(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）カルボキシル基を有するバインダーポリマ、（Ｂ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｃ）光開始剤を含み、前記（Ｂ）成分が一般式（Ｉ）
【化１】
0003750755.tif 000013
（式中、Ｒ１は２価の有機基を示し、Ｒ2は一般式（II）
【化２】
0003750755.tif 000014
（式中、Ｒ３は水素原子又はメチル基を示し、Ｘはアルキレンオキサイド基を示し、ｎは１〜１４の整数である）を示す）で表される化合物及び一般式（III）
【化３】
0003750755.tif 000015
（式中、Ｒ４は水素原子又はメチル基を示し、Ｙはアルキレンオキサイド基を示し、ｍは１〜３０の整数を示す）で表される化合物を必須成分として含む感光性樹脂組成物。
【請求項２】
（Ａ）成分がアルカリ水溶液に可溶又は膨潤可能であり、酸価が１００〜５００であり、重量平均分子量が２０，０００〜３００，０００である請求項１記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の使用割合が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し、（Ａ）成分が４０〜８０重量部、（Ｂ）成分が２０〜６０重量部及び（Ｃ）成分が０．１〜２０重量部であり（Ｂ）成分中の上記一般式（Ｉ）で表される化合物が３重量部以上含まれ、且つ上記一般式（III）で表される化合物が３重量部以上含まれる請求項１又は２記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
請求項１、２又は３記載の感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥してなる感光性エレメント。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメントに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プリント回路板の製造分野において、エッチング、メッキ等に用いられるレジスト材料としては、感光性樹脂組成物及びそれに支持体と保護フィルムを用いて得られる感光性エレメントが広く用いられている。
プリント回路板は、感光性フィルムを銅基板上にラミネートして、パターン露光した後、未露光部を現像液で除去し、エッチング又はメッキ処理を施して、パターンを形成させた後、硬化部分を基板上から剥離除去する方法によって製造されている。
【０００３】
この未露光部の除去を行う現像液としては、炭酸水素ナトリウム溶液等を使用するアルカリ現像型が主流になっており、現像液は、通常、ある程度感光層を溶解する能力がある限り使用され、使用時には現像液中に感光性樹脂組成物が溶解又は分散される。
近年の印刷配線板の高密度化に伴い、銅基板とパターン形成された感光層との接触面積が小さくなる為、現像、エッチング又はメッキ処理工程で優れた接着力、機械強度、耐薬品性、柔軟性等が要求される。
また、作業性の点から剥離除去の際剥離片が細分化し且つ剥離時間が短いことが好ましい。
通常、剥離は、自動剥離機にて行われるが、剥離片が大きいと、剥離機のロールに剥離片が絡まり著しく作業性を低下させるのみならず、剥離片が清浄な基板上に再付着する可能性がある。
【０００４】
この種の特性のうち、耐薬品性を向上させるのにイソシアヌレート環をもつ光重合性化合物の使用する方法が、特開昭６１−７７８４４号公報、特開昭６２−２９０７０５号公報、特開昭６１−１４２１２号公報、特開昭５９−２２２４８０号公報、特開平１−１４１９０号公報、特開昭５７−５５９１４号公報、特開平５−２１６２２４号公報、特開平５−２７３７５４号公報等に記載されているが、硬化膜が固く、脆いという欠点がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
請求項１記載の発明は、密着性、耐薬品性、柔軟性及び剥離性が優れた感光性樹脂組成物を提供するものである。
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明の効果を奏し、さらに光感度、機械特性等が優れる感光性樹脂組成物を提供するものである。
請求項３記載の発明は、請求項２記載の発明の効果を奏し、さらにアルカリ現像性が優れる感光性樹脂組成物を提供するものである。
請求項４記載の感光性エレメントは、作業性が優れる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、（Ａ）カルボキシル基を有するバインダーポリマ、（Ｂ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｃ）光開始剤を含み、前記（Ｂ）成分が一般式（Ｉ）
