(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
0003852122.tif 000005
［式中、Ｒ１は、炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基が置換してもよいナフチル基、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属を示す。］
で表される光学活性グリコールオキシドと三塩化ガリウムとから調製されることを特徴とする光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体。
【請求項２】
一般式（ＩＩ）
【化２】
0003852122.tif 000006
［式中、Ｒ２、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または互いに連結して、カルボニル基を含んでもよい５〜８員環を示す。］
で表されるエポキシド類とＲ４−ＳＨ
（Ｒ４は炭素数１〜６のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基またはフェニルプロピル基を示す。）
で表されるチオール類とを、請求項１に記載の光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体の存在下、反応させることを特徴とする一般式（ＩＩＩ）
【化３】
0003852122.tif 000007
［式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は前記と同じである。］
で表される光学活性ヒドロキシスルフィド類の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学活性グリコールオキシドと三塩化ガリウムとから調製した光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体に関するものである。また本発明は、その錯体存在下、エポキシド類とチオール類を反応させることを特徴とする、光学活性ヒドロキシスルフィド類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
これまでにヒドロキシスルフィド類の製造方法としては、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、塩化サマリウム等の存在下、エポキシド類とチオール類とを反応させる方法が報告されている（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，２８，６０６５（１９８７））。また、光学活性ヒドロキシスルフィド類の製造方法としては、光学活性酒石酸塩と塩化亜鉛あるいは塩化マンガンの存在下、エポキシド類とチオール類とを反応させる方法が報告されている（Ｂｕｌｌ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．  Ｊｐｎ．，６１，１２１３（１９８８））。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
前者の方法によれば、光学活性ヒドロキシスルフィド類を得ることはできない。また後者の方法によれば、光学活性ヒドロキシスルフィド類を得ることはできるものの、反応時間が５〜１４日間と非常に長く、さらに光学収率も満足のいくものではない。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題に関し鋭意検討を重ねた結果、エポキシド類とチオール類との反応において、光学活性グリコールオキシドと三塩化ガリウムとから調製した光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体を存在させることにより、短い反応時間で、かつ満足のいく光学収率で光学活性ヒドロキシスルフィド類が得られることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【０００５】
すなわち、本発明の特徴は一般式（Ｉ）
【０００６】
【化４】
0003852122.tif 000002
【０００７】
［式中、Ｒ1は（炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基が置換してもよい）ナフチル基または（炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基が置換してもよい）フェナントリル基、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属を示す。］で表される光学活性グリコールオキシドと三塩化ガリウムとから調製されることを特徴とする光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体にある。
【０００８】
また本発明は、一般式（ＩＩ）
【０００９】
【化５】
0003852122.tif 000003
【００１０】
［式中、Ｒ2、Ｒ3は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または互いに連結して（カルボニル基を含んでもよい）５〜８員環を示す。］で表されるエポキシド類とＲ4−ＳＨ（Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基またはフェニルプロピル基を示す。）で表されるチオール類とを、上述の光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体の存在下、反応させることを特徴とする一般式（ＩＩＩ）
【００１１】
【化６】
0003852122.tif 000004
【００１２】
［式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は前記と同じである。］で表される光学活性ヒドロキシスルフィド類の製造方法にある。以下、本発明を更に詳細に説明する。
【００１３】
本明細書中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4の置換基として挙げられている炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖、分枝あるいは環状アルキル基を挙げることができる。
【００１４】
