(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転駆動される被洗浄物に、この被洗浄物上で径方向に旋回するアーム体に設けられた洗浄ブラシを接触させるととともに、上記被洗浄物に洗浄液を供給して洗浄するスピン洗浄方法において、
上記洗浄液を、上記被洗浄物に接触した上記洗浄ブラシの径方向外方の近傍で、上記アーム体の旋回方向前方側であるとともに、回転する上記洗浄ブラシに巻き込まれる位置に供給することを特徴とするスピン洗浄方法。
【請求項２】
回転駆動される被洗浄物に洗浄ブラシを接触させるととともに、上記被洗浄物に洗浄液をノズル体から供給して洗浄するスピン洗浄装置において、
上記被洗浄物の上方にこの被洗浄物とほぼ平行に配置され先端部に上記洗浄ブラシが回転軸線をほぼ垂直にして設けられたア−ム体と、
このア−ム体の先端部に設けられ上記ノズル体を保持する保持具とを具備し、
上記保持具は、
上記ア−ム体に固定された第１の部材と、
この第１の部材に水平方向に角度調整自在に設けられた第２の部材と、
この第２の部材に基端部が上下方向の取付け位置および水平方向の軸線を中心にして回転角度の調整自在に設けられ先端部に上記ノズル体が保持される第３の部材とによって構成されていて、
上記ノズル体は、上記第２、第３の部材によって上記洗浄液を、上記被洗浄物に接触した上記洗浄ブラシの径方向外方の近傍で、上記アーム体の旋回方向前方側であるとともに、回転する上記洗浄ブラシに巻き込まれる位置に供給するよう位置決めされることを特徴とするスピン洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は半導体ウエハや液晶用ガラス基板などの被洗浄物を回転させながら洗浄ブラシを用いて洗浄するスピン洗浄方法およびその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体製造装置や液晶製造装置などにおいては、被洗浄物としての半導体ウエハや液晶用ガラス基板に回路パタ−ンを形成するリソグラフィプロセスがある。このリソグラフィプロセスは、周知のように被洗浄物にレジストを塗布し、このレジストに回路パタ−ンが形成されたマスクを介して光を照射し、ついでレジストの光が照射されない部分（あるいは光が照射された部分）を除去し、除去された部分を現像、剥離あるいはエッチングなどの処理をするという一連の工程を数十回繰り返すことで上記回路パタ−ンを転写する。
【０００３】
上記一連の各工程において、上記半導体ウエハや液晶用ガラス基板が汚染されていると回路パタ−ンを精密に形成することができなくなり、不良品の発生原因となる。したがって、それぞれの工程で回路パタ−ンを形成する際には、レジストや塵埃などの微粒子が残留しない清浄な状態に上記半導体ウエハや液晶用ガラス基板を洗浄するということが行われている。
【０００４】
上記被洗浄物を洗浄する装置としては、複数枚の半導体ウエハを洗浄液が収容された洗浄タンク内に漬けて洗浄するバッチ式と、１枚の被洗浄物を回転させ、その被洗浄物に対して洗浄液を噴射させて洗浄する枚葉式とがあり、被洗浄物の大型化にともない洗浄効果の高い枚葉式が用いられる傾向にある。
【０００５】
枚葉式の洗浄装置には被洗浄物を回転させながら洗浄するスピン洗浄装置があり、このスピン洗浄装置において、洗浄効果をより一層高めるためには、回転駆動される被洗浄物の上面に洗浄ブラシを接触させ、その接触部分に洗浄液を供給して洗浄するということが行われている。
【０００６】