【化４】
0003750755.tif 000002
（式中、Ｒ１は２価の有機基を示し、Ｒ２は一般式（II）
【化５】
0003750755.tif 000003
（式中、Ｒ３は水素原子又はメチル基を示し、Ｘはアルキレンオキサイド基を示し、ｎは１〜１４の整数である）を示す）で表される化合物及び一般式（III）
【化６】
0003750755.tif 000004
（式中、Ｒ４は水素原子又はメチル基を示し、Ｙはアルキレンオキサイド基を示し、ｍは１〜３０の整数を示す）で表される化合物を必須成分として含む感光性樹脂組成物に関する。
【０００７】
また、本発明は、（Ａ）成分がアルカリ水溶液に可溶又は膨潤可能であり、酸価が１００〜５００であり、重量平均分子量が２０，０００〜３００，０００である前記感光性樹脂組成物に関する。
また、本発明は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の使用割合が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し、（Ａ）成分が４０〜８０重量部、（Ｂ）成分が２０〜６０重量部及び（Ｃ）成分が０．１〜２０重量部であり（Ｂ）成分中の上記一般式（Ｉ）で表される化合物が３重量部以上含まれ、且つ上記一般式（III）で表される化合物が３重量部以上含まれる前記感光性樹脂組成物に関する。
また、本発明は、前記感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥してなる感光性エレメントに関する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）カルボキシル基を有するバインダーポリマ、（Ｂ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合化合物及び  （Ｃ）光開始剤を含み、前記（Ｂ）成分が、上記一般式（Ｉ）で表される化合物を必須成分として含むものである。
【０００９】
本発明における、（Ａ）カルボキシル基を有するバインダーポリマとしては、例えば、アクリル酸又はメタクリル酸とこれらと共重合しうるビニルモノマとの共重合体等が挙げられ、これらの共重合体は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００１０】
前記ビニルモノマとしては、特に制限はなく、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、これらに対応するメタクリレート、アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、ビニルトルエン等が挙げられる。
【００１１】
（Ａ）カルボキシル基を有するバインダーポリマは、アルカリ水溶液（例えば、１〜３重量％の炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム水溶液等）に可溶又は膨潤可能であることが、現像性、環境保全性等の点で好ましい。
また、酸価は、１００〜５００であることが好ましい。酸価が１００未満では、現像時間が遅くなる傾向があり、５００を超えると、光硬化したレジストの耐現像液性が低下する傾向がある。
また、重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定し、ポリスチレン換算したもの）は、２０，０００〜３００，０００であることが好ましい。重量平均分子量が、３０，０００未満では、耐現像液性が低下する傾向があり、３００，０００を超えると、現像時間が長くなる傾向がある。
【００１２】
本発明における、（Ｂ）分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合化合物に、必須成分として含まれる上記一般式（Ｉ）で表される化合物において、上記一般式（Ｉ）中、Ｒ1である２価の有機基としては、特に制限はなく、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、ネオペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、２−エチル−ヘキシレン基、ノニレン基、デシレン基等が挙げられる。
また、Ｒ2である上記一般式（II）中、Ｘであるアルキレンオキサイド基としては、特に制限はなく、例えば、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、ブチレンオキサイド基、ペンチレンオキサイド基、ヘキシレンオキサイド基が挙げられ、なかでもエチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基が好ましい。
【００１３】
なお、プロピレンオキサイド基の結合方向としては、
【化７】
0003750755.tif 000005
の２種がある。