Ｒ2、Ｒ3が互いに連結した（カルボニル基を含んでもよい）５〜８員環としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタン、シクロペンテノン等を挙げることができる。
【００１５】
アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等を挙げることができる。アルカリ土類金属としては、マグネシウム、カルシウム等を挙げることができる。
【００１６】
一般式（Ｉ）で表される光学活性グリコールオキシドは、光学活性グリコールに溶媒中で、反応に不活性な雰囲気下、塩基を作用させることにより得ることができる。塩基の使用量としては、光学活性グリコール１モルに対し１〜３モル、好ましくは１．９〜２．１モルである。溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、水等の反応に不活性な溶媒の単一または混合物を挙げることができる。反応に不活性な雰囲気としては、アルゴン、窒素、ヘリウム等を挙げることができる。反応温度としては、−５０〜１２０℃、好ましくは−２０〜１００℃である。反応時間としては、０．１〜５時間、好ましくは０．２〜２時間である。
【００１７】
光学活性グリコールとしては、１，１´−ビ−２−ナフトール、６，６´−ジフェニル−１，１´−ビ−２−ナフトール、６，６´−ジメチル−１，１´−ビ−２−ナフトール、６，６´−ジエチル−１，１´−ビ−２−ナフトール、３，３´−ジフェニル−１，１´−ビ−２−ナフトール、３，３´−ジフェニル−２，２´−ビ−１−ナフトール、２，２´−ジフェニル−３，３´−ビ−４，４´−フェナントロール、９，９´−ビ−１０，１０´−フェナントロール等の光学活性体を挙げることができる。光学活性体の光学純度としては必ずしも１００％でなくてもよい。
【００１８】
塩基としては、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、メチルマグネシウムクロリド、メチルマグネシウムブロミド、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等を挙げることができる。
【００１９】
本発明の光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体は、一般式（Ｉ）で表される光学活性グリコールオキシドに溶媒中、反応に不活性な雰囲気下、三塩化ガリウムを作用させることにより得ることができる。溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類等の反応に不活性な溶媒の単一または混合物を挙げることができる。反応に不活性な雰囲気としては、アルゴン、窒素、ヘリウム等を挙げることができる。反応に供される反応剤の量としては、三塩化ガリウム１モルに対し、光学活性グリコールオキシド０．５〜６モル、好ましくは１〜３モルである。反応温度としては、−５０〜１２０℃、好ましくは−２０〜１００℃である。反応時間としては、０．１〜４８時間、好ましくは１〜２４時間である。
【００２０】
調製した光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体は、単離せずにそのまま一般式（ＩＩＩ）で表される光学活性ヒドロキシスルフィド類の製造に用いてもよい。
【００２１】
本発明の光学活性ヒドロキシスルフィド類の製造方法は、光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体の存在下、一般式（ＩＩ）で表されるエポキシド類とＲ4−ＳＨで表されるチオール類とを反応溶媒中、反応に不活性な雰囲気下で反応させる。溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、リン酸ヘキサメチルトリアミド等の極性溶媒等の反応に不活性な溶媒の単一または混合物を挙げることができる。
【００２２】
反応に不活性な雰囲気としては、アルゴン、窒素、ヘリウム等を挙げることができる。反応に供される反応剤の量としては、エポキシド類１モルに対し、チオール類０．５〜３モル、好ましくは０．９〜１．５モル、光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体（調製時の三塩化ガリウムの量として）０．００１〜３モル、好ましくは０．０１〜１．５モルである。反応温度としては、−５０〜１４０℃、好ましくは０〜１００℃である。反応時間としては、０．１〜１６８時間、好ましくは０．２〜７２時間である。本製造方法では、反応剤の添加順序には特に制限はないが、好ましくは最後にチオール類を添加するのがよく、さらに好ましくはチオール類を１〜７時間かけてゆっくり添加するのがよい。
【００２３】
【発明の効果】
本発明によって、光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体を得ることができる。またエポキシド類とチオール類との反応において、光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体を存在させることにより、短い反応時間かつ満足のいく光学収率で光学活性ヒドロキシスルフィド類を得ることができる。本発明によって得られる光学活性ヒドロキシスルフィド類は、例えば光学活性アリルアルコール類へ容易に導くこともでき、有機中間体及び医農薬中間体として有用な化合物である。
【００２４】
【実施例】
以下本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２５】
実施例１  （Ｒ）−１，１´−ビ−２−ナフトール−ジリチウム塩溶液の調製。
【００２６】
（Ｒ）−１，１´−ビ−２−ナフトール（５７３ｍｇ，２．００ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン溶液（７．５ｍｌ）に、氷冷下、ｎ−ブチルリチウム  （１．５６Ｍヘキサン溶液）（２．５７ｍｌ，４．０１ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌し、更に室温にて２０分間攪拌することにより（Ｒ）−１，１´−ビ−２−ナフトール−ジリチウム塩溶液を調製した。
【００２７】
実施例２  三塩化ガリウムと（Ｒ）−１，１´−ビ−２−ナフトール−ジリチウム塩とからの錯体（Ｇａ−Ｌｉ−（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）溶液の調製。
【００２８】
