ低粘性である。また、シランジイル基を含まない同様な構造の化合物と比較し、低いしきい値電圧を有する上比較的低粘性を示すという予期し得ぬ効果が得られる。これらの本発明有機ケイ素化合物は、液晶表示素子が通常使用される条件下において物理的および化学的に十分安定であり、ネマチック液晶組成物の構成成分として極めて優れている。
本発明の化合物は、ＴＮ型、ＳＴＮ型およびＴＦＴ型用の液晶組成物においても、その構成成分として好適に使用することができる。
本発明の化合物で２個あるいは３個の環を有する化合物は低粘性を示し、３個あるいは４個の環を有する化合物は、高い等方相転移温度を示す。
分子内に２個以上のシクロヘキサン環を有する化合物は、高い等方相転移温度と小さなΔｎおよび低粘性を示し、２個以上の芳香環を有する化合物は大きなΔｎを示す。また、ジオキサン環またはピリミジン環を有する化合物は比較的大きなΔεを示す。
Ｒａおよび／またはＲｂ中に二重結合を有する化合物は、大きな弾性定数比（ベンド弾性定数／スプレイ弾性定数）を示し、ＳＴＮ用の化合物として用いると透過率の変化が急峻である組成物を調製できる。また、Ｒｂがハロゲン原子またはＣＮである化合物は大きなΔεを示す。
Δεは環構造中の水素原子をフッ素原子に置換することによって、より大きなものとすることが可能であり、同時に相溶性も改善され得る。
Ｚ1、Ｚ2および／またはＺ3中に二重結合を有する化合物は、前述と同様な物性を示しＳＴＮ用の化合物として好適であり、三重結合を有する化合物は、大きなΔｎを示し、ジフルオロメチレンオキシ（−ＣＦ2Ｏ−）またはオキシジフルオロメチレン（−ＯＣＦ2−）を有する化合物は、比較的大きなΔεと低粘性を示す。また、１，２−ジフルオロビニレン（−ＣＦ＝ＣＦ−）を有する化合物は著しい低粘性を示す。
これらのことから環、置換基および／または結合基を適当に選択することにより所望の物性を有する新たな液晶性化合物を得ることができる。
本発明により提供される液晶組成物は、一般式（１）で示される液晶性化合物を少なくとも１種類含む第一成分のみでもよいが、これに加え、第二成分として既述参照の一般式（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１種類の化合物（以下第二Ａ成分と称する）および／または一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）からなる群から選ばれる少なくとも１種類の化合物（以下第二Ｂ成分と称する）を混合したものが好ましく、さらに、しきい値電圧、液晶相温度範囲、屈折率異方性値、誘電率異方性値および粘度等を調整する目的で、公知の化合物を第三成分として混合することもできる。
上記第二Ａ成分のうち、一般式（２）に含まれる化合物の好適例として次の（２−１）〜（２−１５）、一般式（３）に含まれる化合物の好適例として（３−１）〜（３−４８）、一般式（４）に含まれる化合物の好適例として（４−１）〜（４〜５５）をそれぞれ挙げることができる。
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これらの一般式（２）〜（４）で示される化合物は、誘電率異方性値が正を示し、熱安定性や化学的安定性が非常に優れている。
該化合物の使用量は、液晶組成物の全重量に対して１〜９９重量％の範囲が適するが、好ましくは１０〜９７重量％、より好ましくは４０〜９５重量％である。
次に、前記第二Ｂ成分のうち、一般式（５）、（６）および（７）に含まれる化合物の好適例として、それぞれ（５−１）〜（５−２４）、（６−１）〜（６−３）および（７−１）〜（７〜１７）を挙げることができる。
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これらの一般式（５）〜（７）で示される化合物は、誘電率異方性値が正でその値が大きく、組成物成分として特にしきい値電圧を小さくする目的で使用される。また、粘度の調整、屈折率異方性値の調整および液晶相温度範囲を広げる等の目的や、さらに急峻性を改良する目的にも使用される。
また第二Ｂ成分のうち、一般式（８）および（９）に含まれる化合物の好適例として、それぞれ（８−１）〜（８−８）および（９−１）〜（９−１２）を挙げることができる。
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これらの一般式（８）および（９）で示される化合物は、誘電率異方性値が負または弱い正の化合物であり、そのうち一般式（８）で示される化合物は、組成物成分として、主に粘度低下や屈折率異方性値の調整の目的に、また一般式（９）で示される化合物は、液晶相温度範囲を広げる目的および／または屈折率異方性値の調整を目的に使用される。
上記の一般式（５）〜（９）で示される化合物は、特にＳＴＮ型表示方式や通常のＴＮ型表示方式用の液晶組成物を調製する場合に不可欠な化合物である。該化合物の使用量は、通常のＳＴＮ型表示方式やＴＮ型表示方式用の液晶組成物を調製する場合には、液晶組成物の全重量に対して１〜９９重量％の範囲が適するが、好ましくは１０〜９７重量％、より好ましくは４０〜９５重量％の範囲である。
本発明に従い提供される液晶組成物は、一般式（１）で示される液晶性化合物の少なくとも１種類を０．１〜９９重量％の割合で含有することが、優良な特性を発現せしめるために好ましい。
該液晶組成物はそれ自体公知の方法、例えば種々の成分を高温度下で相互に溶解させる方法等により一般に調製される。また、必要により、適当な添加物を加えることによって、意図する用途に応じた改良がなされ、最適化される。このような添加物は当該業者によく知られており、文献などに詳細に記載されている。通常、液晶のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を調整し、逆ねじれを防ぐといった効果を有するキラルドープ剤などが添加される。
また、メロシアニン系、スチリル系、アゾ系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アントラキノン系およびテトラジン系等の二色性色素を添加すれば、ＧＨ型用の液晶組成物として使用することもできる。本発明に係る組成物は、ネマチック液晶をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰや、液晶中に三次元網目状高分子を形成して作製したポリマー分散型液晶表示素子（ＰＤＬＣＤ）例えばポリマーネットワーク液晶表示素子（ＰＮＬＣＤ）用をはじめ、複屈折制御（ＥＣＢ）型やＤＳ型用の液晶組成物としても使用できる。本発明の化合物を含有する液晶組成物例として以下のものを示すことができる。なお、カプセルのＮｏ．は後述の実施例中に示されるそれと同一である。
組成例１
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組成例２
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組成例３
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組成例４
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組成例５
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組成例６
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組成例７
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組成例８
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組成例９
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組成例１０
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組成例１１
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組成例１２
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組成例１３
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組成例１４
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組成例１５
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以下さらに組成例を示すが、これらの組成例における化合物の表示は、下記表１に示す定義に従い左末端基、結合基、環構造および右末端基の各欄に示された基を記号の欄に示されたそれに対応させることにより行った。
【表１】
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組成例１６
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ５．０重量％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ                          ５．０重量％
３−ＨＢ−Ｃ                                        ２５．０重量％
１−ＢＴＢ−３                                        ５．０重量％
２−ＢＴＢ−１                                      １０．０重量％
３−ＨＨ−４                                        １１．０重量％
３−ＨＨＢ−１                                      １１．０重量％
３−ＨＨＢ−３                                        ４．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２                                    ４．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３                                    ４．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４                                    ４．０重量％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２                                ６．０重量％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−３                                ６．０重量％
組成例１７
４Ｏ−ＢＢ−Ｓｉ３                    （Ｎｏ．１）    ６．０重量％
Ｖ２−ＨＢ−Ｃ                                      １２．０重量％
１Ｖ２−ＨＢ−Ｃ                                    １２．０重量％
３−ＨＢ−Ｃ                                        ２４．０重量％
３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ                                    ５．０重量％
２−ＢＴＢ−１                                        ２．０重量％
３−ＨＨ−４                                          ８．０重量％
２−ＨＨＢ−Ｃ                                        ３．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｃ                                        ６．０重量％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２                                ８．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２                                    ５．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３                                    ５．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４                                    ４．０重量％