上記洗浄液の供給はノズル体によって行われる。ノズル体としては弗素樹脂などで作られた樹脂製パイプが用いられている。このノズル体は、上記洗浄ブラシが設けられたア−ム体に挿通され、先端部を上記洗浄ブラシに向けて上記ア−ム体から突出させている。上記ア−ム体は回転駆動される被洗浄物の板面に対して平行にかつ被洗浄物の径方向に沿って旋回駆動されるようになっている。したがって、被洗浄物は洗浄ブラシによってその全面が洗浄されることになる。
【０００７】
ところで、洗浄液を上記ノズル体から上記洗浄ブラシの外周面に向けて単に噴射させたのでは、その洗浄液は被洗浄物の回転によって被洗浄物の板面で拡散し、洗浄ブラシの径方向内方へほとんど入り込むことがない。そのため、洗浄ブラシと被洗浄物との接触部分に洗浄液がほとんど介在しない状態でブラシ洗浄が行われることになるため、十分な洗浄効果が得られないということが生じる。
【０００８】
また、上記ノズル体は樹脂製パイプなどの屈曲可能な部材からなるため、そのパイプを屈曲することで洗浄液の噴射方向が設定される。そのため、上記ノズル体からの洗浄液の噴射方向を精度よく設定することができないばかりか、使用によって上記ア−ム体の向きが変化するということがあるから、そのことによっても洗浄液を洗浄ブラシの径方向内方へ確実に入り込ませて被洗浄物を洗浄するということが難しいということがあった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来は洗浄液を単に洗浄ブラシに向けて噴射していたので、その洗浄液を洗浄ブラシの径方向内方へ入り込ませて被洗浄物を効率よく洗浄することができないということがあった。
【００１０】
また、ノズル体の向きを精度よく設定したり、設定状態を確実に維持するなどのことができなかったので、そのことによっても洗浄液を所望する方向に向けて確実に噴射することができないということがあった。
【００１１】
この発明の目的は、洗浄液を洗浄ブラシの径方向内方へ入り込ませて被洗浄物を洗浄することができるようにしたスピン洗浄方法を提供することにある。
この発明の目的は、ノズル体の向きを所定の方向に正確に位置決めすることができ、しかも位置決めされたノズル体の向きを確実に維持することができるようにしたスピン洗浄装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、回転駆動される被洗浄物に、この被洗浄物上で径方向に旋回するアーム体に設けられた洗浄ブラシを接触させるととともに、上記被洗浄物に洗浄液を供給して洗浄するスピン洗浄方法において、
上記洗浄液を、上記被洗浄物に接触した上記洗浄ブラシの径方向外方の近傍で、上記アーム体の旋回方向前方側であるとともに、回転する上記洗浄ブラシに巻き込まれる位置に供給することを特徴とする。
【００１４】
請求項２の発明は、回転駆動される被洗浄物に洗浄ブラシを接触させるととともに、上記被洗浄物に洗浄液をノズル体から供給して洗浄するスピン洗浄装置において、
上記被洗浄物の上方にこの被洗浄物とほぼ平行に配置され先端部に上記洗浄ブラシが回転軸線をほぼ垂直にして設けられたア−ム体と、
このア−ム体の先端部に設けられ上記ノズル体を保持する保持具とを具備し、
上記保持具は、
上記ア−ム体に固定された第１の部材と、
この第１の部材に水平方向に角度調整自在に設けられた第２の部材と、
この第２の部材に基端部が上下方向の取付け位置および水平方向の軸線を中心にして回転角度の調整自在に設けられ先端部に上記ノズル体が保持される第３の部材とによって構成されていて、