また、上記一般式（II）中、ｎは１〜１４の整数である必要があり、２〜１４であることが好ましい。ｎが１４を超えると、機械強度が低下する。
【００１４】
上記一般式（Ｉ）で表される化合物としては、例えば、一般式（II−１）、一般式（II−２）又は一般式（II−３）で表される化合物と、一般式（IV）で表される化合物との反応等により得られる。
【化８】
0003750755.tif 000006
（式中、Ｒ３及びｎは一般式（II）におけると同意義であり、ｍは３〜６の整数である）
【化９】
0003750755.tif 000007
（式中、Ｒ１は一般式（Ｉ）におけると同意義である）
【００１５】
なお、上記一般式（II−２）において、このブロックセグメントのプロピレンオキサイド単位は、表記の都合上メチル基の結合位置が酸素原子の２つ隣の炭素原子上となっているが、この構造に限定されるわけではなく、
【化１０】
0003750755.tif 000008
等も含むものとする。
【００１６】
上記一般式（Ｉ）で表される化合物としては、市販品として、例えば、ＮＫオリゴ  ＵＲ−２１（一般式（Ｉ）で、Ｒ1＝−Ｃ6Ｈ12−、Ｒ3＝−ＣＨ3、Ｘ＝−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、ｎ＝４（平均値）、新中村化学工業(株)商品名）、ＮＫオリゴＵＲ−４１（一般式（Ｉ）で、Ｒ1＝−Ｃ6Ｈ12−、Ｒ3＝−ＣＨ3、Ｘ＝−ＣＨ2−ＣＨ(ＣＨ3)−Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ3)−ＣＨ2−Ｏ−、ｎ＝５（平均値）、新中村化学工業(株)商品名）、ＮＫオリゴ  ＵＡ−４２（一般式（Ｉ）で、Ｒ1＝−Ｃ6Ｈ12−、Ｒ3＝−ＣＨ3、Ｘ＝−ＣＨ2−ＣＨ(ＣＨ3)−Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ3)−ＣＨ2−Ｏ−、ｎ＝９（平均値）、新中村化学工業(株)商品名）、ＮＫオリゴ  ＵＡ−４４（一般式（Ｉ）で、Ｒ1＝−Ｃ6Ｈ12−、Ｒ3＝−Ｈ、Ｘ＝−ＣＨ2−ＣＨ(ＣＨ3)−Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ3)−ＣＨ2−Ｏ−、ｎ＝６（平均値）、新中村化学工業(株)商品名）等が挙げられる。
【００１７】
また、本発明における、（Ｂ）分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合化合物に、必須成分として含まれる上記一般式（III ）で表される化合物において、上記一般式（III）中、Ｒ4は水素原子またはメチル基であり、Ｙであるアルキレンオキサイド基としては、一般式（II）中のＸ同様特に制限されることはなく、例えば、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、ブチレンオキサイド基、ペンチレンオキサイド基、ヘキシレンオキサイド基が挙げられ、なかでもプロピレンオキサイド基、ブチレンオキサイド基が好ましい。
【００１８】
上記一般式（III）で表される化合物としては、市販品として、例えばエポキシエステル７０ＰＡ（一般式（III）でＲ4＝−Ｈ、Ｙ＝−ＣＨ2−ＣＨ(ＣＨ3)−Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ3)−ＣＨ2Ｏ−、ｍ＝１（平均値）、共栄社化学(株)、商品名）、エポキシエステル２００ＰＡ（一般式（III）でＲ4＝−Ｈ、Ｙ＝−ＣＨ2−ＣＨ(ＣＨ3)−Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ3)−ＣＨ2Ｏ−、ｍ＝３（平均値）、共栄社化学(株)、商品名）、エポキシエステル４００ＰＡ（一般式（III）でＲ4＝−Ｈ、Ｙ＝−ＣＨ2−ＣＨ(ＣＨ3)−Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ3)−ＣＨ2Ｏ−、ｍ＝６  （平均値）、共栄社化学(株)、商品名）等が挙げられる。
【００１９】
また、本発明における（Ｂ）成分中の必須成分である上記の一般式（Ｉ）で表される化合物以外の化合物としては、例えば、多価アルコールにα、β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物（ポリエチレングリコールジアクリレート（エチレン基の数が２〜１４のもの）、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート（プロピレン基の数が２〜１４のもの）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、これらに対応するメタクリレート等）、グリシジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物（ビスフェノールＡジオキシエチレンジアクリレート、ビスフェノールＡトリオキシエチレンジアクリレート、ビスフェノールＡデカオキシエチレンジアクリレート、これらに対応するメタクリレート等のビスフェノールＡジオキシエチレンジアクリレート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリレート、これらに対応するメタクリレート等）、アクリル酸又はメタクリル酸のアルキルエステル（メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、これらに対応するメタクリレート等）などが挙げられる。
