(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理装置内に搬送することにより上記装置内に付着している異物を除去するための基板処理装置のクリーニングシートであって、支持体に、活性エネルギー源により硬化した粘着剤層からなる、シリコンウエハ（ミラー面）に対する１８０°引き剥がし粘着力が２０ｇ／１０ｍｍ以下であるクリーニング層が設けられてなる基板処理装置のクリーニングシート。
【請求項２】
基板処理装置内に搬送することにより上記装置内に付着している異物を除去するための基板処理装置のクリーニングシートであって、支持体の片面に、活性エネルギー源により硬化した粘着剤層からなる、シリコンウエハ（ミラー面）に対する１８０°引き剥がし粘着力が２０ｇ／１０ｍｍ以下であるクリーニング層が設けられ、他面に通常の粘着剤層が設けられてなる基板処理装置のクリーニングシート。
【請求項３】
活性エネルギー源が紫外線であることを特徴とする請求項１又は２記載の基板処理装置のクリーニングシート。
【請求項４】
搬送部材に、請求項２又は３記載の基板処理装置のクリーニングシートが、通常の粘着剤層により設けられたクリーニング機能付き搬送部材。
【請求項５】
請求項４記載のクリーニング機能付き搬送部材を、基板処理装置の被洗浄部位に搬送接触させることを特徴とするクリーニング方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種装置をクリーニングするシートに関し、例えば、半導体、フラットパネルディスプレイなどの製造装置や検査装置など、異物を嫌う基板処理装置のクリーニングシートに関する。
【０００２】
【従来の技術】
各種基板処理装置は、各搬送系と基板とを物理的に接触させながら搬送する。その際、基板や搬送系に異物が付着していると、後続の基板を次々に汚染することになり、定期的に装置を停止させ、洗浄処理をする必要があった。このため、稼働率低下や多大な労力が必要になるという問題があった。これらの問題を解決するため、粘着性の物質を固着した基板を搬送することにより基板処理装置内の付着した異物をクリーニング除去する方法が提案されている（例えば特開平１０−１５４６８６号）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
粘着性の物質を固着した基板を搬送することにより基板処理装置内の付着した異物をクリーニング除去する方法は、前述の課題を克服する有効な方法である。しかしこの方法では粘着性物質と装置接触部とが強く接着しすぎて剥れない恐れがあり、基板を確実に搬送できなくなる恐れがあった。
本発明は、このような事情に照らし、基板処理装置内に基板を確実に搬送でき、さらに装置内に付着している異物を簡便、確実に除去できるクリーニングシートを提供することを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の目的を達成するために、鋭意検討した結果、粘着性の物質を固着したシートあるいはこのシートを固着した基板を搬送することにより、基板処理装置内の付着した異物をクリーニング除去するにあたり、クリーニング層として活性エネルギー源により粘着力を特定値以下とすることにより、前記問題を生じることなく、さらに異物を簡便かつ確実に除去できることを見出し、本発明を完成するに至つた。
【０００５】
即ち、本発明は、基板処理装置内に搬送することにより上記装置内に付着している異物を除去するための基板処理装置のクリーニングシートであって、支持体に、活性エネルギー源により硬化した粘着剤層からなる、シリコンウエハ（ミラー面）に対する１８０°引き剥がし粘着力が２０ｇ／１０ｍｍ以下であるクリーニング層が設けられてなる基板処理装置のクリーニングシート（請求項１）と、基板処理装置内に搬送することにより上記装置内に付着している異物を除去するための基板処理装置のクリーニングシートであって、支持体の片面に、請求項１と同様のクリーニング層が設けられ、他面に通常の粘着剤層が設けられてなる基板処理装置のクリーニングシート（請求項２）と、活性エネルギー源が紫外線であることを特徴とする請求項１又は２記載の基板処理装置のクリーニングシート（請求項３）とに係るものである。
また、本発明は、搬送部材に、請求項２又は３記載の基板処理装置のクリーニングシートが、通常の粘着剤層により設けられたクリーニング機能付き搬送部材（請求項４）と、請求項４記載のクリーニング機能付き搬送部材を、基板処理装置の被洗浄部位に搬送接触させることを特徴とするクリーニング方法（請求項５）とに係るものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明のクリーニングシートは、支持体の片面にクリーニング層が設けられ、該クリーニング層は、活性エネルギー源により硬化した粘着剤層からなる。  かかる粘着剤層は、活性エネルギー源により硬化して分子構造が三次元網状化する性質を有する限り、その材質等は特に限定されないが、例えば感圧接着性ポリマーに分子内に不飽和二重結合を１個以上有する化合物を含有させてなるものが好ましく、かかる感圧接着性ポリマーとしては、例えばアクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステルから選ばれる（メタ）アクリル酸及び／又は（メタ）アクリル酸エステルを主モノマーとしたアクリル系ポリマーが挙げられる。このアクリル系ポリマーの合成にあたり、共重合モノマーとして分子内に不飽和二重結合を２個以上有する化合物を用いるか、あるいは合成後のアクリル系ポリマーに分子内に不飽和二重結合を有する化合物を官能基間の反応で化学結合させるなどして、アクリル系ポリマーの分子内に不飽和二重結合を導入しておくことにより、このポリマー自体も活性エネルギーにより重合硬化反応に関与させるようにすることもできる。
【０００７】
ここで、分子内に不飽和二重結合を１個以上有する化合物（以下、重合性不飽和化合物という）としては、不揮発性でかつ重量平均分子量が１００００以下の低分子量体であるのがよく、特に硬化時の粘着剤層の三次元網状化が効率よくなされるように、５０００以下の分子量を有しているのが好ましい。
【０００８】
