(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
海底面或いは地表面の地盤面領域に敷設して光ファイバセンサに光パルスを入射して、そのひずみと位置を検出し、その地盤面位置における地盤沈下量或いは隆起量を測定するシステムにおいて、
測定しようとする地盤領域面の周囲を一周して連続し、その地盤と一体化して海底に施工された矩形状の敷設第１の溝と、その第１の溝底に敷設された敷設体に収納された上下一対の第１の光ファイバセンサ対と、
前記矩形状の敷設第１の溝の略内側にあって、該矩形の第１辺に平行な第１の所定ピッチで配置された複数の溝を形成し、その溝の両端はそれぞれ第１の溝の第２辺と交叉してから、次の隣接の溝に接続するようにして、全体として一本の連続した往復平行状敷設の第２の溝と、その第２の溝底に敷設体に収納された上下一対の第２の光ファイバセンサ対と、
第１及び第２の光ファイバセンサ対のそれぞれの両端の端子を信号伝送用光ケーブルに接続し、それら光ケーブルを光チャンネルセレクターを介してブルリアン散乱光受光測定或いはグレーティング部分の反射光（ブラック波長）測定を行うひずみ／損失分布測定装置と、その地盤を解析する地盤解析コンピュータとを備え、
前記コンピュータは、第１の光ファイバセンサ対から、前記測定装置により測定された位置におけるひずみ量の上下の大小と量差からその位置の地盤が沈下か隆起であるかとその量を計算する地盤周囲沈下／隆起量計算手段と、前記第１の溝の任意の一点の標高既知点からその地盤領域の周囲の絶対標高を算出する絶対標高計算手段と、
第２の光ファイバセンサ対からのひずみ量差により第１の光ファイバセンサ対と同様に測定する第２の溝地盤内沈下／隆起量計算手段と、
前記地盤周囲及び地盤内沈下／隆起量計算各手段においては、それらの溝内における第１及び第２の敷設体の複数の交叉位置において、それぞれ沈下／隆起量は２重に測定されるが、それらの間の値の差が全体として最小になるように補正する第１の補正計算手段とを備えることを特徴とする光ファイバセンサによる地盤変形測定システム。
【請求項２】
前記敷設体は、塩ビ系或は鋼製の略矩形断面状の所定長の直線管とその１／４円曲線管とを組合せて管が一体化するように接続させ前記溝底に敷設された矩形管と、その矩形管の上縁部及び下縁部はそれぞれ１以上の光ファイバセンサが収縮される貫通孔が構成され、各上下貫通孔に上下一対の光ファイバセンサを収納した構造とし、前記第１及び第２の溝に敷設して第１及び第２の矩形管の上部に、土砂等を積載させる構成として、その矩形管に加わる引張りひずみの発生により初期の地盤形状を計測する初期形状計測手段とをさらに備えることを特徴とする請求項１記載の光ファイバセンサによる地盤変形測定システム。
【請求項３】
前記敷設体は、塩ビ系或は鋼製の略帯状断面の外形構造材の上下に設けられた溝に、保護材に被覆された光ファイバセンサが収納接着されていることを特徴とする請求項１記載の光ファイバセンサによる地盤変形測定システム。
【請求項４】
前記矩形状敷設の第１の溝の略内側にあって、該矩形の第２辺に平行な第２の所定ピッチで配置された複数の溝を形成し、その溝の方向は前記第２の溝の方向と格子状に直交し、その溝の両端は他辺と交叉してから次の隣接の溝に接続するようにして全体として一本の連続した往復平行状敷設の第３の溝と、その第３の溝底に敷設体に収納された上下一対の第３の光ファイバセンサ対とをさらに備え、前記コンピュータは、前記光チャンネルセレクターには、その第３の光ファイバセンサ対の両端を接続し、第３の光ファイバセンサ対のひずみ量差により、第１の光ファイバセンサ対と同様に測定する第３の溝、地盤内沈下／隆起量計算手段と、第２の溝及び第３の溝地盤内沈下／隆起量計算手段によりそれぞれの溝の交点位置における第２及び第３光ファイバセンサは２重に測定されるが、それらの間の値の差が全体として最小になるように補正し、さらに第１及び第３の光ファイバの交叉点も補正する第２の補正計算手段とをさらに備えることを特徴とする請求項１記載の光ファイバセンサによる地盤変形測定システム。