上記ノズル体は、上記第２、第３の部材によって上記洗浄液を、上記被洗浄物に接触した上記洗浄ブラシの径方向外方の近傍で、上記アーム体の旋回方向前方側であるとともに、回転する上記洗浄ブラシに巻き込まれる位置に供給するよう位置決めされることを特徴とする。
【００１５】
請求項１の発明によれば、洗浄液の供給位置を洗浄ブラシに巻き込まれる位置としたことで、洗浄液は洗浄ブラシの径方向内方に入り込むから、被洗浄物と洗浄ブラシとの間に洗浄液が介在した状態で被洗浄物がブラシ洗浄される。
【００１６】
しかも、洗浄液を洗浄ブラシの外周部近傍で、この洗浄ブラシの旋回方向前方側から供給するから、洗浄液は被洗浄物の板面上で拡散する前に上記洗浄ブラシの旋回と被洗浄物の回転によって洗浄ブラシに衝突してその径方向内方に入り込むことになる。
【００１７】
請求項２の発明によれば、ノズル体は保持具の第１乃至第３の部材によって水平方向の角度、上下方向の位置および上下方向に沿う角度を調整できるように設けられているから、その向きを所定の方向に精度よく設定され、しかもその設定状態が確実に維持される。
【００１８】
【発明の実施形態】
以下、この発明の一実施形態を図面を参照して説明する。
図１はこの発明のスピン処理装置Ａを示す。このスピン処理装置Ａはスピンカップ１を備えている。このスピンカップ１は上面が開放した有底状の下カップ１ａと、この下カップ１ａに対してスライド自在に設けられ周壁の上端部が径方向内方に向かって傾斜した上カップ１ｂとからなり、この上カップ１ｂは図示しない駆動機構によって図に鎖線で示すように下降させることができるようになっている。
【００１９】
上記下カップ１ａの底部には、周辺部に複数の排気管２の一端が接続され、中心部には周囲がフランジ３によって囲まれた挿通孔４が形成されている。この挿通孔４には支持軸５が挿通されている。この支持軸５の上部は、スピンカップ１の内部に突出し、下端部は、上記スピンカップ１の下方に配置されたベ−ス板６に固定されている。上記排気管２は図示しない気水分離器を介して吸引ポンプに接続されている。上記排気管２に洗浄液、ミスト、気体が吸引されると、上記気水分離器によって水分と気体とが分離され、水分は図示しない廃液タンクへ排出されるようになっている。
【００２０】
上記支持軸５には回転チャック１１が回転自在に設けられている。この回転チャック１１は、中心部に通孔１２ａが穿設された円盤状のベ−ス１２を有する。このベ−ス１２の下面、つまり上記通孔１２ａと対応する位置には筒状の支持部１３が垂設されている。この支持部１３は上記支持軸５に外嵌され、上部と下部とがそれぞれ軸受１４によって回転自在に支持されている。
【００２１】
上記支持部１３の下端部の外周面には従動プ−リ１５が設けられている。上記ベ−ス板６にはモ−タ１６が設けられ、このモ−タ１６の回転軸１６ａには駆動プ−リ１７が嵌着されている。この駆動プ−リ１７と上記従動プ−リ１５とにはベルト１８が張設されている。したがって、上記モ−タ１６が作動すれば、上記支持部１３と一体に上記回転チャック１１が回転駆動されるようになっている。
【００２２】
上記ベ−ス１２の上面には周方向に９０度間隔で４本の支柱１９が立設されている。各支柱１９の上端部には支持ピン２１ａと、この支持ピン２１ａよりも外方で、しかも支持ピン２１ａよりも背の高い係合ピン２１ｂとが突設されている。
【００２３】
上記支柱１９の上端には、被洗浄物としてたとえば半導体ウエハ２２が周辺部の下面を支持ピン２１ａに支持され、外周面を上記係合ピン２１ｂに係合させて着脱可能に保持される。したがって、上記半導体ウエハ２２は回転チャック１１と一体的に回転駆動されるようなっている。
【００２４】