また、粘着剤層に添加される重合開始剤は、特に限定されず公知のものを使用でき、例えば活性エネルギー源に熱を用いる場合は、ベンゾイルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリルなどの熱重合開始剤、また光を用いる場合は、ベンゾイル、ベンゾインエチルエーテル、シベンジル、イソプロピルベンゾインエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンクロロチオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、アセトフェノンジエチルケタール、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドルキシシクロヒキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシジメチルフェニルプロパン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンなどの光重合開始剤が挙げられる。
【０００９】
この粘着剤層の硬化に用いる活性エネルギー源としては、紫外線、熱などが挙げられるが、紫外線が好ましい。  かかる粘着剤層は、上記活性エネルギー源により硬化されてその粘着力が低下したものであり、例えばシリコンウエハ（ミラー面）に対する１８０°引き剥がし粘着力が２０ｇ／１０ｍｍ以下、好ましくは１〜１０ｇ／１０ｍｍ程度である。  この粘着力が、２０ｇ／ｍｍを超えると、搬送時に装置内の被クリーニング部に接着して、搬送トラブルとなる恐れがある。
また粘着剤層の厚さは特に限定されないが、通常５〜３０μｍ程度である。
【００１０】
本発明は、支持体の片面に、上記の特定の粘着剤層がクリーニング層として設けられ、他面に通常の粘着剤層が設けられたクリーニングシートも提供する。  この他面側の粘着剤層は、粘着機能を満たす限りその材質などは特に限定されず、通常の粘着剤（例えばアクリル系、ゴム系など）を用いることができる。  かかる構成とすることにより、クリーニングシートを通常の粘着剤層により各種基板や他のテープ・シートなどの搬送部材に貼り付けて、クリーニング機能付き搬送部材（請求項４）として装置内に搬送して、被洗浄部位に接触させてクリーニングすること（請求項５）もできる。
【００１１】
この支持体としては特に限定されないが、例えばポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、アセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリアミドなどのプラスチックフィルムなどが挙げられる。  その厚みは通常１０〜１００μｍ程度である。
【００１２】
クリーニングシートが貼り付けられる搬送部材としては特に限定されないが、例えば半導体ウエハ、ＬＣＤ、ＰＤＰなどのフラットパネルディスプレイ用基板、
その他コンパクトディスク、ＭＲヘッドなどの基板などが挙げられる。
【００１３】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。  なお、以下、部とあるのは重量部を意味するものとする。
実施例
アクリル酸−２−エチルヘキシル７５部、アクリル酸メチル２０部、及びアクリル酸５部からなるモノマ―混合液から得たアクリル系ポリマー（重量平均分子量７０万）１００部に対して、ポリエチレングリコ―ルジメタクリレ―ト５０部、ウレタンアクリレ―ト５０部、ベンジルジメチルケタール３部、及びジフエニルメタンジイソシアネ―ト３部を均一に混合し、紫外線硬化型の粘着剤溶液とした。
一方、上記粘着剤からベンジルジメチルケタールを除いた以外は、上記と同様にして得た粘着剤溶液を、２５μｍ厚みのポリエチレン製支持フィルムの片面に、乾燥後の厚みが１０μｍになるように塗布して通常の粘着剤層を設け、その表面に厚さ３８μｍのポリエステル系剥離フィルムを貼った。  支持フィルムのもう一方の側に、前記の紫外線硬化型粘着剤溶液を乾燥後の厚みが１０μｍになるように塗布してクリーニング層としての粘着剤層を設け、その表面に同様の剥離フィルムを貼った。
このシートに中心波長３６５ｎｍの紫外線を積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ２照射して、本発明のクリーニングシートを得た。  このクリーニングシートのクリーニング層側の剥離フィルムを剥がし、シリコンウエハのミラー面に幅１０ｍｍで貼り付け、ＪＩＳＺ０２３７に準じてシリコンウエハに対する１８０°引き剥がし粘着力を測定した結果、８ｇ／１０ｍｍであった。
【００１４】
このクリーニングシートの通常の粘着剤層側の剥離フィルムを剥がし、８インチのシリコンウエハの裏面（ミラー面）にハンドローラで貼り付け、ウエハ外周に沿ってシートを切断して、クリーニング機能付き搬送用クリーニングウエハを作製した。
【００１５】
一方、基板処理装置のウエハステージを２つ取り外し、レーザー式異物測定装置で、０．３μｍ以上の異物を測定したところ、８インチウエハサイズのエリア内で１つは２００００個、もう一つは１８０００個であった。
【００１６】
次いで前記で得た搬送用クリーニングウエハのクリーニング層側の剥離フィルムを剥がし、上記の２００００個の異物が付着していたウエハステージを持つ基板処理装置内に搬送したところ、支障なく搬送できた。
その後にウエハステージを取り外し、レーザー式異物測定装置で０．３μｍ以上の異物を測定したところ、８インチウエハサイズ内で３９５０個であり、クリーニング前に付着していた異物数の３／４以上を除去することができた。
【００１７】
比較例
実施例において、中心波長３６５ｎｍの紫外線を積算光量１５０ｍＪ／ｃｍ２にて照射した以外は、実施例と同様にクリーニングシートを作製し、対シリコンウエハ粘着力を測定したところ、３４ｇ／１０ｍｍであった。
このクリーニングシートから実施例と同じ方法で作製した搬送用クリーニングウエハを、１８０００個の異物が付着しているウエハステージを持つ基板処理装置内を搬送したところ、ウエハステージに固着し、搬送できなくなった。
【００１８】
【発明の効果】
以上のように本発明のクリーニングシートによれば、基板処理装置内を確実に搬送できると共に、装置内に付着している異物を簡便かつ確実に除去できる。