(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
クエン酸、シュウ酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、グリシン及びこれらの塩からなる群から選択される少なくとも１種のキレート剤と半導体光触媒とを必須成分とする水廻り用洗浄剤。
【請求項２】
クエン酸、シュウ酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、グリシン及びこれらの塩からなる群から選択される少なくとも１種のキレート剤と半導体光触媒とを必須成分とする水廻り用カビ取り剤。
【請求項３】
半導体光触媒が酸化チタン、ＳｎＯ2、ＷＯ3、ＳｉＯ2およびＦｅ2Ｏ3からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１に記載の水廻り用洗浄剤。
【請求項４】
半導体光触媒が酸化チタンである請求項２に記載の水廻り用カビ取り剤。
【請求項５】
半導体光触媒の粒子径が１〜５０ｎｍである請求項１又は３に記載の水廻り用洗浄剤。
【請求項６】
半導体光触媒の粒子径が１〜５０ｎｍであり、キレート剤の配合量が０．１〜５０重量％であり、半導体光触媒の配合量が０．０１〜４０重量％である請求項２又は４に記載の水廻り用カビ取り剤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水廻り用の安全なカビ取り剤および洗浄剤として有用な組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、カビ取り用の洗浄剤としては、酸化能力を有した次亜塩素酸塩、特に次亜塩素酸ナトリウム又は次亜塩素酸カリウムを活性成分とした洗浄剤が最も多く使用されている。特に、次亜塩素酸ナトリウムを有する洗浄剤は効果的にカビを除去できるが、該洗浄剤は塩素ガスや酸化塩素ガスを発生する危険性があり、一般使用者の誤った使用法により事故を招く危険性があるため、より安全なカビ取り効果の高い洗浄剤が求められていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、塩素ガスのような有毒物質の発生しない、安全なカビ取り剤ないし洗浄剤を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上述の問題点を解決するために鋭意検討を行った結果、酸化チタンなどの半導体光触媒に着目し、該半導体光触媒とキレート剤を組み合わせることにより、安全なカビ取り剤ないし洗浄剤が得られることを見出した。
【０００５】
すなわち、本発明は、キレート剤と半導体光触媒を必須成分とする水廻り用洗浄剤を提供するものである。
【０００６】
また、本発明は、キレート剤と半導体光触媒を必須成分とする水廻り用カビ取り剤を提供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の組成物の必須成分の１つである「半導体光触媒」としては、例えばTiO2、SrTiO3、KTaO3、SnO2、Nb2O5、WO3、Fe2O3、Bi2O3、FeTiO3、ZnO、Cd0、MoS2、Si、SiO2などの光の照射により酸化力を発生する半導体が挙げられ、好ましくはTiO2、Fe2O3、SnO2、WO3、SiO2などが挙げられ、より好ましくはTiO2が挙げられる。ＴｉＯ2などの半導体光触媒の粒子径は、特に限定されないが、例えば１ｎｍ〜１ｍｍ程度、好ましくは１〜５０ｎｍ程度である。ＴｉＯ2などの半導体光触媒の比表面積は、特に限定されないが、例えば０．０００１〜１０００ｍ2／ｇ程度が好ましく、２００〜４００ｍ2／ｇ程度がより好ましい。ＴｉＯ2の結晶形は、いずれのタイプでもよいが、好ましくはアナターゼ型である。半導体光触媒は、電荷分離が良好に行えるように、適宜処理をすることができる。例えば、Pt、Au、Pd、Ir、Ag、Rh、Ru、Zn、Cu、Ni、Co、Fe及びＶからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属又は金属化合物を該半導体光触媒に担持させてもよい。また、電荷分離した電子のアクセプターとして、メチルビオローゲンや、酸化還元色素等を系中に添加してもよい。さらに、電子のドナーとして、Sn、Cuなどを系中に添加してもよい。
【０００８】
本発明の組成物の他の必須成分である「キレート剤」としては、カルシウム、マグネシウムなどの脂肪酸塩を除去できるものであればよく、特に限定され留ものではないが、具体的には、シュウ酸、クエン酸、アスパラギン酸、マレイン酸、マロン酸、グルコン酸、イタコン酸、リンゴ酸、酒石酸、チオグリコール酸、アクリル酸、ニトリロトリ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、乳酸等のオキシ酸ないしポリカルボン酸、アラニン、アルギニン、グアノシン、グリシン、システイン、セリン、トリプトファン、スレオニン、ニコチン酸、ヒスチジン、フェニルアラニン、プロリン、メチオニン、リジン、ロイシン等のアミノ酸類、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸等のポリマー酸、エチレンジアミン、トリエタノールアミン等のアミン類、サリチルアルデヒドなどのアルデヒド類、アセチルアセトンなどのケトン類が挙げられ、これらは塩の形態であってもよく、単独で又は２種以上を混合して用いる。好ましいキレート剤としては、クエン酸、シュウ酸、エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）又はこれらの塩が挙げられる。
【０００９】
本発明の好ましい洗浄剤ないしカビ取り剤組成物としては、キレート剤がクエン酸、エチレンジアミンテトラ酢酸およびそれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、半導体光触媒が酸化チタンである組成物が挙げられる。
【００１０】
本発明の組成物は、水に溶解ないし分散させて使用される。使用する水は、イオン交換水が好ましい。
【００１１】
本発明のカビ取り剤ないし洗浄剤組成物中のキレート剤と半導体光触媒の配合比率は、キレート剤＝０．１〜５０重量％、好ましくは５〜２０重量％であり、半導体光触媒＝０．０１〜４０重量％、好ましくは０．１〜５重量％である。
【００１２】
水溶液のｐＨは、特に限定するものではないが、キレート剤を溶かすためにＮａＯＨ、ＫＯＨ、アンモニア水等でｐＨを調整してもよい。
【００１３】
なお、カビなどへの疎水的対象物への湿潤性を促進させるために、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、ベタイン系界面活性剤などを併用できる。これら界面活性剤は、組成物全重量の０．０１〜１０重量％程度である。
【００１４】
水廻り用洗浄剤ないしカビ取り剤の「水廻り」とは、家庭用又は業務用で水を使用する場所を意味し、例えばトイレ（便器、貯水タンク、タイル）、浴室（浴槽、床又は壁のタイル、簀の子など）、台所、洗面台、プール、熱帯魚用の水槽、雨水のかかる建物の外壁などが挙げられる。
【００１５】
【発明の効果】
本発明によれば、安全な水廻り用のカビ取り剤および洗浄剤が得られる。
【００１６】
【実施例】
以下、本発明を実施例および比較例を用いてより詳細に説明する。
【００１７】
実施例１〜４および比較例１〜４
浴室の排水口の入口のカビの発生した部分に表１に示す本発明の組成物１〜４及び比較組成物１〜４をスプレーにより吹きつけ、４０Ｗの蛍光灯の光の存在下に１時間放置し、布により本発明組成物および比較組成物を拭き取った。カビないし汚れの除去率は、カビ汚れがほぼ完全に除去された面積の比率として表した。なお、排水口にはカビと汚れが混在しているため、表１ではカビと汚れの除去の程度を「カビの除去率」として示した。
【００１８】
【表１】
0003814698.tif 000002
【００１９】
なお、表１中、各成分の数値の単位は重量％である。また、カビの除去率の単位は％である。
【００２０】
表１の結果から、キレート剤と半導体光触媒を配合した本発明の組成物はカビないし汚れを効果的に除去できることが明らかであり、本発明の洗浄剤及びカビ取り剤の有用性が明らかになった。