組成例１８
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ６．０重量％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                              ５．０重量％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                            １５．０重量％
４Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                            １３．０重量％
５Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                            １３．０重量％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ                                １５．０重量％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ                                １５．０重量％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２                                ４．０重量％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−３                                ４．０重量％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−４                                ４．０重量％
３−ＨＨＢ−１                                        ４．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                      ２．０重量％
組成例１９
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ４．０重量％
５−ＰｙＢ−Ｆ                                        ４．０重量％
３−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ４．０重量％
２−ＢＢ−Ｃ                                          ５．０重量％
４−ＢＢ−Ｃ                                          ４．０重量％
５−ＢＢ−Ｃ                                          ５．０重量％
２−ＰｙＢ−２                                        ２．０重量％
３−ＰｙＢ−２                                        ２．０重量％
４−ＰｙＢ−２                                        ２．０重量％
６−ＰｙＢ−Ｏ５                                      ３．０重量％
６−ＰｙＢ−Ｏ６                                      ３．０重量％
６−ＰｙＢ−Ｏ７                                      ３．０重量％
６−ＰｙＢ−Ｏ８                                      ３．０重量％
３−ＰｙＢＢ−Ｆ                                      ６．０重量％
４−ＰｙＢＢ−Ｆ                                      ６．０重量％
５−ＰｙＢＢ−Ｆ                                      ６．０重量％
３−ＨＨＢ−１                                        ６．０重量％
３−ＨＨＢ−３                                        ４．０重量％
２−Ｈ２ＢＴＢ−２                                    ４．０重量％
２−Ｈ２ＢＴＢ−３                                    ４．０重量％
２−Ｈ２ＢＴＢ−４                                    ５．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２                                    ５．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３                                    ５．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４                                    ５．０重量％
組成例２０
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ７．０重量％
３−ＤＢ−Ｃ                                        １０．０重量％
４−ＤＢ−Ｃ                                        １０．０重量％
２−ＢＥＢ−Ｃ                                      １２．０重量％
３−ＢＥＢ−Ｃ                                        ４．０重量％
３−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ６．０重量％
３−ＨＥＢ−Ｏ４                                      ４．０重量％
４−ＨＥＢ−Ｏ２                                      ６．０重量％
５−ＨＥＢ−Ｏ１                                      ６．０重量％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                      ５．０重量％
５−ＨＥＢ−Ｏ２                                      ４．０重量％
５−ＨＥＢ−５                                        ５．０重量％
４−ＨＥＢ−５                                        ５．０重量％
１Ｏ−ＢＥＢ−２                                      ４．０重量％
３−ＨＨＢ−１                                        ３．０重量％
３−ＨＨＥＢＢ−Ｃ                                    ３．０重量％
３−ＨＢＥＢＢ−Ｃ                                    ３．０重量％
５−ＨＢＥＢＢ−Ｃ                                    ３．０重量％
組成例２１
４Ｏ−ＢＢ−Ｓｉ３                    （Ｎｏ．１）    ２．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ５．０重量％
３−ＨＢ−Ｃ                                        １８．０重量％
７−ＨＢ−Ｃ                                          ３．０重量％
１Ｏ１−ＨＢ−Ｃ                                    １０．０重量％
３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ                                  １０．０重量％
２−ＰｙＢ−２                                        ２．０重量％
３−ＰｙＢ−２                                        ２．０重量％
４−ＰｙＢ−２                                        ２．０重量％
１Ｏ１−ＨＨ−３                                      ７．０重量％
２−ＢＴＢ−Ｏ１                                      ７．０重量％
３−ＨＨＢ−１                                        ４．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｆ                                        ４．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                      ４．０重量％
３−ＨＨＢ−３                                        ４．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２                                    ３．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３                                    ３．０重量％
２−ＰｙＢＨ−３                                      ４．０重量％
３−ＰｙＢＨ−３                                      ３．０重量％
３−ＰｙＢＢ−２                                      ３．０重量％
組成例２２
４Ｏ−ＢＢ−Ｓｉ３                    （Ｎｏ．１）    ５．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ５．０重量％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                              ５．０重量％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                            １２．０重量％
５Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                              ４．０重量％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ                        １０．０重量％
３−ＨＨ−ＥＭｅ                                    １０．０重量％
３−ＨＢ−Ｏ２                                      １３．０重量％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ                                      ３．０重量％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ                                      ３．０重量％
３−ＨＢＥＢ−Ｆ                                      ４．０重量％
２Ｏ１−ＨＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                            ２．０重量％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ                            ２．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｆ                                        ４．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                      ４．０重量％