三塩化ガリウム（１．８２３ｇ，１０．４ｍｍｏｌ）のトルエン（３０ｍｌ）溶液を調製し、その内の２．８９ｍｌ（１．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍｌ）に加え、室温下、更に実施例１で調製した（Ｒ）−１，１´−ビ−２−ナフトール−ジリチウム塩溶液を加えた。更にテトラヒドロフラン（１．５ｍｌ）を加え、この溶液を２時間攪拌した後、一晩放置することにより錯体（Ｇａ−Ｌｉ−（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）溶液（０．０５Ｍ）を調製した。
【００２９】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：ＴＨＦ、ロック溶媒として重水使用、単位：δｐｐｍ）：１２１．０，１２１．３，１２４．０，１２５．２，１２６．３，１２７．０，１２７．３，１２８．４，１３４．６，１５７．４。
【００３０】
実施例３  （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（１）。
【００３１】
実施例２で調製した錯体（Ｇａ−Ｌｉ−（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）溶液（０．０５Ｍ）１．０ｍｌ（０．０５ｍｍｏｌ）を反応容器に入れ、室温下３０分間、真空ポンプを用いて溶媒を留去した。残渣に溶媒としてトルエン（１．０ｍｌ）、シクロヘキセンオキシド（０．５ｍｍｏｌ）、ベンジルチオール（０．６ｍｍｏｌ）を順次加え、室温下にて１５時間攪拌した。反応混合物はジエチルエーテル（２０ｍｌ）で希釈し、５％くえん酸水溶液（１０ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）、飽和食塩水（１０ｍｌ）にて順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶出液；ヘキサン：アセトン＝１０：１）にて精製することにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００３２】
化学収率＝８７％、光学収率＝４０％ｅｅ。
【００３３】
光学収率はＨＰＬＣ分析により決定した（ダイセルＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ；ヘキサン：イソプロパノール＝９５：５、フロー速度；０．５ｍｌ／分）。また、（Ｒ）−ＢＩＮＯＬはカラム精製において溶出液をアセトンにすることによりほぼ定量的に回収した。
【００３４】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、単位：δｐｐｍ）：１．１７−１．５１  （４Ｈ，ｍ），１．６３−１．７４（２Ｈ，ｍ），１．９７−２．１２（２Ｈ，ｍ），２．４０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝４．３，７．９，１０．２Ｈｚ），２．７９（１Ｈ，ｓ），３．３１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝５．３，９．６Ｈｚ），［３．７６（ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），３．８２（ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），ｅａｃｈ１Ｈ］，７．２２−７．３３（５Ｈ，ｍ）。
【００３５】
実施例４  （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（２）。
【００３６】
溶媒としてトルエンの代わりにジエチルエーテルを用い、さらに反応時間を２４時間にした以外は実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−  （ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００３７】
化学収率＝８６％、光学収率＝３％ｅｅ。
【００３８】
実施例５  （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（３）。
【００３９】
溶媒としてトルエンの代わりにジクロロメタンを用い、さらに反応時間を８時間にした以外は実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００４０】
化学収率＝７５％、光学収率＝１９％ｅｅ。
【００４１】
実施例６  （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（４）。
【００４２】
溶媒としてトルエンの代わりにペンタンを用い、さらに反応時間を２０時間にした以外は実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００４３】
化学収率＝６６％、光学収率＝１１％ｅｅ。
【００４４】
実施例７  （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（５）。
【００４５】
溶媒としてトルエンの代わりにアセトニトリルを用い、さらに反応時間を７２時間にした以外は実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００４６】
化学収率＝１０％、光学収率＝７％ｅｅ。
【００４７】
実施例８  （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（６）。
【００４８】
実施例２で調製した錯体（Ｇａ−Ｌｉ−（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）溶液（０．０５Ｍ）を１０ｍｌ（０．５ｍｍｏｌ）用いる以外は実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００４９】
化学収率＝８７％、光学収率＝８８％ｅｅ。
【００５０】
実施例９  （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（７）。
【００５１】