【請求項５】
前記第１、第２、第３の溝が、互いに交叉する位置における第１、第２、第３の光ファイバセンサ対は、立体的に交叉し、交叉位置における敷設体の接触面は機械的に一体となるように構成され、その交叉位置における地盤によるひずみ量が第１、第２、第３光ファイバセンサ間で差の原因とならないようにすることを特徴とする請求項４記載の光ファイバセンサによる地盤変形測定システム。
【請求項６】
前記コンピュータは、前記第１、第２、第３の光ファイバセンサによる地盤周囲及び内側の各位置における沈下量又は隆起量を所定時間毎に測定結果を二次元または三次元表示する多次元表示手段を備えることを特徴とする請求項４又は５記載の光ファイバセンサによる地盤変形測定システム。
【請求項７】
前記標高既知点の計測は、海底下の支持層地盤に固定されたロッドに対する沈下板の沈下計測量を光ファイバセンサのひずみに変換する摺動ひずみ変換機構を備えた連続式沈下計を用い、沈下計測を光ファイバーを介して遠隔連続計測することを特徴とする請求項１記載の光ファイバセンサによる地盤変形測定システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光ファイバセンサを敷設して地盤の沈下及び隆起を測定するためのシステムに関する。特に、海底における地盤の変形測定システムに関し、埋立などを含む建設工事の施工に関わる地盤のひずみや沈下／隆起量の計測をその地盤面内の総ての位置で経過時間毎に計測解析できるシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来は限られたポイント、すなわち地盤面内に定めたあまり多くない地点位置などにそれぞれ沈下板を設置し、点データとして原地盤の沈下量を測定していた。
以上のように数限られた点による測定であったので、工事施工対象の地盤領域全体内の各位置の沈下量を測定して、平面的に地盤全体の変形を把握することはできなかった。
【０００３】
また埋立工事では、埋立上端面が海面下の段階から原地盤の沈下量を計測すべきであるが、埋立海域は多数の土運船や揚土船が錯綜しているため、多数の前記沈下板により沈下量計測を行うことは、埋立工事の施工に支障をきたすため大きな問題となっていた。
【０００４】
具体的な例として軟弱地盤上の大規模（海洋など）埋立工事の場合を示す。このような埋立工事の状態を図８に示す。この例は、海底面の沈下計測対象地盤となる原地盤に地盤改良を行いその周辺に護岸構造物などを設け、その内側に埋立土を入れた状態を示す。
【０００５】
その埋立土による圧力により原地盤が破線の沈下曲線に示すような圧力を受けていることを示したものである。
【０００６】
以上のように沈下量は各位置で同等でないので、埋立工事の建設工程の都合から一部区域を先行して埋立てたりして、埋立途中の地盤沈下量が埋立工程により異なることなどから、埋立途中の地盤の位置により一定でない沈下量を広域的に、しかも迅速に測定して、次段階の施工に反映させながら最終埋立高さを確定する必要があった。
【０００７】