上記支持軸５には、上端に支持軸５よりも大径で、円錐状をなした頭部５ａが設けられている。この支持軸５には、先端を上記頭部５ａの上面に開口させたＮ2 などの不活性ガスのガス供給路３０と、先端を同じく上記頭部５ａの上面にノズル孔３２ａを介して開口させた洗浄液供給路３０ａとが軸方向に沿って形成されている。上記ガス供給路３０は図示しないガス供給源に連通し、上記洗浄液供給路は同じく図示しない洗浄液の供給源に連通している。
【００２５】
上記ガス供給路３０に供給された不活性ガスと、上記洗浄液供給路３０ａに供給された洗浄液は、それぞれ上記半導体ウエハ２２の下面に向かって噴射されるようになっている。
【００２６】
上記回転チャック１１に保持される半導体ウエハ２２の上面側には、この半導体ウエハ２２の上面を洗浄するため洗浄ツ−ル３１が配置されている。この洗浄ツ−ル３１は、図２（ａ）に示すように洗浄ブラシ３１ａを有する。この洗浄ブラシ３１ａはチャック３１ｂに着脱自在に取着されている。このチャック３１ｂには取付軸３１ｃが設けられ、この取付軸３１ｃは回転モ−タ３１ｄの回転軸３１ｅにカップリング３１ｆを介して連結されている。
【００２７】
上記洗浄ブラシ３１ａは旋回機構３２によって上記半導体ウエハ２２の径方向に沿って旋回駆動されるようになっている。
つまり、旋回機構３２はア−ムロッド３３ａおよびカバ−３３ｂからなる中空筒状のア−ム体３３を有する。このア−ム体３３の先端部内には洗浄ツ−ル３１の回転モ−タ３１ｄがその回転軸３１ｅを垂直にしてブラケット３３ｃに固定されている。
【００２８】
上記取付軸３１ｃは上記ア−ム体３３の先端部内に設けられた軸受３４ａに回転自在に支持されている。上記軸受３４ａは上記ア−ム体３３の先端部内に設けられたブロック３４ｂに取付けられている。
【００２９】
上記ア−ム体３３には図示しない洗浄液の供給源に接続されたノズル体３５が挿通されている。このノズル体３５の先端部は上記ア−ム体３３の先端部から下方に向かって導出されて後述する保持具６１に保持され、先端が上記洗浄ブラシ３１ａの外周面に向けられている。
【００３０】
つまり、上記ノズル体３５の上下方向の角度θ1 （図２（ａ）に示す）は半導体ウエハ２２と洗浄ブラシ３１ａとの接触部分に向かう角度に設定され、水平方向の角度θ2 は図６（ａ）に示すように洗浄ブラシ３１ａの径方向外方の近傍で、同図に矢印Ｘで示すア−ム体３３の旋回方向前方側であるとともに、洗浄ブラシ３１ａを基準としたときに図中矢印Ｙで示す半導体ウエハ２２の回転方向に対して上流側に洗浄液を噴射できる角度に設定されている。
【００３１】
したがって、上記ノズル体３５から半導体ウエハ２２に向けて噴射された洗浄液は、ア−ム体３３の旋回運動と半導体ウエハ２２の回転運動によってその板面上で拡散する前に洗浄ブラシ３１ａに衝突するから、この洗浄ブラシ３１ａの径方向内方に入り込むことになる。
【００３２】
上記ア−ム体３３の基端部は軸線を垂直にした旋回軸３６の上端に連結されている。この旋回軸３６の下端部は上記ベ−ス板６に形成された通孔６ａからその下方へ突出している。
【００３３】
上記旋回軸３６の下端部は、上下動自在に設けられた支持体３７に回転自在に支持されている。この支持体３７は中空箱型状をなしていて、その上部壁には上記旋回軸３６を挿通するための挿通孔３８が形成され、内部には上記挿通孔３８から挿入された旋回軸３６の下端部を回転自在に支持するために軸受３９が設けられている。旋回軸３６の下端は上記軸受３９から突出し、そこには従動プ−リ４０が嵌着されている。
【００３４】