【００２０】
本発明における（Ｃ）光開始剤としては、例えば、芳香族ケトン（ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等）、ベンゾイン（ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等）、ベンジル誘導体（ベンジルジメチルケタール等）、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体（２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等）、アクリジン誘導体（９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等）などが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００２１】
本発明における（Ａ）成分の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して、４０〜８０重量部とすることが好ましい。この配合量が、４０重量部未満では、光硬化物が脆くなり易く、感光性エレメントとして用いた場合に、塗膜性が劣る傾向があり、８０重量部を超えると、感度が不充分となる傾向がある。
【００２２】
本発明における（Ｂ）成分の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して、２０〜６０重量部とすることが好ましい。この配合量が、２０重量部未満では、感度が不充分となる傾向があり、６０重量部を超えると、光硬化物が脆くなる傾向がある。
また、本発明における（Ｂ）成分中の必須成分である一般式（Ｉ）で表される化合物の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して、３重量部以上であることが好ましく、５〜４０重量部であることがより好ましい。この配合量が、３重量部未満では、感度、密着性、耐メッキ性等が劣る傾向がある。
また、本発明における（Ｂ）成分中のもう一つの必須成分である一般式（III ）で表される化合物の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して、３重量部以上であることが好ましく、５〜２０重量部であることがより好ましい。この配合量が３重量部未満では、剥離時間が長くなる傾向がある。
【００２３】
本発明における（Ｃ）成分の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して、０．１〜２０重量部であることが好ましい。この配合量が、０．１重量部未満では、感度が不充分となる傾向があり、２０重量部を超えると、露光の際に組成物の表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となる傾向がある。
本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、染料、発色剤、可塑剤、顔料、難燃剤、安定剤、密着性付与剤等を添加することができる。
本発明の感光性樹脂組成物は、前記各成分を、これらを溶解する溶剤、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロホルム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチルアルコール等に溶解、混合させることにより、均一な溶液とすることができる。
【００２４】
本発明の感光性エレメントは、前記本発明の感光性樹脂組成物を、支持体上に塗布、乾燥することにより作製できる。
【００２５】
支持体としては、重合体フィルム、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン等からなるフィルムが挙げられ、なかでも、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
これらの重合体フィルムは、後に感光層から除去する必要があるため、除去が不可能となるような表面処理が施されたものであったり、材質であったりしてはならない。
【００２６】