また、全地球位置計測システム（ＧＰＳ）を塔載した測量船から測定対象の海面下の海底地表や埋立面をナローマルチビームを用いて深浅測量することで、面的な深浅データを求める方法が提案されている。しかし、埋立て表面の深浅・形状は把握できるものの、盛土高と盛土時期から沈下量を計算で求めるため、沈下量の把握のためには盛土作業を一定期間中止して前後の深浅を計測することになり埋立て作業を中断しなければならない問題があった。このため、リアルタイムでの沈下量の測定、各地点の経時変化量の測定が困難であった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前述した点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、埋立などを含む建設工事の施工と共に、随時、埋立て地盤内全体各位置の沈下・隆起量が高精度で測定され、対象地盤全体の平面的な挙動が２次元または３次元表示され、最終地盤沈下・隆起量の予測計算や、予測計算に基づく埋立工程の変更などが迅速に実施できるようにして、所定の品質を維持し、予定工期内に完成できるようにする光ファイバセンサを利用した地盤変形測定システムを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の光ファイバセンサによる地盤変形測定システムは、海底面或いは地表面の地盤面領域に敷設して光ファイバセンサに光パルスを入射して、そのひずみと位置を検出し、その地盤面位置における地盤沈下量或いは隆起量を測定するシステムにおいて、
測定しようとする地盤領域面の周囲を一周して連続し、その地盤と一体化して海底に施工された矩形状の敷設第１の溝と、その第１の溝底に敷設された敷設体に収納された上下一対の第１の光ファイバセンサ対と、
前記矩形状の敷設第１の溝の略内側にあって、該矩形の第１辺に平行な第１の所定ピッチで配置された複数の溝を形成し、その溝の両端はそれぞれ第１の溝の第２辺と交叉してから、次の隣接の溝に接続するようにして、全体として一本の連続した往復平行状敷設の第２の溝と、その第２の溝底に敷設体に収納された上下一対の第２の光ファイバセンサ対と、
第１及び第２の光ファイバセンサ対のそれぞれの両端の端子を信号伝送用光ケーブルに接続し、それら光ケーブルを光チャンネルセレクターを介してブルリアン散乱光受光測定或いはグレーティング部分の反射光（ブラック波長）測定を行うひずみ／損失分布測定装置と、その地盤を解析する地盤解析コンピュータとを備え、
前記コンピュータは、第１の光ファイバセンサ対から、前記測定装置により測定された位置におけるひずみ量の上下の大小と量差からその位置の地盤が沈下か隆起であるかとその量を計算する地盤周囲沈下／隆起量計算手段と、前記第１の溝の任意の一点の標高既知点からその地盤領域の周囲の絶対標高を算出する絶対標高計算手段と、
第２の光ファイバセンサ対からのひずみ量差により第１の光ファイバセンサ対と同様に測定する第２の溝地盤内沈下／隆起量計算手段と、
前記地盤周囲及び地盤内沈下／隆起量計算各手段においては、それらの溝内における第１及び第２の敷設体の複数の交叉位置において、それぞれ沈下／隆起量は２重に測定されるが、それらの間の値の差が全体として最小になるように補正する第１の補正計算手段とを備えることを特徴とする。
【００１０】
また、前記敷設体は、塩ビ系或は鋼製の略矩形断面状の所定長の直線管とその１／４円曲線管とを組合せて管が一体化するように接続させ前記溝底に敷設された矩形管と、その矩形管の上縁部及び下縁部はそれぞれ１以上の光ファイバセンサが収縮される貫通孔が構成され、各上下貫通孔に上下一対の光ファイバセンサを収納した構造とし、前記第１及び第２の溝に敷設して第１及び第２の矩形管の上部に、土砂等を積載させる構成として、その矩形管に加わる引張りひずみの発生により初期の地盤形状を計測する初期形状計測手段とをさらに備えることを特徴とする。
【００１１】
前記敷設体は、塩ビ系或は鋼製の略帯状断面の外形構造材の上下に設けられた溝に、保護材に被覆された光ファイバセンサが収納接着されていることを特徴とする。
【００１２】