上記支持体３７の一側面には一対のガイド４１が上下方向に沿って所定間隔で設けられ、このガイド４１はレ−ル４３にスライド自在に係合している。このレ−ル４３は上記ベ−ス板６の下面に垂設された取付板４２の一側面に上下方向に沿って設けられている。
【００３５】
上記取付板４２には上下駆動源としての上下駆動シリンダ４４が設けられている。この上下駆動シリンダ４４のロッド４４ａは上記支持体３７に下端面にブラケット４５を介して連結されている。したがって、上下駆動シリンダ４４が作動すれば、上記支持体３７を介して上記ア−ム体３３が所定の範囲内で上下駆動されるようになっている。
【００３６】
つまり、ア−ム体３３は、下降して上記洗浄ブラシ３１ａが上記回転チャック１１に保持された半導体ウエハ２２の上面の径方向中心部に所定の圧力で接触した状態で径方向外方へ旋回し、半導体ウエハ２２の上面から外れると、上昇して径方向中心部へ戻って下降するという旋回運動を繰り返すようになっている。
【００３７】
上記支持体３７の他側には上記上下駆動シリンダ４４とで駆動手段を構成する揺動駆動部４６が設けられている。この揺動駆動部４６は上記支持体３７の他側面に取付けられた収納ボックス４７を有する。この収納ボックス４７の下面にはモ−タ４８が設けられている。このモ−タ４８の回転軸４８ａは上記収納ボックス４７内に突出し、この内部に設けられた減速部４９に連結されている。この減速部４９の出力軸５１には駆動プ−リ５２が嵌着されている。
【００３８】
上記支持体３７と上記収納ボックス４７との内部空間は開口部５３によって連通している。上記開口部５３には、上記駆動プ−リ５２と従動プ−リ４０とに張設されたタイミングベルト５０が挿通されている。
【００３９】
したがって、上記モ−タ４８が作動して上記減速部４９の出力軸５１が正逆方向に駆動されると、その回転がタイミングベルト５３を介して旋回軸３６に伝達されるから、この旋回軸３６とともにア−ム体３３の先端部に設けられた洗浄ブラシ３１ａが半導体ウエハ２２の表面を揺動するようになっている。
【００４０】
上記旋回軸３６の旋回角度は装置全体の運転を制御する制御装置５４によって設定されるようになっている。
なお、図２（ａ）に示すように、ア−ム体３３の先端部に設けられたブロック３４ｂの軸受３４ａの下方には環状の吸引路５６が形成されている。この吸引路５６には吸引管５７が連通している。それによって、軸受３４ａで発生したパ−ティクルがチャック３１ｂの取付軸３１ｃに沿って洗浄ブラシ３１ａの方向へ流出するのを防止している。
【００４１】
上記ノズル体３５をア−ム体３３に保持した上記保持具６１は図３乃至図５に示す第１乃至第３の部材６２〜６４からなる。第１の部材６２は図３（ａ）、（ｂ）に示すように上面に凹曲面６２ａが形成されたブロック状をなしていて、上記ア−ム体３３を構成するア−ムロッド３３ａの下面にその凹曲面６２ａを接着固定して設けられている。この第１の部材６２には上記凹曲面６２ａの湾曲方向に沿って所定間隔で一対の第１のねじ孔６２ｂが形成されている。
【００４２】
上記第２の部材６３は図４（ａ）、（ｂ）に示すようにＬ字片６３ａと、このＬ字状片６３ａの一端部に直角に設けられた扇状片６３ｂとからなる。Ｌ字状片６３ａの他片には上下方向に沿う第１の長孔６３ｃが形成され、扇状片６３ｂには水平方向に沿う第２の長孔６３ｄと、通孔６３ｅとが所定間隔で形成されている。
【００４３】
この第２の部材６３は、図２（ａ）、（ｂ）に示すように一対の第１のねじ６５を上記扇状片６３ｂの第２の長孔６３ｄと通孔６３ｅとに通して上記第１の部材６２の一対の第１のねじ孔６２ｂにねじ込むことで取付けられている。したがって、第２の部材６３は通孔６３ｅに通された一方の第１のねじ６５を支点として水平方向に回動させることができるようになっている。