これらの重合体フィルムの厚さは、５〜１００μｍとすることが好ましく、１０〜３０μｍとすることがより好ましい。また、これらの重合体フィルムは、一つは感光層の支持体フィルムとして、他の一つは感光層の保護フィルムとして感光層の両面に積層することができる。
【００２７】
本発明の感光性エレメントを用いてフォトレジスト画像を製造する方法としては、前記の保護フィルムが存在している場合には、保護フィルムを除去後、感光層を加熱しながら基板に圧着させることにより積層する方法等が挙げられる。
積層される表面は、通常、金属面であるが、特に制限はない。
【００２８】
感光層の加熱温度は、特に制限はなく、９０〜１３０℃とすることが好ましい。また、感光層の圧着圧力は、特に制限はなく、１〜１０kgf/cm2とすることが好ましい。
なお、感光層を前記のように加熱すれば、予め基板を予熱処理することは必要ではないが、積層性をさらに向上させるために、基板の予熱処理を行うこともできる。
【００２９】
このようにして積層が完了した感光層は、次いで、ネガフィルム又はポジフィルムを用いて、活性光に画像的に露光される。この際、感光層上に存在する重合体フィルムが透明の場合には、そのまま露光してもよく、また、不透明の場合には、当然除去する必要がある。
【００３０】
感光層の保護という点からは、重合体フィルムは透明で、この重合体フィルムを残存させたまま、それを通して露光することが好ましい。
【００３１】
活性光は、公知の活性光源、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンアーク等から発生する光が用いられる。感光層に含まれる光開始剤の感受性は、通常、紫外線領域において最大であるので、その場合は活性光源は紫外線を有効に放射するものが好ましい。また、光開始剤が可視光線に感受するもの、例えば、９，１０−フェナンスレンキノン等である場合には、活性光としては可視光が用いられ、その光源としては前記のもの以外に、写真用フラッド電球、太陽ランプ等も用いられる。
【００３２】
次いで、露光後、感光層上に重合体フィルム等が存在している場合には、これを除去した後、アルカリ水溶液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により未露光部を除去して現像する。
アルカリ性水溶液の塩基としては、水酸化アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム若しくはカリウムの炭酸塩又は重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等）などが挙げられ、炭酸ナトリウムの水溶液が好ましい。
現像に用いるアルカリ水溶液のｐＨは、９〜１１の範囲することが好ましく、その温度は、感光層の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させることもできる。
【００３３】
さらに、印刷配線板を製造する方法としては、現像されたフォトレジスト画像をマスクとして露光している基板の表面を、エッチング、メッキ等の公知方法で処理する方法等が挙げられる。
次いで、フォトレジスト画像は、通常、現像に用いたアルカリ水溶液よりさらに強アルカリ性の水溶液で剥離することができる。この強アルカリ性の水溶液としては、例えば、１〜５重量％の水酸化ナトリウム水溶液等が用いられる。
【００３４】
【実施例】
以下、本発明を実施例により説明する。
実施例１〜４及び比較例１〜３
表１及び表２に示す材料を配合し、溶液を得た。
【００３５】
【表１】
0003750755.tif 000009
【００３６】
【表２】
0003750755.tif 000010
【００３７】
得られた溶液に、表３に示す（Ｂ）成分を溶解させて、感光性樹脂組成物の溶液を得た。
【００３８】
【表３】
0003750755.tif 000011
【００３９】
表３中、使用した化合物は、
*1：一般式（Ｉ）で、Ｒ1は−Ｃ6Ｈ12−、Ｒ3は−ＣＨ3、Ｘは−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、ｎは４（平均値）の化合物、新中村化学工業(株)製
*2：一般式（Ｉ）で、Ｒ1は−Ｃ6Ｈ12−、Ｒ3は−ＣＨ3、Ｘは−ＣＨ2ＣＨ(ＣＨ3)−Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ3)−ＣＨ2Ｏ、ｎは５（平均値）の化合物、新中村化学工業(株)製
*3：一般式（III）で、Ｒ4は−Ｈ、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ(ＣＨ3)−Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ3)−ＣＨ2Ｏ、ｍは１（平均値）の化合物、共栄社化学(株)製