３−ＨＨＢ−３                                      １０．０重量％
３−ＨＥＢＥＢ−Ｆ                                    ２．０重量％
３−ＨＥＢＥＢ−１                                    ２．０重量％
組成例２３
４Ｏ−ＢＢ−Ｓｉ３                    （Ｎｏ．１）    ５．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ４．０重量％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                              ５．０重量％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                            １２．０重量％
５Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                              ４．０重量％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ                        １６．０重量％
３−ＨＢ−Ｏ２                                        ４．０重量％
３−ＨＨ−４                                          ２．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｆ                                        ３．０重量％
３−ＨＨＢ−１                                        ４．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                      ４．０重量％
３−ＨＢＥＢ−Ｆ                                      ４．０重量％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ                                      ７．０重量％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ                                      ７．０重量％
７−ＨＥＢ−Ｆ                                        ２．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２                                    ４．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３                                    ４．０重量％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４                                    ４．０重量％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２                                ５．０重量％
組成例２４
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ３．０重量％
２−ＢＥＢ−Ｃ                                      １２．０重量％
３−ＢＥＢ−Ｃ                                        ４．０重量％
４−ＢＥＢ−Ｃ                                        ６．０重量％
３−ＨＢ−Ｃ                                        ２８．０重量％
３−ＨＥＢ−Ｏ４                                    １２．０重量％
４−ＨＥＢ−Ｏ２                                      ８．０重量％
５−ＨＥＢ−Ｏ１                                      ８．０重量％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                      ６．０重量％
５−ＨＥＢ−Ｏ２                                      ５．０重量％
３−ＨＨＢ−１                                        ４．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                      ４．０重量％
組成例２５
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ５．０重量％
２−ＢＥＢ−Ｃ                                      １０．０重量％
５−ＢＢ−Ｃ                                        １２．０重量％
７−ＢＢ−Ｃ                                          ７．０重量％
１−ＢＴＢ−３                                        ７．０重量％
２−ＢＴＢ−１                                      １０．０重量％
１Ｏ−ＢＥＢ−２                                    １０．０重量％
１Ｏ−ＢＥＢ−５                                    １２．０重量％
２−ＨＨＢ−１                                        ４．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｆ                                        ４．０重量％
３−ＨＨＢ−１                                        ７．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                      ４．０重量％
３−ＨＨＢ−３                                        ８．０重量％
組成例２６
４Ｏ−ＢＢ−Ｓｉ３                    （Ｎｏ．１）    ４．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ６．０重量％
３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ                                    ５．０重量％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                              ５．０重量％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                            １０．０重量％
Ｖ−ＨＢ−Ｃ                                        １０．０重量％
１Ｖ−ＨＢ−Ｃ                                      １０．０重量％
２−ＢＴＢ−Ｏ１                                    １０．０重量％
３−ＨＢ−Ｏ２                                        ４．０重量％
Ｖ２−ＨＨ−３                                        ５．０重量％
Ｖ−ＨＨ−４                                          ５．０重量％
Ｖ−ＨＨＢ−１                                      １０．０重量％
１Ｖ２−ＨＢＢ−２                                  １０．０重量％
３−ＨＨＢ−１                                        ６．０重量％
組成例２７
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ６．０重量％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                １５．０重量％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                １５．０重量％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                １５．０重量％
２−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              １０．０重量％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                ５．０重量％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              １０．０重量％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ６．０重量％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ６．０重量％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                １２．０重量％
組成例２８
４Ｏ−ＢＢ−Ｓｉ３                    （Ｎｏ．１）    ４．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ５．０重量％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                    ５．０重量％
５−Ｈ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ                                  ５．０重量％
３−ＨＨ−４                                          ５．０重量％
３−ＨＢ−Ｏ２                                        ５．０重量％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                １０．０重量％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                １０．０重量％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                １０．０重量％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                ５．０重量％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ３．０重量％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ３．０重量％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ６．０重量％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                ５．０重量％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                ６．０重量％
３−ＨＨＢ−１                                        ６．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                      ５．０重量％