また、前記矩形状敷設の第１の溝の略内側にあって、該矩形の第２辺に平行な第２の所定ピッチで配置された複数の溝を形成し、その溝の方向は前記第２の溝の方向と格子状に直交し、その溝の両端は他辺と交叉してから次の隣接の溝に接続するようにして全体として一本の連続した往復平行状敷設の第３の溝と、その第３の溝底に敷設体に収納された上下一対の第３の光ファイバセンサ対とをさらに備え、前記コンピュータは、前記光チャンネルセレクターには、その第３の光ファイバセンサ対の両端を接続し、第３の光ファイバセンサ対のひずみ量差により、第１の光ファイバセンサ対と同様に測定する第３の溝、地盤内沈下／隆起量計算手段と、第２の溝及び第３の溝地盤内沈下／隆起量計算手段によりそれぞれの溝の交点位置における第２及び第３光ファイバセンサは２重に測定されるが、それらの間の値の差が全体として最小になるように補正し、さらに第１及び第３の光ファイバの交叉点も補正する第２の補正計算手段とをさらに備えることを特徴とする。
【００１３】
また、前記第１、第２、第３の溝が、互いに交叉する位置における第１、第２、第３の光ファイバセンサ対は、立体的に交叉し、交叉位置における敷設体の接触面は機械的に一体となるように構成され、その交叉位置における地盤によるひずみ量が第１、第２、第３光ファイバセンサ間で差の原因とならないようにすることを特徴とする。
【００１４】
また、前記コンピュータは、前記第１、第２、第３の光ファイバセンサによる地盤周囲及び内側の各位置における沈下量又は隆起量を所定時間毎に測定結果を表示する多次元表示手段を備えることを特徴とする。
【００１５】
また、前記標高既知点の計測は、海底下の支持層地盤に固定されたロッドに対する沈下板の沈下計測量を光ファイバセンサのひずみに変換する摺動ひずみ変換機構を備えた連続式沈下計を用い、沈下計測を光ファイバを介して遠隔連続計測することを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態について図に基づいて以下に説明する。
【００１７】
図１は本発明の光ファイバセンサによる地盤変形測定システムの一実施例を示す。
【００１８】
図１において、符号１１は第１の光ファイバセンサ対を示し、地盤の周囲に一周する第１の溝ｍ１（溝の断面は後述する図で示す）の海底８に敷設した第１の矩形管１の上縁部及び下縁部にある光ファイバセンサ支持部ｙのそれぞれの貫通孔ｚに光ファイバセンサが１本づつ収納されて対となっている。その収納構成は図２に示されているが、詳細を後述する。
【００１９】
次に、符号１２は第２の光ファイバセンサ対を示し、前記地盤内で、その第１辺に（図１では縦方向の辺）平行で第１の所定ピッチの複数の溝とその両端がそれぞれ第１の溝の第２辺（図１では横方向の辺）と交叉してから半円形状の溝で次の隣接の溝に接続するようにして、全体として一本の連続した往復平行状敷設の第２の溝ｍ２（溝の断面は第１の溝と同様である）の溝底８に敷設した第２の矩形管２の上縁部及び下縁部にあるそれぞれの貫通孔ｚに光ファイバセンサが１本づつ収納されて対となっている。
【００２０】
次に、符号１３は第３の光ファイバセンサ対を示し、第１の溝ｍ１の内側にあって地盤の第２辺すなわち横方向の辺に平行で第２の所定ピッチの複数の溝と（この溝は第２の溝と格子状に直交する）その溝の両端がそれぞれ第１の溝の第一辺すなわち縦方向の辺と交叉してから半円形状の溝で次の隣接の溝に接続するようにして全体として一本の連続した往復平行状敷設の第３の溝ｍ３（溝の断面は第１の溝と同様である）の溝底８に敷設されて第３の矩形管３の上縁部及び下縁部にあるそれぞれの貫通孔ｚに光ファイバセンサが１本づつ収納されて対となっている。
【００２１】
以上、第１、第２、第３の光ファイバセンサ対１１、１２、１３は全体として測定しようとする地盤面全体を覆う格子センサ部１０として構成されている。
【００２２】