*4：一般式（III）で、Ｒ4は−Ｈ、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ(ＣＨ3)Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ3)ＣＨ2Ｏ−、ｍは３（平均値）の化合物、共栄社化学(株)製
*5：ポリプロピレングリコールジアクリレート（新中村化学工業(株)製）
*6：γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート
*7：β−ヒドロキシプロピル−β′−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート
である。
【００４０】
次いで、得られた感光性樹脂組成物の溶液を、２５μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で約１０分間乾燥して、感光性エレメントを得た。感光性樹脂組成物層の乾燥後の膜厚は、５０μｍであった。
【００４１】
一方、銅箔（厚さ３５μｍ）を両面に積層したガラスエポキシ材である銅張り積層板（日立化成工業(株)製、商品名ＭＣＬ−Ｅ−６１）の銅表面を、♯６００相当のブラシを持つ研磨機（三啓(株)製）を用いて研磨し、水洗後、空気流で乾燥し、得られた銅張り積層板を８０℃に加温し、その銅表面上に前記感光性樹脂組成物層を１２０℃に加熱しながらラミネートした。
次に、高圧水銀灯ランプを有する露光機（オーク(株)製）ＨＭＷ−２０１Ｂを用いて、ネガとしてストーファー２１段ステップタブレットを試験片の上に置いて、６０mJ/cm2で露光した。
次に、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、３０℃で１重量％炭酸ナトリウム水溶液を６０秒間スプレーし、未露光部分を除去した後、銅張り積層板上に形成された光硬化膜のステップタブレットの段数を測定することにより、感光性樹脂組成物の光感度を評価し、その結果を表４に示した。
光感度は、ステップタブレットの段数で示され、このステップタブレットの段数が高いほど、光感度が高いことを示す。
【００４２】
また、密着性は、現像後、剥離せずに残ったライン幅（μｍ）を測定し、その結果を表４に示した。
この密着性の数字が小さい程、細いラインでも銅張り積層板から剥離せずに銅張り積層板に密着していることを示し、密着性が高いことを示す。
【００４３】
耐メッキ性は、上記のようにラミネートし、所定の露光量により露光を行い、次いで、上記現像液により現像後、脱脂（ＰＣ−４５５（メルテックス社製）２５重量％）５分浸漬→水洗→ソフトエッチ（過硫酸アンモニウム１５０ｇ／リットル）２分浸漬→水洗→１０重量％硫酸１分浸漬の順に前処理を行い、硫酸銅メッキ浴（硫酸銅７５ｇ／リットル、硫酸１９０ｇ／リットル、塩素イオン５０ppm、カパーグリームＰＣＭ（メルテックス社製）５ml／リットル）に入れ、硫酸銅メッキを室温下、３A/dm2で４０分間行った。
その後、水洗して、１０重量％ホウフッ化水素酸に１分浸漬し、ハンダメッキ浴（４５重量％ホウフッ化スズ６４ml／リットル、４５重量％ホウフッ化鉛２２ml／リットル、４２重量％ホウフッ化水素酸２００ml／リットル、プルティンＬＡコンダクティビティーソルト（メルテックス社製）２０ｇ／リットル、プルティンＬＡスターター（メルテックス社製）４１ml／リットル）に入れ、半田メッキを室温下、１．５A/dm2で１５分間行った。
【００４４】
水洗、乾燥後耐メッキ性を調べるために、直ちにセロテープを貼り、これを垂直方向に引き剥がして（９０°ピールオーフ試験）、レジストの剥がれの有無を観察し、結果を表４に示した。
また、レジスト剥離後、上方から光学顕微鏡で、半田メッキのもぐりの有無を観察し、結果を表４に示した。
半田メッキのもぐりを生じた場合、透明なレジストを介して、その下部にメッキにより析出した半田が観察される。
【００４５】
また、別の試験片を、ストーファー２１段ステップタブレットで８段を示す露光量で、露光、現像後、クロスカット試験（ＪＩＳ−Ｋ−５４００）を行い、結果を表４に示した。
また、５cm×５cmの試験片を、ストーファー２１段ステップタブレットで８段を示す露光量で露光、現像した後５０℃に加温した３重量％ＮａＯＨに浸漬し、レジストが剥離する時間を測定し、剥離片の大きさも同時に測定した結果を形状として表４に示した。
【００４６】
【表４】
0003750755.tif 000012
【００４７】
表４から明らかなように、本発明の範囲内の実施例１〜４は耐メッキ性、密着性及びクロスカット性が良好であり、剥離性も優れている。
【００４８】
【発明の効果】
請求項１記載の感光性樹脂組成物は、密着性、耐薬品性、柔軟性及び剥離性が優れたものである。
請求項２記載の感光性樹脂組成物は、請求項１記載の感光性樹脂組成物の効果を奏し、さらに光感度、機械特性等が優れる。
請求項３記載の感光性樹脂組成物は、請求項２記載の感光性樹脂組成物の効果を奏し、さらにアルカリ現像性が優れる。
請求項４記載の感光性エレメントは、作業性が優れる。