３−ＨＨＢ−３                                        ２．０重量％
組成例２９
４Ｏ−ＢＢ−Ｓｉ３                    （Ｎｏ．１）    ４．０重量％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                                ３．０重量％
３−ＨＢ−Ｏ２                                        ３．０重量％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                １０．０重量％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                １０．０重量％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                １０．０重量％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ９．０重量％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ９．０重量％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                １６．０重量％
２−ＨＢＢ−Ｆ                                        ４．０重量％
３−ＨＢＢ−Ｆ                                        ４．０重量％
５−ＨＢＢ−Ｆ                                        ３．０重量％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                              ５．０重量％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            １０．０重量％
組成例３０
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ５．０重量％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                                ４．０重量％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          １２．０重量％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          １０．０重量％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          １０．０重量％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            １０．０重量％
４−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                              ５．０重量％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          １０．０重量％
５−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          １０．０重量％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            １２．０重量％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            １２．０重量％
組成例３１
４Ｏ−ＢＢ−Ｓｉ３                    （Ｎｏ．１）    ２．０重量％
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ２．０重量％
３−ＨＢ−ＣＬ                                      １０．０重量％
５−ＨＢ−ＣＬ                                        ４．０重量％
７−ＨＢ−ＣＬ                                        ４．０重量％
１Ｏ１−ＨＨ−５                                      ３．０重量％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ８．０重量％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ８．０重量％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                １４．０重量％
４−ＨＨＢ−ＣＬ                                      ８．０重量％
５−ＨＨＢ−ＣＬ                                      ８．０重量％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−ＣＬ                              ４．０重量％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            １０．０重量％
５−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ９．０重量％
３−ＨＢ（Ｆ）ＶＢ−２                                ２．０重量％
３−ＨＢ（Ｆ）ＶＢ−３                                ４．０重量％
組成例３２
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ４．０重量％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                              ９．０重量％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ８．０重量％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ８．０重量％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ８．０重量％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ２１．０重量％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ２０．０重量％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          １０．０重量％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ３．０重量％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ                                    ２．０重量％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          ３．０重量％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４                                  ２．０重量％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５                                  ２．０重量％
組成例３３
４Ｏ−ＢＢ−Ｓｉ３                    （Ｎｏ．１）    ５．０重量％
５−ＨＢ−Ｆ                                          ７．０重量％
６−ＨＢ−Ｆ                                          ９．０重量％
７−ＨＢ−Ｆ                                          ７．０重量％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                                  ７．０重量％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                                １１．０重量％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                                  ７．０重量％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                                  ５．０重量％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３                                ４．０重量％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３                                ４．０重量％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３                        ５．０重量％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                １０．０重量％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                １０．０重量％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ                                ３．０重量％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３                                ３．０重量％
５−ＨＢＢＨ−３                                      ３．０重量％
組成例３４
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ４．０重量％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ２．０重量％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ２．０重量％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ２．０重量％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ６．０重量％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                  ６．０重量％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                １０．０重量％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                ９．０重量％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ                                ９．０重量％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ２５．０重量％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            １９．０重量％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４                                  ３．０重量％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５                                  ３．０重量％