それらのセンサ対１１、１２、１３の両端は光ケーブル１４と接続部装置部ａ１、ａ２、ｂ１、ｂ２、ｃ１、ｃ２を介して接続し、それら光ケーブル１４は光チャンネルセレクター２１へ接続され、（接続はセンサ対ケーブルとの一端でもよいが、もし、センサ部が断線した場合はその他端からも測定するようにセレクタ２１を自動的に接続するようにする）ひずみ／損失分布測定装置２２により地盤内の格子センサ部１０の各位置におけるひずみを測定することができる。尚、ひずみ／損失分布測定装置２２は公知の装置を用いることができる。
【００２３】
ひずみ／損失分布測定装置２２により、第１の光ファイバセンサ対１１と第２と第３の光ファイバセンサ対１２，１３は、地盤周囲の複数の交叉点におけるひずみ量の差を最小にするように補正し、さらに、第２の光ファイバセンサ対１２と第３の光ファイバセンサ対１３との地盤内の複数の格子状交叉点におけるひずみ量の差を最小にするように補正し高精度化を行う。
【００２４】
また、第１、第２、第３の光ファイバセンサ対１１、１２、１３により、それぞれ対センサの同一座標位置におけるひずみ量の差により、その位置における曲線すなわち曲面は凸状か凹状かを測定し、その地盤の各座標位置における沈下量或は隆起量の計算を行う。
【００２５】
また、以上の計算結果を総合して地盤の沈下量及び隆起量の２次元分布画像を表示部２４に出力し、この動作所定時間毎に行い、常に新しい現在の２次元分布状態を表示するようにする。
【００２６】
格子センサ１０からの信号は、以上のように光チャンネルセレクタ２１ひずみ／損失分布測定装置２２、地盤解析コンピュータ２３、表示部２４からなる地盤変形計測装置２０により処理され、２次元地盤変形分布としてリアルタイムで表示される。この時高さ方向を加えた三次元画像として表示することもできる。
【００２７】
次に、地盤解析コンピュータ２３の備えている２３ａ〜２３ｈの各手段を以下に説明する。
【００２８】
地盤周囲沈下／隆起量計算手段２３ａは、第１の光ファイバセンサ対から測定装置２２により、測定された位置におけるひずみ量の上下の量差からその位置の地盤が沈下か隆起かとその量を計算する手段である。
【００２９】
絶対標高計算手段２３ｂは第１の溝ｍ１の位置の一点の標高が既知であればその地盤領域周囲の絶対標高を算出する手段である。
【００３０】
第２の溝地盤内沈下／隆起量計算手段２３ｃは、第２の光ファイバセンサ対１２からの上下の大小とひずみ量差１２より測定する手段である。
【００３１】
第１の補正計算手段２３ｄは、地盤周囲及び地盤内沈下／隆起量計算各手段２３ａ、２３ｃは、それらの敷設される溝内における第１及び第２の矩形管１，２の複数交叉位置において、それぞれ沈下／隆起量は二重に測定されるが、それらの間の値の差が全体として最小になるように補正する手段である。
【００３２】
初期形状計測手段２３ｅは、矩形管１，２，３の上部に積載されている土砂等の自重により加わる引張りひずみを初期地盤形状として計測する手段である。
【００３３】
第３の溝地盤沈下／隆起量計算手段２３ｆは第３の光ファイバセンサ対１３のひずみ量差により各位置のひずみの沈下／隆起量を測定する手段である。
【００３４】
第２の補正計算手段は、第２の溝及び第３の溝地盤内沈下／隆起量計算手段２３ｃ、２３ｆによりそれぞれの溝の交点位置における第２及び第３光ファイバセンサ１２，１３は二重に測定されているが、それらの間の値の差が全体として最小になるように補正する手段である。
【００３５】
多次元表示手段２３ｈは第１、第２、第３の光ファイバセンサ１１、１２、１３による測定すべき地盤周囲及びその格子状内部の沈下量及び隆起量を所定時間毎にリアルタイムに測定結果を表示する手段である。
【００３６】
次に、その格子センサ部１０の敷設構成図を図２、図３に示す。
図２（ａ）は光ファイバセンサ対１１、１２、１３それぞれ矩形管１、２、３を配置した構造図である。
すなわち、矩形管１、２、３を敷設する溝ｍ１、ｍ２、ｍ３の溝底８に敷設し、その上に矩形管１、２、３を固着する構造である。
【００３７】
さらに、図２（ｃ）のようにその矩形管１、２、３の上部から保護土６を被せて保護する。