実施例２で調製した錯体（Ｇａ−Ｌｉ−（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）溶液（０．０５Ｍ）１．０ｍｌ（０．０５ｍｍｏｌ）を反応容器に入れ、室温下３０分間、真空ポンプを用いて溶媒を留去した。残渣に溶媒としてトルエン（１．０ｍｌ）、シクロヘキセンオキシド（０．５ｍｍｏｌ）を加え、室温にてベンジルチオール  （０．６ｍｍｏｌ）のトルエン（１ｍｌ）溶液をシリンジポンプを用いて４時間かけて添加した。添加後、室温下にて１時間攪拌した。反応混合物はジエチルエーテル（２０ｍｌ）で希釈し、５％くえん酸水溶液（１０ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）、飽和食塩水（１０ｍｌ）にて順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶出液；ヘキサン：アセトン＝１０：１）にて精製することにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００５２】
化学収率＝５４％、光学収率＝６２％ｅｅ。
【００５３】
実施例１０  （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（８）。
【００５４】
室温にてベンジルチオール（０．６ｍｍｏｌ）のトルエン（１ｍｌ）溶液をシリンジポンプを用いて４．７時間かけて添加し、添加後、室温下にて４８時間攪拌した以外は実施例９と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００５５】
化学収率＝７２％、光学収率＝５６％ｅｅ。
【００５６】
実施例１１  （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（９）。
【００５７】
０℃においてベンジルチオール（０．６ｍｍｏｌ）のトルエン（１ｍｌ）溶液をシリンジポンプを用いて５時間かけて添加し、添加後、０℃にて３５時間攪拌した以外は実施例９と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００５８】
化学収率＝６３％、光学収率＝３５％ｅｅ。
【００５９】
実施例１２  （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（１０）。
【００６０】
５０℃においてベンジルチオール（０．６ｍｍｏｌ）のトルエン（１ｍｌ）溶液をシリンジポンプを用いて３時間かけて添加し、添加後、５０℃にて１時間攪拌した以外は実施例９と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００６１】
化学収率＝６１％、光学収率＝７７％ｅｅ。
【００６２】
実施例１３  光学活性２−（フェネチルチオ）シクロヘキサノールの製造法。
【００６３】
ベンジルチオールの代わりに、フェネチルチオールを用い、さらに反応時間を４８時間にした以外は実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（フェネチルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００６４】
化学収率＝７６％、光学収率＝６３％ｅｅ。
【００６５】
［α］D24：−３６°（ｃ＝０．６７、ＣＨＣｌ3）。
【００６６】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、単位：δｐｐｍ）：１．２５−１．５３  （４Ｈ，ｍ），１．６４−１．８２（２Ｈ，ｍ），２．０１−２．２０（２Ｈ，ｍ），２．３９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．９，８．２，９．９Ｈｚ），２．７７−２．９５（５Ｈ，ｍ），３．２２−３．３５（１Ｈ，ｍ），７．１９−７．３４（５Ｈ，ｍ）。
【００６７】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、単位：δｐｐｍ）：２４．５，２６．３，３１．４，３２．９，３３．８，３６．７，５３．７，７２．２，１２６．５，１２８．５，１２８．５，１４０．３。
【００６８】
実施例１４  （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロペンテノールの製造法。
【００６９】
シクロヘキセンオキシドの代わりに、シクロペンテンオキシドを用い、さらに反応時間を７２時間にした以外は実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロペンテノールを得た。
【００７０】
化学収率＝７６％、光学収率＝５０％ｅｅ。
【００７１】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、単位：δｐｐｍ）：１．４４−１．７７  （５Ｈ，ｍ），１．９５−２．１８（２Ｈ，ｍ），２．８１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝５．０，７．６Ｈｚ），［３．７４（Ｊ＝１３．２Ｈｚ），３．８５（Ｊ＝１３．２Ｈｚ），ｅａｃｈ１Ｈ］，４．０３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．０，６．５，９．９Ｈｚ），７．２１−７．３７（５Ｈ，ｍ）。
【００７２】
実施例１５  光学活性２−（フェネチルチオ）シクロペンテノールの製造法。
【００７３】
ベンジルチオールの代わりにフェネチルチオールを、シクロヘキセンオキシドの代わりにシクロペンテンオキシドを用い、さらに反応時間を５０時間にした以外は実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（フェネチルチオ）シクロペンテノールを得た。
【００７４】
化学収率＝６８％、光学収率＝６４％ｅｅ。
【００７５】
［α］D24：−７．６０°（ｃ＝１．５４、ＣＨＣｌ3）。
【００７６】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、単位：δｐｐｍ）：１．４６−１．７９  （４Ｈ，ｍ），１．９６−２．２２（３Ｈ，ｍ），２．８０−２．９４（５Ｈ，ｍ），４．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１１．２Ｈｚ），７．１８−７．３３（５Ｈ，ｍ）。
【００７７】
13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、単位：δｐｐｍ）：２１．６，３１．４，３３．１，３３．３，３６．５，５２．２，７８．９，１２６．３，１２８．４，１４０．５。