組成例３５
３−ＨＨＢ−Ｓｉ２                    （Ｎｏ．３４）  ５．０重量％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ６．０重量％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ６．０重量％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ６．０重量％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ５．０重量％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ２７．０重量％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ２７．０重量％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ４．０重量％
４−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ２．０重量％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ２．０重量％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          １０．０重量％
発明を実施するための最良の形態
以下、実施例により本発明をより詳細に説明する。なお、各実施例中において、Ｃは結晶を、ＳAはスメクチックＡ相を、ＳBはスメクチックＢ相を、ＳXは相構造未解析のスメクチック相を、Ｎはネマチック相を、Ｉは等方相を示し、相転移温度の単位は全て℃である。
実施例１
ピルシリル−４’−ブトキシビフェニル（一般式（１）において、ＲａがＣ4Ｈ9Ｏ、ＲｂがＣ3Ｈ7ＳｉＨ2、ｍが１、ｎおよびｏが共に０、ＡおよびＡ1が共に１，４−フェニレン、Ｚ1が共有結合である化合物（Ｎｏ．１））の製造
４−ブロモ−４’−ブトキシビフェニル１０．０ｇ（３３ｍｍｏｌ）およびジエチルエーテル４００ｍｌを混合した。窒素ガス雰囲気下、該混合物にｎ−ＢｕＬｉのヘキサン溶液２７ｍｌ（４５ｍｍｏｌ相当）を−５０℃を保つように滴下し、同温度で３０分間撹拌した。その後、徐々に昇温して室温で３時間撹拌した。次いで、窒素ガス雰囲気下、得られた混合物をプロピルトリクロロシラン１１．６ｇ（６６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１０ｍｌ溶液中に−５０℃以下を保つように滴下し、同温度で３０分間撹拌した。その後、徐々に昇温して室温で４８時間撹拌した。
反応混合物の溶媒を減圧下に留去し、残査を減圧下に蒸留（１８２〜２０３℃／１ｍｍＨｇ）して４−プロピルジクロロシリル−４’−ブトキシビフェニル４．６ｇを得た。
この化合物３．０ｇ（８ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル１５ｍｌ溶液を、ＬｉＡｌＨ4０．６ｇ（１６ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル１５ｍｌ懸濁液中に室温、１５分間で滴下し、同温度で１０時間撹拌した。反応混合物を冷却した２Ｎ−ＨＣｌ１５０ｍｌ中へ注ぎ、酢酸エチル１００ｍｌで抽出した。得られた有機相を６Ｎ−ＨＣｌ（２０ｍｌ×３）、２Ｎ−ＮａＯＨ（２０ｍｌ×２）、水（３０ｍｌ×３）で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘプタン）に付し、粗製の４−プロピルシリル−４’−ブトキシビフェニル１．０ｇを得た。このものをヘプタン／酢酸エチル混合溶媒から再結晶し、標題化合物０．５ｇ（収率７．８％）を得た。
このものは液晶相を示し、その転位温度はＣ室温以下ＳX７７．８〜７８．２ＳA８４．２〜８６．３Ｉであった。
また、各スペクトルデータはよくその構造を支持した。
質量分析：２９８（Ｍ+）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ内部標準）
δ（ｐｐｍ）
０．９３−１．０８（ｍ，８Ｈ）
１．４０−１．７９（ｍ，６Ｈ）
３．９９（ｔ，２Ｈ）
４．３２（ｔ，２Ｈ）
６．９６−７．５８（ｍ，８Ｈ）
実施例１と類似の方法により次の化合物（Ｎｏ．２〜Ｎｏ．３３）が製造される。
Ｎｏ．
２      ４−エチルシリルメチル−４’−エチルビフェニル
３      ４−エトキシ−１−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）ベンゼン
４      ４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−メチルシリルメトキシベンゼン
５      ４−（トランス−４−ブトキシメチルシクロヘキシル）−１−エチルシリルメチルベンゼン
６      ４−（トランス−４−ビニルシクロヘキシル）−１−ブチルシリルベンゼン
７      ４−（トランス−４−（２−プロペニルオキシ）シクロヘキシル）−１−エチルジシラニルベンゼン
８      トランス，トランス−４−プロピルシリル−４’−プロピルビシクロヘキサン
９      トランス，トランス−４−メチルシリルエチル−４’−プロピルビシクロヘキサン
１０    トランス，トランス−４−プロピルシリル−４’−ビニルビシクロヘキサン
１１    （Ｅ）−トランス，トランス−４−メチルシリルメチル−４’−（１−ブテニル）ビシクロヘキサン
１２    トランス，トランス−４−（２−プロペニル）シリル−４’−メトキシメチルビシクロヘキサン
１３    トランス，トランス−４−エチルシリル−４’−（２，２−ジフルオロビニル）ビシクロヘキサン
１４    （Ｅ）−トランス，トランス−４−エチルシリル−４’−（４−フルオロ−１−ブテニル）ビシクロヘキサン
１５    トランス，トランス−４−（２−プロペニル）シリル−４’−（２−プロペニル）ビシクロヘキサン
１６    ４−（２−（４−エチルフェニル）エチル）−１−メチルシリルプロピルベンゼン
１７    ４−（２−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル））エチル）−１−ペンチルシリルペンチルベンゼン
１８    ４−エトキシ−１−（２−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル））エチル）ベンゼン
１９    トランス−４−（２−（トランス−４−メトキシブチルシクロヘキシル））エチル）−１−メチルシリルエチルシクロヘキサン
２０    トランス−４−（２−（トランス−４−（３Ｅ−ペンテニル）シクロヘキシル）−１Ｅ−ビニル）−１−ペンチルシリルシクロヘキサン
２１    ４−（２−（トランス−４−（１Ｅ−プロペニル）シクロヘキシル）−１Ｅ−ビニル）−１−メトキシエチルシリルシクロヘキサン
２２    （Ｅ）−４−エチルシリル−４’−ペンチル−α，β−ジフルオロスチルベン
２３    （Ｅ）−トランス−４−（２−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−１，２−ジフルオロビニル）−１−ペンチルシクロヘキサン
２４    （Ｅ）−トランス−４−（４−（トランス−４−（６−ウンデセニル）シクロヘキシル）ブチル）−１−（２−オキサペンチル）シリルシクロヘキサン
２５    （Ｅ）−トランス−４−（４−（トランス−４−ペンタデシルシクロヘキシル）−３−ブテニル）−１−メチルシリルエチルシリルシクロヘキサン
２６    ４−エチルシリル−４’−メチルトラン
２７    ４−メチルシリル−４’−メトキシトラン
２８    ２，３−ジフルオロ−４−ブチルシリル−４’−メチルトラン
２９    ４−プロピルシリルフェニル＝４−プロポキシベンゾアート
３０    ４−エチルシリルメトキシフェニル＝トランス−４−ヘキシルシクロヘキサンカルボキシラート
３１    （Ｅ）−トランス−４−（（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）メチレンオキサ）−１−エチルジシラニルシクロヘキサン
３２    （Ｅ）−トランス，トランス−４−プロピルシリル−４’−（１，５−ヘキサジエニル）ビシクロヘキサン
３３    ２−（４−メチルシリルプロピルフェニル）−５−プロピルピリミジン
実施例２
４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１−エチルシリルベンゼン（一般式（１）において、ＲａがＣ3Ｈ7、ＲｂがＣ2Ｈ5ＳｉＨ2、ｍおよびｎが共に１、ｏが０、ＡおよびＡ1が共にトランス−１，４−シクロヘキシレン、Ａ2が１，４−フェニレン、Ｚ1およびＺ2が共有結合である化合物（Ｎｏ．３４））の製造
４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１−ブロモベンゼン２０．０ｇ（５５ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン１２００ｍｌを混合した。窒素ガス雰囲気下、該混合物にｎ−ＢｕＬｉのヘキサン溶液４１ｍｌ（６６ｍｍｏｌ相当）を−５０℃を保つように滴下し、同温度で２時間撹拌した。その後、徐々に昇温して室温で３０分間撹拌した。
次いで、窒素ガス雰囲気下、得られた混合物をエチルトリクロロシラン２５．０ｇ（１５３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ５０ｍｌ溶液中に−５０℃以下を保つように滴下し、同温度で３時間撹拌した。その後、徐々に昇温して室温で４８時間撹拌した。
反応混合物の溶媒を減圧下に留去した。残査のテトラヒドロフラン３００ｍｌ溶液をＬｉＡｌＨ4３．２ｇ（８４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン５０ｍｌ懸濁液中に室温、１５分間で滴下し、同温度で５時間撹拌した。反応混合物を冷却した２Ｎ−ＨＣｌ１００ｍｌ中に注ぎ、酢酸エチル１００ｍｌで抽出した。得られた有機相を６Ｎ−ＨＣｌ（１００ｍｌ×３）、ｄｉｌ．ＮａＨＣＯ3（１００ｍｌ×２）、水（１００ｍｌ×３）で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘプタン）に付し、粗製の４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１−エチルシリルベンゼン４．４ｇを得た。このものをエタノール／酢酸エチル混合溶媒から再結晶し、標題化合物２．９ｇ（収率１５．４％）を得た。
このものは液晶相を示し、その転位温度はＣ室温以下ＳB１６９．９〜１７１．４Ｉであった。
また、各スペクトルデータはよくその構造を支持した。
質量分析：３４２（Ｍ+）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ内部標準）
δ（ｐｐｍ）
０．８０−２．４４（ｍ，３２Ｈ）
４．２５（ｔ，２Ｈ）
７．１６−７．５３（ｄｄ，４Ｈ）
実施例２と類似の方法により次の化合物（Ｎｏ．３５〜Ｎｏ．７８）が製造される。
Ｎｏ．
３５    ４−メチル−１−（トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）ベンゼン
３６    ４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１−メチルシリルメトキシベンゼン
３７    ４−（３−フルオロプロピル）−１−（トランス−４−（トランス−４−ブチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）ベンゼン
３８    ４−デシルシリルエチルシリル−４’−（トランス−４−メチルシリルシクロヘキシル）ビフェニル
３９    ４−エチルシリル−４’−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ビフェニル
４０    ４−メチルシリルメチル−４”−イコシル−１、１’：４’１”−テルフェニル
４１    （Ｅ）−トランス，トランス，トランス−４”−（１−ブテニル）−４−プロピルシリル−１，１’：４’，１”−テルシクロヘキサン
４２    （Ｅ）−４−（トランス−４−（トランス−４−（３−ペンテニル）シクロヘキシル）シクロヘキシル）−１−メチルシリルメチルベンゼン
４３    （Ｅ）−４−（トランス−４−（トランス−４−（５−フルオロペンテニル）シクロヘキシル）シクロヘキシル）−１−エチルシリルベンゼン
４４    ３−（４−ブチルシリルフェニル）−３’−（２，２−ジフルオロビニル）スピロビシクロブタン
４５    ３−メチル−１−（トランス−４−（４−エチルシリルフェニル）シクロヘキシル）ビシクロ［１．１．１］ペンタン
４６    ４−（トランス−４−（トランス−４−ビニルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１−メチルシリルベンゼン