【００３８】
図２（ｂ）は、その矩形管１、２、３の断面図を示し、その中に光ファイバセンサ１１、１２、１３が収納されている状態を示してある。すなわち、矩形管１、２、３は塩ビ系樹脂又は鋼鉄製であり、その管の矩形管壁の内側上縁部及び下縁部に例えば図２（ｂ）のような光ファイバセンサ支持部ｙがある。その支持部ｙには光ファイバセンサを挿入する光ファイバセンサ収納貫通孔ｚが、それぞれある。
【００３９】
その貫通孔ｚに光ファイバセンサ１１、１２、１３を１本ずつ挿入して、上下の対としてひずみの測定に使用する。
【００４０】
図３は格子センサ部１０の構成において、矩形管１、２、３を溝ｍ１、ｍ２、ｍ３へ敷設するため、所定長矩形管を示してある。直線部は図３（ａ）の直線タイプｐを所定個数そのフランジｐ１により接続してネジでしめ、固着して敷設する。地盤の角部では１／４円タイプｑの矩形管でその継手フランジｑ１により接続し、往復平行の端部では円タイプｒの矩形管でその継手フランジｒ１により接続して敷設する。
【００４１】
図３（ｂ）は、ｍ１、ｍ２、ｍ３の交叉点における矩形管ｓを示す。
この例では横方向の光ファイバセンサ対収納部は上側に矩形管があり、縦方向の光ファイバセンサ対収納部は下側に矩形管があり、それぞれダミー部空間を設けて立体交叉するようにしてある。
【００４２】
尚、前述した保護土６は初期の地盤形状を計測するために、光ファイバセンサ１１、１２、１３に引張ひずみを与えるものであり、特に海面下の溝に矩形管を敷設する場合は、図２（ｃ）の構造が必ず必要である。
【００４３】
以上敷設体が矩形管３による構成を説明してきたが、別の実施の形態の敷設体を図４により説明する。図４に示す一体型敷設体４０は、塩ビ系或は鋼製の略帯状断面の外形構造材４２の上下に設けられた溝４２ａに、保護材４４に被覆された光ファイバセンサ４３が収納接着されていることを特徴とする。該外形構造材４２が塩ビ系材料の場合、鋼鉄帯材などの芯材４１を備える。
【００４４】
一体型敷設体４０は、予め地上で製作し、ドラムに巻き取り収納して現場に搬入して、連続的に海底に敷設することができるため、製造コスト、敷設コストを引き下げることができる。
【００４５】
図５は、本発明の標高既知点の計測システムの模式図である。標高既知点の計測システムは、海底下の支持層地盤９ｂに固定された沈下検知ロッド５１に対する沈下板の沈下計測量を光ファイバセンサのひずみに変換する摺動ひずみ変換機構を備えた連続式沈下計５０を用い、沈下計測を検知用光ケーブル１４ａを介して遠隔連続計測する。図において８ａは海面、８は海底、９ａは海底下の軟弱地盤を示す。沈下検知ロッド５１は、アンカー５２で支持層地盤９ｂに固定される。
【００４６】
この連続式沈下計５０によれば、従来機械的な駆動歯車回転数などにより計測していた沈下板の沈下計測量を、光ファイバセンサのひずみに変換する摺動ひずみ変換機構に替えることにより光ケーブルで遠隔地から検知することができる。また、従来の電気系統の絶縁防護設備を必要としない。
【００４７】
次に、本発明の光ファイバセンサによる地盤変形測定システムの動作の流れを図６、図７に示す。
図６、Ｓ４１は、初期形状計測手段２３ｅを示す。この測定のために図２（ｃ）に示す保護土６を必要とする。特に海底ではこの構造となる。
【００４８】
Ｓ４２、Ｓ４３は地盤周囲沈下／隆起量計算手段２３ａを示す。ここで光ファイバセンサの両端を光チャンネルセレクタ２１に接続しているので、途中１ヶ所断線しても両端からその光ファイバセンサ全体の各点が測定できる。
【００４９】
Ｓ４４は絶対標高計算手段２３ｂである。標高既知点がなくとも、閉じるように敷設することにより、相対沈下／隆起量が２次元値として測定できる。
【００５０】
Ｓ４５、Ｓ４６は第２の溝地盤内沈下／隆起量計算手段２３ｃを示す。Ｓ４７は第１の補正計算手段２３ｄである。この補正により高精度のひずみ量とすることができる。