【００４４】
上記第３の部材６４は図５（ａ）、（ｂ）に示すように角柱状をなしていて、その一端側にはスリット６４ａが形成され、他端側には第２のねじ孔６４ｂが形成されている。上記スリット６４ａは先端が第３の部材６４の一端面に開放し、基端には上記ノズル体３５の先端部を挿通する取付孔６４ｃが形成されている。
【００４５】
さらに、第３の部材６４の一端部にはばか孔６４ｄとねじ孔６４ｅが上記スリット６４ａを挟んで形成されている。したがって、上記取付孔６４ｃにノズル体３５の先端部を挿通し、上記ばか孔６４ｄからねじ孔６４ｅへ第２のねじ６６（図２（ｂ）に示す）を捩じ込めば、上記スリット６４ａが閉じる方向に変形して上記ノズル体３５の先端部が固定されることにある。
【００４６】
上記第３の部材６４は上記第２の部材６３の第１の長孔６３ｃに図２（ａ）、（ｂ）に示す第３のねじ６７によってほぼ水平に、かつ回転角度の調整自在に取り付けられている。
【００４７】
したがって、第３の部材６４に保持されたノズル体３５の先端部は、第３の部材６４の回転角度を変えることで、図２（ａ）に示す角度θ1 を調整することができ、第１の部材６２に対して第２の部材６３を水平方向に回動させることで、図６（ａ）に示す角度θ2 を調整でき、さらに第３の部材６４を第２の部材６３の第１の長孔６３ｃに対する上下方向の取り付け位置によって図２（ａ）にＬで示す半導体ウエハ２２の上面に対する洗浄液の噴射距離を設定できるようになっている。
【００４８】
つまり、上記第１乃至第３の部材６２〜６４からなる保持具６１によって上記ノズル体３５の先端部の取り付け方向を三次元方向に調整できるととともにはその取り付け位置で確実に固定できるようになっている。
【００４９】
つぎに、上記構成のスピン処理装置Ａによって半導体ウエハ２２を洗浄する場合について説明する。
まず、保持具６１によってノズル体３５の先端から噴射される洗浄液の角度を設定する。つまり、上記ノズル体３５の上下方向の角度を、図２（ａ）に示すように半導体ウエハ２２と洗浄ブラシ３１ａとの接触部分に洗浄液を噴射できる角度θ1 に設定し、水平方向の角度を、図６（ａ）に示すように洗浄ブラシ３１ａの径方向外方の近傍で、同図に矢印Ｘで示すア−ム体３３の旋回方向下流側であるとともに、洗浄ブラシ３１ａを基準としたときに図中矢印Ｙで示す半導体ウエハ２２の回転方向に対して上流側に洗浄液を噴射できる角度θ2 に設定する。
【００５０】
つぎに、回転チャック１１を低速で回転させるとともに、洗浄ブラシ３１ａを回転チャック１１によって矢印Ｙ方向に回転する半導体ウエハ２２の径方向中心部に接触させ、上記ノズル体３５から洗浄液を噴射させながら、ア−ム体３３を矢印Ｘ方向に旋回させる。このとき、洗浄ブラシ３１ａも回転させる。洗浄ブラシ３１ａの回転方向は半導体ウエハ２２と同方向あるいは逆方向のどちらであってもよい。
【００５１】
洗浄ブラシ３１ａが半導体ウエハ２２の径方向中心部に位置する状態において、上記ノズル体３５からは、洗浄液が半導体ウエハ２２上の図６（ａ）にＳ1 で示す位置、つまり洗浄ブラシ３１ａの外周部近傍で、ア−ム体３３の旋回方向前方側に噴射される。
【００５２】
Ｓ1 の位置に噴射された洗浄液は、半導体ウエハ２２が回転し、ア−ム体３３が旋回することによって図６（ｂ）にＳ2 で示すように半導体ウエハ２２と洗浄ブラシ３１ａとの接触部分に巻き込まれることになる。
【００５３】