４７    （Ｚ）−トランス，トランス，トランス−４”−（２−ペンテニル）−４−（３−プロペニル）シリル−１，１’：４’，１”−テルシクロヘキサン
４８    ４−（２（４−ブチルフェニル）エチル）−１−（トランス−４−メチルシリルブチルシクロヘキシル）ベンゼン
４９    （Ｅ）−（トランス−４−（２−（トランス−４−メチルジシラニルシクロヘキシル）ビニル）シクロヘキシル）−１−メトキシブチルベンゼン
５０    ４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−１−（２−（４−メチルシリルメトキシフェニル）メチルシリル）ベンゼン
５１    ４−（トランス−４−（４−（トランス−４−ヘプタシラニル）ブチル）シクロヘキシル）−１−メトキシエトキシメチルベンゼン
５２    （Ｅ）−２−フルオロ−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）−４’−プロピルスチルベン
５３    ４−（トランス−４−メチルシリルメチルシクロヘキシル）−４’−エチルトラン
５４    ４−メチルシリル−２’−フルオロ−４’−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）トラン
５５    ４−メチルシリル−４’−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）トラン
５６    ２−フルオロ−４−（２−（トランス−４−ブチルシリルシクロヘキシル）エチル）−４−プロポキシトラン
５７    ４−メチルシリルプロピルフェニル＝トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシラート
５８    ４−メチルシリルエトキシフェニル＝４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾアート
５９    ４−プロピルシリルフェニル＝２−フルオロ−４−（トランス−４−エトキシメチルシクロヘキシル）ベンゾアート
６０    ４−ブトキシフェニル＝２−フルオロ−４−（２−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）エチル）ベンゾアート
６１    ４−エチルシリルフェニル＝４−（（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）カルボキシ）ベンゾアート
６２    （４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）フェニル）ジフルオロメチル＝４−メトキシフェニル＝エーテル
６３    （２−フルオロ−４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）フェニル）ジフルオロメチル＝４−ブチルシリルフェニル＝エーテル
６４    （Ｅ）−４−（トランス−４−（トランス−４−（１．５−ヘキサジエニル）シクロヘキシル）シクロヘキシル）−１−ブチルシリルベンゼン
６５    ２−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−５−プロピルシリルピリミジン
６６    ２−（４’−ブトキシビフェニル−４−イル）−５−エチルシリルピリミジン
６７    ２−（４−メチルトリシラニルメチルフェニル）−５−メトキシピリミジン
６８    ４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）−４’−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ビフェニル
６９    ４−（トランス−４−メチルシリルメチルシクロヘキシル）−４’−（トランス−４−メトキシメチルシクロヘキシル）ビフェニル
７０    ４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）−４’−（トランス−４−（５−フルオロペンチルシクロヘキシル）ビフェニル
７１    ２−フルオロ−４−（トランス−４−エチルシリルエチルシクロヘキシル）−４’−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ビフェニル
７２    ４−（２−（４−（トランス−４−メトキシプロピルシクロヘキシル）フェニル）エチル）−１−（トランス−４−メチルシリルシクロヘキシル）ベンゼン
７３    ４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシリルエチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−４’−プロピルビフェニル
７４    ４−ブチルシリルペンチル−４’−（２−（トランス−４−（トランス−４−（９−メチルドデシル）シクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）ビフェニル
７５    ４−（２−（２−フルオロ−４−（トランス−４−（トランス−４−メトキシメチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニル）エチル）−１−ブチルシリルベンゼン
７６    （Ｅ）−４−（トランス−４−（トランス−４−（トランス−４−（１−プロペニル）シクロヘキシル）シクロヘキシル）シクロヘキシル）−１−エチルシリルベンゼン
７７    トランス，トランス，トランス，トランス−４−（２−プロペニル）−４’’’−ビニル−１，１’：４’，１”：４”，１’’’−クアテルシクロヘキサン
７８    （Ｅ）−４−（トランス−４−メチルシリルシクロヘキシル）−４’−（トランス−４−（５−フルオロ−１−ペンテニルシクロヘキシル）ビフェニル
実施例３
（トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（一般式（１）において、ＲａがＣ2Ｈ5ＳｉＨ2、ＲｂがＦ、ｍおよびｎが共に１、ｏが０、ＡおよびＡ1が共にトランス−１，４−シクロヘキシレン、Ａ2が３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、Ｚ1およびＺ2が共に共有結合である化合物（Ｎｏ．７９））の製造
（トランス−４−（４−ブロモシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３，４，５−トリフルオロベンゼン３０．０ｇ（８０ｍｍｏｌ）、リチウム０．５ｇ（８０ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１０００ｍｌおよびトルエン１００ｍｌを混合した。アルゴンガス雰囲気下、−３０℃以下を保ち、超音波を３時間照射した。
次いで、該混合物を−６０℃以下に冷却し、エチルトリクロロシラン３２．７ｇ（２００ｍｍｏｌ）のＴＨＦ５０ｍｌ溶液中に−６０℃以下を保つように滴下し、同温度で３時間撹拌した。その後、徐々に昇温して室温で４８時間撹拌した。
反応混合物の溶媒を減圧下に留去した。残査のＴＨＦ３５０ｍｌ溶液をＬｉＡｌＨ4９．１ｇ（２４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１００ｍｌ懸濁液中に室温、２０分間で滴下し、同温度で３時間撹拌した。反応混合物を冷却した２Ｎ−ＨＣｌ１５０ｍｌ中へ注ぎ、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。得られた有機相を６Ｎ−ＨＣｌ（１００ｍｌ×３）、ｄｉｌ．ＮａＨＣＯ3（１００ｍｌ×２）、水（１００ｍｌ×３）で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘプタン）に付し、粗製の（トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３，４，５−トリフルオロベンゼン４．４ｇを得た。このものをエタノール／酢酸エチル混合溶媒から再結晶し、標題化合物３．１（収率１０．９％）ｇを得た。
また、スペクトルデータはよくその構造を支持した。
質量分析：３５４（Ｍ+）
実施例３と類似の方法により次の化合物（Ｎｏ．８０〜Ｎｏ．１９１）が製造される。
Ｎｏ．
８０    ４−シアノ−４’−トリシラニルビフェニル
８１    ４−シアノ−４’−エチルシリルエチルビフェニル
８２    ４−（トランス−４−メチルシリルメチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル
８３    （Ｅ）−４−（トランス−４−（２−プロペニルシリル）シクロヘキシル）ベンゾニトリル
８４    （Ｅ）−４−（トランス−４−（１−プロペニルシリル）シクロヘキシル）ベンゾニトリル
８５    ２−フルオロ−４−（トランス−４−メチルシリルシクロヘキシル）ベンゾニトリル
８６    （トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）−４−クロロベンゼン
８７    （トランス−４−メチルシリルプロピルシクロヘキシル）−４−クロロベンゼン
８８    （トランス−４−エチルシリルブチルシクロヘキシル）−４−フルオロベンゼン
８９    （トランス−４−エチルシリルエチルシクロヘキシル）−４−フルオロベンゼン
９０    （トランス−４−プロピルシリルプロピルシクロヘキシル）−３，４−ジフルオロベンゼン
９１    （トランス−４−ペンチルシリルメチルシクロヘキシル）−３，４，５−トリフルオロベンゼン
９２    （トランス−４−メトキシメチルシリルシクロヘキシル）−３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシベンゼン
９３    （２−（トランス−４−エチルシリルエチルシクロヘキシル）エチル）−３，４−ジフルオロベンゼン
９４    （２−（トランス−４−シリルメトキシメチルシクロヘキシル）エチル）−４−トリフルオロメチルベンゼン
９５    （Ｅ）−４−エチルシリル−４’−フルオロ−α，β−ジフルオロスチルベン
９６    ４−メチルトリシラニルメチル−４’−フルオロトラン
９７    ４−シアノフェニル＝４−メチルシリルベンゾアート
９８    ３−フルオロ−４−シアノフェニル＝４−メチルシリルベンゾアート
９９    ３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル＝４−（３−ブテニルシリル）ベンゾアート
１００  ４−フルオロフェニル＝トランス−４−エチルシリルメチルシクロヘキサンカルボキシラート
１０１  ３，４−ジフルオロフェニル＝トランス−４−メチルシリルメチルシクロヘキサンカルボキシラート
１０２  ２−（３，４−ジフルオロフェニル）−５−プロピルシリルピリミジン
１０３  ４−（５−メチルシリルメチルジオキサン−２−イル）ベンゾニトリル
１０４  ４”−メトキシエチルシリル−４−シアノ−１，１’：４’，１”−テルフェニル
１０５  ４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）−４’−フルオロビフェニル
１０６  ４−（トランス−４−メチルシリルシクロヘキシル）−３’，４’−ジフルオロビフェニル
１０７  ４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）−３’，４’−ジフルオロビフェニル
１０８  ４−（トランス−４−ブチルシリルシクロヘキシル）−３’，４’−ジフルオロビフェニル
１０９  ４−（トランス−４−ジシラニルメチルシクロヘキシル）−３’，４’−ジフルオロビフェニル
１１０  ４−（トランス−４−メチルシリルメチルシクロヘキシル）−３’，４’，５’−トリフルオロビフェニル
１１１  ４−（トランス−４−メチルシリルプロピルシクロヘキシル）−３’，４’，５’−トリフルオロビフェニル
１１２  ４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）−４’−トリフルオロメチルビフェニル
１１３  ２−フルオロ−４−（トランス−４−エチルシリルエチルシクロヘキシル）−３’−フルオロ−４’−トリフルオロメトキシビフェニル
１１４  ４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）ベンゾニトリル
１１５  ２−フルオロ−４−（トランス−４−（トランス−４−メチルシリルメチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）ベンゾニトリル
１１６  ４−（トランス−４−（トランス−４−（２−プロペニルシリル）シクロヘキシル）シクロヘキシル）ベンゾニトリル
１１７  （トランス−４−（トランス−４−メチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−４−クロロベンゼン
１１８  （トランス−４−（トランス−４−プロピルシリルメチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−４−クロロベンゼン