【００５１】
図７、Ｓ５１は第３の溝地盤内沈下／隆起量計算手段２３ｆを示す。Ｓ５２は第２の補正計算手段２３ｇを示す。
【００５２】
Ｓ５３、Ｓ５４は２次元分布表示手段２３ｈを示す。
【００５３】
【発明の効果】
本発明の光ファイバセンサによる地盤変形測定システムは以下の効果を奏する。すなわち、埋立などを含む建設工事の施工とともに、随時、敷設地盤内全体の各位置の沈下／隆起量が格子状の光ファイバセンサ対と地盤周囲の光ファイバ配置により２次元表示され、しかもそれら交叉点の２重の値により誤差を修正して高精度で測定することができる。
【００５４】
また、光ファイバセンサ対による上下の地盤変化を測定し、またそのセンサの両端より、測定するようにして断線しても測定可能とする信頼性の高いシステムとすることができる。
【００５５】
また以上のシステムによる最終地盤沈下・隆起量の予測計算や、その計算に基づく埋立工程の変更などが迅速に実施できるようになる。よって所定の施工工事の品質を維持し、予定の工期内に完成できるようにする測定システムとすることができる。
【００５６】
特に、このシステムは海底の地盤にも対応できる光ファイバセンサ敷設構成となり、また、センサ対を収納する矩形管の海底敷設も容易に施工できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光ファイバセンサによる地盤変形測定システムの構成図である。
【図２】本発明の格子センサ部の構成図（１）である。
【図３】本発明の格子センサ部の構成図（２）である。
【図４】本発明の別の実施の形態の敷設体の模式図である。
【図５】本発明の標高既知点の計測システムの模式図である。
【図６】本発明の地盤変形測定システムの動作の流れ図（１）である。
【図７】本発明の地盤変形測定システムの動作の流れ図（２）である。
【図８】海底などの地盤上に埋立を行う場合の具体的な例の断面図を示す。
【符号の説明】
１、２、３    各第１、第２、第３の矩形管
６    保護土又はコンクリート
７    ペースト
８    海底
８ａ  海面
９    原地盤
９ａ  軟弱地盤
９ｂ  支持層地盤
１０    格子センサ部
１１、１２、１３    各第１、第２、第３の光ファイバセンサ対
１４    光ケーブル
１４ａ  検知用光ケーブル
２０    地盤変形測定装置
２１    光チャンネルセレクタ
２２    ひずみ／損失分布測定装置
２３    地盤解析コンピュータ
２３ａ  地盤周囲沈下／隆起量計算手段
２３ｂ  絶対標高計算手段
２３ｃ  第２の溝地盤内沈下／隆起量計算手段
２３ｄ  第１の補正計算手段
２３ｅ  初期形状計測手段
２３ｆ  第３の溝地盤内沈下／隆起量計算手段
２３ｇ  第２の補正計算手段
２３ｈ  多次元表示手段
２３ｉ  データベース
４０    一体型敷設体
４１    芯材
４２    外形構造材
４２ａ  溝
４３    光ファイバセンサ
４４    保護材
５０    連続沈下計
５１    沈下検知ロッド
５２    アンカー
ａ１、ａ２    第１の光ファイバセンサ対両端と光ケーブルの接続装置部
ｂ１、ｂ２    第２の光ファイバセンサ対両端と光ケーブルの接続装置部
ｃ１、ｃ２    第３の光ファイバセンサ対両端と光ケーブルの接続装置部
ｍ１、ｍ２、ｍ３    各第１、第２、第３の溝
ｐ、ｑ、ｒ    矩形管の種類タイプ
ｐ１、ｑ１、ｒ１    継手フランジ
ｓ    立体交叉タイプ
ｘ    矩形管の壁
ｙ    光ファイバセンサ支持部
ｚ    光ファイバセンサ収納貫通孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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