つまり、半導体ウエハ２２の上面に供給された洗浄液は、その上面で拡散せずに、上記半導体ウエハ２２と洗浄ブラシ３１ａとの接触部分に十分に入り込むから、洗浄ブラシ３１ａと洗浄液との相乗効果によって半導体ウエハ２２を効率よく確実に洗浄することができる。
【００５４】
上記洗浄液を噴射するノズル体３５の先端部は保持具６１によって保持されている。この保持具６１は第１乃至第３の部材６２〜６４からなり、第３の部材６４に保持された上記ノズル体３５の先端部は三次元方向に位置決めすることができる。
【００５５】
したがって、ノズル体３５の先端部を所望する方向に確実に向けることができる。つまり、ノズル体３５から噴射される洗浄液を、洗浄ブラシ３１ａに巻き込まれる位置に確実に噴射させることができる。
【００５６】
しかも、位置決めされたノズル体３５の先端部は保持具６１によって確実に保持固定されるため、使用中にその位置がずれるようなことがない。そのため、上記洗浄液を長期にわたって所望する位置に確実に供給することができる。
なお、上記一実施形態では被洗浄物として半導体ウエハを挙げたが、液晶用ガラス基板を洗浄する場合にもこの発明を適用することができる。
【００５７】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、洗浄液の供給位置を洗浄ブラシに巻き込まれる位置としたことで、洗浄液は洗浄ブラシの径方向内方に入り込むから、被洗浄物と洗浄ブラシとの間に洗浄液が介在した状態で被洗浄物がブラシ洗浄される。つまり、被洗浄物に供給された洗浄液を拡散させずに被洗浄物と洗浄ブラシとの間に介在させて洗浄できるから、洗浄効果を十分に高めることができる。
【００５８】
しかも、洗浄液を洗浄ブラシの外周部近傍で、洗浄ブラシの旋回方向前方側に供給するから、洗浄液は被洗浄物の板面上で拡散する前に洗浄ブラシに衝突してその径方向内方に入り込むことになる。
【００５９】
そのため、被洗浄物のブラシ洗浄に際し、洗浄液が有効に作用するから、洗浄効果を向上させることができる。
請求項２の発明によれば、洗浄液を噴射するノズル体を、第１乃至第３の部材によって水平方向の角度、上下方向の位置および上下方向に沿う角度を調整できる保持具を介してア−ム体に取り付けるようにした。
【００６０】
そのため、上記ノズル体の向きを三次元方向に対して調整することができるから、ノズル体から噴射される洗浄液の方向を所望する方向に精度よく確実に設定することができ、しかもその設定状態がずれることがないよう確実に維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態のスピン洗浄装置の全体構成図。
【図２】（ａ）は同じくア−ム体先端部の断面図、（ｂ）は同じく（ａ）のII−II線に沿う断面図。
【図３】（ａ）は同じく保持具の第１の部材の正面図、（ｂ）は側面図。
【図４】（ａ）は同じく保持具の第２の部材の平面図、（ｂ）は正面図。
【図５】（ａ）は同じく保持具の第１の部材の正面図、（ｂ）は側面図。
【図６】同じく半導体ウエハに洗浄液を供給して洗浄するときの説明図。
【符号の説明】
２２…半導体ウエハ（被洗浄物）
３１ａ…洗浄ブラシ
３３…ア−ム体
３５…ノズル体
６１…保持具
６２…第１の部材
６３…第２の部材
６４…第３の部材
【図１】
0003810499.tif 000002
【図２】
0003810499.tif 000003
【図３】
0003810499.tif 000004
【図４】
0003810499.tif 000005
【図５】
0003810499.tif 000006
【図６】
0003810499.tif 000007