１１９  （トランス−４−（トランス−４−ブチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−４−フルオロベンゼン
１２０  （トランス−４−（トランス−４−メチルシリルエチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−４−トリフルオロメトキシベンゼン
１２１  （トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−４−トリフルオロメトキシベンゼン
１２２  （トランス−４−（トランス−４−メチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−４−ジフルオロメトキシベンゼン
１２３  （トランス−４−（トランス−４−メチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３，４−ジフルオロベンゼン
１２４  （トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３，４−ジフルオロベンゼン
１２５  （トランス−４−（トランス−４−エチルシリルメチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３，４−ジフルオロベンゼン
１２６  （トランス−４−（トランス−４−エチルシリルエチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３，４−ジフルオロベンゼン
１２７  （トランス−４−（トランス−４−プロピルシリルメチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３，４−ジフルオロベンゼン
１２８  （トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３，４，５−トリフルオロベンゼン
１２９  （トランス−４−（トランス−４−ブチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３，４，５−トリフルオロベンゼン
１３０  （トランス−４−（トランス−４−（２−フルオロエチルシリル）シクロヘキシル）シクロヘキシル）−３−フルオロ−４−トリフルオロメチルベンゼン
１３１  （トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，３−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシベンゼン
１３２  ４−（トランス−４−ブチルシリルシクロヘキシル）−１−（３，５−ジフルオロ−４−（１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ）フェニル）ビシクロ［２．２．２］オクタン
１３３  （トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシベンゼン
１３４  （トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシリルメトキシシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）−３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルベンゼン
１３５  （トランス−４−（２−（トランス−４−メチルシリルプロピルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）−４−ジフルオロメチルベンゼン
１３６  （トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）−３，４−ジフルオロベンゼン
１３７  （トランス−４−（２−（トランス−４−ブチルシリルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）−３，４，５−トリフルオロベンゼン
１３８  ４−（２−（トランス−４−ヘキシルシリルシクロヘキシル）エチル）−３’−フルオロ−４’−ジフルオロメトキシビフェニル
１３９  ４−（２−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）エチル）−３’，４’，５’−トリフルオロビフェニル
１４０  （２−（４−（トランス−４−メトキシエチルシリルシクロヘキシル）フェニル）エチル）−３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシベンゼン
１４１  （２−（４−（トランス−４−メチルシリルシクロヘキシル）フェニル）エチル）−３−フルオロ−４−クロロベンゼン
１４２  （２−（トランス−４−（トランス−４−メチルシリルメチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−４−トリフルオロメトキシベンゼン
１４３  （２−（トランス−４−（トランス−４−メチルシリルメチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−３，４−ジフルオロベンゼン
１４４  （２−（トランス−４−（トランス−４−メチルシリルプロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−３，４−ジフルオロベンゼン
１４５  （２−（トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−３，４，５−トリフルオロベンゼン
１４６  （２−（トランス−４−（トランス−４−メチルシリルメチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−３，４，５−トリフルオロベンゼン
１４７  （２−（トランス−４−（トランス−４−メチルシリルプロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−３，４，５−トリフルオロベンゼン
１４８  （２−（トランス−４−（トランス−４−ブチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシベンゼン
１４９  ４−（２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−２−フルオロベンゾニトリル
１５０  （トランス−４−（２−（トランス−４−メチルシリルメチルシクロヘキシル）ビニル）シクロヘキシル）−３，４−ジフルオロベンゼン
１５１  ４−（トランス−４−（２−（トランス−４−メチルシリルエチルシクロヘキシル）ビニル）シクロヘキシル）−２，６−ジフルオロベンゾニトリル
１５２  （トランス−４−（４−（トランス−４−メチルシリルプロピルシクロヘキシル）ブチル）シクロヘキシル）−４−フルオロメチルベンゼン
１５３  （Ｚ）−（トランス−４−（４−（トランス−４−メチルシリルメチルプロピルシクロヘキシル）−２−ブテニル）シクロヘキシル）−３−フルオロ−４−ジフルオロメチルベンゼン
１５４  ４−（トランス−４−プロピルシリルメチルシクロヘキシル）−４’−フルオロトラン
１５５  ３−フルオロ−４−シアノフェニル＝４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）ベンゾアート
１５６  ３−フルオロ−４−シアノフェニル＝４−（トランス−４−エチルシリルエチルシクロヘキシル）ベンゾアート
１５７  ３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル＝２−フルオロ−４−（トランス−４−メチルシリルエトキシシクロヘキシル）ベンゾアート
１５８  （Ｅ）−３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル＝２−フルオロ−４−（２−（トランス−４−（２−プロペニルシリル）シクロヘキシル）エチル）ベンゾアート
１５９  ４−フルオロフェニル＝４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）ベンゾアート
１６０  ３，４，５−トリフルオロフェニル＝４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）ベンゾアート
１６１  ３，４，５−トリフルオロフェニル＝４−（トランス−４−メチルジシラニルメチルシクロヘキシル）ベンゾアート
１６２  ４−トリフルオロメトキシフェニル＝２−フルオロ−４−（トランス−４−プロピルジシラニルシクロヘキシル）ベンゾアート
１６３  ４−フルオロフェニル＝トランス−４−（トランス−４−エチルシリルメチルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシラート
１６４  ３−フルオロ−４−シアノフェニル＝トランス−４−（トランス−４−トリシラニルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシラート
１６５  ３，４−ジフルオロフェニル＝トランス−４−（トランス−４−メチルシリルメチルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシラート
１６６  ３，４−ジフルオロフェニル＝トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシラート
１６７  ３，４−ジフルオロフェニル＝トランス−４−（トランス−４−メトキシエチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシラート
１６８  ３，４，５−トリフルオロフェニル＝トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシラート
１６９  ３，４，５−トリフルオロフェニル＝トランス−４−（トランス−４−メチルシリルオクタデシルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシラート
１７０  ３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル＝トランス−４−（トランス−４−ブチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシラート
１７１  ３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル＝トランス−４−（トランス−４−メチルシリルメチルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシラート
１７２  ４−トリフルオロメチルフェニル＝２−フルオロ−４−（（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）カルボキシ）ベンゾアート
１７３  （４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）フェニル）ジフルオロメチル＝３−フルオロ−４−クロロフェニル＝エーテル
１７４  （４−（トランス−４−メチルシリルメチルシクロヘキシル）フェニル）ジフルオロメチル＝３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル＝エーテル
１７５  （２−フルオロ−４−（トランス−４−メトキシエチルシリルシクロヘキシル）フェニル）ジフルオロメチル＝３，４，５−トリフルオロフェニル＝エーテル
１７６  ４−（５−（４−ブチルシリルフェニル）ピリミジン−２−イル））ベンゾニトリル
１７７  ２−（４’−フルオロビフェニル−４−イル）−５−エチルシリルエチルピリミジン
１７８  ４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３’，４’，５’−トリフルオロビフェニル
１７９  ４−（トランス−４−（トランス−４−エチルジシラニルメチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−４’−（１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロピル）ビフェニル
１８０  ４−（トランス−４−（トランス−４−ブチルシリルメチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３’，５’−ジフルオロ−４’−トリフルオロ    メトキシビフェニル
１８１  ４−（２−（トランス−４−（トランス−４−メチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−３’−フルオロ−４’−トリフルオロメチルビフェニル
１８２  ４−（２−（トランス−４−（トランス−４−メチルシリルプロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−４’−フルオロビフェニル
１８３  （２−（４−（トランス−４−（トランス−４−メトキシエチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニル）エチル）−４−ジフルオロメチルベンゼン
１８４  ４−（４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）ブチル）−３’−フルオロ−４’−ジフルオロメトキシビフェニル
１８５  ４’−シアノビフェニル−４−イル＝トランス−４−（トランス−４−メチルシリルエチルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシラート
１８６  ４’−シアノビフェニル−４−イル＝４−（トランス−４−メチルシリルエチルシリルシクロヘキシル）ベンゾアート
１８７  ３’，４’，５’−トリフルオロビフェニル−４−イル＝トランス−４−（トランス−４−ブチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシラート
１８８  ４’−トリフルオロメチルビフェニル−４−イル＝トランス−４−（トランス−４−メチルシリルペンチルシクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシラート
１８９  ３−フルオロ−４−フルオロメトキシフェニル＝２−フルオロ−４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）シクロヘキシル）ベンゾアート
１９０  ４−（トランス−４−エチルシリルシクロヘキシル）−１−（３，４，５−トリフルオロフェニル）シクロヘキセン
１９１  ４−（トランス−４−（４−メチルシリルフェニル）シクロヘキシル）−１−ペンチルシクロヘキセン
以下、本発明化合物を液晶組成物の成分として用いた場合の例を示す。各使用例において、ＮＩはネマチック相−等方相転移温度（℃）を、Δεは誘電率異方性値を、Δｎは屈折率異方性値を、ηは２０℃における粘度（ｍＰａ・ｓ）を、Ｖ10はしきい値電圧（Ｖ）を示す。
実施例４（使用例１）
下記のシアノフェニルシクロヘキサン系液晶化合物を含む液晶組成物：
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ベンゾニトリル  ２４重量％、
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル  ３６重量％、
４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル  ２５重量％、
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル−４’−シアノビフェニル１５重量％
は以下の物性を有する。
ＮＩ：７２．４、Δε：１１．０、Δｎ：０．１３７、η：２６．７、セル厚９μｍにおけるＶ10：１．７８。
この組成物８５重量％に４−プロピルシリル−４’−ブトキシビフェニル（化合物Ｎｏ．１）を１５重量％混合してネマチック液晶組成物を得た。この液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：５７．２、Δε：９．６、Δｎ：０．１３１、η：２３．６、セル厚８．９μｍにおけるＶ10：１．４４。
この組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えても結晶の析出は見られなかった。
実施例５（使用例２）
フッ素系液晶化合物のトランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル−３，４−ジフルオロベンゼン、トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル−３，４−ジフルオロベンゼンおよびトランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル−３，４−ジフルオロベンゼンを等重量で含む液晶組成物は、以下の物性を有する。  ＮＩ：１１２．５、Δε：４．９、Δｎ：０．０７９、η：２４．７、セル厚８．９μｍにおけるＶ10：２．２６。
この液晶混合物８０重量％に、４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１−エチルシリルベンゼン（化合物Ｎｏ．３４）を２０重量％混合して液晶組成物を得た。この液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：１１１．９、Δε：４．１、Δｎ：０．０８１、η：２５．４、セル厚８．８μｍにおけるＶ10：２．６０。
この液晶組成物を−２０℃のフリーザー中に放置したが、６０日を越えても結晶の析出は見られなかった。
実施例６（使用例３）
組成例１６の液晶組成物の物性値は、次の通りであった。
ＮＩ：８９．０、Δε：７．０、Δｎ：０．１６２、η：１４．４、Ｖ10：２．１１。
実施例７（使用例４）
組成例１７の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：８４．２、Δε：８．７、Δｎ：０．１５７、η：１８．４、Ｖ10：１．９９。
実施例８（使用例５）
組成例１８の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：８８．７、Δε：３０．８、Δｎ：０．１４８、η：８６．６、Ｖ10：０．８６。
実施例９（使用例６）
組成例１９の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：９３．１、Δε：６．４、Δｎ：０．２０１、η：３４．８、Ｖ10：２．２８。
実施例１０（使用例７）
組成例２０の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：６９．６、Δε：１１．４、Δｎ：０．１２０、η：３９．３、Ｖ10：１．３１。
実施例１１（使用例８）
組成例２１の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：７４．６、Δε：７．９、Δｎ：０．１３８、η：１７．９、Ｖ10：１．７７。
実施例１２（使用例９）
組成例２２の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：７２．４、Δε：２２．６、Δｎ：０．１１５、η：３４．２、Ｖ10：１．０１。
実施例１３（使用例１０）
組成例２３の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：８５．８、Δε：２８．１、Δｎ：０．１４４、η：４１．３、Ｖ10：１．００。
実施例１４（使用例１１）
組成例２４の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：６１．１、Δε：９．９、Δｎ：０．１１２、η：２５．７、Ｖ10：１．３６。
実施例１５（使用例１２）
組成例２５の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：６５．２、Δε：６．４、Δｎ：０．１５９、η：１９．９、Ｖ10：１．７９。
実施例１６（使用例１３）
組成例２６の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：６２．９、Δε：９．３、Δｎ：０．１３２、η：１９．１、Ｖ10：１．４７。
実施例１７（使用例１４）
組成例２７の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：９９．２、Δε：４．９、Δｎ：０．０９３、η：２４．８、Ｖ10：２．２４。
実施例１８（使用例１５）
組成例２８の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：８５．９、Δε：３．０、Δｎ：０．０９４、η：１９．２、Ｖ10：２．７８。
実施例１９（使用例１６）
組成例２９の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：８３．４、Δε：５．７、Δｎ：０．１１７、η：２５．５、Ｖ10：２．０１。
実施例２０（使用例１７）
組成例３０の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：７４．０、Δε：８．３、Δｎ：０．０８５、η：２６．９、Ｖ10：１．６１。
実施例２１（使用例１８）
組成例３１の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：８８．６、Δε：４．８、Δｎ：０．１２８、η：２０．８、Ｖ10：２．３４。
実施例２２（使用例１９）
組成例３２の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：９１．８、Δε：８．９、Δｎ：０．１１３、η：３３．０、Ｖ10：１．７７。
実施例２３（使用例２０）
組成例３３の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：８６．７、Δε：４．５、Δｎ：０．０９６、η：１５．９、Ｖ10：２．４０。
実施例２４（使用例２１）
組成例３４の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：９０．０、Δε：７．２、Δｎ：０．１３２、η：３３．２、Ｖ10：１．９２。
実施例２５（使用例２２）
組成例３５の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：６９．３、Δε：１０．４、Δｎ：０．１０５、η：３３．７、Ｖ10：１．３３。
なお、上記実施例１６〜３５に示す液晶組成物をそれぞれ−２０℃のフリーザー中に放置したが、何れの液晶組成物についても６０日経過後結晶の析出は見られなかった。
比較例１
４−プロピルシリル−４’−ブトキシビフェニル（化合物Ｎｏ．１）に替えて、トリアルキルシリル基を有する化合物の４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−プロピルジメチルシリルベンゼンを比較化合物として用いる以外は実施例４と同様にして液晶組成物を得た。この液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：１５℃以下、Δε：５．０、Δｎ：０．０９５、η：３９．７、セル厚８．６μｍにおけるＶ10：１．１７。
この液晶組成物を偏光顕微鏡下で観察したところ、ＮＩの異なる領域（溶解していない領域）があり相溶性が悪いことがわかった。
このことから、トリアルキルシリル基を有する比較化合物はモノアルキルシリル基を有する本発明化合物と比較して、粘性と相溶性が共に劣ることが知られる。
比較例２
４−プロピルシリル−４’−ブトキシビフェニル（化合物Ｎｏ．１）に替えて、シランジイル基を含まないが類似の構造を有する化合物の４−ペンチル−４’−ブトキシビフェニルを比較化合物として用いる以外は実施例４と同様にして液晶組成物を得た。この液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：６６．７、Δε：１０．０、Δｎ：０．１３７、η：２４．２、セル厚８．９μｍにおけるＶ10：１．６７。
このことから、シランジイル基を含まない比較化合物は該基を含む本発明化合物と比較して、しきい値電圧と粘性が共に劣ることが知られる。
比較例３
４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１−エチルシリルベンゼン（化合物Ｎｏ．３４）に替えて、シランジイル基を含まないがこれと類似の構造を有する化合物の（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−４−プロピルベンゼンを用いる以外は実施例５と同様にして液晶組成物を得た。この液晶組成物の物性値は次の通りであった。
ＮＩ：１２５．７、Δε：４．０、Δｎ：０．０８３、η：２６．２、セル厚８．８μｍにおけるＶ10：２．７９。
このことから、シランジイル基を含まない比較化合物は該基を含む本発明化合物と比較して、しきい値電圧と粘性が共に劣ることが知られる。
以上説明した通り、本発明の化合物はいずれも低いしきい値電圧を有し、相溶性に優れかつ粘性についても改善されたものとなることが知られる。従って、本発明の化合物を液晶組成物の成分とした場合、上記の特徴を備えた液晶組成物が得られる上、該化合物につき分子構成要素の環、置換基および／または結合基を適当に選択することにより、所望の物性を有する新たな液晶組成物を提供することができる。
産業上の利用可能性
本発明によれば、他の液晶材料との相溶性に優れ、低粘性でかつしきい値電圧の改善された有機ケイ素化合物、液晶組成物、該液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子が提供され、これらは時計、電卓、ワープロ、テレビ等のディスプレイ装置に広く利用することができる。